WO2017170473A1 - 光重合開始剤組成物及び感光性組成物 - Google Patents

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直美 佐藤
武雄 大石
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    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

Definitions

  • the present invention includes a photopolymerization initiator composition useful as a photopolymerization initiator component used in a photosensitive composition, and a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond in the photopolymerization initiator composition. To a photosensitive composition.
  • the photosensitive composition is obtained by adding a photopolymerization initiator to a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, and can irradiate energy rays (light). Therefore, a photocurable ink, a photosensitive printing plate It is used for various photoresists.
  • Patent Documents 1 to 7 listed below propose using oxime ester compounds.
  • each of these conventional photopolymerization initiators has insufficient sensitivity, and when used in an alkali-developable photosensitive resin composition or the like, the resolution is not satisfactory.
  • an object of the present invention is to provide a photopolymerization initiator composition capable of imparting excellent sensitivity and resolution to the photosensitive composition, and a photosensitive composition using the photopolymerization initiator composition. It is in.
  • the present inventors have used an oxime ester compound having a specific ether structure in combination with an oxime ester compound having a specific cycloalkyl structure, thereby achieving excellent sensitivity and resolution.
  • the present invention comprises 1 to 99 parts by mass of the following component (A) and 1 to 99 parts by mass of the following component (B) (provided that the total of the components (A) and (B) is 100 parts by mass).
  • a polymerization initiator composition is provided.
  • R 1 , R 2 and R 6 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, carbon Represents an aryl group having 6 to 30 atoms, an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms, a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, or a cyano group.
  • Group, aryl group, aryloxy group, aralkyl group and heterocyclic group are further represented by OR 11 , COR 11 , SR 11 , NR 12 R 13 , —NCOR 12 —OCOR 13 , CN, halogen atom, —CR 11.
  • R 3 , R 4 and R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or 6 to 30 carbon atoms.
  • the hydrogen atom of the heterocyclic group is further OR 14 , COR 14 , SR 14 , NR 15 R 16 , —NCOR 15 —OCOR 16 , CN, halogen atom, —CR 14 ⁇ CR 15 R 16 or —CO—CR 14 ⁇ may have been replaced by CR 15 R 16, R 14, R 15 and R 16 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, 7-30 carbon atoms
  • a 1 is represented by the above general formula (3).
  • R 7 , R 8 and R 9 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms
  • the hydrogen atom of the alkyl group may be substituted with a halogen atom
  • the methylene group of the alkylene part of the alkyl group is 1 by an unsaturated bond, an ether bond, a thioether bond, an ester bond, a thioester bond, an amide bond or a urethane bond.
  • R 21 and R 22 each independently represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, or 6 carbon atoms.
  • an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group Group, aryloxy group, aralkyl group and heterocyclic group are further represented by OR 31 , COR 31 , SR 31 , NR 32 R 33 , —NCOR 32 —OCOR 33 , CN, halogen atom, —CR 31 ⁇ CR 32 R 33 or —CO—CR 31 ⁇ CR 32 R 33 may be substituted, and R 31 , R 32 and R 33 are each independently a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 20
  • R 23 and R 24 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms.
  • the hydrogen atom of OR 34 , COR 34 , SR 34 , NR 35 R 36 , —NCOR 35 —OCOR 36 , CN, halogen atom, —CR 34 ⁇ CR 35 R 36 or —CO—CR 34 ⁇ CR 35 R may have been replaced by 36, R 34, R 35 and R 36 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group having 6 to 30 carbon atoms, carbon atoms 7-30 a It represents alkyl group, or a heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, alkylene moiety of the substituents represented by R 23,
  • Ar represents an aryl group or a heterocyclic group selected from the following structures
  • L 1 represents a hydrogen atom or a benzoyl group
  • X 1 represents a direct bond or a carbonyl group
  • G 1 represents a group of the general formula (4).
  • n is an integer of 1 to 5
  • m is an integer of 1 to 6.
  • the present invention also provides a photosensitive composition comprising the above photopolymerization initiator composition in a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. Moreover, this invention provides the said photosensitive composition which further contains an inorganic compound.
  • the present invention also provides an alkali development comprising the photopolymerization initiator composition in an alkali developable compound that may have an ethylenically unsaturated bond and a polymerizable compound that has an ethylenically unsaturated bond.
  • a photosensitive photosensitive tree composition is provided.
  • this invention provides the said alkali-developable photosensitive resin composition which contains an inorganic compound further.
  • the present invention also provides a colored alkali-developable photosensitive resin composition obtained by further adding a coloring material to the alkali-developable photosensitive resin composition. Moreover, this invention provides the hardened
  • the photopolymerization initiator composition of the present invention will be described.
  • the oxime ester compound used as the component (A) in the photopolymerization initiator composition of the present invention is represented by the above general formulas (1-1) to (1-3) and represented by the above general formula (3). It has an ether structure.
  • the oxime ester compound used as the component (A) has geometric isomers due to the double bond of oxime, but these are not distinguished from each other.
  • the above general formulas (1-1) to (1-3) and those described later These exemplified compounds represent a mixture of both or one of them, and are not limited to structures showing isomers.
  • the component (A) in the present invention contains one or more oxime ester compounds represented by the above general formulas (1-1) to (1-3), and only one or more of the oxime ester compounds. Preferably it consists of.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms represented by 16 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl.
  • Octyl isooctyl, 2-ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, icosyl and the like.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 in the general formulas (1-1) to (1-3) include The thing corresponding to an alkyl group is mentioned.
  • Examples of the aryl group having 6 to 30 carbon atoms represented by 16 include phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, chlorophenyl, biphenylyl, naphthyl, anthryl, phenanthrenyl, and phenyl or biphenylyl substituted with one or more of the above alkyl groups. , Naphthyl, anthryl and the like.
  • Examples of the aralkyl group having 7 to 30 carbon atoms represented by 16 include benzyl, chlorobenzyl, ⁇ -methylbenzyl, ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl, phenylethyl and the like.
  • Examples of the heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms represented by 16 include pyridyl, pyrimidyl, furyl, thienyl, tetrahydrofuryl, dioxolanyl, benzoxazol-2-yl, tetrahydropyranyl, pyrrolidyl, imidazolidyl, pyrazolidyl, And 5- to 7-membered heterocycles such as thiazolidyl, isothiazolidyl, oxazolidyl, isoxazolidyl, piperidyl, piperazyl, morpholinyl and the like.
  • oxime ester compounds of component (A) those represented by the general formulas (1-1) to (1-3), wherein R 1 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • R 1 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable, and the methyl group is still more preferable.
  • R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and preferably having 1 to 8 carbon atoms. What is an alkyl group is more preferable, and an ethyl group is still more preferable.
  • R 3 a of the general formulas (1-1) to (1-3), a is preferably 0 or 1, and more preferably 0 from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • R 3 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 4 is preferably 0 or 1, and more preferably 0 from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • R 4 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 5 d is preferably 0 or 1, and more preferably 1, in terms of sensitivity and resolution.
  • R 5 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and even more preferably a methyl group.
  • R 6 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms from the viewpoint of sensitivity and resolution. Is more preferable, and a methyl group is even more preferable.
  • the oxime ester compound of component (A) has an ether structure of A 1 represented by the general formula (3). Thereby, it has the outstanding sensitivity and resolution by using together with (B) component.
  • R 9 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Atoms or methyl groups are even more preferred.
  • R 8 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 7 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • R 7 and R 8 are preferably combined to form a ring, and preferably have an ether bond in the ring.
  • a preferred specific example of the ring formed by R 7 and R 8 together is a dimethyldioxolane ring.
  • oxime ester compound represented by the general formula (1-1) of the component (A) the following compound No. 1-4.
  • oxime ester compound represented by the general formula (1-2) of the component (A) As preferred specific examples of the oxime ester compound represented by the general formula (1-2) of the component (A), the following compound No. 5-No. 8 is mentioned.
  • the oxime ester compound used as the component (B) in the photopolymerization initiator composition of the present invention is represented by the general formula (2-1) or (2-2), and represented by the general formula (4). It has a cycloalkyl structure.
  • the oxime ester compound used as the component (B) has geometric isomers due to the double bond of oxime, but these are not distinguished, and the above general formula (2-1) or (2-2) and those described later These exemplified compounds represent a mixture of both or one of them, and are not limited to structures showing isomers.
  • the component (B) in the present invention contains one or more oxime ester compounds represented by the above general formula (2-1) or (2-2), and only one or more of the oxime ester compounds. Preferably it consists of.
  • Examples of the alkyl group having 1 to 20 atoms include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, s-butyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, heptyl, octyl, isooctyl, 2 -Ethylhexyl, t-octyl, nonyl, isononyl, decyl, isodecyl, undecyl, dodecyl, tetradecyl, hexadecyl, octadecyl, icosyl and the like.
  • the alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms represented by R 21 , R 22 , R 23 , and R 24 in the general formula (2-1) or (2-2) corresponds to the above alkyl group. Things.
  • aryl group having 6 to 30 atoms include phenyl, tolyl, xylyl, ethylphenyl, chlorophenyl, biphenylyl, naphthyl, anthryl, phenanthrenyl, and phenyl, biphenylyl, naphthyl, and anthryl substituted with one or more of the above alkyl groups. Can be mentioned.
  • the aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms represented by R 21 , R 22 , R 23 and R 24 in the general formula (2-1) or (2-2) corresponds to the above aryl group. Things.
  • Examples of the aralkyl group having 7 to 30 atoms include benzyl, chlorobenzyl, ⁇ -methylbenzyl, ⁇ , ⁇ -dimethylbenzyl, phenylethyl and the like.
  • heterocyclic group having 2 to 20 atoms include pyridyl, pyrimidyl, furyl, thienyl, tetrahydrofuryl, dioxolanyl, benzoxazol-2-yl, tetrahydropyranyl, pyrrolidyl, imidazolidyl, pyrazolidyl, thiazolidyl, isothiazolidyl, oxazolidyl, And 5- to 7-membered heterocycles such as isoxazolidyl, piperidyl, piperazyl, morpholinyl and the like.
  • R 21 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a carbon atom from the viewpoint of sensitivity and resolution. Those having 6 to 30 aryl groups are preferred, those having 1 to 4 carbon atoms or aryl groups having 6 to 8 carbon atoms are more preferred, and methyl or phenyl groups are even more preferred.
  • R 22 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. More preferred is an ethyl group.
  • u is preferably 0 or 1, and more preferably 0 from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • R 23 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • v is preferably 0 or 1 and more preferably 0 from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • R 24 is preferably an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • X 1 is preferably a direct bond from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • Ar is preferably an aryl group or a heterocyclic group selected from the following structures from the viewpoint of sensitivity and resolution.
  • the oxime ester compound as the component (B) has a cycloalkyl structure represented by G 1 represented by the general formula (4). Thereby, it has excellent sensitivity and resolution when used in combination with component (A).
  • n is preferably 1 or 2 in terms of sensitivity and resolution.
  • m is preferably 3 or 4 from the viewpoint of sensitivity and resolution. In this case, it has a cyclopentane ring and a cyclohexane ring, respectively.
  • Preferred specific examples of the oxime ester compound represented by the above general formula (2-1) of the component (B) include the following compound Nos. 13-No. 20 is mentioned.
  • oxime ester compound represented by the general formula (2-2) of the component (B) the following compound No. 21-No. 26.
  • the total content of the component (A) and the component (B) is 100 parts by mass, and the content of the component (A) is 1 part by mass to 99 parts by mass.
  • the content of component B) is 1 to 99 parts by mass.
  • the content of component (A) is preferably 20 to 80 parts by mass, more preferably 40 to 60 parts by mass, and the content of component (B) is preferably 20 to 80 parts by mass, 60 parts by mass is more preferable.
  • the photopolymerization initiator composition of the present invention includes other photopolymerization initiators such as Irgacure 369 (manufactured by BASF), Irgacure 907 (BASF).
  • Irgacure OXE-01 manufactured by BASF
  • Irgacure OXE-02 manufactured by BASF
  • Lucyrin TPO manufactured by BASF
  • Irgacure 819 manufactured by BASF
  • 2,2-bis (2-chlorophenyl)- 4,5,4 ′, 5′-tetraphenyl-1-2′-biimidazole and the like can be contained.
  • the description about these components in the photosensitive composition of this invention mentioned later can be applied suitably.
  • the photosensitive composition of the present invention contains, as essential components, the photopolymerization initiator composition of the present invention and a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, and contains optional components such as inorganic compounds, coloring materials, and solvents. To do.
  • the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond is not particularly limited, and those conventionally used in photosensitive compositions can be used.
  • those conventionally used in photosensitive compositions can be used.
  • ethylene, propylene, butylene, isobutylene, vinyl chloride can be used.
