WO2016121812A1 - 吸着ノズル - Google Patents

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suction nozzle
suction
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実 中須賀
康之 廣政
宗幹 古賀
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京セラ株式会社
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    • C04B2235/785Submicron sized grains, i.e. from 0,1 to 1 micron
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    • C04B2235/96Properties of ceramic products, e.g. mechanical properties such as strength, toughness, wear resistance
    • C04B2235/9646Optical properties
    • C04B2235/9661Colour

Definitions

  • This disclosure relates to a suction nozzle.
  • mounting devices equipped with mounting machines have been used for mounting electronic components on circuit boards.
  • the electronic component is sucked to the suction surface of the suction nozzle by being sucked by the suction nozzle provided in the mounting machine.
  • the electronic component is conveyed in the suction state and mounted on a predetermined position of the circuit board.
  • the mounting apparatus grasps the shape of the electronic component and the position of the electrode (hereinafter, referred to as position detection of the electronic component).
  • position detection of the electronic component hereinafter, referred to as position detection of the electronic component.
  • the optical device is an illumination device, a CCD camera, an image analysis device connected to the CCD camera, or the like.
  • the position detection of the electronic component by an optical instrument is performed by the following method. First, light is emitted from an illumination device to an electronic component. Next, the reflected light from the electronic component is received by the CCD camera. Then, the reflected light received by the CCD camera is analyzed by the image analyzer. By this series of methods, the position of the electronic component is detected, and the position of the electronic component is corrected.
  • the position of the electronic component is detected by analyzing the reflected light from the electronic component. Since the electronic component has a white color tone, a suction nozzle having a black color tone is used.
  • Patent Document 1 proposes black zirconia reinforced alumina ceramics whose material itself has a black color tone.
  • the suction nozzle of the present disclosure is made of zirconia ceramics having first particles containing zirconia and second particles containing a black component, and includes a suction surface and a suction hole communicating with the suction surface.
  • the area ratio occupied by the second particles in the measurement surface obtained by polishing the adsorption surface is 17% or more and 34% or less.
  • the number of the second particles in the range of the area of 90 ⁇ m 2 on the measurement surface is 150 or more and 250 or less.
  • FIG. 1 It is the schematic which shows an example of a structure of the mounting apparatus provided with the mounting machine provided with the suction nozzle of this indication, and the optical apparatus.
  • An example of the suction nozzle of this indication is shown typically, (a) is a perspective view and (b) is a longitudinal section. It is an enlarged view which shows typically an example of the measurement surface which grind-processed the suction surface of the suction nozzle of this indication.
  • the suction nozzle according to the present disclosure is less likely to fall out even when the electronic component is repeatedly attached and detached (hereinafter referred to as attachment / detachment), and the position detection accuracy of the electronic component in image recognition is high. Therefore, the mounting accuracy of the electronic component on the circuit board can be improved.
  • the mounting apparatus includes a mounting machine 2 including the suction nozzle 1 and an optical device.
  • the optical apparatus includes a light 3, a CCD camera 4, and an image analysis device 5.
  • the light 3 is a device for irradiating light toward the electronic component 7 sucked by the suction nozzle 1.
  • the CCD camera 4 is a device for receiving reflected light reflected from the electronic component 7.
  • the image analysis device 5 is a device for analyzing the reflected light received by the CCD camera 4.
  • the electronic components 7 are arranged on a tray 6 arranged in the vicinity of the mounting apparatus.
  • the mounting machine 2 moves to the tray 6.
  • the suction nozzle 1 sucks the electronic component 7 on the tray 6.
  • the mounting machine 2 moves onto the CCD camera 4 in a state where the electronic component 7 is sucked onto the suction surface of the suction nozzle 1.
  • the light 3 irradiates the electronic component 7 with light.
  • the CCD camera 4 receives the reflected light reflected by the main body and electrodes of the electronic component 7.
  • the position of the electronic component 7 is detected by the image analysis device 5 based on the reflected light received by the CCD camera 4.
  • the suction nozzle 1 that sucks the electronic component 7 is moved to a predetermined position on the circuit board (not shown), and the electronic component 7 is mounted on the circuit board. .
  • the suction nozzle 1 in the example shown in FIG. 2 has a cylindrical portion 9 having a suction surface 8 at the tip, and a cone having a tapered shape toward the cylindrical portion 9 and having a convex portion 13 on the opposite side of the suction surface 8 of the cylindrical portion 9.
  • the suction surface 8 is a surface for sucking and holding the electronic component 7 by suction.
  • the suction nozzle 1 is provided with a suction hole 15 penetrating from the conical portion 10 through the cylindrical portion 9 to the suction surface 8.
  • the suction nozzle 1 may be attached to the mounting machine 2 by fitting into the holding member 11 fixed to the mounting machine 2.
  • the holding member 11 in the example shown in FIG. 2 has a concave portion 14 at the center for fitting with the convex portion 13 of the conical portion 10.
  • a suction hole 12 is provided at the center of the recess 14 at a position communicating with the suction hole 15. Then, the suction nozzle 1 can be attached to the mounting machine 2 by fitting the concave portion 14 of the holding member 11 and the convex portion 13 of the conical portion 10.
  • the adsorption nozzle 1 of this indication consists of zirconia ceramics which have the 1st particle
  • suction surface 8 is 17% or more and 34% or less.
  • the number of the second particles in the range of 90 ⁇ m 2 on the measurement surface is 150 or more and 250 or less.
  • the measurement surface is a surface obtained by mirror polishing the suction surface 8 in the longitudinal direction of the suction nozzle 1 with diamond abrasive grains by about 0.1 to 5 ⁇ m.
  • the black component contained in the second particle is an oxide or composite oxide of an element belonging to Group 4 to Group 10 in the periodic table, and has a black color tone.
  • elements belonging to Group 4 to Group 10 in the periodic table are iron, chromium, cobalt, manganese, nickel, and titanium.
  • FIG. 3 is an enlarged view schematically showing an example of the measurement surface.
  • the particle shape of the first particles 16 is not shown in order to avoid the complexity of the drawing.
  • FIG. 3 can also be said to schematically show a state where the measurement surface is observed with a scanning electron microscope (SEM) or the like.
  • the first particles 16 exhibit a white color tone.
  • the second particles 17 exhibit a black color tone. Therefore, the first particles 16 and the second particles 17 can be identified visually. Further, by using a wavelength dispersive X-ray microanalyzer (JXA-8600M type, manufactured by JEOL Ltd.), the constituent components of the first particles 16 and the second particles 17 can be confirmed.
  • grains 16 contain a zirconia, hafnium and a stabilizer may be detected in addition to a zirconia.
  • the suction nozzle 1 of the present disclosure the area ratio occupied by the second particles 17 on the measurement surface is 17% or more and 34% or less, and the number of the second particles 17 in the range of the area of 90 ⁇ m 2 on the measurement surface is 150. The number is 250 or more.
  • the crystal grains This means that there are many second particles 17 having a small diameter.
  • the light absorbed by the second particles 17 is reduced, and the reflected light from the adsorption surface 8 is increased by the reflection of the first particles 16. The accuracy of position detection of the electronic component 7 in recognition cannot be increased.
