WO2018043529A1 - 水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法 - Google Patents

水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法 Download PDF

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halogen atom
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雅章 片山
耕平 後藤
皇晶 筒井
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Nissan Chemical Corp
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    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/8791—Arrangements for improving contrast, e.g. preventing reflection of ambient light

Definitions

  • the present invention relates to a retardation film having a water vapor barrier property and a method for producing the same.
  • An extremely high water vapor barrier property is required for a substrate for an organic EL display.
  • a resin substrate having a water vapor barrier property a substrate in which a water vapor barrier layer is formed on the surface of a base material made of resin has been used.
  • Patent Document 1 an inorganic layer formed by a counter target sputtering method, an inorganic layer formed by a vacuum deposition method, an inorganic layer formed by a chemical vapor deposition method, and a vacuum deposition method are formed on a plastic film as a substrate.
  • a gas barrier film having inorganic layers in this order is described.
  • this technique has a problem in terms of productivity because the manufacturing process is complicated.
  • a retardation plate is used in order to suppress external light reflection and improve visibility. If a high water vapor barrier property can be imparted to the retardation plate, it is possible to simultaneously have a function as a substrate of an organic EL display and a function as a retardation film.
  • the gas barrier film using an inorganic material has poor flexibility and is brittle, there is a problem that it cannot satisfy the demand for flexibility.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a retardation film having a water vapor barrier property, which can be manufactured by a simple method at a lower cost than conventional methods, and can be manufactured using an organic material, and a manufacturing method thereof. With the goal.
  • the inventors of the present invention have, as a result, a retardation film containing a polymer that can exhibit liquid crystallinity having a predetermined photosensitive side chain, also has a water vapor barrier property,
  • the present invention was completed by finding that it can be produced by a simpler method.
  • the present invention provides a retardation film having the following water vapor barrier property and a method for producing the same.
  • a retardation film having a water vapor barrier property comprising a liquid crystalline polymer having a photosensitive side chain and having a thickness of more than 300 nm and not more than 50,000 nm.
  • 2. 1. The retardation film according to 1, wherein the photosensitive side chain undergoes photocrosslinking, photoisomerization, or photofleece transition.
  • 3. The retardation film according to 2, wherein the photosensitive side chain is at least one selected from groups represented by the following formulas (1) to (6).
  • a 1 , A 2 and A 3 are each independently a single bond, —O—, —CH 2 —, —C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —, Represents —C ( ⁇ O) —NH—, —NH—C ( ⁇ O) —, —CH ⁇ CH—C ( ⁇ O) —O— or —O—C ( ⁇ O) —CH ⁇ CH—;
  • T 1 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;
  • T 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom;
  • Y 1 is a monovalent aromatic group selected from a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, and a pyrrolyl group, a monovalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5
  • the selected 2 to 6 groups are bonded to each other through a linking group A 2, and a part of the hydrogen atoms bonded to these groups is —COOR 0 (R 0 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 5; Represents an alkyl group.), —NO 2 , —CN, —CH ⁇ C (CN) 2 , —CH ⁇ CH—CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms May be substituted with; Y 2 represents a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a furandiyl group, and a pyrroldiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, or a substitution thereof.
  • -CH CH-CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms;
  • R represents a hydroxy group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the same definition as Y 1 ;
  • X is a single bond, —C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —, —N ⁇ N—, —CH ⁇ CH—, —C ⁇ C—, —CH ⁇ CH—C.
  • C ou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and a part of the hydrogen atoms bonded thereto are —NO 2 , —CN, —CH ⁇ C (CN) 2 , —CH ⁇ CH -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms may be substituted;
  • Q 1 and Q 2 are each independently a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a frangyl group, and a pyrroldiyl group, and a divalent cyclic aliphatic carbon group having 5 to 8 carbon atoms.
  • Q 1 or Q 2 on the side to which —CH ⁇ CH— is bonded is a divalent aromatic group, and when Q 1 is 2 or more, each Q 1 is the same However, they may be different, and when Q 2 is 2 or more, each Q 2 may be the same or different;
  • E represents —C ( ⁇ O) —O— or —O—C ( ⁇ O) —;
  • W 1 and W 2 are each independently 2-6 groups selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a frangyl group, a pyrrolediyl group, or a substituent thereof bonded via a linking group
  • a 2 Represents a group of a1 represents 0 or 1; a2 represents an integer of
  • a retardation film according to 3, wherein the photosensitive side chain is selected from the groups represented by the following formulas (11) to (13). (Wherein A 1 , R, R 1 , X, c, d, m1 and the broken line are the same as above; e represents an integer of 0 to 6) 6). 3. The retardation film according to 3, wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (14) or (15). (In the formula, A 1 , R 1 , Y 1 , c, d, m1, m2 and the broken line are the same as described above.) 7). 3. The retardation film according to 3, wherein the photosensitive side chain is a group represented by the following formula (16) or (17).
  • liquid crystalline polymer further contains at least one liquid crystalline side chain selected from the groups represented by the following formulas (21) to (35).
  • R 2 is a hydrogen atom, —NO 2 , —CN, —CH ⁇ C (CN) 2 , —CH ⁇ CH—CN, halogen atom, phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, furanyl group, monovalent nitrogen-containing Represents a heterocyclic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms; Y 3 represents a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, or a substituent thereof selected from 2
  • R C represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a carboxyl group or a carboxylmethyl group
  • R E represents a hydroxy group, an alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group
  • a broken line represents a bond to R A or R B .
  • An organic EL display comprising the retardation film according to any one of 1 to 13.
  • a composition for forming a retardation film containing a resin component containing a liquid crystalline polymer having a photosensitive side chain and an organic solvent is applied to a substrate to form a coating film having a thickness of more than 300 nm and not more than 50,000 nm.
  • Process, Production of a retardation film having a water vapor barrier property comprising a step of irradiating the coating film with polarized ultraviolet light, and a step of heating the film irradiated with polarized ultraviolet light to obtain a film having a film thickness of more than 300 nm and not more than 50,000 nm Method. 16. 15.
  • the retardation film of the present invention has both a high water vapor barrier property and a function as a retardation film, and can be suitably used for a display device such as an organic EL display. Further, the retardation film of the present invention can be produced by a simple method at a lower cost than the conventional one, and the productivity is also good.
  • the retardation film having water vapor barrier properties of the present invention contains a liquid crystalline polymer having a photosensitive side chain, and has a film thickness of more than 300 nm and 50,000 nm or less.
  • the structure of the photosensitive side chain is not particularly limited, but is preferably a structure that undergoes a crosslinking reaction, isomerization reaction, or photofleece rearrangement in response to light, and more preferably a structure that undergoes a crosslinking reaction or photofleece rearrangement. Even more preferred is one that causes
  • the photosensitive side chain is preferably at least one selected from the groups represented by the following formulas (1) to (6).
  • a 1 , A 2 and A 3 are each independently a single bond, —O—, —CH 2 —, —C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —, — C ( ⁇ O) —NH—, —NH—C ( ⁇ O) —, —CH ⁇ CH—C ( ⁇ O) —O— or —O—C ( ⁇ O) —CH ⁇ CH— is represented.
  • T 1 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.
  • T 2 represents a single bond or an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.
  • Y 1 is a monovalent aromatic group selected from a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, and a pyrrolyl group, a monovalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, or a substituent thereof.
  • the selected 2 to 6 groups are bonded to each other through a linking group A 2, and a part of the hydrogen atoms bonded to these groups is —COOR 0 (R 0 is a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 5; Represents an alkyl group.), —NO 2 , —CN, —CH ⁇ C (CN) 2 , —CH ⁇ CH—CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms May be substituted.
  • Y 2 represents a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a furandiyl group, and a pyrroldiyl group, a divalent cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, or a substitution thereof.
  • R represents a hydroxy group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the same definition as Y 1 .
  • X is a single bond, —C ( ⁇ O) —O—, —O—C ( ⁇ O) —, —N ⁇ N—, —CH ⁇ CH—, —C ⁇ C—, —CH ⁇ CH—C. ( ⁇ O) —O— or —O—C ( ⁇ O) —CH ⁇ CH—, and when the number of X is 2 or more, each X may be the same or different.
  • C ou represents a coumarin-6-yl group or a coumarin-7-yl group, and a part of the hydrogen atoms bonded thereto are —NO 2 , —CN, —CH ⁇ C (CN) 2 , —CH ⁇ CH -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms may be substituted.
  • Q 1 and Q 2 are each independently a divalent aromatic group selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a frangyl group, and a pyrroldiyl group, and a divalent cyclic aliphatic carbon group having 5 to 8 carbon atoms.
  • X is —CH ⁇ CH—CO—O— or —O—CO;
  • Q 1 or Q 2 on the side to which —CH ⁇ CH— is bonded is a divalent aromatic group, and when Q 1 is 2 or more, each Q 1 is the same However, they may be different, and when the number of Q 2 is 2 or more, each Q 2 may be the same or different.
  • W 1 and W 2 are each independently 2-6 groups selected from a phenylene group, a naphthalenediyl group, a biphenylylene group, a frangyl group, a pyrrolediyl group, or a substituent thereof bonded via a linking group
  • a 2 Represents a group formed by
  • a1 represents 0 or 1.
  • a2 represents an integer of 0 to 2.
  • a a1 and a2 are both 0, when T 2 is a single bond, A 1 represents a single bond.
  • a1 is 1, when T 2 is a single bond, A 2 represents a single bond.
  • b represents 0 or 1.
  • a broken line represents a bond with the main chain.
  • a 1 , A 2 , A 3 , Y 1 , Y 2 , R, X and the broken line are the same as described above, but when n is 0, A 2 is a single bond.
  • R 1 represents —NO 2 , —CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
  • c represents an integer of 1 to 12.
  • m represents an integer of 0-2.
  • m1 and m2 each independently represents an integer of 1 to 3.
  • d represents an integer of 0 to 4.
  • n represents an integer of 0 to 12.
  • alkyl group having 1 to 5 carbon atoms examples include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, and n-pentyl. Can be mentioned.
  • alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, and n-pentyloxy group. Etc.
  • the photosensitive side chain preferably reacts with light having a wavelength in the range of 250 to 400 nm.
  • photosensitive side chain those represented by the formulas (7), (8), (9), (14), and (15) are particularly preferable.
  • the liquid crystalline polymer has a photosensitive side chain bonded to the main chain, and can cause a crosslinking reaction, an isomerization reaction, or a light fleece rearrangement in response to light.
  • the structure of the side chain having photosensitivity is not particularly limited, but a structure that undergoes a crosslinking reaction or photofleece rearrangement in response to light is preferred, and a structure that undergoes a crosslinking reaction is more preferred.
  • the structure of the polymer film having a photosensitive side chain capable of exhibiting liquid crystallinity is not particularly limited as long as it satisfies such characteristics, but it is preferable to have a rigid mesogenic component in the side chain structure.
