WO2019037293A1 - 一种有源矩阵衬底的修正方法及显示装置的制造方法 - Google Patents

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    • G09G2330/12—Test circuits or failure detection circuits included in a display system, as permanent part thereof

Definitions

  • the present application relates to the field of liquid crystal display technology, and in particular to a technique for correcting an active matrix substrate.
  • the operation of a flat panel display is to control the pixels arranged in an array by two sets of mutually perpendicular addressing lines to achieve the purpose of development.
  • the most commonly used is that the gate line and the source line are turned on to turn on or off the corresponding switching components, so that the signals transmitted by the respective gate lines can be written into the pixels. Thereby changing the state of the corresponding pixel and achieving the purpose of controlling the display screen.
  • the components of the display panel such as the active component array substrate
  • the components of the display panel inevitably generate some flaws in the manufacturing process (for example, the gate lines on the active matrix substrate and Since the source line has a long length, it is prone to disconnection.
  • a normal voltage drain voltage
  • the line point along the gate line can be seen. If the number of missing lines is increased, the liquid crystal display device becomes defective, and the liquid crystal display device is lowered. Manufacturing yield.
  • the present application provides the ability to repair broken wires to improve the manufacturing yield of liquid crystal display devices.
  • an embodiment of the present application provides an active matrix substrate, comprising: a substrate; a plurality of pixel electrodes disposed on the substrate and arranged in a matrix to form each pixel;
  • the first gate lines are respectively disposed between the pixel electrodes and extend in parallel with each other;
  • a plurality of first source lines are respectively disposed between the pixel electrodes, along the first gates a plurality of capacitance lines are respectively disposed between the first gate lines and extend at an angle to each other;
  • a plurality of switching components are respectively disposed at each of the pixels Connected to each of the pixel electrodes and the respective electrodes on the electrode a gate line, each of the capacitor lines and each of the first source lines;
  • a plurality of second source lines respectively disposed between the pixel electrodes and extending in parallel with the first source lines;
  • a plurality of second gate lines respectively disposed between the pixel electrodes and extending in parallel with the first gate lines, wherein the first gate lines, the capacitance lines, and the respective The
  • one side of the first gate line is cut off from the other side, and the second side corresponding to the two sides
  • a pair of source line repairing portions formed by a part of the source lines and the second gate lines adjacent to the first gate lines are electrically connected to each other.
  • the disconnection positions are all between the same pixel electrodes, and one side and the other side of the first gate line that is broken are formed by a part of the second source lines.
  • the pair of source line repairing portions and the gate line repairing portions formed by a part of the other of the second gate lines are electrically connected to each other.
  • a pair of gate line repairing portions formed by a part of the second gate lines corresponding to the two sides and the second source line adjacent to the first source line are electrically connected to each other.
  • the disconnection positions are all between the same pixel electrodes, and one side and the other side of the first source line that is broken are formed by a part of the second gate lines.
  • the pair of gate line repairing portions and the source line repairing portions formed of a part of the other second source line are electrically connected to each other.
  • one side and the other side of the broken capacitance line are formed by a part of the second source lines corresponding to the two sides.
  • the pair of source line repairing portions and the gate line repairing portions formed by a part of the second gate lines are electrically connected to each other.
  • an embodiment of the present application provides a method for modifying an active matrix substrate, wherein the active matrix substrate includes: a substrate; is disposed on the substrate and is formed into a matrix a plurality of pixel electrodes constituting each pixel; a plurality of first gate lines respectively disposed between the pixel electrodes and extending in parallel with each other; a plurality of first source lines respectively disposed at the pixels Between the electrodes, extending in a direction crossing the first gate lines; a plurality of capacitance lines respectively disposed between the first gate lines and extending at an angle to each other; Off components are respectively disposed on each of the pixel electrodes, Connecting to each of the pixel electrodes, the first gate lines, the capacitance lines, and the first source lines; and a plurality of second source lines respectively disposed between the pixel electrodes, and Each of the first source lines extends in parallel; and a plurality of second gate lines are respectively disposed between the pixel electrodes and extend in parallel with the first gate lines, where
  • the embodiment of the present application provides a method for modifying an active matrix substrate, wherein the active matrix substrate includes: a substrate; is disposed on the substrate and is formed in a matrix, and is configured a plurality of pixel electrodes of each pixel; a plurality of first gate lines respectively disposed between the pixel electrodes and extending in parallel with each other; a plurality of first source lines respectively disposed between the pixel electrodes And extending along a direction intersecting the first gate lines; a plurality of capacitance lines respectively disposed between the first gate lines and extending at an angle to each other; a plurality of switching components, Each of the pixel electrodes is respectively disposed, and is connected to each of the pixel electrodes, the first gate lines, the capacitor lines, and the first source lines; and a plurality of second source lines.
  • the correction method includes: detecting a disconnection detecting step of detecting whether the first gate line and the second gate line are disconnected, and detecting that the first gate line and the second gate line are both If there is a disconnection, and the disconnection position is between the same pixel electrodes, along the first gate line and the second gate line detected by the disconnection detecting process a portion of each of the second source lines disposed on both sides of the pixel electrode corresponding to the disconnection position, cutting off the portion of the first gate line that is more than the disconnected line, and exceeding the other of the second gate lines a source line repairing portion forming step of forming a source line repairing portion having a
  • a gate line repairing portion forming step of the wire repairing portion and performing the respective source line repairing portions a portion of the overlapped first gate line and the disconnected first gate line, and a portion overlapping the other of the second gate lines of the source line repair portions and the A connection process of connecting the gate line repairing portions.
  • the embodiment of the present application provides a method for modifying an active matrix substrate, wherein the active matrix substrate includes: a substrate; is disposed on the substrate and formed into a matrix, and is configured a plurality of pixel electrodes of each pixel; a plurality of first gate lines respectively disposed between the pixel electrodes and extending in parallel with each other; a plurality of first source lines respectively disposed between the pixel electrodes And extending along a direction intersecting the first gate lines; a plurality of capacitance lines respectively disposed between the first gate lines and extending at an angle to each other; a plurality of switching components, Each of the pixel electrodes is respectively disposed, and is connected to each of the pixel electrodes, the first gate lines, the capacitor lines, and the first source lines; and a plurality of second source lines.
  • the method includes: detecting a disconnection detecting step of detecting whether the first source line and the second source line are disconnected, and if only detecting that the first source line has a broken line, In each of the second gate lines provided on both sides of the pixel electrode corresponding to the disconnection position of the first source line detected by the disconnection line detecting step, the portion of the first source line that has been disconnected beyond the disconnection is cut And a portion of the second source line that is adjacent to the disconnected first source line, respectively forming a portion having overlapping lines a gate line repairing portion forming step of the gate line repairing portion of the first source line and the second source line
  • the embodiment of the present application provides a method for modifying an active matrix substrate, wherein the active matrix substrate includes: a substrate; is disposed on the substrate and is formed in a matrix, and is configured a plurality of pixel electrodes of each pixel; a plurality of first gate lines respectively disposed between the pixel electrodes and extending in parallel with each other; a plurality of first source lines respectively disposed between the pixel electrodes And extending along a direction intersecting the first gate lines; a plurality of capacitance lines respectively disposed between the first gate lines and extending at an angle to each other; a plurality of switching components, Each of the pixel electrodes is respectively disposed, and is connected to each of the pixel electrodes, the first gate lines, the capacitor lines, and the first source lines; and a plurality of second source lines.
  • the method for modifying the active matrix substrate includes: a disconnection detecting step of detecting whether the first source line and the second source line are disconnected, and detecting that the first source line and the second source line are disconnected, and The disconnection positions are all between the same pixel electrodes, and correspond to the disconnection positions of the first source line and the second source line detected by the disconnection detecting step.
  • a portion of each of the second gate lines disposed on both sides of the pixel electrode, the portion of the first source line that is cut beyond the broken line, and the portion that exceeds the other of the second source lines are formed to have a gate line repairing portion forming step of overlapping the first source line and the gate line repairing portion of the other of the second source lines, and in the other of the second source lines And cutting off portions of the second gate lines that are disposed beyond the two side portions of the pixel electrode along the corresponding disconnection position Forming a source line source line portion of the repaired portion of the repair section overlap each having a second gate line forming step, as well as the source line and the first portion of the repaired portion of the gate line overlaps a connection between the disconnected first source line and a portion of the portion of the gate line repairing portion overlapping the second source line and the source line repairing portion Process.
  • an embodiment of the present disclosure provides a method for modifying an active matrix substrate, where the active matrix substrate includes: a substrate; is disposed on the substrate and is formed into a matrix a plurality of pixel electrodes constituting each pixel; a plurality of first gate lines respectively disposed between the pixel electrodes and extending in parallel with each other; a plurality of first source lines respectively disposed at the pixels Between the electrodes, extending in a direction crossing the first gate lines; a plurality of capacitance lines respectively disposed between the first gate lines and extending at an angle to each other; The off components are respectively disposed on each of the pixel electrodes, and are connected to the pixel electrodes, the first gate lines, the capacitance lines, and the first source lines; and a plurality of second sources The pole lines are respectively disposed between the pixel electrodes and extend in parallel with the first source lines; and a plurality of second gate lines are respectively disposed between the pixel electrodes, and the respective a first gate line extending in parallel
  • the cutting and the connecting are performed by laser irradiation.
  • nano metal solution at the junction, wherein the nano metal solution comprises an organic solvent and metal nanoparticles uniformly dispersed in the organic solvent; and irradiating the joint with a laser, The nano metal solution is hardened to form a joint.
  • the embodiment of the present application provides a method for manufacturing a display device, wherein the display device The method of modifying the active matrix substrate described above is included.
  • the present application provides an active matrix substrate capable of repairing broken wires to improve the manufacturing yield of the liquid crystal display device. Further, the present application coats the nano metal particles at the joint of the repair portion, and uses a laser irradiation program to harden the nano metal solution to turn on the respective repair portions. Furthermore, since the gate line and the capacitance line are formed independently, the load on the gate line is reduced, and the signal delay in the gate line can be improved.
  • 1 is a plan view of an active matrix substrate in an embodiment of the present application.
  • FIG. 2 is a plan view of the first gate line of the active matrix substrate after the wire breakage correction according to an embodiment of the present application.
  • FIG. 3 is a plan view showing the correction of the first gate line and the second gate line of the active matrix substrate according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 4 is a plan view of a first source line broken line correction of an active matrix substrate according to an embodiment of the present application.
  • FIG. 5 is a plan view showing the corrected correction of the first source line and the second source line of the active matrix substrate according to an embodiment of the present invention
  • FIG. 6 is a plan view showing a capacitor line breakage correction of an active matrix substrate according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a modification of an active matrix substrate according to an embodiment of the present application. Flow chart of the method;
  • FIG. 8 is a plan view showing one pixel of an exemplary active matrix substrate.
  • the active matrix substrate 120 includes: a plurality of pixel electrodes 112 arranged in a matrix, and thin film transistors (TFTs) 105 disposed on each of the pixel electrodes 112, which are parallel to each other between the pixel electrodes 112.
  • TFTs thin film transistors
  • the plurality of extended gate lines 101 and the plurality of source lines 103 extending in parallel with each of the pixel electrodes 112 and the capacitance lines 102 extending in parallel with each other between the gate lines 101.
  • a thin film transistor (TFT) 105 includes: a gate electrode 101a connected to the gate line 101, a semiconductor layer 104 provided to cover the gate electrode 101a, and a source line connected to the semiconductor layer 104.
  • the source electrode 103a of 103 is a drain electrode 103b provided on the semiconductor layer 104 so as to face the source electrode 103a. Further, the drain electrode 103b is extended in a region where the capacitance line 102 extends, and is connected to the pixel electrode 112 through the wiring hole 111b to serve as the drain extraction electrode 107 and the capacitor electrode 106.
  • the active matrix substrate 120 having the above configuration, the opposite substrate having the common electrode, and the liquid crystal display device (liquid crystal display panel) including the liquid crystal layer of the liquid crystal molecules disposed between the two villages
  • the image is transmitted by transmitting a suitable image signal to each of the pixel electrodes 112 connected to the thin film transistor (TFT) 105 by the turn-off energy of the thin film transistor (TFT) 105.
  • an active matrix substrate 120 in order to prevent self-discharge of the liquid crystal layer during the non-conduction of the thin film transistor (TFT) 105, or degradation of the image signal due to the non-conduction current of the thin film transistor (TFT) 105, or An auxiliary capacitor is formed between the capacitor line 102 and the capacitor electrode 106 for use in an application path or the like of various kinds of harmonic signals in the liquid crystal drive.
  • an active matrix substrate includes: a substrate; is disposed on a substrate and is formed in a matrix to form a plurality of pixels.
  • a plurality of first source lines 31, 33 are respectively disposed between the pixel electrodes 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, for example, the first source line 31 is disposed at the pixel electrode 11, 14, 17 and The pixel electrodes 13, 16, 19 extend in a direction crossing the first gate lines 21, 23 for outputting a data signal.
  • a plurality of capacitor lines 41 are respectively disposed between the respective first gate lines 21 and 23, and the plurality of capacitor lines 41 extend non-parallel to each other for outputting a capacitance signal.
  • a plurality of switching components 51, 52, and 53 are respectively disposed on each of the pixel electrodes 11, 12, and 13, and each of the pixel electrodes 11, 12, and 13, the first gate lines 21, the respective capacitance lines 41, and the respective A source line 31, 33.
  • a plurality of second source lines 32, 34 are respectively disposed between the pixel electrodes 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, and the respective first source lines 3
  • the second source line 32 is disposed between the pixel electrodes 11, 14, 17 and the pixel electrodes 13, 16, 19, and extends in parallel with the first source line 31 for use as a repair line.
  • Multiple second gate lines 2 are disposed between the pixel electrodes 11, 14, 17 and the pixel electrodes 13, 16, 19, and extends in parallel with the first source line 31 for use as a repair line.
  • each of the second source lines 32, 34 are insulated from each other.
  • step S1 a disconnection detecting process for detecting whether there is a disconnection in each line. If there is no disconnection, it ends. If there is a disconnection, step S2 is performed: a repairing portion forming step of cutting the unnecessary portions and forming a plurality of repairing portions having overlapping broken lines is performed. Next, in step S3, a connection step of disconnecting the connection to each of the repairing portions is performed. This embodiment will perform the correction of each line in the active matrix substrate in the above steps.
  • the method for correcting the active matrix substrate includes: a disconnection detecting process for detecting whether the first gate line 21 and the second gate line 22 are disconnected (for example, a known visual inspection) And electro-optical inspection), if only the first gate line 21 is detected to have a broken line ⁇ , the pixel electrode 11 corresponding to the disconnection position 1 of the first gate line 21 detected by the disconnection detecting step is In the second source lines 32, 34 disposed at the side portions, cutting (for example, by laser irradiation) exceeds the cut portions C1, C4 of the first gate line 21 and more than the first gate line 21
  • the cut portions C2 and C3 of the second gate line 22 respectively form source line repair portions 32P of the overlapping portions R1, R2, R3, and R4 of the first gate line 21 and the
  • connection step of the present application can be connected by laser irradiation welding, or the connection portion of the repairing portion (for example, Rl, R4, R2, R3)
  • the nano metal particles are coated, and a laser irradiation process is used to harden the nano metal solution to turn on the respective repair portions.
  • the scan signal (arrow in the figure) can be along the first gate line 21, the source line repair portion 32P, the gate line repair portion 22P, and the source line repair portion 34P. Finally, it is transferred back to the first gate line 21, so that the scanning signal can be smoothly transmitted to the downstream portion, so the manufacturing yield of the liquid crystal display device is improved.
  • the method for modifying the active matrix substrate includes: detecting the first gate line 21 and the second gate line 22, wherein the line 21 and the second gate line 22 have a broken line ⁇ (such as a broken line position 1, 2).
  • Sources of source line repair portions 32P, 34P forming overlapping portions R1, R5, R4, R6 of the first gate line 21 and the other second gate line 24 having overlapping broken lines
  • the line repairing portion forming step is followed by cutting (for example, by laser irradiation) the cut portion C8 of the second source lines 32 and 34 which are provided on both side portions of the pixel electrode 11 in the other second gate line 24
  • the connection process of the connection of the overlapping portions R1 and R4 of the first gate line 21 and the connection of the overlapping portions R5 and R6 of the source line repairing portions 32P and 34P and the gate line repairing portion 24P is permeable to the connection process of the present application.
  • the laser is irradiated and welded, and nano metal particles may be coated at the joint of the repairing portion (for example, R1, R5, R4, and R6), and the laser irradiation program is used to harden the nano metal solution to turn on the repairs. unit. Therefore, by the above method, the scan signal (arrow in the figure) can be along the first gate line 21, the source line repair portion 32P, the gate line repair portion 24P, and the source line repair portion 34P. Finally, it is transmitted back to the first gate line 21, so that the scanning signal can be smoothly transmitted to the downstream portion, so that the manufacturing yield of the liquid crystal display device is improved.
  • the scan signal (arrow in the figure) can be along the first gate line 21, the source line repair portion 32P, the gate line repair portion 24P, and the source line repair portion 34P.
  • the method for correcting the active matrix substrate includes: detecting a disconnection detecting process of whether the first source line 31 and the second source line 32 are disconnected, if only the first source is detected
  • the pole line 31 has a broken line
  • the second gate lines 22, 24 are provided along both side portions of the pixel electrode 11 corresponding to the disconnection position 3 of the first source line 31 detected by the disconnection detecting step.
  • the cut portions C15 and C16 that cut off the first source line 31 and the cut portions C5 and C13 that exceed the second source line 32 adjacent to the first source line 31 are formed to have overlapping broken lines, respectively.
  • the cut portions C2 and C14 of the respective second gate lines 22 and 24 form a source line repair portion having a source line repair portion 32P overlapping the overlapping portions R2 and R8 of the second gate lines 22 and 24
  • the data signal (arrow in the figure) can be along the first source line 31, the gate line repairing portion 22P, the source line repairing portion 32P, and the gate line repairing portion 24P.
  • the first source line 31 is transmitted back to enable the data signal to be smoothly transmitted to the downstream portion, thereby improving the manufacturing yield of the liquid crystal display device.
  • the method for correcting the active matrix substrate includes: detecting the first source line 31 and the second source line 32.
  • disconnection detecting step of disconnection if it is detected that both the first source line 31 and the second source line 3 2 are broken, and the disconnection positions 3 and 4 are all at the same pixel electrode 11 and pixel electrode 13 Between the two, corresponding to the disconnection positions 3, 4 of the first source line 31 and the second source line 32 detected by the disconnection detecting step
  • the cut portions C1, C6 which are cut beyond the first source line 31, and the other second source line 34 are cut (may be
  • the cut portions C3 and C4 of the second source line of the source line 31 are respectively formed with overlapping portions R1, R2, and R3 of the first source line 31 and the other second source line 34 having overlapping broken lines.
  • the cut portions C2 and C5 of the lines 22 and 24 form a source line repair portion forming step having the source line repair portion 34P overlapping the overlapping portions R2 and R3 of the second gate lines 22 and 24, and each gate is formed.
  • the connection process of the connection of the line repair parts 22P and 24P to the overlapping portions R1 and R4 of the first source line 31 and the connection of the overlapping portions of the gate line repair portions 22P and 24P and the source line repair unit 34P is performed.
  • the joining process of the present application may be connected by laser irradiation welding, or may be coated with nano metal particles at the joint of the repairing portion (for example, R1, R2, R3, and R4), and the laser irradiation program may be used to make the nanometer.
  • the metal solution is hardened to conduct the respective repair portions.
  • the data signal (arrow in the figure) can be along the first source line 31, the gate line repairing portion 22P, the source line repairing portion 34P, and the gate line repairing portion 24P.
  • the first source line 31 is transmitted back to enable the data signal to be smoothly transmitted to the downstream portion, thereby improving the manufacturing yield of the liquid crystal display device.
  • the method for correcting the active matrix substrate includes: detecting a disconnection detecting step of detecting whether the capacitor line 41 has a disconnection, and detecting a capacitance detected by the disconnection detecting step if the capacitor line 41 is detected to have a broken line ⁇ In each of the second source lines 32, 34 provided on both sides of the pixel electrode 11 corresponding to the disconnection position 5 of the line 41, the cut portions C1, C4, and the second gate line which are cut beyond the capacitance line 41 are cut.
  • the cut portions C2 and C3 of 22 form a source line repairing portion forming step of the source line repairing portions 32P and 34P having the overlapping portions R1, R2, R3, and R4 of the overlapping capacitance lines 41 and the second gate lines 22, respectively. Then, in the second gate line 22, the cut portions C5 and C6 of the second source lines 32 and 34 which are disposed beyond the both side portions of the pixel electrode 11 are cut, and the second source lines 32 are overlapped.
  • the gate line repairing portion of the gate line repairing portion 22P of the overlapping portions R2 and R3 of 34 is formed And a connection between the source line repairing portions 32P and 34P and the overlapping portions R1 and R4 of the capacitor line 41, and a connection between the gate line repairing portion 22P and the overlapping portions R2 and R3 of the source line repairing portions 32P and 34P.
  • the connecting process of the present application can be connected by laser irradiation welding, or at the junction of the repairing portion (for example: R1) At the R2, R3, and R4, the nano metal particles are coated, and a laser irradiation process is used to harden the nano metal solution to turn on the respective repair portions.
  • the capacitance signal (arrow in the figure) can be along the capacitance line 41, the source line repairing portion 32P, the gate line repairing portion 22P, and the source line repairing portion 34P, and finally
  • the capacitor line 41 is transmitted back to enable the capacitor signal to be smoothly transmitted to the downstream portion, thereby improving the manufacturing yield of the liquid crystal display device.
  • the area of each of the overlapping portions R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, and R9 is 25 ⁇ m 2 or more.
  • the active matrix substrate configured as described above is applied to a liquid crystal display device, an OLED display device, a QLED display device, a curved display device, or other display device, and is not limited thereto.
  • the method of correcting the active matrix substrate configured as described above is applied to a method of manufacturing a liquid crystal display device.
  • the present application provides an active matrix substrate capable of repairing a broken line to improve the manufacturing yield of the liquid crystal display device. Further, the present application coats the nano metal particles at the joint of the repair portion, and uses a laser irradiation program to harden the nano metal solution to turn on the respective repair portions. Furthermore, since the gate line and the capacitance line are formed independently, the load on the gate line is reduced, and the signal delay in the gate line can be improved.

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Abstract

一种有源矩阵衬底的修正方法，包括：检测第一栅极线（21）及第二栅极线（22）是否存在断线的断线检测工序，若仅检测到第一栅极线（21）有断线时，则沿着与第一栅极线（21）的断线位置（1）对应的像素电极（11）两侧部设置的各条第二源极线（32、34）中，进行切断超过断线的第一栅极线（21）的部分（C1、C4）、和超过与断线的第一栅极线（21）相邻的第二栅极线（22）的部分（C2、C3），分别形成源极线修补部（32P、34P）的修补部形成工序，在与断线的第一栅极线（21）相邻的第二栅极线（22）中，进行切断超过沿着对应断线位置（1）的像素电极（11）的两侧部设置的各第二源极线（32、34）的部分（C5、C6），形成栅极线修补部（22P）的修补部形成工序，以及进行连接的连接工序。

Description

发明名称：一种有源矩阵衬底的修正方法及显示装置的制造方法 技术领域
[0001] 本申请涉及液晶显示技术领域， 尤其指一种有源矩阵衬底的修正方法的技术。
背景技术
[0002] 平面显示器的运作方式是以两组相互垂直的寻址线来控制排列成数组的各像素 (pixel) , 而达成显像的目的。 在各种显像控制模式中， 最常使用的是栅极线与源 极线导通以幵启或关闭对应的幵关组件， 以使各栅极线所传送的信号能够写入 像素中， 从而改变对应的像素的状态， 并达成控制显示画面的目的。
[0003] 虽然平面显示器技术已趋成熟， 但显示面板的组成组件， 如有源组件数组基板 ， 在制造过程的中难免会产生一些瑕疵 (defect 例如， 有源矩阵衬底上的栅极 线与源极线因其长度很长， 故容易发生断线的情形。 当栅极线与源极线发生断 线吋， 就无法在像素电极上施加正常的电压 （漏极电压） ， 所以， 在液晶显示 设备的显示画面上就能看到沿着这条栅极线的线状点欠缺。 若是这个线状的点 欠缺的个数增多， 这个液晶显示设备就成为不良， 也就降低了液晶显示设备的 制造合格率。
技术问题
[0004] 鉴于现有技术中的所述问题， 本申请提供了能够修复断线来提高液晶显示设备 的制造合格率。
问题的解决方案
技术解决方案
[0005] 一方面， 本申请实施例提供了一种有源矩阵衬底， 其中， 包括： 一衬底； 设置 在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平行延伸； 多条第一源极线， 分别设 置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一栅极线交叉的方向延伸； 多条电容 线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且彼此以相夹一角度延伸； 多个幵关 组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像素电极、 所述各第 一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线； 多条第二源极线， 分别设置在所 述各像素电极之间， 与所述各第一源极线平行延伸； 以及多条第二栅极线， 分 别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一栅极线平行延伸， 其中所述各第 一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极线、 所述各第二栅极线以及所述各 第二源极线彼此绝缘。
[0006] 可选的， 当所述第一栅极线断线吋， 则断幵的所述第一栅极线的一侧与另一侧 ， 通过由两侧相对应的所述各第二源极线的一部分构成的一对源极线修补部与 所述第一栅极线相邻的所述第二栅极线相互导通。
[0007] 较佳地， 当所述第一栅极线及与所述第一栅极线相邻的所述第二栅极线均断线
， 且断线位置均于相同的所述各像素电极之间吋， 则断幵的所述第一栅极线的 一侧与另一侧通过由所述各第二源极线的一部分构成的一对源极线修补部以及 由另一所述各第二栅极线的一部分构成的栅极线修补部相互导通。
[0008] 可选的， 当所述第一源极线断线吋， 则断幵的所述第一源极线的一侧与另一侧
， 通过由两侧相对应的所述各第二栅极线的一部分构成的一对栅极线修补部与 所述第一源极线相邻的所述第二源极线相互导通。
[0009] 可选的， 当所述第一源极线及与所述第一源极线相邻的所述第二源极线均断线
， 且断线位置均于相同的所述各像素电极之间吋， 则断幵的所述第一源极线的 一侧与另一侧通过由所述各第二栅极线的一部分构成的一对栅极线修补部以及 由另一第二源极线的一部分构成的源极线修补部相互导通。
[0010] 可选的， 当所述电容线断线吋， 则断幵的所述电容线的一侧与另一侧， 通过由 两侧相对应的所述各第二源极线的一部分构成的一对源极线修补部与所述第二 栅极线的一部分构成的栅极线修补部相互导通。
[0011] 另一方面， 本申请实施例提供了一种有源矩阵衬底的修正方法， 其中， 所述有 源矩阵衬底， 包括： 一衬底； 设置在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的 多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平 行延伸； 多条第一源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一 栅极线交叉的方向延伸； 多条电容线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且 彼此以相夹一角度延伸； 多个幵关组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像素电极、 所述各第一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线 ； 多条第二源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一源极线平 行延伸； 以及多条第二栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第 一栅极线平行延伸， 其中所述各第一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极 线、 所述各第二栅极线以及所述各第二源极线彼此绝缘； 所述有源矩阵衬底的 修正方法， 包括： 检测所述第一栅极线及所述第二栅极线是否存在断线的断线 检测工序， 若仅检测到所述第一栅极线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工 序检测的第一栅极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二源极线 中， 进行切断超过断线了的所述第一栅极线的部分、 和超过与断线了的所述第 一栅极线相邻的所述第二栅极线的部分， 分别形成具有重叠断线了的所述第一 栅极线及所述第二栅极线的部分的源极线修补部的源极线修补部形成工序， 在 与断线的所述第一栅极线相邻的所述第二栅极线中， 进行切断超过所述沿着对 应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第二源极线的部分， 形成具有重叠所 述各第二源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工序， 以及进行与 所述各源极线修补部的第一栅极线重叠的部分和所述断线了的第一栅极线的连 接、 以及与所述各源极线修补部的第二栅极线重叠的部分和所述栅极线修补部 连接的连接工序。
又一方面， 本申请实施例提供了一种有源矩阵衬底的修正方法， 其中， 所述有 源矩阵衬底， 包括： 一衬底； 设置在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的 多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平 行延伸； 多条第一源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一 栅极线交叉的方向延伸； 多条电容线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且 彼此以相夹一角度延伸； 多个幵关组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像素电极、 所述各第一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线 ； 多条第二源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一源极线平 行延伸； 以及多条第二栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第 一栅极线平行延伸， 其中所述各第一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极 线、 所述各第二栅极线以及所述各第二源极线彼此绝缘； 所述有源矩阵衬底的 修正方法， 包括： 检测所述第一栅极线及所述第二栅极线是否存在断线的断线 检测工序， 若检测到所述第一栅极线及所述第二栅极线皆有断线， 且断线位置 均于相同的所述各像素电极之间吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测的所述 第一栅极线及所述第二栅极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第 二源极线中， 进行切断超过断线了的所述第一栅极线的部分、 和超过另一所述 第二栅极线的部分， 分别形成具有重叠断线了的所述第一栅极线及另一所述第 二栅极线的部分的源极线修补部的源极线修补部形成工序， 在另一所述第二栅 极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第 二源极线的部分， 形成具有重叠该各第二源极线的部分的栅极线修补部的栅极 线修补部形成工序， 以及进行与所述各源极线修补部的第一栅极线重叠的部分 和所述断线了的第一栅极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的另一所述第 二栅极线重叠的部分和所述栅极线修补部连接的连接工序。
再一方面， 本申请实施例提供了一种有源矩阵衬底的修正方法， 其中， 所述有 源矩阵衬底， 包括： 一衬底； 设置在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的 多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平 行延伸； 多条第一源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一 栅极线交叉的方向延伸； 多条电容线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且 彼此以相夹一角度延伸； 多个幵关组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像素电极、 所述各第一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线 ； 多条第二源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一源极线平 行延伸； 以及多条第二栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第 一栅极线平行延伸， 其中所述各第一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极 线、 所述各第二栅极线电容线以及所述各第二源极线彼此绝缘； 所述有源矩阵 衬底的修正方法， 包括： 检测所述第一源极线及所述第二源极线是否存在断线 的断线检测工序， 若仅检测到所述第一源极线有断线吋， 则沿着与由所述断线 检测工序检测的第一源极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二 栅极线中， 进行切断超过断线了的所述第一源极线的部分、 和超过与断线了的 所述第一源极线相邻的所述第二源极线的部分， 分别形成具有重叠断线了的所 述第一源极线及所述第二源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工 序， 在与断线的所述第一源极线相邻的所述第二源极线中， 进行切断超过所述 沿着对应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第二栅极线的部分， 形成具有 重叠所述各第二栅极线的部分的源极线修补部的源极线修补部形成工序， 以及 进行与所述各栅极线修补部的第一源极线重叠的部分和所述断线了的第一源极 线的连接、 以及与所述各源极线修补部的第二栅极线重叠的部分和所述栅极线 修补部连接的连接工序。
又一方面， 本申请实施例提供了一种有源矩阵衬底的修正方法， 其中， 所述有 源矩阵衬底， 包括： 一衬底； 设置在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的 多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平 行延伸； 多条第一源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一 栅极线交叉的方向延伸； 多条电容线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且 彼此以相夹一角度延伸； 多个幵关组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像素电极、 所述各第一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线 ； 多条第二源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一源极线平 行延伸； 以及多条第二栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第 一栅极线平行延伸， 其中所述各第一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极 线、 所述各第二栅极线以及所述各第二源极线彼此绝缘； 所述有源矩阵衬底的 修正方法， 包括： 检测所述第一源极线及所述第二源极线是否存在断线的断线 检测工序， 若检测到所述第一源极线及所述第二源极线皆有断线， 且断线位置 均于相同的所述各像素电极之间吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测的所述 第一源极线及所述第二源极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第 二栅极线中， 进行切断超过断线了的所述第一源极线的部分、 和超过另一所述 第二源极线的部分， 分别形成具有重叠断线了的所述第一源极线及另一所述第 二源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工序， 在另一所述第二源 极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第 二栅极线的部分， 形成具有重叠所述各第二栅极线的部分的源极线修补部的源 极线修补部形成工序， 以及进行与所述各栅极线修补部的第一源极线重叠的部 分和所述断线了的第一源极线的连接、 以及与所述各栅极线修补部的另一所述 第二源极线重叠的部分和所述源极线修补部连接的连接工序。
[0015] 又一方面， 本申请实施例提供了一种有源矩阵衬底的修正方法， 其中， 所述有 源矩阵衬底， 包括： 一衬底； 设置在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的 多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平 行延伸； 多条第一源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一 栅极线交叉的方向延伸； 多条电容线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且 彼此以相夹一角度延伸； 多个幵关组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像素电极、 所述各第一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线 ； 多条第二源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一源极线平 行延伸； 以及多条第二栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第 一栅极线平行延伸， 其中所述各第一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极 线、 所述各第二栅极线电容线以及所述各第二源极线彼此绝缘； 所述有源矩阵 衬底的修正方法， 包括： 检测所述电容线是否存在断线的断线检测工序， 若检 测到所述电容线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测的电容线的断线 位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二源极线中， 进行切断超过断线了的 所述电容线的部分、 和超过所述第二栅极线的部分， 分别形成具有重叠断线了 的所述电容线及所述第二栅极线的部分的源极线修补部的源极线修补部形成工 序， 在所述第二栅极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像素电极的 两侧部设置的各第二源极线的部分， 形成具有重叠所述各第二源极线的部分的 栅极线修补部的栅极线修补部形成工序， 以及进行与所述各源极线修补部的电 容线重叠的部分和所述断线了的电容线的连接、 以及与所述栅极线修补部的所 述各第二源极线重叠的部分和所述各源极线修补部连接的连接工序。
[0016] 可选的， 所述切断以及连接， 由激光照射进行。
[0017] 可选的， 在所述连接处涂布纳米金属溶液， 其中所述纳米金属溶液包括有机溶 剂以及均匀分散于所述有机溶剂中的金属纳米粒子； 以及利用激光照射所述连 接处， 以使所述纳米金属溶液硬化以形成连接部。
[0018] 另一方面， 本申请实施例提供了 _种显示装置的制造方法， 其中， 所述显示装 置， 包括上述有源矩阵衬底的修正方法。
发明的有益效果
有益效果
[0019] 基于所述， 本申请提供了能够修复断线的有源矩阵衬底， 来提高液晶显示设备 的制造合格率。 另， 本申请在修补部的连接处涂布纳米金属颗粒， 并且利用激 光照射程序以使得纳米金属溶液硬化以导通各修补部。 再者， 因为栅极线和电 容线独立构成， 降低了栅极线的负荷， 能够改善栅极线中的信号延迟。
对附图的简要说明
附图说明
[0020] 为了更清楚地说明本申请实施例技术方案， 下面将对实施例描述中所需要使用 的附图作简单地介绍， 显而易见地， 下面描述中的附图是本申请的一些实施例 ， 对于本领域普通技术人员来讲， 在不付出创造性劳动的前提下， 还可以根据 这些附图获得其他的附图。
[0021] 图 1为本申请一实施例中一种有源矩阵村底的平面图；
[0022] 图 2为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一栅极线断线修正后的平面图
[0023] 图 3为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一栅极线及第二栅极线均断线 修正后的平面图；
[0024] 图 4为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一源极线断线修正后的平面图
[0025] 图 5为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一源极线及第二源极线均断线 修正后的平面图；
[0026] 图 6为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的电容线断线修正后的平面图； [0027] 图 7为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的修正方法的流程图；
[0028] 图 8为表示范例的有源矩阵衬底的一个像素的平面图。
本发明的实施方式 [0029] 下面将结合本申请实施例中的附图， 对本申请实施例中的技术方案进行清楚、 完整地描述。 显然， 所描述的实施例是本申请一部分实施例， 而不是全部的实 施例。 基于本申请中的实施例， 本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前 提下所获得的所有其他实施例， 都属于本申请保护的范围。
[0030] 图 8， 是表示范例的有源矩阵衬底 120的一个像素的平面图。 这个有源矩阵村底 120， 包括： 设置成矩阵状的多个像素电极 112、 设置在每个像素电极 112上的薄 膜晶体管 (TFT: Thin Film Transistor) 105、 在各像素电极 112之间相互平行延伸的 多个栅极线 101、 与各栅极线 101交叉在各像素电极 112之间相互平行延伸的多条 源极线 103、 在各栅极线 101之间相互平行延伸的电容线 102。
[0031] 薄膜晶体管 (TFT)105,包括： 连接在栅极线 101上的栅电极 101a、 以覆盖栅电极 1 Ola的方式设置的半导体层 104、 连接于设置在半导体层 104上的源极线 103的源电 极 103a、 在半导体层 104上以与源电极 103a对恃的方式设置的漏电极 103b。 并且 ， 漏电极 103b,延长设置在电容线 102延伸的区域， 通过接线孔 111b连接于像素电 极 112成为漏极引出电极 107及电容电极 106。
[0032] 还有， 包括所述构成的有源矩阵衬底 120、 具有共通电极的相对衬底、 包含设 置在这两村底间的液晶分子的液晶层的液晶显示设备（液晶显示面板)中， 由薄膜 晶体管 (TFT)105的幵关机能， 向连接在薄膜晶体管 (TFT)105上的各像素电极 112 传递适宜的画像信号， 由此显示画像。 还有， 有源矩阵村底 120中， 为防止薄膜 晶体管 (TFT)105非导通期间的液晶层的自放电、 或由于薄膜晶体管（TFT)105的 非导通电流的画像信号劣化， 或者是使用于液晶驱动中各种变谐信号的施加经 路等， 在电容线 102、 和电容电极 106之间形成了辅助电容。 图 1为本申请一实施 例中一种有源矩阵村底的平面图， 请参阅图 1， 有源矩阵衬底， 包括： 衬底； 设 置在衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的多个像素电极 11、 12、 13、 14、 15、 1 6、 17、 18、 19， 多条第一栅极线 21、 23， 分别设置在各像素电极 11、 12、 13 、 14、 15、 16、 17、 18、 19之间， 例如第一栅极线 21设置在像素电极 11、 12、 1 3及像素电极 14、 15、 16之间， 且多条第一栅极线 21、 23相互平行延伸， 用以输 出扫描信号。 多条第一源极线 31、 33， 分别设置在各像素电极 11、 12、 13、 14 、 15、 16、 17、 18、 19之间， 例如第一源极线 31设置在像素电极 11、 14、 17及 像素电极 13、 16、 19之间， 沿与各第一栅极线 21、 23交叉的方向延伸， 用以输 出数据信号。 多条电容线 41， 分别设置在各第一栅极线 21、 23之间， 且多条电 容线 41彼此非平行延伸， 用以输出电容信号。 多个幵关组件 51、 52、 53， 分别 设置在每个像素电极 11、 12、 13上， 连接各像素电极 11、 12、 13、 各第一栅极 线 21、 各电容线 41以及各第一源极线 31、 33。 多条第二源极线 32、 34， 分别设 置在各像素电极 11、 12、 13、 14、 15、 16、 17、 18、 19之间， 与各第一源极线 3
1、 33平行延伸， 例如第二源极线 32设置在像素电极 11、 14、 17及像素电极 13、 16、 19之间， 与第一源极线 31平行延伸， 用作修补线之用途。 多条第二栅极线 2
2、 24， 分别设置在各像素电极 11、 12、 13、 14、 15、 16、 17、 18、 19之间， 与 各第一栅极线 21、 23平行延伸， 例如第二栅极线 22设置在像素电极 11、 12、 13 及像素电极 14、 15、 16之间， 与第一栅极线 21平行延伸， 用作修补线之用途。 而各第一栅极线 21、 23、 各电容线 41、 各第一源极线 31、 33、 各第二栅极线 22
、 24以及各第二源极线 32、 34彼此绝缘。
[0033] 图 7为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的修正方法的流程图， 请参阅图 7， 步骤 S1 : 检测各线路是否存在断线的断线检测工序。 若无断线， 则结束。 若有 断线， 则进行步骤 S2: 进行切断不需要的部分， 并形成具有重叠断线的多个修 补部的修补部形成工序。 接着， 步骤 S3: 进行断线与所述各修补部连接的连接 工序。 本实施例将以上述步骤来进行有源矩阵衬底中各线路的修正。
[0034] 图 2为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一栅极线断线修正后的平面图 ， 请参阅图 2， 若当第一栅极线 21有断线吋 (如断线位置 1)， 则有源矩阵衬底的修 正方法， 包括： 检测第一栅极线 21及第二栅极线 22是否存在断线的断线检测工 序 (例如已知的外观检査以及电光学检査)， 若仅检测到第一栅极线 21有断线吋， 则沿着与由断线检测工序检测的第一栅极线 21的断线位置 1对应的像素电极 11两 侧部设置的第二源极线 32、 34中， 进行切断 (例如由激光照射进行)超过第一栅极 线 21的切断部分 Cl、 C4、 和超过与第一栅极线 21相邻的第二栅极线 22的切断部 分 C2、 C3， 分别形成具有重叠断线的第一栅极线 21及第二栅极线 22的重叠部分 Rl、 R2、 R3、 R4的源极线修补部 32P、 34P的源极线修补部形成工序。 接着， 在 与断线的第一栅极线 21相邻的第二栅极线 22中， 进行切断超过沿着对应断线位 置 1的像素电极 11的两侧部设置的第二源极线 32、 34的切断部分 C5、 C6， 形成具 有重叠第二源极线 32、 34的重叠部分 R2、 R3的栅极线修补部 22P的栅极线修补部 形成工序， 以及进行各源极线修补部 32P、 34P与第一栅极线 21的重叠部分 Rl、 R 4的连接、 以及各源极线修补部 32P、 34P与栅极线修补部 22P重叠部分 R2、 R3的 连接的连接工序， 本申请的连接工序可透过激光照射熔接的方式连接， 另外亦 可在修补部的连接处 (例如： Rl、 R4、 R2、 R3处)涂布纳米金属颗粒， 并且利用 激光照射程序以使得纳米金属溶液硬化以导通各修补部。
[0035] 因此， 藉由所述方法， 则可使扫描信号 (图中箭头)沿着第一栅极线 21、 源极线 修补部 32P、 栅极线修补部 22P、 源极线修补部 34P最后又传递回第一栅极线 21， 使扫描信号能顺利传输至下游部分， 所以提高液晶显示设备的制造合格率。
[0036] 图 3为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一栅极线及第二栅极线均断线 修正后的平面图， 请参阅图 3， 若当第一栅极线 21及第二栅极线 22皆有断线吋 (如 断线位置 1、 2)， 则有源矩阵衬底的修正方法， 包括： 检测第一栅极线 21及第二 栅极线 22是否存在断线的断线检测工序 (例如已知的外观检査以及电光学检査)， 若检测到第一栅极线 21及第二栅极线 22皆有断线， 且断线位置 1、 2均于像素电 极 11及像素电极 14之间吋， 则沿着与由断线检测工序检测的第一栅极线 21及第 二栅极线 22的断线位置 1、 2对应的像素电极 11两侧部设置的第二源极线 32、 34 中， 进行切断超过第一栅极线 21的切断部分 C7、 C12、 和超过另一第二栅极线 24 的切断部分 C9、 C10, 分别形成具有重叠断线的第一栅极线 21及另一第二栅极线 24的重叠部分 Rl、 R5、 R4、 R6的源极线修补部 32P、 34P的源极线修补部形成工 序， 接着， 在另一第二栅极线 24中， 进行切断 (例如由激光照射进行)超过像素电 极 11的两侧部设置的第二源极线 32、 34的切断部分 C8、 Cl l， 形成具有重叠各第 二源极线 32、 34的重叠部分 R5、 R6的栅极线修补部 24P的栅极线修补部形成工序 ， 以及进行各源极线修补部 32P、 34P与第一栅极线 21重叠部分 Rl、 R4的连接、 以及各源极线修补部 32P、 34P与栅极线修补部 24P重叠部分 R5、 R6的连接的连 接工序， 本申请的连接工序可透过激光照射熔接的方式连接， 另外亦可在修补 部的连接处 (例如： Rl、 R5、 R4、 R6处)涂布纳米金属颗粒， 并且利用激光照射 程序以使得纳米金属溶液硬化以导通各修补部。 [0037] 因此， 藉由所述方法， 则可使扫描信号 (图中箭头)沿着第一栅极线 21、 源极线 修补部 32P、 栅极线修补部 24P、 源极线修补部 34P， 最后又传递回第一栅极线 21 ， 使扫描信号能顺利传输至下游部分， 所以提高液晶显示设备的制造合格率。
[0038] 图 4为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一源极线断线修正后的平面图 ， 请参阅图 4， 若当第一源极线 31有断线吋 (如断线位置 3)， 则有源矩阵衬底的修 正方法， 包括： 检测第一源极线 31及第二源极线 32是否存在断线的断线检测工 序， 若仅检测到第一源极线 31有断线吋， 则沿着与由断线检测工序检测的第一 源极线 31的断线位置 3对应的像素电极 11两侧部设置的各条第二栅极线 22、 24中 ， 进行切断超过第一源极线 31的切断部分 C15、 C16、 和超过与第一源极线 31相 邻的第二源极线 32的切断部分 C5、 C13， 分别形成具有重叠断线的第一源极线 31 及第二源极线 32的重叠部分 R2、 R7、 R8、 R9的栅极线修补部 22P、 24P的栅极线 修补部形成工序， 接着， 在与断线的第一源极线 31相邻的第二源极线 32中， 进 行切断超过于像素电极 11的两侧部设置的各第二栅极线 22、 24的切断部分 C2、 C 14， 形成具有重叠各第二栅极线 22、 24的重叠部分 R2、 R8的源极线修补部 32P的 源极线修补部形成工序， 以及进行各栅极线修补部 22P、 24P与断线的第一源极 线 31重叠部分 R7、 R9的连接、 以及源极线修补部 32P与栅极线修补部 22P、 24P 重叠部分 R2、 R8的连接的连接工序， 本申请的连接工序可透过激光照射熔接的 方式连接， 另外亦可在修补部的连接处 (例如： R2、 R7、 R8、 R9处)涂布纳米金 属颗粒， 并且利用激光照射程序以使得纳米金属溶液硬化以导通各修补部。
[0039] 因此， 藉由所述方法， 则可使数据信号 (图中箭头)沿着第一源极线 31、 栅极线 修补部 22P、 源极线修补部 32P、 栅极线修补部 24P， 最后又传递回第一源极线 31 ， 使数据信号能顺利传输至下游部分， 所以提高液晶显示设备的制造合格率。
[0040] 图 5为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的第一源极线及第二源极线均断线 修正后的平面图， 请参阅图 5， 若当第一源极线 31及第二源极线 32皆有断线吋 (如 断线位置 3、 4)， 则有源矩阵衬底的修正方法， 包括： 检测第一源极线 31及第二 源极线 32是否存在断线的断线检测工序， 若检测到第一源极线 31及第二源极线 3 2皆有断线， 且断线位置 3、 4均于相同的像素电极 11及像素电极 13之间吋， 则沿 着与由断线检测工序检测的第一源极线 31及第二源极线 32的断线位置 3、 4对应 的像素电极 11两侧部设置的第二栅极线 22、 24中， 进行切断超过第一源极线 31 的切断部分 Cl、 C6、 和超过另一第二源极线 34(可为与第一源极线 31第二接近的 源极线)的切断部分 C3、 C4， 分别形成具有重叠断线的第一源极线 31及另一第二 源极线 34的重叠部分 Rl、 R2、 R3、 R4的栅极线修补部 22P、 24P的栅极线修补部 形成工序， 接着， 在另一第二源极线 34中， 进行切断超过像素电极 11的两侧部 设置的各第二栅极线 22、 24的切断部分 C2、 C5， 形成具有重叠各第二栅极线 22 、 24的重叠部分 R2、 R3的源极线修补部 34P的源极线修补部形成工序， 以及进行 各栅极线修补部 22P、 24P与第一源极线 31重叠部分 Rl、 R4的连接、 以及各栅极 线修补部 22P、 24P与源极线修补部 34P重叠部分的连接的连接工序。 本申请的连 接工序可透过激光照射熔接的方式连接， 另外亦可在修补部的连接处 (例如： R1 、 R2、 R3、 R4处)涂布纳米金属颗粒， 并且利用激光照射程序以使得纳米金属溶 液硬化以导通各修补部。
[0041] 因此， 藉由所述方法， 则可使数据信号 (图中箭头)沿着第一源极线 31、 栅极线 修补部 22P、 源极线修补部 34P、 栅极线修补部 24P， 最后又传递回第一源极线 31 ， 使数据信号能顺利传输至下游部分， 所以提高液晶显示设备的制造合格率。
[0042] 图 6为本申请一实施例中一种有源矩阵衬底的电容线断线修正后的平面图， 请 参阅图 6， 若当电容线 41有断线吋 (如断线位置 5)， 则有源矩阵衬底的修正方法， 包括： 检测电容线 41是否存在断线的断线检测工序， 若检测到电容线 41有断线 吋， 则沿着与由断线检测工序检测的电容线 41的断线位置 5对应的像素电极 11两 侧部设置的各条第二源极线 32、 34中， 进行切断超过电容线 41的切断部分 Cl、 C 4、 和超过第二栅极线 22的切断部分 C2、 C3， 分别形成具有重叠电容线 41及第二 栅极线 22的重叠部分 Rl、 R2、 R3、 R4的源极线修补部 32P、 34P的源极线修补部 形成工序， 接着， 在第二栅极线 22中， 进行切断超过像素电极 11的两侧部设置 的各第二源极线 32、 34的切断部分 C5、 C6， 形成具有重叠各第二源极线 32、 34 的重叠部分 R2、 R3的栅极线修补部 22P的栅极线修补部形成工序， 以及进行各源 极线修补部 32P、 34P与电容线 41重叠部分 Rl、 R4的连接、 以及栅极线修补部 22 P与各源极线修补部 32P、 34P重叠部分 R2、 R3的连接的连接工序。 本申请的连 接工序可透过激光照射熔接的方式连接， 另外亦可在修补部的连接处 (例如： R1 、 R2、 R3、 R4处)涂布纳米金属颗粒， 并且利用激光照射程序以使得纳米金属溶 液硬化以导通各修补部。
[0043] 因此， 藉由所述方法， 则可使电容信号 (图中箭头)沿着电容线 41、 源极线修补 部 32P、 栅极线修补部 22P、 源极线修补部 34P， 最后又传递回电容线 41， 使电容 信号能顺利传输至下游部分， 所以提高液晶显示设备的制造合格率。
[0044] 上述各实施方式中， 各重叠部分 Rl、 R2、 R3、 R4、 R5、 R6、 R7、 R8、 R9的 面积， 为 25μηι 2以上。
[0045] 上述各实施方式中， 这样构成的有源矩阵衬底， 适用于液晶显示装置、 OLED 显示装置、 QLED显示装置、 曲面显示装置或其他显示装置， 在此不作限定。
[0046] 上述各实施方式中， 这样构成的有源矩阵衬底的修正方法， 适用于液晶显示装 置的制造方法。
[0047] 基于所述， 本申请提供了能够修复断线的有源矩阵衬底， 来提高液晶显示设备 的制造合格率。 另， 本申请在修补部的连接处涂布纳米金属颗粒， 并且利用激 光照射程序以使得纳米金属溶液硬化以导通各修补部。 再者， 因为栅极线和电 容线独立构成， 降低了栅极线的负荷， 能够改善栅极线中的信号延迟。
[0048] 需要说明的是， 在所述实施例中， 对各个实施例的描述都各有侧重， 某个实施 例中没有详细描述的部分， 可以参见其他实施例的相关描述。
[0049] 以上所述， 仅为本申请的具体实施方式， 但本申请的保护范围并不局限于此， 任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内， 可轻易想到各种 等效的修改或替换， 这些修改或替换都应涵盖在本申请的保护范围之内。 因此 ， 本申请的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims

权利要求书
[权利要求 1] 一种有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于， 所述有源矩阵衬底， 包 括：
一衬底；
设置在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平行延伸
多条第一源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一 栅极线交叉的方向延伸；
多条电容线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且彼此以相夹一角 度延伸；
多个幵关组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像 素电极、 所述各第一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线； 多条第二源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一源 极线平行延伸； 以及
多条第二栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一栅 极线平行延伸；
其中所述各第一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极线、 所述各 第二栅极线以及所述各第二源极线彼此绝缘；
所述有源矩阵衬底的缺陷修正方法， 包括：
检测是否存在断线的断线检测工序；
若检测到有断线吋， 则进行切断不需要的部分， 并形成具有重叠断线 的多个修补部的修补部形成工序；
进行断线与所述各修补部连接的连接工序。
[权利要求 2] 根据权利要求 1所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于， 检测所述第一栅极线及所述第二栅极线是否存在断线的断线检测工序
若仅检测到所述第一栅极线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工序 检测的第一栅极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二 源极线中， 进行切断超过断线了的所述第一栅极线的部分、 和超过与 断线了的所述第一栅极线相邻的所述第二栅极线的部分， 分别形成具 有重叠断线了的所述第一栅极线及所述第二栅极线的部分的源极线修 补部的源极线修补部形成工序；
在与断线的所述第一栅极线相邻的所述第二栅极线中， 进行切断超过 所述沿着对应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第二源极线的部 分， 形成具有重叠该各第二源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修 补部形成工序； 以及
进行与所述各源极线修补部的第一栅极线重叠的部分和所述断线了的 第一栅极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的第二栅极线重叠的 部分和所述栅极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 3] 根据权利要求 1所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于，
检测所述第一栅极线及所述第二栅极线是否存在断线的断线检测工序 若检测到所述第一栅极线及所述第二栅极线皆有断线， 且断线位置均 于相同的所述各像素电极之间吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测 的所述第一栅极线及所述第二栅极线的断线位置对应的像素电极两侧 部设置的各条第二源极线中， 进行切断超过断线了的所述第一栅极线 的部分、 和超过另一所述第二栅极线的部分， 分别形成具有重叠断线 了的所述第一栅极线及另一所述第二栅极线的部分的源极线修补部的 源极线修补部形成工序；
在另一所述第二栅极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像 素电极的两侧部设置的各第二源极线的部分， 形成具有重叠该各第二 源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工序； 以及 进行与所述各源极线修补部的第一栅极线重叠的部分和所述断线了的 第一栅极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的另一所述第二栅极 线重叠的部分和所述栅极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 4] 根据权利要求 1所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于，
检测所述第一源极线及所述第二源极线是否存在断线的断线检测工序 若仅检测到所述第一源极线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工序 检测的第一源极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二 栅极线中， 进行切断超过断线了的所述第一源极线的部分、 和超过与 断线了的所述第一源极线相邻的所述第二源极线的部分， 分别形成具 有重叠断线了的所述第一源极线及所述第二源极线的部分的栅极线修 补部的栅极线修补部形成工序；
在与断线的所述第一源极线相邻的所述第二源极线中， 进行切断超过 所述沿着对应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第二栅极线的部 分， 形成具有重叠该各第二栅极线的部分的源极线修补部的源极线修 补部形成工序； 以及
进行与所述各栅极线修补部的第一源极线重叠的部分和所述断线了的 第一源极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的第二栅极线重叠的 部分和所述栅极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 5] 根据权利要求 1所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于，
检测所述第一源极线及所述第二源极线是否存在断线的断线检测工序 若检测到所述第一源极线及所述第二源极线皆有断线， 且断线位置均 于相同的所述各像素电极之间吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测 的所述第一源极线及所述第二源极线的断线位置对应的像素电极两侧 部设置的各条第二栅极线中， 进行切断超过断线了的所述第一源极线 的部分、 和超过另一所述第二源极线的部分， 分别形成具有重叠断线 了的所述第一栅极线及另一所述第二源极线的部分的栅极线修补部的 栅极线修补部形成工序；
在另一所述第二源极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像 素电极的两侧部设置的各第二栅极线的部分， 形成具有重叠该各第二 栅极线的部分的源极线修补部的源极线修补部形成工序； 以及
进行与所述各栅极线修补部的第一源极线重叠的部分和所述断线了的 第一源极线的连接、 以及与所述各栅极线修补部的另一所述第二源极 线重叠的部分和所述源极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 6] 根据权利要求 1所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于，
检测所述电容线是否存在断线的断线检测工序； 若检测到所述电容线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测的 电容线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二源极线中， 进行切断超过断线了的所述电容线的部分、 和超过所述第二栅极线的 部分， 分别形成具有重叠断线了的所述电容线及所述第二栅极线的部 分的源极线修补部的源极线修补部形成工序；
在所述第二栅极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像素电 极的两侧部设置的各第二源极线的部分， 形成具有重叠所述各第二源 极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工序； 以及 进行与所述各源极线修补部的电容线重叠的部分和所述断线了的电容 线的连接、 以及与所述栅极线修补部的所述各第二源极线重叠的部分 和所述各源极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 7] 根据权利要求 1所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于， 所述 切断以及连接， 由激光照射进行。
[权利要求 8] 根据权利要求 7所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于， 在所 述连接处涂布纳米金属溶液， 其中所述纳米金属溶液包括有机溶剂以 及均匀分散于所述有机溶剂中的金属纳米粒子； 以及利用激光照射所 述连接处， 以使所述纳米金属溶液硬化以形成连接部。
[权利要求 9] 一种有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于， 所述有源矩阵衬底， 包 括：
一衬底；
设置在所述衬底上且成矩阵状， 构成各个像素的多个像素电极； 多条第一栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 且相互平行延伸 多条第一源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 沿与所述各第一 栅极线交叉的方向延伸；
多条电容线， 分别设置在所述各第一栅极线之间， 且彼此以相夹一角 度延伸；
多个幵关组件， 分别设置在每个所述各像素电极上， 连接在所述各像 素电极、 所述各第一栅极线、 所述各电容线以及各第一源极线； 多条第二源极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一源 极线平行延伸； 以及
多条第二栅极线， 分别设置在所述各像素电极之间， 与所述各第一栅 极线平行延伸；
其中所述各第一栅极线、 所述各电容线、 所述各第一源极线、 所述各 第二栅极线以及所述各第二源极线彼此绝缘；
所述有源矩阵衬底的修正方法， 包括：
检测所述第一栅极线及所述第二栅极线是否存在断线的断线检测工序 若检测到所述第一栅极线及所述第二栅极线皆有断线， 且断线位置均 于相同的所述各像素电极之间吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测 的所述第一栅极线及所述第二栅极线的断线位置对应的像素电极两侧 部设置的各条第二源极线中， 进行切断超过断线了的所述第一栅极线 的部分、 和超过另一所述第二栅极线的部分， 分别形成具有重叠断线 了的所述第一栅极线及另一所述第二栅极线的部分的源极线修补部的 源极线修补部形成工序；
在另一所述第二栅极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像 素电极的两侧部设置的各第二源极线的部分， 形成具有重叠该各第二 源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工序； 以及 进行与所述各源极线修补部的第一栅极线重叠的部分和所述断线了的 第一栅极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的另一所述第二栅极 线重叠的部分和所述栅极线修补部连接的连接工序；
其中所述切断以及连接， 由激光照射进行， 且在所述连接处涂布纳米 金属溶液。
[权利要求 10] 根据权利要求 9所述的有源矩阵衬底的修正方法， 其特征在于， 所述 纳米金属溶液包括有机溶剂以及均匀分散于所述有机溶剂中的金属纳 米粒子； 以及利用激光照射所述连接处， 以使所述纳米金属溶液硬化 以形成连接部。
[权利要求 11] 一种显示装置的制造方法， 其特征在于， 所述显示装置的制造方法， 包括权利要求 1所述的有源矩阵衬底的修正方法。
[权利要求 12] 根据权利要求 11所述的显示装置的制造方法， 其特征在于，
检测所述第一栅极线及所述第二栅极线是否存在断线的断线检测工序 若仅检测到所述第一栅极线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工序 检测的第一栅极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二 源极线中， 进行切断超过断线了的所述第一栅极线的部分、 和超过与 断线了的所述第一栅极线相邻的所述第二栅极线的部分， 分别形成具 有重叠断线了的所述第一栅极线及所述第二栅极线的部分的源极线修 补部的源极线修补部形成工序；
在与断线的所述第一栅极线相邻的所述第二栅极线中， 进行切断超过 所述沿着对应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第二源极线的部 分， 形成具有重叠该各第二源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修 补部形成工序； 以及
进行与所述各源极线修补部的第一栅极线重叠的部分和所述断线了的 第一栅极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的第二栅极线重叠的 部分和所述栅极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 13] 根据权利要求 11所述的显示装置的制造方法， 其特征在于，
检测所述第一栅极线及所述第二栅极线是否存在断线的断线检测工序 若检测到所述第一栅极线及所述第二栅极线皆有断线， 且断线位置均 于相同的所述各像素电极之间吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测 的所述第一栅极线及所述第二栅极线的断线位置对应的像素电极两侧 部设置的各条第二源极线中， 进行切断超过断线了的所述第一栅极线 的部分、 和超过另一所述第二栅极线的部分， 分别形成具有重叠断线 了的所述第一栅极线及另一所述第二栅极线的部分的源极线修补部的 源极线修补部形成工序；
在另一所述第二栅极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像 素电极的两侧部设置的各第二源极线的部分， 形成具有重叠该各第二 源极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工序； 以及 进行与所述各源极线修补部的第一栅极线重叠的部分和所述断线了的 第一栅极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的另一所述第二栅极 线重叠的部分和所述栅极线修补部的连接的连接工序。
[权利要求 14] 根据权利要求 11所述的显示装置的制造方法， 其特征在于，
检测所述第一源极线及所述第二源极线是否存在断线的断线检测工序 若仅检测到所述第一源极线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工序 检测的第一源极线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二 栅极线中， 进行切断超过断线了的所述第一源极线的部分、 和超过与 断线了的所述第一源极线相邻的所述第二源极线的部分， 分别形成具 有重叠断线了的所述第一源极线及所述第二源极线的部分的栅极线修 补部的栅极线修补部形成工序；
在与断线的所述第一源极线相邻的所述第二源极线中， 进行切断超过 所述沿着对应断线位置的像素电极的两侧部设置的各第二栅极线的部 分， 形成具有重叠该各第二栅极线的部分的源极线修补部的源极线修 补部形成工序； 以及
进行与所述各栅极线修补部的第一源极线重叠的部分和所述断线了的 第一源极线的连接、 以及与所述各源极线修补部的第二栅极线重叠的 部分和所述栅极线修补部的连接的连接工序。
[权利要求 15] 根据权利要求 11所述的显示装置的制造方法， 其特征在于，
检测所述第一源极线及所述第二源极线是否存在断线的断线检测工序 若检测到所述第一源极线及所述第二源极线皆有断线， 且断线位置均 于相同的所述各像素电极之间吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测 的所述第一源极线及所述第二源极线的断线位置对应的像素电极两侧 部设置的各条第二栅极线中， 进行切断超过断线了的所述第一源极线 的部分、 和超过另一所述第二源极线的部分， 分别形成具有重叠断线 了的所述第一栅极线及另一所述第二源极线的部分的栅极线修补部的 栅极线修补部形成工序；
在另一所述第二源极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像 素电极的两侧部设置的各第二栅极线的部分， 形成具有重叠该各第二 栅极线的部分的源极线修补部的源极线修补部形成工序； 以及 进行与所述各栅极线修补部的第一源极线重叠的部分和所述断线了的 第一源极线的连接、 以及与所述各栅极线修补部的另一所述第二源极 线重叠的部分和所述源极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 16] 根据权利要求 11所述的显示装置的制造方法， 其特征在于，
检测所述电容线是否存在断线的断线检测工序； 若检测到所述电容线有断线吋， 则沿着与由所述断线检测工序检测的 电容线的断线位置对应的像素电极两侧部设置的各条第二源极线中， 进行切断超过断线了的所述电容线的部分、 和超过所述第二栅极线的 部分， 分别形成具有重叠断线了的所述电容线及所述第二栅极线的部 分的源极线修补部的源极线修补部形成工序；
在所述第二栅极线中， 进行切断超过所述沿着对应断线位置的像素电 极的两侧部设置的各第二源极线的部分， 形成具有重叠所述各第二源 极线的部分的栅极线修补部的栅极线修补部形成工序； 以及 进行与所述各源极线修补部的电容线重叠的部分和所述断线了的电容 线的连接、 以及与所述栅极线修补部的所述各第二源极线重叠的部分 和所述各源极线修补部连接的连接工序。
[权利要求 17] 根据权利要求 11所述的显示装置的制造方法， 其特征在于， 所述切断 以及连接， 由激光照射进行。
[权利要求 18] 根据权利要求 17所述的显示装置的制造方法， 其特征在于， 在所述连 接处涂布纳米金属溶液。
[权利要求 19] 根据权利要求 18所述的显示装置的制造方法， 其特征在于， 其中所述 纳米金属溶液包括有机溶剂以及均匀分散于所述有机溶剂中的金属纳 米粒子； 以及利用激光照射所述连接处， 以使所述纳米金属溶液硬化 以形成连接部。
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