  • Unsaturated aliphatic hydrocarbons such as vinylidene chloride, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene; (meth) acrylic acid, ⁇ -chloroacrylic acid, itaconic acid, maleic acid, citraconic acid, fumaric acid, highmic acid, crotonic acid, Isocrotonic acid, vinyl acetic acid, allylic acetic acid, cinnamic acid, sorbic acid, mesaconic acid, succinic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], phthalic acid mono [2- (meth) acryloyloxyethyl], ⁇ - Carboxypolycaprolactone has a carboxy group and a hydroxyl group at both ends, such as mono (meth) acrylate Polymer mono (meth) acrylate; having hydroxyethyl (meth) acrylate malate, hydroxypropyl (meth) acrylate malate, dicycl
  • A4 methyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, (t-butyl) (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, ( Isooctyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, dimethylaminomethyl (meth) acrylate, dimethyl (meth) acrylate Aminoethyl, aminopropyl (meth) acrylate, dimethylaminopropyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, poly (ethoxy) ethyl (meth) acrylate, butoxyethoxyethyl (
  • a mono (meth) acrylate of a polymer having a carboxy group and a hydroxyl group at both ends a polyfunctional (meth) acrylate having one carboxy group and two or more (meth) acryloyl groups, an unsaturated one
  • the photopolymerization initiator composition of the present invention is suitable for esters of basic acids and polyhydric alcohols or polyhydric phenols.
  • polymerizable compounds can be used alone or in admixture of two or more, and when used in admixture of two or more, they are copolymerized in advance and used as a copolymer. You can also.
  • an alkali developable compound having an ethylenically unsaturated bond may be used to make the photosensitive composition of the present invention an alkali developable photosensitive resin composition. it can.
  • Examples of the alkali-developable compound having an ethylenically unsaturated bond include acrylic ester copolymers, phenol and / or cresol novolac epoxy resins, polyphenylmethane type epoxy resins having polyfunctional epoxy groups, epoxy acrylate resins, A resin obtained by allowing an unsaturated monobasic acid to act on an epoxy compound such as an epoxy compound represented by the following general formula (5) and further causing a polybasic acid anhydride to act thereon can be used. Among these, a resin obtained by allowing an unsaturated monobasic acid to act on an epoxy compound such as an epoxy compound represented by the following general formula (5) and further causing a polybasic acid anhydride to act thereon is preferable.
  • the alkali-developable compound having an ethylenically unsaturated bond preferably contains 0.2 to 1.0 equivalent of an unsaturated group.
  • X 2 is a direct bond, a methylene group, an alkylidene group having 1 to 4 carbon atoms, an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 20 carbon atoms, O, S, SO 2 , SS, SO, CO, OCO or a substituent represented by the following general formula (6), formula (7) or general formula (8), wherein the alkylidene group may be substituted with a halogen atom, R 41 , R 42 , R 43 and R 44 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms or a halogen atom.
  • alkyl group, alkoxy group and alkenyl group may be substituted with a halogen atom, t is an integer of 0 to 10, and the optical isomer present when t is not 0 is any isomer. Good.
  • Z 1 is a hydrogen atom, a phenyl group which may be substituted by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, or 1 to A cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms which may be substituted by 10 alkyl groups or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms
  • Y 1 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, carbon atom An alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms or a halogen atom, wherein the alkyl group, alkoxy group or alkenyl group may be substituted with a halogen atom, and w is 0 to 5 (It is an integer.)
  • Y 2 and Z 2 may each independently be substituted with a halogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms that may be substituted with a halogen atom.
  • the alkylene moiety in the alkyl group and arylalkyl group is an unsaturated bond, —
  • Examples of the unsaturated monobasic acid that acts on the epoxy compound include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, cinnamic acid, sorbic acid, hydroxyethyl methacrylate / malate, hydroxyethyl acrylate / malate, hydroxypropyl methacrylate / malate, hydroxypropyl Acrylate / malate, dicyclopentadiene / malate and the like can be mentioned.
  • the polybasic acid anhydride to be acted after the unsaturated monobasic acid is allowed to act is biphenyltetracarboxylic dianhydride, tetrahydrophthalic anhydride, succinic anhydride, biphthalic anhydride, maleic anhydride, Trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, 2,2'-3,3'-benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bisanhydro trimellitate, glycerol tris anhydro trimellitate, hexahydrophthalic anhydride , Methyltetrahydrophthalic anhydride, nadic anhydride, methylnadic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene -1,2-dicarboxylic an
  • the reaction molar ratio of the epoxy compound, the unsaturated monobasic acid and the polybasic acid anhydride is preferably as follows. That is, in an epoxy adduct having a structure in which 0.1 to 1.0 carboxyl groups of the unsaturated monobasic acid are added to one epoxy group of the epoxy compound, the hydroxyl group 1 of the epoxy adduct is It is preferable that the ratio of the acid anhydride structure of the polybasic acid anhydride is 0.1 to 1.0.
  • the reaction of the epoxy compound, the unsaturated monobasic acid and the polybasic acid anhydride can be performed according to a conventional method.
  • the alkali-developable photosensitive resin composition of the present invention which is one of the embodiments of the photosensitive composition of the present invention, comprises the photopolymerization initiator composition of the present invention and an ethylenically unsaturated bond as essential components. It contains a polymerizable compound having, and an alkali developable compound that may have an ethylenically unsaturated bond, and optionally contains components such as an inorganic compound, a coloring material, and a solvent in combination. .
  • those containing a coloring material are also referred to as the colored alkali-developable photosensitive resin compositions of the present invention.
  • the polymerizable compound having the ethylenically unsaturated bond and the alkali developable compound that may have the ethylenically unsaturated bond may be the same compound or may be different. Moreover, when using individually, 2 or more types may be used together.
  • a monofunctional or polyfunctional epoxy compound can be used.
  • the alkali-developable compound that may have an ethylenically unsaturated bond preferably has a solid content acid value in the range of 5 to 120 mgKOH / g, and uses a monofunctional or polyfunctional epoxy compound. The amount is preferably selected so as to satisfy the acid value.
  • Examples of the monofunctional epoxy compound include glycidyl methacrylate, methyl glycidyl ether, ethyl glycidyl ether, propyl glycidyl ether, isopropyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, isobutyl glycidyl ether, t-butyl glycidyl ether, pentyl glycidyl ether, hexyl glycidyl ether, heptyl Glycidyl ether, octyl glycidyl ether, nonyl glycidyl ether, decyl glycidyl ether, undecyl glycidyl ether, dodecyl glycidyl ether, tridecyl glycidyl ether, tetradecyl glycidyl ether, pentadecy
  • polyfunctional epoxy compound when one or more compounds selected from the group consisting of bisphenol-type epoxy compounds and glycidyl ethers are used, a (colored) alkali-developable photosensitive resin composition having better characteristics can be obtained. Is preferable.
  • the epoxy compound represented by the general formula (5) can be used, and for example, a bisphenol type epoxy compound such as a hydrogenated bisphenol type epoxy compound can also be used.
  • glycidyl ethers examples include ethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, and 1,8-octanediol diglycidyl ether.
  • novolac epoxy compounds such as phenol novolac epoxy compounds, biphenyl novolac epoxy compounds, cresol novolac epoxy compounds, bisphenol A novolac epoxy compounds, dicyclopentadiene novolac epoxy compounds; 3,4-epoxy-6-methyl Cycloaliphatic epoxy such as cyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 1-epoxyethyl-3,4-epoxycyclohexane Compound: Glycidyl esters such as phthalic acid diglycidyl ester, tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, dimer acid glycidyl ester; Glycidylamines such as diphenylmethane, triglycidyl P-aminophenol and N, N-diglycidylaniline; heterocyclic epoxy compounds
  • the photopolymerization initiator composition of the present invention is prepared beforehand by preparing a photopolymerization initiator composition from the component (A) and the component (B), which is then ethylenically unsaturated.
  • a polymerizable compound having a bond and other optional components can be blended, and the component (A) and the component (B) are separately blended with the polymerizable compound and other optional components, respectively, You can also
  • the content of the photopolymerization initiator composition of the present invention is not particularly limited, but the polymerizable compound having the ethylenically unsaturated bond (or the ethylenically unsaturated bond) is not limited. Is preferably 0.1 to 70 parts by weight, more preferably 0.3 to 50 parts by weight, and most preferably 0.5 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the alkali-developable compound having the above.
  • the photosensitive composition of the present invention is a (colored) alkali-developable photosensitive resin composition
  • the content of the photopolymerization initiator composition of the present invention is the (colored) alkali-developable photosensitive composition of the present invention.
  • the solid content of the resin composition all components other than the solvent
  • 0.3 to 20% by mass, particularly 0.8 to 12% by mass is preferable.
  • a solvent can be further added to the photosensitive composition of the present invention.
  • a solvent capable of dissolving or dispersing each of the above components the photopolymerization initiator composition of the present invention and a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond
  • a solvent capable of dissolving or dispersing each of the above components the photopolymerization initiator composition of the present invention and a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond
  • methyl ethyl ketone Ketones such as methyl amyl ketone, diethyl ketone, acetone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone
  • ketones, ether ester solvents, etc. particularly propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, cyclohexanone, and the like are preferable because the compatibility between the resist and the photopolymerization initiator is good in the photosensitive composition.
  • the amount thereof used is preferably such that the concentration of solids (components other than the solvent) is 5 to 85% by mass from the viewpoint of handling and the like.
  • the photosensitive composition of the present invention can further contain a coloring material to give a colored (alkali-developable) photosensitive composition.
  • a coloring material include pigments, dyes, and natural pigments. These color materials can be used alone or in admixture of two or more.
  • the pigment examples include nitroso compounds; nitro compounds; azo compounds; diazo compounds; xanthene compounds; quinoline compounds; anthraquinone compounds; coumarin compounds; phthalocyanine compounds; isoindolinone compounds; Compound; perylene compound; diketopyrrolopyrrole compound; thioindigo compound; dioxazine compound; triphenylmethane compound; quinophthalone compound; naphthalene tetracarboxylic acid; azo dye, metal complex compound of cyanine dye; lake pigment; Carbon black obtained by the method, or carbon black such as acetylene black, ketjen black or lamp black; Prepared by coating or coating with an epoxy resin, carbon black previously dispersed with a resin in a solvent and adsorbed with 20 to 200 mg / g of resin, carbon black treated with an acidic or alkaline surface, average Graphite having a particle size of 8 nm or more and a DBP oil absorption of 90
  • Graphite Graphitized carbon black, activated carbon, carbon fiber, carbon nanotube, carbon microcoil, carbon nanohorn, carbon aerogel, fullerene; aniline black, pigment black 7, titanium black; chromium oxide green, miloli blue, cobalt green, cobalt blue, manganese series , Ferrocyanide Organic or inorganic such as phosphate ultramarine, bitumen, ultramarine, cerulean blue, pyridian, emerald green, lead sulfate, yellow lead, zinc yellow, red bean (red iron (III) oxide), cadmium red, synthetic iron black, amber Pigments can be used. These pigments can be used alone or in combination.
  • pigments can also be used as the pigment, for example, Pigment Red 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; Pigment Orange 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; Pigment Yellow 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 9 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148,
  • dyes As the above dyes, azo dyes, anthraquinone dyes, indigoid dyes, triarylmethane dyes, xanthene dyes, alizarin dyes, acridine dyes stilbene dyes, thiazole dyes, naphthol dyes, quinoline dyes, nitro dyes, indamine dyes, oxazine dyes, phthalocyanine dyes And dyes such as cyanine dyes. These may be used in combination.
  • the content of the colorant is preferably 50 to 350 parts by mass, more preferably 100 to 250 parts by mass, with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. Part.
  • the photosensitive composition of the present invention can further contain an inorganic compound.
  • the inorganic compound include metal oxides such as nickel oxide, iron oxide, iridium oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide, calcium oxide, potassium oxide, silica, and alumina; lamellar clay mineral, miloli blue, calcium carbonate, Magnesium carbonate, cobalt, manganese, glass powder (especially glass frit), mica, talc, kaolin, ferrocyanide, various metal sulfates, sulfides, selenides, aluminum silicate, calcium silicate, aluminum hydroxide, platinum, Gold, silver, copper, etc. are mentioned.
  • glass frit, titanium oxide, silica, layered clay mineral, silver and the like are preferable.
  • the content of the inorganic compound is preferably 0.1 to 1000 parts by mass, more preferably 10 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. 800 parts by mass.
  • These inorganic compounds can be used alone or in combination of two or more. These inorganic compounds are used, for example, as fillers, antireflection agents, conductive agents, stabilizers, flame retardants, mechanical strength improvers, special wavelength absorbers, ink repellents, and the like.
  • a dispersant for dispersing a colorant and / or an inorganic compound can be added.
  • the dispersing agent is not limited as long as it can disperse and stabilize a coloring material or an inorganic compound, and a commercially available dispersing agent such as BYK series manufactured by BYK Chemie Corporation can be used.
  • another photopolymerization initiator can be used in combination with the oxime ester compound as the component (A) and the oxime ester compound as the component (B).
  • Conventionally known compounds can be used as other photopolymerization initiators that can be used in combination.
  • R 1 , R 2 and R 6 are the same as those in the general formula (1-2), R 51 represents a halogen atom or an alkyl group, and e is an integer of 0 to 5. is there.)
  • the photosensitive composition of the present invention includes, if necessary, a thermal polymerization inhibitor such as p-anisole, hydroquinone, pyrocatechol, t-butylcatechol, phenothiazine; a plasticizer; an adhesion promoter; a filler; Conventional additives such as a foaming agent, a leveling agent, a surface conditioner, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a dispersion aid, a coagulation inhibitor, a catalyst, an effect accelerator, a cross-linking agent, and a thickener can be added.
