WO2017029889A1 - 有機ｅｌパネル、照明装置、並びに、有機ｅｌパネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

リーク電流が少なく、信頼性の高い有機機能膜端部を含む高性能素子を備えた有機ＥＬパネルを簡便に提供することを課題とする。　基材の一方の主面上に有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬパネルにおいて、有機ＥＬ素子は、第一導電膜、有機機能膜、及び第二導電膜の重畳部分とする。さらに、端部絶縁膜を連続して延びた状態に形成し、少なくとも有機機能膜の側面と、有機機能膜の表面のうちで第二導電膜側に位置する表面の一部と、第一導電膜の表面のうちで第二導電膜側に位置する表面の一部を覆うものとする。そして、第二導電膜の一部を、端部絶縁膜の面上であって、一方の主面側の面とは反対側に位置する面上に配し、端部絶縁膜の面上の第二導電膜の一部を介し、有機ＥＬ素子に含まれる第二導電膜である第二電極層に動作電圧が外部から印加される構造とする。

Description

有機ＥＬパネル、照明装置、並びに、有機ＥＬパネルの製造方法

　本発明は、有機ＥＬパネルに関わり、特定の端部絶縁膜を含むことにより高性能な有機ＥＬパネルに関わる。また、そのような有機ＥＬパネルを使用する照明装置に関し、そのような有機ＥＬパネルを製造するための製造方法に関する。

　近年、白熱灯や蛍光灯に変わる照明装置として有機ＥＬパネルが注目され、多くの研究がなされている。また、テレビに代表されるディスプレイ部材として、マトリクスパネルが知られている。このマトリクスパネルは、一般に第一電極層バスラインとこれと直交する第二電極層バスラインとの交点であるドットやピクセルとして発光素子等を備えるものとなっている。このマトリクスパネルにおいても、液晶方式やプラズマ方式に変わる方式として、有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬパネルを用いた方式が注目されている。

　ここで有機ＥＬパネルは、基材上に、有機ＥＬ素子を形成したものである。また有機ＥＬ素子は、一方又は双方が透光性を有する、第一、及び第二の２つの電極層を対向させ、これらの電極層の間に有機機能層を積層したものである。この有機機能層は、有機化合物を主成分とし、かつ、発光層を含むものとなっている。発光層では、外部から給電された２つの電極層から注入される電子と正孔とが再結合し、そこで生じた励起状態のエネルギーに起因して発光する。

　有機ＥＬパネルは、自発光する有機ＥＬ素子を含むため、ディスプレイ装置として使用すると高コントラストの画像を得ることができる。また、発光層の材料を適宜選択することにより、種々の波長の光を発光することができる。さらに、このような有機ＥＬパネルを照明装置として使用すると白熱灯や蛍光灯に比べて厚さが極めて薄く、且つ面状に発光するので、設置場所の制約が少ないという利点がある。

　また、近年においては、投入電力に対し発光量を多くするため、発光層の材料として燐光材料が利用されたり、有機ＥＬパネルの基材として、光取り出し構造を備える基材が利用されたりしている。

　光取り出し構造を備える基材は、例えば、基材本体上に、順に、光散乱層、及び平滑化層を備えるような基材である。具体的には、ガラス基板上に光散乱層、及び平滑化層を備える光取り出し構造が形成され、この光取り出し構造の屈折率が１．５程度から１．８程度となっている。すなわち、ガラスと同等の屈折率（１．５程度）から、第一導電膜を構成する透光性導電金属酸化物や、有機機能膜を構成する有機化合物と同等の屈折率（１．８程度）となるように、光取り出し構造が形成されている。このような光取り出し構造を備える基材を用いることで、同じ材料・構造の有機ＥＬ素子を形成した場合に比べて、２倍以上の発光量が得られる場合にもある。

　図２は、従来の有機ＥＬパネルの代表的な構造を示す断面概念図で、ボトムエミッション型と称される構造である。このような従来の有機ＥＬパネルは、ガラス基板等の透光性絶縁基板上に、第一導電膜、有機機能膜、及び第二導電膜を、この順に積層することで、これらの膜の重畳部分として形成された、有機ＥＬ素子を備えている。そして、この有機ＥＬ素子の、第一導電膜と、第二導電膜とは、当該素子に外部から電圧を印加可能とするため、電気的に絶縁が保たれるよう構成されている必要がある。このことから、一般に、第一導電膜のうち、少なくとも第二電極層への外部からの給電に係る端部は、有機機能膜で覆われている。

　このような従来の有機ＥＬパネルにおいては、前述の第一導電膜の端部がなだらかな形状でない場合には、一般に有機機能膜の厚みが薄い為、第二導電膜との絶縁が保てず、デバイスがショートするという問題があった。

　このような問題を解決する為に、特許文献１は、前述の第一導電膜の端部に係る形状を端になるに従ってテーパー状に薄くすることを提案している。しかし、前述の光取り出し構造を備える基材では、第一導電膜と基材との間のこのような光取り出し構造に係る層が、機械的あるいは化学的に脆弱なために、パターン化のためのエッチングや、端部をテーパー状にする工程が難しいという問題がある。

　また、特許文献２は、レーザ加工にて、導電膜を加工することが開示されている。このことから、前述の第一導電膜の端部を加工する際、ビームパターンを調整して当該端部をなだらかな形状にテーパー化する方策が考えられる。

　さらに、特許文献３は、第一電極層である透明電極の端部を、樹脂絶縁体で覆う試みを提案している。

特開２００２－２８９３４５号公報 特開２００７－２２７２３２号公報 特開２００２－０２５７８１号公報

　特許文献１の方法では、基材上の第一導電膜の端部をテーパー化する為に、第一導電膜の上にレジスト層を形成した状態でエッチングすることでパターン化し、その後に化学研磨で研磨している。しかしながら、このような方法は、条件設定に係るノウハウにより、効果的形状となるか否かが左右される部分が多い。このことが、第一導電膜付きガラス基板の価格を押し上げる原因となっており、安価かつ高信頼性の有機ＥＬパネルを製造するという観点からは問題がある。

　また、特許文献２の記載から考えられる上述の方法も、効果的なテーパー形状を得るためのレーザ加工の条件設定については、特許文献１の加工の場合と同様の状況にある。すなわち、条件設定に係るノウハウにより、効果的形状となるか否かが左右される部分が多いものとなっている。加えて、レーザ加工により生じた残渣等に起因して、第一導電膜の端部上の有機機能膜にピンホールなどの欠陥が生じることがある。そして、このことに起因して、第二導電膜との間で、別途、ショート欠陥を生じる場合がある。つまり、この方法もまた、特許文献１の方法と同様に問題がある。

　さらに、特許文献３の方法、すなわち、透明電極の端部の樹脂絶縁体による絶縁においては、樹脂が基材上に存在する状態で有機機能膜の製膜を実施する。この為、この製膜中に、不純物の当該樹脂から有機機能膜への拡散が生じてしまい、この拡散に起因する有機ＥＬ素子の短寿命化などの性能低下の問題がある。
　また、このような方法では、樹脂の上側部分に有機層が積層されてしまうので、好ましくない。

　本発明は、このような先行技術の問題点に鑑み為されたものであり、リーク電流が少なく、信頼性の高い有機機能膜端部を含む高性能素子を備えた有機ＥＬパネルを簡便に提供することを課題とする。

　上記の課題を解決するために、本発明者らは、特許文献３の構造を参考にして、この特許文献３の構造の欠点である前述の「樹脂が基材上に存在する状態で有機機能膜の製膜を実施」しない構造について検討した。

　即ち、図１に示す有機ＥＬパネル１０を試作して検討した。
　この有機ＥＬパネル１０を製造する際には、第一導電膜の端部にかからぬように、その内側に小さめの領域の有機機能膜を形成した。その後、この第一導電膜の端部と、その近傍に位置する有機機能膜の端部を覆う端部絶縁膜を、蒸着マスクを用いて蒸着した。さらにその後、第二導電膜を形成し、端部絶縁膜の面上の第二導電膜を介して、有機ＥＬ素子１の第二電極層に外部から動作電圧が印加可能となるようにした。

　より具体的には、上記したように試作した有機ＥＬパネル１０は、図１に示すように、ガラス基板２０上に、各々所定の領域を有するように順次、ＩＴＯ膜（第一導電膜３０）、有機機能膜４０、端部絶縁膜５０、及びアルミニウム膜（第二導電膜６０）を積層することで形成している。
　このとき、ＩＴＯ膜（第一導電膜３０）の一部、有機機能膜４０の大部分、アルミニウム膜（第二導電膜６０）の一部が重なる部分が有機ＥＬ素子１を形成する。そして、図１の右側の断面図（左側の平面図のＡ－Ａ’断面を示す図）に示されるように、有機機能膜４０はＩＴＯ膜（第一導電膜３０）の内側に形成されている。また、端部絶縁膜５０は有機機能膜４０、及びＩＴＯ膜（第一導電膜３０）の端部を覆うように蒸着法にて形成され、これらを覆ってアルミニウム膜（第二導電膜６０）が形成されている。

　この試作した有機ＥＬパネル１０は、従来のものに比べて、第一導電膜３０の端部のテーパー化に係る研磨加工やレーザ加工が不要なため製造コストが低減されているにも関わらず、リーク電流が少なく、全く素子の不点灯が発生しないことが判明した。また、前述の光取り出し構造を備える基材を用いた場合においても同様に、リーク電流が少なく、全く素子の不点灯が発生しないことが判明し本発明を完成するに至った。

