WO2021166860A1 - 感光性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 - Google Patents

感光性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置 Download PDF

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photosensitive composition
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宏明 出井
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富士フイルム株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive composition containing a coloring material, a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a resin.
  • the present invention also relates to a film, an optical filter, a solid-state image sensor, and an image display device using a photosensitive composition.
  • color filters are used as key devices for displays and optical elements.
  • a color filter usually includes pixels of the three primary colors of red, green, and blue, and plays a role of decomposing transmitted light into the three primary colors.
  • the colored pixels of each color of the color filter are manufactured by forming a pattern by a photolithography method using a photosensitive composition containing a coloring material such as a pigment.
  • a coloring material such as a pigment
  • a diketopyrrolopyrrole pigment or the like is used as a coloring material (for example, Patent Document 1).
  • an object of the present invention is a photosensitive composition, a film, an optical filter, a solid-state image sensor, and an image display device, which are excellent in light resistance and adhesion to a support and can form pixels with small color unevenness and surface roughness. Is to provide.
  • a photosensitive composition containing a coloring material, a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a resin contains an oxime compound OX having an aromatic ring group Ar OX1 in which an electron-attracting group is introduced into the aromatic ring.
  • a photosensitive composition in which the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the photopolymerization initiator is 0.5 to 5.5.
  • ⁇ 2> The photosensitive composition according to ⁇ 1>, wherein the content of the oxime compound OX in the photopolymerization initiator is 50 to 100% by mass.
  • ⁇ 3> The photosensitive composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the electron-attracting group contained in the aromatic ring group Ar OX1 is at least one selected from an acyl group and a nitro group.
  • ⁇ 4> The photosensitive composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>, wherein the electron-attracting group contained in the aromatic ring group Ar OX1 is an acyl group.
  • ⁇ 5> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>, wherein the aromatic ring group Ar OX1 is a group represented by the formula (OR-1); Wherein, R OX1 represents a substituent, R OX2 represents an electron-withdrawing group, n represents an integer of 0 to 4, the wavy line represents a bond.
  • the oxime compound OX has at least one group selected from the group represented by the formula (OR-11) and the group represented by the formula (OR-12), ⁇ 1> to ⁇ 5>.
  • ROX11 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group.
  • ROX12 contains an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group and an aryl.
  • the oxime compound OX is at least one selected from the compound represented by the formula (OX1) and the compound represented by the formula (OX2), and is any one of ⁇ 1> to ⁇ 6>.
  • RX1 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group.
  • RX2 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group and an aryl.
  • R X3 ⁇ R X14 represents a hydrogen atom or a substituent independently; Provided that at least one of R X10 ⁇ R X14 is an electron withdrawing group.
  • ⁇ 8> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 7>, wherein the polymerizable monomer contains a compound having three ethylenically unsaturated bond-containing groups.
  • ⁇ 9> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 8>, wherein the polymerizable monomer has an ethylenically unsaturated bond-containing base value of 100 to 300 g / mol.
  • ⁇ 10> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 9>, wherein the content of the coloring material in the total solid content of the photosensitive composition is 50% by mass or more.
  • ⁇ 11> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 10>, wherein the content of the polymerizable monomer in the total solid content of the photosensitive composition is 1 to 25% by mass.
  • ⁇ 12> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 11>, which is used for a solid-state image sensor.
  • ⁇ 13> The photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 12>, which is a photosensitive composition for forming pixels for cyan, yellow, or magenta.
  • ⁇ 14> A film obtained by using the photosensitive composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 13>.
  • ⁇ 15> An optical filter having the film according to ⁇ 14>.
  • ⁇ 16> A solid-state image sensor having the film according to ⁇ 14>.
  • ⁇ 17> An image display device having the film according to ⁇ 14>.
  • a photosensitive composition a film, an optical filter, a solid-state image sensor, and an image display device which are excellent in light resistance and adhesion to a support and can form pixels with small color unevenness and surface roughness. can do.
  • the contents of the present invention will be described in detail.
  • "-" is used in the sense that the numerical values described before and after it are included as the lower limit value and the upper limit value.
  • the notation not describing substitution and non-substitution also includes a group having a substituent (atomic group) as well as a group having no substituent (atomic group).
  • the "alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
  • exposure includes not only exposure using light but also drawing using particle beams such as an electron beam and an ion beam, unless otherwise specified.
  • the light used for exposure include the emission line spectrum of a mercury lamp, far ultraviolet rays typified by an excimer laser, extreme ultraviolet rays (EUV light), X-rays, active rays such as electron beams, or radiation.
  • EUV light extreme ultraviolet rays
  • (meth) acrylate” represents both acrylate and methacrylate, or either
  • (meth) acrylic represents both acrylic and methacrylic, or either.
  • Acryloyl "represents both acryloyl and / or methacryloyl.
  • Me in the structural formula represents a methyl group
  • Et represents an ethyl group
  • Bu represents a butyl group
  • Ph represents a phenyl group.
  • the weight average molecular weight and the number average molecular weight are polystyrene-equivalent values measured by a GPC (gel permeation chromatography) method.
  • the total solid content means the total mass of all the components of the composition excluding the solvent.
  • the term pigment means a compound that is difficult to dissolve in a solvent.
  • the term "process" is included in this term not only as an independent process but also as long as the desired action of the process is achieved even if it cannot be clearly distinguished from other processes. ..
  • the photosensitive composition of the present invention is a photosensitive composition containing a coloring material, a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a resin.
  • the photopolymerization initiator contains an oxime compound OX having an aromatic ring group Ar OX1 in which an electron-attracting group is introduced into the aromatic ring.
  • the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the photopolymerization initiator is 0.5 to 5.5.
  • the photosensitive composition of the present invention it is possible to form pixels having excellent light resistance and adhesion to a support, and having less color unevenness and surface roughness. It is presumed that the reason why such an effect is obtained is as follows.
  • the oxime compound OX used as the photopolymerization initiator is presumed to easily interact with the coloring material, and the coloring material and the oxime compound OX are in close proximity to each other in the photosensitive composition. It is presumed that it exists.
  • the frequency of collision between the active species such as radicals generated from the photopolymerization initiator due to light irradiation during exposure and the polymerizable monomer tends to decrease, and the frequency of collision with the polymerizable monomer tends to decrease. It is presumed that there are likely to be places where the curing reaction of the polymerizable monomer does not proceed sufficiently.
  • the photopolymerization initiator containing the above-mentioned oxime compound OX is used, and the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the photopolymerization initiator is 0.5 to 5.
  • the above-mentioned oxime compound OX used as a photopolymerization initiator in the photosensitive composition of the present invention has an aromatic ring group Ar OX1 in which an electron-attracting group is introduced into the aromatic ring. It is presumed that the site of the aromatic ring group Ar OX1 acts as an ultraviolet absorber, and as a result, it is presumed that pixels having excellent light resistance could be formed.
  • the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the photopolymerization initiator (hereinafter, also referred to as M / I ratio) is 0.5 to 5.5.
  • the upper limit of the M / I ratio is preferably 4.0 or less, and more preferably 3.5 or less, because the adhesion is good and pixels with less color unevenness can be formed.
  • the lower limit of the M / I ratio is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, and more preferably 2.0 or more because pixels having a smaller surface roughness can be formed. Is even more preferable.
  • the "mass of the polymerizable monomer” used for calculating the M / I ratio is the total mass of all the polymerizable monomers contained in the photosensitive composition. Therefore, when two or more kinds of polymerizable monomers are contained in the photosensitive composition, the total mass of them is taken as the mass of the polymerizable monomers.
  • the “mass of photopolymerization initiator” used in calculating the M / I ratio is the total mass of all photopolymerization initiators contained in the photosensitive composition. Therefore, when two or more kinds of photopolymerization initiators are contained in the photosensitive composition, the total mass of them is taken as the mass of the photopolymerization initiator.
  • the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the oxime compound OX is preferably 0.5 to 5.5. ..
  • the upper limit of the M / I OX ratio is preferably 4.0 or less, and more preferably 3.5 or less, because the adhesion is good and pixels with smaller color unevenness can be formed.
  • the lower limit of the M / I OX ratio is preferably 1.0 or more, more preferably 1.5 or more, and more preferably 2.0 or more because pixels having a smaller surface roughness can be formed. It is more preferable to have.
  • the "mass of the oxime compound OX" used for calculating the M / I OX ratio is the total mass of all the oxime compounds OX contained in the photosensitive composition. Therefore, when two or more kinds of oxime compound OX are contained in the photosensitive composition, the total mass of them is taken as the mass of the oxime compound OX.
  • the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the coloring material is preferably 0.01 to 1.0.
  • the upper limit of the M / P ratio is preferably 0.5 or less, more preferably 0.35 or less, from the viewpoint of the spectral characteristics of the film.
  • the lower limit of the M / P ratio is preferably 0.03 or more, more preferably 0.05 or more, because the adhesion is good and pixels with smaller color unevenness are easily formed. It is more preferably 0.1 or more.
  • the "mass of the coloring material" used for calculating the M / P ratio is the total mass of all the coloring materials contained in the photosensitive composition. Therefore, when two or more kinds of coloring materials are contained in the photosensitive composition, the total mass of them is taken as the mass of the coloring materials.
  • the photosensitive composition of the present invention is preferably used as a photosensitive composition for an optical filter.
  • the optical filter include a color filter and a near-infrared transmissive filter, and a color filter is preferable.
  • the photosensitive composition of the present invention can be preferably used as a photosensitive composition for a solid-state image sensor, and more preferably used as a photosensitive composition for forming pixels of a color filter used in a solid-state image sensor. can.
  • the color filter examples include a filter having colored pixels that transmit light of a specific wavelength, and at least one colored pixel selected from red pixels, blue pixels, green pixels, yellow pixels, cyan pixels, and magenta pixels. It is preferable that the filter has.
  • the colored pixels of the color filter can be formed by using a photosensitive composition containing a chromatic coloring material.
  • the photosensitive composition of the present invention can be preferably used as a photosensitive composition for forming red, blue, green, yellow, cyan or magenta pixels.
  • One aspect is to use the photosensitive composition of the present invention as a photosensitive composition for forming red, blue or green pixels. In this case, it is possible to form a pixel having a higher color value and excellent spectral characteristics.
  • Another embodiment is to use the photosensitive composition of the present invention as a photosensitive composition for forming yellow, cyan or magenta pixels. Pixels of these hues tend to have a large effect on the spectral characteristics due to color unevenness, but according to the present invention, pixels having smaller color unevenness can be formed. Therefore, when applied to pixels of these hues, the present invention The effect is more pronounced.
  • a near-infrared ray transmitting filter is a filter that transmits at least a part of near infrared rays.
  • the near-infrared transmitting filter include a filter that blocks at least a part of visible light and transmits at least a part of near-infrared light.
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 640 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm.
  • a filter satisfying the spectral characteristics having a minimum value of 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more) is preferably mentioned.
  • the near-infrared transmission filter is preferably a filter that satisfies any of the following spectral characteristics (1) to (4).
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 640 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 800 to 1300 nm is.
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 900 to 1300 nm is.
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1000 to 1300 nm is.
  • the maximum value of the transmittance in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 1100 to 1300 nm is.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a coloring material.
  • the coloring material include a chromatic color material and a black color material, and a chromatic color material is preferable.
  • the photosensitive composition of the present invention can be preferably used as a photosensitive composition for forming colored pixels in a color filter.
  • the coloring material may be a pigment or a dye. Pigments and dyes may be used in combination. Further, the pigment may be either an inorganic pigment or an organic pigment. Further, as the pigment, an inorganic pigment or a material in which a part of the organic-inorganic pigment is replaced with an organic chromophore can also be used. Hue design can be facilitated by replacing inorganic pigments and organic-inorganic pigments with organic chromophores.
  • the average primary particle size of the pigment is preferably 1 to 200 nm.
  • the lower limit is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the upper limit is preferably 180 nm or less, more preferably 150 nm or less, and even more preferably 100 nm or less.
  • the primary particle size of the pigment can be determined from the image photograph obtained by observing the primary particles of the pigment with a transmission electron microscope. Specifically, the projected area of the primary particles of the pigment is obtained, and the corresponding circle-equivalent diameter is calculated as the primary particle diameter of the pigment.
  • the average primary particle size in the present invention is an arithmetic mean value of the particle size for the primary particles of 400 pigments. Further, the primary particles of the pigment refer to independent particles without agglomeration.
  • the coloring material used in the present invention preferably contains a pigment.
  • the content of the pigment in the coloring material is preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, further preferably 80% by mass or more, and preferably 90% by mass or more. Especially preferable.
  • chromatic color material examples include a color material having a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 400 to 700 nm. For example, a yellow color material, an orange color material, a red color material, a green color material, a purple color material, a blue color material, and the like can be mentioned. Specific examples of the chromatic color material include those shown below.
  • a halogenated zinc phthalocyanine having an average number of halogen atoms in one molecule of 10 to 14, a bromine atom number of 8 to 12, and a chlorine atom number of 2 to 5 on average. Pigments can also be used. Specific examples include the compounds described in WO 2015/118720. Further, as a green color material, the compound described in Chinese Patent Application No. 1069009027, the phthalocyanine compound having a phosphate ester described in International Publication No. 2012/10395 as a ligand, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-008014. , The phthalocyanine compound described in JP-A-2018-180023, the compound described in JP-A-2019-038958, and the like can also be used.
  • an aluminum phthalocyanine compound having a phosphorus atom can also be used. Specific examples include the compounds described in paragraphs 0022 to 0030 of JP2012-247591A and paragraphs 0047 of JP2011-157478A.
  • the compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-095706, the compounds described in Taiwan Patent Application Publication No. 201920495, and the compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6607427 can also be used.
  • multimers of these compounds are also preferably used from the viewpoint of improving the color value.
  • the yellow color material C.I. I. Pigment Yellow 129 and C.I. I. It is also preferable to use Pigment Yellow 215.
  • X 1 to X 16 independently represent a hydrogen atom or a halogen atom, and Z 1 represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms.
  • Specific examples of the compound represented by the formula (QP1) include the compounds described in paragraph No. 0016 of Japanese Patent No. 6443711.
  • Y 1 ⁇ Y 3 represents a halogen atom independently.
  • n and m represent integers of 0 to 6, and p represents an integer of 0 to 5.
  • N + m is 1 or more.
  • Specific examples of the compound represented by the formula (QP2) include the compounds described in paragraphs 0047 to 0048 of Japanese Patent No. 6432077.
  • red color material a diketopyrrolopyrrole pigment in which at least one bromine atom is substituted in the structure described in JP-A-2017-201384, and a diketopyrrolopyrrole pigment described in paragraphs 0016 to 0022 of Patent No. 6248838.
  • the red color material described in Japanese Patent No. 6516119, the red color material described in Japanese Patent No. 6525101, and the like can also be used.
  • a compound having a structure in which an aromatic ring group having an oxygen atom, a sulfur atom or a nitrogen atom bonded to the aromatic ring is bonded to a diketopyrrolopyrrole skeleton is used. You can also.
  • a pigment having a structure in which the aromatic ring group Ar D1 in which an electron donating group is introduced into the aromatic ring is bonded to the diketopyrrolopyrrole skeleton (hereinafter, also referred to as pigment DPP) can be used. ..
  • the pigment DPP is a diketopyrrolopyrrole pigment.
  • an electron donating group is an atomic group which donates an electron to a substituted atomic group by an inductive effect or a resonance effect in the organic electron theory. Examples of the electron donating group include those having a negative value as the substituent constant ( ⁇ p +) of the Hammett equation.
  • the substituent constant ( ⁇ p +) of the Hammett equation is described in the graduate School Lecture Organic Chemistry I.D. Molecular structure and reaction ⁇ Organometallic chemistry It can be quoted from page 175 of the first edition.
  • the electron donating group is preferably a group having a Hammett-type substituent constant ( ⁇ p +) of ⁇ 0.01 or less, more preferably a group of ⁇ 0.15 or less, and a group of ⁇ 0.3 or less. Is more preferable.
  • Examples of the electron-donating group of the aromatic ring group Ar D1 in the pigment DPP include a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, an aryl group, an aryloxy group and an amino group.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group, the alkoxy group and the alkylthio group is preferably 1 to 10, and more preferably 1 to 5. These groups may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched.
  • the aryl group and the aryloxy group preferably have 6 to 20 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • Examples of the amino group include a group represented by ⁇ NRa 1 Ra 2.
  • Ra 1 and Ra 2 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, respectively. Ra 1 and Ra 2 may be combined to form a ring.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group represented by Ra 1 and Ra 2 is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the aryl group represented by Ra 1 and Ra 2 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heterocyclic group represented by Ra 1 and Ra 2 may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • the heterocyclic group is preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 4 condensation numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group and an amino group are preferable, and an alkyl group, an alkoxy group and an aryl group are more preferable, and an alkyl group is more preferable because a film having spectral characteristics suitable for red color can be easily obtained.
  • aryl groups are more preferred, and alkyl groups are particularly preferred.
  • the pigment DPP is preferably a compound represented by the formula (DPP1), and more preferably a compound represented by the formula (DPP2).
  • R D11 and R D12 independently represent substituents, respectively.
  • R D21 and R D22 each independently represent an electron donating group.
  • n11 and n12 each independently represent an integer of 0 to 4.
  • R D11 and R D12 examples include a group selected from the group of substituent T described later and the above-mentioned electron donating group, and are preferably electron donating groups. If n11 is 2 or more, n11 amino R D11 may be the same or different, respectively. When n12 is 2 or more, n12 R D12s may be the same or different from each other.
  • Examples of the electron donating group represented by RD21 and RD22 include the above-mentioned groups, and the preferred range is also the same.
  • n11 and n12 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, further preferably 0 or 1, and 0. Is particularly preferable.
  • Substituents T include halogen atom, cyano group, nitro group, alkyl group, alkenyl group, aryl group, heterocyclic group, -ORt 1 , -CORt 1 , -COORt 1 , -OCORt 1 , -NRt 1 Rt 2 , -NRt 3 CORT 1 , -CONRT 1 Rt 2 , -NRt 3 CONRT 1 Rt 2 , -NRt 3 COORt 1 , -SRt 1 , -SO 2 Rt 1 , -SO 2 ORt 1 , -NRt 3 SO 2 Rt 1 or -SO 2 NRt 1 Rt 2 can be mentioned.
  • Rt 1 to Rt 3 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, respectively.
  • Rt 1 and Rt 2 may be combined to form a ring.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • the number of carbon atoms of the alkyl group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 15, and even more preferably 1 to 8.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable, and linear is more preferable.
  • the alkenyl group preferably has 2 to 30 carbon atoms, more preferably 2 to 15 carbon atoms, and even more preferably 2 to 8 carbon atoms.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic, but linear or branched is preferable, and linear is more preferable.
  • the aryl group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • the heterocyclic group is preferably a single ring or a condensed ring having 2 to 4 condensation numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the ring of the heterocyclic group is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocyclic group is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • the alkyl group, aryl group and heterocyclic group may have a substituent or may be unsubstituted. Examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • pigment DPP examples include compounds having the following structures.
  • the compound having the structure represented by the formula (R1) is Color Index (CI) Pigment Red 272, and the compound having the structure represented by the formula (R10) is C.I. I. Pigment Red 264.
  • Pigment DPP is C.I. I. Pigment Red 264 and C.I. I. It preferably contains at least one selected from Pigment Red 272, C.I. I. More preferably, it contains Pigment Red 272.
  • a dye can be used as a chromatic color material.
  • the dye is not particularly limited, and known dyes can be used.
  • pyrazole azo compound, anilino azo compound, triarylmethane compound, anthraquinone compound, anthrapyridone compound, benzylidene compound, oxonol compound, pyrazorotriazole azo compound, pyridone azo compound, cyanine compound, phenothiazine compound, pyropyrazole azomethine compound, xanthene compound Examples thereof include phthalocyanine compounds, benzopyran compounds, indigo compounds and pyromethene compounds.
  • the thiazole compound described in JP2012-158649A, the azo compound described in JP2011-184493, and the azo compound described in JP2011-145540 can also be used.
  • a dye multimer can also be used.
  • the dye multimer has two or more dye structures in one molecule, and preferably has three or more dye structures.
  • the upper limit is not particularly limited, but may be 100 or less.
  • the plurality of dye structures contained in one molecule may have the same dye structure or different dye structures.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the dye multimer is preferably 2000 to 50,000.
  • the lower limit is more preferably 3000 or more, and even more preferably 6000 or more.
  • the upper limit is more preferably 30,000 or less, and even more preferably 20,000 or less.
  • Dye multimers are available from JP-A-2011-213925, JP-A-2013-041097, JP-A-2015-028144, JP-A-2015-030742, JP-A-2016-102191, International Publication No. 2016 / Compounds described in 031442 and the like can also be used.
  • the chromatic color material may be combined in combination of two or more to form red, green, blue, cyan, magenta, or yellow.
  • a green color may be formed in combination with Pigment Yellow 185
  • C.I. I. Pigment Green58 and C.I. I. Pigment Yellow 150 and C.I. I. Green may be formed in combination with Pigment Yellow 185.
  • black may be formed by a combination of two or more kinds of chromatic color materials.
  • a combination of two or more kinds of chromatic color materials exhibits black color
  • the photosensitive composition of the present invention transmits near infrared rays. It can be preferably used as a photosensitive composition for forming a filter.
  • An embodiment containing a red color material and a blue color material An embodiment containing a red color material, a blue color material, and a yellow color material.
  • An embodiment containing a red color material, a blue color material, a yellow color material, and a purple color material (3) An embodiment containing a red color material, a blue color material, a yellow color material, and a purple color material. (4) An embodiment containing a red color material, a blue color material, a yellow color material, a purple color material, and a green color material. (5) An embodiment containing a red color material, a blue color material, a yellow color material, and a green color material. (6) An embodiment containing a red color material, a blue color material, and a green color material. (7) An embodiment containing a yellow color material and a purple color material.
  • Black color material examples include a bisbenzofuranone compound, an azomethine compound, a perylene compound, and an azo compound, and a bisbenzofuranone compound and a perylene compound are preferable.
  • Examples of the bisbenzofuranone compound are described in JP-A-2010-534726, JP-A-2012-515233, App. Compounds are mentioned and are available, for example, as "Irgaphor Black” manufactured by BASF.
  • Examples of the perylene compound include C.I. I. Pigment Black 31, 32 and the like can be mentioned.
  • Examples of the azomethine compound include compounds described in JP-A-01-17601 and JP-A-02-0346664, and are available as, for example, "Chromofine Black A1103" manufactured by Dainichiseika.
  • the content of the coloring material in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, further preferably 40% by mass or more, and 45% by mass. It is even more preferably mass% or more, and particularly preferably 50 mass% or more.
  • the upper limit of the content of the coloring material in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, and more preferably 60% by mass or less. More preferred.
  • the content of the pigment in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 20% by mass or more, more preferably 30% by mass or more, still more preferably 40% by mass or more. It is even more preferably 45% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more.
  • the upper limit of the pigment content in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 80% by mass or less, more preferably 70% by mass or less, and further preferably 60% by mass or less. preferable.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a photopolymerization initiator.
  • a photopolymerization initiator one containing an oxime compound OX having an aromatic ring group Ar OX1 in which an electron-attracting group is introduced into an aromatic ring (hereinafter, also referred to as an oxime compound OX) is used.
  • the aromatic ring group Ar OX1 is preferably bonded to the site containing the oxime structure of the oxime compound OX via the aromatic ring to which the electron-attracting group is bonded.
  • the electron-attracting group of the aromatic ring group Ar OX1 is bonded to the site containing the oxime structure of the oxime compound OX via the aromatic ring electron-pulled by the electron-attracting group.
  • the aromatic ring side of the aromatic ring group Ar OX1 is the bond side with the site containing the oxime structure of the oxime compound OX.
  • the electron-withdrawing group is an atomic group that attracts electrons from the substituted atomic group by an inductive effect or a resonance effect in the organic electron theory. Examples of the electron-attracting group include those having a positive value as the substituent constant ( ⁇ p ⁇ ) of the Hammett equation.
  • the substituent constant ( ⁇ p ⁇ ) of the Hammett equation is described in the graduate School Lecture Organic Chemistry I.D. Molecular structure and reaction ⁇ Organometallic chemistry It can be quoted from page 175 of the first edition.
  • the electron-attracting group is preferably a group having a Hammett-type substituent constant ( ⁇ p ⁇ ) of 0.01 or more, more preferably 0.1 or more, and a group of 0.3 or more. It is more preferable to have.
  • the electron-attracting group of the aromatic ring group Ar OX1 includes an acyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group and a cyano.
  • Examples thereof include an acyl group and a nitro group, and an acyl group is more preferable, and a benzoyl group is further preferable, because it is easy to form a film having more excellent light resistance.
  • the benzoyl group may have a substituent.
  • substituent T examples include a group selected from the above-mentioned group of substituent T, which includes a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group and a complex.
  • a ring oxy group an alkenyl group, an alkyl sulfanyl group, an aryl sulfanyl group, an acyl group or an amino group, preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryl oxy group, a heterocyclic oxy group, an alkyl sulfanyl group or an aryl sulfanyl. It is more preferably a group or an amino group, and even more preferably an alkoxy group, an alkylsulfanyl group or an amino group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • Alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkenyl group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, acyl group and amino group are as these groups represented by ROX11 described later. The groups described are mentioned.
  • the aromatic ring group Ar OX1 is preferably a group represented by the formula (OR-1). According to this aspect, the above-mentioned effect of the present invention is exhibited more remarkably.
  • R OX1 represents a substituent
  • R OX2 represents an electron-withdrawing group
  • n represents an integer of 0 to 4
  • the wavy line represents a bond.
  • examples of the substituent represented by ROX1 include a group selected from the above-mentioned group of substituents T and the above-mentioned electron-attracting group, and the above-mentioned electron-attracting group is preferable. .. When n is 2 or more, n ROX1s may be the same or different from each other.
  • examples of the electron-attracting group represented by ROX2 include the above-mentioned groups, and the preferred range is also the same.
  • n represents an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 3, more preferably an integer of 0 to 2, and even more preferably 0 or 1. , 0 is particularly preferable.
  • the wavy line represents the bond. At the position of the wavy line in the formula (OR-1), it combines with other atomic groups constituting the oxime compound OX to form the oxime compound OX.
  • the oxime compound OX preferably has at least one group selected from the group represented by the formula (OR-11) and the group represented by the formula (OR-12), and is represented by the formula (OR-12). It is more preferable to have a group to be used.
  • ROX11 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group.
  • ROX12 contains an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group and an aryl.
  • ROX11 is preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group or a heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and further preferably an alkyl group. ..
  • ROX12 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group or an acyloxy group, and is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. More preferably, it is more preferably an alkyl group.
  • the above-mentioned groups represented by ROX11 and ROX12 may further have a substituent. Further examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • the alkyl groups represented by ROX11 and ROX12 have preferably 1 to 18 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 8 carbon atoms.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic. When the alkyl group has 2 or more carbon atoms, an ether bond may be contained between the carbon atoms.
  • Specific examples of the alkyl groups represented by ROX11 and ROX12 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group and octadecyl group.
  • alkyl groups containing ether linkages between carbon atoms -CH 2 -O-CH 3, -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 3, -CH 2 -CH 2 -CH 2- O-CH 2 -CH 3 ,-(CH 2- CH 2- O) n- CH 3 (where n is 1 to 8),-(CH 2- CH 2- CH 2- O) m -CH 3 (wherein m is 5 1), - CH 2 -CH ( CH 3) -O-CH 2 -CH 3 -, - CH 2 -CH- (OCH 3) group shown in 2 and below Can be mentioned.
  • the carbon number of the alkenyl group represented by ROX11 and ROX12 is preferably 2 to 18, more preferably 2 to 15, further preferably 2 to 8.
  • the alkenyl group may be linear, branched or cyclic. Specific examples of the alkenyl group include vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, isopropenyl group, isobutenyl group, 1-pentenyl group, 2-pentenyl group and 3-pentenyl group.
  • 4-Pentenyl group 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 3-hexenyl group, 4-hexenyl group, 5-hexenyl group, cyclopentenyl group, cyclohexenyl group, 1,3-butadienyl group, cyclohexadienyl group , Cyclopentadienyl group and the like.
  • the alkoxy group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 1 to 18 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 8 carbon atoms.
  • the alkoxy group may be linear, branched or cyclic. When the alkoxy group has two or more carbon atoms, an ether bond may be contained between the carbon atoms.
  • Specific examples of the alkoxy groups represented by ROX11 and ROX12 include methyloxy group, ethyloxy group, propyloxy group, butyloxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, nonyloxy group and decyloxy group.
  • alkoxy group having an ether bond between carbon atoms -O-CH 2 -O-CH 3, -O-CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 3, -O-CH 2 -CH 2 -CH 2 -O-CH 2 -CH 3, ( a where n is from 1 8) -O- (CH 2 -CH 2 -O) n -CH 3, - O- (CH 2 -CH 2 is -CH 2 -O) m -CH 3 (wherein m is 5 1), - O-CH 2 -CH (CH 3) -O-CH 2 -CH 3 -, - O-CH 2- CH- (OCH 3 ) 2 and the groups shown below can be mentioned.
  • the aryl group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • Specific examples of the aryl group include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group, a 1-anthrill group, a 9-anthrill group, a 2-phenanthryl group, a 3-phenanthryl group, a 9-phenanthryl group, and a 1-pyrenyl group.
  • the aryloxy group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 6 to 24 carbon atoms, more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • Specific examples of the aryloxy group include a phenoxy group, a naphthyloxy group, a 2-naphthyloxy group, a 9-anthryloxy group, a 9-phenanthryloxy group, a 1-pyrenyloxy group, and a 5-naphthacenyloxy group. Examples thereof include 1-indenyloxy group, 2-azulenyloxy group, 1-acenaphthyloxy group, 9-fluorenyloxy group and the like.
  • the heterocyclic ring represented by ROX11 and ROX12 and the heterocyclic ring of the heterocyclic oxy group may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • the heterocycle is preferably a single ring or a fused ring having 2 to 4 condensation numbers.
  • the number of heteroatoms constituting the ring of the heterocycle is preferably 1 to 3.
  • the hetero atom constituting the ring of the heterocycle is preferably a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom.
  • the number of carbon atoms constituting the ring of the heterocycle is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 18, and even more preferably 3 to 12.
  • heterocyclic group examples include 2-thienyl group, 2-benzothienyl group, naphtho [2,3-b] thienyl group, 3-thianthrenyl group, 2-thianthrenyl group, 2-furyl group and 2-benzofuryl group.
  • Examples thereof include an indolinyl group, an isoindolinyl group, a quinuclidinyl group, a morpholinyl group, a thioxanthril group, a 4-quinolinyl group, a 4-isoquinolyl group, a 3-phenothiazinyl group, a 2-phenoxatyynyl group and a 3-cummarinyl group.
  • heterocyclic oxy group examples include 2-furanyloxy group, 2-thienyloxy group, 2-indrilloxy group, 3-indrilloxy group, 2-benzofuryloxy group, 2-benzothienyloxy group, 2 -Carbazolyloxy group, 3-carbazolyloxy group, 4-carbazolyloxy group, 9-acridinyloxy group and the like can be mentioned.
  • the alkylsulfanyl group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 1 to 18 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 8 carbon atoms.
  • the alkylsulfanyl group may be linear or branched. Specific examples of the alkylsulfanyl group include methylthio group, ethylthio group, propylthio group, butylthio group, pentylthio group, hexylthio group, octylthio group, decylthio group, dodecylthio group, octadecylthio group and the like.
  • the arylsulfanyl group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 6 to 18 carbon atoms.
  • Specific examples of the arylsulfanyl group include a phenylthio group, a 1-naphthylthio group, a 2-naphthylthio group, a 9-anthrylthio group, a 9-phenanthrylthio group and the like.
  • the alkylsulfinyl group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 8 carbon atoms.
  • the alkylsulfinyl group may be linear or branched.
  • alkylsulfinyl group examples include methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, isopropylsulfinyl group, butylsulfinyl group, hexylsulfinyl group, cyclohexylsulfinyl group, octylsulfinyl group, 2-ethylhexylsulfinyl group, and decanoysulfinyl group.
  • Examples thereof include a group, a dodecanoylsulfinyl group, an octadecanoylsulfinyl group, a cyanomethylsulfinyl group, and a methyloxymethylsulfinyl group.
  • the arylsulfinyl group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 6 to 30 carbon atoms.
  • Specific examples of the arylsulfinyl group include phenylsulfinyl group, 1-naphthylsulfinyl group, 2-naphthylsulfinyl group, 2-chlorophenylsulfinyl group, 2-methylphenylsulfinyl group, 2-methyloxyphenylsulfinyl group and 2-butyloxy.
  • the alkylsulfonyl group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 15 carbon atoms, and even more preferably 1 to 8 carbon atoms.
  • the alkylsulfonyl group may be linear or branched.
  • alkylsulfonyl group examples include a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a propylsulfonyl group, an isopropylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a hexylsulfonyl group, a cyclohexylsulfonyl group, an octylsulfonyl group, a 2-ethylhexylsulfonyl group, and a decanoyylsulfonyl group.
  • Examples thereof include a group, a dodecanoylsulfonyl group, an octadecanoylsulfonyl group, a cyanomethylsulfonyl group, and a methyloxymethylsulfonyl group.
  • the arylsulfonyl group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 6 to 30 carbon atoms.
  • Specific examples of the arylsulfonyl group include a phenylsulfonyl group, a 1-naphthylsulfonyl group, a 2-naphthylsulfonyl group, a 2-chlorophenylsulfonyl group, a 2-methylphenylsulfonyl group, a 2-methyloxyphenylsulfonyl group, and a 2-butyloxy group.
  • the acyl group represented by ROX11 includes a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, and an aryl group having 6 to 18 carbon atoms in the carbonyl group. , 6-18 aryloxy groups or groups to which a heterocyclic group is bonded can be mentioned.
  • acyl group examples include a formyl group, an acetyl group, a propionyl group, a butyryl group, an isobutyryl group, a valeryl group, an isovaleryl group, a pivaloyl group, a lauroyl group, a myritoyl group, a palmitoyl group, a stearoyl group, a cyclopentylcarbonyl group and a cyclohexylcarbonyl group.
  • acryloyl group methacryloyl group, crotonoyl group, isocrotonoyl group, oleoyl group, cinnamoyl group benzoyl group, methyloxycarbonyl group, ethyloxycarbonyl group, propyloxycarbonyl group, butyloxycarbonyl group, hexyloxycarbonyl group, octyloxy Carbonyl group, decyloxycarbonyl group, octadecyloxycarbonyl group, trifluoromethyloxycarbonyl group, benzoyl group, toluoil group, 1-naphthoyl group, 2-naphthoyl group, 9-anthrylcarbonyl group, phenyloxycarbonyl group, 4- Methylphenyloxycarbonyl group, 3-nitrophenyloxycarbonyl group, 4-dimethylaminophenyloxycarbonyl group, 2-methylsulf
  • the acyloxy group represented by ROX11 and ROX12 preferably has 2 to 20 carbon atoms.
  • Specific examples of the acyloxy group include an acetyloxy group, a propanoyloxy group, a butanoyloxy group, a pentanoyloxy group, a trifluoromethylcarbonyloxy group, a benzoyloxy group, a 1-naphthylcarbonyloxy group, and a 2-naphthylcarbonyloxy group.
  • the group etc. can be mentioned.
  • Examples of the amino group represented by ROX11 and ROX12 include -NH 2 , an alkylamino group, a dialkylamino group, an arylamino group, a diarylamino group, an alkylarylamino group, a benzylamino group, a dibenzylamino group and the like.
  • Alkylamino groups include methylamino group, ethylamino group, propylamino group, butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, heptylamino group, octylamino group, nonylamino group, decylamino group, dodecylamino group and octadecylamino group.
  • dialkylamino group examples include dimethylamino group, diethylamino group, dipropylamino group, dibutylamino group, dipentylamino group, dihexylamino group, diheptylamino group, dioctylamino group, dinonylamino group, didecylamino group and didodecylamino group.
  • Dioctadecylamino group diisopropylamino group, diisobutylamino group, diisopentylamino group, methylethylamino group, methylpropylamino group, methylbutylamino group, methylisobutylamino group, cyclopropylamino group, pyrrolidino group, piperidino group, Examples include the piperazino group.
  • arylamino group anilino group, 1-naphthylamino group, 2-naphthylamino group, o-toluidino group, m-toluidino group, p-toluidino group, 2-biphenylamino group, 3-biphenylamino group, 4- Examples thereof include a biphenylamino group, a 1-fluoreneamino group, a 2-fluoreneamino group, a 2-thiazoleamino group, a p-terphenylamino group and the like.
  • Examples of the diarylamino group include a diphenylamino group, a ditrilamino group, an N-phenyl-1-naphthylamino group, an N-phenyl-2-naphthylamino group and the like.
  • Examples of the alkylarylamino group include N-methylanilino group, N-methyl-2-pyridino group, N-ethylanilino group, N-propylanilino group, N-butylanilino group, N-isopropyl, N-pentylanilino group and N.
  • -Ethylanilino group, N-methyl-1-naphthylamino group and the like can be mentioned.
  • the number of carbon atoms of the phosphinoyl groups R OX11 represent may have 2 to 50 preferred.
  • Specific examples of the phosphinoyl group include a dimethylphosphinoyl group, a diethylphosphinoyl group, a dipropylphosphinoyl group, a diphenylphosphinoyl group, a dimethoxyphosphinoyl group, a diethoxyphosphinoyl group, and a dibenzoylphosphino. Examples thereof include an yl group and a bis (2,4,6-trimethylphenyl) phosphinoyl group.
  • the carbamoyl group represented by ROX11 preferably has 2 to 30 carbon atoms.
  • Specific examples of the carbamoyl group include N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-propylcarbamoyl group, N-butylcarbamoyl group, N-hexylcarbamoyl group, N-cyclohexylcarbamoyl group, N-octylcarbamoyl group, and the like.
  • the sulfamoyl group represented by ROX11 preferably has 0 to 30 carbon atoms.
  • Specific examples of the sulfamoyl group include a sulfamoyl group, an N-alkyl sulfamoyl group, an N-aryl sulfamoyl group, an N, N-dialkyl sulfamoyl group, an N, N-diaryl sulfamoyl group, and an N-alkyl group.
  • -N-aryl sulfamo oil group and the like can be mentioned.
  • N-methylsulfamoyl group More specifically, N-methylsulfamoyl group, N-ethylsulfamoyl group, N-propylsulfamoyl group, N-butylsulfamoyl group, N-hexylsulfamoyl group, N-cyclohexylsul.
  • Famoyl group N-octyl sulfamoyl group, N-2-ethylhexyl sulfamoyl group, N-decyl sulfamoyl group, N-octadecyl sulfamoyl group, N-phenyl sulfamoyl group, N-2- Methylphenyl sulfamoyl group, N-2-chlorophenyl sulfamoyl group, N-2-methoxyphenyl sulfamoyl group, N-2-isopropoxyphenyl sulfamoyl group, N-3-chlorophenyl sulfamoyl group, N-3-nitrophenyl sulfamoyl group, N-3-cyanophenyl sulfamoyl group, N-4-methoxyphenyl sulfamoyl group, N-4-cyanophenyl
  • the wavy line represents the bond.
  • the oxime compound OX is formed by combining with other atomic groups constituting the oxime compound OX.
  • the oxime compound OX is preferably at least one selected from the compound represented by the formula (OX1) and the compound represented by the formula (OX2), and the formula can be obtained because the adhesion of the obtained pixels can be further improved. It is more preferable that the compound is represented by (OX2).
  • RX1 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group.
  • RX2 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group and an aryl.
  • R X3 ⁇ R X14 represents a hydrogen atom or a substituent independently; Provided that at least one of R X10 ⁇ R X14 is an electron withdrawing group.
  • RX1 is preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group or a heterocyclic group, more preferably an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group, and is an alkyl group. Is even more preferable.
  • RX2 is preferably an alkyl group, an alkenyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group or an acyloxy group, and is an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or a heterocyclic group. More preferably, it is more preferably an alkyl group.
  • R X1 in the above formula has the same meaning as R OX11 in the above-mentioned formula (OR-11) and formula (OR-12), and preferred ranges are also the same.
  • R X2 in the above formula has the same meaning as R OX12 in the above-mentioned formula (OR-11) and formula (OR-12), and preferred ranges are also the same.
  • R X3 ⁇ R X14 represents a hydrogen atom or a substituent independently.
  • RX3 to RX5 are independently hydrogen atom, halogen atom, cyano group, nitro group, alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkylsulfanyl. It is preferably a group, an arylsulfanyl group, an acyl group, or an amino group, more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and more preferably a hydrogen atom, a nitro group, or an alkyl.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • Alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, acyl group and amino group are as these groups represented by ROX11 described above. The groups described are mentioned.
  • the alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, acyl group and amino group may further have a substituent.
  • Further examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • RX6 to RX10 are independently hydrogen atom, halogen atom, cyano group, alkyl group, alkenyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkylsulfanyl group, aryl.
  • a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group or an amino group is more preferable, and a hydrogen atom, a cyano group, an alkyl group or an aryl group is further preferable, and hydrogen is more preferable. It is even more preferably an atom, an alkyl group or an aryl group, even more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, and particularly preferably a hydrogen atom.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • Alkyl group alkenyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and amino
  • the group include the groups described as these groups represented by the above-mentioned ROX11.
  • Alkyl group alkenyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, alkylsulfinyl group, arylsulfinyl group, alkylsulfonyl group, arylsulfonyl group and amino
  • the group may further have a substituent. Further examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • the substituents R X10 ⁇ R X14 represent include groups and electron withdrawing groups described above are selected from the group of substituents T mentioned above. Provided that at least one of R X10 ⁇ R X14 is an electron withdrawing group.
  • Substituents represented by R X10 ⁇ R X14 is a nitro group, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkenyl group, an alkylsulfanyl group, an aryl It is preferably a sulfanyl group, an acyl group, or an amino group.
  • an alkyl group an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group, a heterocyclic oxy group, an alkenyl group, an alkylsulfanyl group, an arylsulfanyl group, an acyl group, and an amino group, as these groups represented by ROX11 described above.
  • the groups described are mentioned.
  • the alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkenyl group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, acyl group and amino group may further have a substituent. Further examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • an acyl group As the electron withdrawing group represented by R X10 ⁇ R X14, an acyl group, a nitro group, a trifluoromethyl group, an alkylsulfinyl group, an arylsulfinyl group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a cyano group, Acyl groups and nitro groups are preferable, and acyl groups are more preferable, and benzoyl groups are even more preferable, because it is easy to form a film having more excellent light resistance.
  • the benzoyl group may have a substituent.
  • substituent T examples include a group selected from the above-mentioned group of substituent T, which includes a halogen atom, a cyano group, a nitro group, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, a heterocyclic group and a complex.
  • a ring oxy group an alkenyl group, an alkyl sulfanyl group, an aryl sulfanyl group, an acyl group or an amino group, preferably an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryl oxy group, a heterocyclic oxy group, an alkyl sulfanyl group or an aryl sulfanyl. It is more preferably a group or an amino group, and even more preferably an alkoxy group, an alkylsulfanyl group or an amino group.
  • the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • Alkyl group, alkoxy group, aryl group, aryloxy group, heterocyclic group, heterocyclic oxy group, alkenyl group, alkylsulfanyl group, arylsulfanyl group, acyl group and amino group are as these groups represented by ROX11 described above. The groups described are mentioned.
  • R X12 is an electron withdrawing group, it is preferred that R X10, R X11, R X13 , R X14 is a hydrogen atom.
  • oxime compound OX include compounds having the following structure and compounds described in paragraphs 0083 to 0105 of Japanese Patent No. 4600600.
  • the photopolymerization initiator contained in the photosensitive composition of the present invention may further contain other photopolymerization initiators (hereinafter, also referred to as other photopolymerization initiators) other than the above-mentioned oxime compound OX.
  • other photopolymerization initiators hereinafter, also referred to as other photopolymerization initiators
  • photopolymerization initiators include halogenated hydrocarbon derivatives (eg, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.), acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole, oxime compounds, organic peroxides, etc.
  • halogenated hydrocarbon derivatives eg, compounds having a triazine skeleton, compounds having an oxadiazole skeleton, etc.
  • acylphosphine compounds eg., acylphosphine compounds, hexaarylbiimidazole, oxime compounds, organic peroxides, etc.
  • Examples include thio compounds, ketone compounds, aromatic onium salts, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds, etc., trihalomethyltriazine compounds, benzyldimethylketal compounds, ⁇ -hydroxyketone compounds, ⁇ -aminoketone compounds,
  • the compound is selected from the oxime compound, the ⁇ -hydroxyketone compound, the ⁇ -aminoketone compound, and the acylphosphine compound, and the oxime compound or the ⁇ -aminoketone compound is high because of the high initiator efficiency. It is more preferably a compound.
  • photopolymerization initiators examples include the compounds described in paragraphs 0065 to 0111 of JP-A-2014-130173 and JP-A-6301489, MATERIAL STAGE 37-60p, vol. 19, No. 3, 2019 Peroxide-based Photopolymerization Initiator, International Publication No. 2018/221177, Photopolymerization Initiator, International Publication No. 2018/110179, Photopolymerization Initiator, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2019-043864 Examples thereof include the photopolymerization initiator described in JP-A-2019-044030 and the photopolymerization initiator described in JP-A-2019-044030, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • ⁇ -hydroxyketone compounds include Omnirad 184, Omnirad 1173, Omnirad 2959, Omnirad 127 (all manufactured by IGM Resins BV), Irgacure 184, Irgacure 1173, Irgacare 1173, Irgacure29. (Manufactured by the company) and the like.
  • Commercially available ⁇ -aminoketone compounds include Omnirad 907, Omnirad 369, Omnirad 369E, Omnirad 379EG (above, IGM Resins BV), Irgacare 907, Irgacare 369, Irgacure 369, Irgacure 369, Irgar (Made) and so on.
  • acylphosphine compounds examples include Omnirad 819, Omnirad TPO (above, manufactured by IGM Resins BV), Irgacure 819, and Irgacure TPO (above, manufactured by BASF).
  • Examples of the oxime compound used as another photopolymerization initiator include the compounds described in JP-A-2001-233842, the compounds described in JP-A-2000-080068, and the compounds described in JP-A-2006-342166.
  • J. C. S. The compound according to Perkin II (1979, pp. 1653-1660), J. Mol. C. S. The compound described in Perkin II (1979, pp. 156-162), the compound described in Journal of Photopolymer Science and Technology (1995, pp. 202-232), the compound described in JP-A-2000-066385, the compound described in JP-A-2000-066385.
  • oxime compounds used as photopolymerization initiators include Irgacure OXE01, Irgacure OXE02, Irgacure OXE03, Irgacure OXE04 (above, manufactured by BASF), and TR-PBG-304 (manufactured by BASF). ).
  • an oxime compound having a fluorene ring can also be used as another oxime compound used as a photopolymerization initiator.
  • an oxime compound having a fluorene ring include the compounds described in JP-A-2014-137466.
  • an oxime compound having a skeleton in which at least one benzene ring of the carbazole ring is a naphthalene ring can also be used.
  • Specific examples of such an oxime compound include the compounds described in International Publication No. 2013/083505.
  • an oxime compound having a fluorine atom can also be used as the oxime compound used as another photopolymerization initiator.
  • Specific examples of the oxime compound having a fluorine atom are described in the compounds described in JP-A-2010-262028, compounds 24, 36-40 described in JP-A-2014-500852, and JP-A-2013-164471. Compound (C-3) and the like.
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used as a photopolymerization initiator.
  • an oxime compound having a benzofuran skeleton can also be used.
  • Specific examples include OE-01 to OE-75 described in International Publication No. 2015/036910.
  • an oxime compound used as a photopolymerization initiator an oxime compound in which a substituent having a hydroxy group is bonded to a carbazole skeleton can also be used.
  • Examples of such a photopolymerization initiator include the compounds described in International Publication No. 2019/088055.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass or less.
  • the content of the oxime compound OX in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass or less.
  • the content of the oxime compound OX in the photopolymerization initiator contained in the photosensitive composition is preferably 20 to 100% by mass, more preferably 35 to 100% by mass, and 40 to 100% by mass. It is even more preferably 50 to 100% by mass, and particularly preferably 60 to 100% by mass.
  • a preferred embodiment of the photopolymerization initiator contained in the photosensitive composition is an embodiment in which the photopolymerization initiator is substantially only the oxime compound OX. According to this aspect, the effect of the present invention is more prominently exhibited.
  • the case where the photopolymerization initiator is substantially only the oxime compound OX means that the content of the oxime compound OX in the photopolymerization initiator is 99% by mass or more, and is 99. It is preferably 9.9% by mass or more, and more preferably the oxime compound OX is the only photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator contained in the photosensitive composition is an embodiment in which the photopolymerization initiator contains an oxime compound OX and another photopolymerization initiator other than the oxime compound OX. According to this aspect, the entire film can be cured more uniformly, and a film having a smaller surface roughness can be formed.
  • the other photopolymerization initiator is preferably at least one selected from an oxime compound and an ⁇ -aminoketone compound.
  • the content of the other photopolymerization initiator is preferably 10 to 200 parts by mass, more preferably 20 to 100 parts by mass, and 30 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the oxime compound OX. It is more preferably a part.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer is preferably a compound having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a vinylphenyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a (meth) acryloylamide group, and the like (meth). It is preferably an acryloyloxy group.
  • the polymerizable monomer used in the present invention is preferably a radically polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer is preferably a compound containing 3 or more ethylenically unsaturated bond-containing groups, and is a compound containing 3 to 15 ethylenically unsaturated bond-containing groups (3 to 15 functional polymerizable monomer). More preferably, it is a compound containing 3 to 6 ethylenically unsaturated bond-containing groups (3 to 6 functional polymerizable monomer). Among them, it is particularly preferable to use a compound having three ethylenically unsaturated bond-containing groups (trifunctional polymerizable monomer) as the polymerizable monomer.
  • the polymerizable monomer is preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 15 functionalities, and more preferably a (meth) acrylate compound having 3 to 6 functionalities. Of these, it is particularly preferable to use a trifunctional (meth) acrylate compound as the polymerizable monomer.
  • Specific examples of the polymerizable monomer include paragraph numbers 0905 to 0108 of JP2009-288705A, paragraphs 0227 of JP2013-209760A, paragraphs 0254 to 0257 of JP2008-292970, and JP-A.
  • the compounds described in paragraphs 0034 to 0038 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2013-253224, paragraph numbers 0477 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-208494, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2017-048367, Japanese Patent No. 6057891 and Japanese Patent No. 6031807 are These contents are incorporated herein by reference.
  • dipentaerythritol tri (meth) acrylate commercially available KAYARAD D-330; manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol tetra (meth) acrylate commercially available KAYARAD D-320) ; Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol penta (meth) acrylate commercially available KAYARAD D-310; Nihon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol hexa (meth) acrylate commercially available
  • KAYARAD DPHA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • NK ester A-DPH-12E manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.
  • these (meth) acryloyl groups via ethylene glycol and / or propylene glycol residues.
  • Examples thereof include compounds having a bonded structure (for example, SR454 and SR499 commercially available from Sartmer).
  • diglycerin EO ethylene oxide modified (meth) acrylate (commercially available M-460; manufactured by Toa Synthetic)
  • pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd., NK ester A) -TMMT), 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD HDDA), RP-1040 (manufactured by Nihon Kayaku Co., Ltd.), Aronix TO-2349 (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd.) , NK Oligo UA-7200 (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), U-6LPA (urethane acrylate, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co.
  • trimethylolpropane tri (meth) acrylate trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, isocyanurate ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, and penta.
  • trifunctional (meth) acrylate compounds such as erythritol trimethylolpropane (meth) acrylate.
  • Commercially available trifunctional (meth) acrylate compounds include Aronix M-309, M-310, M-321, M-350, M-360, M-313, M-315, M-306, and M-305.
  • M-303, M-452, M-450 all manufactured by Toagosei Co., Ltd.
  • a compound having an acid group can also be used as the polymerizable monomer.
  • the photosensitive composition layer in the unexposed portion can be easily removed during development, and the generation of development residue can be suppressed.
  • the acid group include a carboxyl group, a sulfo group, a phosphoric acid group and the like, and a carboxyl group is preferable.
  • Examples of commercially available products of the polymerizable monomer having an acid group include Aronix M-510, M-520, and Aronix TO-2349 (all manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the preferable acid value of the polymerizable monomer having an acid group is 0.1 to 40 mgKOH / g, and more preferably 5 to 30 mgKOH / g.
  • the acid value of the polymerizable monomer is 0.1 mgKOH / g or more, the solubility in a developing solution is good, and when it is 40 mgKOH / g or less, it is advantageous in production and handling.
  • a compound having a caprolactone structure can also be used as the polymerizable monomer.
  • examples of commercially available products of the polymerizable monomer having a caprolactone structure include KAYARAD DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, and DPCA-120 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • a polymerizable monomer having a fluorene skeleton can also be used.
  • examples of commercially available products of the polymerizable monomer having a fluorene skeleton include Ogsol EA-0200 and EA-0300 (manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd., a (meth) acrylate monomer having a fluorene skeleton).
  • polymerizable monomer it is also preferable to use a compound that does not substantially contain an environmentally regulatory substance such as toluene as the polymerizable monomer.
  • an environmentally regulatory substance such as toluene
  • examples of commercially available products of such polymerizable monomers include KAYARAD DPHA LT and KAYARAD DPEA-12 LT (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.).
  • the molecular weight of the polymerizable monomer is preferably 100 to 2000.
  • the upper limit is preferably 1500 or less, more preferably 1000 or less, and even more preferably 600 or less.
  • the lower limit is preferably 150 or more, more preferably 200 or more, and even more preferably 250 or more.
  • the molecular weight of the polymerizable monomer is particularly preferably 250 to 600.
  • the lower limit is preferably 80 g / mol or more, and particularly preferably 100 g / mol or more.
  • the upper limit is preferably 400 g / mol or less, and particularly preferably 300 g / mol or less.
  • the polymerizable monomer is a compound having an alkyleneoxy group.
  • the number of alkyleneoxy groups contained in the polymerizable monomer having an alkyleneoxy group is preferably 2 to 15, and more preferably 3 to 12.
  • the number of carbon atoms of the alkyleneoxy group is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, further preferably 1 to 3, particularly preferably 2 or 3, and most preferably 2. That is, the alkyleneoxy group is particularly preferably an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group, and most preferably an ethyleneoxy group.
  • the polymerizable monomer having an alkyleneoxy group and having three ethylenically unsaturated bond-containing groups is preferably a compound represented by the following formula (M1).
  • a 1 to A 3 independently represent an ethylenically unsaturated bond-containing group
  • L 1 to L 3 independently represent a single bond or a divalent linking group
  • R 1 to R 3 respectively.
  • m1 to m3 independently represent an integer of 0 to 10
  • L 10 represents a trivalent linking group
  • the sum of m1, m2, and m3 is 1 or more. be.
  • Examples of the ethylenically unsaturated bond-containing group represented by A 1 to A 3 include a vinyl group, a vinylphenyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, and a (meth) acryloylamide group.
  • the vinyl group, the (meth) allyl group, the (meth) acryloyl group, and the (meth) acryloyloxy group are preferable, and the (meth) acryloyloxy group is more preferable.
  • the divalent linking group represented by L 1 to L 3 includes an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, and a group in which two or more of these are combined. Can be mentioned.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and even more preferably 1 to 15 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the arylene group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • the carbon number of the alkylene group represented by R 1 to R 3 is preferably 1 to 10, more preferably 1 to 5, further preferably 1 to 3, particularly preferably 2 or 3, and most preferably 2.
  • the alkylene group represented by R 1 is preferably linear or branched, and more preferably linear. Specific examples of the alkylene group represented by R 1 include an ethylene group, a linear or branched propylene group, and the ethylene group is preferable.
  • M1 to m3 independently represent 0 to 10, preferably 0 to 5, more preferably 0 to 7, and even more preferably 0 to 3. Further, the total of m1, m2 and m3 is 1 or more, preferably 2 or more, and more preferably 3 or more. The upper limit is preferably 20 or less, more preferably 10 or less, and even more preferably 6 or less. Further, the total of m1, m2 and m3 is preferably 2 to 6, and more preferably 3 to 6.
  • the trivalent linking group represented by L 10 includes an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, a heterocyclic group and a group consisting of a combination thereof, and an aliphatic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and a complex. Examples thereof include a group consisting of a combination of at least one selected from ring groups and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO- and -NH-, and an aliphatic hydrocarbon group. Is preferable.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and even more preferably 1 to 15.
  • the aliphatic hydrocarbon group represented by L 10 may be linear, branched or cyclic, and branched is preferable.
  • the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 10.
  • the heterocyclic group may be a non-aromatic heterocyclic group or an aromatic heterocyclic group.
  • the heterocyclic group is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring. Examples of the heteroatom constituting the heterocyclic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom.
  • the number of heteroatoms constituting the heterocyclic group is preferably 1 to 3.
  • the heterocyclic group may be a monocyclic ring or a condensed ring.
  • the aliphatic hydrocarbon group, aromatic hydrocarbon group, and heterocyclic group may have a substituent. Examples of the substituent include the groups listed in the above-mentioned Substituent T.
  • a compound represented by the following formula (M2) is more preferable.
  • R 11 to R 13 independently represent a hydrogen atom or a methyl group
  • R 1 to R 3 independently represent an alkylene group
  • m 1 to m 3 independently represent 0 to 10.
  • L 10 represents a trivalent linking group
  • the sum of m1, m2, and m3 is 1 or more.
  • R 1 ⁇ R 3, L 10 , m1 ⁇ m3 of formula (M2) has the same meaning as R 1 ⁇ R 3, L 10 , m1 ⁇ m3 of formula (M1), and preferred ranges are also the same.
  • a polymerizable monomer has moderately high fluidity, can cure the polymerizable monomer of the exposed portion more uniformly at the time of exposure, and can form pixels having a smaller surface roughness.
  • Specific examples of the specific trifunctional monomer include trimethylolpropanpropyleneoxy-modified triacrylate (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., Aronix M-310, number of functional groups 3, molecular weight 471, ethylene unsaturated bond-containing base value 157 g / mol, Compound having alkyleneoxy group (propyleneoxy group)), trimethylpropanethyleneoxy-modified triacrylate (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., Aronix M-350, number of functional groups 3, molecular weight 429, ethylenically unsaturated bond-containing base value 143 g / Mol, a compound having an alkyleneoxy group (ethyleneoxy group)) and the like.
  • the content of the polymerizable monomer in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 1 to 25% by mass.
  • the lower limit is preferably 2% by mass or more, and more preferably 5% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 21% by mass or less, more preferably 18% by mass or less.
  • the polymerizable monomer may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, it is preferable that the total of them is in the above range.
  • the content of the compound having three ethylenically unsaturated bond-containing groups (trifunctional polymerizable monomer) in the total amount of the polymerizable monomer is preferably 30 to 100% by mass, preferably 50 to 100% by mass. Is more preferable, and 70 to 100% by mass is further preferable.
  • the polymerizable monomer contained in the photosensitive composition may be substantially only a trifunctional polymerizable monomer, or may contain a trifunctional polymerizable monomer and a tetrafunctional or higher functional polymerizable monomer, respectively. good. When the polymerizable monomer is substantially only a trifunctional polymerizable monomer, local cross-linking is less likely to occur, and a film having a smaller surface roughness can be formed.
  • the content of the trifunctional polymerizable monomer in the total amount of the polymerizable monomer contained in the photosensitive composition is 99% by mass or more. It is preferably 99.5% by mass or more, more preferably 99.9% by mass or more, and the polymerizable monomer contained in the photosensitive composition is only a trifunctional polymerizable monomer. It is more preferable that it is composed of.
  • the polymerizable monomer contains a trifunctional polymerizable monomer and a tetrafunctional or higher functional polymerizable monomer, respectively, better adhesion can be obtained.
  • the amount of the tetrafunctional or higher functional monomer is 10 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the trifunctional polymerizable monomer. It is preferably 20 to 50 parts by mass, more preferably 30 to 40 parts by mass.
  • the content of the above-mentioned specific trifunctional monomer in the total amount of the polymerizable monomer is preferably 30 to 100% by mass, more preferably 50 to 100% by mass, and 70 to 100% by mass. Is even more preferable.
  • the polymerizable monomer contained in the photosensitive composition may be substantially only the specific trifunctional monomer, and the polymerizable monomer other than the specific trifunctional monomer and the specific trifunctional monomer (hereinafter, also referred to as other polymerizable monomer). May be included respectively.
  • the polymerizable monomer is substantially only the specific trifunctional monomer, the polymerizable monomer in the exposed portion can be cured more uniformly at the time of exposure, and pixels having a smaller surface roughness can be formed.
  • the content of the specific trifunctional monomer in the total amount of the polymerizable monomer contained in the photosensitive composition is 99% by mass or more. This means that the content is preferably 99.5% by mass or more, more preferably 99.9% by mass or more, and that the polymerizable monomer contained in the photosensitive composition is composed of only the specific trifunctional monomer. Is more preferable.
  • the polymerizable monomer contains a specific trifunctional monomer and another polymerizable monomer, local cross-linking is less likely to occur, and a film having a smaller surface roughness can be formed.
  • the specific trifunctional monomer is preferably 10 to 60 parts by mass, more preferably 20 to 50 parts by mass, and further preferably 30 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a resin.
  • the resin is blended, for example, for the purpose of dispersing the pigment in the photosensitive composition or for the purpose of a binder.
  • the resin mainly used for dispersing the pigment in the photosensitive composition is also referred to as a dispersant.
  • a dispersant such an application of the resin is an example, and the resin can be used for purposes other than such an application.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin is preferably 3000 to 2000000.
  • the upper limit is preferably 1,000,000 or less, and more preferably 500,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, and more preferably 5000 or more.
  • the resin examples include (meth) acrylic resin, epoxy resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, and polyimide resin.
  • examples thereof include polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, and styrene resin. One of these resins may be used alone, or two or more thereof may be mixed and used.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a resin having an acid group.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group. These acid groups may be only one kind or two or more kinds.
  • the resin having an acid group can also be used as a dispersant.
  • a desired pattern can be formed by alkaline development.
  • the acid value of the resin having an acid group is preferably 30 to 500 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 50 mgKOH / g or more, and more preferably 70 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 400 mgKOH / g or less, more preferably 200 mgKOH / g or less, further preferably 150 mgKOH / g or less, and most preferably 120 mgKOH / g or less.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a resin having a basic group.
  • the resin having a basic group is preferably a resin containing a repeating unit having a basic group in the side chain, and a copolymer having a repeating unit having a basic group in the side chain and a repeating unit not containing a basic group.
  • a polymer is more preferable, and a block copolymer having a repeating unit having a basic group in the side chain and a repeating unit not containing a basic group is further preferable.
  • a resin having a basic group can also be used as a dispersant.
  • the amine value of the resin having a basic group is preferably 5 to 300 mgKOH / g.
  • the lower limit is preferably 10 mgKOH / g or more, and more preferably 20 mgKOH / g or more.
  • the upper limit is preferably 200 mgKOH / g or less, and more preferably 100 mgKOH / g or less.
  • Examples of the basic group contained in the resin having a basic group include a group represented by the formula (a-1) and a group represented by the formula (a-2).
  • Ra1 and Ra2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Ra1 and Ra2 may be bonded to each other to form a ring;
  • R a11 represents a hydrogen atom, a hydroxy group, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aryloxy group, an acyl group or an oxy radical
  • R a12 ⁇ R a19 are each independently , Hydrogen atom, alkyl group or aryl group.
  • R a1, R a2, R a11 number of carbon atoms of the alkyl group represented by ⁇ R a19 is 1-30, more preferably 1-15, more preferably 1-8, particularly preferably 1-5.
  • the alkyl group may be linear, branched or cyclic, preferably linear or branched, more preferably linear.
  • the alkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • R a1, R a2, R a11 ⁇ number of carbon atoms of the aryl group R a19 represents is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, more preferably 6 to 12.
  • the aryl group may have a substituent. Examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • the number of carbon atoms of the alkoxy group R a11 represents 1 to 30, more preferably 1 to 15, more preferably 1-8, particularly preferably 1-5.
  • the alkoxy group may have a substituent. Examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • the aryloxy group represented by Ra11 preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 12 carbon atoms.
  • the aryloxy group may have a substituent. Examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • the number of carbon atoms of the acyl group R a11 represents from 2 to 30, more preferably 2 to 20, 2 to 12 is more preferred.
  • the acyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a group selected from the above-mentioned group of substituent T.
  • Block copolymer A1 which has been prepared can also be used, and these contents are incorporated in the present specification.
  • the photosensitive composition of the present invention contains a resin having an acid group and a resin having a basic group, respectively.
  • the storage stability of the photosensitive composition can be further improved.
  • the content of the resin having a basic group may be 20 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin having an acid group. It is preferably 30 to 300 parts by mass, more preferably 50 to 200 parts by mass.
  • a resin containing a repeating unit derived from a compound represented by the formula (ED1) and / or a compound represented by the formula (ED2) (hereinafter, these compounds may be referred to as “ether dimer”) is used. It is also preferable to include it.
  • R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 25 carbon atoms which may have a hydrogen atom or a substituent.
  • R represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 30 carbon atoms.
  • the description of JP-A-2010-168539 can be referred to.
  • paragraph number 0317 of JP2013-209760A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • the resin preferably contains a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a vinylphenyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, and a (meth) acryloylamide group.
  • the resin preferably contains a resin containing a repeating unit derived from the compound represented by the formula (X).
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 and R 22 each independently represent an alkylene group
  • n represents an integer of 0 to 15.
  • the alkylene group represented by R 21 and R 22 preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms, further preferably 1 to 3 carbon atoms, and particularly preferably 2 or 3 carbon atoms.
  • n represents an integer of 0 to 15, preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 4, and even more preferably an integer of 0 to 3.
  • Examples of the compound represented by the formula (X) include ethylene oxide of paracumylphenol or propylene oxide-modified (meth) acrylate.
  • Examples of commercially available products include Aronix M-110 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).
  • the resin contains a resin having an aromatic carboxyl group (hereinafter, also referred to as resin Ac). According to this aspect, it is easy to form pixels in which color unevenness is more suppressed.
  • the aromatic carboxyl group may be contained in the main chain of the repeating unit or may be contained in the side chain of the repeating unit.
  • the aromatic carboxyl group is preferably contained in the main chain of the repeating unit.
  • an aromatic carboxyl group is a group having a structure in which one or more carboxyl groups are bonded to an aromatic ring.
  • the number of carboxyl groups bonded to the aromatic ring is preferably 1 to 4, and more preferably 1 to 2.
  • the resin Ac is preferably a resin containing at least one repeating unit selected from the repeating unit represented by the formula (Ac-1) and the repeating unit represented by the formula (Ac-2), and the resin Ac is preferably a resin containing at least one repeating unit. It is more preferable that the resin contains the repeating unit represented by -2).
  • the resin having an aromatic carboxyl group is a resin having a repeating unit represented by the formula (Ac-2)
  • this resin is preferably used as a dispersant.
  • Ar 1 represents a group containing an aromatic carboxyl group
  • L 1 represents -COO- or -CONH-
  • L 2 represents a divalent linking group.
  • Ar 10 represents a group containing an aromatic carboxyl group
  • L 11 represents -COO- or -CONH-
  • L 12 represents a trivalent linking group
  • P 10 is a polymer. Represents a chain.
  • Examples of the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 in the formula (Ac-1) include a structure derived from an aromatic tricarboxylic acid anhydride, a structure derived from an aromatic tetracarboxylic acid anhydride, and the like.
  • Examples of the aromatic tricarboxylic acid anhydride and the aromatic tetracarboxylic acid anhydride include compounds having the following structures.
  • Q 1 is represented by a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2- , -C (CF 3 ) 2- , and formula (Q-1). Represents a group or a group represented by the formula (Q-2).
  • Specific examples of the group containing an aromatic carboxyl group represented by Ar 1 include a group represented by the formula (Ar-11), a group represented by the formula (Ar-12), and a group represented by the formula (Ar-13). Examples include the base.
  • n1 represents an integer of 1 to 4, preferably 1 or 2, and more preferably 2.
  • n2 represents an integer of 1 to 8, preferably an integer of 1 to 4, more preferably 1 or 2, and even more preferably 2.
  • n3 and n4 each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 1 or 2, and preferably 1. More preferred. However, at least one of n3 and n4 is an integer of 1 or more.
  • Q 1 is a single bond, -O-, -CO-, -COOCH 2 CH 2 OCO-, -SO 2- , -C (CF 3 ) 2- , and the above formula (Q-). It represents a group represented by 1) or a group represented by the above formula (Q-2).
  • * 1 represents a bonding position to L 1.
  • L 1 represents -COO- or -CONH-, and preferably -COO-.
  • the divalent linking group represented by L 2 in the formula (Ac-1) includes an alkylene group, an arylene group, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- and these.
  • a group that combines two or more of the above can be mentioned.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and even more preferably 1 to 15 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the arylene group preferably has 6 to 30 carbon atoms, more preferably 6 to 20 carbon atoms, and even more preferably 6 to 10 carbon atoms.
  • the alkylene group and the arylene group may have a substituent.
  • the substituent include a hydroxy group and the like.
  • the divalent linking group L 2 represents is preferably a group represented by -L 2a -O-.
  • L 2a is an alkylene group; an arylene group; a group combining an alkylene group and an arylene group; at least one selected from an alkylene group and an arylene group, and —O—, ⁇ CO ⁇ , ⁇ COO ⁇ , —OCO ⁇ , Examples thereof include a group in which at least one selected from —NH— and —S— is combined, and an alkylene group is preferable.
  • the alkylene group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 20 carbon atoms, and even more preferably 1 to 15 carbon atoms.
  • the alkylene group may be linear, branched or cyclic.
  • the alkylene group and the arylene group may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxy group and the like.
  • the group containing the aromatic carboxyl group represented by Ar 10 in the formula (Ac-2) has the same meaning as Ar 1 in the formula (Ac-1), and the preferable range is also the same.
  • L 11 represents -COO- or -CONH-, and preferably -COO-.
  • Hydrocarbon groups, -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH-, -S- and two of these are the trivalent linking groups represented by L 12 in the formula (Ac-2).
  • the hydrocarbon group include an aliphatic hydrocarbon group and an aromatic hydrocarbon group.
  • the number of carbon atoms of the aliphatic hydrocarbon group is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and even more preferably 1 to 15.
  • the aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
  • the number of carbon atoms of the aromatic hydrocarbon group is preferably 6 to 30, more preferably 6 to 20, and even more preferably 6 to 10.
  • the hydrocarbon group may have a substituent. Examples of the substituent include a hydroxy group and the like.
  • the trivalent linking group represented by L 12 is preferably a group represented by the formula (L12-1), and more preferably a group represented by the formula (L12-2).
  • L 12b represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • * 1 represents the bonding position with L 11 in the formula (Ac-2)
  • * 2 represents the bonding position with L 11 in the formula (Ac-2). It represents a bonding position to P 10 of the Ac-2).
  • the trivalent linking group represented by L 12b a hydrocarbon group; a hydrocarbon group and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S- Examples thereof include a group in which the above is combined with, and a hydrocarbon group or a group in which a hydrocarbon group and —O— are combined is preferable.
  • L 12c represents a trivalent linking group
  • X 1 represents S
  • * 1 represents the bonding position with L 11 in the formula (Ac-2)
  • * 2 represents the bonding position with L 11 in the formula (Ac-2). It represents a bonding position to P 10 of the Ac-2).
  • the trivalent linking group represented by L 12c a hydrocarbon group; a hydrocarbon group and at least one selected from -O-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- and -S- Examples thereof include a group in which the above is combined with, and a hydrocarbon group is preferable.
  • P 10 represents a polymer chain.
  • the polymer chain represented by P 10 preferably has at least one repeating unit selected from poly (meth) acrylic repeating units, polyether repeating units, polyester repeating units and polyol repeating units.
  • the weight average molecular weight of the polymer chain P 10 is preferably 500 to 20,000.
  • the lower limit is preferably 1000 or more.
  • the upper limit is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and even more preferably 3000 or less. When the weight average molecular weight of P 10 is in the above range, the dispersibility of the pigment in the composition is good.
  • the polymer chain represented by P 10 may contain a crosslinkable group.
  • the crosslinkable group include an ethylenically unsaturated bond-containing group, a cyclic ether group and a blocked isocyanate group, and an ethylenically unsaturated bond-containing group is preferable.
  • the ethylenically unsaturated bond-containing group include a vinyl group, a vinylphenyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a (meth) acryloyloxy group, a (meth) acryloylamide group, and the like (meth).
  • the blocked isocyanate group in the present invention is a group capable of generating an isocyanate group by heat, and for example, a group in which a blocking agent and an isocyanate group are reacted to protect the isocyanate group can be preferably exemplified.
  • the blocking agent examples include oxime compounds, lactam compounds, phenol compounds, alcohol compounds, amine compounds, active methylene compounds, pyrazole compounds, mercaptan compounds, imidazole compounds, and imide compounds.
  • the blocking agent examples include the compounds described in paragraphs 0115 to 0117 of JP-A-2017-07930, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • the blocked isocyanate group is preferably a group capable of generating an isocyanate group by heat at 90 to 260 ° C.
  • the polymer chain represented by P 10 is preferably a polymer chain containing a repeating unit represented by the following formulas (P-1) to (P-5), and (P-5). More preferably, it is a polymer chain containing a repeating unit represented by.
  • the polymer chain represented by P 10 is preferably a polymer chain containing a repeating unit represented by the following formulas (P-1) to (P-5), and (P-5). More preferably, it is a polymer chain containing a repeating unit represented by.
  • RP1 and RP2 each represent an alkylene group.
  • the alkylene group represented by RP1 and RP2 a linear or branched alkylene group having 1 to 20 carbon atoms is preferable, and a linear or branched alkylene group having 2 to 16 carbon atoms is more preferable.
  • a linear or branched alkylene group having 3 to 12 carbon atoms is more preferable.
  • RP3 represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • L P1 represents a single bond or an arylene group
  • L P2 represents a single bond or a divalent linking group.
  • L P1 is preferably a single bond.
  • Examples of the divalent linking group represented by LP2 include an alkylene group (preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms), an arylene group (preferably an arylene group having 6 to 20 carbon atoms), -NH-, and -SO-.
  • RP4 represents a hydrogen atom or a substituent.
  • Substituents include hydroxy group, carboxyl group, alkyl group, aryl group, heteroaryl group, alkoxy group, aryloxy group, heteroaryloxy group, alkylthioether group, arylthioether group, heteroarylthioether group and ethylenically unsaturated group. Examples thereof include a bond-containing group, a cyclic ether group, and a blocked isocyanate group.
  • the polymer chain represented by P 10 is more preferably a polymer chain having a repeating unit containing an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain.
  • the proportion of the repeating unit containing an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain more be preferably 5 mass% or more and 10 mass% or more It is preferably 20% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more.
  • the upper limit can be 100% by mass, preferably 90% by mass or less, and more preferably 60% by mass or less.
  • the polymer chain represented by P 10 has a repeating unit containing an acid group.
  • the acid group include a carboxyl group, a phosphoric acid group, a sulfo group, and a phenolic hydroxy group.
  • the dispersibility of a coloring material such as a pigment in the composition can be further improved.
  • the developability can be further improved, and the generation of development residue can be further suppressed.
  • the proportion of the repeating unit containing an acid group is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 2 to 20% by mass, and even more preferably 3 to 10% by mass.
  • the weight average molecular weight of the resin Ac is preferably 3000 to 35000.
  • the upper limit is preferably 25,000 or less, more preferably 20,000 or less, and even more preferably 15,000 or less.
  • the lower limit is preferably 4000 or more, more preferably 6000 or more, and further preferably 7000 or more.
  • the acid value of the resin Ac is preferably 5 to 200 mgKOH / g.
  • the upper limit is preferably 150 mgKOH / g or less, more preferably 100 mgKOH / g or less, and even more preferably 80 mgKOH / g or less.
  • the lower limit is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 15 mgKOH / g or more, and even more preferably 20 mgKOH / g or more.
  • the resin preferably contains a resin as a dispersant.
  • the dispersant include an acidic dispersant (acidic resin) and a basic dispersant (basic resin).
  • the acidic dispersant (acidic resin) represents a resin in which the amount of acid groups is larger than the amount of basic groups.
  • the basic dispersant (basic resin) represents a resin in which the amount of basic groups is larger than the amount of acid groups.
  • the acidic dispersant As the acidic dispersant (acidic resin), a resin having an acid group amount of 70 mol% or more is preferable when the total amount of the acid group amount and the basic group amount is 100 mol%.
  • the acid group of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably a carboxyl group.
  • the acid value of the acidic dispersant (acidic resin) is preferably 5 to 200 mgKOH / g.
  • the upper limit is preferably 150 mgKOH / g or less, more preferably 100 mgKOH / g or less, and even more preferably 80 mgKOH / g or less.
  • the lower limit is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 15 mgKOH / g or more, and even more preferably 20 mgKOH / g or more.
  • the basic dispersant (basic resin) a resin in which the amount of basic groups is 60 mol% or more is preferable when the total amount of the amount of acid groups and the amount of basic groups is 100 mol%.
  • the basic group contained in the basic dispersant is preferably an amino group.
  • the amine value of the basic dispersant (basic resin) is preferably 5 to 100 mgKOH / g.
  • the upper limit is preferably 80 mgKOH / g or less, more preferably 60 mgKOH / g or less, and even more preferably 45 mgKOH / g or less.
  • the lower limit is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 15 mgKOH / g or more, and even more preferably 20 mgKOH / g or more.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a graft resin.
  • graft resin the description in paragraphs 0025 to 0094 of JP2012-255128A can be referred to, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin having an aromatic carboxyl group (resin Ac).
  • resin Ac resin having an aromatic carboxyl group
  • examples of the resin having an aromatic carboxyl group include those described above.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a polyimine-based dispersant containing a nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the polyimine-based dispersant has a main chain having a partial structure having a functional group of pKa14 or less, a side chain having 40 to 10,000 atoms, and a basic nitrogen atom in at least one of the main chain and the side chain.
  • the resin to have is preferable.
  • the basic nitrogen atom is not particularly limited as long as it is a nitrogen atom exhibiting basicity.
  • the description in paragraphs 0102 to 0166 of JP2012-255128A can be referred to, and this content is incorporated in the present specification.
  • the resin used as the dispersant is a resin having a structure in which a plurality of polymer chains are bonded to the core portion.
  • a resin include dendrimers (including star-shaped polymers).
  • specific examples of the dendrimer include polymer compounds C-1 to C-31 described in paragraphs 0196 to 0209 of JP2013-043962.
  • the resin used as the dispersant is also preferably a resin containing a repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain.
  • the content of the repeating unit having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain is preferably 10 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, and 20 to 70 in all the repeating units of the resin. More preferably, it is in mol%.
  • the resin described in JP-A-2018-087939 can also be used as the dispersant.
  • Dispersants are also available as commercial products, and specific examples thereof include DISPERBYK series manufactured by Big Chemie Japan, SOLSPERSE series manufactured by Japan Lubrizol, Efka series manufactured by BASF, and Ajinomoto Fine-Techno (Ajinomoto Fine-Techno). Examples include the Ajispar series manufactured by Co., Ltd. Further, the product described in paragraph number 0129 of JP2012-137564A and the product described in paragraph number 0235 of JP2017-194662 can also be used as a dispersant.
  • the block copolymers (EB-1) to (EB-9) described in paragraphs 0219 to 0221 of Japanese Patent No. 6432077 can also be used.
  • the content of the resin in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 1 to 80% by mass.
  • the lower limit is preferably 5% by mass or more, more preferably 10% by mass or more, further preferably 15% by mass or more, and particularly preferably 20% by mass or more.
  • the upper limit is preferably 70% by mass or less, more preferably 60% by mass or less, further preferably 50% by mass or less, and particularly preferably 40% by mass or less.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain only one type of resin, or may contain two or more types of resin. When two or more kinds of resins are contained, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a pigment derivative.
  • the pigment derivative include compounds having a structure in which an acid group or a basic group is bonded to the pigment skeleton.
  • the pigment skeletons constituting the pigment derivatives include quinoline pigment skeleton, benzoimidazolone pigment skeleton, benzoisoindole pigment skeleton, benzothiazole pigment skeleton, inimium pigment skeleton, squarylium pigment skeleton, croconium pigment skeleton, oxonor pigment skeleton, and pyrolopyrrolop pigment.
  • it is more preferably a diketopyrrolopyrrole pigment skeleton.
  • the pigment derivative is preferably a phthalocyanine compound or a diketopyrrolopyrrole compound.
  • Examples of the acid group include a sulfo group, a carboxyl group, a phosphoric acid group and salts thereof.
  • alkali metal ions Li + , Na + , K +, etc.
  • alkaline earth metal ions Ca 2+ , Mg 2+, etc.
  • ammonium ions imidazolium ions, pyridinium ions, etc.
  • Examples include phosphonium ions.
  • Examples of the basic group include an amino group, a pyridinyl group and a salt thereof, a salt of an ammonium group, and a phthalimide methyl group.
  • the atom or atomic group constituting the salt include hydroxide ion, halogen ion, carboxylic acid ion, sulfonic acid ion, and phenoxide ion.
  • a pigment derivative having excellent visible transparency (hereinafter, also referred to as a transparent pigment derivative) can be contained.
  • the maximum value of the molar extinction coefficient in the wavelength region of 400 ⁇ 700 nm of the transparent pigment derivative (.epsilon.max) is that it is preferable, 1000L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 or less is not more than 3000L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 Is more preferable, and 100 L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 or less is further preferable.
  • the lower limit of ⁇ max is, for example, 1 L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 or more, and may be 10 L ⁇ mol -1 ⁇ cm -1 or more.
  • pigment derivative examples include the compounds described in Examples described later, JP-A-56-118462, JP-A-63-246674, JP-A-01-217777, and JP-A-03-009961.
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-026767 Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-153780
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 03-045662 Japanese Patent Application Laid-Open No. 04-285669
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-145546 Japanese Patent Application Laid-Open No. 06-212088, Kaihei 06-240158
  • Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-030063 Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • the content of the pigment derivative is preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass, still more preferably 2 to 10 parts by mass, and 3 to 8 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the pigment. Parts by mass are particularly preferred. Only one type of pigment derivative may be used, or two or more types may be used in combination. When two or more kinds are used in combination, the total amount thereof is preferably in the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention preferably contains a solvent.
  • the solvent include organic solvents.
  • the type of solvent is basically not particularly limited as long as it satisfies the solubility of each component and the coatability of the photosensitive composition.
  • the organic solvent include ester solvents, ketone solvents, alcohol solvents, amide solvents, ether solvents, hydrocarbon solvents and the like.
  • paragraph No. 0223 of WO 2015/166779 can be referred to, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • an ester solvent substituted with a cyclic alkyl group and a ketone solvent substituted with a cyclic alkyl group can also be preferably used.
  • organic solvent examples include polyethylene glycol monomethyl ether, dichloromethane, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2 -Heptanone, cyclohexanone, cyclohexyl acetate, cyclopentanone, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N , N-Dimethylpropanamide and the like.
  • aromatic hydrocarbons (benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc.) as organic solvents may need to be reduced for environmental reasons (for example, 50 mass ppm (parts) with respect to the total amount of organic solvent. Per million) or less, 10 mass ppm or less, or 1 mass ppm or less).
  • an organic solvent having a low metal content it is preferable to use an organic solvent having a low metal content, and the metal content of the organic solvent is preferably, for example, 10 mass ppb (parts per parts) or less. If necessary, an organic solvent at the mass ppt (parts per parts) level may be used, and such an organic solvent is provided by, for example, Toyo Gosei Co., Ltd. (The Chemical Daily, November 13, 2015).
  • Examples of the method for removing impurities such as metals from the organic solvent include distillation (molecular distillation, thin film distillation, etc.) and filtration using a filter.
  • the filter pore diameter of the filter used for filtration is preferably 10 ⁇ m or less, more preferably 5 ⁇ m or less, and even more preferably 3 ⁇ m or less.
  • the filter material is preferably polytetrafluoroethylene, polyethylene or nylon.
  • the organic solvent may contain isomers (compounds having the same number of atoms but different structures). Further, only one kind of isomer may be contained, or a plurality of kinds may be contained.
  • the content of peroxide in the organic solvent is preferably 0.8 mmol / L or less, and more preferably substantially free of peroxide.
  • the content of the solvent in the photosensitive composition is preferably 10 to 95% by mass, more preferably 20 to 90% by mass, and even more preferably 30 to 90% by mass.
  • the photosensitive composition of the present invention does not substantially contain an environmentally regulated substance from the viewpoint of environmental regulation.
  • substantially free of the environmentally regulated substance means that the content of the environmentally regulated substance in the photosensitive composition is 50 mass ppm or less, and it is 30 mass ppm or less. It is preferably 10 mass ppm or less, more preferably 1 mass ppm or less, and particularly preferably 1 mass ppm or less.
  • environmentally regulated substances include benzene; alkylbenzenes such as toluene and xylene; and halogenated benzenes such as chlorobenzene.
  • REACH Registration Evolution Analysis and Restriction of Chemicals
  • PRTR Policy Release and Transfer Register
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • VOC Volatile Organic Compounds
  • Examples of the method for reducing the environmentally regulated substance include a method of heating or depressurizing the inside of the system to raise the boiling point of the environmentally regulated substance to the boiling point or higher, and distilling off the environmentally regulated substance from the system to reduce the amount of the environmentally regulated substance. Further, when distilling off a small amount of an environmentally regulated substance, it is also useful to azeotrope with a solvent having a boiling point equivalent to that of the solvent in order to improve efficiency.
  • a polymerization inhibitor or the like is added and distilled under reduced pressure in order to prevent the radical polymerization reaction from proceeding and cross-linking between molecules during distillation under reduced pressure. You may.
  • distillation methods are the stage of the raw material, the stage of the product obtained by reacting the raw material (for example, the resin solution after polymerization or the polyfunctional monomer solution), or the stage of the photosensitive composition prepared by mixing these compounds. It is possible at any stage such as.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a compound having a cyclic ether group.
  • the cyclic ether group include an epoxy group and an oxetanyl group.
  • the compound having a cyclic ether group is preferably a compound having an epoxy group (hereinafter, also referred to as an epoxy compound). Examples of the epoxy compound are described in paragraphs 0034 to 0036 of JP2013-011869A, paragraph numbers 0147 to 0156 of JP2014-043556, and paragraph numbers 0085 to 0092 of JP2014-089408. Compounds, compounds described in JP-A-2017-179172 can also be used. These contents are incorporated herein by reference.
  • the epoxy compound may be a small molecule compound (for example, a molecular weight of less than 2000, further, a molecular weight of less than 1000) or a polymer compound (for example, a molecular weight of 1000 or more, and in the case of a polymer, a weight average molecular weight of 1000 or more). It may be.
  • the weight average molecular weight of the epoxy compound is preferably 200 to 100,000, more preferably 500 to 50,000.
  • the upper limit of the weight average molecular weight is preferably 10,000 or less, more preferably 5000 or less, and even more preferably 3000 or less.
  • an epoxy resin can be preferably used as the epoxy compound.
  • the epoxy resin include an epoxy resin which is a glycidyl etherified product of a phenol compound, an epoxy resin which is a glycidyl etherified product of various novolak resins, an alicyclic epoxy resin, an aliphatic epoxy resin, a heterocyclic epoxy resin, and a glycidyl ester type.
  • the epoxy equivalent of the epoxy resin is preferably 310 to 3300 g / eq, more preferably 310 to 1700 g / eq, and even more preferably 310 to 1000 g / eq.
  • EHPE3150 manufactured by Daicel Corporation
  • EPICLON N-695 manufactured by DIC Corporation
  • Marproof G-0150M G-0105SA, G-0130SP, G. -0250SP, G-1005S, G-1005SA, G-1010S, G-2050M, G-01100, G-01758 (all manufactured by Nichiyu Co., Ltd., epoxy group-containing polymer) and the like can be mentioned.
  • the content of the compound having a cyclic ether group in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.1 to 20% by mass.
  • the lower limit is, for example, preferably 0.5% by mass or more, and more preferably 1% by mass or more.
  • the upper limit is, for example, preferably 15% by mass or less, and more preferably 10% by mass or less.
  • the compound having a cyclic ether group may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, it is preferable that the total amount thereof is within the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a curing accelerator.
  • the curing accelerator include thiol compounds, methylol compounds, amine compounds, phosphonium salt compounds, amidin salt compounds, amide compounds, base generators, isocyanate compounds, alkoxysilane compounds, and onium salt compounds.
  • Specific examples of the curing accelerator include the compounds described in paragraphs 0094 to 0097 of WO2018 / 056189, the compounds described in paragraphs 0246 to 0253 of JP2015-034963, and JP2013-014165. Compounds described in paragraphs 0186 to 0251 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 0186 to 0251, ionic compounds described in Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain an ultraviolet absorber.
  • an ultraviolet absorber a conjugated diene compound, an aminodiene compound, a salicylate compound, a benzophenone compound, a benzotriazole compound, an acrylonitrile compound, a hydroxyphenyltriazine compound, an indol compound, a triazine compound and the like can be used. Examples of such compounds include paragraph numbers 0038 to 0052 of JP2009-217221A, paragraph numbers 0052 to 0072 of JP2012-208374A, and paragraph numbers 0317 to 0334 of JP2013-068814.
  • Examples include the compounds described in paragraphs 0061 to 0080 of JP 2016-162946, the contents of which are incorporated herein.
  • Specific examples of the ultraviolet absorber include compounds having the following structures. Examples of commercially available ultraviolet absorbers include UV-503 (manufactured by Daito Kagaku Co., Ltd.). Examples of the benzotriazole compound include the MYUA series made by Miyoshi Oil & Fat Co., Ltd. (The Chemical Daily, February 1, 2016). Further, as the ultraviolet absorber, the compounds described in paragraphs 0049 to 0059 of Japanese Patent No. 6268967 can also be used.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • the content of the ultraviolet absorber in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 5% by mass.
  • only one type of ultraviolet absorber may be used, or two or more types may be used.
  • the total amount is preferably in the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-tert-butyl-p-cresol, pyrogallol, tert-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-tert-butylphenol), and the like.
  • examples thereof include 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxyamine salts (ammonium salt, primary cerium salt, etc.). Of these, p-methoxyphenol is preferable.
  • the content of the polymerization inhibitor in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.0001 to 5% by mass.
  • the polymerization inhibitor may be only one type or two or more types. In the case of two or more types, the total amount is preferably in the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a silane coupling agent.
  • the silane coupling agent means a silane compound having a hydrolyzable group and other functional groups.
  • the hydrolyzable group refers to a substituent that is directly linked to a silicon atom and can form a siloxane bond by at least one of a hydrolysis reaction and a condensation reaction.
  • Examples of the hydrolyzable group include a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group and the like, and an alkoxy group is preferable. That is, the silane coupling agent is preferably a compound having an alkoxysilyl group.
  • Examples of the functional group other than the hydrolyzable group include a vinyl group, a (meth) allyl group, a (meth) acryloyl group, a mercapto group, an epoxy group, an oxetanyl group, an amino group, a ureido group, a sulfide group and an isocyanate group.
  • a phenyl group and the like preferably an amino group, a (meth) acryloyl group and an epoxy group.
  • silane coupling agent examples include N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-602), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -amino.
  • Propyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-603), N- ⁇ -aminoethyl- ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBE-602), ⁇ -Aminopropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-903), ⁇ -aminopropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBE-903), 3-methacryloxy There are propylmethyldimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-502), 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co
  • the silane coupling agent include the compounds described in paragraphs 0018 to 0036 of JP2009-288703 and the compounds described in paragraphs 0056 to 0066 of JP2009-242604A. , These contents are incorporated herein by reference.
  • the content of the silane coupling agent in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 15.0% by mass, preferably 0.05 to 10.0% by mass. More preferred.
  • the silane coupling agent may be only one type or two or more types. In the case of two or more types, the total amount is preferably in the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention can contain a surfactant.
  • a surfactant various surfactants such as a fluorine-based surfactant, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a silicone-based surfactant can be used.
  • the surfactant the surfactant described in paragraph Nos. 0238 to 0245 of International Publication No. 2015/166779 is mentioned, and the content thereof is incorporated in the present specification.
  • the surfactant is preferably a fluorine-based surfactant.
  • a fluorine-based surfactant in the photosensitive composition, the liquid characteristics (particularly, fluidity) can be further improved, and the liquid saving property can be further improved. It is also possible to form a film having a small thickness unevenness.
  • the fluorine content in the fluorine-based surfactant is preferably 3 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and particularly preferably 7 to 25% by mass.
  • a fluorine-based surfactant having a fluorine content within this range is effective in terms of uniformity of coating film thickness and liquid saving property, and has good solubility in a photosensitive composition.
  • fluorine-based surfactant examples include the surfactants described in paragraphs 0060 to 0064 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2014-041318 (paragraphs 0060 to 0064 of the corresponding International Publication No. 2014/017669) and the like, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-.
  • the surfactants described in paragraphs 0117 to 0132 of JP 132503 are mentioned and their contents are incorporated herein by reference.
  • fluorine-based surfactants include, for example, Megafuck F171, F172, F173, F176, F177, F141, F142, F143, F144, R30, F437, F475, F479, F482, F554, F780, EXP, MFS.
  • the fluorine-based surfactant has a molecular structure having a functional group containing a fluorine atom, and when heat is applied, the portion of the functional group containing the fluorine atom is cut and the fluorine atom is volatilized.
  • fluorine-based surfactants include the Megafuck DS series manufactured by DIC Corporation (The Chemical Daily (February 22, 2016), Nikkei Sangyo Shimbun (February 23, 2016)), for example, Megafuck. DS-21 can be mentioned.
  • fluorine-based surfactant it is also preferable to use a polymer of a fluorine atom-containing vinyl ether compound having a fluorinated alkyl group or a fluorinated alkylene ether group and a hydrophilic vinyl ether compound.
  • a fluorine-based surfactant include the fluorine-based surfactants described in JP-A-2016-216602, the contents of which are incorporated in the present specification.
  • the fluorine-based surfactant a block polymer can also be used.
  • the fluorine-based surfactant has a repeating unit derived from a (meth) acrylate compound having a fluorine atom and 2 or more (preferably 5 or more) alkyleneoxy groups (preferably ethyleneoxy groups and propyleneoxy groups) (meth).
  • a fluorine-containing polymer compound containing a repeating unit derived from an acrylate compound can also be preferably used.
  • the fluorine-containing surfactants described in paragraphs 0016 to 0037 of JP-A-2010-032698 and the following compounds are also exemplified as the fluorine-based surfactants used in the present invention.
  • the weight average molecular weight of the above compounds is preferably 3000 to 50000, for example 14000.
  • % indicating the ratio of the repeating unit is mol%.
  • a fluorine-based surfactant a fluorine-containing polymer having an ethylenically unsaturated bond-containing group in the side chain can also be used.
  • the compounds described in paragraphs 0050 to 0090 and paragraph numbers 0289 to 0295 of JP2010-164965, Megafuck RS-101, RS-102, RS-718K manufactured by DIC Corporation, RS-72-K and the like can be mentioned.
  • the fluorine-based surfactant the compounds described in paragraphs 0015 to 0158 of JP2015-117327A can also be used.
  • Nonionic surfactants include glycerol, trimethylolpropane, trimethylolethane, and their ethoxylates and propoxylates (eg, glycerol propoxylate, glycerol ethoxylate, etc.), polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene stearyl ether, and the like.
  • silicone-based surfactant examples include Torre Silicone DC3PA, Torre Silicone SH7PA, Torre Silicone DC11PA, Torre Silicone SH21PA, Torre Silicone SH28PA, Torre Silicone SH29PA, Torre Silicone SH30PA, Torre Silicone SH8400 (all, Toray Dow Corning Co., Ltd.). ), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4460, TSF-4452 (above, manufactured by Momentive Performance Materials), KP-341, KF-6001, KF-6002 (above, Examples thereof include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., BYK307, BYK323, BYK330 (all manufactured by Big Chemie) and the like.
  • the content of the surfactant in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.001% by mass to 5.0% by mass, preferably 0.005 to 3.0% by mass. More preferred.
  • the surfactant may be only one kind or two or more kinds. In the case of two or more types, the total amount is preferably in the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain an antioxidant.
  • the antioxidant include phenol compounds, phosphite ester compounds, thioether compounds and the like.
  • the phenol compound any phenol compound known as a phenolic antioxidant can be used.
  • Preferred phenolic compounds include hindered phenolic compounds.
  • a compound having a substituent at a site (ortho position) adjacent to the phenolic hydroxy group is preferable.
  • a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms is preferable.
  • the antioxidant a compound having a phenol group and a phosphite ester group in the same molecule is also preferable.
  • a phosphorus-based antioxidant can also be preferably used.
  • the content of the antioxidant in the total solid content of the photosensitive composition is preferably 0.01 to 20% by mass, more preferably 0.3 to 15% by mass.
  • containing an antioxidant only one type of antioxidant may be used, or two or more types may be used. When two or more types are used, the total amount is preferably in the above range.
  • the photosensitive composition of the present invention can be used as a sensitizer, a curing accelerator, a filler, a thermosetting accelerator, a plasticizer and other auxiliary agents (for example, conductive particles, a filler, a defoaming agent), if necessary. , Flame retardant, leveling agent, peeling accelerator, fragrance, surface tension modifier, chain transfer agent, etc.) may be contained. By appropriately containing these components, properties such as film physical characteristics can be adjusted. These components are described in, for example, paragraph No. 0183 and subsequent paragraphs of JP2012-003225A (paragraph number 0237 of the corresponding US Patent Application Publication No. 2013/0034812), paragraphs of JP-A-2008-250074.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a latent antioxidant, if necessary.
  • the latent antioxidant is a compound in which the site that functions as an antioxidant is protected by a protecting group, and is heated at 100 to 250 ° C. or at 80 to 200 ° C. in the presence of an acid / base catalyst.
  • a compound in which the protecting group is eliminated and functions as an antioxidant can be mentioned.
  • Examples of the latent antioxidant include compounds described in International Publication No. 2014/021023, International Publication No. 2017/030005, and JP-A-2017-008219.
  • Examples of commercially available products of latent antioxidants include ADEKA ARKULS GPA-5001 (manufactured by ADEKA Corporation) and the like. Further, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2018-155881, C.I. I. Pigment Yellow 129 may be added for the purpose of improving weather resistance.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a metal oxide in order to adjust the refractive index of the obtained film.
  • the metal oxide include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , SiO 2 and the like.
  • the primary particle size of the metal oxide is preferably 1 to 100 nm, more preferably 3 to 70 nm, and even more preferably 5 to 50 nm.
  • the metal oxide may have a core-shell structure. Further, in this case, the core portion may be hollow.
  • the photosensitive composition of the present invention may contain a light resistance improving agent.
  • the light resistance improving agent include the compounds described in paragraphs 0036 to 0037 of JP-A-2017-198787, the compounds described in paragraphs 0029 to 0034 of JP-A-2017-146350, and JP-A-2017-129774.
  • the water content of the photosensitive composition of the present invention is usually 3% by mass or less, preferably 0.01 to 1.5% by mass, and more preferably 0.1 to 1.0% by mass.
  • the water content can be measured by the Karl Fischer method.
  • the photosensitive composition of the present invention can be used by adjusting the viscosity for the purpose of adjusting the film surface (flatness, etc.), adjusting the film thickness, and the like.
  • the viscosity value can be appropriately selected as needed, but for example, at 25 ° C., 0.3 mPa ⁇ s to 50 mPa ⁇ s is preferable, and 0.5 mPa ⁇ s to 20 mPa ⁇ s is more preferable.
  • a method for measuring the viscosity for example, a cone plate type viscometer can be used, and the viscosity can be measured in a state where the temperature is adjusted to 25 ° C.
  • the storage container for the photosensitive composition of the present invention is not particularly limited, and a known storage container can be used.
  • a storage container for the purpose of suppressing impurities from being mixed into raw materials and compositions, a multi-layer bottle in which the inner wall of the container is composed of 6 types and 6 layers of resin and a bottle in which 6 types of resin are composed of 7 layers are used. It is also preferable to use it. Examples of such a container include the container described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-123351.
  • the photosensitive composition of the present invention can be prepared by mixing the above-mentioned components. In preparing the photosensitive composition, all the components may be simultaneously dissolved and / or dispersed in a solvent to prepare the photosensitive composition, or if necessary, each component may be appropriately dissolved in two or more solutions or dispersed. A photosensitive composition may be prepared by keeping it as a liquid and mixing them at the time of use (at the time of application).
  • the mechanical force used for dispersing the pigment includes compression, squeezing, impact, shearing, cavitation and the like.
  • Specific examples of these processes include bead mills, sand mills, roll mills, ball mills, paint shakers, microfluidizers, high speed impellers, sand grinders, flow jet mixers, high pressure wet atomization, ultrasonic dispersion and the like.
  • the process and disperser for dispersing pigments are "Dispersion Technology Complete Works, Published by Information Organization Co., Ltd., July 15, 2005" and "Dispersion technology centered on suspension (solid / liquid dispersion system) and industrial. Practical application The process and disperser described in Paragraph No.
  • JP-A-2015-157893 "Comprehensive Data Collection, Published by Management Development Center Publishing Department, October 10, 1978" can be preferably used.
  • the particles may be miniaturized in the salt milling step.
  • the materials, equipment, processing conditions, etc. used in the salt milling step for example, the descriptions in JP-A-2015-194521 and JP-A-2012-046629 can be referred to.
  • any filter that has been conventionally used for filtration or the like can be used without particular limitation.
  • fluororesins such as polytetrafluoroethylene (PTFE), polyamide resins such as nylon (eg, nylon-6, nylon-6,6), and polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultrahigh molecular weight).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • nylon eg, nylon-6, nylon-6,6)
  • polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene (PP) (high density, ultrahigh molecular weight).
  • PP polypropylene
  • the pore size of the filter is preferably 0.01 to 7.0 ⁇ m, more preferably 0.01 to 3.0 ⁇ m, and even more preferably 0.05 to 0.5 ⁇ m. If the pore size of the filter is within the above range, fine foreign matter can be removed more reliably.
  • the nominal value of the filter manufacturer can be referred to.
  • various filters provided by Nippon Pole Co., Ltd. (DFA4201NIEY, etc.), Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Entegris Co., Ltd. (formerly Nippon Microlith Co., Ltd.), KITZ Microfilter Co., Ltd., etc. can be used.
  • a fibrous filter medium As the filter.
  • the fibrous filter medium include polypropylene fiber, nylon fiber, glass fiber and the like.
  • examples of commercially available products include SBP type series (SBP008, etc.), TPR type series (TPR002, TPR005, etc.) and SHPX type series (SHPX003, etc.) manufactured by Roki Techno Co., Ltd.
  • filters different filters (eg, first filter and second filter, etc.) may be combined. At that time, the filtration with each filter may be performed only once or twice or more. Further, filters having different pore diameters may be combined within the above-mentioned range. Further, the filtration with the first filter may be performed only on the dispersion liquid, and after mixing the other components, the filtration may be performed with the second filter.
  • the film of the present invention is a film obtained from the above-mentioned photosensitive composition of the present invention.
  • the film of the present invention can be used for an optical filter such as a color filter or an infrared transmission filter.
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the film thickness is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, and even more preferably 0.6 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the film of the present invention When the film of the present invention is used as a color filter, the film of the present invention preferably has a hue of green, red, blue, cyan, magenta or yellow. Further, the film of the present invention can be preferably used as a colored pixel of a color filter. Examples of the colored pixel include a red pixel, a green pixel, a blue pixel, a magenta color pixel, a cyan color pixel, and a yellow pixel.
  • the film of the present invention preferably has, for example, any of the following spectral characteristics (1) to (4).
  • the maximum value of the light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 400 to 640 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the light in the film thickness direction.
  • the minimum value of the transmittance in the wavelength range of 800 to 1300 nm is 70% or more (preferably 75% or more, more preferably 80% or more).
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 640 nm and transmit light having a wavelength of more than 700 nm.
  • the maximum value of the light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 400 to 750 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the light in the film thickness direction.
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 750 nm and transmit light having a wavelength of more than 850 nm.
  • the maximum value of the light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 400 to 830 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the light in the film thickness direction.
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 830 nm and transmit light having a wavelength exceeding 940 nm.
  • the maximum value of the light transmittance in the film thickness direction in the wavelength range of 400 to 950 nm is 20% or less (preferably 15% or less, more preferably 10% or less), and the light in the film thickness direction.
  • a film having such spectral characteristics can block light in the wavelength range of 400 to 950 nm and transmit light having a wavelength of more than 1040 nm.
  • the pixel forming method includes a step of applying the above-mentioned photosensitive composition of the present invention on a support to form a photosensitive composition layer, a step of exposing the photosensitive composition layer in a pattern, and a step after exposure. It is preferable to include a step of developing and removing an unexposed portion of the photosensitive composition layer of the above.
  • each step will be described.
  • the photosensitive composition is applied onto the support to form the photosensitive composition layer.
  • the support is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the intended use.
  • a glass substrate, a silicon substrate, and the like can be mentioned, and a silicon substrate is preferable.
  • a charge-coupled device (CCD), a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), a transparent conductive film, or the like may be formed on the silicon substrate.
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • a black matrix that isolates each pixel may be formed on the silicon substrate.
  • the silicon substrate may be provided with a base layer for improving the adhesion with the upper layer, preventing the diffusion of substances, or flattening the surface of the substrate.
  • the surface contact angle of the base layer is preferably 20 to 70 ° when measured with diiodomethane. Further, it is preferably 30 to 80 ° when measured with water. When the surface contact angle of the base layer is within the above range, the wettability of the photosensitive composition is good.
  • the surface contact angle of the base layer can be adjusted by, for example, adding a surfactant.
  • a known method can be used as a method for applying the photosensitive composition.
  • a dropping method drop casting
  • a slit coating method for example, a spray method; a roll coating method; a spin coating method; a casting method; a slit and spin method; a pre-wet method (for example, JP-A-2009-145395).
  • on-demand method, piezo method, thermal method ejection system printing such as nozzle jet, flexographic printing, screen printing, gravure printing, reverse offset printing, metal mask printing, and other printing methods; Transfer method using a mold or the like; nanoimprint method or the like can be mentioned.
  • the method of application to inkjet is not particularly limited, and is, for example, the method shown in "Expandable and usable inkjet-infinite possibilities seen in patents-, published in February 2005, Sumi Betechno Research" (especially from page 115). (Page 133), and the methods described in JP-A-2003-262716, JP-A-2003-185831, JP-A-2003-261827, JP-A-2012-126830, JP-A-2006-169325, and the like. Can be mentioned.
  • the descriptions of International Publication No. 2017/030174 and International Publication No. 2017/018419 can be referred to, and these contents are incorporated in the present specification.
  • the photosensitive composition layer formed on the support may be dried (prebaked).
  • the prebaking temperature is preferably 150 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower, and even more preferably 110 ° C. or lower.
  • the lower limit can be, for example, 50 ° C. or higher, or 80 ° C. or higher.
  • the prebaking time is preferably 10 to 300 seconds, more preferably 40 to 250 seconds, and even more preferably 80 to 220 seconds. Pre-baking can be performed on a hot plate, an oven, or the like.
  • the photosensitive composition layer is exposed in a pattern (exposure step).
  • the photosensitive composition layer can be exposed in a pattern by exposing the photosensitive composition layer through a mask having a predetermined mask pattern using a stepper exposure machine, a scanner exposure machine, or the like. As a result, the exposed portion can be cured.
  • Examples of radiation (light) that can be used for exposure include g-line and i-line. Further, light having a wavelength of 300 nm or less (preferably light having a wavelength of 180 to 300 nm) can also be used. Examples of the light having a wavelength of 300 nm or less include KrF line (wavelength 248 nm) and ArF line (wavelength 193 nm), and KrF line (wavelength 248 nm) is preferable. Further, a long wave light source having a diameter of 300 nm or more can also be used.
  • pulse exposure is an exposure method of a method of repeatedly irradiating and pausing light in a cycle of a short time (for example, a millisecond level or less).
  • Irradiation dose for example, preferably 0.03 ⁇ 2.5J / cm 2, more preferably 0.05 ⁇ 1.0J / cm 2.
  • the oxygen concentration at the time of exposure can be appropriately selected, and in addition to the oxygen concentration performed in the atmosphere, for example, in a low oxygen atmosphere having an oxygen concentration of 19% by volume or less (for example, 15% by volume, 5% by volume, or substantially). It may be exposed in an oxygen-free environment) or in a high oxygen atmosphere (for example, 22% by volume, 30% by volume, or 50% by volume) in which the oxygen concentration exceeds 21% by volume.
  • the exposure illuminance can be set as appropriate, and is usually selected from the range of 1000 W / m 2 to 100,000 W / m 2 (for example, 5000 W / m 2 , 15,000 W / m 2 , or 35,000 W / m 2). Can be done. Oxygen concentration and exposure illuminance may appropriately combined conditions, for example, illuminance 10000 W / m 2 at an oxygen concentration of 10 vol%, oxygen concentration of 35 vol% can be such illuminance 20000W / m 2.
  • the unexposed portion of the photosensitive composition layer after exposure is developed and removed (development step).
  • the unexposed portion of the photosensitive composition layer can be developed and removed using a developing solution.
  • the temperature of the developing solution is preferably, for example, 20 to 30 ° C.
  • the development time is preferably 20 to 180 seconds. Further, in order to improve the residue removability, the steps of shaking off the developing solution every 60 seconds and further supplying a new developing solution may be repeated several times.
  • Examples of the developing solution include organic solvents and alkaline developing solutions, and alkaline developing solutions are preferably used.
  • the alkaline developer an alkaline aqueous solution (alkaline developer) obtained by diluting an alkaline agent with pure water is preferable.
  • the alkaline agent include ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, diglycolamine, diethanolamine, hydroxyamine, ethylenediamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, and tetrabutylammonium hydroxide.
  • Ethyltrimethylammonium hydroxide Ethyltrimethylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, dimethylbis (2-hydroxyethyl) ammonium hydroxide, choline, pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5.4.0] -7-undecene, etc.
  • examples thereof include organic alkaline compounds and inorganic alkaline compounds such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium hydrogencarbonate, sodium silicate and sodium metasilicate.
  • the alkaline agent a compound having a large molecular weight is preferable in terms of environment and safety.
  • the concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.001 to 10% by mass, more preferably 0.01 to 1% by mass.
  • the developer may further contain a surfactant.
  • the developer may be once produced as a concentrated solution and diluted to a concentration required for use from the viewpoint of convenience of transfer and storage.
  • the dilution ratio is not particularly limited, but can be set in the range of, for example, 1.5 to 100 times. It is also preferable to wash (rinse) with pure water after development. Further, it is preferable that the rinsing is performed by supplying the rinsing liquid to the developed photosensitive composition layer while rotating the support on which the developed photosensitive composition layer is formed.
  • the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support it is also preferable to move the nozzle for discharging the rinse liquid from the central portion of the support to the peripheral edge of the support.
  • the nozzle may be moved while gradually reducing the moving speed.
  • Additional exposure treatment and post-baking are post-development curing treatments to complete the curing.
  • the heating temperature in the post-baking is, for example, preferably 100 to 240 ° C, more preferably 200 to 240 ° C.
  • Post-baking is performed by continuously or batch-type the developed film (pixels) using a heating means such as a hot plate, a convection oven (hot air circulation type dryer), or a high-frequency heater so as to meet the above conditions. be able to.
  • the additional exposure process is performed, the light used for the exposure is preferably light having a wavelength of 400 nm or less. Further, the additional exposure process may be performed by the method described in Korean Patent Publication No. 10-2017-0122130.
  • the optical filter of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • the type of optical filter include a color filter and an infrared transmission filter, and a color filter is preferable.
  • the color filter it is preferable to have the film of the present invention as the colored pixels of the color filter.
  • One aspect of the color filter is a color filter having at least red pixels, green pixels, and blue pixels, and colored pixels of at least one color of red pixels, green pixels, and blue pixels are formed of the film of the present invention. Be done.
  • the color filter has at least a cyan pixel, a magenta pixel, and a yellow pixel, and at least one colored pixel of the cyan pixel, the magenta color pixel, and the yellow pixel is composed of the film of the present invention.
  • the color filter can be used for a solid-state image sensor such as a CCD (charge-coupled device) or CMOS (complementary metal oxide semiconductor), an image display device, or the like.
  • a CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • the film thickness of the film of the present invention can be appropriately adjusted according to the purpose.
  • the film thickness is preferably 5 ⁇ m or less, more preferably 1 ⁇ m or less, and even more preferably 0.6 ⁇ m or less.
  • the lower limit of the film thickness is preferably 0.1 ⁇ m or more, more preferably 0.2 ⁇ m or more, and even more preferably 0.3 ⁇ m or more.
  • the width of the pixels included in the optical filter is preferably 0.4 to 10.0 ⁇ m.
  • the lower limit is preferably 0.4 ⁇ m or more, more preferably 0.5 ⁇ m or more, and further preferably 0.6 ⁇ m or more.
  • the upper limit is preferably 5.0 ⁇ m or less, more preferably 2.0 ⁇ m or less, further preferably 1.0 ⁇ m or less, and even more preferably 0.8 ⁇ m or less.
  • the Young's modulus of the pixel is preferably 0.5 to 20 GPa, more preferably 2.5 to 15 GPa.
  • each pixel included in the optical filter has high flatness.
  • the surface roughness Ra of the pixel is preferably 100 nm or less, more preferably 40 nm or less, and further preferably 15 nm or less.
  • the lower limit is not specified, but it is preferably 0.1 nm or more, for example.
  • the surface roughness of the pixels can be measured using, for example, an AFM (atomic force microscope) Measurement 3100 manufactured by Veeco.
  • the contact angle of water on the pixel can be appropriately set to a preferable value, but is typically in the range of 50 to 110 °.
  • the contact angle can be measured using, for example, a contact angle meter CV-DT ⁇ A type (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). Further, it is preferable that the volume resistance value of the pixel is high. Specifically, it is preferred that the volume resistivity value of the pixel is 10 9 ⁇ ⁇ cm or more, and more preferably 10 11 ⁇ ⁇ cm or more. The upper limit is not specified, but it is preferably 10 14 ⁇ ⁇ cm or less, for example.
  • the volume resistance value of the pixel can be measured using, for example, an ultra-high resistance meter 5410 (manufactured by Advantest).
  • a protective layer may be provided on the surface of the film (pixel) of the present invention.
  • various functions such as oxygen blocking, low reflection, hydrophobicization, and shielding of light of a specific wavelength (ultraviolet rays, near infrared rays, etc.) can be imparted.
  • the thickness of the protective layer is preferably 0.01 to 10 ⁇ m, more preferably 0.1 to 5 ⁇ m.
  • Examples of the method for forming the protective layer include a method of applying a resin composition dissolved in an organic solvent to form the protective layer, a chemical vapor deposition method, and a method of attaching the molded resin with an adhesive.
  • the components constituting the protective layer include (meth) acrylic resin, en-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, and polyimide.
  • Resin polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyester resin, styrene resin, polyol resin, polyvinylidene chloride resin, melamine resin, urethane resin, aramid resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, modified silicone resin, fluorine Examples thereof include resins, polycarbonate resins, polyacrylonitrile resins, cellulose resins, Si, C, W, Al 2 O 3 , Mo, SiO 2 , and Si 2 N 4, and two or more of these components may be contained.
  • the protective layer preferably contains a polyol resin, SiO 2 , and Si 2 N 4 .
  • the protective layer preferably contains a (meth) acrylic resin and a fluororesin.
  • the resin composition When the resin composition is applied to form the protective layer, a known method such as a spin coating method, a casting method, a screen printing method, or an inkjet method can be used as the application method of the resin composition.
  • a known method such as a spin coating method, a casting method, a screen printing method, or an inkjet method can be used as the application method of the resin composition.
  • a known organic solvent for example, propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate, cyclopentanone, ethyl lactate, etc.
  • the protective layer is formed by a chemical vapor deposition method
  • the chemical vapor deposition method is a known chemical vapor deposition method (thermochemical vapor deposition method, plasma chemical vapor deposition method, photochemical vapor deposition method). Can be used.
  • the protective layer may be an additive such as organic / inorganic fine particles, an absorber for light of a specific wavelength (for example, ultraviolet rays, near infrared rays, etc.), a refractive index adjuster, an antioxidant, an adhesive, a surfactant, etc., if necessary. May be contained.
  • organic / inorganic fine particles include polymer fine particles (for example, silicone resin fine particles, polystyrene fine particles, melamine resin fine particles), titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium oxide, aluminum oxide, titanium nitride, and titanium oxynitride. , Magnesium fluoride, hollow silica, silica, calcium carbonate, barium sulfate and the like.
  • a known absorbent can be used as the light absorber of a specific wavelength.
  • the content of these additives can be adjusted as appropriate, but is preferably 0.1 to 70% by mass, more preferably 1 to 60% by mass, based on the total mass of the protective layer
  • the protective layer described in paragraphs 0073 to 0092 of JP-A-2017-151176 can also be used.
  • the optical filter may have a structure in which each pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the solid-state image sensor of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • the configuration of the solid-state image sensor is not particularly limited as long as it includes the film of the present invention and functions as a solid-state image sensor, and examples thereof include the following configurations.
  • a solid-state image sensor CCD (charge-coupled device) image sensor, CMOS (complementary metal oxide semiconductor) image sensor, etc.
  • a transfer electrode made of polysilicon or the like.
  • the configuration has a color filter on the device protective film.
  • the color filter may have a structure in which each colored pixel is embedded in a space partitioned by a partition wall, for example, in a grid pattern.
  • the partition wall preferably has a low refractive index for each colored pixel.
  • Examples of the image pickup apparatus having such a structure include the apparatus described in JP-A-2012-227478, JP-A-2014-179757, and International Publication No. 2018/043654.
  • the image pickup device provided with the solid-state image pickup device of the present invention can be used not only for digital cameras and electronic devices having an image pickup function (mobile phones and the like), but also for in-vehicle cameras and surveillance cameras.
  • the image display device of the present invention has the above-mentioned film of the present invention.
  • the image display device include a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device.
  • the liquid crystal display device is described in, for example, “Next Generation Liquid Crystal Display Technology (edited by Tatsuo Uchida, Kogyo Chosakai Co., Ltd., published in 1994)”.
  • the liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and for example, it can be applied to various types of liquid crystal display devices described in the above-mentioned "next-generation liquid crystal display technology".
  • ⁇ Manufacturing of dispersion> After mixing the raw materials listed in the table below, 230 parts by mass of zirconia beads having a diameter of 0.3 mm were added, and dispersion treatment was performed for 5 hours using a paint shaker, and the beads were separated by filtration to produce a dispersion liquid. ..
  • the numerical value of the blending amount of each material in the table below is a mass part.
  • the value of the blending amount of the resin (dispersant) is the value of the blending amount in the resin solution having a solid content of 20% by mass.
  • PR122 C.I. I. Pigment Red 122 PR177: C.I. I. Pigment Red 177 PR254: C.I. I. Pigment Red 254 PR264: C.I. I. Pigment Red 264 PR269: C.I. I. Pigment Red 269 PR272: C.I. I. Pigment Red 272 PY129: C.I. I. Pigment Yellow 129 PY139: C.I. I. Pigment Yellow 139 PY150: C.I. I. Pigment Yellow 150 PY185: C.I. I. Pigment Yellow 185 PY215: C.I. I. Pigment Yellow 215 PO71: C.I. I. Pigment Orange 71 PG7: C.I. I.
  • Pigment Green 7 PG36 C.I. I. Pigment Green 36 PG58: C.I. I. Pigment Green 58 PG62: C.I. I. Pigment Green 62 PG63: C.I. I. Pigment Green 63 PB15: 6: C.I. I. Pigment Blue 15: 6 PB60: C.I. I. Pigment Blue 60 PV23: C.I. I. Pigment Violet 23 PV29: C.I. I. Pigment Violet 29 Al Phthalocyanine: A compound with the following structure AR289: C.I. I.
  • Acid Red 289 Dye 1 A compound having the following structure (xanthene dye, iPr is an isopropyl group in the following structural formula)
  • Dye 2 A polymer having the following structure (weight average molecular weight 7000) and C.I. I. Acid Red 52 salt-forming compound (xanthene dye)
  • Dye 3 Compound with the following structure (xanthene dye) Yellow1: Compound with the following structure Yellow2: Compound with the following structure Yellow3: Compound with the following structure
  • ⁇ Resin> A-1 20 mass of resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio, and the numerical value added to the side chain is the number of repeating units.
  • Weight average molecular weight 24000, acid value 47 mgKOH / g) %% Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate (PGMEA) Solution
  • A-2 20 mass of resin having the following structure (the numerical value added to the main chain is the molar ratio, and the numerical value added to the side chain is the number of repeating units.
  • Weight average molecular weight 16000, acid value 67 mgKOH / g) % PGMEA solution
  • a resin solution of resin B-1 synthesized by the following method (solid content concentration 20% by mass). 50 parts by mass of methyl methacrylate, 50 parts by mass of n-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) were charged into the reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel is heated to 70 ° C., 6 parts by mass of 3-mercapto-1,2-propanediol is added, and 0.12 parts by mass of AIBN (azobisisobutyronitrile) is further added, and the reaction is carried out for 12 hours. I let you. It was confirmed by solid content measurement that 95% had reacted.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • a resin solution of resin B-2 synthesized by the following method (solid content concentration 20% by mass). 50 parts by mass of methyl methacrylate, 30 parts by mass of n-butyl methacrylate, 20 parts by mass of t-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA were charged into the reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel is heated to 70 ° C., 6 parts by mass of 3-mercapto-1,2-propanediol is added, and 0.12 parts by mass of AIBN (azobisisobutyronitrile) is further added, and the reaction is carried out for 12 hours. I let you. It was confirmed by solid content measurement that 95% had reacted.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • a resin solution of resin B-3 synthesized by the following method solid content concentration 20% by mass.
  • the acid value was 43 mgKOH / g and the weight average molecular weight was the same except that 20 parts by mass of t-butyl methacrylate was changed to 20 parts by mass of (3-ethyloxetane-3-yl) methyl methacrylate.
  • a resin solution of 9000 resin B-3 having the following structure was obtained.
  • a resin solution of the resin B-4 synthesized by the following method solid content concentration 20% by mass.
  • the acid value was 43 mgKOH / g and the weight average molecular weight was 9000.
  • a resin solution of structural resin B-4 was obtained.
  • a resin solution of resin B-5 synthesized by the following method solid content concentration 20% by mass.
  • Two parts by mass were charged into the reaction vessel, and the atmospheric gas was replaced with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel was heated to 100 ° C. and reacted for 7 hours.
  • the temperature in the system was cooled to 70 ° C., 65 parts by mass of methyl methacrylate, 5.0 parts by mass of ethyl acrylate, and t. -Add 53.5 parts by mass of PGMEA solution in which 15 parts by mass of butyl acrylate, 5.0 parts by mass of methacrylic acid, 10 parts by mass of hydroxyethyl methacrylate and 0.1 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile are dissolved. Then, it was reacted for 10 hours. The solid content measurement confirmed that the polymerization had proceeded by 95%, and the reaction was terminated.
  • PGMEA was added to adjust the non-volatile content (solid content concentration) to 20% by mass to obtain a resin solution of resin B-5 having an acid value of 70.5 mgKOH / g and a weight average molecular weight of 10000 and having the following structure.
  • a resin solution of resin B-6 synthesized by the following method solid content concentration 20% by mass. 108 parts by mass of 1-thioglycerol, 174 parts by mass of pyromellitic anhydride, 650 parts by mass of methoxypropyl acetate, and 0.2 parts by mass of monobutyltin oxide as a catalyst were charged in a reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. The reaction was carried out at 120 ° C. for 5 hours (first step). It was confirmed by measuring the acid value that 95% or more of the acid anhydride was half-esterified.
  • the compound obtained in the first step is 160 parts by mass in terms of solid content, 200 parts by mass of 2-hydroxypropyl methacrylate, 200 parts by mass of ethyl acrylate, 150 parts by mass of t-butyl acrylate, and 200 parts by mass of 2-methoxyethyl acrylate.
  • Parts, 200 parts by mass of methyl acrylate, 50 parts by mass of methacrylic acid, and 663 parts by mass of PGMEA were charged into the reaction vessel, and the inside of the reaction vessel was heated to 80 ° C. to 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) 1 .2 parts by mass was added and reacted for 12 hours (second step).
  • the reaction solution After confirming the disappearance of the peak, the reaction solution is cooled, PGMEA is added to adjust the non-volatile content (solid content concentration) to 20% by mass, and the resin B-6 having an acid value of 68 mgKOH / g and a weight average molecular weight of 13000 has the following structure. Resin solution was obtained.
  • a resin solution of resin B-7 synthesized by the following method (solid content concentration 20% by mass). 40 parts by mass of methyl methacrylate, 60 parts by mass of n-butyl methacrylate, and 45.4 parts by mass of PGMEA were charged into the reaction vessel, and the atmosphere gas was replaced with nitrogen gas. The inside of the reaction vessel is heated to 70 ° C., 8 parts by mass of 3-mercapto-1,2-propanediol is added, and 0.12 parts by mass of AIBN (azobisisobutyronitrile) is further added, and the reaction is carried out for 12 hours. I let you. It was confirmed by solid content measurement that 95% had reacted.
  • AIBN azobisisobutyronitrile
  • ⁇ Manufacturing of photosensitive composition The raw materials listed in the table below were mixed to prepare a photosensitive composition.
  • the value of the blending amount of the resin is the value of the blending amount in the resin solution having a solid content of 20% by mass.
  • the content of the photopolymerization initiator in the total solid content of the photosensitive composition is shown in the column of "photopolymerization initiator amount”.
  • the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the photopolymerization initiator is shown in the column of "M / I ratio”.
  • the coloring material and the polymerizable monomer contained in the photosensitive composition the value obtained by dividing the mass of the polymerizable monomer by the mass of the coloring material is shown in the column of "M / P ratio".
  • the raw materials other than the dispersion liquid are as follows.
  • the dispersions are the dispersions produced above.
  • M-1 Trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., Aronix M-309, number of functional groups 3, molecular weight 296, ethylenically unsaturated bond-containing base value 99 g / mol)
  • M-2 Trimethylolpropane propyleneoxy-modified triacrylate (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., Aronix M-310, number of functional groups 3, molecular weight 471, ethylenically unsaturated bond-containing base value 157 g / mol, alkyleneoxy group (propyleneoxy) Compounds with groups)
  • M-3 Trimethylolpropane ethyleneoxy-modified triacrylate (manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., Aronix M-350, number of functional groups 3, molecular weight 429, ethylenically unsaturated bond-containing base value 143 g / mol,
  • G-c1 Compound with the following structure (oxime-based photopolymerization initiator)
  • G-c2 Compound with the following structure (benzophenone-based photopolymerization initiator)
  • ⁇ Performance evaluation> (Light resistance) Each photosensitive composition is applied onto a glass substrate by a spin coating method, then heat-treated (prebaked) at 100 ° C. for 120 seconds using a hot plate, and then exposed to 1000 mj / cm 2 by i-ray. The film was exposed and then heated at 200 ° C. for 5 minutes to prepare a film having a thickness of 0.6 ⁇ m. With respect to the obtained film, the light transmittance (transmittance) in the wavelength range of 400 to 700 nm was measured using MCPD-3000 manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.
  • the film prepared above was irradiated with light of 100,000 Lux over 1000 hours using a light resistance tester (Super Xenon Weather Meter SX75, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) (total irradiation amount 100 million Lux ⁇ hr). ).
  • the transmittance of the film after light irradiation was measured, and the light resistance was evaluated according to the following criteria.
  • a to C are in the range where there is no problem in use.
  • A: The integrated value of the transmittance of the film after light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm is 99% or more of the integrated value of the transmittance of the film before light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm.
  • the integrated value of the transmittance of the film after light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm is 97% or more and less than 99% of the integrated value of the transmittance of the film before light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm.
  • C The integrated value of the transmittance of the film after light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm is 95% or more and less than 97% of the integrated value of the transmittance of the film before light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm.
  • the integrated value of the transmittance of the film after light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm is less than 95% of the integrated value of the transmittance of the film before light irradiation at a wavelength of 400 to 700 nm.
  • the underlayer was formed by heating at 220 ° C. for 1 hour.
  • Each photosensitive composition was applied onto the silicon wafer with a base layer by a spin coating method, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes using a hot plate to obtain a composition layer having a film thickness of 0.5 ⁇ m. ..
  • composition layer an i-line stepper FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) was used, and square pixels having a side of 1.1 ⁇ m were arranged in a 4 mm ⁇ 3 mm region on the substrate via a mask pattern. Then, light having a wavelength of 365 nm was irradiated with an exposure amount of 500 mJ / cm 2 for exposure.
  • the composition layer after exposure was paddle-developed at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide. Then, it was rinsed with water in a spin shower, and further washed with pure water.
  • a to C are in the range where there is no problem in use.
  • CT-4000 (manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) is applied onto a glass substrate by a spin coating method so that the film thickness is 0.1 ⁇ m, and heated at 220 ° C. for 1 hour using a hot plate. An underlayer was formed.
  • Each photosensitive composition was applied onto the glass substrate with a base layer by a spin coating method, and then heated at 100 ° C. for 2 minutes using a hot plate to obtain a composition layer having a film thickness of 0.5 ⁇ m. ..
  • This composition layer was exposed by irradiating the composition layer with light having a wavelength of 365 nm at an exposure amount of 500 mJ / cm 2.
  • the composition layer after exposure was paddle-developed at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide. Then, it was rinsed with water in a spin shower, and further washed with pure water. Then, the water droplets were blown off with high-pressure air, the glass substrate was naturally dried, and then post-baked at 220 ° C. for 300 seconds using a hot plate to form a film.
  • the luminance distribution was analyzed by the following method using the glass substrate (evaluation substrate) on which this film was formed, and the color unevenness was evaluated based on the number of pixels whose deviation from the average was ⁇ 10% or more. A method of measuring the luminance distribution will be described.
  • An evaluation substrate is placed between the observation lens of the optical microscope and the light source to irradiate the light toward the observation lens, and the transmitted light state is measured by the optical microscope MX-50 (manufactured by Olympus) equipped with a digital camera. Observed using. The film surface was photographed for five arbitrarily selected regions. The brightness of the captured image was quantified and saved as a density distribution of 256 gradations from 0 to 255. The luminance distribution was analyzed from this image, and the color unevenness was evaluated by the number of pixels whose deviation from the average exceeded ⁇ 10%. The evaluation criteria are as follows. If the evaluation is A to C, it is judged that there is no practical problem.
  • A The number of pixels whose deviation from the average exceeds ⁇ 10% is 1000 or less.
  • B The number of pixels whose deviation from the average exceeds ⁇ 10% is more than 1000 and 3000 or less.
  • C The number of pixels whose deviation from the average exceeds ⁇ 10% exceeds 3000 and is 5000 or less.
  • D The number of pixels whose deviation from the average exceeds ⁇ 10% exceeds 5000.
  • the surface roughness (Ra) of the pixels obtained by the adhesion evaluation was measured using an atomic force microscope Distance FastScan AFM (manufactured by Bruker).
  • the evaluation criteria for surface roughness are as follows. If the evaluation is A to C, it is judged that there is no practical problem.
  • C Surface roughness (Ra) is 5 nm or more and less than 10 nm
  • D Surface roughness (Ra) is 10 nm or more
  • each item of light resistance, adhesion, color unevenness and surface roughness could be arranged side by side at a high level.
  • any one of light resistance, adhesion, color unevenness and surface roughness was evaluated as D rank, and was inferior to the example.
  • Example 1001 A green photosensitive composition was applied onto a silicon wafer by a spin coating method so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) , exposure was performed with an exposure amount of 1000 mJ / cm 2 through a mask with a dot pattern of 2 ⁇ m square. Then, paddle development was carried out at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the green photosensitive composition was patterned to form green pixels by heating at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate.
  • the red photosensitive composition and the blue photosensitive composition were patterned by the same process to sequentially form red pixels and blue pixels to form a color filter having green pixels, red pixels and blue pixels.
  • green pixels are formed in a Bayer pattern, and red pixels and blue pixels are formed in an island pattern in an adjacent region thereof.
  • the obtained color filter was incorporated into a solid-state image sensor according to a known method. This solid-state image sensor had a suitable image recognition ability.
  • the green photosensitive composition the photosensitive composition of Example G1 was used.
  • the red photosensitive composition the photosensitive composition of Example R1 was used.
  • the blue photosensitive composition the photosensitive composition of Example B1 was used.
  • Example 1002 A cyan photosensitive composition was applied onto a silicon wafer by a spin coating method so that the film thickness after film formation was 1.0 ⁇ m. Then, using a hot plate, it was heated at 100 ° C. for 2 minutes. Next, using an i-line stepper exposure apparatus FPA-3000i5 + (manufactured by Canon Inc.) , exposure was performed with an exposure amount of 1000 mJ / cm 2 through a mask with a dot pattern of 2 ⁇ m square. Then, paddle development was carried out at 23 ° C. for 60 seconds using a 0.3% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (TMAH).
  • TMAH tetramethylammonium hydroxide
  • the cyan photosensitive composition was then patterned by heating at 200 ° C. for 5 minutes using a hot plate to form cyan pixels.
  • the yellow photosensitive composition and the magenta color photosensitive composition are patterned by the same process to sequentially form yellow pixels and magenta color pixels to obtain a color filter having cyan color pixels, yellow pixels and magenta color pixels. Formed.
  • cyan pixels are formed in a Bayer pattern, and yellow pixels and magenta pixels are formed in an island pattern in an adjacent region thereof.
  • the obtained color filter was incorporated into a solid-state image sensor according to a known method. This solid-state image sensor had a suitable image recognition ability.
  • the photosensitive composition of Example C1 was used.
  • the yellow photosensitive composition the photosensitive composition of Example Y1 was used.
  • the magenta color photosensitive composition the photosensitive composition of Example M1 was used.

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Abstract

色材と、光重合開始剤と、重合性モノマーと、樹脂とを含む感光性組成物であって、上記光重合開始剤は、芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基ＡｒＯＸ１を有するオキシム化合物ＯＸを含み、上記重合性モノマーの質量を上記光重合開始剤の質量で割った値が０．５～５．５である感光性組成物。膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置。

Description

感光性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
　本発明は、色材と、光重合開始剤と、重合性モノマーと、樹脂とを含む感光性組成物に関する。また、本発明は、感光性組成物を用いた膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置に関する。
　近年、デジタルカメラ、カメラ付き携帯電話等の普及から、電荷結合素子（ＣＣＤ）イメージセンサなどの固体撮像素子の需要が大きく伸びている。ディスプレイや光学素子のキーデバイスとしてカラーフィルタが使用されている。カラーフィルタは、通常、赤、緑及び青の３原色の画素を備えており、透過光を３原色へ分解する役割を果たしている。
　カラーフィルタの各色の着色画素は、顔料などの色材を含む感光性組成物を用い、フォトリソグラフィ法にてパターン形成を行って製造されている。例えば、赤色画素形成用の感光性組成物には、色材としてジケトピロロピロール顔料などが用いられている（例えば特許文献１など）。
特開２０１９－２００３４３号公報
　近年では、カラーフィルタなどの光学フィルタなどの形成に用いられる感光性組成物についての要求が増してきている。そのような要求特性として、感光性組成物を用いてフォトリソグラフィ法にて支持体上に画素（パターン形成された膜）を形成した際に、耐光性および支持体との密着性に優れ、かつ、色ムラおよび表面荒れの小さい画素を形成できることが求められている。近年では、これらの特性についてより高い水準で満たしていることが求められている。
　本発明者が、特許文献１の実施例に記載された感光性組成物について検討を行ったところ、この感光性組成物を用いて形成された画素については、これらの特性について更なる改善の余地があることが分かった。
　よって、本発明の目的は、耐光性および支持体との密着性に優れ、かつ、色ムラおよび表面荒れの小さい画素を形成できる感光性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することにある。
　本発明者の検討によれば、後述する感光性組成物により上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。よって、本発明は以下を提供する。
　＜１＞　色材と、光重合開始剤と、重合性モノマーと、樹脂とを含む感光性組成物であって、
　上記光重合開始剤は、芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基ＡｒＯＸ１を有するオキシム化合物ＯＸを含み、
　上記重合性モノマーの質量を上記光重合開始剤の質量で割った値が０．５～５．５である、感光性組成物。
　＜２＞　上記光重合開始剤中における上記オキシム化合物ＯＸの含有量が５０～１００質量％である、＜１＞に記載の感光性組成物。
　＜３＞　上記芳香族環基ＡｒＯＸ１が有する電子求引性基は、アシル基およびニトロ基から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞または＜２＞に記載の感光性組成物。
　＜４＞　上記芳香族環基ＡｒＯＸ１が有する電子求引性基は、アシル基である、＜１＞または＜２＞に記載の感光性組成物。
　＜５＞　上記芳香族環基ＡｒＯＸ１は、式（ＯＲ－１）で表される基である、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の感光性組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　式中、ＲＯＸ１は置換基を表し、ＲＯＸ２は電子求引性基を表し、ｎは０～４の整数を表し、波線は結合手を表す。
　＜６＞　上記オキシム化合物ＯＸは、式（ＯＲ－１１）で表される基および式（ＯＲ－１２）で表される基から選ばれる少なくとも１種の基を有する、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の感光性組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　式中、ＲＯＸ１１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、ホスフィノイル基、カルバモイル基またはスルファモイル基を表し、
　ＲＯＸ１２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基またはアミノ基を表し、
　波線は結合手を表す。
　＜７＞　上記オキシム化合物ＯＸは、式（ＯＸ１）で表される化合物および式（ＯＸ２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の感光性組成物；
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　式中、ＲＸ１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、ホスフィノイル基、カルバモイル基またはスルファモイル基を表し、
　ＲＸ２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基またはアミノ基を表し、
　ＲＸ３～ＲＸ１４は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す；
　ただし、ＲＸ１０～ＲＸ１４のうち少なくとも一つは、電子求引性基である。
　＜８＞　上記重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合含有基を３個有する化合物を含む、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜９＞　上記重合性モノマーのエチレン性不飽和結合含有基価が１００～３００ｇ／ｍｏｌである、＜１＞～＜８＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１０＞　感光性組成物の全固形分中における上記色材の含有量が５０質量％以上である、＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１１＞　感光性組成物の全固形分中における上記重合性モノマーの含有量が１～２５質量％である、＜１＞～＜１０＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１２＞　固体撮像素子用である、＜１＞～＜１１＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１３＞　シアン色、イエロー色またはマゼンタ色用の画素形成用の感光性組成物である、＜１＞～＜１２＞のいずれか１つに記載の感光性組成物。
　＜１４＞　＜１＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の感光性組成物を用いて得られる膜。
　＜１５＞　＜１４＞に記載の膜を有する光学フィルタ。
　＜１６＞　＜１４＞に記載の膜を有する固体撮像素子。
　＜１７＞　＜１４＞に記載の膜を有する画像表示装置。
　本発明によれば、耐光性および支持体との密着性に優れ、かつ、色ムラおよび表面荒れの小さい画素を形成できる感光性組成物、膜、光学フィルタ、固体撮像素子および画像表示装置を提供することができる。
　以下において、本発明の内容について詳細に説明する。
　本明細書において、「～」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
　本明細書における基（原子団）の表記において、置換および無置換を記していない表記は、置換基を有さない基（原子団）と共に置換基を有する基（原子団）をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。
　本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も露光に含める。また、露光に用いられる光としては、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線または放射線が挙げられる。
　本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートおよびメタクリレートの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリル」は、アクリルおよびメタクリルの双方、または、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイルおよびメタクリロイルの双方、または、いずれかを表す。
　本明細書において、構造式中のＭｅはメチル基を表し、Ｅｔはエチル基を表し、Ｂｕはブチル基を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。
　本明細書において、重量平均分子量および数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィ）法により測定したポリスチレン換算値である。
　本明細書において、全固形分とは、組成物の全成分から溶剤を除いた成分の総質量をいう。
　本明細書において、顔料とは、溶剤に対して溶解しにくい化合物を意味する。
　本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。
＜感光性組成物＞
　本発明の感光性組成物は、色材と、光重合開始剤と、重合性モノマーと、樹脂とを含む感光性組成物であって、
　上記光重合開始剤は、芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基ＡｒＯＸ１を有するオキシム化合物ＯＸを含み、
　上記重合性モノマーの質量を上記光重合開始剤の質量で割った値が０．５～５．５であることを特徴とする。
　本発明の感光性組成物によれば、耐光性および支持体との密着性に優れ、かつ、色ムラおよび表面荒れの小さい画素を形成できる。このような効果が得られる理由は、以下によるものであると推測される。
　本発明の感光性組成物において、光重合開始剤として用いられる上記オキシム化合物ＯＸは、色材と相互作用しやすいと推測され、感光性組成物中で、色材とオキシム化合物ＯＸとが近接して存在していると推測される。重合性モノマーに対して光重合開始剤が少なすぎると、露光時の光照射によって光重合開始剤から発生したラジカルなどの活性種と、重合性モノマーとの衝突頻度が少なくなり易く、露光部の重合性モノマーの硬化反応が十分進行しない箇所が生じやすいと推測される。また、重合性モノマーに対して光重合開始剤が多すぎると、露光時の光量の多い膜表面において色材のまわりの重合性モノマーの硬化が局所的に進みやすく、その結果、現像後の膜（画素）の表面の荒れが大きくなり易いと推測される。本発明の感光性組成物においては、光重合開始剤として上記オキシム化合物ＯＸを含むものを用い、かつ、重合性モノマーの質量を光重合開始剤の質量で割った値が０．５～５．５であるので、露光時の光照射によって、露光部の感光性組成物層の硬化を均一に進行させることができると推測され、その結果、密着性が良好で、現像後の膜（画素）の色ムラおよび表面粗さをより小さくできたと推測される。
　また、本発明の感光性組成物において光重合開始剤として用いられる上記のオキシム化合物ＯＸは、芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基ＡｒＯＸ１を有しており、この芳香族環基ＡｒＯＸ１の部位が紫外線吸収剤として作用すると推測され、その結果、耐光性に優れた画素を形成することができたと推測される。
　本発明の感光性組成物において、重合性モノマーの質量を光重合開始剤の質量で割った値（以下、Ｍ／Ｉ比ともいう）は０．５～５．５である。Ｍ／Ｉ比の上限は、密着性が良好で、色ムラのより小さい画素を形成できるという理由から、４．０以下であることが好ましく、３．５以下であることがより好ましい。また、Ｍ／Ｉ比の下限は、表面粗さのより小さい画素を形成できるという理由から１．０以上であることが好ましく、１．５以上であることがより好ましく、２．０以上であることが更に好ましい。なお、本明細書において、上記Ｍ／Ｉ比の算出に用いる「重合性モノマーの質量」とは、感光性組成物に含まれる全重合性モノマーの合計の質量のことである。したがって、感光性組成物中に２種以上の重合性モノマーが含まれる場合は、それらの合計の質量を重合性モノマーの質量とする。同様に、上記Ｍ／Ｉ比の算出に用いる「光重合開始剤の質量」とは、感光性組成物に含まれる全光重合開始剤の合計の質量のことである。したがって、感光性組成物中に２種以上の光重合開始剤が含まれる場合は、それらの合計の質量を光重合開始剤の質量とする。
　また、本発明の感光性組成物において、重合性モノマーの質量をオキシム化合物ＯＸの質量で割った値（以下、Ｍ／ＩＯＸ比ともいう）は０．５～５．５であることが好ましい。また、Ｍ／ＩＯＸ比の上限は、密着性が良好で、色ムラのより小さい画素を形成できるという理由から、４．０以下であることが好ましく、３．５以下であることがより好ましい。また、Ｍ／ＩＯＸ比の下限は、表面粗さのより小さい画素を形成できるという理由から１．０以上であることが好ましく、１．５以上であることがより好ましく、２．０以上であることが更に好ましい。なお、本明細書において、上記Ｍ／ＩＯＸ比の算出に用いる「オキシム化合物ＯＸの質量」とは、感光性組成物に含まれる全オキシム化合物ＯＸの合計の質量のことである。したがって、感光性組成物中に２種以上のオキシム化合物ＯＸが含まれる場合は、それらの合計の質量をオキシム化合物ＯＸの質量とする。
　また、本発明の感光性組成物において、重合性モノマーの質量を色材の質量で割った値（以下、Ｍ／Ｐ比ともいう）は、０．０１～１．０であることが好ましい。Ｍ／Ｐ比の上限は、膜の分光特性の観点から０．５以下であることが好ましく、０．３５以下であることがより好ましい。また、Ｍ／Ｐ比の下限は、密着性が良好で、色ムラのより小さい画素を形成しやすいという理由から０．０３以上であることが好ましく、０．０５以上であることがより好ましく、０．１以上であることが更に好ましい。なお、本明細書において、上記Ｍ／Ｐ比の算出に用いる「色材の質量」とは、感光性組成物に含まれる全色材の合計の質量のことである。したがって、感光性組成物中に２種以上の色材が含まれる場合は、それらの合計の質量を色材の質量とする。
　本発明の感光性組成物は、光学フィルタ用の感光性組成物として好ましく用いられる。光学フィルタとしては、カラーフィルタ、近赤外線透過フィルタなどが挙げられ、カラーフィルタであることが好ましい。
　また、本発明の感光性組成物は、固体撮像素子用の感光性組成物として好ましく用いることができ、固体撮像素子に用いられるカラーフィルタの画素形成用の感光性組成物としてより好ましく用いることができる。
　カラーフィルタとしては、特定の波長の光を透過させる着色画素を有するフィルタが挙げられ、赤色画素、青色画素、緑色画素、黄色画素、シアン色画素およびマゼンタ色画素から選ばれる少なくとも１種の着色画素を有するフィルタであることが好ましい。カラーフィルタの着色画素は、有彩色色材を含む感光性組成物を用いて形成することができる。
　すなわち、本発明の感光性組成物は、赤色、青色、緑色、黄色、シアン色またはマゼンタ色の画素形成用の感光性組成物として好ましく用いることができる。
　一態様として、本発明の感光性組成物を、赤色、青色または緑色の画素形成用の感光性組成物として用いる態様が挙げられる。この場合は、より色価が高く、分光特性に優れた画素を形成できる。
　また、他の態様として、本発明の感光性組成物を、黄色、シアン色またはマゼンタ色の画素形成用の感光性組成物として用いる態様が挙げられる。これらの色相の画素は色ムラによる分光特性への影響が大きい傾向にあるが、本発明によれば色ムラのより小さい画素を形成できるので、これらの色相の画素に適用した場合、本発明の効果がより顕著に奏される。
　近赤外線透過フィルタは、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタである。近赤外線透過フィルタとしては、可視光の少なくとも一部を遮光し、近赤外線の少なくとも一部を透過させるフィルタなどが挙げられる。近赤外線透過フィルタとしては、波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である分光特性を満たしているフィルタなどが好ましく挙げられる。近赤外線透過フィルタは、以下の（１）～（４）のいずれかの分光特性を満たしているフィルタであることが好ましい。
　（１）：波長４００～６４０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長８００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（２）：波長４００～７５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長９００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（３）：波長４００～８３０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　（４）：波長４００～９５０ｎｍの範囲における透過率の最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）であり、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における透過率の最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）であるフィルタ。
　以下、本発明の感光性組成物に用いられる各成分について説明する。
＜＜色材＞＞
　本発明の感光性組成物は色材を含有する。色材としては、有彩色色材、黒色色材が挙げられ、有彩色色材であることが好ましい。色材として有彩色色材を用いた場合においては、本発明の感光性組成物は、カラーフィルタにおける着色画素形成用の感光性組成物として好ましく用いることができる。
　色材は、顔料であってもよく、染料であってもよい。顔料と染料とを併用してもよい。また、顔料は、無機顔料、有機顔料のいずれでもよい。また、顔料には、無機顔料または有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を用いることもできる。無機顔料や有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計をしやすくできる。
　顔料の平均一次粒子径は、１～２００ｎｍが好ましい。下限は５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。上限は、１８０ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましく、１００ｎｍ以下が更に好ましい。顔料の平均一次粒子径が上記範囲であれば、感光性組成物中における顔料の分散安定性が良好である。なお、本発明において、顔料の一次粒子径は、顔料の一次粒子を透過型電子顕微鏡により観察し、得られた画像写真から求めることができる。具体的には、顔料の一次粒子の投影面積を求め、それに対応する円相当径を顔料の一次粒子径として算出する。また、本発明における平均一次粒子径は、４００個の顔料の一次粒子についての粒子径の算術平均値とする。また、顔料の一次粒子とは、凝集のない独立した粒子をいう。
　本発明で用いられる色材は、顔料を含むものであることが好ましい。色材中における顔料の含有量は、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが更に好ましく、９０質量％以上であることが特に好ましい。
（有彩色色材）
　有彩色色材としては、波長４００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長を有する色材が挙げられる。例えば、黄色色材、オレンジ色色材、赤色色材、緑色色材、紫色色材、青色色材などが挙げれる。有彩色色材の具体例としては、例えば、以下に示すものが挙げられる。
　カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ピグメントイエロー１，２，３，４，５，６，１０，１１，１２，１３，１４，１５，１６，１７，１８，２０，２４，３１，３２，３４，３５，３５：１，３６，３６：１，３７，３７：１，４０，４２，４３，５３，５５，６０，６１，６２，６３，６５，７３，７４，７７，８１，８３，８６，９３，９４，９５，９７，９８，１００，１０１，１０４，１０６，１０８，１０９，１１０，１１３，１１４，１１５，１１６，１１７，１１８，１１９，１２０，１２３，１２５，１２６，１２７，１２８，１２９，１３７，１３８，１３９，１４７，１４８，１５０，１５１，１５２，１５３，１５４，１５５，１５６，１６１，１６２，１６４，１６６，１６７，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７３，１７４，１７５，１７６，１７７，１７９，１８０，１８１，１８２，１８５，１８７，１８８，１９３，１９４，１９９，２１３，２１４，２１５，２２８，２３１，２３２（メチン系），２３３（キノリン系），２３４（アミノケトン系），２３５（アミノケトン系），２３６（アミノケトン系）等（以上、黄色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ２，５，１３，１６，１７：１，３１，３４，３６，３８，４３，４６，４８，４９，５１，５２，５５，５９，６０，６１，６２，６４，７１，７３等（以上、オレンジ色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１，２，３，４，５，６，７，９，１０，１４，１７，２２，２３，３１，３８，４１，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４９，４９：１，４９：２，５２：１，５２：２，５３：１，５７：１，６０：１，６３：１，６６，６７，８１：１，８１：２，８１：３，８３，８８，９０，１０５，１１２，１１９，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１５０，１５５，１６６，１６８，１６９，１７０，１７１，１７２，１７５，１７６，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，１８７，１８８，１９０，２００，２０２，２０６，２０７，２０８，２０９，２１０，２１６，２２０，２２４，２２６，２４２，２４６，２５４，２５５，２６４，２６９，２７０，２７２，２７９，２９１，２９４（キサンテン系、Ｏｒｇａｎｏ　Ｕｌｔｒａｍａｒｉｎｅ、Ｂｌｕｉｓｈ　Ｒｅｄ），２９５（モノアゾ系），２９６（ジアゾ系），２９７（アミノケトン系）等（以上、赤色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７，１０，３６，３７，５８，５９，６２，６３，６４（フタロシアニン系），６５（フタロシアニン系），６６（フタロシアニン系）等（以上、緑色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１，１９，２３，２７，３２，３７，４２，６０（トリアリールメタン系），６１（キサンテン系）等（以上、紫色顔料）、
　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１，２，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，２２，２９，６０，６４，６６，７９，８０，８７（モノアゾ系），８８（メチン系）等（以上、青色顔料）。
　また、緑色色材として、１分子中のハロゲン原子数が平均１０～１４個であり、臭素原子数が平均８～１２個であり、塩素原子数が平均２～５個であるハロゲン化亜鉛フタロシアニン顔料を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／１１８７２０号に記載の化合物が挙げられる。また、緑色色材として中国特許出願第１０６９０９０２７号明細書に記載の化合物、国際公開第２０１２／１０２３９５号に記載のリン酸エステルを配位子として有するフタロシアニン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１８－１８００２３号公報に記載のフタロシアニン化合物、特開２０１９－０３８９５８号公報に記載の化合物などを用いることもできる。
　また、青色色材として、リン原子を有するアルミニウムフタロシアニン化合物を用いることもできる。具体例としては、特開２０１２－２４７５９１号公報の段落００２２～００３０、特開２０１１－１５７４７８号公報の段落００４７に記載の化合物が挙げられる。
　また、黄色色材として、特開２０１７－２０１００３号公報に記載の化合物、特開２０１７－１９７７１９号公報に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１２号公報の段落番号００１１～００６２、０１３７～０２７６に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１３号公報の段落番号００１０～００６２、０１３８～０２９５に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１４号公報の段落番号００１１～００６２、０１３９～０１９０に記載の化合物、特開２０１７－１７１９１５号公報の段落番号００１０～００６５、０１４２～０２２２に記載の化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報の段落番号００１１～００３４に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２６２２８号公報の段落番号００１３～００５８に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２６４４号公報に記載のイソインドリン化合物、特開２１８－２０３７９８号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０６２５７８号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７７号公報に記載のキノフタロン化合物、特許第６４３２０７６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－１１１７５７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１８－０４０８３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１７－１９７６４０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１６－１４５２８２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０８５５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１４－０２１１３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９６１４号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－２０９４３５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－１８１０１５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０６１６２２号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０５４３３９号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１３－０３２４８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１２－２２６１１０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８７号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０８１５６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８６号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０７４９８５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０５０４２０号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２００８－０３１２８１号公報に記載のキノフタロン化合物、特公昭４８－０３２７６５号公報に記載のキノフタロン化合物、特開２０１９－００８０１４号公報に記載のキノフタロン化合物、下記式（ＱＰ１）で表される化合物、下記式（ＱＰ２）で表される化合物、韓国公開特許第１０－２０１４－００３４９６３号公報に記載の化合物、特開２０１７－０９５７０６号公報に記載の化合物、台湾特許出願公開第２０１９２０４９５号公報に記載の化合物、特許第６６０７４２７号公報に記載の化合物を用いることもできる。また、これらの化合物を多量体化したものも、色価向上の観点から好ましく用いられる。また、黄色色材としては、耐性を改良する観点でＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１２９や、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ２１５を使用することも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式（ＱＰ１）中、Ｘ１～Ｘ１６は各々独立に水素原子又はハロゲン原子を表し、Ｚ１は炭素数１～３のアルキレン基を表す。式（ＱＰ１）で表される化合物の具体例としては、特許第６４４３７１１号公報の段落番号００１６に記載されている化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式（ＱＰ２）中、Ｙ１～Ｙ３は、それぞれ独立にハロゲン原子を示す。ｎ、ｍは０～６の整数、ｐは０～５の整数を表す。（ｎ＋ｍ）は１以上である。式（ＱＰ２）で表される化合物の具体例としては、特許６４３２０７７号公報の段落番号００４７～００４８に記載されている化合物が挙げられる。
　赤色色材として、特開２０１７－２０１３８４号公報に記載の構造中に少なくとも１つ臭素原子が置換したジケトピロロピロール顔料、特許第６２４８８３８号の段落番号００１６～００２２に記載のジケトピロロピロール顔料、特許６５１６１１９号公報に記載の赤色色材、特許６５２５１０１号公報に記載の赤色色材などを用いることもできる。また、赤色色材として、芳香族環に対して、酸素原子、硫黄原子または窒素原子が結合した基が導入された芳香族環基がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する化合物を用いることもできる。
　また、色材として、芳香族環に電子供与性基が導入された芳香族環基ＡｒＤ１がジケトピロロピロール骨格に結合した構造を有する顔料（以下、顔料ＤＰＰともいう）を用いることもできる。顔料ＤＰＰは、ジケトピロロピロール顔料である。なお、本明細書において、電子供与性基とは、有機電子論において、誘起効果や共鳴効果により、置換した原子団に電子を供与する原子団である。電子供与性基としては、Ｈａｍｍｅｔｔ式の置換基定数（σｐ＋）として、負の値をとるものが挙げられる。Ｈａｍｍｅｔｔ式の置換基定数（σｐ＋）は、大学院講義有機化学Ｉ．分子構造と反応・有機金属化学　第１版の１７５ページから引用することができる。電子供与性基は、Ｈａｍｍｅｔｔ式の置換基定数（σｐ＋）が－０．０１以下の基であることが好ましく、－０．１５以下の基であることがより好ましく、－０．３以下の基であることが更に好ましい。
　顔料ＤＰＰにおいて、上記芳香族環基ＡｒＤ１が有する電子供与性基としては、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基およびアミノ基が挙げられる。
　アルキル基、アルコキシ基およびアルキルチオ基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましい。これらの基は直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましい。
　アリール基およびアリールオキシ基の炭素数は、６～２０が好ましく、６～１０がより好ましい。
　アミノ基としては、－ＮＲａ１Ｒａ２で表される基が挙げられる。Ｒａ１およびＲａ２は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒａ１とＲａ２が結合して環を形成してもよい。Ｒａ１およびＲａ２が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Ｒａ１およびＲａ２が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。Ｒａ１およびＲａ２が表す複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。
　電子供与性基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基およびアミノ基が好ましく、赤色に適した分光特性の膜が得られやすいという理由からアルキル基、アルコキシ基およびアリール基がより好ましく、アルキル基およびアリール基が更に好ましく、アルキル基が特に好ましい。
　顔料ＤＰＰは、式（ＤＰＰ１）で表される化合物であることが好ましく、式（ＤＰＰ２）で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　上記式中、ＲＤ１１およびＲＤ１２はそれぞれ独立して置換基を表し、
　ＲＤ２１およびＲＤ２２はそれぞれ独立して電子供与性基を表し、
　ｎ１１およびｎ１２はそれぞれ独立して０～４の整数を表す。
　ＲＤ１１およびＲＤ１２が表す置換基としては、後述する置換基Ｔの群から選ばれる基および上述した電子供与性基が挙げられ、電子供与性基であることが好ましい。ｎ１１が２以上の場合、ｎ１１個のＲＤ１１は同一であってもよく、それぞれが異なっていてもよい。また、ｎ１２が２以上の場合、ｎ１２個のＲＤ１２は同一であってもよく、それぞれが異なっていてもよい。
　ＲＤ２１およびＲＤ２２が表す電子供与性基としては、上述した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　ｎ１１およびｎ１２はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、０～３の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０または１であることが更に好ましく、０であることが特に好ましい。
（置換基Ｔ）
　置換基Ｔとしては、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、複素環基、－ＯＲｔ１、－ＣＯＲｔ１、－ＣＯＯＲｔ１、－ＯＣＯＲｔ１、－ＮＲｔ１Ｒｔ２、－ＮＲｔ３ＣＯＲｔ１、－ＣＯＮＲｔ１Ｒｔ２、－ＮＲｔ３ＣＯＮＲｔ１Ｒｔ２、－ＮＲｔ３ＣＯＯＲｔ１、－ＳＲｔ１、－ＳＯ２Ｒｔ１、－ＳＯ２ＯＲｔ１、－ＮＲｔ３ＳＯ２Ｒｔ１または－ＳＯ２ＮＲｔ１Ｒｔ２が挙げられる。Ｒｔ１～Ｒｔ３は、それぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒｔ１とＲｔ２が結合して環を形成してもよい。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
　アルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
　アルケニル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよいが、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。
　アリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。
　複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環基は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環基の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。
　アルキル基、アリール基および複素環基は、置換基を有していてもよく、無置換であってもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　顔料ＤＰＰの具体例としては、下記構造の化合物が挙げられる。式（Ｒ１）で表される構造の化合物はカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）ピグメントレッド２７２であり、式（Ｒ１０）で表される構造の化合物はＣ．Ｉ．ピグメントレッド２６４である。顔料ＤＰＰは、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４およびＣ．Ｉ．ピグメントレッド２７２から選ばれる少なくとも１種を含むことが好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２７２を含むことがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　また、有彩色色材として、染料を用いることもできる。染料としては特に制限はなく、公知の染料が使用できる。例えば、ピラゾールアゾ化合物、アニリノアゾ化合物、トリアリールメタン化合物、アントラキノン化合物、アントラピリドン化合物、ベンジリデン化合物、オキソノール化合物、ピラゾロトリアゾールアゾ化合物、ピリドンアゾ化合物、シアニン化合物、フェノチアジン化合物、ピロロピラゾールアゾメチン化合物、キサンテン化合物、フタロシアニン化合物、ベンゾピラン化合物、インジゴ化合物、ピロメテン化合物が挙げられる。また、特開２０１２－１５８６４９号公報に記載のチアゾール化合物、特開２０１１－１８４４９３号公報に記載のアゾ化合物、特開２０１１－１４５５４０号公報に記載のアゾ化合物を用いることもできる。また、染料としては、色素多量体を用いることもできる。色素多量体は、一分子中に、色素構造を２以上有するものであり、色素構造を３以上有することが好ましい。上限は、特に限定はないが、１００以下とすることもできる。一分子中に有する複数の色素構造は、同一の色素構造であってもよく、異なる色素構造であってもよい。色素多量体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２０００～５００００が好ましい。下限は、３０００以上がより好ましく、６０００以上がさらに好ましい。上限は、３００００以下がより好ましく、２００００以下がさらに好ましい。色素多量体は、特開２０１１－２１３９２５号公報、特開２０１３－０４１０９７号公報、特開２０１５－０２８１４４号公報、特開２０１５－０３０７４２号公報、特開２０１６－１０２１９１号公報、国際公開第２０１６／０３１４４２号等に記載されている化合物を用いることもできる。
　有彩色色材は、２種以上組み合わせて、赤色、緑色、青色、シアン色、マゼンタ色、又は、黄色を形成していてもよい。例えば、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ７とＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ３６とＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１３９とＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１８５との組み合わせで緑色が形成されていてもよく、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｇｒｅｅｎ５８とＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１５０とＣ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｙｅｌｌｏｗ１８５との組み合わせで緑色が形成されていてもよい。
　また、有彩色色材を２種以上組み合わせて用いる場合、２種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を形成していてもよい。そのような組み合わせとしては、例えば以下の（１）～（７）の態様が挙げられる。感光性組成物中に有彩色色材を２種以上含み、かつ、２種以上の有彩色色材の組み合わせで黒色を呈している場合においては、本発明の感光性組成物は、近赤外線透過フィルタ形成用の感光性組成物として好ましく用いることができる。
（１）赤色色材と青色色材とを含有する態様。
（２）赤色色材と青色色材と黄色色材とを含有する態様。
（３）赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
（４）赤色色材と青色色材と黄色色材と紫色色材と緑色色材とを含有する態様。
（５）赤色色材と青色色材と黄色色材と緑色色材とを含有する態様。
（６）赤色色材と青色色材と緑色色材とを含有する態様。
（７）黄色色材と紫色色材とを含有する態様。
（黒色色材）
　黒色色材として、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、アゾ化合物などが挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物、ペリレン化合物が好ましい。ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、特表２０１２－５１５２３４号公報、国際公開第２０１４／２０８３４８号、特表２０１５－５２５２６０号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」として入手可能である。ペリレン化合物としては、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　３１、３２などが挙げられる。アゾメチン化合物としては、特開平０１－１７０６０１号公報、特開平０２－０３４６６４号公報などに記載の化合物が挙げられ、例えば、大日精化社製の「クロモファインブラックＡ１１０３」として入手できる。
　感光性組成物の全固形分中における色材の含有量は、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましく、４５質量％以上であることがより一層好ましく、５０質量％以上であることが特に好ましい。また、感光性組成物の全固形分中における色材の含有量の上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。
　また、感光性組成物の全固形分中における顔料の含有量は、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましく、４５質量％以上であることがより一層好ましく、５０質量％以上であることが特に好ましい。また、感光性組成物の全固形分中における顔料の含有量の上限は、８０質量％以下であることが好ましく、７０質量％以下であることがより好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。
＜＜光重合開始剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基ＡｒＯＸ１を有するオキシム化合物ＯＸ（以下、オキシム化合物ＯＸともいう）を含むものが用いられる。オキシム化合物ＯＸにおいて、芳香族環基ＡｒＯＸ１は、電子求引性基が結合している芳香族環を介して、オキシム化合物ＯＸのオキシム構造を含む部位と結合していることが好ましい。すなわち、芳香族環基ＡｒＯＸ１の電子求引性基は、電子求引性基によって電子求引された芳香族環を介して、オキシム化合物ＯＸのオキシム構造を含む部位と結合していることが好ましい。具体的には、芳香族環基ＡｒＯＸ１の芳香族環側が、オキシム化合物ＯＸのオキシム構造を含む部位との結合側であることが好ましい。なお、本明細書において、電子求引性基とは、有機電子論において、誘起効果や共鳴効果により、置換した原子団から電子を求引する原子団のことである。電子求引性基としては、Ｈａｍｍｅｔｔ式の置換基定数（σｐ－）として、正の値をとるものが挙げられる。Ｈａｍｍｅｔｔ式の置換基定数（σｐ－）は、大学院講義有機化学Ｉ．分子構造と反応・有機金属化学　第１版の１７５ページから引用することができる。電子求引性基は、Ｈａｍｍｅｔｔ式の置換基定数（σｐ－）が０．０１以上の基であることが好ましく、０．１以上の基であることがより好ましく、０．３以上の基であることが更に好ましい。
　オキシム化合物ＯＸにおいて、上記芳香族環基ＡｒＯＸ１が有する電子求引性基としては、アシル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基が挙げられ、アシル基およびニトロ基が好ましく、より耐光性に優れた膜を形成しやすいという理由からアシル基であることがより好ましく、ベンゾイル基であることが更に好ましい。ベンゾイル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられ、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基またはアミノ基であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基またはアミノ基であることがより好ましく、アルコキシ基、アルキルスルファニル基またはアミノ基であることが更に好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基およびアミノ基としては後述するＲＯＸ１１が表すこれらの基として説明した基が挙げられる。
　上記芳香族環基ＡｒＯＸ１は、式（ＯＲ－１）で表される基であることが好ましい。この態様によれば、上述した本発明の効果がより顕著に発揮される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 　式中、ＲＯＸ１は置換基を表し、ＲＯＸ２は電子求引性基を表し、ｎは０～４の整数を表し、波線は結合手を表す。
　式（ＯＲ－１）において、ＲＯＸ１が表す置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基および上述した電子求引性基が挙げられ、電子求引性基であることが好ましい。ｎが２以上の場合、ｎ個のＲＯＸ１は同一であっていてもよく、それぞれが異なっていてもよい。
　式（ＯＲ－１）において、ＲＯＸ２が表す電子求引性基としては、上述した基が挙げられ、好ましい範囲も同様である。
　式（ＯＲ－１）において、ｎは０～４の整数を表し、０～３の整数であることが好ましく、０～２の整数であることがより好ましく、０または１であることが更に好ましく、０であることが特に好ましい。
　式（ＯＲ－１）において、波線は結合手を表す。式（ＯＲ－１）における波線の位置にて、オキシム化合物ＯＸを構成する他の原子団と結合してオキシム化合物ＯＸを構成する。
　オキシム化合物ＯＸは、式（ＯＲ－１１）で表される基および式（ＯＲ－１２）で表される基から選ばれる少なくとも１種の基を有することが好ましく、式（ＯＲ－１２）で表される基を有することがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 　式中、ＲＯＸ１１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、ホスフィノイル基、カルバモイル基またはスルファモイル基を表し、
　ＲＯＸ１２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基またはアミノ基を表し、
　波線は結合手を表す。
　ＲＯＸ１１は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基または複素環基であることが好ましく、アルキル基、アリール基または複素環基であることがより好ましく、アルキル基であることが更に好ましい。また、ＲＯＸ１２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基またはアシルオキシ基が好ましく、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であることがより好ましく、アルキル基であることが更に好ましい。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表す上述の基は更に置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルキル基の炭素数は、１～１８が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキル基の炭素数が２以上の場合、炭素原子間にエーテル結合を含んでいてもよい。ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、イソブチル基、イソペンチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｓｅｃ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－ペンチル基、ｔｅｒｔ－オクチル基、ネオペンチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、ボロニル基、４－デシルシクロヘキシル基等が挙げられる。また、炭素原子間にエーテル結合を含むアルキル基の具体例としては、－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ３、－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ３、－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ３、－（ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ）ｎ－ＣＨ３（ここでｎは１から８である）、－（ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ）ｍ－ＣＨ３（ここでｍは１から５である）、－ＣＨ２－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ３－、－ＣＨ２－ＣＨ－（ＯＣＨ３）２及び以下に示す基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルケニル基の炭素数は、２～１８が好ましく、２～１５がより好ましく、２～８が更に好ましい。アルケニル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、イソプロペニル基、イソブテニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、１，３－ブタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロペンタジエニル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルコキシ基の炭素数は１～１８が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルコキシ基の炭素数が２以上の場合、炭素原子間にエーテル結合を含んでいてもよい。ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルコキシ基の具体例としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、イソプロピルオキシ基、イソブチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ブチルオキシ基、ｓｅｃ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－ペンチルオキシ基、ｔｅｒｔ－オクチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、アダマンチルオキシ基、ノルボルニルオキシ基、ボロニルオキシ基、４－デシルシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。また、炭素原子間にエーテル結合を含むアルコキシ基の具体例としては、－Ｏ－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ３、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ３、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ３、－Ｏ－（ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ）ｎ－ＣＨ３（ここでｎは１から８である）、－Ｏ－（ＣＨ２－ＣＨ２－ＣＨ２－Ｏ）ｍ－ＣＨ３（ここでｍは１から５である）、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ（ＣＨ３）－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ３－、－Ｏ－ＣＨ２－ＣＨ－（ＯＣＨ３）２及び以下に示す基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアリール基の炭素数は、６～２４が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アンスリル基、９－アンスリル基、２－フェナントリル基、３－フェナントリル基、９－フェナントリル基、１－ピレニル基、５－ナフタセニル基、１－インデニル基、２－アズレニル基、１－アセナフチル基、２－フルオレニル基、９－フルオレニル基、３－ペリレニル基、ｏ－トリル基、ｍ－トリル基、ｐ－トリル基、２，３－キシリル基、２，５－キシリル基、メシチル基、ｐ－クメニル基、ｐ－ドデシルフェニル基、ｐ－シクロヘキシルフェニル基、４－ビフェニル基、ｏ－フルオロフェニル基、ｍ－クロロフェニル基、ｐ－ブロモフェニル基、ｐ－ヒドロキシフェニル基、ｍ－カルボキシフェニル基、ｏ－メルカプトフェニル基、ｐ－シアノフェニル基、ｍ－ニトロフェニル基、ｍ－アジドフェニル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアリールオキシ基の炭素数は、６～２４が好ましく、６～１２がより好ましい。アリールオキシ基の具体例としては、フェノキシ基、１ーナフチルオキシ基、２－ナフチルオキシ基、９－アンスリルオキシ基、９－フェナントリルオキシ基、１－ピレニルオキシ基、５－ナフタセニルオキシ基、１－インデニルオキシ基、２－アズレニルオキシ基、１－アセナフチルオキシ基、９－フルオレニルオキシ基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表す複素環基および複素環オキシ基の複素環は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。複素環は、単環または縮合数が２～４の縮合環が好ましい。複素環の環を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環の環を構成するヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子が好ましい。複素環の環を構成する炭素原子の数は３～３０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１２がより好ましい。
複素環基の具体例としては、２－チエニル基、２－ベンゾチエニル基、ナフト［２，３－ｂ］チエニル基、３－チアントレニル基、２－チアンスレニル基、２－フリル基、２－ベンゾフリル基、ピラニル基、イソベンゾフラニル基、クロメニル基、キサンテニル基、フェノキサチイニル基、２Ｈ－ピロリル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、インドリジニル基、イソインドリル基、３Ｈ－インドリル基、２－インドリル基、３－インドリル基、１Ｈ－インダゾリル基、プリニル基、４Ｈ－キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサニリル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、プテリジニル基、４ａＨ－カルバゾリル基、２－カルバゾリル基、３－カルバゾリル基、β－カルボリニル基、フェナントリジニル基、２－アクリジニル基、ペリミジニル基、フェナントロリニル基、フェナジニル基、フェナルサジニル基、イソチアゾリル基、フェノチアジニル基、イソキサゾリル基、フラザニル基、３－フェニキサジニル基、イソクロマニル基、クロマニル基、ピロリジニル基、ピロリニル基、イミダゾリジニル基、イミダゾリニル基、ピラゾリジニル基、ピラゾリニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、インドリニル基、イソインドリニル基、キヌクリジニル基、モルホリニル基、チオキサントリル基、４－キノリニル基、４－イソキノリル基、３－フェノチアジニル基、２－フェノキサチイニル基、３－クマリニル基等が挙げられる。複素環オキシ基の具体例としては、２－フラニルオキシ基、２－チエニルオキシ基、２－インドリルオキシ基、３－インドリルオキシ基、２－ベンゾフリルオキシ基、２－ベンゾチエニルオキシ基、２－カルバゾリルオキシ基、３－カルバゾリルオキシ基、４－カルバゾリルオキシ基、９－アクリジニルオキシ基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルキルスルファニル基の炭素数は１～１８が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキルスルファニル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。アルキルスルファニル基の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、デシルチオ基、ドデシルチオ基、オクタデシルチオ基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアリールスルファニル基の炭素数は６～１８が好ましい。アリールスルファニル基の具体例としては、フェニルチオ基、１－ナフチルチオ基、２－ナフチルチオ基、９－アンスリルチオ基、９－フェナントリルチオ基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルキルスルフィニル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキルスルフィニル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。アルキルスルフィニル基の具体例としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、イソプロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、ヘキシルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、オクチルスルフィニル基、２－エチルヘキシルスルフィニル基、デカノイルスルフィニル基、ドデカノイルスルフィニル基、オクタデカノイルスルフィニル基、シアノメチルスルフィニル基、メチルオキシメチルスルフィニル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアリールスルフィニル基の炭素数は６～３０が好ましい。アリールスルフィニル基の具体例としては、フェニルスルフィニル基、１－ナフチルスルフィニル基、２－ナフチルスルフィニル基、２－クロロフェニルスルフィニル基、２－メチルフェニルスルフィニル基、２－メチルオキシフェニルスルフィニル基、２－ブチルオキシフェニルスルフィニル基、３－クロロフェニルスルフィニル基、３－トリフルオロメチルフェニルスルフィニル基、３－シアノフェニルスルフィニル基、３－ニトロフェニルスルフィニル基、４－フルオロフェニルスルフィニル基、４－シアノフェニルスルフィニル基、４－メチルオキシフェニルスルフィニル基、４－メチルスルファニルフェニルスルフィニル基、４－フェニルスルファニルフェニルスルフィニル基、４－ジメチルアミノフェニルスルフィニル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアルキルスルホニル基の炭素数は１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましい。アルキルスルホニル基は、直鎖、分岐のいずれでもよい。アルキルスルホニル基の具体例としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基、ブチルスルホニル基、ヘキシルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、オクチルスルホニル基、２－エチルヘキシルスルホニル基、デカノイルスルホニル基、ドデカノイルスルホニル基、オクタデカノイルスルホニル基、シアノメチルスルホニル基、メチルオキシメチルスルホニル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアリールスルホニル基の炭素数は６～３０が好ましい。アリールスルホニル基の具体例としては、フェニルスルホニル基、１－ナフチルスルホニル基、２－ナフチルスルホニル基、２－クロロフェニルスルホニル基、２－メチルフェニルスルホニル基、２－メチルオキシフェニルスルホニル基、２－ブチルオキシフェニルスルホニル基、３－クロロフェニルスルホニル基、３－トリフルオロメチルフェニルスルホニル基、３－シアノフェニルスルホニル基、３－ニトロフェニルスルホニル基、４－フルオロフェニルスルホニル基、４－シアノフェニルスルホニル基、４－メチルオキシフェニルスルホニル基、４－メチルスルファニルフェニルスルホニル基、４－フェニルスルファニルフェニルスルホニル基、４－ジメチルアミノフェニルスルホニル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１が表すアシル基としては、カルボニル基に、水素原子、炭素数１～１８のアルキル基、炭素数２～１８のアルケニル基、炭素数１～１８のアルコキシ基、炭素数６～１８アリール基、炭素数６～１８アリールオキシ基または複素環基が結合した基が挙げられる。アシル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、ピバロイル基、ラウロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、シクロペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、イソクロトノイル基、オレオイル基、シンナモイル基ベンゾイル基、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、オクタデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、ベンゾイル基、トルオイル基、１－ナフトイル基、２－ナフトイル基、９－アンスリルカルボニル基、フェニルオキシカルボニル基、４－メチルフェニルオキシカルボニル基、３－ニトロフェニルオキシカルボニル基、４－ジメチルアミノフェニルオキシカルボニル基、２－メチルスルファニルフェニルオキシカルボニル基、１－ナフトイルオキシカルボニル基、２－ナフトイルオキシカルボニル基、９－アンスルリルオキシカルボニル基、３－フロイル基、２－テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアシルオキシ基の炭素数は２～２０が好ましい。アシルオキシ基の具体例としては、アセチルオキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、トリフルオロメチルカルボニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、１－ナフチルカルボニルオキシ基、２－ナフチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１およびＲＯＸ１２が表すアミノ基としては、－ＮＨ２、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルキルアリールアミノ基、ベンジルアミノ基、ジベンジルアミノ基等が挙げられる。アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、ドデシルアミノ基、オクタデシルアミノ基、イソプロピルアミノ基、イソブチルアミノ基、イソペンチルアミノ基、ｓｅｃ－ブチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ブチルアミノ基、ｓｅｃ－ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ－ペンチルアミノ基、ｔｅｒｔ－オクチルアミノ基、ネオペンチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、シクロブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、シクロヘプチルアミノ基、シクロオクチルアミノ基、シクロドデシルアミノ基、１－アダマンタミノ基、２－アダマンタミノ基等が挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジペンチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、ジヘプチルアミノ基、ジオクチルアミノ基、ジノニルアミノ基、ジデシルアミノ基、ジドデシルアミノ基、ジオクタデシルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジイソペンチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、メチルイソブチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、ピペラジノ基等が挙げられる。アリールアミノ基としては、アニリノ基、１－ナフチルアミノ基、２－ナフチルアミノ基、ｏ－トルイジノ基、ｍ－トルイジノ基、ｐ－トルイジノ基、２－ビフェニルアミノ基、３－ビフェニルアミノ基、４－ビフェニルアミノ基、１－フルオレンアミノ基、２－フルオレンアミノ基、２－チアゾールアミノ基、ｐ－ターフェニルアミノ基等が挙げられる。ジアリールアミノ基としては、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、Ｎ－フェニル－１－ナフチルアミノ基、Ｎ－フェニル－２－ナフチルアミノ基等が挙げられる。アルキルアリールアミノ基としては、Ｎ－メチルアニリノ基、Ｎ－メチル－２－ピリジノ基、Ｎ－エチルアニリノ基、Ｎ－プロピルアニリノ基、Ｎ－ブチルアニリノ基、Ｎ－イソプロピル、Ｎ－ペンチルアニリノ基、Ｎ－エチルアニリノ基、Ｎ－メチル－１－ナフチルアミノ基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１が表すホスフィノイル基の炭素数は２～５０が好ましい。ホスフィノイル基の具体例としては、ジメチルホスフィノイル基、ジエチルホスフィノイル基、ジプロピルホスフィノイル基、ジフェニルホスフィノイル基、ジメトキシホスフィノイル基、ジエトキシホスフィノイル基、ジベンゾイルホスフィノイル基、ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）ホスフィノイル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１が表すカルバモイル基の炭素数は２～３０が好ましい。カルバモイル基の具体例としては、Ｎ－メチルカルバモイル基、Ｎ－エチルカルバモイル基、Ｎ－プロピルカルバモイル基、Ｎ－ブチルカルバモイル基、Ｎ－ヘキシルカルバモイル基、Ｎ－シクロヘキシルカルバモイル基、Ｎ－オクチルカルバモイル基、Ｎ－デシルカルバモイル基、Ｎ－オクタデシルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基、Ｎ－２－メチルフェニルカルバモイル基、Ｎ－２－クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ－２－イソプロポキシフェニルカルバモイル基、Ｎ－２－（２－エチルヘキシル）フェニルカルバモイル基、Ｎ－３－クロロフェニルカルバモイル基、Ｎ－３－ニトロフェニルカルバモイル基、Ｎ－３－シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ－４－メトキシフェニルカルバモイル基、Ｎ－４－シアノフェニルカルバモイル基、Ｎ－４－メチルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ－４－フェニルスルファニルフェニルカルバモイル基、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ－ジブチルカルバモイル基、Ｎ、Ｎ－ジフェニルカルバモイル基等が挙げられる。
　ＲＯＸ１１が表すスルファモイル基の炭素数は０～３０が好ましい。スルファモイル基の具体例としては、スルファモイル基、Ｎ－アルキルスルファモイル基、Ｎ－アリールスルファモイル基、Ｎ、Ｎ－ジアルキルスルファモイル基、Ｎ、Ｎ－ジアリールスルファモイル基、Ｎ－アルキル－Ｎ－アリールスルファモオイル基等が挙げられる。より具体的には、Ｎ－メチルスルファモイル基、Ｎ－エチルスルファモイル基、Ｎ－プロピルスルファモイル基、Ｎ－ブチルスルファモイル基、Ｎ－ヘキシルスルファモイル基、Ｎ－シクロヘキシルスルファモイル基、Ｎ－オクチルスルファモイル基、Ｎ－２－エチルヘキシルスルファモイル基、Ｎ－デシルスルファモイル基、Ｎ－オクタデシルスルファモイル基、Ｎ－フェニルスルファモイル基、Ｎ－２－メチルフェニルスルファモイル基、Ｎ－２－クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ－２－メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ－２－イソプロポキシフェニルスルファモイル基、Ｎ－３－クロロフェニルスルファモイル基、Ｎ－３－ニトロフェニルスルファモイル基、Ｎ－３－シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ－４－メトキシフェニルスルファモイル基、Ｎ－４－シアノフェニルスルファモイル基、Ｎ－４－ジメチルアミノフェニルスルファモイル基、Ｎ－４－メチルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ－４－フェニルスルファニルフェニルスルファモイル基、Ｎ－メチル－Ｎ－フェニルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジブチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジフェニルスルファモイル基等が挙げられる。
　式（ＯＲ－１１）および式（ＯＲ－１１）において、波線は結合手を表す。式（ＯＲ－１１）における波線の位置、式（ＯＲ－１２）における波線の位置にて、オキシム化合物ＯＸを構成する他の原子団と結合してオキシム化合物ＯＸを構成する。
　オキシム化合物ＯＸは、式（ＯＸ１）で表される化合物および式（ＯＸ２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、得られる画素の密着性をより古城できるという理由から式（ＯＸ２）で表される化合物であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 　式中、ＲＸ１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、ホスフィノイル基、カルバモイル基またはスルファモイル基を表し、
　ＲＸ２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基またはアミノ基を表し、
　ＲＸ３～ＲＸ１４は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す；
　ただし、ＲＸ１０～ＲＸ１４のうち少なくとも一つは、電子求引性基である。
　上記式において、ＲＸ１は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基または複素環基であることが好ましく、アルキル基、アリール基または複素環基であることがより好ましく、アルキル基であることが更に好ましい。また、ＲＸ２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基またはアシルオキシ基が好ましく、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であることがより好ましく、アルキル基であることが更に好ましい。
　上記式のＲＸ１は、上述した式（ＯＲ－１１）および式（ＯＲ－１２）におけるＲＯＸ１１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　上記式のＲＸ２は、上述した式（ＯＲ－１１）および式（ＯＲ－１２）におけるＲＯＸ１２と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　ＲＸ３～ＲＸ１４は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す。
　ＲＸ３～ＲＸ９が表す置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基、上記式（ＯＲ－１１）で表される基および上記式（ＯＲ－１２）で表される基が挙げられる。
　ＲＸ３～ＲＸ５は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基、またはアミノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、アリール基または複素環基であることがより好ましく、水素原子、ニトロ基、アルキル基またはアリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基およびアミノ基としては上述したＲＯＸ１１が表すこれらの基として説明した基が挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基およびアミノ基は更に置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　ＲＸ６～ＲＸ１０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、上記式（ＯＲ－１１）で表される基または上記式（ＯＲ－１２）で表される基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、複素環基またはアミノ基であることがより好ましく、水素原子、シアノ基、アルキル基またはアリール基であることが更に好ましく、水素原子、アルキル基またはアリール基であることがより一層好ましく、水素原子またはアルキル基であることが更に一層好ましく、水素原子であることが特に好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基およびアミノ基としては上述したＲＯＸ１１が表すこれらの基として説明した基が挙げられる。アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基およびアミノ基は更に置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　ＲＸ１０～ＲＸ１４が表す置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基および上述した電子求引性基が挙げられる。ただし、ＲＸ１０～ＲＸ１４のうち少なくとも一つは、電子求引性基である。
　ＲＸ１０～ＲＸ１４が表す置換基は、ニトロ基、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基、アミノ基であることが好ましい。アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基、アミノ基としては上述したＲＯＸ１１が表すこれらの基として説明した基が挙げられる。アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基およびアミノ基は更に置換基を有していてもよい。さらなる置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　また、ＲＸ１０～ＲＸ１４が表す電子求引性基としては、アシル基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、シアノ基が挙げられ、アシル基およびニトロ基が好ましく、より耐光性に優れた膜を形成しやすいという理由からアシル基であることがより好ましく、ベンゾイル基であることが更に好ましい。ベンゾイル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられ、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基またはアミノ基であることが好ましく、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基またはアミノ基であることがより好ましく、アルコキシ基、アルキルスルファニル基またはアミノ基であることが更に好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルケニル基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アシル基およびアミノ基としては上述したＲＯＸ１１が表すこれらの基として説明した基が挙げられる。
　上記式において、ＲＸ１２が電子求引性基であり、ＲＸ１０、ＲＸ１１、ＲＸ１３、ＲＸ１４は水素原子であることが好ましい。
　オキシム化合物ＯＸの具体例としては、下記構造の化合物、および、特許第４６００６００号公報の段落番号００８３～０１０５に記載の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　本発明の感光性組成物に含まれる光重合開始剤は、上述したオキシム化合物ＯＸ以外の他の光重合開始剤（以下、他の光重合開始剤ともいう）をさらに含んでいてもよい。
　他の光重合開始剤としては、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を有する化合物、オキサジアゾール骨格を有する化合物など）、アシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物などが挙げられ、トリハロメチルトリアジン化合物、ベンジルジメチルケタール化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、アシルホスフィン化合物、ホスフィンオキサイド化合物、メタロセン化合物、オキシム化合物、トリアリールイミダゾールダイマー、オニウム化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物、シクロペンタジエン－ベンゼン－鉄錯体、ハロメチルオキサジアゾール化合物および３－アリール置換クマリン化合物であることが好ましく、オキシム化合物、α－ヒドロキシケトン化合物、α－アミノケトン化合物、および、アシルホスフィン化合物から選ばれる化合物であることがより好ましく、開始剤効率が高いという理由からオキシム化合物またはα－アミノケトン化合物であることが更に好ましい。また、他の光重合開始剤としては、特開２０１４－１３０１７３号公報の段落００６５～０１１１、特許第６３０１４８９号公報に記載された化合物、ＭＡＴＥＲＩＡＬ　ＳＴＡＧＥ　３７～６０ｐ，ｖｏｌ．１９，Ｎｏ．３，２０１９に記載されたパーオキサイド系光重合開始剤、国際公開第２０１８／２２１１７７号に記載の光重合開始剤、国際公開第２０１８／１１０１７９号に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４３８６４号公報に記載の光重合開始剤、特開２０１９－０４４０３０号公報に記載の光重合開始剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　α－ヒドロキシケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ　１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ　２９５９、Ｏｍｎｉｒａｄ　１２７（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　１２７（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。α－アミノケトン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９、Ｏｍｎｉｒａｄ　３６９Ｅ、Ｏｍｎｉｒａｄ　３７９ＥＧ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３６９Ｅ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。アシルホスフィン化合物の市販品としては、Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ（以上、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　８１９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＴＰＯ（以上、ＢＡＳＦ社製）などが挙げられる。
　他の光重合開始剤として用いられるオキシム化合物としては、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１６５３－１６６０）に記載の化合物、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年、ｐｐ．１５６－１６２）に記載の化合物、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年、ｐｐ．２０２－２３２）に記載の化合物、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特表２００４－５３４７９７号公報に記載の化合物、特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物、特開２０１７－０１９７６６号公報に記載の化合物、特許第６０６５５９６号公報に記載の化合物、国際公開第２０１５／１５２１５３号に記載の化合物、国際公開第２０１７／０５１６８０号に記載の化合物、特開２０１７－１９８８６５号公報に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３８に記載の化合物、国際公開第２０１３／１６７５１５号に記載の化合物などが挙げられる。他の光重合開始剤として用いられるオキシム化合物の市販品としては、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０４（以上、ＢＡＳＦ社製）、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）が挙げられる。
　他の光重合開始剤として用いられるオキシム化合物としては、フルオレン環を有するオキシム化合物を用いることもできる。フルオレン環を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１４－１３７４６６号公報に記載の化合物が挙げられる。
　他の光重合開始剤として用いられるオキシム化合物としては、カルバゾール環の少なくとも１つのベンゼン環がナフタレン環となった骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。そのようなオキシム化合物の具体例としては、国際公開第２０１３／０８３５０５号に記載の化合物が挙げられる。
　他の光重合開始剤として用いられるオキシム化合物としては、フッ素原子を有するオキシム化合物を用いることもできる。フッ素原子を有するオキシム化合物の具体例としては、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物、特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０、特開２０１３－１６４４７１号公報に記載の化合物（Ｃ－３）などが挙げられる。
　他の光重合開始剤として用いられるオキシム化合物としては、ベンゾフラン骨格を有するオキシム化合物を用いることもできる。具体例としては、国際公開第２０１５／０３６９１０号に記載されているＯＥ－０１～ＯＥ－７５が挙げられる。
　他の光重合開始剤として用いられるオキシム化合物としては、カルバゾール骨格にヒドロキシ基を有する置換基が結合したオキシム化合物を用いることもできる。このような光重合開始剤としては国際公開第２０１９／０８８０５５号に記載された化合物などが挙げられる。
　感光性組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量は０．１～２０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、１０質量％以下が好ましく、８質量％以下がより好ましい。
　感光性組成物の全固形分中におけるオキシム化合物ＯＸの含有量は０．１～２０質量％が好ましい。下限は、０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、１０質量％以下が好ましく、８質量％以下がより好ましい。
　感光性組成物に含まれる光重合開始剤中におけるオキシム化合物ＯＸの含有量は、２０～１００質量％であることが好ましく、３５～１００質量％であることがより好ましく、４０～１００質量％であることが更に好ましく、５０～１００質量％であることがより一層好ましく、６０～１００質量％であることが特に好ましい。
　感光性組成物に含まれる光重合開始剤の好ましい一態様として光重合開始剤が実質的にオキシム化合物ＯＸのみである態様が挙げられる。この態様によれば、本発明の効果がより顕著に奏される。なお、本明細書において、光重合開始剤が実質的にオキシム化合物ＯＸのみである場合とは、光重合開始剤中におけるオキシム化合物ＯＸの含有量が９９質量％以上であることを意味し、９９．９質量％以上であることが好ましく、光重合開始剤がオキシム化合物ＯＸのみであることがより好ましい。
　感光性組成物に含まれる光重合開始剤の他の好ましい態様として光重合開始剤がオキシム化合物ＯＸと、オキシム化合物ＯＸ以外の他の光重合開始剤とを含む態様が挙げられる。この態様によれば、膜全体をより均一に硬化させることができ、表面粗さのより小さい膜を形成することができる。この態様において、他の光重合開始剤としては、オキシム化合物およびα－アミノケトン化合物から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。また、他の光重合開始剤の含有量は、オキシム化合物ＯＸの１００質量部に対して１０～２００質量部であることが好ましく、２０～１００質量部であることがより好ましく、３０～８０質量部であることが更に好ましい。
＜＜重合性モノマー＞＞
　本発明の感光性組成物は、重合性モノマーを含有する。重合性モノマーとしては、エチレン性不飽和結合含有基を有する化合物であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミド基などが挙げられ、（メタ）アクリロイルオキシ基であることが好ましい。本発明で用いられる重合性モノマーは、ラジカル重合性モノマーであることが好ましい。
　重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上含む化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～１５個含む化合物（３～１５官能の重合性モノマー）であることがより好ましく、エチレン性不飽和結合含有基を３～６個含む化合物（３～６官能の重合性モノマー）であることが更に好ましい。なかでも、重合性モノマーとして、エチレン性不飽和結合含有基を３個有する化合物（３官能の重合性モノマー）を用いることが特に好ましい。また、重合性モノマーは、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物であることがより好ましい。なかでも、重合性モノマーとして、３官能の（メタ）アクリレート化合物を用いることが特に好ましい。重合性モノマーの具体例としては、特開２００９－２８８７０５号公報の段落番号００９５～０１０８、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２２７、特開２００８－２９２９７０号公報の段落番号０２５４～０２５７、特開２０１３－２５３２２４号公報の段落番号００３４～００３８、特開２０１２－２０８４９４号公報の段落番号０４７７、特開２０１７－０４８３６７号公報、特許第６０５７８９１号公報、特許第６０３１８０７号公報に記載されている化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬（株）製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としてはＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製、ＮＫエステルＡ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学工業（株）製）、およびこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコールおよび／またはプロピレングリコール残基を介して結合している構造の化合物（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が挙げられる。また、重合性モノマーとしては、ジグリセリンＥＯ（エチレンオキシド）変性（メタ）アクリレート（市販品としてはＭ－４６０；東亞合成製）、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（新中村化学工業（株）製、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（日本化薬（株）製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＨＤＤＡ）、ＲＰ－１０４０（日本化薬（株）製）、アロニックスＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、ＮＫオリゴＵＡ－７２００（新中村化学工業（株）製）、Ｕ－６ＬＰＡ（ウレタンアクリレート、新中村化学工業（株）製）、ＤＰＨＡ－４０Ｈ（日本化薬（株）製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＡＨ－６００、Ｔ－６００、ＡＩ－６００、ＬＩＮＣ－２０２ＵＡ（以上、共栄社化学（株）製）、８ＵＨ－１００６、８ＵＨ－１０１２（以上、大成ファインケミカル（株）製）、ライトアクリレートＰＯＢ－Ａ０（共栄社化学（株）製）などを用いることもできる。
　また、重合性モノマーとして、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの３官能の（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。３官能の（メタ）アクリレート化合物の市販品としては、アロニックスＭ－３０９、Ｍ－３１０、Ｍ－３２１、Ｍ－３５０、Ｍ－３６０、Ｍ－３１３、Ｍ－３１５、Ｍ－３０６、Ｍ－３０５、Ｍ－３０３、Ｍ－４５２、Ｍ－４５０（以上、東亞合成（株）製）、ＮＫエステル　Ａ９３００、Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ、Ａ－ＧＬＹ－２０Ｅ、Ａ－ＴＭＭ－３、Ａ－ＴＭＭ－３Ｌ、Ａ－ＴＭＭ－３ＬＭ－Ｎ、Ａ－ＴＭＰＴ、ＴＭＰＴ（以上、新中村化学工業（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＧＰＯ－３０３、ＴＭＰＴＡ、ＴＨＥ－３３０、ＴＰＡ－３３０、ＰＥＴ－３０（以上、日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　また、重合性モノマーとして、酸基を有する化合物を用いることもできる。酸基を有する重合性モノマーを用いることで、現像時に未露光部の感光性組成物層が除去されやすく、現像残渣の発生を抑制できる。酸基としては、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基等が挙げられ、カルボキシル基が好ましい。酸基を有する重合性モノマーの市販品としては、アロニックスＭ－５１０、Ｍ－５２０、アロニックスＴＯ－２３４９（以上、東亞合成（株）製）等が挙げられる。酸基を有する重合性モノマーの好ましい酸価としては、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇであり、より好ましくは５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇである。重合性モノマーの酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像液に対する溶解性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造や取扱い上、有利である。
　また、重合性モノマーとして、カプロラクトン構造を有する化合物を用いることもできる。カプロラクトン構造を有する重合性モノマーの市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ－２０、ＤＰＣＡ－３０、ＤＰＣＡ－６０、ＤＰＣＡ－１２０（以上、日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　また、重合性モノマーとして、フルオレン骨格を有する重合性モノマーを用いることもできる。フルオレン骨格を有する重合性モノマーの市販品としては、オグソールＥＡ－０２００、ＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル（株）製、フルオレン骨格を有する（メタ）アクリレートモノマー）などが挙げられる。
　また、重合性モノマーとして、トルエンなどの環境規制物質を実質的に含まない化合物を用いることも好ましい。このような重合性モノマーの市販品としては、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２　ＬＴ（日本化薬（株）製）などが挙げられる。
　重合性モノマーの分子量は、１００～２０００が好ましい。上限は、１５００以下が好ましく、１０００以下がより好ましく、６００以下が更に好ましい。下限は、１５０以上が好ましく、２００以上がより好ましく、２５０以上が更に好ましい。重合性モノマーの分子量は、２５０～６００であることが特に好ましい。
　重合性モノマーのエチレン性不飽和結合含有基価（以下、Ｃ＝Ｃ価ともいう）は、５０～５００ｇ／ｍｏｌであることが好ましい。下限は、８０ｇ／ｍｏｌ以上であることが好ましく、１００ｇ／ｍｏｌ以上であることが特に好ましい。上限は４００ｇ／ｍｏｌ以下であることが好ましく、３００ｇ／ｍｏｌ以下であることが特に好ましい。重合性モノマーのＣ＝Ｃ価は、１００～３００ｇ／ｍｏｌであることが特に好ましい。なお、重合性モノマーのＣ＝Ｃ価は、重合性モノマーの分子量を重合性モノマーの１分子中に含まれるエチレン性不飽和結合基の数で割ることで算出した値である。
　重合性モノマーはアルキレンオキシ基を有する化合物であることも好ましい。アルキレンオキシ基を有する重合性モノマーに含まれるアルキレンオキシ基の数は、２～１５個であることが好ましく、３～１２個であることがより好ましい。また、アルキレンオキシ基の炭素数としては、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましく、２または３が特に好ましく、２が最も好ましい。すなわち、アルキレンオキシ基は、エチレンオキシ基またはプロピレンオキシ基であることが特に好ましく、エチレンオキシ基であることが最も好ましい。
　アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和結合含有基を３個有する重合性モノマーとしては、下記式（Ｍ１）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 　式中Ａ１～Ａ３は、それぞれ独立してエチレン性不飽和結合含有基を表し、Ｌ１～Ｌ３は、それぞれ独立して単結合または２価の連結基を表し、Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立してアルキレン基を表し、ｍ１～ｍ３は、それぞれ独立して０～１０の整数を表し、Ｌ１０は３価の連結基を表し、ｍ１とｍ２とｍ３の合計は１以上である。
　Ａ１～Ａ３が表すエチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミド基などが挙げられ、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基であることが好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基であることがより好ましい。
　Ｌ１～Ｌ３が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－およびこれらの２種以上を組み合わせた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アリーレン基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。
　Ｒ１～Ｒ３が表すアルキレン基の炭素数は、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３が更に好ましく、２または３が特に好ましく、２が最も好ましい。Ｒ１が表すアルキレン基は、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。Ｒ１が表すアルキレン基の具体例は、エチレン基、直鎖または分岐のプロピレン基などが挙げられ、エチレン基が好ましい。
　ｍ１～ｍ３は、それぞれ独立して０～１０を表し、０～５が好ましく、０～７がより好ましく、０～３が更に好ましい。また、ｍ１とｍ２とｍ３の合計は１以上であり、２以上であることが好ましく、３以上であることがより好ましい。上限は、２０以下であることが好ましく、１０以下であることがより好ましく、６以下であることが更に好ましい。また、ｍ１とｍ２とｍ３の合計は、２～６であることが好ましく、３～６であることがより好ましい。
　Ｌ１０が表す３価の連結基としては、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基およびこれらの組み合わせからなる基、ならびに、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基から選ばれる少なくとも１種と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－および－ＮＨ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせてなる基が挙げられ、脂肪族炭化水素基が好ましい。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。Ｌ１０が表す脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、分岐が好ましい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。複素環基は、非芳香族の複素環基であってもよく、芳香族複素環基であってもよい。複素環基は、５員環または６員環が好ましい。複素環基を構成するヘテロ原子の種類は窒素原子、酸素原子、硫黄原子などが挙げられる。複素環基を構成するヘテロ原子の数は１～３が好ましい。複素環基は、単環であってもよく、縮合環であってもよい。脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基、複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔで挙げた基が挙げられる。
　アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和結合含有基を３個有する重合性モノマーとしては、下記式（Ｍ２）で表される化合物がより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 　式中Ｒ１１～Ｒ１３は、それぞれ独立して水素原子またはメチル基を表し、Ｒ１～Ｒ３は、それぞれ独立してアルキレン基を表し、ｍ１～ｍ３は、それぞれ独立して０～１０の整数を表し、Ｌ１０は３価の連結基を表し、ｍ１とｍ２とｍ３の合計は１以上である。式（Ｍ２）のＲ１～Ｒ３、Ｌ１０、ｍ１～ｍ３は、式（Ｍ１）のＲ１～Ｒ３、Ｌ１０、ｍ１～ｍ３と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　重合性モノマーとしては、分子量が２５０～６００で、Ｃ＝Ｃ価が１００～３００ｇ／ｍｏｌで、アルキレンオキシ基を有し、かつ、エチレン性不飽和結合含有基を３個有する化合物（以下、特定３官能モノマーともいう）を用いることが好ましい。このような重合性モノマーは、流動性が適度に高く、露光時において露光部の重合性モノマーをより均一に硬化させることができ、表面粗さのより小さい画素を形成することができる。特定３官能モノマーの具体例としては、トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリアクリレート（東亞合成（株）製、アロニックス　Ｍ－３１０、官能基数３、分子量４７１、エチレン性不飽和結合含有基価１５７ｇ／ｍｏｌ、アルキレンオキシ基（プロピレンオキシ基）を有する化合物）、トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリアクリレート（東亞合成（株）製、アロニックス　Ｍ－３５０、官能基数３、分子量４２９、エチレン性不飽和結合含有基価１４３ｇ／ｍｏｌ、アルキレンオキシ基（エチレンオキシ基）を有する化合物）などが挙げられる。
　感光性組成物の全固形分中における重合性モノマーの含有量は１～２５質量％であることが好ましい。下限は、２質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましい。上限は、２１質量％以下が好ましく、１８質量％以下がより好ましい。重合性モノマーは、１種単独であってもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は、それらの合計が上記範囲となることが好ましい。
　また、重合性モノマーの全量中におけるエチレン性不飽和結合含有基を３個有する化合物（３官能の重合性モノマー）の含有量は、３０～１００質量％であることが好ましく、５０～１００質量％であることがより好ましく、７０～１００質量％であることが更に好ましい。感光性組成物に含まれる重合性モノマーは実質的に３官能の重合性モノマーのみであってもよく、３官能の重合性モノマーと４官能以上の重合性モノマーとをそれぞれ含むものであってもよい。重合性モノマーが実質的に３官能の重合性モノマーのみである場合は、局所的な架橋が起こりにくくなり、表面粗さのより小さい膜を形成することができる。なお、重合性モノマーが実質的に３官能の重合性モノマーのみである場合とは、感光性組成物に含まれる重合性モノマーの全量中における３官能の重合性モノマーの含有量が９９質量％以上であることを意味し、９９．５質量％以上であることが好ましく、９９．９質量％以上であることが更に好ましく、感光性組成物に含まれる重合性モノマーが３官能の重合性モノマーのみで構成されていることがより好ましい。重合性モノマーが３官能の重合性モノマーと４官能以上の重合性モノマーとをそれぞれ含む場合は、より優れた密着性が得られる。３官能の重合性モノマーと４官能以上の重合性モノマーとを併用する場合、３官能の重合性モノマーの１００質量部に対し、４官能以上の重合性モノマーは１０～６０質量部であることが好ましく、２０～５０質量部であることがより好ましく、３０～４０質量部であることが更に好ましい。
　また、重合性モノマーの全量中における上述した特定３官能モノマーの含有量は、３０～１００質量％であることが好ましく、５０～１００質量％であることがより好ましく、７０～１００質量％であることが更に好ましい。感光性組成物に含まれる重合性モノマーは実質的に特定３官能モノマーのみであってもよく、特定３官能モノマーと特定３官能モノマー以外の重合性モノマー（以下、他の重合性モノマーともいう）をそれぞれ含むものであってもよい。重合性モノマーが実質的に特定３官能モノマーのみである場合は、露光時において露光部の重合性モノマーをより均一に硬化させることができ、表面粗さのより小さい画素を形成することができる。なお、重合性モノマーが実質的に特定３官能モノマーのみである場合とは、感光性組成物に含まれる重合性モノマーの全量中における特定３官能モノマーの含有量が９９質量％以上であることを意味し、９９．５質量％以上であることが好ましく、９９．９質量％以上であることが更に好ましく、感光性組成物に含まれる重合性モノマーが特定３官能モノマーのみで構成されていることがより好ましい。重合性モノマーが特定３官能モノマーと他の重合性モノマーとをそれぞれ含む場合は、局所的な架橋が起こりにくくなり、表面粗さのより小さい膜を形成することができる。特定３官能モノマーと併用することが好ましい他の重合性モノマーは、２官能モノマー、特定３官能以外の３官能モノマー、４官能以上ノモノマーなどが挙げられ、特定３官能以外の３官能モノマー、あるいは分子量が２５０～６００で、Ｃ＝Ｃ価が１００～３００ｇ／ｍｏｌで、アルキレンオキシ基を有する４官能以上のモノマーであることが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、イソシアヌル酸トリス（２－アクリロイルオキシエチル）、ペンタエリスリテールエチレンオキシ変性テトラアクリレート特定３官能モノマーと他の重合性モノマーとを併用する場合、特定３官能モノマーの１００質量部に対し、他の重合性モノマーは１０～６０質量部であることが好ましく、２０～５０質量部であることがより好ましく、３０～４０質量部であることが更に好ましい。
＜＜樹脂＞＞
　本発明の感光性組成物は樹脂を含有する。樹脂は、例えば、顔料を感光性組成物中で分散させる用途や、バインダーの用途で配合される。なお、主に顔料を感光性組成物中で分散させるために用いられる樹脂を分散剤ともいう。ただし、樹脂のこのような用途は一例であって、このような用途以外を目的として樹脂を使用することもできる。
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、３０００～２００００００が好ましい。上限は、１００００００以下が好ましく、５０００００以下がより好ましい。下限は、４０００以上が好ましく、５０００以上がより好ましい。
　樹脂としては、（メタ）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂から１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　本発明の感光性組成物は、酸基を有する樹脂を含むことも好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。これら酸基は、１種のみであってもよいし、２種以上であってもよい。酸基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。本発明の感光性組成物が酸基を有する樹脂を含有することにより、アルカリ現像によって所望のパターンを形成できる。酸基を有する樹脂の酸価は、３０～５００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、４００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が最も好ましい。
　本発明の感光性組成物は、塩基性基を有する樹脂を含むことも好ましい。塩基性基を有する樹脂は、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましく、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位と塩基性基を含まない繰り返し単位とを有する共重合体であることがより好ましく、塩基性基を側鎖に有する繰り返し単位と、塩基性基を含まない繰り返し単位とを有するブロック共重合体であることが更に好ましい。塩基性基を有する樹脂は分散剤として用いることもできる。塩基性基を有する樹脂のアミン価は、５～３００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。下限は、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限は、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましい。塩基性基を有する樹脂に含まれる塩基性基としては、式（ａ－１）で表される基、式（ａ－２）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　式（ａ－１）中、Ｒａ１およびＲａ２は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、Ｒａ１とＲａ２とは結合して環を形成していてもよい；
　式（ａ－２）中、Ｒａ１１は、水素原子、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アシル基またはオキシラジカルを表し、Ｒａ１２～Ｒａ１９は、それぞれ独立して、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。
　Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ１１～Ｒａ１９が表すアルキル基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５が特に好ましい。アルキル基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよく、直鎖または分岐が好ましく、直鎖がより好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　Ｒａ１、Ｒａ２、Ｒａ１１～Ｒａ１９が表すアリール基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　Ｒａ１１が表すアルコキシ基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～８が更に好ましく、１～５が特に好ましい。アルコキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　Ｒａ１１が表すアリールオキシ基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１２が更に好ましい。アリールオキシ基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　Ｒａ１１が表すアシル基の炭素数は、２～３０が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１２が更に好ましい。アシル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、上述した置換基Ｔの群から選ばれる基が挙げられる。
　塩基性基を有する樹脂の市販品としては、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１６１、１６２、１６３、１６４、１６６、１６７、１６８、１７４、１８２、１８３、１８４、１８５、２０００、２００１、２０５０、２１５０、２１６３、２１６４、ＢＹＫ－ＬＰＮ６９１９（以上、ビックケミー・ジャパン社製）、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ１１２００、１３２４０、１３６５０、１３９４０、２４０００、２６０００、２８０００、３２０００、３２５００、３２５５０、３２６００、３３０００、３４７５０、３５１００、３５２００、３７５００、３８５００、３９０００、５３０９５、５６０００、７１００（以上、日本ルーブリゾール社製）、Ｅｆｋａ　ＰＸ　４３００、４３３０、４０４６、４０６０、４０８０（以上、ＢＡＳＦ社製）等が挙げられる。また、塩基性基を有する樹脂は、特開２０１４－２１９６６５号公報の段落番号００６３～０１１２に記載されたブロック共重合体（Ｂ）、特開２０１８－１５６０２１号公報の段落番号００４６～００７６に記載されたブロック共重合体Ａ１を用いることもでき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　本発明の感光性組成物は、酸基を有する樹脂と塩基性基を有する樹脂とをそれぞれ含むことも好ましい。この態様によれば、感光性組成物の保存安定性をより向上できる。酸基を有する樹脂と塩基性基を有する樹脂とを併用する場合、塩基性基を有する樹脂の含有量は、酸基を有する樹脂の１００質量部に対して２０～５００質量部であることが好ましく、３０～３００質量部であることがより好ましく、５０～２００質量部であることが更に好ましい。
　樹脂としては、式（ＥＤ１）で示される化合物および／または式（ＥＤ２）で表される化合物（以下、これらの化合物を「エーテルダイマー」と称することもある。）由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
　式（ＥＤ１）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、水素原子または置換基を有していてもよい炭素数１～２５の炭化水素基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 　式（ＥＤ２）中、Ｒは、水素原子または炭素数１～３０の有機基を表す。式（ＥＤ２）の具体例としては、特開２０１０－１６８５３９号公報の記載を参酌できる。
　エーテルダイマーの具体例については、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落番号０３１７を参酌することができ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　樹脂としては、エチレン性不飽和結合含有基を有する繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミド基などが挙げられる。
　樹脂としては、式（Ｘ）で表される化合物由来の繰り返し単位を含む樹脂を含むことも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 　式中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２１およびＲ２２はそれぞれ独立してアルキレン基を表し、ｎは０～１５の整数を表す。Ｒ２１およびＲ２２が表すアルキレン基の炭素数は１～１０であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１～３であることが更に好ましく、２または３であることが特に好ましい。ｎは０～１５の整数を表し、０～５の整数であることが好ましく、０～４の整数であることがより好ましく、０～３の整数であることが更に好ましい。
　式（Ｘ）で表される化合物としては、パラクミルフェノールのエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド変性（メタ）アクリレートなどが挙げられる。市販品としては、アロニックスＭ－１１０（東亞合成（株）製）などが挙げられる。
　樹脂としては、芳香族カルボキシル基を有する樹脂（以下、樹脂Ａｃともいう）を含むことも好ましい。この態様によれば、色ムラのより抑制された画素を形成しやすい。樹脂Ａｃにおいて、芳香族カルボキシル基は繰り返し単位の主鎖に含まれていてもよく、繰り返し単位の側鎖に含まれていてもよい。芳香族カルボキシル基は繰り返し単位の主鎖に含まれていることが好ましい。なお、本明細書において、芳香族カルボキシル基とは、芳香族環にカルボキシル基が１個以上結合した構造の基のことである。芳香族カルボキシル基において、芳香族環に結合したカルボキシル基の数は、１～４個であることが好ましく、１～２個であることがより好ましい。
　樹脂Ａｃは、式（Ａｃ－１）で表される繰り返し単位および式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む樹脂であることが好ましく、式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位を含む樹脂であることがより好ましい。芳香族カルボキシル基を有する樹脂が式（Ａｃ－２）で表される繰り返し単位を有する樹脂である場合は、この樹脂は分散剤として好ましく用いられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 　式（Ａｃ－１）中、Ａｒ１は芳香族カルボキシル基を含む基を表し、Ｌ１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、Ｌ２は、２価の連結基を表す。
　式（Ａｃ－２）中、Ａｒ１０は芳香族カルボキシル基を含む基を表し、Ｌ１１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、Ｌ１２は３価の連結基を表し、Ｐ１０はポリマー鎖を表す。
　式（Ａｃ－１）においてＡｒ１が表す芳香族カルボキシル基を含む基としては、芳香族トリカルボン酸無水物から由来する構造、芳香族テトラカルボン酸無水物から由来する構造などが挙げられる。芳香族トリカルボン酸無水物および芳香族テトラカルボン酸無水物としては、下記構造の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　上記式中、Ｑ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、式（Ｑ－１）で表される基または式（Ｑ－２）で表される基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　Ａｒ１が表す芳香族カルボキシル基を含む基の具体例としては、式（Ａｒ－１１）で表される基、式（Ａｒ－１２）で表される基、式（Ａｒ－１３）で表される基などが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　式（Ａｒ－１１）中、ｎ１は１～４の整数を表し、１または２であることが好ましく、２であることがより好ましい。
　式（Ａｒ－１２）中、ｎ２は１～８の整数を表し、１～４の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、２であることが更に好ましい。
　式（Ａｒ－１３）中、ｎ３およびｎ４はそれぞれ独立して０～４の整数を表し、０～２の整数であることが好ましく、１または２であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。ただし、ｎ３およびｎ４の少なくとも一方は１以上の整数である。
　式（Ａｒ－１３）中、Ｑ１は、単結合、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＯ－、－ＳＯ２－、－Ｃ（ＣＦ３）２－、上記式（Ｑ－１）で表される基または上記式（Ｑ－２）で表される基を表す。
　式（Ａｒ－１１）～（Ａｒ－１３）中、＊１はＬ１との結合位置を表す。
　式（Ａｃ－１）においてＬ１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、－ＣＯＯ－を表すことが好ましい。
　式（Ａｃ－１）においてＬ２が表す２価の連結基としては、アルキレン基、アリーレン基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｓ－およびこれらの２種以上を組み合わせた基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アリーレン基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。Ｌ２が表す２価の連結基は、－Ｌ２ａ－Ｏ－で表される基であることが好ましい。Ｌ２ａは、アルキレン基；アリーレン基；アルキレン基とアリーレン基とを組み合わせた基；アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる少なくとも１種と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、アルキレン基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。アルキレン基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。アルキレン基およびアリーレン基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。
　式（Ａｃ－２）においてＡｒ１０が表す芳香族カルボキシル基を含む基としては、式（Ａｃ－１）のＡｒ１と同義であり、好ましい範囲も同様である。
　式（Ａｃ－２）においてＬ１１は、－ＣＯＯ－または－ＣＯＮＨ－を表し、－ＣＯＯ－を表すことが好ましい。
　式（Ａｃ－２）においてＬ１２が表す３価の連結基としては、炭化水素基、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－、－Ｓ－およびこれらの２種以上を組み合わせた基が挙げられる。炭化水素基は、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基が挙げられる。脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～３０が好ましく、１～２０がより好ましく、１～１５が更に好ましい。脂肪族炭化水素基は、直鎖、分岐、環状のいずれでもよい。芳香族炭化水素基の炭素数は、６～３０が好ましく、６～２０がより好ましく、６～１０が更に好ましい。炭化水素基は置換基を有していてもよい。置換基としては、ヒドロキシ基などが挙げられる。Ｌ１２が表す３価の連結基は、式（Ｌ１２－１）で表される基であることが好ましく、式（Ｌ１２－２）で表される基であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
　式（Ｌ１２－１）中、Ｌ１２ｂは３価の連結基を表し、Ｘ１はＳを表し、＊１は式（Ａｃ－２）のＬ１１との結合位置を表し、＊２は式（Ａｃ－２）のＰ１０との結合位置を表す。Ｌ１２ｂが表す３価の連結基としては、炭化水素基；炭化水素基と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基または炭化水素基と－Ｏ－とを組み合わせた基であることが好ましい。
　式（Ｌ１２－２）中、Ｌ１２ｃは３価の連結基を表し、Ｘ１はＳを表し、＊１は式（Ａｃ－２）のＬ１１との結合位置を表し、＊２は式（Ａｃ－２）のＰ１０との結合位置を表す。Ｌ１２ｃが表す３価の連結基としては、炭化水素基；炭化水素基と、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＮＨ－および－Ｓ－から選ばれる少なくとも１種とを組み合わせた基などが挙げられ、炭化水素基であることが好ましい。
　式（Ａｃ－２）においてＰ１０はポリマー鎖を表す。Ｐ１０が表すポリマー鎖は、ポリ（メタ）アクリル繰り返し単位、ポリエーテル繰り返し単位、ポリエステル繰り返し単位およびポリオール繰り返し単位から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を有することが好ましい。ポリマー鎖Ｐ１０の重量平均分子量は５００～２００００が好ましい。下限は１０００以上が好ましい。上限は１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。Ｐ１０の重量平均分子量が上記範囲であれば組成物中における顔料の分散性が良好である。
　Ｐ１０が表すポリマー鎖は、架橋性基を含んでいてもよい。架橋性基は、エチレン性不飽和結合含有基、環状エーテル基及びブロックイソシアネート基などが挙げられ、エチレン性不飽和結合含有基であることが好ましい。エチレン性不飽和結合含有基としては、ビニル基、ビニルフェニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミド基などが挙げられ、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基および（メタ）アクリロイルオキシ基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。ブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。ブロック剤については、特開２０１７－０６７９３０号公報の段落番号０１１５～０１１７に記載された化合物が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。また、ブロックイソシアネート基は、９０～２６０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
　式（Ａｃ－２）において、Ｐ１０が表すポリマー鎖は、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－５）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖であることが好ましく、（Ｐ－５）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖であることがより好ましい。
　式（Ａｃ－２）において、Ｐ１０が表すポリマー鎖は、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－５）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖であることが好ましく、（Ｐ－５）で表される繰り返し単位を含むポリマー鎖であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 　上記式において、ＲＰ１およびＲＰ２は、それぞれアルキレン基を表す。ＲＰ１およびＲＰ２で表されるアルキレン基としては、炭素数１～２０の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が好ましく、炭素数２～１６の直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、炭素数３～１２の直鎖状又は分岐状のアルキレン基が更に好ましい。
　上記式において、ＲＰ３は、水素原子またはメチル基を表す。
　上記式において、ＬＰ１は、単結合またはアリーレン基を表し、ＬＰ２は、単結合または２価の連結基を表す。ＬＰ１は、単結合であることが好ましい。ＬＰ２が表す２価の連結基としては、アルキレン基（好ましくは炭素数１～１２のアルキレン基）、アリーレン基（好ましくは炭素数６～２０のアリーレン基）、－ＮＨ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－ＣＯ－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ－、－ＮＨＣＯ－、－ＣＯＮＨ－、およびこれらの２以上を組み合わせてなる基が挙げられる。
　ＲＰ４は、水素原子または置換基を表す。置換基としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、ヘテロアリールチオエーテル基、エチレン性不飽和結合含有基、環状エーテル基、ブロックイソシアネート基等が挙げられる。
　また、Ｐ１０が表すポリマー鎖は、側鎖にエチレン性不飽和結合含有基を含む繰り返し単位を有するポリマー鎖であることがより好ましい。また、Ｐ１０を構成する全繰り返し単位中における、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に含む繰り返し単位の割合は、５質量％以上であることが好ましく、１０質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが更に好ましい。上限は、１００質量％とすることができ、９０質量％以下であることが好ましく、６０質量％以下であることが更に好ましい。
　また、Ｐ１０が表すポリマー鎖は、酸基を含む繰り返し単位を有することも好ましい。酸基としては、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、フェノール性ヒドロキシ基などが挙げられる。この態様によれば、組成物中における顔料などの色材の分散性をより向上できる。更には、現像性をより向上させることもでき、現像残渣の発生をより抑制できる。酸基を含む繰り返し単位の割合は、１～３０質量％であることが好ましく、２～２０質量％であることがより好ましく、３～１０質量％であることが更に好ましい。
　樹脂Ａｃの重量平均分子量は、３０００～３５０００であることが好ましい。上限は２５０００以下であることが好ましく、２００００以下であることがより好ましく、１５０００以下であることが更に好ましい。下限は、４０００以上であることが好ましく、６０００以上であることがより好ましく、７０００以上であることが更に好ましい。
　樹脂Ａｃの酸価は５～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。上限は１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが更に好ましい。
　樹脂は、分散剤としての樹脂を含むことが好ましい。分散剤としては、酸性分散剤（酸性樹脂）、塩基性分散剤（塩基性樹脂）が挙げられる。ここで、酸性分散剤（酸性樹脂）とは、酸基の量が塩基性基の量よりも多い樹脂を表す。また、塩基性分散剤（塩基性樹脂）とは、塩基性基の量が酸基の量よりも多い樹脂を表す。
　酸性分散剤（酸性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、酸基の量が７０モル％以上である樹脂が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）が有する酸基は、カルボキシル基が好ましい。酸性分散剤（酸性樹脂）の酸価は５～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。上限は１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが更に好ましい。
　塩基性分散剤（塩基性樹脂）としては、酸基の量と塩基性基の量の合計量を１００モル％としたときに、塩基性基の量が６０モル％以上である樹脂が好ましい。塩基性分散剤が有する塩基性基は、アミノ基が好ましい。塩基性分散剤（塩基性樹脂）のアミン価は５～１００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましい。上限は８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。下限は１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることがより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることが更に好ましい。
　分散剤として用いる樹脂は、グラフト樹脂であることも好ましい。グラフト樹脂の詳細は、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号００２５～００９４の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、芳香族カルボキシル基を有する樹脂（樹脂Ａｃ）であることも好ましい。芳香族カルボキシル基を有する樹脂としては上述したものが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、主鎖及び側鎖の少なくとも一方に窒素原子を含むポリイミン系分散剤であることも好ましい。ポリイミン系分散剤としては、ｐＫａ１４以下の官能基を有する部分構造を有する主鎖と、原子数４０～１００００の側鎖とを有し、かつ主鎖及び側鎖の少なくとも一方に塩基性窒素原子を有する樹脂が好ましい。塩基性窒素原子は、塩基性を呈する窒素原子であれば特に制限はない。ポリイミン系分散剤については、特開２０１２－２５５１２８号公報の段落番号０１０２～０１６６の記載を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　分散剤として用いる樹脂は、コア部に複数個のポリマー鎖が結合した構造の樹脂であることも好ましい。このような樹脂としては、例えばデンドリマー（星型ポリマーを含む）が挙げられる。また、デンドリマーの具体例としては、特開２０１３－０４３９６２号公報の段落番号０１９６～０２０９に記載された高分子化合物Ｃ－１～Ｃ－３１などが挙げられる。
　分散剤として用いる樹脂は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位を含む樹脂であることも好ましい。エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する繰り返し単位の含有量は、樹脂の全繰り返し単位中１０モル％以上であることが好ましく、１０～８０モル％であることがより好ましく、２０～７０モル％であることが更に好ましい。また、分散剤は、特開２０１８－０８７９３９号公報に記載された樹脂を用いることもできる。
　分散剤は、市販品としても入手可能であり、そのような具体例としては、ビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫシリーズ、日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥシリーズ、ＢＡＳＦ社製のＥｆｋａシリーズ、味の素ファインテクノ（株）製のアジスパーシリーズ等が挙げられる。また、特開２０１２－１３７５６４号公報の段落番号０１２９に記載された製品、特開２０１７－１９４６６２号公報の段落番号０２３５に記載された製品を分散剤として用いることもできる。
　また、分散剤として用いる樹脂は、特許第６４３２０７７号公報の段落番号０２１９～０２２１に記載されたブロック共重合体（ＥＢ－１）～（ＥＢ－９）を用いることもできる。
　感光性組成物の全固形分中にける樹脂の含有量は、１～８０質量％であることが好ましい。下限は５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、１５質量％以上が更に好ましく、２０質量％以上が特に好ましい。上限は７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましく、４０質量％以下が特に好ましい。本発明の感光性組成物は、樹脂を１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。樹脂を２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜顔料誘導体＞＞
　本発明の感光性組成物は、顔料誘導体を含有することが好ましい。顔料誘導体としては、色素骨格に酸基または塩基性基が結合した構造を有する化合物が挙げられる。顔料誘導体を構成する色素骨格としては、キノリン色素骨格、ベンゾイミダゾロン色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、ベンゾチアゾール色素骨格、イニミウム色素骨格、スクアリリウム色素骨格、クロコニウム色素骨格、オキソノール色素骨格、ピロロピロール色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、アゾ色素骨格、アゾメチン色素骨格、フタロシアニン色素骨格、ナフタロシアニン色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、キナクリドン色素骨格、ジオキサジン色素骨格、ペリノン色素骨格、ペリレン色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、チオインジゴ色素骨格、イソインドリン色素骨格、イソインドリノン色素骨格、キノフタロン色素骨格、イミニウム色素骨格、ジチオール色素骨格、トリアリールメタン色素骨格、ピロメテン色素骨格等が挙げられ、フタロシアニン色素骨格、ジケトピロロピロール色素骨格、ベンゾイソインドール色素骨格、アントラキノン色素骨格、ジアントラキノン色素骨格、チアジンインジゴ色素骨格、アゾ色素骨格、キノフタロン色素骨格またはキナクリドン色素骨格であることが好ましく、フタロシアニン色素骨格またはジケトピロロピロール色素骨格であることがより好ましい。すなわち、顔料誘導体はフタロシアニン化合物またはジケトピロロピロール化合物であることが好ましい。酸基としては、スルホ基、カルボキシル基、リン酸基及びこれらの塩が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、アルカリ金属イオン（Ｌｉ＋、Ｎａ＋、Ｋ＋など）、アルカリ土類金属イオン（Ｃａ２＋、Ｍｇ２＋など）、アンモニウムイオン、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、ホスホニウムイオンなどが挙げられる。塩基性基としては、アミノ基、ピリジニル基およびその塩、アンモニウム基の塩、並びにフタルイミドメチル基が挙げられる。塩を構成する原子または原子団としては、水酸化物イオン、ハロゲンイオン、カルボン酸イオン、スルホン酸イオン、フェノキシドイオンなどが挙げられる。
　顔料誘導体として可視透明性に優れた顔料誘導体（以下、透明顔料誘導体ともいう）を含有することもできる。透明顔料誘導体の４００～７００ｎｍの波長領域におけるモル吸光係数の最大値（εｍａｘ）は３０００Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以下であることが好ましく、１０００Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以下であることがより好ましく、１００Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以下であることがさらに好ましい。εｍａｘの下限は、例えば１Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以上であり、１０Ｌ・ｍｏｌ－１・ｃｍ－１以上でもよい。
　顔料誘導体の具体例としては、後述する実施例に記載の化合物、特開昭５６－１１８４６２号公報、特開昭６３－２６４６７４号公報、特開平０１－２１７０７７号公報、特開平０３－００９９６１号公報、特開平０３－０２６７６７号公報、特開平０３－１５３７８０号公報、特開平０３－０４５６６２号公報、特開平０４－２８５６６９号公報、特開平０６－１４５５４６号公報、特開平０６－２１２０８８号公報、特開平０６－２４０１５８号公報、特開平１０－０３００６３号公報、特開平１０－１９５３２６号公報、国際公開第２０１１／０２４８９６号の段落番号００８６～００９８、国際公開第２０１２／１０２３９９号の段落番号００６３～００９４、国際公開第２０１７／０３８２５２号の段落番号００８２、特開２０１５－１５１５３０号公報の段落番号０１７１、特開２０１１－２５２０６５号公報の段落番号０１６２～０１８３、特開２００３－０８１９７２号公報、特許第５２９９１５１号公報、特開２０１５－１７２７３２号公報、特開２０１４－１９９３０８号公報、特開２０１４－０８５５６２号公報、特開２０１４－０３５３５１号公報、特開２００８－０８１５６５号公報に記載の化合物が挙げられる。
　顔料誘導体を含有する場合、顔料誘導体の含有量は、顔料１００質量部に対して１～３０質量部が好ましく、１～２０質量部がより好ましく、２～１０質量部が更に好ましく、３～８質量部が特に好ましい。顔料誘導体は１種のみを用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上併用する場合はそれらの合計量が上記範囲であることが好ましい。
＜＜溶剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては、有機溶剤が挙げられる。溶剤の種類は、各成分の溶解性や感光性組成物の塗布性を満足すれば基本的には特に制限はない。有機溶剤としては、エステル系溶剤、ケトン系溶剤、アルコール系溶剤、アミド系溶剤、エーテル系溶剤、炭化水素系溶剤などが挙げられる。これらの詳細については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２２３を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。また、環状アルキル基が置換したエステル系溶剤、環状アルキル基が置換したケトン系溶剤も好ましく用いることもできる。有機溶剤の具体例としては、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ジクロロメタン、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、２－ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸シクロヘキシル、シクロペンタノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ，Ｎ－ジメチルプロパンアミドなどが挙げられる。ただし有機溶剤としての芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等）は、環境面等の理由により低減したほうがよい場合がある（例えば、有機溶剤全量に対して、５０質量ｐｐｍ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｍｉｌｌｉｏｎ）以下とすることもでき、１０質量ｐｐｍ以下とすることもでき、１質量ｐｐｍ以下とすることもできる）。
　本発明においては、金属含有量の少ない有機溶剤を用いることが好ましく、有機溶剤の金属含有量は、例えば１０質量ｐｐｂ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｂｉｌｌｉｏｎ）以下であることが好ましい。必要に応じて質量ｐｐｔ（ｐａｒｔｓ　ｐｅｒ　ｔｒｉｌｌｉｏｎ）レベルの有機溶剤を用いてもよく、そのような有機溶剤は例えば東洋合成社が提供している（化学工業日報、２０１５年１１月１３日）。
　有機溶剤から金属等の不純物を除去する方法としては、例えば、蒸留（分子蒸留や薄膜蒸留等）やフィルタを用いたろ過を挙げることができる。ろ過に用いるフィルタのフィルタ孔径としては、１０μｍ以下が好ましく、５μｍ以下がより好ましく、３μｍ以下が更に好ましい。フィルタの材質は、ポリテトラフロロエチレン、ポリエチレンまたはナイロンが好ましい。
　有機溶剤には、異性体（原子数が同じであるが構造が異なる化合物）が含まれていてもよい。また、異性体は、１種のみが含まれていてもよいし、複数種含まれていてもよい。
　有機溶剤中の過酸化物の含有率は０．８ｍｍｏｌ／Ｌ以下であることが好ましく、過酸化物を実質的に含まないことがより好ましい。
　感光性組成物中における溶剤の含有量は、１０～９５質量％であることが好ましく、２０～９０質量％であることがより好ましく、３０～９０質量％であることが更に好ましい。
　また、本発明の感光性組成物は、環境規制の観点から環境規制物質を実質的に含有しないことが好ましい。なお、本発明において、環境規制物質を実質的に含有しないとは、感光性組成物中における環境規制物質の含有量が５０質量ｐｐｍ以下であることを意味し、３０質量ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０質量ｐｐｍ以下であることが更に好ましく、１質量ｐｐｍ以下であることが特に好ましい。環境規制物質は、例えばベンゼン；トルエン、キシレン等のアルキルベンゼン類；クロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン類等が挙げられる。これらは、ＲＥＡＣＨ（Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ　Ｅｖａｌｕａｔｉｏｎ　Ａｕｔｈｏｒｉｚａｔｉｏｎ　ａｎｄ　Ｒｅｓｔｒｉｃｔｉｏｎ　ｏｆ　ＣＨｅｍｉｃａｌｓ）規則、ＰＲＴＲ（Ｐｏｌｌｕｔａｎｔ　Ｒｅｌｅａｓｅ　ａｎｄ　Ｔｒａｎｓｆｅｒ　Ｒｅｇｉｓｔｅｒ）法、ＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ）規制等のもとに環境規制物質として登録されており、使用量や取り扱い方法が厳しく規制されている。これらの化合物は、感光性組成物に用いられる各成分などを製造する際に溶媒として用いられることがあり、残留溶媒として感光性組成物中に混入することがある。人への安全性、環境への配慮の観点よりこれらの物質は可能な限り低減することが好ましい。環境規制物質を低減する方法としては、系中を加熱や減圧して環境規制物質の沸点以上にして系中から環境規制物質を留去して低減する方法が挙げられる。また、少量の環境規制物質を留去する場合においては、効率を上げる為に該当溶媒と同等の沸点を有する溶媒と共沸させることも有用である。また、ラジカル重合性を有する化合物を含有する場合、減圧留去中にラジカル重合反応が進行して分子間で架橋してしまうことを抑制するために重合禁止剤等を添加して減圧留去してもよい。これらの留去方法は、原料の段階、原料を反応させた生成物（例えば重合した後の樹脂溶液や多官能モノマー溶液）の段階、またはこれらの化合物を混ぜて作製した感光性組成物の段階などのいずれの段階でも可能である。
＜＜環状エーテル基を有する化合物＞＞
　本発明の感光性組成物は、環状エーテル基を有する化合物を含有することができる。環状エーテル基としては、エポキシ基、オキセタニル基などが挙げられる。環状エーテル基を有する化合物は、エポキシ基を有する化合物（以下、エポキシ化合物ともいう）であることが好ましい。エポキシ化合物としては、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落番号００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落番号０１４７～０１５６、特開２０１４－０８９４０８号公報の段落番号００８５～００９２に記載された化合物、特開２０１７－１７９１７２号公報に記載された化合物を用いることもできる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。
　エポキシ化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満、さらには、分子量１０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量１０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が１０００以上）でもよい。エポキシ化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下が好ましく、５０００以下がより好ましく、３０００以下が更に好ましい。
　エポキシ化合物としては、エポキシ樹脂を好ましく用いることができる。エポキシ樹脂としては、例えばフェノール化合物のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化物であるエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、グリシジルエステル系エポキシ樹脂、グリシジルアミン系エポキシ樹脂、ハロゲン化フェノール類をグリシジル化したエポキシ樹脂、エポキシ基をもつケイ素化合物とそれ以外のケイ素化合物との縮合物、エポキシ基を持つ重合性不飽和化合物とそれ以外の他の重合性不飽和化合物との共重合体等が挙げられる。エポキシ樹脂のエポキシ当量は、３１０～３３００ｇ／ｅｑであることが好ましく、３１０～１７００ｇ／ｅｑであることがより好ましく、３１０～１０００ｇ／ｅｑであることが更に好ましい。
　環状エーテル基を有する化合物の市販品としては、例えば、ＥＨＰＥ３１５０（（株）ダイセル製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ（株）製）、マープルーフＧ－０１５０Ｍ、Ｇ－０１０５ＳＡ、Ｇ－０１３０ＳＰ、Ｇ－０２５０ＳＰ、Ｇ－１００５Ｓ、Ｇ－１００５ＳＡ、Ｇ－１０１０Ｓ、Ｇ－２０５０Ｍ、Ｇ－０１１００、Ｇ－０１７５８（以上、日油（株）製、エポキシ基含有ポリマー）等が挙げられる。
　感光性組成物の全固形分中における環状エーテル基を有する化合物の含有量は、０．１～２０質量％が好ましい。下限は、例えば０．５質量％以上が好ましく、１質量％以上がより好ましい。上限は、例えば、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下が更に好ましい。環状エーテル基を有する化合物は１種のみでもよく、２種以上でもよい。２種以上の場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜硬化促進剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、硬化促進剤を含んでもよい。硬化促進剤としては、チオール化合物、メチロール化合物、アミン化合物、ホスホニウム塩化合物、アミジン塩化合物、アミド化合物、塩基発生剤、イソシアネート化合物、アルコキシシラン化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。硬化促進剤の具体例としては、国際公開第２０１８／０５６１８９号の段落番号００９４～００９７に記載の化合物、特開２０１５－０３４９６３号公報の段落番号０２４６～０２５３に記載の化合物、特開２０１３－０４１１６５号公報の段落番号０１８６～０２５１に記載の化合物、特開２０１４－０５５１１４号公報に記載のイオン性化合物、特開２０１２－１５０１８０号公報の段落番号００７１～００８０に記載の化合物、特開２０１１－２５３０５４号公報に記載のエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、特許第５７６５０５９号公報の段落番号００８５～００９２に記載の化合物、特開２０１７－０３６３７９号公報に記載のカルボキシル基含有エポキシ硬化剤などが挙げられる。硬化促進剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における硬化促進剤の含有量は０．３～８．９質量％が好ましく、０．８～６．４質量％がより好ましい。
＜＜紫外線吸収剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤は、共役ジエン化合物、アミノジエン化合物、サリシレート化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、アクリロニトリル化合物、ヒドロキシフェニルトリアジン化合物、インドール化合物、トリアジン化合物などを用いることができる。このような化合物としては、特開２００９－２１７２２１号公報の段落番号００３８～００５２、特開２０１２－２０８３７４号公報の段落番号００５２～００７２、特開２０１３－０６８８１４号公報の段落番号０３１７～０３３４、特開２０１６－１６２９４６号公報の段落番号００６１～００８０に記載された化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。紫外線吸収剤の具体例としては、下記構造の化合物などが挙げられる。紫外線吸収剤の市販品としては、例えば、ＵＶ－５０３（大東化学（株）製）などが挙げられる。また、ベンゾトリアゾール化合物としては、ミヨシ油脂製のＭＹＵＡシリーズ（化学工業日報、２０１６年２月１日）が挙げられる。また、紫外線吸収剤は、特許第６２６８９６７号公報の段落番号００４９～００５９に記載された化合物を用いることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
　紫外線吸収剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における紫外線吸収剤の含有量は、０．０１～１０質量％が好ましく、０．０１～５質量％がより好ましい。本発明において、紫外線吸収剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜重合禁止剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、重合禁止剤を含有することができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、Ｎ－ニトロソフェニルヒドロキシアミン塩（アンモニウム塩、第一セリウム塩等）が挙げられる。中でも、ｐ－メトキシフェノールが好ましい。重合禁止剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における重合禁止剤の含有量は、０．０００１～５質量％が好ましい。重合禁止剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜シランカップリング剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、シランカップリング剤を含有することができる。本発明において、シランカップリング剤は、加水分解性基とそれ以外の官能基とを有するシラン化合物を意味する。また、加水分解性基とは、ケイ素原子に直結し、加水分解反応及び縮合反応の少なくともいずれかによってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基などが挙げられ、アルコキシ基が好ましい。すなわち、シランカップリング剤は、アルコキシシリル基を有する化合物が好ましい。また、加水分解性基以外の官能基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基、（メタ）アクリロイル基、メルカプト基、エポキシ基、オキセタニル基、アミノ基、ウレイド基、スルフィド基、イソシアネート基、フェニル基などが挙げられ、アミノ基、（メタ）アクリロイル基およびエポキシ基が好ましい。シランカップリング剤の具体例としては、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－６０２）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－６０３）、Ｎ－β－アミノエチル－γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＥ－６０２）、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－９０３）、γ－アミノプロピルトリエトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＥ－９０３）、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－５０２）、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製、商品名　ＫＢＭ－５０３）等がある。また、シランカップリング剤の具体例については、特開２００９－２８８７０３号公報の段落番号００１８～００３６に記載の化合物、特開２００９－２４２６０４号公報の段落番号００５６～００６６に記載の化合物が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。シランカップリング剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中におけるシランカップリング剤の含有量は、０．０１～１５．０質量％が好ましく、０．０５～１０．０質量％がより好ましい。シランカップリング剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜界面活性剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、界面活性剤を含有することができる。界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などの各種界面活性剤を使用することができる。界面活性剤については、国際公開第２０１５／１６６７７９号の段落番号０２３８～０２４５に記載された界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　界面活性剤はフッ素系界面活性剤であることが好ましい。感光性組成物にフッ素系界面活性剤を含有させることで液特性（特に、流動性）がより向上し、省液性をより改善することができる。また、厚みムラの小さい膜を形成することもできる。
　フッ素系界面活性剤中のフッ素含有率は、３～４０質量％が好適であり、より好ましくは５～３０質量％であり、特に好ましくは７～２５質量％である。フッ素含有率がこの範囲内であるフッ素系界面活性剤は、塗布膜の厚さの均一性や省液性の点で効果的であり、感光性組成物中における溶解性も良好である。
　フッ素系界面活性剤としては、特開２０１４－０４１３１８号公報の段落番号００６０～００６４（対応する国際公開第２０１４／０１７６６９号の段落番号００６０～００６４）等に記載の界面活性剤、特開２０１１－１３２５０３号公報の段落番号０１１７～０１３２に記載の界面活性剤が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３、Ｆ１７６、Ｆ１７７、Ｆ１４１、Ｆ１４２、Ｆ１４３、Ｆ１４４、Ｒ３０、Ｆ４３７、Ｆ４７５、Ｆ４７９、Ｆ４８２、Ｆ５５４、Ｆ７８０、ＥＸＰ、ＭＦＳ－３３０（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ　ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファックＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファックＤＳ－２１が挙げられる。
　また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基またはフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。このようなフッ素系界面活性剤は、特開２０１６－２１６６０２号公報に記載されたフッ素系界面活性剤が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
　フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する繰り返し単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。また、特開２０１０－０３２６９８号公報の段落番号００１６～００３７に記載されたフッ素含有界面活性剤や、下記化合物も本発明で用いられるフッ素系界面活性剤として例示される。
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 　上記の化合物の重量平均分子量は、好ましくは３０００～５００００であり、例えば、１４０００である。上記の化合物中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
　また、フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和結合含有基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。具体例としては、特開２０１０－１６４９６５号公報の段落番号００５０～００９０および段落番号０２８９～０２９５に記載された化合物、ＤＩＣ（株）製のメガファックＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ等が挙げられる。また、フッ素系界面活性剤は、特開２０１５－１１７３２７号公報の段落番号００１５～０１５８に記載の化合物を用いることもできる。
　ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、プルロニックＬ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（ＢＡＳＦ社製）、テトロニック３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１（ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース２００００（日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニンＤ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）、ＴＳＦ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２（以上、信越化学工業（株）製）、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
　界面活性剤を含有する場合、感光性組成物の全固形分中における界面活性剤の含有量は、０．００１質量％～５．０質量％が好ましく、０．００５～３．０質量％がより好ましい。界面活性剤は、１種類のみでもよく、２種類以上でもよい。２種類以上の場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜酸化防止剤＞＞
　本発明の感光性組成物は、酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤としては、フェノール化合物、亜リン酸エステル化合物、チオエーテル化合物などが挙げられる。フェノール化合物としては、フェノール系酸化防止剤として知られる任意のフェノール化合物を使用することができる。好ましいフェノール化合物としては、ヒンダードフェノール化合物が挙げられる。フェノール性ヒドロキシ基に隣接する部位（オルト位）に置換基を有する化合物が好ましい。前述の置換基としては炭素数１～２２の置換又は無置換のアルキル基が好ましい。また、酸化防止剤は、同一分子内にフェノール基と亜リン酸エステル基を有する化合物も好ましい。また、酸化防止剤は、リン系酸化防止剤も好適に使用することができる。感光性組成物の全固形分中における酸化防止剤の含有量は、０．０１～２０質量％であることが好ましく、０．３～１５質量％であることがより好ましい。酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤は１種のみを用いてもよく、２種以上を用いてもよい。２種以上を用いる場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
＜＜その他成分＞＞
　本発明の感光性組成物は、必要に応じて、増感剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、香料、表面張力調整剤、連鎖移動剤など）を含有してもよい。これらの成分を適宜含有させることにより、膜物性などの性質を調整することができる。これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落番号０１８３以降（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落番号０２３７）の記載、特開２００８－２５００７４号公報の段落番号０１０１～０１０４、０１０７～０１０９等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。また、本発明の感光性組成物は、必要に応じて、潜在酸化防止剤を含有してもよい。潜在酸化防止剤としては、酸化防止剤として機能する部位が保護基で保護された化合物であって、１００～２５０℃で加熱するか、又は酸／塩基触媒存在下で８０～２００℃で加熱することにより保護基が脱離して酸化防止剤として機能する化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤としては、国際公開第２０１４／０２１０２３号、国際公開第２０１７／０３０００５号、特開２０１７－００８２１９号公報に記載された化合物が挙げられる。潜在酸化防止剤の市販品としては、アデカアークルズＧＰＡ－５００１（（株）ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。また、特開２０１８－１５５８８１号公報に記載されているように、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２９を耐候性改良の目的で添加しても良い。
　本発明の感光性組成物は、得られる膜の屈折率を調整するために金属酸化物を含有させてもよい。金属酸化物としては、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２等が挙げられる。金属酸化物の一次粒子径は１～１００ｎｍが好ましく、３～７０ｎｍがより好ましく、５～５０ｎｍが更に好ましい。金属酸化物はコア－シェル構造を有していてもよい。また、この場合、コア部は中空状であってもよい。
　本発明の感光性組成物は、耐光性改良剤を含んでもよい。耐光性改良剤としては、特開２０１７－１９８７８７号公報の段落番号００３６～００３７に記載の化合物、特開２０１７－１４６３５０号公報の段落番号００２９～００３４に記載の化合物、特開２０１７－１２９７７４号公報の段落番号００３６～００３７、００４９～００５２に記載の化合物、特開２０１７－１２９６７４号公報の段落番号００３１～００３４、００５８～００５９に記載の化合物、特開２０１７－１２２８０３号公報の段落番号００３６～００３７、００５１～００５４に記載の化合物、国際公開第２０１７／１６４１２７号の段落番号００２５～００３９に記載の化合物、特開２０１７－１８６５４６号公報の段落番号００３４～００４７に記載の化合物、特開２０１５－０２５１１６号公報の段落番号００１９～００４１に記載の化合物、特開２０１２－１４５６０４号公報の段落番号０１０１～０１２５に記載の化合物、特開２０１２－１０３４７５号公報の段落番号００１８～００２１に記載の化合物、特開２０１１－２５７５９１号公報の段落番号００１５～００１８に記載の化合物、特開２０１１－１９１４８３号公報の段落番号００１７～００２１に記載の化合物、特開２０１１－１４５６６８号公報の段落番号０１０８～０１１６に記載の化合物、特開２０１１－２５３１７４号公報の段落番号０１０３～０１５３に記載の化合物などが挙げられる。
　本発明の感光性組成物の含水率は、通常３質量％以下であり、０．０１～１．５質量％が好ましく、０．１～１．０質量％の範囲であることがより好ましい。含水率は、カールフィッシャー法にて測定することができる。
　本発明の感光性組成物は、膜面状（平坦性など）の調整、膜厚の調整などを目的として粘度を調整して用いることができる。粘度の値は必要に応じて適宜選択することができるが、例えば、２５℃において０．３ｍＰａ・ｓ～５０ｍＰａ・ｓが好ましく、０．５ｍＰａ・ｓ～２０ｍＰａ・ｓがより好ましい。粘度の測定方法としては、例えば、コーンプレートタイプの粘度計を使用し、２５℃に温度調整を施した状態で測定することができる。
　本発明の感光性組成物の収容容器としては、特に限定はなく、公知の収容容器を用いることができる。また、収容容器として、原材料や組成物中への不純物混入を抑制することを目的に、容器内壁を６種６層の樹脂で構成する多層ボトルや６種の樹脂を７層構造にしたボトルを使用することも好ましい。このような容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
＜感光性組成物の調製方法＞
　本発明の感光性組成物は、前述の成分を混合して調製できる。感光性組成物の調製に際しては、全成分を同時に溶剤に溶解および／または分散して感光性組成物を調製してもよいし、必要に応じて、各成分を適宜２つ以上の溶液または分散液としておいて、使用時（塗布時）にこれらを混合して感光性組成物を調製してもよい。
　また、感光性組成物の調製に際して、顔料を分散させるプロセスを含むことが好ましい。顔料を分散させるプロセスにおいて、顔料の分散に用いる機械力としては、圧縮、圧搾、衝撃、剪断、キャビテーションなどが挙げられる。これらプロセスの具体例としては、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ボールミル、ペイントシェーカー、マイクロフルイダイザー、高速インペラー、サンドグラインダー、フロージェットミキサー、高圧湿式微粒化、超音波分散などが挙げられる。またサンドミル（ビーズミル）における顔料の粉砕においては、径の小さいビーズを使用する、ビーズの充填率を大きくする事等により粉砕効率を高めた条件で処理することが好ましい。また、粉砕処理後にろ過、遠心分離などで粗粒子を除去することが好ましい。また、顔料を分散させるプロセスおよび分散機は、「分散技術大全集、株式会社情報機構発行、２００５年７月１５日」や「サスペンション（固／液分散系）を中心とした分散技術と工業的応用の実際　総合資料集、経営開発センター出版部発行、１９７８年１０月１０日」、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落番号００２２に記載のプロセス及び分散機を好適に使用出来る。また顔料を分散させるプロセスにおいては、ソルトミリング工程にて粒子の微細化処理を行ってもよい。ソルトミリング工程に用いられる素材、機器、処理条件等は、例えば特開２０１５－１９４５２１号公報、特開２０１２－０４６６２９号公報の記載を参酌できる。
　感光性組成物の調製にあたり、異物の除去や欠陥の低減などの目的で、感光性組成物をフィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に限定されることなく用いることができる。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ナイロン（例えばナイロン－６、ナイロン－６，６）等のポリアミド樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン樹脂（高密度、超高分子量のポリオレフィン樹脂を含む）等の素材を用いたフィルタが挙げられる。これら素材の中でもポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）およびナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．０１～７．０μｍが好ましく、０．０１～３．０μｍがより好ましく、０．０５～０．５μｍが更に好ましい。フィルタの孔径が上記範囲であれば、微細な異物をより確実に除去できる。フィルタの孔径値については、フィルタメーカーの公称値を参照することができる。フィルタは、日本ポール株式会社（ＤＦＡ４２０１ＮＩＥＹなど）、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）および株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタを用いることができる。
　また、フィルタとしてファイバ状のろ材を用いることも好ましい。ファイバ状のろ材としては、例えばポリプロピレンファイバ、ナイロンファイバ、グラスファイバ等が挙げられる。市販品としては、ロキテクノ社製のＳＢＰタイプシリーズ（ＳＢＰ００８など）、ＴＰＲタイプシリーズ（ＴＰＲ００２、ＴＰＲ００５など）、ＳＨＰＸタイプシリーズ（ＳＨＰＸ００３など）が挙げられる。フィルタを使用する際、異なるフィルタ（例えば、第１のフィルタと第２のフィルタなど）を組み合わせてもよい。その際、各フィルタでのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。また、上述した範囲内で異なる孔径のフィルタを組み合わせてもよい。また、第１のフィルタでのろ過は、分散液のみに対して行い、他の成分を混合した後で、第２のフィルタでろ過を行ってもよい。
＜膜＞
　本発明の膜は、上述した本発明の感光性組成物から得られる膜である。本発明の膜は、カラーフィルタや赤外線透過フィルタなどの光学フィルタに用いることができる。
　本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。例えば、膜厚は、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましく、０．６μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　本発明の膜をカラーフィルタとして用いる場合、本発明の膜は、緑色、赤色、青色、シアン色、マゼンタ色または黄色の色相を有することが好ましい。また、本発明の膜は、カラーフィルタの着色画素として好ましく用いることができる。着色画素としては、赤色画素、緑色画素、青色画素、マゼンタ色画素、シアン色画素、黄色画素などが挙げられる。
　本発明の膜を赤外線透過フィルタとして用いる場合、本発明の膜は、例えば、以下の（１）～（４）のいずれかの分光特性を有することが好ましい。
　（１）：膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００～６４０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）で、膜の厚み方向における光の透過率の、波長８００～１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である。このような分光特性を有する膜は、波長４００～６４０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長７００ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（２）：膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００～７５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）で、膜の厚み方向における光の透過率の、波長９００～１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～７５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長８５０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（３）：膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００～８３０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）で、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１０００～１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～８３０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長９４０ｎｍを超える光を透過させることができる。
　（４）：膜の厚み方向における光の透過率の、波長４００～９５０ｎｍの範囲における最大値が２０％以下（好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下）で、膜の厚み方向における光の透過率の、波長１１００～１３００ｎｍの範囲における最小値が７０％以上（好ましくは７５％以上、より好ましくは８０％以上）である膜。このような分光特性を有する膜は、波長４００～９５０ｎｍの範囲の光を遮光して、波長１０４０ｎｍを超える光を透過させることができる。
＜画素の形成方法＞
　次に、画素の形成方法について説明する。画素の形成方法は、上述した本発明の感光性組成物を支持体上に塗布して感光性組成物層を形成する工程と、感光性組成物層をパターン状に露光する工程と、露光後の感光性組成物層の未露光部を現像除去する工程と、を含むことが好ましい。以下、各工程について説明する。
　感光性組成物層を形成する工程では、感光性組成物を支持体上に塗布して感光性組成物層を形成する。支持体としては、特に限定は無く、用途に応じて適宜選択できる。例えば、ガラス基板、シリコン基板などが挙げられ、シリコン基板であることが好ましい。また、シリコン基板には、電荷結合素子（ＣＣＤ）、相補型金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）、透明導電膜などが形成されていてもよい。また、シリコン基板には、各画素を隔離するブラックマトリクスが形成されている場合もある。また、シリコン基板には、上部の層との密着性改良、物質の拡散防止或いは基板表面の平坦化のために下地層が設けられていてもよい。下地層の表面接触角は、ジヨードメタンで測定した際に２０～７０°であることが好ましい。また、水で測定した際に３０～８０°であることが好ましい。下地層の表面接触角が上記範囲であれば、感光性組成物の塗れ性が良好である。下地層の表面接触角の調整は、例えば、界面活性剤の添加などの方法で行うことができる。
　感光性組成物の塗布方法としては、公知の方法を用いることができる。例えば、滴下法（ドロップキャスト）；スリットコート法；スプレー法；ロールコート法；スピンコート法；流延塗布法；スリットアンドスピン法；プリウェット法（例えば、特開２００９－１４５３９５号公報に記載されている方法）；インクジェット（例えばオンデマンド方式、ピエゾ方式、サーマル方式）、ノズルジェット等の吐出系印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷、グラビア印刷、反転オフセット印刷、メタルマスク印刷法などの各種印刷法；金型等を用いた転写法；ナノインプリント法などが挙げられる。インクジェットでの適用方法としては、特に限定されず、例えば「広がる・使えるインクジェット－特許に見る無限の可能性－、２００５年２月発行、住ベテクノリサーチ」に示された方法（特に１１５ページ～１３３ページ）や、特開２００３－２６２７１６号公報、特開２００３－１８５８３１号公報、特開２００３－２６１８２７号公報、特開２０１２－１２６８３０号公報、特開２００６－１６９３２５号公報などに記載の方法が挙げられる。また、感光性組成物の塗布方法については、国際公開第２０１７／０３０１７４号、国際公開第２０１７／０１８４１９号の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
　支持体上に形成した感光性組成物層は、乾燥（プリベーク）してもよい。低温プロセスにより膜を製造する場合は、プリベークを行わなくてもよい。プリベークを行う場合、プリベーク温度は、１５０℃以下が好ましく、１２０℃以下がより好ましく、１１０℃以下が更に好ましい。下限は、例えば、５０℃以上とすることができ、８０℃以上とすることもできる。プリベーク時間は、１０～３００秒が好ましく、４０～２５０秒がより好ましく、８０～２２０秒がさらに好ましい。プリベークは、ホットプレート、オーブン等で行うことができる。
　次に、感光性組成物層をパターン状に露光する（露光工程）。例えば、感光性組成物層に対し、ステッパー露光機やスキャナ露光機などを用いて、所定のマスクパターンを有するマスクを介して露光することで、パターン状に露光することができる。これにより、露光部分を硬化することができる。
　露光に際して用いることができる放射線（光）としては、ｇ線、ｉ線等が挙げられる。また、波長３００ｎｍ以下の光（好ましくは波長１８０～３００ｎｍの光）を用いることもできる。波長３００ｎｍ以下の光としては、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ線（波長１９３ｎｍ）などが挙げられ、ＫｒＦ線（波長２４８ｎｍ）が好ましい。また、３００ｎｍ以上の長波な光源も利用できる。
　また、露光に際して、光を連続的に照射して露光してもよく、パルス的に照射して露光（パルス露光）してもよい。なお、パルス露光とは、短時間（例えば、ミリ秒レベル以下）のサイクルで光の照射と休止を繰り返して露光する方式の露光方法のことである。
　照射量（露光量）は、例えば、０．０３～２．５Ｊ／ｃｍ２が好ましく、０．０５～１．０Ｊ／ｃｍ２がより好ましい。露光時における酸素濃度については適宜選択することができ、大気下で行う他に、例えば酸素濃度が１９体積％以下の低酸素雰囲気下（例えば、１５体積％、５体積％、または、実質的に無酸素）で露光してもよく、酸素濃度が２１体積％を超える高酸素雰囲気下（例えば、２２体積％、３０体積％、または、５０体積％）で露光してもよい。また、露光照度は適宜設定することが可能であり、通常１０００Ｗ／ｍ２～１０００００Ｗ／ｍ２（例えば、５０００Ｗ／ｍ２、１５０００Ｗ／ｍ２、または、３５０００Ｗ／ｍ２）の範囲から選択することができる。酸素濃度と露光照度は適宜条件を組み合わせてよく、例えば、酸素濃度１０体積％で照度１００００Ｗ／ｍ２、酸素濃度３５体積％で照度２００００Ｗ／ｍ２などとすることができる。
　次に、露光後の感光性組成物層の未露光部を現像除去する（現像工程）。感光性組成物層の未露光部の現像除去は、現像液を用いて行うことができる。これにより、未露光部の感光性組成物層が現像液に溶出し、光硬化した部分だけが残る。現像液の温度は、例えば、２０～３０℃が好ましい。現像時間は、２０～１８０秒が好ましい。また、残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、さらに新たに現像液を供給する工程を数回繰り返してもよい。
　現像液は、有機溶剤、アルカリ現像液などが挙げられ、アルカリ現像液が好ましく用いられる。アルカリ現像液としては、アルカリ剤を純水で希釈したアルカリ性水溶液（アルカリ現像液）が好ましい。アルカリ剤としては、例えば、アンモニア、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、ジグリコールアミン、ジエタノールアミン、ヒドロキシアミン、エチレンジアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、エチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ジメチルビス（２－ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセンなどの有機アルカリ性化合物や、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの無機アルカリ性化合物が挙げられる。アルカリ剤は、分子量が大きい化合物の方が環境面および安全面で好ましい。アルカリ性水溶液のアルカリ剤の濃度は、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～１質量％がより好ましい。また、現像液は、さらに界面活性剤を含有していてもよい。現像液は、移送や保管の便宜などの観点より、一旦濃縮液として製造し、使用時に必要な濃度に希釈してもよい。希釈倍率は特に限定されないが、例えば１．５～１００倍の範囲に設定することができる。また、現像後純水で洗浄（リンス）することも好ましい。また、リンスは、現像後の感光性組成物層が形成された支持体を回転させつつ、現像後の感光性組成物層へリンス液を供給して行うことが好ましい。また、リンス液を吐出させるノズルを支持体の中心部から支持体の周縁部に移動させて行うことも好ましい。この際、ノズルの支持体中心部から周縁部へ移動させるにあたり、ノズルの移動速度を徐々に低下させながら移動させてもよい。このようにしてリンスを行うことで、リンスの面内ばらつきを抑制できる。また、ノズルを支持体中心部から周縁部へ移動させつつ、支持体の回転速度を徐々に低下させても同様の効果が得られる。
　現像後、乾燥を施した後に追加露光処理や加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。追加露光処理やポストベークは、硬化を完全なものとするための現像後の硬化処理である。ポストベークにおける加熱温度は、例えば１００～２４０℃が好ましく、２００～２４０℃がより好ましい。ポストベークは、現像後の膜（画素）を、上記条件になるようにホットプレートやコンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）、高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式あるいはバッチ式で行うことができる。追加露光処理を行う場合、露光に用いられる光は、波長４００ｎｍ以下の光であることが好ましい。また、追加露光処理は、韓国公開特許第１０－２０１７－０１２２１３０号公報に記載された方法で行ってもよい。
＜光学フィルタ＞
　本発明の光学フィルタは、上述した本発明の膜を有する。光学フィルタの種類としては、カラーフィルタおよび赤外線透過フィルタが挙げられ、カラーフィルタであることが好ましい。カラーフィルタとしては、カラーフィルタの着色画素として本発明の膜を有することが好ましい。
　カラーフィルタの一態様としては、赤色画素、緑色画素及び青色画素を少なくとも有し、赤色画素、緑色画素及び青色画素の少なくとも１色の着色画素が本発明の膜で構成されているカラーフィルタが挙げられる。
　カラーフィルタの他の態様としては、シアン色画素、マゼンタ色画素及び黄色画素を少なくとも有し、シアン色画素、マゼンタ色画素及び黄色画素の少なくとも１色の着色画素が本発明の膜で構成されているカラーフィルタが挙げられる。
　カラーフィルタは、ＣＣＤ（電荷結合素子）やＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）などの固体撮像素子や画像表示装置などに用いることができる。
　光学フィルタにおいて本発明の膜の膜厚は、目的に応じて適宜調整できる。膜厚は、５μｍ以下が好ましく、１μｍ以下がより好ましく、０．６μｍ以下がさらに好ましい。膜厚の下限は、０．１μｍ以上が好ましく、０．２μｍ以上がより好ましく、０．３μｍ以上がさらに好ましい。
　光学フィルタに含まれる画素の幅は０．４～１０．０μｍであることが好ましい。下限は、０．４μｍ以上であることが好ましく、０．５μｍ以上であることがより好ましく、０．６μｍ以上であることが更に好ましい。上限は、５．０μｍ以下であることが好ましく、２．０μｍ以下であることがより好ましく、１．０μｍ以下であることが更に好ましく、０．８μｍ以下であることがより一層好ましい。また、画素のヤング率は０．５～２０ＧＰａであることが好ましく、２．５～１５ＧＰａがより好ましい。
　光学フィルタに含まれる各画素は高い平坦性を有することが好ましい。具体的には、画素の表面粗さＲａは、１００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以下であることがより好ましく、１５ｎｍ以下であることが更に好ましい。下限は規定されないが、例えば０．１ｎｍ以上であることが好ましい。画素の表面粗さは、例えばＶｅｅｃｏ社製のＡＦＭ（原子間力顕微鏡）　Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ３１００を用いて測定することができる。また、画素上の水の接触角は適宜好ましい値に設定することができるが、典型的には、５０～１１０°の範囲である。接触角は、例えば接触角計ＣＶ－ＤＴ・Ａ型（協和界面科学（株）製）を用いて測定できる。また、画素の体積抵抗値は高いことが好ましい。具体的には、画素の体積抵抗値は１０９Ω・ｃｍ以上であることが好ましく、１０１１Ω・ｃｍ以上であることがより好ましい。上限は規定されないが、例えば１０１４Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。画素の体積抵抗値は、例えば超高抵抗計５４１０（アドバンテスト社製）を用いて測定することができる。
　光学フィルタにおいては、本発明の膜（画素）の表面に保護層が設けられていてもよい。保護層を設けることで、酸素遮断化、低反射化、親疎水化、特定波長の光（紫外線、近赤外線等）の遮蔽等の種々の機能を付与することができる。保護層の厚さとしては、０．０１～１０μｍが好ましく、０．１～５μｍがより好ましい。保護層の形成方法としては、有機溶剤に溶解した樹脂組成物を塗布して形成する方法、化学気相蒸着法、成型した樹脂を接着材で貼りつける方法等が挙げられる。保護層を構成する成分としては、（メタ）アクリル樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルホスフィンオキシド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、ポリオール樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アラミド樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、変性シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、セルロース樹脂、Ｓｉ、Ｃ、Ｗ、Ａｌ２Ｏ３、Ｍｏ、ＳｉＯ２、Ｓｉ２Ｎ４などが挙げられ、これらの成分を二種以上含有しても良い。例えば、酸素遮断化を目的とした保護層の場合、保護層はポリオール樹脂と、ＳｉＯ２と、Ｓｉ２Ｎ４を含むことが好ましい。また、低反射化を目的とした保護層の場合、保護層は（メタ）アクリル樹脂とフッ素樹脂を含むことが好ましい。
　樹脂組成物を塗布して保護層を形成する場合、樹脂組成物の塗布方法としては、スピンコート法、キャスト法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。樹脂組成物に含まれる有機溶剤は、公知の有機溶剤（例えば、プロピレングリコール１－モノメチルエーテル２－アセテート、シクロペンタノン、乳酸エチル等）を用いることが出来る。保護層を化学気相蒸着法にて形成する場合、化学気相蒸着法としては、公知の化学気相蒸着法（熱化学気相蒸着法、プラズマ化学気相蒸着法、光化学気相蒸着法）を用いることができる。
　保護層は、必要に応じて、有機・無機微粒子、特定波長の光（例えば、紫外線、近赤外線等）の吸収剤、屈折率調整剤、酸化防止剤、密着剤、界面活性剤等の添加剤を含有しても良い。有機・無機微粒子の例としては、例えば、高分子微粒子（例えば、シリコーン樹脂微粒子、ポリスチレン微粒子、メラミン樹脂微粒子）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化アルミニウム、窒化チタン、酸窒化チタン、フッ化マグネシウム、中空シリカ、シリカ、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等が挙げられる。特定波長の光の吸収剤は公知の吸収剤を用いることができる。これらの添加剤の含有量は適宜調整できるが、保護層の全質量に対して０．１～７０質量％が好ましく、１～６０質量％がさらに好ましい。
　また、保護層としては、特開２０１７－１５１１７６号公報の段落番号００７３～００９２に記載の保護層を用いることもできる。
　光学フィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。
＜固体撮像素子＞
　本発明の固体撮像素子は、上述した本発明の膜を有する。固体撮像素子の構成としては、本発明の膜を備え、固体撮像素子として機能する構成であれば特に限定はないが、例えば、以下のような構成が挙げられる。
　基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤ（電荷結合素子）イメージセンサ、ＣＭＯＳ（相補型金属酸化膜半導体）イメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオードおよびポリシリコン等からなる転送電極を有し、フォトダイオードおよび転送電極上にフォトダイオードの受光部のみ開口した遮光膜を有し、遮光膜上に遮光膜全面およびフォトダイオード受光部を覆うように形成された窒化シリコン等からなるデバイス保護膜を有し、デバイス保護膜上に、カラーフィルタを有する構成である。更に、デバイス保護膜上であってカラーフィルタの下（基板に近い側）に集光手段（例えば、マイクロレンズ等。以下同じ）を有する構成や、カラーフィルタ上に集光手段を有する構成等であってもよい。また、カラーフィルタは、隔壁により例えば格子状に仕切られた空間に、各着色画素が埋め込まれた構造を有していてもよい。この場合の隔壁は各着色画素に対して低屈折率であることが好ましい。このような構造を有する撮像装置の例としては、特開２０１２－２２７４７８号公報、特開２０１４－１７９５７７号公報、国際公開第２０１８／０４３６５４号に記載の装置が挙げられる。本発明の固体撮像素子を備えた撮像装置は、デジタルカメラや、撮像機能を有する電子機器（携帯電話等）の他、車載カメラや監視カメラ用としても用いることができる。
＜画像表示装置＞
　本発明の画像表示装置は、上述した本発明の膜を有する。画像表示装置としては、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置などが挙げられる。画像表示装置の定義や各画像表示装置の詳細については、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木昭夫著、（株）工業調査会、１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹順章著、産業図書（株）平成元年発行）」などに記載されている。また、液晶表示装置については、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田龍男編集、（株）工業調査会、１９９４年発行）」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば、上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。
　以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
＜分散液の製造＞
　下記の表に記載の原料を混合したのち、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを用いて５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して分散液を製造した。下記の表の各素材の配合量の数値は質量部である。なお、樹脂（分散剤）の配合量の値は、固形分２０質量％の樹脂溶液での配合量の値である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
　上記表の略語で記載した原料は以下の通りである。
（色材）
　ＰＲ１２２　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２
　ＰＲ１７７　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７
　ＰＲ２５４　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２５４
　ＰＲ２６４　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６４
　ＰＲ２６９　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２６９
　ＰＲ２７２　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２７２
　ＰＹ１２９　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２９
　ＰＹ１３９　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９
　ＰＹ１５０　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５０
　ＰＹ１８５　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１８５
　ＰＹ２１５　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２１５
　ＰＯ７１　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ７１
　ＰＧ７　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７
　ＰＧ３６　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６
　ＰＧ５８　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン５８
　ＰＧ６２　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６２
　ＰＧ６３　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン６３
　ＰＢ１５：６　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６
　ＰＢ６０　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０
　ＰＶ２３　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３
　ＰＶ２９　：　Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９
　Ａｌフタロシアニン：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　ＡＲ２８９：Ｃ．Ｉ．アシッドレッド２８９
　染料１：下記構造の化合物（キサンテン染料、以下の構造式中、ｉＰｒはイソプロピル基である）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 　染料２：下記構造のポリマー（重量平均分子量７０００）とＣ．Ｉ．アシッドレッド５２の造塩化合物（キサンテン染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 　染料３：下記構造の化合物（キサンテン染料）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 　Ｙｅｌｌｏｗ１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 　Ｙｅｌｌｏｗ２：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 　Ｙｅｌｌｏｗ３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
（顔料誘導体）
　誘導体１：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 　誘導体２：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 　誘導体３：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 　誘導体４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 　誘導体５：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 　誘導体６：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 　誘導体７：下記構造の化合物の混合物（上側の化合物と下側の化合物との質量比＝３０：７０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
＜樹脂＞
　Ａ－１：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量＝２４０００、酸価４７ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量%％プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶液
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 　Ａ－２：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比であり、側鎖に付記した数値は繰り返し単位の数である。重量平均分子量＝１６０００、酸価６７ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
　Ｂ－１：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－１の樹脂溶液（固形分濃度２０質量％）。
　メチルメタクリレート５０質量部、ｎ－ブチルメタクリレート５０質量部、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）４５．４質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した。反応容器内を７０℃に加熱して、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール６質量部を添加して、さらにＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）０．１２質量部を加え、１２時間反応させた。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。次に、ピロメリット酸無水物９．７質量部、ＰＧＭＥＡ７０．３質量部、触媒としてＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン）０．２０質量部を追加し、１２０℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。ＰＧＭＥＡを加えて不揮発分（固形分濃度）を２０質量％に調整し、酸価４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量９０００の下記構造の樹脂Ｂ－１の樹脂溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
　Ｂ－２：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－２の樹脂溶液（固形分濃度２０質量％）。
　メチルメタクリレート５０質量部、ｎ－ブチルメタクリレート３０質量部、ｔ－ブチルメタクリレート２０質量部、ＰＧＭＥＡ４５．４質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した。反応容器内を７０℃に加熱して、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール６質量部を添加して、さらにＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）０．１２質量部を加え、１２時間反応させた。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。次に、ピロメリット酸無水物９．７質量部、ＰＧＭＥＡ７０．３質量部、触媒としてＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン）０．２０質量部を追加し、１２０℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。ＰＧＭＥＡを加えて不揮発分（固形分濃度）を２０質量％に調整し、酸価４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量９０００の下記構造の樹脂Ｂ－２の樹脂溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
　Ｂ－３：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－３の樹脂溶液（固形分濃度２０質量％）。
　樹脂Ｂ－２の合成において、ｔ－ブチルメタクリレート２０質量部を、（３－エチルオキセタン－３－イル）メチルメタクリレート２０質量部に変更した以外は同様にして、酸価４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量９０００の下記構造の樹脂Ｂ－３の樹脂溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
　Ｂ－４：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－４の樹脂溶液（固形分濃度２０質量％）。
　樹脂Ｂ－２の合成において、ｔ－ブチルメタクリレート２０質量部を、昭和電工製「カレンズＭＯＩ－ＢＭ」２０質量部に変更した以外は同様にして、酸価４３ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量９０００の下記構造の樹脂Ｂ－４の樹脂溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
　Ｂ－５：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－５の樹脂溶液（固形分濃度２０質量％）。
　３－メルカプト－１，２－プロパンジオール６．０質量部、ピロメリット酸無水物９．５質量部、ＰＧＭＥＡ６２質量部、１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン０．２質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した。反応容器内を１００℃に加熱して、７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した後、系内の温度を７０℃に冷却し、メチルメタクリレート６５質量部、エチルアクリレート５．０質量部、ｔ－ブチルアクリレート１５質量部、メタクリル酸５．０質量部、ヒドロキシエチルメタクリレート１０質量部、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル０．１質量部を溶解したＰＧＭＥＡ溶液５３．５質量部を添加して、１０時間反応させた。固形分測定により重合が９５％進行したことを確認し反応を終了した。ＰＧＭＥＡを加えて不揮発分（固形分濃度）を２０質量％に調整し、酸価７０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１００００の下記構造の樹脂Ｂ－５の樹脂溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
　Ｂ－６：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－６の樹脂溶液（固形分濃度２０質量％）。
　１－チオグリセロール１０８質量部、ピロメリット酸無水物１７４質量部、メトキシプロピルアセテート６５０質量部、触媒としてモノブチルスズオキシド０．２質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した後、１２０℃で５時間反応させた（第一工程）。酸価の測定で９５％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認した。次に、第一工程で得られた化合物を固形分換算で１６０質量部、２－ヒドロキシプロピルメタクリレート２００質量部、エチルアクリレート２００質量部、ｔ－ブチルアクリレート１５０質量部、２－メトキシエチルアクリレート２００質量部、メチルアクリレート２００質量部、メタクリル酸５０質量部、ＰＧＭＥＡ６６３質量部を反応容器に仕込み、反応容器内を８０℃に加熱して、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）１．２質量部を添加し、１２時間反応させた（第二工程）。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。最後に、第二工程で得られた化合物の５０質量％ＰＧＭＥＡ溶液５００質量部、２－メタクリロイルオキシエチルイソシアネート（ＭＯＩ）２７．０質量部、ヒドロキノン０．１質量部を反応容器に仕込み、イソシアネート基に基づく２２７０ｃｍ－１のピークの消失を確認するまで反応を行った（第三工程）。ピーク消失の確認後、反応溶液を冷却して、ＰＧＭＥＡを加えて不揮発分（固形分濃度）を２０質量％に調整し、酸価６８ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１３０００の下記構造の樹脂Ｂ－６の樹脂溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
　Ｂ－７：以下の方法で合成した樹脂Ｂ－７の樹脂溶液（固形分濃度２０質量％）。
　メチルメタクリレート４０質量部、ｎ－ブチルメタクリレート６０質量部、ＰＧＭＥＡ４５．４質量部を反応容器に仕込み、雰囲気ガスを窒素ガスで置換した。反応容器内を７０℃に加熱して、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール８質量部を添加して、さらにＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）０．１２質量部を加え、１２時間反応させた。固形分測定により９５％が反応したことを確認した。次に、ピロメリット酸無水物１３質量部、ＰＧＭＥＡ７０．３質量部、触媒としてＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ－［５．４．０］－７－ウンデセン）０．２０質量部を追加し、１２０℃で７時間反応させた。酸価の測定で９８％以上の酸無水物がハーフエステル化していることを確認し反応を終了した。ＰＧＭＥＡを加えて不揮発分（固形分濃度）を２０質量％に調整し、酸価５５ｍｇＫＯＨ／ｇ、重量平均分子量１００００の下記構造の樹脂Ｂ－７の樹脂溶液を得た。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
（溶剤）
　Ｋ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
＜感光性組成物の製造＞
　下記の表に記載の原料を混合して、感光性組成物を調製した。なお、樹脂の配合量の値は、固形分２０質量％の樹脂溶液での配合量の値である。下記表に、感光性組成物の全固形分中における光重合開始剤の含有量を「光重合開始剤量」の欄に示す。また、感光性組成物に含まれる重合性モノマーと光重合開始剤に関して、重合性モノマーの質量を光重合開始剤の質量で割った値を「Ｍ／Ｉ比」の欄に示す。また、感光性組成物に含まれる色材と重合性モノマーに関して、重合性モノマーの質量を色材の質量で割った値を「Ｍ／Ｐ比」の欄に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
　上記表の略語で記載した原料のうち、分散液以外の原料は以下の通りである。分散液はそれぞれ上記で製造した分散液である。
（樹脂）
　Ａ－３：下記構造の樹脂（主鎖に付記した数値はモル比である。Ｍｗ＝１１０００、酸価６９ｍｇＫＯＨ／ｇ）の２０質量％ＰＧＭＥＡ溶液
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
（重合性モノマー）
　Ｍ－１：トリメチロールプロパントリアクリレート（東亞合成（株）製、アロニックス　Ｍ－３０９、官能基数３、分子量２９６、エチレン性不飽和結合含有基価９９ｇ／ｍｏｌ）
　Ｍ－２：トリメチロールプロパンプロピレンオキシ変性トリアクリレート（東亞合成（株）製、アロニックス　Ｍ－３１０、官能基数３、分子量４７１、エチレン性不飽和結合含有基価１５７ｇ／ｍｏｌ、アルキレンオキシ基（プロピレンオキシ基）を有する化合物）
　Ｍ－３：トリメチロールプロパンエチレンオキシ変性トリアクリレート（東亞合成（株）製、アロニックス　Ｍ－３５０、官能基数３、分子量４２９、エチレン性不飽和結合含有基価１４３ｇ／ｍｏｌ、アルキレンオキシ基（エチレンオキシ基）を有する化合物）
　Ｍ－４：ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成（株）製、アロニックス　Ｍ－４０２、官能基数６、分子量５７９、エチレン性不飽和結合含有基価９６ｇ／ｍｏｌ）
　Ｍ－５：イソシアヌル酸トリス（２－アクリロイルオキシエチル）（東亞合成（株）製、アロニックスＭ－３１５、官能基数３、分子量４２３、エチレン性不飽和結合含有基価１４１ｇ／ｍｏｌ）
　Ｍ－６：カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬(株)製、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡ－３０、下記構の化合物（ｍ＝１、ａ＝３、ｂ＝３）、官能基数６、分子量９２１、エチレン性不飽和結合含有基価１５４ｇ／ｍｏｌ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 　Ｍ－７：ウレタンアクリレート（新中村化学工業（株）製、Ｕ－６ＬＰＡ、分子量７６０、官能基数６、エチレン性不飽和結合含有基価１２７ｇ／ｍｏｌ）
　Ｍ－８：下記構造の化合物（官能基数６、分子量１１０７、エチレン性不飽和結合含有基価１８５ｇ／ｍｏｌ、アルキレンオキシ基（エチレンオキシ基）を有する化合物）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
（光重合開始剤）
［芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基ＡｒＯＸ１を有するオキシム化合物ＯＸ］
　Ｇ－１～Ｇ－４：下記構造の化合物
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
［オキシム化合物ＯＸ以外の光重合開始剤］
　Ｇ－ｃ１：下記構造の化合物（オキシム系光重合開始剤）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 　Ｇ－ｃ２：下記構造の化合物（ベンゾフェノン系光重合開始剤）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
（添加剤）
　Ｈ－１：下記構造の化合物（紫外線吸収剤）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
（界面活性剤）
　Ｉ－１：下記構造の化合物（Ｍｗ＝１４０００）の１質量％ＰＧＭＥＡ溶液。下記の式中、繰り返し単位の割合を示す％はモル％である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
（重合禁止剤）
　Ｊ―１：ｐ－メトキシフェノール
（溶剤）
　Ｋ－１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
＜性能評価＞
（耐光性）
　ガラス基板上に、各感光性組成物をスピンコート法で塗布し、次いで、ホットプレートを使用して１００℃で１２０秒加熱処理（プリベーク）し、次いでｉ線で１０００ｍｊ／ｃｍ２の露光量で露光し、次いで、２００℃で５分間加熱を行い、厚さ０．６μｍの膜を作製した。得られた膜について、大塚電子（株）製のＭＣＰＤ－３０００を用い、波長４００～７００ｎｍの範囲の光透過率（透過率）を測定した。次に、上記で作製した膜に対し、耐光試験機（スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５、スガ試験機株式会社製）を用いて１０００００Ｌｕｘの光を１０００時間かけて照射した（総照射量１億Ｌｕｘ・ｈｒ）。光照射後の膜の透過率を測定し、以下の基準にて耐光性を評価した。Ａ～Ｃが使用に問題ない範囲である。
　Ａ：光照射後の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値が、光照射前の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値の９９％以上である。
　Ｂ：光照射後の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値が、光照射前の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値の９７％以上９９％未満である。
　Ｃ：光照射後の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値が、光照射前の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値の９５％以上９７％未満である。
　Ｄ：光照射後の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値が、光照射前の膜の波長４００～７００ｎｍの透過率の積算値の９５％未満である。
（密着性）
　直径８インチ（＝２０３．２ｍｍ）のシリコンウエハ上にＣＴ－４０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を膜厚が０．１μｍとなるようにスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で１時間加熱して下地層を形成した。この下地層付きのシリコンウエハ上に各感光性組成物をスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して、膜厚０．５μｍの組成物層を得た。この組成物層に対して、ｉ線ステッパーＦＰＡ－３０００ｉ５＋（Ｃａｎｏｎ（株）製）を使用し、一辺１．１μｍの正方ピクセルがそれぞれ基板上の４ｍｍ×３ｍｍの領域に配列されたマスクパターンを介して、３６５ｎｍの波長の光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光した。露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、シリコンウエハを自然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２２０℃で３００秒間ポストベークを行い、画素を形成した。得られた画素について、光学顕微鏡を用いて観察し、全画素中シリコンウエハに密着している画素の数をカウントして密着性を評価した。Ａ～Ｃが使用に問題ない範囲である。
　Ａ：すべての画素が密着している。
　Ｂ：密着している画素が、全画素の９８％以上１００％未満である。
　Ｃ：密着している画素が、全画素の９５％以上９８％未満である。
　Ｄ：密着している画素が、全画素の９５％未満である。
（色ムラ）
　ガラス基板上に、ＣＴ－４０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を膜厚が０．１μｍとなるようにスピンコート法で塗布し、ホットプレートを用いて２２０℃で１時間加熱して下地層を形成した。この下地層付きのガラス基板上に各感光性組成物をスピンコート法で塗布し、その後、ホットプレートを用いて１００℃で２分間加熱して、膜厚０．５μｍの組成物層を得た。
　この組成物層に対して、３６５ｎｍの波長の光を５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で照射して露光した。
　露光後の組成物層に対し、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにて水を用いてリンスを行い、更に純水にて水洗いを行った。その後、水滴を高圧のエアーで飛ばし、ガラス基板を自然乾燥させたのち、ホットプレートを用いて２２０℃で３００秒間ポストベークを行い、膜を形成した。この膜が形成されたガラス基板（評価用基板）を用いて輝度分布を下記方法で解析し、平均からのずれが±１０％以上である画素数をもとに色ムラの評価を行った。
　輝度分布の測定方法について説明する。評価用基板を光学顕微鏡の観測レンズと光源との間に設置して光を観測レンズに向けて照射し、その透過光状態をデジタルカメラが設置された光学顕微鏡ＭＸ－５０（オリンパス社製）を用いて観察した。膜表面の撮影は、任意に選択した５つの領域に対して行った。撮影画像の輝度を０～２５５までの２５６階調の濃度分布として数値化して保存した。この画像から輝度分布を解析し、平均からのズレが±１０％を超える画素数にて色ムラを評価した。評価基準は以下の通りである。Ａ～Ｃの評価であれば実用上問題ないと判断する。
　Ａ：平均からのズレが±１０％を超える画素数が１０００以下である。
　Ｂ：平均からのズレが±１０％を超える画素数が１０００を越え３０００以下である。
　Ｃ：平均からのズレが±１０％を超える画素数が３０００を越え５０００以下である。
　Ｄ：平均からのズレが±１０％を超える画素数が５０００を超える。
（表面粗さ）
　密着性評価で得られた画素の表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ　ＦａｓｔＳｃａｎ　ＡＦＭ（Ｂｒｕｋｅｒ製）を用いて測定した。表面粗さの評価基準は以下の通りである。Ａ～Ｃの評価であれば実用上問題ないと判断する。
　Ａ：表面粗さ（Ｒａ）が０ｎｍ以上３ｎｍ未満
　Ｂ：表面粗さ（Ｒａ）が３ｎｍ以上５ｎｍ未満
　Ｃ：表面粗さ（Ｒａ）が５ｎｍ以上１０ｎｍ未満
　Ｄ：表面粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以上
　上記結果を下記表に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000085
　上記表に示すように、実施例は、耐光性、密着性、色ムラおよび表面粗さの各項目を高い水準で並立させることができた。これに対し、比較例は、耐光性、密着性、色ムラおよび表面粗さのいずれかがＤランクの評価があり、実施例よりも劣っていた。
（実施例１００１）
　シリコンウエハ上に、緑色感光性組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で２μｍ四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、緑色感光性組成物をパターニングして緑色画素を形成した。同様に赤色感光性組成物、青色感光性組成物を同様のプロセスでパターニングして、赤色画素、青色画素を順次形成して、緑色画素、赤色画素および青色画素を有するカラーフィルタを形成した。このカラーフィルタにおいては、緑色画素がベイヤーパターンで形成されており、その隣接する領域に、赤色画素、青色画素がアイランドパターンで形成されている。得られたカラーフィルタを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。この固体撮像素子は好適な画像認識能を有していた。なお、緑色感光性組成物としては、実施例Ｇ１の感光性組成物を使用した。赤色感光性組成物としては、実施例Ｒ１の感光性組成物を使用した。青色感光性組成物としては、実施例Ｂ１の感光性組成物を使用した。
（実施例１００２）
　シリコンウエハ上に、シアン色感光性組成物を製膜後の膜厚が１．０μｍになるようにスピンコート法で塗布した。次いで、ホットプレートを用いて、１００℃で２分間加熱した。次いで、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を用い、１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量で２μｍ四方のドットパターンのマスクを介して露光した。次いで、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）０．３質量％水溶液を用い、２３℃で６０秒間パドル現像を行った。その後、スピンシャワーにてリンスを行い、更に純水にて水洗した。次いで、ホットプレートを用いて、２００℃で５分間加熱することで、シアン色感光性組成物をパターニングしてシアン色画素を形成した。同様に黄色感光性組成物、マゼンタ色感光性組成物を同様のプロセスでパターニングして、黄色画素、マゼンタ色画素を順次形成して、シアン色画素、黄色画素およびマゼンタ色画素を有するカラーフィルタを形成した。このカラーフィルタにおいては、シアン色画素がベイヤーパターンで形成されており、その隣接する領域に、黄色画素、マゼンタ色画素がアイランドパターンで形成されている。得られたカラーフィルタを公知の方法に従い固体撮像素子に組み込んだ。この固体撮像素子は好適な画像認識能を有していた。なお、シアン色感光性組成物としては、実施例Ｃ１の感光性組成物を使用した。黄色感光性組成物としては、実施例Ｙ１の感光性組成物を使用した。マゼンタ色感光性組成物としては、実施例Ｍ１の感光性組成物を使用した。

Claims (17)

  1. 　色材と、光重合開始剤と、重合性モノマーと、樹脂とを含む感光性組成物であって、
    　前記光重合開始剤は、芳香族環に電子求引性基が導入された芳香族環基ＡｒＯＸ１を有するオキシム化合物ＯＸを含み、
    　前記重合性モノマーの質量を前記光重合開始剤の質量で割った値が０．５～５．５である、感光性組成物。
  2. 　前記光重合開始剤中における前記オキシム化合物ＯＸの含有量が５０～１００質量％である、請求項１に記載の感光性組成物。
  3. 　前記芳香族環基ＡｒＯＸ１が有する電子求引性基は、アシル基およびニトロ基から選ばれる少なくとも１種である、請求項１または２に記載の感光性組成物。
  4. 　前記芳香族環基ＡｒＯＸ１が有する電子求引性基は、アシル基である、請求項１または２に記載の感光性組成物。
  5. 　前記芳香族環基ＡｒＯＸ１は、式（ＯＲ－１）で表される基である、請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　式中、ＲＯＸ１は置換基を表し、ＲＯＸ２は電子求引性基を表し、ｎは０～４の整数を表し、波線は結合手を表す。
  6. 　前記オキシム化合物ＯＸは、式（ＯＲ－１１）で表される基および式（ＯＲ－１２）で表される基から選ばれる少なくとも１種の基を有する、請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　式中、ＲＯＸ１１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、ホスフィノイル基、カルバモイル基またはスルファモイル基を表し、
    　ＲＯＸ１２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基またはアミノ基を表し、
    　波線は結合手を表す。
  7. 　前記オキシム化合物ＯＸは、式（ＯＸ１）で表される化合物および式（ＯＸ２）で表される化合物から選ばれる少なくとも１種である、請求項１～６のいずれか１項に記載の感光性組成物；
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     　式中、ＲＸ１は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシルオキシ基、アミノ基、ホスフィノイル基、カルバモイル基またはスルファモイル基を表し、
    　ＲＸ２は、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、複素環基、複素環オキシ基、アルキルスルファニル基、アリールスルファニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシルオキシ基またはアミノ基を表し、
    　ＲＸ３～ＲＸ１４は、それぞれ独立して水素原子または置換基を表す；
    　ただし、ＲＸ１０～ＲＸ１４のうち少なくとも一つは、電子求引性基である。
  8. 　前記重合性モノマーは、エチレン性不飽和結合含有基を３個有する化合物を含む、請求項１～７のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  9. 　前記重合性モノマーのエチレン性不飽和結合含有基価が１００～３００ｇ／ｍｏｌである、請求項１～８のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  10. 　感光性組成物の全固形分中における前記色材の含有量が５０質量％以上である、請求項１～９のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  11. 　感光性組成物の全固形分中における前記重合性モノマーの含有量が１～２５質量％である、請求項１～１０のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  12. 　固体撮像素子用である、請求項１～１１のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  13. 　シアン色、イエロー色またはマゼンタ色用の画素形成用の感光性組成物である、請求項１～１２のいずれか１項に記載の感光性組成物。
  14. 　請求項１～１３のいずれか１項に記載の感光性組成物を用いて得られる膜。
  15. 　請求項１４に記載の膜を有する光学フィルタ。
  16. 　請求項１４に記載の膜を有する固体撮像素子。
  17. 　請求項１４に記載の膜を有する画像表示装置。
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