WO2020135113A1 - 阵列基板、触控显示面板及触控显示装置 - Google Patents

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Abstract

本公开提供一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置。该阵列基板包括：衬底，设置在衬底上多个亚像素，和设置在衬底上的多条触控信号线。每个亚像素包括开口区域和包围开口区域的像素界定区域；至少一条触控信号线在衬底上的正投影沿其延伸方向穿过对应的一个或多个开口区域在衬底上的正投影。

Description

阵列基板、触控显示面板及触控显示装置
本申请要求于2018年12月26日提交的、申请号为201811603488.1的中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本公开涉及触控显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置。
背景技术
近年来，随着显示技术的不断进步，显示装置的厚度越来越薄。对于触控显示装置而言，触控功能的实现方式直接影响着显示装置的整体厚度。
发明内容
一方面，提供一种阵列基板。该阵列基板包括衬底，设置在所述衬底上多个亚像素，和设置在所述衬底上的多条触控信号线。每个亚像素包括开口区域和包围所述开口区域的像素界定区域；至少一条触控信号线在所述衬底上的正投影沿其延伸方向穿过对应的一个或多个开口区域在所述衬底上的正投影。
在一些实施例中，阵列基板还包括设置在所述衬底上的多个触控电极。每个触控电极与所述至少一条触控信号线连接。
在一些实施例中，阵列基板还包括设置在所述衬底上的多个像素电极。所述多个像素电极位于所述多个触控电极的靠近所述衬底的一侧，且所述多条触控信号线位于所述多个像素电极的远离所述多个触控电极的一侧。
在一些实施例中，阵列基板还包括设置在所述衬底上的公共电极，所述公共电极包括相互绝缘的多个子公共电极。每个子公共电极与所述至少一条触控信号线连接。
在一些实施例中，阵列基板还包括设置在所述衬底上的多个像素电极。每个像素电极位于对应的一个开口区域内；所述多个像素电极位于所述公共电极的靠近所述衬底的一侧，且所述多条触控信号线位于所述多个像素电极的远离所述公共电极的一侧。
在一些实施例中，所述至少一条触控信号线中的每条包括相互连接的第一部分和第二部分。所述第一部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素电极在所述衬底上的正投影内；所述第二部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素界定区域在所述衬底上的正投影内。
在一些实施例中，所述每个子公共电极包括至少一个第二通孔；所述第 一部分在所述衬底上的正投影还与对应的至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影部分重叠。
在一些实施例中，所述每个子公共电极包括至少一个第二通孔，所述至少一条触控信号线中的每条包括相互连接的第一部分和第二部分。所述第一部分在所述衬底上的正投影，位于对应的一个或多个像素电极在所述衬底上的正投影内，且位于对应的至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影内；所述第二部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素界定区域在所述衬底上的正投影内。
在一些实施例中，所述每个像素电极包括至少一个第一通孔。所述第一部分在所述衬底上的正投影还位于所述至少一个第一通孔在所述衬底上的正投影内。
在一些实施例中，所述每个子公共电极包括至少一个第二通孔；所述每个像素电极包括至少一个第一通孔。所述至少一条触控信号线中的每条包括相互连接的第一部分和第二部分；所述第二部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素界定区域在所述衬底上的正投影内；所述第一部分在所述衬底上的正投影与对应的所述至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影部分重叠，以及位于对应的所述至少一个第一通孔在所述衬底上的正投影内。
在一些实施例中，所述至少一个第一通孔和/或所述至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影为条形。
在一些实施例中，所述至少一个第一通孔中每个在第一方向上的宽度小于对应的第二通孔在所述第一方向上的宽度，所述第一方向垂直于所述至少一条触控信号线的延伸方向。
在一些实施例中，阵列基，还包：设置在所述衬底上的多条数据线。所述至少一条触控信号线的延伸方向与所述多条数据线的延伸方向相同；所述至少一条触控信号线中的每条位于相邻的两条数据线之间，且所述每条触控信号线和与其相邻的两条数据线之间的距离相等。
在一些实施例中，阵列基板还包括设置在所述衬底上沿第一方向延伸的多条栅线，和设置在所述衬底上沿第二方向延伸的多条数据线。所述第一方向和所述第二方向相交，所述多条数据线和所述多条栅线限定出所述多个亚像素；所述多条触控信号线沿所述第二方向延伸。
在一些实施例中，所述多条触控信号线和所述多条数据线同层设置。
在一些实施例中，所述多条触控信号线的条数与沿所述第一方向排列的亚像素的个数相同。
在一些实施例中，每条触控信号线的宽度为1.5μm～4μm。
在一些实施例中，所述多条触控信号线中每相邻的两条触控信号之间的距离相等。
另一方面，提供一种触控显示面板。所述触控显示面板包括：如上述任一实施例所述的阵列基板。
又一方面，提供一种触控显示装置。所述触控显示装置包括控制单元和如上述任一实施例所述的触控显示面板。所述多条触控信号线均与所述控制单元连接，所述控制单元用于根据所述多条触控信号线上的信号变化实现触控。
附图说明
为了更清楚地说明本公开中的技术方案，下面将对本公开一些实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例的附图，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。此外，以下描述中的附图可以视作示意图，并非对本公开实施例所涉及的产品的实际尺寸、方法的实际流程、信号的实际时序等的限制。
图1为一种液晶触控显示装置的结构图；
图2为根据一些实施例的一种阵列基板的结构图；
图3为一种触控显示装置的结构图；
图4为一个触控电极覆盖多个像素的结构图；
图5为一种触控信号线的设置方式的结构图；