　以上の知見に基づいて、導き出された本発明の一つの様相は、基材の一方の主面上に有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬパネルであって、前記有機ＥＬ素子は、前記基材の前記一方の主面上に順に形成された第一導電膜、有機機能膜、第二導電膜の重畳部分であり、且つ、隣接する２つの膜が直接接触する重畳部分であって、前記有機機能膜は、有機化合物を主成分とし、且つ、発光層を含むものであり、前記第二導電膜は、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分である第二電極層と、当該第二電極層と連続する部分とを含むものであり、端部絶縁膜をさらに有し、前記端部絶縁膜は、連続して延びた状態に形成され、さらに前記端部絶縁膜は、前記有機機能膜の端部の少なくとも一部であって、前記有機機能膜の側面と、前記有機機能膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分を覆うものであり、加えて前記端部絶縁膜は、前記第一導電膜の一部であって、前記第一導電膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分を覆うものであり、前記端部絶縁膜の面上であって、前記基材の前記一方の主面側とは反対側の面上の前記第二導電膜の一部を介して、前記第二電極層に動作電圧が外部から印加されることを特徴とする有機ＥＬパネルである。
　つまり、基材の一方の主面上に有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬパネルであって、
　該有機ＥＬ素子が、該一方の主面上に順に形成されてなる、第一導電膜、有機化合物を主成分とし、かつ、発光層を含む有機機能膜、及び第二導電膜の隣接する２つの膜が直接接触する全ての膜の重畳部分であり、
　連続する端部絶縁膜であって、該有機機能膜の端部の少なくとも一部の、側面及び該第二導電膜側の表面を覆い、かつ、該第一導電膜の少なくとも一部の該有機機能膜側の表面を覆う、端部絶縁膜を含み、かつ、
　該端部絶縁膜の該一方の主面側の面とは反対側の面上の該第二導電膜を介して、該有機ＥＬ素子に含まれる該第二導電膜である第二電極層に、該有機ＥＬ素子の動作電圧が外部から印加される、有機ＥＬパネルに関する。

　本様相の有機ＥＬパネルは、有機機能膜の製膜後に当該端部絶縁膜を形成可能であり、そのような順番で製膜を実施しても、リーク電流が少なく、信頼性の高い有機機能膜端部を含む素子であって、高性能及び高信頼性の素子である高性能素子を含む有機ＥＬパネルを簡便に提供できる。

　また、有機ＥＬ素子を挟む対向位置に配された、一方、及び他方の端部絶縁膜を含む、有機ＥＬパネルとすることが好ましい。また、このような一方、及び他方の端部絶縁膜の各々において、一方の主面側の面とは反対側の面上の第二導電膜を介して、第二電極層に動作電圧が外部から印加される有機ＥＬパネルとすることが好ましい。このような有機ＥＬパネルでは、高信頼性の有機機能膜端部上の第二導電膜を介して少なくとも２方向から第二電極層に電圧印加できるので、さらに信頼性が向上する。また、高信頼性第二電極層バスラインを備える高信頼性マトリクスを提供することもできる。

　すなわち、本様相は、前記有機ＥＬ素子を挟む対向位置に一方の前記端部絶縁膜と、他方の前記端部絶縁膜が配されるものであり、一方及び他方の前記端部絶縁膜の各々には、前記基材の前記一方の主面側の面とは反対側に位置する面上に、前記第二電極層と連続する前記第二導電膜の一部が配されるものであり、一方及び他方の前記端部絶縁膜の面上にそれぞれ位置する前記第二導電膜の一部を介して、前記第二電極層に動作電圧が外部から印加されることが好ましい。

　また、基材は、絶縁基材とすることが好ましい。この場合、一方の主面に直接接し、かつ、第一導電膜の端部の少なくとも一部の側面を覆う端部絶縁膜を含むことが好ましい。また、この絶縁基板の一方の主面上には、第一導電膜とは別の第一導電膜が、隣接第一導電膜として存在することが好ましく、さらに、第一導電膜、及び隣接第一導電膜との間において、端部絶縁膜が直接接することが好ましい。陰極給電パッドとして、又は、隣接第一電極層バスラインとして、隣接第一導電膜が存在しても、高信頼性の有機機能膜端部を含む高性能素子を含むパネルとなる。

　すなわち、本様相は、前記基材が、絶縁基材であり、前記端部絶縁膜の少なくとも一つは、前記基材の前記一方の主面に直接接し、かつ、前記第一導電膜の端部の少なくとも一部の側面を覆い、前記第一導電膜は、前記絶縁基材の前記一方の主面上に複数存在するものであり、複数の前記第一導電膜は、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分を含む主たる前記第一導電膜と、この主たる前記第一導電膜とは別の隣接第一導電膜とを含み、主たる前記第一導電膜、及び前記隣接第一導電膜との間において、前記端部絶縁膜が前記基材の一方の主面に直接接することが好ましい。

　また、基材は、透光性絶縁基板とすることが好ましく、第一導電膜は、透光導電性膜であることが好ましく、第二導電膜は、反射導電性膜であることが好ましい。このような基材、第一導電膜、第二導電膜を採用すると、高性能素子を含み、且つ、簡便に製造できる照明用有機ＥＬパネルとなる。

　つまり、本様相は、前記基材が、透光性絶縁基板であって、前記第一導電膜が、透光導電性膜であり、かつ、前記第二導電膜が、反射導電性膜であることが好ましい。

　また、有機ＥＬ素子が、平面視した外形が、一方、及び他方の直交する２方向に延びる各々２本からなる計４本の直線により囲まれた矩形状となる有機機能膜を有することが好ましい。そして、有機機能膜の一方の方向に延びる直線の端部全てが、その全領域に亘って、端部絶縁膜で覆われてなることが好ましい。このような場合、高性能パネルを、互いに平行な長方形開口２つのシンプルなマスクで端部絶縁膜を製膜することで製造できるので、マトリクスパネルとすることも容易である。

　すなわち、本様相は、前記有機機能膜は、前記基材の主面に対して投影した形状が矩形状であり、一方及び他方の直交する２方向のうち、一方向に延びた２本と他方向に延びた２本からなる計４本の直線により囲まれた形状であって、周縁を形成する端部のそれぞれが直線状に延びるものであり、前記端部絶縁膜は、少なくとも一つの直線状に延びる前記有機機能膜の端部の全域を覆っていることが好ましい。

　また、上記した様相は、前記第一導電膜は、前記基材の前記一方の主面上に複数存在するものであり、複数の前記第一導電膜は、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分を含む主たる前記第一導電膜と、この主たる前記第一導電膜とは別の隣接第一導電膜とを含み、前記第二導電膜は、前記有機機能膜、前記端部絶縁膜、前記隣接第一導電膜のそれぞれの面上であって、それぞれにおいて前記一方の主面側の面とは反対側に位置する面の面上に配される部分を有し、前記第二導電膜は、前記有機機能膜の面上に配される部分と、前記端部絶縁膜の面上に配される部分と、前記隣接第一導電膜の面上に配される部分とが連続するものであって、外部電源の陽極端子又は陰極端子の一方と導通する第１動作電圧印加部と、他方と導通する第２動作電圧印加部とが形成されるものであり、主たる前記第一導電膜のうち、前記有機ＥＬ素子の一部を形成しない部分が前記第１動作電圧印加部となり、前記隣接第一導電膜の面上に位置する前記第二導電膜が第２動作電圧印加部となることが好ましい。

　さらに好ましくは、前記隣接第一導電膜及び前記端部絶縁膜は、複数形成されるものであり、所定方向で離間した位置のそれぞれに一方の前記隣接第一導電膜と、他方の前記隣接第一導電膜が形成され、一方の前記隣接第一導電膜と、他方の前記隣接第一導電膜の間に主たる前記第一導電膜が位置し、主たる前記第一導電膜の端部のうち、一方の前記隣接第一導電膜よりの端部を覆うように一方の前記端部絶縁膜が形成され、且つ、他方の前記隣接第一導電膜よりの端部を覆うように他方の前記端部絶縁膜が形成され、前記第二導電膜は、一方の前記隣接第一導電膜と、一方の前記端部絶縁膜のそれぞれの面上であって、それぞれにおいて前記基材の一方の主面側の面とは反対側に位置する面上にその一部が配され、前記第二導電膜のうち、一方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する部分と、一方の前記端部絶縁膜の面上に位置する部分が連続するものであり、さらに前記第二導電膜は、他方の前記隣接第一導電膜と、他方の前記端部絶縁膜のそれぞれの面上であって、それぞれにおいて前記基材の一方の主面側の面とは反対側に位置する面上にその一部が配され、前記第二導電膜のうち、他方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する部分と、他方の前記端部絶縁膜の面上に位置する部分が連続するものであり、主たる前記第一導電膜のうち、前記所定方向と交わる方向における両端側部分のそれぞれが前記第１動作電圧印加部となり、一方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する前記第二導電膜と、他方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する前記第二導電膜のそれぞれが前記第２動作電圧印加部となるものであって、前記第１動作電圧印加部の並列方向と前記第２動作電圧印加部の並列方向が交わる方向となる。