  • an optional component other than the polymerizable compound having the ethylenically unsaturated bond and the photopolymerization initiator composition of the present invention (however, the other photopolymerization initiator, ethylenically unsaturated).
  • the amount of the alkali-developing compound that may have a group, an inorganic compound (filler), a coloring material and a solvent is excluded) is appropriately selected according to the purpose of use and is not particularly limited. Is 50 parts by mass or less in total with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond.
  • cured material can also be improved by using another organic polymer with the polymeric compound which has the said ethylenically unsaturated bond.
  • the organic polymer include polystyrene, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate-ethyl acrylate copolymer, poly (meth) acrylic acid, styrene- (meth) acrylic acid copolymer, (meth) acrylic acid-methyl methacrylate.
  • Copolymer ethylene-vinyl chloride copolymer, ethylene-vinyl copolymer, polyvinyl chloride resin, ABS resin, nylon 6, nylon 66, nylon 12, urethane resin, polycarbonate polyvinyl butyral, cellulose ester, polyacrylamide, saturated
  • polyester phenol resin, phenoxy resin, polyamideimide resin, polyamic acid resin, epoxy resin, etc.
  • polystyrene, (meth) acrylic acid-methyl methacrylate copolymer, and epoxy resin are preferred. Arbitrariness. When other organic polymer is used, the amount used is preferably 10 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond.
  • a chain transfer agent a sensitizer, a surfactant, a silane coupling agent, a melamine compound and the like can be further used in combination.
  • a sulfur atom-containing compound is generally used.
  • Alkyl compounds trimethylolpropane tris (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyrate), hexanedithiol, decanedithiol, 1,4- Methyl mercaptobenzene, butanediol bisthiopropionate, butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycolate, trimethylolpropane tristhioglycolate, butanediol bisthiopropionate, trimethylolpropane tristhiopropionate , Trimethylolpropane tristhioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, trishydroxyethyltristhiopropionate, diethylthioxanthone, diisopropyl
  • the surfactant examples include fluorine surfactants such as perfluoroalkyl phosphates and perfluoroalkyl carboxylates; anionic surfactants such as higher fatty acid alkali salts, alkyl sulfonates, and alkyl sulfates; higher amines Cationic surfactants such as halogenates and quaternary ammonium salts; Nonionic surfactants such as polyethylene glycol alkyl ethers, polyethylene glycol fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, and fatty acid monoglycerides; amphoteric surfactants; silicone surfactants Surfactants such as agents can be used, and these can also be used in combination.
  • fluorine surfactants such as perfluoroalkyl phosphates and perfluoroalkyl carboxylates
  • anionic surfactants such as higher fatty acid alkali salts, alkyl sulfonates, and alkyl sulfates
  • silane coupling agent examples include alkenyl group-containing silane coupling agents such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, vinylmethyldimethoxysilane, octene. Tenyltrimethoxysilane, allyltrimethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, and the like.
  • silane coupling agent having an acrylic group examples include 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, and the like.
  • silane coupling agents having a methacryl group examples include 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-methacryloxypropylmethyl. Examples include diethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxyoctyltrimethoxysilane, and the like.
  • silane coupling agent having an epoxy group 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3 -Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, glycidoxyoctyltrimethoxysilane, etc.
  • silane coupling agents having an amino group N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyl Trime Xysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N, N′-bis [3 -(Trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine, hydrochloride of N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane and the like, and silane coupling agents having an isocyanurate group include tris- (Trimethoxysilylpropyl)
  • Ureido group examples of the silane coupling agent having 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane and the like, and examples of the silane coupling agent having a sulfide group include bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide, Examples of the silane coupling agent having a thioester group include 3-octanoylthio-1-propyltriethoxysilane, and examples of the silane coupling agent having an isocyanate group include 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, and the like. Is mentioned.
  • silane coupling agent for example, as vinyltrimethoxysilane, KBM-1003 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., manufactured by Montive Performance Materials Japan LLC. No. A-171, Z-6300 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., GENIOSIL XL10 manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., Silaace S210 manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd., etc.
  • KBE-1003 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., A-151 manufactured by Montive Performance Materials Japan G.K., Z-6519 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., GENIOSIL manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd. GF56, Sila Ace manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd.
  • vinyl triacetoxy silane GENIOSIL GF62 manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd.
  • vinyl tris (2-methoxyethoxy) silane manufactured by Montive Performance Materials Japan GK
  • examples of the vinylmethyldimethoxysilane include A-2171 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK, GENIOSIL XL12 manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., and octenyltrimethoxysilane.
  • KBM-1083 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. can be cited.
  • allyltrimethoxysilane Z-6825 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • KBM-1403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-5103 is exemplified as 3-acryloxypropyltrimethoxysilane
  • Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. is exemplified as 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane
  • KBM-502 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., etc., and 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane include KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • Examples include KBM-402 manufactured by Koshi Chemical Industry Co., Ltd., Z-6044 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., and Silaace S520 manufactured by Himi Shoji Co., Ltd., and examples of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane KBM-403 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., A-187 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK, Z-6040 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd.
  • GENIOSIL GF80, Nylon Corporation Silaace S510, and the like, and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBE-402, 3-glycidoxy Examples of propyltriethoxysilane include Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBE-403, Montive Examples include A-1871 manufactured by Forance Materials Japan GK, GENIOSIL GF82 manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., and glycidoxyoctyltrimethoxysilane is KBM manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane includes KBM-602 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and A manufactured by Montive Performance Materials Japan LLC. -2120, GENIOSIL GF-95 manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd., Silaace S310 manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd., and the like.
  • N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane Shin-Etsu KBM-603 manufactured by Chemical Industry Co., Ltd., Montive A-1120 manufactured by Forance Materials Japan GK, A-1122 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK, Z-6020 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., Toray Dow Corning Co., Ltd. ) Z-6094 manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd. GENIOSIL GF-91, Silami Ace S320 manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd., and the like.
  • As 3-aminopropyltrimethoxysilane Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • KBM-903 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK, Z-6610 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • Sila Ace S360 manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd.
  • Examples of-(1,3-dimethyl-butylidene) propylamine include KBE-9103, Silaace S340 manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd., and N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane includes Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBM-573 manufactured by Co., Ltd., Y-9669 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK, Z-6883 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. and the like, N, N'-Bis [3 -(Trimethoxysilyl) propyl] ethylenediamine is Silaace manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd.
  • N- (vinylbenzyl) -2-aminoethyl-3-aminopropyltrimethoxysilane hydrochloride includes KBM-575 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • Z-6032, Silaace S350 manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd., and tris- (trimethoxysilylpropyl) isocyanurate include KBM-9659 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and 3-mercapto As propylmethyldimethoxysilane, KBM-802 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Z-6852 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • KBM-803, A-189 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK Examples include Z-6062 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., Silaace S810 manufactured by Nimi Shoji Co., Ltd., etc.
  • 3-mercaptopropyltriethoxysilane A manufactured by Montive Performance Materials Japan GK -1891, Z-6911 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd., and 3-ureidopropyltriethoxysilane include A-1160 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK
  • Examples of ureidopropyltrialkoxysilane include KBE-585 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., and examples of bis (triethoxysilylpropyl) tetrasulfide include KBE-846 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • 3-Octanoylthio-1-propyltriethoxy The run includes A-LINK599 manufactured by Montive Performance Materials Japan GK, and the 3-isocyanatepropyltriethoxysilane includes KBE-9007 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. and Montive Performance Materials. A-1310 manufactured by NZ Japan Ltd., etc., and as 3-isocyanatopropyltrimethoxysilane, Y-5187 manufactured by Montive Performance Materials Japan KK, GENIOSIL manufactured by Asahi Kasei Wacker Silicone Co., Ltd. GF40 etc. are mentioned.
  • silane coupling agents a silane coupling agent having a methacryloyl group, an epoxy group or an isocyanate group is preferably used.
  • Examples of the melamine compound include all or part of active methylol groups (CH 2 OH groups) in nitrogen compounds such as (poly) methylol melamine, (poly) methylol glycoluril, (poly) methylol benzoguanamine, and (poly) methylol urea.
  • Examples include compounds in which (at least two) are alkyl etherified.
  • examples of the alkyl group constituting the alkyl ether include a methyl group, an ethyl group, and a butyl group, and they may be the same or different.
  • methylol groups that are not alkyl etherified may be self-condensed within one molecule, and may be condensed between two molecules, resulting in the formation of an oligomer component.
  • hexamethoxymethyl melamine, hexabutoxymethyl melamine, tetramethoxymethyl glycoluril, tetrabutoxymethyl glycoluril and the like can be used.
  • alkyl etherified melamines such as hexamethoxymethyl melamine and hexabutoxymethyl melamine are preferable.
  • the photosensitive composition of the present invention is a known method such as spin coater, roll coater, bar coater, die coater, curtain coater, various printing, dipping, soda glass, quartz glass, semiconductor substrate, metal, paper, plastic. It can be applied on a supporting substrate such as. Moreover, after once applying on support bases, such as a film, it can also transfer on another support base
  • an ultrahigh pressure mercury lamp used for curing the photosensitive composition of the present invention, an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a mercury vapor arc lamp, a xenon arc lamp, High electromagnetic wave energy, electron beam, X-ray, radiation, etc. having a wavelength of 2000 angstrom to 7000 angstrom obtained from carbon arc lamp, metal halide lamp, fluorescent lamp, tungsten lamp, excimer lamp, germicidal lamp, light emitting diode, CRT light source, etc.
  • energy rays can be used, preferably, an ultra-high pressure mercury lamp, a mercury vapor arc lamp, a carbon arc lamp, a xenon arc lamp, and the like that emit light having a wavelength of 300 to 450 nm are exemplified.
  • the laser direct drawing method that directly forms an image from digital information such as a computer without using a mask improves not only productivity but also resolution and positional accuracy.
  • the laser light light having a wavelength of 340 to 430 nm is preferably used, but excimer laser, nitrogen laser, argon ion laser, helium cadmium laser, helium neon laser, krypton ion laser.
  • lasers that emit light in the visible to infrared region such as various semiconductor lasers and YAG lasers, are also used. When these lasers are used, a sensitizing dye that absorbs the region from visible to infrared is added.
  • the photosensitive composition of the present invention can also be used to create patterns with different steps and different heights using a halftone mask.
  • the photosensitive composition of the present invention comprises a photocurable paint or varnish; a photocurable adhesive; a printed circuit board; a color filter in a color display liquid crystal display element such as a color television, a PC monitor, a personal digital assistant, a digital camera; Color filter of image sensor; Electrode material for plasma display panel; Powder coating; Printing ink; Printing plate; Adhesive; Dental composition; Gel coat; Photoresist for electronics; Electroplating resist; Solder resists; resists for manufacturing color filters for various display applications or for forming structures in the manufacturing process of plasma display panels, electroluminescent display devices, and LCDs; compositions for encapsulating electrical and electronic components Material; Solder resist; Magnetic recording material; Micro machine part Optical waveguide switch; plating mask; etching mask; color test system; glass fiber cable coating; stencil for screen printing; material for manufacturing three-dimensional objects by stereolithography; holographic recording material; A fine electronic circuit; a bleaching material; a bleaching material for an image recording material; a bleaching
  • the photosensitive composition of the present invention can also be used for the purpose of forming a spacer for a liquid crystal display panel and for forming a protrusion for a vertical alignment type liquid crystal display element.
  • it is useful as a photosensitive composition for simultaneously forming protrusions and spacers for a vertical alignment type liquid crystal display element.
  • the spacer for a liquid crystal display panel includes (1) a step of forming a coating film of the photosensitive composition of the present invention on a substrate, and (2) irradiation of the coating film with radiation through a mask having a predetermined pattern shape. (3) a baking step after exposure, (4) a step of developing the coating after exposure, and (5) a step of heating the coating after development.
  • the (colored) photosensitive composition of the present invention to which an ink repellent agent is added is useful as a partition-forming resin composition for an inkjet system, and the composition is used for a color filter, and particularly has a profile angle of 50 ° or more. It is preferably used for a partition for an inkjet color filter.
  • the ink repellent agent a composition comprising a fluorosurfactant and a fluorosurfactant is preferably used.
  • An optical element is formed by a method in which a partition formed from the photosensitive composition of the present invention partitions an image to be transferred, and droplets are applied to the recessed portions on the partitioned image to be transferred by an ink jet method to form an image region. Manufactured. At this time, it is preferable that the droplet contains a colorant and the image region is colored, and a pixel group composed of a plurality of colored regions and at least a partition wall separating the colored regions of the pixel group on the substrate. And an optical element produced by the above-described optical element manufacturing method is preferably used.
  • the photosensitive composition of the present invention is also used as a composition for a protective film or an insulating film, and is a monofunctional or bifunctional compound containing an ultraviolet absorber, an alkylated modified melamine and / or an acrylic modified melamine, and an alcoholic hydroxyl group in the molecule.
