WO2019049213A1 - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2019049213A1 WO2019049213A1 PCT/JP2017/031996 JP2017031996W WO2019049213A1 WO 2019049213 A1 WO2019049213 A1 WO 2019049213A1 JP 2017031996 W JP2017031996 W JP 2017031996W WO 2019049213 A1 WO2019049213 A1 WO 2019049213A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- lead terminal
- groove
- connector
- semiconductor device
- electronic element
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 58
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 93
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 62
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 235000011449 Rosa Nutrition 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49562—Geometry of the lead-frame for devices being provided for in H01L29/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
- H01L21/4821—Flat leads, e.g. lead frames with or without insulating supports
- H01L21/4842—Mechanical treatment, e.g. punching, cutting, deforming, cold welding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3142—Sealing arrangements between parts, e.g. adhesion promotors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49517—Additional leads
- H01L23/49524—Additional leads the additional leads being a tape carrier or flat leads
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49541—Geometry of the lead-frame
- H01L23/49548—Cross section geometry
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49575—Assemblies of semiconductor devices on lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L24/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L24/41—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of a plurality of strap connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
- H01L25/072—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
- H01L2224/0601—Structure
- H01L2224/0603—Bonding areas having different sizes, e.g. different heights or widths
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/37—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/37001—Core members of the connector
- H01L2224/3701—Shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/36—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process
- H01L2224/38—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors prior to the connecting process of a plurality of strap connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/4005—Shape
- H01L2224/4007—Shape of bonding interfaces, e.g. interlocking features
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/4005—Shape
- H01L2224/4009—Loop shape
- H01L2224/40095—Kinked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40105—Connecting bonding areas at different heights
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40153—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
- H01L2224/40175—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being arranged next to each other, e.g. on a common substrate the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/40227—Connecting the strap to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/401—Disposition
- H01L2224/40151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/40221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/40245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/404—Connecting portions
- H01L2224/40475—Connecting portions connected to auxiliary connecting means on the bonding areas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/40—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of an individual strap connector
- H01L2224/404—Connecting portions
- H01L2224/40475—Connecting portions connected to auxiliary connecting means on the bonding areas
- H01L2224/40499—Material of the auxiliary connecting means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/41—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of a plurality of strap connectors
- H01L2224/4101—Structure
- H01L2224/4103—Connectors having different sizes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/34—Strap connectors, e.g. copper straps for grounding power devices; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/39—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process
- H01L2224/41—Structure, shape, material or disposition of the strap connectors after the connecting process of a plurality of strap connectors
- H01L2224/4105—Shape
- H01L2224/41051—Connectors having different shapes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/842—Applying energy for connecting
- H01L2224/84201—Compression bonding
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/8434—Bonding interfaces of the connector
- H01L2224/84345—Shape, e.g. interlocking features
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/8438—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/84385—Shape, e.g. interlocking features
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/8438—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/84399—Material
- H01L2224/844—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/84—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a strap connector
- H01L2224/848—Bonding techniques
- H01L2224/84801—Soldering or alloying
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/28—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
- H01L2924/183—Connection portion, e.g. seal
- H01L2924/18301—Connection portion, e.g. seal being an anchoring portion, i.e. mechanical interlocking between the encapsulation resin and another package part
Definitions
- the present invention relates to a semiconductor device.
- an inverter device which converts direct current power input from a direct current power source into alternating current power and outputs it.
- the inverter device is used, for example, to convert a DC voltage into a three-phase AC voltage and drive a three-phase motor.
- input / output electrodes (source electrodes) and lead terminals (lead frames) of high-side and low-side electronic elements (MOSFETs) are connected by connectors (source clips) (for example, Patent Document 1).
- the conductive bonding material does not stop flowing toward the electronic element at the time of bonding, and when the conductive bonding material is not melted and solidified at a predetermined position, the conductive bonding is not performed.
- the material may come in contact with the electronic device.
- the semiconductor device needs to be appropriately sealed.
- the present invention it is possible to suppress the conductive bonding material for bonding the connector and the lead terminal from coming into contact with the electronic element and to mold lock appropriately at the time of sealing to improve the reliability. It aims at providing an apparatus.
- a semiconductor device is: A sealing portion M, A first electronic element provided in the sealing portion; A second electronic element provided in the sealing portion; A first lead terminal in which the first electronic element SW1 is mounted on the upper surface of one end in the sealing portion and the other end is exposed from the sealing portion; A second lead terminal in which the second electronic element SW2 is mounted on the upper surface of one end in the sealing portion and the other end is exposed from the sealing portion; A connector whose one end is electrically connected to the input / output electrode of the first electronic element and whose other end is electrically connected to the one end of the second lead terminal; And a conductive bonding material having a conductivity and bonding between the other end of the connector and the upper surface of the one end of the second lead terminal. At the upper surface of the one end of the second lead terminal, the conductive bonding material blocks the flow toward the second electronic element when the connector and the second lead terminal are bonded, and A groove for mold locking at the time of sealing the sealing portion is formed.
- the groove is A first groove portion in which the sealing material of the sealing portion is embedded; And a second groove formed adjacent to the first groove and for blocking the conductive bonding material.
- the second groove may be formed closer to the other end of the connector than the first groove.
- the second groove may be formed on both sides of the first groove.
- the depth of the second groove may be shallower than the depth of the first groove.
- the inner wall of the first groove may be inclined such that the width of the first groove extends from the opening to the bottom of the first groove.
- the bottom of the second groove is formed to be shallow as it approaches the opening of the first groove.
- the groove is formed on the upper surface of the one end of the second lead terminal so as to be located in a region between the one end of the connector and the second electronic element.
- the groove may be linearly extended or bent and extended on the upper surface of the one end of the second lead terminal.
- the opening of the second groove is formed to extend adjacent to the opening of the first groove.
- the groove is at least a portion of a region around the other end of the connector or at least a portion of a region around the second electronic element in the upper surface of the one end of the second lead terminal. It is characterized by extending as it encloses.
- a plurality of the grooves are formed on the upper surface of the one end of the second lead terminal.
- the conductive bonding material is a solder material.
- the first and second electronic devices are MOSFETs, and the input / output electrode of the first electronic device is a source electrode of the MOSFET.
- the height of the surface of the one end of the first lead terminal is the same as the height of the surface of the one end of the second lead terminal.
- a sealing portion In a semiconductor device according to one aspect of the present invention, a sealing portion, first and second electronic elements provided in the sealing portion, and a first electronic element mounted on the upper surface of one end in the sealing portion; A first lead terminal whose end is exposed from the sealing portion, and a second lead terminal whose second electronic element is mounted on the upper surface of one end in the sealing portion and whose other end is exposed from the sealing portion And a connector (source clip) whose one end is electrically connected to the input / output electrode (source electrode) of the first electronic element and whose other end is electrically connected to one end of the second lead terminal, and a connector And a conductive bonding material having conductivity between the other end of the second lead terminal and the upper surface of one end of the second lead terminal.
- the conductive bonding material blocks the flow toward the second electronic element when bonding the connector and the second lead terminal, and the sealing portion is sealed.
- grooves are formed for mold locking.
- the groove formed on the upper surface of one end of the second lead terminal blocks the flow of the conductive bonding material toward the second electronic element when the connector and the second lead terminal are bonded,
- the conductive bonding material is prevented from contacting the second electronic element, and the sealing portion is mold-locked.
- the conductive bonding material for bonding the connector and the lead terminal is prevented from coming into contact with the electronic element and the mold is properly locked at the time of sealing to improve the reliability. can do.
- FIG. 1 is a perspective view showing an example of the appearance of the configuration of the semiconductor device 100 according to the first embodiment.
- FIG. 2 is a top view showing an example of the configuration of the semiconductor device 100 shown in FIG.
- FIG. 3 is a top view showing an example of the configuration focusing on the vicinity of the electronic element loaded on the lead frame before sealing.
- FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a circuit configuration of the semiconductor device 100 shown in FIG.
- FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a cross section taken along the longitudinal direction fx of the configuration of the groove YA formed in the second lead terminal TV of the semiconductor device 100 shown in FIG.
- FIG. 6 is a view showing an example of the configuration in the vicinity of the groove YA shown in FIG.
- FIG. 7 is a view showing an example of a configuration in the vicinity of the groove YA shown in FIG. 5 after bonding by the conductive bonding material and before resin sealing.
- FIG. 8 is a view showing an example of the configuration in the vicinity of the groove YA shown in FIG. 5 after resin sealing.
- FIG. 9 is a cross-sectional view along the longitudinal direction fx showing an example of a method of manufacturing the groove YA shown in FIG. 10 is a cross-sectional view along the longitudinal direction fx showing an example of a method of manufacturing the groove YA shown in FIG. 5 following FIG.
- FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of the configuration in the vicinity of the gate clip connected between the electronic device and the lead terminal shown in FIG.
- FIG. 1 is a perspective view showing an example of the appearance of the configuration of the semiconductor device 100 according to the first embodiment.
- FIG. 2 is a top view showing an example of the configuration of the semiconductor device 100 shown in FIG.
- FIG. 3 is a top view showing an example of the configuration focusing on the vicinity of the electronic element loaded on the lead frame before sealing.
- FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a circuit configuration of the semiconductor device 100 shown in FIG.
- the sealing part R is described so that it may see through.
- the semiconductor device 100 is an inverter device that converts DC power input from a DC power supply into AC power and outputs the AC power.
- the semiconductor device 100 includes a sealing portion R, first high-side electronic devices MU1, MV1, MW1, low-side second electronic devices MU2, MV2, MW2, and a power supply.
- the power supply lead terminals MSU, MSV, MSW, and the ground lead terminals in which a large current of the power supply flows on one end side along the longitudinal direction fx of the sealing portion R MEU, MEV, MEW are deployed.
- the power supply lead terminals MSU, MSV, MSW have one end (inner lead portion) sealed by the sealing portion R and the other end (outer lead portion) connected to power supply wiring (not shown) for supplying power. It is done.
- the ground lead terminals MEU, MEV, MEW have one end (inner lead portion) sealed by the sealing portion R and the other end (outer lead portion) connected to a grounded wiring (not shown) grounded. ing.
- the high side gate lead terminals GU1, GV1, and GW1 and the low side gate lead terminals GU2, GV2, and GW2 are disposed.
- the high-side first electronic elements MU ⁇ b> 1, MV ⁇ b> 1 and MW ⁇ b> 1 are provided in the sealing portion R.
- the first electronic elements MU1, MV1, MW1 are, for example, MOSFETs as shown in FIG.
- the first electrode (control electrode (gate electrode)) GT1 and the second electrode (source electrode) ST1 are disposed on the top surface of the first electronic element MV1 (FIG. 2).
- the surface area of the first electrode (gate electrode) GT1 is smaller than that of the second electrode (source electrode) ST1.
- the width of the first connector GC1 is narrower than the width of the second connector SC1.
- the low-side second electronic elements MU2, MV2, and MW2 are provided in the sealing portion R.
- the second electronic elements MU2, MV2, MW2 are, for example, MOSFETs as shown in FIG.
- the third electrode (control electrode (gate electrode)) GT2 and the fourth electrode (source electrode) ST2 are disposed on the top surface (FIG. 2). Further, the surface area of the third electrode (gate electrode) GT2 is smaller than that of the fourth electrode (source electrode) ST2.
- the width of the third connector GC2 is narrower than the width of the fourth connector SC2.
- the input / output lead terminal TU has one end (inner lead portion) sealed by the sealing portion R and is connected to the fourth connector (source clip) SC2, and the other end (outer lead portion) is the same. It is connected to the U-phase coil of the motor (Fig. 2).
- the input / output lead terminal TV has one end (inner lead portion) sealed by the sealing portion R and is connected to the fourth connector (source clip) SC2, and the other end (outer lead portion) is the same. It is connected to the V-phase coil of the motor (Fig. 2).
- the input / output lead terminal TW is sealed at one end (inner lead portion) by the sealing portion R and connected to the fourth connector (source clip) SC2, and the other end (outer lead portion) It is connected to the W-phase coil of the motor (Fig. 2).
- high-side gate lead terminals (third lead terminals) GU1, GV1, GW1 to which a control signal (gate voltage) is applied, and low-side gate lead terminals (fourth lead terminals)
- the width in the longitudinal direction fx of GU2, GV2, GW2 is the output lead terminals TU, TV, TW, power supply lead terminals MSU, MSV, MSW, and the ground lead terminals MEU, MEV through which the drive current of the motor flows.
- the width is smaller than the width in the longitudinal direction fx of MEW.
- the semiconductor device 100 has a configuration of a three-phase bridge circuit that drives a motor.
- the U-phase high-side first electronic element (MOSFET) MU1 has one end (drain electrode) connected to the power supply lead terminal MSU and the other end (source electrode) is a second
- the control terminal (gate electrode) is connected to the input / output lead terminal TU via the connector (source clip) SC1, and the control terminal (gate electrode) is connected to the gate lead terminal GU1 via the first connector (gate clip) GC1.
- the U-phase low-side second electronic element (MOSFET) MU2 has one end (drain electrode) connected to the input / output lead terminal TU and the other end (source electrode) is a fourth connector (source clip) SC2
- the control terminal (gate electrode) is connected to the lead terminal GU2 via the third connector (gate clip) GC2.
- the V-phase high-side first electronic element (MOSFET) MV1 has one end (drain electrode) connected to the power supply lead terminal MSV and the other end (source electrode) is the second It is connected to the input / output lead terminal TV via the connector (source clip) SC1, and the control terminal (gate electrode) is connected to the gate lead terminal GV1 via the first connector (gate clip) GC1. There is.
- the V-phase low-side second electronic element (MOSFET) MV2 has one end (drain electrode) connected to the input / output lead terminal TV, and the other end (source electrode) is a second connector (source clip) SC2 Are connected to the input / output lead terminal TU, and the control terminal (gate electrode) is connected to the gate lead terminal GV2 via the fourth connector (gate clip) GC2.
- one end (drain electrode) of the W-phase high-side first electronic element (MOSFET) MW1 is connected to the power supply lead terminal MSW, and the other end (source electrode) is the second.
- the control terminal (gate electrode) is connected to the input / output lead terminal TW through the connector (source clip) SC1, and the control terminal (gate electrode) is connected to the gate lead terminal GW1 through the first connector (gate clip) GC1.
- the W-phase low-side second electronic device (MOSFET) MW2 has one end (drain electrode) connected to the input / output lead terminal TW, and the other end (source electrode) is a fourth connector (source clip) SC2 Are connected to the input / output lead terminal TW, and the control terminal (gate electrode) is connected to the gate lead terminal GW2 via the first connector (gate clip) GC2.
- V phase of the semiconductor device 100 will be described in detail as an example.
- U-phase and W-phase of the semiconductor device 100 is similarly described.
- the sealing unit R connects the first and second electronic elements MV1 and MV2 to any one of the connectors GC1, SC1, GC2 and SC2 to form lead terminals FSV, TV and FEV. , GV1 and GV2 and then seal part of the lead terminals FSV, TV, FEV, GV1 and GV2 and the first and second electronic elements MV1 and MV2 There is.
- the sealing portion R is made of, for example, an epoxy resin or the like.
- the power supply lead terminal (first lead terminal) FSV has the first electronic element MV1 mounted on the upper surface of one end (inner lead portion) in the sealing portion R, and the other end The (outer lead portion) is exposed from one end side along the longitudinal direction fx of the sealing portion R.
- the second electronic element MV2 is mounted on the upper surface of one end (inner lead portion) in the sealing portion R, and the other end (outer lead portion) is It is exposed from the other end side along the longitudinal direction fx of the sealing portion R.
- one end (inner lead portion) of the ground lead terminal (fifth lead terminal) FEV is disposed in the sealing portion R, and the other end (outer lead portion) is along the longitudinal direction fx of the sealing portion R It is exposed from one end side.
- one end (inner lead portion) of the high side gate lead terminal (third lead terminal) GV1 is close to one end of the first lead terminal FSV in the sealing portion R.
- the other end (outer lead portion) is exposed from the other end side along the longitudinal direction fx from the sealing portion R.
- the low-side gate lead terminal (fourth lead terminal) GV2 is disposed with one end (inner lead portion) close to one end (inner lead portion) of the second lead terminal TV in the sealing portion R.
- the other end (outer lead portion) is exposed from the other end side along the longitudinal direction fx of the sealing portion R.
- the width fx is narrower than the width in the longitudinal direction fx of the output lead terminal TV, the power supply lead terminal MSV, and the grounding lead terminal MEV through which the drive current of the motor flows.
- the first electronic element (MOSFET) MV1 is provided in the sealing portion R (FIG. 2).
- a first electrode (gate electrode) GT1 as a control electrode and a second electrode (source electrode) ST1 are disposed (FIG. 2).
- the surface area of the first electrode (gate electrode) GT1 is smaller than that of the second electrode (source electrode) ST1.
- an electrode (a drain electrode) (not shown) disposed on the lower surface of the first electronic element MV1 is electrically connected to the upper surface of one end of the first lead terminal FSV.
- the second connector (source clip) SC1 has one end electrically connected to a second electrode (source electrode) ST1 which is an input / output electrode of the first electronic element MV1.
- the other end is electrically connected to one end of the second lead terminal TV via the conductive bonding material Zb (FIG. 5).
- the fourth connector (source clip) SC2 has one end electrically connected to the second electrode (source electrode) ST2 which is an input / output electrode of the second electronic element MV2, The other end is electrically connected to one end of the fifth lead terminal FEV via a conductive bonding material (not shown).
- the upper surface of one end of the first, second, and fifth lead terminals FSV, TV, and FEV blocks the flow of the conductive bonding material at the time of bonding, and holds the mold at the time of sealing the sealing portion R.
- the grooves TA, YB and YC are formed respectively.
- the height of the surface of one end of the first lead terminal FSV is the same as the height of the surface of one end of the second and fifth lead terminals TV and FEV.
- groove YA will be described in detail as an example.
- the grooves YB and YC are similarly described.
- FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of a cross section taken along the longitudinal direction fx of the configuration of the groove YA formed in the second lead terminal TV of the semiconductor device 100 shown in FIG.
- FIG. 6 is a figure which shows an example of a structure of the groove
- FIG. 7 is a view showing an example of the configuration in the vicinity of the groove YA shown in FIG. 5 after bonding by the conductive bonding material and before resin sealing.
- FIG. 8 is a figure which shows an example of a structure of the groove
- 9 and 10 are cross-sectional views along the longitudinal direction fx showing an example of a method of manufacturing the groove YA shown in FIG.
- the conductive bonding material Zb is a second electron when the second connector SC1 and the second lead terminal are joined.
- a groove YA for blocking flow toward the element MV2 and for mold-locking at the time of sealing the sealing portion R is formed.
- this groove YA is one end of the second lead terminal TV so as to be located in the region between one end of the second connector SC1 and the second electronic element MV2. It is formed on the top of the
- the groove YA linearly extends along the short direction f on the upper surface of one end of the second lead terminal TV, but may be bent and extended .
- the TA groove is at least a part of a region around the other end of the second connector SC1 or at least one of the regions around the second electronic element MV2 on the upper surface of one end of the second lead terminal TV. It may be formed to extend so as to surround the part.
- one groove YA is formed on the upper surface of one end of the second lead terminal TV in the example of FIG. 2, a plurality of grooves YA are formed on the upper surface of one end of the second lead terminal TV. It may be
- the groove YA includes, for example, a first groove T1 and two second grooves T2a and T2b, as shown in FIGS.
- the first groove Ta is formed on the upper surface of the input / output lead terminal (second lead terminal) TV so as to extend in the short direction f, and the sealing material (sealing resin) of the sealing portion R Is embedded (Fig. 2, Fig. 5).
- the inner wall of the first groove T1 is inclined such that the width of the first groove Ta is expanded from the opening T1K of the first groove T1 to the bottom T1B (FIG. 5).
- the sealing portion R can be reliably mold-locked by the first groove portion T1.
- the two second grooves T2a and T2b are formed extending on both sides of the first groove Ta in the short direction f on the upper surface of the input / output lead terminal (second lead terminal) TV. ing.
- the second groove Tb1 is formed to extend in the short direction f adjacent to one end side of the first groove Ta.
- the second groove portion Tb1 blocks the conductive bonding material Za for bonding the drain electrode of the second electronic element MV2 to the input / output lead terminal (second lead terminal) TV at the time of bonding. ( Figures 7 and 8).
- the conductive bonding material Za bonds between the drain electrode of the second electronic element MV2 and the upper surface of one end of the second lead terminal TV and has conductivity.
- the conductive bonding material Za is, for example, a solder material.
- the second groove T2a is formed closer to the drain electrode of the second electronic element MV2 than the first groove T1.
- the second groove T2b can hold the conductive bonding material Za more reliably.
- the depth of the second groove T2a is smaller than the depth of the first groove Ta.
- the bottom T2aB of the second groove T2a is formed to be shallow as it approaches the opening T1K of the first groove T1.
- the opening T2aK of the second groove T2a is formed to extend adjacent to the opening T1K of the first groove T1.
- the second groove Tb2 is formed to extend in the short direction f adjacent to the other end side of the first groove Ta.
- the second groove portion Tb2 blocks the conductive bonding material Zb for bonding the other end of the second connector SC1 to the input / output lead terminal (second lead terminal) TV at the time of bonding. ( Figures 7 and 8).
- the conductive bonding material Zb bonds between the other end of the second connector SC1 and the upper surface of one end of the second lead terminal TV and has conductivity.
- the conductive bonding material Zb is, for example, a solder material.
- the second groove T2b is formed at a position closer to the other end of the second connector SC1 than the first groove T1.
- the second groove T2b can hold the conductive bonding material Zb more reliably.
- the depth of the second groove T2b is smaller than the depth of the first groove T1.
- the bottom T2bB of the second groove T2b is formed to be shallower as it approaches the opening T1K of the first groove T1.
- the opening T2bK of the second groove T2b is formed to extend adjacent to the opening T1K of the first groove T1.
- the groove YA having the configuration as described above presses the first processed member 10 against the surface of one end of the second lead terminal TV, and the reference groove T10 is formed. Then, as shown in FIG. 10, by pressing the second processed members 20a and 20b having sharpened tips at the opposite ends of the reference groove 10, the first groove T1 of the groove YA and the second groove T1 are formed. The groove portions T2a and T2b are formed.
- the grooves YB and YC are respectively formed on the upper surface of the first lead terminal FSV and the upper surface of the fifth lead terminal FEV (FIG. 2), and these grooves YB and YC are also formed. , Has the same configuration as the groove YA described above.
- FIG. 11 is a cross-sectional view showing an example of the configuration in the vicinity of the gate clip connected between the electronic device and the lead terminal shown in FIG.
- the height of the upper surface of one end of the third lead terminal GV1 is higher than the height of the upper surface of the first electrode (gate electrode) GT1 of the first electronic element MV1. .
- the thickness of the first lead terminal FSV is the same as the thickness of the third lead terminal GV1 (FIG. 11).
- the first connector (gate clip) GC1 is provided in the sealing portion R.
- the first connector GC1 has one end d electrically connected to the electrode (gate electrode) GT1 of the first electronic element MV1 by the conductive bonding material Z1.
- the protrusion e provided on the lower surface side of the one end d of the first connector GC1 and the electrode (gate electrode) GT1 of the first electronic element MV1 are electrically connected by the conductive bonding material Z1. It is connected.
- the projection e is formed by pressing from the upper surface side of the one end d of the first connector GC1. Then, at one end d of the first connector GC1, a recess c is formed by the pressing on the opposite side of the protrusion e.
- the conductive bonding material Z1 bonds between the other end of the first connector CG1 and one end of the third lead terminal GV1 and has conductivity.
- the conductive bonding material Z1 is, for example, a solder material.
- the other end a of the first connector (gate clip) GC1 is electrically connected to one end of the third lead terminal GV1 by the conductive bonding material Z2.
- the conductive bonding material Z2 bonds between the other end of the first connector CG1 and one end of the third lead terminal GV1 and has conductivity.
- the conductive bonding material Z2 is, for example, a solder material.
- the second connector (source clip) SC1 is provided in the sealing portion.
- the second connector SC1 has one end electrically connected to the second electrode disposed on the upper surface of the first electronic element, and the other end electrically connected to one end of the second lead terminal. It extends in the present direction (short direction f).
- the surface area of the first electrode (gate electrode) GT1 is smaller than that of the second electrode (source electrode) ST1.
- the width of the first connector GC1 is narrower than the width of the second connector SC1 (FIG. 2).
- the drive current of the motor flows through the second connector SC1 which is the source clip, and the control signal (gate voltage) is applied to the first connector GC1 which is the gate clip.
- the width (size) of the wiring path of the first connector GC1 is narrower (smaller) than the width (size) of the wiring path of the second connector SC1 and the second electrode (Source electrode)
- the surface area of the first electrode (gate electrode) GT1 is smaller than the surface area of the ST1.
- a wall portion GV1X protruding from the upper surface of one end of the third lead terminal GV1 is provided on the upper surface of one end of the third lead terminal GV1 (FIG. 11).
- the wall portion GV1X holds the melted conductive bonding material Z2 at the time of bonding between the other end of the first connector GC1 and one end of the third lead terminal GV1.
- the wall portion GV1X of the third lead terminal GV1 is in contact with the other end a of the first connector GC1.
- the other end a of the first connector GC1 is inclined downward and is in contact with the wall GV1X.
- the conductive bonding material Z2 is attracted to the wall portion GV1X by surface tension, and the other end a of the first connector GC1 inclined is fixed at a predetermined position.
- the wall GV1X is perpendicular (longitudinal direction) to the extending direction (short direction f) in which one end of the third lead terminal GV1 extends. It is provided on the upper surface of one end of the third lead terminal GV1 so as to extend).
- a plurality of wall portions GV1X may be provided on the upper surface of one end of the third lead terminal GV1.
- the length of extension of the wall portion GV1X is the same as the width of one end of the third lead terminal GV1.
- the conductive bonding material Z2 is prevented from detouring around the wall GV1X and flowing to the opposite side of the third lead terminal GV1.
- the conductive bonding material Z2 is formed to contact the wall portion GV1X by surface tension when bonding one end (inner lead portion) of the third lead terminal GV1 to the other end of the first connector GC1. ing.
- the wall portion GV1X of the third lead terminal GV1 becomes the connection positioning, so the first connector GC1 is at the predetermined position.
- the wall portion GV1X mold-locks the third lead terminal GV1. Therefore, the solder connection between the first connector (gate clip) GC1 and the first electrode (gate electrode) GT1 is ensured at a predetermined position, and one end d of the first connector (gate clip) GC1 is the other It can be suppressed that it is electrically connected to the wiring portion of
- the height (the position of the upper surface) of the wall portion GV1X at the upper surface of one end of the third lead terminal GV1 is the height of the conductive bonding material Z2 at the upper surface of one end of the third lead terminal GV1. It is higher than the height (upper surface position).
- the conductive bonding material Z2 is a wall portion on the upper surface of one end of the third lead terminal GV1. It is designed not to overcome GV1X.
- the second electronic element (MOSFET) MV2 is provided in the sealing portion R.
- the third electrode (gate electrode) GT2 as a control electrode and the fourth electrode (source electrode) ST2 are disposed on the upper surface (see FIG. 2).
- the surface area of the third electrode (gate electrode) GT2 is smaller than that of the fourth electrode (source electrode) ST2.
- An electrode (a drain electrode) (not shown) disposed on the lower surface of the second electronic element MV2 is electrically connected to the upper surface of one end of the second lead terminal TV.
- the width of the third connector GC2 is narrower than the width of the fourth connector SC2 (FIG. 2).
- the drive current of the motor flows through the fourth connector SC2 which is a source clip, and the control signal (gate voltage) is applied to the third connector GC2 which is a gate clip.
- the width (size) of the wiring path is narrower (smaller) in the third connector GC2 than in the fourth connector SC2, and the surface area of the fourth electrode (source electrode) ST2 is smaller than that of the fourth connector SC2.
- the surface area of the third electrode (gate electrode) GT2 is reduced.
- the third connector GC2 is, as shown in FIG. 2, provided in the sealing portion R, one end thereof is electrically connected to the third electrode GT2 of the second electronic element MV2, and the other end is the third It is electrically connected to one end of the four lead terminals GV2.
- the fourth connector SC2 is provided in the sealing portion R.
- One end of the fourth connector SC2 is electrically connected to the fourth electrode (source electrode) CT2 disposed on the upper surface of the second electronic element MV2, and the other end is connected to one end of the fifth lead terminal FEV. It is electrically connected and extends in the extending direction (short direction f).
- a wall portion GV2X protruding from the upper surface of one end of the fourth lead terminal GV2 is provided on the upper surface of one end of the fourth lead terminal GV2 (FIG. 2).
- the wall portion GV2X blocks the melted conductive bonding material (not shown) at the time of bonding between the other end of the third connector GC2 and one end of the fourth lead terminal GV2. .
- the wall GV2X is perpendicular to the extending direction (longitudinal direction fx) in which one end of the fourth lead terminal GV2 extends, as shown in FIG. It is provided on the upper surface of one end of the fourth lead terminal GV2 so as to extend.
- a plurality of wall portions GV2X may be provided on the upper surface of one end of the fourth lead terminal GV2.
- the length of extension of the wall portion GV2X is the same as the width of one end of the fourth lead terminal GV2.
- the other configurations regarding the third and fourth connectors GC2 and SC2 are, for example, the same as the first and second connectors GC1 and SC1.
- the configuration of the V phase of the semiconductor device 100 has been described as an example with reference to FIGS. 2 and 5 to 11.
- the U phase and the W phase of the semiconductor device 100 are described. The same applies to the structure of
- the sealing portion, the first and second electronic elements provided in the sealing portion, and the first electronic element in the sealing portion on the upper surface of one end The first lead terminal is placed and the other end is exposed from the sealing portion, and the second electronic element is placed on the upper surface of the one end in the sealing portion, and the other end is exposed from the sealing portion
- a connector a source clip electrically connected to the second lead terminal and one end to the input / output electrode (source electrode) of the first electronic element, and the other end to the one end of the second lead terminal
- a conductive bonding material for bonding between the other end of the connector and the upper surface of one end of the second lead terminal and having conductivity.
- the conductive bonding material blocks the flow toward the second electronic element when bonding the connector and the second lead terminal, and the sealing portion is sealed.
- grooves are formed for mold locking.
- the groove formed on the upper surface of one end of the second lead terminal blocks the flow of the conductive bonding material toward the second electronic element when the connector and the second lead terminal are bonded,
- the conductive bonding material is prevented from contacting the second electronic element, and the sealing portion is mold-locked.
- the conductive bonding material for bonding the connector and the lead terminal is prevented from coming into contact with the electronic element and the mold is properly locked at the time of sealing to improve the reliability. can do.
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Inverter Devices (AREA)
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
半導体装置は、封止部と、封止部内に設けられ、上面に第1の電極が配置された第1電子素子と、一端の上面に封止部内で第1電子素子が載置され、他端が封止部の長手方向に沿った一端側から露出している第1のリード端子と、一端が封止部内で第1のリード端子の一端に近接して配置され、他端が封止部の長手方向に沿った他端側から露出している第2のリード端子と、封止部内に設けられ、一端が第1電子素子の第1の電極に電気的に接続され、他端が第2のリード端子の一端に電気的に接続された第1の接続子と、第1の接続子の他端と第2のリード端子の一端との間を接合し且つ導電性を有する導電性接合材と、を備える。
Description
本発明は、半導体装置に関する発明である。
従来、電子モジュール等の半導体装置の一つとして、直流電源から入力した直流電力を交流電力に変換して出力するインバータ装置が知られている。
インバータ装置は、例えば、直流電圧を3相の交流電圧に変換し、3相モータを駆動するために用いられる。例えば、従来の半導体装置では、ハイサイドとローサイドの電子素子(MOSFET)の入出力電極(ソース電極)とリード端子(リードフレーム)とを、接続子(ソースクリップ)で接続している(例えば、特許文献1参照)。
一端が電子素子の入出力電極(ソース電極)に接続された接続子の他端は、リード端子の一端(アイランド部)に形成された凹部に挿入された形で導電性接合材(はんだ材)により接続される。
この従来の半導体装置においては、接合時に導電性接合材が電子素子に向けて流れるのを堰き止めるものではなく、当該導電性接合材が所定の位置で溶融して固まらないと、当該導電性接合材が電子素子に接触する場合がある。
この従来の半導体装置においては、接合時に導電性接合材が電子素子に向けて流れるのを堰き止めるものではなく、当該導電性接合材が所定の位置で溶融して固まらないと、当該導電性接合材が電子素子に接触する場合がある。
このようにして、当該導電性接合材が電子素子に接触すると、電気的な接続不良が発生して、電子素子の信頼性が低下することとなる。
また、半導体装置の信頼性を向上するためには、適切に半導体装置が封止されている必要がある。
そこで、本発明は、接続子とリード端子とを接合する導電性接合材が電子素子に接触するのを抑制するとともに封止時に適切にモールドロックして、信頼性を向上することが可能な半導体装置を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係る実施形態に従った半導体装置は、
封止部Mと、
前記封止部内に設けられた第1電子素子と、
前記封止部内に設けられた第2電子素子と、
一端の上面に前記封止部内で前記第1電子素子SW1が載置され、他端が前記封止部から露出している第1のリード端子と、
一端の上面に前記封止部内で前記第2電子素子SW2が載置され、他端が前記封止部から露出している第2のリード端子と、
一端が前記第1電子素子の入出力電極に電気的に接続され、他端が前記第2のリード端子の前記一端に電気的に接続された接続子と、
前記接続子の他端と前記第2のリード端子の前記一端の前記上面との間を接合し且つ導電性を有する導電性接合材と、を備え、
前記第2のリード端子の前記一端の前記上面には、前記接続子と前記第2のリード端子との接合時に前記導電性接合材が前記第2電子素子に向けて流れるのを堰き止めるとともに前記封止部の封止時にモールドロックするための溝が形成されている
ことを特徴とする。
封止部Mと、
前記封止部内に設けられた第1電子素子と、
前記封止部内に設けられた第2電子素子と、
一端の上面に前記封止部内で前記第1電子素子SW1が載置され、他端が前記封止部から露出している第1のリード端子と、
一端の上面に前記封止部内で前記第2電子素子SW2が載置され、他端が前記封止部から露出している第2のリード端子と、
一端が前記第1電子素子の入出力電極に電気的に接続され、他端が前記第2のリード端子の前記一端に電気的に接続された接続子と、
前記接続子の他端と前記第2のリード端子の前記一端の前記上面との間を接合し且つ導電性を有する導電性接合材と、を備え、
前記第2のリード端子の前記一端の前記上面には、前記接続子と前記第2のリード端子との接合時に前記導電性接合材が前記第2電子素子に向けて流れるのを堰き止めるとともに前記封止部の封止時にモールドロックするための溝が形成されている
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記溝は、
前記封止部の封止材が埋め込まれる第1の溝部と、
前記第1の溝部に隣接して形成され且つ前記導電性接合材を堰き止めるための第2の溝部と、を含む
ことを特徴とする。
前記溝は、
前記封止部の封止材が埋め込まれる第1の溝部と、
前記第1の溝部に隣接して形成され且つ前記導電性接合材を堰き止めるための第2の溝部と、を含む
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記第2の溝部は、前記第1の溝部よりも、前記接続子の前記他端に近い位置に形成されている
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記第2の溝部は、前記第1の溝部の両側に形成されていることを特徴とする。
前記第2の溝部は、前記第1の溝部よりも、前記接続子の前記他端に近い位置に形成されている
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記第2の溝部は、前記第1の溝部の両側に形成されていることを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記第2の溝部の深さは、前記第1の溝部の深さよりも浅いことを特徴とする。
前記第2の溝部の深さは、前記第1の溝部の深さよりも浅いことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記第1の溝部の内壁は、前記第1の溝部の開口部から底部に向けて前記第1の溝部の幅が広がるように、傾斜している
ことを特徴とする。
前記第1の溝部の内壁は、前記第1の溝部の開口部から底部に向けて前記第1の溝部の幅が広がるように、傾斜している
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記第2の溝部の底部は、前記第1の溝部の前記開口部に近づくにつれて浅くなるように形成されている
ことを特徴とする。
前記第2の溝部の底部は、前記第1の溝部の前記開口部に近づくにつれて浅くなるように形成されている
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記溝は、前記接続子の前記一端と前記第2電子素子との間の領域に位置するように、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に形成されている
ことを特徴とする。
前記溝は、前記接続子の前記一端と前記第2電子素子との間の領域に位置するように、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に形成されている
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記溝は、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に直線状に延在し、又は、曲がって延在している
ことを特徴とする。
前記溝は、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に直線状に延在し、又は、曲がって延在している
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記第2の溝部の開口部は、前記第1の溝部の開口部に隣接して延在するように形成されている
ことを特徴とする。
前記第2の溝部の開口部は、前記第1の溝部の開口部に隣接して延在するように形成されている
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記溝は、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面において、前記接続子の前記他端の周囲の領域の少なくとも一部、又は、前記第2電子素子の周囲の領域の少なくとも一部を囲うように、延在している
ことを特徴とする。
前記溝は、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面において、前記接続子の前記他端の周囲の領域の少なくとも一部、又は、前記第2電子素子の周囲の領域の少なくとも一部を囲うように、延在している
ことを特徴とする。
前記半導体装置において、
複数の前記溝が、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に形成されていることを特徴とする。
複数の前記溝が、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に形成されていることを特徴とする。
前記半導体装置において、
前記導電性接合材は、はんだ材である。
前記導電性接合材は、はんだ材である。
前記半導体装置において、
前記第1及び第2電子素子は、MOSFETであり、前記第1電子素子の入出力電極は、MOSFETのソース電極である。
前記第1及び第2電子素子は、MOSFETであり、前記第1電子素子の入出力電極は、MOSFETのソース電極である。
前記半導体装置において、
前記第1のリード端子の前記一端の表面の高さは、前記第2のリード端子の前記一端の前記表面の高さと同じである
ことを特徴とする。
前記第1のリード端子の前記一端の表面の高さは、前記第2のリード端子の前記一端の前記表面の高さと同じである
ことを特徴とする。
本発明の一態様に係る半導体装置は、封止部と、封止部内に設けられた第1及び第2電子素子と、一端の上面に封止部内で第1電子素子が載置され、他端が封止部から露出している第1のリード端子と、一端の上面に封止部内で第2電子素子が載置され、他端が封止部から露出している第2のリード端子と、一端が第1電子素子の入出力電極(ソース電極)に電気的に接続され、他端が第2のリード端子の一端に電気的に接続された接続子(ソースクリップ)と、接続子の他端と第2のリード端子の一端の上面との間を接合し且つ導電性を有する導電性接合材と、を備える。
そして、第2のリード端子の一端の上面には、接続子と第2のリード端子との接合時に導電性接合材が第2電子素子に向けて流れるのを堰き止めるとともに封止部の封止時にモールドロックするための溝が形成されている。
これにより、第2のリード端子の一端の上面に形成された溝により、接続子と第2のリード端子との接合時に導電性接合材が第2電子素子に向けて流れるのを堰き止めて、当該導電性接合材が第2電子素子に接触するのを抑制するとともに、封止部がモールドロックされることとなる。
すなわち、本発明に係る半導体装置によれば、接続子とリード端子とを接合する導電性接合材が電子素子に接触するのを抑制するとともに封止時に適切にモールドロックして、信頼性を向上することができる。
以下、本発明に係る実施形態について図面に基づいて説明する。
図1は、第1の実施形態に係る半導体装置100の構成の外観の一例を示す斜視図である。また、図2は、図1に示す半導体装置100の構成の一例を示す上面図である。また、図3は、封止前のリードフレームに積載された電子素子近傍に注目した構成の一例を示す上面図である。また、図4は、図1に示す半導体装置100の回路構成の一例を示す回路図である。なお、図2において、封止部Rは透視されるように表記されている。
第1の実施形態に係る半導体装置100は、直流電源から入力した直流電力を交流電力に変換して出力するインバータ装置である。
図1ないし図4に示すように、この半導体装置100は、封止部Rと、ハイサイドの第1電子素子MU1、MV1、MW1と、ローサイドの第2電子素子MU2、MV2、MW2と、電源用リード端子(第1のリード端子)MSU、MSV、MSWと、接地用リード端子(第5のリード端子)MEU、MEV、MEWと、入出力用リード端子(第2のリード端子)TU、TV、TWと、ハイサイドのゲート用のリード端子(第3のリード端子)GU1、GV1、GW1と、ローサイドのゲート用のリード端子(第4のリード端子)GU2、GV2、GW2と、ハイサイドの第1の接続子(ゲートクリップ)GC1と、ローササイドの第3の接続子(ゲートクリップ)GC2と、ハイサイドの第2の接続子(ソースクリップ)SC1と、ローササイドの第4の接続子(ソースクリップ)SC2と、を備える。
なお、図1ないし図2に示す例では、封止部Rの長手方向fxに沿った一端側に、電源の大電流が流れる、電源用リード端子MSU、MSV、MSW、及び、接地用リード端子MEU、MEV、MEWが配置されている。
そして、電源用リード端子MSU、MSV、MSWは、一端(インナーリード部)が封止部Rにより封止され、他端(アウターリード部)が電源を供給する電源配線(図示せず)に接続されている。
一方、接地用リード端子MEU、MEV、MEWは、一端(インナーリード部)が封止部Rにより封止され、他端(アウターリード部)が接地された接地配線(図示せず)に接続されている。
そして、封止部Rの長手方向fxに沿った他端側(長手方向fxに沿った一端側と短手方向fで対向する側)に、入出力用リード端子TU、TV、TW、制御のための、ハイサイドのゲート用のリード端子GU1、GV1、GW1及びローサイドのゲート用のリード端子GU2、GV2、GW2が配置されている。
また、図2に示すように、ハイサイドの第1電子素子MU1、MV1、MW1は、封止部R内に設けられている。この第1電子素子MU1、MV1、MW1は、例えば、図4に示すように、MOSFETである。
ここで、例えば、第1電子素子MV1は、上面に第1の電極(制御電極(ゲート電極))GT1および第2の電極(ソース電極)ST1が配置されている(図2)。なお、第1の電極(ゲート電極)GT1は、第2の電極(ソース電極)ST1よりも表面積が小さくなっている。
なお、封止部Rの長手方向fxにおいて、第1の接続子GC1の幅は、第2の接続子SC1の幅よりも狭くなっている。
また、ローサイドの第2電子素子MU2、MV2、MW2は、封止部R内に設けられている。この第2電子素子MU2、MV2、MW2は、例えば、図4に示すように、MOSFETである。
ここで、例えば、第2電子素子MV2は、上面に第3の電極(制御電極(ゲート電極))GT2および第4の電極(ソース電極)ST2が配置されている(図2)。また、第3の電極(ゲート電極)GT2は、第4の電極(ソース電極)ST2よりも表面積が小さくなっている。
なお、封止部Rの長手方向fxにおいて、第3の接続子GC2の幅は、第4の接続子SC2の幅よりも狭くなっている。
また、入出力用リード端子TUは、一端(インナーリード部)が封止部Rにより封止されるとともに第4の接続子(ソースクリップ)SC2に接続され、他端(アウターリード部)が該モータのU相コイルに接続されている(図2)。
また、入出力用リード端子TVは、一端(インナーリード部)が封止部Rにより封止されるとともに第4の接続子(ソースクリップ)SC2に接続され、他端(アウターリード部)が該モータのV相コイルに接続されている(図2)。
また、入出力用リード端子TWは、一端(インナーリード部)が封止部Rにより封止されるとともに第4の接続子(ソースクリップ)SC2に接続され、他端(アウターリード部)が該モータのW相コイルに接続されている(図2)。
なお、制御信号(ゲート電圧)が印加される、ハイサイドのゲート用のリード端子(第3のリード端子)GU1、GV1、GW1、及び、ローサイドのゲート用のリード端子(第4のリード端子)GU2、GV2、GW2の長手方向fxの幅は、該モータの駆動電流が流れる、出力用リード端子TU、TV、TW、電源用リード端子MSU、MSV、MSW、及び、接地用リード端子MEU、MEV、MEWの長手方向fxの幅よりも、狭くなっている。
この第1の実施形態においては、特に、半導体装置100はモータを駆動する3相ブリッジ回路の構成を有する。
例えば、図4に示すように、U相のハイサイドの第1電子素子(MOSFET)MU1は、一端(ドレイン電極)が電源用リード端子MSUに接続され、他端(ソース電極)が第2の接続子(ソースクリップ)SC1を介して入出力用リード端子TUに接続され、制御端子(ゲート電極)が第1の接続子(ゲートクリップ)GC1を介してゲート用のリード端子GU1に接続されている。
そして、U相のローサイドの第2電子素子(MOSFET)MU2は、一端(ドレイン電極)が入出力用リード端子TUに接続され、他端(ソース電極)が第4の接続子(ソースクリップ)SC2を介して入出力用リード端子TUに接続され、制御端子(ゲート電極)が第3の接続子(ゲートクリップ)GC2を介してリード端子GU2に接続されている。
また、図4に示すように、V相のハイサイドの第1電子素子(MOSFET)MV1は、一端(ドレイン電極)が電源用リード端子MSVに接続され、他端(ソース電極)が第2の接続子(ソースクリップ)SC1を介して入出力用リード端子TVに接続され、制御端子(ゲート電極)が第1の接続子(ゲートクリップ)GC1を介してゲート用のリード端子GV1に接続されている。
そして、V相のローサイドの第2電子素子(MOSFET)MV2は、一端(ドレイン電極)が入出力用リード端子TVに接続され、他端(ソース電極)が第2の接続子(ソースクリップ)SC2を介して入出力用リード端子TUに接続され、制御端子(ゲート電極)が第4の接続子(ゲートクリップ)GC2を介してゲート用のリード端子GV2に接続されている。
また、図4に示すように、W相のハイサイドの第1電子素子(MOSFET)MW1は、一端(ドレイン電極)が電源用リード端子MSWに接続され、他端(ソース電極)が第2の接続子(ソースクリップ)SC1を介して入出力用リード端子TWに接続され、制御端子(ゲート電極)が第1の接続子(ゲートクリップ)GC1を介してゲート用のリード端子GW1に接続されている。
そして、W相のローサイドの第2電子素子(MOSFET)MW2は、一端(ドレイン電極)が入出力用リード端子TWに接続され、他端(ソース電極)が第4の接続子(ソースクリップ)SC2を介して入出力用リード端子TWに接続され、制御端子(ゲート電極)が第1の接続子(ゲートクリップ)GC2を介してゲート用のリード端子GW2に接続されている。
ここで、半導体装置100のV相の構成を例として詳細に説明する。なお、半導体装置100のU相、W相の構成に関しても同様に説明される。
例えば、図2に示すように、封止部Rは、第1、第2電子素子MV1、MV2を各接続子GC1、SC1、GC2、SC2の何れかを介して、リード端子FSV、TV、FEV、GV1、GV2の何れかに電気的に接続した後、各リード端子FSV、TV、FEV、GV1、GV2の一部及び当該第1、第2電子素子MV1、MV2を封止するようになっている。
この封止部Rは、例えば、エポキシ樹脂等で構成されている。
この封止部Rは、例えば、エポキシ樹脂等で構成されている。
そして、図2に示すように、電源用リード端子(第1のリード端子)FSVは、一端(インナーリード部)の上面に封止部R内で第1電子素子MV1が載置され、他端(アウターリード部)が封止部Rの長手方向fxに沿った一端側から露出している。
また、入出力用リード端子(第2のリード端子)TVは、一端(インナーリード部)の上面に封止部R内で第2電子素子MV2が載置され、他端(アウターリード部)が封止部Rの長手方向fxに沿った他端側から露出している。
また、接地用リード端子(第5のリード端子)FEVは、一端(インナーリード部)が封止部R内に配置され、他端(アウターリード部)が封止部Rの長手方向fxに沿った一端側から露出している。
一方、図2に示すように、ハイサイドのゲート用のリード端子(第3のリード端子)GV1は、一端(インナーリード部)が封止部R内で第1のリード端子FSVの一端に近接して配置され、他端(アウターリード部)が封止部Rからの長手方向fxに沿った他端側から露出している。
また、ローサイドのゲート用のリード端子(第4のリード端子)GV2は、一端(インナーリード部)が封止部R内で第2のリード端子TVの一端(インナーリード部)に近接して配置され、他端(アウターリード部)が封止部Rの長手方向fxに沿った他端側から露出している。
また、ローサイドのゲート用のリード端子(第4のリード端子)GV2は、一端(インナーリード部)が封止部R内で第2のリード端子TVの一端(インナーリード部)に近接して配置され、他端(アウターリード部)が封止部Rの長手方向fxに沿った他端側から露出している。
そして、制御信号(ゲート電圧)が印加される、ハイサイドのゲート用のリード端子(第3のリード端子)GV1、及び、ローサイドのゲート用のリード端子(第4のリード端子)GV2の長手方向fxの幅は、該モータの駆動電流が流れる、出力用リード端子TV、電源用リード端子MSV、及び、接地用リード端子MEVの長手方向fxの幅よりも、狭くなっている。
そして、第1電子素子(MOSFET)MV1は、既述のように、封止部R内に設けられている(図2)。
そして、第1電子素子MV1は、上面に、制御電極である第1の電極(ゲート電極)GT1、および、第2の電極(ソース電極)ST1が配置されている(図2)。
また、第1の電極(ゲート電極)GT1は、第2の電極(ソース電極)ST1よりも表面積が小さくなっている。
なお、第1電子素子MV1の下面に配置された図示しない電極(ドレイン電極)と第1のリード端子FSVの一端の上面とが電気的に接続されている。
また、図2に示すように、第2の接続子(ソースクリップ)SC1は、一端が第1電子素子MV1の入出力電極である第2の電極(ソース電極)ST1に電気的に接続され、他端が第2のリード端子TVの一端に導電性接合材Zb(図5)を介して電気的に接続されている。
また、図2に示すように、第4の接続子(ソースクリップ)SC2は、一端が第2電子素子MV2の入出力電極である第2の電極(ソース電極)ST2に電気的に接続され、他端が第5のリード端子FEVの一端に導電性接合材(図示せず)を介して電気的に接続されている。
また、第1、第2、第5のリード端子FSV、TV、FEVの一端の上面には、接合時に導電性接合材が流れるのを堰き止めるとともに封止部Rの封止時にモールドロックするための溝TA、YB、YCがそれぞれ形成されている。
なお、図2に示す例では、第1のリード端子FSVの一端の表面の高さは、第2、第5のリード端子TV、FEVの一端の表面の高さと同じである。
ここで、図2、図5ないし図10を参照して、溝YAを一例として詳細に説明する。なお、溝YB、YCも同様に説明される。
図5は、図2に示す半導体装置100の第2のリード端子TVに形成された溝YAの構成の長手方向fxに沿った断面の一例を示す断面図である。また、図6は、導電性接合材による接合前における、図5に示す溝YA近傍の構成の一例を示す図である。また、図7は、導電性接合材による接合後であって樹脂封止前における、図5に示す溝YA近傍の構成の一例を示す図である。また、図8は、樹脂封止後における、図5に示す溝YA近傍の構成の一例を示す図である。また、図9および図10は、図5に示す溝YAの製造方法の一例を示す長手方向fxに沿った断面図である。
例えば、図2、図5に示すように、第2のリード端子TVの一端の上面には、第2の接続子SC1と第2のリード端子との接合時に導電性接合材Zbが第2電子素子MV2に向けて流れるのを堰き止めるとともに封止部Rの封止時にモールドロックするための溝YAが形成されている。
この溝YAは、例えば、図2、図6に示すように、第2の接続子SC1の一端と第2電子素子MV2との間の領域に位置するように、第2のリード端子TVの一端の上面に形成されている。
なお、図2の例では、溝YAは、第2のリード端子TVの一端の上面に直線状に短手方向fに沿って延在しているが、曲がって延在するようにしてもよい。
また、TA溝は、第2のリード端子TVの一端の上面において、第2の接続子SC1の他端の周囲の領域の少なくとも一部、又は、第2電子素子MV2の周囲の領域の少なくとも一部を囲うように、延在するように形成してもよい。
なお、図2の例では、1つの溝YAが、第2のリード端子TVの一端の上面に形成されているが、複数の溝YAが、第2のリード端子TVの一端の上面に形成されていてもよい。
この溝YAは、例えば、図5、図6に示すように、第1の溝部T1と、2つの第2の溝部T2a、T2bと、を含む。
そして、第1の溝部Taは、入出力用リード端子(第2のリード端子)TVの上面に短手方向fに延在して形成され、封止部Rの封止材(封止樹脂)が埋め込まれるようになっている(図2、図5)。
なお、第1の溝部T1の内壁は、第1の溝部T1の開口部T1Kから底部T1Bに向けて第1の溝部Taの幅が広がるように、傾斜している(図5)。
これにより、封止部Rを第1の溝部T1で確実にモールドロックすることができるようになっている。
また、2つの第2の溝部T2a、T2bは、入出力用リード端子(第2のリード端子)TVの上面において、第1の溝部Taの両側に、短手方向fに延在して形成されている。
例えば、図5に示すように、第2の溝部Tb1は、第1の溝部Taの一端側に隣接して、短手方向fに延在して形成されている。この第2の溝部Tb1は、第2電子素子MV2のドレイン電極と入出力用リード端子(第2のリード端子)TVとを接合するための導電性接合材Zaを接合時に堰き止めるようになっている(図7、図8)。
なお、導電性接合材Zaは、第2電子素子MV2のドレイン電極と第2のリード端子TVの一端の上面との間を接合し且つ導電性を有する。この導電性接合材Zaは、例えば、はんだ材である。
この第2の溝部T2aは、例えば、図5に示すように、第1の溝部T1よりも、第2電子素子MV2のドレイン電極に近い位置に形成されている。
これにより、第2の溝部T2bは、導電性接合材Zaをより確実に堰き止めることができる。
なお、第2の溝部T2aの深さは、第1の溝部Taの深さよりも浅くなっている。
特に、第2の溝部T2aの底部T2aBは、第1の溝部T1の開口部T1Kに近づくにつれて浅くなるように形成されている。
また、第2の溝部T2aの開口部T2aKは、第1の溝部T1の開口部T1Kに隣接して延在するように形成されている。
また、図5に示すように、第2の溝部Tb2は、第1の溝部Taの他端側に隣接して、短手方向fに延在して形成されている。この第2の溝部Tb2は、第2の接続子SC1の他端と入出力用リード端子(第2のリード端子)TVとを接合するための導電性接合材Zbを接合時に堰き止めるようになっている(図7、図8)。
なお、導電性接合材Zbは、第2の接続子SC1の他端と第2のリード端子TVの一端の上面との間を接合し且つ導電性を有する。この導電性接合材Zbは、例えば、はんだ材である。
この第2の溝部T2bは、例えば、図5に示すように、第1の溝部T1よりも、第2の接続子SC1の他端に近い位置に形成されている。
これにより、第2の溝部T2bは、導電性接合材Zbをより確実に堰き止めることができる。
なお、第2の溝部T2bの深さは、第1の溝部T1の深さよりも浅くなっている。
特に、第2の溝部T2bの底部T2bBは、第1の溝部T1の開口部T1Kに近づくにつれて浅くなるように形成されている。
また、第2の溝部T2bの開口部T2bKは、第1の溝部T1の開口部T1Kに隣接して延在するように形成されている。
ここで、既述のような構成を有する溝YAは、例えば、図9に示すように、第2のリード端子TVの一端の表面に、第1加工部材10を押圧して、基準溝T10を形成し、その後、図10に示すように、基準溝10の両側の端部に、先端が尖った第2加工部材20a、20bを押圧することにより、溝YAの第1の溝部T1、第2の溝部T2a、T2bが形成されることとなる。
なお、既述のように、第1のリード端子FSVの上面、第5のリード端子FEVの上面にも、溝YB、YCがそれぞれ形成されており(図2)、これらの溝YB、YCも、既述の溝YAと同様の構成を有する。
次に、図2に示す電子素子とリード端子との間に接続されたゲートクリップ近傍の構成の一例について説明する。図11は、図2に示す電子素子とリード端子との間に接続されたゲートクリップ近傍の構成の一例を示す断面図である。
例えば、図11に示すように、第3のリード端子GV1の一端の上面の高さは、第1電子素子MV1の第1の電極(ゲート電極)GT1の上面の高さよりも、高くなっている。
なお、第1のリード端子FSVの厚さは、第3のリード端子GV1の厚さと同じである(図11)。
ここで、図2に示すように、第1の接続子(ゲートクリップ)GC1は、封止部R内に設けられている。
この第1の接続子GC1は、例えば、図11に示すように、一端dが第1電子素子MV1の電極(ゲート電極)GT1に、導電性接合材Z1により、電気的に接続されている。
この図11の例では、第1の接続子GC1の一端dの下面側に設けられた突出部eと第1電子素子MV1の電極(ゲート電極)GT1とが導電性接合材Z1により電気的に接続されている。
なお、この突出部eは、第1の接続子GC1の一端dの上面側から押圧することにより形成されている。そして、第1の接続子GC1の一端dにおいて、この突出部eの反対側には凹部cが該押圧により形成されている。
ここで、この導電性接合材Z1は、第1の接続子CG1の他端と第3のリード端子GV1の一端との間を接合し且つ導電性を有する。この導電性接合材Z1は、例えば、はんだ材である。
さらに、第1の接続子(ゲートクリップ)GC1は、図11に示すように、他端aが第3のリード端子GV1の一端に、導電性接合材Z2により、電気的に接続されている。
そして、この導電性接合材Z2は、第1の接続子CG1の他端と第3のリード端子GV1の一端との間を接合し且つ導電性を有する。この導電性接合材Z2は、例えば、はんだ材である。
また、図2に示すように、第2の接続子(ソースクリップ)SC1は、封止部内に設けられている。この第2の接続子SC1は、一端が第1電子素子の上面に配置された第2の電極に電気的に接続され、他端が第2のリード端子の一端に電気的に接続され、延在方向(短手方向f)に延在する。
また、既述のように、第1の電極(ゲート電極)GT1は、第2の電極(ソース電極)ST1よりも表面積が小さくなっている。
さらに、封止部Rの長手方向fxにおいて、第1の接続子GC1の幅は、第2の接続子SC1の幅よりも狭くなっている(図2)。
このように、ソースクリップである第2の接続子SC1には該モータの駆動電流が流れ、ゲートクリップである第1の接続子GC1には制御信号(ゲート電圧)が印加される構成である。
このため、第2の接続子SC1の配線経路の幅(サイズ)よりも、第1の接続子GC1の配線経路の幅(サイズ)の方が、狭く(小さく)なっており、第2の電極(ソース電極)ST1の表面積よりも、第1の電極(ゲート電極)GT1の表面積が小さくなっている。
ここで、第3のリード端子GV1の一端の上面には、第3のリード端子GV1の一端の上面から突出した壁部GV1Xが設けられている(図11)。
この壁部GV1Xは、第1の接続子GC1の他端と第3のリード端子GV1の一端との間の接合時に、溶融した導電性接合材Z2を堰き止めるようになっている。
なお、この第3のリード端子GV1の壁部GV1Xは、第1の接続子GC1の他端aと接触している。図11の例では、第1の接続子GC1の他端aが下方に傾斜して、壁部GV1Xに接触している。
このように、導電性接合材Z2が壁部GV1Xに表面張力で吸い寄せられて所定の位置に第1の接続子GC1の傾斜した他端aが固定されることとなる。
また、この壁部GV1Xは、例えば、図2、図11に示すように、第3のリード端子GV1の一端が延在する延在方向(短手方向f)に対して、垂直に(長手方向fxに)延在するように第3のリード端子GV1の一端の上面に設けられている。
なお、この壁部GV1Xは、第3のリード端子GV1の一端の上面に、複数個設けられていてもよい。
なお、図2の例では、壁部GV1Xが延在する長さは、第3のリード端子GV1の一端の幅と同じである。
これにより、導電性接合材Z2が壁部GV1Xの周囲を迂回して第3のリード端子GV1の反対側に流れるのを抑制されている。
また、導電性接合材Z2は、第3のリード端子GV1の一端(インナーリード部)と第1の接続子GC1の他端との接合時に、表面張力で壁部GV1Xに接触するように形成されている。
これにより、第1の接続子GC1を第3のリード端子GV1に接続する際に、第3のリード端子GV1の壁部GV1Xが接続の位置決めになるため、第1の接続子GC1が所定の位置で接続される。さらに、当該壁部GV1Xが第3のリード端子GV1をモールドロックすることとなる。
したがって、第1の接続子(ゲートクリップ)GC1と第1の電極(ゲート電極)GT1とのはんだ接続を所定の位置で確実にして、第1の接続子(ゲートクリップ)GC1の一端dが他の配線部分に電気的に接続されるのを抑制することができる。
したがって、第1の接続子(ゲートクリップ)GC1と第1の電極(ゲート電極)GT1とのはんだ接続を所定の位置で確実にして、第1の接続子(ゲートクリップ)GC1の一端dが他の配線部分に電気的に接続されるのを抑制することができる。
また、図11に示すように、第3のリード端子GV1の一端の上面における壁部GV1Xの高さ(上面の位置)は、第3のリード端子GV1の一端の上面における導電性接合材Z2の高さ(上面の位置)よりも、高くなっている。
すなわち、第3のリード端子GV1の一端(インナーリード部)と第1の接続子GC1の他端との接合時に、第3のリード端子GV1の一端の上面において、導電性接合材Z2が壁部GV1Xを乗り越えないようになっている。
また、図2に示すように、第2電子素子(MOSFET)MV2は、封止部R内に設けられている。
そして、既述のように、第2電子素子MV2は、上面に、制御電極である第3の電極(ゲート電極)GT2、および、第4の電極(ソース電極)ST2が配置されている(図2)。
また、第3の電極(ゲート電極)GT2は、第4の電極(ソース電極)ST2よりも表面積が小さくなっている。
なお、第2電子素子MV2の下面に配置された図示しない電極(ドレイン電極)と第2のリード端子TVの一端の上面とが電気的に接続されている。
そして、封止部Rの長手方向fxにおいて、第3の接続子GC2の幅は、第4の接続子SC2の幅よりも狭くなっている(図2)。
このように、ソースクリップである第4の接続子SC2には該モータの駆動電流が流れ、ゲートクリップである第3の接続子GC2には制御信号(ゲート電圧)が印加される構成である。このため、配線経路の幅(サイズ)が、第4の接続子SC2よりも、第3の接続子GC2の方が狭く(小さく)なっており、第4の電極(ソース電極)ST2の表面積よりも、第3の電極(ゲート電極)GT2の表面積が小さくなっている。
なお、第3の接続子GC2は、図2に示すように、封止部R内に設けられ、一端が第2電子素子MV2の第3の電極GT2に電気的に接続され、他端が第4のリード端子GV2の一端に電気的に接続されている。
また、第4の接続子SC2は、図2に示すように、封止部R内に設けられている。この第4の接続子SC2は、一端が第2電子素子MV2の上面に配置された第4の電極(ソース電極)CT2に電気的に接続され、他端が第5のリード端子FEVの一端に電気的に接続され、延在方向(短手方向f)に延在している。
ここで、第4のリード端子GV2の一端の上面には、第4のリード端子GV2の一端の上面から突出した壁部GV2Xが設けられている(図2)。
この壁部GV2Xは、第3の接続子GC2の他端と第4のリード端子GV2の一端との間の接合時に、溶融した導電性接合材(図示せず)を堰き止めるようになっている。
そして、この壁部GV2Xは、例えば、図2に示すように、第4のリード端子GV2の一端が延在する延在方向(長手方向fx)に対して、垂直に(短手方向fに)延在するように第4のリード端子GV2の一端の上面に設けられている。
なお、この壁部GV2Xは、第4のリード端子GV2の一端の上面に、複数個設けられていてもよい。
なお、図2の例では、壁部GV2Xが延在する長さは、第4のリード端子GV2の一端の幅と同じである。
なお、第3、第4の接続子GC2、SC2に関するその他の構成は、例えば、第1、第2の接続子GC1、SC1と同様である。
また、既述のように、本実施形態では、図2、図5ないし図11を参照しつつ、半導体装置100のV相の構成を例として説明したが、半導体装置100のU相、W相の構成に関しても同様に説明される。
以上のように、本発明の一態様に係る半導体装置は、封止部と、封止部内に設けられた第1及び第2電子素子と、一端の上面に封止部内で第1電子素子が載置され、他端が封止部から露出している第1のリード端子と、一端の上面に封止部内で第2電子素子が載置され、他端が封止部から露出している第2のリード端子と、一端が第1電子素子の入出力電極(ソース電極)に電気的に接続され、他端が第2のリード端子の一端に電気的に接続された接続子(ソースクリップ)と、接続子の他端と第2のリード端子の一端の上面との間を接合し且つ導電性を有する導電性接合材と、を備える。
そして、第2のリード端子の一端の上面には、接続子と第2のリード端子との接合時に導電性接合材が第2電子素子に向けて流れるのを堰き止めるとともに封止部の封止時にモールドロックするための溝が形成されている。
これにより、第2のリード端子の一端の上面に形成された溝により、接続子と第2のリード端子との接合時に導電性接合材が第2電子素子に向けて流れるのを堰き止めて、当該導電性接合材が第2電子素子に接触するのを抑制するとともに、封止部がモールドロックされることとなる。
すなわち、本発明に係る半導体装置によれば、接続子とリード端子とを接合する導電性接合材が電子素子に接触するのを抑制するとともに封止時に適切にモールドロックして、信頼性を向上することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
100 半導体装置
R 封止部
MU1 ハイサイドの第1電子素子
MV1 ハイサイドの第1電子素子
MW1 ハイサイドの第1電子素子
MU2 ローサイドの第2電子素子
MV2 ローサイドの第2電子素子
MW2 ローサイドの第2電子素子
MSU 電源用リード端子
MSV 電源用リード端子
MSW 電源用リード端子
MEU 接地用リード端子
MEV 接地用リード端子
MEW 接地用リード端子
TU 入出力用リード端子
TV 入出力用リード端子
TW 入出力用リード端子
GU1 ハイサイドのゲート用のリード端子
GV1 ハイサイドのゲート用のリード端子
GW1 ハイサイドのゲート用のリード端子
GU2 ローサイドのゲート用のリード端子
GV2 ローサイドのゲート用のリード端子
GW2 ローサイドのゲート用のリード端子
GC1 ハイサイドの第1の接続子(ゲートクリップ)
GC2 ローササイドの第3の接続子(ゲートクリップ)
SC1 ハイサイドの第2の接続子(ソースクリップ)
SC2 ローササイドの第4の接続子(ソースクリップ)
R 封止部
MU1 ハイサイドの第1電子素子
MV1 ハイサイドの第1電子素子
MW1 ハイサイドの第1電子素子
MU2 ローサイドの第2電子素子
MV2 ローサイドの第2電子素子
MW2 ローサイドの第2電子素子
MSU 電源用リード端子
MSV 電源用リード端子
MSW 電源用リード端子
MEU 接地用リード端子
MEV 接地用リード端子
MEW 接地用リード端子
TU 入出力用リード端子
TV 入出力用リード端子
TW 入出力用リード端子
GU1 ハイサイドのゲート用のリード端子
GV1 ハイサイドのゲート用のリード端子
GW1 ハイサイドのゲート用のリード端子
GU2 ローサイドのゲート用のリード端子
GV2 ローサイドのゲート用のリード端子
GW2 ローサイドのゲート用のリード端子
GC1 ハイサイドの第1の接続子(ゲートクリップ)
GC2 ローササイドの第3の接続子(ゲートクリップ)
SC1 ハイサイドの第2の接続子(ソースクリップ)
SC2 ローササイドの第4の接続子(ソースクリップ)
Claims (15)
- 封止部Mと、
前記封止部内に設けられた第1電子素子と、
前記封止部内に設けられた第2電子素子と、
一端の上面に前記封止部内で前記第1電子素子が載置され、他端が前記封止部から露出している第1のリード端子と、
一端の上面に前記封止部内で前記第2電子素子が載置され、他端が前記封止部から露出している第2のリード端子と、
一端が前記第1電子素子の入出力電極に電気的に接続され、他端が前記第2のリード端子の前記一端に電気的に接続された接続子と、
前記接続子の他端と前記第2のリード端子の前記一端の前記上面との間を接合し且つ導電性を有する導電性接合材と、を備え、
前記第2のリード端子の前記一端の前記上面には、前記接続子と前記第2のリード端子との接合時に前記導電性接合材が前記第2電子素子に向けて流れるのを堰き止めるとともに前記封止部の封止時にモールドロックするための溝が形成されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記溝は、
前記封止部の封止材が埋め込まれる第1の溝部と、
前記第1の溝部に隣接して形成され且つ前記導電性接合材を堰き止めるための第2の溝部と、を含む
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記第2の溝部は、前記第1の溝部よりも、前記接続子の前記他端に近い位置に形成されている
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。 - 前記第2の溝部は、前記第1の溝部の両側に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第2の溝部の深さは、前記第1の溝部の深さよりも浅いことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第1の溝部の内壁は、前記第1の溝部の開口部から底部に向けて前記第1の溝部の幅が広がるように、傾斜している
ことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。 - 前記第2の溝部の底部は、前記第1の溝部の前記開口部に近づくにつれて浅くなるように形成されている
ことを特徴とする請求項6に記載の半導体装置。 - 前記溝は、前記接続子の前記一端と前記第2電子素子との間の領域に位置するように、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に形成されている
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 - 前記溝は、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に直線状に延在し、又は、曲がって延在している
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 - 前記第2の溝部の開口部は、前記第1の溝部の開口部に隣接して延在するように形成されている
ことを特徴とする請求項9に記載の半導体装置。 - 前記溝は、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面において、前記接続子の前記他端の周囲の領域の少なくとも一部、又は、前記第2電子素子の周囲の領域の少なくとも一部を囲うように、延在している
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。 - 複数の前記溝が、前記第2のリード端子の前記一端の前記上面に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 前記導電性接合材は、はんだ材であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記第1及び第2電子素子は、MOSFETであり、前記第1電子素子の入出力電極は、MOSFETのソース電極であることを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
- 前記第1のリード端子の前記一端の表面の高さは、前記第2のリード端子の前記一端の前記表面の高さと同じである
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/031996 WO2019049213A1 (ja) | 2017-09-05 | 2017-09-05 | 半導体装置 |
JP2018517238A JP6449523B1 (ja) | 2017-09-05 | 2017-09-05 | 半導体装置 |
CN201780003645.2A CN111095545B (zh) | 2017-09-05 | 2017-09-05 | 半导体装置 |
US15/780,443 US10985092B2 (en) | 2017-09-05 | 2017-09-05 | Semiconductor device |
NL2020954A NL2020954B1 (en) | 2017-09-05 | 2018-05-18 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/031996 WO2019049213A1 (ja) | 2017-09-05 | 2017-09-05 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019049213A1 true WO2019049213A1 (ja) | 2019-03-14 |
Family
ID=63207818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2017/031996 WO2019049213A1 (ja) | 2017-09-05 | 2017-09-05 | 半導体装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10985092B2 (ja) |
JP (1) | JP6449523B1 (ja) |
CN (1) | CN111095545B (ja) |
NL (1) | NL2020954B1 (ja) |
WO (1) | WO2019049213A1 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335776A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
JP2010177619A (ja) * | 2009-02-02 | 2010-08-12 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体モジュール |
JP2010258366A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
JP2010267789A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
JP2017005149A (ja) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | 株式会社デンソー | 基板、および、その製造方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19736895A1 (de) * | 1996-09-05 | 1998-04-16 | Int Rectifier Corp | Gehäuse für Halbleiterbauteile |
US6483178B1 (en) | 2000-07-14 | 2002-11-19 | Siliconware Precision Industries Co., Ltd. | Semiconductor device package structure |
JP2003204027A (ja) * | 2002-01-09 | 2003-07-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リードフレーム及びその製造方法、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 |
SG157957A1 (en) * | 2003-01-29 | 2010-01-29 | Interplex Qlp Inc | Package for integrated circuit die |
JP2006294998A (ja) * | 2005-04-13 | 2006-10-26 | Rohm Co Ltd | 半導体装置及びリードフレーム |
JP2007012857A (ja) * | 2005-06-30 | 2007-01-18 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
US7776658B2 (en) | 2008-08-07 | 2010-08-17 | Alpha And Omega Semiconductor, Inc. | Compact co-packaged semiconductor dies with elevation-adaptive interconnection plates |
US8076183B2 (en) * | 2009-10-27 | 2011-12-13 | Alpha And Omega Semiconductor, Inc. | Method of attaching an interconnection plate to a semiconductor die within a leadframe package |
JP2012182241A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-20 | Panasonic Corp | 連結導体及びこれを用いた半導体装置 |
JP2014207430A (ja) * | 2013-03-21 | 2014-10-30 | ローム株式会社 | 半導体装置 |
JP5799974B2 (ja) | 2013-05-23 | 2015-10-28 | 株式会社デンソー | 電子装置 |
CN105359262B (zh) * | 2013-07-04 | 2019-02-19 | 三菱电机株式会社 | 半导体装置的制造方法、半导体装置 |
US10186498B2 (en) | 2015-07-27 | 2019-01-22 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor leadframes and packages with solder dams and related methods |
JP6577857B2 (ja) * | 2015-12-21 | 2019-09-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
-
2017
- 2017-09-05 JP JP2018517238A patent/JP6449523B1/ja active Active
- 2017-09-05 WO PCT/JP2017/031996 patent/WO2019049213A1/ja active Application Filing
- 2017-09-05 US US15/780,443 patent/US10985092B2/en active Active
- 2017-09-05 CN CN201780003645.2A patent/CN111095545B/zh active Active
-
2018
- 2018-05-18 NL NL2020954A patent/NL2020954B1/en active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335776A (ja) * | 2003-05-08 | 2004-11-25 | Renesas Technology Corp | 半導体装置 |
JP2010177619A (ja) * | 2009-02-02 | 2010-08-12 | Sanken Electric Co Ltd | 半導体モジュール |
JP2010258366A (ja) * | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
JP2010267789A (ja) * | 2009-05-14 | 2010-11-25 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置 |
JP2017005149A (ja) * | 2015-06-11 | 2017-01-05 | 株式会社デンソー | 基板、および、その製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2019049213A1 (ja) | 2019-11-07 |
US10985092B2 (en) | 2021-04-20 |
NL2020954A (en) | 2019-03-11 |
US20210020548A1 (en) | 2021-01-21 |
JP6449523B1 (ja) | 2019-01-09 |
CN111095545B (zh) | 2023-10-20 |
NL2020954B1 (en) | 2019-03-26 |
CN111095545A (zh) | 2020-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6884953B2 (en) | Switching circuit | |
JP6466625B1 (ja) | 半導体装置 | |
JP6449523B1 (ja) | 半導体装置 | |
JP6517439B1 (ja) | 半導体装置 | |
CN109511278B (zh) | 电子模块 | |
CN110892526A (zh) | 半导体装置的制造方法 | |
CN110859055B (zh) | 半导体模块 | |
US20240096765A1 (en) | Reduced stress clip for semiconductor die | |
US20220344245A1 (en) | Semiconductor apparatus and method of manufacturing semiconductor apparatus | |
US11145576B2 (en) | Electronic module | |
US11309274B2 (en) | Electronic module | |
EP3703121B1 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device | |
US11075154B2 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device | |
JP2009170596A (ja) | 電力変換装置およびその製造方法 | |
CN111316429A (zh) | 半导体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2018517238 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 17924044 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 17924044 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |