WO2021090933A1 - 有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器 - Google Patents

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substituted
ring
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聡美 田崎
西村　和樹
裕基 中野
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出光興産株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to an organic electroluminescence device and an electronic device.
  • Organic electroluminescence devices (hereinafter, may be referred to as “organic EL devices”) are applied to full-color displays such as mobile phones and televisions.
  • organic EL devices When a voltage is applied to the organic EL element, holes are injected into the light emitting layer from the anode, and electrons are injected into the light emitting layer from the cathode. Then, in the light emitting layer, the injected holes and electrons are recombined to form excitons.
  • the injected holes and electrons are recombined to form excitons.
  • singlet excitons are generated at a rate of 25%
  • triplet excitons are generated at a rate of 75%.
  • Patent Document 1 and Patent Document 2 describe an organic electroluminescence device including a hole transport layer containing a compound having an amine skeleton.
  • the performance of the organic EL element includes, for example, brightness, emission wavelength, chromaticity, luminous efficiency, drive voltage, and life.
  • An object of the present invention is to provide an organic electroluminescence device having a reduced drive voltage, and to provide an electronic device equipped with the organic electroluminescence device.
  • an anode a cathode, a light emitting layer arranged between the anode and the cathode, and a first hole transport layer arranged between the anode and the light emitting layer.
  • the first hole transport layer is directly adjacent to the light emitting layer, and the first hole transport layer contains the first compound represented by the following general formula (1).
  • the first compound provides an organic electroluminescence element having at least one group represented by the following general formula (11).
  • R 101 to R 110 is a group represented by the general formula (11).
  • the plurality of groups represented by the general formula (11) are the same or different from each other.
  • L 101 is Single bond, A substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming ring-forming divalent heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • Ar 101 is A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • mx is 0, 1, 2, 3, 4 or 5 If L 101 is present 2 or more, 2 or more L 101 may be identical to each other or different, If Ar 101 is present 2 or more, two or more Ar 101 may be identical to each other or different, * In the general formula (11) indicates the bonding position with the pyrene ring in the general formula (1).
  • the substituent in the case of "substituted or unsubstituted” is An unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, Unsubstituted ring-forming cycloalkyl group with 3 to 50 carbon atoms, -Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903 ), -O- (R 904 ), -S- (R 905 ), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, It is at least one group selected from the group consisting of an aryl group having an unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50 and a heterocyclic group having an unsubstituted ring-forming atom number of 5 to 50.
  • R 901 , R 902 , R 903 , R 904 , R 905 , R 801 and R 802 are independent of each other.
  • R 901 there are a plurality, a plurality of R 901 is the same or different from each other, If R 902 there are a plurality, a plurality of R 902 is the same or different from each other, If R 903 there are a plurality, a plurality of R 903 is the same or different from each other, If R 904 there are a plurality, a plurality of R 904 is the same or different from each other, If R 905 there are a plurality, a plurality of R 905 is the same or different from each other, If R 801 there are a plurality, a plurality of R 801 is the same or different from each other, If R 802 there are a plurality, a plurality of R 802 may or different are identical to one another. )
  • an electronic device equipped with the organic electroluminescence device according to the above-mentioned one aspect of the present invention is provided.
  • an organic electroluminescence element having a reduced drive voltage. Further, according to one aspect of the present invention, it is possible to provide an electronic device equipped with the organic electroluminescence device.
  • a hydrogen atom includes isotopes having different numbers of neutrons, that is, hydrogen (protium), deuterium (deuterium), and tritium (tritium).
  • a hydrogen atom that is, a light hydrogen atom, a deuterium atom, or a deuterium atom is located at a bondable position in which a symbol such as "R” or a "D” representing a deuterium atom is not specified in the chemical structural formula. It is assumed that the deuterium atom is bonded.
  • the ring-forming carbon number constitutes the ring itself of a compound having a structure in which atoms are cyclically bonded (for example, a monocyclic compound, a fused ring compound, a crosslinked compound, a carbocyclic compound, and a heterocyclic compound). Represents the number of carbon atoms among the atoms to be used. When the ring is substituted with a substituent, the carbon contained in the substituent is not included in the ring-forming carbon number.
  • the "ring-forming carbon number" described below shall be the same unless otherwise specified.
  • the benzene ring has 6 ring-forming carbon atoms
  • the naphthalene ring has 10 ring-forming carbon atoms
  • the pyridine ring has 5 ring-forming carbon atoms
  • the furan ring has 4 ring-forming carbon atoms.
  • the ring-forming carbon number of the 9,9-diphenylfluorenyl group is 13
  • the ring-forming carbon number of the 9,9'-spirobifluorenyl group is 25.
  • the carbon number of the alkyl group is not included in the ring-forming carbon number of the benzene ring.
  • the ring-forming carbon number of the benzene ring substituted with the alkyl group is 6. Further, when the naphthalene ring is substituted with an alkyl group as a substituent, for example, the carbon number of the alkyl group is not included in the ring-forming carbon number of the naphthalene ring. Therefore, the ring-forming carbon number of the naphthalene ring substituted with the alkyl group is 10.
  • the number of ring-forming atoms is a compound (for example, a monocyclic compound, a fused ring compound, a crosslinked compound, a carbocycle) having a structure in which atoms are cyclically bonded (for example, a monocycle, a fused ring, and a ring assembly).
  • a compound for example, a monocyclic compound, a fused ring compound, a crosslinked compound, a carbocycle
  • Atoms that do not form a ring for example, a hydrogen atom that terminates the bond of atoms that form a ring
  • atoms included in the substituent when the ring is substituted by a substituent are not included in the number of ring-forming atoms.
  • the "number of ring-forming atoms" described below shall be the same unless otherwise specified.
  • the pyridine ring has 6 ring-forming atoms
  • the quinazoline ring has 10 ring-forming atoms
  • the furan ring has 5 ring-forming atoms.
  • the number of hydrogen atoms bonded to the pyridine ring or the number of atoms constituting the substituent is not included in the number of pyridine ring-forming atoms. Therefore, the number of ring-forming atoms of the pyridine ring to which the hydrogen atom or the substituent is bonded is 6.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom of a quinazoline ring or an atom constituting a substituent is not included in the number of ring-forming atoms of the quinazoline ring. Therefore, the number of ring-forming atoms of the quinazoline ring to which a hydrogen atom or a substituent is bonded is 10.
  • the "carbon number XX to YY” in the expression "ZZ group having a substituted or unsubstituted carbon number XX to YY” represents the carbon number when the ZZ group is unsubstituted and is substituted. Does not include the carbon number of the substituent in the case.
  • "YY" is larger than “XX”, “XX” means an integer of 1 or more, and “YY” means an integer of 2 or more.
  • the number of atoms XX to YY in the expression "the ZZ group having the number of atoms XX to YY substituted or unsubstituted” represents the number of atoms when the ZZ group is unsubstituted and is substituted. Does not include the number of atoms of the substituent in the case.
  • "YY” is larger than “XX”
  • "XX” means an integer of 1 or more
  • YY" means an integer of 2 or more.
  • the unsubstituted ZZ group represents the case where the "substituted or unsubstituted ZZ group" is the "unsubstituted ZZ group", and the substituted ZZ group is the "substituted or unsubstituted ZZ group". Represents the case where is a "substitution ZZ group”.
  • the term "unsubstituted” in the case of "substituted or unsubstituted ZZ group” means that the hydrogen atom in the ZZ group is not replaced with the substituent.
  • the hydrogen atom in the "unsubstituted ZZ group” is a light hydrogen atom, a deuterium atom, or a tritium atom.
  • substitution in the case of “substituent or unsubstituted ZZ group” means that one or more hydrogen atoms in the ZZ group are replaced with the substituent.
  • substitution in the case of “BB group substituted with AA group” means that one or more hydrogen atoms in the BB group are replaced with AA group.
  • the ring-forming carbon number of the "unsubstituted aryl group” described herein is 6 to 50, preferably 6 to 30, more preferably 6 to 18, unless otherwise stated herein. ..
  • the number of ring-forming atoms of the "unsubstituted heterocyclic group” described herein is 5 to 50, preferably 5 to 30, more preferably 5 to 18, unless otherwise stated herein. is there.
  • the carbon number of the "unsubstituted alkyl group” described herein is 1 to 50, preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 6, unless otherwise stated herein.
  • the carbon number of the "unsubstituted alkenyl group” described herein is 2 to 50, preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 6, unless otherwise stated herein.
  • the carbon number of the "unsubstituted alkynyl group” described herein is 2 to 50, preferably 2 to 20, and more preferably 2 to 6, unless otherwise stated herein.
  • the ring-forming carbon number of the "unsubstituted cycloalkyl group” described herein is 3 to 50, preferably 3 to 20, more preferably 3 to 6, unless otherwise stated herein. is there.
  • the ring-forming carbon number of the "unsubstituted arylene group” described herein is 6 to 50, preferably 6 to 30, and more preferably 6 to 18. ..
  • the number of ring-forming atoms of the "unsubstituted divalent heterocyclic group” described herein is 5 to 50, preferably 5 to 30, more preferably 5. ⁇ 18.
  • the carbon number of the "unsubstituted alkylene group” described herein is 1 to 50, preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 6, unless otherwise stated herein.
  • Specific examples (specific example group G1) of the "substituted or unsubstituted aryl group” described in the present specification include the following unsubstituted aryl group (specific example group G1A) and a substituted aryl group (specific example group G1B). ) Etc. can be mentioned.
  • the unsubstituted aryl group refers to the case where the "substituted or unsubstituted aryl group" is the "unsubstituted aryl group”
  • the substituted aryl group is the "substituted or unsubstituted aryl group”.
  • aryl group includes both "unsubstituted aryl group” and “substituted aryl group”.
  • the "substituted aryl group” means a group in which one or more hydrogen atoms of the "unsubstituted aryl group” are replaced with a substituent.
  • Examples of the “substituted aryl group” include a group in which one or more hydrogen atoms of the "unsubstituted aryl group” of the following specific example group G1A are replaced with a substituent, and a substituted aryl group of the following specific example group G1B. And the like.
  • aryl group (Specific example group G1A): Phenyl group, p-biphenyl group, m-biphenyl group, o-biphenyl group, p-terphenyl-4-yl group, p-terphenyl-3-yl group, p-terphenyl-2-yl group, m-terphenyl-4-yl group, m-terphenyl-3-yl group, m-terphenyl-2-yl group, o-terphenyl-4-yl group, o-terphenyl-3-yl group, o-terphenyl-2-yl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, Anthril group, Benzoanthryl group, Phenantril group, Benzophenanthryl group, Fenarenyl group, Pyrenyl group, Chrysenyl group, Benzocrisenyl group,
  • aryl group (specific example group G1B): o-tolyl group, m-tolyl group, p-tolyl group, Parakisilyl group, Meta-kisilyl group, Ortho-kisilyl group, Para-isopropylphenyl group, Meta-isopropylphenyl group, Ortho-isopropylphenyl group, Para-t-butylphenyl group, Meta-t-butylphenyl group, Ortho-t-butylphenyl group, 3,4,5-trimethylphenyl group, 9,9-Dimethylfluorenyl group, 9,9-diphenylfluorenyl group, 9,9-bis (4-methylphenyl) fluorenyl group, 9,9-Bis (4-isopropylphenyl) fluorenyl group, 9,9-bis (4-t-butylphenyl) fluorenyl group, Cyanophenyl group, Triphenylsilylphen
  • heterocyclic group is a cyclic group containing at least one heteroatom in the ring-forming atom.
  • the hetero atom include a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a silicon atom, a phosphorus atom, and a boron atom.
  • the "heterocyclic group” described herein is a monocyclic group or a condensed ring group.
  • the “heterocyclic group” described herein is an aromatic heterocyclic group or a non-aromatic heterocyclic group.
  • Specific examples (specific example group G2) of the "substituted or unsubstituted heterocyclic group" described in the present specification include the following unsubstituted heterocyclic group (specific example group G2A) and a substituted heterocyclic group (specific example group G2). Specific example group G2B) and the like can be mentioned.
  • the unsubstituted heterocyclic group refers to the case where the "substituted or unsubstituted heterocyclic group" is the "unsubstituted heterocyclic group”
  • the substituted heterocyclic group is "substituted or unsubstituted”.
  • heterocyclic group is a “substituted heterocyclic group”.
  • heterocyclic group is simply referred to as “unsubstituted heterocyclic group” and “substituted heterocyclic group”. Including both.
  • substituted heterocyclic group means a group in which one or more hydrogen atoms of the "unsubstituted heterocyclic group” are replaced with a substituent.
  • substituted heterocyclic group examples include a group in which the hydrogen atom of the "unsubstituted heterocyclic group” of the following specific example group G2A is replaced, an example of the substituted heterocyclic group of the following specific example group G2B, and the like. Can be mentioned.
  • the examples of "unsubstituted heterocyclic group” and “substituent heterocyclic group” listed here are merely examples, and the "substituted heterocyclic group” described in the present specification is specifically referred to as "substituent heterocyclic group”.
  • the specific example group G2A is, for example, an unsubstituted heterocyclic group containing the following nitrogen atom (specific example group G2A1), an unsubstituted heterocyclic group containing an oxygen atom (specific example group G2A2), and a non-substituted heterocyclic group containing a sulfur atom. (Specific example group G2A3) and a monovalent heterocyclic group derived by removing one hydrogen atom from the ring structures represented by the following general formulas (TEMP-16) to (TEMP-33). (Specific example group G2A4) is included.
  • the specific example group G2B is, for example, a substituted heterocyclic group containing the following nitrogen atom (specific example group G2B1), a substituted heterocyclic group containing an oxygen atom (specific example group G2B2), and a substituted heterocycle containing a sulfur atom.
  • One or more hydrogen atoms of the group (specific example group G2B3) and the monovalent heterocyclic group derived from the ring structure represented by the following general formulas (TEMP-16) to (TEMP-33) are the substituents. Includes replaced groups (specific example group G2B4).
  • -Unsubstituted heterocyclic group containing a nitrogen atom (specific example group G2A1): Pyrrolyl group, Imidazolyl group, Pyrazolyl group, Triazolyl group, Tetrazoleyl group, Oxazolyl group, Isooxazolyl group, Oxaziazolyl group, Thiazolyl group, Isothiazolyl group, Thiasia Zoryl group, Pyridyl group, Pyridadinyl group, Pyrimidinyl group, Pyrazinel group, Triazinyl group, Indrill group, Isoin drill group, Indridinyl group, Kinolidinyl group, Quinoline group, Isoquinolyl group, Synnolyl group, Phtaladinyl group, Kinazolinyl group, Kinoxalinyl group, Benzoimidazolyl group, Indazolyl group, Phenantrolinyl group, Phenantridinyl group, Acridiny
  • -Unsubstituted heterocyclic group containing an oxygen atom (specific example group G2A2): Frill group, Oxazolyl group, Isooxazolyl group, Oxaziazolyl group, Xanthenyl group, Benzofuranyl group, Isobenzofuranyl group, Dibenzofuranyl group, Naftbenzofuranyl group, Benzoxazolyl group, Benzoisoxazolyl group, Phenoxadinyl group, Morpholine group, Ginaftfuranyl group, Azadibenzofuranyl group, Diazadibenzofuranyl group, Azanaftbenzofuranyl group and diazanaphthobenzofuranyl group.
  • Benzothiophenyl group (benzothienyl group), Isobenzothiophenyl group (isobenzothienyl group), Dibenzothiophenyl group (dibenzothienyl group), Naftbenzothiophenyl group (naphthobenzothienyl group), Benzothiazolyl group, Benzoisothiazolyl group, Phenothiadinyl group, Dinaftthiophenyl group (dinaftthienyl group), Azadibenzothiophenyl group (azadibenzothienyl group), Diazadibenzothiophenyl group (diazadibenzothienyl group), Azanaft benzothiophenyl group
  • the X A and Y A each independently, an oxygen atom, a sulfur atom, NH, or is CH 2. Provided that at least one of X A and Y A represents an oxygen atom, a sulfur atom, or is NH.
  • at least one is NH of X A and Y A, or a CH 2, in the general formula (TEMP-16) ⁇ (TEMP -33)
  • the monovalent heterocyclic group derived from the ring structure represented includes a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from these NH or CH 2.
  • -Substituted heterocyclic group containing a nitrogen atom (specific example group G2B1): (9-Phenyl) carbazolyl group, (9-biphenylyl) carbazolyl group, (9-Phenyl) Phenylcarbazolyl group, (9-naphthyl) carbazolyl group, Diphenylcarbazole-9-yl group, Phenylcarbazole-9-yl group, Methylbenzoimidazolyl group, Ethylbenzoimidazolyl group, Phenyltriazinyl group, Biphenylyl triazinyl group, Diphenyltriazinyl group, Phenylquinazolinyl group and biphenylylquinazolinyl group.
  • the "one or more hydrogen atoms of the monovalent heterocyclic group” means that at least one of hydrogen atoms, XA and YA bonded to the ring-forming carbon atom of the monovalent heterocyclic group is NH. It means one or more hydrogen atoms selected from the hydrogen atom bonded to the nitrogen atom of the case and the hydrogen atom of the methylene group when one of XA and YA is CH2.
  • Specific examples (specific example group G3) of the "substituted or unsubstituted alkyl group" described in the present specification include the following unsubstituted alkyl group (specific example group G3A) and a substituted alkyl group (specific example group G3B). ).
  • the unsubstituted alkyl group refers to the case where the "substituted or unsubstituted alkyl group" is the "unsubstituted alkyl group”
  • the substituted alkyl group means the "substituted or unsubstituted alkyl group".
  • alkyl group includes both "unsubstituted alkyl group” and "substituted alkyl group”.
  • the "substituted alkyl group” means a group in which one or more hydrogen atoms in the "unsubstituted alkyl group” are replaced with a substituent.
  • Specific examples of the "substituted alkyl group” include a group in which one or more hydrogen atoms in the following "unsubstituted alkyl group” (specific example group G3A) are replaced with a substituent, and a substituted alkyl group (specific example). Examples of group G3B) can be mentioned.
  • the alkyl group in the "unsubstituted alkyl group” means a chain alkyl group. Therefore, the "unsubstituted alkyl group” includes a linear "unsubstituted alkyl group” and a branched "unsubstituted alkyl group”.
  • the examples of the "unsubstituted alkyl group” and the “substituted alkyl group” listed here are only examples, and the "substituted alkyl group” described in the present specification includes the specific example group G3B.
  • -Unsubstituted alkyl group (specific example group G3A): Methyl group, Ethyl group, n-propyl group, Isopropyl group, n-Butyl group, Isobutyl group, s-Butyl group and t-Butyl group.
  • Substituent alkyl group (specific example group G3B): Propylfluoropropyl group (including isomers), Pentafluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, and trifluoromethyl group.
  • Specific examples (specific example group G4) of the "substituted or unsubstituted alkenyl group" described in the present specification include the following unsubstituted alkenyl group (specific example group G4A) and a substituted alkenyl group (specific example group). G4B) and the like can be mentioned.
  • the unsubstituted alkenyl group refers to the case where the "substituted or unsubstituted alkenyl group" is an "unsubstituted alkenyl group", and the "substituted alkenyl group” is a "substituted or unsubstituted alkenyl group”. Refers to the case where "is a substituted alkenyl group”.
  • alkenyl group includes both "unsubstituted alkenyl group” and "substituted alkenyl group”.
  • the "substituted alkenyl group” means a group in which one or more hydrogen atoms in the "unsubstituted alkenyl group” are replaced with a substituent.
  • Specific examples of the "substituted alkenyl group” include a group in which the following "unsubstituted alkenyl group” (specific example group G4A) has a substituent, an example of a substituted alkenyl group (specific example group G4B), and the like. Be done.
  • the examples of the "unsubstituted alkenyl group” and the “substituted alkenyl group” listed here are only examples, and the "substituted alkenyl group” described in the present specification includes the specific example group G4B.
  • Unsubstituted alkenyl group (specific example group G4A): Vinyl group, Allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group and 3-butenyl group.
  • Substituent alkenyl group (specific example group G4B): 1,3-Butandienyl group, 1-Methyl vinyl group, 1-methylallyl group, 1,1-dimethylallyl group, 2-Methylallyl group and 1,2-dimethylallyl group.
  • alkynyl groups and “substituted alkynyl groups”.
  • the "substituted alkynyl group” means a group in which one or more hydrogen atoms in the "unsubstituted alkynyl group” are replaced with a substituent.
  • Specific examples of the "substituted alkynyl group” include a group in which one or more hydrogen atoms are replaced with a substituent in the following "unsubstituted alkynyl group” (specific example group G5A).
  • Specific examples (specific example group G6) of the "substituted or unsubstituted cycloalkyl group” described in the present specification include the following unsubstituted cycloalkyl group (specific example group G6A) and a substituted cycloalkyl group (specific example group G6A). Specific example group G6B) and the like can be mentioned.
  • the unsubstituted cycloalkyl group refers to the case where the "substituted or unsubstituted cycloalkyl group" is the “unsubstituted cycloalkyl group", and the substituted cycloalkyl group is the "substituted or unsubstituted cycloalkyl group". Refers to the case where the "cycloalkyl group” is a "substituted cycloalkyl group”.
  • the term “cycloalkyl group” is simply referred to as "unsubstituted cycloalkyl group” and "substituted cycloalkyl group”. Including both.
  • the "substituted cycloalkyl group” means a group in which one or more hydrogen atoms in the "unsubstituted cycloalkyl group” are replaced with a substituent.
  • Specific examples of the "substituted cycloalkyl group” include a group in which one or more hydrogen atoms in the following "unsubstituted cycloalkyl group” (specific example group G6A) are replaced with a substituent, and a substituted cycloalkyl group. Examples of (Specific example group G6B) can be mentioned.
  • cycloalkyl group (Specific example group G6A): Cyclopropyl group, Cyclobutyl group, Cyclopentyl group, Cyclohexyl group, 1-adamantyl group, 2-adamantyl group, 1-norbornyl group and 2-norbornyl group.
  • Substituent cycloalkyl group (Specific example group G6B): 4-Methylcyclohexyl group.
  • a group represented by -Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903) As a specific example (specific example group G7) of the group represented by ⁇ Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903 ) described in the present specification, -Si (G1) (G1) (G1), -Si (G1) (G2) (G2), -Si (G1) (G1) (G2), -Si (G2) (G2) (G2), -Si (G3) (G3) (G3), and -Si (G6) (G6) (G6) (G6) Can be mentioned.
  • G1 is the "substituted or unsubstituted aryl group” described in the specific example group G1.
  • G2 is the "substituted or unsubstituted heterocyclic group” described in the specific example group G2.
  • G3 is the “substituted or unsubstituted alkyl group” described in the specific example group G3.
  • G6 is the "substituted or unsubstituted cycloalkyl group” described in the specific example group G6.
  • -A plurality of G1s in Si (G1) (G1) (G1) are the same as or different from each other.
  • -A plurality of G2s in Si (G1) (G2) (G2) are the same as or different from each other.
  • -A plurality of G1s in Si (G1) (G1) (G2) are the same as or different from each other.
  • -A plurality of G2s in Si (G2) (G2) (G2) are the same as or different from each other.
  • -A plurality of G3s in Si (G3) (G3) (G3) are the same as or different from each other.
  • -A plurality of G6s in Si (G6) (G6) (G6) are the same as or different from each other.
  • G1 is the "substituted or unsubstituted aryl group” described in the specific example group G1.
  • G2 is the "substituted or unsubstituted heterocyclic group” described in the specific example group G2.
  • G3 is the "substituted or unsubstituted alkyl group” described in the specific example group G3.
  • G6 is the "substituted or unsubstituted cycloalkyl group” described in the specific example group G6.
  • G1 is the "substituted or unsubstituted aryl group” described in the specific example group G1.
  • G2 is the "substituted or unsubstituted heterocyclic group” described in the specific example group G2.
  • G3 is the "substituted or unsubstituted alkyl group” described in the specific example group G3.
  • G6 is the "substituted or unsubstituted cycloalkyl group” described in the specific example group G6.
  • G10 -N (G1) (G1), -N (G2) (G2), -N (G1) (G2), -N (G3) (G3) and -N (G6) (G6)
  • G1 is the "substituted or unsubstituted aryl group” described in the specific example group G1.
  • G2 is the "substituted or unsubstituted heterocyclic group” described in the specific example group G2.
  • G3 is the "substituted or unsubstituted alkyl group” described in the specific example group G3.
  • G6 is the "substituted or unsubstituted cycloalkyl group” described in the specific example group G6.
  • a plurality of G1s in -N (G1) (G1) are the same as or different from each other.
  • -A plurality of G2s in N (G2) (G2) are the same as or different from each other.
  • -A plurality of G3s in N (G3) (G3) are the same as or different from each other.
  • a plurality of G6s in -N (G6) (G6) are the same as or different from each other.
  • Halogen atom Specific examples of the "halogen atom” described in the present specification (specific example group G11) include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like.
  • the "unsubstituted fluoroalkyl group” has 1 to 50 carbon atoms, preferably 1 to 30 carbon atoms, and more preferably 1 to 18 carbon atoms, unless otherwise specified herein.
  • the "substituted fluoroalkyl group” means a group in which one or more hydrogen atoms of the "fluoroalkyl group” are replaced with a substituent.
  • the "substituted fluoroalkyl group” described in the present specification includes a group in which one or more hydrogen atoms bonded to a carbon atom of the alkyl chain in the "substituted fluoroalkyl group” are further replaced with a substituent.
  • groups in which one or more hydrogen atoms of the substituent in the "substituted fluoroalkyl group” are further replaced by the substituent.
  • Specific examples of the "unsubstituted fluoroalkyl group” include an example of a group in which one or more hydrogen atoms in the "alkyl group” (specific example group G3) are replaced with a fluorine atom.
  • the "unsubstituted haloalkyl group” has 1 to 50 carbon atoms, preferably 1 to 30 carbon atoms, and more preferably 1 to 18 carbon atoms, unless otherwise specified herein.
  • the "substituted haloalkyl group” means a group in which one or more hydrogen atoms of the "haloalkyl group” are replaced with a substituent.
  • the "substituted haloalkyl group” described in the present specification includes a group in which one or more hydrogen atoms bonded to a carbon atom of the alkyl chain in the "substituted haloalkyl group” are further replaced with a substituent, and a "substitution".
  • haloalkyl group groups in which one or more hydrogen atoms of the substituents in the "haloalkyl group” are further replaced by the substituents.
  • substituents in the "haloalkyl group” include an example of a group in which one or more hydrogen atoms in the "alkyl group” (specific example group G3) are replaced with halogen atoms.
  • the haloalkyl group may be referred to as an alkyl halide group.
  • a specific example of the "substituted or unsubstituted alkoxy group” described in the present specification is a group represented by —O (G3), where G3 is the “substituted or unsubstituted” described in the specific example group G3. It is an unsubstituted alkyl group.
  • the "unsubstituted alkoxy group” has 1 to 50 carbon atoms, preferably 1 to 30 carbon atoms, and more preferably 1 to 18 carbon atoms, unless otherwise specified herein.
  • a specific example of the "substituted or unsubstituted alkylthio group” described in the present specification is a group represented by ⁇ S (G3), where G3 is the “substituted or substituted” described in the specific example group G3. It is an unsubstituted alkyl group.
  • the "unsubstituted alkylthio group” has 1 to 50 carbon atoms, preferably 1 to 30 carbon atoms, and more preferably 1 to 18 carbon atoms.
  • a specific example of the "substituted or unsubstituted aryloxy group” described in the present specification is a group represented by —O (G1), where G1 is the “substitution” described in the specific example group G1. Alternatively, it is an unsubstituted aryl group.
  • the ring-forming carbon number of the "unsubstituted aryloxy group” is 6 to 50, preferably 6 to 30, and more preferably 6 to 18, unless otherwise stated herein.
  • -"Substituted or unsubstituted arylthio group A specific example of the "substituted or unsubstituted arylthio group” described in the present specification is a group represented by -S (G1), where G1 is the "substituted or substituted arylthio group” described in the specific example group G1. It is an unsubstituted aryl group. " The ring-forming carbon number of the "unsubstituted arylthio group” is 6 to 50, preferably 6 to 30, and more preferably 6 to 18, unless otherwise stated herein.
  • -"Substituted or unsubstituted trialkylsilyl group Specific examples of the "trialkylsilyl group” described in the present specification are groups represented by ⁇ Si (G3) (G3) (G3), where G3 is described in the specific example group G3. It is a "substituted or unsubstituted alkyl group”. -A plurality of G3s in Si (G3) (G3) (G3) are the same as or different from each other.
  • the carbon number of each alkyl group of the "trialkylsilyl group” is 1 to 50, preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 6, unless otherwise specified herein.
  • the "unsubstituted aralkyl group” is an "unsubstituted alkyl group” substituted with an "unsubstituted aryl group", and the carbon number of the "unsubstituted aralkyl group” is unless otherwise specified herein. , 7 to 50, preferably 7 to 30, and more preferably 7 to 18.
  • Specific examples of the "substituted or unsubstituted aralkyl group” include a benzyl group, a 1-phenylethyl group, a 2-phenylethyl group, a 1-phenylisopropyl group, a 2-phenylisopropyl group, a phenyl-t-butyl group, and an ⁇ .
  • -Naphthylmethyl group 1- ⁇ -naphthylethyl group, 2- ⁇ -naphthylethyl group, 1- ⁇ -naphthylisopropyl group, 2- ⁇ -naphthylisopropyl group, ⁇ -naphthylmethyl group, 1- ⁇ -naphthylethyl group , 2- ⁇ -naphthylethyl group, 1- ⁇ -naphthylisopropyl group, 2- ⁇ -naphthylisopropyl group and the like.
  • substituted or unsubstituted aryl groups described herein are preferably phenyl groups, p-biphenyl groups, m-biphenyl groups, o-biphenyl groups, p-terphenyl-, unless otherwise stated herein.
  • the substituted or unsubstituted heterocyclic group described herein is preferably a pyridyl group, a pyrimidinyl group, a triazine group, a quinolyl group, an isoquinolyl group, a quinazolinyl group, a benzoimidazolyl group, or a phenyl group, unless otherwise described herein.
  • Nantrolinyl group carbazolyl group (1-carbazolyl group, 2-carbazolyl group, 3-carbazolyl group, 4-carbazolyl group, or 9-carbazolyl group), benzocarbazolyl group, azacarbazolyl group, diazacarbazolyl group , Dibenzofuranyl group, naphthobenzofuranyl group, azadibenzofuranyl group, diazadibenzofuranyl group, dibenzothiophenyl group, naphthobenzothiophenyl group, azadibenzothiophenyl group, diazadibenzothiophenyl group, ( 9-Phenyl) Carbazolyl Group ((9-Phenyl) Carbazole-1-yl Group, (9-Phenyl) Carbazole-2-yl Group, (9-Phenyl) Carbazole-3-yl Group, or (9-Phenyl) Carbazole Group,
  • carbazolyl group is specifically any of the following groups unless otherwise described in the present specification.
  • the (9-phenyl) carbazolyl group is specifically any of the following groups unless otherwise described in the present specification.
  • dibenzofuranyl group and the dibenzothiophenyl group are specifically any of the following groups unless otherwise described in the present specification.
  • substituted or unsubstituted alkyl groups described herein are preferably methyl groups, ethyl groups, propyl groups, isopropyl groups, n-butyl groups, isobutyl groups, and t-, unless otherwise stated herein. It is a butyl group or the like.
  • the "substituted or unsubstituted arylene group” described herein is derived by removing one hydrogen atom on the aryl ring from the above "substituted or unsubstituted aryl group” 2 It is the basis of the value.
  • the "substituted or unsubstituted arylene group” (specific example group G12), by removing one hydrogen atom on the aryl ring from the "substituted or unsubstituted aryl group” described in the specific example group G1. Examples include the induced divalent group.
  • the "substituted or unsubstituted divalent heterocyclic group" described in the present specification shall exclude one hydrogen atom on the heterocycle from the above "substituted or unsubstituted heterocyclic group". It is a divalent group derived by.
  • specific example group G13 of the "substituted or unsubstituted divalent heterocyclic group"
  • Examples thereof include a divalent group derived by removing an atom.
  • the "substituted or unsubstituted alkylene group” described herein is derived by removing one hydrogen atom on the alkyl chain from the above "substituted or unsubstituted alkyl group” 2 It is the basis of the value.
  • the "substituted or unsubstituted alkylene group” (specific example group G14), one hydrogen atom on the alkyl chain is removed from the "substituted or unsubstituted alkyl group" described in the specific example group G3. Examples include the induced divalent group.
  • the substituted or unsubstituted arylene group described in the present specification is preferably any group of the following general formulas (TEMP-42) to (TEMP-68), unless otherwise described in the present specification.
  • the substituted or unsubstituted divalent heterocyclic group described herein is preferably a group according to any of the following general formulas (TEMP-69) to (TEMP-102), unless otherwise described herein. Is.
  • Q 1 ⁇ Q 9 are independently a hydrogen atom or a substituent.
  • the set of two adjacent sets is one set. Is a pair of R 921 and R 922 , a pair of R 922 and R 923 , a pair of R 923 and R 924 , a pair of R 924 and R 930 , a pair of R 930 and R 925, and a pair of R 925 .
  • the above-mentioned "one or more sets” means that two or more sets of two or more adjacent sets may form a ring at the same time.
  • R 921 and R 922 are coupled to each other to form ring Q A
  • R 925 and R 926 are coupled to each other to form ring Q B
  • the above general formula (TEMP-103) is used.
  • the anthracene compound represented is represented by the following general formula (TEMP-104).
  • the formed "monocycle” or “condensed ring” may be a saturated ring or an unsaturated ring as the structure of only the formed ring. Even when “one set of two adjacent sets” forms a “monocycle” or “condensed ring”, the “monocycle” or “condensed ring” is a saturated ring or a saturated ring.
  • An unsaturated ring can be formed.
  • the general formula (TEMP-104) Ring Q A and ring Q B formed in respectively the “monocyclic” or “fused rings”. Further, the ring Q A and the ring Q C formed in the general formula (TEMP-105) are “condensed rings”.
  • the ring Q A and Ring Q C of the general formula (TEMP-105) is a fused ring by condensing. If the ring Q A of the general formula (TMEP-104) is a benzene ring, the ring Q A is a monocyclic ring. If the ring Q A of the general formula (TMEP-104) is a naphthalene ring, the ring Q A is a fused ring.
  • the "unsaturated ring” means an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle.
  • saturated ring is meant an aliphatic hydrocarbon ring or a non-aromatic heterocycle.
  • aromatic hydrocarbon ring include a structure in which the group given as a specific example in the specific example group G1 is terminated by a hydrogen atom.
  • aromatic heterocycle include a structure in which the aromatic heterocyclic group given as a specific example in the specific example group G2 is terminated by a hydrogen atom.
  • Specific examples of the aliphatic hydrocarbon ring include a structure in which the group given as a specific example in the specific example group G6 is terminated by a hydrogen atom.
  • Forming a ring means forming a ring with only a plurality of atoms in the mother skeleton, or with a plurality of atoms in the mother skeleton and one or more arbitrary elements.
  • the ring Q A where the R 921 and R 922 are bonded formed with each other, the carbon atoms of the anthracene skeleton R 921 are attached, anthracene R 922 are bonded It means a ring formed by a carbon atom of a skeleton and one or more arbitrary elements.
  • the carbon atom of the anthracene skeleton and R 922 are attached, four carbon atoms
  • the ring formed by R 921 and R 922 is a benzene ring.
  • arbitrary element is preferably at least one element selected from the group consisting of carbon element, nitrogen element, oxygen element, and sulfur element, unless otherwise described in the present specification.
  • the bond that does not form a ring may be terminated with a hydrogen atom or the like, or may be substituted with an "arbitrary substituent" described later.
  • the ring formed is a heterocycle.
  • the number of "one or more arbitrary elements" constituting the monocycle or condensed ring is preferably 2 or more and 15 or less, and more preferably 3 or more and 12 or less. , More preferably 3 or more and 5 or less.
  • the "monocycle” and the “condensed ring” are preferably “monocycles”.
  • the "saturated ring” and the “unsaturated ring” are preferably “unsaturated rings”.
  • the "monocycle” is preferably a benzene ring.
  • the "unsaturated ring” is preferably a benzene ring.
  • one or more pairs of two or more adjacent pairs are bonded to each other to form a plurality of atoms in the mother skeleton and one or more 15 elements. It forms a substituted or unsubstituted "unsaturated ring” consisting of at least one element selected from the group consisting of the following carbon element, nitrogen element, oxygen element, and sulfur element.
  • the substituent is, for example, an "arbitrary substituent” described later.
  • Specific examples of the substituent when the above-mentioned “monocycle” or “condensed ring” has a substituent are the substituents described in the above-mentioned “Substituents described in the present specification” section.
  • the substituent is, for example, an "arbitrary substituent” described later.
  • substituents when the above-mentioned "monocycle” or “condensed ring” has a substituent are the substituents described in the above-mentioned “Substituents described in the present specification” section.
  • the above is the case where "one or more pairs of two or more adjacent pairs are combined with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle" and "one or more pairs of two or more adjacent pairs".
  • An unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms For example, An unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, Unsubstituted ring-forming cycloalkyl group with 3 to 50 carbon atoms, -Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903 ), -O- (R 904 ), -S- (R 905 ), -N (R 906 ) (R 907 ), Halogen atom, cyano group, nitro group, It is a group selected from the group consisting of an aryl group having an unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50 and a heterocyclic group having an unsubstituted ring-forming atom number of 5 to 50.
  • R 901 to R 907 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, It is an aryl group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or a heterocyclic group having 5 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming atoms. If there are two or more R 901s , the two or more R 901s are the same or different from each other. If there are two or more R 902s , the two or more R 902s are the same or different from each other.
  • the two or more R 903s are the same or different from each other. If there are two or more R 904s , the two or more R 904s are the same or different from each other. If there are two or more R 905s , the two or more R 905s are the same or different from each other. If there are two or more R 906s , the two or more R 906s are the same or different from each other. When two or more R 907s are present, the two or more R 907s are the same as or different from each other.
  • the substituent in the case of "substituted or unsubstituted” is Alkyl groups with 1 to 50 carbon atoms, It is a group selected from the group consisting of an aryl group having 6 to 50 ring-forming carbon atoms and a heterocyclic group having 5 to 50 ring-forming atoms.
  • the substituent in the case of "substituted or unsubstituted” is Alkyl groups with 1 to 18 carbon atoms, It is a group selected from the group consisting of an aryl group having 6 to 18 ring-forming carbon atoms and a heterocyclic group having 5 to 18 ring-forming atoms.
  • any adjacent substituents may form a "saturated ring" or an "unsaturated ring", preferably a substituted or unsubstituted saturated 5 It forms a membered ring, a substituted or unsubstituted saturated 6-membered ring, a substituted or unsubstituted unsaturated 5-membered ring, or a substituted or unsubstituted unsaturated 6-membered ring, more preferably a benzene ring.
  • any substituent may further have a substituent.
  • the substituent further possessed by the arbitrary substituent is the same as that of the above-mentioned arbitrary substituent.
  • the numerical range represented by using “AA to BB” has the numerical value AA described before “AA to BB” as the lower limit value and the numerical value BB described after “AA to BB”. Means the range including as the upper limit value.
  • the organic electroluminescence element has an anode, a cathode, a light emitting layer arranged between the anode and the cathode, and a first hole transport arranged between the anode and the light emitting layer.
  • the first hole transport layer comprises a layer, the first hole transport layer is directly adjacent to the light emitting layer, and the first hole transport layer is a first compound represented by the following general formula (1). Including, the first compound has at least one group represented by the following general formula (11).
  • the organic electroluminescence device preferably emits light having a maximum peak wavelength of 430 nm or more and 480 nm or less when the device is driven.
  • the maximum peak wavelength of the light emitted by the organic EL element when the element is driven is measured as follows.
  • the spectral radiance spectrum when a voltage is applied to the organic EL element so that the current density is 10 mA / cm 2 is measured with a spectral radiance meter CS-2000 (manufactured by Konica Minolta).
  • the peak wavelength of the emission spectrum having the maximum emission intensity is measured, and this is defined as the maximum peak wavelength (unit: nm).
  • the organic EL device may have one or more organic layers in addition to the light emitting layer and the first hole transport layer.
  • the organic layer include at least one layer selected from the group consisting of a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron injection layer, an electron transport layer, a hole barrier layer and an electron barrier layer. Be done.
  • the organic layer may be composed of only a light emitting layer and a first hole transport layer, and for example, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and the like. It may further have at least one layer selected from the group consisting of an electron transport layer, a hole barrier layer, an electron barrier layer, and the like.
  • Electrode In the organic EL device according to the present embodiment, it is preferable to have an electron transport layer between the cathode and the light emitting layer.
  • FIG. 1 shows a schematic configuration of an example of an organic EL device according to the present embodiment.
  • the organic EL element 1 includes a translucent substrate 2, an anode 3, a cathode 4, and an organic layer 10 arranged between the anode 3 and the cathode 4.
  • the organic layer 10 is composed of a hole injection layer 6, a first hole transport layer 71, a light emitting layer 5, an electron transport layer 8, and an electron injection layer 9 laminated in this order from the anode 3 side.
  • the first hole transport layer is directly adjacent to the light emitting layer.
  • the first hole transport layer contains the first compound represented by the following general formula (1).
  • the film thickness of the first hole transport layer is preferably 15 nm or less.
  • the film thickness of the first hole transport layer is preferably 2 nm or more.
  • the film thickness of the first hole transport layer is more preferably 2 nm or more and 10 nm or less, and even more preferably 2 nm or more and 5 nm or less.
  • the first compound is a compound represented by the following general formula (1).
  • the first compound has at least one group represented by the following general formula (11).
  • R 101 to R 110 is a group represented by the general formula (11).
  • the plurality of groups represented by the general formula (11) are the same or different from each other.
  • L 101 is Single bond, A substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming ring-forming divalent heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • Ar 101 is A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • mx is 0, 1, 2, 3, 4 or 5 If L 101 is present 2 or more, 2 or more L 101 may be identical to each other or different, If Ar 101 is present 2 or more, two or more Ar 101 may be identical to each other or different, * In the general formula (11) indicates the bonding position with the pyrene ring in the general formula (1).
  • the substituent in the case of "substituted or unsubstituted” is An unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, Unsubstituted ring-forming cycloalkyl group with 3 to 50 carbon atoms, -Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903 ), -O- (R 904 ), -S- (R 905 ), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, It is at least one group selected from the group consisting of an aryl group having an unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50 and a heterocyclic group having an unsubstituted ring-forming atom number of 5 to 50.
  • R 901 , R 902 , R 903 , R 904 , R 905 , R 906 , R 907 , R 801 and R 802 are independent of each other.
  • R 901 there are a plurality, a plurality of R 901 is the same or different from each other, If R 902 there are a plurality, a plurality of R 902 is the same or different from each other, If R 903 there are a plurality, a plurality of R 903 is the same or different from each other, If R 904 there are a plurality, a plurality of R 904 is the same or different from each other, If R 905 there are a plurality, a plurality of R 905 is the same or different from each other, If R 906 there are a plurality, a plurality of R 906 is the same or different from each other, If R 907 there are a plurality, a plurality of R 907 is the same or different from each other, If R 801 there are a plurality, a plurality of R 801 is the same or different from each other, If R 802 there are a plurality, a plurality of R 802 may or different are identical to one another.
  • the heterocyclic group in the first compound is preferably a group containing at least one of an oxygen atom and a sulfur atom.
  • the group represented by the general formula (11) is preferably a group represented by the following general formula (111).
  • X 1 is CR 123 R 124 , oxygen atom, sulfur atom, or NR 125 .
  • L 111 and L 112 are independent of each other. Single bond, A substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming ring-forming divalent heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • ma is 0, 1, 2, 3 or 4
  • mb is 0, 1, 2, 3 or 4 ma + mb is 0, 1, 2, 3 or 4
  • Ar 101 is synonymous with Ar 101 in the general formula (11).
  • R 121 , R 122 , R 123 , R 124 and R 125 are independent of each other.
  • L 111 is bonded to either position * 2 carbon atoms in the ring structure represented by the general formula (111a), L 112 is the general formula ( When bonded to the position of the carbon atom of * 7 in the ring structure represented by 111a), the group represented by the general formula (111) is represented by the following general formula (111b).
  • X 1 , L 111 , L 112 , ma, mb, Ar 101 , R 121 , R 122 , R 123 , R 124 and R 125 are independently X 1 , L 111 , L in the general formula (111). Synonymous with 112 , ma, mb, Ar 101 , R 121 , R 122 , R 123 , R 124 and R 125.
  • a plurality of R 121s are the same as or different from each other.
  • a plurality of R 122s are the same as or different from each other.
  • the group represented by the general formula (111) is preferably the group represented by the general formula (111b).
  • ma is preferably 0, 1 or 2
  • mb is preferably 0, 1 or 2.
  • ma is preferably 0 or 1
  • mb is preferably 0 or 1.
  • X 1 , L 112 , mc, md, Ar 101 , R 121 and R 122 are independently each of the X 1 , L 112 , mc, md, in the general formula (111). It is synonymous with Ar 101 , R 121 and R 122.
  • Ar 101 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 carbon atoms.
  • Ar 101 is a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted naphthyl group, a substituted or unsubstituted biphenyl group, a substituted or unsubstituted terphenyl group, a substituted or unsubstituted phenyl group. It is preferably a substituted pyrenyl group, a substituted or unsubstituted phenanthryl group, or a substituted or unsubstituted fluorenyl group.
  • Ar 101 is a group represented by the following general formula (12), general formula (13) or general formula (14).
  • R 111 to R 120 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted haloalkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Substituent or unsubstituted
  • R 124 and R 125 in the general formula (12), the general formula (13) and the general formula (14) are independently synonymous with the above-mentioned R 801 and R 802, respectively.
  • the first compound is preferably represented by the following general formula (101).
  • R 101 to R 110 indicates the connection position with L 101
  • one of R 111 to R 120 indicates the connection position with L 101.
  • L 101 is Single bond, A substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming ring-forming divalent heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • mx is 0, 1, 2, 3, 4 or 5 When two or more L 101s are present, the two or more L 101s are the same as or different from each other. )
  • R 103 in the general formula (101) is a bonding site to the L 101, if R 120 is a bonding site to the L 101, the compound represented by the general formula (101) is represented by the following general formula (101A ).
  • R 101 , R 102 , R 104 to R 119 , L 101 and mx are R 101 , R 102 , R 104 to R 119 and L 101 in the general formula (101), respectively. And mx.
  • L 101 is preferably a single-bonded, substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms.
  • the first compound is preferably represented by the following general formula (102).
  • R 101 to R 120 are independently synonymous with R 101 to R 120 in the general formula (101). However, one of R 101 to R 110 indicates the connection position with L 111, and one of R 111 to R 120 indicates the connection position with L 112.
  • X 1 is CR 123 R 124 , oxygen atom, sulfur atom, or NR 125 .
  • L 111 and L 112 are independent of each other. Single bond, A substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming ring-forming divalent heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • R 121 , R 122 , R 123 , R 124 and R 125 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted haloalkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsub
  • ma is preferably 0, 1 or 2
  • mb is preferably 0, 1 or 2.
  • ma is preferably 0 or 1
  • mb is preferably 0 or 1.
  • R 101 to R 110 are groups represented by the general formula (11).
  • R 101 to R 110 are groups represented by the general formula (11), and Ar 101 is a substituted or unsubstituted ring-forming carbon. It is preferably an aryl group having a number of 6 to 50.
  • Ar 101 is not a substituted or unsubstituted pyrenyl group
  • L 101 is not a substituted or unsubstituted pyrenylene group
  • the substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 carbon atoms as R 101 to R 110 which is not the group represented by the general formula (11), is preferably not a substituted or unsubstituted pyrenyl group.
  • R 101 to R 110 which are not groups represented by the general formula (11), are independent of each other.
  • R 101 to R 110 which are not groups represented by the general formula (11), are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms or substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl groups having 3 to 50 carbon atoms are preferable.
  • R 101 to R 110 which are not groups represented by the general formula (11), are preferably hydrogen atoms.
  • X 1 is preferably CR 123 R 124.
  • the group represented by the general formula (111) is represented by the following general formula (111d).
  • L 111 , L 112 , ma, mb, ma + mb, Ar 101 , R 121 , R 122 , R 123 , R 124 , R 125 , mc, and md are the general formulas (11d), respectively. As defined in 111).
  • R 123 and R 124 do not bond with each other.
  • At least one of L 111 and L 112 is It is preferably an arylene group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms or a divalent heterocyclic group having 5 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • the substituent in the case of "substituted or unsubstituted” preferably does not contain a substituted or unsubstituted pyrenyl group.
  • the first compound is a compound having only one pyrene ring in the molecule (sometimes referred to as a monopyrene compound).
  • the first compound is a compound having only two pyrene rings in the molecule (sometimes referred to as a bispirene compound).
  • the groups described as "substituted or unsubstituted” are preferably “unsubstituted” groups.
  • the first hole transport layer preferably does not contain a compound having an amino group.
  • the first hole transport layer preferably does not contain a compound containing a nitrogen atom and a boron atom.
  • the content of the first compound in the first hole transport layer is preferably 90% by mass or more, more preferably 99% by mass or more. In the organic EL device according to the present embodiment, it is more preferable that the first hole transport layer is composed of only the first compound.
  • the first hole transport layer does not emit light having a maximum peak wavelength of 430 nm or more and 480 nm or less when the device is driven.
  • the first compound can be produced by a known method.
  • the first compound can also be produced by following a known method and using known alternative reactions and raw materials suitable for the desired product.
  • Specific examples of the first compound include the following compounds. However, the present invention is not limited to specific examples of these first compounds.
  • the light emitting layer preferably contains a second fluorescent compound.
  • the third compound is preferably a host material (sometimes referred to as a matrix material).
  • the second compound is preferably a dopant material (sometimes referred to as a guest material, emitter, or light emitting material).
  • the "host material” is, for example, a material contained in "50% by mass or more of the layer". Therefore, for example, the light emitting layer contains the third compound represented by the general formula (1) or the following general formula (2) in an amount of 50% by mass or more of the total mass of the light emitting layer. Further, for example, the "host material” may be contained in an amount of 60% by mass or more of the layer, 70% by mass or more of the layer, 80% by mass or more of the layer, 90% by mass or more of the layer, or 95% by mass or more of the layer. Good.
  • the light emitting layer preferably contains a pyrene derivative, and more preferably contains a pyrene derivative as a host material.
  • the light emitting layer preferably contains an anthracene derivative, and more preferably contains the anthracene derivative as a host material.
  • the light emitting layer preferably does not contain a phosphorescent material as a dopant material. Further, the light emitting layer preferably does not contain a heavy metal complex and a phosphorescent rare earth metal complex.
  • the heavy metal complex include an iridium complex, an osmium complex, a platinum complex, and the like. Further, it is also preferable that the light emitting layer does not contain a metal complex.
  • the light emitting layer of the organic EL element may be composed of a plurality of light emitting layers.
  • the light emitting layer of the organic EL element according to one embodiment includes, for example, a first light emitting layer and a second light emitting layer arranged between the first light emitting layer and the cathode.
  • the organic EL element includes the first hole transport layer, the first light emitting layer, and the second light emitting layer in this order from the anode side, and the first hole transport layer and the first light emitting layer. It is in direct contact with the light emitting layer.
  • the first light emitting layer is preferably in direct contact with the second light emitting layer.
  • FIG. 3 shows a schematic configuration of another example of the organic EL element according to the present embodiment.
  • the organic EL element 1B includes a translucent substrate 2, an anode 3, a cathode 4, and an organic layer 10 arranged between the anode 3 and the cathode 4.
  • the organic layer 10 is composed of a hole injection layer 6, a first hole transport layer 71, a light emitting layer 5, an electron transport layer 8 and an electron injection layer 9 laminated in this order from the anode 3 side.
  • the light emitting layer 5 further includes a first light emitting layer 51 and a second light emitting layer 52.
  • the first light emitting layer and the second light emitting layer each independently further contain a fluorescent compound.
  • the fluorescent compound contained in the first light emitting layer and the second light emitting layer is preferably a compound having a maximum peak wavelength of 430 nm or more and 480 nm or less.
  • the first light emitting layer contains a second fluorescently emitting compound and a third compound.
  • the third compound in the first light emitting layer is preferably a host material (sometimes referred to as a matrix material), and the second compound is a dopant material (guest material, emitter, or light emitting). It may be referred to as a material).
  • the second light emitting layer contains a fluorescent fourth compound and a fifth compound.
  • the fifth compound in the second light emitting layer is preferably a host material (sometimes referred to as a matrix material), and the fourth compound is a dopant material (guest material, emitter, or light emitting). It may be referred to as a material).
  • the fluorescent fourth compound in the second light emitting layer the same compound as the above-mentioned second compound can be used.
  • the fluorescent second compound in the first light emitting layer and the fluorescent fourth compound in the second light emitting layer are the same as or different from each other.
  • the fifth compound in the second light emitting layer the same compound as the above-mentioned third compound can be used.
  • the third compound in the first light emitting layer and the fifth compound in the second light emitting layer are different from each other.
  • the first light emitting layer preferably contains a pyrene derivative, and more preferably contains a pyrene derivative as a host material.
  • the second light emitting layer preferably contains an anthracene derivative, and more preferably contains the anthracene derivative as a host material. It is more preferable that the first light emitting layer contains a pyrene derivative as a host material and the second light emitting layer contains an anthracene derivative as a host material.
  • the first light emitting layer and the second light emitting layer preferably do not contain a phosphorescent material as a dopant material. Further, it is preferable that the first light emitting layer and the second light emitting layer do not contain a heavy metal complex and a phosphorescent rare earth metal complex.
  • the heavy metal complex include an iridium complex, an osmium complex, a platinum complex, and the like. Further, it is also preferable that the first light emitting layer and the second light emitting layer do not contain a metal complex.
  • the second compound and the fourth compound are independently represented by the following general formula (3), the compound represented by the following general formula (4), and the following.
  • R 301 to R 310 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other
  • At least one of R 301 to R 310 is a monovalent group represented by the following general formula (31).
  • R 301 to R 310 which do not form the monocyclic ring, do not form the condensed ring, and are not monovalent groups represented by the following general formula (31), are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • Ar 301 and Ar 302 are independent of each other.
  • L 301 to L 303 are independent of each other, Single bond, It is an arylene group having 6 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or a divalent heterocyclic group having 5 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming atoms. * Indicates the bonding position in the pyrene ring in the general formula (3).
  • R 901 , R 902 , R 903 , R 904 , R 905 , R 906 and R 907 are independent of each other.
  • R 901 there are a plurality, a plurality of R 901 is the same or different from each other
  • R 902 there are a plurality a plurality of R 902 is the same or different from each other
  • R 903 there are a plurality, a plurality of R 903 is the same or different from each other
  • R 904 there are a plurality, a plurality of R 904 is the same or different from each other
  • R 906 there are a plurality, a plurality of R 906 is the same or different from each other
  • R 907 there are a plurality a plurality of R 907 may or different are identical to one another.
  • R 301 to R 310 are groups represented by the general formula (31).
  • the compound represented by the general formula (3) is a compound represented by the following general formula (33).
  • R 311 to R 318 are independently synonymous with R 301 to R 310 in the general formula (3), which are not monovalent groups represented by the general formula (31).
  • L 311 to L 316 are independent of each other. Single bond, It is an arylene group having 6 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or a divalent heterocyclic group having 5 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • Ar 312 , Ar 313 , Ar 315 and Ar 316 are independent of each other.
  • L 301 is preferably a single bond
  • L 302 and L 303 are preferably a single bond.
  • the compound represented by the general formula (3) is represented by the following general formula (34) or general formula (35).
  • R 311 to R 318 are independently synonymous with R 301 to R 310 in the general formula (3), which are not monovalent groups represented by the general formula (31).
  • L 312 , L 313 , L 315 and L 316 are independently synonymous with L 312 , L 313 , L 315 and L 316 in the general formula (33).
  • Ar 312 , Ar 313 , Ar 315 and Ar 316 are independently synonymous with Ar 312 , Ar 313 , Ar 315 and Ar 316 in the general formula (33), respectively.
  • R 311 to R 318 are independently synonymous with R 301 to R 310 in the general formula (3), which are not monovalent groups represented by the general formula (31).
  • Ar 312 , Ar 313 , Ar 315 and Ar 316 are independently synonymous with Ar 312 , Ar 313 , Ar 315 and Ar 316 in the general formula (33), respectively.
  • At least one of Ar 301 and Ar 302 is a group represented by the following general formula (36).
  • at least one of Ar 312 and Ar 313 is a group represented by the following general formula (36).
  • at least one of Ar 315 and Ar 316 is a group represented by the following general formula (36).
  • X 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom
  • R 321 to R 327 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 321 to R 327 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms. * Indicates
  • X 3 is preferably an oxygen atom.
  • At least one of R 321 to R 327 Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, It is preferably an aryl group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms or a heterocyclic group having 5 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • Ar 301 is a group represented by the general formula (36) and Ar 302 is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 carbon atoms.
  • Ar 312 is a group represented by the general formula (36)
  • Ar 313 is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 carbon atoms. It is preferable to have.
  • Ar 315 is a group represented by the general formula (36)
  • Ar 316 is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 carbon atoms. It is preferable to have.
  • the compound represented by the general formula (3) is represented by the following general formula (37).
  • R 311 to R 318 are independently synonymous with R 301 to R 310 in the general formula (3), which are not monovalent groups represented by the general formula (31).
  • One or more of the two or more adjacent pairs of R 321 to R 327 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other
  • One or more of the two or more adjacent pairs of R 341 to R 347 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 321 to R 327 and R 341 to R 347 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • R 331 to R 335 and R 351 to R 355 are independent of each other.
  • Z is independently a CRa or nitrogen atom
  • the A1 ring and the A2 ring are independent of each other.
  • one or more pairs of two or more adjacent Ras among the plurality of Ras may be present.
  • Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other n21 and n22 are 0, 1, 2, 3 or 4, respectively.
  • Rbs When there are a plurality of Rbs, one or more sets of two or more adjacent Rbs among the plurality of Rbs may be present. Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other.
  • Rc one or more of a pair consisting of two or more adjacent Rc among the plurality of Rc Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other Ra, Rb and Rc, which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • the "aromatic hydrocarbon ring" of the A1 ring and the A2 ring has the same structure as the compound in which a hydrogen atom is introduced into the above-mentioned "aryl group”.
  • the "aromatic hydrocarbon ring" of the A1 ring and the A2 ring contains two carbon atoms on the condensed bicyclic structure at the center of the general formula (4) as ring-forming atoms.
  • Specific examples of the "substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring having 6 to 50 carbon atoms” include a compound in which a hydrogen atom is introduced into the "aryl group” described in the specific example group G1.
  • the "heterocycle" of the A1 ring and the A2 ring has the same structure as the compound in which a hydrogen atom is introduced into the above-mentioned "heterocyclic group”.
  • the "heterocycle” of the A1 ring and the A2 ring contains two carbon atoms on the condensed bicyclic structure at the center of the general formula (4) as ring-forming atoms.
  • Specific examples of the "heterocyclic ring having 5 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming atoms” include a compound in which a hydrogen atom is introduced into the "heterocyclic group" described in the specific example group G2.
  • Rb is bonded to either a carbon atom forming an aromatic hydrocarbon ring as an A1 ring or an atom forming a heterocycle as an A1 ring.
  • Rc is bonded to either a carbon atom forming an aromatic hydrocarbon ring as an A2 ring or an atom forming a heterocycle as an A2 ring.
  • Ra is preferably a group represented by the following general formula (4a), and at least two are more preferably a group represented by the following general formula (4a). ..
  • L 401 is Single bond, It is an arylene group having 6 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or a divalent heterocyclic group having 5 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • Ar 401 is Substituent or unsubstituted ring-forming aryl groups having 6 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted heterocyclic group having 5 to 50 atoms or a group represented by the following general formula (4b).
  • L 402 and L 403 are independent of each other. Single bond, It is an arylene group having 6 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or a divalent heterocyclic group having 5 to 30 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • the set consisting of Ar 402 and Ar 403 is Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other Ar 402 and Ar 403 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • the compound represented by the general formula (4) is represented by the following general formula (42).
  • R 401 to R 411 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 401 to R 411 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • R 401 to R 411 at least one is preferably a group represented by the general formula (4a), and more preferably at least two groups are represented by the general formula (4a). It is preferable that R 404 and R 411 are groups represented by the general formula (4a).
  • the compound represented by the general formula (4) is a compound in which a structure represented by the following general formula (4-1) or general formula (4-2) is bound to the A1 ring. Further, in one embodiment, the compound represented by the general formula (42) is represented by the following general formula (4-1) or general formula (4-2) on the ring to which R 404 to R 407 are bonded. It is a compound with a combined structure.
  • the two *'s are independently bonded to the ring-forming carbon atom of the aromatic hydrocarbon ring as the A1 ring of the general formula (4) or the ring-forming atom of the heterocycle. Or combine with any of R 404 to R 407 of the general formula (42). Whether the three * of the general formula (4-2) are independently bonded to the ring-forming carbon atom of the aromatic hydrocarbon ring as the A1 ring of the general formula (4) or the ring-forming atom of the heterocycle. , Or in combination with any of R 404 to R 407 of the general formula (42).
  • R 421 to R 427 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other
  • One or more of two or more adjacent pairs of R 431 to R 438 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 421 to R 427 and R 431 to R 438 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • the compound represented by the general formula (4) is a compound represented by the following general formula (41-3), general formula (41-4) or general formula (41-5). ..
  • R 421 to R 427 are independently synonymous with R 421 to R 427 in the general formula (4-1).
  • R 440 to R 448 are independently synonymous with R 401 to R 411 in the general formula (42). )
  • the substituted or unsubstituted ring-forming aromatic hydrocarbon ring having 6 to 50 carbon atoms as the A1 ring of the general formula (41-5) is It is a substituted or unsubstituted naphthalene ring, or a substituted or unsubstituted fluorene ring.
  • the substituted or unsubstituted heterocycle having 5 to 50 atoms forming the ring as the A1 ring of the general formula (41-5) is a heterocycle.
  • the compound represented by the general formula (4) or the general formula (42) is selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (461) to (467). ..
  • R 421 to R 427 are independently synonymous with R 421 to R 427 in the general formula (4-1).
  • R 431 to R 438 are independently synonymous with R 431 to R 438 in the general formula (4-2).
  • R 440 to R 448 and R 451 to R 454 are independently synonymous with R 401 to R 411 in the general formula (42).
  • X 4 is an oxygen atom, NR 801 or C (R 802 ) (R 803 ).
  • R801 , R802 and R803 are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms. A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms.
  • R 801 there are a plurality a plurality of R 801 is the same or different from each other, If R 802 there are a plurality, a plurality of R 802 is the same or different from each other, If R 803 there are a plurality, a plurality of R 803 may or different are identical to one another. )
  • one or more sets of two or more adjacent pairs of R 401 to R 411 are bonded to each other to be substituted or unsubstituted.
  • a single ring is formed or bonded to each other to form a substituted or unsubstituted fused ring, and the embodiment will be described in detail as a compound represented by the general formula (45) below.
  • R 461 to R 471 Two or more rings formed by R 461 to R 471 are the same as or different from each other.
  • R 461 to R 471 which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • R n and R n + 1 (n represents an integer selected from 461, 462, 464 to 466, and 468 to 470) are combined with each other, and R n and R n + 1 are combined 2 Together with the two ring-forming carbon atoms, a substituted or unsubstituted monocycle or a substituted or unsubstituted fused ring is formed.
  • the ring is preferably composed of atoms selected from the group consisting of carbon atoms, oxygen atoms, sulfur atoms and nitrogen atoms, and the number of atoms in the ring is preferably 3 to 7, more preferably 5 or It is 6.
  • the number of the ring structures in the compound represented by the general formula (45) is, for example, 2, 3, or 4.
  • the two or more ring structures may be present on the same benzene ring on the matrix of the general formula (45), or may be present on different benzene rings.
  • one ring structure may be present for each of the three benzene rings of the general formula (45).
  • Examples of the ring structure in the compound represented by the general formula (45) include structures represented by the following general formulas (451) to (460).
  • R n and R n + 1 Represents the two ring-forming carbon atoms to which The ring-forming carbon atoms to which R n is bonded are * 1 and * 2, * 3 and * 4, * 5 and * 6, * 7 and * 8, * 9 and * 10, * 11 and * 12, and * 13 and * 14, respectively, R n and R n + 1, respectively.
  • Represents the two ring-forming carbon atoms to which The ring-forming carbon atoms to which R n is bonded are * 1 and * 2, * 3 and * 4, * 5 and * 6, * 7 and * 8, * 9 and * 10, * 11 and * 12, and * 13. It may be either of the two ring-forming carbon atoms represented by * 14.
  • X 45 is C (R 4512 ) (R 4513 ), NR 4514 , oxygen atom or sulfur atom.
  • R 4501 to R 4506 and R 4512 to R 4513 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 4501 to R 4514 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independently synonymous with R 461 to R 471 in the general formula (45). )
  • * 1 and * 2, and * 3 and * 4 represent the two ring-forming carbon atoms to which R n and R n + 1 are bonded.
  • the ring-forming carbon atom to which R n is bonded may be either * 1 and * 2, or the two ring-forming carbon atoms represented by * 3 and * 4.
  • X 45 is C (R 4512 ) (R 4513 ), NR 4514 , oxygen atom or sulfur atom.
  • R 4512 to R 4513 and R 4515 to R 4525 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 4512 to R 4513 , R 4515 to R 4521, R 4522 to R 4525 , and R 4514 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independently R in the general formula (45). It is synonymous with 461 to R 471. )
  • R 462 , R 464 , R 465 , R 470 and R 471 preferably at least one of R 462 , R 465 and R 470 , more preferably R 462 .
  • the group does not form a ring structure.
  • Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Substituent or unsubstituted ring-forming aryl groups having 6 to 50 carbon atoms, It is either a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 5 to 50 atoms, or a group selected from the group consisting of the groups represented by the following general formulas (461) to (464).
  • R d is independent of each other Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted
  • X 46 is C (R 801 ) (R 802 ), NR 803 , oxygen atom or sulfur atom.
  • R801 , R802 and R803 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • the * in the general formulas (461) to (464) independently indicate the bonding position with the ring structure.
  • R 901 to R 907 are as defined above.
  • the compound represented by the general formula (45) is represented by any of the following general formulas (45-1) to (45-6).
  • Rings d to i are independently substituted or unsubstituted monocyclic rings or substituted or unsubstituted fused rings, respectively.
  • R 461 to R 471 are independently synonymous with R 461 to R 471 in the general formula (45).
  • the compound represented by the general formula (45) is represented by any of the following general formulas (45-7) to (45-12).
  • Rings d to f, k, and j are independently substituted or unsubstituted monocycles or substituted or unsubstituted fused rings, respectively.
  • R 461 to R 471 are independently synonymous with R 461 to R 471 in the general formula (45).
  • the compound represented by the general formula (45) is represented by any of the following general formulas (45-13) to (45-21).
  • Rings d to k are independently substituted or unsubstituted monocycles or substituted or unsubstituted fused rings, respectively.
  • R 461 to R 471 are independently synonymous with R 461 to R 471 in the general formula (45).
  • substituent when the ring g or the ring h further has a substituent include, for example.
  • Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms Substituent or unsubstituted ring-forming aryl groups having 6 to 50 carbon atoms, The group represented by the general formula (461), Examples thereof include a group represented by the general formula (463) or a group represented by the general formula (464).
  • the compound represented by the general formula (45) is represented by any of the following general formulas (45-22) to (45-25).
  • X 46 and X 47 are independently C (R 801 ) (R 802 ), NR 803 , oxygen atom or sulfur atom, respectively.
  • R 461 to R 471 and R 481 to R 488 are independently synonymous with R 461 to R 471 in the general formula (45).
  • R801 , R802 and R803 are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms. A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms.
  • R 801 there are a plurality a plurality of R 801 is the same or different from each other, If R 802 there are a plurality, a plurality of R 802 is the same or different from each other, If R 803 there are a plurality, a plurality of R 803 may or different are identical to one another. )
  • the compound represented by the general formula (45) is represented by the following general formula (45-26).
  • X 46 is C (R 801 ) (R 802 ), NR 803 , oxygen atom or sulfur atom.
  • R 463 , R 464 , R 467 , R 468 , R 471 , and R 481 to R 492 are independently synonymous with R 461 to R 471 in the general formula (45).
  • R801 , R802 and R803 are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms. A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms.
  • R 801 there are a plurality a plurality of R 801 is the same or different from each other, If R 802 there are a plurality, a plurality of R 802 is the same or different from each other, If R 803 there are a plurality, a plurality of R 803 may or different are identical to one another. )
  • R 501 to R 507 and R 511 to R 517 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 501 to R 507 and R 511 to R 517 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms.
  • R 521 and R 522 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocycl
  • One set of two or more adjacent sets of R 501 to R 507 and R 511 to R 517 " is, for example, a set of R 501 and R 502 , a set of R 502 and R 503 , and R. It is a combination of a set of 503 and R 504 , a set of R 505 and R 506 , a set of R 506 and R 507 , a set of R 501 , R 502 and R 503, and the like.
  • At least one, preferably two , of R 501 to R 507 and R 511 to R 517 are groups represented by -N (R 906 ) (R 907).
  • R 501 to R 507 and R 511 to R 517 are independent of each other.
  • the compound represented by the general formula (5) is a compound represented by the following general formula (52).
  • R 531 to R 534 and R 541 to R 544 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 531 to R 534 , R 541 to R 544 , and R 551 and R 552 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • R 561 to R 564 are independent of each other.
  • the compound represented by the general formula (5) is a compound represented by the following general formula (53).
  • R 551 , R 552 and R 561 to R 564 are independently synonymous with R 551 , R 552 and R 561 to R 564 in the general formula (52), respectively.
  • R 561 to R 564 in the general formula (52) and the general formula (53) are independently substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 50 carbon atoms (preferably phenyl groups). ).
  • R 521 and R 522 in the general formula (5) and R 551 and R 552 in the general formula (52) and the general formula (53) are hydrogen atoms.
  • the substituent in the case of "substitutable or unsubstituted" in the general formula (5), general formula (52) and general formula (53) is Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms.
  • Ring a, ring b and ring c are independent of each other.
  • R 601 and R 602 independently combine with the a ring, b ring or c ring to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or do not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R601 and R602 which do not form the substituted or unsubstituted heterocycle, are independently Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • Rings a, b, and c are rings (substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms 6 to 50) that are condensed into the fused bicyclic structure at the center of the general formula (6) composed of a boron atom and two nitrogen atoms. (Aromatic hydrocarbon ring, or a substituted or unsubstituted heterocycle having 5 to 50 atoms).
  • the "aromatic hydrocarbon rings" of the a ring, b ring and c ring have the same structure as the compound in which a hydrogen atom is introduced into the above-mentioned "aryl group”.
  • the "aromatic hydrocarbon ring" of the a ring contains three carbon atoms on the condensed bicyclic structure at the center of the general formula (6) as ring-forming atoms.
  • the "aromatic hydrocarbon ring" of the b ring and the c ring contains two carbon atoms on the condensed bicyclic structure at the center of the general formula (6) as ring-forming atoms.
  • the "substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon ring having 6 to 50 carbon atoms” include a compound in which a hydrogen atom is introduced into the "aryl group” described in the specific example group G1.
  • the "heterocycle” of the a ring, b ring and c ring has the same structure as the compound in which a hydrogen atom is introduced into the above-mentioned "heterocyclic group”.
  • the "heterocycle” of the a ring contains three carbon atoms on the condensed bicyclic structure at the center of the general formula (6) as ring-forming atoms.
  • the "heterocycle" of the b ring and the c ring contains two carbon atoms on the condensed bicyclic structure at the center of the general formula (6) as ring-forming atoms.
  • Specific examples of the "heterocyclic ring having 5 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming atoms” include a compound in which a hydrogen atom is introduced into the "heterocyclic group" described in the specific example group G2.
  • R 601 and R 602 may be independently bonded to the a ring, b ring or c ring to form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • the heterocycle in this case contains a nitrogen atom on the condensed bicyclic structure at the center of the general formula (6).
  • the heterocycle in this case may contain a heteroatom other than the nitrogen atom.
  • R 601 may be bonded to the a ring to form a nitrogen-containing heterocycle in which the ring containing R 601 and the a ring are condensed (or three-ring condensation or more).
  • Specific examples of the nitrogen-containing heterocycle include compounds corresponding to heterocyclic groups containing nitrogen and having two or more ring condensations in the specific example group G2. The same applies to the case where R 601 is bonded to the b ring, the case where R 602 is bonded to the a ring, and the case where R 602 is bonded to the c ring.
  • the a ring, b ring, and c ring in the general formula (6) are independently substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon rings having 6 to 50 carbon atoms. In one embodiment, the a ring, b ring and c ring in the general formula (6) are independently substituted or unsubstituted benzene rings or naphthalene rings, respectively.
  • R 601 and R 602 in the general formula (6) are independent of each other.
  • the compound represented by the general formula (6) is a compound represented by the following general formula (62).
  • R 601A combines with one or more selected from the group consisting of R 611 and R 621 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 602A combines with one or more selected from the group consisting of R 613 and R 614 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 601A and R 602A which do not form the substituted or unsubstituted heterocycle, are independently Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • R 611 to R 621 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 611 to R 621 , which do not form the substituted or unsubstituted heterocycle, do not form the monocycle, and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • R 601A and R 602A of the general formula (62) are groups corresponding to R 601 and R 602 of the general formula (6), respectively.
  • R 601A and R 611 may be bonded to form a nitrogen-containing heterocycle in which a ring containing these and a benzene ring corresponding to the a ring are condensed to form a two-ring condensation (or three-ring condensation or more) nitrogen-containing heterocycle.
  • Specific examples of the nitrogen-containing heterocycle include compounds corresponding to heterocyclic groups containing nitrogen and having two or more ring condensations in the specific example group G2. The same applies to the case where R 601A and R 621 are combined, the case where R 602A and R 613 are combined, and the case where R 602A and R 614 are combined.
  • R 611 to R 621 may combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, or they may combine with each other to form a substituted or unsubstituted fused ring.
  • R 611 and R 612 may be bonded to form a structure in which a benzene ring, an indole ring, a pyrrole ring, a benzofuran ring, a benzothiophene ring, or the like is condensed with a 6-membered ring to which they are bonded.
  • the formed fused ring becomes a naphthalene ring, a carbazole ring, an indole ring, a dibenzofuran ring or a dibenzothiophene ring.
  • R 611 to R 621 which do not contribute to ring formation, are independent of each other.
  • R 611 to R 621 which do not contribute to ring formation, are independent of each other.
  • Hydrogen atom A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms.
  • R 611 to R 621 which do not contribute to ring formation, are independent of each other. It is a hydrogen atom or an substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms.
  • R 611 to R 621 which do not contribute to ring formation, are independent of each other.
  • At least one of R 611 to R 621 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms.
  • the compound represented by the general formula (62) is a compound represented by the following general formula (63).
  • R 631 combines with R 646 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 633 combines with R 647 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 634 combines with R 651 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 641 combines with R 642 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 631 to R 651 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 631 to R 651 , which do not form the substituted or unsubstituted heterocycle, do not form the monocycle, and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • R 631 may be combined with R 646 to form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 631 and R 646 are bonded to form a nitrogen-containing heterocycle having three or more ring condensations in which a benzene ring to which R 646 is bonded, a ring containing N, and a benzene ring corresponding to the a ring are condensed.
  • the nitrogen-containing heterocycle include compounds corresponding to heterocyclic groups containing nitrogen and having three or more ring condensations in the specific example group G2. The same applies when R 633 and R 647 are combined, when R 634 and R 651 are combined, and when R 641 and R 642 are combined.
  • R 631 to R 651 which do not contribute to ring formation, are independent of each other.
  • R 631 to R 651 which do not contribute to ring formation, are independent of each other.
  • Hydrogen atom A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms.
  • R 631 to R 651 which do not contribute to ring formation, are independent of each other. It is a hydrogen atom or an substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms.
  • R 631 to R 651 which do not contribute to ring formation, are independent of each other.
  • At least one of R 631 to R 651 is a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms.
  • the compound represented by the general formula (63) is a compound represented by the following general formula (63A).
  • R 661 is Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, A cycloalkyl group having 3 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or an aryl group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms.
  • R 662 to R 665 are independent of each other.
  • Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, It is a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms.
  • R 661 to R 665 are independent of each other.
  • R 661 to R 665 are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms.
  • the compound represented by the general formula (63) is a compound represented by the following general formula (63B).
  • R 671 and R 672 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A group represented by ⁇ N (R 906 ) (R 907 ), or an aryl group having a substituted or unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50.
  • R 673 to R 675 are independent of each other.
  • Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A group represented by ⁇ N (R 906 ) (R 907 ), or an aryl group having a substituted or unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50. )
  • the compound represented by the general formula (63) is a compound represented by the following general formula (63B').
  • R 672 to R 675 are independently synonymous with R 672 to R 675 in the general formula (63B).
  • At least one of R 671 to R 675 Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A group represented by ⁇ N (R 906 ) (R 907 ), or an aryl group having a substituted or unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50.
  • R 672 is Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, A group represented by ⁇ N (R 906 ) (R 907 ), or an aryl group having a substituted or unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50.
  • R 671 and R 673 to R 675 are independent of each other.
  • the compound represented by the general formula (63) is a compound represented by the following general formula (63C).
  • R 681 and R 682 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, It is a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms. R 683 to R 686 are independent of each other.
  • Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, It is a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms.
  • the compound represented by the general formula (63) is a compound represented by the following general formula (63C').
  • R 683 to R 686 are independently synonymous with R 683 to R 686 in the general formula (63C).
  • R 681 to R 686 are independent of each other.
  • R 681 to R 686 are independently substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 50 carbon atoms.
  • the compound represented by the general formula (6) first forms an intermediate by binding the a ring, the b ring and the c ring with a linking group ( a group containing N-R 601 and a group containing N-R 602).
  • the final product can be produced by producing (first reaction) and bonding the a ring, b ring and c ring with a linking group (group containing a boron atom) (second reaction).
  • first reaction an amination reaction such as the Buchwald-Hartwig reaction can be applied.
  • a tandem hetero Friedel-Crafts reaction or the like can be applied.
  • the r ring is a ring represented by the general formula (72) or the general formula (73) that is condensed at an arbitrary position of an adjacent ring.
  • the q-ring and the s-ring are rings represented by the general formula (74) that are independently condensed at arbitrary positions of adjacent rings.
  • the p-ring and the t-ring are structures represented by the general formula (75) or the general formula (76), which are independently condensed at arbitrary positions of adjacent rings.
  • X 7 is an oxygen atom, a sulfur atom, or an NR 702 .
  • R 701 there are a plurality a plurality of R 701 Adjacent Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 701 and R 702 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • Ar 701 and Ar 702 are independent of each other. Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • L 701 is Substituent or unsubstituted alkylene group having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenylene group having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynylene group having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkylene group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming ring-forming divalent heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • m1 is 0, 1 or 2
  • m2 is 0, 1, 2, 3 or 4
  • m3 is 0, 1, 2 or 3 independently of each other.
  • m4 is 0, 1, 2, 3, 4 or 5, respectively.
  • each ring of the p-ring, q-ring, r-ring, s-ring and t-ring shares two carbon atoms with the adjacent ring and is condensed.
  • the position and direction of condensation are not limited, and condensation is possible at any position and direction.
  • the compound represented by the general formula (7) is represented by any of the following general formulas (71-1) to (71-6).
  • R 701 , X 7 , Ar 701 , Ar 702 , L 701 , m1 and m3 are R 701 in the general formula (7), respectively.
  • the compound represented by the general formula (7) is represented by any of the following general formulas (71-11) to (71-13).
  • R 701 , X 7 , Ar 701 , Ar 702 , L 701 , m1, m3 and m4 are in the general formula (7), respectively. It is synonymous with R 701 , X 7 , Ar 701 , Ar 702 , L 701 , m1, m3 and m4.
  • the compound represented by the general formula (7) is represented by any of the following general formulas (71-21) to (71-25).
  • R 701 , X 7 , Ar 701 , Ar 702 , L 701 , m1 and m4 are R 701 in the general formula (7), respectively.
  • the compound represented by the general formula (7) is represented by any of the following general formulas (71-31) to (71-33).
  • R 701 , X 7 , Ar 701 , Ar 702 , L 701 , and m2 to m4 are R 701 in the general formula (7), respectively.
  • Ar 701 and Ar 702 are independently substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 50 carbon atoms.
  • one of Ar 701 and Ar 702 is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 ring-forming carbon atoms, and the other of Ar 701 and Ar 702 has 5 substituted or unsubstituted ring-forming atoms. ⁇ 50 heterocyclic groups.
  • At least one set of R 801 and R 802 , R 802 and R 803 , and R 803 and R 804 are combined with each other to form a divalent group represented by the following general formula (82), or are combined with each other.
  • At least one pair of R 805 and R 806 , R 806 and R 807 , and R 807 and R 808 combine with each other to form a divalent group represented by the following general formula (83) or do not bind to each other. .. )
  • At least one of R 801 to R 804 and R 811 to R 814 that do not form a divalent group represented by the general formula (82) is a monovalent group represented by the following general formula (84).
  • At least one of R 805 to R 808 and R 821 to R 824 that do not form a divalent group represented by the general formula (83) is a monovalent group represented by the following general formula (84).
  • X 8 is CR 81 R 82 , oxygen atom, sulfur atom, or NR 809 .
  • R 81 and R 82 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other Not form a divalent group represented by general formula (82) and the general formula (83), and, R 801 ⁇ R 808 is not a monovalent group represented by general formula (84), wherein R 811 to R 814 and R 821 to R 824 , which are not monovalent groups represented by the general formula (84), do not form the substituted or unsubstituted monocyclic ring, and the substituted or unsubstituted fused ring is formed.
  • R 81 and R 82 , and R 809 which do not form, are independent of each other.
  • Ar 801 and Ar 802 are independent of each other.
  • L801 to L803 are independent of each other.
  • At least one pair of R 801 and R 802 , R 802 and R 803 , and R 803 and R 804 bind to each other, and R 805 and R 806 , R 806 and R 807 , and R 807 and R 808 do not bind to each other. It is also preferable.
  • R 801 and R 802 , R 802 and R 803 , and R 803 and R 804 do not bind to each other, and at least one pair of R 805 and R 806 , R 806 and R 807 , and R 807 and R 808 join each other. It is also preferable to do so.
  • At least one pair of R 801 and R 802 , R 802 and R 803 , and R 803 and R 804 combine with each other to form a divalent group represented by the following general formula (82), and R 805 and R 806. , R 806 and R 807 , and at least one set of R 807 and R 808 are also preferably bonded to each other to form a divalent group represented by the following general formula (83).
  • the position where the divalent group represented by the general formula (82) and the divalent group represented by the general formula (83) are formed is not particularly limited, and R 801 to R 808 are formed.
  • the group can be formed at possible positions.
  • the compound represented by the general formula (8) is represented by any of the following general formulas (81A-1) to (81A-3).
  • X 8 is synonymous with X 8 in the general formula (8).
  • At least one of R 803 , R 804 , and R 811 to R 814 in the general formula (81A-1) is a monovalent group represented by the general formula (84).
  • At least one of the R 801 in formula (81A-2), R 804, and R 811 ⁇ R 814 is a monovalent group represented by the general formula (84), At least one of the R 801 in formula (81A-3), R 802, and R 811 ⁇ R 814 is a monovalent group represented by the general formula (84), At least one of R 805 to R 808 in the general formulas (81A-1) to (81A-3) is a monovalent group represented by the general formula (84).
  • R 801 to R 808 and R 811 to R 814 which are not monovalent groups represented by the general formula (84), are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • the compound represented by the general formula (8) is represented by any of the following general formulas (81-1) to (81-6).
  • X 8 is synonymous with X 8 in the general formula (8).
  • At least two of R801 to R824 are monovalent groups represented by the general formula (84).
  • R801 to R824 which are not monovalent groups represented by the general formula (84), are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • the compound represented by the general formula (8) is represented by any of the following general formulas (81-7) to (81-18).
  • X 8 is synonymous with X 8 in the general formula (8).
  • R 801 - R 824 each independently, in the general formula (81-1) is not a monovalent group represented by the general formula in ⁇ the general formula (81-6) (84)
  • R 801 ⁇ R 824 Is synonymous with.
  • R 801 to R 808 which do not form a divalent group represented by the general formula (82) and the general formula (83) and are not a monovalent group represented by the general formula (84), and R 811 to R 814 and R 821 to R 824 , which are not monovalent groups represented by the general formula (84), are preferably independently of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms.
  • the monovalent group represented by the general formula (84) is preferably represented by the following general formula (85) or general formula (86).
  • R831 to R840 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted
  • HAR 801 has a structure represented by the following general formula (87).
  • X 81 is an oxygen atom or a sulfur atom and Any one of R 841 to R 848 is a single bond that binds to L 803. R 841 to R 848 , which are not single bonds, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • a 91 ring and A 92 ring are independent of each other. Substituted or unsubstituted ring-forming aromatic hydrocarbon ring having 6 to 50 carbon atoms, or A substituted or unsubstituted ring-forming heterocycle having 5 to 50 atoms. One or more rings selected from the group consisting of A 91 ring and A 92 ring Combine with * of the structure represented by the following general formula (92). )
  • a 93 ring is Substituted or unsubstituted ring-forming aromatic hydrocarbon ring having 6 to 50 carbon atoms, or A substituted or unsubstituted ring-forming heterocycle having 5 to 50 atoms.
  • X 9 is NR 93 , C (R 94 ) (R 95 ), Si (R 96 ) (R 97 ), Ge (R 98 ) (R 99 ), oxygen atom, sulfur atom or selenium atom.
  • R 91 and R 92 are Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 91 and R 92 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, and R 93 to R 99 , respectively, independently of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • One or more rings selected from the group consisting of A 91 ring and A 92 ring are combined with * of the structure represented by the general formula (92). That is, in one embodiment, A 91 wherein the aromatic hydrocarbon ring-forming carbon atom of the ring of the ring, or ring-forming atoms of the heterocyclic is linked * with the structure represented by the general formula (92). Further, in one embodiment, the ring-forming carbon atom of the aromatic hydrocarbon ring of ring A 92 or the ring-forming atom of the heterocycle is bonded to * having a structure represented by the general formula (92).
  • a group represented by the following general formula (93) is attached to either or both of the A 91 ring and the A 92 ring.
  • Ar 91 and Ar 92 are independent of each other.
  • L 91 to L 93 are independent of each other.
  • Formula (93) in the * indicates the bonding position with either A 91 ring and A 92 ring.
  • the ring-forming carbon atom of the aromatic hydrocarbon ring of the A 92 ring or the ring-forming atom of the heterocycle has a structure represented by the general formula (92). Combine with *.
  • the structures represented by the general formula (92) may be the same or different from each other.
  • R 91 and R 92 are independently substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 50 carbon atoms. In one embodiment, R 91 and R 92 combine with each other to form a fluorene structure.
  • ring A 91 and ring A 92 are independently substituted or unsubstituted aromatic hydrocarbon rings having 6 to 50 carbon atoms, for example, substituted or unsubstituted benzene rings. ..
  • ring A 93 is a substituted or unsubstituted ring-forming aromatic hydrocarbon ring having 6 to 50 carbon atoms, for example, a substituted or unsubstituted benzene ring.
  • X 9 is an oxygen atom or a sulfur atom.
  • Ax 1 ring is a ring represented by the general formula to condensation at any position adjacent rings (10a)
  • Ax 2 ring is a ring represented by the general formula to condensation at any position adjacent ring (10b)
  • Formula (10b) in the two * is bonded to any position of Ax 3 rings
  • X A and X B are independently C (R 1003 ) (R 1004 ), Si (R 1005 ) (R 1006 ), oxygen atom or sulfur atom, respectively.
  • Ar 1001 A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • R 1001 to R 1006 are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • mx1 is 3 and mx2 is 2.
  • Multiple R 1001s are the same as or different from each other, Multiple R 1002s are the same as or different from each other, ax is 0, 1 or 2, When ax is 0 or 1, the structures in parentheses indicated by "3-ax" are the same or different from each other. When ax is 2, the plurality of Ar 1001s are the same as or different from each other. )
  • Ar 1001 is a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 50 carbon atoms.
  • Ax 3 ring is an aromatic hydrocarbon ring or a substituted or unsubstituted ring carbon atoms 6 to 50, for example, a substituted or unsubstituted benzene ring, a substituted or unsubstituted naphthalene ring, or It is a substituted or unsubstituted anthracene ring.
  • R 1003 and R 1004 are independently substituted or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms.
  • ax is 1.
  • the light emitting layer is the second compound.
  • R 631 combines with R 646 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 633 combines with R 647 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 634 combines with R 651 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • R 641 combines with R 642 to form a substituted or unsubstituted heterocycle, or does not form a substituted or unsubstituted heterocycle.
  • One or more pairs of two or more adjacent R 631 to R 651 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 631 to R 651 , which do not form the substituted or unsubstituted heterocycle, do not form the monocycle, and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • R 631 to R 651 that does not form the substituted or unsubstituted heterocycle, does not form the monocycle, and does not form the fused ring, Halogen atom, Cyano group, Nitro group, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or
  • the compound represented by the general formula (4) is a compound represented by the general formula (41-3), the general formula (41-4) or the general formula (41-5).
  • the A1 ring in the general formula (41-5) is a condensed aromatic hydrocarbon ring having 10 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or a condensed product having 8 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming atoms. It is a heterocycle.
  • the substituted or unsubstituted ring-forming condensed aromatic having 10 to 50 carbon atoms in the general formula (41-3), the general formula (41-4), and the general formula (41-5).
  • the hydrocarbon ring Substituted or unsubstituted naphthalene ring, A substituted or unsubstituted anthracene ring, or a substituted or unsubstituted fluorene ring.
  • the substituted or unsubstituted fused heterocycle having 8 to 50 ring-forming atoms is Substituted or unsubstituted dibenzofuran ring, A substituted or unsubstituted carbazole ring or a substituted or unsubstituted dibenzothiophene ring.
  • the hydrogen ring A substituted or unsubstituted naphthalene ring, or a substituted or unsubstituted fluorene ring.
  • the substituted or unsubstituted fused heterocycle having 8 to 50 ring-forming atoms is Substituted or unsubstituted dibenzofuran ring, A substituted or unsubstituted carbazole ring or a substituted or unsubstituted dibenzothiophene ring.
  • the compound represented by the general formula (4) is Compounds represented by the following general formula (461), Compounds represented by the following general formula (462), Compounds represented by the following general formula (463), Compounds represented by the following general formula (464), Compounds represented by the following general formula (465), It is selected from the group consisting of the compound represented by the following general formula (466) and the compound represented by the following general formula (467).
  • R 421 to R 427 , R 431 to R 436 , R 440 to R 448, and R 451 to R 454 Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Bond to each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or not to each other R 437 , R 438 , and R 421 to R 427 , R 431 to R 436 , R 440 to R 448, and R 451 to R 454 , which do not form the monocyclic ring and do not form the condensed ring, are independent of each other.
  • Hydrogen atom Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • X 4 is an oxygen atom, NR 801 or C (R 802 ) (R 803 ).
  • R801 , R802 and R803 are independent of each other.
  • R 421 to R 427 and R 440 to R 448 are independent of each other.
  • R 421 to R 427 and R 440 to R 447 are independent of each other.
  • Hydrogen atom It is selected from the group consisting of an aryl group having 6 to 18 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms and a heterocyclic group having 5 to 18 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • the compound represented by the general formula (41-3) is a compound represented by the following general formula (41-3-1).
  • R 423 , R 425 , R 426 , R 442 , R 444 and R 445 are independently related to R 423 and R 425 in the general formula (41-3), respectively. , R 426 , R 442 , R 444 and R 445. )
  • the compound represented by the general formula (41-3) is a compound represented by the following general formula (41-3-2).
  • R 421 ⁇ R 427 and R 440 ⁇ R 448 are each independently, R 421 in formula (41-3) ⁇ R 427 and R 440 ⁇ R 448 Is synonymous with However, at least one of R 421 to R 427 and R 440 to R 446 is a group represented by -N (R 906 ) (R 907). )
  • any two of R 421 to R 427 and R 440 to R 446 in the above formula (41-3-2) are based on a group represented by -N (R 906 ) (R 907). is there.
  • the compound represented by the above formula (41-3-2) is a compound represented by the following formula (41-3-3).
  • R 421 to R 424 , R 440 to R 443 , R 447 and R 448 are independently each of R 421 to R 424 in the general formula (41-3). , R 440 to R 443 , R 447 and R 448 .
  • R A , R B , RC and R D are independent of each other.
  • the compound represented by the above formula (41-3-3) is a compound represented by the following formula (41-3-4).
  • R 447 , R 448 , R A , R B , RC and R D are independently each of R 447 and R in the above formula (41-3-3). 448, R a, R B, the same meanings as R C and R D.)
  • R A, R B, R C and R D are each independently a substituted or unsubstituted ring aryl group having 6 to 18.
  • R A, R B, R C and R D are each independently a substituted or unsubstituted phenyl group.
  • R 447 and R 448 are hydrogen atoms.
  • the substituent in the case of "substituent or unsubstituted" in each of the above formulas is An unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms, An unsubstituted alkynyl group having 2 to 50 carbon atoms, Unsubstituted ring-forming cycloalkyl group with 3 to 50 carbon atoms, -Si (R 901a ) (R 902a ) (R 903a ), -O- (R 904a ), -S- (R 905a ), -N (R 906a ) (R 907a ), Halogen atom, Cyano group, Nitro group, It is an aryl group having an unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50, or a heterocyclic group having an unsubstituted ring-forming atom number of 5 to 50.
  • R 901a to R 907a are independent of each other.
  • Hydrogen atom An unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, It is an aryl group having an unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 50, or a heterocyclic group having an unsubstituted ring-forming atom number of 5 to 50.
  • R 901a is present 2 or more, 2 or more R 901a may be identical to each other or different
  • If R 905a is present 2 or more, 2 or more R 905a may be identical to each other or different
  • R 906a is present 2 or more, 2 or more R 906a may be identical to each other or different
  • the substituent in the case of "substituent or unsubstituted" in each of the above formulas is An unsubstituted alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, An unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms or a heterocyclic group having an unsubstituted ring-forming atom number of 5 to 50.
  • the substituent in the case of "substituent or unsubstituted" in each of the above formulas is An unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, It is an aryl group having an unsubstituted ring-forming carbon number of 6 to 18 or a heterocyclic group having an unsubstituted ring-forming atom number of 5 to 18.
  • the second compound is preferably a compound that emits light having a maximum peak wavelength of 430 nm or more and 480 nm or less.
  • the method for measuring the maximum peak wavelength of a compound is as follows. A toluene solution of 10-6 mol / L or more and 10-5 mol / L or less of the compound to be measured is prepared, placed in a quartz cell, and the emission spectrum of this sample at room temperature (300 K) (vertical axis: emission intensity, horizontal). Axis: Wavelength.) Is measured.
  • the emission spectrum can be measured by a spectrophotometer (device name: F-7000) manufactured by Hitachi High-Tech Science Corporation.
  • the emission spectrum measuring device is not limited to the device used here.
  • the peak wavelength of the emission spectrum having the maximum emission intensity is defined as the emission maximum peak wavelength.
  • the maximum peak wavelength of fluorescence emission may be referred to as the maximum peak wavelength of fluorescence emission (FL-peak).
  • the groups described as "substituted or unsubstituted” are preferably "unsubstituted” groups.
  • examples of the third compound and the fifth compound as host materials include heterocyclic compounds and condensed aromatic compounds.
  • the condensed aromatic compound for example, anthracene derivative, pyrene derivative, chrysene derivative, naphthacene derivative and the like are preferable.
  • the third compound is preferably the compound represented by the general formula (1).
  • the compound represented by the general formula (1) as the first compound contained in the first hole transport layer and the compound represented by the general formula (1) as the third compound contained in the light emitting layer are represented.
  • the compounds to be made are the same as or different from each other.
  • the third compound in the first light emitting layer is the compound represented by the general formula (1)
  • the fifth compound in the second light emitting layer is represented by the general formula (1). It is also preferable that it is not a compound.
  • the compound represented by the general formula (1) as the first compound contained in the first hole transport layer and the general formula (1) as the third compound contained in the first light emitting layer. ) Are the same as or different from each other.
  • the third compound is preferably a compound represented by the following general formula (2).
  • the fifth compound in the second light emitting layer is a compound represented by the following general formula (2), and the third compound in the first light emitting layer is represented by the following general formula (2). It is also preferable that it is not a compound.
  • the third compound in the first light emitting layer is the compound represented by the general formula (1), and the fifth compound in the second light emitting layer is represented by the following general formula (2). It is also preferable that it is a compound.
  • R 201 to R 208 are independent of each other. Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted haloalkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkenyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituent or unsubstituted alkynyl groups having 2 to 50 carbon atoms, Substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, -A group represented by Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903), A group represented by -O- (R 904), A group represented by -S- (R 905), -A group represented by N (R 906 ) (R 907), Substituent or unsubstituted aralkyl groups having 7 to 50 carbon atoms,
  • L 201 and L 202 are independent of each other. Single bond, A substituted or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming ring-forming divalent heterocyclic group having 5 to 50 atoms.
  • Ar 201 and Ar 202 are independent of each other. A substituted or unsubstituted ring-forming aryl group having 6 to 50 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted ring-forming heterocyclic group having 5 to 50 atomic atoms. )
  • R 901 , R 902 , R 903 , R 904 , R 905 , R 906 , R 907 , R 801 and R 802 are independently obtained.
  • R 901 there are a plurality, a plurality of R 901 is the same or different from each other, If R 902 there are a plurality, a plurality of R 902 is the same or different from each other, If R 903 there are a plurality, a plurality of R 903 is the same or different from each other, If R 904 there are a plurality, a plurality of R 904 is the same or different from each other, If R 905 there are a plurality, a plurality of R 905 is the same or different from each other, If R 906 there are a plurality, a plurality of R 906 is the same or different from each other, If R 907 there are a plurality, a plurality of R 907 is the same or different from each other, If R 801 there are a plurality, a plurality of R 801 is the same or different from each other, If R 802 there are a plurality, a plurality of R 802 may or different are identical to one another. )
  • R 201 to R 208 are independent of each other.
  • Ar 201 and Ar 202 are independent of each other. It is preferably an aryl group having 6 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms or a heterocyclic group having 5 to 50 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • L 201 and L 202 are independent of each other.
  • Ar 201 and Ar 202 are independently substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 50 carbon atoms.
  • Ar 201 and Ar 202 are independent of each other.
  • the third compound represented by the general formula (2) is the following general formula (201), general formula (202), general formula (203), general formula (204).
  • the compound represented by the general formula (205), the general formula (206), the general formula (207), the general formula (208), the general formula (209) or the general formula (210) is preferable.
  • L 201 and Ar 201 are synonymous with L 201 and Ar 201 in the general formula (2).
  • R 201 to R 208 are independently synonymous with R 201 to R 208 in the general formula (2).
  • the third compound represented by the general formula (2) includes the following general formula (221), general formula (222), general formula (223), general formula (224), general formula (225), and general formula (22). It is also preferable that the compound is represented by the general formula (227), the general formula (228) or the general formula (229).
  • R 201 and R 203 to R 208 are independently synonymous with R 201 and R 203 to R 208 in the general formula (2).
  • L 201 and Ar 201 are synonymous with L 201 and Ar 201 in the general formula (2), respectively.
  • L 203 is synonymous with L 201 in the general formula (2).
  • L 203 and L 201 are the same as or different from each other,
  • Ar 203 is synonymous with Ar 201 in the general formula (2).
  • Ar 203 and Ar 201 are the same as or different from each other.
  • the third compound represented by the general formula (2) is the following general formula (241), general formula (242), general formula (243), general formula (244), general formula (245), general formula (24). 246), it is also preferable that it is a compound represented by the general formula (247), the general formula (248) or the general formula (249).
  • R 201 , R 202 and R 204 to R 208 are independently synonymous with R 201 , R 202 and R 204 to R 208 in the general formula (2).
  • L 201 and Ar 201 are synonymous with L 201 and Ar 201 in the general formula (2), respectively.
  • L 203 is synonymous with L 201 in the general formula (2).
  • L 203 and L 201 are the same as or different from each other,
  • Ar 203 is synonymous with Ar 201 in the general formula (2).
  • Ar 203 and Ar 201 are the same as or different from each other.
  • R 201 to R 208 which are not groups represented by the general formula (21), are independent of each other.
  • Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, or a group represented by ⁇ Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903) is preferable.
  • L 101 is A single-bonded or unsubstituted ring-forming arylene group having 6 to 22 carbon atoms.
  • Ar 101 is preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 22 carbon atoms.
  • R 201 to R 208 are independent of each other.
  • Hydrogen atom, Substituent or unsubstituted alkyl groups having 1 to 50 carbon atoms, A substituted or unsubstituted ring-forming cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, or a group represented by ⁇ Si (R 901 ) (R 902 ) (R 903) is preferable.
  • R 201 to R 208 are preferably hydrogen atoms.
  • the groups described as "substituted or unsubstituted” are preferably "unsubstituted” groups.
  • the third compound can be produced by a known method.
  • the third compound can also be produced by following a known method and using a known alternative reaction and raw material suitable for the desired product.
  • Specific examples of the third compound include the following compounds. However, the present invention is not limited to specific examples of these third compounds. Further, when the third compound is a compound represented by the general formula (1), the compound shown as a specific example of the first compound can also be mentioned as a specific example of the third compound.
  • the singlet energy S 1 (H3) of the third compound and the singlet energy S of the second compound when the light emitting layer contains the second compound and the third compound, the singlet energy S 1 (H3) of the third compound and the singlet energy S of the second compound. It is preferable that 1 (D2) satisfies the relationship of the following formula (Equation 1). S 1 (H3)> S 1 (D2) ... (Equation 1)
  • solution method The method of measuring the solution using a singlet energy S 1 (hereinafter sometimes referred to as solution method.), A method described below.
  • a toluene solution of 10-5 mol / L or more and 10-4 mol / L or less of the compound to be measured is prepared, placed in a quartz cell, and the absorption spectrum of this sample at room temperature (300 K) (vertical axis: absorption intensity, horizontal).
  • Axis: Wavelength.) Is measured.
  • a tangent line is drawn for the falling edge of the absorption spectrum on the long wavelength side, and the wavelength value ⁇ edge [nm] at the intersection of the tangent line and the horizontal axis is substituted into the conversion formula (F2) shown below to calculate the singlet energy.
  • Conversion formula (F2): S 1 [eV] 1239.85 / ⁇ edge
  • Examples of the absorption spectrum measuring device include, but are not limited to, a spectrophotometer (device name: U3310) manufactured by Hitachi, Ltd.
  • the tangent to the falling edge of the absorption spectrum on the long wavelength side is drawn as follows. When moving on the spectrum curve from the maximum value on the longest wavelength side to the long wavelength direction among the maximum values of the absorption spectrum, consider the tangents at each point on the curve. This tangent repeats that the slope decreases and then increases as the curve descends (ie, as the value on the vertical axis decreases).
  • the tangent line drawn at the point where the slope value takes the minimum value on the longest wavelength side (except when the absorbance is 0.1 or less) is defined as the tangent line to the fall of the long wavelength side of the absorption spectrum.
  • the maximum point having an absorbance value of 0.2 or less is not included in the maximum value on the longest wavelength side.
  • the film thickness of the light emitting layer of the organic EL device according to the present embodiment is preferably 5 nm or more and 50 nm or less, more preferably 7 nm or more and 50 nm or less, and further preferably 10 nm or more and 50 nm or less.
  • the film thickness of the light emitting layer is 5 nm or more, the light emitting layer is easily formed and the chromaticity is easily adjusted.
  • the film thickness of the light emitting layer is 50 nm or less, it is easy to suppress an increase in the drive voltage.
  • the contents of the second compound and the third compound in the light emitting layer are preferably in the following ranges, for example, respectively.
  • the content of the third compound is preferably 80% by mass or more and 99% by mass or less, more preferably 90% by mass or more and 99% by mass or less, and preferably 95% by mass or more and 99% by mass or less. More preferred.
  • the content of the second compound is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 7% by mass or less, and preferably 1% by mass or more and 5% by mass or less. More preferred.
  • the upper limit of the total content of the second compound and the third compound in the light emitting layer is 100% by mass.
  • the light emitting layer contains a material other than the second compound and the third compound.
  • the light emitting layer may contain only one type of the second compound, or may contain two or more types.
  • the light emitting layer may contain only one type of the third compound, or may contain two or more types.
  • the substrate is used as a support for an organic EL element.
  • the substrate for example, glass, quartz, plastic, or the like can be used.
  • a flexible substrate is a bendable (flexible) substrate, and examples thereof include a plastic substrate.
  • the material for forming the plastic substrate include polycarbonate, polyarylate, polyether sulfone, polypropylene, polyester, polyvinyl fluoride, polyvinyl chloride, polyimide, polyethylene naphthalate and the like.
  • Inorganic vapor deposition film can also be used.
  • anode For the anode formed on the substrate, it is preferable to use a metal having a large work function (specifically, 4.0 eV or more), an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like.
  • a metal having a large work function specifically, 4.0 eV or more
  • an alloy an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • indium tin oxide containing silicon or silicon oxide indium oxide-zinc oxide, tungsten oxide, and indium oxide containing zinc oxide.
  • Graphene Graphene and the like.
  • gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), tungsten (W), chromium (Cr), molybdenum (Mo), iron (Fe), cobalt (Co), copper (Cu), palladium ( Pd), titanium (Ti), or a nitride of a metallic material (for example, titanium nitride) and the like can be mentioned.
  • indium oxide-zinc oxide can be formed by a sputtering method by using a target in which 1% by mass or more and 10% by mass or less of zinc oxide is added to indium oxide.
  • indium oxide containing tungsten oxide and zinc oxide contained 0.5% by mass or more and 5% by mass or less of tungsten oxide and 0.1% by mass or more and 1% by mass or less of zinc oxide with respect to indium oxide.
  • a target it can be formed by a sputtering method.
  • it may be produced by a vacuum deposition method, a coating method, an inkjet method, a spin coating method or the like.
  • the hole injection layer formed in contact with the anode is formed by using a composite material that facilitates hole injection regardless of the work function of the electrode.
  • Possible electrode materials eg, metals, alloys, electrically conductive compounds, and mixtures thereof, and other elements belonging to Group 1 or Group 2 of the Periodic Table of the Elements.
  • Elements belonging to Group 1 or Group 2 of the Periodic Table of the Elements which are materials with a small work function, that is, alkali metals such as lithium (Li) and cesium (Cs), and magnesium (Mg), calcium (Ca), and strontium.
  • Alkaline earth metals such as (Sr), rare earth metals such as alloys containing them (for example, MgAg, AlLi), europium (Eu), and itterbium (Yb), and alloys containing these can also be used.
  • a vacuum vapor deposition method or a sputtering method can be used.
  • a coating method, an inkjet method, or the like can be used.
  • cathode As the cathode, it is preferable to use a metal having a small work function (specifically, 3.8 eV or less), an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like.
  • a cathode material include elements belonging to Group 1 or Group 2 of the Periodic Table of the Elements, that is, alkali metals such as lithium (Li) and cesium (Cs), magnesium (Mg), and calcium (Ca). ), Alkaline earth metals such as strontium (Sr), and rare earth metals such as alloys containing them (for example, MgAg, AlLi), europium (Eu), and itterbium (Yb), and alloys containing them.
  • a vacuum vapor deposition method or a sputtering method can be used.
  • a silver paste or the like is used, a coating method, an inkjet method, or the like can be used.
  • a cathode is formed using various conductive materials such as indium tin oxide containing Al, Ag, ITO, graphene, silicon or silicon oxide, regardless of the size of the work function. can do.
  • These conductive materials can be formed into a film by using a sputtering method, an inkjet method, a spin coating method, or the like.
  • the hole injection layer is a layer containing a substance having a high hole injection property.
  • Substances with high hole injection properties include molybdenum oxide, titanium oxide, vanadium oxide, renium oxide, ruthenium oxide, chromium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, silver oxide, etc. Tungsten oxide, manganese oxide and the like can be used.
  • a low molecular weight organic compound 4,4', 4''-tris (N, N-diphenylamino) triphenylamine (abbreviation: TDATA)
  • 4,4' , 4''-Tris [N- (3-methylphenyl) -N-phenylamino] triphenylamine (abbreviation: MTDATA)
  • 4,4'-bis [N- (4-diphenylaminophenyl) -N-phenyl Amino] biphenyl abbreviation: DPAB
  • 4,4'-bis (N- ⁇ 4- [N'-(3-methylphenyl) -N'-phenylamino] phenyl ⁇ -N-phenylamino) biphenyl (abbreviation: abbreviation: DNTPD), 1,3,5-tris [N- (4-diphenylaminophenyl) -N-phenylamino] benzene (abbreviation: TDATA)
  • a polymer compound (oligomer, dendrimer, polymer, etc.) can also be used.
  • a polymer compound oligomer, dendrimer, polymer, etc.
  • PVK poly (N-vinylcarbazole)
  • PVTPA poly (4-vinyltriphenylamine)
  • PVTPA poly [N- (4- ⁇ N'- [4- (4-diphenylamino)
  • PEDOT / PSS polyaniline / poly (styrene sulfonic acid)
  • the organic EL device according to the present embodiment may further have a hole transport layer in addition to the first hole transport layer.
  • the organic EL device further includes a second hole transport layer arranged between the anode and the first hole transport layer.
  • FIG. 2 shows an example of a schematic configuration of an organic EL device including a first hole transport layer and a second hole transport layer.
  • the organic EL element 1A includes a translucent substrate 2, an anode 3, a cathode 4, and an organic layer 10A arranged between the anode 3 and the cathode 4.
  • the organic layer 10A includes a hole injection layer 6, a second hole transport layer 72, a first hole transport layer 71, a light emitting layer 5, an electron transport layer 8, and an electron injection layer 9 in this order from the anode 3 side. , It is configured by stacking in this order.
  • FIG. 4 also shows an example of a schematic configuration of an organic EL device including a first hole transport layer and a second hole transport layer.
  • the organic EL element 1C includes a translucent substrate 2, an anode 3, a cathode 4, and an organic layer 10A arranged between the anode 3 and the cathode 4.
  • the organic layer 10A includes a hole injection layer 6, a second hole transport layer 72, a first hole transport layer 71, a light emitting layer 5, an electron transport layer 8, and an electron injection layer 9 in this order from the anode 3 side.
  • the light emitting layer 5 further includes a first light emitting layer 51 and a second light emitting layer 52.
  • the first hole transport layer includes a first surface on the cathode side and a second surface on the anode side of the first hole transport layer.
  • the light emitting layer is in direct contact with the first surface of the first hole transport layer.
  • the second hole transport layer is preferably directly adjacent to the first hole transport layer. That is, it is preferable that the second hole transport layer is in direct contact with the second surface of the first hole transport layer.
  • the second hole transport layer preferably contains a compound having an amino group.
  • the compound having an amino group is, for example, N- ( LAMN1- L AMN2- L AMN3- Ar AMN ) 3 .
  • the plurality of L AMN1 , L AMN2 , L AMN3 , and Ar AMN may be the same or different from each other.
  • L AMN1 , L AMN2 , and L AMN3 are single-bonded, substituted or unsubstituted arylene groups, or substituted or unsubstituted divalent heterocyclic groups.
  • Ar AMN is a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
  • L AMN1 , L AMN2 , L AMN3 , Ar AMN do not contain, for example, a pyrene structure.
  • the second hole transport layer contains a compound having only one amino group in the molecule (sometimes referred to as a monoamine compound).
  • the second hole transport layer contains a compound represented by the following general formula (B1).
  • LA1 , LB1 , and LC1 are independent of each other. Single bond, It is an arylene group having 6 to 18 substituted or unsubstituted ring-forming carbon atoms, or a divalent heterocyclic group having 5 to 13 substituted or unsubstituted ring-forming atoms.
  • L A1 and L B1 is a single bond
  • a 1 and B 1 is, Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Combine with each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or do not bond with each other
  • L A1 and L C1 represents a single bond
  • a 1 and C 1 are, Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Combine with each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or do not bond with each other
  • B 1 and C 1 are, Combine with each other to form a substituted or unsubstituted monocycle, Combine with each other to form substituted or unsubstituted fused rings, or do not bond with each other
  • a 1 , B 1 , and C 1 which do not form the substituted or unsubstituted monocyclic ring and do not form the substituted or unsubstituted condensed ring, are independent
  • Substituent or unsubstituted ring-forming aryl groups having 6 to 30 carbon atoms A substituted or unsubstituted heterocyclic group having 5 to 30 atoms or a group represented by ⁇ Si (R 921 ) (R 922 ) (R 923).
  • R 921 , R 922 and R 923 are independently substituted or unsubstituted aryl groups having 6 to 30 carbon atoms.
  • R 921 there are a plurality a plurality of R 921 may be identical to each other or different, If R 922 there are a plurality, a plurality of R 922 may be identical to each other or different, If R 923 there are a plurality, a plurality of R 923 may be identical to one another or different. )
  • the second hole transport layer is preferably composed only of a compound that does not contain a pyrene structure.
  • the second hole transport layer is composed only of a compound having an amino group.
  • the second hole transport layer also preferably contains a compound having a carbazolyl group.
  • Compounds having a carbazolyl group for example, Cz- (L CZ1 -L CZ2 -L CZ3 -Ar CZ) 1, Cz- (L CZ1- L CZ2- L CZ3- Ar CZ ) 2 and Cz- (L CZ1- L CZ2- L CZ3- Ar CZ ) 3 .
  • Cz is a carbazolyl group.
  • the plurality of L CZ1 , L CZ2 , L CZ3 , and Ar CZ may be the same or different.
  • L CZ1 , L CZ2 , and L CZ3 are single-bonded, substituted or unsubstituted arylene groups, or substituted or unsubstituted divalent heterocyclic groups.
  • Ar CZ is a substituted or unsubstituted aryl group or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
  • L CZ1 , L CZ2 , L CZ3 , Ar CZ do not contain, for example, a pyrene structure.
  • the hole transport layer other than the first hole transport layer is a layer containing a substance having a high hole transport property.
  • An aromatic amine compound, a carbazole derivative, an anthracene derivative, or the like can be used for the hole transport layer.
  • NPB 4,4'-bis [N- (1-naphthyl) -N-phenylamino] biphenyl
  • TPD N- Diphenyl- [1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine
  • BAFLP 4-phenyl-4'-(9-phenylfluoren-9-yl) triphenylamine
  • the hole transport layer includes CBP, 9- [4- (N-carbazolyl)] phenyl-10-phenylanthracene (CzPA), 9-phenyl-3- [4- (10-phenyl-9-anthril) phenyl].
  • Carbazole derivatives such as -9H-carbazole (PCzPA) and anthracene derivatives such as t-BuDNA, DNA and DPAnth may be used.
  • Polymer compounds such as poly (N-vinylcarbazole) (abbreviation: PVK) and poly (4-vinyltriphenylamine) (abbreviation: PVTPA) can also be used.
  • the first hole transport layer and the second hole transport layer preferably do not contain antimony chloride, vanadium oxide, molybdenum oxide, ruthenium oxide, tungsten oxide, zinc oxide, tin oxide, and iron oxide, and are inorganic compounds. It is more preferable not to contain.
  • the first hole transport layer and the second hole transport layer preferably do not contain hexacyanoazatriphenylene.
  • any substance other than these may be used as long as it is a substance having a higher hole transport property than electrons.
  • the layer containing the substance having a high hole transport property is not limited to a single layer, but may be a layer in which two or more layers made of the above substances are laminated.
  • the organic EL device of the present embodiment may further have a third hole transport layer as the hole transport layer.
  • the third hole transport layer is preferably in direct contact with the anode side of the second hole transport layer.
  • the electron transport layer is a layer containing a substance having a high electron transport property.
  • the electron transport layer includes 1) a metal complex such as an aluminum complex, a berylium complex, and a zinc complex, 2) a complex aromatic compound such as an imidazole derivative, a benzimidazole derivative, an azine derivative, a carbazole derivative, and a phenanthroline derivative, and 3) a polymer compound. Can be used.
  • Alq tris (4-methyl-8-quinolinolato) aluminum (abbreviation: Almq 3 ), bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinato) beryllium (abbreviation: BeBq 2 ), Metal complexes such as BAlq, Znq, ZnPBO, and ZnBTZ can be used.
  • a benzimidazole compound can be preferably used.
  • the substances described here are mainly substances having electron mobility of 10-6 cm 2 / (V ⁇ s) or more.
  • a substance other than the above may be used as the electron transport layer as long as it is a substance having higher electron transport property than hole transport property.
  • the electron transport layer may be composed of a single layer, or may be composed of two or more layers made of the above substances laminated.
  • a polymer compound can be used for the electron transport layer.
  • PF-Py poly [(9,9-dihexylfluorene-2,7-diyl) -co- (pyridine-3,5-diyl)]
  • PF-BPy poly [(9,9-dioctylfluorene-2) , 7-diyl) -co- (2,2'-bipyridine-6,6'-diyl)]
  • PF-BPy poly [(9,9-dioctylfluorene-2) , 7-diyl) -co- (2,2'-bipyridine-6,6'-diyl)]
  • the electron injection layer is a layer containing a substance having a high electron injection property.
  • the electron injection layer includes lithium (Li), cesium (Cs), calcium (Ca), lithium fluoride (LiF), cesium fluoride (CsF), calcium fluoride (CaF 2 ), lithium oxide (LiOx), etc.
  • Alkali metals such as, alkaline earth metals, or compounds thereof can be used.
  • a substance having electron transportability containing an alkali metal, an alkaline earth metal, or a compound thereof, specifically, a substance containing magnesium (Mg) in Alq or the like may be used. In this case, electron injection from the cathode can be performed more efficiently.
  • a composite material obtained by mixing an organic compound and an electron donor (donor) may be used for the electron injection layer.
  • a composite material is excellent in electron injection property and electron transport property because electrons are generated in the organic compound by the electron donor.
  • the organic compound is preferably a material excellent in transporting generated electrons, and specifically, for example, a substance (metal complex, complex aromatic compound, etc.) constituting the above-mentioned electron transport layer is used. be able to.
  • the electron donor may be any substance that exhibits electron donating property to the organic compound. Specifically, alkali metals, alkaline earth metals and rare earth metals are preferable, and lithium, cesium, magnesium, calcium, erbium, ytterbium and the like can be mentioned.
  • alkali metal oxides and alkaline earth metal oxides are preferable, and lithium oxides, calcium oxides, barium oxides and the like can be mentioned.
  • a Lewis base such as magnesium oxide can also be used.
  • an organic compound such as tetrathiafulvalene (abbreviation: TTF) can also be used.
  • the method for forming each layer of the organic EL device of the present embodiment is not limited except as specifically mentioned above, but is limited to dry film deposition methods such as vacuum deposition method, sputtering method, plasma method, ion plating method, and spin coating.
  • dry film deposition methods such as vacuum deposition method, sputtering method, plasma method, ion plating method, and spin coating.
  • Known methods such as a coating method, a dipping method, a flow coating method, and a wet film forming method such as an inkjet method can be adopted.
  • the film thickness of each organic layer of the organic EL device of the present embodiment is not limited unless otherwise specified above. Generally, if the film thickness is too thin, defects such as pinholes are likely to occur, and if the film thickness is too thick, a high applied voltage is required and efficiency is deteriorated. Therefore, the film thickness of each organic layer of an organic EL element is usually several. The range from nm to 1 ⁇ m is preferable.
  • the first hole transport layer containing the first compound represented by the general formula (1) or the like and the light emitting layer are in direct contact with each other.
  • the drive voltage is lower than that of.
  • the electronic device is equipped with an organic EL element according to any one of the above-described embodiments.
  • the electronic device include a display device and a light emitting device.
  • the display device include display parts (for example, an organic EL panel module, etc.), a television, a mobile phone, a tablet, a personal computer, and the like.
  • the light emitting device include lighting and vehicle lighting equipment.
  • the light emitting layer is not limited to one layer, and two or more light emitting layers may be laminated.
  • the organic EL element has two or more light emitting layers, it is sufficient that at least one light emitting layer satisfies the conditions described in the above embodiment.
  • the other light emitting layer may be a fluorescence light emitting layer or a phosphorescent light emitting layer utilizing light emission by electron transition from the triplet excited state to the direct ground state.
  • these light emitting layers may be provided adjacent to each other, or a so-called tandem type organic in which a plurality of light emitting units are laminated via an intermediate layer. It may be an EL element.
  • a barrier layer may be provided adjacent to the cathode side of the light emitting layer.
  • the barrier layer arranged on the cathode side of the light emitting layer is preferably in direct contact with the light emitting layer.
  • the barrier layer arranged on the cathode side of the light emitting layer preferably blocks at least one of holes and excitons.
  • the barrier layer transports electrons and holes reach a layer on the cathode side of the barrier layer (for example, an electron transport layer).
  • the organic EL element includes an electron transport layer, it is preferable to include the barrier layer between the light emitting layer and the electron transport layer.
  • a barrier layer may be provided adjacent to the light emitting layer so that the excitation energy does not leak from the light emitting layer to the peripheral layer thereof. It prevents excitons generated in the light emitting layer from moving to a layer on the electrode side of the barrier layer (for example, an electron transport layer and a hole transport layer). It is preferable that the light emitting layer and the barrier layer are joined.
  • Example 1 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and first, the compound HA1 is vapor-deposited on the surface on the side where the transparent electrode line is formed so as to cover the transparent electrode, and the film thickness is 5 nm. A hole injection layer was formed.
  • compound HT1 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT2 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 10 nm.
  • the compound PY1 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 5 nm.
  • Compound BH1 (host material (BH)) and compound BD1 (dopant material (BD)) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD1 is 2% by mass, and the thickness is 25 nm.
  • a light emitting layer was formed.
  • Compound ET1 was deposited on the light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 10 nm.
  • Compound ET2 was deposited on the first electron transport layer to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 15 nm.
  • LiF was vapor-deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • Metal Al was vapor-deposited on the electron injection layer to form a cathode having a film thickness of 80 nm.
  • the element configuration of the first embodiment is shown as follows.
  • Comparative Example 1 In the organic EL device of Comparative Example 1, the film thickness of the second hole transport layer was changed to the film thickness shown in Table 1, and the first hole transport layer was not formed, and the second hole was not formed. It was produced in the same manner as in Example 1 except that a light emitting layer was formed in direct contact with the transport layer.
  • Example 2 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HT3 and the compound HA2 are co-deposited by first covering the transparent electrode on the surface on the side where the transparent electrode line is formed. Then, a hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
  • the proportion of compound HT3 in the hole injection layer was 97% by mass, and the proportion of compound HA2 was 3% by mass.
  • the compound HT3 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT4 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 10 nm.
  • the compound PY1 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 5 nm.
  • Compound BH2 (host material (BH)) and compound BD2 (dopant material (BD)) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD2 is 4% by mass, and the thickness is 20 nm.
  • a light emitting layer was formed.
  • Compound ET1 was deposited on the light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 10 nm.
  • HBL hole barrier layer
  • Compound ET2 was deposited on the first electron transport layer to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 15 nm.
  • LiF was vapor-deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • Metal Al was vapor-deposited on the electron injection layer to form a cathode having a film thickness of 80 nm.
  • the element configuration of the second embodiment is shown in abbreviated form as follows. ITO (130) / HT3: HA2 (10,97%: 3%) / HT3 (80) / HT4 (10) / PY1 (5) / BH2: BD2 (20,96%: 4%) / ET1 (10) / ET2 (15) / LiF (1) / Al (80)
  • the numbers in parentheses indicate the film thickness (unit: nm).
  • the percentage-displayed number (97%: 3%) indicates the ratio (mass%) of compound HT3 and compound HA2 in the hole injection layer, and the percentage-displayed number (96%: 4%). Indicates the ratio (% by mass) of the host material (Compound BH2) and the compound BD2 in the light emitting layer.
  • the same notation will be used.
  • Comparative Example 2 The organic EL device of Comparative Example 2 does not form the first hole transport layer, but forms a light emitting layer that is in direct contact with the second hole transport layer, and the film thickness of the light emitting layer is shown in Table 2. It was produced in the same manner as in Example 2 except that the film thickness was changed.
  • Example 3 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HT3 and the compound HA2 are co-deposited by first covering the transparent electrode on the surface on the side where the transparent electrode line is formed. Then, a hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
  • the proportion of compound HT3 in the hole injection layer was 97% by mass, and the proportion of compound HA2 was 3% by mass.
  • the compound HT3 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT4 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 10 nm.
  • the compound PY1 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 5 nm.
  • Compound BH2 (host material (BH)) and compound BD2 (dopant material (BD)) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD2 is 4% by mass, and the thickness is 20 nm.
  • a light emitting layer was formed.
  • Compound ET3 was deposited on the light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 10 nm.
  • HBL hole barrier layer
  • Compound ET2 was deposited on the first electron transport layer to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 15 nm.
  • LiF was vapor-deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • the element configuration of the third embodiment is shown in abbreviated form as follows. ITO (130) / HT3: HA2 (10,97%: 3%) / HT3 (80) / HT4 (10) / PY1 (5) / BH2: BD2 (20,96%: 4%) / ET3 (10) / ET2 (15) / LiF (1) / Al (80)
  • the numbers in parentheses indicate the film thickness (unit: nm).
  • the percentage-displayed number (97%: 3%) indicates the ratio (mass%) of compound HT3 and compound HA2 in the hole injection layer, and the percentage-displayed number (96%: 4%). Indicates the ratio (% by mass) of the host material (Compound BH2) and the compound BD2 in the light emitting layer.
  • the same notation will be used.
  • Comparative Example 3 The organic EL device of Comparative Example 3 does not form the first hole transport layer, but forms a light emitting layer that is in direct contact with the second hole transport layer, and the film thickness of the light emitting layer is shown in Table 3. It was produced in the same manner as in Example 3 except that the film thickness was changed.
  • Example 4 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HT3 and the compound HA2 are co-deposited by first covering the transparent electrode on the surface on the side where the transparent electrode line is formed. Then, a hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
  • the proportion of compound HT3 in the hole injection layer was 97% by mass, and the proportion of compound HA2 was 3% by mass.
  • the compound HT3 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT5 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 10 nm.
  • the compound PY1 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 5 nm.
  • Compound BH2 (host material (BH)) and compound BD2 (dopant material (BD)) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD2 is 4% by mass, and the thickness is 20 nm.
  • a light emitting layer was formed.
  • Compound ET1 was deposited on the light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 10 nm.
  • HBL hole barrier layer
  • Compound ET2 was deposited on the first electron transport layer to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 15 nm.
  • LiF was vapor-deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • the element configuration of the fourth embodiment is shown in abbreviated form as follows. ITO (130) / HT3: HA2 (10,97%: 3%) / HT3 (80) / HT5 (10) / PY1 (5) / BH2: BD2 (20,96%: 4%) / ET1 (10) / ET2 (15) / LiF (1) / Al (80)
  • the numbers in parentheses indicate the film thickness (unit: nm).
  • the percentage-displayed number (97%: 3%) indicates the ratio (mass%) of compound HT3 and compound HA2 in the hole injection layer, and the percentage-displayed number (96%: 4%). Indicates the ratio (% by mass) of the host material (Compound BH2) and the compound BD2 in the light emitting layer.
  • the same notation will be used.
  • Comparative Example 4 The organic EL device of Comparative Example 4 does not form the first hole transport layer, but forms a light emitting layer that is in direct contact with the second hole transport layer, and the film thickness of the light emitting layer is shown in Table 4. It was produced in the same manner as in Example 4 except that the film thickness was changed.
  • Example 5 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HT3 and the compound HA2 are co-deposited by first covering the transparent electrode on the surface on the side where the transparent electrode line is formed. Then, a hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
  • the proportion of compound HT3 in the hole injection layer was 97% by mass, and the proportion of compound HA2 was 3% by mass.
  • the compound HT3 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT5 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 10 nm.
  • the compound PY1 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 5 nm.
  • Compound BH2 (host material (BH)) and compound BD2 (dopant material (BD)) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD2 is 4% by mass, and the thickness is 20 nm.
  • a light emitting layer was formed.
  • Compound ET3 was deposited on the light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 10 nm.
  • HBL hole barrier layer
  • Compound ET2 was deposited on the first electron transport layer to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 15 nm.
  • LiF was vapor-deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • the element configuration of the fifth embodiment is shown as follows. ITO (130) / HT3: HA2 (10,97%: 3%) / HT3 (80) / HT5 (10) / PY1 (5) / BH2: BD2 (20,96%: 4%) / ET3 (10) / ET2 (15) / LiF (1) / Al (80)
  • the numbers in parentheses indicate the film thickness (unit: nm).
  • the percentage-displayed number (97%: 3%) indicates the ratio (mass%) of compound HT3 and compound HA2 in the hole injection layer, and the percentage-displayed number (96%: 4%). Indicates the ratio (% by mass) of the host material (Compound BH2) and the compound BD2 in the light emitting layer.
  • the same notation will be used.
  • Comparative Example 5 The organic EL device of Comparative Example 5 does not form the first hole transport layer, but forms a light emitting layer that is in direct contact with the second hole transport layer, and the film thickness of the light emitting layer is shown in Table 5. It was produced in the same manner as in Example 5 except that the film thickness was changed.
  • Comparative Example 6 In the organic EL device of Comparative Example 6, the third hole transport layer and the second hole transport layer were not formed, and the first hole transport layer was formed in Table 1 following the film formation of the hole injection layer. It was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness was changed to that described in 1.
  • Comparative Example 7 In the organic EL device of Comparative Example 7, the third hole transport layer and the second hole transport layer were not formed, and the first hole transport layer was displayed in Table 2 following the film formation of the hole injection layer. It was produced in the same manner as in Example 2 except that the film thickness was changed to that described in 1.
  • Comparative Example 8 In the organic EL device of Comparative Example 8, the third hole transport layer and the second hole transport layer were not formed, and the first hole transport layer was displayed in Table 3 following the film formation of the hole injection layer. It was produced in the same manner as in Example 3 except that the film thickness was changed to that described in 1.
  • the first hole transport layer and the light emitting layer containing the first compound represented by the general formula (1) are directly connected to each other.
  • the drive voltage was lower than that of the elements according to Comparative Examples 1 to 5, which were in contact with each other and in which the second hole transport layer containing the material having an amine skeleton and the light emitting layer were in direct contact with each other.
  • the first hole transport layer containing the first compound represented by the general formula (1) and the light emitting layer are in direct contact with each other
  • the first hole The present invention relates to Comparative Examples 6 to 8 in which the transport layer and the second hole transport layer containing a compound having an amino group are in direct contact with each other, and the hole injection layer and the first hole transport layer are in direct contact with each other.
  • the drive voltage was lower than that of the element.
  • Example 6 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HT6 and the compound HA2 are co-deposited by first covering the transparent electrode on the surface on the side where the transparent electrode line is formed.
  • a hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
  • the proportion of compound HT6 in the hole injection layer was 97% by mass, and the proportion of compound HA2 was 3% by mass.
  • the compound HT6 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 85 nm.
  • the compound HT7 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 2.5 nm.
  • the compound PY2 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 2.5 nm.
  • Compound BH3 (host material (BH)) and compound BD3 (dopant material (BD)) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD3 is 2% by mass, and the thickness is 20 nm.
  • a light emitting layer was formed.
  • Compound ET4 was deposited on the light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 5 nm.
  • Compound ET5 and compound Liq were co-deposited on the first electron transport layer (HBL) to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 25 nm.
  • the proportion of compound ET5 in the second electron transport layer (ET) was 50% by mass, and the proportion of compound Liq was 50% by mass.
  • Liq is an abbreviation for (8-quinolinolato) lithium.
  • Liq was deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • Metal Al was vapor-deposited on the electron injection layer to form a cathode having a film thickness of 80 nm.
  • the element configuration of the sixth embodiment is shown as follows.
  • Comparative Example 9 In the organic EL device of Comparative Example 9, the film thickness of the second hole transport layer was changed to the film thickness shown in Table 6, and the first hole transport layer was not formed, and the second hole was not formed. It was produced in the same manner as in Example 6 except that a light emitting layer in direct contact with the transport layer was formed.
  • Comparative Example 10 In the organic EL device of Comparative Example 10, the third hole transport layer and the second hole transport layer were not formed, and the first hole transport layer was formed in Table 6 following the film formation of the hole injection layer. It was produced in the same manner as in Example 6 except that the film thickness was changed to that described in 1.
  • Example 7 The organic EL device of Example 7 was the same as that of Example 6 except that the compound of the first hole transport layer was changed to the compound shown in Table 7 to form the first hole transport layer. Made.
  • Comparative Example 11 The organic EL device of Comparative Example 11 is the same as that of Comparative Example 10 except that the compound PY2 of the first hole transport layer is changed to the compound PY3 shown in Table 7 to form the first hole transport layer. I made it.
  • Example 8 In the organic EL device of Example 8, the compound PY2 of the first hole transport layer was changed to the compound PY4 shown in Table 8 to form the first hole transport layer, and the compound BH3 of the light emitting layer was formed. was changed to the compound BH4 shown in Table 8 to form a light emitting layer, and the mixture was prepared in the same manner as in Example 6.
  • Comparative Example 12 The organic EL device of Comparative Example 12 was produced in the same manner as in Comparative Example 9 except that the compound BH3 of the light emitting layer was changed to the compound BH4 shown in Table 8 to form a film.
  • Example 9 The organic EL device of Example 9 is the same as that of Example 8 except that the compound PY4 of the first hole transport layer is changed to the compound PY5 shown in Table 9 to form a film of the first hole transport layer. I made it.
  • Comparative Example 14 The organic EL device of Comparative Example 14 is the same as that of Comparative Example 13 except that the compound PY4 of the first hole transport layer is changed to the compound PY5 shown in Table 9 to form the first hole transport layer. I made it.
  • Example 10 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HT6 and the compound HA2 are co-deposited by first covering the transparent electrode on the surface on the side where the transparent electrode line is formed. Then, a hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
  • the proportion of compound HT6 in the hole injection layer was 97% by mass, and the proportion of compound HA2 was 3% by mass.
  • the compound HT6 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT7 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 2.5 nm.
  • the compound PY2 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 2.5 nm.
  • Compound PY2 (host material) and compound BD3 (dopant material) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD3 is 2% by mass, and the first emission having a film thickness of 12.5 nm is obtained. A layer was formed.
  • Compound BH3 (host material) and compound BD3 (dopant material) are co-deposited on the first light emitting layer so that the ratio of compound BD3 is 2% by mass, and a second light emitting layer having a film thickness of 12.5 nm is formed. A film was formed.
  • Compound ET4 was deposited on the second light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 5 nm.
  • HBL hole barrier layer
  • Compound ET5 and compound Liq were co-deposited on the first electron transport layer (HBL) to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 25 nm.
  • the proportion of compound ET5 in the second electron transport layer (ET) was 50% by mass, and the proportion of compound Liq was 50% by mass.
  • Liq was deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • Metal Al was vapor-deposited on the electron injection layer to form a cathode having a film thickness of 80 nm.
  • the element configuration of the tenth embodiment is shown as follows.
  • ITO (130) / HT6: HA2 (10,97%: 3%) / HT6 (80) / HT7 (2.5) / PY2 (2.5) / PY2: BD3 (12.5,98%: 2%) / BH3: BD3 ( 12.5,98%: 2%) / ET4 (5) / ET5: Liq (25,50%: 50%) / Liq (1) / Al (80)
  • the numbers in parentheses indicate the film thickness (unit: nm). Similarly, in parentheses, the percentage-displayed number (97%: 3%) indicates the ratio (mass%) of compound HT6 and compound HA2 in the hole injection layer, and the percentage-displayed number (98%: 2%).
  • Example 11 The organic EL device of Example 11 was the same as that of Example 10 except that the film thickness of the second hole transport layer and the film thickness of the first hole transport layer were changed to the film thicknesses shown in Table 10. Made.
  • Comparative Example 15 In the organic EL device of Comparative Example 15, the film thickness of the second hole transport layer was changed to the film thickness shown in Table 10, and the first hole transport layer was not formed, and the second hole was not formed. It was produced in the same manner as in Example 10 except that the first light emitting layer in direct contact with the transport layer was formed.
  • Comparative Example 16 In the organic EL device of Comparative Example 16, the third hole transport layer and the second hole transport layer were not formed, and the first hole transport layer was formed in Table 10 following the film formation of the hole injection layer. It was produced in the same manner as in Example 10 except that the film thickness was changed to that described in 1.
  • Example 12 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm.
  • the glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HT6 and the compound HA2 are co-deposited by first covering the transparent electrode on the surface on the side where the transparent electrode line is formed. Then, a hole injection layer having a thickness of 10 nm was formed.
  • the proportion of compound HT6 in the hole injection layer was 97% by mass, and the proportion of compound HA2 was 3% by mass.
  • the compound HT6 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT7 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 4 nm.
  • the compound PY3 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 1 nm.
  • Compound PY4 (host material) and compound BD3 (dopant material) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD3 is 2% by mass, and the first light emitting layer having a film thickness of 10 nm is formed. A film was formed.
  • Compound BH4 (host material) and compound BD3 (dopant material) are co-deposited on the first light emitting layer so that the ratio of compound BD3 is 2% by mass to form a second light emitting layer having a film thickness of 15 nm. did.
  • Compound ET4 was deposited on the second light emitting layer to form a first electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 5 nm.
  • HBL hole barrier layer
  • Compound ET5 and compound Liq were co-deposited on the first electron transport layer (HBL) to form a second electron transport layer (ET) having a film thickness of 25 nm.
  • the proportion of compound ET5 in the second electron transport layer (ET) was 50% by mass, and the proportion of compound Liq was 50% by mass.
  • Liq was deposited on the second electron transport layer to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • Metal Al was vapor-deposited on the electron injection layer to form a cathode having a film thickness of 80 nm.
  • the element configuration of the twelfth embodiment is shown as follows.
  • Example 13 In the organic EL device of Example 13, except that the film thickness of the second hole transport layer, the film thickness of the first hole transport layer and the first light emitting layer were changed to the film thicknesses shown in Table 11. It was produced in the same manner as in Example 12.
  • Comparative Example 17 In the organic EL device of Comparative Example 17, the film thickness of the second hole transport layer was changed to the film thickness shown in Table 11, and the first hole transport layer was not formed, and the second hole was not formed. It was produced in the same manner as in Example 12 except that the first light emitting layer in direct contact with the transport layer was formed.
  • Comparative Example 18 As shown in Table 11, the organic EL device of Comparative Example 18 did not form the third hole transport layer, and after the hole injection layer was formed, the compound PY2 was vapor-deposited, and the thickness was 80 nm. Examples except that the second hole transport layer was formed, the compound PY3 was deposited following the formation of the second hole transport layer, and the first hole transport layer having a film thickness of 5 nm was formed. It was produced in the same manner as in 12.
  • Example 14 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm. The glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HA3 is first vapor-deposited on the surface on the side where the transparent electrode line is formed so as to cover the transparent electrode, and the film thickness is 5 nm. A hole injection layer was formed.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • the compound HT8 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT9 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 7.5 nm.
  • the compound PY6 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 2.5 nm.
  • Compound PY6 (host material) and compound BD1 (dopant material) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD1 is 2% by mass, and the first emission having a film thickness of 7.5 nm is obtained.
  • a layer was formed.
  • Compound BH1 (host material) and compound BD1 (dopant material) are co-deposited on the first light emitting layer so that the ratio of compound BD1 is 2% by mass, and a second light emitting layer having a film thickness of 17.5 nm is formed.
  • a film was formed.
  • Compound ET3 was deposited on the second light emitting layer to form an electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 10 nm.
  • LiF was vapor-deposited on the electron transport layer (HBL) to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • Metal Al was vapor-deposited on the electron injection layer to form a cathode having a film thickness of 80 nm.
  • the element configuration of the 14th embodiment is shown as follows. ITO (130) / HA3 (5) / HT8 (80) / HT9 (7.5) / PY6 (2.5) / PY6: BD1 (7.5,98%: 2%) / BH1: BD1 (17.5,98%: 2%) / ET3 (10) / LiF (1) / Al (80)
  • the numbers in parentheses indicate the film thickness (unit: nm). Similarly, in parentheses, the percentage displayed number (98%: 2%) indicates the ratio (mass%) of the host material (Compound PY6 or Compound BH1) and Compound BD1 in the first light emitting layer or the second light emitting layer. Shown. Hereinafter, the same notation will be used.
  • Example 15 In the organic EL device of Example 15, the film thickness of the second hole transport layer and the film thickness of the first hole transport layer were changed to the film thicknesses shown in Table 12, and the second hole transport layer and the second hole transport layer It was produced in the same manner as in Example 14 except that the first hole transport layer was formed.
  • Comparative Example 19 In the organic EL device of Comparative Example 19, the film thickness of the second hole transport layer was changed to the film thickness shown in Table 12, and the first hole transport layer was not formed, and the second hole was not formed. It was produced in the same manner as in Example 14 except that the first light emitting layer in direct contact with the transport layer was formed.
  • Comparative Example 20 In the organic EL device of Comparative Example 20, the third hole transport layer and the second hole transport layer were not formed, and the first hole transport layer was displayed in Table 12 following the film formation of the hole injection layer. It was produced in the same manner as in Example 14 except that the film thickness was changed to that described in 1.
  • Example 16 A glass substrate (manufactured by Geomatec Co., Ltd.) with an ITO (Indium Tin Oxide) transparent electrode (anode) having a thickness of 25 mm ⁇ 75 mm ⁇ 1.1 mm is ultrasonically cleaned in isopropyl alcohol for 5 minutes, and then UV ozone cleaning is performed for 30 minutes. I did. The film thickness of the ITO transparent electrode was 130 nm. The glass substrate with the transparent electrode line after cleaning is mounted on the substrate holder of the vacuum vapor deposition apparatus, and the compound HA3 is first vapor-deposited on the surface on the side where the transparent electrode line is formed so as to cover the transparent electrode, and the film thickness is 5 nm. A hole injection layer was formed.
  • ITO Indium Tin Oxide
  • the compound HT8 was deposited to form a third hole transport layer having a film thickness of 80 nm.
  • the compound HT9 was deposited to form a second hole transport layer having a film thickness of 5 nm.
  • the compound PY7 was deposited to form a first hole transport layer having a film thickness of 5 nm.
  • Compound PY7 (host material) and compound BD1 (dopant material) are co-deposited on the first hole transport layer so that the proportion of compound BD1 is 2% by mass, and the first light emission having a film thickness of 12.5 nm. A layer was formed.
  • Compounds BH5, BH6 (host material) and compound BD1 (dopant material) were co-deposited on the first light emitting layer to form a second light emitting layer having a film thickness of 12.5 nm.
  • the proportion of compound BH5 in the second light emitting layer was 58.8% by mass, the proportion of compound BH6 was 39.2% by mass, and the proportion of compound BD1 was 2% by mass.
  • Compound ET3 was deposited on the second light emitting layer to form an electron transport layer (also referred to as a hole barrier layer) (HBL) having a film thickness of 10 nm.
  • LiF was vapor-deposited on the electron transport layer (HBL) to form an electron injection layer having a film thickness of 1 nm.
  • Metal Al was vapor-deposited on the electron injection layer to form a cathode having a film thickness of 80 nm.
  • the element configuration of the 16th embodiment is shown as follows. ITO (130) / HA3 (5) / HT8 (80) / HT9 (5) / PY7 (5) / PY7: BD1 (12.5,98%: 2%) / BH5: BH6: BD1 (12.5,58.8%: 39.2) %: 2%) / ET3 (10) / LiF (1) / Al (80)
  • the numbers in parentheses indicate the film thickness (unit: nm).
  • the percentage-displayed number (98%: 2%) indicates the ratio (mass%) of the host material (Compound PY7) and the compound BD1 in the first light emitting layer, and the percentage-displayed number (58%). .8%: 39.2%: 2%) indicates the proportion (% by mass) of the compounds BH5, BH6 and BD1 in the second light emitting layer.
  • the same notation will be used.
  • Example 17 In the organic EL device of Example 17, the film thickness of the second hole transport layer and the film thickness of the first hole transport layer are changed to the film thicknesses shown in Table 13, and the second hole transport layer and the second hole transport layer It was produced in the same manner as in Example 16 except that the first hole transport layer was formed.
  • Comparative Example 21 In the organic EL device of Comparative Example 21, the film thickness of the second hole transport layer was changed to the film thickness shown in Table 13, and the first hole transport layer was not formed, and the second hole was not formed. It was produced in the same manner as in Example 16 except that the first light emitting layer in direct contact with the transport layer was formed.
  • Comparative Example 22 In the organic EL device of Comparative Example 22, the third hole transport layer and the second hole transport layer were not formed, and the first hole transport layer was displayed in Table 13 following the film formation of the hole injection layer. It was produced in the same manner as in Example 16 except that the film thickness was changed to that described in 1.
  • toluene solution Compound BD1 was dissolved in toluene at a concentration of 4.9 ⁇ 10-6 mol / L to prepare a toluene solution of compound BD1.
  • a toluene solution of compound BD2 and a toluene solution of compound BD3 were prepared in the same manner as in compound BD1.
  • the maximum emission peak wavelength was measured.
  • the maximum fluorescence emission peak wavelength of compound BD1 was 453 nm.
  • the maximum fluorescence emission peak wavelength of compound BD2 was 450 nm.
  • the maximum fluorescence emission peak wavelength of compound BD3 was 455 nm.

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Abstract

陽極（３）と、陰極（４）と、陽極（３）と陰極（４）の間に配置された発光層（５）と、陽極（３）と発光層（５）の間に配置された第一の正孔輸送層（７１）と、を備え、第一の正孔輸送層（７１）は、発光層（５）に直に隣接し、第一の正孔輸送層（７１）は、下記一般式（１）で表される第一の化合物を含み、前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される基を少なくとも１つ有する、有機エレクトロルミネッセンス素子（１）。

Description

有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器
　本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子及び電子機器に関する。
　有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という場合がある。）は、携帯電話及びテレビ等のフルカラーディスプレイへ応用されている。有機ＥＬ素子に電圧を印加すると、陽極から正孔が発光層に注入され、また陰極から電子が発光層に注入される。そして、発光層において、注入された正孔と電子とが再結合し、励起子が形成される。このとき、電子スピンの統計則により、一重項励起子が２５％の割合で生成し、及び三重項励起子が７５％の割合で生成する。
　有機ＥＬ素子の性能向上を図るため、有機ＥＬ素子に用いる化合物について様々な検討がなされている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照）。特許文献１及び特許文献２には、アミン骨格を備える化合物を含有する正孔輸送層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が記載されている。
　有機ＥＬ素子の性能としては、例えば、輝度、発光波長、色度、発光効率、駆動電圧、及び寿命が挙げられる。
国際公開第２００９／１４５０１６号 国際公開第２０１０／０６１８２４号 国際公開第２０１６／１３３０５８号
　本発明は、駆動電圧が低下した有機エレクトロルミネッセンス素子を提供すること、及び当該有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器を提供することを目的とする。
　本発明の一態様によれば、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に配置された発光層と、前記陽極と前記発光層の間に配置された第一の正孔輸送層と、を備え、前記第一の正孔輸送層は、前記発光層に直に隣接し、前記第一の正孔輸送層は、下記一般式（１）で表される第一の化合物を含み、前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される基を少なくとも１つ有する、有機エレクトロルミネッセンス素子が提供される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
（前記一般式（１）において、
　Ｒ１０１～Ｒ１１０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基、又は
　　前記一般式（１１）で表される基であり、
　ただし、Ｒ１０１～Ｒ１１０の少なくとも１つは、前記一般式（１１）で表される基であり、
　前記一般式（１１）で表される基が複数存在する場合、複数の前記一般式（１１）で表される基は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｌ１０１は、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　Ａｒ１０１は、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　ｍｘは、０、１、２、３、４又は５であり、
　Ｌ１０１が２以上存在する場合、２以上のＬ１０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ａｒ１０１が２以上存在する場合、２以上のＡｒ１０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　前記一般式（１１）中の＊は、前記一般式（１）中のピレン環との結合位置を示し、
　前記第一の化合物において、「置換もしくは無置換の」という場合の置換基は、
　　無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、及び
　　無置換の環形成原子数５～５０の複素環基からなる群から選択される少なくともいずれかの基であり、
　前記一般式（１）で表される第一の化合物中、Ｒ９０１、Ｒ９０２、Ｒ９０３、Ｒ９０４、Ｒ９０５、Ｒ８０１及びＲ８０２は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ９０１が複数存在する場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０２が複数存在する場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０３が複数存在する場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０４が複数存在する場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０５が複数存在する場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なる。）
　本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器が提供される。
　本発明の一態様によれば、駆動電圧が低下した有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できる。また、本発明の一態様によれば、当該有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器を提供できる。
本発明の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例の概略構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例の概略構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例の概略構成を示す図である。 本発明の一実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の一例の概略構成を示す図である。
［定義］
　本明細書において、水素原子とは、中性子数が異なる同位体、即ち、軽水素（protium）、重水素（deuterium）、及び三重水素（tritium）を包含する。
　本明細書において、化学構造式中、「Ｒ」等の記号や重水素原子を表す「Ｄ」が明示されていない結合可能位置には、水素原子、即ち、軽水素原子、重水素原子、又は三重水素原子が結合しているものとする。
　本明細書において、環形成炭素数とは、原子が環状に結合した構造の化合物（例えば、単環化合物、縮合環化合物、架橋化合物、炭素環化合物、及び複素環化合物）の当該環自体を構成する原子のうちの炭素原子の数を表す。当該環が置換基によって置換される場合、置換基に含まれる炭素は環形成炭素数には含まない。以下で記される「環形成炭素数」については、別途記載のない限り同様とする。例えば、ベンゼン環は環形成炭素数が６であり、ナフタレン環は環形成炭素数が１０であり、ピリジン環は環形成炭素数５であり、フラン環は環形成炭素数４である。また、例えば、９，９－ジフェニルフルオレニル基の環形成炭素数は１３であり、９，９’－スピロビフルオレニル基の環形成炭素数は２５である。
　また、ベンゼン環に置換基として、例えば、アルキル基が置換している場合、当該アルキル基の炭素数は、ベンゼン環の環形成炭素数に含めない。そのため、アルキル基が置換しているベンゼン環の環形成炭素数は、６である。また、ナフタレン環に置換基として、例えば、アルキル基が置換している場合、当該アルキル基の炭素数は、ナフタレン環の環形成炭素数に含めない。そのため、アルキル基が置換しているナフタレン環の環形成炭素数は、１０である。
　本明細書において、環形成原子数とは、原子が環状に結合した構造（例えば、単環、縮合環、及び環集合）の化合物（例えば、単環化合物、縮合環化合物、架橋化合物、炭素環化合物、及び複素環化合物）の当該環自体を構成する原子の数を表す。環を構成しない原子（例えば、環を構成する原子の結合を終端する水素原子）や、当該環が置換基によって置換される場合の置換基に含まれる原子は環形成原子数には含まない。以下で記される「環形成原子数」については、別途記載のない限り同様とする。例えば、ピリジン環の環形成原子数は６であり、キナゾリン環の環形成原子数は１０であり、フラン環の環形成原子数は５である。例えば、ピリジン環に結合している水素原子、又は置換基を構成する原子の数は、ピリジン環形成原子数の数に含めない。そのため、水素原子、又は置換基が結合しているピリジン環の環形成原子数は、６である。また、例えば、キナゾリン環の炭素原子に結合している水素原子、又は置換基を構成する原子については、キナゾリン環の環形成原子数の数に含めない。そのため、水素原子、又は置換基が結合しているキナゾリン環の環形成原子数は１０である。
　本明細書において、「置換もしくは無置換の炭素数ＸＸ～ＹＹのＺＺ基」という表現における「炭素数ＸＸ～ＹＹ」は、ＺＺ基が無置換である場合の炭素数を表し、置換されている場合の置換基の炭素数を含めない。ここで、「ＹＹ」は、「ＸＸ」よりも大きく、「ＸＸ」は、１以上の整数を意味し、「ＹＹ」は、２以上の整数を意味する。
　本明細書において、「置換もしくは無置換の原子数ＸＸ～ＹＹのＺＺ基」という表現における「原子数ＸＸ～ＹＹ」は、ＺＺ基が無置換である場合の原子数を表し、置換されている場合の置換基の原子数を含めない。ここで、「ＹＹ」は、「ＸＸ」よりも大きく、「ＸＸ」は、１以上の整数を意味し、「ＹＹ」は、２以上の整数を意味する。
　本明細書において、無置換のＺＺ基とは「置換もしくは無置換のＺＺ基」が「無置換のＺＺ基」である場合を表し、置換のＺＺ基とは「置換もしくは無置換のＺＺ基」が「置換のＺＺ基」である場合を表す。
　本明細書において、「置換もしくは無置換のＺＺ基」という場合における「無置換」とは、ＺＺ基における水素原子が置換基と置き換わっていないことを意味する。「無置換のＺＺ基」における水素原子は、軽水素原子、重水素原子、又は三重水素原子である。
　また、本明細書において、「置換もしくは無置換のＺＺ基」という場合における「置換」とは、ＺＺ基における１つ以上の水素原子が、置換基と置き換わっていることを意味する。「ＡＡ基で置換されたＢＢ基」という場合における「置換」も同様に、ＢＢ基における１つ以上の水素原子が、ＡＡ基と置き換わっていることを意味する。
「本明細書に記載の置換基」
　以下、本明細書に記載の置換基について説明する。
　本明細書に記載の「無置換のアリール基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６～５０であり、好ましくは６～３０、より好ましくは６～１８である。
　本明細書に記載の「無置換の複素環基」の環形成原子数は、本明細書に別途記載のない限り、５～５０であり、好ましくは５～３０、より好ましくは５～１８である。
　本明細書に記載の「無置換のアルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１～５０であり、好ましくは１～２０、より好ましくは１～６である。
　本明細書に記載の「無置換のアルケニル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、２～５０であり、好ましくは２～２０、より好ましくは２～６である。
　本明細書に記載の「無置換のアルキニル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、２～５０であり、好ましくは２～２０、より好ましくは２～６である。
　本明細書に記載の「無置換のシクロアルキル基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、３～５０であり、好ましくは３～２０、より好ましくは３～６である。
　本明細書に記載の「無置換のアリーレン基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６～５０であり、好ましくは６～３０、より好ましくは６～１８である。
　本明細書に記載の「無置換の２価の複素環基」の環形成原子数は、本明細書に別途記載のない限り、５～５０であり、好ましくは５～３０、より好ましくは５～１８である。
　本明細書に記載の「無置換のアルキレン基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１～５０であり、好ましくは１～２０、より好ましくは１～６である。
・「置換もしくは無置換のアリール基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」の具体例（具体例群Ｇ１）としては、以下の無置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ａ）及び置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換のアリール基とは「置換もしくは無置換のアリール基」が「無置換のアリール基」である場合を指し、置換のアリール基とは「置換もしくは無置換のアリール基」が「置換のアリール基」である場合を指す。）本明細書において、単に「アリール基」という場合は、「無置換のアリール基」と「置換のアリール基」の両方を含む。
　「置換のアリール基」は、「無置換のアリール基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアリール基」としては、例えば、下記具体例群Ｇ１Ａの「無置換のアリール基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び下記具体例群Ｇ１Ｂの置換のアリール基の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換のアリール基」の例、及び「置換のアリール基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のアリール基」には、下記具体例群Ｇ１Ｂの「置換のアリール基」におけるアリール基自体の炭素原子に結合する水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び下記具体例群Ｇ１Ｂの「置換のアリール基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
・無置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ａ）：
フェニル基、
ｐ－ビフェニル基、
ｍ－ビフェニル基、
ｏ－ビフェニル基、
ｐ－ターフェニル－４－イル基、
ｐ－ターフェニル－３－イル基、
ｐ－ターフェニル－２－イル基、
ｍ－ターフェニル－４－イル基、
ｍ－ターフェニル－３－イル基、
ｍ－ターフェニル－２－イル基、
ｏ－ターフェニル－４－イル基、
ｏ－ターフェニル－３－イル基、
ｏ－ターフェニル－２－イル基、
１－ナフチル基、
２－ナフチル基、
アントリル基、
ベンゾアントリル基、
フェナントリル基、
ベンゾフェナントリル基、
フェナレニル基、
ピレニル基、
クリセニル基、
ベンゾクリセニル基、
トリフェニレニル基、
ベンゾトリフェニレニル基、
テトラセニル基、
ペンタセニル基、
フルオレニル基、
９，９’－スピロビフルオレニル基、
ベンゾフルオレニル基、
ジベンゾフルオレニル基、
フルオランテニル基、
ベンゾフルオランテニル基、
ペリレニル基、及び
下記一般式（ＴＥＭＰ－１）～（ＴＥＭＰ－１５）で表される環構造から１つの水素原子を除くことにより誘導される１価のアリール基。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
・置換のアリール基（具体例群Ｇ１Ｂ）：
ｏ－トリル基、
ｍ－トリル基、
ｐ－トリル基、
パラ－キシリル基、
メタ－キシリル基、
オルト－キシリル基、
パラ－イソプロピルフェニル基、
メタ－イソプロピルフェニル基、
オルト－イソプロピルフェニル基、
パラ－ｔ－ブチルフェニル基、
メタ－ｔ－ブチルフェニル基、
オルト－ｔ－ブチルフェニル基、
３，４，５－トリメチルフェニル基、
９，９－ジメチルフルオレニル基、
９，９－ジフェニルフルオレニル基、
９，９－ビス（４－メチルフェニル）フルオレニル基、
９，９－ビス（４－イソプロピルフェニル）フルオレニル基、
９，９－ビス（４－ｔ－ブチルフェニル）フルオレニル基、
シアノフェニル基、
トリフェニルシリルフェニル基、
トリメチルシリルフェニル基、
フェニルナフチル基、
ナフチルフェニル基、及び
前記一般式（ＴＥＭＰ－１）～（ＴＥＭＰ－１５）で表される環構造から誘導される１価の基の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基。
・「置換もしくは無置換の複素環基」
　本明細書に記載の「複素環基」は、環形成原子にヘテロ原子を少なくとも１つ含む環状の基である。ヘテロ原子の具体例としては、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ケイ素原子、リン原子、及びホウ素原子が挙げられる。
　本明細書に記載の「複素環基」は、単環の基であるか、又は縮合環の基である。
　本明細書に記載の「複素環基」は、芳香族複素環基であるか、又は非芳香族複素環基である。
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換の複素環基」の具体例（具体例群Ｇ２）としては、以下の無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ）、及び置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換の複素環基とは「置換もしくは無置換の複素環基」が「無置換の複素環基」である場合を指し、置換の複素環基とは「置換もしくは無置換の複素環基」が「置換の複素環基」である場合を指す。）本明細書において、単に「複素環基」という場合は、「無置換の複素環基」と「置換の複素環基」の両方を含む。
　「置換の複素環基」は、「無置換の複素環基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換の複素環基」の具体例は、下記具体例群Ｇ２Ａの「無置換の複素環基」の水素原子が置き換わった基、及び下記具体例群Ｇ２Ｂの置換の複素環基の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換の複素環基」の例や「置換の複素環基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換の複素環基」には、具体例群Ｇ２Ｂの「置換の複素環基」における複素環基自体の環形成原子に結合する水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び具体例群Ｇ２Ｂの「置換の複素環基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
　具体例群Ｇ２Ａは、例えば、以下の窒素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ１）、酸素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ２）、硫黄原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ３）、及び下記一般式（ＴＥＭＰ－１６）～（ＴＥＭＰ－３３）で表される環構造から１つの水素原子を除くことにより誘導される１価の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ４）を含む。
　具体例群Ｇ２Ｂは、例えば、以下の窒素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ１）、酸素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ２）、硫黄原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ３）、及び下記一般式（ＴＥＭＰ－１６）～（ＴＥＭＰ－３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基（具体例群Ｇ２Ｂ４）を含む。
・窒素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ１）：
ピロリル基、
イミダゾリル基、
ピラゾリル基、
トリアゾリル基、
テトラゾリル基、
オキサゾリル基、
イソオキサゾリル基、
オキサジアゾリル基、
チアゾリル基、
イソチアゾリル基、
チアジアゾリル基、
ピリジル基、
ピリダジニル基、
ピリミジニル基、
ピラジニル基、
トリアジニル基、
インドリル基、
イソインドリル基、
インドリジニル基、
キノリジニル基、
キノリル基、
イソキノリル基、
シンノリル基、
フタラジニル基、
キナゾリニル基、
キノキサリニル基、
ベンゾイミダゾリル基、
インダゾリル基、
フェナントロリニル基、
フェナントリジニル基、
アクリジニル基、
フェナジニル基、
カルバゾリル基、
ベンゾカルバゾリル基、
モルホリノ基、
フェノキサジニル基、
フェノチアジニル基、
アザカルバゾリル基、及びジアザカルバゾリル基。
・酸素原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ２）：
フリル基、
オキサゾリル基、
イソオキサゾリル基、
オキサジアゾリル基、
キサンテニル基、
ベンゾフラニル基、
イソベンゾフラニル基、
ジベンゾフラニル基、
ナフトベンゾフラニル基、
ベンゾオキサゾリル基、
ベンゾイソキサゾリル基、
フェノキサジニル基、
モルホリノ基、
ジナフトフラニル基、
アザジベンゾフラニル基、
ジアザジベンゾフラニル基、
アザナフトベンゾフラニル基、及び
ジアザナフトベンゾフラニル基。
・硫黄原子を含む無置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ３）：
チエニル基、
チアゾリル基、
イソチアゾリル基、
チアジアゾリル基、
ベンゾチオフェニル基（ベンゾチエニル基）、
イソベンゾチオフェニル基（イソベンゾチエニル基）、
ジベンゾチオフェニル基（ジベンゾチエニル基）、
ナフトベンゾチオフェニル基（ナフトベンゾチエニル基）、
ベンゾチアゾリル基、
ベンゾイソチアゾリル基、
フェノチアジニル基、
ジナフトチオフェニル基（ジナフトチエニル基）、
アザジベンゾチオフェニル基（アザジベンゾチエニル基）、
ジアザジベンゾチオフェニル基（ジアザジベンゾチエニル基）、
アザナフトベンゾチオフェニル基（アザナフトベンゾチエニル基）、及び
ジアザナフトベンゾチオフェニル基（ジアザナフトベンゾチエニル基）。
・下記一般式（ＴＥＭＰ－１６）～（ＴＥＭＰ－３３）で表される環構造から１つの水素原子を除くことにより誘導される１価の複素環基（具体例群Ｇ２Ａ４）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　前記一般式（ＴＥＭＰ－１６）～（ＴＥＭＰ－３３）において、ＸＡ及びＹＡは、それぞれ独立に、酸素原子、硫黄原子、ＮＨ、又はＣＨ２である。ただし、ＸＡ及びＹＡのうち少なくとも１つは、酸素原子、硫黄原子、又はＮＨである。
　前記一般式（ＴＥＭＰ－１６）～（ＴＥＭＰ－３３）において、ＸＡ及びＹＡの少なくともいずれかがＮＨ、又はＣＨ２である場合、前記一般式（ＴＥＭＰ－１６）～（ＴＥＭＰ－３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基には、これらＮＨ、又はＣＨ２から１つの水素原子を除いて得られる１価の基が含まれる。
・窒素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ１）：
（９－フェニル）カルバゾリル基、
（９－ビフェニリル）カルバゾリル基、
（９－フェニル）フェニルカルバゾリル基、
（９－ナフチル）カルバゾリル基、
ジフェニルカルバゾール－９－イル基、
フェニルカルバゾール－９－イル基、
メチルベンゾイミダゾリル基、
エチルベンゾイミダゾリル基、
フェニルトリアジニル基、
ビフェニリルトリアジニル基、
ジフェニルトリアジニル基、
フェニルキナゾリニル基、及びビフェニリルキナゾリニル基。
・酸素原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ２）：
フェニルジベンゾフラニル基、
メチルジベンゾフラニル基、
ｔ－ブチルジベンゾフラニル基、及び
スピロ［９Ｈ－キサンテン－９，９’－［９Ｈ］フルオレン］の１価の残基。
・硫黄原子を含む置換の複素環基（具体例群Ｇ２Ｂ３）：
フェニルジベンゾチオフェニル基、
メチルジベンゾチオフェニル基、
ｔ－ブチルジベンゾチオフェニル基、及び
スピロ［９Ｈ－チオキサンテン－９，９’－［９Ｈ］フルオレン］の１価の残基。
・前記一般式（ＴＥＭＰ－１６）～（ＴＥＭＰ－３３）で表される環構造から誘導される１価の複素環基の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基（具体例群Ｇ２Ｂ４）：
　前記「１価の複素環基の１つ以上の水素原子」とは、該１価の複素環基の環形成炭素原子に結合している水素原子、ＸＡ及びＹＡの少なくともいずれかがＮＨである場合の窒素原子に結合している水素原子、及びＸＡ及びＹＡの一方がＣＨ２である場合のメチレン基の水素原子から選ばれる１つ以上の水素原子を意味する。
・「置換もしくは無置換のアルキル基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」の具体例（具体例群Ｇ３）としては、以下の無置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ａ）及び置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ｂ）が挙げられる。（ここで、無置換のアルキル基とは「置換もしくは無置換のアルキル基」が「無置換のアルキル基」である場合を指し、置換のアルキル基とは「置換もしくは無置換のアルキル基」が「置換のアルキル基」である場合を指す。）以下、単に「アルキル基」という場合は、「無置換のアルキル基」と「置換のアルキル基」の両方を含む。
　「置換のアルキル基」は、「無置換のアルキル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアルキル基」の具体例としては、下記の「無置換のアルキル基」（具体例群Ｇ３Ａ）における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ｂ）の例等が挙げられる。本明細書において、「無置換のアルキル基」におけるアルキル基は、鎖状のアルキル基を意味する。そのため、「無置換のアルキル基」は、直鎖である「無置換のアルキル基」、及び分岐状である「無置換のアルキル基」が含まれる。尚、ここに列挙した「無置換のアルキル基」の例や「置換のアルキル基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のアルキル基」には、具体例群Ｇ３Ｂの「置換のアルキル基」におけるアルキル基自体の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び具体例群Ｇ３Ｂの「置換のアルキル基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
・無置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ａ）：
メチル基、
エチル基、
ｎ－プロピル基、
イソプロピル基、
ｎ－ブチル基、
イソブチル基、
ｓ－ブチル基、及び
ｔ－ブチル基。
・置換のアルキル基（具体例群Ｇ３Ｂ）：
ヘプタフルオロプロピル基（異性体を含む）、
ペンタフルオロエチル基、
２，２，２－トリフルオロエチル基、及び
トリフルオロメチル基。
・「置換もしくは無置換のアルケニル基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルケニル基」の具体例（具体例群Ｇ４）としては、以下の無置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ａ）、及び置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換のアルケニル基とは「置換もしくは無置換のアルケニル基」が「無置換のアルケニル基」である場合を指し、「置換のアルケニル基」とは「置換もしくは無置換のアルケニル基」が「置換のアルケニル基」である場合を指す。）本明細書において、単に「アルケニル基」という場合は、「無置換のアルケニル基」と「置換のアルケニル基」の両方を含む。
　「置換のアルケニル基」は、「無置換のアルケニル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアルケニル基」の具体例としては、下記の「無置換のアルケニル基」（具体例群Ｇ４Ａ）が置換基を有する基、及び置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ｂ）の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換のアルケニル基」の例や「置換のアルケニル基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のアルケニル基」には、具体例群Ｇ４Ｂの「置換のアルケニル基」におけるアルケニル基自体の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び具体例群Ｇ４Ｂの「置換のアルケニル基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
・無置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ａ）：
ビニル基、
アリル基、
１－ブテニル基、
２－ブテニル基、及び
３－ブテニル基。
・置換のアルケニル基（具体例群Ｇ４Ｂ）：
１，３－ブタンジエニル基、
１－メチルビニル基、
１－メチルアリル基、
１，１－ジメチルアリル基、
２－メチルアリル基、及び
１，２－ジメチルアリル基。
・「置換もしくは無置換のアルキニル基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルキニル基」の具体例（具体例群Ｇ５）としては、以下の無置換のアルキニル基（具体例群Ｇ５Ａ）等が挙げられる。（ここで、無置換のアルキニル基とは、「置換もしくは無置換のアルキニル基」が「無置換のアルキニル基」である場合を指す。）以下、単に「アルキニル基」という場合は、「無置換のアルキニル基」と「置換のアルキニル基」の両方を含む。
　「置換のアルキニル基」は、「無置換のアルキニル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のアルキニル基」の具体例としては、下記の「無置換のアルキニル基」（具体例群Ｇ５Ａ）における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基等が挙げられる。
・無置換のアルキニル基（具体例群Ｇ５Ａ）：
エチニル基
・「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」の具体例（具体例群Ｇ６）としては、以下の無置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ａ）、及び置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ｂ）等が挙げられる。（ここで、無置換のシクロアルキル基とは「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」が「無置換のシクロアルキル基」である場合を指し、置換のシクロアルキル基とは「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」が「置換のシクロアルキル基」である場合を指す。）本明細書において、単に「シクロアルキル基」という場合は、「無置換のシクロアルキル基」と「置換のシクロアルキル基」の両方を含む。
　「置換のシクロアルキル基」は、「無置換のシクロアルキル基」における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。「置換のシクロアルキル基」の具体例としては、下記の「無置換のシクロアルキル基」（具体例群Ｇ６Ａ）における１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ｂ）の例等が挙げられる。尚、ここに列挙した「無置換のシクロアルキル基」の例や「置換のシクロアルキル基」の例は、一例に過ぎず、本明細書に記載の「置換のシクロアルキル基」には、具体例群Ｇ６Ｂの「置換のシクロアルキル基」におけるシクロアルキル基自体の炭素原子に結合する１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基、及び具体例群Ｇ６Ｂの「置換のシクロアルキル基」における置換基の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。
・無置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ａ）：
シクロプロピル基、
シクロブチル基、
シクロペンチル基、
シクロヘキシル基、
１－アダマンチル基、
２－アダマンチル基、
１－ノルボルニル基、及び
２－ノルボルニル基。
・置換のシクロアルキル基（具体例群Ｇ６Ｂ）：
４－メチルシクロヘキシル基。
・「－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基」
　本明細書に記載の－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基の具体例（具体例群Ｇ７）としては、
－Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ１）、
－Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ２）（Ｇ２）、
－Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ２）、
－Ｓｉ（Ｇ２）（Ｇ２）（Ｇ２）、
－Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）、及び
－Ｓｉ（Ｇ６）（Ｇ６）（Ｇ６）
が挙げられる。ここで、
　Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」である。
　Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「置換もしくは無置換の複素環基」である。
　Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」である。
　Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」である。
　－Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ１）における複数のＧ１は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ２）（Ｇ２）における複数のＧ２は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｓｉ（Ｇ１）（Ｇ１）（Ｇ２）における複数のＧ１は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｓｉ（Ｇ２）（Ｇ２）（Ｇ２）における複数のＧ２は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）における複数のＧ３は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｓｉ（Ｇ６）（Ｇ６）（Ｇ６）における複数のＧ６は、互いに同一であるか、又は異なる。
・「－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基」
　本明細書に記載の－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基の具体例（具体例群Ｇ８）としては、
－Ｏ（Ｇ１）、
－Ｏ（Ｇ２）、
－Ｏ（Ｇ３）、及び
－Ｏ（Ｇ６）
が挙げられる。
　ここで、
　Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」である。
　Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「置換もしくは無置換の複素環基」である。
　Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」である。
　Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」である。
・「－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基」
　本明細書に記載の－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基の具体例（具体例群Ｇ９）としては、
－Ｓ（Ｇ１）、
－Ｓ（Ｇ２）、
－Ｓ（Ｇ３）、及び
－Ｓ（Ｇ６）
が挙げられる。
　ここで、
　Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」である。
　Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「置換もしくは無置換の複素環基」である。
　Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」である。
　Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」である。
・「－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基」
　本明細書に記載の－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基の具体例（具体例群Ｇ１０）としては、
－Ｎ（Ｇ１）（Ｇ１）、
－Ｎ（Ｇ２）（Ｇ２）、
－Ｎ（Ｇ１）（Ｇ２）、
－Ｎ（Ｇ３）（Ｇ３）、及び
－Ｎ（Ｇ６）（Ｇ６）
が挙げられる。
　ここで、
　Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」である。
　Ｇ２は、具体例群Ｇ２に記載の「置換もしくは無置換の複素環基」である。
　Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」である。
　Ｇ６は、具体例群Ｇ６に記載の「置換もしくは無置換のシクロアルキル基」である。
　－Ｎ（Ｇ１）（Ｇ１）における複数のＧ１は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｎ（Ｇ２）（Ｇ２）における複数のＧ２は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｎ（Ｇ３）（Ｇ３）における複数のＧ３は、互いに同一であるか、又は異なる。
　－Ｎ（Ｇ６）（Ｇ６）における複数のＧ６は、互いに同一であるか、又は異なる。
・「ハロゲン原子」
　本明細書に記載の「ハロゲン原子」の具体例（具体例群Ｇ１１）としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子等が挙げられる。
・「置換もしくは無置換のフルオロアルキル基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のフルオロアルキル基」は、「置換もしくは無置換のアルキル基」におけるアルキル基を構成する炭素原子に結合している少なくとも１つの水素原子がフッ素原子と置き換わった基を意味し、「置換もしくは無置換のアルキル基」におけるアルキル基を構成する炭素原子に結合している全ての水素原子がフッ素原子で置き換わった基（パーフルオロ基）も含む。「無置換のフルオロアルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１～５０であり、好ましくは１～３０であり、より好ましくは１～１８である。「置換のフルオロアルキル基」は、「フルオロアルキル基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。尚、本明細書に記載の「置換のフルオロアルキル基」には、「置換のフルオロアルキル基」におけるアルキル鎖の炭素原子に結合する１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換のフルオロアルキル基」における置換基の１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。「無置換のフルオロアルキル基」の具体例としては、前記「アルキル基」（具体例群Ｇ３）における１つ以上の水素原子がフッ素原子と置き換わった基の例等が挙げられる。
・「置換もしくは無置換のハロアルキル基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のハロアルキル基」は、「置換もしくは無置換のアルキル基」におけるアルキル基を構成する炭素原子に結合している少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子と置き換わった基を意味し、「置換もしくは無置換のアルキル基」におけるアルキル基を構成する炭素原子に結合している全ての水素原子がハロゲン原子で置き換わった基も含む。「無置換のハロアルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１～５０であり、好ましくは１～３０であり、より好ましくは１～１８である。「置換のハロアルキル基」は、「ハロアルキル基」の１つ以上の水素原子が置換基と置き換わった基を意味する。尚、本明細書に記載の「置換のハロアルキル基」には、「置換のハロアルキル基」におけるアルキル鎖の炭素原子に結合する１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基、及び「置換のハロアルキル基」における置換基の１つ以上の水素原子がさらに置換基と置き換わった基も含まれる。「無置換のハロアルキル基」の具体例としては、前記「アルキル基」（具体例群Ｇ３）における１つ以上の水素原子がハロゲン原子と置き換わった基の例等が挙げられる。ハロアルキル基をハロゲン化アルキル基と称する場合がある。
・「置換もしくは無置換のアルコキシ基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルコキシ基」の具体例としては、－Ｏ（Ｇ３）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」である。「無置換のアルコキシ基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１～５０であり、好ましくは１～３０であり、より好ましくは１～１８である。
・「置換もしくは無置換のアルキルチオ基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルキルチオ基」の具体例としては、－Ｓ（Ｇ３）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」である。「無置換のアルキルチオ基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１～５０であり、好ましくは１～３０であり、より好ましくは１～１８である。
・「置換もしくは無置換のアリールオキシ基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアリールオキシ基」の具体例としては、－Ｏ（Ｇ１）で表される基であり、ここで、Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」である。「無置換のアリールオキシ基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６～５０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。
・「置換もしくは無置換のアリールチオ基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアリールチオ基」の具体例としては、－Ｓ（Ｇ１）で表される基であり、ここで、Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」である。「無置換のアリールチオ基」の環形成炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、６～５０であり、好ましくは６～３０であり、より好ましくは６～１８である。
・「置換もしくは無置換のトリアルキルシリル基」
　本明細書に記載の「トリアルキルシリル基」の具体例としては、－Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」である。－Ｓｉ（Ｇ３）（Ｇ３）（Ｇ３）における複数のＧ３は、互いに同一であるか、又は異なる。「トリアルキルシリル基」の各アルキル基の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、１～５０であり、好ましくは１～２０であり、より好ましくは１～６である。
・「置換もしくは無置換のアラルキル基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアラルキル基」の具体例としては、－（Ｇ３）－（Ｇ１）で表される基であり、ここで、Ｇ３は、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」であり、Ｇ１は、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」である。従って、「アラルキル基」は、「アルキル基」の水素原子が置換基としての「アリール基」と置き換わった基であり、「置換のアルキル基」の一態様である。「無置換のアラルキル基」は、「無置換のアリール基」が置換した「無置換のアルキル基」であり、「無置換のアラルキル基」の炭素数は、本明細書に別途記載のない限り、７～５０であり、好ましくは７～３０であり、より好ましくは７～１８である。
　「置換もしくは無置換のアラルキル基」の具体例としては、ベンジル基、１－フェニルエチル基、２－フェニルエチル基、１－フェニルイソプロピル基、２－フェニルイソプロピル基、フェニル－ｔ－ブチル基、α－ナフチルメチル基、１－α－ナフチルエチル基、２－α－ナフチルエチル基、１－α－ナフチルイソプロピル基、２－α－ナフチルイソプロピル基、β－ナフチルメチル基、１－β－ナフチルエチル基、２－β－ナフチルエチル基、１－β－ナフチルイソプロピル基、及び２－β－ナフチルイソプロピル基等が挙げられる。
　本明細書に記載の置換もしくは無置換のアリール基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくはフェニル基、ｐ－ビフェニル基、ｍ－ビフェニル基、ｏ－ビフェニル基、ｐ－ターフェニル－４－イル基、ｐ－ターフェニル－３－イル基、ｐ－ターフェニル－２－イル基、ｍ－ターフェニル－４－イル基、ｍ－ターフェニル－３－イル基、ｍ－ターフェニル－２－イル基、ｏ－ターフェニル－４－イル基、ｏ－ターフェニル－３－イル基、ｏ－ターフェニル－２－イル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基、クリセニル基、トリフェニレニル基、フルオレニル基、９，９’－スピロビフルオレニル基、９，９－ジメチルフルオレニル基、及び９，９－ジフェニルフルオレニル基等である。
　本明細書に記載の置換もしくは無置換の複素環基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくはピリジル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリニル基、ベンゾイミダゾリル基、フェナントロリニル基、カルバゾリル基（１－カルバゾリル基、２－カルバゾリル基、３－カルバゾリル基、４－カルバゾリル基、又は９－カルバゾリル基）、ベンゾカルバゾリル基、アザカルバゾリル基、ジアザカルバゾリル基、ジベンゾフラニル基、ナフトベンゾフラニル基、アザジベンゾフラニル基、ジアザジベンゾフラニル基、ジベンゾチオフェニル基、ナフトベンゾチオフェニル基、アザジベンゾチオフェニル基、ジアザジベンゾチオフェニル基、（９－フェニル）カルバゾリル基（（９－フェニル）カルバゾール－１－イル基、（９－フェニル）カルバゾール－２－イル基、（９－フェニル）カルバゾール－３－イル基、又は（９－フェニル）カルバゾール－４－イル基）、（９－ビフェニリル）カルバゾリル基、（９－フェニル）フェニルカルバゾリル基、ジフェニルカルバゾール－９－イル基、フェニルカルバゾール－９－イル基、フェニルトリアジニル基、ビフェニリルトリアジニル基、ジフェニルトリアジニル基、フェニルジベンゾフラニル基、及びフェニルジベンゾチオフェニル基等である。
　本明細書において、カルバゾリル基は、本明細書に別途記載のない限り、具体的には以下のいずれかの基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　本明細書において、（９－フェニル）カルバゾリル基は、本明細書に別途記載のない限り、具体的には以下のいずれかの基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　前記一般式（ＴＥＭＰ－Ｃｚ１）～（ＴＥＭＰ－Ｃｚ９）中、＊は、結合位置を表す。
　本明細書において、ジベンゾフラニル基、及びジベンゾチオフェニル基は、本明細書に別途記載のない限り、具体的には以下のいずれかの基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　前記一般式（ＴＥＭＰ－３４）～（ＴＥＭＰ－４１）中、＊は、結合位置を表す。
　本明細書に記載の置換もしくは無置換のアルキル基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、及びｔ－ブチル基等である。
・「置換もしくは無置換のアリーレン基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアリーレン基」は、別途記載のない限り、上記「置換もしくは無置換のアリール基」からアリール環上の１つの水素原子を除くことにより誘導される２価の基である。「置換もしくは無置換のアリーレン基」の具体例（具体例群Ｇ１２）としては、具体例群Ｇ１に記載の「置換もしくは無置換のアリール基」からアリール環上の１つの水素原子を除くことにより誘導される２価の基等が挙げられる。
・「置換もしくは無置換の２価の複素環基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換の２価の複素環基」は、別途記載のない限り、上記「置換もしくは無置換の複素環基」から複素環上の１つの水素原子を除くことにより誘導される２価の基である。「置換もしくは無置換の２価の複素環基」の具体例（具体例群Ｇ１３）としては、具体例群Ｇ２に記載の「置換もしくは無置換の複素環基」から複素環上の１つの水素原子を除くことにより誘導される２価の基等が挙げられる。
・「置換もしくは無置換のアルキレン基」
　本明細書に記載の「置換もしくは無置換のアルキレン基」は、別途記載のない限り、上記「置換もしくは無置換のアルキル基」からアルキル鎖上の１つの水素原子を除くことにより誘導される２価の基である。「置換もしくは無置換のアルキレン基」の具体例（具体例群Ｇ１４）としては、具体例群Ｇ３に記載の「置換もしくは無置換のアルキル基」からアルキル鎖上の１つの水素原子を除くことにより誘導される２価の基等が挙げられる。
　本明細書に記載の置換もしくは無置換のアリーレン基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは下記一般式（ＴＥＭＰ－４２）～（ＴＥＭＰ－６８）のいずれかの基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　前記一般式（ＴＥＭＰ－４２）～（ＴＥＭＰ－５２）中、Ｑ１～Ｑ１０は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
　前記一般式（ＴＥＭＰ－４２）～（ＴＥＭＰ－５２）中、＊は、結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　前記一般式（ＴＥＭＰ－５３）～（ＴＥＭＰ－６２）中、Ｑ１～Ｑ１０は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
　式Ｑ９及びＱ１０は、単結合を介して互いに結合して環を形成してもよい。
　前記一般式（ＴＥＭＰ－５３）～（ＴＥＭＰ－６２）中、＊は、結合位置を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　前記一般式（ＴＥＭＰ－６３）～（ＴＥＭＰ－６８）中、Ｑ１～Ｑ８は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
　前記一般式（ＴＥＭＰ－６３）～（ＴＥＭＰ－６８）中、＊は、結合位置を表す。
　本明細書に記載の置換もしくは無置換の２価の複素環基は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは下記一般式（ＴＥＭＰ－６９）～（ＴＥＭＰ－１０２）のいずれかの基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
　前記一般式（ＴＥＭＰ－６９）～（ＴＥＭＰ－８２）中、Ｑ１～Ｑ９は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
　前記一般式（ＴＥＭＰ－８３）～（ＴＥＭＰ－１０２）中、Ｑ１～Ｑ８は、それぞれ独立に、水素原子、又は置換基である。
　以上が、「本明細書に記載の置換基」についての説明である。
・「結合して環を形成する場合」
　本明細書において、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は互いに結合せず」という場合は、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合と、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合と、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合しない」場合と、を意味する。
　本明細書における、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合、及び「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合（以下、これらの場合をまとめて「結合して環を形成する場合」と称する場合がある。）について、以下、説明する。母骨格がアントラセン環である下記一般式（ＴＥＭＰ－１０３）で表されるアントラセン化合物の場合を例として説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
　例えば、Ｒ９２１～Ｒ９３０のうちの「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、環を形成する」場合において、１組となる隣接する２つからなる組とは、Ｒ９２１とＲ９２２との組、Ｒ９２２とＲ９２３との組、Ｒ９２３とＲ９２４との組、Ｒ９２４とＲ９３０との組、Ｒ９３０とＲ９２５との組、Ｒ９２５とＲ９２６との組、Ｒ９２６とＲ９２７との組、Ｒ９２７とＲ９２８との組、Ｒ９２８とＲ９２９との組、並びにＲ９２９とＲ９２１との組である。
　上記「１組以上」とは、上記隣接する２つ以上からなる組の２組以上が同時に環を形成してもよいことを意味する。例えば、Ｒ９２１とＲ９２２とが互いに結合して環ＱＡを形成し、同時にＲ９２５とＲ９２６とが互いに結合して環ＱＢを形成した場合は、前記一般式（ＴＥＭＰ－１０３）で表されるアントラセン化合物は、下記一般式（ＴＥＭＰ－１０４）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　「隣接する２つ以上からなる組」が環を形成する場合とは、前述の例のように隣接する「２つ」からなる組が結合する場合だけではなく、隣接する「３つ以上」からなる組が結合する場合も含む。例えば、Ｒ９２１とＲ９２２とが互いに結合して環ＱＡを形成し、かつ、Ｒ９２２とＲ９２３とが互いに結合して環ＱＣを形成し、互いに隣接する３つ（Ｒ９２１、Ｒ９２２及びＲ９２３）からなる組が互いに結合して環を形成して、アントラセン母骨格に縮合する場合を意味し、この場合、前記一般式（ＴＥＭＰ－１０３）で表されるアントラセン化合物は、下記一般式（ＴＥＭＰ－１０５）で表される。下記一般式（ＴＥＭＰ－１０５）において、環ＱＡ及び環ＱＣは、Ｒ９２２を共有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　形成される「単環」、又は「縮合環」は、形成された環のみの構造として、飽和の環であっても不飽和の環であってもよい。「隣接する２つからなる組の１組」が「単環」、又は「縮合環」を形成する場合であっても、当該「単環」、又は「縮合環」は、飽和の環、又は不飽和の環を形成することができる。例えば、前記一般式（ＴＥＭＰ－１０４）において形成された環ＱＡ及び環ＱＢは、それぞれ、「単環」又は「縮合環」である。また、前記一般式（ＴＥＭＰ－１０５）において形成された環ＱＡ、及び環ＱＣは、「縮合環」である。前記一般式（ＴＥＭＰ－１０５）の環ＱＡと環ＱＣとは、環ＱＡと環ＱＣとが縮合することによって縮合環となっている。前記一般式（ＴＭＥＰ－１０４）の環ＱＡがベンゼン環であれば、環ＱＡは、単環である。前記一般式（ＴＭＥＰ－１０４）の環ＱＡがナフタレン環であれば、環ＱＡは、縮合環である。
　「不飽和の環」とは、芳香族炭化水素環、又は芳香族複素環を意味する。「飽和の環」とは、脂肪族炭化水素環、又は非芳香族複素環を意味する。
　芳香族炭化水素環の具体例としては、具体例群Ｇ１において具体例として挙げられた基が水素原子によって終端された構造が挙げられる。
　芳香族複素環の具体例としては、具体例群Ｇ２において具体例として挙げられた芳香族複素環基が水素原子によって終端された構造が挙げられる。
　脂肪族炭化水素環の具体例としては、具体例群Ｇ６において具体例として挙げられた基が水素原子によって終端された構造が挙げられる。
　「環を形成する」とは、母骨格の複数の原子のみ、あるいは母骨格の複数の原子とさらに１以上の任意の元素で環を形成することを意味する。例えば、前記一般式（ＴＥＭＰ－１０４）に示す、Ｒ９２１とＲ９２２とが互いに結合して形成された環ＱＡは、Ｒ９２１が結合するアントラセン骨格の炭素原子と、Ｒ９２２が結合するアントラセン骨格の炭素原子と、１以上の任意の元素とで形成する環を意味する。具体例としては、Ｒ９２１とＲ９２２とで環ＱＡを形成する場合において、Ｒ９２１が結合するアントラセン骨格の炭素原子と、Ｒ９２２とが結合するアントラセン骨格の炭素原子と、４つの炭素原子とで単環の不飽和の環を形成する場合、Ｒ９２１とＲ９２２とで形成する環は、ベンゼン環である。
　ここで、「任意の元素」は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは、炭素元素、窒素元素、酸素元素、及び硫黄元素からなる群から選択される少なくとも１種の元素である。任意の元素において（例えば、炭素元素、又は窒素元素の場合）、環を形成しない結合は、水素原子等で終端されてもよいし、後述する「任意の置換基」で置換されてもよい。炭素元素以外の任意の元素を含む場合、形成される環は複素環である。
　単環または縮合環を構成する「１以上の任意の元素」は、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは２個以上１５個以下であり、より好ましくは３個以上１２個以下であり、さらに好ましくは３個以上５個以下である。
　本明細書に別途記載のない限り、「単環」、及び「縮合環」のうち、好ましくは「単環」である。
　本明細書に別途記載のない限り、「飽和の環」、及び「不飽和の環」のうち、好ましくは「不飽和の環」である。
　本明細書に別途記載のない限り、「単環」は、好ましくはベンゼン環である。
　本明細書に別途記載のない限り、「不飽和の環」は、好ましくはベンゼン環である。
　「隣接する２つ以上からなる組の１組以上」が、「互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合、又は「互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合、本明細書に別途記載のない限り、好ましくは、隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、母骨格の複数の原子と、１個以上１５個以下の炭素元素、窒素元素、酸素元素、及び硫黄元素からなる群から選択される少なくとも１種の元素とからなる置換もしくは無置換の「不飽和の環」を形成する。
　上記の「単環」、又は「縮合環」が置換基を有する場合の置換基は、例えば後述する「任意の置換基」である。上記の「単環」、又は「縮合環」が置換基を有する場合の置換基の具体例は、上述した「本明細書に記載の置換基」の項で説明した置換基である。
　上記の「飽和の環」、又は「不飽和の環」が置換基を有する場合の置換基は、例えば後述する「任意の置換基」である。上記の「単環」、又は「縮合環」が置換基を有する場合の置換基の具体例は、上述した「本明細書に記載の置換基」の項で説明した置換基である。
　以上が、「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成する」場合、及び「隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成する」場合（「結合して環を形成する場合」）についての説明である。
・「置換もしくは無置換の」という場合の置換基
　本明細書における一実施形態においては、前記「置換もしくは無置換の」という場合の置換基（本明細書において、「任意の置換基」と呼ぶことがある。）は、例えば、
無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
－Ｏ－（Ｒ９０４）、
－Ｓ－（Ｒ９０５）、
－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）、
ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、及び
無置換の環形成原子数５～５０の複素環基
からなる群から選択される基等であり、
　ここで、Ｒ９０１～Ｒ９０７は、それぞれ独立に、
水素原子、
置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　Ｒ９０１が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０２が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０３が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０３は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０４が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０４は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０５が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０５は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０６が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０６は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０７が２個以上存在する場合、２個以上のＲ９０７は、互いに同一であるか又は異なる。
　一実施形態においては、前記「置換もしくは無置換の」という場合の置換基は、
炭素数１～５０のアルキル基、
環形成炭素数６～５０のアリール基、及び
環形成原子数５～５０の複素環基
からなる群から選択される基である。
　一実施形態においては、前記「置換もしくは無置換の」という場合の置換基は、
炭素数１～１８のアルキル基、
環形成炭素数６～１８のアリール基、及び
環形成原子数５～１８の複素環基
からなる群から選択される基である。
　上記任意の置換基の各基の具体例は、上述した「本明細書に記載の置換基」の項で説明した置換基の具体例である。
　本明細書において別途記載のない限り、隣接する任意の置換基同士で、「飽和の環」、又は「不飽和の環」を形成してもよく、好ましくは、置換もしくは無置換の飽和の５員環、置換もしくは無置換の飽和の６員環、置換もしくは無置換の不飽和の５員環、又は置換もしくは無置換の不飽和の６員環を形成し、より好ましくは、ベンゼン環を形成する。
　本明細書において別途記載のない限り、任意の置換基は、さらに置換基を有してもよい。任意の置換基がさらに有する置換基としては、上記任意の置換基と同様である。
　本明細書において、「ＡＡ～ＢＢ」を用いて表される数値範囲は、「ＡＡ～ＢＢ」の前に記載される数値ＡＡを下限値とし、「ＡＡ～ＢＢ」の後に記載される数値ＢＢを上限値として含む範囲を意味する。
〔第一実施形態〕
（有機エレクトロルミネッセンス素子）
　本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、陽極と、陰極と、前記陽極と前記陰極の間に配置された発光層と、前記陽極と前記発光層の間に配置された第一の正孔輸送層と、を備え、前記第一の正孔輸送層は、前記発光層に直に隣接し、前記第一の正孔輸送層は、下記一般式（１）で表される第一の化合物を含み、前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される基を少なくとも１つ有する。
（有機ＥＬ素子の発光波長）
　本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子は、素子駆動時に最大のピーク波長が４３０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の光を放射することが好ましい。
　素子駆動時に有機ＥＬ素子が放射する光の最大のピーク波長の測定は、以下のようにして行う。電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となるように有機ＥＬ素子に電圧を印加した時の分光放射輝度スペクトルを分光放射輝度計ＣＳ－２０００（コニカミノルタ社製）で計測する。得られた分光放射輝度スペクトルにおいて、発光強度が最大となる発光スペクトルのピーク波長を測定し、これを最大のピーク波長（単位：ｎｍ）とする。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子は、発光層及び第一の正孔輸送層以外に、１以上の有機層を有していてもよい。有機層としては、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子注入層、電子輸送層、正孔障壁層及び電子障壁層からなる群から選択される少なくともいずれかの層が挙げられる。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、有機層は、発光層及び第一の正孔輸送層だけで構成されていてもよいが、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、正孔障壁層、及び電子障壁層等からなる群から選択される少なくともいずれかの層をさらに有していてもよい。
（電子輸送層）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、前記陰極と、前記発光層との間に、電子輸送層を有することが好ましい。
　図１に、本実施形態に係る有機ＥＬ素子の一例の概略構成を示す。
　有機ＥＬ素子１は、透光性の基板２と、陽極３と、陰極４と、陽極３と陰極４との間に配置された有機層１０と、を含む。有機層１０は、陽極３側から順に、正孔注入層６、第一の正孔輸送層７１、発光層５、電子輸送層８、及び電子注入層９が、この順番で積層されて構成される。
（第一の正孔輸送層）
　第一の正孔輸送層は、発光層に直に隣接する。第一の正孔輸送層は、下記一般式（１）で表される第一の化合物を含有する。
　第一の正孔輸送層の膜厚は、１５ｎｍ以下であることが好ましい。
　第一の正孔輸送層の膜厚は、２ｎｍ以上であることが好ましい。
　第一の正孔輸送層の膜厚は、より好ましくは２ｎｍ以上１０ｎｍ以下、さらにより好ましくは２ｎｍ以上５ｎｍ以下である。
・第一の化合物
　第一の化合物は、下記一般式（１）で表される化合物である。第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される基を少なくとも１つ有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
　前記一般式（１）において、
　Ｒ１０１～Ｒ１１０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基、又は
　　前記一般式（１１）で表される基であり、
　ただし、Ｒ１０１～Ｒ１１０の少なくとも１つは、前記一般式（１１）で表される基であり、
　前記一般式（１１）で表される基が複数存在する場合、複数の前記一般式（１１）で表される基は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｌ１０１は、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　Ａｒ１０１は、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　ｍｘは、０、１、２、３、４又は５であり、
　Ｌ１０１が２以上存在する場合、２以上のＬ１０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ａｒ１０１が２以上存在する場合、２以上のＡｒ１０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　前記一般式（１１）中の＊は、前記一般式（１）中のピレン環との結合位置を示す。
　第一の化合物において、「置換もしくは無置換の」という場合の置換基は、
　　無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、及び
　　無置換の環形成原子数５～５０の複素環基からなる群から選択される少なくともいずれかの基である。
　前記一般式（１）で表される第一の化合物中、Ｒ９０１、Ｒ９０２、Ｒ９０３、Ｒ９０４、Ｒ９０５、Ｒ９０６、Ｒ９０７、Ｒ８０１及びＲ８０２は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ９０１が複数存在する場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０２が複数存在する場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０３が複数存在する場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０４が複数存在する場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０５が複数存在する場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０６が複数存在する場合、複数のＲ９０６は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０７が複数存在する場合、複数のＲ９０７は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なる。
　第一の化合物中の複素環基は、酸素原子及び硫黄原子の少なくともいずれかの原子を含有する基であることが好ましい。
　前記一般式（１１）で表される基は、下記一般式（１１１）で表される基であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
（前記一般式（１１１）において、
　Ｘ１は、ＣＲ１２３Ｒ１２４、酸素原子、硫黄原子、又はＮＲ１２５であり、
　Ｌ１１１及びＬ１１２は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　ｍａは、０、１、２、３又は４であり、
　ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
　ｍａ＋ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
　Ａｒ１０１は、前記一般式（１１）におけるＡｒ１０１と同義であり、
　Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３、Ｒ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　ｍｃは、３であり、
　３つのＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　ｍｄは、３であり、
　３つのＲ１２２は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　前記一般式（１１１）で表される基における下記一般式（１１１ａ）で表される環構造中の炭素原子＊１～＊８の位置のうち、＊１～＊４のいずれか１つの位置にＬ１１１が結合し、＊１～＊４の残りの３つの位置にＲ１２１が結合し、＊５～＊８のいずれか１つの位置にＬ１１２が結合し、＊５～＊８の残りの３つの位置にＲ１２２が結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
　例えば、前記一般式（１１１）で表される基において、Ｌ１１１が前記一般式（１１１ａ）で表される環構造中の＊２の炭素原子の位置に結合し、Ｌ１１２が前記一般式（１１１ａ）で表される環構造中の＊７の炭素原子の位置に結合する場合、前記一般式（１１１）で表される基は、下記一般式（１１１ｂ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
（前記一般式（１１１ｂ）において、
　Ｘ１、Ｌ１１１、Ｌ１１２、ｍａ、ｍｂ、Ａｒ１０１、Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３、Ｒ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立に、前記一般式（１１１）におけるＸ１、Ｌ１１１、Ｌ１１２、ｍａ、ｍｂ、Ａｒ１０１、Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３、Ｒ１２４及びＲ１２５と同義であり、
　複数のＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　複数のＲ１２２は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、前記一般式（１１１）で表される基は、前記一般式（１１１ｂ）で表される基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、ｍａは、０、１又は２であり、ｍｂは、０、１又は２であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、ｍａは、０又は１であり、ｍｂは、０又は１であることが好ましい。
　前記一般式（１１１）で表される基において、ｍａが０であり、ｍｂが１である場合、前記一般式（１１１）で表される基は、下記一般式（１１１ｃ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
（前記一般式（１１１ｃ）において、Ｘ１、Ｌ１１２、ｍｃ、ｍｄ、Ａｒ１０１、Ｒ１２１及びＲ１２２は、それぞれ独立に、前記一般式（１１１）におけるＸ１、Ｌ１１２、ｍｃ、ｍｄ、Ａｒ１０１、Ｒ１２１及びＲ１２２と同義である。）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換のナフチル基、置換もしくは無置換のビフェニル基、置換もしくは無置換のターフェニル基、置換もしくは無置換のピレニル基、置換もしくは無置換のフェナントリル基、又は置換もしくは無置換のフルオレニル基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ａｒ１０１は、下記一般式（１２）、一般式（１３）又は一般式（１４）で表される基であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
（前記一般式（１２）、一般式（１３）及び一般式（１４）において、
　Ｒ１１１～Ｒ１２０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ１２４で表される基、
　　－ＣＯＯＲ１２５で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　前記一般式（１２）、一般式（１３）及び一般式（１４）中の＊は、前記一般式（１１）中のＬ１０１との結合位置、又は前記一般式（１１１）、（１１１ｂ）、（１１１ｃ）中のＬ１１２との結合位置を示す。）
　前記一般式（１２）、一般式（１３）及び一般式（１４）中のＲ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立に、前述のＲ８０１及びＲ８０２と同義であることも好ましい。
　前記第一の化合物は、下記一般式（１０１）で表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
（前記一般式（１０１）において、
　Ｒ１０１～Ｒ１２０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　ただし、Ｒ１０１～Ｒ１１０のうち１つがＬ１０１との結合位置を示し、Ｒ１１１～Ｒ１２０のうち１つがＬ１０１との結合位置を示し、
　Ｌ１０１は、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　ｍｘは、０、１、２、３、４又は５であり、
　Ｌ１０１が２以上存在する場合、２以上のＬ１０１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　前記一般式（１０１）においてＲ１０３がＬ１０１との結合位置であり、Ｒ１２０がＬ１０１との結合位置である場合、前記一般式（１０１）で表される化合物は、下記一般式（１０１Ａ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
（前記一般式（１０１Ａ）において、Ｒ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０４～Ｒ１１９、Ｌ１０１及びｍｘは、それぞれ、前記一般式（１０１）におけるＲ１０１、Ｒ１０２、Ｒ１０４～Ｒ１１９、Ｌ１０１及びｍｘと同義である。）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ｌ１０１は、単結合、又は置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第一の化合物は、下記一般式（１０２）で表されることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
（前記一般式（１０２）において、
　Ｒ１０１～Ｒ１２０は、それぞれ独立に、前記一般式（１０１）におけるＲ１０１～Ｒ１２０と同義であり、
　ただし、Ｒ１０１～Ｒ１１０のうち１つがＬ１１１との結合位置を示し、Ｒ１１１～Ｒ１２０のうち１つがＬ１１２との結合位置を示し、
　Ｘ１は、ＣＲ１２３Ｒ１２４、酸素原子、硫黄原子、又はＮＲ１２５であり、
　Ｌ１１１及びＬ１１２は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　ｍａは、０、１、２、３又は４であり、
　ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
　ｍａ＋ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
　Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３、Ｒ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　ｍｃは、３であり、
　３つのＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　ｍｄは、３であり、
　３つのＲ１２２は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　前記一般式（１０２）で表される化合物において、ｍａは、０、１又は２であり、ｍｂは、０、１又は２であることが好ましい。
　前記一般式（１０２）で表される化合物において、ｍａは、０又は１であり、ｍｂは、０又は１であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ｒ１０１～Ｒ１１０のうち２つ以上が、前記一般式（１１）で表される基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ｒ１０１～Ｒ１１０のうち２つ以上が、前記一般式（１１）で表される基であり、かつ、Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換のピレニル基ではなく、
　Ｌ１０１は、置換もしくは無置換のピレニレン基ではなく、
　前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０としての置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基は、置換もしくは無置換のピレニル基ではないことが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０は、水素原子であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ｘ１は、ＣＲ１２３Ｒ１２４であることが好ましい。例えば、Ｘ１がＣＲ１２３Ｒ１２４である場合、前記一般式（１１１）で表される基は、下記一般式（１１１ｄ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
（前記一般式（１１１ｄ）において、Ｌ１１１、Ｌ１１２、ｍａ、ｍｂ、ｍａ＋ｍｂ、Ａｒ１０１、Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３、Ｒ１２４、Ｒ１２５、ｍｃ及びｍｄは、それぞれ、前記一般式（１１１）において定義したとおりである。）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ｒ１２３とＲ１２４とは、互いに結合しないことが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、Ｌ１１１及びＬ１１２の少なくとも一方は、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であることが好ましい。
　第一の化合物において、「置換もしくは無置換の」という場合における置換基は、置換もしくは無置換のピレニル基を含まないことも好ましい。
　一実施形態において、第一の化合物は、分子中にピレン環を１つのみ有する化合物（モノピレン化合物と称する場合がある。）である。
　一実施形態において、第一の化合物は、分子中にピレン環を２つのみ有する化合物（ビスピレン化合物と称する場合がある。）である。
　第一の化合物において、「置換もしくは無置換」と記載された基は、いずれも「無置換」の基であることが好ましい。
　第一の正孔輸送層は、アミノ基を有する化合物を含有しないことが好ましい。
　第一の正孔輸送層は、窒素原子及びホウ素原子を含む化合物を含有しないことが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第一の正孔輸送層中の第一の化合物の含有率は、９０質量％以上であることが好ましく、９９質量％以上であることがより好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第一の正孔輸送層は、前記第一の化合物のみからなることがさらに好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第一の正孔輸送層は、素子駆動時に最大のピーク波長が４３０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の光を放射しないことが好ましい。
（第一の化合物の製造方法）
　第一の化合物は、公知の方法により製造できる。また、第一の化合物は、公知の方法に倣い、目的物に合わせた既知の代替反応及び原料を用いることによっても、製造できる。
（第一の化合物の具体例）
　第一の化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。ただし、本発明は、これら第一の化合物の具体例に限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
（発光層）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、発光層は、蛍光発光性の第二の化合物を含有することが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、発光層が第二の化合物及び第三の化合物を含む場合、第三の化合物は、ホスト材料（マトリックス材料と称する場合もある。）であることが好ましく、第二の化合物は、ドーパント材料（ゲスト材料、エミッター、又は発光材料と称する場合もある。）であることが好ましい。
　本明細書において、「ホスト材料」とは、例えば、「層の５０質量％以上」含まれる材料である。したがって、例えば、発光層は、前記一般式（１）や下記一般式（２）で表される第三の化合物を、発光層の全質量の５０質量％以上、含有する。また、例えば、「ホスト材料」は、層の６０質量％以上、層の７０質量％以上、層の８０質量％以上、層の９０質量％以上、又は層の９５質量％以上含まれていてもよい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、発光層は、ピレン誘導体を含有することも好ましく、ピレン誘導体をホスト材料として含有することがより好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、発光層は、アントラセン誘導体を含有することも好ましく、アントラセン誘導体をホスト材料として含有することがより好ましい。
　発光層は、ドーパント材料としての燐光発光性材料を含まないことが好ましい。
　また、発光層は、重金属錯体及び燐光発光性の希土類金属錯体を含まないことが好ましい。ここで、重金属錯体としては、例えば、イリジウム錯体、オスミウム錯体、及び白金錯体等が挙げられる。
　また、発光層は、金属錯体を含まないことも好ましい。
（複数の発光層）
　一実施形態に係る有機ＥＬ素子の発光層は、複数の発光層で構成されていてもよい。
　一実施形態に係る有機ＥＬ素子の発光層は、例えば、第一の発光層と、第一の発光層と陰極との間に配置された第二の発光層とを含む。この場合、有機ＥＬ素子は、陽極側から、第一の正孔輸送層、第一の発光層、及び第二の発光層をこの順に含んでおり、第一の正孔輸送層と第一の発光層とが直接接している。第一の発光層は、第二の発光層と直接接していることが好ましい。
　図３に、本実施形態に係る有機ＥＬ素子の別の一例の概略構成を示す。
　有機ＥＬ素子１Ｂは、透光性の基板２と、陽極３と、陰極４と、陽極３と陰極４との間に配置された有機層１０と、を含む。有機層１０は、陽極３側から順に、正孔注入層６、第一の正孔輸送層７１、発光層５、電子輸送層８及び電子注入層９が、この順番で積層されて構成され、発光層５は、さらに、第一の発光層５１及び第二の発光層５２を含む。
　第一の発光層及び第二の発光層は、それぞれ独立に、蛍光発光性の化合物をさらに含有することが好ましい。
　第一の発光層及び第二の発光層が含有する蛍光発光性の化合物は、最大のピーク波長が４３０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の発光を示す化合物であることが好ましい。
　第一の発光層は、蛍光発光性の第二の化合物と、第三の化合物とを含有することも好ましい。この場合、第一の発光層中の第三の化合物は、ホスト材料（マトリックス材料と称する場合もある。）であることが好ましく、第二の化合物は、ドーパント材料（ゲスト材料、エミッター、又は発光材料と称する場合もある。）であることが好ましい。
　第二の発光層は、蛍光発光性の第四の化合物と、第五の化合物とを含有することも好ましい。この場合、第二の発光層中の第五の化合物は、ホスト材料（マトリックス材料と称する場合もある。）であることが好ましく、第四の化合物は、ドーパント材料（ゲスト材料、エミッター、又は発光材料と称する場合もある。）であることが好ましい。第二の発光層中の蛍光発光性の第四の化合物は、前述した第二の化合物と同様のものを用いることができる。第一の発光層中の蛍光発光性の第二の化合物と、第二の発光層中の蛍光発光性の第四の化合物とは、互いに同一であるか又は異なる。第二の発光層中の第五の化合物は、前述した第三の化合物と同様のものを用いることができる。第一の発光層中の第三の化合物と、第二の発光層中の第五の化合物とは、互いに異なる。
　第一の発光層は、ピレン誘導体を含有することが好ましく、ピレン誘導体をホスト材料として含有することがより好ましい。
　第二の発光層は、アントラセン誘導体を含有することが好ましく、アントラセン誘導体をホスト材料として含有することがより好ましい。
　第一の発光層がホスト材料としてピレン誘導体を含有し、第二の発光層がホスト材料としてアントラセン誘導体を含有することがより好ましい。
　第一の発光層及び第二の発光層は、ドーパント材料としての燐光発光性材料を含まないことが好ましい。
　また、第一の発光層及び第二の発光層は、重金属錯体及び燐光発光性の希土類金属錯体を含まないことが好ましい。ここで、重金属錯体としては、例えば、イリジウム錯体、オスミウム錯体、及び白金錯体等が挙げられる。
　また、第一の発光層及び第二の発光層は、金属錯体を含まないことも好ましい。
・第二の化合物及び第四の化合物
　第二の化合物及び第四の化合物は、それぞれ独立に、下記一般式（３）で表される化合物、下記一般式（４）で表される化合物、下記一般式（５）で表される化合物、下記一般式（６）で表される化合物、下記一般式（７）で表される化合物、下記一般式（８）で表される化合物、下記一般式（９）で表される化合物、及び下記一般式（１０）で表される化合物からなる群から選択される１以上の化合物である。
（一般式（３）で表される化合物）
　一般式（３）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
（前記一般式（３）において、
　Ｒ３０１～Ｒ３１０のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　Ｒ３０１～Ｒ３１０の少なくとも１つは下記一般式（３１）で表される１価の基であり、
　前記単環を形成せず、前記縮合環を形成せず、かつ下記一般式（３１）で表される１価の基ではないＲ３０１～Ｒ３１０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
（前記一般式（３１）において、
　Ａｒ３０１及びＡｒ３０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｌ３０１～Ｌ３０３は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基であり、
　＊は、前記一般式（３）中のピレン環における結合位置を示す。）
　第二の化合物中、Ｒ９０１、Ｒ９０２、Ｒ９０３、Ｒ９０４、Ｒ９０５、Ｒ９０６及びＲ９０７は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ９０１が複数存在する場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０２が複数存在する場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０３が複数存在する場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０４が複数存在する場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０５が複数存在する場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０６が複数存在する場合、複数のＲ９０６は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０７が複数存在する場合、複数のＲ９０７は、互いに同一であるか又は異なる。
　前記一般式（３）において、Ｒ３０１～Ｒ３１０のうち２つが前記一般式（３１）で表される基であることが好ましい。
　一実施形態において、前記一般式（３）で表される化合物は、下記一般式（３３）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
（前記一般式（３３）において、
　Ｒ３１１～Ｒ３１８は、それぞれ独立に、前記一般式（３）における、前記一般式（３１）で表される１価の基ではないＲ３０１～Ｒ３１０と同義であり、
　Ｌ３１１～Ｌ３１６は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基であり、
　Ａｒ３１２、Ａｒ３１３、Ａｒ３１５及びＡｒ３１６は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　前記一般式（３１）において、Ｌ３０１は、単結合であることが好ましく、Ｌ３０２及びＬ３０３は単結合であることが好ましい。
　一実施形態において、前記一般式（３）で表される化合物は、下記一般式（３４）又は一般式（３５）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
（前記一般式（３４）において、
　Ｒ３１１～Ｒ３１８は、それぞれ独立に、前記一般式（３）における、前記一般式（３１）で表される１価の基ではないＲ３０１～Ｒ３１０と同義であり、
　Ｌ３１２、Ｌ３１３、Ｌ３１５及びＬ３１６は、それぞれ独立に、前記一般式（３３）におけるＬ３１２、Ｌ３１３、Ｌ３１５及びＬ３１６と同義であり、
　Ａｒ３１２、Ａｒ３１３、Ａｒ３１５及びＡｒ３１６は、それぞれ独立に、前記一般式（３３）におけるＡｒ３１２、Ａｒ３１３、Ａｒ３１５及びＡｒ３１６と同義である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
（前記一般式（３５）において、
　Ｒ３１１～Ｒ３１８は、それぞれ独立に、前記一般式（３）における、前記一般式（３１）で表される１価の基ではないＲ３０１～Ｒ３１０と同義であり、
　Ａｒ３１２、Ａｒ３１３、Ａｒ３１５及びＡｒ３１６は、それぞれ独立に、前記一般式（３３）におけるＡｒ３１２、Ａｒ３１３、Ａｒ３１５及びＡｒ３１６と同義である。）
　前記一般式（３１）において、好ましくは、Ａｒ３０１及びＡｒ３０２のうち少なくとも１つが下記一般式（３６）で表される基である。
　前記一般式（３３）～一般式（３５）において、好ましくは、Ａｒ３１２及びＡｒ３１３のうち少なくとも１つが下記一般式（３６）で表される基である。
　前記一般式（３３）～一般式（３５）において、好ましくは、Ａｒ３１５及びＡｒ３１６のうち少なくとも１つが下記一般式（３６）で表される基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
（前記一般式（３６）において、
　Ｘ３は、酸素原子又は硫黄原子を示し、
　Ｒ３２１～Ｒ３２７のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ３２１～Ｒ３２７は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　＊は、Ｌ３０２、Ｌ３０３、Ｌ３１２、Ｌ３１３、Ｌ３１５又はＬ３１６との結合位置を示す。）
　Ｘ３は、酸素原子であることが好ましい。
　Ｒ３２１～Ｒ３２７のうち少なくとも１つは、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であることが好ましい。
　前記一般式（３１）において、Ａｒ３０１が前記一般式（３６）で表される基であり、Ａｒ３０２が置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であることが好ましい。
　前記一般式（３３）～一般式（３５）において、Ａｒ３１２が前記一般式（３６）で表される基であり、Ａｒ３１３が置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であることが好ましい。
　前記一般式（３３）～一般式（３５）において、Ａｒ３１５が前記一般式（３６）で表される基であり、Ａｒ３１６が置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であることが好ましい。
　一実施形態において、前記一般式（３）で表される化合物は、下記一般式（３７）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
（前記一般式（３７）において、
　Ｒ３１１～Ｒ３１８は、それぞれ独立に、前記一般式（３）における、前記一般式（３１）で表される１価の基ではないＲ３０１～Ｒ３１０と同義であり、
　Ｒ３２１～Ｒ３２７のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　Ｒ３４１～Ｒ３４７のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ３２１～Ｒ３２７並びにＲ３４１～Ｒ３４７は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ３３１～Ｒ３３５並びにＲ３５１～Ｒ３５５は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　前記一般式（３）で表される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が具体例として挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
（一般式（４）で表される化合物）
　一般式（４）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
（前記一般式（４）において、
　Ｚは、それぞれ独立に、ＣＲａ又は窒素原子であり、
　Ａ１環及びＡ２環は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環であり、
　Ｒａが複数存在する場合、複数のＲａのうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　ｎ２１及びｎ２２は、それぞれ独立に、０、１、２、３又は４であり、
　Ｒｂが複数存在する場合、複数のＲｂのうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　Ｒｃが複数存在する場合、複数のＲｃのうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲａ、Ｒｂ及びＲｃは、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　Ａ１環及びＡ２環の「芳香族炭化水素環」は、上述した「アリール基」に水素原子を導入した化合物と同じ構造である。
　Ａ１環及びＡ２環の「芳香族炭化水素環」は、前記一般式（４）中央の縮合２環構造上の炭素原子２つを環形成原子として含む。
　「置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環」の具体例としては、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」に水素原子を導入した化合物等が挙げられる。
　Ａ１環及びＡ２環の「複素環」は、上述した「複素環基」に水素原子を導入した化合物と同じ構造である。
　Ａ１環及びＡ２環の「複素環」は、前記一般式（４）中央の縮合２環構造上の炭素原子２つを環形成原子として含む。
　「置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環」の具体例としては、具体例群Ｇ２に記載の「複素環基」に水素原子を導入した化合物等が挙げられる。
　Ｒｂは、Ａ１環としての芳香族炭化水素環を形成する炭素原子のいずれか、又は、Ａ１環としての複素環を形成する原子のいずれかに結合する。
　Ｒｃは、Ａ２環としての芳香族炭化水素環を形成する炭素原子のいずれか、又は、Ａ２環としての複素環を形成する原子のいずれかに結合する。
　Ｒａ、Ｒｂ及びＲｃのうち、少なくとも１つが、下記一般式（４ａ）で表される基であることが好ましく、少なくとも２つが、下記一般式（４ａ）で表される基であることがより好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
（前記一般式（４ａ）において、
　Ｌ４０１は、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基であり、
　Ａｒ４０１は、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基、又は
　　下記一般式（４ｂ）で表される基である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
（前記一般式（４ｂ）において、
　Ｌ４０２及びＬ４０３は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基であり、
　Ａｒ４０２及びＡｒ４０３からなる組は、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＡｒ４０２及びＡｒ４０３は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　一実施形態において、前記一般式（４）で表される化合物は下記一般式（４２）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
（前記一般式（４２）において、
　Ｒ４０１～Ｒ４１１のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ４０１～Ｒ４１１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　Ｒ４０１～Ｒ４１１のうち、少なくとも１つが、前記一般式（４ａ）で表される基であることが好ましく、少なくとも２つ前記一般式（４ａ）で表される基であることがより好ましい。
　Ｒ４０４及びＲ４１１が前記一般式（４ａ）で表される基であることが好ましい。
　一実施形態において、前記一般式（４）で表される化合物は、Ａ１環に下記一般式（４－１）又は一般式（４－２）で表される構造が結合した化合物である。
　また、一実施形態において、前記一般式（４２）で表される化合物は、Ｒ４０４～Ｒ４０７が結合する環に下記一般式（４－１）又は一般式（４－２）で表される構造が結合した化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
（前記一般式（４－１）において、２つの＊は、それぞれ独立に、前記一般式（４）のＡ１環としての芳香族炭化水素環の環形成炭素原子もしくは複素環の環形成原子と結合するか、又は前記一般式（４２）のＲ４０４～Ｒ４０７のいずれかと結合し、
　前記一般式（４－２）の３つの＊は、それぞれ独立に、前記一般式（４）のＡ１環としての芳香族炭化水素環の環形成炭素原子もしくは複素環の環形成原子と結合するか、又は前記一般式（４２）のＲ４０４～Ｒ４０７のいずれかと結合し、
　Ｒ４２１～Ｒ４２７のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　Ｒ４３１～Ｒ４３８のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ４２１～Ｒ４２７並びにＲ４３１～Ｒ４３８は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　一実施形態においては、前記一般式（４）で表される化合物は、下記一般式（４１－３）、一般式（４１－４）又は一般式（４１－５）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
（前記一般式（４１－３）、式（４１－４）及び式（４１－５）中、
　Ａ１環は、前記一般式（４）で定義した通りであり、
　Ｒ４２１～Ｒ４２７は、それぞれ独立に、前記一般式（４－１）におけるＲ４２１～Ｒ４２７と同義であり、
　Ｒ４４０～Ｒ４４８は、それぞれ独立に、前記一般式（４２）におけるＲ４０１～Ｒ４１１と同義である。）
　一実施形態においては、前記一般式（４１－５）のＡ１環としての置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環は、
　　置換もしくは無置換のナフタレン環、又は
　　置換もしくは無置換のフルオレン環である。
　一実施形態においては、前記一般式（４１－５）のＡ１環としての置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環は、
　　置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、
　　置換もしくは無置換のカルバゾール環、又は
　　置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環である。
　一実施形態においては、前記一般式（４）又は前記一般式（４２）で表される化合物は、下記一般式（４６１）～一般式（４６７）で表される化合物からなる群から選択される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
（前記一般式（４６１）、一般式（４６２）、一般式（４６３）、一般式（４６４）、一般式（４６５）、一般式（４６６）及び一般式（４６７）中、
　Ｒ４２１～Ｒ４２７は、それぞれ独立に、前記一般式（４－１）におけるＲ４２１～Ｒ４２７と同義であり、
　Ｒ４３１～Ｒ４３８は、それぞれ独立に、前記一般式（４－２）におけるＲ４３１～Ｒ４３８と同義であり、
　Ｒ４４０～Ｒ４４８並びにＲ４５１～Ｒ４５４は、それぞれ独立に、前記一般式（４２）におけるＲ４０１～Ｒ４１１と同義であり、
　Ｘ４は、酸素原子、ＮＲ８０１、又はＣ（Ｒ８０２）（Ｒ８０３）であり、
　Ｒ８０１、Ｒ８０２及びＲ８０３は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０３が複数存在する場合、複数のＲ８０３は、互いに同一であるか又は異なる。）
　一実施形態において、前記一般式（４２）で表される化合物は、Ｒ４０１～Ｒ４１１のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、又は互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成し、当該実施形態について、以下一般式（４５）で表される化合物として詳述する。
（一般式（４５）で表される化合物）
　一般式（４５）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
（前記一般式（４５）において、
　Ｒ４６１とＲ４６２とからなる組、Ｒ４６２とＲ４６３とからなる組、Ｒ４６４とＲ４６５とからなる組、Ｒ４６５とＲ４６６とからなる組、Ｒ４６６とＲ４６７とからなる組、Ｒ４６８とＲ４６９とからなる組、Ｒ４６９とＲ４７０とからなる組、及び、Ｒ４７０とＲ４７１とからなる組からなる群から選択される組のうち２以上は、互いに結合して、置換もしくは無置換の単環又は置換もしくは無置換の縮合環を形成し、
　ただし、
　　Ｒ４６１とＲ４６２とからなる組及びＲ４６２とＲ４６３とからなる組；
　　Ｒ４６４とＲ４６５とからなる組及びＲ４６５とＲ４６６とからなる組；
　　Ｒ４６５とＲ４６６とからなる組及びＲ４６６とＲ４６７とからなる組；
　　Ｒ４６８とＲ４６９とからなる組及びＲ４６９とＲ４７０とからなる組；並びに
　　Ｒ４６９とＲ４７０とからなる組及びＲ４７０とＲ４７１とからなる組が、同時に環を形成することはなく、
　Ｒ４６１～Ｒ４７１が形成する２つ以上の環は、互いに同一であるか、又は異なり、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ４６１～Ｒ４７１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）、－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　前記一般式（４５）において、ＲｎとＲｎ＋１（ｎは４６１、４６２、４６４～４６６、及び４６８～４７０から選ばれる整数を表す）は互いに結合して、ＲｎとＲｎ＋１が結合する２つの環形成炭素原子と共に、置換もしくは無置換の単環又は置換もしくは無置換の縮合環を形成する。当該環は、好ましくは、炭素原子、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子からなる群から選択される原子で構成され、当該環の原子数は、好ましくは３～７であり、より好ましくは５又は６である。
　前記一般式（４５）で表される化合物における上記の環構造の数は、例えば、２つ、３つ、又は４つである。２つ以上の環構造は、それぞれ前記一般式（４５）の母骨格上の同一のベンゼン環上に存在してもよいし、異なるベンゼン環上に存在してもよい。例えば、環構造を３つ有する場合、前記一般式（４５）の３つのベンゼン環のそれぞれに１つずつ環構造が存在してもよい。
　前記一般式（４５）で表される化合物における上記の環構造としては、例えば、下記一般式（４５１）～（４６０）で表される構造等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
（前記一般式（４５１）～（４５７）において、
　＊１と＊２、＊３と＊４、＊５と＊６、＊７と＊８、＊９と＊１０、＊１１と＊１２及び＊１３と＊１４のそれぞれは、ＲｎとＲｎ＋１が結合する前記２つの環形成炭素原子を表し、
　Ｒｎが結合する環形成炭素原子は、＊１と＊２、＊３と＊４、＊５と＊６、＊７と＊８、＊９と＊１０、＊１１と＊１２及び＊１３と＊１４が表す２つの環形成炭素原子のどちらであってもよく、
　Ｘ４５は、Ｃ（Ｒ４５１２）（Ｒ４５１３）、ＮＲ４５１４、酸素原子又は硫黄原子であり、
　Ｒ４５０１～Ｒ４５０６及びＲ４５１２～Ｒ４５１３のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ４５０１～Ｒ４５１４は、それぞれ独立に、前記一般式（４５）におけるＲ４６１～Ｒ４７１と同義である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
（前記一般式（４５８）～（４６０）において、
　＊１と＊２、及び＊３と＊４のそれぞれは、ＲｎとＲｎ＋１が結合する前記２つの環形成炭素原子を表し、
　Ｒｎが結合する環形成炭素原子は、＊１と＊２、又は＊３と＊４が表す２つの環形成炭素原子のどちらであってもよく、
　Ｘ４５は、Ｃ（Ｒ４５１２）（Ｒ４５１３）、ＮＲ４５１４、酸素原子又は硫黄原子であり、
　Ｒ４５１２～Ｒ４５１３及びＲ４５１５～～Ｒ４５２５のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ４５１２～Ｒ４５１３、Ｒ４５１５～Ｒ４５２１及びＲ４５２２～Ｒ４５２５、並びにＲ４５１４は、それぞれ独立に、前記一般式（４５）におけるＲ４６１～Ｒ４７１と同義である。）
　前記一般式（４５）において、Ｒ４６２、Ｒ４６４、Ｒ４６５、Ｒ４７０及びＲ４７１の少なくとも１つ（好ましくは、Ｒ４６２、Ｒ４６５及びＲ４７０の少なくとも１つ、さらに好ましくはＲ４６２）が、環構造を形成しない基であると好ましい。
　（ｉ）前記一般式（４５）において、ＲｎとＲｎ＋１により形成される環構造が置換基を有する場合の置換基、
　（ｉｉ）前記一般式（４５）において、環構造を形成しないＲ４６１～Ｒ４７１、及び
　（ｉｉｉ）式（４５１）～（４６０）におけるＲ４５０１～Ｒ４５１４、Ｒ４５１５～～Ｒ４５２５は、好ましくは、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基、又は
　　下記一般式（４６１）～一般式（４６４）で表される基からなる群から選択される基のいずれかである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
（前記一般式（４６１）～（４６４）中、
　Ｒｄは、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｘ４６は、Ｃ（Ｒ８０１）（Ｒ８０２）、ＮＲ８０３、酸素原子又は硫黄原子であり、
　Ｒ８０１、Ｒ８０２及びＲ８０３は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０３が複数存在する場合、複数のＲ８０３は、互いに同一であるか又は異なり、
　ｐ１は、５であり、
　ｐ２は、４であり、
　ｐ３は、３であり、
　ｐ４は、７であり、
　前記一般式（４６１）～（４６４）中の＊は、それぞれ独立に、環構造との結合位置を示す。）
　第二の化合物において、Ｒ９０１～Ｒ９０７は、前述のように定義した通りである。
　一実施形態において、前記一般式（４５）で表される化合物は、下記一般式（４５－１）～（４５－６）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
（前記一般式（４５－１）～（４５－６）において、
　環ｄ～ｉは、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の単環又は置換もしくは無置換の縮合環であり、
　Ｒ４６１～Ｒ４７１は、それぞれ独立に、前記一般式（４５）におけるＲ４６１～Ｒ４７１と同義である。）
　一実施形態において、前記一般式（４５）で表される化合物は、下記一般式（４５－７）～（４５－１２）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
（前記一般式（４５－７）～（４５－１２）において、
　環ｄ～ｆ、ｋ、ｊは、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の単環又は置換もしくは無置換の縮合環であり、
　Ｒ４６１～Ｒ４７１は、それぞれ独立に、前記一般式（４５）におけるＲ４６１～Ｒ４７１と同義である。）
　一実施形態において、前記一般式（４５）で表される化合物は、下記一般式（４５－１３）～（４５－２１）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
（前記一般式（４５－１３）～（４５－２１）において、
　環ｄ～ｋは、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の単環又は置換もしくは無置換の縮合環であり、
　Ｒ４６１～Ｒ４７１は、それぞれ独立に、前記一般式（４５）におけるＲ４６１～Ｒ４７１と同義である。）
　前記環ｇ又は前記環ｈがさらに置換基を有する場合の置換基としては、例えば、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、
　　前記一般式（４６１）で表される基、
　　前記一般式（４６３）で表される基、又は
　　前記一般式（４６４）で表される基が挙げられる。
　一実施形態において、前記一般式（４５）で表される化合物は、下記一般式（４５－２２）～（４５－２５）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
（前記一般式（４５－２２）～（４５－２５）において、
　Ｘ４６及びＸ４７は、それぞれ独立に、Ｃ（Ｒ８０１）（Ｒ８０２）、ＮＲ８０３、酸素原子又は硫黄原子であり、
　Ｒ４６１～Ｒ４７１並びにＲ４８１～Ｒ４８８は、それぞれ独立に、前記一般式（４５）におけるＲ４６１～Ｒ４７１と同義である。
　Ｒ８０１、Ｒ８０２及びＲ８０３は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０３が複数存在する場合、複数のＲ８０３は、互いに同一であるか又は異なる。）
　一実施形態において、前記一般式（４５）で表される化合物は、下記一般式（４５－２６）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
（前記一般式（４５－２６）において、
　Ｘ４６は、Ｃ（Ｒ８０１）（Ｒ８０２）、ＮＲ８０３、酸素原子又は硫黄原子であり、
　Ｒ４６３、Ｒ４６４、Ｒ４６７、Ｒ４６８、Ｒ４７１、及びＲ４８１～Ｒ４９２は、それぞれ独立に、前記一般式（４５）におけるＲ４６１～Ｒ４７１と同義である。
　Ｒ８０１、Ｒ８０２及びＲ８０３は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０３が複数存在する場合、複数のＲ８０３は、互いに同一であるか又は異なる。）
　前記一般式（４）で表される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が具体例として挙げられる。下記具体例中、Ｐｈは、フェニル基を示し、Ｄは、重水素原子を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
（一般式（５）で表される化合物）
　一般式（５）で表される化合物について説明する。一般式（５）で表される化合物は、上述した一般式（４１－３）で表される化合物に対応する化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
（前記一般式（５）において、
　Ｒ５０１～Ｒ５０７及びＲ５１１～Ｒ５１７のうち隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ５０１～Ｒ５０７及びＲ５１１～Ｒ５１７は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　Ｒ５２１及びＲ５２２は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　「Ｒ５０１～Ｒ５０７及びＲ５１１～Ｒ５１７のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組」は、例えば、Ｒ５０１とＲ５０２からなる組、Ｒ５０２とＲ５０３からなる組、Ｒ５０３とＲ５０４からなる組、Ｒ５０５とＲ５０６からなる組、Ｒ５０６とＲ５０７からなる組、Ｒ５０１とＲ５０２とＲ５０３からなる組等の組合せである。
　一実施形態において、Ｒ５０１～Ｒ５０７及びＲ５１１～Ｒ５１７の少なくとも１つ、好ましくは２つが－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基である。
　一実施形態においては、Ｒ５０１～Ｒ５０７及びＲ５１１～Ｒ５１７は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　一実施形態においては、前記一般式（５）で表される化合物は、下記一般式（５２）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
（前記一般式（５２）において、
　Ｒ５３１～Ｒ５３４及びＲ５４１～Ｒ５４４のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ５３１～Ｒ５３４、Ｒ５４１～Ｒ５４４、並びにＲ５５１及びＲ５５２は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ５６１～Ｒ５６４は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　一実施形態においては、前記一般式（５）で表される化合物は、下記一般式（５３）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
（前記一般式（５３）において、Ｒ５５１、Ｒ５５２及びＲ５６１～Ｒ５６４は、それぞれ独立に、前記一般式（５２）におけるＲ５５１、Ｒ５５２及びＲ５６１～Ｒ５６４と同義である。）
　一実施形態においては、前記一般式（５２）及び一般式（５３）におけるＲ５６１～Ｒ５６４は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基（好ましくはフェニル基）である。
　一実施形態においては、前記一般式（５）におけるＲ５２１及びＲ５２２、前記一般式（５２）及び一般式（５３）におけるＲ５５１及びＲ５５２は、水素原子である。
　一実施形態においては、前記一般式（５）、一般式（５２）及び一般式（５３）における、「置換もしくは無置換の」という場合における置換基は、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　前記一般式（５）で表される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が具体例として挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
（一般式（６）で表される化合物）
　一般式（６）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
（前記一般式（６）において、
　ａ環、ｂ環及びｃ環は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環であり、
　Ｒ６０１及びＲ６０２は、それぞれ独立に、前記ａ環、ｂ環又はｃ環と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成せず、
　前記置換もしくは無置換の複素環を形成しないＲ６０１及びＲ６０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　ａ環、ｂ環及びｃ環は、ホウ素原子及び２つの窒素原子から構成される前記一般式（６）中央の縮合２環構造に縮合する環（置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環、又は置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環）である。
　ａ環、ｂ環及びｃ環の「芳香族炭化水素環」は、上述した「アリール基」に水素原子を導入した化合物と同じ構造である。
　ａ環の「芳香族炭化水素環」は、前記一般式（６）中央の縮合２環構造上の炭素原子３つを環形成原子として含む。
　ｂ環及びｃ環の「芳香族炭化水素環」は、前記一般式（６）中央の縮合２環構造上の炭素原子２つを環形成原子として含む。
　「置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環」の具体例としては、具体例群Ｇ１に記載の「アリール基」に水素原子を導入した化合物等が挙げられる。
　ａ環、ｂ環及びｃ環の「複素環」は、上述した「複素環基」に水素原子を導入した化合物と同じ構造である。
　ａ環の「複素環」は、前記一般式（６）中央の縮合２環構造上の炭素原子３つを環形成原子として含む。ｂ環及びｃ環の「複素環」は、前記一般式（６）中央の縮合２環構造上の炭素原子２つを環形成原子として含む。「置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環」の具体例としては、具体例群Ｇ２に記載の「複素環基」に水素原子を導入した化合物等が挙げられる。
　Ｒ６０１及びＲ６０２は、それぞれ独立に、ａ環、ｂ環又はｃ環と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成してもよい。この場合における複素環は、前記一般式（６）中央の縮合２環構造上の窒素原子を含む。この場合における複素環は、窒素原子以外のヘテロ原子を含んでいてもよい。Ｒ６０１及びＲ６０２がａ環、ｂ環又はｃ環と結合するとは、具体的には、ａ環、ｂ環又はｃ環を構成する原子とＲ６０１及びＲ６０２を構成する原子が結合することを意味する。例えば、Ｒ６０１がａ環と結合して、Ｒ６０１を含む環とａ環が縮合した２環縮合（又は３環縮合以上）の含窒素複素環を形成してもよい。当該含窒素複素環の具体例としては、具体例群Ｇ２のうち、窒素を含む２環縮合以上の複素環基に対応する化合物等が挙げられる。
　Ｒ６０１がｂ環と結合する場合、Ｒ６０２がａ環と結合する場合、及びＲ６０２がｃ環と結合する場合も上記と同じである。
　一実施形態において、前記一般式（６）におけるａ環、ｂ環及びｃ環は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環である。
　一実施形態において、前記一般式（６）におけるａ環、ｂ環及びｃ環は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のベンゼン環又はナフタレン環である。
　一実施形態において、前記一般式（６）におけるＲ６０１及びＲ６０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　好ましくは置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態において、前記一般式（６）で表される化合物は下記一般式（６２）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
（前記一般式（６２）において、
　Ｒ６０１Ａは、Ｒ６１１及びＲ６２１からなる群から選択される１以上と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成せず、
　Ｒ６０２Ａは、Ｒ６１３及びＲ６１４からなる群から選択される１以上と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成せず、
　前記置換もしくは無置換の複素環を形成しないＲ６０１Ａ及びＲ６０２Ａは、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ６１１～Ｒ６２１のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記置換もしくは無置換の複素環を形成せず、前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ６１１～Ｒ６２１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　前記一般式（６２）のＲ６０１Ａ及びＲ６０２Ａは、それぞれ、前記一般式（６）のＲ６０１及びＲ６０２に対応する基である。
　例えば、Ｒ６０１ＡとＲ６１１が結合して、これらを含む環とａ環に対応するベンゼン環が縮合した２環縮合（又は３環縮合以上）の含窒素複素環を形成してもよい。当該含窒素複素環の具体例としては、具体例群Ｇ２のうち、窒素を含む２環縮合以上の複素環基に対応する化合物等が挙げられる。Ｒ６０１ＡとＲ６２１が結合する場合、Ｒ６０２ＡとＲ６１３が結合する場合、及びＲ６０２ＡとＲ６１４が結合する場合も上記と同じである。
　Ｒ６１１～Ｒ６２１のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、又は
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成してもよい。
　例えば、Ｒ６１１とＲ６１２が結合して、これらが結合する６員環に対して、ベンゼン環、インドール環、ピロール環、ベンゾフラン環又はベンゾチオフェン環等が縮合した構造を形成してもよく、形成された縮合環は、ナフタレン環、カルバゾール環、インドール環、ジベンゾフラン環又はジベンゾチオフェン環となる。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６１１～Ｒ６２１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６１１～Ｒ６２１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６１１～Ｒ６２１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、又は
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基である。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６１１～Ｒ６２１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、又は
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基であり、
　Ｒ６１１～Ｒ６２１のうち少なくとも１つは、置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基である。
　一実施形態において、前記一般式（６２）で表される化合物は、下記一般式（６３）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
（前記一般式（６３）において、
　Ｒ６３１は、Ｒ６４６と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成せず、
　Ｒ６３３は、Ｒ６４７と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成せず、
　Ｒ６３４は、Ｒ６５１と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成せず、
　Ｒ６４１は、Ｒ６４２と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成せず、
　Ｒ６３１～Ｒ６５１のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記置換もしくは無置換の複素環を形成せず、前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ６３１～Ｒ６５１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　Ｒ６３１は、Ｒ６４６と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成してもよい。例えば、Ｒ６３１とＲ６４６が結合して、Ｒ６４６が結合するベンゼン環と、Ｎを含む環と、ａ環に対応するベンゼン環とが縮合した３環縮合以上の含窒素複素環を形成してもよい。当該含窒素複素環の具体例としては、具体例群Ｇ２のうち、窒素を含む３環縮合以上の複素環基に対応する化合物等が挙げられる。Ｒ６３３とＲ６４７が結合する場合、Ｒ６３４とＲ６５１が結合する場合、及びＲ６４１とＲ６４２が結合する場合も上記と同じである。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６３１～Ｒ６５１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６３１～Ｒ６５１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６３１～Ｒ６５１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、又は
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基である。
　一実施形態において、環形成に寄与しないＲ６３１～Ｒ６５１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、又は
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基であり、
　Ｒ６３１～Ｒ６５１のうち少なくとも１つは置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基である。
　一実施形態において、前記一般式（６３）で表される化合物は、下記一般式（６３Ａ）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
（前記一般式（６３Ａ）において、
　Ｒ６６１は、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ６６２～Ｒ６６５は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。）
　一実施形態において、Ｒ６６１～Ｒ６６５は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態において、Ｒ６６１～Ｒ６６５は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基である。
　一実施形態において、前記一般式（６３）で表される化合物は、下記一般式（６３Ｂ）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
（前記一般式（６３Ｂ）において、
　Ｒ６７１及びＲ６７２は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ６７３～Ｒ６７５は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。）
　一実施形態において、前記一般式（６３）で表される化合物は、下記一般式（６３Ｂ’）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
（前記一般式（６３Ｂ’）において、Ｒ６７２～Ｒ６７５は、それぞれ独立に、前記一般式（６３Ｂ）におけるＲ６７２～Ｒ６７５と同義である。）
　一実施形態において、Ｒ６７１～Ｒ６７５のうち少なくとも１つは、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態において、
　Ｒ６７２は、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ６７１及びＲ６７３～Ｒ６７５は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態において、前記一般式（６３）で表される化合物は、下記一般式（６３Ｃ）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
（前記一般式（６３Ｃ）において、
　Ｒ６８１及びＲ６８２は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　Ｒ６８３～Ｒ６８６は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。）
　一実施形態において、前記一般式（６３）で表される化合物は、下記一般式（６３Ｃ’）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
（前記一般式（６３Ｃ’）において、Ｒ６８３～Ｒ６８６は、それぞれ独立に、前記一般式（６３Ｃ）におけるＲ６８３～Ｒ６８６と同義である。）
　一実施形態において、Ｒ６８１～Ｒ６８６は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態において、Ｒ６８１～Ｒ６８６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　前記一般式（６）で表される化合物は、まずａ環、ｂ環及びｃ環を連結基（Ｎ－Ｒ６０１を含む基及びＮ－Ｒ６０２を含む基）で結合させることで中間体を製造し（第１反応）、ａ環、ｂ環及びｃ環を連結基（ホウ素原子を含む基）で結合させることで最終生成物を製造することができる（第２反応）。第１反応ではバッハブルト－ハートウィッグ反応等のアミノ化反応を適用できる。第２反応では、タンデムヘテロフリーデルクラフツ反応等を適用できる。
　以下に、前記一般式（６）で表される化合物の具体例を記載するが、これらは例示に過ぎず、前記一般式（６）で表される化合物は下記具体例に限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000146
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
（一般式（７）で表される化合物）
　一般式（７）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
（前記一般式（７）において、
　ｒ環は、隣接環の任意の位置で縮合する前記一般式（７２）又は一般式（７３）で表される環であり、
　ｑ環及びｓ環は、それぞれ独立に、隣接環の任意の位置で縮合する前記一般式（７４）で表される環であり、
　ｐ環及びｔ環は、それぞれ独立に、隣接環の任意の位置で縮合する前記一般式（７５）又は一般式（７６）で表される構造であり、
　Ｘ７は、酸素原子、硫黄原子、又はＮＲ７０２である。
　Ｒ７０１が複数存在する場合、隣接する複数のＲ７０１は、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ７０１及びＲ７０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ａｒ７０１及びＡｒ７０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｌ７０１は、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキレン基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニレン基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニレン基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキレン基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　ｍ１は、０、１又は２であり、
　ｍ２は、０、１、２、３又は４であり、
　ｍ３は、それぞれ独立に、０、１、２又は３であり、
　ｍ４は、それぞれ独立に、０、１、２、３、４又は５であり、
　Ｒ７０１が複数存在する場合、複数のＲ７０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｘ７が複数存在する場合、複数のＸ７は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ７０２が複数存在する場合、複数のＲ７０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ａｒ７０１が複数存在する場合、複数のＡｒ７０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ａｒ７０２が複数存在する場合、複数のＡｒ７０２は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｌ７０１が複数存在する場合、複数のＬ７０１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　前記一般式（７）において、ｐ環、ｑ環、ｒ環、ｓ環及びｔ環の各環は、隣接環と炭素原子２つを共有して縮合する。縮合する位置及び向きは限定されず、任意の位置及び向きで縮合可能である。
　一実施形態において、ｒ環としての前記一般式（７２）又は一般式（７３）において、ｍ１＝０又はｍ２＝０である。
　一実施形態において、前記一般式（７）で表される化合物は、下記一般式（７１－１）～（７１－６）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
（前記一般式（７１－１）～一般式（７１－６）において、Ｒ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ１及びｍ３は、それぞれ、前記一般式（７）におけるＲ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ１及びｍ３と同義である。）
　一実施形態において、前記一般式（７）で表される化合物は下記一般式（７１－１１）～一般式（７１－１３）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
（前記一般式（７１－１１）～一般式（７１－１３）において、Ｒ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ１、ｍ３及びｍ４は、それぞれ、前記一般式（７）におけるＲ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ１、ｍ３及びｍ４と同義である。）
　一実施形態において、前記一般式（７）で表される化合物は下記一般式（７１－２１）～（７１－２５）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
（前記一般式（７１－２１）～一般式（７１－２５）において、Ｒ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ１及びｍ４は、それぞれ、前記一般式（７）におけるＲ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ１及びｍ４と同義である。）
　一実施形態において、前記一般式（７）で表される化合物は下記一般式（７１－３１）～一般式（７１－３３）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000169
（前記一般式（７１－３１）～一般式（７１－３３）において、Ｒ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ２～ｍ４は、それぞれ、前記一般式（７）におけるＲ７０１、Ｘ７、Ａｒ７０１、Ａｒ７０２、Ｌ７０１、ｍ２～ｍ４と同義である。）
　一実施形態においては、Ａｒ７０１及びＡｒ７０２が、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態においては、Ａｒ７０１及びＡｒ７０２の一方が置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、Ａｒ７０１及びＡｒ７０２の他方が置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　前記一般式（７）で表される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が具体例として挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000170
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
（一般式（８）で表される化合物）
　一般式（８）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
（前記一般式（８）において、
　Ｒ８０１とＲ８０２、Ｒ８０２とＲ８０３、及びＲ８０３とＲ８０４の少なくとも一組は、互いに結合して下記一般式（８２）で示される２価の基を形成するか、又は互いに結合せず、
　Ｒ８０５とＲ８０６、Ｒ８０６とＲ８０７、及びＲ８０７とＲ８０８の少なくとも一組は、互いに結合して下記一般式（８３）で示される２価の基を形成するか、又は互いに結合しない。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177
（前記一般式（８２）で示される２価の基を形成しないＲ８０１～Ｒ８０４、及びＲ８１１～Ｒ８１４の少なくとも１つは下記一般式（８４）で表される１価の基であり、
　前記一般式（８３）で示される２価の基を形成しないＲ８０５～Ｒ８０８、及びＲ８２１～Ｒ８２４の少なくとも１つは下記一般式（８４）で表される１価の基であり、
　Ｘ８は、ＣＲ８１Ｒ８２、酸素原子、硫黄原子、又はＮＲ８０９であり、
　Ｒ８１及びＲ８２からなる組が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記一般式（８２）及び一般式（８３）で表される２価の基を形成せず、かつ、前記一般式（８４）で表される１価の基ではないＲ８０１～Ｒ８０８、前記一般式（８４）で表される１価の基ではないＲ８１１～Ｒ８１４及びＲ８２１～Ｒ８２４、前記置換もしくは無置換の単環を形成せず、かつ前記置換もしくは無置換の縮合環を形成しないＲ８１及びＲ８２、並びにＲ８０９は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178
（前記一般式（８４）において、
　Ａｒ８０１及びＡｒ８０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｌ８０１～Ｌ８０３は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基及び置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基からなる群から選択される２～４個の基が結合して形成される２価の連結基であり、
　前記一般式（８４）中の＊は、前記一般式（８）で表される環構造、一般式（８２）又は一般式（８３）で表される基との結合位置を示す。）
　Ｒ８０１とＲ８０２、Ｒ８０２とＲ８０３、及びＲ８０３とＲ８０４の少なくとも一組が互いに結合し、かつＲ８０５とＲ８０６、Ｒ８０６とＲ８０７、及びＲ８０７とＲ８０８が互いに結合しないことも好ましい。
　Ｒ８０１とＲ８０２、Ｒ８０２とＲ８０３、及びＲ８０３とＲ８０４が互いに結合せず、かつＲ８０５とＲ８０６、Ｒ８０６とＲ８０７、及びＲ８０７とＲ８０８の少なくとも一組が互いに結することも好ましい。
　Ｒ８０１とＲ８０２、Ｒ８０２とＲ８０３、及びＲ８０３とＲ８０４の少なくとも一組が互いに結合して下記一般式（８２）で示される２価の基を形成し、かつＲ８０５とＲ８０６、Ｒ８０６とＲ８０７、及びＲ８０７とＲ８０８の少なくとも一組が互いに結合して下記一般式（８３）で示される２価の基を形成することも好ましい。
　前記一般式（８）において、前記一般式（８２）で示される２価の基及び一般式（８３）で示される２価の基が形成される位置は特に限定されず、Ｒ８０１～Ｒ８０８の可能な位置において当該基を形成し得る。
　一実施形態において、前記一般式（８）で表される化合物は、下記一般式（８１Ａ－１）～（８１Ａ－３）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000179
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180
（前記一般式（８１Ａ－１）～一般式（８１Ａ－３）において、
　Ｘ８は、前記一般式（８）におけるＸ８と同義であり、
　前記一般式（８１Ａ－１）におけるＲ８０３、Ｒ８０４、並びにＲ８１１～Ｒ８１４のうち少なくとも一つが、前記一般式（８４）で表される１価の基であり、
　前記一般式（８１Ａ－２）におけるＲ８０１、Ｒ８０４、並びにＲ８１１～Ｒ８１４のうち少なくとも一つが、前記一般式（８４）で表される１価の基であり、
　前記一般式（８１Ａ－３）におけるＲ８０１、Ｒ８０２、並びにＲ８１１～Ｒ８１４のうち少なくとも一つが、前記一般式（８４）で表される１価の基であり、
　前記一般式（８１Ａ－１）～一般式（８１Ａ－３）におけるＲ８０５～Ｒ８０８のうち少なくとも一つが、前記一般式（８４）で表される１価の基であり、
　前記一般式（８４）で表される１価の基ではないＲ８０１～Ｒ８０８及びＲ８１１～Ｒ８１４は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　一実施形態において、前記一般式（８）で表される化合物は、下記一般式（８１－１）～（８１－６）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000181
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000182
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000183
（前記一般式（８１－１）～一般式（８１－６）において、
　Ｘ８は、前記一般式（８）におけるＸ８と同義であり、
　Ｒ８０１～Ｒ８２４のうち少なくとも２つは、前記一般式（８４）で表される１価の基であり、
　前記一般式（８４）で表される１価の基ではないＲ８０１～Ｒ８２４は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　一実施形態において、前記一般式（８）で表される化合物は、下記一般式（８１－７）～（８１－１８）のいずれかで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000184
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000185
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000186
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000187
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000188
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000189
（前記一般式（８１－７）～一般式（８１－１８）において、
　Ｘ８は、前記一般式（８）におけるＸ８と同義であり、
　＊は、前記一般式（８４）で表される１価の基と結合する単結合であり、
　Ｒ８０１～Ｒ８２４は、それぞれ独立に、前記一般式（８１－１）～一般式（８１－６）における前記一般式（８４）で表される１価の基ではないＲ８０１～Ｒ８２４とと同義である。）
　前記一般式（８２）及び一般式（８３）で表される２価の基を形成せず、かつ、前記一般式（８４）で表される１価の基ではないＲ８０１～Ｒ８０８、及び、前記一般式（８４）で表される１価の基ではないＲ８１１～Ｒ８１４及びＲ８２１～Ｒ８２４は、好ましくは、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　前記一般式（８４）で表される１価の基は、好ましくは下記一般式（８５）又は一般式（８６）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000190
（前記一般式（８５）において、
　Ｒ８３１～Ｒ８４０は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　前記一般式（８５）中の＊は、前記一般式（８４）中の＊と同義である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000191
（前記一般式（８６）において、
　Ａｒ８０１、Ｌ８０１及びＬ８０３は、前記一般式（８４）におけるＡｒ８０１、Ｌ８０１及びＬ８０３と同義であり、
　ＨＡｒ８０１は、下記一般式（８７）で表される構造である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000192
（前記一般式（８７）において、
　Ｘ８１は、酸素原子又は硫黄原子であり、
　Ｒ８４１～Ｒ８４８のいずれか１つは、Ｌ８０３に結合する単結合であり、
　単結合ではないＲ８４１～Ｒ８４８は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　前記一般式（８）で表される化合物としては、国際公開第２０１４／１０４１４４号に記載の化合物の他、例えば、以下に示す化合物が具体例として挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000193
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000194
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000195
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000196
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000197
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000198
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000199
（一般式（９）で表される化合物）
　一般式（９）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000200
（前記一般式（９）において、
　Ａ９１環及びＡ９２環は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環、又は、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環であり、
　Ａ９１環及びＡ９２環からなる群から選択される１以上の環は、
　下記一般式（９２）で表される構造の＊と結合する。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000201
（前記一般式（９２）において、
　Ａ９３環は、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環、又は、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環であり、
　Ｘ９は、ＮＲ９３、Ｃ（Ｒ９４）（Ｒ９５）、Ｓｉ（Ｒ９６）（Ｒ９７）、Ｇｅ（Ｒ９８）（Ｒ９９）、酸素原子、硫黄原子又はセレン原子であり、
　Ｒ９１及びＲ９２は、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ９１及びＲ９２、並びにＲ９３～Ｒ９９は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　Ａ９１環及びＡ９２環からなる群から選択される１以上の環は、前記一般式（９２）で表される構造の＊と結合する。即ち、一実施形態において、Ａ９１環の前記芳香族炭化水素環の環形成炭素原子、又は前記複素環の環形成原子は、前記一般式（９２）で表される構造の＊と結合する。また、一実施形態において、Ａ９２環の前記芳香族炭化水素環の環形成炭素原子、又は前記複素環の環形成原子は、前記一般式（９２）で表される構造の＊と結合する。
　一実施形態において、Ａ９１環及びＡ９２環のいずれか又は両方に下記一般式（９３）で表される基が結合する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000202
（前記一般式（９３）において、
　Ａｒ９１及びＡｒ９２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｌ９１～Ｌ９３は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリーレン基及び置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の２価の複素環基からなる群から選択される２～４個結合して形成される２価の連結基であり、
　前記一般式（９３）中の＊は、Ａ９１環及びＡ９２環のいずれかとの結合位置を示す。）
　一実施形態において、Ａ９１環に加えて、Ａ９２環の前記芳香族炭化水素環の環形成炭素原子、又は前記複素環の環形成原子は、前記一般式（９２）で表される構造の＊と結合する。この場合、前記一般式（９２）で表される構造は、互いに同一でもよいし異なってもよい。
　一実施形態において、Ｒ９１及びＲ９２は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態において、Ｒ９１及びＲ９２は、互いに結合してフルオレン構造を形成する。
　一実施形態において、環Ａ９１及び環Ａ９２は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環であり、例えば、置換もしくは無置換のベンゼン環である。
　一実施形態において、環Ａ９３は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環であり、例えば、置換もしくは無置換のベンゼン環である。
　一実施形態において、Ｘ９は、酸素原子又は硫黄原子である。
　前記一般式（９）で表される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が具体例として挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000203
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000204
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000205
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000206
（一般式（１０）で表される化合物）
　一般式（１０）で表される化合物について説明する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000207
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000208
（前記一般式（１０）において、
　Ａｘ１環は、隣接環の任意の位置で縮合する前記一般式（１０ａ）で表される環であり、
　Ａｘ２環は、隣接環の任意の位置で縮合する前記一般式（１０ｂ）で表される環であり、
　前記一般式（１０ｂ）中の２つの＊は、Ａｘ３環の任意の位置と結合し、
　ＸＡ及びＸＢは、それぞれ独立に、Ｃ（Ｒ１００３）（Ｒ１００４）、Ｓｉ（Ｒ１００５）（Ｒ１００６）、酸素原子又は硫黄原子であり、
　Ａｘ３環は、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環であり、
　Ａｒ１００１は、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ１００１～Ｒ１００６は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　ｍｘ１は、３であり、ｍｘ２は、２であり、
　複数のＲ１００１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　複数のＲ１００２は、互いに同一であるか、又は異なり、
　ａｘは、０、１又は２であり、
　ａｘが０又は１の場合、「３－ａｘ」で示されるカッコ内の構造は、互いに同一であるか、又は異なり、
　ａｘが２の場合、複数のＡｒ１００１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　一実施形態において、Ａｒ１００１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である。
　一実施形態において、Ａｘ３環は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０の芳香族炭化水素環であり、例えば、置換もしくは無置換のベンゼン環、置換もしくは無置換のナフタレン環、又は置換もしくは無置換のアントラセン環である。
　一実施形態において、Ｒ１００３及びＲ１００４は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基である。
　一実施形態において、ａｘは１である。
　前記一般式（１０）で表される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が具体例として挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000209
　一実施形態においては、前記発光層が、第二の化合物として、
　前記一般式（４）で表される化合物、
　前記一般式（５）で表される化合物、
　前記一般式（７）で表される化合物、
　前記一般式（８）で表される化合物、
　前記一般式（９）で表される化合物及び
　下記一般式（６３ａ）で表される化合物からなる群から選択される１以上の化合物を含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000210
（前記一般式（６３ａ）において、
　Ｒ６３１は、Ｒ６４６と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成しない。
　Ｒ６３３は、Ｒ６４７と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成しない。
　Ｒ６３４は、Ｒ６５１と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成しない。
　Ｒ６４１は、Ｒ６４２と結合して、置換もしくは無置換の複素環を形成するか、あるいは置換もしくは無置換の複素環を形成しない。
　Ｒ６３１～Ｒ６５１のうちの隣接する２つ以上の１組以上は、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記置換もしくは無置換の複素環を形成せず、前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ６３１～Ｒ６５１は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　但し、前記置換もしくは無置換の複素環を形成せず、前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ６３１～Ｒ６５１のうちの少なくとも１つは、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
　一実施形態においては、前記一般式（４）で表される化合物が、前記一般式（４１－３）、一般式（４１－４）又は一般式（４１－５）で表される化合物であり、前記一般式（４１－５）中のＡ１環が、置換もしくは無置換の環形成炭素数１０～５０の縮合芳香族炭化水素環、又は置換もしくは無置換の環形成原子数８～５０の縮合複素環である。
　一実施形態においては、前記一般式（４１－３）、一般式（４１－４）、及び一般式（４１－５）における、前記置換もしくは無置換の環形成炭素数１０～５０の縮合芳香族炭化水素環が、
　　置換もしくは無置換のナフタレン環、
　　置換もしくは無置換のアントラセン環、又は
　　置換もしくは無置換のフルオレン環であり、
　前記置換もしくは無置換の環形成原子数８～５０の縮合複素環が、
　　置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、
　　置換もしくは無置換のカルバゾール環、又は
　　置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環である。
　一実施形態においては、前記一般式（４１－３）、一般式（４１－４）又は一般式（４１－５）における、前記置換もしくは無置換の環形成炭素数１０～５０の縮合芳香族炭化水素環が、
　　置換もしくは無置換のナフタレン環、又は
　　置換もしくは無置換のフルオレン環であり、
　前記置換もしくは無置換の環形成原子数８～５０の縮合複素環が、
　　置換もしくは無置換のジベンゾフラン環、
　　置換もしくは無置換のカルバゾール環、又は
　　置換もしくは無置換のジベンゾチオフェン環である。
　一実施形態においては、前記一般式（４）で表される化合物が、
　　下記一般式（４６１）で表される化合物、
　　下記一般式（４６２）で表される化合物、
　　下記一般式（４６３）で表される化合物、
　　下記一般式（４６４）で表される化合物、
　　下記一般式（４６５）で表される化合物、
　　下記一般式（４６６）で表される化合物、及び
　　下記一般式（４６７）で表される化合物からなる群から選択される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000211
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000212
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000213
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000214
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000215
（前記一般式（４６１）～（４６７）中、
　Ｒ４２１～Ｒ４２７、Ｒ４３１～Ｒ４３６、Ｒ４４０～Ｒ４４８及びＲ４５１～Ｒ４５４のうちの隣接する２つ以上からなる組の１組以上が、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して、置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　Ｒ４３７、Ｒ４３８、並びに前記単環を形成せず、かつ前記縮合環を形成しないＲ４２１～Ｒ４２７、Ｒ４３１～Ｒ４３６、Ｒ４４０～Ｒ４４８及びＲ４５１～Ｒ４５４は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｘ４は、酸素原子、ＮＲ８０１、又はＣ（Ｒ８０２）（Ｒ８０３）であり、
　Ｒ８０１、Ｒ８０２及びＲ８０３は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０３が複数存在する場合、複数のＲ８０３は、互いに同一であるか又は異なる。）
　一実施形態においては、Ｒ４２１～Ｒ４２７及びＲ４４０～Ｒ４４８が、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　一実施形態においては、Ｒ４２１～Ｒ４２７及びＲ４４０～Ｒ４４７が、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～１８のアリール基、及び
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～１８の複素環基からなる群から選択される。
　一実施形態においては、前記一般式（４１－３）で表される化合物が、下記一般式（４１－３－１）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000216
（前記一般式（４１－３－１）中、Ｒ４２３、Ｒ４２５、Ｒ４２６、Ｒ４４２、Ｒ４４４及びＲ４４５は、それぞれ独立に、前記一般式（４１－３）におけるＲ４２３、Ｒ４２５、Ｒ４２６、Ｒ４４２、Ｒ４４４及びＲ４４５と同義である。）
　一実施形態においては、前記一般式（４１－３）で表される化合物が、下記一般式（４１－３－２）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000217
（前記一般式（４１－３－２）中、Ｒ４２１～Ｒ４２７及びＲ４４０～Ｒ４４８は、それぞれ独立に、前記一般式（４１－３）におけるＲ４２１～Ｒ４２７及びＲ４４０～Ｒ４４８と同義であり、
　但し、Ｒ４２１～Ｒ４２７及びＲ４４０～Ｒ４４６の少なくとも１つは、－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基である。）
　一実施形態においては、前記式（４１－３－２）における、Ｒ４２１～Ｒ４２７及びＲ４４０～Ｒ４４６のいずれか２つが、－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基である。
　一実施形態においては、前記式（４１－３－２）で表される化合物が、下記式（４１－３－３）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000218
（前記一般式（４１－３－３）中、Ｒ４２１～Ｒ４２４、Ｒ４４０～Ｒ４４３、Ｒ４４７及びＲ４４８は、それぞれ独立に、前記一般式（４１－３）におけるＲ４２１～Ｒ４２４、Ｒ４４０～Ｒ４４３、Ｒ４４７及びＲ４４８と同義であり、
　ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤは、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～１８のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～１８の複素環基である。）
　一実施形態においては、前記式（４１－３－３）で表される化合物が、下記式（４１－３－４）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000219
（前記一般式（４１－３－４）中、Ｒ４４７、Ｒ４４８、ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤは、それぞれ独立に、前記式（４１－３－３）におけるＲ４４７、Ｒ４４８、ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤと同義である。）
　一実施形態においては、ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤが、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～１８のアリール基である。
　一実施形態においては、ＲＡ、ＲＢ、ＲＣ及びＲＤが、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のフェニル基である。
　一実施形態においては、Ｒ４４７及びＲ４４８が、水素原子である。
　一実施形態においては、前記各式中の「置換もしくは無置換の」という場合における置換基が、
　　無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１ａ）（Ｒ９０２ａ）（Ｒ９０３ａ）、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４ａ）、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５ａ）、
　　－Ｎ（Ｒ９０６ａ）（Ｒ９０７ａ）、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ９０１ａ～Ｒ９０７ａは、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ９０１ａが２以上存在する場合、２以上のＲ９０１ａは、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０２ａが２以上存在する場合、２以上のＲ９０２ａは、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０３ａが２以上存在する場合、２以上のＲ９０３ａは、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０４ａが２以上存在する場合、２以上のＲ９０４ａは、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０５ａが２以上存在する場合、２以上のＲ９０５ａは、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０６ａが２以上存在する場合、２以上のＲ９０６ａは、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９０７ａが２以上存在する場合、２以上のＲ９０７ａは、互いに同一であるか、又は異なる。
　一実施形態においては、前記各式中の「置換もしくは無置換の」という場合における置換基が、
　　無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。
　一実施形態においては、前記各式中の「置換もしくは無置換の」という場合における置換基が、
　　無置換の炭素数１～１８のアルキル基、
　　無置換の環形成炭素数６～１８のアリール基、又は
　　無置換の環形成原子数５～１８の複素環基である。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第二の化合物は、最大のピーク波長が４３０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の発光を示す化合物であることが好ましい。
　化合物の最大のピーク波長の測定方法は、次の通りである。測定対象となる化合物の１０－６ｍｏｌ／Ｌ以上１０－５ｍｏｌ／Ｌ以下のトルエン溶液を調製して石英セルに入れ、常温（３００Ｋ）でこの試料の発光スペクトル（縦軸：発光強度、横軸：波長とする。）を測定する。発光スペクトルは、株式会社日立ハイテクサイエンス製の分光光度計（装置名：Ｆ－７０００）により測定できる。なお、発光スペクトル測定装置は、ここで用いた装置に限定されない。
　発光スペクトルにおいて、発光強度が最大となる発光スペクトルのピーク波長を発光最大ピーク波長とする。なお、本明細書において、蛍光発光の最大ピーク波長を蛍光発光最大ピーク波長（ＦＬ－ｐｅａｋ）と称する場合がある。
　第二の化合物において、「置換もしくは無置換」と記載された基は、いずれも「無置換」の基であることが好ましい。
・第三の化合物及び第五の化合物
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、ホスト材料としての第三の化合物及び第五の化合物は、例えば、複素環化合物及び縮合芳香族化合物等が挙げられる。縮合芳香族化合物としては、例えば、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、クリセン誘導体、及びナフタセン誘導体等が好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第三の化合物は、前記一般式（１）で表される化合物であることも好ましい。この場合において、第一の正孔輸送層が含有する第一の化合物としての一般式（１）で表される化合物と、発光層が含有する第三の化合物としての一般式（１）で表される化合物とは、互いに同一であるか又は異なる。
　第一の発光層中の第三の化合物は、前記一般式（１）で表される化合物であり、第二の発光層中の第五の化合物は、前記一般式（１）で表される化合物ではないことも好ましい。この場合において、第一の正孔輸送層が含有する第一の化合物としての一般式（１）で表される化合物と、第一の発光層が含有する第三の化合物としての一般式（１）で表される化合物とは、互いに同一であるか又は異なる。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、第三の化合物は、下記一般式（２）で表される化合物であることも好ましい。
　第二の発光層中の第五の化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であり、第一の発光層中の第三の化合物は、下記一般式（２）で表される化合物ではないことも好ましい。
　第一の発光層中の第三の化合物が、前記一般式（１）で表される化合物であり、第二の発光層中の第五の化合物が、下記一般式（２）で表される化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000220
（前記一般式（２）において、
　Ｒ２０１～Ｒ２０８は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｌ２０１及びＬ２０２は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　Ａｒ２０１及びＡｒ２０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である。）
（本実施形態に係る第三の化合物中、Ｒ９０１、Ｒ９０２、Ｒ９０３、Ｒ９０４、Ｒ９０５、Ｒ９０６、Ｒ９０７、Ｒ８０１及びＲ８０２は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
　Ｒ９０１が複数存在する場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０２が複数存在する場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０３が複数存在する場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０４が複数存在する場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０５が複数存在する場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０６が複数存在する場合、複数のＲ９０６は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ９０７が複数存在する場合、複数のＲ９０７は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なる。）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　Ｒ２０１～Ｒ２０８は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
　　－Ｎ（Ｒ９０６）（Ｒ９０７）で表される基、
　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
　　ハロゲン原子、
　　シアノ基、又は
　　ニトロ基であり、
　Ｌ２０１及びＬ２０２は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
　Ａｒ２０１及びＡｒ２０２は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　Ｌ２０１及びＬ２０２は、それぞれ独立に、
　　単結合、又は
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基であり、
　Ａｒ２０１及びＡｒ２０２は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　Ａｒ２０１及びＡｒ２０２は、それぞれ独立に、
　　フェニル基、
　　ナフチル基、
　　フェナントリル基、
　　ビフェニル基、
　　ターフェニル基、
　　ジフェニルフルオレニル基、
　　ジメチルフルオレニル基、
　　ベンゾジフェニルフルオレニル基、
　　ベンゾジメチルフルオレニル基、
　　ジベンゾフラニル基、
　　ジベンゾチエニル基、
　　ナフトベンゾフラニル基、又は
　　ナフトベンゾチエニル基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、前記一般式（２）で表される第三の化合物は、下記一般式（２０１）、一般式（２０２）、一般式（２０３）、一般式（２０４）、一般式（２０５）、一般式（２０６）、一般式（２０７）、一般式（２０８）、一般式（２０９）又は一般式（２１０）で表される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000221
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000222
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000223
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000224
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000225
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000226
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000227
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000228
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000229
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000230
（前記一般式（２０１）～（２１０）中、
　Ｌ２０１及びＡｒ２０１は、前記一般式（２）におけるＬ２０１及びＡｒ２０１と同義であり、
　Ｒ２０１～Ｒ２０８は、それぞれ独立に、前記一般式（２）におけるＲ２０１～Ｒ２０８と同義である。）
　前記一般式（２）で表される第三の化合物は、下記一般式（２２１）、一般式（２２２）、一般式（２２３）、一般式（２２４）、一般式（２２５）、一般式（２２６）、一般式（２２７）、一般式（２２８）又は一般式（２２９）で表される化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000231
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000232
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000233
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000234
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000235
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000236
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000237
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000238
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000239
（前記一般式（２２１）、一般式（２２２）、一般式（２２３）、一般式（２２４）、一般式（２２５）、一般式（２２６）、一般式（２２７）、一般式（２２８）及び一般式（２２９）において、
　Ｒ２０１並びにＲ２０３～Ｒ２０８は、それぞれ独立に、前記一般式（２）におけるＲ２０１並びにＲ２０３～Ｒ２０８と同義であり、
　Ｌ２０１及びＡｒ２０１は、それぞれ、前記一般式（２）におけるＬ２０１及びＡｒ２０１と同義であり、
　Ｌ２０３は、前記一般式（２）におけるＬ２０１と同義であり、
　Ｌ２０３とＬ２０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ａｒ２０３は、前記一般式（２）におけるＡｒ２０１と同義であり、
　Ａｒ２０３とＡｒ２０１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　前記一般式（２）で表される第三の化合物は、下記一般式（２４１）、一般式（２４２）、一般式（２４３）、一般式（２４４）、一般式（２４５）、一般式（２４６）、一般式（２４７）、一般式（２４８）又は一般式（２４９）で表される化合物であることも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000240
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（前記一般式（２４１）、一般式（２４２）、一般式（２４３）、一般式（２４４）、一般式（２４５）、一般式（２４６）、一般式（２４７）、一般式（２４８）及び一般式（２４９）において、
　Ｒ２０１、Ｒ２０２並びにＲ２０４～Ｒ２０８は、それぞれ独立に、前記一般式（２）におけるＲ２０１、Ｒ２０２並びにＲ２０４～Ｒ２０８と同義であり、
　Ｌ２０１及びＡｒ２０１は、それぞれ、前記一般式（２）におけるＬ２０１及びＡｒ２０１と同義であり、
　Ｌ２０３は、前記一般式（２）におけるＬ２０１と同義であり、
　Ｌ２０３とＬ２０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ａｒ２０３は、前記一般式（２）におけるＡｒ２０１と同義であり、
　Ａｒ２０３とＡｒ２０１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　前記一般式（２）で表される第三の化合物中、前記一般式（２１）で表される基ではないＲ２０１～Ｒ２０８は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、又は
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基であることが好ましい。
　Ｌ１０１は、
　　単結合、又は
　　無置換の環形成炭素数６～２２のアリーレン基であり、
　Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～２２のアリール基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　前記一般式（２）で表される第三の化合物中、Ｒ２０１～Ｒ２０８は、それぞれ独立に、
　　水素原子、
　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、又は
　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基であることが好ましい。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、
　前記一般式（２）で表される第三の化合物中、Ｒ２０１～Ｒ２０８は、水素原子であることが好ましい。
　前記第三の化合物において、「置換もしくは無置換」と記載された基は、いずれも「無置換」の基であることが好ましい。
（第三の化合物の製造方法）
　第三の化合物は、公知の方法により製造できる。また、第三の化合物は、公知の方法に倣い、目的物に合わせた既知の代替反応及び原料を用いることによっても、製造できる。
（第三の化合物の具体例）
　第三の化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。ただし、本発明は、これら第三の化合物の具体例に限定されない。また、第三の化合物が前記一般式（１）で表される化合物である場合、第一の化合物の具体例として示された化合物も、第三の化合物の具体例として挙げることもできる。
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Figure JPOXMLDOC01-appb-C000274
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子において、発光層が第二の化合物及び第三の化合物を含む場合、第三の化合物の一重項エネルギーＳ１（Ｈ３）と、第二の化合物の一重項エネルギーＳ１（Ｄ２）とが、下記数式（数１）の関係を満たすことが好ましい。
　　　Ｓ１（Ｈ３）＞Ｓ１（Ｄ２）…（数１）
（一重項エネルギーＳ１）
　溶液を用いた一重項エネルギーＳ１の測定方法（溶液法と称する場合がある。）としては、下記の方法が挙げられる。
　測定対象となる化合物の１０－５ｍｏｌ／Ｌ以上１０－４ｍｏｌ／Ｌ以下のトルエン溶液を調製して石英セルに入れ、常温（３００Ｋ）でこの試料の吸収スペクトル（縦軸：吸収強度、横軸：波長とする。）を測定する。この吸収スペクトルの長波長側の立ち下がりに対して接線を引き、その接線と横軸との交点の波長値λｅｄｇｅ［ｎｍ］を次に示す換算式（Ｆ２）に代入して一重項エネルギーを算出する。
　　換算式（Ｆ２）：Ｓ１［ｅＶ］＝１２３９．８５／λｅｄｇｅ
　吸収スペクトル測定装置としては、例えば、日立社製の分光光度計（装置名：Ｕ３３１０）が挙げられるが、これに限定されない。
　吸収スペクトルの長波長側の立ち下がりに対する接線は以下のように引く。吸収スペクトルの極大値のうち、最も長波長側の極大値から長波長方向にスペクトル曲線上を移動する際に、曲線上の各点における接線を考える。この接線は、曲線が立ち下がるにつれ（つまり縦軸の値が減少するにつれ）、傾きが減少しその後増加することを繰り返す。傾きの値が最も長波長側（ただし、吸光度が０．１以下となる場合は除く）で極小値をとる点において引いた接線を当該吸収スペクトルの長波長側の立ち下がりに対する接線とする。
　なお、吸光度の値が０．２以下の極大点は、上記最も長波長側の極大値には含めない。
（発光層の膜厚）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子の発光層の膜厚は、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、７ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。発光層の膜厚が５ｎｍ以上であると、発光層を形成し易く、色度を調整し易い。発光層の膜厚が５０ｎｍ以下であると、駆動電圧の上昇を抑制し易い。
（発光層における化合物の含有率）
　発光層が第二の化合物及び第三の化合物を含有する場合、発光層における第二の化合物及び第三の化合物の含有率は、例えば、それぞれ、以下の範囲であることが好ましい。
　第三の化合物の含有率は、８０質量％以上９９質量％以下であることが好ましく、９０質量％以上９９質量％以下であることがより好ましく、９５質量％以上９９質量％以下であることがさらに好ましい。
　第二の化合物の含有率は、１質量％以上１０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上７質量％以下であることがより好ましく、１質量％以上５質量％以下であることがさらに好ましい。
　ただし、発光層における第二の化合物及び第三の化合物の合計含有率の上限は、１００質量％である。
　なお、本実施形態は、発光層に、第二の化合物及び第三の化合物以外の材料が含まれることを除外しない。
　発光層は、第二の化合物を１種のみ含んでもよいし、２種以上含んでもよい。発光層は、第三の化合物を１種のみ含んでもよいし、２種以上含んでもよい。
　有機ＥＬ素子の構成についてさらに説明する。以下、符号の記載は省略することがある。
（基板）
　基板は、有機ＥＬ素子の支持体として用いられる。基板としては、例えば、ガラス、石英、及びプラスチック等を用いることができる。また、可撓性基板を用いてもよい。可撓性基板とは、折り曲げることができる（フレキシブル）基板のことであり、例えば、プラスチック基板等が挙げられる。プラスチック基板を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリフッ化ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、及びポリエチレンナフタレート等が挙げられる。また、無機蒸着フィルムを用いることもできる。
（陽極）
　基板上に形成される陽極には、仕事関数の大きい（具体的には４．０ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。具体的には、例えば、酸化インジウム－酸化スズ（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）、珪素もしくは酸化珪素を含有した酸化インジウム－酸化スズ、酸化インジウム－酸化亜鉛、酸化タングステン、および酸化亜鉛を含有した酸化インジウム、グラフェン等が挙げられる。この他、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、チタン（Ｔｉ）、または金属材料の窒化物（例えば、窒化チタン）等が挙げられる。
　これらの材料は、通常、スパッタリング法により成膜される。例えば、酸化インジウム－酸化亜鉛は、酸化インジウムに対し１質量％以上１０質量％以下の酸化亜鉛を加えたターゲットを用いることにより、スパッタリング法で形成することができる。また、例えば、酸化タングステン、および酸化亜鉛を含有した酸化インジウムは、酸化インジウムに対し酸化タングステンを０．５質量％以上５質量％以下、酸化亜鉛を０．１質量％以上１質量％以下含有したターゲットを用いることにより、スパッタリング法で形成することができる。その他、真空蒸着法、塗布法、インクジェット法、スピンコート法などにより作製してもよい。
　陽極上に形成されるＥＬ層のうち、陽極に接して形成される正孔注入層は、陽極の仕事関数に関係なく正孔（ホール）注入が容易である複合材料を用いて形成されるため、電極材料として可能な材料（例えば、金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物、その他、元素周期表の第１族または第２族に属する元素も含む）を用いることができる。
　仕事関数の小さい材料である、元素周期表の第１族または第２族に属する元素、すなわちリチウム（Ｌｉ）やセシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属、およびマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金（例えば、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、イッテルビウム（Ｙｂ）等の希土類金属およびこれらを含む合金等を用いることもできる。なお、アルカリ金属、アルカリ土類金属、およびこれらを含む合金を用いて陽極を形成する場合には、真空蒸着法やスパッタリング法を用いることができる。さらに、銀ペーストなどを用いる場合には、塗布法やインクジェット法などを用いることができる。
（陰極）
　陰極には、仕事関数の小さい（具体的には３．８ｅＶ以下）金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。このような陰極材料の具体例としては、元素周期表の第１族または第２族に属する元素、すなわちリチウム（Ｌｉ）やセシウム（Ｃｓ）等のアルカリ金属、およびマグネシウム（Ｍｇ）、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）等のアルカリ土類金属、およびこれらを含む合金（例えば、ＭｇＡｇ、ＡｌＬｉ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、イッテルビウム（Ｙｂ）等の希土類金属およびこれらを含む合金等が挙げられる。
　なお、アルカリ金属、アルカリ土類金属、これらを含む合金を用いて陰極を形成する場合には、真空蒸着法やスパッタリング法を用いることができる。また、銀ペーストなどを用いる場合には、塗布法やインクジェット法などを用いることができる。
　なお、電子注入層を設けることにより、仕事関数の大小に関わらず、Ａｌ、Ａｇ、ＩＴＯ、グラフェン、珪素もしくは酸化珪素を含有した酸化インジウム－酸化スズ等様々な導電性材料を用いて陰極を形成することができる。これらの導電性材料は、スパッタリング法やインクジェット法、スピンコート法等を用いて成膜することができる。
（正孔注入層）
　正孔注入層は、正孔注入性の高い物質を含む層である。正孔注入性の高い物質としては、モリブデン酸化物、チタン酸化物、バナジウム酸化物、レニウム酸化物、ルテニウム酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、銀酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物等を用いることができる。
　また、正孔注入性の高い物質としては、低分子の有機化合物である４，４’，４’’－トリス（Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン（略称：ＴＤＡＴＡ）、４，４’，４’’－トリス［Ｎ－（３－メチルフェニル）－Ｎ－フェニルアミノ］トリフェニルアミン（略称：ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’－ビス［Ｎ－（４－ジフェニルアミノフェニル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＤＰＡＢ）、４，４’－ビス（Ｎ－｛４－［Ｎ’－（３－メチルフェニル）－Ｎ’－フェニルアミノ］フェニル｝－Ｎ－フェニルアミノ）ビフェニル（略称：ＤＮＴＰＤ）、１，３，５－トリス［Ｎ－（４－ジフェニルアミノフェニル）－Ｎ－フェニルアミノ］ベンゼン（略称：ＤＰＡ３Ｂ）、３－［Ｎ－（９－フェニルカルバゾール－３－イル）－Ｎ－フェニルアミノ］－９－フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＡ１）、３，６－ビス［Ｎ－（９－フェニルカルバゾール－３－イル）－Ｎ－フェニルアミノ］－９－フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＡ２）、３－［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－（９－フェニルカルバゾール－３－イル）アミノ］－９－フェニルカルバゾール（略称：ＰＣｚＰＣＮ１）等の芳香族アミン化合物等やジピラジノ［２，３－ｆ：２０，３０－ｈ］キノキサリン－２，３，６，７，１０，１１－ヘキサカルボニトリル（ＨＡＴ－ＣＮ）も挙げられる。
　また、正孔注入性の高い物質としては、高分子化合物（オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等）を用いることもできる。例えば、ポリ（Ｎ－ビニルカルバゾール）（略称：ＰＶＫ）、ポリ（４－ビニルトリフェニルアミン）（略称：ＰＶＴＰＡ）、ポリ［Ｎ－（４－｛Ｎ’－［４－（４－ジフェニルアミノ）フェニル］フェニル－Ｎ’－フェニルアミノ｝フェニル）メタクリルアミド］（略称：ＰＴＰＤＭＡ）、ポリ［Ｎ，Ｎ’－ビス（４－ブチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ビス（フェニル）ベンジジン］（略称：Ｐｏｌｙ－ＴＰＤ）などの高分子化合物が挙げられる。また、ポリ（３，４－エチレンジオキシチオフェン）／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）、ポリアニリン／ポリ（スチレンスルホン酸）（ＰＡｎｉ／ＰＳＳ）等の酸を添加した高分子化合物を用いることもできる。
（正孔輸送層）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層以外にさらに正孔輸送層を有していてもよい。
（第二の正孔輸送層）
　一実施形態に係る有機ＥＬ素子は、陽極と第一の正孔輸送層との間に配置された第二の正孔輸送層をさらに備える。図２には、第一の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を備える有機ＥＬ素子の概略構成の一例が示されている。
　有機ＥＬ素子１Ａは、透光性の基板２と、陽極３と、陰極４と、陽極３と陰極４との間に配置された有機層１０Ａと、を含む。有機層１０Ａは、陽極３側から順に、正孔注入層６、第二の正孔輸送層７２、第一の正孔輸送層７１、発光層５、電子輸送層８、及び電子注入層９が、この順番で積層されて構成される。
　図４にも、第一の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を備える有機ＥＬ素子の概略構成の一例が示されている。
　有機ＥＬ素子１Ｃは、透光性の基板２と、陽極３と、陰極４と、陽極３と陰極４との間に配置された有機層１０Ａと、を含む。有機層１０Ａは、陽極３側から順に、正孔注入層６、第二の正孔輸送層７２、第一の正孔輸送層７１、発光層５、電子輸送層８、及び電子注入層９が、この順番で積層されて構成され、発光層５は、さらに、第一の発光層５１及び第二の発光層５２を含む。
　第二の正孔輸送層を備える有機ＥＬ素子の場合、第一の正孔輸送層は、第一の正孔輸送層の陰極側の第一の面と、陽極側の第二の面と、を有する。第一の正孔輸送層の第一の面には、発光層が直に接している。
　第二の正孔輸送層は、第一の正孔輸送層に直に隣接することが好ましい。すなわち、第一の正孔輸送層の第二の面には、第二の正孔輸送層が直に接していることが好ましい。
　第二の正孔輸送層は、アミノ基を有する化合物を含有することが好ましい。アミノ基を有する化合物は、例えばＮ－（ＬＡＭＮ１－ＬＡＭＮ２－ＬＡＭＮ３－ＡｒＡＭＮ）３である。複数のＬＡＭＮ１、ＬＡＭＮ２、ＬＡＭＮ３、ＡｒＡＭＮはそれぞれ同一であってもよく、異なってもよい。ＬＡＭＮ１、ＬＡＭＮ２、ＬＡＭＮ３は単結合、置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換の２価の複素環基である。ＡｒＡＭＮは置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換の複素環基である。ＬＡＭＮ１、ＬＡＭＮ２、ＬＡＭＮ３、ＡｒＡＭＮは、例えばピレン構造を含まない。
　第二の正孔輸送層は、分子中にアミノ基を１つのみ有する化合物（モノアミン化合物と称する場合がある。）を含有していることも好ましい。
　第二の正孔輸送層は、下記一般式（Ｂ１）で表される化合物を含有することも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000275
（前記一般式（Ｂ１）において、
　ＬＡ１、ＬＢ１、及びＬＣ１は、それぞれ独立に、
　　単結合、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～１８のアリーレン基、又は
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～１３の２価の複素環基であり、
　ＬＡ１及びＬＢ１が単結合の場合、Ａ１及びＢ１が、
　　互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　ＬＡ１及びＬＣ１が単結合の場合、Ａ１及びＣ１が、
　　互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　ＬＢ１及びＬＣ１が単結合の場合、Ｂ１及びＣ１が、
　　互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
　　互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
　　互いに結合せず、
　前記置換もしくは無置換の単環を形成せず、かつ前記置換もしくは無置換の縮合環を形成しないＡ１、Ｂ１、及びＣ１は、それぞれ独立に、
　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、
　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の複素環基、又は
　　－Ｓｉ（Ｒ９２１）（Ｒ９２２）（Ｒ９２３）で表される基であり、
　Ｒ９２１、Ｒ９２２及びＲ９２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基であり、
　Ｒ９２１が複数存在する場合、複数のＲ９２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９２２が複数存在する場合、複数のＲ９２２は、互いに同一であるか、又は異なり、
　Ｒ９２３が複数存在する場合、複数のＲ９２３は、互いに同一であるか、又は異なる。）
　第二の正孔輸送層は、ピレン構造を含まない化合物のみからなることが好ましい。
　第二の正孔輸送層は、アミノ基を有する化合物のみからなることも好ましい。
　第二の正孔輸送層は、カルバゾリル基を有する化合物を含有することも好ましい。カルバゾリル基を有する化合物は、例えば、Ｃｚ－（ＬＣＺ１－ＬＣＺ２－ＬＣＺ３－ＡｒＣＺ）１、
Ｃｚ－（ＬＣＺ１－ＬＣＺ２－ＬＣＺ３－ＡｒＣＺ）２、Ｃｚ－（ＬＣＺ１－ＬＣＺ２－ＬＣＺ３－ＡｒＣＺ）３である。Ｃｚはカルバゾリル基である。複数のＬＣＺ１、ＬＣＺ２、ＬＣＺ３、ＡｒＣＺはそれぞれ同一であってもよく、異なってもよい。ＬＣＺ１は、Ｃｚの炭素原子または窒素原子に結合する。ＬＣＺ１、ＬＣＺ２、ＬＣＺ３は、単結合、置換もしくは無置換のアリーレン基、または置換もしくは無置換の２価の複素環基である。ＡｒＣＺは、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換の複素環基である。ＬＣＺ１、ＬＣＺ２、ＬＣＺ３、ＡｒＣＺは、例えばピレン構造を含まない。
　第一の正孔輸送層以外の正孔輸送層は、正孔輸送性の高い物質を含む層である。正孔輸送層には、芳香族アミン化合物、カルバゾール誘導体、アントラセン誘導体等を使用する事ができる。具体的には、４，４’－ビス［Ｎ－（１－ナフチル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＮＰＢ）やＮ，Ｎ’－ビス（３－メチルフェニル）－Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－［１，１’－ビフェニル］－４，４’－ジアミン（略称：ＴＰＤ）、４－フェニル－４’－（９－フェニルフルオレン－９－イル）トリフェニルアミン（略称：ＢＡＦＬＰ）、４，４’－ビス［Ｎ－（９，９－ジメチルフルオレン－２－イル）－Ｎ－フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＤＦＬＤＰＢｉ）、４，４’，４’’－トリス（Ｎ，Ｎ－ジフェニルアミノ）トリフェニルアミン（略称：ＴＤＡＴＡ）、４，４’，４’’－トリス［Ｎ－（３－メチルフェニル）－Ｎ－フェニルアミノ］トリフェニルアミン（略称：ＭＴＤＡＴＡ）、４，４’－ビス［Ｎ－（スピロ－９，９’－ビフルオレン－２－イル）－Ｎ―フェニルアミノ］ビフェニル（略称：ＢＳＰＢ）などの芳香族アミン化合物等を用いることができる。ここに述べた物質は、主に１０－６ｃｍ２／（Ｖ・ｓ）以上の正孔移動度を有する物質である。
　正孔輸送層には、ＣＢＰ、９－［４－（Ｎ－カルバゾリル）］フェニル－１０－フェニルアントラセン（ＣｚＰＡ）、９－フェニル－３－［４－（１０－フェニル－９－アントリル）フェニル］－９Ｈ－カルバゾール（ＰＣｚＰＡ）のようなカルバゾール誘導体や、ｔ－ＢｕＤＮＡ、ＤＮＡ、ＤＰＡｎｔｈのようなアントラセン誘導体を用いても良い。ポリ（Ｎ－ビニルカルバゾール）（略称：ＰＶＫ）やポリ（４－ビニルトリフェニルアミン）（略称：ＰＶＴＰＡ）等の高分子化合物を用いることもできる。
　第一の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層は、塩化アンチモン、酸化バナジウム、酸化モリブデン、酸化ルテニウム、酸化タングステン、酸化亜鉛、酸化錫、及び酸化鉄を含まないことが好ましく、無機化合物を含まないことがより好ましい。
　第一の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層は、ヘキサシアノアザトリフェニレンを含まないことが好ましい。
　但し、電子よりも正孔の輸送性の高い物質であれば、これら以外の物質を用いてもよい。なお、正孔輸送性の高い物質を含む層は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が二層以上積層したものとしてもよい。
　本実施形態の有機ＥＬ素子は、さらに、正孔輸送層として第三の正孔輸送層を有していてもよい。第三の正孔輸送層は、第二の正孔輸送層の陽極側に直接接していることが好ましい。
（電子輸送層）
　電子輸送層は、電子輸送性の高い物質を含む層である。電子輸送層には、１）アルミニウム錯体、ベリリウム錯体、亜鉛錯体等の金属錯体、２）イミダゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、アジン誘導体、カルバゾール誘導体、フェナントロリン誘導体等の複素芳香族化合物、３）高分子化合物を使用することができる。具体的には低分子の有機化合物として、Ａｌｑ、トリス（４－メチル－８－キノリノラト）アルミニウム（略称：Ａｌｍｑ３）、ビス（１０－ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリナト）ベリリウム（略称：ＢｅＢｑ２）、ＢＡｌｑ、Ｚｎｑ、ＺｎＰＢＯ、ＺｎＢＴＺなどの金属錯体等を用いることができる。また、金属錯体以外にも、２－（４－ビフェニリル）－５－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール（略称：ＰＢＤ）、１，３－ビス［５－（ｐｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－１，３，４－オキサジアゾール－２－イル］ベンゼン（略称：ＯＸＤ－７）、３－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－４－フェニル－５－（４－ビフェニリル）－１，２，４－トリアゾール（略称：ＴＡＺ）、３－（４－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）－４－（４－エチルフェニル）－５－（４－ビフェニリル）－１，２，４－トリアゾール（略称：ｐ－ＥｔＴＡＺ）、バソフェナントロリン（略称：ＢＰｈｅｎ）、バソキュプロイン（略称：ＢＣＰ）、４，４’－ビス（５－メチルベンゾオキサゾール－２－イル）スチルベン（略称：ＢｚＯｓ）などの複素芳香族化合物も用いることができる。本実施態様においては、ベンゾイミダゾール化合物を好適に用いることができる。ここに述べた物質は、主に１０－６ｃｍ２／（Ｖ・ｓ）以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔輸送性よりも電子輸送性の高い物質であれば、上記以外の物質を電子輸送層として用いてもよい。また、電子輸送層は、単層で構成されていてもよいし、上記物質からなる層が二層以上積層されて構成されていてもよい。
　また、電子輸送層には、高分子化合物を用いることもできる。例えば、ポリ［（９，９－ジヘキシルフルオレン－２，７－ジイル）－ｃｏ－（ピリジン－３，５－ジイル）］（略称：ＰＦ－Ｐｙ）、ポリ［（９，９－ジオクチルフルオレン－２，７－ジイル）－ｃｏ－（２，２’－ビピリジン－６，６’－ジイル）］（略称：ＰＦ－ＢＰｙ）などを用いることができる。
（電子注入層）
　電子注入層は、電子注入性の高い物質を含む層である。電子注入層には、リチウム（Ｌｉ）、セシウム（Ｃｓ）、カルシウム（Ｃａ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化セシウム（ＣｓＦ）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、リチウム酸化物（ＬｉＯｘ）等のようなアルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらの化合物を用いることができる。その他、電子輸送性を有する物質にアルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらの化合物を含有させたもの、具体的にはＡｌｑ中にマグネシウム（Ｍｇ）を含有させたもの等を用いてもよい。なお、この場合には、陰極からの電子注入をより効率良く行うことができる。
　あるいは、電子注入層に、有機化合物と電子供与体（ドナー）とを混合してなる複合材料を用いてもよい。このような複合材料は、電子供与体によって有機化合物に電子が発生するため、電子注入性および電子輸送性に優れている。この場合、有機化合物としては、発生した電子の輸送に優れた材料であることが好ましく、具体的には、例えば上述した電子輸送層を構成する物質（金属錯体や複素芳香族化合物等）を用いることができる。電子供与体としては、有機化合物に対し電子供与性を示す物質であればよい。具体的には、アルカリ金属やアルカリ土類金属や希土類金属が好ましく、リチウム、セシウム、マグネシウム、カルシウム、エルビウム、イッテルビウム等が挙げられる。また、アルカリ金属酸化物やアルカリ土類金属酸化物が好ましく、リチウム酸化物、カルシウム酸化物、バリウム酸化物等が挙げられる。また、酸化マグネシウムのようなルイス塩基を用いることもできる。また、テトラチアフルバレン（略称：ＴＴＦ）等の有機化合物を用いることもできる。
（層形成方法）
　本実施形態の有機ＥＬ素子の各層の形成方法としては、上記で特に言及した以外には制限されないが、真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマ法、イオンプレーティング法などの乾式成膜法や、スピンコーティング法、ディッピング法、フローコーティング法、インクジェット法などの湿式成膜法などの公知の方法を採用することができる。
（膜厚）
　本実施形態の有機ＥＬ素子の各有機層の膜厚は、上記で特に言及した場合を除いて限定されない。一般に、膜厚が薄すぎるとピンホール等の欠陥が生じやすく、膜厚が厚すぎると高い印加電圧が必要となり効率が悪くなるため、通常、有機ＥＬ素子の各有機層の膜厚は、数ｎｍから１μｍの範囲が好ましい。
　本実施形態によれば、駆動電圧が低下した有機エレクトロルミネッセンス素子を提供できる。
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子においては、前記一般式（１）等で表される第一の化合物を含有する第一の正孔輸送層と、発光層とが、直接、接している。第一の正孔輸送層と発光層とをこのように積層させることで、発光層への正孔注入性が改善され、アミノ基を有する化合物を正孔輸送層に用いた従来の有機ＥＬ素子に比べて、駆動電圧が低下する。
〔第二実施形態〕
（電子機器）
　本実施形態に係る電子機器は、上述の実施形態のいずれかの有機ＥＬ素子を搭載している。電子機器としては、例えば、表示装置及び発光装置等が挙げられる。表示装置としては、例えば、表示部品（例えば、有機ＥＬパネルモジュール等）、テレビ、携帯電話、タブレット、及びパーソナルコンピュータ等が挙げられる。発光装置としては、例えば、照明及び車両用灯具等が挙げられる。
〔実施形態の変形〕
　なお、本発明は、上述の実施形態に限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変更、改良等は、本発明に含まれる。
　例えば、発光層は、１層に限られず、２以上の複数の発光層が積層されていてもよい。有機ＥＬ素子が２以上の複数の発光層を有する場合、少なくとも１つの発光層が上記実施形態で説明した条件を満たしていればよい。例えば、その他の発光層が、蛍光発光型の発光層であっても、三重項励起状態から直接基底状態への電子遷移による発光を利用した燐光発光型の発光層であってもよい。
　また、有機ＥＬ素子が複数の発光層を有する場合、これらの発光層が互いに隣接して設けられていてもよいし、中間層を介して複数の発光ユニットが積層された、いわゆるタンデム型の有機ＥＬ素子であってもよい。
　また、例えば、発光層の陰極側に障壁層を隣接させて設けてもよい。発光層の陰極側に配置される障壁層は、発光層に直接接していることが好ましい。発光層の陰極側に配置される障壁層は、正孔、及び励起子の少なくともいずれかを阻止することが好ましい。
　例えば、発光層の陰極側で接して障壁層が配置された場合、当該障壁層は、電子を輸送し、かつ正孔が当該障壁層よりも陰極側の層（例えば、電子輸送層）に到達することを阻止する。有機ＥＬ素子が、電子輸送層を含む場合は、発光層と電子輸送層との間に当該障壁層を含むことが好ましい。
　また、励起エネルギーが発光層からその周辺層に漏れ出さないように、障壁層を発光層に隣接させて設けてもよい。発光層で生成した励起子が、当該障壁層よりも電極側の層（例えば、電子輸送層及び正孔輸送層等）に移動することを阻止する。
　発光層と障壁層とは接合していることが好ましい。
　その他、本発明の実施における具体的な構造、及び形状等は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。
　以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。本発明はこれら実施例に何ら限定されない。
＜化合物＞
　実施例１～１７に係る有機ＥＬ素子の製造に用いた一般式（１）で表される化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000276
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000277
　実施例１～１７及び比較例１～２２に係る有機ＥＬ素子の製造に用いた、他の化合物の構造を以下に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000278
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000279
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000280
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000281
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000282
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000283
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000284
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000285
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000286
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000287
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000288
＜有機ＥＬ素子の作製１＞
　有機ＥＬ素子を以下のように作製し、評価した。
（実施例１）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして化合物ＨＡ１を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔注入層を形成した。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ１を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ２を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ１を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＢＨ１（ホスト材料（ＢＨ））及び化合物ＢＤ１（ドーパント材料（ＢＤ））を、化合物ＢＤ１の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚２５ｎｍの発光層を成膜した。
　発光層上に化合物ＥＴ１を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第１の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第１の電子輸送層上に化合物ＥＴ２を蒸着し、膜厚１５ｎｍの第２の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。
　第２の電子輸送層上にＬｉＦを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例１の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HA1(5)/HT1(80)/HT2(10)/PY1(5)/BH1:BD1(25,98%:2%)/ET1(10)/ET2(15)/LiF(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９８％：２％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＢＨ１）及び化合物ＢＤ１の割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（比較例１）
　比較例１の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚を表１に記載の膜厚に変更し、さらに、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する発光層を形成したこと以外、実施例１と同様にして作製した。
（実施例２）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２を共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層中の化合物ＨＴ３の割合を９７質量％とし、化合物ＨＡ２の割合を３質量％とした。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ３を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ４を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ１を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＢＨ２（ホスト材料（ＢＨ））及び化合物ＢＤ２（ドーパント材料（ＢＤ））を、化合物ＢＤ２の割合が４質量％となるように共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を成膜した。
　発光層上に化合物ＥＴ１を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第１の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第１の電子輸送層上に化合物ＥＴ２を蒸着し、膜厚１５ｎｍの第２の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。
　第２の電子輸送層上にＬｉＦを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例２の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HT3:HA2(10,97%:3%)/HT3(80)/HT4(10)/PY1(5)/BH2:BD2(20,96%:4%)/ET1(10)/ET2(15)/LiF(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９７％：３％）は、正孔注入層における化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９６％：４％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＢＨ２）及び化合物ＢＤ２の割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（比較例２）
　比較例２の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する発光層を形成し、さらに、発光層の膜厚を表２に記載の膜厚に変更したこと以外、実施例２と同様にして作製した。
（実施例３）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２を共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層中の化合物ＨＴ３の割合を９７質量％とし、化合物ＨＡ２の割合を３質量％とした。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ３を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ４を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ１を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＢＨ２（ホスト材料（ＢＨ））及び化合物ＢＤ２（ドーパント材料（ＢＤ））を、化合物ＢＤ２の割合が４質量％となるように共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を成膜した。
　発光層上に化合物ＥＴ３を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第１の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第１の電子輸送層上に化合物ＥＴ２を蒸着し、膜厚１５ｎｍの第２の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。
　第２の電子輸送層上にＬｉＦを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例３の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HT3:HA2(10,97%:3%)/HT3(80)/HT4(10)/PY1(5)/BH2:BD2(20,96%:4%)/ET3(10)/ET2(15)/LiF(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９７％：３％）は、正孔注入層における化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９６％：４％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＢＨ２）及び化合物ＢＤ２の割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（比較例３）
　比較例３の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する発光層を形成し、さらに、発光層の膜厚を表３に記載の膜厚に変更したこと以外、実施例３と同様にして作製した。
（実施例４）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２を共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層中の化合物ＨＴ３の割合を９７質量％とし、化合物ＨＡ２の割合を３質量％とした。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ３を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ５を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ１を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＢＨ２（ホスト材料（ＢＨ））及び化合物ＢＤ２（ドーパント材料（ＢＤ））を、化合物ＢＤ２の割合が４質量％となるように共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を成膜した。
　発光層上に化合物ＥＴ１を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第１の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第１の電子輸送層上に化合物ＥＴ２を蒸着し、膜厚１５ｎｍの第２の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。
　第２の電子輸送層上にＬｉＦを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例４の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HT3:HA2(10,97%:3%)/HT3(80)/HT5(10)/PY1(5)/BH2:BD2(20,96%:4%)/ET1(10)/ET2(15)/LiF(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９７％：３％）は、正孔注入層における化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９６％：４％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＢＨ２）及び化合物ＢＤ２の割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（比較例４）
　比較例４の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する発光層を形成し、さらに、発光層の膜厚を表４に記載の膜厚に変更したこと以外、実施例４と同様にして作製した。
（実施例５）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２を共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層中の化合物ＨＴ３の割合を９７質量％とし、化合物ＨＡ２の割合を３質量％とした。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ３を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ５を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ１を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＢＨ２（ホスト材料（ＢＨ））及び化合物ＢＤ２（ドーパント材料（ＢＤ））を、化合物ＢＤ２の割合が４質量％となるように共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を成膜した。
　発光層上に化合物ＥＴ３を蒸着し、膜厚１０ｎｍの第１の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第１の電子輸送層上に化合物ＥＴ２を蒸着し、膜厚１５ｎｍの第２の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。
　第２の電子輸送層上にＬｉＦを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例５の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HT3:HA2(10,97%:3%)/HT3(80)/HT5(10)/PY1(5)/BH2:BD2(20,96%:4%)/ET3(10)/ET2(15)/LiF(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９７％：３％）は、正孔注入層における化合物ＨＴ３及び化合物ＨＡ２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９６％：４％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＢＨ２）及び化合物ＢＤ２の割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（比較例５）
　比較例５の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する発光層を形成し、さらに、発光層の膜厚を表５に記載の膜厚に変更したこと以外、実施例５と同様にして作製した。
（比較例６）
　比較例６の有機ＥＬ素子は、第三の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、第一の正孔輸送層を表１に記載の膜厚に変更して成膜したこと以外、実施例１と同様にして作製した。
（比較例７）
　比較例７の有機ＥＬ素子は、第三の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、第一の正孔輸送層を表２に記載の膜厚に変更して成膜したこと以外、実施例２と同様にして作製した。
（比較例８）
　比較例８の有機ＥＬ素子は、第三の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、第一の正孔輸送層を表３に記載の膜厚に変更して成膜したこと以外、実施例３と同様にして作製した。
＜有機ＥＬ素子の評価＞
　実施例１～１７及び比較例１～２２で作製した有機ＥＬ素子について、以下の評価を行った。評価結果を表１～１３に示す。
・駆動電圧
　電流密度が１０ｍＡ／ｃｍ２となるように陽極と陰極との間に通電したときの電圧（単位：Ｖ）を計測した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000289
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000290
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000291
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000292
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000293
　表１～５に示すように、実施例１～５に係る有機ＥＬ素子は、一般式（１）で表される第一の化合物を含有する第一の正孔輸送層と発光層とが直接接しており、アミン骨格を有する材料を含有する第二の正孔輸送層と発光層とが直接接した比較例１～５に係る素子よりも駆動電圧が低下した。また、実施例１～５に係る有機ＥＬ素子は、一般式（１）で表される第一の化合物を含有する第一の正孔輸送層と発光層とが直接接し、第一の正孔輸送層と、アミノ基を有する化合物を含有する第二の正孔輸送層とが直接接しており、正孔注入層と第一の正孔輸送層とが直接接した比較例６～８に係る素子よりも駆動電圧が低下した。
＜有機ＥＬ素子の作製２＞
（実施例６）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、化合物ＨＴ６及び化合物ＨＡ２を共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層中の化合物ＨＴ６の割合を９７質量％とし、化合物ＨＡ２の割合を３質量％とした。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ６を蒸着し、膜厚８５ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ７を蒸着し、膜厚２．５ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ２を蒸着し、膜厚２．５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＢＨ３（ホスト材料（ＢＨ））及び化合物ＢＤ３（ドーパント材料（ＢＤ））を、化合物ＢＤ３の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚２０ｎｍの発光層を成膜した。
　発光層上に化合物ＥＴ４を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第一の電子輸送層（ＨＢＬ）上に化合物ＥＴ５及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの第二の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この第二の電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ５の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。なお、Ｌｉｑは、（８－キノリノラト）リチウム（（８－Ｑｕｉｎｏｌｉｎｏｌａｔｏ）ｌｉｔｈｉｕｍ）の略称である。
　第二の電子輸送層上にＬｉｑを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例６の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HT6:HA2(10,97%:3%)/HT6(85)/HT7(2.5)/PY2(2.5)/BH3:BD3(20,98%:2%)/ET4(5)/ET5:Liq(25,50%:50%)/Liq(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９７％：３％）は、正孔注入層における化合物ＨＴ６及び化合物ＨＡ２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９８％：２％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＢＨ３）及び化合物ＢＤ３の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（５０％：５０％）は、第二の電子輸送層（ＥＴ）における化合物ＥＴ５及び化合物Ｌｉｑの割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（比較例９）
　比較例９の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚を表６に記載の膜厚に変更し、さらに、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する発光層を成膜したこと以外、実施例６と同様にして作製した。
（比較例１０）
　比較例１０の有機ＥＬ素子は、第三の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、第一の正孔輸送層を表６に記載の膜厚に変更して成膜したこと以外、実施例６と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000294
（実施例７）
　実施例７の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層の化合物を表７に記載の化合物に変更して第一の正孔輸送層を成膜したこと以外、実施例６と同様にして作製した。
（比較例１１）
　比較例１１の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層の化合物ＰＹ２を表７に記載の化合物ＰＹ３に変更して第一の正孔輸送層を成膜したこと以外、比較例１０と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000295
（実施例８）
　実施例８の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層の化合物ＰＹ２を表８に記載の化合物ＰＹ４に変更して第一の正孔輸送層を成膜したこと、並びに発光層の化合物ＢＨ３を表８に記載の化合物ＢＨ４に変更して発光層を成膜したこと以外、実施例６と同様にして作製した。
（比較例１２）
　比較例１２の有機ＥＬ素子は、発光層の化合物ＢＨ３を表８に記載の化合物ＢＨ４に変更して発光層を成膜したこと以外、比較例９と同様にして作製した。
（比較例１３）
　比較例１３の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層の化合物ＰＹ２を表８に記載の化合物ＰＹ４に変更して第一の正孔輸送層を成膜したこと、並びに発光層の化合物ＢＨ３を表８に記載の化合物ＢＨ４に変更して発光層を成膜したこと以外、比較例１０と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000296
（実施例９）
　実施例９の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層の化合物ＰＹ４を表９に記載の化合物ＰＹ５に変更して第一の正孔輸送層を成膜したこと以外、実施例８と同様にして作製した。
（比較例１４）
　比較例１４の有機ＥＬ素子は、第一の正孔輸送層の化合物ＰＹ４を表９に記載の化合物ＰＹ５に変更して第一の正孔輸送層を成膜したこと以外、比較例１３と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000297
（実施例１０）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、化合物ＨＴ６及び化合物ＨＡ２を共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層中の化合物ＨＴ６の割合を９７質量％とし、化合物ＨＡ２の割合を３質量％とした。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ６を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ７を蒸着し、膜厚２．５ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ２を蒸着し、膜厚２．５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＰＹ２（ホスト材料）及び化合物ＢＤ３（ドーパント材料）を、化合物ＢＤ３の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚１２．５ｎｍの第一の発光層を成膜した。
　第一の発光層上に化合物ＢＨ３（ホスト材料）及び化合物ＢＤ３（ドーパント材料）を、化合物ＢＤ３の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚１２．５ｎｍの第二の発光層を成膜した。
　第二の発光層上に化合物ＥＴ４を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第一の電子輸送層（ＨＢＬ）上に化合物ＥＴ５及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの第二の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この第二の電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ５の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
　第二の電子輸送層上にＬｉｑを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例１０の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HT6:HA2(10,97%:3%)/HT6(80)/HT7(2.5)/PY2(2.5)/PY2:BD3(12.5,98%:2%)/BH3:BD3(12.5,98%:2%)/ET4(5)/ET5:Liq(25,50%:50%)/Liq(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９７％：３％）は、正孔注入層における化合物ＨＴ６及び化合物ＨＡ２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９８％：２％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＰＹ２又は化合物ＢＨ３）及び化合物ＢＤ３の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（５０％：５０％）は、第二の電子輸送層（ＥＴ）における化合物ＥＴ５及び化合物Ｌｉｑの割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（実施例１１）
　実施例１１の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚及び第一の正孔輸送層の膜厚を表１０に記載の膜厚に変更したこと以外、実施例１０と同様にして作製した。
（比較例１５）
　比較例１５の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚を表１０に記載の膜厚に変更し、さらに、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する第一の発光層を成膜したこと以外、実施例１０と同様にして作製した。
（比較例１６）
　比較例１６の有機ＥＬ素子は、第三の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、第一の正孔輸送層を表１０に記載の膜厚に変更して成膜したこと以外、実施例１０と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000298
（実施例１２）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして、化合物ＨＴ６及び化合物ＨＡ２を共蒸着し、膜厚１０ｎｍの正孔注入層を形成した。この正孔注入層中の化合物ＨＴ６の割合を９７質量％とし、化合物ＨＡ２の割合を３質量％とした。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ６を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ７を蒸着し、膜厚４ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ３を蒸着し、膜厚１ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＰＹ４（ホスト材料）及び化合物ＢＤ３（ドーパント材料）を、化合物ＢＤ３の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚１０ｎｍの第一の発光層を成膜した。
　第一の発光層上に化合物ＢＨ４（ホスト材料）及び化合物ＢＤ３（ドーパント材料）を、化合物ＢＤ３の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚１５ｎｍの第二の発光層を成膜した。
　第二の発光層上に化合物ＥＴ４を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　第一の電子輸送層（ＨＢＬ）上に化合物ＥＴ５及び化合物Ｌｉｑを共蒸着し、膜厚２５ｎｍの第二の電子輸送層（ＥＴ）を形成した。この第二の電子輸送層（ＥＴ）の化合物ＥＴ５の割合を５０質量％とし、化合物Ｌｉｑの割合を５０質量％とした。
　第二の電子輸送層上にＬｉｑを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例１２の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HT6:HA2(10,97%:3%)/HT6(80)/HT7(4)/PY3(1)/PY4:BD3(10,98%:2%)/BH4:BD3(15,98%:2%)/ET4(5)/ET5:Liq(25,50%:50%)/Liq(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９７％：３％）は、正孔注入層における化合物ＨＴ６及び化合物ＨＡ２の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（９８％：２％）は、発光層におけるホスト材料（化合物ＰＹ４又は化合物ＢＨ４）及び化合物ＢＤ３の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（５０％：５０％）は、第二の電子輸送層（ＥＴ）における化合物ＥＴ５及び化合物Ｌｉｑの割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（実施例１３）
　実施例１３の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚、第一の正孔輸送層及び第一の発光層の膜厚を表１１に記載の膜厚に変更したこと以外、実施例１２と同様にして作製した。
（比較例１７）
　比較例１７の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚を表１１に記載の膜厚に変更し、さらに、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する第一の発光層を成膜したこと以外、実施例１２と同様にして作製した。
（比較例１８）
　比較例１８の有機ＥＬ素子は、表１１に示すように、第三の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、化合物ＰＹ２を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜し、第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ３を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜したこと以外、実施例１２と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000299
（実施例１４）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして化合物ＨＡ３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔注入層を形成した。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ８を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ９を蒸着し、膜厚７．５ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ６を蒸着し、膜厚２．５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＰＹ６（ホスト材料）及び化合物ＢＤ１（ドーパント材料）を、化合物ＢＤ１の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚７．５ｎｍの第一の発光層を成膜した。
　第一の発光層上に化合物ＢＨ１（ホスト材料）及び化合物ＢＤ１（ドーパント材料）を、化合物ＢＤ１の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚１７．５ｎｍの第二の発光層を成膜した。
　第二の発光層上に化合物ＥＴ３を蒸着し、膜厚１０ｎｍの電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　電子輸送層（ＨＢＬ）上にＬｉＦを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例１４の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HA3(5)/HT8(80)/HT9(7.5)/PY6(2.5)/PY6:BD1(7.5,98%:2%)/BH1:BD1(17.5,98%:2%)/ET3(10)/LiF(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９８％：２％）は、第一の発光層又は第二の発光層におけるホスト材料（化合物ＰＹ６又は化合物ＢＨ１）及び化合物ＢＤ１の割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（実施例１５）
　実施例１５の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚及び第一の正孔輸送層の膜厚を表１２に記載の膜厚に変更して第二の正孔輸送層及び第一の正孔輸送層を成膜したこと以外、実施例１４と同様にして作製した。
（比較例１９）
　比較例１９の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚を表１２に記載の膜厚に変更し、さらに、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する第一の発光層を成膜したこと以外、実施例１４と同様にして作製した。
（比較例２０）
　比較例２０の有機ＥＬ素子は、第三の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、第一の正孔輸送層を表１２に記載の膜厚に変更して成膜したこと以外、実施例１４と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000300
（実施例１６）
　２５ｍｍ×７５ｍｍ×１．１ｍｍ厚のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ）透明電極（陽極）付きガラス基板（ジオマテック株式会社製）をイソプロピルアルコール中で超音波洗浄を５分間行なった後、ＵＶオゾン洗浄を３０分間行なった。ＩＴＯ透明電極の膜厚は、１３０ｎｍとした。
　洗浄後の透明電極ライン付きガラス基板を真空蒸着装置の基板ホルダーに装着し、まず透明電極ラインが形成されている側の面上に透明電極を覆うようにして化合物ＨＡ３を蒸着し、膜厚５ｎｍの正孔注入層を形成した。
　正孔注入層の成膜に続けて化合物ＨＴ８を蒸着し、膜厚８０ｎｍの第三の正孔輸送層を成膜した。
　第三の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＨＴ９を蒸着し、膜厚５ｎｍの第二の正孔輸送層を成膜した。
　第二の正孔輸送層の成膜に続けて化合物ＰＹ７を蒸着し、膜厚５ｎｍの第一の正孔輸送層を成膜した。
　第一の正孔輸送層上に化合物ＰＹ７（ホスト材料）及び化合物ＢＤ１（ドーパント材料）を、化合物ＢＤ１の割合が２質量％となるように共蒸着し、膜厚１２．５ｎｍの第一の発光層を成膜した。
　第一の発光層上に化合物ＢＨ５、ＢＨ６（ホスト材料）及び化合物ＢＤ１（ドーパント材料）を共蒸着し、膜厚１２．５ｎｍの第二の発光層を成膜した。第二の発光層中の化合物ＢＨ５の割合を５８．８質量％とし、化合物ＢＨ６の割合を３９．２質量％とし、化合物ＢＤ１の割合を２質量％とした。
　第二の発光層上に化合物ＥＴ３を蒸着し、膜厚１０ｎｍの電子輸送層（正孔障壁層ともいう）（ＨＢＬ）を形成した。
　電子輸送層（ＨＢＬ）上にＬｉＦを蒸着して膜厚１ｎｍの電子注入層を形成した。
　電子注入層上に金属Ａｌを蒸着して膜厚８０ｎｍの陰極を形成した。
　実施例１６の素子構成を略式的に示すと、次のとおりである。
ITO(130)/HA3(5)/HT8(80)/HT9(5)/PY7(5)/PY7:BD1(12.5,98%:2%)/BH5:BH6:BD1(12.5,58.8%:39.2%:2%)/ET3(10)/LiF(1)/Al(80)
　なお、括弧内の数字は、膜厚（単位：ｎｍ）を示す。
　同じく括弧内において、パーセント表示された数字（９８％：２％）は、第一の発光層におけるホスト材料（化合物ＰＹ７）及び化合物ＢＤ１の割合（質量％）を示し、パーセント表示された数字（５８．８％：３９．２％：２％）は、第二の発光層における化合物ＢＨ５、ＢＨ６及びＢＤ１の割合（質量％）を示す。以下、同様の表記とする。
（実施例１７）
　実施例１７の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚及び第一の正孔輸送層の膜厚を表１３に記載の膜厚に変更して第二の正孔輸送層及び第一の正孔輸送層を成膜したこと以外、実施例１６と同様にして作製した。
（比較例２１）
　比較例２１の有機ＥＬ素子は、第二の正孔輸送層の膜厚を表１３に記載の膜厚に変更し、さらに、第一の正孔輸送層を形成せず、第二の正孔輸送層に直接接する第一の発光層を成膜したこと以外、実施例１６と同様にして作製した。
（比較例２２）
　比較例２２の有機ＥＬ素子は、第三の正孔輸送層及び第二の正孔輸送層を形成せず、正孔注入層の成膜に続けて、第一の正孔輸送層を表１３に記載の膜厚に変更して成膜したこと以外、実施例１６と同様にして作製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000301
＜化合物の評価＞
（トルエン溶液の調製）
　化合物ＢＤ１を、４．９×１０－６ｍｏｌ／Ｌの濃度でトルエンに溶解し、化合物ＢＤ１のトルエン溶液を調製した。
　化合物ＢＤ２のトルエン溶液、及び化合物ＢＤ３のトルエン溶液を、化合物ＢＤ１と同様にして、調製した。
（蛍光発光最大ピーク波長（ＦＬ－ｐｅａｋ）の測定）
　蛍光スペクトル測定装置（分光蛍光光度計Ｆ－７０００（株式会社日立ハイテクサイエンス製））を用いて、化合物ＢＤ１のトルエン溶液、化合物ＢＤ２のトルエン溶液又は化合物ＢＤ３のトルエン溶液を３９０ｎｍで励起した場合の蛍光発光最大ピーク波長を測定した。
　化合物ＢＤ１の蛍光発光最大ピーク波長は、４５３ｎｍであった。
　化合物ＢＤ２の蛍光発光最大ピーク波長は、４５０ｎｍであった。
　化合物ＢＤ３の蛍光発光最大ピーク波長は、４５５ｎｍであった。
　１…有機ＥＬ素子、１Ａ…有機ＥＬ素子、２…基板、３…陽極、４…陰極、５…発光層、６…正孔注入層、７１…第一の正孔輸送層、７２…第二の正孔輸送層、８…電子輸送層、９…電子注入層、１０…有機層、１０Ａ…有機層。

Claims (33)

  1. 　陽極と、
    　陰極と、
    　前記陽極と前記陰極の間に配置された発光層と、
    　前記陽極と前記発光層の間に配置された第一の正孔輸送層と、を備え、
    　前記第一の正孔輸送層は、前記発光層に直に隣接し、
    　前記第一の正孔輸送層は、下記一般式（１）で表される第一の化合物を含み、
    　前記第一の化合物は、下記一般式（１１）で表される基を少なくとも１つ有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    （前記一般式（１）において、
    　Ｒ１０１～Ｒ１１０は、それぞれ独立に、
    　　水素原子、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
    　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
    　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
    　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
    　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
    　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
    　　ハロゲン原子、
    　　シアノ基、
    　　ニトロ基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基、又は
    　　前記一般式（１１）で表される基であり、
    　ただし、Ｒ１０１～Ｒ１１０の少なくとも１つは、前記一般式（１１）で表される基であり、
    　前記一般式（１１）で表される基が複数存在する場合、複数の前記一般式（１１）で表される基は、互いに同一であるか又は異なり、
    　Ｌ１０１は、
    　　単結合、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
    　Ａｒ１０１は、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
    　ｍｘは、０、１、２、３、４又は５であり、
    　Ｌ１０１が２以上存在する場合、２以上のＬ１０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
    　Ａｒ１０１が２以上存在する場合、２以上のＡｒ１０１は、互いに同一であるか、又は異なり、
    　前記一般式（１１）中の＊は、前記一般式（１）中のピレン環との結合位置を示し、
    　前記第一の化合物において、「置換もしくは無置換の」という場合の置換基は、
    　　無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
    　　無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
    　　無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
    　　無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
    　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）、
    　　－Ｏ－（Ｒ９０４）、
    　　－Ｓ－（Ｒ９０５）、
    　　ハロゲン原子、
    　　シアノ基、
    　　ニトロ基、
    　　無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、及び
    　　無置換の環形成原子数５～５０の複素環基からなる群から選択される少なくともいずれかの基であり、
    　前記一般式（１）で表される第一の化合物中、Ｒ９０１、Ｒ９０２、Ｒ９０３、Ｒ９０４、Ｒ９０７、Ｒ８０１及びＲ８０２は、それぞれ独立に、
    　　水素原子、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
    　Ｒ９０１が複数存在する場合、複数のＲ９０１は、互いに同一であるか又は異なり、
    　Ｒ９０２が複数存在する場合、複数のＲ９０２は、互いに同一であるか又は異なり、
    　Ｒ９０３が複数存在する場合、複数のＲ９０３は、互いに同一であるか又は異なり、
    　Ｒ９０４が複数存在する場合、複数のＲ９０４は、互いに同一であるか又は異なり、
    　Ｒ９０５が複数存在する場合、複数のＲ９０５は、互いに同一であるか又は異なり、
    　Ｒ８０１が複数存在する場合、複数のＲ８０１は、互いに同一であるか又は異なり、
    　Ｒ８０２が複数存在する場合、複数のＲ８０２は、互いに同一であるか又は異なる。）
  2. 　請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記陽極と前記第一の正孔輸送層との間に配置された第二の正孔輸送層をさらに備え、
    　前記第二の正孔輸送層は、前記第一の正孔輸送層に直に隣接し、
    　前記第二の正孔輸送層は、アミノ基を有する化合物を含有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  3. 　請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記陽極と前記第一の正孔輸送層との間に配置された第二の正孔輸送層をさらに備え、
    　前記第二の正孔輸送層は、前記第一の正孔輸送層に直に隣接し、
    　前記第二の正孔輸送層は、下記一般式（Ｂ１）で表される化合物を含有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    （前記一般式（Ｂ１）において、
    　ＬＡ１、ＬＢ１、及びＬＣ１は、それぞれ独立に、
    　　単結合、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～１８のアリーレン基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～１３の２価の複素環基であり、
    　ＬＡ１及びＬＢ１が単結合の場合、Ａ１及びＢ１が、
    　　互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
    　　互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
    　　互いに結合せず、
    　ＬＡ１及びＬＣ１が単結合の場合、Ａ１及びＣ１が、
    　　互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
    　　互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
    　　互いに結合せず、
    　ＬＢ１及びＬＣ１が単結合の場合、Ｂ１及びＣ１が、
    　　互いに結合して置換もしくは無置換の単環を形成するか、
    　　互いに結合して置換もしくは無置換の縮合環を形成するか、又は
    　　互いに結合せず、
    　前記置換もしくは無置換の単環を形成せず、かつ前記置換もしくは無置換の縮合環を形成しないＡ１、Ｂ１、及びＣ１は、それぞれ独立に、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基、
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～３０の複素環基、又は
    　　－Ｓｉ（Ｒ９２１）（Ｒ９２２）（Ｒ９２３）で表される基であり、
    　Ｒ９２１、Ｒ９２２及びＲ９２３は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～３０のアリール基であり、
    　Ｒ９２１が複数存在する場合、複数のＲ９２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
    　Ｒ９２２が複数存在する場合、複数のＲ９２２は、互いに同一であるか、又は異なり、
    　Ｒ９２３が複数存在する場合、複数のＲ９２３は、互いに同一であるか、又は異なる。）
  4. 　請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記陽極と前記第一の正孔輸送層との間に配置された第二の正孔輸送層をさらに備え、
    　前記第二の正孔輸送層は、前記第一の正孔輸送層に直に隣接し、
    　前記第二の正孔輸送層は、カルバゾリル基を有する化合物を含有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  5. 　請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の正孔輸送層の膜厚は、１５ｎｍ以下である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  6. 　請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、素子駆動時に最大のピーク波長が４３０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の光を放射する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  7. 　請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記発光層は、蛍光発光性の第二の化合物をさらに含有し、
    　前記第二の化合物は、最大のピーク波長が４３０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の発光を示す化合物である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  8. 　請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記発光層は、ピレン誘導体を含有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  9. 　請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記発光層は、アントラセン誘導体を含有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  10. 　請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記発光層は、第一の発光層と、前記第一の発光層と前記陰極との間に配置された第二の発光層とを含み、
    　前記第一の発光層は、ピレン誘導体を含有し、
    　前記第二の発光層は、アントラセン誘導体を含有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  11. 　請求項１０に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の発光層及び前記第二の発光層は、それぞれ独立に、蛍光発光性の化合物をさらに含有し、
    　前記第一の発光層及び前記第二の発光層が含有する蛍光発光性の化合物は、最大のピーク波長が４３０ｎｍ以上４８０ｎｍ以下の発光を示す化合物である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  12. 　請求項１から請求項１１のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の化合物中の複素環基は、酸素原子及び硫黄原子の少なくともいずれかの原子を含有する基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  13. 　請求項１から請求項１２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の正孔輸送層は、アミノ基を有する化合物を含有しない、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  14. 　請求項１から請求項１３のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記一般式（１１）で表される基は、下記一般式（１１１）で表される基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    （前記一般式（１１１）において、
    　Ｘ１は、ＣＲ１２３Ｒ１２４、酸素原子、硫黄原子、又はＮＲ１２５であり、
    　Ｌ１１１及びＬ１１２は、それぞれ独立に、
    　　単結合、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
    　ｍａは、０、１、２、３又は４であり、
    　ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
    　ｍａ＋ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
    　Ａｒ１０１は、前記一般式（１１）におけるＡｒ１０１と同義であり、
    　Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３、Ｒ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立に、
    　　水素原子、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
    　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
    　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
    　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
    　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
    　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
    　　ハロゲン原子、
    　　シアノ基、
    　　ニトロ基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
    　ｍｃは、３であり、
    　３つのＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
    　ｍｄは、３であり、
    　３つのＲ１２２は、互いに同一であるか、又は異なる。）
  15. 　請求項１４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　ｍａは、０、１又は２であり、
    　ｍｂは、０、１又は２である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  16. 　請求項１４又は請求項１５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　ｍａは、０又は１であり、
    　ｍｂは、０又は１である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  17. 　請求項１から請求項１６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  18. 　請求項１から請求項１７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　Ａｒ１０１は、
    　　置換もしくは無置換のフェニル基、
    　　置換もしくは無置換のナフチル基、
    　　置換もしくは無置換のビフェニル基、
    　　置換もしくは無置換のターフェニル基、
    　　置換もしくは無置換のピレニル基、
    　　置換もしくは無置換のフェナントリル基、又は
    　　置換もしくは無置換のフルオレニル基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  19. 　請求項１から請求項１８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の化合物は、下記一般式（１０１）で表される、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    （前記一般式（１０１）において、
    　Ｒ１０１～Ｒ１２０は、それぞれ独立に、
    　　水素原子、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
    　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
    　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
    　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
    　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
    　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
    　　ハロゲン原子、
    　　シアノ基、
    　　ニトロ基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
    　ただし、Ｒ１０１～Ｒ１１０のうち１つがＬ１０１との結合位置を示し、Ｒ１１１～Ｒ１２０のうち１つがＬ１０１との結合位置を示し、
    　Ｌ１０１は、
    　　単結合、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
    　ｍｘは、０、１、２、３、４又は５であり、
    　Ｌ１０１が２以上存在する場合、２以上のＬ１０１は、互いに同一であるか、又は異なる。）
  20. 　請求項１から請求項１９のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　Ｌ１０１は、
    　　単結合、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  21. 　請求項１９に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の化合物は、下記一般式（１０２）で表される、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    （前記一般式（１０２）において、
    　Ｒ１０１～Ｒ１２０は、それぞれ独立に、前記一般式（１０１）におけるＲ１０１～Ｒ１２０と同義であり、
    　ただし、Ｒ１０１～Ｒ１１０のうち１つがＬ１１１との結合位置を示し、Ｒ１１１～Ｒ１２０のうち１つがＬ１１２との結合位置を示し、
    　Ｘ１は、ＣＲ１２３Ｒ１２４、酸素原子、硫黄原子、又はＮＲ１２５であり、
    　Ｌ１１１及びＬ１１２は、それぞれ独立に、
    　　単結合、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリーレン基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の２価の複素環基であり、
    　ｍａは、０、１、２、３又は４であり、
    　ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
    　ｍａ＋ｍｂは、０、１、２、３又は４であり、
    　Ｒ１２１、Ｒ１２２、Ｒ１２３、Ｒ１２４及びＲ１２５は、それぞれ独立に、
    　　水素原子、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のハロアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルケニル基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数２～５０のアルキニル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
    　　－Ｓｉ（Ｒ９０１）（Ｒ９０２）（Ｒ９０３）で表される基、
    　　－Ｏ－（Ｒ９０４）で表される基、
    　　－Ｓ－（Ｒ９０５）で表される基、
    　　置換もしくは無置換の炭素数７～５０のアラルキル基、
    　　－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ８０１で表される基、
    　　－ＣＯＯＲ８０２で表される基、
    　　ハロゲン原子、
    　　シアノ基、
    　　ニトロ基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基であり、
    　ｍｃは、３であり、
    　３つのＲ１２１は、互いに同一であるか、又は異なり、
    　ｍｄは、３であり、
    　３つのＲ１２２は、互いに同一であるか、又は異なる。）
  22. 　請求項２１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　ｍａは、０、１又は２であり、
    　ｍｂは、０、１又は２である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  23. 　請求項２１又は請求項２２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　ｍａは、０又は１であり、
    　ｍｂは、０又は１である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  24. 　請求項１から請求項１８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　Ｒ１０１～Ｒ１１０のうち２つ以上が、前記一般式（１１）で表される基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  25. 　請求項２４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  26. 　請求項２５に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　Ａｒ１０１は、置換もしくは無置換のピレニル基ではなく、
    　Ｌ１０１は、置換もしくは無置換のピレニレン基ではなく、
    　前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０としての置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基は、置換もしくは無置換のピレニル基ではない、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  27. 　請求項１から請求項２６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０は、それぞれ独立に、
    　　水素原子、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基、
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数６～５０のアリール基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成原子数５～５０の複素環基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  28. 　請求項１から請求項２７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０は、それぞれ独立に、
    　　水素原子、
    　　置換もしくは無置換の炭素数１～５０のアルキル基、又は
    　　置換もしくは無置換の環形成炭素数３～５０のシクロアルキル基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  29. 　請求項１から請求項２８のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記一般式（１１）で表される基ではないＲ１０１～Ｒ１１０は、水素原子である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  30. 　請求項１から請求項２９のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の正孔輸送層は、前記第一の化合物のみからなる、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  31. 　請求項１から請求項３０のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記第一の化合物において、「置換もしくは無置換」と記載された基は、いずれも「無置換」の基である、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  32. 　請求項１から請求項３１のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子において、
    　前記陰極と、前記発光層との間に、電子輸送層を有する、
    　有機エレクトロルミネッセンス素子。
  33. 　請求項１から請求項３２のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を搭載した電子機器。
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