图6A为根据一些实施例的一种触控信号线的设置方式的结构图；
图6B为根据一些实施例的另一种触控信号线的设置方式的结构图；
图6C为根据一些实施例的又一种触控信号线的设置方式的结构图；
图6D为根据一些实施例的又一种触控信号线的设置方式的结构图；
图7A为根据一些实施例的另一种阵列基板的结构图；
图7B为根据一些实施例的又一种阵列基板的结构图；
图7C为根据一些实施例的又一种阵列基板的结构图；
图7D为根据一些实施例的又一种阵列基板的结构图；
图7E为根据一些实施例的又一种阵列基板的结构图；
图8A为根据一些实施例的又一种阵列基板的部分的结构图；
图8B为图8A沿AA向的剖视示意图；
图9A为根据一些实施例的又一种阵列基板的部分的结构图；
图9B为图9A沿BB向的剖视示意图；
图10A为根据一些实施例的又一种阵列基板的部分的结构图；
图10B为图10A沿CC向的剖视示意图；
图11A为根据一些实施例的又一种阵列基板的部分的结构图；
图11B为图11A沿DD向的剖视示意图；
图12A为根据一些实施例的一种阵列基板中的公共电极的结构图；
图12B为根据一些实施例的另一种阵列基板中的公共电极的结构图。
图13A为根据一些实施例的一种触控显示面板的结构图；
图13B为根据一些实施例的另一种触控显示面板的结构图；
图14为根据一些实施例的一种触控显示装置的结构图。
具体实施方式
下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
在说明书和权利要求书中，在明确声明的含义之外术语可以具有在上下文中暗示的细微差别的含义。同样地，“在一个实施例中”或“在一些实施例中”不一定指代相同的实施例，“在另一个实施例中”或“在其他实施例中”不一定指代不同的实施例。类似地，“在一个示例中”或“在一些示例中”不一定指代相同的示例，“在另一个示例中”或“在其他示例中”不一定指代不同的示例。例如，所要求保护的主题旨在全部或部分地包括示例性实施例或示例的组合。
通常，可以至少部分地从在上下文中的使用来理解术语。例如，本文所使用的诸如“和”、“或”、“和/或”之类的术语可以包括各种含义，这些含义可以至少部分地取决于使用这些术语的上下文。通常，“或”如果用于连接几个对象，例如A，B或C，则意图表示A，B和C(此处是包含的意思)以及A，B或C(此处是单独的意思)。“和/或”如果用于连接几个对象，例如“A和/或B”，则应理解为仅为A，仅为B，或A和B。即，“A和/或B”包括三种关系。另外，如本文所使用的术语“一个或多个”或“至少一个”，至少部分地取决于上下文，可以用于以单数意义描述任何特性、结构或特征，或者可以用于描述复数意义上的特性、结构或特征的组合。通常，如果“至少一个”用于连接几个对象，例如“A和B中的至少一个”，则应理解为“仅A，仅B，或A和B两者”。类似地，至少部分地基于上下文，诸如“一个” 或“该”之类的术语可以被理解为表示单数用法或表示复数用法。另外，至少部分地基于上下文，术语“基于”或“由......确定”可以被理解为不一定旨在表达一组排他性要素，而是可以允许存在不一定明确描述的其他要素。
本公开实施例中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
根据触控信号线的位置可以将触控显示装置分为屏外触控(On Cell Touch)和屏内触控(In Cell Touch)两大类。以液晶触控显示装置为例，参考图1，图1仅示意性示出阵列基板10、触控结构30和彩膜基板20，未示出液晶层。触控结构30包括触控电极和触控信号线。屏内触控方式将触控结构30设置在显示面板内，不占用显示面板以外的空间，因而减小了采用这种显示面板的显示装置的厚度，成为当前主流的触控方式。
本公开实施例提供一种阵列基板10，如图2所示，包括：衬底，多个亚像素01，设置在衬底上沿第一方向延伸的多条栅线(Gate line)50和沿第二方向延伸的多条数据线(Data line)40；第一方向和第二方向相交。多条数据线40和多条栅线50限定出多个亚像素01，每个亚像素01包括开口区域02和包围开口区域02的像素界定区域03。图2中加粗实线围成的区域为一个亚像素01，虚线围成的区域为开口区域02，亚像素01中除开口区域02以外的区域为像素界定区域03。
此处，第一方向和第二方向相交是指，在一些实施例中，第一方向和第二方向垂直；在一些实施例中，第一方向和第二方向之间的夹角为锐角；在一些实施例中，第一方向和第二方向之间的夹角为钝角。本公开实施例对此不作限定。
需要说明的是，在阵列基板10为液晶显示装置中的阵列基板的情况下，开口区域02为透光区域，像素界定区域03为非透光区域。在阵列基板10为自发光显示装置例如有机电致发光显示装置中的阵列基板的情况下，发光器件所在的区域为开口区域02，发光器件所在的区域以外的区域为像素界定区域03。附图中均以阵列基板10为液晶显示装置中的阵列基板为例进行示意。
对于屏内触控显示装置，触控结构设置在阵列基板10的显示区域。如图3所示，触控结构包括呈矩阵排列的多个触控电极60(也称触控单元)，每个触控电极60与一条触控信号线70连接。如图4所示，每个触控电极60对应于呈矩阵排列的多个像素101，每个像素101包括多个亚像素01，如红色亚像素(R)、绿色亚像素(G)和蓝色亚像素(B)。为了实现对每个亚像素01的开口区域02发出光的亮度的控制，每个亚像素01的开口区域02包括一个像素电极80，即，如图4所示，该像素电极80所在的对应区域为开口区域02，每个亚像素01中除像素电极80所在的区域以外的区域为像素界定区域03。
相关技术中，如图5所示，触控信号线70全部设置在像素界定区域03。附图5以每个像素101中设置两条触控信号线70为例进行说明，在一个像素101中，红色亚像素和蓝色亚像素的像素界定区域对应设置有触控信号线70，绿色亚像素的像素界定区域未设置触控信号线70。
在栅线50逐行扫描时，每个亚像素01中像素电极80和数据线40之间的电容会发生变化，每个亚像素01中像素电极80和数据线40之间的电容变化量ΔC＝C pd-C pd′，C pd为像素电极80与其左侧的数据线40之间的电容，C pd′为像素电极80与其右侧的数据线40之间的电容。根据公式
Figure PCTCN2019125367-appb-000001
可知，施加在像素电极80上的电压变化量ΔVp与ΔC成正比。C gs为薄膜晶体管栅极和源极之间的电容，C s为亚像素的存储电容，C lc为液晶电容，V d为数据线上的电压。而ΔVp越大，施加在像素电极80上的像素电压越小。在未设置触控信号线70的情况下，栅线50逐行扫描时，每个亚像素01中像素电极80左右两侧的数据线40信号变化引起的电容变化基本相等，即C pd≈C pd′，因此ΔC≈0。
