WO2018147426A1 - シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法 - Google Patents

シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2018147426A1
WO2018147426A1 PCT/JP2018/004662 JP2018004662W WO2018147426A1 WO 2018147426 A1 WO2018147426 A1 WO 2018147426A1 JP 2018004662 W JP2018004662 W JP 2018004662W WO 2018147426 A1 WO2018147426 A1 WO 2018147426A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
shield
layer
film
ground member
wiring board
Prior art date
Application number
PCT/JP2018/004662
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
裕介 春名
貴彦 香月
長谷川 剛
宏 田島
Original Assignee
タツタ電線株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by タツタ電線株式会社 filed Critical タツタ電線株式会社
Priority to JP2018567517A priority Critical patent/JP6959948B2/ja
Publication of WO2018147426A1 publication Critical patent/WO2018147426A1/ja

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K9/00Screening of apparatus or components against electric or magnetic fields

Definitions

  • the present invention relates to a shield film, a shield printed wiring board, and a method for manufacturing a shield printed wiring board.
  • Flexible printed wiring boards are frequently used to incorporate circuits in complex mechanisms in electronic devices such as mobile phones, video cameras, and notebook computers that are rapidly becoming smaller and more functional. Furthermore, taking advantage of its excellent flexibility, it is also used for connection between a movable part such as a printer head and a control part. In these electronic devices, electromagnetic wave shielding measures are indispensable, and flexible printed wiring boards used in the device are also described as flexible printed wiring boards (hereinafter referred to as “shield printed wiring boards”). Have been used.
  • a general shield printed wiring board is usually a base film in which a printed circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, a conductive layer, a shield layer laminated on the conductive layer, and a laminate on the conductive layer. And a shielding film that covers the base film so that the conductive layer is in contact with the base film.
  • the printed circuit includes a ground circuit, and the ground circuit is electrically connected to the housing of the electronic device in order to obtain a ground.
  • the insulating film is provided on the printed circuit including the ground circuit.
  • the base film is covered with a shield film having an insulating layer. Therefore, in order to electrically connect the ground circuit and the casing of the electronic device, it is necessary to make holes in advance in part of the insulating film and the shield film. This has been a factor that hinders the degree of freedom in designing a printed circuit.
  • a cover film is coated on one side of a separate film, a shield layer composed of a metal thin film layer and an adhesive layer is provided on the surface of the cover film, and the cover film is provided on one end side.
  • the ground member is pressed against the cover film so that the projection of the ground member penetrates the cover film. Therefore, the ground member can be disposed at an arbitrary position of the shield film.
  • the ground circuit and the housing of the electronic device can be electrically connected at an arbitrary position.
  • the shield printed wiring board is repeatedly heated and cooled in a solder reflow process or the like.
  • a component on the shield printed wiring board described in Patent Document 1 if heating and cooling are repeated in this manner, the protrusion of the ground member and the shield layer are separated from each other due to a volume change due to thermal expansion. There was a case where the phenomenon of ending up occurred.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is a shield film used for a shield printed wiring board having a ground member, and heating and cooling the shield printed wiring board. It is to provide a shield film that is less likely to be displaced between the conductive protrusions of the ground member or the conductive filler and the shield layer of the shield film when the component is mounted by repeating the above.
  • the shield film of the present invention is a shield film comprising a shield layer and an insulating layer laminated on the shield layer, and at least a portion between the shield layer and the insulating layer includes a first film.
  • a low melting point metal layer is formed.
  • the shield film of the present invention is used for a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film. At this time, the shield film of the present invention is coated on the base film so that the adhesive layer is in contact with the base film. Further, the shield film of the present invention has a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and is composed of an external connection member having conductivity, and the first main surface has A ground member on which conductive protrusions or conductive fillers are disposed is disposed.
  • a ground member is pressed and arrange
  • positioned can be produced.
  • the shield printed wiring board is subjected to heat treatment.
  • the first low melting point metal layer softens and adheres to and is connected to the conductive protrusion or conductive filler of the ground member, so that the first low melting point metal layer of the field film and the conductive protrusion of the ground member are connected.
  • adhesiveness with a conductive filler can be improved. Therefore, when a component is mounted by repeatedly heating and cooling the shield printed wiring board, a shift is less likely to occur between the conductive protrusion of the ground member or the conductive filler and the shield layer of the shield film.
  • the first low melting point metal layer is formed of a metal having a melting point of 300 ° C. or lower.
  • the first low melting point metal layer is easily softened when the ground member is disposed on the shield printed wiring board. Adhesiveness between the conductive protrusion or the conductive filler and the first low-melting point metal layer can be preferably improved.
  • the first low melting point metal layer is formed of a metal having a melting point exceeding 300 ° C., the heating temperature when the ground member is arranged on the shield printed wiring board becomes high. Therefore, the ground member and the shield printed wiring board are easily damaged by heat.
  • the thickness of the first low melting point metal layer is preferably 0.1 to 10 ⁇ m, more preferably 0.1 to 5 ⁇ m.
  • the thickness of the first low melting point metal layer is less than 0.1 ⁇ m, the amount of metal forming the first low melting point metal layer is small. It is difficult to improve the adhesion between the conductive protrusions or conductive fillers of the first low melting point metal layer of the shield film.
  • the thickness of the first low melting point metal layer exceeds 50 ⁇ m, the shield layer is easily deformed when the first low melting point metal layer is softened. As a result, the shield characteristics of the shield film are likely to deteriorate.
  • the first low melting point metal layer preferably contains a flux.
  • the metal constituting the first low melting point metal layer is softened by including the flux in the first low melting point metal layer, the metal constituting the low melting point metal layer, the conductive protrusion or conductive filler of the ground member, Becomes easier to adhere. As a result, it is possible to further improve the adhesion between the first low melting point metal layer and the conductive protrusion or conductive filler of the ground member.
  • the shield film of the present invention preferably further comprises an adhesive layer laminated on the surface of the shield layer opposite to the surface on which the insulating layer is laminated.
  • the shield film can be easily adhered to the base film during the production of the shield printed wiring board.
  • the shield film of the present invention it is desirable that a second low-melting-point metal layer is formed at least partly between the adhesive layer and the shield layer.
  • the shield layer of the shield film is penetrated through the conductive protrusions or conductive filler of the ground member and brought into contact with the second low melting point metal layer.
  • the adhesive layer is preferably a conductive adhesive layer.
  • the adhesive layer of the shield film is a conductive adhesive layer, the conductive protrusion or conductive filler of the ground member penetrates the insulating layer of the shield film, so that the conductive protrusion or conductive filler of the ground member and The conductive adhesive layer comes into contact, and the external connection member of the ground member and the ground circuit of the base film can be electrically connected.
  • the shield layer preferably contains at least one selected from the group consisting of nickel, copper, silver, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and alloys thereof.
  • the shield layer made of these materials has high conductivity and exhibits a shielding effect of shielding noise such as unnecessary radiation from an electric signal and external electromagnetic waves.
  • the shield layer may be a conductive adhesive layer.
  • the shield layer has both a function for adhering the shield film to the base film and a function for shielding electromagnetic waves.
  • the shield printed wiring board of the present invention comprises a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, a shield layer, and an insulating layer laminated on the shield layer.
  • a shield printed wiring board comprising: a shield film that covers the base film so that the shield layer is disposed closer to the base film than the insulating layer; and a ground member that is disposed on the insulating layer of the shield film.
  • the ground member has a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and has a conductive external connection member and the first main surface side.
  • the conductive protrusions of the ground member penetrate through the insulating layer of the shield film, and the conductive protrusions of the ground member are low.
  • an external connection member of the gland member is characterized that it is an external ground and electrically connectable.
  • the conductive protrusion of the ground member is connected to the shield layer of the shield film via a low melting point metal. Therefore, the adhesiveness between the conductive protrusion of the ground member and the shield layer of the shield film is high.
  • the low melting point metal is a first low melting point metal layer formed in at least a part between the shield layer and the insulating layer of the shield film.
  • the shield printed wiring board having the above configuration is a shield printed wiring board using the shield film of the present invention. Therefore, when a component is mounted by repeating heating and cooling on the shield printed wiring board of the present invention, a shift is less likely to occur between the conductive protrusion of the ground member and the shield layer of the shield film.
  • the shield film further includes an adhesive layer laminated on the surface of the shield layer opposite to the surface on which the insulating layer is laminated, and the shield film adhesive The layer is preferably in contact with the substrate film.
  • the shield film has an adhesive layer, the shield film can be easily adhered to the base film during the production of the shield printed wiring board.
  • the low-melting-point metal forms a second low-melting-point metal layer at least partly between the adhesive layer of the shield film and the shield layer of the shield film,
  • the conductive protrusion of the ground member penetrates the shield layer of the shield film, and the conductive protrusion of the ground member passes through the low melting point metal forming the second low melting point metal layer. It is desirable to connect to the shield layer. In this case, the adhesion between the ground member and the shield film can be further improved.
  • the adhesive layer is preferably a conductive adhesive layer.
  • the adhesive layer of the shield film is a conductive adhesive layer, the conductive protrusion of the ground member penetrates the insulating layer of the shield film, so that the conductive protrusion of the ground member and the conductive adhesive layer contact each other.
  • the external connection member of the ground member and the ground circuit of the base film can be electrically connected.
  • the shield layer is at least one selected from the group consisting of nickel, copper, silver, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and alloys thereof. It is desirable to include.
  • the shield layer made of these materials has high conductivity and exhibits a shielding effect of shielding noise such as unnecessary radiation from an electric signal and external electromagnetic waves.
  • the shield layer in the shield film, may be a conductive adhesive layer, and the shield layer of the shield film may be in contact with the base film.
  • the shield layer is a conductive adhesive layer
  • the shield layer has both a function for adhering the shield film to the base film and a function for shielding electromagnetic waves.
  • the shield printed wiring board of the present invention comprises a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, a shield layer, and an insulating layer laminated on the shield layer.
  • a shield printed wiring board comprising: a shield film that covers the base film so that the shield layer is disposed closer to the base film than the insulating layer; and a ground member that is disposed on the insulating layer of the shield film.
  • the ground member has a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and has a conductive external connection member and the first main surface side. The conductive filler of the ground member penetrates through the insulating layer of the shield film, and the conductive filler of the ground member.
  • the first low-melting-point metal layer of the shield film is connected to the conductive filler of the ground member, and is connected to the shield layer of the shield film via a low-melting-point metal.
  • the external connection member is characterized in that it can be electrically connected to an external ground.
  • the conductive filler of the ground member is connected to the shield layer of the shield film through a low melting point metal. Therefore, the adhesiveness between the conductive filler of the ground member and the shield layer of the shield film is high.
  • the low melting point metal is a first low melting point metal layer formed at least partly between the shield layer and the insulating layer of the shield film.
  • the shield printed wiring board having the above configuration is a shield printed wiring board using the shield film of the present invention. Therefore, when a component is mounted by repeating heating and cooling on the shield printed wiring board of the present invention, a shift is less likely to occur between the conductive filler of the ground member and the shield layer of the shield film.
  • the shield film further includes an adhesive layer laminated on the surface of the shield layer opposite to the surface on which the insulating layer is laminated, and the shield film adhesive The layer is preferably in contact with the substrate film.
  • the shield film has an adhesive layer, the shield film can be easily adhered to the base film during the production of the shield printed wiring board.
  • the low-melting-point metal forms a second low-melting-point metal layer at least partly between the adhesive layer of the shield film and the shield layer of the shield film,
  • the conductive filler of the ground member penetrates the shield layer of the shield film, and the conductive filler of the ground member passes through the low melting point metal that forms the second low melting point metal layer. It is desirable to connect to the shield layer. In this case, the adhesion between the ground member and the shield film can be further improved.
  • the adhesive layer is preferably a conductive adhesive layer.
  • the adhesive layer of the shield film is a conductive adhesive layer, the conductive filler of the ground member penetrates the insulating layer of the shield film, so that the conductive filler of the ground member and the conductive adhesive layer are in contact with each other.
  • the external connection member of the ground member and the ground circuit of the base film can be electrically connected.
  • the shield layer is at least one selected from the group consisting of nickel, copper, silver, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and alloys thereof. It is desirable to include.
  • the shield layer made of these materials has high conductivity and exhibits a shielding effect of shielding noise such as unnecessary radiation from an electric signal and external electromagnetic waves.
  • the shield layer in the shield film, may be a conductive adhesive layer, and the shield layer of the shield film may be in contact with the base film.
  • the shield layer is a conductive adhesive layer
  • the shield layer has both a function for adhering the shield film to the base film and a function for shielding electromagnetic waves.
  • the method for producing a shield printed wiring board of the present invention includes a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, the shield film of the present invention, and an insulating layer of the shield film.
  • a method for producing a shielded printed wiring board comprising the ground member, wherein the ground member has a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and is electrically conductive.
  • the shield is arranged so that the shield layer of the shield film is disposed on the base film side of the insulating film of the shield film, and the external projection member disposed on the first main surface side.
  • the shield printed wiring board of the present invention can be manufactured.
  • the method for producing a shield printed wiring board of the present invention includes a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, the shield film of the present invention, and an insulating layer of the shield film.
  • a method for producing a shielded printed wiring board comprising the ground member, wherein the ground member has a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, and is electrically conductive.
  • the shield printed wiring board of the present invention can be manufactured.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a ground member used in the shield printed wiring board in which the shield film according to the first embodiment of the present invention is used.
  • 4A and 4B are cross-sectional views schematically showing an example of a shield printed wiring board using the ground member shown in FIG.
  • FIG. 5 is a process diagram schematically showing the method of manufacturing a shield printed wiring board according to the present invention in the order of steps.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the first embodiment of the present
  • FIG. 6 is a process diagram schematically showing the method of manufacturing a shield printed wiring board according to the present invention in the order of steps.
  • FIG. 7 is a process diagram schematically showing the method of manufacturing the shield printed wiring board of the present invention in the order of steps.
  • FIG. 8 is a process diagram schematically showing the method of manufacturing the shield printed wiring board of the present invention in the order of steps.
  • FIGS. 9A and 9B are cross-sectional views schematically showing an example of a ground member used in a shield printed wiring board in which the shield film of the present invention is used.
  • FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views schematically showing an example of a shield printed wiring board using the ground member shown in FIG. FIG.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is sectional drawing which shows typically an example of the shield printed wiring board using the shield film which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
  • FIG. 13 is sectional drawing which shows typically an example of the shield printed wiring board using the shield film which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 15 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 16 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 17 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 18 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 19 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 19 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 20 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 21 is a diagram schematically illustrating an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • Drawing 22 is a figure showing typically an example of the manufacturing method of the shield printed wiring board using the shield film concerning a 3rd embodiment of the present invention.
  • FIG. 23 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 24 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 25 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • FIG. 26 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 27 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 28 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the first embodiment of the present invention.
  • the shield film 70 is a shield film composed of an adhesive layer 71, a shield layer 72 laminated on the adhesive layer 71, and an insulating layer 73 laminated on the shield layer 72.
  • a first low melting point metal layer 74 is formed between the shield layer 72 and the insulating layer 73.
  • the adhesive layer 71 is a conductive adhesive layer.
  • the shield film 70 is used for a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film and is used as a shield printed wiring board, and a ground member having a predetermined shape is disposed. Become.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the first embodiment of the present invention.
  • the shield printed wiring board 50 includes a base film 60 and a shield film 70.
  • the base film 60 is a film formed by sequentially providing a printed circuit 62 including a ground circuit 62 a and an insulating film 63 on a base film 61.
  • the shield film 70 covers the base film 60 so that the adhesive layer 71 of the shield film 70 is in contact with the base film 60.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a ground member used in the shield printed wiring board in which the shield film according to the first embodiment of the present invention is used.
  • 4A and 4B are cross-sectional views schematically showing an example of a shield printed wiring board using the ground member shown in FIG.
  • the ground member 1 has a first main surface 11 and a second main surface 12 opposite to the first main surface 11, and an external connection member 10 having conductivity, Conductive protrusions 20 are formed on the first main surface 11 side.
  • the ground member 1 is disposed on the shield printed wiring board 50.
  • the ground member 1 is composed of the conductive protrusion 20 of the ground member 1 and the shield film 70.
  • the insulating film 73 and the shield layer 72 may be pressed against the shield film 70 and disposed.
  • the ground member 1 is arranged so that the conductive protrusion 20 of the ground member 1 penetrates the insulating layer 73 of the shield film 70 but does not penetrate the shield layer 72 of the shield film 70.
  • the shield film 70 may be pressed against the shield film 70.
  • the external connection member 10 of the ground member 1 is connected to the external ground GND.
  • the shield printed wiring board 50 on which the ground member 1 is disposed is further subjected to heat treatment.
  • the first low-melting-point metal layer 74 is softened and attached to the conductive protrusion 20 of the ground member 1 for connection. Therefore, the adhesion between the first low melting point metal layer 74 and the conductive protrusion 20 of the ground member 1 can be improved. Accordingly, when a component is mounted by repeatedly heating and cooling the shield printed wiring board 50 including the ground member 1 using the shield film 70, the electrical resistance between the ground circuit 62a of the base film 60 and the external ground GND increases. Can be suppressed.
  • metal which comprises the 1st low melting-point metal layer 74 and the metal which comprises the electroconductive protrusion 20 of the ground member 1 can form an alloy, these form an alloy, A 1st low-melting-point metal layer Adhesion between 74 and the conductive protrusion 20 of the ground member 1 is further improved.
  • the first low melting point metal layer 74 is preferably formed of a metal having a melting point of 300 ° C. or lower.
  • the first low melting point metal layer 74 is easily softened when the ground member 1 is disposed on the shield printed wiring board 50.
  • the adhesion between the conductive protrusion 20 of the ground member 1 and the first low melting point metal layer 74 can be preferably improved.
  • the heating temperature when the ground member is arranged on the shield printed wiring board becomes high. Therefore, the ground member and the shield printed wiring board are easily damaged by heat.
  • the metal forming the first low-melting-point metal layer 74 is not particularly limited, but desirably includes at least one selected from the group consisting of indium, tin, lead, and bismuth. These metals have a melting point and conductivity suitable for forming the first low melting point metal layer 74.
  • the thickness of the first low melting point metal layer 74 is desirably 0.1 to 10 ⁇ m, and more desirably 0.1 to 5 ⁇ m.
  • the thickness of the first low melting point metal layer is less than 0.1 ⁇ m, the amount of metal forming the first low melting point metal layer is small, and therefore when the ground member is placed on the shield printed wiring board, the ground member It becomes difficult to improve the adhesiveness between the conductive protrusions of the shield film and the first low melting point metal layer of the shield film.
  • the thickness of the first low melting point metal layer exceeds 50 ⁇ m, the shield layer is easily deformed when the first low melting point metal layer is softened. As a result, the shield characteristics of the shield film are likely to deteriorate.
  • the first low melting point metal layer 74 preferably includes a flux.
  • the metal constituting the first low melting point metal layer 74 is softened by including the flux in the first low melting point metal layer 74, the conductivity of the ground member 1 and the metal constituting the first low melting point metal layer 74 is reduced.
  • the protrusion 20 is easily adhered. As a result, the adhesion between the first low melting point metal layer 74 and the conductive protrusion 20 of the ground member 1 can be further improved.
  • the first low melting point metal layer 74 is made of tin
  • the metal constituting the shield layer 72 may form an alloy.
  • a nickel layer is formed between the shield layer 72 and the first low melting point metal layer 74, it is possible to prevent such an alloy from being formed.
  • the tin constituting the first low melting point metal layer 74 and the conductive protrusion 20 of the ground member 1 can efficiently form an alloy. Therefore, the amount of tin used for the first low melting point metal layer 74 can be reduced.
  • the adhesive layer 71 is a conductive adhesive layer made of a resin and conductive fine particles.
  • the resin constituting the adhesive layer 71 is not particularly limited, but may be an acrylic resin, an epoxy resin, a silicon resin, a thermoplastic elastomer resin, a rubber resin, a polyester resin, a urethane resin, or the like. desirable.
  • the adhesive layer 71 contains tackifiers such as fatty acid hydrocarbon resins, C5 / C9 mixed resins, rosin, rosin derivatives, terpene resins, aromatic hydrocarbon resins, and heat-reactive resins. Also good. When these tackifiers are contained, the tackiness of the adhesive layer 71 can be improved.
  • electroconductive fine particles which comprise the adhesive bond layer 71
  • Copper powder, silver powder, nickel powder, silver coat copper powder (Ag coat Cu powder), gold coat copper powder, silver coat nickel powder (Ag coat Ni) Powder) and gold-coated nickel powder, and these metal powders can be produced by an atomizing method, a carbonyl method or the like.
  • particles obtained by coating a metal powder with a resin and particles obtained by coating a resin with a metal powder can also be used.
  • the conductive fine particles are preferably Ag-coated Cu powder or Ag-coated Ni powder. This is because conductive fine particles having stable conductivity can be obtained with an inexpensive material.
  • the shape of the conductive fine particles is not necessarily limited to a spherical shape, and may be, for example, a dendritic shape, a flake shape, a spike shape, a rod shape, a fiber shape, a needle shape, or the like.
  • the adhesive layer 71 of the shield film 70 is a conductive adhesive layer
  • the conductive protrusion 20 of the ground member 1 penetrates the insulating layer 73 of the shield film 70, so that the conductive protrusion 20 of the ground member 1
  • the shield layer 72 and the adhesive layer 71 of the shield film 70 are in contact with each other, or the conductive protrusion 20 of the ground member 1 and the shield layer 72 of the shield film 70 are in contact with each other, and the external connection member 10 of the ground member 1 and the base film.
  • 60 ground circuits 62a can be electrically connected.
  • the adhesive layer 71 may be an anisotropic conductive adhesive layer or an isotropic conductive adhesive layer, but is more preferably an anisotropic conductive adhesive layer.
  • the conductive fine particles are preferably contained in the range of 3 to 39% by weight with respect to the total amount of the adhesive layer 71.
  • the average particle diameter of the conductive fine particles is desirably in the range of 2 to 20 ⁇ m, but it is desirable to select an optimum size according to the thickness of the anisotropic conductive adhesive layer.
  • the conductive fine particles may be included in the range of more than 39% by weight and 95% by weight or less with respect to the total amount of the adhesive layer 71. desirable.
  • the average particle diameter of the conductive fine particles can be selected in the same manner as in the anisotropic conductive adhesive layer.
  • the shield layer 72 of the shield film 70 may be made of any material as long as it exhibits a shielding effect that shields unwanted radiation from electrical signals and noises such as external electromagnetic waves.
  • the shield layer 72 may be made of isotropic conductive resin or metal.
  • the shield layer 72 may be a metal layer such as a metal foil or a vapor deposition film, or may be an aggregate of conductive particles formed in a layer shape.
  • the material constituting the metal is at least one selected from the group consisting of nickel, copper, silver, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and alloys thereof. It is desirable to include seeds.
  • the shield layer 72 is an aggregate of conductive particles, the same conductive fine particles as the conductive fine particles constituting the adhesive layer 71 described above can be used. These materials have high conductivity and are suitable as a shield layer.
  • the shield layer 72 desirably includes at least one selected from the group consisting of nickel, copper, silver, gold, palladium, aluminum, chromium, titanium, zinc, and alloys thereof.
  • the shield layer 72 made of these materials has high conductivity and exhibits a shielding effect for shielding noise such as unnecessary radiation from an electric signal and external electromagnetic waves.
  • the thickness of the shield layer 72 of the shield film 70 is preferably 0.01 to 10 ⁇ m.
  • the thickness of the shield layer 72 is less than 0.01 ⁇ m, it is difficult to obtain a sufficient shielding effect.
  • the thickness of the shield layer 72 exceeds 10 ⁇ m, it becomes difficult to bend.
  • the material of the insulating layer 73 of the shield film 70 is not particularly limited, but is preferably an epoxy resin, a polyester resin, an acrylic resin, a phenol resin, a urethane resin, or the like.
  • the thickness of the insulating layer 73 of the shield film 70 is preferably 1 to 10 ⁇ m.
  • the thickness of the insulating layer is less than 0.01 ⁇ m, the insulating layer is easily broken and the insulating properties are not easily obtained. If the thickness of the insulating layer exceeds 10 ⁇ m, it becomes difficult for the conductive protrusions of the ground member to penetrate the insulating layer 73.
  • the manufacturing method of the shield printed wiring board using the shield film 70 is demonstrated.
  • the manufacturing method of this shield printed wiring board is also an example of the manufacturing method of the shield printed wiring board of this invention.
  • the manufacturing method of the shield printed wiring board of the present invention comprises a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, a shield layer, and an insulating layer laminated on the shield layer.
  • a method for producing a shield printed wiring board comprising: a shield film that covers the base film so that the adhesive layer is in contact with the base film; and a ground member that is disposed on an insulating layer of the shield film.
  • 5 to 8 are process diagrams schematically showing the method of manufacturing a shield printed wiring board according to the present invention in the order of steps.
  • Shielding film placing step First, a base film 60 is prepared in which a printed circuit 62 including a ground circuit 62a and an insulating film 63 are sequentially provided on a base film 61. Then, as shown in FIG. 5, the shield film 70 is placed so that the adhesive layer 71 is in contact with the base film 60.
  • the materials of the base film 61 and the insulating film 63 constituting the base film 60 are not particularly limited, but are preferably made of engineering plastic.
  • engineering plastics include resins such as polyethylene terephthalate, polypropylene, crosslinked polyethylene, polyester, polybenzimidazole, polyimide, polyimide amide, polyether imide, and polyphenylene sulfide.
  • a polyphenylene sulfide film is desirable when flame retardancy is required, and a polyimide film is desirable when heat resistance is required.
  • the thickness of the base film 61 is desirably 10 to 40 ⁇ m
  • the thickness of the insulating film 63 is desirably 10 to 30 ⁇ m.
  • the insulating film 63 has a hole 63a for exposing a part of the printed circuit 62.
  • the method for forming the hole 63a is not particularly limited, and a conventional method such as laser processing can be employed.
  • ground member placement step In this step, the ground member 1 is placed on the shield film 70 so that the conductive protrusions 20 of the ground member 1 face the insulating layer 73 side of the shield film 70 as shown in FIG. .
  • the ground member 1 has a first main surface 11 and a second main surface 12 opposite to the first main surface 11, and has a conductive external connection member 10 and a first main surface 11 side. Arranged conductive protrusions 20 are formed.
  • the external connection member 10 and the conductive protrusion 20 include at least one selected from the group consisting of copper, aluminum, silver, gold, nickel, chromium, titanium, zinc, and stainless steel. These materials are suitable for electrically connecting the ground member and the external ground.
  • a low melting point metal layer may be formed on the surface of the conductive protrusion 20 of the ground member 1.
  • the low melting point metal layer is softened and connected to the shield layer of the shield film 70 in the heating process described later. become. Therefore, the adhesion between the ground member 1 and the shield film 70 can be further improved.
  • the metal which forms the low melting metal layer of the ground member 1 is not particularly limited, it is desirable to include at least one selected from the group consisting of indium, tin, lead and bismuth.
  • the conductive protrusion 20 of the ground member 1 is used in order to electrically connect the external connection member 10 of the ground member 1 to the ground circuit 62a of the base film 60. Presses the ground member 1 so as to penetrate the insulating layer 73 and the shield layer 72 of the shield film 70. Thereby, the conductive protrusion 20 of the ground member 1 comes into contact with the adhesive layer 71 and the shield layer 72 of the shield film 70.
  • the pressure at the time of pressurization is desirably 0.5 MPa to 10 MPa.
  • the conductive protrusion 20 of the ground member 1 may penetrate the insulating layer 73 of the shield film 70, and the conductive protrusion 20 of the ground member 1 may be in contact with the shield layer 72 of the shield film 70.
  • the low melting point metal layer 21 of the ground member 1 is heated to connect the low melting point metal layer 21 of the ground member 1 to the shield layer 72 of the shield film 70 as shown in FIG. And soften.
  • the temperature at which the low melting point metal layer 21 of the ground member 1 is softened is not particularly limited, but is preferably 100 to 300 ° C.
  • the heating step is performed at any stage as long as the low melting point metal layer of the conductive protrusion of the ground member can be softened and connected to the shield layer of the shield film. May be. For example, it may be performed simultaneously with the pressurizing step or may be performed as a single step. Manufacturing efficiency can be improved by performing a pressurization process and a heating process simultaneously.
  • a solder reflow process is performed.
  • the low melting point metal layer may be softened by heat during reflow in this reflow step. In this case, the heating process and the component mounting are performed simultaneously.
  • the shield printed wiring board 50a including the ground member 1 can be manufactured.
  • the shield printed wiring board 50a provided with the ground member 1 manufactured in this way is an example of the shield printed wiring board of the present invention.
  • FIGS. 9A and 9B are cross-sectional views schematically showing an example of a ground member used in a shield printed wiring board in which the shield film of the present invention is used.
  • FIGS. 10A and 10B are cross-sectional views schematically showing an example of a shield printed wiring board using the ground member shown in FIG.
  • the ground member 101 has a first main surface 111 and a second main surface 112 opposite to the first main surface 111, and is electrically conductive.
  • the external connection member 110 having the above, the conductive filler 130 disposed on the first main surface 111 side, and the adhesive resin 135 for fixing the conductive filler 130 to the first main surface 111.
  • the conductive filler 130 may be covered with an adhesive resin 135, and as shown in FIG. 9B, a part of the conductive filler 130 is bonded. May be exposed from the conductive resin 135.
  • the shield printed wiring board 50b shown in FIGS. 10A and 10B can be manufactured.
  • the ground member 101 is pressed against the shield film 70 so that the conductive filler 130 of the ground member 101 penetrates the insulating layer 73 and the shield layer 72 of the shield film 70.
  • the ground member 101, the conductive filler 130 of the ground member 101 penetrates the insulating layer 73 of the shield film 70, but does not penetrate the shield layer 72 of the shield film 70.
  • the shield film 70 may be pressed against the shield film 70.
  • the external connection member 110 of the ground member 101 is connected to the external ground GND.
  • the external connection member 110 preferably includes at least one selected from the group consisting of copper, aluminum, silver, gold, nickel, chromium, titanium, zinc, and stainless steel. These materials are suitable for electrically connecting the ground member and the external ground.
  • the conductive filler 130 is made of copper powder, silver powder, nickel powder, silver coated copper powder, gold coated copper powder, silver coated nickel powder, gold coated nickel powder, nickel coated copper powder, nickel coated silver powder and resin. It is desirable to include at least one selected from the group consisting of particles coated with metal powder. Since these particles are excellent in conductivity, they are suitable as a conductive filler.
  • the shape of the conductive filler 130 is not particularly limited, and may be a spherical shape, a dendritic shape, a flake shape, a spike shape, a rod shape, a fiber shape, a needle shape, or the like.
  • the adhesive resin 135 is not particularly limited, but may be made of an acrylic resin, an epoxy resin, a silicon resin, a thermoplastic elastomer resin, a rubber resin, a polyester resin, a urethane resin, or the like. desirable. These resins have excellent adhesion.
  • a method of manufacturing a shield printed wiring board using the ground member 101 is the same as the method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film 70 described in (2) Ground member placement step, but instead of the ground member 1. In this method, the member 101 is used.
  • a low melting point metal layer may be formed on the surface of the conductive filler 130 of the ground member 101.
  • the low melting point metal layer of the ground member 101 is softened and connected to the shield layer of the shield film 70 in the heating step. Become. Therefore.
  • the adhesion between the ground member 1 and the shield film 70 can be further improved.
  • the metal forming the low-melting-point metal layer of the ground member 101 is not particularly limited, but it is preferable to include at least one selected from the group consisting of indium, tin, lead, and bismuth.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the second embodiment of the present invention.
  • the shield film 170 is a shield film comprising an adhesive layer 171, a shield layer 172 laminated on the adhesive layer 171, and an insulating layer 173 laminated on the shield layer 172.
  • a first low melting point metal layer 174 is formed between the shield layer 172 and the insulating layer 173, and a second low melting point metal layer 175 is formed between the adhesive layer 171 and the shield layer 172. It is characterized by being.
  • the adhesive layer 171 is a conductive adhesive layer.
  • a second low melting point metal layer 175 is formed between the adhesive layer 171 and the shield layer 172. Therefore, at the time of manufacturing the shield printed wiring board, the shield layer 172 of the shield film 170 is made to penetrate the conductive protrusions or conductive filler of the ground member, and then contacted with the second low melting point metal layer 175, and then the ground member is heated. By connecting the conductive protrusions or conductive fillers to the second low melting point metal layer 175, the adhesion between the ground member and the shield film 170 can be further improved.
  • the metal which comprises the 2nd low melting metal layer 175 and the metal which comprises the electroconductive protrusion of a ground member or a conductive filler can form an alloy, these form an alloy, and the 2nd low melting point is formed.
  • the adhesion between the metal layer 175 and the conductive protrusion or conductive filler of the ground member is further improved.
  • the second low melting point metal layer 175 is preferably formed of a metal having a melting point of 300 ° C. or lower.
  • the second low melting point metal layer 175 is formed of a metal having a melting point of 300 ° C. or lower, the second low melting point metal layer 175 is easily softened when the ground member is disposed on the shield printed wiring board.
  • the adhesion between the conductive protrusions and conductive filler of the member and the second low melting point metal layer 175 can be preferably improved.
  • the second low melting point metal layer is formed of a metal having a melting point exceeding 300 ° C., the heating temperature when the ground member is disposed on the shield printed wiring board becomes high. Therefore, the ground member and the shield printed wiring board are easily damaged by heat.
  • the metal forming the second low-melting-point metal layer 175 is not particularly limited, but it is preferable to include at least one selected from the group consisting of indium, tin, lead, and bismuth. These metals have a melting point and conductivity suitable for forming the second low melting point metal layer 175.
  • the thickness of the second low melting point metal layer 175 is preferably 0.1 to 10 ⁇ m, and more preferably 0.1 to 5 ⁇ m.
  • the thickness of the second low melting point metal layer is less than 0.1 ⁇ m, the amount of metal forming the second low melting point metal layer is small, and therefore, when the ground member is disposed on the shield printed wiring board, It becomes difficult to improve the adhesiveness between the conductive protrusions and conductive fillers of the second low melting point metal layer of the shield film.
  • the thickness of the second low melting point metal layer exceeds 50 ⁇ m, the shield layer 172 is easily deformed when the second low melting point metal layer is softened. As a result, the shield characteristics of the shield film 170 are likely to deteriorate.
  • the second low melting point metal layer 175 preferably includes a flux.
  • the metal constituting the second low melting point metal layer 175 is softened by the fact that the second low melting point metal layer 175 includes the flux, the conductive projections of the ground member and the metal constituting the second low melting point metal layer 175 are formed. And the conductive filler easily adhere to each other. As a result, the adhesion between the second low melting point metal layer 175 and the conductive protrusions and conductive filler of the ground member can be further improved.
  • the 1st low melting metal layer 174 and the 2nd low melting metal layer 175 consist of tin
  • the shield layer 172, and the 2nd low melting metal A nickel layer is preferably formed between the layer 175 and the layer 175.
  • the metal constituting the shield layer 172 may form an alloy.
  • the nickel layer is formed as described above, such an alloy can be prevented from being formed.
  • the tin constituting the first low-melting-point metal layer 174 and the second low-melting-point metal layer 175, the conductive protrusions of the ground member, and the conductive filler can efficiently form an alloy. Therefore, the amount of tin used for the first low melting point metal layer 174 and the second low melting point metal layer 175 can be reduced.
  • the material of the adhesive layer 171, shield layer 172, insulating layer 173, and first low melting point metal layer 174 of the shield film 170 is the same as the adhesive layer 71, shield layer 72, insulating layer 73, and first layer of the shield film 70. Desirably, the material is the same as that of the low melting point metal layer 74.
  • FIG. 12 is sectional drawing which shows typically an example of the shield printed wiring board using the shield film which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
  • the shield printed wiring board 150 a is a shield printed wiring board including a base film 60, a shield film 170, and the ground member 1.
  • the adhesive layer 171 of the shield film 170 is placed so as to contact the base film 60.
  • the conductive protrusion 20 of the ground member 1 penetrates the insulating layer 173 and the shield layer 172 of the shield film 170.
  • the first low melting point metal layer 174 and the second low melting point metal layer 175 of the shield film 170 are connected to the conductive protrusion 20 of the ground member 1.
  • the external connection member 10 of the ground member 1 is connected to the external ground GND.
  • FIG. 13 is sectional drawing which shows typically an example of the shield printed wiring board using the shield film which concerns on 2nd Embodiment of this invention.
  • the shield printed wiring board 150 b is a shield printed wiring board including a base film 60, a shield film 170, and a ground member 101.
  • the adhesive layer 171 of the shield film 170 is placed so as to contact the base film 60.
  • the conductive filler 130 of the ground member 101 penetrates the insulating layer 173 and the shield layer 172 of the shield film 170.
  • the first low melting point metal layer 174 and the second low melting point metal layer 175 of the shield film 170 are connected to the conductive filler 130 of the ground member 101.
  • the external connection member 110 of the ground member 101 is connected to the external ground GND.
  • FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • the shield film 270 is a shield film composed of an adhesive layer 271, a shield layer 272 laminated on the adhesive layer 271, and an insulating layer 273 laminated on the shield layer 272.
  • a first low melting point metal layer 274 is formed between the shield layer 272 and the insulating layer 273.
  • the shield layer 272 has a wave shape having a convex portion 272a and a concave portion 272b. Note that the adhesive layer 271 of the shield film 270 may or may not have conductivity.
  • the materials of the shield layer 272, the insulating layer 273, and the first low melting point metal layer 274 of the shield film 270 are the same as the desired materials of the shield layer 72, the insulating layer 73, and the first low melting point metal layer 74 of the shield film 70. It is desirable.
  • the material of the adhesive layer 271 is desirably the same as the adhesive layer 71 of the shield film.
  • the adhesive layer 271 of the shield film 270 does not have conductivity
  • the adhesive layer 271 is not particularly limited, but an acrylic resin, an epoxy resin, a silicon resin, a thermoplastic elastomer resin, a rubber resin, A polyester resin, a urethane resin or the like is desirable.
  • the adhesive layer 271 contains tackifiers such as fatty acid hydrocarbon resins, C5 / C9 mixed resins, rosin, rosin derivatives, terpene resins, aromatic hydrocarbon resins, and heat-reactive resins. Also good. When these tackifiers are contained, the tackiness of the adhesive layer 271 can be improved.
  • a method for manufacturing the shield printed wiring board 250a (see FIG. 18) using the base film 60, the shield film 270, and the ground member 1 will be described.
  • 15 to 18 are views schematically showing an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • the shield film 270 is placed on the base film 60.
  • the base film 60 is a film formed by sequentially providing the printed circuit 62 including the ground circuit 62 a and the insulating film 63 on the base film 61.
  • the shield film 270 is a film including an adhesive layer 271, a shield layer 272 laminated on the adhesive layer 271, and an insulating layer 273 laminated on the shield layer 272.
  • the shield layer 272 includes a convex portion 272 a. And a wavy shape having a recess 272b.
  • the base film 60 on which the shield film 270 is placed is pressed.
  • the convex portion 272a of the shield layer 272 of the shield film 270 pushes the adhesive layer 271 and is connected to the ground circuit 62a of the base film 60.
  • the ground member 1 is disposed on the shield film 270 such that the conductive protrusion 20 of the ground member 1 faces the insulating layer 273 side of the shield film 270. Then, the ground member 1 is pressed so that the conductive protrusion 20 of the ground member 1 penetrates the insulating layer 273 of the shield film 270. Thereby, the conductive protrusion 20 of the ground member 1 comes into contact with the first low melting point metal layer 274 of the shield film 270.
  • the pressure during pressurization is desirably 0.5 MPa to 10 MPa.
  • the shield printed wiring board 250a can be manufactured.
  • 19 to 22 are views schematically showing an example of a method for manufacturing a shield printed wiring board using the shield film according to the third embodiment of the present invention.
  • the shield film 270 is placed on the base film 60.
  • the base film 60 is a film formed by sequentially providing the printed circuit 62 including the ground circuit 62 a and the insulating film 63 on the base film 61.
  • the shield film 270 is a film including an adhesive layer 271, a shield layer 272 laminated on the adhesive layer 271, and an insulating layer 273 laminated on the shield layer 272.
  • the shield layer 272 includes a convex portion 272 a. And a wavy shape having a recess 272b.
  • the base film 60 on which the shield film 270 is placed is pressed.
  • the convex portion 272a of the shield layer 272 of the shield film 270 pushes the adhesive layer 271 and is connected to the ground circuit 62a of the base film 60.
  • the ground member 101 is disposed on the shield film 270 so that the conductive filler 130 of the ground member 101 faces the insulating layer 273 side of the shield film 270. Then, the ground member 101 is pressurized so that the conductive filler 130 of the ground member 101 penetrates the insulating layer 273 of the shield film 270. As a result, the conductive filler 130 of the ground member 101 comes into contact with the first low melting point metal layer 274 of the shield film 270.
  • the pressure during pressurization is desirably 0.5 MPa to 10 MPa.
  • the first low melting point metal layer 274 of the shield film 270 is heated. Soften. In this way, the shield printed wiring board 250b can be manufactured.
  • the external connection member 110 of the ground member 101 is connected to the external ground GND.
  • FIG. 23 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the shield film 370 is a shield film comprising an adhesive layer 371, a shield layer 372 laminated on the adhesive layer 371, and an insulating layer 373 laminated on the shield layer 372, A first low melting point metal layer 374 is formed between the shield layer 372 and the insulating layer 373. Further, the adhesive layer 371 of the shield film 370 does not have conductivity.
  • the materials of the shield layer 372, the insulating layer 373, and the first low melting point metal layer 374 of the shield film 370 are the same as the desired materials of the shield layer 72, the insulating layer 73, and the first low melting point metal layer 74 of the shield film 70. It is desirable that
  • the adhesive layer 371 is not particularly limited, but is preferably an acrylic resin, an epoxy resin, a silicon resin, a thermoplastic elastomer resin, a rubber resin, a polyester resin, a urethane resin, or the like.
  • the adhesive layer 371 contains tackifiers such as fatty acid hydrocarbon resins, C5 / C9 mixed resins, rosin, rosin derivatives, terpene resins, aromatic hydrocarbon resins, and heat-reactive resins. Also good. When these tackifiers are included, the adhesiveness of the adhesive layer 371 can be improved.
  • FIG. 24 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the shield printed wiring board 350 a is a shield printed wiring board composed of a base film 60, a shield film 370, and the ground member 1.
  • the adhesive layer 371 of the shield film 370 is placed so as to contact the base film 60.
  • the conductive protrusion 20 of the ground member 1 penetrates the insulating layer 373 of the shield film 370.
  • the first low melting point metal layer 374 of the shield film 370 is connected to the conductive protrusion 20 of the ground member 1.
  • the external connection member 10 of the ground member 1 is connected to the external ground GND.
  • the shield layer 372 of the shield film 370 is electrically connected to the external ground GND, so that the shield layer 372 is suitable as an electromagnetic wave shield that shields electromagnetic waves. Act on.
  • FIG. 25 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fourth embodiment of the present invention.
  • the shield printed wiring board 350b is a shield printed wiring board including a base film 60, a shield film 370, and a ground member 101.
  • the adhesive layer 371 of the shield film 370 is placed so as to contact the base film 60.
  • the conductive filler 130 of the ground member 101 penetrates the insulating layer 373 of the shield film 370.
  • the first low melting point metal layer 374 of the shield film 370 is connected to the conductive filler 130 of the ground member 101.
  • the external connection member 110 of the ground member 101 is connected to the external ground GND.
  • the shield layer 372 of the shield film 370 is electrically connected to the external ground GND, and therefore the shield layer 372 is suitable as an electromagnetic wave shield that shields electromagnetic waves. Act on.
  • FIG. 26 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the shield film 470 is a shield film composed of a shield layer 472 and an insulating layer 473 laminated on the shield layer 472.
  • the shield film 470 includes a shield film 470 between the shield layer 472 and the insulating layer 473. 1
  • a low melting point metal layer 474 is formed.
  • the shield layer 472 is a conductive adhesive.
  • the shield layer 472 of the shield film 470 is a conductive adhesive, it has both a function for adhering the shield film 470 to the base film 60 and a function for shielding electromagnetic waves.
  • the shield layer 472 of the shield film 470 is a conductive adhesive layer made of resin and conductive fine particles.
  • the resin constituting the shield layer 472 is not particularly limited, but is preferably an acrylic resin, an epoxy resin, a silicon resin, a thermoplastic elastomer resin, a rubber resin, a polyester resin, a urethane resin, or the like.
  • the shield layer 472 may contain tackifiers such as fatty acid hydrocarbon resins, C5 / C9 mixed resins, rosin, rosin derivatives, terpene resins, aromatic hydrocarbon resins, and heat-reactive resins. Good. When these tackifiers are included, the tackiness of the shield layer 472 can be improved.
  • electroconductive fine particles which comprise the shield layer 472
  • Copper powder, silver powder, nickel powder, silver coat copper powder (Ag coat Cu powder), gold coat copper powder, silver coat nickel powder (Ag coat Ni powder) ), Gold-coated nickel powder, and these metal powders can be produced by an atomizing method, a carbonyl method, or the like.
  • particles obtained by coating a metal powder with a resin and particles obtained by coating a resin with a metal powder can also be used.
  • the conductive fine particles are preferably Ag-coated Cu powder or Ag-coated Ni powder. This is because conductive fine particles having stable conductivity can be obtained with an inexpensive material.
  • the shape of the conductive fine particles is not necessarily limited to a spherical shape, and may be, for example, a dendritic shape, a flake shape, a spike shape, a rod shape, a fiber shape, a needle shape, or the like.
  • the shield layer 472 of the shield film 470 is desirably an isotropic conductive adhesive layer.
  • the conductive fine particles are contained in the range of more than 39% by weight and 95% by weight or less with respect to the total amount of the shield layer.
  • the average particle diameter of the conductive fine particles is desirably 2 to 20 ⁇ m.
  • the material of the insulating layer 473 and the first low melting point metal layer 474 of the shield film 470 is the same as the desired material of the insulating layer 73 and the first low melting point metal layer 74 of the shield film 70.
  • FIG. 27 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the shield printed wiring board 450 a is a shield printed wiring board configured with a base film 60, a shield film 470, and the ground member 1.
  • the shield layer 472 of the shield film 470 is placed so as to contact the base film 60.
  • the conductive protrusion 20 of the ground member 1 penetrates the insulating layer 473 of the shield film 470.
  • the first low melting point metal layer 474 of the shield film 470 is connected to the conductive protrusion 20 of the ground member 1.
  • the external connection member 10 of the ground member 1 is connected to the external ground GND.
  • FIG. 28 is a cross-sectional view schematically showing an example of a shield printed wiring board using the shield film according to the fifth embodiment of the present invention.
  • the shield printed wiring board 450 b is a shield printed wiring board including a base film 60, a shield film 470, and a ground member 101.
  • the shield layer 472 of the shield film 470 is placed so as to contact the base film 60.
  • the conductive filler 130 of the ground member 101 penetrates the insulating layer 473 of the shield film 470.
  • the first low melting point metal layer 474 of the shield film 470 is connected to the conductive filler 130 of the ground member 101.
  • the external connection member 110 of the ground member 101 is connected to the external ground GND.
  • the shield flint wiring board of the present invention when the first low melting point metal layer and / or the second low melting point metal layer is made of tin, between the shield layer and the first low melting point metal layer and / or the shield layer, It is desirable that a nickel layer be formed between the second low melting point metal layer. When such a nickel layer is formed, the metal constituting the first low melting point metal layer and the shield layer and / or the metal constituting the second low melting point metal layer and the shield layer form an alloy. Can be prevented.
  • the electroconductive protrusion or electroconductive filler of a ground member should just be connected with the shield layer of the shield film through the low melting metal.
  • a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, a shield layer, and an insulating layer laminated on the shield layer, and the shield layer is formed from the insulating layer.
  • a shield printed wiring board comprising a shield film covering the base film so as to be disposed on the base film side, and a ground member disposed on the insulating layer of the shield film, wherein the ground member is An external connection member having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface and having conductivity; and a conductive protrusion disposed on the first main surface side; The conductive protrusion of the ground member penetrates the insulating layer of the shield film, and the conductive protrusion of the ground member passes through the low-melting metal to the sheet.
  • an external connection member of the gland member is shielded printed circuit board which is outside the ground and electrically connectable is a shielded printed circuit board of the present invention.
  • the base film comprises a base film in which a printed circuit including a ground circuit and an insulating film are sequentially provided on a base film, a shield layer, and an insulating layer laminated on the shield layer, and the shield layer is formed from the insulating layer.
  • a shield printed wiring board comprising a shield film covering the base film so as to be disposed on the base film side, and a ground member disposed on the insulating layer of the shield film, wherein the ground member is An external connection member having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface and having conductivity; and a conductive filler disposed on the first main surface side;
  • the conductive filler of the ground member penetrates the insulating layer of the shield film, and the conductive filler of the ground member is interposed through a low melting point metal.
  • the first low melting point metal layer of the shield film is connected to the conductive filler of the ground member, and the external connection member of the ground member is electrically connected to the external ground.
  • a shielded printed wiring board that can be connected to each other is also a shielded printed wiring board of the present invention.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

本発明は、グランド部材を備えるシールドプリント配線板に用いられるシールドフィルムであって、該シールドプリント配線板に加熱及び冷却を繰り返して部品を実装する際に、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーとシールドフィルムのシールド層との間にずれが生じにくいシールドフィルムを提供することを目的とする。 本発明のシールドフィルムは、シールド層と、上記シールド層に積層された絶縁層とからなるシールドフィルムであって、上記シールド層と上記絶縁層との間の少なくとも一部には、第1低融点金属層が形成されていることを特徴とする。

Description

シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法
本発明は、シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法に関する。
フレキシブルプリント配線板は、小型化、高機能化が急速に進む携帯電話、ビデオカメラ、ノートパソコンなどの電子機器において、複雑な機構の中に回路を組み込むために多用されている。さらに、その優れた可撓性を生かして、プリンタヘッドのような可動部と制御部との接続にも利用されている。これらの電子機器では、電磁波シールド対策が必須となっており、装置内で使用されるフレキシブルプリント配線板においても、電磁波シールド対策を施したフレキシブルプリント配線板(以下、「シールドプリント配線板」とも記載する)が用いられるようになってきた。
一般的なシールドプリント配線板は、通常、ベースフィルム上にプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムと、導電層、上記導電層に積層されたシールド層、及び、上記記導電層に積層された絶縁層からなり、上記導電層が上記基体フィルムと接するように、上記記基体フィルムを被覆するシールドフィルムとから構成される。
また、プリント回路にはグランド回路が含まれており、グランド回路は、アースを取るために電子機器の筐体と電気的に接続されている。
上記の通り、シールドプリント配線板の基体フィルムでは、グランド回路を含むプリント回路の上に絶縁フィルムが設けられている。また、基体フィルムは、絶縁層を有するシールドフィルムにより被覆されている。
そのため、グランド回路と、電子機器の筐体とを電気的に接続するためには、絶縁フィルム及びシールドフィルムの一部にあらかじめ孔をあける必要があった。
このことは、プリント回路を設計する上で、自由度を妨げる要因となっていた。
特許文献1には、セパレートフィルムの片面にカバーフィルムをコーティングして形成し、前記カバーフィルムの表面に金属薄膜層と接着剤層とで構成されるシールド層を設け、一端側に、前記カバーフィルムに押し付けられて前記カバーフィルムを突き抜けて前記シールド層に接続される突起を有し、他端側が露出してその近傍のグランド部に接続可能に形成されたグランド部材を有しているシールドフィルムが開示されている。
特許文献1に記載のシールドフィルムを作製する際には、グランド部材の突起がカバーフィルムを突き抜けるように、グランド部材が、カバーフィルムに押し付けられる。そのため、グランド部材は、シールドフィルムの任意の位置に配置することができる。
このようなシールドフィルムを用いて、シールドプリント配線板を製造すると、任意の位置で、グランド回路と、電子機器の筐体を電気的に接続することができる。
特許4201548号公報
シールドプリント配線板は、部品を実装するために、ハンダリフロー工程等において、繰り返し加熱され、冷却されることになる。
特許文献1に記載されたシールドプリント配線板に部品を実装する際に、このように加熱及び冷却を繰り返すと、熱膨張による体積変化が原因で、グランド部材の突起と、シールド層とが離間してしまうという現象が生じることがあった。
本発明は、上記問題点を解決するためになされた発明であり、本発明の目的は、グランド部材を備えるシールドプリント配線板に用いられるシールドフィルムであって、該シールドプリント配線板に加熱及び冷却を繰り返して部品を実装する際に、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーとシールドフィルムのシールド層との間にずれが生じにくいシールドフィルムを提供することである。
すなわち、本発明のシールドフィルムは、シールド層と、上記シールド層に積層された絶縁層とからなるシールドフィルムであって、上記シールド層と上記絶縁層との間の少なくとも一部には、第1低融点金属層が形成されていることを特徴とする。
本発明のシールドフィルムは、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムに用いられる。この際、本発明のシールドフィルムは、接着剤層が基体フィルムと接するように、基体フィルムに被覆される。
また、本発明のシールドフィルムには、第1主面と、第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材からなり、第1主面には導電性突起又は導電性フィラーが配置されたグランド部材が配置されることになる。
そして、グランド部材は、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーが、本発明のシールドフィルムの絶縁層を貫くように、本発明のシールドフィルムに押し付けられて配置されることになる。
これにより、グランド部材が配置されたシールドプリント配線板を作製することができる。
さらに、このシールドプリント配線板は加熱処理を受けることになる。この加熱処理において、第1低融点金属層は軟化し、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーに付着して接続するので、フィールドフィルムの第1低融点金属層と、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーとの密着性を向上させることができる。
従って、シールドプリント配線板に加熱及び冷却を繰り返して部品を実装する際に、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーとシールドフィルムのシールド層との間にずれが生じにくくなる。
本発明のシールドフィルムでは、上記第1低融点金属層は、融点が300℃以下の金属により形成されていることが望ましい。
第1低融点金属層が、融点が300℃以下の金属により形成されていると、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際に、容易に第1低融点金属層が軟化し、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーと、第1低融点金属層との密着性を好適に向上させることができる。
第1低融点金属層が、融点が300℃を超える金属により形成されていると、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際の加熱温度が高くなる。そのため、グランド部材や、シールドプリント配線板が熱によるダメージを受けやすくなる。
本発明のシールドフィルムでは、上記第1低融点金属層の厚さは、0.1~10μmであることが望ましく、0.1~5μmであることがより望ましい。
第1低融点金属層の厚さが、0.1μm未満であると、第1低融点金属層を形成する金属の量が少ないので、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際に、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーと、シールドフィルムの第1低融点金属層の密着性が向上しにくくなる。
第1低融点金属層の厚さが、50μmを超えると、第1低融点金属層が軟化する際に、シールド層が変形しやすくなる。その結果、シールドフィルムのシールド特性が低下しやすくなる。
本発明のシールドフィルムでは、上記第1低融点金属層は、フラックスを含むことが望ましい。
第1低融点金属層がフラックスを含むことにより、第1低融点金属層を構成する金属が軟化する際に、低融点金属層を構成する金属と、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーとが密着しやすくなる。
その結果、第1低融点金属層と、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーとの密着性をより向上させることができる。
本発明のシールドフィルムは、上記シールド層の、上記絶縁層が積層された面とは反対側の面に積層された接着剤層をさらに備えることが望ましい。
シールドフィルムが接着剤層を有すると、シールドプリント配線板の製造時に、容易にシールドフィルムを基体フィルムに接着させることができる。
本発明のシールドフィルムでは、上記接着剤層と、上記シールド層との間の少なくとも一部には、第2低融点金属層が形成されていることが望ましい。
この場合、シールドプリント配線板の製造時に、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーにシールドフィルムのシールド層を貫かせて、第2低融点金属層と接触させ、その後、加熱によりグランド部材の導電性突起又は導電性フィラーと第2低融点金属層とを接続させることにより、グランド部材とシールドフィルムとの密着性をより向上させることができる。
本発明のシールドフィルムでは、上記接着剤層は、導電性接着剤層であることが望ましい。
シールドフィルムの接着剤層が導電性接着剤層であると、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーが、シールドフィルムの絶縁層を貫通することで、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーと導電性接着剤層とが接触し、グランド部材の外部接続部材と基体フィルムのグランド回路とを電気的に接続することができる。
本発明のシールドフィルムでは、上記シールド層は、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これらの材料からなるシールド層は、導電性が高く、電気信号からの不要輻射や外部からの電磁波などのノイズを遮蔽するシールド効果を示す。
本発明のシールドフィルムでは、上記シールド層は、導電性接着剤層であってもよい。
シールド層が導電性接着剤層である場合、シールド層は、シールドフィルムを基体フィルムに接着するための機能と、電磁波をシールドする機能の両方を備えることになる。
本発明のシールドプリント配線板は、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムとを順次設けてなる基体フィルムと、シールド層、及び、上記シールド層に積層された絶縁層からなり、上記シールド層が上記絶縁層よりも上記基体フィルム側に配置されるように上記基体フィルムを被覆するシールドフィルムと、上記シールドフィルムの絶縁層の上に配置されたグランド部材とを備えるシールドプリント配線板であって、上記グランド部材は、第1主面と、上記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、上記第1主面側に配置された導電性突起とからなり、上記グランド部材の導電性突起は、上記シールドフィルムの絶縁層を貫いており、上記グランド部材の導電性突起は、低融点金属を介して上記シールドフィルムのシールド層に接続しており、上記グランド部材の外部接続部材は、外部グランドと電気的に接続可能になっていることを特徴とする。
上記構成のシールドプリント配線板では、グランド部材の導電性突起は、低融点金属を介してシールドフィルムのシールド層に接続している。
そのため、グランド部材の導電性突起とシールドフィルムのシールド層との密着性が高い。
本発明のシールドプリント配線板は、上記低融点金属は、上記シールドフィルムのシールド層と絶縁層との間の少なくとも一部に形成された第1低融点金属層であることが望ましい。
上記構成のシールドプリント配線板は、本発明のシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板である。
そのため、本発明のシールドプリント配線板に加熱及び冷却を繰り返して部品を実装する際に、グランド部材の導電性突起とシールドフィルムのシールド層との間にずれが生じにくくなる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムは、上記シールド層の、上記絶縁層が積層された面とは反対側の面に積層された接着剤層をさらに備え、上記シールドフィルムの接着剤層は、上記基体フィルムと接触していることが望ましい。
シールドフィルムが接着剤層を有すると、シールドプリント配線板の製造時に、容易にシールドフィルムを基体フィルムに接着させることができる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記低融点金属は、上記シールドフィルムの接着剤層と、上記シールドフィルムのシールド層との間の少なくとも一部に第2低融点金属層を形成しており、上記グランド部材の導電性突起は、上記シールドフィルムのシールド層を貫いており、上記グランド部材の導電性突起は、上記第2低融点金属層を形成する上記低融点金属を介して上記シールドフィルムのシールド層に接続していることが望ましい。
この場合、グランド部材とシールドフィルムとの密着性をより向上させることができる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムにおいて、上記接着剤層は、導電性接着剤層であることが望ましい。
シールドフィルムの接着剤層が導電性接着剤層であると、グランド部材の導電性突起が、シールドフィルムの絶縁層を貫通することで、グランド部材の導電性突起と導電性接着剤層とが接触し、グランド部材の外部接続部材と基体フィルムのグランド回路とを電気的に接続することができる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムにおいて、上記シールド層は、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これらの材料からなるシールド層は、導電性が高く、電気信号からの不要輻射や外部からの電磁波などのノイズを遮蔽するシールド効果を示す。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムにおいて、上記シールド層は、導電性接着剤層であり、上記シールドフィルムのシールド層は、上記基体フィルムと接触していてもよい。
シールド層が導電性接着剤層である場合、シールド層は、シールドフィルムを基体フィルムに接着するための機能と、電磁波をシールドする機能の両方を備えることになる。
本発明のシールドプリント配線板は、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムとを順次設けてなる基体フィルムと、シールド層、及び、上記シールド層に積層された絶縁層からなり、上記シールド層が上記絶縁層よりも上記基体フィルム側に配置されるように上記基体フィルムを被覆するシールドフィルムと、上記シールドフィルムの絶縁層の上に配置されたグランド部材とを備えるシールドプリント配線板であって、上記グランド部材は、第1主面と、上記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、上記第1主面側に配置された導電性フィラーとからなり、上記グランド部材の導電性フィラーは、上記シールドフィルムの絶縁層を貫いており、上記グランド部材の導電性フィラーは、低融点金属を介して上記シールドフィルムのシールド層に接続しており、上記シールドフィルムの第1低融点金属層は、上記グランド部材の導電性フィラーに接続しており、上記グランド部材の外部接続部材は、外部グランドと電気的に接続可能になっていることを特徴とする。
上記構成のシールドプリント配線板では、グランド部材の導電性フィラーは、低融点金属を介してシールドフィルムのシールド層に接続している。
そのため、グランド部材の導電性フィラーとシールドフィルムのシールド層との密着性が高い。
本発明のシールドプリント配線板では、上記低融点金属は、上記シールドフィルムのシールド層と絶縁層との間の少なくとも一部に形成された第1低融点金属層であることが望ましい。
上記構成のシールドプリント配線板は、本発明のシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板である。
そのため、本発明のシールドプリント配線板に加熱及び冷却を繰り返して部品を実装する際に、グランド部材の導電性フィラーとシールドフィルムのシールド層との間にずれが生じにくくなる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムは、上記シールド層の、上記絶縁層が積層された面とは反対側の面に積層された接着剤層をさらに備え、上記シールドフィルムの接着剤層は、上記基体フィルムと接触していることが望ましい。
シールドフィルムが接着剤層を有すると、シールドプリント配線板の製造時に、容易にシールドフィルムを基体フィルムに接着させることができる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記低融点金属は、上記シールドフィルムの接着剤層と、上記シールドフィルムのシールド層との間の少なくとも一部に第2低融点金属層を形成しており、上記グランド部材の導電性フィラーは、上記シールドフィルムのシールド層を貫いており、上記グランド部材の導電性フィラーは、上記第2低融点金属層を形成する上記低融点金属を介して上記シールドフィルムのシールド層に接続していることが望ましい。
この場合、グランド部材とシールドフィルムとの密着性をより向上させることができる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムにおいて、上記接着剤層は、導電性接着剤層であることが望ましい。
シールドフィルムの接着剤層が導電性接着剤層であると、グランド部材の導電性フィラーが、シールドフィルムの絶縁層を貫通することで、グランド部材の導電性フィラーと導電性接着剤層とが接触し、グランド部材の外部接続部材と基体フィルムのグランド回路とを電気的に接続することができる。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムにおいて、上記シールド層は、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これらの材料からなるシールド層は、導電性が高く、電気信号からの不要輻射や外部からの電磁波などのノイズを遮蔽するシールド効果を示す。
本発明のシールドプリント配線板では、上記シールドフィルムにおいて、上記シールド層は、導電性接着剤層であり、上記シールドフィルムのシールド層は、上記基体フィルムと接触していてもよい。
シールド層が導電性接着剤層である場合、シールド層は、シールドフィルムを基体フィルムに接着するための機能と、電磁波をシールドする機能の両方を備えることになる。
本発明のシールドプリント配線板の製造方法は、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムと、上記本発明のシールドフィルムと、上記シールドフィルムの絶縁層に配置されたグランド部材を備えるシールドプリント配線板の製造方法であって、上記グランド部材は、第1主面と、上記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、上記第1主面側に配置された導電性突起とからなり、シールドフィルムの絶縁層より上記基体フィルム側に上記シールドフィルムのシールド層が配置されるように、上記シールドフィルムを上記基体フィルムに載置するシールドフィルム載置工程と、上記グランド部材の導電性突起が上記シールドフィルムの絶縁層側を向くように、上記グランド部材を上記シールドフィルムに配置するグランド部材配置工程と、上記グランド部材の導電性突起が上記シールドフィルムの絶縁層を貫通するように上記グランド部材を加圧する加圧工程と、上記グランド部材の第1低融点金属層を加熱して軟化させる加熱工程と、を有することを特徴とする
上記本発明のシールドフィルムを用いることにより、本発明のシールドプリント配線板を製造することができる。
本発明のシールドプリント配線板の製造方法では、上記加圧工程及び上記加熱工程を同時に行ってもよい。
これら工程を同時に行うことにより、製造効率を向上させることができる。
本発明のシールドプリント配線板の製造方法は、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムと、上記本発明のシールドフィルムと、上記シールドフィルムの絶縁層に配置されたグランド部材を備えるシールドプリント配線板の製造方法であって、上記グランド部材は、第1主面と、上記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、上記第1主面側に配置された導電性フィラーと、上記導電性フィラーを上記第1主面に固定する接着性樹脂とからなり、シールドフィルムの絶縁層より上記基体フィルム側に上記シールドフィルムのシールド層が配置されるように、上記シールドフィルムを上記基体フィルムに載置するシールドフィルム載置工程と、上記グランド部材の導電性フィラーが上記シールドフィルムの絶縁層側を向くように、上記グランド部材を上記シールドフィルムに配置するグランド部材配置工程と、上記グランド部材の導電性フィラーが上記シールドフィルムの絶縁層を貫通するように上記グランド部材を加圧する加圧工程と、上記グランド部材の第1低融点金属層を加熱して軟化させる加熱工程と、を有することを特徴とする。
上記本発明のシールドフィルムを用いることにより、本発明のシールドプリント配線板を製造することができる。
本発明のシールドプリント配線板の製造方法では、上記加圧工程及び上記加熱工程を同時に行ってもよい。
これら工程を同時に行うことにより、製造効率を向上させることができる。
図1は、本発明の第1実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図2は、本発明の第1実施形態に係るシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図3は、本発明の第1実施形態に係るシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板に用いられるグランド部材の一例を模式的に示す断面図である。 図4(a)及び(b)は、図3に示すグランド部材が用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図5は、本発明のシールドプリント配線板の製造方法を工程順に模式的に示す工程図である。 図6は、本発明のシールドプリント配線板の製造方法を工程順に模式的に示す工程図である。 図7は、本発明のシールドプリント配線板の製造方法を工程順に模式的に示す工程図である。 図8は、本発明のシールドプリント配線板の製造方法を工程順に模式的に示す工程図である。 図9(a)及び(b)は、本発明のシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板に用いられるグランド部材の一例を模式的に示す断面図である。 図10(a)及び(b)は、図9に示すグランド部材が用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図11は、本発明の第2実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図12は、本発明の第2実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図13は、本発明の第2実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図14は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図15は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図16は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図17は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図18は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図19は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図20は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図21は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図22は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。 図23は、本発明の第4実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図24は、本発明の第4実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図25は、本発明の第4実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図26は、本発明の第5実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。 図27は、本発明の第5実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。 図28は、本発明の第5実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
以下、本発明のシールドフィルムについて具体的に説明する。しかしながら、本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において適宜変更して適用することができる。
(第1実施形態)
まず、本発明の第1実施形態に係るシールドフィルム70について説明する。
図1は、本発明の第1実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、シールドフィルム70は、接着剤層71と、接着剤層71に積層されたシールド層72と、シールド層72に積層された絶縁層73とからなるシールドフィルムであって、シールド層72と絶縁層73との間には、第1低融点金属層74が形成されていることを特徴とする。
また、接着剤層71は導電性接着剤層である。
シールドフィルム70は、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムに用いられシールドプリント配線板とされた上で、所定の形状のグランド部材が配置されることになる。
まず、シールドフィルム70が用いられたシールドプリント配線板の構成について図面を用いて説明する。
図2は、本発明の第1実施形態に係るシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図2に示すように、シールドプリント配線板50は、基体フィルム60とシールドフィルム70とからなる。
シールドプリント配線板50において、基体フィルム60は、ベースフィルム61上にグランド回路62aを含むプリント回路62と絶縁フィルム63とを順次設けて形成されるフィルムである。
シールドプリント配線板50では、シールドフィルム70の接着剤層71が基体フィルム60と接するように、シールドフィルム70が基体フィルム60を被覆している。
次に、シールドプリント配線板50に所定のグランド部材が用いられる場合について図面を用いて説明する。
図3は、本発明の第1実施形態に係るシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板に用いられるグランド部材の一例を模式的に示す断面図である。
図4(a)及び(b)は、図3に示すグランド部材が用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図3に示すように、グランド部材1は、第1主面11と、第1主面11の反対側の第2主面12とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材10と、第1主面11側に配置された導電性突起20が形成されている。
グランド部材1は、シールドプリント配線板50に配置されることになるが、この際、図4(a)に示すように、グランド部材1を、グランド部材1の導電性突起20が、シールドフィルム70の絶縁層73及びシールド層72を貫くように、シールドフィルム70に押し付けて配置してもよい。また、図4(b)に示すように、グランド部材1を、グランド部材1の導電性突起20が、シールドフィルム70の絶縁層73を貫くが、シールドフィルム70のシールド層72を貫かないように、シールドフィルム70に押し付けて配置してもよい。
また、図4(a)及び(b)に示すように、グランド部材1の外部接続部材10は、外部グランドGNDに接続されることになる。
グランド部材1が配置されたシールドプリント配線板50は、さらに、加熱処理を受けることになる。この加熱処理において、第1低融点金属層74は軟化し、グランド部材1の導電性突起20に付着して接続する。そのため、第1低融点金属層74と、グランド部材1の導電性突起20との密着性を向上させることができる。
従って、シールドフィルム70が用いられたグランド部材1を備えるシールドプリント配線板50に加熱及び冷却を繰り返して部品を実装する際に、基体フィルム60のグランド回路62a-外部グランドGND間の電気抵抗が増加することを抑えることができる。
なお、第1低融点金属層74を構成する金属と、グランド部材1の導電性突起20を構成する金属とが合金を形成できる場合、これらが合金を形成することで、第1低融点金属層74と、グランド部材1の導電性突起20との密着性がより向上する。
シールドフィルム70では、第1低融点金属層74は、融点が300℃以下の金属により形成されていることが望ましい。
第1低融点金属層74が、融点が300℃以下の金属により形成されていると、グランド部材1をシールドプリント配線板50に配置する際に、容易に第1低融点金属層74が軟化し、グランド部材1の導電性突起20と、第1低融点金属層74との密着性を好適に向上させることができる。
第1低融点金属層が、融点が300℃を超える金属により形成されていると、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際の加熱温度が高くなる。そのため、グランド部材や、シールドプリント配線板が熱によるダメージを受けやすくなる。
シールドフィルム70では、第1低融点金属層74を形成する金属は、特に限定されないが、インジウム、錫、鉛及びビスマスからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これらの金属は、第1低融点金属層74を形成する上で、適した融点及び導電性を備える。
シールドフィルム70では、第1低融点金属層74の厚さは、0.1~10μmであることが望ましく、0.1~5μmであることがより望ましい。
第1低融点金属層の厚さが、0.1μm未満であると、第1低融点金属層を形成する金属の量が少ないので、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際に、グランド部材の導電性突起と、シールドフィルムの第1低融点金属層の密着性が向上しにくくなる。
第1低融点金属層の厚さが、50μmを超えると、第1低融点金属層が軟化する際に、シールド層が変形しやすくなる。その結果、シールドフィルムのシールド特性が低下しやすくなる。
シールドフィルム70では、第1低融点金属層74は、フラックスを含むことが望ましい。
第1低融点金属層74がフラックスを含むことにより、第1低融点金属層74を構成する金属が軟化する際に、第1低融点金属層74を構成する金属と、グランド部材1の導電性突起20とが密着しやすくなる。
その結果、第1低融点金属層74と、グランド部材1の導電性突起20との密着性をより向上させることができる。
フラックスとしては、特に限定されないが、多価カルボン酸、乳酸、クエン酸、オレイン酸、ステアリン酸、グルタミン酸、安息香酸、グリセリン、ロジン等公知のものを用いることができる。
なお、第1低融点金属層74が錫からなる場合、シールド層72と、第1低融点金属層74との間にはニッケル層が形成されていることが望ましい。
第1低融点金属層74が錫からなる場合、シールド層72を構成する金属とが合金を形成することがある。
しかし、シールド層72と、第1低融点金属層74との間にニッケル層が形成されていると、このような合金が形成されることを防ぐことができる。
その結果、第1低融点金属層74を構成する錫と、グランド部材1の導電性突起20とが効率よく合金を形成することができる。そのため、第1低融点金属層74に用いる錫の量を少なくすることができる。
接着剤層71は、樹脂と導電性微粒子とからなる導電性接着剤層である。
接着剤層71を構成する樹脂としては、特に限定されないが、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、熱可塑性エラストマ系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等であることが望ましい。
また、接着剤層71には、脂肪酸炭化水素樹脂、C5/C9混合樹脂、ロジン、ロジン誘導体、テルペン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、熱反応性樹脂等の粘着性付与剤が含まれていてもよい。これら粘着性付与剤が含まれていると、接着剤層71の粘着性を向上させることができる。
接着剤層71を構成する導電性微粒子としては、特に限定されないが、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コート銅粉(AgコートCu粉)、金コート銅粉、銀コートニッケル粉(AgコートNi粉)、金コートニッケル粉があり、これら金属粉は、アトマイズ法、カルボニル法などにより作製することができる。また、上記以外にも、金属粉に樹脂を被覆した粒子、樹脂に金属粉を被覆した粒子を用いることもできる。なお、導電性微粒子は、AgコートCu粉、又は、AgコートNi粉であることが好ましい。この理由は、安価な材料により導電性の安定した導電性微粒子を得ることができるからである。
なお、導電性微粒子の形状は、球状に限定される必要はなく、例えば、樹枝状、フレーク状、スパイク状、棒状、繊維状、針状等であってもよい。
シールドフィルム70の接着剤層71は導電性接着剤層であるので、グランド部材1の導電性突起20が、シールドフィルム70の絶縁層73を貫通することで、グランド部材1の導電性突起20とシールドフィルム70のシールド層72及び接着剤層71とが接触し、又は、グランド部材1の導電性突起20とシールドフィルム70のシールド層72とが接触しグランド部材1の外部接続部材10と基体フィルム60のグランド回路62aとを電気的に接続することができる。
さらに、接着剤層71は異方導電性接着剤層であってもよく、等方導電性接着剤層であってもよいが、異方導電性接着剤層であることがより望ましい。
接着剤層71が、異方導電性接着剤層である場合、導電性微粒子は、接着剤層71の全体量に対し3~39重量%の範囲で含まれることが望ましい。また、導電性微粒子の平均粒子径は2~20μmの範囲が望ましいが、異方導電性接着剤層の厚さに応じて最適な大きさを選択することが望ましい。
また、接着剤層71が、等方導電性接着剤層である場合、導電性微粒子は、接着剤層71の全体量に対し39重量%を超えて95重量%以下の範囲で含まれることが望ましい。導電性微粒子の平均粒子径は、異方導電性接着剤層と同様にして選択することができる。
シールドフィルム70のシールド層72は、電気信号からの不要輻射や外部からの電磁波などのノイズを遮蔽するシールド効果を示せばどのような材料からなっていてもよい。例えば、シールド層72は、等方導電性樹脂や、金属からなっていてもよい。
シールド層72が金属からなる場合、金属箔や蒸着膜等の金属層であってもよく、層状に形成された導電性粒子の集合体であってもよい。シールド層72が金属層である場合には、金属を構成する材料としては、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
シールド層72が導電性粒子の集合体である場合には、上述した接着剤層71を構成する導電性微粒子と同じ導電性微粒子を用いることができる。
これらの材料は導電性が高くシールド層として適した材料である。
シールドフィルム70では、シールド層72は、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これらの材料からなるシールド層72は、導電性が高く、電気信号からの不要輻射や外部からの電磁波などのノイズを遮蔽するシールド効果を示す。
シールドフィルム70のシールド層72の厚さとしては、0.01~10μmであることが望ましい。
シールド層72の厚さが0.01μm未満では、充分なシールド効果が得られにくい。
シールド層72の厚さが10μmを超えると屈曲しにくくなる。
シールドフィルム70の絶縁層73の材料としては、特に限定されないが、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、フェノール系樹脂、ウレタン系樹脂等であることが望ましい。
シールドフィルム70の絶縁層73の厚さとしては、1~10μmであることが望ましい。
絶縁層の厚さが0.01μm未満であると、絶縁層が破れやすく、また、絶縁性が充分になりにくい。
絶縁層の厚さが10μmを超えると、グランド部材の導電性突起が絶縁層73を貫きにくくなる。
次に、シールドフィルム70を用いたシールドプリント配線板の製造方法を説明する。
なお、このシールドプリント配線板の製造方法は、本発明のシールドプリント配線板の製造方法の一例でもある。
本発明のシールドプリント配線板の製造方法は、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムと、シールド層、及び、上記シールド層に積層された絶縁層からなり、上記接着剤層が上記基体フィルムと接するように上記基体フィルムを被覆するシールドフィルムと、上記シールドフィルムの絶縁層に配置されたグランド部材を備えるシールドプリント配線板の製造方法であって、(1)シールドフィルム載置工程、(2)グランド部材配置工程、(3)加圧工程、及び、(4)加熱工程とを有する。
以下、各工程について図面を用いて説明する。
図5~図8は、本発明のシールドプリント配線板の製造方法を工程順に模式的に示す工程図である。
(1)シールドフィルム載置工程
本工程では、まず、ベースフィルム61上にグランド回路62aを含むプリント回路62と絶縁フィルム63とを順次設けてなる基体フィルム60を準備する。
そして、図5に示すように、基体フィルム60上に接着剤層71が接するようにシールドフィルム70を載置する。
基体フィルム60を構成するベースフィルム61及び絶縁フィルム63の材料は、特に限定されないが、エンジニアリングプラスチックからなることが望ましい。このようなエンジニアリングプラスチックとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、架橋ポリエチレン、ポリエステル、ポリベンズイミダゾール、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルファイドなどの樹脂が挙げられる。
また、これらのエンジニアリングプラスチックの内、難燃性が要求される場合には、ポリフェニレンサルファイドフィルムが望ましく、耐熱性が要求される場合にはポリイミドフィルムが望ましい。なお、ベースフィルム61の厚みは、10~40μmであることが望ましく、絶縁フィルム63の厚みは、10~30μmであることが望ましい。
また、絶縁フィルム63には、プリント回路62の一部を露出させるための穴部63aが形成されている。
穴部63aの形成方法は特に限定されず、レーザー加工等の従来の方法を採用することができる。
(2)グランド部材配置工程
本工程では、図6に示すように、グランド部材1の導電性突起20がシールドフィルム70の絶縁層73側を向くように、グランド部材1をシールドフィルム70に配置する。
グランド部材1は、第1主面11と、第1主面11の反対側の第2主面12とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材10と、第1主面11側に配置された導電性突起20が形成されている。
グランド部材1では、外部接続部材10及び導電性突起20は、銅、アルミニウム、銀、金、ニッケル、クロム、チタン、亜鉛及びステンレス鋼からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これら材料は、グランド部材と外部グランドとを電気的に接続するために適した材料である。
また、グランド部材1の導電性突起20の表面には、低融点金属層が形成されていてもよい。
グランド部材1の導電性突起20の表面に低融点金属層が形成されている場合、後述する加熱工程において、グランド部材1の低融点金属層が軟化し、シールドフィルム70のシールド層と接続することになる。
従って、グランド部材1とシールドフィルム70との密着性をより向上させることができる。
グランド部材1の低融点金属層を形成する金属は、特に限定されないが、インジウム、錫、鉛及びビスマスからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
(3)加圧工程
本工程では、図7に示すように、グランド部材1の外部接続部材10を基体フィルム60のグランド回路62aと電気的に接続させるために、グランド部材1の導電性突起20がシールドフィルム70の絶縁層73及びシールド層72を貫通するようにグランド部材1を加圧する。これにより、グランド部材1の導電性突起20は、シールドフィルム70の接着剤層71及びシールド層72と接触することになる。
加圧の際の圧力は、0.5MPa~10MPaであることが望ましい。
なお、本工程では、グランド部材1の導電性突起20がシールドフィルム70の絶縁層73を貫き、グランド部材1の導電性突起20をシールドフィルム70のシールド層72と接触させてもよい。
(4)加熱工程
本工程では、図8に示すように、グランド部材1の低融点金属層21をシールドフィルム70のシールド層72に接続させるために、グランド部材1の低融点金属層21を加熱して軟化させる。
グランド部材1の低融点金属層21を軟化させる際の温度は、特に限定されないが、100~300℃であることが望ましい。
これにより、グランド部材1の導電性突起20とシールドフィルム70のシールド層72との密着性や、グランド部材1の導電性突起20とシールドフィルム70の接着剤層71との密着性を向上させることができる。
なお、本発明のシールドプリント配線板の製造方法において、加熱工程は、グランド部材の導電性突起の低融点金属層を軟化させて、シールドフィルムのシールド層と接続させることができれば、どの段階で行ってもよい。
例えば、上記加圧工程と同時に行ってもよく、単独の工程として行ってもよい。
加圧工程と加熱工程とを同時に行うことにより、製造効率を向上させることができる。
また、加熱工程は、加圧工程後のシールドプリント配線板に、部品を実装する工程で行ってもよい。例えば、部品を実装させるためにはんだを用いる場合には、はんだリフロー工程を行うことになる。このリフロー工程の、リフロー時の熱によって低融点金属層を軟化させてもよい。この場合、加熱工程と、部品の実装とが同時に行われることになる。
以上の工程を経て、グランド部材1を備えたシールドプリント配線板50aを製造することができる。このように製造されたグランド部材1を備えたシールドプリント配線板50aは、本発明のシールドプリント配線板の一例である。
次に、以下のグランド部材101を使用する場合を説明する。
図9(a)及び(b)は、本発明のシールドフィルムが用いられたシールドプリント配線板に用いられるグランド部材の一例を模式的に示す断面図である。
図10(a)及び(b)は、図9に示すグランド部材が用いられたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図9(a)及び(b)に示すように、グランド部材101は、第1主面111と、上記第1主面111の反対側の第2主面112とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材110と、上記第1主面111側に配置された導電性フィラー130と、上記導電性フィラー130を上記第1主面111に固定する接着性樹脂135とからなっている。
なお、図9(a)に示すように、導電性フィラー130は、接着性樹脂135に覆われていてもよく、図9(b)に示すように、導電性フィラー130の一部が、接着性樹脂135から露出していてもよい。
グランド部材101を用いることにより、図10(a)及び(b)に示すシールドプリント配線板50bを製造することができる。
この際、図10(a)に示すように、グランド部材101を、グランド部材101の導電性フィラー130が、シールドフィルム70の絶縁層73及びシールド層72を貫くように、シールドフィルム70に押し付けて配置してもよい。また、図10(b)に示すように、グランド部材101を、グランド部材101の導電性フィラー130が、シールドフィルム70の絶縁層73を貫くが、シールドフィルム70のシールド層72を貫かないように、シールドフィルム70に押し付けて配置してもよい。
また、図10(a)及び(b)に示すように、グランド部材101の外部接続部材110は、外部グランドGNDに接続されることになる。
グランド部材101では、外部接続部材110は、銅、アルミニウム、銀、金、ニッケル、クロム、チタン、亜鉛及びステンレス鋼からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これら材料は、グランド部材と外部グランドとを電気的に接続するために適した材料である。
グランド部材101では、導電性フィラー130は、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コート銅粉、金コート銅粉、銀コートニッケル粉、金コートニッケル粉、ニッケルコート銅粉、ニッケルコート銀粉及び樹脂に金属粉を被覆した粒子からなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これらの粒子は、導電性に優れているので、導電性フィラーとして適している。
導電性フィラー130の形状は特に限定されず、球状、樹枝状、フレーク状、スパイク状、棒状、繊維状、針状等であってもよい。
グランド部材101では、接着性樹脂135は、特に限定されないが、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、熱可塑性エラストマ系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等からなることが望ましい。
これら樹脂は優れた接着性を有する。
グランド部材101を用いて、シールドプリント配線板を製造する方法は、上記「シールドフィルム70を用いたシールドプリント配線板の製造方法」の(2)グランド部材配置工程において、グランド部材1に換えてグランド部材101を用いる方法である。
また、グランド部材101の導電性フィラー130の表面には、低融点金属層が形成されていてもよい。
グランド部材101の導電性フィラー130の表面に低融点金属層が形成されている場合、上記加熱工程において、グランド部材101の低融点金属層が軟化し、シールドフィルム70のシールド層と接続することになる。
従って。グランド部材1とシールドフィルム70との密着性をより向上させることができる。
グランド部材101の低融点金属層を形成する金属は、特に限定されないが、インジウム、錫、鉛及びビスマスからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係るシールドフィルム170について説明する。
図11は、本発明の第2実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。
図11に示すように、シールドフィルム170は、接着剤層171と、接着剤層171に積層されたシールド層172と、シールド層172に積層された絶縁層173とからなるシールドフィルムであって、シールド層172と絶縁層173との間には、第1低融点金属層174が形成されており、接着剤層171とシールド層172との間には第2低融点金属層175が形成されていることを特徴とする。
また、接着剤層171は導電性接着剤層である。
シールドフィルム170では、接着剤層171とシールド層172との間には第2低融点金属層175が形成されている。そのため、シールドプリント配線板の製造時に、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーにシールドフィルム170のシールド層172を貫かせて、第2低融点金属層175と接触させ、その後、加熱によりグランド部材の導電性突起又は導電性フィラーと第2低融点金属層175とを接続させることにより、グランド部材とシールドフィルム170との密着性をより向上させることができる。
なお、第2低融点金属層175を構成する金属と、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーを構成する金属とが合金を形成できる場合、これらが合金を形成することで、第2低融点金属層175と、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーとの密着性がさらに向上する。
シールドフィルム170では、第2低融点金属層175は、融点が300℃以下の金属により形成されていることが望ましい。
第2低融点金属層175が、融点が300℃以下の金属により形成されていると、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際に、容易に第2低融点金属層175が軟化し、グランド部材の導電性突起や導電性フィラーと、第2低融点金属層175との密着性を好適に向上させることができる。
第2低融点金属層が、融点が300℃を超える金属により形成されていると、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際の加熱温度が高くなる。そのため、グランド部材や、シールドプリント配線板が熱によるダメージを受けやすくなる。
シールドフィルム170では、第2低融点金属層175を形成する金属は、特に限定されないが、インジウム、錫、鉛及びビスマスからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが望ましい。
これらの金属は、第2低融点金属層175を形成する上で、適した融点及び導電性を備える。
シールドフィルム170では、第2低融点金属層175の厚さは、0.1~10μmであることが望ましく、0.1~5μmであることがより望ましい。
第2低融点金属層の厚さが、0.1μm未満であると、第2低融点金属層を形成する金属の量が少ないので、グランド部材をシールドプリント配線板に配置する際に、グランド部材の導電性突起や導電性フィラーと、シールドフィルムの第2低融点金属層の密着性が向上しにくくなる。
第2低融点金属層の厚さが、50μmを超えると、第2低融点金属層が軟化する際に、シールド層172が変形しやすくなる。その結果、シールドフィルム170のシールド特性が低下しやすくなる。
シールドフィルム170では、第2低融点金属層175は、フラックスを含むことが望ましい。
第2低融点金属層175がフラックスを含むことにより、第2低融点金属層175を構成する金属が軟化する際に、第2低融点金属層175を構成する金属と、グランド部材の導電性突起や導電性フィラーとが密着しやすくなる。
その結果、第2低融点金属層175と、グランド部材の導電性突起及び導電性フィラーとの密着性をより向上させることができる。
なお、第1低融点金属層174及び第2低融点金属層175が錫からなる場合、シールド層172と第1低融点金属層175との間、及び、シールド層172と、第2低融点金属層175との間にはニッケル層が形成されていることが望ましい。
第1低融点金属層174及び第2低融点金属層175が錫からなる場合、シールド層172を構成する金属とが合金を形成することがある。
しかし、上記のようにニッケル層が形成されていると、このような合金が形成されることを防ぐことができる。
その結果、第1低融点金属層174及び第2低融点金属層175を構成する錫と、グランド部材の導電性突起及び導電性フィラーとが効率よく合金を形成することができる。そのため、第1低融点金属層174及び第2低融点金属層175に用いる錫の量を少なくすることができる。
また、シールドフィルム170の接着剤層171、シールド層172、絶縁層173及び第1低融点金属層174の材料等は、シールドフィルム70の接着剤層71、シールド層72、絶縁層73及び第1低融点金属層74の望ましい材料と同じであることが望ましい。
次に、基体フィルム60と、シールドフィルム170と、グランド部材1とを用いたシールドプリント配線板150aについて説明する。
図12は、本発明の第2実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図12に示すように、シールドプリント配線板150aは、基体フィルム60と、シールドフィルム170と、グランド部材1から構成されるシールドプリント配線板である。
シールドプリント配線板150aでは、シールドフィルム170の接着剤層171が基体フィルム60に接触するように載置されている。
また、グランド部材1の導電性突起20は、シールドフィルム170の絶縁層173及びシールド層172を貫いている。
そして、シールドフィルム170の第1低融点金属層174及び第2低融点金属層175は、グランド部材1の導電性突起20と接続している。
そして、グランド部材1の外部接続部材10は、外部グランドGNDに接続されることになる。
次に、基体フィルム60と、シールドフィルム170と、グランド部材101とを用いたシールドプリント配線板150bについて説明する。
図13は、本発明の第2実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図13に示すように、シールドプリント配線板150bは、基体フィルム60と、シールドフィルム170と、グランド部材101から構成されるシールドプリント配線板である。
シールドプリント配線板150aでは、シールドフィルム170の接着剤層171が基体フィルム60に接触するように載置されている。
また、グランド部材101の導電性フィラー130は、シールドフィルム170の絶縁層173及びシールド層172を貫いている。
そして、シールドフィルム170の第1低融点金属層174及び第2低融点金属層175は、グランド部材101の導電性フィラー130と接続している。
そして、グランド部材101の外部接続部材110は、外部グランドGNDに接続されることになる。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルム270について説明する。
図14は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。
図14に示すように、シールドフィルム270は、接着剤層271と、接着剤層271に積層されたシールド層272と、シールド層272に積層された絶縁層273とからなるシールドフィルムであって、シールド層272と絶縁層273との間には、第1低融点金属層274が形成されていることを特徴とする。
また、シールド層272は、凸部272a及び凹部272bを有する波状の形状である。
なお、シールドフィルム270の接着剤層271は、導電性を有していてもよく、有していなくてもよい。
シールドフィルム270のシールド層272、絶縁層273及び第1低融点金属層274の材料等は、シールドフィルム70のシールド層72、絶縁層73及び第1低融点金属層74の望ましい材料と同じであることが望ましい。
シールドフィルム270の接着剤層271が導電性を有する場合、接着剤層271の材料等は、シールドフィルムの接着剤層71と同じであることが望ましい。
シールドフィルム270の接着剤層271が導電性を有さない場合、接着剤層271は、特に限定されないが、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、熱可塑性エラストマ系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等であることが望ましい。
また、接着剤層271には、脂肪酸炭化水素樹脂、C5/C9混合樹脂、ロジン、ロジン誘導体、テルペン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、熱反応性樹脂等の粘着性付与剤が含まれていてもよい。これら粘着性付与剤が含まれていると、接着剤層271の粘着性を向上させることができる。
基体フィルム60と、シールドフィルム270と、グランド部材1とを用いたシールドプリント配線板250a(図18参照)の製造方法について説明する。
図15~図18は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。
図15に示すように、シールドプリント配線板250aを製造する場合、まず、基体フィルム60にシールドフィルム270が載置される。
上記の通り、基体フィルム60は、ベースフィルム61上にグランド回路62aを含むプリント回路62と絶縁フィルム63とを順次設けて形成されるフィルムである。
また、シールドフィルム270は、接着剤層271、接着剤層271に積層されたシールド層272、及び、シールド層272に積層された絶縁層273からなるフィルムであり、シールド層272は、凸部272a及び凹部272bを有する波状の形状である。
次に、図16に示すように、シールドフィルム270が載置された基体フィルム60をプレスする。このプレスの際に、シールドフィルム270のシールド層272の凸部272aは接着剤層271を押しのけ、基体フィルム60のグランド回路62aに接続されることになる。
次に、図17に示すように、グランド部材1の導電性突起20がシールドフィルム270の絶縁層273側を向くように、グランド部材1をシールドフィルム270に配置する。
そして、グランド部材1の導電性突起20がシールドフィルム270の絶縁層273を貫通するようにグランド部材1を加圧する。これにより、グランド部材1の導電性突起20は、シールドフィルム270の第1低融点金属層274と接触することになる。
なお、加圧の際の圧力は、0.5MPa~10MPaであることが望ましい。
次に、図18に示すように、シールドフィルム270の第1低融点金属層274をグランド部材1の導電性突起20に接続させるために、シールドフィルム270の第1低融点金属層274を加熱して軟化させる。
このようにしてシールドプリント配線板250aを製造することができる。
次に、基体フィルム60と、シールドフィルム270と、グランド部材101とを用いたシールドプリント配線板250bの製造方法について説明する。
図19~図22は、本発明の第3実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の製造方法の一例を模式的に示す図である。
図19に示すように、シールドプリント配線板250aを製造する場合、まず、基体フィルム60にシールドフィルム270が載置される。
上記の通り、基体フィルム60は、ベースフィルム61上にグランド回路62aを含むプリント回路62と絶縁フィルム63とを順次設けて形成されるフィルムである。
また、シールドフィルム270は、接着剤層271、接着剤層271に積層されたシールド層272、及び、シールド層272に積層された絶縁層273からなるフィルムであり、シールド層272は、凸部272a及び凹部272bを有する波状の形状である。
次に、図20に示すように、シールドフィルム270が載置された基体フィルム60をプレスする。このプレスの際に、シールドフィルム270のシールド層272の凸部272aは接着剤層271を押しのけ、基体フィルム60のグランド回路62aに接続されることになる。
次に、図21に示すように、グランド部材101の導電性フィラー130がシールドフィルム270の絶縁層273側を向くように、グランド部材101をシールドフィルム270に配置する。
そして、グランド部材101の導電性フィラー130がシールドフィルム270の絶縁層273を貫通するようにグランド部材101を加圧する。これにより、グランド部材101の導電性フィラー130は、シールドフィルム270の第1低融点金属層274と接触することになる。
なお、加圧の際の圧力は、0.5MPa~10MPaであることが望ましい。
次に、図22に示すように、シールドフィルム270の第1低融点金属層274をグランド部材101の導電性フィラー130に接続させるために、シールドフィルム270の第1低融点金属層274を加熱して軟化させる。
このようにしてシールドプリント配線板250bを製造することができる。
また、図22に示すように、シールドプリント配線板250bでは、グランド部材101の外部接続部材110は、外部グランドGNDに接続されることになる。
(第4実施形態)
次に、本発明の第4実施形態に係るシールドフィルム370について説明する。
図23は、本発明の第4実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。
図23に示すように、シールドフィルム370は、接着剤層371と、接着剤層371に積層されたシールド層372と、シールド層372に積層された絶縁層373とからなるシールドフィルムであって、シールド層372と絶縁層373との間には、第1低融点金属層374が形成されていることを特徴とする。
また、シールドフィルム370の接着剤層371は導電性を有さない。
また、シールドフィルム370のシールド層372、絶縁層373及び第1低融点金属層374の材料等は、シールドフィルム70のシールド層72、絶縁層73及び第1低融点金属層74の望ましい材料と同じであることが望ましい。
接着剤層371は、特に限定されないが、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、熱可塑性エラストマ系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等であることが望ましい。
また、接着剤層371には、脂肪酸炭化水素樹脂、C5/C9混合樹脂、ロジン、ロジン誘導体、テルペン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、熱反応性樹脂等の粘着性付与剤が含まれていてもよい。これら粘着性付与剤が含まれていると、接着剤層371の粘着性を向上させることができる。
次に、基体フィルム60と、シールドフィルム370と、グランド部材1とを用いたシールドプリント配線板350aについて説明する。
図24は、本発明の第4実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図24に示すように、シールドプリント配線板350aは、基体フィルム60と、シールドフィルム370と、グランド部材1から構成されるシールドプリント配線板である。
シールドプリント配線板350aでは、シールドフィルム370の接着剤層371が基体フィルム60に接触するように載置されている。
また、グランド部材1の導電性突起20は、シールドフィルム370の絶縁層373を貫いている。
そして、シールドフィルム370の第1低融点金属層374は、グランド部材1の導電性突起20と接続している。
そして、グランド部材1の外部接続部材10は、外部グランドGNDに接続されることになる。
このようにグランド部材1が配置されたシールドプリント配線板350aでは、シールドフィルム370のシールド層372が外部グランドGNDと電気的に接続されるので、シールド層372は、電磁波を遮へいする電磁波シールドとして好適に作用する。
次に、基体フィルム60と、シールドフィルム370と、グランド部材101とを用いたシールドプリント配線板350bについて説明する。
図25は、本発明の第4実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図25に示すように、シールドプリント配線板350bは、基体フィルム60と、シールドフィルム370と、グランド部材101から構成されるシールドプリント配線板である。
シールドプリント配線板350bでは、シールドフィルム370の接着剤層371が基体フィルム60に接触するように載置されている。
また、グランド部材101の導電性フィラー130は、シールドフィルム370の絶縁層373を貫いている。
そして、シールドフィルム370の第1低融点金属層374は、グランド部材101の導電性フィラー130と接続している。
また、グランド部材101の外部接続部材110は、外部グランドGNDに接続されることになる。
このようにグランド部材1が配置されたシールドプリント配線板350bでは、シールドフィルム370のシールド層372が外部グランドGNDと電気的に接続されるので、シールド層372は、電磁波を遮へいする電磁波シールドとして好適に作用する。
(第5実施形態)
次に、本発明の第5実施形態であるシールドフィルム470について説明する。
図26は、本発明の第5実施形態に係るシールドフィルムの一例を模式的に示す断面図である。
図26に示すように、シールドフィルム470は、シールド層472と、シールド層472に積層された絶縁層473とからなるシールドフィルムであって、シールド層472と絶縁層473との間には、第1低融点金属層474が形成されていることを特徴とする。
また、シールドフィルム470では、シールド層472が導電性接着剤である。
シールドフィルム470のシールド層472は、導電性接着剤なので、シールドフィルム470を基体フィルム60に接着するための機能と、電磁波をシールドする機能の両方を備えることになる。
また、シールドフィルム470のシールド層472は、樹脂と導電性微粒子とからなる導電性接着剤層である。
シールド層472を構成する樹脂としては、特に限定されないが、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、熱可塑性エラストマ系樹脂、ゴム系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂等であることが望ましい。
また、シールド層472には、脂肪酸炭化水素樹脂、C5/C9混合樹脂、ロジン、ロジン誘導体、テルペン樹脂、芳香族系炭化水素樹脂、熱反応性樹脂等の粘着性付与剤が含まれていてもよい。これら粘着性付与剤が含まれていると、シールド層472の粘着性を向上させることができる。
シールド層472を構成する導電性微粒子としては、特に限定されないが、銅粉、銀粉、ニッケル粉、銀コート銅粉(AgコートCu粉)、金コート銅粉、銀コートニッケル粉(AgコートNi粉)、金コートニッケル粉があり、これら金属粉は、アトマイズ法、カルボニル法などにより作製することができる。また、上記以外にも、金属粉に樹脂を被覆した粒子、樹脂に金属粉を被覆した粒子を用いることもできる。なお、導電性微粒子は、AgコートCu粉、又は、AgコートNi粉であることが好ましい。この理由は、安価な材料により導電性の安定した導電性微粒子を得ることができるからである。
なお、導電性微粒子の形状は、球状に限定される必要はなく、例えば、樹枝状、フレーク状、スパイク状、棒状、繊維状、針状等であってもよい。
さらに、シールドフィルム470のシールド層472は、等方導電性接着剤層であることが望ましい。
この場合、導電性微粒子は、シールド層の全体量に対し39重量%を超えて95重量%以下の範囲で含まれることが望ましい。導電性微粒子の平均粒子径は、2~20μmであることが望ましい。
また、シールドフィルム470の絶縁層473及び第1低融点金属層474の材料等は、シールドフィルム70の絶縁層73及び第1低融点金属層74の望ましい材料と同じであることが望ましい。
次に、基体フィルム60と、シールドフィルム470と、グランド部材1とを用いたシールドプリント配線板450aについて説明する。
図27は、本発明の第5実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図27に示すように、シールドプリント配線板450aは、基体フィルム60と、シールドフィルム470と、グランド部材1から構成されるシールドプリント配線板である。
シールドプリント配線板450aでは、シールドフィルム470のシールド層472が基体フィルム60に接触するように載置されている。
また、グランド部材1の導電性突起20は、シールドフィルム470の絶縁層473を貫いている。
そして、シールドフィルム470の第1低融点金属層474は、グランド部材1の導電性突起20と接続している。
また、グランド部材1の外部接続部材10は、外部グランドGNDに接続されることになる。
次に、基体フィルム60と、シールドフィルム470と、グランド部材101とを用いたシールドプリント配線板450bについて説明する。
図28は、本発明の第5実施形態に係るシールドフィルムを用いたシールドプリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。
図28に示すように、シールドプリント配線板450bは、基体フィルム60と、シールドフィルム470と、グランド部材101から構成されるシールドプリント配線板である。
シールドプリント配線板450bでは、シールドフィルム470のシールド層472が基体フィルム60に接触するように載置されている。
また、グランド部材101の導電性フィラー130は、シールドフィルム470の絶縁層473を貫いている。
そして、シールドフィルム470の第1低融点金属層474は、グランド部材101の導電性フィラー130と接続している。
また、グランド部材101の外部接続部材110は、外部グランドGNDに接続されることになる。
(その他の実施形態)
本発明のシールドフリント配線板において、第1低融点金属層及び/又は第2低融点金属層が錫からなる場合、シールド層と第1低融点金属層との間、及び/又は、シールド層と第2低融点金属層との間には、ニッケル層が形成されていることが望ましい。
このようなニッケル層が形成されていると、第1低融点金属層及びシールド層を構成する金属、並びに/又は、第2低融点金属層及びシールド層を構成する金属とが合金を形成することを防ぐことができる。
また、本発明のシールドプリント配線板では、グランド部材の導電性突起又は導電性フィラーが、低融点金属を介してシールドフィルムのシールド層と接続していればよい。
すなわち、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムとを順次設けてなる基体フィルムと、シールド層、及び、上記シールド層に積層された絶縁層からなり、上記シールド層が上記絶縁層よりも上記基体フィルム側に配置されるように上記基体フィルムを被覆するシールドフィルムと、上記シールドフィルムの絶縁層の上に配置されたグランド部材とを備えるシールドプリント配線板であって、上記グランド部材は、第1主面と、上記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、上記第1主面側に配置された導電性突起とからなり、上記グランド部材の導電性突起は、上記シールドフィルムの絶縁層を貫いており、上記グランド部材の導電性突起は、低融点金属を介して上記シールドフィルムのシールド層に接続しており、上記グランド部材の外部接続部材は、外部グランドと電気的に接続可能になっているシールドプリント配線板は、本発明のシールドプリント配線板である。
また、ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムとを順次設けてなる基体フィルムと、シールド層、及び、上記シールド層に積層された絶縁層からなり、上記シールド層が上記絶縁層よりも上記基体フィルム側に配置されるように上記基体フィルムを被覆するシールドフィルムと、上記シールドフィルムの絶縁層の上に配置されたグランド部材とを備えるシールドプリント配線板であって、上記グランド部材は、第1主面と、上記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、上記第1主面側に配置された導電性フィラーとからなり、上記グランド部材の導電性フィラーは、上記シールドフィルムの絶縁層を貫いており、上記グランド部材の導電性フィラーは、低融点金属を介して上記シールドフィルムのシールド層に接続しており、上記シールドフィルムの第1低融点金属層は、上記グランド部材の導電性フィラーに接続しており、上記グランド部材の外部接続部材は、外部グランドと電気的に接続可能になっているシールドプリント配線板も、本発明のシールドプリント配線板である。
1、101、 グランド部材
10、110 外部接続部材
11、111 第1主面
12、112第2主面
20、導電性突起
50、50a、50b、150a、150b、250a、250b、350a、350b、450a、450b シールドプリント配線板
60 基体フィルム
61 ベースフィルム
62 プリント回路
62a グランド回路
63 絶縁フィルム
63a 穴部
70、170、270、370、470 シールドフィルム
71、171、271、371 接着剤層
72、172、272、372、472 シールド層
73、173、273、373、473 絶縁層
74、174、274、374、474 第1低融点金属層
130 導電性フィラー
135 接着性樹脂
175 第2低融点金属層
GND 外部グランド

Claims (27)

  1. シールド層と、前記シールド層に積層された絶縁層とからなるシールドフィルムであって、
    前記シールド層と前記絶縁層との間の少なくとも一部には、第1低融点金属層が形成されていることを特徴とするシールドフィルム。
  2. 前記第1低融点金属層は、融点が300℃以下の金属により形成されている請求項1に記載のシールドフィルム。
  3. 前記第1低融点金属層の厚さは、0.1~10μmである請求項1又は2に記載のシールドフィルム。
  4. 前記第1低融点金属層は、フラックスを含む請求項1~3のいずれかに記載のシールドフィルム。
  5. 前記シールド層の、前記絶縁層が積層された面とは反対側の面に積層された接着剤層をさらに備える請求項1~4のいずれかに記載のシールドフィルム。
  6. 前記接着剤層と、前記シールド層との間の少なくとも一部には、第2低融点金属層が形成されている請求項5に記載のシールドフィルム。
  7. 前記接着剤層は、導電性接着剤層である請求項5又は6に記載のシールドフィルム。
  8. 前記シールド層は、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含む請求項5~7のいずれかに記載のシールドフィルム。
  9. 前記シールド層は、導電性接着剤層である請求項1~4のいずれかに記載のシールドフィルム。
  10. ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムとを順次設けてなる基体フィルムと、
    シールド層、及び、前記シールド層に積層された絶縁層からなり、前記シールド層が前記絶縁層よりも前記基体フィルム側に配置されるように前記基体フィルムを被覆するシールドフィルムと、
    前記シールドフィルムの絶縁層の上に配置されたグランド部材とを備えるシールドプリント配線板であって、
    前記グランド部材は、第1主面と、前記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、
    前記第1主面側に配置された導電性突起とからなり、
    前記グランド部材の導電性突起は、前記シールドフィルムの絶縁層を貫いており、
    前記グランド部材の導電性突起は、低融点金属を介して前記シールドフィルムのシールド層に接続しており、
    前記グランド部材の外部接続部材は、外部グランドと電気的に接続可能になっていることを特徴とするシールドプリント配線板。
  11. 前記低融点金属は、前記シールドフィルムのシールド層と絶縁層との間の少なくとも一部に形成された第1低融点金属層である、請求項10に記載のシールドプリント配線板。
  12. 前記シールドフィルムは、前記シールド層の、前記絶縁層が積層された面とは反対側の面に積層された接着剤層をさらに備え、
    前記シールドフィルムの接着剤層は、前記基体フィルムと接触している請求項10又は11に記載のシールドプリント配線板。
  13. 前記低融点金属は、前記シールドフィルムの接着剤層と、前記シールドフィルムのシールド層との間の少なくとも一部に第2低融点金属層を形成しており、
    前記グランド部材の導電性突起は、前記シールドフィルムのシールド層を貫いており、
    前記グランド部材の導電性突起は、前記第2低融点金属層を形成する前記低融点金属を介して前記シールドフィルムのシールド層に接続している請求項12に記載のシールドプリント配線板。
  14. 前記接着剤層は、導電性接着剤層である請求項12又は13に記載のシールドプリント配線板。
  15. 前記シールド層は、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含む請求項12~14のいずれかに記載のシールドプリント配線板。
  16. 前記シールドフィルムのシールド層は、導電性接着剤層であり、前記シールドフィルムのシールド層は、前記基体フィルムと接触している請求項10又は11に記載のシールドプリント配線板。
  17. ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムとを順次設けてなる基体フィルムと、
    シールド層、及び、前記シールド層に積層された絶縁層からなり、前記シールド層が前記絶縁層よりも前記基体フィルム側に配置されるように前記基体フィルムを被覆するシールドフィルムと、
    前記シールドフィルムの絶縁層の上に配置されたグランド部材とを備えるシールドプリント配線板であって、
    前記グランド部材は、第1主面と、前記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、
    前記第1主面側に配置された導電性フィラーとからなり、
    前記グランド部材の導電性フィラーは、前記シールドフィルムの絶縁層を貫いており、
    前記グランド部材の導電性フィラーは、低融点金属を介して前記シールドフィルムのシールド層に接続しており、
    前記シールドフィルムの第1低融点金属層は、前記グランド部材の導電性フィラーに接続しており、
    前記グランド部材の外部接続部材は、外部グランドと電気的に接続可能になっていることを特徴とするシールドプリント配線板。
  18. 前記低融点金属は、前記シールドフィルムのシールド層と絶縁層との間の少なくとも一部に形成された第1低融点金属層である請求項17に記載のシールドプリント配線板。
  19. 前記シールドフィルムは、前記シールド層の、前記絶縁層が積層された面とは反対側の面に積層された接着剤層をさらに備え、
    前記シールドフィルムの接着剤層は、前記基体フィルムと接触している請求項17又は18に記載のシールドプリント配線板。
  20. 前記低融点金属は、前記シールドフィルムの接着剤層と、前記シールドフィルムのシールド層との間の少なくとも一部に第2低融点金属層を形成しており、
    前記グランド部材の導電性フィラーは、前記シールドフィルムのシールド層を貫いており、
    前記グランド部材の導電性フィラーは、前記第2低融点金属層を形成する前記低融点金属を介して前記シールドフィルムのシールド層に接続している請求項19に記載のシールドプリント配線板。
  21. 前記シールドフィルムにおいて、前記接着剤層は、導電性接着剤層である請求項19又は20に記載のシールドプリント配線板。
  22. 前記シールドフィルムにおいて、前記シールド層は、ニッケル、銅、銀、金、パラジウム、アルミニウム、クロム、チタン、亜鉛及びこれらの合金からなる群から選択される少なくとも1種を含む請求項19~21のいずれかに記載のシールドプリント配線板。
  23. 前記シールドフィルムにおいて、前記シールド層は、導電性接着剤層であり、前記シールドフィルムのシールド層は、前記基体フィルムと接触している請求項17又は18に記載のシールドプリント配線板。
  24. ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムと、
    請求項1~9のいずれかに記載のシールドフィルムと、
    前記シールドフィルムの絶縁層に配置されたグランド部材を備えるシールドプリント配線板の製造方法であって、
    前記グランド部材は、第1主面と、前記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、
    前記第1主面側に配置された導電性突起とからなり、
    シールドフィルムの絶縁層より前記基体フィルム側に前記シールドフィルムのシールド層が配置されるように、前記シールドフィルムを前記基体フィルムに載置するシールドフィルム載置工程と、
    前記グランド部材の導電性突起が前記シールドフィルムの絶縁層側を向くように、前記グランド部材を前記シールドフィルムに配置するグランド部材配置工程と、
    前記グランド部材の導電性突起が前記シールドフィルムの絶縁層を貫通するように前記グランド部材を加圧する加圧工程と、
    前記グランド部材の第1低融点金属層を加熱して軟化させる加熱工程と、
    を有することを特徴とするシールドプリント配線板の製造方法。
  25. 前記加圧工程及び前記加熱工程を同時に行う、請求項24に記載のシールドプリント配線板の製造方法。
  26. ベースフィルム上にグランド回路を含むプリント回路と絶縁フィルムを順次設けてなる基体フィルムと、
    請求項1~9のいずれかに記載のシールドフィルムと、
    前記シールドフィルムの絶縁層に配置されたグランド部材を備えるシールドプリント配線板の製造方法であって、
    前記グランド部材は、第1主面と、前記第1主面の反対側の第2主面とを有し、かつ、導電性を有する外部接続部材と、
    前記第1主面側に配置された導電性フィラーと、
    前記導電性フィラーを前記第1主面に固定する接着性樹脂とからなり、
    シールドフィルムの絶縁層より前記基体フィルム側に前記シールドフィルムのシールド層が配置されるように、前記シールドフィルムを前記基体フィルムに載置するシールドフィルム載置工程と、
    前記グランド部材の導電性フィラーが前記シールドフィルムの絶縁層側を向くように、前記グランド部材を前記シールドフィルムに配置するグランド部材配置工程と、
    前記グランド部材の導電性フィラーが前記シールドフィルムの絶縁層を貫通するように前記グランド部材を加圧する加圧工程と、
    前記グランド部材の第1低融点金属層を加熱して軟化させる加熱工程と、
    を有することを特徴とするシールドプリント配線板の製造方法。
  27. 前記加圧工程及び前記加熱工程を同時に行う、請求項26に記載のシールドプリント配線板の製造方法。
PCT/JP2018/004662 2017-02-13 2018-02-09 シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法 WO2018147426A1 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018567517A JP6959948B2 (ja) 2017-02-13 2018-02-09 シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017024500 2017-02-13
JP2017-024500 2017-02-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2018147426A1 true WO2018147426A1 (ja) 2018-08-16

Family

ID=63106921

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2018/004662 WO2018147426A1 (ja) 2017-02-13 2018-02-09 シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JP6959948B2 (ja)
TW (2) TWI771659B (ja)
WO (1) WO2018147426A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109068555A (zh) * 2018-09-18 2018-12-21 北京梦之墨科技有限公司 一种电磁屏蔽箱
JPWO2020189686A1 (ja) * 2019-03-19 2020-09-24
WO2021172396A1 (ja) * 2020-02-25 2021-09-02 タツタ電線株式会社 電磁波シールドフィルム
WO2022210820A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 タツタ電線株式会社 電磁波シールドフィルム
WO2022210814A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 タツタ電線株式会社 電磁波シールドフィルム

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230164239A (ko) * 2018-12-11 2023-12-01 타츠타 전선 주식회사 차폐 프린트 배선판의 제조 방법 및 차폐 프린트 배선판
CN110461086B (zh) * 2019-08-30 2021-01-08 维沃移动通信有限公司 一种电路板、电路板制作方法及终端
TW202214050A (zh) * 2020-09-18 2022-04-01 日商拓自達電線股份有限公司 附接地構件之屏蔽印刷配線板及接地構件
TWI814357B (zh) * 2022-04-22 2023-09-01 大陸商鴻通科技(廈門)有限公司 電子裝置
KR102597064B1 (ko) * 2022-04-28 2023-10-31 주식회사 현대케피코 전자파 차폐재 및 그 제조방법

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03257769A (ja) * 1990-03-08 1991-11-18 Yazaki Corp 貫通端子及びその接続方法
JPH09246775A (ja) * 1996-03-13 1997-09-19 Makoto Okuda シールドされた印刷配線基板及びその製造方法
JP4201548B2 (ja) * 2002-07-08 2008-12-24 タツタ電線株式会社 シールドフィルム、シールドフレキシブルプリント配線板及びそれらの製造方法
JP2016029748A (ja) * 2015-12-02 2016-03-03 タツタ電線株式会社 シールドプリント配線板の製造方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08293214A (ja) * 1995-04-25 1996-11-05 Sumitomo Electric Ind Ltd フラットケーブル及び導体の部分金メッキ方法
US6090728A (en) * 1998-05-01 2000-07-18 3M Innovative Properties Company EMI shielding enclosures
JP2002097424A (ja) * 2000-09-08 2002-04-02 Three M Innovative Properties Co 熱硬化型導電性接着シート、それを用いた接続構造及び接続方法
JP4828151B2 (ja) * 2005-04-15 2011-11-30 タツタ電線株式会社 導電性接着シート及び回路基板
JP2008210584A (ja) * 2007-02-23 2008-09-11 Fujikura Ltd フレキシブルフラットケーブル端子部
JP4974803B2 (ja) * 2007-08-03 2012-07-11 タツタ電線株式会社 プリント配線板用シールドフィルム及びプリント配線板
JP5234487B2 (ja) * 2007-09-20 2013-07-10 住友電気工業株式会社 フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法
JP5139156B2 (ja) * 2008-05-30 2013-02-06 タツタ電線株式会社 電磁波シールド材及びプリント配線板
JP2012131921A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Nitto Denko Corp 導電性接着テープ
US9680246B2 (en) * 2013-06-10 2017-06-13 Oriental Electro Plating Corporation Method for manufacturing plated laminate, and plated laminate
CN105493201B (zh) * 2014-02-24 2018-12-07 积水化学工业株式会社 导电糊剂、连接结构体及连接结构体的制造方法
JP6351330B2 (ja) * 2014-03-28 2018-07-04 タツタ電線株式会社 電磁波シールドフィルム、シールドプリント配線板及び電磁波シールドフィルムの製造方法
JP6349250B2 (ja) * 2014-12-24 2018-06-27 タツタ電線株式会社 シールドプリント配線板
CN107535082A (zh) * 2015-05-26 2018-01-02 拓自达电线株式会社 屏蔽膜及屏蔽印制布线板

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03257769A (ja) * 1990-03-08 1991-11-18 Yazaki Corp 貫通端子及びその接続方法
JPH09246775A (ja) * 1996-03-13 1997-09-19 Makoto Okuda シールドされた印刷配線基板及びその製造方法
JP4201548B2 (ja) * 2002-07-08 2008-12-24 タツタ電線株式会社 シールドフィルム、シールドフレキシブルプリント配線板及びそれらの製造方法
JP2016029748A (ja) * 2015-12-02 2016-03-03 タツタ電線株式会社 シールドプリント配線板の製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109068555A (zh) * 2018-09-18 2018-12-21 北京梦之墨科技有限公司 一种电磁屏蔽箱
JPWO2020189686A1 (ja) * 2019-03-19 2020-09-24
JP7254904B2 (ja) 2019-03-19 2023-04-10 タツタ電線株式会社 シールドプリント配線板、シールドプリント配線板の製造方法、及び、接続部材
WO2021172396A1 (ja) * 2020-02-25 2021-09-02 タツタ電線株式会社 電磁波シールドフィルム
JPWO2021172396A1 (ja) * 2020-02-25 2021-09-02
US11758705B2 (en) 2020-02-25 2023-09-12 Tatsuta Electric Wire & Cable Co., Ltd Electromagnetic wave shielding film
TWI829973B (zh) * 2020-02-25 2024-01-21 日商拓自達電線股份有限公司 電磁波屏蔽膜
WO2022210820A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 タツタ電線株式会社 電磁波シールドフィルム
WO2022210814A1 (ja) * 2021-03-31 2022-10-06 タツタ電線株式会社 電磁波シールドフィルム

Also Published As

Publication number Publication date
TWI771659B (zh) 2022-07-21
TW201841742A (zh) 2018-12-01
JP2020092279A (ja) 2020-06-11
JP6959948B2 (ja) 2021-11-05
TWI732995B (zh) 2021-07-11
JPWO2018147426A1 (ja) 2019-12-12
TW202025868A (zh) 2020-07-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2018147426A1 (ja) シールドフィルム、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法
JP6891218B2 (ja) グランド部材、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法
TWI501708B (zh) Shielded printed circuit boards
JP6187568B2 (ja) 電磁波シールド用積層体、電磁波シールド積層体、電子機器およびその製造方法
JP6194939B2 (ja) 電磁波シールド用積層体、電磁波シールド積層体、電子機器およびその製造方法
JP2020096189A (ja) グランド部材、シールドプリント配線板及びシールドプリント配線板の製造方法
WO2018147424A1 (ja) プリント配線板
TWI813823B (zh) 接地構件及遮蔽印刷配線板
WO2020090726A1 (ja) 電磁波シールドフィルム、シールドプリント配線板の製造方法、及び、シールドプリント配線板
KR102640159B1 (ko) 차폐 프린트 배선판 및 차폐 프린트 배선판의 제조 방법
WO2022059726A1 (ja) グランド部材付シールドプリント配線板及びグランド部材

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 18750884

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2018567517

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 18750884

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1