WO2019069687A1 - 光学フィルタ及び撮像装置 - Google Patents

光学フィルタ及び撮像装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2019069687A1
WO2019069687A1 PCT/JP2018/034695 JP2018034695W WO2019069687A1 WO 2019069687 A1 WO2019069687 A1 WO 2019069687A1 JP 2018034695 W JP2018034695 W JP 2018034695W WO 2019069687 A1 WO2019069687 A1 WO 2019069687A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
wavelength
optical filter
light
transmittance
incident angle
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/034695
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
智孝 高城
新毛　勝秀
Original Assignee
日本板硝子株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本板硝子株式会社 filed Critical 日本板硝子株式会社
Priority to KR1020207010315A priority Critical patent/KR102540605B1/ko
Priority to US16/753,283 priority patent/US11428857B2/en
Priority to CN201880064475.3A priority patent/CN111164469B/zh
Publication of WO2019069687A1 publication Critical patent/WO2019069687A1/ja

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
    • H04N23/10—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from different wavelengths
    • H04N23/12—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof for generating image signals from different wavelengths with one sensor only
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B11/00—Filters or other obturators specially adapted for photographic purposes

Definitions

  • the present invention relates to an optical filter and an imaging device.
  • Patent Document 1 describes a near-infrared cut filter including a laminate having a resin layer containing a near-infrared absorber on at least one side of a glass plate substrate.
  • this near infrared cut filter has a dielectric multilayer film on at least one side of a laminate.
  • of the difference between the wavelength value (Ya) and the wavelength value (Yb) is less than 15 nm.
  • the value of the wavelength (Ya) is a value of the wavelength at which the transmittance is 50% when measured from the vertical direction of the near infrared cut filter in the wavelength range of 560 to 800 nm.
  • the wavelength value (Yb) is a wavelength value at which the transmittance is 50% when measured from an angle of 30 ° with respect to the vertical direction of the near infrared cut filter in the wavelength range of 560 to 800 nm.
  • Patent Document 2 describes a near-infrared cut filter provided with a near-infrared absorbing glass substrate, a near-infrared absorbing layer, and a dielectric multilayer film.
  • the near infrared absorbing layer contains a near infrared absorbing dye and a transparent resin.
  • Patent Document 2 describes a solid-state imaging device including the near-infrared cut filter and a solid-state imaging device. According to Patent Document 2, by laminating a near-infrared absorbing glass substrate and a near-infrared absorbing layer, the dielectric multilayer film inherently has an angle dependency in which the shielding wavelength is shifted depending on the incident angle of light. The effects can be almost eliminated. For example, in Patent Document 2, the transmittance (T 0 ) at an incident angle of 0 ° and the transmittance (T 30 ) at an incident angle of 30 ° in a near infrared cut filter are measured.
  • Patent Documents 3 and 4 describe an infrared cut filter provided with a dielectric substrate, an infrared reflection layer, and an infrared absorption layer.
  • the infrared reflection layer is formed of a dielectric multilayer film.
  • the infrared absorbing layer contains an infrared absorbing dye.
  • Patent Documents 3 and 4 describe an imaging device provided with this infrared cut filter.
  • Patent Documents 3 and 4 describe the transmittance spectrum of the infrared cut filter when the incident angle of light is 0 °, 25 °, and 35 °.
  • Patent Document 5 describes a near-infrared cut filter that includes an absorption layer and a reflection layer and that satisfies predetermined requirements. For example, in this near infrared cut filter, the integral T 0 (600-725) of the transmittance of light of wavelength 600 to 725 nm in the spectral transmittance curve at an incident angle of 0 ° and the spectral transmittance curve at an incident angle of 30 °. The difference
  • with the integral value T 30 (600-725) of the transmittance of light with a wavelength of 600 to 725 nm is 3% ⁇ nm or less.
  • Patent Document 5 also describes an imaging device provided with this near infrared cut filter.
  • Patent Documents 6 and 7 describe an optical filter that includes a light absorption layer and a near infrared reflection layer and satisfies ⁇ E * ⁇ 1.5.
  • ⁇ E * is the color difference between the light incident perpendicularly to the optical filter and transmitted through the optical filter and the light incident at an angle of 30 ° from the direction perpendicular to the optical filter and transmitted through the optical filter.
  • the light absorbing layer includes, for example, a binder resin, and the light absorbing agent is dispersed in the binder resin.
  • the near infrared reflection layer is, for example, a dielectric multilayer film.
  • Patent Documents 6 and 7 also describe an imaging device such as a camera provided with this optical filter.
  • JP 2012-103340 A International Publication No. 2014/030628 U.S. Patent Application Publication No. 2014/0300956 U.S. Patent Application Publication No. 2014/0063597 Patent No. 6119920 Korean Registered Patent No. 10-1474902 Korean Registered Patent No. 10-1527822
  • the characteristics of the optical filter when the incident angle of light to the optical filter is larger than 35 ° (for example, 40 °) are not specifically studied.
  • an imaging device such as a camera is equipped with an image sensor having color filters of red (R), green (G) and blue (B)
  • characteristics of these color filters are there is no consideration on the suitability of Therefore, according to the present invention, even when the incident angle of light is large, it is easy to conform to the characteristics of the color filter used in the image sensor mounted in the imaging device, and the color unevenness is generated in the image generated by the imaging device such as a camera.
  • an optical filter having advantageous properties to prevent it from occurring.
  • the present invention also provides an imaging device provided with this optical filter.
  • the present invention An optical filter, A light absorbing layer containing a light absorbing agent that absorbs at least part of light in the near infrared region,
  • the spectral transmittance at a wavelength of 700 nm is 3% or less.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 715 nm is 1% or less.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 1100 nm is 7.5% or less.
  • the average transmittance at a wavelength of 700 nm to 800 nm is 1% or less.
  • the average transmittance at a wavelength of 500 nm to 600 nm is 85% or more.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 400 nm is 45% or less.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 450 nm is 80% or more.
  • the spectral transmittance of the optical filter at the wavelength ⁇ when the incident angle is ⁇ ° is expressed as T ⁇ ( ⁇ )
  • the functions of the wavelength ⁇ defined by Table (I) in the wavelength range of 400 nm to 700 nm are represented as R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ )
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) In three functions which are the products of T 0 ( ⁇ ) and R ( ⁇ ), G ( ⁇ ) and B ( ⁇ ) Determine the normalization factor so that the maximum value is 1.
  • a function which is a product of T ⁇ ( ⁇ ), R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) multiplied by the normalization coefficient is CR ⁇ ( ⁇ ) and CG ⁇ ( ⁇ ) respectively.
  • the present invention is Lens system, An imaging element that receives light passing through the lens system; A color filter disposed in front of the imaging element and having a filter of three colors of R (red), G (green), and B (blue); And the above-mentioned optical filter disposed in front of the color filter, An imaging device is provided.
  • the above optical filter easily conforms to the characteristics of a color filter used in an imaging device such as a camera even when the incident angle of light is large, and prevents occurrence of color unevenness in an image generated by the imaging device Have advantageous properties. Further, in the above-described imaging device, even when the incident angle of light is large, color unevenness hardly occurs in the generated image.
  • FIG. 1A is a cross-sectional view showing an example of the optical filter of the present invention.
  • FIG. 1B is a cross-sectional view showing another example of the optical filter of the present invention.
  • FIG. 1C is a cross-sectional view showing still another example of the optical filter of the present invention.
  • FIG. 1D is a cross-sectional view showing still another example of the optical filter of the present invention.
  • FIG. 1E is a cross-sectional view showing still another example of the optical filter of the present invention.
  • FIG. 1F is a cross-sectional view showing still another example of the optical filter of the present invention.
  • FIG. 2 is a graph of R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ).
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the imaging device of the present invention.
  • FIG. 4A is a transmittance spectrum of a semifinished product of the optical filter according to Example 1.
  • FIG. 4B is a transmittance spectrum of another semifinished product of the optical filter according to Example 1.
  • FIG. 4C is a transmittance spectrum of the laminate according to Reference Example 1.
  • FIG. 4D is a transmittance spectrum of the laminate according to Reference Example 2.
  • FIG. 4E is a transmittance spectrum of the optical filter according to the first embodiment.
  • 5A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of the optical filter according to Example 1.
  • FIG. FIG. 5B is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 30 ° of the optical filter according to the first embodiment.
  • FIG. 5C is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to the first embodiment.
  • FIG. 6A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Example 1.
  • FIG. 6B is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 1.
  • FIG. 6C is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 1.
  • FIG. 7A is a transmittance spectrum of a laminate according to Reference Example 3.
  • FIG. 7B is a transmittance spectrum of the optical filter according to the second embodiment.
  • FIG. 8A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of an optical filter according to Example 2.
  • FIG. 8B is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 30 ° of the optical filter according to the second embodiment.
  • FIG. 8C is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to the second embodiment.
  • FIG. 9A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Example 2.
  • FIG. 9B is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 2.
  • FIG. 9C is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 2.
  • 10A is a transmittance spectrum of a semifinished product of the optical filter according to Example 3.
  • FIG. 10B is a transmittance spectrum of the optical filter according to the third embodiment.
  • 11A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of an optical filter according to Example 3.
  • FIG. 11B is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incidence angle of 30 ° of an optical filter according to Example 3.
  • FIG. 11C is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to Example 3.
  • FIG. 12A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Example 3.
  • FIG. 12B is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 3.
  • FIG. 12C is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 3.
  • FIG. 13A is a transmittance spectrum of a laminate according to Reference Example 4.
  • 13B is a transmittance spectrum of the optical filter according to Example 4.
  • FIG. 14A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of an optical filter according to Example 4.
  • FIG. 14B is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incidence angle of 30 ° of the optical filter according to Example 4.
  • FIG. 14C is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to Example 4.
  • FIG. 15A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Example 4.
  • FIG. 14A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Example 4.
  • FIG. 15B is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 4.
  • FIG. 15C is a graph showing the difference in normalized spectral sensitivity function at incidence angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 4.
  • FIG. 16 is a transmittance spectrum of the optical filter according to the fifth embodiment.
  • FIG. 17A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of an optical filter according to Example 5.
  • FIG. 17B is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incidence angle of 30 ° of the optical filter according to Example 5.
  • FIG. 17C is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to Example 5.
  • FIG. 18A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Example 5.
  • FIG. 18B is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 5.
  • FIG. 18C is a graph showing the difference in normalized spectral sensitivity function at incidence angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 5.
  • FIG. 19A is a transmittance spectrum of a semifinished product of the optical filter according to Example 6.
  • FIG. 19B is a transmittance spectrum of the optical filter according to Example 6.
  • FIG. 20A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of an optical filter according to Example 6.
  • FIG. 20B is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incidence angle of 30 ° of the optical filter according to Example 6.
  • FIG. 20C is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to Example 6.
  • FIG. 21A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Example 6.
  • FIG. 21B is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 6.
  • FIG. 21C is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Example 6.
  • FIG. 22A is a transmittance spectrum of a semifinished product of the optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 22B is a transmittance spectrum of the laminate according to Reference Example 5.
  • FIG. 22C is a transmittance spectrum of the optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 23A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of an optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 23B is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incidence angle of 30 ° of the optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 23C is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 24A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 24B is a graph showing the difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 24C is a graph showing the difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Comparative Example 1.
  • FIG. 25A is a transmittance spectrum of an infrared absorptive glass substrate of an optical filter according to Comparative Example 2.
  • FIG. 25B is a transmittance spectrum of the layered product of the reference example 6.
  • FIG. 25C is a transmittance spectrum of the laminate according to Reference Example 7.
  • FIG. 25D is a transmittance spectrum of the optical filter according to Comparative Example 2.
  • FIG. 26A is a graph showing a normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 0 ° of an optical filter according to Comparative Example 2.
  • 26B is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incidence angle of 30 ° of the optical filter according to Comparative Example 2.
  • FIG. 26C is a graph showing the normalized spectral sensitivity function at an incident angle of 40 ° of the optical filter according to Comparative Example 2.
  • FIG. 27A is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 30 ° of the optical filter according to Comparative Example 2.
  • FIG. 27B is a graph showing the difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 0 ° and 40 ° of the optical filter according to Comparative Example 2.
  • FIG. 27C is a graph showing a difference between normalized spectral sensitivity functions at incident angles of 30 ° and 40 ° of the optical filter according to Comparative Example 2.
  • the inventors of the present invention have devised an optical filter according to the present invention based on new findings obtained by the following study on an optical filter.
  • an optical filter for blocking unnecessary light rays other than visible light rays is disposed.
  • the use of optical filters with light absorbing layers to block unwanted light is being considered.
  • an optical filter provided with a light absorbing layer often further includes a reflective film formed of a dielectric multilayer film.
  • the wavelength band of the transmitted light and the wavelength band of the reflected light are determined by the interference of the light beams reflected on the front and back surfaces of each layer of the reflective film. Rays can be incident on the optical filter from various angles of incidence.
  • the optical path length in the reflective film changes depending on the incident angle of light to the optical filter.
  • the wavelength bands of the transmitted and reflected light rays change to the short wavelength side. Therefore, the boundary between the wavelength band of the light beam to be shielded and the wavelength band of the light beam to be transmitted is defined by the absorption of light so that the characteristic of the transmittance of the optical filter does not greatly fluctuate depending on the incident angle of light. It can be considered that the wavelength band of the light beam to be reflected is separated from the wavelength band of the light beam to be transmitted.
  • Patent Documents 1 and 2 evaluate the light transmission characteristics of the near infrared cut filter when the incident angles of light are 0 ° and 30 °. Moreover, in patent documents 3 and 4, the transmittance
  • an optical filter provided with a reflective film formed of a dielectric multilayer film
  • the light reflectance is locally local in the wavelength band of light that is desired to suppress reflection and achieve high transmittance. It may increase. This causes a defect called ripple in which the transmittance locally decreases in the optical filter. For example, even in the case of an optical filter designed so that ripples do not occur when the incident angle of light is 0 ° to 30 °, ripples easily occur when the incident angle of light is increased to 40 °.
  • the present inventors repeatedly studied about an optical filter which is easily adapted to the characteristics of a color filter used in an imaging device, even when the incident angle of light is large.
  • the inventors of the present invention have conducted day-and-day studies on optical filters having advantageous properties for preventing the occurrence of color unevenness in an image generated by an imaging device. As a result, the inventors devised an optical filter according to the present invention.
  • spectral transmittance is transmittance when incident light of a specific wavelength is incident on an object such as a sample
  • average transmittance is spectral transmittance within a predetermined wavelength range. It is the average value of the rate.
  • transmittance spectrum is a spectrum in which the spectral transmittance at each wavelength within a predetermined wavelength range is arranged in order of wavelength.
  • IR cutoff wavelength indicates 50% spectral transmittance in a wavelength range of 600 nm or more when light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm is incident on an optical filter at a predetermined incident angle. It means the wavelength.
  • UV cut-off wavelength means a wavelength that exhibits 50% spectral transmittance in the wavelength range of 450 nm or less when light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm is incident on an optical filter at a predetermined incident angle. .
  • the optical filter 1 a includes a light absorption layer 10.
  • the light absorbing layer 10 contains a light absorbing agent, and the light absorbing agent absorbs at least part of light in the near infrared region.
  • the optical filter 1a satisfies the following conditions when light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm is incident on the optical filter 1a at incident angles of 0 °, 30 °, and 40 °.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 700 nm is 3% or less.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 715 nm is 1% or less.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 1100 nm is 7.5% or less.
  • the average transmittance at a wavelength of 700 nm to 800 nm is 1% or less.
  • the average transmittance at a wavelength of 500 nm to 600 nm is 85% or more.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 400 nm is 45% or less.
  • the spectral transmittance at a wavelength of 450 nm is 80% or more.
  • the optical filter 1a Since the optical filter 1a satisfies the above conditions (i) to (vii), it can block unnecessary light rays without losing the brightness even if it is incorporated in a camera module or an imaging device in which a wide-angle lens is mounted.
  • the spectral transmittance of the optical filter 1a at the wavelength ⁇ when the incident angle of light is ⁇ ° is expressed as T ⁇ ( ⁇ ).
  • the functions of the wavelength ⁇ defined by the following Table (I) in the wavelength range of 400 nm to 700 nm are denoted as R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ).
  • the normalization coefficients are determined such that the maximum value is 1 in three functions that are the products of T 0 ( ⁇ ), R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ).
  • a function which is a product of T ⁇ ( ⁇ ), R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) multiplied by a normalization coefficient is CR ⁇ ( ⁇ ) and CG ⁇ ( ⁇ ), respectively.
  • CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) are also referred to as normalized spectral sensitivity functions.
  • IE ⁇ 1 / ⁇ 2 defined by the following equations (1) to (3) with respect to two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 0 °, 30 ° and 40 ° CR to IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG and IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB and IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR for the same two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 °, IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG and IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB from maximum to minimum
  • Table (II) The range obtained by subtracting the values satisfies the conditions shown in Table (II).
  • FIG. 2 shows a graph of R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), or B ( ⁇ ) shown in Table (I).
  • the functions R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), or B ( ⁇ ) were determined as follows.
  • image sensors ten types of commercially available color image sensors (hereinafter simply referred to as "image sensors") were prepared. These image sensors were provided with imaging devices such as a charge-coupled device (CCD) and a complementary metal oxide semiconductor (CMOS), and color filters of red (R), green (G) and blue (B).
  • CCD charge-coupled device
  • CMOS complementary metal oxide semiconductor
  • RGB red
  • G green
  • blue blue
  • a color showing the largest relative value among the maximum value of the spectral sensitivity characteristic corresponding to R, the maximum value of the spectral sensitivity characteristic corresponding to G, and the maximum value of the spectral sensitivity characteristic corresponding to B Filter (attribute) was selected.
  • a coefficient is determined such that the maximum value of the spectral sensitivity characteristic corresponding to the selected color filter is 1, and the coefficient is a spectral sensitivity characteristic corresponding to R, a spectral sensitivity characteristic corresponding to G, and a spectrum corresponding to B
  • the sensitivity characteristics were normalized by multiplying for each wavelength. These operations were performed on the spectral sensitivity characteristics of 10 types of prepared image sensors to obtain spectral sensitivity characteristics normalized for each image sensor.
  • the spectral sensitivity characteristics corresponding to R, the spectral sensitivity characteristics corresponding to G, and the spectral sensitivity characteristics corresponding to B are arithmetically averaged for each of the 10 types of normalized spectral sensitivity characteristics.
  • R, G, and B were determined to determine the functions R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ).
  • the normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) are the spectral transmittance T ⁇ ( ⁇ ) of the optical filter 1 a and the functions R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), And B ( ⁇ ), respectively.
  • the function T 0 ( ⁇ ) and G obtained by multiplying the spectral transmittance T 0 ( ⁇ ) when the incident angle ⁇ of light to the optical filter is 0 ° and R ( ⁇ ) shown in Table (I) function determined by the product of the (lambda), and T 0 ( ⁇ ) and calculates a function determined by the product of the B (lambda), the maximum value of each function, yet in those values
  • the coefficient (normalization coefficient) was determined so that the maximum value of was 1.
  • the normalized spectral sensitivity function CR 0 ( ⁇ ) was determined by multiplying the normalized coefficient by a function determined from the product of the spectral transmittance T 0 ( ⁇ ) and R ( ⁇ ) shown in Table (I) .
  • normalized spectral sensitivity functions CG 0 ( ⁇ ) and CB 0 ( ⁇ ) were determined.
  • Each of the function obtained from the product of ( ⁇ ) and G ( ⁇ ) and the function obtained from the product of T ⁇ ( ⁇ ) and B ( ⁇ ) is multiplied by the above normalization factor to obtain the light incidence
  • the normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained when the angle was ⁇ °.
  • the product of the spectral transmittance T ⁇ ( ⁇ ) and other functions is determined by multiplying them by wavelength unless otherwise noted. Therefore, the normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) are not only the characteristics of the optical filter 1a but also the functions of the color filter of the camera. It can be said.
  • the incident angle of the chief ray incident on the center of the imaging device of the camera is close to 0 °, and the incident angle of the chief ray incident on the peripheral portion of the imaging device is large.
  • the shape of the curve of the normalized spectral sensitivity function changes with the incident angle of light, the hue changes when displaying or printing the image generated by the imaging device.
  • the color of the subject that should be the same color changes from the central portion toward the peripheral portion, and may be recognized as color unevenness. It corresponds to a change of light incidence angle of 30 ° to 40 ° compared to the area of the image corresponding to a change of light incidence angle of 0 ° to 40 ° and a change of light incidence angle of 0 ° to 30 °
  • the area of the image is narrow, and color unevenness is more easily recognized in this area. Therefore, even if the incident angle of light changes, if the change in the shape of the curve of the normalized spectral sensitivity function is small, it is possible to prevent the occurrence of color unevenness in the image generated by the imaging device.
  • the optical filter 1a satisfies the conditions shown in Table (II), even if the incident angle of light changes, the change in the shape of the curve of the normalized spectral sensitivity function is small, and the imaging device By providing, it is possible to prevent the occurrence of color unevenness in the image generated by the imaging device.
  • IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB are incident angles selected from 0 ° and 30 ° in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. It is determined by integrating the difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function at an incident angle ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 30 ° and 40 ° from the normalized spectral sensitivity function at ⁇ 1 °.
  • the correction made to optimize the lightness or color reproduction is performed on a pixel-by-pixel basis, so the actual value of the spectral sensitivity directly corresponds to this correction.
  • the optical filter 1a Characteristics can be properly identified.
  • the incident angle of the chief ray to each pixel of the imaging device can be predicted, it is also conceivable to correct and display or print the image captured by the imaging device according to the incident angle.
  • the optical filter 1a it is preferably defined by the following equations (4) to (6) for two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 0 °, 30 ° and 40 ° IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB and the same two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 ° for IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB
  • Table (III) The range obtained by subtracting the minimum value from the maximum value of the condition satisfies the conditions shown in Table (III).
  • IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB are incident angles selected from 0 ° and 30 ° in the wavelength range of 400 nm to 700 nm.
  • the absolute value of the difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function at an incident angle ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 30 ° and 40 ° from the normalized spectral sensitivity function at ⁇ 1 ° is determined by integration.
  • the difference between the normalized spectral sensitivity function at the incident angle ⁇ 1 ° minus the normalized spectral sensitivity function at the incident angle ⁇ 2 ° is negative only by the evaluation based on IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB
  • the integrated value in one wavelength band may be offset by the integrated value in another wavelength band in which the difference is positive, and it may be difficult to appropriately specify the characteristics of the optical filter.
  • the optical filter 1a can be more appropriately evaluated using IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB .
  • optical filter 1a for example, it is defined by the following formulas (7) to (9) for two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 0 °, 30 ° and 40 ° ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB and the same two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 ° for ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB
  • a range which is a difference obtained by subtracting the minimum value from the maximum value satisfies the conditions shown in Table (IV).
  • ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB are incident angles selected from 0 ° and 30 ° in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. It is determined by integrating the square value of the difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function at an incident angle ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 30 ° and 40 ° from the normalized spectral sensitivity function at ⁇ 1 °.
  • the optical filter 1a can be more appropriately evaluated using ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB .
  • the light absorbing agent contained in the light absorbing layer 10 absorbs at least a part of light in the near infrared region, the optical filter 1a satisfies the above conditions (i) to (vii), and Table II There is no particular limitation as long as the conditions shown in 2.) are satisfied.
  • the light absorber is formed of, for example, phosphonic acid and copper ions.
  • the light absorption layer 10 can absorb light in the near infrared region and a wide wavelength band of the visible light region adjacent to the near infrared region. For this reason, even if the optical filter 1a is not provided with a reflective film, desired characteristics can be exhibited.
  • the optical filter 1a can be designed so that the wavelength band of the light beam reflected by the reflective film is sufficiently separated from the wavelength band of the light beam to be transmitted.
  • the wavelength band of the light beam reflected by the reflective film can be set to a wavelength band longer by 100 nm or more from the wavelength band of the transition region in which the transmittance sharply decreases as the wavelength increases.
  • the incident angle of light is large and the wavelength band of the light beam reflected by the reflection film is shifted to the short wavelength side, it overlaps with the wavelength band of the light beam absorbed by the light absorption layer 10, and the transition of the optical filter 1a
