WO2019234787A1 - 電子線装置 - Google Patents
電子線装置 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2019234787A1 WO2019234787A1 PCT/JP2018/021335 JP2018021335W WO2019234787A1 WO 2019234787 A1 WO2019234787 A1 WO 2019234787A1 JP 2018021335 W JP2018021335 W JP 2018021335W WO 2019234787 A1 WO2019234787 A1 WO 2019234787A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- scanning
- electron beam
- coil
- correction
- phase change
- Prior art date
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims abstract description 29
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 17
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1478—Beam tilting means, i.e. for stereoscopy or for beam channelling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1472—Deflecting along given lines
- H01J37/1474—Scanning means
- H01J37/1475—Scanning means magnetic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/14—Lenses magnetic
- H01J37/141—Electromagnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
- H01J2237/1506—Tilting or rocking beam around an axis substantially at an angle to optical axis
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/153—Correcting image defects, e.g. stigmators
- H01J2237/1534—Aberrations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/26—Electron or ion microscopes
- H01J2237/28—Scanning microscopes
- H01J2237/2803—Scanning microscopes characterised by the imaging method
Definitions
- a spherical aberration correction coil is provided in the gap portion of the yoke (magnetic path) of the objective lens, and even when the deflection frequency is increased, the spherical aberration can be corrected by following the deflection signal, and a clear ECP can be obtained.
- An electron beam apparatus capable of obtaining an image is provided.
- FIG. 4 shows a cross-sectional view of the objective lens 6 and the correction coil 3.
- the objective lens 6 includes a coil 62 that excites a magnetic field that forms a magnetic field lens, and a magnetic pole 61, and the correction coil 3 is disposed in the gap of the magnetic pole 61.
- the electron beam 5 is ideally angle-scanned around the point f of the sample surface as an axis, but in reality, it shifts to f ′ according to the deflection angle ⁇ 0 due to spherical aberration.
- the shift amount ⁇ Z i is expressed by (Equation 1).
- ⁇ Z i A ⁇ C S ⁇ ⁇ 0 2 (Formula 1)
- C S is a spherical aberration coefficient of the objective lens 6
- A is a proportionality constant.
- FIG. 1 shows waveforms of the correction coil signal (I cor ) 101 and the scanning coil signals (I X , I Y ) 102 and 103.