  • the crystal even if the area ratio occupied by the second particles 17 on the measurement surface is 17% or more and 34% or less, when the number of the second particles 17 in the area of 90 ⁇ m 2 on the measurement surface is less than 150, the crystal This means that there are many second particles 17 having a large particle diameter. As described above, when there are many second particles 17 having a large crystal grain size, as the electronic component 7 is repeatedly attached and detached, the second particles 17 are likely to be degranulated on the adsorption surface 8, and the reflectivity of the degranulated portion is high. Therefore, the accuracy of position detection of the electronic component 7 in image recognition cannot be increased.
  • grains 17 in a measurement surface are computable with the following method, for example.
  • the image analysis software “A Image-kun” (registered trademark, manufactured by Asahi Kasei Engineering Co., Ltd.), and the image analysis software “A Image-kun” hereinafter, indicates the image analysis software manufactured by Asahi Kasei Engineering Co., Ltd.
  • the image analysis may be performed by applying the particle analysis method.
  • As an analysis condition for “A image-kun” for example, the brightness of the particles may be “dark” and the binarization method may be “automatic”.
  • the average value of the distance between the centers of gravity of the adjacent second particles 17 on the measurement surface may be 0.6 ⁇ m or more and 1.0 ⁇ m or less.
  • the average value of the distance between the centroids is the average value of the shortest distance between the centroids of the adjacent second particles 17. That is, the average value of the distance between the centers of gravity is an index indicating the degree of dispersion between the second particles 17.
  • the ratio of the number of the second particles 17 having an equivalent circle diameter of 0.6 ⁇ m or more on the measurement surface may be 25% or less.
  • the ratio of the number of the second particles 17 having a circle equivalent diameter of 0.6 ⁇ m or more is 25% or less, the number of the second particles 17 that are easily degranulated is small. It is possible to suppress degranulation due to repeated attachment and detachment.
  • the equivalent circle diameter means the diameter of the circle corresponding to the observed area of the second particle 17.
  • the average value of the distance between the centers of gravity of the adjacent second particles 17 and the ratio of the number of second particles 17 having a diameter equivalent to a circle of 0.6 ⁇ m or more are the area ratio of the second particles 17 on the measurement surface and Similarly to the case of obtaining the number, it can be obtained by using the image analysis software “A image-kun”. In addition, what is necessary is just to apply the method called dispersion degree measurement about the average value of the distance between the gravity centers of the adjacent 2nd particle
  • the kurtosis Rku obtained from the roughness curve on the suction surface 8 may be greater than 3 and 4.5 or less.
  • Kurtosis Rku is an index representing kurtosis, which is a measure of the sharpness of the surface. And if kurtosis Rku is 3, it will show that the kurtosis of the part which becomes a peak in the surface, and the part which becomes a valley is a state of normal distribution. On the other hand, when the kurtosis Rku is greater than 3, the peak portions of the peak portion and the valley portion are pointed.
  • the kurtosis Rku is greater than 3 and less than or equal to 4.5 on the suction surface 8
  • the peaks and the valleys are sharpened at the tops, resulting in peaks and valleys. Light is less likely to be reflected at the top of the portion. Therefore, the reflectance of the suction surface 8 is lowered, and the accuracy of position detection of the electronic component 7 in image recognition can be further increased.
  • the kurtosis Rku on the adsorption surface 8 can be measured using a commercially available contact-type or non-contact-type surface roughness meter in accordance with JIS B 0601 (2001).
  • the measurement length may be set to 0.05 to 2.5 mm
  • the cut-off value may be set to 0.005 to 0.8 mm
  • the scanning speed may be set to 0.03 to 1.5 mm / second.
  • the skewness Rsk obtained from the roughness curve may be larger than 0 on the suction surface 8.
  • the skewness Rsk is an index indicating the symmetry between a portion that becomes a peak and a portion that becomes a valley. If the skewness Rsk is larger than 0, it indicates that the region of the valley portion is larger than the mountain portion.
  • the skewness Rsk is larger than 0 on the suction surface 8
  • the region of the valley is large, so that light is efficiently diffusely reflected in the region that becomes the valley, and light is emitted from the suction surface 8 to the outside. Reflection can be suppressed. Therefore, the accuracy of position detection of the electronic component 7 in image recognition can be further enhanced.
  • the skewness Rsk on the suction surface 8 can be measured using a commercially available contact type or non-contact type surface roughness meter in accordance with JIS B 0601 (2001) in the same manner as when the kurtosis Rku is obtained. Good.
  • the ratio of tetragonal crystals and cubic crystals of zirconia may be 80% or more in total.
  • This ratio is obtained by measuring the X-ray diffraction of the first particles 16 and measuring the reflection peak intensities of monoclinic crystals (111) and (11-1) of zirconia, tetragonal crystals and cubic (111).
  • monoclinic (111) is Im (111)
  • monoclinic (11-1) is Im (11-1)
  • tetragonal (111) is It (111)
  • cubic It can be calculated by the following equation in which (111) of the crystal is expressed as Ic (111). (It (111) + Ic (111)) / (Im (111) + Im (11-1) + It (111) + Ic (111)) ⁇ 100.
  • a stabilizer composed of at least one of yttrium oxide, cerium oxide, calcium oxide, and magnesium oxide may be used.
  • the stability of about 2 to 8 mol% out of the total 100 mol% of zirconia and stabilizer is sufficient. What is necessary is just to stabilize a zirconia using an agent.
  • the average crystal grain size of the first particles 16 may be an equivalent circle diameter of 0.5 ⁇ m or less.
  • the average crystal grain size of the first particles 16 is 0.5 ⁇ m or less in terms of the equivalent circle diameter, it becomes difficult for the grains to fall. If the average grain size of the first particles 16 is 0.45 ⁇ m or less in terms of the equivalent circle diameter, it becomes more difficult to degranulate.
  • the suction nozzle 1 of the present disclosure includes an oxide or composite oxide of an element belonging to Group 4 to Group 10 in the periodic table as a black component. Since these black components have conductivity, the suction nozzle 1 of the present disclosure has a surface resistance value of 10 3 to 10 11 ⁇ and is semiconductive. Therefore, even if the suction nozzle 1 of the present disclosure is charged by static electricity generated by friction with the air by moving the suction nozzle 1 at a high speed, the static electricity can be discharged through the holding member 11 and the mounting machine 2. it can. In addition, since the static electricity charged on the adsorbed electronic component 7 is less likely to be rapidly discharged, the electronic component 7 can be prevented from being damaged by discharge. In addition, when the suction nozzle 1 approaches the electronic component 7, it is possible to suppress the phenomenon that the electronic component 7 blows away due to electrostatic repulsion.
  • zirconia powder containing a stabilizer (hereinafter simply referred to as zirconia powder) and a black component powder
  • zirconia powder having an average particle size of 0.3 to 1.0 ⁇ m is obtained as 62.
  • black component powder having an average particle size of 0.3 to 2.0 ⁇ m, which is a mixture of iron oxide powder, chromium oxide powder and titanium oxide powder, is added, and a solvent is added. Then, the mixture is pulverized using a ball mill, a bead mill or the like until the average particle size becomes 0.1 to 0.5 ⁇ m, and this is used as the second slurry.
