WO2020022074A1 - パワー半導体装置 - Google Patents

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仁徳 長崎
信太朗 田中
高志 平尾
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日立オートモティブシステムズ株式会社
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    • H01L23/3735Laminates or multilayers, e.g. direct bond copper ceramic substrates

Definitions

  • the present invention relates to a power semiconductor device, and more particularly, to a power semiconductor device for controlling a vehicle driving motor.
  • Patent Literature 1 discloses a means for ensuring a protective operation by magnetic coupling between a main circuit terminal and a control terminal even when di / dt at the time of rise or fall of a short-circuit current is large.
  • Patent Document 2 discloses a structure in which a power semiconductor element is covered with an external metal to improve heat dissipation. However, it is required to further improve the reliability of the power semiconductor device when short-circuit protection occurs.
  • An object of the present invention is to suppress overvoltage when an overcurrent occurs without impairing the heat dissipation of the power semiconductor device, and to improve reliability.
  • the power semiconductor device includes a power semiconductor element having a low-potential-side electrode, a high-potential-side electrode, and a sense electrode; a low-potential-side conductor electrically connected to the low-potential-side electrode; And a first metal portion opposed to the low-potential-side conductor with the sense wire interposed therebetween, wherein the first metal portion is viewed from an arrangement direction of the sense wires and the first metal portion.
  • the sense wiring has an opposing portion facing the low-potential-side conductor
  • the first metal portion forms a concave portion in a portion overlapping the opposing portion
  • the depth of the concave portion is Is formed so that the distance between the bottom of the sensing wiring and the sense wiring is larger than the distance between the sensing wiring and the low potential side conductor.
  • FIG. 1 is an external front view of a power semiconductor device 100 according to the embodiment.
  • FIG. 2 is an external front view of the power semiconductor device 100 according to the embodiment as viewed from a direction opposite to FIG. 1.
  • FIG. 2 is an internal structural diagram of the power semiconductor device 100 shown in FIG. 1 from which a molding material 405 has been removed.
  • FIG. 4 is an internal structural diagram of the power semiconductor device 100 shown in FIG. 3 from which low-potential-side conductors 201U and 201L are removed.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the power semiconductor device 100 when a cross section taken along line A-A ′ shown in FIG. 1 is viewed from a direction of an arrow.
  • FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a drive circuit corresponding to the power semiconductor device 100 according to the embodiment.
  • 9 is an operation waveform on the lower arm side of the inverter circuit when short-circuit protection of the inverter circuit occurs. It is an appearance front view showing power semiconductor device 200 concerning other embodiments.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of a cross section of the power semiconductor device 200 shown in FIG.
  • FIG. 1 is an external front view of a power semiconductor device 100 according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is an external front view of the power semiconductor device 100 according to the present embodiment, viewed from a direction opposite to FIG.
  • FIG. 3 is an internal structural diagram of the power semiconductor device 100 shown in FIG. 1 from which the molding material 405 has been removed.
  • FIG. 4 is an internal structure diagram of the power semiconductor device 100 shown in FIG. 3 from which the low-potential-side conductors 201U and 201L are removed.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the power semiconductor device 100 taken along the line A-A ′ shown in FIG.
  • FIG. 6 is a circuit diagram illustrating a configuration of a drive circuit corresponding to the power semiconductor device 100 according to the present embodiment.
  • the power semiconductor element 204 shown in FIG. 4 for example, a MOSFET or an IGBT can be used.
  • the power semiconductor element 204 includes an upper arm-side power semiconductor element 204U that forms the upper arm of the inverter circuit, and a lower arm-side power semiconductor element 204L that forms the lower arm of the inverter circuit.
  • the AC output terminal 103 is connected to the high-potential-side conductor 205L connected to the emitter electrode side of the lower-arm power semiconductor element 204L.
  • the intermediate electrode 207 connects the low-potential-side conductor 201U and the high-potential-side conductor 205L shown in FIGS.
  • the intermediate electrode 206 connects the low-potential-side conductor 201L and the high-potential-side conductor 205L shown in FIGS.
  • the high potential side conductor 205U forms a high potential side conductor on the upper arm side of the inverter circuit of FIG.
  • Power semiconductor elements 204U and 204L shown in FIG. 4 include a positive electrode sense electrode 301, a negative electrode sense electrode 302, a low potential side electrode 303, a high potential side electrode 304, and (the back side of power semiconductor element 204L), respectively.
  • these electrodes correspond to the gate electrode of the positive electrode sense electrode 301, the Kelvin emitter electrode of the negative electrode sense electrode 302, the emitter electrode of the low potential side electrode 303, and the collector electrode of the high potential side electrode 304.
  • the positive sense electrode 301 corresponds to a gate electrode
  • the negative sense electrode 302 corresponds to a Kelvin source electrode
  • the low potential side electrode 303 corresponds to a source electrode
  • the high potential side electrode 304 corresponds to a drain electrode.
  • the positive sense line 203L is mounted on the insulating layer 401.
  • the positive sense line 203L is connected to the positive sense terminal 104L via a solder material.
  • Positive sense electrode 301 is electrically connected to positive sense line 203L via wire bonding 305.
  • the negative electrode sense wiring 202L is mounted on the insulating layer 401. Negative electrode sense wiring 202L is connected to negative electrode sense terminal 105L via a solder material. Negative electrode sense electrode 302 is electrically connected to negative electrode sense wiring 202L via wire bonding 306.
  • the positive electrode sense wiring 203U is mounted on the insulating layer 401.
  • the positive sense line 203U is connected to the positive sense terminal 104U via a solder material.
  • the negative electrode sense wiring 202U is mounted on the insulating layer 401. Negative electrode sense wiring 202U is connected to negative electrode sense terminal 105U via a solder material.
  • the low potential side electrode 303 is electrically connected to the spacer 403 via the solder material 402.
  • the spacer 403 is electrically connected to the low-potential-side conductor 201L via the solder material 402.
  • the low potential side conductor 201L is electrically connected to the low potential side terminal 102 shown in FIG. 4 via a solder material.
  • the high potential side electrode 304 is electrically connected to the high potential side conductor 205L mounted on the insulating layer 401.
  • the high potential side conductor 205L is electrically connected to the high potential side terminal 101 via a solder material.
  • the solder bonding conductor pattern 404 is mounted on the insulating layer 401.
  • the first metal part 106 is connected to the solder bonding conductor pattern 404 via the solder material 402.
  • the solder material 402. for the first metal part 106, for example, aluminum or copper is used.
  • the concave portion 406 is formed in the first metal portion 106 at a portion facing the low-potential-side conductor 201L with the negative electrode sense wiring 202L interposed therebetween.
  • the positive sense line 203L is disposed closer to the power semiconductor element 204L than the concave portion 406.
  • the depth of the recess 406 is formed such that the distance between the bottom of the recess 406 and the negative sense line 202L is greater than the distance between the negative sense line 202L and the low potential side conductor 201. This promotes magnetic coupling between the low-potential-side conductor 201L and the sense wiring 202L.
  • the positive sense line 203L is connected to the gate resistor 502L.
  • the gate resistor 502 and the negative sense line 202L are connected to a signal source 501L.
  • FIG. 8 is an external front view showing a power semiconductor device 200 according to another embodiment.
  • FIG. 9 is a cross-sectional view of the cross section of the power semiconductor device 200 shown in FIG.
  • the components denoted by the same reference numerals as those shown in FIGS. 1 to 7 have the same functions as those shown in FIGS. 1 to 7.
  • the first metal portion 106 has a concave portion 406 formed in a portion facing the low-potential-side conductor 201 with the negative electrode sense wire 202L and the negative electrode sense wire 202U interposed therebetween. I have.
  • the width of the concave portion 406 of the first metal portion 106 or the width of the concave portion 407 of the second metal portion 107 shown in FIGS. 1 to 9 is formed to be larger than the width of the sense wiring 202. As a result, the effect of suppressing overvoltage when an overcurrent occurs can be further enhanced.
