WO2021075197A1 - 樹脂組成物 - Google Patents

樹脂組成物 Download PDF

Info

Publication number
WO2021075197A1
WO2021075197A1 PCT/JP2020/035036 JP2020035036W WO2021075197A1 WO 2021075197 A1 WO2021075197 A1 WO 2021075197A1 JP 2020035036 W JP2020035036 W JP 2020035036W WO 2021075197 A1 WO2021075197 A1 WO 2021075197A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
resin composition
epoxy resin
resin
component
compound represented
Prior art date
Application number
PCT/JP2020/035036
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
雄輝 松浦
洋平 細野
Original Assignee
ナミックス株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ナミックス株式会社 filed Critical ナミックス株式会社
Priority to KR1020227004198A priority Critical patent/KR20220084267A/ko
Priority to JP2021552275A priority patent/JPWO2021075197A1/ja
Priority to CN202080055261.7A priority patent/CN114174423B/zh
Publication of WO2021075197A1 publication Critical patent/WO2021075197A1/ja

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3442Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3462Six-membered rings
    • C08K5/3465Six-membered rings condensed with carbocyclic rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • C08K3/013Fillers, pigments or reinforcing additives
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/0008Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0041Optical brightening agents, organic pigments
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/16Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/17Amines; Quaternary ammonium compounds
    • C08K5/18Amines; Quaternary ammonium compounds with aromatically bound amino groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L2203/00Applications
    • C08L2203/20Applications use in electrical or conductive gadgets

Definitions

  • This disclosure relates to a resin composition.
  • a flip-chip type semiconductor device an electrode portion and a semiconductor element are connected to each other on a substrate via a bump electrode.
  • a heat load such as a temperature cycle
  • stress is applied to the bump electrode due to the difference in the coefficient of thermal expansion between the substrate made of an organic material such as epoxy resin and the semiconductor element. ..
  • an underfill material is used. The underfill material seals the gap between the semiconductor element and the substrate and fixes them to each other. Thereby, it is widely practiced to improve the thermal cycle resistance.
  • a capillary flow is generally used in which the underfill material is injected into the gap between the semiconductor element and the electrode portion on the substrate by utilizing the capillary phenomenon.
  • an underfill material is applied (dispensed) along the outer circumference of the semiconductor element. Then, after injecting the underfill material, the underfill material is heat-cured to reinforce the connection portion between the two.
  • the underfill material is required to have excellent injectability, adhesiveness, curability, storage stability, and the like. Further, the portion sealed with the underfill material is required to have excellent moisture resistance, thermal cycle resistance, and the like.
  • a resin composition containing an epoxy resin as a main agent and a curing agent for the epoxy resin is usually used in order to satisfy the above-mentioned required characteristics.
  • Semiconductor encapsulants such as underfills are often colored black with carbon black. The reason for this is that coloring can prevent the sealed semiconductor and its peripheral elements from malfunctioning under the influence of external light, and can conceal the elements and circuits (patented). Document 1).
  • an organic azine dye is used as a colorant in the sealing epoxy resin composition described in Patent Document 2. It has been reported that this makes it possible to suppress a decrease in electrical characteristics of a semiconductor device having a fine pitch, and to realize excellent moisture resistance and reliability.
  • Patent Document 2 does not describe specific examples or suitable examples of organic azine dyes. In fact, even in the examples of the same document, only "azine dye" is described.
  • the reflow process may be performed multiple times.
  • a semiconductor encapsulant containing Solvent black 7, which is easily available, is used as the azine dye, discoloration occurs in the encapsulating portion due to the execution of a plurality of reflow steps. There is. When discoloration occurs, the appearance of the sealed portion deteriorates. Therefore, there is a problem that the product fails the inspection.
  • An object of the present disclosure is to perform a plurality of reflow steps when the underfill material is used as a semiconductor encapsulant while satisfying the required characteristics as an underfill material in order to solve the above-mentioned problems in the prior art.
  • Another object of the present invention is to provide a resin composition containing an azine dye, which is less likely to cause discoloration in the sealing portion.
  • the azine dye (C) may further contain a compound represented by the following formula (2).
  • the azine dye (C) may further contain a compound represented by the following formula (3).
  • the azine dye (C) further comprises at least one selected from the group consisting of the compound represented by the following formula (4) and the compound represented by the following formula (5). It may be included.
  • the resin composition of the present embodiment may further contain (D) an inorganic filler.
  • the resin composition of the present embodiment may further contain (E) a coupling agent.
  • the present disclosure also provides a cured product of the resin composition of the present embodiment.
  • the present disclosure also provides electronic components using the resin composition of the present embodiment.
  • the resin composition of this embodiment satisfies the required characteristics as an underfill material. Further, when the resin composition is used as a semiconductor encapsulant, discoloration is unlikely to occur in the encapsulating portion even after a plurality of reflow steps are performed.
  • the resin composition of the present embodiment contains (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, and (C) an azine dye. Each component of the resin composition of this embodiment is described below.
  • the epoxy resin of the component (A) is a component that forms the main component of the resin composition of the present embodiment.
  • the epoxy resin of the component (A) is preferably liquid at room temperature. However, as long as it is a resin that is diluted with another liquid epoxy resin or a diluent and shows a liquid state, even an epoxy resin that is solid at room temperature can be used.
  • bisphenol A type epoxy resin brominated bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, novolac type epoxy resin, alicyclic epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, ether type or Examples thereof include polyether epoxy resins, oxylan ring-containing polybutadienes, and silicone epoxy copolymer resins.
  • a liquid epoxy resin a bisphenol A type epoxy resin having an average molecular weight of about 400 or less; a branched polyfunctional bisphenol A type epoxy resin such as p-glycidyloxyphenyldimethyltrisbisphenol A diglycidyl ether.
  • Bisphenol F type epoxy resin Phenol novolac type epoxy resin having an average molecular weight of about 570 or less; Vinyl (3,4-cyclohexene) dioxide, 3,4-epoxycyclohexylcarboxylic acid (3,4-epoxycyclohexyl) methyl, adipine Alicyclic such as bis acid (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) 5,1-spiro (3,4-epoxycyclohexyl) -m-dioxane Epoxy resins; biphenyl-type epoxy resins such as 3,3', 5,5'-tetramethyl-4,4'-diglycidyloxybiphenyl; diglycidyl hexahydrophthalate, diglycidyl 3-methylhexahydrophthalate, and hexa Glycidyl ester-type epoxy resins such as diglycidyl hydrotere
  • Glycidylamine type epoxy resins such as 1,3-diglycidyl-5-methyl-5-ethylhydantin; and naphthalene ring-containing epoxy resins can be mentioned.
  • an epoxy resin having a silicone skeleton such as 1,3-bis (3-glycidoxypropyl) -1,1,3,3-tetramethyldisiloxane can also be used.
  • diepoxide compounds such as (poly) ethylene glycol diglycidyl ether, (poly) propylene glycol diglycidyl ether, butanediol glycidyl ether, and neopentyl glycol diglycidyl ether; and trimethylpropantriglycidyl.
  • diepoxide compounds such as (poly) ethylene glycol diglycidyl ether, (poly) propylene glycol diglycidyl ether, butanediol glycidyl ether, and neopentyl glycol diglycidyl ether; and trimethylpropantriglycidyl.
  • examples include ethers and triepoxide compounds such as glycerin triglycidyl ethers.
  • epoxy resin that is solid or ultra-viscous liquid at room temperature.
  • examples of such epoxy resins include high molecular weight bisphenol A type epoxy resins, novolac epoxy resins, and tetrabromobisphenol A type epoxy resins.
  • these resins may be used in combination with an epoxy resin and / or a diluent that is liquid at room temperature.
  • these epoxy resins are preferably combined with a low-viscosity epoxy resin.
  • low viscosity epoxy resins are diepoxide compounds such as (poly) ethylene glycol diglycidyl ether, (poly) propylene glycol diglycidyl ether, butanediol glycidyl ether, and neopentyl glycol diglycidyl ether; and trimethylol.
  • diepoxide compounds such as (poly) ethylene glycol diglycidyl ether, (poly) propylene glycol diglycidyl ether, butanediol glycidyl ether, and neopentyl glycol diglycidyl ether; and trimethylol.
  • triepoxide compounds such as propanetriglycidyl ether and glycerin triglycidyl ether.
  • a reactive diluent refers to a compound having one epoxy group and having a relatively low viscosity at room temperature.