在触控信号线70设置在像素界定区域03的情况下，如图5所示，对于红色亚像素和蓝色亚像素而言，由于像素电极80的左侧设置有触控信号线70，触控信号线70对其左侧的数据线40有屏蔽作用，触控信号线70会影响像素电极80与其左侧的数据线40之间的电容，使得像素电极80与其左侧的数据线40之间的电容C pd≈0。这样电容的变化量ΔC取决于像素电极80与其右侧的数据线40之间的电容C pd′，因而设置有触控信号线70时，红色亚像素和蓝色亚像素的ΔC≈C pd′。根据上述公式可知，红色亚像素和蓝色亚像素的ΔVp大于绿色亚像素的ΔVp，因而施加到红色亚像素和蓝色亚像素的电压会偏 低，这样一来红色亚像素和蓝色亚像素的亮度会降低，从而影响了显示画面的品质。红色亚像素、蓝色亚像素和绿色亚像素的电压偏差不同时，还会影响显示画面正常的红色、蓝色和绿色的亮度配比，导致色偏不良。
基于上述，本公开实施例提供一种阵列基板。如图7a、图7b以及图7c所示，阵列基板10包括：衬底，多个亚像素01，设置在衬底上沿第一方向延伸的多条栅线50和沿第二方向延伸的多条数据线40，以及设置在衬底上沿第二方向延伸的多条触控信号线70。其中，第一方向和第二方向相交，多条数据线40和多条栅线50限定出多个亚像素01，每个亚像素01包括开口区域02和包围开口区域02的像素界定区域03，至少一条触控信号线70在所述衬底上的正投影沿其延伸方向穿过对应的一个或多个开口区域02在所述衬底上的正投影。应当理解的是，对于一条触控信号线70，其包括相互连接的第一部分和第二部分，第一部分在衬底上的正投影位于对应的一个或多个开口区域02在衬底上的正投影内，第二部分在衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素界定区域03在衬底上的正投影内。
此处，由于至少一条触控信号线70的第一部分在衬底上的正投影位于对应的一个或多个开口区域02在衬底上的正投影内，为了避免对应于开口区域02的触控信号线70影响亚像素01的正常显示，设置的触控信号线70的宽度以不影响亚像素01的正常显示为准。在一些实施例中，触控信号线70的宽度为1.5μm～4μm。在另一些实施例中，触控信号线70的宽度为1.7μm～2.5μm。
在一些实施例中，触控信号线70的材料为非透明导电材料，例如为金属(如Al，Cu，Mo，Cr，Ti等)。在另一些实施例中，触控信号线70的材料为透明导电材料，例如ITO(Indium Tin Oxide，氧化铟锡)或IZO(Indium Zinc Oxide，氧化铟锌)等，避免对应于开口区域02的触控信号线70影响亚像素01的正常显示，提高亚像素的光透过率。
在一些实施例中，阵列基板10还包括多个触控电极60，每个触控电极60与至少一条触控信号线70连接。对于触控电极60的尺寸不进行限定，可以根据人的两根手指分离度(一般为10mm)进行设置。手指分离度保证了在触摸显示装置时，可以正常地对画面进行触控操作。在一些实施例中，触控电极60的面积小于5mm×5mm。进一步地，可以根据产品的显示区域的大小和分辨率设置触控电极60的尺寸。
本领域技术人员应该明白，阵列基板10除包括数据线40、栅线50触控信号线70，和触控电极60外，还包括薄膜晶体管等其他部件。其中，薄膜晶体管包括源极、漏极、有源层、栅极以及栅绝缘层。基于此，在一些实施例 中，触控信号线70可以与阵列基板10上的导电图案层同层设置，也可以不同层设置。在触控信号线70与导电图案层设置在同一层的情况下，可以简化阵列基板10的制作工艺。例如，触控信号线70可以与数据线40同时制作。在另一些实施例中，触控信号线70可以单独制作，不与其它导电图案层同时制作。本公开实施例对此不作限定。
这里应该理解的是，在本公开实施例中，“同层设置”指的是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩膜版通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，同一构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。例如，本公开的实施例中，可通过同一层设置多个元件/部件的图形，可不增加膜层制作数量，利于减小显示面板的厚度，简化制作工艺。
阵列基板包括多条触控信号线70，可以是位于同一列的一个或多个开口区域02对应一条触控信号线70；也可以是位于同一列的一个或多个开口区域02对应两条或两条以上触控信号线70。在一些实施例中，如图7A所示，一列开口区域02对应一条触控信号线70。在一些实施例中，如图7D所示，一列开口区域02对应两条触控信号线70。在一些实施例中，如图7E所示，一条触控信号线70在衬底上的正投影沿其延伸方向穿过一个或多个开口区域在衬底上的正投影。。
在本公开一些实施例中，触控信号线70对应于一个或多个开口区域02，触控信号线70不会对数据线40产生屏蔽作用，避免了触控信号线70影响数据线40与像素电极80之间的电容。这样一来，在栅线50逐行扫描时，像素电极80左侧的数据线40与该像素电极80之间的电容与像素电极80右侧的数据线40与该像素电极80之间的电容基本相等，即C pd≈C pd′，因此每个亚像素01左右两侧的数据线40信号变化引起的电容变化基本相等，即ΔC≈0。由前述公式可知，施加到像素电极80上的电压变化量ΔVp≈0，这样一来，施加到每个亚像素01的像素电极80上的电压不会减小，因而每个亚像素01的亮度不会降低，确保了显示画面的品质，且避免了显示画面各种颜色亮度配比变化导致的色偏不良。
在此基础上，在本公开一些实施例中，由于至少一条触控信号线70对应地设置在开口区域02内，避免了将至少一条触控信号线70设置在像素界定区域03，可以减少像素界定区域03的面积，增大像素开口率，且开口区域02的分布均匀。
至少一条触控信号线70在所述衬底上的正投影沿其延伸方向穿过对应的一个或多个开口区域02在所述衬底上的正投影时，对于触控信号线70对应于开口区域02的位置不进行限定。对于一条触控信号线70，在一些实施例中，触控信号线70和与其相邻的两条数据线40之间的距离相等；在另一些实施例中，触控信号线70和与其相邻的两条数据线40之间的距离不相等。在一些实施例中，每条触控信号线70和与其相邻的两条数据线40之间的距离都相等，每条触控信号线70对像素电极80与左右两侧的数据线40产生的电容的影响是相同的。
在一些实施例中，对于阵列基板10上设置的触控信号线70的条数不进行限定。在一些实施例中，如图7C所示，触控信号线70的条数与沿第一方向排列的亚像素01的个数相同，即每列亚像素01都设置一条触控信号线70。在另一些实施例中，根据一个触控电极60对应的像素101的列数与阵列基板10包括的触控电极60的行数来设计触控信号线70的条数。
