WO2015169022A1 - Oled发光器件及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Definitions
- the cover layer includes a second small molecule organic layer and a third small molecule organic layer having a non-flat upper surface above the second small molecule organic layer, the second small molecule organic layer and the first
- the difference in refractive index of the three small molecule organic layers is less than 0.1.
- the non-flat upper surface of the third small molecule organic layer is obtained by crystallizing a third small molecule organic material in the third small molecule organic layer
- the second small molecule organic material in the second small molecule organic layer has a glass transition temperature greater than a glass transition temperature of the third small molecule organic material in the third small molecule organic layer.
- a display device comprising the OLED light emitting device as described above.
- the forming the cap layer comprises: sequentially forming a second small molecule organic layer and a third small molecule organic layer on the substrate on which the second electrode is formed; wherein the second small molecule organic layer is the second small
- the glass transition temperature of the molecular organic material is greater than the glass transition temperature of the third small molecule organic material in the third small molecule organic layer; after being encapsulated, according to the glass transition temperature of the third small molecule organic material, The three small molecule organic layer is heated to crystallize the third small molecule organic material in the third small molecule organic layer.
- FIG. 1 is a schematic structural diagram of an OLED light emitting device according to an embodiment of the present invention.
- the second small molecule organic material in the second small molecule organic layer 503 may have a glass transition temperature of more than 120 ° C, and the material may be, for example, TPTE, TPPE or the like.
- the third small molecule organic layer 504 is formed to have a flat surface, only After the third small molecule organic layer 504 is heated and the heating temperature reaches the glass transition temperature of the third small molecule organic material, the third small molecule organic layer 504 is crystallization due to crystallization of the third small molecule organic material.
- the surface has a non-flat shape.
- the third small molecule organic material of the third small molecule organic layer 504 is heated and crystallized, and only the third small molecule organic material is converted from amorphous to glass state to perform a certain degree of crystallization.
- the substance itself is not changed, so whether it is before or after crystallization, it is referred to as a third small molecule organic layer 504 in the embodiment of the present invention.
- the second electrode 400 of the metal material underneath is damaged, and the second small molecule organic layer 503 is the second small molecule organic
- the glass transition temperature of the material is higher than the glass transition temperature of the third small molecule organic material in the third small molecule organic layer 504, and in the process of heating and crystallizing the third small molecule organic layer 504, It is ensured that the selection of the heating temperature is smaller than the glass transition temperature of the second small molecule organic material in the second small molecule organic layer 503.
- the embodiment of the invention further provides a display device comprising the above OLED light emitting device 10.
- the display device provided by the embodiment of the present invention is an active matrix display device. That is, as shown in FIG. 4, the display device further includes a thin film transistor 600 disposed between the base substrate 100 and the first electrode 200 of the OLED light emitting device.
- the second mode as shown in FIG. 5, in the vacuum chamber, the second small molecule organic layer 503 and the third small molecule organic layer 504 are sequentially evaporated on the substrate on which the second electrode 400 is formed;
- the glass transition temperature of the second small molecule organic material in the second small molecule organic layer 503 is greater than the glass transition temperature of the third small molecule organic material in the third small molecule organic layer 504.
- the substrate is encapsulated, and then the third small molecule organic layer 504 is heated according to the glass transition temperature of the third small molecule organic material to make the third small molecule organic layer
- the third small molecule organic material in 504 is crystallized.
- the embodiment of the present invention further provides a method for fabricating an OLED display device.
- the method includes: sequentially forming a thin film transistor 600, a first electrode 200, an organic material functional layer 300, and a transparent layer on the substrate substrate 100. Or a semi-transparent second electrode 400, and a cover layer 500 on a side of the second electrode 400 away from the base substrate 100; wherein the cover layer 500 is not flat from a surface of the base substrate 100.
- the forming the cap layer 500 may further include: in the vacuum chamber, sequentially depositing the first small molecule organic layer 501 and the plurality of substrates on the substrate on which the second electrode 400 is formed.
- the crystalline organic layer 502 has a difference in refractive index between the first small molecule organic layer 501 and the polymorphic organic 502 layer of less than 0.1.
- the second mode as shown in FIG. 5, in the vacuum chamber, the second small molecule organic layer 503 and the third small molecule organic layer 504 are sequentially evaporated on the substrate on which the second electrode 400 is formed;
- the glass transition temperature of the second small molecule organic material in the second small molecule organic layer 503 is greater than the glass transition temperature of the third small molecule organic material in the third small molecule organic layer 504.
