WO2016098358A1 - はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板 - Google Patents

はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板 Download PDF

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池田　一輝
高輔 井上
和也 市川
竹本　正
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    • H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457—Solder materials or compositions; Methods of application thereof

Definitions

  • the present invention relates to a solder alloy, a solder paste, and an electronic circuit board. More specifically, the present invention relates to a solder alloy, a solder paste containing the solder alloy, and an electronic circuit board obtained using the solder paste.
  • solder bonding using a solder paste is employed for metal bonding in electrical / electronic devices, and a solder alloy containing lead is conventionally used for such solder paste.
  • solder alloys examples include tin-copper alloys, tin-silver-copper alloys, tin-silver-indium-bismuth alloys, tin-bismuth alloys, and tin-zinc alloys. Although known, tin-silver-copper alloys, tin-silver-indium-bismuth alloys and the like are widely used.
  • solder alloy is required to have improved impact resistance after soldering.
  • a part to be soldered with a solder alloy may be used under relatively severe temperature cycle conditions (for example, a temperature cycle between ⁇ 40 to 125 ° C.) such as an automobile engine room. Therefore, solder alloys are required to maintain impact resistance even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions.
  • the object of the present invention is excellent in impact resistance, and a solder alloy that can maintain excellent impact resistance even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions, a solder paste containing the solder alloy, An object of the present invention is to provide an electronic circuit board obtained by using the solder paste.
  • the solder alloy according to an aspect of the present invention is a solder alloy substantially composed of tin, silver, copper, bismuth, antimony, and cobalt, and the silver content is relative to the total amount of the solder alloy. 2% by mass or more and 4% by mass or less, the copper content is 0.3% by mass or more and 1% by mass or less, and the bismuth content is more than 4.8% by mass and 10% by mass or less.
  • the content ratio of the antimony is 3 mass% or more and 10 mass% or less, the content ratio of the cobalt is 0.001 mass% or more and 0.3 mass% or less, and the content ratio of the tin is It is characterized by the remaining percentage.
  • the solder alloy further contains at least one element selected from the group consisting of nickel, indium, gallium, germanium, and phosphorus, and the content ratio of the element is 0 with respect to the total amount of the solder alloy. It is preferable that the content exceeds 1% by mass and is 1% by mass or less.
  • the content ratio of the copper is 0.5 mass% or more and 0.7 mass% or less.
  • the content ratio of the bismuth exceeds 4.8% by mass and is 7% by mass or less.
  • the content ratio of the antimony is 5% by mass or more and 7% by mass or less.
  • the content ratio of the cobalt is 0.003% by mass or more and 0.01% by mass or less.
  • a solder paste according to another aspect of the present invention is characterized by containing a solder powder made of the above-described solder alloy and a flux.
  • an electronic circuit board is characterized by including a soldered portion by soldering the above solder paste.
  • the solder alloy according to an aspect of the present invention is designed so that the content ratio of each component is the above-described predetermined amount in a solder alloy substantially composed of tin, silver, copper, bismuth, antimony, and cobalt. .
  • solder alloy according to one aspect of the present invention excellent impact resistance can be obtained, and excellent impact resistance can be maintained even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions. be able to.
  • solder paste according to another aspect of the present invention contains the solder alloy, it is possible to obtain excellent impact resistance, and even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions, Excellent impact resistance can be maintained.
  • the electronic circuit board according to still another aspect of the present invention uses the above solder paste for soldering, so that excellent impact resistance can be obtained, and under relatively severe temperature cycle conditions. Even when exposed, excellent impact resistance can be maintained.
  • the solder alloy according to one aspect of the present invention contains tin (Sn), silver (Ag), copper (Cu), bismuth (Bi), antimony (Sb), and cobalt (Co) as essential components.
  • the solder alloy consists essentially of tin, silver, copper, bismuth, antimony and cobalt.
  • the term “substantially” means that each of the above elements is an essential component, and an optional component described later is contained in a proportion described later.
  • the content ratio of tin is the remaining ratio of each component described later, and is appropriately set according to the blending amount of each component.
  • the silver content is 2% by mass or more, preferably 3.0% by mass or more, more preferably 3.3% by mass or more, and 4% by mass or less, preferably based on the total amount of the solder alloy. It is 3.8 mass% or less, More preferably, it is 3.6 mass% or less.
  • silver content is in the above range, excellent impact resistance can be obtained, and excellent impact resistance can be maintained even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions.
  • the copper content is 0.3% by mass or more, preferably 0.5% by mass or more, and 1% by mass or less, preferably 0.7% by mass or less, based on the total amount of the solder alloy.
  • the copper content is in the above range, excellent impact resistance can be obtained, and excellent impact resistance can be maintained even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions.
  • the content ratio of bismuth exceeds 4.8% by mass with respect to the total amount of the solder alloy, preferably 10% by mass or less, and preferably 7% by mass or less.