在一些实施例中，在一个触控电极60对应的像素101的列数大于阵列基板10上触控电极60的行数的情况下，一个触控电极60对应的多个像素101中的至少部分中的每个对应一条触控信号线70。示例的，图6A示出了三列像素101和两行触控电极60，其中一个触控电极60对应三列像素101；三列像素101中的两列分别对应两条触控信号线70，并且两条触控信号线70分别与两个触控电极60连接。或者，如图6B所示，三列像素101分别对应三条触控信号线70，其中图6B中靠右的触控信号线70为Dummy信号线。
在一些实施例中，在一个触控电极60对应的像素101的列数等于阵列基板10上触控电极60的行数的情况下，一个触控电极60对应的多个像素101中每个对应一条触控信号线70。示例的，图6C示出了三列像素101和三行触控电极60，其中一个触控电极60对应三列像素101；三列像素101分别对应三条触控信号线70，并且三条触控信号线70分别与三个触控电极60连接。
在一些实施例中，当一个触控电极60对应的像素101的列数小于阵列基板10上触控电极60的行数时，一个触控电极60对应的多个像素101中的至少部分中的每个对应至少两条触控信号线70。示例的，图6D示出了三列像素101和四行触控电极60，其中一个触控电极60对应三列像素101。图6D中靠左的一列像素101对应两条触控信号线70，并且两条触控信号线70分别与两个触控电极60连接；图6D中间的一列像素101对应两条触控信号线70，并且两条触控信号线70中的一条与一个触控电极60连接，另一条为Dummy信号线；图6D中靠右的一列像素101对应一条触控信号线70，该触控信号 线70与一个触控电极60连接。
需要说明的是，设置为Dummy信号线的触控信号线70可以与控制单元连接，由控制单元提供一定的电压；也可以与电压输入端连接，由电压输入端输入一定的电压。在一些实施例中，每列亚像素01对应一条触控信号线70，在这样的情况下，多条触控信号线70中的一些触控信号线70可能被设置为Dummy信号线，提供给Dummy信号线的电压可以与提供给其他触控信号线70的电压一样，从而使得各触控信号线对每个亚像素的影响尽可能均一，也即每个亚像素01的电压偏差相同，各像素中亚像素的亮度配比不变，以避免色偏问题。并且，可以避免因各触控信号线上的电压不同，而对显示装置中不同位置处的电场产生影响，从而有利于进一步提高显示画面的均一性。
本领域技术人员能够理解的是，图6A至图6D仅示意性示出了触控信号线70的设置方式，本公开实施例对此不作限定。图6A至图6D仅示意性示出了像素101的列数和触控电极60的行数，其不对本公开实施例中的阵列基板上的像素的列数和触控电极的行数做任何限定。图6A至图6D仅示意性示出了触控电极60的形状，本公开实施例对此不作限定。
在一些实施例中，如图7C所示，触控信号线70的条数与沿第一方向排列的亚像素01的个数相同，这样每列亚像素01都对应一条触控信号线70，触控信号线70对每个亚像素01的电场的影响相同，也即每个亚像素01的电压偏差相同，亚像素的亮度配比不变，避免了色偏问题。
在一些实施例中，如图8B、图9B、图10B以及图11B所示，阵列基板10包括设置在衬底130上的公共电极(Common electrode)90和多个像素电极(Pixel electrode)80。在一些实施例中，公共电极90包括相互绝缘的多个子公共电极901，每个子公共电极901与至少一条触控信号线70连接。
此处，子公共电极901复用为触控电极60。一个子公共电极901相当于一个触控电极60。
公共电极90和像素电极80的材料均为透明导电材料，例如ITO或IZO。
需要说明的是，当阵列基板10为自发光器件中的阵列基板时，像素电极80也可称为阳极，公共电极90也可称为阴极。
公共电极90包括多个子公共电极901。本公开实施例对于子公共电极901的结构不进行限定。在一些实施例中，如图12A所示，子公共电极901为块状，即子公共电极901无通孔。在另一些实施例中，如图12B所示，子公共电极901包括第二通孔22。本公开实施例对于子公共电极901包括的第二通孔22的个数不进行限定，其可以根据子公共电极901的大小进行相应设置。 此外，本公开实施例对于第二通孔22的形状不进行限定，第二通孔22的形状例如可以为矩形、正方形、菱形、条形等。在一些实施例中，如图12B所示，第二通孔22为沿第二方向延伸的条形。在子公共电极901包括第二通孔22的情况下，由于子公共电极901的面积减小，因而可以降低对应亚像素的功耗。在子公共电极901无通孔的情况下，子公共电极901与像素电极80之间的电场强度较大，能够增加对应亚像素的光透过率。
本公开实施例对于像素电极80的结构不进行限定。在一些实施例中，如图8A、图8B、图9A以及图9B所示，像素电极80为一整块，即像素电极80无通孔。在另一些实施例中，如图10A、图10B、图11A以及图11B所示，像素电极80包括第一通孔21。本公开实施例对于像素电极80包括的第一通孔21的个数不进行限定，可以根据实际需求进行相应设置。在像素电极80包括第一通孔21的情况下，由于像素电极80的面积减小，因而可以降低对应亚像素的功耗。在像素电极80无通孔的情况下，公共电极90与像素电极80之间的电场强度较大，能够增加对应亚像素的光透过率。在一些实施例中，触控信号线70包括相互连接的第一部分和第二部分，如图8A、图8B、图9A以及图9B所示，第一部分在衬底130上的正投影位于相应的一个或多个像素电极80在衬底130上的正投影内。
需要说明的是，在触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影在像素电极80在衬底130上的正投影内的情况下，一个像素电极80可以包括至少一个第一通孔21，也可以无通孔。
在触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影在一个或多个像素电极80在衬底130上的正投影内的情况下，子公共电极901可以包括至少一个第二通孔22；也可以不包括通孔。
在像素电极80无通孔，且子公共电极901包括至少一个第二通孔22的情况下，在一些实施例中，如图8A和图8B所示，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影与子公共电极901在衬底130上的正投影至少部分重叠。在另一些实施例中，如图9A和图9B所示，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影在第二通孔22在衬底130上的正投影内。
