WO2016068269A1 - 投射光学系およびプロジェクタ装置 - Google Patents

投射光学系およびプロジェクタ装置 Download PDF

Info

Publication number
WO2016068269A1
WO2016068269A1 PCT/JP2015/080645 JP2015080645W WO2016068269A1 WO 2016068269 A1 WO2016068269 A1 WO 2016068269A1 JP 2015080645 W JP2015080645 W JP 2015080645W WO 2016068269 A1 WO2016068269 A1 WO 2016068269A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optical system
image
glass block
projection optical
intermediate image
Prior art date
Application number
PCT/JP2015/080645
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
恭彦 松尾
Original Assignee
日東光学株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日東光学株式会社 filed Critical 日東光学株式会社
Priority to US15/522,120 priority Critical patent/US10063819B2/en
Priority to JP2016556644A priority patent/JP6313865B2/ja
Priority to EP18202484.4A priority patent/EP3454104A1/en
Priority to EP15855306.5A priority patent/EP3214476B1/en
Priority to CN201580059225.7A priority patent/CN107148588B/zh
Publication of WO2016068269A1 publication Critical patent/WO2016068269A1/ja
Priority to US16/044,982 priority patent/US10375363B2/en
Priority to US16/450,013 priority patent/US10645353B2/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N9/00Details of colour television systems
    • H04N9/12Picture reproducers
    • H04N9/31Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
    • H04N9/3141Constructional details thereof
    • H04N9/315Modulator illumination systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B13/00Optical objectives specially designed for the purposes specified below
    • G02B13/16Optical objectives specially designed for the purposes specified below for use in conjunction with image converters or intensifiers, or for use with projectors, e.g. objectives for projection TV
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/08Catadioptric systems
    • G02B17/0852Catadioptric systems having a field corrector only
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14Details
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14Details
    • G03B21/147Optical correction of image distortions, e.g. keystone
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B21/00Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
    • G03B21/14Details
    • G03B21/28Reflectors in projection beam
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
    • H04N9/00Details of colour television systems
    • H04N9/12Picture reproducers
    • H04N9/31Projection devices for colour picture display, e.g. using electronic spatial light modulators [ESLM]
    • H04N9/3141Constructional details thereof