  • a photosensitive composition for the protective film and insulating film for example, (I) a carboxyl group-containing resin obtained by reacting a diol compound and a polyvalent carboxylic acid, having a weight average molecular weight of 2,000 to 40,000 and an acid value of 50 to 200 mgKOH / g; (II) an unsaturated compound containing at least one photopolymerizable ethylenically unsaturated bond in one molecule, (III) an epoxy compound, and (IV) a photopolymerization initiator component, a resin composition comprising as a main component,
  • the component (III) is contained in an amount of 10 to 40 parts by weight
  • the component (IV) is contained in an amount of 0.01 to 2.0 parts by weight
  • the resin composition using the photopolymerization initiator composition of the present invention is used as the photopolymerization initiator component.
  • the insulating film is used for the insulating resin layer in a laminate in which an insulating resin layer is provided on a peelable support substrate, and the laminate can be developed with an alkaline aqueous solution.
  • the film thickness is preferably 10 to 100 ⁇ m.
  • the photosensitive composition of the present invention can be used as a photosensitive paste composition by containing an inorganic material (inorganic compound).
  • the photosensitive paste composition is used to form a fired product pattern such as a partition pattern, a dielectric pattern, an electrode pattern, and a black matrix pattern of a plasma display panel.
  • Example 1 The photopolymerization initiator composition No. 1 with the compounding ratio shown in Table 1. 1 was prepared. As the component (A) and the component (B), those shown below were used. Furthermore, SPC-1000 (acrylic resin; Showa Denko) 55.46 parts by mass, Aronix M-450 (polyfunctional acrylate; Toagosei Co., Ltd.) 12.91 parts by mass, KBE-403 (silane coupling agent; Shin-Etsu) (Made by Silicone) 0.58 parts by mass, 3.23 parts by mass of 1% cyclohexanone solution of FZ-2122 (surfactant; manufactured by Nihon Unicar) and 27.48 parts by mass of propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate And photopolymerization initiator composition No.
  • SPC-1000 acrylic resin; Showa Denko
  • Aronix M-450 polyfunctional acrylate
  • Toagosei Co., Ltd. 12.91 parts by mass
  • KBE-403
  • Example 2 to 13 The photopolymerization initiator composition No. 1 with the compounding ratio shown in Table 1. 2 to No. 13 was prepared. As the component (A) and the component (B), those shown below were used. Furthermore, the photopolymerization initiator composition No. used in Example 1 was used. 1 except that these photopolymerization initiator compositions were used in the same manner as in Example 1 except that the alkali-developable photosensitive resin composition No. 1 was used. 2 to No. 13 was obtained. About the obtained alkali-developable photosensitive resin composition, the sensitivity was evaluated by the following sensitivity evaluation method, and the resolution was evaluated by the following resolution evaluation method. The results are shown in Table 1.
  • 1-No. 15 was prepared.
  • the photopolymerization initiator composition No. used in Example 1 was used.
  • the comparative alkali-developable photosensitive resin composition No. 1 was used in the same manner as in Example 1 except that these comparative photopolymerization initiator compositions were used in place of 1.
  • 1-No. 15 was obtained. About the obtained alkali-developable photosensitive resin composition, the sensitivity was evaluated by the following sensitivity evaluation method, and the resolution was evaluated by the following resolution evaluation method. The results are shown in Table 2.
  • Component (A) As the component (A), the following compound No. 1, compound no. 6 and compound no. 11 was used.
  • Comparative photopolymerization initiator The following comparative photopolymerization initiator-1 and comparative photopolymerization initiator-2 were used in the comparative examples.
  • the sensitivity evaluation of the obtained alkali-developable photosensitive resin composition and comparative alkali-developable photosensitive resin composition was performed as follows. That is, the alkali-developable photosensitive resin composition was spin coated on a glass substrate, prebaked at 90 ° C. for 90 seconds using a hot plate, and exposed through a mask using a high-pressure mercury lamp as a light source. After developing using a 2.5% by mass aqueous sodium carbonate solution as a developing solution, it was washed thoroughly with water and post-baked at 230 ° C. for 30 minutes using an oven to fix the pattern.
  • the pattern for an exposure amount of 40 mJ was observed with an electron microscope, and the line width of the mask opening of 20 ⁇ m was measured.
  • the line width was 21 ⁇ m or more as A, 20 to 21 ⁇ m as B, 19 to 20 ⁇ m as C, and 19 or less as D.
  • A has the highest sensitivity, then B and C, and D has the lowest sensitivity.
  • the resolution evaluation of the obtained alkali-developable photosensitive resin composition and comparative alkali-developable photosensitive resin composition was performed as follows. That is, the alkali-developable photosensitive resin composition was spin coated on a glass substrate, prebaked at 90 ° C. for 90 seconds using a hot plate, and exposed through a mask using a high-pressure mercury lamp as a light source. After developing using a 2.5% by mass aqueous sodium carbonate solution as a developing solution, it was washed thoroughly with water and post-baked at 230 ° C. for 30 minutes using an oven to fix the pattern.
  • a difference between the mask opening and the line width is A or less, 0.5 A or less, B is a difference between 0.5 to 1.0 ⁇ m, C is a difference between 1.0 to 2.0 ⁇ m, and D is 2.0 ⁇ m or more.
  • A has the highest resolution, then B and C, and D has the lowest resolution.
  • a photopolymerization initiator composition capable of imparting excellent sensitivity and resolution to a photosensitive composition. Moreover, according to this invention, the photosensitive composition excellent in the sensitivity and the resolution can be provided.

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Abstract

下記（Ａ）成分を１～９９質量部、下記（Ｂ）成分を１～９９質量部（但し（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計は１００質量部）含有する光重合開始剤組成物。（一般式の詳細については明細書を参照。） （Ａ）成分：一般式（３）で表されるエーテル構造を有することを特徴とする一般式（１－１）～（１－３）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上を含有する光重合開始剤。 （Ｂ）成分：一般式（４）のシクロアルキル構造を有することを特徴とする一般式（２－１）又は（２－２）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上を含有する光重合開始剤。

Description

光重合開始剤組成物及び感光性組成物
　本発明は、感光性組成物に用いられる光重合の開始剤成分として有用な光重合開始剤組成物、及び該光重合開始剤組成物にエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有させてなる感光性組成物に関する。
　感光性組成物は、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物に光重合開始剤を加えたものであり、エネルギー線（光）を照射することができるため、光硬化性インキ、感光性印刷版、各種フォトレジスト等に用いられている。
　上記感光性組成物に用いられる光重合開始剤として、下記特許文献１～７には、オキシムエステル化合物を用いることが提案されている。
　しかしながら、これら従来の光重合開始剤のそれぞれは、感度が十分ではなく、また、アルカリ現像性感光性樹脂組成物等に使用した場合、解像度においても十分満足できるものではなかった。
米国特許出願公開第２００４／１７０９２４号明細書 米国特許出願公開第２００７／２７０５２２号明細書 米国特許出願公開第２００９／２９２０３９号明細書 米国特許出願公開第２０１１／１２９７７８号明細書 ＥＰ２４０７４５６Ａ１ ＥＰ２４３３９２７Ａ１ 特表２０１３－５４３８７５号公報
　従って、本発明の目的は、優れた感度と解像度を感光性組成物に付与することができる光重合開始剤組成物、及び該光重合開始剤組成物を用いた感光性組成物を提供することにある。
　本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、特定のエーテル構造を有するオキシムエステル化合物と、特定のシクロアルキル構造を有するオキシムエステル化合物とを併用することで、優れた感度と解像度を感光性組成物に付与することができる光重合開始剤組成物となることを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、下記（Ａ）成分を１～９９質量部、下記（Ｂ）成分を１～９９質量部（但し（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計は１００質量部）含有する光重合開始剤組成物を提供するものである。
（Ａ）成分：下記一般式（３）で表されるエーテル構造を有することを特徴とする下記一般式（１－１）～（１－３）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上を含有する光重合開始剤。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 　一般式（１－１）～（１－３）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ6は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基又はシアノ基を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ11、ＣＯＲ11、ＳＲ11、ＮＲ12Ｒ13、－ＮＣＯＲ12－ＯＣＯＲ13、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ11＝ＣＲ12Ｒ13又は－ＣＯ－ＣＲ11＝ＣＲ12Ｒ13で置換されている場合があり、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、Ｒ2は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成している場合がある。
　Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ14、ＣＯＲ14、ＳＲ14、ＮＲ15Ｒ16、－ＮＣＯＲ15－ＯＣＯＲ16、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ14＝ＣＲ15Ｒ16又は－ＣＯ－ＣＲ14＝ＣＲ15Ｒ16で置換されている場合があり、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、ａ、ｂ及びｄは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
　Ａ1は、上記一般式（３）で表され、一般式（３）中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～２０のアルキル基を表し、アルキル基の水素原子はハロゲン原子で置換されている場合があり、アルキル基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、アルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、アルキル末端は不飽和結合である場合があり、Ｒ7とＲ8は、一緒になって環を形成している場合がある。
（Ｂ）成分：下記一般式（４）のシクロアルキル構造を有することを特徴とする下記一般式（２－１）又は（２－２）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上を含有する光重合開始剤。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 　一般式（２－１）又は（２－２）中、Ｒ21及びＲ22は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基又はシアノ基を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ31、ＣＯＲ31、ＳＲ31、ＮＲ32Ｒ33、－ＮＣＯＲ32－ＯＣＯＲ33、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ31＝ＣＲ32Ｒ33又は－ＣＯ－ＣＲ31＝ＣＲ32Ｒ33で置換されている場合があり、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ21、Ｒ22、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、Ｒ22は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成している場合がある。
　Ｒ23及びＲ24は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ34、ＣＯＲ34、ＳＲ34、ＮＲ35Ｒ36、－ＮＣＯＲ35－ＯＣＯＲ36、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ34＝ＣＲ35Ｒ36又は－ＣＯ－ＣＲ34＝ＣＲ35Ｒ36で置換されている場合があり、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ23、Ｒ24、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、ｕ及びｖは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
　Ａｒは下記の構造から選ばれるアリール基又は複素環基を表し、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 　Ｌ1は、水素原子又はベンゾイル基を表し、
　Ｘ1は、直接結合又はカルボニル基を表し、
　Ｇ1は、一般式（４）の基を表し、一般式（４）中、ｎは１～５の整数であり、ｍは１～６の整数である。
　また、本発明は、上記光重合開始剤組成物を、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物に含有させてなる感光性組成物を提供するものである。
　また、本発明は、更に無機化合物を含有させてなる上記感光性組成物を提供するものである。
