JPH0867806A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

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JPH0867806A
JPH0867806A JP20579694A JP20579694A JPH0867806A JP H0867806 A JPH0867806 A JP H0867806A JP 20579694 A JP20579694 A JP 20579694A JP 20579694 A JP20579694 A JP 20579694A JP H0867806 A JPH0867806 A JP H0867806A
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JP
Japan
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resin
epoxy resin
resin composition
weight
phenol
Prior art date
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Pending
Application number
JP20579694A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Hirata
明広 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 エポキシ樹脂、フェノール樹脂硬化剤、硬化
促進剤、無機質充填材及び有機アジン系染料を必須成分
とする半導体封止用樹脂組成物。 【効果】 良好な成形性、耐湿信頼性、優れた炭酸ガス
レーザー印字発色性を有する半導体封止用樹脂組成物を
得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、成形性、炭酸ガスレー
ザーマーキング性及び耐湿信頼性に優れた半導体封止用
樹脂組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】トランジスター、コンデンサー、ダイオ
ード、IC、LSI等の封止に用いる半導体封止用樹脂
組成物の着色剤成分としては、カーボンブラックが広く
採用され、更に半導体装置への印字方法としてはインク
による捺印が広く用いられてきたが、近年はインク捺印
に代わり炭酸ガスレーザーによる半導体装置への印字も
導入され始めてきた。しかし、従来のカーボンブラック
を含む樹脂組成物で封止した半導体装置の印字に、炭酸
ガスレーザーを用いた場合、発色性が悪く、鮮明な印字
を得ることが困難であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】半導体封止用樹脂組成
物の炭酸ガスレーザー発色性につき種々の検討を行った
結果、封止樹脂組成物中の着色剤として有機アジン系染
料を用いることにより、優れた炭酸ガスレーザー印字発
色性を発揮することを見いだし、本発明に至ったもので
ある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂硬化剤、硬化促進剤、無機質充填材
及び有機アジン系染料を必須成分とする半導体封止用樹
脂組成物である。
【0005】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
用いられるエポキシ樹脂は、少なくとも2個以上のエポ
キシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を
指し、その分子量、分子構造は特に限定するものではな
い。例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラック
型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリフェ
ノールメタン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキ
シ樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものでは
なく、またこれらのエポキシ樹脂は単独もしくは併用し
ても差し支えない。本発明に用いるフェノール樹脂硬化
剤は、上記エポキシ樹脂と硬化反応を行い架橋構造を形
成することができる少なくとも2個以上のフェノール性
水酸基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー全般を
指し、その分子量、分子構造は特に限定するものではな
い。例えばフェノールノボラック樹脂、パラキシリレン
変性フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、ジ
シクロペンタジエン変性フェノール樹脂、ビスフェノー
ルA、トリフェノールメタン等が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。これらのフェノール樹脂硬
化剤は単独もしくは併用しても差し支えない。本発明に
用いるエポキシ樹脂とフェノール樹脂硬化剤の配合割合
は、特には限定しないが、エポキシ基数/水酸基数で
0.8〜1.3が好ましい。
【0006】硬化促進剤としては、上記エポキシ樹脂と
フェノール樹脂硬化剤との架橋反応を促進するものであ
り、例えば、トリフェニルホスフィン等の有機リン化合
物、1,8−ジアザビシクロウンデセン等のアミン系化
合物、2−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物
等が挙げられる。これらの硬化促進剤は単独もしくは併
用しても差し支えない。無機質充填材としては、溶融シ
リカ粉末、結晶シリカ粉末、アルミナ、窒化珪素等が挙
げられる。これら無機質充填材の配合量は、成形性と信
頼性とのバランスから全樹脂組成物中に55〜90重量
%含有することが好ましい。特に無機質充填材量の多い
配合では、球状の溶融シリカを用いるのが一般的であ
る。
【0007】本発明に用いる有機アジン系染料について
以下に説明する。アジンとは6原子複素環内で異原子が
2個以上で、かつその内の1個は窒素原子であるものの
総称である。本発明に用いる有機アジン系染料は、アジ
ン環を1個又は2個以上有する化合物を指し、単独で用
いても混合して用いても差し支えない。本発明に用いる
有機アジン系染料としては、例えば、中央合成化学工業
(株)・製の商品名 Oil Black SN、Oil
Black、 SpiritBlack MB、住友
化学工業(株)・製の商品名 Black LM−1、B
lack AR等が挙げられ、市場より容易に入手でき
る。有機アジン系染料の配合量は、全樹脂組成物中に
0.20〜2.00重量%の範囲であり、好ましくは
0.30〜1.50重量%である。0.20重量%未満
だと炭酸ガスレーザー印字後の発色性が悪く、又樹脂組
成物の色が淡青色となり良好なコントラストを得ること
ができない。2.00重量%を越えると炭酸ガスレーザ
ーを当てた部分の染料の一部が発色せずそのまま残り、
良好な発色性を得ることができない。又コントラスト調
整用にカーボンブラック、各種各色の着色剤等を併用す
ることも可能である。
【0008】本発明の樹脂組成物は、エポキシ樹脂、フ
ェノール樹脂硬化剤、硬化促進剤、無機質充填材及び有
機アジン系染料を必須成分とするが、これ以外にも必要
に応じて、シランカップリング剤に代表される各種カッ
プリング剤、天然ワックス及び合成ワックス等の離型
剤、シリコーンオイル、シリコーンゴム、合成ゴム等の
低応力添加剤を適宜配合しても差し支えない。成形材料
化するに際しては、加熱ニーダーや熱ロールにより全組
成物を加熱混練し、続いて冷却、粉砕することで目的と
する半導体封止用エポキシ樹脂組成物が得られる。
【0009】以下本発明を実施例で具体的に説明する。 実施例1 オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量2 00) 14.90重量部 フェノールノボラック樹脂(軟化点110℃、水酸基当量104) 8.30重量部 ブロム化エポキシ樹脂(軟化点80℃、エポキシ当量273) 2.00重量部 三酸化アンチモン 2.00重量部 1,8−ジアザビシクロウンデセン 0.18重量部 γーアミノプロピルトリエトキシシラン 0.50重量部 カルナバワックス 0.50重量部 溶融シリカ粉末 71.32重量部 有機アジン系染料1 0.30重量部 (中央合成化学工業(株)・製 Oil Black SN) をミキサーにより十分に混合した後、バレル温度100
℃で、ニーダー、ロールで加熱混練し、更に冷却後粉砕
して、封止材料とした。この材料を用いて、スパイラル
フロー、ゲル化時間、難燃性、耐湿性を評価した。更
に、炭酸ガスレーザー印字による発色性、コントラスト
の評価を行った。評価結果を表1に示す。
【0010】この材料を用いて、圧力76kgf/cm
2、金型温度175℃、硬化時間120秒の条件でトラ
ンスファー成形を行い、次にポストキュアーを175℃
で8時間行った。 スパイラルフロー :内部がスパイラル状になった金
型(EMMI−I−66に準じた金型)を用い、175
℃、実効圧70kgf/cm2、約120秒の条件でト
ランスファー成形した時の金型内で樹脂が流動した長
さ。 ゲル化時間:175℃の熱板上に樹脂を2g乗せ、スパ
チュラを用いて約25mm角の大きさに広げて熱板にこ
すりつけた後、樹脂が硬化して熱板より剥がれる時間。 難燃性:UL−94垂直法。厚さ1.0mmの試験片を
使用。 耐湿信頼性:80pQFPパッケージを成形し、ポスト
キュアー後、85℃、85%RHの環境下で24時間放
置し、その後260℃の半田槽に10秒間浸漬した。次
にこのパッケージを125℃、2.3気圧のPCT処理
を行い、不良率が50%となる迄のPCT処理時間を耐
湿信頼性として表現した。 炭酸ガスレーザー印字:10φ、3mm厚の円板を成形
し、ポストキュアー後に印字を行い、目視により発色
性、コントラストを評価(印字装置:ユニマークAGH
610(ウシオ電機製)、レーザー波長は10.6μ
m、印加電圧は40kV)。 実施例2〜6 表1の配合に従い、実施例1と同様にして封止材料を得
た。評価結果を表1に示す。
【0011】比較例1 オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(軟化点60℃、エポキシ当量2 00) 14.90重量部 フェノールノボラック樹脂(軟化点110℃、水酸基当量104) 8.30重量部 ブロム化エポキシ樹脂(軟化点80℃、エポキシ当量273) 2.00重量部 三酸化アンチモン 2.00重量部 1,8−ジアザビシクロウンデセン 0.18重量部 γーアミノプロピルトリエトキシシラン 0.50重量部 カルナバワックス 0.50重量部 溶融シリカ粉末 71.52重量部 有機アジン系染料1 0.10重量部 (中央合成化学工業(株)・製 Oil Black SN) 実施例1と同様に封止材料を得た。評価結果を表2に示
す。 比較例2、3 表1の配合に従い、実施例1と同様にして封止材料を得
た。評価結果を表2に示す。
【0012】
【表1】
【0013】
【表2】
【0014】
【発明の効果】本発明に従うと、良好な成形性、耐湿信
頼性、優れた炭酸ガスレーザー印字発色性を有する半導
体封止用樹脂組成物を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/29 23/31

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂、フェノール樹脂硬化剤、
    硬化促進剤、無機質充填材及び有機アジン系染料を必須
    成分とすることを特徴とする半導体封止用樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 有機アジン系染料を全樹脂組成物中に
    0.20〜2.00重量%含む請求項1記載の半導体封
    止用樹脂組成物。
JP20579694A 1994-08-30 1994-08-30 半導体封止用樹脂組成物 Pending JPH0867806A (ja)

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JP20579694A JPH0867806A (ja) 1994-08-30 1994-08-30 半導体封止用樹脂組成物

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JPH0867806A true JPH0867806A (ja) 1996-03-12

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009127011A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Panasonic Electric Works Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置
WO2021075197A1 (ja) * 2019-10-16 2021-04-22 ナミックス株式会社 樹脂組成物

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JP2009127011A (ja) * 2007-11-27 2009-06-11 Panasonic Electric Works Co Ltd 封止用エポキシ樹脂組成物および半導体装置
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