由于触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影在像素电极80在衬底130上的正投影内，因而像素电极80可以将触控信号线70的电场屏蔽掉，减小了触控信号线70对像素电极80和公共电极90的电场的影响，提高了整体像素的光透过率。在触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影在第二通孔22在衬底130上的正投影内的情况下，子公共电极901的面积相 应的减小，能够降低对应亚像素的功耗。
在像素电极80包括至少一个第一通孔21的情况下，在一些实施例中，如图10A、图10B、图11A以及图11B所示，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影位于第一通孔21在衬底130上的正投影内。
在像素电极80包括至少一个第一通孔21的情况下，在一些实施例中，如图10A、图10B、图11A以及图11B所示，子公共电极901包括第二通孔22；在另一些实施例中，子公共电极901不包括通孔。在像素电极80包括至少一个第一通孔21，并且子公共电极901包括至少一个第二通孔22的情况下，可以是如图10A和图10B所示，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影与像素电极80在衬底130上的正投影无重叠区域，与子公共电极901在衬底130上的正投影有重叠区域；也可以是如图11A以及图11B所示，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影在第一通孔21在衬底130上的正投影内，且在第二通孔22在衬底130上的正投影内。
在像素电极80包括至少一个第一通孔21的情况下，像素电极80的第一通孔21处与公共电极90的电场较弱，在设计触控信号线70时，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影位于第一通孔21在衬底130上的正投影内，即将触控信号线70设置在与像素电极80的第一通孔21正对的位置，这样一来，触控信号线70对像素电极80和公共电极90的电场的影响较小，提高了对应亚像素被施加电压时的光透过率。
在子公共电极901包括第二通孔22的情况下，在一些实施例中，如图9A、图9B、图11A以及图11B所示，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影位于第二通孔22在衬底130上的正投影内。
此处，本公开实施例对于像素电极80的结构不进行限定。像素电极80可以包括第一通孔21，也可以无通孔。在像素电极80包括第一通孔21的情况下，本公开实施例对于第一通孔21的个数、形状等均不进行限定，可以根据需要进行任意设置。
在一些实施例中，触控信号线70的第一部分在衬底130上的正投影位于子公共电极901的第二通孔22在衬底130上的正投影内，即触控信号线70设置在与子公共电极901的第二通孔22正对的位置处。，由于子公共电极901的第二通孔22处与像素电极80的电场较弱，因而将触控信号线70设置在与子公共电极901的第二通孔22正对的位置处，如此设置对像素电极80和公共电极90形成的电场的影响较小，提高了对应亚像素被施加电压时的光透过率。在像素电极80包括第一通孔21，子公共电极901包括第二通孔22的情 况下，在一些实施例中，如图11A和图11B所示，第一通孔21和第二通孔22均为沿第二方向延伸的条形。
对于条形的第一通孔21和第二通孔22在第一方向上的宽度不进行限定，在一些实施例中，第一通孔21在第一方向上的宽度H与第二通孔22在第一方向上的宽度L相等。在另一些实施例中，第一通孔21在第一方向上的宽度H小于第二通孔22在第一方向上的宽度L。在另一些实施例中，第一通孔21在第一方向上的宽度大于第二通孔22在第一方向上的宽度L。
在一些实施例中，每条触控信号线70与一个子公共电极901连接。触控信号线70可以通过过孔与子公共电极901连接，本公开实施例对此不作限定。在另一些实施例中，两条或两条以上触控信号线70与一个子公共电极901连接，其中，每条触控信号线70通过过孔与子公共电极901连接。
在此基础上，多条触控信号线70中每相邻的两条触控信号之间的距离相同，或者不完全相同。
在一些实施例中，子公共电极901复用为触控电极60，子公共电极901既可以用于实现触控功能，又可以与像素电极80配合，驱动液晶偏转。由于无需单独制作触控电极60，因而一方面简化了阵列基板的制作工艺，另一方面减小了阵列基板的厚度。在一些实施例中，公共电极90和像素电极80设置在同一层。在另一些实施例中，如图8B、图9B、图10B以及图11B所示，公共电极90和像素电极80设置在不同层。阵列基板10还包括设置在公共电极90和像素电极80之间的第一绝缘层100。
当公共电极90和像素电极80设置在不同层时，对于公共电极90、像素电极80和触控信号线70的设置位置不进行限定。在一些实施例中，像素电极80设置在公共电极90靠近衬底130的一侧，且触控信号线70设置在像素电极80远离公共电极90的一侧。
在一些实施例中，触控信号线70与像素电极80之间设置有第二绝缘层110。
在一些实施例中，可以在衬底上单独制作触控电极60，触控电极60仅用于实现触控功能。
附图8A、图9A、图10A以及图11A示意出阵列基板10一个开口区域02的结构。图8B为图8A沿AA向的剖视示意图，图9B为图9A沿BB向的剖视示意图，图10B为图10A沿CC向的剖视示意图，图11B为图11A沿DD向的俯视示意图。如图8A、图9A、图10A和图11A所示，黑矩阵图案120在衬底上的正投影在像素界定区域03内，黑矩阵图案120限定出多个亚 像素。
本公开实施例对于绝缘层的材料不进行限定，其可以为无机材料，例如氮化硅、氧化硅或氮氧化硅；也可以为有机树脂等。
本公开实施例提供一种触控显示面板，包括上述的阵列基板。
其中，对于触控显示面板的类型不进行限定，在一些实施例中，如图13A所述，触控显示面板100为液晶显示面板(Liquid Crystal Display，简称LCD)。此时触控显示面板100除包括阵列基板10外，还包括彩膜基板20以及设置在阵列基板10和彩膜基板20之间的液晶层31。在另一些实施例中，如图13B所述，触控显示面板100为自发光显示面板，例如有机电致发光显示面板(Organic Light-Emitting Diode，简称OLED)或量子点电致发光显示面板(Quantum Dot Light-Emitting Display，简称QLED)。在触控显示面板100为自发光显示面板的情况下，阵列基板10还包括发光功能层。进一步地，触控显示面板还包括用于封装阵列基板10的封装层32。
本公开实施例提供一种触控显示面板，触控显示面板包括上述的阵列基板，触控显示面板中的阵列基板具有与上述实施例提供的阵列基板相同的结构和有益效果，由于上述实施例已经对阵列基板的结构和有益效果进行了详细的描述，因而此处不再赘述。
本公开实施例还提供一种触控显示装置200，如图14所示，包括控制单元33和上述的触控显示面板100。与多个触控电极60连接的多条触控信号线70均与控制单元33相连，控制单元33用于根据与触控电极60连接的多条触控信号线70上的信号变化实现触控。
此处，控制单元33例如可以为驱动IC(Integrated Circuit，集成电路)。
需要说明的是，未与触控电极60连接的其它触控信号线70可以设置为Dummy信号线，可以与控制单元33相连接，由控制单元33给未与触控电极60连接的其它触控信号线70提供一定的电压。当然，未与触控电极60连接的其它触控信号线70还可以与电压输入端相连接，由电压输入端给未与触控电极60连接的其它触控信号线70输入一定的电压。本公开实施例对此不作限定。
其中，触控显示装置可以是显示不论运动(例如，视频)还是固定(例如，静止图像)的且不论文字还是的图像的任何装置。更明确地说，预期所述实施例可实施在多种电子装置中或与多种电子装置关联，所述多种电子装置例如(但不限于)移动电话、无线装置、个人数据助理(PDA)、手持式或便携式计算机、GPS接收器/导航器、相机、MP4视频播放器、摄像机、游戏控制台、手 表、时钟、计算器、电视监视器、平板显示器、计算机监视器、汽车显示器(例如，里程表显示器等)、导航仪、座舱控制器和/或显示器、相机视图的显示器(例如，车辆中后视相机的显示器)、电子相片、电子广告牌或指示牌、投影仪、建筑结构、包装和美学结构(例如，对于一件珠宝的图像的显示器)等。
本公开实施例提供一种触控显示装置，触控显示装置包括上述的触控显示面板，触控显示面板包括阵列基板，触控显示面板中的阵列基板具有与上述实施例提供的阵列基板相同的结构和有益效果，由于上述实施例已经对阵列基板的结构和有益效果进行了详细的描述，因而此处不再赘述。
以10.1宽屏超级扩展图形阵列(Widescreen Ultra Extended Graphics Array，WUXGA，分辨率1920×1200)触控显示装置为例，在设计触控信号线70时，触控信号线70位于开口区域02内。对10.1WUXGA的实际样品触控性能进行实测，测试内容和结果如表1所示。
表1
Figure PCTCN2019125367-appb-000002
根据表1的实测结果可以看出，触控显示装置的触控功能良好，满足实际要求。
以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (20)

  1. 一种阵列基板，包括：
    衬底，
    设置在所述衬底上多个亚像素，其中，每个亚像素包括开口区域和包围所述开口区域的像素界定区域；和，
    设置在所述衬底上的多条触控信号线，其中，至少一条触控信号线在所述衬底上的正投影沿其延伸方向穿过对应的一个或多个开口区域在所述衬底上的正投影。
  2. 根据权利要求1所述的阵列基板，还包括：
    设置在所述衬底上的多个触控电极，其中，每个触控电极与所述至少一条触控信号线连接。
  3. 根据权利要求2所述的阵列基板，还包括：
    设置在所述衬底上的多个像素电极；
    所述多个像素电极位于所述多个触控电极的靠近所述衬底的一侧，且所述多条触控信号线位于所述多个像素电极的远离所述多个触控电极的一侧。
  4. 根据权利要求1所述的阵列基板，还包括：
    设置在所述衬底上的公共电极；
    所述公共电极包括相互绝缘的多个子公共电极，其中，每个子公共电极与所述至少一条触控信号线连接。
  5. 根据权利要求4所述的阵列基板，还包括：
    设置在所述衬底上的多个像素电极，其中，每个像素电极位于对应的一个开口区域内；
    所述多个像素电极位于所述公共电极的靠近所述衬底的一侧，且所述多条触控信号线位于所述多个像素电极的远离所述公共电极的一侧。
  6. 根据权利要求5所述的阵列基板，其中，所述至少一条触控信号线中的每条包括相互连接的第一部分和第二部分；
    其中，所述第一部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素电极在所述衬底上的正投影内；
    所述第二部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素界定区域在所述衬底上的正投影内。
  7. 根据权利要求6所述的阵列基板，其中，
    所述每个子公共电极包括至少一个第二通孔；所述第一部分在所述衬底上的正投影还与对应的至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影部分重叠。
  8. 根据权利要求5所述的阵列基板，其中，
    所述每个子公共电极包括至少一个第二通孔；
    所述至少一条触控信号线中的每条包括相互连接的第一部分和第二部分；
    所述第一部分在所述衬底上的正投影，位于对应的一个或多个像素电极在所述衬底上的正投影内，且位于对应的至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影内；
    所述第二部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素界定区域在所述衬底上的正投影内。
  9. 根据权利要求8所述的阵列基板，其中，所述每个像素电极包括至少一个第一通孔；
    所述第一部分在所述衬底上的正投影还位于所述至少一个第一通孔在所述衬底上的正投影内。
  10. 根据权利要求5所述的阵列基板，其中，
    所述每个子公共电极包括至少一个第二通孔；所述每个像素电极包括至少一个第一通孔；
    所述至少一条触控信号线中的每条包括相互连接的第一部分和第二部分；其中，所述第二部分在所述衬底上的正投影位于对应的一个或多个像素界定区域在所述衬底上的正投影内；
    所述第一部分在所述衬底上的正投影与对应的所述至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影部分重叠，以及位于对应的所述至少一个第一通孔在所述衬底上的正投影内。
  11. 根据权利要求9或10所述的阵列基板，其中，所述至少一个第一通孔和/或所述至少一个第二通孔在所述衬底上的正投影为条形。
  12. 根据权利要求11所述的阵列基板，其中，所述至少一个第一通孔中每个在第一方向上的宽度小于对应的第二通孔在所述第一方向上的宽度，所述第一方向垂直于所述至少一条触控信号线的延伸方向。
  13. 根据权利要求1-12中任一项所述的阵列基板，还包括：设置在所述衬底上的多条数据线；
    所述至少一条触控信号线的延伸方向与所述多条数据线的延伸方向相同；所述至少一条触控信号线中的每条位于相邻的两条数据线之间，且所述每条触控信号线和与其相邻的两条数据线之间的距离相等。
  14. 根据权利要求1-12中任一项所述的阵列基板，还包括设置在所述衬底上沿第一方向延伸的多条栅线，和设置在所述衬底上沿第二方向延伸的多 条数据线；
    其中，所述第一方向和所述第二方向相交，所述多条数据线和所述多条栅线限定出所述多个亚像素；所述多条触控信号线沿所述第二方向延伸。
  15. 根据权利要求14所述的阵列基板，其中，所述多条触控信号线和所述多条数据线同层设置。
  16. 根据权利要求14所述的阵列基板，其中，所述多条触控信号线的条数与沿所述第一方向排列的亚像素的个数相同。
  17. 根据权利要求1-12中任一项所述的阵列基板，其中，每条触控信号线的宽度为1.5μm～4μm。
  18. 根据权利要求1-12中任一项所述的阵列基板，其中，所述多条触控信号线中每相邻的两条触控信号之间的距离相等。
  19. 一种触控显示面板，包括：如权利要求1-18中任一项所述的阵列基板。
  20. 一种触控显示装置，其特征在于，包括控制单元和如权利要求19所述的触控显示面板；
    所述多条触控信号线均与所述控制单元连接，所述控制单元用于根据所述多条触控信号线上的信号变化实现触控。
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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109582179A (zh) * 2018-12-26 2019-04-05 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置
CN113196155B (zh) 2019-11-04 2023-11-03 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、显示装置
CN111290658B (zh) * 2020-01-21 2022-04-22 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法和触控显示面板
US11402942B2 (en) 2020-03-24 2022-08-02 Beijing Boe Display Technology Co., Ltd. Array substrate and display device
CN111883066B (zh) 2020-07-09 2022-02-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 栅电极驱动设计方法、装置及电子设备
CN114077077A (zh) * 2020-08-11 2022-02-22 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板以及触控显示装置
TWI728909B (zh) * 2020-09-02 2021-05-21 凌巨科技股份有限公司 畫素結構
CN114815406B (zh) * 2021-01-27 2023-11-14 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、液晶显示面板和显示装置
CN112992991B (zh) * 2021-02-03 2023-04-07 合肥京东方卓印科技有限公司 一种显示基板及显示装置
CN113160716B (zh) * 2021-02-26 2022-10-14 上海天马微电子有限公司 发光组件及显示装置
CN112860117B (zh) * 2021-03-05 2024-01-26 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制备方法、触控显示装置
WO2022246794A1 (zh) * 2021-05-28 2022-12-01 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制作方法、显示装置
CN113485586B (zh) * 2021-06-17 2024-01-30 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 触控显示面板
CN114299820B (zh) * 2021-12-29 2024-02-02 云谷（固安）科技有限公司 一种阵列基板以及显示面板
CN115268132B (zh) * 2022-07-19 2023-08-22 武汉华星光电技术有限公司 显示装置及其显示面板
CN115774350A (zh) * 2022-11-23 2023-03-10 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102841716A (zh) * 2012-08-21 2012-12-26 北京京东方光电科技有限公司 一种电容式内嵌触摸屏及显示装置
CN105892175A (zh) * 2016-07-01 2016-08-24 上海中航光电子有限公司 显示面板和显示装置
CN107728367A (zh) * 2017-11-30 2018-02-23 武汉天马微电子有限公司 显示面板的驱动方法、显示面板和显示装置
KR101862048B1 (ko) * 2016-12-29 2018-05-30 엘지디스플레이 주식회사 터치스크린 내장형 디스플레이 패널 및 터치 디스플레이 디바이스
CN108445663A (zh) * 2018-03-12 2018-08-24 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN109582179A (zh) * 2018-12-26 2019-04-05 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN202839610U (zh) * 2012-09-03 2013-03-27 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及显示装置
CN103500747B (zh) * 2013-09-30 2017-01-25 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、阵列基板驱动方法和显示装置
KR101597522B1 (ko) * 2014-08-28 2016-02-25 주식회사 지2터치 신호왜곡 현상을 최소화한 터치패널 및 이를 포함하는 디스플레이장치
CN104536636B (zh) * 2015-01-27 2017-12-08 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、触控面板及阵列基板的制作方法
CN104808858B (zh) * 2015-05-08 2018-07-10 厦门天马微电子有限公司 一种触控面板和触控显示装置
CN104865726B (zh) * 2015-06-04 2018-08-14 上海天马微电子有限公司 一种阵列基板、显示面板、显示装置以及制备方法
US20170017327A1 (en) * 2015-07-17 2017-01-19 Innolux Corporation Touch display device
KR102554251B1 (ko) * 2015-12-07 2023-07-11 엘지디스플레이 주식회사 표시장치
TWI581157B (zh) * 2016-04-20 2017-05-01 群創光電股份有限公司 觸控顯示裝置
CN105808014B (zh) * 2016-05-19 2019-07-02 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板及其制作方法、触控显示装置
CN106201144A (zh) * 2016-07-21 2016-12-07 京东方科技集团股份有限公司 触控显示基板及其制作方法、触控显示装置
CN106598346A (zh) * 2017-01-03 2017-04-26 京东方科技集团股份有限公司 一种触控显示面板及显示装置
CN106940500A (zh) * 2017-05-24 2017-07-11 厦门天马微电子有限公司 阵列基板、显示面板、显示装置以及阵列基板的驱动方法
CN107168582B (zh) * 2017-05-25 2019-11-12 上海天马微电子有限公司 一种触控显示面板
CN107357475B (zh) * 2017-06-27 2020-12-29 上海天马微电子有限公司 触控面板和显示装置
CN107329625B (zh) * 2017-07-12 2020-07-14 上海天马微电子有限公司 触控显示装置
CN109387965A (zh) * 2017-08-03 2019-02-26 中华映管股份有限公司 像素阵列基板
CN107479757B (zh) * 2017-08-25 2020-07-14 上海天马微电子有限公司 显示面板和显示装置
US10473965B2 (en) * 2017-08-30 2019-11-12 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Array substrate and its manufacturing method and display panel
CN109557728B (zh) * 2017-09-25 2021-12-10 京东方科技集团股份有限公司 像素结构及其制作方法、阵列基板和触控显示装置
CN109782500A (zh) * 2017-11-10 2019-05-21 中华映管股份有限公司 内嵌式触控液晶显示装置
TWI645557B (zh) * 2017-12-08 2018-12-21 友達光電股份有限公司 畫素陣列基板
CN108182883B (zh) * 2018-01-31 2020-06-19 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN108227326A (zh) * 2018-02-01 2018-06-29 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及其制造方法、触控显示面板
CN108319397B (zh) * 2018-02-12 2021-08-17 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、触控显示装置
CN209028594U (zh) * 2018-12-26 2019-06-25 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置
CN112130698B (zh) * 2020-09-30 2022-09-23 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102841716A (zh) * 2012-08-21 2012-12-26 北京京东方光电科技有限公司 一种电容式内嵌触摸屏及显示装置
CN105892175A (zh) * 2016-07-01 2016-08-24 上海中航光电子有限公司 显示面板和显示装置
KR101862048B1 (ko) * 2016-12-29 2018-05-30 엘지디스플레이 주식회사 터치스크린 내장형 디스플레이 패널 및 터치 디스플레이 디바이스
CN107728367A (zh) * 2017-11-30 2018-02-23 武汉天马微电子有限公司 显示面板的驱动方法、显示面板和显示装置
CN108445663A (zh) * 2018-03-12 2018-08-24 厦门天马微电子有限公司 一种显示面板及显示装置
CN109582179A (zh) * 2018-12-26 2019-04-05 合肥京东方光电科技有限公司 一种阵列基板、触控显示面板及触控显示装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3905012A4

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US11480823B2 (en) 2022-10-25
CN109582179A (zh) 2019-04-05
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EP3905012A4 (en) 2022-09-28

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