WO2023225913A1 - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents

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WO2023225913A1
WO2023225913A1 PCT/CN2022/095031 CN2022095031W WO2023225913A1 WO 2023225913 A1 WO2023225913 A1 WO 2023225913A1 CN 2022095031 W CN2022095031 W CN 2022095031W WO 2023225913 A1 WO2023225913 A1 WO 2023225913A1
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filter structure
layer
equal
display substrate
groove
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English (en)
French (fr)
Inventor
李振
王云浩
杨鸣
刘程
陈静
Original Assignee
京东方科技集团股份有限公司
成都京东方光电科技有限公司
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters

Definitions

  • the present disclosure relates to the field of display technology, and in particular, to a display panel, a manufacturing method, and a display device.
  • organic light-emitting semiconductor display Organic Light-Emitting Diode, OLED
  • organic light-emitting devices are used to emit light from the three primary colors of red, green and blue (Red, Green, Blue; RGB).
  • color filter Color filter On Encapsulation, COE
  • Pol-less technology to replace the existing polarizer solution, which is derived from the color filter
  • the organic light-emitting device excites the three primary colors of light generated and reduces the reflectivity of external ambient light.
  • the present disclosure provides a display panel, including:
  • a display substrate including at least one luminescent area and a non-luminescent area
  • a color filter layer provided on the light exit side of the display substrate includes at least one filter structure, and the orthographic projection of the filter structure on the display substrate covers the light-emitting area at the corresponding position;
  • the at least one filter structure includes: a first filter structure and a second filter structure, the thickness of the first filter structure and the second filter structure are not equal, and the first filter structure The surface on the side facing away from the display substrate and the surface on the side of the second filter structure facing away from the display substrate are on the same plane.
  • the at least one filter structure further includes: a third filter structure; wherein the surface of the first filter structure facing away from the display substrate, the second filter structure The surface of the light structure on the side facing away from the display substrate and the surface of the third filter structure on the side facing away from the display substrate are on the same plane.
  • the filter color of the filter structure is the same as the luminescent color of the luminescent area at the corresponding position, and the thickness of the filter structure is positively related to the luminous efficiency of the luminous area at the corresponding position.
  • the thickness of the first filter structure is greater than the thickness of the second filter structure, and the thickness of the second filter structure is greater than or equal to the thickness of the third filter structure. thickness.
  • the method further includes: a black matrix arranged in the same layer as the color filter layer, and the orthographic projection of the black matrix on the display substrate is located in the non-luminous area.
  • the display panel further includes: a functional film layer disposed between the display substrate and the color filter layer, the functional film layer being close to a portion of the color filter layer.
  • a first groove is provided on one side surface, and the first filter structure is filled in the first groove.
  • the slope angle of the side wall of the first groove is greater than or equal to 20° and less than or equal to 90°; and/or,
  • the minimum distance between the orthographic projection boundary of the bottom surface of the first groove on the display substrate and the orthographic projection boundary of the black matrix on the display substrate is greater than or equal to -2 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m; and / or,
  • the depth of the first groove is greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 2.4 ⁇ m.
  • the second filter structure is provided on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer; or,
  • a second groove is also provided on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer.
  • the second filter structure is filled in the second groove.
  • the depth of the second groove is less than the depth of the first groove.
  • the slope angle of the side wall of the second groove is greater than or equal to 20° and less than or equal to 90°; and/or,
  • the distance between the orthogonal projection boundary of the bottom surface of the second groove on the luminescent layer and the orthographic projection boundary of the black matrix on the luminescent layer is greater than or equal to -2 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m; and/or ,
  • the depth of the second groove is greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 2.4 ⁇ m.
  • the third filter structure is provided on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer; or,
  • a third groove is also provided on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer.
  • the third filter structure is filled in the third groove.
  • the depth of the third groove is Less than or equal to the depth of the second groove.
  • the functional film layer is a touch functional layer
  • the touch functional layer includes at least one of the following: a stacked buffer layer, a first touch electrode layer, an insulating layer, a third two touch electrode layers and a first flat layer;
  • the first touch electrode layer includes a first touch electrode
  • the second touch electrode layer includes a second touch electrode
  • the first touch electrode and the second touch electrode are arranged on Via connections on the insulation layer.
  • a side surface of the filter structure facing away from the display substrate has at least one protruding structure, and the protruding structure is used to diffuse the light emitted by the light-emitting area at the corresponding position.
  • the protruding structure is a hemispherical prism, and the orthographic projection of the protruding structure on the display substrate is circular;
  • the diameter of the circles is greater than or equal to 1 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m; and/or the distance between the centers of the circles is greater than or equal to 1 ⁇ m and less than or equal to 20 ⁇ m.
  • the at least one protruding structure includes: a plurality of protruding structures, the plurality of protruding structures are distributed according to a polygonal array corresponding to the light-emitting area of the display substrate.
  • the maximum thickness of the filter structure is greater than or equal to 1 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m; the height of the protruding structure is greater than or equal to 0 ⁇ m and less than or equal to 4 ⁇ m; The difference between the thickness of the optical structure and the height of the protruding structure is greater than or equal to 2 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m.
  • the display panel further includes at least one of the following:
  • An encapsulation layer located between the color filter layer and the display substrate;
  • the second flat layer is located on the side of the color filter layer away from the light-emitting layer.
  • the present disclosure also provides a display device, including a display panel as described in any of the above embodiments.
  • the present disclosure also provides a preparation method, including:
  • a display substrate is provided; wherein the display substrate includes at least one light-emitting area and a non-light-emitting area;
  • a color filter layer is formed on the light exit side of the display substrate, the color filter layer includes at least one filter structure, and the orthographic projection of the filter structure on the display substrate covers the light-emitting area at the corresponding position;
  • the at least one filter structure includes: a first filter structure and a second filter structure, the thickness of the first filter structure and the second filter structure are not equal, and the first filter structure The surface on the side facing away from the display substrate and the surface on the side of the second filter structure facing away from the display substrate are on the same plane.
  • the step of forming a color filter layer on the light exit side of the display substrate includes:
  • the color filter layer is formed on a side of the functional film layer facing away from the display substrate, wherein the first filter structure is filled in the first groove.
  • Figure 1 schematically shows a cross-sectional structural diagram of a display panel provided by the present disclosure
  • Figure 2 schematically shows a cross-sectional structural diagram of a first groove provided by the present disclosure
  • Figure 3 schematically shows a cross-sectional structural diagram of a groove provided by the present disclosure
  • Figure 4 schematically shows a schematic cross-sectional structural view of yet another first groove provided by the present disclosure
  • Figure 5 schematically shows a schematic cross-sectional structural view of yet another first groove provided by the present disclosure
  • Figure 6 schematically shows a cross-sectional structural diagram of yet another filter structure provided by the present disclosure
  • Figure 7 schematically shows a schematic cross-sectional structural view of yet another display panel provided by the present disclosure
  • Figure 8 schematically shows a front structural view of a filter structure provided by the present disclosure
  • Figure 9 schematically shows a step flow chart of a preparation method provided by the present disclosure.
  • FIG. 10 schematically shows a step flow chart of a method of forming a color filter layer provided by the present disclosure.
  • the present disclosure considers that the current stacking of the entire color filter and the organic light-emitting device cannot be used to improve the light intensity difference caused by the luminous efficiency of the organic light-emitting material. Therefore, the present disclosure considers adjusting the luminous intensity of each area of the color filter. Thickness, thereby adjusting the light transmittance of each area of the color filter, thereby balancing the difference in light intensity of different colors of light. For example, the greater the light intensity, the greater the thickness of the color filter corresponding to the pixel light-emitting area and the lower the transmittance to balance the excessive light intensity.
  • the present disclosure found that when achieving thickness differentiation in each area of the color filter, the thinned portion will bring about a positive effect of increased transmittance, but at the same time will lead to an increase in reflected light, and the overall reflectivity will also be reduced. At the same time, the difference in thickness of each area of the color filter will also cause divergence and interference of ambient light, which will worsen the user's product experience in dark scenes of the display device. Further research by the present disclosure found that this is because the surfaces of the color filters used to reflect external ambient light are not on the same level, resulting in an increase in overall reflectivity and aggravation of color separation.
  • FIG. 1 schematically shows a schematic cross-sectional structural diagram of a display panel provided by the present disclosure.
  • the display panel includes:
  • the display substrate includes at least one luminescent area and a non-luminescent area.
  • a color filter layer is provided on the light exit side of the display substrate.
  • the color filter layer includes at least one filter structure, and the orthographic projection of the filter structure on the display substrate covers the light-emitting area at the corresponding position.
  • the display substrate may be an organic light-emitting display substrate.
  • the light-emitting area in this disclosure is a pixel light-emitting area.
  • Each light-emitting area can correspond to a light-emitting area where a pixel point is located, and the light-emitting area can be processed by a filter structure corresponding to the color.
  • the light-emitting area of a red pixel can be processed by a red filter structure that transmits red light.
  • the non-light-emitting area in the present disclosure may be an area on the display substrate other than the light-emitting area.
  • the minimum distance between the orthographic projection boundary of the filter structure on the display substrate and the boundary of the light-emitting area at the corresponding position can be greater than or equal to 0 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m to ensure that the filter structure can process the corresponding pixel light. .
  • At least one filter structure includes: a first filter structure 603 and a second filter structure 602.
  • the thickness of the first filter structure 603 and the second filter structure 602 is not equal, and the first filter structure 603 is away from the display substrate.
  • the surface on one side is on the same plane as the surface of the second filter structure 602 on the side facing away from the display substrate.
  • the thickness of the first filter structure 603 and the second filter structure 602 may be such that the light intensity of the first filter structure 603 and the light output intensity of the second filter structure 602 are equal, depending on the transmittance of the respective filter materials.
  • the photon properties and the luminous efficiency of the luminescent material in the corresponding luminescent area are determined.
  • the filter color of the first filter structure 603 may be green
  • the filter color of the second filter structure 602 may be red.
  • the light transmittance of the first filter structure 603 and the second filter structure 602 Under the same circumstances, the luminous efficiency of the green light-emitting area corresponding to the first filter structure 603 is higher than the luminous efficiency of the red light-emitting area corresponding to the second filter structure 602.