  • the content of antimony is 3% by mass or more, preferably more than 3% by mass, more preferably 5% by mass or more, and 10% by mass or less, preferably 9.2%, based on the total amount of the solder alloy. It is 7 mass% or less, More preferably, it is 7 mass% or less.
  • the content ratio of cobalt is 0.001% by mass or more, preferably 0.003% by mass or more, and 0.3% by mass or less, preferably 0.01% by mass or less, based on the total amount of the solder alloy. More preferably, it is 0.007 mass% or less.
  • the cobalt content is in the above range, excellent impact resistance can be obtained, and excellent impact resistance can be maintained even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions.
  • the solder alloy can further contain nickel (Ni), indium (In), gallium (Ga), germanium (Ge), phosphorus (P), and the like as optional components.
  • the content ratio is, for example, more than 0% by mass and, for example, 1.0% by mass or less with respect to the total amount of the solder alloy.
  • the nickel content is in the above range, the excellent effects of the present invention can be maintained.
  • the content ratio is, for example, more than 0% by mass, for example, 1.0% by mass or less with respect to the total amount of the solder alloy.
  • the content ratio is, for example, more than 0% by mass and, for example, 1.0% by mass or less with respect to the total amount of the solder alloy.
  • the content ratio is, for example, more than 0% by mass, for example, 1.0% by mass or less with respect to the total amount of the solder alloy.
  • the content ratio is, for example, more than 0% by mass and, for example, 1.0% by mass or less with respect to the total amount of the solder alloy.
  • the content ratio (the total amount when two or more types are used in combination) exceeds, for example, 0% by mass with respect to the total amount of the solder alloy. , 1.0% by mass or less.
  • the solder alloy preferably does not actively contain iron (Fe) from the viewpoint of improving impact resistance.
  • the solder alloy preferably does not contain iron (Fe) except for iron (Fe) as an impurity described later.
  • Such a solder alloy can be obtained by alloying the above-described metal components by a known method such as melting and homogenizing each metal component in a melting furnace.
  • each above-mentioned metal component used for manufacture of a solder alloy can contain a trace amount impurity (inevitable impurity) in the range which does not inhibit the outstanding effect of this invention.
  • impurities examples include aluminum (Al), iron (Fe), zinc (Zn), and gold (Au).
  • the melting point of the solder alloy thus obtained is, for example, 190 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or higher. For example, it is 250 ° C. or lower, preferably 240 ° C. or lower.
  • the melting point of the solder alloy is within the above range, metal bonding can be performed easily and with good workability when used in solder paste.
  • the solder alloy is designed so that the content of each component is the predetermined amount in a solder alloy substantially composed of tin, silver, copper, bismuth, antimony, and cobalt.
  • solder alloy excellent impact resistance can be obtained, and excellent impact resistance can be maintained even when exposed to relatively severe temperature cycle conditions.
  • solder alloy is preferably contained in a solder paste (solder paste bonding material).
  • a solder paste according to another aspect of the present invention contains the above-described solder alloy and a flux.
  • the solder alloy is preferably contained as a powder.
  • the powder shape is not particularly limited, and may be, for example, a substantially perfect spherical shape, for example, a flat block shape, for example, a needle shape, or may be indefinite.
  • the powder shape is appropriately set according to the performance (for example, thixotropy, viscosity, etc.) required for the solder paste.
  • the average particle size (in the case of a spherical shape) or the average length in the longitudinal direction (in the case of a non-spherical shape) of the solder alloy powder is a measurement using a particle size / particle size distribution measuring apparatus by a laser diffraction method.
  • it is 15 ⁇ m or more, for example, 100 ⁇ m or less, preferably 50 ⁇ m or less.
  • the flux is not particularly limited, and a known solder flux can be used.
  • the flux is, for example, a base resin (rosin, acrylic resin, etc.), an activator (eg, ethylamine, propylamine, etc., an amine hydrohalide, eg, lactic acid, citric acid, benzoic acid, etc. Carboxylic acid, etc.), thixotropic agents (cured castor oil, beeswax, carnauba wax, etc.) are the main components, and when the flux is used in liquid form, it can further contain an organic solvent.
  • a base resin rosin, acrylic resin, etc.
  • an activator eg, ethylamine, propylamine, etc., an amine hydrohalide, eg, lactic acid, citric acid, benzoic acid, etc.
  • Carboxylic acid, etc. Carboxylic acid, etc.
  • thixotropic agents cured castor oil, beeswax, carnauba wax, etc.
  • the solder paste can be obtained by mixing the above-mentioned solder alloy powder and the above-mentioned flux by a known method.
  • the mixing ratio of the solder alloy and the flux is, for example, 70:30 to 95: 5 as a solder alloy solder alloy: flux (mass ratio).
  • solder paste contains the said solder alloy, it can obtain the outstanding impact resistance, and also maintains the outstanding impact resistance even when exposed to comparatively severe temperature cycling conditions. be able to.