　また、本発明は、上記光重合開始剤組成物を、エチレン性不飽和結合を有している場合があるアルカリ現像性化合物及びエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物に含有させてなるアルカリ現像性感光性樹組成物を提供するものである。
　また、本発明は、更に無機化合物を含有させてなる上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供するものである。
　また、本発明は、上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物に、更に色材を含有させてなる着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供するものである。
　また、本発明は、上記感光性組成物、上記アルカリ現像性感光性組成物又は上記着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物にエネルギー線を照射してなる硬化物を提供するものである。
　本発明の光重合開始剤組成物について説明する。
　本発明の光重合開始剤組成物で（Ａ）成分として用いられるオキシムエステル化合物は、上記一般式（１－１）～（１－３）で表され、上記一般式（３）で表されるエーテル構造を有することを特徴とする。
　（Ａ）成分として用いられるオキシムエステル化合物は、オキシムの二重結合による幾何異性体が存在するが、これらを区別するものではなく、上記一般式（１－１）～（１－３）及び後述の例示化合物は、両方の混合物又はどちらか一方を表すものであり、異性体を示した構造に限定するものではない。
　また、本発明における（Ａ）成分は、上記一般式（１－１）～（１－３）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上を含有するものであり、該オキシムエステル化合物の一種以上のみからなることが好ましい。
　上記一般式（１－１）～（１－３）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で表される炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、アミル、イソアミル、ｔ－アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、２－エチルヘキシル、ｔ－オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、イコシル等が挙げられる。
　上記一般式（１－１）～（１－３）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6で表される炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、上記アルキル基に対応したものが挙げられる。
　上記一般式（１－１）～（１－３）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で表される炭素原子数６～３０のアリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、クロロフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル、フェナンスレニル、並びに上記アルキル基で１つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル及びアンスリル等が挙げられる。
　上記一般式（１－１）～（１－３）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6で表される炭素原子数６～３０のアリールオキシ基としては、上記アリール基に対応したものが挙げられる。
　上記一般式（１－１）～（１－３）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で表される炭素原子数７～３０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル、クロロベンジル、α－メチルベンジル、α、α－ジメチルベンジル、フェニルエチル等が挙げられる。
　上記一般式（１－１）～（１－３）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で表される炭素原子数２～２０の複素環基としては、例えば、ピリジル、ピリミジル、フリル、チエニル、テトラヒドロフリル、ジオキソラニル、ベンゾオキサゾール－２－イル、テトラヒドロピラニル、ピロリジル、イミダゾリジル、ピラゾリジル、チアゾリジル、イソチアゾリジル、オキサゾリジル、イソオキサゾリジル、ピペリジル、ピペラジル、モルホリニル等の５～７員複素環等が挙げられる。
　上記一般式（１－１）～（１－３）中のＡ1を表す、上記一般式（３）中のＲ7、Ｒ8、Ｒ9で表される炭素原子数１～２０のアルキル基としては、上記アルキル基が挙げられる。
　（Ａ）成分のオキシムエステル化合物の中で、上記一般式（１－１）～（１－３）において、感度と解像度の点から、Ｒ1が炭素原子数１～２０のアルキル基であるものが好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基であるものがより好ましく、メチル基がより一層好ましい。
　また、上記一般式（１－１）及び（１－２）において、感度と解像度の点から、Ｒ2が炭素原子数１～２０のアルキル基であるものが好ましく、炭素原子数１～８のアルキル基であるものがより好ましく、エチル基がより一層好ましい。
　また、上記一般式（１－１）～（１－３）の(Ｒ3)aにおいて、感度と解像度の点から、ａは０又は１が好ましく、０がより好ましい。ａが１～３の場合、Ｒ3は、炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましい。
　また、上記一般式（１－１）～（１－３）の(Ｒ4)ｂにおいて、感度と解像度の点から、ｂは０又は１が好ましく、０がより好ましい。ｂが１～３の場合、Ｒ4は、炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましい。
　また、上記一般式（１－１）～（１－３）の(Ｒ5)ｄにおいて、感度と解像度の点から、ｄは０又は１が好ましく、１がより好ましい。ｄが１～３の場合、Ｒ5は、炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましく、メチル基がより一層好ましい。
　また、上記一般式（１－１）及び（１－３）において、感度と解像度の点から、Ｒ6は、炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましく、メチル基がより一層好ましい。
　（Ａ）成分のオキシムエステル化合物は、上記一般式（３）で表されるＡ1のエーテル構造を有することを特徴とする。これにより（Ｂ）成分と併用することで優れた感度と解像度を有する。
　上記一般式（３）において、感度と解像度の点から、Ｒ9は水素原子又は炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基がより一層好ましい。
　また、感度と解像度の点から、Ｒ8は水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基が好ましい。また、感度と解像度の点から、Ｒ7は水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基が好ましい。また、Ｒ7とＲ8は、一緒になって環を形成していることも好ましく、環中にエーテル結合を有することも好ましい。Ｒ7とＲ8が一緒になって形成する環の好ましい具体例としては、ジメチルジオキソラン環が挙げられる。
　（Ａ）成分の上記、一般式（１－１）で表されるオキシムエステル化合物の好ましい具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．１～４が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　（Ａ）成分の上記一般式（１－２）で表されるオキシムエステル化合物の好ましい具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．５～Ｎｏ．８が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　（Ａ）成分の上記一般式（１－３）で表されるオキシムエステル化合物の好ましい具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．９～Ｎｏ．１２が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　次に（Ｂ）成分について説明する。
　本発明の光重合開始剤組成物で（Ｂ）成分として用いられるオキシムエステル化合物は、上記一般式（２－１）又は（２－２）で表され、上記一般式（４）で表されるシクロアルキル構造を有することを特徴とする。
　（Ｂ）成分として用いられるオキシムエステル化合物は、オキシムの二重結合による幾何異性体が存在するが、これらを区別するものではなく、上記一般式（２－１）又は（２－２）及び後述の例示化合物は、両方の混合物又はどちらか一方を表すものであり、異性体を示した構造に限定するものではない。
　また、本発明における（Ｂ）成分は、上記一般式（２－１）又は（２－２）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上を含有するものであり、該オキシムエステル化合物の一種以上のみからなることが好ましい。
　上記一般式（２－１）又は（２－２）中のＲ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36で表される炭素原子数１～２０のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ－ブチル、ｔ－ブチル、アミル、イソアミル、ｔ－アミル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、２－エチルヘキシル、ｔ－オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、イコシル等が挙げられる。
　上記一般式（２－１）又は（２－２）中のＲ21、Ｒ22、Ｒ23、及びＲ24で表される炭素原子数１～２０のアルコキシ基としては、上記アルキル基に対応したものが挙げられる。
　上記一般式（２－１）又は（２－２）中のＲ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36で表される炭素原子数６～３０のアリール基としては、フェニル、トリル、キシリル、エチルフェニル、クロロフェニル、ビフェニリル、ナフチル、アンスリル、フェナンスレニル、並びに上記アルキル基で１つ以上置換されたフェニル、ビフェニリル、ナフチル及びアンスリル等が挙げられる。
　上記一般式（２－１）又は（２－２）中のＲ21、Ｒ22、Ｒ23及びＲ24で表される炭素原子数６～３０のアリールオキシ基としては、上記アリール基に対応したものが挙げられる。
　上記一般式（２－１）又は（２－２）中のＲ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36で表される炭素原子数７～３０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル、クロロベンジル、α－メチルベンジル、α、α－ジメチルベンジル、フェニルエチル等が挙げられる。
　上記一般式（２－１）又は（２－２）中のＲ21、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36で表される炭素原子数２～２０の複素環基としては、例えば、ピリジル、ピリミジル、フリル、チエニル、テトラヒドロフリル、ジオキソラニル、ベンゾオキサゾール－２－イル、テトラヒドロピラニル、ピロリジル、イミダゾリジル、ピラゾリジル、チアゾリジル、イソチアゾリジル、オキサゾリジル、イソオキサゾリジル、ピペリジル、ピペラジル、モルホリニル等の５～７員複素環等が挙げられる。
　（Ｂ）成分のオキシムエステル化合物の中で、上記一般式（２－１）又は（２－２）において、感度と解像度の点から、Ｒ21が炭素原子数１～２０のアルキル基又は炭素原子数６～３０のアリール基であるものが好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基又は炭素原子数６～８のアリール基であるものがより好ましく、メチル基又はフェニル基がより一層好ましい。
　また、上記一般式（２－１）において、感度と解像度の点から、Ｒ22が炭素原子数１～２０のアルキル基であるものが好ましく、炭素原子数１～８のアルキル基であるものがより好ましく、エチル基がより一層好ましい。
　また、上記一般式（２－１）又は（２－２）の(Ｒ23)ｕにおいて、感度と解像度の点から、ｕは０又は１が好ましく、０がより好ましい。ｕが１～３の場合、Ｒ23は、炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましい。
　また、上記一般式（２－１）又は（２－２）の(Ｒ24)ｖにおいて、感度と解像度の点から、ｖは０又は１が好ましく、０がより好ましい。ｖが１～３の場合、Ｒ24は、炭素原子数１～２０のアルキル基が好ましく、炭素原子数１～４のアルキル基がより好ましい。
　また、上記一般式（２－１）において、Ｘ1は、感度と解像度の点から、直接結合が好ましい。
　また、上記一般式（２－１）において、Ａｒは、感度と解像度の点から、下記の構造から選ばれるアリール基又は複素環基が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　（Ｂ）成分のオキシムエステル化合物は、上記一般式（４）で表されるＧ1のシクロアルキル構造を有することを特徴とする。これにより（Ａ）成分と併用することで優れた感度と解像度を有する。
　上記一般式（４）において、感度と解像度の点から、ｎは１又は２が好ましい。
　上記一般式（４）において、感度と解像度の点から、ｍは３又は４が好ましい。この場合、それぞれシクロペンタン環、シクロヘキサン環を有することになる。
　（Ｂ）成分の上記、一般式（２－１）で表されるオキシムエステル化合物の好ましい具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．１３～Ｎｏ．２０が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　（Ｂ）成分の上記、一般式（２－２）で表されるオキシムエステル化合物の好ましい具体例としては、以下の化合物Ｎｏ．２１～Ｎｏ．２６が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　本発明の光重合開始剤組成物において、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計の含有量を１００質量部として、（Ａ）成分の含有量は１質量部～９９質量部であり、（Ｂ）成分の含有量は１～９９質量部である。感度と解像度の点から、（Ａ）成分の含有量は２０～８０質量部が好ましく、４０～６０質量部がより好ましく、（Ｂ）成分の含有量は２０～８０質量部が好ましく、４０～６０質量部がより好ましい。
　本発明の光重合開始剤組成物は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分のほかに、任意成分として、その他の光重合開始剤、例えば、イルガキュア３６９（ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア９０７（ＢＡＳＦ社製）、イルガキュアＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦ社製）、イルガキュアＯＸＥ－０２（ＢＡＳＦ社製）、ルシリンＴＰＯ（ＢＡＳＦ社製）、イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）、２，２－ビス（２－クロロフェニル）－４，５，４’，５’－テトラフェニル－１－２’－ビイミダゾール等を含有することができる。これらの任意成分の詳細については、後述の本発明の感光性組成物におけるこれらの成分についての説明を適宜適用することができる。
　次に本発明の感光性組成物について説明する。
　本発明の感光性組成物は、必須成分として、本発明の光重合開始剤組成物及びエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を含有し、無機化合物、色材、溶媒等の任意成分を含有するものである。
　上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物としては、特に限定されず、従来、感光性組成物に用いられているものを用いることができるが、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン等の不飽和脂肪族炭化水素；(メタ)アクリル酸、α－クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ［２－（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノ［２－（メタ）アクリロイロキシエチル］、ω－カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは1個のカルボキシル基と２個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート等の不飽和多塩基酸；(メタ)アクリル酸－２－ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸－２－ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、下記化合物Ｎｏ．Ａ１～Ｎｏ．Ａ４、（メタ）アクリル酸メチル、 （メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸－ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ－オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノメチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸ポリ（エトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフリル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリ［（メタ）アクリロイルエチル］イソシアヌレート、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル；（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩；マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフリル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸－無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物；（メタ）アクリルアミド、メチレンビス－（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、α－クロロアクリルアミド、Ｎ－２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和一塩基酸及び多価アミンのアミド；アクロレイン等の不飽和アルデヒド；（メタ）アクリロニトリル、α－クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン、シアン化アリル等の不飽和ニトリル；スチレン、４－メチルスチレン、４－エチルスチレン、４－メトキシスチレン、４－ヒドロキシスチレン、４－クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニル安息香酸、ビニルフェノール、ビニルスルホン酸、４－ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル等の不飽和芳香族化合物；メチルビニルケトン等の不飽和ケトン；ビニルアミン、アリルアミン、Ｎ－ビニルピロリドン、ビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物；アリルアルコール、クロチルアルコール等のビニルアルコール；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のビニルエーテル；マレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類；インデン、１－メチルインデン等のインデン類；１，３－ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ－ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類；ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート、ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、水酸基含有ビニルモノマー及びポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、水酸基含有ビニルモノマー及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物が挙げられる。
　これらの中でも、両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート、１個のカルボキシ基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート、不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステルに、本発明の光重合開始剤組成物は好適である。