  • iron oxide powder, chromium oxide powder and titanium oxide powder are used as an example of black component powder. However, it is sufficient if the zirconia ceramics exhibits a black color tone by adding, and manganese oxide powder. Alternatively, nickel oxide powder can also be used.
  • balls and beads used in the mill that do not affect the mechanical strength and color tone of the zirconia ceramics.
  • a ball it is preferable to use a black ceramic ball, and it is preferable to use a ball made of zirconia ceramics having a composition similar to or similar to that of zirconia ceramics.
  • an anionic dispersant is added to the first slurry and the second slurry, and these are mixed and then spray-dried with a spray dryer to obtain granules.
  • an anionic dispersant by adding an anionic dispersant, the second particles 17 can be dispersed and present without being aggregated.
  • thermoplastic resin thrown into a kneader
  • ethylene vinyl acetate copolymer polystyrene, an acrylic resin, or the like
  • the addition amount of the thermoplastic resin may be about 10 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the zirconia powder and the black component powder.
  • the kneading conditions using a kneader may be set at a heating temperature of 100 to 170 ° C. and a kneading time of 0.5 to 3 hours.
  • the kneading time using a kneader is set to 1.0 to 2.0 hours. That's fine.
  • the obtained pellets are put into an injection molding machine (injection molding machine) and injection molded to obtain a molded body, and then the runner in which excess raw materials are cooled and solidified is cut.
  • injection molding machine injection molding machine
  • a molding die that can obtain the shape of the suction nozzle 1 is produced based on a general injection molding method, and this is placed in an injection molding machine and injected. What is necessary is just to shape
  • the adsorption nozzle 1 made of the zirconia ceramic according to the present disclosure can be obtained by firing and holding in an air atmosphere at a temperature of 1300 to 1500 ° C. for 1 to 3 hours.
  • the ratio of the number of the second particles 17 having a diameter equivalent to a circle of 0.6 ⁇ m or more on the measurement surface may be 25% or less. It may be fired at a temperature of 1300 to 1450 ° C. or less.
  • the suction nozzles with different area ratios and numbers of the second particles on the measurement surface were produced, and the position detection accuracy of the electronic component was confirmed.
  • a black component powder having an average particle diameter of 1.1 ⁇ m prepared by mixing iron oxide powder, chromium oxide powder, and titanium oxide powder in a mass ratio of 88: 10: 2 is prepared, and zirconia powder and black component powder are mixed. The total amount of 100 parts by mass was weighed so that the amount of black component powder added was the amount shown in Table 1. Next, water as a solvent was added, and the mixture was placed in a ball mill and pulverized to obtain a slurry.
  • the zirconia powder containing the stabilizer whose average particle diameter is 0.7 micrometer is prepared, and it becomes the value which deducted the addition amount of the black component powder shown in Table 1 from the total 100 mass parts of a zirconia powder and a black component powder. The amount was weighed. And the water which is a solvent was added, and it put into the ball mill and grind
  • each of the obtained slurries was mixed with an anionic dispersant of the amount shown in Table 1 and spray-dried with a spray dryer to obtain granules.
  • the amount of the dispersing agent of Table 1 is shown by the addition amount with respect to 100 mass parts of total amounts of a zirconia powder and a black component powder. Then, together with the obtained granules, ethylene vinyl acetate copolymer, polystyrene, acrylic resin and wax are added in a total amount of 20 parts by mass to 100 parts by mass of the zirconia powder and the black component powder, and kneaded with a kneader. did.
  • the suction surface of the sintered body of the obtained suction nozzle was mirror polished by about 1 ⁇ m in the longitudinal direction of the suction nozzle using diamond abrasive grains.
  • an arbitrary place is selected from the measurement surfaces which are mirror-polished and observed using a SEM at a magnification of 10000 times.
  • the area is 90 ⁇ m 2 (the length in the horizontal direction is 11.5 ⁇ m, the length is vertical). Images in a range where the length in the direction was 7.8 ⁇ m) were taken.
  • an image in which only the second particles were extracted was created.
  • image analysis using the method of particle analysis of the image analysis software “A image-kun”, the second particle in the range of the area ratio occupied by the second particles on the measurement surface and the area of 90 ⁇ m 2 on the measurement surface. The number of was calculated.
  • the analysis conditions for “A image-kun” the brightness of the particles was “dark” and the binarization method was “automatic”.
  • the sample No. 7 in which the number of the second particles is less than 150 has a positional deviation occurrence rate of 0. It was as high as 30%. This is because there are many second particles having a large crystal grain size on the adsorption surface of Sample No. 7, and the second particles on the adsorption surface are deagglomerated while the attachment / detachment of the electronic component is repeated 200,000 times. This is because the reflectivity of the degranulated portion is increased. Further, even if the area ratio of the second particles on the measurement surface of the suction nozzle is 17% or more and 34% or less, the sample No.
  • the area ratio occupied by the second particles on the measurement surface of the suction nozzle is 17% or more and 34% or less, and the number of the second particles in the range of 90 ⁇ m 2 on the measurement surface is 150 or more and 250 or less.
  • samples having different average values of the distance between the centers of gravity of the adjacent second particles were prepared, and the position detection accuracy of the electronic component was confirmed.
  • the sample No. 1 in Example 1 was used except that the kneader kneading time was set to the time shown in Table 2. 4 was the same as the manufacturing method.
  • Sample Nschreib. 16 is the same as the sample No. 1 of Example 1. 4 is the same sample.
  • an image obtained by extracting only the second particles is created by the same method as in the first embodiment, and image analysis is performed by applying the technique of measuring the degree of dispersion of the image analysis software “A image kun”. The average value of the distance between the centroids of the adjacent second particles was calculated.
  • samples having different ratios of the number of second particles having an equivalent circle diameter of 0.6 ⁇ m or more were prepared, and the position detection accuracy of the electronic component was confirmed.
  • the sample N o. 14 was the same as the manufacturing method.
  • Sample N réelle. 19 is a sample N. 14 is the same sample.
  • an image obtained by extracting only the second particles is created by the same method as in Example 1, and image analysis is performed by applying a method called particle analysis of the image analysis software “A image kun”.
  • the ratio (existence ratio) of the number of second particles having a circle equivalent diameter of 0.6 ⁇ m or more was calculated.
  • samples having different kurtosis Rku obtained from the roughness curve were prepared on the suction surface, and the position detection accuracy of the electronic component was confirmed.
  • the sample N réelle. 4 was the same as the manufacturing method.
  • Sample N réelle. 20 is the same as the sample No. 1 of Example 1. 4 is the same sample.
  • the kurtosis Rku on the adsorption surface of each sample was measured using a commercially available non-contact type surface roughness meter in accordance with JIS B 0601 (2001). As measurement conditions, the measurement length was 0.25 mm, the cutoff value was 0.025 mm, and the scanning speed was set to 0.3 mm / second.
  • samples having different skewness Rsk obtained from the roughness curve were prepared on the suction surface, and the position detection accuracy of the electronic component was confirmed.
