WO2019106845A1 - Ｘ線像変換スクリーン、フラットパネルディテクタ、及びｘ線検査装置 - Google Patents
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Abstract
高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線像変換スクリーンを提供する。支持基板、及び、支持基板に積層された蛍光体層を含むＸ線像変換スクリ－ンであって、該蛍光体層は、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該Ｘ線像変換スクリーンの感度をｘ、ｑ'ＤＱＥをｙとした時に、感度１．９×１０３以上、且つ下記式（１）を満たすＸ線像変換スクリ－ン。 ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧５×１０３・・・（１）
Description
本発明は、Ｘ線像変換スクリーン、フラットパネルディテクタ、及びＸ線検査装置に存する。
従来、医療現場において、フィルムを用いたＸ線画像が広く用いられてきた。しかし、フィルムを用いたＸ線画像はアナログ画像情報であるため、解像度が十分でなく、また保存性も良くなかった。そこで、近年、コンピューテッドラジオグラフィ（ｃｏｍｐｕｔｅｄ ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ：ＣＲ）やフラットパネル型のＸ線ディテクタ（ｆｌａｔ ｐａｎｅｌ ｄｅｔｅｃｔｏｒ：ＦＰＤ）等のデジタル方式が開発されている。
Ｘ線を可視光に変換する間接方式のフラットパネルディテクタ（ＦＰＤ：フラットパネルディテクタ）においては、Ｘ線を可視光に変換するために、Ｘ線像変換スクリーンが使用される。Ｘ線像変換スクリーンは、タリウム賦活のヨウ化セシウム（ＣｓＩ：Ｔｌ）やテルビウム賦活の酸硫化ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ）（ＧＯＳ）等のＸ線蛍光体を含み、照射されたＸ線に応じて、該Ｘ線蛍光体が可視光を発光して、その発光をＴＦＴやＣＣＤなどを備えた光検出器で電気信号に変換することにより、Ｘ線の情報をデジタル画像情報に変換する。
ＦＰＤには、より照射Ｘ線に対する感度が高く、かつ高鮮鋭度のものが望まれている。感度を高めるためにはＸ線像変換スクリーンにおける蛍光体量を多くすることが有効であるが、蛍光体量を多くすると、Ｘ線像変換スクリーンの厚みが増して蛍光体から発光した可視光がより広がりやすくなり鮮鋭度が低下する。この光の拡散の影響を抑え、鮮鋭度を保ったまま感度を向上させるために、例えば、特許文献１では、蛍光体の平均粒径や充填率、膜厚などを調整する方法が開示されている。特許文献２では、シンチレータ層の表面に、凹凸パターンを形成する方法が開示されている。特許文献３では、大粒径な蛍光体粒子を含む第１の蛍光体領域と、小粒径な蛍光体粒子を含む第２の蛍光体領域とが前記光電変換素子に平行な方向に交互に配置され一体化される方法が開示されている。特許文献４では、金属膜を設けた支持体の上に蛍光体層を形成する方法が開示されている。
Ｘ線を可視光に変換する間接方式のフラットパネルディテクタ（ＦＰＤ：フラットパネルディテクタ）においては、Ｘ線を可視光に変換するために、Ｘ線像変換スクリーンが使用される。Ｘ線像変換スクリーンは、タリウム賦活のヨウ化セシウム（ＣｓＩ：Ｔｌ）やテルビウム賦活の酸硫化ガドリニウム（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ）（ＧＯＳ）等のＸ線蛍光体を含み、照射されたＸ線に応じて、該Ｘ線蛍光体が可視光を発光して、その発光をＴＦＴやＣＣＤなどを備えた光検出器で電気信号に変換することにより、Ｘ線の情報をデジタル画像情報に変換する。
ＦＰＤには、より照射Ｘ線に対する感度が高く、かつ高鮮鋭度のものが望まれている。感度を高めるためにはＸ線像変換スクリーンにおける蛍光体量を多くすることが有効であるが、蛍光体量を多くすると、Ｘ線像変換スクリーンの厚みが増して蛍光体から発光した可視光がより広がりやすくなり鮮鋭度が低下する。この光の拡散の影響を抑え、鮮鋭度を保ったまま感度を向上させるために、例えば、特許文献１では、蛍光体の平均粒径や充填率、膜厚などを調整する方法が開示されている。特許文献２では、シンチレータ層の表面に、凹凸パターンを形成する方法が開示されている。特許文献３では、大粒径な蛍光体粒子を含む第１の蛍光体領域と、小粒径な蛍光体粒子を含む第２の蛍光体領域とが前記光電変換素子に平行な方向に交互に配置され一体化される方法が開示されている。特許文献４では、金属膜を設けた支持体の上に蛍光体層を形成する方法が開示されている。
Ｘ線検査装置で撮影したＸ線像の画質を決定する要因としては、コントラスト（特性曲線の傾きγ）、解像特性・鮮鋭度（ＭＴＦ）、ノイズ特性・粒状度（ＷＳ）などが知られている。しかしながら、コントラスト、ＭＴＦ、ＷＳによる評価結果は、互いに必ずしも一致するとは限らず、また、得られたＸ線像の画質も必ずしも満足できるというものではなかった。
近年、画質を表す指標として、「鮮鋭度／ノイズ」で算出されるＤＱＥ（Ｄｅｔｅｃｔｉｖｅ ｑｕａｎｔｕｍ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ、検出量子効率）が注目されている。我々は、従来の技術では、特定の感度領域においては、感度とＤＱＥはトレードオフの関係にあることを明らかにした。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線像変換スクリーンを提供する。
また、本発明は、上記Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を含む、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なフラットパネルディテクタを提供する。
更に本発明は、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線検査装置を提供する。
また、本発明では、高感度と高画質の両立により、より低被ばく量でのＸ線検査が可能になり、特に人体にＸ線を照射するような医療用Ｘ線検査において、人の被ばく量を低減できる画像検査を可能にする医療用Ｘ線検査装置を提供する。
近年、画質を表す指標として、「鮮鋭度／ノイズ」で算出されるＤＱＥ（Ｄｅｔｅｃｔｉｖｅ ｑｕａｎｔｕｍ ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ、検出量子効率）が注目されている。我々は、従来の技術では、特定の感度領域においては、感度とＤＱＥはトレードオフの関係にあることを明らかにした。
本発明は上記に鑑みてなされたものであり、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線像変換スクリーンを提供する。
また、本発明は、上記Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を含む、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なフラットパネルディテクタを提供する。
更に本発明は、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線検査装置を提供する。
また、本発明では、高感度と高画質の両立により、より低被ばく量でのＸ線検査が可能になり、特に人体にＸ線を照射するような医療用Ｘ線検査において、人の被ばく量を低減できる画像検査を可能にする医療用Ｘ線検査装置を提供する。
本発明者等は鋭意検討を行った結果、特定の蛍光体を含有し、特定の特性を有するＸ線像変換スクリーンを用いることで、上記課題を解決しうることを見出し、本発明に到達した。
即ち、本発明の要旨は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含むＸ線像変換スクリ－ンであって、該蛍光体層は、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該Ｘ線像変換スクリーンの感度をｘ、ｑ’ＤＱＥをｙとした時に、感度１９００以上、且つ下記式（１）を満たすＸ線像変換スクリ－ン、該Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を備えたフラットパネルディテクタ、並びに、該フラットパネルディテクタを備えたＸ線像検査装置に存する。
ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧５×１０３ ・・・（１）
また、該蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量が、１１０ｍｇ／ｃｍ２以上であることが好ましい。
さらに、該蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量が、１４０ｍｇ／ｃｍ２以上であることが好ましい。
また、該支持基板の該蛍光体層が積層される面の反射率が、９０％以上であることが好ましい。
さらに、該支持基板の蛍光体層が積層される面の反射率が、９５％以上であることが好ましい。
また、該支持基板がチタニア、アルミナ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、及び炭酸マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。
また、該蛍光体層が含有する蛍光体の体積平均粒径が５μｍ以上、１５μｍ以下であることが好ましい。
また、該蛍光体層が平面であることが好ましい。
また、該蛍光体層と該支持基板との間に金属膜を含まないことが好ましい。
即ち、本発明の要旨は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含むＸ線像変換スクリ－ンであって、該蛍光体層は、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該Ｘ線像変換スクリーンの感度をｘ、ｑ’ＤＱＥをｙとした時に、感度１９００以上、且つ下記式（１）を満たすＸ線像変換スクリ－ン、該Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を備えたフラットパネルディテクタ、並びに、該フラットパネルディテクタを備えたＸ線像検査装置に存する。
ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧５×１０３ ・・・（１）
また、該蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量が、１１０ｍｇ／ｃｍ２以上であることが好ましい。
さらに、該蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量が、１４０ｍｇ／ｃｍ２以上であることが好ましい。
また、該支持基板の該蛍光体層が積層される面の反射率が、９０％以上であることが好ましい。
さらに、該支持基板の蛍光体層が積層される面の反射率が、９５％以上であることが好ましい。
また、該支持基板がチタニア、アルミナ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、及び炭酸マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有することが好ましい。
また、該蛍光体層が含有する蛍光体の体積平均粒径が５μｍ以上、１５μｍ以下であることが好ましい。
また、該蛍光体層が平面であることが好ましい。
また、該蛍光体層と該支持基板との間に金属膜を含まないことが好ましい。
上記の特性を有したＸ線像変換スクリ－ンは、発明の実施形態において後述する通り、蛍光体の種類、蛍光体の粒子径、蛍光体の粒子径分布、Ｘ線像変換スクリーンへの蛍光体の塗布量、蛍光体層における蛍光体の充填率、蛍光体を塗布する支持基板の反射率等を適宜調整することにより作成することができる。
本発明により、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線像変換スクリーンを提供することが可能になる。
また、本発明は、上記Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を含む、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なフラットパネルディテクタを提供することが可能になる。
更に本発明は、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線検査装置を提供することが可能になる。
また、本発明では、高感度と高画質の両立により、より低被ばく量でのＸ線検査が可能になり、特に人体にＸ線を照射するような医療用Ｘ線検査において、人の被ばく量を低減できる画像検査を可能にする医療用Ｘ線検査装置を提供することが可能になる。
また、本発明は、上記Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を含む、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なフラットパネルディテクタを提供することが可能になる。
更に本発明は、高感度領域で画質の優れたＸ線像の撮像が可能なＸ線検査装置を提供することが可能になる。
また、本発明では、高感度と高画質の両立により、より低被ばく量でのＸ線検査が可能になり、特に人体にＸ線を照射するような医療用Ｘ線検査において、人の被ばく量を低減できる画像検査を可能にする医療用Ｘ線検査装置を提供することが可能になる。
以下、本発明について実施形態や例示物を示して説明するが、本発明は以下の実施形態や例示物等に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において任意に変形して実施することができる。
尚、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
以下、図１を用いて本発明の実施形態に係るＸ線像変換スクリーン、およびそれを用いたフラットパネルディテクタ（以下、「ＦＰＤ」と称する場合がある）の好ましい構成について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
尚、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
以下、図１を用いて本発明の実施形態に係るＸ線像変換スクリーン、およびそれを用いたフラットパネルディテクタ（以下、「ＦＰＤ」と称する場合がある）の好ましい構成について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
本発明者らは、蛍光体層、支持基板を調整して、高感度領域で、高画質のＸ線像を実現できる、Ｘ線像変換スクリーンの製造を試みた。すなわち、本発明者らは、蛍光体としてＴｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を用い、該蛍光体の平均粒径、蛍光体を含有する蛍光体層の蛍光体充填率、支持基板の反射率を様々に変化させて組み合わせたＸ線像変換スクリーンを繰り返し試作した。そして、本発明者らは、鋭意研究の末、試作したＸ線像変換スクリーンの感度およびｑ’ＤＱＥの測定結果から、Ｘ線像変換スクリーンの感度をｘ、ｑ’ＤＱＥをｙとした時に、式（１）を満たすことにより、感度１．９×１０３以上の高感度領域で、低被ばく量で高い画質のＸ線像が得られることを見出した。
すなわち、本発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含むＸ線像変換スクリ－ンであって、該蛍光体層は、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該Ｘ線像変換スクリーンの感度をｘ、ｑ’ＤＱＥをｙとした時に、感度１．９×１０３以上、且つ下記式（１）を満たすＸ線像変換スクリ－ン、該Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を備えたフラットパネルディテクタ、並びに、該フラットパネルディテクタを備えたＸ線像検査装置であるが、下記式（２）を満たすことがより画質の良いＸ線像の撮像が可能となる点から好ましい。
ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧５×１０３ ・・・（１）
ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧７×１０３ ・・・（２）
また、Ｘ線像変換スクリーンの感度の下限は１．９×１０３以上であり、求められる特性によって２．４×１０３以上であってもよく、２．５×１０３以上であってもよく、２．７×１０３以上であってもよく、２．９×１０３以上であってもよく、一方、上限は通常３．６×１０３以下であり、ＤＱＥを高める観点から３．４×１０３以下であってもよく、３．２×１０３以下がより好ましい。
上記の特性を有するＸ線像変換スクリ－ンは、例えば、蛍光体の種類、蛍光体の粒子径、蛍光体の粒子径分布、単位面積当たりの蛍光体量（塗布量）、蛍光体層における蛍光体の充填率、蛍光体を塗布する支持基板の反射率等を調整することにより達成することができる。
より具体的には、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有する蛍光体層の、該蛍光体の平均粒径を所定の範囲内とし、該蛍光体層の厚み、該蛍光体層の単位面積当たりの蛍光体量を調整することで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有する蛍光体層において、平均粒径が異なる蛍光体粒子を２種以上用いその混合比を調整することなどにより、粒子径分布を調整することで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該蛍光体が所定の範囲内の平均粒径を有する蛍光体層と、所定の反射率を有する支持基板とを組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有する蛍光体層の単位面積当たりの蛍光体量を所定の範囲とし、所定の反射率を有する支持基板と組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該蛍光体の粒子を所定の範囲内の充填率で含む蛍光体層と、所定の反射率を有する支持基板とを組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該蛍光体の粒子が所定の範囲内の平均粒径を有し、該蛍光体の粒子を所定の範囲内の充填率で含む蛍光体層と、所定の反射率を有する支持基板とを組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
すなわち、本発明は、支持基板、及び、該支持基板上に積層された蛍光体層を含むＸ線像変換スクリ－ンであって、該蛍光体層は、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該Ｘ線像変換スクリーンの感度をｘ、ｑ’ＤＱＥをｙとした時に、感度１．９×１０３以上、且つ下記式（１）を満たすＸ線像変換スクリ－ン、該Ｘ線像変換スクリーン及び光検出器を備えたフラットパネルディテクタ、並びに、該フラットパネルディテクタを備えたＸ線像検査装置であるが、下記式（２）を満たすことがより画質の良いＸ線像の撮像が可能となる点から好ましい。
ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧５×１０３ ・・・（１）
ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧７×１０３ ・・・（２）
また、Ｘ線像変換スクリーンの感度の下限は１．９×１０３以上であり、求められる特性によって２．４×１０３以上であってもよく、２．５×１０３以上であってもよく、２．７×１０３以上であってもよく、２．９×１０３以上であってもよく、一方、上限は通常３．６×１０３以下であり、ＤＱＥを高める観点から３．４×１０３以下であってもよく、３．２×１０３以下がより好ましい。
上記の特性を有するＸ線像変換スクリ－ンは、例えば、蛍光体の種類、蛍光体の粒子径、蛍光体の粒子径分布、単位面積当たりの蛍光体量（塗布量）、蛍光体層における蛍光体の充填率、蛍光体を塗布する支持基板の反射率等を調整することにより達成することができる。
より具体的には、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有する蛍光体層の、該蛍光体の平均粒径を所定の範囲内とし、該蛍光体層の厚み、該蛍光体層の単位面積当たりの蛍光体量を調整することで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有する蛍光体層において、平均粒径が異なる蛍光体粒子を２種以上用いその混合比を調整することなどにより、粒子径分布を調整することで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該蛍光体が所定の範囲内の平均粒径を有する蛍光体層と、所定の反射率を有する支持基板とを組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有する蛍光体層の単位面積当たりの蛍光体量を所定の範囲とし、所定の反射率を有する支持基板と組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該蛍光体の粒子を所定の範囲内の充填率で含む蛍光体層と、所定の反射率を有する支持基板とを組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
また、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、該蛍光体の粒子が所定の範囲内の平均粒径を有し、該蛍光体の粒子を所定の範囲内の充填率で含む蛍光体層と、所定の反射率を有する支持基板とを組み合わせることで、式（１）を達成するＸ線像変換スクリ－ンを得ることができる。
フラットパネルディテクタ１は、Ｘ線像変換スクリーン２、光検出器３、および電源部（図示しない）を備える。Ｘ線像変換スクリーン２は、入射されたＸ線のエネルギーを吸収して、波長が３００ｎｍから８００ｎｍの範囲の電磁波、すなわち、可視光線を中心に紫外光から赤外光にわたる範囲の電磁波（光）を発光する。
Ｘ線像変換スクリーン２は、支持基板４及び支持基板上に積層された蛍光体層５を含む。
Ｘ線像変換スクリーン２の出光面と光検出器３とを、保護層６を介して、接着又は密着させることでフラットパネルディテクタ１となる。Ｘ線像変換スクリーン２へのＸ線の入射方向は特に限定されず、Ｘ線像変換スクリーン２の支持基板４側から入射してもよいし、蛍光体層５側から入射してもよい。Ｘ線像変換スクリーン２で発光した光が、光検出器３に到達して光電変換を行い、出力する。以下、各構成部材について、説明する。
Ｘ線像変換スクリーン２の出光面と光検出器３とを、保護層６を介して、接着又は密着させることでフラットパネルディテクタ１となる。Ｘ線像変換スクリーン２へのＸ線の入射方向は特に限定されず、Ｘ線像変換スクリーン２の支持基板４側から入射してもよいし、蛍光体層５側から入射してもよい。Ｘ線像変換スクリーン２で発光した光が、光検出器３に到達して光電変換を行い、出力する。以下、各構成部材について、説明する。
［支持基板］
蛍光体層を積層する支持基板としては、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリアミド、塩化ビニル－酢酸ビニルコポリマー、ポリカーボネートなどの樹脂、並びにこれら樹脂にＴｉＯ２（チタニア）やＡｌ２Ｏ３（アルミナ）、ＢａＳＯ４（硫酸バリウム）、ＣａＣＯ３（炭酸カルシウム）、ＺｎＣＯ３（炭酸亜鉛）及びＭｇＣＯ３（炭酸マグネシウム）などのフィラーを分散させたもの、紙、アルミニウムなどが用いられる。
支持基板の蛍光体層が積層される面、すなわち、支持基板の蛍光体層を積層する側の面の反射率は、通常８０％以上であり、好ましくは９０％以上である。本発明に係るＸ線像変換スクリーンは、高エネルギーのＸ線での使用に適しており、その場合、支持基板の蛍光体層が積層される面の反射率は、好ましくは９５％以上、より好ましくは９８％以上である。
本発明の効果を十分得るために、支持基板の反射率が９５％未満の場合は、蛍光体層の厚みが２２０μｍ以上５００μｍの範囲で、全蛍光体粒子に対する１０μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子の割合が１０ｗｔ％以上、好ましくは１５ｗｔ％以上、通常１００ｗｔ％以下、好ましくは８０ｗｔ％以下が好ましい。
反射率は、支持基板の蛍光体層を積層する側の面に鏡面処理などを行うことにより調整してもよい。また、上述の樹脂、フィラー、紙、アルミニウムなどの材料からなる層上に、支持基板とは異なる材料からなる反射膜を有する積層構造としてもよい。
支持基板の厚みは特段限定されず、通常１０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、また通常２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下である。
支持基板は市販品を使用することもでき、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人社製 ＵＸＱ２－１８８）、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６０）、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６ＳＲ）等が挙げられる。
蛍光体層を積層する支持基板としては、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリアミド、塩化ビニル－酢酸ビニルコポリマー、ポリカーボネートなどの樹脂、並びにこれら樹脂にＴｉＯ２（チタニア）やＡｌ２Ｏ３（アルミナ）、ＢａＳＯ４（硫酸バリウム）、ＣａＣＯ３（炭酸カルシウム）、ＺｎＣＯ３（炭酸亜鉛）及びＭｇＣＯ３（炭酸マグネシウム）などのフィラーを分散させたもの、紙、アルミニウムなどが用いられる。
支持基板の蛍光体層が積層される面、すなわち、支持基板の蛍光体層を積層する側の面の反射率は、通常８０％以上であり、好ましくは９０％以上である。本発明に係るＸ線像変換スクリーンは、高エネルギーのＸ線での使用に適しており、その場合、支持基板の蛍光体層が積層される面の反射率は、好ましくは９５％以上、より好ましくは９８％以上である。
本発明の効果を十分得るために、支持基板の反射率が９５％未満の場合は、蛍光体層の厚みが２２０μｍ以上５００μｍの範囲で、全蛍光体粒子に対する１０μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子の割合が１０ｗｔ％以上、好ましくは１５ｗｔ％以上、通常１００ｗｔ％以下、好ましくは８０ｗｔ％以下が好ましい。
反射率は、支持基板の蛍光体層を積層する側の面に鏡面処理などを行うことにより調整してもよい。また、上述の樹脂、フィラー、紙、アルミニウムなどの材料からなる層上に、支持基板とは異なる材料からなる反射膜を有する積層構造としてもよい。
支持基板の厚みは特段限定されず、通常１０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、また通常２００μｍ以下、好ましくは１００μｍ以下である。
支持基板は市販品を使用することもでき、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人社製 ＵＸＱ２－１８８）、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６０）、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６ＳＲ）等が挙げられる。
［蛍光体層］
本発明に用いる蛍光体層は、蛍光体を含む層である。
（蛍光体粒子）
本実施形態において蛍光体粒子は、入射されたＸ線のエネルギーを吸収して、波長が３００ｎｍから８００ｎｍの電磁波、すなわち、可視光線を中心に紫外光から赤外光にわたる電磁波（光）を発光する蛍光体の粒子をいう。
蛍光体層は、特開２０００－１６２３９４号公報や特開２００３－８２３４７号公報に記載の如く、酸硫化ガドリニウム蛍光体（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ）に、テルビウム（Ｔｂ）、プラセオジム（Ｐｒ）、セリウム（Ｃｅ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ユウロピウム（Ｅｕ）を賦活物質として含有する蛍光体（以下、それぞれをＧＯＳ：Ｔｂ蛍光体、ＧＯＳ：Ｐｒ蛍光体、ＧＯＳ：Ｃｅ蛍光体、ＧＯＳ：Ｙｂ蛍光体、ＧＯＳ：Ｅｕ蛍光体とも称する。）を含む。これらの中でも、高輝度であるＧＯＳ：Ｔｂ蛍光体、短残光であるＧＯＳ：Ｐｒ蛍光体が好ましい。
本発明に用いる蛍光体層は、蛍光体を含む層である。
（蛍光体粒子）
本実施形態において蛍光体粒子は、入射されたＸ線のエネルギーを吸収して、波長が３００ｎｍから８００ｎｍの電磁波、すなわち、可視光線を中心に紫外光から赤外光にわたる電磁波（光）を発光する蛍光体の粒子をいう。
蛍光体層は、特開２０００－１６２３９４号公報や特開２００３－８２３４７号公報に記載の如く、酸硫化ガドリニウム蛍光体（Ｇｄ２Ｏ２Ｓ）に、テルビウム（Ｔｂ）、プラセオジム（Ｐｒ）、セリウム（Ｃｅ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ユウロピウム（Ｅｕ）を賦活物質として含有する蛍光体（以下、それぞれをＧＯＳ：Ｔｂ蛍光体、ＧＯＳ：Ｐｒ蛍光体、ＧＯＳ：Ｃｅ蛍光体、ＧＯＳ：Ｙｂ蛍光体、ＧＯＳ：Ｅｕ蛍光体とも称する。）を含む。これらの中でも、高輝度であるＧＯＳ：Ｔｂ蛍光体、短残光であるＧＯＳ：Ｐｒ蛍光体が好ましい。
蛍光体層に含まれる蛍光体粒子の体積平均粒径（平均粒子径ともいう）は、通常３０μｍ以下、好ましくは１５μｍ以下、また通常０．０１μｍ以上、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは２μｍ以上、さらに好ましくは５μｍ以上である。
上記範囲内であると、光を散乱する効果が大きく、得られるＸ線像変換スクリーンの感度が良好である点で好ましい。
また、蛍光体粒子は異なる体積平均粒径の蛍光体粒子を２種以上混合してもよく、３種以上混合することもできる。蛍光体粒子の粒子径分布を調整することにより、感度とＤＱＥを適宜調整できる。
異なる体積平均粒径の蛍光体粒子を２種以上混合する場合、通常５μｍ未満と５μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子を用いることができる。
全蛍光体粒子に対する５μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子の重量割合としては、通常１ｗｔ％以上、好ましくは１０ｗｔ％以上、より好ましくは３０ｗｔ％以上、更に好ましくは５０ｗｔ％以上、特に好ましくは７０ｗｔ％以上、最も好ましくは８０ｗｔ％以上であり、通常１００ｗｔ％以下である。また、５μｍ未満と５μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子同士の粒径差は、通常０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上、更に好ましくは５μｍ以上であり、通常１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下である。
また、本願発明の効果を十分に得るために、全蛍光体粒子に対する１０μｍ未満の体積平均粒径の蛍光体粒子の割合が９０ｗｔ％以上の場合、支持基材の反射率は好ましくは９５％以上、より好ましくは９８％以上である。
蛍光体粒子の体積平均粒径は、レーザー回折散乱式粒度分布計などを用いることにより測定することができる。また、例えば、蛍光体層のＳＥＭ像より求められる。
上記範囲内であると、光を散乱する効果が大きく、得られるＸ線像変換スクリーンの感度が良好である点で好ましい。
また、蛍光体粒子は異なる体積平均粒径の蛍光体粒子を２種以上混合してもよく、３種以上混合することもできる。蛍光体粒子の粒子径分布を調整することにより、感度とＤＱＥを適宜調整できる。
異なる体積平均粒径の蛍光体粒子を２種以上混合する場合、通常５μｍ未満と５μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子を用いることができる。
全蛍光体粒子に対する５μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子の重量割合としては、通常１ｗｔ％以上、好ましくは１０ｗｔ％以上、より好ましくは３０ｗｔ％以上、更に好ましくは５０ｗｔ％以上、特に好ましくは７０ｗｔ％以上、最も好ましくは８０ｗｔ％以上であり、通常１００ｗｔ％以下である。また、５μｍ未満と５μｍ以上の体積平均粒径の蛍光体粒子同士の粒径差は、通常０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは３μｍ以上、更に好ましくは５μｍ以上であり、通常１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下である。
また、本願発明の効果を十分に得るために、全蛍光体粒子に対する１０μｍ未満の体積平均粒径の蛍光体粒子の割合が９０ｗｔ％以上の場合、支持基材の反射率は好ましくは９５％以上、より好ましくは９８％以上である。
蛍光体粒子の体積平均粒径は、レーザー回折散乱式粒度分布計などを用いることにより測定することができる。また、例えば、蛍光体層のＳＥＭ像より求められる。
（蛍光体の充填率）
蛍光体層における蛍光体の充填率は、通常４０％以上、好ましくは５０％以上、更に好ましくは６０％以上、また通常１００％以下である。
上記範囲内であると、入射するＸ線を効率的に可視光に変換できる点で好ましい。
尚、充填率の測定方法は、下記の通りである。
蛍光体を含む層（蛍光体層）形成前の基板の重さ（Ｗ０）と、蛍光体層を形成した後の基板の重さ（Ｗ１）を測定する。形成された蛍光体層の膜厚及び面積と、測定した膜の重さ（Ｗ１－Ｗ０）から、単位体積当りの蛍光体層の重さ（蛍光体層の比重）を算出する。
一方、蛍光体と媒質の重さの比より、蛍光体層中に含有される蛍光体の単位体積当りの重さを算出する。算出された蛍光体の単位体積当りの含有量と、蛍光体層の比重から、蛍光体の充填率（体積％）を算出することが可能となる。
蛍光体層における蛍光体の充填率は、通常４０％以上、好ましくは５０％以上、更に好ましくは６０％以上、また通常１００％以下である。
上記範囲内であると、入射するＸ線を効率的に可視光に変換できる点で好ましい。
尚、充填率の測定方法は、下記の通りである。
蛍光体を含む層（蛍光体層）形成前の基板の重さ（Ｗ０）と、蛍光体層を形成した後の基板の重さ（Ｗ１）を測定する。形成された蛍光体層の膜厚及び面積と、測定した膜の重さ（Ｗ１－Ｗ０）から、単位体積当りの蛍光体層の重さ（蛍光体層の比重）を算出する。
一方、蛍光体と媒質の重さの比より、蛍光体層中に含有される蛍光体の単位体積当りの重さを算出する。算出された蛍光体の単位体積当りの含有量と、蛍光体層の比重から、蛍光体の充填率（体積％）を算出することが可能となる。
（単位面積当たりの蛍光体量）
単位面積当たりの蛍光体量（蛍光体塗布量ともいう）は特に限定されず、Ｘ線像変換スクリーンの大きさや、要求される感度により適宜設定できる。蛍光体粒子が積層されることで蛍光体層を形成することが好ましく、単位面積当たりの蛍光体量は、通常２０ｍｇ／ｃｍ２以上、好ましくは１００ｍｇ／ｃｍ２以上であり、また通常１０００ｍｇ／ｃｍ２以下、好ましくは５００ｍｇ／ｃｍ２以下、さらに好ましくは、３００ｍｇ／ｃｍ２以下である。本発明に係るＸ線像変換スクリーンは、高エネルギーのＸ線での使用に適しており、その場合、単位面積当たりの蛍光体量は通常１０５ｍｇ／ｃｍ２以上、好ましくは１１０ｍｇ／ｃｍ２以上、より好ましくは１２０ｍｇ／ｃｍ２以上、さらに好ましくは１３０ｍｇ／ｃｍ２以上、特に好ましくは１３５ｍｇ／ｃｍ２以上、最も好ましくは１４０ｍｇ／ｃｍ２以上である。
蛍光体層の厚みは、本発明の効果を損なわない限り限定されないが、通常、１００μｍを超え、好ましくは１５０μｍ以上、より好ましくは、２００μｍ以上、さらに好ましくは２１０μｍ以上、特に好ましくは２１５μｍ以上、最も好ましくは２２０μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは４５０μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下、さらに好ましくは３６０μｍ以下、特に好ましくは３００μｍ以下、最も好ましくは２８０μｍ以下である。
また、蛍光体層は、厚みが１００μｍ以上３００μｍ以下の場合、単位面積当たりの蛍光体量が５０ｍｇ／ｃｍ２以上１５０ｍｇ／ｃｍ２以下が好ましく、厚みが２１５μｍ以上５００μｍ以下の場合、単位面積当たりの蛍光体量が１０５ｍｇ／ｃｍ２以上４００ｍｇ／ｃｍ２以下が好ましい。
単位面積当たりの蛍光体量（蛍光体塗布量ともいう）は特に限定されず、Ｘ線像変換スクリーンの大きさや、要求される感度により適宜設定できる。蛍光体粒子が積層されることで蛍光体層を形成することが好ましく、単位面積当たりの蛍光体量は、通常２０ｍｇ／ｃｍ２以上、好ましくは１００ｍｇ／ｃｍ２以上であり、また通常１０００ｍｇ／ｃｍ２以下、好ましくは５００ｍｇ／ｃｍ２以下、さらに好ましくは、３００ｍｇ／ｃｍ２以下である。本発明に係るＸ線像変換スクリーンは、高エネルギーのＸ線での使用に適しており、その場合、単位面積当たりの蛍光体量は通常１０５ｍｇ／ｃｍ２以上、好ましくは１１０ｍｇ／ｃｍ２以上、より好ましくは１２０ｍｇ／ｃｍ２以上、さらに好ましくは１３０ｍｇ／ｃｍ２以上、特に好ましくは１３５ｍｇ／ｃｍ２以上、最も好ましくは１４０ｍｇ／ｃｍ２以上である。
蛍光体層の厚みは、本発明の効果を損なわない限り限定されないが、通常、１００μｍを超え、好ましくは１５０μｍ以上、より好ましくは、２００μｍ以上、さらに好ましくは２１０μｍ以上、特に好ましくは２１５μｍ以上、最も好ましくは２２０μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは４５０μｍ以下、より好ましくは４００μｍ以下、さらに好ましくは３６０μｍ以下、特に好ましくは３００μｍ以下、最も好ましくは２８０μｍ以下である。
また、蛍光体層は、厚みが１００μｍ以上３００μｍ以下の場合、単位面積当たりの蛍光体量が５０ｍｇ／ｃｍ２以上１５０ｍｇ／ｃｍ２以下が好ましく、厚みが２１５μｍ以上５００μｍ以下の場合、単位面積当たりの蛍光体量が１０５ｍｇ／ｃｍ２以上４００ｍｇ／ｃｍ２以下が好ましい。
[蛍光体層の形成方法]
蛍光体層の形成方法としては特段の限定は無く、例えば真空蒸着法により層を形成する方法や湿式成膜法により層を形成する方法が挙げられる。
以下、蛍光体含有組成物を用いる湿式成膜法により層を形成する方法について詳説する。
蛍光体層の形成方法としては特段の限定は無く、例えば真空蒸着法により層を形成する方法や湿式成膜法により層を形成する方法が挙げられる。
以下、蛍光体含有組成物を用いる湿式成膜法により層を形成する方法について詳説する。
湿式成膜法で蛍光体層を形成する場合、その工程には通常、蛍光体含有組成物調製工程、塗布工程、及び乾燥工程、を含む。尚、乾燥工程後に、後処理工程（洗浄、乾燥などを行う工程）を任意に含んでいてもよい
（蛍光体含有組成物調製工程）
蛍光体含有組成物調製工程では、蛍光体含有組成物を調製する。蛍光体含有組成物は、形状は粉末であってもスラリー状のものであってもよい。
蛍光体含有組成物は、前記蛍光体を含み、必要に応じてその他の媒質、例えば、バインダー樹脂、分散剤、可塑剤、光重合性開始剤／熱重合開始剤等を含有させてもよい。また、組成物の粘度を調整する為に、有機溶剤などを含んでいてもよい。
蛍光体含有組成物調製工程では、蛍光体含有組成物を調製する。蛍光体含有組成物は、形状は粉末であってもスラリー状のものであってもよい。
蛍光体含有組成物は、前記蛍光体を含み、必要に応じてその他の媒質、例えば、バインダー樹脂、分散剤、可塑剤、光重合性開始剤／熱重合開始剤等を含有させてもよい。また、組成物の粘度を調整する為に、有機溶剤などを含んでいてもよい。
蛍光体含有組成物に含有されてもよいバインダー樹脂としては、本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、例えば、硝化綿、酢酸セルロース、エチルセルロース、ポリビニルブチラール、線状ポリエステル、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニリデン・塩化ビニルコポリマー、塩化ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリアルキル－（メタ）アクリレート、ポリカーボネート、ポリウレタン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、ゼラチン、デキストリン等のポリサッカライド、アラビアゴムなどが挙げられる。
蛍光体含有組成物にバインダー樹脂を含有させる場合には、蛍光体含有組成物全量に対しバインダー樹脂が通常０．１ｗｔ％以上、好ましくは２．０ｗｔ％以上であり、また通常２０ｗｔ％以下、好ましくは１０ｗｔ％以下である。
蛍光体含有組成物にバインダー樹脂を含有させる場合には、蛍光体含有組成物全量に対しバインダー樹脂が通常０．１ｗｔ％以上、好ましくは２．０ｗｔ％以上であり、また通常２０ｗｔ％以下、好ましくは１０ｗｔ％以下である。
また、分散剤としては、本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、例えば、フタル酸、ステアリン酸などが挙げられる。
更に、可塑剤としては、リン酸トリフェニル、フタル酸ジブチルなどが挙げられる。
これら材料は、１種を単独で用いてもよく、異なる２種以上を併用してもよい。
更に、可塑剤としては、リン酸トリフェニル、フタル酸ジブチルなどが挙げられる。
これら材料は、１種を単独で用いてもよく、異なる２種以上を併用してもよい。
蛍光体含有組成物に含有されていてもよい有機溶剤としては、上記蛍光体及び媒質を溶解又は分散できるものであれば特に制限はないが、例えば、エタノール、２－ブタノール、メチルエチルエーテル、酢酸ブチル、酢酸エチル、エチルエーテル、トルエン、キシレンなどが挙げられる。有機溶剤は、１種を単独で用いてもよく、異なる２種以上を併用してもよい。
尚、蛍光体と媒質との屈折率差が大きいほど、蛍光体粒子における光散乱効果が大きく、蛍光体から発光した光を凹部に集光しやすい点で、媒質の屈折率は、１．３以下が好ましく、１．１以下が更に好ましい。
蛍光体を含む上記原料を、適宜混合・撹拌することで、蛍光体含有組成物を調製できる。
蛍光体を含む上記原料を、適宜混合・撹拌することで、蛍光体含有組成物を調製できる。
（塗布工程、乾燥工程）
塗布工程では、調製した蛍光体含有組成物を支持基板上に塗布し、塗膜を形成する。
塗布による塗膜の形成方法としては、本発明の効果を損なわない限り特に制限はなく公知の技術が適用可能であるが、例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、スピンコーター法などが挙げられる。
形成された塗膜は、ホットプレートや温風乾燥機等を使って乾燥または熱硬化させ、或いは紫外線照射装置などを用いて光硬化させることで、蛍光体層を得る。
蛍光体層は、異なる２種以上の膜を積層することで、多層を形成していてもよい。多層とする場合、例えば、蛍光体の平均粒径や粒子径分布、又は含有される媒質などが異なる層を適宜積層できる。
蛍光体層は、平面であることが好ましい。本明細書において蛍光体層が平面であるとは、蛍光体層表面（蛍光体層の、保護層側の表面）に凹凸パターンがないこと、かつ蛍光体層が、特開２００２－３１１１３９号公報に開示されているような光電変換素子に平行な方向に２種以上の異なる蛍光体領域が配置されて一体化されてなる積層構造ではないことをいう。また、凹凸パターンがないとは、Ｒａが１０μｍ以下であることをいう。上記Ｒａは、０μｍ以上であり、例えば、０．００１μｍ以上であり、好ましくは、５μｍ以下である。
塗布工程では、調製した蛍光体含有組成物を支持基板上に塗布し、塗膜を形成する。
塗布による塗膜の形成方法としては、本発明の効果を損なわない限り特に制限はなく公知の技術が適用可能であるが、例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、スピンコーター法などが挙げられる。
形成された塗膜は、ホットプレートや温風乾燥機等を使って乾燥または熱硬化させ、或いは紫外線照射装置などを用いて光硬化させることで、蛍光体層を得る。
蛍光体層は、異なる２種以上の膜を積層することで、多層を形成していてもよい。多層とする場合、例えば、蛍光体の平均粒径や粒子径分布、又は含有される媒質などが異なる層を適宜積層できる。
蛍光体層は、平面であることが好ましい。本明細書において蛍光体層が平面であるとは、蛍光体層表面（蛍光体層の、保護層側の表面）に凹凸パターンがないこと、かつ蛍光体層が、特開２００２－３１１１３９号公報に開示されているような光電変換素子に平行な方向に２種以上の異なる蛍光体領域が配置されて一体化されてなる積層構造ではないことをいう。また、凹凸パターンがないとは、Ｒａが１０μｍ以下であることをいう。上記Ｒａは、０μｍ以上であり、例えば、０．００１μｍ以上であり、好ましくは、５μｍ以下である。
［光検出器］
光検出器は、蛍光体層に対向して光電変換部を備え、蛍光体層で発せられた蛍光を、電気信号等に変換する機能を有する。このような機能を有する限り光検出器は特段限定されず、既知の光検出器を適宜用いることができる。
［接着層］
本実施形態に係るＸ線像変換スクリーンは、支持基板と蛍光体層との間に接着層を有してもよい。接着層を含むことで、Ｘ線像変換スクリーンにおける感度及び鮮鋭度のトレードオフ曲線を、望ましい方向にシフトさせることができる。
接着層は、本発明の効果を損なわずに支持基板と蛍光体層とが接着されるようであればその材料は特に限定されず、例えば、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロプレン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ、中でも接着性及び光学特性（感度と鮮鋭度）の観点から、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂が好ましく、特にポリウレタン樹脂が好ましい。接着剤として用いる樹脂は、その樹脂単独でもよいし、本発明を損なわない範囲において、他の成分との共重合体でもよい。また、本発明を損なわない範囲において、例えばカルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基等で変性されてもよく、これらの官能基の一部の水素がアルカリ金属やアルカリ土類金属に置き換わってもよい。
光検出器は、蛍光体層に対向して光電変換部を備え、蛍光体層で発せられた蛍光を、電気信号等に変換する機能を有する。このような機能を有する限り光検出器は特段限定されず、既知の光検出器を適宜用いることができる。
［接着層］
本実施形態に係るＸ線像変換スクリーンは、支持基板と蛍光体層との間に接着層を有してもよい。接着層を含むことで、Ｘ線像変換スクリーンにおける感度及び鮮鋭度のトレードオフ曲線を、望ましい方向にシフトさせることができる。
接着層は、本発明の効果を損なわずに支持基板と蛍光体層とが接着されるようであればその材料は特に限定されず、例えば、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロプレン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ、中でも接着性及び光学特性（感度と鮮鋭度）の観点から、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂が好ましく、特にポリウレタン樹脂が好ましい。接着剤として用いる樹脂は、その樹脂単独でもよいし、本発明を損なわない範囲において、他の成分との共重合体でもよい。また、本発明を損なわない範囲において、例えばカルボキシル基、スルホン酸基、アミノ基等で変性されてもよく、これらの官能基の一部の水素がアルカリ金属やアルカリ土類金属に置き換わってもよい。
本実施形態で用いる接着剤は、水分散系、溶液系、反応系、ホットメルト系等、いずれの分類であってもよいが、水分散系、溶液系が好ましく、特に水分散系が好ましい。
また接着層は、１種または２種以上の樹脂を含むことが好ましく、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる1種または２種以上の樹脂を含むことがより好ましい。接着層の層構成は特に限定されず、１層のみで形成されていてもよく２層以上の多層であってもよい。例えば、支持基板の上面にポリウレタン樹脂層と、ポリウレタン樹脂とは異なる樹脂層とで構成されてもよいし、ポリウレタン樹脂と、ポリウレタン樹脂とは異なる樹脂とを予め混合した後に混合接着層として構成されてもよい。
また接着層は、１種または２種以上の樹脂を含むことが好ましく、ポリウレタン樹脂、スチレン・ブタジエン共重合体、アクリロニトリル・ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂からなる群から選ばれる1種または２種以上の樹脂を含むことがより好ましい。接着層の層構成は特に限定されず、１層のみで形成されていてもよく２層以上の多層であってもよい。例えば、支持基板の上面にポリウレタン樹脂層と、ポリウレタン樹脂とは異なる樹脂層とで構成されてもよいし、ポリウレタン樹脂と、ポリウレタン樹脂とは異なる樹脂とを予め混合した後に混合接着層として構成されてもよい。
接着層の塗布方法は、本発明の効果を損なわない限り特に制限はなく公知の技術が適用可能であるが、例えば、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット法、スピンコーター法などが挙げられる。また、接着剤を塗布した後に、乾燥工程、後処理工程（洗浄、乾燥）等を任意に含んでいてもよい。
接着層の厚みは、本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、通常０．１～１００μｍ、好ましくは０．５～３０μｍ、さらに好ましくは１～２０μｍである。
上記範囲内であると支持基板と蛍光体層との密着性が良好であり、且つ感度および鮮鋭度などの光学特性が良好である点で好ましい。
一方、本実施形態に係るＸ線像変換スクリーンは、反射率や接着性の観点から、蛍光体層と支持基板との間には、金属膜を含まないことが好ましい。
接着層の厚みは、本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、通常０．１～１００μｍ、好ましくは０．５～３０μｍ、さらに好ましくは１～２０μｍである。
上記範囲内であると支持基板と蛍光体層との密着性が良好であり、且つ感度および鮮鋭度などの光学特性が良好である点で好ましい。
一方、本実施形態に係るＸ線像変換スクリーンは、反射率や接着性の観点から、蛍光体層と支持基板との間には、金属膜を含まないことが好ましい。
［保護膜］
上記蛍光層を形成後、更に蛍光体層の上に保護層を形成していてもよい。
保護層を形成する材料は、本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートを含有する放射線硬化性組成物の硬化物等や、粘着層を有するＰＥＴ等のフィルムがある。前述の放射線硬化性組成物中には、必要に応じて適宜上記以外の材料が含有されていてもよい。
上記蛍光層を形成後、更に蛍光体層の上に保護層を形成していてもよい。
保護層を形成する材料は、本発明の効果を損なわない限り特に制限はないが、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、単官能（メタ）アクリレート、多官能（メタ）アクリレートを含有する放射線硬化性組成物の硬化物等や、粘着層を有するＰＥＴ等のフィルムがある。前述の放射線硬化性組成物中には、必要に応じて適宜上記以外の材料が含有されていてもよい。
［Ｘ線検査装置］
図２に示すＸ線検査装置において、１８は人体、動物、各種物品等の被検体であり、この被検体１８に対してＸ線管１２等の放射線源からＸ線１３が照射される。被検体１８により吸収もしくは散乱されたＸ線１３は、フラットパネルディテクタ１４を内蔵するＸ線画像撮影装置１５に照射される。被検体１８を透過したＸ線はフラットパネルディテクタ１４で画像信号として検出される。
Ｘ 線画像撮影装置１５ から出力される画像信号は、画像処理部１６でデジタル処理された後、ＣＲＴ等の表示部１７にＸ線画像（検査画像）として表示される。本発明は、高感度と高画質の両立により、より低被ばく量でＸ線検査が可能であるため、医療用Ｘ線検査装置に好ましく用いられる。
図２に示すＸ線検査装置において、１８は人体、動物、各種物品等の被検体であり、この被検体１８に対してＸ線管１２等の放射線源からＸ線１３が照射される。被検体１８により吸収もしくは散乱されたＸ線１３は、フラットパネルディテクタ１４を内蔵するＸ線画像撮影装置１５に照射される。被検体１８を透過したＸ線はフラットパネルディテクタ１４で画像信号として検出される。
Ｘ 線画像撮影装置１５ から出力される画像信号は、画像処理部１６でデジタル処理された後、ＣＲＴ等の表示部１７にＸ線画像（検査画像）として表示される。本発明は、高感度と高画質の両立により、より低被ばく量でＸ線検査が可能であるため、医療用Ｘ線検査装置に好ましく用いられる。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を逸脱しない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
［Ｘ線像変換スクリーンの作製］
（実験例Ａ）
ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂及び可塑剤の混合物２０重量部を、トルエン、２－ブタノール及び、キシレンの混合溶剤８０重量部に溶解し、十分に攪拌して結合剤を作成した。
乾燥後の蛍光体層の樹脂量と蛍光体量が、表１の重量比になるように、前記結合剤と、平均粒子径（ＭＶ）９μｍのＧｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ蛍光体を混合して充分に撹拌し、さらにこれをビーズミルで分散処理して「蛍光体組成物１」を調製した。
次いで、炭酸カルシウムを含有するポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人社製 ＵＸＱ２－１８８）を支持基板として、ブレードコータを使用して、塗布時の支持基板とブレードとのギャップを表１に示す通り複数の条件に設定し、前記「蛍光体組成物１」を塗布して蛍光体層を支持基板上に形成し、７０℃から８０℃の温度で乾燥させることによって、蛍光体層を形成させた。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＡのＸ線像変換スクリーンを得た。なお、表１～３中、「蛍光体塗布量」は、蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量を意味している。
（実験例Ａ）
ポリビニルブチラール樹脂、ウレタン樹脂及び可塑剤の混合物２０重量部を、トルエン、２－ブタノール及び、キシレンの混合溶剤８０重量部に溶解し、十分に攪拌して結合剤を作成した。
乾燥後の蛍光体層の樹脂量と蛍光体量が、表１の重量比になるように、前記結合剤と、平均粒子径（ＭＶ）９μｍのＧｄ２Ｏ２Ｓ：Ｔｂ蛍光体を混合して充分に撹拌し、さらにこれをビーズミルで分散処理して「蛍光体組成物１」を調製した。
次いで、炭酸カルシウムを含有するポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人社製 ＵＸＱ２－１８８）を支持基板として、ブレードコータを使用して、塗布時の支持基板とブレードとのギャップを表１に示す通り複数の条件に設定し、前記「蛍光体組成物１」を塗布して蛍光体層を支持基板上に形成し、７０℃から８０℃の温度で乾燥させることによって、蛍光体層を形成させた。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＡのＸ線像変換スクリーンを得た。なお、表１～３中、「蛍光体塗布量」は、蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量を意味している。
（実験例Ｂ）
蛍光体を表１に示す粒径の混合物にした以外は実験例Ａと同様にして、「蛍光体組成物２」を調製した。
次いで、前記「蛍光体組成物２」を用いて実験例Ａと同様に、表１に示す複数の条件に従って蛍光体層を形成した。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＢのＸ線像変換スクリーンを得た。
蛍光体を表１に示す粒径の混合物にした以外は実験例Ａと同様にして、「蛍光体組成物２」を調製した。
次いで、前記「蛍光体組成物２」を用いて実験例Ａと同様に、表１に示す複数の条件に従って蛍光体層を形成した。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＢのＸ線像変換スクリーンを得た。
（実験例Ｃ）
蛍光体を表１に示す粒径の混合物にし、蛍光体量および樹脂量を表１に示すとおりにした以外は実験例Ａと同様にして、「蛍光体組成物３」を調製した。
次いで、前記「蛍光体組成物３」を用いて実験例Ａと同様に、表１に示す複数の条件に従って、炭酸カルシウムを含有するポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６０）を支持基板として、蛍光体層を形成した。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＣのＸ線像変換スクリーンを得た。
蛍光体を表１に示す粒径の混合物にし、蛍光体量および樹脂量を表１に示すとおりにした以外は実験例Ａと同様にして、「蛍光体組成物３」を調製した。
次いで、前記「蛍光体組成物３」を用いて実験例Ａと同様に、表１に示す複数の条件に従って、炭酸カルシウムを含有するポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６０）を支持基板として、蛍光体層を形成した。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＣのＸ線像変換スクリーンを得た。
（実験例Ｄ）
前記「蛍光体組成物２」を実験例Ａと同様に、表１に示す複数の条件に従って、炭酸カルシウムを含有するポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６０）を支持基板として、蛍光体層を形成した。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＤのＸ線像変換スクリーンを得た。
前記「蛍光体組成物２」を実験例Ａと同様に、表１に示す複数の条件に従って、炭酸カルシウムを含有するポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ社製 Ｅ６０）を支持基板として、蛍光体層を形成した。乾燥後の蛍光体層の膜厚及び蛍光体塗布量は、表１に示す通り形成されていた。このようにして、実験例ＤのＸ線像変換スクリーンを得た。
［感度－ｑ’ＤＱＥ標準線の設定］
（参考例）
次に、表２に示す各Ｘ線像変換スクリーン（三菱化学社製 Ｘ線シンチレータスクリーン ＤＲＺ（登録商標）シリーズ）について、Ｘ線カメラ（Teledyne Rad-icon Imaging社製 Rad-icon）及び、Ｘ線発生装置（（株）ジョブ製、PORTA 100HF）を用いて、感度およびｑ’ＤＱＥ値を評価した。
なお、感度およびｑ’ＤＱＥ値は、Ｘ線発生位置からＸ線カメラ受光部表面までの距離を７８ｃｍとし、厚さ７ｃｍの水ファントムを通した管電圧８０ｋＶ、管電流１２ｍＡｓのＸ線で、撮影した場合の感度およびＭＴＦ、ＮＮＰＳを測定し、ｑ’ＤＱＥ値の絶対値を求め評価した。
なお、ＭＴＦ、ＮＮＰＳ及びｑ’ＤＱＥ値の評価において空間周波数は、特許第３２９２５４８号公報や特許第３３３７１０３号公報等で通常行われているように、２ｌｐ／ｍｍにおける、値を採用し、特性を評価した。
その結果、表２に示す各Ｘ線像変換スクリーンは、図３に示す通り、高感度領域で、感度およびｑ’ＤＱＥ値がトレードオフの関係にあり、直線状に右肩下がりとなることが明らかになった。また、この直線の近似式「ｙ＝ａｘ＋ｂ」（最小二乗法）を求めたところ、「ｙ＝－２９ｘ＋１．７５×１０５」（a＝－２９、ｂ＝１．７５×１０５）の近似式で表されることが明らかになった。
（参考例）
次に、表２に示す各Ｘ線像変換スクリーン（三菱化学社製 Ｘ線シンチレータスクリーン ＤＲＺ（登録商標）シリーズ）について、Ｘ線カメラ（Teledyne Rad-icon Imaging社製 Rad-icon）及び、Ｘ線発生装置（（株）ジョブ製、PORTA 100HF）を用いて、感度およびｑ’ＤＱＥ値を評価した。
なお、感度およびｑ’ＤＱＥ値は、Ｘ線発生位置からＸ線カメラ受光部表面までの距離を７８ｃｍとし、厚さ７ｃｍの水ファントムを通した管電圧８０ｋＶ、管電流１２ｍＡｓのＸ線で、撮影した場合の感度およびＭＴＦ、ＮＮＰＳを測定し、ｑ’ＤＱＥ値の絶対値を求め評価した。
なお、ＭＴＦ、ＮＮＰＳ及びｑ’ＤＱＥ値の評価において空間周波数は、特許第３２９２５４８号公報や特許第３３３７１０３号公報等で通常行われているように、２ｌｐ／ｍｍにおける、値を採用し、特性を評価した。
その結果、表２に示す各Ｘ線像変換スクリーンは、図３に示す通り、高感度領域で、感度およびｑ’ＤＱＥ値がトレードオフの関係にあり、直線状に右肩下がりとなることが明らかになった。また、この直線の近似式「ｙ＝ａｘ＋ｂ」（最小二乗法）を求めたところ、「ｙ＝－２９ｘ＋１．７５×１０５」（a＝－２９、ｂ＝１．７５×１０５）の近似式で表されることが明らかになった。
さらに実験例Ａ～Ｄの各Ｘ線像変換スクリーンについて、上記参考例と同様にして感度およびｑ’ＤＱＥ値を評価した。なお、ＭＴＦ、ＮＮＰＳ及びｑ’ＤＱＥ値の評価において空間周波数は、前述の通り、２ｌｐ／ｍｍにおける、値を採用し、特性を評価した。また、「ｙ－（ａｘ＋ｂ）」の値を求めて、トレードオフラインからのｑ’ＤＱＥ値の向上を評価した。その結果を、表３及び図３に示す。
評価結果から、実験例Ａ～ＣのＸ線像変換スクリーンは、蛍光体の粒子径、粒子径分布、蛍光体の塗布量、蛍光体を塗布する支持基板の反射率等の組み合わせにより、参考例のＸ線像変換スクリーンに比べて高い感度とｑ’ＤＱＥ値を有するＸ線像変換スクリーンが得られることが明らかになった。実験例Ａ～ＣのＸ線像変換スクリーンの中から高い感度とｑ’ＤＱＥ値の得られたＸ線像変換スクリーンを用いてフラットパネルディテクタを作成し、Ｘ線検査装置を用いて画像を取得したところ、「ｙ－（ａｘ＋ｂ）」の値に応じて、高い画質のＸ線像が得られた。また、その効果が、特に高感度領域で顕著であることが明らかになった。
図及び表から明らかなとおり、「ｙ－（ａｘ＋ｂ）」の値が、５×１０３以上であることが好ましく、「ｙ－（ａｘ＋ｂ）」の値が、７×１０３以上であることがより好ましい。
上記要件を満足する本発明のＸ線像変換スクリーンは、感度が高いためＸ線による被ばくが少なく、またｑ’ＤＱＥ値が高いため同じ線量でも鮮明な画像を得ることができる。
評価結果から、実験例Ａ～ＣのＸ線像変換スクリーンは、蛍光体の粒子径、粒子径分布、蛍光体の塗布量、蛍光体を塗布する支持基板の反射率等の組み合わせにより、参考例のＸ線像変換スクリーンに比べて高い感度とｑ’ＤＱＥ値を有するＸ線像変換スクリーンが得られることが明らかになった。実験例Ａ～ＣのＸ線像変換スクリーンの中から高い感度とｑ’ＤＱＥ値の得られたＸ線像変換スクリーンを用いてフラットパネルディテクタを作成し、Ｘ線検査装置を用いて画像を取得したところ、「ｙ－（ａｘ＋ｂ）」の値に応じて、高い画質のＸ線像が得られた。また、その効果が、特に高感度領域で顕著であることが明らかになった。
図及び表から明らかなとおり、「ｙ－（ａｘ＋ｂ）」の値が、５×１０３以上であることが好ましく、「ｙ－（ａｘ＋ｂ）」の値が、７×１０３以上であることがより好ましい。
上記要件を満足する本発明のＸ線像変換スクリーンは、感度が高いためＸ線による被ばくが少なく、またｑ’ＤＱＥ値が高いため同じ線量でも鮮明な画像を得ることができる。
各項目の定義、算出方法を、以下に示す。
＜感度＞
感度は、Ｘ線をＸ線像変換スクリーンに照射した時のＸ線カメラで検出される５０×５０ｍｍ面積の平均光量で示した。
＜ｑ’ＤＱＥ＞
ｑ’ＤＱＥは以下の方法で求めたＭＴＦとＮＮＰＳ (規格化ノイズパワースペクトル)から下式を用いて計算した。
ｑ’ＤＱＥ ＝ ＭＴＦ２／ＮＮＰＳ
＜感度＞
感度は、Ｘ線をＸ線像変換スクリーンに照射した時のＸ線カメラで検出される５０×５０ｍｍ面積の平均光量で示した。
＜ｑ’ＤＱＥ＞
ｑ’ＤＱＥは以下の方法で求めたＭＴＦとＮＮＰＳ (規格化ノイズパワースペクトル)から下式を用いて計算した。
ｑ’ＤＱＥ ＝ ＭＴＦ２／ＮＮＰＳ
（ＭＴＦ）
Ｘ線カメラの画素列に対して約３°傾けて配置した厚さ１ｍｍのＷ（タングステン）エッジを介してＸ線像を撮像し、エッジ部の拡がりからＥＳＦ (エッジスプレッドファンクション) を測定した。このＥＳＦを微分することでＬＳＦ (ラインスプレッドファンクション)を計算し、さらにＬＳＦをフーリエ変換することで空間周波数に対するＭＴＦを計算した。
Ｘ線カメラの画素列に対して約３°傾けて配置した厚さ１ｍｍのＷ（タングステン）エッジを介してＸ線像を撮像し、エッジ部の拡がりからＥＳＦ (エッジスプレッドファンクション) を測定した。このＥＳＦを微分することでＬＳＦ (ラインスプレッドファンクション)を計算し、さらにＬＳＦをフーリエ変換することで空間周波数に対するＭＴＦを計算した。
（ＮＮＰＳ）
感度測定と同様に撮像したＸ線画像における各画素の光量値から全画素の平均光量値を減算しノイズ画像を得た。このノイズ画像を２次元フーリエ変換し、絶対値の二乗を計算することでＮＰＳ（ノイズパワースペクトル）を計算した。さらにＮＰＳを上記平均光量値の二乗で除算することによりＮＮＰＳを計算した。
なお、ＭＴＦ、ＮＮＰＳ及びｑ’ＤＱＥ値の評価において空間周波数は、前述の通り、２ｌｐ／ｍｍにおける、値を採用し、特性を評価した。
感度測定と同様に撮像したＸ線画像における各画素の光量値から全画素の平均光量値を減算しノイズ画像を得た。このノイズ画像を２次元フーリエ変換し、絶対値の二乗を計算することでＮＰＳ（ノイズパワースペクトル）を計算した。さらにＮＰＳを上記平均光量値の二乗で除算することによりＮＮＰＳを計算した。
なお、ＭＴＦ、ＮＮＰＳ及びｑ’ＤＱＥ値の評価において空間周波数は、前述の通り、２ｌｐ／ｍｍにおける、値を採用し、特性を評価した。
＜反射率＞
下記方法で測定した反射率の値を、硫酸バリウム製の標準白板の波長５５０ｎｍの反射率を１００％として、相対値で示した。
分光光度計(日立製Ｕ－３３１０)を用いて、測定波長２００～８００ｎｍ、スキャンスピード３００ｎｍ／ｍｉｎ、サンプリング間隔１ｎｍの条件で、まず硫酸バリウム白板の表面反射率を測定し、その結果を基準とし、分光光度計を校正する。次に、硫酸バリウム白板をサンプルに入れ替え、同様に測定する。この測定結果の波長５５０ｎｍの反射率を読みとる。
下記方法で測定した反射率の値を、硫酸バリウム製の標準白板の波長５５０ｎｍの反射率を１００％として、相対値で示した。
分光光度計(日立製Ｕ－３３１０)を用いて、測定波長２００～８００ｎｍ、スキャンスピード３００ｎｍ／ｍｉｎ、サンプリング間隔１ｎｍの条件で、まず硫酸バリウム白板の表面反射率を測定し、その結果を基準とし、分光光度計を校正する。次に、硫酸バリウム白板をサンプルに入れ替え、同様に測定する。この測定結果の波長５５０ｎｍの反射率を読みとる。
１ フラットパネルディテクタ
２ Ｘ線像変換スクリーン
３ 光検出器
４ 支持基板
５ 蛍光体層
６ 保護膜
１１ Ｘ線検査装置
１２ Ｘ線管
１３ Ｘ線
１４ フラットパネルディテクタ
１５ Ｘ線画像撮影装置
１６ 画像処理部
１７ 表示部
１８ 被検体
２ Ｘ線像変換スクリーン
３ 光検出器
４ 支持基板
５ 蛍光体層
６ 保護膜
１１ Ｘ線検査装置
１２ Ｘ線管
１３ Ｘ線
１４ フラットパネルディテクタ
１５ Ｘ線画像撮影装置
１６ 画像処理部
１７ 表示部
１８ 被検体
Claims (11)
- 支持基板、及び、支持基板に積層された蛍光体層を含むＸ線像変換スクリ－ンであって、
該蛍光体層は、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｙｂ、Ｅｕからなる群から選ばれる少なくとも１種を賦活剤とする酸硫化ガドリニウム蛍光体を含有し、
該Ｘ線像変換スクリーンの感度をｘ、ｑ’ＤＱＥをｙとした時に、感度１．９×１０３以上、且つ下記式（１）を満たすＸ線像変換スクリ－ン。
ｙ－（－２９ｘ＋１．７５×１０５）≧５×１０３ ・・・（１） - 該蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量が、１１０ｍｇ／ｃｍ２以上である請求項１に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 該蛍光体層における単位面積当たりの蛍光体量が、１４０ｍｇ／ｃｍ２以上である請求項１又は２に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 該支持基板の該蛍光体層が積層される面の反射率が、９０％以上である請求項１～３のいずれか１項に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 該支持基板の蛍光体層が積層される面の反射率が、９５％以上である請求項１～４のいずれか１項に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 該支持基板がチタニア、アルミナ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、及び炭酸マグネシウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する請求項１～５のいずれか１項に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 該蛍光体層が含有する蛍光体の体積平均粒径が５μｍ以上、１５μｍ以下である請求項１～６のいずれか１項に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 該蛍光体層が平面である請求項１～７のいずれか１項に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 該蛍光体層と該支持基板との間に金属膜を含まない、請求項１～８のいずれか１項に記載のＸ線像変換スクリ－ン。
- 請求項１～９のいずれか１項に記載のＸ線像変換スクリーンと光検出器を備えたフラットパネルディテクタ。
- 請求項１０に記載のフラットパネルディテクタを備えたＸ線検査装置。
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|---|---|---|---|
| PCT/JP2017/043360 WO2019106845A1 (ja) | 2017-12-01 | 2017-12-01 | Ｘ線像変換スクリーン、フラットパネルディテクタ、及びｘ線検査装置 |
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2019106845A1 true WO2019106845A1 (ja) | 2019-06-06 |
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ID=66664408
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| PCT/JP2017/043360 WO2019106845A1 (ja) | 2017-12-01 | 2017-12-01 | Ｘ線像変換スクリーン、フラットパネルディテクタ、及びｘ線検査装置 |
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|---|---|
| WO (1) | WO2019106845A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113287176A (zh) * | 2019-12-19 | 2021-08-20 | 株式会社东芝 | 荧光板、x射线检测器及x射线检查装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0675097A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-03-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線増感スクリーン |
| US20090078874A1 (en) * | 2007-05-30 | 2009-03-26 | Uchicago Argonne, Llc | Computed radiography system for mammography |
| JP2011022132A (ja) * | 2009-06-17 | 2011-02-03 | Fujifilm Corp | 放射線検出装置及び放射線画像検出システム |
-
2017
- 2017-12-01 WO PCT/JP2017/043360 patent/WO2019106845A1/ja active Application Filing
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| CHO, M. -K. ET AL.: "Measurements of X-ray Imaging Performance of Granular Phosphors With Direct- Coupled CMOS Sensors", IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, vol. 55, no. 3, June 2008 (2008-06-01), pages 1338 - 1343, XP011216629 * |
| KUNITOMO, HIROSHI: "Noise Characteristics and NNPS Analysis of Digital X-Ray Images", IMAGE COMMUNICATION, vol. 36, no. 1, January 2013 (2013-01-01), pages 78 - 86 * |
| NISHIKAWA, M. ROBERT: "The Fundamentals of MTF, Wiener Spectra, and DQE", AMERICAN ASSOCIATION OF PHYSICISTS IN MEDICINE, AAPM 41ST ANNUAL MEETING HANDOUTS, 26 July 1999 (1999-07-26), pages 1 - 27, XP055615300 * |
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| CN113287176A (zh) * | 2019-12-19 | 2021-08-20 | 株式会社东芝 | 荧光板、x射线检测器及x射线检查装置 |
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