WO2019035327A1 - ガラス物品の製造方法及び溶融炉 - Google Patents

ガラス物品の製造方法及び溶融炉 Download PDF

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仁 金谷
洋司 門谷
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日本電気硝子株式会社
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    • C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
    • C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
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    • C03B5/42—Details of construction of furnace walls, e.g. to prevent corrosion; Use of materials for furnace walls
    • C03B5/43—Use of materials for furnace walls, e.g. fire-bricks

Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing a glass article and a melting furnace.
  • a method of making a glass article, such as sheet glass includes a melting step to obtain molten glass.
  • the molten glass may be heated by electric heating with an electrode provided on the bottom wall of the melting furnace (see, for example, Patent Document 1).
  • the bottom wall portion in contact with the molten glass tends to have a high temperature in the planned energization region of the molten glass (region of the molten glass scheduled to be energized).
  • the molten glass intrudes into a portion of the bottom wall portion corresponding to the region to be electrified, and the electricity easily flows.
  • the glass convects in a portion corresponding to the current application scheduled region in the bottom wall portion, and erosion easily progresses.
  • erosion and erosion easily become serious problems.
  • An object of the present invention is to suppress erosion and prevent melting damage at the bottom wall portion of a melting furnace.
  • the present invention invented to solve the above problems is a method for producing a glass article comprising a melting step of forming a molten glass in a melting furnace in which electric heating is performed by an electrode provided on a bottom wall.
  • the bottom wall portion has a laminated structure of a plurality of refractory bricks, and in the portion corresponding to the current application scheduled region of the molten glass in the bottom wall portion, the first layer refractory brick and the second layer refractory brick viewed from the furnace inside
  • the laminated structure is formed such that the temperature in the gap between the lower and the lower is equal to or lower than the temperature at which the viscosity of the molten glass is 10 4 Pa ⁇ s.
  • the gap Since the temperature of is not more than the temperature at which the viscosity of the molten glass is 10 4 Pa ⁇ s, the glass hardly flows and the electricity hardly flows. Therefore, the convection of the glass in the bottom wall can be suppressed, and the erosion of the bottom wall can be suppressed. In addition, melting damage to the bottom wall can also be prevented.
  • the total thickness of the laminated structure is thinner than that of the other portions of the bottom wall portion that correspond to the current-flowing scheduled region of the molten glass.
  • the heat dissipation of the bottom wall portion is enhanced in the portion corresponding to the current conduction scheduled region of the molten glass, so that the internal temperature of the bottom wall portion can be reduced in the portion. Therefore, it is easy to control the temperature of the gap below the temperature at which the viscosity of the molten glass is 10 4 Pa ⁇ s.
  • the heat radiation can be suppressed in other parts, energy efficiency can be enhanced.
  • the molten glass may be non-alkali glass. That is, although the alkali-free glass is a glass having a high electrical resistivity, according to the present invention, since the bottom wall portion has a configuration in which leakage does not easily occur, the glass having such a high electrical resistivity is used without any problem. Can.
  • the temperature of the gap is preferably 1300 ° C. or less.
  • the present invention invented to solve the above problems is a melting furnace provided with a bottom wall provided with an electrode for electrically heating molten glass in the furnace, the bottom wall comprising a stack of a plurality of refractory bricks
  • the temperature in the gap between the first layer refractory brick and the second layer refractory brick viewed from the furnace inside is the molten glass as the viscosity of the temperature below a 10 4 Pa ⁇ s, wherein the laminated structure is formed. According to such a configuration, it is possible to receive the same effect as the corresponding configuration described above.
  • erosion can be suppressed and melting damage can be prevented at the bottom wall portion of the melting furnace.
  • the apparatus for producing a glass article used in the present production method comprises, in order from the upstream side, a melting furnace 1, a fining chamber 2, a homogenization chamber (stirring chamber) 3, a pot 4 and A device 5 is provided, and these units 1 to 5 are connected by transfer pipes 6 to 9.
  • the terms "chamber” and “pot” such as the clarification chamber 2 include those having a tank-like structure and those having a tubular structure.
  • Melting furnace 1 is a space for performing a melting step to obtain molten glass Gm.
  • non-alkali glass can be used as the molten glass Gm.
  • the electrical resistivity of the molten glass Gm made of non-alkali glass is generally high, and becomes, for example, 100 ⁇ ⁇ cm or more at a heating temperature of 1500 ° C. of the melting furnace 1.
  • molten glass Gm is not limited to an alkali free glass.
  • the fining chamber 2 is a space for performing a fining step of fining (defoaming) the molten glass Gm supplied from the melting furnace 1 by the function of a fining agent or the like.
  • the homogenization chamber 3 is a space for performing a homogenization step of stirring and homogenizing the clarified molten glass Gm with the stirring blade 3a.
  • the pot 4 is a space for performing a conditioning step of adjusting the molten glass Gm to a state (for example, viscosity) suitable for molding.
  • the pot 4 may be omitted.
  • the forming device 5 is for performing a forming step of forming the molten glass Gm into a desired shape.
  • the forming device 5 forms the molten glass Gm into a plate shape by an overflow down draw method, and manufactures a glass plate as a glass article.