　これらの重合性化合物は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、また２種以上を混合して使用する場合には、それらを予め共重合して共重合体として使用することもできる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　また、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物として、エチレン性不飽和結合を有するアルカリ現像性化合物を用いて、本発明の感光性組成物をアルカリ現像性感光性樹脂組成物とすることもできる。該エチレン性不飽和結合を有するアルカリ現像性化合物としては、アクリル酸エステルの共重合体や、フェノール及び／又はクレゾールノボラックエポキシ樹脂、多官能エポキシ基を有するポリフェニルメタン型エポキシ樹脂、エポキシアクリレート樹脂、下記一般式（５）で表されるエポキシ化合物等のエポキシ化合物に不飽和一塩基酸を作用させ、更に多塩基酸無水物を作用させて得られた樹脂を用いることができる。これらの中でも、下記一般式（５）で表されるエポキシ化合物等のエポキシ化合物に、不飽和一塩基酸を作用させ、更に多塩基酸無水物を作用させて得られた樹脂が好ましい。
　また、上記エチレン性不飽和結合を有するアルカリ現像性化合物は、不飽和基を０．２～１．０当量含有していることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （一般式（５）中、Ｘ2は直接結合、メチレン基、炭素原子数１～４のアルキリデン基、炭素原子数３～２０の脂環式炭化水素基、Ｏ、Ｓ、ＳＯ2、ＳＳ、ＳＯ、ＣＯ、ＯＣＯ又は下記一般式（６）、式（７）若しくは一般式（８）で表される置換基を表し、上記アルキリデン基はハロゲン原子で置換されている場合があり、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43及びＲ44は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～８のアルコキシ基、炭素原子数２～５のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、上記アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基はハロゲン原子で置換されている場合があり、ｔは０～１０の整数であり、ｔが０でないときに存在する光学異性体は、どの異性体でもよい。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （一般式（６）中、Ｚ1は水素原子、炭素原子数１～１０のアルキル基若しくは炭素原子数１～１０のアルコキシ基により置換されている場合があるフェニル基、又は炭素原子数１～１０のアルキル基若しくは炭素原子数１～１０のアルコキシ基により置換されている場合がある炭素原子数３～１０のシクロアルキル基を示し、Ｙ1は炭素原子数１～１０のアルキル基、炭素原子数１～１０のアルコキシ基、炭素原子数２～１０のアルケニル基又はハロゲン原子を示し、上記アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基はハロゲン原子で置換されている場合があり、ｗは０～５の整数である。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （一般式（８）中、Ｙ2及びＺ2は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数１～１０のアルキル基、ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数６～２０のアリール基、ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数６～２０のアリールオキシ基、ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数６～２０のアリールチオ基、ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数６～２０のアリールアルケニル基、ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数７～２０のアリールアルキル基、ハロゲン原子で置換されている場合がある炭素原子数２～２０の複素環基、又はハロゲン原子を表し、上記アルキル基及びアリールアルキル基中のアルキレン部分は、不飽和結合、－Ｏ－又は－Ｓ－で中断されている場合があり、Ｚ2は、隣接するＺ2同士で環を形成している場合があり、ｐは０～４の整数を表し、ｑは０～８の整数を表し、ｒは０～４の整数を表し、ｓは０～４の整数を表し、ｒとｓの数の合計は２～４の整数である。）
　上記エポキシ化合物に作用させる上記不飽和一塩基酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート・マレート、ヒドロキシエチルアクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルアクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート等が挙げられる。
　また、上記不飽和一塩基酸を作用させた後に作用させる上記多塩基酸無水物としては、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、ビフタル酸無水物、無水マレイン酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、２，２’－３，３’－ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、５－（２，５－ジオキソテトラヒドロフリル）－３－メチル－３－シクロヘキセン－１，２－ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸－無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。
　上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応モル比は、以下の通りとすることが好ましい。
　即ち、上記エポキシ化合物のエポキシ基１個に対し、上記不飽和一塩基酸のカルボキシル基が０．１～１．０個で付加させた構造を有するエポキシ付加物において、該エポキシ付加物の水酸基１個に対し、上記多塩基酸無水物の酸無水物構造が０．１～１．０個となる比率となるようにするのが好ましい。
　上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応は、常法に従って行なうことができる。
　本発明の感光性組成物の実施態様の一つである、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、必須成分として、本発明の光重合開始剤組成物と、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と、エチレン性不飽和結合を有している場合があるアルカリ現像性化合物とを含有し、任意成分として、無機化合物、色材、溶媒等の成分を組み合わせて含有するものである。尚、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物のうち、色材を含有するものを、特に、本発明の着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物ともいう。
　上記のエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と、上記のエチレン性不飽和結合を有している場合があるアルカリ現像性化合物とは同一の化合物である場合もあり、異なっている場合もあり、また、単独で使用する場合も２種以上を併用する場合もある。
　酸価調整して本発明の（着色）アルカリ現像性感光性樹脂組成物の現像性を改良するため、上記エチレン性不飽和結合を有している場合があるアルカリ現像性を有する化合物と共に、更に単官能又は多官能エポキシ化合物を用いることができる。上記エチレン性不飽和結合を有している場合があるアルカリ現像性を有する化合物は、固形分の酸価が５～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であることが好ましく、単官能又は多官能エポキシ化合物の使用量は、上記酸価を満たすように選択するのが好ましい。
　上記単官能エポキシ化合物としては、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテル、ｔ－ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、２－エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プロパルギルグリシジルエーテル、p－メトキシエチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ－メトキシグリシジルエーテル、ｐ－ブチルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、２－メチルクレジルグリシジルエーテル、４－ノニルフェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル、ｐ－クミルフェニルグリシジルエーテル、トリチルグリシジルエーテル、２，３－エポキシプロピルメタクリレート、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、グリシジルブチレート、ビニルシクロヘキサンモノオキシド、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン、スチレンオキシド、ピネンオキシド、メチルスチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、プロピレンオキシド、下記化合物Ｎｏ．Ｅ１、Ｎｏ．Ｅ２等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　上記多官能エポキシ化合物としては、ビスフェノール型エポキシ化合物及びグリシジルエーテル類からなる群から選択される一種以上の化合物を用いると、特性の一層良好な（着色）アルカリ現像性感光性樹脂組成物を得ることができるので好ましい。
　上記ビスフェノール型エポキシ化合物としては、上記一般式（５）で表されるエポキシ化合物を用いることができる他、例えば、水添ビスフェノール型エポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物も用いることができる。
　また、上記グリシジルエーテル類としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４－ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６－ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、１，８－オクタンジオールジグリシジルエーテル、１，１０－デカンジオールジグリシジルエーテル、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４－シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、１，１，１－トリ（グリシジルオキシメチル）プロパン、１，１，１－トリ（グリシジルオキシメチル）エタン、１，１，１－トリ（グリシジルオキシメチル）メタン、１，１，１，１－テトラ（グリシジルオキシメチル）メタン等を用いることができる。
　その他、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物；３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシ－６－メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル－３，４－エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１－エポキシエチル－３，４－エポキシシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物；フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルＰ－アミノフェノール、Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン等のグリシジルアミン類；１，３－ジグリシジル－５，５－ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物；ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物；ナフタレン型エポキシ化合物；トリフェニルメタン型エポキシ化合物；ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等を用いることもできる。
　本発明の感光性組成物において、本発明の光重合開始剤組成物は、あらかじめ（Ａ）成分と（Ｂ）成分から光重合開始剤組成物を調製しておいて、それをエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物や他の任意成分に配合することができ、（Ａ）成分と（Ｂ）成分を、それぞれ別々に重合性化合物や他の任意成分に配合して、感光性組成物とすることもできる。
　本発明の感光性組成物において、本発明の光重合開始剤組成物の含有量は特に限定されるものではないが、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物（又は上記エチレン性不飽和結合を有するアルカリ現像性化合物）１００質量部に対して、好ましくは０．１～７０質量部、より好ましくは０．３～５０質量部、最も好ましくは０．５～３０質量部である。
　特に、本発明の感光性組成物を（着色）アルカリ現像性感光性樹脂組成物とする場合、本発明の光重合開始剤組成物の含有量は、本発明の（着色）アルカリ現像性感光性樹脂組成物の固形分（溶剤以外の全成分）中、０．３～２０質量％、特に０．８～１２質量％が好ましい。
　本発明の感光性組成物には、更に溶媒を加えることができる。該溶媒としては、通常、必要に応じて上記の各成分（本発明の光重合開始剤組成物及びエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物等）を溶解又は分散しえる溶媒、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２－ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２－ジメトキシエタン、１，２－ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸－ｎ－プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ－又はｎ－プロパノール、イソ－又はｎ－ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルアセテート、エチレングリコールモノエチルアセテート、プロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、エトキシエチルプロピオネート等のエーテルエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ－リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油（株））、ソルベッソ＃１００（エクソン化学（株））等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２－ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；カルビトール系溶媒；アニリン；トリエチルアミン；ピリジン；酢酸；アセトニトリル；二硫化炭素；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド；Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド；Ｎ－メチルピロリドン；ジメチルスルホキシド；水等が挙げられ、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。
　これらの中でも、ケトン類、エーテルエステル系溶媒等、特にプロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート、シクロヘキサノン等が、感光性組成物においてレジストと光重合開始剤の相溶性がよいので好ましい。
　本発明の感光性組成物において、溶剤を使用する場合、その使用量は、ハンドリング等の観点から、固形分（溶剤以外の成分）の濃度が５～８５質量％になる量が好ましい。
　また、本発明の感光性組成物（特にアルカリ現像性感光性樹脂組成物）には、更に色材を含有させて着色（アルカリ現像性）感光性組成物とすることができる。該色材としては、顔料、染料、天然色素等が挙げられる。これらの色材は、単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
　上記顔料としては、例えば、ニトロソ化合物；ニトロ化合物；アゾ化合物；ジアゾ化合物；キサンテン化合物；キノリン化合物；アントラキノン化合物；クマリン化合物；フタロシアニン化合物；イソインドリノン化合物；イソインドリン化合物；キナクリドン化合物；アンタンスロン化合物；ペリノン化合物；ペリレン化合物；ジケトピロロピロール化合物；チオインジゴ化合物；ジオキサジン化合物；トリフェニルメタン化合物；キノフタロン化合物；ナフタレンテトラカルボン酸；アゾ染料、シアニン染料の金属錯体化合物；レーキ顔料；ファーネス法、チャンネル法又はサーマル法によって得られるカーボンブラック、或いはアセチレンブラック、ケッチェンブラック又はランプブラック等のカーボンブラック；上記カーボンブラックをエポキシ樹脂で調整又は被覆したもの、上記カーボンブラックを予め溶媒中で樹脂で分散処理し、２０～２００ｍｇ／ｇの樹脂を吸着させたもの、上記カーボンブラックを酸性又はアルカリ性表面処理したもの、平均粒径が８ｎｍ以上でＤＢＰ吸油量が９０ｍｌ／１００ｇ以下のもの、９５０℃における揮発分中のＣＯ及びＣＯ2から算出した全酸素量が、カーボンブラックの表面積１００ｍ2当たり９ｍｇ以上であるもの；黒鉛、黒鉛化カーボンブラック、活性炭、炭素繊維、カーボンナノチューブ、カーボンマイクロコイル、カーボンナノホーン、カーボンエアロゲル、フラーレン；アニリンブラック、ピグメントブラック７、チタンブラック；酸化クロム緑、ミロリブルー、コバルト緑、コバルト青、マンガン系、フェロシアン化物、リン酸塩群青、紺青、ウルトラマリン、セルリアンブルー、ピリジアン、エメラルドグリーン、硫酸鉛、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら（赤色酸化鉄(III)）、カドミウム赤、合成鉄黒、アンバー等の有機又は無機顔料を用いることができる。これらの顔料は単独で、或いは複数を混合して用いることができる。
　上記顔料としては、市販の顔料を用いることもでき、例えば、ピグメントレッド１、２、３、９、１０、１４、１７、２２、２３、３１、３８、４１、４８、４９、８８、９０、９７、１１２、１１９、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１６９、１７０、１７１、１７７、１７９、１８０、１８４、１８５、１９２、２００、２０２、２０９、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、２５４；ピグメントオレンジ１３、３１、３４、３６、３８、４３、４６、４８、４９、５１、５２、５５、５９、６０、６１、６２、６４、６５、７１；ピグメントイエロー１、３、１２、１３、１４、１６、１７、２０、２４、５５、６０、７３、８１、８３、８６、９３、９５、９７、９８、１００、１０９、１１０、１１３、１１４、１１７、１２０、１２５、１２６、１２７、１２９、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５０、１５１、１５２、１５３、１５４、１６６、１６８、１７５、１８０、１８５；ピグメントグリ－ン７、１０、３６；ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：５、１５：６、２２、２４、５６、６０、６１、６２、６４；ピグメントバイオレット１、１９、２３、２７、２９、３０、３２、３７、４０、５０等が挙げられる。
　上記染料としては、アゾ染料、アントラキノン染料、インジゴイド染料、トリアリールメタン染料、キサンテン染料、アリザリン染料、アクリジン染料スチルベン染料、チアゾール染料、ナフトール染料、キノリン染料、ニトロ染料、インダミン染料、オキサジン染料、フタロシアニン染料、シアニン染料等の染料等が挙げられ、これらは複数を混合して用いることもできる。
　本発明の感光性組成物において、上記色材の含有量は、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは５０～３５０質量部、より好ましくは１００～２５０質量部である。
　本発明の感光性組成物には、更に無機化合物を含有させることができる。該無機化合物としては、例えば、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化イリジウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、シリカ、アルミナ等の金属酸化物；層状粘土鉱物、ミロリブルー、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、コバルト系、マンガン系、ガラス粉末（特にガラスフリット）、マイカ、タルク、カオリン、フェロシアン化物、各種金属硫酸塩、硫化物、セレン化物、アルミニウムシリケート、カルシウムシリケート、水酸化アルミニウム、白金、金、銀、銅等が挙げられる。これらの中でも、ガラスフリット、酸化チタン、シリカ、層状粘土鉱物、銀等が好ましい。
　本発明の感光性組成物において、上記無機化合物の含有量は、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１～１０００質量部、より好ましくは１０～８００質量部である。尚、これらの無機化合物は１種又は２種以上を使用することができる。
　これら無機化合物は、例えば、充填剤、反射防止剤、導電剤、安定剤、難燃剤、機械的強度向上剤、特殊波長吸収剤、撥インク剤等として用いられる。
　本発明の感光性組成物には、色材及び／又は無機化合物を分散させる分散剤を加えることができる。該分散剤としては、色材又は無機化合物を分散、安定化できるものであれば制限されず、市販の分散剤、例えば、ビックケミー社製のＢＹＫシリーズ等を用いることができる。特に、塩基性官能基を有するポリエステル、ポリエーテル、又はポリウレタンからなる高分子分散剤、塩基性官能基として窒素原子を有し、窒素原子を有する官能基がアミン及び／又はその四級塩であり、アミン価が１～１００ｍｇＫＯＨ/ｇのものが好適に用いられる。
　本発明の感光性組成物では、（Ａ）成分のオキシムエステル化合物及び（Ｂ）成分のオキシムエステル化合物と共に他の光重合開始剤を併用することができる。併用できる他の光重合開始剤としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、１－ヒドロキシ－１－ベンゾイルシクロヘキサン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、１－ベンジル－１－ジメチルアミノ－１－（４'－モルホリノベンゾイル）プロパン、２－モルホリル－２－（４'－メチルメルカプト）ベンゾイルプロパン、チオキサントン、１－クロル－４－プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチルアントラキノン、４－ベンゾイル－４'－メチルジフェニルスルフィド、ベンゾインブチルエーテル、２－ヒドロキシ－２－ベンゾイルプロパン、２－ヒドロキシ－２－（４'－イソプロピル）ベンゾイルプロパン、４－ブチルベンゾイルトリクロロメタン、４－フェノキシベンゾイルジクロロメタン、ベンゾイル蟻酸メチル、１，７－ビス（９'－アクリジニル）ヘプタン、９－ｎ－ブチル－３，６－ビス（２'－モルホリノイソブチロイル）カルバゾール、２－メチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－フェニル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－ナフチル－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２，２－ビス（２－クロロフェニル）－４，５，４’，５’－テトラフェニル－１－２’－ビイミダゾール、４、４－アゾビスイソブチロニトリル、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、Ｎ－１４１４、Ｎ－１７１７（（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ３６９、ＩＲＧＡＣＵＲＥ９０７、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０２（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、過酸化ベンゾイル、下記一般式（９）で表される化合物等が挙げられ、これらの他の光重合開始剤を使用する場合、その使用量は、好ましくは本発明の光重合開始剤組成物の（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計使用量の１質量倍以下とする。尚、これらの光重合開始剤は、１種又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
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 （一般式（９）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ6は、上記一般式（１－２）と同じであり、Ｒ51はハロゲン原子又はアルキル基を表し、ｅは０～５の整数である。）
　また、本発明の感光性組成物には、必要に応じて、ｐ－アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、ｔ－ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤；可塑剤；接着促進剤；充填剤；消泡剤；レベリング剤；表面調整剤；酸化防止剤；紫外線吸収剤；分散助剤；凝集防止剤；触媒；効果促進剤；架橋剤；増粘剤等の慣用の添加物を加えることができる。
　本発明の感光性組成物において、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物及び本発明の光重合開始剤組成物以外の任意成分（但し、上記の他の光重合開始剤、エチレン性不飽和基を有している場合があるアルカリ現像性を有する化合物、無機化合物（充填剤）、色材及び溶媒は除く）の使用量は、その使用目的に応じて適宜選択され特に制限されないが、好ましくは、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物１００質量部に対して合計で５０質量部以下とする。
　また、本発明の感光性組成物には、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物と共に、他の有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。該有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート－エチルアクリレート共重合体、ポリ（メタ）アクリル酸、スチレン－（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸－メチルメタクリレート共重合体、エチレン－塩化ビニル共重合体、エチレン－ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル樹脂、ＡＢＳ樹脂、ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン１２、ウレタン樹脂、ポリカーボネートポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミック酸樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられ、これらの中でも、ポリスチレン、（メタ）アクリル酸－メチルメタクリレート共重合体、エポキシ樹脂が好ましい。
　他の有機重合体を使用する場合、その使用量は、上記エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは１０～５００質量部である。
　本発明の感光性組成物には、更に、連鎖移動剤、増感剤、界面活性剤、シランカップリング剤、メラミン化合物等を併用することができる。
　上記連鎖移動剤又は増感剤としては、一般的に硫黄原子含有化合物が用いられる。例えばチオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプト酪酸、Ｎ－（２－メルカプトプロピオニル）グリシン、２－メルカプトニコチン酸、３－［Ｎ－（２－メルカプトエチル）カルバモイル］プロピオン酸、３－［Ｎ－（２－メルカプトエチル）アミノ］プロピオン酸、Ｎ－（３－メルカプトプロピオニル）アラニン、２－メルカプトエタンスルホン酸、３－メルカプトプロパンスルホン酸、４－メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル（４－メチルチオ）フェニルエーテル、２－メルカプトエタノール、３－メルカプト－１，２－プロパンジオール、１－メルカプト－２－プロパノール、３－メルカプト－２－ブタノール、メルカプトフェノール、２－メルカプトエチルアミン、２－メルカプトイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプト－３－ピリジノール、２－メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、２－ヨードエタノール、２－ヨードエタンスルホン酸、３－ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトイソブチレート）、ブタンジオールビス（３－メルカプトイソブチレート）、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ジエチルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン、下記化合物Ｎｏ．Ｃ１、トリメルカプトプロピオン酸トリス（２－ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等の脂肪族多官能チオール化合物、昭和電工社製カレンズＭＴ ＢＤ１、ＰＥ１、ＮＲ１等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
　上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤；高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤；高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤；ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤；両性界面活性剤；シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いることもできる。
　上記シランカップリング剤としては、例えば、アルケニル基を有するシランカップリング剤として、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シラン、ビニルメチルジメトキシシラン、オクテニルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ｐ－スチリルトリメトキシシラン等が挙げられ、アクリル基を有するシランカップリング剤として、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられ、メタクリル基を有するシランカップリング剤として、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン等が挙げられ、エポキシ基を有するシランカップリング剤として、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシオクチルトリメトキシシラン等が挙げられ、アミノ基を有するシランカップリング剤として、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシラン、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミン、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ，Ｎ’－ビス[３－（トリメトキシシリル）プロピル]エチレンジアミン、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩等が挙げられ、イソシアヌレート基を有するシランカップリング剤として、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートが挙げられ、メルカプト基を有するシランカップリング剤として、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３－メルカプトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられ、ウレイド基を有するシランカップリング剤として、３－ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン等が挙げられ、スルフィド基を有するシランカップリング剤として、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドが挙げられ、チオエステル基を有するシランカップリング剤として、３－オクタノイルチオ－１－プロピルトリエトキシシランが挙げられ、イソシアネート基を有するシランカップリング剤として、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、３－イソシアネートプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
　上記シランカップリング剤としては、市販品が使用でき、その例を挙げると、ビニルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－１００３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１７１、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６３００、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＸＬ１０、日美商事株式会社製のサイラエースＳ２１０等が挙げられ、ビニルトリエトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－１００３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１５１、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６５１９、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ５６、日美商事株式会社製のサイラエースＳ２２０等が挙げられ、ビニルトリアセトキシシランとしては、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ６２が挙げられ、ビニルトリス（２－メトキシエトキシ）シランとしては、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１７２が挙げられ、ビニルメチルジメトキシシランとしては、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－２１７１、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＸＬ１２等が挙げられ、オクテニルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－１０８３が挙げられ、アリルトリメトキシシランとしては、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６８２５が挙げられ、ｐ－スチリルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－１４０３が挙げられ、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシランとしては、ＫＢＭ－５１０３が挙げられ、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－５０２、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０３３等が挙げられ、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－５０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１７４、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０３０、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ３１、日美商事株式会社製のサイラエースＳ７１０等が挙げられ、３－メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－５０２が挙げられ、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－５０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＹ－９９３６が挙げられ、メタクリロキシオクチルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－５８０３が挙げられ、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－３０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１８６、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０４３、日美商事株式会社製のサイラエースＳ５３０等が挙げられ、３－グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－４０２、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０４４、日美商事株式会社製のサイラエースＳ５２０等が挙げられ、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－４０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１８７、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０４０、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ８０、日美商事株式会社製のサイラエースＳ５１０等が挙げられ、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－４０２が挙げられ、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－４０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１８７１、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ８２等が挙げられ、グリシドキシオクチルトリメトキシシランとしては、信 越化学工業（株）製のＫＢＭ－４８０３が挙げられ、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルメチルジメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－６０２、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－２１２０、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ－９５、日美商事株式会社製のサイラエースＳ３１０等が挙げられ、Ｎ－２－（アミノエチル）－３－アミノプロピルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－６０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１１２０、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１１２２、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０２０、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０９４、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ－９１、日美商事株式会社製のサイラエースＳ３２０等が挙げられ、３－アミノプロピルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－９０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１１１０、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６６１０、日美商事株式会社製のサイラエースＳ３６０等が挙げられ、３－アミノプロピルトリエトキシシランとしては、ＫＢＥ－９０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１１００、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０１１、日美商事株式会社製のサイラエースＳ３３０等が挙げられ、３－トリエトキシシリル－Ｎ－（１，３－ジメチル－ブチリデン）プロピルアミンとしては、ＫＢＥ－９１０３、日美商事株式会社製のサイラエースＳ３４０等が挙げられ、Ｎ－フェニル－３－アミノプロピルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－５７３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＹ－９６６９、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６８８３等が挙げられ、Ｎ，Ｎ’－ビス[３－（トリメトキシシリル）プロピル]エチレンジアミンとしては、日美商事株式会社製のサイラエースＸＳ１００３が挙げられ、Ｎ－（ビニルベンジル）－２－アミノエチル－３－アミノプロピルトリメトキシシランの塩酸塩としては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－５７５、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０３２、日美商事株式会社製のサイラエースＳ３５０等が挙げられ、トリス－（トリメトキシシリルプロピル）イソシアヌレートとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－９６５９が挙げられ、３－メルカプトプロピルメチルジメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－８０２、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６８５２、３－メルカプトプロピルトリメトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＭ－８０３、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１８９、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６０６２、日美商事株式会社製のサイラエースＳ８１０等が挙げられ、３－メルカプトプロピルトリエトキシシランとしては、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１８９１、東レ・ダウコーニング（株）製のＺ－６９１１が挙げられ、３－ウレイドプロピルトリエトキシシランとしては、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１１６０が挙げられ、３－ウレイドプロピルトリアルコキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－５８５が挙げられ、ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィドとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－８４６が挙げられ、３－オクタノイルチオ－１－プロピルトリエトキシシランとしては、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－ＬＩＮＫ５９９が挙げられ、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシランとしては、信越化学工業（株）製のＫＢＥ－９００７、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＡ－１３１０等が挙げられ、３－イソシアネートプロピルトリメトキシシランとしては、モンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製のＹ－５１８７、旭化成ワッカーシリコーン（株）製のＧＥＮＩＯＳＩＬ　ＧＦ４０等が挙げられる。