  • the sample No. 1 of Example 4 was changed except that the surface property of the inner surface of the molding die installed in the injection molding machine was changed to the skewness Rsk shown in Table 5. This was the same as the manufacturing method of No. 23.
  • Sample Nschreib. 26 is the same as that of the sample N réelle. 23 is the same sample.
  • Suction nozzle 2 Mounting machine 3: Light 4: CCD camera 5: Image analysis device 6: Tray 7: Electronic component 8: Suction surface 9: Cylindrical part 10: Conical part 11: Holding member 12: Suction hole 13: Convex Part 14: Recessed part 15: Suction hole 16: First particle 17: Second particle

Abstract

 本開示の吸着ノズルは、ジルコニアを含む第1粒子と、黒色成分を含む第2粒子とを有するジルコニア質セラミックスからなり、吸着面と、該吸着面に連通する吸引孔とを備え、前記吸着面は、該吸着面を研磨加工した測定面における前記第2粒子が占める面積比率が17%以上34%以下であり、前記測定面の90μmの面積の範囲における前記第2粒子の個数が150個以上250個以下である。

Description

吸着ノズル
 本開示は、吸着ノズルに関する。
 従来、電子部品の回路基板への実装には、装着機を具備した実装装置が利用されている。まず、電子部品は、装着機に具備された吸着ノズルに吸引されることで、吸着ノズルの吸着面に吸着される。その後、電子部品は、吸着状態のまま搬送され、回路基板の所定位置へ実装される。この際、電子部品を回路基板の所定位置へ正確に実装するために、実装装置は、電子部品の形状や電極の位置を把握する(以下、電子部品の位置検出と記載する。)ための光学機器を具備している。
 ここで、光学機器とは、照明装置、CCDカメラ、CCDカメラに接続された画像解析装置等のことである。そして、光学機器による電子部品の位置検出は、以下の方法で行なわれる。まず、照明装置から光が電子部品に照射される。次に、電子部品からの反射光をCCDカメラで受光する。そして、CCDカメラで受光した反射光を画像解析装置で解析する。この一連の方法により、電子部品の位置検出が行なわれ、電子部品の位置補正等が行なわれる。
 このように、電子部品の位置検出は、電子部品からの反射光の解析によって行なわれている。そして、電子部品が白色系の色調を有するものであることから、黒色系の色調を有する吸着ノズルが利用されている。
 例えば、特許文献1には、材料自身が黒色の色調を有する、黒色ジルコニア強化アルミナセラミックスが提案されている。
特開2013-56809号公報
 本開示の吸着ノズルは、ジルコニアを含む第1粒子と、黒色成分を含む第2粒子とを有するジルコニア質セラミックスからなり、吸着面と、該吸着面に連通する吸引孔とを備える。前記吸着面は、該吸着面を研磨加工した測定面における前記第2粒子が占める面積比率が17%以上34%以下である。また、前記測定面の90μmの面積の範囲における前記第2粒子の個数が150個以上250個以下である。
本開示の吸着ノズルを具備した装着機と、光学機器とを具備した実装装置の構成の一例を示す概略図である。 本開示の吸着ノズルの一例を模式的に示す、(a)は斜視図であり、(b)は縦断面図である。 本開示の吸着ノズルの吸着面を研磨加工した測定面の一例を模式的に示す拡大図である。
 今般においては、電子部品の小型化および実装の高密度化が進んできている。これに伴い、電子部品を回路基板へ実装する精度(実装精度)を向上させるために、電子部品の位置検出の精度向上が求められている。また、電子部品の小型化に伴い、吸着ノズルの吸着面の面積も小さくなってきている。このように、吸着面の面積が小さくなれば、吸着面の面積に対するセラミックス粒子の大きさの割合は大きくなる。よって、セラミックスからなる吸着ノズルには、よりセラミックス粒子の脱落(以下、脱粒と記載する。)が発生しにくいことが求められている。
 本開示の吸着ノズルは、電子部品の着け外し(以下、着脱という。)の繰り返しによっても脱粒が少なく、画像認識における電子部品の位置検出精度が高いものである。よって、電子部品の回路基板への実装精度を向上させることができる。
 以下、本開示の吸着ノズルについて、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図面において同様な構成および機能を有する部分については、同じ符号を付して説明する。また、図面は模式的に示したものであり、各図における各種構造のサイズおよび位置関係等は正確に図示されたものではない。
 まず、電子部品7を回路基板へ実装するために利用される実装装置について、図1を参照しながら説明する。実装装置は、吸着ノズル1を具備する装着機2と、光学機器とから構成される。そして、光学機器は、ライト3と、CCDカメラ4と、画像解析装置5とから構成される。ここで、ライト3とは、吸着ノズル1に吸着された電子部品7に向けて光を照射するための装置である。また、CCDカメラ4とは、電子部品7から反射した反射光を受光するための装置である。そして、画像解析装置5とは、CCDカメラ4で受光した反射光を解析するための装置である。なお、電子部品7は、実装装置の近傍に配置されたトレイ6に並べられている。
 次に、実装装置を用いた電子部品7の実装方法について説明する。まず、装着機2がトレイ6まで移動する。次に、吸着ノズル1がトレイ6上の電子部品7を吸引する。そして、吸着ノズル1の吸着面に電子部品7を吸着した状態で、装着機2がCCDカメラ4上まで移動する。次に、ライト3によって、電子部品7に光を照射する。そして、電子部品7の本体や電極に当たって反射された反射光をCCDカメラ4で受光する。CCDカメラ4で受光した反射光を基に画像解析装置5により電子部品7の位置検出を行なう。最後に、電子部品7の位置情報を基に、電子部品7を吸着した吸着ノズル1を回路基板(図示していない)の所定の位置に移動させて、回路基板上に電子部品7を実装する。
 次に、本開示の吸着ノズル1の一例について、図2を参照しながら説明する。
 図2示す例の吸着ノズル1は、吸着面8を先端に有する円筒部9と、円筒部9に向かって先細り形状であり、円筒部9の吸着面8と反対側に凸部13を有する円錐部10とから構成される。ここで、吸着面8とは、吸引することによって電子部品7を吸着して保持するための面である。そして、吸着ノズル1には、円錐部10から、円筒部9を通って吸着面8にまで貫通する吸引孔15が設けられている。
 そして、吸着ノズル1は、装着機2に固定されている保持部材11に嵌合することによって装着機2に取り付けられるものであってもよい。図2に示す例の保持部材11は、円錐部10の凸部13と嵌合するための凹部14を中央に有している。また、凹部14の中心には、吸引孔15と連通する位置に吸引孔12が設けられている。そして、保持部材11の凹部14と円錐部10の凸部13を嵌合することで、装着機2に吸着ノズル1を取り付けることができる。
 そして、本開示の吸着ノズル1は、ジルコニアを含む第1粒子と、黒色成分を含む第2粒子とを有するジルコニア質セラミックスからなる。そして、吸着面8を研磨加工した測定面における第2粒子が占める面積比率が17%以上34%以下である。さらに、測定面の90μmの面積の範囲における第2粒子の個数が150個以上250個以下である。なお、測定面とは、ダイヤモンド砥粒を用いて吸着ノズル1の長手方向に吸着面8を0.1~5μm程度鏡面研磨加工した面のことである。
 また、第2粒子に含まれる黒色成分とは、周期表において第4族~第10族に属する元素の酸化物または複合酸化物であり、黒色の色調を有する。周期表において第4族~第10族に属する元素の具体例を挙げれば、鉄、クロム、コバルト、マンガン、ニッケル、チタンである。
 ここで、測定面の一例を模式的に示す拡大図である図3を用いて、第1粒子16および第2粒子17について説明する。なお、図3において、図の煩雑さを回避するために、第1粒子16の粒子形状の図示を省略している。
 図3は、測定面を走査型電子顕微鏡(SEM)等において観察した状態を模式的に示したものとも言える。そして、第1粒子16は、白色系の色調を呈する。一方、第2粒子17は黒色系の色調を呈する。よって、目視において、第1粒子16および第2粒子17は識別できる。また、波長分散型X線マイクロアナライザー(日本電子製 JXA-8600M型)を用いることにより、第1粒子16および第2粒子17の構成成分を確認することができる。なお、第1粒子16は、ジルコニアを含むものであるが、ジルコニアの他に、ハフニウムや安定化剤が検出される場合がある。
 そして、本開示の吸着ノズル1では、測定面において第2粒子17が占める面積比率は17%以上34%以下であり、測定面の90μmの面積の範囲における第2粒子17の個数は150個以上250個以下である。このような構成を満たすことで、電子部品7の着脱の繰り返しによっても脱粒が少ない。さらに、本開示の吸着ノズル1は、反射率の低い黒色の色調により、画像認識における電子部品7の位置検出の精度が高い。よって、本開示の吸着ノズル1は、電子部品7の回路基板への実装精度を向上させることができる。
 なお、この測定面における第2粒子17が占める面積比率が34%を超えると、ジルコニア質セラミックスの機械的強度が低下し、電子部品7の着脱を繰り返すにつれ、吸着面8において脱粒が生じ易くなる。そして、脱粒部分の反射率が高くなることから、画像認識における電子部品7の位置検出の精度を高めることができない。また、測定面における第2粒子17が占める面積比率が17%未満では、吸着面8の明度が高くなり、画像認識における電子部品7の位置検出の精度を高めることができない。
 また、測定面において第2粒子17が占める面積比率は17%以上34%以下であっても、測定面の90μmの面積の範囲における第2粒子17の個数が250個を超えるときには、結晶粒径の小さい第2粒子17が多く存在するということになる。このように、結晶粒径の小さい第2粒子17が多く存在するときには、第2粒子17が吸収する光が減り、第1粒子16の反射によって吸着面8からの反射光が大きくなるため、画像認識における電子部品7の位置検出の精度を高めることができない。また、測定面において第2粒子17が占める面積比率は17%以上34%以下であっても、測定面の90μmの面積の範囲における第2粒子17の個数が150個未満であるときには、結晶粒径の大きい第2粒子17が多く存在するということになる。このように、結晶粒径の大きい第2粒子17が多く存在するときには、電子部品7の着脱を繰り返すにつれ、吸着面8において第2粒子17の脱粒が生じ易くなり、脱粒部分の反射率が高くなることから、画像認識における電子部品7の位置検出の精度を高めることができない。
 そして、測定面における第2粒子17の面積比率および個数は、例えば以下の方法で算出することができる。まず、測定面のうちで任意の場所を選び、SEMを用いて10000倍の倍率で観察し、面積が90μm(例えば、横方向の長さが11.5μm、縦方向の長さが7.8μm)となる範囲を撮影する。次に、この撮影した画像において、第2粒子17のみを抽出した画像を作成する。そして、画像解析ソフト「A像くん」(登録商標、旭化成エンジニアリング(株)製であり、以降に画像解析ソフト「A像くん」と記した場合、旭化成エンジニアリング(株)製の画像解析ソフトを示すものとする。)の粒子解析という手法を適用して画像解析すればよい。なお、「A像くん」の解析条件としては、例えば粒子の明度を「暗」、2値化の方法を「自動」とすればよい。
 また、本開示の吸着ノズル1は、測定面において、隣り合う第2粒子17の重心間距離の平均値が0.6μm以上1.0μm以下であってもよい。ここでの重心間距離の平均値とは、隣り合う第2粒子17の重心同士の最短距離の平均値のことである。つまり、重心間距離の平均値は、第2粒子17同士の分散度合いを示す指標である。隣り合う第2粒子17の重心間距離の平均値が0.6μm以上1.0μm以下であるときには、吸着面8における色ムラによる反射光のばらつきや機械的強度のばらつきが抑制されることから、画像認識における電子部品7の位置検出の精度をさらに高めることができる。
 また、本開示の吸着ノズル1は、測定面において、円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子17の個数の割合が25%以下であってもよい。このように、円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子17の個数の割合が25%以下であるときには、脱粒しやすい第2粒子17の個数が少ないことから、電子部品7の着脱の繰り返しによる脱粒を抑制することができる。なお、ここでの円相当径とは、観察された第2粒子17の面積に相当する円の直径を意味している。
 そして、隣り合う第2粒子17の重心間距離の平均値および円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子17の個数の割合は、測定面における第2粒子17の面積比率および個数を求めたときと同様に、画像解析ソフト「A像くん」を用いることにより求めることができる。なお、隣り合う第2粒子17の重心間距離の平均値については、分散度計測という手法を適用すればよい。一方、円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子17の個数の割合は、粒子解析という手法を適用すればよい。
 また、本開示の吸着ノズル1は、吸着面8において、粗さ曲線から求められるクルトシスRkuが3より大きく4.5以下であってもよい。ここで、クルトシスRkuとは、表面の鋭さの尺度である尖度を表す指標である。そして、クルトシスRkuが3であるならば、表面における山となる部分および谷となる部分の尖度は正規分布の状態であることを示す。一方、クルトシスRkuが3よりも大きくなれば、山となる部分および谷となる部分の頂部は尖った形状となる。
 そして、吸着面8において、クルトシスRkuが3より大きく4.5以下であるならば、山となる部分および谷となる部分の頂部が尖った形状となることで、山となる部分および谷となる部分の頂部において光が反射しにくくなる。よって、吸着面8の反射率が低くなり、画像認識における電子部品7の位置検出の精度をより高めることができる。
 ここで、吸着面8におけるクルトシスRkuは、JIS B 0601(2001)に準拠して、市販の接触式または非接触式の表面粗さ計を用いて測定することができる。測定条件としては、例えば、測定長さを0.05~2.5mm、カットオフ値を0.005~0.8mmとし、走査速度を0.03~1.5mm/秒に設定すればよい。
 また、本開示の吸着ノズル1は、吸着面8において、粗さ曲線から求められるスキューネスRskが0より大きくてもよい。ここで、スキューネスRskとは、山となる部分と谷となる部分との対称性を示す指標である。そして、スキューネスRskが0より大きいならば、山となる部分よりも谷となる部分の領域が大きいことを示す。
 このように、吸着面8において、スキューネスRskが0より大きいならば、谷となる部分の領域が大きいことから、谷となる領域内で光が効率良く乱反射し、吸着面8から外に光が反射することを抑制することができる。よって、画像認識における電子部品7の位置検出の精度をより一層高めることができる。
 なお、吸着面8におけるスキューネスRskは、クルトシスRkuを求めたときと同様に、JIS B 0601(2001)に準拠して、市販の接触式または非接触式の表面粗さ計を用いて測定すればよい。
 また、第1粒子16において、ジルコニアの正方晶および立方晶の比率が合わせて80%以上であってもよい。このような構成を満たすときには、吸着ノズル1の機械的強度が向上する。なお、この比率は、第1粒子16のX線回折測定を行ない、測定されたジルコニアの単斜晶(111)および(11-1)の反射ピーク強度、正方晶および立方晶の(111)の反射ピーク強度を用いて、単斜晶の(111)をIm(111)、単斜晶の(11-1)をIm(11-1)、正方晶の(111)をIt(111)、立方晶の(111)をIc(111)として表記した下記の方程式により算出することができる。
(It(111)+Ic(111))/(Im(111)+Im(11-1)+It(111)+Ic(111))×100。
 そして、ジルコニアの正方晶および立方晶の比率を調整するには、例えば、酸化イットリウム、酸化セリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウムの少なくともいずれかからなる安定化剤を用いればよい。具体的には、第1粒子16における正方晶および立方晶の比率を合わせて80%以上にするには、ジルコニアと安定化剤との合計100モル%のうち、2~8モル%程度の安定化剤を用いて、ジルコニアを安定化させればよい。
 また、第1粒子16の平均結晶粒径は、円相当径で0.5μm以下であってもよい。このように第1粒子16の平均結晶粒径が円相当径で0.5μm以下であるときには、脱粒しにくくなる。第1粒子16の平均結晶粒径が、円相当径で0.45μm以下であれば、より脱粒しにくくなる。
 そして、本開示の吸着ノズル1は、上述したように、黒色成分として、周期表において第4族~第10族に属する元素の酸化物または複合酸化物を含むものである。そして、これら黒色成分は導電性を有するものであることから、本開示の吸着ノズル1は表面抵抗値が10~1011Ωであり、半導電性を有する。それゆえ、本開示の吸着ノズル1は、吸着ノズル1が高速で移動して空気との摩擦で発生する静電気により帯電したとしても、この静電気を保持部材11と装着機2とを通して除電することができる。また、吸着した電子部品7に帯電した静電気を急速に放電することが少ないため、電子部品7が放電破壊することを抑制できる。また、吸着ノズル1が電子部品7に近付いた際、静電気の反発力で電子部品7が吹き飛ぶという現象を抑制することができる。
 次に、本開示の吸着ノズル1の製造方法の一例について説明する。
 まず、安定化剤を含むジルコニア粉末(以下、単にジルコニア粉末と記載する。)と黒色成分粉末との合計100質量部のうち、平均粒径が0.3~1.0μmのジルコニア粉末を62.2~81.1質量部秤量し、溶媒を加えてボールミルやビーズミル等を用いて平均粒径が0.2~0.5μmとなるまで粉砕し、これを第1のスラリーとする。
 次に、酸化鉄粉末、酸化クロム粉末および酸化チタン粉末を混ぜ合わせた、平均粒径が0.3~2.0μmの黒色成分粉末を18.9~37.8質量部秤量し、溶媒を加えてボールミルやビーズミル等を用いて平均粒径が0.1~0.5μmとなるまで粉砕し、これを第2のスラリーとする。なお、ここでは黒色成分粉末の一例として酸化鉄粉末、酸化クロム粉末および酸化チタン粉末を用いているが、添加することによって、ジルコニア質セラミックスが黒色の色調を呈するものであればよく、酸化マンガン粉末や酸化ニッケル粉末も用いることができる。
 また、ミルで用いるボールやビーズについては、磨耗してジルコニア質セラミックスの機械的強度や色調に影響を及ぼさないものを用いることが好ましい。例えば、ボールであれば、黒色系のセラミックボールを用いることが好ましく、ジルコニア質セラミックスと同様もしくは近似する組成のジルコニア質セラミックスからなるボールを用いることが好ましい。
 次に、第1のスラリーおよび第2のスラリーにアニオン系の分散剤を加えて、これらを混合した後にスプレードライヤーで噴霧乾燥することにより顆粒とする。ここで、アニオン系の分散剤を加えることにより、第2粒子17を凝集させずに分散して存在させることができる。上述した調合組成においてアニオン系の分散剤は、ジルコニア粉末および黒色成分粉末の合計100質量部に対し、0.1~1.0質量部加えることにより、吸着面8における測定面の90μmの面積の範囲における第2粒子17の個数を150個以上250個以下にすることができる。
 次に、この顆粒と熱可塑性樹脂とワックス等をニーダに投入して加熱しながら混練して坏土を得る。そして、得られた坏土をペレタイザーに投入することにより、インジェクション成形(射出成形)用の原料となるペレットを得ることができる。なお、ニーダに投入する熱可塑性樹脂としては、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、アクリル系樹脂等を用いることができる。熱可塑性樹脂の添加量としては、ジルコニア粉末および黒色成分粉末との合計100質量部に対し、10~25質量部程度添加すればよい。また、ニーダを用いての混練条件は、加熱温度を100~170℃、混練時間を0.5~3時間に設定すればよい。
 そして、測定面における隣り合う第2粒子17の重心間距離の平均値を0.6μm以上1.0μm以下とするには、ニーダを用いた混練時間を1.0~2.0時間に設定すればよい。
 次に、得られたペレットをインジェクション成形機(射出成形機)に投入して射出成形することにより、成形体を得た後、余分な原料が冷えて固まったランナを切断する。
 ここで、本開示の吸着ノズル1の形状を得るには、一般的な射出成形法に基づいて、吸着ノズル1の形状が得られる成形型を作製し、これをインジェクション成形機に設置して射出成形すればよい。また、この成形型の内面の表面性状が、成形体の表面に転写されることとなるので、吸着面において、クルトシスRkuを3より大きく4.5以下とする、またはスキューネスRskを0より大きくするには、それに合わせた表面性状を内面に有する成形型を使用し、成形体を作製すればよい。
 次に、成形体を脱脂後、大気雰囲気中において、1300~1500℃の温度で1~3時間保持して焼成することにより、本開示のジルコニア質セラミックスからなる吸着ノズル1を得ることができる。
 そして、測定面における円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子17の個数の割合を25%以下とするには、1300~1450℃以下の温度で焼成すればよい。
 測定面における第2粒子が占める面積比率および個数を異ならせた吸着ノズルを作製し、電子部品の位置検出精度の確認を行なった。
 まず、酸化鉄粉末、酸化クロム粉末、酸化チタン粉末を質量比で88:10:2に混ぜ合わせた、平均粒径が1.1μmの黒色成分粉末を用意し、ジルコニア粉末と黒色成分粉末との合計100質量部のうち、黒色成分粉末の添加量が表1に示す量となるように秤量した。次に、溶媒である水を加え、ボールミルに入れて粉砕することにより、スラリーを得た。
 また、平均粒径が0.7μmの安定化剤を含むジルコニア粉末を用意し、ジルコニア粉末と黒色成分粉末との合計100質量部から表1に示す黒色成分粉末の添加量を差し引いた値となる量を秤量した。そして、溶媒である水を加え、ボールミルに入れて粉砕することにより、スラリーを得た。
 次に、得られたそれぞれのスラリーに表1に示す量のアニオン系の分散剤を加えたものを混合し、スプレードライヤーで噴霧乾燥することにより、顆粒を得た。なお、表1の分散剤量は、ジルコニア粉末および黒色成分粉末の合計量100質量部に対する添加量で示している。そして、得られた顆粒とともに、エチレン酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン、アクリル系樹脂およびワックスを合計で、ジルコニア粉末および黒色成分粉末との合計100質量部に対して20質量部加えて、ニーダで混練した。なお、混練条件としては、約140℃の温度に保ちながら0.5時間混練して坏土を作製した。次に、得られた坏土をペレタイザーに投入してインジェクション成形用の原料となるペレットを得た。そして、このペレットをインジェクション成形機に投入し、吸着ノズルとなる成形体を得た。
