JP2013206820A - 有機elデバイス製造装置及び有機elデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、基板をN(Nは2以上)枚内在させることができ、前記基板を蒸発源に正対させ、前記蒸発源の一方向の往復移動によって前記基板に蒸着材料を蒸着する有機ELデバイス製造装置または方有機ELデバイス製造方法において、前記蒸発源は前記一方向のみの移動でN枚の前記基板を順次蒸着することを特徴とする。
【選択図】図3
Description
さらに、前記基板は垂直又はほぼ垂直の状態で蒸着され、前記蒸発源は蒸発した蒸着材料を噴出させる噴出口を縦方向に列状に複数備えた縦型蒸発源であり、前記縦型蒸発源を前記一方向に移動させることによって前記基板を蒸着してもよい。
さらに、前記基板は水平状態で蒸着され、前記蒸発源は蒸発した蒸着材料を噴出させる噴出口を横方向に列状に複数備えた横型蒸発源であり、前記横型蒸発源を前記一方向に移動させることによって複数の前記基板を蒸着してもよい。
さらに、1枚目の基板を前記蒸発源で蒸着中に2枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内に搬入し、2枚目の前記基板を蒸着中に1枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内から搬出してもよい。
また、本実施形態による基板6への蒸着に寄与しない、すなわち無駄に蒸着材料が蒸発するのは、R、Lライン間の領域と、R、Lラインの両端での方向転換領域での移動時間である。
また、以上説明した本実施形態によれば、縦型蒸発源を左右に移動させ、2つのラインの基板を交互に蒸着することで蒸着に寄与しない蒸着材料の低減をさらに図れる有機ELデバイス製造装置を提供できる。
まず、縦型蒸発源71は、矢印J1、J2に示すように、Lラインを中央の位置から紙面右端に行き、その後方向を転換して中央の位置まで一往復し、Lラインの基板6を蒸着する(SL1)。このとき、Rラインでは、基板6を真空蒸着チャンバ1buから搬出し(SR1)、新たな基板6を処理受渡部9に搬入する(SR2)。その後、基板面制御手段92により新たな基板6を垂直又はほぼ垂直(鉛直方向に対し数度以内)状態にし(SR3)、新たな基板6とマスク81との位置合わせを行い(SR4)、次の蒸着に備える。
その後は、上述したステップを所定回数繰り返す。
2:真空搬送チャンバ 5、5a〜5d、5R:搬送ロボット
6:基板 7:蒸着部
8:アライメント部 9:処理受渡部
10:ゲート弁 71:縦型蒸発源
71Y:横型蒸発源 74:左右移動機構
76R、76L:上下移動機構 81:マスク
92:基板面制御手段 A〜D:クラスタ。
Claims (11)
- 蒸着材料を基板に蒸着させる蒸発源と、前記蒸発源に正対し前記蒸発源の一方向の往復移動によって蒸着される前記基板をN(Nは2以上)枚内在させることができる真空蒸着チャンバを有する有機ELデバイス製造装置において、
前記蒸発源は前記一方向のみの移動でN枚の前記基板を順次蒸着することを特徴とする有機ELデバイス製造装置。 - 前記Nは2であることを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記基板は垂直又はほぼ垂直の状態で蒸着され、前記蒸発源は蒸発した蒸着材料を噴出させる噴出口を縦方向に列状に複数備えた縦型蒸発源であり、前記縦型蒸発源を前記一方向に移動させることによって前記基板を蒸着することを特徴とする請求項1又は2に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記基板を前記真空蒸着チャンバに水平に搬入する搬送手段と、前記真空蒸着チャンバは前記基板を水平から垂直又はほぼ垂直の状態にして前記縦型蒸発源に正対させる基板面制御手段を有することを特徴とする請求項3に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 前記基板は水平状態で蒸着され、前記蒸発源は蒸発した蒸着材料を噴出させる噴出口を横方向に列状に複数備えた横型蒸発源であり、前記横型蒸発源を前記一方向に移動させることによって複数の前記基板を蒸着することを特徴とする請求項1又は2に記載の有機ELデバイス製造装置。
- N枚の前記基板のうち1枚目の前記基板を前記蒸発源で蒸着中に、N枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内に搬入し、2枚目の前記基板を前記蒸発源で蒸着中に1枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内から搬出する蒸着手段を有することを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 1枚目の基板を前記蒸発源で蒸着中に2枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内に搬入し、2枚目の前記基板を蒸着中に1枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内から搬出させる蒸着手段を有することを特徴とする請求項2に記載の有機ELデバイス製造装置。
- 基板をN(Nは2以上)枚内在させることができ、前記基板を蒸発源に正対させ、前記蒸発源の一方向の往復移動によって前記基板に蒸着材料を蒸着する有機ELデバイス製造方法において、
前記蒸発源は前記一方向のみの移動でN枚の前記基板を順次蒸着することを特徴とする有機ELデバイス製造方法。 - 前記Nは2であることを特徴とする請求項8に記載の有機ELデバイス製造方法。
- 前記基板は垂直又はほぼ垂直の状態で蒸着され、前記蒸発源は蒸発した蒸着材料を噴出させる噴出口を縦方向に列状に複数備えた縦型蒸発源であり、前記縦型蒸発源を前記一方向に移動させることによって前記基板を蒸着することを特徴とする請求項8又は9に記載の有機ELデバイス製造方法。
- 1枚目の基板を前記蒸発源で蒸着中に2枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内に搬入し、2枚目の前記基板を蒸着中に1枚目の前記基板を前記真空蒸着チャンバ内から搬出させることを特徴とする請求項9に記載の有機ELデバイス製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017500445A (ja) * | 2013-12-13 | 2017-01-05 | ソニック システム リミテッド | 蒸発源移送ユニット、蒸着装置及び蒸着方法 |
CN110656305A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 三星显示有限公司 | 沉积装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103552191B (zh) * | 2013-11-18 | 2016-09-07 | 三角(威海)华盛轮胎有限公司 | 轮胎直压硫化机装卸胎机械手 |
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CN111663104A (zh) * | 2020-06-24 | 2020-09-15 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀系统及蒸镀方法 |
CN114875363A (zh) * | 2022-03-24 | 2022-08-09 | 广州华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀装置及显示面板的制作方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006002226A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Kyocera Corp | 蒸着装置 |
JP2010062043A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機elデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 |
JP2010086956A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-04-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機elデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 |
JP2012054184A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Citizen Electronics Co Ltd | バックライトユニットおよび液晶表示装置 |
JP2013185252A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 蒸発源装置及び真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法 |
Family Cites Families (3)
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---|---|---|---|---|
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006002226A (ja) * | 2004-06-18 | 2006-01-05 | Kyocera Corp | 蒸着装置 |
JP2010062043A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-03-18 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機elデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 |
JP2010086956A (ja) * | 2008-09-04 | 2010-04-15 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機elデバイス製造装置及び同製造方法並びに成膜装置及び成膜方法 |
JP2012054184A (ja) * | 2010-09-03 | 2012-03-15 | Citizen Electronics Co Ltd | バックライトユニットおよび液晶表示装置 |
JP2013185252A (ja) * | 2012-03-12 | 2013-09-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 蒸発源装置及び真空蒸着装置及び有機el表示装置の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017500445A (ja) * | 2013-12-13 | 2017-01-05 | ソニック システム リミテッド | 蒸発源移送ユニット、蒸着装置及び蒸着方法 |
CN110656305A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 三星显示有限公司 | 沉积装置 |
CN110656305B (zh) * | 2018-06-29 | 2023-08-11 | 三星显示有限公司 | 沉积装置 |
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