　これらシランカップリング剤の中でも、メタクリロイル基、エポキシ基又はイソシアネート基を有するシランカップリング剤が好適に用いられ、例えば、信越化学工業（株）製の、ＫＢＭ－５０２、ＫＢＥ－４０３、ＫＢＥ－９００７等が挙げられる。
　上記メラミン化合物としては、（ポリ）メチロールメラミン、（ポリ）メチロールグリコールウリル、（ポリ）メチロールベンゾグアナミン、（ポリ）メチロールウレア等の窒素化合物中の活性メチロール基（ＣＨ2ＯＨ基）の全部又は一部（少なくとも２つ）がアルキルエーテル化された化合物等を挙げることができる。
　ここで、アルキルエーテルを構成するアルキル基としては、メチル基、エチル基又はブチル基が挙げられ、互いに同一である場合があり、異なる場合もある。また、アルキルエーテル化されていないメチロール基は、一分子内で自己縮合している場合があり、二分子間で縮合して、その結果オリゴマー成分が形成されている場合もある。
　具体的には、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルグリコールウリル、テトラブトキシメチルグリコールウリル等を用いることができる。
　これらの中でも、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン等のアルキルエーテル化されたメラミンが好ましい。
　本発明の感光性組成物は、スピンコーター、ロールコーター、バーコーター、ダイコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、ソーダガラス、石英ガラス、半導体基板、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用することができる。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。
　また、本発明の感光性組成物を硬化させる際に用いられるエネルギー線の光源としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、キセノンアーク灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、発光ダイオード、ＣＲＴ光源等から得られる２０００オングストロームから７０００オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、Ｘ線、放射線等の高エネルギー線を利用することができるが、好ましくは、波長３００～４５０ｎｍの光を発光する超高圧水銀ランプ、水銀蒸気アーク灯、カーボンアーク灯、キセノンアーク灯等が挙げられる。
　更に、露光光源にレーザー光を用いることにより、マスクを用いずに、コンピューター等のデジタル情報から直接画像を形成するレーザー直接描画法が、生産性のみならず、解像性や位置精度等の向上も図れることから有用であり、そのレーザー光としては、３４０～４３０ｎｍの波長の光が好適に使用されるが、エキシマーレーザー、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー及びＹＡＧレーザー等の可視から赤外領域の光を発するものも用いられる。これらのレーザーを使用する場合には、可視から赤外の当該領域を吸収する増感色素が加えられる。
　また、本発明の感光性組成物は、ハーフトーンマスクを使用した段差や高さの異なるパターンの作成にも使用できる。
　本発明の感光性組成物は、光硬化性塗料又はワニス；光硬化性接着剤；プリント基板；カラーテレビ、ＰＣモニタ、携帯情報端末、デジタルカメラ等のカラー表示の液晶表示素子におけるカラーフィルター；ＣＣＤイメージセンサのカラーフィルター；プラズマ表示パネル用の電極材料；粉末コーティング；印刷インク；印刷版；接着剤；歯科用組成物；ゲルコート；電子工学用のフォトレジスト；電気メッキレジスト；エッチングレジスト；ドライフィルム；はんだレジスト；種々の表示用途用のカラーフィルターを製造するための或いはプラズマ表示パネル、電気発光表示装置、及びＬＣＤの製造工程において構造を形成するためのレジスト；電気及び電子部品を封入するための組成物；ソルダーレジスト；磁気記録材料；微小機械部品；導波路；光スイッチ；めっき用マスク；エッチングマスク；カラー試験系；ガラス繊維ケーブルコーティング；スクリーン印刷用ステンシル；ステレオリトグラフィによって三次元物体を製造するための材料；ホログラフィ記録用材料；画像記録材料；微細電子回路；脱色材料；画像記録材料のための脱色材料；マイクロカプセルを使用する画像記録材料用の脱色材料；印刷配線板用フォトレジスト材料；ＵＶ及び可視レーザー直接画像系用のフォトレジスト材料；プリント回路基板の逐次積層における誘電体層形成に使用するフォトレジスト材料又は保護膜等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。
　また本発明の感光性組成物は、液晶表示パネル用のスペーサーを形成する目的及び垂直配向型液晶表示素子用突起を形成する目的で使用することもできる。特に垂直配向型液晶表示素子用の突起とスペーサーを同時に形成するための感光性組成物として有用である。
　上記の液晶表示パネル用スペーサーは、（１）本発明の感光性組成物の塗膜を基板上に形成する工程、（２）該塗膜に所定のパターン形状を有するマスクを介して放射線を照射する工程、（３）露光後のベーク工程、（４）露光後の該被膜を現像する工程、（５）現像後の該被膜を加熱する工程により好ましく形成される。
　撥インク剤を添加した本発明の（着色）感光性組成物は、インクジェット方式用隔壁形成樹脂組成物として有用であり、該組成物はカラーフィルター用として用いられ、特にプロファイル角が５０°以上であるインクジェット方式カラーフィルター用隔壁に好ましく用いられる。該撥インク剤としては、フッ素系界面活性剤及びフッ素系界面活性剤からなる組成物が好適に用いられる。
　本発明の感光性組成物から形成された隔壁が被転写体上を区画し、区画された被転写体上の凹部にインクジェット法により液滴を付与して画像領域を形成する方法により光学素子が製造される。この際、上記液滴が着色剤を含有し、上記画像領域が着色されているのが好ましく、基板上に複数の着色領域からなる画素群と上記画素群の各着色領域を離隔する隔壁を少なくとも有し、上記の光学素子の製造方法により作製された光学素子が好ましく用いられる。
　本発明の感光性組成物は、保護膜又は絶縁膜用組成物としても用いられ、紫外線吸収剤、アルキル化変性メラミン及び／若しくはアクリル変性メラミン、分子中にアルコール性水酸基を含有する１若しくは２官能の（メタ）アクリレートモノマー、並びに／又はシリカゾルを含有することができる。
　上記保護膜、絶縁膜用の感光性組成物としては、例えば、
（Ｉ）ジオ－ル化合物と多価カルボン酸類とを反応させて得られ、重量平均分子量が２，０００～４０，０００、酸価が５０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇであるカルボキシル基含有樹脂、
（II）光重合可能なエチレン性不飽和結合を一分子中に少なくとも１つ以上含む不飽和化合物、
（III）エポキシ化合物、及び
（IV）光重合開始剤成分、を主成分とする樹脂組成物であって、
　（Ｉ）成分と（II）成分の合計１００重量部に対して、（III）成分が１０～４０重量部、（IV）成分が０．０１～２．０重量部含有され、且つ、（IV）成分の光重合開始剤成分として本発明の光重合開始剤組成物を用いた樹脂組成物が使用される。
　上記絶縁膜は、剥離可能な支持基材上に絶縁樹脂層が設けられた積層体における該絶縁樹脂層に用いられ、該積層体は、アルカリ水溶液による現像が可能なものであり、絶縁樹脂層の膜厚が１０～１００μｍであることが好ましい。
　本発明の感光性組成物は、無機材料（無機化合物）を含有させることで、感光性ペースト組成物として用いることができる。該感光性ペースト組成物は、プラズマディスプレイパネルの隔壁パターン、誘電体パターン、電極パターン及びブラックマトリックスパターン等の焼成物パターンを形成するために用いられる。
　以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例等によって限定されるものではない。なお、以下の実施例及び比較例において、％は、特に記載がない限り、質量基準である。
〔実施例１〕
　表１記載の配合比で、光重合開始剤組成物Ｎｏ．１を調製した。（Ａ）成分及び（Ｂ）成分は、下記に示すものを使用した。
　さらに、ＳＰＣ－１０００（アクリル樹脂；昭和電工社製）５５．４６質量部、アロニックスＭ－４５０（多官能アクリレート；東亜合成社製）１２．９１質量部、ＫＢＥ－４０３（シランカップリング剤；信越シリコーン社製）０．５８質量部、ＦＺ－２１２２（界面活性剤；日本ユニカー社製）のシクロヘキサノン１％溶液３．２３質量部及びプロピレングリコール－１－モノメチルエーテル－２－アセテート２７．４８質量部を混合し、光重合開始剤組成物Ｎｏ．１の０．３４質量部を配合し合計量が１００質量部となるようにし、この混合液をよく撹拌し、本発明の感光性組成物であるアルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．１を得た。
　得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．１について、下記感度評価方法で感度を評価し、下記解像度評価方法で解像度を評価した。それぞれの結果を表１に示す。
〔実施例２～１３〕
　表１記載の配合比で、光重合開始剤組成物Ｎｏ．２～Ｎｏ．１３を調製した。（Ａ）成分及び（Ｂ）成分は、下記に示すものを使用した。さらに、実施例１で使用した光重合開始剤組成物Ｎｏ．１の代わりに、これら光重合開始剤組成物を使用した以外は、実施例１と同様にしてアルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．２～Ｎｏ．１３を得た。得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物について、下記感度評価方法で感度を評価し、下記解像度評価方法で解像度を評価した。それぞれの結果を表１に示す。
〔比較例１～１５〕
　表２記載の配合比で、比較光重合開始剤組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．１５を調製した。比較光重合開始剤－１及び－２として、下記に示すものを使用した。
　さらに、実施例１で使用した光重合開始剤組成物Ｎｏ．１の代わりに、これら比較光重合開始剤組成物を使用した以外は、実施例１と同様にして比較アルカリ現像性感光性樹脂組成物Ｎｏ．１～Ｎｏ．１５を得た。得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物について、下記感度評価方法で感度を評価し、下記解像度評価方法で解像度を評価した。それぞれの結果を表２に示す。
〔（Ａ）成分〕
　（Ａ）成分として、下記化合物Ｎｏ．１、化合物Ｎｏ．６及び化合物Ｎｏ．１１を使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
〔（Ｂ）成分〕
　（Ｂ）成分として、下記化合物Ｎｏ．１３、化合物Ｎｏ．１５及び化合物Ｎｏ．２１を使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
〔比較光重合開始剤〕
　下記比較光重合開始剤－１及び比較光重合開始剤－２を比較例で使用した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
＜感度評価方法＞
　得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物及び比較アルカリ現像性感光性樹脂組成物の感度評価を以下のようにして行った。
　即ち、ガラス基板上にアルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレートを用いて、９０℃で９０秒間プリベークを行い、光源として高圧水銀ランプを用いてマスクを介して露光した。現像液として２．５質量％炭酸ナトリウム水溶液を用い現像後、よく水洗し、オーブンを用いて、２３０℃で３０分ポストベークを行い、パターンを定着させた。４０ｍＪの露光量に対するパターンを電子顕微鏡で観察し、マスク開口２０μｍの線幅を測定した。線幅が２１μｍ以上をＡ、２０～２１μｍをＢ、１９～２０μｍをＣ、１９μｍ以下をＤとした。Ａが最も感度に優れ、次いでＢ、Ｃとなり、Ｄが最も感度に劣ることになる。
＜解像度評価方法＞
　得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物及び比較アルカリ現像性感光性樹脂組成物の解像度評価を以下のようにして行った。
　即ち、ガラス基板上にアルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコートし、ホットプレートを用いて、９０℃で９０秒間プリベークを行い、光源として高圧水銀ランプを用いてマスクを介して露光した。現像液として２．５質量％炭酸ナトリウム水溶液を用い現像後、よく水洗し、オーブンを用いて、２３０℃で３０分ポストベークを行い、パターンを定着させた。残膜感度（残膜率７５％）を合わせたときのパターンを電子顕微鏡で観察し、マスク開口２０μｍの線幅を測定した。マスク開口と線幅の差が０．５μｍ以下をＡ、差が０．５～１．０μｍの差をＢ、１．０～２．０μｍの差をＣ、２．０μｍ以上をＤとした。Ａが最も解像度に優れ、次いでＢ、Ｃとなり、Ｄが最も解像度に劣ることになる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
　本発明によれば、優れた感度と解像度を感光性組成物に付与することができる光重合開始剤組成物を提供することができる。また、本発明によれば、感度と解像度に優れた感光性組成物を提供することができる。

Claims (7)

  1. 　下記（Ａ）成分を１～９９質量部、下記（Ｂ）成分を１～９９質量部（但し（Ａ）成分と（Ｂ）成分の合計は１００質量部）含有する光重合開始剤組成物。
    （Ａ）成分：下記一般式（３）で表されるエーテル構造を有することを特徴とする下記一般式（１－１）～（１－３）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上からなる光重合開始剤。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     　一般式（１－１）～（１－３）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ6は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基又はシアノ基を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ11、ＣＯＲ11、ＳＲ11、ＮＲ12Ｒ13、－ＮＣＯＲ12－ＯＣＯＲ13、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ11＝ＣＲ12Ｒ13又は－ＣＯ－ＣＲ11＝ＣＲ12Ｒ13で置換されている場合があり、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ1、Ｒ2、Ｒ6、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、Ｒ2は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成している場合がある。
    　Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ14、ＣＯＲ14、ＳＲ14、ＮＲ15Ｒ16、－ＮＣＯＲ15－ＯＣＯＲ16、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ14＝ＣＲ15Ｒ16又は－ＣＯ－ＣＲ14＝ＣＲ15Ｒ16で置換されている場合があり、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、ａ、ｂ及びｄは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
    　Ａ1は、上記一般式（３）で表され、一般式（３）中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１～２０のアルキル基を表し、アルキル基の水素原子はハロゲン原子で置換されている場合があり、アルキル基のアルキレン部分のメチレン基は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、アルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、アルキル末端は不飽和結合である場合があり、Ｒ7とＲ8は、一緒になって環を形成している場合がある。
    （Ｂ）成分：下記一般式（４）のシクロアルキル構造を有することを特徴とする下記一般式（２－１）又は（２－２）で表されるオキシムエステル化合物の一種以上を含有する光重合開始剤。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     　一般式（２－１）又は（２－２）中、Ｒ21及びＲ22は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基又はシアノ基を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ31、ＣＯＲ31、ＳＲ31、ＮＲ32Ｒ33、－ＮＣＯＲ32－ＯＣＯＲ33、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ31＝ＣＲ32Ｒ33又は－ＣＯ－ＣＲ31＝ＣＲ32Ｒ33で置換されている場合があり、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ21、Ｒ22、Ｒ31、Ｒ32及びＲ33で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、Ｒ22は、隣接するベンゼン環と一緒になって環を形成している場合がある。
    　Ｒ23及びＲ24は、それぞれ独立に、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数１～２０のアルコキシ基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数６～３０のアリールオキシ基、炭素原子数７～３０のアラルキル基、炭素原子数２～２０の複素環基、シアノ基又はハロゲン原子を表し、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリールオキシ基、アラルキル基及び複素環基の水素原子は、更にＯＲ34、ＣＯＲ34、ＳＲ34、ＮＲ35Ｒ36、－ＮＣＯＲ35－ＯＣＯＲ36、ＣＮ、ハロゲン原子、－ＣＲ34＝ＣＲ35Ｒ36又は－ＣＯ－ＣＲ34＝ＣＲ35Ｒ36で置換されている場合があり、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１～２０のアルキル基、炭素原子数６～３０のアリール基、炭素原子数７～３０のアラルキル基又は炭素原子数２～２０の複素環基を表し、上記Ｒ23、Ｒ24、Ｒ34、Ｒ35及びＲ36で表される置換基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合、エステル結合、チオエステル結合、アミド結合又はウレタン結合により１～５回中断されている場合があり、上記置換基のアルキル部分は分岐側鎖がある場合があり、環状アルキルである場合があり、上記置換基のアルキル末端は不飽和結合である場合があり、ｕ及びｖは、それぞれ独立に、０～３の整数である。
    　Ａｒは下記の構造から選ばれるアリール基又は複素環基を表し、
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     　Ｌ1は、水素原子又はベンゾイル基を表し、
    　Ｘ1は、直接結合又はカルボニル基を表し、
    　Ｇ1は、一般式（４）の基を表し、一般式（４）中、ｎは１～５の整数であり、ｍは１～６の整数である。
  2. 　請求項１に記載の光重合開始剤組成物を、エチレン性不飽和結合を有する重合性化合物に含有させてなる感光性組成物。
  3. 　更に無機化合物を含有させてなる請求項２に記載の感光性組成物。
  4. 　請求項１に記載の光重合開始剤組成物を、エチレン性不飽和結合を有している場合があるアルカリ現像性化合物及びエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物に含有させてなるアルカリ現像性感光性樹脂組成物。
  5. 　更に無機化合物を含有させてなる請求項４に記載のアルカリ現像性感光性樹脂組成物。
  6. 　請求項４又は５に記載のアルカリ現像性感光性樹脂組成物に、更に色材を含有させてなる着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物。
  7. 　請求項２若しくは３に記載の感光性組成物、請求項４若しくは５に記載のアルカリ現像性感光性組成物又は請求項６に記載の着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物にエネルギー線を照射してなる硬化物。
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