  • the light output intensity of the two filter structures 602 is equal.
  • the thickness of the first filter structure 603 should be greater than the thickness of the second filter structure 602, so as to reduce the light transmittance of the first filter structure 603 and balance the first filter structure.
  • This disclosure takes into account that in RGB three primary color luminescence technology, at least two luminescent materials have different luminous efficiencies and require differentiated settings of at least two thicknesses, and proposes a first filter structure 603 and a second filter structure 602 with unequal thicknesses.
  • the difference in light intensity caused by different luminous efficiencies is balanced, improving or even eliminating problems such as color cast, and, because the surface of the first filter structure 603 facing away from the display substrate and the surface of the second filter structure 602 facing away from the display substrate The surfaces on both sides are in the same plane, so the light exit surface of the color filter layer remains flush.
  • At least one light filter structure further includes: a third light filter structure 604 .
  • the surface of the first filter structure 603 facing away from the display substrate, the surface of the second filter structure 602 facing away from the display substrate, and the surface of the third filter structure 604 facing away from the display substrate are on the same plane.
  • the thicknesses of the first filter structure 603 , the second filter structure 602 and the third filter structure 604 may be different.
  • the filter color of the filter structure is the same as the luminescent color of the luminescent area at the corresponding position, and the thickness of the filter structure is positively correlated with the luminous efficiency of the luminous area at the corresponding position.
  • the first filter structure may correspond to the first light-emitting area
  • the second filter structure may correspond to the second light-emitting area
  • the third filter structure may correspond to the third light-emitting area
  • the light-emitting region may include an electroluminescent organic light-emitting structure
  • the luminous efficiency of the light-emitting region may refer to the material luminous efficiency of the organic light-emitting structure.
  • the higher the luminous efficiency of the material of the organic light-emitting structure of a certain sub-pixel the stronger the color light of the sub-pixel emitted by the organic light-emitting structure.
  • the luminescent color of the luminescent area at the corresponding position is also red; if the luminous efficiency of the green luminescent area is the highest, then the thickness of the filter structure whose filter color is green is the largest. .
  • the thickness of the first filter structure 603 is greater than the thickness of the second filter structure 602
  • the thickness of the second filter structure 602 is greater than or equal to the thickness of the third filter structure 604 .
  • the filtering efficiency of the first filter structure 603 The color may be green, the filter color of the second filter structure 602 is red, and the filter color of the third filter structure 604 is blue.
  • the filtered light intensity efficiency of the blue light-emitting device with the lowest luminous efficiency can be increased by 10%, and the overall reflectivity of the display device product can be reduced by 0.2 %above.
  • the filter structure in the color filter layer gates the color light for the corresponding light-emitting area.
  • the present disclosure also provides a display panel, including: a black matrix 601 arranged in the same layer as the color filter layer, and the orthographic projection of the black matrix 601 on the display substrate is located in the non-luminous area.
  • the black matrix 601 and the color filter layer are arranged in the same layer, which means that the stacking position of the black matrix 601 is the same as that of the color filter layer, and the thickness of the black matrix 601 is not limited. Furthermore, in order to facilitate the arrangement of the filter structure, the width of the black matrix 601 on the side away from the display substrate may be smaller than the width of the black matrix 601 on the side close to the display substrate, forming a trapezoidal cross-section.
  • the present disclosure also considers integrating other functional layers into the color filter layer with different thicknesses for embedding the filter structure.
  • the present disclosure also provides a display panel, It includes: a functional film layer disposed between the display substrate and the color filter layer. A first groove is provided on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer. The first filter structure 603 is filled in the first groove. Inside.
  • the functional film layer may include a touch functional layer, and then a first groove may be provided in the insulation layer 503 and the buffer layer 501 in the touch functional layer downward from the surface of the touch functional layer.
  • the processing method, size and position of the first groove can be related to the material properties and thickness of the functional film layer. For example, if the functional film layer is a pure inorganic material, etching processing can be used; if the functional film layer is an organic material, exposure and development processing can be used; if the material for the functional film layer to be grooved is thicker, then the A groove can also be made thicker.
  • a first groove is provided for placing the first filter structure 603, and different filter structures can be further embedded and placed at different depths, which not only achieves The differentiated thickness of the filter structure can also effectively reduce the thickness of the display panel.
  • the present disclosure also A first groove is provided, the slope angle of the side wall of the first groove is greater than or equal to 20° and less than or equal to 90°; and/or,
  • the minimum distance between the orthographic projection boundary of the bottom surface of the first groove on the display substrate and the orthographic projection boundary of the black matrix 601 on the display substrate is greater than or equal to -2 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m; and/or,
  • the depth of the first groove is greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 2.4 ⁇ m.
  • A, and/or B, and/or C in the embodiments of the present disclosure includes at least any one of “A”, “B” and “C”, specifically including The following seven situations: “A and B and C”, “A and B”, “B and C”, “A and C", "A", "B”, “C”.
  • the slope angle of the side wall of the first groove may be greater than or equal to 20° and less than or equal to 90°, and the depth of the first groove may also be greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 2.4 ⁇ m. .
  • the slope angle of the side wall of the first groove may be 60°.
  • the minimum distance between the orthographic projection boundary of the bottom surface of the first groove on the display substrate and the orthographic projection boundary of the black matrix 601 on the display substrate may be 2 ⁇ m.
  • the depth of the first groove may be 2 ⁇ m.
  • the depth of the first groove does not exceed the total thickness of the functional film layer.
  • the present disclosure also provides a display panel, in which the second filter structure 602 is disposed on the functional film layer close to the color filter. light layer on one side of the surface.
  • the present disclosure also provides a display panel, in which a second groove is provided on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer, and is filled with the second filter structure 602 Within the second groove, the depth of the second groove is less than the depth of the first groove.
  • the depth of the second groove is smaller than that of the first groove.
  • the depth of the groove can realize the thickness difference between the first filter structure 603 and the second filter structure 602 when the light exit surfaces of the first filter structure 603 and the second filter structure 602 are flush.
  • the present disclosure also A second groove is provided, the side walls of the second groove having a slope angle greater than or equal to 20° and less than or equal to 90°.
  • the distance between the orthographic projection boundary of the bottom surface of the second groove on the luminescent layer and the orthographic projection boundary of the black matrix 601 on the luminescent layer is greater than or equal to -2 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m.
  • the depth of the second groove is greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 2.4 ⁇ m.
  • the slope angle of the side wall of the first groove may be 60°.
  • the minimum distance between the orthographic projection boundary of the bottom surface of the first groove on the display substrate and the orthographic projection boundary of the black matrix 601 on the display substrate may be 2 ⁇ m.
  • the depth of the first groove may be 1 ⁇ m.
  • the depth of the second groove does not exceed the total thickness of the functional film layer.
  • the third filter structure 604 does not need to be disposed in the groove. For this reason, in an optional implementation, the present disclosure also provides a Display panel, wherein the third filter structure 604 is disposed on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer.
  • the third filter structure 604 can also be embedded in the groove.
  • the present disclosure also provides A display panel is provided, wherein a third groove is also provided on a side surface of the functional film layer close to the color filter layer, the third filter structure 604 is filled in the third groove, and the depth of the third groove is less than or equal to the depth of the second groove.
  • the present disclosure also provides a functional film layer, which is a touch functional layer.
  • the touch functional layer includes at least one of the following: a stacked buffer layer 501, a first The touch electrode 502 layer, the insulating layer 503 , the second touch electrode 504 layer and the first flat layer 505 .
  • the first touch electrode 502 layer and the second touch electrode 504 layer may be embedded in the insulating layer 503 and the first flat layer 505 .
  • the area where the touch electrode is located can be set to correspond to the non-luminous area, and the area where the touch electrode is located can be avoided in the first flat layer 505, or the first flat layer 505 or the insulating layer 503, or the insulating layer 503
  • the filter structure is embedded in the buffer layer 501.
  • the buffer layer 501, the first touch electrode 502 layer, the insulating layer 503, the second touch electrode 504 layer and the first flat layer 505 may be stacked in sequence in a direction away from the display substrate.
  • the first touch electrode 502 layer includes the first touch electrode 502
  • the second touch electrode 504 layer includes the second touch electrode 504
  • the first touch electrode 502 and the second touch electrode 504 are disposed on the insulating layer. Via connections on 503.
  • the first touch electrode 502 may be a touch connection electrode, and may be located on a side close to the display substrate.
  • the second touch electrode 504 may be located on a side away from the display substrate.
  • the present disclosure also provides a filter structure facing away from the display substrate
  • One side of the surface has at least one convex structure, and the convex structure is used to diffuse the light emitted by the light-emitting area at the corresponding position.
  • the protruding structure is a hemispherical prism
  • the orthographic projection of the protruding structure on the display substrate is a circle
  • the surface of the side of the hemispherical prism away from the display substrate may be a curved surface, or may further be a standard hemispherical curved surface to adapt to different light divergence requirements.
  • the filter structure is changed to a prism structure, and the light from the lower part of the display substrate can be dispersed, so that the side light passing through the filter structure is supplemented, the L-decay effect is improved, and the visibility of the display device product is improved.
  • the angle could be improved.
  • the filter structure is changed to a prism structure. Since the viewing angle is optimized, the organic film thickness in the thin film package can be relatively increased, thereby reducing the signal-to-noise ratio and improving the integrated touch (Flexible Multi- Layer On Cell, FMLOC) touch effect.
  • FMLOC Flexible Multi- Layer On Cell
  • the diameter of the circle is greater than or equal to 1 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m. and/or, the distance between the centers of the circles is greater than or equal to 1 ⁇ m and less than or equal to 20 ⁇ m.
  • At least one protruding structure includes: a plurality of protruding structures, and the plurality of protruding structures are distributed according to a polygonal array corresponding to the light-emitting area of the display substrate.
  • each independent filter structure can correspond to a light-emitting area
  • the polygonal array formed by multiple protruding structures on each independent filter structure can correspond to the light-emitting area of a display substrate.
  • the present disclosure also provides a protruding structure.
  • the height is greater than or equal to 0 ⁇ m and less than or equal to 4 ⁇ m.