  • the molding device 5 has a substantially wedge-shaped cross-sectional shape (cross-sectional shape orthogonal to the paper surface), and an overflow groove (not shown) is formed in the upper portion of the molding device 5.
  • an overflow groove (not shown) is formed in the upper portion of the molding device 5.
  • the formed plate glass has, for example, a thickness of 0.01 to 10 mm (preferably 0.1 to 3 mm), and is a substrate for a flat panel display such as a liquid crystal display or an organic EL display, an organic EL illumination, a solar cell, Used for protective covers.
  • the forming device 5 may execute another downdraw method such as a slot downdraw method or a float method.
  • the transfer tubes 6 to 9 are formed of, for example, cylindrical tubes made of platinum or platinum alloy, and transfer the molten glass Gm in the lateral direction (substantially horizontal direction).
  • the transfer pipes 6 to 9 are electrically heated as required.
  • the melting furnace 1 melts the glass material (which may include cullet) Gr by heating including electric heating to form a molten glass Gm.
  • an arrow X indicates the flow direction of the molten glass Gm.
  • Melting furnace 1 is made of refractory bricks (for example, zirconia-based electroformed bricks, alumina-based electroformed bricks, alumina-zirconia-based electroformed bricks, AZS (Al-Zr-Si) -based electroformed bricks, dense fired bricks, etc.)
  • the formed wall section defines the melting space in the furnace.
  • the melting furnace 1 is a single melter with only one melting space for the glass raw material Gr, but may be a multi-melter in which a plurality of melting spaces are connected.
  • the bottom wall 10 of the melting furnace 1 is provided with a plurality of electrodes 11 immersed in the molten glass Gm for electric heating.
  • no heating means other than the electrode 11 is provided in the melting furnace 1, and the glass raw material Gr is melted (all electric melting) only by electric heating (electric energy) of the electrode 11. It has become.
  • the electrode 11 is formed of, for example, rod-like molybdenum (Mo).
  • the melting furnace 1 may melt
  • the melting furnace 1 is provided with a screw feeder 12 as a raw material supply means.
  • the screw feeder 12 sequentially supplies the glass material Gr such that a portion not covered with the glass material (solid material) Gr is formed on a part of the liquid surface Gm1 of the molten glass Gm. That is, melting furnace 1 is a so-called semi-hot top type.
  • the melting furnace 1 may be a so-called cold top type in which the entire liquid surface Gm1 of the molten glass Gm is covered with the glass material Gr.
  • the raw material supply means may be a pusher or a vibrating feeder.
  • the melting furnace 1 is provided with a flue 13 as a gas discharge path for discharging the gas in the melting furnace 1 to the outside.
  • a fan 13a for sending the gas to the outside is provided in the flue 13.
  • the fan 13a may not be provided.
  • the gas in the melting furnace 1 is air, but it is not limited to this.
  • the electrode 11 provided on the bottom wall portion 10 of the melting furnace 1 penetrates the bottom wall portion 10 in the vertical direction, and reaches the inside of the furnace.
  • the arrow Y indicates a width direction orthogonal to the flow direction X of the molten glass Gm.
  • “along the vertical direction” is meant to include the case of being slightly inclined from the vertical direction.
  • the outer peripheral surface of the electrode 11 is held by the inner peripheral surface of the cylindrical electrode holder 14.
  • the outer peripheral surface of the electrode holder 14 is held by the inner peripheral surface of the holding hole 15 provided in the bottom wall portion 10 in a state of being in close contact with the bottom wall portion 10 of the melting furnace 1.
  • the upper end surface of the electrode holder 14 is in contact with the molten glass Gm in a molten state in the furnace.
  • the electrode holder 14 is formed of, for example, a metal such as an iron material (for example, stainless steel).
  • the electrode holder 14 internally has a cooling layer (not shown) through which a refrigerant such as water can flow, in order to prevent wear and tear on the electrode 11 due to sublimation of molybdenum and the like.
  • the bottom wall 10 of the melting furnace 1 includes a first bottom wall 16 including a portion corresponding to the planned current region E of the molten glass Gm, and a second bottom wall other than the first bottom wall 16. And 17.
  • the electrode 11 is provided on the first bottom wall 16 and is not provided on the second bottom wall 17.
  • the first bottom wall portion 16 and the second bottom wall portion 17 have a laminated structure of a plurality of refractory bricks 18-21.
  • the second bottom wall portion 17 may further have an insulating material (not shown) disposed on the lower surface of the lowermost layer fire brick 21 of the laminated structure.
  • the first bottom wall portion 16 may also further include an insulating material (not shown) disposed on the lower surface of the lowermost layer fire brick 20 of the laminated structure.
  • the temperature in the gap C between the first layer fire brick 18 and the second layer fire brick 19 viewed from the furnace inside is made equal to or lower than the temperature at which the viscosity of the molten glass is 10 4 Pa ⁇ s. ing. This makes it possible to suppress the erosion of the first bottom wall portion 16 and to prevent the erosion.
  • the temperature of the gap C is preferably equal to or less than the temperature at which the viscosity is 10 5 Pa ⁇ s, and is equal to or less than the temperature at which the viscosity is 10 6 Pa ⁇ s, from the viewpoint of preventing erosion and melting loss more reliably.
  • the temperature of the gap C is preferably equal to or higher than the temperature at which the viscosity is 10 13 Pa ⁇ s.
  • the temperature of the gap C is preferably 1300 ° C. or less, more preferably 1200 ° C. or less, and most preferably 1100 ° C. or less.
  • the temperature of the gap C is equal to or less than the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s, the second layer refractory brick 19 and the third layer
  • the temperature of the gap at a position farther from the furnace interior than the gap C, such as the gap between the refractory brick 20 and the like, is also equal to or lower than the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s.
  • the total thickness T1 of the laminated structure of the first bottom wall portion 16 is the laminated structure of the second bottom wall portion 17 in order to make the temperature of the gap C equal to or lower than the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s.
  • the total thickness T2 of the is larger than that of the second bottom wall portion 17, so that the temperature of the gap C can be maintained at or below the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s.
  • the total thickness T1 of the laminated structure of the first bottom wall portion 16 is preferably 250 to 450 mm.
  • the thickness T3 of the first-layer refractory brick 18 is preferably 75 to 225 mm.
  • the thickness of the second and subsequent layers of the firebrick 19 can be, for example, 25 to 375 mm.
  • the total thickness T2 of the laminated structure of the second bottom wall portion 17 is preferably 300 to 700 mm.
  • stacking of the 1st bottom wall part 16 is not specifically limited, Two layers may be sufficient and four layers or more may be sufficient.
  • the material of the firebrick which comprises the 1st bottom wall part 16 (or the 1st bottom wall part 16 and the 2nd bottom wall part 17) in consideration of heat resistance, heat conductivity, etc.
  • the electrical resistivity of the molten glass Gm is low (less than 100 ⁇ ⁇ cm at 1500 ° C.)
  • an electroformed brick is used as the first-layer refractory brick 18 of the first bottom wall portion 16.
  • the electrical resistivity of the molten glass Gm is high (100 ⁇ ⁇ cm or more at 1500 ° C.)
  • a high electrical resistance electroformed brick and / or a dense as the first layer firebrick 18 of the first bottom wall portion 16 Fired bricks are used.
  • the brick materials of the first layer and the second and subsequent layers of the refractory bricks may be the same or different.
  • the temperature at the bottom surface 16 a of the first bottom wall portion 16 is preferably 400 ° C. or less.
  • the temperature at the bottom surface 16 a of the first bottom wall portion 16 is preferably 300 ° C. or higher.
  • the temperature at the bottom of the bottom wall in a conventional melting furnace is about 100 to 200 ° C. due to heat storage inside the bottom wall. Therefore, the temperature of the bottom surface of the second bottom wall portion 17 may be about 100 to 200.degree.
  • a temperature sensor such as a thermocouple may be provided on the gap C and / or the bottom surface 16 a of the first bottom wall portion 16.
  • the first bottom wall portion 16 having a total thickness of the laminated structure thinner than the second bottom wall portion 17 is an upstream side of the flow direction X of the molten glass Gm in the melting furnace 1 (for example, the flow direction X In some cases, it may be provided only within about 1/2 of the total length, or in substantially the entire flow direction X of the molten glass Gm in the melting furnace 1, as shown in FIG.
  • melting is often performed using both gas combustion and electric heating, and in the case of the configuration of FIG. 5, total electric melting is often performed.
  • FIG.4 and FIG.5 in order to clarify the area
  • the electrodes 11 are arranged in pairs in the width direction Y of the furnace at intervals (two pairs in the illustrated example), and the electrode pairs are flowed A plurality of sets may be arranged at intervals in the direction X.
  • electrodes 11 when the width of melting furnace 1 is narrow, electrodes 11 are arranged in a pair at intervals in the width direction Y of the furnace, and plural pairs of the electrodes are spaced in flow direction X. It may be arranged.
  • the electrodes 11 may be arranged in a pair or plural at intervals in the flow direction X, and plural pairs of the electrodes may be arranged in the width direction Y of the furnace.
  • the arrangement of the electrodes 11 is merely an example, and can be appropriately changed according to the melting conditions of the molten glass Gm.
  • the manufacturing method includes the melting step, the fining step, the homogenization step, the conditioning step, and the forming step.
  • molding process are as having demonstrated along with the structure of the above-mentioned manufacturing apparatus, below, a melting process is demonstrated.
  • the molten glass Gm is energized and heated by the electrode 11 provided on the bottom wall portion 10.
  • the viscosity of the molten glass Gm in the furnace becomes, for example, about 10 to 10 3 Pa ⁇ s.
  • the temperature in the gap C between the first layer refractory brick 18 and the second layer refractory brick 19 is equal to or lower than the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s.
  • the laminated structure of the first bottom wall portion 16 is formed. Thereby, erosion of the first bottom wall portion 16 can be suppressed and melting damage can be prevented. This is for the following reasons.
  • the laminated structure of the first bottom wall portion 16 is formed such that the temperature in the gap C is equal to or lower than the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s, the glass that has penetrated and reached the gap C has a high viscosity Because of that, it hardly flows. Therefore, the convection of the glass in the first bottom wall portion 16 can be suppressed, and the erosion of the first bottom wall portion 16 can be suppressed. In addition, since the electrical resistivity of the glass increases as the temperature of the glass decreases, it is difficult for electricity to flow to the glass that has penetrated into the gap. For this reason, the melting loss of the first bottom wall portion 16 can also be prevented.
  • the second bottom wall portion 17 is a portion where the electrode 11 is not provided, electricity does not easily flow to the diffused glass regardless of the temperature of the gap, and the convection of the glass is also small. Therefore, in the second bottom wall portion 17, the temperature in the gap between the first layer refractory brick 18 and the second layer refractory brick 19 seen from the furnace inside is such that the viscosity of the molten glass is 10 4 Pa ⁇ s. There is no particular problem even if it exceeds a certain temperature.
  • the temperature in the gap between the first layer refractory brick 18 and the second layer refractory brick 19 seen from the furnace inside is such that the viscosity of the molten glass is 10 4 Pa ⁇ s It may be below the temperature.
  • the total thickness T1 of the first bottom wall 16 including the portion of the bottom wall 10 corresponding to the current-flowing scheduled region E of the molten glass Gm is the second bottom wall 17 which is the other portion.
  • the second bottom wall portion 17 may be thinner as the first bottom wall portion 16 and the entire bottom wall portion 10 may be thinner.
  • the total thickness T1 of the first bottom wall portion 16 including the portion corresponding to the current passage region E of the molten glass Gm in the bottom wall portion 10 is reduced.
  • the temperature of the gap C is not higher than the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s, it is not limited thereto.
  • the temperature of the gap C in the first bottom wall portion 16 is made equal to or lower than the temperature at which the viscosity is 10 4 Pa ⁇ s. It is also good.
  • the glass article formed by the forming apparatus 5 may be, for example, an optical glass part, a glass tube, a glass block, a glass fiber, or the like, and may have any shape.
  • a glass plate was manufactured by the manufacturing apparatus of the glass article shown in FIG. 1 to FIG.
  • the test conditions at that time are as follows.
  • Glass plate Non-alkali glass conforming to glass substrate for display (product name: OA-11) manufactured by Nippon Electric Glass Co. Heating temperature in the melting furnace 1: 1500 ° C.
  • First layer refractory brick 18 dense zircon fired brick, thickness 150 mm
  • Second layer firebrick 19 Insulating brick, thickness 175mm Total thickness T1 of the laminated structure of the first bottom wall: 325 mm Total thickness T2 of laminated structure of second bottom wall: 500 mm
  • the temperature in the gap C between the first layer refractory brick 18 and the second layer refractory brick 19 seen from the furnace inside is 1000 to 1200 ° C.
  • the viscosity of the molten glass is about 10
  • the temperature was 4 to 10 6 Pa ⁇ s.

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Abstract

底壁部１０に設けられた電極１１で通電加熱する溶融炉１の炉内で、溶融ガラスＧｍを形成する溶融工程を備えるガラス物品の製造方法であって、底壁部１０は、複数の耐火煉瓦の積層構造を有し、底壁部１０のうち溶融ガラスＧｍの通電予定領域Ｅに対応する部分１６において、炉内側から見た一層目の耐火煉瓦１８と二層目の耐火煉瓦１９との間の隙間Ｃにおける温度が、溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下となるように、積層構造が形成されている。

Description

ガラス物品の製造方法及び溶融炉
　本発明は、ガラス物品の製造方法及び溶融炉に関する。
　板ガラスなどのガラス物品の製造方法には、溶融ガラスを得るための溶融工程が含まれる。この溶融工程では、溶融炉の底壁部に設けられた電極による通電加熱によって溶融ガラスを加熱する場合がある（例えば、特許文献１を参照）。
特開２００３－１８３０３１号公報
　電極による通電加熱を用いる場合、溶融ガラスの通電予定領域（設計上、通電が予定されている溶融ガラスの領域）において、溶融ガラスと接している底壁部が高温になりやすい。これに伴い、底壁部のうち通電予定領域に対応する部分に溶融ガラスが滲み込み、電気が流れやすくなる。その結果、底壁部のうち通電予定領域に対応する部分でガラスが対流し、浸食が進行しやすくなる。また、底壁部のうち通電予定領域に対応する部分が溶損する原因にもなる。特に、溶融ガラスとして電気抵抗率の高いガラス組成を用いた場合に、浸食や溶損が重大な問題となりやすい。
　本発明は、溶融炉の底壁部において、浸食を抑制すると共に溶損を防止することを課題とする。
　上記の課題を解決するために創案された本発明は、底壁部に設けられた電極で通電加熱する溶融炉の炉内で、溶融ガラスを形成する溶融工程を備えるガラス物品の製造方法において、底壁部は、複数の耐火煉瓦の積層構造を有し、底壁部のうち溶融ガラスの通電予定領域に対応する部分において、炉内側から見た一層目の耐火煉瓦と二層目の耐火煉瓦との間の隙間における温度が、溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下となるように、積層構造が形成されていることを特徴とする。このような構成によれば、底壁部のうち溶融ガラスの通電予定領域に対応する部分において、一層目の耐火煉瓦と二層目の耐火煉瓦との間の隙間にガラスが滲み込んでも、隙間の温度は溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下であるので、ガラスはほとんど流動することなく、電気も流れにくい。このため、底壁部内でのガラスの対流を抑制することができ、底壁部の浸食を抑制できる。また、底壁部の溶損も防止することができる。
　上記の構成において、底壁部のうち溶融ガラスの通電予定領域に対応する部分は、底壁部の他の部分よりも積層構造の総厚みが薄いことが好ましい。このようにすれば、溶融ガラスの通電予定領域に対応する部分で底壁部の放熱が高まるので、当該部分で底壁部の内部温度を低減することができる。従って、隙間の温度を溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下に制御しやすい。また、他の部分では、放熱を抑制できるので、エネルギー効率を高めることができる。
　上記の構成において、溶融ガラスが、無アルカリガラスであってもよい。すなわち、無アルカリガラスは高い電気抵抗率を有するガラスであるが、本発明であれば底壁部が漏電しにくい構成であるため、このような高い電気抵抗率を有するガラスでも問題なく使用することができる。
　溶融ガラスが無アルカリガラスの場合、隙間の温度は、１３００℃以下であることが好ましい。
　上記の課題を解決するために創案された本発明は、炉内で溶融ガラスを通電加熱する電極が設けられた底壁部を備えた溶融炉において、底壁部は、複数の耐火煉瓦の積層構造を有し、底壁部のうち溶融ガラスの通電予定領域に対応する部分において、炉内側から見た一層目の耐火煉瓦と二層目の耐火煉瓦との間の隙間における温度が、溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下となるように、積層構造が形成されていることを特徴とする。このような構成によれば、上記の対応する構成と同様の効果を享受することができる。
　以上のような本発明によれば、溶融炉の底壁部において、浸食を抑制できると共に溶損を防止できる。
ガラス物品の製造装置を示す側面図である。 図１のガラス物品の製造装置の溶融炉を示す断面図である。 図２の溶融炉の底壁部周辺を拡大して示す拡大断面図である。 溶融炉の底壁部の平面図の一例である。 溶融炉の底壁部の平面図の一例である。
　以下、本実施形態に係るガラス物品の製造方法及び溶融炉について図面を参照しながら説明する。
　図１に示すように、本製造方法に用いられるガラス物品の製造装置は、上流側から順に、溶融炉１と、清澄室２と、均質化室（攪拌室）３と、ポット４と、成形装置５とを備え、これら各部１～５が移送管６～９によって接続されている。ここで、清澄室２などの「室」及び「ポット」という用語には、槽状構造を有するものや、管状構造を有するものが含まれるものとする。
　溶融炉１は、溶融ガラスＧｍを得る溶融工程を行うための空間である。ここで、溶融ガラスＧｍとしては、無アルカリガラスを使用することができる。無アルカリガラスからなる溶融ガラスＧｍの電気抵抗率は、一般的に高く、例えば溶融炉１の加熱温度１５００℃において１００Ω・ｃｍ以上となる。なお、溶融ガラスＧｍは、無アルカリガラスに限定されない。
　清澄室２は、溶融炉１から供給された溶融ガラスＧｍを清澄剤などの働きによって清澄（泡抜き）する清澄工程を行うための空間である。
　均質化室３は、清澄された溶融ガラスＧｍを攪拌翼３ａにより攪拌し、均一化する均質化工程を行うための空間である。
　ポット４は、溶融ガラスＧｍを成形に適した状態（例えば粘度）に調整する状態調整工程を行うための空間である。なお、ポット４は省略してもよい。
　成形装置５は、溶融ガラスＧｍを所望の形状に成形する成形工程を行うためのものである。本実施形態では、成形装置５は、オーバーフローダウンドロー法によって溶融ガラスＧｍを板状に成形し、ガラス物品としてのガラス板を製造する。
　成形装置５は、断面形状（紙面と直交する断面形状）が略楔形状をなし、成形装置５の上部にオーバーフロー溝（図示省略）が形成されている。移送管９によって溶融ガラスＧｍをオーバーフロー溝に供給した後、溶融ガラスＧｍをオーバーフロー溝から溢れ出させて、成形装置５の両側の側壁面（紙面の表裏面側に位置する側面）に沿って流下させる。そして、その流下させた溶融ガラスＧｍを側壁面の下頂部で融合させ、板状に成形する。成形された板ガラスは、例えば、厚みが０．０１～１０ｍｍ（好ましくは０．１～３ｍｍ）であって、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどのフラットパネルディスプレイ、有機ＥＬ照明、太陽電池などの基板や保護カバーに利用される。なお、成形装置５は、スロットダウンドロー法などの他のダウンドロー法や、フロート法を実行するものであってもよい。
　移送管６～９は、例えば白金又は白金合金からなる円筒管で構成されており、溶融ガラスＧｍを横方向（略水平方向）に移送する。移送管６～９は、必要に応じて通電加熱される。
　図２に示すように、溶融炉１は、通電加熱を含む加熱によって、ガラス原料（カレットを含んでもよい）Ｇｒを溶融して溶融ガラスＧｍを形成する。図２中、矢印Ｘは、溶融ガラスＧｍの流れ方向を示している。溶融炉１は、耐火煉瓦（例えば、ジルコニア系電鋳煉瓦やアルミナ系電鋳煉瓦、アルミナ・ジルコニア系電鋳煉瓦、ＡＺＳ（Ａｌ－Ｚｒ－Ｓｉ）系電鋳煉瓦、デンス焼成煉瓦など）で構成された壁部によって炉内の溶融空間を区画形成する。本実施形態では、溶融炉１は、ガラス原料Ｇｒの溶融空間が一つだけのシングルメルターであるが、複数の溶融空間を連ねたマルチメルターであってもよい。
　溶融炉１の底壁部１０には、通電加熱のために、溶融ガラスＧｍに浸漬された状態で複数の電極１１が設けられている。本実施形態では、溶融炉１内には、電極１１以外の他の加熱手段が設けられておらず、電極１１の通電加熱（電気エネルギー）のみでガラス原料Ｇｒを溶融（全電気溶融）するようになっている。電極１１は、例えば、棒状のモリブデン（Ｍｏ）から形成される。なお、溶融炉１は、全電気溶融に限らず、ガス燃焼と電気加熱を併用してガラス原料Ｇｒを溶融するものであってもよい。ガス燃焼と電気加熱を併用する場合、例えば、溶融炉１の上部に複数のガスバーナーが設けられる。
　溶融炉１には、原料供給手段としてのスクリューフィーダ１２が設けられている。スクリューフィーダ１２は、溶融ガラスＧｍの液面Ｇｍ１の一部にガラス原料（固体原料）Ｇｒに覆われていない部分が形成されるようにガラス原料Ｇｒを順次供給する。すなわち、溶融炉１は、いわゆるセミホットトップタイプである。なお、溶融炉１は、溶融ガラスＧｍの液面Ｇｍ１の全部がガラス原料Ｇｒに覆われた、いわゆるコールドトップタイプでもよい。また、原料供給手段は、プッシャーや振動フィーダなどであってもよい。
　溶融炉１には、溶融炉１内の気体を外部に排出するための気体排出路としての煙道１３が設けられている。煙道１３内には、気体を外部に送るためのファン１３ａが設けられている。ファン１３ａは設けなくてもよい。なお、本実施形態では、溶融炉１内の気体は空気であるが、これに限定されない。
　図３に示すように、溶融炉１の底壁部１０に設けられた電極１１は、底壁部１０を上下方向に沿って貫通して炉内に至っている。図３中、矢印Ｙは、溶融ガラスＧｍの流れ方向Ｘと直交する幅方向を示している。ここで、「上下方向に沿う」とは、鉛直方向から僅かに傾斜した場合も含む意味である。
　電極１１の外周面は、筒状の電極ホルダ１４の内周面に保持されている。電極ホルダ１４の外周面は、溶融炉１の底壁部１０と密着した状態で、底壁部１０に設けられた保持穴１５の内周面に保持されている。電極ホルダ１４の上端面は、炉内の溶融状態にある溶融ガラスＧｍと接触している。
　電極ホルダ１４は、例えば、鉄材（例えばステンレス鋼）などの金属で形成される。電極ホルダ１４は、モリブデンの昇華等による電極１１の損耗を防止するために、水などの冷媒が流通可能な冷却層（図示なし）を内部に有している。
　溶融炉１の底壁部１０は、溶融ガラスＧｍの通電予定領域Ｅに対応する部分を含む第一底壁部１６と、第一底壁部１６を除く他の部分である第二底壁部１７とを備える。電極１１は、第一底壁部１６に設けられており、第二底壁部１７には設けられていない。第一底壁部１６及び第二底壁部１７は、複数の耐火煉瓦１８～２１の積層構造を有する。なお、第二底壁部１７は、積層構造の最下層の耐火煉瓦２１の下面に配置された絶縁材（図示なし）をさらに有してもよい。また、第一底壁部１６も、積層構造の最下層の耐火煉瓦２０の下面に配置された絶縁材（図示なし）をさらに有してもよい。
　第一底壁部１６において、炉内側から見た一層目の耐火煉瓦１８と二層目の耐火煉瓦１９の隙間Ｃにおける温度は、溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下とされている。これにより、第一底壁部１６の浸食を抑制すると共に溶損を防止することが可能となる。より確実に浸食を抑制すると共に溶損を防止する観点では、隙間Ｃの温度は、粘度が１０5Ｐａ・ｓである温度以下であることが好ましく、粘度が１０6Ｐａ・ｓである温度以下であることがより好ましい。一方、エネルギー効率の観点から、隙間Ｃの温度は、粘度が１０13Ｐａ・ｓである温度以上とすることが好ましい。溶融ガラスＧｍが無アルカリガラスの場合、隙間Ｃの温度は、１３００℃以下とすることが好ましく、１２００℃以下とすることがより好ましく、１１００℃以下とすることが最も好ましい。なお、熱源となる溶融ガラスＧｍの大部分は炉内側に存在するので、隙間Ｃの温度が粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下であれば、二層目の耐火煉瓦１９と三層目の耐火煉瓦２０との間の隙間等、隙間Ｃよりも炉内から離れる位置における隙間の温度も粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下となる。
　本実施形態では、隙間Ｃの温度を粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下にするために、第一底壁部１６の積層構造の総厚みＴ１が、第二底壁部１７の積層構造の総厚みＴ２よりも薄くなっている。これにより、第二底壁部１７に比べて第一底壁部１６における放熱が大きくなるので、隙間Ｃの温度を粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下に維持することができる。
　第一底壁部１６の積層構造の総厚みＴ１は、２５０～４５０ｍｍであることが好ましい。また、一層目の耐火煉瓦１８の厚みＴ３は、７５～２２５ｍｍであることが好ましい。二層目以降の耐火煉瓦１９の厚みは、例えば２５～３７５ｍｍとすることができる。第二底壁部１７の積層構造の総厚みＴ２は、３００～７００ｍｍであることが好ましい。なお、第一底壁部１６の積層数は特に限定されず、二層であってもよいし、四層以上であってもよい。
　第一底壁部１６（又は第一底壁部１６及び第二底壁部１７）を構成する耐火煉瓦の材質は、耐熱性や熱伝導率等を考慮して選択することが好ましい。溶融ガラスＧｍの電気抵抗率が低い場合（１５００℃で１００Ω・ｃｍ未満）、第一底壁部１６の一層目の耐火煉瓦１８としては、例えば、電鋳煉瓦が用いられる。一方、溶融ガラスＧｍの電気抵抗率が高い場合（１５００℃で１００Ω・ｃｍ以上）、第一底壁部１６の一層目の耐火煉瓦１８としては、例えば、高電気抵抗電鋳煉瓦及び／又はデンス焼成煉瓦が用いられる。第一底壁部１６において、一層目と二層目以降の耐火煉瓦の煉瓦材質は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。
　隙間Ｃの温度を粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下にする観点では、第一底壁部１６の底面１６ａにおける温度は４００℃以下となることが好ましい。一方、エネルギー効率の観点では、第一底壁部１６の底面１６ａにおける温度は３００℃以上となることが好ましい。通常の溶融炉（底壁部を薄くしていない炉）における底壁部の底面における温度は、底壁部内部の蓄熱により、１００～２００℃程度である。このため、第二底壁部１７の底面の温度は、１００～２００℃程度とすればよい。なお、隙間Ｃ及び／又は第一底壁部１６の底面１６ａに熱電対等の温度センサを設けてもよい。
　積層構造の総厚みが第二底壁部１７よりも薄い第一底壁部１６は、図４に示すように、溶融炉１における溶融ガラスＧｍの流れ方向Ｘの上流側（例えば、流れ方向Ｘの全長の約１／２以内）のみに設けられる場合もあるし、図５に示すように、溶融炉１における溶融ガラスＧｍの流れ方向Ｘの略全域に設けられる場合もある。図４の構成の場合は、ガス燃焼と電気加熱とを併用した溶融とされる場合が多く、図５の構成の場合は、全電気溶融とされる場合が多い。なお、図４及び図５では、第一底壁部１６の領域を明確にするために、第一底壁部１６に相当する部分にハッチングを付している。従って、これら図のハッチングは断面を示すものではない。
　ここで、図４に示すように、溶融炉１の幅が広い場合、電極１１は、炉の幅方向Ｙに間隔を置いて複数対（図示例は二対）配置し、その電極対を流れ方向Ｘに間隔を置いて複数組配置してもよい。また、図５に示すように、溶融炉１の幅が狭い場合、電極１１は、炉の幅方向Ｙに間隔を置いて一対配置し、その電極対を流れ方向Ｘに間隔を置いて複数組配置してもよい。また、図示を省略するが、電極１１は、流れ方向Ｘに間隔を置いて一対又は複数対配置し、その電極対を炉の幅方向Ｙに間隔を置いて複数組配置してもよい。これら電極１１の配置態様は、あくまで一例であり、溶融ガラスＧｍの溶融条件に応じて適宜変更することができる。
　次に、以上のように構成された製造装置によるガラス物品の製造方法を説明する。
　本製造方法は、上述のように、溶融工程と、清澄工程と、均質化工程と、状態調整工程と、成形工程とを備える。なお、清澄工程、均質化工程、状態調整工程及び成形工程は上述の製造装置の構成に併せて説明した通りであるので、以下では溶融工程について説明する。
　図３に示すように、溶融工程では、底壁部１０に設けられた電極１１によって、溶融ガラスＧｍを通電加熱する。これに伴って炉内の溶融ガラスＧｍの粘度は、例えば１０～１０3Ｐａ・ｓ程度となる。この際、第一底壁部１６において、一層目の耐火煉瓦１８と二層目の耐火煉瓦１９との間の隙間Ｃにおける温度が、粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下になるように、第一底壁部１６の積層構造が形成されている。これにより、第一底壁部１６の浸食を抑制できると共に溶損を防止できる。これは、下記の理由によるものである。
　隙間Ｃにおける温度が、粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下になるように、第一底壁部１６の積層構造を形成すれば、滲み込んで隙間Ｃに到達したガラスは、粘度が高いことから、ほとんど流動しない。このため、第一底壁部１６内でのガラスの対流を抑制することができ、第一底壁部１６の浸食を抑制することができる。また、ガラスの温度が低下するのに伴い、ガラスの電気抵抗率が上昇するので、隙間に滲み込んだガラスには電気が流れにくい。このため、第一底壁部１６の溶損も防止することができる。
　ここで、第二底壁部１７は、電極１１が設けられていない部分であるので、隙間の温度に拘わらず、滲み込んだガラスに電気が流れにくく、それに伴うガラスの対流も少ない。このため、第二底壁部１７において、炉内側から見た一層目の耐火煉瓦１８と二層目の耐火煉瓦１９との間の隙間における温度が、溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度を超えても特に問題はない。勿論、第二底壁部１７において、炉内側から見た一層目の耐火煉瓦１８と二層目の耐火煉瓦１９との間の隙間における温度が、溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下であってもよい。
　なお、本発明は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。
　上記の実施形態では、底壁部１０のうち、溶融ガラスＧｍの通電予定領域Ｅに対応する部分を含む第一底壁部１６の総厚みＴ１を、その他の部分である第二底壁部１７の総厚みＴ２に比べて薄くする場合を説明したが、第二底壁部１７を第一底壁部１６と同様に薄くし、底壁部１０全体を薄くしてもよい。
　上記の実施形態では、底壁部１０のうち、溶融ガラスＧｍの通電予定領域Ｅに対応する部分を含む第一底壁部１６の総厚みＴ１を薄くすることにより、第一底壁部１６における隙間Ｃの温度を粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下とするが、これに限定されない。例えば、第一底壁部１６において、一層目の耐火煉瓦１８の厚さＴ３を厚くすることにより、第一底壁部１６における隙間Ｃの温度を粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下としてもよい。
　上記の実施形態では、成形装置５で成形されるガラス物品が板ガラスである場合を説明したが、これに限定されない。例えば、成形装置５で成形されるガラス物品は、例えば、光学ガラス部品、ガラス管、ガラスブロック、ガラス繊維などであってもよいし、任意の形状であってよい。
　本発明の実施例として、図１～図３に示すガラス物品の製造装置により、ガラス板を製造した。その際の試験条件は、以下の通りである。
　ガラス板：日本電気硝子社製のディスプレイ用のガラス基板（製品名：ＯＡ－１１）に準じた無アルカリガラス
　溶融炉１での加熱温度：１５００℃
　一層目の耐火煉瓦１８：デンスジルコン焼成煉瓦、厚さ１５０ｍｍ
　二層目の耐火煉瓦１９：断熱煉瓦、厚さ１７５ｍｍ
　第一底壁部の積層構造の総厚みＴ１：３２５ｍｍ
　第二底壁部の積層構造の総厚みＴ２：５００ｍｍ
　第一底壁部１６において、炉内側から見た一層目の耐火煉瓦１８と二層目の耐火煉瓦１９の隙間Ｃにおける温度は、１０００～１２００℃とし、換言すると、溶融ガラスの粘度が概ね１０4～１０6Ｐａ・ｓである温度とした。
　溶解炉１を７年間稼働させた後、第一底壁部１６において、一層目の耐火煉瓦１８を目視で確認したところ、浸食及び溶損を検出できなかった。したがって、本発明によれば、溶融炉の底壁部において、浸食の抑制と共に溶損の防止が可能となるものと推認される。
１　　　溶融炉
２　　　清澄室
３　　　均質化室
４　　　ポット
５　　　成形装置
６～９　移送管
１０　　底壁部
１１　　電極
１２　　スクリューフィーダ
１３　　煙道
１４　　電極ホルダ
１６　　第一底壁部
１７　　第二底壁部
１８　　一層目の耐火煉瓦
１９　　二層目の耐火煉瓦
Ｃ　　　隙間
Ｅ　　　通電予定領域
Ｇｍ　　溶融ガラス
Ｇｒ　　ガラス原料
Ｔ１　　第一底壁部の積層構造の総厚み
Ｔ２　　第二底壁部の積層構造の総厚み

Claims (5)

  1. 　底壁部に設けられた電極で通電加熱する溶融炉の炉内で、溶融ガラスを形成する溶融工程を備えるガラス物品の製造方法であって、
    　前記底壁部は、複数の耐火煉瓦の積層構造を有し、
    　前記底壁部のうち前記溶融ガラスの通電予定領域に対応する部分において、前記炉内側から見た一層目の耐火煉瓦と二層目の耐火煉瓦との間の隙間における温度が、前記溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下となるように、前記積層構造が形成されていることを特徴とするガラス物品の製造方法。
  2. 　前記底壁部のうち前記溶融ガラスの前記通電予定領域に対応する部分が、前記底壁部の他の部分よりも前記積層構造の総厚みが薄いことを特徴とする請求項１に記載のガラス物品の製造方法。
  3. 　前記溶融ガラスが、無アルカリガラスであることを特徴とする請求項１又は２に記載のガラス物品の製造方法。
  4. 　前記隙間の温度が、１３００℃以下であることを特徴とする請求項３に記載のガラス物品の製造方法。
  5. 　炉内で溶融ガラスを通電加熱する電極が設けられた底壁部を備えた溶融炉であって、
    　前記底壁部は、複数の耐火煉瓦の積層構造を有し、
    　前記底壁部のうち前記溶融ガラスの通電予定領域に対応する部分において、前記炉内側から見た一層目の耐火煉瓦と二層目の耐火煉瓦との間の隙間における温度が、前記溶融ガラスの粘度が１０4Ｐａ・ｓである温度以下となるように、前記積層構造が形成されていることを特徴とする溶融炉。
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