Definitions

  • the present invention relates to a projection optical system of a projector apparatus.
  • Japanese Patent Publication No. 2004-258620 (Reference 1) employs an imaging optical system including a reflecting surface in order to reduce the projection space outside the projection apparatus while increasing the size of the projection screen. Further, it is described that a projection optical system capable of correcting chromatic aberration and an image projection apparatus using such a projection optical system are realized. Therefore, in Document 1, the first and second optical systems are arranged in this order from the light valve side to the projection side of the light valve, and the first optical system includes one or more refractive optical systems, and is positive.
  • the second optical system has one or more reflecting surfaces having power, has a positive power, and an image formed by the light valve is an intermediate image on the optical path of the first and second optical systems. The intermediate image is further magnified and projected onto a screen.
  • One embodiment of the present invention is a projection optical system that projects from a first image plane on the reduction side to a second image plane on the enlargement side.
  • the projection optical system includes a plurality of lenses, and a first intermediate image formed inside the first optical system by light incident from the reduction side is closer to the enlargement side than the first optical system.
  • a first optical system that forms an image of the second intermediate image; a second optical system that includes a first reflecting surface having a positive refractive power and located closer to the enlargement side than the second intermediate image; and the first optical system
  • a glass block disposed between the system and the first reflecting surface, through which light rays from the first optical system to the second intermediate image pass.
  • the incident light and the outgoing light interfere with each other because the incident light and outgoing light to the convex mirror pass through the glass block. For this reason, it is difficult to insert a glass block.
  • the beam from the lens system to the concave mirror on the magnifying side is diffused. It is difficult to insert a glass block so that it acts almost equally.
  • the inventor of the present application employs the first optical system that forms an intermediate image therein, thereby forming a second intermediate formed between the first optical system and the first reflecting surface.
  • the first intermediate image can be placed between the image and the first image plane on the reduction side, and the spread of light rays from the first optical system to the first reflecting surface can be suppressed. Therefore, in the projection optical system of the present invention, the glass block acts on all light rays from the first optical system to the first reflecting surface, and further does not interfere with the light output from the first reflecting surface. Can be inserted.
  • the first optical system may be configured to form a plurality of intermediate images therein.
  • the first optical system is disposed on the reduction side, and is disposed on the enlargement side with the first refractive optical system that forms the first intermediate image, and the first intermediate image is reflected by the first reflection.
  • a second refractive optical system formed on the reduction side of the surface.
  • the first reflecting surface having a positive refractive power is typically a concave mirror, and magnifies and projects the second intermediate image onto the second image surface.
  • the first reflecting surface may be rotationally symmetric or rotationally asymmetric.
  • the first reflecting surface can be made compact with respect to the image height of the first image surface on the reduction side.
  • the image height Ih of the first image plane and the diameter MR of the first reflection plane may satisfy the following expressions. 2.0 ⁇ MR / Ih ⁇ 4.5 (1)
  • the image height Ih of the first image plane and the radius Mr of the first reflection plane may satisfy the following expression. 1.0 ⁇ Mr / Ih ⁇ 2.25 (2)
  • the area used on the first reflecting surface is smaller than the light emitting area on the first image surface. Therefore, the light emitting area Vs of the first image plane and the effective area Ms of the first reflecting surface may satisfy the following expression. 1.0 ⁇ Ms / Vs ⁇ 6.0 (3)
  • the second intermediate image can be reduced. Therefore, the light emission area Vs of the first image plane and the area I2s of the second intermediate image may satisfy the following expressions. 1.0 ⁇ I2s / Vs ⁇ 3.0 (4)
  • the light emission area Vs of the first image plane and the area I1s of the first intermediate image satisfy the following expressions.
  • a projection optical system having a good balance between performance and size can be provided. 0.5 ⁇ I1s / Vs ⁇ 2.0 (5)
  • the glass block may be disposed between the first optical system and the second intermediate image.
  • the glass block By forming the second intermediate image outside the glass block, it is possible to prevent the second intermediate image from being affected by physical effects of the glass block, such as scratches and dust, and finally the second image plane. It can suppress that the quality of the image projected on this falls.
  • the glass block includes an incident surface on the first optical system side, an exit surface on the first reflecting surface side, and a side surface between the exit surface and the entrance surface, and the side surface is the first optical system. And at least a part of the optical axis between the first reflecting surface and the first reflecting surface may be inclined.
  • the side surface may include a surface that is inclined substantially parallel to the lower limit light ray of the projection light from the first reflection surface to the second image surface. Interference between the lower limit light beam and the glass block can be suppressed.
  • the side surface of the glass block may include an internal reflection surface that reflects light rays from the first optical system to the first reflection surface.
  • the refractive index GBn of the glass block preferably satisfies the following formula. 0.05 ⁇ GBL / GBn / LML ⁇ 0.7 (7)
  • the Abbe number GBv of the glass block satisfies the following formula. 30 ⁇ GBv ⁇ 100 (8)
  • the first optical system includes a lens group G2r having a positive refractive power on the wide-angle side of the first intermediate image separated from the closest aspheric lens on the wide-angle side, and the focal length G2rF of the lens group G2r is expressed by the following equation: It is desirable to satisfy. 0 ⁇ G2rF ⁇ 1000 (9)
  • the optical path length OP1d of the upper limit light beam and the optical path length OP2d of the lower limit light beam between the first optical system and the first reflecting surface satisfy the following expressions. 1 ⁇ OP1d / OP2d ⁇ 1.15 (10)
  • One of the different aspects of the present invention is a projector having the projection optical system described above and a light modulator that forms an image on the first image plane.
  • the projector may include an illumination optical system that illuminates the first image plane.
  • FIGS. 1A to 1D are diagrams showing a layout of a projection optical system that includes a glass block and a layout of a projection optical system that does not include a glass block.
  • 2A shows various values of each type
  • FIG. 2B shows conditions of each type
  • FIGS. 2C and 2D show image height and mirror size.
  • FIGS. 1A to 1D show some examples of projectors.
  • the projector 1 projects a projection optical system 10 or 90 that projects from an image plane (first image plane) 5 a of a reduction-side light modulator (light valve) 5 onto an enlargement-side screen or wall surface (second image plane) 6.
  • the light valve 5 may be an LCD, a digital mirror device (DMD), an organic EL, or the like that can form an image, and may be a single plate type or a system that forms an image of each color.
  • the light bulb 5 may be a light emitting type or an illumination type. In the case of the illumination type, the projector 1 further includes an illumination optical system (not shown).
  • the screen 6 may be a wall surface or a white board, and the projector 1 may be a front projector or a rear projector including a screen.
  • Projection optical systems 10 and 90 include a first optical system 11 including a plurality of lenses and a second optical system 12 including a first reflecting surface M1 having a positive refractive power.
  • the reflecting surface (first reflecting surface) M 1 of the second optical system 12 reflects the light output from the first optical system 11 and projects it onto the screen 6 as projection light 19.
  • the first optical system 11 forms a first intermediate image 51 that is formed inside the first optical system 11 by light incident from the reduction side, on the enlargement side from the first optical system 11. This is a refractive optical system (lens system) that forms an image 52.
  • the first optical system 11 is arranged on the enlargement side (output side) with the first lens group (first refractive optical system) G1 disposed on the reduction side (input side) and the first intermediate image 51 interposed therebetween. And a second lens group (second refractive optical system) G2.
  • the second lens group G2 forms the first intermediate image 51 as the second intermediate image 52 on the reduction side of the first reflecting surface (mirror) M1.
  • the mirror M1 enlarges and projects the second intermediate image 52 onto the screen 6.
  • the projection optical system 10 of the projector 1 shown in FIGS. 1A and 1B further includes a glass block (between a first optical system 11 and a first reflecting surface (mirror) M1). GB, prism) 30. Light rays from the first optical system 11 to the second intermediate image 52 pass through the glass block 30.
  • optical systems 10 and 90 form a first optical system (typically refractive optical system) that forms an intermediate image 51 therein and forms a second projection intermediate image 52 in front of the mirror M1.
  • the greatest merit of these optical systems 10 and 90 is that the aspherical mirror M1 can be greatly reduced in size with respect to an optical system that forms only one intermediate image as shown in Document 1.
  • a glass block 30 is inserted between the second lens group G2 and the mirror M1.
  • an intermediate image (second intermediate image) 52 formed between the first optical system 11 and the mirror M1 is used.
  • the intermediate image 51 can be formed upstream of the second intermediate image 52 at a position closer to the image of the light valve 5. Accordingly, it is possible to suppress the spread of light rays from the first optical system 11 including the intermediate image 51 therein to the mirror M1 via the second intermediate image 52 upstream of the mirror M1.
  • the glass block 30 can be inserted between the second lens group G2 and the mirror M1 so that all light rays from the first optical system 11 to the mirror M1 pass. Thereby, the dimension of the mirror M1 can be further reduced with respect to the optical system 90 without the glass block shown in FIGS. 1 (c) and (d).
  • FIG. 2 (a) shows various numerical values in the optical systems of the types shown in FIGS. 1 (a) to 1 (d) (hereinafter may be referred to as type a, type b, type c and type d).
  • the image height Ih is the image height in the light valve 5, and corresponds to the radius of the image circle 5c.
  • the light valve 5 serving as the first image plane is set at a position shifted by an offset 5f from the lens optical axis 9 of the refractive optical system 11, and is a disk that circumscribes the end of the light valve 5 farthest from the lens optical axis 9. Is set as the image circle 5c.
  • the light emission area Vs is the light emission area of the light valve 5, and the size (horizontal dimension, vertical dimension, offset value (mm)) of the light valve 5 of each type of optical system is (19.35, 12. 10, 8.00), type b is (19.15, 14.36, 10.14), type c is (14.52, 8.16, 5.60), type d is (14.01, 10 .51, 8.48).
  • the first intermediate image area I1s and the second intermediate image area I2s correspond to the respective optical axes when the light emission area Vs of the light valve 5 is formed as the first intermediate image 51 and the second intermediate image 52.
  • the mirror radius Mr and the diameter MR are the radius and diameter of a circle when the mirror M1 is projected onto a plane perpendicular to the optical axis 39, as shown in FIG. 2 (d), and each type shown in FIG. In this optical system, the mirror M1 is actually used only below the optical axis 39 as shown in FIG. Also, the mirror M1 that is actually set may be larger than the above dimensions, and the numerical values shown in FIG.
  • the mirror area (effective area) Ms is an area when the area irradiated by the light (light beam) from the light emission area Vs of the light valve 5 is projected onto a plane perpendicular to the optical axis 39 by the mirror M1.
  • the larger the image circle the larger the mirror size (the effective diameter of the mirror) MR.
  • the image height Ir and the mirror size MR are correlated.
  • the mirror size MR is not different from that of the type d, and the image height Ir is larger than that of the type d. It can be seen that the image height can be increased without changing the mirror size MR.
  • the effect of the glass block 30 can provide the projector 1 that can increase the image height while maintaining the mirror size MR, and can project a more compact and larger image.
  • the effect of the glass block 30 can be represented by, for example, the ratio MIR1 between the mirror size (effective diameter (diameter), mm) of the mirror M1 and the image height Ir, and is set in a range that satisfies the following expression (1). it can.
  • MIR1 mirror size (diameter) MR / image height Ih 2.0 ⁇ MIR1 ⁇ 4.5 (1)
  • MIR1 is 5.5 or less, preferably 5.1 or less.
  • MIR1 can be further reduced.
  • MIR1 is further preferably 4.4 or less, more preferably 4.2 or less, and further preferably 4.1 or less.
  • the lower limit is about 2.0.
  • the effect of the glass block 30 can be expressed by, for example, the ratio MIR2 between the effective radius (mm) Mr of the mirror M1 and the image height Ir, and can be set in a range that satisfies the following expression (2).
  • MIR2 mirror size (radius) Mr / image height Ih 1.0 ⁇ MIR2 ⁇ 2.25 (2)
  • MIR2 is preferably 2.2 or less, more preferably 2.1 or less, and further preferably 2.05 or less.
  • the lower limit is about 1.0.
  • the effect of the glass block 30 can be expressed by the first image plane, that is, the light emission area Vs of the light valve 5, and the effective area Ms in the mirror M1 that is the first reflecting surface, and the range satisfying the following formula Can be set.
  • MVR mirror area Ms / light emitting area Vs 1.0 ⁇ MVR ⁇ 6.0 (3)
  • the MVR is preferably 5.8 or less, more preferably 5.6 or less, and even more preferably 5.5 or less.
  • the lower limit is about 1.0.
  • the effect of the glass block 30 can be further expressed by the first image plane, that is, the light emission area Vs of the light valve 5 and the area I2s of the second intermediate image 52, and is set in a range that satisfies the following expression. it can.
  • IVR2 intermediate image area I2s / light emitting area Vs 1.0 ⁇ IVR2 ⁇ 3.0 (4)
  • IVR2 is preferably 2.8 or less, more preferably 2.6 or less, and even more preferably 2.5 or less. Considering that the aberration of the refractive optical system 11 is corrected well, the lower limit is about 1.0.
  • the image size includes the image of the light valve 5, the intermediate image inside the refractive optical system 11 (in-lens intermediate image), and the refractive optical system 11. It is preferable that the size of the intermediate image (aerial image) between the mirror M1 and the mirror M1 increases stepwise. That is, the light emission area Vs, the area Is1 of the first intermediate image 51, and the area I2s of the second intermediate image 52 preferably satisfy the following conditions. Vs ⁇ I1s ⁇ I2s (4.5)
  • the size of the mirror M1 becomes relatively large. If it is attempted to reduce the size of the mirror M1 while the in-lens intermediate image is large, it is necessary to increase the power of the refractive optical system 11, which is disadvantageous in terms of aberration correction. If the magnification of the in-lens intermediate image is much less than the same magnification, it is disadvantageous in terms of aberration correction when considered as an enlarged projection. If the magnification of the in-lens intermediate image greatly exceeds the same magnification, the size of the mirror M1 is increased.
  • the ratio of the image of the light valve 5 (light emission area Vs) and the intermediate image (area I1s of the first intermediate image 51) falls within the following conditions.
  • IVR1 intermediate image area I1s / light emitting area Vs 0.5 ⁇ IVR1 ⁇ 2.0 (5)
  • This condition is effective for all optical systems including types a to d and forming an intermediate image inside the refractive optical system 11 regardless of the presence or absence of the glass block GB.
  • the upper limit is desirably 1.8 or less, and more preferably 1.6 or less.
  • the lower limit is preferably 0.6 or more, and more preferably 0.7 or more.
  • FIG. 3 shows a more specific example of the projection optical system 10 including the glass block 30.
  • FIG. 4 shows data of each element of the projection optical system 10.
  • FIG. 5 shows aspherical data of each element.
  • the projection optical system 10 is one of the specific examples of the type b described above. Therefore, the numerical values and conditions of type b described in FIGS. 2A and 2B are satisfied.
  • Rdy is the radius of curvature (mm) of each element (each lens surface in the case of a lens) arranged in order from the reduction side, the curved surface type of each element (SPH is spherical, ASP is aspheric), and Thi is the reduction side.
  • H * 2 is the effective diameter of each element (mm)
  • d line refractive index
  • d line Abbe number
  • the aspherical surface has the coefficients R, K, A3, and X shown in FIG. Using A4, A6, A8, A10, and A12, it is expressed by the following equation. “En” means “10 to the power of n”.
  • X (1 / R) Y 2 / [1+ ⁇ 1 ⁇ (1 + K) (1 / R) 2 Y 2 ⁇ 1/2] + A3Y 3 + A4Y 4 + A6Y 6 + A8Y 8 + A10Y 10 + A12Y 12
  • FIG. 6 shows transverse aberration diagrams at various image heights. As shown in the figure, the coma aberration is corrected well, and a clear image can be projected on the screen 6.
  • the coma aberration indicates a wavelength of 620 nm (long broken line), a wavelength of 546 nm (solid line), and a wavelength of 450 nm (short broken line), and shows aberrations of tangential rays (T) and sagittal rays (S), respectively. .
  • the projection optical system 10 includes, from the reduction side, a glass block 15 on the incident side, a first optical system (refractive optical system, lens system) 11 including a first lens group G1 and a second lens group G2, and an output. Side glass block 30 and a second optical system (reflection optical system, mirror system) 12 including a mirror M1.
  • the first lens group G1 forms a first intermediate image 51 on the enlargement side by light incident from the first image surface 5a on the reduction side.
  • the first lens group G1 includes 17 lenses L11 to L17, and a diaphragm S is disposed between the lens L11 and the lens L12.
  • the second lens group G2 forms the first intermediate image 51 on the reduction side as the second intermediate image 52 on the enlargement side.
  • the second lens group G2 includes six lenses L21 to L26, and includes a front group G2f including an aspherical positive power convex meniscus lens L21 facing the first intermediate image 51, and the other five lenses. And a rear group G2r including lenses L22 to L26.
  • the types of the lenses L11 to L17 and L21 to L26 are as shown in the lens data of FIG.
  • the ratio with the length LML along 39 is preferably in the range of the following formula (6). In the projection optical system 10 shown in FIG. 3, it is 0.59 (75 / 127.45). 0.1 ⁇ GBL / LML ⁇ 0.9 (6)
  • the lower limit of formula (6) is preferably 0.40, and more preferably 0.50.
  • the refractive index GBn of the glass block 30 supplements the above-described effect due to the glass block 30. Therefore, a higher refractive index GBn is desirable.
  • high refractive index glass has a low Abbe number and poor blue light transmittance. For this reason, it is preferable that it is the range of the following formula
  • FIG. Formula (7) (optical path conversion size) in the projection optical system 10 shown in FIG. 3 is 0.34 (75 / 1.743198).
  • the lower limit of formula (7) is preferably 0.15, and more preferably 0.25.
  • the upper limit is preferably 0.6, and more preferably 0.5.
  • the Abbe number GBv of the glass block 30 satisfies the following formula (8) in consideration of blue transmittance and cost.
  • the lower limit of formula (8) is preferably 40, and more preferably 50.
  • the upper limit is preferably 75 and more preferably 65 in view of cost.
  • the focal length G2rF of the rear group G2r of the second lens group G2 satisfies the following formula (9).
  • the rear group G2r has a positive power as a whole, and its focal length affects the position of the second intermediate image, and consequently the size of the mirror M1. In the projection optical system shown in FIG. 3, it is 111.0 mm. 0 ⁇ G2rF ⁇ 1000 (mm) (9)
  • the upper limit is preferably 500, and more preferably 200, since the mirror M1 is reduced.
  • the rear group G2r which is closest to the first intermediate image 51 and excluding the positive power aspheric lens L21, has a long focal length and power. When is decreased, it is significant for coma aberration correction. Moreover, the distance which inserts the glass block 30 is securable by reducing power. Therefore, the lower limit of the formula (9) is preferably 31, more preferably 40, and even more preferably 50.
  • the fact that GwrF is positive is important for inserting the glass block 30 between the first optical system 11 and the mirror M1.
  • FIG. 7 shows an outline of light rays that pass through the glass block 30.
  • the lower limit light beam OP2 of the light beam having the most peripheral field angle passes through the outermost periphery of the mirror M1. Therefore, it is one of the most important parameters that determines the size of the mirror M1.
  • the mirror M1 is an aspherical mirror, and its shape is determined to some extent by the desired angle of view. Focusing on the image height close to the periphery, the reflection angles on the surface of the mirror M1 of the upper limit ray OP1 and the lower limit ray OP2 of the light beam are greatly different. As a result, large astigmatism and coma are likely to occur.
  • the optical path difference between the lens (first optical system) 11 and the mirror M1 plays a large role. It is desirable to make the optical path length of the lower limit light beam OP2 long with respect to the light beam (projection light) 19 reflected by the mirror M1. Therefore, there can be an optimum size of the mirror M1 for each optical specification. Therefore, when the mirror M1 is designed to be smaller than the optimum mirror size, the optical path difference between the upper limit ray and the lower limit ray after mirror reflection cannot be sufficiently taken.
  • the optical path length OP1d of the uppermost ray OP1 of the most peripheral image height and the optical path length OP2d of the lower limit ray OP2 between the first optical system 11 and the mirror (first reflecting surface) M1 satisfy the following expressions. preferable. In the projection optical system 10 shown in FIG. 3, it is 1.04 (178.2 / 171.56). 1 ⁇ OP1d / OP2d ⁇ 1.15 (10) The upper limit is preferably 1.10, and more preferably 1.05.
  • the emission surface 32 of the glass block 30 and the second intermediate image 52 may overlap.
  • the second intermediate image 52 straddles the emission surface (exit surface) 32, dust and scratches attached to the emission surface 32 may be transferred onto the image. Further, when used as the projector 1, dust may be burned onto the emission surface 32 with light having high illuminance. Therefore, one method for preventing such a problem is to make the second intermediate image 52 have a structure that does not straddle the emission surface 32 of the glass block 30.
  • the image forming state is not controlled so well at the angle of view close to the most peripheral image height. Further, the second intermediate image 52 is inclined toward the reduction side so that the most peripheral image height approaches the glass block 30. For this reason, the spot size of the second intermediate image 52 close to the glass block 30 is large, and the image projected onto the screen 6 even across the exit surface 32 of the glass block 30 as long as the image height is closest to the outermost periphery. On the other hand, the effect of reducing the mirror M1 is easy to obtain.
  • the image forming point up to 50% of the maximum image height of the second intermediate image 52 does not straddle the exit surface 32.
  • the image forming point up to 75% of the maximum image height does not straddle the exit surface 32, and the image forming point up to 90% of the maximum image height passes the exit surface 32. More preferably, there is no straddle.
  • the upper surface 33 of the glass block 30 is substantially parallel to the lower limit light beam 19a in order to avoid interference with the reflected light beam from the mirror M1, particularly the lower limit light beam 19a of the projected image.
  • the entrance surface 31 and the exit surface 32 on the reduction side are perpendicular to and parallel to the optical axis 39, and the side surface connecting them, particularly the side surface 33 on the projection side, is relative to the optical axis 39.
  • the exit surface 32 is It is preferable to shift the optical axis 39 to the opposite side of the projection side.
  • the glass block 30 may have a cylindrical shape or a rectangular parallelepiped shape distorted in parallel.
  • the glass block 30 may be a pyramid or a cone that narrows toward the enlargement side, considering that the light flux from the first optical system 11 to the mirror M1 converges.
  • FIG. 8 shows the projection optical system 10 including different glass blocks 30 and the projector 1 including the projection optical system 10.
  • the projection direction is changed by providing two reflection surfaces 35 and 36 inside the glass block 30 (side surfaces), and the offset amount of the light beam 19, for example, the lower limit light beam 19a and the mirror M1 is changed. Can be secured.
  • FIG. 9 shows an example in which the projection optical system 10 shown in FIG. 3 is housed in the housing (body) 2.
  • the lower limit light beam 19a after being reflected by the mirror M1 needs to avoid interference between the projection optical system 10 itself and the body 2 of the projector 1.
  • this problem can be improved by securing the distance between the mirror M1 and the body 2 by inserting the glass block 30.
  • the lower limit light ray 19a is increased to prevent the interference with the body 2 as shown in FIG. It is necessary to control the height that can be projected onto the screen.
  • the glass block 30 When the glass block 30 is present, as shown in FIG. 8, by providing the reflecting surfaces 35 and 36 in the glass block 30, the lower limit light beam 19a can be increased without increasing the off-axis amount of the light valve 5, Interference can be avoided.
  • the glass block 30 is also used as a prism, it is desirable that the reflecting surfaces 35 and 36 facing each other are substantially parallel. Further, if the inclination angle is made larger than 45 degrees while maintaining the substantially parallel relationship between the reflecting surfaces 35 and 36, the angle of the light rays incident on the reflecting surfaces 35 and 37 exceeds the total reflection angle. If all the light rays incident on the reflecting surfaces 35 and 36 are totally reflected, the reflecting surfaces 35 and 36 need not be coated with a reflecting film, and the cost can be reduced. Therefore, it is desirable that the angle of the reflecting surfaces 35 and 36 in the substantially parallel relationship of the glass block 30 with respect to the incident surface 31 is larger than 45 degrees.
  • FIG. 10 shows a projection optical system 10 including a further different glass block 30 and a projector 1 including the projection optical system 10.
  • the projector 1 can be installed vertically.
  • the screen 6 can project a wide and large image above the projector 1 with the projector 1 standing on the wall.
  • the glass block 30 includes a reflection surface 35 of 45 degrees inside, the incident surface 31 and the exit surface 32 are not parallel, and the projection-side surface 33 adjacent to the exit surface 32 has a lower limit ray 19a.
  • the surface is inclined substantially parallel to the optical axis.
  • the surface 33 facing the light beam is preferably substantially parallel to the lower limit light beam 19a in order to avoid interference.
  • the glass block (prism) 30 with the reflection surface 35 of 45 degrees, it is possible to obtain the effect of reducing the size of the mirror M1 by the glass block 30 and the effect of changing the projection direction.
  • the glass block (prism) 30 has one reflecting surface, it needs to be 45 degrees.
  • the optical performance can be compensated by setting the two surfaces to the same angle.
  • the optical path can be adjusted by preparing two 50-degree reflecting surfaces. At this angle, the light incident on the blue optical path exceeds the total reflection critical angle on the slope, and a high reflectance can be obtained without coating the slope.
  • the reflective surface 35 may be formed using a metallic reflective film. On the other hand, when light rays concentrate, temperature drift due to heat generation due to light absorption of metal may occur. A dielectric multilayer film may be used for the 45 degree surface 35.
  • the reflective surface 35 may be formed of a composite film of a metal and a dielectric multilayer film. If there is no design restriction, the reflecting surface 35 may be a surface that can ensure total reflection.
  • the prism 30 when the prism 30 includes two inclined surfaces serving as reflecting surfaces, the angles between the inclined surfaces are substantially parallel and inclined more than 45 degrees, and the total luminous flux emitted from the light valve 5 is It is desirable that the angle is a total reflection on these slopes.
  • the film applied to the inclined surface may be a metal reflective film with a dielectric multilayer film, or the film applied to the inclined surface may be a dielectric multilayer reflective film. Good.
  • the surface where both or one of the entrance surface 31 and the exit surface 32 of the glass block 30 has power may be used.
  • the glass block 30 may be composed of a glass joined body having a plurality of refractive indexes and / or Abbe numbers.
  • the glass block 30 may be made of a glass bonded body having a plurality of refractive indexes and / or Abbe numbers, and may have power on the bonding surface.