  • the present disclosure also provides a filter structure, the maximum thickness of the filter structure is greater than or equal to 2 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m.
  • the difference between the thickness of the filter structure and the height of the protruding structure can also be set to be greater than or equal to 2 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m.
  • the first filter structure 603, the second filter structure 602 and the third filter structure 604 can all adopt a convex prism structure with a certain regularity, and multiple prisms can be arranged on the same independent filter structure according to The shape of the light-emitting area of each pixel is distributed in a quadrilateral, hexagonal or polygonal array.
  • the present disclosure also exemplarily provides A display panel:
  • the buffer layer 501 and the insulating layer 503 can be made of inorganic materials, and the thickness can be greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 0.5 ⁇ m.
  • the first flat layer 505 may be made of organic material, and the thickness may be greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m.
  • the first flat layer 505 may use an exposure and development process to form the first groove.
  • the color filter layer may only have the first filter structure 603 disposed in the first groove. Therefore, the first groove, the second filter structure 602 and the third filter structure may be opened only in the green light emitting area. 604 uses the same thickness.
  • the thickness difference between the first filter structure 603 and the second filter structure 602 and the third filter structure 604 may be 0.1 to 2 ⁇ m.
  • the depth of the first groove may be 0.1-2 ⁇ m.
  • the expression “between the A value and the B value” in this disclosure refers to the numerical range including the A value and the B value, that is, it is equivalent to being greater than or equal to the A value, less than or A range of values equal to the B value.
  • the present disclosure also exemplarily provides a display panel:
  • the buffer layer 501 and the insulating layer 503 can be made of inorganic materials, and the thickness can be greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 0.5 ⁇ m.
  • the first flat layer 505 may be made of organic material, and the thickness may be greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 10 ⁇ m.
  • the first flat layer 505 may use an exposure and development process to form the first groove.
  • the first filter structure 603 may be disposed in the first groove, and the second filter structure 602 may be disposed in the second groove. Therefore, the first hole may be opened in the green light-emitting area. Groove, a second groove is opened in the light-emitting area of the red second filter structure 602.
  • the thickness of the first filter structure 603 is greater than the thickness of the second filter structure 602.
  • the thickness of the second filter structure 602 is greater than the thickness of the third filter structure.
  • the thickness difference between the first filter structure 603 and the second filter structure 602 may be 0.1 to 2 ⁇ m.
  • the thickness difference between the second filter structure 602 and the third filter structure 604 may be 0.1-2 ⁇ m.
  • the depth of the first groove may be 0.5-2 ⁇ m; the depth of the second groove may be 0.1-2 ⁇ m, and the thickness difference between the depth of the first groove and the depth of the second groove may be 0.1-2 ⁇ m. .
  • the present disclosure also provides an exemplary display panel:
  • the buffer layer 501 and the insulating layer 503 can be made of inorganic materials, and the thickness can be greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 0.5 ⁇ m.
  • An etching process is used to form a groove on the insulating layer 503, or the buffer layer 501 and the insulating layer 503.
  • the slope angle ⁇ formed by the groove is between 20° and 90°, and the preferred angle is 60°;
  • the groove The distance a between the edge and the structure 601 is between -2 and 10 ⁇ m, and the preferred distance is 2 ⁇ m;
  • the groove depth b is between 0.1 and 1.6 ⁇ m, and the preferred depth is 1.0 ⁇ m.
  • the color filter layer may only have the first filter structure 603 disposed in the first groove. Therefore, the first groove, the second filter structure 602 and the third filter structure may be opened only in the green light emitting area. 604 uses the same thickness.
  • the thickness difference between the first filter structure 603 and the second filter structure 602 and the third filter structure 604 may be 0.1-1.6 ⁇ m. Specifically, the depth of the first groove can be 0.1-1.6 ⁇ m.
  • the present disclosure also exemplarily provides a display panel:
  • the first flat layer 505, the buffer layer 501 and the insulating layer 503 can be made of inorganic materials, and the thickness can be greater than or equal to 0.1 ⁇ m and less than or equal to 0.8 ⁇ m.
  • the buffer layer 501 and the insulating layer 503 when preparing grooves on the first flat layer 505, the buffer layer 501 and the insulating layer 503, it can be divided into two steps of etching, in which the first etching film layer is the insulating layer 503, or the buffer layer 501 and Insulating layer 503, the second etching film layer is the first flat layer 505. Since a secondary etching process is used, the distance c between the groove edges of the first etching and the second etching is between -10 and 10 ⁇ m.
  • the display panel may further include: a second flat layer 605 located away from the color filter layer and away from the light-emitting layer. side.
  • the display panel may further include: an encapsulation layer 400 located between the color filter layer and the display substrate. .
  • embodiments of the present disclosure also provide a display device, including a display panel as in any of the above embodiments.
  • Figure 16 is a step flow chart of a preparation method provided by an embodiment of the present disclosure. As shown in Figure 16, combined with the above embodiments, based on similar inventive concepts, the embodiments of the present disclosure also provide a preparation method, including:
  • Step S301 Provide a display substrate; wherein the display substrate includes at least one light-emitting area and a non-light-emitting area.
  • Step S302 Form a color filter layer on the light-emitting side of the display substrate.
  • the color filter layer includes at least one filter structure, and the orthographic projection of the filter structure on the display substrate covers the light-emitting area at the corresponding position.
  • At least one filter structure includes: a first filter structure 603 and a second filter structure 602.
  • the thickness of the first filter structure 603 and the second filter structure 602 is not equal, and the first filter structure 603 is away from the display substrate.
  • the surface on one side is on the same plane as the surface of the second filter structure 602 on the side facing away from the display substrate.
  • the present disclosure also provides a method of forming a color filter layer, including:
  • Step S401 Form a functional film layer on the light-emitting side of the display substrate.
  • Step S402 Expose, develop and/or etch the surface of the functional film layer on the side facing away from the display substrate to obtain a first groove.
  • Step S403 Form a color filter layer on the side of the functional film layer facing away from the display substrate, where the first filter structure 603 is filled in the first groove.
  • the present disclosure also provides an example of a method for preparing a display panel:
  • Step 501 On the rigid transparent substrate 10, methods such as exposure, development, magnetron sputtering, dry etching, and wet etching are used to form the thin film transistor structure in the active matrix light-emitting diode display device, that is, the flexible thin film transistor circuit 20.
  • the flexible thin film transistor circuit 20 obtained through the above process steps is a thin film transistor structure with a current and voltage regulation function.
  • the rigid transparent substrate 10 may be a transparent alkali-free glass or quartz substrate, or other transparent substrates with a certain hardness.
  • Step 502 Use methods such as magnetron sputtering, exposure and development, etching, etc. to form the first electrode 201 with a thickness of 10 to 1000 nm on the flexible thin film transistor circuit 20.
  • the material of the first electrode 201 may be metals with high reflectivity such as silver Ag, gold Au, palladium Pd, platinum Pt, or alloys or laminates of such metals.
  • the first electrode 201 may also be a composite film layer of indium tin oxide ITO and a metal reflective layer.
  • Step 503 On the first electrode 201, perform photoresist coating, exposure, and development process steps with a thickness of 0.5 to 1.5 ⁇ m to create a regularly arranged pixel definition layer 202 structure to define subsequent luminescent materials. filling.
  • Step 504 Apply photoresist with a thickness of 0.5 to 1.5um on the pixel definition layer 202, and perform subsequent exposure and development process steps to create a regularly arranged spacer support layer 203 structure for supporting the electro-optical pixels.
  • the mark used in the evaporation process of electroluminescence (EL) reduces the possibility of filling deviation of the luminescent material.
  • the spacer support layer 203 can be replaced by the pixel definition layer 202.
  • the photoresist selected for 203 can be a transparent material or a black opaque material.
  • Step 505 At least one of vacuum high-temperature evaporation, inkjet printing, and transfer methods can be used to fill the R-EL (red emitting layer), G-EL (green emitting area), and B-EL (blue emitting area). to the corresponding pixel definition layer 202, and subsequent filling of the EL device film layer is performed.
  • the EL device includes a hole injection layer, a hole transport layer, an electron blocking layer, a hole blocking layer, an electron transport layer, an electron injection layer, etc.
  • Step 506 After the evaporation of the light-emitting layer is completed, a metal or metal oxide material such as silver Ag, magnesium Mg, aluminum Al, or other metal or metal oxide material is used to form the second electrode 304 with a film thickness of 1-30 nm and a certain transmittance.
  • the first electrode 201 and the second electrode 304 work together to adjust the state of the light-emitting layer and adjust the product display effect.
  • Step 507 using plasma enhanced chemical vapor deposition (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD), chemical vapor deposition (Chemical Vapor Deposition, CVD), atomic layer deposition (Atomic layer deposition, ALD), hexamethyldisiloxane (hexamethyldisiloxane, HDMSO) electrodeposition or other methods to form an inorganic film with a film thickness of 0.1-5.0um, that is, the first encapsulation layer 401400 in the encapsulation layer 400.
  • the film quality can be silicon oxynitride SiOxNy, silicon nitride SiNx , silicon oxide SiOx, aluminum oxide AlOx and a stack of one or more materials.
  • Step 508 Use highly transparent organic materials such as acrylates, epoxy resins and other thermally curable or light-curable organic materials to prepare the second encapsulation layer 402400 in the encapsulation layer 400 to relieve the stress of the inorganic layer and provide color filtering.
  • the layer plays a protective role.
  • the filling method of organic materials can be scraping, inkjet printing, etc., and the film thickness can be set to 0.1-50.0um. Then the thermal curing or light curing process step is performed to complete the curing process of the organic resin material.
  • Step 509 Use plasma-enhanced chemical vapor deposition, chemical vapor deposition, atomic layer deposition, electrodeposition and other methods to form an inorganic film with a thickness of 0.1-2.0um, that is, the third packaging layer 403400 in the packaging layer 400.
  • the film quality formed may be one of SiOxNy, SiNx, SiOx, AlOx, etc. or a stack of multiple materials.
  • the encapsulation layer 400 is obtained.
  • the encapsulation layer 400 of the three-layer encapsulation structure is described. In fact, it can be extended to a multi-layer inorganic-organic stacked encapsulation structure.
