WO2024024657A1

WO2024024657A1 - 硬化性組成物、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、硬化膜の製造方法

Info

Publication number: WO2024024657A1
Application number: PCT/JP2023/026726
Authority: WO
Inventors: 憲文横山; 鉄平阿部; 宏明出井
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2022-07-29
Filing date: 2023-07-21
Publication date: 2024-02-01

Abstract

本発明の第１の課題は、硬化して得られる硬化膜が優れた密着性を示すとともに、赤外光に対して優れた低反射性を示す、硬化性組成物を提供することである。また、本発明の第２の課題は、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、及び赤外線センサを提供することである。　本発明の硬化性組成物は、所定樹脂Ａと、所定樹脂Ｂと、重合性化合物と、顔料と、光重合開始剤とを含む硬化性組成物であって、　樹脂Ａと樹脂Ｂの合計含有量に対する、樹脂Ａの含有量の比が、０．３０～０．５０であり、樹脂Ａと樹脂Ｂと重合性化合物の合計含有量に対する、重合性化合物の含有量の比が、０．３０～０．５０である。

Description

硬化性組成物、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、硬化膜の製造方法

　本発明は、硬化性組成物、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、及び硬化膜の製造方法に関する。

　液晶表示装置等の画像表示装置、並びに、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）イメージセンサ及びＣＭＯＳ（Complementary Metal-Oxide Semiconductor）イメージセンサ等の固体撮像装置には、所定の位置にカラーフィルタや遮光膜が配置されている場合が多い。例えば、液晶表示装置では、着色画素間の光を遮蔽してコントラストの向上させる目的で、カラーフィルタ上の着色画素間にブラックマトリクスと呼ばれる遮光膜を配置する場合がある。また、固体撮像素子では、ノイズ発生防止及び画質の向上等を目的として遮光膜を適用する場合がある。

　カラーフィルタや遮光膜は、典型的には、着色剤、アルカリ可溶性樹脂、及びモノマー等を含む硬化性組成物を硬化することにより作製されている。
　例えば、特許文献１では、カラーフィルタ等に使用するための、所定成分を含む着色組成物が開示されている。

特開２０２２－０２９３４１号公報

　ところで、遮光膜には、遮光性だけでなく低反射性も希求されており、近年では、赤外光に対する低反射性も所望されている。
　本発明者は、特許文献１に記載された硬化性組成物を参考にしてその硬化膜の性能について検討したところ、赤外光に対する反射性をより低減できる余地があることを明らかとした。また、硬化性組成物を使用して硬化膜を形成する工程において、露光後の膜に対してアルカリ水溶液による現像処理を施した際に、露光部における膜が支持体から剥がれやすいことを知見した。つまり、硬化膜の密着性をより改善する余地があることを明らかとした。

　そこで、本発明は、硬化して得られる硬化膜が優れた密着性を示すとともに、赤外光に対して優れた低反射性を示す、硬化性組成物を提供することを課題とする。
　また、本発明は、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、及び硬化膜の製造方法を提供することも課題とする。

　本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出した。

　〔１〕　樹脂Ａと、樹脂Ｂと、重合性化合物と、顔料と、光重合開始剤とを含む硬化性組成物であって、
　上記樹脂Ａが、酸基を有する繰り返し単位と、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位とを含み、
　上記ポリオキシアルキレン基及びポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位の含有量は、上記樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、３５質量％以上であり、
　上記樹脂Ａの酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、
　上記樹脂Ｂが、アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位と、水酸基を有する繰り返し単位と、カルボン酸基を有する繰り返し単位とを含み、
　上記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位の含有量は、上記樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、６０質量％以上であり、
　上記樹脂Ａと上記樹脂Ｂとの合計含有量に対する、上記樹脂Ａの含有量の比が、０．３０～０．５０であり、
　上記樹脂Ａと、上記樹脂Ｂと、上記重合性化合物との合計含有量に対する、上記重合性化合物の含有量の比が、０．３０～０．５０である、硬化性組成物。
　〔２〕　上記酸基を有する繰り返し単位が、後述する式（Ａ１１）で表される繰り返し単位、後述する式（Ａ１２）で表される繰り返し単位、及び後述する式（Ａ１３）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる繰り返し単位を１種以上含む、〔１〕に記載の硬化性組成物。
　〔３〕　上記樹脂Ａが、更に、ベンジル基を有する繰り返し単位を含む、〔１〕又は〔２〕に記載の硬化性組成物。
　〔４〕　上記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位において、上記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレート中のエステル結合に連結するアルキル基の炭素数が、４以上である、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
　〔５〕　上記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位の含有量が、上記樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、８０質量％以上である、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
　〔６〕　上記樹脂Ｂの酸価が５５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
　〔７〕　上記水酸基を有する繰り返し単位が、２－エチルヒドロキシアクリレート及び２－エチルヒドロキシメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位を含む、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
　〔８〕　上記顔料が酸窒化チタンを含む、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
　〔９〕　遮光膜形成用組成物である、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
　〔１０〕　〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、遮光膜。
　〔１１〕　〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、固体撮像素子。
　〔１２〕　〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、画像表示装置。
　〔１３〕　〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、赤外線センサ。
　〔１４〕　〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、光学フィルタ。
　〔１５〕　〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、カバーガラス。
　〔１６〕　支持体上に、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の硬化性組成物を用いて組成物層を形成する組成物層形成工程と、
　活性光線又は放射線を照射して上記組成物層を露光する露光工程と、
　露光後の上記組成物層に対して現像処理を実施する現像工程と、を有する硬化膜の製造方法。

　本発明によれば、硬化して得られる硬化膜が優れた密着性を示すとともに、赤外光に対して優れた低反射性を示す、硬化性組成物を提供できる。
　また、本発明によれば、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、赤外線センサ、及び硬化膜の製造方法を提供できる。

　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされる場合があるが、本発明はそのような実施態様に制限されない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。

　また、本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を含有しない基と共に置換基を含む基をも包含する。例えば、「アルキル基」とは、置換基を含有しないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を含むアルキル基（置換アルキル基）をも包含する。

　また、本明細書中における「活性光線」又は「放射線」とは、例えば、遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ：Ｅｘｔｒｅｍｅ　ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ　ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）、Ｘ線、及び電子線等を意味する。また本明細書において光とは、活性光線及び放射線を意味する。本明細書中における「露光」とは、特に断らない限り、遠紫外線、Ｘ線、及びＥＵＶ光等による露光のみならず、電子線及びイオンビーム等の粒子線による描画も包含する。

　また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタアクリレートを表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタアクリルを表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルを表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリルアミド」は、アクリルアミド及びメタアクリルアミドを表す。また、本明細書中において、「単量体」と「モノマー」とは同義である。

　本明細書において重量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ：ゲル浸透クロマトグラフィー）法によるポリスチレン換算値である。
　本明細書においてＧＰＣ法は、ＨＬＣ－８０２０ＧＰＣ（東ソー製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２０００（東ソー製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を用いる方法に基づく。

　本明細書において、「酸価」は、例えば、化合物中における酸基の平均含有量から算出できる。

　本明細書において、組成物における固形分とは、組成物を用いて形成される組成物層を意味し、組成物が溶媒を含む場合、溶媒を除いた全ての成分を意味する。また、組成物層を形成する成分であれば、液体状の成分も固形分とみなす。

［硬化性組成物］
　本発明の硬化性組成物は、
　樹脂Ａと、樹脂Ｂと、重合性化合物と、顔料と、光重合開始剤とを含む硬化性組成物であって、
　上記樹脂Ａが、酸基を有する繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ１」ということもある。）と、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ２」ということもある。）とを含み、
　上記ポリオキシアルキレン基及びポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ２）の含有量は、上記樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、３５質量％以上であり、
　上記樹脂Ａの酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、
　上記樹脂Ｂが、アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｂ１」ということもある。）と、水酸基を有する繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｂ２」ということもある。）と、カルボン酸基を有する繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｂ３」ということもある。）とを含み、
　上記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ１）の含有量は、上記樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、６０質量％以上であり、
　上記樹脂Ａと上記樹脂Ｂとの合計含有量に対する、上記樹脂Ａの含有量の比（以下「含有量比Ｔ１」ともいう。）が、０．３０～０．５０であり、
　上記樹脂Ａと、上記樹脂Ｂと、上記重合性化合物との合計含有量に対する、上記重合性化合物の含有量の比（以下「含有量比Ｔ２」ともいう。）が、０．３０～０．５０である。

　上記構成の硬化性組成物は、硬化膜を形成する際に、露光後の膜に対してアルカリ水溶液による現像処理を施しても、露光部における膜が支持体から剥離しにくい。すなわち、上記構成の硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜は、密着性に優れる。また、上記硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜は、赤外光に対する低反射性に優れる。
　以下、本発明の構成と効果との推測される作用機序について説明する。
　上記構成の硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜は、樹脂Ａと樹脂Ｂとの相溶性の差により、相分離構造（例えば、海島構造、共連続構造、並びに、海島構造と共連続構造が共存した構造）を有し、膜の表面において微細な凹凸構造を生じ得る。硬化膜は、上記凹凸構造によって、特に赤外光に対する光散乱性に優れ、結果として、赤外光に対して優れた低反射性を示すと推測される。
　また、硬化性組成物が含む樹脂Ｂは、アルキル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ１）の含有量が樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して６０質量％以上であることから、比較的疎水性の高い性質を有する。このため、硬化性組成物を使用して硬化膜を作製する際に、露光後の膜に対してアルカリ水溶液による現像処理しても、露光後の膜に対するアルカリ水溶液の染み込みが生じにくく、この結果として露光部における膜が支持体から剥離しにくいと推測される。
　更に、含有量比Ｔ１及び含有量比Ｔ２が所定数値範囲であることも、硬化膜の優れた密着性と、硬化膜の赤外光に対する優れた低反射性との両立に大きく寄与していると考えている。
　なお、上記硬化膜の相分離構造の具体的な一態様としては、顔料と樹脂Ａ及び樹脂Ａに由来する樹脂（例えば、重合性基を有する樹脂Ａが重合してなる樹脂）とを含んで構成されるドメイン部と、樹脂Ｂ及び樹脂Ｂに由来する樹脂（例えば、重合性基を有する樹脂Ｂが重合してなる樹脂）とを含んで構成されるマトリックス部との海島構造又は共連続構造が挙げられる。

　以下、硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜の赤外光に対する反射性がより低いこと、硬化膜の密着性がより優れること、及び／又は、現像残渣（未露光部残渣）がより少ないことを、「本発明の効果がより優れる」ともいう。

　以下、本発明の硬化性組成物の各種成分について説明する。

〔樹脂Ａ〕
　硬化性組成物は、樹脂Ａを含む。
　樹脂Ａは、酸基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ１）と、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ２）とを含み、酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である。また、繰り返し単位Ａ２の含有量は、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、３５質量％以上である。
　なお、カルボン酸基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ１、及び、後述する繰り返し単位Ｂ３に該当する）と、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ２）と、アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位（後述する繰り返し単位Ｂ１に該当する）と、水酸基を有する繰り返し単位（後述する繰り返し単位Ｂ２に該当する）と、を含み、酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である樹脂であって、上記平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ２）の含有量が、樹脂の全繰り返し単位に対して３５質量％以上であり、上記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ１）の含有量が、樹脂の全繰り返し単位に対して６０質量％以上である樹脂は、樹脂Ａに該当するものとする。

　なお、繰り返し単位Ａ１と繰り返し単位Ａ２とは、異なる構造である。
　また、繰り返し単位Ａ１は、オキシアルキレン基及びオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有していてもよい。繰り返し単位Ａ１がオキシアルキレン基及びオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を含む場合、オキシアルキレン基の平均付加数、及び、オキシアルキレンカルボニル基の平均付加数は、１～２であるのが好ましい。
　繰り返し単位Ａ２は、酸基を含まないことが好ましい。

　樹脂Ａは、上記構成により、顔料等の被分散体の表面に吸着し、被分散体の再凝集を防止するように作用し得る樹脂としても機能すると推測される。具体的には、樹脂Ａが含む繰り返し単位Ａ１が顔料表面へのアンカー部位となり、繰り返し単位Ａ２による立体反発効果によって、被分散体の再凝集が防止され得る。
　なお、樹脂Ａとしては、繰り返し単位Ａ２による立体反発効果がより一層優れて、本発明の効果がより優れる点で、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を含むグラフト鎖を有するグラフト型高分子であるのが好ましい。

　樹脂Ａがグラフト型高分子である場合、樹脂Ａはグラフト鎖によって溶媒との親和性を有するために、顔料等の分散性及び経時後の分散安定性に優れる。また、グラフト鎖の存在により、樹脂Ａと樹脂Ｂとの相溶性の差がより生じやすく、本発明の効果がより優れやすい。なお、グラフト鎖が所定の長さであると顔料等の被分散体への吸着力が向上して、その分散性が向上する傾向がある。このため、グラフト鎖中の水素原子を除いた原子数は、４０～１００００が好ましく、５０～２０００がより好ましく、６０～５００が更に好ましい。ここで、グラフト鎖とは、共重合体の主鎖の根元（主鎖から枝分かれしている基において主鎖に結合する原子）から、主鎖から枝分かれしている基の末端までを示す。
　このようなグラフト鎖を含むマクロモノマー（ポリマー構造を有し、共重合体の主鎖に結合してグラフト鎖を構成するモノマー）としては、特に制限されないが、反応性二重結合性基を含むマクロモノマーを好適に使用できる。

　以下、樹脂Ａが含む繰り返し単位について説明する。

＜繰り返し単位Ａ１＞
　樹脂Ａは、酸基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ１）を含む。樹脂Ａにおいて繰り返し単位Ａ１は、上述の顔料吸着基として機能するほか、樹脂Ａのアルカリ現像液に対する現像性をより向上させ得る。
　酸基としては、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びフェノール性水酸基が挙げられ、なかでも、カルボン酸基が好ましい。
　繰り返し単位Ａ１において、酸基の個数としては、１個以上であればよく、例えば、１～６個が挙げられる。

　繰り返し単位Ａ１の具体的な構造としては特に制限されないが、本発明の効果がより優れやすい点で、下記式（ＡＸ１）で表される繰り返し単位であるのが好ましい。

　式中、Ｒ^Ａ１は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表す。
　Ｒ^Ａ１で表されるアルキル基の炭素数としては、なかでも、１～３が好ましく、１がより好ましい。

　Ｌ^Ａ１は、単結合、－ＣＯＯ－、又は－ＣＯＮＲ^Ａ２－を表す。Ｒ^Ａ２は、上記Ｒ^Ａ１と同義であり、好適態様も同じである。

　Ｌ^Ａ２は、単結合又は２価の連結基を表す。
　２価の連結基の種類としては特に制限されず、例えば、２価の脂肪族炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^Ａ３－、－ＣＯ－、及びこれらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。また、炭素数としては、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　２価の脂肪族炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が挙げられ、なかでも、アルキレン基が好ましい。
　２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数６～１０が好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。
　２価の脂肪族炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限されず、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びフェノール性水酸基等の酸基であってもよい。
　上記Ｒ^Ａ３は、上記Ｒ^Ａ１と同義であり、好適態様も同じである。

　２価の連結基としては、なかでも、置換基を有していてもよいアルキレン基、置換基を有していてもよいフェニレン基、－Ｏ－、及び－ＣＯ－からなる群から選ばれる基を２種以上組み合わせた基が好ましい。

　上記式（ＡＸ１）中、－Ｌ^Ａ１－Ｌ^Ａ２－で表される部位における水素原子を除いた原子数としては、例えば、４０未満が好ましい。

　Ｗ^Ａ１は、酸基を表す。
　酸基としては、既述のとおりである。

　繰り返し単位Ａ１としては、本発明の効果がより優れる点で、なかでも、下記式（Ａ１１）で表される繰り返し単位、下記式（Ａ１２）で表される繰り返し単位、及び、下記式（Ａ１３）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる繰り返し単位を１種以上含むのが好ましい。
　なお、式（Ａ１３）中、ｎは、平均付加数を表し、１～２である。

　樹脂Ａは、繰り返し単位Ａ１を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａ中、繰り返し単位Ａ１の含有量としては、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、５～５０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、１０～４０質量％が更に好ましい。２種以上の繰り返し単位Ａ１を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜繰り返し単位Ａ２＞
　樹脂Ａは、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ２）を含む。樹脂Ａにおいて繰り返し単位Ａ２は、上述のとおり、顔料等の被分散体の再凝集を防止するように作用するほか、硬化膜としたときの相分離構造の形成に寄与すると推測される。

　なお、オキシアルキレン基とは、－Ｏ－ＡＬ－で表される基を表し、オキシアルキレンカルボニル基とは、－Ｏ－ＡＬ－ＣＯ－で表される基を表す。ＡＬは、アルキレン基を表す。
　また、ポリオキシアルキレン基とは、－（Ｏ－ＡＬ）_ｎ１－で表される基を表し、ポリオキシアルキレンカルボニル基とは、－（Ｏ－ＡＬ－ＣＯ）_ｎ２－で表される基を表す。
　なお、ポリオキシアルキレン基及びポリオキシアルキレンカルボニル基において、複数存在するオキシアルキレン基（－Ｏ－ＡＬ－）は、各々同一であっても異なっていてもよい。

　オキシアルキレン基及びオキシアルキレンカルボニル基におけるアルキレン基の炭素数（ＡＬの炭素数）としては特に制限されないが、２～１０が好ましく、２～９がより好ましく、２～７が更に好ましい。
　ポリオキシアルキレンにおける平均付加数（ｎ１）としては３以上であり、４以上が好ましく、５以上がより好ましく、６以上が更に好ましく、１０以上が特に好ましく、１５以上が最も好ましい。また、上限値としては、１００以下が好ましく、７０以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。
　オキシアルキレンカルボニル基における平均付加数（ｎ２）としては３以上であり、４以上が好ましく、５以上がより好ましく、６以上が更に好ましい。また、上限値としては、１００以下が好ましく、７０以下がより好ましく、３０以下が更に好ましい。

　平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基において、複数のオキシアルキレン基のアルキレン部分の炭素数は同一であっても異なっていてもよい。複数のオキシアルキレン基のアルキレン部分の炭素数が異なる場合とは、例えば、オキシエチレン基とオキシプロピレン基とを含む構成等が挙げられる。また、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基において、複数のポリオキシアルキレンカルボニル基のアルキレン部分の炭素数は同一であっても異なっていてもよい。複数のオキシアルキレンカルボニル基のアルキレン部分の炭素数が異なる場合とは、具体的には、オキシエチレンカルボニル基とオキシプロピレンカルボニル基とを含む構成等が挙げられる。

　繰り返し単位Ａ２としては、下記式（１）～式（３）のいずれかで表される繰り返し単位が好ましく、下記式（１）又は式（３）で表される繰り返し単位がより好ましい。

　式（１）～（３）において、Ｗ^１、Ｗ^２、及びＷ^３は、各々独立に、酸素原子又はＮＨを表す。Ｗ^１、Ｗ^２、及びＷ^３としては、酸素原子が好ましい。
　式（１）～（３）において、Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３は、各々独立に、水素原子又は１価の有機基を表す。Ｘ^１、Ｘ^２、及びＸ^３としては、合成上の制約の観点からは、各々独立に、水素原子又は炭素数（炭素原子数）１～１２のアルキル基が好ましく、各々独立に、水素原子又はメチル基がより好ましく、メチル基が更に好ましい。

　式（１）～（３）において、Ｙ^１、Ｙ^２、及びＹ^３は、各々独立に、２価の連結基を表す。Ｙ^１、Ｙ^２、及びＹ^３で表される２価の連結基の構造としては特に制限されず、具体的には、下記の（Ｙ－１）～（Ｙ－２１）の連結基等が例として挙げられる。下記に示した構造において、Ａ、Ｂはそれぞれ、式（１）～（３）における左末端基、右末端基との結合部位を意味する。

　式（１）～（３）において、Ｚ^１、Ｚ^２、及びＺ^３は、各々独立に、水酸基、アミノ基、又は１価の有機基を表す。有機基は特に制限されないが、具体的には、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロアリールオキシ基、アルキルチオエーテル基、アリールチオエーテル基、及びヘテロアリールチオエーテル基等が挙げられる。
　Ｚ^１、Ｚ^２、及びＺ^３で表されるアルキル基、アルコキシ基、及びアルキルチオエーテル基におけるアルキル基部分としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれでもよく、炭素数としては、例えば、１～３０が好ましい。また、アルコキシ基におけるメチレン基は、－Ｏ－で置換されていてもよい。
　Ｚ^１、Ｚ^２、及びＺ^３で表される有機基としては、なかでも、特に分散性向上の観点から、立体反発効果を含む基が好ましく、炭素数５～２４のアルキル基又はアルコキシ基がより好ましく、炭素数５～２４の分岐アルキル基、炭素数５～２４の環状アルキル基、又は炭素数５～２４のアルコキシ基が更に好ましい。
　また、上記各基は、置換基（例えば、水酸基及び（メタ）アクリロイルオキシ基等のエチレン性不飽和基等）を有していてもよい。

　なお、式（１）において、Ｚ^１が水酸基である場合、式中の－ＣＯＺ^１で表される部位は、アニオン化（－ＣＯＯ^－）していてもよい。この場合、カウンターカチオンとしては、４級アンモニウム塩が挙げられる。

　また、式（１）及び（２）において、ｎ及びｍは平均付加数を表し、３以上の数を表す。ｎ及びｍの下限値としては、なかでも、４以上が好ましく、５以上がより好ましく、６以上が更に好ましい。ｎ及びｍの上限値としては、１００以下が好ましく、７０以下がより好ましく、５０以下が更に好ましく、３０以下が特に好ましい。

　また、式（３）において、ｐは平均付加数を表し、３以上の数を表す。ｐの下限値としては、なかでも、４以上が好ましく、５以上がより好ましく、６以上が更に好ましく、１０以上が更により好ましく、１５以上が特に好ましく、２０以上が最も好ましい。ｐの上限値としては、１００以下が好ましく、７０以下がより好ましく、５０以下が更に好ましく、３０以下が特に好ましい。

　また、式（１）及び（２）において、ｊ及びｋは、各々独立に、２～１０の整数を表す。式（１）及び（２）におけるｊ及びｋとしては、硬化性組成物の経時粘度安定性及び現像性がより優れる点で、２～９の整数が好ましく、２～７の整数がより好ましく、４～６の整数が更に好ましく、５が特に好ましい。

　また、式（３）において、Ｒ^３は分岐鎖状又は直鎖状のアルキレン基を表す。上記アルキレンの炭素数としては、２～１０が好ましく、２～９がより好ましく、２～７が更に好ましく、２又は３が特に好ましい。ｐが２～１００のとき、複数存在するＲ^３は互いに同じであっても異なっていてもよい。

　繰り返し単位Ａ２としては、本発明の効果がより優れる点で、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基を有する繰り返し単位が好ましく、上述の式（１）又は（２）で表される繰り返し単位がより好ましく、上述の式（１）で表される繰り返し単位が更に好ましい。

　樹脂Ａは、繰り返し単位Ａ２を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａ中、繰り返し単位Ａ２の含有量としては、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、３５質量％以上であり、４０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が更に好ましい。なお、上限値としては、９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７５質量％以下が更に好ましい。２種以上の繰り返し単位Ａ２を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜その他の繰り返し単位（繰り返し単位Ａ３）＞
　樹脂Ａは、上述した繰り返し単位Ａ１及び繰り返し単位Ａ２以外のその他の繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ３」ともいう。）を含んでいてもよい。

　その他の繰り返し単位としては、上述した繰り返し単位以外の、種々の機能を有する他の繰り返し単位が挙げられる。
　他の繰り返し単位としては、疎水性繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ３１」ともいう。）、硬化性基を有する繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ３２」ともいう。）、顔料等と相互作用し得る官能基を有する繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ａ３３」ともいう。）、並びに、アクリロニトリル類及びメタクリロニトリル類からなる群から選ばれるラジカルモノマー由来の繰り返し単位が挙げられる。

（繰り返し単位Ａ３１）
　樹脂Ａは、疎水性繰り返し単位（繰り返し単位Ａ３１）を含んでいてもよい。
　繰り返し単位Ａ３１の一態様としては、ＣｌｏｇＰ値が１．２以上の化合物（モノマー）に由来する繰り返し単位が挙げられ、なかでも、ＣｌｏｇＰ値が１．２～８の化合物に由来する繰り返し単位であるのが好ましい。

　本明細書において、ＣｌｏｇＰ値は、Ｄａｙｌｉｇｈｔ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ　Ｓｙｓｔｅｍ，　Ｉｎｃ．から入手できるプログラム“ＣＬＯＧＰ”で計算された値である。このプログラムは、Ｈａｎｓｃｈ，　Ｌｅｏのフラグメントアプローチ（下記文献参照）により算出される“計算ｌｏｇＰ”の値を提供する。フラグメントアプローチは化合物の化学構造に基づいており、化学構造を部分構造（フラグメント）に分割し、そのフラグメントに対して割り当てられたｌｏｇＰ寄与分を合計して化合物のｌｏｇＰ値を推算している。その詳細は以下の文献に記載されている。本明細書では、プログラムＣＬＯＧＰ　ｖ４．８２により計算したＣｌｏｇＰ値を用いる。
　Ａ．　Ｊ．　Ｌｅｏ，　Ｃｏｍｐｒｅｈｅｎｓｉｖｅ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，　Ｖｏｌ．４，　Ｃ．　Ｈａｎｓｃｈ，　Ｐ．　Ｇ．　Ｓａｍｍｎｅｎｓ，　Ｊ．　Ｂ．　Ｔａｙｌｏｒ　ａｎｄ　Ｃ．　Ａ．　Ｒａｍｓｄｅｎ，　Ｅｄｓ．，　ｐ．２９５，　Ｐｅｒｇａｍｏｎ　Ｐｒｅｓｓ，　１９９０　Ｃ．　Ｈａｎｓｃｈ　＆　Ａ．　Ｊ．　Ｌｅｏ．　ＳＵｂｓｔｉｔｕｅｎｔ　Ｃｏｎｓｔａｎｔｓ　Ｆｏｒ　Ｃｏｒｒｅｌａｔｉｏｎ　Ａｎａｌｙｓｉｓ　ｉｎ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ａｎｄ　Ｂｉｏｌｏｇｙ．　Ｊｏｈｎ　Ｗｉｌｅｙ　＆　Ｓｏｎｓ．　Ａ．Ｊ．　Ｌｅｏ．　Ｃａｌｃｕｌａｔｉｎｇ　ｌｏｇＰｏｃｔ　ｆｒｏｍ　ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ．　Ｃｈｅｍ．　Ｒｅｖ．，　９３，　１２８１－１３０６，　１９９３．

　ｌｏｇＰは、分配係数Ｐ（Ｐａｒｔｉｔｉｏｎ　Ｃｏｅｆｆｉｃｉｅｎｔ）の常用対数を意味し、ある有機化合物が油（一般的には１－オクタノール）と水の２相系の平衡でどのように分配されるかを定量的な数値として表す物性値であり、以下の式で示される。
　　ｌｏｇＰ＝ｌｏｇ（Ｃｏｉｌ／Ｃｗａｔｅｒ）
　式中、Ｃｏｉｌは油相中の化合物のモル濃度を、Ｃｗａｔｅｒは水相中の化合物のモル濃度を表す。
　ｌｏｇＰの値が０をはさんでプラスに大きくなると油溶性が増し、マイナスで絶対値が大きくなると水溶性が増し、有機化合物の水溶性と負の相関があり、有機化合物の親疎水性を見積るパラメータとして広く利用されている。

　また、繰り返し単位Ａ３１の他の態様としては、下記式（ＡＸ２）で表される繰り返し単位が挙げられる。

　式中、Ｒ^Ａ４は、水素原子又は炭素数１～３のアルキル基を表す。
　Ｒ^Ａ４で表されるアルキル基の炭素数としては、１又は２が好ましく、１がより好ましい。
　Ｒ^Ａ５は、炭素数１～１２の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数７～１８のアラルキル基を表し、本発明の効果がより優れる点で、炭素数７～１８のアラルキル基が好ましい。
　Ｒ^Ａ５で表されるアルキル基の炭素数としては、１～８が好ましく、１～６がより好ましく、１～４が更に好ましい。また、直鎖状のアルキル基が好ましい。
　Ｒ^Ａ５で表されるアラルキル基の炭素数としては、７～１８が好ましく、７～１２がより好ましく、７～１０が更に好ましい。
　また、Ｒ^Ａ５で表されるアルキル基及びアラルキル基は、置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限されないが、例えば、水酸基が挙げられる。

　繰り返し単位Ａ３１としては、本発明の効果がより優れる点で、ベンジル基を有する繰り返し単位であることが好ましく、ベンジル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位であるのがより好ましい。

　樹脂Ａは、繰り返し単位Ａ３１を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａ中、繰り返し単位Ａ３１の含有量としては、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、５～５０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、１０～４０質量％が更に好ましい。２種以上の繰り返し単位Ａ３１を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

（繰り返し単位Ａ３２）
　樹脂Ａは、硬化性基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ａ３２）を含んでいてもよい。
　硬化性基としては、例えば、エチレン性不飽和基（例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、及びスチリル基等）及び環状エーテル基（例えば、エポキシ基及びオキセタニル基等）等が挙げられる。なかでも、ラジカル反応で重合制御が可能な点で、硬化性基としては、エチレン性不飽和基が好ましい。エチレン性不飽和基としては、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

　繰り返し単位Ａ３２の具体的な構造としては特に制限されないが、下記式（ＡＸ３）で表される繰り返し単位であるのが好ましい。

　式中、Ｒ^Ａ１１は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表す。
　Ｒ^Ａ１１で表されるアルキル基の炭素数としては、なかでも、１～３が好ましく、１がより好ましい。

　Ｌ^Ａ１１は、単結合、－ＣＯＯ－、又は－ＣＯＮＲ^Ａ１２－を表す。Ｒ^Ａ１２は、上記Ｒ^Ａ１１と同義であり、好適態様も同じである。

　Ｌ^Ａ１２は、単結合又は２価の連結基を表す。
　２価の連結基の種類としては特に制限されず、例えば、２価の脂肪族炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^Ａ１３－、－ＣＯ－、及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。また、炭素数としては、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　２価の脂肪族炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が挙げられ、なかでも、アルキレン基が好ましい。
　２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数６～１０が好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。
　２価の脂肪族炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限されず、例えば、カルボン酸基、スルホン酸基、リン酸基、及びフェノール性水酸基等の酸基、並びに、水酸基等が挙げられる。
　上記Ｒ^Ａ１３は、上記Ｒ^Ａ１１と同義であり、好適態様も同じである。

　２価の連結基としては、なかでも、置換基を有していてもよいアルキレン基、－Ｏ－、及び－ＣＯ－からなる群から選ばれる基を２種以上組み合わせた基が好ましい。

　上記式（ＡＸ３）中、－Ｌ^Ａ１１－Ｌ^Ａ１２－で表される部位における水素原子を除いた原子数としては、例えば、４０未満が好ましい。

　Ｗ^Ａ１１は、硬化性基を表す。
　Ｗ^Ａ１１で表される硬化性基としては、既述の硬化性基が挙げられる。

　樹脂Ａは、繰り返し単位Ａ３２を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａ中、繰り返し単位Ａ３２の含有量としては、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、５～５０質量％が好ましく、５～４０質量％がより好ましく、１０～４０質量％が更に好ましい。２種以上の繰り返し単位Ａ３２を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

（繰り返し単位Ａ３３）
　樹脂Ａは、顔料等と相互作用を形成し得る官能基を含む繰り返し単位（繰り返し単位Ａ３３）を含んでいてもよい。
　この顔料等と相互作用を形成し得る官能基としては、例えば、塩基性基、配位性基、及び反応性を有する官能基等が挙げられる。

　塩基性基としては、例えば、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、Ｎ原子を含むヘテロ環、及びアミド基等が挙げられ、なかでも、顔料等への吸着力が良好で、且つ、分散性が高い点で、第３級アミノ基が好ましい。
　樹脂Ａは、塩基性基を含む繰り返し単位を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａ中、塩基性基を含む繰り返し単位の含有量としては、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、０．０１～５０質量％が好ましく、現像性阻害抑制という観点から、０．０１～３０質量％がより好ましい。２種以上の塩基性基を含む繰り返し単位を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

　配位性基及び反応性を有する官能基としては、例えば、アセチルアセトキシ基、トリアルコキシシリル基、イソシアネート基、酸無水物、及び酸塩化物等が挙げられ、なかでも、顔料等への吸着力が良好で、且つ、顔料等の分散性が高い点で、アセチルアセトキシ基が好ましい。
　樹脂Ａは、配位性基を含む繰り返し単位を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａ中、配位性基を含む繰り返し単位の含有量としては、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、０．０１～５０質量％が好ましく、０．０１～３０質量％がより好ましい。２種以上の配位性基を含む繰り返し単位を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

　樹脂Ａは、反応性を有する官能基を含む繰り返し単位を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ａ中、反応性を有する官能基の含有量としては、樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、０．０１～５０質量％が好ましく、０．０１～３０質量％がより好ましい。２種以上の反応性を含む繰り返し単位を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

　硬化性組成物中における樹脂Ａの含有量は特に制限されないが、硬化性組成物の全固形分に対して、２～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、１０～２５質量％が更に好ましい。
　樹脂Ａは、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の樹脂Ａを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

　樹脂Ａの酸価としては、アルカリ現像液に対する現像性を担保する点で、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、５５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましい。上限値としては、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましく、８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。なお、樹脂Ａの構成成分である酸基を含む繰り返し単位の含有量を変化させれば所望の酸価を有する樹脂が得られる。

　樹脂Ａの重量平均分子量としては、５，０００～１００，０００が好ましく、６，０００～８０，０００がより好ましく、１５，０００～４０，０００が更に好ましく、２０，０００～４０，０００が最も好ましい。

　樹脂Ａのガラス転移温度としては、－２０～１００℃が好ましく、－２０～８０℃がより好ましく、－１０～６０℃が更に好ましい。ガラス転移温度は、ＤＳＣ　３５００　Ｓｉｒｉｕｓ（Ｎｅｔｚｓｃｈ社製）により測定できる。

〔樹脂Ｂ〕
　硬化性組成物は、樹脂Ｂを含む。
　なお、樹脂Ｂは、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位を含まないことが好ましい。
　樹脂Ｂは、アルキル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ１）と、水酸基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ２）と、カルボン酸基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ３）とを含み、繰り返し単位Ｂ１の含有量は、上記樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、６０質量％以上である。上記構成の樹脂Ｂは、硬化性組成物から形成される硬化膜の密着性を向上させるとともに、樹脂Ａとの相溶性の差によって相分離構造を形成し得る。

　以下、樹脂Ｂが含む繰り返し単位について説明する。

＜繰り返し単位Ｂ１＞
　樹脂Ｂは、アルキル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ１）を含む。

　アルキル（メタ）アクリレートにおいてエステル結合に連結するアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよいが、本発明の効果がより優れる点で、直鎖状又は分岐鎖状であるのが好ましい。
　また、上記アルキル基の炭素数としては、１以上が好ましく、本発明の効果がより優れる点で、４以上が好ましい。なお、上限値としては、２０以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましい。
　上記アルキル基は、置換基を有していても、有さなくてもよいが、本発明の効果がより優れる点で、置換基を有さないのが好ましい。なお、上記アルキル基が置換基を有する場合、水酸基及びカルボン酸基以外の置換基であるのが好ましい。

　樹脂Ｂは、繰り返し単位Ｂ１を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ｂ中、繰り返し単位Ｂ１の含有量としては、樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、６０質量％以上であり、６１質量％以上が好ましく、６５質量％以上がより好ましく、７０質量％以上が更に好ましく、８０質量％以上が特に好ましい。なお、上限値としては特に制限されないが、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましい。２種以上の繰り返し単位Ｂ１を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜繰り返し単位Ｂ２＞
　樹脂Ｂは、水酸基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ２）を含む。
　繰り返し単位Ｂ２は、上述した繰り返し単位Ｂ１と異なる繰り返し単位である。
　繰り返し単位Ｂ２は、カルボン酸基を有していないのが好ましい。
　繰り返し単位Ｂ２において、水酸基の個数としては、１個以上であればよく、例えば、１～６個が挙げられる。

　繰り返し単位Ｂ２の具体的な構造としては特に制限されないが、下記式（ＢＸ１）で表される繰り返し単位であるのが好ましい。

　式中、Ｒ^Ｂ１は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表す。
　Ｒ^Ｂ１で表されるアルキル基の炭素数としては、なかでも、１～３が好ましく、１がより好ましい。

　Ｌ^Ｂ１は、単結合、－ＣＯＯ－、又は－ＣＯＮＲ^Ｂ２－を表す。Ｒ^Ｂ２は、上記Ｒ^Ｂ１と同義であり、好適態様も同じである。

　Ｌ^Ｂ２は、単結合又は２価の連結基を表す。
　２価の連結基の種類としては特に制限されず、例えば、２価の脂肪族炭化水素基、２価の芳香族炭化水素基、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ_２－、－ＮＲ^Ｂ３－、－ＣＯ－、及び、これらを２種以上組み合わせた基が挙げられる。
　２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状、及び環状のいずれであってもよい。また、炭素数としては、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましい。
　２価の脂肪族炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、及びアルキニレン基が挙げられ、なかでも、アルキレン基が好ましい。
　２価の芳香族炭化水素基としては、炭素数６～１０が好ましく、例えば、フェニレン基が挙げられる。
　２価の脂肪族炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基は、更に置換基を有していてもよい。置換基としては特に制限されず、例えば、水酸基等が挙げられる。
　上記Ｒ^Ｂ３は、上記Ｒ^Ｂ１と同義であり、好適態様も同じである。

　２価の連結基としては、なかでも、置換基を有していてもよいアルキレン基、又は、置換基を有していてもよい、－Ｏ－及び－ＣＯ－から選ばれる基を含んでいてもよいアルキレン基が好ましい。

　上記式（ＢＸ１）中、－Ｌ^Ｂ１－Ｌ^Ｂ２－で表される部位における水素原子を除いた原子数としては、例えば、４０未満が好ましい。

　Ｗ^Ｂ１は、水酸基又は硬化性基を表す。
　Ｗ^Ｂ１で表される硬化性基としては、既述の硬化性基が挙げられる。
　Ｗ^Ｂ１としては、水酸基を表すのが好ましい。なお、Ｗ^Ｂ１が硬化性基を表す場合、繰り返し単位Ｂ２はＷ^Ｂ１以外の位置に水酸基を有するのが好ましい。なかでも、Ｌ^Ｂ２で表される２価の連結基を表し、且つ、上記２価の連結基が水酸基を含んでいるのが好ましい。

　繰り返し単位Ｂ２としては、本発明の効果がより優れる点で、２－エチルヒドロキシ（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位であるのが好ましい。

　樹脂Ｂは、繰り返し単位Ｂ２を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ｂ中、繰り返し単位Ｂ２の含有量の下限値としては、樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましく、５質量％以上が更に好ましい。その上限値としては、５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましい。繰り返し単位Ｂ２の含有量の一態様としては、樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、１～５０質量％が好ましく、５～５０質量％がより好ましく、５～４０質量％が更に好ましく、１０～４０質量％が特に好ましく、１０～２０質量％が最も好ましい。２種以上の繰り返し単位Ｂ２を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜繰り返し単位Ｂ３＞
　樹脂Ｂは、カルボン酸基を有する繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ３）を含む。
　繰り返し単位Ｂ３は、上述した繰り返し単位Ｂ１及び上述した繰り返し単位Ｂ２とは、異なる繰り返し単位である。繰り返し単位Ｂ３は、水酸基を有していないのが好ましい。
　繰り返し単位Ｂ３において、カルボン酸基の個数としては、１個以上であればよく、例えば、１～６個が挙げられる。
　繰り返し単位Ｂ３としては、具体的には、樹脂Ａが含む繰り返し単位Ａ１の一例として挙げた式（ＡＸ１）で表される繰り返し単位において、Ｗ^Ａ１で表される酸基をカルボン酸基としたものが挙げられ、好適態様も同じである。

　樹脂Ｂは、繰り返し単位Ｂ３を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ｂ中、繰り返し単位Ｂ３の含有量としては、樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、５～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、１０～３０質量％が更に好ましい。２種以上の繰り返し単位Ｂ３を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

＜その他の繰り返し単位（繰り返し単位Ｂ４）＞
　樹脂Ｂは、上述した繰り返し単位Ｂ１～Ｂ３以外のその他の繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｂ４」ともいう。）を含んでいてもよい。

　その他の繰り返し単位としては、上述した繰り返し単位以外の、種々の機能を有する他の繰り返し単位を含んでいてもよい。
　他の繰り返し単位としては、疎水性繰り返し単位（以下「繰り返し単位Ｂ４１」ともいう。）等が挙げられる。
　繰り返し単位Ｂ４１としては、例えば、スチレン類（例えば、スチレン及びα－メチルスチレン等）由来の繰り返し単位、及び、樹脂Ａが含む繰り返し単位Ａ３１と同様の繰り返し単位が挙げられる。

　樹脂Ｂは、繰り返し単位Ｂ４１を１種単独で含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。
　樹脂Ｂ中、繰り返し単位Ｂ４１の含有量としては、樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、１～１５質量％が好ましく、５～１５質量％がより好ましい。２種以上の繰り返し単位Ｂ４１を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

　硬化性組成物中における樹脂Ｂの含有量は特に制限されないが、硬化性組成物の全固形分に対して、２～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、１０～２５質量％が更に好ましい。
　樹脂Ｂは、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の樹脂Ｂを併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であるのが好ましい。

　樹脂Ｂの酸価としては、０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、５５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。なお、上限値としては、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が更に好ましい。なお、樹脂Ｂの構成成分である酸基を含む繰り返し単位の含有量を変化させれば所望の酸価を有する樹脂が得られる。
　樹脂Ｂの重量平均分子量としては、５，０００～１００，０００が好ましく、８，０００～８０，０００がより好ましく、１５，０００～４０，０００が更に好ましく、１８，０００～２５，０００が特に好ましい。
　樹脂Ｂのガラス転移温度としては、－２０～１２０℃が好ましく、－２０～１１０℃が好ましく、－５～８０℃がより好ましく、０～７０℃が更に好ましい。
　ガラス転移温度は、ＤＳＣ　３５００　Ｓｉｒｉｕｓ（Ｎｅｔｚｓｃｈ社製）により測定できる。

〔樹脂Ａ及び樹脂Ｂの含有量の関係〕
　硬化性組成物において、樹脂Ａと樹脂Ｂとの合計含有量に対する、樹脂Ａの含有量の比（含有量比Ｔ１。樹脂Ａの含有量／樹脂Ａと樹脂Ｂとの合計含有量）は、０．３０～０．５０であり、０．３３～０．４７が好ましく、０．３５～０．４５がより好ましい。含有量比Ｔ１が上記数値範囲である場合、樹脂Ａと樹脂Ｂとの相分離性が優れ、得られる硬化物は、赤外光に対して優れた低反射性を示す。

〔重合性化合物〕
　硬化性組成物は、重合性化合物を含む。
　本明細書中において「重合性化合物」とは、後述する光重合開始剤等の作用を受けて重合可能な有機化合物（例えば、エチレン性不飽和基を含む有機化合物）を意味する。
　硬化性組成物が溶媒を含む場合、重合性化合物は溶媒に溶解して存在するのが好ましい。

　重合性化合物の分子量（分子量分布を有する場合は重量平均分子量）は、特に制限されないが、２５００以下が好ましい。下限は、１００以上が好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和基（エチレン性不飽和結合を含む基）を含む化合物が好ましい。
　つまり、硬化性組成物は、エチレン性不飽和基を含む低分子化合物を、重合性化合物として含むのが好ましい。
　重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を１個以上含む化合物が好ましく、２個以上含む化合物がより好ましく、３個以上含む化合物が更に好ましく、４個以上含む化合物が特に好ましい。上限は、例えば、１５個以下である。エチレン性不飽和基としては、例えば、ビニル基、（メタ）アリル基及び（メタ）アクリロイル基が挙げられる。

　重合性化合物としては、例えば、特開２００８－２６０９２７号公報の段落［００５０］及び特開２０１５－０６８８９３号公報の段落［００４０］に記載されている化合物を援用でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　重合性化合物は、例えば、モノマー、プレポリマー、オリゴマー、及びこれらの混合物、並びに、これらの多量体等の化学的形態のいずれであってもよい。
　重合性化合物は、３～１５官能の（メタ）アクリレート化合物が好ましく、３～６官能の（メタ）アクリレート化合物がより好ましい。

　重合性化合物は、エチレン性不飽和基を１個以上含む、常圧下で１００℃以上の沸点を持つ化合物も好ましい。例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落［０２２７］及び特開２００８－２９２９７０号公報の段落［０２５４］～［０２５７］に記載の化合物を援用でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　重合性化合物は、ジペンタエリスリトールトリアクリレート（市販品としては、例えば、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３３０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（市販品としては、例えば、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３２０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（市販品としては、例えば、ＫＡＹＡＲＡＤ　Ｄ－３１０；日本化薬株式会社製）、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（市販品としては、例えば、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ；日本化薬株式会社製、Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ；新中村化学株式会社製）及びこれらの（メタ）アクリロイル基がエチレングリコール残基又はプロピレングリコール残基を介している構造（例えば、サートマー社から市販されている、ＳＲ４５４、ＳＲ４９９）が好ましい。これらのオリゴマータイプも使用できる。また、ＮＫエステルＡ－ＴＭＭＴ（ペンタエリスリトールテトラアクリレート、新中村化学株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ　ＬＴ、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－３０６０及びＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＥＡ－１２（いずれも商品名、日本化薬株式会社製）を使用してもよい。また、重合性化合物は、化合物中に（メタ）アクリロイル基とウレタン結合との両方を有する、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物を使用してもよく、例えば、ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ－４０Ｈ（商品名、日本化薬株式会社製）を使用してもよい。
　以下に好ましい重合性化合物の態様を示す。

　重合性化合物は、カルボン酸基、スルホン酸基、及びリン酸基等の酸基を有していてもよい。酸基を含む重合性化合物は、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルが好ましく、脂肪族ポリヒドロキシ化合物の未反応の水酸基に非芳香族カルボン酸無水物を反応させて酸基を持たせた重合性化合物がより好ましく、このエステルにおいて、脂肪族ポリヒドロキシ化合物がペンタエリスリトール及び／又はジペンタエリスリトールである化合物が更に好ましい。市販品としては、例えば、東亞合成社製の、アロニックスＴＯ－２３４９、Ｍ－３０５、Ｍ－５１０、及びＭ－５２０が挙げられる。

　酸基を含む重合性化合物の酸価は、０．１～４０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、５～３０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。重合性化合物の酸価が０．１ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であれば、現像溶解特性が良好であり、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であれば、製造及び／又は取扱い上、有利である。更には、光重合性能が良好で、硬化性に優れる。

　重合性化合物は、カプロラクトン構造を含む化合物も好ましい態様である。
　カプロラクトン構造を含む化合物としては、例えば、分子内にカプロラクトン構造を含む限り特に制限されないが、例えば、トリメチロールエタン、ジトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グリセリン、ジグリセロール、及びトリメチロールメラミン等の多価アルコールと、（メタ）アクリル酸及びε－カプロラクトンとをエステル化して得られる、ε－カプロラクトン変性多官能（メタ）アクリレートが挙げられる。中でも、下記式（Ｚ－１）で表されるカプロラクトン構造を含む化合物が好ましい。

　式（Ｚ－１）中、６個のＲは全てが下記式（Ｚ－２）で表される基であるか又は６個のＲのうち１～５個が下記式（Ｚ－２）で表される基であり、残余が下記式（Ｚ－３）で表される基である。

　式（Ｚ－２）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、ｍは１又は２の数を表し、＊は結合位置を表す。

　式（Ｚ－３）中、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、「＊」は結合位置を表す。

　カプロラクトン構造を含む重合性化合物は、例えば、日本化薬からＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＣＡシリーズとして市販されており、ＤＰＣＡ－２０（上記式（Ｚ－１）～（Ｚ－３）においてｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝２、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－３０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝３、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）、ＤＰＣＡ－６０（同式、ｍ＝１、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）及びＤＰＣＡ－１２０（同式においてｍ＝２、式（Ｚ－２）で表される基の数＝６、Ｒ^１が全て水素原子である化合物）が挙げられる。また、カプロラクトン構造を含む重合性化合物の市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製Ｍ－３５０（商品名）（トリメチロールプロパントリアクリレート）も挙げられる。

　重合性化合物は、下記式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物も使用できる。

　式（Ｚ－４）及び式（Ｚ－５）中、Ｅは、－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ_２Ｏ）－又は－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）－を表し、ｙは、０～１０の整数を表し、Ｘは、（メタ）アクリロイル基、水素原子又はカルボン酸基を表す。
　式（Ｚ－４）中、（メタ）アクリロイル基の合計は３個又は４個であり、ｍは０～１０の整数を表し、各ｍの合計は０～４０の整数である。
　式（Ｚ－５）中、（メタ）アクリロイル基の合計は５個又は６個であり、ｎは０～１０の整数を表し、各ｎの合計は０～６０の整数である。

　式（Ｚ－４）中、ｍは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｍの合計は、２～４０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～８の整数が更に好ましい。
　式（Ｚ－５）中、ｎは、０～６の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましい。
　また、各ｎの合計は、３～６０の整数が好ましく、３～２４の整数がより好ましく、６～１２の整数が更に好ましい。
　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）中の－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ_２Ｏ）－又は－（（ＣＨ_２）_ｙＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）－は、酸素原子側の末端がＸに結合する形態が好ましい。

　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物は１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。特に、式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である形態、式（Ｚ－５）において、６個のＸ全てがアクリロイル基である化合物と、６個のＸのうち、少なくとも１個が水素原子ある化合物との混合物である態様が好ましい。このような構成として、現像性をより向上できる。

　また、式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の重合性化合物中における全含有量は、２０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましい。
　式（Ｚ－４）又は式（Ｚ－５）で表される化合物の中でも、ペンタエリスリトール誘導体及び／又はジペンタエリスリトール誘導体がより好ましい。

　また、重合性化合物は、カルド骨格を含んでいてもよい。
　カルド骨格を含む重合性化合物は、９，９－ビスアリールフルオレン骨格を含む重合性化合物が好ましい。
　カルド骨格を含む重合性化合物としては、例えば、オンコートＥＸシリーズ（長瀬産業社製）及びオグソール（大阪ガスケミカル社製）が挙げられる。
　重合性化合物は、イソシアヌル酸骨格を中心核として含む化合物も好ましい。このような重合性化合物としては、例えば、ＮＫエステルＡ－９３００（新中村化学株式会社製）が挙げられる。
　重合性化合物のエチレン性不飽和基の含有量（重合性化合物中のエチレン性不飽和基の数を、重合性化合物の分子量（ｇ／ｍｏｌ）で除した値を意味する）は５．０ｍｍｏｌ／ｇ以上が好ましい。上限は、２０．０ｍｍｏｌ／ｇ以下が好ましい。

　硬化性組成物中における重合性化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。また、上限値としては、６０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３５質量％以下が更に好ましい。
　重合性化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の重合性化合物を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲であるのが好ましい。

〔樹脂Ａ、樹脂Ｂ、及び重合性化合物の含有量の関係〕
　硬化性組成物において、樹脂Ａと樹脂Ｂと重合性化合物との合計含有量に対する、重合性化合物の含有量の比（含有量比Ｔ２。重合性化合物の含有量／樹脂Ａと樹脂Ｂと重合性化合物との合計含有量）が、０．３０～０．５０であり、０．３３～０．４７が好ましく０．３５～０．４５がより好ましい。含有量比Ｔ２が上記数値範囲である場合、得られる硬化膜は、密着性に優れ、赤外光に対して優れた低反射性を示す。含有量比Ｔ２が０．３０未満の場合、得られる硬化膜の密着性が劣る。一方で、含有量比Ｔ２が０．５０超の場合、得られる硬化膜は、赤外光に対する低反射性に劣る。

〔顔料〕
　硬化性組成物は、顔料を含む。
　顔料としては特に制限されず、例えば、黒色顔料、白色顔料、及び有彩色顔料が挙げられる。また、有彩色顔料としては、例えば、赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、紫色顔料、及びオレンジ色顔料等が挙げられる。顔料としては、なかでも、黒色顔料及び白色顔料が好ましく、黒色顔料がより好ましい。
　また、顔料は、無機顔料及び有機顔料のいずれであってもよい。また、顔料としては、無機顔料又は有機－無機顔料の一部を有機発色団で置換した材料を使用してもよい。無機顔料又は有機－無機顔料を有機発色団で置換することで、色相設計がしやすい利点がある。

　硬化性組成物は、顔料を１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
　例えば、硬化性組成物の硬化膜を遮光膜とする場合、黒色顔料と黒色顔料以外の他の顔料と併用して、遮光膜の遮光特性を調整できる。また、上記遮光膜を光減衰膜として使用する場合においては、広い波長成分を含む光に対して、各波長を均等に減衰しやすくなる。

＜黒色顔料＞
　硬化性組成物は、黒色顔料を含むのが好ましい。
　本明細書において、黒色顔料は、波長４００～７００ｎｍの全ての範囲にわたって吸収を有する顔料を意味し、例えば、以下に説明する評価基準Ｚに適合する黒色顔料が好ましい。
　まず、黒色顔料と、透明な樹脂マトリックス（アクリル樹脂等）と、溶媒とを含み、全固形分に対する黒色顔料の含有量が６０質量％である組成物を調製する。得られた組成物を、ガラス基板上に、乾燥後の硬化膜の膜厚が１μｍになるように塗布し、硬化膜を形成する。乾燥後の硬化膜の遮光性を、分光光度計（日立株式会社製ＵＶ－３６００等）を用いて評価する。乾燥後の硬化膜の波長４００～７００ｎｍにおける透過率の最大値が１０％未満であれば、上記黒色顔料は評価基準Ｚに適合する黒色顔料であると判断できる。黒色顔料は、評価基準Ｚにおいて、乾燥後の硬化膜の波長４００～７００ｎｍにおける透過率の最大値が８％未満であることがより好ましく、５％未満であることが更に好ましい。

　黒色顔料としては、単独では黒色顔料として使用できない顔料を複数組み合わせ、全体として黒色になるように調整して黒色顔料としてもよい。
　例えば、単独では黒色以外の色を有する顔料を複数組み合わせて黒色顔料として使用してもよい。

　黒色顔料の平均粒径は、２５０ｎｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以下がより好ましく、１５０ｎｍ以下が更に好ましい。上記平均粒径は、ハンドリング性がより優れる点から、１ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が更に好ましい。

　上記平均粒径は、以下の方法にて算出される。
　硬化性組成物をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）で希釈して、固形分濃度が０．２質量％である測定溶液を用意する。次に、ＪＩＳ８８２６：２００５に準じた動的光散乱式粒径分布測定装置（堀場製作所社製ＬＢ－５００（商品名））を用いて、温度２５℃で２ｍｌの測定用石英セルを使用して、上記測定溶液のデータ取り込みを５０回行い、得られた個数基準の粒径を算術平均して平均粒径とする。
　なお、上記では硬化性組成物を用いて測定溶液を用意したが、黒色顔料を分散させた色材分散液を用いて、上記測定を実施してもよい。例えば、硬化性組成物に黒色顔料以外の他の粒子が含まれる場合、硬化性組成物の調製に使用される黒色顔料を分散させた色材分散液を用いて、黒色顔料の平均粒径を測定してもよい。また、硬化性組成物に黒色顔料以外の他の粒子が含まれる場合、いずれかの方法により黒色顔料と他の粒子を分離した上で、黒色顔料の平均粒径を測定してもよい。

　黒色顔料としては、単独で黒色を発現する顔料が好ましい。また、単独で黒色を発現し、かつ、赤外線を吸収する黒色顔料を使用してもよい。
　ここで、赤外線を吸収する黒色顔料は、赤外領域（好ましくは、波長６５０～１３００ｎｍ）の波長領域に吸収を有する。波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する黒色顔料も好ましい。

　黒色顔料としては、各種公知の黒色顔料を使用できる。黒色顔料は、無機顔料であっても有機顔料であってもよい。
　黒色顔料は、本発明の効果がより優れる点で、無機顔料が好ましく、カーボンブラック、金属窒化物粒子、又は金属酸窒化物粒子がより好ましい。

（無機顔料）
　黒色顔料として使用される無機顔料としては、遮光性を有し、無機化合物を含む粒子であれば特に制限されず、公知の無機顔料が使用できる。

　無機顔料としては、チタン（Ｔｉ）及びジルコニウム（Ｚｒ）等の第４族の金属元素、バナジウム（Ｖ）及びニオブ（Ｎｂ）等の第５族の金属元素、イットリウム（Ｙ）、アルミニウム（Ａｌ）、コバルト（Ｃｏ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、マンガン（Ｍｎ）、ルテニウム（Ｒｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、錫（Ｓｎ）、並びに、銀（Ａｇ）からなる群から選択される１種又は２種以上の金属元素を含む、金属酸化物、金属窒化物及び金属酸窒化物が挙げられる。
　なかでも、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、バナジウム（Ｖ）、イットリウム（Ｙ）、アルミニウム（Ａｌ）、及び鉄（Ｆｅ）からなる群から選択される１種又は２種以上の金属元素を含む、金属酸化物、金属窒化物、又は金属酸窒化物が好ましい。つまり、無機顔料は、２種以上の金属原子を含んでいてもよい。
　上記金属酸化物、金属窒化物、及び金属酸窒化物としては、更に他の金属原子が混在した粒子を使用してもよく、例えば、更に周期表１３～１７族元素から選択される原子（好ましくは酸素原子及び／又は硫黄原子）を含む金属窒化物含有粒子が使用できる。
　また、上記金属酸化物、金属窒化物、及び金属酸窒化物は、無機物及び／又は有機物で被覆していてもよい。
　上記無機物としては、上記無機顔料に含まれる金属原子が挙げられる。
　上記有機物としては、疎水性基を有する有機物が挙げられ、シラン化合物が好ましい。

　上記の金属窒化物、金属酸化物、及び金属酸窒化物の製造方法としては、所望とする物性を有する黒色顔料が得られるものであれば、特に制限されないが、気相反応法等の公知の製造方法を使用できる。気相反応法としては、電気炉法及び熱プラズマ法等が挙げられるが、不純物の混入が少なく、粒子径が揃いやすく、また、生産性が高い点から、熱プラズマ法が好ましい。
　上記の金属窒化物、金属酸化物、及び金属酸窒化物には、表面修飾処理が施されていてもよい。例えば、シリコーン基とアルキル基とを併せ持つ表面処理剤で表面修飾処理が施されていてもよい。そのような無機粒子としては、「ＫＴＰ－０９」シリーズ（信越化学工業社製）が挙げられる。

　中でも、硬化膜を形成する際のアンダーカットの発生を抑制できる点から、チタン、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ、及び鉄からなる群から選択される１種以上の金属の窒化物又は酸窒化物がより好ましく、ジルコニウムの窒化物若しくは酸窒化物又はチタンの窒化物若しくは酸窒化物（チタンブラック）が更に好ましい。

　チタンブラックは、酸窒化チタンを含む黒色粒子である。
　チタンブラックは、分散性向上、凝集性抑制等の目的で必要に応じ、表面を修飾することが可能である。チタンブラックは、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ゲルマニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、又は酸化ジルコニウムで被覆することが可能であり、また、特開２００７－３０２８３６号公報に表されるような撥水性物質での処理も可能である。

　チタンブラックの製造方法としては、二酸化チタンと金属チタンの混合体を還元雰囲気で加熱し還元する方法（特開昭４９－００５４３２号公報）、四塩化チタンの高温加水分解で得られた超微細二酸化チタンを、水素を含む還元雰囲気中で還元する方法（特開昭５７－２０５３２２号公報）、二酸化チタン又は水酸化チタンをアンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６０－０６５０６９号公報、特開昭６１－２０１６１０号公報）及び二酸化チタン又は水酸化チタンにバナジウム化合物を付着させ、アンモニア存在下で高温還元する方法（特開昭６１－２０１６１０号公報）が挙げられる。

　チタンブラックの粒子径は、特に制限されないが、１０～４５ｎｍが好ましく、１２～２０ｎｍがより好ましい。チタンブラックの比表面積は、特に制限されないが、撥水化剤で表面処理した後の撥水性が所定の性能となるために、ＢＥＴ（Ｂｒｕｎａｕｅｒ，Ｅｍｍｅｔｔ，Ｔｅｌｌｅｒ）法にて測定した値が５～１５０ｍ^２／ｇであることが好ましく、２０～１００ｍ^２／ｇであることがより好ましい。

　チタンブラックとしては、例えば、チタンブラック１０Ｓ、１２Ｓ、１３Ｒ、１３Ｍ、１３Ｍ－Ｃ、１３Ｒ、１３Ｒ－Ｎ、１３Ｍ－Ｔ（商品名、三菱マテリアル株式会社製）、ティラック（Ｔｉｌａｃｋ）Ｄ（商品名、赤穂化成株式会社製）、及びＭＴ－１５０Ａ（商品名、テイカ株式会社製）が挙げられる。

　硬化性組成物は、チタンブラックを、チタンブラック及びＳｉ原子を含む被分散体として含むことも好ましい。この形態において、チタンブラックは、硬化性組成物中において被分散体として含まれる。被分散体中のＳｉ原子とＴｉ原子との含有比（Ｓｉ／Ｔｉ）が質量換算で０．０５～０．５であることが好ましく、０．０７～０．４であることがより好ましい。ここで、上記被分散体は、チタンブラックが一次粒子の状態であるもの、凝集体（二次粒子）の状態であるものの双方を包含する。
　また、被分散体のＳｉ／Ｔｉが所定値以上であれば、被分散体を使用した組成物層を光リソグラフィー等によりパターニングした際に、除去部に残渣が残りにくくなり、被分散体のＳｉ／Ｔｉは所定値以下であれば遮光能が良好になりやすい。

　被分散体のＳｉ／Ｔｉを変更する（例えば０．０５以上とする）ためには、以下のような手段を用いることができる。まず、酸化チタンとシリカ粒子とを分散機を用いて分散することにより分散物を得て、この混合物を高温（例えば、８５０～１０００℃）にて還元処理することにより、チタンブラック粒子を主成分とし、ＳｉとＴｉとを含む被分散体を得ることができる。Ｓｉ／Ｔｉが調整されたチタンブラックは、例えば、特開２００８－２６６０４５公報の段落［０００５］及び［００１６］～［００２１］に記載の方法により作製できる。
　なお、被分散体中のＳｉ原子とＴｉ原子との含有比（Ｓｉ／Ｔｉ）は、例えば、国際公開第２０１１/０４９０９０号公報の段落［００５４］～［００５６］に記載の方法（２－１）又は方法（２－３）を用いて測定できる。

　チタンブラック及びＳｉ原子を含む被分散体において、チタンブラックは、上記したものを使用できる。また、この被分散体においては、チタンブラックと共に、分散性、着色性等を調整する目的で、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｖ、及びＮｉ等から選択される複数の金属の複合酸化物、酸化コバルト、酸化鉄、カーボンブラック、並びに、アニリンブラック等からなる黒色顔料を、１種又は２種以上を組み合わせて、被分散体として併用してもよい。この場合、全被分散体中の５０質量％以上をチタンブラックからなる被分散体が占めることが好ましい。

　黒色の無機顔料としては、カーボンブラックも挙げられる。
　カーボンブラックとしては、例えば、ファーネスブラック、チャンネルブラック、サーマルブラック、アセチレンブラック、及びランプブラックが挙げられる。
　カーボンブラックとしては、オイルファーネス法等の公知の方法で製造されたカーボンブラックを使用してもよく、市販品を使用してもよい。
　カーボンブラックの市販品としては、例えば、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７等の無機顔料が挙げられる。

　カーボンブラックとしては、表面処理がされたカーボンブラックが好ましい。表面処理により、カーボンブラックの粒子表面状態を改質でき、硬化性組成物中での分散安定性を向上させることができる。表面処理としては、樹脂による被覆処理、酸性基を導入する表面処理、及びシランカップリング剤による表面処理が挙げられる。

　カーボンブラックとしては、樹脂による被覆処理がされたカーボンブラックが好ましい。カーボンブラックの粒子表面を絶縁性の樹脂で被覆することにより、硬化膜の遮光性及び絶縁性を向上させることができる。また、リーク電流の低減等により、画像表示装置の信頼性等を向上させることができる。このため、硬化膜を遮光性及び絶縁性が要求される用途に用いる場合等に好適である。
　被覆樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ノボラック樹脂、フェノール樹脂、ウレア樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン、ジアリルフタレート樹脂、アルキルベンゼン樹脂、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリブチレンテレフタレート、及び変性ポリフェニレンオキサイドが挙げられる。
　被覆樹脂の含有量は、硬化膜の遮光性及び絶縁性がより優れる点から、カーボンブラック及び被覆樹脂の合計に対して、０．１～４０質量％が好ましく、０．５～３０質量％がより好ましい。

　黒色顔料として使用される無機顔料としては、例えば、特開２０１７－２２２５５９号公報、国際公開第２０１９／１３０７７２号、国際公開第２０１９／０５９３５９号、及び特開２００９－０９１２０５号公報のジルコニウムが挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

（有機顔料）
　黒色顔料として使用される有機顔料としては、遮光性を有し、有機化合物を含む粒子であれば、特に制限されないが、公知の有機顔料が使用できる。
　本発明において、有機顔料としては、例えば、ビスベンゾフラノン化合物、アゾメチン化合物、ペリレン化合物、及びアゾ化合物が挙げられ、ビスベンゾフラノン化合物又はペリレン化合物が好ましい。

　ビスベンゾフラノン化合物としては、特表２０１０－５３４７２６号公報、特表２０１２－５１５２３３号公報、及び特表２０１２－５１５２３４号公報に記載された化合物が挙げられる。ビスベンゾフラノン化合物は、ＢＡＳＦ社製の「Ｉｒｇａｐｈｏｒ　Ｂｌａｃｋ」（商品名）として入手可能である。
　ペリレン化合物としては、特開昭６２－００１７５３号公報及び特公昭６３－０２６７８４号公報に記載された化合物が挙げられる。ペリレン化合物は、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ　Ｂｌａｃｋ　２１、３０、３１、３２、３３、及び３４として入手可能である。

　顔料の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、１０～９０質量％が好ましく、２５～８０質量％がより好ましく、３０～７０質量％が更に好ましく、３０～６０質量％が特に好ましい。硬化性組成物は顔料を１種のみ含んでいてもよく、２種以上含んでいてもよい。２種以上含む場合は、それらの合計量が上記範囲となることが好ましい。

〔光重合開始剤〕
　硬化性組成物は、光重合開始剤を含む。
　光重合開始剤としては、重合性化合物の重合を開始できれば特に制限されず、公知の光重合開始剤を使用できる。
　光重合開始剤としては、例えば、紫外線領域から可視光領域に対して感光性を有する光重合開始剤が好ましい。また、光励起された増感剤と何らかの作用を生じ、活性ラジカルを生成する活性剤であってもよく、重合性化合物の種類に応じてカチオン重合を開始させるような開始剤であってもよい。
　光重合開始剤としては、いわゆるラジカル重合開始剤が好ましい

　光重合開始剤としては、例えば、ハロゲン化炭化水素誘導体（例えば、トリアジン骨格を含む化合物、オキサジアゾール骨格を含む化合物、等）、アシルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体等のオキシム化合物、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、アミノアセトフェノン化合物、及びヒドロキシアセトフェノン等が挙げられる。
　光重合開始剤の具体例としては、例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２６５～０２６８を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　光重合開始剤としては、例えば、特開平１０－２９１９６９号公報に記載のアミノアセトフェノン系開始剤、及び特許第４２２５８９８号公報に記載のアシルホスフィン系開始剤が挙げられる。
　ヒドロキシアセトフェノン化合物としては、例えば、Ｏｍｎｉｒａｄ－１８４、Ｏｍｎｉｒａｄ－１１７３、Ｏｍｎｉｒａｄ－５００、Ｏｍｎｉｒａｄ－２９５９、及びＯｍｎｉｒａｄ－１２７（商品名：いずれもＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ　Ｂ．Ｖ．製）が挙げられる。
　アミノアセトフェノン化合物としては、例えば、市販品であるＯｍｎｉｒａｄ－９０７、Ｏｍｎｉｒａｄ－３６９、又はＯｍｎｉｒａｄ－３７９ＥＧ（商品名：いずれもＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ　Ｂ．Ｖ．製）が挙げられる。アミノアセトフェノン化合物としては、波長３６５ｎｍ又は波長４０５ｎｍ等の長波光源に吸収波長がマッチングされた特開２００９－１９１１７９公報に記載の化合物も挙げられる。
　アシルホスフィン化合物としては、市販品であるＯｍｎｉｒａｄ－８１９、又はＯｍｎｉｒａｄ－ＴＰＯ（商品名：いずれもＩＧＭ　ＲＥＳＩＮＳ　Ｂ．Ｖ．製）が挙げられる。

（オキシム化合物）
　光重合開始剤として、オキシムエステル系重合開始剤（オキシム化合物）が好ましい。特にオキシム化合物は高感度で重合効率が高く、硬化性組成物中における顔料の含有量を高く設計しやすいため好ましい。
　オキシム化合物としては、例えば、特開２００１－２３３８４２号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報に記載の化合物、又は特開２００６－３４２１６６号公報に記載の化合物が挙げられる。
　オキシム化合物としては、例えば、３－ベンゾイロキシイミノブタン－２－オン、３－アセトキシイミノブタン－２－オン、３－プロピオニルオキシイミノブタン－２－オン、２－アセトキシイミノペンタン－３－オン、２－アセトキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、２－ベンゾイロキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン、３－（４－トルエンスルホニルオキシ）イミノブタン－２－オン、及び２－エトキシカルボニルオキシイミノ－１－フェニルプロパン－１－オン等が挙げられる。
　また、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１６５３－１６６０、Ｊ．Ｃ．Ｓ．Ｐｅｒｋｉｎ　ＩＩ（１９７９年）ｐｐ．１５６－１６２、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒ　Ｓｃｉｅｎｃｅ　ａｎｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ（１９９５年）ｐｐ．２０２－２３２、特開２０００－０６６３８５号公報に記載の化合物、特開２０００－０８００６８号公報、特表２００４－５３４７９７号公報、及び特開２００６－３４２１６６号公報の各公報に記載の化合物等も挙げられる。
　市販品ではＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０３（ＢＡＳＦ社製）、及びＩＲＧＡＣＵＲＥ－ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）も挙げられる。また、ＴＲ－ＰＢＧ－３０４（常州強力電子新材料有限公司製）、アデカアークルズＮＣＩ－７３０、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（ＡＤＥＫＡ社製）、及びＮ－１９１９（カルバゾール・オキシムエステル骨格含有光開始剤（ＡＤＥＫＡ社製））も挙げられる。また、Ｏｍｎｉｒａｄ１３１６（ＩＧＭ社）も挙げられる。

　また上記以外のオキシム化合物としては、カルバゾールＮ位にオキシムが連結した特表２００９－５１９９０４号公報に記載の化合物；ベンゾフェノン部位にヘテロ置換基が導入された米国特許第７６２６９５７号公報に記載の化合物；色素部位にニトロ基が導入された特開２０１０－０１５０２５号公報及び米国特許公開２００９－２９２０３９号記載の化合物；国際公開第２００９－１３１１８９号公報に記載のケトオキシム化合物；及びトリアジン骨格とオキシム骨格を同一分子内に含む米国特許７５５６９１０号公報に記載の化合物；４０５ｎｍに吸収極大を有しｇ線光源に対して良好な感度を有する特開２００９－２２１１１４号公報記載の化合物；等が挙げられる。
　例えば、特開２０１３－０２９７６０号公報の段落０２７４～０２７５を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。
　具体的には、オキシム化合物としては、下記式（ＯＸ－１）で表される化合物が好ましい。なお、オキシム化合物のＮ－Ｏ結合が（Ｅ）体のオキシム化合物であっても、（Ｚ）体のオキシム化合物であっても、（Ｅ）体と（Ｚ）体との混合物であってもよい。

　式（ＯＸ－１）中、Ｒ及びＢは各々独立に１価の置換基を表し、Ａは２価の有機基を表し、Ａｒはアリール基を表す。
　式（ＯＸ－１）中、Ｒで表される１価の置換基としては、１価の非金属原子団が好ましい。
　１価の非金属原子団としては、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、複素環基、アルキルチオカルボニル基、及びアリールチオカルボニル基等が挙げられる。また、これらの基は、１以上の置換基を有していてもよい。また、前述した置換基は、更に他の置換基で置換されていてもよい。
　置換基としては、ハロゲン原子、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、アルキル基、及びアリール基等が挙げられる。
　式（ＯＸ－１）中、Ｂで表される１価の置換基としては、アリール基、複素環基、アリールカルボニル基、又は複素環カルボニル基が好ましく、アリール基、又は複素環基がより好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。
　式（ＯＸ－１）中、Ａで表される２価の有機基としては、炭素数１～１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、又はアルキニレン基が好ましい。これらの基は１以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、前述した置換基が例示できる。

　光重合開始剤としては、フッ素原子を含むオキシム化合物も挙げられる。フッ素原子を含むオキシム化合物としては、例えば、特開２０１０－２６２０２８号公報に記載の化合物；特表２０１４－５００８５２号公報に記載の化合物２４、３６～４０；及び特開２０１３－１６４４７１号公報記載の化合物（Ｃ－３）；等が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　重合開始剤として、下記式（１）～（４）で表される化合物も挙げられる。

　式（１）において、Ｒ^１及びＲ^２は、各々独立に、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０の脂環式炭化水素基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ^１及びＲ^２がフェニル基の場合、フェニル基同士が結合してフルオレン基を形成してもよく、Ｒ^３及びＲ^４は、各々独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を示す。

　式（２）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４は、式（１）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、及びＲ^４と同義であり、Ｒ^５は、－Ｒ^６、－ＯＲ^６、－ＳＲ^６、－ＣＯＲ^６、－ＣＯＮＲ^６Ｒ^６、－ＮＲ^６ＣＯＲ^６、－ＯＣＯＲ^６、－ＣＯＯＲ^６、－ＳＣＯＲ^６、－ＯＣＳＲ^６、－ＣＯＳＲ^６、－ＣＳＯＲ^６、－ＣＮ、ハロゲン原子、又は水酸基を表し、Ｒ^６は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を表し、ａは０～４の整数を表す。

　式（３）において、Ｒ^１は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数４～２０の脂環式炭化水素基、炭素数６～３０のアリール基、又は炭素数７～３０のアリールアルキル基を表し、Ｒ^３及びＲ^４は、各々独立に、水素原子、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を示す。

　式（４）において、Ｒ^１、Ｒ^３、及びＲ^４は、式（３）におけるＲ^１、Ｒ^３、及びＲ^４と同義であり、Ｒ^５は、－Ｒ^６、－ＯＲ^６、－ＳＲ^６、－ＣＯＲ^６、－ＣＯＮＲ^６Ｒ^６、－ＮＲ^６ＣＯＲ^６、－ＯＣＯＲ^６、－ＣＯＯＲ^６、－ＳＣＯＲ^６、－ＯＣＳＲ^６、－ＣＯＳＲ^６、－ＣＳＯＲ^６、－ＣＮ、ハロゲン原子、又は水酸基を表し、Ｒ^６は、炭素数１～２０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数７～３０のアリールアルキル基、又は炭素数４～２０の複素環基を表し、Ｘは、直接結合又はカルボニル基を表し、ａは０～４の整数を表す。

　式（１）及び式（２）で表される化合物としては、例えば、特開２０１４－１３７４６６号公報の段落００７６～００７９に記載された化合物が挙げられる。この内容は本明細書に組み込まれる。

　また、光重合開始剤としては、下記式（１）で表される化合物も好ましい。

　式（１）中、Ｒは、以下の式（１ａ）で表される基を表す。

　式（１ａ）中、ｎは、１～５の整数を表す。ｍは、１～６の整数を表す。＊は、結合位置を表す。

　ｍとしては、３又は４が好ましい。
　式（１）で表される化合物は、例えば、特開２０１２－５１９１９１号公報に記載の合成方法に準じて合成できる。

　硬化性組成物に好ましく使用されるオキシム化合物の具体例を以下に示す。
　また、オキシム化合物としては、国際公開第２０１５－０３６９１０号のＴａｂｌｅ１に記載の化合物も挙げられ、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　オキシム化合物は、３５０～５００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するのが好ましく、３６０～４８０ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有するのがより好ましく、３６５ｎｍ及び４０５ｎｍの波長の吸光度が高いのが更に好ましい。
　オキシム化合物の３６５ｎｍ又は４０５ｎｍにおけるモル吸光係数は、感度の観点から、１，０００～３００，０００が好ましく、２，０００～３００，０００がより好ましく、５，０００～２００，０００が更に好ましい。
　化合物のモル吸光係数は、公知の方法を使用でき、例えば、紫外可視分光光度計（Ｖａｒｉａｎ社製Ｃａｒｙ－５　ｓｐｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ）にて、酢酸エチルを用い、０．０１ｇ／Ｌの濃度で測定するのが好ましい。
　光重合開始剤は、必要に応じて２種以上を組み合わせて使用してもよい。

　また、光重合開始剤としては、特開２００８－２６０９２７号公報の段落００５２、特開２０１０－０９７２１０号公報の段落００３３～００３７、特開２０１５－０６８８９３号公報の段落００４４に記載の化合物も使用でき、上記の内容は本明細書に組み込まれる。

　光重合開始剤としては、本発明の効果がより優れる点で、オキシムエステル系重合開始剤が好ましい。

　硬化性組成物中における光重合開始剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．５～２０質量％が好ましく、１．０～１０質量％がより好ましく、１．５～８質量％が更に好ましい。
　光重合開始剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の光重合開始剤を併用する場合は、それらの合計量が上記範囲であるのが好ましい。

〔界面活性剤〕
　硬化性組成物は、界面活性剤を含んでいてもよい。界面活性剤は、硬化性組成物の塗布性向上に寄与する。
　界面活性剤としては、例えば、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、及びアニオン系界面活性剤等が挙げられる。
　なかでも、本発明の効果がより優れる点で、シリコーン系界面活性剤が好ましい。

　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、並びに、側鎖及び／又は末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマー等が挙げられる。

　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ＤＯＷＳＩＬ（登録商標）シリーズのＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、及びＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング社製）；Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６０００、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３２３、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、及び、ＫＦ－６００２（以上、信越シリコーン社製）；Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、及び、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）；ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３２３、及び、ＢＹＫ３３０（以上、ビックケミー社製）が挙げられる。
　シリコーン系界面活性剤の好適な一態様としては、本発明の効果がより優れる点で、芳香族基変性型シリコーン系界面活性剤（芳香族基を有するシリコーン系界面活性剤）が好ましく、フェニル変性型シリコーン系界面活性剤（フェニル基を有するシリコーン系界面活性剤）がより好ましい。

　フッ素系界面活性剤としては、例えば、メガファックＦ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７６、同Ｆ１７７、同Ｆ１４１、同Ｆ１４２、同Ｆ１４３、同Ｆ１４４、同Ｒ３０、同Ｆ４３７、同Ｆ４７５、同Ｆ４７９、同Ｆ４８２、同Ｆ５５４、及び、同Ｆ７８０（以上、ＤＩＣ（株）製）；フロラードＦＣ４３０、同ＦＣ４３１、及び、同ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）；サーフロンＳ－３８２、同ＳＣ－１０１、同ＳＣ－１０３、同ＳＣ－１０４、同ＳＣ－１０５、同ＳＣ１０６８、同ＳＣ－３８１、同ＳＣ－３８３、同Ｓ３９３、及び、同ＫＨ－４０（以上、旭硝子（株）製）；並びに、ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、及び、ＰＦ７００２（ＯＭＮＯＶＡ社製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤としてブロックポリマーも使用でき、例えば、特開第２０１１－０８９０９０号公報に記載された化合物が挙げられる。

　硬化性組成物が界面活性剤を含む場合、硬化性組成物中における界面活性剤の含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点で、硬化性組成物の全固形分に対して、０．００１～２．０質量％が好ましく、０．００５～０．５質量％がより好ましく、０．０１～０．１質量％が更に好ましい。
　界面活性剤は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。界面活性剤を２種以上併用する場合は、合計量が上記範囲内であるのが好ましい。

〔溶媒〕
　硬化性組成物は、溶媒を含んでいてもよい。
　溶媒は特に制限されず、公知の溶媒を使用でき、例えば、有機溶媒及び水が挙げられる。
　硬化性組成物中、固形分の含有量は、硬化性組成物の全質量に対して、１０～９０質量％が好ましく、１０～５０質量％がより好ましく、１５～５０質量％が更に好ましい。つまり、硬化性組成物中における溶媒の含有量としては特に制限されないが、硬化性組成物の固形分が上記含有量となるように調整されるのが好ましい。
　溶媒は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の溶媒を併用する場合には、硬化性組成物の全固形分が上記範囲内となるように調整されるのが好ましい。

　有機溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３－メトキシプロパノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、乳酸エチル、３－メトキシブタノール、１，３－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、プロピレングリコール、エチレングリコール、ジメチルスルホキシド、及びγ－バレロラクトン等が挙げられるが、これらに制限されない。

〔エポキシ基を含む化合物（密着剤）〕
　硬化性組成物は、エポキシ基を含む化合物を含んでいてもよい。
　エポキシ基を含む化合物は、エポキシ基を１個以上有する化合物が挙げられ、エポキシ基を２個以上有する化合物が好ましい。エポキシ基は１～１００個有するのが好ましい。上限は、例えば、１０個以下でもよく、５個以下でもよい。下限は、２個以上が好ましい。
　なお、エポキシ基を含む化合物は、上述の、分散剤、アルカリ可溶性樹脂、及び重合性化合物とは異なる成分を意図する。

　エポキシ基を含む化合物のエポキシ当量（＝エポキシ基を含む化合物の分子量／エポキシ基の数）は、５００ｇ／当量以下が好ましく、１００～４００ｇ／当量がより好ましく、１００～３００ｇ／当量が更に好ましい。

　エポキシ基を含む化合物は、低分子化合物（例えば、分子量２０００未満）でもよいし、高分子化合物（ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ）（例えば、分子量２０００以上、ポリマーの場合は、重量平均分子量が２０００以上）でもよい。エポキシ基を含む化合物の重量平均分子量は、２００～１０００００が好ましく、５００～５００００がより好ましい。重量平均分子量の上限は、１００００以下がより好ましく、５０００以下が更に好ましく、３０００以下が特に好ましい。

　エポキシ基を含む化合物は、市販品を用いてもよい。例えば、ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル製）、ＥＯＣＮ―１０２０（日本化薬製）、ＥＰＩＣＬＯＮ　Ｎ－６９５（ＤＩＣ製）、及びセロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル製）等が挙げられる。
　また、エポキシ基を含む化合物は、特開２０１３－０１１８６９号公報の段落００３４～００３６、特開２０１４－０４３５５６号公報の段落０１４７～０１５６、及び特開２０１４－０８９４０８号公報の段落００８５～００９２に記載された化合物が挙げられる。これらの内容は、本明細書に組み込まれる。

　硬化性組成物がエポキシ基を含む化合物を含む場合、硬化性組成物中におけるエポキシ基を含む化合物の含有量は、硬化性組成物中の全固形分に対して、０．００１～１０質量％が好ましく、０．０１～８質量％がより好ましく、０．０１～６質量％が更に好ましい。
　エポキシ基を含む化合物は、１種を単独で用いても、２種以上を使用してもよい。硬化性組成物が、エポキシ基を含む化合物を２種類以上含む場合、その合計含有量が上記範囲となるのが好ましい。

〔シランカップリング剤（密着剤）〕
　硬化性組成物はシランカップリング剤を含んでいてもよい。
　シランカップリング剤は、基板上に硬化膜を形成する際に、基板と硬化膜間の密着性を向上させる密着剤として機能する。
　シランカップリング剤とは、分子中に加水分解性基とそれ以外の官能基とを含む化合物である。なお、アルコキシ基等の加水分解性基は、珪素原子に結合している。
　加水分解性基とは、珪素原子に直結し、加水分解反応及び／又は縮合反応によってシロキサン結合を生じ得る置換基をいう。加水分解性基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、及びアルケニルオキシ基が挙げられる。加水分解性基が炭素原子を含む場合、その炭素数は６以下が好ましく、４以下がより好ましい。特に、炭素数４以下のアルコキシ基又は炭素数４以下のアルケニルオキシ基が好ましい。
　また、基板上に硬化膜を形成する場合に、シランカップリング剤は基板と硬化膜間の密着性を向上させるため、フッ素原子及び珪素原子（ただし、加水分解性基が結合した珪素原子は除く）を含まないのが好ましく、フッ素原子、珪素原子（ただし、加水分解性基が結合した珪素原子は除く）、珪素原子で置換されたアルキレン基、炭素数８以上の直鎖状アルキル基、及び炭素数３以上の分岐鎖状アルキル基は含まないのが望ましい。
　シランカップリング剤は、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和基を含んでいてもよい。エチレン性不飽和基を含む場合、その数は１～１０個が好ましく、４～８個がより好ましい。なお、エチレン性不飽和基を含むシランカップリング剤（例えば、加水分解性基とエチレン性不飽和基とを含む、分子量２０００以下の化合物）は、上述の重合性化合物に該当しない。

　シランカップリング剤としては、例えば、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、及びビニルトリエトキシシラン等が挙げられる。

　硬化性組成物がシランカップリング剤を含む場合、硬化性組成物中におけるシランカップリング剤の含有量は、硬化性組成物中の全固形分に対して、０．１～１０質量％が好ましく、０．５～８質量％がより好ましく、１．０～６質量％が更に好ましい。
　シランカップリング剤は、１種単独で含んでいてもよく、２種以上を含んでいてもよい。硬化性組成物がシランカップリング剤を２種以上含む場合は、その合計が上記範囲内であればよい。

〔紫外線吸収剤〕
　硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。これにより、露光して形成される硬化膜のパターンの形状をより優れた（精細な）形状にできる。
　紫外線吸収剤としては、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、置換アクリロニトリル系、及びトリアジン系の紫外線吸収剤が挙げられる。また、特開２０１２－０６８４１８号公報の段落０１３７～０１４２（対応するＵＳ２０１２／００６８２９２の段落０２５１～０２５４）の化合物も挙げられ、これらの内容が援用でき、本明細書に組み込まれる。
　他にジエチルアミノ－フェニルスルホニル系紫外線吸収剤（大東化学社製、商品名：ＵＶ－５０３）等も挙げられる。
　紫外線吸収剤としては、特開２０１２－０３２５５６号公報の段落０１３４～０１４８に例示される化合物も挙げられる。
　硬化性組成物が紫外線吸収剤を含む場合、紫外線吸収剤の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、０．００１～１５質量％が好ましく、０．０１～１０質量％がより好ましく、０．１～５質量％が更に好ましい。

〔染料〕
　硬化性組成物は、染料を含んでいてもよい。
　染料としては、公知の染料を使用でき、例えば、黒色染料及び有彩色染料が挙げられる。有彩色染料としては、例えば、赤色染料、緑色染料、青色染料、黄色染料、紫色染料、及び、オレンジ色染料が挙げられる。
　染料としては、なかでも、黒色染料が好ましい。
　黒色染料としては、例えば、単独で黒色を発現する染料が使用でき、例えば、ピラゾールアゾ化合物、ピロメテン化合物、アニリノアゾ化合物、トリフェニルメタン化合物、アントラキノン化合物、ベンジリデン化合物、オキソノール化合物、ピラゾロトリアゾールアゾ化合物、ピリドンアゾ化合物、シアニン化合物、フェノチアジン化合物、及び、ピロロピラゾールアゾメチン化合物等を使用できる。
　また、黒色染料としては、例えば、特開昭６４－９０４０３号公報、特開昭６４－９１１０２号公報、特開平０１－９４３０１号公報、特開平０６－１１６１４号公報、特許２５９２２０７号公報、米国特許４８０８５０１号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、米国特許５０５９５０号明細書、米国特許５６６７９２０号明細書、特開平０５－３３３２０７号公報、特開平０６－３５１８３号公報、特開平０６－５１１１５号公報、及び、特開平０６－１９４８２８号公報等に記載の化合物を参照でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

　これらの黒色染料としては、例えば、ソルベントブラック２７～４７のカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）で規定される染料が挙げられ、ソルベントブラック２７、２９又は３４のＣ．Ｉ．で規定される染料が好ましい。
　また、これらの黒色染料の市販品としては、例えば、スピロン　Ｂｌａｃｋ　ＭＨ、Ｂｌａｃｋ　ＢＨ（以上、保土谷化学工業株式会社製）、ＶＡＬＩＦＡＳＴ　Ｂｌａｃｋ　３８０４、３８１０、３８２０、３８３０（以上、オリエント化学工業株式会社製）、Ｓａｖｉｎｙｌ　Ｂｌａｃｋ　ＲＬＳＮ（以上、クラリアント社製）、ＫＡＹＡＳＥＴ　Ｂｌａｃｋ　Ｋ－Ｒ、Ｋ－ＢＬ（以上、日本化薬株式会社製）等の染料が挙げられる。また、分子内に重合性を有する重合性染料を用いてもよく、市販品としては、例えば、和光純薬工業社製ＲＤＷシリーズが挙げられる。

　また、黒色染料は色素多量体を用いてもよい。色素多量体としては、例えば、特開２０１１－２１３９２５号公報、及び、特開２０１３－０４１０９７号公報に記載されている化合物が挙げられる。
　更に、上述の通り、単独では黒色以外の色を有する染料を複数組み合わせて黒色染料として使用してもよい。このような着色染料としては、例えば、Ｒ（レッド）、Ｇ（グリーン）、及び、Ｂ（ブルー）等の有彩色系の染料（有彩色染料）の他、特開２０１４－４２３７５の段落００２７～０２００に記載の染料も使用できる。

〔赤外線吸収剤〕
　硬化性組成物は、更に、赤外線吸収剤を含んでもよい。
　赤外線吸収剤は、赤外領域（好ましくは、波長６５０～１３００ｎｍ）の波長領域に吸収を有する化合物を意味する。赤外線吸収剤は、波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物が好ましい。
　このような分光特性を有する着色剤としては、例えば、ピロロピロール化合物、銅化合物、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、イミニウム化合物、チオール錯体系化合物、遷移金属酸化物系化合物、スクアリリウム化合物、ナフタロシアニン化合物、クオタリレン化合物、ジチオール金属錯体系化合物、及び、クロコニウム化合物等が挙げられる。
　フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、イミニウム化合物、シアニン化合物、スクアリリウム化合物、及び、クロコニウム化合物は、特開２０１０－１１１７５０号公報の段落００１０～００８１に開示の化合物を使用してもよく、この内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物は、例えば、「機能性色素、大河原信／松岡賢／北尾悌次郎／平嶋恒亮・著、講談社サイエンティフィック」を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　上記分光特性を有する着色剤として、特開平０７－１６４７２９号公報の段落０００４～００１６に開示の化合物及び／又は特開２００２－１４６２５４号公報の段落００２７～００６２に開示の化合物、特開２０１１－１６４５８３号公報の段落００３４～００６７に開示のＣｕ及び／又はＰを含む酸化物の結晶子からなり数平均凝集粒子径が５～２００ｎｍである近赤外線吸収粒子を使用することもできる。

　波長６７５～９００ｎｍの波長領域に極大吸収波長を有する化合物は、シアニン化合物、ピロロピロール化合物、スクアリリウム化合物、フタロシアニン化合物、及び、ナフタロシアニン化合物からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
　また、赤外線吸収剤は、２５℃の水に１質量％以上溶解する化合物が好ましく、２５℃の水に１０質量％以上溶解する化合物がより好ましい。このような化合物を用いることで、耐溶剤性が良化する。
　ピロロピロール化合物は、特開２０１０－２２２５５７号公報の段落００４９～００６２を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。シアニン化合物及びスクアリリウム化合物は、国際公開２０１４／０８８０６３号公報の段落００２２～００６３、国際公開２０１４／０３０６２８号公報の段落００５３～０１１８、特開２０１４－５９５５０号公報の段落００２８～００７４、国際公開２０１２／１６９４４７号公報の段落００１３～００９１、特開２０１５－１７６０４６号公報の段落００１９～００３３、特開２０１４－６３１４４号公報の段落００５３～００９９、特開２０１４－５２４３１号公報の段落００８５～０１５０、特開２０１４－４４３０１号公報の段落００７６～０１２４、特開２０１２－８５３２号公報の段落００４５～００７８、特開２０１５－１７２１０２号公報の段落００２７～００６７、特開２０１５－１７２００４号公報の段落００２９～００６７、特開２０１５－４０８９５号公報の段落００２９～００８５、特開２０１４－１２６６４２号公報の段落００２２～００３６、特開２０１４－１４８５６７号公報の段落００１１～００１７、特開２０１５－１５７８９３号公報の段落００１０～００２５、特開２０１４－０９５００７号公報の段落００１３～００２６、特開２０１４－８０４８７号公報の段落００１３～００４７、及び、特開２０１３－２２７４０３号公報の段落０００７～００２８等を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

〔その他の任意成分〕
　硬化性組成物は、上述した成分以外のその他の任意成分を更に含んでいてもよい。例えば、重合禁止剤、増感剤、共増感剤、架橋剤、硬化促進剤、フィラー、熱硬化促進剤、可塑剤、希釈剤、及び感脂化剤等が挙げられ、更に、基板表面への密着促進剤及びその他の助剤類（例えば、導電性粒子、充填剤、消泡剤、難燃剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、表面張力調整剤、及び連鎖移動剤等）等の公知の添加剤を必要に応じて加えてもよい。
　これらの成分は、例えば、特開２０１２－００３２２５号公報の段落０１８３～０２２８（対応する米国特許出願公開第２０１３／００３４８１２号明細書の段落０２３７～０３０９）、特開２００８－２５００７４号公報の段落０１０１～０１０２、段落０１０３～０１０４、段落０１０７～０１０９、及び特開２０１３－１９５４８０号公報の段落０１５９～０１８４等の記載を参酌でき、これらの内容は本明細書に組み込まれる。

〔硬化性組成物の製造方法〕
　硬化性組成物は、まず、顔料を分散させた分散組成物を製造し、得られた分散組成物を更にその他の成分と混合して組成物とするのが好ましい。
　分散組成物は、顔料、樹脂Ａ、及び溶媒を混合して調製するのが好ましい。また、分散組成物に重合禁止剤を導入するのも好ましい。
　上記分散組成物は、上記の各成分を公知の混合方法（例えば、撹拌機、ホモジナイザー、高圧乳化装置、湿式粉砕機、又は湿式分散機等を用いた混合方法）により混合して調製できる。
　分散組成物の調製後、上記分散組成物、樹脂Ｂ、重合性化合物、光重合開始剤、及び溶媒を混合して調製できる。
　硬化性組成物の調製に際しては、各成分を一括配合してもよいし、各成分をそれぞれ、溶媒に溶解又は分散した後に逐次配合してもよい。また、配合する際の投入順序及び作業条件は特に制限されない。

　硬化性組成物は、異物の除去及び欠陥の低減等の目的で、フィルタでろ過することが好ましい。フィルタとしては、例えば、従来からろ過用途等に用いられているフィルタであれば特に制限されずに使用できる。例えば、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等のフッ素樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、並びに、ポリエチレン及びポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン系樹脂（高密度、超高分子量を含む）等によるフィルタが挙げられる。中でも、ポリプロピレン（高密度ポリプロピレンを含む）又はナイロンが好ましい。
　フィルタの孔径は、０．１～７．０μｍが好ましく、０．２～２．５μｍがより好ましく、０．２～１．５μｍが更に好ましく、０．３～０．７μｍが特に好ましい。この範囲とすれば、顔料（黒色顔料を含む）のろ過詰まりを抑えつつ、顔料に含まれる不純物及び凝集物等、微細な異物を確実に除去できるようになる。
　硬化性組成物は、金属、ハロゲンを含む金属塩、酸、アルカリ等の不純物を含まないことが好ましい。これら材料に含まれる不純物の含有量は、１質量ｐｐｍ以下が好ましく、１質量ｐｐｂ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｔ以下が更に好ましく、１０質量ｐｐｔ以下が特に好ましく、実質的に含まないこと（測定装置の検出限界以下であること）が最も好ましい。
　なお、上記不純物は、誘導結合プラズマ質量分析装置（横河アナリティカルシステムズ製、Ａｇｉｌｅｎｔ　７５００ｃｓ型）により測定できる。

［硬化膜の製造方法］
　本明細書において「硬化膜」とは、硬化性組成物を用いて形成される組成物層に対して露光処理等の硬化処理が施されて形成される膜である。
　以下、硬化膜の製造方法について説明する。
　硬化膜の製造方法は、以下の工程を含むのが好ましい。上記工程を経ることで、例えば、パターン状の硬化膜が形成できる。なお、硬化膜をパターン状としない場合、現像工程は実施しなくてもよい。
　以下、各工程について説明する。

〔組成物層形成工程〕
　組成物層形成工程においては、露光に先立ち、支持体等の上に、硬化性組成物を付与して硬化性組成物の層（組成物層）を形成する。支持体としては、例えば、基板（例えば、シリコン基板）上にＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｄｅｖｉｃｅ）又はＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ　Ｍｅｔａｌ－Ｏｘｉｄｅ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）等の撮像素子（受光素子）が設けられた固体撮像素子用基板を使用できる。また、支持体上には、必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止及び基板表面の平坦化等のために下塗り層を設けてもよい。

　支持体上への硬化性組成物の適用方法としては、スリット塗布法、インクジェット法、回転塗布法、流延塗布法、ロール塗布法、及びスクリーン印刷法等の各種の塗布方法が挙げられる。組成物層の膜厚は、０．１～１０μｍが好ましく、０．２～５μｍがより好ましく、０．２～３μｍが更に好ましい。支持体上に塗布された組成物層の乾燥（プリベーク）は、ホットプレート及びオーブン等で５０～１４０℃の温度で１０～３００秒で行える。

〔露光工程〕
　露光工程は、活性光線又は放射線を照射して、組成物層形成工程において形成された組成物層を露光する工程である。露光工程は、具体的には、組成物層形成工程において形成された組成物層に活性光線又は放射線を照射して露光し、組成物層の光照射領域を硬化させる工程である。
　光照射の方法としては特に制限されないが、パターン状の開口部を有するフォトマスクを介して光照射するのが好ましい。
　露光は放射線の照射により行うのが好ましく、露光に際して使用できる放射線としては、特に、ｇ線、ｈ線、及びｉ線等の紫外線が好ましく、光源としては高圧水銀灯が好まれる。照射強度は５～１５００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、１０～１０００ｍＪ／ｃｍ^２がより好ましい。
　なお、露光工程において、組成物層を加熱する場合、後述する後加熱工程を兼ねてもよい。言い換えれば、露光工程において、組成物層を加熱する場合、硬化膜の製造方法は後加熱工程を含んでいなくてもよい。

〔現像工程〕
　現像工程は、露光後の組成物層に対して現像処理を施す工程である。本工程により、露光工程における光露光領域の組成物層が溶出し、光硬化した部分だけが残る。例えば、露光工程においてパターン状の開口部を有するフォトマスクを介して光照射を実施した場合には、パターン状の硬化膜が得られる。
　現像工程で使用される現像液の種類は特に制限されないが、下地の撮像素子及び回路等にダメージを起さない、アルカリ現像液が望ましい。
　現像温度としては、例えば、２０～３０℃である。
　現像時間は、例えば、２０～９０秒である。より残渣を除去するため、近年では１２０～１８０秒実施する場合もある。更には、より残渣除去性を向上するため、現像液を６０秒ごとに振り切り、更に新たに現像液を供給する工程を数回繰り返す場合もある。

　アルカリ現像液は、アルカリ性化合物を濃度が０．００１～１０質量％（好ましくは０．０１～５質量％）となるように水に溶解して調製されたアルカリ性水溶液が好ましい。
　アルカリ性化合物は、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシ、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン及び１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセンが挙げられる（このうち、有機アルカリが好ましい。）。
　なお、アルカリ現像液として用いた場合は、一般に現像後に水で洗浄処理が施される。

〔ポストベーク〕
　露光工程の後、加熱処理（ポストベーク）を行うことが好ましい。ポストベークは、硬化を完全にするための現像後の加熱処理である。その加熱温度は、２４０℃以下が好ましく、２２０℃以下がより好ましい。下限は特にないが、効率的かつ効果的な処理を考慮すると、５０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。
　ポストベークは、ホットプレート、コンベクションオーブン（熱風循環式乾燥機）及び高周波加熱機等の加熱手段を用いて、連続式又はバッチ式で行える。

　上記のポストベークは、低酸素濃度の雰囲気下で行うのが好ましい。その酸素濃度は、１９体積％以下が好ましく、１５体積％以下がより好ましく、１０体積％以下が更に好ましく、７体積％以下が特に好ましく、３体積％以下が最も好ましい。下限は特にないが、１０体積ｐｐｍ以上が実際的である。

　また、上記の加熱によるポストベークに変え、ＵＶ（紫外線）照射によって硬化を完全にしてもよい。
　この場合、上述した硬化性組成物は、更にＵＶ硬化剤を含むのが好ましい。ＵＶ硬化剤は、通常のｉ線露光によるリソグラフィー工程のために添加する重合開始剤の露光波長である３６５ｎｍより短波の波長で硬化できるＵＶ硬化剤が好ましい。ＵＶ硬化剤としては、例えば、チバ　イルガキュア　２９５９（商品名）が挙げられる。ＵＶ照射を行う場合においては、組成物層が波長３４０ｎｍ以下で硬化する材料であることが好ましい。波長の下限値は特にないが、２２０ｎｍ以上であることが一般的である。また、ＵＶ照射の露光量は、１００～５０００ｍＪが好ましく、３００～４０００ｍＪがより好ましく、８００～３５００ｍＪが更に好ましい。このＵＶ硬化工程は、リソグラフィー工程の後に行うのが、低温硬化をより効果的に行うために、好ましい。露光光源はオゾンレス水銀ランプを使用するのが好ましい。

［硬化膜の物性及び硬化膜の用途］
　本発明の硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜は、遮光膜として使用されるのが好ましい。以下、本発明の硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜を遮光膜として使用する場合における、好適な物性及び用途について説明する。

〔遮光膜の物性及び遮光膜の用途〕
　遮光膜は、優れた遮光性を有する点で、４００～１１００ｎｍの波長領域における膜厚５．０μｍあたりの光学濃度（ＯＤ：Optical Density）が、３．０以上が好ましく、３．５以上がより好ましい。なお、上限値は特に制限されないが、一般に１０以下が好ましい。
　なお、本明細書において、４００～１１００ｎｍの波長領域における膜厚５．０μｍあたりの光学濃度が３．０以上とは、波長４００～１１００ｎｍの全域において、膜厚５．０μｍあたりの光学濃度が３．０以上であることを意図する。遮光膜の光学濃度の測定方法としては、まず、ガラス基板上に遮光膜を形成して、分光光度計（例えば、日立ハイテクノロジーズ社製のＵ－４１００等）を用いて測定する。
　遮光膜の膜厚は、例えば、０．１～６．０μｍが好ましく、１．０～５．０μｍがより好ましく、１．０～２．５μｍが更に好ましい。また、遮光膜は、用途にあわせてこの範囲よりも薄膜としてもよいし、厚膜としてもよい。
　また、遮光膜は、優れた低反射性を有する点で、３５０～１２００ｎｍの波長領域における膜厚５．０μｍあたりの最大反射率（入射角５°）が、５％未満が好ましく、３％未満がより好ましく、１％未満が更に好ましい。なお、下限値は特に制限されないが、一般に０％以上である。遮光膜の最大反射率の測定方法としては、まず、ガラス基板上に遮光膜を形成して、分光器（例えば、日本分光社製の分光器Ｖ７２００のＶＡＲユニット等）を用いて入射角５°に対する反射率スペクトルを得て、３５０～１２００ｎｍの波長領域において最大反射率を示した波長の光の反射率を求める。
　また、遮光膜は、優れた低反射性を有する点で、３５０～１２００ｎｍの波長領域における膜厚５．０μｍあたりの反射率（入射角５°、波長９４０ｎｍの光での反射率）が、５％未満が好ましく、３％未満がより好ましく、１％未満が更に好ましい。なお、下限値は特に制限されないが、一般に０％以上である。遮光膜の反射率の測定方法としては、まず、ガラス基板上に遮光膜を形成して、分光器（例えば、日本分光社製の分光器Ｖ７２００のＶＡＲユニット等）を用いて入射角５°に対する反射率スペクトルを得て、波長９４０ｎｍの光での反射率を求める。

　また、遮光膜は、パーソナルコンピュータ、タブレット、携帯電話、スマートフォン、及びデジタルカメラ等のポータブル機器；プリンタ複合機、及びスキャナ等のＯＡ（Ｏｆｆｉｃｅ　Ａｕｔｏｍａｔｉｏｎ）機器；監視カメラ、バーコードリーダ、現金自動預け払い機（ＡＴＭ：ａｕｔｏｍａｔｅｄ　ｔｅｌｌｅｒ　ｍａｃｈｉｎｅ）、ハイスピードカメラ、及び顔画像認証を使用した本人認証機能を有する機器等の産業用機器；車載用カメラ機器；内視鏡、カプセル内視鏡、及びカテーテル等の医療用カメラ機器；並びに、生体センサ、バイオセンサー、軍事偵察用カメラ、立体地図用カメラ、気象及び海洋観測カメラ、陸地資源探査カメラ、及び宇宙の天文及び深宇宙ターゲット用の探査カメラ等の宇宙用機器；等に使用される光学フィルタ及びモジュールの遮光部材及び遮光膜、更には反射防止部材及び反射防止膜に好適である。

　遮光膜は、マイクロＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）及びマイクロＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）等の用途にも使用できる。遮光膜は、マイクロＬＥＤ及びマイクロＯＬＥＤに使用される光学フィルタ及び光学フィルムのほか、遮光機能又は反射防止機能を付与する部材に対して好適である。
　マイクロＬＥＤ及びマイクロＯＬＥＤの例としては、特表２０１５－５００５６２号公報及び特表２０１４－５３３８９０号公報に記載された例が挙げられる。

　遮光膜は、量子ドットセンサー及び量子ドット固体撮像素子に使用される光学及び光学フィルムとしても好適である。また、遮光機能及び反射防止機能を付与する部材として好適である。量子ドットセンサー及び量子ドット固体撮像素子の例としては、米国特許出願公開第２０１２／３７７８９号及び国際公開第２００８／１３１３１３号パンフレットに記載された例等が挙げられる。

＜固体撮像素子及び固体撮像装置＞
　遮光膜は、固体撮像素子に使用するのも好ましい。
　換言すると、本発明の固体撮像素子は、本発明の遮光膜を有する固体撮像素子である。
　固体撮像素子が遮光膜を含む形態としては特に制限されず、例えば、基板上に、固体撮像素子（ＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の受光エリアを構成する複数のフォトダイオード及びポリシリコン等からなる受光素子を有し、支持体の受光素子形成面側（例えば、受光部以外の部分及び／又は色調整用画素等）又は形成面の反対側に遮光膜を有する形態が挙げられる。
　また、遮光膜を光減衰膜として使用する場合、例えば、一部の光が光減衰膜を通過した上で受光素子に入射するように、光減衰膜を配置すれば、固体撮像素子のダイナミックレンジを改善できる。
　固体撮像装置は、上記固体撮像素子を含む。

＜画像表示装置＞
　遮光膜は、画像表示装置に適用されるのも好ましい。
　換言すると、本発明の画像表示装置は、本発明の遮光膜を有する画像表示装置である。
　画像表示装置が遮光膜を有する形態としては、例えば、遮光膜を含むブラックマトリクスを備えたカラーフィルタが画像表示装置に適用される形態が挙げられる。
　次に、ブラックマトリクス及びブラックマトリクスを含むカラーフィルタについて説明し、更に、画像表示装置の具体例として、このようなカラーフィルタを含む液晶表示装置について説明する。

（ブラックマトリクス）
　遮光膜は、ブラックマトリクスに含まれるのも好ましい。ブラックマトリクスは、カラーフィルタ、固体撮像素子、及び液晶表示装置等の画像表示装置に含まれる場合がある。
　ブラックマトリクスとしては、上記で既に説明したもの；液晶表示装置等の画像表示装置の周縁部に設けられた黒色の縁；赤、青、及び緑の画素間の格子状、及び／又はストライプ状の黒色の部分；ＴＦＴ（ｔｈｉｎ　ｆｉｌｍ　ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）遮光のためのドット状、及び／又は線状の黒色パターン；等が挙げられる。このブラックマトリクスの定義については、例えば、菅野泰平著、「液晶ディスプレイ製造装置用語辞典」、第２版、日刊工業新聞社、１９９６年、ｐ．６４に記載がある。
　ブラックマトリクスは表示コントラストを向上させるため、また薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示装置の場合には光の電流リークによる画質低下を防止するため、高い遮光性（光学濃度ＯＤで３以上）を有するのが好ましい。

　ブラックマトリクスの製造方法としては特に制限されないが、上述の遮光膜の製造方法と同様の方法により製造できる。具体的には、基板に硬化性組成物を塗布して、組成物層を形成し、露光、及び現像してパターン状の遮光膜（ブラックマトリクス）を製造できる。なお、遮光膜（ブラックマトリクス）の膜厚としては、０．１～４．０μｍが好ましい。

　上記基板は特に制限されないが、可視光（波長４００～８００ｎｍ）に対して８０％以上の透過率を有するのが好ましい。このような基材の材料としては、例えば、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、及びホウケイ酸ガラス等のガラス；ポリエステル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂等のプラスチック等が挙げられ、耐薬品性及び耐熱性の観点から、無アルカリガラス又は石英ガラス等が好ましい。

（カラーフィルタ）
　遮光膜は、カラーフィルタに含まれるのも好ましい。
　カラーフィルタが遮光膜を含む形態としては、特に制限されないが、基板と、上記ブラックマトリクスと、を備えるカラーフィルタが挙げられる。すなわち、基板上に形成された上記ブラックマトリクスの開口部に形成された赤色、緑色、及び青色の着色画素と、を備えるカラーフィルタが例示できる。

　ブラックマトリクスを含むカラーフィルタは、例えば、以下の方法により製造できる。
　まず、基板上に形成されたパターン状のブラックマトリクスの開口部に、カラーフィルタの各着色画素に対応する顔料を含む硬化性組成物の塗膜（組成物層）を形成する。なお、各色用組成物は特に制限されず、公知の組成物を使用できるが、本明細書で説明した組成物において、黒色顔料を各画素に対応した着色剤に置き換えた組成物を使用するのが好ましい。
　次に、組成物層に対して、ブラックマトリクスの開口部に対応したパターンを有するフォトマスクを介して露光する。次いで、現像処理により未露光部を除去した後、ベークしてブラックマトリクスの開口部に着色画素を形成できる。一連の操作を、例えば、赤色、緑色、及び青色顔料を含む各色用組成物を用いて行えば、赤色、緑色、及び青色画素を有するカラーフィルタを製造できる。

（液晶表示装置）
　遮光膜は、液晶表示装置に含まれるのも好ましい。液晶表示装置が遮光膜を含む形態としては特に制限されないが、すでに説明したブラックマトリクス（遮光膜）を含むカラーフィルタを含む形態が挙げられる。

　液晶表示装置としては、例えば、対向して配置された一対の基板と、それらの基板の間に封入されている液晶化合物とを備える形態が挙げられる。上記基板としては、ブラックマトリクス用の基板として既に説明したとおりである。

　上記液晶表示装置の具体的な形態としては、例えば、使用者側から、偏光板／基板／カラーフィルタ／透明電極層／配向膜／液晶層／配向膜／透明電極層／ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ　Ｆｉｌｍ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）素子／基板／偏光板／バックライトユニットをこの順に含む積層体が挙げられる。

　なお、液晶表示装置としては、上記に制限されず、例えば「電子ディスプレイデバイス（佐々木　昭夫著、（株）工業調査会　１９９０年発行）」、「ディスプレイデバイス（伊吹　順章著、産業図書（株）平成元年発行）」等に記載されている液晶表示装置が挙げられる。また、例えば「次世代液晶ディスプレイ技術（内田　龍男編集、（株）工業調査会　１９９４年発行）」に記載されている液晶表示装置が挙げられる。

＜赤外線センサ＞
　遮光膜は、赤外線センサに含まれるのも好ましい。
　次に、上記赤外線センサを適用した固体撮像装置について説明する。
　上記固体撮像装置は、レンズ光学系と、固体撮像素子と、赤外発光ダイオード等を含む。なお、固体撮像装置の各構成については、特開２０１１－２３３９８３号公報の段落００３２～００３６を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

＜カバーガラス、光学フィルタ＞
　遮光膜は、固体撮像装置に組み込まれる光学フィルタ及びカバーガラスに使用するのも好ましい。光学フィルタとしては例えばＩＲカットフィルタが挙げられる。光学フィルタやカバーガラスの周辺部に本遮光膜を形成することによりフレアやゴーストの発生を抑制することができる。
　上記遮光膜付き光学フィルタ及び固体撮像装置の各構成については、特開２０１４－１３２３３３号公報の段落０００９～００１２を、上記遮光膜付きカバーガラス及び固体撮像装置の各構成については、特開２０２１－０９２６０５号公報の段落００１７～００２０、００３７、及び００４０を参酌でき、この内容は本明細書に組み込まれる。

　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

［［硬化性組成物の調製及び評価（１）］］
［硬化性組成物の調製に用いる各種成分］
　以下、硬化性組成物の調製に用いる成分について詳述する。

　〔樹脂Ａ〕
　表１に、表３に示す樹脂Ａ（樹脂Ａ－１～Ａ－１５、及びＲＡ－１）の構造を示す。
　樹脂Ａ－１～Ａ－１５、及びＲＡ－１としては、合成したものを使用した。以下に、樹脂Ａ－１の合成例を一例として示す。なお、樹脂Ａ－２～Ａ－１５、及びＲＡ－１については、原料モノマーの種類及び配合比を変更した点以外は、樹脂Ａ－１の合成例と同様の手順で合成した。

＜樹脂Ａ－１の合成＞
　メタクリル酸（富士フイルム和光純薬（株）製）２０．０ｇ、ＰＭＥ－１０００（日油（株）製）１３０．０ｇ、ベンジルメタクリレート（富士フイルム和光純薬（株）製）５０．０ｇを上記原料モノマーの合計質量に対して２３３質量％のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートに加え、窒素気流下、８０℃に加熱した。次に、上記原料モノマーの合計質量に対して２ｍｏｌ％のドデカンチオールと、上記原料モノマーの合計質量に対して０．５質量％の熱重合開始剤（富士フイルム和光純薬（株）製Ｖ－６０１）を添加し、２時間攪拌した。次に、上記原料モノマーの合計質量に対して０．５質量％の熱重合開始剤（富士フイルム和光純薬（株）製Ｖ－６０１）を添加し、さらに２時間攪拌した。その後、上記原料モノマーの合計質量に対して０．５質量％の熱重合開始剤（富士フイルム和光純薬（株）製Ｖ－６０１）を添加し、９０℃に昇温して２時間撹拌することで、樹脂Ａ―１を合成した。

　なお、樹脂Ａ－１～Ａ－１５の重量平均分子量は、１５，０００～３９，０００の範囲であった。
　以下に、表１を示す。

　〔樹脂Ｂ〕
　表２に、表４に示す樹脂Ｂ（樹脂Ｂ－１～Ｂ－１５及びＲＢ－１～ＲＢ－３）の構造を示す。
　樹脂Ｂ－１～Ｂ－１５及びＲＢ－１～ＲＢ－３としては、合成したものを使用した。以下に、樹脂Ｂ－１の合成例を一例として示す。なお、樹脂Ｂ－２～Ｂ－１５、ＲＢ－１～ＲＢ－３については、原料モノマーの種類及び配合比を変更した点以外は、樹脂Ｂ－１の合成例と同様の手順で合成した。

＜樹脂Ｂ－１の合成＞
　メチルメタクリレート（富士フイルム和光純薬（株）製）１７２．０ｇ、メタクリル酸（富士フイルム和光純薬（株）製）２０．０ｇ、２－ヒドロキシエチルメタクリレート（富士フイルム和光純薬（株）製）８．０ｇを混合し、原料モノマー溶液を調製した。また、上記原料モノマーの合計質量に対して２ｍｏｌ％の熱重合開始剤（富士フイルム和光純薬（株）製Ｖ－６０１）と、上記原料モノマーの合計質量に対して１１１質量％の１－メトキシ－２－プロパノールとを混合した混合液Ａを調製した。次に、上記原料モノマー混合液と上記原料モノマーの合計質量に対して７４質量％の１－メトキシ－２－プロパノールとの混合液Ｂを調製して８０℃に加熱した後、この混合液Ｂに対して混合液Ａを２時間かけて滴下し（滴下重合）、滴下後に８０℃で２時間、更に９０℃で３時間加熱することで、樹脂Ｂ－１を合成した。

　なお、樹脂Ｂ－１～Ｂ－１５の重量平均分子量は、１２，０００～３０，０００の範囲であった。
　以下に、表２を示す。

〔重合性化合物〕
　表４に示す重合性化合物（Ｃ－１～Ｃ－３）を以下に示す。
・Ｃ－１：ＮＫエステル　Ａ－ＴＭＭＴ（新中村化学社製、ペンタエリスリトールテトラアクリレート）
・Ｃ－２：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬社製、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとの混合物）
・Ｃ－３：ＮＫエステル　Ａ－ＤＰＨ－１２Ｅ（新中村化学社製、エトキシ化ジペンタエリスリトールポリアクリレート）

〔顔料〕
　表３に示す顔料（Ｄ－１～Ｄ－４）を以下に示す。
・Ｄ－１：ＴｉＯＮ（酸窒化チタン）
・Ｄ－２：ＴｉＮ（窒化チタン）
・Ｄ－３：ＴｉＯ_２（酸化チタン）
・Ｄ－４：ＣＢ（カーボンブラック）

〔光重合開始剤〕
　表４に示す光重合開始剤（Ｅ－１～Ｅ－３）を以下に示す。
・Ｅ－１：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０２（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル系重合開始剤）
・Ｅ－２：アデカアークルズＮＣＩ－８３１Ｅ（ＡＤＥＫＡ社製、オキシムエステル系重合開始剤）
・Ｅ－３：下記構造の化合物（オキシムエステル系重合開始剤）

〔熱架橋性化合物〕
　表４に示す熱架橋性化合物（Ｆ－１～Ｆ－３）を以下に示す。
・Ｆ－１：セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル化学工業社製）
・Ｆ－２：ＥＯＣＮ―１０２０（日本化薬社製）
・Ｆ－３：ＥＨＰＥ―３１５０（ダイセル化学工業社製）

〔界面活性剤〕
　表４に示す界面活性剤（Ｗ－１）を以下に示す。
・Ｗ－１：ＫＦ６００１（信越化学工業社製）

〔溶媒〕
　表３及び表４に示す溶媒を以下に示す。
　ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　ＰＧＭＥ：１－メトキシ－２－プロパノール
　酢酸ブチル

［顔料分散液の調製］
　表３に示す成分を表３中に示す配合量（質量部）で混合したのち、直径０．３ｍｍのジルコニアビーズ２３０質量部を加えて、ペイントシェーカーを使用して５時間分散処理を行い、ビーズをろ過で分離して各顔料分散液（顔料分散液１～１６）を製造した。樹脂Ａの質量部は、＜樹脂Ａ－１の合成例＞記載の溶媒を除いた、樹脂固形分の質量部として記載した。
　以下に、表３を示す。

［硬化性組成物の調製］
　下記表４に示す成分を表４中に示す配合量（質量部）で混合して実施例及び比較例の各硬化性組成物を調製した。顔料分散液の質量部は溶媒を含んだ溶液全体の量として、樹脂Ｂの質量部は＜樹脂Ｂ－１の合成例＞記載の溶媒を除いた、樹脂固形分の質量部として記載した。

　以下に、表４を示す。
　なお、表４中の「含有量比Ｔ１」とは、樹脂Ａと樹脂Ｂの合計含有量に対する、樹脂Ａの含有量の比〔Ａ／（Ａ＋Ｂ）で表される。Ａ：樹脂Ａの含有量、Ｂ：樹脂Ｂの含有量〕を表す。
　また、表４中の「含有量比Ｔ２」とは、樹脂Ａと樹脂Ｂと重合性化合物の合計含有量に対する、重合性化合物の含有量の比〔Ｃ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）で表される。Ａ：樹脂Ａの含有量、Ｂ：樹脂Ｂの含有量、Ｃ：重合性化合物の含有量〕を表す。

［評価］
　硬化性組成物の評価は、以下の方法により行った。結果を表５に示す。
〔反射率の評価〕
　実施例及び比較例の各硬化性組成物をガラス基板上にスピンコート法により塗布し、露光後の膜厚が５．０μｍになるような塗膜を作製した。９０℃で１２０秒間のプリベークを行った後、基板全面に対してＵＸ－１０００ＳＭ－ＥＨ０４（ウシオ電機社製）を用いて高圧水銀ランプ（ランプパワー５０ｍＷ／ｃｍ^２）にて１０００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で露光した。露光後の基板に対して２２０℃で３００秒間のポストベークを行い、硬化膜付き基板を得た。
　作製した硬化膜付き基板に対し、日本分光株式会社製分光器Ｖ７２００（商品名）ＶＡＲユニットを用いて角度５°の入射角で波長３５０～１２００ｎｍの光を入射し、得られた角度５°の反射角の反射率スペクトルより評価した。具体的には、波長９４０ｎｍの光の反射率を評価の基準として下記区分に照らして評価した。なお、実用上、「３」以上の評価であるのが好ましく、「４」以上の評価であるのがより好ましい。

（評価基準）
　「５」：反射率が１％未満
　「４」：反射率が１％以上３％未満
　「３」：反射率が３％以上５％未満
　「２」：反射率が５％以上７％未満
　「１」：反射率が７％以上

〔パターン密着性の評価〕
　実施例及び比較例の各硬化性組成物を、予めヘキサメチルジシラザンを噴霧した８インチのシリコンウエハの上にスピンコーターを用いて塗布し、露光後の塗膜が５．０μｍになるような塗膜を作製した。次いで、得られた塗膜に対して１００℃で１２０秒間プリベークを実施し、膜付き基板を作製した。
　そして、作製した膜付き基板における膜に対して、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－ｉ５＋（キヤノン（株）製）を使用して、３６５ｎｍの波長で、５０μｍ四方のアイランドパターンを有するマスク（５０μｍ四方の開口部を２５個有するマスク）を介して５０～１，７００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射した。露光後、アルカリ現像液ＣＤ－２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ（株）製）を使用して、２５℃４０秒間の条件で現像した。その後、流水で３０秒間リンスした後、スプレー乾燥し、硬化膜付き基板を得た。
　得られた５０μｍ四方のアイランドパターンについて、走査型電子顕微鏡（（株）日立製作所製Ｓ－９２２０）を用いてパターン上方から観察し、得られたパターンの数を計測した。５０μｍ四方のアイランドパターンがすべて密着するのに要する最小の露光量を求め、下記区分に照らして密着性を評価した。「３」以上の評価であれば、実用上問題ないと判断した。なお、実用上、「３」以上の評価であるのが好ましく、「４」以上の評価であるのがより好ましい。

（評価基準）
　「５」：最小の露光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。
　「４」：最小の露光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２を超え９００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。
　「３」：最小の露光量が９００ｍＪ／ｃｍ^２を超え１７００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。
　「２」：５０～１７００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量にて、５０μｍ四方のアイランドパターンを少なくとも１つ形成できたが、すべてのパターンを形成することはできなかった。
　「１」：５０～１７００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量では、５０μｍ四方のアイランドパターンを形成できなかった。

〔現像残渣（未露光部残渣）の評価〕
　実施例及び比較例の各硬化性組成物を、予めヘキサメチルジシラザンを噴霧した８インチのシリコンウエハの上にスピンコーターを用いて塗布し、露光後の塗膜が５．０μｍになるような塗膜を作製した。次いで、得られた塗膜に対して１００℃で１２０秒間プリベークを実施し、膜付き基板を作製した。
　そして、作製した膜付き基板における膜に対して、ｉ線ステッパー露光装置ＦＰＡ－３０００ｉ５＋（キヤノン（株）製）を使用して、波長３６５ｎｍの光を、５０μｍのラインアンドスペースを有するパターンマスクを介して５０～１，７００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量で照射した。次に、６０％ＣＤ－２０００（富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製）現像液を使用して、露光後の膜（硬化膜）を２５℃６０秒間の条件で現像し、パターン状の硬化膜を得た。その後、パターン状の硬化膜を流水で２０秒間リンスした後、エアー乾燥した。
　上記露光工程において、光が照射された領域の現像後のパターン線幅が、５０μｍ以上となる最小の露光量を露光感度とし、この露光感度を初期の露光感度とした。
　現像後のパターン線幅が５０μｍ以上となる最小の露光量で得られた硬化膜を、基板ごと２２０℃のオーブンで１時間加熱した。硬化膜を加熱した後、基板上の、露光工程において光が照射されなかった領域（未露光部）に存在する残渣の数をＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ　Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ、倍率：２００００倍）にて観察し、下記区分に照らして現像残渣（未露光部残渣）を評価した。なお、実用上、「３」以上の評価であるのが好ましく、「４」以上の評価であるのがより好ましい。
　「５」：パターンが形成され、未露光部には、残渣が全く観察されなかった。
　「４」：パターンが形成され、未露光部１．０μｍ四方に残渣が１～３個観察された。
　「３」：パターンが形成され、未露光部１．０μｍ四方に残渣が４～１０個観察された。
　「２」：パターンが形成され、未露光部１．０μｍ四方に残渣が１１個以上観察された。
　「１」：現像不良でパターンが形成されなかった。
　以下に、表５を示す。

　表５に示す結果から、実施例の硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜は、密着性に優れると赤外光に対する低反射性に優れていることが明らかである。

　また、下記要件Ａ１又は下記要件Ａ２を満たす場合（好ましくは、下記要件Ｂ１又は下記要件Ｂ２を満たす場合）、硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜は、赤外光に対する低反射性により優れていることが確認された。
　要件Ａ１：樹脂Ａ中の繰り返し単位Ａ２が、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基を有する繰り返し単位を含む。
　要件Ａ２：樹脂Ａが平均付加数が１０以上のポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位を含み、且つ、樹脂Ａがベンジル基を有する繰り返し単位（好ましくは、ベンジル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位）を含む。
　要件Ｂ１：樹脂Ａ中の繰り返し単位Ａ２が、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基を有する繰り返し単位を含み、且つ、樹脂Ｂ中の繰り返し単位Ｂ１におけるエステル結合に結合するアルキル基の炭素数が４以上である。
　要件Ｂ２：樹脂Ａが平均付加数が１０以上のポリオキシアルキレン基を有する繰り返し単位と、ベンジル基を有する繰り返し単位（好ましくは、ベンジル（メタ）アクリレート由来の繰り返し単位）を含み、且つ、樹脂Ｂ中の繰り返し単位Ｂ１におけるエステル結合に結合するアルキル基の炭素数が４以上である。

　また、硬化性組成物が熱架橋性化合物を含む場合、硬化膜の密着性がより向上する傾向があることが確認された。

　また、硬化性組成物中の樹脂Ａが、酸基を有する繰り返し単位として、式（Ａ１１）、式（Ａ１２）、又は式（Ａ１３）で表される繰り返し単位（特に、式（Ａ１２）で表される繰り返し単位）を含む場合、現像残渣がより低減する傾向があることが確認された。

［［硬化性組成物の調製及び評価（２）］］
［硬化性組成物の調製］
　実施例２０における溶媒（ＰＧＭＥＡ及びＰＧＭＥの混合溶媒（ＰＧＭＥＡ：１２．６０質量部、ＰＧＭＥ：１２．５２質量部）を、下記表６に示す溶媒（溶媒１～４を表６に記載の組み合わせで混合した混合溶媒）に変更した以外は実施例２０と同様にして組成物２４～３６を調製した。また、これらを実施例２０と同様の評価方法で評価したところ、実施例２０と同じ評価結果が得られた。

〔溶媒〕
　なお、表６に示す溶媒の略語は、下記溶媒を意図する。
　ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
　ＰＧＭＥ：１－メトキシ－２－プロパノール
　ＣｙＰ：シクロペンタノン
　ＣｙＨ：シクロヘキサノン
　ＭＢ：３－メトキシブタノール
　１，３－ＢＧ：１，３－ブタンジオール
　２，３－ＢＧ：２，３－ブタンジオール
　ＰＧ：プロピレングリコール
　ＥＧ：エチレングリコール
　ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
　ＧＶＬ：γ－バレロラクトン
　ＤＡＡ：ジアセトンアルコール

［［硬化性組成物の調製及び評価（３）］］
［硬化性組成物の調製に用いる各種成分］
　以下、硬化性組成物の調製に用いる成分について詳述する。

　〔顔料分散液〕
　表８に示す顔料分散液１１、１３は、表４中にて使用される顔料分散液１１、１３と同様である。

　〔樹脂Ｂ〕
　表８に示す樹脂Ｂ（樹脂Ｂ－８、樹脂Ｂ－１６～Ｂ－１９）を以下に示す。
　樹脂Ｂ－８：表４中にて使用される樹脂Ｂ－８と同様である。
　樹脂Ｂ－１６～Ｂ－１９：表７に、樹脂Ｂ－１６～Ｂ－１９の構造を示す。なお、樹脂Ｂ－１６～Ｂ－１９としては、合成したものを使用した。樹脂Ｂ－１６～Ｂ－１９は、原料モノマーの種類及び配合比を変更した点以外は、樹脂Ｂ－１の合成例と同様の手順で合成した。

　なお、樹脂Ｂ－１６～Ｂ－１９の重量平均分子量は、１８，０００～３９，０００の範囲であった。
　以下に、表７を示す。

〔重合性化合物〕
　表８に示す重合性化合物（Ｃ－２、Ｃ－４～Ｃ－６）を以下に示す。
・Ｃ－２：表４中にて使用される重合性化合物Ｃ－２と同様である。
・Ｃ－４：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＲＰ－１０４０（日本化薬社製、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート）
・Ｃ－５：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＣＰＡ－２０（日本化薬社製、カプロラクトン構造を含む重合性化合物）
・Ｃ－６：オグソールＥＡ－０３００（大阪ガスケミカル製、９，９－ビスアリールフルオレン骨格をもつ重合性化合物）

〔光重合開始剤〕
　表８に示す光重合開始剤（Ｅ－２、Ｅ－４～Ｅ－６）を以下に示す。
・Ｅ－２：表４中にて使用される光重合開始剤Ｅ－２と同様である。
・Ｅ－４：ＩＲＧＡＣＵＲＥ　ＯＸＥ０１（ＢＡＳＦ社製、オキシムエステル系重合開始剤）
・Ｅ－５：Ｏｍｎｉｒａｄ１３１６（ｉＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製、オキシムエステル系重合開始剤）
・Ｅ－６：Ｏｍｎｉｒａｄ－２９５９（ｉＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製、ヒドロキシアセトフェノン化合物系重合開始剤）

　〔熱架橋性化合物〕
　表８に示す熱架橋性化合物Ｆ－３は、表４中にて使用される熱架橋性化合物Ｆ－３と同様である。

　〔溶媒〕
　ＰＧＭＥ：１－メトキシ－２－プロパノール
　ＣｙＰ：シクロペンタノン

　〔界面活性剤〕
　表８に示す界面活性剤Ｗ－１は、表４中にて使用される界面活性剤Ｗ－１と同様である。

［硬化性組成物の調製］
　下記表８に示す成分を表８中に示す配合量（質量部）で混合して実施例及び比較例の各硬化性組成物を調製した。顔料分散液の質量部は溶媒を含んだ溶液全体の量として、樹脂Ｂの質量部は＜樹脂Ｂ－１の合成例＞記載の溶媒を除いた、樹脂固形分の質量部として記載した。
　また、得られた硬化性組成物を用いて上述の各種評価を同様に実施した。評価結果を表８に示す。

　以下に、表８を示す。
　なお、表８中の「含有量比Ｔ１」とは、樹脂Ａと樹脂Ｂの合計含有量に対する、樹脂Ａの含有量の比〔Ａ／（Ａ＋Ｂ）で表される。Ａ：樹脂Ａの含有量、Ｂ：樹脂Ｂの含有量〕を表す。
　また、表８中の「含有量比Ｔ２」とは、樹脂Ａと樹脂Ｂと重合性化合物の合計含有量に対する、重合性化合物の含有量の比〔Ｃ／（Ａ＋Ｂ＋Ｃ）で表される。Ａ：樹脂Ａの含有量、Ｂ：樹脂Ｂの含有量、Ｃ：重合性化合物の含有量〕を表す。

　表９に示す結果から、実施例の硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜は、密着性に優れる赤外光に対する低反射性に優れていることが明らかである。
　また、実施例の対比から、硬化性組成物中に含まれる樹脂Ｂの酸価が１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の場合、硬化膜の密着性がより向上する傾向があることが確認された。

Claims

　樹脂Ａと、樹脂Ｂと、重合性化合物と、顔料と、光重合開始剤とを含む硬化性組成物であって、
　前記樹脂Ａが、酸基を有する繰り返し単位と、平均付加数が３以上のポリオキシアルキレン基及び平均付加数が３以上のポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位とを含み、
　前記ポリオキシアルキレン基及びポリオキシアルキレンカルボニル基からなる群から選ばれる基を有する繰り返し単位の含有量は、前記樹脂Ａの全繰り返し単位に対して、３５質量％以上であり、
　前記樹脂Ａの酸価が、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であり、
　前記樹脂Ｂが、アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位と、水酸基を有する繰り返し単位と、カルボン酸基を有する繰り返し単位とを含み、
　前記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位の含有量は、前記樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、６０質量％以上であり、
　前記樹脂Ａと前記樹脂Ｂとの合計含有量に対する、前記樹脂Ａの含有量の比が、０．３０～０．５０であり、
　前記樹脂Ａと、前記樹脂Ｂと、前記重合性化合物との合計含有量に対する、前記重合性化合物の含有量の比が、０．３０～０．５０である、硬化性組成物。
　前記酸基を有する繰り返し単位が、下記式（Ａ１１）で表される繰り返し単位、下記式（Ａ１２）で表される繰り返し単位、及び下記式（Ａ１３）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる繰り返し単位を１種以上含む、請求項１に記載の硬化性組成物。

　式（Ａ１３）中、ｎは、平均付加数を表し、１～２である。
　前記樹脂Ａが、更に、ベンジル基を有する繰り返し単位を含む、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　前記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位において、前記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレート中のエステル結合に連結するアルキル基の炭素数が、４以上である請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　前記アルキルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位の含有量が、前記樹脂Ｂの全繰り返し単位に対して、８０質量％以上である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　前記樹脂Ｂの酸価が５５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　前記水酸基を有する繰り返し単位が、２－エチルヒドロキシアクリレート及び２－エチルヒドロキシメタクリレートからなる群から選ばれるモノマー由来の繰り返し単位を含む、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　前記顔料が酸窒化チタンを含む、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　遮光膜形成用組成物である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
　請求項１又は２に記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、遮光膜。
　請求項１又は２に記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、固体撮像素子。
　請求項１又は２に記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、画像表示装置。
　請求項１又は２に記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、赤外線センサ。
　請求項１又は２に記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、光学フィルタ。
　請求項１又は２に記載の硬化性組成物から形成された硬化膜を含む、カバーガラス。
　支持体上に、請求項１又は２に記載の硬化性組成物を用いて組成物層を形成する組成物層形成工程と、
　活性光線又は放射線を照射して前記組成物層を露光する露光工程と、
　露光後の前記組成物層に対して現像処理を実施する現像工程と、を有する硬化膜の製造方法。