  • the liquid crystalline polymer preferably exhibits liquid crystallinity in a temperature range of 50 to 300 ° C.
  • the expression temperature of the liquid crystal is more preferably 60 to 280 ° C, still more preferably 70 to 250 ° C, and further preferably 80 to 200 ° C. If the liquid crystalline expression temperature is within the above range, a film capable of stably maintaining the obtained water vapor barrier property and retardation for a long time even when exposed to external stress such as heat or light is produced. be able to.
  • the liquid crystalline polymer preferably includes a liquid crystalline side chain having a rigid mesogenic site in addition to the photosensitive side chain.
  • a side chain is preferably at least one selected from the groups represented by the following formulas (21) to (35).
  • a 1 , A 2 , E, R 1 , c, d, e, m1, m2 and the broken line are the same as described above.
  • R 2 is a hydrogen atom, —NO 2 , —CN, —CH ⁇ C (CN) 2 , —CH ⁇ CH—CN, halogen atom, phenyl group, naphthyl group, biphenylyl group, furanyl group, monovalent nitrogen-containing
  • a heterocyclic ring-containing group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms is represented.
  • Y 3 represents a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a furanyl group, a monovalent nitrogen-containing heterocyclic group, a cyclic aliphatic hydrocarbon group having 5 to 8 carbon atoms, or a substituent thereof selected from 2 to 6 represents a group formed by bonding via a linking group a 2 group, a part -NO 2 hydrogen atoms bonded thereto, -CN, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or carbon atoms, It may be substituted with 1 to 5 alkoxy groups.
  • Z 1 and Z 2 each independently represents a single bond, —C ( ⁇ O) —, —CH 2 O—, —CH ⁇ N— or —CF 2 —.
  • H represents an integer of 0 to 5.
  • k independently represents an integer of 0 to 2, but in formulas (25) and (26), the sum of all k is 2 or more.
  • m3 represents an integer of 1 to 3.
  • liquid crystalline side chain those represented by the formulas (21), (22), (23), (24), (27), (29), (30), (31) are particularly preferable.
  • the liquid crystalline polymer has a main chain and a side chain bonded thereto, and includes the photosensitive side chain and the liquid crystalline side chain as a side chain.
  • the polymer preferably includes polyimide, polyester, polyurea containing the side chain, or a repeating unit represented by the following formula (A) and a repeating unit represented by the following formula (B).
  • R A is at least one selected from groups represented by formulas (1) to (6)
  • R B is at least selected from groups represented by formulas (21) to (35).
  • 1 type, M A and M B each independently represent a group derived from a polymerizable group.
  • the main chain is derived from a radical polymerizable monomer such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, fumaric acid, maleic acid, ⁇ -methylene- ⁇ -butyrolactone, ethylene, styrene, maleimide, norbornene, or a polysiloxane structure. Is preferred.
  • the group derived from the polymerizable group is preferably at least one selected from the group represented by the following formula.
  • R C represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, a carboxyl group or a carboxylmethyl group
  • R D represents a single bond, —C ( ⁇ O) —O—, —C ( ⁇ O ) —NH— or a phenylene group
  • R E represents a hydroxy group, an alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or a phenyl group
  • a broken line represents a bond with R A or R B.
  • the polymerizable group is preferably derived from (meth) acrylic acid, ⁇ -methylene- ⁇ -butyrolactone, styrene, maleimide, and (meth) acrylic acid, ⁇ -methylene- ⁇ -butyrolactone, styrene More preferably, those derived from (meth) acrylic acid and ⁇ -methylene- ⁇ -butyrolactone are even more preferred.
  • the content of the photosensitive side chain is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 mol% or more in all side chains. Further, the content of the liquid crystalline side chain is preferably 95 mol% or less, more preferably 90 mol% or less in all side chains.
  • the total content of the photosensitive side chain and the liquid crystalline side chain is preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more in all side chains.
  • the liquid crystalline polymer preferably contains a polar group in at least one of the photosensitive side chain and the liquid crystalline side chain.
  • a polar group a hydroxy group, a carboxyl group, an amide group and an amino group are preferable, and a carboxyl group is more preferable.
  • the liquid crystalline polymer may contain a crosslinked structure to the extent that liquid crystallinity is not impaired. Examples of the crosslinked structure include those derived from an oxirane ring-containing group such as a glycidyl group, an oxetane ring-containing group, and the like.
  • the liquid crystalline polymer may contain other side chains other than the photosensitive side chain and the liquid crystalline side chain as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • Examples of such a side chain include linear or branched alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms, linear or branched halogenated alkyl groups having 1 to 15 carbon atoms, and aryl groups having 6 to 20 carbon atoms.
  • the content of other side chains is preferably 30 mol% or less in all side chains.
  • alkyl group examples include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n- Examples include heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group and the like.
  • halogenated alkyl group examples include groups in which some or all of the hydrogen atoms of these alkyl groups have been substituted with halogen atoms such as fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms.
  • aryl group examples include a phenyl group, 1-naphthyl group, 2-naphthyl group, 1-anthryl group, 2-anthryl group, 9-anthryl group, 1-phenanthryl group, 2-phenanthryl group, 3-phenanthryl group, 4 -Phenanthryl group, 9-phenanthryl group and the like.
  • heteroaryl group those containing an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom and the like are preferable.
  • aralkyl group examples include a benzyl group, a phenethyl group, a naphthylmethyl group, and a naphthylethyl group.
  • the heteroaralkyl group preferably includes an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a selenium atom, and the like, and specifically includes a thienylmethyl group, a furanylmethyl group, an oxazolylmethyl group, and 3-isoxazolylmethyl group.
  • repeating unit having such a side chain those represented by the following formula (C) are preferable.
  • R C represents a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, a linear or branched halogenated alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, It represents a heteroaryl group having 2 to 20 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, a heteroaralkyl group having 3 to 20 carbon atoms, an oxirane ring-containing group such as a glycidyl group, an oxetane ring-containing group, and the like.
  • M C represents a group derived from a polymerizable group.
  • the polymerizable group include the same ones as mentioned in the description of M A and M B.
  • the weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably 2,000 to 1,000,000, considering the strength of the resulting coating film, the workability during coating film formation, and the uniformity of the coating film, and is preferably 5,000. More preferable is 100,000.
  • Mw is a measured value in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).
  • the polymer can be synthesized, for example, according to the method described in International Publication No. 2014/054785.
  • the method for producing the retardation film of the present invention includes: [I] A step of applying a composition for forming a retardation film containing a resin component containing the liquid crystalline polymer and an organic solvent to a substrate to form a coating film having a thickness of more than 300 nm and not more than 50,000 nm, [II] a step of irradiating the coating film with polarized ultraviolet rays, and [III] a step of heating the film irradiated with the polarized ultraviolet rays to obtain a film having a thickness of more than 300 nm and not more than 50,000 nm.
  • the base material is not particularly limited, but a plastic substrate such as a glass substrate, an acetate substrate, an acrylic substrate, a polycarbonate substrate, a polyethylene terephthalate substrate, a polyethylene naphthalate substrate, a cycloolefin polymer substrate, or a polyimide substrate. Etc. can be used.
  • the retardation film forming composition includes a resin component containing the liquid crystalline polymer and an organic solvent.
  • the composition for forming a retardation film is preferably a solution in which the polymer is dissolved in an organic solvent from the viewpoint that it is suitable for forming a retardation film.
  • the resin component may be all the liquid crystalline polymer, but may contain other polymers (hereinafter referred to as other polymers) as long as the liquid crystal developing ability and the photosensitive performance are not impaired.
  • other polymers include poly (meth) acrylate, polyamic acid, polyimide, and the like.
  • the content of the other polymer in the resin component is preferably 0.5 to 80% by mass, and more preferably 1 to 50% by mass.
  • the content of the resin component is preferably 1 to 20% by mass, more preferably 3 to 15% by mass, and even more preferably 3 to 10% by mass.
  • organic solvent examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N-methylcaprolactam, 2-pyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N-vinylpyrrolidone, dimethyl sulfoxide, Tetramethylurea, pyridine, dimethylsulfone, hexamethylsulfoxide, ⁇ -butyrolactone, 3-methoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-ethoxy-N, N-dimethylpropanamide, 3-butoxy-N, N-dimethyl Propanamide, 1,3-dimethyl-imidazolidinone, ethyl amyl ketone, methyl nonyl ketone, methyl ethyl ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isopropyl ketone, cyclohexanone, ethylene carbonate, propylene carbonate, dig
  • a poor solvent may be added in order to improve the film thickness uniformity and the surface smoothness.
  • the poor solvent include isopropyl alcohol, methoxymethylpentanol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diisobutyl carbinol, butyl carbitol, ethyl carbitol, ethyl carbitol acetate, ethylene glycol, Ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol, propylene glycol monoacetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monobutyl ether, propylene glycol-tert-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol The Chill ether, diethylene glycol,
  • the content of the poor solvent is preferably 5 to 80% by mass, more preferably 20 to 60% by mass in the total solvent so as not to significantly reduce the solubility of the entire solvent.
  • the said poor solvent may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types.
  • the retardation film forming composition contains a surfactant such as a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, or a nonionic surfactant. May be included.
  • a surfactant such as a fluorine-based surfactant, a silicone-based surfactant, or a nonionic surfactant. May be included.
  • the surfactant examples include Ftop (registered trademark) 301, EF303, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd.), MegaFuck (registered trademark) F171, F173, R-30 (manufactured by DIC Corporation), Fluorad (registered trademark) FC430, FC431 (manufactured by 3M), Asahi Guard (registered trademark) AG710 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Surflon (registered trademark) S-382, SC101, SC102, SC103, SC104, SC105, SC106 ( AGC Seimi Chemical Co., Ltd.).
  • the content of the surfactant is preferably 0.01 to 2 parts by mass, and more preferably 0.01 to 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component.
  • the retardation film forming composition may contain a functional silane-containing compound.
  • the functional silane-containing compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl)- 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyl Trimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyl
  • the content of the functional silane-containing compound is preferably 0.1 to 30 parts by mass and more preferably 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. If it is the said range, the adhesive improvement effect will be acquired.
  • the composition for forming a retardation film further includes additives such as a phenoplast compound, an epoxy group-containing compound, and an oxetane ring-containing compound for the purpose of improving reliability, suppressing barrier properties and reduction in retardation. May be included.
  • phenoplast compound examples include, but are not limited to, those shown below.
  • epoxy group-containing compound examples include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and 1,6- Hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, 1,3,5,6-tetraglycidyl-2,4-hexanediol, N, N, N ′, N ′ -Tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodip
  • the retardation film forming composition may further contain a photosensitizer.
  • a photosensitizer a colorless sensitizer and a triplet sensitizer are preferable.
  • the photosensitizer include aromatic nitro compounds, coumarin (7-diethylamino-4-methylcoumarin, 7-hydroxy4-methylcoumarin), ketocoumarin, carbonyl biscoumarin, and aromatic 2-hydroxyketone (2-hydroxybenzophenone).