  • the present invention includes an electronic circuit board provided with a soldered portion by soldering the above solder paste.
  • solder paste is suitably used, for example, in soldering (metal bonding) between an electrode of an electronic circuit board such as an electric / electronic device and an electronic component.
  • the electronic component is not particularly limited, and examples thereof include known electronic components such as a chip component (such as an IC chip), a resistor, a diode, a capacitor, and a transistor.
  • the usage method of the said solder alloy is not limited to the said solder paste,
  • it can also be used for manufacture of a flux cored solder joint material.
  • the solder alloy can be formed into a linear shape by forming the solder alloy into a linear shape using the flux as a core.
  • solder joint material is also preferably used in soldering (metal joining) of an electronic circuit board such as an electric / electronic device, like the solder paste.
  • Examples 1 to 24 and Comparative Examples 1 to 16 Preparation of solder alloy
  • the powders of each metal described in Tables 1 and 2 were mixed in the mixing ratios described in Tables 1 and 2, and the resulting metal mixture was melted and homogenized in a melting furnace. An alloy was prepared.
  • the mixing ratio of tin (Sn) in the formulation of each example and each comparative example is as follows.
  • Each metal silver (Ag), copper (Cu), bismuth (Bi), antimony (Sb) ), Cobalt (Co), nickel (Ni), indium (In), gallium (Ga), germanium (Ge), phosphorus (P) and iron (Fe)), the total amount of the solder alloy. It is the balance that is deducted from.
  • the solder alloy of Example 1 was mixed with Ag, Cu, Bi, Sb, and Co metals in the proportions shown in Table 1. The remaining ratio is Sn.
  • Examples 2 to 4 are examples of prescriptions in which the mixing ratio of Ag is increased or decreased with respect to the prescription of Example 1.
  • Examples 5 to 7 are examples of formulations in which the Cu content ratio was increased or decreased with respect to the formulation of Example 1.
  • Examples 8 to 10 are examples of formulations in which the Bi content ratio was increased or decreased with respect to the formulation of Example 1.
  • Examples 11 to 14 are examples of formulations in which the content ratio of Sb is increased or decreased with respect to the formulation of Example 1.
  • Examples 15 to 18 are examples of formulations in which the content ratio of Co is increased or decreased with respect to the formulation of Example 1.
  • Examples 19 to 23 are examples of formulations in which any one of Ni, In, Ga, Ge and P was added to the formulation of Example 1 at a ratio shown in Table 1. Is an example of a formulation in which all of Ni, In, Ga, Ge and P are added in the proportions shown in Table 1.
  • Comparative Examples 1 and 2 are examples of prescriptions in which the proportion of Ag was increased or decreased with respect to the prescription in Example 1 to make Ag excessive or insufficient.
  • Comparative Examples 3 to 4 are examples of formulations in which the proportion of Cu was increased or decreased with respect to the formulation of Example 1 to make Cu excessive or insufficient.
  • Comparative Examples 5 to 6 are examples of prescriptions in which the mixing ratio of Bi is increased or decreased with respect to the prescription in Example 1 to make Bi excessive or insufficient.
  • Comparative Examples 7 to 8 are examples of prescriptions in which the blending ratio of Sb was increased or decreased with respect to the prescription of Example 1, and Sb was excessive or insufficient.
  • Comparative Examples 9 to 10 are examples of prescriptions in which the proportion of Co was increased or decreased with respect to the prescription in Example 1 to make Co excessive or insufficient.
  • Comparative Example 11 is an example of a formulation in which the blending ratio of Bi and Sb is decreased with respect to the recipe of Example 17, both Bi and Sb are insufficient, and Ni is blended at the ratio shown in Table 1. is there.
  • Comparative Example 12 is an example of a prescription in which the mixing ratio of Bi and Sb is decreased with respect to the prescription in Example 17 and both Bi and Sb are insufficient.
  • Comparative Example 13 is an example of a formulation in which Fe (0.01 mass%) is blended in place of Co (0.01 mass%) with respect to the formulation of Example 17.
  • Comparative Example 14 is an example of a prescription in which the blending ratio of Bi is decreased and Bi is insufficient with respect to the prescription of Example 17.
  • Comparative Example 15 is an example of a prescription in which the blending ratio of Sb is decreased and Sb is insufficient with respect to the prescription of Example 17.
  • Comparative Example 16 is an example of a formulation in which Fe is further added to the formulation of Example 17.
  • solder alloy was pulverized so as to have a particle size of 25 to 38 ⁇ m, and the obtained solder alloy powder was mixed with a known flux to obtain a solder paste.
  • solder paste was printed on a printed circuit board for mounting chip components, and the chip components were mounted by a reflow method.
  • the solder paste printing conditions at the time of mounting, the size of the chip component, and the like were appropriately set according to each evaluation described below.
  • the solder paste using the alloy obtained in each example and each comparative example was printed on a chip component mounting printed board, and the chip component was mounted by a reflow method.
  • the printed film thickness of the solder paste was adjusted using a metal mask having a thickness of 150 ⁇ m.
  • an aluminum electrolytic capacitor (5 mm ⁇ , 5.8 mm height) was mounted on a predetermined position of the printed board, heated in a reflow furnace, and a chip component was mounted.
  • the reflow conditions were a preheat of 170 to 190 ° C., a peak temperature of 245 ° C. and a time of 220 ° C. or higher for 45 seconds, and a cooling rate when the temperature was lowered from the peak temperature to 200 ° C. was set to 3 to 8 ° C./second.
  • the printed circuit board was held in an environment of 125 ° C. for 30 minutes, and then subjected to a cold cycle test in which the printed circuit board was held in an environment of ⁇ 40 ° C. for 30 minutes.
  • the results are shown in Table 3 and Table 4.
  • ⁇ Drop impact> The printed circuit board immediately after component mounting was dropped five times from a height of 1 m, and an evaluation was made by observing the appearance of whether or not the joint between the component and the substrate was broken.
  • the number of dropped parts of 5 or less is rank A ++ (5 points)
  • the number of dropped pieces of 6 to 10 is rank A + (4 points)
  • the number of dropped pieces is 11 to 15 Rank A (three points)
  • drop number 16-30 with rank B two points
  • drop number 31-50 with rank C one point
  • drop number 51 or more Rank D (0 points).
  • solder alloy, solder composition and solder paste of the present invention are used in electronic circuit boards used in electric / electronic devices and the like.

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Abstract

はんだ合金は、実質的に、スズ、銀、銅、ビスマス、アンチモンおよびコバルトからなるはんだ合金である。はんだ合金の総量に対して、銀の含有割合が、２質量％以上４質量％以下である。銅の含有割合が、０．３質量％以上１質量％以下である。ビスマスの含有割合が、４．８質量％を超過し１０質量％以下である。アンチモンの含有割合が、３質量％以上１０質量％以下である。コバルトの含有割合が、０．００１質量％以上０．３質量％以下である。スズの含有割合が、残余の割合である。

Description

はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板
　本発明は、はんだ合金、ソルダペーストおよび電子回路基板に関し、詳しくは、はんだ合金、そのはんだ合金を含有するソルダペースト、さらに、そのソルダペーストを用いて得られる電子回路基板に関する。
　一般的に、電気・電子機器などにおける金属接合では、ソルダペーストを用いたはんだ接合が採用されており、このようなソルダペーストには、従来、鉛を含有するはんだ合金が用いられる。
　しかしながら、近年、環境負荷の観点から、鉛の使用を抑制することが要求されており、そのため、鉛を含有しないはんだ合金（鉛フリーはんだ合金）の開発が進められている。
