WO2021208810A1 - 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置 - Google Patents

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WO2021208810A1
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limiting
defining layer
film layer
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廖金龙
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京东方科技集团股份有限公司
合肥京东方卓印科技有限公司
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    • H10K71/135—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing

Definitions

  • the embodiments of the present disclosure relate to a display substrate and a preparation method thereof, a display panel, and a display device.
  • the thickness of the cathode of the sub-pixel is generally set to be small.
  • At least one embodiment of the present disclosure provides a display substrate, including:
  • a plurality of light-emitting structures formed on the substrate are A plurality of light-emitting structures formed on the substrate;
  • a pixel defining layer is disposed on the substrate, the pixel defining layer has a plurality of pixel openings, the pixel defining layer includes a first defining layer and a second defining layer located on the first defining layer, the The material of the second limiting layer is a conductive material;
  • each of the plurality of light-emitting structures includes a first electrode, a light-emitting material, and a second electrode, the first electrode is disposed on the substrate and located in a corresponding pixel opening, and the light-emitting material is disposed on the substrate.
  • the second electrodes of the plurality of light-emitting structures are disposed on the light-emitting material to form an integrated structure, cover the pixel defining layer and electrically connected to the second defining layer.
  • the pixel defining layer further includes a third defining layer, the third defining layer is located between the first defining layer and the second defining layer and is made of a hydrophobic material .
  • the pixel defining layer further includes the third defining layer, the third defining layer is located on the second defining layer and made of a hydrophobic material, and the second defining layer At least a part of the layer is exposed from the third defining layer.
  • the resistivity of the second defining layer is less than the resistivity of the second electrode.
  • the material of the second limiting layer has hydrophobicity.
  • the material of the first limiting layer is hydrophilic.
  • the first electrode has a sandwich structure.
  • the sandwich structure includes two indium tin oxide film layers and a silver film layer located between the two indium tin oxide film layers.
  • the second defining layer is made of at least one of copper, silver, gold, and aluminum.
  • the second electrode is made of one of magnesium-silver alloy, indium zinc oxide, or indium tin oxide.
  • At least one embodiment of the present disclosure provides a display panel including the above-mentioned display substrate.
  • At least one embodiment of the present disclosure provides a display device including the above-mentioned display panel.
  • At least one embodiment of the present disclosure provides a method for preparing a display substrate, including:
  • a pixel defining layer is formed on the substrate, and the pixel defining layer includes a first defining layer and a second defining layer on the first defining layer, wherein the pixel defining layer has a plurality of pixel openings, so The plurality of pixel openings correspond to the plurality of first electrodes one by one and expose the plurality of first electrodes, and the material of the second defining layer is a conductive material;
  • luminescent materials are respectively formed on the plurality of first electrodes.
  • a second electrode is formed on the luminescent material, the second electrode is an integral structure and covers the pixel defining layer, and the second electrode is electrically connected to the second defining layer.
  • forming the pixel defining layer on the substrate includes:
  • the second defining film layer and the first defining film layer are etched to form the pixel defining layer having the plurality of pixel openings, wherein the plurality of pixel openings expose the plurality of first electrodes.
  • the pixel defining layer further includes a third defining layer located between the first defining layer and the second defining layer, and forming the pixel defining layer on the substrate includes:
  • the second limiting film layer, the third limiting film layer, and the first limiting film layer are respectively etched to form the plurality of pixel openings, wherein the plurality of pixel openings expose the plurality of first Electrodes;
  • a third limiting film layer is formed on the second limiting layer, and the third limiting film layer is patterned so that at least a part of the second limiting layer is exposed.
  • the material of the first limiting layer is hydrophilic.
  • the material of the second limiting layer has hydrophobicity.
  • the luminescent material is formed by an inkjet printing process.
  • the resistivity of the second defining layer is less than the resistivity of the second electrode.
  • the pixel defining layer includes a first defining layer and a second defining layer located on the first defining layer, the material of the second defining layer is a conductive material, and the second electrode is electrically connected to the second defining layer, Therefore, the second limiting layer can reduce the resistance of the second electrode, reduce the voltage drop on the second electrode, and thereby reduce the difference in current between the center area and the edge area of the display substrate, thereby improving the display brightness of different areas of the display substrate. Uniformity helps to improve the user experience.
  • Fig. 1 is a schematic structural diagram of a display substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure
  • Fig. 2 is a partial cross-sectional view of a display substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure
  • FIG. 3 is a flowchart of a manufacturing method of a display substrate according to an exemplary embodiment of the present disclosure
  • FIG. 4 is a flowchart of a manufacturing method of a display substrate according to another exemplary embodiment of the present disclosure
  • FIG. 5 is a flowchart of a manufacturing method of a display substrate according to still another exemplary embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 6 is a flowchart of a manufacturing method of a display substrate according to another exemplary embodiment of the present disclosure.
  • first, second, third, etc. may be used in this disclosure to describe various information, the information should not be limited to these terms. These terms are only used to distinguish the same type of information from each other.
  • first information may also be referred to as second information, and similarly, the second information may also be referred to as first information.
  • word “if” as used herein can be interpreted as "when” or “when” or "in response to determination”.
  • the direction from the substrate to the first electrode layer is defined as up, and the direction from the first electrode layer to the substrate is defined as down, so as to determine the up and down directions. It is easy to understand that different ways of defining directions will not affect the actual operation content of the process and the actual form of the product.
  • the problem is that the user experience is poor.
  • the display substrate 100 includes a substrate 10, a pixel defining layer 30, and a plurality of light emitting structures.
  • the pixel defining layer 30 is disposed on the substrate 10 and has a plurality of pixel openings 301.
  • the pixel defining layer 30 includes a first defining layer 31 and a second defining layer 32 located on the first defining layer 31, and the material of the second defining layer 32 is a conductive material.
  • Each of the plurality of light-emitting structures includes a first electrode 20, a light-emitting material 40, and a second electrode 50.
  • the first electrode 20 is disposed on the substrate 10 and located in the pixel opening 301, and the light-emitting
  • the material 40 is arranged in the pixel opening 301 and on the first electrode 20, and the second electrodes 50 of the plurality of light-emitting structures are arranged on the light-emitting material 40 to form an integrated structure and cover the
  • the pixel defining layer 30 is electrically connected to the second defining layer 32.
  • the second electrode 50 covering the pixel defining layer 30 means that the second electrode 50 covers each pixel opening 301, a portion of the pixel defining layer 30 between adjacent pixel openings 301, and a portion of the pixel defining layer 30 on the edge.
  • the pixel defining layer 30 includes a first defining layer 31 and a second defining layer 32 located on the first defining layer 31.
  • the material of the second defining layer 32 is a conductive material, and the second electrode 50 is electrically connected to the second confinement layer 32, the second confinement layer 32 can reduce the resistance of the second electrode 50, reduce the voltage drop on the second electrode 50, and thereby can reduce the current in the center area and the edge area of the display substrate Therefore, the uniformity of the display brightness in different areas of the display substrate can be improved, which helps to improve the user experience.
  • the substrate 10 may be a flexible substrate, and the material of the flexible substrate may be an organic material such as polyimide.
  • the substrate 10 may be a rigid substrate, and the material of the rigid substrate may be, for example, glass, metal, plastic, or the like.
  • the first electrode 20 may be an anode
  • the second electrode 50 may be a cathode.
  • the pixel defining layer 30 further includes a third defining layer 33, and the material of the third defining layer 33 is a hydrophobic material.
  • the third limiting layer 33 is located above the second limiting layer 32, or as shown in Figure 2, the third limiting layer 33 is located between the first limiting layer 31 and the second limiting layer 31. Define between layers 32.
  • the depth of the pixel opening 301 can be increased by providing the third limiting layer 33, and avoiding ink overflowing the pixel opening 301 when the luminescent material is formed by the inkjet printing process .
  • the third limiting layer 33 is hydrophobic, it can prevent the uneven film thickness of the luminescent material formed due to ink climbing, which helps to improve the problem of uneven film formation of the luminescent material caused by ink climbing.
  • the second electrode 50 is electrically connected to the top and sides of the second confinement layer 32, so that the two are electrically connected.
  • the distance between the upper surface of the luminescent material 40 and the substrate 10 is smaller than the distance between the upper surface of the second confinement layer 32 and the substrate 10.
  • At least a part of the sidewall of the second limiting layer 32 is electrically connected to the second electrode 50, thereby achieving electrical connection between the two.
  • the third confinement layer 33 is located above the second confinement layer 32, and the third confinement layer 33 does not completely cover the second confinement layer 32, that is, the first confinement layer The second limiting layer 32 is exposed. In this way, when the second electrode 50 is formed, it is ensured that the second electrode 50 is electrically connected to the exposed portion of the second confinement layer 32, and the electrical connection between the second electrode 50 and the second confinement layer 32 is guaranteed.
  • the material of the second defining layer 32 has hydrophobicity.
  • the second limiting layer 32 can prevent the ink from climbing to cause uneven film thickness of the formed luminescent material, and further improve the service life and display effect of the display substrate.
  • the material of the third limiting layer 33 is polyimide doped with fluorinated resin, or polymethyl methacrylate doped with fluorinated resin. In this way, the hydrophobicity of the third confining layer 33 can be better, so that the resistance of the ink when flowing to the third confining layer 33 is greater, and the amount of climbing of the ink can be reduced.
  • the material of the first defining layer 31 is a hydrophilic material. In this way, when the inkjet printing process is used to form the luminescent material, the ink is distributed more uniformly at the pixel opening 301, which helps to improve the uniformity of the film thickness of the luminescent material.
  • the material of the first defining layer 31 may be silicon oxide, silicon nitride, or the like, for example.
  • the sidewall of the pixel opening 301 may be a relatively smooth curved surface, and the sidewall of the pixel opening 301 extends obliquely in a direction away from the pixel opening 301. That is, among the three film layers of the pixel defining layer 30, no step is formed between two adjacent film layers. In this way, the climbing difficulty of the second electrode 50 can be reduced, and the risk of the second electrode 50 breaking during the evaporation process can be reduced.
  • the first electrode 20 may be a sandwich structure, including two indium tin oxide film layers and a silver film layer between the two indium tin oxide film layers. In other embodiments, the first electrode 20 can also be made of other materials.
  • the resistivity of the second limiting layer 32 is less than the resistivity of the second electrode 50.
  • the arrangement of the second limiting layer 32 can effectively reduce the resistance of the second electrode 50, thereby effectively reducing the problem of uneven display brightness of the display substrate caused by voltage drop.
  • the material of the second defining layer 32 includes at least one of copper, silver, gold, and aluminum. In this way, the resistivity of the second limiting layer 32 can be made smaller, which helps to reduce the resistance of the second electrode 50. In addition, the hydrophobicity of the second limiting layer 32 can be made better.
  • the material of the second electrode 50 is a magnesium-silver alloy, or the material of the second electrode 50 may also be indium zinc oxide or indium tin oxide. In this way, the light transmittance of the second electrode 50 can be higher.
  • the display substrate 100 further includes an electron injection layer 60 located between the luminescent material 40 and the second electrode 50, and the material of the electron injection layer 60 may be sodium fluoride.
  • the electron injection layer 60 covers the pixel defining layer, that is, the orthographic projection of the electron injection layer 60 on the substrate 10 covers the substrate 10, and the second defining layer 32 is in direct contact with the electron injection layer 60
  • the second limiting layer 32 is electrically connected to the second electrode 50 through the electron injection layer 60, and the electron injection layer 60 and the second electrode 50 can be regarded as a composite electrode.
  • the second limiting layer 32 can reduce the total resistance of the composite electrode formed by the electron injection layer 60 and the second electrode 50, thereby reducing the resistance of the second electrode 50, which helps to improve the uniformity of the display brightness of the display substrate.
  • the electron injection layer 60 includes a plurality of electron injection parts corresponding to the pixel openings 301 one-to-one, and the electron injection parts are located in the corresponding pixel openings 301.
  • the electron injection part can improve the ability of electron injection.
  • the electron injection layer 60 is provided as a plurality of electron injection parts corresponding to the pixel openings 301 one-to-one, and the electron injection parts are located in the corresponding pixel openings 301, so the electron injection parts do not cover the sides and top of the second limiting layer 32 ,
  • the second defining layer 32 is in direct contact with the second electrode 50.
  • the display substrate 100 may also include an electron transport layer located between the electron injection part and the luminescent material 40, and the electron transport layer may include electron transport parts arranged in one-to-one correspondence with the plurality of pixel openings 301, Each electron transmission part is located in the corresponding pixel opening.
  • the display substrate 100 may not include an electron transport layer, and some substances are added to the luminescent material to make the luminescent material have the ability to transport electrons, thereby omitting the electron transport layer. With this arrangement, the electron transport layer does not hinder the electrical connection between the second confinement layer and the second electrode 50. Compared with the solution that the electron transport layer covers the pixel confinement layer 30, the electron transport layer does not need to be broken down, which helps to improve the display substrate's performance. reliability.
  • the display substrate 100 includes a hole injection layer and a hole transport layer located between the luminescent material 40 and the first electrode 20, and the hole injection layer is located between the hole transport layer and the first electrode 20.
  • the hole injection layer includes a plurality of hole injection parts corresponding to the first electrode one to one
  • the hole transport layer includes a hole transport part corresponding to the plurality of electrode blocks one to one.
  • the display substrate 100 may further include a pixel circuit layer 70.
  • the pixel circuit layer 70 is provided with a plurality of pixel circuits for driving sub-pixels, and each sub-pixel may correspond to one pixel circuit.
  • the display substrate 100 includes sub-pixels of at least three different colors.
  • the display substrate may include sub-pixels of three colors of red, green, and blue.
  • the sub-pixels of different colors are individually controlled to emit light, thereby achieving color display; or, the light-emitting structure in the display substrate 100 emits white light.
  • the display substrate further includes a color filter located above the second electrode 50. Light sheet, through the color filter to achieve the display of color images.
  • the embodiment of the present disclosure also provides a method for preparing the display substrate.
  • the method for preparing the display substrate includes the following steps S110 to S150.
  • step S110 a substrate is provided.
  • the substrate 10 may be a flexible substrate, and the material of the flexible substrate may be an organic material such as polyimide.
  • the substrate 10 may be a rigid substrate, and the material of the rigid substrate may be, for example, glass, metal, plastic, or the like.
  • step S120 a plurality of first electrodes are formed on the substrate.
  • a first electrode layer is formed on the substrate, and then the first electrode layer is patterned to form a plurality of first electrodes 20 as anodes of a plurality of light-emitting structures.
  • the plurality of first electrodes 20 are arranged in an array on the substrate 10.
  • a pixel defining layer is formed on the substrate.
  • the pixel defining layer includes a first defining layer and a second defining layer located on the first defining layer, wherein the pixel defining layer has multiple Pixel openings, the plurality of pixel openings correspond to the plurality of first electrodes one by one and expose the plurality of first electrodes, and the material of the second defining layer is a conductive material.
  • the first limiting layer 31 is formed of a hydrophilic material
  • the second limiting layer 32 is formed of a first hydrophobic material.
  • the hydrophilic material may be silicon oxide, silicon nitride, or the like.
  • forming the pixel defining layer on the substrate includes:
  • step S130A a first limiting film layer is formed on the substrate, and the first limiting film layer covers the entire substrate;
  • step S130B the second limiting film layer is formed on the first limiting film layer, and the second limiting film layer covers the entire first limiting film layer;
  • step S130C a photoresist is coated on the second limiting film layer, and the photoresist is exposed and developed to form a photoresist removal area corresponding to the pixel opening to be formed;
  • step S130D the second limiting film layer and the first limiting film layer are etched to form the plurality of pixel openings, wherein the plurality of pixel openings expose the plurality of first electrodes.
  • the first limiting film layer after forming the first limiting film layer, the first limiting film layer may be patterned to form the first limiting layer, and after the second limiting film layer is formed, the second film layer may be patterned to form the second limiting film layer. Two defining layers, thereby forming the pixel defining layer.
  • the pixel defining layer 30 further includes a third defining layer 33, and the material of the third defining layer 33 is a second hydrophobic material.
  • the second hydrophobic material is polyimide doped with fluorinated resin, or polymethyl methacrylate doped with fluorinated resin.
  • the third confinement layer 33 is located between the first confinement layer and the second confinement layer, see FIG. 5, in this case, the substrate
  • the step S130 of forming a pixel defining layer on it includes the following steps S130A' to S130E'.
  • step S130A' a first limiting film layer is formed on the substrate, and the first limiting film layer covers the entire substrate.
  • step S130B' a third limiting film layer is formed on the first limiting film layer, and the third limiting film layer covers the entire first limiting film layer.
  • step S130C' a second limiting film layer is formed on the third limiting film layer, and the second limiting film layer covers the entire third limiting film layer.
  • step S130D' a photoresist is formed on the second limiting film layer, and the photoresist is exposed and developed to form a photoresist removal area corresponding to the pixel opening to be formed;
  • step S130E' the second limiting film layer, the third limiting film layer, and the first limiting film layer are respectively etched to form the plurality of pixel openings, wherein the plurality of pixel openings are exposed in one-to-one correspondence.
  • the plurality of first electrodes are respectively etched to form the plurality of pixel openings, wherein the plurality of pixel openings are exposed in one-to-one correspondence.
  • the second limiting film layer, the third limiting film layer, and the first limiting film layer can be etched by a wet etching process. Due to the different materials of the second, third, and first limiting films, different etching solutions are selected to etch the second, third, and first limiting films.
  • the material of the second limiting film layer is generally a metal material, and an acid etching solution is selected to etch the second limiting film layer.
  • an alkaline etching solution is used to etch the third limiting film layer. eclipse.
  • an acidic etching solution is selected to etch the first limiting film layer.
  • each film layer is formed to form an opening in the film layer.
  • the opening positions in the first limited film layer, the second limited film layer, and the third limited film layer correspond to each other to form A pixel opening in the pixel defining layer.
  • the third confinement layer is located on the second confinement layer, and the first confinement layer is made of a hydrophilic material.
  • a pixel confinement layer is formed on the substrate. Step 130 of the layer includes the following steps S130A" to S130E".
  • step S130A' a first limiting film layer is formed on the substrate, and the first limiting film layer covers the entire substrate.
  • step S130B a second limiting film layer is formed on the first limiting film layer, and the second limiting film layer covers the entire first limiting film layer.
  • step S130C a photoresist is coated on the second limiting film layer, and the photoresist is exposed and developed to form a photoresist removal area corresponding to the pixel opening to be formed.
  • step S130D the first confinement film layer and the second confinement film layer are simultaneously etched to form through holes penetrating the first confinement film layer and the second confinement film layer, thereby forming the first confinement layer and the second confinement film layer.
  • Layer and pixel openings located in the first defining layer and the second defining layer, the pixel openings exposing the first electrode.
  • a wet etching process can be used to simultaneously etch the first and second confined film layers.
  • the first confined film and the second confined film can be both etched. React with the same etching solution.
  • the material of the first confinement film layer is silicon oxide or silicon nitride
  • the material of the second confinement film layer is a metal material
  • the first confinement film layer and the second confinement film layer can be etched simultaneously with an acid etching solution.
  • step S130E a third limiting film layer is formed on the second limiting layer, and the third limiting film layer is patterned so that at least a part of the second limiting layer is exposed.
  • a wet etching process may be used to etch the third limiting film layer.
  • the etching solution can be an alkaline etching solution.
  • a luminescent material is formed on the first electrode in the pixel opening.
  • an inkjet printing process may be used to form the luminescent material.
  • the second confinement layer 32 and the third confinement layer 33 are hydrophobic, which can improve the uneven film formation of the luminescent material caused by ink climbing.
  • the first limiting layer 31 is hydrophilic, and the ink is relatively uniformly distributed at the pixel opening 301, which helps to improve the uniformity of the film thickness of the luminescent material.
  • a second electrode is formed on the luminescent material, the second electrode is an integral structure and covers the pixel defining layer, and the second electrode is electrically connected to the second defining layer.
  • the preparation method of the display substrate before the step S150 of forming the second electrode on the luminescent material, the preparation method of the display substrate further includes the following step: forming an electron injection layer on the luminescent material 40.
  • the electron injection layer 60 covers the pixel defining layer. That is, the electron injection layer 60 covers the entire substrate 10.
  • the electron injection layer 60 includes a plurality of electron injection parts corresponding to the pixel openings 301 one-to-one, and the electron injection parts are disposed in the corresponding pixel openings.
  • the material of the electron injection layer 60 is sodium fluoride.
  • the resistivity of the second limiting layer 32 is less than the resistivity of the second electrode 50.
  • the material of the second defining layer 32 may include at least one of copper, silver, gold, and aluminum.
  • the preparation method may further include: forming a pixel circuit layer 70 on the substrate, and the first electrode 20 is formed on the pixel. On the circuit layer 70.
  • the pixel defining layer 30 includes a first defining layer 31 and a second defining layer 32 located on the first defining layer 31.
  • the material is a conductive material
  • the second electrode 50 is electrically connected to the second confinement layer 32
  • the second confinement layer 32 can reduce the resistance of the second electrode 50, reduce the voltage drop on the second electrode 50, and thus can reduce the display substrate
  • the difference in current between the center area and the edge area of the display substrate improves the uniformity of the display brightness in different areas of the display substrate, which helps to improve the user experience.
  • At least one embodiment of the present disclosure also provides a display panel including the display substrate 100 described in any of the above-mentioned embodiments.
  • the display panel may further include an encapsulation layer and a cover plate on the side of the display substrate 100 away from the substrate 10.
  • At least one embodiment of the present disclosure also provides a display device, which includes the above-mentioned display panel.
  • the display device may further include a housing, and the display panel is connected to the housing, for example, the display panel is embedded in the housing.
  • the display device may be, for example, any device with a display function, such as a mobile phone, a tablet computer, a television, a notebook computer, a digital photo frame, and a navigator.

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Abstract

一种显示基板，包括：衬底；多个发光结构，设置在所述衬底上；像素限定层，设置在所述衬底上，所述像素限定层具有多个像素开口，所述像素限定层包括第一限定层及位于所述第一限定层上的第二限定层，所述第二限定层的材料为导电材料；其中，所述多个发光结构的每一个包括第一电极、发光材料以及第二电极，所述第一电极设置在所述衬底上并位于相应的像素开口中，所述发光材料设置在所述第一电极上，所述多个发光结构的所述第二电极设置在所述发光材料上，形成一体结构，并覆盖所述像素限定层且与所述第二限定层电连接。还公开了一种显示面板、一种显示装置以及一种制备显示基板的方法。

Description

显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置
本公开要求在2020年4月14日提交中国专利局、申请号为202010291659.2、名称为“显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置”的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本公开中。
技术领域
本公开的实施例涉及一种显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置。
背景技术
对于顶发光的显示面板，为了提升子像素发射的光线的透过率，一般子像素的阴极的厚度设置得很小。
发明内容
本公开的至少一个实施例提供了一种显示基板，包括：
衬底；
多个发光结构，形成于所述衬底上；
像素限定层，设置在所述衬底上，所述像素限定层具有多个像素开口，所述像素限定层包括第一限定层及位于所述第一限定层上的第二限定层，所述第二限定层的材料为导电材料；
其中，所述多个发光结构的每一个包括第一电极、发光材料以及第二电极，所述第一电极设置在所述衬底上并位于相应的像素开口中，所述发光材料设置在所述第一电极上，所述多个发光结构的所述第二电极设置在所述发光材料上，形成一体结构，并覆盖所述像素限定层且与所述第二限定层电连接。
在本公开的一个实施例中，所述像素限定层还包括第三限定层，所述第三限定层位于所述第一限定层与所述第二限定层之间并由疏水性材料制成。
在本公开的一个实施例中，所述像素限定层还包括所述第三限定层，所述第三限定层位于所述第二限定层上并由疏水性材料制成，所述第二限定层的至少一部分从所述第三限定层露出。
在本公开的一个实施例中，所述第二限定层的电阻率小于所述第二电极的电阻率。
在本公开的一个实施例中，所述第二限定层的材料具有疏水性。
在本公开的一个实施例中，所述第一限定层的材料具有亲水性。
在本公开的一个实施例中，所述第一电极为夹层结构。
在本公开的一个实施例中，所述夹层结构包括两层氧化铟锡膜层及位于两层氧化铟锡膜层之间的银膜层。
在本公开的一个实施例中，所述第二限定层由铜、银、金及铝中的至少一种制成。
在本公开的一个实施例中，所述第二电极由镁银合金、氧化铟锌或氧化铟锡中的一种制成。
本公开的至少一个实施例提供了一种显示面板，所述显示面板包括上述的显示基板。
本公开的至少一个实施例提供了一种显示装置，所述显示装置包括上述的显示面板。
本公开的至少一个实施例提供了一种显示基板的制备方法，包括：
提供衬底；
在所述衬底上形成多个第一电极；
在所述衬底上形成像素限定层，所述像素限定层包括第一限定层及位于所述第一限定层上的第二限定层，其中，所述像素限定层具有多个像素开口，所述多个像素开口一一对应于所述多个第一电极并暴露所述多个第一电极，所述第二限定层的材料为导电材料；
在所述像素开口内，在所述多个第一电极上分别形成发光材料；以及
在所述发光材料上形成第二电极，所述第二电极为一体结构，并覆盖所述像素限定层，且所述第二电极与所述第二限定层电连接。
在本公开的一个实施例中，在所述衬底上形成所述像素限定层包括：
在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖整个所述衬底；
在所述第一限定膜层上形成所述第二限定膜层，所述第二限定膜层覆盖整个所述第一限定膜层；
在所述第二限定膜层上涂覆光刻胶；
对所述光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域；以及
刻蚀所述第二限定膜层和所述第一限定膜层，形成具有所述多个像素开口的所述像素限定层，其中，所述多个像素开口暴露所述多个第一电极。
在本公开的一个实施例中，所述像素限定层还包括位于所述第一限定层和第二限定层之间的第三限定层，在所述衬底上形成所述像素限定层包括：
在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖整个所述衬底；
在所述第一限定膜层上形成第三限定膜层，所述第三限定膜层覆盖整个所述第一限定膜层；
在所述第三限定膜层上形成第二限定膜层，所述第二限定膜层覆盖整个所述第三限定膜层；
在所述第二限定膜层上形成光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域；以及
对第二限定膜层、第三限定膜层以及第一限定膜层分别进行刻蚀，形成所述多个像素开口，其中，所述多个像素开口一一对应地暴露所述多个第一电极；以及
在所述第二限定层上形成第三限定膜层，对所述第三限定膜层进行图案化，使得所述第二限定层的至少一部分暴露出来。
在本公开的一个实施例中，所述第一限定层的材料具有亲水性。
在本公开的一个实施例中，所述第二限定层的材料具有疏水性。
在本公开的一个实施例中，所述发光材料通过喷墨打印工艺形成。
在本公开的一个实施例中，所述第二限定层的电阻率小于所述第二电极的电阻率。
本公开实施例所达到的主要技术效果是：
在本公开的实施例中，像素限定层包括第一限定层及位于第一限定层上的第二限定层，第二限定层的材料为导电材料，第二电极与第二限定层电连接，则第二限定层可降低第二电极的电阻，减小第二电极上的压降，进而可减小显示基板中心区域与边缘区域的电流大小的差别，从而可提升显示基板不同区域显示亮度的均匀性，有助于提升用户的使用体验。
附图说明
图1是根据本公开一示例性实施例的显示基板的结构示意图；
图2是根据本公开一示例性实施例的显示基板的局部剖视图；
图3是根据本公开一示例性实施例的显示基板的制备方法的流程图；
图4是根据本公开另一示例性实施例的显示基板的制备方法的流程图；
图5是根据本公开再一示例性实施例的显示基板的制备方法的流程图；以及
图6是根据本公开又一示例性实施例的显示基板的制备方法的流程图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施例并不代表与本公开相一致的所有实施例。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。
在本公开使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本公开。在本公开和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
应当理解，尽管在本公开可能采用术语第一、第二、第三等来描述各种信息，但这些信息不应限于这些术语。这些术语仅用来将同一类型的信息彼此区分开。例如，在不脱离本公开范围的情况下，第一信息也可以被称为第二信息，类似地，第二信息也可以被称为第一信息。取决于语境，如在此所使用的词语“如果”可以被解释成为“在……时”或“当……时”或“响应于确定”。
下面结合附图，对本公开实施例中的显示基板及其制备方法、显示装置进行详细说明。在不冲突的情况下，下述的实施例中的特征可以相互补充或相互组合。
在本公开实施例中，为描述方便，将由衬底指向第一电极层的方向定义为上，将由第一电极层指向衬底的方向定义为下，以此确定出上下方向。容易理解，不同的方向定义方式并不会影响工艺的实质操作内容以及产品的实际形态。
顶发光的显示面板中的阴极厚度较小会导致阴极的电阻较大，压降较大，从而导致显示面板中心区域及边缘区域子像素的电流差别较大，造成显示面板的显示亮度不均匀的问题，用户的使用体验较差。
本公开的至少一个实施例提供了一种显示基板。参见图1及图2，所述显示基板100包括衬底10、像素限定层30、以及多个发光结构。
像素限定层30设置于所述衬底10上并具有多个像素开口301。所述像素限定层30包括第一限定层31及位于所述第一限定层31上的第二限定层32，第二限定层32的材料为导电性材料。
所述多个发光结构的每一个包括第一电极20、发光材料40以及第二电极50，所述第一电极20设置在所述衬底10上并位于所述像素开口301中，所述发光材料40设置在所述像素开口301中并位于所述第一电极20上，所述多个发光结构的所述第二电极50设置在所述发光材料40上，形成一体结构，并覆盖所述像素限定层30且与所述第二限定层32电连接。
第二电极50覆盖像素限定层30指的是，第二电极50覆盖各个像素开口301、像素限定层30位于相邻像素开口301之间的部分及像素限定层30位于边缘的部分。
在根据本公开的实施例的显示基板，像素限定层30包括第一限定层31及位于第一限定层31上的第二限定层32，第二限定层32的材料为导电材料，第二电极50与第二限定层32电连接，则第二限定层32可降低第二电极50的电阻，减小第二电极50上的压降，进而可减小显示基板中心区域与边缘区域的电流大小的差别，从而可提升显示基板不同区域显示亮度的均匀性，有助于提升用户的使用体验。
在本公开的一个实施例中，衬底10可以是柔性衬底，柔性衬底的材料可以是聚酰亚胺等有机材料。
在本公开的一些实施例中，衬底10可以是刚性衬底，刚性衬底的材料例如可以为玻璃、金属、塑料等。在本公开的一些实施例中，第一电极20可以为阳极，第二电极50可以为阴极。
在本公开的一个实施例中，所述像素限定层30还包括第三限定层33，所述第三限定层33的材料为疏水性材料。如图1所示，所述第三限定层33位于所述第二限定层32上方，或者如图2所示，所述第三限定层33位于所述第一限定层31与所述第二限定层32之间。在第一限定层31与第二限定层32的厚度一定的情况下，通过设置第三限定层 33可增大像素开口301的深度，避免通过喷墨打印工艺形成发光材料时墨水溢出像素开口301。并且，由于第三限定层33具有疏水性，可防止墨水攀爬而导致形成的发光材料成膜厚度不均匀，有助于改善墨水攀爬导致的发光材料成膜不均匀的问题。
在第三限定层33位于第二限定层32与第一限定层31之间的情况下，第二电极50与第二限定层32的顶部及侧部电连接，从而二者实现电连接。在第三限定层33位于第二限定层32上方的情况下，发光材料40的上表面与衬底10之间的距离小于第二限定层32的上表面与衬底10之间的距离，第二限定层32侧壁的至少部分与第二电极50电连接，从而实现二者之间的电连接。
在本公开的一个实施例中，所述第三限定层33位于所述第二限定层32上方，所述第三限定层33并未完全覆盖所述第二限定层32，即，所述第二限定层32暴露出。如此，在形成第二电极50时，保证第二电极50与第二限定层32的暴露部分电连接，保证第二电极50与第二限定层32之间的电连接。
在本公开的一个实施例中，第二限定层32的材料具有疏水性。在通过喷墨打印工艺形成发光材料的情况下，第二限定层32可防止墨水攀爬而导致形成的发光材料成膜厚度不均匀，进一步改善显示基板的使用寿命及显示效果。
在本公开的一个实施例中，第三限定层33的材料为掺杂氟化树脂的聚酰亚胺，或者掺杂氟化树脂的聚甲基丙烯酸甲酯。如此可使得第三限定层33的疏水性较好，使得墨水向第三限定层33流动时受到的阻力较大，减轻墨水的攀爬量。
在本公开的一个实施例中，第一限定层31的材料为亲水性材料。如此，在采用喷墨打印工艺形成发光材料的情况下，墨水在像素开口301处分布比较均匀，有助于提升发光材料的成膜厚度的均匀性。第一限定层31的材料例如可以是氧化硅、氮化硅等。
在本公开的一个实施例中，像素开口301的侧壁可为比较光滑的曲面，且像素开口301的侧壁向背离该像素开口301的方向倾斜延伸。也即是，像素限定层30的三个膜层中，相邻的两个膜层之间不形成台阶。如此，可减小第二电极50的爬坡难度，降低蒸镀过程中第二电极50发生断裂的风险。
在本公开的一个实施例中，第一电极20可以是夹层结构，包括两层氧化铟锡膜层及位于两层氧化铟锡膜层之间的银膜层。在其他实施例中，第一电极20也可采用其他的材质。
在本公开的一个实施例中，所述第二限定层32的电阻率小于所述第二电极50的电 阻率。如此设置，第二限定层32的设置可有效降低第二电极50的电阻，从而可有效减轻压降引起的显示基板的显示亮度不均匀的问题。
在本公开的一个实施例中，第二限定层32的材料包括铜、银、金及铝中的至少一种。如此，可使得第二限定层32的电阻率较小，有助于降低第二电极50的电阻。并且可使得第二限定层32的疏水性较好。
在本公开的一个实施例中，第二电极50的材质为镁银合金，或者第二电极50的材质也可以为氧化铟锌或氧化铟锡。如此可使得第二电极50的透光率较高。
在本公开的一个实施例中，所述显示基板100还包括位于所述发光材料40与所述第二电极50之间的电子注入层60，电子注入层60的材料可为氟化钠。
在本公开的一个实施例中，电子注入层60覆盖像素限定层，也即是电子注入层60在衬底10上的正投影覆盖衬底10，第二限定层32与电子注入层60直接接触，第二限定层32通过电子注入层60与第二电极50电连接，电子注入层60与第二电极50可看作一个复合电极。第二限定层32可降低电子注入层60与第二电极50形成的复合电极的总电阻，因而可使第二电极50的电阻降低，有助于提升显示基板显示亮度的均匀性。
在本公开的另一个实施例中，所述电子注入层60包括多个与所述像素开口301一一对应的电子注入部，所述电子注入部位于对应的像素开口301内。电子注入部可提升电子注入的能力。将电子注入层60设置为多个与像素开口301一一对应的电子注入部，且电子注入部位于对应的像素开口301内，则电子注入部未包覆第二限定层32的侧部及顶部，第二限定层32与第二电极50直接接触。
在本公开的一个实施例中，显示基板100也可包括位于电子注入部与发光材料40之间的电子传输层，电子传输层可包括与多个像素开口301一一对应设置的电子传输部，每一电子传输部位于对应的像素开口内。或者，显示基板100也可不包括电子传输层，通过在发光材料中添加一些物质来使得发光材料具备电子传输的能力，从而省略电子传输层。如此设置，电子传输层不会阻碍第二限定层与第二电极50的电连接，相对于电子传输层覆盖像素限定层30的方案，不需要击穿电子传输层，有助于提升显示基板的可靠性。
在一个实施例中，显示基板100包括位于发光材料40与第一电极20之间的空穴注入层及空穴传输层，空穴注入层位于空穴传输层与第一电极20之间。空穴注入层包括多个与所述第一电极一一对应的空穴注入部，空穴传输层包括与多个电极块一一对应的 空穴传输部。
在本公开的一个实施例中，显示基板100还可包括像素电路层70，像素电路层70设有多个用于驱动子像素的像素电路，每一子像素可对应一个像素电路。
在本公开的一个实施例中，显示基板100包括至少三种不同颜色的子像素，例如显示基板可包括红色、绿色及蓝色三种颜色的子像素。显示基板100显示时单独控制不同颜色的子像素发光，从而实现彩色显示；或者，显示基板100中的发光结构发白光，在这种情况下，显示基板还包括位于第二电极50上方的彩色滤光片，通过彩色滤光片来实现彩色图像的显示。
本公开实施例还提供了一种显示基板的制备方法。参见图3，所述显示基板的制备方法包括如下步骤S110至步骤S150。
在步骤S110中，提供衬底。
在本公开的一个实施例中，衬底10可以是柔性衬底，柔性衬底的材料可以是聚酰亚胺等有机材料。在其他实施例中，衬底10可以是刚性衬底，刚性衬底的材料例如可以为玻璃、金属、塑料等。
在步骤S120中，在所述衬底上形成多个第一电极。
在本公开的一个实施例中，在所述衬底上形成第一电极层，然后对所述第一电极层进行图案化，形成多个第一电极20，作为多个发光结构的阳极。所述多个第一电极20在衬底10上阵列排布。
在步骤S130中，在所述衬底上形成像素限定层，所述像素限定层包括第一限定层及位于所述第一限定层上的第二限定层，其中，所述像素限定层具有多个像素开口，所述多个像素开口一一对应于所述多个第一电极并暴露所述多个第一电极，所述第二限定层的材料为导电材料。
在本公开的一个实施例中，采用亲水性材料形成第一限定层31，采用第一疏水性材料形成第二限定层32。例如，所述亲水性材料可以是氧化硅、氮化硅等。
在所述像素限定层包括第一限定层和第二限定层的情况下，如图4所示，在所述衬底上形成所述像素限定层包括：
在步骤S130A中，在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖整个所述衬底；
在步骤S130B中，在所述第一限定膜层上形成所述第二限定膜层，所述第二限定膜层覆盖整个所述第一限定膜层；
在步骤S130C中，在所述第二限定膜层上涂覆光刻胶，对所述光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域；以及
在步骤S130D中，刻蚀所述第二限定膜层和所述第一限定膜层，形成所述多个像素开口，其中，所述多个像素开口暴露所述多个第一电极。
在本公开的实施例中，还可以在形成第一限定膜层之后对第一限定膜层进行图案化形成第一限定层，形成第二限定膜层之后对第二膜层进行图案化形成第二限定层，从而形成所述像素限定层。
在本公开的一个实施例中，所述像素限定层30还包括第三限定层33，所述第三限定层33的材料为第二疏水性材料。所述第二疏水性材料为掺杂氟化树脂的聚酰亚胺，或者掺杂氟化树脂的聚甲基丙烯酸甲酯。
在本公开的一个实施例中，所述第三限定层33位于所述第一限定层与所述第二限定层之间，参见图5，在这种情况下，所述在所述衬底上形成像素限定层的步骤S130，包括如下步骤S130A’至步骤S130E’。
在步骤S130A’中，在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖整个所述衬底。
在步骤S130B’中，在所述第一限定膜层上形成第三限定膜层，所述第三限定膜层覆盖整个所述第一限定膜层。
在步骤S130C’中，在所述第三限定膜层上形成第二限定膜层，所述第二限定膜层覆盖整个所述第三限定膜层。
在步骤S130D’中，在所述第二限定膜层上形成光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域；以及
在步骤S130E’中，对第二限定膜层、第三限定膜层以及第一限定膜层分别进行刻蚀，形成所述多个像素开口，其中，所述多个像素开口一一对应地暴露所述多个第一电极。
在该实施例中，可采用湿刻工艺对第二限定膜层、第三限定膜层以及第一限定膜层进行刻蚀。由于第二限定膜层、第三限定膜层以及第一限定膜层的材料不同，选择 不同的刻蚀液对第二限定膜层、第三限定膜层以及第一限定膜层进行刻蚀。第二限定膜层的材料一般为金属材料，选用酸性刻蚀液对第二限定膜层进行刻蚀。在第三限定膜层的材料为掺杂氟化树脂的聚酰亚胺或者掺杂氟化树脂的聚甲基丙烯酸甲酯的情况下，选用碱性刻蚀液对第三限定膜层进行刻蚀。在第一限定膜层的材料为氧化硅、氮化硅的情况下，选用酸性刻蚀液对第一限定膜层进行刻蚀。
当然，也可以在形成每个膜层之后即进行刻蚀，在该膜层中形成开口，同时，第一限定膜层、第二限定膜层以及第三限定膜层中的开口位置对应，形成位于所述像素限定层中的像素开口。
在本公开的另一个实施例中，所述第三限定层位于所述第二限定层上，所述第一限定层为亲水性材料，参见图6，在所述衬底上形成像素限定层的步骤130，包括如下步骤S130A”至步骤S130E”。
在步骤S130A’中，在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖整个所述衬底。
在步骤S130B”中，在所述第一限定膜层上形成第二限定膜层，所述第二限定膜层覆盖整个所述第一限定膜层。
在步骤S130C”中，在所述第二限定膜层上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域。
在步骤S130D”中，同时对第一限定膜层与第二限定膜层进行刻蚀，形成贯穿第一限定膜层与第二限定膜层的通孔，从而形成第一限定层和第二限定层以及位于所述第一限定层和所述第二限定层中的像素开口，所述像素开口暴露所述第一电极。
在本公开的一个实施例中，可采用湿刻工艺对第一限定膜层及第二限定膜层同时进行刻蚀，通过选择合适的材料可使得第一限定膜层与第二限定膜层均与同一种刻蚀液反应。第一限定膜层的材料为氧化硅或氮化硅，第二限定膜层的材料为金属材料时，可采用酸性刻蚀液对第一限定膜层及第二限定膜层同时进行刻蚀。
在步骤S130E”中，在所述第二限定层上形成第三限定膜层，对所述第三限定膜层进行图案化，使得所述第二限定层的至少一部分暴露出来。
在一个实施例中，可采用湿刻工艺对第三限定膜层进行刻蚀。第三限定膜层的材料为掺杂氟化树脂的聚酰亚胺或者掺杂氟化树脂的聚甲基丙烯酸甲酯时，刻蚀液可选用碱性刻蚀液。
在步骤S140中，在所述像素开口内，在所述第一电极上形成发光材料。在一个实施例中，可采用喷墨打印工艺形成发光材料。第二限定层32及第三限定层33具有疏水性，可改善墨水攀爬导致的发光材料成膜不均匀。并且，第一限定层31具有亲水性，墨水在像素开口301处分布比较均匀，有助于提升发光材料的成膜厚度的均匀性。
在步骤S150中，在所述发光材料上形成第二电极，所述第二电极为一体结构，并覆盖所述像素限定层，且所述第二电极与所述第二限定层电连接。
在本公开的一个实施例中，在所述发光材料上形成第二电极的步骤S150之前，所述显示基板的制备方法还包括如下步骤：在所述发光材料40上形成电子注入层。
在本公开的一个实施例中，电子注入层60覆盖像素限定层。即，电子注入层60覆盖整个衬底10。
在本公开的另一个实施例中，所述电子注入层60包括多个与所述像素开口301一一对应的电子注入部，所述电子注入部设置位于对应的像素开口内。
在本公开的一个实施例中，电子注入层60的材料为氟化钠。在一个实施例中，所述第二限定层32的电阻率小于所述第二电极50的电阻率。第二限定层32的材料可包括铜、银、金及铝中的至少一种。
在本公开的一个实施例中，在所述衬底上形成第一电极层之间，所述制备方法还可包括：在衬底上形成像素电路层70，所述第一电极20形成于像素电路层70上。
对于方法实施例而言，由于其基本对应于产品的实施例，所以相关细节及有益效果的描述参见产品实施例的部分说明即可，不再进行赘述。
本公开实施例提供的显示基板的制备方法，制备得到的显示基板中，像素限定层30包括第一限定层31及位于第一限定层31上的第二限定层32，第二限定层32的材料为导电材料，第二电极50与第二限定层32电连接，则第二限定层32可降低第二电极50的电阻，减小第二电极50上的压降，进而可减小显示基板的中心区域与边缘区域的电流大小的差别，提升显示基板不同区域的显示亮度的均匀性，有助于提升用户的使用体验。
本公开的至少一个实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括上述任一实施例所述的显示基板100。
在本公开的一个实施例中，显示面板还可包括位于显示基板100背离衬底10一 侧的封装层及盖板。
本公开的至少一个实施例还提供了一种显示装置，显示装置包括上述的显示面板。显示装置还可包括壳体，显示面板与壳体相连接，例如，显示面板嵌入到壳体内。显示装置例如可以为手机、平板电脑、电视机、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的设备。
需要指出的是，在附图中，为了图示的清晰可能夸大了层和区域的尺寸。而且可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“上”时，它可以直接在其他元件上，或者可以存在中间的层。另外，可以理解，当元件或层被称为在另一元件或层“下”时，它可以直接在其他元件下，或者可以存在一个以上的中间的层或元件。另外，还可以理解，当层或元件被称为在两层或两个元件“之间”时，它可以为两层或两个元件之间唯一的层，或还可以存在一个以上的中间层或元件。通篇相似的参考标记指示相似的元件。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的公开后，将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (20)

  1. 一种显示基板，包括：
    衬底；
    多个发光结构，设置在所述衬底上；
    像素限定层，设置在所述衬底上，所述像素限定层具有多个像素开口，所述像素限定层包括第一限定层及位于所述第一限定层上的第二限定层，所述第二限定层的材料为导电材料；
    其中，所述多个发光结构的每一个包括第一电极、发光材料以及第二电极，所述第一电极设置在所述衬底上并位于相应的像素开口中，所述发光材料设置在所述第一电极上，所述多个发光结构的所述第二电极设置在所述发光材料上，形成一体结构，并覆盖所述像素限定层且与所述第二限定层电连接。
  2. 根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述像素限定层还包括第三限定层，所述第三限定层位于所述第一限定层与所述第二限定层之间并由疏水性材料制成。
  3. 根据权利要求1或2所述的显示基板，其中，所述像素限定层还包括第三限定层，所述第三限定层位于所述第二限定层上并由疏水性材料制成，所述第二限定层的至少一部分从所述第三限定层露出。
  4. 根据权利要求1至3中任何一项所述的显示基板，其中，所述第二限定层的电阻率小于所述第二电极的电阻率。
  5. 根据权利要求1至4中任何一项所述的显示基板，其中，所述第二限定层的材料具有疏水性。
  6. 根据权利要求1至5中任何一项所述的显示基板，其中，所述第一限定层由亲水性材料制成。
  7. 根据权利要求1至6中任何一项所述的显示基板，其中，所述第一电极为夹层结构。
  8. 根据权利要求7所述的显示基板，其中，所述夹层结构包括两层氧化铟锡膜层及位于两层氧化铟锡膜层之间的银膜层。
  9. 根据权利要求1至8中任何一项所述的显示基板，其中，所述第二限定层由铜、银、金及铝中的至少一种制成。
  10. 根据权利要求1至9中任何一项所述的显示基板，其中，所述第二电极由镁银合金、氧化铟锌或氧化铟锡中的一种制成。
  11. 一种显示面板，包括权利要求1至10中任一项所述的显示基板。
  12. 一种显示装置，包括权利要求11所述的显示面板。
  13. 一种显示基板的制备方法，包括：
    提供衬底；
    在所述衬底上形成多个第一电极；
    在所述衬底上形成像素限定层，所述像素限定层包括第一限定层及位于所述第一限定层上的第二限定层，其中，所述像素限定层具有多个像素开口，所述多个像素开口一一对应于所述多个第一电极并暴露所述多个第一电极，所述第二限定层的材料为导电材料；
    在所述像素开口内，在所述多个第一电极上分别形成发光材料；
    在所述发光材料上形成第二电极，所述第二电极为一体结构，并覆盖所述像素限定层，且所述第二电极与所述第二限定层电连接。
  14. 根据权利要求13所述的方法，其中，在所述衬底上形成所述像素限定层包括：
    在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖整个所述衬底；
    在所述第一限定膜层上形成所述第二限定膜层，所述第二限定膜层覆盖整个所述第一限定膜层；
    在所述第二限定膜层上涂覆光刻胶；
    对所述光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域；以及
    刻蚀所述第二限定膜层和所述第一限定膜层，形成具有所述多个像素开口的所述像素限定层，其中，所述多个像素开口暴露所述多个第一电极。
  15. 根据权利要求13所述的方法，其中，所述像素限定层还包括位于所述第一限定层和第二限定层之间的第三限定层，在所述衬底上形成所述像素限定层包括：
    在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖整个所述衬底；
    在所述第一限定膜层上形成第三限定膜层，所述第三限定膜层覆盖整个所述第一限定膜层；
    在所述第三限定膜层上形成第二限定膜层，所述第二限定膜层覆盖整个所述第三限定膜层；
    在所述第二限定膜层上形成光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域；以及
    对第二限定膜层、第三限定膜层以及第一限定膜层分别进行刻蚀，形成所述多个像 素开口，其中，所述多个像素开口一一对应地暴露所述多个第一电极。
  16. 根据权利要求13所述的方法，其中，所述像素限定层还包括位于第二限定层上的第三限定层，在所述衬底上形成所述像素限定层包括：
    在所述衬底上形成第一限定膜层，所述第一限定膜层覆盖所述衬底；
    在所述第一限定膜层上形成第二限定膜层，所述第二限定膜层完全覆盖所述第一限定膜层；
    在所述第二限定膜层上涂覆光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，形成对应于待形成的像素开口的光刻胶去除区域；
    同时对第一限定膜层与第二限定膜层进行刻蚀，形成第一限定层和第二限定层；以及
    在所述第二限定层上形成第三限定膜层，对所述第三限定膜层进行图案化，使得所述第二限定层的至少一部分暴露出来。
  17. 根据权利要求13至16中任何一项所述的方法，其中，所述第一限定层的材料具有亲水性。
  18. 根据权利要求13至17中任何一项所述的方法，其中，所述第二限定层的材料具有疏水性。
  19. 根据权利要求13至18中任何一项所述的方法，其中，所述发光材料通过喷墨打印工艺形成。
  20. 根据权利要求13至19中任何一项所述的方法，其中，所述第二限定层的电阻率小于所述第二电极的电阻率。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111463250A (zh) * 2020-04-14 2020-07-28 合肥京东方卓印科技有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置
CN112259590B (zh) * 2020-10-22 2023-04-07 合肥京东方卓印科技有限公司 显示面板及其制备方法、显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108321175A (zh) * 2018-01-31 2018-07-24 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制造方法、显示装置
CN109920816A (zh) * 2017-12-12 2019-06-21 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置
CN111463250A (zh) * 2020-04-14 2020-07-28 合肥京东方卓印科技有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7915816B2 (en) * 2007-05-14 2011-03-29 Sony Corporation Organic electroluminescence display device comprising auxiliary wiring
JP5008606B2 (ja) * 2007-07-03 2012-08-22 キヤノン株式会社 有機ｅｌ表示装置及びその製造方法
CN107393945A (zh) * 2017-07-31 2017-11-24 京东方科技集团股份有限公司 一种有机发光二极管显示基板及其制作方法、显示装置
CN108336116B (zh) * 2018-02-08 2022-03-08 京东方科技集团股份有限公司 一种oled阵列基板及其制备方法、显示装置
CN108470756B (zh) * 2018-04-11 2020-02-07 京东方科技集团股份有限公司 有机电致发光显示面板、其制作方法及显示装置
CN109300941A (zh) * 2018-09-04 2019-02-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种amoled显示面板
CN109638045B (zh) * 2018-12-07 2020-06-16 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示单元、显示单元的制作方法和有机发光二极管显示器
EP4080594A4 (en) * 2019-12-20 2022-12-21 BOE Technology Group Co., Ltd. FLEXIBLE DISPLAY PANEL AND METHOD OF MANUFACTURE THEREOF, AND FLEXIBLE DISPLAY DEVICE
EP4123740A4 (en) * 2020-03-18 2023-04-19 BOE Technology Group Co., Ltd. DISPLAY SUBSTRATE AND METHOD OF MAKING THEREOF, AND DISPLAY APPARATUS

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109920816A (zh) * 2017-12-12 2019-06-21 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制作方法、显示装置
CN108321175A (zh) * 2018-01-31 2018-07-24 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制造方法、显示装置
CN111463250A (zh) * 2020-04-14 2020-07-28 合肥京东方卓印科技有限公司 显示基板及其制备方法、显示面板、显示装置

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