　また、本様相は、前記有機機能膜と前記端部絶縁膜は、それぞれの材料の一部として、共通の電子輸送性材料又は正孔輸送性材料が使用されていることが好ましい。

　さらにまた、本様相は、前記有機ＥＬ素子と隣接する位置に、前記基材の前記一方の主面上に前記第一導電膜、前記有機機能膜が順に形成される部分であり、且つ、前記有機機能膜の前記基材の前記一方の主面側とは反対側に前記第二導電膜が位置しない部分である第１の部分を有し、第１の部分の外側には、前記基材の前記一方の主面上に前記第一導電膜が形成される部分であり、且つ、前記第一導電膜の前記基材の前記一方の主面側とは反対側に前記有機機能膜及び前記第二導電膜が位置しない部分である第２の部分が隣接しており、第２の部分の外側には、前記基材の前記一方の主面側に、前記第一導電膜、前記有機機能膜、前記第二導電膜のいずれもが形成されない部分である第３の部分が隣接するものであって、第１の部分、第２の部分、第３の部分からなる３つの部分の全てを前記端部絶縁膜が覆って形成されることが好ましい。

　本発明の他の様相は、上述の有機ＥＬパネルを備えていることを特徴とする照明装置である。

　上述の様相とは異なる本発明の他の様相は、本発明の他の様相は、基材の一方の主面上に有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬパネルの製造方法であって、前記基材の前記一方の主面上に第一導電膜を形成する第一導電膜形成工程と、有機機能膜を形成する有機機能膜形成工程と、端部絶縁膜を形成する端部絶縁膜形成工程と、第二導電膜を形成する第二導電膜形成工程を含み、前記有機機能膜形成工程では、前記第一導電膜のうち、前記基材の前記一方の主面側とは反対側の面に有機機能膜を形成し、前記端部絶縁膜形成工程では、前記端部絶縁膜が下記（１）の部分と、下記（２）の部分を覆うように、連続して延びた形状の前記端部絶縁膜を形成し、前記第二導電膜形成工程では、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分である第二電極層と、当該第二電極層と連続する部分を含む第二導電膜を、下記（３）の条件を満たすように形成することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法である。
　（１）前記有機機能膜の端部の少なくとも一部であり、前記有機機能膜の側面と、前記有機機能膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分。
　（２）前記第一導電膜の一部であり、前記第一導電膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分。
　（３）前記第二電極層と連続する部分が、前記端部絶縁膜の面上であって前記基材の前記一方の主面側とは反対側の面上に位置し、且つ、前記端部絶縁膜の面上の前記第二導電膜の一部を介して前記第二電極層に動作電圧が外部から印加可能である。

　本様相は、前記有機機能膜形成工程と、前記端部絶縁膜形成工程が順に同一の蒸着装置の内部で連続して実施されることが好ましい。

　本様相は、前記有機機能膜形成工程と、前記端部絶縁膜形成工程と、前記第二導電膜形成工程が順に同一の蒸着装置の内部で連続して実施されることが好ましい。

　本様相は、前記有機機能膜形成工程と、前記端部絶縁膜形成工程と、前記第二導電膜形成工程では、いずれも真空中で製膜を実施しており、前記有機機能膜形成工程、前記端部絶縁膜形成工程、前記第二導電膜形成工程が実施される間、蒸着装置内の所定の空間で真空状態が維持されることが好ましい。

　本発明の有機ＥＬパネルは、有機機能膜の製膜後に端部絶縁膜を形成可能であり、そのような順番で製膜を実施しても、リーク電流が少なく、信頼性の高い有機機能膜端部を含む素子を備えた有機ＥＬパネルとなる。つまり、本発明の有機ＥＬパネルは、高性能及び高信頼性の素子を含み、かつ、簡便に製造できる。

　即ち、本発明の有機ＥＬパネルは、端部が急峻な形状の第一導電膜を用いても、端部でのリーク電流が低減される高信頼性の素子を含む有機ＥＬパネルとなる。また、本発明の有機ＥＬパネルでは、素子性能に直結する有機機能膜と異なり、端部絶縁膜の厚みを素子性能と無関係に増やすことが出来る。したがって、より確実に端部でのリーク電流を低減でき、さらなる信頼性向上を図ることもできる。

　本発明によると、有機機能膜の製膜後に端部絶縁膜を製膜し、端部絶縁膜を形成する。このことにより、端部が急峻な形状の第一導電膜であっても、レーザ加工やエッチング工程によるテーパー化無しで、高信頼性の有機機能膜端部を形成できる。すなわち、従来よりも利用できる第一導電膜の選択肢が広がる。

本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルの一態様を示す図であり、（ａ）は各層を模式的に示す透視平面図であって、（ｂ）は、（ａ）のＡ－Ａ’断面を示す断面図である。 従来の有機ＥＬパネルを示す図であり、（ａ）は各層を模式的に示す透視平面図であって、（ｂ）は、（ａ）のＡ－Ａ’断面を示す断面図である。 図１の有機ＥＬパネルが製造される過程を模式的に示す図であり、透光性絶縁基板の一方の主面上に、透光導電性膜が形成された様子を示すものであって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は平面図である。 図３に続いて、透光導電性膜がパターニングされた様子を示すものであって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は平面図である。 図４に続いて、有機機能膜が形成された様子を示すものであって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は平面図である。 図５に続いて、端部絶縁膜が形成された様子を示すものであって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は平面図である。 図６に続いて、第二導電膜が形成された様子を示すものであって、（ａ）は斜視図、（ｂ）は平面図である。

　以下、本発明の実施形態について説明する。

　（有機ＥＬパネル１０）
　図１は、本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネル１０の一態様を示し、（ａ）は、これに含まれる各構成要素とその形成領域を模式的に示す透視平面図であり、（ｂ）は、（ａ）におけるＡ－Ａ’断面の断面図である。

　また、本明細書において、上下の位置関係は、特に断りのない限り、この図１（ｂ）における右側を下側として説明する。すなわち、本実施形態の有機ＥＬパネル１０の好適用途は、照明用有機ＥＬパネルであり、その場合に好適なボトムエミッション方式とすることができる。この場合には、本実施形態の有機ＥＬパネル１０の特徴的な部分が形成される基材の一方の主面が上側となり、その駆動時において光取り出し側となる基材の他方の主面が下側となる。つまり、基材の他方の主面が発光面となる。
　そして、基材上に位置するそれぞれの膜において、「基材の一方の主面側」とは下側となり、「基材の一方の主面側とは反対側」とは上側となる。同様に、「基材の一方の主面側の面」とは下側の面となり、「基材の一方の主面側の面とは反対側の面」とは上側の面となる。

　本実施形態の有機ＥＬパネル１０は、基材（ガラス基板２０）、及び、当該基材の一方の主面上に形成されてなる有機ＥＬ素子１を含み、当該一方の主面上に、各々所定の領域を有するよう、順に、第一導電膜３０、有機機能膜４０、端部絶縁膜５０、及び第二導電膜６０を形成したものである。また、好ましくは、この上に更に封止膜（図示しない）を形成する。
　この有機ＥＬパネル１０は、特定の連続する端部絶縁膜５０を含むことを一つの特徴とする。

　この有機ＥＬパネル１０は、端部絶縁膜５０を複数含むことが好ましく、より好ましくは、後述する有機ＥＬ素子１を挟む対向位置に配された一方、及び他方の端部絶縁膜５０を含む。

　以下、本実施形態の有機ＥＬパネル１０の詳細な構造について説明する。

　有機ＥＬパネル１０の平面的な発光領域は、有機ＥＬ素子１に相等する部位を、基材の他方の主面（有機ＥＬパネル１０における一方の主面）に投影した領域である。なお、有機ＥＬ素子１に相等する部位とは、図１（ａ）における、第一導電膜３０、有機機能膜４０、及び第二導電膜６０の３つの膜の重畳部位であり、且つ、隣接する２つの膜が直接接触する全ての膜が重畳した部位である。即ち、３つの膜の重畳部位であっても、端部絶縁膜５０が形成されている部位は、発光領域にも有機ＥＬ素子１にも含まれない。さらに具体的には、３つの膜の重畳部位のうち、第二導電膜６０の下方に端部絶縁膜５０が位置する部位（端部絶縁膜５０と重なる部分）は、有機ＥＬ素子１に含まれず、この部位を基材の他方の主面に投影した領域は、発光領域に含まれない。
　このような発光領域は、面積効率が大きな有機ＥＬパネル１０とする観点から、単一で、又は、複数の総体で基材（ガラス基板２０）の内側の大部分の領域を占めることが好ましい。また、発光領域は、有機ＥＬパネル１０に付属する給電部材を介し、外部から対応する有機ＥＬ素子１への給電が行われることで発光する。

　この給電部材としては、銅箔や、リード線、異方性導電性フィルム（ＡＣＦ）とフレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）との組み合わせなど様々なものを用いることができる（図示せず）。また、本実施形態の有機ＥＬパネル１０をディスプレイ部材とする場合には、給電部材は、陰極バスラインや、陽極バスラインに相当する。この他、このような陰極バスラインや陽極バスラインに接続された、有機ＥＬパネル１０に付属するＴＦＴが給電部材に相当するものとしてもよい。また、外部から動作電圧印加に伴う給電をするリード線等を給電部材に相等するものとしてもよい。

　図１に示す有機ＥＬパネル１０では、好ましくは、第一導電膜３０に含まれる第一電極層３は陽極層であり、第二導電膜６０に含まれる第二電極層６は陰極層である。そして、図１で示される本実施形態は、陽極層を含む第一導電膜３０に形成された外部からの動作電圧印加に資する動作電圧印加部と、陰極層を含む第二導電膜６０に形成された外部からの動作電圧印加に資する動作電圧印加部とが、直交したシンプルな構造である（詳しくは後述する）。しかしながら、より複雑な構造のパネルに対しても本発明は適用できる。例えば、ＷＯ１１／１３６２６２や、特開２０１０－１０１３０に開示されている様な、辺に陽極、角部に陰極が設置された構造にも適用できる。

　次に、本実施形態の有機ＥＬパネル１０の製造方法について説明する。

　本実施形態に係る有機ＥＬ素子１は、真空蒸着装置やＣＶＤ装置等による製膜と、当該製膜時におけるマスク製膜やレーザ加工、フォトファブリケーション等によるパターニングとを、順次繰り返し実施することにより、基材（ガラス基板２０）の一方の主面上に形成される。

　一般的な有機ＥＬ素子１の製造方法としては、例えば、以下に述べる方法を例示することができる。
　まず、透光性絶縁基板（ガラス基板２０）の一方の主面上に、電子ビーム蒸着、あるいはスパッタにより形成した透光導電性膜１０３を形成する（図３参照）。続いて、レジスト保護及びエッチングによりパターニングし、第一電極層３を形成する部分を含む第一導電膜３０や、隣接第一導電膜３０１となる第一導電膜を形成する（図４参照、第一導電膜形成工程）。なお、この第一電極層３を形成する部分を含む第一導電膜３０が、主たる第一導電膜３０となる。そして、さらに、透光導電性膜１０３を形成した透光性絶縁基板を洗浄、乾燥し、蒸着用基板を作製する。
　ここで、図４で示されるように、平面視した形状が略四角形上となるガラス基板２０の上では、離間対向して平行に延びるガラス基板２０の二つの辺の一方側から他方側へ向かって、一つ目の隣接第一導電膜３０１、第一導電膜３０、二つ目の隣接第一導電膜３０１が順に間隔を開けて並列した状態となっている。言い換えると、離間した位置にそれぞれ配される二つの隣接第一導電膜３０１の間に、第一導電膜３０が位置した状態となっており、第一導電膜３０とそれぞれの隣接第一導電膜３０１の間には、空隙が介在している。

　２つの隣接第一導電膜３０１は、平面視した形状が略同形となる部分であり、平面視した形状は、いずれも、第一導電膜３０と隣接第一導電膜３０１の並列方向（図１（ａ）における上下方向であり、以下、第一膜並列方向とも称す）と直交する方向に延びる長方形状となっている。
　第一導電膜３０もまた、平面視した形状が、第一膜並列方向と直交する方向に延びる長方形状となっている。ここで、第一導電膜３０は、第一膜並列方向の長さが、隣接第一導電膜３０１の同方向の長さよりも長くなっている。つまり、第一導電膜３０をガラス基板２０の主面に投影した面積は、隣接第一導電膜３０１をガラス基板２０の主面に投影した面積よりも広いものとなっている。

　また、第一導電膜３０の縁端に位置する辺のうちで第１の隣接第一導電膜３０１よりに位置する辺と、第１の隣接第一導電膜３０１の縁端に位置する辺のうちで第一導電膜３０よりに位置する辺とは、間隔をあけて互いに平行となるように延びている。
　このため、これらの辺の間、すなわち、第一導電膜３０と隣接第一導電膜３０１の間には、第一膜並列方向と直交する方向に延びる空隙部分が形成されている。
　このことは、第一導電膜３０と第２の隣接第一導電膜３０１の間においても同様である。

　続いて、図４で示される状態から、洗浄、乾燥して作製した蒸着用基板を、真空蒸着装置に入れて、順に、有機機能膜４０、第１の端部絶縁膜５０（一方の端部絶縁膜５０）、及び第２の端部絶縁膜５０（他方の端部絶縁膜５０）を製膜する。通常の装置ではこれらの膜の製膜範囲は、蒸着マスク（シャドーマスク）を用いて設定される。

　より具体的には、上記したように、まず、蒸着用基板に有機機能膜４０を製膜する（図５参照、有機機能膜形成工程）。
　有機機能膜４０は、上記したように、第一導電膜３０の上側であり、且つ、平面視において第一導電膜３０の内側となる領域に形成され、その平面視したときの形状が略四角形状となっている。そして、平面視における四辺のうち、離間対向して互いに平行して延びる二辺のそれぞれが、第一導電膜３０の平面視における四辺のうち、隣接第一導電膜３０１に近接する二辺（以下、隣接側二辺とも称す）のそれぞれと近接している。すなわち、隣接側二辺のそれぞれと近接する位置であり、それぞれのやや内側に位置する部分に、有機機能膜４０の辺が位置している。また、有機機能膜４０の他の二辺のそれぞれは、第一導電膜３０の他の二辺よりも内側に大きく離れた位置に配された状態となっている。

　つまり、有機機能膜４０の第一膜並列方向における長さは、第一導電膜３０の同方向の長さよりも僅かに短くなっており（９５パーセント程度の長さとなっている）、第一膜並列方向と直交する方向の長さは、第一導電膜３０の同方向の長さよりも相当程度短くなっている（７０パーセント程度の長さとなっている）。
　なお、本明細書において、「程度」とは数パーセントの誤差を含むものとする。

　このことから、第一導電膜３０の隣接側二辺それぞれの内側であり、それぞれの辺の長手方向の略中央側となる部分の内側に、有機機能膜４０の二辺のそれぞれが位置している。そして、近接する第一導電膜３０の辺と、有機機能膜４０の辺は、いずれも同方向に延びている。
　また、隣接第一導電膜３０１の内側であり、隣接第一導電膜３０１の長手方向の略中央側となる部分の内側では、ガラス基板２０の一方の主面（上側面）と、第一導電膜３０の上側面と、有機機能膜４０の上側面とは、微細な段差を介して連続した状態となっている。

　そして、有機機能膜４０を製膜後、さらに端部絶縁膜５０を製膜する（図６参照、端部絶縁膜形成工程）。
　端部絶縁膜５０は、複数（２つ）形成され、それぞれが有機機能膜４０の異なる端部を覆った状態となっている。具体的には、２つの端部絶縁膜５０は、有機機能膜４０を平面視した際に離間対向する二辺であり、第一導電膜３０の隣接側二辺と近接するそれぞれの辺を別途覆うように形成されている。

　このとき、端部絶縁膜５０は、第一膜並列方向と直交する方向に延びており、その延び方向の長さが、同方向に延びる有機機能膜４０の辺の長さよりもやや長くなっている。なお、この端部絶縁膜５０の延び方向の長さは、同方向の第一導電膜３０の長さ、及び、同方向の隣接第一導電膜３０１の長さよりも短くなっている。

　また、端部絶縁膜５０は、第一膜並列方向において、隣接第一導電膜３０１よりもやや内側に位置する部分から、有機機能膜４０の縁端よりもやや内側までの間を覆うように位置している。
　端部絶縁膜５０は、上述したガラス基板２０、第一導電膜３０、有機機能膜４０が段差を介して連続した部分（段状に連続する部分）の全域を覆った状態となっている。より具体的には、この段差を介して連続する部分と、その周辺に位置する部分であり、端部絶縁膜５０の長手方向で側方に隣接する部分とを覆った状態となっている。

　さらに具体的には、端部絶縁膜５０は、ガラス基板２０の上面のうち第一導電膜３０と隣接第一導電膜３０１の間に位置する部分であって、第一導電膜３０よりの部分を覆っている。言い換えると、ガラス基板２０の上面のうち第一導電膜３０と隣接第一導電膜３０１の間に位置する部分であって、隣接第一導電膜３０１よりに位置する部分の上方には、端部絶縁膜５０が位置しない状態となっている。つまり、端部絶縁膜５０と隣接第一導電膜３０１の内側側面の間には、わずかな空隙が形成された状態となっている。

　そして、端部絶縁膜５０は、第一導電膜３０と隣接第一導電膜３０１の間に位置するガラス基板２０の上面と連続する第一導電膜３０の側面、及び、この側面と連続する第一導電膜３０の上面（表面）を覆った状態となっている。
　詳細には、第一導電膜３０の側面のうち、長手方向における中心側に位置する部分が端部絶縁膜５０に覆われている。したがって、長手方向の両端側のそれぞれに位置する部分は、端部絶縁膜５０に覆われていない状態（端部絶縁膜５０が隣接第一導電膜３０１よりの側方に位置しない状態）となっている。
　また第一導電膜３０の上面のうち、隣接第一導電膜３０１よりに位置する端部の一部であり、第一膜並列方向と直交する方向で中心側に位置する部分が、端部絶縁膜５０に覆われている。したがって、同方向における両端側のそれぞれに位置する部分は、上方に端部絶縁膜５０が位置しない状態となっている。
　なお、第一導電膜３０の上面で端部絶縁膜５０に覆われている部分では、隣接第一導電膜３０１よりに位置する縁部分からやや内側に位置する部分までが、覆われた状態となっている。

　加えて、端部絶縁膜５０は、第一導電膜３０の上面と連続する有機機能膜４０の側面、及び、この側面と連続する有機機能膜４０の上面（表面）を覆った状態となっている。
　すなわち、有機機能膜４０の側面であり、隣接第一導電膜３０１側に位置する側面の全域が端部絶縁膜５０によって覆われている。
　また、有機機能膜４０の上面のうち、隣接第一導電膜３０１よりに位置する端部が、端部絶縁膜５０に覆われている。すなわち、上面のうちの一部であり、隣接第一導電膜３０１よりに位置する縁部分からやや内側に位置する部分までが、覆われた状態となっている。

　具体的には、有機機能膜４０は、上記したように、平面視したとき四角形状となる形状となっており、隣接第一導電膜３０１よりに位置する端部は、直線状に延びた状態となっている。したがって、隣接第一導電膜３０１よりに位置する端部は、その長手方向の両端部分のそれぞれに、平面視において直交する２方向に延びる辺が交わる角部分が位置している。
　そして、端部絶縁膜５０は、有機機能膜４０の長手方向における一端側に位置する角部分から、他端側に位置する角部分までの間を覆った状態となっている。より詳細には、有機機能膜４０の長手方向において、一端側に位置する角部分よりやや外側に位置する部分から、他端側に位置する角部分よりやや外側に位置する部分までを覆った状態となっている。

　端部絶縁膜５０を製膜後、続いて、さらに第二導電膜６０を製膜する（図７参照、第二導電膜形成工程）。
　第二導電膜６０は、第１の隣接第一導電膜３０１、第１の端部絶縁膜５０、有機機能膜４０、第２の端部絶縁膜５０、第２の隣接第一導電膜３０１を覆った状態となっている。
　すなわち、第二導電膜６０は、平面視の形状が第一膜並列方向に延びる長方形状となっている。そして、第一膜並列方向と直交する方向の長さは、２つの隣接第一導電膜３０１、２つの端部絶縁膜５０、有機機能膜４０の同方向の長さよりも短くなっている。

　具体的には、第二導電膜６０は、第１の隣接第一導電膜３０１、第２の隣接第一導電膜３０１のそれぞれの長手方向（上記第一膜並列方向と直交する方向）における中心側の部分を覆った状態となっている。したがって、第１の隣接第一導電膜３０１、第２の隣接第一導電膜３０１の同方向における両端側のそれぞれに位置する部分は、上方に第二導電膜６０が位置しない状態となっている。

　また、第二導電膜６０は、第１の端部絶縁膜５０、第２の端部絶縁膜５０のそれぞれの長手方向における中心側に位置する大部分（全体の９０パーセント程度となる部分）を覆った状態となっている。したがって、第１の端部絶縁膜５０、第２の端部絶縁膜５０の同方向における両端それぞれの周辺に位置する僅かな部分は、上方に第二導電膜６０が位置しない状態となっている。

　さらに、第二導電膜６０は、有機機能膜４０のうち、第１の端部絶縁膜５０と第２の端部絶縁膜５０の間に位置する部分と接触するように、有機機能膜４０を覆った状態となっている。つまり、第二導電膜６０は、第一膜並列方向における有機機能膜４０の片側端部から他方側端部までの間であり、第一膜並列方向と直交する方向で中心側に位置する略全ての部分の上方に位置している。したがって、第二導電膜６０のうち、第一膜並列方向と直交する方向の両端それぞれの周辺では、第一膜並列方向の片側端部から他方側端部まで延びる部分の上方に、第二導電膜６０が位置しない状態となっている。
　つまり、第二導電膜６０は、２つの隣接第一導電膜３０１、２つの端部絶縁膜５０、有機機能膜４０の一部の上方に位置してこれらに接触し、且つ、第一導電膜３０に接触しないように形成されている。

　ここで、図１（ｂ）で示されるように、第二導電膜６０の一部である第二電極層６の外側側方（図１（ｂ）では、上側及び下側）に端部絶縁膜５０が位置している。
　つまり、端部絶縁膜５０は、有機ＥＬ素子１の外側側方に位置する部分であり、基材上に第一導電膜３０、有機機能膜４０が順に形成され、且つ、第二導電膜６０（第二電極層６）が形成されていない部分（第１の部分）を覆っている。さらに、この部分（第１の部分）の外側に隣接する部分であり、基材上に第一導電膜３０が形成され、且つ、有機機能膜４０、第二導電膜６０（第二電極層６）が形成されていない部分（第２の部分）を覆っている。加えて、この部分（第２の部分）の外側に隣接する部分であり、基材上に第一導電膜３０、有機機能膜４０、第二導電膜６０（第二電極層６）が形成されていない部分（第３の部分）を覆っている。

　続いて、第二導電膜６０の製膜後、封止膜（図示しない）を形成する。つまり、有機ＥＬ素子１上に、素子への水分の浸入防止を目的として、その露出面全面を覆うように封止膜（図示しない）を形成する。封止膜は多層構造とすることが好ましいが、第二導電膜６０に直接接する最初の膜としては無機封止膜が好ましい。このような無機封止膜もマスクにて製膜範囲を決めて、ＣＶＤ装置で蒸着することが好ましい。無機封止膜の材料としてはＳｉＮやＳｉＯ_２が好ましい。また、その上に他の無機絶縁膜を塗布法で形成することが好ましい。

　このような封止膜（図示しない）としては、ガラスキャップ、無機材料膜、及び有機材料膜の無機／有機積層膜、複数の無機材料膜を含む無機積層膜に保護有機フィルムを粘着した無機積層膜／粘着剤層／有機フィルム封止構造等が例示できる。なお、好ましくは、無機積層膜／粘着剤層／有機フィルム封止構造である。

　最後に、後述する第一導電膜延在部や第二導電膜延在部の動作電圧印加部にＦＰＣを接続等して外部からの給電回路を確保することで有機ＥＬパネルが製造される。
　なお、動作電圧印加部とは、外部電源との間に介在する給電部材（上記したＦＰＣ等）を電気的に接続するための部分であり、このような給電部材を接続することで、外部電源の端子と導通した状態となる部分である。
　本実施形態の有機ＥＬパネルは、動作電圧印加部として、第１動作電圧印加部と、第２動作電圧印加部とが形成されるものとなっている。
　第１動作電圧印加部は、外部電源の陽極端子又は陰極端子の一方と導通する給電部材が電気的に接続される部分であり、第２動作電圧印加部は、外部電源の陽極端子又は陰極端子の他方と導通する給電部材が電気的に接続される部分である。

　また、上記した有機機能膜形成工程と、端部絶縁膜形成工程と、第二導電膜形成工程を順に実施するとき、一連の工程を同一の真空蒸着装置（蒸着装置）の内部で連続して実施できる。このとき、それぞれの工程での製膜は、真空中での実施が可能であり、同一の所定の空間（例えば、真空蒸着装置の内部に形成された製膜室）で実施できる。そして、一連の工程が終了するまでの間、所定の空間の真空状態を維持したまま実施可能となっている。
　そして、有機機能膜形成工程で製膜する有機機能膜４０と、端部絶縁膜形成工程で製膜する端部絶縁膜５０には、共通の材料を使用できる。すなわち、共通の電子輸送性材料や、共通の正孔輸送性材料を使用して、有機機能膜４０、端部絶縁膜５０をそれぞれ製膜できる。

　（基材）
　本実施形態に係る基材は、その一方の主面上に有機ＥＬ素子１が形成される、面状に広がりをもつ部分を持つ部材であり、好ましくは板状の部材であり、好ましくは電気絶縁性の絶縁基材であり、より好ましくは、さらに透光性を有する透光性絶縁基板である。

　また、本実施形態に係る基材は、水分の侵入による素子性能低下を防止する観点からは、水蒸気バリア性を有することが好ましい。上記した特性を有するものであれば、プラスチックフィルムを本体とするフレキシブル基板であっても用いられ得、水蒸気バリア等の材料をコートしたものが用いられる。

　上述の複数の観点を総合して、本発明に係る基材としては、特に好ましくは、ガラス基板、及び透光性フィルム基板からなる群から選ばれる一の基板であり、これらの基板は、透光性に加えて加工性の良さの点からも好適である。これらの基板の中でもガラス基板が最も好ましい。このようなガラス基板の材料としては、有機ＥＬ素子１への不純物や水分の浸入による特性変化を抑制する観点から、硼ケイ酸ガラスが好ましく、その中でも、電子製品用基板のガラスが好ましい。

　本実施形態に係る基材の外形としては、多角形又は円形とが好ましく、矩形（四角形）であることがより好ましい。

　さらに、本実施形態に係る基材は、上記したガラス基板２０等の基材を基材本体とし、基材本体及び光取り出し構造を含むものとすることが好ましい。すなわち、光取り出し構造を備える基材であることが好ましく、このような基材を用いる場合に、本発明の効果は、より効果的に奏されることとなる。

　光取り出し構造は、基材本体の一方の主面側に形成されていることが好ましい。すなわち、有機ＥＬパネル１０を形成した際に、有機ＥＬ素子１に近接する側の主面に形成されることが好ましい。換言すると、有機ＥＬパネル１０を形成した際、基材本体側から、基材本体、光取り出し構造、有機ＥＬ素子１が順に位置することが好ましい。
　この光取り出し構造は、高屈折（屈折率が１．５以上、２．０以下）透明材料を主成分とすることがより好ましく、基材本体側から、光散乱層、及び平滑化層を含むことがさらに好ましい。特に好ましくは、平滑化層は、光散乱層側の反対側の面であって、第一電極層３と接する面が平滑面であることである。

　（有機ＥＬ素子１）
　本実施形態に係る有機ＥＬ素子１は、基材の一方の主面上に形成されてなる自発光素子であり、外部からの動作電圧印加に伴う給電により、その発光層が発光し、その発光に伴い発光領域が点灯する。

　有機ＥＬ素子１に相当する部分は、上記した第一導電膜３０、有機機能膜４０、第二導電膜６０からなる３種類の膜の重畳部分であり、且つ、隣接する２つの膜が互いに接触した状態となる部分である。このとき、第一導電膜３０のうち、有機ＥＬ素子１の一部となる（有機ＥＬ素子１に含まれる）部分が、第一電極層３となる。同様に、有機機能膜４０、第二導電膜６０それぞれにおいて、有機ＥＬ素子１の一部となる部分が、有機機能層４、第二電極層６となる。
　つまり、有機ＥＬ素子１は、基材の一方の主面側から、第一電極層３、有機機能層４、第二電極層６を含み、順に形成されてなる部分である。この有機ＥＬ素子１は、好ましくは、平面視したとき、直交する２方向の一方に沿って延びる２本の直線と、他方に沿って延びる他の２本の直線からなる計４本の直線により囲まれた矩形状の外形を有する。

　第一電極層３は、好ましくは有機機能層４に正孔を供給する陽極層である。
　第二電極層６は、端部絶縁膜５０の上側面上の第二導電膜６０を介して、有機ＥＬ素子１の動作電圧が外部から印加される層となっており、この動作電圧が印加される構造が本実施形態の特徴の一つとなっている。すなわち、端部絶縁膜５０の面のうち、基材側に位置する面（上述した基材の一方の主面側に位置する面）とは反対側に位置する面上の第二導電膜６０を介して動作電圧が外部から印加される構造である。
　さらに詳細には、第二導電膜６０は、少なくとも第二電極層６を形成する部分と、端部絶縁膜５０の上方に位置する部分とを有し、第二電極層６を形成する部分に対し、端部絶縁膜５０の上方に位置する部分を介して動作電圧が印加されるものとなっている。
　本実施形態では、第二導電膜６０は、第二電極層６を形成する部分と、端部絶縁膜５０の上方に位置する部分と、さらに外側に位置する隣接第一導電膜３０１の上方に位置する部分を備えている。そして、第二電極層６を形成する部分に対し、他の部分を介して動作電圧が印加されるものとなっている。
　好ましくは、第二電極層６は、一方及び他方の端部絶縁膜５０（第１の端部絶縁膜５０と第２の端部絶縁膜５０）の各々について、その上方に位置する第二導電膜６０を介して動作電圧が印加される層とすることである。
　また、第二電極層６は、好ましくは、有機機能層４に電子を供給する陰極層であることである。また、第二電極層６は、端部絶縁膜５０の介在により、第一電極層３と接触しないことが本実施形態の特徴の一つである。

　（第一導電膜３０）
　本実施形態に係る第一導電膜３０は、好ましくは透明導電性材料からなる透光導電性膜層であり、動作電圧印加部（第１動作電圧印加部）である第一導電膜延在部を含む。また、好ましくは、連続しない別な第一導電膜３０として、隣接第一導電膜３０１を含む。また、隣接第一導電膜３０１には、より好ましくは、第二導電膜延在部が、直接接して形成される。
　本実施形態の有機ＥＬパネル１０では、これらの好ましい形態を採用している。

　なお、第一導電膜延在部について具体的に説明すると、第一導電膜延在部は、主たる第一導電膜３０（隣接第一導電膜３０１とは異なる第一導電膜３０）の端部に形成される部分となっている。
　より具体的には、主たる第一導電膜３０は、平面視した形状（基材に投影させた形状）が四角形状となっている。そして、上記した第一膜並列方向における２つの端部と、この第一膜並列方向と直交する方向における２つの端部によって周縁部分が形成されている。
　ここで、主たる第一導電膜３０のうち、第一膜並列方向と直交する方向における両端部分それぞれの近傍に位置する部分が第一導電膜延在部に相当する部分となっている。すなわち、第一導電膜３０には、２つの第一導電膜延在部が形成されており、第一膜並列方向と直交する方向で離間した部分のそれぞれに位置している。そして、これら２つの第一導電膜延在部の間には、第一電極層３が位置した状態となっている。
　このことから、第一導電膜延在部（第１動作電圧印加部）の並列方向は、第一膜並列方向と直交する方向と、同方向となっている。

　本実施形態に係る第一導電膜３０の好ましい材質は、金属酸化物であり、その中でも、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化錫（ＳｎＯ_２）、及び酸化亜鉛（ＺｎＯ）からなる群から選ばれる１種以上が好ましい。そして、有機機能膜４０内の発光層から発生した光を効果的に取り出せる点では、透光性が高いＩＴＯあるいはＩＺＯが好ましく、より好ましくはＩＴＯであり、スパッタ法、又はＣＶＤ法によって製膜されたものであることがさらに好ましい。また、第一導電膜３０の好ましい平均厚みは、０．１μｍ以上、０．２μｍ以下である。

　（有機機能膜４０）
　本実施形態に係る有機機能膜４０は、有機化合物を主成分とし、かつ、発光層を含む。好ましくは、周縁に位置する端部の少なくとも一部を直線状に延びた形状とし、この一方の方向に延びる直線の端部全てが、その全領域に亘って、端部絶縁膜５０で覆われてなる。より好ましくは、平面視したときに、有機機能膜４０が第一電極層３を含む第一導電膜３０の内側に位置するように形成されてなる。その場合に、有機機能膜４０、第一導電膜３０からなる両方の膜の形成領域のサイズ、及び位置の関係は、第一導電膜３０のパターン加工に起因するダメージ部や段差部を避ける程度で内側に形成されれば良い。有機機能膜４０の形成領域は、その形成方法に応じて、蒸着マスク、印刷版など、パターン形成機構の精度等を考慮して適宜決定される。

　本実施形態に係る有機機能膜４０は、複数の薄膜が積層された積層多層構造体であることが一般的であり、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などを含む。

　本実施形態に係る有機機能膜４０の材料としては、一般的な有機ＥＬパネルに用いられている低分子系機能材料や、共役系高分子材料などの公知の材料を用いることができ、有機化合物のポリマーやオリゴマーを塗布形成したものを用いることもできる。好ましくは、各層をいずれも真空蒸着法によって製膜できる材料により真空蒸着法で製膜することである。より好ましくは、ガス化して製膜可能な材料により、真空蒸着法で製膜することであり、高性能の発光パネルとすることができる。また、これらの有機機能膜４０を構成する各層は、真空蒸着法やスパッタ法、ＣＶＤ法、ディッピング法、ロールコート法（印刷法）、スピンコート法、バーコート法、スプレー法、ダイコート法、フローコート法など適宜公知の方法を併用して形成することも可能である。

　有機機能膜４０は、平面視した形状（基材の主面に投影させた形状）が矩形状となっており、より具体的には、四角形状となっている。すなわち、有機機能膜４０は、平面視において、一方及び他方の直交する２方向のうち、一方向（図１（ａ）における上下方向）に延びた２本と、他方向（図１（ａ）における左右方向）に延びた２本からなる計４本の直線により囲まれた形状となっている。このことから、周縁を形成する端部のそれぞれが直線状に延びている。

　（端部絶縁膜５０）
　本実施形態に係る端部絶縁膜５０は、２つの端部絶縁膜５０を備えた構造となっている。すなわち、有機ＥＬパネル１０の端部絶縁膜５０は、複数個存在することが好ましい。このとき、１個の端部絶縁膜５０とは、連続しているものとする。つまり、一の端部絶縁膜５０と不連続な端部絶縁膜５０は、別の他の端部絶縁膜５０とする。

　本実施形態に係る端部絶縁膜５０は、自身の上に形成される第二導電膜６０が第一導電膜３０と接触しない様に電気的に絶縁する機能を有し、かつ、有機機能膜４０の少なくとも一部の、側面及び第二導電膜６０側の表面（上側の表面）を覆うものとする。また、端部絶縁膜５０は、好ましくは、上述した基材の一方の主面に直接接し、第一導電膜３０の端部の少なくとも一部の側面を覆う。より好ましくは、第一導電膜３０、及び隣接第一導電膜３０１との間において上述した基材の一方の主面に直接接する。さらに、この端部絶縁膜５０を有機機能膜４０の四隅を覆うようにするとより絶縁性を高めることができる。
　すなわち、有機機能膜４０を平面視したとき、周縁部分に位置する辺と辺の境界部分を少なくとも一つ覆うことが好ましく、全て覆うことがさらに好ましい。

　本実施形態に係る端部絶縁膜５０の形成領域は、第一導電膜３０と第二導電膜６０の接触が無いように設定され、使用する工程や装置に応じて適宜そのパターンが決定される。端部絶縁膜５０で覆った部分の有機機能膜４０は発光しない、有機ＥＬ素子１には含まれない部分となる。有機機能膜４０の形成が蒸着法による場合には、端部絶縁膜５０も蒸着法で形成し、その形成領域形状は蒸着マスクで決められることが好ましい。

　本実施形態に係る端部絶縁膜５０の平均厚みは、好ましくは、平均厚み０．２μｍ以上、１μｍ以下であり、より好ましくは、有機機能膜４０の平均厚みより厚く、さらに好ましくは、第一導電膜３０の平均厚みより厚い。

　端部絶縁膜５０の材料としては、好ましくは、蒸着で製膜可能な材料であり、より好ましくは、ガス化して製膜可能な材料である。さらに好ましくは、例えばＡｌｑ３であり、有機機能膜４０と同様な工程で形成できる材料であることが望ましい。すなわち、真空中で有機機能膜４０を形成する場合には、真空中の製膜、例えば、蒸着法で形成できることが好ましい。また、有機機能膜４０を塗布法で形成する場合には塗布法で形成できる材料が好ましい。その理由は有機機能膜４０が、端部絶縁膜５０を形成するプロセスで劣化することを避けることが重要であるからである。

　具体的な端部絶縁膜５０の材料としては、有機機能膜４０の製膜が蒸着である場合、蒸着あるいはプラズマＣＶＤで形成できる材料が好ましい。また、化学的に安定であることが重要である。蒸着法で形成できる材料としては、無機絶縁材料としては、ＳｉＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｉＮなどが用いられる。有機絶縁材料としては、蒸着用絶縁材料、移動度が極めて小さい有機半導体が利用できる。有機絶縁材料として、パリレンが市販されている。また、有機半導体としてはＡｌｑ３（トリス（８－キノリノラト）アルミニウム）、ＯＸＤ（２，５－ジフェニルー１，３，４－オキサジアゾール）、ＴＡＺ（３，４，５－トリフェニルー４Ｈ－１，２，４－トリアゾール）などが用いられる。また、蒸着することが可能と思われる有機絶縁材料としては非共役系脂肪族炭化水素、非共役系芳香族炭化水素が挙げられる。

　一方、塗布法における端部絶縁膜５０の材料としては、ＰＶＰ、ポリイミド、エポキシ樹脂、アモルファスフッ素樹脂、メラミン樹脂、フラン樹脂、キシレン樹脂、ポリアミドイミド及びシリコン樹脂など多くの材料が好ましく用いることができる。また、プラズマＣＶＤ法ではＳｉＮ、ＳｉＯ_２などが一般的である。

　（第二導電膜６０）
　本実施形態に係る第二導電膜６０は、反射導電性膜であることが好ましく、上述した動作電圧印加部（第２動作電圧印加部）である第二導電膜延在部（図示しない）を含み、その好ましい平均厚みは、０．１μｍ以上、０．２μｍ以下である。

　なお、第二導電膜延在部について具体的に説明すると、第二導電膜延在部は、第二導電膜６０の端部に形成される部分となっている。
　より具体的には、第二導電膜６０は、平面視した形状（基材に投影させた形状）が上記した第一膜並列方向に延びる四角形状となっている。そして、第一膜並列方向における両端部それぞれの近傍に位置する部分であり、第１及び第２の隣接第一導電膜３０１それぞれの上方に位置する部分が第二導電膜延在部に相当する部分となっている。
　したがって、２つの第二導電膜延在部（第２動作電圧印加部）が、第一膜並列方向で間隔をあけてそれぞれ配された状態となっている。つまり、第二導電膜延在部の並列方向は第一膜並列方向と同方向となっている。
　ここで、上記したように、２つの第一導電膜延在部（第１動作電圧印加部）の並列方向は、第一膜並列方向と直交する方向となっている。したがって、第一導電膜延在部の並列方向は、第二導電膜延在部の並列方向（所定方向）と交わる方向となっており、具体的には、第一導電膜延在部の並列方向と第二導電膜延在部の並列方向は、直交する方向となっている。

　本実施形態に係る第二導電膜６０の材料としては、金属であることが好ましく、アルミニウム、及び銀からなる群から選ばれる一以上であることがより好ましい。そして、比較的薄くても、下地層を覆って断線することが無く、真空蒸着法によって製膜される材料であることがさらに好ましい。このような金属材料からなる第二導電膜６０とすると、金属材料はその電気伝導率及び熱伝導率が、透明導電性金属酸化物より大きい。即ち、好ましい材料を用いると、第一導電膜３０の電気伝導率及び熱伝導率より、第二導電膜６０の方がこれらの値が大きい。

　第二導電膜６０の好ましい実施態様である金属薄膜は、ガラスなどの材料に直接製膜するよりも、透明導電性金属酸化物膜の上に製膜したほうが、その付着力が大きくなる。このことから、第二導電膜６０の動作電圧印加部（第２動作電圧印加部）である第二導電膜延在部（図示しない）の下地として、隣接第一導電膜３０１を形成することが好ましい。つまり、第一電極層３を含む第一導電膜３０を形成するとき、この第一導電膜３０とは別の第一導電膜として、互いに電気絶縁した形で基材の上に残しておき、その上に第二導電膜延在部を形成する構造とすることが好ましい。

　以下、本発明の具体的な実施例について説明する。

　（実施例１）
　図１に示す有機ＥＬパネル１０の実施態様に準じて、正方形状のガラス基板２０上に、発光領域８０ｍｍ×８０ｍｍとなる有機ＥＬ素子１を形成した。

　ここで、第一導電膜３０の材料としてはＩＴＯを採用し、そのＩＴＯ膜の端部よりも１ｍｍ程度小さく、蒸着マスクを用いて有機機能膜４０を蒸着にて形成した。つまり、ＩＴＯ膜の端部よりも１ｍｍ程度内側に位置する部分に、有機機能膜４０の端部が位置するよう、有機機能膜４０を形成した。有機機能膜４０の構造としては電子注入層／電子輸送層／発光層／正孔輸送層／正孔注入層を採用した。

　次に有機機能膜４０の端部と第一導電膜３０を覆うように、別のマスクを用いて１．５ｍｍの幅で端部絶縁膜５０を蒸着で形成した。材料としてはＡｌｑ３（トリス（８－キノリノラト）アルミニウム）を０．５μｍ形成した。

　このようにして形成した端部絶縁膜５０を跨いで、別のマスク用いて第二導電膜６０を形成した。第二導電膜６０の材料としてはＡｌを採用し、さらに別のマスクを用いて無機封止膜（図示しない）の一層目をＣＶＤ法で形成した。無機封止膜の材質としてはＳｉＮ：Ｈ膜を採用した。なお、ガラス基板の蒸着装置への導入からこの無機封止膜（図示しない）の一層目の形成までは真空装置で真空を破らずに工程を通した。さらに、この一層目の強度を高める目的もあって、この無機封止膜（図示しない）の一層目の上にポリシラザンを塗布法で塗布して焼成し、無機封止膜（図示しない）の二層目を形成した。

　このようにして作製した実施例１の有機ＥＬパネル１０に、外部から３．５Ｖの電圧を印加して電流を測りリークテストを行った。図２に示す従来パネルの態様に準じて作製した従来のパネルと同様に、リーク電流量は１マイクロアンペア以下で、リークは無く、リークテストに合格した。

　（実施例２）
　実施例１の有機ＥＬパネル１０の作製に準じ、ＩＴＯ膜のパターニング方法としてレーザスクライブ法にて形成したものを用いたこと以外は実施例１と同様の手順により、実施例２の有機ＥＬパネル１０を作製した。この実施例２の有機ＥＬパネル１０もまた、同様にリークテストに合格した。
　（実施例３）
　実施例１の有機ＥＬパネル１０の作製に準じ、基材として、ＩＴＯ膜とガラス基板との間に光取り出し構造のある基材を用い、ＩＴＯ膜のパターニング方法としてレーザスクライブ法にて形成したものを用いたこと以外は同様にして、実施例３の有機ＥＬパネル１０を作製した。この実施例３の有機ＥＬパネル１０もまた、同様にリークテストに合格した。また、このデバイスでは同じ電流で２倍の発光強度が観察された。

　上記した構造では、端部を研磨して端部をテーパー状にしていない第一導電膜３０を用いてもリークの無い、ショートの無い有機ＥＬパネル１０を実現することができた。また、そのような有機ＥＬパネル１０の基材としては、レーザ加工基板、光取り出し基板などが考えられ、大幅な基材コストの削減あるいは性能の増加が可能となった。また、端部絶縁膜５０の厚みを自由に増やすことが出来るので端部のリークを低減でき、信頼性が向上する。また、蒸着法での端部絶縁膜５０の形成は、有機機能膜４０の製膜装置に対して絶縁材料の坩堝、及びマスクの追加という、極めて軽微な製造設備能力増強で実現できるので、製造工程への負荷が極めて少ない。

１　　　有機ＥＬ素子
１０　　有機ＥＬパネル
２０　　基材（絶縁基材、透光性絶縁基板、ガラス基板）
３　　　第一電極層
３０　　第一導電膜（透光導電性膜）
３０１　隣接第一導電膜
４　　　有機機能層
４０　　有機機能膜
５０　　端部絶縁膜
６　　　第二導電層
６０　　第二導電膜（反射導電性膜）

Claims (14)

1. 　基材の一方の主面上に有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬパネルであって、
   　前記有機ＥＬ素子は、前記基材の前記一方の主面上に順に形成された第一導電膜、有機機能膜、第二導電膜の重畳部分であり、且つ、隣接する２つの膜が直接接触する重畳部分であって、
   　前記有機機能膜は、有機化合物を主成分とし、且つ、発光層を含むものであり、
   　前記第二導電膜は、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分である第二電極層と、当該第二電極層と連続する部分とを含むものであり、
   　端部絶縁膜をさらに有し、
   　前記端部絶縁膜は、連続して延びた状態に形成され、
   　さらに前記端部絶縁膜は、前記有機機能膜の端部の少なくとも一部であって、前記有機機能膜の側面と、前記有機機能膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分を覆うものであり、
   　加えて前記端部絶縁膜は、前記第一導電膜の一部であって、前記第一導電膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分を覆うものであり、
   　前記端部絶縁膜の面上であって、前記基材の前記一方の主面側とは反対側の面上の前記第二導電膜の一部を介して、前記第二電極層に動作電圧が外部から印加されることを特徴とする有機ＥＬパネル。
2. 　前記有機ＥＬ素子を挟む対向位置に一方の前記端部絶縁膜と、他方の前記端部絶縁膜が配されるものであり、
   　一方及び他方の前記端部絶縁膜の各々には、前記基材の前記一方の主面側の面とは反対側に位置する面上に、前記第二電極層と連続する前記第二導電膜の一部が配されるものであり、
   　一方及び他方の前記端部絶縁膜の面上にそれぞれ位置する前記第二導電膜の一部を介して、前記第二電極層に動作電圧が外部から印加されることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパネル。
3. 　前記基材が、絶縁基材であり、
   　前記端部絶縁膜の少なくとも一つは、前記基材の前記一方の主面に直接接し、かつ、前記第一導電膜の端部の少なくとも一部の側面を覆い、
   　前記第一導電膜は、前記絶縁基材の前記一方の主面上に複数存在するものであり、
   　複数の前記第一導電膜は、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分を含む主たる前記第一導電膜と、この主たる前記第一導電膜とは別の隣接第一導電膜とを含み、
   　主たる前記第一導電膜、及び前記隣接第一導電膜との間において、前記端部絶縁膜が前記基材の一方の主面に直接接することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の有機ＥＬパネル。
4. 　前記基材が、透光性絶縁基板であって、
   　前記第一導電膜が、透光導電性膜であり、かつ、
   　前記第二導電膜が、反射導電性膜であることを特徴とする請求項１～３のいずれかに記載の有機ＥＬパネル。
5. 　前記有機機能膜は、前記基材の主面に対して投影した形状が矩形状であり、一方及び他方の直交する２方向のうち、一方向に延びた２本と他方向に延びた２本からなる計４本の直線により囲まれた形状であって、周縁を形成する端部のそれぞれが直線状に延びるものであり、
   　前記端部絶縁膜は、少なくとも一つの直線状に延びる前記有機機能膜の端部の全域を覆っていることを特徴とする請求項１～４のいずれかに記載の有機ＥＬパネル。
6. 　前記第一導電膜は、前記基材の前記一方の主面上に複数存在するものであり、
   　複数の前記第一導電膜は、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分を含む主たる前記第一導電膜と、この主たる前記第一導電膜とは別の隣接第一導電膜とを含み、
   　前記第二導電膜は、前記有機機能膜、前記端部絶縁膜、前記隣接第一導電膜のそれぞれの面上であって、それぞれにおいて前記一方の主面側の面とは反対側に位置する面の面上に配される部分を有し、
   　前記第二導電膜は、前記有機機能膜の面上に配される部分と、前記端部絶縁膜の面上に配される部分と、前記隣接第一導電膜の面上に配される部分とが連続するものであって、
   　外部電源の陽極端子又は陰極端子の一方と導通する第１動作電圧印加部と、他方と導通する第２動作電圧印加部とが形成されるものであり、
   　主たる前記第一導電膜のうち、前記有機ＥＬ素子の一部を形成しない部分が前記第１動作電圧印加部となり、前記隣接第一導電膜の面上に位置する前記第二導電膜が第２動作電圧印加部となることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の有機ＥＬパネル。
7. 　前記隣接第一導電膜及び前記端部絶縁膜は、複数形成されるものであり、
   　所定方向で離間した位置のそれぞれに一方の前記隣接第一導電膜と、他方の前記隣接第一導電膜が形成され、一方の前記隣接第一導電膜と、他方の前記隣接第一導電膜の間に主たる前記第一導電膜が位置し、
   　主たる前記第一導電膜の端部のうち、一方の前記隣接第一導電膜よりの端部を覆うように一方の前記端部絶縁膜が形成され、且つ、他方の前記隣接第一導電膜よりの端部を覆うように他方の前記端部絶縁膜が形成され、
   　前記第二導電膜は、一方の前記隣接第一導電膜と、一方の前記端部絶縁膜のそれぞれの面上であって、それぞれにおいて前記基材の一方の主面側の面とは反対側に位置する面上にその一部が配され、
   　前記第二導電膜のうち、一方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する部分と、一方の前記端部絶縁膜の面上に位置する部分が連続するものであり、
   　さらに前記第二導電膜は、他方の前記隣接第一導電膜と、他方の前記端部絶縁膜のそれぞれの面上であって、それぞれにおいて前記基材の一方の主面側の面とは反対側に位置する面上にその一部が配され、
   　前記第二導電膜のうち、他方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する部分と、他方の前記端部絶縁膜の面上に位置する部分が連続するものであり、
   　主たる前記第一導電膜のうち、前記所定方向と交わる方向における両端側部分のそれぞれが前記第１動作電圧印加部となり、
   　一方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する前記第二導電膜と、他方の前記隣接第一導電膜の面上に位置する前記第二導電膜のそれぞれが前記第２動作電圧印加部となるものであって、
   　前記第１動作電圧印加部の並列方向と前記第２動作電圧印加部の並列方向が交わる方向となることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬパネル。
8. 　前記有機機能膜と前記端部絶縁膜は、それぞれの材料の一部として、共通の電子輸送性材料又は正孔輸送性材料が使用されていることを特徴とする請求項１～７のいずれかに記載の有機ＥＬパネル。
9. 　前記有機ＥＬ素子と隣接する位置に、前記基材の前記一方の主面上に前記第一導電膜、前記有機機能膜が順に形成される部分であり、且つ、前記有機機能膜の前記基材の前記一方の主面側とは反対側に前記第二電極層が位置しない部分である第１の部分を有し、
   　第１の部分の外側には、前記基材の前記一方の主面上に前記第一導電膜が形成される部分であり、且つ、前記第一導電膜の前記基材の前記一方の主面側とは反対側に前記有機機能膜及び前記第二電極層が位置しない部分である第２の部分が隣接しており、
   　第２の部分の外側には、前記基材の前記一方の主面側に、前記第一導電膜、前記有機機能膜、前記第二電極層のいずれもが形成されない部分である第３の部分が隣接するものであって、
   　第１の部分、第２の部分、第３の部分からなる３つの部分の全てを前記端部絶縁膜が覆って形成されることを特徴とする請求項１～８のいずれかに記載の有機ＥＬパネル。
10. 　請求項１～９のいずれかに記載の有機ＥＬパネルを備えていることを特徴とする照明装置。
11. 　基材の一方の主面上に有機ＥＬ素子を備える有機ＥＬパネルの製造方法であって、
    　前記基材の前記一方の主面上に第一導電膜を形成する第一導電膜形成工程と、
    　有機機能膜を形成する有機機能膜形成工程と、
    　端部絶縁膜を形成する端部絶縁膜形成工程と、
    　第二導電膜を形成する第二導電膜形成工程を含み、
    　前記有機機能膜形成工程では、前記第一導電膜のうち、前記基材の前記一方の主面側とは反対側の面に有機機能膜を形成し、
    　前記端部絶縁膜形成工程では、前記端部絶縁膜が下記（１）の部分と、下記（２）の部分を覆うように、連続して延びた形状の前記端部絶縁膜を形成し、
    　前記第二導電膜形成工程では、前記有機ＥＬ素子の一部を形成する部分である第二電極層と、当該第二電極層と連続する部分を含む第二導電膜を、下記（３）の条件を満たすように形成することを特徴とする有機ＥＬパネルの製造方法。
    　（１）前記有機機能膜の端部の少なくとも一部であり、前記有機機能膜の側面と、前記有機機能膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分。
    　（２）前記第一導電膜の一部であり、前記第一導電膜の表面のうちで前記第二導電膜側に位置する表面の一部を含む部分。
    　（３）前記第二電極層と連続する部分が、前記端部絶縁膜の面上であって前記基材の前記一方の主面側とは反対側の面上に位置し、且つ、前記端部絶縁膜の面上の前記第二導電膜の一部を介して前記第二電極層に動作電圧が外部から印加可能である。
12. 　前記有機機能膜形成工程と、前記端部絶縁膜形成工程が順に同一の蒸着装置の内部で連続して実施されることを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
13. 　前記有機機能膜形成工程と、前記端部絶縁膜形成工程と、前記第二導電膜形成工程が順に同一の蒸着装置の内部で連続して実施されることを特徴とする請求項１１又は１２に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
14. 　前記有機機能膜形成工程と、前記端部絶縁膜形成工程と、前記第二導電膜形成工程では、いずれも真空中で製膜を実施しており、前記有機機能膜形成工程、前記端部絶縁膜形成工程、前記第二導電膜形成工程が実施される間、蒸着装置内の所定の空間で真空状態が維持されることを特徴とする請求項１３に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。

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