　このような鉛フリーはんだ合金としては、例えば、スズ－銅系合金、スズ－銀－銅系合金、スズ－銀－インジウム－ビスマス系合金、スズ－ビスマス系合金、スズ－亜鉛系合金などがよく知られているが、とりわけ、スズ－銀－銅系合金、スズ－銀－インジウム－ビスマス系合金などが広く用いられている。
　より具体的には、例えば、スズ－銀－銅系合金として、銀３．４質量％、銅０．７質量％、ニッケル０．０４質量％、アンチモン３．０質量％、ビスマス３．２質量％およびコバルト０．０１質量％を含有し、残部がＳｎであるはんだ材料が、提案されている（特許文献１参照）。
国際公開第２０１４／１６３１６７号パンフレット
　一方、このようなはんだ合金によりはんだ付すると、落下振動などの衝撃によってはんだ接合部が破損する場合がある。そのため、はんだ合金としては、はんだ付後における耐衝撃性の向上が要求されている。
　さらに、はんだ合金によりはんだ付される部品は、自動車のエンジンルームなど、比較的厳しい温度サイクル条件（例えば、－４０～１２５℃間の温度サイクルなど）下において用いられる場合がある。そのため、はんだ合金としては、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露される場合にも、耐衝撃性を維持することが要求されている。
　本発明の目的は、耐衝撃性に優れ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持できるはんだ合金、そのはんだ合金を含有するソルダペースト、さらに、そのソルダペーストを用いて得られる電子回路基板を提供することにある。
　本発明の一観点に係るはんだ合金は、実質的に、スズ、銀、銅、ビスマス、アンチモンおよびコバルトからなるはんだ合金であって、前記はんだ合金の総量に対して、前記銀の含有割合が、２質量％以上４質量％以下であり、前記銅の含有割合が、０．３質量％以上１質量％以下であり、前記ビスマスの含有割合が、４．８質量％を超過し１０質量％以下であり、前記アンチモンの含有割合が、３質量％以上１０質量％以下であり、前記コバルトの含有割合が、０．００１質量％以上０．３質量％以下であり、前記スズの含有割合が、残余の割合であることを特徴としている。
　また、前記はんだ合金は、さらに、ニッケル、インジウム、ガリウム、ゲルマニウムおよびリンからなる群より選ばれた少なくとも１種の元素を含有し、はんだ合金の総量に対して、前記元素の含有割合が、０質量％超過し１質量％以下であることが好適である。
　また、前記はんだ合金では、前記銅の含有割合が、０．５質量％以上０．７質量％以下であることが好適である。
　また、前記ビスマスの含有割合が、４．８質量％を超過し７質量％以下であることが好適である。
　また、前記アンチモンの含有割合が、５質量％以上７質量％以下であることが好適である。
　また、前記コバルトの含有割合が、０．００３質量％以上０．０１質量％以下であることが好適である。
　また、本発明の他の一観点に係るソルダペーストは、上記のはんだ合金からなるはんだ粉末と、フラックスとを含有することを特徴としている。
　また、本発明のさらに他の一観点に係る電子回路基板は、上記のソルダペーストのはんだ付によるはんだ付部を備えることを特徴としている。
　本発明の一観点に係るはんだ合金は、実質的にスズ、銀、銅、ビスマス、アンチモンおよびコバルトからなるはんだ合金において、各成分の含有割合が、上記の所定量となるように設計されている。
　そのため、本発明の一観点に係るはんだ合金によれば、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　そして、本発明の他の一観点に係るソルダペーストは、上記はんだ合金を含有するので、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　また、本発明のさらに他の一観点に係る電子回路基板は、はんだ付において、上記ソルダペーストが用いられるので、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　本発明の一観点に係るはんだ合金は、必須成分として、スズ（Ｓｎ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ビスマス（Ｂｉ）、アンチモン（Ｓｂ）およびコバルト（Ｃｏ）を含有している。換言すれば、はんだ合金は、実質的に、スズ、銀、銅、ビスマス、アンチモンおよびコバルトからなる。なお、本明細書において、実質的とは、上記の各元素を必須成分とし、また、後述する任意成分を後述する割合で含有することを許容する意味である。
　このようなはんだ合金において、スズの含有割合は、後述する各成分の残余の割合であって、各成分の配合量に応じて、適宜設定される。
　銀の含有割合は、はんだ合金の総量に対して、２質量％以上、好ましくは、３．０質量％以上、より好ましくは、３．３質量％以上であり、４質量％以下、好ましくは、３．８質量％以下、より好ましくは、３．６質量％以下である。
　銀の含有割合が上記範囲であれば、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　一方、銀の含有割合が上記下限を下回る場合には、耐衝撃性に劣る。また、銀の含有割合が上記上限を上回る場合にも、耐衝撃性に劣る。
　銅の含有割合は、はんだ合金の総量に対して、０．３質量％以上、好ましくは、０．５質量％以上であり、１質量％以下、好ましくは、０．７質量％以下である。
　銅の含有割合が上記範囲であれば、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　一方、銅の含有割合が上記下限を下回る場合には、耐衝撃性に劣る。また、銅の含有割合が上記上限を上回る場合にも、耐衝撃性に劣る。
　ビスマスの含有割合は、はんだ合金の総量に対して、４．８質量％を超過しており、好ましくは、１０質量％以下、好ましくは、７質量％以下である。
　ビスマスの含有割合が上記範囲であれば、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　一方、ビスマスの含有割合が上記下限を下回る場合には、耐衝撃性に劣る。また、ビスマスの含有割合が上記上限を上回る場合にも、耐衝撃性に劣る。
　アンチモンの含有割合は、はんだ合金の総量に対して、３質量％以上、好ましくは、３質量％を超過、より好ましくは、５質量％以上であり、１０質量％以下、好ましくは、９．２質量％以下、より好ましくは、７質量％以下である。
　アンチモンの含有割合が上記範囲であれば、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　一方、アンチモンの含有割合が上記下限を下回る場合には、耐衝撃性に劣る。また、アンチモンの含有割合が上記上限を上回る場合にも、耐衝撃性に劣る。
　コバルトの含有割合は、はんだ合金の総量に対して、０．００１質量％以上、好ましくは、０．００３質量％以上であり、０．３質量％以下、好ましくは、０．０１質量％以下、より好ましくは、０．００７質量％以下である。
　コバルトの含有割合が上記範囲であれば、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　一方、コバルトの含有割合が上記下限を下回る場合には、耐衝撃性に劣る。また、コバルトの含有割合が上記上限を上回る場合にも、耐衝撃性に劣る。
　また、上記はんだ合金は、任意成分として、さらに、ニッケル（Ｎｉ）、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、リン（Ｐ）などを含有することができる。
　任意成分としてニッケルを含有する場合には、その含有割合は、はんだ合金の総量に対して、例えば、０質量％を超過し、例えば、１．０質量％以下である。
　ニッケルの含有割合が上記範囲であれば、本発明の優れた効果を維持することができる。
　任意成分としてインジウムを含有する場合には、その含有割合は、はんだ合金の総量に対して、例えば、０質量％を超過し、例えば、１．０質量％以下である。
　インジウムの含有割合が上記範囲であれば、本発明の優れた効果を維持することができる。
　任意成分としてガリウムを含有する場合には、その含有割合は、はんだ合金の総量に対して、例えば、０質量％を超過し、例えば、１．０質量％以下である。
　ガリウムの含有割合が上記範囲であれば、本発明の優れた効果を維持することができる。
　任意成分としてゲルマニウムを含有する場合には、その含有割合は、はんだ合金の総量に対して、例えば、０質量％を超過し、例えば、１．０質量％以下である。
　ゲルマニウムの含有割合が上記範囲であれば、本発明の優れた効果を維持することができる。
　任意成分としてリンを含有する場合には、その含有割合は、はんだ合金の総量に対して、例えば、０質量％を超過し、例えば、１．０質量％以下である。
　リンの含有割合が上記範囲であれば、本発明の優れた効果を維持することができる。
　これら任意成分は、単独使用または２種類以上併用することができる。
　任意成分として上記の元素が含有される場合、その含有割合（２種類以上併用される場合には、それらの総量）は、はんだ合金の総量に対して、例えば、０質量％を超過し、例えば、１．０質量％以下となるように、調整される。
　任意成分の含有割合の総量が上記範囲であれば、本発明の優れた効果を維持することができる。
　また、上記はんだ合金は、耐衝撃性の向上を図る観点から、好ましくは、鉄（Ｆｅ）を積極的に含有しない。換言すれば、はんだ合金は、好ましくは、後述する不純物としての鉄（Ｆｅ）を除いて、鉄（Ｆｅ）を含有しない。
　そして、このようなはんだ合金は、上記した各金属成分を溶融炉において溶融させ、均一化するなど、公知の方法で合金化することにより得ることができる。
　なお、はんだ合金の製造に用いられる上記した各金属成分は、本発明の優れた効果を阻害しない範囲において、微量の不純物（不可避不純物）を含有することができる。
　不純物としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、鉄（Ｆｅ）、亜鉛（Ｚｎ）、金（Ａｕ）などが挙げられる。
　そして、このようにして得られるはんだ合金の、ＤＳＣ法（測定条件：昇温速度０．５℃／分）により測定される融点は、例えば、１９０℃以上、好ましくは、２００℃以上であり、例えば、２５０℃以下、好ましくは、２４０℃以下である。
　はんだ合金の融点が上記範囲であれば、ソルダペーストに用いた場合に、簡易かつ作業性よく金属接合することができる。
　そして、上記のはんだ合金は、実質的にスズ、銀、銅、ビスマス、アンチモンおよびコバルトからなるはんだ合金において、各成分の含有割合が、上記の所定量となるように設計されている。
　そのため、上記のはんだ合金によれば、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　そのため、このようなはんだ合金は、好ましくは、ソルダペースト（ソルダペースト接合材）に含有される。
　具体的には、本発明の他の一観点に係るソルダペーストは、上記したはんだ合金と、フラックスとを含有している。
　ソルダペーストにおいて、はんだ合金は、好ましくは、粉末として含有される。
　粉末形状としては、特に制限されず、例えば、実質的に完全な球状、例えば、扁平なブロック状、例えば、針状などが挙げられ、また、不定形であってもよい。粉末形状は、ソルダペーストに要求される性能（例えば、チクソトロピー、粘度など）に応じて、適宜設定される。
　はんだ合金の粉末の平均粒子径（球状の場合）、または、平均長手方向長さ（球状でない場合）は、レーザ回折法による粒子径・粒度分布測定装置を用いた測定で、例えば、５μｍ以上、好ましくは、１５μｍ以上、例えば、１００μｍ以下、好ましくは、５０μｍ以下である。
　フラックスとしては、特に制限されず、公知のはんだフラックスを用いることができる。
　具体的には、フラックスは、例えば、ベース樹脂（ロジン、アクリル樹脂など）、活性剤（例えば、エチルアミン、プロピルアミンなどアミンのハロゲン化水素酸塩、例えば、乳酸、クエン酸、安息香酸などの有機カルボン酸など）、チクソトロピー剤（硬化ひまし油、蜜ロウ、カルナバワックスなど）などを主成分とし、また、フラックスを液状にして使用する場合には、さらに有機溶剤を含有することができる。
　そして、ソルダペーストは、上記したはんだ合金からなる粉末と、上記したフラックスとを、公知の方法で混合することにより得ることができる。
　はんだ合金と、フラックスとの配合割合は、はんだ合金はんだ合金：フラックス（質量比）として、例えば、７０：３０～９５：５である。
　そして、上記ソルダペーストは、上記はんだ合金を含有するので、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　また、本発明は、上記のソルダペーストのはんだ付によるはんだ付部を備える電子回路基板を含んでいる。
　すなわち、上記のソルダペーストは、例えば、電気・電子機器などの電子回路基板の電極と、電子部品とのはんだ付（金属接合）において、好適に用いられる。
　電子部品としては、特に制限されず、例えば、チップ部品（ＩＣチップなど）、抵抗器、ダイオード、コンデンサ、トランジスタなどの公知の電子部品が挙げられる。
　そして、このような電子回路基板は、はんだ付において、上記ソルダペーストが用いられるので、優れた耐衝撃性を得ることができ、また、比較的厳しい温度サイクル条件下に曝露した場合においても、優れた耐衝撃性を維持することができる。
　なお、上記はんだ合金の使用方法は、上記ソルダペーストに限定されず、例えば、やに入りはんだ接合材の製造に用いることもできる。具体的には、例えば、公知の方法（例えば、押出成形など）により、上記のフラックスをコアとして、上記はんだ合金を線状に成形することにより、やに入りはんだ接合材を得ることもできる。
　そして、このようなやに入りはんだ接合材も、ソルダペーストと同様、例えば、電気・電子機器などの電子回路基板のはんだ付（金属接合）において、好適に用いられる。
　次に、本発明を実施例および比較例に基づいて説明するが、本発明は下記の実施例によって限定されるものではない。以下の記載において用いられる配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合（含有割合）、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値）または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値）に代替することができる。
　　実施例１～２４および比較例１～１６
　・はんだ合金の調製
　表１～２に記載の各金属の粉末を、表１～２に記載の配合割合でそれぞれ混合し、得られた金属混合物を溶解炉にて溶解および均一化させて、はんだ合金を調製した。
　また、各実施例および各比較例の配合処方におけるスズ（Ｓｎ）の配合割合は、表１～２に記載の各金属（銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、ビスマス（Ｂｉ）、アンチモン（Ｓｂ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、インジウム（Ｉｎ）、ガリウム（Ｇａ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、リン（Ｐ）および鉄（Ｆｅ））の配合割合（質量％）を、はんだ合金の総量から差し引いた残部である。
　実施例１のはんだ合金は、Ａｇ、Ｃｕ、Ｂｉ、ＳｂおよびＣｏの各金属を表１に示す割合で配合した。残部の割合が、Ｓｎである。
　実施例２～４は、実施例１の処方に対して、Ａｇの配合割合を増減させた処方の例である。
　実施例５～７は、実施例１の処方に対して、Ｃｕの含有割合を増減させた処方の例である。
　実施例８～１０は、実施例１の処方に対して、Ｂｉの含有割合を増減させた処方の例である。
　実施例１１～１４は、実施例１の処方に対して、Ｓｂの含有割合を増減させた処方の例である。
　実施例１５～１８は、実施例１の処方に対して、Ｃｏの含有割合を増減させた処方の例である。
　実施例１９～２３は、実施例１の処方に対して、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｇａ、ＧｅおよびＰの内のいずれか１種を表１に示す割合で添加した処方の例であり、実施例２４は、Ｎｉ、Ｉｎ、Ｇａ、ＧｅおよびＰの全てを表１に示す割合で添加した処方の例である。
　比較例１～２は、実施例１の処方に対して、Ａｇの配合割合を増減させ、Ａｇを過剰または不十分とした処方の例である。
　比較例３～４は、実施例１の処方に対して、Ｃｕの配合割合を増減させ、Ｃｕを過剰または不十分とした処方の例である。
　比較例５～６は、実施例１の処方に対して、Ｂｉの配合割合を増減させ、Ｂｉを過剰または不十分とした処方の例である。
　比較例７～８は、実施例１の処方に対して、Ｓｂの配合割合を増減させ、Ｓｂを過剰または不十分とした処方の例である。
　比較例９～１０は、実施例１の処方に対して、Ｃｏの配合割合を増減させ、Ｃｏを過剰または不十分とした処方の例である。
　比較例１１は、実施例１７の処方に対して、ＢｉおよびＳｂの配合割合を減少させ、ＢｉおよびＳｂの両方を不十分とし、さらに、Ｎｉを表１に示す割合で配合した処方の例である。
　比較例１２は、実施例１７の処方に対して、ＢｉおよびＳｂの配合割合を減少させ、ＢｉおよびＳｂの両方を不十分とした処方の例である。
　比較例１３は、実施例１７の処方に対して、Ｃｏ（０．０１質量％）に代えて、Ｆｅ（０．０１質量％）を配合した処方の例である。
　比較例１４は、実施例１７の処方に対して、Ｂｉの配合割合を減少させ、Ｂｉを不十分とした処方の例である。
　比較例１５は、実施例１７の処方に対して、Ｓｂの配合割合を減少させ、Ｓｂを不十分とした処方の例である。
　比較例１６は、実施例１７の処方に対して、さらに、Ｆｅを配合した処方の例である。
　・ソルダペーストの調製
　得られたはんだ合金を、粒径が２５～３８μｍとなるように粉末化し、得られたはんだ合金の粉末と、公知のフラックスとを混合して、ソルダペーストを得た。
　・ソルダペーストの評価
　得られたソルダペーストをチップ部品搭載用のプリント基板に印刷して、リフロー法によりチップ部品を実装した。実装時のソルダペーストの印刷条件、チップ部品のサイズ等については、後述する各評価に応じて適宜設定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
 　　＜評価＞
　各実施例および各比較例において得られた合金を使用したソルダペーストを、チップ部品搭載用プリント基板に印刷して、リフロー法によりチップ部品を実装した。ソルダペーストの印刷膜厚は、厚さ１５０μｍのメタルマスクを用いて調整した。ソルダペーストの印刷後、アルミニウム電解コンデンサ（５ｍｍφ、５．８ｍｍ高さ）を上記プリント基板の所定位置に搭載して、リフロー炉で加熱し、チップ部品を実装した。リフロー条件は、プリヒートを１７０～１９０℃、ピーク温度を２４５℃、２２０℃以上である時間が４５秒間、ピーク温度から２００℃までの降温時の冷却速度を３～８℃／秒に設定した。
　さらに、上記プリント基板を１２５℃の環境下で３０分間保持し、次いで、－４０℃の環境下で３０分間保持する冷熱サイクル試験に供した。その結果を、表３および表４に示す。
＜落下衝撃性＞
　部品実装直後のプリント基板について、１ｍの高さから５回落下させ、部品と基板の接合部が破壊するかどうかを外観観察することにより評価した。
　具体的には、１００個の搭載部品中、落下した個数が５個以下のものをランクＡ＋＋（５点）、落下個数６～１０個のものをランクＡ＋（４点）、落下個数１１～１５個のものをランクＡ（３点）、落下個数１６～３０のものをランクＢ（２点）、落下個数３１～５０個のものをランクＣ（１点）、落下個数５１個以上のものをランクＤ（０点）とした。
　また、冷熱サイクルを１０００サイクル繰り返したプリント基板についても、上記と同様に評価した。
＜総合評価＞
　「落下衝撃性」および「冷熱サイクル後の落下衝撃性」の合計点が１０点のものを総合判定Ａ＋＋、合計点が８点または９点のものを総合判定Ａ＋、合計点が６点または７点のものを総合判定Ａ、合計点が４点または５点のものを総合判定Ｂ、合計点が２点または３点のものを総合判定Ｃ、合計点が０点または１点のものを総合判定Ｄとした。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
 　なお、上記発明は、本発明の例示の実施形態として提供したが、これは単なる例示に過ぎず、限定的に解釈してはならない。当該技術分野の当業者によって明らかな本発明の変形例は、後記特許請求の範囲に含まれる。
　本発明のはんだ合金、はんだ組成物およびソルダペーストは、電気・電子機器などに用いられる電子回路基板において、利用される。

Claims (8)

  1. 　実質的に、スズ、銀、銅、ビスマス、アンチモンおよびコバルトからなるはんだ合金であって、
    　前記はんだ合金の総量に対して、
    　前記銀の含有割合が、２質量％以上４質量％以下であり、
    　前記銅の含有割合が、０．３質量％以上１質量％以下であり、
    　前記ビスマスの含有割合が、４．８質量％を超過し１０質量％以下であり、
    　前記アンチモンの含有割合が、３質量％以上１０質量％以下であり、
    　前記コバルトの含有割合が、０．００１質量％以上０．３質量％以下であり、
    　前記スズの含有割合が、残余の割合であることを特徴とする、はんだ合金。
  2. 　さらに、ニッケル、インジウム、ガリウム、ゲルマニウムおよびリンからなる群より選
    ばれた少なくとも１種の元素を含有し、
    　はんだ合金の総量に対して、前記元素の含有割合が、０質量％超過し１質量％以下である、請求項１に記載のはんだ合金。
  3. 　前記銅の含有割合が、０．５質量％以上０．７質量％以下である、請求項１に記載のはんだ合金。
  4. 　前記ビスマスの含有割合が、４．８質量％を超過し７質量％以下である、請求項１に記載のはんだ合金。
  5. 　前記アンチモンの含有割合が、５質量％以上７質量％以下である、請求項１に記載のはんだ合金。
  6. 　前記コバルトの含有割合が、０．００３質量％以上０．０１質量％以下である、請求項１に記載のはんだ合金。
  7. 　請求項１に記載のはんだ合金からなるはんだ粉末と、
    　フラックスとを
    含有することを特徴とする、ソルダペースト。
  8. 　請求項７記載のソルダペーストのはんだ付によるはんだ付け部を備えることを特徴とする、
    電子回路基板。
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