CN113113453B - 显示面板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种显示面板及显示装置。本发明采用在像素定义层采用的黑色材料制备形成吸光结构替代偏光片,吸光结构用于吸收触控电极的反射光线,在彩膜层一侧设置遮光结构遮挡、吸收及反射所述触控电极上表面的光线,不需设置偏光片结构,降低了像素定义层表面的反射率的同时提高了发光层的出光率,从而不需设置黑色矩阵层或者即使设置黑色矩阵层,黑色矩阵层的开口尺寸也大于像素定义层的开槽尺寸,提高了开口率。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域,尤其涉及一种显示面板及显示装置。
背景技术
偏光片(POL)能够有效地降低强光下面板的反射率,却损失了接近58%的出光。这对于有机发光二极管(OLED)来说,极大地增加了其寿命负担;另一方面,偏光片厚度较大、材质脆,不利于动态弯折产品的开发。为了开发基于OLED现实技术的动态弯折产品,必须导入新材料、新技术以及新工艺替代偏光片。
使用偏光层(Color Filter,CF)替代偏光片(POL)的被归属为POL-less 技术,它不仅能将功能层的厚度从大约100μm降低至约5μm;而且能够将OLED 的出光率从42%提高至60%。
然而,相对于偏光片,彩膜技术的表面反射率较高,强光下的对比度较低,不利于室外显示。彩膜由红(Red)、绿(Green)、蓝(Blue)以及黑色矩阵(Black Matrix)组成。在OLED面板之中,R/G/B色阻分别承担着对应发光层R/G/B 子像素单元的出光;而黑色矩阵则主要承担着防止面板的漏光与降低面板的反射的作用。
现有实施方案中,黑色矩阵直接制作在薄膜封装上,视角增大的情况下,亮度视角衰减过快,降低了显示器的特性。
发明内容
本发明的目的在于,提供一种显示面板及显示装置,通过采用黑色像素定义层替代薄膜封装上的黑色矩阵,可以有效地解决亮度视角衰减快的不利因素,避免反射率特性不足,对比度较低的缺陷的技术问题。
为了解决上述问题,本发明一实施例中提供一种显示面板,包括阵列基板、像素定义层以及彩膜层;所述像素定义层设置在所述阵列基板上,所述像素定义层采用的黑色材质;所述彩膜层设置在所述像素定义层的上方;所述彩膜层包括遮光结构,所述遮光结构与所述像素定义层对应设置。
进一步地,所述像素定义层远离阵列基板的上表面设有凹凸结构。
进一步地,所述凹凸结构的横截面呈锯齿型;所述凹凸结构的凹槽或凸起的横截面呈梯形或柱形。
进一步地,所述像素定义层的材质为光敏聚酰亚胺。
进一步地,所述显示面板还包括触控电极,设于所述像素定义层与所述彩膜层之间,且与所述像素定义层对应设置。
进一步地,所述彩膜层包括色阻层,所述色阻层包括若干色阻单元,所述触控电极在所述阵列基板的投影完全落入所述色阻单元在所述阵列基板的投影内;与所述触控电极对应区域设置的所述色阻单元形成所述遮光结构。
进一步地,所述色阻单元在同一层相互交叠设置,相邻的两个色阻单元之间相互交叠形成所述遮光结构,所述遮光结构与触控电极的位置对应。
进一步地,所述彩膜层中还包括黑色矩阵层,所述黑色矩阵层包括间隔设置的多个色阻单元及设置在相邻两个色阻单元间的黑色矩阵层,所述黑色矩阵层的宽度小于所述像素定义层的宽度;所述黑色矩阵层形成所述遮光结构。
进一步地,所述像素定义层包括若干开槽,所述开槽的宽度小于所述色阻单元的宽度。
本发明还提供一种显示装置,具有前文任意一项所述的显示面板。
本发明的优点在于,提供一种显示面板及显示装置,采用在像素定义层采用的黑色材料制备形成吸光结构替代偏光片,吸光结构用于吸收触控电极的反射光线,在彩膜层一侧设置遮光结构遮挡、吸收及反射所述触控电极上表面的光线,不需设置偏光片结构,降低了像素定义层表面的反射率的同时提高了发光层的出光率,从而不需设置黑色矩阵层或者即使设置黑色矩阵层,黑色矩阵层的开口尺寸也大于像素定义层的开槽尺寸,提高了开口率。
附图说明
图1为本发明实施例一中一种有机发光二极管显示面板的结构示意图;
图2为本发明实施例二中一种有机发光二极管显示面板的结构示意图;
图3为本发明实施例三中制作所述功能层步骤的结构示意图。
图中部件标识如下:
1、阵列基板,2、像素定义层,3、发光层,
4、封装层,5、触控层,6、彩膜层,
7、盖板,21、吸光结构,22、开槽,
51、触控电极,61、色阻层,62、光学胶层,
63、黑色矩阵层,100、显示面板,611、色阻单元,
612、交叠区,621、开口。
具体实施方式
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本发明中,相同或相对应的部件用相同的附图标记表示而与图号无关,在说明书全文中,当“第一”、“第二”等措辞可用于描述各种部件时,这些部件不必限于以上措辞。以上措辞仅用于将一个部件与另一部件区分开。
实施例一
请参阅图1所示,本发明实施例1中提供一种显示面板100,包括阵列基板1以及像素定义层2;所述像素定义层2设置在所述阵列基板1上,所述像素定义层2包括黑色材质,即所述像素定义层2采用的黑色材质制备形成吸光结构21,所述吸光结构21为黑色的纳米结构,用于吸收光线。
其中,所述阵列基板1包括柔性衬底层11和设于所述柔性衬底层上的驱动电路层12;所述柔性衬底层11的材质为PI(聚酰亚胺)或硬性玻璃,优选为聚酰亚胺,其具有柔性。所述像素定义层2设于所述驱动电路层12上;所述像素定义层2的材质为光敏聚酰亚胺(Photosensitive Polyimide,PSPI);所述像素定义层2设有多个间隔设置的开槽22;所述像素定义层2远离阵列基板1的上表面设有不规则的或者规则的凹凸结构。所述凹凸结构的横截面呈锯齿型。所述凹凸结构的凹槽或凸起的横截面呈梯形或柱形。所述凹槽或凸起的横截面宽度尺寸为150nm-250nm,优选为200nm。
所述像素定义层2包括若干所述开槽22,所述显示面板100还具有发光层3,所述发光层3设于所述开槽22中。所述发光层3包括红色发光单元、绿色发光单元、蓝色发光单元。
所述显示面板100还具有封装层4,所述封装层4设于所述像素定义层2 上且完全覆盖所述发光层3,用于阻隔水氧。
所述显示面板100还具有多个触控电极51,所述触控电极51设于所述封装层4上,所述触控电极51为金属网格结构,由多条金属走线交错形成的金属网格构成,所述触控电极51与所述吸光结构21对应设置,所述吸光结构 21用于吸收所述触控电极51反射的光线。优选所述触控电极51位于触控层5 内,所述触控层5设于所述像素定义层2上;所述触控电极51设于所述像素定义层2的上方且与所述像素定义层2对应设置,优选所述触控电极51与所述像素定义层2正对。
所述显示面板100还包括彩膜层6,设于所述触控电极51上;所述彩膜层中包括遮光结构,所述遮光结构与所述吸光结构21对应设置。可理解的是,所述彩膜层6设置在所述像素定义层2的上方,所述触控电极51夹设于所述彩膜层6和所述像素定义层2之间,所述遮光结构能够遮挡、吸收所述触控电极51上表面的反射光线,并能反射一部分光线至所述吸光结构21,所述吸光结构21位于所述触控电极51下方,能够吸收所述触控电极51下表面的反射光以及来自所述遮光结构的反射光。
所述彩膜层6包括色阻层61,所述色阻层61包括若干色阻单元611,所述触控电极51在所述阵列基板1的投影完全落入所述色阻单元611在所述阵列基板1的投影内;与所述触控电极51对应区域设置的所述色阻单元611形成所述遮光结构。所述色阻单元611包括红色滤光单元、绿色滤光单元、蓝色滤光单元;所述红色滤光单元与所述红色发光单元对应设置;所述绿色滤光单元与所述绿色发光单元对应设置;所述蓝色滤光单元与所述蓝色发光单元对应设置。
在本实施例中,所述色阻单元611在同一层相临设置,实现所述色阻单元 611之间无间隙地同层排列。所述色阻单元611与所述触控电极51对应设置,起到吸收所述触控电极51反射的光线的作用,从而可以不设置黑色矩阵层(BM 层)。
所述彩膜层6还包括光学胶层62,以及所述显示面板100盖板7;所述光学胶层62设于所述彩膜层6上;所述盖板7设于所述光学胶层62上。
在所述像素定义层2上表面设计所述吸光结构21能够增加环境光与所述吸光结构21的接触面积,且所述吸光结构21为黑色的纳米结构,增加对光的吸收量,减少镜面反射,可以吸收所述触控电极51反射的光线,从而在协同作用下提升屏幕对比度;所述吸光结构21为凹凸结构,类似棱镜,可改变所述显示面板100出光角度,增大可视角,提高可阅读性。主要是可以不设置黑色矩阵层,减少膜层制程成本以及减少所述显示面板100的整体厚度。
实施例二
请参阅图2所示,本发明实施例2中提供一种显示面板100,包括阵列基板1以及像素定义层2;所述像素定义层2设置在所述阵列基板1上,所述像素定义层2远离所述阵列基板1的一面具有吸光结构21。
其中,所述阵列基板1包括柔性衬底层11和设于所述柔性衬底层上的驱动电路层12;所述柔性衬底层11的材质为PI(聚酰亚胺)或硬性玻璃,优选为聚酰亚胺,其具有柔性。所述像素定义层2设于所述驱动电路层12上;所述像素定义层2的材质为光敏聚酰亚胺(Photosensitive Polyimide,PSPI);所述像素定义层2设有多个间隔设置的开槽22;所述像素定义层2采用的黑色材料制备形成所述吸光结构21。所述吸光结构21为黑色的纳米结构,用于吸收光线。所述像素定义层2远离阵列基板1的上表面设有不规则的或者规则的凹凸结构。所述凹凸结构的横截面呈锯齿型。所述凹凸结构的凹槽或凸起的横截面呈梯形或柱形。所述凹槽或凸起的横截面宽度尺寸为150nm-250nm,优选为200nm。
所述像素定义层2包括若干所述开槽22,所述显示面板100还具有发光层3,所述发光层3设于所述开槽22中。所述发光层包括红色发光单元、绿色发光单元、蓝色发光单元。
所述显示面板100还具有封装层4,所述封装层4设于所述像素定义层2 上且完全覆盖所述发光层3,用于阻隔水氧。
所述显示面板100还具有多个触控电极51,所述触控电极51为金属网格结构,由多条金属走线交错形成的金属网格构成,所述触控电极51设于所述封装层4上,所述触控电极51与所述吸光结构21对应设置,所述吸光结构 21用于吸收所述触控电极51反射的光线。优选所述触控电极51位于触控层5 内,所述触控层5设于所述像素定义层2上;所述触控电极51设于所述像素定义层2的上方且与所述像素定义层2对应设置,优选所述触控电极51与所述像素定义层2正对。
所述显示面板100还包括彩膜层6,设于所述触控电极51上;所述彩膜层中包括遮光结构,所述遮光结构与所述吸光结构21对应设置。可理解的是,所述彩膜层6设置在所述像素定义层2的上方,所述触控电极51夹设于所述彩膜层6和所述像素定义层2之间,所述遮光结构能够遮挡、吸收所述触控电极51上表面的反射光线,并能反射一部分光线至所述吸光结构21,所述吸光结构21位于所述触控电极51下方,能够吸收所述触控电极51下表面的反射光以及来自所述遮光结构的反射光。
所述彩膜层6包括色阻层61,所述色阻层61包括若干色阻单元611,所述触控电极51在所述阵列基板1的投影完全落入所述色阻单元611在所述阵列基板1的投影内。所述色阻单元611包括红色滤光单元、绿色滤光单元、蓝色滤光单元;所述红色滤光单元与所述红色发光单元对应设置;所述绿色滤光单元与所述绿色发光单元对应设置;所述蓝色滤光单元与所述蓝色发光单元对应设置。
在相邻的两个色阻单元611之间相互交叠形成所述遮光结构,具体的在相邻的两个色阻单元611之间具有交叠区612,部分触控电极51的位置对应于所述交叠区612。所述交叠区612与所述触控电极51对应设置,起到吸收所述触控电极51反射的光线的作用,所述交叠区612位置形成所述遮光结构与触控电极51的位置对应,从而可以不设置黑色矩阵层(黑色遮光层)。
所述显示面板100还包括光学胶层62以及盖板7;所述光学胶层62设于所述彩膜层6上;所述盖板7设于所述光学胶层62上。
在所述像素定义层2上表面设计所述吸光结构21能够增加环境光与所述吸光结构21的接触面积,且所述吸光结构21为黑色的纳米结构,增加对光的吸收量,减少镜面反射,可以吸收所述触控电极51反射的光线,从而在协同作用下提升屏幕对比度;所述吸光结构21为凹凸结构,类似棱镜,可改变所述显示面板100出光角度,增大可视角,提高可阅读性。同时利用两个相邻的色阻单元611之间相互交叠形成的交叠区612,可以不设置黑色矩阵层,减少膜层制程成本以及减少所述显示面板100的整体厚度。
实施例三
请参阅图3所示,本发明实施例3中提供一种显示面板100,包括阵列基板1以及像素定义层2;所述像素定义层2设置在所述阵列基板1上,所述像素定义层2远离所述阵列基板1的一面具有吸光结构21。
其中,所述阵列基板1包括柔性衬底层11和设于所述柔性衬底层上的驱动电路层12;所述柔性衬底层11的材质为PI(聚酰亚胺)或硬性玻璃,优选为聚酰亚胺,其具有柔性。所述像素定义层2设于所述驱动电路层12上;所述像素定义层2的材质为光敏聚酰亚胺(Photosensitive Polyimide,PSPI);所述像素定义层2设有多个间隔设置的开槽22;所述像素定义层2采用的黑色材料制备形成所述吸光结构21。所述吸光结构21为黑色的纳米结构,用于吸收光线。所述像素定义层2远离阵列基板1的上表面设有不规则的或者规则的凹凸结构。所述凹凸结构的横截面呈锯齿型。所述凹凸结构的凹槽或凸起的横截面呈梯形或柱形。所述凹槽或凸起的横截面宽度尺寸为150nm-250nm,优选为200nm。
所述像素定义层2包括若干所述开槽22,所述显示面板100还具有发光层3,所述发光层3设于所述开槽22中。所述发光层包括红色发光单元、绿色发光单元、蓝色发光单元。
所述显示面板100还具有封装层4,所述封装层4设于所述像素定义层2 上且完全覆盖所述发光层3,用于阻隔水氧。
所述显示面板100还具有多个触控电极51,所述触控电极51为金属网格结构,由多条金属走线交错形成的金属网格构成,所述触控电极51设于所述封装层4上,所述触控电极51与所述吸光结构21对应设置,所述吸光结构 21用于吸收所述触控电极51反射的光线。优选所述触控电极51位于触控层5 内,所述触控层5设于所述像素定义层2上;所述触控电极51设于所述像素定义层2的上方且与所述像素定义层2对应设置,优选所述触控电极51与所述像素定义层2正对。
所述显示面板100还包括彩膜层6,设于所述触控电极51上;所述彩膜层中包括遮光结构,所述遮光结构与所述吸光结构21对应设置。可理解的是,所述彩膜层6设置在所述像素定义层2的上方,所述触控电极51夹设于所述彩膜层6和所述像素定义层2之间,所述遮光结构能够遮挡、吸收所述触控电极51上表面的反射光线,并能反射一部分光线至所述吸光结构21,所述吸光结构21位于所述触控电极51下方,能够吸收所述触控电极51下表面的反射光以及来自所述遮光结构的反射光。
所述彩膜层6包括色阻层61,所述色阻层61包括若干色阻单元611,所述触控电极51在所述阵列基板1的投影完全落入所述色阻单元611在所述阵列基板1的投影内。所述色阻单元611包括红色滤光单元、绿色滤光单元、蓝色滤光单元;所述红色滤光单元与所述红色发光单元对应设置;所述绿色滤光单元与所述绿色发光单元对应设置;所述蓝色滤光单元与所述蓝色发光单元对应设置。
在本实施例中,所述彩膜层6中还包括黑色矩阵层63(BM层),所述黑色矩阵层63包括若干开口621,所述色阻单元611设置在所述开口621中且覆盖所述黑色矩阵层63的边缘;所述触控电极51的位置对应于所述黑色矩阵层63;所述黑色矩阵层63形成所述遮光结构。所述像素定义层2中的开槽22 的宽度小于所述色阻单元611的宽度,亦即所述开槽22在所述黑色矩阵层63 上的正向投影完全落入于所述开口621内。即所述黑色矩阵层63的开口621 尺寸也大于像素定义层2的开槽22尺寸,提高了开口率。
所述黑色矩阵层63包括多个遮光单元;所述红色滤光单元、所述绿色滤光单元、所述蓝色滤光单元相互间隔设置,所述遮光单元对应设于所述红色滤光单元、所述绿色滤光单元、所述蓝色滤光单元之间,所述遮光单元与所有的所述触控电极51相对设置;所述开口621的宽度为相邻两个所述遮光单元之间的宽度,所述开口621的宽度大于所述开槽22的宽度。
在所述像素定义层2上表面设计所述吸光结构21能够增加环境光与所述吸光结构21的接触面积,且所述吸光结构21为黑色的纳米结构,增加对光的吸收量,减少镜面反射,可以吸收所述触控电极51反射的光线,从而在协同作用下提升屏幕对比度;所述吸光结构21为凹凸结构,类似棱镜,可改变所述显示面板100出光角度,增大可视角,提高可阅读性。同时所述开口621 的宽度大于所述开槽22的宽度,可以直接提升开口率。
本发明的优点在于,提供一种显示面板及显示装置,采用在像素定义层采用的黑色材料制备形成吸光结构替代偏光片,吸光结构用于吸收触控电极的反射光线,在彩膜层一侧设置遮光结构遮挡、吸收及反射所述触控电极上表面的光线,不需设置偏光片结构,降低了像素定义层表面的反射率的同时提高了发光层的出光率,从而不需设置黑色矩阵层或者即使设置黑色矩阵层,黑色矩阵层的开口尺寸也大于像素定义层的开槽尺寸,提高了开口率。
以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (5)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
阵列基板;
像素定义层,设置在所述阵列基板上,所述像素定义层采用黑色材质制备形成吸光结构;以及
彩膜层,设置在所述像素定义层的上方;所述彩膜层包括遮光结构,所述遮光结构与所述吸光结构对应设置;
所述显示面板还具有多个触控电极,所述触控电极与所述吸光结构对应设置,所述吸光结构用于吸收所述触控电极反射的光线,触控电极设于所述像素定义层与所述彩膜层之间;
所述彩膜层包括色阻层,所述色阻层包括若干色阻单元,所述触控电极在所述阵列基板的投影完全落入所述色阻单元在所述阵列基板的投影内;与所述触控电极对应区域设置的所述色阻单元形成所述遮光结构;
所述色阻单元在同一层相临设置,所述色阻单元之间无间隙地同层排列,所述色阻单元与所述触控电极对应设置,吸收所述触控电极反射的光线;
所述遮光结构能够遮挡、吸收所述触控电极上表面的反射光线,并能反射一部分光线至所述吸光结构,所述吸光结构位于所述触控电极下方,能够吸收所述触控电极下表面的反射光以及来自所述遮光结构的反射光。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层远离阵列基板的上表面设有凹凸结构。
3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述凹凸结构的横截面呈锯齿型;所述凹凸结构的凹槽或凸起的横截面呈梯形或柱形。
4.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素定义层的材质为光敏聚酰亚胺。
5.一种显示装置,其特征在于,具有如权利要求1-4中任意一项所述的显示面板。
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