  • Step 510 Use methods such as PECVD, CVD, HDMSO, coating, and printing to form a buffer layer 501 with a film thickness of 0.1-5.0um, that is, the buffer layer 501.
  • the material of the buffer layer 501 can be SiOxNy, SiNx, SiOx, AlOx, The stacking and mixing of one or more organic materials such as acrylic resin and epoxy resin.
  • the buffer layer 501 is made of inorganic material, it can be replaced by thickening the third encapsulation layer 403400, thereby reducing the manufacturing process and product cost.
  • Step 511 Use magnetron sputtering or other methods to prepare one or more of metals such as silver Ag, gold Au, palladium Pd, platinum Pt or metal oxides such as indium tin oxide ITO to form a first layer of laminate or material mixing.
  • the first touch electrode 502 may be a touch connection electrode, and the orthographic projection on the rigid transparent substrate 10 is located within the orthographic projection range of the pixel definition layer 202 on the rigid transparent substrate 10 .
  • the thickness of the touch connection electrode is 10-500nm.
  • Step 512 Use methods such as PECVD, CVD, HDMSO, coating, and printing to form an insulating layer 503 with a film thickness of 0.1-5.0um on the structure obtained in the above steps.
  • the insulating layer 503 is provided with a plurality of via holes, which expose the surface of the touch connection electrode 502 .
  • etching is performed at the position corresponding to the green light-emitting area to form a groove consistent with the green light-emitting area on the buffer layer 501.
  • the minimum distance between the groove size and the light-emitting area can be 0-10um. .
  • Step 513 Use magnetron sputtering or other methods to prepare one or more of metals such as silver Ag, gold Au, palladium Pd, platinum Pt or metal oxides such as indium tin oxide ITO to form a laminate or a second layer of mixed materials.
  • Touch electrode 504. The thickness of the second touch electrode 504 is 10-500 nm.
  • the second touch electrode 504 is evenly deposited on the surface of the insulating layer 503 . Part of the second touch electrode 504 is connected to the first touch connection electrode 502 through via holes on the insulating layer 503 .
  • a highly transparent organic material can also be used for planarization processing, that is, the first planarization layer 505.
  • the selected highly transparent organic materials may be thermally curable or light-curable organic materials such as acrylates and epoxy resins.
  • the filling method of the organic material can be scraping, inkjet printing, etc., and the thickness of the first flat layer 505 can be 0.1-50.0um.
  • Step 515 Use negative photoresist to perform coating, exposure, and development processes to create a black matrix layer 601.
  • the coverage range of the black matrix 601 and the pixel definition layer 202 is consistent, and the distance between the boundary of the black matrix 601 and the boundary of the pixel definition layer 202 is -2 to 10 um.
  • This step can also use an organic resin material containing a thermal curing agent or a photosensitive curing agent to perform an inkjet printing or transfer process step and complete the corresponding material curing to form the black matrix 601 .
  • Step 516 Select a negative photoresist for coating, exposure, and development to form a red color film, a green color film, and a blue color film in sequence, that is, the second filter structure 602, the first filter structure 603, and the third filter structure.
  • the coverage range of the red color film is consistent with the red luminescent layer
  • the coverage range of the blue color film is consistent with the green luminescent area
  • the coverage range of the green color film is consistent with the blue luminescent area.
  • the orthographic projection of the color filter boundary on the rigid transparent substrate 10 and the orthographic projection of the pixel definition layer 202 boundary on the rigid transparent substrate 10 have a distance of 0 to 10 um.
  • Step 517 After completing the production of the color filter layer and the black matrix layer 601, a highly transparent organic material is used for planarization processing, that is, the second planarization layer 605.
  • the selected highly transparent organic materials may be thermally curable or light-curable organic materials such as acrylates and epoxy resins.
  • the filling method of organic materials can be scraping, inkjet printing, etc., and the film thickness is set to 0.1-50.0um. This film layer is also optionally removable.
  • the second planarization layer 605 is described as a planarization functional layer.
  • the second planarization layer 605 can be expanded to an inorganic stack or an organic-inorganic stack with a reflectivity reducing function.
  • the thickness differentiation design of the filter structure in the color filter layer structure is realized, and at the same time, the upper surface of the film layer is ensured to be in the same plane. Therefore, even the thickness of the filter structure can adapt to the luminous efficiency of the corresponding luminous area, and is unified
  • the intensity of each color light also reduces the reflectivity of the filter structure to external ambient light.
  • the FMLOC non-metallic film layer can be etched in the electroluminescence evaporation area, and the filling technology of the color filter layer is used for filling, realizing the differentiated thickness design of the filter structure.