  • the transmittance characteristics in the region hardly change with respect to the change of the incident angle of light.
  • the light absorbing layer 10 can absorb light in a wide range of the wavelength band of the ultraviolet region.
  • the phosphonic acid contains, for example, a first phosphonic acid having an aryl group.
  • the aryl group is attached to the phosphorus atom.
  • the aryl group which the first phosphonic acid has is, for example, a phenyl group, a benzyl group, a toluyl group, a nitrophenyl group, a hydroxyphenyl group, a halogenated phenyl group in which at least one hydrogen atom in the phenyl group is substituted by a halogen atom, Alternatively, it is a halogenated benzyl group in which at least one hydrogen atom in the benzene ring of the benzyl group is substituted by a halogen atom.
  • the phosphonic acid desirably further comprises a second phosphonic acid having an alkyl group.
  • the alkyl group is attached to the phosphorus atom.
  • the alkyl group possessed by the second phosphonic acid is, for example, an alkyl group having 6 or less carbon atoms.
  • the alkyl group may have either linear or branched chain.
  • the light absorbing layer 10 includes a light absorbing agent formed of phosphonic acid and copper ions
  • the light absorbing layer 10 desirably further includes a phosphate ester for dispersing the light absorbing agent and a matrix resin.
  • the phosphate ester contained in the light absorption layer 10 is not particularly limited as long as the light absorber can be appropriately dispersed, but for example, a phosphate diester represented by the following formula (c1) and a table by the following formula (c2) And / or at least one of the following phosphoric monoesters.
  • R 21 , R 22 and R 3 are each a monovalent functional group represented by — (CH 2 CH 2 O) n R 4 and n Is an integer of 1 to 25 and R 4 is an alkyl group having 6 to 25 carbon atoms.
  • R 21 , R 22 and R 3 are functional groups of the same or different type from one another.
  • the phosphoric acid ester is not particularly limited.
  • Plysurf A208N polyoxyethylene alkyl (C12, C13) ether phosphoric acid ester
  • Plysurf A208 F polyoxyethylene alkyl (C8) ether phosphoric acid ester
  • Plysurf A208 B Polyoxyethylene lauryl ether phosphate
  • Plysurf A 219 B Polyoxyethylene lauryl ether phosphate
  • Plysurf AL Polyoxyethylene styrenated phenyl ether phosphate
  • Plysurf A 212 C Polyoxyethylene tridecyl ether phosphate
  • Plysurf A 215 C polyoxyethylene tridecyl ether phosphate ester.
  • NIKKOL DDP-2 polyoxyethylene alkyl ether phosphate
  • NIKKOL DDP-4 polyoxyethylene alkyl ether phosphate
  • NIKKOL DDP-6 polyoxyethylene alkyl ether phosphate possible.
  • the matrix resin contained in the light absorbing layer 10 is, for example, a resin capable of dispersing a light absorbing agent and capable of being thermally cured or ultraviolet curable. Furthermore, when a resin layer of 0.1 mm is formed of the resin as a matrix resin, the transmittance of the resin layer to light with a wavelength of 350 nm to 900 nm is, for example, 80% or more, preferably 85% or more, More preferably, a resin of 90% or more can be used, but it is not particularly limited as long as the conditions (i) to (vii) and the conditions shown in Table (II) in the optical filter 1a are satisfied.
  • the content of phosphonic acid in the light absorption layer 10 is, for example, 3 to 180 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the matrix resin.
  • the matrix resin contained in the light absorption layer 10 is not particularly limited as long as the above-mentioned properties are satisfied, but, for example, (poly) olefin resin, polyimide resin, polyvinyl butyral resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyether sulfone Resin, polyamide imide resin, (modified) acrylic resin, epoxy resin, or silicone resin.
  • the matrix resin may contain an aryl group such as a phenyl group, and is preferably a silicone resin containing an aryl group such as a phenyl group.
  • the light absorbing layer 10 When the light absorbing layer 10 is hard (is rigid) and the thickness of the light absorbing layer 10 is increased, cracks easily occur due to curing shrinkage during the manufacturing process of the optical filter 1a.
  • the matrix resin is a silicone resin containing an aryl group
  • the light absorption layer 10 tends to have good crack resistance.
  • the light absorber does not easily aggregate when it contains the light absorber formed of the above phosphonic acid and copper ion.
  • the phosphoric acid ester contained in the light absorbing layer 10 may be a phosphoric acid ester represented by Formula (c1) or Formula (c2) It is desirable to have a flexible linear organic functional group such as an oxyalkyl group. This is because the light absorber is less likely to aggregate due to the interaction based on the combination of the above-mentioned phosphonic acid, the silicone resin containing an aryl group, and the phosphate ester having a linear organic functional group such as an oxyalkyl group, and It is because the light absorption layer can be provided with good rigidity and good flexibility.
  • silicone resins used as matrix resins include KR-255, KR-300, KR-2621-1, KR-211, KR-311, KR-216, KR-212, and KR-251. be able to. All of these are silicone resins manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • the optical filter 1a further includes, for example, a transparent dielectric substrate 20.
  • a transparent dielectric substrate 20 One main surface of the transparent dielectric substrate 20 is covered with the light absorption layer 10.
  • the characteristics of the transparent dielectric substrate 20 are not particularly limited as long as the conditions (i) to (vii) and the conditions shown in Table (II) are satisfied in the optical filter 1a.
  • the transparent dielectric substrate 20 is, for example, a dielectric substrate having high average transmittance (for example, 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 90% or more) at 450 nm to 600 nm.
  • the transparent dielectric substrate 20 is made of, for example, glass or resin.
  • the glass contains, for example, borosilicate glass such as D263 T eco, soda lime glass (blue plate), white sheet glass such as B270, alkali-free glass, or copper.
  • Infrared absorbing glass such as phosphate glass or fluorophosphate glass containing copper.
  • the transparent dielectric substrate 20 is an infrared absorbing glass such as copper containing phosphate glass or copper containing fluorophosphate glass, the infrared absorption performance and light of the transparent dielectric substrate 20
  • the combination with the infrared absorption performance of the absorption layer 10 can provide the optical filter 1a with a desired infrared absorption performance.
  • Such infrared absorbing glass is, for example, BG-60, BG-61, BG-62, BG-63, or BG-67 manufactured by SCHOTT, 500EXL manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., or Hoya Company CM5000, CM500, C5000, or C500S.
  • the transparent dielectric substrate 20 may have an ultraviolet absorbing property.
  • the transparent dielectric substrate 20 may be a crystalline substrate having transparency, such as magnesium oxide, sapphire, or quartz.
  • sapphire is hard to scratch because of its high hardness.
  • plate-shaped sapphire is disposed on the front surface of a camera module or lens provided in a smartphone or a portable terminal such as a mobile phone as a scratch-resistant protective material (sometimes called a protect filter or cover glass). May be By forming the light absorption layer 10 on such plate-like sapphire, it is possible to effectively cut off light with a wavelength of 650 nm to 1100 nm together with the protection of the camera module and the lens.
  • an optical filter having infrared ray shielding properties at a wavelength of 650 nm to 1100 nm it is not necessary to dispose an optical filter having infrared ray shielding properties at a wavelength of 650 nm to 1100 nm around an imaging device such as a CCD (Charge-Coupled Device) sensor and a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) sensor or inside a camera module.
  • an imaging device such as a CCD (Charge-Coupled Device) sensor and a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) sensor or inside a camera module.
  • the light absorption layer 10 is formed on plate-shaped sapphire, it can contribute to shortening of a camera module or an imaging device.
  • the resin is, for example, (poly) olefin resin, polyimide resin, polyvinyl butyral resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polysulfone resin, polyether sulfone resin, polyamide imide resin, (Modified) Acrylic resin, epoxy resin, or silicone resin.
  • the optical filter 1a can be manufactured, for example, by applying a coating solution for forming the light absorption layer 10 on one main surface of the transparent dielectric substrate 20 to form a coating, and drying the coating.
  • the method of preparing the coating solution and the method of manufacturing the optical filter 1a will be described by taking, as an example, the case where the light absorbing layer 10 contains a light absorbing agent formed of phosphonic acid and copper ions.
  • a copper salt such as copper acetate monohydrate is added to a predetermined solvent such as tetrahydrofuran (THF) and stirred to obtain a solution of copper salt.
  • a phosphate diester represented by the formula (c1) or a phosphate ester compound such as a phosphate monoester represented by the formula (c2) is added to the copper salt solution and stirred to prepare a solution A.
  • the first phosphonic acid is added to a predetermined solvent such as THF and stirred to prepare a solution B.
  • solution B is added to solution A and stirred for a predetermined time.
  • a predetermined solvent such as toluene is added to the solution and stirred to obtain a solution C.
  • a desolvation process is performed for a predetermined time while heating the solution C to obtain the solution D.
  • a solvent such as THF and a component generated by dissociation of a copper salt such as acetic acid (boiling point: about 118 ° C.) are removed, and a light absorbing agent is generated by the first phosphonic acid and the copper ion.
  • the temperature for heating solution C is determined based on the boiling point of the component to be removed which has been dissociated from the copper salt.
  • a solvent such as toluene (boiling point: about 110 ° C.) used to obtain the liquid C also evaporates. Since it is desirable that the solvent remains to some extent in the coating solution, it is preferable from this viewpoint that the amount of the solvent added and the time for the desolvation treatment be defined.
  • o-xylene (boiling point: about 144 ° C.) can be used instead of toluene. In this case, since the boiling point of o-xylene is higher than the boiling point of toluene, the amount of addition can be reduced to about one fourth of the amount of addition of toluene.
  • a matrix resin such as silicone resin is added to solution D and stirred to prepare a coating solution.
  • the coating solution is applied to one of the main surfaces of the transparent dielectric substrate 20 to form a coating.
  • the coating liquid is applied to one main surface of the transparent dielectric substrate 20 by die coating, spin coating, or application by a dispenser to form a coating.
  • this coating film is subjected to a predetermined heat treatment to cure the coating film.
  • the coating is exposed to an environment at a temperature of 50 ° C. to 200 ° C. for a predetermined time.
  • the light absorption layer 10 may be formed as a single layer or may be formed as a plurality of layers.
  • the light absorbing layer 10 may be, for example, a first layer containing a light absorbing agent formed of a first phosphonic acid and a copper ion, and a second layer It has a second layer containing a light absorber formed by phosphonic acid and copper ions.
  • the coating solution for forming the first layer can be prepared as described above.
  • the second layer is formed using a coating solution prepared separately from the coating solution for forming the first layer.
  • the coating liquid for forming the second layer can be prepared, for example, as follows.
  • a copper salt such as copper acetate monohydrate is added to a predetermined solvent such as tetrahydrofuran (THF) and stirred to obtain a solution of copper salt.
  • a phosphate diester represented by the formula (c1) or a phosphate ester compound such as a phosphate monoester represented by the formula (c2) is added to the solution of the copper salt and stirred to prepare a solution E.
  • a phosphate ester compound such as a phosphate monoester represented by the formula (c2)
  • secondary phosphonic acid is added to a predetermined solvent such as THF and stirred to prepare solution F.
  • the solution F is added to the solution E and stirred for a predetermined time.
  • a predetermined solvent such as toluene is added to the solution and stirred, and the solvent is further evaporated to obtain a G liquid.
  • a matrix resin such as silicone resin is added to solution G and stirred to obtain a coating solution for forming a second layer.
  • a coating solution for forming the first layer and a coating solution for forming the second layer are applied to form a coating, and the coating is subjected to a predetermined heat treatment to cure the coating.
  • the first layer and the second layer can be formed.
  • the coating is exposed to an environment at a temperature of 50 ° C. to 200 ° C. for a predetermined time.
  • the order in which the first layer and the second layer are formed is not particularly limited, and the first layer and the second layer may be formed in different periods or may be formed in the same period.
  • a protective layer may be formed between the first layer and the second layer.
  • the protective layer is formed of, for example, a vapor deposited film of SiO 2 .
  • the optical filter 1a can be changed from various viewpoints.
  • the optical filter 1a may be changed to the optical filters 1b to 1f shown in FIGS. 1B to 1F, respectively.
  • the optical filters 1b to 1f are configured in the same manner as the optical filter 1a, unless otherwise specified.
  • the components of the optical filters 1b to 1f which are the same as or correspond to the components of the optical filter 1a are designated by the same reference numerals, and the detailed description thereof is omitted.
  • the description on the optical filter 1a also applies to the optical filters 1b to 1f unless technically contradictory.
  • the light absorption layer 10 is formed on both main surfaces of the transparent dielectric substrate 20.
  • the conditions of (i) to (vii) above and the conditions shown in Table (II) are satisfied by the two light absorbing layers 10, not by one light absorbing layer 10.
  • the thickness of the light absorption layer 10 on both main surfaces of the transparent dielectric substrate 20 may be the same or different. That is, the light absorbing layer is formed on both main surfaces of the transparent dielectric substrate 20 so that the thickness of the light absorbing layer 10 necessary for the optical filter 1b to obtain the desired optical characteristics may be evenly or unevenly distributed. 10 are formed.
  • each light absorption layer 10 formed on one main surface of the transparent dielectric substrate 20 of the optical filter 1b is smaller than that of the optical filter 1a.
  • the light absorption layer 10 may be formed as a plurality of layers.
  • the light absorption layer 10 is formed on both main surfaces of the transparent dielectric substrate 20.
  • the optical filter 1 c includes the anti-reflection film 30.
  • the anti-reflection film 30 is a film formed to form an interface between the optical filter 1c and air, for reducing reflection of light in the visible light region.
  • the antireflective film 30 is a film formed of, for example, a resin, an oxide, and a dielectric such as a fluoride.
  • the antireflective film 30 may be a multilayer film formed by laminating two or more types of dielectrics having different refractive indexes.
  • the antireflective film 30 may be a dielectric multilayer film made of a low refractive index material such as SiO 2 and a high refractive index material such as TiO 2 or Ta 2 O 5 . In this case, Fresnel reflection at the interface between the optical filter 1c and the air is reduced, and the amount of light in the visible light region of the optical filter 1c can be increased.
  • the antireflection film 30 may be formed on both sides of the optical filter 1c, or may be formed on one side of the optical filter 1c.
  • the light absorption layer 10 is formed on both main surfaces of the transparent dielectric substrate 20.
  • the optical filter 1 d further includes a reflective film 40.
  • the reflective film 40 reflects infrared light and / or ultraviolet light.
  • the reflective film 40 is, for example, a film formed by vapor deposition of a metal such as aluminum, or a dielectric multilayer film in which a layer made of a high refractive index material and a layer made of a low refractive index material are alternately stacked. is there.
  • the high refractive index material a material having a refractive index of 1.7 to 2.5 such as TiO 2 , ZrO 2 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 5 , ZnO, and In 2 O 3 is used.
  • the low refractive index material materials having a refractive index of 1.2 to 1.6, such as SiO 2 , Al 2 O 3 and MgF 2 are used.
  • the method of forming the dielectric multilayer film is, for example, a chemical vapor deposition (CVD) method, a sputtering method, or a vacuum evaporation method.
  • such a reflective film may be formed so that it may make both the main surfaces of an optical filter (illustration omitted). When the reflective film is formed on both main surfaces of the optical filter, the stress is balanced on both the front and back sides of the optical filter, and the merit that the optical filter is hardly warped is obtained.
  • the optical filter 1 e is constituted only by the light absorption layer 10.
  • the optical filter 1e is formed by, for example, applying a coating solution to a predetermined substrate such as a glass substrate, a resin substrate, a metal substrate (for example, a steel substrate or a stainless steel substrate) to form a coating and curing the coating. It can be manufactured by peeling from a substrate.
  • the optical filter 1e may be manufactured by a casting method.
  • the optical filter 1 e is thin because it does not include the transparent dielectric substrate 20. Therefore, the optical filter 1e can contribute to the shortening of the height of the imaging device.
  • the optical filter 1 f includes the light absorption layer 10 and a pair of anti-reflection films 30 disposed on both sides thereof.
  • the optical filter 1 f can contribute to reducing the height of the imaging device, and can increase the amount of light in the visible light region as compared to the optical filter 1 e.
  • Each of the optical filters 1a to 1f may be changed to include an infrared absorption layer (not shown) separately from the light absorption layer 10, as necessary.
  • the infrared absorbing layer contains, for example, an organic infrared absorber such as a cyanine type, phthalocyanine type, squarylium type, diimmonium type, or azo type, or an infrared absorber made of a metal complex.
  • the infrared absorption layer contains, for example, one or more infrared absorbers selected from these infrared absorbers. This organic infrared absorber has a small wavelength range (absorption band) of absorbable light and is suitable for absorbing light in a specific range of wavelengths.
  • Each of the optical filters 1a to 1f may be changed to include an ultraviolet absorbing layer (not shown) separately from the light absorbing layer 10, as necessary.
  • the ultraviolet absorbing layer contains, for example, ultraviolet absorbers such as benzophenone type, triazine type, indole type, merocyanine type, and oxazole type.
  • the ultraviolet absorbing layer contains, for example, one or more ultraviolet absorbers selected from these ultraviolet absorbers.
  • UV absorbers may be included, for example, those that absorb UV light of around 300 nm to 340 nm, emit light (fluorescent light) having a wavelength longer than the absorbed wavelength, and function as a fluorescent agent or a brightening agent,
  • the ultraviolet absorbing layer can reduce the incidence of ultraviolet light that causes deterioration of the material used for the optical filter such as resin.
  • the above-mentioned infrared ray absorbing agent and / or ultraviolet ray absorbing agent may be previously contained in a transparent dielectric substrate 20 made of resin to form a substrate having a property of absorbing infrared rays and / or ultraviolet rays.
  • the resin needs to be able to appropriately dissolve or disperse the infrared absorber and / or the ultraviolet absorber and be transparent.
  • Such resins include (poly) olefin resins, polyimide resins, polyvinyl butyral resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polysulfone resins, polyether sulfone resins, polyamideimide resins, (modified) acrylic resins, epoxy resins, and silicone resins Can be illustrated.
  • the optical filter 1a is used, for example, to manufacture the imaging device 100 (camera module).
  • the imaging device 100 includes a lens system 2, an imaging device 4, a color filter 3, and an optical filter 1 a.
  • the imaging element 4 receives light that has passed through the lens system 2.
  • the color filter 3 is disposed in front of the imaging device 4 and has three color filters of R (red), G (green), and B (blue).
  • the optical filter 1 a is disposed in front of the color filter 3.
  • the light absorption layer 10 is formed in contact with the surface of the transparent dielectric substrate 20 close to the lens system 2.
  • a high hardness material such as sapphire for the transparent dielectric substrate 20
  • the effect of protecting the lens system 2 or the imaging device 4 is enhanced.
  • the color filter 3 filters of three colors of R (red), G (green), and B (blue) are arranged in a matrix, and R (red) right above each pixel of the imaging device 4, A filter of any of G (green) and B (blue) is disposed.
  • the image sensor 4 receives light from an object that has passed through the lens system 2, the optical filter 1 a, and the color filter 3.
  • the imaging device 100 generates an image based on the information related to the charge generated by the light received by the imaging device 4.
  • the color image sensor may be configured by integrating the color filter 3 and the imaging device 4.
  • the image pickup apparatus 100 Since the optical filter 1a satisfies the above conditions (i) to (vii) and the conditions shown in Table (II), the image pickup apparatus 100 provided with such an optical filter 1a produces an image in which color unevenness is prevented. Can be generated.
  • the transmittance spectrum when light having a wavelength of 300 nm to 1200 nm is made incident on the optical filters according to the examples and comparative examples, the semi-finished products thereof, or the laminate according to the reference example is an ultraviolet-visible spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation) Product name: measured using V-670).
  • the incident angles of incident light are set to 0 °, 30 °, and 40 ° with respect to the optical filters of Examples and Comparative Examples, some semi-finished products, and laminates according to some Reference Examples
  • the transmittance spectrum of was measured.
  • permeability spectrum at the time of setting the incident angle of incident light to 0 degree was measured with respect to the laminated body which concerns on other semi-finished products and other reference examples.
  • Example 1 The coating solution IRA1 was prepared as follows. A mixture of 1.1 g of copper acetate monohydrate and 60 g of tetrahydrofuran (THF) was stirred for 3 hours, and a phosphate ester (product name: Plysurf A208F, manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) was added to the obtained solution. 3 g was added and stirred for 30 minutes to obtain solution A. 10 g of THF was added to 0.6 g of phenylphosphonic acid (manufactured by Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.) and stirred for 30 minutes to obtain solution B. Solution B was added while stirring solution A, and stirred at room temperature for 1 minute.
  • THF tetrahydrofuran
  • the coating liquid IRA2 was prepared as follows. A mixture of 2.25 g of copper acetate monohydrate and 120 g of tetrahydrofuran (THF) was stirred for 3 hours, and the obtained solution was treated with 1.8 g of phosphoric ester (product name: Plysurf A208F, manufactured by Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.). Was added and stirred for 30 minutes to obtain solution E. 20 g of THF was added to 1.35 g of butylphosphonic acid and stirred for 30 minutes to obtain a solution F.
  • THF tetrahydrofuran
  • Solution F was added while stirring solution E and stirred at room temperature for 3 hours, 40 g of toluene was added, and then the solvent was evaporated in an environment of 85 ° C. for 7.5 hours to obtain solution G.
  • a 8.8 g silicone resin manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: KR-300 was added to solution G, and the mixture was stirred for 3 hours to obtain a coating solution IRA2.
  • the coating solution IRA1 is applied to one main surface of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco) by a die coater, dried in an oven at 85 ° C for 3 hours, then at 125 ° C for 3 hours, then at 150 ° C.
  • the coating film was cured by heat treatment at 170 ° C. for 3 hours to form an infrared absorbing layer ira11.
  • the coating liquid IRA1 was applied also to the opposite principal surface of the transparent glass substrate, and heat treatment was performed under the same conditions as described above to cure the coating, thereby forming the infrared absorption layer ira12.
  • a semi-finished product ⁇ of the optical filter according to Example 1 was obtained.
  • the thickness of the infrared absorption layer ira11 and the infrared absorption layer ira12 was 0.2 mm in total.
  • the transmission spectrum of the semifinished product ⁇ at an incidence angle of 0 ° is shown in FIG. 4A.
  • the semi-finished product ⁇ had the following characteristics ( ⁇ 1) to ( ⁇ 6).
  • ( ⁇ 1) The average transmittance at a wavelength of 700 to 1000 nm was 0.5% or less.
  • the IR cutoff wavelength is 632 nm
  • the UV cutoff wavelength is 394 nm
  • the difference between the IR cutoff wavelength and the UV cutoff wavelength is considered to be the full width at half maximum of the transmission region.
  • the total width was 238 nm.
  • a deposited film (protective layer p1) of SiO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the infrared absorption layer ira11 of the semifinished product ⁇ using a vacuum deposition apparatus.
  • a 500 nm thick SiO 2 vapor deposition film (protective layer p 2) was formed on the infrared absorption layer ira 12 of the semifinished product ⁇ .
  • the coating solution IRA2 is applied to the surface of the protective layer p1 by a die coater, and heat treated in an oven at 85 ° C. for 3 hours, then at 125 ° C. for 3 hours, then at 150 ° C. for 1 hour, then at 170 ° C.
  • the coating was cured to form an infrared absorbing layer ira21.
  • the coating liquid IRA2 was also applied to the surface of the protective layer p2 by a die coater, and the coating was cured under the same heating conditions to form an infrared absorption layer ira22.
  • a semi-finished product ⁇ was obtained.
  • the thicknesses of the infrared absorbing layer ira21 and the infrared absorbing layer ira22 were 50 ⁇ m in total.
  • the transmittance spectrum of semifinished product ⁇ is shown in FIG. 4B.
  • the semifinished product ⁇ had the following characteristics ( ⁇ 1) to ( ⁇ 6).
  • a deposited film (protective layer p3) of SiO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the infrared absorption layer ira22 of the semifinished product ⁇ using a vacuum deposition apparatus.
  • the coating solution UVA1 was adjusted as follows.
  • As the ultraviolet absorbing material a benzophenone-based ultraviolet absorbing material which has low light absorption in the visible light region and is soluble in MEK (methyl ethyl ketone) was used.
  • the ultraviolet absorbing material was dissolved in MEK as a solvent, and 60% by weight of polyvinyl butyral (PVB) of solid content was added, and the mixture was stirred for 2 hours to obtain a coating solution UVA1.
  • the coating liquid UVA1 was applied by spin coating on the protective layer p3 and cured by heating at 140 ° C. for 30 minutes to form an ultraviolet absorbing layer uva1.
  • the thickness of the ultraviolet absorbing layer uva1 was 6 ⁇ m.
  • a UV absorbing layer having a thickness of 6 ⁇ m was formed on the surface of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco) by spin coating using a coating solution UVA1 to obtain a laminate according to Reference Example 1 .
  • permeability spectrum of the laminated body which concerns on the reference example 1 is shown to FIG. 4C.
  • the laminate according to Reference Example 1 had the following characteristics (r1) to (r3).
  • R2 The transmittance at a wavelength of 400 nm is 12.9%, the transmittance at 410 nm is 51.8%, the transmittance at 420 nm is 77.1%, and the transmittance at 450 nm is 89.8% Met.
  • R3 The average transmittance at a wavelength of 450 to 750 nm was 91.0%.
  • Antireflection film ar1 was formed on infrared absorption layer ira21 using a vacuum evaporation system. Further, an antireflective film ar2 was formed on the ultraviolet absorbing layer uva1 by using a vacuum evaporation system.
  • the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 have the same specifications, and are films in which SiO 2 and TiO 2 are alternately stacked, and the number of layers in the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 is seven.
  • the layer thickness was about 0.4 ⁇ m. Thus, an optical filter according to Example 1 was obtained.
  • An antireflection film was formed on one side of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263T eco) under the same conditions as the film formation of the antireflection film ar1, and a laminate according to Reference Example 2 was obtained.
  • permeability spectrum of the laminated body which concerns on the reference example 2 is shown to FIG. 4D.
  • the laminate according to Reference Example 2 had the following characteristics (s1) to (s4). (S1): When the incident angle of light is 0 °, the transmittance at a wavelength of 350 nm is 73.4%, the transmittance at a wavelength of 380 nm is 88.9%, and the transmittance at a wavelength of 400 nm is 95.
  • the transmittance spectrum of the optical filter according to Example 1 is shown in FIG. 4E and Table 7.
  • the optical filter according to Example 1 had the characteristics shown in Table 8.
  • a function obtained from the product of G) and G ( ⁇ ) and a function obtained from the product of T 0 ( ⁇ ) and B ( ⁇ ) were calculated.
  • the maximum value of each function was determined, and the normalization factor was determined such that the maximum value among those values was 1.
  • normalized spectral sensitivity function CR 0 ( ⁇ ) was determined by multiplying the normalization coefficient by a function obtained from the product of the spectral transmittance T 0 ( ⁇ ) and R ( ⁇ ) shown in Table (I). Similarly, normalized spectral sensitivity functions CG 0 ( ⁇ ) and CB 0 ( ⁇ ) were determined.
  • T 30 ( ⁇ ) A function obtained from the product of the spectral transmittance T 30 ( ⁇ ) of the optical filter and the R ( ⁇ ) shown in Table (I) when the incident angle ⁇ of light to the optical filter is 30 °, T 30 ( ⁇ The incident angle ⁇ of light is 30 ° by multiplying the function obtained from the product of G) and G ( ⁇ ) and the function obtained from the product of T 30 ( ⁇ ) and B ( ⁇ ) by the normalization factor.
  • the normalized spectral sensitivity functions CR 30 ( ⁇ ), CG 30 ( ⁇ ), and CB 30 ( ⁇ ) were determined.
  • the normalized spectral sensitivity functions CR 40 ( ⁇ ), CG 40 ( ⁇ ), and CB 40 ( ⁇ ) were determined.
  • the normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light to the optical filter is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS.
  • FIG. 6A A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 ° is shown in FIG. 6B.
  • FIG. 6C A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 30 ° is shown in FIG. 6C.
  • IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG
  • IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR
  • IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG
  • IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB
  • ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG
  • ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB
  • Example 2 In the same manner as in Example 1, a coating solution IRA1 and a coating solution IRA2 were prepared.
  • the coating solution IRA1 is applied to one main surface of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco) by a die coater, dried in an oven at 85 ° C for 3 hours, then at 125 ° C for 3 hours, then at 150 ° C.
  • the coating film was cured by heat treatment at 170 ° C. for 3 hours to form an infrared absorbing layer ira11.
  • the coating liquid IRA1 was applied also to the opposite principal surface of the transparent glass substrate, and heat treatment was performed under the same conditions as described above to cure the coating, thereby forming the infrared absorption layer ira12.
  • the thickness of the infrared absorption layer ira11 and the infrared absorption layer ira12 was 0.2 mm in total.
  • a 500 nm thick SiO 2 vapor deposition film (protective layer p1) was formed using a vacuum vapor deposition apparatus.
  • a deposited film (protective layer p2) of SiO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the infrared absorption layer ira12.
  • the coating solution IRA2 is applied to the surface of the protective layer p1 by a die coater, and heat treated in an oven at 85 ° C. for 3 hours, then at 125 ° C. for 3 hours, then at 150 ° C. for 1 hour, then at 170 ° C. for 3 hours The coating was cured to form an infrared absorbing layer ira21.
  • the coating liquid IRA2 was also applied to the surface of the protective layer p2 by a die coater, and the coating was cured under the same heating conditions to form an infrared absorption layer ira22.
  • the thicknesses of the infrared absorbing layer ira21 and the infrared absorbing layer ira22 were 50 ⁇ m in total.
  • a 500 nm-thick SiO 2 vapor deposition film (protective layer p3) was formed using a vacuum vapor deposition apparatus.
  • a coating solution UVIRA1 containing an infrared absorbing dye and an ultraviolet absorbing dye was prepared as follows.
  • the infrared absorbing dye was a combination of a cyanine-based organic dye and a squalilium-based organic dye, which has an absorption peak at a wavelength of 680 to 780 nm and hardly absorbs light in the visible light range.
  • the ultraviolet absorbing dye was a dye made of an ultraviolet absorbing material of benzophenone type which hardly absorbs light in the visible light range.
  • the infrared absorbing dye and the ultraviolet absorbing dye were soluble in MEK.
  • An infrared absorbing dye and an ultraviolet absorbing dye were added to MEK as a solvent, and PVB as a matrix material was further added, and then stirred for 2 hours to obtain a coating solution UVIRA1.
  • the compounding ratio of the infrared absorbing dye in the coating solution UVIRA1 and the compounding ratio of the ultraviolet absorbing dye were determined so that the laminate according to Reference Example 3 exhibited the transmittance spectrum shown in FIG. 7A.
  • the laminate according to Reference Example 3 is obtained by applying the coating solution UVIRA1 by spin coating on a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco), and heating the coating film at 140 ° C. for 30 minutes.
  • the mass ratio of the infrared absorbing dye to the solid content of PVB was about 1: 199. Further, the mass ratio of the ultraviolet absorbing dye to the solid content of PVB (mass of ultraviolet absorbing dye: mass of solid content of PVB) was about 40:60.
  • the laminate according to Reference Example 3 had the following characteristics (t1) to (t5). (T1): The transmittance at a wavelength of 700 nm was 8.7%, the transmittance at a wavelength of 715 nm was 13.6%, and the average transmittance at a wavelength of 700 to 800 nm was 66.2%.
  • T2 The transmittance at a wavelength of 1100 nm was 92.1%.
  • T3 The transmittance at a wavelength of 400 nm was 11.8%, the transmittance at 450 nm was 85.3%, and the average transmittance at wavelengths of 500 to 600 nm was 89.1%.
  • T4 The IR cutoff wavelength at a wavelength of 600 nm to 700 nm was 669 nm, the IR cutoff wavelength at a wavelength of 700 nm to 800 nm was 729 nm, and their difference was 60 nm. The wavelength (maximum absorption wavelength) showing the lowest transmittance at wavelengths of 600 nm to 800 nm was 705 nm.
  • T5 The UV cutoff wavelength at a wavelength of 350 nm to 450 nm was 411 nm.
  • the coating liquid UVIRA1 was applied on the protective layer p3 by spin coating, and the coated film was cured by heating at 140 ° C for 30 minutes to form an infrared / ultraviolet absorbing layer uvira1.
  • the thickness of the infrared and ultraviolet absorbing layer uvira 1 was 7 ⁇ m.
  • Antireflection film ar1 was formed on infrared absorption layer ira21 using a vacuum evaporation system. Further, an antireflective film ar2 was formed on the infrared / ultraviolet absorbing layer uvira1 using a vacuum vapor deposition apparatus.
  • the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 have the same specifications, and are films in which SiO 2 and TiO 2 are alternately stacked, and the number of layers in the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 is seven.
  • the layer thickness was about 0.4 ⁇ m. Thus, an optical filter according to Example 2 was obtained.
  • Transmittance spectra of the optical filter according to Example 2 are shown in FIG. 7B and Table 12.
  • the optical filter according to Example 2 had the characteristics shown in Table 13.
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained.
  • the normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS.
  • FIG. 9A A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 30 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 ° is shown in FIG. 9A.
  • FIG. 9B A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 ° is shown in FIG. 9B.
  • FIG. 9C A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 30 ° is shown in FIG. 9C.
  • Example 3 In the same manner as in Example 1, a coating solution IRA1 and a coating solution IRA2 were prepared.
  • the coating solution IRA1 is applied to one main surface of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco) by a die coater, dried in an oven at 85 ° C for 3 hours, then at 125 ° C for 3 hours, then at 150 ° C.
  • the coating film was cured by heat treatment at 170 ° C. for 3 hours to form an infrared absorbing layer ira11.
  • the coating liquid IRA1 was applied also to the opposite principal surface of the transparent glass substrate, and heat treatment was performed under the same conditions as described above to cure the coating, thereby forming the infrared absorption layer ira12.
  • a semifinished product ⁇ of the optical filter according to Example 3 was obtained.
  • the thickness of the infrared absorption layer ira11 and the infrared absorption layer ira12 was 0.2 mm in total.
  • the transmission spectrum of semifinished product ⁇ at an incidence angle of 0 ° is shown in FIG. 10A.
  • the semi-finished product ⁇ had the following characteristics ( ⁇ 1) to ( ⁇ 6).
  • a vapor deposited film (protective layer p2) of SiO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the infrared absorption layer ira12 of the semifinished product ⁇ .
  • the coating solution UVA1 used in Example 1 was applied by spin coating, and the coated film was cured by heating at 140 ° C. for 30 minutes to form an ultraviolet absorbing layer uva1.
  • the thickness of the ultraviolet absorbing layer uva1 was 6 ⁇ m.
  • Antireflection film ar1 was formed on infrared absorption layer ira11 using a vacuum evaporation system. Further, an antireflective film ar2 was formed on the ultraviolet absorbing layer uva1 by using a vacuum evaporation system.
  • the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 have the same specifications, and are films in which SiO 2 and TiO 2 are alternately stacked, and the number of layers in the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 is seven.
  • the layer thickness was about 0.4 ⁇ m. Thus, an optical filter according to Example 3 was obtained.
  • the transmittance spectrum of the optical filter according to Example 3 is shown in FIG. 10B and Table 17.
  • the optical filter according to Example 3 had the characteristics shown in Table 18.
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained.
  • the normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS.
  • FIG. 12A A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 30 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 ° is illustrated in FIG. 12A.
  • FIG. 12B A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 ° is shown in FIG. 12B.
  • FIG. 12C A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 30 ° is shown in FIG. 12C.
  • Example 4 In the same manner as in Example 1, a coating solution IRA1 was prepared. Apply to one of the main surfaces of a transparent glass substrate (SCHOTT, product name: D263 T eco) by a die coater, use an oven at 85 ° C for 3 hours, then 125 ° C for 3 hours, then 150 ° C for 1 hour, then A heat treatment was performed at 170 ° C. for 3 hours to cure the coating, thereby forming an infrared absorption layer ira11. Similarly, the coating liquid IRA1 was applied also to the opposite principal surface of the transparent glass substrate, and heat treatment was performed under the same conditions as described above to cure the coating, thereby forming the infrared absorption layer ira12. The thickness of the infrared absorption layer ira11 and the infrared absorption layer ira12 was 0.2 mm in total.
  • a transparent glass substrate SCHOTT, product name: D263 T eco
  • an infrared reflective film irr1 was formed on the infrared absorption layer ira11 using a vacuum evaporation system.
  • 16 layers of SiO 2 and TiO 2 were alternately laminated.
  • An infrared ray reflective film was formed on one main surface of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco) under the same conditions as the formation of the infrared ray reflective film irr1, and a laminate according to Reference Example 4 was produced.
  • permeability spectrum of the laminated body which concerns on the reference example 4 is shown to FIG. 13A.
  • the laminate according to Reference Example 4 had the following characteristics (u1) to (u3).
  • a deposited film (protective layer p2) of SiO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the infrared absorption layer ira12.
  • the coating solution UVA1 used in Example 1 was applied by spin coating, and the coated film was cured by heating at 140 ° C. for 30 minutes to form an ultraviolet absorbing layer uva1.
  • the thickness of the ultraviolet absorbing layer uva1 was 6 ⁇ m.
  • An antireflective film ar2 was formed on the ultraviolet absorbing layer uva1 using a vacuum evaporation system.
  • the antireflective film ar2 is a film in which SiO 2 and TiO 2 are alternately stacked, and in the antireflective film ar2, the number of layers is 7, and the total film thickness is about 0.4 ⁇ m. Thus, an optical filter according to Example 4 was obtained.
  • the transmittance spectrum of the optical filter according to Example 4 is shown in FIG. 13B and Table 22.
  • the optical filter according to Example 4 had the characteristics shown in Table 23.
  • the spectral transmittance T ⁇ ( ⁇ ) of the optical filter according to Example 4 in the case where the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° is shown in Table (I).
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained.
  • the normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS.
  • FIG. 15A A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 30 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 ° is illustrated in FIG. 15A.
  • the graph of the difference which deducted the normalization spectral sensitivity function in case the incident angle (theta) of light is 40 degrees from the normalization spectral sensitivity function in case the incident angle (theta) of light is 0 degree is shown to FIG. 15B.
  • FIG. 15C A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 30 ° is shown in FIG. 15C.
  • Example 5 In the same manner as in Example 1, a coating solution IRA1 was prepared. Apply to one of the main surfaces of a transparent glass substrate (SCHOTT, product name: D263 T eco) by a die coater, use an oven at 85 ° C for 3 hours, then 125 ° C for 3 hours, then 150 ° C for 1 hour, then A heat treatment was performed at 170 ° C. for 3 hours to cure the coating, thereby forming an infrared absorption layer ira11. Similarly, the coating liquid IRA1 was applied also to the opposite principal surface of the transparent glass substrate, and heat treatment was performed under the same conditions as described above to cure the coating, thereby forming the infrared absorption layer ira12. The thickness of the infrared absorption layer ira11 and the infrared absorption layer ira12 was 0.2 mm in total.
  • a transparent glass substrate SCHOTT, product name: D263 T eco
  • an infrared reflection film irr1 was formed on the infrared absorption layer ira11 using a vacuum evaporation system.
  • the infrared reflective film irr1 16 layers of SiO 2 and TiO 2 were alternately laminated.
  • a deposited film (protective layer p2) of SiO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the infrared absorption layer ira12.
  • the coating solution UVIRA1 used in Example 2 is applied under the same conditions as in Example 2, and the coating film is cured by heating at 140 ° C. for 30 minutes to form an infrared / ultraviolet absorbing layer uvira1. did.
  • the thickness of the infrared and ultraviolet absorbing layer uvira 1 was 7 ⁇ m.
  • An antireflective film ar2 was formed on the infrared / ultraviolet absorbing layer uvira1 using a vacuum evaporation system.
  • the antireflective film ar2 is a film in which SiO 2 and TiO 2 are alternately stacked, and in the antireflective film ar2, the number of layers is 7, and the total film thickness is about 0.4 ⁇ m. Thus, an optical filter according to Example 5 was obtained.
  • the transmittance spectrum of the optical filter according to Example 5 is shown in FIG. 16 and Table 27.
  • the optical filter according to Example 5 had the characteristics shown in Table 28.
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained.
  • the normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS.
  • FIG. 18A A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 30 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 ° is shown in FIG. 18A.
  • FIG. 18B is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 0 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 40 °.
  • FIG. 18C A graph of the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 30 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 40 ° is shown in FIG. 18C.
  • Example 6 In the same manner as in Example 1, a coating solution IRA1 and a coating solution IRA2 were prepared. Apply to one of the main surfaces of a transparent glass substrate (SCHOTT, product name: D263 T eco) by a die coater, use an oven at 85 ° C for 3 hours, then 125 ° C for 3 hours, then 150 ° C for 1 hour, then A heat treatment was performed at 170 ° C. for 3 hours to cure the coating, thereby forming an infrared absorption layer ira11. Similarly, the coating liquid IRA1 was applied also to the opposite principal surface of the transparent glass substrate, and heat treatment was performed under the same conditions as described above to cure the coating, thereby forming the infrared absorption layer ira12. The thickness of the infrared absorption layer ira11 and the infrared absorption layer ira12 was 0.4 mm in total.
  • a transparent glass substrate SCHOTT, product name: D263 T eco
  • a 500 nm thick SiO 2 vapor deposition film (protective layer p1) was formed using a vacuum vapor deposition apparatus.
  • a deposited film (protective layer p2) of SiO 2 having a thickness of 500 nm was formed on the infrared absorption layer ira12.
  • the coating solution IRA2 is applied to the surface of the protective layer p1 by a die coater, and heat treated in an oven at 85 ° C. for 3 hours, then at 125 ° C. for 3 hours, then at 150 ° C. for 1 hour, then at 170 ° C. for 3 hours The coating was cured to form an infrared absorbing layer ira21.
  • the coating liquid IRA2 was also applied to the surface of the protective layer p2 by a die coater, and the coating was cured under the same heating conditions to form an infrared absorption layer ira22, to obtain a semifinished product ⁇ .
  • the transmission spectrum of the semifinished product ⁇ at an incidence angle of 0 ° C. is shown in FIG. 19A.
  • the semifinished product ⁇ had the following characteristics ( ⁇ 1) to ( ⁇ 8).
  • ⁇ 2 The average transmittance at a wavelength of 700 to 1000 nm was 0.5% or less.
  • ⁇ 3 The average transmittance at a wavelength of 1100 to 1200 nm was 0.5% or less.
  • Antireflection film ar1 was formed on infrared absorption layer ira21 using a vacuum evaporation system. Further, an antireflective film ar2 was formed on the infrared absorption layer ira22 using a vacuum evaporation system.
  • the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 have the same specifications, and are films in which SiO 2 and TiO 2 are alternately stacked, and the number of layers in the antireflective film ar1 and the antireflective film ar2 is seven.
  • the layer thickness was about 0.4 ⁇ m. Thus, an optical filter according to Example 6 was obtained.
  • the transmittance spectrum of the optical filter according to Example 6 is shown in FIG. 19B and Table 32.
  • the optical filter according to Example 6 had the characteristics shown in Table 33.
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained.
  • the normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS.
  • FIG. 21A shows a graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 30 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 0 °.
  • FIG. 21B is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 0 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 40 °.
  • a graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function when the incident angle ⁇ of light is 30 ° is shown in FIG. 21C.
  • Comparative Example 1 By using a vacuum evaporation system, 24 layers of SiO 2 and TiO 2 are alternately laminated on one main surface of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263T eco) to form an infrared reflection film irr2, and a semi-finished product ⁇ I got The transmission spectrum of the semifinished product ⁇ is shown in FIG. 22A.
  • the semifinished product ⁇ had the following characteristics ( ⁇ 1) to ( ⁇ 3).
  • the transmittance at a wavelength of 380 nm is 13.1%
  • the transmittance at a wavelength of 400 nm is 90.5%
  • the average transmittance at a wavelength of 450 to 600 nm is 92.1%
  • the lowest value of the transmittance at a wavelength of 450 to 600 nm is 87.6%
  • the transmittance at a wavelength of 700 nm is 2.0%
  • the transmittance at a wavelength of 715 nm is 0.8%
  • the average transmittance at a wavelength of 700 to 800 nm was 0.5% or less
  • the transmittance at a wavelength of 1100 nm was 5.4%
  • the IR cut-off wavelength was 661 nm
  • the UV cut-off length was 386 nm.
  • Coating solution IRA3 containing an infrared absorbing dye was prepared as follows.
  • the infrared absorbing dye was a combination of a cyanine-based organic dye soluble in MEK and a squarylium-based organic dye.
  • An infrared absorbing dye was added to MEK as a solvent, and PVB as a matrix material was further added, and then stirred for 2 hours to obtain a coating solution IRA3.
  • the content of the matrix material in the solid content of the coating solution IRA3 was 99% by mass.
  • the coating liquid IRA3 was applied by spin coating to the other principal surface of the transparent glass substrate of the semifinished product ⁇ , the coating was heated at 140 ° C. for 30 minutes to be cured to form an infrared absorption layer ira3.
  • an infrared absorption layer is formed on one main surface of a transparent glass substrate (manufactured by SCHOTT, product name: D263 T eco) under the same conditions as the formation conditions of the infrared absorption layer ira3, and the laminate according to Reference Example 5 is obtained. Obtained.
  • permeability spectrum of the laminated body which concerns on the reference example 5 in the incident angle of 0 degree is shown to FIG. 22B.
  • the laminate according to Reference Example 5 had the following characteristics (v1) to (v4).
  • V1 The transmittance at a wavelength of 700 nm was 2.0%, the transmittance at a wavelength of 715 nm was 2.6%, and the average transmittance at a wavelength of 700 to 800 nm was 15.9%.
  • V2 The transmittance at a wavelength of 1100 nm was 91.1%.
  • V3 The transmittance at a wavelength of 400 nm was 78.2%, the transmittance at 450 nm was 83.8%, and the average transmittance at wavelengths of 500 to 600 nm was 86.9%.
  • V4 The IR cut-off wavelength at a wavelength of 600 nm to 700 nm is 637 nm, the IR cut-off wavelength at a wavelength of 700 nm to 800 nm is 800 nm, and the difference between these IR cut-off wavelengths is 163 nm.
  • the maximum absorption wavelength was 706 nm.
  • An antireflection film ar1 was formed on the infrared absorption layer ira3 in the same manner as in Example 1 using a vacuum vapor deposition apparatus, to obtain an optical filter according to Comparative Example 1.
  • the transmittance spectrum of the optical filter according to Comparative Example 1 is shown in FIG. 22C and Table 37.
  • the optical filter according to Comparative Example 1 had the characteristics shown in Table 38.
  • the spectral transmittance T ⁇ ( ⁇ ) of the optical filter according to Comparative Example 1 in the case where the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° is shown in Table (I).
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained.
  • FIGS. 23A, 23B, and 23C The normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS. 23A, 23B, and 23C, respectively.
  • FIG. 24A is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 0 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 30 °.
  • FIG. 24B is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 0 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 40 °.
  • FIG. 24A is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 0 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 40 °.
  • 24C is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 30 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 40 °. From the above equations (1) to (9) using the normalized spectral sensitivity function for two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 0 °, 30 °, and 40 °, IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB was determined. The results are shown in Tables 39-41.
  • the laminate according to Reference Example 6 had the following characteristics (w1) to (w3).
  • the IR cut-off wavelength is 702 nm
  • the UV cut-off wavelength is 411 nm.
  • W2 When the incident angle of light is 30 °, the transmittance at a wavelength of 380 nm is 1.7%, the transmittance at a wavelength of 400 nm is 77.7%, and the average transmittance at a wavelength of 450 to 600 nm is 94.1%, the lowest value of the transmittance at a wavelength of 450 to 600 nm is 93.0%, the average transmittance at a wavelength of 700 to 800 nm is 1.1%, and the transmittance at a wavelength of 1100 nm is 1.2 %, The IR cut-off wavelength was 680 nm, and the UV cut-off wavelength was 397 nm.
  • a coating solution UVIRA2 containing an infrared absorbing dye and an ultraviolet absorbing dye was prepared as follows.
  • the ultraviolet absorbing dye was a dye made of an ultraviolet absorbing material of benzophenone type which hardly absorbs light in the visible light range.
  • the infrared absorbing dye was a combination of a cyanine-based organic dye and a squarylium-based organic dye.
  • the infrared absorbing dye and the ultraviolet absorbing dye were soluble in MEK.
  • An infrared absorbing dye and an ultraviolet absorbing dye were added to MEK as a solvent, and PVB as a matrix material was further added, and then stirred for 2 hours to obtain a coating solution UVIRA2.
  • the content of PVB in the solid content of the coating solution UVIRA2 was 60% by mass.
  • the coating solution UVIRA2 was applied to the other principal surface of the semifinished product, and the coating was heated and cured to form an infrared / ultraviolet absorbing layer uvira2.
  • the thickness of the infrared and ultraviolet absorbing layer uvira 2 was 7 ⁇ m.
  • An infrared / ultraviolet absorbing layer is formed on one main surface of a transparent glass substrate (SCHOTT's product name: D263 T eco) using the coating solution UVIRA2 under the same conditions as the forming conditions of the infrared / ultraviolet absorbing layer uvira 2
  • the laminate according to Reference Example 7 was obtained.
  • permeability spectrum of the laminated body which concerns on the reference example 7 in the incident angle of 0 degree is shown to FIG. 25C.
  • the laminate according to Reference Example 7 had the following characteristics (p1) to (p5).
  • P1 The transmittance at a wavelength of 700 nm was 4.9%, the transmittance at a wavelength of 715 nm was 8.4%, and the average transmittance at a wavelength of 700 to 800 nm was 63.9%.
  • P2 The transmittance at a wavelength of 1100 nm was 92.3%.
  • P3 The transmittance at a wavelength of 400 nm was 12.6%, the transmittance at 450 nm was 84.4%, and the average transmittance at wavelengths of 500 to 600 nm was 88.7%.
  • An antireflective film ar1 was formed on the infrared / ultraviolet absorbing layer uvira 2 in the same manner as in Example 1 using a vacuum evaporation system.
  • the antireflective film ar1 is a film in which SiO 2 and TiO 2 are alternately stacked, and in the antireflective film ar1, the number of layers is 7, and the total film thickness is about 0.4 ⁇ m.
  • the optical filter according to Comparative Example 2 was obtained.
  • the transmittance spectrum of the optical filter according to Comparative Example 2 is shown in FIG. 25D and Table 42.
  • the optical filter according to Comparative Example 2 had the characteristics shown in Table 43.
  • the spectral transmittance T ⁇ ( ⁇ ) of the optical filter according to Comparative Example 2 in the case where the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° is shown in Table (I).
  • R ( ⁇ ), G ( ⁇ ), and B ( ⁇ ) normalized spectral sensitivity functions CR ⁇ ( ⁇ ), CG ⁇ ( ⁇ ), and CB ⁇ ( ⁇ ) were obtained.
  • FIGS. 26A, 26B, and 26C The normalized spectral sensitivity functions when the incident angle ⁇ of light is 0 °, 30 °, and 40 ° are shown in FIGS. 26A, 26B, and 26C, respectively.
  • FIG. 27A is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 0 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 30 °.
  • a graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 0 ° is shown in FIG. 27B.
  • FIG. 27B A graph of a difference obtained by subtracting the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 40 ° from the normalized spectral sensitivity function in the case where the incident angle ⁇ of light is 0 °
  • 27C is a graph showing the difference between the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 30 ° and the normalized spectral sensitivity function when the light incident angle ⁇ is 40 °. From the above equations (1) to (9) using the normalized spectral sensitivity function for two incident angles ⁇ 1 ° and ⁇ 2 ° ( ⁇ 1 ⁇ 2) selected from 0 °, 30 °, and 40 °, IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CR , ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and ISE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB was determined. The results are shown in Tables 44-46.
  • the above conditions (i) to (vii) were satisfied.
  • the transmittance in the wavelength range of 700 nm or more was sufficiently low, and it was shown that the optical filters according to Examples 1 to 6 can well shield near infrared rays.
  • the optical filter according to Example 2 exhibited lower transmittance in the wavelength range of 700 nm or more, as compared to the optical filter according to Example 1.
  • the transmittance of the visible light region was about 2 points lower than that of the optical filter according to Example 1 due to the inclusion of the organic infrared absorbing dye.
  • the optical filter according to the third embodiment has only the infrared absorbing layer ira11 and the infrared absorbing layer ira12 as the infrared absorbing layer, and therefore, in comparison with the optical filters according to the first and second embodiments, the wavelength range of 1100 nm or more It showed higher transmittance than the wavelength range of ⁇ 1100 nm. However, since the sensitivity of an imaging device such as a CMOS sensor to light having a wavelength of 1100 nm or more is low, it is considered that the optical filter according to the third embodiment has appropriate characteristics for an imaging device. In the optical filter according to Example 6, the transmittance near the wavelength of 400 nm was higher than that of the optical filters of the other examples, but was 45% or less.
  • the optical filters according to Examples 1 to 6 the conditions shown in the above Tables (II) to (IV) were satisfied.
  • the spectral transmittances for the incident angles of 0 °, 30 °, and 40 ° hardly changed. Therefore, when the optical filters according to the first to sixth embodiments are incorporated in an imaging device, the change in sensitivity curve based on the output from the imaging device is slight even if the incident angle of light to the optical filter changes.
  • the boundary between the wavelength band for transmitting light with an incident angle of 40 ° and the wavelength band for reflecting light with an incident angle of 40 ° is around 850 nm. It was set.
  • the spectral transmittances of the optical filters according to Examples 4 and 5 hardly changed at incident angles of 0 °, 30 °, and 40 °.
  • the transmittance near the wavelength of 400 nm was higher as the incident angle of light was larger.
  • IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CB and ISE The influence appeared in the value of ⁇ 1 / ⁇ 2 CB .
  • the transmittance of the optical filter at an incident angle of 30 ° is higher at a wavelength of around 530 nm compared to the transmittance of the optical filter at incident angles of 0 ° and 40 °. It had become.
  • IE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , IAE ⁇ 1 / ⁇ 2 CG , and ISE The influence appeared in the value of ⁇ 1 / ⁇ 2 CG .
  • both effects were so small that the conditions shown in Tables (II) to (IV) were satisfied.
  • the optical filter according to the first to sixth embodiments is incorporated in an imaging device such as a camera module, even when a light beam is incident on the optical filter in the incident angle range of 0 ° to 40 ° It is considered that color unevenness does not occur inside.
  • the infrared absorbing layer ira3 defines the boundary between the wavelength band for transmitting light and the wavelength band for shielding light in the region adjacent to the near infrared region of the visible light region and the near infrared region. It is done. However, since the absorption band of the infrared absorption layer ira3 is narrow, in the transmittance spectrum of the optical filter according to Comparative Example 1, the reflection band of the infrared reflection film shifts to the short wavelength side as the incident angle of light increases. I was affected.
  • the light absorbing ability in the ultraviolet region of the optical filter according to Comparative Example 1 is insufficient, and the optical filter according to Comparative Example 1 substantially shields the light in the ultraviolet region by the infrared reflection film irr2 alone. . Therefore, the optical filter according to Comparative Example 1 is strongly affected by the shift of the reflection band to the short wavelength side depending on the incident angle of light in the ultraviolet region.
  • CB ⁇ ( ⁇ ) fluctuated largely at around 400 nm between the incident angle of 0 ° and the incident angle of 30 °.
  • CR ⁇ ( ⁇ ) largely fluctuated near 650 nm between the incident angle of 30 ° and the incident angle of 40 °.
  • the boundary between the wavelength band transmitting light and the wavelength band shielding the light is infrared / ultraviolet absorption Was determined by layer uvira2.
  • the absorption band of the infrared / ultraviolet absorption layer uvira 2 in the near infrared region is narrow, in the optical filter according to the comparative example 2, the reflection band by the infrared reflection film irr 3 can not be set sufficiently long. For this reason, in the optical filter according to Comparative Example 2, as the incident angle of light increases, the influence of the reflection band shifting to the short wavelength side can not be avoided.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)

Abstract

光学フィルタ（１ａ）は、光吸収層（１０）を備える。光吸収層は、近赤外線領域の少なくとも一部の光を吸収する。光学フィルタ（１ａ）は、０°、３０°、及び４０°の入射角度で波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を当該光学フィルタに入射させたときに、透過率に関する所定の条件を満たす。また、０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して定義されるＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが所定の条件を満たす。

Description

光学フィルタ及び撮像装置
　本発明は、光学フィルタ及び撮像装置に関する。
　従来、近赤外線カットフィルタ等の光学フィルタを備えた撮像装置が知られている。例えば、特許文献１には、ガラス板基板の少なくとも片面に近赤外線吸収剤を含有する樹脂層を有する積層板を含む近赤外線カットフィルタが記載されている。例えば、この近赤外線カットフィルタは、積層板の少なくとも片面に誘電体多層膜を有する。この近赤外線カットフィルタにおいて、波長の値（Ｙａ）と、波長の値（Ｙｂ）との差の絶対値｜Ｙａ－Ｙｂ｜が１５ｎｍ未満である。波長の値（Ｙａ）は、波長５６０～８００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルタの垂直方向から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値である。波長の値（Ｙｂ）は、波長５６０～８００ｎｍの範囲において、近赤外線カットフィルタの垂直方向に対して３０°の角度から測定した場合の透過率が５０％となる波長の値である。このように、特許文献１によれば、近赤外線カットフィルタにおける透過特性の角度依存性が小さく調節されている。
　特許文献２には、近赤外線吸収ガラス基材と、近赤外線吸収層と、誘電体多層膜とを備えた、近赤外線カットフィルタが記載されている。近赤外線吸収層は、近赤外線吸収色素及び透明樹脂を含有している。特許文献２には、この近赤外線カットフィルタと、固体撮像素子とを備えた固体撮像装置が記載されている。特許文献２によれば、近赤外線吸収ガラス基材と、近赤外線吸収層とを積層することにより、誘電体多層膜が本来的に有する、光の入射角度によって遮蔽波長がシフトする角度依存性の影響をほぼ排除できる。例えば、特許文献２において、近赤外線カットフィルタにおける入射角０°のときの透過率（Ｔ0）及び入射角３０°のときの透過率（Ｔ30）が測定されている。
　特許文献３及び４には、誘電体基板と、赤外線反射層と、赤外線吸収層とを備えた赤外線カットフィルタが記載されている。赤外線反射層は、誘電体多層膜で形成されている。赤外線吸収層は、赤外線吸収色素を含有している。特許文献３及び４には、この赤外線カットフィルタを備えた撮像装置が記載されている。特許文献３及び４には、光の入射角度が０°、２５°、及び３５°である場合の赤外線カットフィルタの透過率スペクトルが記載されている。
　特許文献５には、吸収層と、反射層とを備え、所定の要件を満たす近赤外線カットフィルタが記載されている。例えば、この近赤外線カットフィルタにおいて、入射角０°の分光透過率曲線における波長６００～７２５ｎｍの光の透過率の積分値Ｔ0(600-725)と、入射角３０°の分光透過率曲線における波長６００～７２５ｎｍの光の透過率の積分値Ｔ30(600-725)との差｜Ｔ0(600-725)－Ｔ30(600-725)｜が３％・ｎｍ以下である。特許文献５には、この近赤外線カットフィルタを備えた撮像装置も記載されている。
　特許文献６及び７には、光吸収層及び近赤外線反射層を含み、ΔＥ*≦１．５を満たす光学フィルタが記載されている。ΔＥ*は、光学フィルタに垂直に入射され光学フィルタを透過する光と、光学フィルタに垂直な方向から３０°の角度で入射され光学フィルタを透過する光との色差である。光吸収層は、例えば、バインダー樹脂を備え、バインダー樹脂に光吸収剤が分散している。近赤外線反射層は、例えば、誘電体多層膜である。特許文献６及び７には、この光学フィルタを備えたカメラ等の撮像装置も記載されている。
特開２０１２－１０３３４０号公報 国際公開第２０１４／０３０６２８号 米国特許出願公開第２０１４／０３００９５６号明細書 米国特許出願公開第２０１４／００６３５９７号明細書 特許第６１１９９２０号公報 韓国登録特許第１０－１４７４９０２号公報 韓国登録特許第１０－１５２７８２２号公報
　上記の特許文献では、光学フィルタへの光の入射角度が３５°より大きい（例えば４０°）場合の光学フィルタの特性について具体的に検討されていない。また、カメラなどの撮像装置は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタを有するイメージセンサを搭載しているが、上記の特許文献では、これらのカラーフィルタの特性との適合性については検討されていない。そこで、本発明は、光の入射角度がより大きい場合においても撮像装置に搭載されるイメージセンサに用いられるカラーフィルタの特性に適合しやすく、カメラなどの撮像装置によって生成される画像に色むらが発生することを防止するのに有利な特性を有する光学フィルタを提供する。また、本発明は、この光学フィルタを備えた撮像装置を提供する。
　本発明は、
　光学フィルタであって、
　近赤外線領域の少なくとも一部の光を吸収する光吸収剤を含有している光吸収層を備え、
　０°、３０°、及び４０°の入射角度で波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を当該光学フィルタに入射させたときに、下記の条件を満たし、
　（ｉ）波長７００ｎｍにおける分光透過率が３％以下である。
　（ii）波長７１５ｎｍにおける分光透過率が１％以下である。
　（iii）波長１１００ｎｍにおける分光透過率が７．５％以下である。
　（iv）波長７００ｎｍ～８００ｎｍにおける平均透過率が１％以下である。
　（ｖ）波長５００ｎｍ～６００ｎｍにおける平均透過率が８５％以上である。
　（vi）波長４００ｎｍにおける分光透過率が４５％以下である。
　（vii）波長４５０ｎｍにおける分光透過率が８０％以上である。
　入射角度がθ°であるときの波長λにおける当該光学フィルタの分光透過率をＴθ（λ）と表し、
　波長４００ｎｍ～７００ｎｍの変域において表（Ｉ）によって定義される波長λの関数をＲ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）と表し、
　Ｔ0（λ）と、Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）との積である３つの関数において、
最大値が１になるように正規化係数を定め、
　Ｔθ（λ）と、Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）との積である関数に前記正規化係数を乗じて定まる関数をそれぞれＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）と表し、
　ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）の変数である波長λを０以上の整数であるｎの関数として、λ（ｎ）＝（Δλ×ｎ＋４００）ｎｍと表すとき（ただし、Δλ＝５）、
　０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して下記の式（１）～（３）によって定義されるＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが表（II）に示す条件を満たす、
　光学フィルタを提供する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　また、本発明は、
　レンズ系と、
　前記レンズ系を通過した光を受光する撮像素子と、
　前記撮像素子の前方に配置され、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、及びＢ（青）の３色のフィルタを有するカラーフィルタと、
　前記カラーフィルタの前方に配置された上記の光学フィルタと、を備えた、
　撮像装置を提供する。
　上記の光学フィルタは、光の入射角度がより大きい場合でも、カメラなどの撮像装置に用いられるカラーフィルタの特性に適合しやすく、撮像装置によって生成される画像に色むらが発生することを防止するのに有利な特性を有する。また、上記の撮像装置において、光の入射角度がより大きい場合でも、生成される画像に色むらが発生しにくい。
図１Ａは、本発明の光学フィルタの一例を示す断面図である。 図１Ｂは、本発明の光学フィルタの別の一例を示す断面図である。 図１Ｃは、本発明の光学フィルタのさらに別の一例を示す断面図である。 図１Ｄは、本発明の光学フィルタのさらに別の一例を示す断面図である。 図１Ｅは、本発明の光学フィルタのさらに別の一例を示す断面図である。 図１Ｆは、本発明の光学フィルタのさらに別の一例を示す断面図である。 図２は、Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）のグラフである。 図３は、本発明の撮像装置の一例を示す断面図である。 図４Ａは、実施例１に係る光学フィルタの半製品の透過率スペクトルである。 図４Ｂは、実施例１に係る光学フィルタの別の半製品の透過率スペクトルである。 図４Ｃは、参考例１に係る積層体の透過率スペクトルである。 図４Ｄは、参考例２に係る積層体の透過率スペクトルである。 図４Ｅは、実施例１に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図５Ａは、実施例１に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図５Ｂは、実施例１に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図５Ｃは、実施例１に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図６Ａは、実施例１に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図６Ｂは、実施例１に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図６Ｃは、実施例１に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図７Ａは、参考例３に係る積層体の透過率スペクトルである。 図７Ｂは、実施例２に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図８Ａは、実施例２に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図８Ｂは、実施例２に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図８Ｃは、実施例２に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図９Ａは、実施例２に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図９Ｂは、実施例２に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図９Ｃは、実施例２に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１０Ａは、実施例３に係る光学フィルタの半製品の透過率スペクトルである。 図１０Ｂは、実施例３に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図１１Ａは、実施例３に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１１Ｂは、実施例３に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１１Ｃは、実施例３に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１２Ａは、実施例３に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１２Ｂは、実施例３に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１２Ｃは、実施例３に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１３Ａは、参考例４に係る積層体の透過率スペクトルである。 図１３Ｂは、実施例４に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図１４Ａは、実施例４に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１４Ｂは、実施例４に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１４Ｃは、実施例４に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１５Ａは、実施例４に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１５Ｂは、実施例４に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１５Ｃは、実施例４に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１６は、実施例５に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図１７Ａは、実施例５に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１７Ｂは、実施例５に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１７Ｃは、実施例５に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図１８Ａは、実施例５に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１８Ｂは、実施例５に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１８Ｃは、実施例５に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図１９Ａは、実施例６に係る光学フィルタの半製品の透過率スペクトルである。 図１９Ｂは、実施例６に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図２０Ａは、実施例６に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２０Ｂは、実施例６に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２０Ｃは、実施例６に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２１Ａは、実施例６に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２１Ｂは、実施例６に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２１Ｃは、実施例６に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２２Ａは、比較例１に係る光学フィルタの半製品の透過率スペクトルである。 図２２Ｂは、参考例５に係る積層体の透過率スペクトルである。 図２２Ｃは、比較例１に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図２３Ａは、比較例１に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２３Ｂは、比較例１に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２３Ｃは、比較例１に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２４Ａは、比較例１に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２４Ｂは、比較例１に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２４Ｃは、比較例１に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２５Ａは、比較例２に係る光学フィルタの赤外線吸収性ガラス基板の透過率スペクトルである。 図２５Ｂは、参考例６に係る積層体の透過率スペクトルである。 図２５Ｃは、参考例７に係る積層体の透過率スペクトルである。 図２５Ｄは、比較例２に係る光学フィルタの透過率スペクトルである。 図２６Ａは、比較例２に係る光学フィルタの０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２６Ｂは、比較例２に係る光学フィルタの３０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２６Ｃは、比較例２に係る光学フィルタの４０°の入射角度における正規化分光感度関数を示すグラフである。 図２７Ａは、比較例２に係る光学フィルタの０°及び３０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２７Ｂは、比較例２に係る光学フィルタの０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。 図２７Ｃは、比較例２に係る光学フィルタの３０°及び４０°の入射角度における正規化分光感度関数の差を示すグラフである。
　以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の説明は、本発明の一例に関するものであり、本発明はこれらによって限定されるものではない。
　本発明者らは、光学フィルタに関する以下の検討によって得られた新たな知見に基づいて本発明に係る光学フィルタを案出した。
　スマートフォン等の携帯情報端末に搭載されているカメラモジュール又は撮像装置には、可視光線以外の不要な光線を遮蔽する光学フィルタが配置されている。不要な光線を遮蔽するために光吸収層を備えた光学フィルタの使用が検討されている。特許文献１～７に記載の光学フィルタのように、光吸収層を備えた光学フィルタは、多くの場合、誘電体多層膜によって構成された反射膜をさらに備えている。
　誘電体多層膜によって構成された反射膜において、反射膜の各層の表面及び裏面で反射する光線の干渉によって透過する光線の波長帯及び反射する光線の波長帯が決まっている。光学フィルタには様々な入射角度から光線が入射しうる。光学フィルタへの光の入射角度によって反射膜における光路長が変わる。その結果、透過する光線及び反射する光線の波長帯が短波長側に変化する。そこで、光の入射角度によって光学フィルタの透過率の特性が大きく変動しないように、遮蔽すべき光線の波長帯と透過させるべき光線の波長帯との境界を光の吸収によって定め、誘電体多層膜によって反射させるべき光線の波長帯を透過させるべき光線の波長帯から離すことが考えられる。
　特許文献１及び２では、光の入射角度が０°及び３０°である場合の近赤外線カットフィルタにおける光の透過特性が評価されている。また、特許文献３及び４では、光の入射角度が０°、２５°、及び３５°である場合の赤外線カットフィルタの透過率スペクトルが評価されている。近年では、スマートフォン等の携帯情報端末に搭載されているカメラモジュールにおいてより広角な画角及び一層の低背化を実現することが求められている。このため、光学フィルタにおいて、光の入射角度がより大きい場合（例えば、４０°）でも、透過する光線の波長帯及び光量が変化しにくいことが望ましい。
　誘電体多層膜によって構成された反射膜を備えた光学フィルタにおいて、光の入射角度が大きいと、本来反射を抑制して高透過率を実現したい光線の波長帯において局所的に光の反射率が増加することがある。これにより、光学フィルタにおいて透過率が局所的に減少するリップルと呼ばれる不具合が生じる。例えば、光の入射角度が０°～３０°である場合にリップルが生じないように設計された光学フィルタであっても、光の入射角度が４０°まで大きくなると、リップルが生じやすい。
　透過する光線の波長帯と遮蔽される光線の波長帯との境界が光の入射角度の変動によってシフトすることと、リップルの発生とによって生じる影響を包括的に評価する指標は現時点では確立されていない。特許文献５に記載の技術によれば、透過させたい可視光線の波長帯と、反射又は吸収させたい近赤外線の波長帯との境界が光の入射角度の変動に対して安定している。しかし、特許文献５に記載の技術は、可視光線の波長帯と紫外線の波長帯との境界の入射角度の変動によるシフト及びリップルの発生の観点から改良の余地を有する。
　特許文献６及び７によれば、色差ΔＥ*によって光学フィルタ単体の特性が特定されているが、光学フィルタが実際の撮像装置に適合することが保証されるわけではない。なぜなら、撮像装置に備えられているイメージセンサの各画素には、ＲＧＢのカラーフィルタが組み込まれており、センサの各画素が感知する光量は、不要な光線を遮蔽する光学フィルタの分光透過率とカラーフィルタの分光透過率との積に相関するためである。このため、光学フィルタは、撮像装置に使用されるカラーフィルタの特性と適合する特性を有していることが望ましい。
　このような事情を踏まえて、本発明者らは、光の入射角度がより大きい場合でも、撮像装置に用いられるカラーフィルタの特性に適合しやすい光学フィルタについて日夜検討を重ねた。加えて、本発明者らは、撮像装置によって生成される画像に色むらが発生することを防止するのに有利な特性を有する光学フィルタについて日夜検討を重ねた。その結果、本発明者らは、本発明に係る光学フィルタを案出した。
　本明細書において、「分光透過率」とは、特定の波長の入射光が試料等の物体に入射するときの透過率であり、「平均透過率」とは、所定の波長範囲内の分光透過率の平均値である。また、本明細書において、「透過率スペクトル」とは所定の波長範囲内の各波長における分光透過率を波長の順に並べたものである。
　本明細書において、「ＩＲカットオフ波長」とは、光学フィルタに波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を、所定の入射角度で入射させたときに、６００ｎｍ以上の波長範囲において５０％の分光透過率を示す波長を意味する。「ＵＶカットオフ波長」とは、光学フィルタに波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を、所定の入射角度で入射させたときに、４５０ｎｍ以下の波長範囲において、５０％の分光透過率を示す波長を意味する。
　図１Ａに示す通り、光学フィルタ１ａは、光吸収層１０を備えている。光吸収層１０は、光吸収剤を含有しており、光吸収剤は、近赤外線領域の少なくとも一部の光を吸収する。光学フィルタ１ａは、０°、３０°、及び４０°の入射角度で波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を光学フィルタ１ａに入射させたときに、下記の条件を満たす。
　（ｉ）波長７００ｎｍにおける分光透過率が３％以下である。
　（ii）波長７１５ｎｍにおける分光透過率が１％以下である。
　（iii）波長１１００ｎｍにおける分光透過率が７．５％以下である。
　（iv）波長７００ｎｍ～８００ｎｍにおける平均透過率が１％以下である。
　（ｖ）波長５００ｎｍ～６００ｎｍにおける平均透過率が８５％以上である。
　（vi）波長４００ｎｍにおける分光透過率が４５％以下である。
　（vii）波長４５０ｎｍにおける分光透過率が８０％以上である。
　光学フィルタ１ａは、上記の（ｉ）～（vii）の条件を満たすので、広角レンズが搭載されたカメラモジュール又は撮像装置に組み込まれても、明るさを損なうことなく不要な光線を遮蔽できる。
　光の入射角度がθ°であるときの波長λにおける光学フィルタ１ａの分光透過率をＴθ（λ）と表す。波長４００ｎｍ～７００ｎｍの変域において下記の表（Ｉ）によって定義される波長λの関数をＲ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）と表す。Ｔ0（λ）と、Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）との積である３つの関数において、最大値が１になるように正規化係数を定める。Ｔθ（λ）と、Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）との積である関数に正規化係数を乗じて定まる関数をそれぞれＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）と表す。本明細書において、ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を正規化分光感度関数とも呼ぶ。ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）の変数である波長λを０以上の整数であるｎの関数として、λ（ｎ）＝（Δλ×ｎ＋４００）ｎｍと表す（ただし、Δλ＝５）。この場合、０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して下記の式（１）～（３）によって定義されるＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが表（II）に示す条件を満たす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
　図２に、表（Ｉ）に示すＲ（λ）、Ｇ（λ）、又はＢ（λ）のグラフを示す。関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、又はＢ（λ）は以下のように決定した。まず、１０種類の市販のカラーイメージセンサ（以下、単に「イメージセンサ」という）を用意した。これらのイメージセンサは、ＣＣＤ（Charge-Coupled Device）及びＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）等の撮像素子と、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）のカラーフィルタとを備えていた。各イメージセンサについて、Ｒ、Ｇ及びＢに対応し、波長毎の感度スペクトルとしての分光感度特性が開示されていた。各イメージセンサについて、Ｒに対応した分光感度特性の最大値、Ｇに対応した分光感度特性の最大値、及びＢに対応した分光感度特性の最大値のうち、相対的に最も大きい値を示すカラーフィルタ（の属性）を選択した。この選択されたカラーフィルタに対応した分光感度特性の最大値が１になるように係数を求め、該係数をＲに対応した分光感度特性、Ｇに対応した分光感度特性、及びＢに対応した分光感度特性に対して波長毎に乗じて正規化を行った。これらの作業を、用意した１０種類のイメージセンサの分光感度特性に対して行い、各イメージセンサについて正規化がなされた分光感度特性を得た。次に、これら１０種類の正規化がなされた分光感度特性について、Ｒに対応した分光感度特性、Ｇに対応した分光感度特性、及びＢに対応した分光感度特性のそれぞれを波長毎に算術平均し、Ｒ、Ｇ、及びＢのそれぞれに対応した平均的な分光感度特性を求めて関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）を決定した。
　正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）は、光学フィルタ１ａの分光透過率Ｔθ（λ）と、関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）との積に基づいてそれぞれ決定されている。光学フィルタへの光の入射角度θが０°の場合の分光透過率Ｔ0（λ）と表（Ｉ）に示すＲ（λ）との積によって求められた関数、Ｔ0（λ）とＧ（λ）との積によって求められた関数、及びＴ0（λ）とＢ（λ）との積によって求められた関数を算出し、それぞれの関数の最大値を求め、さらにそれらの値の中の最大値が１になるように係数（正規化係数）を決定した。さらに、その正規化係数を、分光透過率Ｔ0（λ）と表（Ｉ）に示すＲ（λ）との積から求められる関数に乗じて正規化分光感度関数ＣＲ0（λ）を求めた。同様にして正規化分光感度関数ＣＧ0（λ）及びＣＢ0（λ）を求めた。同様に、光学フィルタへの光の入射角度がθ°であるときの光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と表（Ｉ）に示すＲ（λ）との積から求められる関数、Ｔθ（λ）とＧ（λ）との積から求められる関数、及びＴθ（λ）とＢ（λ）との積から求められる関数のそれぞれに、上記の正規化係数を掛けて、光の入射角度がθ°であるときの正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。ここで、分光透過率Ｔθ（λ）及び他の関数同士の積は、特段の断りのない限りそれらを波長毎に掛けあわせて求める。このため、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）は、光学フィルタ１ａの特性のみでなく、カメラのカラーフィルタの特性をも考慮された関数といえる。カメラの撮像素子の中央に入射する主光線の入射角度は０°に近く、撮像素子の周辺部に入射する主光線の入射角度は大きい。光の入射角度によって正規化分光感度関数の曲線の形状が変化すると、撮像装置によって生成された画像を表示又は印刷する場合に色合いが変化する。このため、撮像装置によって撮影した画像を表示又は印刷する場合に、同じ色であるはずの被写体の色が中心部から周辺部に向かって変化し、色むらとして認識されうる。光の入射角度の０°から４０°の変化及び光の入射角度の０°から３０°の変化に対応する画像の領域に比べて、光の入射角度の３０°から４０°の変化に対応する画像の領域は狭く、この領域において色むらがより認識されやすい。このため、光の入射角度が変化しても、正規化分光感度関数の曲線の形状の変化が小さければ、撮像装置によって生成される画像に色むらが発生することを防止できる。光学フィルタ１ａは、表（II）に示す条件を満たすので、光の入射角度が変化しても、正規化分光感度関数の曲線の形状の変化が小さく、撮像装置がこのような光学フィルタ１ａを備えることによって、撮像装置によって生成される画像に色むらが発生することを防止できる。
　式（１）～（３）に示す通り、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBは、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲において、０°及び３０°から選ばれる入射角度θ１°における正規化分光感度関数から３０°及び４０°から選ばれる入射角度θ２°（θ１＜θ２）における正規化分光感度関数を差し引いた差を積分して定まる。このため、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBを参照することにより、光の入射角度の変動よる正規化分光感度関数の曲線の形状変化を定量的に評価できる。
　撮像装置によって撮影された画像を表示又は印刷する場合、明度又は色再現性を最適化するためになされる補正は画素毎に行われるので、分光感度の実際の値は、直接的にはこの補正に関係しない。このため、上記の通り、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）に基づいて、異なる入射角度に対する関数同士を比較することで、光学フィルタ１ａの特性を適切に特定できる。なお、撮像素子の各画素への主光線の入射角度は予測可能であるので、その入射角度に応じて撮像装置によって撮影された画像を補正して表示又は印刷することも考えられる。
　光学フィルタ１ａにおいて、望ましくは、０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して下記の式（４）～（６）によって定義されるＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが表（III）に示す条件を満たす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
　式（４）～（６）に示す通り、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBは、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲において、０°及び３０°から選ばれる入射角度θ１°における正規化分光感度関数から３０°及び４０°から選ばれる入射角度θ２°（θ１＜θ２）における正規化分光感度関数を差し引いた差の絶対値を積分して定まる。ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBによる評価のみでは、入射角度θ１°における正規化分光感度関数から入射角度θ２°における正規化分光感度関数を差し引いた差が負である波長帯における積算値がその差が正である別の波長帯における積算値によって相殺される可能性があり、光学フィルタの特性を適切に特定することが難しい場合もあり得る。しかし、光学フィルタ１ａが、表（III）に示す条件を満たすことにより、より確実に、光の入射角度が変化しても、正規化分光感度関数の曲線の形状の変化が小さく、撮像装置がこのような光学フィルタ１ａを備えることによって、撮像装置によって生成される画像に色むらが発生することをより効果的に防止できる。このように、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBを用いてより適切に光学フィルタ１ａを評価できる。
　光学フィルタ１ａにおいて、例えば、０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して下記の式（７）～（９）によって定義されるＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが表（IV）に示す条件を満たす。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
　式（７）～（９）に示す通り、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBは、４００ｎｍ～７００ｎｍの波長範囲において、０°及び３０°から選ばれる入射角度θ１°における正規化分光感度関数から３０°及び４０°から選ばれる入射角度θ２°（θ１＜θ２）における正規化分光感度関数を差し引いた差の二乗値を積分して定まる。上記の通り、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBによる評価のみでは、光学フィルタの特性を適切に特定することが難しい場合もあり得る。しかし、光学フィルタ１ａが、表（IV）に示す条件を満たすことにより、より確実に、光の入射角度が変化しても、正規化分光感度関数の曲線の形状の変化が小さく、撮像装置がこのような光学フィルタ１ａを備えることによって、撮像装置によって生成される画像に色むらが発生することをさらに効果的に防止できる。このように、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBを用いてより適切に光学フィルタ１ａを評価できる。
　光吸収層１０に含有されている光吸収剤は、近赤外線領域の少なくとも一部の光を吸収し、光学フィルタ１ａが上記の（ｉ）～（vii）の条件を満たし、かつ、表（II）に示す条件が満たされる限り特に制限されない。光吸収剤は、例えば、ホスホン酸と銅イオンとによって形成されている。この場合、光吸収層１０によって、近赤外線領域及び近赤外線領域に隣接する可視光領域の広い波長帯において光を吸収できる。このため、光学フィルタ１ａが反射膜を備えていなくても所望の特性を発揮できる。また、光学フィルタ１ａが反射膜を備える場合でも、その反射膜によって反射される光線の波長帯が透過すべき光線の波長帯から十分に離れるように光学フィルタ１ａを設計できる。例えば、反射膜によって反射される光線の波長帯を、波長の増加に伴い透過率が急激に減少する遷移領域の波長帯から１００ｎｍ以上長い波長帯に設定できる。これにより、光の入射角度が大きく、反射膜によって反射される光線の波長帯が短波長側にシフトしても、光吸収層１０によって吸収される光線の波長帯に重なり、光学フィルタ１ａの遷移領域における透過率特性が光の入射角度の変化に対して変動しにくい。加えて、光吸収層１０によって、紫外線領域の波長帯の広い範囲で光を吸収できる。
　光吸収層１０がホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含む場合、そのホスホン酸は、例えば、アリール基を有する第一ホスホン酸を含む。第一ホスホン酸においてアリール基はリン原子に結合している。これにより、光学フィルタ１ａにおいて上記の条件が満たされやすい。
　第一ホスホン酸が有するアリール基は、例えば、フェニル基、ベンジル基、トルイル基、ニトロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェニル基における少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子に置換されているハロゲン化フェニル基、又はベンジル基のベンゼン環における少なくとも１つの水素原子がハロゲン原子に置換されているハロゲン化ベンジル基である。
　光吸収層１０がホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含む場合、そのホスホン酸は、望ましくは、さらに、アルキル基を有する第二ホスホン酸を含む。第二ホスホン酸において、アルキル基はリン原子に結合している。
　第二ホスホン酸が有するアルキル基は、例えば、６個以下の炭素原子を有するアルキル基である。このアルキル基は、直鎖及び分岐鎖のいずれを有していてもよい。
　光吸収層１０がホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含む場合、光吸収層１０は、望ましくは、光吸収剤を分散させるリン酸エステルと、マトリクス樹脂とをさらに含む。
　光吸収層１０に含有されているリン酸エステルは、光吸収剤を適切に分散できる限り特に制限されないが、例えば、下記式（ｃ１）で表されるリン酸ジエステル及び下記式（ｃ２）で表されるリン酸モノエステルの少なくとも一方を含む。下記式（ｃ１）及び下記式（ｃ２）において、Ｒ21、Ｒ22、及びＲ3は、それぞれ、－（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）nＲ4で表される１価の官能基であり、ｎは、１～２５の整数であり、Ｒ4は、炭素数６～２５のアルキル基を示す。Ｒ21、Ｒ22、及びＲ3は、互いに同一又は異なる種類の官能基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
　リン酸エステルは、特に制限されないが、例えば、プライサーフＡ２０８Ｎ：ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ１２、Ｃ１３）エーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２０８Ｆ：ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ８）エーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２０８Ｂ：ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２１９Ｂ：ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡＬ：ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテルリン酸エステル、プライサーフＡ２１２Ｃ：ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル、又はプライサーフＡ２１５Ｃ：ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステルであり得る。これらはいずれも第一工業製薬社製の製品である。また、リン酸エステルは、ＮＩＫＫＯＬ　ＤＤＰ－２：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、ＮＩＫＫＯＬ　ＤＤＰ－４：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル、又はＮＩＫＫＯＬ　ＤＤＰ－６：ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステルであり得る。これらは、いずれも日光ケミカルズ社製の製品である。
　光吸収層１０に含まれるマトリクス樹脂は、例えば、光吸収剤を分散させることができ、熱硬化又は紫外線硬化が可能な樹脂である。さらに、マトリクス樹脂として、その樹脂によって０．１ｍｍの樹脂層を形成した場合に、その樹脂層の波長３５０ｎｍ～９００ｎｍの光に対する透過率が例えば８０％以上であり、好ましくは８５％以上であり、より好ましくは９０％以上である樹脂を用いることができるが、光学フィルタ１ａにおいて上記の(ｉ)～（vii）の条件及び表（II）に示す条件が満たされる限り、特に制限されない。光吸収層１０におけるホスホン酸の含有量は、例えば、マトリクス樹脂１００質量部に対して３～１８０質量部である。
　光吸収層１０に含まれるマトリクス樹脂は、上記の特性を満足する限り特に限定されないが、例えば（ポリ）オレフィン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、（変性）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、又はシリコーン樹脂である。マトリクス樹脂は、フェニル基等のアリール基を含んでいてもよく、望ましくはフェニル基等のアリール基を含んでいるシリコーン樹脂である。光吸収層１０が硬い（リジッドである）と、その光吸収層１０の厚みが増すにつれて、光学フィルタ１ａの製造工程中に硬化収縮によりクラックが生じやすい。マトリクス樹脂がアリール基を含むシリコーン樹脂であると光吸収層１０が良好な耐クラック性を有しやすい。また、アリール基を含むシリコーン樹脂を用いると、上記のホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含有する場合に光吸収剤が凝集しにくい。さらに、光吸収層１０のマトリクス樹脂がアリール基を含むシリコーン樹脂である場合に、光吸収層１０に含まれるリン酸エステルが式（ｃ１）又は式（ｃ２）で表されるリン酸エステルのようにオキシアルキル基等の柔軟性を有する直鎖有機官能基を有することが望ましい。なぜなら、上記のホスホン酸と、アリール基を含むシリコーン樹脂と、オキシアルキル基等の直鎖有機官能基を有するリン酸エステルとの組合せに基づく相互作用により、光吸収剤が凝集しにくく、かつ、光吸収層に良好な剛性及び良好な柔軟性をもたらすことができるからである。マトリクス樹脂として使用されるシリコーン樹脂の具体例としては、ＫＲ－２５５、ＫＲ－３００、ＫＲ－２６２１－１、ＫＲ－２１１、ＫＲ－３１１、ＫＲ－２１６、ＫＲ－２１２、及びＫＲ－２５１を挙げることができる。これらはいずれも信越化学工業社製のシリコーン樹脂である。
　図１Ａに示す通り、光学フィルタ１ａは、例えば透明誘電体基板２０をさらに備えている。透明誘電体基板２０の一方の主面は光吸収層１０に覆われている。透明誘電体基板２０の特性は、光学フィルタ１ａにおいて上記の(ｉ)～（vii）の条件及び表（II）に示す条件が満たされる限り、特に制限されない。透明誘電体基板２０は、例えば、４５０ｎｍ～６００ｎｍにおいて高い平均透過率（例えば、８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは９０％以上）を有する誘電体基板である。
　透明誘電体基板２０は、例えば、ガラス製又は樹脂製である。透明誘電体基板２０がガラス製である場合、そのガラスは、例えば、Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ等のホウケイ酸ガラス、ソーダ石灰ガラス（青板）、Ｂ２７０等の白板ガラス、無アルカリガラス、又は銅を含有しているリン酸塩ガラス若しくは銅を含有しているフツリン酸塩ガラス等の赤外線吸収性ガラスである。透明誘電体基板２０が、銅を含有しているリン酸塩ガラス又は銅を含有しているフツリン酸塩ガラス等の赤外線吸収性ガラスである場合、透明誘電体基板２０が有する赤外線吸収性能と光吸収層１０が有する赤外線吸収性能との組み合わせによって光学フィルタ１ａに所望の赤外線吸収性能をもたらすことができる。このような赤外線吸収性ガラスは、例えば、ＳＣＨＯＴＴ社製のＢＧ－６０、ＢＧ－６１、ＢＧ－６２、ＢＧ－６３、若しくはＢＧ－６７であり、日本電気硝子社製の５００ＥＸＬであり、又はＨＯＹＡ社製のＣＭ５０００、ＣＭ５００、Ｃ５０００、若しくはＣ５００Ｓである。また、透明誘電体基板２０は紫外線吸収特性を有していてもよい。
　透明誘電体基板２０は、酸化マグネシウム、サファイア、又は石英などの透明性を有する結晶性の基板であってもよい。例えば、サファイアは高硬度であるので、傷がつきにくい。このため、板状のサファイアは、耐擦傷性の保護材料（プロテクトフィルタ又はカバーガラスと呼ばれることもある）として、スマートフォン及び携帯電話等の携帯端末に備えられているカメラモジュール又はレンズの前面に配置される場合がある。このような板状のサファイア上に光吸収層１０が形成されることにより、カメラモジュール及びレンズの保護とともに、波長６５０ｎｍ～１１００ｎｍの光を効果的にカットできる。波長６５０ｎｍ～１１００ｎｍの赤外線の遮蔽性を備える光学フィルタをＣＣＤ（Charge-Coupled Device）センサ及びＣＭＯＳ（Complementary Metal Oxide Semiconductor）センサなどの撮像素子の周辺又はカメラモジュールの内部に配置する必要がなくなる。このため、板状のサファイア上に光吸収層１０を形成すれば、カメラモジュール又は撮像装置の低背化に貢献できる。
　透明誘電体基板２０が樹脂製である場合、その樹脂は、例えば、（ポリ）オレフィン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、（変性）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、又はシリコーン樹脂である。
　光学フィルタ１ａは、例えば、光吸収層１０を形成するためのコーティング液を透明誘電体基板２０の一方の主面に塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥させることによって製造できる。光吸収層１０が、ホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含む場合を例に、コーティング液の調製方法及び光学フィルタ１ａの製造方法を説明する。
　まず、コーティング液の調製方法の一例を説明する。酢酸銅一水和物などの銅塩をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの所定の溶媒に添加して撹拌し、銅塩の溶液を得る。次に、この銅塩の溶液に、式（ｃ１）で表されるリン酸ジエステル又は式（ｃ２）で表されるリン酸モノエステルなどのリン酸エステル化合物を加えて撹拌し、Ａ液を調製する。また、第一ホスホン酸をＴＨＦなどの所定の溶媒に加えて撹拌し、Ｂ液を調製する。次に、Ａ液を撹拌しながら、Ａ液にＢ液を加えて所定時間撹拌する。次に、この溶液にトルエンなどの所定の溶媒を加えて撹拌し、Ｃ液を得る。次に、Ｃ液を加温しながら所定時間脱溶媒処理を行って、Ｄ液を得る。これにより、ＴＨＦなどの溶媒及び酢酸（沸点：約１１８℃）などの銅塩の解離により発生する成分が除去され、第一ホスホン酸と銅イオンとによって光吸収剤が生成される。Ｃ液を加温する温度は、銅塩から解離した除去されるべき成分の沸点に基づいて定められている。なお、脱溶媒処理においては、Ｃ液を得るために用いたトルエン（沸点：約１１０℃）などの溶媒も揮発する。この溶媒は、コーティング液においてある程度残留していることが望ましいので、この観点から溶媒の添加量及び脱溶媒処理の時間が定められているとよい。なお、Ｃ液を得るためにトルエンに代えてｏ‐キシレン（沸点：約１４４℃）を用いることもできる。この場合、ｏ‐キシレンの沸点はトルエンの沸点よりも高いので、添加量をトルエンの添加量の４分の１程度に低減できる。Ｄ液にシリコーン樹脂等のマトリクス樹脂を加えて撹拌しコーティング液を調製できる。
　コーティング液を透明誘電体基板２０の一方の主面に塗布して塗膜を形成する。例えば、コーティング液をダイコーティング、スピンコーティング、又はディスペンサによる塗布により、透明誘電体基板２０の一方の主面に塗布して塗膜を形成する。次に、この塗膜に対して所定の加熱処理を行って塗膜を硬化させる。例えば、５０℃～２００℃の温度の環境に所定時間この塗膜を曝す。
　光学フィルタ１ａにおいて、光吸収層１０は、単一の層として形成されていてもよいし、複数の層として形成されていてもよい。光吸収層１０が複数の層として形成されている場合、光吸収層１０は、例えば、第一ホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含有している第一層と、第二ホスホン酸と銅イオンとによって形成された光吸収剤を含有している第二層とを有する。この場合、第一層を形成するためのコーティング液は上記の通り調製できる。一方、第二層は、第一層を形成するためのコーティング液とは別に調製されたコーティング液を用いて形成される。第二層を形成するためのコーティング液は、例えば、以下のように調製できる。
　酢酸銅一水和物などの銅塩をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）などの所定の溶媒に添加して撹拌し、銅塩の溶液を得る。次に、この銅塩の溶液に、式（ｃ１）で表されるリン酸ジエステル又は式（ｃ２）で表されるリン酸モノエステルなどのリン酸エステル化合物を加えて撹拌し、Ｅ液を調製する。また、第二ホスホン酸をＴＨＦなどの所定の溶媒に加えて撹拌し、Ｆ液を調製する。次に、Ｅ液を撹拌しながら、Ｅ液にＦ液を加えて所定時間撹拌する。次に、この溶液にトルエンなどの所定の溶媒を加えて撹拌し、さらに溶媒を揮発させてＧ液を得る。次に、Ｇ液にシリコーン樹脂等のマトリクス樹脂を加えて撹拌し、第二層を形成するためのコーティング液が得られる。
　第一層を形成するためのコーティング液及び第二層を形成するためのコーティング液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜に対して所定の加熱処理を行って塗膜を硬化させることにより、第一層及び第二層を形成できる。例えば、５０℃～２００℃の温度の環境に所定時間この塗膜を曝す。第一層及び第二層を形成する順序は特に制限されず、第一層及び第二層は異なる期間に形成されてもよいし、同一の期間に形成されてもよい。また、第一層と第二層との間には、保護層が形成されてもよい。保護層は、例えばＳｉＯ2の蒸着膜によって形成されている。
　＜変形例＞
　光学フィルタ１ａは、様々な観点から変更可能である。例えば、光学フィルタ１ａは、図１Ｂ～図１Ｆに示す光学フィルタ１ｂ～１ｆにそれぞれ変更されてもよい。光学フィルタ１ｂ～１ｆは、特に説明する場合を除き、光学フィルタ１ａと同様に構成されている。光学フィルタ１ａの構成要素と同一又は対応する光学フィルタ１ｂ～１ｆの構成要素には同一の符号を付し、詳細な説明を省略する。光学フィルタ１ａに関する説明は、技術的に矛盾しない限り光学フィルタ１ｂ～１ｆにも当てはまる。
　図１Ｂに示す通り、光学フィルタ１ｂにおいて、透明誘電体基板２０の両方の主面上に光吸収層１０が形成されている。これにより、１つの光吸収層１０によってではなく、２つの光吸収層１０によって、上記の（ｉ）～（vii）の条件及び表（II）に示す条件が満たされる。透明誘電体基板２０の両方の主面上における光吸収層１０の厚みは同一であってもよいし、異なっていてもよい。すなわち、光学フィルタ１ｂが所望の光学特性を得るために必要な光吸収層１０の厚みが均等に又は不均等に分配されるように、透明誘電体基板２０の両方の主面上に光吸収層１０が形成されている。これにより、光学フィルタ１ｂの透明誘電体基板２０の一方の主面上に形成された各光吸収層１０の厚みは、光学フィルタ１ａのそれより小さい。透明誘電体基板２０の両方の主面上に光吸収層１０が形成されていることにより、透明誘電体基板２０が薄い場合でも、光学フィルタ１ｂにおいて反りが抑制される。２つの光吸収層１０のそれぞれは、複数の層として形成されていてもよい。
　図１Ｃに示す通り、光学フィルタ１ｃにおいて、透明誘電体基板２０の両方の主面上に光吸収層１０が形成されている。加えて、光学フィルタ１ｃは、反射防止膜３０を備えている。反射防止膜３０は、光学フィルタ１ｃと空気との界面をなすように形成された、可視光領域の光の反射を低減するための膜である。反射防止膜３０は、例えば、樹脂、酸化物、及びフッ化物等の誘電体によって形成された膜である。反射防止膜３０は、屈折率の異なる二種類以上の誘電体を積層して形成された多層膜であってもよい。特に、反射防止膜３０は、ＳｉＯ2等の低屈折率材料とＴｉＯ2又はＴａ2Ｏ5等の高屈折率材料とからなる誘電体多層膜であってもよい。この場合、光学フィルタ１ｃと空気との界面におけるフレネル反射が低減され、光学フィルタ１ｃの可視光領域の光量を増大させることができる。反射防止膜３０は、光学フィルタ１ｃの両面に形成されていてもよいし、光学フィルタ１ｃの片面に形成されていてもよい。
　図１Ｄに示す通り、光学フィルタ１ｄにおいて、透明誘電体基板２０の両方の主面上に光吸収層１０が形成されている。加えて、光学フィルタ１ｄは、反射膜４０をさらに備えている。反射膜４０は、赤外線及び／又は紫外線を反射する。反射膜４０は、例えば、アルミニウム等の金属を蒸着することにより形成された膜、又は、高屈折率材料からなる層と低屈折率材料からなる層とが交互に積層された誘電体多層膜である。高屈折率材料としてはＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5、Ｎｂ2Ｏ5、ＺｎＯ、及びＩｎ2Ｏ3等の１．７～２．５の屈折率を有する材料が用いられる。低屈折率材料としては、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、及びＭｇＦ2等の１．２～１．６の屈折率を有する材料が用いられる。誘電体多層膜を形成する方法は、例えば、化学気相成長（ＣＶＤ）法、スパッタ法、又は真空蒸着法である。また、このような反射膜が光学フィルタの両方の主面をなすように形成されてもよい(図示省略)。光学フィルタの両方の主面に反射膜が形成されていると、光学フィルタの表裏両面で応力がバランスし、光学フィルタが反りにくいというメリットが得られる。
　図１Ｅに示す通り、光学フィルタ１ｅは、光吸収層１０のみによって構成されている。光学フィルタ１ｅは、例えば、ガラス基板、樹脂基板、金属基板（例えば、スチール基板又はステンレス基板）等の所定の基板にコーティング液を塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させた後に基板から剥離させることによって製造できる。光学フィルタ１ｅは、キャスト法によって製造されてもよい。光学フィルタ１ｅは、透明誘電体基板２０を備えていないので薄い。このため、光学フィルタ１ｅは、撮像装置の低背化に貢献できる。
　図１Ｆに示す通り、光学フィルタ１ｆは、光吸収層１０と、その両面に配置された一対の反射防止膜３０とを備えている。この場合、光学フィルタ１ｆは、撮像装置の低背化に貢献でき、かつ、光学フィルタ１ｅに比べて可視光領域の光量を増大させることができる。
　光学フィルタ１ａ～１ｆは、それぞれ、必要に応じて、光吸収層１０とは別に、赤外線吸収層（図示省略）を備えるように変更されてもよい。赤外線吸収層は、例えば、シアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、ジインモニウム系、及びアゾ系等の有機系の赤外線吸収剤又は金属錯体からなる赤外線吸収剤を含有している。赤外線吸収層は、例えば、これらの赤外線吸収剤から選ばれる１つ又は複数の赤外線吸収剤を含有している。この有機系の赤外線吸収剤は、吸収可能な光の波長範囲（吸収バンド）が小さく、特定の範囲の波長の光を吸収するのに適している。
　光学フィルタ１ａ～１ｆは、それぞれ、必要に応じて、光吸収層１０とは別に、紫外線吸収層（図示省略）を備えるように変更されてもよい。紫外線吸収層は、例えば、ベンゾフェノン系、トリアジン系、インドール系、メロシアニン系、及びオキサゾール系等の紫外線吸収剤を含有している。紫外線吸収層は、例えば、これらの紫外線吸収剤から選ばれる１つ又は複数の紫外線吸収剤を含有している。これらの紫外線吸収剤は、例えば３００ｎｍ～３４０ｎｍ付近の紫外線を吸収し、吸収した波長よりも長い波長の光（蛍光）を発し、蛍光剤又は蛍光増白剤として機能するものも含まれうるが、紫外線吸収層により、樹脂等の光学フィルタに使用されている材料の劣化をもたらす紫外線の入射を低減できる。
　上記の赤外線吸収剤及び／又は紫外線吸収剤を、樹脂製の透明誘電体基板２０に予め含有させて、赤外線及び／又は紫外線を吸収する特性を有する基板を形成してもよい。この場合、樹脂は、赤外線吸収剤及び／又は紫外線吸収剤を適切に溶解又は分散させることができ、かつ、透明であることが必要である。このような樹脂として、（ポリ）オレフィン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、（変性）アクリル樹脂、エポキシ樹脂、及びシリコーン樹脂を例示できる。
　図３に示す通り、光学フィルタ１ａは、例えば、撮像装置１００（カメラモジュール）を製造するのに使用される。撮像装置１００は、レンズ系２と、撮像素子４と、カラーフィルタ３と、光学フィルタ１ａとを備えている。撮像素子４は、レンズ系２を通過した光を受光する。カラーフィルタ３は、撮像素子４の前方に配置され、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、及びＢ（青）の３色のフィルタを有する。光学フィルタ１ａは、カラーフィルタ３の前方に配置されている。特に、光吸収層１０は、透明誘電体基板２０のレンズ系２に近い面に接して形成されている。前述したように透明誘電体基板２０にサファイアなどの高硬度の材料を用いることにより、レンズ系２又は撮像素子４を保護する効果が増大する。例えば、カラーフィルタ３においてＲ（赤）、Ｇ（緑）、及びＢ（青）の３色のフィルタがマトリクス状に配置されており、撮像素子４の各画素の真上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、及びＢ（青）のいずれかの色のフィルタが配置されている。撮像素子４は、レンズ系２、光学フィルタ１ａ、及びカラーフィルタ３を通過した被写体からの光を受光する。撮像装置１００は、撮像素子４において受光した光によって生じた電荷に関する情報に基づいて画像を生成する。なお、カラーフィルタ３と撮像素子４とが一体化されて、カラーイメージセンサが構成されていてもよい。
　光学フィルタ１ａにおいて、上記の（ｉ）～（vii）の条件及び表（II）に示す条件が満たされるので、このような光学フィルタ１ａを備えた撮像装置１００は色むらが防止された画像を生成できる。
　実施例により、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施例に限定されない。
　＜透過率スペクトル測定＞
　波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を実施例及び比較例に係る光学フィルタ、その半製品、又は参考例に係る積層体に入射させたときの透過率スペクトルを、紫外線可視分光光度計（日本分光社製、製品名：Ｖ－６７０）を用いて測定した。実施例及び比較例の光学フィルタと、一部の半製品と、一部の参考例に係る積層体とに対して、入射光の入射角度を０°、３０°、及び４０°に設定した場合の透過率スペクトルを測定した。他の半製品及び他の参考例に係る積層体に対して、入射光の入射角度を０°に設定した場合の透過率スペクトルを測定した。
　＜実施例１＞
　コーティング液ＩＲＡ１を以下のようにして調製した。酢酸銅一水和物１．１ｇとテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）６０ｇとを混合して３時間撹拌し、得られた液にリン酸エステル（第一工業製薬社製　製品名：プライサーフＡ２０８Ｆ）を２．３ｇ加えて３０分間撹拌し、Ａ液を得た。フェニルホスホン酸（東京化成工業株式会社製）０．６ｇにＴＨＦ１０ｇを加えて３０分撹拌し、Ｂ液を得た。Ａ液を撹拌しながらＢ液を加え、室温で１分間撹拌した。この溶液にトルエン４５ｇを加えた後、室温で１分間撹拌し、Ｃ液を得た。Ｃ液をフラスコに入れて１２０℃に調整したオイルバス（東京理化器械社製、型式：ＯＳＢ－２１００）で加温しながら、ロータリーエバポレータ（東京理化器械社製、型式：Ｎ－１１１０ＳＦ）によって、２５分間脱溶媒処理を行い、Ｄ液を得た。フラスコの中からＤ液を取り出し、シリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）を４．４ｇ添加して室温で３０分間撹拌し、コーティング液ＩＲＡ１を得た。
　また、コーティング液ＩＲＡ２を以下のようにして調製した。酢酸銅一水和物２．２５ｇとテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１２０ｇとを混合して３時間撹拌し、得られた液にリン酸エステル（第一工業製薬社製　製品名：プライサーフＡ２０８Ｆ）１．８ｇを加えて３０分間撹拌し、Ｅ液を得た。ブチルホスホン酸１．３５ｇにＴＨＦ２０ｇを加えて３０分間撹拌し、Ｆ液を得た。Ｅ液を撹拌しながらＦ液を加え、室温で３時間攪拌した後、トルエンを４０ｇ加え、その後８５℃の環境で７．５時間かけて溶媒を揮発させ、Ｇ液を得た。Ｇ液にシリコーン樹脂（信越化学工業社製、製品名：ＫＲ－３００）８．８ｇを加えて３時間撹拌し、コーティング液ＩＲＡ２を得た。
　コーティング液ＩＲＡ１を、透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面にダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させ赤外線吸収層ｉｒａ１１を形成した。同様にして、透明ガラス基板の反対側主面にもコーティング液ＩＲＡ１を塗布し、上記と同じ条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させ、赤外線吸収層ｉｒａ１２を形成した。このようにして、実施例１に係る光学フィルタの半製品αを得た。赤外線吸収層ｉｒａ１１及び赤外線吸収層ｉｒａ１２の厚さは合わせて０．２ｍｍであった。０°の入射角度における半製品αの透過率スペクトルを図４Ａに示す。半製品αは以下の（α１）～（α６）の特性を有していた。
　（α１）：波長７００～１０００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であった。
　（α２）：波長１１００～１２００ｎｍにおける平均透過率が２９．５％であった。
　（α３）：波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が８８．０％であった。
　（α４）：波長４００ｎｍにおける透過率が６３．７％であった。
　（α５）：ＩＲカットオフ波長が６３２ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が３９４ｎｍであり、ＩＲカットオフ波長とＵＶカットオフ波長との差を透過領域の半値全幅とみなしたときに、透過領域の半値全幅が２３８ｎｍであった。
　（α６）：波長６００～８００ｎｍにおいて分光透過率が２０％である波長が６６１ｎｍであった。
　半製品αの赤外線吸収層ｉｒａ１１の上に真空蒸着装置を用いて５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ１）を形成した。同様にして、半製品αの赤外線吸収層ｉｒａ１２の上に５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ２）を形成した。保護層ｐ１の表面に、コーティング液ＩＲＡ２をダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させて赤外線吸収層ｉｒａ２１を形成した。また、保護層ｐ２の表面にも、コーティング液ＩＲＡ２をダイコータによって塗布し、同一の加熱条件で塗膜を硬化させて赤外線吸収層ｉｒａ２２を形成した。このようにして、半製品βを得た。赤外線吸収層ｉｒａ２１及び赤外線吸収層ｉｒａ２２の厚さは合わせて５０μｍであった。半製品βの透過率スペクトルを図４Ｂに示す。半製品βは以下の（β１）～（β６）の特性を有していた。
　（β１）：波長７００～１０００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であった。
　（β２）：波長１１００～１２００ｎｍにおける平均透過率が４．５％であった。
　（β３）：波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が８６．９％であった。
　（β４）：波長４００ｎｍにおける透過率が６２．１％であった。
　（β５）：ＩＲカットオフ波長は６３１ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長は３９４ｎｍであり、透過領域の半値全幅は２３７ｎｍであった。
　（β６）：波長６００～８００ｎｍにおいて分光透過率が２０％である波長が６５９ｎｍであった。
　半製品βの赤外線吸収層ｉｒａ２２の上に真空蒸着装置を用いて５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ３）を形成した。
　コーティング液ＵＶＡ１を以下のようにして調整した。紫外線吸収性物質として、可視光領域における光の吸収が少なく、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）に可溶なベンゾフェノン系紫外線吸収性物質を用いた。この紫外線吸収性物質を溶媒であるＭＥＫに溶かすとともに、固形分の６０重量％のポリビニルブチラール（ＰＶＢ）を添加し、２時間撹拌してコーティング液ＵＶＡ１を得た。保護層ｐ３の上にコーティング液ＵＶＡ１をスピンコーティングによって塗布し、１４０℃で３０分間加熱し硬化させて紫外線吸収層ｕｖａ１を形成した。紫外線吸収層ｕｖａ１の厚さは６μｍであった。別途、透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の表面にコーティング液ＵＶＡ１を用いてスピンコーティングによって６μｍの厚みの紫外線吸収層を形成し、参考例１に係る積層体を得た。参考例１に係る積層体の透過率スペクトルを図４Ｃに示す。参考例１に係る積層体は、以下の（ｒ１）～（ｒ３）の特性を有していた。
　（ｒ１）：波長３５０～３９０ｎｍにおける透過率が０．５％以下であった。
　（ｒ２）：波長４００ｎｍにおける透過率が１２．９％であり、４１０ｎｍにおける透過率が５１．８％であり、４２０ｎｍにおける透過率が７７．１％であり、４５０ｎｍにおける透過率が８９．８％であった。
　（ｒ３）：波長４５０～７５０ｎｍにおける平均透過率は９１．０％であった。
　赤外線吸収層ｉｒａ２１の上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ１を形成した。また、紫外線吸収層ｕｖａ１上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ２を形成した。反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２は、同一の仕様を有しており、ＳｉＯ2とＴｉＯ2とを交互に積層した膜であり、反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２において、層数は７層、総膜厚は約０．４μｍであった。このようにして、実施例１に係る光学フィルタを得た。反射防止膜ａｒ１の成膜と同一の条件で透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３Ｔ　ｅｃｏ）の片面に反射防止膜を形成し、参考例２に係る積層体を得た。参考例２に係る積層体の透過率スペクトルを図４Ｄに示す。参考例２に係る積層体は、以下（ｓ１）～（ｓ４）の特性を有していた。
　（ｓ１）：光の入射角度が０°である場合に、波長３５０ｎｍにおける透過率が７３．４％であり、波長３８０ｎｍにおける透過率が８８．９％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が９５．３％であり、波長４００～７００ｎｍの平均透過率が９５．３％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が９５．７％であった。
　（ｓ２）：光の入射角度が３０°である場合に、波長３５０ｎｍにおける透過率が７８．５％であり、波長３８０ｎｍにおける透過率が９２．０％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が９４．５％であり、波長４００～７００ｎｍの平均透過率が９４．３％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率は９４．６％であった。
　（ｓ３）：光の入射角度が４０°である場合に、波長３５０ｎｍにおける透過率が８２．３％であり、波長３８０ｎｍにおける透過率が９３．３％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が９４．３％であり、波長４００～７００ｎｍの平均透過率が９４．０％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が９４．１％であった。
　（ｓ４）：光の入射角度に依らず、波長４００～７００ｎｍにおいて局所的に透過率が低下するリップルを生じさせる波長帯が存在しなかった。
　実施例１に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図４Ｅ及び表７に示す。また、実施例１に係る光学フィルタは、表８に示す特性を有していた。光学フィルタへの光の入射角度θが０°であるときの光学フィルタの分光透過率Ｔ0（λ）と表（Ｉ）に示すＲ（λ）との積から求められる関数、Ｔ0（λ）とＧ（λ）との積から求められる関数、及びＴ0（λ）とＢ（λ）との積から求められる関数を算出した。次に、それぞれの関数の最大値を求め、さらにそれらの値の中の最大値が１になるように正規化係数を決定した。さらに正規化係数を、分光透過率Ｔ0（λ）と表（Ｉ）に示すＲ（λ）との積から求められる関数に乗じて正規化分光感度関数ＣＲ0（λ）を求めた。同様にして、正規化分光感度関数ＣＧ0（λ）及びＣＢ0（λ）を求めた。光学フィルタへの光の入射角度θが３０°であるときの光学フィルタの分光透過率Ｔ30（λ）と表（Ｉ）に示すＲ（λ）との積から求められる関数、Ｔ30（λ）とＧ（λ）との積から求められる関数、及びＴ30（λ）とＢ（λ）との積から求められる関数に、正規化係数をそれぞれ掛けて、光の入射角度θが３０°であるときの正規化分光感度関数ＣＲ30（λ）、ＣＧ30（λ）、及びＣＢ30（λ）を求めた。光学フィルタへの光の入射角度θが４０°であるときの光学フィルタの分光透過率Ｔ40（λ）と表（Ｉ）に示すＲ（λ）との積から求められる関数、Ｔ40（λ）とＧ（λ）との積から求められる関数、及びＴ40（λ）とＢ（λ）との積から求められる関数に、正規化係数をそれぞれ掛けて、光の入射角度θが３０°であるときの正規化分光感度関数ＣＲ40（λ）、ＣＧ40（λ）、及びＣＢ40（λ）を求めた。光学フィルタへの光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図５Ａ、図５Ｂ、及び図５Ｃに示す。光学フィルタへの光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図６Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図６Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図６Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表９～１１に示す。
　＜実施例２＞
　実施例１と同様にしてコーティング液ＩＲＡ１及びコーティング液ＩＲＡ２を調製した。コーティング液ＩＲＡ１を、透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面にダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させ赤外線吸収層ｉｒａ１１を形成した。同様にして、透明ガラス基板の反対側主面にもコーティング液ＩＲＡ１を塗布し、上記と同じ条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させ、赤外線吸収層ｉｒａ１２を形成した。赤外線吸収層ｉｒａ１１及び赤外線吸収層ｉｒａ１２の厚さは合わせて０．２ｍｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ１１の上に真空蒸着装置を用いて５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ１）を形成した。同様にして、赤外線吸収層ｉｒａ１２の上に５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ２）を形成した。保護層ｐ１の表面に、コーティング液ＩＲＡ２をダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させて赤外線吸収層ｉｒａ２１を形成した。また、保護層ｐ２の表面にも、コーティング液ＩＲＡ２をダイコータによって塗布し、同一の加熱条件で塗膜を硬化させて赤外線吸収層ｉｒａ２２を形成した。赤外線吸収層ｉｒａ２１及び赤外線吸収層ｉｒａ２２の厚さは合わせて５０μｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ２２の上に真空蒸着装置を用いて５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ３）を形成した。赤外線吸収色素及び紫外線吸収色素を含んだコーティング液ＵＶＩＲＡ１を以下のように調製した。赤外線吸収色素は、波長６８０～７８０ｎｍに吸収ピークを有し、可視光領域の光を吸収しにくい、シアニン系の有機色素とスクアリリウム系の有機色素との組み合わせであった。紫外線吸収色素は、可視光領域の光を吸収しにくい、ベンゾフェノン系の紫外線吸収性物質からなる色素であった。赤外線吸収色素及び紫外線吸収色素はＭＥＫに可溶であった。赤外線吸収色素及び紫外線吸収色素を溶媒であるＭＥＫに加え、マトリクス材料であるＰＶＢをさらに加え、その後２時間撹拌してコーティング液ＵＶＩＲＡ１を得た。コーティング液ＵＶＩＲＡ１における赤外線吸収色素の配合比及び紫外線吸収色素の配合比は、参考例３に係る積層体が図７Ａに示す透過率スペクトルを示すように決定した。参考例３に係る積層体は、透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の上にコーティング液ＵＶＩＲＡ１をスピンコーティングにより塗布した後に、その塗膜を１４０℃で３０分間加熱して硬化させて作製された。コーティング液ＵＶＩＲＡ１において、赤外線吸収色素とＰＶＢの固形分との質量比（赤外線吸収色素の質量：ＰＶＢの固形分の質量）は、約１：１９９であった。また、紫外線吸収色素とＰＶＢの固形分との質量比（紫外線吸収色素の質量：ＰＶＢの固形分の質量）は約４０：６０であった。参考例３に係る積層体は以下の特性（ｔ１）～（ｔ５）を有していた。
　（ｔ１）：波長７００ｎｍにおける透過率が８．７％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が１３．６％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が６６．２％であった。
　（ｔ２）：波長１１００ｎｍにおける透過率が９２．１％であった。
　（ｔ３）：波長４００ｎｍにおける透過率が１１．８％であり、４５０ｎｍにおける透過率が８５．３％であり、波長５００～６００ｎｍにおける平均透過率が８９．１％であった。
　（ｔ４）：波長６００ｎｍ～７００ｎｍにおけるＩＲカットオフ波長は６６９ｎｍであり、波長７００ｎｍ～８００ｎｍにおけるＩＲカットオフ波長は７２９ｎｍであり、それらの差は６０ｎｍであった。波長６００ｎｍ～８００ｎｍにおいて最も低い透過率を示す波長（極大吸収波長）は７０５ｎｍであった。
　（ｔ５）：波長３５０ｎｍ～４５０ｎｍにおけるＵＶカットオフ波長は４１１ｎｍであった。
　保護層ｐ３の上にスピンコーティングによりコーティング液ＵＶＩＲＡ１を塗布し、その塗膜を１４０℃で３０分間加熱して硬化させ、赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ１を形成した。赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ１の厚さは７μｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ２１の上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ１を形成した。また、赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ１の上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ２を形成した。反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２は、同一の仕様を有しており、ＳｉＯ2とＴｉＯ2とを交互に積層した膜であり、反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２において、層数は７層、総膜厚は約０．４μｍであった。このようにして、実施例２に係る光学フィルタを得た。
　実施例２に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図７Ｂ及び表１２に示す。また、実施例２に係る光学フィルタは、表１３に示す特性を有していた。実施例１と同様にして、光の入射角度θが０°、３０°及び４０°である場合の実施例２に係る光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と、表（Ｉ）に示す関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）とに基づいて、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図８Ａ、図８Ｂ、及び図８Ｃに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図９Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図９Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図９Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表１４～１６に示す。
　＜実施例３＞
　実施例１と同様にしてコーティング液ＩＲＡ１及びコーティング液ＩＲＡ２を調製した。コーティング液ＩＲＡ１を、透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面にダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させ赤外線吸収層ｉｒａ１１を形成した。同様にして、透明ガラス基板の反対側主面にもコーティング液ＩＲＡ１を塗布し、上記と同じ条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させ、赤外線吸収層ｉｒａ１２を形成した。このようにして、実施例３に係る光学フィルタの半製品γを得た。赤外線吸収層ｉｒａ１１及び赤外線吸収層ｉｒａ１２の厚さは合わせて０．２ｍｍであった。０°の入射角度における半製品γの透過率スペクトルを図１０Ａに示す。半製品γは以下の（γ１）～（γ６）の特性を有していた。
　（γ１）：波長７００～１０００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であった。
　（γ２）：波長１１００～１２００ｎｍにおける平均透過率が２５．９％であった。
　（γ３）：波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が８７．５％であった。
　（γ４）：波長４００ｎｍにおける透過率が６０．９％であった。
　（γ５）：ＩＲカットオフ波長が６２９ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が３９５ｎｍであり、透過領域の半値全幅が２３４ｎｍであった。
　（γ６）：波長６００～８００ｎｍにおいて分光透過率が２０％である波長が６５７ｎｍであった。
　半製品γの赤外線吸収層ｉｒａ１２の上に５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ２）を形成した。保護層ｐ２の上に、実施例１で使用したコーティング液ＵＶＡ１をスピンコーティングにより塗布し、その塗膜を１４０℃で３０分間加熱して硬化させ紫外線吸収層ｕｖａ１を形成した。紫外線吸収層ｕｖａ１の厚みは６μｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ１１の上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ１を形成した。また、紫外線吸収層ｕｖａ１上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ２を形成した。反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２は、同一の仕様を有しており、ＳｉＯ2とＴｉＯ2とを交互に積層した膜であり、反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２において、層数は７層、総膜厚は約０．４μｍであった。このようにして、実施例３に係る光学フィルタを得た。
　実施例３に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図１０Ｂ及び表１７に示す。また、実施例３に係る光学フィルタは、表１８に示す特性を有していた。実施例１と同様にして、光の入射角度θが０°、３０°及び４０°である場合の実施例３に係る光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と、表（Ｉ）に示す関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）とに基づいて、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図１１Ａ、図１１Ｂ、及び図１１Ｃに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１２Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１２Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１２Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表１９～２１に示す。
　＜実施例４＞
　実施例１と同様にしてコーティング液ＩＲＡ１を調製した。透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面にダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させ赤外線吸収層ｉｒａ１１を形成した。同様にして、透明ガラス基板の反対側主面にもコーティング液ＩＲＡ１を塗布し、上記と同じ条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させ、赤外線吸収層ｉｒａ１２を形成した。赤外線吸収層ｉｒａ１１及び赤外線吸収層ｉｒａ１２の厚さは合わせて０．２ｍｍであった。
　次に、赤外線吸収層ｉｒａ１１の上に真空蒸着装置を用いて赤外線反射膜ｉｒｒ１を形成した。赤外線反射膜ｉｒｒ１において、ＳｉＯ2とＴｉＯ2が交互に１６層積層されていた。透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面に、赤外線反射膜ｉｒｒ１の形成と同一条件で赤外線反射膜を形成し、参考例４に係る積層体を作製した。参考例４に係る積層体の透過率スペクトルを図１３Ａに示す。参考例４に係る積層体は以下の特性（ｕ１）～（ｕ３）を有していた。
　（ｕ１）：光の入射角度が０°である場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１．８％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が７．３％であり、波長４５０～７００ｎｍにおける平均透過率が９４．８％であり、波長４５０～７００ｎｍにおける透過率の最低値が９３．４％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が９４．０％であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が４．１％であり、ＩＲカットオフ波長が９０２ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が４１０ｎｍであった。
　（ｕ２）：光の入射角度が３０°である場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１．８％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が６７．８％であり、波長４５０～７００ｎｍにおける平均透過率が９５．０％であり、波長４５０～７００ｎｍにおける透過率の最低値が９３．８％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が９２．１％であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が５．３％であり、ＩＲカットオフ波長が８６３ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が３９８ｎｍであった。
　（ｕ３）：光の入射角度が４０°である場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が４．０％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が９０．２％であり、波長４５０～７００ｎｍにおける平均透過率が９４．１％であり、波長４５０～７００ｎｍにおける透過率の最低値が９２．９％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が９１．５％であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が８．３％であり、ＩＲカットオフ波長が８３７ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が３９１ｎｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ１２の上に５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ２）を形成した。保護層ｐ２の上に、実施例１で使用したコーティング液ＵＶＡ１をスピンコーティングにより塗布し、その塗膜を１４０℃で３０分間加熱して硬化させ紫外線吸収層ｕｖａ１を形成した。紫外線吸収層ｕｖａ１の厚みは６μｍであった。紫外線吸収層ｕｖａ１上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ２を形成した。反射防止膜ａｒ２は、ＳｉＯ2とＴｉＯ2とを交互に積層した膜であり、反射防止膜ａｒ２において、層数は７層、総膜厚は約０．４μｍであった。このようにして、実施例４に係る光学フィルタを得た。
　実施例４に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図１３Ｂ及び表２２に示す。また、実施例４に係る光学フィルタは、表２３に示す特性を有していた。実施例１と同様にして、光の入射角度θが０°、３０°及び４０°である場合の実施例４に係る光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と、表（Ｉ）に示す関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）とに基づいて、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図１４Ａ、図１４Ｂ、及び図１４Ｃに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１５Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１５Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１５Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表２４～２６に示す。
　＜実施例５＞
　実施例１と同様にしてコーティング液ＩＲＡ１を調製した。透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面にダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させ赤外線吸収層ｉｒａ１１を形成した。同様にして、透明ガラス基板の反対側主面にもコーティング液ＩＲＡ１を塗布し、上記と同じ条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させ、赤外線吸収層ｉｒａ１２を形成した。赤外線吸収層ｉｒａ１１及び赤外線吸収層ｉｒａ１２の厚さは合わせて０．２ｍｍであった。
　次に、実施例４と同様にして、赤外線吸収層ｉｒａ１１の上に真空蒸着装置を用いて赤外線反射膜ｉｒｒ１を形成した。赤外線反射膜ｉｒｒ１において、ＳｉＯ2とＴｉＯ2が交互に１６層積層されていた。
　赤外線吸収層ｉｒａ１２の上に５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ２）を形成した。保護層ｐ２の上に、実施例２で使用したコーティング液ＵＶＩＲＡ１を実施例２と同様の条件で塗布し、その塗膜を１４０℃で３０分間加熱して硬化させ赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ１を形成した。赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ１の厚みは７μｍであった。赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ１上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ２を形成した。反射防止膜ａｒ２は、ＳｉＯ2とＴｉＯ2とを交互に積層した膜であり、反射防止膜ａｒ２において、層数は７層、総膜厚は約０．４μｍであった。このようにして、実施例５に係る光学フィルタを得た。
　実施例５に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図１６及び表２７に示す。また、実施例５に係る光学フィルタは、表２８に示す特性を有していた。実施例１と同様にして、光の入射角度θが０°、３０°及び４０°である場合の実施例５に係る光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と、表（Ｉ）に示す関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）とに基づいて、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図１７Ａ、図１７Ｂ、及び図１７Ｃに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１８Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１８Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図１８Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表２９～３１に示す。
　＜実施例６＞
　実施例１と同様にしてコーティング液ＩＲＡ１及びコーティング液ＩＲＡ２を調製した。透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面にダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させ赤外線吸収層ｉｒａ１１を形成した。同様にして、透明ガラス基板の反対側主面にもコーティング液ＩＲＡ１を塗布し、上記と同じ条件で加熱処理を行って塗膜を硬化させ、赤外線吸収層ｉｒａ１２を形成した。赤外線吸収層ｉｒａ１１及び赤外線吸収層ｉｒａ１２の厚さは合わせて０．４ｍｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ１１の上に真空蒸着装置を用いて５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ１）を形成した。同様にして、赤外線吸収層ｉｒａ１２の上に５００ｎｍの厚みのＳｉＯ2の蒸着膜（保護層ｐ２）を形成した。保護層ｐ１の表面に、コーティング液ＩＲＡ２をダイコータによって塗布し、オーブンにて８５℃で３時間、次いで１２５℃で３時間、次いで１５０℃で１時間、次いで１７０℃で３時間の加熱処理を行い、塗膜を硬化させて赤外線吸収層ｉｒａ２１を形成した。また、保護層ｐ２の表面にも、コーティング液ＩＲＡ２をダイコータによって塗布し、同一の加熱条件で塗膜を硬化させて赤外線吸収層ｉｒａ２２を形成し、半製品δを得た。０℃の入射角度における半製品δの透過率スペクトルを図１９Ａに示す。半製品δは、以下の特性（δ１）～（δ８）を有していた。
　（δ１）：波長７００～１１００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であった。
　（δ２）：波長７００～１０００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であった。
　（δ３）：波長１１００～１２００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であった。
　（δ４）：波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が８２．２％であった。
　（δ５）：波長５００～６００ｎｍにおける平均透過率が８２．７％であった。
　（δ６）：波長４００ｎｍにおける透過率が４２．０％であり、波長４５０ｎｍにおける透過率が７６．７％であった。
　（δ７）：ＩＲカットオフ波長が６１３ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が４０４ｎｍであり、透過領域の半値全幅が２０９ｎｍであった。
　（δ８）：波長６００～８００ｎｍにおいて分光透過率が２０％である波長が６３７ｎｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ２１の上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ１を形成した。また、赤外線吸収層ｉｒａ２２の上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ２を形成した。反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２は、同一の仕様を有しており、ＳｉＯ2とＴｉＯ2とを交互に積層した膜であり、反射防止膜ａｒ１及び反射防止膜ａｒ２において、層数は７層、総膜厚は約０．４μｍであった。このようにして、実施例６に係る光学フィルタを得た。
　実施例６に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図１９Ｂ及び表３２に示す。また、実施例６に係る光学フィルタは、表３３に示す特性を有していた。実施例１と同様にして、光の入射角度θが０°、３０°及び４０°である場合の実施例６に係る光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と、表（Ｉ）に示す関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）とに基づいて、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図２０Ａ、図２０Ｂ、及び図２０Ｃに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２１Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２１Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２１Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表３４～３６に示す。
　＜比較例１＞
　透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面に真空蒸着装置を用いてＳｉＯ2及びＴｉＯ2を交互に２４層積層して赤外線反射膜ｉｒｒ２を形成し、半製品εを得た。半製品εの透過率スペクトルを図２２Ａに示す。半製品εは、以下の特性（ε１）～（ε３）を有していた。
　（ε１）：光の入射角度が０°の場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が０．５％以下であり、波長４００ｎｍにおける透過率が３．１％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が９４．１％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の最低値が９２．６％であり、波長７００ｎｍにおける透過率が８６．２％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が３０．８％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が１２．４％であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が０．５％以下であり、ＩＲカットオフ波長が７１０ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が４１０ｎｍであった。
　（ε２）：光の入射角度が３０°の場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１．７％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が７７．７％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が９４．１％、波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の最低値が９３．０％であり、波長７００ｎｍにおける透過率が８．２％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が２．２％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が１．１％であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が１．２％であり、ＩＲカットオフ波長が６８０ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が３９７ｎｍであった。
　（ε３）：光の入射角度が４０°の場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１３．１％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が９０．５％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が９２．１％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の最低値が８７．６％であり、波長７００ｎｍにおける透過率が２．０％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が０．８％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が５．４％であり、ＩＲカットオフ波長が６６１ｎｍであり、ＵＶカットオフ長が３８６ｎｍであった。
　赤外線吸収色素を含んだコーティング液ＩＲＡ３を以下のように調製した。赤外線吸収色素は、ＭＥＫに可溶なシアニン系の有機色素とスクアリリウム系の有機色素との組み合わせであった。赤外線吸収色素を溶媒であるＭＥＫに加え、マトリクス材料であるＰＶＢをさらに加え、その後２時間撹拌してコーティング液ＩＲＡ３を得た。コーティング液ＩＲＡ３の固形分におけるマトリクス材料の含有率は９９質量％であった。半製品εの透明ガラス基板の他方の主面にコーティング液ＩＲＡ３をスピンコーティングにより塗布した後に、その塗膜を１４０℃で３０分間加熱して硬化させて赤外線吸収層ｉｒａ３を形成した。別途、透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面に、赤外線吸収層ｉｒａ３の形成条件と同一条件で赤外線吸収層を形成し、参考例５に係る積層体を得た。０°の入射角度における参考例５に係る積層体の透過率スペクトルを図２２Ｂに示す。参考例５に係る積層体は以下の特性（ｖ１）～（ｖ４）を有していた。
　（ｖ１）：波長７００ｎｍにおける透過率が２．０％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が２．６％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が１５．９％であった。
　（ｖ２）：波長１１００ｎｍにおける透過率が９１．１％であった。
　（ｖ３）：波長４００ｎｍにおける透過率が７８．２％であり、４５０ｎｍにおける透過率が８３．８％であり、波長５００～６００ｎｍにおける平均透過率が８６．９％であった。
　（ｖ４）：波長６００ｎｍ～７００ｎｍにおけるＩＲカットオフ波長は６３７ｎｍであり、波長７００ｎｍ～８００ｎｍにおけるＩＲカットオフ波長は８００ｎｍであり、これらのＩＲカットオフ波長の差は１６３ｎｍであり、波長６００～８００ｎｍにおける極大吸収波長は７０６ｎｍであった。
　赤外線吸収層ｉｒａ３の上に真空蒸着装置を用いて実施例１と同様にして反射防止膜ａｒ１を形成し、比較例１に係る光学フィルタを得た。
　比較例１に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図２２Ｃ及び表３７に示す。また、比較例１に係る光学フィルタは、表３８に示す特性を有していた。実施例１と同様にして、光の入射角度θが０°、３０°及び４０°である場合の比較例１に係る光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と、表（Ｉ）に示す関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）とに基づいて、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図２３Ａ、図２３Ｂ、及び図２３Ｃに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２４Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２４Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２４Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表３９～４１に示す。
　＜比較例２＞
　０°の入射角度において、図２５Ａに示す透過率スペクトルを示す赤外線吸収性ガラス基板を準備した。この赤外線吸収性ガラス基板は、以下の特性（ｇ１）～（ｇ５）を有していた。
　（ｇ１）：波長７００～１０００ｎｍにおける平均透過率が１６．８％であった。
　（ｇ２）：波長１１００～１２００ｎｍにおける平均透過率が３８．５％であった。
　（ｇ３）：波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が８７．８％であった。
　（ｇ４）：波長４００ｎｍにおける透過率が８８．５％であった。
　（ｇ５）：ＩＲカットオフ波長が６５３ｎｍであった。また波長６００～８００ｎｍにおける透過率が２０％に対応する波長が７３８ｎｍであった。
　２１０μｍの厚みを有する赤外線吸収性ガラス基板の一方の主面に真空蒸着装置を用いてＳｉＯ2及びＴｉＯ2を交互に２０層積層して赤外線反射膜ｉｒｒ３を形成し、半製品ζを得た。透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面に赤外線反射膜ｉｒｒ３の形成条件と同一の条件で赤外線反射膜を形成し、参考例６に係る積層体を得た。参考例６に係る積層体の透過率スペクトルを図２５Ｂに示す。参考例６に係る積層体は、以下の特性（ｗ１）～（ｗ３）を有していた。
　（ｗ１）：光の入射角度が０°の場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が０．５％以下であり、波長４００ｎｍにおける透過率が０．５％以下であり、波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が９５．２％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の最低値が９３．７％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が４．７％であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が０．５％以下であり、ＩＲカットオフ波長が７０２ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が４１１ｎｍであった。
　（ｗ２）：光の入射角度が３０°の場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１．７％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が７７．７％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が９４．１％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の最低値が９３．０％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が１．１％であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が１．２％であり、ＩＲカットオフ波長が６８０ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が３９７ｎｍであった。
　（ｗ３）：光の入射角度が４０°の場合に、波長３８０ｎｍにおける透過率が１３．１％であり、波長４００ｎｍにおける透過率が９０．５％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける平均透過率が９２．１％であり、波長４５０～６００ｎｍにおける透過率の最低値が８７．６％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が０．５％以下であり、波長１１００ｎｍにおける透過率が５．４％であり、ＩＲカットオフ波長が６６１ｎｍであり、ＵＶカットオフ波長が３８６ｎｍであった。
　赤外線吸収色素及び紫外線吸収色素を含んだコーティング液ＵＶＩＲＡ２を以下のように調製した。紫外線吸収色素は、可視光領域の光を吸収しにくい、ベンゾフェノン系の紫外線吸収性物質からなる色素であった。赤外線吸収色素は、シアニン系の有機色素とスクアリリウム系の有機色素との組み合わせであった。赤外線吸収色素及び紫外線吸収色素はＭＥＫに可溶であった。赤外線吸収色素及び紫外線吸収色素を溶媒であるＭＥＫに加え、マトリクス材料であるＰＶＢをさらに加え、その後２時間撹拌してコーティング液ＵＶＩＲＡ２を得た。コーティング液ＵＶＩＲＡ２の固形分におけるＰＶＢの含有率は６０質量％であった。コーティング液ＵＶＩＲＡ２を半製品ζの他方の主面に塗布し、その塗膜を加熱して硬化させ、赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ２を形成した。赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ２の厚みは７μｍであった。透明ガラス基板（ＳＣＨＯＴＴ社製、製品名：Ｄ２６３　Ｔ　ｅｃｏ）の一方の主面に、コーティング液ＵＶＩＲＡ２を用いて、赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ２の形成条件と同一の条件で赤外線・紫外線吸収層を形成し、参考例７に係る積層体を得た。０°の入射角度における参考例７に係る積層体の透過率スペクトルを図２５Ｃに示す。参考例７に係る積層体は、以下の特性（ｐ１）～（ｐ５）を有していた。
　（ｐ１）：波長７００ｎｍにおける透過率が４．９％であり、波長７１５ｎｍにおける透過率が８．４％であり、波長７００～８００ｎｍにおける平均透過率が６３．９％であった。
　（ｐ２）：波長１１００ｎｍにおける透過率が９２．３％であった。
　（ｐ３）：波長４００ｎｍにおける透過率が１２．６％であり、４５０ｎｍにおける透過率が８４．４％であり、波長５００～６００ｎｍにおける平均透過率が８８．７％であった。
　（ｐ４）：波長６００ｎｍ～７００ｎｍにおけるＩＲカットオフ波長は６６４ｎｍであり、波長７００ｎｍ～８００ｎｍにおけるＩＲカットオフ波長は７３１ｎｍであり、それらの差は６７ｎｍであった。波長６００ｎｍ～８００ｎｍにおいて最も低い透過率を示す波長（極大吸収波長）は７０５ｎｍであった。
　（ｐ５）：波長３５０ｎｍ～４５０ｎｍにおけるＵＶカットオフ波長は４１１ｎｍであった。
　赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ２の上に真空蒸着装置を用いて反射防止膜ａｒ１を実施例１と同様にして形成した。反射防止膜ａｒ１はＳｉＯ2とＴｉＯ2とを交互に積層した膜であり、反射防止膜ａｒ１において、層数は７層、総膜厚は約０．４μｍであった。このようにして、比較例２に係る光学フィルタを得た。
　比較例２に係る光学フィルタの透過率スペクトルを図２５Ｄ及び表４２に示す。また、比較例２に係る光学フィルタは、表４３に示す特性を有していた。実施例１と同様にして、光の入射角度θが０°、３０°及び４０°である場合の比較例２に係る光学フィルタの分光透過率Ｔθ（λ）と、表（Ｉ）に示す関数Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）とに基づいて、正規化分光感度関数ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）を求めた。光の入射角度θが０°、３０°、及び４０°である場合の正規化分光感度関数をそれぞれ図２６Ａ、図２６Ｂ、及び図２６Ｃに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２７Ａに示す。光の入射角度θが０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２７Ｂに示す。光の入射角度θが３０°である場合の正規化分光感度関数から光の入射角度θが４０°である場合の正規化分光感度関数を差し引いた差のグラフを図２７Ｃに示す。０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対する正規化分光感度関数を用いて上記の式（１）～（９）より、ＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBと、ＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBと、ＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBとを求めた。結果を表４４～４６に示す。
　実施例１～６に係る光学フィルタにおいて、上記（ｉ）～（vii）の条件が満たされていた。実施例１～６に係る光学フィルタにおいて、７００ｎｍ以上の波長範囲における透過率は十分に低く、実施例１～６に係る光学フィルタは、近赤外線を良好に遮蔽できることが示された。実施例２に係る光学フィルタは、実施例１に係る光学フィルタに比べて、７００ｎｍ以上の波長範囲において低い透過率を示した。実施例２に係る光学フィルタにおいて、有機系の赤外線吸収色素の含有により、実施例１に係る光学フィルタに比べて、可視光領域の透過率が２ポイント程度低かった。しかし、実用上問題はないと考えられる。実施例３に係る光学フィルタは、赤外線吸収層として、赤外線吸収層ｉｒａ１１及び赤外線吸収層ｉｒａ１２のみを有するので、実施例１及び２に係る光学フィルタと比較する限り、１１００ｎｍ以上の波長範囲において、７００～１１００ｎｍの波長範囲に比べてより高い透過率を示した。しかし、１１００ｎｍ以上の波長の光に対するＣＭＯＳセンサ等の撮像素子の感度は低いので、実施例３に係る光学フィルタは撮像装置にとって適切な特性を有していると考えられる。実施例６に係る光学フィルタにおいて、他の実施例の光学フィルタに比べて、波長４００ｎｍ付近の透過率が高いものの、４５％以下であった。
　実施例１～６に係る光学フィルタにおいて、上記表（II）～（IV）に示す条件が満たされていた。加えて、実施例１～６に係る光学フィルタにおいて、０°、３０°、４０°の入射角度に対する分光透過率はほとんど変化していなかった。このため、実施例１～６に係る光学フィルタを撮像装置に組み込んだ場合、光学フィルタへの光の入射角度が変化しても、撮像装置からの出力に基づく感度曲線の変化はわずかであることが示唆された。実施例４及び５に係る光学フィルタの赤外線反射膜において、４０°の入射角度の光を透過させる波長帯と４０°の入射角度の光を反射させる波長帯との境界が８５０ｎｍ付近になるように設定されていた。このため、入射角度０°、３０°、及び４０°において、実施例４及び５に係る光学フィルタの分光透過率はほとんど変化しなかった。実施例４及び５に係る光学フィルタにおいて、光の入射角度が大きいほど波長４００ｎｍ付近の透過率が高かった。これにより、θ１＝０であり、かつ、θ２＝３０である場合、及び、θ１＝０であり、かつ、θ２＝４０である場合において、ＩＥθ1/θ2 CB、ＩＡＥθ1/θ2 CB、及びＩＳＥθ1/θ2 CBの値にその影響が表れていた。加えて、実施例４及び５に係る光学フィルタにおいて、３０°の入射角度における光学フィルタの透過率は、０°及び４０°の入射角度における光学フィルタの透過率に比べて、波長５３０ｎｍ付近で高くなっていた。これにより、θ１＝０であり、かつ、θ２＝３０である場合、及び、θ１＝３０であり、かつ、θ２＝４０である場合において、ＩＥθ1/θ2 CG、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CGの値にその影響が表れていた。しかし、いずれの影響も、表（II）～（IV）に示す条件が満たされるほどに小さかった。このため、実施例１～６に係る光学フィルタをカメラモジュール等の撮像装置に組み込んだ場合、０°～４０°の入射角度の範囲で光学フィルタに光線を入射させても、撮影された画像の内部に色むらを生じることがないと考えられる。
　比較例１に係る光学フィルタによれば、可視光領域の近赤外線領域に隣接した領域及び近赤外線領域における光を透過させる波長帯と光を遮蔽する波長帯との境界が赤外線吸収層ｉｒａ３によって定められている。しかし、赤外線吸収層ｉｒａ３の吸収帯域が狭いので、比較例１に係る光学フィルタの透過率スペクトルは、光の入射角度が大きくなるに従って、赤外線反射膜の反射帯域が短波長側にシフトしてくる影響を受けていた。また、比較例１に係る光学フィルタの紫外線領域における光の吸収能は不足しており、比較例１に係る光学フィルタは実質的には赤外線反射膜ｉｒｒ２だけで紫外線領域の光を遮蔽していた。このため、比較例１に係る光学フィルタは、紫外線領域において、光の入射角度によって反射帯域が短波長側にシフトする影響を強く受けていた。比較例１に係る光学フィルタにおいて、０°の入射角度と３０°の入射角度との間で、ＣＢθ（λ）が４００ｎｍ付近で大きく変動していた。また、比較例１に係る光学フィルタにおいて、３０°の入射角度と４０°の入射角度との間で、ＣＲθ（λ）が６５０ｎｍ付近で大きく変動していた。比較例１に係る光学フィルタにおいて、ＣＢθ（λ）は、０°の入射角度と３０°の入射角度との間で変動するとともに、３０°の入射角度と４０°の入射角度との間で狭い波長帯で変動していたので、θ１＝３０であり、かつ、θ２＝４０である場合に、ＩＥθ1/θ2 CBの値が大きくなっていた。加えて、θ１＝３０であり、かつ、θ２＝４０である場合に、ＩＥθ1/θ2、ＩＡＥθ1/θ2、及びＩＳＥθ1/θ2の値が大きかった。このため、この光学フィルタを撮像装置に組み込んだ場合、得られた画像の狭い範囲で強い色むらが発生することが懸念された。
　比較例２に係る光学フィルタにおいて、可視光領域の近赤外線領域に隣接した領域及び近赤外線領域並びに紫外線領域において、光を透過させる波長帯と光を遮蔽する波長帯との境界が赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ２によって定まっていた。しかし、近赤外線領域における赤外線・紫外線吸収層ｕｖｉｒａ２の吸収帯域が狭いので、比較例２に係る光学フィルタにおいて、赤外線反射膜ｉｒｒ３による反射帯域を十分に長波長側に設定できなかった。このため、比較例２に係る光学フィルタにおいて、光の入射角度が大きくなるに従って、反射帯域が短波長側にシフトしてくる影響を避けられなかった。θ１＝０であり、かつ、θ２＝３０である場合におけるＩＥθ1/θ2、ＩＡＥθ1/θ2、及びＩＳＥθ1/θ2は表（II）に示す範囲に収まっていた。しかし、４０°の入射角度における比較例２に係る光学フィルタの透過率スペクトルにおいて、透過率の局所的な変動（リップル）が可視光領域に認められた。このため、θ１＝３０であり、かつ、θ２＝４０である場合におけるＩＥθ1/θ2、ＩＡＥθ1/θ2、及びＩＳＥθ1/θ2が大きな値になっていた。この光学フィルタを撮像装置に組み込んだ場合、得られた画像の狭い範囲で強い色むらが発生することが懸念された。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058

Claims (7)

  1. 　光学フィルタであって、
    　近赤外線領域の少なくとも一部の光を吸収する光吸収剤を含有している光吸収層を備え、
    　０°、３０°、及び４０°の入射角度で波長３００ｎｍ～１２００ｎｍの光を当該光学フィルタに入射させたときに、下記の条件を満たし、
    　（ｉ）波長７００ｎｍにおける分光透過率が３％以下である。
    　（ii）波長７１５ｎｍにおける分光透過率が１％以下である。
    　（iii）波長１１００ｎｍにおける分光透過率が７．５％以下である。
    　（iv）波長７００ｎｍ～８００ｎｍにおける平均透過率が１％以下である。
    　（ｖ）波長５００ｎｍ～６００ｎｍにおける平均透過率が８５％以上である。
    　（vi）波長４００ｎｍにおける分光透過率が４５％以下である。
    　（vii）波長４５０ｎｍにおける分光透過率が８０％以上である。
    　入射角度がθ°であるときの波長λにおける当該光学フィルタの分光透過率をＴθ（λ）と表し、
    　波長４００ｎｍ～７００ｎｍの変域において表（Ｉ）によって定義される波長λの関数をＲ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）と表し、
    　Ｔ0（λ）と、Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）との積である３つの関数において、
    最大値が１になるように正規化係数を定め、
    　Ｔθ（λ）と、Ｒ（λ）、Ｇ（λ）、及びＢ（λ）との積である関数に前記正規化係数を乗じて定まる関数をそれぞれＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）と表し、
    　ＣＲθ（λ）、ＣＧθ（λ）、及びＣＢθ（λ）の変数である波長λを０以上の整数であるｎの関数として、λ（ｎ）＝（Δλ×ｎ＋４００）ｎｍと表すとき（ただし、Δλ＝５）、
    　０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して下記の式（１）～（３）によって定義されるＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＥθ1/θ2 CR、ＩＥθ1/θ2 CG、及びＩＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが表（II）に示す条件を満たす、
    　光学フィルタ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
    Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
  2. 　０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して下記の式（４）～（６）によって定義されるＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＡＥθ1/θ2 CR、ＩＡＥθ1/θ2 CG、及びＩＡＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが表（III）に示す条件を満たす、請求項１に記載の光学フィルタ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
    Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
  3. 　０°、３０°、及び４０°から選ばれる２つの入射角度θ１°及びθ２°（θ１＜θ２）に対して下記の式（７）～（９）によって定義されるＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CB及び同一の２つの入射角度θ１°及びθ２°に対するＩＳＥθ1/θ2 CR、ＩＳＥθ1/θ2 CG、及びＩＳＥθ1/θ2 CBの最大値から最小値を差し引いた差であるレンジが表（IV）に示す条件を満たす、請求項１又は２に記載の光学フィルタ。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
    Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
  4. 　前記光吸収剤は、ホスホン酸と銅イオンとによって形成されている、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルタ。
  5. 　前記ホスホン酸は、アリール基を有する第一ホスホン酸を含む、請求項４に記載の光学フィルタ。
  6. 　前記ホスホン酸は、さらに、アルキル基を有する第二ホスホン酸を含む、請求項５に記載の光学フィルタ。
  7. 　レンズ系と、
    　前記レンズ系を通過した光を受光する撮像素子と、
    　前記撮像素子の前方に配置され、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、及びＢ（青）の３色のフィルタを有するカラーフィルタと、
    　前記カラーフィルタの前方に配置された請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルタと、を備えた、
    　撮像装置。
     
PCT/JP2018/034695 2017-10-03 2018-09-19 光学フィルタ及び撮像装置 WO2019069687A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020207010315A KR102540605B1 (ko) 2017-10-03 2018-09-19 광학 필터 및 촬상 장치
US16/753,283 US11428857B2 (en) 2017-10-03 2018-09-19 Optical filter and imaging apparatus
CN201880064475.3A CN111164469B (zh) 2017-10-03 2018-09-19 滤光器和摄像装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017193904A JP6273063B1 (ja) 2017-10-03 2017-10-03 光学フィルタ及び撮像装置
JP2017-193904 2017-10-03

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2019069687A1 true WO2019069687A1 (ja) 2019-04-11

Family

ID=61074759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/034695 WO2019069687A1 (ja) 2017-10-03 2018-09-19 光学フィルタ及び撮像装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11428857B2 (ja)
JP (1) JP6273063B1 (ja)
KR (1) KR102540605B1 (ja)
CN (1) CN111164469B (ja)
TW (1) TWI762722B (ja)
WO (1) WO2019069687A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113795559A (zh) * 2019-05-23 2021-12-14 日本板硝子株式会社 光吸收性组合物、光吸收膜以及滤光器

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6259155B1 (ja) * 2017-10-03 2018-01-10 日本板硝子株式会社 光学フィルタ及び撮像装置
JP6273064B1 (ja) 2017-10-03 2018-01-31 日本板硝子株式会社 光学フィルタ及び撮像装置
KR102475669B1 (ko) * 2020-09-22 2022-12-09 주식회사 창강화학 광학 필터
WO2024048511A1 (ja) * 2022-08-31 2024-03-07 Ａｇｃ株式会社 光学フィルタ

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012185468A (ja) * 2010-12-17 2012-09-27 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
WO2015111316A1 (ja) * 2014-01-24 2015-07-30 コニカミノルタ株式会社 撮像光学系，撮像光学装置及びデジタル機器
WO2016114362A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置
WO2017006571A1 (ja) * 2015-07-09 2017-01-12 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法
US20170146708A1 (en) * 2014-02-12 2017-05-25 Woo Joo LAH Optical filter and imaging device comprising same

Family Cites Families (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4043248A (en) 1976-06-10 1977-08-23 General Electric Company Liquid propellant gun (recoilless regenerative piston)
JPS6119920U (ja) 1984-07-10 1986-02-05 三菱電機株式会社 押釦スイツチ
JPH0784123A (ja) * 1993-09-13 1995-03-31 Kureha Chem Ind Co Ltd 光学フィルター
US6531230B1 (en) * 1998-01-13 2003-03-11 3M Innovative Properties Company Color shifting film
CN101606089A (zh) * 2007-02-19 2009-12-16 三洋化成工业株式会社 多层结构粒子
JP5936299B2 (ja) 2010-11-08 2016-06-22 Jsr株式会社 近赤外線カットフィルター、およびそれを備える固体撮像素子ならびに固体撮像装置
KR101903518B1 (ko) * 2011-02-24 2018-10-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 스침 입사 반사기, 리소그래피 장치, 스침 입사 반사기 제조 방법, 및 디바이스 제조 방법
JP6036689B2 (ja) * 2011-06-06 2016-11-30 旭硝子株式会社 光学フィルタ、固体撮像素子、撮像装置用レンズおよび撮像装置
KR101677966B1 (ko) * 2012-03-02 2016-11-21 후지필름 가부시키가이샤 착색 경화성 조성물 및 컬러필터
WO2014002864A1 (ja) * 2012-06-25 2014-01-03 Jsr株式会社 固体撮像素子用光学フィルターおよびその用途
CN104755969B (zh) 2012-08-23 2018-06-08 旭硝子株式会社 近红外线截止滤波器和固体摄像装置
JP6317875B2 (ja) * 2012-09-06 2018-04-25 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置および赤外線カットフィルタの製造方法
JP6241419B2 (ja) * 2012-11-30 2017-12-06 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
JP6248945B2 (ja) * 2012-12-06 2017-12-20 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタ
JP2014203044A (ja) 2013-04-09 2014-10-27 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタおよび撮像装置
WO2014168221A1 (ja) * 2013-04-11 2014-10-16 富士フイルム株式会社 近赤外線吸収性組成物、これを用いた近赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法
KR101527822B1 (ko) 2013-09-06 2015-06-10 주식회사 엘엠에스 광학 필터 및 이를 포함하는 촬상 장치
JP6086885B2 (ja) * 2013-09-30 2017-03-01 富士フイルム株式会社 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子、画像表示装置および化合物
JP6020746B2 (ja) * 2013-12-26 2016-11-02 旭硝子株式会社 光学フィルタ
JP2016124903A (ja) * 2014-12-26 2016-07-11 株式会社クレハ 近赤外線吸収剤微粒子分散液の製造方法、近赤外線吸収剤微粒子分散液およびその用途
WO2016114363A1 (ja) 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび撮像装置
KR20160088147A (ko) * 2015-01-15 2016-07-25 주식회사 엘엠에스 근적외선 흡수층이 형성된 고체 촬상 장치용 커버글라스
KR101780913B1 (ko) * 2015-02-18 2017-09-21 아사히 가라스 가부시키가이샤 광학 필터 및 촬상 장치
KR20180033114A (ko) * 2015-07-28 2018-04-02 제이에스알 가부시끼가이샤 광학 필터 및 광학 필터를 구비하는 환경 광 센서
JP6695887B2 (ja) * 2015-09-24 2020-05-20 日本板硝子株式会社 赤外線吸収層用組成物、赤外線カットフィルタ、及び撮像装置
CN105807353A (zh) * 2016-05-24 2016-07-27 苏州大学 可见光及红外波段的宽波段吸收滤光结构及其制备方法
JP6267823B1 (ja) * 2017-07-27 2018-01-24 日本板硝子株式会社 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012185468A (ja) * 2010-12-17 2012-09-27 Nippon Shokubai Co Ltd 光選択透過フィルター、樹脂シート及び固体撮像素子
WO2015111316A1 (ja) * 2014-01-24 2015-07-30 コニカミノルタ株式会社 撮像光学系，撮像光学装置及びデジタル機器
US20170146708A1 (en) * 2014-02-12 2017-05-25 Woo Joo LAH Optical filter and imaging device comprising same
WO2016114362A1 (ja) * 2015-01-14 2016-07-21 旭硝子株式会社 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置
WO2017006571A1 (ja) * 2015-07-09 2017-01-12 日本板硝子株式会社 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113795559A (zh) * 2019-05-23 2021-12-14 日本板硝子株式会社 光吸收性组合物、光吸收膜以及滤光器
CN113795559B (zh) * 2019-05-23 2022-08-30 日本板硝子株式会社 光吸收性组合物、光吸收膜以及滤光器

Also Published As

Publication number Publication date
CN111164469A (zh) 2020-05-15
JP6273063B1 (ja) 2018-01-31
CN111164469B (zh) 2022-01-11
TW201928414A (zh) 2019-07-16
KR20200064086A (ko) 2020-06-05
TWI762722B (zh) 2022-05-01
KR102540605B1 (ko) 2023-06-07
US20200333516A1 (en) 2020-10-22
JP2019066742A (ja) 2019-04-25
US11428857B2 (en) 2022-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6538294B1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
WO2018003756A1 (ja) 赤外線カットフィルタ及び撮像光学系
WO2019069689A1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
WO2019069687A1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
WO2019111965A1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
WO2019138976A1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
JP6966334B2 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
WO2019069688A1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
JP6259156B1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
JP6259157B1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
JP6273062B1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置
JP6516948B1 (ja) 光学フィルタ及び撮像装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18865288

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 20207010315

Country of ref document: KR

Kind code of ref document: A

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18865288

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1