- the cycle of the scanning coil signal I Y in the Y direction is about 10 2 to 10 3 times larger than the cycle of the scanning coil signal I X in the X direction. Therefore, in the range shown in FIG. 1, the scanning coil signal I Y in the Y direction is expressed as being substantially constant.
- Patent Document 1 shows that when there is a deviation between the axis of the objective lens 6 and the axis of the correction coil 3, it can be corrected by a function of the same form as (Equation 4).
- the electron beam apparatus has a plurality of scanning modes having different scanning speeds. Therefore, using one of the scanning modes as a reference scanning mode, phase change amounts a ′ and b ′ for aligning the axis of the objective lens 6 and the axis of the correction coil 3 are obtained, and the phase change amount is determined according to the scanning mode. Correct.
- the function of the current value I cor of the correction coil 3 is expressed by (Equation 5).
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
試料上の所定の入射位置に入射される電子ビームの入射角を変化させる角度走査を行う電子線装置において、補正コイル(3)を対物レンズ(6)のヨーク(磁路)(61)の間隙部に設けられた場合に、偏向周波数が高くなっても偏向信号に追従して球面収差を補正可能とする。このため、電子光学系を制御する主制御部(16)は、補正コイルの制御に走査コイルの制御に対する所定の位相変化量(a,b)を設定し、所定の位相変化量(a,b)は、走査速度の異なる複数の走査モードに応じて異ならせる。
Description
本発明は、走査電子顕微鏡や透過電子顕微鏡等の電子線装置に係り、特に電子チャネリングパターンの観察に好適な電子線装置に関する。
走査電子顕微鏡(SEM:Scanning Electron Microscope)や透過電子顕微鏡(TEM:Transmission Electron Microscope)の応用として、観察部のミクロな結晶構造が得られる制限視野電子チャネリングパターン(SACP:Selected Area Electron Channeling Pattern)法がある。SACP法では、電子ビームを試料上の一点に固定し、その入射角を変化させる角度走査を行い、電子チャネリングパターン(ECP:Electron Channeling Pattern)像を得る。ECP像に現れる試料における結晶方位分布から試料の結晶構造、結晶歪を解析することができる。
ECP像を得るために角度走査を行う場合、偏向器により電子ビームを偏向し、対物レンズにより光軸外に偏向された電子ビームを振り戻すことにより、電子ビームの試料への入射角を変化させる。電子ビームが大幅に軸外に外れて対物レンズを通過すると、対物レンズの球面収差により電子ビームが一点に固定されずに照射領域が広がり、鮮明なECP像を得ることができない。このため、SACP法を適用してECP像を観察する電子光学系には、この球面収差を補正する補正器が設けられている。
ECP像を得るための電子線装置を開示する先行技術文献として特許文献1、特許文献2が挙げられる。特許文献1は、球面収差を精度よく補正するため、球面収差を補正するダイナミックフォーカスレンズの軸と対物レンズの軸とを軸合わせするものであるが、この軸合わせのため、ダイナミックフォーカスレンズに供給する補正電流の位相を制御することが開示されている。また、特許文献2では、偏向周波数が高くなった場合でも、偏向信号に追従して球面収差を補正するため、偏向器と対物レンズとの間にレンズ手段を設け、その焦点距離を調整する、あるいは対物レンズ内に静電レンズを設け、静電レンズのレンズ作用を調整することにより、球面収差を補正することが開示されている。
特許文献2の従来技術として、球面収差を補正する球面収差補正コイルを対物レンズのヨーク(磁極)の間隙部に設ける構成が開示されている。この構成では、対物レンズコイルによって生じる磁路の影響を受けて、球面収差補正コイルが見かけ上、有芯コイルとして作用し、そのインダクタンスが大きくなってしまう。このため、偏向周波数が高くなると、球面収差補正コイルが持つインダクタンスのために球面収差補正コイルの電流波形が偏向信号に追従できず、忠実にレンズ強度を応答させることが困難となり、速い角度走査ができないという問題がある。
本発明は、球面収差補正コイルを対物レンズのヨーク(磁路)の間隙部に設ける構成において、偏向周波数が高くなった場合でも、偏向信号に追従して球面収差を補正可能とし、鮮明なECP像を得ることが可能な電子線装置を提供するものである。
本発明の一実施態様である電子線装置は、試料上の所定の入射位置に入射される電子ビームの入射角を変化させる角度走査を行い、角度走査の走査速度の異なる複数の走査モードを有する電子線装置であって、電子ビームを偏向する走査コイルと、走査コイルによって光軸外に偏向された電子ビームを振り戻す対物レンズと、対物レンズの磁極の空隙部に配置される補正コイルと、走査コイル、対物レンズ及び補正コイルを含む電子光学系を制御する主制御部とを有し、主制御部は、補正コイルの制御に走査コイルの制御に対する所定の位相変化量を設定し、所定の位相変化量は複数の走査モードに応じて異なる。
走査モードに好適な位相変化量を設定することで、異なる走査速度においても正確な球面収差補正が可能になる。
その他の課題と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
図3に、ECP像を得る電子線装置における電子光学系の概略構成図を示す。電子源1から照射された電子ビーム5は集束レンズ2によって集束され、走査コイル4によって偏向される。対物レンズ6は走査コイル4によって光軸外に偏向された電子ビーム5を振り戻して、試料7の表面上を角度走査させるための磁界を形成する。既に述べたように、偏向角が数度から十数度と大幅に軸外に外れると、対物レンズ6の球面収差のために電子ビーム5の照射位置が一点に固定されずに照射領域が拡がり、鮮明なECP像が得られない。このため、対物レンズ6の球面収差を補正する補正コイル3が設けられ、補正コイル3が偏向角に応じた励磁量で励磁されることにより、対物レンズ6の球面収差を補正する。
図4に対物レンズ6と補正コイル3の断面図を示す。対物レンズ6は磁場レンズを形成する磁場を励磁するコイル62と磁極61とを含み、補正コイル3は磁極61の空隙部に配置される。
電子光学系は鏡体10に格納され、電子光学系を構成する各光学要素はそれぞれを制御する制御部11~15によって制御され、さらに主制御部16は各制御部11~15を制御する。主制御部16は、各制御部11~15を制御して所望の光学条件で試料7に電子ビーム5を照射し、試料7から放出される信号電子を図示しない検出器により検出し、ECP像を得る。
主制御部16が実行する補正コイル3の制御について説明する。図2Aにおいて、走査コイル4で偏向された電子ビーム5は対物レンズ6で振り戻されて、理想的には試料面の一点fを軸として角度走査される。なお、電子ビーム5は走査コイル4により光軸40に垂直なXY平面上で偏向される。このため、図2Bに示すように、走査コイル4は、電子ビーム5をX方向に偏向させる走査コイル41X,42X及び、電子ビーム5をY方向に偏向させる走査コイル41Y,42Yを有している。電子ビーム5の偏向量は走査コイルに流す電流量に応じて決まる。より具体的には、電子ビーム5のX方向の偏向量は走査コイル41X,42Xに流すX成分の電流量IXに応じて決まり、電子ビーム5のY方向の偏向量は走査コイル41Y,42Yに流すY成分の電流量IYに応じて決まる。
ここで、図2Aに示すように、電子ビーム5は理想的には試料面の一点fを軸として角度走査されるが、実際には球面収差により偏向角θ0に応じてf’にずれる。光軸上のf-f’間距離をずれ量ΔZiとすると、ずれ量ΔZiは(式1)で表される。
ΔZi=A・CS・θ0 2 ・・・(式1)
ここで、CSは対物レンズ6の球面収差係数であり、Aは比例定数である。
ΔZi=A・CS・θ0 2 ・・・(式1)
ここで、CSは対物レンズ6の球面収差係数であり、Aは比例定数である。
また、対物レンズ6の磁極の空隙部に配置される補正コイル3に電流Icorを流したときに、対物レンズ6に生じる焦点変化量ΔZcは(式2)で表される。
ΔZc=B・Icor ・・・(式2)
ここで、Bは比例定数である。
ΔZc=B・Icor ・・・(式2)
ここで、Bは比例定数である。
したがって、ΔZcとΔZiの和がゼロになるようにΔZcを制御すれば、対物レンズ6の球面収差は補正される。走査コイル4に流すX成分の電流量IX、Y成分の電流量IYとすると、理想的な系において、球面収差を補正するため補正コイル3に流す補正電流Icorは(式3)で表される。
Icor=C・Cs・(IX 2+IY 2) ・・・(式3)
ここで、Cは比例定数である。
Icor=C・Cs・(IX 2+IY 2) ・・・(式3)
ここで、Cは比例定数である。
走査コイル4と補正コイル3とは同期制御される。図1に補正コイル信号(Icor)101と走査コイル信号(IX,IY)102,103の波形を示す。取得するECP像のピクセル数に依存するが、Y方向の走査コイル信号IYの周期は、X方向の走査コイル信号IXの周期の102~103倍程度大きい。このため、図1に示す範囲ではY方向の走査コイル信号IYはほぼ一定として表される。このため、(式3)にしたがって補正電流Icorが制御されると、補正コイル3入口における補正コイル信号1010(実線)は、実質的に走査コイル信号(IX)102に同期して制御される。ここで、既に説明したように、補正コイル3が対物レンズ6の磁極の間隙部に設けられた場合、補正コイル3のインダクタンスが大きくなり、偏向周波数が高くなった場合、補正電流Icorは走査コイル信号102に追従できない。すなわち、補正コイル3出口における補正コイル信号1011(点線)は、補正コイル3入口における補正コイル信号1010に対して遅延を生じる。このような補正コイル3の補正電流Icorの応答遅れにより、(式3)では対物レンズ6の球面収差を正確に補正することができない。そこで、Icorの応答遅れを補正するため、補正コイル3の電流値Icorを(式4)に示される関数により制御するものとする。
Icor=C・Cs・{(IX-a)2+(IY-b)2} ・・・(式4)
ここで、a,bは位相変化量である。すなわち、走査速度、図1の例では走査コイル信号102の周波数あるいは周期に応じて、位相変化量a,bを設定することにより、より正確な球面収差補正を行うことが可能になる。
Icor=C・Cs・{(IX-a)2+(IY-b)2} ・・・(式4)
ここで、a,bは位相変化量である。すなわち、走査速度、図1の例では走査コイル信号102の周波数あるいは周期に応じて、位相変化量a,bを設定することにより、より正確な球面収差補正を行うことが可能になる。
さらに、特許文献1において、対物レンズ6の軸と補正コイル3の軸とにずれがある場合、(式4)と同じ形式の関数により補正できることが示されている。通常、電子線装置は走査速度の異なる複数の走査モードを有している。そこで、そのうちの1つの走査モードを基準走査モードとして、対物レンズ6の軸と補正コイル3の軸との軸合わせを行う位相変化量a’,b’を求め、走査モードに応じて位相変化量を補正する。このとき、補正コイル3の電流値Icorの関数は(式5)により表される。
Icor=C・Cs・[{IX-(a’+αi)} 2+{IY-(b’+βi)} 2] ・・・(式5)
ここで、αi,βiは走査モードiにおける基準走査モードからの位相補正量である。(a’+αi)、(b’+βi)が、各走査モードにおいて、それぞれ(式4)における位相変化量a、bに相当する。
Icor=C・Cs・[{IX-(a’+αi)} 2+{IY-(b’+βi)} 2] ・・・(式5)
ここで、αi,βiは走査モードiにおける基準走査モードからの位相補正量である。(a’+αi)、(b’+βi)が、各走査モードにおいて、それぞれ(式4)における位相変化量a、bに相当する。
関数(式5)に基づくECP像撮像フローを図5に示す。まず、電子線装置の光学条件を設定し、補正コイル動作条件の調整を行う(S01)。ステップS01における補正コイル動作条件の調整はあらかじめ定められた基準走査モードにおいて行い、位相変化量a’,b’を求める。走査モードの変更を行わない場合(S02でNO)は、そのままECP像の撮像を行い(S04)、走査モードの変更を行う場合(S02でYES)は、走査モードに応じた位相変化量a,bの設定を行う(S03)。主制御部16は、図6に示すような補正テーブルを記憶しており、主制御部16は選択された走査モードに応じ、位相変化量a,bを自動で算出する。補正テーブル601は、走査モードに応じた位相補正量αi,βiを保持している。この例では、電子線装置はN個の走査モードを有し、iが大きいほど、角度走査する走査速度が速いものとする。基準走査モードを走査モードNとし、走査モードに応じ、基準走査モードの位相変化量からの位相補正量αi,βiが保持されている。基準走査モードを走査速度のより速い走査モードNとすることで、ステップ501における調整時間をより短縮することが可能になる。主制御部16は、ステップS02で走査モードiが選択された場合、位相変化量をそれぞれa=a’+αi、b=b’+βiとして自動設定する。ステップS03で設定された位相変化量で補正コイルを制御し、ECP像の撮像を行う(S04)。なお、X方向、Y方向の位相変化量をそれぞれ走査モードに応じて補正する例について説明したが、図1に示したようにY方向の走査コイル信号103の周期はX方向の走査コイル信号102の周期に比べて極めて大きいため、同期制御に与える影響も著しく小さい。このため、ステップS03において、位相変化量をそれぞれa=a’+αi、b=b’として自動設定してもよい。この場合、補正テーブル601のβ欄は不要になる。
1:電子源、2:集束レンズ、3:補正コイル、4:走査コイル、5:電子ビーム、6:対物レンズ、7:試料、11:電子源制御部、12:集束レンズ制御部、13:走査コイル制御部、14:対物レンズ制御部、15:補正コイル制御部、16:主制御部。
Claims (12)
- 試料上の所定の入射位置に入射される電子ビームの入射角を変化させる角度走査を行い、前記角度走査の走査速度の異なる複数の走査モードを有する電子線装置であって、
電子ビームを偏向する走査コイルと、
前記走査コイルによって光軸外に偏向された電子ビームを振り戻す対物レンズと、
前記対物レンズの磁極の空隙部に配置される補正コイルと、
前記走査コイル、前記対物レンズ及び前記補正コイルを含む電子光学系を制御する主制御部とを有し、
前記主制御部は、前記補正コイルの制御に前記走査コイルの制御に対する所定の位相変化量を設定し、前記所定の位相変化量は前記複数の走査モードに応じて異なる電子線装置。 - 請求項1において、
前記補正コイルにより、前記対物レンズで発生する球面収差を補正する電子線装置。 - 請求項1において、
前記複数の走査モードは、基準走査モードを含み、
前記主制御部は、前記複数の走査モードにおける位相変化量と前記基準走査モードにおける位相変化量との差である位相補正量を記憶している電子線装置。 - 請求項3において、
前記主制御部は、前記複数の走査モードの一つである第1の走査モードにおける位相変化量を、前記基準走査モードにおいて設定された位相変化量を前記第1の走査モードの前記位相補正量により補正することにより、設定する電子線装置。 - 請求項4において、
前記基準走査モードにおいて前記対物レンズと前記補正コイルとの軸合わせがなされるよう、前記基準走査モードの位相変化量が設定される電子線装置。 - 請求項5において、
前記基準走査モードの走査速度は、前記第1の走査モードの走査速度よりも速い電子線装置。 - 請求項1において、
前記走査コイルは電子ビームをX方向に偏向させる第1の走査コイルと電子ビームをY方向に偏向させる第2の走査コイルとを有し、前記第1の走査コイルは第1の走査コイル信号IX、前記第2の走査コイルは第2の走査コイル信号IYにより制御され、
前記補正コイルは、補正コイル信号Icorにより制御され、
前記所定の位相変化量をa、bとすると、
前記主制御部は、補正コイル信号Icorの制御量を、前記対物レンズの球面収差係数Csと{(IX-a)2+(IY-b)2}との積の関数とする電子線装置。 - 請求項7において、
前記複数の走査モードは、基準走査モードを含み、
前記基準走査モードにおける位相変化量をa’、b’とし、前記複数の走査モードの一つである第1の走査モードにおける位相変化量と前記基準走査モードにおける位相変化量との差である位相補正量をαi、βiとすると、
前記主制御部は、前記第1の走査モードにおける補正コイル信号Icorの制御量を、前記対物レンズの球面収差係数Csと[{IX-(a’+αi)} 2+{IY-(b’+βi)} 2]との積の関数とする電子線装置。 - 請求項8において、
前記主制御部は、前記αi及び前記βiを記憶している電子線装置。 - 請求項7において、
前記複数の走査モードは、基準走査モードを含み、
前記基準走査モードにおける位相補正量をa’、b’とし、前記複数の走査モードの一つである第1の走査モードにおける位相変化量と前記基準走査モードにおける位相変化量との差である位相補正量をαi、βiとすると、
前記主制御部は、前記複数の走査モードの一つである第1の走査モードにおける補正コイル信号Icorの制御量を、前記対物レンズの球面収差係数Csと[{IX-(a’+αi)} 2+(IY-b’) 2]との積の関数とする電子線装置。 - 請求項10において、
前記主制御部は、前記αiを記憶している電子線装置。 - 請求項8または請求項10において、
前記基準走査モードにおいて、前記主制御部が補正コイル信号Icorの制御量を、前記対物レンズの球面収差係数Csと{(IX-a’) 2+(IY-b’) 2}との積の前記関数で制御することにより、前記対物レンズと前記補正コイルとの軸合わせがなされる電子線装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201880094321.9A CN112236837B (zh) | 2018-06-04 | 2018-06-04 | 电子束装置 |
JP2020523851A JP7027538B2 (ja) | 2018-06-04 | 2018-06-04 | 電子線装置 |
PCT/JP2018/021335 WO2019234787A1 (ja) | 2018-06-04 | 2018-06-04 | 電子線装置 |
US15/734,845 US20210233737A1 (en) | 2018-06-04 | 2018-06-04 | Electron Beam Apparatus |
DE112018007564.8T DE112018007564T5 (de) | 2018-06-04 | 2018-06-04 | Elektronenstrahlvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/021335 WO2019234787A1 (ja) | 2018-06-04 | 2018-06-04 | 電子線装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019234787A1 true WO2019234787A1 (ja) | 2019-12-12 |
Family
ID=68770854
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/021335 WO2019234787A1 (ja) | 2018-06-04 | 2018-06-04 | 電子線装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210233737A1 (ja) |
JP (1) | JP7027538B2 (ja) |
CN (1) | CN112236837B (ja) |
DE (1) | DE112018007564T5 (ja) |
WO (1) | WO2019234787A1 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652859A (en) * | 1979-10-05 | 1981-05-12 | Hitachi Ltd | Scanning type electron microscope |
JPS6261253A (ja) * | 1985-09-12 | 1987-03-17 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
JPS62184750A (ja) * | 1986-02-07 | 1987-08-13 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
JPS6430154A (en) * | 1987-07-24 | 1989-02-01 | Jeol Ltd | Electron beam device |
JPH0432143A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-04 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006216299A (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-17 | Jeol Ltd | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置における収差補正器の軸合わせ方法 |
JP2006302523A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Jeol Ltd | 走査像観察機能を有した透過電子顕微鏡 |
JP4291827B2 (ja) * | 2006-03-28 | 2009-07-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡又は測長semの調整方法 |
JP4903675B2 (ja) * | 2006-12-29 | 2012-03-28 | 株式会社リコー | 収差評価方法、収差補正方法、電子線描画装置、電子顕微鏡、原盤、スタンパ、記録媒体、及び構造物 |
US7888640B2 (en) * | 2007-06-18 | 2011-02-15 | Hitachi High-Technologies Corporation | Scanning electron microscope and method of imaging an object by using the scanning electron microscope |
JP2010015731A (ja) * | 2008-07-02 | 2010-01-21 | Hitachi High-Technologies Corp | 走査型電子顕微鏡、および走査型電子顕微鏡における画像の改良方法 |
DE102009052392A1 (de) * | 2009-11-09 | 2011-12-15 | Carl Zeiss Nts Gmbh | SACP-Verfahren und teilchenoptisches System zur Ausführung eines solchen Verfahrens |
TW201137923A (en) * | 2010-02-10 | 2011-11-01 | Halcyon Molecular Inc | Aberration-correcting dark-field electron microscopy |
JP5652859B2 (ja) | 2010-08-19 | 2015-01-14 | 株式会社ジェイエスピー | 複合積層体 |
JP5698157B2 (ja) * | 2012-01-06 | 2015-04-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置および傾斜観察画像表示方法 |
JP6261253B2 (ja) | 2013-09-19 | 2018-01-17 | 株式会社三共 | 遊技機 |
JP6430154B2 (ja) | 2014-06-17 | 2018-11-28 | スタンレー電気株式会社 | 撮像ユニット用ミラー装置 |
-
2018
- 2018-06-04 US US15/734,845 patent/US20210233737A1/en active Pending
- 2018-06-04 WO PCT/JP2018/021335 patent/WO2019234787A1/ja active Application Filing
- 2018-06-04 DE DE112018007564.8T patent/DE112018007564T5/de active Pending
- 2018-06-04 CN CN201880094321.9A patent/CN112236837B/zh active Active
- 2018-06-04 JP JP2020523851A patent/JP7027538B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652859A (en) * | 1979-10-05 | 1981-05-12 | Hitachi Ltd | Scanning type electron microscope |
JPS6261253A (ja) * | 1985-09-12 | 1987-03-17 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
JPS62184750A (ja) * | 1986-02-07 | 1987-08-13 | Jeol Ltd | 電子線装置 |
JPS6430154A (en) * | 1987-07-24 | 1989-02-01 | Jeol Ltd | Electron beam device |
JPH0432143A (ja) * | 1990-05-25 | 1992-02-04 | Hitachi Ltd | 電子線装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20210233737A1 (en) | 2021-07-29 |
DE112018007564T5 (de) | 2021-01-21 |
CN112236837B (zh) | 2024-03-15 |
CN112236837A (zh) | 2021-01-15 |
JPWO2019234787A1 (ja) | 2021-06-10 |
JP7027538B2 (ja) | 2022-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1302971B1 (en) | Method and device for the automatic generation of images adapted to align a charged particle beam column | |
US8405045B2 (en) | Particle beam device with deflection system | |
JP2007012306A (ja) | 荷電粒子線応用装置及び荷電粒子線応用方法 | |
JP2006253156A (ja) | 荷電粒子ビームカラムのアライメント方法および装置 | |
WO2011016182A1 (ja) | 荷電粒子顕微鏡 | |
JP2006012664A (ja) | 荷電粒子線装置及びその光軸調整方法 | |
JP4851268B2 (ja) | 収差補正方法および電子線装置 | |
US4393310A (en) | Method of and device for adjusting a shaped-electron-beam working device | |
JP4829584B2 (ja) | 電子線装置の自動調整方法及び電子線装置 | |
TWI723349B (zh) | 射束照射裝置 | |
WO2019234787A1 (ja) | 電子線装置 | |
JP2946537B2 (ja) | 電子光学鏡筒 | |
JP2004311472A (ja) | 電子線描画装置 | |
JP4328192B2 (ja) | 荷電粒子光学系における多極場発生装置および収差補正装置 | |
JP7361213B2 (ja) | 荷電粒子線装置、荷電粒子線装置の制御方法 | |
JP2008097902A5 (ja) | ||
JP5228463B2 (ja) | 電子線装置、電子線形状測定方法及び画像処理方法 | |
JP2002216685A (ja) | 軸調整装置および軸調整方法 | |
JP2008097902A (ja) | 電子ビーム装置及び該装置を用いた非点収差調整方法 | |
JPH0432143A (ja) | 電子線装置 | |
JP3112541B2 (ja) | 電子ビーム装置における非点補正方法 | |
JP2001229866A (ja) | 自動スティグマ調整装置 | |
JP2006080201A (ja) | 電子ビーム描画装置におけるフォーカス・非点収差補正調整方法 | |
JPS6151377B2 (ja) | ||
JPH03250773A (ja) | 透過電子顕微鏡の電子線補正装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 18922065 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2020523851 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 18922065 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |