WO2015151647A1 - 質量流量の測定方法、当該方法を使用する熱式質量流量計、及び当該熱式質量流量計を使用する熱式質量流量制御装置 - Google Patents

質量流量の測定方法、当該方法を使用する熱式質量流量計、及び当該熱式質量流量計を使用する熱式質量流量制御装置 Download PDF

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flow rate
pressure
temperature
coefficient
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慎太郎 池内
祐之 伊藤
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日立金属株式会社
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    • G05D7/0629Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
    • G05D7/0635Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means

Definitions

  • the present invention relates to a method for measuring a mass flow rate in a thermal mass flow meter, a thermal mass flow meter using the method, and a thermal mass flow controller using the thermal mass flow meter.
  • Mass flow meters are widely used for the purpose of measuring the mass flow rate of a process gas supplied into a chamber, for example, in a semiconductor manufacturing process.
  • the mass flow meter is not only used alone as described above, but also used as a component constituting a mass flow control device (mass flow controller) together with other members such as a flow control valve and a control circuit.
  • mass flow controller mass flow controller
  • thermal mass flow meters are widely used because the mass flow rate of fluids (eg, gas and liquid) can be accurately measured with a relatively simple configuration. in use.
  • thermal mass flow meters a capillary heating type thermal mass flow meter is particularly widely used.
  • a capillary heating type thermal mass flow meter has a flow path through which a fluid flows and a bypass provided in the middle of the flow path (sometimes referred to as “flow element” or “laminar flow element”).
  • a sensor tube may be referred to as “capillary” or “capillary tube”) that branches from the flow path upstream of the bypass and rejoins the flow path downstream of the bypass, and is wound around the sensor tube
  • the sensor circuit includes a pair of sensor wires and a sensor circuit including a bridge circuit including the sensor wires and other resistance elements (see, for example, Patent Document 1).
  • the bypass has a fluid resistance with respect to the fluid, and is configured such that a certain proportion of the fluid flowing in the flow path branches to the sensor tube.
  • the change according to the mass flow rate of the fluid of the difference in electrical resistance between the upstream sensor wire and the downstream sensor wire as described above can be detected as a change in potential difference using, for example, a bridge circuit. . Further, this potential difference can be detected as an output signal output as a voltage value or a current value via an operational amplifier, for example. Based on the output signal thus detected, the mass flow rate of the fluid flowing in the sensor tube can be obtained, and on the basis of the mass flow rate of the fluid flowing in the sensor tube, the mass flow rate of the fluid flowing in the flow path is obtained. (Details will be described later).
  • a specific fluid for example, nitrogen gas (N 2 )
  • N 2 nitrogen gas
  • a reference mass flow rate for example, the maximum flow rate of the thermal mass flow meter. (Full scale)
  • the reference signal intensity which is the intensity (voltage value or current value) of the output signal at this time is measured in advance.
  • the mass flow rate of the fluid may be measured at a temperature and / or pressure different from the conditions under which the reference signal intensity is measured.
  • the thermal physical properties are constant even at a temperature and / or pressure different from the conditions under which the reference signal intensity is measured.
  • the reference signal of the measured signal strength as described above. It is practically possible to accurately calculate the mass flow rate based on the ratio to intensity.
  • Patent Document 2 a technique for calculating an accurate mass flow rate using a value obtained by correcting a known physical property value (specific heat) of a gas whose mass flow rate is to be measured according to the gas temperature has been proposed (for example, Patent Document 2). See).
  • a technique has been proposed in which an accurate mass flow rate is calculated using a value obtained by correcting a gas coefficient predetermined for each type of gas flow to be measured and a set flow rate according to the gas pressure (for example, see Patent Documents 3 and 4).
  • Patent Document 5 a technique for calculating an accurate mass flow rate using a correction coefficient determined in advance for each type, temperature, and pressure of a gas whose mass flow rate is to be measured has been proposed (see, for example, Patent Document 5). .
  • the mass flow rates of various gases are more accurate. Can be measured.
  • JP 2009-192220 A Japanese Patent Laid-Open No. 03-204705 JP 2010-093120 A JP 2010-169657 A JP 2009-087126 A
  • Patent Documents 3 and 4 it is necessary to predetermine a gas coefficient for each type of gas whose mass flow rate is to be measured and a set flow rate, and a data storage capacity for storing a huge number of gas coefficients Is required. Further, since the gas coefficient is corrected only according to the pressure, the influence of temperature cannot be corrected. Regarding the invention described in Patent Document 5, it is necessary to determine correction coefficients in advance for each combination of the type, temperature, and pressure of the gas whose mass flow rate is to be measured, and a huge number of correction coefficients are also stored. Data storage capacity is required.
  • the present invention provides a method for measuring the mass flow rate of a fluid, which can accurately and easily measure the mass flow rate even if the temperature and / or pressure of the fluid whose mass flow rate is to be measured changes.
  • a capillary heating type thermal mass flow meter comprising: a sensor that detects the temperature and pressure of a fluid; and a correction unit that corrects the mass flow rate based on the temperature and pressure.
  • the rate of change of the mass flow rate with respect to the temperature and pressure of the fluid is obtained in advance, and the mass flow rate of the fluid is accurately and simply measured by correcting the mass flow rate based on the temperature and pressure and the rate of change thereof. I found that I can do it.
  • the method for measuring the mass flow rate of the fluid is as follows. Calculating the actual mass flow rate F m of the fluid based on the intensity at which the measured signal strength S of the output signal in the capillary heating type thermal mass flow meter comprising a flow sensor for outputting an output signal corresponding to the mass flow rate of the fluid
  • the mass flow meter is A temperature sensor for detecting a temperature T of the fluid; A pressure sensor for detecting the pressure P of the fluid; And correcting means for calculating a correction mass flow F c by correcting the measured mass flow rate F m on the basis of the temperature T and the pressure P,
  • a data storage device provided in the correction means, A temperature coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the measured mass flow rate F m of the fluid; A pressure coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the pressure of the measured mass flow rate F m of the fluid; Is stored in advance,
  • the correction means is The temperature deviation ⁇ T, which is the
  • the mass flow rate measuring method of the present invention the mass flow rate can be accurately and easily measured even if the temperature and / or pressure of the fluid whose mass flow rate is to be measured changes.
  • the present inventor is a capillary heating type thermal mass flow meter comprising a sensor for detecting the temperature and pressure of the fluid, and a correction means for correcting the mass flow rate based on the temperature and pressure.
  • the mass flow rate change rate with respect to the temperature and pressure of the fluid is obtained in advance, and the mass flow rate is corrected based on the temperature and pressure and the change rate, thereby measuring the mass flow rate of the fluid more accurately.
  • the present inventors have come up with the present invention.
  • the mass flow rate measuring method In the mass flow measurement method according to the prior art, only the influence of either the temperature or the pressure of the fluid whose mass flow is to be measured is considered, or the type, temperature, and pressure of the fluid are considered. A correction coefficient is predetermined for each of a huge number of combinations.
  • the mass flow rate measuring method In the mass flow rate measuring method according to the present invention, the rate of change of the mass flow rate (temperature coefficient and pressure coefficient) with respect to the temperature and pressure of the fluid whose mass flow rate is to be measured is obtained in advance.
  • the mass flow rate is calculated by a calculation formula that uses the temperature and pressure deviation, the temperature coefficient, and the pressure coefficient at the time of calibration.
  • the first embodiment of the present invention is: Calculating the actual mass flow rate F m of the fluid based on the intensity at which the measured signal strength S of the output signal in the capillary heating type thermal mass flow meter comprising a flow sensor for outputting an output signal corresponding to the mass flow rate of the fluid
  • the mass flow meter is A temperature sensor for detecting a temperature T of the fluid; A pressure sensor for detecting the pressure P of the fluid; And correcting means for calculating a correction mass flow F c by correcting the measured mass flow rate F m on the basis of the temperature T and the pressure P,
  • a data storage device provided in the correction means, A temperature coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the measured mass flow rate F m of the fluid; A pressure coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the pressure of the measured mass flow rate F m of the fluid; Is stored in advance,
  • the correction means is The temperature deviation ⁇ T, which is the deviation between the temperature T 0 at the time of
  • the mass flow meter to which the mass flow measurement method according to this embodiment is applied is a general capillary heating type thermal mass flow meter having a configuration well known in the technical field.
  • the mass flow rate measuring method according to the present embodiment can be applied to a thermal mass flowmeter having the following configuration.
  • a flow path through which fluid flows A bypass provided in the middle of the flow path; A sensor tube branched from the flow path on the upstream side of the bypass and rejoining the flow path on the downstream side of the bypass, and a pair of sensor wires disposed so as to be capable of conducting heat to the fluid flowing in the sensor tube
  • a flow sensor including: A power supply for supplying to the sensor wire an input signal for generating heat from the sensor wire; A sensor circuit comprising a bridge circuit including the sensor wire; Capillary heating type thermal mass flowmeter.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a thermal mass flow controller including a thermal mass flow meter to which a mass flow measurement method according to one embodiment of the present invention is applied, as described above.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of the configuration of the sensor circuit included in the thermal mass flow meter to which the mass flow measurement method according to one embodiment of the present invention is applied as described above.
  • the thermal mass flow controller 100 corresponds to a thermal mass flow meter 110, a flow rate adjusting means 120, and a control means 130 ("correction means” and “control means” described later). And).
  • the thermal mass flow meter 110 includes a flow path 114 through which a fluid flows, a bypass 115 provided in the middle of the flow path 114, a flow path that branches from the flow path 114 on the upstream side of the bypass 115, and a downstream side of the bypass 115.
  • Sensor tube 116 that rejoins 114, a pair of sensor wires 117 and 118 wrapped around sensor tube 116, and sensor wires 117 and 118 and other resistive elements 117 'and 118' as shown in FIG.
  • a sensor circuit 111 including a bridge circuit.
  • the bypass 115 has a fluid resistance to the fluid, and is configured such that a certain proportion of the fluid flowing through the flow path 114 branches to the sensor tube 116.
  • a pair of sensor wires 117 and 118 are wound around the sensor tube 116.
  • the specific arrangement of the sensor wire is not particularly limited as long as the heat generated from the sensor wire can be conducted to the fluid flowing in the sensor tube.
  • the difference (ratio) in the electrical resistance value caused by the temperature difference between the upstream sensor wire 117 and the downstream sensor wire 118 generated in this way varies depending on the mass flow rate of the fluid flowing through the sensor tube 116.
  • the potential difference between the points S and C of the sensor circuit 111 also changes according to the mass flow rate of the fluid flowing through the sensor tube 116.
  • the operational amplifier 119 By detecting such a change in potential difference via, for example, the operational amplifier 119, the mass flow rate of the fluid flowing through the sensor tube 116 can be measured.
  • the mass flow rate of the fluid flowing in the flow path 114 can be obtained based on the mass flow rate of the fluid flowing in the sensor tube 116 measured in this way.
  • sensor wires 117 and 118 each having a resistance value of 300 ⁇ are connected in series at a point S, and other resistance elements 117 ′ and 118 ′ each having a resistance value of 20 k ⁇ are connected. They are connected in series at point C. Furthermore, both ends of the sensor wires 117 and 118 connected in series as described above and both ends of the other resistance elements 117 ′ and 118 ′ are connected at points P and N, respectively. That is, the sensor wires 117 and 118 and the resistance elements 117 ′ and 118 ′ constitute a so-called “Wheatstone bridge”.
  • a predetermined input signal (electric signal) is supplied (input) between the point P and the point N from the power source 113, and Joule heat is generated from the sensor wires 117 and 118.
  • the point S and the point C are respectively connected to the non-inverting input (+) and the inverting input ( ⁇ ) of the operational amplifier 119, and a signal corresponding to the potential difference between the point S and the point C is used as an output signal from the operational amplifier 119. can get. Based on the output signal from the operational amplifier 119 thus obtained, the mass flow rate of the fluid flowing through the sensor tube 116 can be measured (calculated).
  • the other resistance elements 117 ′ and 118 ′ are arranged at positions and / or states that are substantially unaffected by the heat generated from the sensor wires 117 and 118.
  • Control relating to the supply of the input signals to the sensor wires 117 and 118 and the detection of the output signals from the sensor circuit 111 as described above can be executed by, for example, the control means 130 provided in the thermal mass flow meter 110.
  • a control means 130 can be implemented as an electronic control device such as a microcomputer. Details of such an electronic control device are well known to those skilled in the art, and a description thereof will be omitted.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of the configuration of a thermal mass flow controller including a thermal mass flow meter to which the mass flow measurement method according to one embodiment of the present invention is applied. It is. Accordingly, as described above, in addition to the thermal mass flow meter 110, FIG. 1 also shows the flow rate adjusting means 120, the temperature sensor 131, the pressure sensor 132, and the like. Since these will be described later in detail in the description of the embodiment as the thermal mass flow meter and the thermal mass flow controller according to the present invention, they will not be described here.
  • the material of the sensor tube is preferably a material having excellent corrosion resistance and mechanical strength, and generally a metal (ie, conductor) such as stainless steel is used.
  • a conductor is naturally used as a material for the sensor wire.
  • a material having excellent corrosion resistance and mechanical strength such as a stainless steel material such as SUS316 defined by Japanese Industrial Standard (JIS) is used.
  • a conductor for example, a metal such as copper
  • a desired electric resistance value such as an enameled wire is used. That is, in general, both the material of the sensor tube and the sensor wire is a conductor.
  • the sensor tube is wound around the sensor tube and the sensor wire for the purpose of preventing conduction between the sensor tube and the sensor wire, preventing conduction between the sensor wires, and fixing the sensor wire to the sensor tube.
  • a coating layer formed of an insulating material such as a resin is disposed around the wire.
  • the heat generated from the sensor wire by energization needs to be taken away by the sensor tube and the fluid flowing through the sensor tube. Therefore, it is desirable that at least the coating layer interposed between the sensor wire and the sensor tube has good thermal conductivity.
  • the material constituting the coating layer is required to have a function as an electrical insulator, a function as an adhesive, and a function as a heat conductor. Further, a material having sufficient flexibility that can be thinly formed on the surface of the sensor tube and the sensor wire and does not cause cracking even when the sensor wire having a coating layer formed on the surface is wound around the sensor tube is preferable. . From this point of view, polyamideimide or polyimide is preferably used as the material for the coating layer of the flow sensor according to the prior art. In particular, polyimide is more preferable because it has extremely high heat resistance.
  • the configuration of the thermal mass flow meter described above is only an example, and the configuration of the thermal mass flow meter to which the mass flow measurement method according to the present embodiment is applied is limited to the configuration described above. Not.
  • the method for measuring the mass flow rate according to the present embodiment is based on the output signal S in the capillary heating type thermal mass flow meter including the flow sensor that outputs the output signal S corresponding to the mass flow rate of the fluid. it is a method of measuring the mass flow rate to calculate the actual mass flow rate F m of the fluid.
  • a mass flow measurement method according to the prior art in a thermal mass flow meter will be described in detail below.
  • a thermal mass flowmeter has a reference fluid (for example, nitrogen gas (N 2 )) at a reference flow rate (F 0 ) at a predetermined calibration temperature (T 0 ) and calibration pressure (P 0 ).
  • Calibration gas, etc. is passed through the thermal mass flow meter, and the intensity (eg, voltage value, current value, etc.) of the output signal at that time is, for example, a data storage device (eg, non-volatile) provided in the thermal mass flow meter. And the like as a reference signal strength (S 0 ).
  • the ratio of the actually measured signal intensity S to the reference signal intensity S 0 at the time of the above measurement (for example, the ratio of the actually measured signal voltage S to the reference signal voltage S 0 (5.000V)) (S / S 0 ) is expressed as f (% ),
  • the above formula (1) is expressed by the following formula (2).
  • the reference flow rate F 0 and the reference signal strength S 0 are determined. This is convenient because it allows generalized discussions that do not depend on the magnitude of the absolute value.
  • the mass flow rate of the reference fluid when the reference fluid is passed through the thermal mass flowmeter at the calibration temperature T 0 and the calibration pressure P 0 is obtained from the actually measured signal intensity S at the time of the measurement. Can be calculated.
  • the type of the reference fluid used for calibration of the mass flowmeter is not limited to nitrogen gas (N 2 ), and any fluid can be used as long as it has a stable thermal property in the assumed temperature and pressure range. May be.
  • the reference flow rate (F 0 ) of the reference fluid and the corresponding reference signal intensity (S 0 ) are not limited to the above examples, and the correction means for processing the assumed mass flow range and the output signal It can be appropriately set to an arbitrary value according to the specification or the like.
  • the mass flow rate of a fluid of a type different from the reference fluid may be measured.
  • the measured mass flow rate is determined according to the thermal property of the fluid. It is necessary to correct. Therefore, in this technical field, as described above, by correcting the mass flow rate by the conversion factor (CF), which is a specific correction coefficient obtained in advance for each type of fluid, thermal properties different from the reference fluid are obtained. It is known to accurately calculate the mass flow rate of a fluid having When the technique for correcting the mass flow rate by the CF is applied to the above-described equations (1) and (2), the following equation (3) is obtained.
  • CF conversion factor
  • the mass flow rate of the fluid may be measured at a temperature and / or pressure different from the conditions under which the reference signal intensity is measured.
  • the thermal physical properties are constant even at a temperature and / or pressure different from the conditions under which the reference signal intensity is measured.
  • the reference signal of the measured signal strength as described above. It is practically possible to accurately calculate the mass flow rate based on the ratio to intensity.
  • the thermal properties (eg, specific heat) of many fluids vary with temperature and / or pressure. Therefore, even if the fluid whose mass flow rate is to be measured is the same type as the reference fluid (that is, both have the same thermal properties), the temperature and / or pressure of the fluid will be temperature when calibrated thermal mass flow meter and / or pressure by (i.e., the temperature T 0 and / or calibration pressure P 0 at the time of calibration) if different, the fluid thermal properties different from the time of calibration Have
  • the change in thermal properties as described above affects the measurement accuracy of the mass flow rate.
  • the measurement error is about 2% at maximum per 10 ° C. in the measured mass flow rate F m due to the temperature change of the fluid as described above, a measurement error of the measured mass flow rate F m by pressure change in the order of 1% at maximum per 100kPa It may reach. Since these variable factors (fluid temperature and pressure) act independently of each other on the mass flow rate, the error in actual measurement of the mass flow rate in this case may be up to about 3%.
  • the ease of fluctuation of such thermal properties dependsence on temperature and / or pressure) varies depending on the type of fluid.
  • the mass flow rate of a fluid that behaves differently from an ideal gas can be accurately measured by considering the type, temperature, and pressure of the fluid whose mass flow rate is to be measured.
  • Various attempts to do so have been proposed.
  • these prior arts still have points to be improved.
  • the mass flowmeter is widely used for the purpose of measuring the mass flow rate of the process gas supplied into the chamber, for example, in a semiconductor manufacturing process.
  • the accuracy required for the flow control of process gas is increasing more and more with the increasing complexity and miniaturization of semiconductor devices.
  • the control accuracy required for the mass flow control device in this case is ⁇ 1.0%, but in recent years, a control accuracy of ⁇ 0.5% is required. It has become.
  • a technique for controlling the mass flow rate of the fluid to approach the target value based on the actually measured value is required.
  • the temperature coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the actually measured mass flow rate F m of the fluid to be measured for the mass flow rate
  • advance specified the pressure coefficient ⁇ is a partial differential coefficient for the pressure of the measured mass flow rate F m.
  • the mass flow meter to which the mass flow measurement method according to the present embodiment is applied, A temperature sensor for detecting a temperature T of the fluid; A pressure sensor for detecting the pressure P of the fluid; And correcting means for calculating a correction mass flow F c by correcting the measured mass flow rate F m on the basis of the temperature T and the pressure P, Is provided.
  • the temperature sensor is not particularly limited as long as the temperature T of the fluid flowing in the flow path can be detected.
  • Specific examples of the temperature sensor include a thermocouple temperature sensor and a thermistor temperature sensor.
  • the pressure sensor is not particularly limited as long as the pressure P of the fluid flowing through the flow path can be detected.
  • Specific examples of the pressure sensor include a capacitance type pressure sensor and a gauge type pressure sensor.
  • both the temperature sensor 131 and the pressure sensor 132 are disposed upstream of the branch point where the sensor tube 116 of the flow path 114 branches. .
  • the position and manner in which the temperature sensor and the pressure sensor are disposed in the thermal mass flowmeter according to this embodiment are particularly limited as long as the temperature T and pressure P of the fluid flowing in the flow path can be detected. It is not limited.
  • the correction means calculates the corrected mass flow rate F c to correct the measured mass flow rate F m, based on the pressure P detected by the temperature T and the pressure sensor is detected by the temperature sensor.
  • Such arithmetic processing can be executed by, for example, an electronic control device such as a microcomputer incorporated in a thermal mass flow meter.
  • the correction means is included in the control means 130.
  • the change rate (temperature coefficient and pressure coefficient) of the mass flow rate with respect to the temperature and pressure of the fluid whose mass flow rate is to be measured is obtained in advance.
  • the mass flow rate is calculated by a calculation formula using the temperature and pressure deviation, the temperature coefficient, and the pressure coefficient at the time of calibration.
  • the data storage device provided in the correction means is A temperature coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the measured mass flow rate F m of the fluid;
  • a pressure coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the pressure of the measured mass flow rate F m of the fluid; are stored in advance.
  • the temperature coefficient ⁇ is obtained when, for example, the temperature T of the fluid is changed while the fluid pressure P is maintained constant in a state where the target fluid is flowing through the thermal mass flowmeter at a constant flow rate. It can be specified by determining the rate of change ( ⁇ F m / ⁇ T) of the actual mass flow rate F m measured by the thermal mass flow meter with respect to the temperature T. Alternatively, the change rate ( ⁇ F m / ⁇ T) of the actually measured mass flow rate F m with respect to the temperature T is obtained as described above at each of a plurality of different pressures P, and the obtained plurality of change rates ( ⁇ F m / The temperature coefficient ⁇ may be specified by averaging ⁇ T).
  • the pressure coefficient ⁇ is obtained when, for example, the fluid pressure T is changed while the fluid temperature T is kept constant in a state where the target fluid is flowing through the thermal mass flowmeter at a constant flow rate. It can be identified by determining the rate of change with respect to the pressure P of the measured mass flow rate F m, as measured by the thermal mass flow meter ( ⁇ F m / ⁇ P). Alternatively, the change rate ( ⁇ F m / ⁇ P) of the actually measured mass flow rate F m with respect to the pressure P is obtained as described above at each of a plurality of different temperatures T, and the obtained plurality of change rates ( ⁇ F m / The pressure coefficient ⁇ may be specified by averaging ⁇ P).
  • the temperature coefficient ⁇ and the pressure coefficient ⁇ specified as described above are stored in a data storage device (for example, a non-volatile memory) provided in the correction means.
  • a data storage device for example, a non-volatile memory
  • the temperature coefficient ⁇ and the pressure coefficient ⁇ stored in the data storage device are referred to (read out), and corrected more accurately by these coefficients. Can be used to calculate the correct mass flow rate.
  • the “data storage device included in the correction unit” may be a data storage device physically included in the electronic control unit constituting the correction unit, or may be included in the electronic control unit constituting the correction unit. It may be a data storage device that is not physically included. In the latter case, the “data storage device included in the correcting unit” may be physically included in an electronic control unit different from the electronic control unit configuring the correcting unit, or the electronic control unit configuring the correcting unit. It may be a data storage device arranged outside alone.
  • the temperature coefficient ⁇ and the pressure coefficient ⁇ corresponding to each of the plurality of types of fluids are stored in the data storage device.
  • the temperature coefficient ⁇ and the pressure coefficient ⁇ corresponding to the fluid whose mass flow rate is to be measured can be read from the data storage device and used for the calculation of the more correct mass flow rate corrected by these coefficients.
  • T temperature
  • P pressure
  • the actually measured mass flow rate F m is, for example, the intensity of the output signal actually measured when flowing through the thermal mass flow meter according to either of the above-described equations (1) or (2) (actual signal strength) ) S or the ratio of the actually measured signal voltage S to the reference signal voltage S 0 ) (S / S 0 ).
  • the actually measured mass flow rate F m can be calculated by the above-described equation (3).
  • the temperature coefficient ⁇ and the pressure coefficient ⁇ are specified in advance for each fluid whose mass flow rate is to be measured, and the mass flow rate is measured and the thermal mass is measured.
  • the temperature coefficient ⁇ is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the actually measured mass flow rate F m
  • the pressure coefficient ⁇ is a partial differential coefficient with respect to the pressure of the actually measured mass flow rate F m .
  • the temperature coefficient ⁇ is not constant, and there are not a few fluids whose temperature coefficient ⁇ changes according to changes in the pressure of the fluid.
  • the pressure coefficient ⁇ is not constant and the pressure coefficient ⁇ changes according to changes in the temperature of the fluid.
  • the second embodiment of the present invention is: A method for measuring a mass flow rate according to the first embodiment of the present invention, comprising: In addition to the temperature coefficient ⁇ and the pressure coefficient ⁇ , the data storage device provided in the correction means, A pressure coefficient ⁇ ′ which is a partial differential coefficient with respect to the pressure of the temperature coefficient ⁇ , and A temperature coefficient ⁇ ′ which is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the pressure coefficient ⁇ , and Is stored in advance, The correction means is Based on the temperature deviation ⁇ T, the pressure deviation ⁇ P, the temperature coefficient ⁇ , the pressure coefficient ⁇ , the pressure coefficient ⁇ ′, and the temperature coefficient ⁇ ′, the measured mass flow rate F m is calculated by the following equation (5).
  • the corrected mass flow rate F c is calculated by correcting, This is a method for measuring mass flow rate.
  • the temperature coefficient ⁇ can be specified as follows. For example, in each of a plurality of different pressures P, when the target fluid is flowing through the thermal mass flow meter at a constant flow rate, the fluid pressure T is kept constant and the fluid temperature T is changed. The rate of change ( ⁇ F m / ⁇ T) of the actual mass flow rate F m measured by the thermal mass flow meter at this time with respect to the temperature T is obtained. Any one of the plurality of change rates ( ⁇ F m / ⁇ T) obtained in this way may be used as the temperature coefficient ⁇ , or the obtained plurality of change rates ( ⁇ F m / ⁇ T) may be used. The temperature coefficient ⁇ may be specified by averaging.
  • the pressure coefficient ⁇ ′ is a plurality of pressures P corresponding to the rate of change ( ⁇ F m / ⁇ T) of the actually measured mass flow rate F m obtained as described above with respect to the temperature T (ie, the temperature coefficient ⁇ ). Can be specified by obtaining the rate of change ( ⁇ / ⁇ P) of the temperature coefficient ⁇ with respect to the pressure P.
  • the pressure coefficient ⁇ can be specified as follows. For example, in each of a plurality of different temperatures T, while the target fluid is flowing through the thermal mass flowmeter at a constant flow rate, the fluid pressure P is changed while the fluid temperature T is maintained constant. Let At this time, a rate of change ( ⁇ F m / ⁇ ⁇ P) with respect to the pressure P of the actually measured mass flow rate F m measured by the thermal mass flow meter is obtained. Any one of the plurality of change rates ( ⁇ F m / ⁇ P) obtained in this manner may be used as the pressure coefficient ⁇ , or the obtained plurality of change rates ( ⁇ F m / ⁇ P) may be used.
  • the pressure coefficient ⁇ may be specified by averaging.
  • the temperature coefficient ⁇ ′ is a plurality of temperatures T corresponding to the rate of change ( ⁇ F m / ⁇ P) with respect to the pressure P of the actually measured mass flow rate F m obtained as described above (that is, the pressure coefficient ⁇ ). Can be specified by obtaining the rate of change ( ⁇ / ⁇ T) of the pressure coefficient ⁇ with respect to the temperature T.
  • the temperature coefficient ⁇ , pressure coefficient ⁇ , pressure coefficient ⁇ ′, and temperature coefficient ⁇ ′ specified as described above are stored in a data storage device (for example, a non-volatile memory) provided in the correction unit.
  • a data storage device for example, a non-volatile memory
  • the temperature coefficient ⁇ , pressure coefficient ⁇ , pressure coefficient ⁇ ′, and temperature coefficient ⁇ ′ stored in the data storage device are referred to (read out).
  • it can be used to calculate a more correct mass flow rate corrected by these coefficients.
  • the temperature coefficient ⁇ , the pressure coefficient ⁇ , the pressure coefficient ⁇ ′, and the temperature coefficient ⁇ ′ are specified in advance for each fluid whose mass flow rate is to be measured. Then, the measured mass flow rate F m is corrected by substituting it into the above equation (5) together with the temperature deviation ⁇ T and pressure deviation ⁇ P of the fluid between the actual measurement of the mass flow rate and the calibration of the thermal mass flow meter. can be by, conveniently calculate a more accurate correction mass flow F c.
  • the temperature coefficient ⁇ and / or the pressure coefficient ⁇ is also related to the fluid that changes according to the pressure of the fluid and / or the change of the pressure. More accurate for all types of fluids, temperatures and pressures, without significant increase in data storage capacity and / or computational load in mass flowmeters, as is the case with technical mass flow measurement methods Mass flow rate can be measured.
  • the present invention relates not only to a mass flow rate measuring method but also to a thermal mass flow meter using the method.
  • the third embodiment of the present invention A capillary heating type thermal mass flow meter that includes a flow sensor that outputs an output signal corresponding to the mass flow rate of the fluid, and that measures the measured mass flow rate F m of the fluid based on the measured signal strength S that is the intensity of the output signal Because
  • the mass flow meter is A temperature sensor for detecting a temperature T of the fluid; A pressure sensor for detecting the pressure P of the fluid; And correcting means for calculating a correction mass flow F c by correcting the measured mass flow rate F m on the basis of the temperature T and the pressure P, Further comprising A data storage device provided in the correction means, A temperature coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the measured mass flow rate F m of the fluid; A pressure coefficient ⁇ which is a partial differential coefficient with respect to the pressure of the measured mass flow rate F m of the fluid; Is stored in advance,
  • the correction means is The temperature deviation ⁇ T, which is the deviation between the temperature T 0 at the time of calibration of the
  • the thermal mass flow meter according to this embodiment is a thermal mass flow meter to which the mass flow measurement method according to the first embodiment of the present invention is applied.
  • the configuration of the thermal mass flow meter to which the mass flow measurement method according to the first embodiment of the present invention is applied will be described with reference to FIGS. 1 and 2 in the first embodiment of the present invention. Since it has already been described in the description of the method of measuring the mass flow rate, it will not be repeated here.
  • the method for measuring mass flow according to the first embodiment of the present invention executed in the thermal mass flow meter according to the present embodiment has already been described, the method according to the first embodiment of the present invention is also described. Details of the mass flow measurement method will not be repeated here.
  • the thermal mass flow meter attempts to measure mass flow.
  • the thermal mass flow meter according to the present embodiment, the data storage capacity and / or the calculation load is significantly increased as in the thermal mass flow meter using the mass flow measurement method according to the prior art. Without being accompanied, an accurate mass flow rate can be measured according to the fluid type, temperature, and pressure.
  • the temperature coefficient ⁇ is not constant among a wide variety of fluids, and there are not a few fluids whose temperature coefficient ⁇ changes according to changes in the pressure of the fluid.
  • the pressure coefficient ⁇ is not constant and the pressure coefficient ⁇ changes according to changes in the temperature of the fluid.
  • the rate of change with respect to the pressure P of the temperature coefficient ⁇ of ( ⁇ / ⁇ P) and / or pressure coefficient ⁇ By taking into account the rate of change ( ⁇ / ⁇ T) with respect to the temperature T, a more accurate corrected mass flow rate F c can be calculated. That is, according to the thermal mass flow meter to which the measurement method according to the second embodiment of the present invention is applied, the temperature coefficient ⁇ and / or the pressure coefficient ⁇ are the fluid pressure and / or the change in pressure as described above. More accurate mass flow rate can also be measured for fluids that change in response to.
  • the fourth embodiment of the present invention is A thermal mass flow meter according to the third embodiment of the present invention.
  • the data storage device provided in the correction means, A pressure coefficient ⁇ ′ which is a partial differential coefficient with respect to the pressure of the temperature coefficient ⁇ , and A temperature coefficient ⁇ ′ which is a partial differential coefficient with respect to the temperature of the pressure coefficient ⁇ , and Is stored in advance
  • the correction means is Based on the temperature deviation ⁇ T, the pressure deviation ⁇ P, the temperature coefficient ⁇ , the pressure coefficient ⁇ , the pressure coefficient ⁇ ′, and the temperature coefficient ⁇ ′, the measured mass flow rate F m is calculated by the following equation (5).
  • the corrected mass flow rate F c is calculated by correcting, It is a thermal mass flow meter.
  • the temperature coefficient ⁇ and / or the pressure coefficient ⁇ as described above is also related to the fluid in which the pressure and / or the pressure changes according to the change of the pressure. More accurate mass flow according to all fluid types, temperatures, and pressures without a significant increase in data storage capacity and / or computational load on the mass flow meter as in the mass flow measurement method Can be measured.
  • the present invention is not only a method for measuring a mass flow rate in a thermal mass flow meter and a thermal mass flow meter using the method, but also a thermal type using the thermal mass flow meter. It also relates to a mass flow controller.
  • the thermal mass flow control device controls the flow rate adjusting means based on the flow rate of the fluid calculated by the thermal mass flow meter using the mass flow measurement method according to the present invention, and sets the fluid flow rate to the target value. Get close to.
  • the fifth embodiment of the present invention A thermal mass flow meter according to the third or fourth embodiment of the present invention; Flow rate adjusting means for controlling the flow rate of the fluid flowing through the flow path; Control means for controlling the flow rate adjusting means; A thermal mass flow controller comprising: The control means controls the flow rate adjusting means based on the flow rate of the fluid calculated by the thermal mass flow meter to bring the flow rate of the fluid close to a target value; It is a thermal mass flow controller.
  • the thermal mass flow control device is a thermal mass flow control device including the thermal mass flow meter according to the third or fourth embodiment of the present invention. Accordingly, with respect to the basic configuration of the thermal mass flow meter, the mass flow measurement method and the method according to the first to fourth embodiments of the present invention are used with reference to FIGS. Since it has already been described in the description of the thermal mass flow meter, it will not be repeated here.
  • the thermal mass flow controller controls the flow rate adjusting means for controlling the flow rate of the fluid flowing through the flow path, in addition to the thermal mass flow meter, and the flow rate adjusting means.
  • Control means The flow rate adjusting means is not particularly limited as long as the flow rate of the fluid flowing in the flow path can be controlled.
  • a flow rate control valve whose opening degree can be changed by an actuator can be mentioned.
  • the control means is not particularly limited as long as it can control the flow rate adjusting means to increase or decrease the flow rate of the fluid flowing in the flow path.
  • the thermal mass flow controller 100 has a flow rate adjusting unit 120 and a flow rate adjusting unit 120 that control the flow rate of the fluid flowing in the flow path 114 in addition to the thermal mass flow meter 110.
  • the control means 130 which controls this is provided.
  • the flow rate adjusting means 120 includes a flow rate control valve 121, a valve port 122, a diaphragm 123, an actuator 124, a valve drive circuit 125, a power source (not shown), and the like.
  • the control unit 130 controls the flow rate adjusting unit 120 based on the fluid flow rate calculated by the thermal mass flow meter 110 to bring the fluid flow rate closer to the target value. More specifically, the control unit 130 compares the flow rate of the fluid calculated by the thermal mass flow meter 110 with a target value, and transmits a control signal corresponding to the result to the valve drive circuit 125.
  • the control means 130 when the fluid flow rate is less than the target value, the control means 130 sends a control signal to the valve drive circuit 125 so as to increase the fluid flow rate by increasing the opening of the flow control valve 121 by the actuator 124. Conversely, when the fluid flow rate is higher than the target value, the control means 130 sends a control signal to the valve drive circuit 125 so that the actuator 124 reduces the opening of the flow control valve 121 to reduce the fluid flow rate.
  • the flow rate control of the fluid by the feedback method has been described.
  • the flow rate control of the fluid by the thermal mass flow controller according to the present embodiment is not limited to the feedback method. This control method may be executed.
  • the correction means is included in the control means 130 as described above.
  • both the correction means and the control means may be implemented as one control means as described above, or may be implemented as individual control devices.
  • the thermal mass flow control device As described above, according to the thermal mass flow meter provided in the thermal mass flow controller according to the present embodiment, the data storage capacity as in the thermal mass flow meter using the mass flow measurement method according to the prior art. And / or accurate mass flow can be measured for all fluid types, temperatures, and pressures without a significant increase in computational load. As a result, the thermal mass flow control device according to the present embodiment is the same as the thermal mass flow control device according to the prior art, without significantly increasing the data storage capacity and / or calculation load, The mass flow rate can be controlled more accurately according to all of the temperature and pressure.
  • the present invention even if the temperature and / or pressure of a fluid having a large change in thermal properties (such as specific heat) accompanying a change in temperature and / or pressure changes, It is possible to accurately measure the mass flow rate. Further, according to the present invention, if the fluid has a temperature coefficient ⁇ and a pressure coefficient ⁇ stored in the data storage device provided in the thermal mass flow meter, the type of fluid is specified for the thermal mass flow controller. It is possible to simply correct the mass flow rate by simply inputting.
  • the pressure coefficient ⁇ ′ which is the rate of change of the temperature coefficient ⁇ relative to the pressure
  • the mass flow rate can be corrected with higher accuracy in consideration of the temperature coefficient ⁇ ′, which is the rate of change of the pressure coefficient ⁇ with respect to the temperature, and a more accurate mass flow rate can be measured.
  • more accurate mass flow measurement and mass flow control can be performed for such fluids.
  • nitrogen gas (N 2 ) is used as a reference fluid (reference gas), and various fluids (specifically, oxygen (O 2 ), argon (Ar), perfluorocyclobutane (C 4 F) are used. 8 ), the mass flow rates of difluoromethane (CH 2 F 2 ), monofluoromethane (CH 3 F), and nitrous oxide (N 2 O)) were measured at various temperatures and pressures. Thus, the rate of change of the actual measurement values of the mass flow rates of these various fluids with respect to temperature and pressure was examined.
  • FIG. 3 shows the configuration of an experimental device 300 used in an experiment for examining the rate of change of measured values of mass flow rates of various fluids with respect to temperature and pressure in this example.
  • the thermal mass flow controller 100 and the thermal mass flow controller 100 (MFC) included in the thermal mass flow controller 100 (MFC) according to the present invention are sequentially installed from the upstream side of the flow path through which the fluid flows.
  • a thermal mass flow meter (MFM) having the same specifications as the total 110 was disposed.
  • the configuration of the thermal mass flow controller 100 and the thermal mass flow meter 110 provided in the thermal mass flow controller 100 (MFC) according to the present invention is as described above with reference to FIGS. 1 and 2, for example. is there.
  • MFC and MFM are connected in series by the flow path.
  • MFC and MFM were housed in separate thermostats (310 and 320, respectively) together with heat exchangers (311 and 321 respectively) arranged on the upstream side. Thereby, the temperature of the fluid which flows into the flow path with which MFC and MFM are provided can be made to correspond with the temperature in each thermostat.
  • the MFC temperature T 1 was varied and the MFM temperature T 2 was kept constant (at 22 ° C.).
  • the pressure P 1 on the upstream side of the flow path than the MFC was varied variously, the pressure at the downstream side of the flow path than the flow rate control valve 121 provided in the MFC is disposed on the downstream side of the MFM
  • the vacuum pump 330 was always kept constant at 27 kPa. If it is difficult to maintain the pressure at 27 kPa only by the vacuum pump 330, the pressure can be controlled more easily by further providing a pressure reducing valve and / or another valve in the pipe. it can.
  • the MFM monitors the flow control results by the MFC at various temperatures and pressures. If there is no effect on the actual mass flow rate due to the temperature and / or pressure of the fluid, the actual mass flow rate measured by the MFM will be constant at the maximum flow rate (1 slm) at any temperature and pressure. If there is, the measured value of the mass flow rate by MFM should deviate from the maximum flow rate (1 slm).
  • the pressure of the fluid in the flow channel upstream of the MFC is measured upstream of the thermostatic chamber 310 (outside of the thermostatic chamber 310).
  • the configuration and arrangement of the pressure sensor are not particularly limited as long as the pressure P of the fluid flowing in the flow path can be detected.
  • the first to third thermal mass flow meters MFC-1, MFC-2, and MFC-3) Were prepared, and the same experiment was conducted for each.
  • the value of f ′ actually measured by the MFM is a value based on the actually measured value by the downstream MFM in which the temperature T 2 is kept constant at 22 ° C. Therefore, the upstream constant temperature is used for this measurement. change in temperature T 1 of the tank 310 should not affect.
  • the flow control valve 121 is controlled so that f measured by the thermal mass flow meter 110 approaches a target value (for example, 100%). Therefore, the value of f ′ measured by the MFM has changed, which means that the f of the soot held constant at the target value by the thermal mass flow meter 110 provided in the mass flow controller 100 (MFC) has changed.
  • the mass flow meter 110 provided in the mass flow control device 100 is actually measuring f. Temperature changes can be measured indirectly. Therefore, it is possible to determine the slope of the plot for the temperature T 1 of the value of the above-mentioned f ', the partial derivatives ⁇ f / ⁇ T for temperature T 1 of the f indirectly.
  • ⁇ f / ⁇ T in this state Tasu0.012 (/ ° C.)
  • the temperature coefficient in this specification ⁇ ( ⁇ F m / ⁇ T) is a value obtained by multiplying the F 0/100 to ⁇ f / ⁇ T.
  • nitrogen gas (N 2 ) is a stable gas widely used as a reference fluid (reference gas) for calibration of the flow rate of a mass flow meter, and its thermal properties (eg, specific heat) depend on temperature. It is known that it hardly changes. Therefore, the change in f observed above is not a change caused by a temperature change in the thermal properties of nitrogen gas (N 2 ), but the temperature of the three mass flow control devices MFC-1 to MFC-3 themselves. It is presumed that the change is caused by the change. The cause of such a temperature change has not been completely elucidated, but it may be caused by, for example, the temperature characteristics of the electric circuit constituting the mass flow control device or the thermal expansion of the sensor tube. . Further, the reason why MFC-1 to MFC-3 exhibited different ⁇ f / ⁇ T is considered to be due to individual differences in the temperature change of the mass flow control device itself.
  • ⁇ f / ⁇ T of nitrogen gas (N 2 ) is hardly affected by changes in pressure P 1
  • ⁇ f / ⁇ T of nitrogen gas (N 2 ) at pressures of 207 kPa and 278 kPa is also Each is 0 (zero).
  • the measured mass flow rate F m can be corrected with high accuracy, and an accurate corrected mass flow rate F c can be obtained.
  • the measured mass with sufficiently high accuracy and high accuracy can be obtained by the mass flow rate measuring method according to the first embodiment of the present invention described above (using the above-described equation (4)).
  • the flow rate F m can be corrected, and an accurate corrected mass flow rate F c can be obtained.
  • the mass flow rate measuring method according to the second embodiment of the present invention using the above-described equation (5), the actually measured mass flow rate F m with sufficiently high accuracy. Can be corrected, and an accurate corrected mass flow rate Fc can be obtained.
  • each of the pressure P 1 (138 kPa, 207 kPa, and 278KPa) from the slope of the plot with respect to the pressure P 1 of the values of ⁇ f / ⁇ T in, partial derivatives ⁇ against pressure P 1 of the ⁇ f / ⁇ T ( ⁇ f / ⁇ T) / ⁇ P.
  • ⁇ ( ⁇ f / ⁇ T) / ⁇ P obtained for each fluid is listed in the rightmost column of Table 1.
  • the pressure coefficient alpha 'in the present specification is a value obtained by multiplying the F 0/100 to ⁇ ( ⁇ f / ⁇ T) / ⁇ P .
  • the rate of change ( ⁇ ) of the actual mass flow rate F m with respect to the temperature T 1 is obtained.
  • the mass flow rate can be corrected with higher accuracy in consideration of not only F m / ⁇ T) but also the rate of change of temperature coefficient ⁇ with respect to pressure P 1 ( ⁇ ⁇ / ⁇ P).
  • Oxygen (O 2) gas and argon gas (Ar) is also ⁇ f / absolute value of ⁇ P are small and less change in the ⁇ f / ⁇ P with changes in temperatures T 1 in any of temperatures T 1. Therefore, for oxygen gas (O 2 ) and argon gas (Ar), the value of ⁇ f / ⁇ P at any temperature T 1 or the average value of ⁇ f / ⁇ P at three temperatures T 1 is a constant. It is employed as ⁇ f / ⁇ P as, a small deviation from the ⁇ f / ⁇ P at each temperature T 1.
  • the measured mass flow rate F m can be corrected with high accuracy, and an accurate corrected mass flow rate F c can be obtained.
  • the measured mass flow rate F m with sufficiently high accuracy can be obtained with the above-described mass flow measurement method according to the first embodiment of the present invention (using the above-described equation (4)). Can be corrected, and an accurate corrected mass flow rate Fc can be obtained.
  • the mass flow rate measuring method according to the second embodiment of the present invention using the above-described equation (5), the actually measured mass flow rate F m with sufficiently high accuracy. Can be corrected, and an accurate corrected mass flow rate Fc can be obtained.
  • each of the temperatures T 1 22 ° C., 32 ° C., and 42 ° C. from the slope of the plot for the temperature T 1 of the values of ⁇ f / ⁇ P in, partial derivatives ⁇ respect to the temperature T 1 of the ⁇ f / ⁇ P ( ⁇ f / ⁇ P) / ⁇ T was determined.
  • the ⁇ ( ⁇ f / ⁇ P) / ⁇ T determined for each fluid is listed in the rightmost column of Table 2.
  • Temperature coefficient beta 'in the present specification is a value obtained by multiplying the F 0/100 to ⁇ ( ⁇ f / ⁇ P) / ⁇ T .
  • these coefficients may be obtained using the actual measurement values of the mass flow rate in the temperature range and pressure range.
  • SYMBOLS 100 Thermal mass flow controller, 110 ... Thermal mass flowmeter, 111 ... Sensor circuit, 113 ... Power supply, 114 ... Flow path, 115 ... Bypass, 116 ... Sensor tube, 117 and 118 ... Sensor wire, 117 'and DESCRIPTION OF SYMBOLS 118 '... Resistance element, 119 ... Operational amplifier, 120 ... Flow control means, 121 ... Flow control valve, 122 ... Valve port, 123 ... Diaphragm, 124 ... Actuator, 125 ... Valve drive circuit, 130 ... Control means, 131 ... Temperature sensor And 132 ... pressure sensors, 310 and 320 ... thermostats, 311 and 312 ... heat exchangers, and 330 ... vacuum pumps.

Abstract

 流体の温度及び圧力を検出するセンサと、前記温度及び圧力に基づいて質量流量を補正する補正手段と、を備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計において、当該流体の質量流量の温度及び圧力に対する変化率を予め求めておき、前記温度及び圧力とこれらの変化率とに基づいて質量流量を補正する。これにより、質量流量を測定しようとする流体の温度及び/又は圧力が変化しても質量流量を正確且つ簡便に測定することができる。

Description

質量流量の測定方法、当該方法を使用する熱式質量流量計、及び当該熱式質量流量計を使用する熱式質量流量制御装置
 本発明は、熱式質量流量計における質量流量の測定方法、当該方法を使用する熱式質量流量計、及び当該熱式質量流量計を使用する熱式質量流量制御装置に関する。
 質量流量計(マスフローメータ)は、例えば半導体の製造プロセスにおいてチャンバ内に供給されるプロセスガスの質量流量を測定することを目的として広く使用されている。加えて、質量流量計は、上記のように単独で使用されるのみならず、流量制御弁及び制御回路等の他の部材と共に質量流量制御装置(マスフローコントローラ)を構成する部品としても使用される。当該技術分野には様々な形式の質量流量計があるが、比較的単純な構成によって流体(例えば、ガス及び液体)の質量流量を正確に測定することができるため、熱式質量流量計が広く使用されている。熱式質量流量計の中では、キャピラリ加熱型熱式質量流量計が特に広く使用されている。
 一般的には、キャピラリ加熱型熱式質量流量計は、流体が流れる流路と、流路の途中に設けられたバイパス(「フローエレメント」、「層流素子」と呼称される場合がある)と、バイパスの上流側において流路から分岐してバイパスの下流側において流路に再び合流するセンサチューブ(「キャピラリ」、「毛細管」と呼称される場合がある)と、センサチューブに巻き付けられた一対のセンサワイヤと、センサワイヤ及び他の抵抗素子を含むブリッジ回路を備えるセンサ回路と、によって構成される(例えば、特許文献1を参照)。バイパスは流体に対して流体抵抗を有し、流路に流れる流体のうち一定の割合の流体がセンサチューブに分岐するように構成される。
 上記構成において、所定の電圧を印加する(又は所定の電流を流す)ことにより一対のセンサワイヤを発熱させると、センサワイヤから発生した熱がセンサチューブを流れる流体によって奪われる。その結果、センサチューブを流れる流体が加熱される。この際、上流側のセンサワイヤは未だ加熱されていない流体によって熱を奪われる。一方、下流側のセンサワイヤは上流側のセンサワイヤによって既に加熱された流体によって熱を奪われる。このため、上流側のセンサワイヤから奪われる熱は、下流側のセンサワイヤから奪われる熱よりも大きい。その結果、上流側のセンサワイヤの温度が、下流側のセンサワイヤの温度よりも低くなる。このため、上流側のセンサワイヤの電気抵抗値が、下流側のセンサワイヤの電気抵抗値よりも低くなる。このようにして生ずる上流側のセンサワイヤと下流側のセンサワイヤとの温度差に起因する電気抵抗値の差は、センサチューブを流れる流体の質量流量が大きいほど大きくなる。
 上記のような上流側のセンサワイヤ及び下流側のセンサワイヤの電気抵抗値の差の流体の質量流量に応じた変化は、例えば、ブリッジ回路等を使用して電位差の変化として検出することができる。更に、この電位差は、例えばオペアンプ等を介して電圧値又は電流値として出力される出力信号として検出することができる。このようにして検出される出力信号に基づいて、センサチューブに流れる流体の質量流量を求めることができ、センサチューブに流れる流体の質量流量に基づいて、流路に流れる流体の質量流量を求めることができる(詳しくは後述する)。
 例えば、上記のような構成を有する熱式質量流量計において、ある特定の流体(例えば、窒素ガス(N))を、ある基準となる質量流量(例えば、当該熱式質量流量計の最大流量(フルスケール))で流し、このときの上記出力信号の強度(電圧値又は電流値)である基準信号強度を予め測定しておく。そして、当該熱式質量流量計によって上記特定の流体の質量流量を実測するときには、この実測時における上記出力信号の強度である実測信号強度を測定し、この実測信号強度の上記基準信号強度に対する比率に基づき、上記特定の流体の質量流量を算出する。
 しかしながら、現実には、上記特定の流体とは異なる熱的物性(例えば、比熱等)を有する流体の質量流量を測定する場合には、上記のように実測信号強度の基準信号強度に対する比率に基づいて質量流量を正確に算出することが困難となる。そこで、当該技術分野においては、例えば、コンバージョンファクタ(CF:Conversion Factor)と呼称される換算係数によって質量流量を補正することにより、上記特定の流体とは異なる熱的物性を有する流体の質量流量を正確に算出することが知られている。
 ところが、現実には、基準信号強度を測定した条件とは異なる温度及び/又は圧力において流体の質量流量を測定する場合がある。理想気体の場合は、基準信号強度を測定した条件とは異なる温度及び/又は圧力においても、その熱的物性が一定である。また、例えば希ガス(Ar等)及び窒素ガス(N)等、理想気体に近い挙動を示す流体についても、その熱的物性が略一定であるので、上記のように実測信号強度の基準信号強度に対する比率に基づいて質量流量を正確に算出することが実質的に可能である。
 しかしながら、多くの流体は理想気体とは異なる挙動を示す。具体的には、多くの流体の熱的物性は温度及び/又は圧力によって変化する。従って、このような流体の質量流量を正確に測定するためには、その熱的物性のみならず、その熱的物性の温度及び/又は圧力に対する依存性をも考慮して、質量流量を算出する必要がある。そこで、当該技術分野においては、質量流量を測定しようとする流体の種類、温度、及び圧力を考慮することにより、理想気体とは異なる挙動を示す流体の質量流量を正確に測定しようとする種々の試みが提案されている。
 例えば、質量流量を測定しようとするガスの既知の物性値(比熱)をガスの温度に応じて補正した値を用いて正確な質量流量を算出する技術が提案されている(例えば、特許文献2を参照)。また、質量流量を測定しようとするガスの種類及び設定流量毎に予め定められたガス係数をガスの圧力に応じて補正した値を用いて正確な質量流量を算出する技術が提案されている(例えば、特許文献3及び4を参照)。更に、質量流量を測定しようとするガスの種類、温度、及び圧力毎に予め定められた補正係数を用いて正確な質量流量を算出する技術が提案されている(例えば、特許文献5を参照)。
 これらの技術によれば、質量流量を測定しようとするガスの種類のみならず、質量流量を測定するときのガスの温度及び/又は圧力をも考慮して、様々なガスの質量流量をより正確に測定することができる。
特開2009-192220号公報 特開平03-204705号公報 特開2010-091320号公報 特開2010-169657号公報 特開2009-087126号公報
 前述したように、当該技術分野においては、質量流量を測定しようとするガスの種類のみならず、質量流量を測定するときのガスの温度及び/又は圧力をも考慮して、様々なガスの質量流量をより正確に測定することができる、種々の技術が提案されている。
 しかしながら、これらの従来技術には更に改善されるべき点が残されている。先ず、特許文献2に記載の発明については、質量流量の測定に使用される質量流量計そのものについて求められる補正係数ではなく質量流量を測定しようとするガスの既知の物性値を利用する。そのため、当該質量流量計によって測定される質量流量を十分に高い精度にて補正することが困難な場合がある。また、上記物性値を温度に応じてのみ補正するため、圧力による影響を補正することができない。
 特許文献3及び4に記載の発明については、質量流量を測定しようとするガスの種類及び設定流量毎にガス係数を予め定めておく必要があり、膨大な数のガス係数を格納するデータ記憶容量が必要となる。また、上記ガス係数を圧力に応じてのみ補正するため、温度による影響を補正することができない。特許文献5に記載の発明については、質量流量を測定しようとするガスの種類、温度、及び圧力の組み合わせ毎に補正係数を予め定めておく必要があり、やはり膨大な数の補正係数を格納するデータ記憶容量が必要となる。
 上記のように、当該技術分野においては、質量流量を測定しようとする流体の温度及び/又は圧力が変化しても質量流量を正確且つ簡便に測定することができる流体の質量流量の測定方法が求められている。従って、本発明は、質量流量を測定しようとする流体の温度及び/又は圧力が変化しても質量流量を正確且つ簡便に測定することができる流体の質量流量の測定方法を提供することを1つの目的とする。
 本発明者は、鋭意研究の結果、流体の温度及び圧力を検出するセンサと、前記温度及び圧力に基づいて質量流量を補正する補正手段と、を備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計において、当該流体の温度及び圧力に対する質量流量の変化率を予め求めておき、前記温度及び圧力とこれらの変化率とに基づいて質量流量を補正することにより、当該流体の質量流量を正確且つ簡便に測定することができることを見出した。
 即ち、本発明に係る流体の質量流量の測定方法は、
 流体の質量流量に対応する出力信号を出力する流量センサを備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計において前記出力信号の強度である実測信号強度Sに基づいて前記流体の実測質量流量Fを算出する質量流量の測定方法であって、
 前記質量流量計が、
  前記流体の温度Tを検出する温度センサと、
  前記流体の圧力Pを検出する圧力センサと、
  前記温度T及び前記圧力Pに基づいて前記実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出する補正手段と、
を備え、
 前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、
  前記流体の前記実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数である温度係数αと、
  前記流体の前記実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である圧力係数βと、
を予め格納しており、
 前記補正手段が、
  当該質量流量計の校正時の温度Tと前記温度Tとの偏差である温度偏差ΔT、当該質量流量計の校正時の圧力Pと前記圧力Pとの偏差である圧力偏差ΔP、前記温度係数α、及び前記圧力係数βに基づいて、以下の式(4)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
質量流量の測定方法である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000005
 本発明に係る質量流量の測定方法によれば、質量流量を測定しようとする流体の温度及び/又は圧力が変化しても質量流量を正確且つ簡便に測定することができる。
本発明の1つの実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計を含む熱式質量流量制御装置の構成の一例を示す模式図である。 本発明の1つの実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計が備えるセンサ回路の構成の一例を示す模式図である。 実施例において種々の流体の実測質量流量の温度及び圧力に対する変化率を調べる実験に用いられた実験装置の構成を示す模式図である。
 前述したように、質量流量を測定しようとする流体の温度及び/又は圧力が変化しても質量流量を正確且つ簡便に測定することができる流体の質量流量の測定方法が求められている。そこで、本発明者は、鋭意研究の結果、流体の温度及び圧力を検出するセンサと、前記温度及び圧力に基づいて質量流量を補正する補正手段と、を備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計において、当該流体の温度及び圧力に対する質量流量の変化率を予め求めておき、前記温度及び圧力とこれらの変化率とに基づいて質量流量を補正することにより、当該流体の質量流量をより正確に測定することができることを見出し、本発明を想到するに至ったのである。
 具体的には、従来技術に係る質量流量の測定方法においては、質量流量を測定しようとする流体の温度又は圧力の何れか一方による影響しか考慮しなかったり、流体の種類、温度、及び圧力の膨大な数の組み合わせ毎に補正係数を予め定めておいたりする。これに対し、本発明に係る質量流量の測定方法においては、質量流量を測定しようとする流体の温度及び圧力に対する質量流量の変化率(温度係数及び圧力係数)を予め求めておき、測定時及び校正時における温度及び圧力の偏差と温度係数及び圧力係数とを使用する計算式によって質量流量を算出する。
 即ち、本発明の第1の実施態様は、
 流体の質量流量に対応する出力信号を出力する流量センサを備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計において前記出力信号の強度である実測信号強度Sに基づいて前記流体の実測質量流量Fを算出する質量流量の測定方法であって、
 前記質量流量計が、
  前記流体の温度Tを検出する温度センサと、
  前記流体の圧力Pを検出する圧力センサと、
  前記温度T及び前記圧力Pに基づいて前記実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出する補正手段と、
を備え、
 前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、
  前記流体の前記実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数である温度係数αと、
  前記流体の前記実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である圧力係数βと、
を予め格納しており、
 前記補正手段が、
  当該質量流量計の校正時の温度Tと前記温度Tとの偏差である温度偏差ΔT、当該質量流量計の校正時の圧力Pと前記圧力Pとの偏差である圧力偏差ΔP、前記温度係数α、及び前記圧力係数βに基づいて、以下の式(4)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
質量流量の測定方法である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000006
 上記のように、本実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される質量流量計は、当該技術分野において周知の構成を有する一般的なキャピラリ加熱型熱式質量流量計である。具体的には、本実施態様に係る質量流量の測定方法は、以下のような構成を有する熱式質量流量計に適用することができる。
 流体が流れる流路と、
 前記流路の途中に設けられたバイパスと、
 前記バイパスの上流側において前記流路から分岐して前記バイパスの下流側において前記流路に再び合流するセンサチューブ及び前記センサチューブに流れる流体に対して熱伝導可能に配設された一対のセンサワイヤを含む流量センサと、
 前記センサワイヤから発熱させるための入力信号を前記センサワイヤに供給する電源と、
 前記センサワイヤを含むブリッジ回路を備えるセンサ回路と、
を備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計。
 ここで、本実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計の構成の一例につき、添付図面を参照しながら、以下に詳しく説明する。図1は、前述したように、本発明の1つの実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計を含む熱式質量流量制御装置の構成の一例を示す模式図である。更に、図2は、前述したように、本発明の1つの実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計が備えるセンサ回路の構成の一例を示す模式図である。
 図1に示されているように、熱式質量流量制御装置100は、熱式質量流量計110と、流量調節手段120と、制御手段130(後述する「補正手段」及び「制御手段」に相当する)と、を含む。熱式質量流量計110は、流体が流れる流路114と、流路114の途中に設けられたバイパス115と、バイパス115の上流側において流路114から分岐してバイパス115の下流側において流路114に再び合流するセンサチューブ116と、センサチューブ116に巻き付けられた一対のセンサワイヤ117及び118と、図2に示されているようにセンサワイヤ117及び118並びに他の抵抗素子117′及び118′を含むブリッジ回路を備えるセンサ回路111と、によって構成される。バイパス115は流体に対して流体抵抗を有し、流路114を流れる流体のうち一定の割合の流体がセンサチューブ116に分岐するように構成される。尚、図1に示されている構成においては、一対のセンサワイヤ117及び118がセンサチューブ116に巻き付けられている。しかしながら、センサワイヤから発生した熱がセンサチューブに流れる流体に伝導することが可能である限り、センサワイヤの具体的な配置は特に限定されない。
 上記構成において、電源113からセンサワイヤ117及び118に所定の入力信号(電気信号)を供給(入力)するとジュール熱が発生し、この熱はセンサチューブ116を流れる流体によって奪われる。この際、上流側のセンサワイヤ117は未だ加熱されていない流体によって熱を奪われ、下流側のセンサワイヤ118は上流側のセンサワイヤ117によって既に加熱された流体によって熱を奪われる。このため、上流側のセンサワイヤ117の温度よりも下流側のセンサワイヤ118の温度の方が高くなる。その結果、上流側のセンサワイヤ117の電気抵抗よりも下流側のセンサワイヤ118の電気抵抗の方が高くなる。尚、発熱を目的としてセンサワイヤに供給(入力)される入力信号(電気信号)は、電圧及び電流の何れに基づいて制御されてもよい。
 このようにして生ずる上流側のセンサワイヤ117と下流側のセンサワイヤ118との温度差に起因する電気抵抗値の差(比)は、センサチューブ116を流れる流体の質量流量に応じて変化する。その結果、センサ回路111の点Sと点Cとの間の電位差もまたセンサチューブ116を流れる流体の質量流量に応じて変化する。このような電位差の変化を、例えばオペアンプ119を介して検出することにより、センサチューブ116に流れる流体の質量流量を測定することができる。更に、このようにして測定されるセンサチューブ116に流れる流体の質量流量に基づいて、流路114に流れる流体の質量流量を求めることができる。
 図2に示されているセンサ回路においては、それぞれ300Ωの抵抗値を有するセンサワイヤ117及び118が点Sにおいて直列に接続され、それぞれ20kΩの抵抗値を有する他の抵抗素子117′及び118′が点Cにおいて直列に接続されている。更に、上記のようにそれぞれ直列に接続されたセンサワイヤ117及び118の両端と他の抵抗素子117′及び118′の両端とが、それぞれ点P及び点Nにおいて接続されている。即ち、センサワイヤ117及び118と抵抗素子117′及び118′とは所謂「ホイートストンブリッジ」を構成している。
 質量流量の測定時には、電源113から上記点Pと点Nとの間に所定の入力信号(電気信号)が供給(入力)され、センサワイヤ117及び118からジュール熱が発生する。更に、点S及び点Cはそれぞれオペアンプ119の非反転入力(+)及び反転入力(-)に接続され、点Sと点Cとの間の電位差に応じた信号がオペアンプ119からの出力信号として得られる。このようにして得られるオペアンプ119からの出力信号に基づいて、センサチューブ116に流れる流体の質量流量を測定(算出)することができる。但し、他の抵抗素子117′及び118′の電気抵抗がセンサワイヤ117及び118からの発熱の影響を受けると、センサチューブ116に流れる流体の質量流量を正確に測定することができない。従って、他の抵抗素子117′及び118′は、センサワイヤ117及び118からの発熱の影響を実質的に受けない位置及び/又は状態に配置される。
 上記のようなセンサワイヤ117及び118への入力信号の供給及びセンサ回路111からの出力信号の検出に関する制御は、例えば、熱式質量流量計110が備える制御手段130によって実行することができる。このような制御手段130は、例えば、マイクロコンピュータ等の電子制御装置として実装することができる。このような電子制御装置の詳細については当業者に周知であるので、本明細書における説明は割愛する。
 尚、上述したように、図1は、本発明の1つの実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計を含む熱式質量流量制御装置の構成の一例を示す模式図である。従って、図1には、上述したように、熱式質量流量計110の他に、流量調節手段120、温度センサ131、及び圧力センサ132等も描かれている。これらについては、本発明に係る熱式質量流量計及び熱式質量流量制御装置としての実施態様についての説明において後に詳しく説明するので、ここでは説明しない。
 センサチューブの材料としては優れた耐食性及び機械的強度を有する材料が望ましく、一般的にはステンレス鋼等の金属(即ち、導体)が使用される。一方、センサワイヤの材料としては当然のことながら導体が使用される。具体的には、センサチューブの材料としては、例えば日本工業規格(JIS)によって定められるSUS316を始めとするステンレス鋼材等、優れた耐食性及び機械的強度を有する材料が使用される。一方、センサワイヤの材料としては、例えばエナメル線等、所望の電気抵抗値を有する導体(例えば、銅等の金属)が使用される。即ち、一般的には、センサチューブ及びセンサワイヤの材料は何れも導体である。
 従って、流量センサにおいては、センサチューブとセンサワイヤとの導通及びセンサワイヤ同士の導通の防止、並びにセンサチューブへのセンサワイヤの固定等を目的として、センサチューブのセンサワイヤが巻き付けられた部分及びセンサワイヤの周囲に例えば樹脂等の絶縁材料によって形成される被覆層が配設されるのが一般的である。加えて、流量センサによる質量流量測定のためには、上述したように、通電によってセンサワイヤから発生する熱がセンサチューブ及びセンサチューブに流れる流体によって奪われる必要がある。従って、少なくともセンサワイヤとセンサチューブとの間に介在する被覆層は、良好な熱伝導性を備えることが望ましい。
 以上のように、被覆層を構成する材料には、電気絶縁体としての機能、接着剤としての機能、及び熱伝導体としての機能が必要とされる。更に、センサチューブ及びセンサワイヤの表面に薄く形成することができ、表面に被覆層が形成されたセンサワイヤをセンサチューブに巻き付けても亀裂が生じないような十分な可撓性を有する材料が好ましい。このような観点から、従来技術に係る流量センサの被覆層の材料としては、ポリアミドイミド又はポリイミドが好適に用いられる。特に、ポリイミドは極めて高い耐熱性を有するので、より好ましい。
 尚、以上説明してきた熱式質量流量計の構成はあくまでも一例に過ぎず、本実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計の構成は上記において説明された構成に限定されない。
 本実施態様に係る質量流量の測定方法は、上述したように、流体の質量流量に対応する出力信号Sを出力する流量センサを備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計において前記出力信号Sに基づいて前記流体の実測質量流量Fを算出する質量流量の測定方法である。ここで、本発明についての理解を容易にすることを目的として、熱式質量流量計における従来技術に係る質量流量の測定方法について、以下に詳しく説明する。
 一般的に、熱式質量流量計は、所定の校正時の温度(T)及び校正時の圧力(P)において基準流量(F)にて基準流体(例えば窒素ガス(N)等の校正ガス等)を当該熱式質量流量計に流し、そのときの出力信号の強度(例えば、電圧値及び電流値等)を、例えば、熱式質量流量計が備えるデータ記憶装置(例えば不揮発性メモリ等)等に基準信号強度(S)として格納しておく。このとき、例えばオペアンプ等のゲインを調整して、所定の校正時の温度T及び校正時の圧力Pにおいて所定の基準流量Fに対応する基準出力信号を所望の強度Sにて得られるように構成してもよい。例えば、校正時の温度T及び校正時の圧力Pをそれぞれ22℃及び100kPaに設定した状態において、1slm(standard litter per minut)の基準流量Fにて基準流体としての窒素ガス(N)を当該熱式質量流量計に流したときの基準信号強度Sが5.000Vの電圧として得られるようにオペアンプのゲインを調整することができる。
 出力信号の強度が流体の質量流量に比例する場合、校正時の温度T及び校正時の圧力Pにおいて任意の流量にて基準流体(窒素ガス)を当該熱式質量流量計に流したときに実測される出力信号の強度(実測信号強度)がSであるとすると、このときの流体(基準流体である窒素ガス)の実測質量流量Fは以下の式(1)によって表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000007
 ここで、上記測定時における実測信号強度Sの基準信号強度Sに対する比率(例えば、実測信号電圧Sの基準信号電圧S(5.000V)に対する比率)(S/S)をf(%)と規定すると、上記式(1)は以下の式(2)によって表される。このように、実測信号強度Sの代わりに、基準信号強度Sによって規格化された値f(%)を使用してデータの処理を行うことにより、基準流量F及び基準信号強度Sの絶対値の大きさに左右されない一般化された議論が可能となるので、便利である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000008
 上記のように、校正時の温度T及び校正時の圧力Pにおいて基準流体を当該熱式質量流量計に流したときの当該基準流体の質量流量は、当該測定時における実測信号強度Sから算出することができる。尚、質量流量計の校正に使用する基準流体の種類は窒素ガス(N)に限られず、想定される温度及び圧力の範囲において安定な熱的物性を有する流体であれば如何なる流体を使用してもよい。また、基準流体の基準流量(F)及びこれに対応する基準信号強度(S)もまた、上記例示に限定されず、想定される質量流量の範囲及び出力信号の処理を行う補正手段の仕様等に応じた任意の値に適宜設定することができる。
 ところで、前述したように、熱式質量流量計の実際の用途においては、基準流体とは異なる種類の流体の質量流量を測定する場合がある。基準流体とは異なる熱的物性(例えば、比熱等)を有する流体の質量流量を熱的質量流量計によって正確に算出するためには、実測される質量流量を当該流体の熱的物性に応じて補正することが必要となる。そこで、当該技術分野においては、前述したように、流体の種類毎に予め求められた固有の補正係数であるコンバージョンファクタ(CF)によって質量流量を補正することにより、基準流体とは異なる熱的物性を有する流体の質量流量を正確に算出することが知られている。このようにCFによって質量流量を補正する技術を上述した式(1)及び(2)に適用すると、以下の式(3)が得られる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000009
 ところが、現実には、基準信号強度を測定した条件とは異なる温度及び/又は圧力において流体の質量流量を測定する場合がある。理想気体の場合は、基準信号強度を測定した条件とは異なる温度及び/又は圧力においても、その熱的物性が一定である。また、例えば希ガス(Ar等)及び窒素ガス(N)等、理想気体に近い挙動を示す流体についても、その熱的物性が略一定であるので、上記のように実測信号強度の基準信号強度に対する比率に基づいて質量流量を正確に算出することが実質的に可能である。
 しかしながら、多くの流体は理想気体とは異なる挙動を示す。具体的には、多くの流体の熱的物性(例えば比熱等)は温度及び/又は圧力によって変化する。従って、質量流量を測定しようとする流体が基準流体と同じ種類であっても(即ち、両者が同じ熱的物性を有していても)、当該流体の温度及び/又は圧力が、当該基準流体によって熱式質量流量計を校正したときの温度及び/又は圧力(即ち、校正時の温度T及び/又は校正時の圧力P)と異なる場合、当該流体は校正時とは異なる熱的物性を有する。
 上記のような熱的物性の変化は質量流量の測定精度に影響する。例えば、上記のような流体の温度変化による実測質量流量Fの測定誤差は10℃当たり最大で2%程度、圧力変化による実測質量流量Fの測定誤差は100kPa当たり最大で1%程度にも及ぶ場合がある。これらの変動因子(流体の温度及び圧力)は質量流量に対して互いに独立して作用するため、この場合における質量流量の実測時の誤差は最大で3%程度にも及ぶ可能性がある。このような熱的物性の変動し易さ(温度及び/又は圧力への依存性)は流体の種類によって異なる。
 そこで、当該技術分野においては、前述したように、質量流量を測定しようとする流体の種類、温度、及び圧力を考慮することにより、理想気体とは異なる挙動を示す流体の質量流量を正確に測定しようとする種々の試みが提案されている。しかしながら、これらの従来技術には更に改善されるべき点が残されていることは既に述べた通りである。
 一方、冒頭で述べたように、質量流量計は、例えば半導体の製造プロセスにおいてチャンバ内に供給されるプロセスガスの質量流量を測定することを目的として広く使用されている。半導体製造技術分野においては、半導体デバイスの複雑化及び微細化に伴い、プロセスガスの流量制御において要求される精度は益々高まっている。具体的には、例えば、これでの質量流量制御装置に対して要求される制御精度が±1.0%であったのに対し、昨今では±0.5%の制御精度が求められるようになっている。このような要求に対応するには、流量制御の対象となる流体の温度及び/又は圧力が変動しても、当該変動に起因する質量流量の実測値の誤差を低減し、高い精度で測定された実測値に基づいて当該流体の質量流量を目標値に近付けるように制御する技術が必要である。
 そこで、本実施態様に係る質量流量の測定方法においては、上述したように、質量流量を測定しようとする流体の実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数である温度係数αと、当該流体の実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である圧力係数βとを予め特定しておく。そして、当該流体の実測質量流量Fの実測時に、当該質量流量計の校正時の温度Tと実測時の流体の温度Tとの偏差である温度偏差ΔT、当該質量流量計の校正時の圧力Pと実測時の流体の圧力Pとの偏差である圧力偏差ΔP、上記温度係数α、及び上記圧力係数βに基づいて、上述したような数式を使用して実測質量流量Fを補正して、より正確な補正質量流量Fを算出する。
 従って、本実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される質量流量計は、
  前記流体の温度Tを検出する温度センサと、
  前記流体の圧力Pを検出する圧力センサと、
  前記温度T及び前記圧力Pに基づいて前記実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出する補正手段と、
を備える。
 上記温度センサは、流路に流れる流体の温度Tを検出することが可能である限り、特に限定されない。上記温度センサの具体例としては、例えば熱電対式温度センサ及びサーミスタ式温度センサ等を挙げることができる。上記圧力センサは、流路に流れる流体の圧力Pを検出することが可能である限り、特に限定されない。上記圧力センサの具体例としては、例えば静電容量型圧力センサ及びゲージ式圧力センサ等を挙げることができる。尚、図1に示されている熱式質量流量制御装置においては、温度センサ131及び圧力センサ132は何れも流路114のセンサチューブ116が分岐する分岐点よりも上流側に配設されている。しかしながら、本実施態様に係る熱式質量流量計における温度センサ及び圧力センサが配設される位置及び様式は、流路に流れる流体の温度T及び圧力Pを検出することが可能である限り、特に限定されない。
 上記補正手段は、上記温度センサによって検出される温度T及び上記圧力センサによって検出される圧力Pに基づいて実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出する。このような演算処理は、例えば、熱式質量流量計に組み込まれたマイクロコンピュータ等の電子制御装置によって実行することができる。尚、前述した図1に示されている熱式質量流量計110においては、上記補正手段が制御手段130に含まれている。
 従来技術に係る質量流量の測定方法によれば、前述したように、質量流量を測定しようとする流体の温度又は圧力の何れか一方による影響しか考慮しないため、質量流量の測定精度が不十分となる虞があった。加えて、流体の種類、温度、及び圧力の膨大な数の組み合わせ毎に補正係数を予め定めておく必要があるため、これら膨大な数の補正係数に関連するデータを格納するデータ記憶装置の容量(データ記憶容量)を大きくする必要があったり、これらの補正係数を用いて質量流量の実測値を補正するときの演算負荷が高まったりする虞があった。
 上記に対し、本実施態様に係る質量流量の測定方法においては、質量流量を測定しようとする流体の温度及び圧力に対する質量流量の変化率(温度係数及び圧力係数)を予め求めておき、測定時及び校正時における温度及び圧力の偏差と温度係数及び圧力係数とを使用する計算式によって質量流量を算出する。
 具体的には、前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、
  前記流体の前記実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数である温度係数αと、
  前記流体の前記実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である圧力係数βと、
を予め格納している。
 上記温度係数αは、例えば、対象となる流体を一定の流量にて当該熱式質量流量計に流している状態において流体の圧力Pは一定に維持しつつ流体の温度Tを変化させたときの当該熱式質量流量計によって測定される実測質量流量Fの温度Tに対する変化率(∂F/∂T)を求めることによって特定することができる。或いは、異なる複数の圧力Pのそれぞれにおいて上記のようにして実測質量流量Fの温度Tに対する変化率(∂F/∂T)を求め、得られた複数の当該変化率(∂F/∂T)を平均することによって温度係数αを特定してもよい。
 上記圧力係数βは、例えば、対象となる流体を一定の流量にて当該熱式質量流量計に流している状態において流体の温度Tは一定に維持しつつ流体の圧力Pを変化させたときの当該熱式質量流量計によって測定される実測質量流量Fの圧力Pに対する変化率(∂F/∂P)を求めることによって特定することができる。或いは、異なる複数の温度Tのそれぞれにおいて上記のようにして実測質量流量Fの圧力Pに対する変化率(∂F/∂P)を求め、得られた複数の当該変化率(∂F/∂P)を平均することによって圧力係数βを特定してもよい。
 上記のようにして特定される温度係数α及び圧力係数βは、上記補正手段が備えるデータ記憶装置(例えば不揮発性メモリ等)等に格納される。これにより、対象となる流体の質量流量を実測するときに、当該データ記憶装置に格納された温度係数α及び圧力係数βを参照して(読み出して)、これらの係数によって補正された、より正確な質量流量の算出に利用することができる。
 尚、「補正手段が備えるデータ記憶装置」とは、補正手段を構成する電子制御装置内に物理的に含まれるデータ記憶装置であってもよく、或いは補正手段を構成する電子制御装置内には物理的に含まれないデータ記憶装置であってもよい。後者の場合、「補正手段が備えるデータ記憶装置」は、補正手段を構成する電子制御装置とは異なる電子制御装置内に物理的に含まれていてもよく、或いは補正手段を構成する電子制御装置外に単独で配設されたデータ記憶装置であってもよい
 また、当該熱式質量流量計によって複数種の流体の質量流量を測定することが想定される場合は、複数種の流体のそれぞれに対応する温度係数α及び圧力係数βをデータ記憶装置に格納しておき、質量流量を測定しようとする流体に対応する温度係数α及び圧力係数βをデータ記憶装置から読み出して、これらの係数によって補正された、より正しい質量流量の算出に利用することができる。
 具体的には、前記補正手段が、
  当該質量流量計の校正時の温度Tと前記温度Tとの偏差である温度偏差ΔT(=T-T)、当該質量流量計の校正時の圧力Pと前記圧力Pとの偏差である圧力偏差ΔP(=P-P)、前記温度係数α、及び前記圧力係数βに基づいて、以下の式(4)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000010
 上式中、実測質量流量Fは、例えば、前述した式(1)又は(2)の何れかによって、当該熱式質量流量計に流したときに実測される出力信号の強度(実測信号強度)S又は実測信号電圧Sの基準信号電圧Sに対する比率)(S/S)に基づいて算出することができる。また、質量流量を測定しようとする流体が基準流体とは異なる種類の流体である場合は、前述した式(3)によって実測質量流量Fを算出することができる。
 このように、本実施態様に係る質量流量の測定方法においては、質量流量を測定しようとする流体毎に温度係数α及び圧力係数βを予め特定しておき、質量流量の実測時と熱式質量流量計の校正時との間での流体の温度偏差ΔT及び圧力偏差ΔPと共に、上記式(4)に代入して、実測質量流量Fを補正することにより、より正確な補正質量流量Fを簡便に算出することができる。
 その結果、本実施態様に係る質量流量の測定方法によれば、従来技術に係る質量流量の測定方法のように質量流量計におけるデータ記憶容量及び/又は演算負荷の大幅な増大を伴うこと無く、流体の種類、温度、及び圧力の全てに応じて、正確な質量流量を測定することができる。
 ところで、温度係数αは実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数であり、圧力係数βは実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である。これにより、本実施態様に係る質量流量の測定方法においては、熱式質量流量計の校正時の温度T及び/又は校正時の圧力Pからの温度及び/又は圧力の変化に応じて実測質量流量Fを補正して、より正確な補正質量流量Fを算出することができる。
 しかしながら、多種多様な流体の中には、温度係数αが一定ではなく、流体の圧力の変化に応じて温度係数αが変化する流体が少なからず存在する。また、圧力係数βが一定ではなく、流体の温度の変化に応じて圧力係数βが変化する流体もまた少なからず存在する。このような流体については、特に温度係数αの特定時の圧力と質量流量の実測時の圧力との乖離及び/又は圧力係数βの特定時の温度と質量流量の実測時の温度との乖離が大きい場合に、上述した式(4)によって算出される補正質量流量Fの精度が低下する懸念がある。
 上記のような場合は、実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出するときに、温度係数αの圧力Pに対する変化率(∂α/∂P)及び/又は圧力係数βの温度Tに対する変化率(∂β/∂T)をも考慮に入れることにより、より正確な補正質量流量Fを算出することができる。
 即ち、本発明の第2の実施態様は、
 本発明の前記第1の実施態様に係る質量流量の測定方法であって、
 前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、前記温度係数α及び圧力係数βに加えて、
  前記温度係数αの圧力に対する偏微分係数である圧力係数α′と、
  前記圧力係数βの温度に対する偏微分係数である温度係数β′と、
を予め格納しており、
 前記補正手段が、
  前記温度偏差ΔT、前記圧力偏差ΔP、前記温度係数α、前記圧力係数β、前記圧力係数α′、及び前記温度係数β′に基づいて、以下の式(5)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
質量流量の測定方法である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000011
 上記温度係数αは、以下のようにして特定することができる。例えば、異なる複数の圧力Pのそれぞれにおいて、対象となる流体を一定の流量にて当該熱式質量流量計に流している状態において、流体の圧力Pは一定に維持しつつ流体の温度Tを変化させる、このときの当該熱式質量流量計によって測定される実測質量流量Fの温度Tに対する変化率(∂F/∂T)を求める。このようにして得られた複数の当該変化率(∂F/∂T)のうち何れかを温度係数αとしてもよく、或いは得られた複数の当該変化率(∂F/∂T)を平均することによって温度係数αを特定してもよい。
 更に、上記圧力係数α′は、上記のようにして得られた実測質量流量Fの温度Tに対する変化率(∂F/∂T)(即ち、温度係数α)と対応する複数の圧力Pとの対応関係から、温度係数αの圧力Pに対する変化率(∂α/∂P)を求めることによって特定することができる。
 上記圧力係数βは、以下のようにして特定することができる。例えば、異なる複数の温度Tのそれぞれにおいて、対象となる流体を一定の流量にて当該熱式質量流量計に流している状態において、流体の温度Tは一定に維持しつつ流体の圧力Pを変化させる。このときの当該熱式質量流量計によって測定される実測質量流量Fの圧力Pに対する変化率(∂F/∂P)を求める。このようにして得られた複数の当該変化率(∂F/∂P)のうち何れかを圧力係数βとしてもよく、或いは得られた複数の当該変化率(∂F/∂P)を平均することによって圧力係数βを特定してもよい。
 更に、上記温度係数β′は、上記のようにして得られた実測質量流量Fの圧力Pに対する変化率(∂F/∂P)(即ち、圧力係数β)と対応する複数の温度Tとの対応関係から、圧力係数βの温度Tに対する変化率(∂β/∂T)を求めることによって特定することができる。
 上記のようにして特定される温度係数α、圧力係数β、圧力係数α′、及び温度係数β′は、上記補正手段が備えるデータ記憶装置(例えば不揮発性メモリ等)等に格納される。これにより、対象となる流体の質量流量を実測するときに、当該データ記憶装置に格納された温度係数α、圧力係数β、圧力係数α′、及び温度係数β′を参照して(読み出して)、これらの係数によって補正された、より正しい質量流量の算出に利用することができる。
 このように、本実施態様に係る質量流量の測定方法においては、質量流量を測定しようとする流体毎に温度係数α、圧力係数β、圧力係数α′、及び温度係数β′を予め特定しておき、質量流量の実測時と熱式質量流量計の校正時との間での流体の温度偏差ΔT及び圧力偏差ΔPと共に、上記式(5)に代入して、実測質量流量Fを補正することにより、より正確な補正質量流量Fを簡便に算出することができる。
 その結果、本実施態様に係る質量流量の測定方法によれば、上記のように温度係数α及び/又は圧力係数βが流体の圧力及び/又は圧力の変化に応じて変化する流体についても、従来技術に係る質量流量の測定方法のように質量流量計におけるデータ記憶容量及び/又は演算負荷の大幅な増大を伴うこと無く、流体の種類、温度、及び圧力の全てに応じて、より一層正確な質量流量を測定することができる。
 ところで、冒頭で述べたように、本発明は、質量流量の測定方法のみならず、当該方法を使用する熱式質量流量計にも関する。
 即ち、本発明の第3の実施態様は、
 流体の質量流量に対応する出力信号を出力する流量センサを備え、前記出力信号の強度である実測信号強度Sに基づいて前記流体の実測質量流量Fを計測するキャピラリ加熱型熱式質量流量計であって、
 前記質量流量計が、
  前記流体の温度Tを検出する温度センサと、
  前記流体の圧力Pを検出する圧力センサと、
  前記温度T及び前記圧力Pに基づいて前記実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出する補正手段と、
を更に備え、
 前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、
  前記流体の前記実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数である温度係数αと、
  前記流体の前記実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である圧力係数βと、
を予め格納しており、
 前記補正手段が、
  当該質量流量計の校正時の温度Tと前記温度Tとの偏差である温度偏差ΔT、当該質量流量計の校正時の圧力Pと前記圧力Pとの偏差である圧力偏差ΔP、前記温度係数α、及び前記圧力係数βに基づいて、以下の式(4)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
熱式質量流量計である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000012
 上記のように、本実施態様に係る熱式質量流量計は、本発明の前記第1の実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計である。本発明の前記第1の実施態様に係る質量流量の測定方法が適用される熱式質量流量計の構成については、図1及び図2を参照しながら、本発明の前記第1の実施態様に係る質量流量の測定方法の説明において既に述べたので、ここでは繰り返して説明しない。また、本実施態様に係る熱式質量流量計において実行される本発明の前記第1の実施態様に係る質量流量の測定方法についても既に述べたので、本発明の前記第1の実施態様に係る質量流量の測定方法の詳細について、ここで繰り返して説明はしない。
 本発明の前記第1の実施態様に係る質量流量の測定方法についての、これまでの説明から明らかであるように、本実施態様に係る熱式質量流量計においては、質量流量を測定しようとする流体毎にデータ記憶装置に格納された温度係数α及び圧力係数βが、質量流量の実測時と当該熱式質量流量計の校正時との間での流体の温度偏差ΔT及び圧力偏差ΔPと共に、上記式(4)に代入され、実測質量流量Fが補正されて、より正確な補正質量流量Fが簡便に算出される。
 その結果、本実施態様に係る熱式質量流量計によれば、従来技術に係る質量流量の測定方法を使用する熱式質量流量計のようにデータ記憶容量及び/又は演算負荷の大幅な増大を伴うこと無く、流体の種類、温度、及び圧力の全てに応じて、正確な質量流量を測定することができる。
 しかしながら、前述したように、多種多様な流体の中には、温度係数αが一定ではなく、流体の圧力の変化に応じて温度係数αが変化する流体が少なからず存在する。また、圧力係数βが一定ではなく、流体の温度の変化に応じて圧力係数βが変化する流体もまた少なからず存在する。このような流体については、特に温度係数αの特定時の圧力と質量流量の実測時の圧力との乖離及び/又は圧力係数βの特定時の温度と質量流量の実測時の温度との乖離が大きい場合に、上述した式(4)によって算出される補正質量流量Fの精度が低下する懸念がある。
 上記のような場合は、実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出するときに、温度係数αの圧力Pに対する変化率(∂α/∂P)及び/又は圧力係数βの温度Tに対する変化率(∂β/∂T)をも考慮に入れることにより、より正確な補正質量流量Fを算出することができる。即ち、本発明の第2の実施態様に係る測定方法が適用される熱式質量流量計によれば、上記のように温度係数α及び/又は圧力係数βが流体の圧力及び/又は圧力の変化に応じて変化する流体についても、より正確な質量流量を測定することができる。
 従って、本発明の第4の実施態様は、
 本発明の前記第3の実施態様に係る熱式質量流量計であって、
 前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、前記温度係数α及び圧力係数βに加えて、
  前記温度係数αの圧力に対する偏微分係数である圧力係数α′と、
  前記圧力係数βの温度に対する偏微分係数である温度係数β′と、
を予め格納しており、
 前記補正手段が、
  前記温度偏差ΔT、前記圧力偏差ΔP、前記温度係数α、前記圧力係数β、前記圧力係数α′、及び前記温度係数β′に基づいて、以下の式(5)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
熱式質量流量計である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-M000013
 本実施態様に係る熱式質量流量計によれば、上記のように温度係数α及び/又は圧力係数βが流体の圧力及び/又は圧力の変化に応じて変化する流体についても、従来技術に係る質量流量の測定方法のように質量流量計におけるデータ記憶容量及び/又は演算負荷の大幅な増大を伴うこと無く、流体の種類、温度、及び圧力の全てに応じて、より一層正確な質量流量を測定することができる。
 ところで、冒頭で述べたように、本発明は、熱式質量流量計における質量流量の測定方法及び当該方法を使用する熱式質量流量計のみならず、当該熱式質量流量計を使用する熱式質量流量制御装置にも関する。当該熱式質量流量制御装置は、本発明に係る質量流量の測定方法を使用する熱式質量流量計によって算出される流体の流量に基づいて流量調節手段を制御して、流体の流量を目標値に近付ける。
 即ち、本発明の第5の実施態様は、
 本発明の前記第3又は前記第4の実施態様に係る熱式質量流量計と、
 前記流路に流れる流体の流量を制御する流量調節手段と、
 前記流量調節手段を制御する制御手段と、
を備える熱式質量流量制御装置であって、
 前記制御手段が、前記熱式質量流量計によって算出される前記流体の流量に基づいて前記流量調節手段を制御して、前記流体の流量を目標値に近付ける、
熱式質量流量制御装置である。
 上記のように、本実施態様に係る熱式質量流量制御装置は、本発明の前記第3又は第4の実施態様に係る熱式質量流量計を備える熱式質量流量制御装置である。従って、熱式質量流量計の基本的な構成については、図1及び2を参照しながら、本発明の前記第1乃至前記第4の実施態様に係る質量流量の測定方法及び当該方法を使用する熱式質量流量計の説明において既に述べたので、ここでは繰り返して説明しない。
 本実施態様に係る熱式質量流量制御装置は、上記のように、熱式質量流量計の他に、前記流路に流れる流体の流量を制御する流量調節手段と、前記流量調節手段を制御する制御手段と、を備える。流量調節手段は、流路に流れる流体の流量を制御することが可能である限り、特に限定されない。流量調節手段の具体例としては、例えば、アクチュエータによって開度を変更することができる流量制御弁を挙げることができる。制御手段もまた、流量調節手段を制御して、流路に流れる流体の流量を増減することが可能である限り、特に限定されない。図1に示されている例においては、熱式質量流量制御装置100は、熱式質量流量計110の他に、流路114に流れる流体の流量を制御する流量調節手段120及び流量調節手段120を制御する制御手段130を備える。
 流量調節手段120は、図1に示されているように、流量制御弁121、弁口122、ダイアフラム123、アクチュエータ124、弁駆動回路125、及び図示しない電源等を含む。制御手段130は、熱式質量流量計110によって算出される流体の流量に基づいて流量調節手段120を制御して、流体の流量を目標値に近付ける。より具体的には、制御手段130は、熱式質量流量計110によって算出される流体の流量を目標値と比較し、その結果に応じた制御信号を弁駆動回路125に送信する。
 例えば、流体の流量が目標値よりも少ない場合は、制御手段130はアクチュエータ124によって流量制御弁121の開度を増やして流体の流量を増やすように弁駆動回路125に制御信号を送る。逆に、流体の流量が目標値よりも多い場合は、制御手段130はアクチュエータ124によって流量制御弁121の開度を減らして流体の流量を減らすように弁駆動回路125に制御信号を送る。尚、上記説明においてはフィードバック方式による流体の流量制御について説明したが、本実施態様に係る熱式質量流量制御装置による流体の流量制御は、フィードバック方式に限定されず、例えばフィードフォワード方式等の他の制御方式によって実行してもよい。
 加えて、図1に示されている実施態様に係る熱式質量流量制御装置100においては、前述したように、補正手段が制御手段130に含まれていた。しかしながら、補正手段及び制御手段は、両方がこのように1つの制御手段として実装されていてもよく、それぞれ個別の制御装置として実装されていてもよい。
 上述したように、本実施態様に係る熱式質量流量制御装置が備える熱式質量流量計によれば、従来技術に係る質量流量の測定方法を使用する熱式質量流量計のようにデータ記憶容量及び/又は演算負荷の大幅な増大を伴うこと無く、流体の種類、温度、及び圧力の全てに応じて、正確な質量流量を測定することができる。その結果、本実施態様に係る熱式質量流量制御装置は、従来技術に係る熱式質量流量制御装置のようにデータ記憶容量及び/又は演算負荷の大幅な増大を伴うこと無く、流体の種類、温度、及び圧力の全てに応じて、より正確に質量流量を制御することができる。
 これまで説明してきたように、本発明によれば、温度及び/又は圧力の変化に伴う熱的物性(例えば比熱等)の変化が大きい流体の温度及び/又は圧力が変化しても、当該流体の質量流量を正確に測定することができる。また、本発明によれば、熱式質量流量計が備えるデータ記憶装置に温度係数α及び圧力係数βが格納された流体であれば、当該熱式質量流量制御装置に対して流体の種類を特定する入力をするだけで、質量流量の補正を簡便に行うことができる。更に、温度係数αの圧力による変化及び/又は圧力係数βの温度による変化が質量流量の測定精度に影響を及ぼすほど大きい流体についても、温度係数αの圧力に対する変化率である圧力係数α′及び/又は圧力係数βの温度に対する変化率である温度係数β′を考慮して質量流量をより高い精度にて補正して、より正確な質量流量を測定することができる。その結果、このような流体についても、より正確な質量流量測定及び質量流量制御を行うことができる。
 以下、本発明の幾つかの実施態様に係る熱式質量流量計の構成等につき、時に添付図面を参照しながら、更に詳しく説明する。但し、以下に述べる説明はあくまでも例示を目的とするものであり、本発明の範囲が以下の説明に限定されるものと解釈されるべきではない。
 本実施例においては、窒素ガス(N)を基準流体(基準ガス)として使用し、種々の流体(具体的には、酸素(O)、アルゴン(Ar)、パーフルオロシクロブタン(C)、ジフルオロメタン(CH)、モノフルオロメタン(CHF)、及び亜酸化窒素(NO)の各種ガス)の質量流量を種々の温度及び圧力において測定した。これにより、これら種々の流体の質量流量の実測値の温度及び圧力に対する変化率を調べた。
(1)実験装置の構成
 本実施例において種々の流体の質量流量の実測値の温度及び圧力に対する変化率を調べる実験に用いた実験装置300の構成を図3に示す。図3に示されているように、流体が流れる流路の上流側から順に、本発明に係る熱式質量流量制御装置100と、熱式質量流量制御装置100(MFC)が備える熱式質量流量計110と同一の仕様を有する熱式質量流量計(MFM)と、をそれぞれ配設した。本発明に係る熱式質量流量制御装置100及び熱式質量流量制御装置100(MFC)が備える熱式質量流量計110の構成については、例えば、図1及び図2を参照しながら上述した通りである。
 MFCが備える熱式質量流量計110及びMFMの両方において、最大流量(フルスケール)は1slm、設定流量は100%(SP=100%)とした。MFCとMFMとは上記流路によって直列に接続されている。また、MFC及びMFMは、それぞれの上流側に配設された熱交換器(それぞれ311及び321)と共に、別個の恒温槽(それぞれ310及び320)の中にそれぞれ収めた。これにより、MFC及びMFMが備える流路に流れる流体の温度をそれぞれの恒温槽内の温度と一致させることができる。
 本実施例においては、MFCの温度Tは種々に変化させ、MFMの温度Tは(22℃にて)一定に維持した。流体の圧力についても、MFCよりも上流側の流路における圧力Pは種々に変化させ、MFCが備える流量制御弁121よりも下流側の流路における圧力は、MFMよりも下流側に配設された真空ポンプ330によって、常に27kPaに一定に保持した。尚、当該圧力を真空ポンプ330のみによって27kPaに保持することが困難である場合は、配管内に減圧弁及び/又は他のバルブ等を更に設けることにより当該圧力の制御をより容易にすることができる。
 以上のように、MFMは、種々の温度及び圧力におけるMFCによる流量制御の結果をモニタリングする。流体の温度及び/又は圧力による質量流量の実測値への影響が無ければ、MFMによる質量流量の実測値は何れの温度及び圧力においても最大流量(1slm)にて一定の筈であり、影響があれば、MFMによる質量流量の実測値は最大流量(1slm)から乖離する筈である。
 尚、図3に示す模式図においては、MFCよりも上流側の流路における流体の圧力を恒温槽310よりも上流側(恒温槽310の外)で測定している。しかしながら、前述したように、圧力センサの構成及び配置は、流路に流れる流体の圧力Pを検出することが可能である限り、特に限定されない。更に、本実施例においては、熱式質量流量計110(MFC)の個体差を考慮するため、第1乃至第3の熱式質量流量計(MFC-1、MFC-2、及びMFC-3)を用意して、それぞれについて同一の実験を行った。
(2)温度変化に伴う基準流体の質量流量の実測値の変化
 先ず、圧力Pを138kPaにて一定に保持した状態で、上記のような構成を有する実験装置300に窒素ガス(N)を供給した。そして、恒温槽310内の温度(T)を22℃、32℃、及び42℃の3つの温度に設定し、温度及び流量が安定したときのMFMによる実測信号電圧S′の基準信号電圧S(5.000V)に対する比率f′(%)の値(ここで、記号「′」は、MFMによってモニタリングされる実測値に基づく値であることを示す。以下同様。)を測定した。測定された3つのf′の値を温度Tに対してプロットすると直線に乗り、その傾きは+0.012(/℃)であった。
 ここで、MFMによって実測されるf′の値は、温度Tが22℃で一定の状態に保持された下流側のMFMによる実測値に基づく値であるので、この測定には上流側の恒温槽310における温度Tの変化は影響しない筈である。一方、質量流量制御装置100(MFC)においては、熱式質量流量計110によって実測されるfが目標値(例えば100%)に近付くように流量制御弁121が制御される。従って、MFMによって実測されるf′の値が変化したということは、質量流量制御装置100(MFC)が備える熱式質量流量計110によって目標値にて一定に保持されている筈のfが変化していることを意味する。
 上記のように、質量流量制御装置100(MFC)によって制御された流体の質量流量をMFMによって実測することにより、質量流量制御装置100(MFC)が備える質量流量計110が実測しているfの温度変化を間接的に測定することができる。従って、上述したf′の値の温度Tに対するプロットの傾きから、fの温度Tに対する偏微分係数∂f/∂Tを間接的に求めることができる。従って、上述したように圧力Pを138kPaにて一定に保持した状態で測定された3つのf′の値の温度Tに対するプロットの傾きから、この状態における∂f/∂Tが+0.012(/℃)であることが判る。尚、本明細書における温度係数α(∂F/∂T)は、∂f/∂TにF/100を乗じた値となる。
 次に、恒温槽310内に配設されている第1の質量流量制御装置(MFC-1)を同じ仕様の第2の質量流量制御装置(MFC-2)と交換して同様の測定を行った結果、∂f/∂Tは-0.012(/℃)であった。更に、第3の質量流量制御装置(MFC-3)と交換して同様の測定を行った結果、∂f/∂Tは-0.006(/℃)であった。
 ところで、窒素ガス(N)は質量流量計の流量の校正のための基準流体(基準ガス)として広く使用されている安定なガスであり、その熱的物性(例えば、比熱等)は温度によって殆ど変化しないことが知られている。従って、上記において観測されたfの変化は、窒素ガス(N)の熱的物性の温度変化に起因する変化ではなく、MFC-1乃至MFC-3の3種の質量流量制御装置自体の温度変化に起因する変化であると推測される。このような温度変化が生ずる原因は完全には解明されていないが、例えば、質量流量制御装置を構成する電気回路の温度特性やセンサチューブの熱膨張等が原因となっている可能性が考えられる。更に、MFC-1乃至MFC-3がそれぞれ異なる∂f/∂Tを呈したのは、質量流量制御装置自体の温度変化に個体差があるためであると考えられる。
 以上の考察から、MFC-1乃至MFC-3によって実測されるfの温度変化を評価するに当たっては、それぞれのMFCに固有の上記変化を差し引いて評価することとした。具体的には、このような補正は、例えば、ブリッジ回路と並列に設けられている抵抗器の抵抗値を調整する等、ハードウェアによって行うこともでき、或いはソフトウェア上のデータの計算処理によって行うこともできる。
(3)温度変化に伴う各種流体の質量流量の実測値の変化
 次に、上記窒素ガス(N)を含む各種流体(各種ガス)を実験装置300に流して、上記と同様の測定を行った。更に、圧力Pを207kPa及び278kPaに保持した状態においても、上記と同様の測定を行った。上述したように、本実施例において使用した流体(ガス)は、酸素(O)、アルゴン(Ar)、パーフルオロシクロブタン(C)、ジフルオロメタン(CH)、モノフルオロメタン(CHF)、及び亜酸化窒素(NO)の6種類のガスである。これら6種類のガス及び窒素ガス(N)について各圧力Pにおいて測定された∂f/∂Tの値を以下の表1に列挙する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
 表1に列挙されているそれぞれの値は、MFC-1乃至MFC-3において得られた結果の平均値である。但し、基準流体としての窒素ガス(N)を用いて138kPaの圧力において測定されたMFC-1乃至MFC-3の個体差に起因するf′の温度Tに対する変化率(∂f′/∂T)が差し引かれている。従って、138kPaの圧力における窒素ガス(N)の∂f/∂Tは0(ゼロ)になっている。更に、窒素ガス(N)の∂f/∂Tは圧力Pの変化によっても殆ど影響を受けないので、207kPa及び278kPaの圧力における窒素ガス(N)の∂f/∂Tもまた、それぞれ0(ゼロ)になっている。
 酸素ガス(O)及びアルゴンガス(Ar)については、何れの圧力Pにおいても∂f/∂Tの絶対値が小さく且つ圧力Pの変化に伴う∂f/∂Tの変化も小さい。従って、酸素ガス(O)及びアルゴンガス(Ar)については、何れかの圧力Pにおける∂f/∂Tの値又は3つの圧力Pにおける∂f/∂Tの平均値を一定の定数としての∂f/∂Tとして採用しても、それぞれの圧力Pにおける∂f/∂Tとの乖離が小さい。その結果、このような一定の∂f/∂T(及び対応する温度係数α)を用いても、高い精度で実測質量流量Fを補正することができ、正確な補正質量流量Fを得ることができる。即ち、このような流体については、前述した本発明の第1の実施態様に係る質量流量の測定方法によって(前述した式(4)を使用して)、十分に高い精度で高い精度で実測質量流量Fを補正することができ、正確な補正質量流量Fを得ることができる。
 上記に対し、比較的低い蒸気圧を有するパーフルオロシクロブタン(C)、ジフルオロメタン(CH)、モノフルオロメタン(CHF)、及び亜酸化窒素(NO)については、窒素ガス(N)、酸素ガス(O)、及びアルゴンガス(Ar)に比べて、何れの圧力Pにおいても∂f/∂Tの絶対値が大きく且つ圧力Pの変化に伴う∂f/∂Tの変化も大きい。従って、これらのガスについては、何れかの圧力Pにおける∂f/∂Tの値又は3つの圧力Pにおける∂f/∂Tの平均値を一定の定数としての∂f/∂Tとして採用した場合、それぞれの圧力Pにおける∂f/∂Tとの乖離が大きい。その結果、このような一定の∂f/∂T(及び対応する温度係数α)を用いた場合、高い精度で実測質量流量Fを補正することが困難となり、正確な補正質量流量Fを得ることが困難となる。このような流体についても、前述した本発明の第2の実施態様に係る質量流量の測定方法によれば(前述した式(5)を使用すれば)、十分に高い精度で実測質量流量Fを補正することができ、正確な補正質量流量Fを得ることができる。
 そこで、それぞれの圧力P(138kPa、207kPa、及び278kPa)における∂f/∂Tの値の圧力Pに対するプロットの傾きから、∂f/∂Tの圧力Pに対する偏微分係数∂(∂f/∂T)/∂Pを求めた。それぞれの流体について求められた∂(∂f/∂T)/∂Pが、表1の右端の列に列挙されている。本明細書における圧力係数α′は、∂(∂f/∂T)/∂PにF/100を乗じた値となる。前述した式(5)のように、温度係数αと圧力係数α′とを組み合わせて使用して実測質量流量Fを補正することにより、実測質量流量Fの温度Tに対する変化率(∂F/∂T)のみならず、温度係数αの圧力Pに対する変化率(∂α/∂P)をも考慮して、より高い精度にて質量流量を補正することができる。
(4)圧力変化に伴う基準流体の質量流量の実測値の変化
 次に、基準流体の質量流量の実測値の圧力変化に対する変化率についての実験結果について説明する。先ず、温度Tを22℃にて一定に保持した状態で、実験装置300に窒素ガス(N)を供給した。そして、MFCの流量調整弁よりも上流側の流体の圧力(P)を138kPa、207kPa、及び278kPaの3つの圧力に設定し、圧力及び流量が安定したときのMFMによる実測信号電圧S′の基準信号電圧S(5.000V)に対する比率f′(%)の値を測定した。測定された3つのf′の値を圧力Pに対してプロットすると直線に乗り、その傾きは-0.0018(/kPa)であった。このようにして得られるf′の値の圧力Pに対するプロットの傾きから、fの圧力Pに対する偏微分係数∂f/∂Pを間接的に求めることができる。従って、上述したように温度Tを22℃にて一定に保持した状態で測定された3つのf′の値の圧力Pに対するプロットの傾きから、この状態における∂f/∂Pが-0.018(/kPa)であることが判る。尚、本明細書における圧力係数β(∂F/∂P)は、∂f/∂PにF/100を乗じた値となる。
 次に、恒温槽310内に配設されている第1の質量流量制御装置(MFC-1)を同じ仕様の第2の質量流量制御装置(MFC-2)と交換して同様の測定を行った結果、∂f/∂Pは-0.0021(/kPa)であった。更に、第3の質量流量制御装置(MFC-3)と交換して同様の測定を行った結果、∂f/∂Pは-0.0020(/kPa)であった。このようなMFC-1乃至MFC-3の間での∂f/∂Pの差異は、窒素ガス(N)の熱的物性の圧力変化に起因する変化ではなく、MFC-1乃至MFC-3の質量流量制御装置に加わるガス圧力の変化に起因する変化であると推測される。このような圧力変化が生ずる原因は完全には解明されていないが、例えば、センサチューブの体積変化等が原因となっている可能性が考えられる。更に、MFC-1乃至MFC-3がそれぞれ異なる∂f/∂Pを呈したのは、質量流量制御装置に加わる圧力の変化に個体差があるためであると考えられる。
(5)温度変化に伴う各種流体の質量流量の実測値の変化
 次に、上記窒素ガス(N)を含む各種流体(各種ガス)を実験装置300に流して、上記と同様の測定を行った。更に、温度Tを32℃及び42℃に保持した状態においても、上記と同様の測定を行った。上述したように、本実施例において使用した流体(ガス)は、酸素(O)、アルゴン(Ar)、パーフルオロシクロブタン(C)、ジフルオロメタン(CH)、モノフルオロメタン(CHF)、及び亜酸化窒素(NO)の6種類のガスである。これら6種類のガス及び窒素ガス(N)について各温度Tにおいて測定された∂f/∂Pの値を以下の表2に列挙する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
 表2に列挙されているそれぞれの値は、MFC-1乃至MFC-3において得られた結果の平均値である。酸素ガス(O)及びアルゴンガス(Ar)については、何れの温度Tにおいても∂f/∂Pの絶対値が小さく且つ温度Tの変化に伴う∂f/∂Pの変化も小さい。従って、酸素ガス(O)及びアルゴンガス(Ar)については、何れかの温度Tにおける∂f/∂Pの値又は3つの温度Tにおける∂f/∂Pの平均値を一定の定数としての∂f/∂Pとして採用しても、それぞれの温度Tにおける∂f/∂Pとの乖離が小さい。その結果、このような一定の∂f/∂P(及び対応する圧力係数β)を用いても、高い精度で実測質量流量Fを補正することができ、正確な補正質量流量Fを得ることができる。即ち、このような流体については、前述した本発明の第1の実施態様に係る質量流量の測定方法によって(前述した式(4)を使用して)、十分に高い精度で実測質量流量Fを補正することができ、正確な補正質量流量Fを得ることができる。
 上記に対し、比較的低い蒸気圧を有するパーフルオロシクロブタン(C)、ジフルオロメタン(CH)、モノフルオロメタン(CHF)、及び亜酸化窒素(NO)については、窒素ガス(N)、酸素ガス(O)、及びアルゴンガス(Ar)に比べて、何れの温度Tにおいても∂f/∂Pの絶対値が大きいか又は温度Tの変化に伴う∂f/∂Pの変化も大きい。従って、これらのガスについては、何れかの温度Tにおける∂f/∂Pの値又は3つの温度Tにおける∂f/∂Pの平均値を一定の定数としての∂f/∂Pとして採用した場合、それぞれの温度Tにおける∂f/∂Pとの乖離が大きい。その結果、このような一定の∂f/∂P(及び対応する圧力係数β)を用いた場合、高い精度で実測質量流量Fを補正することが困難となり、正確な補正質量流量Fを得ることが困難となる。このような流体についても、前述した本発明の第2の実施態様に係る質量流量の測定方法によれば(前述した式(5)を使用すれば)、十分に高い精度で実測質量流量Fを補正することができ、正確な補正質量流量Fを得ることができる。
 そこで、それぞれの温度T(22℃、32℃、及び42℃)における∂f/∂Pの値の温度Tに対するプロットの傾きから、∂f/∂Pの温度Tに対する偏微分係数∂(∂f/∂P)/∂Tを求めた。それぞれの流体について求められた∂(∂f/∂P)/∂Tが、表2の右端の列に列挙されている。本明細書における温度係数β′は、∂(∂f/∂P)/∂TにF/100を乗じた値となる。前述した式(5)のように、圧力係数βと温度係数β′とを組み合わせて使用して実測質量流量Fを補正することにより、実測質量流量Fの圧力Pに対する変化率(∂F/∂P)のみならず、圧力係数βの温度Tに対する変化率(∂β/∂T)をも考慮して、より高い精度にて質量流量を補正することができる。
 尚、温度係数α、圧力係数β、圧力係数α′(即ち、圧力Pに対するαの変化率(∂α/∂P))、及び温度係数β′(即ち、温度Tに対するβの変化率(∂β/∂T))を求める際の流体の温度及び圧力の範囲として本実施例において示した具体的な値はあくまでも例示に過ぎない。例えば、質量流量を測定しようとする流体の性状及び当該流体が使用される用途における環境条件(例えば温度及び圧力等)等に応じて、本実施例において例示した具体的な温度範囲及び圧力範囲以外の温度範囲及び圧力範囲における質量流量の実測値を用いて、これらの係数を求めてもよいことは言うまでも無い。
 以上、本発明を説明することを目的として、特定の構成を有する幾つかの実施態様について説明してきたが、本発明の範囲は、これらの例示的な実施態様に限定されるものではなく、特許請求の範囲及び明細書に記載された事項の範囲内で、適宜修正を加えることができる。
 100…熱式質量流量制御装置、110…熱式質量流量計、111…センサ回路、113…電源、114…流路、115…バイパス、116…センサチューブ、117及び118…センサワイヤ、117′及び118′…抵抗素子、119…オペアンプ、120…流量調節手段、121…流量制御弁、122…弁口、123…ダイアフラム、124…アクチュエータ、125…弁駆動回路、130…制御手段、131…温度センサ、及び132…圧力センサ、310及び320…恒温槽、311及び312…熱交換器、並びに330…真空ポンプ。

Claims (5)

  1.  流体の質量流量に対応する出力信号を出力する流量センサを備えるキャピラリ加熱型熱式質量流量計において前記出力信号の強度である実測信号強度Sに基づいて前記流体の実測質量流量Fを算出する質量流量の測定方法であって、
     前記質量流量計が、
      前記流体の温度Tを検出する温度センサと、
      前記流体の圧力Pを検出する圧力センサと、
      前記温度T及び前記圧力Pに基づいて前記実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出する補正手段と、
    を備え、
     前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、
      前記流体の前記実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数である温度係数αと、
      前記流体の前記実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である圧力係数βと、
    を予め格納しており、
     前記補正手段が、
      当該質量流量計の校正時の温度Tと前記温度Tとの偏差である温度偏差ΔT、当該質量流量計の校正時の圧力Pと前記圧力Pとの偏差である圧力偏差ΔP、前記温度係数α、及び前記圧力係数βに基づいて、以下の式(4)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
    質量流量の測定方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000001
  2.  請求項1に記載の質量流量の測定方法であって、
     前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、前記温度係数α及び圧力係数βに加えて、
      前記温度係数αの圧力に対する偏微分係数である圧力係数α′と、
      前記圧力係数βの温度に対する偏微分係数である温度係数β′と、
    を予め格納しており、
     前記補正手段が、
      前記温度偏差ΔT、前記圧力偏差ΔP、前記温度係数α、前記圧力係数β、前記圧力係数α′、及び前記温度係数β′に基づいて、以下の式(5)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
    質量流量の測定方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000002
  3.  流体の質量流量に対応する出力信号を出力する流量センサを備え、前記出力信号の強度である実測信号強度Sに基づいて前記流体の実測質量流量Fを計測するキャピラリ加熱型熱式質量流量計であって、
     前記質量流量計が、
      前記流体の温度Tを検出する温度センサと、
      前記流体の圧力Pを検出する圧力センサと、
      前記温度T及び前記圧力Pに基づいて前記実測質量流量Fを補正して補正質量流量Fを算出する補正手段と、
    を更に備え、
     前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、
      前記流体の前記実測質量流量Fの温度に対する偏微分係数である温度係数αと、
      前記流体の前記実測質量流量Fの圧力に対する偏微分係数である圧力係数βと、
    を予め格納しており、
     前記補正手段が、
      当該質量流量計の校正時の温度Tと前記温度Tとの偏差である温度偏差ΔT、当該質量流量計の校正時の圧力Pと前記圧力Pとの偏差である圧力偏差ΔP、前記温度係数α、及び前記圧力係数βに基づいて、以下の式(4)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
    熱式質量流量計。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000003
  4.  請求項3に記載の熱式質量流量計であって、
     前記補正手段が備えるデータ記憶装置が、前記温度係数α及び圧力係数βに加えて、
      前記温度係数αの圧力に対する偏微分係数である圧力係数α′と、
      前記圧力係数βの温度に対する偏微分係数である温度係数β′と、
    を予め格納しており、
     前記補正手段が、
      前記温度偏差ΔT、前記圧力偏差ΔP、前記温度係数α、前記圧力係数β、前記圧力係数α′、及び前記温度係数β′に基づいて、以下の式(5)によって前記実測質量流量Fを補正することにより前記補正質量流量Fを算出する、
    熱式質量流量計。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-M000004
  5.  請求項3又は4に記載の熱式質量流量計と、
     前記流路に流れる流体の流量を制御する流量調節手段と、
     前記流量調節手段を制御する制御手段と、
    を備える熱式質量流量制御装置であって、
     前記制御手段が、前記熱式質量流量計によって算出される前記流体の流量に基づいて前記流量調節手段を制御して、前記流体の流量を目標値に近付ける、
    熱式質量流量制御装置。
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