  • a filter structure using a lens convex structure is prepared to diverge the light, further reduce the emissivity of the color filter layer, and optimize the viewing angle.
  • the preparation method may also include more steps, which may be determined according to actual needs, and this disclosure is not limiting.
  • steps which may be determined according to actual needs, and this disclosure is not limiting.
  • any reference signs placed between parentheses shall not be construed as limiting the claim.
  • the word “comprising” does not exclude the presence of elements or steps not listed in a claim.
  • the word “a” or “an” preceding an element does not exclude the presence of a plurality of such elements.
  • the present disclosure may be implemented by means of hardware comprising several different elements and by means of a suitably programmed computer. In the element claim enumerating several means, several of these means may be embodied by the same item of hardware.
  • the use of the words first, second, third, etc. does not indicate any order. These words can be interpreted as names.

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Abstract

一种显示面板及其制备方法及具有其的显示装置。显示面板包括：显示基板，设置在显示基板出光侧的彩色滤光层；彩色滤光层包括厚度不相等的第一滤光结构（603）和第二滤光结构（602），在显示基板上的正投影覆盖对应位置的发光区域，第一滤光结构（603）背离显示基板一侧的表面与第二滤光结构（602）背离显示基板一侧的表面处于同一平面。

Description

显示面板及其制备方法、显示装置 技术领域
本公开涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板、一种制备方法、以及一种显示装置。
背景技术
在有机发光半导体显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)技术中，使用有机发光器件完成红色、绿色以及蓝色的三原色(Red,Green,Blue；RGB)像素发光。为了降低环境光的干扰，提升显示效果的对比度，目前已经提出引入彩色滤光片(Color filter On Encapsulation，COE)技术或Pol-less技术，来替代现有偏光片方案，由彩色滤光片导出有机发光器件激发所产生的三原色光，并降低外部环境光的反射率。
概述
本公开提供了一种显示面板，包括：
显示基板，包括至少一个发光区域和非发光区域；
设置在所述显示基板的出光侧的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括至少一个滤光结构，所述滤光结构在所述显示基板上的正投影覆盖对应位置的发光区域；
其中，所述至少一个滤光结构包括：第一滤光结构和第二滤光结构，所述第一滤光结构与所述第二滤光结构的厚度不相等，所述第一滤光结构背离所述显示基板一侧的表面与所述第二滤光结构背离所述显示基板一侧的表面处于同一平面。
在一种可选的实现方式中，所述至少一个滤光结构还包括：第三滤光结构；其中，所述第一滤光结构背离所述显示基板一侧的表面、所述第二滤光结构背离所述显示基板一侧的表面，以及所述第三滤光结构背离所述显示基板一侧的表面处于同一平面。
在一种可选的实现方式中，所述滤光结构的滤光颜色与对应位置的发光 区域的发光颜色相同，且所述滤光结构的厚度与对应位置的发光区域的发光效率正相关。
在一种可选的实现方式中，所述第一滤光结构的厚度大于所述第二滤光结构的厚度，所述第二滤光结构的厚度大于或等于所述第三滤光结构的厚度。
在一种可选的实现方式中，还包括：黑色矩阵，与所述彩色滤光层同层设置，所述黑色矩阵在所述显示基板上的正投影位于所述非发光区域内。
在一种可选的实现方式中，所述显示面板还包括：设置在所述显示基板与所述彩色滤光层之间的功能膜层，所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上设置有第一凹槽，所述第一滤光结构填充在所述第一凹槽内。
在一种可选的实现方式中，所述第一凹槽的侧壁的坡度角大于或等于20°，并且小于或等于90°；和/或，
所述第一凹槽的底面在所述显示基板上的正投影边界与所述黑色矩阵在所述显示基板上的正投影边界之间的最小距离大于或等于-2μm，并且小于或等于10μm；和/或，
所述第一凹槽的深度大于或等于0.1μm，并且小于或等于2.4μm。
在一种可选的实现方式中，所述第二滤光结构设置在所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上；或者，
所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上还设置有第二凹槽，所述第二滤光结构填充在所述第二凹槽内，所述第二凹槽的深度小于所述第一凹槽的深度。
在一种可选的实现方式中，所述第二凹槽的侧壁的坡度角大于或等于20°，并且小于或等于90°；和/或，
所述第二凹槽的底面在所述发光层上的正投影边界与所述黑色矩阵在所述发光层上的正投影边界的距离大于或等于-2μm，并且小于或等于10μm；和/或，
所述第二凹槽的深度大于或等于0.1μm，并且小于或等于2.4μm。
在一种可选的实现方式中，所述第三滤光结构设置在所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上；或者，
所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上还设置有第三凹槽，所述第三滤光结构填充在所述第三凹槽内，所述第三凹槽的深度小于或等于所 述第二凹槽的深度。
在一种可选的实现方式中，所述功能膜层为触控功能层，所述触控功能层包括以下至少之一：层叠设置的缓冲层、第一触控电极层、绝缘层、第二触控电极层以及第一平坦层；
其中，所述第一触控电极层包括第一触控电极，所述第二触控电极层包括第二触控电极，所述第一触控电极与所述第二触控电极通过设置在所述绝缘层上的过孔连接。
在一种可选的实现方式中，所述滤光结构背离所述显示基板的一侧表面具有至少一个凸起结构，所述凸起结构用于发散所对应位置的发光区域发出的光。
在一种可选的实现方式中，所述凸起结构是半球形棱镜，所述凸起结构在所述显示基板上的正投影是圆形；
其中，所述圆形的直径大于或等于1μm，并且小于或等于10μm；和/或，所述圆形的圆心之间的间距大于或等于1μm，并且小于或等于20μm。
在一种可选的实现方式中，所述至少一个凸起结构包括：多个凸起结构，所述多个凸起结构按照所述显示基板的发光区域对应的多边形阵列分布。
在一种可选的实现方式中，所述滤光结构的最大厚度大于或等于1μm，并且小于或等于10μm；所述凸起结构的高度大于或等于0μm，并且小于或等于4μm；所述滤光结构的厚度与所述凸起结构的高度的差值大于或等于2μm，并且小于或等于10μm。
在一种可选的实现方式中，所述显示面板还包括以下至少之一：
封装层，位于所述彩色滤光层和所述显示基板之间；
第二平坦层，位于所述彩色滤光层远离所述发光层的一侧。
本公开还提供了一种显示装置，包括如上述任一项实施例所述的一种显示面板。
本公开还提供了一种制备方法，包括：
提供显示基板；其中，所述显示基板包括至少一个发光区域和非发光区域；
在所述显示基板的出光侧的形成彩色滤光层，所述彩色滤光层包括至少一个滤光结构，所述滤光结构在所述显示基板上的正投影覆盖对应位置的发 光区域；
其中，所述至少一个滤光结构包括：第一滤光结构和第二滤光结构，所述第一滤光结构与所述第二滤光结构的厚度不相等，所述第一滤光结构背离所述显示基板一侧的表面与所述第二滤光结构背离所述显示基板一侧的表面处于同一平面。
在一种可选的实现方式中，所述在所述显示基板的出光侧形成彩色滤光层的步骤，包括：
在所述显示基板的出光侧形成功能膜层；
对所述功能膜层背离所述显示基板一侧的表面进行曝光显影和/或刻蚀，得到第一凹槽；
在所述功能膜层背离所述显示基板的一侧形成所述彩色滤光层，其中，所述第一滤光结构填充在所述第一凹槽内。
上述说明仅是本公开技术方案的概述，为了能够更清楚了解本公开的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本公开的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本公开的具体实施方式。
附图简述
为了更清楚地说明本公开实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本公开的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。需要说明的是，附图中的比例仅作为示意并不代表实际比例。
图1示意性地示出了本公开提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
图2示意性地示出了本公开提供的一种第一凹槽的剖面结构示意图；
图3示意性地示出了本公开提供的一种凹槽的剖面结构示意图；
图4示意性地示出了本公开提供的又一种第一凹槽的剖面结构示意图；
图5示意性地示出了本公开提供的又一种第一凹槽的剖面结构示意图；
图6示意性地示出了本公开提供的又一种滤光结构的剖面结构示意图；
图7示意性地示出了本公开提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
图8示意性地示出了本公开提供的一种滤光结构的正面结构示意图；
图9示意性地示出了本公开提供的一种制备方法的步骤流程图；
图10示意性地示出了本公开提供的一种形成彩色滤光层的方法的步骤流程图。
详细描述
为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
在相关技术的有机发光器件中，用于发出不同颜色光的有机发光材料的发光效率往往不同，不同颜色光的光强也存在差异，如果不进行相应的处理，则会导致显示装置存在显示偏色等显示问题。本公开考虑到，目前整片的彩色滤光片与有机发光器件层叠设置，无法用于改善有机发光材料的发光效率导致的光强差异，因此，本公开考虑通过调整彩色滤光片各区域的厚度，以此调节彩色滤光片各区域的透光率，进而平衡不同颜色光的光强差异。示例性地，光强越大，则该处像素发光区域对应的彩色滤光片厚度越大，透过率越低，以平衡过高的光强。
然而，本公开发现，在实现彩色滤光片各区域的厚度差异化时，厚度减薄的部分会带来透过率提升的正面效果，但同时会导致反射光增强，整体的反射率也将同步增加，彩色滤光片各区域的厚度差异化还会导致环境光产生发散、干扰等现象，在显示装置的暗态场景下使用户的产品使用体验变差。本公开进一步研究发现，这是因为彩色滤光片用于反射外部环境光的表面不在同一水平面上，导致整体的反射率增加、色分离现象加重。
为了解决上述问题，本公开提供了一种显示面板，参照图1，图1示意性地示出了本公开提供的一种显示面板的剖面结构示意图。如图1所示，该显示面板包括：
显示基板，包括至少一个发光区域和非发光区域。
设置在显示基板的出光侧的彩色滤光层，彩色滤光层包括至少一个滤光结构，滤光结构在显示基板上的正投影覆盖对应位置的发光区域。
可选的，显示基板可以是有机发光显示基板。其中，本公开中的发光区域是像素发光区域，每一个发光区域可以对应一个像素点所在的发光区域，该发光区域可以通过对应颜色的一个滤光结构进行处理。示例性地，比如一个红色像素点的发光区域，可以通过透过红光的红色滤光结构进行处理。本公开中的非发光区域，可以是显示基板上的除发光区域以外的区域。
其中，滤光结构在显示基板上的正投影边界与对应位置的发光区域的边界，最小距离可以大于或等于0μm，并且小于或等于10μm，以此保证滤光结构能够针对对应的像素光进行处理。
其中，至少一个滤光结构包括：第一滤光结构603和第二滤光结构602，第一滤光结构603与第二滤光结构602的厚度不相等，第一滤光结构603背离显示基板一侧的表面与第二滤光结构602背离显示基板一侧的表面处于同一平面。
其中，第一滤光结构603和第二滤光结构602的厚度可以是以第一滤光结构603的出光强度和第二滤光结构602的出光强度相等为目标，根据各自滤光材料的透光性以及对应的发光区域的发光材料的发光效率确定的。示例性地，第一滤光结构603的滤光颜色可以为绿色，第二滤光结构602的滤光颜色可以为红色，在第一滤光结构603和第二滤光结构602的透光性相同的情况下，第一滤光结构603对应的绿色发光区域的发光效率高于第二滤光结构602对应的红色发光区域的发光效率，则为了使第一滤光结构603的出光强度和第二滤光结构602的出光强度相等，应该设置第一滤光结构603的厚度大于第二滤光结构602的厚度，以此降低第一滤光结构603的透光性，平衡第一滤光结构603的出光强度和第二滤光结构602的出光强度。
本公开考虑到RGB三原色发光技术中，至少有两种发光材料的发光效率不同，需要进行至少两种厚度的差异化设置，提出厚度不相等的第一滤光结构603和第二滤光结构602，一方面使发光效率不同导致的光强差异得到平衡，改善甚至消除偏色等问题，并且，由于第一滤光结构603背离显示基板一侧的表面与第二滤光结构602背离显示基板一侧的表面处于同一平面，则彩色滤光层的出光面保持了齐平，另一方面能够避免滤光出光面不平导致的色分离现象以及外部环境光的发散和干扰等问题，进而降低外部环境光的反射率，提升产品的暗态效果。由于着重对彩色滤光层中滤光结构的膜厚进 行变更调整，通过不同膜厚的滤光结构设置，能够有助于得到视角较优、反射率低、功耗收益高以及色分离效果较好的显示设备。
为了对应三种颜色的发光材料的发光区域，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种滤光结构，至少一个滤光结构还包括：第三滤光结构604。
其中，第一滤光结构603背离显示基板一侧的表面、第二滤光结构602背离显示基板一侧的表面，以及第三滤光结构604背离显示基板一侧的表面处于同一平面。
考虑到三种颜色的发光材料的发光效率均不相同的情况下，第一滤光结构603、第二滤光结构602以及第三滤光结构604，三者的厚度可以均不相同。
进一步，在一种可选的实施方式中，滤光结构的滤光颜色与对应位置的发光区域的发光颜色相同，且滤光结构的厚度与对应位置的发光区域的发光效率正相关。
具体的，第一滤光结构可以对应第一发光区域，第二滤光结构可以对应第二发光区域，第三滤光结构可以对应第三发光区域。
其中，发光区域可以包括电致发光的有机发光结构，则发光区域的发光效率可以是指有机发光结构的材料发光效率。其中，某一子像素的有机发光结构的材料发光效率越高，有机发光结构发出的该子像素的颜色光越强。而滤光结构的厚度越大，透过率越低，能够对相对其他子像素颜色光更强的颜色光进行过滤减弱，使各颜色光的光强比例达到要求，符合肉眼对显示画面的观看需求。
示例性地，若滤光结构的滤光颜色为红色，则对应位置的发光区域的发光颜色也为红色；若绿色发光区域的发光效率最高，则滤光颜色为绿色的滤光结构的厚度最大。
在一种可选的实施方式中，第一滤光结构603的厚度大于第二滤光结构602的厚度，第二滤光结构602的厚度大于或等于第三滤光结构604的厚度。
具体的，考虑到有机发光材料中，绿色发光材料的发光效率往往最高，红色发光材料的发光效率通常稍高于或者等于蓝色发光材料的发光效率，因此，第一滤光结构603的滤光颜色可以为绿色，第二滤光结构602的滤光颜 色为红色，第三滤光结构604的滤光颜色为蓝色。经实验证明，通过上述实施例以相应的尺寸设置滤光结构，发光效率最低的蓝色发光器件的滤光处理后的光强效率可相对提升10％，显示装置产品的整体反射率可下降0.2％以上。
上述实施例中，彩色滤光层中的滤光结构针对对应的发光区域进行颜色光的选通，为避免颜色光的光路混乱，需要对非像素发光区域进行遮挡，为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，包括：黑色矩阵601，与彩色滤光层同层设置，黑色矩阵601在显示基板上的正投影位于非发光区域内。
其中，黑色矩阵601与彩色滤光层同层设置，是指黑色矩阵601的层叠位置与彩色滤光层相同，并不对黑色矩阵601的厚度进行限制。进一步的，为了方便滤光结构的设置，黑色矩阵601在背离显示基板的一面的宽度可以小于黑色矩阵601在靠近显示基板的一面的宽度，形成梯形截面。
本公开还考虑在及厚度差异化的彩色滤光层中集成其他功能层，用于嵌入滤光结构，为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，包括：设置在显示基板与彩色滤光层之间的功能膜层，功能膜层靠近彩色滤光层的一侧表面上设置有第一凹槽，第一滤光结构603填充在第一凹槽内。
示例性地，功能膜层可以包括触控功能层，则从触控功能层的表面，可以向下在触控功能层中的绝缘层503和缓冲层501中设置第一凹槽。
其中，第一凹槽的加工方式、尺寸和位置，可以与功能膜层的材料性质和厚度相关联。示例性地，若功能膜层是纯无机材料，则可以选用刻蚀加工；若功能膜层是有机材料，则可以选用曝光显影加工；若功能膜层可供开槽的材料较厚，则第一凹槽也可以设置得更厚。
通过上述实施例，在显示面板中集成的功能膜层中，设置第一凹槽用于放置第一滤光结构603，可以进一步以不同的深度嵌入式地下沉放置不同的滤光结构，不仅实现滤光结构的差异化厚度，还能够有效减少显示面板的厚度。
为了使第一凹槽中填充的第一滤光结构603能够顺利将对应的发光区域发出的光到处，且不与其他滤光结构光路混淆，在一种可选的实施方式中， 本公开还提供了一种第一凹槽，该第一凹槽的侧壁的坡度角大于或等于20°，并且小于或等于90°；和/或，
第一凹槽的底面在显示基板上的正投影边界与黑色矩阵601在显示基板上的正投影边界之间的最小距离大于或等于-2μm，并且小于或等于10μm；和/或，
第一凹槽的深度大于或等于0.1μm，并且小于或等于2.4μm。
需要注意的是，本公开实施例中的“A，和/或，B，和/或，C”，即，至少包括“A”、“B”和“C”中的任一项，具体包含以下七种情况：“A和B和C”、“A和B”、“B和C”、“A和C”、“A”、“B”、“C”。
示例性地，第一凹槽的侧壁的坡度角可以大于或等于20°，并且小于或等于90°，并且，第一凹槽的深度还可以大于或等于0.1μm，并且小于或等于2.4μm。
进一步可选的，第一凹槽的侧壁的坡度角可以是60°。
进一步可选的，第一凹槽的底面在显示基板上的正投影边界与黑色矩阵601在显示基板上的正投影边界之间的最小距离可以是2μm。
进一步可选的，第一凹槽的深度可以是2μm。
其中，第一凹槽的深度不超过功能膜层的总厚度。
考虑到第二滤光结构602的厚度和第二滤光结构602的厚度可以小于第一滤光结构603的厚度，在第一滤光结构603设置在凹槽中的前提下，则第二滤光结构602可以不用设置在凹槽中，为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，其中，第二滤光结构602设置在功能膜层靠近彩色滤光层的一侧表面上。
若三种发光区域的发光效率均不相同，则考虑第二滤光结构602的厚度应该与第三滤光结构604的厚度不同，第二滤光结构602可以设置在凹槽中，为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，其中，功能膜层靠近彩色滤光层的一侧表面上还设置有第二凹槽，第二滤光结构602填充在第二凹槽内，第二凹槽的深度小于第一凹槽的深度。
通过上述实施例，由于第二凹槽和第一凹槽均以功能膜层靠近彩色滤光层的一侧表面为开口，即凹槽开口处于同一平面，第二凹槽的深度小于第一 凹槽的深度，则能够在第一滤光结构603和第二滤光结构602的出光面齐平的情况下，实现第一滤光结构603和第二滤光结构602的厚度差异。
为了使第二凹槽中填充的第二滤光结构602能够顺利将对应的发光区域发出的光到处，且不与其他滤光结构光路混淆，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种第二凹槽，该第二凹槽的侧壁的坡度角大于或等于20°，并且小于或等于90°。
和/或，第二凹槽的底面在发光层上的正投影边界与黑色矩阵601在发光层上的正投影边界的距离大于或等于-2μm，并且小于或等于10μm。
和/或，第二凹槽的深度大于或等于0.1μm，并且小于或等于2.4μm。
进一步可选的，第一凹槽的侧壁的坡度角可以是60°。
进一步可选的，第一凹槽的底面在显示基板上的正投影边界与黑色矩阵601在显示基板上的正投影边界之间的最小距离可以是2μm。
进一步可选的，第一凹槽的深度可以是1μm。
其中，第二凹槽的深度不超过功能膜层的总厚度。
与上述实施例中的第二滤光结构602相类似，第三滤光结构604也可以不用设置在凹槽中，为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，其中，第三滤光结构604设置在功能膜层靠近彩色滤光层的一侧表面上。
为了减薄显示面板，并且保证滤光结构的滤光效果，第三滤光结构604也可以嵌入式地设置在凹槽中，为此，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种显示面板，其中，功能膜层靠近彩色滤光层的一侧表面上还设置有第三凹槽，第三滤光结构604填充在第三凹槽内，第三凹槽的深度小于或等于第二凹槽的深度。
在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种功能膜层，该功能膜层为触控功能层，触控功能层包括以下至少之一：层叠设置的缓冲层501、第一触控电极502层、绝缘层503、第二触控电极504层以及第一平坦层505。
其中，第一触控电极502层和第二触控电极504层可以是嵌入式设置在绝缘层503和第一平坦层505中的。为此，可以将触控电极所在的区域设置对应非发光区域，进而避开触控电极所在的区域在第一平坦层505，或者，第一平坦层505或者绝缘层503，或者，绝缘层503和缓冲层501中嵌入滤 光结构。
其中，缓冲层501、第一触控电极502层、绝缘层503、第二触控电极504层以及第一平坦层505，可以是向远离显示基板的方向依次层叠设置的。
其中，第一触控电极502层包括第一触控电极502，第二触控电极504层包括第二触控电极504，第一触控电极502与第二触控电极504通过设置在绝缘层503上的过孔连接。
可选的，第一触控电极502可以是触控连接电极，可以位于靠近显示基板的一侧。相对应的，第二触控电极504可以位于远离显示基板的一侧。
为了进一步通过滤光结构降低外部环境光的反射率，并且提升滤光的发散效果，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种滤光结构，该滤光结构背离显示基板的一侧表面具有至少一个凸起结构，凸起结构用于发散所对应位置的发光区域发出的光。
进一步的，在一种可选的实施方式中，凸起结构是半球体棱镜，凸起结构在显示基板上的正投影是圆形。
其中，半球体棱镜远离显示基板的一侧表面可以是弧面，进一步还可以是标准的半球形弧面，用以适应不同的光线发散需求。
通过上述实施例，将滤光结构变更为棱镜结构，来自显示基板的下部光线可以被打散，从而使得通过滤光结构的侧面光线得到补充，L-decay效果变优，显示装置产品的可视角度可以得到改善。
以及，通过上述实施例，将滤光结构变更为棱镜结构，因可视角度得到优化，薄膜封装中的有机膜厚可以相对增加，进而可以降低信噪比，改善一体化触控(Flexible Multi-Layer On Cell,FMLOC)的触控效果。
可选的，圆形的直径大于或等于1μm，并且小于或等于10μm。和/或，圆形的圆心之间的间距大于或等于1μm，并且小于或等于20μm。
在一种可选的实施方式中，至少一个凸起结构包括：多个凸起结构，多个凸起结构按照显示基板的发光区域对应的多边形阵列分布。
具体的，每个独立的滤光结构可以对应一个发光区域，则每个独立的滤光结构上的多个凸起结构形成的多边形阵列，即可以对应一个显示基板的发光区域。
更进一步的，考虑到相关技术中像素发光区域的尺寸大小，为了设置适 应尺寸的滤光结构，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种凸起结构，该凸起结构的高度大于或等于0μm，并且小于或等于4μm。
而考虑滤光结构的滤光效果和方便厚度差异化设置，本公开还提供了一种滤光结构，该滤光结构的最大厚度大于或等于2μm，并且小于或等于10μm。
为此，还可以设置滤光结构的厚度与凸起结构的高度的差值大于或等于2μm，并且小于或等于10μm。
可选的，第一滤光结构603，第二滤光结构602和第三滤光结构604可以均采用具有一定规律的凸起棱镜结构，多个棱镜在同一个独立的滤光结构上可根据每个像素发光区域的形状，按照四边形、六边形或多边形阵列分布。
结合上述实施例，为了使滤光结构与显示面板的尺寸结构以及材料相适应，考虑只提供第一凹槽的情况下，在一种可选的实施方式中，本公开还示例性地提供了一种显示面板：
其中，缓冲层501和绝缘层503可以采用无机材料，厚度可以大于或等于0.1μm，并且小于或等于0.5μm。第一平坦层505可以采用有机材料，厚度可以大于或等于0.1μm，并且小于或等于10μm。
其中，第一平坦层505可以采用曝光显影的工艺方式形成第一凹槽。
其中，彩色滤光层可以仅有第一滤光结构603设置在第一凹槽中，因此，可以仅在绿色发光区域开孔第一凹槽，第二滤光结构602和第三滤光结构604采用相同的厚度。
其中，第一滤光结构603相比于第二滤光结构602和第三滤光结构604的厚度，差值可以是0.1～2μm。
具体的，第一凹槽的深度可以是0.1～2μm。
需要注意的是，为明确定义，本公开中关于“A数值～B数值之间”的表述，是包括A数值和B数值在内的数值范围，即，相当于大于或等于A数值，小于或等于B数值的数值范围。
考虑提供第一凹槽和第二凹槽的情况下，在又一种可选的实施方式中，本公开还示例性地提供了一种显示面板：
其中，缓冲层501和绝缘层503可以采用无机材料，厚度可以大于或等于0.1μm，并且小于或等于0.5μm。第一平坦层505可以采用有机材料， 厚度可以大于或等于0.1μm，并且小于或等于10μm。
其中，第一平坦层505可以采用曝光显影的工艺方式形成第一凹槽。
其中，彩色滤光层可以仅有第一滤光结构603设置在第一凹槽中，以及，第二滤光结构602设置在第二凹槽中，因此，可以在绿色发光区域开孔第一凹槽，在红色第二滤光结构602发光区域开孔第二凹槽，第一滤光结构603的厚度大于第二滤光结构602的厚度，第二滤光结构602的厚度大于第三滤光结构604的厚度。
其中，第一滤光结构603相比于第二滤光结构602厚度，差值可以是0.1～2μm。第二滤光结构602相比于第三滤光结构604厚度，差值可以是0.1～2μm。
具体的，第一凹槽的深度可以是0.5～2μm；第二凹槽的深度可以是0.1～2μm，第一凹槽的深度相较于第二凹槽的深度的厚度差可以是0.1～2μm。
考虑取消第一平坦层505的情况下，在又一种可选的实施方式中，本公开还示例性地提供了一种显示面板：
其中，缓冲层501和绝缘层503可以采用无机材料，厚度可以大于或等于0.1μm，并且小于或等于0.5μm。
采用刻蚀的工艺方式在绝缘层503，或者，缓冲层501和绝缘层503上形成凹槽，凹槽所形成的坡度角θ在20°～90°之间，优选角度是60°；凹槽边缘距离结构601的距离a在-2～10μm之间，优选的距离是2μm；凹槽深度b在0.1～1.6μm之间，优选的深度为1.0μm。
其中，彩色滤光层可以仅有第一滤光结构603设置在第一凹槽中，因此，可以仅在绿色发光区域开孔第一凹槽，第二滤光结构602和第三滤光结构604采用相同的厚度。其中，第一滤光结构603相比于第二滤光结构602和第三滤光结构604的厚度，差值可以是0.1～1.6μm。具体的，第一凹槽的深度也即可以是0.1～1.6μm。
考虑提供第一平坦层505也为无机材料的情况下，在又一种可选的实施方式中，本公开还示例性地提供了一种显示面板：
其中，第一平坦层505、缓冲层501和绝缘层503可以采用无机材料，厚度可以大于或等于0.1μm，并且小于或等于0.8μm。
其中，在第一平坦层505、缓冲层501和绝缘层503上制备凹槽时，可 以分为两步刻蚀，其中，第一次刻蚀膜层为绝缘层503，或者，缓冲层501和绝缘层503，第二次刻蚀膜层为第一平坦层505。因采用二次刻蚀工艺，所以第一次刻蚀及第二次刻蚀的凹槽边缘距离c在-10～10μm之间。
为了平坦化显示面板的出光面，且对彩色滤光层进行平坦化保护，在一种可选的实施方式中，显示面板还可以包括：第二平坦层605，位于彩色滤光层远离发光层的一侧。
以及，为了对显示基板进封装保护且帮助实现显示基板出光面的平坦化，在一种可选的实施方式中，显示面板还可以包括：封装层400，位于彩色滤光层和显示基板之间。
结合上述实施例，基于相似的发明构思，本公开实施例还提供了一种显示装置，包括如上述任一项实施例的一种显示面板。
参照图16，图16是本公开实施例提供的一种制备方法的步骤流程图。如图16所示，结合上述实施例，基于相似的发明构思，本公开实施例还提供了一种制备方法，包括：
步骤S301，提供显示基板；其中，显示基板包括至少一个发光区域和非发光区域。
步骤S302，在显示基板的出光侧的形成彩色滤光层，彩色滤光层包括至少一个滤光结构，滤光结构在显示基板上的正投影覆盖对应位置的发光区域。
其中，至少一个滤光结构包括：第一滤光结构603和第二滤光结构602，第一滤光结构603与第二滤光结构602的厚度不相等，第一滤光结构603背离显示基板一侧的表面与第二滤光结构602背离显示基板一侧的表面处于同一平面。
在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种形成彩色滤光层的方法，包括：
步骤S401，在显示基板的出光侧形成功能膜层。
步骤S402，对功能膜层背离显示基板一侧的表面进行曝光显影和/或刻蚀，得到第一凹槽。
步骤S403，在功能膜层背离显示基板的一侧形成彩色滤光层，其中，第一滤光结构603填充在第一凹槽内。
进一步的，在一种可选的实施方式中，本公开还提供了一种制备显示面 板的方法示例：
步骤501，在刚性透明基板10上，采用曝光、显影、磁控溅射、干刻、湿刻等方法，形成有源矩阵发光二极管显示器件中的薄膜晶体管结构，即柔性薄膜晶体管电路20。其中通过上述工艺步骤得到的柔性薄膜晶体管电路20，是具有电流电压调控功能的薄膜晶体管结构。其中，刚性透明基板10可采用透明的无碱玻璃或者石英基板，或采用其他具有一定硬度的透明基板。
步骤502，在柔性薄膜晶体管电路20上，采用磁控溅射、曝光显影、刻蚀等方法，形成厚度可以是10～1000nm的第一电极201。第一电极201的材质可以是银Ag、金Au、钯Pd、铂Pt等具有高反射率的金属，或此类金属的合金或叠层。第一电极201还可以采用氧化铟锡ITO和金属反射层的复合膜层。
步骤503，在第一电极201上，进行厚度为0.5～1.5um的光刻胶涂覆、曝光、显影工艺步骤，制作具有规律性排布的像素定义层202结构，用以限定后续的发光材料填充。
步骤504，在像素定义层202上进行厚度为0.5～1.5um的光刻胶涂覆，并进行后续的曝光显影工艺步骤，制作具有规律性排布的间隔支撑层203结构，用于支撑电致发光((electro luminescence,EL)的蒸镀过程中所使用的标识，降低发光材料填充偏移的可能性。其中，间隔支撑层203可由像素定义层202代替。制备像素定义层202或间隔支撑层203所选用的光刻胶可以是透明材料或黑色不透明材料。
步骤505，可以采用真空高温蒸镀、喷墨打印、转印其中至少一种方法将R-EL(红色发光层)、G-EL(绿色发光区域)、B-EL(蓝色发光区域)填充至对应的像素定义层202中，并进行后续的EL器件膜层填充。EL器件包含空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层等。
步骤506，在发光层蒸镀完成后，采用如银Ag、镁Mg、铝Al等金属或金属氧化物材料制成膜厚在1-30nm的具有一定透过率的第二电极304。第一电极201与第二电极304共同作用以调节发光层状态并调节产品显示效果。
步骤507，采用等离子体增强化学的气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,PECVD)、化学气相沉积(Chemical Vapor  Deposition,CVD)、原子层沉积(Atomic layer deposition,ALD)、六甲基二硅氧烷(hexamethyldisiloxane,HDMSO)电沉积等方法形成膜厚是0.1-5.0um的无机薄膜，即封装层400中的第一封装层401400，所成膜的膜质可以是氮氧化硅SiOxNy、氮化硅SiNx、氧化硅SiOx、氧化铝AlOx等其中的一种或者多种材料的堆叠。
步骤508，选用高透明有机材料如丙烯酸酯类、环氧树脂类等可热固化或光固化的有机材料进行封装层400中的第二封装层402400制备，以缓解无机层应力并对彩色滤光层起保护作用。有机材料的填充方法可以选用刮涂、喷墨打印等方法，膜厚可设定为0.1-50.0um。随即进行热固化或光固化工艺步骤，完成有机树脂材料的固化过程。
步骤509，采用等离子体增强化学的气相沉积法、化学气相沉积、原子层沉积、电沉积法等方法形成膜厚在0.1-2.0um的无机薄膜，即封装层400中的第三封装层403400，所成膜的膜质可以是SiOxNy、SiNx、SiOx、AlOx等其中的一种或者多种材料的堆叠。
由此，得到封装层400，此处仅针对三层封装结构的封装层400进行描述，实际可扩展成为多层无机有机叠层封装结构。
步骤510，采用PECVD、CVD、HDMSO、涂覆、打印等方法形成膜厚在0.1-5.0um的缓冲层501，即缓冲层501，所缓冲层501的材质可以是SiOxNy、SiNx、SiOx、AlOx、丙烯酸树脂、环氧树脂等有机材料其中的一种或者多种材料的堆叠及混合。当缓冲层501膜质为无机材料时，其可采用第三封装层403400加厚进行膜层代替，进而降低工艺制程，降低产品成本。
步骤511，采用磁控溅射等方法将银Ag、金Au、钯Pd、铂Pt等金属或氧化铟锡ITO等金属氧化物其中的一种或多种制备形成叠层或者材料混合的第一触控电极502。第一触控电极502可以是触控连接电极，在刚性透明基板10上的正投影位于像素定义层202在刚性透明基板10上的正投影范围之内。触控连接电极的厚度为10-500nm。
步骤512，在上述步骤中得到的机构上采用PECVD、CVD、HDMSO、涂覆、打印等方法形成膜厚在0.1-5.0um的绝缘层503。绝缘层503设置有多个过孔，该过孔暴露出触控连接电极502的表面。在过孔制作工艺中，同时在绿色发光区域相对应的位置进行刻蚀，在缓冲层501上形成与绿色发光区 域相一致的凹槽，凹槽尺寸与发光区域的最小距离可以是0-10um。
步骤513，采用磁控溅射等方法将银Ag、金Au、钯Pd、铂Pt等金属或氧化铟锡ITO等金属氧化物其中的一种或多种制备形成叠层或者材料混合的第二触控电极504。第二触控电极504的厚度为10-500nm。第二触控电极504均匀沉积制作在绝缘层503表面，第二触控电极504中部分位置通过绝缘层503上的过孔与第一触控连接电极502连接。
步骤514，还可以采用高透明度有机材料平坦化处理，即第一平坦层505。所选用的高透明有机材料可以是丙烯酸酯类、环氧树脂类等可热固化或光固化的有机材料。有机材料的填充方法可以选用刮涂、喷墨打印等方法，第一平坦层505厚度可以为0.1-50.0um。
步骤515，选用负性光刻胶进行涂覆、曝光、显影工艺，制作黑色矩阵601层。黑色矩阵601与像素定义层202所覆盖范围一致，黑色矩阵601边界与像素定义层202边界距离-2～10um。该步骤还可以采用含有热固化剂或光敏固化剂的有机树脂材料进行喷墨打印或转印工艺步骤并完成相应的材料固化，形成黑色矩阵601。
步骤516，选用负性光刻胶进行涂覆、曝光、显影，依次形成红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜，即，第二滤光结构602、第一滤光结构603、第三滤光结构604，或变更RGB工艺顺序制作滤光结构。红色彩膜与红色发光层所覆盖范围一致，蓝色彩膜与绿色发光区域所覆盖范围一致，绿色彩膜与蓝色发光区域所覆盖范围一致。彩膜边界在刚性透明基板10上的正投影与像素定义层202边界在刚性透明基板10上的正投影具有0～10um距离。
