WO2019078196A1 - 光学フィルムならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラー、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル - Google Patents

光学フィルムならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラー、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル Download PDF

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WO2019078196A1
WO2019078196A1 PCT/JP2018/038463 JP2018038463W WO2019078196A1 WO 2019078196 A1 WO2019078196 A1 WO 2019078196A1 JP 2018038463 W JP2018038463 W JP 2018038463W WO 2019078196 A1 WO2019078196 A1 WO 2019078196A1
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WO
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layer
group
resin
compound
film
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Application number
PCT/JP2018/038463
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English (en)
French (fr)
Inventor
真 内村
Original Assignee
富士フイルム株式会社
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Publication date
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means

Definitions

  • the present invention relates to an optical film and a front plate of an image display device having the same, an image display device, a mirror with an image display function, a resistive touch panel, and a capacitive touch panel.
  • Patent Document 1 includes a base material and a hard coat layer laminated on at least one surface of the base material, and the in-plane retardation is 6000 nm or more and 40000 nm or less The hard coat film which is is described. Further, in Patent Document 2, a plurality of resin films with a hard coat layer comprising a base layer containing a thermoplastic resin and a hard coat layer containing a curable resin formed on the base layer are laminated. Laminates are described.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to provide an optical film excellent in both keying durability and sliding durability. Another object of the present invention is to provide an optical film which is further excellent in pencil hardness. Another object of the present invention is to provide a front plate of an image display device having an optical film having the above excellent characteristics, an image display device, a mirror with an image display function, a resistive touch panel, and a capacitive touch panel. Do.
  • the inventor of the present invention is excellent in both keying durability and sliding durability by setting the indentation recovery rate calculated by a predetermined method to 78% or more. That is, the inventors have found that it is possible to provide an optical film which can be highly suppressed in the occurrence of depressions after striking and sliding) and in pencil hardness.
  • ⁇ 3> The optical film as described in ⁇ 1> or ⁇ 2> which has the particle
  • ⁇ 4> The optical film as described in ⁇ 1> or ⁇ 2> which has particle
  • ⁇ 7> The front plate of the image display apparatus which has an optical film as described in any one of ⁇ 1>- ⁇ 6>.
  • ⁇ 8> The image display apparatus which has a front plate as described in ⁇ 7>.
  • ⁇ 9> The resistive film type touch panel which has a front plate as described in ⁇ 7>.
  • ⁇ 10> The electrostatic capacitance type touch panel which has a front plate as described in ⁇ 7>.
  • the mirror with an image display function which has an optical film as described in any one of ⁇ 1>- ⁇ 6>.
  • the optical film of the present invention is excellent in both of the keying durability and the sliding durability (it is possible to suppress the generation of both the recess due to the keying and the recess due to the sliding).
  • the optical film of the present invention can exhibit excellent pencil hardness.
  • the front plate of the image display apparatus having the optical film of the present invention, the image display apparatus, the mirror with an image display function, the resistive film type touch panel and the electrostatic capacity type touch panel can be used in any of keying durability and sliding durability. Excellent, and also excellent in pencil hardness.
  • a preferred embodiment of the optical film of the present invention is an optical film having at least a resin film and a hard coat layer (hereinafter also referred to as “HC layer”) disposed on one side of the resin film,
  • the recovery rate represented is at least 78%.
  • Pushing recovery rate (%) (A-B) / A ⁇ 100
  • B indicates the depth of indentation after 0.25 seconds from unloading immediately after the above indentation.
  • the units of A and B are the same, for example, the units of A and B are “ ⁇ m”.
  • the above "from above the hard coat layer of the optical film” By removing the other layers which the hard coat layer has on the surface on the viewing side, the hard coat layer is meant to be from above the hard coat layer of the optical film exposed on the outermost surface.
  • the optical film of the present invention having the above-described configuration can provide excellent striking durability such that depression generation due to tapping can be suppressed and excellent sliding durability that depression occurrence due to sliding can be suppressed. Can be realized.
  • the indentation recovery rate is preferably 80% or more, more preferably 82% or more, and still more preferably 84% or more. There is no restriction
  • the above A is preferably more than 5 ⁇ m, more preferably 15 ⁇ m or more, still more preferably 20 ⁇ m or more, and 25 ⁇ m or more Particularly preferred.
  • the upper limit of the above A is preferably 30 ⁇ m or less, more preferably 26 ⁇ m or less, still more preferably 22 ⁇ m or less, from the viewpoint of enhancing the push recovery rate, pencil hardness and sliding durability. It is particularly preferred that The resin film and the HC layer may be isotropic or anisotropic.
  • the resin film, the hard coat and the like may be a single layer or multiple layers.
  • the thickness of the optical film of the present invention is preferably 70 ⁇ m or more, more preferably 80 ⁇ m or more, still more preferably 100 ⁇ m or more, and particularly preferably 120 ⁇ m or more, from the viewpoint of keying durability.
  • the upper limit is practically 320 ⁇ m or less.
  • the retardation in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm of the optical film is preferably less than 6000 nm, more preferably 1000 nm or less, still more preferably 500 nm or less, and particularly preferably 50 nm or less, from the viewpoint of reducing interference unevenness.
  • the retardation in the in-plane direction of the optical film is obtained by causing linearly polarized light to enter the optical film and passing the light through the optical film into two linearly polarized light along the fast axis and the slow axis.
  • R (unit: nm) represented by the following formula (A) from the refractive index Nx in the fast axis, the refractive index Ny in the slow axis, and the thickness d (unit: nm) of the optical film when Defined as).
  • R d x (Nx-Ny) (A)
  • the retardation in the in-plane direction at a wavelength of 550 nm in the present invention and this specification is measured by causing light of a wavelength of 550 nm to be incident in the normal direction of the film or layer to be measured in KOBRA 21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments). .
  • the wavelength selection filter can be replaced manually, or the measured value can be converted by a program or the like for measurement.
  • the in-plane retardation can also be measured using AxoScan (AXOMETRICS).
  • the optical film of the present invention preferably contains a polyrotaxane or recoverable particle from the viewpoint of achieving excellent keying durability and sliding durability, and at least one of the hard coat layer and the resin film layer is a polyrotaxane or recovery It is more preferable to contain the penetrable particles.
  • grains can be preferably applied except the description of an average primary particle diameter.
  • the optical film of the present invention preferably contains particles having recoverability (also referred to as "recoverable particles") in view of enhancing keying durability and sliding durability, and showing high pencil hardness. More preferably, at least one of the hard coat layer and the resin film layer contains recoverable particles.
  • any layer may contain recoverable particles, it is preferable that the layer closer to the viewing side (surface side) contains, and more preferably that the hard coat layer contains.
  • the hard coat layer which is a laminate of two or more layers, contains recoverable particles, it may be contained in any layer, but it is preferable that the hard coat layer not in contact with the resin film contains it. It is more preferable that the hard coat layer located in the surface layer contain.
  • particles having a recovery rate of 30% or more at the time of indentation measurement are referred to as recoverable particles. The recovery rate is measured by the following measurement method.
  • the recovery rate of particles is the maximum indentation depth ( ⁇ m) when particles placed on a glass plate are pressed under the following conditions using a particle ultra-microhardness tester (Shimadzu Corporation, DUH-201) And the depth after unloading ( ⁇ m) using the following formula.
  • the average primary particle size of the recoverable particles is preferably 10 nm to 30 ⁇ m.
  • the thickness is preferably 10 nm to 8.0 ⁇ m, more preferably 50 nm to 8.0 ⁇ m, still more preferably 50 nm to 4.0 ⁇ m, and particularly preferably 50 nm to 1.0 ⁇ m in order to impart clear and flat surface properties to the hard coat layer.
  • the thickness is preferably 8.0 ⁇ m to 30 ⁇ m, and more preferably 8.0 ⁇ m to 15 ⁇ m.
  • the average primary particle size is measured by the following method, including the particles used in the examples described later. [Average primary particle size] With respect to the average primary particle size, the particles are observed with a transmission electron microscope (magnification: 500,000 to 2,000,000 times), 100 particles are observed, and the average value is taken as the average primary particle size.
  • the refractive index (refractive index at a wavelength of 550 nm) of the recoverable particles is preferably 1.35 to 1.60 from the viewpoint of visibility, more preferably 1.40 to 1.60, and 1.45 to 1. 60 is more preferred.
  • the refractive index is measured by the following method, including particles used in the examples described later.
  • Refractive index An equal amount of recoverable particles are dispersed in a mixed solvent consisting of two types of solvents having different refractive indexes to measure turbidity. The refractive index of the mixed solvent is changed by changing the mixing ratio of the two solvents, the refractive index of the mixed solvent is measured with an Abbe refractometer when the turbidity is minimized, and the measured refractive index is recovered. And the refractive index of
  • the recoverable particles include, for example, silicone rubber particles (particles containing silicone rubber), urethane rubber particles (particles containing urethane rubber), butadiene rubber particles (particles containing butadiene rubber), styrene butadiene rubber Elastomer particles (particles containing elastomer) such as particles (particles containing styrene butadiene rubber) and crosslinked (meth) acrylic acid ester rubber particles (particles containing crosslinked (meth) acrylic acid ester rubber), and polyrotaxane particles (Particles containing polyrotaxane) are preferably mentioned.
  • silicone rubber particles, crosslinked (meth) acrylate rubber particles or polyrotaxane particles are more preferable, and silicone rubber particles or polyrotaxane particles are more preferable.
  • elastomer particles are KMP-597, KMP-598, X-52-875, KM-9729, X-52-1133, KMP-600, KMP-601, KMP-601, KMP manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the shape of the recoverable particles may be either spherical or amorphous. Also, two or more different recoverable particles may be used in combination.
  • the recoverable particles are preferably localized on the viewing side in the layer from the viewpoint of giving a matte feeling or appropriate unevenness, and the reverse side to the viewing side in the layer from the viewpoint of giving a clear and flat surface property It is preferable to be ubiquitous.
  • the layer containing the recoverable particles may contain a particle antiaging agent.
  • the antiaging agent is not particularly limited.
  • amine antiaging substances amine-ketone antiaging substances, phenolic antiaging substances, imidazole antiaging substances, sulfur antiaging substances, phosphorus antiaging substances Etc.
  • those described on pages 436 to 443 of “The Rubber Industry Handbook ⁇ Fourth Edition>” edited by The Japan Rubber Association, the reaction product of aniline and acetone (TMDQ), synthetic wax (paraffin (paraffin) Wax etc.), vegetable wax etc. may be mentioned.
  • each opening (within each ring) of a plurality of cyclic molecules is pierced in a skewed manner by a linear molecule, and a plurality of cyclic molecules include the linear molecule in each opening.
  • the linear molecule passes through the opening of the cyclic molecule at or near both ends (or both ends of the linear molecule) of the pseudo polyrotaxane which is Is a compound having a structure in which a blocking group is disposed.
  • the weight average molecular weight of the polyrotaxane used as the recoverable particles contained in the optical film of the present invention is preferably 1,000,000 or less, more preferably 600,000 or less, from the viewpoint of enhancing the pencil hardness. It is particularly preferable that it is in the range of 1,000 to 180,000.
  • the linear molecule constituting the polyrotaxane is a molecule or substance that is included in the cyclic molecule (penetrates within the opening of the cyclic molecule) and can noncovalently integrate with the cyclic molecule, It is not particularly limited as long as it has a
  • the “linear molecule” refers to a molecule including a polymer, and all other substances satisfying the above requirements.
  • “straight chain” of “straight chain molecule” means substantially “straight chain”. That is, the linear molecule may have a branched chain as long as the cyclic molecule as the rotor can rotate or the cyclic molecule can slide and move on the linear molecule.
  • the length of “linear” is not particularly limited as long as cyclic molecules can slide and move on linear molecules.
  • hydrophilic polymers eg polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, poly (meth) acrylic acid, cellulose polymers (carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose etc.), polyacrylamide, polyethylene oxide, polyethylene glycol Polyvinyl acetal compounds, polyvinyl methyl ether, polyamines, polyethylene imines, casein, gelatin, starch etc., and copolymers thereof etc., and hydrophobic polymers (eg polyethylene, polypropylene and other olefin monomer components) Copolymers containing: polyester, polyvinyl chloride; polystyrene based compounds such as polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, etc.
  • hydrophilic polymers eg polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, poly (meth) acrylic acid, cellulose polymers (carboxymethyl cellulose, hydroxyethy
  • Acrylic polymers such as methyl methacrylate, (meth) acrylic acid ester copolymer, acrylonitrile-methyl acrylate copolymer; polycarbonate; polyurethane; vinyl chloride-vinyl acetate copolymer; polyvinyl butyral etc .; derivatives or modified thereof Body etc.) can be mentioned.
  • linear molecules of polyrotaxane As a linear molecule of polyrotaxane, a hydrophilic polymer is preferable. It is possible to impart hygroscopicity to the cured layer, and in particular, when the substrate is a cellulose acylate film, it is possible to reduce curling due to the difference in hygroscopic expansion of the cured layer and the substrate film.
  • hydrophilic polymers linear molecules of polyrotaxane are preferably polyethylene glycol, polypropylene glycol, and / or copolymers of ethylene glycol and propylene glycol.
  • Polyisoprene, polyisobutylene, polybutadiene, polytetrahydrofuran, polydimethylsiloxane, polyethylene and polypropylene are also preferred as linear molecules.
  • the linear molecule is more preferably polyethylene glycol, polyethylene glycol, and / or a copolymer of ethylene glycol and propylene glycol, and particularly preferably polyethylene glycol.
  • the linear molecule of polyrotaxane should itself have high breaking strength.
  • the fracture strength of the optical film is also determined by other factors such as the bond strength between the block group and the linear molecule, the bond strength between the cyclic molecule and the binder of the cured layer, and the bond strength between cyclic molecules.
  • higher breaking strength can be provided.
  • the weight average molecular weight of the linear molecule of polyrotaxane is preferably 1,000 or more, more preferably 5,000 or more, and still more preferably 10,000 or more.
  • the weight average molecular weight of the linear molecule can be 1,000 to 1,000,000, preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 5,000 to 500,000. can do.
  • the weight average molecular weight of the linear molecule is preferably 10,000 to 1,000,000, preferably 10,000 to 500,000, and 10,000 to 300,000. Is also preferred.
  • the linear molecule of polyrotaxane is a biodegradable molecule from the point of being "friendly to the environment".
  • the linear molecule of the polyrotaxane preferably has reactive groups at both ends thereof, and the reactive group is reacted with a blocking group to introduce a blocking group.
  • the said reactive group is dependent on the block group to be used, a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group etc. can be mentioned, for example.
  • cyclic molecule constituting the polyrotaxane can be used without particular limitation as long as it is a cyclic molecule that can clathrate the above-mentioned linear molecule.
  • cyclic molecule refers to various cyclic substances including cyclic molecules.
  • cyclic molecule refers to a molecule or substance that is substantially cyclic. That is, “substantially cyclic” is meant to include ones that are not completely closed, such as the letter "C", for example, one end of the letter “C” and the other end It is also meant to include those having a helical structure.
  • the ring for the “bicyclo molecule” described later is also defined in the same manner as the “substantially cyclic” of the above “cyclic molecule”. That is, one or both rings of the “bicyclo molecule” may not be completely ring-closed as in the letter "C", and one end and the other end of the letter “C” are bonded And may have a helical structure.
  • cyclic molecules of polyrotaxane examples include various cyclodextrins (eg, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, dimethyl cyclodextrin, glucosyl cyclodextrin, derivatives or modified products thereof, etc.), crown ethers, Mention may be made of benzo crowns, dibenzo crowns, and dicyclohexano crowns, and derivatives or modified products thereof.
  • cyclodextrins eg, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, ⁇ -cyclodextrin, dimethyl cyclodextrin, glucosyl cyclodextrin, derivatives or modified products thereof, etc.
  • crown ethers Mention may be made of benzo crowns, dibenzo crowns, and dicyclohexano crowns, and derivatives or modified products thereof.
  • cyclodextrins differ in the size of the opening of the cyclic molecule depending on their types. Therefore, if the type of linear molecule to be used, specifically, if the linear molecule to be used is regarded as cylindrical, the cyclic molecule to be used depending on the diameter of the cross section of the cylinder, the hydrophobicity or hydrophilicity of the linear molecule, etc. Can be selected. In addition, when a cyclic molecule having a relatively large opening and a cylindrical linear molecule having a relatively small diameter are used, two or more linear molecules can be included in the opening of the cyclic molecule. . Among these, cyclodextrins are preferable in the above-mentioned "environment-friendly" point because they have biodegradability.
  • ⁇ -cyclodextrin as a cyclic molecule of polyrotaxane.
  • the number of cyclic molecules (inclusion amount) in which the linear molecule of polyrotaxane is included is the maximum number (maximum inclusion) of cyclodextrin capable of including one linear molecule.
  • the amount is 1), it is preferably 0.05 to 0.60, more preferably 0.10 to 0.50, still more preferably 0.20 to 0.40.
  • the "maximum uptake” is defined as the maximum uptake of cyclic molecules assuming that the weight-average molecular weight of the linear molecules constituting the polyrotaxane is the molecular weight of one linear molecule.
  • the cyclodextrin which is a cyclic molecule, does not become too dense, and the mobility of cyclodextrin can be further enhanced.
  • the solubility of the cyclodextrin itself in the organic solvent can be sufficiently maintained, and the decrease in the solubility of the obtained polyrotaxane in the organic solvent is unlikely to occur.
  • the cyclic molecule of the polyrotaxane preferably has a reactive group in the ring, and the reactive groups react with each other to form a form in which the cyclic molecules are bonded to each other.
  • the reactive group also depends on the crosslinking agent to be used, and examples thereof include a hydroxyl group, an amino group, a carboxyl group, a thiol group and an aldehyde group.
  • this reactive group it is preferable to use a group which does not react with the blocking group in the above-mentioned blocking reaction.
  • any group may be used as long as the cyclic molecule can maintain a skewed form by a linear molecule.
  • a group having "bulk” and / or a group having "ionic” can be mentioned.
  • the “group” is not limited in its size, and means various groups including low molecular weight groups and high molecular weight groups.
  • the “ionic” of the “ionic” group and the “ionic” of the cyclic molecule influence each other (for example, due to repulsion), so that the cyclic molecule is skewed by the linear molecule. It is possible to keep the form that has become.
  • the block group of the polyrotaxane may be present in the main chain of the linear molecule or in the side chain as long as it retains the skewed form.
  • dinitrophenyl groups such as 2,4-dinitrophenyl group and 3,5-dinitrophenyl group as blocking groups for low molecular weight groups; cyclodextrins; adamantane groups; trityl groups; fluoresceins; Pyrenes; as well as their derivatives or modifications can be mentioned.
  • the block group of low molecular weight groups is cyclodextrins, such as 2,4-dinitrophenyl group, 3,5-dinitrophenyl group, etc.
  • Examples include dinitrophenyl groups; adamantane groups; trityl groups; fluoresceins; pyrenes; and derivatives or modified products thereof.
  • the polyrotaxane is also preferably a modified polyrotaxane.
  • a polyrotaxane in which a plurality of modifications described below are used in combination can be preferably used.
  • the polyrotaxane when the hard coat layer contains a polyrotaxane, the polyrotaxane preferably has an unsaturated bond group and more preferably an unsaturated double bond group from the viewpoint of pencil hardness. .
  • the position at which the polyrotaxane has an unsaturated bond group is not particularly limited, but for example, a cyclic molecule of the polyrotaxane can have an unsaturated bond group, which is preferable.
  • the polyrotaxane having an unsaturated bond group enables polymerization (reaction) with a monomer having an ethylenically unsaturated group.
  • the polyrotaxane contained in the hard coat layer is preferably a polyrotaxane having a methacryloyl group as an unsaturated double bond group from the viewpoint of enhancing the pencil hardness.
  • the introduction of the unsaturated bond group into the polyrotaxane can be carried out, for example, by substituting at least a part of a cyclic molecule having a hydroxyl group (—OH) such as cyclodextrin with an unsaturated bond group, preferably an unsaturated double bond group. It can be carried out.
  • a method of introducing an unsaturated bond group to polyrotaxane by reaction with a compound having an unsaturated bond group specifically, the following methods can be used.
  • the polyrotaxane When a (meth) acryloyl group is introduced as an unsaturated bond group through a carbamoyl bond, the polyrotaxane is dissolved in a dehydration solvent such as dimethyl sulfoxide or dimethylformamide, and an (meth) acryloylating agent (isocyanate having an isocyanate group (isocyanate) It can be carried out by adding a (meth) acryloyl compound having a group.
  • a dehydration solvent such as dimethyl sulfoxide or dimethylformamide
  • a (meth) acrylate agent having an active group such as a glycidyl group or an acid chloride
  • a (meth) acryloyl compound having an active group such as a glycidyl group or an acid chloride
  • the step of replacing the hydroxyl group of the cyclic molecule with an unsaturated bond group may be performed before, during or after the step of preparing a pseudopolyrotaxane. In addition, it may be before, during, or after the step of blocking pseudopolyrotaxane to prepare polyrotaxane. Furthermore, in the case where the polyrotaxane is a crosslinked polyrotaxane, it may be before, during, or after the step of crosslinking the polyrotaxanes. Also, substitution can be made over these two or more steps. The substitution step is preferably performed after blocking pseudo polyrotaxane to prepare a polyrotaxane, and before crosslinking of the polyrotaxanes.
  • the conditions used in the substitution step depend on the compound having an unsaturated double bond group used for substitution, but are not particularly limited, and various reaction methods and reaction conditions can be used.
  • Crosslinked polyrotaxane refers to a compound in which two or more polyrotaxanes are chemically bonded to each other, and the two cyclic molecules may be the same or different.
  • the chemical bond may be a bond through various atoms or molecules.
  • a crosslinked polyrotaxane can be obtained by using a molecule having a crosslinked ring structure, ie, a "bicyclo molecule" having a first ring and a second ring.
  • a “bicyclo molecule” and a linear molecule are mixed, and the linear molecule is included in a skewed manner in the first ring and the second ring of the “bicyclo molecule” to obtain a crosslinked polyrotaxane.
  • This cross-linked polyrotaxane has viscoelasticity because the cyclic molecule penetrated in a skewer-like manner by the linear molecule can move along the linear molecule (the pulley effect), and even if tension is applied, By means of the pulley effect, this tension can be distributed uniformly and the internal stress can be relieved.
  • hydrophobized modified polyrotaxane When the cyclic molecule of polyrotaxane is cyclodextrins such as ⁇ -cyclodextrin, hydrophobized modified polyrotaxane in which at least one of hydroxyl groups of cyclodextrin is substituted by an organic group (hydrophobic group) is also a preferable form of the above polyrotaxane.
  • the hydrophobized modified polyrotaxane can enhance the solubility in the solvent contained in the composition for forming each layer (preferably, hard coat layer) in the optical film, and can further improve the production suitability of the optical film.
  • hydrophobic group examples include, for example, alkyl group, benzyl group, benzene derivative-containing group, acyl group, silyl group, trityl group, nitrate group, tosyl group, alkyl-substituted ethylenically unsaturated group as a light curing site, heat curing
  • an alkyl-substituted epoxy group etc. can be mentioned as a site
  • the degree of modification by the hydrophobization modifying group is preferably 0.02 or more (1 or less), more preferably 0.04 or more, where the maximum number of modifications of the hydroxyl group of cyclodextrin is one. More preferably, it is 0.06 or more.
  • the degree of modification degree is preferably 0.02 or more (1 or less), more preferably 0.04 or more, where the maximum number of modifications of the hydroxyl group of cyclodextrin is one. More preferably, it is 0.06 or more.
  • the maximum number of hydroxyl groups of cyclodextrin that can be modified is, in other words, the number of all hydroxyl groups that cyclodextrin had before modification.
  • the degree of modification is, in other words, the value of the ratio of the number of modified hydroxyl groups to the total number of hydroxyl groups.
  • a hydrophobization modifying group having a functional group it becomes possible to improve the reactivity with other polymers.
  • the content of recoverable particles is preferably 1 to 30% by mass and 5 to 30% by mass in the total solid content of the HC layer.
  • the content is more preferably 10 to 30% by mass, and particularly preferably 10 to 20% by mass.
  • the term “in the total solid content of the HC layer” means “all of the HC layers containing recoverable particles among the two or more HC layers”. "In solid content" is meant.
  • the content of the recoverable particles is preferably 1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin constituting the resin film, The amount is more preferably 30 parts by mass, further preferably 10 to 30 parts by mass, and particularly preferably 10 to 20 parts by mass.
  • the resin constituting the resin film means a component that does not exist as particles in the resin film (specifically, the following "material of the resin film”).
  • the above-mentioned "100 parts by mass of the resin constituting the resin film” means "a resin film containing recoverable particles among the resin films of two or more layers". It means "100 parts by mass of the constituting resin".
  • Resin film material of resin film
  • the material of the resin film used in the present invention is not particularly limited.
  • the resin film is, for example, an acrylic resin film, a polycarbonate (PC) resin film, a cellulose ester resin film such as a triacetyl cellulose (TAC) resin film, a polyethylene terephthalate (PET) resin film, a polyolefin resin film And polyester-based resin films, polyamide-based resin films, polyimide-based resin films, and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer films.
  • TAC triacetyl cellulose
  • PET polyethylene terephthalate
  • polyester-based resin films polyamide-based resin films, polyimide-based resin films, and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer films.
  • Acrylic-based resin films, cellulose ester-based resin films, polyethylene terephthalate-based resin films And a film selected from a polyimide resin film and a polycarbonate resin film are preferable, and a cellulose ester resin film is more preferable from the viewpoint of moisture permeability. Properly, the cellulose acetate is more preferred.
  • the acrylic resin film refers to a resin film of a polymer or copolymer formed from one or more compounds selected from the group consisting of acrylic acid esters and methacrylic acid esters. As an example of an acrylic resin film, polymethyl methacrylate resin (PMMA) film is mentioned.
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 10,000 to 1,000,000, and more preferably 100,000 to 1,000,000, from the viewpoint of enhancing the tensile modulus.
  • composition of resin film The configuration of the resin film is also not limited, and may be a single layer or a laminated film composed of two or more layers, but a laminated film of two or more layers is preferable.
  • the number of laminated layers of the laminated film is preferably 2 to 10, more preferably 2 to 5, and still more preferably 2 or 3.
  • the outer layer and layers other than the outer layer are preferably films of different compositions.
  • the film of the same composition is preferable.
  • films with the same reference numeral (a or b) indicate films of the same composition.
  • the resin film may contain an additive in addition to the above-mentioned resin.
  • the additive include the above-described recoverable particles, and inorganic particles, matte particles, external ray absorbents, fluorine-containing compounds, surface conditioners, leveling agents, and the like described in the hard coat layer described later.
  • a resin melt obtained by mixing and melting the above additive and the resin, and in the solution film forming method described later, the solvent (the description in the hard coat described later can be applied), the resin and the above It can be used for formation of a resin film as a dope liquid mixed with an additive.
  • the tensile modulus of elasticity of a resin film can be changed, for example, depending on the type of resin constituting the resin film, and generally, the tensile modulus tends to increase by increasing the molecular weight and / or the degree of crystallization of the resin. Moreover, the resin film can raise the tensile elasticity modulus of the extending
  • the resin film is preferably 2.0 GPa or more, more preferably 2.5 GPa or more, still more preferably 3.0 GPa or more, particularly preferably 3.5 GPa or more from the viewpoint of enhancing the keying durability , 4.0 GPa or more is most preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but 12.0 GPa or less is practical.
  • the “tensile modulus of elasticity” of the resin film can be tested and calculated by the following method according to the method described in JIS K7127.
  • a 1 cm wide resin film is cut out as a measurement sample with a length of 15 cm in the measurement direction.
  • the sample for measurement that has been cut out is placed in a tensile tester (trade name "strograph-R2" manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd.) so that the chuck interval in the measurement direction is 10 cm, and stretched under the conditions of 25 ° C measurement temperature Stretch the chuck interval at a speed of 10 mm / min to obtain a stress-strain curve.
  • the tensile modulus at 25 ° C.
  • the tensile modulus of elasticity of the measurement sample having the orientation direction with the largest degree of orientation as the long side in a plane perpendicular to the thickness direction of the resin film, and the orientation direction orthogonal to this orientation direction
  • the average of the tensile modulus of elasticity of the sample for measurement in which the long side is the direction in which the sample is made is taken as the tensile modulus of elasticity of the resin film.
  • the thickness of the resin film is preferably 60 ⁇ m or more, more preferably 80 ⁇ m or more, and still more preferably 100 ⁇ m or more, from the viewpoint of depression suppression after the keying (improvement of keying durability). In addition, from the viewpoint of enhancing the keying durability and the pencil hardness, 120 ⁇ m or more is particularly preferable.
  • the upper limit value is not particularly limited, but is preferably 300 ⁇ m or less.
  • the resin film used for this invention may have an easily bonding layer.
  • the easy-adhesion layer is prepared by combining the contents of the polarizer-side easy-adhesion layer and the method for producing a polarizer-side easy-adhesion layer described in paragraphs 0098 to 0133 of JP-A-2015-224267 in accordance with the present invention. It can be incorporated.
  • the easy adhesion layer is a layer constituting the resin film in the optical film of the present invention.
  • the resin film may be formed by any method, and examples thereof include a melt film forming method and a solution film forming method.
  • a melt film forming method it is preferable to include a melting step of melting a resin by an extruder, a step of extruding the molten resin from a die into a sheet, and a step of forming a film.
  • a filtration step of the molten resin may be provided after the melting step, or may be cooled when it is extruded in the form of a sheet.
  • this invention is not limited to this.
  • the method for producing the resin film includes a melting step of melting the resin with an extruder, a filtration step of filtering the molten resin through a filtration device equipped with a filter, and extrusion of the filtered resin into a sheet form from a die It has a film forming step of cooling and solidifying by being brought into close contact with a cooling drum to form an unstretched resin film, and a stretching step of uniaxially or biaxially stretching the unstretched resin film.
  • a resin film can be manufactured.
  • the pore diameter of the filter used in the filtration step of the molten resin is 1 ⁇ m or less, foreign matter can be sufficiently removed. As a result, it is possible to control the surface roughness in the film width direction of the obtained resin film.
  • the method for forming a resin film can include the following steps.
  • the method for producing the resin film includes a melting step of melting the resin with an extruder. After drying the resin or the mixture of resin and additive to a water content of 200 ppm or less, it is preferable to introduce it into a single-screw (single-screw) or twin-screw extruder and melt it. At this time, in order to suppress the decomposition of the resin, melting in nitrogen or in vacuum is also preferable.
  • the extruder is preferably a single-screw kneading extruder. Furthermore, it is also preferable to use a gear pump to increase the delivery accuracy of the molten resin (melt).
  • the manufacturing method of the said resin film includes the filtration process which filters the fuse
  • the presence or absence of the filter installation, the pore diameter of the filter, and the like can be appropriately adjusted.
  • the filtration step only one set or two or more sets of filtration devices having filters with such a pore size range may be installed.
  • the method for producing the resin film includes a film forming step of extruding the filtered resin in a sheet form from a die and closely fixing the resin on a cooling drum to solidify it and form an unstretched resin film.
  • the melted (and kneaded) and filtered resin (melt containing resin) is extruded from the die into a sheet, it may be extruded as a single layer or multilayer.
  • a layer containing an ultraviolet absorber and a layer not containing an ultraviolet absorber may be laminated, and more preferably, a three-layer configuration in which the ultraviolet absorber is an inner layer suppresses deterioration of the polarizer due to ultraviolet rays. Bleeding of the ultraviolet absorber can be suppressed, which is preferable.
  • the thickness of the preferable inner layer of the obtained resin film is preferably 50% to 99%, more preferably 60% to 99%, based on the thickness of all layers. More preferably, it is 70% or more and 99% or less.
  • Such lamination can be performed by using a feed block die or a multi-manifold die.
  • JP2009-269301A a resin (melt containing resin) extruded in a sheet form from a die is extruded on a cooling drum (casting drum), cooled and solidified, and an unstretched resin film (raw fabric) It is preferred to obtain
  • the temperature of the resin extruded from the die is preferably 280 ° C. or more and 320 ° C. or less, and more preferably 285 ° C. or more and 310 ° C. or less. It is preferable that the temperature of the resin extruded from the die in the melting step be 280 ° C. or higher, because the remaining unmelted raw material resin can be reduced and the generation of foreign matter can be suppressed. It is preferable that the temperature of the resin extruded from the die in the melting step be 320 ° C. or less, because the decomposition of the resin can be reduced and the generation of foreign matter can be suppressed.
  • the temperature of the resin extruded from the die can be measured in a noncontact manner on the surface of the resin with a radiation thermometer (made by Hayashi Denko, model number: RT61-2, used with an emissivity of 0.95).
  • the method for producing a resin film it is preferable to use an electrostatic application electrode when bringing a resin into close contact with a cooling drum in a film forming step. Thereby, the resin can be strongly adhered on the cooling drum so that the film surface condition is not roughened.
  • the temperature of the resin at the time of being in close contact with the cooling drum is preferably 280 ° C. or more.
  • the electric conductivity of the resin is increased, and the resin can be strongly adhered to the cooling drum by electrostatic application, and the film surface roughness can be suppressed.
  • the temperature of the resin in close contact with the cooling drum can be measured in a noncontact manner on the surface of the resin with a radiation thermometer (made by Hayashi Denko, model number: RT61-2, used with an emissivity of 0.95).
  • the method for producing a resin film includes a stretching step of uniaxially or biaxially stretching an unstretched resin film.
  • the longitudinal stretching step step of stretching in the same direction as the transport direction of the film
  • the roller group having a difference in peripheral speed (that is, different transport speeds) in a heated state In the transport direction.
  • the preheating temperature in the longitudinal stretching step is preferably Tg-40 ° C. or more and Tg + 60 ° C. or less, more preferably Tg-20 ° C. or more and Tg + 40 ° C. or less, more preferably Tg or more and Tg + 30 ° C. with respect to the glass transition temperature (Tg) of the resin film.
  • the stretching temperature in the longitudinal stretching step is preferably Tg or more and Tg + 60 ° C. or less, more preferably Tg + 2 ° C. or more and Tg + 40 ° C. or less, and still more preferably Tg + 5 ° C. or more and Tg + 30 ° C. or less.
  • the draw ratio in the longitudinal direction is preferably 1.0 or more and 2.5 or less, and more preferably 1.1 or more and 2 or less.
  • the film is transversely stretched in the transverse direction by a transverse stretching step (step of stretching in a direction perpendicular to the transport direction of the film).
  • a transverse stretching step for example, a tenter can be suitably used, and with this tenter, both ends in the width direction of the resin film are gripped with clips and stretched in the transverse direction.
  • This transverse stretching can increase the tensile modulus of elasticity of the resin film in the optical film.
  • Transverse stretching is preferably carried out using a tenter, and the preferred stretching temperature is preferably Tg or more and Tg + 60 ° C. or less, more preferably Tg + 2 ° C. or more and Tg + 40 ° C. or less relative to the glass transition temperature (Tg) of the resin film. And more preferably Tg + 4 ° C or more and Tg + 30 ° C or less.
  • the stretching ratio is preferably 1.0 or more and 5.0 or less, and more preferably 1.1 or more and 4.0 or less. It is also preferable to relax in the longitudinal direction, in the transverse direction, or in both after the transverse stretching.
  • variation due to the location in the width direction and the longitudinal direction of thickness may be 10% or less, preferably 8% or less, more preferably 6% or less, still more preferably 4% or less, and most preferably 2% or less preferable.
  • the variation in thickness can be determined as follows.
  • the stretched resin film is sampled for 10 m (meters), 50 points are sampled at equal intervals in the width direction and the longitudinal direction from the film center, except for 20% at each end in the film width direction, and the thickness is measured.
  • the thickness average value Th MD-av , the maximum value Th MD-max and the minimum value Th MD-min in the longitudinal direction are determined (Th MD-max -Th MD-min ) / Th MD-av x 100 [%] Is the variation of thickness in the longitudinal direction.
  • the improvement of the thickness accuracy of a resin film can be aimed at.
  • the stretched resin film can be rolled up in a roll process. At that time, the winding tension of the resin film is preferably 0.02 kg / mm 2 or less.
  • the melt film-forming has the contents described in [0134]-[0148] of JP-A-2015-224267, and the drawing process has the contents described in JP-A-2007-137028 in accordance with the present invention It can be incorporated into the present specification.
  • the dope liquid which forms a core layer and a method of lowering the viscosity of the dope forming the outer layer while securing the strength of the cast film.
  • a method of rapidly drying the cast film to form a film on the surface of the cast film and smoothing the surface condition by the leveling effect of the formed film, a method of stretching the cast film, and the like are also preferably mentioned. .
  • the resin film used in the present invention may have a film thickness equal to or more than a specific value.
  • the second resin film may be composed of a resin film laminated in this order.
  • the resin film formed by bonding two resin films by an adhesive layer is demonstrated.
  • the two resin films to be bonded by the adhesive layer be the same film from the viewpoint that the optical film is hardly bent and the keying durability is more excellent.
  • the same film means that the material of the resin constituting the resin film is the same (for example, all are TAC films).
  • the molecular weight of the resin is preferably the same, the molecular weight and the crystallinity of the resin are more preferably the same, and the molecular weight, the crystallinity and the stretching ratio of the resin are more preferably the same.
  • the thicknesses of the two resin films are the same.
  • “the same” is not limited to completely the same, and includes substantially the same. Specifically, they are manufactured under the same manufacturing method (conditions such that the film thickness, stretching, and the like are the same), and include errors generated under these conditions.
  • the difference in tensile modulus between two resin films bonded by the adhesive layer is preferably small, and specifically 4.0 GPa or less is preferable, 3.0 GPa or less is more preferable, and 2.0 GPa or less is more preferable Preferably, 1.0 GPa or less is particularly preferred.
  • the thickness of each of the two resin films is preferably independently 25 to 160 ⁇ m, more preferably 40 to 160 ⁇ m, still more preferably 60 to 160 ⁇ m, and particularly preferably 100 to 160 ⁇ m from the viewpoint of keying durability and production suitability.
  • the adhesive layer is a layer that plays the role of bonding resin films together, and is not particularly limited as long as two resin films are bonded.
  • the adhesive layer is preferably formed using a composition including a component (adhesive) that exhibits adhesiveness by drying or reaction.
  • a composition hereinafter, referred to as a "curable composition” containing a component that exhibits adhesiveness by a curing reaction is a cured layer obtained by curing the curable composition. It is.
  • the adhesive layer can be a layer in which the resin occupies 50% by mass or more, preferably 70% by mass or more of this layer.
  • the resin a single resin may be used, or a mixture of a plurality of resins may be used.
  • the ratio occupied by the above resin means the ratio occupied by the mixture of resins.
  • the mixture of resins include a mixture of a certain resin and a resin having a structure obtained by modifying a part of the resin, and a mixture of resins obtained by reacting different polymerizable compounds.
  • an adhesive having any suitable property, form and adhesion mechanism can be used.
  • the adhesive for example, a water soluble adhesive, an ultraviolet curing adhesive, an emulsion adhesive, a latex adhesive, a mastic adhesive, a multilayer adhesive, a paste adhesive, a foam adhesive Supported film adhesive, Thermoplastic adhesive, Hot melt adhesive, Thermal setting adhesive, Thermal activated adhesive, Heat seal adhesive, Thermosetting adhesive, Contact adhesive, Pressure sensitive Adhesives, polymerization-type adhesives, solvent-type adhesives, solvent-active adhesives, etc. may be mentioned, with water-soluble adhesives and UV-curable adhesives being preferred.
  • water-soluble adhesives are preferably used in terms of excellent transparency, adhesiveness, workability, product quality and economy.
  • the water soluble adhesive can include natural or synthetic water soluble components such as proteins, starches, synthetic resins and the like.
  • synthetic resin for example, resol resin, urea resin, melamine resin, polyethylene oxide resin, polyacrylamide resin, polyvinyl pyrrolidone resin, polyacrylic acid ester resin, polymethacrylic acid ester resin, polyvinyl alcohol resin, polyacrylic resin and cellulose Derivatives are included.
  • a water-soluble adhesive containing a polyvinyl alcohol resin or a cellulose derivative is preferable in that it is excellent in the adhesiveness when bonding a resin film. That is, the adhesive layer preferably contains a polyvinyl alcohol resin or a cellulose derivative.
  • a cellulose derivative means what modified
  • cellulose derivative there is no particular limitation on the cellulose derivative, and known cellulose derivatives can be used.
  • HEC hydroxyethyl cellulose
  • the weight average molecular weight of the resin is preferably 1,000 or more, and more preferably 10,000 or more, from the viewpoint of enhancing the tensile modulus.
  • the upper limit is not particularly limited, but 1,000,000 or less is practical.
  • components optionally contained in the composition containing the adhesive include a crosslinking agent (boric acid and Safelink SPM-01 (trade name, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), etc.), a durability improver (potassium iodide, etc.) Be
  • the tensile modulus of the adhesive layer can be changed, for example, depending on the type of resin constituting the adhesive layer, and generally, the tensile modulus tends to increase by increasing the molecular weight and the degree of crystallinity of the resin.
  • the tensile modulus can be increased by improving the degree of crosslinking of the adhesive layer by the addition of a crosslinking agent or the like.
  • the adhesive layer contains a polymerizable composition
  • reduction of the polymerizable group equivalent of the compound having a polymerizable group (the value obtained by dividing the molecular weight of this compound by the total number of polymerizable groups contained in this compound)
  • a highly elastic substance such as inorganic particles
  • a compound containing a rigid molecular structure such as adamantane skeleton
  • the adhesive layer is preferably 2.0 GPA or more, more preferably 2.5 GPa or more, more preferably 3.0 GPa or more, more preferably 3.5 GPa or more from the viewpoint of enhancing the keying durability.
  • 4.0 GPa or more is more preferable, 4.5 GPa or more is particularly preferable, and 5.0 GPa or more is most preferable.
  • the upper limit is not particularly limited, but 12.0 GPa or less is practical.
  • the elastic modulus of an adhesive layer can be tested and calculated by the method similar to the tensile elasticity modulus of the said resin film using the sample of the adhesive layer produced using the liquid for adhesive layer formation.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 10 nm or more from the viewpoint of bonding two resin films, and further preferably 10 nm to 10 ⁇ m, more preferably 10 nm to 5 ⁇ m, and still more preferably 10 nm to 1 ⁇ m from the viewpoint of reducing interference unevenness.
  • the adhesive layer can be formed, for example, by applying a coating solution containing an adhesive to at least one surface of a resin film and drying. Any appropriate method can be adopted as a method of preparing a coating solution.
  • a coating solution for example, a commercially available solution or dispersion may be used, or a solvent may be further added to the commercially available solution or dispersion, and the solid content may be used by dissolving or dispersing in various solvents. It is also good.
  • the adhesive layer can also be a cured layer obtained by curing an active energy ray-curable composition.
  • An active energy ray-curable composition for forming an adhesive layer is, as an active energy-curable component, a cationically polymerizable compound such as an epoxy compound, more specifically, described in JP-A-2004-245925.
  • an epoxy compound can be obtained, for example, by subjecting an aromatic polyhydroxy compound, which is a raw material of an aromatic epoxy compound represented by a diglycidyl ether of bisphenol A, to nuclear hydrogenation and glycidyl etherifying it.
  • Examples of hydrogenated epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds having at least one epoxy group bonded to an alicyclic ring in the molecule, and aliphatic epoxy compounds represented by glycidyl ethers of aliphatic polyhydroxy compounds are exemplified. It can be mentioned.
  • the active energy ray-curable composition for forming the adhesive layer is added to a cationically polymerizable compound represented by an epoxy compound as a representative example, and a polymerization initiator such as cationic species or Lewis acid by irradiation of active energy ray And a photo base generator for generating a base upon irradiation with light, and a photo cationic polymerization initiator for initiating polymerization of the cationically polymerizable compound.
  • various additives such as a thermal cationic polymerization initiator which causes polymerization to start by heating, and a photosensitizer may be included.
  • the difference between the tensile modulus at 25 ° C. of the two resin films to be bonded and the tensile modulus at 25 ° C. of the adhesive layer is preferably independently 4.0 GPa or less from the viewpoint of further enhancing the keying durability, 3.5 GPa or less is more preferable, 3.0 GPa or less is more preferable, 2.5 GPa or less is more preferable, 2.0 GPa or less is more preferable, 1.5 GPa or less is particularly preferable, and 1.0 GPa or less is the most preferable.
  • the optical film of the present invention when having a resin film formed by bonding two resin films by an adhesive layer, has an adhesive layer also on the surface (other surface) opposite to the surface having the adhesive layer.
  • a known polarizing plate protective film can be provided on the other surface via an adhesive layer.
  • the composition for forming each adhesive layer may be the same or different, but from the viewpoint of productivity, both sides are formed of the same composition. It is preferable to have an adhesive layer.
  • the surface to which the adhesive layer is to be applied may be subjected to surface treatment such as saponification treatment, corona discharge treatment, plasma treatment or the like before the adhesive layer is applied.
  • the saponification treatment for example, by subjecting a cellulose ester-based resin film to an alkali saponification treatment, adhesion to a polarizer material such as polyvinyl alcohol can be enhanced.
  • a method of saponification the methods described in paragraph [0211] and paragraph [0212] of JP-A-2007-86748 can be used.
  • the alkali saponification process with respect to a cellulose-ester type-resin film is performed by the cycle which neutralizes with an acidic solution, is water-washed, and is dried, after immersing a film surface in an alkaline solution.
  • the alkaline solution include potassium hydroxide solution and sodium hydroxide solution.
  • the concentration of hydroxide ion is preferably in the range of 0.1 to 5.0 mol / L, and more preferably in the range of 0.5 to 4.0 mol / L.
  • the alkaline solution temperature is preferably in the range of room temperature to 90 ° C., and more preferably in the range of 40 to 70 ° C.
  • a publicly known method can be used as a method of pasting resin films together using adhesives.
  • the second resin film or the first resin film is made to approach at the same moving speed to one surface of the strip-like long first resin film or the second resin film moving in the horizontal direction or the vertical direction.
  • An adhesive to be an adhesive layer may be applied between the first resin film and the second resin film, and pressure may be applied by a pinch roll to bond the two resin films together.
  • the adhesive to be applied may be one diluted with a solvent so that the material constituting the adhesive layer can be applied. In that case, the solvent in the adhesive layer is dried to complete the adhesion of the two resin films.
  • the drying temperature at this time depends on the solvent type in the adhesive layer and the resin type and thickness of the two resin films, but for example, when the solvent in the adhesive layer is water, it is 30 to 85 ° C. Preferably, the temperature is 45 to 80 ° C.
  • an adhesive that serves as an adhesive layer is applied to one or both of the two resin films, and a drying process is performed to remove the solvent contained in the adhesive layer, and the adhesive layer is formed on the resin film.
  • the other resin film is made to approach at the same moving speed to the surface on which the adhesive layer is formed, of the resin film on which the strip-like long adhesive layer is formed to move horizontally or vertically.
  • a solvent for swelling the adhesive layer is applied between the two resin films on which the adhesive layer is formed, and pressure can be applied with a pinch roll to bond the two resin films together. In this case, the solvent is dried and adhesion of the two resin films is completed.
  • the drying temperature at this time depends on the solvent type and the resin type and thickness of the two resin films, but for example, when the solvent is water, it is preferably 30 to 85 ° C., more preferably 45 to 80 ° C. is there.
  • HC layer Hard coat layer
  • the optical film of the present invention has a hard coat layer (HC layer) on at least one side of a resin film.
  • HC layer can be produced using the curable composition for HC layer formation as mentioned later.
  • the HC layer in the present invention has a polysiloxane-containing compound having a polymerizable group in the molecule, a fluorine-containing compound having a polymerizable group in the molecule, and a polymerizable group in molecules described later other than these compounds. It is preferable to polymerize and harden the polymerizable compound, and it is more preferable that these polymerizable groups be radical polymerizable groups. Thereby, in the HC layer, the polysiloxane-containing compound and the fluorine-containing compound are present in a state of being bonded to the polymerizable compound forming the HC layer, and more excellent adhesion resistance after keying can be imparted.
  • the polysiloxane-containing compound and the fluorine-containing compound have a polymerizable group
  • the polymerizable group in the polysiloxane-containing compound and the fluorine-containing compound which will be described later, will react and form a bond in the HC layer.
  • the polysiloxane compound and the fluorine-containing compound are preferably contained at least by the HC layer most distant from the resin film, and most separated from the resin film More preferably, only the HC layer is contained.
  • this invention is not limited to the following aspect.
  • the fluorine-containing compound in the present invention is not particularly limited as long as it can impart abrasion resistance to the HC layer by using it in combination with the polysiloxane-containing compound, and a compound having a fluorine atom in the molecule can be used. it can.
  • a fluorine-containing antifouling agent exhibiting properties of an antifouling agent is preferably used.
  • the fluorine-containing compound may be any of a monomer, an oligomer and a polymer.
  • the fluorine-containing compound has a substituent which contributes to bond formation or compatibility with other components (for example, a polysiloxane-containing compound, a polymerizable monomer which is a component of a resin, a resin) in the HC layer Is preferred.
  • the substituents may be the same or different and are preferably a plurality.
  • the substituent is preferably a polymerizable group, and it may be a polymerizable reactive group exhibiting any one of radical polymerizable, cationic polymerizable, anionic polymerizable, polycondensable and addition polymerizable, and preferred examples of the substituent And acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group and amino group. Among them, a radically polymerizable group is preferable, and in particular, an acryloyl group and a methacryloyl group are particularly preferable.
  • the fluorine-containing compound may be a polymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom.
  • the fluorine-containing antifouling agent is preferably a fluorine-based compound represented by the following general formula (F).
  • R A represents a polymerizable unsaturated group.
  • the polymerizable unsaturated group is preferably a group having an unsaturated bond (that is, a radically polymerizable group) capable of causing a radical polymerization reaction by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, (meth) And acryloyl group, (meth) acryloyloxy group, vinyl group, allyl group and the like, and (meth) acryloyl group, (meth) acryloyloxy group, and a group in which any hydrogen atom in these groups is substituted by a fluorine atom Is preferably used.
  • R f represents a (per) fluoroalkyl group or a (per) fluoropolyether group.
  • the (per) fluoroalkyl group represents at least one of a fluoroalkyl group and a perfluoroalkyl group
  • the (per) fluoropolyether group represents at least one of a fluoropolyether group and a perfluoropolyether group. Represents a species. From the viewpoint of abrasion resistance, the higher the fluorine content in R f is preferred.
  • the (per) fluoroalkyl group is preferably a group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a group having 1 to 10 carbon atoms.
  • the (per) fluoroalkyl group has a linear structure (eg, -CF 2 CF 3 , -CH 2 (CF 2 ) 4 H, -CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , -CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 even H), branched structure (e.g.
  • the (per) fluoropolyether group refers to a case where the (per) fluoroalkyl group has an ether bond, and may be a monovalent or divalent or higher divalent group.
  • a fluoropolyether group for example, -CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , -CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, -CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , -CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, a fluorocycloalkyl group having 4 to 20 carbon atoms and having 4 or more fluorine atoms, and the like can be mentioned.
  • perfluoropolyether group for example, - (CF 2 O) p - (CF 2 CF 2 O) q -, - [CF (CF 3) CF 2 O] p - [CF (CF 3)] q -,-(CF 2 CF 2 CF 2 O) p -,-(CF 2 CF 2 O) p- and the like can be mentioned.
  • the above p and q each independently represent an integer of 0 to 20. However, p + q is an integer of 1 or more.
  • the total of p and q is preferably 1 to 83, more preferably 1 to 43, and still more preferably 5 to 23.
  • the fluorine-containing antifouling agent particularly preferably has a perfluoropolyether group represented by-(CF 2 O) p- (CF 2 CF 2 O) q- from the viewpoint of excellent scratch resistance.
  • the fluorine-containing antifouling agent preferably has a perfluoropolyether group and preferably has a plurality of polymerizable unsaturated groups in one molecule.
  • W represents a linking group.
  • W include an alkylene group, an arylene group and a heteroalkylene group, and a linking group in which these groups are combined. These linking groups may further have a functional group in which an oxy group, a carbonyl group, a carbonyloxy group, a carbonylimino group, a sulfonamide group and the like, and a combination of these groups.
  • W preferably, it is an ethylene group, more preferably an ethylene group bonded to a carbonylimino group.
  • the fluorine atom content of the fluorine-containing antifouling agent is not particularly limited, but is preferably 20% by mass or more, more preferably 30 to 70% by mass, and still more preferably 40 to 70% by mass.
  • fluorine-containing antifouling agents examples include R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 and OPTOOL DAC (trade names) manufactured by Daikin Chemical Industry Co., Ltd., Dainippon Ink Co., Ltd. Megafacs F-171, F-172, F-179A, RS-78, RS-90, Defensa MCF-300 and MCF-323 (trade names), but not limited thereto.
  • the product (n ⁇ m) of n and m is preferably 2 or more, and more preferably 4 or more.
  • R f2 represents a fluorine atom or a fluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • R 21 represents a single bond or an alkylene group
  • R 22 Represents a single bond or a divalent linking group
  • p is an integer indicating the degree of polymerization
  • the degree of polymerization p is k (k is an integer of 3 or more) or more.
  • R 22 represents a divalent linking group
  • examples of the divalent linking group include the same as the aforementioned W.
  • fluorine-containing telomer-type (meth) acrylate in the general formula (F-1) include partially or completely fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid.
  • the compound represented by the above general formula (F-1) can be selected from those of the general formula (F-1) depending on the telomerization conditions and the separation conditions of the reaction mixture. That p in the group R f2 (CF 2 CF 2 ) p R 22 CH 2 CH 2 R 21 O— contains a plurality of fluorine-containing (meth) acrylic acid esters such as k, k + 1, k + 2,. There is.
  • F-2 F (CF 2 ) q -CH 2 -CHX-CH 2 Y (wherein q is an integer of 1 to 20, X and Y each represent a (meth) acryloyloxy group or a hydroxyl group, and at least one of X and Y is Meta) acryloyloxy group)
  • the fluorine-containing (meth) acrylic acid ester represented by the general formula (F-2) has a fluoroalkyl group having 1 to 20 carbon atoms having a trifluoromethyl group (-CF 3 ) at the end, Even with a small amount of fluorine-containing (meth) acrylic acid ester, trifluoromethyl groups are effectively oriented on the surface.
  • q is preferably 6 to 20, and more preferably 8 to 10.
  • Fluorine-containing (meth) acrylic acid ester having a fluoroalkyl group having 8 to 10 carbon atoms has an excellent reduction in friction coefficient as compared with fluorine-containing (meth) acrylic acid ester having a fluoroalkyl group of other chain length. In order to express an effect, it is excellent in abrasion resistance.
  • F (CF 2 ) r O (CF 2 CF 2 O) s CF 2 CH 2 OCOCOR 3 CH 2 (wherein, R 3 is a hydrogen atom or a methyl group, s is an integer of 1 to 20, and r is Represents an integer of 1 to 4)
  • the fluorine atom-containing monofunctional (meth) acrylate represented by the above general formula (F-3) is a reaction of a fluorine atom containing alcohol compound represented by the following general formula (FG-3) with a (meth) acrylic acid halide It can be obtained by
  • fluorine atom-containing alcohol compound represented by the above general formula (FG-3) include, for example, 1H, 1H-perfluoro-3, 6-dioxaheptan-1-ol, 1H, 1H-perfluoro-3, 6-dioxaoctan-1-ol, 1H, 1H-perfluoro-3, 6-dioxadecan-1-ol, 1H, 1H-perfluoro-3, 6, 9-trioxadecan-1-ol, 1H, 1H- Perfluoro-3,6,9-trioxaundecane-1-ol, 1H, 1H-perfluoro-3,6,9-trioxatridecan-1-ol, 1H, 1H-perfluoro-3,6,9,12 -Tetraoxatridecan-1-ol, 1H, 1H-Perfluoro-3,6,9,12-tetraoxatridecan-1-ol, 1H, 1H-Perflu
  • (meth) acrylic acid halide to be reacted with the fluorine atom-containing alcohol compound represented by the above general formula (FG-3) (meth) acrylic acid fluoride, (meth) acrylic acid chloride, (meth) acrylic acid Examples include bromide and (meth) acrylic acid iodide. (Meth) acrylic acid chloride is preferred from the viewpoint of availability and the like.
  • a compound represented by the following general formula (F-3) ′ can also be preferably used.
  • a polymerizable unsaturated group of the said fluorine-containing polyether compound what contains the following structure can be used preferably.
  • the fluorine-containing polyether compound represented by the above general formula (F-3) ′ may have a plurality of polymerizable unsaturated groups.
  • the fluorine-containing polyether compound represented by the above general formula (F-3) ′ contains 6 or more repeating units of the fluorine-containing polyether chain represented by the general formula (FG-3) ′ in the R f3 group. It is important to be able to impart abrasion resistance. Still more specifically, a mixture containing 6 or more repeating units of the fluorine-containing polyether chain may be used, but when used in the form of a mixture, the fluorine-containing unsaturated compound having less than 6 repeating units is preferable It is preferable to use a mixture in which the presence ratio of the fluorine-containing unsaturated compound having six or more repeating units of the polyether chain is the highest in the distribution with the six or more fluorine-containing unsaturated compounds.
  • the repeating unit of the fluorinated polyether chain represented by the general formula (FG-3) ′ is preferably 6 or more, more preferably 10 or more, still more preferably 18 or more, and particularly preferably 20 or more. By this, a dynamic friction coefficient can be reduced and abrasion resistance can be improved.
  • the fluorine-containing polyether chain may be at the end of the R f3 group or may be present in the chain.
  • R f3 group is General formula (c-4): R 4 - (CX 6 2 CF 2 CF 2 O) t - (R 5) e - ( fluorine-containing polyether chains wherein, X 6 is represented by the formula (FG-3) ', R 4 is a hydrogen atom A halogen atom, an alkyl group, a fluorine-containing alkyl group, an alkyl group containing an ether bond or a fluorine-containing alkyl group containing an ether bond, R 5 is a divalent or higher organic group, t is an integer of 6 to 66, e is 0 or A group represented by 1. is preferred.
  • the R f3 group is a fluorine-containing organic group which is bonded to the reactive carbon-carbon double bond via the divalent or higher valent organic group R 5 and further has R 4 at the terminal.
  • R 5 may be any organic group as long as it can bond the fluorinated polyether chain represented by the general formula (FG-3) ′ to a reactive carbon-carbon double bond.
  • an alkylene group, a fluorine-containing alkylene group, an alkylene group containing an ether bond, and a fluorine-containing alkylene group containing an ether bond can be mentioned.
  • a fluorine-containing alkylene group containing a fluorine-containing alkylene group and an ether bond is preferable in terms of transparency and low refractive index.
  • fluorine-containing polyether compound represented by the general formula (F-3) ′ the compounds listed in the republished patent application publication WO 2003/022906 and the like are preferably used.
  • CH 2 CFCF—COO—CH 2 CF 2 CF 2 — (OCF 2 CF 2 CF 2 ) 7 —OC 3 F 7 can be particularly preferably used.
  • n and m are not 1 at the same time in the general formula (F)
  • the following preferred embodiments include the general formula (F-4) and the general formula (F-5).
  • R f1 monovalent to trivalent ones can be used.
  • the terminal group is (C n F 2 n + 1 )-, (C n F 2 n + 1 O)-, (XC n F 2 n O)-, (XC n F 2 n + 1 )- It is preferably a hydrogen atom, a chlorine atom or a bromine atom, and n is an integer of 1 to 10.
  • the average value of p is 0 to 50. It is preferably 3 to 30, more preferably 3 to 20, and still more preferably 4 to 15.
  • R f1 is divalent,-(CF 2 O) q (C 2 F 4 O) r CF 2 -,-(CF 2 ) 3 O (C 4 F 8 O) r (CF 2 ) 3- , -CF 2 O (C 2 F 4 O) r CF 2 -, - C 2 F 4 O (C 3 F 6 O) r C 2 F 4 -, - CF (CF 3) (OCF 2 CF (CF 3) ) S OC t F 2 t O (C F (CF 3 ) CF 2 O) r CF (CF 3 )-and the like can be preferably used.
  • the average value of q, r and s in the formula is 0 to 50. Preferably, it is 3 to 30, more preferably 3 to 20, and most preferably 4 to 15. t is an integer of 2 to 6.
  • Preferred specific examples and synthesis methods of the compound represented by Formula (F-4) are described in WO 2005/113690.
  • F (CF (CF 3) CF 2 O) p CF (CF 3) - is described as having an average value of p is 6 ⁇ 7 "HFPO-" in, - (CF (CF 3) CF 2 O) p CF (CF 3) - average value of p is described as "-HFPO-" ones 6-7 in, specific compounds of the general formula (F-4), it is limited to It is not a thing.
  • the compound in which the polymerizable unsaturated group is a (meth) acryloyloxy group may have a plurality of (meth) acryloyloxy groups.
  • the fluorine-containing antifouling agent when it is cured, it exhibits a three-dimensional network structure, a high glass transition temperature, and a low transferability of the antifouling agent. Also, the durability against repeated wiping of stains can be improved. Furthermore, an HC layer excellent in heat resistance, weather resistance and the like can be obtained.
  • di (meth) acrylic acid ester can be prepared by a known method as described in JP-A-6-306326.
  • diacrylic acid-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,9,9,9,9-heptadecafluorononyl ethylene glycol is preferred. Used.
  • a compound in which the polymerizable unsaturated group is a (meth) acryloyloxy group
  • the weight average molecular weight (Mw) of the fluorine-containing compound having a polymerizable unsaturated group can be measured using molecular exclusion chromatography such as gel permeation chromatography (GPC).
  • Mw of the fluorine-containing compound used in the present invention is preferably 400 or more and less than 50,000, more preferably 400 or more and less than 30,000, and still more preferably 400 or more and less than 25,000. It is preferable because the surface migration in the HC layer of the antifouling agent becomes high as the lower limit value is exceeded.
  • the surface migration property of a fluorine-containing compound is not prevented during the process of apply
  • the fluorine-containing compound may also be multimodal with respect to weight average molecular weight.
  • the amount of the fluorine-containing compound added is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, based on the total solid content in the curable composition for forming an HC layer. 5% by mass is more preferable, and 0.5 to 2% by mass is particularly preferable.
  • the friction coefficient with respect to steel wool can be reduced as an addition amount is more than the said upper limit, and abrasion resistance is improved more.
  • the fluorine-containing compound in which mixing with the polymerizable compound (resin component at the time of forming HC layer) in the curable composition for HC layer formation is inadequate in the addition amount being below the said lower limit is on the surface It is preferable because it does not precipitate and the whitening of the HC layer and the formation of white powder on the surface are suppressed.
  • the addition amount in the curable composition for forming an HC layer, which forms the HC layer containing the fluorine-containing compound and the polysiloxane compound is means
  • the polysiloxane-containing compound in the present invention is not particularly limited as long as it can impart adhesion resistance after keying to the HC layer by using together with a fluorine-containing compound, a compound having a polysiloxane structure in the molecule. Can be used. However, the polysiloxane-containing compound in the present invention is different from the silicone rubber particles as the above-mentioned recoverable particles in that it is not an elastomer.
  • the polysiloxane structure of the polysiloxane-containing compound may be linear, branched or cyclic.
  • the polysiloxane antifouling agent which shows the property of an antifouling agent is used preferably.
  • the above polysiloxane antifouling agent is preferably represented by the following general formula (F-6).
  • R a R A b SiO (4-a-b) / 2 (Wherein R is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a phenyl group, R A is an organic group containing a polymerizable unsaturated group, 0 ⁇ a, 0 ⁇ b, a + b ⁇ 4 Is)
  • a is preferably 1 to 2.75, more preferably 1 to 2.5, and if it is 1 or more, the synthesis of the compound is industrially easy, and if it is 2.75 or less, the curability and after keying are obtained. It becomes easy to make coexistence of adhesion resistance.
  • the polymerizable unsaturated group in R A, the general formula (F) in R A similar polymerizable unsaturated group include, preferably (meth) acryloyl group, (meth ) An acryloyloxy group, and a group in which any hydrogen atom in these groups is substituted with a fluorine atom.
  • a radical polymerizable group i.e., a radical polymerizable group
  • Preferred examples of the polysiloxane antifouling agent include those having a substituent at the terminal and / or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units.
  • the compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain structural units other than dimethylsilyloxy.
  • the substituents may be the same or different and are preferably a plurality.
  • the substituent is preferably a polymerizable group, and may be a polymerizable group having any one of radical polymerization, cation polymerization, anion polymerization, condensation polymerization and addition polymerization.
  • Preferred examples of the substituent include (meth) acryloyl group, ((meth) acryloyloxy) group, vinyl group, allyl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group And groups containing an amino group and the like.
  • a radically polymerizable group is preferable, and in particular, a (meth) acryloyloxy group is preferable from the viewpoint of improving the adhesion resistance after keying.
  • the number of substituents in the compound is preferably 100 to 10000 g / mol as functional group equivalent from the viewpoint of achieving both film strength and adhesion resistance after keying, and more preferably 100 to 3000 g / mol, and 100 to 2000 g. / Mol is more preferred, and 100 to 1000 g / mol is particularly preferred.
  • the functional group equivalent to the above lower limit value or more, there is no compatibility with the polymerizable compound (the resin component at the time of forming the HC layer) in the curable composition for forming the HC layer more than necessary. It is preferable because the surface migration in the HC layer of the agent becomes high.
  • the functional group equivalent By setting the functional group equivalent to the above upper limit value or less, the film hardness can be improved, and adhesion resistance after keying and adhesion resistance after sliding can be improved, which is preferable.
  • R A is preferably an organic group containing a (meth) acryloyl group, and in view of industrial easiness of synthesis, a bond to a Si atom is more preferably a Si—O—C bond.
  • b is preferably 0.4 to 0.8, more preferably 0.6 to 0.8, and the curability is improved when the value is at least the above lower limit, and the adhesion after keying when the value is at the upper limit or less And adhesion resistance after sliding is improved.
  • a + b is preferably 3 to 3.7, more preferably 3 to 3.5. If the above lower limit value is exceeded, then the compound tends to be unevenly distributed to the HC layer surface, and if it is below the above upper limit value, the curability and the adhesion resistance after keying, and the adhesion resistance after sliding are compatible. It can be improved.
  • the polysiloxane antifouling agent preferably has 3 or more Si atoms in one molecule, and more preferably 3 to 40 Si atoms. When the number of Si atoms is 3 or more, uneven distribution of the compound on the HC layer surface is promoted, and sufficient adhesion resistance after keying and adhesion resistance after sliding are more easily obtained.
  • a polysiloxane antifouling agent can be manufactured using the well-known method etc. which are mentioned to Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-145884.
  • polysiloxane ⁇ e.g., "KF-96-10CS", “KF-100T”, “X-22-169AS”, “KF-102”, “ X-22-3701 IE “,” X-22-164 “,” X-22-164A “,” X-22-164AS “,” X-22-164B “,” X-22-164C “,” X- 22-5002 “,” X-22-173B “,” X-22-174D “,” X-22-167B “,” X-22-161AS “(trade name), manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • AK-5 “AK-30”, “AK-32” (trade name), manufactured by Toa Gosei Co., Ltd .; “Syllaplane FM0725”, “Syraplane FM0721” (trade name), “DMS-U22”, “RMS-033”, “UMS-182” (trade name), manufactured by Gelest; “Akrit 8 SS-723” (trade name), manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd. It is also good to add I'm sorry.
  • polysiloxane compounds described in Tables 2 and 3 of JP-A-2003-112383 can also be preferably used.
  • Molecular weight of polysiloxane-containing compound 300 or more are preferable and, as for the weight average molecular weight of a polysiloxane-containing compound, 300 or more and 10 0000 or less is more preferable, and 300 or more and 30000 or less is more preferable.
  • the weight average molecular weight of the polysiloxane-containing compound is 300 or more, uneven distribution of the polysiloxane compound on the surface of the HC layer is promoted, and the abrasion resistance and the hardness are further improved.
  • the addition amount of the polysiloxane-containing compound is preferably 0.01 to 5% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, with respect to the total solid content in the curable composition for forming an HC layer.
  • the content is more preferably 5 to 5% by mass, and particularly preferably 0.5 to 2% by mass.
  • the adhesion resistance after keying and the adhesion resistance after sliding can be improved more as an addition amount is more than the said lower limit.
  • the polysiloxane-containing compound in which mixing with the polymerizable compound (resin component at the time of forming HC layer) in the curable composition for HC layer formation is inadequate as an addition amount is below the said upper surface is It is preferable because the whitening of the HC layer and the formation of white powder on the surface are suppressed without being deposited.
  • the HC layer has a laminated structure of two or more layers described later, it means the amount added in the curable composition for forming an HC layer, which forms an HC layer containing a polysiloxane-containing compound.
  • the surface roughness Sa of the hard coat layer in the optical film means the surface roughness of the surface opposite to the surface having the resin film in the state where the resin film and the hard coat layer are laminated (hereinafter referred to as It simply means surface roughness Sa.).
  • the surface roughness Sa of the hard coat layer is preferably 60 nm or less, more preferably 20 nm or less, and still more preferably 10 nm or less in a measurement visual field of 4 mm ⁇ 5 mm in order to impart clear and smooth surface properties to the hard coat layer. It is practical that the lower limit value is 1 nm or more.
  • surface roughness Sa of a hard-coat layer is larger than 60 nm by 4 mm x 5 mm of measurement visual field.
  • the surface roughness Sa of the hard coat layer means the surface roughness Sa of the hard coat layer measured in the state of the optical film in which the hard coat layer is located on the outermost surface on the viewing side of the optical film.
  • HC layer obtained by curing a curable composition for forming a hard coat layer (HC layer)
  • the HC layer used in the present invention can be obtained by irradiating the curable composition for HC layer formation with an active energy ray and curing it.
  • active energy ray refers to ionizing radiation, and includes X-rays, ultraviolet rays, visible light, infrared rays, electron beams, alpha rays, beta rays, gamma rays and the like.
  • the curable composition for HC layer formation used for formation of HC layer contains at least 1 type of component (It also describes as an "active energy ray curable component” hereafter) which has the property hardened
  • the active energy ray-curable component is preferably at least one polymerizable compound selected from the group consisting of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.
  • the “polymerizable compound” is a compound having a polymerizable group in the molecule, and it is sufficient that one or more of the polymerizable groups are contained in one molecule.
  • the polymerizable group is a group capable of participating in the polymerization reaction, and as a specific example, groups included in various polymerizable compounds described later can be exemplified. Moreover, various polymerization reactions, such as radical polymerization, cationic polymerization, anionic polymerization, can be mentioned as a polymerization reaction.
  • the HC layer in the present invention has a polymerizable group in the molecule other than the polysiloxane compound having the polymerizable group in the molecule, the fluorine-containing compound having the polymerizable group in the molecule, and these compounds.
  • the curable composition for HC layer formation containing a polymerizable compound is obtained by irradiating an active energy ray and performing polymerization curing.
  • the polymerizable group contained in the polysiloxane-containing compound, the fluorine-containing compound and the polymerizable compound is more preferably a radical polymerizable group.
  • the HC layer used in the present invention may be a single layer structure or a laminated structure of two or more layers, but is preferably an HC layer consisting of a single layer structure or a laminated structure of two or more layers as described in detail below.
  • the curable composition for forming an HC layer having a one-layer structure as a first embodiment, at least one polymerizable compound having two or more ethylenic unsaturated groups in one molecule
  • the curable composition for HC layer formation containing can be mentioned.
  • An ethylenically unsaturated group refers to a functional group containing an ethylenically unsaturated double bond.
  • the curable composition for HC layer formation containing at least 1 type of radically polymerizable compound and at least 1 type of cationically polymerizable compound can be mentioned as a 2nd aspect.
  • an ester of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate.
  • the polymerization of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group can be carried out by irradiation with active energy rays in the presence of a radical photopolymerization initiator.
  • a radical photoinitiator the radical photoinitiator mentioned later is preferably applied.
  • the content ratio of the radical photopolymerization initiator to the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group in the curable composition for forming an HC layer, the content of the radical photopolymerization initiator to the radically polymerizable compound described later The statements of quantitative ratios apply preferably.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect includes at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • the curable composition for HC layer formation more preferably contains a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator.
  • a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator.
  • the curable composition for HC layer formation which contains these.
  • the above-mentioned radically polymerizable compound contains one or more urethane bonds in one molecule together with two or more radically polymerizable groups in one molecule.
  • this aspect is described as the second aspect (2).
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) preferably has a structure derived from the above a) at 15 to 100% by mass of the total solid content of the HC layer. 70% by mass, 25 to 80% by mass of the structure derived from the above b), 0.1 to 10% by mass of the above c), 0.1 to 10% by mass of the above d) can be contained.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) has the above-mentioned a) when the total solid content of the curable composition for forming an HC layer is 100% by mass. It is preferable to contain 15 to 70% by mass.
  • the "alicyclic epoxy group” refers to a monovalent functional group having a cyclic structure in which an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring are condensed.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect includes at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • the radically polymerizable compound in the second embodiment (1) contains two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule.
  • the above-mentioned radically polymerizable compound can preferably contain, for example, 2 to 10, more preferably 2 to 6, radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule. Can.
  • a radically polymerizable compound having a molecular weight of 200 or more and less than 1,000 is preferable.
  • “molecular weight” refers to, for a multimer, a weight average molecular weight measured in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC). The following measurement conditions can be mentioned as an example of the specific measurement conditions of a weight average molecular weight.
  • GPC apparatus HLC-8120 (made by Tosoh Corporation) Column: TSK gel Multipore HXL-M (Tosoh, inner diameter 7.8 mm ⁇ column length 30.0 cm) Eluent: Tetrahydrofuran
  • the said radically polymerizable compound contains one or more urethane bond in 1 molecule as mentioned above.
  • the number of urethane bonds contained in one molecule of the radically polymerizable compound is preferably one or more, more preferably two or more, and more preferably two to five, for example two. be able to.
  • the radically polymerizable group selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group is bonded directly or via a linking group to only one urethane bond. And may be bonded to two urethane bonds directly or via a linking group.
  • the radically polymerizable group selected from the group consisting of urethane bond and acryloyl group and methacryloyl group may be directly bonded, and from the group consisting of urethane bond and acryloyl group and methacryloyl group
  • a linking group may be present between the selected radical polymerizable group.
  • the linking group is not particularly limited, and examples thereof include a linear or branched saturated or unsaturated hydrocarbon group, a cyclic group, and a group consisting of a combination of two or more of these, and the like.
  • the carbon number of the above hydrocarbon group is, for example, about 2 to 20, but is not particularly limited.
  • a cyclic structure contained in a cyclic group an aliphatic ring (a cyclohexane ring etc.), an aromatic ring (a benzene ring, a naphthalene ring etc.) etc. are mentioned as an example.
  • the above groups may be unsubstituted or have a substituent.
  • the groups described may have a substituent or may be unsubstituted.
  • examples of the substituent include an alkyl group (for example, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms), a hydroxyl group, an alkoxy group (for example, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms), and a halogen atom (for example, a fluorine atom) And chlorine atom, bromine atom), cyano group, amino group, nitro group, acyl group, carboxy group and the like.
  • the radically polymerizable compound described above can be synthesized by a known method. Moreover, it is also possible to obtain as a commercial item.
  • a urethane compound obtained by reacting an isocyanate with a hydroxyl group-containing compound such as an alcohol, a polyol, and / or a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid or, if necessary, Mention may be made of the method of esterification with (meth) acrylic acid.
  • (meth) acrylic acid shall mean one or both of acrylic acid and methacrylic acid.
  • UV-1700B UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7640B, UV-6 30B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV-3500BA, UV- Examples include 3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, and UV-2250EA.
  • Nippon Kagaku Chemical Industry Co., Ltd. made Shipuruka UV-2750B, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
  • Exemplary compounds A-1 to A-8 are shown below as specific examples of the radically polymerizable compound containing one or more urethane bonds in one molecule described above, but the present invention is not limited to the following specific examples. Absent.
  • the radically polymerizable compound containing one or more urethane bonds in one molecule has been described above, the radically polymerizable compound including two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule.
  • the compound may not have a urethane bond.
  • the curable composition for HC layer formation of the second embodiment (1) is added to the radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule.
  • one or more radically polymerizable compounds other than such radically polymerizable compounds may be contained.
  • a radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule and one or more urethane bonds in one molecule is referred to as a first radical.
  • Radical polymerization which does not correspond to the first radically polymerizable compound regardless of whether or not two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group are described as a polymerizable compound in one molecule.
  • Compounds are described as "second radically polymerizable compounds".
  • the second radically polymerizable compound may or may not have at least one urethane bond in one molecule.
  • the mass ratio of the first radically polymerizable compound / the second radically polymerizable compound is 3/1 to 1/30. Is preferable, 2/1 to 1/20 is more preferable, and 1/1 to 1/10 is even more preferable.
  • Radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in the curable composition for HC layer formation of the second aspect (1) (presence or absence of urethane bond
  • the content of (a) is preferably 30% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 70% by mass or more based on 100% by mass of the total amount of the composition.
  • a radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in the curable composition for HC layer formation of the second embodiment (1) (urethane bond
  • the content of either or not is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, still more preferably 90% by mass or less, based on 100% by mass of the total amount of the composition.
  • the content of the first radically polymerizable compound of the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (1) is preferably 30% by mass or more based on 100% by mass of the total amount of the composition. More preferably, it is 50 mass% or more, More preferably, it is 70 mass% or more.
  • the content of the first radically polymerizable compound is preferably 98% by mass or less, more preferably 95% by mass or less, and more preferably 90% by mass or less based on 100% by mass of the total amount of the composition. It is further preferred that
  • the second radically polymerizable compound is, in one aspect, preferably a radically polymerizable compound containing two or more radically polymerizable groups in one molecule and having no urethane bond.
  • the radically polymerizable group contained in the second radically polymerizable compound is preferably an ethylenically unsaturated group, and in one aspect, a vinyl group is preferred.
  • the ethylenically unsaturated group is preferably a radically polymerizable group selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group.
  • the second radically polymerizable compound has one or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl and methacryloyl groups in one molecule and does not have a urethane bond.
  • the second radically polymerizable compound one or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule as radically polymerizable compounds, and radically polymerizable groups other than these are also possible. And one or more of them can also be included.
  • the number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the second radically polymerizable compound is preferably at least 2, more preferably 3 or more, and still more preferably 4 or more. In one aspect, the number of radically polymerizable groups contained in one molecule of the second radically polymerizable compound is, for example, 10 or less, but may be more than 10. Further, as the second radically polymerizable compound, a radically polymerizable compound having a molecular weight of 200 or more and less than 1,000 is preferable.
  • the second radically polymerizable compound may be used in combination of two or more.
  • a mixture "DPHA” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
  • dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate can preferably be used.
  • polyester (meth) acrylate with a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000, and an epoxy (meth) acrylate are also preferable.
  • polyester (meth) acrylate include Beam Set 700 series manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., for example, Beam Set 700 (six functions), Beam set 710 (four functions), Beam set 720 (three functions), etc.
  • epoxy (meth) acrylate trade name SP series made by Showa Highpolymer, such as SP-1506, 500, SP-1507, 480, VR series, such as VR-77, trade name EA-made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. And 1010 / ECA, EA-11020, EA-1025, EA-6310 / ECA and the like.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) which is a preferred aspect of the second aspect, comprises: b) a radically polymerizable compound containing three or more ethylenically unsaturated groups in one molecule Including.
  • b) A compound containing three or more ethylenically unsaturated groups in one molecule is hereinafter also referred to as "b) component".
  • the component b) include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, vinyl benzene and derivatives thereof, vinyl sulfone, (meth) acrylamide and the like.
  • a radically polymerizable compound containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule is preferable.
  • it is ester of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid,
  • a resin containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule is also preferable.
  • a resin containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of acryloyl group and methacryloyl group in one molecule for example, polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin Polymers such as alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, and polyfunctional compounds such as polyhydric alcohols are also included.
  • the radically polymerizable compound which contains 3 or more of radically polymerizable groups chosen from the group which consists of an acryloyl group and a methacryloyl group in 1 molecule
  • the exemplified compound shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-2568444 stage 0096 Etc. can be mentioned.
  • the radically polymerizable compound containing three or more radically polymerizable groups selected from the group consisting of an acryloyl group and a methacryloyl group in one molecule there are provided Nippon Kayaku KAYARAD DPHA, DPHA-2C, and PET.
  • UV-1400B UV-1700B, UV-6300B, UV-7550B, UV-7600B, UV-7605B, UV-7610B, UV-7620EA, UV-7630B, UV-7640B , UV-6630B, UV-7000B, UV-7510B, UV-7461TE, UV-3000B, UV-3200B, UV-3210EA, UV-3310EA, UV-3310B, UV-3500BA , UV-3520TL, UV-3700B, UV-6100B, UV-6640B, UV-2000B, UV-2010B, UV-2250EA, UV-2750B (Nippon Gosei Chemical Co., Ltd.), UL-503LN (Manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Unidic 17-806, 17- 13, V-4030, V-4000BA (Dainippon Ink & Chemicals, Inc.), EB-1290 K, EB-220, EB-5129, EB-1830, EB-4358 (manufact
  • An acrylate compound, a trifunctional or higher polyester compound of ALONIX M-8100, M-8030, M-9050 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), and KBM-8307 (manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.) can also be suitably used.
  • b) component only 1 type may be used and 2 types of stomach demands from which a structure differs may be used together.
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) is preferably derived from the above a) when the total solid content of the HC layer is 100% by mass.
  • the structure may contain 15 to 70% by mass, the structure derived from the above b) 25 to 80% by mass, the above c) 0.1 to 10% by mass, and the above d) 0.1 to 10% by mass.
  • the structure derived from b) is preferably contained at 40 to 75% by mass, more preferably 60 to 75% by mass, based on 100% by mass of the total solid content of the HC layer.
  • the curable composition for HC layer formation of the second aspect (2) when the total solid content of the curable composition for HC layer formation is 100% by mass, 40 to 75 mass of the component b) is used. % Is preferable, and 60 to 75% by mass is more preferable.
  • the curable composition for HC layer formation of the second aspect preferably contains at least one radically polymerizable compound and at least one cationically polymerizable compound.
  • a cationically polymerizable compound as long as it has a cationically polymerizable polymerizable group (cationic polymerizable group), it can be used without any limitation. Further, the number of cationically polymerizable groups contained in one molecule is at least one.
  • the cationically polymerizable compound may be a monofunctional compound containing one cationically polymerizable group in one molecule, or a polyfunctional compound containing two or more.
  • the number of cationically polymerizable groups contained in the polyfunctional compound is not particularly limited, and is, for example, 2 to 6 in one molecule.
  • two or more cationically polymerizable groups contained in one molecule of the polyfunctional compound may be the same or two or more different in structure.
  • the cationically polymerizable compound preferably has one or more radically polymerizable groups in one molecule together with the cationically polymerizable group.
  • the radically polymerizable group which such a cationically polymerizable compound has the above description of the radically polymerizable compound can be referred to.
  • the number of radically polymerizable groups in one molecule of the cationically polymerizable compound having a radically polymerizable group is at least one, preferably 1 to 3, and more preferably one.
  • a cationically polymerizable group Preferably, an oxygen-containing heterocyclic group and vinyl ether group can be mentioned.
  • the cationically polymerizable compound may contain one or more oxygen-containing heterocyclic groups and one or more vinyl ether groups in one molecule.
  • the oxygen-containing heterocyclic ring may be a single ring or a condensed ring. Further, those having a bicyclo skeleton are also preferable.
  • the oxygen-containing heterocyclic ring may be a non-aromatic ring or an aromatic ring, and is preferably a non-aromatic ring.
  • An epoxy ring, a tetrahydrofuran ring, an oxetane ring can be mentioned as a specific example of a single ring.
  • an oxabicyclo ring can be mentioned as what has a bicyclo skeleton.
  • a cationically polymerizable group containing an oxygen-containing heterocyclic ring is included in the cationically polymerizable compound as a monovalent substituent or a divalent or higher polyvalent substituent.
  • the above-mentioned fused ring is one in which one or more of the oxygen-containing heterocyclic rings are condensed with one or more of ring structures other than the oxygen-containing heterocyclic ring. It may be.
  • ring structures other than the above-mentioned oxygen-containing heterocyclic ring include, but are not limited to, cycloalkane rings such as cyclohexane ring.
  • the cationically polymerizable compound may contain a partial structure other than the cationically polymerizable group.
  • a partial structure is not particularly limited, and may be a linear structure, a branched structure or a cyclic structure. These partial structures may contain one or more hetero atoms such as oxygen atom and nitrogen atom.
  • the compound (cyclic structure containing compound) containing cyclic structure can be mentioned as a cationically polymerizable group, or as partial structures other than a cationically polymerizable group.
  • the cyclic structure contained in the cyclic structure-containing compound is, for example, one in one molecule, and may be two or more.
  • the number of cyclic structures contained in the cyclic structure-containing compound is, for example, 1 to 5 in one molecule, but is not particularly limited.
  • the compound containing two or more cyclic structures in one molecule may contain the same cyclic structure, and may contain two or more kinds of cyclic structures having different structures.
  • An oxygen-containing heterocyclic ring can be mentioned as an example of the cyclic structure contained in the said cyclic structure containing compound. The details are as described above.
  • Cationic polymerization property determined by dividing molecular weight (hereinafter, described as "B") by the number of cation polymerizable groups (hereinafter, described as "C") contained in one molecule of the cationically polymerizable compound
  • the cationically polymerizable group equivalent is 50 or more.
  • the cationically polymerizable group contained in the cationically polymerizable compound for which the cationically polymerizable group equivalent is to be determined can be an epoxy group (epoxy ring). That is, in one aspect, the cationically polymerizable compound is an epoxy ring-containing compound.
  • the epoxy ring-containing compound is obtained by dividing the molecular weight by the number of epoxy rings contained in one molecule, from the viewpoint of improving the adhesion between the resin layer and the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer.
  • the epoxy group equivalent is preferably less than 150.
  • the epoxy group equivalent of an epoxy ring containing compound is 50 or more, for example.
  • the molecular weight of the cationically polymerizable compound is preferably 500 or less, and more preferably 300 or less.
  • the cationically polymerizable compound having a molecular weight in the above range tends to penetrate into the resin film and can contribute to the improvement of the adhesion between the resin layer and the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer. I guess.
  • the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) comprises a) an alicyclic epoxy group and an ethylenically unsaturated group, and the number of the alicyclic epoxy group contained in one molecule is one. And a cationically polymerizable compound having one ethylenically unsaturated group contained in one molecule and a molecular weight of 300 or less. Below, said a) is described as "a) component.”
  • the number of alicyclic epoxy groups and ethylenically unsaturated groups in one molecule is preferably one.
  • the molecular weight of the component a) is 300 or less, preferably 210 or less, and more preferably 200 or less.
  • R represents a monocyclic hydrocarbon or a bridged hydrocarbon
  • L represents a single bond or a divalent linking group
  • Q represents an ethylenically unsaturated group.
  • R in the general formula (1) is a monocyclic hydrocarbon
  • the monocyclic hydrocarbon is preferably an alicyclic hydrocarbon, and more preferably an alicyclic group having 4 to 10 carbon atoms.
  • An alicyclic group having 5 to 7 carbon atoms is more preferable, and an alicyclic group having 6 carbon atoms is particularly preferable.
  • Preferred examples include cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and cycloheptyl group, with cyclohexyl group being more preferred.
  • R in the general formula (1) is a bridged hydrocarbon
  • the bridged hydrocarbon is preferably a two-ring bridged hydrocarbon (bicyclo ring) or a three-ring bridged hydrocarbon (tricyclo ring).
  • Specific examples thereof include bridged hydrocarbons having 5 to 20 carbon atoms, and examples thereof include norbornyl group, bornyl group, isobornyl group, tricyclodecyl group, dicyclopentenyl group, dicyclopentanyl group and tricyclopentenyl group.
  • the divalent linking group is preferably a divalent aliphatic hydrocarbon group.
  • the carbon number of the divalent aliphatic hydrocarbon group is preferably in the range of 1 to 6, more preferably in the range of 1 to 3, and still more preferably 1.
  • a bivalent aliphatic hydrocarbon group a linear, branched or cyclic alkylene group is preferable, a linear or branched alkylene group is more preferable, and a linear alkylene group is more preferable.
  • component a) examples include various compounds exemplified in paragraph 0015 of JP-A No. 10-17614, a compound represented by the following general formula (1A) or (1B), 1,2-epoxy-4- Vinyl cyclohexane etc. can be mentioned. Among them, compounds represented by the following general formula (1A) or (1B) are more preferable. In addition, the compound represented by following General formula (1A) is also preferable the isomer.
  • R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group
  • L 2 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms.
  • the carbon number of the divalent aliphatic hydrocarbon group represented by L 2 in the general formulas (1A) and (1B) is in the range of 1 to 6, and more preferably in the range of 1 to 3, More preferably, it has 1 carbon atom.
  • a bivalent aliphatic hydrocarbon group a linear, branched or cyclic alkylene group is preferable, a linear or branched alkylene group is more preferable, and a linear alkylene group is more preferable.
  • the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer according to the second aspect (2) preferably has a structure derived from the above a) at 15 to 100% by mass of the total solid content of the HC layer. It is preferable to contain 70% by mass, more preferably 18 to 50% by mass, and still more preferably 22 to 40% by mass.
  • the component a) is 15 to 70 mass, when the total solid content of the curable composition for HC layer formation is 100 mass%.
  • % Is preferably contained, more preferably 18 to 50% by mass, and still more preferably 22 to 40% by mass.
  • a nitrogen-containing heterocyclic ring can be mentioned as another example of the cyclic structure contained in the said cyclic structure containing compound.
  • the nitrogen-containing heterocycle-containing compound is a preferable cationically polymerizable compound from the viewpoint of improving the adhesion between the resin layer and the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring-containing compounds include isocyanurate rings (nitrogen-containing heterocyclic rings contained in exemplified compounds B-1 to B-3 described below) and glycoluril rings (nitrogen-containing heterocyclic rings contained in exemplified compound B-10 described below). Compounds having one or more nitrogen-containing heterocycles selected from the group consisting of rings) in one molecule are preferred.
  • a compound containing an isocyanurate ring is a more preferable cationically polymerizable compound from the viewpoint of improving the adhesion between the HC layer obtained by curing the curable composition for HC layer formation and the resin film.
  • the present inventors speculate that this is because the isocyanurate ring is excellent in affinity with the resin constituting the resin film.
  • a resin film containing an acrylic resin film is more preferable, and it is further preferable that the surface in direct contact with the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer is the acrylic resin film surface.
  • an alicyclic structure can be mentioned.
  • a cyclo ring, a dicyclo ring, a tricyclo ring structure can be mentioned, for example, A dicyclopentanyl ring, a cyclohexane ring etc. can be mentioned as a specific example.
  • the cationically polymerizable compound described above can be synthesized by a known method. Moreover, it is also possible to obtain as a commercial item.
  • cationically polymerizable compound containing an oxygen-containing heterocyclic ring as a cationically polymerizable group include, for example, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (commercially available product such as Cyclomer M100 manufactured by Daicel Corporation), 3,4-epoxy Cyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate (for example, commercial products such as UVR6105 and UVR6110 manufactured by Union Carbide Co., Ltd.
  • CELLOXIDE 2021 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate (for example, Union Car Bite UVR 6128), vinylcyclohexene monoepoxide (eg, CELLOXIDE 2000, manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), ⁇ -caprolactone modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ', 4'-epose Cyclocyclohexanecarboxylate (eg, CELLOXIDE 2081 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 1-methyl-4- (2-methyloxiranyl) -7-oxabicyclo [4,1,0] heptane (eg, CELLOXIDE 3000 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), 7 , 7'-Dioxa-3,3'-bi [bicyclo [4.1.0] heptane] (for example, CELLOXIDE 8000 manufactured by Daicel Chemical Industries,
  • cationically polymerizable compound containing a vinyl ether group examples include 1,4-butanediol divinyl ether, 1,6-hexanediol divinyl ether, nonanediol divinyl ether, and sichirohexanediol divinyl ether And cyclohexane dimethanol divinyl ether, triethylene glycol divinyl ether, trimethylolpropane trivinyl ether, pentaerythritol tetravinyl ether and the like.
  • a cationically polymerizable compound containing a vinyl ether group one having an alicyclic structure is also preferable.
  • JP-A-8-143806, JP-A-8-283320, JP-A-2000-186079, JP-A-2000-327672, JP-A-2004-315778, and the like can be used.
  • the compounds exemplified in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-29632 can also be used.
  • exemplified compounds B-1 to B-14 are shown as specific examples of the cationically polymerizable compound, but the present invention is not limited to the following specific examples.
  • the following embodiments can be mentioned as preferable embodiments of the curable composition for HC layer formation. It is more preferable to satisfy one or more of the following embodiments, it is more preferable to satisfy two or more, more preferable to satisfy three or more, and even more preferable to satisfy all. It is also preferable that one cationically polymerizable compound satisfy a plurality of embodiments. For example, it can be illustrated as a preferred embodiment that the nitrogen-containing heterocyclic ring-containing compound has a cationically polymerizable group equivalent weight of less than 150.
  • a nitrogen-containing heterocyclic containing compound is included as a cationically polymerizable compound.
  • the nitrogen-containing heterocycle contained in the nitrogen-containing heterocycle-containing compound is selected from the group consisting of an isocyanurate ring and a glycoluril ring.
  • the nitrogen-containing heterocycle-containing compound is more preferably an isocyanurate ring-containing compound.
  • the isocyanurate ring-containing compound is an epoxy ring-containing compound containing one or more epoxy rings in one molecule.
  • the cationically polymerizable compound includes a cationically polymerizable compound having a cationically polymerizable group equivalent of less than 150.
  • the oxetane ring containing compound which contains one or more oxetane rings in 1 molecule is included with another cationically polymerizable compound.
  • the oxetane ring-containing compound is a compound not containing a nitrogen-containing heterocycle.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is preferably 10 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the total content of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound.
  • the amount is preferably 15 parts by mass or more, more preferably 20 parts by mass or more.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total content of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound. preferable.
  • the content of the cationically polymerizable compound in the curable composition for forming an HC layer is preferably based on 100 parts by mass of the total content of the content of the first radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound. It is 0.05 mass part or more, More preferably, it is 0.1 mass part or more, More preferably, it is 1 mass part or more.
  • the content of the cationically polymerizable compound is preferably 50 parts by mass or less, based on 100 parts by mass of the total content of the first radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound, It is more preferable that it is less than 1 part.
  • a compound having both a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group is classified as a cationically polymerizable compound, and the content in the curable composition for forming an HC layer is specified.
  • the curable composition for HC layer formation preferably contains a polymerization initiator, and more preferably contains a photopolymerization initiator.
  • the curable composition for forming an HC layer containing a radically polymerizable compound preferably contains a radical photopolymerization initiator, and the curable composition for forming an HC layer containing a cationically polymerizable compound contains a cationic photopolymerization initiator Is preferred.
  • the radical photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more different in structure. This point is the same as for the cationic photopolymerization initiator.
  • each photoinitiator is demonstrated one by one.
  • radical photopolymerization initiator Any radical photopolymerization initiator may be used as long as it can generate radicals as an active species by light irradiation, and a known radical photopolymerization initiator may be used without any limitation. it can.
  • triethanolamine, triisopropanolamine, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 4,4'-diethylaminobenzophenone, 2-dimethylaminoethylbenzoic acid, and the like as an auxiliary agent of a radical photopolymerization initiator Ethyl dimethylaminobenzoate, Ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), Isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4- Diisopropyl thioxanthone and the like may be used in combination.
  • radical photopolymerization initiators and assistants can be synthesized by known methods and are commercially available.
  • OXE01 etc.
  • Nippon Kayaku KAYACURE DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC, MCA etc.
  • Sartmar Esacure KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT
  • KIP100F KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT
  • the content of the radical photopolymerization initiator of the curable composition for forming an HC layer may be suitably adjusted within a range where the polymerization reaction (radical polymerization) of the radically polymerizable compound can be favorably advanced, and it is particularly limited. Absent.
  • the content is, for example, in the range of 0.1 to 20 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, and more preferably 1 with respect to 100 parts by mass of the radically polymerizable compound contained in the curable composition for forming an HC layer.
  • the range is from 10 parts by mass to 10 parts by mass.
  • the cationic photopolymerization initiator may be any one capable of generating a cation as an active species by light irradiation, and a known cationic photopolymerization initiator may be used without any restriction. it can. Specific examples thereof include known sulfonium salts, ammonium salts, iodonium salts (for example, diaryl iodonium salts), triaryl sulfonium salts, diazonium salts, iminium salts and the like.
  • cationic photopolymerization initiators represented by formulas (25) to (28) shown in JP-A-8-143806, paragraphs 0050 to 0053, JP-A-8-283320, paragraph Mention may be made of those exemplified as a cationic polymerization catalyst.
  • a cationic photoinitiator can be synthesize
  • Nippon Soda Co., Ltd. CI-1370, CI-2064, CI-2397, CI-2624, CI-2639, CI-2734, CI-2758, CI-2823, CI-2855, CI-5102 etc. are mentioned, for example.
  • Rhodia PHOTOINIT IATOR 2047 etc., Union Carbite UVI-6974, UVI-6990, San-Apro-made CPI-10P can be used.
  • diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and iminium salts are preferable from the viewpoint of the sensitivity of the photopolymerization initiator to light, the stability of the compound, and the like. Also, from the viewpoint of weatherability, iodonium salts are most preferred.
  • Specific commercial products of cationic photopolymerization initiators of iodonium salt type include, for example, B2380 manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd., Midori Chemical BBI-102, WPI-113 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, WPI-124 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. The following may be mentioned: WPI-169 manufactured by Mitsuko Junko Kogyo, WPI-170 manufactured by Wako Junyaku Kogyo, and DTBPI-PFBS manufactured by Toyo Gosei Chemical Co., Ltd.
  • PAG-1 and PAG-2 can also be mentioned as specific examples of the iodonium salt compound which can be used as a cationic photopolymerization initiator.
  • the content of the cationic photopolymerization initiator in the curable composition for forming an HC layer may be suitably adjusted within a range where the polymerization reaction (cationic polymerization) of the cationically polymerizable compound can be favorably advanced, and it is particularly limited. Absent.
  • the amount is, for example, in the range of 0.1 to 200 parts by mass, preferably 1 to 150 parts by mass, and more preferably 2 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cationically polymerizable compound.
  • the curable composition for HC layer formation contains at least one component having the property of being cured by irradiation of active energy rays, a fluorine-containing compound and a polysiloxane compound, and optionally contains at least one polymerization initiator. Preferably, including. The details of them are as described above. Next, various components which may be optionally contained in the curable composition for HC layer formation will be described.
  • the curable composition for HC layer formation can contain inorganic particles having an average primary particle size of less than 2 ⁇ m. From the viewpoint of improving the hardness of the front plate having the HC layer formed by curing the curable composition for forming the HC layer (and further improving the hardness of the liquid crystal panel having the front plate), the curable composition for forming the HC layer and the composition
  • the cured HC layer preferably contains inorganic particles having an average primary particle size of less than 2 ⁇ m.
  • the average primary particle size of the inorganic particles is preferably in the range of 10 nm to 1 ⁇ m, more preferably in the range of 10 nm to 100 nm, and still more preferably in the range of 10 nm to 50 nm.
  • the particles are observed with a transmission electron microscope (magnification: 500,000 to 2,000,000 times), and 100 randomly selected particles (primary particles) are observed.
  • the average primary particle size is defined as the average value of those particle sizes.
  • examples of the inorganic particles include silica particles, titanium dioxide particles, zirconium oxide particles, and aluminum oxide particles. Among them, silica particles are preferred.
  • the inorganic particles are preferably treated with a surface modifier containing an organic segment in order to increase the affinity to the organic component contained in the curable composition for forming an HC layer.
  • a surface modifier containing an organic segment in order to increase the affinity to the organic component contained in the curable composition for forming an HC layer.
  • the surface modifying agent one having a functional group capable of forming a bond with inorganic particles or capable of being adsorbed to the inorganic particles and a functional group having high affinity with an organic component in the same molecule is preferable.
  • Examples of surface modifiers having functional groups capable of binding to or adsorbing to inorganic particles include silane surface modifiers, metal alkoxide surface modifiers such as aluminum, titanium and zirconium, phosphoric acid groups, sulfuric acid groups, sulfonic acid groups, and carbonic acids. Surface modifiers having an anionic group such as an acid group are preferred.
  • Examples of the functional group having high affinity to the organic component include a functional group having the same hydrophobicity as that of the organic component, and a functional group capable of chemically bonding to the organic component.
  • functional groups that can be chemically bonded to organic components are preferable, and an ethylenically unsaturated group or a ring-opening polymerizable group is more preferable.
  • Preferred inorganic particle surface modifiers are metal alkoxide surface modifiers or polymerizable compounds having an anionic group and an ethylenically unsaturated group or ring-opening polymerizable group in the same molecule.
  • the crosslink density of the HC layer can be increased by chemically bonding the inorganic particles and the organic component with these surface modifiers, and as a result, the hardness of the front plate (further, the hardness of the liquid crystal panel including this front plate) Can be improved.
  • S-1 H 2 C C (X) COOC 3 H 6 Si (OCH 3) 3
  • S-2 H 2 C C (X) COOC 2 H 4 OTi (OC 2 H 5) 3
  • S-5 H 2 C C (X) COOC 2 H 4 OSO 3 H
  • Surface modification of inorganic particles with a surface modifier is preferably performed in solution.
  • a surface modifier is present together, or the inorganic particles are mechanically dispersed and then added with a surface modifier and stirred, or the inorganic particles are mechanically dispersed.
  • Surface modification may be carried out (if necessary, heating, drying and then heating, or pH (power of hydrogen) change) followed by dispersion.
  • a solvent for dissolving the surface modifier a highly polar organic solvent is preferable. Specifically, known solvents such as alcohol, ketone, ester and the like can be mentioned.
  • the content of the inorganic particles is preferably 20% by mass or less, more preferably 17% by mass or less, and still more preferably less than 8% by mass, based on 100% by mass of the total solid content of the curable composition for forming an HC layer.
  • the lower limit of the content is not particularly limited, and may be 0% by mass (inorganic particles may not be contained in the HC layer), but 1% by mass The above is preferable and 7 mass% or more is more preferable.
  • the shape of the primary particle of this inorganic particle is either spherical or non-spherical, but the primary particle of the inorganic particle is preferably spherical, and it is spherical in the HC layer obtained by curing the curable composition for HC layer formation. It is more preferable from the viewpoint of further improving the hardness that it is present as non-spherical secondary particles or higher-order particles in which ⁇ 10 inorganic particles (primary particles) are connected.
  • the inorganic particles include ELCOM V-8802 (spherical silica particles having an average primary particle diameter of 15 nm manufactured by JGC Catalysts Chemical Co., Ltd.), ELCOM V-8803 (modified silica particles manufactured by JGC Catalyst Chemical Co., Ltd.), MiBK-SD ( Spherical silica particles having an average primary particle diameter of 10 to 20 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, MEK-AC-2140Z (spherical silica particles having an average primary particle diameter of 10 to 20 nm, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), MEK-AC-4130 (Nissan Chemical Industries, Ltd.) Spherical silica particles with an average primary particle size of 45 nm), MiBK-SD-L (spherical silica particles with an average primary particle size of 40 to 50 nm manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), MEK-AC-5140Z (average primary resin manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) Spherical silica
  • the curable composition for forming an HC layer can also contain matte particles.
  • the matte particles mean particles having an average primary particle size of 2 ⁇ m or more, and may be inorganic particles or organic particles, or particles of a composite material of inorganic and organic materials.
  • the shape of the matting particles may be spherical or non-spherical.
  • the average primary particle diameter of the matting particles is preferably in the range of 2 to 20 ⁇ m, more preferably in the range of 4 to 14 ⁇ m, and still more preferably in the range of 6 to 10 ⁇ m.
  • the matte particles in the present invention are different from the above-mentioned elastomer particles as recoverable particles in that they are not elastomer particles (particles containing elastomer).
  • the matted particles include, for example, inorganic particles such as silica particles and TiO 2 particles, crosslinked acrylic particles, crosslinked acrylic-styrene particles, crosslinked styrene particles, organic particles such as melamine resin particles and benzoguanamine resin particles.
  • matt particles are preferably organic particles, and more preferably crosslinked acrylic particles, crosslinked acrylic-styrene particles, or crosslinked styrene particles.
  • the content of the matting particles per unit volume in the HC layer obtained by curing the curable composition for forming an HC layer is preferably 0.10 g / cm 3 or more, and 0.10 g / cm 3 to 0.40 g / cm. It is more preferably cm 3 and more preferably 0.10 g / cm 3 to 0.30 g / cm 3 .
  • the curable composition for HC layer formation preferably also contains a UV absorber.
  • a benzotriazole compound and a triazine compound can be mentioned, for example.
  • the benzotriazole compound is a compound having a benzotriazole ring, and specific examples thereof include various benzotriazole-based ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of JP-A-2013-111835.
  • the triazine compound is a compound having a triazine ring, and specific examples thereof include various triazine-based ultraviolet absorbers described in paragraph 0033 of JP-A-2013-111835.
  • the content of the ultraviolet light absorber in the resin film is, for example, about 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin contained in the film, but is not particularly limited. Further, with regard to the ultraviolet absorber, reference can be made to paragraph 0032 of JP-A-2013-111835.
  • ultraviolet light refers to light having an emission center wavelength in a wavelength band of 200 to 380 nm.
  • the curable composition for HC layer formation also preferably contains a leveling agent.
  • a leveling agent a fluorine-containing polymer is preferably used.
  • fluoroaliphatic group-containing polymers described in Patent No. 5175 831 can be mentioned.
  • a fluoroaliphatic group-containing polymer having a content of the fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the general formula (1), which constitutes the fluoroaliphatic group-containing polymer is 50% by mass or less of all the polymerized units It can also be done.
  • the leveling agent described in the below-mentioned (vi) other components can also be contained in addition to the above.
  • the curable composition for HC layer formation contains a leveling agent
  • 0.01 to 7 mass% is preferable in the solid content of the curable composition for HC layer formation, and 0.05 to 5 mass. % Is more preferable, and 0.1 to 2% by mass is more preferable.
  • the curable composition for HC layer formation may contain only 1 type of a leveling agent, and may contain 2 or more types. When 2 or more types are contained, it is preferable that the total amount becomes the said range.
  • the curable composition for HC layer formation also preferably contains a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and 1 type, or 2 or more types of an organic solvent can be mixed and used in arbitrary ratios.
  • the organic solvent include, for example, alcohols such as methanol, ethanol, propanol, n-butanol and i-butanol; ketones such as acetone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; cellosolves such as ethyl cellosolve; And aromatics such as xylene; glycol ethers such as propylene glycol monomethyl ether; acetates such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate; and diacetone alcohol.
  • cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and methyl acetate are preferable, and it is more preferable to use cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and methyl acetate mixed in an arbitrary ratio. With such a configuration, an optical film excellent in abrasion resistance, punching property and adhesion is obtained.
  • the amount of the solvent in the curable composition for HC layer formation can be suitably adjusted in the range which can ensure the coating aptitude of the above-mentioned composition.
  • the solvent may be 50 to 500 parts by mass, preferably 80 to 200 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound and the photopolymerization initiator.
  • the solid content of the curable composition for HC formation is preferably 10 to 90% by mass, more preferably 50 to 80% by mass, and particularly preferably 65 to 75% by mass.
  • the curable composition for HC layer formation may contain, in addition to the above components, one or more of the above-described recoverable particles, known additives and the like in any amount.
  • a surface control agent, a leveling agent, a polymerization inhibitor, etc. can be mentioned.
  • the additive is not limited to these, and various additives which can be generally added to the curable composition for HC layer formation can be used.
  • the curable composition for HC layer formation can be prepared by mixing the various components described above simultaneously or sequentially in any order.
  • the preparation method is not particularly limited, and a known stirrer or the like can be used for the preparation.
  • the optical film of the present invention has at least a first HC layer and a second HC layer in order from the resin film side.
  • the first HC layer may be located on the surface of the resin film, or may have another layer in between.
  • the second HC layer may be located on the surface of the first HC layer, or may have another layer in between.
  • the second HC layer is positioned on the surface of the first HC layer, that is, both layers are formed on at least a part of the film surface. It is preferable to touch.
  • Each of the first HC layer and the second HC layer may be a single layer or two or more layers, but a single layer is preferable. Furthermore, as described in detail later, when using the optical film of the present invention for a touch panel, it is preferable to dispose the optical film so that the second HC layer is on the front side of the image display element. In order to make the scratch resistance and the punchability excellent, it is preferable that the second HC layer be disposed on the surface side of the optical film, in particular, on the outermost surface.
  • the first HC layer used in the present invention is formed of the first curable composition for HC layer formation.
  • the first curable composition for forming an HC layer has a cationically polymerizable group and a radically polymerizable group in the same molecule as the polymerizable compound 1 having a radically polymerizable group, and is different from the polymerizable compound 1 It is preferable to contain the polymerizable compound 2.
  • the description of the above-mentioned radically polymerizable compound is preferably applied as the polymerizable compound 1, and the description of the component a) in the above-mentioned cationically polymerizable compound is preferably applied as the polymerizable compound 2.
  • the first curable composition for HC layer formation may have another polymerizable compound different from the polymerizable compound 1 and the polymerizable compound 2.
  • the other polymerizable compound is preferably a polymerizable compound having a cationic polymerizable group.
  • said cation polymerizable group it is synonymous with the cation polymerizable group described by the polymeric compound 2, and its preferable range is also the same.
  • a nitrogen-containing heterocycle-containing compound containing a cationically polymerizable group is preferable as another polymerizable compound.
  • the adhesion between the resin film and the first HC layer can be more effectively improved.
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring isocyanurate rings (nitrogen-containing heterocyclic rings contained in exemplified compounds B-1 to B-3 described later) and glycoluril rings (nitrogen-containing heterocyclic rings contained in exemplified compound B-10 described later)
  • the nitrogen-containing heterocyclic ring selected from the group consisting of is exemplified, and an isocyanurate ring is more preferable.
  • the number of cationic groups contained in the other polymerizable compound is preferably 1 to 10, and more preferably 2 to 5.
  • the resin film is preferably a resin film containing an acrylic resin film. With such a configuration, the adhesion between the resin film and the first HC layer tends to be further improved.
  • Specific examples of the other polymerizable compounds include the exemplified compounds B-1 to B-14 described above, but the present invention is not limited to the above-mentioned specific examples.
  • the description of the above-mentioned recoverable particles, polymerization initiators, inorganic particles, matte particles, external absorption agents, fluorine-containing compounds, solvents and other components can be preferably applied.
  • the first curable composition for HC layer formation preferably contains a solvent
  • the second curable composition for HC layer formation preferably contains a polysiloxane-containing compound and a fluorine-containing compound.
  • the thickness of the HC layer is preferably 3 ⁇ m to 100 ⁇ m, more preferably 5 ⁇ m to 70 ⁇ m, and still more preferably 10 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the pencil hardness of the HC layer is preferably as hard as possible, specifically 3H or more is preferable, 4H or more is more preferable, 5H or more is more preferable, 6H or more is particularly preferable, and 7H or more is most preferable.
  • the HC layer can be formed by applying the curable composition for forming an HC layer directly on the resin film or through another layer such as an easy adhesion layer and irradiating the active energy ray.
  • the coating can be performed by a known coating method such as dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, die coating method, wire bar coating method, gravure coating method and the like.
  • the HC layer can also be formed as an HC layer having a laminated structure of two or more layers (for example, about two to five layers) by simultaneously or sequentially applying compositions of two or more different compositions.
  • An HC layer can be formed by performing active energy ray irradiation on the applied curable composition for HC layer formation.
  • the curable composition for HC layer formation contains a radically polymerizable compound, a cationically polymerizable compound, a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator
  • the polymerization reaction of the radically polymerizable compound and the cationically polymerizable compound is Each can be initiated and advanced by the action of a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator.
  • the wavelength of the light to be irradiated may be determined according to the type of the polymerizable compound and the polymerization initiator to be used.
  • a high pressure mercury lamp As a light source for light irradiation, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, an electrodeless discharge lamp, an LED (Light Emitting Diode) that emits light in the 150 to 450 nm wavelength band Etc.
  • the light irradiation amount is generally in the range of 30 ⁇ 3000mJ / cm 2, preferably in the range of 100 ⁇ 1500mJ / cm 2.
  • a drying treatment may be performed as needed before and / or after light irradiation. The drying process can be performed by blowing warm air, disposing in a heating furnace, transporting in a heating furnace, or the like.
  • the heating temperature may be set to a temperature at which the solvent can be removed by drying, and is not particularly limited.
  • the heating temperature refers to the temperature of the warm air or the ambient temperature in the heating furnace.
  • the optical film of the present invention may be provided with other layers such as a pressure-sensitive adhesive layer and an impact absorption layer, as necessary, in addition to the above-mentioned resin film and HC layer.
  • the optical film of the present invention may have an adhesive layer on the surface of the resin film opposite to the surface having the HC layer.
  • the optical film of the present invention having a configuration in which an HC layer, a resin film, and an adhesive layer are laminated in this order can be mentioned.
  • the material of the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited, and may be a pressure-sensitive adhesive or an adhesive.
  • acrylic pressure-sensitive adhesives for example, acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane pressure-sensitive adhesives, synthetic rubber pressure-sensitive adhesives, natural rubber pressure-sensitive adhesives and silicone pressure-sensitive adhesives And acrylic pressure-sensitive adhesives are preferred.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably 100 ⁇ m or less, more preferably 50 ⁇ m or less, and still more preferably 15 ⁇ m or less.
  • the thickness of the adhesive layer is too large, when the resin film and the adhesive layer are pressure-bonded by a roller or the like to form a laminate, pressure unevenness occurs and an optical film having a predetermined surface roughness Sa can not be obtained.
  • the adhesive layer containing an acrylic adhesive is demonstrated as a specific aspect, this invention is not limited to the following specific aspect.
  • an acrylic adhesive As an example of an acrylic adhesive, it contains at least a (meth) acrylic acid ester polymer A having a weight average molecular weight of 500,000 to 3,000,000, or the above (meth) acrylic acid ester polymer A and a weight average molecular weight of 8,000.
  • the acrylic adhesive which contains the component which (Meth) acrylic acid ester polymer B bridge
  • Stress relaxation of the adhesive layer by increasing the proportion of the (meth) acrylic acid ester polymer B having a smaller weight average molecular weight among the (meth) acrylic acid ester polymer A and the (meth) acrylic acid ester polymer B The rate can be increased, and the stress relaxation rate of the adhesive layer can be lowered by reducing the rate.
  • the proportion of the (meth) acrylic acid ester polymer B is preferably in the range of 5 to 50 parts by mass, based on 100 parts by mass of the (meth) acrylic acid ester polymer A, and preferably 10 to 30 parts More preferably, it is in the range of parts.
  • JP-A-2012-214545 paragraphs 0020 to 0046 can be referred to for details of the (meth) acrylic acid ester polymer A and the (meth) acrylic acid ester polymer B contained in the above components. Furthermore, for details of the crosslinking agent for crosslinking these, reference can be made to JP-A-2012-214545, paragraphs 0049 to 0058.
  • the acrylic pressure-sensitive adhesive can contain a silane coupling agent, and preferably contains the same.
  • JP-A-2012-214545, paragraphs 0059 to 0061 can be referred to for details of the silane coupling agent.
  • JP-A-2012-214545, paragraphs 0062 to 0071 can be referred to for details of the preparation method of the above-mentioned acrylic pressure-sensitive adhesive and the additives and solvents which may optionally be contained.
  • the acrylic pressure-sensitive adhesive can be applied to the release-treated surface of the release sheet subjected to release treatment and dried to form an adhesive layer, thereby forming an adhesive sheet including an adhesive layer. .
  • the optical film which has an adhesive layer can be formed.
  • the optical film of the present invention may have a shock absorbing layer on the surface of the resin film opposite to the surface having the HC layer (that is, the viewing side).
  • the impact absorbing layer absorbs the impact received from the HC layer side, and for example, when the optical film of the present invention is used as a front plate of an image display device, an image disposed on the opposite side to the HC layer side Damage to the display element can be prevented.
  • the optical film of the present invention having a configuration in which an HC layer, a resin film, and an impact absorption layer are laminated in this order can be mentioned.
  • the above-mentioned impact-absorbing layer has transparency capable of securing the visibility of the displayed contents, and is derived from pressing on the front plate and collision
  • the image display device may be made of a resin, or may be made of an elastomer (including oil-extended rubber).
  • 1,2-polybutadiene resin 1,2-polybutadiene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer (abbreviated as "EVA", usually containing 3% by mass or more of vinyl acetate structural units), polyolefin resin such as polyethylene, polychloride Vinyl resin, polystyrene resin, vinyl ester resin (except EVA), saturated polyester resin, polyamide resin, fluorine resin (polyvinylidene fluoride etc.), polycarbonate resin, polyacetal resin, urethane resin, epoxy resin, (meth) acrylate resin (( It also refers to (meth) acrylic resin and means (meth) acrylic ester resin etc.), unsaturated polyester resin and silicon resin, and modified resins of these resins.
  • the urethane resin may, for example, be a urethane-modified polyester resin or a urethane resin.
  • block (co) polymer of conjugated diene acrylic block (co) polymer, styrenic block (co) polymer, block copolymer of aromatic vinyl compound and conjugated diene, block of conjugated diene (Co) Hydrogenates of polymers, hydrogenates of block copolymers of aromatic vinyl compounds and conjugated dienes, ethylene- ⁇ -olefin copolymers, polar group-modified olefin copolymers, polar group modifications Elastomer consisting of olefin copolymer and metal ion and / or metal compound, nitrile rubber such as achlornitrile-butadiene rubber, butyl rubber, acrylic rubber, thermoplastic polyolefin elastomer (TPO), thermoplastic polyurethane elastomer ( TPU), thermoplastic polyester elastomer (TPEE), thermoplastic Amide elastomer (TPAE), thermoplastic elastomers such as diene-based e
  • TPO thermoplastic polyo
  • the impact absorbing layer preferably has a maximum value of tan ⁇ in the range of 10 5 to 10 15 Hz at 25 ° C. In this case, at 25 ° C., it is sufficient to have at least one maximum value of tan ⁇ in the frequency range of 10 5 to 10 15 Hz, and at least 2 maximum values of tan ⁇ in the frequency range of 10 5 to 10 15 Hz. You may have.
  • the maximum value of tan ⁇ may be further included in the frequency range other than 10 5 to 10 15 Hz, and the maximum value may be the maximum value.
  • the maximum value of tan ⁇ at 25 ° C. of the impact absorbing layer is preferably 0.1 or more, and more preferably 0.2 or more from the viewpoint of impact absorption. Further, from the viewpoint of hardness, the maximum value of tan ⁇ at 25 ° C. of the impact absorbing layer is preferably 3.0 or less.
  • a graph of frequency ⁇ tan ⁇ is prepared by the following method, and the maximum value of tan ⁇ and the frequency indicating the maximum value are determined.
  • Example preparation method A coating solution obtained by dissolving or melting an impact-absorbing material in a solvent is applied to a release-treated surface of a release PET sheet subjected to release treatment so as to have a thickness after drying of 40 ⁇ m, and Release the impact absorbing layer from the release PET sheet to prepare a test piece of the impact absorbing layer.
  • ⁇ Measurement method> About the above-mentioned test piece which carried out humidity control for 2 hours or more beforehand under temperature 25 ° C, relative humidity 60% atmosphere using a dynamic visco-elasticity measuring device (DPS-Japan company DVA-225).
  • a master curve of tan ⁇ , storage elastic modulus and loss elastic modulus with respect to the frequency at 25 ° C. is obtained by "master curve" editing. From the obtained master curve, the maximum value and the frequency indicating the maximum value of tan ⁇ are determined.
  • the storage elastic modulus (E ′) of the impact absorption layer at a frequency at which the tan ⁇ maximum value is exhibited is preferably 30 MPa or more.
  • the deterioration of the pencil hardness can be suppressed by the fact that E ′ of the impact absorption layer at the frequency at which the maximum value of tan ⁇ is at least 30 MPa. More preferably, E ′ of the shock absorbing layer at a frequency at which the maximum value of tan ⁇ is indicated is 50 MPa or more. Further, from the viewpoint of shock absorption, E ′ of the shock absorbing layer at the frequency showing the maximum value of tan ⁇ has no upper limit, but 10 5 MPa or less is practical.
  • a shock absorbing layer forming material constituting an impact absorbing layer having a maximum value of tan ⁇ at a frequency of 10 5 to 10 15 Hz at 25 ° C. a (meth) acrylate resin and an elastomer can be mentioned.
  • the elastomer acrylic block (co) polymers and styrenic block (co) polymers are preferable.
  • the acrylic block copolymer include block copolymers of methyl methacrylate and n-butyl acrylate (also referred to as "PMMA-PnBA copolymers").
  • styrenic block (co) polymers include isoprene and / or block copolymers of butene and styrene.
  • the resin or elastomer which can be contained in the impact absorbing layer may be synthesized by a known method, or a commercially available product may be used.
  • Clarity LA1114, Clarity LA2140, Clarity LA2250, Clarity LA2330, Clarity LA4285, HYBRAR5127, HYBRAR7311F (Kuraray Co., Ltd. make, brand name) etc. are mentioned, for example.
  • the shock absorbing layer may be formed using a resin containing at least one selected from urethane-modified polyester resin and urethane resin, or at 25 ° C., the maximum value of tan ⁇ in the frequency range of 10 5 to 10 15 Hz. It may be an impact absorbing layer.
  • the impact absorbing layer having such a predetermined maximum value is preferably configured using at least one selected from (meth) acrylate resins and elastomers.
  • the weight average molecular weight of the resin or elastomer is preferably 10,000 to 1,000,000, and more preferably 50,000 to 500,000, from the viewpoint of the balance between solubility in a solvent and hardness.
  • the impact absorbing layer When these resins or elastomers constitute an impact absorbing layer, it is possible to use only the polymer as a constituent material, but a softener, a plasticizer, a lubricant, a crosslinking agent, a crosslinking aid, a photosensitizer, an antioxidant Agents, anti-aging agents, heat stabilizers, flame retardants, fungicides, fungicides, weathering agents, UV absorbers, tackifiers, nucleating agents, pigments, dyes, organic fillers, inorganic fillers, silane coupling agents
  • a composition containing an additive such as a titanium coupling agent and other polymers can also be used as a constituent material. That is, the impact absorbing layer may be configured using a resin composition or an elastomer composition.
  • the inorganic filler to be added to the impact absorbing layer is not particularly limited, and for example, silica particles, zirconia particles, alumina particles, mica, talc and the like can be used, and one or more of these may be used in combination be able to. Silica particles are preferred from the viewpoint of dispersion in the impact absorbing layer.
  • the surface of the inorganic filler may be treated with a surface modifier having a functional group capable of binding to or adsorbing to the inorganic filler in order to enhance the affinity to the resin constituting the impact absorbing layer.
  • a surface modifier having a functional group capable of binding to or adsorbing to the inorganic filler in order to enhance the affinity to the resin constituting the impact absorbing layer.
  • surface modifiers metal alkoxide surface modifiers such as silane, aluminum, titanium and zirconium, and surface modifiers having anionic groups such as phosphoric acid group, sulfuric acid group, sulfonic acid group and carboxylic acid group It can be mentioned.
  • the content of the inorganic filler is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 30% by mass, and still more preferably 5 to 15% by mass in the solid content of the impact absorbing layer, in consideration of the balance between elastic modulus of the impact absorbing layer and tan ⁇ . % Is more preferred.
  • the size (average primary particle size) of the inorganic filler is preferably 10 nm to 100 nm, more preferably 15 to 60 nm.
  • the average primary particle size of the inorganic filler can be determined from electron micrographs. If the particle size of the inorganic filler is too small, the effect of improving the elastic modulus can not be obtained, and if it is too large, it may cause a rise in haze.
  • the shape of the inorganic filler may be plate-like, spherical or non-spherical.
  • the inorganic filler examples include ELECOM V-8802 (Spherical silica fine particles having an average primary particle diameter of 12 nm, manufactured by JGC Catalysts Chemical Co., Ltd.) and ELECOM V-8803 (manufactured by JGC Catalysts Kasei Co., Ltd., modified silica fine particles) ), MIBK-ST (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., spherical silica fine particles having an average primary particle diameter of 10 to 20 nm), MEK-AC-2140Z (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., a spherical particle having an average primary particle diameter of 10 to 20 nm) Silica fine particles), MEK-AC-4130 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., spherical silica fine particles having an average primary particle diameter of 40 to 50 nm), MIBK-SD-L (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., an average particle
  • Method of forming shock absorbing layer There is no particular limitation on the method of forming the impact absorbing layer, and examples thereof include a coating method, a casting method (solventless casting method and solvent casting method), a pressing method, an extrusion method, an injection molding method, a casting method and an inflation method.
  • a coating method a casting method (solventless casting method and solvent casting method), a pressing method, an extrusion method, an injection molding method, a casting method and an inflation method.
  • a liquid obtained by dissolving or dispersing the above impact absorbing material in a solvent, or a melt of components constituting the above impact absorbing material is prepared, and then this liquid or melt is applied to a resin film, After that, by removing the solvent if necessary, an impact absorption layer can be produced on the resin film (or the resin film of the resin film with HC layer).
  • the shock absorbing layer material is applied to the peeling treated surface of the peeling sheet subjected to the peeling treatment in the same manner as described above and dried to form a sheet having a shock absorbing layer, and the shock absorbing layer of this sheet is attached to a resin film
  • an impact absorption layer can also be produced on a resin film (or a resin film of a resin film with an HC layer).
  • the shock absorbing layer When the shock absorbing layer is made of a resin, the shock absorbing layer may be made of a non-crosslinked resin, or may be made of a resin at least a part of which is crosslinked.
  • the method of crosslinking the resin There is no particular limitation on the method of crosslinking the resin, and examples thereof include a method selected from electron beam irradiation, ultraviolet irradiation, and a method using a crosslinking agent (for example, organic peroxide etc.).
  • crosslinking of the resin When crosslinking of the resin is performed by electron beam irradiation, crosslinking can be formed by irradiating the obtained impact absorbing layer before crosslinking with an electron beam using an electron beam irradiation apparatus.
  • the obtained shock absorbing layer before crosslinking may be crosslinked by the effect of the photosensitizer compounded as necessary by irradiating the ultraviolet light with an ultraviolet irradiation device. it can.
  • the obtained shock absorbing layer before crosslinking is generally an organic peroxide or the like blended as necessary by heating in an atmosphere without air, such as a nitrogen atmosphere. Crosslinking can be formed by the effect of the crosslinker, and further the coagent.
  • the film thickness of the impact absorbing layer is preferably 5 ⁇ m or more, more preferably 10 ⁇ m or more, and still more preferably 20 ⁇ m or more from the viewpoint of impact absorption.
  • the upper limit is practically 100 ⁇ m or less.
  • the optical film of the present invention has a shock absorbing layer
  • a protective film layer damage to the impact-absorbing layer of the optical film before use and adhesion of dust, dirt and the like can be prevented, and the protective film layer can be peeled off during use.
  • a release layer may be provided between the protective film layer and the impact absorption layer to facilitate peeling of the protective film layer.
  • the method for providing such a release layer is not particularly limited, and can be provided, for example, by applying a release coating agent to the surface of at least one of a protective film layer and an impact absorption layer.
  • the type of release coating agent is not particularly limited, and examples thereof include silicone coating agents, inorganic coating agents, fluorine coating agents, organic-inorganic hybrid coating agents, and the like.
  • the optical film provided with a protective film layer and a peeling layer can be obtained by laminating
  • the release layer may be provided not on the surface of the protective film layer but on the surface of the impact absorbing layer.
  • optical film of the present invention Keying durability and sliding durability in various industries including home appliances industry, electric and electronics industry, automobile industry, housing industry, and Mention may be made of various articles which are required to improve manufacturing suitability.
  • an image display apparatus such as a touch sensor, a touch panel, a liquid crystal display device, a window glass of a car, a window glass of a residence, and the like can be mentioned.
  • the optical film of the present invention preferably as a surface protective film to these articles, it is possible to provide an article excellent in keying durability and sliding durability.
  • the optical film of the present invention is preferably used as an optical film used for a front plate for an image display device, and more preferably an optical film used for a front plate of an image display element of a touch panel.
  • the touch panel in which the optical film of the present invention can be used is not particularly limited and can be appropriately selected according to the purpose.
  • a surface capacitive touch panel, a projected capacitive touch panel, a resistive touch panel Etc Details will be described later.
  • a touch panel what is called a touch sensor shall be included.
  • the layer configuration of the touch panel sensor electrode portion in the touch panel is either a bonding method of bonding two transparent electrodes, a method of providing transparent electrodes on both sides of one substrate, a single-sided jumper or through hole method or a single-sided lamination method May be.
  • the image display apparatus having the optical film of the present invention is an image display apparatus having a front plate having the optical film of the present invention and an image display element.
  • the image display device can be used for an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel, an electroluminescence display, a cathode ray tube display and a touch panel.
  • LCD liquid crystal display
  • TN Transmission Nematic
  • STN Super-Twisted Nematic
  • TSTN Triple Super Twisted Nematic
  • multi-domain type VA (Vertical Alignment) type
  • IPS In Plane Switching
  • An OCB Optically Compensated Bend
  • the image display device has improved brittleness and excellent handling, does not impair surface smoothness and display quality due to wrinkles, and can reduce light leakage during a wet heat test. That is, in the image display device having the optical film of the present invention, the image display element is preferably a liquid crystal display element. Examples of the image display device having a liquid crystal display element include EXPERIOR P, manufactured by Sony Ericsson.
  • the image display element is an organic electroluminescence (EL) display element.
  • EL organic electroluminescence
  • the organic electroluminescent display element can apply a well-known technique without a restriction
  • an image display apparatus which has an organic electroluminescent display element the product made by SAMSUNG, GALAXY SII etc. can be mentioned.
  • the image display device having the optical film of the present invention is characterized in that the image display element is in-cell (In-Ce). ll) It is also preferable that it is a touch panel display element.
  • the in-cell touch panel display element is one in which a touch panel function is built in an image display element cell.
  • known techniques such as Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2011-76602 and 2011-222009 can be applied without any limitation.
  • As an image display apparatus which has an in-cell touch-panel display element Sony Ericsson company make, Experia P etc. can be mentioned.
  • the image display element is an on-cell touch panel display element.
  • the on-cell touch panel display element is one in which the touch panel function is disposed outside the image display element cell.
  • known techniques such as Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-88683 can be applied without any limitation.
  • an image display apparatus which has an on-cell touch-panel display element the product made by SAMSUNG, GALAXY SII etc. can be mentioned.
  • the touch panel having the optical film of the present invention is a touch panel including a touch sensor by bonding the touch sensor film to the optical film of the present invention. Since the optical film of the present invention has an HC layer, it is preferable to bond a touch sensor film to the resin film surface on the opposite side to the surface on which the HC layer is disposed.
  • the touch sensor film is not particularly limited, but is preferably a conductive film on which a conductive layer is formed.
  • the conductive film is preferably a conductive film in which a conductive layer is formed on any support.
  • the material of the conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include indium tin oxide (ITO), tin oxide and antimony titanium oxide (ATO), copper, Silver, aluminum, nickel, chromium and alloys thereof can be mentioned.
  • the conductive layer is preferably an electrode pattern. Moreover, it is also preferable that it is a transparent electrode pattern.
  • the electrode pattern may be a patterned layer of a transparent conductive material, or may be a patterned layer of an opaque conductive material.
  • oxides such as ITO and ATO, silver nanowires, carbon nanotubes, conductive polymers and the like can be used.
  • the layer of opaque conductive material includes, for example, a metal layer. Any metal having conductivity can be used as the metal layer, and silver, copper, gold, aluminum or the like is suitably used.
  • the metal layer may be a single metal or alloy, or may be one in which metal particles are bound by a binder. In addition, blackening treatment or rustproofing treatment is applied to the metal surface as needed. When metal is used, it is possible to form a substantially transparent sensor unit and a peripheral wiring unit at once.
  • the conductive layer include a plurality of thin metal wires. It is preferable that the metal thin wire be made of silver or an alloy containing silver. There is no restriction
  • the conductive layer be made of an oxide.
  • the oxide be made of indium oxide containing tin oxide or tin oxide containing antimony.
  • a well-known conductive layer can be used.
  • the conductive layer preferably includes a plurality of metal thin wires, and the metal thin wires are preferably arranged in a mesh or random shape, and the metal thin wires are preferably arranged in a mesh preferable.
  • the metal thin wires are arranged in a mesh shape, and the metal thin wires are made of silver or an alloy containing silver.
  • the touch sensor film have a conductive layer on both sides.
  • the resistive film type touch panel having the optical film of the present invention is a resistive film type touch panel having a front plate having the optical film of the present invention.
  • the resistive film type touch panel has a basic configuration in which conductive films of a pair of upper and lower substrates having conductive films face each other via a spacer.
  • the structure of a resistive film type touch panel is well-known, and in this invention, well-known technology can be applied without restriction at all.
  • the capacitive touch panel having the optical film of the present invention is a capacitive touch panel having a front plate having the optical film of the present invention.
  • a system of a capacitance type touch panel a surface type capacitance type, a projection type capacitance type, etc. are mentioned.
  • the projection-type capacitive touch panel has a basic configuration in which an X-axis electrode and a Y-axis electrode orthogonal to the X electrode are disposed via an insulator.
  • an embodiment in which the X electrode and the Y electrode are formed on different surfaces on one substrate, and an embodiment in which the X electrode, the insulator layer, and the Y electrode are formed in this order on one substrate An embodiment in which an X electrode is formed on one substrate and a Y electrode is formed on another substrate (in this embodiment, a configuration in which two substrates are bonded to each other is the above basic configuration) can be mentioned.
  • the configuration of the capacitive touch panel is known, and in the present invention, known techniques can be applied without any limitation.
  • the shape of the electrode pattern of the capacitive touch panel in addition to the so-called bar-and-stripe electrode pattern shape, for example, a diamond pattern disclosed in FIG. 16 of International Publication WO 2010/012179, International Publication WO 2013/094728
  • the present invention can be applied not only to the electrode pattern shape disclosed in FIG. 7 or FIG. 20 of the publication but also to the electrode pattern of a capacitive touch panel of another shape. Moreover, it is applicable also to the touch panel of a structure which has a detection electrode only in the one side of a board
  • the touch panel can also be used in combination with other functional films, an image quality improvement function for preventing a non-uniform image using a substrate having a high retardation value disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2014-13264.
  • a combination with a film, a circularly polarizing plate for improving the visibility of the electrode of the touch panel disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2014-142462, etc. is also possible.
  • the optical film of the present invention may have a reflective layer (a linearly polarized light reflective layer or a circularly polarized light reflective layer) on the surface of the resin film opposite to the surface having the HC layer.
  • a reflective layer a linearly polarized light reflective layer or a circularly polarized light reflective layer
  • Such an optical film is preferably used as an optical film to be used as a front plate of a mirror with an image display function by being combined with an image display element.
  • An adhesive layer may be provided between the optical film of the present invention and the reflective layer, and an optical clear adhesive sheet (Optical Clear Adhesive) or an optical clear adhesive resin (Optical Clear Resin) can be used as the adhesive layer.
  • an optical film having a linearly polarized light reflecting layer or a circularly polarized light reflecting layer used for the front plate of a mirror with an image display function may be referred to as a "half mirror".
  • the mirror with an image display function is configured by arranging an image display element on the side having a linearly polarized light reflecting layer or a circularly polarized light reflecting layer of a half mirror.
  • the half mirror and the image display element may be in direct contact with each other, and another layer may be interposed between the half mirror and the image display element.
  • another layer may be interposed between the half mirror and the image display element.
  • an air layer may be present or an adhesive layer may be present between the image display element and the half mirror.
  • the surface on the half mirror side with respect to the image display element may be referred to as the front surface.
  • a mirror with an image display function can be used, for example, as a rearview mirror (inner mirror) of a vehicle.
  • the mirror with an image display function may have a frame, a housing, a support arm for attaching to a vehicle body, and the like for use as a rearview mirror.
  • the mirror with image display function may be shaped for incorporation into a rearview mirror. In a mirror with an image display function of such a shape, it is possible to specify the direction in which the upper, lower, left, and right are used during normal use.
  • the mirror with an image display function may have a plate shape or a film shape, and may have a curved surface.
  • the front surface of the mirror with an image display function may be flat or curved. It is also possible to make it the wide mirror which can visually recognize a back visual field etc. in a wide angle by curving and making a convex curve into the front side. Such a curved front can be made using a curved half mirror.
  • the curvature may be in the vertical direction, the lateral direction, or the vertical direction and the lateral direction.
  • the curvature may be 500 to 3000 mm, and more preferably 1000 to 2500 mm.
  • the radius of curvature is the radius of the circumscribed circle when assuming the circumscribed circle of the curved portion in the cross section.
  • a reflective layer which can function as a semitransparent semireflective layer may be used. That is, the reflective layer functions to allow an image to be displayed on the front of the mirror with an image display function by transmitting light emitted from a light source provided to the image display device when displaying an image, while not displaying an image.
  • the reflection layer functions to reflect at least a part of incident light from the front direction and transmit reflected light from the image display element so that the front surface of the mirror with an image display function becomes a mirror. Just do it.
  • a polarization reflective layer is used as the reflective layer.
  • the polarization reflection layer may be a linear polarization reflection layer or a circular polarization reflection layer.
  • linear polarization reflection layer examples include (i) a linearly polarized light reflecting plate having a multilayer structure, (ii) a polarizer formed by laminating thin films different in birefringence, (iii) a wire grid type polarizer, and (iv) a polarizing prism And (v) a scattering anisotropic polarizing plate.
  • Examples of the linearly polarized light reflecting plate having a multilayer structure include a multilayer laminated thin film in which dielectric materials different in refractive index are laminated in a diagonal direction on a support by vacuum evaporation or sputtering.
  • a multilayer laminated thin film in which dielectric materials different in refractive index are laminated in a diagonal direction on a support by vacuum evaporation or sputtering.
  • the number of laminated layers is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 12, still more preferably 4 to 10, and particularly preferably 6 to 8. If the number of stacked layers exceeds 20, the production efficiency may be reduced, and the objects and effects of the present invention may not be achieved.
  • a film-forming method of a dielectric thin film there is no restriction
  • a polarizer formed by laminating thin films different in birefringence for example, the polarizer described in JP-A-9-506837 can be used.
  • a wide variety of materials can also be used to form polarizers by processing under conditions chosen to obtain a refractive index relationship. In general, it is necessary that one of the first materials have a different refractive index than the second material in the chosen direction. This difference in refractive index can be achieved in a variety of ways, including stretching, extrusion, or coating during or after film formation. Furthermore, it is preferred to have similar rheological properties (e.g. melt viscosity) so that the two materials can be coextruded.
  • a commercial item can be used as a polarizer which laminated the thin film from which birefringence differs, and DBEF (trademark) (made by 3M company) is mentioned as a commercial item, for example.
  • a wire-grid polarizer is a polarizer that transmits one of polarized light and reflects the other by birefringence of a metal thin wire.
  • the wire grid polarizer is an arrangement of metal wires periodically, and is mainly used as a polarizer in the terahertz wave band. In order for the wire grid to function as a polarizer, the wire spacing needs to be sufficiently smaller than the wavelength of the incident electromagnetic wave.
  • metal wires are arranged at equal intervals. The polarization component in the polarization direction parallel to the longitudinal direction of the metal wire is reflected by the wire grid polarizer, and the polarization component in the vertical polarization direction is transmitted through the wire grid polarizer.
  • wire grid type polarizer a commercial item can be used, and as a commercial item, for example, a wire grid polarizing filter 50 x 50, NT46-636 (trade name) manufactured by Edmond Optics, Inc. can be mentioned.
  • a circularly polarized light reflecting layer including a linearly polarized light reflecting plate and a quarter wavelength plate, and a circularly polarized light reflecting layer including a cholesteric liquid crystal layer (hereinafter referred to as “Pol ⁇ / It may be referred to as “4 circularly polarized light reflective layer” or “cholesteric circularly polarized light reflective layer”.
  • the linearly polarized light reflective plate and the quarter wavelength plate are arranged such that the slow axis of the ⁇ / 4 wavelength plate is 45 ° with respect to the polarized light reflection axis of the linearly polarized light reflective plate. Just do it.
  • the quarter wavelength plate and the linearly polarized light reflection plate may be bonded, for example, by an adhesive layer.
  • the linearly polarized light reflecting plate is disposed so as to be close to the image display element, that is, the quarter wavelength plate and the linearly polarized light reflecting plate are arranged in this order with respect to the optical film.
  • the polarization reflection axis of the linearly polarized light reflection plate may be adjusted to transmit the linearly polarized light.
  • the thickness of the Pol ⁇ / 4 circular polarization reflective layer is preferably in the range of 2.0 ⁇ m to 300 ⁇ m, and more preferably in the range of 8.0 ⁇ m to 200 ⁇ m.
  • the linearly polarized light reflecting plate those described above as the linearly polarized light reflecting layer can be used.
  • a quarter wavelength plate a quarter wavelength plate described later can be used.
  • the cholesteric circular polarization reflection layer includes at least one cholesteric liquid crystal layer.
  • the cholesteric liquid crystal layer contained in the cholesteric circularly polarized light reflection layer may be any one as long as it exhibits selective reflection in the visible light region.
  • the circularly polarized light reflection layer may include two or more cholesteric liquid crystal layers, and may include other layers such as an alignment layer.
  • the circularly polarized light reflection layer preferably comprises only a cholesteric liquid crystal layer. When the circularly polarized light reflection layer includes a plurality of cholesteric liquid crystal layers, it is preferable that they be in direct contact with the adjacent cholesteric liquid crystal layers.
  • the circularly polarized light reflection layer preferably includes three or more cholesteric liquid crystal layers such as three and four layers.
  • the thickness of the cholesteric circular polarization reflective layer is preferably in the range of 2.0 ⁇ m to 300 ⁇ m, and more preferably in the range of 8.0 to 200 ⁇ m.
  • cholesteric liquid crystal layer means a layer in which a cholesteric liquid crystal phase is fixed.
  • the cholesteric liquid crystal layer may be simply referred to as a liquid crystal layer.
  • the cholesteric liquid crystal phase selectively reflects circularly polarized light of either right circularly polarized light or left circularly polarized light in a specific wavelength range and selectively transmits circularly polarized light of the other sense. It is known to show.
  • circular polarization selective reflection may be simply referred to as selective reflection.
  • the cholesteric liquid crystal layer may be any layer as long as the orientation of the liquid crystal compound in the cholesteric liquid crystal phase is maintained, and typically, after the polymerizable liquid crystal compound is in the aligned state of the cholesteric liquid crystal phase, ultraviolet irradiation is performed.
  • the layer may be polymerized and cured by heating or the like to form a layer having no fluidity, and at the same time, it may be a layer which has been changed to a state in which no change in orientation is caused by external field or external force.
  • the liquid crystal compound in the layer may no longer exhibit liquid crystallinity.
  • the polymerizable liquid crystal compound may become high in molecular weight by the curing reaction and may no longer have liquid crystallinity.
  • the central wavelength and half width of selective reflection of the cholesteric liquid crystal layer can be determined as follows. When the transmission spectrum of the reflective layer (measured from the normal direction of the cholesteric liquid crystal layer) is measured using a spectrophotometer UV 3150 (trade name of Shimadzu Corporation), a drop in transmittance is observed in the selective reflection region .
  • the central wavelength and half width of selective reflection can be expressed by the following equations.
  • Center wavelength of selective reflection ( ⁇ 1 + ⁇ 2) / 2
  • Half width ( ⁇ 2- ⁇ 1)
  • the center wavelength ⁇ of the selective reflection of the cholesteric liquid crystal layer which is determined as described above, usually coincides with the wavelength at the center of gravity of the reflection peak of the circularly polarized light reflection spectrum measured from the normal direction of the cholesteric liquid crystal layer.
  • the "central wavelength of selective reflection” means the central wavelength when measured from the normal direction of the cholesteric liquid crystal layer.
  • the central wavelength of selective reflection can be adjusted by adjusting the pitch of the helical structure.
  • the central wavelength ⁇ By adjusting the n value and the P value, it is possible to adjust the central wavelength ⁇ for selectively reflecting either right circularly polarized light or left circularly polarized light with respect to light of a desired wavelength.
  • n ⁇ P the central wavelength of selective reflection when a light beam passes at an angle of ⁇ 2 with respect to the normal direction of the cholesteric liquid crystal layer (helical axis direction of the cholesteric liquid crystal layer) is ⁇ d
  • ⁇ d n 2 ⁇ P ⁇ cos ⁇ 2
  • the mirror with an image display function having the optical film of the present invention may have a tint in an image and a mirror reflection image viewed from an oblique direction. Such tint can also be prevented by including a cholesteric liquid crystal layer having a central wavelength of selective reflection in the infrared light region in the circularly polarized light reflection layer.
  • the central wavelength of selective reflection in the infrared light region in this case may be 780 to 900 nm, preferably 780 to 850 nm.
  • the cholesteric liquid crystal layer having the central wavelength of selective reflection in the visible light region be located closest to the image display element.
  • the pitch of the cholesteric liquid crystal phase depends on the type of chiral agent to be used together with the polymerizable liquid crystal compound, or the addition concentration thereof, and by adjusting these, the desired pitch can be obtained.
  • the method of measuring the sense of the spiral and the pitch use the method described in “Introduction to Liquid Crystal Chemistry Experiment” edited by The Liquid Crystal Society of Japan, published by Sigma Press 2007, p. 46, and “Liquid Crystal Handbook” Liquid Crystal Handbook Editorial Committee Maruzen p. 196. be able to.
  • the circularly polarized light reflection layer has a cholesteric liquid crystal layer having a central wavelength of selective reflection in the wavelength range of red light and a central wavelength of selective reflection in the wavelength range of green light. It is preferable to contain the cholesteric-liquid-crystal layer which has, and the cholesteric-liquid-crystal layer which has a central wavelength of selective reflection in the wavelength range of blue light.
  • the reflective layer is, for example, a cholesteric liquid crystal layer having a central wavelength of selective reflection at 400 nm to 500 nm, a cholesteric liquid crystal layer having a central wavelength of selective reflection at 500 nm to 580 nm, and a cholesteric liquid crystal having a central wavelength of selective reflection at 580 nm to 700 nm It is preferred to include a layer.
  • the circularly polarized light reflective layer includes a plurality of cholesteric liquid crystal layers
  • the cholesteric liquid crystal layer closer to the image display element have a longer central wavelength of selective reflection. With such a configuration, it is possible to suppress the oblique color tone in the image.
  • the central wavelength of selective reflection of each cholesteric liquid crystal layer is 5 nm or more of the peak wavelength of light emission of the image display element. It is preferable to make it different. This difference is more preferably 10 nm or more.
  • the peak wavelength may be a peak wavelength in the visible light region of the emission spectrum, for example, the emission peak wavelength ⁇ R of the above-mentioned red light of the image display element, the emission peak wavelength ⁇ G of green light, and the emission peak wavelength ⁇ B of blue light And at least one selected from the group consisting of
  • the central wavelength of selective reflection of the cholesteric liquid crystal layer is different by 5 nm or more from the above-mentioned emission peak wavelength ⁇ R of red light, emission peak wavelength ⁇ G of green light, and emission peak wavelength ⁇ B of blue light Is preferably, and more preferably 10 nm or more.
  • the central wavelength of selective reflection of all cholesteric liquid crystal layers is different by 5 nm or more, preferably 10 nm or more from the peak wavelength of light emitted by the image display element. do it.
  • the image display element is a display element of full color display showing the emission peak wavelength ⁇ R of red light, the emission peak wavelength ⁇ G of green light, and the emission peak wavelength ⁇ B of blue light in the emission spectrum during white display
  • the central wavelengths of all the selective reflections of the cholesteric liquid crystal layer may be different by at least 5 nm, preferably by at least 10 nm, for each of ⁇ R, ⁇ G, and ⁇ B.
  • the central wavelength of the selective reflection of the cholesteric liquid crystal layer By adjusting the central wavelength of the selective reflection of the cholesteric liquid crystal layer to be used in accordance with the light emission wavelength range of the image display element and the use mode of the circularly polarized light reflection layer, a bright image can be displayed with good light utilization efficiency.
  • the incident angle of the light to a circularly polarized light reflection layer especially, an image observation direction, etc. are mentioned.
  • each cholesteric liquid crystal layer a cholesteric liquid crystal layer in which the sense of the helix is either right or left is used.
  • the sense of the reflected circular polarization of the cholesteric liquid crystal layer corresponds to the sense of the helix.
  • the senses of the spirals of the plurality of cholesteric liquid crystal layers may be all the same or different. That is, a cholesteric liquid crystal layer of either right or left sense may be included, and a cholesteric liquid crystal layer of both right and left sense may be included.
  • the senses of the spirals of the plurality of cholesteric liquid crystal layers are all the same.
  • the sense of the spiral at that time may be determined according to the sense of the circularly polarized light of the sense obtained by emitting light from the image display element and transmitting through the 1 ⁇ 4 wavelength plate as each cholesteric liquid crystal layer. Specifically, it is preferable to use a cholesteric liquid crystal layer having a sense of a spiral which transmits circularly polarized light of a sense obtained by being emitted from an image display element and transmitted through a 1 ⁇ 4 wavelength plate.
  • the adjustment of ⁇ n can be performed by adjusting the kind of the polymerizable liquid crystal compound and the mixing ratio thereof, or controlling the temperature at the time of fixing the alignment.
  • a plurality of cholesteric liquid crystal layers having the same spiral P and the same helical sense may be stacked. By laminating cholesteric liquid crystal layers of the same helical sense with the same period P, it is possible to increase the circular polarization selectivity at a specific wavelength.
  • the half mirror may further include a quarter wavelength plate, and a high Re (in-plane retardation) retardation film and a cholesteric circular polarization reflection layer It is preferable to include a quarter wave plate in this order.
  • a 1 ⁇ 4 wavelength plate between the image display element and the cholesteric circularly polarized light reflection layer in particular, light from the image display element displaying an image by linearly polarized light is converted into circularly polarized light and cholesteric circularly polarized light is reflected. It is possible to make it incident on the layer.
  • the central wavelength of selective reflection of the cholesteric liquid crystal layer included in the cholesteric circularly polarized light reflection layer is substantially the same as the emission peak wavelength of blue light in the emission spectrum at the white display of the image display element (for example, the difference is less than 5 nm) Even if this is the case, the emitted light of the image display element can be transmitted to the front side without generating circularly polarized light of the sense reflected to the image display side in the circularly polarized light reflection layer.
  • the quarter-wave plate used in combination with the cholesteric circular polarization reflective layer is preferably angle-adjusted so that the image is brightest when adhered to the image display device. That is, the relationship between the polarization direction (transmission axis) of the linearly polarized light and the slow axis of the quarter-wave plate so that the linearly polarized light is best transmitted to the image display element displaying an image in particular by the linearly polarized light. Is preferably adjusted. For example, in the case of a single-layer type quarter-wave plate, it is preferable that the transmission axis and the slow axis form an angle of 45 °.
  • the light emitted from the image display element displaying an image by linearly polarized light after passing through the 1 ⁇ 4 wavelength plate, becomes circularly polarized light of either right or left sense.
  • the circularly polarized light reflection layer may be made of a cholesteric liquid crystal layer having a twisting direction that transmits the above-mentioned sense circularly polarized light.
  • the quarter wavelength plate may be a retardation layer that functions as a quarter wavelength plate in the visible light region.
  • the quarter-wave plate include a single-layer quarter-wave plate and a wide-band quarter-wave plate in which a quarter-wave plate and a half-wave retarder are stacked.
  • the front phase difference of the former 1 ⁇ 4 wavelength plate may be 1 ⁇ 4 of the light emission wavelength of the image display element. Therefore, for example, when the emission wavelength of the image display element is 450 nm, 530 nm and 640 nm, the wavelength of 450 nm is 112.5 nm ⁇ 10 nm, preferably 112.5 nm ⁇ 5 nm, more preferably 112.5 nm, 132 for 530 nm .5 nm.
  • ⁇ .10 nm preferably 132.5 nm. ⁇ .5 nm, more preferably 132.5 nm, a wavelength of 640 nm, 160 nm. ⁇ .10 nm, preferably 160 nm. ⁇ .5 nm, more preferably 160 nm.
  • a retardation layer is most preferable as a 1 ⁇ 4 wavelength plate, a retardation plate with small wavelength dispersion of retardation and a retardation plate of forward dispersion can also be used.
  • reverse dispersion means the property that the absolute value of the phase difference becomes larger as the wavelength becomes longer
  • forward dispersion means the property that the absolute value of the phase difference becomes larger as the wavelength becomes shorter.
  • the laminated quarter-wave plate is made by bonding a quarter-wave plate to a half-wave retarder at an angle of 60 °, and the half-wave retarder side is linearly polarized. It is placed on the incident side, and uses the slow axis of the half-wave retarder crossed by 15 ° or 75 ° with respect to the polarization plane of the incident linearly polarized light, and the reverse dispersion of the retardation Can be suitably used because it is good.
  • a quartz plate for example, a stretched polycarbonate film, a stretched norbornene polymer film, a transparent film oriented by containing inorganic particles having birefringence such as strontium carbonate, and an inclined inorganic dielectric on a support
  • inorganic particles having birefringence such as strontium carbonate
  • ⁇ / 4 wavelength plate for example, a birefringence film having a large retardation and a birefringence having a small retardation, which are described in (1) JP-A-5-27118 and JP-A-5-27119 (A) a polymer film having a ⁇ / 4 wavelength at a specific wavelength, and (2) a polymer film described in JP-A-10-68816, in which And a retardation film capable of obtaining ⁇ / 4 wavelength in a wide wavelength range by laminating a polymer film made of the same material and having ⁇ / 2 wavelength at the same wavelength, (3) JP-A-10-90521 Retardation plate capable of achieving ⁇ / 4 wavelength in a wide wavelength range by laminating two polymer films as described in (4) WO 00/26705 And a retardation plate capable of achieving ⁇ / 4 wavelength in a wide wavelength region using a modified polycarbonate film, and (5) a wide using a cellulose acetate film described in (1) JP
  • a retardation plate capable of achieving ⁇ / 4 wavelength in the wavelength region may, for example, be mentioned.
  • a commercially available product can also be used as the ⁇ / 4 wavelength plate, and examples of the commercially available product include Pure Ace (registered trademark) WR (polycarbonate film manufactured by Teijin Limited).
  • the quarter wavelength plate may be formed by arranging and fixing a polymerizable liquid crystal compound and a high molecular liquid crystal compound.
  • a quarter wavelength plate applies a liquid crystal composition to a temporary support, an alignment film, or the surface of a front plate, where the polymerizable liquid crystal compound in the liquid crystal composition is formed into a nematic alignment in the liquid crystal state and then photocrosslinked. Or can be immobilized by thermal crosslinking. Details of the liquid crystal composition and the production method will be described later.
  • the quarter-wave plate is formed by applying a liquid crystal composition to a temporary support, alignment film, or front plate surface of a composition containing a polymer liquid crystal compound, forming a nematic alignment in a liquid crystal state, and cooling it. It may be a layer obtained by immobilizing
  • the ⁇ / 4 wavelength plate may be in direct contact with the cholesteric circularly polarized light reflection layer, may be bonded by an adhesive layer, or preferably in direct contact.
  • the composition may be applied to a quarter wavelength plate or the like, and after orientation ripening, it may be fixed by curing of the liquid crystal composition to form a cholesteric liquid crystal layer and / or a quarter wavelength plate.
  • a polymerizable rod-like liquid crystal compound may be used.
  • the polymerizable rod-like liquid crystal compound include rod-like nematic liquid crystal compounds.
  • rod-like nematic liquid crystal compounds azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano substituted phenyl pyrimidines, alkoxy substituted phenyl pyrimidines , Phenyldioxanes, tolanes and alkenylcyclohexyl benzonitriles are preferably used. Not only low molecular weight liquid crystal compounds but also high molecular weight liquid crystal compounds can be used.
  • the polymerizable liquid crystal compound is obtained by introducing a polymerizable group into the liquid crystal compound.
  • the polymerizable group include unsaturated polymerizable groups, epoxy groups, and aziridinyl groups, with unsaturated polymerizable groups being preferred, and ethylenically unsaturated polymerizable groups being particularly preferred.
  • the polymerizable group can be introduced into the molecules of the liquid crystal compound by various methods.
  • the number of polymerizable groups contained in the polymerizable liquid crystal compound is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3.
  • An example of the polymerizable liquid crystal compound is Makromol. Chem. 190: 2255 (1989), Advanced Materials 5: 107 (1993), U.S. Pat. No.
  • the content of the polymerizable liquid crystal compound in the liquid crystal composition is preferably 80 to 99.9% by mass with respect to the solid content mass (mass excluding the solvent) of the liquid crystal composition, and is preferably 85 to 99.
  • the content is more preferably 5% by mass, particularly preferably 90 to 99% by mass.
  • the material used to form the cholesteric liquid crystal layer preferably contains a chiral agent.
  • the chiral agent has a function of inducing the helical structure of the cholesteric liquid crystal phase.
  • the chiral agent may be selected according to the purpose because the helical sense or helical pitch induced by the compound is different.
  • There is no particular limitation on the chiral agent and generally used compounds (for example, Liquid Crystal Device Handbook, Chapter 3 4-3, TN, chiral agents for STN, page 199, edited by 142th Committee of Japan Society for the Promotion of Science, 1989 And isosorbide and isomannide derivatives can be used.
  • the chiral agent generally contains an asymmetric carbon atom, but an axial asymmetric compound or a planar asymmetric compound not containing an asymmetric carbon atom can also be used as a chiral agent.
  • Examples of axial asymmetric compounds or planar asymmetric compounds include binaphthyl, helicene, paracyclophane and derivatives thereof.
  • the chiral agent may have a polymerizable group. When both the chiral agent and the liquid crystal compound have a polymerizable group, they are derived from the repeating unit derived from the polymerizable liquid crystal compound and the chiral agent by the polymerization reaction of the polymerizable chiral agent and the polymerizable liquid crystal compound Polymers having repeating units can be formed.
  • the polymerizable group contained in the polymerizable chiral agent is preferably the same group as the polymerizable group contained in the polymerizable liquid crystal compound.
  • the polymerizable group of the chiral agent is also preferably an unsaturated polymerizable group, an epoxy group or an aziridinyl group, more preferably an unsaturated polymerizable group, and an ethylenically unsaturated polymerizable group.
  • the chiral agent may also be a liquid crystal compound.
  • the content of the chiral agent in the liquid crystal composition is preferably 0.01 mol% to 200 mol%, and more preferably 1 mol% to 30 mol% with respect to the amount of the polymerizable liquid crystal compound.
  • the liquid crystal composition used in the present invention preferably contains a polymerization initiator.
  • the polymerization initiator to be used is a photoinitiator which can start a polymerization reaction by ultraviolet irradiation.
  • the photopolymerization initiator include an ⁇ -carbonyl compound (described in each specification of US Pat. No. 2,367,661 and US Pat. No. 2,367,670), an acyloin ether (described in US Pat. No. 2,448,828), an ⁇ -hydrocarbon Substituted aromatic acyloin compounds (as described in US Pat. No.
  • the content of the photopolymerization initiator in the liquid crystal composition is preferably 0.1 to 20% by mass, and more preferably 0.5 to 5% by mass with respect to the amount of the polymerizable liquid crystal compound. .
  • the liquid crystal composition may optionally contain a crosslinking agent in order to improve film strength after curing and improve durability.
  • a crosslinking agent one which is cured by ultraviolet light, heat, moisture or the like can be suitably used.
  • multifunctional acrylate compounds such as trimethylol propane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate; Glycidyl (meth) acrylate And epoxy compounds such as ethylene glycol diglycidyl ether; aziridine compounds such as 2,2-bishydroxymethylbutanol-tris [3- (1-aziridinyl) propionate] and 4,4-bis (ethyleneiminocarbonylamino) diphenylmethane; hexa Isocyanate compounds such as methylene diisocyanate and biuret type isocyanate; polyoxazoline compounds having an oxazoline group in the side chain; and vinyltrimethoxysilane and N- (2-amino) Chill) 3-aminopropyl alkoxysilane compounds such as trimethoxysilane.
  • multifunctional acrylate compounds such as trimethylol propane tri (meth) acrylate and pentaerythritol
  • a commonly used catalyst can be used depending on the reactivity of the crosslinking agent, and in addition to the improvement of the membrane strength and the durability, the productivity can be improved. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the crosslinking agent in the liquid crystal composition is preferably 3% by mass to 20% by mass, and more preferably 5% by mass to 15% by mass. When the content of the crosslinking agent is not less than the above lower limit value, the effect of improving the crosslinking density can be obtained. Moreover, the stability of the layer formed can be maintained by below the said upper limit carrying out.
  • an alignment control agent may be added which contributes to stable or rapid planar alignment.
  • alignment control agents include fluorine (meth) acrylate polymers described in paragraphs [0018] to [0043] of JP-A-2007-272185, and stages [0031]-[0034] of JP-A-2012-203237. And the like, and compounds represented by formulas (I) to (IV) described in the above.
  • orientation control agent you may use individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
  • the amount of the orientation control agent added to the liquid crystal composition is preferably 0.01% by mass to 10% by mass, more preferably 0.01% by mass to 5% by mass, based on the total mass of the polymerizable liquid crystal compound. .02% by weight to 1% by weight is particularly preferred.
  • the liquid crystal composition may contain at least one selected from various additives such as a surfactant for adjusting the surface tension of the coating film to make the thickness uniform, and a polymerizable monomer.
  • a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet light absorber, a light stabilizer, a coloring material, metal oxide fine particles, and the like may be added in such a range that the optical performance is not reduced. It can be added.
  • organic solvent is used preferably.
  • the organic solvent is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the purpose. Examples thereof include ketones, alkyl halides, amides, sulfoxides, heterocyclic compounds, hydrocarbons, esters and ethers. Be These may be used alone or in combination of two or more. Among these, ketones are particularly preferable in consideration of environmental load.
  • the method for applying the liquid crystal composition to the temporary support, alignment film, high Re retardation film, quarter wavelength plate, and / or cholesteric liquid crystal layer to be the lower layer is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the purpose.
  • wire bar coating method, curtain coating method, extrusion coating method, direct gravure coating method, reverse gravure coating method, reverse gravure coating method, die coating method, spin coating method, dip coating method, spray coating method and slide coating method, etc. can be mentioned. It can also be carried out by transferring a liquid crystal composition separately coated on a support. The liquid crystal molecules are aligned by heating the applied liquid crystal composition.
  • the cholesteric alignment may be performed, and in the formation of the quarter wavelength plate, the nematic alignment is preferably performed.
  • the heating temperature is preferably 200 ° C. or less, more preferably 130 ° C. or less.
  • the heating temperature is preferably 25 ° C. to 120 ° C., and more preferably 30 ° C. to 100 ° C.
  • the oriented liquid crystal compound can be further polymerized to cure the liquid crystal composition.
  • the polymerization may be either thermal polymerization or photopolymerization by light irradiation, but photopolymerization is preferred. It is preferable to use ultraviolet light for light irradiation.
  • the irradiation energy is preferably 20mJ / cm 2 ⁇ 50J / cm 2, 100mJ / cm 2 ⁇ 1,500mJ / cm 2 is more preferable.
  • Light irradiation may be carried out under heating conditions or under a nitrogen atmosphere to promote the photopolymerization reaction.
  • the irradiation ultraviolet wavelength is preferably 350 nm to 430 nm.
  • the polymerization reaction rate is preferably high, preferably 70% or more, and more preferably 80% or more.
  • the polymerization reaction rate can be determined by measuring the consumption rate of the polymerizable functional group using an IR absorption spectrum.
  • the thickness of the individual cholesteric liquid crystal layer is not particularly limited as long as it exhibits the above characteristics, but it is preferably in the range of 1.0 ⁇ m to 150 ⁇ m, and more preferably in the range of 2.5 ⁇ m to 100 ⁇ m. .
  • the thickness of the quarter-wave plate formed of the liquid crystal composition is not particularly limited, but preferably 0.2 to 10 ⁇ m, more preferably 0.5 to 2 ⁇ m.
  • Example 1 ⁇ 1. Production of Resin Film 1> (1) Preparation of Core Layer Cellulose Acylate Dope Solution The following composition was charged into a mixing tank and stirred to prepare a core layer cellulose acylate dope solution. -----------------------------------------------------------------------------
  • Phthalate ester oligomer A weight average molecular weight: 750
  • the thickness unevenness of the entire casting band was 0.5% or less.
  • An initial film was formed by applying a rapid drying air having a wind speed of 8 m / s, a gas concentration of 16% and a temperature of 60 ° C. to the surface of the obtained cast film. Thereafter, drying air at 140 ° C. was blown from the upstream side of the upper portion of the casting band. From the downstream side, the drying air at 120 ° C. and the drying air at 60 ° C. were blown. After the residual solvent amount was about 33% by mass, the film was stripped from the band.
  • Table 1 The unit of the numerical values (blended amounts) in Table 1 is mass%. In the said Table 1, it is described so that the total amount of solid content and a solvent will be 100 mass%, respectively. The detail of each compound described in Table 1 is shown below.
  • DPHA A mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARAD DPHA) Cyclomer M100: 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate (product name of Daicel)
  • SH2400B-0501 Polyrotaxane-containing particles, manufactured by Advanced Soft Material Co., Ltd., trade name KMP-601: Silicone rubber particles, Shin-Etsu Chemical Co., trade name, KMP-600: Silicone rubber particles, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name X-52 -7030: silicone rubber particles, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name SM1303P: UV curable group-containing polyrotaxane, (meth) acrylic equivalent 1100, manufactured by Advanced Soft Materials, trade name Kaneace M-210: acrylic rubber particles, Kaneka Product name: Kaneace M-511: Butadiene rubber particle, manufactured by Kaneka Corp., trade name: Kaneace M-732: Butadiene rubber particle, manufactured by Kaneka, trade name: SSX-108: Cross-linked polymethyl methacrylate, Sekisui Plastics Co., Ltd. Product name: Techpolymer SSX-1
  • the recovery rate of particles measured by the above-mentioned method of SH2400B-0501 is 59%
  • the recovery rate of particles measured by the above-mentioned method of KMP-600 is 46%
  • the above-mentioned method of SSX-108 is The recovery rate of the measured particles was 27%.
  • SM1303P is not a particle
  • SSX-108 is a particle having no recoverability
  • the other additives are recoverable particles.
  • ⁇ Fluorine-containing compound> RS-90 DIC Corporation, a fluorine-containing antifouling agent having a radically polymerizable group, trade name ⁇ polysiloxane compound> 8 SS-723: manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., polysiloxane antifouling agent having an acryloyl group having a reactive group equivalent of 338 g / mol, trade name ⁇ leveling agent> P-112: Leveling agent, compound P-112 described in paragraph 0053 of Patent No. 5175 31 1
  • the curable composition HC-1 for HC layer formation is applied on the surface of the resin film 1 having a film thickness of 140 ⁇ m produced on the side opposite to the side in contact with the casting band, and cured to form a film thickness of 16 ⁇ m.
  • a first HC layer was formed.
  • the coating and curing methods were as follows.
  • a curable composition for HC layer formation is applied at a transfer speed of 30 m / min by a die coating method using the slot die described in Example 1 of JP-A-2006-122889, and dried at an atmosphere temperature of 60 ° C. for 150 seconds. did.
  • the applied curable composition for forming an HC layer was cured to form an HC layer, and then wound up to obtain a laminate having a first HC layer formed thereon.
  • the laminate having the first HC layer formed thereon is unwound, and a curable composition HC-14 for HC layer formation is applied to the surface of the first HC layer under the same conditions as the formation of the first HC layer.
  • the resultant was dried and cured to form a second HC layer, and the optical film of Example 1 was produced.
  • Examples 2 to 4 and 8 to 14 Examples 2 to 4 and 8 to 8 were carried out in the same manner as Example 1, except that the curable composition for forming an HC layer was used instead of the curable composition for forming an HC layer and used as the curable composition for forming an HC layer. Fourteen optical films were produced.
  • Example 15 The cellulose acylate dope solution of core layer and outer layer of resin film 1 is substituted for the core layer and outer layer, and the cellulose acylate dope solution of core layer and outer layer prepared as described below is used, and is substituted for curable composition HC-1 for HC layer formation
  • An optical film of Example 15 was produced in the same manner as Example 1, except that the curable composition HC-12 for forming an HC layer was used.
  • Example 16 An optical film of Example 16 in the same manner as Example 15, except that the core layer cellulose acylate dope solution of the resin film of Example 15 was replaced with the core layer cellulose acylate dope solution was used as follows. Was produced. (1) Preparation of Core Layer Cellulose Acylate Dope Solution 6 parts by mass of the following particle-containing composition was added to 94 parts by mass of the core layer cellulose acylate dope solution of Example 1 to prepare a core layer cellulose acylate dope solution.
  • Comparative Example Comparative Example 1 An optical film of Comparative Example 1 was produced in the same manner as Example 1, except that the curable composition HC-1 for forming an HC layer was used instead of the curable composition HC-1 for forming an HC layer.
  • Comparative Example 2 An optical film of Comparative Example 2 was produced in the same manner as Example 1, except that the curable composition HC-13 for forming an HC layer was used instead of the curable composition HC-1 for forming an HC layer.
  • Test Example 1 Sliding Durability A glass plate and a resin film side face each other between the glass plate (manufactured by Corning, product name: Eagle XG, thickness 1 mm) and the optical film (resin film with HC layer) prepared above Thus, a test piece was produced by bonding while applying a load of 2 kg with a rubber roller via a 20 ⁇ m thick adhesive (manufactured by Soken Chemical Co., Ltd., trade name: SK-2057). The test piece was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%.
  • Test Example 2 Film Thickness
  • SEM scanning electron microscope
  • Test Example 3 Pushing Amount and Pushing Recovery Rate
  • a glass plate made by Corning, trade name: Eagle XG, thickness 1 mm
  • the optical film resin film with HC layer
  • the test pieces were prepared by bonding with Aron Alpha with the sides facing each other.
  • the test piece was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%.
  • Test Example 4 Pencil Hardness The pencil hardness was evaluated according to JIS (JIS is Japanese Industrial Standards (Japanese Industrial Standard)) K5400. After conditioning each of the optical films prepared above at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 2 hours, using pencils for testing of H to 9 H specified in JIS S 6006 for five different places on the surface of the HC layer. Scratched with a load of 4.9N. Thereafter, among the hardnesses of pencils at which 0 to 2 spots were visually recognized, the pencil hardness having the highest hardness was taken as the evaluation result.
  • the pencil hardness is preferably as high as possible, as the numerical value described before "H" is higher.
  • Test Example 6 Writing feeling A glass plate (made by Corning, trade name: Eagle XG, thickness 1 mm) and the optical film (resin film with HC layer) prepared above were made to face each other on the glass plate and resin film side.
  • the test pieces were prepared by applying a load of 2 kg with a rubber roller through a 20 ⁇ m thick adhesive (trade name: SK-2057, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.). The test piece was conditioned for 2 hours at a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%.
  • Formulation Indicates the type of the curable composition for HC layer formation used.
  • the average particle size means an average primary particle size.
  • TAC cellulose acetate having an acetyl substitution degree of 2.88 and a weight average molecular weight of 260,000.
  • Addition ratio The HC layer shows the content ratio (% by mass) in the total solid content forming the first HC layer.
  • PHR per hundred rubber
  • TAC resin components
  • the refractive index of SM1303P was measured with an Abbe refractometer.
  • the optical films of Comparative Examples 1 and 2 both have a low indentation recovery rate of 77%, and do not satisfy the indentation recovery rate of 78% or more specified in the present invention.
  • a dent was observed while sliding 20000 times (Evaluation E), and the sliding durability was inferior.
  • all of the optical films of the present invention of Examples 1 to 16 having an indentation recovery rate of 78% or more sufficiently suppress the occurrence of dents after the sliding test, and are excellent in sliding durability.
  • the optical films of Examples 5 and 7 in which the amount of indentation is large have good writing feeling as compared with the optical film of Example 3 in which the amount of indentation is 18 ⁇ m.
  • the recovery rate calculated from the Knoop hardness test is 71% in Comparative Example 1 and 73% in Comparative Example 2, whereas Example 4 is 63% and Comparative Example 1 And lower than 2.

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Abstract

打鍵耐久性及び摺動耐久性に優れ、また、鉛筆硬度にも優れる、光学フィルム、ならびに、これを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラー、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供する。光学フィルムは、樹脂フィルムと、この樹脂フィルムの片面に配置されたハードコート層とを少なくとも有し、特定の式で算出される押し込み回復率が78％以上である。

Description

光学フィルムならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラー、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネル
　本発明は、光学フィルムならびにこれを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラー、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルに関する。
　画像表示装置の前面板、特に、タッチパネルの前面板等の高い耐久性が求められる光学フィルム用途には、従来、化学強化ガラス等のガラスが主に用いられていた。近年、樹脂フィルムの各種機能性（軽量性、靱性（割れにくさ）及び薄膜加工性（薄くできる）等）が注目され、ガラス代替材料としての樹脂フィルムの使用による光学フィルムの機能性の向上が期待されている。
　ガラス代替材料の樹脂フィルムとしては、例えば、特許文献１には、基材と、基材の少なくとも一方の面に積層されたハードコート層とを備え、面内方向のレターデーションが６０００ｎｍ以上４００００ｎｍ以下であるハードコートフィルムが記載されている。また、特許文献２には、熱可塑性樹脂を含むベース層と、このベース層上に形成された硬化性樹脂を含むハードコート層とを備えるハードコート層付樹脂フィルムが、複数枚積層されている積層体が記載されている。
特開２０１６－１６４６４１号公報 特開２０１４－１１３７０５号公報
　タッチパネルの前面板等の表面に適用する樹脂フィルム及び光学フィルムには、スタイラスペン等で何度打鍵及び摺動等しても凹まず、傷つかないといった耐久性（以下、それぞれ「打鍵耐久性」及び「摺動耐久性」とも称す。）を持つことが重要である。
　本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、打鍵耐久性及び摺動耐久性のいずれにも優れた光学フィルムを提供することを課題とする。また、本発明は、さらに鉛筆硬度にも優れた光学フィルムを提供することを課題とする。また、本発明は、上記優れた特性を有する光学フィルムを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラー、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルを提供することを課題とする。
　本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、所定の方法で算出される押し込み回復率を７８％以上とすることによって、打鍵耐久性及び摺動耐久性のいずれにも優れ（すなわち、打鍵及び摺動後の凹みの発生を高度に抑制することができ）、さらに鉛筆硬度にも優れる光学フィルムを提供できることを見出した。
　すなわち、本発明の上記課題は下記手段により解決される。
＜１＞
　樹脂フィルムと、この樹脂フィルムの片面に配置されたハードコート層とを少なくとも有する光学フィルムであって、下記式で表される回復率が78％以上である、光学フィルム
Ａ：入力ペン（ポリアセタール製、半径Ｒ＝０．８ｍｍ）が先端にセットされたインデンターを用いて、光学フィルムのハードコート層上から負荷時間０．２５秒、押し込み荷重２５０ｍＮの条件で押し込んだときの最大押し込み深さ
Ｂ：上記の押し込み直後に除荷してから０．２５秒後の押し込み深さ
押し込み回復率（％）＝（Ａ－Ｂ）／Ａ×１００
＜２＞
　上記Ａが５μｍを超える、＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞
　上記光学フィルム中に、ポリロタキサンを含有する粒子を有する、＜１＞または＜２＞に記載の光学フィルム。
＜４＞
　上記光学フィルム中に、エラストマーを含有する粒子を有する、＜１＞または＜２＞に記載の光学フィルム。
＜５＞
　樹脂フィルムと、この樹脂フィルムの片面に配置されたハードコート層とを少なくとも有する光学フィルムであって、上記光学フィルム中にポリロタキサンを含有する粒子を有する光学フィルム。
＜６＞
　樹脂フィルムと、この樹脂フィルムの片面に配置されたハードコート層とを少なくとも有する光学フィルムであって、上記光学フィルム中にエラストマーを含有する粒子を有する光学フィルム。
＜７＞
　＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の光学フィルムを有する、画像表示装置の前面板。
＜８＞
　＜７＞に記載の前面板を有する、画像表示装置。
＜９＞
　＜７＞に記載の前面板を有する、抵抗膜式タッチパネル。
＜１０＞
　＜７＞に記載の前面板を有する、静電容量式タッチパネル。
＜１１＞
　＜１＞～＜６＞のいずれか１つに記載の光学フィルムを有する、画像表示機能付きミラー。
　本発明の光学フィルムは、打鍵耐久性及び摺動耐久性のいずれにも優れる（打鍵による凹み及び摺動による凹みのいずれの発生をも抑制することができる）。また、本発明の光学フィルムは、優れた鉛筆硬度を示すことができる。
　また、本発明の光学フィルムを有する画像表示装置の前面板、画像表示装置、画像表示機能付きミラー、抵抗膜式タッチパネルおよび静電容量式タッチパネルは、打鍵耐久性及び摺動耐久性のいずれにも優れ、また、鉛筆硬度にも優れる。
　本発明の光学フィルムの好ましい実施形態について説明する。
［光学フィルム］
　本発明の光学フィルムの好ましい実施形態は、樹脂フィルムと、この樹脂フィルムの片面に配されたハードコート層（以下、「ＨＣ層」とも称す）とを少なくとも有する光学フィルムであって、下記式で表される回復率が７８％以上である。
　　押し込み回復率（％）＝（Ａ－Ｂ）／Ａ×１００
　上記式中、Ａは、入力ペン（ポリアセタール製、半径Ｒ＝０．８ｍｍ）が先端にセットされたインデンターを用いて、光学フィルムのハードコート層上から負荷時間０．２５秒、押し込み荷重２５０ｍＮの条件で押し込んだときの最大押し込み深さを示し、Ｂは、上記の押し込み直後に除荷してから０．２５秒後の押し込み深さを示す。
　ただし、Ａ及びＢの単位は同じであり、例えば、Ａ及びＢの単位は「μｍ」である。また、ハードコート層が、樹脂フィルムを有する面とは反対側の面（視認側の面）に、その他の層を有する場合には、上記「光学フィルムのハードコート層上から」とは、「ハードコート層が視認側の面に有するその他の層を除去して、ハードコート層を最表面に露出させた光学フィルムのハードコート層上から」を意味する。試験の詳細については、後述の実施例に記載の事項を参照することができる。
　本発明の光学フィルムは上記構成を有することにより、打鍵による凹みの発生を抑制することができるという優れた打鍵耐久性及び摺動による凹みの発生を抑制することができるという優れた摺動耐久性を実現できる。
　上記押し込み回復率は、８０％以上であることが好ましく、８２％以上であることがより好ましく、８４％以上であることがさらに好ましい。上記押し込み回復率の上限値は、特に制限はなく、１００％以下であることが望ましい。
　また、本発明の光学フィルムは、筆記感の点から、上記Ａは、５μｍを超えることが好ましく、１５μｍ以上であることがより好ましく、２０μｍ以上であることがさらに好ましく、２５μｍ以上であることが特に好ましい。上記Ａの上限値は、押し込み回復率、鉛筆硬度及び摺動耐久性を高める点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２６μｍ以下であることがより好ましく、２２μｍ以下であることがさらに好ましく、２０μｍ以下であることが特に好ましい。
　なお、樹脂フィルム及びＨＣ層は、等方性であっても異方性であってもよい。
　本発明の光学フィルムは、樹脂フィルム及びハードコート等は単層であっても、複層であってもよい。
（光学フィルムの膜厚）
　本発明の光学フィルムの膜厚は、打鍵耐久性の点から、７０μｍ以上が好ましく、８０μｍ以上がより好ましく、１００μｍ以上がさらに好ましく、１２０μｍ以上が特に好ましい。上限値は３２０μｍ以下であることが実際的である。
（面内方向のレターデーション）
　光学フィルムの波長５５０ｎｍにおける面内方向のレターデーションは、干渉ムラを低減する点から、６０００ｎｍより小さいことが好ましく、１０００ｎｍ以下がより好ましく、５００ｎｍ以下がさらに好ましく、５０ｎｍ以下が特に好ましい。
　ここで、光学フィルムの面内方向の位相差（レターデーション）は、光学フィルムに直線偏光を入射して、光学フィルムを通過した光を、進相軸および遅相軸に沿った２つの直線偏光に分解したときに、進相軸での屈折率Ｎｘと遅相軸での屈折率Ｎｙおよび光学フィルムの厚さｄ（単位：ｎｍ）とから下記式（Ａ）により示されるＲ（単位：ｎｍ）として定義される。
　　Ｒ＝ｄ×（Ｎｘ－Ｎｙ）　　　　（Ａ）
　本発明および本明細書における波長５５０ｎｍにおける面内方向のレターデーションは、ＫＯＢＲＡ　２１ＡＤＨ（王子計測機器社製）において波長５５０ｎｍの光を測定対象のフィルムまたは層の法線方向に入射させて測定される。測定波長の選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。なお、面内方向のレターデーションは、ＡｘｏＳｃａｎ（ＡＸＯＭＥＴＲＩＣＳ社）を用いて測定することもできる。
　以下、本発明の光学フィルムを構成するフィルム及び層の成分及び調製について、詳細を説明する。
　本発明の光学フィルムは、優れた、打鍵耐久性及び摺動耐久性を実現する点から、ポリロタキサン又は回復性粒子を含有することが好ましく、ハードコート層及び樹脂フィルム層の少なくとも一方がポリロタキサン又は回復性粒子を含有することがより好ましい。
　ここで、ポリロタキサンとは、下記回復性粒子における、ポリロタキサン粒子を構成するポリロタキサンの記載を、平均一次粒子径の記載を除き、好ましく適用することができる。
＜回復性粒子＞
　本発明の光学フィルムは、打鍵耐久性及び摺動耐久性を高め、さらに、高い鉛筆硬度を示す点から、回復性を有する粒子（「回復性粒子」とも称す。）を含有することが好ましく、ハードコート層及び樹脂フィルム層の少なくとも一方が回復性粒子を含有することがより好ましい。
　本発明の光学フィルムにおいて、いずれの層が回復性粒子を含有していてもよいが、視認側（表面側）に近い層が含有することが好ましく、ハードコート層が含有することがより好ましい。２層以上の積層であるハードコート層が回復性粒子を含有する場合、いずれの層に含有していてもよいが、樹脂フィルムと接しないハードコート層が含有することが好ましく、視認側の最表層に位置するハードコート層が含有することがより好ましい。
　本発明では、押し込み測定時における回復率が３０％以上の粒子を回復性粒子と呼ぶ。回復率は以下の測定方法により測定される。
＜回復率測定方法＞
　粒子の回復率は、粒子超微小硬度計（（株）島津製作所、ＤＵＨ－２０１）を用いて、ガラス板上に設置した粒子を下記条件にて押し込んだ際の、最大押込み深さ（μｍ）と除荷後深さ（μｍ）の値から下記式を用いて算出した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
　最大押込み深さ（μｍ）：最大荷重値（１０ｍＮ）での押込み深さ
　除荷後深さ（μｍ）：下記測定条件でテストした際の、試験開始時から１９．８秒後の深さ
（測定条件）
　・使用圧子：円錐台圧子　５０Ｍ
　・測定モード：負荷－除荷試験
　・最大荷重：１０ｍＮ
　・保持時間：０
　・負荷定数：１
　・負荷（除荷）速度：１．０（ｍＮ／ｓｅｃ）
　上記回復性粒子の平均一次粒径は１０ｎｍ～３０μｍであることが好ましい。ハードコート層にクリアで平坦な表面性を付与するには１０ｎｍ～８．０μｍが好ましく、５０ｎｍ～８．０μｍがより好ましく、５０ｎｍ～４．０μｍがさらに好ましく、５０ｎｍ～１．０μｍが特に好ましい。また、ハードコート層にマット感又は適度な凹凸を付与するには８．０μｍ～３０μｍが好ましく、８．０μｍ～１５μｍがより好ましい。
　平均一次粒径は、後述する実施例で使用する粒子を含め、以下の方法により測定される。
［平均一次粒径］
　平均一次粒径は、透過型電子顕微鏡（倍率５０万～２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって平均一次粒径とする。
　上記回復性粒子の屈折率（波長５５０ｎｍの屈折率）は１．３５～１．６０であることが視認性の点で好ましく、１．４０～１．６０がより好ましく、１．４５～１．６０がさらに好ましい。
　屈折率は、後述する実施例で使用する粒子を含め、以下の方法により測定される。
［屈折率］
　屈折率の異なる２種類の溶媒からなる混合溶媒中に回復性粒子を等量分散して濁度を測定する。２種の溶媒の混合比を変えることで混合溶媒の屈折率を変化させ、濁度が極小になった時の混合溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定し、測定した屈折率を回復性粒子の屈折率とする。
　上記回復性粒子の具体例としては、例えばシリコーンゴム粒子（シリコーンゴムを含有する粒子）、ウレタンゴム粒子（ウレタンゴムを含有する粒子）、ブタジエンゴム粒子（ブタジエンゴムを含有する粒子）、スチレンブタジエンゴム粒子（スチレンブタジエンゴムを含有する粒子）及び架橋（メタ）アクリル酸エステルゴム粒子（架橋（メタ）アクリル酸エステルゴムを含有する粒子）等のエラストマー粒子（エラストマーを含有する粒子）、並びに、ポリロタキサン粒子（ポリロタキサンを含有する粒子）が好ましく挙げられる。なかでもシリコーンゴム粒子、架橋（メタ）アクリル酸エステルゴム粒子又はポリロタキサン粒子がより好ましく、シリコーンゴム粒子又はポリロタキサン粒子がさらに好ましい。
　エラストマー粒子の市販品としては、信越化学社製のＫＭＰ－５９７、ＫＭＰ－５９８、Ｘ－５２－８７５、ＫＭ－９７２９、Ｘ－５２－１１３３、ＫＭＰ－６００、ＫＭＰ－６０１、ＫＭＰ－６０２、ＫＭＰ－６０５及びＸ－５２－７０３０、大日精化工業社製のダイミックビーズＵＣＮ－８０７０ＣＭクリアー、同ＵＣＮ－８１５０ＣＭクリアー、テクポリマーＢＭ３０Ｘ－５、同ＢＭ３０Ｘ－８、同ＢＭ３０Ｘ－１２、同ＡＢＸ－８、同ＡＢＸ－２０、同ＡＲＸ－１５、同ＡＲＸ－３０、同ＡＦＸ－８、同ＡＦＸ－１５及び同ＡＦＸ－３０、三菱ケミカル社製のメタブレンＳ－２００１、同Ｓ－２００６、同Ｓ－２５０１、同Ｓ－２０３０、同Ｓ－２１００、同Ｓ－２２００、同ＳＲＫ２００Ａ、同ＳＸ－００５、同ＳＸ－００６、同Ｗ－３００Ａ、同Ｗ－４５０Ａ、同Ｗ－６００Ａ、同Ｗ－３７７、同Ｃ－２２３Ａ、同Ｃ－２１５Ａ、同Ｃ－２０１Ａ、同Ｃ－１４０Ａ、同Ｅ－８６０Ａ、同Ｅ－８７０Ａ及び同Ｅ－８７５Ａ、カネカ社製のカネエースＭ－２１０、同Ｍ－５１１及び同Ｍ－７３２等を挙げることができる。
　回復性粒子の形状は、真球及び不定形のいずれも使用できる。また、異なる２種以上の回復性粒子を併用して用いてもよい。
　回復性粒子は、マット感又は適度な凹凸を付与する点からは層中の視認側に偏在することが好ましく、クリアで平坦な表面性を付与する点からは層中の視認側とは逆側に偏在することが好ましい。
　回復性粒子を含有する層には、粒子の老化抑制剤が含有されていてもよい。老化抑制材としては、特に限定されず、例えば、アミン系老化防止物質、アミン－ケトン系老化防止物質、フェノール系老化防止物質、イミダゾール系老化防止物質、硫黄系老化防止物質、リン系老化防止物質などが挙げられる。具体的には、日本ゴム協会編「ゴム工業便覧＜第四版＞」の第４３６頁～第４４３頁に記載されているもの、アニリンとアセトンとの反応生成物（ＴＭＤＱ）、合成ワックス（パラフィンワックス等）、植物性ワックス等が挙げられる。
＜ポリロタキサン＞
　上記ポリロタキサン粒子を構成するポリロタキサンは、複数の環状分子の各開口部（各環内）が直鎖状分子によって串刺し状に貫かれ、複数の環状分子が各開口部に直鎖状分子を包接してなる擬ポリロタキサンの両末端又はそれらの近傍（直鎖状分子の両末端又はそれらの近傍）に、環状分子の開口部内を直鎖状分子がすり抜けて環状分子が直鎖状分子から遊離しないようにブロック基を配置してなる構造を有する化合物である。
　本発明の光学フィルムに含有される回復性粒子として用いられるポリロタキサンの重量平均分子量は、鉛筆硬度を高める観点から１０００，０００以下であることが好ましく、６００，０００以下であることがより好ましく、６００，０００～１８０，０００であることが特に好ましい。
＜直鎖状分子＞
　ポリロタキサンを構成する直鎖状分子は、環状分子に包接され（環状分子の開口部内を貫通し）、非共有結合的に環状分子と一体化することができる分子又は物質であって、直鎖状のものであれば、特に限定されない。なお、本発明において、「直鎖状分子」とは、高分子を含めた分子、及びその他上記の要件を満たす全ての物質をいう。
　また、本発明において、「直鎖状分子」の「直鎖」は、実質的に「直鎖」であることを意味する。即ち、回転子である環状分子が回転可能、もしくは直鎖状分子上で環状分子が摺動したり移動したりすることができれば、直鎖状分子は分岐鎖を有していてもよい。また、「直鎖」の長さは、直鎖状分子上で環状分子が摺動したり移動したりすることができれば、その長さに特に制限はない。
　ポリロタキサンの直鎖状分子として、親水性ポリマー（例えばポリビニルアルコールやポリビニルピロリドン、ポリ（メタ）アクリル酸、セルロース系ポリマー（カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等）、ポリアクリルアミド、ポリエチレンオキサイド、ポリエチレングリコール、ポリビニルアセタール系化合物、ポリビニルメチルエーテル、ポリアミン、ポリエチレンイミン、カゼイン、ゼラチン、でんぷん等、及びこれらの共重合体など）、並びに疎水性ポリマー（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、およびその他オレフィン系単量体成分を含む共重合体；ポリエステル、ポリ塩化ビニル；ポリスチレン、アクリロニトリル－スチレン共重合体等のポリスチレン系化合物；ポリメチルメタクリレート、（メタ）アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル－メチルアクリレート共重合体などのアクリル系ポリマー；ポリカーボネート；ポリウレタン；塩化ビニル－酢酸ビニル共重合体；ポリビニルブチラール等；及びこれらの誘導体又は変性体等）を挙げることができる。
　ポリロタキサンの直鎖状分子として、親水性ポリマーであることが好ましい。硬化層に吸湿性を付与し、特に基材がセルロースアシレートフィルムの場合、硬化層と基材フィルムの吸湿膨張性の差に起因するカールを低減することができる。
　ポリロタキサンの直鎖状分子は、上記親水性のポリマーの中でも、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、及び／又はエチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体が好ましい。また、ポリイソプレン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン、ポリテトラヒドロフラン、ポリジメチルシロキサン、ポリエチレン、及びポリプロピレンも直鎖状分子として好ましい。なかでも直鎖状分子は、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、及び／又はエチレングリコールとプロピレングリコールとの共重合体がより好ましく、ポリエチレングリコールが特に好ましい。
　ポリロタキサンの直鎖状分子は、それ自体が高い破壊強度を有するのがよい。光学フィルム（特にハードコート層）の破壊強度は、ブロック基と直鎖状分子との結合強度、環状分子と硬化層のバインダーとの結合強度、環状分子同士の結合強度など、その他の因子にも依るが、ポリロタキサンの直鎖状分子自体が高い破壊強度を有すれば、より高い破壊強度を提供することができる。
　ポリロタキサンの直鎖状分子は、その重量平均分子量が１，０００以上が好ましく、５，０００以上がより好ましく、１０，０００以上がさらに好ましい。例えば、上記直鎖状分子の重量平均分子量を１，０００～１，０００，０００とすることができ、好ましくは５，０００～１，０００，０００、より好ましくは５，０００～５００，０００とすることができる。また、上記直鎖状分子の重量平均分子量を１０，０００～１，０００，０００とすることも好ましく、１０，０００～５００，０００とすることも好ましく、１０，０００～３００，０００とすることも好ましい。
　また、ポリロタキサンの直鎖状分子が、生分解性分子であるのが「環境にやさしい」点で好ましい。
　ポリロタキサンの直鎖状分子は、その両末端に反応性基を有し、この反応性基をとブロック基とが反応してブロック基が導入された形態であることが好ましい。上記反応性基は、用いるブロック基に依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基などを挙げることができる。
＜環状分子＞
　ポリロタキサンを構成する環状分子は、上記直鎖状分子を包接可能な環状分子であれば、特に制限なく用いることができる。
　なお、本発明において、「環状分子」とは、環状分子を含めた種々の環状物質をいう。また、本発明において、「環状分子」とは、実質的に環状である分子又は物質をいう。即ち、「実質的に環状である」とは、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものを含む意であり、例えば、英字の「Ｃ」の一端と多端とが結合しておらず螺旋構造を有するものも含む意である。さらに、後述する「ビシクロ分子」についての環についても、上記「環状分子」の「実質的に環状である」と同様に定義される。即ち、「ビシクロ分子」の一方の環又は双方の環は、英字の「Ｃ」のように、完全に閉環ではないものであってもよく、英字の「Ｃ」の一端と他端とが結合しておらず螺旋構造を有するものであってもよい。
　ポリロタキサンの環状分子として例えば、種々のシクロデキストリン類（例えばα－シクロデキストリン、β－シクロデキストリン、γ－シクロデキストリン、ジメチルシクロデキストリン及びグルコシルシクロデキストリン、これらの誘導体又は変性体など）、クラウンエーテル類、ベンゾクラウン類、ジベンゾクラウン類、及びジシクロヘキサノクラウン類、並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
　上述のシクロデキストリン類及びクラウンエーテル類などは、その種類により環状分子の開口部の大きさが異なる。したがって、用いる直鎖状分子の種類、具体的には用いる直鎖状分子を円柱状と見立てた場合、その円柱の断面の直径、直鎖状分子の疎水性又は親水性などにより、用いる環状分子を選択することができる。また、開口部が相対的に大きな環状分子と、相対的に直径が小さな円柱状の直鎖状分子を用いた場合、環状分子の開口部に２以上の直鎖状分子を包接することもできる。このうち、シクロデキストリン類は、生分解性を有するため、上述の「環境にやさしい」点で好ましい。
　ポリロタキサンの環状分子として、α－シクロデキストリンを用いるのが好ましい。
　ポリロタキサンの直鎖状分子が包接される環状分子の個数（包接量）は、環状分子がシクロデキストリンの場合、一の直鎖状分子を包接可能なシクロデキストリンの最大個数（最大包接量と称す。）を１とすると、０．０５～０．６０が好ましく、０．１０～０．５０がより好ましく、０．２０～０．４０が更に好ましい。ここで「最大包摂量」は、ポリロタキサンを構成する直鎖状分子の重量平均分子量を、一の直鎖状分子の分子量と仮定した場合の環状分子の最大包摂量として定義する。
　上記個数を０．０５以上とすることにより、滑車効果をより効果的に発現させることができる。また、上記個数を０．６０以下とすることにより、環状分子であるシクロデキストリンが密になりすぎず、シクロデキストリンの可動性をより高めることができる。また上記個数を０．６０以下とすることにより、シクロデキストリン自体の有機溶剤に対する溶解性も十分に維持することができ、得られるポリロタキサンの有機溶剤への溶解性の低下も生じにくい。
　ポリロタキサンの環状分子は、その環に反応性基を有し、この反応性基同士が反応して環状分子同士が結合した形態であることが好ましい。この反応性基は、用いる架橋剤などにも依存するが、例えば水酸基、アミノ基、カルボキシル基、チオール基、アルデヒド基などを挙げることができる。また、この反応性基は、上述のブロック化反応の際にブロック基と反応しない基を用いるのがよい。
＜ブロック基＞
　ポリロタキサンのブロック基は、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持できる基であれば、いかなる基を用いてもよい。このような基として、例えば「嵩高さ」を有する基及び／又は「イオン性」を有する基などを挙げることができる。ここで、「基」というのは、その大きさに制限はなく、低分子基及び高分子基を含めた種々の基を意味する。また、「イオン性」を有する基の「イオン性」と、環状分子の有する「イオン性」とが影響しあうことにより（例えば反発しあうことにより）、環状分子が直鎖状分子により串刺し状になった形態を保持することができる。
　また、ポリロタキサンのブロック基は、上述のように、串刺し状になった形態を保持するものであれば、直鎖状分子の主鎖に存在してもよく、側鎖に存在してもよい。
　具体的には、低分子基のブロック基として、２，４－ジニトロフェニル基、３，５－ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類；シクロデキストリン類；アダマンタン基類；トリチル基類；フルオレセイン類；ピレン類；並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。例えば、環状分子としてα－シクロデキストリン、及び直鎖状分子としてポリエチレングリコールを用いる場合、低分子基のブロック基はシクロデキストリン類；２，４－ジニトロフェニル基、３，５－ジニトロフェニル基などのジニトロフェニル基類；アダマンタン基類；トリチル基類；フルオレセイン類；ピレン類；並びにこれらの誘導体又は変性体を挙げることができる。
　上記ポリロタキサンは変性ポリロタキサンであることも好ましい。本発明では以下に説明する変性を複数併用したポリロタキサンを好ましく用いることができる。
＜不飽和結合基を有するポリロタキサン＞
　本発明の光学フィルムにおいて、ハードコート層中にポリロタキサンを含有する場合、このポリロタキサンは、鉛筆硬度の点から、不飽和結合基を有することが好ましく、不飽和二重結合基を有することがより好ましい。
　ポリロタキサンが不飽和結合基を有する位置に特に制限はないが、例えば、ポリロタキサンの環状分子が不飽和結合基を有することができ、好ましい。ポリロタキサンが不飽和結合基を有することにより、エチレン性不飽和基を有するモノマーとの重合（反応）が可能となる。
　不飽和結合基（好ましくは不飽和二重結合基）としては、炭素炭素不飽和結合（好ましくはＣ＝Ｃ結合）を有する基（オレフィニル基）を挙げることができ、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニルエーテル基、スチリル基を挙げることができるが、これらに限定されない。本発明の光学フィルムにおいて、ハードコート層中に含まれるポリロタキサンは、不飽和二重結合基としてメタクリロイル基を有するポリロタキサンであることが鉛筆硬度を高める観点から好ましい。
　ポリロタキサンへの不飽和結合基の導入は、例えば、シクロデキストリン等の水酸基（－ＯＨ）を有する環状分子の少なくとも一部を、不飽和結合基、好ましくは不飽和二重結合基で置換することにより行うことができる。
　不飽和結合基有する化合物との反応によるポリロタキサンへの不飽和結合基の導入方法としては、具体的には、次に挙げる方法を用いることができる。即ち、イソシアネート化合物等によるカルバメート結合形成による方法；カルボン酸化合物、酸クロリド化合物又は酸無水物等によるエステル結合形成による方法；シラン化合物等によるシリルエーテル結合形成による方法；クロロ炭酸化合物等によるカーボネート結合形成による方法等を挙げることができる。
　また、カルバモイル結合を介して、不飽和結合基として（メタ）アクリロイル基を導入する場合、ポリロタキサンをジメチルスルホキシドやジメチルホルムアミド等の脱水溶媒に溶解し、イソシアネート基を有する（メタ）アクリロイル化剤（イソシアネート基を有する（メタ）アクリロイル化合物）を加えることで行うことができる。その他、エーテル結合又はエステル結合を介して導入する場合、グリシジル基又は酸クロライド等の活性基を有する（メタ）アクリル化剤（グリシジル基又は酸クロライド等の活性基を有する（メタ）アクリロイル化合物）を用いることもできる。
　上記の環状分子が有する水酸基を不飽和結合基に置換する工程は、擬ポリロタキサンを調製する工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。また、擬ポリロタキサンをブロック化してポリロタキサンを調製する工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。さらには、ポリロタキサンが架橋ポリロタキサンの場合、ポリロタキサン同士を架橋させる工程の前でも、工程間でも、工程の後でもよい。また、これらの２以上の工程に亘って置換することもできる。
　置換工程は、擬ポリロタキサンをブロック化してポリロタキサンを調製した後であって、ポリロタキサン同士の架橋前に設けることが好ましい。置換工程において用いられる条件は、置換に用いる不飽和二重結合基を有する化合物に依存するが、特に限定されず、種々の反応方法、反応条件を用いることができる。
＜架橋ポリロタキサン＞
　架橋ポリロタキサンは、２つ以上のポリロタキサンがその環状分子同士が化学結合されている化合物をいい、この２つの環状分子は同じでも異なっていてもよい。この化学結合は、種々の原子又は分子を介する結合であってもよい。
　また、環状分子が架橋環構造を有する分子、即ち第１の環及び第２の環を有する「ビシクロ分子」を用いることにより架橋ポリロタキサンとすることができる。この場合、例えば「ビシクロ分子」と直鎖状分子とを混合し、「ビシクロ分子」の第１環及び第２環に直鎖状分子を串刺し状に包接して架橋ポリロタキサンを得ることができる。
　この架橋ポリロタキサンは直鎖状分子により串刺し状に貫通されている環状分子がこの直鎖状分子に沿って移動可能なために（滑車効果）、粘弾性を有し、張力が加わっても、この滑車効果によってこの張力を均一に分散させ、内部応力を緩和できる。
＜疎水化修飾ポリロタキサン＞
　ポリロタキサンの環状分子がα－シクロデキストリンなどのシクロデキストリン類である場合、シクロデキストリンの水酸基の少なくとも一つが有機基（疎水性基）によって置換された疎水化修飾ポリロタキサンも、上記ポリロタキサンの好ましい形態である。疎水化修飾ポリロタキサンは、光学フィルムにおける各層（好ましくは、ハードコート層）の形成用組成物に含まれる溶剤への溶解性が高められ、光学フィルムの製造適性をより高めることができる。
　疎水性基の具体例として、例えばアルキル基、ベンジル基、ベンゼン誘導体含有基、アシル基、シリル基、トリチル基、硝酸エステル基、トシル基、光硬化部位としてアルキル置換エチレン性不飽和基、熱硬化部位としてアルキル置換エポキシ基などを挙げることができるが、これに限定されるものではない。また、上記の疎水化修飾ポリロタキサンにおいては、上述の疎水性基の１種を単独で又は２種以上を組み合わせて有していてもよい。
　上記疎水化修飾基による修飾度は、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数を１とすると、０．０２以上（１以下）であることが好ましく、０．０４以上であることがより好ましく、０．０６以上であることが更に好ましい。
　修飾度を０．０２以上とすることにより、有機溶剤への溶解性をより高めることができ、不溶性ブツ（異物付着などに由来する突起部）が生じにくい。
　ここで、シクロデキストリンの水酸基が修飾され得る最大数とは、換言すれば、修飾する前にシクロデキストリンが有していた全水酸基数のことである。修飾度とは、換言すれば、修飾された水酸基数の全水酸基数に対する比の値のことである。
　また、官能基を有している疎水化修飾基を導入することにより、他のポリマーとの反応性を向上させることが可能になる。次に、不飽和二重結合性基を有するポリロタキサンについて説明するが、不飽和二重結合性基は疎水性修飾基として振舞う。
　市販のポリロタキサンとしては、アドバンスト・ソフトマテリアル社製のマイクロボールＳＨ２４００Ｂ－０５０１及びＳＨ２４００Ｂ－２００１、アドバンスト・ソフトマテリアル社製のＳｅＲＭスーパーポリマーＳＨ３４００Ｐ、ＳＨ２４００Ｐ、ＳＨ１３１０Ｐ、ＳＭ３４０５Ｐ、ＳＭ１３１５Ｐ、ＳＭ１３０３Ｐ、ＳＡ３４０５Ｐ、ＳＡ２４０５Ｐ、ＳＡ１３１５Ｐ、ＳＨ３４００Ｃ、ＳＡ３４００Ｃ及びＳＡ２４００Ｃなどを好ましく用いることができる。
　本発明の光学フィルムにおいて、ＨＣ層が回復性粒子を含む場合、回復性粒子の含有量は、ＨＣ層の全固形分中、１～３０質量％であることが好ましく、５～３０質量％であることがより好ましく、１０～３０質量％であることがさらに好ましく、１０～２０質量％であることが特に好ましい。ＨＣ層が２層以上の積層構造である場合には、上記「ＨＣ層の全固形分中」とは、「２層以上のＨＣ層のうち、回復性粒子を含有するＨＣ層を構成する全固形分中」を意味する。
　本発明の光学フィルムにおいて、樹脂フィルムが回復性粒子を含む場合、回復性粒子の含有量は、樹脂フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、１～３０質量部であることが好ましく、５～３０質量部であることがより好ましく、１０～３０質量部であることがさらに好ましく、１０～２０質量部であることが特に好ましい。ただし、樹脂フィルムが回復性粒子を含有する場合、樹脂フィルムを構成する樹脂とは、樹脂フィルム中において粒子として存在しない成分（具体的には、下記の「樹脂フィルムの材質」）を意味する。また、樹脂フィルムが２層以上からなる積層フィルムである場合、上記「樹脂フィルムを構成する樹脂１００質量部」とは、「２層以上の樹脂フィルムのうち、回復性粒子を含有する樹脂フィルムを構成する樹脂１００質量部」を意味する。
（１）樹脂フィルム
（樹脂フィルムの材質）
　本発明に用いられる樹脂フィルムは、その材質は特に限定されない。
　樹脂フィルムは、例えば、アクリル系樹脂フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）系樹脂フィルム、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）系樹脂フィルム等のセルロースエステル系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、ポリイミド系樹脂フィルム、および、アクリロニトリル－ブタジエン－スチレン共重合体フィルムを挙げることができ、アクリル系樹脂フィルム、セルロースエステル系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタラート系樹脂フィルム、ポリイミド系樹脂フィルムおよびポリカーボネート系樹脂フィルムから選択されるフィルムが好ましく、透湿性の点から、セルロースエステル系樹脂フィルムがより好ましく、セルロースアセテートがさらに好ましい。
　尚、アクリル系樹脂フィルムとは、アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルからなる群から選択される１種以上の化合物から形成される重合体または共重合体の樹脂フィルムをいう。アクリル系樹脂フィルムの例としては、ポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）フィルムが挙げられる。
　樹脂の重量平均分子量は、引張弾性率を高める点から、１０，０００～１０００，０００が好ましく、１００，０００～１０００，０００がより好ましい。
（樹脂フィルムの構成）
　また、樹脂フィルムの構成も限定されず、単層でも、２層以上からなる積層フィルムであってもよいが、２層以上の積層フィルムが好ましい。積層フィルムの積層数は、２～１０層が好ましく、２～５層がより好ましく、２層または３層がさらに好ましい。３層以上の場合、外層と外層以外の層（コア層等）とは、異なる組成のフィルムが好ましい。また、外層同士は、同じ組成のフィルムが好ましい。
　具体的には、ＴＡＣ－ａ／ＴＡＣ－ｂ／ＴＡＣ－ａ、アクリル－ａ／ＰＣ／アクリル－ａおよびＰＥＴ－ａ／ＰＥＴ－ｂ／ＰＥＴ－ａの積層構造を有するフィルム、ならびに、
ポリカーボネート系樹脂単層のフィルムが挙げられる。ここで、同じ符号（ａ又はｂ）を付けたフィルム（例えば、Ｔａｃ－ａ）は、同じ組成のフィルムを示す。
（添加剤）
　樹脂フィルムは、上述の樹脂の他に添加剤を含有してもよい。添加剤としては、前述の回復性粒子、並びに、後述のハードコート層で記載する、無機粒子、マット粒子、外線吸収剤、含フッ素化合物、表面調整剤及びレベリング剤等が挙げられる。
　後述の溶融製膜法では、上記添加剤と樹脂とを混合溶融した樹脂溶融物として、また、後述の溶液製膜法では、溶媒（後述のハードコートにおける記載を適用できる。）と樹脂と上記添加剤とを混合したドープ液として、樹脂フィルムの形成に用いることができる。
（引張弾性率）
　樹脂フィルムの引張弾性率は、例えば、樹脂フィルムを構成する樹脂の種類により変えることができ、一般に、樹脂の分子量及び／又は結晶化度を高めることにより引張弾性率は高まる傾向がある。また、樹脂フィルムは、延伸により延伸方向の引張弾性率を高めることができる。樹脂フィルムが多層からなる場合にも、樹脂フィルムとしての引張弾性率を意味する。
　樹脂フィルムの２５℃における引張弾性率は、打鍵耐久性をより高める点から、２．０ＧＰａ以上が好ましく、２．５ＧＰａ以上がより好ましく、３．０ＧＰａ以上がさらに好ましく、３．５ＧＰａ以上が特に好ましく、４．０ＧＰａ以上が最も好ましい。上限値は、特に制限はないが、１２．０ＧＰａ以下が実際的である。
　樹脂フィルムの「引張弾性率」は、ＪＩＳ　Ｋ７１２７に記載の方法に従って、以下の方法により試験し、算出することができる。
　測定方向に１５ｃｍの長さで、幅１ｃｍの樹脂フィルムを測定用試料として切り出す。切り出した測定用試料を、引張試験機（東洋精機社製、商品名「ストログラフ－Ｒ２」）に、測定方向のチャック間隔が１０ｃｍとなるように設置し、測定温度２５℃の条件下、延伸速度１０ｍｍ／分でチャック間隔が広がるように延伸し、応力－ひずみ曲線を得る。規定された２点のひずみε１＝０．０００５及びε２＝０．００２５の間の曲線の線形回帰により、２５℃における引張弾性率を算出する。
　なお、樹脂フィルムが異方性を有する場合は、樹脂フィルムの厚み方向に垂直な面において、配向度の最も大きい配向方向を長辺とする測定用試料の引張弾性率と、この配向方向と直行する方向を長辺とする測定用試料の引張弾性率との平均を、樹脂フィルムの引張弾性率とする。
（膜厚）
　樹脂フィルムの膜厚は、打鍵後の凹み抑制（打鍵耐久性の向上）の点から、６０μｍ以上が好ましく、８０μｍ以上がより好ましく、１００μｍ以上がさらに好ましい。また、打鍵耐久性及び鉛筆硬度を高める点から、１２０μｍ以上が特に好ましい。上限値に特に制限はないが、３００μｍ以下が好ましい。なお、樹脂フィルムが上記の様に２層以上の積層フィルムである場合には、樹脂フィルムの膜厚は、積層フィルムでの膜厚を意味する。
　本発明の光学フィルムの作製前後で、樹脂フィルムの厚みはほとんど変化しない。
（易接着層）
　また、本発明に用いられる樹脂フィルムは、易接着層を有していてもよい。易接着層は、特開２０１５－２２４２６７号公報の段落００９８～０１３３に記載された偏光子側易接着層および偏光子側易接着層の製造方法の内容を、本発明にあわせて本明細書に組み込むことができる。
　この場合、易接着層は、本発明の光学フィルムにおける樹脂フィルムを構成する層とする。
（樹脂フィルムの製膜方法）
　樹脂フィルムは、いずれの方法で製膜してもよく、例えば溶融製膜法および溶液製膜法が挙げられる。
＜溶融製膜法、平滑化＞
　樹脂フィルムを溶融製膜法で製膜する場合、樹脂を押出機で溶融する溶融工程と、溶融した樹脂をダイからシート状に押し出す工程と、フィルム状に成形する工程とを含むことが好ましい。樹脂の材質によっては、溶融工程の後に溶融樹脂のろ過工程を設けてもよく、シート状に押し出す際に冷却してもよい。
　以下、具体的な溶膜製膜法を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
［樹脂フィルムの形成方法］
　上記樹脂フィルムの製造方法は、樹脂を押出機で溶融する溶融工程と、溶融した樹脂をフィルターが設置されたろ過装置に通してろ過するろ過工程と、ろ過した樹脂をダイからシート状に押し出し、冷却ドラムの上に密着させることにより冷却固化して未延伸の樹脂フィルムを成形するフィルム成形工程と、未延伸の樹脂フィルムを、１軸又は２軸延伸する延伸工程とを有する。
　このような構成により、樹脂フィルムを製造することができる。溶融した樹脂のろ過工程で使用されるフィルターの孔径が１μｍ以下であると、異物を十分に取り除くことができる。その結果、得られる樹脂フィルムのフィルム幅方向の表面粗さを制御することができる。
　具体的には、樹脂フィルムの形成方法は下記工程を含むことができる。
＜溶融工程＞
　上記樹脂フィルムの製造方法は、樹脂を押出機で溶融する溶融工程を含む。
　樹脂、または樹脂と添加剤の混合物を含水率２００ｐｐｍ以下に乾燥した後、一軸（単軸）あるいは二軸の押出機に導入し溶融させることが好ましい。この時、樹脂の分解を抑制するために、窒素中あるいは真空中で溶融することも好ましい。詳細な条件は、特許４９６２６６１号の［００５１］～［００５２］（ＵＳ２０１３／０１００３７８号公報の［００８５］～［００８６］）を援用して、これらの公報に従い実施でき、これらの公報に記載された内容は本明細書に組み込まれる。
　押出機は、一軸混練押出機が好ましい。
　さらに、溶融樹脂（メルト）の送り出し精度を上げるためギアポンプを使用することも好ましい。
＜ろ過工程＞
　上記樹脂フィルムの製造方法は、溶融した樹脂をフィルターが設置されたろ過装置に通してろ過するろ過工程を含み、ろ過工程で使用されるフィルターの孔径は１μｍ以下が好ましい。ただし、前述の回復性粒子等の粒子を含有する場合には、フィルター設置の有無、フィルターの孔径等は適宜調整することができる。
　このような孔径の範囲のフィルターを有するろ過装置は、ろ過工程において１セットのみ設置してもよく、２セット以上設置してもよい。
＜フィルム成形工程＞
　上記樹脂フィルムの製造方法は、ろ過した樹脂をダイからシート状に押し出し、冷却ドラムの上に密着させることにより冷却固化して未延伸の樹脂フィルムを成形するフィルム成形工程を含む。
　溶融（および混練）し、ろ過した樹脂（樹脂を含むメルト）をダイからシート状に押し出す際、単層で押出しても、多層で押出してもよい。多層で押出す場合は、例えば、紫外線吸収剤を含む層と含まない層を積層してもよく、より好ましくは紫外線吸収剤を内層にした３層構成が、紫外線による偏光子の劣化を抑える上、紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制でき、好ましい。
　樹脂フィルムが多層で押出されて製造されてなる場合、全層の厚みに対する、得られる樹脂フィルムの好ましい内層の厚みは、５０％以上９９％以下が好ましく、より好ましくは６０％以上９９％以下、さらに好ましくは７０％以上９９％以下である。このような積層は、フィードブロックダイやマルチマニホールドダイを用いることで実施できる。
　特開２００９－２６９３０１号公報の［００５９］に従い、ダイからシート状に押し出した樹脂（樹脂を含むメルト）を冷却ドラム（キャスティングドラム）上に押出し、冷却固化し、未延伸の樹脂フィルム（原反）を得ることが好ましい。
　上記樹脂フィルムの製造方法は、ダイから押し出される樹脂の温度が２８０℃以上３２０℃以下であることが好ましく、２８５℃以上３１０℃以下であることがより好ましい。溶融工程でダイから押し出される樹脂の温度が２８０℃以上であることが、原料樹脂の溶融残りを減少させて異物の発生を抑制することができ、好ましい。溶融工程でダイから押し出される樹脂の温度が３２０℃以下であることが、樹脂の分解を減少させて異物の発生を抑制することができ、好ましい。
　ダイから押し出される樹脂の温度は、放射温度計（林電工製、型番：ＲＴ６１－２、放射率０．９５で使用）により樹脂の表面を非接触で測定することができる。
　上記樹脂フィルムの製造方法は、フィルム成形工程において、樹脂を冷却ドラムの上に密着させる際に静電印加電極を用いることが好ましい。これにより、フィルム面状が荒れないように樹脂を強く冷却ドラムの上に密着させることができる。
　上記樹脂フィルムの製造方法は、冷却ドラムの上に密着する際（ダイから押出された溶融樹脂が冷却ドラムと最初に接触する点）の樹脂の温度は２８０℃以上が好ましい。これにより、樹脂の電気伝導性が高まり、静電印加により冷却ドラムに強く密着することができ、フィルム面状の荒れを抑制できる。
　冷却ドラムの上に密着する際の樹脂の温度は、放射温度計（林電工製、型番：ＲＴ６１－２、放射率０．９５で使用）により樹脂の表面を非接触で測定することができる。
＜延伸工程＞
　上記樹脂フィルムの製造方法は、未延伸の樹脂フィルムを、１軸又は２軸延伸する延伸工程を含む。
　縦延伸工程（フィルムの搬送方向と同じ方向に延伸する工程）では、樹脂フィルムが予熱された後、樹脂フィルムが加熱された状態で、周速差のある（すなわち、搬送速度の異なる）ローラー群で搬送方向に延伸される。
　縦延伸工程における予熱温度は樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、Ｔｇ－４０℃以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ－２０℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。また、縦延伸工程における延伸温度は、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ＋２℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ＋５℃以上、Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。縦方向の延伸倍率は１．０倍以上２．５倍以下が好ましく、１．１倍以上、２倍以下がさらに好ましい。
　縦延伸工程に加えて、または縦延伸工程に代えて、横延伸工程（フィルムの搬送方向に対して垂直な方向に延伸する工程）により、幅方向に横延伸される。横延伸工程では例えばテンターを好適に用いることができ、このテンターによって樹脂フィルムの幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向に延伸する。この横延伸によって、光学フィルムにおける樹脂フィルムの引張弾性率を高めることができる。
　横延伸は、テンターを用いて実施するのが好ましく、好ましい延伸温度は樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対して、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、より好ましくはＴｇ＋２℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下、さらに好ましくはＴｇ＋４℃以上、Ｔｇ＋３０℃以下である。延伸倍率は１．０倍以上、５．０倍以下が好ましく、１．１倍以上４．０倍以下がさらに好ましい。横延伸の後に縦、横のいずれか、または両方に緩和させることも好ましい。
　また、厚みの幅方向、長手方向の場所による変動をいずれも１０％以下、好ましくは８％以下、より好ましくは６％以下、さらに好ましくは４％以下、最も好ましくは２％以下にすることが好ましい。
　尚、ここで、厚みの変動は、以下の通り求めることができる。
　延伸された樹脂フィルムを１０ｍ（メートル）サンプリングし、フィルム幅方向の両端部２０％ずつを除き、フィルム中心部から幅方向、長手方向に等間隔でそれぞれ５０点サンプリングし、厚みを測定する。
　幅方向の厚み平均値ＴｈＴＤ－ａｖ、最大値ＴｈＴＤ－ｍａｘ、最小値ＴｈＴＤ－ｍｉｎを求め、
　　　（ＴｈＴＤ－ｍａｘ－ＴｈＴＤ－ｍｉｎ）÷　ＴｈＴＤ－ａｖ×１００　［％］
が幅方向の厚みの変動である。
　また、長手方向の厚み平均値ＴｈＭＤ－ａｖ、最大値ＴｈＭＤ－ｍａｘ、最小値ＴｈＭＤ－ｍｉｎを求め、
　　　（ＴｈＭＤ－ｍａｘ－ＴｈＭＤ－ｍｉｎ）÷　ＴｈＭＤ－ａｖ×１００　［％］
が長手方向の厚みの変動である。
　上記延伸工程により、樹脂フィルムの厚み精度の向上を図ることができる。
　延伸後の樹脂フィルムは、巻取工程でロール状に巻き取ることができる。その際、樹脂フィルムの巻取りテンションは、０．０２ｋｇ／ｍｍ２以下とすることが好ましい。
　その他詳細な条件については、溶融製膜は特開２０１５－２２４２６７の［０１３４］－［０１４８］に記載された内容、延伸工程は特開２００７－１３７０２８に記載された内容を、本発明にあわせて本明細書に組み込むことができる。
＜溶液製膜法、平滑化＞
　樹脂フィルムを溶液製膜法で製膜する場合、ドープ液を流延バンド上に流延し、流延膜を形成する工程と、流延膜に乾燥する工程と、流延膜を延伸する工程とを含むことが好ましい。具体的には、特許第４８８９３３５号に記載の方法によって製膜するのが好ましい。
　本発明では、以下の方法を採用することが好ましい。
　例えば、特開平１１－１２３７３２号公報に記載の、流延膜の乾燥速度を乾量基準の含有溶媒量で３００質量％／ｍｉｎ（＝５質量％／ｓ）以下とし、緩やかな乾燥を行う方法が挙げられる。また、特開２００３－２７６０３７号公報に記載の、中間層であるコア層の両表面にスキン層（外層）を有する多層構造の流延膜の共流延法において、コア層を形成するドープ液の粘度を高めて流延膜の強度を確保するとともに外層を形成するドープの粘度を低くする方法が挙げられる。さらに、流延膜を急乾燥して流延膜表面に膜を形成し、形成された膜のレベリング効果により面状を平滑化する方法、及び、流延膜を延伸する方法なども好ましく挙げられる。
　本発明に用いられる樹脂フィルムは、膜厚が特定の値以上であれば構わない。膜厚を特定の値以上とする際、上述のように１枚の樹脂フィルムで構成されていても、２枚の樹脂フィルムを接着層により貼り合せてなる、第一の樹脂フィルム／接着層／第二の樹脂フィルムがこの順に積層された樹脂フィルムで構成されていてもよい。
　以下、２枚の樹脂フィルムを接着層により貼り合せてなる樹脂フィルムについて説明する。
（２枚の樹脂フィルムを接着層により貼り合せてなる樹脂フィルム）
　接着層により貼り合せる２枚の樹脂フィルムは、同一のフィルムであることが、光学フィルムが曲がりにくく、より優れた打鍵耐久性を示す点から好ましい。
　ここで「同一のフィルム」とは、樹脂フィルムを構成する樹脂の材質が同じ（例えば、いずれもＴＡＣフィルム）であることを意味する。なかでも、樹脂の分子量が同じであることが好ましく、樹脂の分子量及び結晶化度が同じであることがより好ましく、樹脂の分子量、結晶化度及び延伸率が同じであることがさらに好ましい。また、上記に加えて、２枚の樹脂フィルムの厚みが同じであることもより好ましい。
　なお、「同じ」とは、完全同一に限定されず、実質的に同一であることを含む。具体的には、同一の製造方法（膜厚、延伸等が同じになるような条件）で作製したものであり、この条件で生じる誤差が含まれる。
　すなわち、接着層により貼り合せる２枚の樹脂フィルムの引張弾性率の差は小さいことが好ましく、具体的には、４．０ＧＰａ以下が好ましく、３．０ＧＰａ以下がより好ましく、２．０ＧＰａ以下がさらに好ましく、１．０ＧＰａ以下が特に好ましい。
（樹脂フィルムの厚み）
　２枚の樹脂フィルムの厚みは、打鍵耐久性及び製造適性の点から、各々独立に、２５～１６０μｍが好ましく、４０～１６０μｍがより好ましく、６０～１６０μｍがさらに好ましく、１００～１６０μｍが特に好ましい。
（接着層）
　上記接着層とは、樹脂フィルム同士を貼り合わせる役割を果たす層であり、２枚の樹脂フィルムを接着する限り特に制限されない。
　接着層は、乾燥や反応により接着性を発現する成分（接着剤）を含む組成物を用いて形成することが好ましい。例えば、硬化反応により接着性を発現する成分を含む組成物（以下、「硬化性組成物」と称す。）を用いて形成される接着層は、かかる硬化性組成物を硬化させてなる硬化層である。
　接着剤としては、樹脂を用いることができる。一態様では、接着層は、この層の５０質量％以上、好ましくは７０質量％以上を樹脂が占める層であることができる。樹脂としては、単一の樹脂を用いても、複数の樹脂の混合物を用いてもよい。樹脂の混合物を用いる場合、上記の樹脂が占める割合は、樹脂の混合物が占める割合をいう。樹脂の混合物としては、例えば、ある樹脂と、この樹脂の一部を変性した構造を有する樹脂の混合物、異なる重合性化合物を反応させて得られた樹脂の混合物等を挙げることができる。
　接着剤としては、任意の適切な性質、形態および接着機構を有する接着剤を用いることができる。具体的には、接着剤として、例えば、水溶性接着剤、紫外線硬化型接着剤、エマルジョン型接着剤、ラテックス型接着剤、マスチック接着剤、複層接着剤、ペースト状接着剤、発泡型接着剤、サポーテッドフィルム接着剤、熱可塑型接着剤、熱溶融型（ホットメルト）接着剤、熱固化接着剤、熱活性接着剤、ヒートシール接着剤、熱硬化型接着剤、コンタクト型接着剤、感圧性接着剤、重合型接着剤、溶剤型接着剤、溶剤活性接着剤等が挙げられ、水溶性接着剤および紫外線硬化型接着剤が好ましい。これらの中でも、透明性、接着性、作業性、製品の品質および経済性に優れる点で、水溶性接着剤が好ましく用いられる。
　水溶性接着剤は、たんぱく質、澱粉、合成樹脂等の天然または合成された水溶性成分を含むことができる。合成樹脂としては、例えば、レゾール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、ポリエチレンオキシド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリアクリル酸エステル樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル樹脂及びセルロース誘導体が挙げられる。これらの中でも、樹脂フィルムを貼り合わせる際の接着性に優れる点で、ポリビニルアルコール樹脂あるいはセルロース誘導体を含有する水溶性接着剤が好ましい。すなわち、接着層は、ポリビニルアルコール樹脂あるいはセルロース誘導体を含むことが好ましい。
　ここで、セルロース誘導体とは、セルロースを変性したものを意味する。セルロース誘導体に特に制限はなく、公知のセルロース誘導体を使用することができる。例えば、ＨＥＣ（ヒドロキシエチルセルロース）等を用いることができる。
　樹脂の重量平均分子量は、引張弾性率を高める点から、１０００以上が好ましく、１０、０００以上がより好ましい。上限値に特に制限はないが、１，０００，０００以下が実際的である。
　接着剤を含む組成物に任意に含まれる成分としては、架橋剤（ホウ酸及びＳａｆｅｌｉｎｋ　ＳＰＭ－０１（商品名、日本合成化学社製）等）、耐久性改良剤（ヨウ化カリウム等）が挙げられる。
（引張弾性率）
　接着層の引張弾性率は、例えば、接着層を構成する樹脂の種類により変えることができ、一般に、樹脂の分子量や結晶化度を高めることにより引張弾性率は高まる傾向がある。また、接着層が架橋性基を持つ場合には、架橋剤などの添加によって接着層の架橋度を向上させることにより引張弾性率を高めることができる。さらに、接着層に重合性組成物が含まれる場合は、重合性基を有する化合物の重合性基当量（この化合物の分子量を、この化合物に含まれる重合性基の総数で除した値）の低減、接着層の重合率の向上、接着層への高弾性物質（例えば無機粒子等）の添加、剛直な分子構造（例えばアダマンタン骨格）を含む化合物の添加等により高まる傾向がある。
　接着層の２５℃における引張弾性率は、打鍵耐久性をより高める点から、２．０ＧＰＡ以上が好ましく、２．５ＧＰａ以上がより好ましく、３．０ＧＰａ以上がより好ましく、３．５ＧＰａ以上がより好ましく、４．０ＧＰａ以上がさらに好ましく、４．５ＧＰａ以上が特に好ましく、５．０ＧＰａ以上が最も好ましい。上限値は、特に制限はないが、１２．０ＧＰａ以下が実際的である。
　なお、接着層の弾性率は、接着層形成用液を用いて作製される接着層の試料を用いて、上記樹脂フィルムの引張弾性率と同様の方法により試験し、算出することができる。
（接着層の厚み）
　接着層の厚みは、２枚の樹脂フィルムを接着する点から１０ｎｍ以上が好ましく、さらに干渉ムラも低減する観点から１０ｎｍ～１０μｍが好ましく、１０ｎｍ～５μｍがより好ましく、１０ｎｍ～１μｍがさらに好ましい。
　接着層は、例えば、接着剤を含有する塗布液を樹脂フィルムの少なくとも一方の表面に塗布し、乾燥することにより形成することができる。塗布液の調製方法としては、任意の適切な方法を採用することができる。塗布液としては、例えば、市販の溶液または分散液を用いてもよく、市販の溶液または分散液にさらに溶剤を添加して用いてもよく、固形分を各種溶剤に溶解または分散して用いてもよい。
　一態様では、接着層は、活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させてなる硬化層であることもできる。接着層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物は、活性エネルギー硬化性成分として、カチオン重合性化合物、例えばエポキシ系化合物、より具体的には、特開２００４－２４５９２５号公報に記載されるような、分子内に芳香環を有しないエポキシ系化合物を含むものが好ましい。このようなエポキシ系化合物としては、例えば、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテルを代表例とする芳香族エポキシ系化合物の原料である芳香族ポリヒドロキシ化合物を核水添し、それをグリシジルエーテル化して得られる水素化エポキシ系化合物、脂環式環に結合するエポキシ基を分子内に少なくとも１個有する脂環式エポキシ系化合物、脂肪族ポリヒドロキシ化合物のグリシジルエーテルを代表例とする脂肪族エポキシ系化合物等を挙げることができる。また、接着層を形成するための活性エネルギー線硬化性組成物は、エポキシ系化合物を代表例とするカチオン重合性化合物に加えて、重合開始剤、例えば活性エネルギー線の照射によりカチオン種またはルイス酸を発生し、カチオン重合性化合物の重合を開始させるための光カチオン重合開始剤、光照射により塩基を発生する光塩基発生剤を含むこともできる。更に、加熱によって重合を開始させる熱カチオン重合開始剤、その他、光増感剤などの各種添加剤が含まれていてもよい。
（樹脂フィルムと接着層の引張弾性率の差）
　貼り合せる２枚の樹脂フィルムの２５℃における引張弾性率と、接着層の２５℃における引張弾性率との差は、打鍵耐久性をより高める点から、各々独立に、４．０ＧＰａ以下が好ましく、３．５ＧＰａ以下がより好ましく、３．０ＧＰａ以下がより好ましく、２．５ＧＰａ以下がより好ましく、２．０ＧＰａ以下がさらに好ましく、１．５ＧＰａ以下が特に好ましく、１．０ＧＰａ以下が最も好ましい。
　本発明の光学フィルムは、２枚の樹脂フィルムを接着層により貼り合せてなる樹脂フィルムを有する場合、接着層を有する面とは反対側の面（他方の表面）にも接着層を有していてもよい。例えば、他方の表面に接着層を介して公知の偏光板保護フィルムを設けることもできる。樹脂フィルムの両面に接着層を設ける場合、それぞれの接着層を形成するための組成物は同じであっても異なっていてもよいが、生産性の観点からは、両面とも同じ組成物から形成された接着層を有することが好ましい。
　接着層を付与される面には、接着層付与前に、ケン化処理、コロナ放電処理、プラズマ処理等の表面処理を施してもよい。
　ケン化処理としては、例えば、セルロースエステル系樹脂フィルムを、アルカリ鹸化処理することにより、ポリビニルアルコールのような偏光子の材料との密着性を高めることができる。
　ケン化の方法については、特開２００７－８６７４８号公報の段落番号［０２１１］及び段落番号［０２１２］に記載されている方法を用いることができる。
　例えば、セルロースエステル系樹脂フィルムに対するアルカリケン化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの濃度は０．１～５．０モル／Ｌの範囲が好ましく、０．５～４．０モル／Ｌの範囲が更に好ましい。アルカリ溶液温度は、室温～９０℃の範囲が好ましく、４０～７０℃の範囲が更に好ましい。
　アルカリケン化処理の代わりに、特開平６－９４９１５号公報又は特開平６－１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
　接着剤を用いて樹脂フィルム同士を貼合する方法は、公知の方法を用いることができる。
　たとえば、水平方向または鉛直方向に移動する帯状の長尺の第一の樹脂フィルムあるいは第二の樹脂フィルムの一方の面に、第二の樹脂フィルムあるいは第一の樹脂フィルムを同じ移動速度で接近させ、上記第一の樹脂フィルムと第二の樹脂フィルムの間に、接着剤層となる接着剤を塗布し、ピンチロールで圧力をかけて二枚の樹脂フィルムを貼り合わせることができる。ここで、塗布される接着剤は、接着剤層を構成する材質を塗布できるように溶媒で希釈したものであってもよい。その場合、接着剤層中の溶媒を乾燥させ、二枚の樹脂フィルムの接着が完了する。この際の乾燥温度は、接着剤層中の溶媒種および、二枚の樹脂フィルムの樹脂種および厚みによるが、例えば接着剤層中の溶媒が水である場合、３０～８５℃であることが好ましく、さらに好ましくは４５～８０℃である。
　また、二枚の樹脂フィルムの、いずれか一方あるいは両方に接着剤層となる接着剤を塗布し、乾燥処理を施して接着剤層中に含まれる溶媒を除去し、樹脂フィルム上に接着剤層を形成した後、水平方向または鉛直方向に移動する帯状の長尺の接着剤層を形成した樹脂フィルムの、接着剤層が形成された面に、もう一方の樹脂フィルムを同じ移動速度で接近させ、上記接着剤層を形成した二枚の樹脂フィルムの間に、接着剤層を膨潤させる溶媒を塗布し、ピンチロールで圧力をかけて二枚の樹脂フィルムを貼り合わせることができる。この場合、溶媒を乾燥させ、二枚の樹脂フィルムの接着が完了する。この際の乾燥温度は、溶媒種および、二枚の樹脂フィルムの樹脂種および厚みによるが、例えば溶媒が水である場合、３０～８５℃であることが好ましく、さらに好ましくは４５～８０℃である。
（２）ハードコート層（ＨＣ層）
　本発明の光学フィルムは、樹脂フィルムの少なくとも片面にハードコート層（ＨＣ層）を有する。
　なお、ＨＣ層は、後述の通り、ＨＣ層形成用硬化性組成物を用いて作製することができる。
　本発明におけるＨＣ層は、分子中に重合性基を有する含ポリシロキサン化合物と、分子中に重合性基を有する含フッ素化合物と、これらの化合物以外の、後述の分子中に重合性基を有する重合性化合物とを重合硬化してなることが好ましく、これらの重合性基がラジカル重合性基であることがより好ましい。これにより、ＨＣ層中において、含ポリシロキサン化合物及び含フッ素化合物がＨＣ層を形成する重合性化合物と結合した状態で存在し、より優れた打鍵後の耐付着性を付与することができる。含ポリシロキサン化合物及び含フッ素化合物が重合性基を有する場合、後述する含ポリシロキサン化合物及び含フッ素化合物中の重合性基は反応して結合を形成した状態でＨＣ層中に存在することとなる。
　なお、ＨＣ層が後述する２層以上の積層構造である場合には、含ポリシロキサン化合物および含フッ素化合物は、樹脂フィルムから最も離れたＨＣ層が少なくとも含有することが好ましく、樹脂フィルムから最も離れたＨＣ層のみが含有することがより好ましい。
　以下、ＨＣ層の具体的態様を説明するが、本発明は下記態様に限定されるものではない。
［含フッ素化合物］
　本発明における含フッ素化合物は、含ポリシロキサン化合物と併用することでＨＣ層に耐擦性を付与できるものであれば、特に制限されることなく、分子中にフッ素原子を有する化合物を用いることができる。含フッ素化合物としては、防汚剤の性質を示す含フッ素防汚剤が好ましく用いられる。
　本発明において、含フッ素化合物は、モノマー、オリゴマー、ポリマーいずれでもよい。含フッ素化合物は、ＨＣ層中でその他の成分（例えば、含ポリシロキサン化合物、樹脂の構成成分である重合性モノマー、樹脂）との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。この置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。
　この置換基は重合性基が好ましく、ラジカル重合性、カチオン重合性、アニオン重合性、縮重合性及び付加重合性のうちいずれかを示す重合性反応基であればよく、好ましい置換基の例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基が挙げられる。その中でもラジカル重合性基が好ましく、中でもアクリロイル基、メタクリロイル基が特に好ましい。
　含フッ素化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよい。
　上記含フッ素防汚剤は、下記一般式（Ｆ）で表されるフッ素系化合物が好ましい。
　一般式（Ｆ）：　（Ｒｆ）－［（Ｗ）－（ＲＡ）ｎ］ｍ
　（式中、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは単結合又は連結基、ＲＡは重合性不飽和基を表す。ｎは１～３の整数を表す。ｍは１～３の整数を表す。）
　一般式（Ｆ）において、ＲＡは重合性不飽和基を表す。重合性不飽和基は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線を照射することによりラジカル重合反応を起こしうる不飽和結合を有する基（すなわち、ラジカル重合性基）であることが好ましく、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、ビニル基、アリル基などが挙げられ、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及びこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換された基が好ましく用いられる。
　一般式（Ｆ）において、Ｒｆは（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基を表す。
　ここで、（パー）フルオロアルキル基は、フルオロアルキル基及びパーフルオロアルキル基のうち少なくとも１種を表し、（パー）フルオロポリエーテル基は、フルオロポリエーテル基及びパーフルオロポリエーテル基のうち少なくとも１種を表す。耐擦性の観点では、Ｒｆ中のフッ素含有率は高いほうが好ましい。
　（パー）フルオロアルキル基は、炭素数１～２０の基が好ましく、より好ましくは炭素数１～１０の基である。
　（パー）フルオロアルキル基は、直鎖構造（例えば－ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ、－ＣＨ２（ＣＦ２）８ＣＦ３、－ＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）４Ｈ）であっても、分岐構造（例えば－ＣＨ（ＣＦ３）２、－ＣＨ２ＣＦ（ＣＦ３）２、－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ（ＣＨ３）（ＣＦ２）５ＣＦ２Ｈ）であっても、脂環式構造（好ましくは５員環又は６員環で、例えばパーフルオロシクロへキシル基及びパーフルオロシクロペンチル基並びにこれらの基で置換されたアルキル基）であってもよい。
　（パー）フルオロポリエーテル基は、（パー）フルオロアルキル基がエーテル結合を有している場合を指し、１価でも２価以上の基であってもよい。フルオロポリエーテル基としては、例えば－ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＦ２ＣＦ３、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２Ｃ４Ｆ８Ｈ、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２Ｃ８Ｆ１７、－ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ、フッ素原子を４個以上有する炭素数４～２０のフルオロシクロアルキル基等が挙げられる。また、パーフルオロポリエーテル基としては、例えば、－（ＣＦ２Ｏ）ｐ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ－、－［ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ］ｐ―［ＣＦ（ＣＦ３）］ｑ－、－（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ－、－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐ－などが挙げられる。
　上記ｐ及びｑはそれぞれ独立に０～２０の整数を表す。ただしｐ＋ｑは１以上の整数である。
　ｐ及びｑの総計は１～８３が好ましく、１～４３がより好ましく、５～２３がさらに好ましい。
　上記含フッ素防汚剤は、耐擦性に優れるという観点から－（ＣＦ２Ｏ）ｐ－（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｑ－で表されるパーフルオロポリエーテル基を有することが特に好ましい。
　本発明においては、含フッ素防汚剤は、パーフルオロポリエーテル基を有し、かつ重合性不飽和基を一分子中に複数有することが好ましい。
　一般式（Ｆ）において、Ｗは連結基を表す。Ｗとしては、例えばアルキレン基、アリーレン基及びヘテロアルキレン基、並びにこれらの基が組み合わさった連結基が挙げられる。これらの連結基は、更に、オキシ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、カルボニルイミノ基及びスルホンアミド基等、並びにこれらの基が組み合わさった官能基を有してもよい。
　Ｗとして、好ましくは、エチレン基、より好ましくは、カルボニルイミノ基と結合したエチレン基である。
　含フッ素防汚剤のフッ素原子含有量には特に制限は無いが、２０質量％以上が好ましく、３０～７０質量％がより好ましく、４０～７０質量％がさらに好ましい。
　好ましい含フッ素防汚剤の例としては、ダイキン化学工業（株）製のＲ－２０２０、Ｍ－２０２０、Ｒ－３８３３、Ｍ－３８３３及びオプツールＤＡＣ（以上商品名）、大日本インキ（株）製のメガファックＦ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７９Ａ、ＲＳ－７８、ＲＳ－９０、ディフェンサＭＣＦ－３００及びＭＣＦ－３２３（以上商品名）が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
　耐擦性の観点から、一般式（Ｆ）において、ｎとｍの積（ｎ×ｍ）は２以上が好ましく、４以上がより好ましい。
　一般式（Ｆ）において、ｎとｍが同時に１である場合について、以下の好ましい態様の具体例として下記一般式（Ｆ－１）～（Ｆ－３）が挙げられる。
一般式（Ｆ－１）：
　Ｒｆ２（ＣＦ２ＣＦ２）ｐＲ２２ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２１ＯＣＯＣＲ１１＝ＣＨ２
（式中、Ｒｆ２は、フッ素原子、又は炭素数が１～１０であるフルオロアルキル基を示し、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ２１は単結合又はアルキレン基を示し、Ｒ２２は単結合又は２価の連結基を示し、ｐは重合度を示す整数であり、重合度ｐはｋ（ｋは３以上の整数）以上である。）
　Ｒ２２が２価の連結基を表す場合、この２価の連結基としては、前述のＷと同様のものが挙げられる。
　一般式（Ｆ－１）におけるフッ素原子を含むテロマー型（メタ）アクリレートとしては、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類等が挙げられる。
　上記の一般式（Ｆ－１）で表される化合物は、合成の際にテロメリゼイションを用いると、テロメリゼイションの条件及び反応混合物の分離条件等によっては、一般式（Ｆ－１）の基であるＲｆ２（ＣＦ２ＣＦ２）ｐＲ２２ＣＨ２ＣＨ２Ｒ２１Ｏ－のｐがそれぞれｋ、ｋ＋１、ｋ＋２、・・・等の複数の含フッ素（メタ）アクリル酸エステルを含むことがある。
一般式（Ｆ－２）：
　Ｆ（ＣＦ２）ｑ－ＣＨ２－ＣＨＸ－ＣＨ２Ｙ（式中、ｑは１～２０の整数、Ｘ及びＹは（メタ）アクリロイルオキシ基又は水酸基を示し、Ｘ及びＹの少なくとも一方は（メタ）アクリロイルオキシ基である。）
　一般式（Ｆ－２）で表される含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは、末端にトリフルオロメチル基（－ＣＦ３）をもつ炭素数１～２０のフルオロアルキル基を有しており、この含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは少量でもトリフルオロメチル基が表面に有効に配向される。
　耐擦性及び化合物の製造の容易性から、ｑは６～２０が好ましく、８～１０より好ましい。炭素数８～１０のフルオロアルキル基を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルは、他の鎖長のフルオロアルキル基を有する含フッ素（メタ）アクリル酸エステルと比較しても優れた摩擦係数の低減効果を発現するため、耐擦性に優れる。
　一般式（Ｆ－２）で表される含フッ素（メタ）アクリル酸エステルとして具体的には、１－（メタ）アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシ－４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカン、２－（メタ）アクリロイルオキシ－１－ヒドロキシ－４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカン及び１，２－ビス（メタ）アクリロイルオキシ４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカン等が挙げられる。本発明においては、１－アクリロイルオキシ－２－ヒドロキシ－４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１２，１２，１３，１３，１３－ヘンエイコサフルオロトリデカンが好ましい。
一般式（Ｆ－３）：
　Ｆ（ＣＦ２）ｒＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＲ３＝ＣＨ２（式中Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、ｓは１～２０の整数であり、ｒは１～４の整数を表す。）
　上記一般式（Ｆ－３）で表されるフッ素原子含有単官能（メタ）アクリレートは、下記一般式（ＦＧ－３）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と（メタ）アクリル酸ハライドとを反応させることにより得ることができる。
一般式（ＦＧ－３）：
　Ｆ（ＣＦ２）ｒＯ（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｓＣＦ２ＣＨ２ＯＨ（一般式（ＦＧ－３）中、ｓは１～２０の整数の整数であり、ｒは１～４の整数を表す。）
　上記一般式（ＦＧ－３）表されるフッ素原子含有アルコール化合物の具体例としては、例えば、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサヘプタン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサオクタン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサウンデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサトリデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサトリデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサテトラデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサヘキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５－ペンタオキサヘキサデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５－ペンタオキサヘプタデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５－ペンタオキサノナデカン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８－ヘキサオキサイコサン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８－ヘキサオキサドコサン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８，２１－ヘプタオキサトリコサン－１－オール、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２，１５，１８，２１－ヘプタオキサペンタコサン－１－オール等を挙げることができる。
　これらは市場で入手でき、その具体例としては例えば、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサヘプタン－１－オール（商品名「Ｃ５ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサデカン－１－オール（商品名「Ｃ７ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６－ジオキサデカン－１－オール（商品名「Ｃ８ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９－トリオキサトリデカン－１－オール（商品名「Ｃ１０ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサヘキサデカン－１－オール（商品名「Ｃ１２ＧＯＬ」、エクスフロアー社製）等が挙げられる。
　本発明においては、１Ｈ，１Ｈ－ペルフルオロ－３，６，９，１２－テトラオキサトリデカン－１－オールを用いることが好ましい。
　また、上記一般式（ＦＧ－３）で表されるフッ素原子含有アルコール化合物と反応させる（メタ）アクリル酸ハライドとしては、（メタ）アクリル酸フルオライド、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アクリル酸ブロマイド、（メタ）アクリル酸アイオダイドを挙げることができる。入手しやすさ等の観点から（メタ）アクリル酸クロライドが好ましい。
　以下に一般式（Ｆ－３）で表される化合物の好ましい具体例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｆ－３）で表される好ましい具体例は、特開２００７－２６４２２１号公報にも記載がある。
　（ｂ－１）：Ｆ９Ｃ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２
　（ｂ－２）：Ｆ９Ｃ４Ｏ２Ｆ４ＯＣ２Ｆ４ＯＣＦ２ＣＨ２ＯＣＯＣ（ＣＨ３）＝ＣＨ２
　更に一般式（Ｆ－３）で表される化合物とは別に、下記一般式（Ｆ－３）’で表される化合物も好ましく用いることができる。
一般式（Ｆ－３）’：
　Ｒｆ３－［（Ｏ）ｃ（Ｏ＝Ｃ）ｂ（ＣＸ４Ｘ５）ａ－ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
　（式中、Ｘ１及びＸ２は、Ｈ又はＦを表し、Ｘ３はＨ、Ｆ、ＣＨ３又はＣＦ３を表し、Ｘ４及びＸ５は、Ｈ、Ｆ、又はＣＦ３を表し、ａ、ｂ、及びｃは０又は１を表し、Ｒｆ３は炭素数１８～２００のエーテル結合を含む含フッ素アルキル基を表す）
　上記一般式（Ｆ－３）’で表される化合物は、Ｒｆ３基中に、一般式（ＦＧ－３）’：－（ＣＸ６ ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）－　（式中、Ｘ６はＦ又はＨ）で示される繰り返し単位を６個以上有する、含フッ素不飽和化合物である。
　上記一般式（Ｆ－３）’表される含フッ素ポリエーテル化合物の例としては、
（ｃ－１）　Ｒｆ３－［（Ｏ）（Ｏ＝Ｃ）ｂ－ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
（ｃ－２）　Ｒｆ３－［（Ｏ）（Ｏ＝Ｃ）－ＣＸ３＝ＣＸ１Ｘ２］
（ｃ－３）　Ｒｆ３－［（Ｏ）ｃ（Ｏ＝Ｃ）－ＣＦ＝ＣＨ２］
などを挙げることができる（（ｃ－１）～（ｃ－３）における各記号の定義は一般式（ＦＧ－３）’と同義である。）。
　上記含フッ素ポリエーテル化合物の重合性不飽和基としては、以下の構造を含むものを好ましく用いることができる。
　また、上記一般式（Ｆ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物は、重合性不飽和基を複数個有していてもよい。
　本発明においては、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＣＦ＝ＣＨ２の構造を有する化合物が重合（硬化）反応性が特に高く、効率よく硬化物を得ることができる点で好ましい。
　上記一般式（Ｆ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物は、Ｒｆ３基中に一般式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖を繰り返し単位で６個以上含んでいることが重要であり、これによって耐擦性を付与できる。
　また更に詳しくは、含フッ素ポリエーテル鎖の繰り返し単位が６個以上のものを含んでいる混合物でもよいが、混合物の形で使用する場合、上記繰り返し単位が６個未満の含フッ素不飽和化合物と６個以上の含フッ素不飽和化合物との分布において、ポリエーテル鎖の繰り返し単位が６個以上の含フッ素不飽和化合物の存在比率が最も高い混合物とすることが好ましい。
　一般式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖の繰り返し単位は６個以上が好ましく、１０個以上がより好ましく、１８個以上が更に好ましく、２０個以上が特に好ましい。これによって、動摩擦係数を低減し、耐擦性を向上することができる。また、含フッ素ポリエーテル鎖はＲｆ３基の末端にあっても、鎖中に存在していてもよい。
　Ｒｆ３基は具体的には、
一般式（ｃ－４）：
　Ｒ４－（ＣＸ６ ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｔ－（Ｒ５）ｅ－（式中、Ｘ６は式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、含フッ素アルキル基、エーテル結合を含むアルキル基又はエーテル結合を含む含フッ素アルキル基、Ｒ５は二価以上の有機基、ｔは６～６６の整数、ｅは０又は１を表す。）で表される基が好ましい。
　つまり、Ｒｆ３基は、二価以上の有機基Ｒ５を介して、反応性の炭素－炭素二重結合と結合し、更に末端にＲ４を有する含フッ素有機基である。
　Ｒ５は一般式（ＦＧ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル鎖を反応性の炭素－炭素二重結合に結合させることができる有機基であれば、如何なるものでもよい。例えば、アルキレン基、含フッ素アルキレン基、エーテル結合を含むアルキレン基及びエーテル結合を含む含フッ素アルキレン基が挙げられる。中でも含フッ素アルキレン基及びエーテル結合を含む含フッ素アルキレン基が、透明性、低屈折率性の点で好ましい。
　一般式（Ｆ－３）’で表される含フッ素ポリエーテル化合物の具体例としては、再公表特許ＷＯ２００３／０２２９０６号パンフレットに挙げられる化合物などが好ましく用いられる。本発明においては、ＣＨ２＝ＣＦ－ＣＯＯ－ＣＨ２ＣＦ２ＣＦ２－（ＯＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２）７－ＯＣ３Ｆ７を特に好ましく用いることができる。
　一般式（Ｆ）において、ｎとｍが同時に１でない場合については、以下の好ましい態様として一般式（Ｆ－４）及び一般式（Ｆ－５）が挙げられる。
一般式（Ｆ－４）：（Ｒｆ１）－［（Ｗ）－（ＲＡ）ｎ］ｍ
（一般式（Ｆ－４）中、Ｒｆ１は（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基、Ｗは連結基、ＲＡは重合性不飽和基を表す。ｎは１～３の整数、ｍは１～３の整数を表し、ｎとｍは同時に１であることはない。）
　撥水撥油性に優れると共に撥水撥油性の持続（防汚耐久性）に優れるという観点からｎが２～３、ｍが１～３であることが好ましく、ｎが２～３、ｍが２～３であることがより好ましく、ｎが３、ｍが２～３であることがさらに好ましい。
　Ｒｆ１は一価～三価のものを用いることができる。Ｒｆ１が一価の場合、末端基としては（ＣｎＦ２ｎ＋１）－、（ＣｎＦ２ｎ＋１Ｏ）－、（ＸＣｎＦ２ｎＯ）－、（ＸＣｎＦ２ｎ＋１）－（式中Ｘは水素原子、塩素原子、又は臭素原子であり、ｎは１～１０の整数）であることが好ましい。具体的にはＣＦ３Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｐＣＦ２－、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ２ＣＦ２－、Ｃ３Ｆ７Ｏ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－等を好ましく使用することができる。
　ここでｐの平均値は０～５０である。好ましくは３～３０、より好ましくは３～２０、さらに好ましくは４～１５である。
　Ｒｆ１が二価の場合は、－（ＣＦ２Ｏ）ｑ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｒＣＦ２－、－（ＣＦ２）３Ｏ（Ｃ４Ｆ８Ｏ）ｒ（ＣＦ２）３－、－ＣＦ２Ｏ（Ｃ２Ｆ４Ｏ）ｒＣＦ２－、－Ｃ２Ｆ４Ｏ（Ｃ３Ｆ６Ｏ）ｒＣ２Ｆ４－、－ＣＦ（ＣＦ３）（ＯＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３））ｓＯＣｔＦ２ｔＯ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｒＣＦ（ＣＦ３）－等を好ましく使用することができる。
　ここで、式中ｑ、ｒ、ｓの平均値は０～５０である。好ましくは３～３０、より好ましくは３～２０、最も好ましくは４～１５である。ｔは２～６の整数である。
　一般式（Ｆ－４）で表される化合物の好ましい具体例や合成方法は国際公開第２００５／１１３６９０号に記載されている。
　以下では、Ｆ（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－においてｐの平均値が６～７のものを“ＨＦＰＯ－”と記載し、－（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）ｐＣＦ（ＣＦ３）－においてｐの平均値が６～７のものを“－ＨＦＰＯ－”と記載し、一般式（Ｆ－４）の具体的化合物を示すが、これらに限定されるものではない。
（ｄ－１）：ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２ＣＨ２ＣＨ３
（ｄ－２）：ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ
（ｄ－３）：ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ３Ｈ６ＮＨＣＨ３とトリメチロールプロパントリアクリレートの１：１マイケル付加重合物
（ｄ－４）：（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）２Ｈ－Ｃ－ＣＯＮＨ－ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）２Ｈ
（ｄ－５）：（ＣＨ２＝ＣＨＣＯＯＣＨ２）３－Ｃ－ＣＯＮＨ－ＨＦＰＯ－ＣＯＮＨ－Ｃ－（ＣＨ２ＯＣＯＣＨ＝ＣＨ２）３
　更に、一般式（Ｆ－４）で表される化合物として下記一般式（Ｆ－５）で表される化合物を用いることもできる。
一般式（Ｆ－５）：
　ＣＨ２＝ＣＸ１－ＣＯＯ－ＣＨＹ－ＣＨ２－ＯＣＯ－ＣＸ２＝ＣＨ２
　（式中Ｘ１及びＸ２は、水素原子又はメチル基を示し、Ｙは、フッ素原子を３個以上有する炭素数２～２０のフルオロアルキル基又はフッ素原子を４個以上有する炭素数４～２０のフルオロシクロアルキル基を示す。）
　本発明において、重合性不飽和基が（メタ）アクリロイルオキシ基である化合物は、複数の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していてもよい。含フッ素防汚剤が複数の（メタ）アクリロイルオキシ基を有していることにより、硬化させた際には、三次元網目構造を呈し、ガラス転移温度が高く、防汚剤の転写性が低く、また汚れの繰り返しの拭取りに対する耐久性を向上させることができる。更には、耐熱性、耐候性等に優れたＨＣ層を得ることができる。
　上記一般式（Ｆ－５）で表される化合物の具体例としては、例えば、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，２－トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，５－ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６－ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７－トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９－ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０－ノナデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０－ヘプタデカフルオロデシルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－２－トリフルオロメチル－３，３，３－トリフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－３－トリフルオロメチル－４，４，４－トリフルオロブチルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－１－メチル－２，２，３，３，３－ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸－１－メチル－２，２，３，３，４，４，４－ヘプタフルオロブチルエチレングリコール等を好ましく挙げることができ、使用に際しては単独若しくは混合物として用いることができる。このようなジ（メタ）アクリル酸エステルを調製するには、特開平６－３０６３２６号公報に挙げられるような公知の方法により製造できる。本発明においては、ジアクリル酸－２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９－ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールが好ましく用いられる。
　本発明においては、重合性不飽和基が（メタ）アクリロイルオキシ基である化合物として、一分子中に複数個の（パー）フルオロアルキル基又は（パー）フルオロポリエーテル基を有している化合物であってもよい。
（含フッ素化合物の分子量）
　重合性不飽和基を有する含フッ素化合物の重量平均分子量（Ｍｗ）は、分子排斥クロマトグラフィー、例えばゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）などを用いて測定できる。
　本発明で用いられる含フッ素化合物のＭｗは４００以上５００００未満が好ましく、４００以上３００００未満がより好ましく、４００以上２５０００未満が更に好ましい。上記下限値以上であると、防汚剤のＨＣ層中での表面移行性が高くなるため好ましい。また、上記上限値未満であると、ＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布してから硬化する工程の間に、含フッ素化合物の表面移行性が妨げられず、ＨＣ層表面への偏在がより均一に起こりやすくなり、耐擦性及び膜硬度が向上するため好ましい。また、含フッ素化合物は重量平均分子量に関して多峰性であってもよい。
（含フッ素化合物の添加量）
　含フッ素化合物の添加量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．５～５質量％が更に好ましく、０．５～２質量％が特に好ましい。添加量が上記上限値以上であると、スチールウールに対する摩擦係数を低減でき、耐擦性がより向上される。また、添加量が上記下限値以下であると、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の重合性化合物（ＨＣ層を形成する際の樹脂成分）との混合が不十分な含フッ素化合物が表面に析出することがなく、ＨＣ層が白化したり表面に白粉を生じたりすることが抑制されるため好ましい。
　なお、ＨＣ層が後述する２層以上の積層構造である場合には、含フッ素化合物及び含ポリシロキサン化合物を含有するＨＣ層を形成する、ＨＣ層形成用硬化性組成物中での添加量を意味する
［含ポリシロキサン化合物］
　本発明における含ポリシロキサン化合物は、含フッ素化合物と併用することでＨＣ層に打鍵後の耐付着性を付与できるものであれば、特に制限されることなく、分子中にポリシロキサン構造を有する化合物を用いることができる。ただし、本発明における含ポリシロキサン化合物は、エラストマーではない点で、前述の回復性粒子としてのシリコーンゴム粒子とは異なる。
　含ポリシロキサン化合物が有するポリシロキサン構造としては、直鎖状、分岐状及び環状のいずれでもよい。
　含ポリシロキサン化合物としては、防汚剤の性質を示すポリシロキサン防汚剤が好ましく用いられる。
　上記ポリシロキサン防汚剤は、好ましくは下記一般式（Ｆ－６）で表される。
一般式（Ｆ－６）：
　ＲａＲＡ ｂＳｉＯ（４－ａ－ｂ）／２
　（式中、Ｒは水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基又はフェニル基であり、ＲＡは重合性不飽和基を含有する有機基であり、０＜ａ、０＜ｂ、ａ＋ｂ＜４である。）
　ａは好ましくは１～２．７５、より好ましくは１～２．５であり、１以上であると化合物の合成が工業的に容易となり、２．７５以下であると、硬化性と打鍵後の耐付着性の両立がしやすくなる。
　ＲＡにおける重合性不飽和基としては、上記一般式（Ｆ）におけるＲＡと同様の重合性不飽和基（すなわち、ラジカル重合性基）が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、及びこれらの基における任意の水素原子がフッ素原子に置換した基である。
　ポリシロキサン防汚剤においても、膜強度の観点から一分子中に重合性不飽和基を複数有することが好ましく、一分子中に重合性不飽和基を複数有するポリジメチルシロキサンであることがより好ましい。
　ポリシロキサン防汚剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端及び／又は側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。この置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。
　この置換基は重合性基が好ましく、ラジカル重合性、カチオン重合性、アニオン重合性、縮重合性及び付加重合性のうちいずれかを示す重合性基記基であればよい。好ましい置換基の例としては（メタ）アクリロイル基、（（メタ）アクリロイルオキシ）基、ビニル基、アリル基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。なかでも、ラジカル重合性基が好ましく、特に（メタ）アクリロイルオキシ基が打鍵後の耐付着性を向上する観点で好ましい。
　また、化合物中の上記置換基数は、官能基等量として１００～１００００ｇ／ｍｏｌが膜強度と打鍵後の耐付着性とを両立する観点から好ましく、１００～３０００ｇ／ｍｏｌがより好ましく、１００～２０００ｇ／ｍｏｌが更に好ましく、１００～１０００ｇ／ｍｏｌが特に好ましい。官能基当量を上記下限値以上にすることで、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の重合性化合物（ＨＣ層を形成する際の樹脂成分）と必要以上に相溶することがなく、防汚剤のＨＣ層中での表面移行性が高くなるため好ましい。官能基当量を上記上限値以下にすることで、膜硬度を向上し、打鍵後の耐付着性、及び、摺動後の耐付着性を向上させることができるため好ましい。
　ＲＡは（メタ）アクリロイル基を含有する有機基が好ましく、工業的な合成のし易さからＳｉ原子への結合がＳｉ－Ｏ－Ｃ結合であることがより好ましい。ｂは好ましくは０．４～０．８、より好ましくは０．６～０．８であり、上記下限値以上であると硬化性が向上し、上記上限値以下であると打鍵後の耐付着性、及び、摺動後の耐付着性が向上する。
　また、ａ＋ｂは好ましくは３～３．７、より好ましくは３～３．５である。上記下限値以上であると化合物のＨＣ層表面への偏在化が起こりやすくなり、上記上限値以下であると硬化性と打鍵後の耐付着性、及び、摺動後の耐付着性の両立を向上させることができる。
　ポリシロキサン防汚剤は、１分子中にＳｉ原子を３個以上有することが好ましく、Ｓｉ原子を３～４０個含有することがより好ましい。Ｓｉ原子が３個以上あると化合物のＨＣ層表面への偏在化が促進され、十分な打鍵後の耐付着性、及び、摺動後の耐付着性がより得られやすくなる。
　ポリシロキサン防汚剤は、特開２００７－１４５８８４号公報に挙げられる公知の方法などを用いて製造することができる。
　ポリシロキサン構造を有する添加剤としては、ポリシロキサン｛例えば“ＫＦ－９６－１０ＣＳ” ，“ＫＦ－１００Ｔ”，“Ｘ－２２－１６９ＡＳ”，“ＫＦ－１０２”，“
Ｘ－２２－３７０１ＩＥ”， “Ｘ－２２－１６４” ，“Ｘ－２２－１６４Ａ” ，“Ｘ－２２－１６４ＡＳ” ，“Ｘ－２２－１６４Ｂ” ，“Ｘ－２２－１６４Ｃ”，“Ｘ－２２－５００２”，“Ｘ－２２－１７３Ｂ”，“Ｘ－２２－１７４Ｄ”，“Ｘ－２２－１６７Ｂ”，“Ｘ－２２－１６１ＡＳ”（商品名）、以上、信越化学工業（株）製；“ＡＫ－５”，“ＡＫ－３０”，“ＡＫ－３２”（商品名）、以上東亜合成（株）製；、「サイラプレーンＦＭ０７２５」，「サイラプレーンＦＭ０７２１」（商品名）、以上チッソ（株）製；、“ＤＭＳ－Ｕ２２”、“ＲＭＳ－０３３”、“ＵＭＳ－１８２”（商品名）、以上Ｇｅｌｅｓｔ製；、「アクリット８ＳＳ－７２３」（商品名）、以上大成ファインケミカル(株)製等｝を添加するのも好ましい。また、特開２００３－１１２３８３号公報の表２、表３に記載のポリシロキサン系化合物も好ましく使用できる。
［含ポリシロキサン化合物の分子量］
　含ポリシロキサン化合物の重量平均分子量は、３００以上が好ましく、３００以上１０
００００以下がより好ましく、３００以上３００００以下がさらに好ましい。含ポリシロキサン化合物の重量平均分子量が３００以上であると、含ポリシロキサン化合物のＨＣ層表面への偏在化が促進され、耐擦性及び硬度がより向上される。
［含ポリシロキサン化合物の添加量］
　含ポリシロキサン化合物の添加量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の全固形分に対して、０．０１～５質量％が好ましく、０．１～５質量％がより好ましく、０．５～５質量％が更に好ましく、０．５～２質量％が特に好ましい。添加量が上記下限値以上であると、打鍵後の耐付着性、及び、摺動後の耐付着性をより向上することができる。また、添加量が上記上限値以下であると、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の重合性化合物（ＨＣ層を形成する際の樹脂成分）との混合が不十分な含ポリシロキサン化合物が表面に析出することがなく、ＨＣ層が白化したり表面に白粉を生じたりすることが抑制されるため好ましい。
　なお、ＨＣ層が後述する２層以上の積層構造である場合には、含ポリシロキサン化合物を含有するＨＣ層を形成する、ＨＣ層形成用硬化性組成物中での添加量を意味する。
（光学フィルムにおけるハードコート層の表面粗さＳａ）
　本発明において、光学フィルムにおけるハードコート層の表面粗さＳａとは、樹脂フィルムとハードコート層が積層された状態での、樹脂フィルムを有する面とは反対側の面の表面粗さ（以下、単に表面粗さＳａとも称す。）を意味する。
　ハードコート層の表面粗さＳａは、ハードコート層にクリアで平滑な表面性を付与するには測定視野４ｍｍ×５ｍｍで、６０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以下がさらに好ましい。下限値は１ｎｍ以上であることが実際的である。
　また、ハードコート層にマットで適度な凹凸を付与するには、ハードコート層の表面粗さＳａは、測定視野４ｍｍ×５ｍｍで、６０ｎｍより大きいことが好ましい。
　なお、ハードコート層が、樹脂フィルムを有する面とは反対側の面（本明細書中において、「視認側の面」とも称す。）に、後述するその他の層を有する場合には、上記「ハードコート層の表面粗さＳａ」は、ハードコート層が光学フィルムの視認側最表面に位置する光学フィルムの状態で測定される、ハードコート層の表面粗さＳａを意味する。
（ハードコート層（ＨＣ層）形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層）
　本発明に用いられるＨＣ層は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に活性エネルギー線を照射し、硬化することで得ることができる。なお本発明および本明細書において、「活性エネルギー線」とは、電離放射線をいい、Ｘ線、紫外線、可視光、赤外線、電子線、α線、β線、γ線等が包含される。
　ＨＣ層の形成に用いられるＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分（以下、「活性エネルギー線硬化性成分」とも記載する。）を含む。活性エネルギー線硬化性成分としては、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物からなる群から選択される少なくとも一種の重合性化合物が好ましい。なお本発明および本明細書において、「重合性化合物」とは、分子中に重合性基を有する化合物であり、この重合性基は１分子中に１個以上あればよい。重合性基とは、重合反応に関与し得る基であり、具体例としては、後述の各種重合性化合物に含まれる基を例示することができる。また、重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合、アニオン重合等の各種重合反応を挙げることができる。
　また、本発明におけるＨＣ層は、分子中に重合性基を有する含ポリシロキサン化合物と、分子中に重合性基を有する含フッ素化合物と、これらの化合物以外の、分子中に重合性基を有する重合性化合物とを含有するＨＣ層形成用硬化性組成物に、活性エネルギー線を照射し、重合硬化することで得られることが好ましい。この場合、含ポリシロキサン化合物、含フッ素化合物及び重合性化合物が有する重合性基は、ラジカル重合性基であることがより好ましい。
　本発明に用いられるＨＣ層は、１層構造でも２層以上の積層構造であってもよいが、下記に詳細を記載する１層構造または２層以上の積層構造からなるＨＣ層が好ましい。
１）１層構造
　１層構造のＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、第一の態様として、１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物を少なくとも一種含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。エチレン性不飽和基とは、エチレン性不飽和二重結合を含有する官能基をいう。また、第二の態様として、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。
　以下、第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
　第一の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる１分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する重合性化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、上記のエステルのエチレンオキサイド変性体、ポリエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、１，４－ジビニルベンゼン、４－ビニル安息香酸－２－アクリロイルエチルエステル、１，４－ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
　エチレン性不飽和基を有する重合性化合物の重合は、ラジカル光重合開始剤の存在下、活性エネルギー線の照射により行うことができる。ラジカル光重合開始剤としては、後述するラジカル光重合開始剤が好ましく適用される。また、ＨＣ層形成用硬化性組成物中の、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比については、後述するラジカル重合性化合物に対するラジカル光重合開始剤の含有量比の記載が好ましく適用される。
　次に、第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物について説明する。
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含む。好ましい態様としては、
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
　カチオン重合性化合物と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤とカチオン光重合開始剤とを含むことがより好ましい。第二の態様の好ましい一態様としては、
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物と；
　カチオン重合性化合物と；
　ラジカル光重合開始剤と；
　カチオン光重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。以下において、本態様を、第二の態様（１）と記載する。
　第二の態様（１）において、上記のラジカル重合性化合物は、１分子中に２個以上のラジカル重合性基とともに、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むことが好ましい。
　第二の態様の他の好ましい一態様では、
ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物と；
ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物と；
ｃ）ラジカル重合開始剤と；
ｄ）カチオン重合開始剤と；
を含むＨＣ層形成用硬化性組成物を挙げることができる。以下において、本態様を、第二の態様（２）と記載する。第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５～７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５～８０質量％、上記ｃ）を０．１～１０質量％、上記ｄ）を０．１～１０質量％含むことができる。また、一態様では、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）を１５～７０質量％含むことが好ましい。なお、「脂環式エポキシ基」とは、エポキシ環と飽和炭化水素環とが縮合した環状構造を有する１価の官能基をいうものとする。
　以下、第二の態様、好ましくは第二の態様（１）または第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれ得る各種成分について、更に詳細に説明する。
－ラジカル重合性化合物－
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含む。第二の態様（１）におけるラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含む。上記ラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を、１分子中に、好ましくは例えば２～１０個含むことができ、より好ましくは２～６個含むことができる。
　上記ラジカル重合性化合物としては、分子量が２００以上１０００未満のラジカル重合性化合物が好ましい。なお本発明および本明細書において「分子量」とは、多量体については、ゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ　Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ　Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ；ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される重量平均分子量をいうものとする。重量平均分子量の具体的な測定条件の一例としては、以下の測定条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ－８１２０（東ソー製）
カラム：ＴＳＫ　ｇｅｌ　Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ　ＨＸＬ－Ｍ（東ソー製、内径７．８ｍｍ×カラム長３０．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン
　上記ラジカル重合性化合物は、前述の通り、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むことが好ましい。上記ラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるウレタン結合の数は、好ましくは１個以上であり、より好ましくは２個以上であり、より好ましくは２～５個であり、例えば２個であることができる。なお１分子中にウレタン結合を２個含むラジカル重合性化合物において、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基は、一方のウレタン結合のみに直接または連結基を介して結合していてもよく、２個のウレタン結合にそれぞれ直接または連結基を介して結合していてもよい。
一態様では、連結基を介して結合している２個のウレタン結合に、それぞれアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基が１個以上結合していることが、好ましい。
　より詳しくは、上記ラジカル重合性化合物において、ウレタン結合とアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基は直接結合していてもよく、ウレタン結合とアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基との間に連結基が存在していてもよい。連結基としては、特に限定されるものではなく、直鎖または分岐の飽和または不飽和の炭化水素基、環状基、およびこれらの２つ以上の組み合わせからなる基、等を挙げることができる。上記炭化水素基の炭素数は、例えば２～２０程度であるが、特に限定されるものではなない。また、環状基に含まれる環状構造としては、一例として、脂肪族環（シクロヘキサン環など）、芳香族環（ベンゼン環、ナフタレン環など）、などが挙げられる。上記の基は、無置換であっても置換基を有していてもよい。なお、本発明および本明細書において、特記しない限り、記載されている基は置換基を有してもよく無置換であってもよい。ある基が置換基を有する場合、置換基としては、アルキル基（例えば炭素数１～６のアルキル基）、水酸基、アルコキシ基（例えば炭素数１～６のアルコキシ基）、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子）、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシ基等を挙げることができる。
　以上説明したラジカル重合性化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。例えば、合成方法の一例としては、アルコール、ポリオール、および／または水酸基含有（メタ）アクリル酸等の水酸基含有化合物とイソシアネートを反応させ、または必要に応じて、上記反応によって得られたウレタン化合物を（メタ）アクリル酸でエステル化する方法を挙げることができる。なお「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸とメタクリル酸の一方または両方を意味するものとする。
　上記の１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物の市販品としては、下記のものに限定されるものではないが、例えば、共栄社化学社製ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－３０６Ｉ、ＵＡ－３０６Ｔ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ、ＵＡ－１０１Ｉ、ＵＡ－１０１Ｔ、ＡＴ－６００、ＡＨ－６００、ＡＩ－６００、ＢＰＺＡ－６６、ＢＰＺＡ－１００、新中村化学社製Ｕ－４ＨＡ、Ｕ－６ＨＡ、Ｕ－６ＬＰＡ、ＵＡ－３２Ｐ、Ｕ－１５ＨＡ、ＵＡ－１１００Ｈ、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡを挙げることができる。また、日本合成化学工業社製紫光ＵＶ－２７５０Ｂ、共栄社化学社製ＵＬ－５０３ＬＮ、大日本インキ化学工業社製ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ、ダイセルＵＣＢ社製ＥＢ－１２９０Ｋ、トクシキ製ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０等も挙げられる。
　以下に、上記の１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物の具体例として例示化合物Ａ－１～Ａ－８を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　以上、１分子中に１個以上のウレタン結合を含むラジカル重合性化合物について説明したが、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物は、ウレタン結合を有さないものであってもよい。また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物に加えて、かかるラジカル重合性化合物以外のラジカル重合性化合物の一種以上を含んでいてもよい。
　以下において、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含み、かつウレタン結合を１分子中に１個以上含むラジカル重合性化合物を、第一のラジカル重合性化合物と記載し、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むか否かに関わらず、第一のラジカル重合性化合物に該当しないラジカル重合性化合物を「第二のラジカル重合性化合物」と記載する。第二のラジカル重合性化合物は、ウレタン結合を１分子中に１個以上有していてもよく、有さなくてもよい。第一のラジカル重合性化合物と第二のラジカル重合性化合物とを併用する場合、それらの質量比は、第一のラジカル重合性化合物／第二のラジカル重合性化合物＝３／１～１／３０であることが好ましく、２／１～１／２０であることがより好ましく、１／１～１／１０であることが更に好ましい。
　第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物のアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物（ウレタン結合の有無を問わない）の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは３０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物のアクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に２個以上含むラジカル重合性化合物（ウレタン結合の有無を問わない）の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは９８質量％以下であり、より好ましくは９５質量％以下であり、更に好ましくは９０質量％以下である。
　また、第二の態様（１）のＨＣ層形成用硬化性組成物の第一のラジカル重合性化合物の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、好ましくは３０質量％以上であり、より好ましくは５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上である。一方、第一のラジカル重合性化合物の含有量は、組成物全量１００質量％に対して、９８質量％以下であることが好ましく、９５質量％以下であることがより好ましく、９０質量％以下であることが更に好ましい。
　第二のラジカル重合性化合物は、一態様では、好ましくは、ラジカル重合性基を１分子中に２個以上含み、ウレタン結合を持たないラジカル重合性化合物である。第二のラジカル重合性化合物に含まれるラジカル重合性基は、好ましくはエチレン性不飽和基であり、一態様では、ビニル基が好ましい。他の一態様では、エチレン性不飽和基は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基であることが好ましい。即ち、第二のラジカル重合性化合物は、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に１個以上有し、かつウレタン結合を持たないことも好ましい。また、第二のラジカル重合性化合物は、ラジカル重合性化合物として、一分子中に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基の１個以上と、これら以外のラジカル重合性基の１個以上と、含むこともできる。
　第二のラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、好ましくは、少なくとも２個であり、より好ましくは３個以上であり、更に好ましくは４個以上である。また、第二のラジカル重合性化合物の１分子中に含まれるラジカル重合性基の数は、一態様では、例えば１０個以下であるが、１０個超であってもよい。また、第二のラジカル重合性化合物としては、分子量が２００以上１０００未満のラジカル重合性化合物が好ましい。
　第二のラジカル重合性化合物としては、例えば以下のものを例示できる。ただし本発明は、下記例示化合物に限定されるものではない。
　例えば、ポリエチレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール３００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール６００ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エピクロルヒドリン変性エチレングリコールジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば長瀬産業製デナコールＤＡ－８１１等）、ポリプロピレングリコール２００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール４００ジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール７００ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド（ＥＯ；Ｅｔｈｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）・プロピレンオキシド（ＰＯ；Ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ　Ｏｘｉｄｅ）ブロックポリエーテルジ（メタ）アクリレート（市販品として、
例えば日本油脂製ブレンマーＰＥＴシリーズ等）、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製Ｍ－２１０、新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－２０等）、水添ビスフェノールＡ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（新中村化学工業製ＮＫエステルＡ－ＨＰＥ－４等）、ビスフェノールＡ　ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば共栄社化学製ライトアクリレートＢＰ－４ＰＡ等）、ビスフェノールＡ　エピクロルヒドリン付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えばダイセルＵＣＢ製エピクリル１５０等）、ビスフェノールＡ　ＥＯ・ＰＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東邦化学工業製ＢＰ－０２３－ＰＥ等）、ビスフェノールＦ　ＥＯ付加型ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製アロニックスＭ－２０８等）、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、およびそのエピクロルヒドリン変性品、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、およびそのカプロラクトン変性品、１，４－　ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、トリメチロールプロパンアクリル酸・安息香酸エステル、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製アロニックスＭ－２１５等）等の２官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
　また、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、イソシアヌル酸ＥＯ変性トリ（メタ）アクリレート（市販品として、例えば東亜合成製アロニックスＭ－３１５等）、トリス（メタ）アクリロイルオキシエチルフォスフェート、フタル酸水素－（２，２，２－トリ－（メタ）アクリロイルオキシメチル）エチル、グリセロールトリ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品等の３官能（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン変性品、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の５官能（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品、ソルビトールヘキサ（メタ）アクリレート、およびそのＥＯ、ＰＯ、エピクロルヒドリン、脂肪酸、アルキル変性品等の６官能（メタ）アクリレートが挙げられる。
　第二のラジカル重合性化合物は２種以上併用してもよい。この場合、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物“ＤＰＨＡ”（日本化薬製）などを好ましく用いることができる。
　また、第二のラジカル重合性化合物として、重量平均分子量が２００以上１０００未満のポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレートも好ましい。市販品では、ポリエステル（メタ）アクリレートとして、荒川化学工業製の商品名ビームセット７００シリーズ、例えばビームセット７００（６官能）、ビームセット７１０（４官能）、ビームセット７２０（３官能）等が挙げられる。また、エポキシ（メタ）アクリレートとしては、昭和高分子製の商品名ＳＰシリーズ、例えばＳＰ－１５０６、５００、ＳＰ－１５０７、４８０、ＶＲシリーズ、例えばＶＲ－７７、新中村化学工業製商品名ＥＡ－１０１０／ＥＣＡ、ＥＡ－１１０２０、ＥＡ－１０２５、ＥＡ－６３１０／ＥＣＡ等が挙げられる。
　また、第二のラジカル重合性化合物の具体例としては、下記例示化合物Ａ－９～Ａ－１
１を挙げることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　第二の態様の好ましい一態様である第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含むラジカル重合性化合物を含む。ｂ）１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を含む化合物を、以下において「ｂ）成分」とも記載する。
　ｂ）成分としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼンおよびその誘導体、ビニルスルホン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。中でも、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物が好ましい。具体例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステルであって、１分子中に３個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を挙げることができる。より詳しくは、例えば、（ジ）ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、（ジ）ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリペンタエリスリトールトリアクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサトリアクリレート、１，２，４－シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、等が挙げられる。なお上記の「（ジ）ペンタエリスリトール」とは、ペンタエリスリトールとジペンタエリスリトールの一方または両方の意味で用いられる。
　更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂も好ましい。
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含む樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、スピロアセタール系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリチオールポリエン系樹脂、多価アルコール等の多官能化合物等の重合体等も挙げられる。
　アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、特開２００７－２５６８４４号公報段落００９６に示されている例示化合物等を挙げることができる。
　更に、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基を１分子中に３個以上含むラジカル重合性化合物の具体例としては、日本化薬製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ－２Ｃ、同ＰＥＴ－３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ－３２０、同ＴＰＡ－３３０、同ＲＰ－１０４０、同Ｔ－１４２０、同Ｄ－３１０、同ＤＰＣＡ－２０、同ＤＰＣＡ－３０、同ＤＰＣＡ－６０、同ＧＰＯ－３０３、大阪有機化学工業製Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡ、同ＵＶ－２７５０Ｂ（日本合成化学製）、ＵＬ－５０３ＬＮ（共栄社化学製）、ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業製）、ＥＢ－１２９０Ｋ、ＥＢ－２２０、ＥＢ－５１２９、ＥＢ－１８３０，ＥＢ－４３５８（ダイセルＵＣＢ製）、ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ－１９６０（東亜合成製）、アートレジンＵＮ－３３２０ＨＡ、ＵＮ－３３２０ＨＣ、ＵＮ－３３２０ＨＳ、ＵＮ－９０４、ＨＤＰ－４Ｔ等の３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ－８１００、Ｍ－８０３０、Ｍ－９０５０（東亜合成製）、ＫＢＭ－８３０７（ダイセルサイテック製）の３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
　また、ｂ）成分としては、一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種胃需要を併用してもよい。
　前述の通り、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５～７０質量％、上記ｂ）由来の構造を２５～８０質量％、上記ｃ）を０．１～１０質量％、上記ｄ）を０．１～１０質量％含むことができる。ｂ）由来の構造は、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、４０～７５質量％含有されることが好ましく、６０～７５質量％含有されることがより好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、このＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、ｂ）成分を４０～７５質量％含むことが好ましく、６０～７５質量％含むことがより好ましい。
－カチオン重合性化合物－
　第二の態様のＨＣ層形成用硬化性組成物は、少なくとも一種のラジカル重合性化合物と少なくとも一種のカチオン重合性化合物を含むことが好ましい。カチオン重合性化合物としては、カチオン重合可能な重合性基（カチオン重合性基）を有するものであれば、何ら制限なく用いることができる。また、１分子中に含まれるカチオン重合性基の数は、少なくとも１個である。カチオン重合性化合物は、カチオン重合性基を１分子中に１個含む単官能化合物であっても、２個以上含む多官能化合物であってもよい。多官能化合物に含まれるカチオン重合性基の数は、特に限定されるものではないが、例えば１分子中に２～６個である。また、多官能化合物の１分子中に２個以上含まれるカチオン重合性基は、同一あってもよく、構造が異なる二種以上であってもよい。
　また、カチオン重合性化合物は、一態様では、カチオン重合性基とともに、１分子中に１個以上のラジカル重合性基を有することも好ましい。そのようなカチオン重合性化合物が有するラジカル重合性基については、ラジカル重合性化合物についての上述の記載を参照できる。好ましくは、エチレン性不飽和基であり、エチレン性不飽和基は、より好ましくは、ビニル基、アクリロイル基およびメタクリロイル基からなる群から選ばれるラジカル重合性基である。ラジカル重合性基を有するカチオン重合性化合物の１分子中のラジカル重合性基の数は、少なくとも１個であり、１～３個であることが好ましく、１個であることがより好ましい。
　カチオン重合性基としては、好ましくは、含酸素複素環基およびビニルエーテル基を挙げることができる。なおカチオン重合性化合物は、１分子中に、１個以上の含酸素複素環基と１個以上のビニルエーテル基を含んでいてもよい。
　含酸素複素環としては、単環であってもよく、縮合環であってもよい。また、ビシクロ骨格を有するものも好ましい。含酸素複素環は、非芳香族環であっても芳香族環であってもよく、非芳香族環であることが好ましい。単環の具体例としては、エポキシ環、テトラヒドロフラン環、オキセタン環を挙げることができる。また、ビシクロ骨格を有するものとしては、オキサビシクロ環を挙げることができる。なお含酸素複素環を含むカチオン重合性基は、１価の置換基として、または２価以上の多価置換基として、カチオン重合性化合物に含まれる。また、上記縮合環は、含酸素複素環の２個以上が縮合したものであっても、含酸素複素環の１個以上と含酸素複素環以外の環構造の１個以上が縮合したものであってもよい。上記の含酸素複素環以外の環構造としては、これらに限定されるものではないが、シクロヘキサン環等のシクロアルカン環を挙げることができる。
　以下に、含酸素複素環の具体例を示す。ただし、本発明は、下記具体例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　カチオン重合性化合物には、カチオン重合性基以外の部分構造が含まれていてもよい。そのような部分構造は、特に限定されるものではなく、直鎖構造であっても、分岐構造であっても、環状構造であってもよい。これら部分構造には、酸素原子、窒素原子等のヘテロ原子が１個以上含まれていてもよい。
　カチオン重合性化合物の好ましい一態様としては、カチオン重合性基として、またはカチオン重合性基以外の部分構造として、環状構造を含む化合物（環状構造含有化合物）を挙げることができる。環状構造含有化合物に含まれる環状構造は、１分子中に、例えば１個であり、２個以上であってもよい。環状構造含有化合物に含まれる環状構造の数は、１分子中に、例えば１～５個であるが、特に限定されるものではない。１分子中に２個以上の環状構造を含む化合物は、同一の環状構造を含んでいてもよく、構造の異なる二種以上の環状構造を含んでいてもよい。
　上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の一例としては、含酸素複素環を挙げることができる。その詳細は、先に記載した通りである。
　カチオン重合性化合物の１分子中に含まれるカチオン重合性基の数（以下、「Ｃ」と記載する。）によって分子量（以下、「Ｂ」と記載する。）を除して求められるカチオン重合性基当量（＝Ｂ／Ｃ）は、例えば３００以下であり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１５０未満であることが好ましい。一方、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層の吸湿性の観点からは、カチオン重合性基当量は、５０以上であることが好ましい。また、一態様では、カチオン重合性基当量を求めるカチオン重合性化合物に含まれるカチオン重合性基は、エポキシ基（エポキシ環）であることができる。即ち、一態様では、カチオン重合性化合物は、エポキシ環含有化合物である。エポキシ環含有化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、１分子中に含まれるエポキシ環の数によって分子量を除して求められるエポキシ基当量が、１５０未満であることが好ましい。また、エポキシ環含有化合物のエポキシ基当量は、例えば５０以上である。
　また、カチオン重合性化合物の分子量は５００以下であることが好ましく、３００以下であることが更に好ましい。上記範囲の分子量を有するカチオン重合性化合物は、樹脂フィルムへ浸透しやすい傾向があり、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上に寄与することができると推察している。
　第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）脂環式エポキシ基およびエチレン性不飽和基を含み、１分子中に含まれる脂環式エポキシ基の数が１個であり、かつ１分子中に含まれるエチレン性不飽和基の数が１個であり、分子量が３００以下であるカチオン重合性化合物を含む。以下において、上記ａ）を、「ａ）成分」と記載する。
　エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を含むラジカル重合性基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基およびＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基がより好ましい。１分子中の脂環式エポキシ基とエチレン性不飽和基の数は、それぞれ１個であることが好ましい。
　ａ）成分の分子量は、３００以下であり、２１０以下であることが好ましく、２００以下であることがより好ましい。
　ａ）成分の好ましい一態様としては、下記一般式（１）で表される化合物を挙げることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　一般式（１）中、Ｒは単環式炭化水素または架橋炭化水素を表し、Ｌは単結合または２価の連結基を表し、Ｑはエチレン性不飽和基を表す。
　一般式（１）中のＲが単環式炭化水素の場合、単環式炭化水素は脂環式炭化水素であることが好ましく、中でも炭素数４～１０の脂環基であることがより好ましく、炭素数５～７個の脂環基であることが更に好ましく、炭素数６個の脂環基であることが特に好ましい。好ましい具体例としては、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基を挙げることができ、シクロヘキシル基がより好ましい。
　一般式（１）中のＲが架橋炭化水素の場合、架橋炭化水素は、２環系架橋炭化水素（ビシクロ環）、３環系架橋炭化水素（トリシクロ環）が好ましい。具体例としては、炭素数５～２０個の架橋炭化水素が挙げられ、例えば、ノルボルニル基、ボルニル基、イソボルニル基、トリシクロデシル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンタニル基、トリシクロペンテニル基、トリシクロペンタニル基、アダマンチル基、低級（例えば炭素数１～６）アルキル基置換アダマンチル基等が挙げられる。
　Ｌが２価の連結基を表す場合、２価の連結基は、２価の脂肪族炭化水素基が好ましい。２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～６の範囲であることが好ましく、１～３の範囲であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
　Ｑとしては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を含むエチレン性不飽和基が挙げられ、中でも、アクリロイル基、メタクリロイル基およびＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、アクリロイル基およびメタクリロイル基がより好ましい。
　ａ）成分の具体例としては、特開平１０－１７６１４号公報段落００１５に例示されている各種化合物、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン等を挙げることができる。中でも、下記一般式（１Ａ）または（１Ｂ）で表される化合物がより好ましい。なお、下記一般式（１Ａ）で表される化合物は、その異性体も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　一般式（１Ａ）、（１Ｂ）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｌ２は炭素数１～６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。
　一般式（１Ａ）および（１Ｂ）中のＬ２で表される２価の脂肪族炭化水素基の炭素数は、１～６の範囲であり、１～３の範囲であることがより好ましく、炭素数１であることが更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状または環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状または分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。
　第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層は、好ましくは、ＨＣ層の全固形分を１００質量％とした場合に、上記ａ）由来の構造を１５～７０質量％含むことが好ましく、１８～５０質量％含むことがより好ましく、２２～４０質量％含むことが更に好ましい。また、第二の態様（２）のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ａ）成分を、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１５～７０質量％含むことが好ましく、１８～５０質量％含むことがより好ましく、２２～４０質量％含むことが更に好ましい。
　上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の他の一例としては、含窒素複素環を挙げることができる。含窒素複素環含有化合物は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点から好ましいカチオン重合性化合物である。含窒素複素環含有化合物としては、イソシアヌレート環（後述の例示化合物Ｂ－１～Ｂ－３に含まれる含窒素複素環）およびグリコールウリル環（後述の例示化合物Ｂ－１０に含まれる含窒素複素環）からなる群から選ばれる含窒素複素環を１分子中に１個以上有する化合物が好ましい。中でも、イソシアヌレート環を含む化合物（イソシアヌレート環含有化合物）は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点から、より好ましいカチオン重合性化合物である。これは、イソシアヌレート環が樹脂フィルムを構成する樹脂との親和性に優れるためと、本発明者らは推察している。この点からは、アクリル系樹脂フィルムを含む樹脂フィルムがより好ましく、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と直接接する表面がアクリル系樹脂フィルム表面であることが更に好ましい。
　また、上記環状構造含有化合物に含まれる環状構造の他の一例としては、脂環構造を挙げることができる。脂環構造としては、例えば、シクロ環、ジシクロ環、トリシクロ環構造を挙げることができ、具体例としては、ジシクロペンタニル環、シクロヘキサン環等を挙げることができる。
　以上説明したカチオン重合性化合物は、公知の方法で合成することができる。また、市販品として入手することも可能である。
　カチオン重合性基として含酸素複素環を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、例えば、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（株式会社ダイセル製サイクロマーＭ１００等の市販品）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ユニオンカーバイト製ＵＶＲ６１０５、ＵＶＲ６１１０およびダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０２１等の市販品）、ビス（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート（例えば、ユニオンカーバイト製ＵＶＲ６１２８）、ビニルシクロヘキセンモノエポキサイド（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０００）、ε－カプロラクトン変性３，４－エポキシシクロヘキシルメチル３’，４’－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ２０８１）、１－メチル－４－（２－メチルオキシラニル）－７－オキサビシクロ［４，１，０］ヘプタン（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ３０００）、７，７’‐ジオキサ‐３，３’‐ビ［ビシクロ［４．１．０］ヘプタン］（例えば、ダイセル化学製ＣＥＬＬＯＸＩＤＥ８０００）、３－エチル－３－ヒドロキシメチルオキセタン、１，４ビス｛［（３－エチル－３－オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、３－エチル－３－（フェノキシメチル）オキセタン、３－エチル－３－（２－エチルヘキシロキシメチル）オキセタンおよびジ［１－エチル（３－オキセタニル）］メチルエーテル等を挙げることができる。
　また、カチオン重合性基としてビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物の具体例としては、１，４－ブタンジオールジビニルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジビニルエーテル、ノナンジオールジビニルエーテル、シキロヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル等が挙げられる。ビニルエーテル基を含むカチオン重合性化合物としては、脂環構造を有するものも好ましい。
　更に、カチオン重合性化合物としては、特開平８－１４３８０６号公報、特開平８－２８３３２０号公報、特開２０００－１８６０７９号公報、特開２０００－３２７６７２号公報、特開２００４－３１５７７８号公報、特開２００５－２９６３２号公報等に例示されている化合物を用いることもできる。
　以下に、カチオン重合性化合物の具体例として例示化合物Ｂ－１～Ｂ－１４を示すが、本発明は下記具体例に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　また、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層と樹脂フィルムとの密着性向上の観点からは、ＨＣ層形成用硬化性組成物の好ましい態様としては、下記態様を挙げることができる。下記態様の１つ以上を満たすことがより好ましく、２つ以上を満たすことが更に好ましく、３つ以上を満たすことがいっそう好ましく、すべて満たすことがよりいっそう好ましい。なお１つのカチオン重合性化合物が、複数の態様を満たすことも好ましい。例えば、含窒素複素環含有化合物が、カチオン重合性基当量１５０未満であること等を、好ましい態様として例示できる。
（１）カチオン重合性化合物として、含窒素複素環含有化合物を含む。好ましくは、含窒素複素環含有化合物が有する含窒素複素環は、イソシアヌレート環およびグリコールウリル環からなる群から選択される。含窒素複素環含有化合物は、より好ましくは、イソシアヌレート環含有化合物である。更に好ましくは、イソシアヌレート環含有化合物は、１分子中に１つ以上のエポキシ環を含むエポキシ環含有化合物である。
（２）カチオン重合性化合物として、カチオン重合性基当量が１５０未満のカチオン重合性化合物を含む。好ましくは、エポキシ基当量が１５０未満のエポキシ基含有化合物を含む。
（３）カチオン重合性化合物が、エチレン性不飽和基を含む。
（４）カチオン重合性化合物として、１分子中に１個以上のオキセタン環を含むオキセタン環含有化合物を、他のカチオン重合性化合物とともに含む。好ましくは、オキセタン環含有化合物は、含窒素複素環を含まない化合物である。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは１０質量部以上であり、より好ましくは１５質量部以上であり、更に好ましくは２０質量部以上である。また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、ラジカル重合性化合物とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましい。
　また、上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン重合性化合物の含有量は、第一のラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、好ましくは０．０５質量部以上であり、より好ましくは０．１質量部以上であり、更に好ましくは１質量部以上である。一方、カチオン重合性化合物の含有量は、第一のラジカル重合性化合物の含有量とカチオン重合性化合物との合計含有量１００質量部に対して、５０質量部以下であることが好ましく、４０質量部以下であることがより好ましい。
　なお本発明および本明細書において、カチオン重合性基とラジカル重合性基をともに有する化合物は、カチオン重合性化合物に分類し、ＨＣ層形成用硬化性組成物における含有量を規定するものとする。
－重合開始剤－
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は重合開始剤を含むことが好ましく、光重合開始剤を含むことがより好ましい。ラジカル重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル光重合開始剤を含むことが好ましく、カチオン重合性化合物を含むＨＣ層形成用硬化性組成物は、カチオン光重合開始剤を含むことが好ましい。なおラジカル光重合開始剤は一種のみ用いてもよく、構造の異なる二種以上を併用してもよい。この点は、カチオン光重合開始剤についても同様である。
　以下、各光重合開始剤について、順次説明する。
（ｉ）ラジカル光重合開始剤
　ラジカル光重合開始剤としては、光照射により活性種としてラジカルを発生することができるものであればよく、公知のラジカル光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、ベンジルジメチルケタール、４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル－（２－ヒドロキシ－２－プロピル）ケトン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－メチル－２－モルホリノ（４－チオメチルフェニル）プロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）ブタノン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－［４－（１－メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー、２－ヒロドキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチル－プロピオニル）－ベンジル］フェニル｝－２－メチル－プロパン－１－オン等のアセトフェノン類；１，２－オクタンジオン、１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（０－アセチルオキシム）等のオキシムエステル類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、オルト－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチル－ジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－Ｎ，Ｎ－ジメチル－Ｎ－［２－（１－オキソ－２－プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４－ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン、２－（３－ジメチルアミノ－２－ヒドロキシ）－３，４－ジメチル－９Ｈ－チオキサントン－９－オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６－トリメチルベンゾイル－ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチル－ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）－フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類；等が挙げられる。また、ラジカル光重合開始剤の助剤として、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－ジメチルアミノエチル安息香酸、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸（ｎ－ブトキシ）エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、２，４－ジエチルチオキサンソン、２，４－ジイソプロピルチオキサンソン等を併用してもよい。
　以上のラジカル光重合開始剤および助剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品として入手も可能である。市販のラジカル光重合開始剤としては、ＢＡＳＦ製のイルガキュア（１２７，６５１，１８４，８１９，９０７，１８７０（ＣＧＩ－４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤、５００，３６９，１１７３，２９５９，４２６５，４２６３など）、ＯＸＥ０１）等、日本化薬製のＫＡＹＡＣＵＲＥ（ＤＥＴＸ－Ｓ，ＢＰ－１００，ＢＤＭＫ，ＣＴＸ，ＢＭＳ，２－ＥＡＱ，ＡＢＱ，ＣＰＴＸ，ＥＰＤ，ＩＴＸ，ＱＴＸ，ＢＴＣ，ＭＣＡなど）、サートマー製のＥｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴ０４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）等を好ましい例として挙げられる。
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のラジカル光重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性化合物の重合反応（ラジカル重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。上記ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれるラジカル重合性化合物１００質量部に対して、例えば０．１～２０質量部の範囲であり、好ましくは０．５～１０質量部、より好ましくは１～１０質量部の範囲である。
（ｉｉ）カチオン光重合開始剤
　カチオン光重合開始剤としては、光照射により活性種としてカチオンを発生することができるものであればよく、公知のカチオン光重合開始剤を、何ら制限なく用いることができる。具体例としては、公知のスルホニウム塩、アンモニウム塩、ヨードニウム塩（例えばジアリールヨードニウム塩）、トリアリールスルホニウム塩、ジアゾニウム塩、イミニウム塩などが挙げられる。より具体的には、例えば、特開平８－１４３８０６号公報段落００５０～００５３に示されている式（２５）～（２８）で表されるカチオン光重合開始剤、特開平８－２８３３２０号公報段落００２０にカチオン重合触媒として例示されているもの等を挙げることができる。また、カチオン光重合開始剤は、公知の方法で合成可能であり、市販品としても入手可能である。市販品としては、例えば、日本曹達製ＣＩ－１３７０、ＣＩ－２０６４、ＣＩ－２３９７、ＣＩ－２６２４、ＣＩ－２６３９、ＣＩ－２７３４、ＣＩ－２７５８、ＣＩ－２８２３、ＣＩ－２８５５およびＣＩ－５１０２等、ローディア製ＰＨＯＴＯＩＮＩＴＩＡＴＯＲ２０４７等、ユニオンカーバイト製ＵＶＩ－６９７４、ＵＶＩ－６９９０、サンアプロ製ＣＰＩ－１０Ｐを用いることができる。
　カチオン光重合開始剤としては、光重合開始剤の光に対する感度、化合物の安定性等の点からは、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が好ましい。また、耐候性の点からは、ヨードニウム塩が最も好ましい。
　ヨードニウム塩系のカチオン光重合開始剤の具体的な市販品としては、例えば、東京化成製Ｂ２３８０、みどり化学ＢＢＩ－１０２、和光純薬工業製ＷＰＩ－１１３、和光純薬工業製ＷＰＩ－１２４、和光純薬工業製ＷＰＩ－１６９、和光純薬工業製ＷＰＩ－１７０、東洋合成化学製ＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳを挙げることができる。
　また、カチオン光重合開始剤として使用可能なヨードニウム塩化合物の具体例としては、下記化合物ＰＡＧ－１、ＰＡＧ－２を挙げることもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　上記ＨＣ層形成用硬化性組成物のカチオン光重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物の重合反応（カチオン重合）を良好に進行させる範囲で適宜調整すればよく、特に限定されるものではない。カチオン重合性化合物１００質量部に対して、例えば０．１～２００質量部の範囲であり、好ましくは１～１５０質量部、より好ましくは２～１００質量部の範囲である。
　その他の光重合開始剤としては、特開２００９－２０４７２５号公報の段落００５２～００５５に記載の光重合開始剤を挙げることもでき、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
－ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る成分－
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、活性エネルギー線の照射により硬化する性質を有する少なくとも一種の成分と含フッ素化合物と含ポリシロキサン化合物とを含み、任意に少なくとも一種の重合開始剤を含むことができ、含むことが好ましい。それらの詳細は、先に記載した通りである。
　次に、ＨＣ層形成用硬化性組成物に任意に含まれ得る各種成分について説明する。
（ｉ）無機粒子
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、平均一次粒径が２μｍ未満の無機粒子を含むことができる。ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層を有する前面板の硬度向上（更にはこの前面板を有する液晶パネルの硬度向上）の観点からは、ＨＣ層形成用硬化性組成物およびこの組成物を硬化したＨＣ層は、平均一次粒径が２μｍ未満の無機粒子を含むことが好ましい。無機粒子の平均一次粒径は、１０ｎｍ～１μｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍ～１００ｎｍの範囲であることがより好ましく、１０ｎｍ～５０ｎｍの範囲であることが更に好ましい。
　無機粒子および後述のマット粒子の平均一次粒径については、透過型電子顕微鏡（倍率
５０万～２００万倍）で粒子の観察を行い、無作為に選択した粒子（一次粒子）１００個を観察し、それらの粒径の平均値をもって平均一次粒径とする。
　上記無機粒子としては、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。
　上記無機粒子は、ＨＣ層形成用硬化性組成物に含まれる有機成分との親和性を高めるために、その表面が有機セグメントを含む表面修飾剤で処理されていることが好ましい。表面修飾剤としては、無機粒子と結合を形成するか無機粒子に吸着し得る官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。無機粒子に結合または吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン系表面修飾剤、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。有機成分との親和性の高い官能基としては、有機成分と同様の親疎水性を有する官能基、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が挙げられる。中でも、有機成分と化学的に結合し得る官能基等が好ましく、エチレン性不飽和基または開環重合性基がより好ましい。
　好ましい無機粒子表面修飾剤は、金属アルコキシド表面修飾剤またはアニオン性基とエチレン性不飽和基もしくは開環重合性基を同一分子内に有する重合性化合物である。これら表面修飾剤によって無機粒子と有機成分とを化学的に結合させることによりＨＣ層の架橋密度を高めることができ、その結果、前面板の硬度（更にはこの前面板を含む液晶パネルの硬度）を向上させることができる。
　上記表面修飾剤の具体例としては、以下の例示化合物Ｓ－１～Ｓ－８が挙げられる。
　Ｓ－１　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　Ｓ－２　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＴｉ（ＯＣ２Ｈ５）３
　Ｓ－３　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０ＯＰＯ（ＯＨ）２
　Ｓ－４　（Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＣＯＣ５Ｈ１０Ｏ）２ＰＯＯＨ
　Ｓ－５　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ２Ｈ４ＯＳＯ３Ｈ
　Ｓ－６　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ５Ｈ１０ＣＯＯ）２Ｈ
　Ｓ－７　Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ５Ｈ１０ＣＯＯＨ
　Ｓ－８　ＣＨ２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ２ＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３
　（Ｘは、水素原子またはメチル基を表す）
　表面修飾剤による無機粒子の表面修飾は、溶液中で行うことが好ましい。無機粒子を機械的に分散する際に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、無機粒子を機械的に分散した後に表面修飾剤を添加して攪拌するか、または、無機粒子を機械的に分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、またはｐＨ（ｐｏｗｅｒ　ｏｆ　ｈｙｄｒｏｇｅｎ）変更を行う）、その後に分散を行ってもよい。表面修飾剤を溶解する溶媒としては、極性の大きな有機溶媒が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶媒が挙げられる。
　無機粒子の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、２０質量％以下が好ましく、１７質量％以下がより好ましく、８質量％未満がさらに好ましい。上記含有量の下限値は、特に限定されるものではなく、０質量％であってもよい（ＨＣ層中に無機粒子が含まれなくてもよい）が、含まれる場合には、１質量％以上が好ましく、７質量％以上がより好ましい。この無機粒子の一次粒子の形状は、球形、非球形を問わないが、無機粒子の一次粒子は球形であることが好ましく、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層中において球形の２～１０個の無機粒子（一次粒子）が連結した非球形の２次粒子以上の高次粒子として存在することが更なる硬度向上の観点からより好ましい。
　無機粒子の具体的な例としては、ＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０２（日揮触媒化成製の平均一次粒径１５ｎｍの球形シリカ粒子）やＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０３（日揮触媒化成製の異形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ（日産化学工業製平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（日産化学工業製の平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０（日産化学工業製の平均一次粒径４５ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ－Ｌ（日産化学工業製の平均一次粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ（日産化学工業製の平均一次粒径８５ｎｍの球形シリカ粒子）等を挙げることができる。中でも、日揮触媒化成製ＥＬＣＯＭ　Ｖ－８８０２が、更なる硬度向上の観点から好ましい。
（ｉｉ）マット粒子
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、マット粒子を含むこともできる。マット粒子とは、平均一次粒径が２μｍ以上の粒子をいうものとし、無機粒子であっても有機粒子であってもよく、または無機と有機の複合材料の粒子であってもよい。マット粒子の形状は、球形、非球形を問わない。マット粒子の平均一次粒径は、２～２０μｍの範囲であることが好ましく、４～１４μｍの範囲であることがより好ましく、６～１０μｍの範囲であることが更に好ましい。ただし、本発明におけるマット粒子は、エラストマー粒子（エラストマーを含有する粒子）ではない点で、前述の回復性粒子としてのエラストマー粒子とは異なる。
　マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ２粒子等の無機粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリル－スチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の有機粒子を挙げることができる。中でも、マット粒子が有機粒子であることが好ましく、架橋アクリル粒子、架橋アクリル－スチレン粒子、架橋スチレン粒子であることがより好ましい。
　マット粒子は、ＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化したＨＣ層における単位体積あたりの含有量として、０．１０ｇ／ｃｍ３以上であることが好ましく、０．１０ｇ／ｃｍ３～０．４０ｇ／ｃｍ３であることがより好ましく、０．１０ｇ／ｃｍ３～０．３０ｇ／ｃｍ３であることがより好ましい。
（ｉｉｉ）紫外線吸収剤
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、紫外線吸収剤を含有することも好ましい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール化合物、トリアジン化合物を挙げることができる。ここでベンゾトリアゾール化合物とは、ベンゾトリアゾール環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を挙げることができる。トリアジン化合物とは、トリアジン環を有する化合物であり、具体例としては、例えば特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３３に記載されている各種トリアジン系紫外線吸収剤を挙げることができる。樹脂フィルム中の紫外線吸収剤の含有量は、例えばフィルムに含まれる樹脂１００質量部に対して０．１～１０質量部程度であるが、特に限定されるものではない。また、紫外線吸収剤については、特開２０１３－１１１８３５号公報段落００３２も参照できる。なお本発明および本明細書における紫外線とは２００～３８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光をいうものとする。
（ｉｖ）レベリング剤
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、レベリング剤を含有することも好ましい。
　レベリング剤としては、含フッ素ポリマーが好ましく用いられる。例えば、特許５１７５８３１号に記載されているフルオロ脂肪族基含有ポリマーが挙げられる。またフルオロ脂肪族基含有ポリマーを構成する、一般式（１）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの含有量が全重合単位の５０質量％以下のフルオロ脂肪族基含有ポリマーをレベリング剤として用いることもできる。
　なお、後述の（ｖｉ）その他の成分に記載するレベリング剤も、上記に加えて含有することができる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物が、レベリング剤を含有する場合の含有量は、ＨＣ層形成用硬化性組成物の固形分中、０．０１～７質量％が好ましく、０．０５～５質量％がより好ましく、０．１～２質量％がさらに好ましい。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、レベリング剤を、１種のみ含んでいてもよいし、２種以上含んでいてもよい。２種以上含まれている場合、その合計量が上記範囲となることが好ましい。
（ｖ）溶媒
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことも好ましい。溶媒としては、有機溶媒が好ましく、有機溶媒の１種または２種以上を任意の割合で混合して用いることができる。有機溶媒の具体例としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ－ブタノール、ｉ－ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；エチルセロソルブ等のセロソルブ類；トルエン、キシレン等の芳香族類；プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類；ジアセトンアルコール等が挙げられる。これらの中でも、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸メチルが好ましく、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸メチルを任意の割合で混合して用いることがより好ましい。このような構成とすることにより、耐擦性、打抜き性および密着性により優れた光学フィルムが得られる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物中の溶媒量は、上記組成物の塗布適性を確保できる範囲で適宜調整することができる。例えば、重合性化合物および光重合開始剤の合計量１００質量部に対して、溶媒を５０～５００質量部とすることができ、好ましくは８０～２００質量部とすることができる。
　また、ＨＣ形成用硬化性組成物の固形分は、１０～９０質量％であることが好ましく、５０～８０質量％であることがより好ましく、６５～７５質量％であることが特に好ましい。
（ｖｉ）その他の成分
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、上記成分に加えて、前述の回復性粒子及び公知の添加剤等を一種以上、任意の量で含むことができる。添加剤としては、表面調整剤、レベリング剤、重合禁止剤等を挙げることができる。それらの詳細については、例えば特開２０１２－２２９４１２号公報の段落００３２～００３４を参照できる。ただし添加剤はこれらに限らず、ＨＣ層形成用硬化性組成物に一般に添加され得る各種添加剤を用いることができる。
　ＨＣ層形成用硬化性組成物は、以上記載した各種成分を同時に、または任意の順序で順次混合することにより調製することができる。調製方法は特に限定されるものではなく、調製には公知の攪拌機等を用いることができる。
２）２層以上の積層構造
　本発明の光学フィルムは、少なくとも、第１のＨＣ層、および第２のＨＣ層を樹脂フィルム側から順に有する態様も好ましい。
　樹脂フィルムの表面に、第１のＨＣ層が位置していても、間に他の層を有していてもよい。同様に、第１のＨＣ層の表面に、第２のＨＣ層が位置していても、間に他の層を有していてもよい。第１のＨＣ層と第２のＨＣ層の密着性を高める観点からは、第１のＨＣ層の表面に第２のＨＣ層が位置する、すなわち、両層は、膜面の少なくとも一部において接している方が好ましい。
　また、第１のＨＣ層および第２のＨＣ層は、それぞれ、１層であっても、２層以上であってもよいが、１層が好ましい。
　さらに、詳細を後述するとおり、本発明の光学フィルムをタッチパネルに用いる場合、上記第２のＨＣ層が画像表示素子の前面側となるように光学フィルムを配置することが好ましいが、光学フィルム表面の耐擦性、打抜き性を優れたものにするためには、上記第２のＨＣ層が光学フィルムの表面側、特に、最表面に配置されることが好ましい。
＜第１のＨＣ層、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物＞
　本発明に用いられる第１のＨＣ層は、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物から形成される。
　第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、ラジカル重合性基を有する重合性化合物１と、同一分子内にカチオン重合性基とラジカル重合性基を有し、かつ重合性化合物１とは異なる重合性化合物２とを含有することが好ましい。
（重合性化合物）
　重合性化合物１としては、前述のラジカル重合性化合物の記載が好ましく適用され、重合性化合物２としては、前述のカチオン重合性化合物におけるａ）成分の記載が好ましく適用される。
　また、第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、重合性化合物１とも重合性化合物２とも異なる他の重合性化合物を有していてもよい。
　上記他の重合性化合物は、カチオン重合性基を有する重合性化合物であることが好ましい。上記カチオン重合性基としては、重合性化合物２で述べたカチオン重合性基と同義であり、好ましい範囲も同様である。特に、本発明では、他の重合性化合物として、カチオン重合性基を含む、含窒素複素環含有化合物が好ましい。このような化合物を用いることにより、樹脂フィルムと第１のＨＣ層の密着性をより効果的に向上させることができる。含窒素複素環としては、イソシアヌレート環（後述の例示化合物Ｂ－１～Ｂ－３に含まれる含窒素複素環）およびグリコールウリル環（後述の例示化合物Ｂ－１０に含まれる含窒素複素環）からなる群から選ばれる含窒素複素環が例示され、イソシアヌレート環がより好ましい。他の重合性化合物が有するカチオン性基の数は、１～１０が好ましく、２～５がより好ましい。また、他の重合性化合物として、カチオン重合性基と含窒素複素環構造を有する重合性化合物を用いる場合、樹脂フィルムは、アクリル系樹脂フィルムを含む樹脂フィルムが好ましい。このような構成とすることにより、樹脂フィルムと第１のＨＣ層の密着性がより向上する傾向にある。
　他の重合性化合物の具体例としては、前述の例示化合物Ｂ－１～Ｂ－１４が挙げられるが、本発明は前述の具体例に限定されるものではない。
（その他）
　その他、前述の、回復性粒子、重合開始剤、無機粒子、マット粒子、外線吸収剤、含フッ素化合物、溶媒およびその他の成分の記載を好ましく適用することができる。
　特に第１のＨＣ層形成用硬化性組成物は、溶媒を含むことが好ましく、第２のＨＣ層形成用硬化性組成物は、含ポリシロキサン化合物および含フッ素化合物を含むことが好ましい。
（ＨＣ層の厚み）
　ＨＣ層の厚みは、３μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、５μｍ以上７０μｍ以下がより好ましく、１０μｍ以上５０μｍ以下がさらに好ましい。
（ＨＣ層の鉛筆硬度）
　ＨＣ層の鉛筆硬度は、硬いほどよく、具体的には３Ｈ以上が好ましく、４Ｈ以上がより好ましく、５Ｈ以上がさらに好ましく、６Ｈ以上が特に好ましく、７Ｈ以上が最も好ましい。
－ＨＣ層の形成方法－
　ＨＣ層形成用硬化性組成物を、樹脂フィルム上に直接、または易接着層等の他の層を介して、塗布し、活性エネルギー線を照射することにより、ＨＣ層を形成することができる。塗布は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ダイコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法により行うことができる。なおＨＣ層は、二種以上の異なる組成の組成物を同時または逐次塗布することにより二層以上（例えば二層～五層程度）の積層構造のＨＣ層として形成することもできる。
　塗布されたＨＣ層形成用硬化性組成物に対して活性エネルギー線照射を行うことにより、ＨＣ層を形成できる。例えば、ＨＣ層形成用硬化性組成物がラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物、ラジカル光重合開始剤およびカチオン光重合開始剤を含む場合、ラジカル重合性化合物およびカチオン重合性化合物の重合反応を、それぞれラジカル光重合開始剤、カチオン光重合開始剤の作用により開始させ進行させることができる。照射する光の波長は、用いる重合性化合物および重合開始剤の種類に応じて決定すればよい。光照射のための光源としては、１５０～４５０ｎｍ波長帯域の光を発する高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ　Ｅｍｉｔｔｉｎｇ　Ｄｉｏｄｅ）等を挙げることができる。また、光照射量は、通常、３０～３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であり、好ましくは１００～１５００ｍＪ／ｃｍ２の範囲である。光照射の前および後の一方または両方において、必要に応じて乾燥処理を行ってもよい。乾燥処理は、温風の吹き付け、加熱炉内への配置、加熱炉内での搬送等により行うことができる。ＨＣ層形成用硬化性組成物が溶媒を含む場合、加熱温度は、溶媒を乾燥除去できる温度に設定すればよく、特に限定されるものではない。ここで加熱温度とは、温風の温度または加熱炉内の雰囲気温度をいうものとする。
（３）その他の層
　本発明の光学フィルムは、上記の樹脂フィルム及びＨＣ層以外に、必要に応じて、粘着層及び衝撃吸収層等のその他の層を設けてもよい。
（粘着層）
　本発明の光学フィルムは、樹脂フィルムのＨＣ層を有する面とは反対側の面に粘着層を有していてもよい。粘着層を有する光学フィルムの一態様として、ＨＣ層、樹脂フィルム、粘着層がこの順に積層された構成を有する本発明の光学フィルムが挙げられる。
　上記粘着層は、その材質は特に限定されず、粘着剤でも接着剤でもよく、例えば、アクリル系粘着剤、ウレタン系粘着剤、合成ゴム系粘着剤、天然ゴム系粘着剤およびシリコン系粘着剤が挙げられ、アクリル系粘着剤が好ましい。なかでも、生産性の観点から、電離放射線硬化基を含有し、電離放射線硬化性であることが好ましい。
　粘着層は、厚みが１００μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましく、１５μｍ以下がさらに好ましい。粘着層の厚みが大きすぎると、樹脂フィルムと粘着層とをローラなどで圧着して積層体を形成した場合に、圧力ムラが生じて、所定の表面粗さＳａを有する光学フィルムを得られない場合がある。
　以下、具体的態様として、アクリル系粘着剤を含む粘着層について説明するが、本発明は下記具体的態様に限定されるものではない。
（粘着層の具体的態様）
　アクリル系粘着剤の一例としては、重量平均分子量が５０万～３００万の（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａを少なくとも含むか、または上記（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａと重量平均分子量が８０００～３０万の（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂとが架橋した成分を含むアクリル系粘着剤を挙げることができる。（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａと（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂの中で、重量平均分子量がより小さい（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂが占める割合を増すことにより粘着層の応力緩和率を高くすることができ、その割合を減らすことにより粘着層の応力緩和率を低くすることができる。上記成分において、（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａを１００質量部として、（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂの占める割合は、５～５０質量部の範囲であることが好ましく、１０～３０質量部の範囲であることがより好ましい。
　上記成分に含まれる（メタ）アクリル酸エステル重合体Ａおよび（メタ）アクリル酸エステル重合体Ｂの詳細については、特開２０１２－２１４５４５号公報段落００２０～００４６を参照できる。更に、これらを架橋する架橋剤の詳細については、特開２０１２－２１４５４５号公報段落００４９～００５８を参照できる。
　上記アクリル系粘着剤は、シランカップリング剤を含むことができ、含むことが好ましい。シランカップリング剤の詳細については、特開２０１２－２１４５４５号公報段落００５９～００６１を参照できる。更に、上記アクリル系粘着剤の調製方法および任意に含まれ得る添加剤や溶媒の詳細については、特開２０１２－２１４５４５号公報段落００６２～００７１を参照できる。
　一態様では、上記アクリル系粘着剤は、この粘着剤を剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に塗布、乾燥し、粘着層を形成し、粘着層含む粘着シートを形成することができる。この粘着シートの粘着層を上記樹脂フィルムに貼り合せることで、粘着層を有する光学フィルムを形成することができる。
（衝撃吸収層）
　本発明の光学フィルムは、樹脂フィルムのＨＣ層を有する面（すなわち、視認側）とは反対側の面に、衝撃吸収層を有してもよい。衝撃吸収層は、ＨＣ層側から受けた衝撃を吸収することで、例えば、本発明の光学フィルムを画像表示装置の前面板として使用する場合に、ＨＣ層側とは反対側に配置される画像表示素子の破損を防ぐことができる。衝撃吸収層を有する光学フィルムの一態様として、ＨＣ層、樹脂フィルム、衝撃吸収層がこの順に積層された構成を有する本発明の光学フィルムが挙げられる。
（衝撃吸収層材料）
　上記衝撃吸収層は、本発明の光学フィルムを画像表示装置の前面板として用いた際に、表示内容の視認性を確保できる透明性を有し、かつ前面板への押さえ付け及び衝突等に由来する画像表示素子の破損を防ぐことができるものであれば、樹脂から構成されていてもよいし、エラストマー（油展ゴムを含む）から構成されていてもよい。
　上記樹脂としては、１，２－ポリブタジエン樹脂、エチレン－酢酸ビニル共重合体（「ＥＶＡ」と略す。通常３質量％以上の酢酸ビニル構成単位を含有する。）及びポリエチレン等のポリオレフィン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ビニルエステル樹脂（ＥＶＡを除く）、飽和ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂（ポリフッ化ビニリデン等）、ポリカーボネート樹脂、ポリアセタール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、（メタ）アクリレート樹脂（（メタ）アクリル樹脂とも称し、（メタ）アクリル酸エステル樹脂等を意味する。）、不飽和ポリエステル樹脂及びケイ素樹脂、並びにこれらの樹脂の変性樹脂等が挙げられる。ウレタン樹脂としては、ウレタン変性ポリエステル樹脂やウレタン樹脂が挙げられる。
　エラストマーとしては、共役ジエンのブロック（共）重合体、アクリル系ブロック（共）重合体、スチレン系ブロック（共）重合体、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体、共役ジエンのブロック（共）重合体の水素添加物、芳香族ビニル化合物と共役ジエンとのブロック共重合体の水素添加物、エチレン－α－オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体、極性基変性オレフィン系共重合体と金属イオン及び／又は金属化合物とよりなるエラストマー、アクロルニトリル－ブタジエン系ゴム等のニトリル系ゴム、ブチルゴム、アクリル系ゴム、熱可塑性ポリオレフィンエラストマー（ＴＰＯ）、熱可塑性ポリウレタンエラストマー（ＴＰＵ）、熱可塑性ポリエステルエラストマー（ＴＰＥＥ）、熱可塑性ポリアミドエラストマー（ＴＰＡＥ）、ジエン系エラストマー（１，２－ポリブタジエン等）などの熱可塑性エラストマー、シリコーン系エラストマー、フッ素系エラストマーなどを挙げることができる。
　衝撃吸収層は、２５℃において、周波数１０５～１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有することが好ましい。この場合、２５℃において、周波数１０５～１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を少なくとも１つ有していればよく、周波数１０５～１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を２つ以上有していてもよい。また、１０５～１０１５Ｈｚ以外の周波数の範囲に更にｔａｎδの極大値を有していてもよく、この極大値が最大値であってもよい。
　衝撃吸収層の２５℃におけるｔａｎδの極大値は、衝撃吸収の観点から、０．１以上であることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。また、硬度の観点から、衝撃吸収層の２５℃におけるｔａｎδの極大値は、３．０以下であることが好ましい。
　本発明では、衝撃吸収層の２５℃における周波数とｔａｎδの関係について、下記の方法で周波数－ｔａｎδのグラフを作成し、ｔａｎδの極大値及び極大値を示す周波数を求める。
＜試料作製方法＞
　衝撃吸収素材を溶剤に溶解、または溶融させて得られた塗布液を、剥離処理が施された剥離ＰＥＴシートの剥離処理面に、乾燥後の厚みが４０μｍになるよう塗布、乾燥させた後、剥離ＰＥＴシートから衝撃吸収層を剥離し衝撃吸収層の試験片を作成する。
＜測定方法＞
　動的粘弾性測定装置（（株）アイティー・エス・ジャパン会社製ＤＶＡ－２２５）を用いて、あらかじめ温度２５℃、相対湿度６０％雰囲気下で２時間以上調湿した上記試験片について、「ステップ昇温・周波数分散」モードにおいて下記条件において測定を行った後、「マスターカーブ」編集にて２５℃における周波数に対するｔａｎδ、貯蔵弾性率および損失弾性率のマスターカーブを得る。得られたマスターカーブからｔａｎδの極大値及び極大値を示す周波数を求める。
　試料:５ｍｍ×３０ｍｍ
　つかみ間距離:２０ｍｍ
　設定歪み：０．１０％
　測定温度:－４０℃～４０℃
　昇温条件:２℃/ｍｉｎ
　ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層の貯蔵弾性率（Ｅ’）は３０ＭＰａ以上であることが好ましい。ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層のＥ’が３０ＭＰａ以上であることで、鉛筆硬度の悪化を抑制できる。ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層のＥ’は５０ＭＰａ以上であることがより好ましい。また、衝撃吸収の観点から、ｔａｎδの極大値を示す周波数における衝撃吸収層のＥ’は特に上限はないが、１０５ＭPa以下が実用的である。
　２５℃において、周波数１０５～１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する衝撃吸収層を構成する衝撃吸収層形成材料としては、（メタ）アクリレート樹脂やエラストマーが挙げられる。エラストマーとしては、アクリル系ブロック（共）重合体、スチレン系ブロック（共）重合体が好ましい。アクリル系ブロック共重合体としては、メタクリル酸メチルとｎ－ブチルアクリレートのブロック共重合体（「ＰＭＭＡ－ＰｎＢＡ共重合体」とも呼ぶ）等が挙げられる。スチレン系ブロック（共）重合体としては、イソプレンおよび／またはブテンとスチレンとのブロック共重合体等が挙げられる。衝撃吸収層が含み得る樹脂又はエラストマーは公知の方法で合成してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、たとえば、クラリティＬＡ１１１４、クラリティＬＡ２１４０、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ２３３０、クラリティＬＡ４２８５、ＨＹＢＲＡＲ５１２７、ＨＹＢＲＡＲ７３１１Ｆ（（株）クラレ製、商品名）などが挙げられる。
　衝撃吸収層は、ウレタン変性ポリエステル樹脂およびウレタン樹脂から選択される少なくとも一種を含む樹脂を用いて構成されてもよいし、２５℃において、周波数１０５～１０１５Ｈｚの範囲にｔａｎδの極大値を有する衝撃吸収層であってもよい。このような所定の極大値を有する衝撃吸収層は、（メタ）アクリレート樹脂及びエラストマーから選択される少なくとも一種を用いて構成されるのが好ましい。
　樹脂又はエラストマーの重量平均分子量は、溶剤への溶解性と硬度のバランスの観点から、１０,０００～１,０００,０００が好ましく、５０,０００～５００,０００がより好ましい。
　これらの樹脂またはエラストマーは、衝撃吸収層を構成する場合、重合体のみを構成材料とすることもできるが、軟化剤、可塑剤、滑剤、架橋剤、架橋助剤、光増感剤、酸化防止剤、老化防止剤、熱安定剤、難燃剤、防菌剤、防かび剤、耐候剤、紫外線吸収剤、粘着付与剤、造核剤、顔料、染料、有機フィラー、無機フィラー、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等の添加剤及び他の重合体を含有する組成物を構成材料とすることもできる。即ち、衝撃吸収層は、樹脂組成物またはエラストマー組成物を用いて構成されてもよい。
　衝撃吸収層に添加される無機フィラーは、特に限定されないが、例えば、シリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子、マイカ、タルク等を使用することができ、これらは、１種または２種以上を併用することができる。衝撃吸収層への分散の点から、シリカ粒子が好ましい。
　無機フィラーの表面は、衝撃吸収層を構成する樹脂との親和性を高めるため、無機フィラーに結合もしくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤で処理されてもよい。このような表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が挙げられる。
　無機フィラーの含有量は、衝撃吸収層の弾性率とｔａｎδのバランスを考慮して、衝撃吸収層固形分中、１～４０質量％が好ましく、５～３０質量％がより好ましく、５～１５質量％がさらに好ましい。無機フィラーのサイズ（平均一次粒径）は、１０ｎｍ～１００ｎｍが好ましく、更に好ましくは１５～６０ｎｍである。無機フィラーの平均一次粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機フィラーの粒径が小さすぎると、弾性率の改良効果が得られず、大きすぎるとヘイズ上昇の原因となる場合がある。無機フィラーの形状は、板状、球形、非球形を問わない。
　無機フィラーの具体的な例としては、ＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０２（日揮触媒化成（株）製、平均一次粒径１２ｎｍの球形シリカ微粒子）やＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０３（日揮触媒化成（株）製、異形シリカ微粒子）、ＭＩＢＫ－ＳＴ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０（日産化学工業（株）製、平均一次粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＩＢＫ－ＳＤ－Ｌ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ（日産化学工業（株）製、平均一次粒径７０～１００ｎｍの球形シリカ微粒子）等が挙げられる。
（衝撃吸収層の形成方法）
　衝撃吸収層の形成方法には特に限定はなく、たとえば、コーティング法、キャスト法（無溶剤キャスト法及び溶剤キャスト法）、プレス法、押出法、射出成形法、注型法及びインフレーション法等が挙げられる。詳細には、上記衝撃吸収材料を溶媒に溶解もしくは分散させた液状物、又は上記衝撃吸収材料を構成する成分の溶融液を調製し、次いで、この液状物又は溶融液を樹脂フィルムに塗布し、その後、必要により溶媒の除去等をすることにより、樹脂フィルム（又はＨＣ層付き樹脂フィルムの樹脂フィルム）上に衝撃吸収層を作製することができる。
　また、剥離処理が施された剥離シートの剥離処理面に衝撃吸収層材料を上記と同様に塗布、乾燥し、衝撃吸収層を有するシートを形成し、このシートの衝撃吸収層を樹脂フィルムと貼り合せることで、樹脂フィルム（又はＨＣ層付き樹脂フィルムの樹脂フィルム）上に衝撃吸収層を作製することもできる。
　衝撃吸収層が樹脂で構成されている場合、衝撃吸収層は、架橋されていない樹脂により構成されていてもよいし、少なくとも一部が架橋された樹脂により構成されていてもよい。樹脂を架橋する方法については特に限定はなく、例えば、電子線照射、紫外線照射、及び架橋剤（例えば、有機過酸化物等）を用いる方法から選ばれる手段が挙げられる。樹脂の架橋を電子線照射により行う場合は、得られた架橋前の衝撃吸収層に対し、電子線照射装置により電子線を照射することにより、架橋を形成することができる。また、紫外線照射の場合は、得られた架橋前の衝撃吸収層について、紫外線照射装置により紫外線を照射することにより、必要に応じて配合された光増感剤の効果によって架橋を形成することができる。更に、架橋剤を用いる場合は、得られた架橋前の衝撃吸収層について、通常、窒素雰囲気下等、空気の存在しない雰囲気で加熱することにより、必要に応じて配合された有機過酸化物等の架橋剤、更には架橋助剤の効果によって架橋を形成することができる。
　衝撃吸収層の膜厚は、衝撃吸収性の点から、５μｍ以上が好ましく、１０μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上がさらに好ましい。上限値は１００μｍ以下であることが実際的である。
（衝撃吸収層の保護フィルム層）
　本発明の光学フィルムが衝撃吸収層を有する場合、衝撃吸収層の樹脂フィルムとは反対側の面に、剥離可能な保護フィルム層を設けることが好ましい。かかる保護フィルム層を有することにより、使用前の光学フィルムが有する衝撃吸収層の破損および埃、汚れ等の付着を防ぐことができ、使用時には上記保護フィルム層を剥がすことができる。
　保護フィルム層と衝撃吸収層との間には、保護フィルム層の剥離を容易にするために、剥離層を設けることができる。かかる剥離層を設ける方法は、特に限定されるものではなく、例えば、保護フィルム層及び衝撃吸収層のうちの少なくともいずれかの表面に剥離コート剤を塗布することにより設けることができる。剥離コート剤の種類については特に限定されるものではなく、たとえば、シリコーン系コート剤、無機系コート剤、フッ素コート剤、有機無機ハイブリッド系コート剤等が挙げられる。
　保護フィルム層と剥離層とを備える光学フィルムは、通常は保護フィルム層表面に剥離層を設けた後、衝撃吸収層の表面に積層することにより得ることができる。この場合、上記剥離層は保護フィルム層表面ではなく、衝撃吸収層の表面に設けてもよい。
（４）光学フィルムを有する物品
　本発明の光学フィルムを含む物品としては、家電業界、電気電子業界、自動車業界、住宅業界をはじめとする様々な産業界において打鍵耐久性及び摺動耐久性、並びに製造適正を向上することが求められる各種物品を挙げることができる。具体例としては、タッチセンサ、タッチパネル、液晶表示装置等の画像表示装置、自動車の窓ガラス、住居の窓ガラス、等を挙げることができる。これら物品に、好ましくは表面保護フィルムとして本発明の光学フィルムを設けることにより、打鍵耐久性及び摺動耐久性に優れた物品を提供することが可能となる。本発明の光学フィルムは、画像表示装置用の前面板に用いられる光学フィルムとして好ましく用いられ、タッチパネルの画像表示素子の前面板に用いられる光学フィルムであることがより好ましい。
　本発明の光学フィルムを用いることができるタッチパネルは特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、表面型静電容量式タッチパネル、投影型静電容量式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。詳細については、後述する。
　なお、タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサを含むものとする。タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基板の両面に透明電極を具備する方式、片面ジャンパーあるいはスルーホール方式あるいは片面積層方式のいずれでもよい。
＜＜画像表示装置＞＞
　本発明の光学フィルムを有する画像表示装置は、本発明の光学フィルムを有する前面板と、画像表示素子とを有する画像表示装置である。
　画像表示装置としては、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ　Ｄｉｓｐｌａｙ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置およびタッチパネルのような画像表示装置に用いることができる。
　液晶表示装置としては、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ－Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＴＳＴＮ（Ｔｒｉｐｌｅ　Ｓｕｐｅｒ　Ｔｗｉｓｔｅｄ　Ｎｅｍａｔｉｃ）型、マルチドメイン型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ　Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ　Ｐｌａｎｅ　Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ＣｏｍｐｅｎｓａｔｅｄＢｅｎｄ）型等が挙げられる。
　画像表示装置は、脆性が改良されハンドリング性に優れ、表面平滑性やシワによる表示品位を損なう事が無く、湿熱試験時の光漏れを低減できることが好ましい。
　すなわち、本発明の光学フィルムを有する画像表示装置は、画像表示素子が液晶表示素子であることが好ましい。液晶表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰなどを挙げることができる。
　本発明の光学フィルムを有する画像表示装置は、画像表示素子が有機エレクトロルミネッセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ；ＥＬ）表示素子であることも好ましい。
　有機エレクトロルミネッセンス表示素子は、公知技術を、何ら制限なく適用することができる。有機エレクトロルミネッセンス表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ　ＳＩＩなどを挙げることができる。
　本発明の光学フィルムを有する画像表示装置は、画像表示素子がインセル（Ｉｎ－Ｃｅ
ｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。インセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル内に内蔵したものである。
　インセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１１－７６６０２号公報、特開２０１１－２２２００９号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。インセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ソニーエリクソン社製、エクスペリアＰなどを挙げることができる。
　また、本発明の光学フィルムを有する画像表示装置は、画像表示素子がオンセル（Ｏｎ－Ｃｅｌｌ）タッチパネル表示素子であることも好ましい。オンセルタッチパネル表示素子とは、タッチパネル機能を画像表示素子セル外に配置したものである。
　オンセルタッチパネル表示素子は、例えば、特開２０１２－８８６８３号公報等の公知技術を、何ら制限なく適用することができる。オンセルタッチパネル表示素子を有する画像表示装置としては、ＳＡＭＳＵＮＧ社製、ＧＡＬＡＸＹ　ＳＩＩなどを挙げることができる。
＜＜タッチパネル＞＞
　本発明の光学フィルムを有するタッチパネルは、本発明の光学フィルムにタッチセンサーフィルムを貼り合わせてタッチセンサを含むタッチパネルである。本発明の光学フィルムはＨＣ層を有するため、ＨＣ層が配置された面とは反対側の樹脂フィルム面にタッチセンサーフィルムを貼り合わせることが好ましい。
　タッチセンサーフィルムとしては特に制限はないが、導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。
　導電性フィルムは、任意の支持体の上に導電層が形成された導電性フィルムであることが好ましい。
　導電層の材料としては特に制限されるものではなく、例えば、インジュウム・スズ複合酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）、スズ酸化物およびスズ・チタン複合酸化物（Ａｎｔｉｍｏｎｙ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅ；ＡＴＯ）、銅、銀、アルミニウム、ニッケル、クロムやこれらの合金などがあげられる。
　導電層は、電極パターンであることが好ましい。また、透明電極パターンであることも好ましい。電極パターンは透明導電材料層をパターニングしたものでもよく、不透明な導電材料の層をパターン形成したものでもよい。
　透明導電材料としてはＩＴＯやＡＴＯなどの酸化物、銀ナノワイヤ、カーボンナノチューブ、導電性高分子等を用いることができる。
　不透明な導電材料の層としては例えば金属層が挙げられる。金属層としては導電性を持った金属であれば使用可能であり、銀、銅、金、アルミニウム等が好適に用いられる。金属層は単体の金属や合金であってもよく、金属粒子が結着材により結着されたものでもよい。又、必要に応じて、金属表面に対し黒化処理や防錆処理が適用される。金属を用いる場合は、実質透明なセンサー部と周辺の配線部を一括形成することが可能である。
　導電層が、複数の金属細線を含むことが好ましい。
　金属細線が銀または銀を含む合金からなることが好ましい。金属細線が銀または銀を含む合金からなる導電層としては特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１４－１６８８８６号公報の段落００４０～００４１に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　金属細線が銅または銅を含む合金からなることも好ましい。上記合金は、特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１５－４９８５２号公報の段落００３８～００５９に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　導電層が酸化物からなることも好ましい。導電層が酸化物からなる場合、酸化物が酸化スズを含有する酸化インジウムまたはアンチモンを含有する酸化スズからなることがより好ましい。導電層が酸化物からなる導電層としては特に制限は無く、公知の導電層を用いることができる。例えば、特開２０１０－２７２９３号公報の段落００１７～００３７に記載の導電層を用いることが好ましく、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
　これらの構成の導電層の中でも、導電層が、複数の金属細線を含み、金属細線がメッシュ状もしくはランダム状に配置されていることが好ましく、金属細線がメッシュ状に配置されていることがより好ましい。その中でも、金属細線がメッシュ状に配置されており、金属細線が銀または銀を含む合金からなることが特に好ましい。
　タッチセンサーフィルムは、両面に導電層を有することも好ましい。
　タッチセンサーフィルムの好ましい態様については、特開２０１２－２０６３０７号公報の段落００１６～００４２に記載があり、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
＜＜抵抗膜式タッチパネル＞＞
　本発明の光学フィルムを有する抵抗膜式タッチパネルは、本発明の光学フィルムを有する前面板を有する抵抗膜式タッチパネルである。
　抵抗膜式タッチパネルは、導電性膜を有する上下１対の基板の導電性膜同士が対向するようにスペーサーを介して配置された基本構成からなるものである。なお抵抗膜式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
＜＜静電容量式タッチパネル＞＞
　本発明の光学フィルムを有する静電容量式タッチパネルは、本発明の光学フィルムを有する前面板を有する静電容量式タッチパネルである。
　静電容量式タッチパネルの方式としては、表面型静電容量式、投影型静電容量式等が挙げられる。投影型の静電容量式タッチパネルは、Ｘ軸電極と、Ｘ電極と直交するＹ軸電極とを絶縁体を介して配置した基本構成からなる。具体的態様としては、Ｘ電極およびＹ電極が、１枚の基板上の別々の面に形成される態様、１枚の基板上にＸ電極、絶縁体層、Ｙ電極を上記順で形成する態様、１枚の基板上にＸ電極を形成し、別の基板上にＹ電極を形成する態様（この態様では、２枚の基板を貼り合わせた構成が上記基本構成となる）等が挙げられる。なお静電容量式タッチパネルの構成は公知であり、本発明では公知技術を何ら制限なく適用することができる。
　静電容量式タッチパネルの電極パターンの形状としては、所謂バーアンドストライプの電極パターン形状以外にも、例えば国際公開ＷＯ２０１０／０１２１７９号公報の図１６に開示されているダイヤモンドパターン、国際公開ＷＯ２０１３／０９４７２８号公報の図７または図２０に開示されている電極パターン形状にも適用できることはもちろんのこと、他の形状の静電容量式タッチパネルの電極パターンにも適用できる。
　また、ＵＳ２０１２／０２６２４１４号公報等に開示されている交差部がない電極構成のように検出電極が基板の片側にしかない構成のタッチパネルにも適用できる。
　さらに、タッチパネルは他の機能フィルムとの組合せとの使用も可能である、特開２０１４－１３２６４号公報に開示されている高レタレーション値を有する基板を用いたニジムラを防止する画像品位向上用機能フィルム、特開２０１４－１４２４６２号公報に開示されているタッチパネルの電極の視認性改善の為の円偏光板との組合せ等も可能である。
＜＜画像表示機能付きミラー＞＞
　本発明の光学フィルムは、樹脂フィルムの、ＨＣ層を有する面とは反対側の面に、反射層（直線偏光反射層または円偏光反射層）を有してもよい。かかる光学フィルムは、画像表示素子と組み合わせることにより、画像表示機能付きミラーの前面板に用いられる光学フィルムとして好ましく用いられる。本発明の光学フィルムと反射層との間には、粘着層を設けてもよく、粘着層としては、光学透明粘着シート（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ａｄｈｅｓｉｖｅ）または光学透明粘着樹脂（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｃｌｅａｒ　Ｒｅｓｉｎ）が使用できる。
　本明細書において、画像表示機能付きミラーの前面板に用いられる、直線偏光反射層または円偏光反射層を有する光学フィルムを「ハーフミラー」と称することがある。
　画像表示機能付きミラーで用いられる画像表示素子としては、特に限定されるものではなく、たとえば前述の画像表示装置において好適に用いられる画像表示素子が挙げられる。
　画像表示機能付きミラーは、ハーフミラーの直線偏光反射層または円偏光反射層を有する側に、画像表示素子が配置されて構成される。画像表示機能付きミラーにおいて、ハーフミラーと画像表示素子は、直接接していてもよく、ハーフミラーと画像表示素子との間に別の層が介在していてもよい。例えば、画像表示素子とハーフミラーとの間には、空気層が存在してもよく、または接着層が存在していてもよい。
　本明細書においては、画像表示素子に対してハーフミラー側の表面を前面ということがある。
　画像表示機能付きミラーは、例えば、車両のルームミラー（インナーミラー）として用いることができる。画像表示機能付きミラーは、ルームミラーとしての使用のため、フレーム、ハウジングおよび車両本体に取り付けるための支持アーム等を有していてもよい。あるいは、画像表示機能付きミラーはルームミラーへの組み込み用に成形されたものであってもよい。かかる形状の画像表示機能付きミラーにおいては、通常使用時に上下左右となる方向が特定できる。
　画像表示機能付きミラーは、板状またはフィルム状であればよく、曲面を有していてもよい。画像表示機能付きミラーの前面は平坦であってもよく、湾曲していてもよい。湾曲させて、凸曲面を前面側とすることにより、広角的に後方視野等を視認できるワイドミラーとすることも可能である。このような湾曲した前面は湾曲したハーフミラーを用いて作製することができる。
　湾曲は、上下方向、左右方向、または上下方向および左右方向にあればよい。また、湾曲は、曲率半径が５００～３０００ｍｍであればよく、１０００～２５００ｍｍであることがより好ましい。曲率半径は、断面で湾曲部分の外接円を仮定した場合の、この外接円の半径である。
＜＜反射層＞＞
　反射層としては、半透過半反射層として機能できる反射層を用いればよい。すなわち、反射層は、画像表示時には、画像表示素子が備える光源からの出射光を透過させることにより、画像表示機能付きミラーの前面に画像が表示されるように機能し、一方で、画像非表示時には、反射層は、前面方向からの入射光の少なくとも一部を反射するとともに、画像表示素子からの反射光を透過させ、画像表示機能付きミラーの前面がミラーとなるように機能するものであればよい。
　反射層としては、偏光反射層が用いられる。偏光反射層は、直線偏光反射層または円偏光反射層であればよい。
［直線偏光反射層］
　直線偏光反射層としては、例えば、（ｉ）多層構造の直線偏光反射板、（ｉｉ）複屈折の異なる薄膜を積層してなる偏光子、（ｉｉｉ）ワイヤーグリッド型偏光子、（ｉｖ）偏光プリズムおよび（ｖ）散乱異方性型偏光板が挙げられる。
（ｉ）多層構造の直線偏光反射板としては、屈折率の異なる誘電体材料を支持体上に斜め方向から真空蒸着法またはスパッタリング法によって積層した複数層積層薄膜が挙げられる。波長選択反射膜とするためには、高屈折率の誘電体薄膜と低屈折率の誘電体薄膜とを交互に複数層積層することが好ましいが、２種以上に限定されず、それ以上の種類であってもよい。積層数は、２層～２０層が好ましく、２層～１２層がより好ましく、４層～１０層が更に好ましく、６層～８層が特に好ましい。積層数が２０層を超えると、生産効率が低下し、本発明の目的及び効果を達成できなくなることがある。
　誘電体薄膜の成膜方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、イオンプレーティングおよびイオンビーム等の真空蒸着法、スパッタリング等の物理的気相成長法（ＰＶＤ法）ならびに化学的気相成長法（ＣＶＤ法）が挙げられる。これらの中でも、真空蒸着法またはスパッタリング法が好ましく、スパッタリング法が特に好ましい。
　（ｉｉ）複屈折の異なる薄膜を積層してなる偏光子としては、例えば特表平９－５０６８３７号公報などに記載された偏光子を用いることができる。また、屈折率関係を得るために選ばれた条件下で加工することにより、広く様々な材料を用いて、偏光子を形成できる。一般に、第一の材料の一つが、選ばれた方向において、第二の材料とは異なる屈折率を有することが必要である。この屈折率の違いは、フィルムの形成中、又はフィルムの形成後の延伸、押出成形、もしくはコーティングを含む様々な方法で達成できる。更に、２つの材料を同時押出することができるように、類似のレオロジー特性（例えば、溶融粘度）を有することが好ましい。
　複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子としては、市販品を用いることができ、市販品としては、例えば、ＤＢＥＦ（登録商標）（３Ｍ社製）が挙げられる。
　（ｉｉｉ）ワイヤーグリッド型偏光子は、金属細線の複屈折によって、偏光の一方を透過させ、他方を反射させる偏光子である。
　ワイヤーグリッド偏光子は、金属ワイヤーを周期的に配列したもので、テラヘルツ波帯域で主に偏光子として用いられる。ワイヤーグリッドが偏光子として機能するためには、ワイヤー間隔が入射電磁波の波長よりも十分小さいことが必要となる。
　ワイヤーグリッド偏光子では、金属ワイヤーが等間隔に配列されている。金属ワイヤーの長手方向と平行な偏光方向の偏光成分はワイヤーグリッド偏光子において反射され、垂直な偏光方向の偏光成分はワイヤーグリッド偏光子を透過する。
　ワイヤーグリッド型偏光子としては、市販品を用いることができ、市販品としては、例えば、エドモンドオプティクス社製のワイヤーグリッド偏光フィルタ５０×５０、ＮＴ４６－６３６（商品名）が挙げられる。
［円偏光反射層］
　ハーフミラーに円偏光反射層を用いることにより、前面側からの入射光を円偏光として反射させ、画像表示素子からの入射光を円偏光として透過させることができる。そのため、円偏光反射層を用いた画像表示機能付きミラーでは、偏光サングラスを介しても、画像表示機能付きミラーの方向に依存せずに、表示画像およびミラー反射像の観察を行うことができる。
　円偏光反射層の例としては、直線偏光反射板と１／４波長板とを含む円偏光反射層、およびコレステリック液晶層を含む円偏光反射層（以下、両者の区別のため、それぞれ「Ｐｏｌλ／４円偏光反射層」「コレステリック円偏光反射層」ということがある。）が挙げられる。
［［Ｐｏｌλ／４円偏光反射層］］
　Ｐｏｌλ／４円偏光反射層において、直線偏光反射板と１／４波長板とは直線偏光反射板の偏光反射軸に対しλ／４波長板の遅相軸が４５°となるように配置されていればよい。また、１／４波長板と直線偏光反射板とは、例えば、接着層により接着されていればよい。
　Ｐｏｌλ／４円偏光反射層において、直線偏光反射板が画像表示素子に近い面となるように配置して使用する、つまり、光学フィルムに対し１／４波長板および直線偏光反射板をこの順に配置して使用することで、画像表示素子からの画像表示のための光を効率よく円偏光に変換して、画像表示機能付きミラー前面から出射させることができる。画像表示素子からの画像表示のための光が直線偏光であるとき、この直線偏光を透過するように直線偏光反射板の偏光反射軸を調整すればよい。
　Ｐｏｌλ／４円偏光反射層の厚みは２．０μｍ～３００μｍの範囲が好ましく、８．０μｍ～２００μｍの範囲がより好ましい。
　直線偏光反射板としては、上記で直線偏光反射層として説明したものを用いることができる。
　１／４波長板としては、後述する１／４波長板を用いることができる。
［コレステリック円偏光反射層］
　コレステリック円偏光反射層は、コレステリック液晶層を少なくとも１層含む。コレステリック円偏光反射層に含まれるコレステリック液晶層は可視光領域で選択反射を示すものであればよい。
　円偏光反射層は２層以上のコレステリック液晶層を含んでいてもよく、配向層などの他の層を含んでいてもよい。円偏光反射層はコレステリック液晶層のみからなることが好ましい。また、円偏光反射層が複数のコレステリック液晶層を含むときは、それらは隣接するコレステリック液晶層と直接接していることが好ましい。円偏光反射層は、３層および４層など、３層以上のコレステリック液晶層を含んでいることが好ましい。
　コレステリック円偏光反射層の厚みは、２．０μｍ～３００μｍの範囲が好ましく、８．０～２００μｍの範囲がより好ましい。
　本明細書において、「コレステリック液晶層」は、コレステリック液晶相を固定した層を意味する。コレステリック液晶層を単に液晶層ということもある。
　コレステリック液晶相は、特定の波長域において右円偏光または左円偏光のいずれか一方のセンスの円偏光を選択的に反射させるとともに他方のセンスの円偏光を選択的に透過する円偏光選択反射を示すことが知られている。本明細書において、円偏光選択反射を単に選択反射ということもある。
　円偏光選択反射性を示すコレステリック液晶相を固定した層を含むフィルムとして、重合性液晶化合物を含む組成物から形成されたフィルムは従来から数多く知られており、コレステリック液晶層については、それらの常法を参照することができる。
　コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持されている層であればよく、典型的には、重合性液晶化合物をコレステリック液晶相の配向状態としたうえで、紫外線照射、加熱等によって重合、硬化し、流動性が無い層を形成して、同時に、また外場や外力によって配向形態に変化を生じさせることのない状態に変化した層であればよい。なお、コレステリック液晶層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、層中の液晶化合物はもはや液晶性を示していなくてもよい。例えば、重合性液晶化合物は、硬化反応により高分子量化して、もはや液晶性を失っていてもよい。
　コレステリック液晶層の選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、コレステリック液晶層の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。なお、コレステリック液晶層の選択反射の中心波長と半値幅は下記のように求めることができる。
　分光光度計ＵＶ３１５０（島津製作所社製、商品名）を用いて反射層の透過スペクトル（コレステリック液晶層の法線方向から測定したもの）を測定すると、選択反射領域に透過率の低下ピークがみられる。この最も大きいピーク高さの１／２の高さの透過率となる２つの波長のうち、短波長側の波長の値をλ１（ｎｍ）、長波長側の波長の値をλ２（ｎｍ）とすると、選択反射の中心波長と半値幅は下記式で表すことができる。
　　選択反射の中心波長＝（λ１＋λ２）／２
　　半値幅＝（λ２－λ１）
　上記のように求められる、コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長と通常一致する。なお、本明細書において、「選択反射の中心波長」はコレステリック液晶層の法線方向から測定した時の中心波長を意味する。
　上記式から分かるように、螺旋構造のピッチを調節することによって、選択反射の中心波長を調整できる。ｎ値とＰ値を調節することにより、所望の波長の光に対して右円偏光または左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させるための、中心波長λを調節することができる。
　コレステリック液晶層に対して斜めに光が入射する場合は、選択反射の中心波長は短波長側にシフトする。そのため、画像表示のために必要とされる選択反射の中心波長に対して、上記のλ＝ｎ×Ｐの式に従って計算されるλが長波長となるようにｎ×Ｐを調整することが好ましい。屈折率ｎ２のコレステリック液晶層中で、コレステリック液晶層の法線方向（コレステリック液晶層の螺旋軸方向）に対して光線がθ２の角度で通過するときの選択反射の中心波長をλｄとすると、λｄは以下の式で表される。
　　λｄ＝ｎ２×Ｐ×ｃｏｓθ２
　上記を考慮して、円偏光反射層に含まれるコレステリック液晶層の選択反射の中心波長を設計することにより、画像の斜めからの視認性の低下を防止することができる。また、画像の斜めからの視認性を意図的に低下させることもできる。これは例えばスマートフォンやパーソナルコンピューターにおいて、覗き見を防止することができるため有用である。また、上記の選択反射の性質により、本発明の光学フィルムを有する画像表示機能付きミラーは、斜め方向から見た、画像およびミラー反射像に、色味が出てしまうことがある。円偏光反射層に赤外光領域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を含ませることによって、このような色味を防止することも可能である。この場合の赤外光領域の選択反射の中心波長は具体的には、７８０～９００ｎｍ、好ましくは７８０～８５０ｎｍにあればよい。
　赤外光領域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を設ける場合は、可視光領域に選択反射の中心波長をそれぞれ有するコレステリック液晶層すべてに対し、最も画像表示素子側にあることが好ましい。
　コレステリック液晶相のピッチは重合性液晶化合物とともに用いるキラル剤の種類、またはその添加濃度に依存するため、これらを調整することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンスやピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編　シグマ出版２００７年出版、４６頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会　丸善　１９６頁に記載の方法を用いることができる。
　本発明の光学フィルムを有する画像表示機能付きミラーにおいて、円偏光反射層は、赤色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、緑色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層と、青色光の波長域に選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層とを含むことが好ましい。反射層は、例えば、４００ｎｍ～５００ｎｍに選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層、５００ｎｍ～５８０ｎｍに選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層、および５８０ｎｍ～７００ｎｍに選択反射の中心波長を有するコレステリック液晶層を含むことが好ましい。
　また、円偏光反射層が複数のコレステリック液晶層を含むときは、より画像表示素子に近いコレステリック液晶層がより長い選択反射の中心波長を有していることが好ましい。このような構成により、画像における斜め色味を抑えることができる。
　特に、１／４波長板を含まないコレステリック円偏光反射層を利用した画像表示機能付きミラーにおいて、各コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長は、画像表示素子の発光のピークの波長と５ｎｍ以上異なるようにすることが好ましい。この差異は、１０ｎｍ以上とすることもより好ましい。選択反射の中心波長と画像表示素子の画像表示のための発光ピークの波長をずらすことにより、画像表示のための光がコレステリック液晶層で反射されず、表示画像を明るくすることができる。画像表示素子の発光のピークの波長は、画像表示素子の白表示時の発光スペクトルで確認できる。ピーク波長は上記発光スペクトルの可視光領域におけるピーク波長であればよく、例えば、画像表示素子の上述の赤色光の発光ピーク波長λＲ、緑色光の発光ピーク波長λＧ、および青色光の発光ピーク波長λＢからなる群から選択されるいずれか１つ以上であればよい。コレステリック液晶層が有する選択反射の中心波長は、画像表示素子の上述の赤色光の発光ピーク波長λＲ、緑色光の発光ピーク波長λＧ、および青色光の発光ピーク波長λＢのいずれとも５ｎｍ以上異なっていることが好ましく、１０ｎｍ以上異なっていることがより好ましい。円偏光反射層が複数のコレステリック液晶層を含む場合は、すべてのコレステリック液晶層の選択反射の中心波長を、画像表示素子の発光する光のピークの波長と５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上異なるようにすればよい。例えば、画像表示素子が白表示時の発光スペクトルにおいて赤色光の発光ピーク波長λＲと、緑色光の発光ピーク波長λＧと、青色光の発光ピーク波長λＢとを示すフルカラー表示の表示素子である場合、コレステリック液晶層が有する全ての選択反射の中心波長が、λＲ、λＧ、およびλＢのいずれとも５ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上異なるようにすればよい。
　使用するコレステリック液晶層の選択反射の中心波長を、画像表示素子の発光波長域、および円偏光反射層の使用態様に応じて調整することにより、光利用効率良く明るい画像を表示することができる。円偏光反射層の使用態様としては、特に円偏光反射層への光の入射角、画像観察方向などが挙げられる。
　各コレステリック液晶層としては、螺旋のセンスが右または左のいずれかであるコレステリック液晶層が用いられる。コレステリック液晶層の反射円偏光のセンスは螺旋のセンスに一致する。複数のコレステリック液晶層の螺旋のセンスは全て同じであっても、異なるものが含まれていてもよい。すなわち、右または左のいずれか一方のセンスのコレステリック液晶層を含んでいてもよく、右および左の双方のセンスのコレステリック液晶層を含んでいてもよい。ただし、１／４波長板を含む画像表示機能付きミラーにおいては、複数のコレステリック液晶層の螺旋のセンスは全て同じであることが好ましい。そのときの螺旋のセンスは、各コレステリック液晶層として、画像表示素子から出射して１／４波長板を透過して得られているセンスの円偏光のセンスに応じて決定すればよい。具体的には、画像表示素子から出射して１／４波長板を透過して得られているセンスの円偏光を透過する螺旋のセンスを有するコレステリック液晶層を用いればよい。
　選択反射を示す選択反射帯の半値幅Δλ（ｎｍ）は、Δλが液晶化合物の複屈折Δｎと上記ピッチＰに依存し、Δλ＝Δｎ×Ｐの関係に従う。そのため、選択反射帯の幅の制御は、Δｎを調整して行うことができる。Δｎの調整は重合性液晶化合物の種類やその混合比率を調整したり、配向固定時の温度を制御したりすることで行うことができる。
　選択反射の中心波長が同一の１種のコレステリック液晶層の形成のために、周期Ｐが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を複数積層してもよい。周期Ｐが同じで、同じ螺旋のセンスのコレステリック液晶層を積層することによっては、特定の波長での円偏光選択性を高くすることができる。
（１／４波長板）
　コレステリック円偏光反射層を用いた画像表示機能付きミラーにおいて、ハーフミラーはさらに１／４波長板を含んでいてもよく、高Ｒｅ（面内レターデーション）位相差膜と、コレステリック円偏光反射層と、１／４波長板とをこの順に含むことが好ましい。
　画像表示素子とコレステリック円偏光反射層との間に１／４波長板を含むことによって、特に、直線偏光により画像表示している画像表示素子からの光を円偏光に変換してコレステリック円偏光反射層に入射させることが可能となる。そのため、円偏光反射層において反射されて画像表示素子側に戻る光を大幅に減らすことができ、明るい画像の表示が可能となる。また、１／４波長板の利用によりコレステリック円偏光反射層において画像表示素子側に反射するセンスの円偏光を生じさせない構成が可能であるため、画像表示素子およびハーフミラーの間の多重反射による画像表示品質の低下が生じにくい。
　すなわち、例えば、コレステリック円偏光反射層に含まれるコレステリック液晶層の選択反射の中心波長が、画像表示素子の白表示時の発光スペクトルにおける青色光の発光ピーク波長と略同一（例えば差異が５ｎｍ未満）であったとしても、円偏光反射層において画像表示側に反射するセンスの円偏光を生じさせることなく、画像表示素子の出射光を前面側に透過させることができる。
　コレステリック円偏光反射層と組み合わせて用いられる１／４波長板は画像表示素子に接着した際に、画像が最も明るくなるように、角度調整されていることが好ましい。すなわち、特に直線偏光により画像表示している画像表示素子に対し、上記直線偏光を最もよく透過させるように上記直線偏光の偏光方向（透過軸）と１／４波長板の遅相軸との関係が調整されていることが好ましい。例えば、一層型の１／４波長板の場合、上記透過軸と遅相軸とは４５°の角度をなしていることが好ましい。直線偏光により画像表示している画像表示素子から出射した光は１／４波長板を透過後、右または左のいずれかのセンスの円偏光となっている。円偏光反射層は、上記のセンスの円偏光を透過する捩れ方向を有するコレステリック液晶層で構成されていればよい。
　１／４波長板は、可視光領域において１／４波長板として機能する位相差層であればよい。１／４波長板の例としては、一層型の１／４波長板、および１／４波長板と１／２波長位相差板とを積層した広帯域１／４波長板などが挙げられる。
　前者の１／４波長板の正面位相差は、画像表示素子の発光波長の１／４の長さであればよい。それゆえ、例えば画像表示素子の発光波長が４５０ｎｍ、５３０ｎｍおよび６４０ｎｍの場合は、４５０ｎｍの波長で１１２．５ｎｍ±１０ｎｍ、好ましくは１１２．５ｎｍ±５ｎｍ、より好ましくは１１２．５ｎｍ、５３０ｎｍの波長で１３２．５ｎｍ±１０ｎｍ、好ましくは１３２．５ｎｍ±５ｎｍ、より好ましくは１３２．５ｎｍ、６４０ｎｍの波長で１６０ｎｍ±１０ｎｍ、好ましくは１６０ｎｍ±５ｎｍ、より好ましくは１６０ｎｍの位相差であるような逆分散性の位相差層が、１／４波長板として最も好ましいが、位相差の波長分散性の小さい位相差板や順分散性の位相差板も用いることができる。なお、「逆分散性」とは長波長になるほど位相差の絶対値が大きくなる性質を意味し、「順分散性」とは短波長になるほど位相差の絶対値が大きくなる性質を意味する。
　積層型の１／４波長板は、１／４波長板と１／２波長位相差板とをその遅相軸を６０°の角度で貼り合わせ、１／２波長位相差板側を直線偏光の入射側に配置して、且つ１／２波長位相差板の遅相軸を入射直線偏光の偏光面に対して１５°、または７５°に交差して使用するもので、位相差の逆分散性が良好なため好適に用いることができる。
　λ／４波長板としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、石英板、延伸されたポリカーボネートフィルム、延伸されたノルボルネン系ポリマーフィルム、炭酸ストロンチウムのような複屈折を有する無機粒子を含有して配向させた透明フィルム、および支持体上に無機誘電体を斜め蒸着した薄膜などが挙げられる。
　λ／４波長板としては、例えば、（１）特開平５－２７１１８号公報、及び特開平５－２７１１９号公報に記載された、レターデーションが大きい複屈折性フィルムと、レターデーションが小さい複屈折性フィルムとを、それらの光軸が直交するように積層させた位相差板、（２）特開平１０－６８８１６号公報に記載された、特定波長においてλ／４波長となっているポリマーフィルムと、それと同一材料からなり同じ波長においてλ／２波長となっているポリマーフィルムとを積層させて、広い波長領域でλ／４波長が得られる位相差板、（３）特開平１０－９０５２１号公報に記載された、二枚のポリマーフィルムを積層することにより広い波長領域でλ／４波長を達成できる位相差板、（４）国際公開第００／２６７０５号パンフレットに記載された、変性ポリカーボネートフィルムを用いた広い波長領域でλ／４波長を達成できる位相差板、ならびに（５）国際公開第００／６５３８４号パンフレットに記載された、セルロースアセテートフィルムを用いた広い波長領域でλ／４波長を達成できる位相差板、などが挙げられる。
　λ／４波長板としては、市販品を用いることもでき、市販品としては、例えば、ピュアエース（登録商標）　ＷＲ（帝人株式会社製ポリカーボネートフィルム）が挙げられる。
　１／４波長板は、重合性液晶化合物、高分子液晶化合物を配列させて固定して形成してもよい。例えば、１／４波長板は、仮支持体、配向膜、または前面板表面に液晶組成物を塗布し、そこで液晶組成物中の重合性液晶化合物を液晶状態においてネマチック配向に形成後、光架橋や熱架橋によって固定化して、形成することができる。液晶組成物および製法についての詳細は後述する。１／４波長板は、高分子液晶化合物を含む組成物を、仮支持体、配向膜、または前面板表面に液晶組成物を塗布して液晶状態においてネマチック配向に形成後、冷却することによって配向を固定化して得られる層であってもよい。
　λ／４波長板はコレステリック円偏光反射層と、直接接していてもよく、接着層により接着されていてもよく、直接接していることが好ましい。
（コレステリック液晶層および液晶組成物から形成される１／４波長板の作製方法）
　以下、コレステリック液晶層および液晶組成物から形成される１／４波長板の作製材料および作製方法について説明する。
　上記１／４波長板の形成に用いる材料としては、重合性液晶化合物を含む液晶組成物などが挙げられる。上記コレステリック液晶層の形成に用いる材料としては、重合性液晶化合物と、さらにキラル剤（光学活性化合物）とを含む液晶組成物などが挙げられる。必要に応じてさらに界面活性剤や重合開始剤などと混合して溶媒などに溶解した上記液晶組成物を、仮支持体、支持体、配向膜、高Ｒｅ位相差膜、下層となるコレステリック液晶層、または１／４波長板などに塗布し、配向熟成後、液晶組成物の硬化により固定化してコレステリック液晶層および／または１／４波長板を形成することができる。
－重合性液晶化合物－
　重合性液晶化合物としては、重合性の棒状液晶化合物を用いればよい。
　重合性の棒状液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
　重合性液晶化合物は、重合性基を液晶化合物に導入することで得られる。重合性基の例には、不飽和重合性基、エポキシ基、およびアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。重合性基は種々の方法で、液晶化合物の分子中に導入できる。重合性液晶化合物が有する重合性基の個数は、好ましくは１～６個、より好ましくは１～３個である。重合性液晶化合物の例は、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許第４６８３３２７号明細書、米国特許第５６２２６４８号明細書、米国特許第５７７０１０７号明細書、ＷＯ９５／２２５８６Ａ、ＷＯ９５／２４４５５Ａ、ＷＯ９７／００６００Ａ、ＷＯ９８／２３５８０Ａ、ＷＯ９８／５２９０５Ａ、特開平１－２７２５５１号公報、特開平６－１６６１６号公報、特開平７－１１０４６９号公報、特開平１１－８００８１号公報、および特開２００１－３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。２種類以上の重合性液晶化合物を併用してもよい。２種類以上の重合性液晶化合物を併用すると、配向温度を低下させることができる。
　また、液晶組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、液晶組成物の固形分質量（溶媒を除いた質量）に対して、８０～９９．９質量％であることが好ましく、８５～９９．５質量％であることがより好ましく、９０～９９質量％であることが特に好ましい。
－キラル剤：光学活性化合物－
　コレステリック液晶層の形成に用いる材料はキラル剤を含んでいることが好ましい。キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル剤は、化合物によって誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
　キラル剤としては、特に制限はなく、通常用いられる化合物（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４－３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）、イソソルビドおよびイソマンニド誘導体を用いることができる。
　キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含むが、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物あるいは面性不斉化合物もキラル剤として用いることができる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファンおよびこれらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。キラル剤と液晶化合物とがいずれも重合性基を有する場合は、重合性キラル剤と重合性液晶化合物との重合反応により、重合性液晶化合物から誘導される繰り返し単位と、キラル剤から誘導される繰り返し単位とを有するポリマーを形成することができる。この態様では、重合性キラル剤が有する重合性基は、重合性液晶化合物が有する重合性基と、同種の基であることが好ましい。従って、キラル剤の重合性基も、不飽和重合性基、エポキシ基またはアジリジニル基であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基であることが特に好ましい。
　また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
　液晶組成物におけるキラル剤の含有量は、重合性液晶化合物量に対して、０．０１モル％～２００モル％が好ましく、１モル％～３０モル％がより好ましい。
－重合開始剤－
　本発明に用いられる液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤の例には、α－カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、米国特許第２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α－炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、米国特許第２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ－アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０－１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３－４０７９９号公報、特公平５－２９２３４号公報、特開平１０－９５７８８号公報、特開平１０－２９９９７号公報記載）、オキシム化合物（特開２０００－６６３８５号公報、日本特許第４４５４０６７号明細書記載）、ならびにオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
　液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物量に対して０．１～２０質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがさらに好ましい。
－架橋剤－
　液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
　架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の多官能アクリレート化合物；グリシジル（メタ）アクリレートおよびエチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物；２，２－ビスヒドロキシメチルブタノール－トリス［３－（１－アジリジニル）プロピオネート］および４，４－ビス（エチレンイミノカルボニルアミノ）ジフェニルメタン等のアジリジン化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートおよびビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物；オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物；ならびにビニルトリメトキシシランおよびＮ－（２－アミノエチル）３－アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物が挙げられる。また、架橋剤の反応性に応じて通常用いられる触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物における架橋剤の含有量は３質量％～２０質量％が好ましく、５質量％～１５質量％がより好ましい。架橋剤の含有量が、上記下限値以上であることにより、架橋密度向上の効果を得ることができる。また、上記上限値以下とすることにより、形成される層の安定性を維持することができる。
－配向制御剤－
　液晶組成物中には、安定的にまたは迅速にプレーナー配向とするために寄与する配向制御剤を添加してもよい。配向制御剤の例としては特開２００７－２７２１８５号公報の段落〔００１８〕～〔００４３〕等に記載のフッ素（メタ）アクリレート系ポリマーならびに特開２０１２－２０３２３７号公報の段落〔００３１〕～〔００３４〕等に記載の式（Ｉ）～（ＩＶ）で表される化合物などが挙げられる。
　なお、配向制御剤としては１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　液晶組成物中における、配向制御剤の添加量は、重合性液晶化合物の全質量に対して０．０１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～５質量％がより好ましく、０．０２質量％～１質量％が特に好ましい。
－その他の添加剤－
　その他、液晶組成物は、塗膜の表面張力を調整し厚みを均一にするための界面活性剤、および重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも１種を含有していてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学的性能を低下させない範囲で添加することができる。
－溶媒－
　液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
　有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類およびエーテル類が挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。
－塗布、配向、重合－
　仮支持体、配向膜、高Ｒｅ位相差膜、１／４波長板、及び／又は下層となるコレステリック液晶層などへの液晶組成物の塗布方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法およびスライドコーティング法などが挙げられる。また、別途支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによっても実施できる。塗布した液晶組成物を加熱することにより、液晶分子を配向させる。コレステリック液晶層形成の際はコレステリック配向させればよく、１／４波長板形成の際は、ネマチック配向させることが好ましい。コレステリック配向の際、加熱温度は、２００℃以下が好ましく、１３０℃以下がより好ましい。この配向処理により、重合性液晶化合物が、フィルム面に対して実質的に垂直な方向に螺旋軸を有するように捩れ配向している光学薄膜が得られる。ネマチック配向の際、加熱温度は、２５℃～１２０℃が好ましく、３０℃～１００℃がより好ましい。
　配向させた液晶化合物は、更に重合させ、液晶組成物を硬化することができる。重合は、熱重合、光照射による光重合のいずれでもよいが、光重合が好ましい。光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ２～５０Ｊ／ｃｍ２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２～１，５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下または窒素雰囲気下で光照射を実施してもよい。照射紫外線波長は３５０ｎｍ～４３０ｎｍが好ましい。重合反応率は安定性の観点から、高いことが好ましく７０％以上が好ましく、８０％以上がより好ましい。重合反応率は、重合性の官能基の消費割合をＩＲ吸収スペクトルを用いて測定することにより、決定することができる。
　個々のコレステリック液晶層の厚みは、上記特性を示す範囲であれば、特に限定はされないが、好ましくは１．０μｍ以上１５０μｍ以下の範囲、より好ましくは２．５μｍ以上１００μｍ以下の範囲であればよい。また、液晶組成物から形成される１／４波長板の厚みは、特に限定はされないが、好ましくは０．２～１０μｍ、より好ましくは０．５～２μｍであればよい。
　以下に、実施例に基づき本発明についてさらに詳細に説明する。なお、本発明がこれにより限定して解釈されるものではない。以下の実施例において組成を表す「部」及び「％」は、特に断らない限り質量基準である。
＜実施例＞
［実施例１］
＜１．樹脂フィルム１の作製＞
（１）コア層セルロースアシレートドープ液の調製
　下記の組成物をミキシングタンクに投入して撹拌し、コア層セルロースアシレートドープ溶液を調製した。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
コア層セルロースアシレートドープ液
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
・アセチル置換度２．８８、重量平均分子量２６０，０００のセルロースアセテート
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
・下記構造のフタル酸エステルオリゴマーＡ　　　　　　　　　１０質量部
・下記式Ｉで表される化合物（Ａ－１）　　　　　　　　　　　　４質量部
・下記式ＩＩで表される紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製）　　　２．７質量部
・光安定剤（ＢＡＳＦ社製、商品名：ＴＩＮＵＶＩＮ１２３）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１８質量部
・Ｎ－アルケニルプロピレンジアミン３酢酸（ナガセケムテックス社製、商品名：テークランＤＯ）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　　６４質量部
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
　使用した化合物を以下に示す。
フタル酸エステルオリゴマーＡ（重量平均分子量：７５０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
下記式Ｉで表される化合物（Ａ－１）
式Ｉ：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
式ＩＩで表される紫外線吸収剤
式ＩＩ：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
（２）外層セルロースアシレートドープ液の調製
　上記のコア層セルロースアシレートドープ液９０質量部に下記の無機粒子含有組成物を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ液を調製した。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
無機粒子含有組成物
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
平均一次粒径２０ｎｍのシリカ粒子（日本アエロジル社製、商品名：ＡＥＲＯＳＩＬ
　Ｒ９７２）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　　７６質量部
メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　　１１質量部
コア層セルロースアシレートドープ液　　　　　　　　　　　　１質量部
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
（３）樹脂フィルムの作製
　外層セルロースアシレートドープ液がコア層セルロースアシレートドープ液の両側に配されるように、外層セルロースアシレートドープ液、コア層セルロースアシレートドープ液、および外層セルロースアシレートドープ液の３種を、流延口から表面温度２０℃の流延バンド上に同時に流延した。
　流延バンドとして幅２．１ｍで長さが７０ｍのステンレス製のエンドレスバンドを利用した。流延バンドは、厚みが１．５ｍｍ、表面粗さが０．０５μｍ以下になるように研磨した。流延バンドの材質はＳＵＳ３１６製であるため、十分な耐腐食性と強度とを有する。流延バンドの全体の厚みムラは０．５％以下であった。
　得られた流延膜の表面に、風速が８ｍ／ｓ、ガス濃度が１６％、温度が６０℃の急速乾燥風を当てて初期膜を形成した。その後、流延バンド上部の上流側からは１４０℃の乾燥風を送風した。また下流側からは１２０℃の乾燥風および６０℃の乾燥風を送風した。
　残留溶媒量を約３３質量％にした後、バンドからフィルムを剥ぎ取った。次いで、得られたフィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚みが１４０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／１３４μｍ／３μｍ）である樹脂フィルム１を作製した。
＜２．ハードコート層（ＨＣ層）形成用硬化性組成物の調製＞
　下記表１に示す配合で各成分を混合し、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１～ＨＣ－１４を調製した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
　上記表１中の数値（配合量）の単位は質量％である。上記表１において、固形分および溶媒の合計量がそれぞれ１００質量％となるように記載している。
　表１に記載した各化合物の詳細を以下に示す。
＜重合性化合物＞
　ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬社製、商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ）
　サイクロマーＭ１００：３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート（ダイセル社製、商品名）
＜重合開始剤＞
　Ｉｒｇ１８４：１－ヒドロキシ－シクロヘキシル－フェニル－ケトン（α－ヒドロキシアルキルフェノン系のラジカル光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製、商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４）
　ＰＡＧ－１：以下に示すヨードニウム塩化合物であるカチオン光重合開始剤
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
＜添加剤＞
　ＳＨ２４００Ｂ－０５０１：ポリロタキサン含有微粒子、アドバンスト・ソフトマテリアル社製、商品名
　ＫＭＰ－６０１：シリコーンゴム粒子、信越化学社製、商品名
　ＫＭＰ－６００：シリコーンゴム粒子、信越化学社製、商品名
　Ｘ－５２－７０３０：シリコーンゴム粒子、信越化学社製、商品名
　ＳＭ１３０３Ｐ：ＵＶ硬化性基含有ポリロタキサン、（メタ）アクリル当量１１００、アドバンスト・ソフトマテリアル社製、商品名
　カネエースＭ－２１０：アクリル系ゴム粒子、カネカ社製、商品名
　カネエースＭ－５１１：ブタジエン系ゴム粒子、カネカ社製、商品名
　カネエースＭ－７３２：ブタジエン系ゴム粒子、カネカ社製、商品名
　ＳＳＸ－１０８：架橋ポリメタクリル酸メチル、積水化成品社製、商品名：テクポリマーＳＳＸ－１０８

　なお、ＳＨ２４００Ｂ－０５０１の前述の方法で測定した粒子の回復率は５９％であり、ＫＭＰ－６００の前述の方法で測定した粒子の回復率は４６％であり、ＳＳＸ－１０８の前述の方法で測定した粒子の回復率は２７％であった。　表中に記載する添加剤のうち、ＳＭ１３０３Ｐは粒子ではなく、ＳＳＸ－１０８は回復性を有しない粒子であり、これら以外の添加剤は回復性粒子である。
＜含フッ素化合物＞
　ＲＳ－９０：ＤＩＣ社製、ラジカル重合性基を有する含フッ素防汚剤、商品名
＜含ポリシロキサン化合物＞
　８ＳＳ－７２３：大成ファインケミカル社製、反応性基当量３３８ｇ／ｍｏｌのアクリロイル基を有するポリシロキサン防汚剤、商品名
＜レベリング剤＞
　Ｐ－１１２：レベリング剤、特許５１７５８３１号の段落００５３に記載の化合物Ｐ－１１２
＜溶媒＞
　ＭＥＫ：メチルエチルケトン
　ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
＜３．光学フィルムの作製＞
　上記で作製した膜厚１４０μｍの樹脂フィルム１の流延バンドが接していた側とは逆の表面上に、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１を塗布し、硬化させて膜厚１６μｍの第１のＨＣ層を形成した。塗布および硬化の方法は、具体的には、次の通りとした。特開２００６－１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件でＨＣ層形成用硬化性組成物を塗布し、雰囲気温度６０℃で１５０秒間乾燥した。その後、更に窒素パージ下、酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して、塗布したＨＣ層形成用硬化性組成物を硬化させてＨＣ層を形成した後、巻き取りを行い、第１のＨＣ層を形成した積層体を作製した。第１のＨＣ層を形成した積層体を巻き出し、この第１のＨＣ層の表面に、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１４を塗布し、第１のＨＣ層の形成と同じ条件で、乾燥および硬化して第２のＨＣ層を形成し、実施例１の光学フィルムを作製した。
［実施例２～４、８～１４］
　ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１に代えてＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－２～ＨＣ－１１を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例２～４、８～１４の光学フィルムを作製した。
［実施例５］
　樹脂フィルム１の厚みを１００μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／９４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例３と同様にして、実施例５の光学フィルムを作製した。
［実施例６］
　樹脂フィルム１の厚みを８０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／７４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例３と同様にして、実施例６の光学フィルムを作製した。
［実施例７］
　樹脂フィルム１の厚みを６０μｍ（外層／コア層／外層＝３μｍ／５４μｍ／３μｍ）とした以外は実施例３と同様にして、実施例７の光学フィルムを作製した。
［実施例１５］
　樹脂フィルム１のコア層および外層のセルロースアシレートドープ液に代えて下記のようにして調整したコア層および外層のセルロースアシレートドープ液を用い、ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１に代えてＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１２を使用した以外は実施例１と同様にして、実施例１５の光学フィルムを作製した。
（１）コア層セルロースアシレートドープ液の調製
　実施例１のコア層セルロースアシレートドープ液９４質量部に下記の粒子含有組成物を６質量部加え、コア層セルロースアシレートドープ液を調製した。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
粒子含有組成物
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
ＳＨ２４００Ｂ－０５０１（ポリロタキサン含有微粒子、アドバンスト・ソフトマテリアル社製、商品名）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　　６６質量部
メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
（２）外層セルロースアシレートドープ液の調製
　実施例１のコア層セルロースアシレートドープ液９０質量部に実施例１の無機粒子含有組成物を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープ液を調製した。
［実施例１６］
　実施例１５の樹脂フィルムのコア層セルロースアシレートドープ液に代えて下記のようにして調整したコア層セルロースアシレートドープ液を用いた以外は実施例１５と同様にして、実施例１６の光学フィルムを作製した。
（１）コア層セルロースアシレートドープ液の調製
　実施例１のコア層セルロースアシレートドープ液９４質量部に下記の粒子含有組成物を６質量部加え、コア層セルロースアシレートドープ液を調製した。
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
粒子含有組成物
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
ＫＭＰ－６００（シリコーンゴム粒子、信越化学社製、商品名）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）　　　　　　　　　　　　　６６質量部
メタノール（第２溶媒）　　　　　　　　　　　　　　　　　８質量部
－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－
＜比較例＞
［比較例１］
　ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１に代えてＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１２を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例１の光学フィルムを作製した。
［比較例２］
　ＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１に代えてＨＣ層形成用硬化性組成物ＨＣ－１３を使用した以外は実施例１と同様にして、比較例２の光学フィルムを作製した。
＜試験＞
　上記で作製した光学フィルムについて、以下の試験を行った。試験結果を下記表２～４にまとめて記載する。
［試験例１］摺動耐久性
　ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル ＸＧ、厚み１ｍｍ）と、上記で作製した光学フィルム（ＨＣ層付き樹脂フィルム）とを、ガラス板と樹脂フィルム側が向かい合うようにして、厚み２０μｍの粘着剤（綜研化学社製、商品名：ＳＫ－２０５７）を介して、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせて、試験片を作製した。この試験片を、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。調湿後の試験片について、ラビングテスターを用いて、テスターの擦り先端部に動かないように固定した入力ペン（ペン先材料はポリアセタール、半径Ｒ＝０．８ｍｍ、ワコム株式会社製）を、ＨＣ層の上方から押し当てて以下の条件で擦り、摺動試験を行った。
（試験条件）
　擦り距離：５ｃｍ
　擦り速度：１往復／秒
　荷重：２５０ｇ
　上記試験後の試験片について、ＨＣ層側の摺動試験部を、１０枚重ねに折り束ねたザヴィーナ（ＫＢセレン社製、空隙１μｍ）で布の束がへこむ程度の荷重で２往復拭き取り、光学フィルムの正面（ＨＣ層側）から三波長蛍光灯（ナショナルパルック蛍光灯ＦＬ２０ＳＳ・ＥＸ－Ｄ／１８）で照らしながら凹みを目視で観察し、摺動耐久性について、以下の基準で評価した。本試験において、「Ｄ」以上が合格レベルである。
＜摺動耐久性：評価基準＞
　Ａ：１００００１回往復しても凹みが発生しなかった。
　Ｂ：５０００１回～１０００００回往復する間に凹みが発生した。
　Ｃ：３０００１回～５００００回往復する間に凹みが発生した。
　Ｄ：２０００１回～３００００回往復する間に凹みが発生した。
　Ｅ：２００００回往復する間に凹みが発生した。
［試験例２］膜厚
　「膜厚」は、以下の方法により、走査型電子顕微鏡（Scanning　Electron　microscope；ＳＥＭ）により観察して測定した。
　各構成部材（樹脂フィルム及びＨＣ層）または各構成部材を含む部材（例えば液晶パネルやその一部）の断面を、イオンビーム、ミクロトーム等の常法により露出させた後、露出した断面においてＳＥＭによる断面観察を行った。断面観察において、部材の幅方向を４等分した際の、両端を除く３つの等分点における厚みの算術平均として、各種膜厚を求めた。
［試験例３］押し込み量及び押し込み回復率
　ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル ＸＧ、厚み１ｍｍ）と、上記で作製した光学フィルム（ＨＣ層付き樹脂フィルム）とを、ガラス板と樹脂フィルム側が向かい合うようにして、アロンアルファで接着し、試験片を作製した。この試験片を、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。調湿後の試験片について、圧子として入力ペン（ペン先材料はポリアセタール、半径Ｒ＝０．８ｍｍ）がセットされたＴｉ９５０トライボインデンター（Ｈｙｓｔｒｏｎ社製）を用いて、ＨＣ層の上方から負荷時間０．２５秒、押し込み荷重２５０ｍＮの条件で押し込み、この押し込み直後に除荷した。このときの最大押し込み深さ（すなわち、上記の押し込みを行っている間における最大押し込み深さ（表中では「押し込み量」として記載する。）をＡとし、除荷してから０．２５秒後の押し込み深さをＢとし、下記式を用いて回復率を算出した。ただし、Ａ及びＢの単位は同じである。（押し込み回復率の算出式）
　　押し込み回復率（％）＝（Ａ－Ｂ）／Ａ×１００
[試験例４］鉛筆硬度
　ＪＩＳ（ＪＩＳは、Japanese Industrial Standards（日本工業規格）である）　Ｋ５４００に従い鉛筆硬度評価を行った。
　上記で作製した各光学フィルムを、温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＨＣ層の表面の異なる５箇所について、ＪＩＳ　Ｓ　６００６に規定するＨ～９Ｈの試験用鉛筆を用いて４．９Ｎの荷重にて引っ掻いた。その後、目視で傷が認められる箇所が０～２箇所であった鉛筆の硬度のうち、最も硬度の高い鉛筆硬度を評価結果とした。
　鉛筆硬度は、「Ｈ」の前に記載される数値が高いほど、硬度が高く好ましい。
［試験例５］ヌープ硬度及びその回復率
　ＩＳＯ１４５７７に基づきヌープ圧子を用いて、下記の条件で、上記で作製した光学フィルムのＨＣ層側から押し込みを行い、１０回測定を行った。この１０回の算術平均として、ヌープ硬度（下記式中「Ａ２」で表される「荷重時の押し込み深さ」）を算出した。
　ヌープ硬度の測定と同時に、荷重解消から１０秒後の押し込み深さを測定し、１０回測定を行った算術平均として、下記式中「Ｂ２」で表される「荷重解消から１０秒後の押し込み深さ」を算出した。回復率（ヌープ硬度試験）は下記式を用いて算出した。ただし、Ａ２及びＢ２の単位は同じである。
（試験条件）
［測定装置］微小硬度試験機：フィッシャースコープＨＭ２０００（フィッシャーインスツルメンツ（株）製）
［負荷時間］１０秒
［押しこみ荷重］５０ｍＮ
（回復率（ヌープ硬度試験）の算出式）
　　回復率（％）＝（Ａ２－Ｂ２）／Ａ２×１００
　Ａ２：荷重時の押し込み深さ
　Ｂ２：荷重解消から１０秒後の押し込み深さ
［試験例６］筆記感
　ガラス板（Ｃｏｒｎｉｎｇ社製、商品名：イーグル　ＸＧ、厚み１ｍｍ）と、上記で作製した光学フィルム（ＨＣ層付き樹脂フィルム）とを、ガラス板と樹脂フィルム側が向かい合うようにして、厚み２０μｍの粘着剤（綜研化学社製、商品名：ＳＫ－２０５７）を介して、ゴムローラーで２ｋｇの荷重を掛けながら貼り合わせて、試験片を作製した。この試験片を、温度２５℃、相対湿度６０％の条件で２時間調湿した。調湿後の試験片について、評価者は入力ペン（ペン先材料はポリアセタール、半径Ｒ＝０．８ｍｍ、ワコム株式会社製）を、ＨＣ層の上方から押し当てて筆記し、以下の基準で評価した。
　Ａ：筆記時に押込む感触が強くあり、筆記感が非常に良好であった。
　Ｂ：筆記時に押込む感触があり、筆記感が良好であった。
　Ｃ：筆記時に押込む感触が小さかったが、十分な筆記感があった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
＜表の注＞
　処方：使用したＨＣ層形成用硬化性組成物の種類を示す。
　平均粒径とは、平均一次粒子径を意味する。
　ＴＡＣ：アセチル置換度２．８８、重量平均分子量２６０，０００のセルロースアセテート
　添加比率：ＨＣ層については、第１のＨＣ層を形成する全固形分中の含有比率（質量％）を示す。樹脂フィルムについては、樹脂フィルムのコア層を構成する樹脂成分（ＴＡＣ）１００質量部に対する含有質量部（ＰＨＲ：per hundred rubber）を示す。
　ＳＭ１３０３Ｐの屈折率は、アッベ屈折計で測定した。
　表２に記載するように、比較例１及び２の光学フィルムは、いずれも押し込み回復率が７７％と低く、本発明で規定する押し込み回復率７８％以上を満たさない。これらの比較例１及び２は、摺動試験の結果、いずれも２００００回摺動する間に凹みが見られ（評価Ｅ）、摺動耐久性に劣った。
　これに対して、押し込み回復率が７８％以上である実施例１～１６の本発明の光学フィルムは、いずれも、摺動試験後の凹みの発生が十分に抑制され、摺動耐久性に優れていた。また、表３に記載するように、押し込み量が１８μｍである実施例３の光学フィルムに比べて、押し込み量が大きい実施例５および７の光学フィルムは、筆記感が良好であった。
　また、表４に記載するように、ヌープ硬度試験から算出される回復率は、比較例１は７１％、比較例２は７３％であるのに対し、実施例４は６３％と比較例１及び２よりも低かった。このように、試験例１における押し込み回復率と試験例５における回復率（ヌープ硬度試験）には、相関関係は見られないことが分かる。

Claims (11)

  1. 　樹脂フィルムと、該樹脂フィルムの片面に配置されたハードコート層とを少なくとも有する光学フィルムであって、下記式で表される回復率が78％以上である、光学フィルム。
    Ａ：入力ペン（ポリアセタール製、半径Ｒ＝０．８ｍｍ）が先端にセットされたインデンターを用いて、光学フィルムのハードコート層上から負荷時間０．２５秒、押し込み荷重２５０ｍＮの条件で押し込んだときの最大押し込み深さ
    Ｂ：上記の押し込み直後に除荷してから０．２５秒後の押し込み深さ
    押し込み回復率（％）＝（Ａ－Ｂ）／Ａ×１００
  2. 　前記Ａが５μｍを超える、請求項１に記載の光学フィルム。
  3. 　前記光学フィルム中に、ポリロタキサンを含有する粒子を有する、請求項１または２に記載の光学フィルム。
  4. 　前記光学フィルム中に、エラストマーを含有する粒子を有する、請求項１または２に記載の光学フィルム。
  5. 　樹脂フィルムと、該樹脂フィルムの片面に配置されたハードコート層とを少なくとも有する光学フィルムであって、前記光学フィルム中にポリロタキサンを含有する粒子を有する光学フィルム。
  6. 　樹脂フィルムと、該樹脂フィルムの片面に配置されたハードコート層とを少なくとも有する光学フィルムであって、前記光学フィルム中にエラストマーを含有する粒子を有する光学フィルム。
  7. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルムを有する、画像表示装置の前面板。
  8. 　請求項７に記載の前面板を有する、画像表示装置。
  9. 　請求項７に記載の前面板を有する、抵抗膜式タッチパネル。
  10. 　請求項７に記載の前面板を有する、静電容量式タッチパネル。
  11. 　請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルムを有する、画像表示機能付きミラー。
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