  • these compounds also have other polymerizable functional groups, such as alkenyl groups such as vinyl and allyl groups; or unsaturated carboxylic acid residues such as acryloyl and methacryloyl, depending on the purpose. You may be doing it.
  • reactive diluents examples include n-butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, cresyl glycidyl ether, ps-butyl phenyl glycidyl ether, styrene oxide, and ⁇ -pinene oxide.
  • monoepoxide compounds as well as monoepoxide compounds having other functional groups such as allylglycidyl ethers, glycidyl methacrylate, and 1-vinyl-3,4-epoxycyclohexane.
  • the above epoxy resin can be used alone as the component (A). Alternatively, two or more types of epoxy resins may be used in combination.
  • the epoxy resin itself is preferably liquid at room temperature.
  • preferable epoxy resins are liquid bisphenol type epoxy resin, liquid aminophenol type epoxy resin, silicone modified epoxy resin, and naphthalene type epoxy resin. More preferred epoxy resins are liquid bisphenol A type epoxy resin, liquid bisphenol F type epoxy resin, p-aminophenol type liquid epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, and 1,3-bis (3-glycidoxypropyl) tetramethyl. It is disiloxane.
  • the curing agent of the component (B) is not particularly limited as long as it is an epoxy resin curing agent.
  • a known epoxy resin solidifying agent can be used. Any of an acid anhydride-based curing agent, an amine-based curing agent, and a phenol-based curing agent can be used.
  • acid anhydride-based curing agents include alkylated tetrahydrophthalic anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, and methyltetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride.
  • alkylated tetrahydrophthalic anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, and methyltetrahydrophthalic anhydride, and hexahydrophthalic anhydride.
  • succinic anhydrides methylhymic hydrides
  • succinic anhydrides substituted with alkenyl groups methylnadic acid anhydrides
  • glutaric acid anhydrides include sodium stearic acid anhydrides, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, sodium
  • amine-based curing agents include aliphatic polyamines, alicyclic polyamines, piperazine-type polyamines, and aromatic polyamines.
  • aliphatic polyamine include triethylenetetraamine, tetraethylenepentamine, m-xylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, 2-methylpentamethylenediamine and the like.
  • alicyclic polyamine include isophorone diamine, 1,3-bisaminomethylcyclohexane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, norbornene diamine, and 1,2-diaminocyclohexane.
  • piperazine-type polyamine examples include N-aminoethylpiperazine and 1,4-bis (2-amino-2-methylpropyl) piperazine.
  • aromatic polyamines include diethyltoluenediamine, dimethylthiotoluenediamine, 4,4'-diamino-3,3'-diethyldiphenylmethane, bis (methylthio) toluenediamine, diaminodiphenylmethane, m-phenylenediamine, and diaminodiphenyl.
  • Examples include sulfone, diethyltoluenediamine, trimethylenebis (4-aminobenzoate), and polytetramethylene oxide-di-p-aminobenzoate. Further, as an example of a commercially available product, T-12 (trade name, manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd.) (amine equivalent 116) can be mentioned.
  • the phenolic curing agent contains a monomer, an oligomer, and a polymer having a phenolic hydroxyl group. Specific examples thereof include phenol novolac resin, alkylated and allylated products thereof, cresol novolac resin, phenol aralkyl (including phenylene and biphenylene skeleton) resin, naphthol aralkyl resin, triphenolmethane resin, and dicyclopentadiene type phenol resin. Be done.
  • curing agents can be used alone as the curing agent for the component (B). Alternatively, two or more types of curing agents may be used in combination.
  • the blending ratio of the curing agent for the component (B) is not particularly limited.
  • a curing agent of preferably 0.5 to 1.6 equivalents, more preferably 0.6 to 1.3 equivalents is used with respect to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin of the component (A).
  • the azine dye of the component (C) is a black colorant.
  • an azine dye when the resin composition of the present embodiment is used as a semiconductor encapsulant such as an underfill material, the semiconductor to be encapsulated and its peripheral elements are affected by external light. It is possible to suppress malfunction due to receiving and conceal the element and the circuit.
  • the azine dye which is a non-conductive colorant, has suitable electrical characteristics as a semiconductor encapsulant for a fine pitch semiconductor device having a narrow pitch interval.
  • the resin composition has a lower initial viscosity than when other black colorants such as azo dyes are used. Therefore, when the azine dye is used for the underfill material, the underfill material has good capillary flow injectability. Further, this underfill material has good storage stability at room temperature as compared with the case where another black colorant such as an azo dye is used. Therefore, the underfill material is excellent in pot life.
  • the azine dye of the component (C) includes a compound represented by the following formula (1).
  • an azine dye containing a compound represented by the formula (1) is used in a semiconductor encapsulant such as an underfill material, after performing a plurality of reflow steps.
  • discoloration is unlikely to occur in the sealing portion.
  • the compound represented by the formula (1) has excellent compatibility with the epoxy resin which is the main component of the resin composition, as compared with Solvent black 7 and the like used in the comparative example described later. Therefore, even if the reflow step is performed a plurality of times, the dye is less likely to volatilize from the resin composition, and it is considered that the sealing portion is less likely to be discolored.
  • the azine dye of the component (C) may further contain a compound represented by the following formula (2) in addition to the compound represented by the formula (1).
  • azine dye of the component (C) may further contain a compound represented by the following formula (3) in addition to the compound represented by the formula (1).
  • the azine dye of the component (C) is selected from at least a group consisting of a compound represented by the following formula (4) and a compound represented by the following formula (5) in addition to the compound represented by the formula (1). One may be further included.
  • the blending amount of the azine dye of the component (C) can be appropriately set by a conventional method when blending an organic dye in a resin composition used as a semiconductor encapsulant such as an underfill material.
  • the resin composition of the present embodiment may further contain the following components as optional components.
  • (D) Inorganic Filler When the resin composition of the present embodiment is used as a semiconductor encapsulant such as an underfill material, the moisture resistance and thermal cycle resistance of the sealed portion, particularly the thermal cycle resistance. Inorganic filler may be added as the component (D) for the purpose of improving the above.
  • Preferred examples of the inorganic filler of the component (D) include silica, barium sulfate, calcium carbonate, talc, kaolin, clay, boron nitride, silicon nitride, aluminum nitride, silicon carbide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, magnesium carbonate, and the like. Examples include aluminum hydroxide and alumina. At least one kind of inorganic filler selected from these inorganic fillers can be used.
  • the shape of the inorganic filler of the component (D) is not particularly limited.
  • the form of the inorganic filler may be spherical, amorphous, flaky or the like. Aggregates of inorganic fillers can also be used.
  • the inorganic filler may be surface-treated with a silane coupling agent or the like.
  • a silane coupling agent or the like.
  • the inorganic filler of the component (D) preferably has an average particle size of 0.1 to 100 ⁇ m, more preferably 0.1 to 50 ⁇ m, and even more preferably 1 to 50 ⁇ m.
  • the content of the inorganic filler of the component (D) is preferably 35 to 85 parts by mass, more preferably 55 to 70 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total of all the components of the resin composition.
  • the type of the inorganic filler of the component (D) is not particularly limited.
  • One kind of inorganic filler can be used alone.
  • two or more kinds of inorganic fillers may be used in combination.
  • the total content and average particle size of these inorganic fillers satisfy the above ranges.
  • (E) Coupling agent When the resin composition of the present embodiment is used as a semiconductor encapsulant such as an underfill material, the adhesion to the encapsulation target and the encapsulation reliability (adhesion reliability) are improved.
  • a coupling agent may be contained as the component (E).
  • the content thereof is preferably 0.05 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 parts by mass, based on 100 parts by mass of the total of all the components of the resin composition. It is ⁇ 1 part by mass, more preferably 0.2 to 0.5 part by mass.
  • the resin composition of the present embodiment may further contain components other than the above components (A) to (E), if necessary.
  • a compoundable component include a curing accelerator, a metal complex, a leveling agent, an ion trapping agent, an antifoaming agent, and a flame retardant.
  • the type and amount of each compounding agent can be appropriately determined according to a conventional method.
  • the resin composition of the present embodiment dissolves a raw material containing the above components (A) to (C), components (D) to (E) added as needed, and other components in an organic solvent. Alternatively, it can be obtained by dispersing or the like.
  • the apparatus for dissolving or dispersing these raw materials is not particularly limited. A stirrer, a resolver, a planetary mixer, a Raikai machine, a three-roll mill, a ball mill, a bead mill, or the like equipped with a heating device can be used. Further, these devices may be used in combination as appropriate.
  • the resin composition of this embodiment has the following suitable properties.
  • the resin composition of this embodiment has a low initial viscosity. Therefore, when this resin composition is used as an underfill material, good injectability in capillary flow can be obtained.
  • the initial viscosity when measured at 25 ° C. and a rotation speed of 1 rpm using a rotational viscometer is preferably 0.1 to 500 Pa ⁇ s, more preferably 0.2 to 200 Pa ⁇ s.
  • the initial viscosity when measured at 25 ° C. and a rotation speed of 10 rpm is preferably 0.1 to 500 Pa ⁇ s, more preferably 0.2 to 200 Pa ⁇ s.
  • the resin composition of the present embodiment is excellent in pot life due to its good storage stability at room temperature.
  • the thickening rate after storage for 24 hours measured by the procedure described in Examples described later is preferably 2.5 times or less, more preferably 1.5 times or less.
  • the injectability in the capillary flow is good. Specifically, when the injectability into a gap of 50 ⁇ m is evaluated by the procedure described in Examples described later, the injection time is preferably 40 seconds or less. Further, when the injection property into the gap of 20 ⁇ m is evaluated, the injection time is preferably 50 seconds or less.
  • the resin composition of the present embodiment is used as a semiconductor encapsulant such as an underfill material, discoloration of the encapsulating portion is unlikely to occur even after a plurality of reflow steps are performed.
  • the resin composition is cured at 165 ° C. for 2 hours according to the procedure described in Examples described later.
  • the color difference ⁇ E * ab measured with a color difference meter before and after the reflow at 260 ° C. was performed 5 times is preferably 12 or less.
  • the color difference ⁇ E * ab before and after performing the reflow at 260 ° C. 10 times is preferably 12 or less.
  • the gap between the substrate and the semiconductor element is filled with the resin composition of the present embodiment by the following procedure. While the substrate is heated to, for example, 70 to 130 ° C., the semiconductor resin encapsulant of the present embodiment is applied to one end of the semiconductor element. Then, due to the capillary phenomenon, the gap between the substrate and the semiconductor element is filled with the semiconductor resin encapsulant of the present embodiment. At this time, in order to shorten the time required for filling the resin composition of the present embodiment, the substrate may be tilted or a pressure difference may be generated inside and outside the gap.
  • the substrate is heated at a predetermined temperature for a predetermined time, specifically, at 80 to 200 ° C. for 0.2 to 6 hours. In this way, the gap is sealed by heat curing of the resin composition.
  • the semiconductor resin encapsulant of the present embodiment is used as the underfill material.
  • the sealing portion that is, the gap between the substrate and the semiconductor element is sealed.
  • the electronic component sealed include a semiconductor element.
  • the semiconductor element is not particularly limited, and includes an integrated circuit, a large-scale integrated circuit, a transistor, a thyristor, a diode, a capacitor, and the like.
  • Example 1 to 10 Comparative Example 1
  • the resin compositions of Examples 1 to 10 and Comparative Example 1 were prepared by kneading the raw materials using a roll mill so as to have the blending ratio shown in the upper part of Table 1 below.
  • the numerical values for each composition in the table represent parts by mass.
  • the ingredients used when creating the resin composition are as follows.
  • the initial viscosity (Pa ⁇ s) of the resin composition prepared by the above procedure is 25 ° C. at 1 rpm or 10 rpm using a rotary viscometer RVDV-1 prime (using spindle SC4-14) manufactured by Brookfield. It was measured.
  • RVDV-1 prime using spindle SC4-14
  • the ratio of this measured value to the initial viscosity was calculated as the thickening rate, which is an index of pot life.
  • the resin composition was applied onto the glass plate so that the film thickness was 300 ⁇ m.
  • the resin composition was cured under the condition of 165 ° C. for 2 hours.
  • the brightness (L * ) and color tone (a * , b * ) of the cured product were measured using a color difference meter (NF999 manufactured by Nippon Denshoku Kogyo Co., Ltd.).
  • the cured product passed through a reflow furnace having a maximum temperature of 260 ° C. 5 or 10 times.
  • the brightness (L * ) and the color tone (a * , b * ) of the cured product were measured using a color difference meter.
  • Example 1 the initial viscosity (10 rpm, 1 rpm), the thickening rate after storage for 24 hours, and the injectability (50 ⁇ m, 20 ⁇ m) were good. In addition, the color difference before and after the reflow (5 times of reflow, 10 times of reflow) was also small.
  • Example 2 and 3 the blending ratio of the azine dye of the component (C) is changed from that of Example 1.
  • Example 4 the azine dye of the component (C) is changed from that of Example 1.
  • Example 5 and 6 the equivalent ratio of the epoxy resin of the component (A) and the curing agent of the component (B) is changed from that of Example 1.
  • Example 7 and 8 the epoxy resin of the component (A) is changed from that of Example 1.
  • Example 9 the curing agent of the component (B) is changed from that of Example 1.
  • Comparative Example 1 in which Solvent black 7, which is easily available, was used as the component (C) the color difference ⁇ E * ab before and after the reflow (5 times of reflow, 10 times of reflow) was large and exceeded 12.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

半導体封止材としての要求特性を満たす、A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)下記式(1)に示される化合物を含むアジン系染料と、を含む樹脂組成物が提供される。この樹脂組成物が半導体封止材として使用された場合、複数回のリフロー工程の後でも、封止部に変色が生じにくい、

Description

樹脂組成物
 本開示は、樹脂組成物に関する。
 電子機器の小型化、軽量化、および高性能化に伴い、半導体の実装形態がワイヤーボンド型からフリップチップ型へと変化してきている。
 フリップチップ型の半導体装置では、基板上で、バンプ電極を介して、電極部と半導体素子とが互いに接続されている。このような半導体装置では、温度サイクル等の熱負荷が加わった際に、エポキシ樹脂等の有機材料製の基板と、半導体素子と、の間の熱膨張係数の差によって、バンプ電極に応力がかかる。その結果、バンプ電極にクラック等の不良が発生することが問題である。この不良発生を抑制するために、アンダーフィル材と呼ばれる液状半導体封止材が用いられる。アンダーフィル材は、半導体素子と基板との間のギャップを封止して、両者を互いに固定する。これによって、耐サーマルサイクル性を向上させることが広く行われている。
 アンダーフィル材の供給方法としては、毛細管現象を利用して、半導体素子と基板上の電極部との間隙にアンダーフィル材を注入する、キャピラリーフローが一般的である。このキャピラリーフローでは、半導体素子と、基板上の電極部と、が接続された後、半導体素子の外周に沿って、アンダーフィル材が塗布(ディスペンス)される。そして、アンダーフィル材の注入後、該アンダーフィル材が加熱硬化されて、両者の接続部位を補強する。
 アンダーフィル材は、注入性、接着性、硬化性、および保存安定性等に優れることが求められる。また、アンダーフィル材で封止した部位が、耐湿性、および耐サーマルサイクル性等に優れることが求められる。
 アンダーフィル材のような半導体封止材としては、上述した要求特性を満足するため、主剤としてのエポキシ樹脂と、該エポキシ樹脂の硬化剤と、を含有する樹脂組成物が通常用いられる。
 アンダーフィル材のような半導体封止材は、多くの場合、カーボンブラックにより黒色に着色されている。この理由は、着色により、封止される半導体及びその周辺素子が、外部の光の影響を受けて誤作動することを抑制でき、かつ、素子及び回路を隠蔽することができるからである(特許文献1)。
 しかしながら、近年では半導体装置の小型化および多ピン化が進んでいる。これに伴い、リード間、パッド間、あるいはワイヤー間などのピッチ間隔が狭くなってきている。そして、このような狭いピッチ間隔(ファインピッチ)を有する半導体装置に用いられる半導体封止材に、カーボンブラックなどの導電性物質が着色剤として使用されると、半導体装置にリーク不良が発生することがある。
 このリーク不良を防止するため、特許文献2に記載の封止用エポキシ樹脂組成物では、着色剤として有機アジン系染料が使用される。これにより、ファインピッチを有する半導体装置の電気特性の低下を抑制することができ、しかも、優れた耐湿信頼性を実現することができることが報告されている。
 しかしながら、特許文献2には、有機アジン系染料の具体例も好適例も記載されていない。実際、同文献の実施例にも「アジン系染料」とのみ記載されている。
特開2000-273288号公報 特開2009-127011号公報
 パッケージ実装の際に、複数回のリフロー工程を実施する場合がある。後述する比較例に示すように、アジン系染料として、入手が容易なSolvent black 7を含む半導体封止材が使用された場合、複数回のリフロー工程の実施により、封止部に変色が生じる場合がある。変色が生じると、封止部の外観が悪化する。そのため、製品が検査で不合格になるという問題が生じる。
 本開示の目的は、上記した従来技術における問題点を解決するため、アンダーフィル材としての要求特性を満たし、かつ、半導体封止材として使用された場合に、複数回のリフロー工程を実施しても、封止部に変色が生じにくい、アジン系染料を含む樹脂組成物を提供することである。
 上記の目的を達成するため、本実施形態では、
 (A)エポキシ樹脂と、
 (B)硬化剤と、
 (C)下記式(1)に示される化合物を含むアジン系染料と、を含む樹脂組成物が提供される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 本実施形態の樹脂組成物において、前記(C)アジン系染料は、下記式(2)に示される化合物をさらに含んでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 本実施形態の樹脂組成物において、前記(C)アジン系染料は、下記式(3)に示される化合物をさらに含んでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 本実施形態の樹脂組成物において、前記(C)アジン系染料は、さらに下記式(4)に示される化合物、および下記式(5)で示される化合物からなる群から選択される少なくとも一方をさらに含んでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 本実施形態の樹脂組成物は、(D)無機充填剤をさらに含有してもよい。
 本実施形態の樹脂組成物は、(E)カップリング剤をさらに含有してもよい。
 また、本開示は、本実施形態の樹脂組成物の硬化物を提供する。
 また、本開示は、本実施形態の樹脂組成物を用いた電子部品を提供する。
 本実施形態の樹脂組成物は、アンダーフィル材としての要求特性を満たす。さらに、当該樹脂組成物が半導体封止材として使用された場合に、複数回のリフロー工程が実施された後でも、封止部に変色が生じにくい。
実施例におけるリフロー前後の色差を示した図である。
開示を実施するための形態
 以下、本実施形態について詳細に説明する。
 本実施形態の樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂と、(B)硬化剤と、(C)アジン系染料と、を含む。
 本実施形態の樹脂組成物の各成分について、以下に記載する。
(A)エポキシ樹脂
 (A)成分のエポキシ樹脂は、本実施形態の樹脂組成物の主剤をなす成分である。
 (A)成分のエポキシ樹脂は、好ましくは、常温で液状である。ただし、他の液状のエポキシ樹脂又は希釈剤により希釈されて、液状を示す樹脂であれば、常温で固体のエポキシ樹脂であっても、用いることができる。
 具体的な例として、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、エーテル系又はポリエーテル系エポキシ樹脂、オキシラン環含有ポリブタジエン、およびシリコーンエポキシコポリマー樹脂が挙げられる。
 特に、液状であるエポキシ樹脂の例としては、約400以下の平均分子量を有するビスフェノールA型エポキシ樹脂;p-グリシジルオキシフェニルジメチルトリスビスフェノールAジグリシジルエーテルのような分岐状多官能ビスフェノールA型エポキシ樹脂;ビスフェノールF型エポキシ樹脂;約570以下の平均分子量を有するフェノールノボラック型エポキシ樹脂;ビニル(3,4-シクロヘキセン)ジオキシド、3,4-エポキシシクロヘキシルカルボン酸(3,4-エポキシシクロヘキシル)メチル、アジピン酸ビス(3,4-エポキシ-6-メチルシクロヘキシルメチル)、および2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)5,1-スピロ(3,4-エポキシシクロヘキシル)-m-ジオキサンのような脂環式エポキシ樹脂;3,3´,5,5´-テトラメチル-4,4´-ジグリシジルオキシビフェニルのようなビフェニル型エポキシ樹脂;ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジル、3-メチルヘキサヒドロフタル酸ジグリシジル、およびヘキサヒドロテレフタル酸ジグリシジルのようなグリシジルエステル型エポキシ樹脂;ジグリシジルアニリン、ジグリシジルトルイジン、トリグリシジル-p-アミノフェノール、テトラグリシジル-m-キシリレンジアミン、およびテトラグリシジルビス(アミノメチル)シクロヘキサンのようなグリシジルアミン型エポキシ樹脂;1,3-ジグリシジル-5-メチル-5-エチルヒダントインのようなヒダントイン型エポキシ樹脂;ならびに、ナフタレン環含有エポキシ樹脂が挙げられる。また、1,3-ビス(3-グリシドキシプロピル)-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのようなシリコーン骨格をもつエポキシ樹脂も使用することができる。さらに、他の例として、(ポリ)エチレングリコールジグリシジルエーテル、(ポリ)プロピレングリコールジグルシジルエーテル、ブタンジオールグリシジルエーテル、およびネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルのようなジエポキシド化合物;ならびに、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、およびグリセリントリグリシジルエーテルのようなトリエポキシド化合物が挙げられる。
 常温で固体ないし超高粘性液体のエポキシ樹脂を併用することも可能である。そのようなエポキシ樹脂の例として、高分子量のビスフェノールA型エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂、およびテトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂が挙げられる。エポキシ樹脂の流動性あるいは硬化物の物性を調節するために、これら樹脂と、常温で液体であるエポキシ樹脂及び/又は希釈剤と、が組み合わせされて用いられてもよい。
 常温で固体ないし超高粘性液体であるエポキシ樹脂を用いる場合、好ましくは、これらエポキシ樹脂は、低粘度のエポキシ樹脂と組み合わされる。低粘度のエポキシ樹脂の例としては、(ポリ)エチレングリコールジグリシジルエーテル、(ポリ)プロピレングリコールジグルシジルエーテル、ブタンジオールグリシジルエーテル、およびネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルのようなジエポキシド化合物;ならびに、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、およびグリセリントリグリシジルエーテルのようなトリエポキシド化合物が挙げられる。
 希釈剤を用いる場合、非反応性希釈剤及び反応性希釈剤のうちのいずれをも使用することができる。ただし、反応性希釈剤が好ましい。本明細書において、反応性希釈剤は、1個のエポキシ基を有する、常温で比較的低粘度の化合物をいう。これら化合物は、目的に応じて、エポキシ基以外に、他の重合性官能基、たとえば、ビニル基およびアリル基のようなアルケニル基;又は、アクリロイルおよびメタクリロイルのような不飽和カルボン酸残基を有していてもよい。このような反応性希釈剤の例として、n-ブチルグリシジルエーテル、2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、p-s-ブチルフェニルグリシジルエーテル、スチレンオキシド、およびα-ピネンオキシドのようなモノエポキシド化合物;ならびに、アリルグリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジル、および1-ビニル-3,4-エポキシシクロヘキサンのような他の官能基を有するモノエポキシド化合物等が挙げられる。
 (A)成分として、上記エポキシ樹脂を単独で用いることができる。あるいは、2種以上のエポキシ樹脂が併用されてもよい。エポキシ樹脂自体は、好ましくは、常温で液体である。中でも好ましいエポキシ樹脂は、液状ビスフェノール型エポキシ樹脂、液状アミノフェノール型エポキシ樹脂、シリコーン変性エポキシ樹脂、およびナフタレン型エポキシ樹脂である。さらに好ましいエポキシ樹脂は、液状ビスフェノールA型エポキシ樹脂、液状ビスフェノールF型エポキシ樹脂、p-アミノフェノール型液状エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、および1,3-ビス(3-グリシドキシプロピル)テトラメチルジシロキサンである。
(B)硬化剤
 (B)成分の硬化剤は、エポキシ樹脂の硬化剤であれば、特に限定されない。公知のエポキシ樹脂の固化剤を使用することができる。酸無水物系硬化剤、アミン系硬化剤、および、フェノール系硬化剤のうちのいずれをも使用することができる。
 酸無水物系硬化剤の具体例としては、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、およびメチルテトラヒドロフタル酸無水物のようなアルキル化テトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルハイミック酸無水物、アルケニル基で置換されたコハク酸無水物、メチルナジック酸無水物、並びにグルタル酸無水物が挙げられる。
 アミン系硬化剤の具体例としては、脂肪族ポリアミン、脂環式ポリアミン、ピペラジン型のポリアミン、および、芳香族ポリアミンが挙げられる。脂肪族ポリアミンの具体例としては、トリエチレンテトラアミン、テトラエチレンペンタミン、m-キシレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、および2-メチルペンタメチレンジアミンなどが挙げられる。脂環式ポリアミンの具体例としては、イソフォロンジアミン、1,3-ビスアミノメチルシクロヘキサン、ビス(4-アミノシクロヘキシル)メタン、ノルボルネンジアミン、および1,2-ジアミノシクロヘキサンが挙げられる。ピペラジン型のポリアミンの具体例としては、N-アミノエチルピペラジン、および1,4-ビス(2-アミノ-2-メチルプロピル)ピペラジンなどが挙げられる。芳香族ポリアミンの具体例としては、ジエチルトルエンジアミン、ジメチルチオトルエンジアミン、4,4’-ジアミノ-3,3’-ジエチルジフェニルメタン、ビス(メチルチオ)トルエンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、m-フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルホン、ジエチルトルエンジアミン、トリメチレンビス(4-アミノベンゾエート)、およびポリテトラメチレンオキシド-ジ-p-アミノベンゾエートが挙げられる。また、市販品の例として、T-12(商品名、三洋化成工業製)(アミン当量116)が挙げられる。
 フェノール系硬化剤は、フェノール性水酸基を有するモノマー、オリゴマー、およびポリマーを含む。その具体例として、フェノールノボラック樹脂、そのアルキル化物およびアリル化物、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル(フェニレン、ビフェニレン骨格を含む)樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェノールメタン樹脂、並びにジシクロペンタジエン型フェノール樹脂が挙げられる。
 (B)成分の硬化剤として、これら硬化剤を単独で用いることができる。あるいは、2種以上の硬化剤が併用されてもよい。
 本実施形態の樹脂組成物において、(B)成分の硬化剤の配合割合は特に限定されない。(A)成分のエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して、好ましくは0.5~1.6当量、より好ましくは0.6~1.3当量の硬化剤が用いられる。
(C)アジン系染料
 (C)成分のアジン系染料は、黒色の着色剤である。アジン系染料を用いることにより、本実施形態の樹脂組成物が、アンダーフィル材のような半導体封止材として使用される場合に、封止される半導体及びその周辺素子が、外部の光の影響を受けて誤作動することを抑制すること、および、素子及び回路を隠蔽することができる。
 非導電性の着色剤であるアジン系染料は、狭いピッチ間隔を有するファインピッチの半導体装置の半導体封止材として、好適な電気特性を有する。
 しかも、アゾ系染料などの他の黒色の着色剤を使用した場合に比べて、樹脂組成物が低い初期粘度を有する。そのため、アジン系染料がアンダーフィル材に使用された場合に、当該アンダーフィル材が良好なキャピラリーフロー注入性を有する。また、このアンダーフィル材は、アゾ系染料などの他の黒色の着色剤を使用した場合に比べて、常温で、良好な保存安定性を有する。そのため、アンダーフィル材はポットライフに優れている。
 (C)成分のアジン系染料は、下記式(1)に示される化合物を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 後述する実施例に示すように、式(1)で示される化合物を含むアジン系染料が、アンダーフィル材のような半導体封止材に使用された際に、複数回のリフロー工程を実施した後も、封止部に変色が生じにくい。その理由は、以下のように推測される。
 式(1)で示される化合物は、後述する比較例で使用したSolvent black 7などに比べて、樹脂組成物の主成分をなすエポキシ樹脂との相溶性に優れる、と考えられる。そのため、複数回のリフロー工程を実施しても、樹脂組成物からの染料の揮散などが生じにくいので、封止部に変色が生じにくいと、と考えられる。
 (C)成分のアジン系染料は、式(1)で示される化合物に加えて、下記式(2)に示される化合物をさらに含んでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 また、(C)成分のアジン系染料は、式(1)で示される化合物に加えて、下記式(3)に示される化合物をさらに含んでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 (C)成分のアジン系染料は、式(1)で示される化合物に加えて、下記式(4)に示される化合物、および下記式(5)で示される化合物からなる群から選択される少なくとも一方をさらに含んでもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 (C)成分のアジン系染料の配合量は、アンダーフィル材のような半導体封止材として使用する樹脂組成物に有機系染料を配合する際の常法によって、適宜設定することができる。
 本実施形態の樹脂組成物は、さらに以下の成分を任意成分として含有してもよい。
(D)無機充填剤
 本実施形態の樹脂組成物がアンダーフィル材のような半導体封止材として使用される場合に、封止された部位の耐湿性および耐サーマルサイクル性、特に耐サーマルサイクル性を向上させる目的で、(D)成分として無機充填剤が添加されてもよい。
 (D)成分の無機充填剤の好ましい例としては、シリカ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、タルク、カオリン、クレー、窒化ホウ素、窒化珪素、窒化アルミニウム、炭化珪素、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウム、およびアルミナが挙げられる。これら無機充填剤のうちから選択される少なくとも一種の無機充填剤を用いることができる。
 (D)成分の無機充填剤の形状は特に限定されない。無機充填剤の形態は、球状、不定形、またはりん片状等のいずれであってもよい。無機充填剤の凝集体を用いることもできる。
 また、無機充填剤は、シランカップリング剤等による表面処理が施されていてもよい。表面処理が施された無機充填剤を使用した場合、無機充填剤の凝集を抑制する効果が期待される。
 (D)成分の無機充填剤は、好ましくは0.1~100μm、より好ましくは0.1~50μm、さらに好ましくは1~50μmの平均粒径を有する。
 (D)成分の無機充填剤の含有量は、樹脂組成物の全成分の合計100質量部に対して、好ましくは35~85質量部、より好ましくは55~70質量部である。
 (D)成分の無機充填剤の種類は、特に制限されない。1種の無機充填剤を単独で用いることができる。あるいは、2種以上の無機充填剤が併用されてもよい。2種以上の無機充填剤が用いられる場合、これら無機充填剤の合計含有量および平均粒子径が上述した範囲を満たす。
 (E)カップリング剤
 本実施形態の樹脂組成物がアンダーフィル材のような半導体封止材として使用される場合に、封止対象に対する密着性、及び封止信頼性(接着信頼性)を向上させるために、(E)成分としてカップリング剤が含有されてもよい。
 (E)成分としてカップリング剤が含有される場合、その含有量は、樹脂組成物の全成分の合計100質量部に対して、好ましくは0.05~5質量部、より好ましくは0.1~1質量部、さらに好ましくは0.2~0.5質量部である。
(その他の配合剤)
 本実施形態の樹脂組成物は、上記(A)~(E)成分以外の成分を必要に応じてさらに含有してもよい。
 このような配合可能な成分の具体例としては、硬化促進剤、金属錯体、レベリング剤、イオントラップ剤、消泡剤、および難燃剤が挙げられる。各配合剤の種類および配合量は、常法に従って、適宜決定することができる。
 本実施形態の樹脂組成物は、上記(A)~(C)成分と、必要に応じて添加する(D)~(E)成分と、その他の成分と、を含む原料を、有機溶剤に溶解又は分散等させることにより、得ることができる。これらの原料の溶解又は分散等のための装置は、特に限定されない。加熱装置を備えた攪拌機、デゾルバー、プラネタリーミキサー、ライカイ機、3本ロールミル、ボールミル、あるいはビーズミル等を使用することができる。また、これら装置が適宜組み合わせされて使用されてもよい。
 本実施形態の樹脂組成物は、以下に示す好適な特性を有している。
(初期粘度、ポットライフ(増粘倍率))
 本実施形態の樹脂組成物は、低い初期粘度を有する。そのため、この樹脂組成物が、アンダーフィル材として使用された場合に、キャピラリーフローにおける、良好な注入性が得られる。
 具体的には、回転粘度計を用いて、25℃、回転数1rpmで測定したときの初期粘度が、好ましくは0.1~500Pa・s、より好ましくは0.2~200Pa・sである。また、25℃、回転数10rpmで測定したときの初期粘度が、好ましくは0.1~500Pa・s、より好ましくは0.2~200Pa・sである。
 また、本実施形態の樹脂組成物は、その常温での良好な保存安定性により、ポットライフに優れている。後述する実施例に記載の手順で測定される24時間保管後の増粘率が、好ましくは2.5倍以下、より好ましくは1.5倍以下である。
(注入性)
 また、本実施形態の樹脂組成物がアンダーフィル材として使用された場合に、キャピラリーフローにおける注入性が良好である。具体的には、後述する実施例に記載の手順で50μmのギャップへの注入性を評価した際に、注入時間が好ましくは40秒以下である。また、20μmのギャップへの注入性を評価した際に、注入時間が好ましくは50秒以下である。
(リフロー前後の色差)
 また、本実施形態の樹脂組成物がアンダーフィル材のような半導体封止材として使用された場合に、複数回のリフロー工程が実施された後でも、封止部に変色が生じにくい。具体的には、後述する実施例に記載の手順で樹脂組成物が165℃で2時間硬化される。その後、260℃でのリフローを5回実施した前後での、色差計を用いて測定した色差ΔEabが、好ましくは12以下である。また、260℃でのリフローを10回実施した前後の色差ΔEabが好ましくは12以下である。
 次に本実施形態の樹脂組成物の使用方法を、アンダーフィル材としての使用に言及しつつ説明する。
 本実施形態の樹脂組成物をアンダーフィル材として使用するために、以下の手順で、基板と半導体素子との間のギャップに、本実施形態の樹脂組成物が充填される。
 基板が、たとえば70~130℃に加熱されている間に、半導体素子の一端に本実施形態の半導体樹脂封止材が塗布される。すると、毛細管現象によって、基板と半導体素子との間のギャップに、本実施形態の半導体樹脂封止材が充填される。この際、本実施形態の樹脂組成物の充填に要する時間を短くするため、基板を傾斜させるか、または、該ギャップ内外に圧力差を生じさせてもよい。
 該ギャップに本実施形態の樹脂組成物が充填された後、該基板が、所定温度で所定時間、具体的には、80~200℃で0.2~6時間加熱される。このように、樹脂組成物の加熱硬化によって、該ギャップが封止される。
 本実施形態の電子部品では、本実施形態の半導体樹脂封止材がアンダーフィル材として使用される。上記の手順で封止部位、すなわち、基板と半導体素子との間のギャップが、封止されている。ここで封止される電子部品としては、半導体素子が挙げられる。ここで、半導体素子は、特に限定されず、集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、サイリスタ、ダイオード、およびコンデンサ等を含む。
 以下、実施例により、本実施形態を詳細に説明する。ただし、本実施形態は、これら実施例に限定されない。
(実施例1~10、比較例1)
 下記表1上部に示す配合割合となるように、ロールミルを用いて原料を混練することにより、実施例1~10、比較例1の樹脂組成物を調製した。なお、表中の各組成に関する数値は質量部を表している。
 樹脂組成物の作成時に使用した成分は以下の通り。
(A)成分:エポキシ樹脂
 (A-1)ビスフェノールF型エポキシ樹脂、製品名YDF8170、新日鐵化学株式会社製、エポキシ当量158g/eq、25℃における粘度:1300mPas
 (A-2)ビスフェノールA型エポキシ樹脂、製品名EXA850CRP、DIC株式会社製、エポキシ当量172g/eq、25℃における粘度:4400mPas
 (A-3)ナフタレンノボラック型エポキシ樹脂、製品名HP4032D、DIC株式会社製、エポキシ当量144g/eq、25℃における粘度:540mPas
(B)成分:硬化剤
 (B-1)アミン系硬化剤、製品名エタキュア100PLUS、ALBEMARLE Co.,Ltd.製、当量44.6g/eq、25℃における粘度:160mPas
 (B-2)酸無水物系硬化剤、製品名:HN-5500、日立化成工業株式会社製、当量168g/eq、25℃における粘度:60mPas
 (B-3)フェノール系硬化剤、製品名MEH8005、明和化成株式会社製、当量135g/eq、25℃における粘度:60mPas
(C)成分:アジン系染料
 (C-1)NUBIAN(登録商標)BLACK PC-5856、オリエント化学工業株式会社製、下記式(1)、式(2)、式(3)で示される化合物を含有。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 (C-2)NUBIAN(登録商標)BLACK PC-5857、オリエント化学工業株式会社製、式(1)、式(2)、下記式(4)、下記式(5)で示される化合物を含有。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
(C-3)Solvent black 7、オリエント化学工業株式会社製、下記式で示される化合物を含有。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
(初期粘度、24時間保管後増粘率)
 上記の手順で調製した樹脂組成物の初期粘度(Pa・s)が、ブルックフィールド社製回転粘度計RVDV-1 prime(スピンドルSC4-14使用)用いて、1rpmまたは10rpmで25℃の条件で、測定された。次に、樹脂組成物を密閉容器内で、25℃、湿度50%の環境にて24時間保管された時点における、前記樹脂組成物の粘度が、初期粘度の測定と同じ手順で測定された。この測定値の初期粘度に対する倍率が、ポットライフの指標となる増粘率として、算出された。
(注入性)
 有機基板(FR-4基板)との間に、20μmまたは50μmのギャップが生ずるように、半導体素子の代わりにガラス板が固定された。これにより、試験片を作製した。この試験片を110℃に設定されたホットプレート上に置かれた試験片のガラス板の一端側に、樹脂組成物が塗布された。その後、樹脂組成物の注入距離が20mmに達するまでの時間が測定された。この手順で、試験が2回実施された。得られた測定値の平均値が注入時間として算出された。
(リフロー前後の色差)
 ガラス板上を樹脂組成物が、その膜厚が300μmとなるように、塗布された。ガラス板上で、樹脂組成物は、165℃2時間の条件で、硬化された。その後、色差計(日本電色工業社製NF999)を用いて、硬化物の明度(L)および色調(a,b)が測定された。
 次に、上記硬化物が、最高到達温度260℃のリフロー炉を5回または10回通過した。その後、色差計を用いて、硬化物の明度(L)および色調(a,b)が測定された。
 測定結果から、下記式により、リフロー前後の色差を求めた。
ΔEab=((ΔL(リフロー前後のLの差))+(Δa(リフロー前後のaの差))+(Δb(リフロー前後のbの差))1/2
 結果を下記表に示す。リフロー前後の色差については、図1にも結果を示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
 実施例1~10では、初期粘度(10rpm、1rpm)、24時間保管後増粘率、および注入性(50μm、20μm)が良好であった。また、リフロー前後(リフロー5回、リフロー10回)の色差も小さかった。
 なお、実施例2,3では、実施例1に対し、(C)成分のアジン系染料の配合割合が変更されている。
 実施例4は、実施例1に対し、(C)成分のアジン系染料が変更されている。
 実施例5,6は、実施例1に対し、(A)成分のエポキシ樹脂と(B)成分の硬化剤の当量比が変更されている。
 実施例7,8は、実施例1に対し、(A)成分のエポキシ樹脂が変更されている。
 実施例9,10は、実施例1に対し、(B)成分の硬化剤が変更されている。
 (C)成分として、入手が容易なSolvent black 7を使用した比較例1では、リフロー前後(リフロー5回、リフロー10回)の色差ΔEabが大きく、12超であった。

Claims (8)

  1.  (A)エポキシ樹脂と、
     (B)硬化剤と、
     (C)下記式(1)に示される化合物を含むアジン系染料と、を含む
    樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
  2.  前記(C)アジン系染料が、下記式(2)に示される化合物をさらに含む、
    請求項1に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
  3.  前記(C)アジン系染料が、下記式(3)に示される化合物をさらに含む、
    請求項1または2に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  4.  前記(C)アジン系染料が、さらに下記式(4)に示される化合物、および下記式(5)で示される化合物からなる群から選択される少なくとも一方をさらに含む、
    請求項1~3のいずれかに記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
  5.  (D)無機充填剤をさらに含有する、請求項1~4のいずれかに記載の樹脂組成物。
  6.  (E)カップリング剤をさらに含有する、請求項1~5のいずれかに記載の樹脂組成物。
  7.  請求項1~6のいずれかに記載の樹脂組成物の硬化物。
  8.  請求項1~6のいずれかに記載の樹脂組成物を用いた電子部品。
PCT/JP2020/035036 2019-10-16 2020-09-16 樹脂組成物 WO2021075197A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020227004198A KR20220084267A (ko) 2019-10-16 2020-09-16 수지 조성물
JP2021552275A JPWO2021075197A1 (ja) 2019-10-16 2020-09-16
CN202080055261.7A CN114174423B (zh) 2019-10-16 2020-09-16 树脂组合物

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019189517 2019-10-16
JP2019-189517 2019-10-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2021075197A1 true WO2021075197A1 (ja) 2021-04-22

Family

ID=75537567

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2020/035036 WO2021075197A1 (ja) 2019-10-16 2020-09-16 樹脂組成物

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JPWO2021075197A1 (ja)
KR (1) KR20220084267A (ja)
CN (1) CN114174423B (ja)
WO (1) WO2021075197A1 (ja)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59185349A (ja) * 1983-04-06 1984-10-20 Orient Kagaku Kogyo Kk 静電荷像現像用トナ−
JPS6131449A (ja) * 1984-07-23 1986-02-13 Nippon Kayaku Co Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物
JPS61268495A (ja) * 1985-05-23 1986-11-27 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写シ−ト
JPH05204085A (ja) * 1992-01-23 1993-08-13 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0867806A (ja) * 1994-08-30 1996-03-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体封止用樹脂組成物
JP2003246840A (ja) * 2002-02-25 2003-09-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置
US20080300321A1 (en) * 2007-06-04 2008-12-04 Dieter Zimmermann Multicolor component adhesive system
JP2009127011A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Panasonic Electric Works Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置
WO2014188850A1 (ja) * 2013-05-21 2014-11-27 昭和電工株式会社 遮光性防湿絶縁塗料、遮光性防湿絶縁塗料を用いた封止・絶縁処理方法、および遮光性防湿絶縁塗料によって封止・絶縁処理された電子部品

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000273288A (ja) 1999-03-29 2000-10-03 Citizen Watch Co Ltd 封止樹脂組成物
JP2009046606A (ja) * 2007-08-21 2009-03-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd 熱硬化性液状封止樹脂組成物及び半導体装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59185349A (ja) * 1983-04-06 1984-10-20 Orient Kagaku Kogyo Kk 静電荷像現像用トナ−
JPS6131449A (ja) * 1984-07-23 1986-02-13 Nippon Kayaku Co Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物
JPS61268495A (ja) * 1985-05-23 1986-11-27 Dainippon Printing Co Ltd 熱転写シ−ト
JPH05204085A (ja) * 1992-01-23 1993-08-13 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀写真感光材料
JPH0867806A (ja) * 1994-08-30 1996-03-12 Sumitomo Bakelite Co Ltd 半導体封止用樹脂組成物
JP2003246840A (ja) * 2002-02-25 2003-09-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び光半導体装置
US20080300321A1 (en) * 2007-06-04 2008-12-04 Dieter Zimmermann Multicolor component adhesive system
JP2009127011A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Panasonic Electric Works Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置
WO2014188850A1 (ja) * 2013-05-21 2014-11-27 昭和電工株式会社 遮光性防湿絶縁塗料、遮光性防湿絶縁塗料を用いた封止・絶縁処理方法、および遮光性防湿絶縁塗料によって封止・絶縁処理された電子部品

Also Published As

Publication number Publication date
CN114174423A (zh) 2022-03-11
CN114174423B (zh) 2024-06-21
JPWO2021075197A1 (ja) 2021-04-22
TW202124554A (zh) 2021-07-01
KR20220084267A (ko) 2022-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6415104B2 (ja) 液状封止材、それを用いた電子部品
TWI507485B (zh) 半導體樹脂封裝材料
TWI405810B (zh) Semiconductor device manufacturing method and semiconductor device
TWI579331B (zh) 液狀密封材料、使用其之電子零件
WO2010029726A1 (ja) 半導体装置および半導体装置に用いる樹脂組成物
WO2011013326A1 (ja) 液状樹脂組成物、およびそれを用いた半導体装置
JP5647769B2 (ja) Cof封止用樹脂組成物
WO2021075197A1 (ja) 樹脂組成物
JP6829462B2 (ja) 液状エポキシ樹脂封止材
JP4810835B2 (ja) アンダーフィル用液状封止樹脂組成物及びそれを用いた半導体装置
TWI845764B (zh) 樹脂組成物
JP2005026447A (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法
JP6039837B2 (ja) 液状封止材、それを用いた電子部品
TWI685537B (zh) 樹脂組成物、及使用其的銅凸塊用液狀密封劑
TW202216944A (zh) 半導體密封用環氧樹脂組成物
WO2024075342A1 (ja) エポキシ樹脂組成物、半導体装置、及び半導体装置の製造方法
JP2009283621A (ja) 半導体装置および半導体装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 20876150

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2021552275

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 20876150

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1