步骤517，在制作完成彩色滤光层及黑色矩阵601层后，采用高透明度有机材料平坦化处理，即第二平坦层605。所选用的高透明有机材料可以是丙烯酸酯类、环氧树脂类等可热固化或光固化的有机材料。有机材料的填充方法可以选用刮涂、喷墨打印等方法，膜厚设定为0.1-50.0um。该膜层也是可选择性取消的。此处仅对第二平坦层605做平坦化功能层描述，第二平坦层605可拓展为具有反射率降低功能的无机叠层或有机无机叠层。
通过上述实施例示例，实现了以下优点：
(1)实现了彩色滤光层结构中滤光结构的厚度差异化设计，并同时保证膜层上表面处于同一平面，因此，既使滤光结构的厚度可以适应相应发光 区域的发光效率，统一各颜色光的强度，也使滤光结构对外部环境光的反射率下降。
(2)可以针对FMLOC非金属膜层在电致发光的蒸镀区域刻蚀，并采用了彩色滤光层的填充技术进行填充，实现了滤光结构的厚度差异化设计。
(3)制备了采用透镜凸起结构的滤光结构，对光线进行发散，进一步降低彩色滤光层的发射率，并优化可视角度。
需要说明的是，该制备方法还可以包括更多的步骤，这可以根据实际需求而定，本公开对此不作限制。关于该制备方法制备得到的显示装置的详细说明和技术效果可以参考上文中关于显示装置的描述，此处不再赘述。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可。
最后，还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、商品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、商品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、商品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本公开所提供的一种显示面板、一种制备方法、以及一种显示装置进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本公开的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本公开的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本公开的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本公开的限制。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公 开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。
本文中所称的“一个实施例”、“实施例”或者“一个或者多个实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或者特性包括在本公开的至少一个实施例中。此外，请注意，这里“在一个实施例中”的词语例子不一定全指同一个实施例。
在此处所提供的说明书中，说明了大量具体细节。然而，能够理解，本公开的实施例可以在没有这些具体细节的情况下被实践。在一些实例中，并未详细示出公知的方法、结构和技术，以便不模糊对本说明书的理解。
在权利要求中，不应将位于括号之间的任何参考符号构造成对权利要求的限制。单词“包含”不排除存在未列在权利要求中的元件或步骤。位于元件之前的单词“一”或“一个”不排除存在多个这样的元件。本公开可以借助于包括有若干不同元件的硬件以及借助于适当编程的计算机来实现。在列举了若干装置的单元权利要求中，这些装置中的若干个可以是通过同一个硬件项来具体体现。单词第一、第二、以及第三等的使用不表示任何顺序。可将这些单词解释为名称。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本公开的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本公开进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本公开各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (19)

  1. 一种显示面板，其中，包括：
    显示基板，包括至少一个发光区域和非发光区域；
    设置在所述显示基板的出光侧的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括至少一个滤光结构，所述滤光结构在所述显示基板上的正投影覆盖对应位置的发光区域；
    其中，所述至少一个滤光结构包括：第一滤光结构和第二滤光结构，所述第一滤光结构与所述第二滤光结构的厚度不相等，所述第一滤光结构背离所述显示基板一侧的表面与所述第二滤光结构背离所述显示基板一侧的表面处于同一平面。
  2. 根据权利要求1所述的一种显示面板，其中，所述至少一个滤光结构还包括：第三滤光结构；其中，所述第一滤光结构背离所述显示基板一侧的表面、所述第二滤光结构背离所述显示基板一侧的表面，以及所述第三滤光结构背离所述显示基板一侧的表面处于同一平面。
  3. 根据权利要求2所述的一种显示面板，其中，所述滤光结构的滤光颜色与对应位置的发光区域的发光颜色相同，且所述滤光结构的厚度与对应位置的发光区域的发光效率正相关。
  4. 根据权利要求2所述的一种显示面板，其中，所述第一滤光结构的厚度大于所述第二滤光结构的厚度，所述第二滤光结构的厚度大于或等于所述第三滤光结构的厚度。
  5. 根据权利要求4所述的一种显示面板，其中，还包括：黑色矩阵，与所述彩色滤光层同层设置，所述黑色矩阵在所述显示基板上的正投影位于所述非发光区域内。
  6. 根据权利要求5所述的一种显示面板，其中，所述显示面板还包括： 设置在所述显示基板与所述彩色滤光层之间的功能膜层，所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上设置有第一凹槽，所述第一滤光结构填充在所述第一凹槽内。
  7. 根据权利要求6所述的一种显示面板，其中，
    所述第一凹槽的侧壁的坡度角大于或等于20°，并且小于或等于90°；和/或，
    所述第一凹槽的底面在所述显示基板上的正投影边界与所述黑色矩阵在所述显示基板上的正投影边界之间的最小距离大于或等于-2μm，并且小于或等于10μm；和/或，
    所述第一凹槽的深度大于或等于0.1μm，并且小于或等于2.4μm。
  8. 根据权利要求6所述的一种显示面板，其中，所述第二滤光结构设置在所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上；或者，
    所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上还设置有第二凹槽，所述第二滤光结构填充在所述第二凹槽内，所述第二凹槽的深度小于所述第一凹槽的深度。
  9. 根据权利要求8所述的一种显示面板，其中，
    所述第二凹槽的侧壁的坡度角大于或等于20°，并且小于或等于90°；和/或，
    所述第二凹槽的底面在所述发光层上的正投影边界与所述黑色矩阵在所述发光层上的正投影边界的距离大于或等于-2μm，并且小于或等于10μm；和/或，
    所述第二凹槽的深度大于或等于0.1μm，并且小于或等于2.4μm。
  10. 根据权利要求8所述的一种显示面板，其中，所述第三滤光结构设置在所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上；或者，
    所述功能膜层靠近所述彩色滤光层的一侧表面上还设置有第三凹槽，所述第三滤光结构填充在所述第三凹槽内，所述第三凹槽的深度小于或等于所 述第二凹槽的深度。
  11. 根据权利要求6所述的一种显示面板，其中，所述功能膜层为触控功能层，所述触控功能层包括以下至少之一：层叠设置的缓冲层、第一触控电极层、绝缘层、第二触控电极层以及第一平坦层；
    其中，所述第一触控电极层包括第一触控电极，所述第二触控电极层包括第二触控电极，所述第一触控电极与所述第二触控电极通过设置在所述绝缘层上的过孔连接。
  12. 根据权利要求1至11任一项所述的一种显示面板，其中，所述滤光结构背离所述显示基板的一侧表面具有至少一个凸起结构，所述凸起结构用于发散所对应位置的发光区域发出的光。
  13. 根据权利要求12所述的一种显示面板，其中，所述凸起结构是半球体棱镜，所述凸起结构在所述显示基板上的正投影是圆形；
    其中，所述圆形的直径大于或等于1μm，并且小于或等于10μm；和/或，所述圆形的圆心之间的间距大于或等于1μm，并且小于或等于20μm。
  14. 根据权利要求12所述的一种显示面板，其中，所述至少一个凸起结构包括：多个凸起结构，所述多个凸起结构按照所述显示基板的发光区域对应的多边形阵列分布。
  15. 根据权利要求12所述的一种显示面板，其中，所述滤光结构的最大厚度大于或等于2μm，并且小于或等于10μm；所述凸起结构的高度大于或等于0μm，并且小于或等于4μm；所述滤光结构的厚度与所述凸起结构的高度的差值大于或等于2μm，并且小于或等于10μm。
  16. 根据权利要求1至11任一项所述的一种显示面板，其中，所述显示面板还包括以下至少之一：
    封装层，位于所述彩色滤光层和所述显示基板之间；
    第二平坦层，位于所述彩色滤光层远离所述发光层的一侧。
  17. 一种显示装置，其中，包括如权利要求1至16任一项所述的一种显示面板。
  18. 一种制备方法，其中，包括：
    提供显示基板；其中，所述显示基板包括至少一个发光区域和非发光区域；
    在所述显示基板的出光侧的形成彩色滤光层，所述彩色滤光层包括至少一个滤光结构，所述滤光结构在所述显示基板上的正投影覆盖对应位置的发光区域；
    其中，所述至少一个滤光结构包括：第一滤光结构和第二滤光结构，所述第一滤光结构与所述第二滤光结构的厚度不相等，所述第一滤光结构背离所述显示基板一侧的表面与所述第二滤光结构背离所述显示基板一侧的表面处于同一平面。
  19. 根据权利要求18所述的一种制备方法，其中，所述在所述显示基板的出光侧形成彩色滤光层的步骤，包括：
    在所述显示基板的出光侧形成功能膜层；
    对所述功能膜层背离所述显示基板一侧的表面进行曝光显影和/或刻蚀，得到第一凹槽；
    在所述功能膜层背离所述显示基板的一侧形成所述彩色滤光层，其中，所述第一滤光结构填充在所述第一凹槽内。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014048646A (ja) * 2012-09-04 2014-03-17 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ形成基板および有機ｅｌ表示装置
CN111584594A (zh) * 2020-05-25 2020-08-25 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置及其制造方法
CN111682048A (zh) * 2020-06-17 2020-09-18 合肥维信诺科技有限公司 透光显示面板和显示面板
CN112234087A (zh) * 2020-10-15 2021-01-15 Oppo广东移动通信有限公司 显示面板、电子设备
WO2021218629A1 (zh) * 2020-04-27 2021-11-04 京东方科技集团股份有限公司 显示基板以及显示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014048646A (ja) * 2012-09-04 2014-03-17 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ形成基板および有機ｅｌ表示装置
WO2021218629A1 (zh) * 2020-04-27 2021-11-04 京东方科技集团股份有限公司 显示基板以及显示装置
CN111584594A (zh) * 2020-05-25 2020-08-25 京东方科技集团股份有限公司 显示面板、显示装置及其制造方法
CN111682048A (zh) * 2020-06-17 2020-09-18 合肥维信诺科技有限公司 透光显示面板和显示面板
CN112234087A (zh) * 2020-10-15 2021-01-15 Oppo广东移动通信有限公司 显示面板、电子设备

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