WO2015088083A1 - 증발원 이송유닛, 증착 장치 및 증착 방법 - Google Patents

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WO2015088083A1
WO2015088083A1 PCT/KR2013/011662 KR2013011662W WO2015088083A1 WO 2015088083 A1 WO2015088083 A1 WO 2015088083A1 KR 2013011662 W KR2013011662 W KR 2013011662W WO 2015088083 A1 WO2015088083 A1 WO 2015088083A1
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substrate
evaporation source
linear
coupled
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PCT/KR2013/011662
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윤종갑
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주식회사 선익시스템
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/12—Organic material
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass

Definitions

  • the present invention relates to an evaporation source transfer unit, a deposition apparatus and a deposition method.
  • the deposition process is performed on a plurality of substrates in one chamber, but the tact time can be reduced by performing a transfer process or an alignment process on another substrate during the deposition process of one substrate.
  • the present invention relates to an organic material deposition apparatus and a deposition method using the same, which can reduce loss of organic material generated during a transfer process or an alignment process for a substrate.
  • OLED Organic Luminescence Emitting Device
  • the flat panel display device using the organic light emitting diode has a fast response speed and a wide viewing angle, which has emerged as a next generation display device.
  • the manufacturing process is simple, the production cost can be reduced more than the existing liquid crystal display device.
  • the hole injection layer, the hole transport layer, the light emitting layer, the electron transport layer, and the electron injection layer which are the remaining constituent layers except the anode and the cathode electrode, are organic thin films, and the organic thin film is deposited on the substrate by a vacuum thermal deposition method. Will be deposited on.
  • a substrate is transferred into a vacuum chamber, a shadow mask in which a predetermined pattern is formed is aligned with the transferred substrate, and heat is applied to the crucible containing the organic material to sublimate the organic material on the substrate onto the substrate. It is made by deposition on.
  • the organic material is continuously sublimed in the crucible during the substrate transfer process and the shadow mask alignment process, so there is a problem that the organic material is lost.
  • the deposition process is performed on a plurality of substrates in one chamber, and a tact time can be reduced by performing a transfer process or an alignment process for another substrate during the deposition process of one substrate,
  • a tact time can be reduced by performing a transfer process or an alignment process for another substrate during the deposition process of one substrate.
  • an evaporation source transfer unit disposed in a deposition chamber to transfer a linear evaporation source, the linear first rail perpendicular to the virtual first radial direction across the deposition chamber at one central point;
  • a lower rail including a linear second rail perpendicular to the virtual second radial direction crossing the deposition chamber at the center point, and a curved third rail connecting the first rail and the second rail;
  • a fourth linear rail spaced apart from and parallel to the first rail; a fifth linear rail spaced apart from and parallel to the second rail; and a sixth curved line connecting the fourth rail and the fifth rail;
  • An upper rail including a rail;
  • the linear evaporation source is coupled to be perpendicular to the lower rail and the upper rail, and comprises an evaporation source transfer unit including a transfer unit for reciprocating along the lower rail and the upper rail.
  • the transfer unit includes a pair of first sliders coupled to the lower rail and the upper rail so as to move along the lower rail and the upper rail; A pair of second sliders spaced apart from the pair of first sliders, the pair of second sliders being coupled to the lower rail and the upper rail to move along the lower rail and the upper rail, respectively;
  • the slider may include a moving block moving along the lower rail or the upper rail, and a rotating block rotatably coupled in a horizontal direction to an upper side of the moving block, and the second slider may include the lower rail or the upper side.
  • the apparatus may further include a source support supported by the first slider and the second slider, and the evaporation source may be coupled to the source support.
  • a rack rail spaced apart from the outside of the lower rail and the upper rail by a predetermined interval and disposed along the upper rail and the lower rail, respectively;
  • a first substrate is divided into a first deposition region and a second deposition region, the first substrate is drawn in and out of the first deposition region in the first radiation direction at one center point, the second radiation at the center point
  • a deposition chamber in which a second substrate is drawn in and out of the second deposition region in a direction;
  • An evaporation source for spraying an evaporation material against the first substrate or the second substrate;
  • an evaporation source transfer unit for transferring the evaporation source, wherein the evaporation source transfer unit comprises: a linear first rail perpendicular to the first radial direction, a linear second rail perpendicular to the second radial direction, and A lower rail including a curved third rail connecting the first rail and the second rail;
  • the transfer unit includes a pair of first sliders coupled to the lower rail and the upper rail so as to move along the lower rail and the upper rail; A pair of second sliders spaced apart from the pair of first sliders, the pair of second sliders being coupled to the lower rail and the upper rail to move along the lower rail and the upper rail, respectively;
  • the slider may include a moving block moving along the lower rail or the upper rail, and a rotating block rotatably coupled in a horizontal direction to an upper side of the moving block, and the second slider may include the lower rail or the upper side.
  • a moving block moving along a rail, a rotating block rotatably coupled in a horizontal direction to an upper side of the moving block, and a sliding bar coupled to the rotating block so as to slide vertically in the first radial direction. have.
  • the deposition apparatus may further include a source support supported by the first slider and the second slider, and the evaporation source may be coupled to the source support.
  • the deposition apparatus may include a rack rail spaced apart from the upper rail by a predetermined interval and disposed along the upper rail; A pinion engaged with the rack rail; It may further include a motor unit for providing a rotational force to the pinion, coupled to the source support.
  • a method of depositing evaporation material using the deposition apparatus comprising: moving the transfer unit to the ends of the upper rail and the lower rail of the first deposition region; Loading the first substrate in the first radial direction and seating the first substrate on the first substrate loading unit; Depositing the evaporation material on the first substrate by moving the transfer part along the first rail and the third rail; Simultaneously depositing evaporated particles on the first substrate and loading the second substrate in the second radial direction and seating the second substrate loading portion on the second substrate loading portion; And passing the transfer part through the curved third rail and the fifth rail and moving along the second rail and the fourth rail to deposit evaporated particles on the second substrate. do.
  • the first substrate having been deposited is withdrawn from the deposition chamber, and a new first substrate is loaded in the first radial direction and seated on the first substrate loading portion. It may further comprise the step of.
  • a deposition process is performed on a plurality of substrates in one chamber, and a tack time is performed by performing a transfer process or an alignment process on another substrate during the deposition process of one substrate. It is possible to reduce the loss of the organic material generated during the transfer process or the alignment process to the substrate.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining the configuration of a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 2 is a longitudinal sectional view for explaining the configuration of a deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 3 is a plan view briefly showing an evaporation source transfer unit according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 4 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2;
  • Figure 5 is a side view briefly showing an evaporation source transfer unit according to an embodiment of the present invention.
  • 6 to 8 are views for explaining the operation of the evaporation source transfer unit according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 1 is a cross-sectional view for explaining the configuration of the deposition apparatus according to an embodiment of the present invention
  • Figure 2 is a longitudinal cross-sectional view for explaining the configuration of the deposition apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • Figure 3 is a plan view briefly showing an evaporation source transfer unit according to an embodiment of the present invention.
  • the evaporation source transfer unit 10 the deposition chamber 12, the first deposition region 14, the second deposition region 16, the center point 18, the first radial direction 20, and the first 2 radial directions 22, transfer chamber 24, robot arm 26, first substrate loading portion 28, second substrate loading portion 30, first substrate 32, mask 33, first 2 substrate 34, lower rail 36, upper rail 38, evaporation source 40, the first rail 42, the second rail 44, the third rail 46, the fourth rail 48
  • the fifth rail 50, the sixth rail 52, the conveying part 54, the first slider 56, the second slider 58, and the source support 60 are shown.
  • the deposition apparatus is divided into a first deposition region 14 and a second deposition region 16, and the first substrate 32 is moved in the first radial direction 20 at one center point 18.
  • a deposition chamber 12 which draws in and out of the first deposition region 14 and draws in and out of the second deposition region 16 in the second radial direction 22 at the center point 18.
  • the evaporation source transfer unit 10 includes a linear first rail 42 perpendicular to the first radial direction 20 and a linear second rail perpendicular to the second radial direction 22.
  • a lower rail (36) comprising a curved third rail (46) connecting said first rail (42) and said second rail (44);
  • the linear evaporation source 40 is coupled to be perpendicular to the lower rail 36 and the upper rail 38, the transfer unit 54 reciprocating along the lower rail 36 and the upper rail 38 ).
  • the deposition chamber 12 is divided into a first deposition region 14 and a second deposition region 16, and the first substrate 32 is firstly disposed in the first radial direction 20 at one center point 18.
  • the second substrate 34 may be drawn in and out of the deposition region 14, and the second substrate 34 may be drawn in and out of the second deposition region 16 in the second radial direction 22 at the center point 18.
  • the deposition chamber 12 is a place where the evaporation material is deposited on the substrate therein, and the inside may be maintained in a vacuum state by a vacuum pump. When the evaporation material is made at atmospheric pressure, the interior may be maintained at atmospheric pressure.
  • the deposition chamber 12 may be divided into a plurality of deposition regions so that deposition may be performed on a plurality of substrates in one deposition chamber 12.
  • the evaporation material refers to a gaseous substance generated by heating or evaporating the source material, and may include a gaseous organic substance obtained by heating the organic substance.
  • the deposition region refers to a virtual space in which deposition of evaporation material may be performed on one substrate as the evaporation source 40 moves.
  • the deposition region is represented by a centerline indicated by a dashed-dotted line in FIG. 1.
  • the deposition chamber 12 may be partitioned into a first deposition region 14 and a second deposition region 16. Evaporation material is deposited on the first substrate 32 in the first deposition region 14 and evaporation material on the second substrate 34 in the second deposition region 16 adjacent to the first deposition region 14. Deposition takes place.
  • the first substrate 32 is drawn in or drawn out from one center point 18 to the first deposition region 14 of the deposition chamber 12 in the first radial direction 20, and the second substrate 34 is the center point. In (18), it is introduced into or withdrawn from the second deposition region 16 of the deposition chamber 12 in the second radial direction (22). That is, the first substrate 32 and the second substrate 34 are drawn in or drawn out from the deposition chamber 12 with a predetermined inclination.
  • the substrate may be drawn into or withdrawn from the deposition chamber 12 by a robot arm 26 in a transfer chamber 24 connected to the deposition chamber 12. Since the substrate is withdrawn from the center of rotation of the robot arm 26 in the radial direction, the substrate can be withdrawn at a constant inclination to the deposition chamber 12.
  • the rotation center of the robot arm 26 constituting the center point 18 is thus obtained.
  • the first substrate 32 is drawn in and out of the deposition chamber 12 in the first radial direction 20 with respect to the second substrate 34 at the center of rotation of the robot arm 26 constituting the center point 18.
  • the first substrate 32 and the second substrate 34 are not limited to drawing in and out of the deposition chamber 12 by the robot arm 26.
  • the deposition apparatus according to the present exemplary embodiment may be applied.
  • the rotation center of the robot arm 26 is the center point described above.
  • the center point 18 constitutes the point where the virtual two inclined lines which the inclination direction of the 1st board
  • the first substrate 32 and the second substrate loading part 30 are respectively loaded and seated on the first substrate loading part 28 and the second substrate loading part 30.
  • the evaporation material is ejected upward from the evaporation source 40 so that the evaporation material is deposited on the substrate so that the first substrate is lower than the first substrate loading part 28 and the second substrate loading part 30.
  • 32 and the second substrate 34 are attached, respectively.
  • the mask 33 is formed on the surface of the substrate in each substrate loading portion.
  • the substrate and the mask 33 may be aligned with each other.
  • a linear evaporation source 40 is coupled to the evaporation source transfer unit 10, and the evaporation source 40 moves between the first deposition region 14 and the second deposition region 16 by the evaporation source transfer unit 10. Evaporation of the evaporation is carried out.
  • the evaporation source transfer unit 10 includes a linear first rail 42 perpendicular to the first radial direction 20, a linear second rail 44 perpendicular to the second radial direction 22, and A lower rail 36 including a curved third rail 46 connecting the first rail 42 and the second rail 44, and a linear fourth spaced apart from and parallel to the first rail 42.
  • the lower rail 36 and the upper rail 38 are spaced apart from each other by a predetermined interval, and the lower rail 36 and the upper rail 38 may stably support the linear evaporation source 40.
  • the linear evaporation source 40 is also enlarged, and thus the weight of the evaporation source 40 is increased. Therefore, in order to stably support the evaporation source 40 by weight, the lower rail 36 and the upper rail 38 are configured in pairs.
  • the first rail 42 of the lower rail 36 and the fourth rail 48 of the upper rail 38 form a straight section in the first deposition region 14, and the second rail (of the lower rail 36) 44 and the fifth rail 50 of the upper rail 38 form a straight section in the second deposition region 16.
  • the straight section of the first deposition region 14 is perpendicular to the first radiation direction 20, and the straight section of the second deposition region 16 is perpendicular to the second radiation direction 22.
  • the straight section of the first deposition region 14 and the straight section of the second deposition region 16 are twisted by an angle formed by the first radiation direction 20, the center point 18, and the second radiation direction 22. You lose. Therefore, a curved section is needed to connect the straight sections.
  • first rail 42 and the second rail 44 of the lower rail 36 are connected to the curved third rail 46 and the fourth rail 48 and the fifth rail of the upper rail 38. 50 is connected to the sixth rail 52 of the curve.
  • the fourth rail 48 and the fifth rail 50 have a larger radius of curvature than the third rail 46 due to the separation distance between the lower rail 36 and the upper rail 38. Will be connected.
  • the vertical does not mean geometric or mathematical vertical, but means a practical vertical in consideration of a machining error or a transport error.
  • the transfer part 54 reciprocates along the lower rail 36 and the upper rail 38, and the transfer part 54 is perpendicular to the lower rail 36 and the upper rail 38 so that the linear evaporation source 40 is perpendicular to the lower rail 36 and the upper rail 38. Combined. Therefore, when the linear evaporation source 40 moves along the straight line in a state coupled to the transfer part 54 so as to be perpendicular to the straight line, the entire evaporation is performed while moving in the opposite direction from one side of the substrate.
  • the transfer part 54 moves a straight section of the lower rail 36 and the upper rail 38 of the first deposition region 14 and passes the curved section of the lower rail 36 and the upper rail 38.
  • the straight section of the lower rail 36 and the upper rail 38 of the second deposition region 16 is moved.
  • the straight section of the lower rail 36 and the upper rail 38 of the first deposition region 14 is moved.
  • the transfer part 54 repeats the reciprocating motion along the lower rail 36 and the upper rail 38.
  • the transfer unit 54 is moved to the ends of the upper rail 38 and the lower rail 36 of the first deposition region 14. Let's do it. As the transfer unit 54 moves from the first deposition region 14 to the second deposition region 16, deposition is performed on the substrate, so that the transfer unit 54 has an upper rail 38 of the first deposition region 14. And an end portion of the lower rail 36 (refer to FIG. 3, the right end portion of the first deposition region 14).
  • the first substrate 32 is loaded in the first radial direction 20 and seated on the first substrate loading portion 28.
  • the first substrate 32 is seated on the first substrate loading portion 28 in the first radial direction 20.
  • the mask 33 is disposed on the surface of the first substrate 32 and the first substrate 32 and the shadow mask 33 Alignment is made.
  • the transfer part 54 may be moved to the ends of the upper rail 38 and the lower rail 36 of the first deposition region 14.
  • the transfer part 54 is moved along the first rail 42 and the third rail 46 to deposit an evaporation material on the first substrate 32.
  • One side of the first substrate 32 is moved along a straight section of the lower rail 36 and the upper rail 38 of the first deposition region 14 by moving the linear evaporation source 40 disposed perpendicular to the straight section.
  • the deposition is performed on the entire substrate while moving in the opposite direction from the other direction.
  • the deposited first substrate 32 is withdrawn from the deposition chamber 12, and the new first substrate 32 is loaded in the first radial direction 20. To be seated on the first substrate loading portion 28.
  • the second substrate 34 is loaded in the second radial direction 22 and seated on the second substrate loading part 30.
  • the second substrate 34 may be seated on the second substrate loading part 30 during the deposition process on the first substrate 32 to reduce the tack time, and the second substrate during the deposition process on the first substrate 32. (34) can be loaded to reduce the loss of evaporation material.
  • the mask 33 is disposed on the surface of the second substrate 34, and the second substrate 34 and the mask 33 are frozen. Phosphorus is made.
  • the term “simultaneously” includes not only the same time, but also means that the deposition process of the first substrate 32 and the loading process of the second substrate 34 are overlapped.
  • the transfer part 54 passes through the curved third rail 46 and the fifth rail 50, moves along the second rail 44 and the fourth rail 48, and the second substrate 34. Evaporated particles are deposited on the.
  • the transfer section 54 enters the straight section of the second deposition region 16 while passing through the straight section of the first deposition region 14 and through the curved section, and removes the transfer section 54 entering the second straight section. 2
  • the deposition of the entire substrate is performed while moving in the opposite side direction from the one side direction of the second substrate 34. Is done.
  • the second substrate 34 on which deposition of the evaporation material is completed is withdrawn from the deposition chamber 12 in the second radial direction 22, and the new second substrate 34 is removed. ) Is loaded into the second substrate loading part 30 to be seated. When the new second substrate 34 is seated on the second substrate loading portion 30, it is aligned with the mask 33 and waits for the next deposition process.
  • the deposition process is performed on a plurality of substrates in one chamber, and the tact time is reduced by performing a transfer process or an alignment process on another substrate during the deposition process of one substrate. It is possible to reduce the loss of evaporation material material generated during the transfer process or the alignment process to the substrate.
  • FIG. 4 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2
  • FIG. 5 is a side view briefly showing an evaporation source transfer unit 10 according to an embodiment of the present invention
  • FIGS. 6 to 8 are embodiments of the present invention. Figure for explaining the operation of the evaporation source transfer unit 10 according to.
  • the lower rail 36 comprises a linear first rail 42 perpendicular to the virtual first radial direction 20 across the deposition chamber 12 at one center point 18 and at the center point 18.
  • a curved second rail 44 perpendicular to the imaginary second radial direction 22 across the deposition chamber 12 and a curve connecting the first rail 42 and the second rail 44. It consists of three rails 46.
  • the upper rail 38 includes a linear fourth rail 48 spaced apart from and parallel to the first rail 42, and a linear fifth rail 50 spaced apart from and parallel to the second rail 44. And a sixth rail 52 having a curve connecting the fourth rail 48 and the fifth rail 50.
  • the first rail 42 of the lower rail 36 and the fourth rail 48 of the upper rail 38 form a straight section, and the second rail 44 and the upper rail 38 of the lower rail 36 are formed.
  • the fifth rail 50 forms a straight section in the second deposition region 16.
  • the straight sections formed by the first rail 42 and the fourth rail 48 are perpendicular to the virtual first radial direction 20, and formed by the second rail 44 and the fifth rail 50.
  • the straight section is perpendicular to the virtual second radial direction 22.
  • the straight line section perpendicular to the first radial direction 20 and the straight line section perpendicular to the second radial direction 22 are formed by the first radial direction 20, the center point 18, and the second radial direction 22.
  • the angle is twisted. Therefore, a curved section is needed to connect the straight sections. That is, the first rail 42 and the second rail 44 of the lower rail 36 are connected to the curved third rail 46 and the fourth rail 48 and the fifth rail of the upper rail 38. 50 is connected to the sixth rail 52 of the curve.
  • the fourth rail 48 and the fifth rail 50 have a larger radius of curvature than the third rail 46 due to the separation distance between the lower rail 36 and the upper rail 38. Will be connected.
  • the curved third rail 46 and the sixth rail 52 may be formed of a complete curved rail or may be arranged in a curved form by connecting a plurality of straight rails sequentially.
  • the transfer part 54 reciprocates along a straight section perpendicular to the first radial direction 20 of the lower rail 36 and the upper rail 38, a curved section, and a straight section perpendicular to the second radial direction 22. do.
  • the transfer part 54 includes a pair of first sliders 56 coupled to the lower rail 36 and the upper rail 38 so as to move along the lower rail 36 and the upper rail 38, and A pair of second spaced apart from the pair of first sliders 56 and respectively coupled to the lower rail 36 and the upper rail 38 so as to move along the lower rail 36 and the upper rail 38; Slider 58.
  • the first slider 56 is a moving block 68 moving along the lower rail 36 or the upper rail 38 and a rotating block 70 rotatably coupled to the upper side of the moving block 68 in the horizontal direction.
  • the second slider 58 is rotatably coupled to the moving block 62 moving along the lower rail 36 or the upper rail 38 in a horizontal direction above the moving block 62.
  • a sliding bar 66 coupled to the rotary block 64 so as to slide with respect to the rotary block 64.
  • two second sliders 58 are disposed on both sides of the first slider 56 about each rail.
  • the moving blocks 62 and 68 of the first slider 56 and the second slider 58 are coupled to the lower rail 36 and the upper rail 38 to move along each rail.
  • Grooves may be formed in the moving blocks 62 and 68 according to the shape of the rail, and the rails may be inserted into the grooves of the moving blocks 62 and 68 to prevent the moving blocks 62 and 68 from being separated.
  • the rotating block 70 of the first slider 56 is coupled to the upper side of the moving block 68 of the first slider 56 is rotated in the horizontal direction.
  • a circular bearing is coupled between the movable block 68 and the rotary block 70 to smoothly rotate the rotary block 70 with respect to the movable block 68.
  • the rotating block 64 of the second slider 58 is also coupled to the upper side of the moving block 62 of the second slider 58 to rotate in the horizontal direction.
  • the sliding bar 66 of the second slider 58 is coupled to the rotary block 64 of the second slider 58, and the reciprocating sliding in the horizontal direction with respect to the rotary block 64 is possible. Between the rotary block 64 and the sliding bar 66 sliding thereto, a bearing for smoothly inducing linear movement in the horizontal direction may be interposed to allow stable sliding.
  • a linear evaporation source 40 is perpendicular to the lower rail 36 and the upper rail 38.
  • a separate source support 60 is provided to provide a form in which the evaporation source 40 is coupled to the source support 60. That is, the source support 60 is coupled to the first slider 56 and the second slider 58 disposed on the lower rail 36 and the upper rail 38, and the linear evaporation source 40 is connected to the source support 60. ) Is a combined form.
  • the driving unit for providing a driving force for the movement of the transfer unit 54 spaced apart a predetermined interval outside the upper rail 38 of the lower rail 36, respectively along the upper rail 38 and the lower rail 36
  • the rack rail 72 is disposed, the pinion 74 engaged with the rack rail 72, and the motor unit 76 to provide a rotational force to the pinion 74, and is coupled to the source support 60 Can be.
  • the rack rails 72 are disposed along the upper rail 38 and the lower rail 36 on the outer side of the lower rail 36 and the upper rail 38, respectively, and the pinion 74 is attached to each rack rail 72. This is matched.
  • Motor unit 76 such as a motor for providing a rotational force to the pinion 74 is coupled to the top and bottom of the source support 60, respectively, to provide a rotational force to the pinion (74).
  • the driving unit disposed outside the lower rail 36 controls the movement of the lower end of the source support 60
  • the driving unit disposed outside the upper rail 38 controls the movement of the upper end of the source support 60.
  • the source support (compared to the lower end of the source support 60) The top of the 60) moves at high speed.
  • the first slider 56 enters the curved section while the rotary block 70 of the first slider 56 located at the rear end of the second slider 58 is rotated by the continuous movement of the feeder 54.
  • do. 7 is a view showing a state in which the transfer section 54 is located in the center of the curved section.
  • the second slider 58 at the end enters the curved section, 2
  • the sliding bar 66 slides upward with respect to the rotary block 64.
  • the rotary block of the second slider 58 at the uppermost stage As the 64 is rotated, the sliding bar 66 slides downward with respect to the rotary block 64 and returns to its original position.
  • first slider 56 enters the straight section while the rotary block 70 of the first slider 56 located at the rear end of the second slider 58 at the uppermost end is continuously moved by the transfer unit 54. .
  • the second slider 58 of the last end enters the straight section by the continuous movement of the transfer unit 54, while the sliding block 66 of the second slider 58 of the last end rotates. Sliding downward with respect to the rotary block 64 is returned to the original position.
  • each of the rotary blocks 64, 70 and the sliding bar 66 is returned to its original position and the transfer section 54 is moved along the left straight section.
  • the moving speed and the movement distance of the lower end and the upper end of the transfer unit 54 must be different, so that the driving units coupled to the lower end and the upper end of the transfer unit 54 respectively transfer unit.
  • the movement speed and the movement distance of the lower and upper ends of 54 are adjusted.

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Abstract

증발원 이송유닛, 증착 장치 및 증착 방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따르면, 증착 챔버 내에 배치되어 선형의 증발원을 이송시키는 증발원 이송유닛으로서, 하나의 중심점에서 상기 증착 챔버를 가로지르는 가상의 제1 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제1 레일과, 상기 중심점에서 상기 증착 챔버를 가로지르는 가상의 제2 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제2 레일과, 상기 제1 레일과 상기 제2 레일을 연결하는 곡선의 제3 레일을 포함하는 하측레일과; 상기 제1 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일과, 상기 제2 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일과, 상기 제4 레일과 상기 제5 레일을 연결하는 곡선의 제6 레일을 포함하는 상측레일과; 상기 선형의 증발원이 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대해 수직을 이루도록 결합되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 왕복 이동하는 이송부를 포함하는, 증발원 이송유닛이 제공된다.

Description

증발원 이송유닛, 증착 장치 및 증착 방법
본 발명은 증발원 이송유닛, 증착 장치 및 증착방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 하나의 챔버 내에서 복수의 기판에 대해 증착공정을 진행하되, 하나의 기판의 증착공정 중에 다른 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정을 진행하여 택 타임(tact time)을 줄일 수 있고, 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정 중에 발생하는 유기물 재료의 손실을 줄일 수 있는 유기물 증착 장치 및 이를 이용한 증착 방법에 관한 것이다.
유기 전계 발광소자(Organic Luminescence Emitting Device: OLED)는 형광성 유기화합물에 전류가 흐르면 빛을 내는 전계 발광현상을 이용하는 스스로 빛을 내는 자발광소자로서, 비발광소자에 빛을 가하기 위한 백라이트가 필요하지 않기 때문에 경량이고 박형의 평판표시장치를 제조할 수 있다.
이러한 유기 전계 발광소자를 이용한 평판표시장치는 응답속도가 빠르며, 시야각이 넓어 차세대 표시장치로서 대두 되고 있다.
특히, 제조공정이 단순하기 때문에 생산원가를 기존의 액정표시장치 보다 많이 절감할 수 있는 장점이다.
유기 전계 발광 소자는, 애노드 및 캐소드 전극을 제외한 나머지 구성층인 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층 및 전자주입층 등이 유기 박막으로 되어 있고, 이러한 유기 박막은 진공열증착방법으로 기판 상에 증착하게 된다.
진공열증착방법은 진공의 챔버 내에 기판을 이송시키고, 일정 패턴이 형성된 쉐도우 마스크(shadow mask)를 이송된 기판에 정렬시킨 후, 유기물이 담겨 있는 도가니에 열을 가하여 도가니에서 승화되는 유기물을 기판 상에 증착하는 방식으로 이루어진다.
종래 기술에 따른 진공열증착방법은 하나의 챔버 내에서 하나의 기판에 대해 증착공정이 이루어지기 때문에 기판의 이송공정과 쉐도우 마스크 얼라인공정 중에는 기판에 대한 증착공정이 중단되어 택 타임(tack time)이 증가되는 문제점이 있었다.
또한, 기판의 이송공정과 쉐도우 마스크 얼라인공정 중에도 도가니에서 지속적으로 유기물이 승화되고 있어 유기물 재료가 손실되는 문제점이 있다.
본 발명은 하나의 챔버 내에서 복수의 기판에 대해 증착공정을 진행하되, 하나의 기판의 증착공정 중에 다른 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정을 진행하여 택 타임(tact time)을 줄일 수 있고, 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정 중에 발생하는 유기물 재료의 손실을 줄일 수 있는 증발원 이송유닛, 증착 장치 및 이를 이용한 증착방법을 제공한다.
본 발명의 일 측면에 따르면, 증착 챔버 내에 배치되어 선형의 증발원을 이송시키는 증발원 이송유닛으로서, 하나의 중심점에서 상기 증착 챔버를 가로지르는 가상의 제1 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제1 레일과, 상기 중심점에서 상기 증착 챔버를 가로지르는 가상의 제2 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제2 레일과, 상기 제1 레일과 상기 제2 레일을 연결하는 곡선의 제3 레일을 포함하는 하측레일과; 상기 제1 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일과, 상기 제2 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일과, 상기 제4 레일과 상기 제5 레일을 연결하는 곡선의 제6 레일을 포함하는 상측레일과; 상기 선형의 증발원이 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대해 수직을 이루도록 결합되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 왕복 이동하는 이송부를 포함하는, 증발원 이송유닛이 제공된다.
상기 이송부는, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 한 쌍의 제1 슬라이더와; 상기 한 쌍의 제1 슬라이더에 각각 이격되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 상기 한 쌍의 제2 슬라이더를 포함하며, 상기 제1 슬라이더는, 상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록을 포함하고, 상기 제2 슬라이더는, 상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록과, 상기 회전블록에 대해 슬라이딩되도록 상기 회전블록에 결합되는 슬라이딩바를 포함할 수 있다.
상기 제1 슬라이더와 상기 제2 슬라이더에 지지되는 소스지지대를 더 포함할 수 있으며, 상기 증발원은 상기 소스지지대에 결합될 수 있다.
상기 하측레일 및 상측레일의 외측으로 일정 간격 이격되어 상기 상측레일 및 상기 하측레일을 따라 각각 배치되는 래크레일과; 상기 래크레일에 치합되는 피니언과; 상기 피니언에 회전력을 제공하며, 상기 소스지지대에 결합되는 모터부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 제1 증착영역과 제2 증착영역으로 구획되며, 하나의 중심점에서 제1 방사 방향으로 제1 기판이 상기 제1 증착영역에 인출입되고, 상기 중심점에서 제2 방사 방향으로 제2 기판이 상기 제2 증착영역에 인출입되는 증착 챔버와; 상기 제1 기판이 상기 제1 방사 방향으로 로딩되어 안착되는 제1 기판 로딩부와; 상기 제2 기판이 상기 제2 방사 방향으로 로딩되어 안착되는 제2 기판 로딩부와; 상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판에 대향하여 증발물질을 분사하는 증발원과; 상기 증발원을 이송시키는 증발원 이송유닛를 포함하며, 상기 증발원 이송유닛은, 상기 제1 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제1 레일과, 상기 제2 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제2 레일과, 상기 제1 레일과 상기 제2 레일을 연결하는 곡선의 제3 레일을 포함하는 하측레일과; 상기 제1 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일과, 상기 제2 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일과, 상기 제4 레일과 상기 제5 레일을 연결하는 곡선의 제6 레일을 포함하는 상측레일과; 상기 선형의 증발원이 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대해 수직을 이루도록 결합되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 왕복 이동하는 이송부를 포함하는, 증착 장치가 제공된다.
상기 이송부는, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 한 쌍의 제1 슬라이더와; 상기 한 쌍의 제1 슬라이더에 각각 이격되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 상기 한 쌍의 제2 슬라이더를 포함하며, 상기 제1 슬라이더는, 상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록을 포함하고, 상기 제2 슬라이더는, 상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록과, 상기 상기 제1 방사 방향에 수직방향으로 슬라이딩되도록 상기 회전블록에 결합되는 슬라이딩바를 포함할 수 있다.
상기 증착 장치는, 상기 제1 슬라이더와 상기 제2 슬라이더에 지지되는 소스지지대를 더 포함할 수 있으며, 상기 증발원은 상기 소스지지대에 결합될 수 있다.
상기 증착 장치는, 상기 상측레일의 외측으로 일정 간격 이격되어 상기 상측레일을 따라 배치되는 래크레일과; 상기 래크레일에 치합되는 피니언과; 상기 피니언에 회전력을 제공하며, 상기 소스지지대에 결합되는 모터부를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 상기 증착 장치를 이용하여 증발물질을 증착하는 방법으로서, 상기 제1 증착영역의 상기 상측레일 및 상기 하측레일의 단부로 상기 이송부를 이동시키는 단계와; 상기 제1 기판을 상기 제1 방사 방향으로 로딩하여 상기 제1 기판 로딩부에 안착시키는 단계와; 상기 이송부을 상기 제1 레일 및 상기 제3 레일을 따라 이동시켜 상기 제1 기판에 상기 증발물질을 증착시키는 단계; 상기 제1 기판에 증발입자를 증착시키는 단계와 동시에 상기 제2 기판을 상기 제2 방사 방향으로 로딩하여 상기 제2 기판 로딩부에 안착시키는 단계와; 상기 이송부를 곡선의 상기 제3 레일 및 상기 제5 레일을 통과시키고, 상기 제2 레일 및 상기 제4 레일을 따라 이동시켜 상기 제2 기판에 증발입자를 증착시키는 단계를 포함하는, 증착 방법이 제공된다.
상기 제1 기판에 증발물질을 증착시키는 단계 이후에, 증착이 완료된 상기 제1 기판을 상기 증착 챔버에서 인출시키고, 새로운 제1 기판을 상기 제1 방사 방향으로 로딩하여 상기 제1 기판 로딩부에 안착시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예에 따르면, 하나의 챔버 내에서 복수의 기판에 대해 증착공정을 진행하되, 하나의 기판의 증착공정 중에 다른 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정을 진행하여 택 타임(tact time)을 줄일 수 있고, 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정 중에 발생하는 유기물 재료의 손실을 줄일 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치의 구성을 설명하기 위한 횡단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치의 구성을 설명하기 위한 종단면도.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원 이송유닛을 간략히 도시한 평면도.
도 4는 도 2의 A 부분을 확대한 도면.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원 이송유닛을 간략히 도시한 측면도.
도 6 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원 이송유닛의 작동과정을 설명하기 위한 도면.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
이하, 본 발명에 따른 증발원 이송유닛 및 증착 장치의 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치의 구성을 설명하기 위한 횡단면도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 증착 장치의 구성을 설명하기 위한 종단면도이다. 그리고, 도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원 이송유닛을 간략히 도시한 평면도이다.
도 1 내지 도 3에는, 증발원 이송유닛(10), 증착 챔버(12), 제1 증착영역(14), 제2 증착영역(16), 중심점(18), 제1 방사 방향(20), 제2 방사 방향(22), 트랜스퍼 챔버(24), 로봇 암(26), 제1 기판 로딩부(28), 제2 기판 로딩부(30), 제1 기판(32), 마스크(33), 제2 기판(34), 하측레일(36), 상측레일(38), 증발원(40), 제1 레일(42), 제2 레일(44), 제3 레일(46), 제4 레일(48), 제5 레일(50), 제6 레일(52), 이송부(54), 제1 슬라이더(56), 제2 슬라이더(58), 소스지지대(60)가 도시되어 있다.
본 실시예에 따른 증착 장치는, 제1 증착영역(14)과 제2 증착영역(16)으로 구획되며, 하나의 중심점(18)에서 제1 방사 방향(20)으로 제1 기판(32)이 상기 제1 증착영역(14)에 인출입되고, 상기 중심점(18)에서 제2 방사 방향(22)으로 제2 기판(34)이 상기 제2 증착영역(16)에 인출입되는 증착 챔버(12)와; 상기 제1 기판(32)이 상기 제1 방사 방향(20)으로 로딩되어 안착되는 제1 기판 로딩부(28)와; 상기 제2 기판(34)이 상기 제2 방사 방향(22)으로 로딩되어 안착되는 제2 기판 로딩부(30)와; 상기 제1 기판(32) 또는 상기 제2 기판(34)에 대향하여 증발물질을 분사하는 증발원(40)과; 상기 증발원(40)을 이송시키는 증발원 이송유닛(10)를 포함한다. 그리고, 상기 증발원 이송유닛(10)은, 상기 제1 방사 방향(20)에 수직을 이루는 선형의 제1 레일(42)과, 상기 제2 방사 방향(22)에 수직을 이루는 선형의 제2 레일(44)과, 상기 제1 레일(42)과 상기 제2 레일(44)을 연결하는 곡선의 제3 레일(46)을 포함하는 하측레일(36)과; 상기 제1 레일(42)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일(48)과, 상기 제2 레일(44)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일(50)과, 상기 제4 레일(48)과 상기 제5 레일(50)을 연결하는 곡선의 제6 레일(52)을 포함하는 상측레일(38)과; 상기 선형의 증발원(40)이 상기 하측레일(36)과 상기 상측레일(38)에 대해 수직을 이루도록 결합되며, 상기 하측레일(36)과 상기 상측레일(38)을 따라 왕복 이동하는 이송부(54)를 포함한다.
증착 챔버(12)는, 제1 증착영역(14)과 제2 증착영역(16)으로 구획되며, 하나의 중심점(18)에서 제1 방사 방향(20)으로 제1 기판(32)이 제1 증착영역(14)에 인출입되고, 중심점(18)에서 제2 방사 방향(22)으로 제2 기판(34)이 제2 증착영역(16)에 인출입되도록 구성될 수 있다.
증착 챔버(12)는 그 내부에서 기판에 대해 증발물질의 증착이 이루어지는 곳으로, 진공 펌프에 의하여 내부가 진공 상태로 유지될 수 있다. 대기압 상태에서 증발물질이 이루어지는 경우에는 내부가 대기압 상태로 유지되는 것도 가능하다. 하나의 증착 챔버(12) 내에서 복수의 기판에 대해 증착이 이루어질 수 있도록 증착 챔버(12)는 복수의 증착영역으로 구획될 수 있다. 여기서, 증발물질은 소스 물질을 가열하면 기화되거나 승화되어 발생하는 기상의 물질을 의미하는 것으로, 유기물을 가열하여 얻어지는 기상의 유기물을 포함할 수 있다.
증착영역은 증발원(40)의 이동에 따라 하나의 기판에 대해 증발물질의 증착이 수행될 수 있는 가상의 공간을 의미하는 것으로, 도 1을 참조하면, 도 1의 1점 쇄선으로 나타낸 중심선에 의해 증착 챔버(12)가 제1 증착영역(14)과 제2 증착영역(16)으로 구획될 수 있다. 제1 증착영역(14)에서는 제1 기판(32)에 대한 증발물질의 증착이 이루어지며 제1 증착영역(14)에 인접한 제2 증착영역(16)에서는 제2 기판(34)에 대한 증발물질의 증착이 이루어진다.
제1 기판(32)은 하나의 중심점(18)에서 제1 방사 방향(20)으로 증착 챔버(12)의 제1 증착영역(14)으로 인입되거나 인출되고, 제2 기판(34)은 상기 중심점(18)에서 제2 방사 방향(22)으로 증착 챔버(12)의 제2 증착영역(16)으로 인입되거나 인출된다. 즉, 제1 기판(32)과 제2 기판(34)은 증착 챔버(12)에 일정한 경사를 가지고 인입되거나 인출된다.
클러스터 타입(cluster type)의 증착 시스템에 있어서, 기판은 증착 챔버(12)와 연결된 트랜스퍼 챔버(24) 내의 로봇 암(26)에 의해 증착 챔버(12) 내로 인입되거나 인출될 수 있는데, 이 경우, 로봇 암(26)의 회전 중심에서 방사 방향으로 기판이 증착 챔버(12)로 인출입되기 때문에 기판이 증착 챔버(12)에 일정한 경사를 가지고 인출입될 수 있다.
따라서, 로봇 암(26)에 의해 제1 기판(32)과 제2 기판(34)이 증착 챔버(12)로 인입되거나 인출되는 경우, 중심점(18)을 구성하는 로봇 암(26)의 회전 중심에 대해 제1 방사 방향(20)으로 제1 기판(32)이 증착 챔버(12)에 인출입되고, 제2 기판(34)은 중심점(18)을 구성하는 로봇 암(26)의 회전 중심에 대해 제1 방사 방향(20)과 다른 제2 방사 방향(22)으로 증착 챔버(12)에 인출입될 수 있다. 따라서, 제1 방사 방향(20)과 제2 방사 방향(22)은 중심점(18)을 중심으로 일정 각도를 이루게 된다.
다만, 로봇 암(26)에 의해 증착 챔버(12)에 제1 기판(32)과 제2 기판(34)이 인출입되는 것에 한정되지 않고, 증착 챔버(12)에 제1 기판(32)과 제2 기판(34)이 서로 경사를 가지고 인출입되는 경우에는 본 실시예에 따른 증착 장치가 적용될 수 있다. 예를 들면, 두 개의 로봇 암(26)에 의해 제1 기판(32)과 제2 기판(34)이 증착 챔버(12)에 인출입되는 경우에는 로봇 암(26)의 회전 중심이 상술한 중심점(18)을 구성하지 않고, 제1 기판(32)과 제2 기판(34)의 경사 방향이 이루는 가상의 두 경사선이 만나는 점이 중심점(18)을 구성하게 된다.
제1 기판 로딩부(28) 및 제2 기판 로딩부(30)에는 제1 기판(32)과 제2 기판(34)이 각각 로딩되어 안착된다. 본 실시예에서는, 증발원(40)에서 증발물질이 상향으로 분출되어 기판에 증발물질의 증착이 이루어질 수 있도록 제1 기판 로딩부(28) 및 제2 기판 로딩부(30)의 하부에 제1 기판(32) 및 제2 기판(34)이 각각 부착된다.
제1 기판 로딩부(28) 및 제2 기판 로딩부(30)에 제1 기판(32)과 제2 기판(34)이 각각 로딩되어 안착되면 각 기판 로딩부에서는 마스크(33)가 기판의 표면에 배치되고, 기판과 마스크(33)는 서로 얼라인이 이루어질 수 있다.
증발원 이송유닛(10)에는 선형의 증발원(40)이 결합되며, 증발원 이송유닛(10)에 의해 증발원(40)이 제1 증착영역(14)과 제2 증착영역(16) 간을 이동하면서 기판에 대한 증발물질의 증착이 이루어진다.
증발원 이송유닛(10)은, 제1 방사 방향(20)에 수직을 이루는 선형의 제1 레일(42)과, 제2 방사 방향(22)에 수직을 이루는 선형의 제2 레일(44)과, 제1 레일(42)과 제2 레일(44)을 연결하는 곡선의 제3 레일(46)을 포함하는 하측레일(36)과, 제1 레일(42)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일(48)과, 제2 레일(44)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일(50)과, 제4 레일(48)과 제5 레일(50)을 연결하는 곡선의 제6 레일(52)을 포함하는 상측레일(38)을 포함한다.
하측레일(36)과 상측레일(38)은 서로 일정 간격 이격되어 설치되는데, 하측레일(36)과 상측레일(38)로 선형의 증발원(40)을 안정되게 지지할 수 있다. 증착이 이루어지는 유리기판이 대형화됨에 따라 선형의 증발원(40) 또한 대형화되고 있고 이에 따라 증발원(40)이 무게가 증가되고 있다. 따라서 중량의 증발원(40)을 안정적으로 지지하면서 이동을 원활히 가이드하기 위해 하측레일(36)과 상측레일(38)을 쌍으로 구성한 것이다.
하측레일(36)의 제1 레일(42)과 상측레일(38)의 제4 레일(48)은 제1 증착영역(14)에서 직선구간을 형성하고, 하측레일(36)의 제2 레일(44)과 상측레일(38)의 제5 레일(50)은 제2 증착영역(16)에서 직선구간을 형성한다. 제1 증착영역(14)의 직선구간은 제1 방사 방향(20)에 대해 수직을 이루고, 제2 증착영역(16)의 직선구간은 제2 방사 방향(22)에 대해 수직을 이루게 된다. 이로 인해 제1 증착영역(14)의 직선구간과 제2 증착영역(16)의 직선구간이 제1 방사 방향(20), 중심점(18), 제2 방사 방향(22)이 형성하는 각도만큼 틀어지게 된다. 따라서 직선구간을 연결하기 위한 곡선구간이 필요하다. 즉, 하측레일(36)의 제1 레일(42)과 제2 레일(44)은 곡선의 제3 레일(46)이 연결되고, 상측레일(38)의 제4 레일(48)과 제5 레일(50)은 곡선의 제6 레일(52)이 연결하게 된다. 이때, 하측레일(36)과 상측레일(38)의 이격 거리로 인해 제3 레일(46)에 비해 제6 레일(52)이 큰 곡률반경으로 제4 레일(48)과 제5 레일(50)을 연결하게 된다.
여기서, 수직의 의미는 기하학적이거나 수학적인 수직을 의미하는 것이 아니라, 가공오차 또는 이송오차를 고려한 실질적인 수직을 의미한다.
이송부(54)는, 하측레일(36)과 상측레일(38)을 따라 왕복 이동하는데, 선형의 증발원(40)이 하측레일(36)과 상측레일(38)과 수직을 이루도록 이송부(54)에 결합된다. 따라서, 선형의 증발원(40)이 직선구간에 수직을 이루도록 이송부(54)에 결합된 상태에서 직선구간을 따라 이동하면 기판의 일변 방향에서 대향하는 타변 방향으로 이동하면서 기판 전체에 대한 증착이 이루어진다.
이송부(54)는, 제1 증착영역(14)의 하측레일(36)과 상측레일(38)의 직선구간을 이동하고, 하측레일(36)과 상측레일(38)의 곡선구간을 통과한 후, 제2 증착영역(16)의 하측레일(36)과 상측레일(38)의 직선구간을 이동한다. 또한, 반대 방향으로 제2 증착영역(16)의 하측레일(36)과 상측레일(38)의 직선구간을 이동하고, 하측레일(36)과 상측레일(38)의 곡선구간을 통과한 후, 제1 증착영역(14)의 하측레일(36)과 상측레일(38)의 직선구간을 이동한다. 이와 같이, 이송부(54)는 하측레일(36)과 상측레일(38)을 따라 왕복 운동을 반복하게 된다.
증발원 이송유닛(10)의 각 구성에 대해서는 아래에서 자세히 살펴보기로 한다.
상기와 같은 증착 장치를 이용하여 기판에 대한 증발물질의 증착과정을 살펴 보면, 먼저, 제1 증착영역(14)의 상측레일(38) 및 하측레일(36)의 단부로 이송부(54)를 이동시킨다. 이송부(54)가 제1 증착영역(14)에서 제2 증착영역(16)으로 이동함에 따라 기판에 대한 증착이 이루어지기 때문에 이송부(54)를 제1 증착영역(14)의 상측레일(38) 및 하측레일(36)의 단부(도 3을 참조하면 제1 증착영역(14)의 우측 단부)로 이동시키는 것이다.
다음에, 제1 기판(32)을 제1 방사 방향(20)으로 로딩하여 제1 기판 로딩부(28)에 안착시킨다. 로봇 암(26)에 의해 제1 기판(32)이 증착 챔버(12)의 제1 기판 로딩부(28)에 안착되는 경우, 중심점(18)을 구성하는 로봇 암(26)의 회전 중심에 대해 제1 방사 방향(20)으로 제1 기판(32)이 제1 기판 로딩부(28)에 안착된다. 본 단계에서 제1 기판(32)이 제1 기판 로딩부(28)에 안착되면 마스크(33)를 제1 기판(32)의 표면에 배치하고 제1 기판(32)과 쉐도우 마스크(33)의 얼라인이 이루어진다. 제1 기판(32)의 로딩 과정에서 제1 증착영역(14)의 상측레일(38) 및 하측레일(36)의 단부로 이송부(54)를 이동시키는 것도 가능하다.
다음에, 이송부(54)을 제1 레일(42) 및 제3 레일(46)을 따라 이동시켜 제1 기판(32)에 증발물질을 증착시킨다. 직선구간에 수직으로 배치되는 선형의 증발원(40)을 제1 증착영역(14)의 하측레일(36)과 상측레일(38)의 직선구간을 따라 이동시킴에 따라 제1 기판(32)의 일변 방향에서 대향하는 타변 방향으로 이동하면서 기판 전체에 대한 증착이 이루어진다.
제1 기판(32)에 증발물질의 증착완료되면, 증착이 완료된 제1 기판(32)을 증착 챔버(12)에서 인출시키고, 새로운 제1 기판(32)을 제1 방사 방향(20)으로 로딩하여 제1 기판 로딩부(28)에 안착시킨다.
다음에, 제1 기판(32)에 증발입자를 증착시키는 단계와 동시에 제2 기판(34)을 제2 방사 방향(22)으로 로딩하여 제2 기판 로딩부(30)에 안착시킨다. 제1 기판(32)에 대한 증착 공정 중에 제2 기판(34)을 제2 기판 로딩부(30)에 안착시켜 택 타임을 줄일 수 있고, 제1 기판(32)에 대한 증착 공정 중에 제2 기판(34)의 로딩이 이루어져 증발물질 재료의 손실을 줄일 수 있다. 본 단계에서 제2 기판(34)이 제2 기판 로딩부(30)에 안착되면 마스크(33)를 제2 기판(34)의 표면에 배치하고 제2 기판(34)과 마스크(33)의 얼라인이 이루어진다.
본 실시예에서 ‘동시에’라는 의미는 시간적으로 동일하다는 의미뿐만 아니라 제1 기판(32)에 대한 증착 공정과 제2 기판(34)의 로딩 공정이 겹쳐서 이루어진다는 의미를 포함한다.
다음에, 이송부(54)를 곡선의 제3 레일(46) 및 제5 레일(50)을 통과시키고, 제2 레일(44) 및 제4 레일(48)을 따라 이동시켜 제2 기판(34)에 증발입자를 증착시킨다. 이송부(54)가 제1 증착영역(14)의 직선구간을 통과하고 곡선구간을 통과하면서 제2 증착영역(16)의 직선구간으로 진입하고, 제2 직선구간에 진입한 이송부(54)를 제2 증착영역(16)의 하측레일(36)과 상측레일(38)의 직선구간을 따라 이동시킴에 따라 제2 기판(34)의 일변 방향에서 대향하는 타변 방향으로 이동하면서 기판 전체에 대한 증착이 이루어진다.
제2 기판(34)에 대한 증착 공정이 완료되면, 증발물질의 증착이 완료된 제2 기판(34)을 증착 챔버(12)에서 제2 방사 방향(22)으로 인출시키고, 새로운 제2 기판(34)을 제2 기판 로딩부(30)로 로딩하여 안착시킨다. 새로운 제2 기판(34)이 제2 기판 로딩부(30)에 안착되면 마스크(33)와 얼라인하고 다음의 증착 공정을 위해 대기한다.
상술한 방법에 따라, 하나의 챔버 내에서 복수의 기판에 대해 증착공정을 진행하되, 하나의 기판의 증착공정 중에 다른 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정을 진행하여 택 타임(tact time)을 줄일 수 있고, 기판에 대한 이송공정 또는 얼라인공정 중에 발생하는 증발물질 재료의 손실을 줄일 수 있다.
이하에서는, 증발원 이송유닛(10)의 각 구성에 대해서 자세히 살펴보기로 한다. 도 4는 도 2의 A 부분을 확대한 도면이고, 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원 이송유닛(10)을 간략히 도시한 측면도이며, 도 6 내지 도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 증발원 이송유닛(10)의 작동과정을 설명하기 위한 도면이다.
도 4 내지 도 8에는 하측레일(36), 상측레일(38), 제1 레일(42), 제2 레일(44), 제3 레일(46), 제4 레일(48), 제5 레일(50), 제6 레일(52), 이송부(54), 제1 슬라이더(56), 제2 슬라이더(58), 소스지지대(60), 이동블록(62, 68), 회전블록(64, 70), 슬라이딩바(66), 래크레일(72), 피니언(74), 모터부(76)가 도시되어 있다.
하측레일(36)은, 하나의 중심점(18)에서 증착 챔버(12)를 가로지르는 가상의 제1 방사 방향(20)에 수직을 이루는 선형의 제1 레일(42)과, 중심점(18)에서 증착 챔버(12)를 가로지르는 가상의 제2 방사 방향(22)에 수직을 이루는 선형의 제2 레일(44)과, 제1 레일(42)과 제2 레일(44)을 연결하는 곡선의 제3 레일(46)로 구성된다.
상측레일(38)은, 제1 레일(42)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일(48)과, 제2 레일(44)과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일(50)과, 제4 레일(48)과 제5 레일(50)을 연결하는 곡선의 제6 레일(52)로 구성된다.
하측레일(36)의 제1 레일(42)과 상측레일(38)의 제4 레일(48)은 직선구간을 형성하고, 하측레일(36)의 제2 레일(44)과 상측레일(38)의 제5 레일(50)은 제2 증착영역(16)에서 직선구간을 형성한다.
제1 레일(42)과 제4 레일(48)이 형성하는 직선구간은 가상의 제1 방사 방향(20)에 대해 수직을 이루고, 제2 레일(44)과 제5 레일(50)이 형성하는 직선구간은 가상의 제2 방사 방향(22)에 대해 수직을 이루게 된다. 이로 인해 제1 방사 방향(20)에 수직인 직선구간과 제2 방사 방향(22)에 수직인 직선구간은 제1 방사 방향(20), 중심점(18), 제2 방사 방향(22)이 형성하는 각도만큼 틀어지게 된다. 따라서 직선구간을 연결하기 위한 곡선구간이 필요하다. 즉, 하측레일(36)의 제1 레일(42)과 제2 레일(44)은 곡선의 제3 레일(46)이 연결되고, 상측레일(38)의 제4 레일(48)과 제5 레일(50)은 곡선의 제6 레일(52)이 연결하게 된다. 이때, 하측레일(36)과 상측레일(38)의 이격 거리로 인해 제3 레일(46)에 비해 제6 레일(52)이 큰 곡률반경으로 제4 레일(48)과 제5 레일(50)을 연결하게 된다.
곡선의 제3 레일(46) 및 제6 레일(52)은 완전한 곡선레일로 이루어지거나 여러 개의 직선 레일을 순차적으로 연결하여 곡선 형태로 배치한 것도 가능하다.
이송부(54)는, 하측레일(36)과 상측레일(38)의 제1 방사 방향(20)에 수직인 직선구간, 곡선구간, 제2 방사 방향(22)에 수직인 직선구간을 따라 왕복 이동한다.
이송부(54)는, 하측레일(36)과 상측레일(38)을 따라 이동하도록 하측레일(36)과 상측레일(38)에 대향하여 각각 결합되는 한 쌍의 제1 슬라이더(56)와, 한 쌍의 제1 슬라이더(56)에 각각 이격되며, 하측레일(36)과 상측레일(38)을 따라 이동하도록 하측레일(36)과 상측레일(38)에 대향하여 각각 결합되는 한 쌍의 제2 슬라이더(58)를 포함한다.
제1 슬라이더(56)는, 하측레일(36) 또는 상측레일(38)을 따라 이동하는 이동블록(68)과, 이동블록(68)의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록(70)을 포함하며, 제2 슬라이더(58)는, 하측레일(36) 또는 상측레일(38)을 따라 이동하는 이동블록(62)과, 이동블록(62)의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록(64)과, 상기 회전블록(64)에 대해 슬라이딩되도록 상기 회전블록(64)에 결합되는 슬라이딩바(66)를 포함한다.
본 실시예에 있어서는, 도 3에 도시된 바와 같이, 각 레일마다 제1 슬라이더(56)를 중심으로 두 개의 제2 슬라이더(58)가 양측에 배치된 형태를 제시한다.
제1 슬라이더(56) 및 제2 슬라이더(58)의 이동블록(62, 68)은 하측레일(36)과 상측레일(38)에 결합되어 각 레일을 따라 이동한다. 이동블록(62, 68)에는 레일의 형상에 상응하여 요홈이 형성될 수 있고 이동블록(62, 68)의 요홈에 레일이 삽입되어 이동블록(62, 68)의 이탈을 방지할 수 있다.
제1 슬라이더(56)의 회전블록(70)은 제1 슬라이더(56)의 이동블록(68)의 상측에 결합되어 수평방향으로 회전된다. 이동블록(68)과 회전블록(70) 사이에는 원형 베어링이 결합되어 이동블록(68)에 대해 회전블록(70)의 회전이 원활히 이루어질 수 있다.
제2 슬라이더(58)의 회전블록(64) 또한 제2 슬라이더(58)의 이동블록(62)의 상측에 결합되어 수평방향으로 회전이 이루어진다.
제2 슬라이더(58)의 슬라이딩바(66)는 제2 슬라이더(58)의 회전블록(64)에 결합되는데, 회전블록(64)에 대해 수평방향으로 왕복 슬라이딩이 가능하다. 회전블록(64)과 이에 대해 슬라이딩되는 슬라이딩바(66) 사이에는 수평방향으로 직선이동을 원활히 유도하는 베어링이 개재되어 안정적인 슬라이딩이 되도록 할 수 있다.
하측레일(36)과 상측레일(38)에 배치된 제1 슬라이더(56)와 제2 슬라이더(58)에는 선형의 증발원(40)이 하측레일(36)과 상측레일(38)에 대해 수직을 이루도록 결합된다. 본 실시예에서는 별도의 소스지지대(60)를 구비하여 소스지지대(60)에 증발원(40)이 결합되는 형태를 제시한다. 즉, 하측레일(36)과 상측레일(38)에 배치된 제1 슬라이더(56)와 제2 슬라이더(58)에 소스지지대(60)를 결합하고, 소스지지대(60)에 선형의 증발원(40)을 결합한 형태이다.
한편, 이송부(54)의 이동을 위해 구동력을 제공하기 위한 구동부는, 하측레일(36) 상측레일(38)의 외측으로 일정 간격 이격되어 상측레일(38) 및 상기 하측레일(36)을 따라 각각 배치되는 래크레일(72)과, 래크레일(72)에 치합되는 피니언(74)과, 피니언(74)에 회전력을 제공하며, 소스지지대(60)에 결합되는 모터부(76)로 구성될 수 있다.
래크레일(72)은 하측레일(36)과 상측레일(38)의 외측에 각각 상측레일(38) 및 상기 하측레일(36)을 따라 배치되고 각 래크레일(72)에는 피니언(74)이 치합된다. 피니언(74)에 회전력을 제공하는 모터 등의 모터부(76)는 소스지지대(60)의 상단과 하단에 각각 결합되어 피니언(74)에 회전력을 제공한다.
하측레일(36)의 외측에 배치된 구동부는 소스지지대(60) 하단의 이동을 제어하며, 상측레일(38)의 외측에 배치된 구동부는 소스지지대(60) 상단의 이동을 제어하게 된다.
도 6 내지 도 8은 참고하여, 증발원 이송유닛(10)의 작동과정을 설명하면, 우측의 직선구간에서는 소스지지대(60)의 하단과 상단에서 동일한 속도로 이송부(54)가 이동한다. 그리고, 도 6에 도시된 바와 같이, 곡선구간에 진입하게 되는데, 이송부(54)의 선단에 위치한 제2 슬라이더(58)가 곡선구간에 진입함에 따라 최선단의 제2 슬라이더(58)의 회전블록(64)이 회전되면서 슬라이딩바(66)가 회전블록(64)에 대해 상향으로 슬라이딩된다. 이때, 하측레일(36)의 곡선구간은 작은 곡률반경으로 짧게 형성되고, 상측레일(38)의 곡선구간은 큰 곡률반경으로 길게 형성되어 있기 때문에, 소스지지대(60)의 하단에 비해 소스지지대(60)의 상단은 빠른 속도로 이동한다. 다음에, 이송부(54)의 지속적인 이동으로 최선단의 제2 슬라이더(58)의 후단에 위치한 제1 슬라이더(56)의 회전블록(70)이 회전되면서 제1 슬라이더(56)가 곡선구간으로 진입된다. 도 7은 이송부(54)가 곡선구간의 중앙에 위치한 상태를 도시한 도면으로, 이송부(54)의 지속적인 이동으로 최후단의 제2 슬라이더(58)가 곡선구간에 진입하게 되고, 최후단의 제2 슬라이더(58)의 회전블록(64)이 회전되면서 슬라이딩바(66)가 회전블록(64)에 대해 상향으로 슬라이딩된다. 다음에, 도 8에 도시된 바와 같이, 이송부(54)의 지속적인 이동으로 최선단의 제2 슬라이더(58)가 좌측의 직선구간에 진입함에 따라 최선단의 제2 슬라이더(58)의 회전블록(64)이 회전되면서 슬라이딩바(66)가 회전블록(64)에 대해 하향으로 슬라이딩되면서 원위치로 복귀한다. 그리고, 이송부(54)의 지속적인 이동으로 최선단의 제2 슬라이더(58)의 후단에 위치한 제1 슬라이더(56)의 회전블록(70)이 회전되면서 제1 슬라이더(56)가 직선구간으로 진입된다. 그리고, 이송부(54)의 지속적인 이동으로 최후단의 제2 슬라이더(58)가 직선구간으로 진입하면서, 최후단의 제2 슬라이더(58)의 회전블록(64)이 회전되면서 슬라이딩바(66)가 회전블록(64)에 대해 하향으로 슬라이딩되면서 원위치로 복귀하게 된다. 좌측의 직선구간에 완전히 진입하면, 각 회전블록(64, 70)과 슬라이딩바(66)는 원위치로 복귀되고 좌측의 직선구간을 따라 이송부(54)가 이동된다. 상술한 바와 같이, 이송부(54)가 곡선구간으로 통과할 때에는 이송부(54)의 하단과 상단의 이동속도 및 이동거리를 달리하여야 하기 때문에 이송부(54)의 하단과 상단에 각각 결합된 구동부가 이송부(54)의 하단과 상단의 이동속도 및 이동거리를 조절하게 된다.
상기에서는 본 발명의 특정의 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.

Claims (10)

  1. 증착 챔버 내에 배치되어 선형의 증발원을 이송시키는 증발원 이송유닛으로서,
    하나의 중심점에서 상기 증착 챔버를 가로지르는 가상의 제1 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제1 레일과, 상기 중심점에서 상기 증착 챔버를 가로지르는 가상의 제2 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제2 레일과, 상기 제1 레일과 상기 제2 레일을 연결하는 곡선의 제3 레일을 포함하는 하측레일과;
    상기 제1 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일과, 상기 제2 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일과, 상기 제4 레일과 상기 제5 레일을 연결하는 곡선의 제6 레일을 포함하는 상측레일과;
    상기 선형의 증발원이 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대해 수직을 이루도록 결합되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 왕복 이동하는 이송부를 포함하는, 증발원 이송유닛.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 이송부는,
    상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 한 쌍의 제1 슬라이더와;
    상기 한 쌍의 제1 슬라이더에 각각 이격되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 상기 한 쌍의 제2 슬라이더를 포함하며,
    상기 제1 슬라이더는,
    상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록을 포함하며,
    상기 제2 슬라이더는,
    상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록과, 상기 회전블록에 대해 슬라이딩되도록 상기 회전블록에 결합되는 슬라이딩바를 포함하는 것을 특징으로 하는, 증발원 이송유닛.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 슬라이더와 상기 제2 슬라이더에 지지되는 소스지지대를 더 포함하며,
    상기 증발원은 상기 소스지지대에 결합되는 것을 특징으로 하는, 증발원 이송유닛.
  4. 제4항에 있어서,
    상기 하측레일 및 상측레일의 외측으로 일정 간격 이격되어 상기 상측레일 및 상기 하측레일을 따라 각각 배치되는 래크레일과;
    상기 래크레일에 치합되는 피니언과;
    상기 피니언에 회전력을 제공하며, 상기 소스지지대에 결합되는 모터부를 더 포함하는, 증발원 이송유닛.
  5. 제1 증착영역과 제2 증착영역으로 구획되며, 하나의 중심점에서 제1 방사 방향으로 제1 기판이 상기 제1 증착영역에 인출입되고, 상기 중심점에서 제2 방사 방향으로 제2 기판이 상기 제2 증착영역에 인출입되는 증착 챔버와;
    상기 제1 기판이 상기 제1 방사 방향으로 로딩되어 안착되는 제1 기판 로딩부와;
    상기 제2 기판이 상기 제2 방사 방향으로 로딩되어 안착되는 제2 기판 로딩부와;
    상기 제1 기판 또는 상기 제2 기판에 대향하여 증발물질을 분사하는 증발원과;
    상기 증발원을 이송시키는 증발원 이송유닛를 포함하며,
    상기 증발원 이송유닛은,
    상기 제1 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제1 레일과, 상기 제2 방사 방향에 수직을 이루는 선형의 제2 레일과, 상기 제1 레일과 상기 제2 레일을 연결하는 곡선의 제3 레일을 포함하는 하측레일과;
    상기 제1 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제4 레일과, 상기 제2 레일과 이격되어 평행을 이루는 선형의 제5 레일과, 상기 제4 레일과 상기 제5 레일을 연결하는 곡선의 제6 레일을 포함하는 상측레일과;
    상기 선형의 증발원이 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대해 수직을 이루도록 결합되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 왕복 이동하는 이송부를 포함하는, 증착 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 이송부는,
    상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 한 쌍의 제1 슬라이더와;
    상기 한 쌍의 제1 슬라이더에 각각 이격되며, 상기 하측레일과 상기 상측레일을 따라 이동하도록 상기 하측레일과 상기 상측레일에 대향하여 각각 결합되는 상기 한 쌍의 제2 슬라이더를 포함하며,
    상기 제1 슬라이더는,
    상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록을 포함하며,
    상기 제2 슬라이더는,
    상기 하측레일 또는 상기 상측레일을 따라 이동하는 이동블록과, 상기 이동블록의 상측에 수평 방향으로 회전가능하게 결합되는 회전블록과, 상기 상기 제1 방사 방향에 수직방향으로 슬라이딩되도록 상기 회전블록에 결합되는 슬라이딩바를 포함하는 것을 특징으로 하는, 증착 장치.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 제1 슬라이더와 상기 제2 슬라이더에 지지되는 소스지지대를 더 포함하며,
    상기 증발원은 상기 소스지지대에 결합되는 것을 특징으로 하는, 증착 장치.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 상측레일의 외측으로 일정 간격 이격되어 상기 상측레일을 따라 배치되는 래크레일과;
    상기 래크레일에 치합되는 피니언과;
    상기 피니언에 회전력을 제공하며, 상기 소스지지대에 결합되는 모터부를 더 포함하는, 증착 장치.
  9. 제5항에 따른 증착 장치를 이용하여 증발물질을 증착하는 방법으로서,
    상기 제1 증착영역의 상기 상측레일 및 상기 하측레일의 단부로 상기 이송부를 이동시키는 단계와;
    상기 제1 기판을 상기 제1 방사 방향으로 로딩하여 상기 제1 기판 로딩부에 안착시키는 단계와;
    상기 이송부을 상기 제1 레일 및 상기 제3 레일을 따라 이동시켜 상기 제1 기판에 상기 증발물질을 증착시키는 단계와;
    상기 제1 기판에 증발입자를 증착시키는 단계와 동시에 상기 제2 기판을 상기 제2 방사 방향으로 로딩하여 상기 제2 기판 로딩부에 안착시키는 단계와;
    상기 이송부를 곡선의 상기 제3 레일 및 상기 제5 레일을 통과시키고, 상기 제2 레일 및 상기 제4 레일을 따라 이동시켜 상기 제2 기판에 증발입자를 증착시키는 단계를 포함하는, 증착 방법.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 제1 기판에 증발물질을 증착시키는 단계 이후에,
    증착이 완료된 상기 제1 기판을 상기 증착 챔버에서 인출시키고, 새로운 제1 기판을 상기 제1 방사 방향으로 로딩하여 상기 제1 기판 로딩부에 안착시키는 단계를 더 포함하는, 증착 방법.
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