WO2016027547A1 - 表示装置および電子機器 - Google Patents

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WO2016027547A1
WO2016027547A1 PCT/JP2015/065846 JP2015065846W WO2016027547A1 WO 2016027547 A1 WO2016027547 A1 WO 2016027547A1 JP 2015065846 W JP2015065846 W JP 2015065846W WO 2016027547 A1 WO2016027547 A1 WO 2016027547A1
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display
display device
insulating layer
separation groove
layer
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PCT/JP2015/065846
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公智 梶
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株式会社Ｊｏｌｅｄ
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Definitions

  • the present disclosure relates to a display device that emits light using, for example, an organic electroluminescence (EL) phenomenon, and an electronic device including such a display device.
  • EL organic electroluminescence
  • Patent Document 1 by providing a separation groove that separates the organic insulating film covering the entire surface of the support substrate into an inner peripheral side and an outer peripheral side at a position surrounding the display region, moisture such as moisture from the outside to the display region can be provided.
  • a display device in which intrusion is suppressed is disclosed.
  • a display device includes a display region in which a plurality of pixels are disposed, a peripheral region provided on an outer edge side of the display region, an insulating layer extending from the display region to the peripheral region, and a peripheral region Provided with a separation groove that separates the insulating layer into an inner peripheral side and an outer peripheral side, and a sealing portion that is provided on the outer peripheral side of the insulating layer and seals the display area.
  • the width is narrowed as the distance between the outer edge of the display area and the outer edge of the sealing portion is increased, and is increased as the distance is decreased.
  • An electronic apparatus includes the display device of the present disclosure.
  • the width of the separation groove that separates the insulating layer extending from the display region to the peripheral region into the inner peripheral side and the outer peripheral side is set to seal the display region Increasing the distance between the outer edge of the sealing part and the outer edge of the display area by decreasing the distance between the outer edge of the display part and the outer edge of the display area and increasing the distance as the distance decreases. And the entry of foreign matter from the outside into the display area is suppressed.
  • the width of the insulating layer extending from the display region to the peripheral region is adjusted according to the distance between the outer end of the sealing portion and the outer end of the display region. Separation grooves that are made narrow (when the distance between the outer end of the sealing portion and the outer end of the display area is large, narrow when the distance is small) are provided. This suppresses the entry of foreign matter such as moisture from the outside into the display region without increasing the distance between the outer end of the sealing portion and the outer end of the display region. That is, it is possible to improve the reliability of the display device and the electronic apparatus including the same while narrowing the frame. Note that the effects described here are not necessarily limited, and may be any effects described in the present disclosure.
  • FIG. 3 is a schematic diagram illustrating a planar configuration of a display device according to a first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. It is sectional drawing of the display apparatus shown in FIG. It is a figure showing the whole structure of the display apparatus shown in FIG.
  • FIG. 4 is a diagram illustrating an example of a pixel drive circuit illustrated in FIG. 3.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating another example of the filling layer and the separation groove of the display device illustrated in FIG. 1.
  • FIG. 10 It is a perspective view showing the external appearance seen from the front side of the application example 1 of the display apparatus etc. which were shown in FIG. 10 is a perspective view illustrating an appearance of Application Example 1 viewed from the back side.
  • FIG. 12 is a perspective view illustrating an appearance of application example 2.
  • FIG. 12 is a perspective view illustrating an appearance of application example 3.
  • FIG. 1 illustrates a planar configuration of the display device (display device 1) according to the first embodiment of the present disclosure
  • FIG. 2 illustrates the display device 1 taken along line II illustrated in FIG. It represents a cross-sectional configuration.
  • This display device 1 is used as an organic EL television device or the like.
  • a display panel 110 is provided on a drive substrate 11 as a display panel 110 and a peripheral region 110B is provided at the periphery of the display region 110A.
  • a white organic EL element 10 ⁇ / b> W and a color filter 13 ⁇ / b> A are used as display elements, so that any one of R (red), G (green), and B (blue) color light is on the upper surface (drive substrate 11 is a top emission type (so-called top emission type) display device that is emitted from the side opposite the surface 11 (see FIG. 5).
  • the insulating layers here, the insulating layers 23 and 32
  • a separation groove 41 for separation is provided.
  • the separation groove 41 has a different width (x) according to the distance (X) from the outer end of the sealing portion 15 to the outer end of the display region 110A.
  • FIG. 3 illustrates an example of the overall configuration of the display device 1 illustrated in FIGS. 1 and 2, and a plurality of pixels 5 (a red pixel 5R, a green pixel 5G, and a blue pixel 5B) are included in the display area 110A. ) Are arranged in a matrix.
  • a signal line driving circuit 120 and a scanning line driving circuit 130 which are drivers for video display (a peripheral circuit 21B described later) are provided in the peripheral area 110B located around the display area 110A (outer edge side, outer peripheral side). It has been.
  • a pixel drive circuit 140 is provided in the display area 110A.
  • FIG. 4 shows an example of the pixel drive circuit 140 (an example of a pixel circuit of the red pixel 5R, the green pixel 5G, and the blue pixel 5B).
  • the pixel drive circuit 140 is an active drive circuit formed below the lower electrode 31A described later.
  • the pixel driving circuit 140 includes a driving transistor Tr1 and a writing transistor Tr2, and a capacitor (holding capacity) Cs between the transistors Tr1 and Tr2.
  • the pixel drive circuit 140 also includes a white organic EL element 10W connected in series to the drive transistor Tr1 between the first power supply line (Vcc) and the second power supply line (GND).
  • the white organic EL element 10W is provided in each of the red pixel 5R, the green pixel 5G, and the blue pixel 5B.
  • the drive transistor Tr1 and the write transistor Tr2 are configured by a general thin film transistor (TFT).
  • the configuration may be, for example, an inverted stagger structure (so-called bottom gate type) or a stagger structure (top gate type), and is not particularly limited.
  • a plurality of signal lines 120A are arranged in the column direction, and a plurality of scanning lines 130A are arranged in the row direction.
  • the intersection of each signal line 120A and each scanning line 130A corresponds to any one of the red pixel 5R, the green pixel 5G, and the blue pixel 5B.
  • Each signal line 120A is connected to the signal line drive circuit 120, and an image signal is supplied from the signal line drive circuit 120 to the source electrode of the write transistor Tr2 via the signal line 120A.
  • Each scanning line 130A is connected to the scanning line driving circuit 130, and a scanning signal is sequentially supplied from the scanning line driving circuit 130 to the gate electrode of the writing transistor Tr2 via the scanning line 130A.
  • the peripheral region 110B is provided with a separation groove 41 that separates the insulating layers 23 and 32 covering the display panel 110 into an inner peripheral side and an outer peripheral side as described above.
  • the separation groove 41 is for reducing the entry of foreign matters such as moisture into the display panel 110, specifically, the display area 110A from the outside.
  • the separation groove 41 is set so that the width (x) differs according to the distance (X) from the outer end of the sealing portion 15 to the outer end of the display region 110A.
  • the distance (X) from the outer end of the sealing portion 15 to the outer end of the display region 110A at an arbitrary position (here, each side) of the display panel 110 is set respectively.
  • the width (x) of the separation groove 41 corresponding to each side are xa, xb, xc, and xd, respectively, and the distance (X) is, for example, X1> X2> X3> X4.
  • the width (x) of the separation groove 41 is formed to satisfy xa ⁇ xb ⁇ xc ⁇ xd.
  • the separation groove 41 is preferably embedded with a material having a lower water permeability than the material constituting the insulating layers 23 and 32. By embedding the inside of the separation groove 41 with a material having a low water permeability, it is possible to further reduce the entry speed of foreign matter from the outside into the display region 110A.
  • the material for embedding the separation groove 41 is preferably, for example, an inorganic material. In the present embodiment, the material is embedded by a material constituting the filling layer 14 described later.
  • the display device 1 has a laminated structure in which a TFT layer 20, a display layer 30, a filling layer (adhesive layer) 14, and a sealing portion 15 are formed in this order on a driving substrate 11.
  • the TFT layer 20 includes, for example, a pixel drive circuit 21A (corresponding to the pixel drive circuit 140), a peripheral circuit 21B, and the like, an insulating layer 21, a wiring layer 22, and an insulating layer 23.
  • the display layer 30 includes, for example, a wiring layer 31, an insulating layer 32, an organic layer 33, an upper electrode 34, and a protective layer 35 that constitute the lower electrode 31A and the like.
  • a counter substrate 12 having a CF layer 13 composed of a color filter 13A and a black matrix (light-shielding film) 13B is bonded to the laminated structure, and the laminated structure is sealed together with the sealing portion 15.
  • the order of forming the filling layer 14 and the sealing layer 15 may be reversed.
  • the drive substrate 11 is a support on which the white organic EL elements 10W are arranged and formed on one main surface side.
  • quartz, glass, metal foil, or a resin film or sheet is used as the drive substrate 11.
  • the insulating layer 21 (pixel drive circuit 21A and peripheral circuit 21B) is a drive circuit (video display driver) including the signal line drive circuit 120, the scan line drive circuit 130, and the like.
  • the pixel drive circuit 21 ⁇ / b> A and the peripheral circuit 21 ⁇ / b> B are formed on the drive substrate 11, for example, below the insulating layer 23.
  • Examples of the material of the insulating layer 21 include simple elements or alloys of metal elements such as aluminum (Al), copper (Cu), and titanium (Ti).
  • the wiring layer 22 constitutes, for example, a gate electrode and a channel layer constituting a TFT.
  • the channel layer is provided in an island shape, for example, and has a channel region at a position facing the gate electrode between a pair of source / drain electrodes (not shown).
  • the channel layer is made of, for example, an oxide semiconductor (for example, IGZO) made of indium, gallium, zinc, oxygen, or the like.
  • the insulating layers 23 and 32 are, for example, a layer that prevents a short circuit between wirings constituting the transistor Tr1 or the like (insulating layer 23) or functions as an inter-pixel insulating layer (partition wall) (insulating layer 32).
  • the insulating layers 23 and 32 are formed on the drive substrate 11 so as to extend from the display region 110A to its external region (for example, the end of the drive substrate 11 via the peripheral region 110B).
  • the insulating layers 23 and 32 are made of, for example, an organic insulating material, and specifically include, for example, polyimide, acrylic, novolak resin, or siloxane.
  • the insulating layers 23 and 32 are separated into the inner peripheral side and the outer peripheral side by the separation groove 41 in the peripheral region 110B.
  • the insulating layers 23 and 32 are preferably completely separated from the inner peripheral side and the outer peripheral side by the separation groove 41, but the present invention is not limited to this.
  • the insulating layer 23 or the insulating layer 32 may remain partially at the bottom of the separation groove 41 or may partially remain.
  • the wiring layer 31 includes a lower electrode 31A and a conductive film 31B.
  • the lower electrode 31A functions as an anode (anode electrode), and is provided for each pixel 5 (5R, 5G, 5B) of each color in the display region 110A.
  • the conductive film 31B is cut from the lower electrode 31A by the opening 42 and is formed almost uniformly in the peripheral region 110B. For example, as shown in FIG. 2, the end surface of the insulating layer 23 separated by the separation groove 41 and Covers the bottom.
  • the wiring layer 31 is made of, for example, a metal material having a light reflectance of about 70% or more (for example, aluminum (Al) or a laminate of ITO (Indium Tin Oxide) and silver (Ag)). Yes.
  • the organic layer 33 is provided on the insulating layer 32, and is formed, for example, from the display region 110A to the front of the opening 42 shown in FIG.
  • the organic layer 33 includes, in order from the lower electrode 31A side, a hole injection layer 33A, a hole transport layer 33B, a light emitting layer 33C, an electron transport layer 33D, and an electron injection layer. It has a laminated structure in which 33E is laminated. Of these layers, layers other than the light emitting layer 33C may be provided as necessary.
  • the hole injection layer 33A is provided to increase the hole injection efficiency and prevent a short circuit.
  • the hole transport layer 33B is for increasing the efficiency of hole transport to the light emitting layer 33C.
  • the light emitting layer 33C generates light by recombination of electrons and holes by applying an electric field.
  • the electron transport layer 33D is for increasing the efficiency of electron transport to the light emitting layer 33C
  • the electron injection layer 33E is for increasing the electron injection efficiency.
  • the constituent material of the organic layer 33 should just be a general low molecular or high molecular organic material, and is not specifically limited.
  • the upper electrode 34 functions as a cathode (cathode electrode), and is provided as an electrode common to the respective pixels 5 in the display region 110A.
  • the upper electrode 34 is made of a transparent electrode, and is preferably made of a material such as ITO, IZO (Indium Zink Oxide), ZnO (zinc oxide), or the like.
  • the upper electrode 34 is formed to be larger than the organic layer 33 so as to cover the end surface of the organic layer 33 in the display region 110 ⁇ / b> A. Thereby, intrusion of moisture or the like into the organic layer 33 is suppressed.
  • the protective layer 35 is formed on the upper electrode 34 and is formed so as to cover the end surface of the upper electrode 34.
  • the protective layer 35 is made of an inorganic material such as silicon oxide (SiO x ), silicon nitride (SiN x ), silicon oxynitride (SiN x O y ), titanium oxide (TiO x ), or aluminum oxide (Al x O y ). Made of material.
  • the filling layer 14 is formed substantially uniformly on the protective layer 35, and functions as, for example, an adhesive layer. Moreover, since the filling layer 14 embeds the separation groove 41 as described above, for example, an organic material having a lower water absorption rate than that of the organic insulating material, such as an epoxy resin or an acrylic resin, or aluminum oxide ( It is preferable to use an inorganic material such as Al 2 O 3 ), SiOx, or SiNx. Note that the separation groove 41 is not necessarily embedded in the filling layer 14 and may be separately embedded with a filler. In that case, the filling layer 14 may be formed using a sheet-like resin film. Furthermore, for example, as shown in FIG. 6, the filling layer 54 may have a hollow structure. In that case, the separation groove 41 may be embedded with the filler or may be embedded with the protective layer 35.
  • an organic material having a lower water absorption rate than that of the organic insulating material such as an epoxy resin or an acrylic resin, or aluminum oxide ( It is preferable to use an inorganic
  • the sealing unit 15 seals the pixel structure provided in the display region 110A such as the white organic EL element 10W between the driving substrate 11 and the counter substrate 12, and here, the insulating layer 32 is used. It is provided above.
  • the sealing part 15 is formed of, for example, an epoxy resin or an acrylic resin.
  • a getter agent that adsorbs moisture, carbon dioxide (CO 2 ), or the like may be added to the sealing portion 15.
  • the sealing portion 15 may be provided between the drive substrate 11 and the counter substrate 12 in accordance with the end surfaces of the insulating layers 23 and 32 (FIG. 7).
  • the insulating layers 23 and 32 and the end surface of the counter substrate 12 may be provided (FIG. 8).
  • the counter substrate 12 seals the white organic EL element 10 ⁇ / b> W together with the filling layer 14 and the sealing portion 15.
  • the counter substrate 12 is made of a material such as glass that is transparent to each color light emitted from the red pixel 5R, the green pixel 5G, and the blue pixel 5B.
  • a CF layer 13 is provided on the surface of the counter substrate 12 on the drive substrate 11 side.
  • the CF layer 13 is provided with, for example, a color filter 13A composed of, for example, a red filter, a green filter, and a blue filter at a position corresponding to each pixel 5, and a black matrix is provided between the pixels 5 of the color filter 13A. 13B is provided.
  • each white organic EL element 10W in the red pixel 5R, the green pixel 5G, and the blue pixel 5B passes through the color filters of the respective colors, thereby causing red light, green light, and blue light. Are emitted respectively. Further, the external light reflected in the red pixel 5R, the green pixel 5G, and the blue pixel 5B and the wiring between them is absorbed, and the contrast is improved.
  • the display device 1 can be manufactured, for example, as follows.
  • the insulating layer 21 (the pixel drive circuit 21A (140) and the peripheral circuit 21B) is formed on the drive substrate 11 made of the above-described material. Subsequently, after forming the wiring layer 22 on the insulating layer 21, the insulating layer 23 made of the above-described material is formed by a coating method (wet method) such as a spin coating method or a droplet discharge method. After that, the insulating layer 23 at a predetermined position in the peripheral region 110B is removed by, for example, photolithography to form a groove (later separating groove 41).
  • a coating method such as a spin coating method or a droplet discharge method.
  • a metal film to be the wiring layer 31 (the lower electrode 31A and the conductive film 31B) made of the above-described material is formed on the insulating layer 23 by, for example, sputtering, and then patterned into a desired shape by, for example, photolithography.
  • the wiring layer 31 is cut (opening 42 is formed) in the vicinity of the boundary between the display region 110A and the peripheral region 110B, and the two regions become electrically non-conductive. Like that.
  • the insulating layer 32 made of the above-described material is formed on the lower electrode 31A, the conductive film 31B, and the insulating layer 23 by, for example, a coating method (wet method) such as a spin coating method or a droplet discharge method.
  • a coating method such as a spin coating method or a droplet discharge method.
  • the isolation groove 41 is formed by removing the insulating layer 32 at a position corresponding to the groove (separation groove 41) provided in the insulating layer 23 by, for example, photolithography.
  • each layer of the organic layer 33 made of the above-described material is formed on the insulating layer 32 using, for example, an evaporation method using an area mask that covers the display region 110A.
  • the protective layer 35 made of the above-described material is formed on the upper electrode 34.
  • a plasma CVD method, a PVD method, an ALD method, a vapor deposition method, or the like is used.
  • a color filter and a black matrix are respectively applied on the counter substrate 12 made of the above-described material by, for example, a spin coating method, and then subjected to tape patterning using a photolithography method to form the CF layer 13.
  • the counter substrate 12 is bonded to each other.
  • the display device 1 shown in FIG. 2 and the like is completed.
  • each pixel 5 is supplied with a scanning signal from the scanning line driving circuit 130 via the gate electrode of the writing transistor Tr 2, and holds an image signal from the signal line driving circuit 120 via the writing transistor Tr 2.
  • the capacitance Cs is held. That is, the driving transistor Tr1 is controlled to be turned on / off according to the signal held in the holding capacitor Cs, whereby the driving current Id is injected into the white organic EL element 10W, and light is emitted by recombination of holes and electrons.
  • the display device 1 is a top emission type (top emission type)
  • the light passes through the upper electrode 34, the protective layer 35, the filling layer 14, each color filter (not shown), and the counter substrate 12. To be taken out. In this way, video display (color video display) is performed on the display device 1.
  • a display device including an organic EL element as a display element intrusion of moisture or foreign matter causes deterioration of the organic EL element. Since the pixel provided with the deteriorated organic EL element is in a non-lighting state, the product life is shortened. In order to suppress the intrusion of foreign matter etc. into the organic layer, it is possible to increase the distance from the outer edge of the display panel to the display area. In this case, however, the peripheral area will be widened, and mass production efficiency will be increased. Decreases. In addition, since the frame portion (frame region) of the display device is widened, there is a problem that the design is deteriorated.
  • FIG. 9 shows that water reaches the outer edge (Active Aria; A.A.) of the display area at any four points (for example, each side of the rectangular display device). It shows the time (elapsed time) until the reduction of the light emitting area (peripheral shrinkage) by the moisture best friend from.
  • the time for moisture to reach the outer edge of the display area varies from side to side, and in some sides, peripheral shrinkage occurs before the product lifetime, causing the reduction in the lifetime of the display device. It was.
  • the peripheral area is provided with a mounting area for mounting a circuit board on which terminals and the like for inputting external signals to the IC chip and the pixel driving circuit are arranged on a certain side.
  • the peripheral area is set according to the members arranged in the peripheral area so that the distance from the outer edge of the sealing portion to the display area is equal on each side.
  • the width varies depending on the distance between the outer end of the sealing portion 15 and the outer end of the display region 110A (specifically, the outer end of the sealing portion and The separation groove 41 is provided when the distance to the outer edge of the display area is large (narrow when small and wide when small).
  • FIG. 10 shows the time (elapsed time) until moisture reaches the outer edge of the display area 110A at any four points of the display device 1 (for example, each side of the rectangular display device 1). .
  • the generation time of the peripheral shrinkage on each side is almost the same, and the generation time of the peripheral shrinkage is later than the product life due to the use environment. That is, entry of foreign matter from the outside into the display area is suppressed without increasing the distance from the outer end of the sealing portion to the outer end of the display device 110A.
  • the width of the separation groove 41 that separates the insulating layers 23 and 32 into the inner peripheral side and the outer peripheral side is set to the width between the outer end of the sealing portion 15 and the outer end of the display region 110A. It is narrow when the distance is large and wide when it is small. Thereby, the intrusion of foreign matter from the outside to the display region 110A is suppressed without increasing the width of the peripheral region 110B, that is, without increasing the distance between the outer end of the sealing portion 15 and the outer end of the display region 110A. Therefore, it is possible to improve the reliability of the display device 1 and the electronic apparatus including the same while narrowing the frame.
  • the frame area can be narrowed, that is, the peripheral area 110B can be narrowed, the mass production efficiency of the display panel 100 is improved.
  • the separation groove 41 is preferably embedded with a material having a lower water permeability than the material constituting the insulating layers 23 and 32. As described above, the isolation groove 41 is embedded with the filling layer 14 without increasing the number of manufacturing steps. In addition, it is possible to further suppress the entry of moisture and the like from the outside.
  • FIG. 11 illustrates a cross-sectional configuration of a display device (display device 2) according to the second embodiment of the present disclosure. Similar to the display device 1, the display device 2 is used as an organic EL television device or the like. As the display panel 110 on the drive substrate 11, the display region 110A and the peripheral region 110B at the periphery of the display region 110A. Is provided.
  • the display device 1 uses, for example, a white organic EL element 10 ⁇ / b> W and a color filter 13 ⁇ / b> A described later, so that any one of R (red), G (green), and B (blue) color light is on the upper surface (the side opposite to the driving substrate 11).
  • a shielding structure for example, a dummy structure 43 that suppresses intrusion of moisture or the like from the outside is formed between the display region 110A and the peripheral region 110B.
  • the shielding structure is provided around the display area 110A, specifically, between the separation groove 41 that separates the insulating layers 23 and 32 and the display area 110A.
  • the pixels provided in the pixels 5R, 5G, and 5B. It is the same as the structure.
  • This shielding structure (pixel structure) is not used for actual display but is a so-called dummy structure 43.
  • the pixel structure (dummy pixel) is provided as the dummy structure 43, but the present invention is not limited thereto, and the wiring may be a shielding structure (dummy wiring).
  • the wiring be formed as wide as possible between the separation groove 41 and the display region 110A.
  • the shape be a shape that can trap foreign matters such as moisture entering from the outside, such as a wrinkle pattern.
  • FIG. 12 shows the time (elapsed time) until moisture reaches the outer edge of the display area at an arbitrary position when the dummy structure 43 is not provided.
  • FIG. 13 shows the periphery of the display area 110A. This shows the time until moisture reaches the outer edge of the display area when the dummy structure 43 is provided.
  • the dummy structure 43 is provided between the display region 110A and the peripheral region 110B, specifically, between the display region 110A and the separation groove 41. This makes it possible to further suppress the entry of moisture and the like from the outside without increasing the number of manufacturing steps. Accordingly, it is possible to further improve the reliability of the display device 1 and the electronic apparatus including the same while reducing the frame.
  • the organic electroluminescence device of the above embodiment is a television device, a digital camera, a notebook personal computer, a portable terminal device such as a mobile phone, a video camera, or the like.
  • the present invention can be applied to display devices of electronic devices in various fields that display as images or videos. In particular, it is suitable for a small and medium display for mobile use. An example is shown below.
  • FIG. 1 illustrates the appearance of the tablet personal computer according to Application Example 1.
  • FIG. This tablet personal computer has, for example, a housing 620 in which a touch panel unit 610 and an operation unit 630 are arranged, and the display devices 1 and 2 according to the above-described embodiments are mounted on the touch panel unit 610.
  • FIG. 15 illustrates an appearance of a television device according to Application Example 2.
  • This television apparatus has, for example, a video display screen section 200 including a front panel 210 and a filter glass 220, and the video display screen 200 corresponds to the display apparatuses 1 and 2 in the above embodiment.
  • FIG. 16 illustrates the appearance of a notebook personal computer according to Application Example 3.
  • the notebook personal computer includes, for example, a main body 410, a keyboard 420 for inputting characters and the like, and a display unit 430 for displaying an image.
  • the display unit 430 is a display according to the above-described embodiment and the like. It is comprised by the apparatuses 1 and 2.
  • the material and thickness of each layer described in the above embodiment and the like, or the film formation method and film formation conditions are not limited, and other materials and thicknesses may be used. It is good also as film
  • the display device is a top emission type (top emission type)
  • the present invention is not limited to this, and for example, a bottom emission type (bottom emission type) configuration may be used.
  • the lower electrode 31A is formed of any one of ITO, IZO and ZnO
  • the upper electrode 34 is formed using a laminated structure of Al, MgAg, ITO / Ag / ITO, or the like.
  • the stacking order of the organic layers 33 is reversed from that in the above embodiment.
  • the color filter 13A is provided between the insulating layer 23 and the layer where the TFT (Tr1) or the like is formed.
  • microcavity In the combustible light emitting display device, light from the light emitting layer in the organic layer 33 is transmitted to the outside through the lower electrode and the drive substrate 11.
  • a so-called microcavity (microresonator) structure may be provided.
  • This microresonator structure is, for example, a structure in which a plurality of layers having a predetermined refractive index difference are laminated between a pair of reflective films, and performs optical confinement by repeatedly reflecting incident light between the pair of reflective films. Is.
  • the configuration of the organic EL element has been specifically described, but it is not necessary to provide all layers, and other layers may be further provided.
  • the configuration of the organic layer 33 of the organic EL element (white organic EL element 10W) is, in order from the lower electrode 31A side, the hole injection layer 33A, the hole transport layer 33B, and the light emitting layer 33C.
  • the stacked structure is formed by stacking the electron transport layer 33D and the electron injection layer 33E, the present invention is not limited thereto. For example, a so-called stack structure may be used.
  • the insulating layer 23 provided on the peripheral region 110B side may be removed.
  • the present disclosure can be applied to a passive matrix display device.
  • the configuration of the pixel driving circuit for active matrix driving is not limited to that described in the above embodiment, and a capacitor or a transistor may be added as necessary.
  • a necessary driving circuit may be added in addition to the signal line driving circuit 120 and the scanning line driving circuit 130 described above in accordance with the change of the pixel driving circuit.
  • this technique can also take the following structures.
  • a display area in which a plurality of pixels are disposed a peripheral area provided on an outer edge side of the display area; an insulating layer extending from the display area to the peripheral area; and provided in the peripheral area;
  • a separation groove that separates the insulating layer into an inner peripheral side and an outer peripheral side, and a sealing portion that is provided on the outer peripheral side of the insulating layer and seals the display region, and the width of the separation groove is A display device that narrows as the distance between the outer end of the display area and the outer end of the sealing portion increases and widens as the distance decreases.
  • the widths at the arbitrary positions are xa, xb, xc, and xd, respectively, and the distances are X1>X2>X3> X4
  • the separation groove is embedded with a filler.
  • a water absorption rate of the filler and a water absorption rate of a material constituting the insulating layer are different from each other.
  • a display device is provided, and the display device includes a display region in which a plurality of pixels are disposed, a peripheral region provided on an outer edge side of the display region, and insulation extending from the display region to the peripheral region.
  • a separation groove that is provided in the peripheral region and separates the insulating layer into an inner peripheral side and an outer peripheral side, and a sealing portion that is provided on the outer peripheral side of the insulating layer and seals the display region.
  • the width of the separation groove is narrow as the distance between the outer end of the display area and the outer end of the sealing portion increases, and wide as the distance decreases.

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Abstract

　本開示の表示装置は、複数の画素が配設された表示領域と、表示領域の外縁側に設けられる周辺領域と、表示領域から周辺領域へ延在する絶縁層と、周辺領域に設けられ、絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝と、絶縁層の外周側に設けられると共に、表示領域を封止する封止部とを備えたものであり、分離溝の幅は、表示領域の外端と封止部の外端との距離が大きくなるに応じて狭く、小さくなるに応じて広くなっている。

Description

表示装置および電子機器
　本開示は、例えば有機エレクトロルミネセンス（ＥＬ；Electro Luminescence）現象を利用して発光する表示装置、およびそのような表示装置を備えた電子機器に関する。
　近年、テレビジョン装置等の表示装置は、表示パネルの量産効率の向上やデザイン性の追求に伴い、表示領域周辺の所謂額縁（ベゼル）部分の幅を狭くすること（狭額縁化）が求められている。しかしながら、額縁部分を狭くすると、外部から水分等の異物が浸入して表示領域に達する可能性が高くなる。特に、表示素子として有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬ表示装置では、水分等の異物の浸入は有機ＥＬ素子を劣化させ、これによって対応する画素は非点灯状態となる。この画素の非点灯状態を避ける方法として、さまざまな改善がなされている。
　例えば、特許文献１では、表示領域を囲む位置において、支持基板の全面を覆う有機絶縁膜を内周側と外周側とに分離する分離溝を設けることにより、外部から表示領域への水分等の浸入を抑制した表示装置が開示されている。
特開２００６－０５４１１１号公報
　しかしながら、表示領域の周辺に分離溝を設けただけでは、外部からの水分等の浸入を十分に抑制することはできなかった。より表示領域への水分等の浸入を抑制するためには、表示パネルの外端（例えば、シールの外端）から表示領域までの距離を大きくすることが考えられるが、額縁部分の幅が広くなるという問題があった。
　従って、狭額縁化を図りつつ、信頼性を向上させることが可能な表示装置およびそのような表示装置を備えた電子機器を提供することが望ましい。
　本開示の一実施形態の表示装置は、複数の画素が配設された表示領域と、表示領域の外縁側に設けられる周辺領域と、表示領域から周辺領域へ延在する絶縁層と、周辺領域に設けられ、絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝と、絶縁層の外周側に設けられると共に、表示領域を封止する封止部とを備えたものであり、分離溝の幅は、表示領域の外端と封止部の外端との距離が大きくなるに応じて狭く、小さくなるに応じて広くなっている。
　本開示の一実施形態の電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。
　本開示の一実施形態の表示装置および電子機器では、表示領域から周辺領域へ延在する絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝の幅を、表示領域を封止する封止部の外端と表示領域の外端との距離が大きくなるに応じて狭く、小さくなるに応じて広くすることにより、封止部の外端と表示領域の外端との距離を大きくすることなく、外部から表示領域への異物の侵入が抑制される。
　本開示の一実施形態の表示装置および電子機器によれば、表示領域から周辺領域へ延在する絶縁層に、封止部の外端と表示領域の外端との距離に応じて幅が調整（封止部の外端と表示領域の外端との距離が大きい場合には狭く、小さい場合には広く）された分離溝を設けるようにした。これにより、封止部の外端と表示領域の外端との距離を大きくすることなく外部から表示領域への水分等の異物の侵入が抑制される。即ち、狭額縁化を図りつつ、表示装置およびこれを備えた電子機器の信頼性を向上させることが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の平面構成を表す概略図である。 図１に示した表示装置の断面図である。 図１に示した表示装置の全体構成を表す図である。 図３に示した画素駆動回路の一例を表す図である。 図１に示した表示装置を構成する有機ＥＬ素子の断面図である。 図１に示した表示装置の充填層および分離溝の他の例を表す断面図である。 図１に示した表示装置の封止部の他の例を表す断面図である。 図１に示した表示装置の封止部の他の例を表す断面図である。 比較例に係る表示装置の任意の位置における表示領域端への水分の到達時間を表す特性図である。 図１に示した表示装置の任意の位置における表示領域端への水分の到達時間を表す特性図である。 本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の断面図である。 比較例に係る表示装置の任意の位置における表示領域端への水分の到達時間を表す特性図である。 図１１に示した表示装置の任意の位置における表示領域端への水分の到達時間を表す特性図である。 図１に示した表示装置等の適用例１の表側から見た外観を表す斜視図である。 適用例１の裏側から見た外観を表す斜視図である。 適用例２の外観を表す斜視図である。 適用例３の外観を表す斜視図である。
　以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（周辺領域に、封止部外端から表示領域外端までの距離に応じて幅を変化させた分離溝を設けた例）
　　１－１．全体構成
　　１－２．作用・効果
２．第２の実施の形態（分離溝と表示領域との間に遮蔽構造を追加した例）
３．適用例（電子機器への適用例）
＜１．第１の実施の形態＞
（１－１．全体構成）
　図１は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の平面構成を表したものであり、図２は、図１に示したＩ－Ｉ線における表示装置１の断面構成を表したものである。この表示装置１は、有機ＥＬテレビジョン装置等として用いられるものであり、駆動基板１１上には表示パネル１１０として表示領域１１０Ａおよび表示領域１１０Ａの周縁に周辺領域１１０Ｂが設けられている。表示装置１は、表示素子として、例えば白色有機ＥＬ素子１０Ｗと後述するカラーフィルタ１３Ａとを用いることによってＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のいずれかの色光が上面（駆動基板１１と反対側の面）側から出射される、上面発光型（所謂トップエミッション型）の表示装置である（図５参照）。本実施の形態の表示装置１では、表示領域１１０Ａから周辺領域１１０Ｂにかけて連続して形成された絶縁層（ここでは、絶縁層２３，３２）を、周辺領域１１０Ｂにおいて内周側と外周側とに分離する分離溝４１を設けたものである。この分離溝４１は、封止部１５の外端から表示領域１１０Ａの外端までの距離（Ｘ）に応じて幅（ｘ）が異なる。
　図３は、図１および図２に示した表示装置１の全体構成の一例を表したものであり、表示領域１１０Ａ内には、複数の画素５（赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂ）がマトリクス状に配置されている。また、表示領域１１０Ａの周辺（外縁側，外周側）に位置する周辺領域１１０Ｂには、映像表示用のドライバ（後述する周辺回路２１Ｂ）である信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０が設けられている。
　表示領域１１０Ａ内には、画素駆動回路１４０が設けられている。図４は、この画素駆動回路１４０の一例（赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂの画素回路の一例）を表したものである。画素駆動回路１４０は、後述する下部電極３１Ａの下層に形成されたアクティブ型の駆動回路である。この画素駆動回路１４０は、駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２と、これらトランジスタＴｒ１，Ｔｒ２の間のキャパシタ（保持容量）Ｃｓとを有している。画素駆動回路１４０はまた、第１の電源ライン（Ｖｃｃ）および第２の電源ライン（ＧＮＤ）の間において、駆動トランジスタＴｒ１に直列に接続された白色有機ＥＬ素子１０Ｗを有している。即ち、赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂ内にはそれぞれ、この白色有機ＥＬ素子１０Ｗが設けられている。駆動トランジスタＴｒ１および書き込みトランジスタＴｒ２は、一般的な薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）により構成され、その構成は例えば逆スタガ構造（所謂ボトムゲート型）でもよいしスタガ構造（トップゲート型）でもよく、特に限定されない。
　画素駆動回路１４０において、列方向には信号線１２０Ａが複数配置され、行方向には走査線１３０Ａが複数配置されている。各信号線１２０Ａと各走査線１３０Ａとの交差点が、赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂのいずれか１つに対応している。各信号線１２０Ａは、信号線駆動回路１２０に接続され、この信号線駆動回路１２０から信号線１２０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のソース電極に画像信号が供給されるようになっている。各走査線１３０Ａは走査線駆動回路１３０に接続され、この走査線駆動回路１３０から走査線１３０Ａを介して書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極に走査信号が順次供給されるようになっている。
　周辺領域１１０Ｂには、上記のように表示パネル１１０を覆う絶縁層２３，３２を、内周側と外周側とに分離する分離溝４１が設けられている。この分離溝４１は、外部から表示パネル１１０内、具体的には表示領域１１０Ａ内への水分等の異物の侵入を低減するためのものである。
　本実施の形態では、分離溝４１は、上記のように、封止部１５の外端から表示領域１１０Ａの外端までの距離（Ｘ）に応じて幅（ｘ）が異なるように設定されている。具体的には、図１に示したように、表示パネル１１０の任意の位置（ここでは、各辺）における封止部１５の外端から表示領域１１０Ａの外端までの距離（Ｘ）をそれぞれＸ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４、各辺に対応する分離溝４１の幅（ｘ）をそれぞれｘａ，ｘｂ，ｘｃ，ｘｄとし、距離（Ｘ）の大きさが、例えばＸ１＞Ｘ２＞Ｘ３＞Ｘ４の場合には、分離溝４１の幅（ｘ）の広さは、ｘａ＜ｘｂ＜ｘｃ＜ｘｄになるように形成されている。これにより、封止部１５の外端から表示領域１１０Ａの外端までの距離（Ｘ）が小さい場合にも、距離（Ｘ）が大きい場合と同程度に表示領域１１０Ａ内への異物の侵入が低減される。即ち、距離（Ｘ）の大きさに係わらず、表示領域１１０Ａに達する異物の侵入が速度を調整することが可能となる。
　分離溝４１は、絶縁層２３，３２を構成する材料よりも透水率の低い材料によって埋設されていることが好ましい。分離溝４１の内部を透水率の低い材料で埋設することによって、外部から表示領域１１０Ａへの異物の侵入速度をより遅くすることが可能となる。分離溝４１を埋設する材料としては、例えば無機材料であることが好ましく、本実施の形態では、後述する充填層１４を構成する材料によって埋設されている。
　以下に、図２および図５を用いて表示装置１を構成する各部の説明を行う。
　表示装置１は、駆動基板１１上にＴＦＴ層２０と、表示層３０と、充填層（接着層）１４と、封止部１５とがこの順に形成された積層構造を有している。ＴＦＴ層２０は、例えば画素駆動回路２１Ａ（画素駆動回路１４０に対応）および周辺回路２１Ｂ等を構成する絶縁層２１、配線層２２および絶縁層２３から構成されている。表示層３０は、例えば下部電極３１Ａ等を構成する配線層３１、絶縁層３２、有機層３３、上部電極３４および保護層３５から構成されている。これら積層構造上にはカラーフィルタ１３Ａおよびブラックマトリクス（遮光膜）１３Ｂから構成されるＣＦ層１３を備えた対向基板１２が貼り合わされており、封止部１５と共に、積層構造を封止するように配置されている。なお、充填層１４および封止層１５の形成順序は逆でもよい。
　駆動基板１１は、その一主面側に白色有機ＥＬ素子１０Ｗが配列形成される支持体である。この駆動基板１１としては、例えば、石英、ガラス、金属箔、もしくは樹脂製のフィルムやシート等が用いられる。
　絶縁層２１（画素駆動回路２１Ａおよび周辺回路２１Ｂ）は、上記信号線駆動回路１２０および走査線駆動回路１３０等からなる駆動回路（映像表示用のドライバ）である。画素駆動回路２１Ａおよび周辺回路２１Ｂは駆動基板１１上において、例えば絶縁層２３の下層に形成されている。絶縁層２１の材料としては、例えばアルミニウム（Ａｌ），銅（Ｃｕ），チタン（Ｔｉ）等の金属元素の単体または合金が挙げられる。
　配線層２２は、例えば、ＴＦＴを構成するゲート電極やチャネル層を構成するものである。チャネル層は、例えば島状に設けられ、一対のソース・ドレイン電極（図示せず）の間のゲート電極に対向する位置にチャネル領域を有している。チャネル層は、例えば、インジウム、ガリウム、亜鉛および酸素等から構成される酸化物半導体（例えば、ＩＧＺＯ）により構成されている。
　絶縁層２３，３２は、例えば、トランジスタＴｒ１等を構成する配線間の短絡を防いだり（絶縁層２３）、画素間絶縁層（隔壁）として機能する（絶縁層３２）ものである。絶縁層２３，３２は、駆動基板１１上において、表示領域１１０Ａからその外部領域（例えば、周辺領域１１０Ｂを介して駆動基板１１の端部）まで延在するように形成されている。絶縁層２３，３２は、例えば有機絶縁材料によって構成され、具体的には、例えばポリイミド、アクリル、ノボラック樹脂またはシロキサン等が挙げられる。絶縁層２３，３２は、周辺領域１１０Ｂにおいて、上記分離溝４１によって内周側と外周側とに分離されている。なお、絶縁層２３，３２は分離溝４１によって内周側と外周側とに完全に分離されていることが好ましいが、これに限らない。例えば一部において連続していたり、あるいは、分離溝４１の底部に絶縁層２３あるいは絶縁層３２の一部が残存していても構わない。
　配線層３１は、下部電極３１Ａと導電膜３１Ｂとによって構成されている。下部電極３１Ａは、陽極（アノード電極）として機能するものであり、表示領域１１０Ａ内においては各色の画素５（５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ）ごとに設けられている。導電膜３１Ｂは、開口４２によって下部電極３１Ａと切断され、周辺領域１１０Ｂにほぼ一様に形成されており、例えば図２に示したように、分離溝４１によって分離された絶縁層２３の端面および底部を被覆している。配線層３１は、例えば光反射率が７０％程度以上の金属材料（例えば、アルミニウム（Ａｌ）や、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide：酸化インジウム錫）と銀（Ａｇ）との積層等）によって構成されている。
　有機層３３は、絶縁層３２上に設けられており、例えば、表示領域１１０Ａから図２に示した開口４２の手前まで形成されている。有機層３３は、詳細には、例えば図５に示したように、下部電極３１Ａの側から順に、正孔注入層３３Ａ、正孔輸送層３３Ｂ、発光層３３Ｃ、電子輸送層３３Ｄおよび電子注入層３３Ｅを積層した積層構造を有している。これらの層のうち、発光層３３Ｃ以外の層は必要に応じて設ければよい。正孔注入層３３Ａは、正孔注入効率を高めると共に、短絡を防止するために設けられる。正孔輸送層３３Ｂは、発光層３３Ｃへの正孔輸送効率を高めるためのものである。発光層３３Ｃは、電界をかけることにより電子と正孔との再結合が起こり、光を発生するものである。電子輸送層３３Ｄは、発光層３３Ｃへの電子輸送効率を高めるためのものであり、電子注入層３３Ｅは電子注入効率を高めるためのものである。なお、有機層３３の構成材料は、一般的な低分子または高分子有機材料であればよく、特に限定されない。
　上部電極３４は、陰極（カソード電極）として機能するものであり、表示領域１１０Ａ内において各画素５に共通の電極として設けられている。上部電極３４は透明電極からなり、例えばＩＴＯやＩＺＯ（Indium Zink Oxide：酸化インジウム亜鉛）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等の材料からなるのが好ましい。上部電極３４は、例えば表示領域１１０Ａ内において、有機層３３の端面を覆うように、有機層３３よりも拡張して形成されている。これにより、有機層３３への水分等の浸入が抑制される。
　保護層３５は、上部電極３４上に形成されると共に、上部電極３４の端面を覆うように形成されている。この保護層３５は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯx）、窒化シリコン（ＳｉＮx）、酸化窒化シリコン（ＳｉＮxＯy）、酸化チタン（ＴｉＯx）または酸化アルミニウム（ＡｌxＯy）等の無機材料からなる。
　充填層１４は、保護層３５の上にほぼ一様に形成されており、例えば接着層として機能するものである。また、上記のように、充填層１４は分離溝４１を埋設するものであるため、例えば有機絶縁材料よりも吸水率の小さな、例えばエポキシ系樹脂、アクリル系樹脂等の有機材料や、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ等の無機材料等を用いることが好ましい。なお、分離溝４１は必ずしも充填層１４で埋設する必要はなく、別途、充填材によって埋設してもよい。その場合には、充填層１４はシート状の樹脂膜を用いて形成してもよい。更に、例えば図６に示したように充填層５４部分を中空構造としてもよい。その場合には、分離溝４１は、上記充填材で埋設してもよいし、保護層３５で埋設してもよい。
　封止部１５は、白色有機ＥＬ素子１０Ｗのような表示領域１１０Ａ内に設けられた画素構造を、駆動基板１１と対向基板１２との間に封止するものであり、ここでは、絶縁層３２上に設けられている。封止部１５は、例えばエポキシ樹脂またはアクリル樹脂等によって形成されている。封止部１５には、例えば水分や二酸化炭素（ＣＯ2）等を吸着するゲ
ッター剤を添加してもよい。なお、封止部１５は、例えば図７，８に示したように、例えば絶縁層２３，３２の端面に合わせ、駆動基板１１と対向基板１２との間に設けてもよいし（図７）、絶縁層２３，３２および対向基板１２の端面に沿って設けてもよい（図８）。
　対向基板１２は、充填層１４および封止部１５と共に、白色有機ＥＬ素子１０Ｗを封止するものである。対向基板１２は、赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂから出射される各色光に対して透明なガラス等の材料により構成されている。この対向基板１２における駆動基板１１側の面上にはＣＦ層１３が設けられている。ＣＦ層１３は、例えば各画素５に対応する位置にそれぞれ、例えば、赤色フィルタ，緑色フィルタおよび青色フィルタからなるカラーフィルタ１３Ａが設けられており、カラーフィルタ１３Ａの各画素５の間にはブラックマトリクス１３Ｂが設けられている。これにより、赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂ内の各白色有機ＥＬ素子１０Ｗから発せられた白色光が、上記した各色のカラーフィルタを透過することによって、赤色光，緑色光，青色光がそれぞれ出射されるようになっている。また、赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂ内ならびにその間の配線において反射された外光を吸収し、コントラストを改善するようになっている。
　この表示装置１は、例えば次のようにして製造することができる。
　まず、上述した材料からなる駆動基板１１上に、絶縁層２１（画素駆動回路２１Ａ（１４０）および周辺回路２１Ｂ）を形成する。続いて、絶縁層２１上に、配線層２２を形成したのち、上述した材料からなる絶縁層２３を、例えばスピンコート法や液滴吐出法等の塗布法（湿式法）により形成する。そののち、例えばフォトリソグラフィー法により、周辺領域１１０Ｂの所定の位置の絶縁層２３を除去して溝（のちの、分離溝４１）を形成する。
　次いで、絶縁層２３上に、上述した材料からなる配線層３１（下部電極３１Ａおよび導電膜３１Ｂ）となる金属膜を、例えばスパッタ法により成膜した後、例えばフォトリソグラフィー法により所望の形状にパターニングすることにより形成する。具体的には、図１に示したように、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの境界付近において配線層３１を切断（開口４２を形成）し、両領域間が電気的にも非導通となるようにする。
　次に、下部電極３１Ａ、導電膜３１Ｂおよび絶縁層２３の上に、上述した材料からなる絶縁層３２を、例えばスピンコート法や液滴吐出法等の塗布法（湿式法）により形成する。そののち、例えばフォトリソグラフィー法により、上記絶縁層２３に設けた溝（分離溝４１）に対応する位置の絶縁層３２を除去して分離溝４１を形成する。続いて、絶縁層３２上に、上述した材料からなる有機層３３の各層を、表示領域１１０Ａをカバーするエリアマスクを用いて、例えば蒸着法により形成する。
　次に、上述した材料からなる上部電極３４を、例えばスパッタ法を用いて有機層３３および導電膜３１Ｂの上に成膜したのち、上部電極３４の上に、上述した材料からなる保護層３５を、例えばプラズマＣＶＤ法やＰＶＤ法、ＡＬＤ法、蒸着法等を用いて形成する。
　続いて、上述した材料からなる対向基板１２上に、カラーフィルタおよびブラックマトリクスをそれぞれ、例えばスピンコート法等により塗布した後、フォトリソグラフィー法を用いテーパターニングすることによりＣＦ層１３を形成する。最後に、駆動基板１１上に、前述した材料からなる充填層１４および封止部１５をそれぞれ形成したのち、これらを間にして、対向基板１２を貼り合わせる。以上により、図２等に示した表示装置１が完成する。
（１－２．作用・効果）
　表示装置１では、各画素５に対して走査線駆動回路１３０から書き込みトランジスタＴｒ２のゲート電極を介して走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路１２０から画像信号が書き込みトランジスタＴｒ２を介して保持容量Ｃｓに保持される。即ち、保持容量Ｃｓに保持された信号に応じて駆動トランジスタＴｒ１がオンオフ制御され、これにより、白色有機ＥＬ素子１０Ｗに駆動電流Ｉｄが注入され、正孔と電子とが再結合して発光が起こる。この光は、ここでは表示装置１が上面発光型（トップエミッション型）であるため、上部電極３４、保護層３５、充填層１４、各色のカラーフィルタ（図示せず）および対向基板１２を透過して取り出される。このようにして、表示装置１において映像表示（カラー映像表示）がなされる。
　表示素子として有機ＥＬ素子を備えた表示装置では、水分や異物の侵入は有機ＥＬ素子の劣化の原因となる。劣化した有機ＥＬ素子が設けられた画素は、非点灯状態となるため、製品寿命を縮める原因となっていた。有機層への異物等の侵入を抑制するためには、表示パネルの外端から表示領域までの距離を大きくすることが挙げられるが、この場合には、周辺領域を広くとることとなり、量産効率が低下する。また、表示装置の額縁部分（額縁領域）が広くなるためデザイン性が低下するという問題があった。
　そこで、前述したように、表示領域の周辺に、水分等の侵入経路となる絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝を設け、これによって額縁領域を狭めつつ水分等の侵入を抑制する方法が開発されたが、その効果は十分ではなかった。図９は、このような表示装置の任意の４点（例えば、矩形形状の表示装置の各辺）における表示領域の外端（Active Aria；Ａ.Ａ.）に水分が到達する、即ち、周辺からの水分親友による発光領域の縮小（周辺シュリンク）が発生するまでの時間（経過時間）を表したものである。図９からわかるように、各辺毎に表示領域の外端に水分が達する時間にはばらつきがあり、ある辺では、製品寿命の前に周辺シュリンクが発生し、表示装置の寿命を縮める原因となっていた。
　これは、周辺領域において画素構造を封止するシール（本実施の形態における封止部１５に相当）の形成位置が各辺において異なることによる。周辺領域には、周辺回路のほかに、ある辺ではＩＣチップや画素駆動回路に外部信号を入力する端子等が配列形成された回路基板を実装する実装領域が設けられている。このように、周辺領域に設けられたシールの外端から表示領域までの距離は各辺によって異なるため、上述したように表示領域の周辺に単純に一定幅の分離溝を設けただけでは、各辺における周辺シュリンクの発生時間にばらつきが生じる。周辺シュリンクの発生時間を延長してばらつきを抑える方法としては、封止部の外端から表示領域までの距離が各辺で均等になるように、周辺領域に配設される部材に応じて周辺領域の幅を広げることが考えられるが、額縁領域が広くなることとなり、デザイン性が低下するという問題が生じる。
　これに対して本実施の形態の表示装置１では、封止部１５の外端と表示領域１１０Ａの外端との距離に応じて幅が異なる（具体的には、封止部の外端と表示領域の外端との距離が大きい場合には狭く、小さい場合には広く）分離溝４１を設けるようにした。図１０は、表示装置１の任意の４点（例えば、矩形形状の表示装置１の各辺）における表示領域１１０Ａの外端に水分が到達するまでの時間（経過時間）を表したものである。図１０からわかるように、各辺における周辺シュリンクの発生時間はほぼ同程度であり、また、使用環境に起因する製品寿命よりも周辺シュリンクの発生時間が遅くなった。即ち、封止部外端から表示装置１１０Ａの外端までの距離を大きくすることなく、外部から表示領域への異物の侵入が抑制される。
　以上のように、本実施の形態では、絶縁層２３，３２を内周側と外周側とに分離する分離溝４１の幅を、封止部１５の外端と表示領域１１０Ａの外端との距離が大きい場合には狭く、小さい場合には広くなるようにした。これにより、周辺領域１１０Ｂの幅を広く、即ち、封止部１５の外端と表示領域１１０Ａの外端との距離を大きくすることなく外部から表示領域１１０Ａへの異物の侵入が抑制される。よって、狭額縁化を図りつつ、表示装置１およびこれを備えた電子機器の信頼性を向上させることが可能となる。
　また、額縁領域を狭く、即ち周辺領域１１０Ｂを狭くすることが可能となるため、表示パネル１００の量産効率が向上する。
　更にまた、分離溝４１は絶縁層２３，３２を構成する材料よりも透水率の低い材料によって埋設することが好ましく、上述したように、充填層１４によって埋設することによって、製造工程を増やすことなく、外部からの水分等の侵入をより抑制することが可能となる。
　続いて、第２の実施の形態について説明する。なお、上記第１の実施の形態における構成要素と同じものには同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
＜２．第２の実施の形態＞
　図１１は、本開示の第２の実施の形態に係る表示装置（表示装置２）の断面構成を表したものである。この表示装置２は、上記表示装置１と同様に、有機ＥＬテレビジョン装置等として用いられるものであり、駆動基板１１上には表示パネル１１０として表示領域１１０Ａおよび表示領域１１０Ａの周縁に周辺領域１１０Ｂが設けられている。表示装置１は、例えば白色有機ＥＬ素子１０Ｗと後述するカラーフィルタ１３Ａとを用いることによってＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のいずれかの色光が上面（駆動基板１１と反対側の面）側から出射される、上面発光型（所謂トップエミッション型）の表示装置である。本実施の形態の表示装置２では、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間に外部からの水分等の侵入を抑制する遮蔽構造（例えば、ダミー構造４３）が形成されている。
　遮蔽構造は、表示領域１１０Ａの周辺、具体的には、絶縁層２３，３２を分離する分離溝４１と表示領域１１０Ａとの間に設けられ、例えば各画素５Ｒ，５Ｇ，５Ｂに設けられた画素構造と同様のものである。この遮蔽構造（画素構造）は、実際の表示に用いられるものではなく、所謂ダミー構造４３である。本実施の形態では、ダミー構造４３として、画素構造（ダミー画素）を設けたが、これに限らず、配線を遮蔽構造（ダミー配線）としてもよい。なお、遮蔽構造としてダミー配線を設ける場合には、分離溝４１と表示領域１１０Ａとの間に、なるべく広い範囲で形成されることが好ましい。また、その形状は、例えば卍模様のような、外部から侵入してきた水分等の異物をトラップできるような形状とすることが好ましい。
　図１２は、ダミー構造４３を設けていない場合の任意の位置における表示領域の外端に水分が到達するまでの時間（経過時間）を表したものであり、図１３は、表示領域１１０Ａの周辺にダミー構造４３を設けた場合の表示領域の外端に水分が到達するまでの時間を表したものである。このように、表示領域１１０Ａの周辺にダミー構造４３を設けることによって、周辺シュリンクの発生時間を遅らせることができる。
　以上のように、本実施の形態では、表示領域１１０Ａと周辺領域１１０Ｂとの間、具体的には、表示領域１１０Ａと分離溝４１との間にダミー構造４３を設けるようにした。これにより、製造工程を増やすことなく、外部からの水分等の侵入をさらに抑制することが可能となる。よって、狭額縁化を図りつつ、表示装置１およびこれを備えた電子機器の信頼性をより向上させることが可能となる。
＜３．適用例＞
　以下、上記第１，第２の実施の形態で説明した表示装置（表示装置１，２）の適用例について説明する。上記実施の形態の有機電界発光装置は、テレビジョン装置，デジタルカメラ，ノート型パーソナルコンピュータ、携帯電話等の携帯端末装置あるいはビデオカメラ等、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、画像あるいは映像として表示するあらゆる分野の電子機器の表示装置に適用することが可能である。特に、モバイル向けの中小型ディスプレイに好適である。以下にその一例を示す。
（適用例１）
　図１４Ａおよび図１４Ｂは、適用例１に係るタブレットパーソナルコンピュータの外観を表したものである。このタブレットパーソナルコンピュータは、例えば、タッチパネル部６１０および操作部６３０が配置された筐体６２０を有しており、タッチパネル部６１０に上記実施の形態等の表示装置１，２が搭載されている。
（適用例２）
　図１５は、適用例２に係るテレビジョン装置の外観を表したものである。このテレビジョン装置は、例えば、フロントパネル２１０およびフィルターガラス２２０を含む映像表示画面部２００を有しており、映像表示画面２００が、上記実施の形態の表示装置１，２に相当する。
（適用例３）
　図１６は、適用例３に係るノート型パーソナルコンピュータの外観を表したものである。このノート型パーソナルコンピュータは、例えば、本体４１０，文字等の入力操作のためのキーボード４２０および画像を表示する表示部４３０を有しており、その表示部４３０は、上記実施の形態等に係る表示装置１，２により構成されている。
　以上、第１，第２の実施の形態および適用例を挙げて本開示を説明したが、本開示はこれらの実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。
　例えば、上記実施の形態等において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件等は限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。
　また、上記実施の形態では、表示装置が上面発光型（トップエミッション型）のものである場合について説明したが、これには限られず、例えば下面発光型（ボトムエミッション型）の構成としてもよい。このような下面発光型の表示装置の場合には、例えば下部電極３１ＡをＩＴＯ，ＩＺＯおよびＺｎＯのいずれか、上部電極３４をＡｌやＭｇＡｇあるいはＩＴＯ／Ａｇ／ＩＴＯの積層構造等を用いて形成し、有機層３３の積層順序を上記実施の形態とは逆に形成する。なお、この場合にはカラーフィルタ１３ＡはＴＦＴ（Ｔｒ１）等が形成されている層と絶縁層２３との間に設ける。可燃発光型の表示装置では、有機層３３内の発光層からの光は、下部電極および駆動基板１１を透過して外部へ取り出されることになる。また、このような表示装置において、所謂マイクロキャビティ（微小共振器）構造を設けるようにしてもよい。この微小共振器構造は、例えば、一対の反射膜間に所定の屈折率差を有する複数の層を積層した構造であり、入射光を一対の反射膜間で繰り返し反射させることにより光閉じ込めを行うものである。
　更に、上記実施の形態では、有機ＥＬ素子の構成を具体的に挙げて説明したが、全ての層を備える必要はなく、また、他の層を更に備えていてもよい。例えば、上記実施の形態等では、有機ＥＬ素子（白色有機ＥＬ素子１０Ｗ）の有機層３３の構成を、下部電極３１Ａの側から順に、正孔注入層３３Ａ、正孔輸送層３３Ｂ、発光層３３Ｃ、電子輸送層３３Ｄおよび電子注入層３３Ｅを積層した積層構造としたが、これに限らない。例えば、所謂スタック構造としてもよい。
　更に、分離溝４１によって分離された絶縁層３２のうち、周辺領域１１０Ｂ側に設けられた絶縁層２３を除去してもかまわない。
　加えて、上記実施の形態では、アクティブマトリクス型の表示装置の場合について説明したが、本開示はパッシブマトリクス型の表示装置への適用も可能である。更にまた、アクティブマトリクス駆動のための画素駆動回路の構成は、上記実施の形態で説明したものに限られず、必要に応じて容量素子やトランジスタを追加してもよい。その場合、画素駆動回路の変更に応じて、上述した信号線駆動回路１２０や走査線駆動回路１３０の他に、必要な駆動回路を追加してもよい。
　また、上記実施の形態等では、色画素として赤色画素５Ｒ，緑色画素５Ｇ，青色画素５Ｂの３種類を例に説明したが、これに限らず、例えば白色画素５Ｗや黄色画素５Ｙ等の色画素を組み合わせてもよい。
　なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。
　なお、本技術は以下のような構成をとることも可能である。
（１）複数の画素が配設された表示領域と、前記表示領域の外縁側に設けられる周辺領域と、前記表示領域から前記周辺領域へ延在する絶縁層と、前記周辺領域に設けられ、前記絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝と、前記絶縁層の外周側に設けられると共に、前記表示領域を封止する封止部とを備え、前記分離溝の幅は、前記表示領域の外端と前記封止部の外端との距離が大きくなるに応じて狭く、小さくなるに応じて広い表示装置。（２）任意の位置における前記距離をそれぞれＸ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４、前記任意の位置における前記幅をそれぞれｘａ，ｘｂ，ｘｃ，ｘｄとし、前記距離がＸ１＞Ｘ２＞Ｘ３＞Ｘ４である場合には、前記幅はｘａ＜ｘｂ＜ｘｃ＜ｘｄである、前記（１）に記載の表示装置。
（３）前記分離溝は充填材によって埋設されている、前記（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）前記充填材の吸水率および前記絶縁層を構成する材料の吸水率は互いに異なる、前記（３）に記載の表示装置。
（５）前記充填材の吸水率は、前記絶縁層を構成する材料の吸水率よりも小さい、前記（４）に記載の表示装置。
（６）前記絶縁層は有機材料によって構成されている、前記（１）乃至（５）のいずれかに記載の表示装置。
（７）前記充填材は無機材料である、前記（３）乃至（６）のいずれかに記載の表示装置。
（８）前記表示領域と、前記分離溝との間に遮蔽構造が設けられている、前記（１）乃至（７）のいずれかに記載の表示装置。
（９）前記遮蔽構造はダミー構造である、前記（８）に記載の表示装置。
（１０）前記ダミー構造は画素構造である、前記（９）に記載の表示装置。
（１１）表示装置を備え、前記表示装置は、複数の画素が配設された表示領域と、前記表示領域の外縁側に設けられる周辺領域と、前記表示領域から前記周辺領域へ延在する絶縁層と、前記周辺領域に設けられ、前記絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝と、前記絶縁層の外周側に設けられると共に、前記表示領域を封止する封止部とを備え、前記分離溝の幅は、前記表示領域の外端と前記封止部の外端との距離が大きくなるに応じて狭く、小さくなるに応じて広い電子機器。
　本出願は、日本国特許庁において２０１４年８月１９日に出願された日本特許出願番号２０１４－１６６６６０号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願の全ての内容を参照によって本出願に援用する。
　当業者であれば、設計上の要件や他の要因に応じて、種々の修正、コンビネーション、サブコンビネーション、および変更を想到し得るが、それらは添付の請求の範囲やその均等物の範囲に含まれるものであることが理解される。

Claims (11)

  1. 　複数の画素が配設された表示領域と、
    　前記表示領域の外縁側に設けられる周辺領域と、
    　前記表示領域から前記周辺領域へ延在する絶縁層と、
    　前記周辺領域に設けられ、前記絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝と、
    　前記絶縁層の外周側に設けられると共に、前記表示領域を封止する封止部とを備え、
    　前記分離溝の幅は、前記表示領域の外端と前記封止部の外端との距離が大きくなるに応じて狭く、小さくなるに応じて広い
    　表示装置。
  2. 　任意の位置における前記距離をそれぞれＸ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４、前記任意の位置における前記幅をそれぞれｘａ，ｘｂ，ｘｃ，ｘｄとし、前記距離がＸ１＞Ｘ２＞Ｘ３＞Ｘ４である場合には、前記幅はｘａ＜ｘｂ＜ｘｃ＜ｘｄである、請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記分離溝は充填材によって埋設されている、請求項１に記載の表示装置。
  4. 　前記充填材の吸水率および前記絶縁層を構成する材料の吸水率は互いに異なる、請求項３に記載の表示装置。
  5. 　前記充填材の吸水率は、前記絶縁層を構成する材料の吸水率よりも小さい、請求項４に記載の表示装置。
  6. 　前記絶縁層は有機材料によって構成されている、請求項１に記載の表示装置。
  7. 　前記充填材は無機材料である、請求項３に記載の表示装置。
  8. 　前記表示領域と、前記分離溝との間に遮蔽構造が設けられている、請求項１に記載の表示装置。
  9. 　前記遮蔽構造はダミー構造である、請求項８に記載の表示装置。
  10. 　前記ダミー構造は画素構造である、請求項９に記載の表示装置。
  11. 　表示装置を備え、
    　前記表示装置は、
    　複数の画素が配設された表示領域と、
    　前記表示領域の外縁側に設けられる周辺領域と、
    　前記表示領域から前記周辺領域へ延在する絶縁層と、
    　前記周辺領域に設けられ、前記絶縁層を内周側と外周側とに分離する分離溝と、
    　前記絶縁層の外周側に設けられると共に、前記表示領域を封止する封止部とを備え、
    　前記分離溝の幅は、前記表示領域の外端と前記封止部の外端との距離が大きくなるに応じて狭く、小さくなるに応じて広い
    　電子機器。
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