Abstract

 投射光学系(10)は、縮小側の第1の像面(5)から拡大側の第2の像面(6)へ投射する光学系である。この投射光学系(10)は、複数のレンズを含み、縮小側から入射した光により当該第1の光学系(11)の内部に結像される第1の中間像(51)を当該第1の光学系(11)よりも拡大側に第2の中間像(52)として結像する第1の光学系(11)と、第2の中間像(52)よりも拡大側に位置する正の屈折力の第1の反射面(M1)を含む第2の光学系(12)と、第1の光学系(11)と第1の反射面(M1)との間に配置されたガラスブロック(30)であって、第1の光学系(11)から第2の中間像(52)に至る光線が通過するガラスブロック(30)とを有する。

Description

投射光学系およびプロジェクタ装置
 本発明は、プロジェクタ装置の投射光学系に関するものである。
 日本国特許公開公報2004-258620号(文献1)には、投射画面の大画面化を図りつつ、投射装置外の投影空間を縮小するために、反射面を含む結像光学系を採用しつつ、色収差も補正可能な投射光学系およびこのような投射光学系を用いる画像投射装置を実現することが記載されている。そのため、文献1には、ライトバルブの投影側にライトバルブの側から第1、第2の光学系を上記順序に配し、第1の光学系は1以上の屈折光学系を含み、正のパワーを有し、第2の光学系はパワーを有する反射面を1以上含み、正のパワーを有し、ライトバルブにより形成された画像を第1及び第2の光学系の光路上に中間像として結像させ、中間像をさらに拡大してスクリーン上に投射することが記載されている。
 プレゼンテーション用や学校教育用などの様々な用途において、さらにコンパクトで広角化の要求に対応できる投射光学系が要望されている。
 本発明の一態様は、縮小側の第1の像面から拡大側の第2の像面へ投射する投射光学系である。この投射光学系は、複数のレンズを含み、縮小側から入射した光により当該第1の光学系の内部に結像される第1の中間像を当該第1の光学系よりも拡大側に第2の中間像として結像する第1の光学系と、第2の中間像よりも拡大側に位置する正の屈折力の第1の反射面を含む第2の光学系と、第1の光学系と第1の反射面との間に配置されたガラスブロックであって、第1の光学系から第2の中間像に至る光線が通過するガラスブロックとを有する。
 ガラスブロックを光路に挿入して光路を制御しようとした場合、凸面鏡を用いたシステムでは凸面鏡に対する入射光および出射光がガラスブロックを通過するため入射光と出射光とが干渉する。このため、ガラスブロックを挿入することが困難である。凹面鏡を用いたシステムでは、レンズ系から拡大側の凹面鏡に至る光束が拡散し、特に、広角で像を投影しようとするシステムではレンズ系から凹面鏡に至る光線幅が大きくなり、その間の全光線に対してほぼ等しく作用するようにガラスブロックを挿入することは難しい。これに対し、本願の発明者は、内部に中間像を形成する第1の光学系を採用することにより、第1の光学系と第1の反射面との間に形成される第2の中間像と縮小側の第1の像面との間に第1の中間像を置くことができ、第1の光学系から第1の反射面に至る光線の広がりを抑制できることを見出した。したがって、本発明の投射光学系においては、第1の光学系から第1の反射面に至る全光線に作用を及ぼし、さらに、第1の反射面から出力される光と干渉しないようにガラスブロックを挿入できる。
 高画角の画像を第2の像面に投影しようとすると、第1の反射面の大きさ(径)が大きくなり、径の増加を押えようとすると第1の光学系のパワーが大きくなり諸収差の補正が難しくなる。内部に中間像を形成する第1の光学系を組み合わせることにより、第1の光学系から第1の反射面に至る光束の広がりを抑制できる。このため、コンパクトな第1の反射面を用いて高画角の画像を投影できる。さらに、第1の光学系から第1の反射面に至る光路に屈折率が高い媒体であるガラスブロックを配置することにより光線高を低くでき、第1の光学系、特に、縮小側の光学系のパワーを強めることなく、第1の反射面が大きくなるのを抑制でき、さらにコンパクトな投射光学系を提供できる。
 第1の光学系は内部に複数の中間像を形成する構成であってもよい。典型的には、第1の光学系は、縮小側に配置され、第1の中間像を形成する第1の屈折光学系と、拡大側に配置され、第1の中間像を第1の反射面の縮小側に形成する第2の屈折光学系とを含む。正の屈折力の第1の反射面は典型的には凹面鏡であって、第2の中間像を第2の像面へ拡大投影する。第1の反射面は回転対称であってもよく、回転非対称であってもよい。
 この投射光学系においては、縮小側の第1の像面の像高に対して、第1の反射面をコンパクトにできる。投射光学系は、第1の像面の像高Ihと、第1の反射面の直径MRとが以下の式を満たしてもよい。
2.0 < MR/Ih < 4.5・・・(1)
 この投射光学系においては、第1の反射面はほぼ半円の部分で反射された光が投影される。したがって、第1の像面の像高Ihと、第1の反射面の半径Mrとが以下の式を満たしてもよい。
1.0 < Mr/Ih < 2.25・・・(2)
 この投射光学系において、第1の像面の発光面積に対して第1の反射面において使用される面積を小さくなる。したがって、第1の像面の発光面積Vsと、第1の反射面における有効面積Msとが以下の式を満たしてもよい。
1.0 < Ms/Vs < 6.0・・・(3)
 この投射光学系において、第2の中間像を小さくすることができる。したがって、第1の像面の発光面積Vsと、第2の中間像の面積I2sとが以下の式を満たしてもよい。
1.0 < I2s/Vs < 3.0・・・(4)
 この投射光学系において、第1の像面の発光面積Vsと、第1の中間像の面積I1sとが以下の式を満たすことが望ましい。性能とサイズとのバランスのよい投射光学系を提供できる。
0.5 < I1s/Vs < 2.0・・・(5)
 ガラスブロックは第1の光学系と第2の中間像の間に配置されていてもよい。第2の中間像をガラスブロックの外に形成することにより第2の中間像にガラスブロックの物理的影響、例えば、傷やゴミの影響が表れることを防止でき、最終的に第2の像面へ投影される画像の品質が低下することを抑制できる。
 ガラスブロックは、第1の光学系の側の入射面と、第1の反射面の側の出射面と、出射面と入射面との間の側面とを含み、側面は、第1の光学系と第1の反射面との間の光軸に対して少なくとも一部が傾いていてもよい。たとえば、側面は、第1の反射面から第2の像面に至る投射光の下限光線とほぼ平行に傾いている面を含んでいてもよい。下限光線とガラスブロックとの干渉を抑制できる。ガラスブロックの側面は、第1の光学系から第1の反射面に至る光線を反射する内部反射面を含んでいてもよい。
 ガラスブロックの前記第1の光学系と第1の反射面との間の光軸に沿った長さGBLと、第1の光学系と第1の反射面との光軸に沿った長さLMLとは以下の式を満たすことが望ましい。
0.1 < GBL/LML < 0.9・・・(6)
 ガラスブロックの第1の光学系と第1の反射面との間の光軸に沿った長さGBLと、第1の光学系と第1の反射面との光軸に沿った長さLMLと、ガラスブロックの屈折率GBnとはが以下の式を満たすことが望ましい。
0.05 < GBL/GBn/LML < 0.7・・・(7)
 ガラスブロックのアッベ数GBvが以下の式を満たすことが望ましい。
30 < GBv < 100・・・(8)
 第1の光学系は、第1の中間像の広角側の直近の非球面レンズを隔てた広角側に屈折力が正のレンズ群G2rを含み、レンズ群G2rの焦点距離G2rFが以下の式を満たすことが望ましい。
0 < G2rF < 1000・・・(9)
 第1の光学系と第1の反射面との間の最周辺像高の上限光線の光路長OP1dと、下限光線の光路長OP2dとが以下の式を満たすことがさらに好ましい。
1 < OP1d/OP2d < 1.15・・・(10)
 本発明の異なる態様の1つは、上記の投射光学系と、第1の像面に画像を形成する光変調器とを有するプロジェクタである。プロジェクタは、第1の像面を照明する照明光学系を含んでいてもよい。
図1(a)~(d)は、ガラスブロックを含むタイプの投射光学系のレイアウトと、ガラスブロックを含まないタイプの投射光学系のレイアウトとを示す図。 図2(a)は各タイプの諸数値を示し、図2(b)は各タイプの条件を示し、図2(c)および(d)は像高およびミラーサイズを示す図。 ガラスブロックを含む投射光学系の一例。 レンズデータを示す図。 非球面データを示す図。 収差を示す図。 ガラスブロックを拡大して示す図。 異なる投射光学系の例を示す図。 プロジェクタのボディとの干渉を例示する図。 異なる投射光学系を示す図。
発明の実施の形態
 図1(a)~(d)に、プロジェクタのいくつかの例を示している。プロジェクタ1は、縮小側の光変調器(ライトバルブ)5の像面(第1の像面)5aから拡大側のスクリーンまたは壁面(第2の像面)6へ投射する投射光学系10または90を含む。ライトバルブ5は、LCD、デジタルミラーデバイス(DMD)あるいは有機ELなどの画像を形成できるものであればよく、単板式であっても、各色の画像をそれぞれ形成する方式であってもよい。ライトバルブ5は発光タイプであってもよく、照明タイプであってもよい。照明タイプの場合は、プロジェクタ1はさらに照明光学系(不図示)を含む。スクリーン6は、壁面やホワイトボードなどであってもよく、プロジェクタ1はフロントプロジェクタであっても、スクリーンを含むリアプロジェクタであってもよい。
 投射光学系10および90は、複数のレンズを含む第1の光学系11と、正の屈折力の第1の反射面M1を含む第2の光学系12とを含む。第2の光学系12の反射面(第1の反射面)M1は、第1の光学系11から出力された光を反射して投影光19としてスクリーン6に投射する。第1の光学系11は、縮小側から入射した光により第1の光学系11の内部に結像される第1の中間像51を第1の光学系11よりも拡大側に第2の中間像52として結像する屈折光学系(レンズシステム)である。第1の光学系11は、縮小側(入力側)に配置された第1のレンズ群(第1の屈折光学系)G1と、第1の中間像51を挟んで拡大側(出力側)に配置された第2のレンズ群(第2の屈折光学系)G2とを含む。第2のレンズ群G2は、第1の中間像51を第1の反射面(ミラー)M1の縮小側に第2の中間像52として結像する。ミラーM1は、第2の中間像52をスクリーン6に拡大投影する。
 図1(a)および(b)に示したプロジェクタ1の投射光学系10は、さらに、第1の光学系11と、第1の反射面(ミラー)M1との間に配置されたガラスブロック(GB、プリズム)30とを含む。第1の光学系11から第2の中間像52に至る光線はガラスブロック30を通過する。
 図1(a)~(d)に示す光学系10および90は、複数の中間像を形成する光学系である。すなわち、これらの光学系10および90は、内部に中間像51を形成し、かつミラーM1の前に第2の投影用の中間像52を形成する第1の光学系(典型的には屈折光学系)11と、ミラーM1との組み合わせを含む。これらの光学系10および90の最大のメリットは、非球面ミラーM1を、文献1に示すような中間像を1つしか形成しない光学システムに対して大幅に小型化できることである。
 さらに、図1(a)および(b)に示す投射光学系10においては、第2のレンズ群G2とミラーM1との間にガラスブロック30を挿入している。まず、内部に中間像51を形成する第1の光学系11を採用することにより、第1の光学系11とミラーM1との間に形成される中間像(第2の中間像)52に対して、ライトバルブ5の像よりも近い位置で、第2の中間像52の上流に中間像51を形成できる。したがって、内部に中間像51を含む第1の光学系11から、ミラーM1の上流の第2の中間像52を介してミラーM1に至る光線の広がりを抑制できる。このため、第2のレンズ群G2とミラーM1の間に第1の光学系11からミラーM1に至る全光線が通過するようにガラスブロック30を挿入できる。これにより、図1(c)および(d)に示すガラスブロックのない光学系90に対して、ミラーM1の寸法を、さらに小型化できる。
 図2(a)に、図1(a)~(d)の各タイプの光学系における(以降は、タイプa、タイプb、タイプcおよびタイプdと呼ぶことがある)諸数値を示している。図2(c)に示すように、像高Ihは、ライトバルブ5における像高であり、イメージサークル5cの半径に対応する。第1の像面となるライトバルブ5は、屈折光学系11のレンズ光軸9からオフセット5fだけシフトした位置にセットされ、ライトバルブ5の、レンズ光軸9から最も遠い端を外接円する円盤がイメージサークル5cとして設定される。発光面積Vsは、ライトバルブ5の発光面積であり、各タイプの光学系のライトバルブ5のサイズ(水平寸法、垂直寸法、オフセット値(mm))は、タイプaは(19.35、12.10、8.00)、タイプbは(19.15、14.36、10.14)、タイプcは(14.52、8.16、5.60)、タイプdは(14.01、10.51、8.48)である。
 第1の中間像面積I1sおよび第2の中間像面積I2sは、ライトバルブ5の発光面積Vsを第1の中間像51および第2の中間像52として結像したときの、各光軸に対して垂直な面で見た(投影した)面積(mm)である。ミラー半径Mrおよび直径MRは、図2(d)に示すように、ミラーM1を、その光軸39に垂直な面に投影したときの円の半径および直径であり、図1に示した各タイプの光学系では、ミラーM1は実際には、図2(d)に示すように光軸39よりも下側しか用いられていない。また、実際にセットされるミラーM1は、上記の寸法よりも大きくてもよく、図2(a)に記載した数値は、実際には、光軸39から最も遠い照射面積(ライトバルブ5からの光により照射される面積)の外接円(有効円)の半径および直径である。ミラー面積(有効面積)Msは、ミラーM1が、ライトバルブ5の発光面積Vsからの光(光束)により照射される面積を光軸39に垂直な面に投影したときの面積である。
 ミラーを用いた投射光学系においては、一般に、イメージサークルが大きくなるほどミラーサイズ(ミラーの有効径)MRも大きくなる傾向がある。図1(c)および(d)に示したガラスブロックのない光学系(タイプcおよびタイプd)では像高IrとミラーサイズMRは相関がある。一方、図1(a)および(b)に示したガラスブロックGBのある光学系(タイプaおよびタイプb)では、ミラーサイズMRはタイプdと変わらず、像高Irはタイプdより大きく、さらにミラーサイズMRを変えずに像高を大きくできることが分かる。
 したがって、ガラスブロック30の効果により、ミラーサイズMRを維持しながら、像高を大きくでき、よりコンパクトでより大きな画像を投影できるプロジェクタ1を提供できる。ガラスブロック30の効果は、例えば、ミラーサイズ(ミラーM1の有効径(直径)、mm)MRと像高Irとの比率MIR1で示すことができ、以下の式(1)を満足する範囲に設定できる。
MIR1=ミラーサイズ(直径)MR/像高Ih
2.0 < MIR1 < 4.5・・・(1)
多中間像を形成する光学系90においては、MIR1が5.5以下、好ましくは5.1以下と小さい。ガラスブロック30を含む光学系10においては、さらにMIR1を小さくできる。ガラスブロック30を含む光学系10においては、MIR1は、さらに、4.4以下であること好ましく、4.2以下であることがさらに好ましく、4.1以下であることがさらに好ましい。屈折光学系(第1の光学系)11の収差を良好に補正することを考慮すると下限は2.0程度である。
 ガラスブロック30の効果は、例えば、ミラーM1の有効半径(mm)Mrと像高Irとの比率MIR2で示すことも可能であり、以下の式(2)を満足する範囲に設定できる。
MIR2=ミラーサイズ(半径)Mr/像高Ih
1.0 < MIR2 < 2.25・・・(2)
MIR2は、上記と同様に、2.2以下であること好ましく、2.1以下であることがさらに好ましく、2.05以下であることがさらに好ましい。屈折光学系11の収差を良好に補正することを考慮すると下限は1.0程度である。
 ガラスブロック30の効果は、第1の像面、すなわちライトバルブ5の発光面積Vsと、第1の反射面であるミラーM1における有効面積Msで表すことが可能であり、以下の式を満たす範囲に設定できる。
MVR=ミラー面積Ms/発光面積Vs
1.0 < MVR < 6.0・・・(3)
MVRは、5.8以下であること好ましく、5.6以下であることがさらに好ましく、5.5以下であることがいっそう好ましい。屈折光学系11の収差を良好に補正することを考慮すると下限は1.0程度である。
 ガラスブロック30の効果は、さらに、第1の像面、すなわちライトバルブ5の発光面積Vsと、第2の中間像52の面積I2sで表すことが可能であり、以下の式を満たす範囲に設定できる。
IVR2=中間像の面積I2s/発光面積Vs
1.0 < IVR2 < 3.0・・・(4)
IVR2は、2.8以下であること好ましく、2.6以下であることがさらに好ましい、2.5以下であることがさらに好ましい。屈折光学系11の収差を良好に補正することを考慮すると下限は1.0程度である。
 この光学系1においては、拡大投射光学系であることを考えると、像サイズとしては,ライトバルブ5の像、屈折光学系11の内部の中間像(レンズ内中間像)、屈折光学系11とミラーM1との間の空中の中間像(空中像)の順に段階的に大きくなることが好ましい。すなわち、発光面積Vsと、第1の中間像51の面積Is1と、第2の中間像52の面積I2sとは以下の条件を満足することが好ましい。
Vs < I1s < I2s・・・(4.5)
 一方,レンズ内中間像が大きくなると、相対的にミラーM1のサイズが大きくなる。レンズ内中間像が大きい状態でミラーM1を小型化しようとすると、屈折光学系11のパワーを強める必要があり、収差補正上不利となる。レンズ内中間像の倍率が等倍を大きく下回ると、拡大投射として考えたときに収差補正上不利となる。レンズ内中間像の倍率が等倍を大きく上回ると、ミラーM1の大型化を招き、ミラーM1を無理に小型化する場合には、屈折光学系11のパワーを強める必要があり,収差補正上不利となる。これらの関係から、ライトバルブ5の像(発光面積Vs)と、中間像(第1の中間像51の面積I1s)の比率を以下の条件の範囲に収めることが望ましい。
IVR1=中間像の面積I1s/発光面積Vs
0.5 < IVR1 < 2.0・・・(5)
この条件は、ガラスブロックGBの有無にかかわらず、タイプa~dを含み、屈折光学系11の内部に中間像を形成する全ての光学系に対して有効である。上限は、1.8以下であることが望ましく、1.6以下であることがさらに好ましい。下限は、0.6以上であることが好ましく、0.7以上であることがさらに好ましい。
 図3に、ガラスブロック30を含む投射光学系10のさらに具体的な一例を示している。図4に、投射光学系10の各エレメントのデータを示している。図5は各エレメントのうちの非球面データを示している。この投射光学系10は、上述したタイプbの具体的な例の1つである。したがって、図2(a)および(b)に記載したタイプbの諸数値および条件を満足する。
 図4において、Rdyは縮小側から順に並んだ各エレメント(レンズの場合は各レンズ面)の曲率半径(mm)、各エレメントの曲面タイプ(SPHは球面、ASPは非球面)、Thiは縮小側から順に並んだ各エレメントの面の間の距離(mm)、H*2は各エレメントの有効径(mm)、さらに、各エレメントがガラスの場合は、ガラス種と、屈折率(d線)、アッベ数(d線)を示している。
 非球面は、Xを光軸方向の座標、Yを光軸と垂直方向の座標、光の進行方向を正、Rを近軸曲率半径とすると、図5に示した係数R、K、A3、A4、A6、A8、A10、およびA12を用いて次式で表わされる。なお、「en」は、「10のn乗」を意味する。
X=(1/R)Y/[1+{1-(1+K)(1/R)}1/2]
+A3Y+A4Y+A6Y+A8Y+A10Y10+A12Y12
 図6に各像高における横収差図を示している。本図に示すように、コマ収差は良好に補正されており、鮮明な像をスクリーン6に投影することができる。なお、コマ収差は、波長620nm(長破線)と、波長546nm(実線)と、波長450nm(短破線)とを示し、タンジェンシャル光線(T)およびサジタル光線(S)の収差をそれぞれ示している。
 投射光学系10は、縮小側から、入射側のガラスブロック15と、第1のレンズ群G1および第2のレンズ群G2を含む第1の光学系(屈折光学系、レンズシステム)11と、出力側のガラスブロック30と、ミラーM1を含む第2の光学系(反射光学系、ミラーシステム)12とを有する。第1のレンズ群G1は、縮小側の第1の像面5aから入射された光により、拡大側に第1の中間像51を形成する。第1のレンズ群G1は、17枚のレンズL11~L17を含み、レンズL11とレンズL12との間に絞りSが配置されている。第2のレンズ群G2は、縮小側の第1の中間像51を、拡大側に第2の中間像52として結像する。第2のレンズ群G2は、6枚のレンズL21~L26を含み、第1の中間像51に面した非球面で正のパワーの凸メニスカスレンズL21からなる前群G2fと、他の5枚のレンズL22~L26からなる後群G2rとを含む。各レンズL11~L17およびL21~L26のタイプは図4のレンズデータに示す通りである。
 出力側のガラスブロック30なしでミラーM1を小型化する場合、第1のレンズ群G1のパワーを強める必要がある。第1のレンズ群G1のパワーを強めることは、コマ収差の増大に繋がり、周辺の解像性能を損なう可能性がある。第1の光学系11の出力側にガラスブロック30を挿入することにより、ガラスブロック30を通過し、ミラーM1に向かう光線高を低くできる。これにより、第1のレンズ群G1のパワーを強めることなく、ミラーM1を小さくできる。ガラスブロック30の厚み(光軸39に沿った長さ)を適宜選択することにより、第1のレンズ群G1のパワーをむしろ弱めにして高解像化を促すことも可能となる。このため、図6に示すように諸収差が良好に修正された画像をスクリーン6に投影できる。
 この効果は、第1の光学系11とミラーM1との距離に占めるガラスブロック30の割合が多いほど効果は大きくなる。したがって、第1の光学系11とミラー(第1の反射面)M1との間の光軸39に沿ったガラスブロック30の長さGBLと、第1の光学系11とミラーM1との光軸39に沿った長さLMLとの比率が以下の式(6)の範囲であることが望ましい。図3に示した投射光学系10においては、0.59(75/127.45)である。
0.1 < GBL/LML < 0.9・・・(6)
式(6)の下限は、0.40であることが好ましく、0.50であることがさらに好ましい。
 ガラスブロック30の屈折率GBnは、ガラスブロック30による上記の効果を補う。したがって、屈折率GBnは高いほうが望ましい。しかしながら、高屈折率のガラスはアッべ数が低くなり、青色光の透過率が悪くなる。このため、ガラスブロック30の屈折率GBnを含めて、以下の式(7)の範囲であることが好ましい。図3に示した投射光学系10における式(7)(光路換算サイズ)は0.34(75/1.743198)である。
0.05 < GBL/GBn/LML < 0.7・・・(7)
式(7)の下限は0.15であることが好ましく、0.25であることがさらに好ましい。上限は0.6であることが好ましく、0.5であることがさらに好ましい。この値が大きくなり過ぎると、ガラスブロック30の厚みが大きくなり過ぎて、光線(ミラーM1により反射された光線)と干渉する可能性が高くなる。また、屈折率GBnが低くなるとミラーM1を小型化する効果が小さくなる。
 また、ガラスブロック30のアッベ数GBvは青色の透過率とコストとを考慮すると以下の式(8)を満たすことが望ましい。図3に示した投射光学系では49.3である。
30 < GBv < 100・・・(8)
式(8)の下限は40であることが好ましく、50であることがさらに好ましい。上限は、コストを考慮すると、75であることが好ましく、65であることがさらに好ましい。
 また、第2のレンズ群G2の後群G2rの焦点距離G2rFは以下の式(9)を満たすことが望ましい。後群G2rは全体として正のパワーを有し、その焦点距離は第2の中間像の位置に影響を与え、ひいてはミラーM1の大きさにも影響を与える。図3に示した投射光学系では111.0mmである。
0 < G2rF < 1000(mm)・・・(9)
上限は、ミラーM1を小さくすることから500であることが好ましく、200であることがさらに好ましい。
 第1の中間像51よりミラーM1の側の光学系で、第1の中間像51に最も近く、かつ、正のパワーの非球面レンズL21を除く後群G2rは長焦点距離化してパワーをパワーが減じると、コマ収差補正に有意である。また、パワーを減じることによりガラスブロック30を挿入する距離を確保できる。したがって、式(9)の下限は31であることが好ましく、40であることがさらに好ましく、50であることがいっそう好ましい。
 また、第1の中間像51よりミラーM1の側の光学系で、第1の中間像51に最も近く、かつ、正のパワーの非球面レンズL21を除く部位(後群G2r)の合成焦点距離GwrFが正であることは、ガラスブロック30を第1の光学系11とミラーM1との間に挿入するために重要である。
 図7にガラスブロック30の中を通過する光線の概要を示している。最周辺画角の光束の特に下限光線OP2は、ミラーM1の最周辺を通過する。したがって、ミラーM1のサイズを決定づける最も重要なパラメータの1つとなる。ミラーM1は非球面ミラーであり、その形状は、得たい画角によりある程度決定される。周辺に近い像高に着目すると、光束の上限光線OP1と下限光線OP2におけるミラーM1の面上での反射角が大きく異なる。これにより、大きな非点収差とコマ収差が発生しやすい。この収差補正には、レンズ(第1の光学系)11とミラーM1の間の光路差が大きな役割を果たす。ミラーM1で反射後の光線(投射光)19に対して、下限光線OP2の光路長を長く取ることが望ましい。そのため、任意の光学仕様に対して、各々最適なミラーM1のサイズが存在し得る。したがって、最適ミラーサイズよりミラーM1を小さく設計しようとした場合、ミラー反射後の上限光線と下限光線の光路差を十分に取ることができなくなる。
 ガラスブロック30を挿入することにより、屈折率の効果により、上記の光路差を補正する効果が得られる。これにより、ミラーサイズを小さくしても性能を保つことができる。第1の光学系11とミラー(第1の反射面)M1との間の最周辺像高の上限光線OP1の光路長OP1dと、下限光線OP2の光路長OP2dとが以下の式を満たすことが好ましい。図3に示した投射光学系10においては、1.04(178.2/171.56)である。
1 < OP1d/OP2d < 1.15・・・(10)
上限は1.10が好ましく、1.05であることがさらに好ましい。
 式(6)より、ガラスブロック30が長い方がミラーM1をコンパクトにする効果は得られやすい。一方、ガラスブロック30をミラーM1に近づけると、ガラスブロック30の出射面32と第2の中間像52とが重なる可能性がある。出射面(射出面)32を第2の中間像52が跨ぐと、出射面32に付着したゴミや傷が映像上に移りこんでしまう可能性がある。また、プロジェクタ1として用いた場合、高照度の光でゴミが出射面32に焼きつく可能性もある。したがって、このような不具合を未然に防ぐ方法の1つは、第2の中間像52がガラスブロック30の出射面32を跨がない構造とすることである。
 一方、第2の中間像52では、最周辺像高に近い画角は結像状態がそれほど良好に制御されない。さらに、第2の中間像52は、最周辺像高がガラスブロック30に近づくように縮小側に傾く。このため、第2の中間像52のガラスブロック30に近い結像のスポットサイズは大きく、最周辺に近い像高のみであればガラスブロック30の射出面32を跨いでもスクリーン6に投影される画像の品質に対する影響は少なく、一方、ミラーM1を小さくする効果は得やすい。
 したがって、ミラーサイズと画質との両立を図るためには、第2の中間像52の像面について最大像高の50%までの結像点が、射出面32を跨がないことが好ましい。一方、画質を優先する場合には、最大像高の75%までの結像点が射出面32を跨がないことが好ましく、最大像高の90%までの結像点が、射出面32を跨がないことがさらに好ましい。
 また、図7に示すように、ミラーM1からの反射光線、特に、投影画像の下限光線19aとの干渉回避のため、ガラスブロック30の上面33は下限光線19aと略平行になっていることが好ましい。典型的なガラスブロック30は、縮小側の入射面31と出射面32とが光軸39に対して垂直で平行であり、それらを接続する側面、特に投影側の側面33が光軸39に対して傾斜しているものである。この例では、側面33の全体が傾斜しているが、側面33の一部が傾斜しているものであってもよい。
 投影側の下限光線19aを考慮し、また、第1の中間像51と第2の中間像52とが光軸39を挟んで反対側にできることを考慮すると、入射面31に対し出射面32は光軸39の投影側とは逆側にシフトさせることが好ましい。ガラスブロック30は平行に歪んだ円筒状あるいは直方体状であってもよい。この投射光学系10においては、第1の光学系11からミラーM1に至る光束が収束することを考えると、ガラスブロック30は、拡大側に細くなった角錐あるいは円錐状であってもよい。
 図8に、異なるガラスブロック30を含む投射光学系10と、投射光学系10を含むプロジェクタ1を示している。この投射光学系10においてはガラスブロック30の内部(側面)に2つの反射面35および36を持たせることで、投射方向を変換したり、光線19、例えば下限光線19aとミラーM1のオフセット量を確保したりすることができる。
 図9に、図3に示した投射光学系10をハウジング(ボディ)2に収納した一例を示す。プロジェクタ1として使用する場合、ミラーM1に反射した後の下限光線19aは投射光学系10自体と、プロジェクタ1のボディ2の両方との干渉を回避する必要がある。
 ガラスブロックがない光学系の場合、下限光線19aを高くするためには、ライトバルブ5の軸外し量を増加する方法がある。この回避方法では、軸外し量を必要以上に増す必要があるため、スクリーン上におけるプロジェクタと投射画面の位置関係が離れてしまうという問題がある。また、イメージサークルも大きくなり、光学設計性能、およびミラーサイズの観点で不利になってしまうという問題がある。
 図9(a)に示したように、ガラスブロック30を挿入することにより、ミラーM1とボディ2との距離を確保することでこの問題は改善できる。しかしながら、図9(a)に示したようにボディ2との干渉があると、図9(b)に示したようにボディ2との干渉を防止するために下限光線19aを高くしてスクリーン6に投影できる高さを制御する必要がある。
 ガラスブロック30がある場合、図8に示すように、ガラスブロック30内に反射面35および36を設けることで、ライトバルブ5の軸外し量を増加させずに下限光線19aを高くでき、光線の干渉を回避できる。ガラスブロック30をプリズムとしても用いる場合、対向する反射面35および36は、略平行であることが望ましい。また、反射面35および36が略平行な関係を保ったまま、45度より傾斜角を大きくすると、反射面35および37に入射する光線の角度が全反射角を超える。反射面35および36に入射する光線のすべてが全反射となれば、反射面35および36に反射膜をコートしなくても良く、コストを低減できる。したがって、ガラスブロック30の略平行関係にある反射面35および36の入射面31に対する角度は45度よりも大きいことが望ましい。
 図10に、さらに異なるガラスブロック30を含む投射光学系10と、投射光学系10を含むプロジェクタ1を示している。このプロジェクタ1は縦置き方式が可能であり、例えば、スクリーン6は壁面にプロジェクタ1を立てかけて、プロジェクタ1の上方に広く大きな画像を投影できる。このガラスブロック30は、内部に45度の反射面35を含み、入射面31と出射面32とは平行ではなく、さらに、出射面32に隣接する投影側の面33は下限光線19aに対してほぼ平行に光軸に対して傾いた面となっている。光線に対向する面33は、干渉回避のため下限光線19aと略平行である方が好ましい。このようにガラスブロック(プリズム)30に45度の反射面35を設けることで、ガラスブロック30によるミラーM1を小型化できる効果と、投射方向を変更することができる効果とを得ることができる。
 ガラスブロック(プリズム)30の反射面が1つの場合には,45度とする必要がある。反射面が2つの場合には,その2面を同じ角度にしておけば光学性能は補償される。たとえば、50度の反射面を2つ用意して光路を調整することができる。また、この角度であれば、青色の光路で入射した光線が斜面で全反射臨界角を超えており、斜面にコーティングをしなくても高い反射率が得られる。
 反射面35は、金属系の反射膜を使用した形成してもよい。一方、光線が集中する場合は金属の光吸収による発熱による温度ドリフトが発生する可能性がある。45度面35には誘電体多層膜を用いてもよい。反射面35を金属と誘電体多層膜との複合膜で形成してもよい。設計上の制約がなければ、反射面35を全反射が確保できる面としてもよい。
 すなわち、プリズム30が反射面となる斜面を2面含む場合は、それら斜面の同士の角度が略平行であり、45度よりも傾いており、さらに、ライトバルブ5から放射された全光束が、それら斜面において全反射となる角度であることが望ましい。プリズム30が反射面となる斜面を1面含む場合は、斜面に適用する膜が誘電体多層膜付き金属反射膜であってもよく、斜面に適用する膜が誘電体多層反射膜であってもよい。
 ガラスブロック30の入射面31および出射面32の両方または一方がパワーを持つ面であってもよい。また、ガラスブロック30が複数の屈折率および/またはアッべ数のガラスの接合体で構成してもよい。ガラスブロック30が複数の屈折率および/またはアッべ数のガラスの接合体でできており、接合面にパワーを持つものであってもよい。

Claims (16)

  1.  縮小側の第1の像面から拡大側の第2の像面へ投射する投射光学系であって、
     複数のレンズを含み、縮小側から入射した光により当該第1の光学系の内部に結像される第1の中間像を当該第1の光学系よりも拡大側に第2の中間像として結像する第1の光学系と、
     前記第2の中間像よりも拡大側に位置する正の屈折力の第1の反射面を含む第2の光学系と、
     前記第1の光学系と前記第1の反射面との間に配置されたガラスブロックであって、前記第1の光学系から前記第2の中間像に至る光線が通過するガラスブロックとを有する投射光学系。
  2.  請求項1において、前記第1の像面の像高Ihと、前記第1の反射面の直径MRとが以下の式を満たす投射光学系。
     2.0 < MR/Ih < 4.5
  3.  請求項1において、前記第1の像面の像高Ihと、前記第1の反射面の半径Mrとが以下の式を満たす投射光学系。
     1.0 < Mr/Ih < 2.25
  4.  請求項1ないし3のいずれかにおいて、前記第1の像面の発光面積Vsと、前記第1の反射面における有効面積Msとが以下の式を満たす投射光学系。
     1.0 < Ms/Vs < 6.0
  5.  請求項1ないし4のいずれかにおいて、前記第1の像面の発光面積Vsと、前記第2の中間像の面積I2sとが以下の式を満たす投射光学系。
     1.0 < I2s/Vs < 3.0
  6.  請求項1ないし5のいずれかにおいて、前記第1の像面の発光面積Vsと、前記第1の中間像の面積I1sとが以下の式を満たす投射光学系。
     0.5 < I1s/Vs < 2.0
  7.  請求項1ないし6のいずれかにおいて、前記ガラスブロックは前記第1の光学系と前記第2の中間像の間に配置されている、投射光学系。
  8.  請求項1ないし7のいずれかにおいて、前記ガラスブロックは、
     前記第1の光学系の側の入射面と、
     前記第1の反射面の側の出射面と、
     前記出射面と前記入射面との間の側面であって、前記第1の光学系と前記第1の反射面との間の光軸に対して少なくとも一部が傾いた側面とを含む、投射光学系。
  9.  請求項8において、前記側面は、前記第1の反射面から前記第2の像面に至る投射光の下限光線とほぼ平行に傾いている面を含む、投射光学系。
  10.  請求項8または9において、前記側面は、前記第1の光学系から前記第1の反射面に至る光線を反射する内部反射面を含む、投射光学系。
  11.  請求項1ないし10のいずれかにおいて、
     前記ガラスブロックの前記第1の光学系と前記第1の反射面との間の光軸に沿った長さGBLと、前記第1の光学系と前記第1の反射面との前記光軸に沿った長さLMLとが以下の式を満たす、投射光学系。
     0.1 < GBL/LML < 0.9
  12.  請求項1ないし11のいずれかにおいて、
     前記ガラスブロックの前記第1の光学系と前記第1の反射面との間の光軸に沿った長さGBLと、前記第1の光学系と前記第1の反射面との前記光軸に沿った長さLMLと、前記ガラスブロックの屈折率GBnとが以下の式を満たす、投射光学系。
     0.05 < GBL/GBn/LML < 0.7
  13.  請求項1ないし12のいずれかにおいて、
     前記ガラスブロックのアッベ数GBvが以下の式を満たす、投射光学系。
     30 < GBv < 100
  14.  請求項1ないし13のいずれかにおいて、
     前記第1の光学系は、前記第1の中間像の広角側の直近の非球面レンズを隔てた広角側に屈折力が正のレンズ群G2rを含み、前記レンズ群G2rの焦点距離G2rFが以下の式を満たす、投射光学系。
     0 < G2rF < 1000
  15.  請求項1ないし14のいずれかにおいて、
     前記第1の光学系と前記第1の反射面との間の最周辺像高の上限光線の光路長OP1dと、下限光線の光路長OP2dとが以下の式を満たす、投射光学系。
     1 < OP1d/OP2d < 1.15
  16.  請求項1ないし15のいずれかに記載の投射光学系と、
     前記第1の像面に画像を形成する光変調器とを有する、プロジェクタ。
PCT/JP2015/080645 2014-10-31 2015-10-30 投射光学系およびプロジェクタ装置 WO2016068269A1 (ja)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15/522,120 US10063819B2 (en) 2014-10-31 2015-10-30 Projection optical system and projector
JP2016556644A JP6313865B2 (ja) 2014-10-31 2015-10-30 投射光学系およびプロジェクタ装置
EP18202484.4A EP3454104A1 (en) 2014-10-31 2015-10-30 Projection optical system and projector
EP15855306.5A EP3214476B1 (en) 2014-10-31 2015-10-30 Projection optical system and projector device
CN201580059225.7A CN107148588B (zh) 2014-10-31 2015-10-30 投射光学系统和投影仪装置
US16/044,982 US10375363B2 (en) 2014-10-31 2018-07-25 Projection optical system and projector
US16/450,013 US10645353B2 (en) 2014-10-31 2019-06-24 Projection optical system and projector

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014222343 2014-10-31
JP2014-222343 2014-10-31

Related Child Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US15/522,120 A-371-Of-International US10063819B2 (en) 2014-10-31 2015-10-30 Projection optical system and projector
US16/044,982 Continuation US10375363B2 (en) 2014-10-31 2018-07-25 Projection optical system and projector

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2016068269A1 true WO2016068269A1 (ja) 2016-05-06

Family

ID=55857604

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2015/080645 WO2016068269A1 (ja) 2014-10-31 2015-10-30 投射光学系およびプロジェクタ装置

Country Status (5)

Country Link
US (3) US10063819B2 (ja)
EP (2) EP3214476B1 (ja)
JP (2) JP6313865B2 (ja)
CN (3) CN110632747B (ja)
WO (1) WO2016068269A1 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106646838A (zh) * 2016-11-10 2017-05-10 南京悦微米智能科技有限公司 一种反射式超短焦投影系统
JP2018101104A (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
JP2018101103A (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
WO2018117208A1 (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
WO2019012795A1 (ja) * 2017-07-10 2019-01-17 ソニー株式会社 画像表示装置及び投射光学系
WO2019216017A1 (ja) * 2018-05-10 2019-11-14 ソニー株式会社 画像表示装置、投射光学系、及び画像表示システム
WO2020008942A1 (ja) * 2018-07-04 2020-01-09 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ装置
CN112444945A (zh) * 2019-08-30 2021-03-05 富士胶片株式会社 成像光学系统、投射型显示装置及摄像装置
WO2021241297A1 (ja) * 2020-05-27 2021-12-02 ソニーグループ株式会社 画像表示装置及び投射光学系
US11320635B2 (en) 2019-08-30 2022-05-03 Fujifilm Corporation Imaging optical system, projection type display device, and imaging apparatus

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3214476B1 (en) * 2014-10-31 2019-08-28 Nittoh Inc. Projection optical system and projector device
CN107664823A (zh) * 2017-10-23 2018-02-06 中山联合光电科技股份有限公司 一种超小体积4k分辨率的超短焦投影光学系统
CN113167989B (zh) * 2018-12-07 2023-07-25 索尼集团公司 图像显示装置和投影光学系统
JP7259413B2 (ja) * 2019-03-01 2023-04-18 セイコーエプソン株式会社 投写光学系、投写型画像表示装置、および撮像装置
JP7259411B2 (ja) * 2019-03-01 2023-04-18 セイコーエプソン株式会社 投写光学系、投写型画像表示装置、および撮像装置
JP2022040639A (ja) * 2020-08-31 2022-03-11 セイコーエプソン株式会社 光学系、プロジェクター、および撮像装置
JP7168021B2 (ja) * 2021-03-26 2022-11-09 セイコーエプソン株式会社 プロジェクター

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013005444A1 (ja) * 2011-07-05 2013-01-10 日東光学株式会社 投射光学系およびプロジェクタ装置
WO2014103324A1 (ja) * 2012-12-28 2014-07-03 日東光学株式会社 投射光学系およびプロジェクタ装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL7405225A (nl) 1973-09-26 1975-10-21 Vicon Nv Inrichting voor het verspreiden van strooibaar materiaal, voorzien van een af te stellen doseerorgaan.
JPS5145486A (ja) 1974-10-14 1976-04-17 Matsushita Electric Works Ltd Shomeikigu
JP3761957B2 (ja) * 1996-02-15 2006-03-29 キヤノン株式会社 反射型の光学系及びそれを用いた撮像装置
JPH11249018A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Canon Inc 光学素子及びそれを用いた光学系
JP4223936B2 (ja) * 2003-02-06 2009-02-12 株式会社リコー 投射光学系、拡大投射光学系、拡大投射装置及び画像投射装置
US20070014027A1 (en) * 2005-07-12 2007-01-18 Ken Agatsuma Projection device
JP4668159B2 (ja) * 2006-11-06 2011-04-13 ソニー株式会社 投射光学系および投射型画像表示装置
JP5422897B2 (ja) * 2008-02-27 2014-02-19 株式会社リコー 投射光学系及び画像表示装置
US20090257117A1 (en) 2008-04-09 2009-10-15 Tomoyuki Baba Projection optical system and projection type display using the same
JP5365155B2 (ja) * 2008-11-21 2013-12-11 ソニー株式会社 投射型画像表示装置および投射光学系
JP2012027113A (ja) * 2010-07-21 2012-02-09 Ricoh Co Ltd 投射光学系及び画像投射装置
JP5728202B2 (ja) * 2010-11-16 2015-06-03 株式会社サムスン日本研究所 投射光学系および画像投射装置
JP5621723B2 (ja) * 2011-07-04 2014-11-12 セイコーエプソン株式会社 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター
JP5533798B2 (ja) * 2011-07-04 2014-06-25 セイコーエプソン株式会社 投写光学系及びこれを備えるプロジェクター
US8950874B2 (en) * 2011-09-16 2015-02-10 Ricoh Company, Ltd. Projection optical system and image display apparatus
CN103930827A (zh) * 2011-11-08 2014-07-16 瑞尔D股份有限公司 成像路径散斑减轻
JP5988297B2 (ja) * 2012-08-13 2016-09-07 コニカミノルタ株式会社 変倍投射光学系および画像投影装置
JP6191905B2 (ja) * 2013-03-08 2017-09-06 株式会社リコー 投射光学装置および画像投影装置
JP2014194552A (ja) * 2014-04-28 2014-10-09 Nikon Corp 反射屈折型の投影光学系、露光装置、および露光方法
CN104035187B (zh) * 2014-06-06 2017-04-26 中国科学院光电技术研究所 一种大数值孔径的纯折射式干式投影光学系统
EP3214476B1 (en) * 2014-10-31 2019-08-28 Nittoh Inc. Projection optical system and projector device

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013005444A1 (ja) * 2011-07-05 2013-01-10 日東光学株式会社 投射光学系およびプロジェクタ装置
WO2014103324A1 (ja) * 2012-12-28 2014-07-03 日東光学株式会社 投射光学系およびプロジェクタ装置

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106646838A (zh) * 2016-11-10 2017-05-10 南京悦微米智能科技有限公司 一种反射式超短焦投影系统
US10884326B2 (en) 2016-12-21 2021-01-05 Nittoh Inc. Projection optical system and projector
WO2018117208A1 (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
WO2018117210A1 (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
WO2018117209A1 (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
JP2018101104A (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
JP2018101102A (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
JP2018101103A (ja) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ
WO2019012795A1 (ja) * 2017-07-10 2019-01-17 ソニー株式会社 画像表示装置及び投射光学系
CN110832377A (zh) * 2017-07-10 2020-02-21 索尼公司 图像显示装置和投影光学系统
JPWO2019012795A1 (ja) * 2017-07-10 2020-05-07 ソニー株式会社 画像表示装置及び投射光学系
US11194242B2 (en) 2017-07-10 2021-12-07 Sony Corporation Image display device and projection optical system
JP7099460B2 (ja) 2017-07-10 2022-07-12 ソニーグループ株式会社 画像表示装置及び投射光学系
WO2019216017A1 (ja) * 2018-05-10 2019-11-14 ソニー株式会社 画像表示装置、投射光学系、及び画像表示システム
US11131917B2 (en) 2018-05-10 2021-09-28 Sony Corporation Image display apparatus, projection optical system, and image display system
WO2020008942A1 (ja) * 2018-07-04 2020-01-09 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ装置
JP7194393B2 (ja) 2018-07-04 2022-12-22 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ装置
US11720007B2 (en) 2018-07-04 2023-08-08 Nittoh Inc. Projection optical system and projector apparatus
JPWO2020008942A1 (ja) * 2018-07-04 2021-08-02 株式会社nittoh 投射光学系およびプロジェクタ装置
US10948699B1 (en) 2019-08-30 2021-03-16 Fujifilm Corporation Imaging optical system, projection type display device, and imaging apparatus
US11320635B2 (en) 2019-08-30 2022-05-03 Fujifilm Corporation Imaging optical system, projection type display device, and imaging apparatus
JP7152372B2 (ja) 2019-08-30 2022-10-12 富士フイルム株式会社 結像光学系、投写型表示装置、および撮像装置
JP2021039162A (ja) * 2019-08-30 2021-03-11 富士フイルム株式会社 結像光学系、投写型表示装置、および撮像装置
CN112444945A (zh) * 2019-08-30 2021-03-05 富士胶片株式会社 成像光学系统、投射型显示装置及摄像装置
CN112444945B (zh) * 2019-08-30 2024-03-12 富士胶片株式会社 成像光学系统、投射型显示装置及摄像装置
WO2021241297A1 (ja) * 2020-05-27 2021-12-02 ソニーグループ株式会社 画像表示装置及び投射光学系

Also Published As

Publication number Publication date
EP3214476B1 (en) 2019-08-28
US10063819B2 (en) 2018-08-28
JP6313865B2 (ja) 2018-04-18
US10645353B2 (en) 2020-05-05
EP3454104A1 (en) 2019-03-13
EP3214476A4 (en) 2018-05-30
US20190313064A1 (en) 2019-10-10
CN107148588B (zh) 2020-05-15
US20170332057A1 (en) 2017-11-16
JP6605635B2 (ja) 2019-11-13
EP3214476A1 (en) 2017-09-06
JPWO2016068269A1 (ja) 2017-08-10
CN110618523A (zh) 2019-12-27
US20180332257A1 (en) 2018-11-15
US10375363B2 (en) 2019-08-06
CN110632747A (zh) 2019-12-31
CN107148588A (zh) 2017-09-08
JP2018060231A (ja) 2018-04-12
CN110632747B (zh) 2021-12-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6605635B2 (ja) 投射光学系およびプロジェクタ装置
US11042082B2 (en) Projection optical system including movable lens groups, a non-movable lens group, and a curved mirror
WO2019151252A1 (ja) 投射光学系および画像表示装置
JP5703591B2 (ja) 投射光学系及び画像投射装置
JP6270128B2 (ja) 投射光学系および画像投射装置
US10175568B2 (en) Projective optical system and image projection device including a shielding unit
JP6326717B2 (ja) 投射光学系および画像表示装置
JP2008090200A (ja) ズームレンズおよび投射型画像表示装置
JP7135298B2 (ja) 投射光学系、画像投射装置
JP6393906B2 (ja) 投写光学系および画像投写装置
JP6692694B2 (ja) 結像光学系、投写型表示装置、および、撮像装置
JP6252974B2 (ja) 投射光学系、それを備えた画像表示装置および画像表示装置の調整方法
JP2018180238A (ja) 投射光学系および画像投射装置
JP2017219785A (ja) 投射用レンズおよびプロジェクター
JP7133398B2 (ja) 投射光学系および画像投射装置
JP6598050B2 (ja) 投射装置および投射システム
JP6072720B2 (ja) 投写レンズ及び投写型表示装置
JP6497573B2 (ja) 投射装置および投射システム
JP7152372B2 (ja) 結像光学系、投写型表示装置、および撮像装置
JP7146711B2 (ja) 結像光学系、投写型表示装置、および撮像装置
JP2015212745A (ja) 画像投射装置および画像表示システム
WO2017170001A1 (ja) 画像投射装置

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 15855306

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2016556644

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 15522120

Country of ref document: US

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2015855306

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE