WO2020174867A1 - ウルトラファインバブル生成装置、ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル含有液、及びプログラム - Google Patents

ウルトラファインバブル生成装置、ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル含有液、及びプログラム Download PDF

Info

Publication number
WO2020174867A1
WO2020174867A1 PCT/JP2019/050972 JP2019050972W WO2020174867A1 WO 2020174867 A1 WO2020174867 A1 WO 2020174867A1 JP 2019050972 W JP2019050972 W JP 2019050972W WO 2020174867 A1 WO2020174867 A1 WO 2020174867A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
ufb
liquid
concentration
generation
ultrafine
Prior art date
Application number
PCT/JP2019/050972
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
山田 顕季
久保田 雅彦
今仲 良行
由美 柳内
博 有水
石永 博之
照夫 尾崎
Original Assignee
キヤノン株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by キヤノン株式会社 filed Critical キヤノン株式会社
Priority to CN201980093264.7A priority Critical patent/CN113490545B/zh
Publication of WO2020174867A1 publication Critical patent/WO2020174867A1/ja
Priority to US17/407,932 priority patent/US20210379547A1/en

Links

Images

Classifications

    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F39/00Details of washing machines not specific to a single type of machines covered by groups D06F9/00 - D06F27/00 
    • D06F39/08Liquid supply or discharge arrangements
    • D06F39/088Liquid supply arrangements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/90Heating or cooling systems
    • B01F35/93Heating or cooling systems arranged inside the receptacle
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L15/00Washing or rinsing machines for crockery or tableware
    • A47L15/0018Controlling processes, i.e. processes to control the operation of the machine characterised by the purpose or target of the control
    • A47L15/0021Regulation of operational steps within the washing processes, e.g. optimisation or improvement of operational steps depending from the detergent nature or from the condition of the crockery
    • A47L15/0023Water filling
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L15/00Washing or rinsing machines for crockery or tableware
    • A47L15/42Details
    • A47L15/4214Water supply, recirculation or discharge arrangements; Devices therefor
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L15/00Washing or rinsing machines for crockery or tableware
    • A47L15/42Details
    • A47L15/4285Water-heater arrangements
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/231Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids by bubbling
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/50Circulation mixers, e.g. wherein at least part of the mixture is discharged from and reintroduced into a receptacle
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/211Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2111Flow rate
    • B01F35/21112Volumetric flow rate
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/2132Concentration, pH, pOH, p(ION) or oxygen-demand
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22Control or regulation
    • B01F35/2201Control or regulation characterised by the type of control technique used
    • B01F35/2202Controlling the mixing process by feed-back, i.e. a measured parameter of the mixture is measured, compared with the set-value and the feed values are corrected
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/22Control or regulation
    • B01F35/221Control or regulation of operational parameters, e.g. level of material in the mixer, temperature or pressure
    • B01F35/2216Time, i.e. duration, of at least one parameter during the operation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/90Heating or cooling systems
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F39/00Details of washing machines not specific to a single type of machines covered by groups D06F9/00 - D06F27/00 
    • D06F39/04Heating arrangements
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L15/00Washing or rinsing machines for crockery or tableware
    • A47L15/0018Controlling processes, i.e. processes to control the operation of the machine characterised by the purpose or target of the control
    • A47L15/0057Cleaning of machines parts, e.g. removal of deposits like lime scale or proteins from piping or tub
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L2301/00Manual input in controlling methods of washing or rinsing machines for crockery or tableware, i.e. information entered by a user
    • A47L2301/04Operation mode, e.g. delicate washing, economy washing, reduced time, sterilizing, water softener regenerating, odor eliminating or service
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L2401/00Automatic detection in controlling methods of washing or rinsing machines for crockery or tableware, e.g. information provided by sensors entered into controlling devices
    • A47L2401/06Water supply, circulation or discharge information
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47LDOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47L2501/00Output in controlling method of washing or rinsing machines for crockery or tableware, i.e. quantities or components controlled, or actions performed by the controlling device executing the controlling method
    • A47L2501/06Water heaters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2101/00Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
    • B01F2101/48Mixing water in water-taps with other ingredients, e.g. air, detergents or disinfectants
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F2101/00User input for the control of domestic laundry washing machines, washer-dryers or laundry dryers
    • D06F2101/20Operation modes, e.g. delicate laundry washing programs, service modes or refreshment cycles
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F2103/00Parameters monitored or detected for the control of domestic laundry washing machines, washer-dryers or laundry dryers
    • D06F2103/14Supply, recirculation or draining of washing liquid
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F2105/00Systems or parameters controlled or affected by the control systems of washing machines, washer-dryers or laundry dryers
    • D06F2105/02Water supply
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F2105/00Systems or parameters controlled or affected by the control systems of washing machines, washer-dryers or laundry dryers
    • D06F2105/10Temperature of washing liquids; Heating means therefor
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F33/00Control of operations performed in washing machines or washer-dryers 
    • D06F33/30Control of washing machines characterised by the purpose or target of the control 
    • D06F33/32Control of operational steps, e.g. optimisation or improvement of operational steps depending on the condition of the laundry
    • D06F33/34Control of operational steps, e.g. optimisation or improvement of operational steps depending on the condition of the laundry of water filling
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F33/00Control of operations performed in washing machines or washer-dryers 
    • D06F33/30Control of washing machines characterised by the purpose or target of the control 
    • D06F33/43Control of cleaning or disinfection of washing machine parts, e.g. of tubs
    • DTEXTILES; PAPER
    • D06TREATMENT OF TEXTILES OR THE LIKE; LAUNDERING; FLEXIBLE MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • D06FLAUNDERING, DRYING, IRONING, PRESSING OR FOLDING TEXTILE ARTICLES
    • D06F34/00Details of control systems for washing machines, washer-dryers or laundry dryers
    • D06F34/14Arrangements for detecting or measuring specific parameters
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E03WATER SUPPLY; SEWERAGE
    • E03CDOMESTIC PLUMBING INSTALLATIONS FOR FRESH WATER OR WASTE WATER; SINKS
    • E03C1/00Domestic plumbing installations for fresh water or waste water; Sinks
    • E03C1/02Plumbing installations for fresh water
    • E03C1/08Jet regulators or jet guides, e.g. anti-splash devices
    • E03C1/084Jet regulators with aerating means

Definitions

  • the present invention relates to an ultra fine bubble generation device having a diameter of less than 1.0 ⁇ m, an ultra fine bubble generation method, an ultra fine bubble bubble containing liquid, and a program.
  • ultra fine bubbles such as micro bubbles with a diameter of micrometer and nano bubbles with a diameter of nanometer.
  • UFB ultra fine bubbles
  • Patent Document 1 discloses a fine bubble generation device that generates fine bubbles by ejecting a pressurized liquid in which gas is dissolved under pressure from a decompression nozzle. Further, Patent Document 2 discloses a device that generates fine bubbles by repeatedly dividing and joining a gas-mixed liquid using a mixing unit.
  • an object of the present invention is to provide a UFB generation device and a UFB generation method capable of controlling generation of UFB in a liquid to efficiently generate a highly pure UFB-containing liquid.
  • the present invention relates to a heat generating part having a heat generating element arranged at a position in contact with a liquid, a driving means for driving the heat generating element so as to cause film boiling in the liquid, and an ultra fine bubble to be generated in the liquid.
  • setting means for setting the target density of the heating element, and control means for controlling the driving condition of the heating element by the driving means based on the target density set by the setting means. It is a fine bubble generator.
  • FIG. 1 is a diagram showing an example of a basic configuration of an ultrafine bubble generation device (UFB generation device) applicable to the present invention.
  • the UFB generation device 1 of this embodiment includes a pretreatment unit 100, a dissolution unit 200, a T-UFB generation unit 300, a post-treatment unit 400, and a recovery unit 500.
  • the liquid W such as tap water supplied to the pretreatment unit 100 is subjected to the treatment unique to each unit in the above order, and is recovered by the recovery unit 500 as a T-UFB-containing liquid.
  • T-UFB Thermal-Ultra Fine Bubble
  • FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the preprocessing unit 100.
  • the pretreatment unit 100 of the present embodiment performs degassing treatment on the supplied liquid W.
  • the pretreatment unit 100 mainly includes a dewatering vessel 101, a shower head 102, a decompression pump 103, a liquid introduction path 104, a liquid circulation path 105, and a liquid derivation path 106.
  • a liquid W such as tap water is supplied to the degassing container 101 from the liquid introduction path 104 via the valve 109.
  • the shower head 102 provided in the degassing container 101 atomizes the liquid W and sprays it into the degassing container 101.
  • the shower head 102 is for promoting vaporization of the liquid W, but a centrifugal separator or the like can be substituted as a mechanism for producing the vaporization promoting effect.
  • the decompression pump 103 When the decompression pump 103 is operated with all valves closed after a certain amount of the liquid W is stored in the dewatering container 101, the vaporized gas component is discharged and dissolved in the liquid W. It also promotes vaporization and discharge of existing gas components. At this time, the internal pressure of the deaeration container 101 may be reduced to about several hundreds to several thousands Pa (1.0 Torr to 10.0 Torr) while checking the pressure gauge 108.
  • the gas degassed by the degassing unit 100 includes, for example, nitrogen, oxygen, argon, carbon dioxide and the like.
  • the degassing process described above can be repeated for the same liquid W by using the liquid circulation path 105.
  • the shower head 102 is operated with the valve 109 of the liquid introduction path 104 and the valve 110 of the liquid discharge path 106 closed and the valve 107 of the liquid circulation path 105 opened.
  • the liquid W that has been stored in the degassing container 101 and has been degassed once is sprayed again to the degassing container 101 via the shower head 102.
  • the decompression pump 103 the vaporization process by the shower head 102 and the deaeration process by the decompression pump 103 are performed on the same liquid W in an overlapping manner.
  • the gas component contained in the liquid W can be gradually reduced.
  • the valve 110 is opened to send the liquid W to the dissolution unit 200 via the liquid outlet path 106.
  • FIG. 2 shows the degassing unit 100 that vaporizes the melt by lowering the pressure of the gas portion
  • the method of degassing the melted liquid is not limited to this.
  • a heating and boiling method in which the liquid W is boiled to vaporize the dissolved substance may be adopted, or a membrane deaeration method in which a hollow fiber is used to increase the interface between the liquid and the gas may be adopted.
  • the SEPAREL series manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
  • This is used for the purpose of degassing bubbles from the ink mainly supplied to the piezo head by using poly-4-methylpentene-1 (PMP) as a raw material of the hollow fiber membrane.
  • PMP poly-4-methylpentene-1
  • two or more of a vacuum degassing method, a heating and boiling method, and a membrane degassing method may be used in combination.
  • the dissolving unit 200 is a unit that dissolves a desired gas in the liquid W supplied from the pretreatment unit 100.
  • the dissolution unit 200 of the present embodiment mainly has a dissolution container 201, a rotary shaft 203 to which a rotating plate 202 is attached, a liquid introduction path 204, a gas introduction path 205, a liquid discharge path 206, and a pressure pump 207.
  • the liquid W supplied from the pretreatment unit 100 is supplied and stored in the dissolution container 201 through the liquid introduction path 204.
  • the gas G is supplied to the dissolution container 201 through the gas introduction path 205.
  • the pressurizing pump 207 is operated to increase the internal pressure of the dissolution container 201 to about 0.5 MPa.
  • a safety valve 208 is arranged between the pressure pump 207 and the dissolution container 201. Further, by rotating the rotary plate 202 in the liquid via the rotary shaft 203, the gas G supplied to the dissolution container 201 is bubbled, the contact area with the liquid W is increased, and the gas G is dissolved in the liquid W. Facilitate. Then, such work is continued until the solubility of the gas G reaches almost the maximum saturated solubility. At this time, in order to dissolve as much gas as possible, a means for lowering the temperature of the liquid may be provided. Further, in the case of a gas which is hardly soluble, it is possible to raise the internal pressure of the dissolution container 201 to 0.5 MPa or more. In that case, it is necessary to optimize the material of the container from the viewpoint of safety.
  • the liquid W in which the component of the gas G is dissolved at a desired concentration is obtained, the liquid W is discharged via the liquid outlet 206 and supplied to the T-UFB generation unit 300. At this time, the back pressure valve 209 adjusts the flow pressure of the liquid W so that the pressure during supply does not become higher than necessary.
  • FIG. 3B is a diagram schematically showing how the gas G mixed in the melting container 201 is melting.
  • the bubbles 2 containing the component of the gas G mixed in the liquid W are dissolved from the portion in contact with the liquid W. Therefore, the bubbles 2 gradually contract, and the gas-dissolved liquid 3 exists around the bubbles 2. Since buoyancy acts on the bubble 2, the bubble 2 moves to a position deviated from the center of the gas-dissolved liquid 3 or separates from the gas-dissolved liquid 3 to become a residual bubble 4. That is, in the liquid W supplied to the T-UFB generation unit 300 via the liquid outlet passage 206, the gas-dissolved liquid 3 surrounds the bubbles 2, or the gas-dissolved liquid 3 and the bubbles 2 are separated from each other. The state is mixed.
  • the gas-dissolved liquid 3 means “a region in the liquid W where the dissolved concentration of the mixed gas G is relatively high”.
  • the concentration is highest around the bubble 2 or in the center of the region even when the gas component is separated from the bubble 2, and the concentration of the gas component becomes continuous as the distance from the position increases. Will be low. That is, in FIG. 3B, the region of the gas-dissolved liquid 3 is surrounded by a broken line for the sake of explanation, but in reality, such a clear boundary does not exist. Further, in the present invention, a gas which is not completely dissolved is allowed to exist in the liquid in the form of bubbles.
  • FIG. 4 is a schematic configuration diagram of the T-UFB generation unit 300.
  • the T-UFB generation unit 300 mainly includes a chamber 301, a liquid introduction passage 302, and a liquid discharge passage 303, and a flow from the liquid introduction passage 302 through the chamber 301 toward the liquid discharge passage 303 is a flow pump (not shown). Is formed by.
  • As the flow pump various pumps such as a diaphragm pump, a gear pump and a screw pump can be adopted.
  • the liquid W introduced from the liquid introduction path 302 contains the gas-dissolved liquid 3 of the gas G mixed by the dissolution unit 200.
  • the element substrate 12 provided with the heating element 10 is arranged on the bottom surface of the chamber 301.
  • bubbles 13 hereinafter, also referred to as film boiling bubble 13
  • an ultra fine bubble (UFB11) containing the gas G is generated.
  • UFB11 ultra fine bubble
  • FIGS. 5A and 5B are diagrams showing the detailed structure of the heating element 10.
  • 5A is a cross-sectional view of the vicinity of the heating element 10
  • FIG. 5B is a cross-sectional view of the element substrate 12 in a wider area including the heating element 10.
  • a thermal oxide film 305 as a heat storage layer and an interlayer film 306 also serving as a heat storage layer are laminated on the surface of a silicon substrate 304. ..
  • a SiO2 film or a SiN film can be used.
  • a resistance layer 307 is formed on the surface of the interlayer film 306, and a wiring 308 is partially formed on the surface of the resistance layer 307.
  • an Al alloy wiring such as Al, Al—Si, or Al—Cu can be used.
  • a protective layer 309 made of a SiO 2 film or a Si 3 N 4 film is formed on the surfaces of the wiring 308, the resistance layer 307, and the interlayer film 306.
  • a portion of the surface of the protective layer 309 corresponding to the heat acting portion 311 which eventually becomes the heating element 10 and its surroundings are protected from chemical and physical shocks due to heat generation of the resistance layer 307.
  • An anti-cavitation film 310 is formed to protect the film.
  • a region on the surface of the resistance layer 307 where the wiring 308 is not formed is a heat acting portion 311 where the resistance layer 307 generates heat.
  • the heat generating portion of the resistance layer 307 where the wiring 308 is not formed functions as the heat generating element (heater) 10.
  • the layers in the element substrate 12 are sequentially formed on the surface of the silicon substrate 304 by the semiconductor manufacturing technique, and thus the silicon substrate 304 is provided with the heat acting portion 311.
  • the configuration shown in the figure is an example, and other various configurations can be applied.
  • a structure in which the stacking order of the resistance layer 307 and the wiring 308 is reversed and a structure in which an electrode is connected to the lower surface of the resistance layer 307 can be applied. That is, as will be described later, any structure may be used as long as the liquid can be heated by the heat acting unit 311 to cause film boiling in the liquid.
  • FIG. 5B is an example of a cross-sectional view of a region including a circuit connected to the wiring 308 on the element substrate 12.
  • An N-type well region 322 and a P-type well region 323 are partially provided on the surface layer of the silicon substrate 304 which is a P-type conductor.
  • the P-MOS 320 is formed in the N-type well region 322 and the N-MOS 321 is formed in the P-type well region 323 by introducing and diffusing impurities such as ion implantation by a general MOS process.
  • the P-MOS 320 is composed of a source region 325 and a drain region 326 formed by partially introducing N-type or P-type impurities into the surface layer of the N-type well region 322, a gate wiring 335, and the like.
  • the gate wiring 335 is deposited on the surface of the portion of the N-type well region 322 excluding the source region 325 and the drain region 326 via the gate insulating film 328 having a thickness of several hundred ⁇ .
  • the N-MOS 321 is composed of a source region 325 and a drain region 326 formed by partially introducing N-type or P-type impurities into the surface layer of the P-type well region 323, a gate wiring 335, and the like.
  • the gate wiring 335 is deposited on the surface of the portion of the P-type well region 323 excluding the source region 325 and the drain region 326 via a gate insulating film 328 having a thickness of several hundred ⁇ .
  • the gate wiring 335 is made of polysilicon with a thickness of 3000 ⁇ to 5000 ⁇ deposited by the CVD method.
  • the P-MOS 320 and the N-MOS 321 form a C-MOS logic.
  • An N-MOS transistor 330 for driving an electrothermal conversion element (heating resistance element) is formed in a portion of the P-type well region 323 different from the N-MOS 321.
  • the N-MOS transistor 330 is composed of a source region 332 and a drain region 331 partially formed in the surface layer of the P-type well region 323 by steps such as impurity introduction and diffusion, and a gate wiring 333 and the like.
  • the gate wiring 333 is deposited on the surface of the P-type well region 323 except the source region 332 and the drain region 331 via the gate insulating film 328.
  • the N-MOS transistor 330 was used as the driving transistor of the electrothermal conversion element.
  • the driving transistor may be any transistor as long as it has a capability of individually driving a plurality of electrothermal conversion elements and can obtain the above-described fine structure. Not limited.
  • the electrothermal conversion element and the driving transistor thereof are formed on the same substrate, but they may be formed on different substrates.
  • An oxide film isolation region 324 is formed between the P-MOS 320 and the N-MOS 321, and between the elements such as the N-MOS 321 and the N-MOS transistor 330 by field oxidation with a thickness of 5000 ⁇ to 10000 ⁇ . ing. Each element is isolated by this oxide film isolation region 324. In the oxide film isolation region 324, a portion corresponding to the heat acting portion 311 functions as the first heat storage layer 334 on the silicon substrate 304.
  • an interlayer insulating film 336 made of a PSG film or a BPSG film having a thickness of about 7,000 ⁇ is formed by the CVD method.
  • an Al electrode 337 to be a first wiring layer is formed through a contact hole penetrating the interlayer insulating film 336 and the gate insulating film 328.
  • an interlayer insulating film 338 made of a SiO 2 film having a thickness of 10,000 ⁇ to 15,000 ⁇ is formed by the plasma CVD method.
  • a resistance layer 307 made of a TaSiN film having a thickness of about 500 ⁇ is formed by a co-sputtering method on a portion corresponding to the heat acting portion 311 and the N-MOS transistor 330.
  • the resistance layer 307 is electrically connected to the Al electrode 337 near the drain region 331 via the through hole formed in the interlayer insulating film 338.
  • Al wiring 308 is formed as a second wiring layer to be wiring to each electrothermal conversion element.
  • the wiring 308, the resistance layer 307, and the protective layer 309 on the surface of the interlayer insulating film 338 are made of a 3000 ⁇ -thick SiN film formed by the plasma CVD method.
  • the anti-cavitation film 310 deposited on the surface of the protective layer 309 is at least one metal selected from Ta, Fe, Ni, Cr, Ge, Ru, Zr, Ir, etc., and has a thickness of about 2000 ⁇ . Consists of.
  • As the resistance layer 307 various materials such as TaN0.8, CrSiN, TaAl, WSiN other than TaSiN described above can be applied as long as they can cause film boiling in the liquid.
  • FIG. 6A and 6B are diagrams showing the state of film boiling when a predetermined voltage pulse is applied to the heating element 10.
  • the horizontal axis represents time.
  • the vertical axis of the lower graph shows the voltage applied to the heating element 10
  • the vertical axis of the upper graph shows the volume and the internal pressure of the film boiling bubble 13 generated by the film boiling.
  • FIG. 6B shows the state of the film boiling bubble 13 in association with the timings 1 to 3 shown in FIG. 6A.
  • each state will be described in chronological order.
  • the UFB 11 generated by the film boiling mainly occurs near the surface of the film boiling bubble 13.
  • the UFB 11 generated in the generation unit 300 is supplied again to the dissolution unit 200 via the circulation path, and the liquid is again supplied to the liquid passage of the generation unit 300.
  • the supplied state is shown.
  • film boiling bubbles 13 Approximately atmospheric pressure is maintained in the chamber 301 before the voltage is applied to the heating element 10.
  • film boiling bubbles 13 When a voltage is applied to the heating element 10, film boiling occurs in the liquid in contact with the heating element 10, and the generated bubbles (hereinafter referred to as film boiling bubbles 13) expand due to the high pressure acting from the inside (timing 1). ..
  • the foaming pressure at this time is considered to be about 8 to 10 MPa, which is a value close to the saturated vapor pressure of water.
  • the voltage application time (pulse width) is about 0.5 usec-10.0 usec, but the film boiling bubble 13 expands due to the inertia of the pressure obtained at timing 1 even after the voltage is no longer applied.
  • the negative pressure generated due to the expansion gradually increases, and acts in a direction of contracting the film boiling bubble 13.
  • the volume of the film boiling bubble 13 becomes maximum at the timing 2 when the inertial force and the negative pressure are balanced, and thereafter, the film boiling bubble 13 rapidly contracts due to the negative pressure.
  • FIGS. 7A to 7D are diagrams schematically showing how the UFB 11 is generated as the film boiling bubble 13 is generated and expanded.
  • FIG. 7A shows a state before the voltage pulse is applied to the heating element 10. Inside the chamber 301, the liquid W in which the gas-dissolved liquid 3 is mixed flows.
  • FIG. 7B shows a state in which a film boiling bubble 13 is uniformly generated in almost the entire area of the heating element 10 in contact with the liquid W when a voltage is applied to the heating element 10.
  • a voltage is applied, the surface temperature of the heating element 10 rapidly rises at a rate of 10° C./ ⁇ sec or more, and when the temperature reaches almost 300° C., film boiling occurs and film boiling bubbles 13 are generated.
  • the surface temperature of the heating element 10 still rises to about 600 to 800° C. during the application of the pulse, and the liquid around the film boiling bubble 13 is also rapidly heated.
  • a region of the liquid that is located around the film boiling bubble 13 and is rapidly heated is shown as an unfoamed high temperature region 14.
  • the gas-dissolved liquid 3 contained in the unfoamed high-temperature region 14 exceeds the thermal dissolution limit and precipitates to become UFB.
  • the diameter of the deposited bubbles is about 10 nm to 100 nm and has a high gas-liquid interface energy. Therefore, it does not disappear in a short time and floats in the liquid W while maintaining its independence.
  • the bubbles generated by the thermal action at the time of expansion of the film boiling bubbles 13 as described above are referred to as a first UFB 11A.
  • FIG. 7C shows a process in which the film boiling bubble 13 expands. Even when the application of the voltage pulse to the heating element 10 is completed, the film boiling bubble 13 continues to expand due to the inertia of the force obtained when it is generated, and the unfoamed high temperature region 14 also moves and diffuses due to the inertia. That is, in the process in which the film boiling bubble 13 expands, the gas-dissolved liquid 3 contained in the unfoamed high temperature region 14 newly deposits as a bubble and becomes the first UFB 11A.
  • FIG. 7D shows a state in which the film boiling bubble 13 has the maximum volume.
  • the film boiling bubble 13 expands due to inertia, but the negative pressure inside the film boiling bubble 13 gradually increases with the expansion, and acts as a negative pressure to shrink the film boiling bubble 13. Then, when the negative pressure is balanced with the inertial force, the volume of the film boiling bubble 13 becomes maximum, and thereafter, the film boiling bubble 13 contracts.
  • FIGS. 8A to 8C are diagrams showing how the UFB 11 is generated as the film boiling bubble 13 contracts.
  • FIG. 8A shows a state in which the film boiling bubble 13 starts contracting. Even if the film boiling bubble 13 starts contracting, the surrounding liquid W still has an inertial force in the expanding direction. Therefore, an inertial force acting in a direction away from the heat generating element 10 and a force toward the heat generating element 10 due to the contraction of the film boiling bubble 13 act on the extreme surroundings of the film boiling bubble 13 to form a decompressed region. Become. In the figure, such a region is shown as an unfoamed negative pressure region 15.
  • the gas-dissolved liquid 3 contained in the non-foaming negative pressure region 15 exceeds the pressure dissolution limit and precipitates as bubbles.
  • the diameter of the deposited bubble is about 100 nm, and thereafter, the bubble does not disappear in a short time and floats in the liquid W while maintaining its independence.
  • the bubbles thus deposited by the pressure action when the film boiling bubble 13 contracts are referred to as the second UFB 11B.
  • FIG. 8B shows a process in which the film boiling bubble 13 contracts.
  • the speed at which the film boiling bubble 13 contracts is accelerated by the negative pressure, and the unfoamed negative pressure region 15 also moves as the film boiling bubble 13 contracts. That is, in the process of contraction of the film boiling bubble 13, the gas-dissolved liquid 3 at the place where the unfoamed negative pressure region 15 passes is deposited one after another to become the second UFB 11B.
  • FIG. 8C shows a state immediately before the film boiling bubble 13 disappears.
  • the moving speed of the surrounding liquid W also increases due to the accelerated contraction of the film boiling bubble 13, a pressure loss occurs due to the flow path resistance in the chamber 301.
  • the area occupied by the unfoamed negative pressure area 15 becomes larger, and a large number of second UFB 11B are generated.
  • FIGS. 9A to 9C are diagrams showing how UFB is generated by reheating the liquid W when the film boiling bubble 13 is contracted.
  • FIG. 9A shows a state in which the surface of the heating element 10 is covered with the shrinking film boiling bubbles 13.
  • FIG. 9( b) shows a state in which the film boiling bubble 13 contracts and a part of the surface of the heating element 10 is in contact with the liquid W. At this time, even if the liquid W comes in contact with the surface of the heat generating element 10, heat that does not reach the film boiling remains.
  • the region of the liquid heated by coming into contact with the surface of the heating element 10 is shown as the unfoamed reheating region 16. Although it does not reach film boiling, the gas-dissolved liquid 3 contained in the unfoamed reheating region 16 is deposited beyond the thermal dissolution limit.
  • the bubble generated by reheating the liquid W when the film boiling bubble 13 contracts in this manner is referred to as a third UFB 11C.
  • FIG. 9( c) shows a state in which the film boiling bubble 13 has further contracted.
  • FIGS. 10A and 10B are diagrams showing a state in which UFB is generated by an impact (a kind of so-called cavitation) at the time of defoaming the film boiling bubble 13 generated by the film boiling.
  • FIG. 10A shows a state immediately before the film boiling bubble 13 disappears.
  • the film boiling bubble 13 is abruptly contracted by the negative pressure inside, and the unfoamed negative pressure region 15 covers the periphery thereof.
  • FIG. 10( b) shows the state immediately after the film boiling bubble 13 disappears at the point P.
  • the impact causes the acoustic wave to spread concentrically starting from the point P.
  • the acoustic wave is a general term for elastic waves that propagate regardless of gas, liquid, or solid, and in the present embodiment, the density of the liquid W, that is, the high-pressure surface 17A and the low-pressure surface 17B of the liquid W alternately propagate. To be done.
  • the gas-dissolved liquid 3 contained in the unfoamed negative pressure region 15 is resonated by the shock wave when the film boiling bubble 13 is defoamed, and undergoes a phase transition exceeding the pressure dissolution limit at the timing when the low pressure surface 17B passes. .. That is, simultaneously with the disappearance of the film boiling bubble 13, a large number of bubbles are deposited in the unfoamed negative pressure region 15.
  • the bubble generated by the shock wave when the film boiling bubble 13 is defoamed is referred to as a fourth UFB 11D.
  • the diameter is sufficiently smaller than the first to third UFB, and the gas-liquid interface energy is higher than that of the first to third UFB. Therefore, it is considered that the fourth UFB 11D has different properties from those of the first to third UFBs 11A to 11C and produces different effects.
  • the fourth UFB 11D is uniformly generated everywhere in the concentric spherical region where the shock wave propagates, it will be uniformly present in the chamber 301 from the time of generation. At the timing when the fourth UFB 11D is generated, a large number of first to third UFBs already exist, but the presence of these first to third UFBs does not significantly affect the generation of the fourth UFB 11D. Absent. Further, it is considered that the first to third UFBs will not disappear due to the generation of the fourth UFB 11D.
  • the UFB 11 is generated in a plurality of stages until the film boiling bubble 13 is generated and extinguished by the heat generation of the heating element 10.
  • the first UFB 11A, the second UFB 11B, and the third UFB 11C are generated near the surface of the film boiling bubble generated by the film boiling.
  • the vicinity is a region within about 20 ⁇ m from the surface of the film boiling bubble.
  • the fourth UFB 11D is generated in a region where a shock wave generated when the bubbles are defoamed (disappeared) propagates.
  • UFB can be generated even when the film boiling bubble 13 is not exhausted by communicating with the atmosphere before the generated film boiling bubble 13 is defoamed.
  • the first UFB 11A described with reference to FIGS. 7A to 7C and the third UFB 11C described with reference to FIGS. 9A to 9C are the thermal dissolution characteristics of such a gas. It can be said that it is a UFB generated by using.
  • the higher the liquid pressure, the higher the gas dissolution property, and the lower the pressure the lower the dissolution property. That is, as the pressure of the liquid is lower, the phase transition of the gas-dissolved liquid dissolved in the liquid to the gas is promoted, and UFB is more likely to be generated. When the pressure of the liquid drops from normal pressure, the dissolution characteristics suddenly drop and UFB starts to be generated. Then, the lower the pressure is, the lower the pressure dissolution characteristic is, and the more UFB is produced.
  • the second UFB 11B described with reference to FIGS. 8A to 8C and the fourth UFB 11D described with reference to FIGS. 10A to 10C are the pressure dissolution characteristics of such a gas. It can be said that it is a UFB generated by using.
  • the first to fourth UFBs with different factors to be generated have been explained individually, but the above-mentioned factors to be generated occur simultaneously with the phenomenon of film boiling. Therefore, at least two types of UFBs among the first to fourth UFBs may be simultaneously generated, and these generation factors may cooperate with each other to generate the UFBs. However, it is common that all of the factors are caused by the volume change of the film boiling bubble generated by the film boiling phenomenon.
  • a method of generating UFB by utilizing the film boiling accompanied by the rapid heat generation is referred to as a T-UFB (Thermal-Ultra Fine Bubble) generation method.
  • T-UFB Thermal-Ultra Fine Bubble
  • UFB generated by the T-UFB generation method is referred to as T-UFB
  • a liquid containing T-UFB generated by the T-UFB generation method is referred to as a T-UFB-containing liquid.
  • T-UFB generation method Most of the bubbles generated by the T-UFB generation method are 1.0 ⁇ m or less, and it is difficult to generate millibubbles and microbubbles. That is, according to the T-UFB generation method, UFB is dominantly and efficiently generated. Further, T-UFB produced by the T-UFB production method has a higher gas-liquid interface energy than UFB produced by the conventional method, and does not easily disappear as long as it is stored at room temperature and atmospheric pressure. Further, even if new T-UFB is generated by new film boiling, the T-UFB generated in advance is suppressed from disappearing due to the impact.
  • the concentration of T-UFB contained in the T-UFB-containing liquid can be adjusted by controlling the number of heating elements arranged in the T-UFB generation unit 300 and the number of times voltage pulses are applied to the heating elements. ..
  • the T-UFB producing liquid 300 having a desired UFB concentration is produced in the T-UFB producing unit 300, the UFB containing liquid W is supplied to the post-treatment unit 400.
  • FIGS. 11A to 11C are diagrams showing a configuration example of the post-processing unit 400 of the present embodiment.
  • the post-treatment unit 400 of the present embodiment sequentially removes impurities contained in the UFB-containing liquid W in the order of inorganic ions, organic substances, and insoluble solid substances.
  • FIG. 11A shows a first post-treatment mechanism 410 for removing inorganic ions.
  • the first post-treatment mechanism 410 includes an exchange container 411, a cation exchange resin 412, a liquid introduction passage 413, a water collecting pipe 414 and a liquid outlet passage 415.
  • a cation exchange resin 412 is housed in the exchange container 411.
  • the UFB-containing liquid W generated by the T-UFB generation unit 300 is injected into the exchange container 411 via the liquid introduction path 413 and absorbed by the cation exchange resin 412, where cations as impurities are removed.
  • impurities include metal materials and the like exfoliated from the element substrate 12 of the T-UFB generation unit 300, and examples thereof include SiO 2 , SiN, SiC, Ta, Al 2 O 3 , Ta 2 O 5 , and Ir.
  • the cation exchange resin 412 is a synthetic resin in which a functional group (ion exchange group) is introduced into a polymer matrix having a three-dimensional network structure, and the synthetic resin has spherical particles of about 0.4 to 0.7 mm.
  • a styrene-divinylbenzene copolymer is generally used as the polymer matrix, and methacrylic acid-based and acrylic acid-based copolymers can be used as the functional groups.
  • the above materials are examples. The above materials can be variously modified as long as the desired inorganic ions can be effectively removed.
  • the UFB-containing liquid W which has been absorbed by the cation exchange resin 412 and the inorganic ions have been removed, is collected by the water collecting pipe 414 and sent to the next step via the liquid outlet passage 415.
  • FIG. 11B shows a second post-treatment mechanism 420 for removing organic substances.
  • the second post-treatment mechanism 420 includes a container 421, a filtration filter 422, a vacuum pump 423, a valve 424, a liquid introduction passage 425, a liquid discharge passage 426, and an air suction passage 427.
  • the inside of the storage container 421 is divided into two upper and lower regions by a filtration filter 422.
  • the liquid introduction path 425 is connected to the upper area of the two upper and lower areas, and the air suction path 427 and the liquid outlet path 426 are connected to the lower area.
  • the impurities removed by the filtration filter 422 include organic materials that can be mixed in the tube and each unit, such as organic compounds containing silicon, siloxane, and epoxy.
  • Examples of the filter film that can be used as the filtration filter 422 include a sub- ⁇ m mesh filter that can remove even bacterial systems and a nm mesh filter that can remove even viruses.
  • the vacuum pump 423 is stopped and the valve 424 is opened, the T-UFB-containing liquid in the storage container 421 is sent to the next step via the liquid outlet path 426.
  • the vacuum filtration method is adopted here as a method for removing impurities of an organic substance, a gravity filtration method or pressure filtration can also be adopted as a filtration method using a filter.
  • FIG. 11C shows a third post-treatment mechanism 430 for removing insoluble solid matter.
  • the third post-treatment mechanism 430 includes a precipitation container 431, a liquid introduction passage 432, a valve 433, and a liquid discharge passage 434.
  • a predetermined amount of the UFB-containing liquid W is stored in the settling container 431 through the liquid introduction path 432 and left for a while.
  • the solid matter contained in the UFB-containing liquid W settles on the bottom of the settling container 431 due to gravity.
  • relatively large-sized bubbles such as micro bubbles float on the liquid surface by buoyancy and are removed from the UFB-containing liquid.
  • the valve 433 is opened after a sufficient time has passed, the UFB-containing liquid W from which solids and large-sized bubbles have been removed is sent to the recovery unit 500 via the liquid outlet passage 434.
  • the present invention is not limited to this, and any post-processing mechanism may be adopted as needed.
  • the T-UFB-containing liquid W from which impurities have been removed by the post-treatment unit 400 may be sent to the recovery unit 500 as it is, but may be returned to the dissolution unit 200 again.
  • the dissolved gas concentration of the T-UFB-containing liquid W lowered by the generation of T-UFB can be replenished to the saturated state in the dissolution unit 200.
  • the UFB-containing concentration of the T-UFB-containing liquid can be further increased under the above-mentioned characteristics.
  • the UFB-containing concentration can be increased by the number of circulations of the dissolving unit 200, the T-UFB generating unit 300, and the post-treatment unit 400, and after the desired UFB-containing concentration is obtained, the UFB-containing liquid W Can be sent to the recovery unit 500.
  • the collection unit 500 collects and stores the UFB-containing liquid W sent from the post-treatment unit 400.
  • the T-UFB-containing liquid recovered by the recovery unit 500 becomes a highly pure UFB-containing liquid from which various impurities have been removed.
  • the UFB-containing liquid W may be classified according to the size of the T-UFB by performing several stages of filtering processing. Further, since the T-UFB-containing liquid W obtained by the T-UFB method is expected to be higher in temperature than room temperature, the recovery unit 500 may be provided with a cooling means. In addition, such a cooling unit may be provided in a part of the post-processing unit 400.
  • the above is the outline of the UFB generation device 1. However, it is needless to say that it is not necessary to prepare all of the plurality of units as shown in the figure. Depending on the type of liquid W or gas G to be used and the purpose of use of the T-UFB-containing liquid to be generated, some of the above-mentioned units may be omitted, or another unit may be added in addition to the above-mentioned units. You may.
  • the degassing unit 100 and the melting unit 200 can be omitted.
  • the dissolution unit 200 may be further added.
  • the units for removing impurities as shown in FIGS. 11A to 11C may be provided upstream of the T-UFB generation unit 300, or may be provided both upstream and downstream. ..
  • the liquid supplied to the UFB generation device is tap water, rainwater, contaminated water, or the like
  • the liquid may contain organic or inorganic impurities.
  • the heating element 10 may be deteriorated or a salting out phenomenon may be caused.
  • liquid W that can be used to generate the T-UFB-containing liquid
  • the liquid W that can be used in the present embodiment include pure water, ion-exchanged water, distilled water, physiologically active water, magnetically activated water, lotion, tap water, seawater, river water, water and sewage, lake water, groundwater, Examples include rainwater.
  • a mixed liquid containing these liquids can be used.
  • a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent can also be used.
  • the water-soluble organic solvent used by mixing with water is not particularly limited, but specific examples include the following.
  • Alkyl alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol and tert-butyl alcohol.
  • Amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, N,N-dimethylformamide and N,N-dimethylacetamide.
  • Ketones such as acetone and diacetone alcohol, or keto alcohols.
  • Cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane. Ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol.
  • Polyalkylene glycols such as polyethylene glycol and polypropylene glycol.
  • Triols such as glycerin, 1,2,6-hexanetriol and trimethylolpropane. These water-soluble organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
  • gas components that can be introduced in the dissolution unit 200 include hydrogen, helium, oxygen, nitrogen, methane, fluorine, neon, carbon dioxide, ozone, argon, chlorine, ethane, propane, air, and the like. Also, a mixed gas containing some of the above may be used. Further, the dissolving unit 200 does not necessarily have to dissolve a substance in a gas state, and a liquid or solid composed of a desired component may be melted in the liquid W.
  • the dissolution in this case may be natural dissolution, dissolution by applying pressure, or dissolution accompanied by hydration by ionization, ionization, and chemical reaction.
  • buoyancy acts on relatively large-sized bubbles such as millibubbles and microbubbles, and they eventually float to the liquid surface and disappear.
  • UFB on which buoyancy does not act, does not have such a large gas-liquid interface energy, and therefore may disappear along with millibubbles and microbubbles.
  • the number of UFBs corresponding to the number of repetitions cannot be stored for a long period of time. That is, in the UFB-containing liquid produced by the conventional UFB producing method, it was difficult to maintain the UFB-containing concentration at a predetermined value for a long time.
  • the T-UFB generation method of the present embodiment using film boiling a rapid change in temperature from room temperature to about 300° C. and a sudden change in pressure from normal pressure to about several megapascals can be performed. Is generated locally in the immediate vicinity of.
  • the heating element has a quadrilateral shape with one side of about several tens ⁇ m to several hundreds ⁇ m. Compared with the size of the conventional UFB generator, it is about 1/10 to 1/1000.
  • the gas-dissolved liquid existing in the extremely thin film region of the film boiling bubble surface momentarily exceeds the thermal or pressure dissolution limit (in an extremely short time of microsecond or less), and a phase transition occurs. It becomes UFB and precipitates.
  • the liquid contains UFB having a diameter of about 100 nm with extremely high purity. Furthermore, since the T-UFB thus produced has a sufficiently high gas-liquid interface energy, it is difficult to be destroyed in a normal environment and can be stored for a long period of time.
  • the interface is formed in a part of the liquid existing in the vicinity of the heating element without affecting the entire liquid region. It is possible to make the region that acts thermally and pressure associated therewith extremely local. As a result, the desired UFB can be stably generated. Further, by circulating the liquid and further applying the UFB generation condition to the generated liquid, it is possible to additionally generate a new UFB with less influence on the existing UFB. As a result, a UFB liquid having a desired size and concentration can be manufactured relatively easily.
  • the T-UFB generation method has the above-mentioned hysteresis characteristic, the content concentration can be increased to a desired concentration while maintaining high purity. That is, according to the T-UFB production method, it is possible to efficiently produce a UFB-containing liquid having high purity, high concentration and capable of being stored for a long period of time.
  • T-UFB-containing liquid ⁇ Specific application of T-UFB-containing liquid>
  • the application of the ultrafine bubble-containing liquid is distinguished depending on the type of gas contained therein.
  • any gas can be converted into UFB as long as it is a gas that can dissolve PPM to BPM in the liquid in the liquid.
  • it can be applied to the following uses.
  • the UFB-containing liquid containing air can be suitably used for cleaning industrial, agricultural and marine industries, medical purposes, etc., and growing plants and agricultural and marine products.
  • ⁇ UFB-containing liquid containing ozone is suitable for cleaning purposes such as industrial, agricultural and marine industries and medical purposes, as well as for purposes such as sterilization, sterilization and sterilization, and for environmental purification of drainage and contaminated soil. Can be used.
  • ⁇ UFB-containing liquid containing nitrogen is suitable for cleaning purposes such as industrial, agricultural and marine industries and medical purposes, as well as for purposes such as sterilization, sterilization and sterilization, and for environmental purification of drainage and contaminated soil. be able to.
  • the UFB-containing liquid containing oxygen can be suitably used not only for cleaning purposes such as industrial, agricultural and marine industries, and medical purposes, but also for growing plants and agricultural and marine products.
  • the UFB-containing liquid containing carbon dioxide can be suitably used not only for cleaning purposes such as industrial, agricultural and fisheries industries, medical purposes, but also for purposes such as sterilization, sterilization and sterilization.
  • the UFB-containing liquid containing perfluorocarbon which is a medical gas, can be suitably used for ultrasonic diagnosis and treatment.
  • the UFB-containing liquid can exert effects in various fields such as medical treatment, medicine, dentistry, food, industry, agriculture and fisheries.
  • the purity and concentration of UFB contained in the UFB-containing liquid are important in order to quickly and reliably exert the effect of the UFB-containing liquid. That is, by using the T-UFB production method of the present embodiment capable of producing a UFB-containing liquid with high purity and a desired concentration, it is possible to expect further effects in various fields.
  • the T-UFB producing method and the uses for which the T-UFB-containing liquid is supposed to be suitably applied are listed.
  • T-UFB generation unit in the humidifier, aroma diffuser, coffee maker, etc., it can be expected to improve the indoor humidifying effect, deodorizing effect, and scent diffusion effect.
  • T-UFB generation unit in the seawater or freshwater supply route for aquaculture at aquaculture locations such as fish and pearls, it can be expected to promote spawning and development of seafood.
  • T-UFB in the liquid fuel of equipment (vehicles, ships, airplanes, etc.) that uses liquid fuel.
  • T-UFB-containing liquid when cleaning and maintaining the parts manufactured in the factory such as the deburring process after pressing.
  • the polishing effect can be improved by using the T-UFB-containing liquid as the polishing water for the wafer when manufacturing the semiconductor element. Further, in the resist removing step, it is expected that the use of the T-UFB-containing liquid will promote the peeling of the resist which is difficult to peel off.
  • the cleaning effect and disinfection effect of these equipment can be improved. Can be expected. It can also be applied to the treatment of living things.
  • HIFU High Intensity Focused Ultrasound
  • T-UFB-containing high-concentration nanobubbles as a seed, phospholipids forming liposomes are modified in the negatively charged region around the bubbles, and various medical substances (DNA, RNA, etc.) are mediated by the phospholipids. It is possible to prepare a nanobubble formulation to which is added.
  • ⁇ A As a dental pulp or dentin regeneration treatment, when a drug containing high-concentration nanobubble water generated by T-UFB is delivered into the dental canal, the drug penetrates deeply into the dentinal tubule due to the permeation action of nanobubble water to promote the sterilization effect, It is possible to treat infected root canals of the dental pulp quickly and safely.
  • FIG. 12A is a diagram showing a schematic configuration of the UFB generation device 1A in this embodiment.
  • the UFB generation device 1A shown here includes a pretreatment device 100, a lysing unit 200, a T-UFB generation unit 300, a post-treatment unit 400, and a recovery unit 500, similar to those shown in the above-mentioned basic configuration.
  • the UFB generation device 1A according to the present embodiment is provided with the reflux path 420 that guides the UFB-containing liquid generated in the post-treatment unit 400 to the dissolution unit 200.
  • the liquid outlet passage 434 see FIG.
  • one end of the reflux passage 420 is connected to the upstream side of the outlet valve 433, and the other end of the reflux passage 420 is connected to the dissolution unit 200. It is connected to the dissolution vessel 201 (see FIG. 3). Further, the circulation path 420 is provided with a circulation valve 421 for switching between communication and cutoff of the path 420.
  • 210 is a gas introduction valve provided in the gas introduction passage 205 of the dissolution unit 200
  • 211 is a liquid introduction valve provided in the liquid introduction passage 204 provided in the liquid introduction passage 204 of the dissolution unit 200.
  • 211 is shown.
  • these valves 210 and 211 are collectively referred to as an introduction valve 212.
  • the introduction valve 212, the derivation valve 433, and the circulation valve 421 are controlled by the control unit 1000 described below.
  • the circulation path as the liquid path by closing the introduction valve 212 and the derivation valve 433 and opening the circulation valve 421. That is, it is possible to configure a circulation path for returning the liquid of the dissolution unit 200 to the dissolution unit 200 again via the T-UFB generation unit 300, the post-treatment unit 400, and the reflux path 420.
  • FIG. 12B is a diagram showing a schematic configuration of a control system of the UFB generation device 1A in this embodiment.
  • the control unit 1000 includes, for example, a CPU 1001, a ROM 1002, a RAM 1003, and the like.
  • the CPU 1001 functions as a control unit that totally controls the entire UFB generation device 1A.
  • the ROM 1002 stores control programs executed by the CPU 1001, fixed tables and other fixed data.
  • the RAM 1003 has an area for temporarily storing various input data, a work area when the CPU 1001 executes processing, and the like.
  • the operation display unit 6000 includes a setting unit 6001 that functions as a setting unit that performs various setting operations including a UFB generation concentration, a UFB generation time, and the like by a user, and a display that displays a UFB-containing liquid generation required time, a device status, and the like. And a display portion 6002 as a means.
  • the control unit 1000 controls the heating element driving unit (driving unit) 2000 that drives each heating element 10 of the heating unit 10G having the plurality of heating elements 10 provided on the element substrate 12.
  • the heating element drive unit 2000 applies a drive pulse according to a control signal from the CPU 1001 to each of the plurality of heating elements 10 included in the heating unit 10G.
  • Each heating element 10 emits heat according to the voltage, frequency, pulse width, etc. of the applied drive pulse.
  • the control unit 1000 controls a valve group 3000 including valves provided in each unit.
  • the valve group 3000 also includes the above-described introduction valve 212, derivation valve 433, circulation valve 421, and the like.
  • the control unit 1000 also controls the pump group 4000 including various pumps provided in the UFB generator and the rotating unit 203 provided in the melting unit 200.
  • the T-UFB generation unit 300 is provided with a measurement unit that performs measurement for estimating the UFB concentration of the UFB-containing liquid that is being generated, and the measurement is performed here. The measured value is input to the control unit 1000.
  • the rest of the configuration is the same as that of the UFB generation device 1 described above, and a duplicate description will be omitted.
  • the target UFB concentration of the UFB-containing liquid is set.
  • the number of UFB per 1 mL is set, and the set value is 100 million pieces/mL. Further, the amount of the UFB-containing liquid produced is 1 L (liter).
  • the UFB generation speed that is, the drive frequency, which is the number of times of driving the heating element 10 per second.
  • the drive frequency of the heating element 10 is set to 10 kHz based on the target UFB concentration.
  • the target UFB concentration can be set by the user from the setting unit 6001.
  • step S103 the time required to generate the UFB-containing liquid having the UFB concentration set as described above is obtained, and the time required (estimated generation time) is displayed on the display unit 6002.
  • This estimated generation time is calculated based on the following generation conditions i) and ii).
  • FIG. 14 is a diagram showing the relationship between the estimated generation time T of UFB calculated in S103 and the UFB concentration of the UFB-containing liquid.
  • a straight line 10211 shown in FIG. 14 indicates an estimated value in which the UFB concentration increases with the passage of generation time.
  • the outlet valve 433 is closed.
  • the circulation valve 421 is opened, and in S106, the introduction valve 212 (the liquid introduction valve 211 and the gas introduction valve 210) is opened.
  • the liquid introduction valve 211 the liquid (in this case, water) pretreated by the pretreatment device 100 is introduced into the dissolution unit 200, and the dissolution unit 200 is filled with water.
  • the gas introduction valve 210 is opened, the dissolution unit 200 is in a state capable of introducing air.
  • the water in which air is dissolved is sent to the T-UFB generating unit 300.
  • the liquid sent to the T-UFB generation unit 300 is sent to the post-treatment unit 400 and then to the reflux path 420.
  • UFB generation processing is performed.
  • the UFB generation process by the heating element 10 is started.
  • the driving pulse having the driving frequency set in S102 is applied to each of the 10,000 heating elements 10.
  • UFB is generated in the water supplied to the T-UFB generation unit 300.
  • a reflux path 420 from the dissolution unit 200 to the dissolution unit 200 via the T-UFB generation unit 300 and the post-treatment unit 400 is circulated in the apparatus. Therefore, while circulating in the reflux path 420, UFB generated in the T-UFB generation unit 300 is mixed with water, and the UFB concentration in the UFB-containing liquid increases.
  • the measurement unit 5000 measures the current UFB concentration of the UFB-containing liquid circulating in the reflux path 420.
  • the measuring unit there are a measuring method that optically counts the number of UFB in the UFB-containing liquid using a magnifying glass and a camera to measure the UFB concentration, and a method that measures the UFB concentration by measuring the Z potential. Although it is known, any density detection method can be applied.
  • S111 it is determined whether the UFB concentration measured in S110 is equal to or higher than the target UFB concentration set in S101. If the determination result is Yes, the process proceeds to S110, and the UFB generation process ends. If the determination result is No, the process proceeds to S112 to further increase the UFB concentration.
  • the time required for the UFB concentration of the UFB-containing liquid to reach the target concentration is recalculated, the time required is updated, and the updated time required is displayed.
  • the remaining required time for generating the UFB-containing liquid of the target UFB concentration is calculated, and the remaining required time is displayed on the display unit 6002. To do. It should be noted that it is necessary to update the required time in this way, due to temperature and other factors such as water temperature, heating element temperature, device temperature, and environmental temperature outside the device, there is a slight variation in the generation capacity of the UFB generation device 1A. Is caused.
  • the UFB concentration (the number of UFB per 1 mL) measured at a time point of about 50 seconds from the start of UFB generation is 4.0e7/mL, reaching the target 1.0e8/mL. The explanation will be given assuming that it is not.
  • the T-UFB generation is stopped and the process ends. This is different from the conventional UFB generation method, when the heating element continues to be heated when water on the heating element is lost due to damage to the device container, failure of the water amount detection sensor, etc. Is too high.
  • FIG. 15 is a diagram showing a relationship between the estimated generation time T of UFB calculated in S112 and the UFB concentration of the UFB-containing liquid.
  • a broken line 10311 shown in FIG. 15 shows the initial estimated concentration of the UFB-containing liquid, which increases with the passage of generation time.
  • the UFB generation process is continued, the process returns to S110 again, the UFB concentration is measured, and the determination process of S111 is performed based on the measured result of the UFB concentration. .. Then, if the determination result in S111 is Yes, the process proceeds to S113 to end the UFB generation process. After that, the circulation valve 421 is closed in S114, and the outlet valve 433 is opened in S115. As a result, the UFB-containing liquid generated from the T-UFB generation unit 300 via the post-treatment unit 400 is discharged to the recovery unit 500. With the above, a series of generation processes of the UFB-containing liquid is completed.
  • the production rate of the UFB-containing liquid and the UFB concentration can be controlled with high accuracy.
  • the time required to generate a predetermined amount of the UFB-containing liquid having the desired UFB concentration is highly accurately estimated according to the difference between the target UFB concentration and the actual UFB concentration. , Notifies the user of the result. Therefore, the user can grasp the exact required time for the generation time of the UFB-containing liquid.
  • the production result is fed back to the subsequent processing to perform control to maintain a constant production amount.
  • the process of estimating the required time in S203 is performed on the assumption that 10,000 heating elements 10 are used. However, actually, about 2,000 heating elements among the assumed heating elements 10 are estimated.
  • the explanation will be given by taking the case where the fever function is lost as an example.
  • the measured UFB concentration at the time when the UFB generation rate is about 50 seconds after the start of UFB generation is not 50 million/mL, but is 40 million/mL as follows.
  • the actual UFB generation rate that has been performed so far is calculated as follows based on the UFB concentration measured in S210 and the elapsed time (50 (seconds)) from the start of UFB generation.
  • the UFB generation rate that was actually performed was 0.8e9 (units/second), which was 20% less than the initially assumed UFB generation rate of 1.0e9 (units/second). It turns out.
  • the above processing is performed in S212.
  • the required time is recalculated and displayed.
  • the display contents will be updated.
  • FIG. 17 is a diagram showing the relationship between the estimated generation time T of UFB calculated in S213 and the UFB concentration of the UFB-containing liquid.
  • a broken line 10511 shown in FIG. 17 shows the initial estimated concentration of the UFB-containing liquid that increases along with the passage of generation time.
  • the UFB generation process is continued, the process returns to S210 again, the UFB concentration is measured, and the determination process of S211 is performed based on the measurement result of the measured UFB concentration. .. Then, if the determination result of S211 is Yes, the process proceeds to S214, and the UFB generation process ends. After that, the circulation valve 421 is closed in S215, and the outlet valve 433 is opened in S216. As a result, the UFB-containing liquid processed by the T-UFB generation unit 300 and the post-treatment unit 400 is discharged to the recovery unit 500. With the above, a series of generation processes of the UFB-containing liquid is completed.
  • the number of heating elements 10 used and the driving frequency are controlled, so that the generation rate and UFB concentration of the UFB-containing liquid can be controlled with high accuracy. Furthermore, in the present embodiment, the actual UFB generation speed can be set with higher accuracy by updating the number of heating elements that can be actually driven using the UFB measurement result. Therefore, it becomes possible to more accurately estimate and notify the time required to generate a desired amount of the UFB-containing liquid having a desired UFB concentration.
  • the UFB generation speed set in the previous UFB-containing liquid generation operation can be used to highly accurately estimate the UFB generation time. That is, in the UFB generation rate setting process of S202 in the current generation operation, the number of used heating elements (total of 8,000 heating elements in the above example) updated in S212 of the previous generation operation of the UFB-containing liquid is used. be able to. Therefore, in this generation operation, it is possible to perform highly accurate estimation and display of the required time corresponding to the change in the performance of the UFB generation device 1A in the first required time estimation process (the process of S203).
  • Table 1 shows an example of calculating how the time required to achieve the target number of UFB changes according to the number of heat generating elements that can be driven in this embodiment.
  • the estimation of the required time in the present embodiment is suitable for the estimation in the case where it is highly likely that the same tendency will be reproduced in the same operation thereafter, that is, the heating element loses the heat generating function.
  • the required time of the UFB-containing liquid is recalculated and displayed every 50 seconds in S213, but in the present embodiment also, the required time is recalculated at a shorter time interval. It is possible to display. According to this, it becomes possible to more accurately estimate the time until the target UFB concentration is reached.
  • the UFB generation speed and the number of drivable heating elements are estimated based on the elapsed time T from the start of UFB generation and the generated UFB concentration D at that time.
  • the above estimation may be performed based on the fluctuation of the device performance in a shorter time.
  • the UFB concentration is measured in units of 10 seconds, and the difference between the UFB concentration D at the time when 50 seconds has passed and the UFB concentration D at the time when 40 seconds has passed is estimated to estimate the time when 50 seconds have passed.
  • a method of estimating the UFB generation rate by dividing by a time difference of 10 seconds may be used. This method is suitable for estimation in the case where the time required for the fluctuation of the generation capacity of the UFB generation device is shorter than the UFB generation time.
  • FIG. 18 is a flowchart showing the UFB-containing liquid generation processing executed according to this embodiment.
  • the UFB progress concentration corresponding to the elapsed time is set based on the UFB generation rate set in S303 in the previous UFB-containing liquid generation process.
  • the UFB generation rate is 1.0e8 cells/mL
  • the estimated value of the progressing UFB concentration at each elapsed time is as shown in Table 2.
  • S305 to S312 are the same as S104 to S111 in FIG. 13, so description thereof will be omitted.
  • the process proceeds to S313.
  • the UFB concentration measured in S311 is compared with the UFB progress concentration set in S304, and it is determined whether the measured UFB concentration has reached the UFB progress concentration. If the determination result is YeS, the process proceeds to S315. In S315, the UFB generation speed is increased, and the process proceeds to S316.
  • S313 If the determination result in S313 is No, the process proceeds to S314. In S314, it is determined whether the UFB concentration measured in S311 exceeds the UFB progress concentration set in S304. If the determination result is YeS, the process proceeds to S316. In S316, the UFB generation speed is reduced, and the process proceeds to S317.
  • FIG. 19 is a diagram showing the relationship between the UFB generation time T and the generated UFB concentration D when the UFB generation rate is controlled based on the measured UFB concentration in the present embodiment. It is a figure which shows the relationship between the UFB production
  • UFB is generated as originally assumed for 20 seconds (T1) from the start of UFB generation, and after 20 seconds, a part of the heating elements 10 loses the heat generating function and the UFB generation speed decreases.
  • T1 20 seconds
  • a part of the heating elements 10 loses the heat generating function and the UFB generation speed decreases.
  • a solid line 10712 shows the estimated value of the UFB concentration with the generation time.
  • the measured value of the UFB concentration is shown.
  • the determination result of S313 is YeS and S315 At, the UFB generation rate is increased.
  • the UFB generation rate is increased by increasing the drive frequency of the heating element 10.
  • the alternate long and short dash line 10714 in FIG. 19 indicates the UFB concentration estimated value over the generation time.
  • the dashed-dotted line 10715 in FIG. 19 indicates the UFB concentration estimated value that increases with the generation time.
  • the estimated density value is shown.
  • the UFB generation rate is reduced by reducing the drive frequency of the heating element 10.
  • the two-dot chain line 10716 shown in FIG. The estimated density value is shown.
  • the estimated UFB concentration value finally reaches the value indicated by point 10701 in FIG.
  • the UFB generation rate can be estimated by measuring the UFB concentration, and the generation rate by the heating element is controlled based on the measurement result of the UFB concentration. For this reason, the actual UFB generation time can be brought closer to the target time, and the UFB concentration control and the required time can be estimated with higher accuracy.
  • the UFB generation rate in S315 and S316 is controlled by controlling the drive frequency of the heating element 10 has been shown.
  • the method for controlling the UFB generation speed is not limited to the method for controlling the drive frequency, and another control method may be used or a plurality of control methods may be combined.
  • Table 3 shows a combination example of the number of drivable heating elements and the UFB generation speed to be used.
  • the number of heat generating elements that can be driven tends to decrease due to the loss of the heat generating function of the heat generating elements accompanying the UFB generation operation. Therefore, it is also effective to initially set the condition of using only 8,000 heating elements out of 10,000 heating elements. For example, in S315, 9000 heating elements are used to increase the UFB generation rate, and 10,000 heating elements are used to further increase the UFB generation rate. Also, 7,000 heating elements are used when the UFB generation rate in S316 is reduced, and 6,000 heating elements 10 are used when the UFB generation rate is further reduced. It is also possible to adjust the UFB generation rate according to the number of heating elements used in this way. In the case of performing such control, if the combination of the heating elements to be initialized is sequentially changed for each UFB generation operation, it is possible to make the consumption of the heating elements uniform and to reduce the heat generation. It is possible to extend the life of the element.
  • Table 4 shows an example of the combination of the number of driving times (driving frequency) of the heating element per second and the UFB generation speed.
  • Table 5 shows an example in which the UFB generation rate (the number of UFB generated per second) is kept constant by the combination of the driving frequency of the heating elements and the number of heating elements.
  • the UFB-containing liquid generation apparatus has a function of limiting the UFB concentration to an appropriate concentration when the user sets the target UFB concentration that is too high.
  • the UFB-containing liquid generating apparatus of the above-described embodiment using the T-UFB method can hold a gas in a liquid (for example, water) exceeding the saturation solubility. It depends.
  • the UFB concentration can be improved only by increasing the generation time, and as a result, a UFB-containing liquid holding a high concentration of gas that has never existed can be generated. It is possible.
  • the UFB-containing solution having a high UFB concentration has various effects, but it may reduce the effect on an excessive concentration of UFB. Therefore, the concentration limiting function described below provides an appropriate UFB concentration. It is preferable to limit
  • FIG. 20 is a flowchart showing the UFB-containing liquid generation processing executed according to this embodiment.
  • S401 to S410 are the same as S101 to S110 in FIG. 13
  • S412 to S416 are the same as S111 to S115 in FIG.
  • the upper limit UFB concentration is set so as not to allow generation of excessive UFB concentration.
  • the setting process of the upper limit UFB concentration is performed by reading the upper limit UFB concentration stored in advance in the RAM or the like. Alternatively, it is possible to set an upper limit value specified by the user from among a plurality of predetermined upper limit values.
  • S411 it is determined whether the measured UFB concentration measured in S410 is equal to or higher than the upper limit UFB concentration set in S400. If the determination result is No, the process proceeds to S412 and the process is continued. If the determination result of the determination process of S411 is Yes, the process proceeds to S417. In S417, a warning is given to the user by using a monitor and a warning light. A method of emitting a sound or notifying a warning to another device via the network may be used. After that, the processing of S414 to S416 is performed. This processing is similar to the processing of S113 to S115 in FIG.
  • the upper limit UFB concentration set in S400 is preferably set according to the type of gas generated as UFB. Further, instead of setting the upper limit UFB concentration in S400, a warning is given when the set concentration exceeds the upper limit UFB concentration in the setting process of the target UFB concentration performed in S401, and the setting of the target UFB concentration is not permitted. It is also possible to adopt the method.
  • the upper limit UFB concentration is set, and when a UFB concentration exceeding the upper limit UFB concentration is detected, a warning is notified and the UFB generation is stopped. This makes it possible to prevent the production of a UFB-containing solution having an excessively high UFB concentration by the T-UFB method.
  • the upper limit UFB concentration is preferably set appropriately according to the concentration of the prepared UFB-containing liquid, the working environment, the usage environment of the UFB-containing liquid, and the like.
  • the UFB-containing liquid stored in the recovery unit 500 is stored in some closed container, and the UFB-containing liquid is transferred to the place of use. It was supposed to be used from.
  • the present invention is not limited to application to the use cases as described above.
  • the present invention is also applicable to a use case in which UFB is generated in the liquid supplied from the liquid path by the T-UFB method and the generated UFB-containing liquid is discharged as it is to a predetermined use position.
  • T-UFB generation apparatus As a T-UFB generation apparatus to which the present invention is applied in such a use case, a T-UFB generation apparatus used as a water purifier and a T-UFB generation apparatus used in a washing machine will be described as an example. ..
  • FIG. 21 is a diagram schematically showing a T-UFB generator used as a water purifier.
  • a T-UFB generation device 700 has a T-UFB generation unit 711 (hereinafter, also simply referred to as a unit) attached to the end of a tap for water, and water (liquid ) Is added with UFB to purify tap water.
  • the unit 711 includes a liquid detection sensor (liquid detection means) 7111 for detecting the presence or absence of water, a flow velocity sensor (flow velocity detection means) 7112 for detecting the speed of the water flow, and T-UFB for the water flowing into the inside.
  • a heat generating part 7113 for generating Further, the unit 711 is provided with a control unit 713 that controls driving of the heat generating unit 7113.
  • an operation display unit 712 for setting the operation of the T-UFB is provided on the outer surface of the unit 711.
  • the operation display unit 712 is provided with an OFF setting button 7121, a LOW setting button 7122, and a HIGH setting button 7123.
  • the OFF setting button is a button for instructing to stop UFB generation
  • the LOW setting button 7122 is a button for instructing generation of UFB having a relatively low concentration.
  • the HIGH setting button 7123 is a button for instructing the generation of relatively high concentration UFB.
  • a light emitting element (not shown) is built in each of the buttons 7121, 7122, 7123.
  • the light-emitting element incorporated in each button emits light under drive control of the control unit 713 when the button is in an effective state, and can notify the user of the status of button operation.
  • both the liquid detection sensor 7111 and the flow velocity sensor 7112 are connected to the above-mentioned CPU 714, and the detection signal from each sensor is input to the CPU 714.
  • reference numeral 7013 indicates a pipe section 7013 of the water supply facility.
  • a valve (not shown) is provided in the piping portion 7013, and it is possible to supply, stop, and adjust the supply amount of tap water to the UFB generation unit 711 by adjusting the opening degree of the valve. ..
  • the tap water flows in the piping portion 7013 along the directions indicated by arrows 7014 and 7015.
  • the liquid detection sensor 7111 detects the presence or absence of water.
  • the detection result of the liquid detection sensor 7111 is “no water”, and when the tap water is supplied, the detection result of the liquid detection sensor 7111 is “with water”. Becomes If the detection result is no water, the process of S501 is repeated. If the detection result in S501 is “with water”, the process proceeds to S502.
  • the flow velocity sensor 7112 detects the flow velocity of water supplied to the UFB generation unit 711.
  • the flow velocity sensor 7112 may employ a mechanical detection method using a water wheel or a spring, or an electrical detection method using pressure.
  • the target UFB concentration is set.
  • the density is set based on the setting by the operation display unit 712 shown in FIG.
  • the UFB generation speed is set.
  • the UFB generation rate is set according to the flow rate of the supplied water and the target UFB concentration. That is, in order to achieve the target UFB concentration, it is necessary to increase the UFB generation rate as the flow rate becomes faster.
  • -The number of heating elements is 1000.
  • the target UFB is controlled by controlling the number of driving times (driving frequency) of the heating element per second. Achieve concentration.
  • Table 6 shows a list of each flow velocity, the required UFB generation speed for achieving the target UFB generation concentration on the operation display unit 712, and the number of times the heat generating unit 7113 is driven per second.
  • the UFB generation device 700 has 10 (mL/sec) ⁇ 1 million (per second).
  • Pieces/mL) 10 million (pieces/second) UFB generation rate is required.
  • UFB generation is executed according to the UFB generation speed set in S505. Further, in S506, the UFB generation status is displayed, and the process returns to S502. After that, the processes of S502 to S507 are continued until the determination result of S503 is “supply stop”.
  • the operation display unit 712 has a light emitting element built in each of the buttons 7121, 7122, 7123.
  • the selected button among these buttons 7121, 7122, 7123 blinks in green to indicate that the UFB is being generated. Further, in a situation where the target UFB concentration cannot be realized because the flow rate of the supplied water is too large, the selected button blinks in red to prompt the user to take a measure such as reducing the flow velocity.
  • the reduced flow rate is detected in the next S502, and the UFB generation rate is reset based on the reduced flow rate in S506.
  • the emission color of the selected button is changed to green.
  • the UFB generation rate is reset in S506 based on the lowered target UFB concentration.
  • the button emission color is changed to red by resetting the UFB generation rate in S506. It may change.
  • the CPU 714 sets the actual drive count to the required drive count and controls the LOW setting button 7122 to emit green light. ..
  • the flow rate exceeds 40 mL/sec
  • the number of driving times exceeding the upper limit of 4000 times/sec is required. Therefore, when the flow velocity detected by the flow velocity sensor 7112 exceeds 40 mL/sec, the CPU 714 sets the actual driving count to the upper limit of 4000 times/sec and sets the emission color of the LOW setting button 7122 to red. I do.
  • the target UFB concentration can be achieved up to a flow rate of 20 mL/sec. Therefore, when the flow velocity detected by the flow velocity sensor 7112 is 20 mL/sec or less, the CPU 714 sets the actual drive count to the required drive count and controls the HIGH setting button 7123 to emit green light. .. However, when the flow rate exceeds 20 mL/sec, the number of driving times exceeding the upper limit of 4000 times/sec is required. Therefore, when the flow velocity detected by the flow velocity sensor 7112 exceeds 20 mL/sec, the CPU 714 sets the actual driving count to the upper limit of 4000 times/sec, and sets the HIGH setting button 7123 to emit red light.
  • the emission color of the OFF setting button 7121 is set to white in order to clearly indicate to the user that the UFB generation is in the OFF state.
  • the user can visually recognize whether or not the UFB-containing liquid having the desired UFB concentration has been generated, and whether or not UFB has been generated, by the emission color of the button. Become.
  • the operation display unit 712 is provided with a display unit capable of displaying a larger amount of information.
  • a liquid crystal display, an organic EL display, or the like may be provided in the operation display unit 712 to display information such as the actual UFB generation concentration.
  • a communication unit (not shown) on the UFB generation unit 711, transmit the information such as the actual UFB generation concentration to an external device such as a smartphone, and display the information on the external device side.
  • the UFB-containing liquid having the desired UFB concentration it is possible to provide the user with the UFB-containing liquid having the desired UFB concentration by setting the UFB generation rate according to the flow rate. Further, depending on the set flow velocity or UFB concentration, the desired UFB concentration may not be realized in some cases, but in such a case, it is possible to dynamically notify the user of the unrealizable state. ..
  • the liquid itself here, tap water
  • the flow channel structure can be simplified, and the size and cost of the device can be reduced.
  • a conventional UFB generator using a Venturi tube or the like at least two UFB-containing liquids can be switched to a UFB-containing liquid while maintaining the liquid flow. Paths and valves for switching between them are required.
  • the water purifier is configured by the T-UFB generator that can obtain a high UFB concentration.
  • the T-UFB generator according to the present invention is not limited to the water purifier, and is applied to other UFB generators that require the UFB generation rate to be modulated with respect to the varying flow velocity or desired UFB concentration. Is also effective.
  • T-UFB generator installed in washing machine Next, the T-UFB generator installed in the washing machine will be described. Also in the T-UFB generator installed in the washing machine, the configuration in which UFB having a predetermined UFB concentration is stably supplied to the supplied water is the same as that of the T-UFB generator 700 shown in FIG. is there. However, in the T-UFB generation device 800 in this example, it is required to generate a UFB-containing liquid suitable for the function unique to the washing machine. As a function unique to the washing machine, for example, Washing: Remove dirt and other substances from clothing. Bath cleaning: Remove black mold etc. adhering to the laundry tank.
  • the UFB-containing liquid having UFB concentrations corresponding to these functions is supplied from the T-UFB generator to improve each function of the washing machine.
  • the configuration and operation of the T-UFB generator used in the washing machine will be described below with reference to FIGS. 23 and 24.
  • the washing machine 8000 shown in FIG. 23 is equipped with a T-UFB generator 800 on the water supply side, and uses the UFB-containing liquid generated here to wash clothes and wash the inside of a washing tub.
  • a washing machine body 8300 of the washing machine 8000 is provided with a washing tub 8301.
  • the washing tub 8301 is connected to a T-UFB generator 800, which will be described later, that is connected to the water supply route 8303, and a drainage route 8305 that discharges the water in the washing tub 8301 to the outside.
  • the washing tub 8301 is connected to a reflux path 8304 for circulating water between the washing tub 8301 and the T-UFB generator 800, and a filter 8302 for removing foreign matter is provided at the outlet of the reflux path 8304.
  • arrows 8307 to 8309 in the figure indicate the directions of the water flow in each path.
  • the main body 8300 of the washing machine is provided with the T-UFB generation device 800 connected to the water supply path 8303 described above.
  • the T-UFB generation device 800 has a liquid detection sensor 8111 for detecting the presence or absence of water, a flow velocity sensor (flow velocity detection means) 8112, a heat generating portion 8113 for generating T-UFB, and the like.
  • the heat generating portion 8113 is configured to include many heat generating elements.
  • the washing machine main body 8300 is provided with an operation display portion 832 for setting the operation of the T-UFB.
  • This operation display portion 832 is provided with a power button 8321 for turning on the power of the washing machine 8000 and buttons for instructing various operations that can be performed by the washing machine.
  • a washing button 8322 for instructing washing a rinsing button 8323 for instructing rinsing, a dehydration button 8325 for instructing dehydration, a drying button 8325 for instructing drying, a tub washing button 8326 for instructing washing of the washing tub 8301, etc. are provided. Has been.
  • the washing machine main body 8300 is provided with a control unit 813 that controls the operations of the washing machine 8000 and the T-UFB generation device 800.
  • the control unit 813 is configured to include a CPU 814 that integrally controls each drive unit of the washing machine 8000, the T-UFB generation device 800, and the like, a ROM 815, a RAM 816, and the like, and is mounted on the main body unit 830.
  • the control unit 813 controls the operation of each unit in accordance with the instructions issued from the above-mentioned buttons 8321 to 8326.
  • FIG. 24 The series of processing shown in the flowchart of FIG. 24 used in the following description is performed by the CPU 814 loading the program code stored in the ROM 815 into the RAM 816 and executing it.
  • some or all of the functions in FIG. 24 may be realized by hardware such as an ASIC or an electronic circuit.
  • the symbol “S” in the description of each process means a step in the description of each process.
  • the CPU 814 determines whether the washing button 8322 is pressed (S601). Here, if the determination result is Yes, the process proceeds to steps S603 to S605 for setting the drive condition for UFB generation during washing. In this setting process, the flow velocity for washing is set in S603, the UFB concentration for washing is set in S604, and the UFB generation speed for washing is set in S605.
  • the process proceeds to S602.
  • S602 it is determined whether or not the bath cleaning button 8326 is pressed. If the determination result is No, the process returns to the determination process of S601, and if the determination result is YeS, the drive condition for UFB generation during bath cleaning is set. The process proceeds to steps S606 to S608. In this setting process, the flow velocity for bath cleaning is set in S606, the UFB concentration for bath cleaning is set in S607, and the UFB generation speed for bath cleaning is set in S608.
  • the drive conditions for UFB generation are determined depending on whether the wash button 8322 is pressed or the tub wash button 8326 is pressed. Switch.
  • washing UFB concentration upper limit 1 million (pieces/mL)
  • Tank cleaning UFB concentration lower limit 10 million (pieces/mL) Control is required. That is, in the case of washing, it is necessary to remove dirt and the like and at the same time set a predetermined UFB concentration as an upper limit in order to avoid damage to clothes. On the other hand, in the case of tank cleaning, it is not necessary to consider damage to clothes, so it is preferable to reliably generate a relatively high concentration of UFB required for removing black mold and the like.
  • the T-UFB generator 800 installed in the washing machine 8000 of this embodiment has the following performance.
  • Table 8 shows the relationship between the flow rate of water supplied from the water supply path 8303 and the number of times each heating element is driven for normal washing and tub washing.
  • the flow rate is controlled to generate the UFB concentration required for normal washing and for bath washing.
  • the water flow velocity is set to be equal to or higher than the flow velocity calculated from the target UFB concentration and the UFB generation capacity in both normal washing and tub washing. Water may be circulated after setting the flow rate of. This can also improve the actual UFB concentration.
  • the present embodiment is provided with a T-UFB generation device capable of generating UFB in a liquid stored in a liquid storage container and generating a UFB-containing liquid having a desired UFB concentration.
  • FIG. 25 is a vertical cross-sectional side view schematically showing the liquid storage container 900 in which the T-UFB generators 700A to 700E according to the present embodiment are arranged.
  • Z indicates the vertical direction and H indicates the horizontal direction.
  • the liquid storage container 900 has a storage chamber 901 that forms a space capable of storing liquid.
  • the storage chamber 901 has a multifaceted shape. In the present embodiment, it is formed by eight inner surfaces of a bottom surface 911, a top surface 912, four side surfaces (a left side surface 913, a right side surface 914, a rear side surface 915, a front side surface (not shown)), a left slope 917 and a right slope 918. ing.
  • the bottom surface 911 and the top surface 912 are formed so as to be substantially parallel to the horizontal plane when the liquid storage container 900 is installed on the horizontal plane. Further, the storage chamber 901 is configured to be supplied with a predetermined liquid (for example, water) from a supply port (not shown) and to be able to keep the supply port in a closed state after being supplied with a constant amount.
  • a predetermined liquid for example, water
  • the T-UFB generation device 700A is arranged along the bottom surface 911, the left and right side surfaces 913 and 914, and the left and right slope surfaces 917 and 918, respectively. That is, a total of five T-UFB generation devices 700A to 700E are arranged in the storage chamber 901.
  • the liquid detection sensor 7111, the flow velocity sensor 7112, and the heat generating portion 7113 are provided at positions close to each other.
  • Each of the sensors 7111 and 7112 and the heat generating section 7113 are arranged in a state in which they can contact the liquid stored in the storage chamber 901.
  • Each of the T-UFB generation devices 700A to 700E is connected to a control unit (not shown), and the control unit controls the driving of each heating element of the heating unit 7113.
  • the liquid detection sensor 7111 of each of the five T-UFB generation devices 700A to 700E detects the presence or absence of water.
  • the liquid detection sensor 7111 of the T-UFB generation apparatus 700A arranged on the bottom surface 911 detects water and transmits a detection signal to the control unit.
  • the control unit drives the heat generating unit 7113 of the T-UFB generation device 700A to generate UFB.
  • the control unit drives the heat generating units 7113 of the T-UFB generators 700B and 700C arranged on both left and right sides. As a result, UFB is generated from each heat generating portion 7113 of the T-UFB generators 700A to 700C.
  • the control unit that receives the detection signals from the sensors 7111 and 7112 drives the heating units 7113 of the T-UFB generation devices 700D and 700E, respectively.
  • UFB is generated from the heating units 7113 of all the T-UFB generators 700A to 700E. After that, the UFB concentration of the water in the storage chamber 901 rises by continuing the driving of each heat generating unit 7113.
  • the T-UFB generators 700A to 700E when the T-UFB is generated, the water in the vicinity of the heat generating portion 7113 is overheated and the temperature rises. Since the relatively high temperature water having the increased temperature has a reduced density, it convects upward as indicated by arrows 9301 to 9305, and the relatively low temperature water convects downward.
  • the liquid in the storage chamber 901 naturally convects with the generation of the UFB-containing liquid, so that a dedicated mechanism for stirring water in the storage chamber 901 does not have to be provided. , A uniform UFB concentration is obtained. Therefore, simplification, downsizing, and cost reduction of the device can be realized.
  • the convection of water in the present embodiment occurs by disposing the T-UFB generator at the position shown in FIG. That is, in the present embodiment, the T-UFB generator is arranged on the surface excluding the upper surface 912, which makes it possible to generate the convection of water as described above.
  • the T-UFB generator is placed on the upper surface of the liquid storage container 900 and UFB is generated from the horizontal heat generating portion substantially right below, the hot water is convected. Instead, it stays in the vicinity of the heat generating element and the efficiency of UFB generation decreases. This is, ⁇ Saturation solubility decreases as the water temperature rises. ⁇ Because bubbles such as UFB, which triggers gas precipitation, already exist. In other words, a UFB generation state similar to the conventional Venturi-type UFB generation principle occurs, and the UFB generation efficiency decreases. However, since the T-UFB generation method itself functions, it is possible to generate UFB with higher concentration and higher efficiency than the conventional UFB generation method.
  • the T-UFB generator is not arranged on the lower surface of the horizontally arranged heat generating portion as in the present embodiment, and the T-UFB is generated in a direction other than horizontal. It is preferable to arrange the generator so as to cause convection of water.
  • the T-UFB generator is installed on the side surface or the inclined surface as in the present embodiment, it is advantageous to arrange the heat generating portion further downward from the viewpoint of convection.
  • the liquid detection sensor 7111 it is preferable to arrange the liquid detection sensor 7111 so as to be positioned above the heat generating portion 7113 in the gravity direction as shown in FIG. The reason is that if the heating element is driven in the absence of water, the heating element becomes too hot and is likely to be deteriorated or damaged. If the liquid detection sensor 7111 is arranged above the heat generating section 7113, the heat generating section 7113 can be driven in the presence of water, and the life of the heat generating section 7113 can be improved.
  • the T-UFB generation device has the following advantages over the conventional UFB generation device. ⁇ High UFB concentration can be generated ⁇ UFB production amount and production rate can be controlled ⁇ Because UFB production can be controlled, the UFB concentration produced can be predicted ⁇ When UFB is consumed It has the advantage of being able to replenish the portion with high precision.
  • ⁇ Aroma diffuser> By mounting the T-UFB generation device according to the present invention on an aroma diffuser, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation speed according to various usage conditions, ⁇ Rapid UFB generation mode for preparations when visiting customers, etc. ⁇ Low-speed UFB generation mode for sleeping ⁇ Switching the appropriate UFB generation speed according to the type of aroma oil ⁇ UFB by combining with a UFB concentration detector in the atmosphere It is possible to realize a constant concentration, a cleaning function inside the diffuser using high-concentration UFB, and an aroma diffuser function using low-concentration UFB.
  • ⁇ Bathroom washing machine By mounting the T-UFB generator according to the present invention in a bathroom washing machine, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions. ⁇ Since the saturated solubility differs between hot and cold water, UFB generation rate is switched according to the temperature ⁇ UFB generation rate is switched according to the flow rate ⁇ UFB concentration is switched according to the cleaning target ⁇ Mold removal using relative high concentration UFB ⁇ Pipe cleaning function ⁇ Bathroom/tub cleaning function using relatively low concentration UFB can be realized.
  • ⁇ Toilet bowl cleaner> By mounting the T-UFB generator according to the present invention on a toilet bowl cleaner, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation speed according to various usage conditions. ⁇ Saturation solubility is different between hot water/cold water, so the UFB generation rate is switched according to the temperature. ⁇ The UFB generation rate is switched according to the flow rate. ⁇ The UFB concentration is switched according to the cleaning target ⁇ Water using relative high concentration UFB It will be possible to realize functions such as removing redness, cleaning pipes, and cleaning the human body using relative low concentration UFB.
  • ⁇ Window washer> By mounting the T-UFB generation device according to the present invention on the window washer, it is possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation speed according to various usage conditions. ⁇ Since the saturated solubility varies depending on the temperature of the window washer liquid, the UFB generation speed is switched according to the liquid temperature or the ambient temperature. ⁇ The UFB generation speed is switched according to the wiper speed. ⁇ The faster the vehicle moving speed, the shorter the liquid window Since it flows out, dust adheres to the window when the UFB generation speed is switched according to the moving speed of the car and wiping is not performed for a certain period. Therefore, when the non-wiping period is long, the UFB concentration is increased to improve the dust removal efficiency. Raise the UFB concentration according to the cleaning target. For example: ⁇ Remove water stain using the relatively high concentration UFB ⁇ Pipe cleaning function ⁇ Wiping support in the rain using the relatively low concentration UFB can be realized.
  • ⁇ Dishwasher> By installing the T-UFB generator according to the present invention in a dishwasher, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions. ⁇ Since the saturated solubility differs between hot and cold water, the UFB generation rate is switched according to the temperature ⁇ The UFB generation rate is switched according to the flow rate ⁇ Because the conventional dishwasher can only wash at high temperatures, the dishwasher Even tableware made of materials that could not be used can be washed with low-temperature water + high-concentration UFB.
  • ⁇ Coffee maker> By equipping a coffee maker with the T-UFB generation device according to the present invention, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation speed according to various usage conditions. ⁇ Saturation solubility is different between hot water/cold water, so UFB generation rate is switched according to temperature ⁇ UFB generation rate is switched according to flow rate ⁇ Relative high concentration UFB is generated when ice coffee diluted with ice ⁇ Mixed with milk When cafe au lait is produced, it is possible to produce relatively high concentration UFB.
  • ⁇ High pressure washing machine> By mounting the T-UFB generator according to the present invention on the high-pressure washer, it is possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions. ⁇ Saturation solubility is different between hot/cold water, so UFB generation rate is switched according to temperature ⁇ UFB generation rate is switched according to flow rate ⁇ For dishes (materials, coated products, etc.) where it is inappropriate to use detergent Therefore, it is possible to realize a detergent non-use mode for generating a relatively high concentration of UFB, and switching of the UFB concentration according to the water quality such as hard water/soft water.
  • ⁇ Food washing machine> By mounting the T-UFB generation device according to the present invention on a food washing machine, it is possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation speed according to various usage conditions. ⁇ Since the saturated solubility differs between hot and cold water, the UFB generation rate is switched according to the temperature ⁇ The UFB generation rate is switched according to the flow rate ⁇ Raw meat and raw vegetables that reduce the deterioration of food materials by using low temperature and high concentration UFB By using the cleaning mode and the high temperature and high concentration UFB, it is possible to realize the soil cleaning mode which prioritizes the cleaning effect and the cleaning mode of the cleaning machine itself which uses the high temperature and high concentration UFB.
  • ⁇ Treatment device> By switching the UFB concentration or the UFB generation rate according to various usage situations by incorporating the T-UFB generation device according to the present invention into the treatment device or connecting the medical device to the T-UFB generation device according to the present invention. And control is possible, ⁇ Generation of high-concentration ozone nanobubble water for dentistry (removal of biofilm from caries, etc.) ⁇ Generation of high-concentration ozone UFB water for blisters of burns ⁇ Using oxygen high-concentration UFB can damage endoscopes, etc. It can be applied to hemostasis of the inner wall of the digestive tract (large intestine, small intestine, stomach, etc.), generation of UFB concentration according to the age and sex of the patient, and physical condition.
  • T-UFB generator By mounting the T-UFB generator according to the present invention on the water supply, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions, including the examples shown in FIGS. 21 and 22.
  • ⁇ Saturation solubility is different between hot water/cold water, so that UFB generation rate can be switched according to temperature.
  • ⁇ UFB generation rate can be switched according to flow rate.
  • ⁇ Chlorine-free water supply with high concentration UFB can be realized.
  • ⁇ UFB additional treatment to reduce the UFB concentration used by the residents and to reduce the UFB concentration by adding normal water to the prescribed UFB concentration ⁇ UFB additional treatment to reduce the UFB concentration during long-term storage to the prescribed UFB concentration ⁇ A chlorine-free water storage tank using high-concentration UFB can be realized.
  • ⁇ Pasteurizer> By mounting the T-UFB generator according to the present invention on the pasteurizer, it is possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions. ⁇ Low-temperature high-concentration (carbon dioxide-containing) UFB water sterilization for sake and shochu ⁇ Low-temperature high-concentration (nitrogen-containing) UFB water sterilization for wine ⁇ Proper UFB concentration according to bacterial concentration ⁇ Proper UFB concentration according to brewing process, etc. Can be realized.
  • ⁇ fish farm> By mounting the T-UFB generator according to the present invention on a fish farm, it is possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions.
  • the growth rate is controlled by setting the UFB concentration according to the type of fish and the UFB concentration according to the growth of fish.
  • the UFB concentration can be made constant by controlling the UFB generation rate according to the water temperature of the juvenile.
  • ⁇ Pearl culture device By mounting the T-UFB generation device according to the present invention on a pearl culture device, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation speed according to various usage conditions.
  • ⁇ UFB concentration according to the type of pearl ⁇ Control of growth rate by setting UFB concentration according to the growth of pearl ⁇ Realization of constant UFB concentration by controlling UFB generation rate according to water temperature of pearl farm It will be possible.
  • ⁇ carbonated water server By mounting the T-UFB generator according to the present invention on the carbonated water server, it becomes possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions.
  • ⁇ UFB concentration according to the type of carbonated water (hard water/soft water) ⁇ Control of UFB generation rate according to the flow rate of carbonated water ⁇ Control of UFB generation rate according to the temperature of carbonated water can be realized.
  • ⁇ Wafer polishing machine By mounting the T-UFB generator according to the present invention on a wafer polishing machine, it is possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions. ⁇ High-concentration UFB is added to the polishing water ⁇ Control of UFB concentration according to the object to be polished ⁇ Additional generation of UFB reduced during polishing to keep the UFB concentration constant can be realized.
  • ⁇ Wafer stripper> By mounting the T-UFB generation device according to the present invention on the resist stripper, it is possible to switch and control the UFB concentration and the UFB generation rate according to various usage conditions. ⁇ Generation of high-concentration UFB to remove the difficult-to-remove resist after the implantation process ⁇ Control of UFB concentration according to the state of the resist (difficulty of peeling) ⁇ Additional UFB decreased during peeling to keep UFB concentration constant The control and the like can be realized.
  • the present invention supplies a program that implements one or more functions of the above-described embodiments to a system or apparatus via a network or a storage medium, and one or more processors in a computer of the system or apparatus read and execute the program. It can also be realized by the processing. It can also be realized by a circuit (for example, ASIC) that realizes one or more functions.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
  • Detail Structures Of Washing Machines And Dryers (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)
  • Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)

Abstract

液体内のUFBの生成を制御して、純度の高いUFB含有液を効率的に生成することが可能なUFB生成装置を提供する。UFB生成装置1Aは、発熱部10Gに含まれる発熱素子を駆動して発熱素子に接する液体に膜沸騰を生じさせる駆動手段2000と、駆動手段2000による発熱素子の駆動条件を制御する制御手段1000とを備える。

Description

ウルトラファインバブル生成装置、ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル含有液、及びプログラム
 本発明は、直径が1.0μm未満のウルトラファインバブルの生成装置、ウルトラファインバブル生成方法、及びウルトラファインバブルバブル含有液、及びプログラムに関する。
 近年、直径がマイクロメートルサイズのマイクロバブル、及び直径がナノメートルサイズのナノバブル等の微細なバブルの特性を応用する技術が開発されてきている。特に、直径が1.0μm未満のウルトラファインバブル(Ultra Fine Bubble;以下、「UFB」ともいう)については、その有用性が様々な分野において確認されている。
 特許文献1には、気体が加圧溶解された加圧液を減圧ノズルから噴出させることによって、微細なバブルを生成する微細気泡生成装置が開示されている。また、特許文献2には、混合ユニットを用いて気体混合液体の分流と合流を繰り返すことによって、微細なバブルを生成する装置が開示されている。
特許第6118544号公報 特許第4456176号公報
 特許文献1、2に記載のいずれの装置においても、直径がナノメートルサイズのUFBに加えて、直径がミリメートルサイズのミリバブルや直径がミクロンメートルサイズのマイクロバブルが比較的多量に生成される。このうち、UFBは、浮力の影響を受け難く、ブラウン運動を行いながら液中に浮遊するため、長期間の保存に適している。しかしながら、UFBがミリバブルやマイクロバブルとともに生成された場合、ミリバブルやマイクロバブルの消滅の影響を受け、時間の経過とともに減少する。このため、高い有用性を有しているUFBを所望の濃度に生成することが求められているが、特許文献1、2に記載のUFB生成方法ではミリバブルやマイクロバブルが比較的多量に生成されるためUFBの濃度を制御することが困難であった。
 よって、本発明は、液体内のUFBの生成を制御して、純度の高いUFB含有液を効率的に生成することが可能なUFB生成装置及びUFB生成方法の提供を目的とする。
 本発明は、液体と接触する位置に配される発熱素子を有する発熱部と、前記液体に膜沸騰を生じさせるように前記発熱素子を駆動する駆動手段と、前記液体に生成すべきウルトラファインバブルの目標濃度を設定するための設定手段と、前記設定手段によって設定された前記目標濃度に基づいて前記駆動手段による前記発熱素子の駆動条件を制御する制御手段と、を備えることを特徴とするウルトラファインバブル生成装置である。
 本発明によれば、液体内のUFBの生成を制御して、純度の高いUFB含有液を効率的に生成することが可能になる。
UFB生成装置の一例を示す図である。 前処理ユニットの概略構成図である。 溶解ユニットの概略構成図及び液体の溶解状態を説明するための図である。 T-UFB生成ユニットの概略構成図である。 発熱素子の詳細を説明するための図である。 発熱素子における膜沸騰の様子を説明するための図である。 膜沸騰泡の膨張に伴ってUFBが生成される様子を示す図である。 膜沸騰泡の収縮に伴ってUFBが生成される様子を示す図である。 液体の再加熱によってUFBが生成される様子を示す図である。 膜沸騰で生成される泡の消泡時の衝撃波によってUFBが生成される様子を示す図である。 後処理ユニットの構成例を示す図である。 本実施形態におけるUFB生成装置の概略構成を示す図である。 第1の実施形態において実行されるUFBの生成動作を説明する。 UFBの推定生成時間とUFB含有液のUFB濃度との関係を示す図である。 UFBの推定生成時間とUFB含有液のUFB濃度との関係を示す図である。 第1の実施形態により実行されるUFB含有液の生成処理を示すフローチャートである。 UFBの推定生成時間とUFB含有液のUFB濃度との関係を示す図である。 第2の実施形態により実行されるUFB含有液の生成処理を示すフローチャートである。 UFB生成時間と生成UFB濃度との関係を示す図である。 第4の実施形態により実行されるUFB含有液の生成処理を示すフローチャートである。 浄水器として使用されるT-UFB生成装置を模式的に示す図である。 図21に示す例の動作を示すフローチャートである。 洗濯機に用いるT-UFB生成装置を示す図である。 図23に示す例の動作を示すフローチャートである。 第6の実施形態におけるT-UFB生成装置を示す縦断側面図である。
[UFB生成装置の基本構成]
 図1は、本発明に適用可能なウルトラファインバブル生成装置(UFB生成装置)の基本構成の一例を示す図である。本実施形態のUFB生成装置1は、前処理ユニット100、溶解ユニット200、T-UFB生成ユニット300、後処理ユニット400、及び回収ユニット500を含む。前処理ユニット100に供給された水道水などの液体Wは、上記の順番で各ユニット固有の処理が施され、T-UFB含有液として回収ユニット500で回収される。以下、各ユニットの機能及び構成について説明する。詳細は後述するが、本明細書では急激な発熱に伴う膜沸騰を利用して生成したUFBをT-UFB(Thermal-Ultra Fine Bubble)と称す。
 図2は、前処理ユニット100の概略構成図である。本実施形態の前処理ユニット100は、供給された液体Wに対し脱気処理を行う。前処理ユニット100は、主に、脱器容器101、シャワーヘッド102、減圧ポンプ103、液体導入路104、液体循環路105、液体導出路106を有する。例えば水道水のような液体Wは、バルブ109を介して、液体導入路104から脱気容器101に供給される。この際、脱気容器101に設けられたシャワーヘッド102が、液体Wを霧状にして脱気容器101内に噴霧する。シャワーヘッド102は、液体Wの気化を促すためのものであるが、気化促進効果を生み出す機構としては、遠心分離器なども代替可能である。
 ある程度の液体Wが脱器容器101に貯留された後、全てのバルブを閉じた状態で減圧ポンプ103を作動させると、既に気化している気体成分が排出されるとともに、液体Wに溶解している気体成分の気化と排出も促される。この際、脱気容器101の内圧は、圧力計108を確認しながら数百~数千Pa(1.0Torr~10.0Torr)程度に減圧されればよい。脱気ユニット100によって脱気される気体としては、例えば窒素、酸素、アルゴン、二酸化炭素などが含まれる。
 以上説明した脱気処理は、液体循環路105を利用することにより、同じ液体Wに対して繰り返し行うことができる。具体的には、液体導入路104のバルブ109と液体導出路106のバルブ110を閉塞し、液体循環路105のバルブ107を開放した状態で、シャワーヘッド102を作動させる。これにより、脱気容器101に貯留され、脱気処理が一度行われた液体Wは、再びシャワーヘッド102を介して脱気容器101に噴霧される。更に、減圧ポンプ103を作動させることにより、シャワーヘッド102による気化処理と減圧ポンプ103による脱気処理が、同じ液体Wに対し重ねて行われることになる。そして、液体循環路105を利用した上記繰り返し処理を行う度に、液体Wに含まれる気体成分を段階的に減少させていくことができる。所望の純度に脱気された液体Wが得られると、バルブ110を開放することにより、液体Wは液体導出路106を経て溶解ユニット200に送液される。
 なお、図2では、気体部を低圧にして溶解物を気化させる脱気ユニット100を示したが、溶解した液体を脱気させる方法はこれに限らない。例えば、液体Wを煮沸して溶解物を気化させる加熱煮沸法を採用してもよいし、中空糸を用いて液体と気体の界面を増大させる膜脱気方法を採用してもよい。中空糸を用いた脱気モジュールとしては、SEPARELシリーズ(大日本インキ社製)が市販されている。これは、中空糸膜の原料にポリ4-メチルペンテン-1(PMP)を用いて、主にピエゾヘッド向けに供給するインクなどから気泡を脱気する目的で使用されている。更に、真空脱気法、加熱煮沸法、及び膜脱気方法の2つ以上を併用してもよい。
 図3(a)及び(b)は、溶解ユニット200の概略構成図及び液体の溶解状態を説明するための図である。溶解ユニット200は、前処理ユニット100より供給された液体Wに対し所望の気体を溶解させるユニットである。本実施形態の溶解ユニット200は、主に、溶解容器201、回転板202が取り付けられた回転シャフト203、液体導入路204、気体導入路205、液体導出路206、及び加圧ポンプ207を有する。
 前処理ユニット100より供給された液体Wは、液体導入路204より、溶解容器201に供給され貯留される。一方、気体Gは気体導入路205より溶解容器201に供給される。
 所定量の液体Wと気体Gが溶解容器201に貯留されると、加圧ポンプ207を作動し溶解容器201の内圧を0.5Mpa程度まで上昇させる。加圧ポンプ207と溶解容器201の間には安全弁208が配されている。また、回転シャフト203を介して液中の回転板202を回転させることにより、溶解容器201に供給された気体Gを気泡化し、液体Wとの接触面積を大きくし、液体W中への溶解を促進する。そしてこのような作業を、気体Gの溶解度がほぼ最大飽和溶解度に達するまで継続する。この際、可能な限り多くの気体を溶解させるために、液体の温度を低下させる手段を配してもよい。また、難溶解性の気体の場合は、溶解容器201の内圧を0.5MPa以上に上げる事も可能である。その場合は、安全面から容器の材料などを最適にする必要がある。
 気体Gの成分が所望の濃度で溶解された液体Wが得られると、液体Wは液体導出路206を経由して排出され、T-UFB生成ユニット300に供給される。この際、背圧弁209は、供給時の圧力が必要以上に高くならないように液体Wの流圧を調整する。
 図3(b)は、溶解容器201で混入された気体Gが溶解していく様子を模式的に示す図である。液体W中に混入された気体Gの成分を含む気泡2は、液体Wに接触している部分から溶解する。このため、気泡2は徐々に収縮し、気泡2の周囲には気体溶解液体3が存在する状態となる。気泡2には浮力が作用するため、気泡2は気体溶解液体3の中心から外れた位置に移動したり、気体溶解液体3から分離して残存気泡4となったりする。すなわち、液体導出路206を介してT-UFB生成ユニット300に供給される液体Wには、気体溶解液体3が気泡2を囲った状態のものや、気体溶解液体3と気泡2が互いに分離した状態のものが混在している。
 なお、図において気体溶解液体3とは、「液体W中において、混入された気体Gの溶解濃度が比較的高い領域」を意味している。実際に液体Wに溶解している気体成分においては、気泡2の周囲や、気泡2と分離した状態であっても領域の中心で濃度が最も高く、その位置から離れるほど気体成分の濃度は連続的に低くなる。すなわち、図3(b)では説明のために気体溶解液体3の領域を破線で囲っているが、実際にはこのような明確な境界が存在するわけではない。また、本発明においては、完全に溶解しない気体が、気泡の状態で液体中に存在しても許容される。
 図4は、T-UFB生成ユニット300の概略構成図である。T-UFB生成ユニット300は、主に、チャンバー301、液体導入路302、液体導出路303を備え、液体導入路302からチャンバー301内を経て液体導出路303に向かう流れが、不図示の流動ポンプによって形成されている。流動ポンプとしては、ダイヤフラムポンプ、ギアポンプ、スクリューポンプなど各種ポンプを採用することができる。液体導入路302から導入される液体Wには、溶解ユニット200によって混入された気体Gの気体溶解液体3が混在している。
 チャンバー301の底面には発熱素子10が設けられた素子基板12が配されている。発熱素子10に所定の電圧パルスが印加されることにより、発熱素子10に接触する領域に膜沸騰により生じる泡13(以下、膜沸騰泡13ともいう)が発生する。そして、膜沸騰泡13の膨張や収縮に伴って気体Gを含有するウルトラファインバブル(UFB11)が生成される。その結果、液体導出路303からは多数のUFB11が含まれたUFB含有液Wが導出される。
 図5(a)及び(b)は、発熱素子10の詳細構造を示す図である。図5(a)は発熱素子10の近傍、同図(b)は発熱素子10を含むより広い領域の素子基板12の断面図をそれぞれ示している。
 図5(a)に示すように、本実施形態の素子基板12は、シリコン基板304の表面に、蓄熱層としての熱酸化膜305と、蓄熱層を兼ねる層間膜306と、が積層されている。層間膜306としては、SiO2膜、または、SiN膜を用いることができる。層間膜306の表面には抵抗層307が形成され、その抵抗層307の表面に、配線308が部分的に形成されている。配線308としては、Al、Al-Si、またはAl-CuなどのAl合金配線を用いることができる。これらの配線308、抵抗層307、及び、層間膜306の表面には、SiO2膜、またはSi34膜から成る保護層309が形成されている。
 保護層309の表面において、結果的に発熱素子10となる熱作用部311に対応する部分、及び、その周囲には、抵抗層307の発熱に伴う化学的、及び物理的な衝撃から保護層309を保護するための耐キャビテーション膜310が形成されている。抵抗層307の表面において、配線308が形成されていない領域は、抵抗層307が発熱する熱作用部311である。配線308が形成されていない抵抗層307の発熱部分は、発熱素子(ヒータ)10として機能する。このように素子基板12における層は、半導体の製造技術によってシリコン基板304の表面に順次に形成され、これにより、シリコン基板304に熱作用部311が備えられる。
 なお、図に示す構成は一例であり、その他の各種構成が適用可能である。例えば、抵抗層307と配線308との積層順が逆の構成、及び抵抗層307の下面に電極を接続させる構成(所謂プラグ電極構成)が適用可能である。つまり、後述するように、熱作用部311により液体を加熱して、液体中に膜沸騰を生じさせることができる構成であればよい。
 図5(b)は、素子基板12において、配線308に接続される回路を含む領域の断面図の一例である。P型導電体であるシリコン基板304の表層には、N型ウェル領域322、及び、P型ウェル領域323が部分的に備えられている。一般的なMOSプロセスによるイオンインプランテーションなどの不純物の導入、及び拡散によって、N型ウェル領域322にP-MOS320が形成され、P型ウェル領域323にN-MOS321が形成される。
 P-MOS320は、N型ウェル領域322の表層に部分的にN型あるいはP型の不純物を導入してなるソース領域325及びドレイン領域326と、ゲート配線335などから構成されている。ゲート配線335は、ソース領域325及びドレイン領域326を除くN型ウェル領域322の部分の表面に、厚さ数百Åのゲート絶縁膜328を介して堆積されている。
 N-MOS321は、P型ウェル領域323の表層に部分的にN型あるいはP型の不純物を導入してなるソース領域325及びドレイン領域326と、ゲート配線335などから構成されている。ゲート配線335は、ソース領域325及びドレイン領域326を除くP型ウェル領域323の部分の表面に、厚さ数百Åのゲート絶縁膜328を介して堆積されている。ゲート配線335は、CVD法により堆積された厚さ3000Å~5000Åのポリシリコンからなる。これらのP-MOS320及びN-MOS321によって、C-MOSロジックが構成される。
 P型ウェル領域323において、N-MOS321と異なる部分には、電気熱変換素子(発熱抵抗素子)の駆動用のN-MOSトランジスタ330が形成されている。N-MOSトランジスタ330は、不純物の導入及び拡散などの工程によりP型ウェル領域323の表層に部分的に形成されたソース領域332及びドレイン領域331と、ゲート配線333などから構成されている。ゲート配線333は、P型ウェル領域323におけるソース領域332及びドレイン領域331を除く部分の表面に、ゲート絶縁膜328を介して堆積されている。
 本例においては、電気熱変換素子の駆動用トランジスタとして、N-MOSトランジスタ330を用いた。しかし、その駆動用トランジスタは、複数の電気熱変換素子を個別に駆動する能力を持ち、かつ、上述したような微細な構造を得ることができるトランジスタであればよく、N-MOSトランジスタ330には限定されない。また本例においては、電気熱変換素子と、その駆動用トランジスタと、が同一基板上に形成されているが、これらは、別々の基板に形成してもよい。
 P-MOS320とN-MOS321との間、及びN-MOS321とN-MOSトランジスタ330との間等の各素子間には、5000Å~10000Åの厚さのフィールド酸化により酸化膜分離領域324が形成されている。この酸化膜分離領域324によって各素子が分離されている。酸化膜分離領域324において、熱作用部311に対応する部分は、シリコン基板304上の一層目の蓄熱層334として機能する。
 P-MOS320、N-MOS321、及びN-MOSトランジスタ330の各素子の表面には、CVD法により、厚さ約7000ÅのPSG膜、またはBPSG膜などから成る層間絶縁膜336が形成されている。層間絶縁膜336を熱処理により平坦にした後に、層間絶縁膜336及びゲート絶縁膜328を貫通するコンタクトホールを介して、第1の配線層となるAl電極337が形成される。層間絶縁膜336及びAl電極337の表面には、プラズマCVD法により、厚さ10000Å~15000ÅのSiO2膜から成る層間絶縁膜338が形成される。層間絶縁膜338の表面において、熱作用部311及びN-MOSトランジスタ330に対応する部分には、コスパッタ法により、厚さ約500ÅのTaSiN膜から成る抵抗層307が形成される。抵抗層307は、層間絶縁膜338に形成されたスルーホールを介して、ドレイン領域331の近傍のAl電極337と電気的に接続される。抵抗層307の表面には、各電気熱変換素子への配線となる第2の配線層としてのAlの配線308が形成される。配線308、抵抗層307、及び層間絶縁膜338の表面の保護層309は、プラズマCVD法により形成された厚さ3000ÅのSiN膜から成る。保護層309の表面に堆積された耐キャビテーション膜310は、Ta、Fe,Ni,Cr,Ge,Ru,Zr,Ir等から選択される少なくとも1つ以上の金属であり、厚さ約2000Åの薄膜から成る。抵抗層307としては、上述したTaSiN以外のTaN0.8、CrSiN、TaAl、WSiN等、液体中に膜沸騰を生じさせることができるものであれば各種材料が適用可能である。
 図6(a)及び(b)は、発熱素子10に所定の電圧パルスを印加した場合の膜沸騰の様子を示す図である。ここでは、大気圧のもとでの膜沸騰を生じさせた場合を示している。図6(a)において、横軸は時間を示す。また、下段のグラフの縦軸は発熱素子10に印加される電圧を示し、上段のグラフの縦軸は膜沸騰により発生した膜沸騰泡13の体積と内圧を示す。一方、図6(b)は、膜沸騰泡13の様子を、図6(a)に示すタイミング1~3に対応づけて示している。以下、時間に沿って各状態を説明する。尚、後述するように膜沸騰によって発生したUFB11は主として膜沸騰泡13の表面近傍に発生する。図6(b)に示す状態は、図1で示したように、生成ユニット300で発生したUFB11から循環経路を介して溶解ユニット200に再度供給され、その液体が生成ユニット300の液路に再度供給された状態を示す。
 発熱素子10に電圧が印加される前、チャンバー301内はほぼ大気圧が保たれている。発熱素子10に電圧が印加されると、発熱素子10に接する液体に膜沸騰が生じ、発生した気泡(以下、膜沸騰泡13と称す)は内側から作用する高い圧力によって膨張する(タイミング1)。このときの発泡圧力は約8~10MPaとみなされ、これは水の飽和蒸気圧に近い値である。
 電圧の印加時間(パルス幅)は0.5usec~10.0usec程度であるが、電圧が印加されなくなった後も、膜沸騰泡13はタイミング1で得られた圧力の慣性によって膨張する。但し、膜沸騰泡13の内部では膨張に伴って発生した負圧力が徐々に大きくなり、膜沸騰泡13を収縮する方向に作用する。やがて慣性力と負圧力が釣り合ったタイミング2で膜沸騰泡13の体積は最大となり、その後は負圧力によって急速に収縮する。
 膜沸騰泡13が消滅する際、膜沸騰泡13は発熱素子10の全面ではなく、1箇所以上の極めて小さな領域で消滅する。このため、発熱素子10においては、膜沸騰泡13が消滅する極めて小さな領域に、タイミング1で示す発泡時よりも更に大きな力が発生する(タイミング3)。
 以上説明したような膜沸騰泡13の発生、膨張、収縮及び消滅は、発熱素子10に電圧パルスが印加されるたびに繰り返され、そのたびに新たなUFB11が生成される。
 次に図7~図10を用いて、膜沸騰泡13の発生、膨張、収縮及び消滅の各過程において、UFB11が生成される様子を更に詳しく説明する。
 図7(a)~(d)は、膜沸騰泡13の発生及び膨張に伴ってUFB11が生成される様子を模式的に示す図である。図7(a)は、発熱素子10に電圧パルスが印加される前の状態を示している。チャンバー301の内部には、気体溶解液体3が混在した液体Wが流れている。
 図7(b)は、発熱素子10に電圧が印加され、液体Wに接している発熱素子10のほぼ全域で膜沸騰泡13が一様に発生した様子を示している。電圧が印加されたとき、発熱素子10の表面温度は10℃/μsec以上の速度で急激に上昇し、ほぼ300℃に達した時点で膜沸騰が起こり、膜沸騰泡13が生成される。
 発熱素子10の表面温度は、その後もパルスの印加中に600~800℃程度まで上昇し、膜沸騰泡13の周辺の液体も急激に加熱される。図では、膜沸騰泡13の周辺に位置し、急激に加熱される液体の領域を未発泡高温領域14として示している。未発泡高温領域14に含まれる気体溶解液体3は熱的溶解限界を超えて析出しUFBとなる。析出した気泡の直径は10nm~100nm程度であり、高い気液界面エネルギを有している。そのため、短時間で消滅することもなく液体W内で独立を保ながら浮遊する。本実施形態では、このように膜沸騰泡13の発生から膨張時に熱的作用によって生成される気泡を第1のUFB11Aと称す。
 図7(c)は、膜沸騰泡13が膨張する過程を示している。発熱素子10への電圧パルスの印加が終了しても、膜沸騰泡13は発生したときに得た力の慣性によって膨張を続け、未発泡高温領域14も慣性によって移動及び拡散する。すなわち、膜沸騰泡13が膨張する過程において、未発泡高温領域14に含まれた気体溶解液体3が新たに気泡となって析出し、第1のUFB11Aとなる。
 図7(d)は、膜沸騰泡13が最大体積となった状態を示している。膜沸騰泡13は慣性によって膨張するが、膨張に伴って膜沸騰泡13の内部の負圧は徐々に高まり、膜沸騰泡13を収縮しようとする負圧力として作用する。そして、この負圧力が慣性力と釣り合った時点で、膜沸騰泡13の体積は最大となり、以後収縮に転じる。
 膜沸騰泡13の収縮段階においては、図8(a)~(c)に示す過程により発生するUFB(第2のUFB11B)と、図9(a)~(c)に示す過程により発生するUFB(第3のUFB)とがある。これら2つの過程は併存しておきていると考えられる。
 図8(a)~(c)は、膜沸騰泡13の収縮に伴ってUFB11が生成される様子を示す図である。図8(a)は、膜沸騰泡13が収縮を開始した状態を示している。膜沸騰泡13が収縮を開始しても、周囲の液体Wには膨張する方向の慣性力が残っている。よって、膜沸騰泡13の極周囲には、発熱素子10から離れる方向に作用する慣性力と、膜沸騰泡13の収縮に伴って発熱素子10に向かう力とが作用し、減圧された領域となる。図では、そのような領域を未発泡負圧領域15として示している。
 未発泡負圧領域15に含まれる気体溶解液体3は、圧的溶解限界を超え、気泡として析出する。析出した気泡の直径は100nm程度であり、その後短時間で消滅することもなく液体W内で独立を保ながら浮遊する。本実施形態では、このように膜沸騰泡13が収縮する際の圧力的作用によって析出する気泡を、第2のUFB11Bと称す。
 図8(b)は、膜沸騰泡13が収縮する過程を示している。膜沸騰泡13が収縮する速度は負圧力によって加速し、未発泡負圧領域15も膜沸騰泡13の収縮に伴って移動する。すなわち、膜沸騰泡13が収縮する過程において、未発泡負圧領域15が通過する箇所の気体溶解液体3が次々に析出し、第2のUFB11Bとなる。
 図8(c)は、膜沸騰泡13が消滅する直前の様子を示している。膜沸騰泡13の加速度的な収縮により、周囲の液体Wの移動速度も増大するが、チャンバー301内の流路抵抗によって圧力損失が生じる。その結果、未発泡負圧領域15が占める領域は更に大きくなり、多数の第2のUFB11Bが生成される。
 図9(a)~(c)は、膜沸騰泡13の収縮時において、液体Wの再加熱によってUFBが生成される様子を示す図である。図9(a)は、発熱素子10の表面が収縮する膜沸騰泡13に被覆されている状態を示している。
 図9(b)は、膜沸騰泡13の収縮が進み、発熱素子10の表面の一部が液体Wに接触した状態を示している。このとき発熱素子10の表面には、液体Wが接しても膜沸騰には到らないほどの熱が残っている。図では、発熱素子10の表面に接することにより加熱される液体の領域を未発泡再加熱領域16として示している。膜沸騰には到らないものの、未発泡再加熱領域16に含まれる気体溶解液体3は、熱的溶解限界を超えて析出する。本実施形態では、このように膜沸騰泡13が収縮する際の液体Wの再加熱によって生成される気泡を第3のUFB11Cと称す。
 図9(c)は、膜沸騰泡13の収縮が更に進んだ状態を示している。膜沸騰泡13が小さくなるほど、液体Wに接する発熱素子10の領域が大きくなるため、第3のUFB11Cは、膜沸騰泡13が消滅するまで生成される。
 図10(a)および(b)は、膜沸騰で生成された膜沸騰泡13の消泡時の衝撃(所謂、キャビテーションの一種)によって、UFBが生成される様子を示す図である。図10(a)は、膜沸騰泡13が消滅する直前の様子を示している。膜沸騰泡13は内部の負圧力によって急激に収縮し、その周囲を未発泡負圧領域15が覆う状態となっている。
 図10(b)は、膜沸騰泡13が点Pで消滅した直後の様子を示している。膜沸騰泡13が消泡するとき、その衝撃により音響波が点Pを起点として同心円状に広がる。音響波とは、気体、液体、固体を問わず伝播する弾性波の総称であり、本実施形態においては、液体Wの粗密、すなわち液体Wの高圧面17Aと低圧面17B、とが交互に伝播される。
 この場合、未発泡負圧領域15に含まれる気体溶解液体3は、膜沸騰泡13の消泡時の衝撃波によって共振され、低圧面17Bが通過するタイミングで圧的溶解限界を超えて相転移する。すなわち、膜沸騰泡13の消滅と同時に、未発泡負圧領域15内には多数の気泡が析出する。本実施形態ではこのような膜沸騰泡13が消泡する時の衝撃波によって生成される気泡を第4のUFB11Dと称す。
 膜沸騰泡13の消泡時の衝撃波よって生成される第4のUFB11Bは、極めて狭い薄膜的領域に極めて短時間(1μS以下)で突発的に出現する。直径は第1~第3のUFBよりも十分小さく、第1~第3のUFBよりも気液界面エネルギが高い。このため、第4のUFB11Dは、第1~第3のUFB11A~11Cとは異なる性質を有し異なる効果を生み出すものと考えられる。
 また、第4のUFB11Dは、衝撃波が伝播する同心球状の領域のいたる所で一様に発生するため、生成された時点からチャンバー301内に一様に存在することになる。第4のUFB11Dが生成されるタイミングでは、第1~第3のUFBが既に多数存在しているが、これら第1~第3のUFBの存在が第4のUFB11Dの生成に大きく影響することはない。また、第4のUFB11Dの発生によって第1~第3のUFBが消滅することもないと考えられる。
 以上説明したように発熱素子10の発熱により膜沸騰泡13が発生し消泡するまでの複数の段階においてUFB11が発生すると想定される。第1のUFB11A、第2のUFB11B及び第3のUFB11Cは、膜沸騰により発生する膜沸騰泡の表面の近傍に発生する。ここで近傍とは膜沸騰泡の表面から約20μm以内の領域である。第4のUFB11Dは、気泡が消泡(消滅)する際に発生する衝撃波が伝搬する領域に発生する。上述した例では膜沸騰泡13が消泡するまでの例を示したがUFBを発生させるためにはこれに限られない。例えば、発生した膜沸騰泡13が消泡する前に大気と連通することで、膜沸騰泡13が消耗まで至らない場合においてもUFBの生成が可能である。
 次にUFBの残存特性について説明する。液体の温度が高いほど気体成分の溶解特性は低くなり、温度が低いほど気体成分の溶解特性は高くなる。すなわち、液体の温度が高いほど、溶解している気体成分の相転移が促され、UFBが生成されやすくなる。液体の温度と気体の溶解度は反比例の関係にあり、液体の温度上昇により、飽和溶解度を超えた気体が気泡になって液体中に析出される。
 このため、液体の温度が常温から急激に上昇すると溶解特性が一気に下がり、UFBが生成され始める。そして、温度が上がるほど熱的溶解特性は下がり、多くのUFBが生成される状況となる。
 反対に液体の温度が常温から下降すると、気体の溶解特性は上昇し、生成されたUFBは液化しやすくなる。しかしながら、このような温度は、常温よりも十分に低い。更に、液体の温度が下がっても、一度発生したUFBは高い内圧と高い気液界面エネルギを有するため、この気液界面を破壊するほどの高い圧力が作用する可能性は極めて低い。すなわち、一度生成されたUFBは、液体を常温常圧で保存する限り、簡単に消滅することはない。
 本実施形態において、図7(a)~(c)で説明した第1のUFB11A、及び図9(a)~(c)で説明した第3のUFB11Cは、このような気体の熱的溶解特性を利用して生成されたUFBと言える。
 一方、液体の圧力と溶解特性の関係においては、液体の圧力が高いほど気体の溶解特性は高くなり、圧力が低いほど溶解特性は低くなる。すなわち液体の圧力が低いほど、液体に溶解している気体溶解液体の気体への相転移が促され、UFBが生成されやすくなる。液体の圧力が常圧から下がると、溶解特性が一気に下がり、UFBが生成され始める。そして、圧力が下がるほど圧的溶解特性は下がり、多くのUFBが生成される状況となる。
 反対に液体の圧力が常圧から上昇すると、気体の溶解特性は上昇し、生成されたUFBは液化しやすくなる。しかしながら、このような圧力は、大気圧よりも十分に高く、更に、液体の圧力が上がっても、一度発生したUFBは高い内圧と高い気液界面エネルギを有するため、この気液界面を破壊するほどの高い圧力が作用する可能性は極めて低い。すなわち、一度生成されたUFBは、液体を常温常圧で保存する限り、簡単に消滅することはない。
 本実施形態において、図8(a)~(c)で説明した第2のUFB11B、及び図10(a)~(c)で説明した第4のUFB11Dは、このような気体の圧力的溶解特性を利用して生成されたUFBと言える。
 以上では、生成される要因の異なる第1~第4のUFBを個別に説明してきたが、上述した生成要因は、膜沸騰という事象に伴って同時多発的に起こるものである。このため、第1~第4のUFBのうち少なくとも2種類以上のUFBが同時に生成されることもあり、これら生成要因が互いに協働してUFBを生成することもある。但し、いずれの生成要因も、膜沸騰現象で生成される膜沸騰泡の体積変化に伴って招致されることは共通している。本明細書では、このように急激な発熱に伴う膜沸騰を利用してUFBを生成する方法を、T-UFB(Thermal-Ultra Fine Bubble)生成方法と称す。また、T-UFB生成方法によって生成したUFBをT-UFB、T-UFB生成方法によって生成されたT-UFBを含有する液体をT-UFB含有液と称す。
 T-UFB生成方法によって生成される気泡はその殆どが1.0um以下であり、ミリバブルやマイクロバブルは生成され難い。すなわち、T-UFB生成方法によれば、UFBが支配的に、かつ、効率的に生成されることになる。また、T-UFB生成方法によって生成されたT-UFBは、従来法によって生成されたUFBよりも高い気液界面エネルギを有し、常温常圧で保存する限り簡単に消滅することはない。更に、新たな膜沸騰によって新たなT-UFBが生成されても、先行して生成されていたT-UFBがその衝撃によって消滅することも抑制される。つまり、T-UFB含有液に含まれるT-UFBの数や濃度は、T-UFB含有液における膜沸騰の発生回数に対しヒステリシス特性を有すると言える。言い替えると、T-UFB生成ユニット300に配する発熱素子の数や発熱素子に対する電圧パルスの印加回数を制御することにより、T-UFB含有液に含まれるT-UFBの濃度を調整することができる。
 再び図1を参照する。T-UFB生成ユニット300において、所望のUFB濃度を有するT-UFB含有液Wが生成されると、当該UFB含有液Wは、後処理ユニット400に供給される。
 図11(a)~(c)は、本実施形態の後処理ユニット400の構成例を示す図である。本実施形態の後処理ユニット400は、UFB含有液Wに含まれる不純物を、無機物イオン、有機物、不溶固形物、の順に段階に除去する。
 図11(a)は、無機物イオンを除去するための第1の後処理機構410を示す。第1の後処理機構410は、交換容器411、陽イオン交換樹脂412、液体導入路413、集水管414及び液体導出路415を備えている。交換容器411には、陽イオン交換樹脂412が収容されている。T-UFB生成ユニット300で生成されたUFB含有液Wは、液体導入路413を経由して交換容器411に注入され、陽イオン交換樹脂412に吸収され、ここで不純物としての陽イオンが除去される。このような不純物には、T-UFB生成ユニット300の素子基板12より剥離した金属材料などが含まれ、例えばSiO2、SiN、SiC、Ta、Al23、Ta25、Irが挙げられる。
 陽イオン交換樹脂412は、三次元的な網目構造を持った高分子母体に官能基(イオン交換基)を導入した合成樹脂であり、合成樹脂は0.4~0.7mm程度の球状粒子を呈している。高分子母体としては、スチレン-ジビニルベンゼンの共重合体が一般的であり、官能基としては例えばメタクリル酸系とアクリル酸系のものを用いることができる。但し、上記材料は一例である。所望の無機イオンを効果的に除去することができれば、上記材料は様々に変更可能である。陽イオン交換樹脂412に吸収され、無機イオンが除去されたUFB含有液Wは、集水管414によって集水され、液体導出路415を介して次の工程に送液される。
 図11(b)は、有機物を除去するための第2の後処理機構420を示す。第2の後処理機構420は、収容容器421、ろ過フィルタ422、真空ポンプ423、バルブ424、液体導入路425、液体導出路426、及びエア吸引路427を備えている。収容容器421の内部は、ろ過フィルタ422によって上下2つの領域に分割されている。液体導入路425は、上下2つの領域のうち上方の領域に接続し、エア吸引路427及び液体導出路426は下方の領域に接続する。バルブ424を閉じた状態で真空ポンプ423を駆動すると、収容容器421内の空気がエア吸引路427を介して排出され、収容容器421の内部が負圧になり、液体導入路425よりUFB含有液Wが導入される。そして、ろ過フィルタ422によって不純物が除去された状態のUFB含有液Wが収容容器421に貯留される。
 ろ過フィルタ422によって除去される不純物には、チューブや各ユニットで混合され得る有機材料が含まれ、例えばシリコンを含む有機化合物、シロキサン、エポキシなどが挙げられる。ろ過フィルタ422に使用可能なフィルタ膜としては、細菌系まで除去できるサブμmメッシュのフィルタや、ウィルスまで除去できるnmメッシュのフィルタが挙げられる。
 収容容器421にUFB含有液Wがある程度貯留された後、真空ポンプ423を停止してバルブ424を開放すると、収容容器421のT-UFB含有液は液体導出路426を介して次の工程に送液される。なお、ここでは、有機物の不純物を除去する方法として真空ろ過法を採用したが、フィルタを用いたろ過方法としては、例えば重力ろ過法や加圧ろ過を採用することもできる。
 図11(c)は、不溶の固形物を除去するための第3の後処理機構430を示す。第3の後処理機構430は、沈殿容器431、液体導入路432、バルブ433及び液体導出路434を備えている。
 まず、バルブ433を閉じた状態で沈殿容器431に所定量のUFB含有液Wを液体導入路432より貯留し、しばらく放置する。この間、UFB含有液Wに含まれている固形物は、重力によって沈殿容器431の底部に沈降する。また、UFB含有液に含まれるバブルのうち、マイクロバブルのような比較的大きなサイズのバブルも浮力によって液面に浮上し、UFB含有液から除去される。十分な時間が経過した後バルブ433を開放すると、固形物や大きなサイズのバブルが除去されたUFB含有液Wが液体導出路434を介して、回収ユニット500に送液される。本実施形態では3つの後処理機構を順に適用する例を示したが、これに限られず、必要に応じた後処理機構を適宜採用すれば良い。
 再度図1を参照する。後処理ユニット400で不純物が除去されたT-UFB含有液Wは、そのまま回収ユニット500に送液してもよいが、再び溶解ユニット200に戻すこともできる。後者の場合、T-UFBの生成によって低下したT-UFB含有液Wの気体溶解濃度を、溶解ユニット200において再び飽和状態まで補填することができる。その上で新たなT-UFBをT-UFB生成ユニット300で生成すれば、上述した特性のもと、T-UFB含有液のUFB含有濃度を更に上昇させることができる。すなわち、溶解ユニット200、T-UFB生成ユニット300、後処理ユニット400を巡る循環回数の分だけ、UFB含有濃度を高めることができ、所望のUFB含有濃度が得られた後に、当該UFB含有液Wを回収ユニット500に送液することができる。
 回収ユニット500は、後処理ユニット400より送液されて来たUFB含有液Wを回収及び保存する。回収ユニット500で回収されたT-UFB含有液は、様々な不純物が除去された純度の高いUFB含有液となる。
 回収ユニット500においては、何段階かのフィルタリング処理を行い、UFB含有液WをT-UFBのサイズごと分類してもよい。また、T-UFB方式により得られるT-UFB含有液Wは、常温よりも高温であることが予想されるため、回収ユニット500には冷却手段を設けてもよい。なお、このような冷却手段は、後処理ユニット400の一部に設けられていてもよい。
 以上が、UFB生成装置1の概略であるが、図示したような複数のユニットは無論変更可能であり、全てを用意する必要は無い。使用する液体Wや気体Gの種類、また生成するT-UFB含有液の使用目的に応じて、上述したユニットの一部を省略してもよいし、上述したユニット以外に更に別のユニットを追加してもよい。
 例えば、UFBに含有させる気体が大気である場合は、脱気ユニット100や溶解ユニット200を省略することができる。反対に、UFBに複数種類の気体を含ませたい場合は、溶解ユニット200を更に追加してもよい。
 また、図11(a)~(c)で示すような不純物を除去するためのユニットは、T-UFB生成ユニット300よりも上流に設けてもよいし、上流と下流の両方に設けてもよい。UFB生成装置に供給される液体が水道水や雨水、また汚染水などの場合は、液体中に有機系や無機系の不純物が含まれている事がある。そのような不純物を含んだ液体WをT-UFB生成ユニット300に供給すると、発熱素子10を変質させたり、塩析現象を招致したりするおそれが生じる。図11(a)~(c)で示すような機構をT-UFB生成ユニット300よりも上流に設けておくことにより、上記のような不純物を事前に除去することができる。
<T-UFB含有液に使用可能な液体および気体>
 ここで、T-UFB含有液を生成するために使用可能な液体Wについて説明する。本実施形態で使用可能な液体Wとしては、例えば、純水、イオン交換水、蒸留水、生理活性水、磁気活性水、化粧水、水道水、海水、川水、上下水、湖水、地下水、雨水などが挙げられる。また、これらの液体等を含む混合液体も使用可能である。また、水と水溶性有機溶剤との混合溶媒も使用できる。水と混合して使用される水溶性有機溶剤としては特に限定されないが、具体例として、以下のものを挙げることができる。メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブチルアルコール、sec-ブチルアルコール、tert-ブチルアルコールなどの炭素数1乃至4のアルキルアルコール類。N-メチル-2-ピロリドン、2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのアミド類。アセトン、ジアセトンアルコールなどのケトン又はケトアルコール類。テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類。エチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール。1,2-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、1,5-ペンタンジオール、1,2-ヘキサンジオール、1,6-ヘキサンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、チオジグリコールなどのグリコール類。エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルなどの多価アルコールの低級アルキルエーテル類。ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコール類。グリセリン、1,2,6-ヘキサントリオール、トリメチロールプロパンなどのトリオール類。これらの水溶性有機溶剤は、単独で用いてもよく、または2種以上を併用してもよい。
 溶解ユニット200で導入可能な気体成分としては、例えば、水素、ヘリウム、酸素、窒素、メタン、フッ素、ネオン、二酸化炭素、オゾン、アルゴン、塩素、エタン、プロパン、空気、などが挙げられる。また、上記のいくつかを含む混合気体であってもよい。さらに、溶解ユニット200では必ずしも気体状態にある物質を溶解させなくてもよく、所望の成分で構成される液体や固を液体Wに融解させてもよい。この場合の溶解としては、自然溶解のほか、圧力付与による溶解であってもよいし、電離による水和、イオン化、化学反応を伴う溶解であってもよい。
<T-UFB生成方法の効果>
 次に、以上説明したT-UFB生成方法の特徴と効果を、従来のUFB生成方法と比較して説明する。例えばベンチュリー方式に代表される従来の気泡生成装置においては、流路の一部に減圧ノズルのようなメカ的な減圧構造を設け、この減圧構造を通過するように所定の圧力で液体を流すことにより、減圧構造の下流の領域に様々なサイズの気泡を生成している。
 この場合、生成された気泡のうち、ミリバブルやマイクロバブルのような比較的大きなサイズのバブルには浮力が作用するため、やがて液面に浮上して消滅してしまう。また、浮力が作用しないUFBについても、然程大きな気液界面エネルギを有していないので、ミリバブルやマイクロバブルとともに消滅してしまう場合もある。加えて、上記減圧構造を直列に配置し、同じ液体を繰り返し減圧構造に流したとしても、その繰り返し回数に応じた数のUFBを、長期間保存することはできない。すなわち、従来のUFB生成方法によって生成されたUFB含有液では、UFB含有濃度を所定の値で長期間維持することは困難であった。
 これに対し、膜沸騰を利用する本実施形態のT-UFB生成方法では、常温から300℃程度への急激な温度変化や、常圧から数メガパスカル程度への急激な圧力変化を、発熱素子の極近傍に局所的に生じさせている。当該発熱素子は、一辺が数十μm~数百μm程度の四辺形をしている。従来のUFB発生器の大きさに比べると、1/10~1/1000程度である。且つ、膜沸騰泡表面の極薄い膜領域に存在する気体溶解液体が、熱的溶解限界または圧力的溶解限界を瞬間的に(マイクロ秒以下の超短時間で)超えることにより、相転移が起こりUFBとなって析出する。この場合、ミリバブルやマイクロバブルのような比較的大きなサイズのバブルは殆ど発生せず、液体には直径が100nm程度のUFBが極めて高い純度で含有される。更に、このように生成されたT-UFBは、十分に高い気液界面エネルギを有しているため、通常の環境下において破壊されにくく、長期間の保存が可能である。
 特に、液体に対し局所的に気体界面を形成できる膜沸騰現象を用いた本発明であれば、液体領域全体に影響を与えることなく、発熱素子の近傍に存在する液体の一部に界面形成し、それに伴う熱的、圧力的に作用する領域を極めて局所的な範囲とすることができる。その結果、安定的に所望のUFBを生成することができる。また、液体を循環して生成液体に対し更にUFBの生成条件を付与することで、既存のUFBへの影響を少なく新たなUFBを追加生成することができる。その結果、比較的容易に、所望のサイズ、濃度のUFB液体を製造することができる。
 更に、T-UFB生成方法においては、上述したヒステリシス特性を有するため、高い純度のまま所望の濃度まで含有濃度を高めていくことができる。すなわち、T-UFB生成方法よれば、高純度、高濃度で且つ長期間保存可能なUFB含有液を、効率的に生成することができる。
<T-UFB含有液の具体的用途>
 一般に、ウルトラファインバブル含有液は、内包される気体の種類によって用途が区別される。なお、液体にPPM~BPM程度の量を液体中に溶解できる気体であれば、いずれの気体においてもUFB化させることが可能である。1例としては、下記のような用途に応用する事ができる。
 ・空気を内包させたUFB含有液は、工業的・農水産業・医療用などの洗浄や、植物・農水産物の育成にも好適に用いることができる。
 ・オゾンを内包したUFB含有液は、工業的・農水産業・医療用などの洗浄用途に加え、殺菌、滅菌及び除菌を目的とした用途や、排水や汚染土壌の環境浄化などにも好適に用いることができる。
 ・窒素を内包したUFB含有液は、工業的・農水産業・医療用など洗浄用途に加え、殺菌、滅菌及び除菌を目的とした用途や、排水や汚染土壌の環境浄化などにも好適に用いることができる。
 ・酸素を内包したUFB含有液は、工業的・農水産業・医療用など洗浄用途に加え、植物・農水産物の育成にも好適に用いることができる。
 ・二酸化炭素を内包したUFB含有液は、工業的・農水産業・医療用などの洗浄用途に加え、殺菌、滅菌及び除菌を目的とした用途などに好適に用いることができる。
 ・医療用ガスであるパーフロロカーボンを内包したUFB含有液は、超音波診断や治療に好適に用いることができる。このように、UFB含有液は、医療・薬品・歯科・食品・工業・農水産業などの多岐に亘って、効果を発揮することができる。
 そして、それぞれの用途において、UFB含有液の効果を迅速に且つ確実に発揮するためには、UFB含有液に含まれるUFBの純度と濃度が重要となる。すなわち、高純度で所望の濃度のUFB含有液を生成することが可能な本実施形態のT-UFB生成方法を利用すれば、様々な分野でこれまで以上の効果を期待することができる。以下、T-UFB生成方法及びT-UFB含有液を好適に適用可能と想定される用途を列挙する。
 (A)液体の精製的用途
 ・浄水器に対し、T-UFB生成ユニットを配することにより、浄水効果やPH調製液の精製効果を高めることが期待できる。また、炭酸水サーバなどにT-UFB生成ユニットを配することもできる。
 ・加湿器、アロマディヒューザー、コーヒーメーカー等にT-UFB生成ユニットを配することにより、室内の加湿効果や消臭効果及び香りの拡散効果を向上させることが期待できる。
 ・溶解ユニットにおいてオゾンガスを溶解させたUFB含有液を生成し、これを歯科治療、火傷の治療、内視鏡使用時の傷の手当てなどで用いることにより、医療的な洗浄効果や消毒効果を向上させることが期待できる。
 ・集合住宅の貯水槽にT-UFB生成ユニットを配することにより、長期間保存される飲料水の浄水効果や塩素の除去効果を向上させることが期待できる。
 ・日本酒、焼酎、ワインなど、高温の殺菌処理を行うことができない酒造工程において、オゾンや二酸化炭素を含有するT-UFB含有液を用いることにより、従来よりも効率的に低温殺菌処理を行うことが期待できる。
 ・特定保健食品や機能表示食品の製造過程で、原料にUFB含有液を混合させることで低温殺菌処理が可能になり、風味を落とさずに、安心かつ機能性を有する食品を提供することができる。
 ・魚や真珠などの魚介類の養殖場所において、養殖用の海水や淡水の供給経路にT-UFB生成ユニットを配することにより、魚介類の産卵や発育を促進させることが期待できる。
 ・食材保存水の精製工程にT-UFB生成ユニットを配することにより、食材の保存状態を向上させることが期待できる。
 ・プール用水や地下水などを脱色するための脱色器にT-UFB生成ユニットを配することにより、より高い脱色効果を期待することができる。
 ・コンクリート部材のひび割れ修復のためにT-UFB含有液を用いることにより、ひび割れ修復の効果向上を期待することができる。
 ・液体燃料を用いる機器(自動車、船舶、飛行機)等の液体燃料に、T-UFBを含有させることにより、燃料のエネルギ効率を向上させることが期待できる。
 (B)洗浄的用途
 近年、衣類に付着した汚れなどを除去するための洗浄水として、UFB含有液が注目されている。上記実施形態で説明したT-UFB生成ユニットを洗濯機に配し、従来よりも純度が高く浸透性に優れたUFB含有液を洗濯層に供給することにより、更に洗浄力を向上させることが期待できる。
 ・浴用シャワーや便器洗浄機にT-UFB生成ユニットを配することにより、人体等、生物全般の洗浄効果のほか、浴室又は便器の水垢やカビなどの汚染除去を促す効果を期待できる。
 ・自動車などのウィンドウォッシャー、壁材などを洗浄するための高圧洗浄機、洗車機、食器洗浄機、食材洗浄機等においてT-UFB生成ユニットを配することにより、それぞれの洗浄効果を更に向上させることが期待できる。
 ・プレス加工後のバリ取り工程など工場で製造した部品を洗浄・整備する際に、T-UFB含有液を用いることにより、洗浄効果を向上させることが期待できる。
 ・半導体素子製造時、ウェハの研磨水としてT-UFB含有液を用いることにより、研磨効果を向上させることが期待できる。また、レジスト除去工程においては、T-UFB含有液を用いることにより、剥離が困難なレジストの剥離を促すことが期待できる。
 ・医療ロボット、歯科治療器、臓器の保存容器などの医療機器の、洗浄や消毒を行うための器機に、T-UFB生成ユニットを配することにより、これら器機の洗浄効果や消毒効果の向上を期待することができる。また、生物の治療などにも適用可能である。
 (C)医薬品用途
 ・化粧品などにT-UFB含有液を含有させることで、皮下細胞への浸透を促進するとともに防腐剤や界面活性剤などの皮膚に悪影響を与える添加剤を大幅に低下させることができる。その結果、より安心で、且つ、機能性のある化粧品を提供する事ができる。
 ・CTやMRIなどの医療検査装置の造影剤に、T-UFBを含有する高濃度ナノバブル製剤を活用することで、X線や超音波による反射光を効率的に活用でき、より詳細な撮影画像を得る事ができ、悪性腫瘍の初期診断などに活用できる。
 ・HIFU(High Intensity Focused Ultrasound)と呼ばれている超音波治療器で、T-UFBを含有する高濃度ナノバブル水を用いることで、超音波の照射パワーを低下でき、より非侵襲的に治療をすることができる。特に、正常な組織へのダメージを低減することが可能になる。
 ・T-UFBを含有する高濃度ナノバブルを種にして、気泡周囲のマイナス電荷領域にリポソームを形成するリン脂質を修飾させ、そのリン脂質を介して、各種医療性物質(DNAや、RNAなど)を付与したナノバブル製剤を作成することができる。
 ・歯髄や象牙質再生治療として、T-UFB生成による高濃度ナノバブル水を含む薬剤を歯管内に送液すると、ナノバブル水の浸透作用により薬剤が象牙細管内に深く入り込み除菌効果を促進し、歯髄の感染根管治療を短時間かつ安全に行うことが可能である。
[第1の実施形態]
 次に、本発明の第1の実施形態を説明する。本実施形態では、目標のUFB濃度を持つUFB含有液の生成を行うと共に、発熱素子の仕様及び制御設定に基づいて、目標生成時間を高精度に予測してユーザに通知する例について説明する。
 図12(a)は本実施形態におけるUFB生成装置1Aの概略構成を示す図である。ここに示すUFB生成装置1Aは、上述の基本構成において示したものと同様に、前処理装置100、溶解ユニット200、T-UFB生成ユニット300、後処理ユニット400、回収ユニット500を備える。但し、本実施形態におけるUFB生成装置1Aでは、後処理ユニット400で生成されたUFB含有液を溶解ユニット200に導く還流経路420が設けられている。具体的には、後処理ユニット400の液体導出路434(図11(c)参照)において導出バルブ433の上流側に還流経路420の一端が接続され、還流経路420の他端が溶解ユニット200の溶解容器201(図3参照)に接続されている。さらに、還流経路420には、同経路420の連通、遮断を切換える循環バルブ421が設けられている。
 また、図12において、210は溶解ユニット200の気体導入路205に設けられた気体導入バルブを、211は溶解ユニット200の液体導入路204に設けられた液体導入路204に設けられた液体導入バルブ211を示している。以下の説明において、これらのバルブ210、211をまとめて導入バルブ212とも言う。導入バルブ212、導出バルブ433及び循環バルブ421は以下に説明する制御部1000によって制御される。
 なお、本実施形態では、導入バルブ212及び導出バルブ433を閉じ、循環バルブ421を開くことによって、液体経路として循環経路を構成することが可能である。すなわち、溶解ユニット200の液体を、T-UFB生成ユニット300、後処理ユニット400、及び還流経路420を経て再び溶解ユニット200へと戻す循環経路を構成することが可能である。
 図12(b)は、本実施形態におけるUFB生成装置1Aの制御系の概略構成を示す図である。図12(b)において、制御部1000は、例えば、CPU1001、ROM1002、RAM1003などを含み構成されている。CPU1001は、UFB生成装置1A全体を統括的に制御する制御手段としての機能を果たす。ROM1002はCPU1001によって実行される制御プログラムや所定のテーブルその他の固定データを格納している。RAM1003は、種々の入力データを一時的に格納する領域や、CPU1001によって処理を実行する際の作業領域等を有する。操作表示部6000は、ユーザによってUFB発生濃度やUFB生成時間等を含む種々の設定操作を行う設定手段として機能する設定部6001と、UFB含有液の生成所要時間や装置の状態表示などを行う表示手段としての表示部6002とを備える。
 制御部1000は、素子基板12に設けられた複数の発熱素子10を有する発熱部10Gの各発熱素子10の駆動を行う発熱素子駆動部(駆動手段)2000を制御する。発熱素子駆動部2000は、CPU1001からの制御信号に応じた駆動パルスを発熱部10Gに含まれる複数の発熱素子10のそれぞれに印加する。各発熱素子10は、印加された駆動パルスの電圧、周波数、パルス幅などに応じた熱を発する。
 制御部1000は、各ユニットに設けられたバルブからなるバルブ群3000の制御を行う。バルブ群3000には、前述の導入バルブ212、導出バルブ433及び循環バルブ421等を含も含まれる。さらに、制御部1000は、UFB発生装置内に設けられた各種ポンプからなるポンプ群4000及び溶解ユニット200に設けられている回転ユニット203などの制御も行う。また、基本構成において述べたように、T-UFB生成ユニット300には、生成されているUFB含有液のUFB濃度を推定するための計測を行う計測部が設けられており、ここで計測された計測値が制御部1000に入力される。なお、その他の構成は前述のUFB生成装置1と同様であり、重複説明は省略する。
 次に、図13のフローチャートに従って、第1の実施形態において実行されるUFBの生成動作を説明する。なお、以下の説明で用いる図13、図16、図18及び図20のフローチャートに示される一連の処理は、CPU1001がROM1002に記憶されているプログラムコードをRAM1003に展開し実行することにより行われる。あるいはまた、図13、図16、図18及び図20における一部または全部の機能をASICや電子回路等のハードウェアで実現してもよい。なお、各処理の説明における記号「S」は、各処理の説明におけるステップを意味する。
 まず、S101では、UFB含有液の目標UFB濃度を設定する。本実施形態においては1mL当たりのUFB個数を設定することとし、設定値としては1億個/mLとする。また、生成するUFB含有液の量は1L(リットル)とする。
 次に、S102では、UFB生成速度、すなわち、発熱素子10を駆動する1秒当たりの駆動回数である駆動周波数を設定する。本実施形態においては、UFB生成に用いる発熱素子10の総数は1万個に固定されているものとする。よって、目標UFB濃度から、発熱素子10の駆動周波数は10kHzに設定される。なお、この目標UFB濃度は、ユーザが設定部6001から設定することができる。
 次に、S103では、上記ように設定されたUFB濃度のUFB含有液を生成するための所要時間を求め、その所要時間(推定生成時間)を表示部6002に表示する。
 この推定生成時間は以下の生成条件i)、ii)に基づいて算出する。
i) 発熱素子の総数=1.0e4(=1.0×104
ii)UFB生成速度=(1.0e4)×10×(1.0e4)=1.0e9(個/秒)
 従って1億個/mLのUFB濃度のUFB含有液を1L生成するための生成時間(秒数)は、
・(1.0e8(個/mL)×1.0e3(mL))÷1.0e9(個/秒))
 =1.0e2(秒)
 =100(秒)
となる。
 よって、表示部6002には、「推定生成時間=100秒」または「00時間01分40秒」等のように表示される。ここで、推定生成時間に不満が有る場合には、改めてS101またはS102に戻って、所望の目標濃度及びUFB生成速度をユーザが設定部6001より再設定するようにしてもよい。これにより、ユーザが必要とするUFB濃度のUFB含有液を所望の生産時間で生成することが可能となり、生産精度を向上させることができる。
 図14はS103によって算出されたUFBの推定生成時間TとUFB含有液のUFB濃度との関係を示す図である。図中の点10201は、生成されるUFB含有液のUFB濃度が、目標とするUFB濃度D_tgt(=1.0e8個/mLのUFB)に、推定生成時間T_tgt(=100秒)で到達する見込みであることを示している。図14に示す直線10211は、生成時間の経過に伴ってUFB濃度が増加する推定値を示している。
 続いて、UFB生成のための準備動作を行う。まず、S104では導出バルブ433を閉じる。次に、S105では循環バルブ421を開き、S106では導入バルブ212(液体導入バルブ211及び気体導入バルブ210)を開く。液体導入バルブ211が開となることで溶解ユニット200内に前処理装置100で前処理された液体(この場合水)が導入され、溶解ユニット200内は水で充満させる。また、気体導入バルブ210が開かれることにより、溶解ユニット200は空気を導入可能な状態となる。
 溶解ユニット200では水に空気を溶解させた後、空気が溶解した水をT-UFB生成ユニット300へと送る。T-UFB生成ユニット300に送られた液体は、後処理ユニット400に送られた後、還流経路420に送られる。
 この後、S107では、還流経路420が十分に水で満たされたかを図外の液体検知センサからの検出結果に基づいて判定し、判定結果がNoであった場合には、循環流路420への水の供給を継続しつつS107の判定処理を繰り返す。そして、S107の判定結果がYeSとなった場合には、S108に進み、導入バルブ212(液体導入バルブ211及び気体導入バルブ210)を閉じる。以上によりUFB生成の準備動作が完了する。
 続いて、UFB生成処理が行われる。まず、S108では、発熱素子10によるUFB生成処理を開始する。ここでは、1万個の発熱素子10のそれぞれに、S102において設定した駆動周波数の駆動パルスを印加することにより行う。これにより、T-UFB生成ユニット300に供給されている水にUFBが発生する。このとき装置内には、溶解ユニット200からT-UFB生成ユニット300及び後処理ユニット400を経て溶解ユニット200に至る還流経路420を循環している。このため、その還流経路420内を循環している間に、T-UFB生成ユニット300で生成されたUFBが水に混入し、UFB含有液におけるUFB濃度は上昇していく。
 S109でUFBの生成を開始してから一定の時間が経過すると、S110では、還流経路420内を循環している現在のUFB含有液のUFB濃度を計測部5000によって計測する。計測部としては、拡大鏡とカメラを用いて光学的にUFB含有液のUFBの数を計数してUFB濃度を計測する計測方式や、Z電位を計測することによってUFB濃度を計測する方式等が知られているが、いずれの濃度検知方式を採るものも適用可能である。
 S111では、S110で計測されたUFB濃度がS101で設定された目標UFB濃度以上であるかを判定する。判定結果がYeSの場合にはS110へ進み、UFB生成処理を終了する。また、判定結果がNoの場合には、さらにUFB濃度を上げるために、S112に進む。
 S112では、UFB含有液のUFB濃度が目標濃度になるまでの所要時間の再計算を行い、所要時間の更新を行うと共に、更新された所要時間の表示を行う。ここでは、S103で行った所要時間の推定及び表示の処理と同様に、目標UFB濃度のUFB含有液を生成するための残りの所要時間を算出し、その残りの所要時間を表示部6002に表示する。なお、このような所要時間の更新が必要となるのは、水温・発熱素子温度・装置温度・装置外部の環境温度等、温度及び他の要因によって、UFB生成装置1Aの生成能力に若干の変動が生じるためである。
 ここで、所要時間(推定生成時間)の更新処理の具体例を説明する。一例として、UFB生成開始から約50秒の時間が経過した時点で計測したUFB濃度(1mL当たりのUFBの個数)が4.0e7個/mLであり、目標とする1.0e8個/mLに達していない場合を想定して説明を行う。
 この場合、UFB含有液の濃度を目標濃度とするためには、現在のUFB含有液に、さらに6.0e7個/mLのUFBを1L生成することが必要になる。そのための所要生成時間(秒数)は、
(0,6e8(個/mL)×1.0e3(mL))÷1.0e9(個/秒))
=0.6e2(秒)
となる。
 よって、S111の判定処理においてYesの判定がなされた場合には「推定生成時間=50秒」または「00時間00分50秒」等と表示される表示内容が、「推定生成時間=60秒」または「00時間01分00秒」等へと更新される。
 また、発熱素子温度が所定値より高い温度を示した場合には、T-UFBの生成を中止し、処理を終了する。これは、従来のUFB生成方法と異なり、装置容器の破損や水量検知センサの故障等で発熱素子上の水分が失われた場合等に発熱素子の加熱を継続すると、発熱素子および周辺部の温度が高くなり過ぎるためである。
 図15は、S112によって算出されたUFBの推定生成時間TとUFB含有液のUFB濃度との関係を示す図である。図15に示す点10301は、生成されるUFB含有液のUFB濃度が、初期の目標UFB濃度D_tgt(=1.0e8個/mL)に、推定生成時間T_tgt(=100秒)で到達する見込みであったことを示している。また、図15に示す破線10311は、生成時間の経過に伴って増加する、UFB含有液の初期推定濃度を示している。
 一方、図15に示す点10302は、生成時間T1(=50秒)が経過した時点におけるUFB濃度D2(=4.0e7個/mL)を示している。また、UFB濃度D1(=5.0e7万個/mLのUFB)は、生成時間T1(=50秒)が経過した時点における初期の推定UFB濃度を示している。
 さらに、図15に示す点10303は、上述のS112による所要時間の更新処理によって更新された推定生成時間T2(=50秒+60秒)を示す。そして、図15の一点鎖線10313が生成時間の経過に伴ってUFB濃度が増加する更新推定値を示している。
 S112において所要時間の更新・表示が行われると、UFB生成処理を継続しつつ、再びS110に戻ってUFB濃度の計測を行い、その計測されたUFB濃度の計測結果に基づきS111の判定処理を行う。そして、S111の判定結果がYeSであった場合には、S113へ進み、UFB生成処理を終了する。この後、S114において循環バルブ421を閉じると共に、S115において導出バルブ433を開く。これにより、T-UFB生成ユニット300から後処理ユニット400を経て生成されたUFB含有液は回収ユニット500へと排出される。以上により、一連のUFB含有液の生成処理は終了する。
 以上説明したように、T-UFB方式を用いた本実施形態によれば、UFBの生成する発熱素子10を何個使用し、各発熱素子10を1秒間に何回駆動するかを制御することで、UFB含有液の生成速度及びUFB濃度を高精度に制御することができる。さらに、UFB含有液の生成動作中に目標とするUFB濃度と実際のUFB濃度との差分に応じて、所望のUFB濃度のUFB含有液を所定量生成するための所要時間を高精度に推定し、その結果をユーザに通知する。従って、ユーザはUFB含有液の生成時間を正確な所要時間を把握することが可能になる。
 なお、上記実施形態では、S112において、UFB含有液の所要時間の再計算と表示とを50秒毎に行う例を示したが、実際にはさらに短い時間間隔で所要時間の再計算と表示を行うことが可能である。短い時間間隔で所要時間の再計算と表示を行うようにすることで、目標UFB濃度に達するまでの時間をより高精度に推定することが可能になる。
[第2の実施形態]
 第1の実施形態では、使用する発熱素子10の総数を一定数(第1実施形態では1万個)に固定してUFB含有液を生成する例を示した。しかし、実際には、発熱素子10は、発熱、発泡及び消泡に伴うダメージにより、発熱素子が発熱機能を喪失することが発生する場合がある。この場合、生成されるUFB量が低下するという課題が生じる。
 そこで、本実施形態では、生成されるUFB量が当初想定した生成量よりも低い場合には、その生産結果を以後の処理にフィードバックして一定の生産量を維持する制御を行う。
 以下、本実施形態により実行されるUFB含有液の生成処理を、図16のフローチャートに沿って説明する。図16において、S201~S211の処理は、図13のS101~S111の処理と同様であるため、重複説明は省略する。
 S211において計測したUFB濃度が目標UFB未満であると判定された場合(判定結果がNoであった場合)にはS212へと進み、UFB生成速度の更新を行う。このUFB生成速度の更新処理は次のように行う。
 以下の説明では、1万個の発熱素子10を用いることを想定してS203の所要時間の推定処理を行ったが、実際には、想定した発熱素子10のうち、約2千個の発熱素子が発熱機能を喪失していた場合を例に採り説明する。この場合、UFB生成速度がUFBの生成開始から約50秒経過した時点での計測UFB濃度は5千万個/mLではなく、以下のように4千万個/mLとなる。
 (実際のUFB生成濃度)
 いま、1万個の発熱素子10の中の2千個の発熱素子が発熱機能を喪失していたとすると、使用可能な発熱素子の総数は
 使用可能な発熱素子の総数=0.8e4(=0.8×104
となる。
 また、UFBの生成速度は、
 UFBの生成速度=(0.8e4)×10×(1.0e4)
             =0.8e9(個/秒)
となる。
 よって、UFBの生成開始から50秒経過した時点におけるUFB濃度は、
(0.8e9(個/秒)×50(秒)÷1.0e3(mL))
=0.4e8
となる。従って、S210では、計測結果として4千万個/mLのUFB濃度が得られることとなる。この計測結果として得られるUFB濃度は、目標UFB濃度5千万個/mL5より低いため、次のS211の判定処理ではNoの判定がなされる。
 よって、S212へ進み、以下に説明するUFB生成速度の更新処理が行われる。この更新処理は、以下のようにして行なわれる。
 (実際のUFB生成速度の算出)
 S212では、S210で計測したUFB濃度とUFBの生成開始からの経過時間(50(秒))とに基づき、これまでに行われていた実際のUFB生成速度を以下のように算出する。
 すなわち、実際のUFB生成速度は、
(4.0e7(個/mL)×1.0e3(mL))÷50(秒)=0.8e9(個/秒)
 となる。この算出結果から、当初想定していたUFB生成速度1.0e9(個/秒)に対して、実際に行われていたUFB生成速度は、2割少ない0.8e9(個/秒)であったことが判明する。
 本実施形態においては、UFB生成速度が低下する現象の要因を、発熱部10Gの中の一部の発熱素子10が発熱機能を喪失したとみなして制御を行う。よって、本実施形態では、2千個の発熱素子が発熱機能を喪失しているとして、使用する発熱素子の総数を、
 発熱素子の総数=0.8e4(=0.8×104
に更新する。
 そして、UFBの生成速度は、
 UFBの生成速度=(0.8e4)×10×(1.0e4)=0.8e9(個/秒)
に更新する。
 さらに、UFBの生成開始から50(秒)が経過した時点で生成されるUFB含有液のUFB濃度は、
 (0.8e9(個/秒)×50(秒)÷1.0e3(mL))=0.4e8
に更新する。以上の処理がS212で行われる。
 次に、S213では、所要時間の再計算と表示を行う。ここでの所要時間の再計算には、S212で更新された発熱素子総数及びUFB生成速度を用いる。
よって、残り6千万個/mL分のUFB濃度のUFB含有液を1L生成するのに必要な時間(秒数)は、
(0,6e8(個/mL)×1.0e3(mL))÷0.8e9(個/秒))
=0.75e2(秒)
となる。
 よって、表示部6002では「推定生成時間=50秒」または「00時間00分50秒」等の当初の表示内容が、「推定生成時間=75秒」または「00時間01分15秒」等の様な表示内容に更新される。
 図17はS213によって算出されたUFBの推定生成時間TとUFB含有液のUFB濃度との関係を示す図である。図17に示す点10501は、生成されるUFB含有液のUFB濃度が、初期の目標UFB濃度D_tgt(=1.0e8個/mL)に、推定生成時間T_tgt(=100秒)で到達する見込みであったことを示している。また、図17に示す破線10511が、生成時間の経過に沿って増加する、UFB含有液の初期推定濃度を示している。
 一方、図17に示す点10502は生成時間T1(=50秒)が経過した時点におけるUFB濃度D2(=6.0e7個/mL)を示している。また、UFB濃度D1(=5.0e7個/mL)は、経過時間T1(=50秒)が経過した時点における初期の推定UFB濃度を示している。
 さらに、図17に示す点10503は、上述のS213による所要時間の更新処理によって更新された推定生成時間T1(=50秒+75秒)を示す。そして、図17の一点鎖線10513が生成時間の経過に伴ってUFB濃度が増加する更新推定値を示している。
 S213において所要時間の更新・表示が行われると、UFB生成処理を継続しつつ、再びS210に戻ってUFB濃度の計測を行い、その計測されたUFB濃度の計測結果に基づきS211の判定処理を行う。そして、S211の判定結果がYeSであった場合には、S214へ進み、UFB生成処理を終了する。この後、S215において循環バルブ421を閉じると共に、S216において導出バルブ433を開く。これにより、T-UFB生成ユニット300及び後処理ユニット400で処理されたUFB含有液が回収ユニット500へと排出される。以上により、一連のUFB含有液の生成処理は終了する。
 以上説明したように、本実施形態によれば、発熱素子10の使用個数及び駆動周波数を制御するため、UFB含有液の生成速度及びUFB濃度を高精度に制御することができる。さらに、本実施形態では、UFB計測結果を用いて実際に駆動可能な発熱素子数の更新することで、実際のUFBの生成速度をより高精度に設定することができる。このため、所望のUFB濃度のUFB含有液を所望量生成するための所要時間をより高精度に推定し、通知することが可能になる。
 また、本実施形態においては、UFB含有液の生成動作において、前回のUFB含有液の生成動作で設定されたUFB生成速度を用いて、高精度にUFBの生成所要時間を推定することができる。すなわち、今回の生成動作におけるS202のUFB生成速度の設定処理において、前回のUFB含有液の生成動作のS212で更新された発熱素子の使用個数(上記の例では発熱素子総数8千個)を用いることができる。このため、今回の生成動作では、最初の所要時間の推定処理(S203の処理)において、UFB生成装置1Aの性能の変化に対応した高精度な所要時間の推定、表示を行うことができる。
 ここで、表1に本実施例において、駆動可能な発熱素子の個数に応じて目標UFB数を達成するのに必要な時間がどのように変化するかを算出した例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001

 表1から分かるように、TB-UFB方式では、装置性能を把握した結果に基づいてUFB生成するための所用時間を高精度に推定することが可能になる。
 本実施形態における所要時間の推定は、発熱素子が発熱機能を喪失するという、以後同の動作においても同様の傾向が再現される可能性の高いケースでの推定に好適である。
 また、本実施形態では、S213において、UFB含有液の所要時間の再計算と表示とを50秒毎に行う例を示したが、本実施形態においてもさらに短い時間間隔で所要時間の再計算と表示を行うことが可能である。これによれば、目標UFB濃度に達するまでの時間をより高精度に推定することが可能になる。
 また、本実施形態では、UFBの生成開始からの経過時間Tとその時点での生成UFB濃度Dとに基づいて、UFB生成速度および駆動可能な発熱素子数を推定した。しかし、より短い時間での装置性能の変動に基づいて上記推定を行うようにしてもよい。例えば、10秒単位でUFB濃度の計測を行い、50秒が経過した時点の推定には、50秒が経過した時点のUFB濃度Dと、40秒が経過した時点のUFB濃度Dとの差分を、時間差10秒で除算してUFB生成速度を推定する方法を用いてもよい。この方法は、UFB生成時間に比べて、UFB生成装置の生成能力の変動に要する時間の方が短いケースでの推定に好適である。
[第3の実施形態]
 第1及び第2の実施形態では、T-UFB方式で目標UFB濃度のUFB含有液を得るための所要時間を高精度に推定できる例を説明した。これに対し、第3の実施形態では、UFB生成速度を制御することで、実際のUFB生成時間を目標生成時間に近づけるような制御を行う。
 図18は本実施形態により実行されるUFB含有液の生成処理を示すフローチャートである。
 図18において、S301~S303の処理は、図13のS101~S103の処理と同様であるため、重複説明は省略する。
 S301では、前回のUFB含有液の生成処理においてS303で設定したUFB生成速度に基づいて、経過時間に対応するUFB進捗濃度を設定する。
 本実施例においては、UFB生成速度が1.0e8個/mLである場合を想定しており、各経過時間における進捗UFB濃度の推定値は表2に示す通りとなる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002

 図18において、S305~S312は、図13のS104~S111と同様であるため、説明を省略する。
 S312の判定処理における判定結果がNoであった場合には、S313へと進む。S313ではS311で計測したUFB濃度が、S304で設定したUFB進捗濃度と比較し、計測したUFB濃度がUFB進捗濃度に達しているかを判定する。判定結果がYeSであった場合にはS315へと進む。S315ではUFB生成速度を上昇させて、S316へと進む。
 S313における判定結果がNoであった場合には、S314へと進む。S314では、S311で計測したUFB濃度が、S304で設定したUFB進捗濃度を超過しているかを判定する。判定結果がYeSであった場合にはS316へと進む。S316ではUFB生成速度を低下させて、S317へと進む。
 S314の判定処理における判定結果がNoであった場合には、計測されたUFB濃度が推定されたUFB濃度と同一であることを意味するため、UFB生成速度を更新することなく、S317へと進む。S317では、S315またはS316で行ったUFB生成速度の更新(速度上昇または速度低下)を受けて、最新の所要時間の更新及び表示を行い、S311へと進んで処理を継続する。
 図19は、本実施形態において、計測されたUFB濃度に基づいてUFB生成速度を制御した際の、UFB生成時間Tと生成UFB濃度Dとの関係を示す図である。
S212でのUFB生成経過時間Tと生成UFB濃度Dの関係を示す図である。
 図19に示す点10701は、生成されるUFB含有液のUFB濃度が、初期目標のUFB濃度D_tgt(=1.0e8個/mL)に、推定生成時間T_tgt(=100S)で到達する見込みであったことを示している。また、図19に示す点線10711は、生成時間の経過に伴ってUFB濃度が増加する初期推定値を示している。
 ここでは、UFBの生成開始から20秒間(T1)は当初の想定通りにUFBの生成が行われ、20秒経過後に一部の発熱素子10が発熱機能を喪失してUFB生成速度が低下し、以後は発熱素子10の機能の喪失は発生しなかった例について説明する。
 図19に示す点10702は、生成時間T1(=20秒)が経過した時点におけるUFB濃度D1(=2.0e7個/mL)を示している。実線10712は生成時間に伴うUFB濃度の推定値を示している。
 また、図19に示す点10703は生成時間T2(=40秒)が経過した時点におけるUFB濃度D2(=3.6e7万個/mL)を示し、破線10713が生成時間に伴って変化(増大)するUFB濃度の計測値を示している。
 ここでUFB濃度D2は、生成時間T2(=40秒)が経過した時点におけるUFB進捗濃度(=4.0e7万個/mL)よりも小さな値であるため、S313の判定結果はYeSとなり、S315においてUFB生成速度の上昇を行う。
 生成時間T1~T2の20秒間におけるUFB濃度の増加量は1.6e7個/mL(=(3.6e7個/mL)-(2.0e7万個/mL))である。この増加量によって、駆動可能な発熱素子数が約8000万個であることが推測される。
 本実施形態では、UFB生成速度の上昇は、発熱素子10の駆動周波数を上昇させることによって行う。生成時間T2(=40秒)が経過した時点での未達成UFB量は、約4.0e6個/mL((4.0e7個/mL)-(3.6e7個/mL))である。このため、次の生成時間T2(40秒)~T3(60秒)では、初期の想定生成量に不足分を足した2400万個/mL(=(2.0e7万個/mL)+(4.0e6個/mL))を生成することとする。よって、駆動周波数を1.5倍として、15kHzとする。図19の一点鎖線10714が生成時間の経過に伴うUFB濃度推定値を示している。
 図19に示す点10704は、生成時間T3(=60秒)が経過した時点におけるUFB濃度D3(=6.0e7個/mL)を示し、一点鎖線10714が生成時間の経過に伴うUFB濃度推定値を示している。ここでUFB濃度D3は、生成時間T3(=60秒)が経過した時点でのUFB進捗濃度(=6千万個/mL)と同一の値であるため、S313及びS314の判定処理による判定結果がいずれもNoとなり、UFB生成速度を維持したまま処理を継続する。図19における一点鎖線10715が生成時間に伴って増大するUFB濃度推定値を示している。
 次に、図19に示す点10705は、生成時間T4(=80秒)が経過した時点でのUFB濃度D4(=8.4e7個/mL)を示し、一点鎖線10715が経過時間に沿ったUFB濃度推定値を示している。
 ここでUFB濃度D4は、経過時間T4(=80秒)が経過した時点でのUFB進捗濃度(=8.0e7個/mL)よりも大きな値となる。従って、S313の判定処理における判定結果はNo、S314の判定処理における判定結果はYeSとなり、S316においてUFB生成速度を低下させる。この処理は以下のようにして行なう。
 まず、生成時間T3~T4の20秒間におけるUFB濃度の増加量は2.4e7個/mL(=(8.0e7個/mL)-(6.0e7個/mL))である。この増加量から、稼働発熱素子数が約8.0e7個であることが推測される。
 本実施形態では、UFB生成速度の低下は発熱素子10の駆動周波数を低下させることによって行う。生成時間T4(=80秒)が経過した時点で、超過したUFB量は、約4.0e6個/mL(=(8.4e7個/mL)-(8.0e7個/mL))である。このため、次の生成時間T4(80秒)~T_tgt(100秒)の間では、初期の想定生成量から超過分を引いた1.6e7個/mL(=(2.0e7個/mL)-(4.0e6個/mL)を生成することとする。よって、発熱素子10の駆動周波数を1.0倍にして、10kHzとする。図19に示す二点鎖線10716が経過時間に沿ったUFB濃度推定値を示している。
 このような制御を行うことにより、UFB濃度推定値は最終的に図19の点10701に示す値に達する。この点10701は経過時間T_tgt(100秒)におけるUFB進捗濃度D_tgt(=1.0e8個/mL)を示している。
 図18のS312の判定処理による判定結果がYeSとなると、S318でUFB生成を終了する。この後、S215において循環バルブ421を閉じると共に、S216において導出バルブ433を開き、生成されたUFB含有液を回収ユニット500へと排出する。以上により、一連のUFB含有液の生成処理は終了する。
 このように、本実施形態によれば、UFB濃度を計測することによってUFB生成速度を推定することが可能になると共に、UFB濃度の計測結果に基づいて発熱素子による生成速度を制御する。このため、実際のUFB生成時間を目標時間に近づけることができ、UFB濃度の制御及び所要時間の推定をより高精度に行うことが可能になる。
 なお、本実施形態では、発熱素子10の駆動周波数を制御することによってS315及びS316におけるUFB生成速度を制御する例を示した。しかし、UFB生成速度の制御方法は、駆動周波数の制御する方法に限定されるものではなく、他の制御方法を用いてもよいし、複数の制御方法を組み合わせてもよい。
 ここで、表3に、使用する駆動可能な発熱素子数とUFB生成速度との組み合わせ例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003

 一般に、駆動可能な発熱素子の数は、UFBの生成動作に伴って発熱素子の発熱機能の喪失により減少する傾向がある。このため、最初に1万個の発熱素子のうち、8千個の発熱素子のみを使用する条件を初期設定としておくことも有効である。例えば、S315においてUFB生成速度を上昇させるときには9千個の発熱素子を使用し、さらにUFB生成速度を上昇させるときには、1万個の発熱素子を使用するようにする。また、S316によるUFB生成速度を低下させるとき7千個の発熱素子を使用し、さらにUFB生成速度を低下させる場合には、6千個の発熱素子10を使用するようにする。このように使用する発熱素子の数によってUFBの生成速度を調整することも可能である。なお、このような制御を行う場合には、初期設定する発熱素子の組み合わせを、UFBの生成動作毎に順次変更するようにすれば、発熱素子の消耗を均一化することが可能になり、発熱素子の高寿命化を図ることが可能になる。
 また表4に、発熱素子の1秒当たりの駆動回数(駆動周波数)とUFB生成速度との組み合わせの例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004

 発熱素子の駆動周波数を制御することによってUFB生成数を制御可能であることが上記表4からも明らかである。
 さらに表5に、発熱素子の駆動周波数と発熱素子数との組み合わせによって、UFB生成速度(1秒あたりのUFB発生数)を一定に保つ例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005

 上記表5に示すように、駆動する発熱素子の数に伴って、発熱素子の駆動周波数を制御することにより、UFBの発生数を一定に保つことが可能になる。すなわち、使用可能な発熱素子が比較的多い場合には、各発熱素子の駆動周波数を下げ、使用可能な発熱素子が比較的少ない場合には、各発熱素子の駆動周波数を高めるようにする。これにより、使用可能な発熱素子の数に変化が生じた場合にも、一定のUFBの発生数を得ることが可能になる。なお、このような制御を行う場合には、駆動可能な発熱素子数を別途検知するようにすれば、適切な駆動周波数を設定することが可能になる。駆動可能な発熱素子の検知方法としては、発熱素子を駆動した際に発生する熱を検出する方法、発泡・消泡に伴う音を検出する方法等、種々の方法を採用することが可能である。
[第4の実施形態]
 T-UFB方式を用いた上記各実施形態では、生成するUFB含有液の濃度を目標とするUFB濃度に高精度に近づけることが可能である。このため、UFB含有液の目標UFB濃度の設定が高すぎる場合にも、その設定値に従って高濃度のUFB含有液が生成されてしまうことが懸念される。そこで、本実施形態におけるUFB含有液の生成装置は、ユーザが高すぎる目標UFB濃度を設定してしまった場合には、UFB濃度を適切な濃度に制限する機能を備える。
 このような濃度制限機能を設ける理由は、T-UFB方式を用いる上記実施形態のUFB含有液の生成装置では、飽和溶解度を超えて気体を液体(例えば水)内に保持することが可能であることによる。上記実施形態に示す装置では、生成時間を長くすればするだけUFB濃度を向上させることができ、その結果、これまでに存在しないような高濃度のガスを保持したUFB含有液を生成することが可能である。前述のようにUFB濃度の高いUFB含有液には、種々の有効性があるが、過剰な濃度のUFBには効果を低減する可能性もあり、以下に説明する濃度制限機能によって適切なUFB濃度に制限することが好ましい。
 図20は本実施形態により実行されるUFB含有液の生成処理を示すフローチャートである。
 図20において、S401~S410は図13のS101~S110と同様であり、S412~S416は図13のS111~S115と同様であるため、重複説明は省略する。
 S400では、過剰なUFB濃度の生成を許容しないように、上限UFB濃度を設定する。この上限UFB濃度の設定処理は、予めRAMなどに格納されている上限UFB濃度を読み出すことによって行う。あるいは、予め定めた複数種類の上限値の中からユーザが指定した上限値を設定するようにすることも可能である。
 S411では、S410で計測した計測UFB濃度がS400で設定した上限UFB濃度以上であるかを判定する。判定結果がNoの場合には、S412へと進み、処理を継続する。また、S411の判定処理における判定結果がYeSの場合には、S417へ進む。S417では、モニタや警告灯を用いてユーザに対して警告を通知する。音を発したり、ネットワーク経由で他の装置に警告を通知したりする方式でもよい。その後はS414~S416の処理を行う。この処理は図13のS113~S115の処理と同様である。
 S400で設定する上限UFB濃度は、UFBとして生成する気体の種類によって設定することが好ましい。また、S400で上限UFB濃度を設定する代わりに、S401で行う目標UFB濃度の設定処理において、設定された濃度が上限UFB濃度を超える場合に警告を通知し、その目標UFB濃度の設定を許可しない方式を採ることも可能である。
 このように本実施形態では、上限UFB濃度を設定し、その上限UFB濃度を超えるUFB濃度を検出した場合に警告を通知し、UFBの生成を停止させる。これにより、T-UFB方式による高すぎるUFB濃度のUFB含有液が製造されることを未然に防ぐことが可能になる。なお、上限UFB濃度は、作成したUFB含有液の濃度、作業環境およびUFB含有液の使用環境等に応じて適切に設定されることが好ましい。
[第5の実施形態]
 次に、本発明に係るUFB生成装置の第5の実施形態を説明する。
 上述の第1~第4の実施形態におけるT-UFB方式によるUFB含有液生成装置では、回収ユニット500に貯留したUFB含有液を何らかの密閉容器に収納し、使用場所にUFB含有液を移送してから実際に使用する、というユースケースを想定していた。しかし、本発明は、上記のようなユースケースへの適用に限定されるものではない。例えば、液体経路から供給された液体内にT-UFB方式でUFBを生成し、生成されたUFB含有液をそのまま所定の使用位置へと排出するといったユースケースにも本発明は適用可能である。以下、このようなユースケースに本発明を適用したT-UFB生成装置として、浄水器として使用されるT-UFB生成装置と、洗濯機に使用されるT-UFB生成装置を例に採り説明する。
<浄水器として使用されるT-UFB生成装置>
 図21は、浄水器として使用されるT-UFB生成装置を模式的に示す図である。
図21において、T-UFB生成装置700は、水道の蛇口の先に装着するT-UFB生成ユニット711(以下、単にユニットともいう)を有し、水道の蛇口からユニット711に流入した水(液体)に対してUFBを付与することにより水道水の浄化を行う。ユニット711には、水の有無を検知する液体検知センサ(液体検出手段)7111と、水流の速さを検出する流速センサ(流速検知手段)7112と、内部に流入した水に対してT-UFBを生成する発熱部7113とが互いに近接して設けられている。さらに、ユニット711には発熱部7113の駆動を制御する制御部713が設けられている。
 また、ユニット711の外面には、T-UFBの動作を設定する操作表示部712が設けられている。操作表示部712には、OFF設定ボタン7121、LOW設定ボタン7122、HIGH設定ボタン7123が設けられている。ここで、OFF設定ボタンは、UFBの生成停止を指示するためのボタンであり、LOW設定ボタン7122は、相対的に低濃度のUFBの生成を指示するためのボタンである。また、HIGH設定ボタン7123は、相対的に高濃度のUFBの生成を指示するためのボタンである。これらのボタンを押下することにより、各ボタンから制御部713へと指示が出され、その指示に従って制御部713が発熱部7113を駆動させる不図示の駆動部を制御する。
 また、本例では各ボタン7121、7122、7123の内部に不図示の発光素子が内蔵されている。各ボタンに内蔵された発光素子は、ボタンが有効な状態にあるとき制御部713の駆動制御によって発光し、ユーザにボタン操作の状況を通知することができる。また、液体検知センサ7111及び流速センサ7112は、いずれも前述のCPU714に接続されており、各センサによる検出信号はCPU714に入力される。
 なお、図21において、7013は水道設備の配管部7013を示している。配管部7013には、不図示のバルブが設けられており、バルブの開度を調整することによってUFB生成ユニット711への水道水の供給、停止、及び供給量の調整を行うことが可能である。なお、水道水は、配管部7013内を矢印7014及び7015に示す方向に沿って流動する。
 次に、本例における動作を図22に示すフローチャートに従って説明する。なお、以下の説明で用いる図22のフローチャートに示される一連の処理は、CPUがROMに記憶されているプログラムコードをRAMに展開し実行することにより行われる。あるいはまた、図22における一部または全部の機能をASICや電子回路等のハードウェアで実現してもよい。なお、各処理の説明における記号「S」は、各処理の説明におけるステップを意味する。
 S501では、まず液体検知センサ7111が水の有無を検知する。ここで、水道水が供給停止状態であれば、液体検知センサ7111の検知結果は「水無し」となり、水道水が供給されている場合には、液体検知センサ7111の検知結果は「水有り」となる。検知結果が水無しの場合にはS501の処理を繰り返す。また、S501の検知結果が「水有り」の場合にはS502へ進む。
 S502では、流速センサ7112がUFB生成ユニット711に供給される水の流速を検知する。流速センサ7112は、水車やバネを用いた機構的な検知方式を採るものでも、圧力を利用した電気的な検知方法を採るものでもよい。
 S503では、流速センサ7112で検出した流速が、実質的に供給停止状態であるか否かを検出する。ユーザが水道の利用を停止すべくバルブを閉じた場合には、流速センサ7112の検出結果は、「供給停止」となる。そこで、検知結果が供給停止の場合にはS508へと進み、発熱部7113によるUFBの生成を終了して一連の処理を終了する。また、検知結果が供給停止ではない場合にはS504へと進む。
 S504では目標UFB濃度の設定を行う。ここでは、図21に示す操作表示部712による設定に基づいて濃度設定を行う。本例においては、最後に押下されたボタンがいずれかによって目標UFB濃度を以下のように設定する。
 ・OFF設定ボタン7121が最後に押下→目標UFB濃度=0
 ・LOW設定ボタン7122が最後に押下→目標UFB濃度=100万個/mL
 ・HIGH設定ボタン7123が最後に押下→目標UFB濃度=200万個/mL
 次に、S505ではUFB生成速度の設定を行う。UFB生成速度は、供給される水の流速及び目標UFB濃度に応じて設定する。すなわち、目標UFB濃度を実現するためには、流速が早い程、UFB生成速度を速くすることが必要となる。
本例においては、
・発熱素子数が1000個
・1つの発熱素子を1回駆動したときに生成されるUFBの数が10個
とし、発熱素子の1秒間あたりの駆動回数(駆動周波数)を制御することで目標UFB濃度を実現する。
 表6に、各流速と操作表示部712における目標UFB生成濃度を実現するための必要UFB生成速度と、1秒間あたりの発熱部7113の駆動回数の一覧を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
 上記表6に示す駆動回数は次のようにして算出される。
 例えば、水の流速が10(mL/秒)であり、目標UFB濃度がLOW:100万(個/mL)である場合、UFB生成装置700は1秒間に
    10(mL/秒)×100万(個/mL)=1000万(個/秒)
のUFB生成速度が必要となる。
 発熱部7113を1回駆動することにより、
    1000×10=1万(個/駆動回数)
のUFBが生成されるので、必要UFB生成速度を実現するために1秒間に発熱部7113を駆動すべき回数は、
1000万(個/秒)÷1万(個/駆動回数)=1000(駆動回数/秒)
となる。
 S506では、S505において設定されたUFB生成速度に従ってUFBの生成を実行する。また、S506ではUFB生成状況の表示を行い、S502に戻る。以後、S503の判定結果が「供給停止」となるまで、S502~S507の処理を継続する。
 上述したように、操作表示部712は各ボタン7121、7122、7123の内部に発光素子を内蔵されている。S507ではこれらのボタン7121、7122、7123のうち、選択されているボタンが緑色に点滅することでUFB生成中であることを示すようになっている。また、供給される水の流量が多すぎて目標UFB濃度が実現できない状況においては、選択されているボタンが赤色に点滅し、ユーザに流速を低下させる等の対応を促すようになっている。
 ユーザが流速を低下させた場合には、次のS502において低下させた流速が検知され、S506において低下させた流速に基づくUFB生成速度の再設定が行われる。そして、目標UFB濃度が実現出来る状況になれば、選択したボタンの発光色が緑色に変更される。
 また、HIGH設定ボタン7123からLOW設定ボタン7122へと選択されるボタンが変更された場合には、S506において、低下させた目標UFB濃度に基づいてUFB生成速度の再設定が行われる。
 また、ボタンの発光色が緑色の状態において、ユーザが流速を増加させた場合や、目標UFB濃度を増加させた場合には、S506におけるUFB生成速度の再設定によって、ボタンの発光色が赤色に変わる場合もある。
 表7に、1秒間あたりの発熱部7113の駆動回数の上限が4000回である場合に、各流速と、操作表示部712の設定に伴う1秒間あたりの実際の発熱部7113の駆動回数(実駆動回数)と、ボタンの発光色との関係の一覧を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
 ユーザがLOW設定ボタン7122を押下し、目標UFB濃度をLOW(100万個/mL)とした場合、流速が40mL/秒までは目標UFB濃度を実現することが可能である。このため、流速センサ7112によって検出される流速が40mL/秒以下である場合には、CPU714は、実駆動回数を必要駆動回数に設定し、LOW設定ボタン7122の発光色を緑色とする制御を行う。しかし、流速が40mL/秒を超える場合には、上限の4000回/秒を超える駆動回数が必要となる。このため、流速センサ7112によって検出される流速が40mL/秒を超える場合には、CPU714は、実駆動回数を上限の4000回/秒と設定し、LOW設定ボタン7122の発光色を赤色とする制御を行う。
 また、ユーザがHIGH設定ボタン7123を押下し、目標UFB濃度をHIGH(200万個/mL)とした場合、流速が20mL/秒までは目標UFB濃度を実現することが可能である。このため、流速センサ7112によって検出される流速が20mL/秒以下である場合には、CPU714は、実駆動回数を必要駆動回数に設定し、HIGH設定ボタン7123の発光色を緑色とする制御を行う。しかし、流速が20mL/秒を超える場合には、上限の4000回/秒を超える駆動回数が必要となる。このため、流速センサ7112によって検出される流速が20mL/秒を越える場合には、CPU714は、実駆動回数を上限の4000回/秒と設定し、HIGH設定ボタン7123の発光色を赤色とする。
 OFF設定ボタン7121が押下され、UFBの生成がOFFに設定された場合には、UFBの生成がOFF状態にあることをユーザに明示するために、OFF設定ボタン7121の発光色を白色とする。
 このように本例では、所望のUFB濃度のUFB含有液が生成できているか否か、及びUFBが生成されているか否かを、ユーザはボタンの発光色によって視覚的に把握することが可能になる。
 また、本例では、ボタンに内蔵された発光素子でユーザに装置の駆動状況を通知するようにしたが、操作表示部712に対し、より情報量の多い表示を可能とする表示手段を設けることも可能である。例えば液晶ディスプレイや有機ELディスプレイ等を操作表示部712に設け、実際のUFB生成濃度等の情報を表示するようにしてもよい。
さらに、UFB生成ユニット711に不図示の通信部を搭載し、スマートフォン等の外部機器に対して上記実際のUFB生成濃度等の情報を送信して、外部機器側で表示させることも可能である。
 以上のように、本例では、流速に応じてUFB生成速度を設定することにより、所望のUFB濃度を有するUFB含有液をユーザに提供することが可能である。さらに、設定されている流速またはUFB濃度によっては、所望のUFB濃度を実現できない場合もあるが、そのような場合には、実現不能な状態にあることを動的にユーザに通知することができる。
 また、本例では、OFFボタンを押下して発熱部7113におけるUFBの発生を停止させることによって、供給される液体自体(ここでは水道水)をそのまま流出させることができる。本例では、UFBを生成する場合と、UFBを生成しない場合とで液体の流路を変更する必要がなく、液体の流動も継続して維持することが可能である。従って、流路構成を単純化することができ、装置の小型化、及び低コスト化を図ることができる。これに対し、ベンチュリー管などを用いた従来のUFB生成装置では、液体の流動を維持しつつ、UFBを含有しない液体とUFB含有液との切り換えを行い得るようにするためには、少なくとも2つの経路とそれらを切り換える弁等が必要となる。すなわち、UFB生成部を通過する経路とUFB生成部を通過しないバイパス流路とそれらの経路を選択的に切り換える弁が必要となり、本例に比べて装置が大型化すると共にコストの増大を招くこととなる。
 また、本例ではUFB含有液の殺菌効果に着目し、高いUFB濃度が得られるT-UFB生成装置によって浄水器を構成した例を示した。しかし、本発明に係るT-UFB生成装置は、浄水器に限らず、変動する流速または所望のUFB濃度に対して、UFB生成速度を変調することが必要となる他のUFB生成装置への適用も有効である。
<洗濯機に搭載されるT-UFB生成装置>
 次に、洗濯機に搭載されるT-UFB生成装置について説明する。洗濯機に搭載されるT-UFB生成装置においても、供給される水に対して所定のUFB濃度のUFBを安定的に供給する構成は、図21に示したT-UFB生成装置700と同様である。但し、本例におけるT-UFB生成装置800においては、洗濯機固有の機能に適合するUFB含有液を生成することが求められる。洗濯機固有の機能としては、例えば、
 洗濯:衣類に付着した汚れ等を除去する。
槽洗浄:洗濯槽に付着した黒カビ等を除去する。
 などがある。従って、これらの機能に応じたUFB濃度のUFB含有液をT-UFB生成装置から供給し、洗濯機の各機能の向上を図る。以下、図23及び図24を参照しつつ洗濯機に用いるT-UFB生成装置の構成及び動作を説明する。
 図23に示す洗濯機8000は、水供給側にT-UFB生成装置800を備え、ここで生成したUFB含有液を用いて衣類の洗濯や洗濯槽内の洗浄などを行う。この洗濯機8000の洗濯機本体8300には、洗濯槽8301が設けられている。洗濯槽8301は、給水経路8303に連結された後述のT-UFB生成装置800と、洗濯槽8301内の水を外部へと排出する排水経路8305とに連結されている。さらに、洗濯槽8301は、T-UFB生成装置800との間で水を循環させるための還流経路8304に連結されており、還流経路8304の排出口には異物を除去するフィルタ8302が設けられている。なお、図中の矢印8307~8309は、各経路における水流の流れの方向を示している。
 洗濯機本体8300には、前述の給水経路8303に接続されたT-UFB生成装置800が設けられている。T-UFB生成装置800は、水の有無を検知する液体検知センサ8111、流速センサ(流速検知手段)8112、及びT-UFBを生成する発熱部8113などを有している。発熱部8113は、多数の発熱素子を含み構成されている。
 また、洗濯機本体8300には、T-UFBの動作を設定する操作表示部832が設けられている。この操作表示部832には、洗濯機8000に電源を投入するための電源ボタン8321の他、洗濯機で行い得る種々の動作を指示するためのボタンが設けられている。ここでは、洗濯を指示する洗濯ボタン8322、すすぎを指示するすすぎボタン8323、脱水を指示する脱水ボタン8325、乾燥を指示する乾燥ボタン8325及び洗濯槽8301の洗浄を指示する槽洗浄ボタン8326などが設けられている。
 さらに、洗濯機本体8300には、洗濯機8000及びT-UFB生成装置800の動作を制御する制御部813が設けられている。制御部813は、洗濯機8000の各駆動部及びT-UFB生成装置800等を統括的に制御するCPU814と、ROM815、及びRAM816などを含み構成されており、本体部830に搭載されている。制御部813は、前述の各ボタン8321~8326から出された指示等に従って各部の動作を制御する。
 次に、本実施例における動作を図24に示すフローチャートに従って説明する。なお、以下の説明で用いる図24のフローチャートに示される一連の処理は、CPU814がROM815に記憶されているプログラムコードをRAM816に展開し実行することにより行われる。あるいはまた、図24における一部または全部の機能をASICや電子回路等のハードウェアで実現してもよい。なお、各処理の説明における記号「S」は、各処理の説明におけるステップを意味する。
 操作表示部832の電源ボタン8321が押下され、洗濯機8000に電源が投入されると、CPU814は、洗濯ボタン8322が押圧されたかを判定する(S601)。ここで、判定結果がYeSであれば、洗濯時におけるUFB生成用の駆動条件を設定する処理S603~S605へ進む。この設定処理において、S603では洗濯用の流速の設定を行い、S604では洗濯用のUFB濃度の設定を行い、S605では洗濯用のUFB生成用速度の設定を行う。
 また、S601の判定処理における判定結果がNoであればS602へ進む。S602では、槽洗浄ボタン8326が押下されたかを判定し、判定結果がNoであればS601の判定処理に戻り、判定結果がYeSであれば、槽洗浄時におけるUFB生成用の駆動条件を設定する処理S606~S608へ進む。この設定処理において、S606では槽洗浄用の流速の設定を行い、S607では槽洗浄用のUFB濃度の設定を行い、S608では槽洗浄用のUFB生成用速度の設定を行う。
 このように、本実施例では、操作表示部832に設けられたボタンのうち、洗濯ボタン8322が押下された場合と、槽洗浄ボタン8326が押下された場合とで、UFB生成時の駆動条件の切り換えを行う。
 駆動条件の切り換えについて具体的に説明すると、例えば
洗濯:UFB濃度上限  100万(個/mL)
槽洗浄:UFB濃度下限 1000万(個/mL)
という制御が必要となる。すなわち、洗濯の場合には汚れ等を除去すると同時に、衣類へのダメージを避けるために所定のUFB濃度を上限とする必要がある。これに対して、槽洗浄の場合には衣類へのダメージを考慮する必要がないことから、黒カビ等を除去するために必要とされる比較的高濃度のUFBを確実に生成することが好ましい。
 本実施例の洗濯機8000に搭載されているT-UFB生成装置800は、以下のような性能を有する。
 ・発熱部に設けられている発熱素子数:      10000個
 ・1個の発熱素子を1回駆動した際のUFBの生成数:  10個
 ・各発熱素子の上限駆動回数/秒:       4000回/秒
 上記性能において、通常洗濯と槽洗浄のそれぞれについて給水経路8303から供給される水の流速と各発熱素子の駆動回数との関係を表8に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008

 表8に示すように、通常洗濯の場合には、流速40mL/秒であっても、流速400mL/秒であっても、必要UFB濃度を生成することが可能である。
 一方、槽洗浄の場合にも、流速40mL/秒のときには必要UFB濃度を生成することが可能である。しかし、流速400mL/秒のときには、1秒間あたりの発熱素子の駆動回数が40000回・秒必要となり、上限の4000回/秒を超過してしまい、必要UFB濃度のUFB含有液を生成することができない。そこで、
・通常洗濯時の流速:400mL/秒(40LのUFB含有液の供給に約 100秒)
・槽洗浄時の流速 : 40mL/秒(40LのUFB含有液の供給に約1000秒)
というように、流速を制御することで、通常洗濯時と槽洗浄時のいずれにおいても、必要なUFB濃度を実現することができる。
 以上のように、本例では、洗濯時と槽洗浄時とで異なる駆動条件を設定し、それぞれの駆動条件に従って、S609~S613の処理を実行する。すなわち、S609では、液体検知センサ8111の検出結果に基づいて、T-UFB生成装置800に水の供給が行われたかを判定し、判定結果がYeSである場合にはS610へと進み、Noである場合には判定処理を継続する。S610では、S603~S605の設定処理または、S606~S608の設定処理によって設定された駆動条件に従ってUFB生成動作を実行する。そしてUFB生成状況を操作表示部832に設けた表示部8327に表示する。この後、S612において、流速センサ8112の検出結果に基づいて水の供給が停止したかを判定し、判定結果がNoであれば判定処理を継続し、判定結果がYeSであれば一連のUFBの生成処理を終了する。
 本例では、流速を制御することで通常洗濯時と槽洗浄時のそれぞれにおいて必要とされるUFB濃度を生成する例を示した。しかし、槽洗浄時の流速を通常洗濯時の流速から変更せず、水を循環させることによってUFB濃度を向上させる方法を採ることも可能である。
 また、洗濯槽8301への水の充填速度を重視する場合には、通常洗濯時と槽洗浄時のいずれにおいても、水の流速を目標UFB濃度とUFB生成能力とから算出される流速以上に水の流速を設定した上で、水を循環させるようにしてもよい。これによっても、実際のUFB濃度を向上させることができる。
[第6の実施形態]
 次に、本発明の第6の実施形態におけるUFB生成装置を説明する。本実施形態は、液体貯留容器に貯留された液体内にUFBを生成し、所望のUFB濃度のUFB含有液を生成することが可能なT-UFB生成装置を備えるものである。
 図25は、本実施形態におけるT-UFB生成装置700A~700Eが配置された液体貯留容器900を模式的に示す縦断側面図である。なお、図中、Zは鉛直方向を示し、Hは水平方向を示している。液体貯留容器900は、液体を貯留可能な空間をなす貯留室901が形成されている。貯留室901は、多面形状を有している。本実施形態では、底面911、上面912、4つの側面(左側面913、右側面914、後側面915、前側面(図示せず))、左斜面917及び右斜面918の8つの内面によって形成されている。底面911及び上面912は、液体貯留容器900を水平面上に設置した状態で、水平面と略平行するように形成されている。また、貯留室901には、図外の供給口から所定の液体(例えば、水)が供給され、一定量が供給された後は、供給口を閉塞状態に保ち得るように構成されている。
 貯留室901内には、底面911と、左右両側面913、914と、左右両斜面917、918のそれぞれに沿ってT-UFB生成装置700Aが配置されている。すなわち、貯留室901には、合計5つのT-UFB生成装置700A~700Eが配置されている。各T-UFB生成装置700A~700Eには、いずれも前述の図21に示したT-UFB生成装置700と同様に、液体検知センサ7111、流速センサ7112、発熱部7113が互いに近接する位置に設けられている。各センサ7111、7112及び発熱部7113は貯留室901内に貯留された液体と接触可能な状態に配置されている。なお、T-UFB生成装置700A~700Eは、いずれも不図示の制御部に接続されており、制御部によって発熱部7113の各発熱素子の駆動が制御される。
 上記構成を有する液体貯留容器900では、5つの各T-UFB生成装置700A~700Eの各々の液体検知センサ7111が水の有無を検知する。貯留室901に水が供給されると、まず、底面911に配置されたT-UFB生成装置700Aの液体検知センサ7111が水を検知し、検知信号を制御部に送信する。検知信号を受けた制御部は、T-UFB生成装置700Aの発熱部7113を駆動し、UFBを発生させる。
 その後、貯留室901に供給される水の液面が上昇すると、左右両側面913、914に配置されたT-UFB生成装置700B、700Cのそれぞれの液体検知センサ7111に水が接触し、各センサから検知信号が出力される。この検知信号を受けた制御部は左右両側面に配置したT-UFB生成装置700B、700Cの発熱部7113を駆動する。これにより、T-UFB生成装置700A~700Cのそれぞれの発熱部7113からUFBが発生する。
 その後、さらに水の液面が上昇すると、左右両斜面917、918に配置されたT-UFB生成装置700D、700Eの各々の液体検知センサ7111に水が接触する。その結果、各センサ7111、7112から検知信号を受けた制御部が、各T-UFB生成装置700D、700Eの各々の発熱部7113を駆動する。これにより、全てのT-UFB生成装置700A~700Eの発熱部7113からUFBが発生する。その後、各発熱部7113の駆動を継続することによって貯留室901内の水のUFB濃度は上昇していく。
 また、本実施形態におけるT-UFB生成装置700A~700Eでは、T-UFBの生成を行うに際し、発熱部7113の近傍の水は過熱されて温度が上昇する。この温度上昇した相対的に高温の水は密度が低下するため、矢印9301~9305に示すように上方へと対流し、相対的に低温の水は下側へと対流する。
 このように、本実施形態によれば、UFB含有液の生成に伴って貯留室901内の液体が自然に対流するため、貯留室901内に水を攪拌するための専用の機構を設けなくとも、均一なUFB濃度が得られる。このため、装置の簡略化、小型化、及び低コスト化を実現することができる。
 本実施形態における水の対流は、図25に示すような位置にT-UFB生成装置を配置することによって生じる。すなわち、本実施形態では、上面912を除いた面にT-UFB生成装置を配置しており、これによって上述のような水の対流を発生させることが可能になっている。
 これに対し、仮に液体貯留容器900の上面部にT-UFB生成装置を配置し、水平な状態の発熱部から略真下に向けてUFBを生成するようにした場合には、高温の水が対流せず、発熱素子近傍に留まり、UFBの生成効率が低下する。これは、
 ・水温が高温になることにより、飽和溶解度が下がる
 ・気体が析出するきっかけとなるUFBを含む泡が既に存在している
 などの状態が発生することによる。換言すれば、従来のベンチュリー方式のUFB生成原理に類するようなUFB生成状態が発生し、UFBの生成効率が低下することとなる。但し、T-UFB生成方式自体は機能するため、従来のUFB生成方式よりは高濃度・高効率でUFBを生成することが可能である。しかし、より効率的にUFBを生成するためには、本実施形態のように、水平に配置された発熱部の下面にはT-UFB生成装置を配置せず、水平以外の方向にT-UFB生成装置を配置して水の対流を生じさせるようにすることが好ましい。
 また、本実施形態のように、側面や傾斜面にT-UFB生成装置を設置する場合にも、対流の観点からはより下方に発熱部を配置する方が有利である。さらに、各T-UFB生成装置700A~700Eを配置する場合、図25に示すように、液体検知センサ7111が、発熱部7113よりも重力方向上方に位置するような向きで配置することが好ましい。その理由は、水が存在しない状態で発熱素子を駆動すると発熱素子が高温になり過ぎて劣化または損傷する可能性が高くなるからである。液体検知センサ7111が発熱部7113より上部に配置されていれば、水が存在する状態で発熱部7113を駆動することが可能になり、発熱部7113の寿命を向上させることができる。
[T-UFB生成装置の適用例]
 上記実施形態の説明からも明らかなように、本発明に係るT-UFB生成装置は、従来のUFB生成装置に比して、以下のような優位性を有している。
・高いUFB濃度を生成可能である
・UFB生成量及び生成速度を制御可能である
・UFB生成を制御可能であるため、生成されるUFB濃度を予測可能である
・UFBが消費された際にその分を高精度に補充することが可能である
といった優位性がある。
 そのため、以下の様な製品においても本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することで、各製品の機能を向上させることが可能になる。以下、本発明に係るT-UFB生成装置の適用例を列挙する。
<アロマディフューザー>
 アロマディフューザーに、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・来客時等の準備に向けた急速UFB生成モード
・睡眠時のための低速UFB生成モード
・アロマオイル種別に応じた適切なUFB生成速度切り換え
・大気中のUFB濃度検知器との組み合わせによる、UFB濃度の一定化
・高濃度UFBを用いたディフューザー内洗浄機能
・低濃度UFBを用いたアロマディフューズ機能
等が実現可能となる。
<シャワー>
 シャワーに、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で気体の飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度切り換え
・流速に応じたUFB生成速度の切り換え
・洗浄対象に応じたUFB濃度切り換え
・相対的高濃度UFBを用いたシャワー内洗浄機能
・相対的低濃度UFBを用いた人体洗浄機能
等が実現可能となる。
<浴室洗浄機>
 浴室洗浄機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度切り換え
・流速に応じたUFB生成速度の切り換え
・洗浄対象に応じたUFB濃度切り換え
・相対的高濃度UFBを用いたカビ取り・配管洗浄機能
・相対的低濃度UFBを用いた浴室・浴槽洗浄機能
等が実現可能となる。
<便器洗浄機>
 便器洗浄機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換え及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度の切換え
・流速に応じたUFB生成速度の切換え
・洗浄対象に応じたUFB濃度切換え
・相対的高濃度UFBを用いた水アカ取り・配管洗浄機能
・相対的低濃度UFBを用いた人体洗浄機能
等が実現可能となる。
<ウィンドウウォッシャー>
 ウィンドウウォッシャーに、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・ウィンドウウォッシャー液の温度で飽和溶解度が異なるため、液温度もしくは環境温度に応じたUFB生成速度切り換え
・ワイパー速度に応じたUFB生成速度の切り換え
・車の移動速度が速い程液は短時間でウィンドウ外に流出するため、車の移動速度に応じたUFB生成速度切り換え
・一定期間ワイピングを行わない場合にウィンドウに埃が付着するため、非ワイピング期間が長い場合にUFB濃度を高くして埃除去効率を上げる
・洗浄対象に応じたUFB濃度切り換え
 例えば、・相対的高濃度UFBを用いた水アカ取り・配管洗浄機能
     ・相対的低濃度UFBを用いた雨天時のワイピングサポート
等が実現可能となる。
<食器洗浄機>
 食器洗浄機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度切り換え
・流速に応じたUFB生成速度の切り換え
・従来の食器洗浄機では高温でしか洗浄出来なかったために、食器洗浄機が利用できなかった材質の食器も、低温水+高濃度UFBで洗浄可能となる。(例:プラスチック、塗装品等)
・硬水/軟水等の水質に応じたUFB濃度の制御
 (水アカ等の発生が多い硬水に対して相対的に高濃度なUFB生成を行い、軟水に対して相対的に低濃度なUFB生成を行う制御等)
・洗剤を用いる事が不適切な食器(材質や塗装品等)に対して、相対的に高濃度のUFB生成を行う洗剤不使用モード
・高温高濃度UFB水を用いる金属製調理器具洗浄モード
等が実現可能となる。
<コーヒーメーカー>
 コーヒーメーカーに、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度切り換え
・流速に応じたUFB生成速度の切り換え
・氷で薄めるアイスコーヒー生成時には相対的高濃度UFBを生成
・ミルクと混合するカフェオレ生成時には相対的高濃度UFBを生成
等が実現可能となる。
<高圧洗浄機>
 高圧洗浄機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度切り換え
・流速に応じたUFB生成速度の切り換え
・洗剤を用いる事が不適切な食器(材質や塗装品等)に対して、相対的に高濃度のUFB生成を行う洗剤不使用モード
・硬水/軟水等の水質に応じたUFB濃度の切換え
等が実現可能となる。
<食材洗浄機>
 食材洗浄機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度の切換え
・流速に応じたUFB生成速度の切換え
・低温高濃度UFBを用いる事で食材の変質を低減する生肉・生野菜洗浄モード
・高温高濃度UFBを用いる事で洗浄効果を優先した土洗浄モード
・高温高濃度UFBを用いる洗浄機自体の洗浄モード
等が実現可能となる。
<洗車機>
 洗車機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換え及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なるため、温度に応じたUFB生成速度切換え
・流速に応じたUFB生成速度の切換え
・洗剤を用いる事が不適切な車体(材質や塗装品等)に対して、相対的に高濃度のUFB生成を行う洗剤不使用モード
・高温高濃度UFBを用いる洗車機自体の洗浄モード
等が実現可能となる。
<医療器洗浄>
 医療器に本発明に係るT-UFB生成装置を組み込む、もしくは医療器を本発明に係るT-UFB生成装置に接続することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換え及び制御が可能になり、以下の機器への適用が可能になる。
(i)歯科医療器への適用
 ・相対的高濃度UFBによる医療器具の内部洗浄
 ・相対的低濃度UFBによる人体(口腔・歯)洗浄
(ii)手術支援ロボットへの適用
 ・相対的高濃度UFBによる手術器具の内部洗浄
 ・相対的低濃度UFBによる人体(皮膚・臓器)洗浄
 ・臓器等の保存水中等でUFB濃度が低下した際のUFB追加
(iii)内視鏡への適用
 ・相対的高濃度UFBによる内視鏡器具の内部洗浄
 ・相対的低濃度UFBによる人体(体内・臓器・血管)洗浄
 ・内視鏡の挿入時に内視鏡表面をUFB水で被覆する事による除菌・抗菌
<治療器>
 治療器に、本発明に係るT-UFB生成装置を組み込む、もしくは医療器を本発明に係るT-UFB生成装置に接続することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換え及び制御が可能になり、
・歯科(虫歯に出来たバイオフィルム除去等)用の高濃度オゾンナノバブル水の生成
・やけどの水ぶくれ用の高濃度オゾンUFB水の生成
・酸素高濃度UFBを用いることで、内視鏡などで傷ついた消化器管(大腸、小腸、胃など)の内壁の止血
・患者の年齢や性別、体調に応じたUFB濃度の生成
等への適用が可能となる。
<水道>
 水道に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、図21及び図22に示す例を含め、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・温水/冷水時で飽和溶解度が異なることによる、温度に応じたUFB生成速度切り換え
・流速に応じたUFB生成速度の切り換え
・高濃度UFBを用いた塩素無し水道
等が実現可能となる。
<貯水槽>
 アパートなどの集合住宅の屋上等に設置されている貯水槽においても、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・住民が使用し、通常水を追加することで低下したUFB濃度を所定のUFB濃度にするためのUFB追加処理
・長期保存時に低下したUFB濃度を所定のUFB濃度にするためのUFB追加処理
・高濃度UFBを用いた塩素無し貯水槽
等が実現可能となる。
<低温殺菌器>
 低温殺菌機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・日本酒および焼酎に対する低温高濃度(二酸化炭素含有)UFB水殺菌
・ワインに対する低温高濃度(窒素含有)UFB水殺菌
・菌濃度に応じた適切なUFB濃度
・醸造工程に合わせた適切なUFB濃度
等が実現可能となる。
<養魚器>
 養魚器に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・魚の種別に応じたUFB濃度
・魚の成長に応じたUFB濃度を設定する事で成長速度を制御
・幼魚器の水温に合わせたUFB生成速度制御でUFB濃度一定化
等が実現可能となる。
<食材保存水>
 食材保存水においても、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・食材の種別に応じたUFB濃度
・保存時に減少したUFB濃度を補充する形でのUFB生成速度の制御
・食材保存水の水温に合わせたUFB生成速度制御でUFB濃度一定化
等が実現可能となる。
<真珠養殖器>
 真珠養殖器に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・真珠の種別に応じたUFB濃度
・真珠の成長に応じたUFB濃度を設定することによる成長速度の制御
・真珠養殖器の水温に合わせたUFB生成速度の制御によるUFB濃度の一定化
等が実現可能となる。
<炭酸水サーバ>
 炭酸水サーバに、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・炭酸水(硬水・軟水)の種別に応じたUFB濃度
・炭酸水の流量に合わせたUFB生成速度の制御
・炭酸水の水温に合わせたUFB生成速度の制御
等が実現可能となる。
<ウェハ研磨機>
 ウェハ研磨機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・研磨水に高濃度UFBを添加
・研磨対象に応じたUFB濃度の制御
・研磨途中で減少したUFBを追加生成してUFB濃度を一定に保つ制御
等が実現可能となる。
<ウェハ上のレジスト剥離器>
 レジスト剥離器に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・インプラ工程後の難剥離レジストの除去を行うための高濃度UFBの生成
・レジストの状態(剥離難度)に応じたUFB濃度の制御
・剥離途中で減少したUFBを追加生成してUFB濃度を一定に制御
等が実現可能となる。
<部品洗浄機>
 部品洗浄機に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・プレス加工後のバリ取り(グラインダー)工程において高濃度UFBを用いたコンタミネーションを除去するための洗浄
・加工対象の材質に応じたUFB濃度の制御
・プレス加工前、加工後等の状態に応じたUFB濃度の制御
等が実現可能となる。
<建築部材のヒビ割れ修復器>
 ヒビ割れ修復器に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・二酸化炭素高濃度UFBを噴射の後に放置することで、コンクリート部材との反応により穴を埋める処理
・コンクリート部材の種別に応じたUFB濃度の制御
・コンクリート部材の製造からの経過年数に応じたUFB濃度の制御
・コンクリート部材の元々の密度に応じたUFB濃度の制御
・修復の進捗度合いに基づいてUFB濃度を増加、低下させる処理
等が実現可能となる。
<高燃焼効率自動車>
 自動車に、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・燃料中に高濃度な酸素UFB添加による燃焼効率アップ
・選択されたギアに応じたUFB濃度の制御
・燃料の温度に応じたUFB濃度の制御
・エンジンの回転数に応じたUFB濃度の制御
等が実現可能となる。
<脱色器>
 脱色器においても、本発明に係るT-UFB生成装置を搭載することにより、種々の使用状況に応じたUFB濃度やUFB生成速度の切換及び制御が可能となり、
・プールの脱色(オゾン高濃度UFB)による水の透明性の改善処理
・地下水の脱色(酸素高濃度UFB)による鉄分の酸化処理
等が実現可能となる。
本発明は、上述の実施形態の1以上の機能を実現するプログラムを、ネットワーク又は記憶媒体を介してシステム又は装置に供給し、そのシステム又は装置のコンピュータにおける1つ以上のプロセッサーがプログラムを読出し実行する処理でも実現可能である。また、1以上の機能を実現する回路(例えば、ASIC)によっても実現可能である。
本発明は上記実施の形態に制限されるものではなく、本発明の精神及び範囲から離脱することなく、様々な変更及び変形が可能である。従って、本発明の範囲を公にするために以下の請求項を添付する。
本願は、2019年2月28日提出の日本国特許出願特願2019‐036144を基礎として優先権を主張するものであり、その記載内容の全てをここに援用する。

Claims (21)

  1.  液体と接触する位置に配される発熱素子を有する発熱部と、
     前記発熱部を駆動し、前記液体に膜沸騰を生じさせてウルトラファインバブルを生成させる駆動手段と、
     前記駆動手段による前記発熱素子の駆動条件を制御する制御手段と、
    を備えることを特徴とするウルトラファインバブル生成装置。
  2.  前記制御手段は、前記駆動条件として、前記発熱素子の駆動周波数、前記発熱部に含まれる複数の前記発熱素子の中の駆動すべき発熱素子の数、及び発熱素子を駆動する時間の少なくとも1つを制御することを特徴とする請求項1に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  3.  前記制御手段は、前記液体に生成すべきウルトラファインバブルの数に基づいて前記駆動条件を制御することを特徴とする請求項1または2に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  4.  前記制御手段は、前記液体におけるウルトラファインバブルの目標濃度に基づいて前記駆動条件を制御することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  5.  前記制御手段は、前記液体に生成すべきウルトラファインバブルの生成速度に基づいて前記駆動条件を制御することを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  6.  前記駆動条件に基づき、所定の濃度を有するウルトラファインバブル含有液を所定量生成するための生成時間を推定する推定手段をさらに備えることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  7.  前記推定手段によって推定された前記生成時間を通知する通知手段をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  8.  前記液体のウルトラファインバブルの濃度を検出する濃度検知手段をさらに備え、
     前記推定手段は、前記駆動条件と、前記ウルトラファインバブルの生成中に前記濃度検知手段によって検出されたウルトラファインバブルの濃度と、に基づいて前記生成時間を更新し、
     前記通知手段は、前記推定手段によって更新された前記生成時間を通知することを特徴とする請求項7に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  9.  前記制御手段は、前記発熱部に設けられている前記発熱素子の駆動を停止させることにより、ウルトラファインバブルの生成を停止させることが可能であることを特徴とする請求項1ないし7のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  10.  前記発熱部は、所定の液体経路を流動する液体と接触する位置に配されていることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  11.  前記液体経路は、前記発熱部と接触する位置を通過する循環流路によって形成されていることを特徴とする請求項10に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  12.  前記液体経路は、前記発熱部に接触した液体を所定の使用位置へと流出させることを特徴とする請求項10に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  13.  前記発熱部と接触する液体の流速を検出する流速検知手段をさらに備え、
     前記制御手段は、前記流速検知手段によって検出された流速と、前記液体におけるウルトラファインバブルの濃度とに基づき、前記駆動条件を制御することを特徴とする請求項10ないし12のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  14.  前記発熱部は、液体貯留容器の貯留室に貯留される液体と接触する位置に配置されていることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  15.  前記発熱部は、前記貯留室の底面と側面の少なくとも1つに設けられ、前記発熱素子によって発生した熱により、前記貯留室に貯留されている液体を対流させることを特徴とする請求項14に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  16.  前記発熱部より重力方向上方で近接する位置に液体を検知する液体検知手段をさらに有し、
     前記制御手段は、前記液体検知手段によって液体が検知された後、前記発熱部に設けられている発熱素子の駆動を行うことを特徴とする請求項14または15に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  17.  前記液体経路は、水道設備の配管部であることを特徴とする請求項12または13に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  18.  前記液体経路は、洗濯機の洗濯槽への給水を行う給水経路であることを特徴とする請求項12または13に記載のウルトラファインバブル生成装置。
  19.  発熱部に含まれる発熱素子を駆動して当該発熱素子に接する液体に膜沸騰を生じさせるウルトラファインバブルの生成方法であって、
     前記発熱素子の駆動条件を制御することによって前記ウルトラファインバブルの生成を制御することを特徴とするウルトラファインバブル生成方法。
  20.  請求項1ないし18のいずれか1項に記載のウルトラファインバブル生成装置によって生成されたウルトラファインバブルを含有するウルトラファインバブル含有液。
  21.  発熱部に含まれる発熱素子を駆動して当該発熱素子に接する液体に膜沸騰を生じさせるウルトラファインバブルの生成方法を、コンピュータに実行させるためのプログラムであって、
     前記生成方法は、
     前記発熱素子の駆動条件を制御することによって前記ウルトラファインバブルの生成を制御することを特徴とするプログラム。
PCT/JP2019/050972 2019-02-28 2019-12-25 ウルトラファインバブル生成装置、ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル含有液、及びプログラム WO2020174867A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201980093264.7A CN113490545B (zh) 2019-02-28 2019-12-25 超微泡产生设备、超微泡产生方法、含超微泡液体和存储介质
US17/407,932 US20210379547A1 (en) 2019-02-28 2021-08-20 Ultrafine bubble generating apparatus, ultrafine bubble generating method, ultrafine bubble-containing liquid, and storage medium

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019-036144 2019-02-28
JP2019036144A JP7204531B2 (ja) 2019-02-28 2019-02-28 ウルトラファインバブル生成装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US17/407,932 Continuation US20210379547A1 (en) 2019-02-28 2021-08-20 Ultrafine bubble generating apparatus, ultrafine bubble generating method, ultrafine bubble-containing liquid, and storage medium

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2020174867A1 true WO2020174867A1 (ja) 2020-09-03

Family

ID=72239475

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2019/050972 WO2020174867A1 (ja) 2019-02-28 2019-12-25 ウルトラファインバブル生成装置、ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル含有液、及びプログラム

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20210379547A1 (ja)
JP (1) JP7204531B2 (ja)
CN (1) CN113490545B (ja)
WO (1) WO2020174867A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021085637A1 (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 キヤノン株式会社 細胞の培養方法、培養液の製造方法、培養液及び培養装置

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7278801B2 (ja) * 2019-02-28 2023-05-22 キヤノン株式会社 ウルトラファインバブル生成装置、及びウルトラファインバブルの製造方法
JP2021069999A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 キヤノン株式会社 ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル含有液の製造装置および製造方法
JP2021069998A (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 キヤノン株式会社 ウルトラファインバブルを含有するウルトラファインバブル含有液を生成する生成方法、ウルトラファインバブルを含有する液体の製造装置
WO2024210082A1 (ja) * 2023-04-07 2024-10-10 株式会社ビジサー 気泡濃度調節装置、及びタンクシステム

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0139069B2 (ja) * 1980-03-10 1989-08-17 Toyota Motor Co Ltd
JP2000189946A (ja) * 1998-12-24 2000-07-11 Amano Corp 超微細気泡発生装置
JP2004053370A (ja) * 2002-07-18 2004-02-19 Canon Inc 化学分析方法および装置
JP2018126690A (ja) * 2017-02-08 2018-08-16 ビーイー電子工業株式会社 通電方式によるナノバブル発生装置
JP2019024910A (ja) * 2017-07-28 2019-02-21 東芝ライフスタイル株式会社 洗濯機
JP2019042732A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 キヤノン株式会社 ウルトラファインバブルの生成方法、ウルトラファインバブル含有液の製造装置、製造方法、およびウルトラファインバブル含有液
JP2019042664A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 キヤノン株式会社 ウルトラファインバブル含有液の製造装置および製造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3033921B2 (ja) * 1992-01-10 2000-04-17 キヤノン株式会社 記録装置
JP3376248B2 (ja) * 1996-07-12 2003-02-10 キヤノン株式会社 液体吐出装置、液体吐出システム、液体容器の組合せ、及び液体吐出制御方法
JP2001130005A (ja) * 1999-08-24 2001-05-15 Canon Inc 液体吐出ヘッドおよびその駆動方法ならびにカートリッジおよび画像形成装置
JP2008074019A (ja) * 2006-09-22 2008-04-03 Fujifilm Corp 液体吐出装置、画像形成装置、及び液体吐出方法
TWI552761B (zh) * 2013-05-03 2016-10-11 博信生物科技股份有限公司 一種脂質微/奈米氣泡、及其最佳化之製備方法及製備裝置
JP6439069B1 (ja) * 2018-04-15 2018-12-19 株式会社Polaris 水供給システム

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0139069B2 (ja) * 1980-03-10 1989-08-17 Toyota Motor Co Ltd
JP2000189946A (ja) * 1998-12-24 2000-07-11 Amano Corp 超微細気泡発生装置
JP2004053370A (ja) * 2002-07-18 2004-02-19 Canon Inc 化学分析方法および装置
JP2018126690A (ja) * 2017-02-08 2018-08-16 ビーイー電子工業株式会社 通電方式によるナノバブル発生装置
JP2019024910A (ja) * 2017-07-28 2019-02-21 東芝ライフスタイル株式会社 洗濯機
JP2019042732A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 キヤノン株式会社 ウルトラファインバブルの生成方法、ウルトラファインバブル含有液の製造装置、製造方法、およびウルトラファインバブル含有液
JP2019042664A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 キヤノン株式会社 ウルトラファインバブル含有液の製造装置および製造方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021085637A1 (ja) * 2019-10-31 2021-05-06 キヤノン株式会社 細胞の培養方法、培養液の製造方法、培養液及び培養装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP7204531B2 (ja) 2023-01-16
CN113490545A (zh) 2021-10-08
JP2020138155A (ja) 2020-09-03
US20210379547A1 (en) 2021-12-09
CN113490545B (zh) 2023-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2020174867A1 (ja) ウルトラファインバブル生成装置、ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル含有液、及びプログラム
US11179652B2 (en) Ultrafine bubble generating method, ultrafine bubble generating apparatus, and ultrafine bubble-containing liquid
JP7278801B2 (ja) ウルトラファインバブル生成装置、及びウルトラファインバブルの製造方法
JP2020138142A (ja) ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル生成装置、およびウルトラファインバブル含有液
JP7277179B2 (ja) ウルトラファインバブル生成装置
JP7277178B2 (ja) ウルトラファインバブル生成装置
US11426996B2 (en) Ultrafine bubble generating method, ultrafine bubble generating apparatus, and ultrafine bubble-containing liquid
JP7317521B2 (ja) ウルトラファインバブル生成装置およびウルトラファインバブル生成方法
JP7446844B2 (ja) ウルトラファインバブル生成装置
JP7277177B2 (ja) ウルトラファインバブル生成装置及びウルトラファインバブル生成方法
US11759756B2 (en) Ultrafine bubble-containing liquid producing apparatus and ultrafine bubble-containing liquid producing method
JP2020138163A (ja) ウルトラファインバブル生成装置およびウルトラファインバブル生成方法
US11318425B2 (en) Ultrafine bubble-containing liquid producing apparatus and ultrafine bubble-containing liquid producing method
JP7433840B2 (ja) ウルトラファインバブル含有液の作製装置、及びウルトラファインバブル含有液の作製方法
JP2021126601A (ja) Ufb含有液作製装置、及びufb含有液作製方法
JP2020142232A (ja) ウルトラファインバブル生成方法、ウルトラファインバブル生成装置、およびウルトラファインバブル含有液
JP2021069994A5 (ja)
JP2021069984A (ja) ウルトラファインバブル生成装置および素子基板の製造方法
JP7516163B2 (ja) ウルトラファインバブル含有液製造装置及びウルトラファインバブル含有液製造方法
JP2021137796A (ja) ウルトラファインバブル含有液の製造装置、製造方法、およびウルトラファインバブル含有液

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 19917097

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 19917097

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1