 そして、この成形体を乾燥機に入れて乾燥した後、大気雰囲気中で1500℃の温度で約1時間保持して焼成することにより焼結体を得た。その後、得られた吸着ノズルの焼結体の吸着面を、ダイヤモンド砥粒を用いて吸着ノズルの長手方向に1μm程度鏡面研磨加工した。
 次に、鏡面研磨加工処理した面である測定面のうちで任意の場所を選び、SEMを用いて10000倍の倍率で観察し、面積が90μm(横方向の長さが11.5μm、縦方向の長さが7.8μm)となる範囲の画像を撮影した。次に、この撮影した画像において、第2粒子のみを抽出した画像を作成した。そして、画像解析ソフト「A像くん」の粒子解析という手法を適用して画像解析することにより、測定面における第2粒子が占める面積比率と、測定面の90μmの面積の範囲における第2粒子の個数を算出した。
なお、「A像くん」の解析条件としては、粒子の明度を「暗」、2値化の方法を「自動」とした。
 次に、電子部品の位置検出精度の確認を行なった。まず、各試料である吸着ノズルを、保持部材を介して装着機に取り付け、図1に示す構成の実装装置を用いて、0603タイプ(寸法が0.6mm×0.3mm)の電子部品をトレーから取り出し、ダミー基板上に実装するテストを各試料にて20万回行ない、電子部品の位置ずれの発生率(発生回数/20万回×100)を求めた。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1に示す結果から、吸着ノズルの測定面における第2粒子の面積比率が17%未満である試料No.1,2は、位置ずれの発生率が0.70%以上であった。これは、試料No.1,2の吸着面の明度が高いことで、吸着面の反射光が大きく、画像認識における電子部品の位置検出の精度が低くなったためである。また、吸着ノズルの測定面における第2粒子の面積比率が34%を超える試料No.6,11は、位置ずれの発生率が0.50%以上であった。これは、試料No.6,11の機械的強度が低いために、電子部品の着脱を20万回繰り返すうちに、吸着面において脱粒が発生し、脱粒部分の反射率が高くなったためである。
 そして、吸着ノズルの測定面における第2粒子の面積比率が17%以上34%以下であっても、第2粒子の個数が150個未満である試料No.7は、位置ずれの発生率が0.30%と高かった。これは、試料No.7の吸着面に、結晶粒径の大きい第2粒子が多く存在するために、電子部品の着脱を20万回繰り返すうちに、吸着面の第2粒子が脱粒し、この脱粒部分の反射率が高くなったためである。また、吸着ノズルの測定面における第2粒子の面積比率が17%以上34%以下であっても、第2粒子の個数が250個を超える試料No.10は、位置ずれの発生率が0.10%と高かった。これは、試料No.10の吸着面に、結晶粒径の小さい第2粒子が多く存在するために、第2粒子で吸収する光が少なく、第1粒子の反射によって吸着面の反射光が大きくなったためである。
 これに対して、吸着ノズルの測定面における第2粒子が占める面積比率が17%以上34%以下であり、測定面の90μmの面積の範囲における第2粒子の個数が150個以上250個以下である試料Nо.3~5,8,9は、位置ずれの発生率が0.05%以下と低くかった。これは、試料Nо.3~5,8,9が、電子部品の着脱を20万回繰り返しても脱粒が少なく、反射率の低い黒色の色調により、画像認識における電子部品の位置検出の精度を高くすることができたためである。よって、このような吸着ノズルを装着機に利用することで、電子部品の実装精度を向上させることができることが分かった。
 次に、隣り合う第2粒子の重心間距離の平均値の異なる試料を作製し、電子部品の位置検出精度の確認を行なった。なお、作製方法としては、ニーダの混練時間を表2に示す時間としたこと以外は実施例1の試料Nо.4の作製方法と同様とした。また、試料Nо.16は、実施例1の試料Nо.4と同じ試料である。
 そして、実施例1と同様の方法により、第2粒子のみを抽出した画像の作成を行ない、画像解析ソフト「A像くん」の分散度計測という手法を適用して画像解析することにより、測定面における隣り合う第2粒子の重心間距離の平均値を算出した。
 次に、電子部品の位置検出精度を確認すべく、実施例1と同様の方法により電子部品の位置ずれの発生率を求めた。結果を表2に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 表2に示す結果から、吸着ノズルの測定面において、隣り合う第2粒子の重心間距離の平均値が0.6~1.0μmである試料Nо.13~15は、位置ずれの発生率が0.008%以下と低かった。これは、試料Nо.13~15の第2粒子が、吸着面において分散して存在しており、吸着面の色ムラや機械的強度のばらつきが少なく、画像認識における電子部品の位置検出の精度をより高くすることができたためである。よって、このような吸着ノズルを装着機に利用することで、より高い実装精度を実現することができることが分かった。
 次に、円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子の個数の割合の異なる試料を作製し、電子部品の位置検出精度の確認を行なった。なお、作製方法としては、焼成温度を表3に示す温度としたこと以外は実施例2の試料Nо.14の作製方法と同様とした。また、試料Nо.19は、実施例2の試料Nо.14と同じ試料である。
 そして、実施例1と同様の方法により、第2粒子のみを抽出した画像の作成を行ない、画像解析ソフト「A像くん」の粒子解析という手法を適用して画像解析することにより、測定面における円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子の個数の割合(存在比率)を算出した。
 次に、電子部品の位置検出精度を確認すべく、実施例1と同様の方法により電子部品の位置ずれの発生率を求めた。結果を表3に示す。なお、表3においては、測定面における円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子の個数の割合を、単に「割合」と示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 表3に示す結果から、吸着ノズルの測定面において、円相当径で0.6μm以上の粒径を有する第2粒子の個数の割合が25%以下である試料Nо.17,18は、位置ずれの発生率が0.003%以下と非常に低くかった。これは、試料Nо.17,18において、脱粒しやすい第2粒子の個数が少ないことで、電子部品の着脱を20万回繰り返しても、吸着面の第2粒子の脱粒を抑制することができたためである。よって、このような吸着ノズルを装着機に利用することで、さらにより高い実装精度を実現することができることが分かった。
 次に、吸着面において、粗さ曲線から求められるクルトシスRkuが異なる試料を作製し、電子部品の位置検出精度の確認を行なった。なお、作製方法としては、インジェクション成形機に設置する成形型の内面の表面性状を、表4に示すクルトシスRkuとなるように変更したこと以外は実施例1の試料Nо.4の作製方法と同様とした。また、試料Nо.20は、実施例1の試料Nо.4と同じ試料である。
 そして、各試料の吸着面におけるクルトシスRkuは、JIS B 0601(2001)に準拠して、市販の非接触式の表面粗さ計を用いて測定した。測定条件としては、測定長さを0.25mm、カットオフ値を0.025mmとし、走査速度を0.3mm/秒に設定した。
 次に、電子部品の位置検出精度を確認すべく、実施例1と同様の方法により電子部品の位置ずれの発生率を求めた。結果を表4に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 表4に示す結果から、吸着ノズルの吸着面において、粗さ曲線から求められるクルトシスRkuが3より大きく4.5以下である試料Nо.21~24は、位置ずれの発生率が0.008%以下と低くかった。これは、試料Nо.21~24の吸着面が、反射率の小さい表面性状となっていたことで、画像認識における電子部品の位置検出の精度を高くすることができたためである。よって、このような吸着ノズルを装着機に利用することで、一層高い実装精度を実現することができることが分かった。
 次に、吸着面において、粗さ曲線から求められるスキューネスRskが異なる試料を作製し、電子部品の位置検出精度の確認を行なった。なお、作製方法としては、インジェクション成形機に設置する成形型の内面の表面性状を、表5に示すスキューネスRskとなるように変更したこと以外は実施例4の試料Nо.23の作製方法と同様とした。また、試料Nо.26は、実施例4の試料Nо.23と同じ試料である。
 そして、各試料の吸着面におけるスキューネスRskを、実施例4と同じ条件で、市販の非接触式の表面粗さ計を用いて測定した。
 次に、電子部品の位置検出精度を確認すべく、実施例1と同様の方法により電子部品の位置ずれの発生率を求めた。結果を表5に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 表5に示す結果から、吸着ノズルの吸着面において、粗さ曲線から求められるスキューネスRskが0より大きい試料Nо.27~29は、位置ずれの発生率が0.004%以下と非常に低くかった。これは、試料Nо.27~29の吸着面が、より反射率の小さい表面性状となっていたことで、画像認識における電子部品の位置検出の精度を高くすることができたためである。よって、このような吸着ノズルを装着機に利用することで、より一層高い実装精度を実現することができることが分かった。
 1:吸着ノズル
 2:装着機
 3:ライト
 4:CCDカメラ
 5:画像解析装置
 6:トレイ
 7:電子部品
 8:吸着面
 9:円筒部
 10:円錐部
 11:保持部材
 12:吸引孔
 13:凸部
 14:凹部
 15:吸引孔
 16:第1粒子
 17:第2粒子

Claims (5)

  1.  ジルコニアを含む第1粒子と、黒色成分を含む第2粒子とを有するジルコニア質セラミックスからなり、吸着面と、該吸着面に連通する吸引孔とを備え、
    前記吸着面は、該吸着面を研磨加工した測定面における前記第2粒子が占める面積比率が17%以上34%以下であり、前記測定面の90μmの面積の範囲における前記第2粒子の個数が150個以上250個以下である吸着ノズル。
  2.  前記測定面において、隣り合う前記第2粒子の重心間距離の平均値が0.6μm以上1.0μm以下である請求項1に記載の吸着ノズル。
  3.  前記測定面において、円相当径で0.6μm以上の粒径を有する前記第2粒子の個数の割合が25%以下である請求項1または請求項2に記載の吸着ノズル。
  4.  前記吸着面において、粗さ曲線から求められるクルトシスRkuが3より大きく4.5以下である請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の吸着ノズル。
  5.  前記吸着面において、粗さ曲線から求められるスキューネスRskが0より大きい請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の吸着ノズル。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019041047A (ja) * 2017-08-28 2019-03-14 京セラ株式会社 吸着ノズル組み立て体

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019086345A (ja) * 2017-11-03 2019-06-06 株式会社デンソー ガスセンサ用固体電解質、ガスセンサ
EP3854767A4 (en) * 2018-12-06 2022-05-11 NGK Insulators, Ltd. SINTERED CERAMIC BODY AND SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR DEVICES

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008063154A (ja) * 2006-09-04 2008-03-21 Tokuyama Corp 窒化アルミニウム焼結体
JP2009063565A (ja) * 2007-08-09 2009-03-26 Sharp Corp 画像処理方法、およびそれを用いた粒度分布測定方法
WO2009099184A1 (ja) * 2008-02-07 2009-08-13 Kyocera Corporation ジルコニア質焼結体およびその製造方法
JP2011049551A (ja) * 2009-07-29 2011-03-10 Kyocera Corp 真空吸着ノズル
JP2011071370A (ja) * 2009-09-28 2011-04-07 Kyocera Corp 真空吸着ノズル
JP2011151306A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Kyocera Corp 真空吸着ノズル

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4916022A (en) * 1988-11-03 1990-04-10 Allied-Signal Inc. Titania doped ceramic thermal barrier coatings
JP2001088075A (ja) * 1999-09-27 2001-04-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品吸着用ノズル
JP2009154217A (ja) * 2007-12-25 2009-07-16 Kyocera Corp 真空吸着ノズル
JP5111404B2 (ja) * 2008-01-29 2013-01-09 京セラ株式会社 真空吸着ノズル組み立て体
CN101960940B (zh) * 2008-02-26 2012-07-25 京瓷株式会社 真空吸嘴
JP5593529B2 (ja) 2011-09-09 2014-09-24 株式会社長峰製作所 黒色ジルコニア強化アルミナセラミックスおよびその製造方法
CN203167461U (zh) * 2012-07-27 2013-08-28 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 用于电子设备外壳或边框的层状结构
JP6179030B2 (ja) * 2012-12-28 2017-08-16 日本特殊陶業株式会社 真空吸着装置およびその製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008063154A (ja) * 2006-09-04 2008-03-21 Tokuyama Corp 窒化アルミニウム焼結体
JP2009063565A (ja) * 2007-08-09 2009-03-26 Sharp Corp 画像処理方法、およびそれを用いた粒度分布測定方法
WO2009099184A1 (ja) * 2008-02-07 2009-08-13 Kyocera Corporation ジルコニア質焼結体およびその製造方法
JP2011049551A (ja) * 2009-07-29 2011-03-10 Kyocera Corp 真空吸着ノズル
JP2011071370A (ja) * 2009-09-28 2011-04-07 Kyocera Corp 真空吸着ノズル
JP2011151306A (ja) * 2010-01-25 2011-08-04 Kyocera Corp 真空吸着ノズル

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3238890A4 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019041047A (ja) * 2017-08-28 2019-03-14 京セラ株式会社 吸着ノズル組み立て体

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