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Abstract
一种OLED发光器件（10）及其制备方法、显示装置。该OLED发光器件（10）包括：衬底基板（100），依次设置在该衬底基板（100）上的第一电极（200）、有机材料功能层（300）、透明或半透明的第二电极（400），以及位于该第二电极（400）远离该衬底基板（100）一侧的覆盖层（500）。该覆盖层（500）远离该衬底基板（100）的表面非平坦。可以减小损耗在波导模式中的光，提高光的输出效率。
Description
本发明的实施例涉及一种OLED发光器件及其制备方法、显示装置。
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)是一种有机薄膜电致发光器件，其具有制备工艺简单、成本低、易形成柔性结构、视角宽等优点。因此，利用有机发光二极管的显示技术已成为一种重要的显示技术。
目前，OLED的光输出效率比较低，一般来说，只有很少的光能可以透过玻璃基板出射到空气中，其一方面原因是有机物的折射率高于玻璃和空气，玻璃的折射率又高于空气，发光层发出的光在向玻璃及空气发射的时候，都会出现全反射现象，即光在有机层和玻璃内部存在波导现象而被封闭在有机膜和玻璃基板内部不能出射到空气中，这种被封闭的光叫做波导模式的光。
发明内容
根据本发明的实施例，提供一种OLED发光器件，包括：衬底基板，依次设置在所述衬底基板上的第一电极、有机材料功能层、透明或半透明的第二电极，以及位于所述第二电极远离所述衬底基板一侧的覆盖层。所述覆盖层远离所述衬底基板的表面非平坦。
例如，所述覆盖层包括多晶型有机层。
例如，所述覆盖层包括第一小分子有机层和位于所述第一小分子有机层上方的所述多晶型有机层，所述第一小分子有机层和所述多晶型有机层的折射率的差值小于0.1。
例如，所述覆盖层包括第二小分子有机层和位于所述第二小分子有机层上方且具有非平坦上表面的第三小分子有机层，所述第二小分子有机层和所述第三小分子有机层的折射率的差值小于0.1。所述第三小分子有机层的非平坦的上表面是对第三小分子有机层中第三小分子有机材料进行晶化后得到
的；所述第二小分子有机层中第二小分子有机材料的玻璃化温度大于所述第三小分子有机层中第三小分子有机材料的玻璃化温度。
例如，所述第一电极包括不透明金属层，所述第二电极包括半透明金属层。
根据本发明的实施例，提供一种显示装置，包括如上所述的OLED发光器件。
例如，所述显示装置还包括设置在衬底基板和所述OLED发光器件的第一电极之间的薄膜晶体管。
例如，所述第一电极与所述薄膜晶体管的漏极电连接。
根据本发明的实施例，提供一种OLED发光器件的制备方法，包括：在衬底基板上依次形成第一电极、有机材料功能层、透明或半透明的第二电极，以及位于所述第二电极远离所述衬底基板一侧的覆盖层。所述覆盖层远离所述衬底基板的表面非平坦。
例如，所述形成覆盖层包括：在形成有所述第二电极的基板上形成多晶型有机层。
例如，所述形成覆盖层包括：在形成有所述第二电极的基板上依次形成第一小分子有机层和所述多晶型有机层，且所述第一小分子有机层和所述多晶型有机层的折射率的差值小于0.1。
例如，所述形成覆盖层包括：在形成有所述第二电极的基板上依次形成第二小分子有机层和第三小分子有机层；其中，所述第二小分子有机层中第二小分子有机材料的玻璃化温度大于所述第三小分子有机层中第三小分子有机材料的玻璃化温度；待封装后，根据所述第三小分子有机材料的玻璃化温度，对所述第三小分子有机层进行加热，使所述第三小分子有机层中的第三小分子有机材料晶化。
例如，所述第二小分子有机材料的玻璃化温度为大于120℃；所述第三小分子有机材料的玻璃化温度为60～100℃。
例如，所述第一电极包括不透明金属层，所述第二电极包括半透明金属层。
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种OLED发光器件的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种OLED发光器件的结构示意图；
图3为本发明实施例提供的一种OLED发光器件的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种OLED显示装置的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的一种制备OLED发光器件的方法的示意图。
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供了一种OLED发光器件10，如图1至图3所示，该OLED发光器件10包括：衬底基板100，依次设置在所述衬底基板上的第一电极200、有机材料功能层300、透明或半透明的第二电极400，以及位于所述第二电极400远离所述衬底基板100一侧的覆盖层500。其中，所述覆盖层500远离所述衬底基板100的表面非平坦。
所述覆盖层500的材料优选为高透过率的材料，且可以为一层结构或两层及以上结构，具体根据实际情况进行设置。
第一电极200可以为阴极或阳极，第二电极400可以为阳极或阴极。即：若第一电极200为阴极，则第二电极400为阳极；若第一电极200为阳极，则第二电极400为阴极。
对于所述有机材料功能层300，其可以至少包括发光层，在此基础上为了能够提高电子和空穴注入发光层的效率，所述有机材料功能层300进一步还可以包括电子传输层、空穴传输层和设置在阴极与所述电子传输层之间的电子注入层，以及设置在所述空穴传输层与阳极之间的空穴注入层。
基于此，当向阳极和阴极施加工作电压时，阳极中的空穴和阴极中的电
子均注入到所述发光层中；空穴和电子在所述发光层中相遇，二者复合在一起形成电子-空穴对、并释放出能量；该能量以光的形式发出，并从所述有机材料功能层300的两侧均匀的射出。
例如，所述发光层所发出的光为红光、绿光、蓝光；当然，所述发光层所发出的光也可为白光。
本发明实施例中，不对所述第一电极200的材料进行限定。
当所述第一电极200的材料包括不透明导电材料时，由于从所述有机材料功能层300出射的光仅从第二电极400一侧射出，因此，可以称为顶发射型；当第一电极200的材料为透明或半透明导电材料时，由于从所述有机材料功能层300出射的光既可以从第二电极400一侧射出，也可以从第一电极200一侧射出，因此可以称为双面发光型。其中，不透明导电材料例如可以为厚度相对较厚的银(Ag)，半透明导电材料例如可以为厚度相对较薄的银。
本发明实施例中，由于位于所述第二电极400上方的覆盖层500远离所述衬底基板100一侧的表面非平坦，使得从有机材料功能层300的发光层中发出的光在入射到覆盖层500时，可以改变其出射光的折射角，这样，通过改变从覆盖层500出射的光的折射角，可以使其向玻璃和/或空气发射时，减少全反射现象，从而可以减小损耗在波导模式中的光，提高光的输出效率。此外，通过选择合适的作为覆盖层500的材料，还可以调节出射光的透过率。
例如，所述第一电极200包括具有反射性的不透明金属层，所述第二电极400包括具有半反半透性的半透明金属层。由于不透明的第一电极200、有机材料功能层300、半透明的第二电极400可以构成一个微腔，因此，可以利用光在微腔内的干涉效应(微腔效应)来进一步提高光的输出效率。
例如，所述覆盖层500包括多晶型有机层。多晶型有机材料在形成膜层时，由于材料的特殊性，在膜层的表面便可具有非平坦的形状。
这里，所述覆盖层500可以仅为多晶型有机层，或者也可以是除包括多晶型有机层外，还包括其他膜层，在此不做限定。
进一步的，如图2所示，所述覆盖层500包括第一小分子有机层501和位于所述第一小分子有机层上方的多晶型有机层502，且所述第一小分子有机层501和所述多晶型有机层502的折射率的差值小于0.1。
这里，所述第一小分子有机层501的材料为小分子有机材料，例如可以
为：TPTE(分子式为：
所述多晶型有机层502的材料为多晶型有机材料，例如可以为Novaled公司生产的多晶型有机材料NET61。
由于在蒸镀多晶型有机层502之前，先蒸镀了第一小分子有机层501，因此，当所述第二电极400的材料为金属材料时，便可以防止蒸镀多晶型有机层502时，由于材料结晶后，晶型结构穿透较薄的金属材料的第二电极400而对第二电极400造成损坏。
需要说明的是，在选择第一小分子有机层501和多晶型有机层502的材料时，应尽量选取折射率相近似的材料，这样可以避免由于材料选择不当而造成光在经过这两层时，在第一小分子有机层501和多晶型有机层502界面发生全反射效应而使得光输出效率变低。
需要说明的是，对于上述第一小分子有机层501，也可以采用无机层来取代，在此情况下，需选择溅射来进行膜层的沉积。
需要说明的是，所述第一小分子有机层501可以是一层也可以是两层及以上，所述多晶型有机层502可以是一层也可以是两层及以上，在此不做限定。此外，凡是包括多晶型有机层502的所述覆盖层500均属于本发明的保护范围。
例如，如图3所示，所述覆盖层500包括第二小分子有机层503和位于所述第二小分子有机层上方且具有非平坦上表面的第三小分子有机层504，所述第二小分子有机层503和所述第三小分子有机层504的折射率的差值小于0.1。
其中，所述第三小分子有机层504的非平坦的上表面是对第三小分子有机层中第三小分子有机材料进行晶化后得到的；所述第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度大于所述第三小分子有机层504中第三
小分子有机材料的玻璃化温度。
所述第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度可以为大于120℃，材料例如可以为TPTE、TPPE等。
所述第三小分子有机层504中第三小分子有机材料的玻璃化温度可以为60～100℃，材料例如为NPB(分子式为：
)、TPD(分子式为：
)等。
需要说明的是，在第二小分子有机层503的表面为平面的情况下，在其上蒸镀第三小分子有机材料后，形成的第三小分子有机层504其表面也为平面，只有在对该第三小分子有机层504进行加热，并使加热温度达到第三小分子有机材料的玻璃化温度后，由于第三小分子有机材料晶化而使所述第三小分子有机层504的表面具有非平坦的形状。
需要说明的是，对所述第三小分子有机层504的第三小分子有机材料进行加热晶化，仅是使第三小分子有机材料由无定形转换为玻璃态而进行一定程度的晶化，物质本身没有改变，因此不管是晶化前还是晶化后，本发明实施例中都称为第三小分子有机层504。
需要说明的是，所述第二小分子有机层503可以是一层也可以是两层及以上，所述第三小分子有机层504可以是一层也可以是两层及以上，在此不做限定。
一方面，通过选择稍高于第三小分子有机层504中第三小分子有机材料的玻璃化温度的温度值对所述第三小分子有机层504中第三小分子有机材料进行加热，便可以使第三小分子有机材料晶化，从而使所述第三小分子有机层504具有非平坦的上表面。
另一方面，由于第二小分子有机层503的存在，可以避免第三小分子有机层504中第三小分子有机材料晶化时损坏位于其下方的金属材料的第二电极400。
这里，为了避免使第三小分子有机层504中第三小分子有机材料晶化而损坏位于其下方的金属材料的第二电极400，所述第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度要高于第三小分子有机层504中第三小分子有机材料的玻璃化温度，且在对所述第三小分子有机层504进行加热使之晶化的过程中，要保证该加热温度的选择小于第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度。
此外，为了避免晶化过程对器件造成其他影响，在形成所述第三小分子有机层504后，应先进行封装，然后再通过加热方式使所述第三小分子有机层504中第三小分子有机材料晶化。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括上述的OLED发光器件10。
此处，所述OLED发光器件可以适用无源矩阵型显示装置，也可以适用有源矩阵显示装置，在此不做限定。
本发明实施例提供了一种显示装置，包括上述的OLED发光器件10。由于位于所述第二电极400上方的覆盖层500远离所述衬底基板100一侧的表面非平坦，使得从有机材料功能层300的发光层中发出的光在入射到覆盖层500时，可以改变其出射光的折射角，这样，通过改变从覆盖层500出射的光的折射角，可以使其向玻璃和/或空气发射时，减少全反射现象，从而可以减小损耗在波导模式中的光，提高光的输出效率。此外，通过选择合适的作为覆盖层500的材料，还可以调节出射光的透过率。
考虑到无源矩阵应用于大尺寸显示装置时有其不足的一面，优选的，本发明实施例提供的显示装置为有源矩阵型显示装置。即，如图4所示，所述显示装置还包括设置在衬底基板100和所述OLED发光器件的第一电极200之间的薄膜晶体管600。
其中，所述薄膜晶体管600包括栅极、栅绝缘层、半导体有源层、源极和漏极；所述漏极与第一电极200和第二电极400中的其中一个电极连接。
需要说明的是，在本发明实施例中不对所述薄膜晶体管600的结构进行限定，可以是顶栅型，也可以是底栅型。
进一步的，考虑到若使漏极与所述第二电极400电连接，势必需要所述第二电极400穿过位于有机材料功能层300和第一电极200，来与漏极电连接，这样一方面可能导致第二电极400与第一电极200发生短路，另一方面
由于有机材料功能层300材料的特殊性，制备工艺相对也复杂。基于此，本发明实施例优选为将所述薄膜晶体管600的漏极与所述第一电极200电连接。
这里，若将第一电极200作为阳极，则作为阴极的第二电极50的电压为恒定；若将第一电极200作为阴极，则作为阳极的第二电极50的电压为恒定。
当然，如图4所示，对于所述OLED显示装置，还应包括覆盖在所述覆盖层500上的封装基板700。
本发明实施例还提供了一种OLED发光器件的制备方法，参考图1所示，该方法包括：在衬底基板100上依次形成第一电极200、有机材料功能层300、透明或半透明的第二电极400，以及位于所述第二电极400远离所述衬底基板100一侧的覆盖层500；其中，所述覆盖层500远离所述衬底基板100的表面非平坦。
由于位于所述第二电极400上方的覆盖层500远离所述衬底基板100一侧的表面非平坦，使得从有机材料功能层300的发光层中发出的光在入射到覆盖层500时，可以改变其出射光的折射角，这样，通过改变从覆盖层500出射的光的折射角，可以使其向玻璃和/或空气发射时，减少全反射现象，从而可以减小损耗在波导模式中的光，提高光的输出效率。此外，通过选择合适的作为覆盖层500的材料，还可以调节出射光的透过率。
例如，所述第一电极200包括具有反射性的不透明金属层，所述第二电极400包括具有半反半透性的半透明金属层。由于不透明的第一电极200、有机材料功能层300、半透明的第二电极400可以构成一个微腔，因此，可以利用光在微腔内的干涉效应(微腔效应)来进一步提高光的输出效率。
例如，形成所述覆盖层500，可以通过以下方式实现：
第一种方式：由于多晶型有机材料在形成膜层时，其材料的特殊性，在膜层的表面便可具有非平坦的形状，因此，可以通过多晶型有机层502来实现。
基于此，即可以在形成有所述第二电极400的基板上蒸镀多晶型有机层502来作为覆盖层。
在此基础上，例如，形成所述覆盖层500可以包括：参考图2所示，在真空腔中，在形成有所述第二电极400的基板上依次蒸镀第一小分子有机层501和多晶型有机层502，且所述第一小分子有机层501和所述多晶型有机
502层的折射率的差值小于0.1。
所述第一小分子有机层501的材料为小分子有机材料，例如可以为TPTE、TPPE等。所述多晶型有机层502的材料为多晶型有机材料，例如可以为Novaled公司生产的多晶型有机材料NET61。
第二种方式：参考图5所示，在真空腔中，在形成有所述第二电极400的基板上依次蒸镀第二小分子有机层503和第三小分子有机层504；其中，所述第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度大于所述第三小分子有机层504中第三小分子有机材料的玻璃化温度。
在此基础上，对上述的基板进行封装，然后，根据所述第三小分子有机材料的玻璃化温度，对所述第三小分子有机层504进行加热，使所述第三小分子有机层504中的第三小分子有机材料晶化。
这里，所述第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度可以为大于120℃，材料例如可以为TPTE、TPPE等。
所述第三小分子有机层504中第三小分子有机材料的玻璃化温度可以为60～100℃，材料例如为NPB、TPD等。
需要说明的是，为了避免使第三小分子有机层504中第三小分子有机材料晶化而损坏位于其下方的金属材料的第二电极400，所述第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度要高于第三小分子有机层504中第三小分子有机材料的玻璃化温度，且在对所述第三小分子有机层504进行加热使之晶化的过程中，要保证该加热温度的选择小于第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度。
需要说明的是，为了避免晶化过程对器件造成其他影响，在形成所述第三小分子有机层504后，应先进行封装，然后再通过加热方式使所述第三小分子有机层504中第三小分子有机材料晶化。
本发明实施例还提供了一种OLED显示装置的制备方法，参考图4所示，该方法包括：在衬底基板100上依次形成薄膜晶体管600、第一电极200、有机材料功能层300、透明或半透明的第二电极400，以及位于所述第二电极400远离所述衬底基板100一侧的覆盖层500；其中，所述覆盖层500远离所述衬底基板100的表面非平坦。
其中，所述薄膜晶体管600包括栅极、栅绝缘层、半导体有源层、源极
和漏极，其可以为底栅型、也可以为顶栅型；所述漏极与所述第一电极200和第二电极400中的其中一个电极连接。
例如，将所述薄膜晶体管600的漏极与所述第一电极200电连接。这样，由于第一电极200靠近所述薄膜晶体管600，因此可以简化制备工艺。
当然，如图4所示，所述方法还包括形成覆盖所述覆盖层500的封装基板700。
例如，形成所述覆盖层500，可以通过以下两种方式实现：
第一种方式：在形成有所述第二电极400的基板上蒸镀多晶型有机层502。
在此基础上，形成所述覆盖层500还可以包括：参考图2所示，在真空腔中，在形成有所述第二电极400的基板上依次蒸镀第一小分子有机层501和多晶型有机层502，且所述第一小分子有机层501和所述多晶型有机502层的折射率的差值小于0.1。
第二种方式：参考图5所示，在真空腔中，在形成有所述第二电极400的基板上依次蒸镀第二小分子有机层503和第三小分子有机层504；其中，所述第二小分子有机层503中第二小分子有机材料的玻璃化温度大于所述第三小分子有机层504中第三小分子有机材料的玻璃化温度。
在此基础上，对上述的基板进行封装，然后，根据所述第三小分子有机材料的玻璃化温度，对所述第三小分子有机层504进行加热，使所述第三小分子有机层504中的第三小分子有机材料晶化。
需要说明的是，本发明实施例也可采用在所述第二电极400上方贴附微透镜阵列膜或聚酰亚胺(PI)材料的棱镜膜来替代上述的覆盖层500，在此不再赘述。
以上所述仅是本发明的示范性实施方式，而非用于限制本发明的保护范围，本发明的保护范围由所附的权利要求确定。
本申请要求于2014年5月8日递交的第201410191903.2号中国专利申请的优先权，在此全文引用上述中国专利申请公开的内容以作为本申请的一部分。
Claims (14)
- 一种OLED发光器件，包括：衬底基板，依次设置在所述衬底基板上的第一电极、有机材料功能层、透明或半透明的第二电极，以及位于所述第二电极远离所述衬底基板一侧的覆盖层；其中，所述覆盖层远离所述衬底基板的表面非平坦。
- 根据权利要求1所述的OLED发光器件，其中所述覆盖层包括多晶型有机层。
- 根据权利要求2所述的OLED发光器件，其中所述覆盖层包括第一小分子有机层和位于所述第一小分子有机层上方的所述多晶型有机层，所述第一小分子有机层和所述多晶型有机层的折射率的差值小于0.1。
- 根据权利要求1所述的OLED发光器件，其中所述覆盖层包括第二小分子有机层和位于所述第二小分子有机层上方且具有非平坦上表面的第三小分子有机层，所述第二小分子有机层和所述第三小分子有机层的折射率的差值小于0.1；其中，所述第三小分子有机层的非平坦的上表面是对第三小分子有机层中第三小分子有机材料进行晶化后得到的；所述第二小分子有机层中第二小分子有机材料的玻璃化温度大于所述第三小分子有机层中第三小分子有机材料的玻璃化温度。
- 根据权利要求1至4任一项所述的OLED发光器件，其中所述第一电极包括不透明金属层，所述第二电极包括半透明金属层。
- 一种显示装置，包括权利要求1至5任一项所述的OLED发光器件。
- 根据权利要求6所述的显示装置，还包括设置在衬底基板和所述OLED发光器件的第一电极之间的薄膜晶体管。
- 根据权利要求7所述的显示装置，其中所述第一电极与所述薄膜晶体管的漏极电连接。
- 一种OLED发光器件的制备方法，包括：在衬底基板上依次形成第一电极、有机材料功能层、透明或半透明的第二电极，以及位于所述第二电极远离所述衬底基板一侧的覆盖层；其中，所述覆盖层远离所述衬底基板的表面非平坦。
- 根据权利要求9所述的方法，其中所述形成覆盖层包括：在形成有所述第二电极的基板上形成多晶型有机层。
- 根据权利要求10所述的方法，其中所述形成覆盖层包括：在形成有所述第二电极的基板上依次形成第一小分子有机层和所述多晶型有机层，且所述第一小分子有机层和所述多晶型有机层的折射率的差值小于0.1。
- 根据权利要求9所述的方法，其中所述形成覆盖层包括：在形成有所述第二电极的基板上依次形成第二小分子有机层和第三小分子有机层；其中，所述第二小分子有机层中第二小分子有机材料的玻璃化温度大于所述第三小分子有机层中第三小分子有机材料的玻璃化温度；待封装后，根据所述第三小分子有机材料的玻璃化温度，对所述第三小分子有机层进行加热，使所述第三小分子有机层中的第三小分子有机材料晶化。
- 根据权利要求12所述的方法，其中所述第二小分子有机材料的玻璃化温度为大于120℃；所述第三小分子有机材料的玻璃化温度为60～100℃。
- 根据权利要求9至13任一项所述的方法，其中所述第一电极包括不透明金属层，所述第二电极包括半透明金属层。
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