  • aromatic 2-hydroxy ketone (benzophenone), coumarin, ketocoumarin, carbonyl biscoumarin, acetophenone, anthraquinone, xanthone, thioxanthone, and acetophenone ketal are preferred.
  • the content of the additive or photosensitizer is preferably 0.1 to 30 parts by mass, and more preferably 0.5 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component. If it is the said range, sufficient effect will be acquired and liquid crystallinity will not be impaired.
  • a dielectric material, a conductive material, and further a crosslinkable compound may be added to the retardation film forming composition as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • the method for applying the retardation film forming composition to a substrate is not particularly limited.
  • industrially, screen printing, gravure printing, offset printing, flexographic printing, inkjet method, and the like are common.
  • Other coating methods include a dipping method, a die coating method, a roll coating method, a slit coating method, a spin coating method, a spray coating method, and the like, and these may be used depending on the purpose.
  • the retardation film forming composition After the retardation film forming composition is applied on the substrate, it is preferably 50 to 200 ° C., more preferably 50 to 150 ° C., by a heating means such as a hot plate, a heat circulation oven, or an infrared oven. A solvent can be evaporated and a coating film can be obtained. The temperature at this time is preferably lower than the liquid crystal phase expression temperature of the polymer.
  • the thickness of the coating film is more than 300 nm and not more than 50,000 nm, but the lower limit is preferably 350 nm, more preferably 400 nm, even more preferably 1,000 nm, and most preferably 1. 500 nm.
  • the upper limit is preferably 20,000 nm, more preferably 10,000 nm, even more preferably 6,000 nm, and most preferably 5,000 nm.
  • step [II] when irradiating the surface of the coating film with polarized ultraviolet rays, the substrate is irradiated with polarized ultraviolet rays from a certain direction through a polarizing plate.
  • the ultraviolet rays to be used those having a wavelength in the range of 100 to 400 nm are suitable. The optimum wavelength is selected through a filter or the like depending on the type of coating film used. For example, ultraviolet rays having a wavelength in the range of 290 to 400 nm can be selected and used so that the photocrosslinking reaction can be selectively induced.
  • the ultraviolet light for example, light emitted from a high-pressure mercury lamp can be used.
  • the irradiation amount of polarized ultraviolet rays depends on the coating film used.
  • the amount of irradiation of the polarized ultraviolet light that achieves the maximum value of ⁇ A (hereinafter also referred to as ⁇ Amax) that is the difference between the ultraviolet light absorbance in the direction parallel to the polarization direction of the polarized ultraviolet light and the ultraviolet light absorbance in the direction perpendicular to the polarization direction of the polarized ultraviolet light.
  • the amount is preferably in the range of 1 to 70%, more preferably in the range of 1 to 50%.
  • step [III] by heating the coating film irradiated with polarized ultraviolet rays, a large anisotropy (phase difference) can be imparted to the coating film.
  • Heating can be performed using a heating means such as a hot plate, a heat circulation type oven, or an infrared type oven.
  • the heating temperature can be determined in consideration of the temperature at which the liquid crystallinity of the coating film used is developed.
  • the heating temperature is preferably within the range of the temperature at which the liquid crystalline polymer exhibits liquid crystallinity (hereinafter referred to as liquid crystal expression temperature).
  • the liquid crystal expression temperature on the coating film surface is expected to be lower than the liquid crystal expression temperature when a photosensitive side chain polymer that can exhibit liquid crystallinity is observed in bulk.
  • the heating temperature is more preferably within the temperature range of the liquid crystal expression temperature on the coating film surface. That is, the temperature range of the heating temperature after irradiation with polarized ultraviolet rays is 10 ° C. lower than the lower limit of the temperature range of the liquid crystal expression temperature of the chain polymer to be used, and 10 ° C.
  • the temperature of the range is the temperature of the range made into an upper limit. If the heating temperature is lower than the above temperature range, the anisotropic amplification effect due to heat in the coating film tends to be insufficient, and if the heating temperature is too higher than the above temperature range, the state of the coating film Tends to be close to an isotropic liquid state (isotropic phase), and in this case, self-organization may make it difficult to reorient in one direction.
  • the liquid crystal expression temperature is an isotropic phase in which the liquid crystalline polymer has a temperature higher than the glass transition temperature at which a phase transition occurs from the solid phase to the liquid crystal phase and causes a phase transition from the liquid crystal phase to the isotropic phase (isotropic phase). The temperature below the transition temperature.
  • the thickness of the coating film formed after heating is more than 300 nm and not more than 50,000 nm, but the lower limit thereof is preferably 350 nm, more preferably 400 nm, and still more preferably 1,000 nm. Most preferably, it is 1,500 nm.
  • the upper limit is preferably 20,000 nm, more preferably 10,000 nm, even more preferably 6,000 nm, and most preferably 5,000 nm.
  • the introduction of the anisotropy to the coating film can be realized with high efficiency by the manufacturing method. That is, a phase difference appears. And a base material with a phase difference film can be manufactured with high efficiency.
  • the retardation film of the present invention thus obtained also has a water vapor barrier property. It is considered that the barrier property is improved because the mesogen skeleton is oriented finely to obtain a ⁇ -conjugate and ⁇ - ⁇ stacking effect.
  • the water vapor transmission rate when the thickness of the retardation film is 1,000 nm is preferably 500 g / m 2 ⁇ day or less.
  • the water vapor transmission rate is a value measured under the conditions of a temperature of 40 ° C. and a relative humidity of 90% according to JIS Z 0208 “Method of testing moisture permeability of moisture-proof packaging material (cup method)”.
  • the retardation film having a water vapor barrier property of the present invention is particularly useful as a retardation film for an organic EL display. Since the organic EL display provided with the retardation film of the present invention has a high water vapor barrier property, the organic EL display is excellent in reliability and can produce a high-definition display with a large screen.
  • the number average molecular weight (Mn) and the weight average molecular weight (Mw) were measured using Shodex® GPC-101 (solvent: tetrahydrofuran, calibration curve: standard polystyrene) manufactured by Showa Denko K.K.
  • the obtained reaction solution was added dropwise to 300 mL of methanol, and the resulting precipitate was filtered, washed with methanol, and dried under reduced pressure to obtain a powdered polymer P1 (yield 12.67 g, yield 80%).
  • Retardation film forming composition C1 is spin-coated on an 80 ⁇ m thick acetate film (made by HOLBEIN ART MATERIALS) as a substrate, dried on a hot plate at 70 ° C. for 3 minutes, and a polymer having a thickness of 1,000 nm A layer was formed. Next, after irradiating the film surface with ultraviolet rays of 313 nm through a polarizing plate at 10 mJ / cm 2 , the film was heated on a 140 ° C. hot plate for 10 minutes to form a film F1 with a water vapor barrier retardation film having a thickness of 1,000 nm. Produced.
  • the water vapor barrier property was evaluated by the following method according to various conditions of JIS Z 0208 “Method of moisture permeability test for moisture-proof packaging materials (cup method)”. Using a regular hexagonal coated film with a moisture permeable area of 28.27 cm 2 , about 20 g of calcium chloride as a hygroscopic agent is sealed in a screw-tightened moisture permeable cup, and weighing operation at intervals of 1 hour or more is repeated. The water vapor transmission rate was calculated from the mass increase. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-2 In the same manner as in Example 1-1, except that the retardation film forming composition C2 was used instead of the retardation film forming composition C1, and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 4 mJ / cm 2 , the water vapor barrier property A film F2-1 with a retardation film was produced and its water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-3 In the same manner as in Example 1-1, except that the retardation film forming composition C2 was used instead of the retardation film forming composition C1, and the ultraviolet irradiation at 313 nm was changed to 7 mJ / cm 2 , the water vapor barrier property A film with a retardation film F2-2 was prepared and its water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-4 A film with water vapor barrier retardation film F2-3 was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that the retardation film forming composition C2 was used instead of the retardation film forming composition C1. The water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-5 Water vapor barrier properties were the same as in Example 1-1 except that the retardation film forming composition C3 was used instead of the retardation film forming composition C1, and the ultraviolet irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / cm 2 . A film F3 with a retardation film was produced, and the water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-6 In the same manner as in Example 1-1, except that the retardation film forming composition C4 was used instead of the retardation film forming composition C1, and the ultraviolet ray irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / cm 2 , the water vapor barrier property A film F4 with a retardation film was produced, and the water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-1 A film F1 ′ was produced in the same manner as in Example 1-1 except that ultraviolet irradiation was not performed, and the water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-2 A film F2 ′ was produced in the same manner as in Example 1-4 except that no ultraviolet irradiation was performed, and the water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-3 A film F3 ′ was produced in the same manner as in Example 1-5 except that no ultraviolet irradiation was performed, and the water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • Example 1-4 A film F4 ′ was produced in the same manner as in Example 1-6 except that ultraviolet irradiation was not performed, and the water vapor barrier property was evaluated. The results are shown in Table 1.
  • phase difference film forming composition C1 is spin-coated on a glass substrate on which an ITO film is formed with a length of 40 mm, a width of 30 mm, and a thickness of 0.7 mm, dried on a hot plate at 70 ° C. for 3 minutes, A polymer layer of 000 nm was formed. Next, after irradiating the surface of the coating film with ultraviolet rays of 313 nm at 10 mJ / cm 2 via a polarizing plate, it was heated on a hot plate at 140 ° C. for 10 minutes to obtain a glass substrate G1 with a retardation film having a thickness of 1,000 nm. .
  • the phase difference value was evaluated using the Mueller matrix polarimeter (Axometrics make, product name Axoscan).
  • the measurement wavelength was 550 nm and the measurement temperature was 23 ° C.
  • the results are shown in Table 2.
  • Example 2-2 The retardation film was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the retardation film forming composition C2 was used instead of the retardation film forming composition C1, and the ultraviolet irradiation at 313 nm was changed to 4 mJ / cm 2.
  • the attached glass substrate G2-1 was produced, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-3 The retardation film was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the retardation film forming composition C2 was used instead of the retardation film forming composition C1, and the ultraviolet irradiation at 313 nm was changed to 7 mJ / cm 2.
  • the attached glass substrate G2-2 was prepared, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-4 A glass substrate G2-3 with a retardation film was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the retardation film forming composition C2 was used instead of the retardation film forming composition C1, The phase difference value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-5 The retardation film was prepared in the same manner as in Example 2-1, except that the retardation film forming composition C3 was used instead of the retardation film forming composition C1, and the ultraviolet irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / cm 2. The attached glass substrate G3 was produced, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-6 The retardation film was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that the retardation film forming composition C4 was used instead of the retardation film forming composition C1 and the ultraviolet irradiation at 313 nm was changed to 100 mJ / cm 2. The attached glass substrate G4 was produced and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-1 A glass substrate G1 ′ with a retardation film was produced in the same manner as in Example 2-1 except that no ultraviolet irradiation was performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-2 A glass substrate G2 ′ with a retardation film was produced in the same manner as in Example 2-4 except that ultraviolet irradiation was not performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-3 A glass substrate G3 ′ with a retardation film was produced in the same manner as in Example 2-5 except that ultraviolet irradiation was not performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • Example 2-4 A glass substrate G4 ′ with a retardation film was produced in the same manner as in Example 2-6 except that ultraviolet irradiation was not performed, and the retardation value was evaluated. The results are shown in Table 2.