  • 100 Power semiconductor device, 101: High potential side terminal, 102: Low potential side terminal, 103: AC output terminal, 104L: Positive sense terminal, 104U: Positive sense terminal, 105L: Negative sense terminal, 105U: Negative sense terminal, 106: first metal part, 107: second metal part, 200: power semiconductor device, 201L: low potential side conductor, 201U: low potential side conductor, 202L: negative sense line, 202U: negative sense line, 203L: positive sense Wiring, 203U: Positive sense wiring, 204L: Lower arm side power semiconductor element, 204U: Upper arm side power semiconductor element, 205L: High potential side conductor, 205U: High potential side conductor, 206: Intermediate electrode, 207: Middle Electrodes, 301: Positive sense electrode, 302: Negative sense electrode, 303: Low potential side electrode, 304: High potential side electrode 305: wire bonding, 306: wire bonding, 401: insulating layer, 402: solder material, 403: spacer,

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Abstract

本発明の課題は、パワー半導体装置の放熱性を損なうことなく過電流発生時の過電圧を抑制し、信頼性を向上させることである。 本発明に係るパワー半導体装置は、低電位側電極と高電位側電極とセンス電極を有するパワー半導体素子と、前記高電位側電極と電気的に繋がる高電位側導体と、前記低電位側電極と電気的に繋がる低電位側導体と、前記センス電極と電気的に繋がるセンス配線と、前記センス配線を挟んで前記低電位側導体又は前記低電位側導体と対向する第1金属部と、を備え、前記第1金属部は、前記センス配線と前記第1金属部の配列方向から見た場合、前記センス配線は、前記高電位側導体または前記低電位側導体と対向する対向部を有し、前記第1金属部は、前記対向部と重なる部分に凹部を形成し、前記凹部の深さは、当該凹部の底部と前記センス配線の距離が当該センス配線と前記高電位側導体または前記低電位側導体との距離よりも大きくなるように形成される。

Description

パワー半導体装置
 本発明は、パワー半導体装置に関し、特に車載用駆動用のモータを制御するパワー半導体装置に関する。
 近年、パワー半導体装置を搭載する電力変換装置には、短絡保護機能の搭載や高放熱化が求められている。特許文献1では、短絡電流の立ち上がり時や立下り時のdi/dtが大きな場合においても、主回路端子と制御端子の磁気結合によって保護動作が確実になる手段が開示されている。また、特許文献2では、パワー半導体素子を外部金属で覆うことで放熱性を向上させる構造が開示されている。 
 しなしながら、パワー半導体装置の短絡保護発生時における信頼性を更に向上させることが求められている。
特開2014-229642号公報 特開2016-36194号公報
 本発明の課題は、パワー半導体装置の放熱性を損なうことなく過電流発生時の過電圧を抑制し、信頼性を向上させることである。
 本発明に係るパワー半導体装置は、低電位側電極と高電位側電極とセンス電極を有するパワー半導体素子と、前記低電位側電極と電気的に繋がる低電位側導体と、前記センス電極と電気的に繋がるセンス配線と、前記センス配線を挟んで前記低電位側導体と対向する第1金属部と、を備え、前記第1金属部は、前記センス配線と前記第1金属部の配列方向から見た場合、前記センス配線は、前記低電位側導体と対向する対向部を有し、前記第1金属部は、前記対向部と重なる部分に凹部を形成し、前記凹部の深さは、当該凹部の底部と前記センス配線の距離が当該センス配線と前記低電位側導体の距離よりも大きくなるように形成される。
 これにより、磁気結合を抑制する原因となっている外部金属である放熱ベースに凹部を設けることによってパワー半導体内部で主回路と制御端子を磁気結合させ、短絡保護発生時に制御端子の電圧を緩やかにオフさせることによって半導体素子の劣化の原因となる過電圧を抑制する。
 本発明によれば、パワー半導体モジュールの放熱性を損なうことなく過電流発生時の過電圧を抑制できる。
本実施形態に係るパワー半導体装置100の外観正面図である。 本実施形態に係るパワー半導体装置100であって図1とは反対方向から見た外観正面図である。 図1に示されたパワー半導体装置100からモールド材405を取り除いた内部構造図である。 図3に示されたパワー半導体装置100から低電位側導体201U及び201Lを取り除いた内部構造図である。 図1に示されるA-A’断面を矢印方向から見たパワー半導体装置100の断面図である。 本実施形態に係るパワー半導体装置100に対応する駆動回路の構成を示す回路図である。 インバータ回路の短絡保護を発生した場合におけるインバータ回路の下アーム側の動作波形である。 他の実施形態に係るパワー半導体装置200を示す外観正面図である。 図8に示されたパワー半導体装置200の一点鎖線を通る断面を矢印方向から見た断面図である。
 以下、図面を参照して、本発明に係るパワー半導体装置の実施の形態について説明する。なお、各図において同一要素については同一の符号を記し、重複する説明は省略する。本発明は以下の実施形態に限定されることなく、本発明の技術的な概念の中で種々の変形例や応用例をもその範囲に含むものである。
 図1は、本実施形態に係るパワー半導体装置100の外観正面図である。図2は、本実施形態に係るパワー半導体装置100であって図1とは反対方向から見た外観正面図である。図3は、図1に示されたパワー半導体装置100からモールド材405を取り除いた内部構造図である。図4は、図3に示されたパワー半導体装置100から低電位側導体201U及び201Lを取り除いた内部構造図である。図5は、図1に示されるA-A’断面を矢印方向から見たパワー半導体装置100の断面図である。図6は、本実施形態に係るパワー半導体装置100に対応する駆動回路の構成を示す回路図である。
 図4に示されるパワー半導体素子204として、例えばMOSFETまたはIGBTを用いることができる。またパワー半導体素子204は、インバータ回路の上アームを構成する上アーム側のパワー半導体素子204Uと、インバータ回路の下アームを構成する下アーム側のパワー半導体素子204Lと、により構成される。
 図4及び図6に示されるように、交流出力端子103は、下アーム側のパワー半導体素子204Lのエミッタ電極側と接続される高電位側導体205Lと接続される。中間電極207は、図3及び図6に示される低電位側導体201Uと高電位側導体205Lを接続する。中間電極206は、図3及び図6に示される低電位側導体201Lと高電位側導体205Lを接続する。高電位側導体205Uは、図6のインバータ回路の上アーム側の高電位側の導体を構成する。
 図4に示されるパワー半導体素子204U及び204Lは、正極センス電極301と、負極センス電極302と、低電位側電極303と、高電位側電極304と(パワー半導体素子204Lの裏面側)、をそれぞれ備える。これらの電極は、IGBTの場合には、正極センス電極301がゲート電極、負極センス電極302がケルビンエミッタ電極、低電位側電極303がエミッタ電極、高電位側電極304がコレクタ電極に相当する。また、MOSFETの場合には、正極センス電極301がゲート電極、負極センス電極302がケルビンソース電極、低電位側電極303がソース電極、高電位側電極304がドレイン電極に相当する。
 正極センス配線203Lは、絶縁層401に実装される。正極センス配線203Lは、正極センス端子104Lと半田材を介して接続される。正極センス電極301は、正極センス配線203Lとワイヤボンディング305を介して電気的に接続される。
 負極センス配線202Lは、絶縁層401に実装される。負極センス配線202Lは、負極センス端子105Lと半田材を介して接続される。負極センス電極302は、負極センス配線202Lとワイヤボンディング306を介して電気的に接続されている。
 同様に、正極センス配線203Uは、絶縁層401に実装される。正極センス配線203Uは、正極センス端子104Uと半田材を介して接続される。
 負極センス配線202Uは、絶縁層401に実装される。負極センス配線202Uは、負極センス端子105Uと半田材を介して接続される。
 図5に示されるように、低電位側電極303は、半田材402を介してスペーサー403と電気的に接続される。スペーサー403は、半田材402を介して低電位側導体201Lと電気的に接続される。低電位側導体201Lは、半田材を介して、図4に示される低電位側端子102と電気的に接続される。
 図5に示されるように、高電位側電極304は、絶縁層401に実装された高電位側導体205Lと電気的に接続される。高電位側導体205Lは、半田材を介して高電位側端子101と電気的に接続される。
 半田接合用導体パターン404は、絶縁層401に実装される。第1金属部106は、半田材402を介して半田接合用導体パターン404と接続される。第1金属部106は、例えばアルミニウムや銅が用いられる。
 第1金属部106は、負極センス配線202Lを挟んで、低電位側導体201Lと対向している部分に凹部406が形成される。また正極センス配線203Lは、凹部406よりパワー半導体素子204Lに近い側に配置される。
 凹部406の深さは、凹部406の底部と負極センス配線202Lの距離が負極センス配線202Lと低電位側導体201の距離よりも大きくなるように形成される。これにより、低電位側導体201Lとセンス配線202Lには磁気結合が促進される。
 半田接合用導体パターン404が負極センス配線202Lの下部まである場合、負極センス配線202Lと低電位側導体201の磁気結合が弱まる。負極センス配線202Lと凹部406の配列方向から見た場合、凹部406は、導体である半田接合用導体パターン404および半田材402が重ならないように構成することが望ましい。これにより、負極センス配線202Lと低電位側導体201Lが強く磁気結合することができる。
 図6に示されるように、正極センス配線203Lは、ゲート抵抗502Lと接続される。またゲート抵抗502および負極センス配線202Lは信号源501Lに接続される。
 高電位側端子101は、平滑用コンデンサ504および直流電圧源505の正極側に接続される。低電位側端子102は、平滑用コンデンサ504および直流電圧源505の負極側に接続される。交流出力端子103には負荷が接続される。
 図7は、インバータ回路の短絡保護を発生した場合におけるインバータ回路の下アーム側の動作波形である。なお、図7はパワー半導体素子204LとしてMOSFETを用いた場合を示す。IGBTの場合や、上アームの場合でも同様の波形となる。
 t1において、誤動作や故障による上下アーム短絡が発生した時、図6に示された平滑用コンデンサ504から電流が流れ、ソース電流Isが急峻に上昇する。これを短絡電流という。
 t2において、短絡電流が検知されると図6の信号源501Lからの出力される信号がOFFされる。
 信号源501Lからの出力される信号がOFFされた後のt2~t3までのソース電流Isの立下り時のdi/dtによって負極センス配線202Lに電圧が誘導される。この誘導された電圧によってゲートソース間電圧Vgsの立下りが緩やかになり、短絡電流の急峻な減少が抑制される。短絡電流が緩やかに減少することによってドレインソース間に発生するサージ電圧Vdsが抑制され、サージ電圧による半導体素子の劣化を抑制することができる。
 図8は、他の実施形態に係るパワー半導体装置200を示す外観正面図である。図9は、図8に示されたパワー半導体装置200の一点鎖線を通る断面を矢印方向から見た断面図である。図8及び図9に示される実施形態において、図1ないし図7にて説示された構成と同じ図面番号が付された構成は、図1ないし図7にて説示された機能と同様である。
 第1金属部106は、図5にて示された構造と同様に、負極センス配線202Lや負極センス配線202Uを挟んで、低電位側導体201と対向している部分に凹部406が形成されている。
 さらに本実施形態においては、第2金属部107は、パワー半導体素子204Uや204Lを挟んで第1金属部106を対向する位置に配置される。第2金属部107は、半田接合用導体パターン404と半田材402を介して接続されている。例として、第2金属部107には、アルミニウムや銅が用いられる。
 第2金属部107は、低電位側導体201Lや201Uを挟んで、負極センス配線202Lや202Uと対向している部分に凹部407が形成される。この時、正極センス配線203Lや203Uは、凹部407より内側に配置されている必要がある。
 凹部407の深さは、この凹部407の底部と低電位側導体201L又は201Uの距離が負極センス配線202Lまたは202Uと低電位側導体201Lまたは201Uの距離よりも大きくなるように形成される。凹部407によって、負極センス配線202と低電位側導体201が磁気結合される。
 図6に示されるように、正極センス配線203Uや203Lは、ゲート抵抗502Uと電気的に接続され、ゲート抵抗502Uおよび負極センス配線202Uや203Lは信号源501Uに接続される。凹部406および凹部407により、低電位側導体201とセンス配線202には磁気結合構造が構成される。
 本実施形態によれば、図1ないし図7に示された実施形態と同様の効果に加えて、更なる放熱性の向上と過電流発生時の過電圧を抑制させることができる。
 また図1ないし図9に示された第1金属部106の凹部406の幅又は第2金属部107の凹部407の幅が、センス配線202の幅よりも大きくなるように形成される。これにより、過電流発生時の過電圧の抑制効果を更に高めることができる。
100…パワー半導体装置、101…高電位側端子、102…低電位側端子、103…交流出力端子、104L…正極センス端子、104U…正極センス端子、105L…負極センス端子、105U…負極センス端子、106…第1金属部、107…第2金属部、200…パワー半導体装置、201L…低電位側導体、201U…低電位側導体、202L…負極センス配線、202U…負極センス配線、203L…正極センス配線、203U…正極センス配線、204L…下アーム側のパワー半導体素子、204U…上アーム側のパワー半導体素子、205L…高電位側導体、205U…高電位側導体、206…中間電極、207…中間電極、301…正極センス電極、302…負極センス電極、303…低電位側電極、304…高電位側電極、305…ワイヤボンディング、306…ワイヤボンディング、401…絶縁層、402…半田材、403…スペーサー、404…半田接合用導体パターン、405…モールド材、406…凹部、407…凹部、501L…信号源、502L…ゲート抵抗、504…平滑用コンデンサ、505…直流電圧源

Claims (6)

  1.  低電位側電極と高電位側電極とセンス電極を有するパワー半導体素子と、
     前記高電位側電極と電気的に繋がる高電位側導体と、
     前記低電位側電極と電気的に繋がる低電位側導体と、
     前記センス電極と電気的に繋がるセンス配線と、
     前記センス配線を挟んで前記低電位側導体又は前記低電位側導体と対向する第1金属部と、を備え、
     前記第1金属部は、前記センス配線と前記第1金属部の配列方向から見た場合、
     前記センス配線は、前記高電位側導体または前記低電位側導体と対向する対向部を有し、
     前記第1金属部は、前記対向部と重なる部分に凹部を形成し、
     前記凹部の深さは、当該凹部の底部と前記センス配線の距離が当該センス配線と前記高電位側導体または前記低電位側導体との距離よりも大きくなるように形成されるパワー半導体装置。
  2.  請求項1にパワー半導体装置であって、
     前記第1金属部の前記凹部の幅が、前記センス配線の幅よりも大きくなるように形成されるパワー半導体装置。
  3.  請求項1または2に記載のパワー半導体装置であって、
     前記センス配線と前記低電位側電極を挟んで前記第1金属部と互いに対向する第2金属部を備えたパワー半導体装置。
  4.  請求項3に記載のパワー半導体装置であって、
     前記第2金属部は、前記センス配線の前記対向部と重なる部分に凹部を形成し、
     前記凹部の深さは、当該凹部の底面と前記センス配線の距離が当該センス配線と前記低電位側導体の距離よりも大きくなるように形成されるパワー半導体装置。
  5.  請求項4に記載のパワー半導体装置であって、
     前記第2金属部の前記凹部の幅が、前記センス配線の幅よりも大きくなるように形成されるパワー半導体装置。
  6.  請求項1ないし5に記載のいずれかのパワー半導体装置であって、
     前記センス配線は、負極センス配線により構成され、
     前記負極センス配線とは異なる正極センス配線を備え、
     前記センス配線と前記第1金属部の配列方向から見た場合、
     前記負極センス配線は、前記凹部と重なり、
     前記正極センス配線は凹部に重ならないように設けられるパワー半導体装置。
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