  • the retardation film of the present invention has excellent water vapor barrier properties and can function as a retardation film.

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Abstract

感光性側鎖を有する液晶性ポリマーを含み、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下である、水蒸気バリア性を有する位相差膜を提供する。

Description

水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法
　本発明は、水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法に関する。
　有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ等の表示装置の分野において、高精細化に加え、軽量化、フレキシブル化等に対する要求がますます高まっている。そのような事情の下、ガラス基板にかわって樹脂基板が注目を集めている。
　有機ＥＬディスプレイ用の基板には、非常に高い水蒸気バリア性が求められる。従来、水蒸気バリア性を有する樹脂基板としては、樹脂からなる基材の表面に水蒸気バリア層を形成したものが用いられてきた。例えば、特許文献１には、基材であるプラスチックフィルム上に対向ターゲットスパッタ法により形成した無機層、真空蒸着法により形成した無機層、化学蒸着法により形成した無機層及び真空蒸着法により形成した無機層をこの順で有するガスバリア性フィルムが記載されている。しかし、この技術は、製造工程が煩雑であり、生産性の観点から問題があった。
　有機ＥＬディスプレイには、外光反射を抑制し、視認性を向上させるために位相差板が用いられる。位相差版に高い水蒸気バリア性を付与することができれば、有機ＥＬディスプレイの基板としての機能と位相差膜としての機能とを同時に有することが可能となる。しかし、無機材料を使用したガスバリア性フィルムは、柔軟性に乏しく脆いため、フレキシブル化等に対する要求を満たせないという問題があった。
国際公開第２０１３／１６８７３９号
　本発明は、前記事情に鑑みなされたもので、従来よりも低コストで簡単な方法で製造でき、有機材料で製造可能な、水蒸気バリア性を有する位相差膜、及びその製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、所定の感光性側鎖を有する液晶性を発現し得うるポリマーを含む位相差膜が、水蒸気バリア性をも有し、より簡単な方法で製造できることを見出し、本発明を完成させた。
　したがって、本発明は、下記水蒸気バリア性を有する位相差膜及びその製造方法を提供する。
１．感光性側鎖を有する液晶性ポリマーを含み、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下である、水蒸気バリア性を有する位相差膜。
２．前記感光性側鎖が、光架橋、光異性化又は光フリース転移を起こすものである１の位相差膜。
３．前記感光性側鎖が、下記式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種である２の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し；
　Ｔ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表し；
　Ｔ2は、単結合、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表し；
　Ｙ1は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基及びピロリル基から選ばれる１価の芳香族基、炭素数５～８の１価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＣＯＯＲ0（Ｒ0は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表す。）、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
　Ｙ2は、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
　Ｒは、ヒドロキシ基若しくは炭素数１～６のアルコキシ基、又はＹ1と同じ定義を表し；
　Ｘは、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し、Ｘの数が２以上であるときは、各Ｘは同一でも異なっていてもよく；
　Ｃouは、クマリン－６－イル基又はクマリン－７－イル基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
　Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表すが、Ｘが、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－である場合、－ＣＨ＝ＣＨ－が結合する側のＱ1又はＱ2は２価の芳香族基であり、Ｑ1の数が２以上のときは、各Ｑ1は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２以上のときは、各Ｑ2は同一でも異なっていてもよく；
　Ｅは、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－を表し；
　Ｗ1及びＷ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基、ピロールジイル基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し；
　ａ１は、０又は１を表し；
　ａ２は、０～２の整数を表し；
　ａ１とａ２がともに０であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ1は単結合を表し；
　ａ１が１であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ2は単結合を表し；
　ｂは、０又は１を表し；
　破線は、主鎖との結合手を表す。）
４．前記感光性側鎖が、下記式（７）～（１０）で表される基から選ばれる３の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ、Ｘ及び破線は、前記と同じであるが、ｎが０のとき、Ａ2は単結合であり；
　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
　ｃは、１～１２の整数を表し；
　ｍは、０～２の整数を表し；
　ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表し；
　ｄは、０～４の整数を表し；
　ｎは、０～１２の整数を表す。）
５．前記感光性側鎖が、下記式（１１）～（１３）で表される基から選ばれる３の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ａ1、Ｒ、Ｒ1、Ｘ、ｃ、ｄ、ｍ１及び破線は、前記と同じであり；ｅは、０～６の整数を表す。）
６．前記感光性側鎖が、下記式（１４）又は（１５）で表される基である３の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （式中、Ａ1、Ｒ1、Ｙ1、ｃ、ｄ、ｍ１、ｍ２及び破線は、前記と同じである。）
７．前記感光性側鎖が、下記式（１６）又は（１７）で表される基である３の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （式中、Ａ1、Ｒ1、Ｘ、ｃ、ｄ、ｍ及び破線は、前記と同じであり；ｆは、０～５の整数を表す。）
８．前記感光性側鎖が、下記式（１８）又は（１９）で表される基である３の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、Ａ1、Ａ2、Ｅ、Ｒ1、Ｙ1、ｃ、ｄ、ｍ１、ｍ２及び破線は、前記と同じであり；ｇは、０～５の整数を表す。）
９．前記感光性側鎖が、下記式（２０）で表される基である３の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ａ1、Ｒ1、Ｘ、Ｙ1、ｃ、ｄ、ｍ及び破線は、前記と同じ。）
１０．前記液晶性ポリマーが、更に、下記式（２１）～（３５）で表される基から選ばれる少なくとも１種の液晶性側鎖を含む１～９のいずれかの位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （式中、Ａ1、Ａ2、Ｅ、Ｒ1、ｃ、ｄ、ｅ、ｍ１、ｍ２及び破線は、前記と同じであり；
　Ｒ2は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表し；
　Ｙ3は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
　Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ2Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－又は－ＣＦ2－を表し；
　ｈは、０～５の整数を表し；
　ｋは、それぞれ独立に、０～２の整数を表すが、式（２５）及び（２６）において、全てのｋの合計は２以上であり、
　ｍ３は、１～３の整数を表す。）
１１．前記液晶性ポリマーが、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位及び下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含むものである１０の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式中、ＲAは、式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種であり、ＲBは、式（２１）～（３１）で表される基から選ばれる少なくとも１種であり、ＭA及びＭBは、それぞれ独立に、重合性基に由来する基を表す。）
１２．前記重合性基に由来する基が、下記式で表される基から選ばれる少なくとも１種である１１の位相差膜。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 （式中、ＲCは、水素原子、炭素数１～３のアルキル基、カルボキシル基又はカルボキシルメチル基を表し、ＲDは、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－又はフェニレン基を表し、ＲEは、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基若しくはアルコキシ基、又はフェニル基を表し、破線は、ＲA又はＲBとの結合手を表す。）
１３．前記液晶性ポリマーが液晶性を発現する温度範囲が、５０～３００℃である１～１２のいずれかの位相差膜。
１４．１～１３のいずれかの位相差膜を備える有機ＥＬスディスプレイ。
１５．感光性側鎖を有する液晶性ポリマーを含む樹脂成分と有機溶媒とを含む位相差膜形成用組成物を基材に塗布して、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下の塗膜を形成する工程、
　前記塗膜に偏光紫外線を照射する工程、及び
　前記偏光紫外線を照射した膜を加熱し、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下の膜を得る工程
を含む水蒸気バリア性を有する位相差膜の製造方法。
１６．前記感光性側鎖が、光架橋、光異性化又は光フリース転移を起こすものである１５の位相差膜の製造方法。
１７．前記感光性側鎖が、前記式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種である１６の位相差膜の製造方法。
１８．前記液晶性ポリマーが、更に、前記式（２１）～（３５）で表される基から選ばれる少なくとも１種の液晶性側鎖を含む１４～１７のいずれかの位相差膜の製造方法。
１９．前記液晶性ポリマーが液晶性を発現する温度範囲が、５０～３００℃である１４～１８のいずれかの位相差膜の製造方法。
　本発明の位相差膜は、高い水蒸気バリア性と位相差膜としての機能とを併せ持ち、有機ＥＬディスプレイ等の表示装置に好適に使用することができる。また、本発明の位相差膜は、従来よりも低コストで簡単な方法で製造でき、生産性も良好である。
［水蒸気バリア性を有する位相差膜］
　本発明の水蒸気バリア性を有する位相差膜は、感光性側鎖を有する液晶性ポリマーを含み、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下である。
　前記感光性側鎖の構造は、特に限定されないが、光に感応して架橋反応、異性化反応又は光フリース転位を起こす構造が好ましく、架橋反応又は光フリース転位を起こす構造がより好ましく、架橋反応を起こすものがより一層好ましい。
　前記感光性側鎖としては、下記式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
　式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表す。
　Ｔ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表す。Ｔ2は、単結合、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表す。
　Ｙ1は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基及びピロリル基から選ばれる１価の芳香族基、炭素数５～８の１価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＣＯＯＲ0（Ｒ0は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表す。）、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよい。
　Ｙ2は、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよい。
　Ｒは、ヒドロキシ基若しくは炭素数１～６のアルコキシ基、又はＹ1と同じ定義を表す。
　Ｘは、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し、Ｘの数が２以上であるときは、各Ｘは同一でも異なっていてもよい。
　Ｃouは、クマリン－６－イル基又はクマリン－７－イル基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよい。
　Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表すが、Ｘが、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－である場合、－ＣＨ＝ＣＨ－が結合する側のＱ1又はＱ2は２価の芳香族基であり、Ｑ1の数が２以上のときは、各Ｑ1は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２以上のときは、各Ｑ2は同一でも異なっていてもよい。
　Ｅは、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－を表す。Ｗ1及びＷ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基、ピロールジイル基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表す。
　ａ１は、０又は１を表す。ａ２は、０～２の整数を表す。ａ１とａ２がともに０であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ1は単結合を表す。ａ１が１であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ2は単結合を表す。ｂは、０又は１を表す。破線は、主鎖との結合手を表す。）
　前記感光性側鎖としては、下記式（７）～（１０）で表されるものが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
　式中、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ、Ｘ及び破線は、前記と同じであるが、ｎが０のとき、Ａ2は単結合である。Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表す。ｃは、１～１２の整数を表す。ｍは、０～２の整数を表す。ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。ｄは、０～４の整数を表す。ｎは、０～１２の整数を表す。
　前記炭素数１～５のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基等が挙げられる。前記炭素数１～５のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ－プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ－ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔｅｒｔ－ブトキシ基、ｎ－ペンチルオキシ基等が挙げられる。
　前記感光性側鎖としては、下記式（１１）～（１３）で表されるものも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 （式中、Ａ1、Ｘ、Ｒ、Ｒ1、ｃ、ｄ、ｍ、ｍ１及び破線は、前記と同じ。ｅは、０～６の整数を表す。）
　前記感光性側鎖としては、下記式（１４）又は（１５）で表されるものも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、Ａ1、Ｒ1、Ｙ1、ｃ、ｄ、ｍ１、ｍ２及び破線は、前記と同じ。）
　前記感光性側鎖としては、下記式（１６）又は（１７）で表されるものも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （式中、Ａ1、Ｒ1、Ｘ、ｃ、ｄ、ｍ及び破線は、前記と同じ。ｆは、０～５の整数を表す。）
　前記感光性側鎖としては、下記式（１８）又は（１９）で表されるものも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、Ａ1、Ａ2、Ｅ、Ｒ1、Ｙ1、ｃ、ｄ、ｍ１、ｍ２及び破線は、前記と同じ。ｇは、０～５の整数を表す。）
　前記感光性側鎖としては、下記式（２０）で表されるものも好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （式中、Ａ1、Ｒ1、Ｘ、Ｙ1、ｃ、ｄ、ｍ及び破線は、前記と同じ。）
　前記感光性側鎖は、波長２５０～４００ｎｍの範囲の光に反応するものであることが好ましい。
　前記感光性側鎖としては、特に、式（７）、（８）、（９）、（１４）、（１５）で表されるものが好ましい。
　前記液晶性ポリマーは、主鎖に感光性を有する側鎖が結合しており、光に感応して架橋反応、異性化反応、又は光フリース転位を起こすことができる。感光性を有する側鎖の構造は、特に限定されないが、光に感応して架橋反応又は光フリース転位を起こす構造が好ましく、架橋反応を起こすものがより好ましい。液晶性を発現し得る感光性側鎖を有するポリマー膜の構造は、そうした特性を満足するものであれば特に限定されないが、側鎖構造に剛直なメソゲン成分を有することが好ましい。
　前記液晶性ポリマーは、５０～３００℃の温度範囲で液晶性を示すことが好ましい。前記液晶性の発現温度は、６０～２８０℃がより好ましく、７０～２５０℃がより一層好ましく、８０～２００℃が更に好ましい。液晶性の発現温度が前記範囲であれば、熱や光等の外部ストレスに曝されたとしても、得られた水蒸気バリア性及び位相差を長時間安定に保持することが可能なフィルムを作製することができる。
　前記液晶性ポリマーは、前記感光性側鎖に加えて、剛直なメソゲン部位を有する液晶性側鎖を含むことが好ましい。このような側鎖としては、下記式（２１）～（３５）で表される基から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
　式中、Ａ1、Ａ2、Ｅ、Ｒ1、ｃ、ｄ、ｅ、ｍ１、ｍ２及び破線は、前記と同じである。
　Ｒ2は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表す。
　Ｙ3は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよい。
　Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ2Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－又は－ＣＦ2－を表す。
　ｈは、０～５の整数を表す。ｋは、それぞれ独立に、０～２の整数を表すが、式（２５）及び（２６）において、全てのｋの合計は２以上である。ｍ３は、１～３の整数を表す。
　前記液晶性側鎖としては、特に、式（２１）、（２２）、（２３）、（２４）、（２７）、（２９）、（３０）、（３１）で表されるものが好ましい。
　前記液晶性ポリマーは、主鎖とそれに結合する側鎖を有するものであって、側鎖として前記感光性側鎖や液晶性側鎖を含むものである。前記ポリマーとしては、前記側鎖を含むポリイミド、ポリエステル、ポリウレア、又は下記式（Ａ）で表される繰り返し単位及び下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含むものが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
　式中、ＲAは、式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種であり、ＲBは、式（２１）～（３５）で表される基から選ばれる少なくとも１種であり、ＭA及びＭBは、それぞれ独立に、重合性基に由来する基を表す。
　前記主鎖は、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、エチレン、スチレン、マレイミド、ノルボルネン等のラジカル重合性モノマーに由来するものや、ポリシロキサン構造が好ましい。
　具体的には、前記重合性基に由来する基が、下記式で表される基から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
　式中、ＲCは、水素原子、炭素数１～３のアルキル基、カルボキシル基又はカルボキシルメチル基を表し、ＲDは、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－又はフェニレン基を表し、ＲEは、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基若しくはアルコキシ基、又はフェニル基を表し、破線は、ＲA又はＲBとの結合手を表す。
　これらのうち、前記重合性基としては、(メタ)アクリル酸、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレン、マレイミドに由来するものが好ましく、(メタ)アクリル酸、α－メチレン－γ－ブチロラクトン、スチレンに由来するものがより好ましく、(メタ)アクリル酸、α－メチレン－γ－ブチロラクトンに由来するものがより一層好ましい。
　前記液晶性ポリマーにおいて、前記感光性側鎖の含有量は、全側鎖中５ｍｏｌ％以上が好ましく、１０ｍｏｌ％以上がより好ましい。また、前記液晶性側鎖の含有量は、全側鎖中９５ｍｏｌ％以下が好ましく、９０ｍｏｌ％以下がより好ましい。前記感光性側鎖及び液晶性側鎖の含有量は、合計で、全側鎖中７０ｍｏｌ％以上が好ましく、８０ｍｏｌ％以上がより好ましい。
　前記液晶性ポリマーは、前記感光性側鎖及び液晶性側鎖の少なくともいずれか一方に極性基を含むことが好ましい。前記極性基としては、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミド基、アミノ基が好ましく、カルボキシル基がより好ましい。また、前記液晶性ポリマーは、液晶性を阻害しない程度に架橋構造を含んでいてもよい。前記架橋構造としては、グリシジル基等のオキシラン環含有基、オキセタン環含有基等に由来するものが挙げられる。
　前記液晶性ポリマーは、本発明の効果を損なわない範囲で、前記感光性側鎖及び液晶性側鎖以外のその他の側鎖を含んでいてもよい。このような側鎖としては、炭素数１～１５の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数１～１５の直鎖状又は分岐状のハロゲン化アルキル基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数２～２０のヘテロアリール基、炭素数７～２０のアラルキル基、炭素数３～２０のヘテロアラルキル基、グリシジル基等のオキシラン環含有基、オキセタン環含有基等が挙げられる。前記液晶性ポリマーにおいて、その他の側鎖の含有量は、全側鎖中３０モル％以下が好ましい。
　前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ｎ－ペンチル基、ｎ－ヘキシル基、ｎ－ヘプチル基、ｎ－オクチル基、ｎ－ノニル基、ｎ－デシル基、ｎ－ウンデシル基、ｎ－ドデシル基、ｎ－トリデシル基、ｎ－テトラデシル基、ｎ－ペンタデシル基等が挙げられる。前記ハロゲン化アルキル基としては、これらのアルキル基の水素原子の一部又は全部が、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子で置換された基が挙げられる。
　前記アリール基としては、フェニル基、１－ナフチル基、２－ナフチル基、１－アントリル基、２－アントリル基、９－アントリル基、１－フェナントリル基、２－フェナントリル基、３－フェナントリル基、４－フェナントリル基、９－フェナントリル基等が挙げられる。
　前記ヘテロアリール基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、セレン原子等を含むものが好ましく、具体的には、２－チエニル基、３－チエニル基、２－フラニル基、３－フラニル基、２－オキサゾリル基、４－オキサゾリル基、５－オキサゾリル基、３－イソオキサゾリル基、４－イソオキサゾリル基、５－イソオキサゾリル基、２－チアゾリル基、４－チアゾリル基、５－チアゾリル基、３－イソチアゾリル基、４－イソチアゾリル基、５－イソチアゾリル基、２－イミダゾリル基、４－イミダゾリル基、２－ピリジル基、３－ピリジル基、４－ピリジル基等が挙げられる。
　前記アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、ナフチルエチル基等が挙げられる。
　前記ヘテロアラルキル基としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、セレン原子等を含むものが好ましく、具体的には、チエニルメチル基、フラニルメチル基、オキサゾリルメチル基、３－イソオキサゾリルメチル基、チアゾリルメチル基、イソチアゾリルメチル基、イミダゾリルメチル基、ピリジルメチル基等が挙げられる。
　このような側鎖を有する繰り返し単位としては、下記式（Ｃ）で表されるものが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
　式中、ＲCは、炭素数１～１５の直鎖状又は分岐状のアルキル基、炭素数１～１５の直鎖状又は分岐状のハロゲン化アルキル基、炭素数６～２０のアリール基、炭素数２～２０のヘテロアリール基、炭素数７～２０のアラルキル基、炭素数３～２０のヘテロアラルキル基、グリシジル基等のオキシラン環含有基、オキセタン環含有基等を表す。ＭCは、重合性基に由来する基を表す。前記重合性基としては、ＭA及びＭBの説明において挙げたものと同様のものが挙げられる。
　前記ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は、得られる塗膜の強度、塗膜形成時の作業性及び塗膜の均一性を考慮すると、２,０００～１,０００,０００が好ましく、５,０００～１００,０００がより好ましい。なお、本発明においてＭｗは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算測定値である。
　前記ポリマーは、例えば、国際公開第２０１４／０５４７８５号に記載の方法にしたがって合成することができる。
［水蒸気バリア性を有する位相差膜の製造方法］
　本発明の位相差膜の製造方法は、
［Ｉ］前記液晶性ポリマーを含む樹脂成分と有機溶媒とを含む位相差膜形成用組成物を基材に塗布して、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下の塗膜を形成する工程、
［II］前記塗膜に偏光紫外線を照射する工程、及び
［III］前記偏光紫外線を照射した膜を加熱し、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下の膜を得る工程
を含むものである。
　工程［Ｉ］において、前記基材としては、特に限定されないが、ガラス基板や、アセテート基板、アクリル基板、ポリカーボネート基板、ポリエチレンテレフタレート基板、ポリエチレンナフタレート基板、シクロオレフィンポリマー基板、ポリイミド基板等のプラスチック基板等を用いることができる。
　前記位相差膜形成用組成物は、前記液晶性ポリマーを含む樹脂成分と、有機溶媒とを含む。前記位相差膜形成用組成物は、位相差膜の形成に好適であるという観点から、前記ポリマーが有機溶媒に溶解した溶液であることが好ましい。
　前記樹脂成分は、全てが前記液晶性ポリマーであってもよいが、液晶発現能及び感光性能を損なわない範囲で、これ以外のポリマー（以下、その他のポリマーという。）を含んでもよい。その他のポリマーとしては、ポリ(メタ)アクリレート、ポリアミック酸、ポリイミド等が挙げられる。前記樹脂成分がその他のポリマーを含む場合、樹脂成分中のその他のポリマーの含有量は、０.５～８０質量％が好ましく、１～５０質量％がより好ましい。
　前記位相差膜形成用組成物中、前記樹脂成分の含有量は、１～２０質量％が好ましく、３～１５質量％がより好ましく、３～１０質量％がより一層好ましい。
　前記有機溶媒としては、Ｎ,Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、Ｎ－メチルカプロラクタム、２－ピロリドン、Ｎ－エチルピロリドン、Ｎ－ビニルピロリドン、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルスルホキシド、γ－ブチロラクトン、３－メトキシ－Ｎ,Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－エトキシ－Ｎ,Ｎ－ジメチルプロパンアミド、３－ブトキシ－Ｎ,Ｎ－ジメチルプロパンアミド、１,３－ジメチル－イミダゾリジノン、エチルアミルケトン、メチルノニルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ジグライム、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル等が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
　また、膜厚の均一性や表面平滑性を向上させるために、貧溶媒を添加してもよい。前記貧溶媒としては、イソプロピルアルコール、メトキシメチルペンタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジイソブチルカルビノール、ブチルカルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトールアセテート、エチレングリコール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール－ｔｅｒｔ－ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノアセテートモノプロピルエーテル、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、トリプロピレングリコールメチルエーテル、３－メチル－３－メトキシブタノール、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジイソブチレン、アミルアセテート、ブチルブチレート、ブチルエーテル、ジイソブチルケトン、メチルシクロへキセン、プロピルエーテル、ジヘキシルエーテル、１－ヘキサノール、ｎ－へキサン、ｎ－ペンタン、ｎ－オクタン、ジエチルエーテル、乳酸メチル、乳酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸メチルエチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、１－メトキシ－２－プロパノール、１－エトキシ－２－プロパノール、１－ブトキシ－２－プロパノール、１－フェノキシ－２－プロパノール、プロピレングリコールモノアセテート、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート、プロピレングリコール－１－モノエチルエーテル－２－アセテート、ジプロピレングリコール、２－(２－エトキシプロポキシ)プロパノール、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ－プロピル、乳酸ｎ－ブチル、乳酸イソアミル等の低表面張力を有する溶媒等が挙げられる。
　前記貧溶媒の含有量は、溶媒全体の溶解性を著しく低下させないために、全溶媒中５～８０質量％が好ましく、２０～６０質量％がより好ましい。前記貧溶媒は、１種単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
　前記位相差膜形成用組成物は、膜厚の均一性や表面平滑性を向上させる観点から、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノ二オン系界面活性剤等の界面活性剤を含んでもよい。前記界面活性剤としては、エフトップ（登録商標）３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成(株)製）、メガファック（登録商標）Ｆ１７１、Ｆ１７３、Ｒ－３０（ＤＩＣ(株)製）、Ｆｌｕｏｒａｄ（登録商標）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１（スリーエム社製）、アサヒガード（登録商標）ＡＧ７１０（旭硝子(株)製）、サーフロン（登録商標）Ｓ－３８２、ＳＣ１０１、ＳＣ１０２、ＳＣ１０３、ＳＣ１０４、ＳＣ１０５、ＳＣ１０６（ＡＧＣセイミケミカル(株)製）等が挙げられる。界面活性剤の含有量は、前記樹脂成分１００質量部に対し、０.０１～２質量部が好ましく、０.０１～１質量部がより好ましい。
　前記位相差膜形成用組成物は、官能性シラン含有化合物を含んでもよい。前記官能性シラン含有化合物としては、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、２－アミノプロピルトリメトキシシラン、２－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－(２－アミノエチル)－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－(２－アミノエチル)－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－エトキシカルボニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ－トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０－トリメトキシシリル－１,４,７－トリアザデカン、１０－トリエトキシシリル－１,４,７－トリアザデカン、９－トリメトキシシリル－３,６－ジアザノニルアセテート、９－トリエトキシシリル－３,６－ジアザノニルアセテート、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ベンジル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ－ビス(オキシエチレン)－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－ビス(オキシエチレン)－３－アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　前記官能性シラン含有化合物の含有量は、前記樹脂成分１００質量部に対し、０.１～３０質量部が好ましく、１～２０質量部がより好ましい。前記範囲であれば、密着性向上効果が得られる。
　前記位相差膜形成用組成物は、更に、信頼性の向上、バリア性及び位相差の低下を抑制する等の目的で、フェノプラスト系化合物やエポキシ基含有化合物、オキセタン環含有化合物等の添加剤を含んでもよい。
　前記フェノプラスト系化合物としては、以下に示すものが挙げられるが、これらに限定されない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
　前記エポキシ基含有化合物としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１,６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２,２－ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１,３,５,６－テトラグリシジル－２,４－ヘキサンジオール、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'－テトラグリシジル－ｍ－キシレンジアミン、１,３－ビス(Ｎ,Ｎ－ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、Ｎ,Ｎ,Ｎ',Ｎ'－テトラグリシジル－４,４'－ジアミノジフェニルメタン等が挙げられる。
　前記位相差膜形成用組成物は、更に、光増感剤を含んでもよい。光増感剤としては、無色増感剤及び三重項増感剤が好ましい。前記光増感剤としては、芳香族ニトロ化合物、クマリン（７－ジエチルアミノ－４－メチルクマリン、７－ヒドロキシ４－メチルクマリン）、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、芳香族２－ヒドロキシケトン（２－ヒドロキシベンゾフェノン）、アミノ置換された芳香族２－ヒドロキシケトン（モノ－又はジ－ｐ－(ジメチルアミノ)－２－ヒドロキシベンゾフェノン）、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンズアントロン、チアゾリン誘導体（２－ベンゾイルメチレン－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－(β－ナフトイルメチレン)－３－メチルベンゾチアゾリン、２－(α－ナフトイルメチレン)－３－メチルベンゾチアゾリン、２－(４－ビフェノイルメチレン)－３－メチルベンゾチアゾリン、２－(β－ナフトイルメチレン)－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－(４－ビフェノイルメチレン)－３－メチル－β－ナフトチアゾリン、２－(ｐ－フルオロベンゾイルメチレン)－３－メチル－β－ナフトチアゾリン）、オキサゾリン誘導体（２－ベンゾイルメチレン－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－(β－ナフトイルメチレン)－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－(α－ナフトイルメチレン)－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－(４－ビフェノイルメチレン)－３－メチルベンゾオキサゾリン、２－(β－ナフトイルメチレン)－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－(４－ビフェノイルメチレン)－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン、２－(ｐ－フルオロベンゾイルメチレン)－３－メチル－β－ナフトオキサゾリン）、ベンゾチアゾール、ニトロアニリン（ｍ－又はｐ－ニトロアニリン、２,４,６－トリニトロアニリン）、ニトロアセナフテン（５－ニトロアセナフテン）、２－[(ｍ－ヒドロキシ－ｐ－メトキシ)スチリル]ベンゾチアゾール、ベンゾインアルキルエーテル、Ｎ－アルキル化フタロン、アセトフェノンケタール（２,２－ジメトキシフェニルエタノン）、ナフタレン誘導体（２－ナフタレンメタノール、２－ナフタレンカルボン酸）、アントラセン誘導体（９－アントラセンメタノール、９－アントラセンカルボン酸）、ベンゾピラン、アゾインドリジン、メロクマリン等が挙げられる。これらのうち、芳香族２－ヒドロキシケトン（ベンゾフェノン）、クマリン、ケトクマリン、カルボニルビスクマリン、アセトフェノン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、及びアセトフェノンケタールが好ましい。
　前記添加剤や光増感剤の含有量は、前記樹脂成分１００質量部に対し、０.１～３０質量部が好ましく、０.５～２０質量部がより好ましい。前記範囲であれば、十分な効果が得られ、液晶性も損なわれない。
　前記位相差膜形成用組成物には、前述したもののほかに、本発明の効果を損なわない範囲で、誘電体や導電物質、更には、架橋性化合物を添加してもよい。
　前記位相差膜形成用組成物を基材に塗布する方法は、特に限定されない。塗布方法としては、工業的には、スクリーン印刷、グラビア印刷、オフセット印刷、フレキソ印刷、インクジェット法等が一般的である。その他の塗布方法としては、ディップ法、ダイコート法、ロールコート法、スリットコート法、スピンコート法、スプレーコート法等があり、目的に応じてこれらを用いてもよい。
　前記位相差膜形成用組成物を基材上に塗布した後は、ホットプレート、熱循環型オーブン、赤外線型オーブン等の加熱手段により、好ましくは５０～２００℃、より好ましくは５０～１５０℃で溶媒を蒸発させて、塗膜を得ることができる。このときの温度は、前記ポリマーの液晶相発現温度よりも低いことが好ましい。
　塗膜の膜厚は、３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下であるが、その下限は、好ましくは３５０ｎｍであり、より好ましくは４００ｎｍであり、より一層好ましくは、１,０００ｎｍであり、最も好ましくは１,５００ｎｍである。一方、その上限は、好ましくは２０,０００ｎｍであり、より好ましくは１０,０００ｎｍであり、より一層好ましくは、６,０００ｎｍであり、最も好ましくは５,０００ｎｍである。
　なお、工程［Ｉ］の後、工程［II］の前に、塗膜が形成された基板を室温にまで冷却する工程を設けてもよい。
　工程［II］において、塗膜の膜面に偏光紫外線を照射する場合、基板に対して一定の方向から偏光板を介して偏光された紫外線を照射する。使用する紫外線としては、波長１００～４００ｎｍの範囲のものが好適である。波長は、使用する塗膜の種類によりフィルター等を介して最適なものを選択する。例えば、選択的に光架橋反応を誘起できるように、波長２９０～４００ｎｍの範囲の紫外線を選択して使用することができる。紫外線としては、例えば、高圧水銀灯から放射される光を用いることができる。
　偏光紫外線の照射量は、使用する塗膜に依存する。照射量は、該塗膜における、偏光紫外線の偏光方向と平行な方向の紫外線吸光度と垂直な方向の紫外線吸光度との差であるΔＡの最大値（以下、ΔＡｍａｘとも称する）を実現する偏光紫外線の量の１～７０％の範囲内とすることが好ましく、１～５０％の範囲内とすることがより好ましい。
　工程［III］において、前記偏光紫外線を照射した塗膜を加熱することにより、塗膜に大きな異方性（位相差）を付与することができる。
　加熱は、ホットプレート、熱循環型オーブン、赤外線型オーブン等の加熱手段を用いることができる。加熱温度は、使用する塗膜の液晶性を発現させる温度を考慮して決めることができる。
　加熱温度は、前記液晶性ポリマーが液晶性を発現する温度（以下、液晶発現温度という。）の範囲内であることが好ましい。塗膜のような薄膜表面の場合、塗膜表面の液晶発現温度は、液晶性を発現し得る感光性の側鎖型高分子をバルクで観察した場合の液晶発現温度よりも低いことが予想される。このため、加熱温度は、塗膜表面の液晶発現温度の温度範囲内であることがより好ましい。すなわち、偏光紫外線照射後の加熱温度の温度範囲は、使用する鎖型高分子の液晶発現温度の温度範囲の下限より１０℃高い温度を下限とし、その液晶温度範囲の上限より１０℃低い温度を上限とする範囲の温度であることが好ましい。加熱温度が、上記温度範囲よりも低いと、塗膜における熱による異方性の増幅効果が不十分となる傾向があり、また加熱温度が、上記温度範囲よりも高すぎると、塗膜の状態が等方性の液体状態（等方相）に近くなる傾向があり、この場合、自己組織化によって一方向に再配向することが困難になることがある。
　なお、液晶発現温度とは、前記液晶性ポリマーが固体相から液晶相に相転移がおきるガラス転移温度以上であって、液晶相からアイソトロピック相（等方相）に相転移を起こすアイソトロピック相転移温度以下の温度をいう。
　加熱後に形成される塗膜の膜厚は、３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下であるが、その下限は、好ましくは３５０ｎｍであり、より好ましくは４００ｎｍであり、より一層好ましくは、１,０００ｎｍであり、最も好ましくは１,５００ｎｍである。一方、その上限は、好ましくは２０,０００ｎｍであり、より好ましくは１０,０００ｎｍであり、より一層好ましくは、６,０００ｎｍであり、最も好ましくは５,０００ｎｍである。
　前記製造方法により、塗膜への異方性の導入を高効率で実現することができる。つまり、位相差が発現する。そして、位相差膜付き基材を高効率で製造することができる。
　このようにして得られた本発明の位相差膜は、水蒸気バリア性も有するものとなる。メソゲン骨格がきれいに配向することにより、π共役、π－πスタッキング効果が得られるため、バリア性が向上するものと考えられる。具体的には、前記位相差膜の膜厚が１,０００ｎｍのときの水蒸気透過率が、５００ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましい。なお、本発明において水蒸気透過率とは、JIS Z 0208「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」に従い、温度４０℃、相対湿度９０％の条件で測定された値である。
　本発明の水蒸気バリア性を有する位相差膜は、特に、有機ＥＬディスプレイ用位相差膜として有用である。本発明の位相差膜を備える有機ＥＬディスプレイは、水蒸気バリア性が高いため、信頼性に優れたものとなり、大画面で高精細のディスプレイを製造することが可能になる。
　以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されない。なお、数平均分子量（Ｍｎ）及び重量平均分子量（Ｍｗ）は、昭和電工(株)製Shodex GPC-101（溶媒：テトラヒドロフラン、検量線：標準ポリスチレン）を用いて測定した。
［１］モノマーの合成
［合成例１－１］モノマーＭＡ１の合成
　国際公開第２０１１／０８４５４６号に記載された方法に従って、下記式で表されるモノマーＭＡ１を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
［合成例１－２］モノマーＭＡ２の合成
　特開平９－１１８７１７号公報に記載された方法に従って、下記式で表されるモノマーＭＡ２を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
［合成例１－３］モノマーＭＡ３の合成
　Macromolecules (2012), 45(21), pp. 8547-8554に記載された方法に従って、下記式で表されるモノマーＭＡ３を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
［合成例１－４］モノマーＭＡ４の合成
　国際公開第２０１３／１３３０７８号に記載された方法に従って、下記式で表されるモノマーＭＡ４を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
［合成例１－４］モノマーＭＡ５の合成
　国際公開第２０１３／１３３０７８号に記載された方法に従って、下記式で表されるモノマーＭＡ５を合成した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
［２］ポリマーの合成
［合成例２－１］ポリマーＰ１の合成
　モノマーＭＡ１　６.６４ｇ及びモノマーＭＡ２　９.１９ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１４６.４２ｇに溶解し、ダイアフラムポンプで脱気を行った後、２,２'－アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０.８２ｇを加え、再び脱気を行った。この後、６０℃で８時間反応させた。得られた反応溶液をメタノール３００ｍＬに滴下し、得られた沈殿物をろ過、メタノール洗浄洗浄、及び減圧乾燥し、粉末状のポリマーＰ１を得た（収量１２.６７ｇ、収率８０％）。ポリマーＰ１の組成比は、モノマーＭＡ１：モノマーＭＡ２＝４０：６０であった。また、ポリマーＰ１のＭｎは１６,０００、Ｍｗ／Ｍｎは１.７５であった。
［合成例２－２］ポリマーＰ２の合成
　原料として、モノマーＭＡ１　１.６６ｇ及びモノマーＭＡ３　２.０６ｇを用いた以外は、実施例１と同様の方法で粉末状のポリマーＰ２を得た。ポリマーＰ２の組成比は、モノマーＭＡ１：モノマーＭＡ３＝５０：５０であった。また、ポリマーＰ２のＭｎは２７,０００、Ｍｗ／Ｍｎは２.２５であった。
［合成例２－３］ポリマーＰ３の合成
　冷却管を備えたフラスコに、モノマーＭＡ４　２.１６ｇ（４.８ｍｍｏｌ）、モノマーＭＡ５　１.８０ｇ（３.６ｍｍｏｌ）、ｎ－ドデシルアクリレート０.８４ｇ（３.６ｍｍｏｌ）、Ｎ－メチル－２－ピロリドン（ＮＭＰ）４８.０ｇ、及びＡＩＢＮ０.１０ｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、６０℃で２０時間攪拌して反応させた。得られた反応溶液を４００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿させた。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、下記式で表されるポリマーＰ３を得た（収量３.６０ｇ、収率７５％）。ポリマーＰ３のＭｎは１３,２５８、Ｍｗ／Ｍｎは２.０であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
［合成例２－４］ポリマーＰ４の合成
　冷却管を備えたフラスコに、モノマーＭＡ４　１.８０ｇ（４ｍｍｏｌ）、モノマーＭＡ５　１.５０ｇ（３ｍｍｏｌ）、ｎ－ドデシルアクリレート　０.４８ｇ（２ｍｍｏｌ）、フルフリルメタクリレート（東京化成工業（株））０.１７ｇ（１ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ４０.０ｇ、及びＡＩＢＮ　０.０８５ｇを仕込み、フラスコ内を窒素置換した後、60℃で20時間撹拌して反応させた。得られた反応溶液を４００ｍＬのメタノールに投入し、白色粉末を沈殿させた。この白色粉末をろ過した後、室温で真空乾燥を行い、下記式で表されるポリマーＰ４を得た(収量２.８０ｇ、収率７１％)。ポリマーＰ４のＭｎは１２,０００、Ｍｗ／Ｍｎは２.００であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
［３］位相差膜形成用組成物の調製
［調製例１］位相差膜形成用組成物Ｃ１の調製
　ＮＭＰ７.５ｇに、ポリマーＰ１　１.５ｇを加え、室温で１時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ブチルセロソルブ（ＢＣ）１.０ｇを加え、攪拌し、位相差膜形成用組成物Ｃ１を得た。
［調製例２］位相差膜形成用組成物Ｃ２の調製
　プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）３.２ｇに、ポリマーＰ２　１.０ｇを加え、室温で１時間攪拌して溶解させた。この溶液に、シクロヘキサノン（ＣＨＮ）１.４ｇを加え、攪拌し、位相差膜形成用組成物Ｃ２を得た。
［調製例３］位相差膜形成用組成物Ｃ３の調製
　トルエン５.０ｇに、ポリマーＰ３　１.０ｇを加え、室温で１時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＣＨＮ２.３ｇを加え、攪拌し、位相差膜形成用組成物Ｃ３を得た。
［調製例４］位相差膜形成用組成物Ｃ４の調製
　トルエン５.０ｇに、ポリマーＰ４　１.０ｇを加え、室温で１時間攪拌して溶解させた。この溶液に、ＣＨＮ２.３ｇを加え、攪拌し、位相差膜形成用組成物Ｃ４を得た。
［４］水蒸気バリア性の評価
［実施例１－１］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１を、基材である厚さ８０μｍのアセテートフィルム（HOLBEIN ART MATERIALS社製）にスピンコートし、７０℃のホットプレートで３分間乾燥し、膜厚１,０００ｎｍのポリマー層を形成した。次いで、塗膜面に偏光板を介して３１３ｎｍの紫外線を１０ｍＪ／ｃｍ2照射した後に、１４０℃のホットプレートで１０分間加熱し、膜厚１,０００ｎｍの水蒸気バリア性位相差膜付きフィルムＦ１を作製した。
　得られた水蒸気バリア性位相差膜付きフィルムを用いて、JIS Z 0208「防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）」の諸条件に準じ、次の手法で水蒸気バリア性を評価した。
　透湿面積２８.２７ｃｍ2である正六角形型の塗膜フィルムを用い、ネジ絞めタイプの透湿カップに吸湿剤として塩化カルシウム約２０ｇを封入し、１時間以上間隔の秤量操作を繰り返し、カップの質量増加から水蒸気透過率を算出した。結果を表１に示す。
　水蒸気透過率［ｇ／ｍ2・ｄａｙ］＝（ｍ／ｓ）／ｔ
　　ｍ：一定秤量間隔における増加質量（ｇ）
　　ｓ：透湿面積（ｍ2）
　　ｔ：一定量間隔時間（ｈ）／２４（ｈ）
［実施例１－２］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ２を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を４ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例１－１と同様の方法で、水蒸気バリア性位相差膜付きフィルムＦ２－１を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［実施例１－３］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ２を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を７ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例１－１と同様の方法で、水蒸気バリア性位相差膜付きフィルムＦ２－２を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［実施例１－４］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ２を用いた以外は、実施例１－１と同様の方法で、水蒸気バリア性位相差膜付きフィルムＦ２－３を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［実施例１－５］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ３を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を１００ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例１－１と同様の方法で、水蒸気バリア性位相差膜付きフィルムＦ３を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［実施例１－６］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ４を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を１００ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例１－１と同様の方法で、水蒸気バリア性位相差膜付きフィルムＦ４を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［比較例１－１］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例１－１と同様の方法で、フィルムＦ１'を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［比較例１－２］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例１－４と同様の方法で、フィルムＦ２'を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［比較例１－３］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例１－５と同様の方法で、フィルムＦ３'を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
［比較例１－４］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例１－６と同様の方法で、フィルムＦ４'を作製し、水蒸気バリア性を評価した。結果を表１に示す。
　結果を表１に示す。また、位相差膜を形成しなかったときの水蒸気透過率を参考として表１に併せて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
［５」位相差値の評価
［実施例２－１］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１を、縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ×厚さ０.７ｍｍでＩＴＯ膜が形成されたガラス基板にスピンコートし、７０℃のホットプレートで３分間乾燥し、膜厚１,０００ｎｍのポリマー層を形成した。次いで、塗膜面に偏光板を介して３１３ｎｍの紫外線を１０ｍＪ／ｃｍ2照射した後に、１４０℃のホットプレートで１０分間加熱し、膜厚１,０００ｎｍの位相差膜付きガラス基板Ｇ１を得た。
　得られた位相差膜付きガラス基板について、ミュラーマトリクス・ポラリメーター(Axometrics社製、製品名Axoscan)を用いて位相差値を評価した。なお、測定波長は５５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。結果を表２に示す。
［実施例２－２］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ２を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を４ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例２－１と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ２－１を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［実施例２－３］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ２を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を７ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例２－１と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ２－２を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［実施例２－４］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ２を用いた以外は、実施例２－１と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ２－３を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［実施例２－５］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ３を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を１００ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例２－１と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ３を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［実施例２－６］
　位相差膜形成用組成物Ｃ１のかわりに位相差膜形成用組成物Ｃ４を用い、３１３ｎｍの紫外線照射を１００ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、実施例１－１と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ４を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［比較例２－１］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例２－１と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ１'を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［比較例２－２］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例２－４と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ２'を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［比較例２－３］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例２－５と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ３'を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
［比較例２－４］
　紫外線の照射を行わなかった以外は、実施例２－６と同様の方法で、位相差膜付きガラス基板Ｇ４'を作製し、位相差値を評価した。結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
　表１及び表２に示した結果から、本発明の位相差膜は、水蒸気バリア性に優れ、かつ位相差膜として機能し得ることがわかった。

Claims (19)

  1. 　感光性側鎖を有する液晶性ポリマーを含み、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下である、水蒸気バリア性を有する位相差膜。
  2. 　前記感光性側鎖が、光架橋、光異性化又は光フリース転移を起こすものである請求項１記載の位相差膜。
  3. 　前記感光性側鎖が、下記式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種である請求項２記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し；
    　Ｔ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表し；
    　Ｔ2は、単結合、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表し；
    　Ｙ1は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基及びピロリル基から選ばれる１価の芳香族基、炭素数５～８の１価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＣＯＯＲ0（Ｒ0は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表す。）、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｙ2は、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｒは、ヒドロキシ基若しくは炭素数１～６のアルコキシ基、又はＹ1と同じ定義を表し；
    　Ｘは、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し、Ｘの数が２以上であるときは、各Ｘは同一でも異なっていてもよく；
    　Ｃouは、クマリン－６－イル基又はクマリン－７－イル基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表すが、Ｘが、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－である場合、－ＣＨ＝ＣＨ－が結合する側のＱ1又はＱ2は２価の芳香族基であり、Ｑ1の数が２以上のときは、各Ｑ1は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２以上のときは、各Ｑ2は同一でも異なっていてもよく；
    　Ｅは、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－を表し；
    　Ｗ1及びＷ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基、ピロールジイル基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し；
    　ａ１は、０又は１を表し；
    　ａ２は、０～２の整数を表し；
    　ａ１とａ２がともに０であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ1は単結合を表し；
    　ａ１が１であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ2は単結合を表し；
    　ｂは、０又は１を表し；
    　破線は、主鎖との結合手を表す。）
  4. 　前記感光性側鎖が、下記式（７）～（１０）で表される基から選ばれる請求項３記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ａ1、Ａ2、Ａ3、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ、Ｘ及び破線は、前記と同じであるが、ｎが０のとき、Ａ2は単結合であり；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　ｃは、１～１２の整数を表し；
    　ｍは、０～２の整数を表し；
    　ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表し；
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｎは、０～１２の整数を表す。）
  5. 　前記感光性側鎖が、下記式（１１）～（１３）で表される基から選ばれる請求項３記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ａ1、Ｘ、Ｒ及び破線は、前記と同じであり；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　ｃは、１～１２の整数を表し；
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｅは、０～６の整数を表し；
    　ｍは、０～２の整数を表し；
    　ｍ１は、１～３の整数を表す。）
  6. 　前記感光性側鎖が、下記式（１４）又は（１５）で表される基である請求項３記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ａ1、Ｙ1及び破線は、前記と同じであり；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　ｃは、１～１２の整数を表し、
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。）
  7. 　前記感光性側鎖が、下記式（１６）又は（１７）で表される基である請求項３記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ａ1、Ｘ及び破線は、前記と同じであり；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｆは、０～５の整数を表し；
    　ｃは、１～１２の整数を表し；
    　ｍは、０～２の整数を表す。）
  8. 　前記感光性側鎖が、下記式（１８）又は（１９）で表される基である請求項３記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ａ1、Ａ2、Ｅ、Ｙ1及び破線は、前記と同じであり；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　ｃは、１～１２の整数を表し；
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｇは、０～５の整数を表し；
    　ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表す。）
  9. 　前記感光性側鎖が、下記式（２０）で表される基である請求項３記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式中、Ａ1、Ｘ、Ｙ1及び破線は、前記と同じであり；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　ｃは１～１２の整数を表し；
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｍは、０～２の整数を表す。）
  10. 　前記液晶性ポリマーが、更に、下記式（２１）～（３５）で表される基から選ばれる少なくとも１種の液晶性側鎖を含む請求項１～９のいずれか１項記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式中、Ａ1及びＡ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し；
    　Ｅは、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－を表し；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　Ｒ2は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表し；
    　Ｙ3は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ2Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－又は－ＣＦ2－を表し；
    　ｃは、１～１２の整数を表し；
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｅは、０～６の整数を表し；
    　ｈは、０～５の整数を表し；
    　ｋは、それぞれ独立に、０～２の整数を表すが、式（２５）及び（２６）において、全てのｋの合計は２以上であり；
    　ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表し；
    　ｍ３は、１～３の整数を表す。）
  11. 　前記液晶性ポリマーが、下記式（Ａ）で表される繰り返し単位及び下記式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含むものである請求項１０記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、ＲAは、式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種であり、ＲBは、式（２１）～（３１）で表される基から選ばれる少なくとも１種であり、ＭA及びＭBは、それぞれ独立に、重合性基に由来する基を表す。）
  12. 　前記重合性基に由来する基が、下記式で表される基から選ばれる少なくとも１種である請求項１１記載の位相差膜。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
     （式中、ＲCは、水素原子、炭素数１～３のアルキル基、カルボキシル基又はカルボキシルメチル基を表し、ＲDは、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－又はフェニレン基を表し、ＲEは、ヒドロキシ基、炭素数１～１０のアルキル基若しくはアルコキシ基、又はフェニル基を表し、破線は、ＲA又はＲBとの結合手を表す。）
  13. 　前記液晶性ポリマーが液晶性を発現する温度範囲が、５０～３００℃である請求項１～１２のいずれか１項記載の位相差膜。
  14. 　請求項１～１３のいずれか１項記載の位相差膜を備える有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ。
  15. 　感光性側鎖を有する液晶性ポリマーを含む樹脂成分と有機溶媒とを含む位相差膜形成用組成物を基材に塗布して、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下の塗膜を形成する工程、
    　前記塗膜に偏光紫外線を照射する工程、及び
    　前記偏光紫外線を照射した膜を加熱し、膜厚が３００ｎｍを超え５０,０００ｎｍ以下の膜を得る工程
    を含む水蒸気バリア性を有する位相差膜の製造方法。
  16. 　前記感光性側鎖が、光架橋、光異性化又は光フリース転移を起こすものである請求項１５記載の位相差膜の製造方法。
  17. 　前記感光性側鎖が、下記式（１）～（６）で表される基から選ばれる少なくとも１種である請求項１６記載の位相差膜の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
     （式中、Ａ1、Ａ2及びＡ3は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し；
    　Ｔ1は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表し；
    　Ｔ2は、単結合、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１～１２のアルキレン基を表し；
    　Ｙ1は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基及びピロリル基から選ばれる１価の芳香族基、炭素数５～８の１価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＣＯＯＲ0（Ｒ0は、水素原子又は炭素数１～５のアルキル基を表す。）、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｙ2は、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｒは、ヒドロキシ基若しくは炭素数１～６のアルコキシ基、又はＹ1と同じ定義を表し；
    　Ｘは、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し、Ｘの数が２以上であるときは、各Ｘは同一でも異なっていてもよく；
    　Ｃouは、クマリン－６－イル基又はクマリン－７－イル基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基及びピロールジイル基から選ばれる２価の芳香族基、炭素数５～８の２価の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表すが、Ｘが、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－である場合、－ＣＨ＝ＣＨ－が結合する側のＱ1又はＱ2は２価の芳香族基であり、Ｑ1の数が２以上のときは、各Ｑ1は同一でも異なっていてもよく、Ｑ2の数が２以上のときは、各Ｑ2は同一でも異なっていてもよく；
    　Ｅは、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－を表し；
    　Ｗ1及びＷ2は、それぞれ独立に、フェニレン基、ナフタレンジイル基、ビフェニリレン基、フランジイル基、ピロールジイル基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し；
    　ａ１は、０又は１を表し；
    　ａ２は、０～２の整数を表し；
    　ａ１とａ２がともに０であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ1は単結合を表し；
    　ａ１が１であって、Ｔ2が単結合であるときは、Ａ2は単結合を表し；
    　ｂは、０又は１を表し；
    　破線は、主鎖との結合手を表す。）
  18. 　前記液晶性ポリマーが、更に、下記式（２１）～（３５）で表される基から選ばれる少なくとも１種の液晶性側鎖を含む請求項１４～１７のいずれか１項記載の位相差膜の製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     （式中、Ａ1及びＡ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｏ－、－ＣＨ2－、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－、－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－、－Ｃ(＝Ｏ)－ＮＨ－、－ＮＨ－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ＝ＣＨ－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－ＣＨ＝ＣＨ－を表し；
    　Ｅは、－Ｃ(＝Ｏ)－Ｏ－又は－Ｏ－Ｃ(＝Ｏ)－を表し；
    　Ｒ1は、－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基を表し；
    　Ｒ2は、水素原子、－ＮＯ2、－ＣＮ、－ＣＨ＝Ｃ(ＣＮ)2、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＮ、ハロゲン原子、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、炭素数１～１２のアルキル基、又は炭素数１～１２のアルコキシ基を表し；
    　Ｙ3は、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、フラニル基、１価の窒素含有複素環含有基、炭素数５～８の環状脂肪族炭化水素基、又はこれらの置換基から選ばれる２～６の基が連結基Ａ2を介して結合してなる基を表し、これらに結合する水素原子の一部が－ＮＯ2、－ＣＮ、ハロゲン原子、炭素数１～５のアルキル基、又は炭素数１～５のアルコキシ基で置換されてもよく；
    　Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に、単結合、－Ｃ(＝Ｏ)－、－ＣＨ2Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－又は－ＣＦ2－を表し；
    　ｃは、１～１２の整数を表し；
    　ｄは、０～４の整数を表し；
    　ｅは、０～６の整数を表し；
    　ｈは、０～５の整数を表し；
    　ｋは、それぞれ独立に、０～２の整数を表すが、式（２５）及び（２６）において、全てのｋの合計は２以上であり；
    　ｍ１及びｍ２は、それぞれ独立に、１～３の整数を表し；
    　ｍ３は、１～３の整数を表す。）
  19. 　前記液晶性ポリマーが液晶性を発現する温度範囲が、５０～３００℃である請求項１４～１８のいずれか１項記載の位相差膜の製造方法。
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