WO2015033893A1 - 曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、及びこれを用いた、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム、並びにこれらを用いたレンズ部材 - Google Patents

曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、及びこれを用いた、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム、並びにこれらを用いたレンズ部材 Download PDF

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大地 酒井
裕 川上
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    • G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking

Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive resin composition for forming a curved surface member, a photosensitive resin film for forming a curved surface member, and a lens member formed using them.
  • Patent Document 1 discloses that an optical waveguide film is installed above an IC chip having an optical element on the surface, and optical communication is performed between the IC chip and the optical waveguide film.
  • optical communication is performed between a substrate provided with optical communication means such as an optical element and an optical communication means such as an optical waveguide as in Patent Document 1, these optical communication means are positioned with high accuracy.
  • optical communication cannot be performed unless it is mounted, and there is a problem that optical loss (signal intensity) decreases unless light is collected.
  • Patent Document 2 discloses a lens-attached substrate in which a microlens is installed on the surface of a transparent substrate.
  • a photosensitive resin resist is formed on the surface of the transparent substrate, and a light shielding film having an opening is formed on the back surface of the substrate.
  • light is irradiated from the light shielding film side to expose a portion of the photosensitive resin resist that is located at a position facing the opening of the light shielding film, and then developed to form a cylindrical resist structure.
  • the resist structure is heated to cause the surface of the resist structure to be heated, whereby a microlens is manufactured.
  • a lens forming material for example, a resin composition composed of a compound having a non-photosensitive polymer and an ethylenically unsaturated group is disclosed as in Patent Document 3, and a curved surface shape is expressed by heat treatment.
  • a resin composition composed of a compound having a non-photosensitive polymer and an ethylenically unsaturated group
  • Patent Document 3 a resin composition composed of a compound having a non-photosensitive polymer and an ethylenically unsaturated group
  • a curved surface shape is expressed by heat treatment.
  • the cross-linking between the polymer component and other components is sparse, and the lens shape is disturbed by post-heating after forming the lens such as reflow, and the light collecting property is adversely affected. There was concern.
  • a photosensitive polymer component when a photosensitive polymer component is used, cross-linking becomes dense at the time of exposure, and the above-mentioned shape disturbance can be suppressed.
  • the present invention has been made to solve the above problems, and has a heat-resistant photosensitive resin composition for forming a curved member, a photosensitive resin film for forming a curved member, and a lens formed using the same.
  • An object is to provide a member.
  • the inventors of the present invention have a polymer, a polymerizable compound having a group that thermally reacts with the polymer, and a photosensitive member for forming a curved surface member containing a polymerization initiator. It has been found that the above-mentioned problems can be solved by using a resin composition. The present invention has been completed based on such knowledge.
  • the present invention relates to a photosensitive resin composition for forming a curved surface member comprising (A) a polymer, (B) a polymerizable compound having a group that thermally reacts with the polymer, and (C) a polymerization initiator.
  • a photosensitive resin film for forming a curved surface member using the photosensitive resin composition for forming a curved surface member, and a photosensitive resin composition for forming a curved surface member or a photosensitive resin film for forming a curved surface member The present invention provides a lens member that is excellent in heat resistance, curved surface formability, and transparency.
  • a lens member that is soluble in an alkaline aqueous solution and can be formed relatively freely is formed with a curved member having excellent heat resistance, curved shape, and transparency.
  • the photosensitive resin composition for forming a curved surface and the photosensitive resin composition film for forming a curved surface obtained using the same can be provided.
  • the photosensitive resin composition for forming a curved member according to an embodiment of the present invention contains (A) a polymer, (B) a polymerizable compound having a group that thermally reacts with the polymer, and (C) a polymerization initiator.
  • the resin composition is preferably cured by heating or irradiation with actinic rays.
  • the polymer of component (A) is generally preferably alkali-soluble, and the alkali-soluble polymer is an alkali-soluble group (for example, carboxyl group, sulfonic acid group, phenolic hydroxyl group, alcoholic hydroxyl group, amino group, etc.). Any polymer that can be dissolved in an aqueous alkali solution is acceptable. Although there is no restriction
  • the alkali-soluble (meth) acrylic polymer is not particularly limited as long as it is dissolved in a developing solution composed of an alkaline aqueous solution and has a solubility to the extent that the intended development processing is performed.
  • (meth) acrylic acid various (meth) acrylic acid esters ((meth) acrylic alkyl ester, (meth) acrylic acid hydroxyalkyl ester, etc.), (meth) acrylic monomers such as (meth) acrylamide, and others
  • Polymers such as polymerizable unsaturated group-containing monomers (styrene, ⁇ -methylstyrene, maleic anhydride, N-substituted or unsubstituted maleimide monomers, etc.) are preferred.
  • the main chain includes structural units (A-1) and (A-2) represented by the following general formulas (1) and (2), and further structural units represented by the following general formulas (3) and (4) More preferably, an alkali-soluble (meth) acrylic polymer containing at least one of (A-3) and (A-4) is used.
  • R 1 to R 3 each independently represent a hydrogen atom or an organic group having 1 to 20 carbon atoms.
  • R 4 to R 7 each independently represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 20 carbon atoms
  • R 7 to R 9 each independently represents a hydrogen atom or an organic group having 1 to 20 carbon atoms
  • R 10 to R 12 and X 1 each independently represent a hydrogen atom or an organic group having 1 to 20 carbon atoms
  • Examples of the organic group in the general formulas (1) to (4) include monovalent or 2 such as an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a carbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, and a carbamoyl group.
  • Valent groups and further include hydroxyl group, halogen atom, alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group, carbonyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group alkoxy group, aryloxy group , An alkylthio group, an arylthio group, an amino group, a silyl group and the like may be substituted.
  • the content of the structural unit (A-1) derived from the maleimide skeleton is preferably 3% by mass or more and 50% by mass or less. If it is less than 3% by mass, heat resistance derived from maleimide cannot be obtained, and if it exceeds 50% by mass, the transparency is not sufficient and the resulting resin pattern becomes brittle. From the above viewpoint, 5% by mass or more and 40% by mass or less is more preferable, and 10% by mass or more and 30% by mass or less is particularly preferable.
  • the structure of the structural unit (A-1) derived from maleimide is not particularly limited as long as it is represented by the general formula (1).
  • maleimide used as the raw material for the structural unit (A-1) examples include N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, N-isopropylmaleimide, N-butylmaleimide, N-isobutylmaleimide, and N-2.
  • cycloalkylmaleimide is preferably used, and N-cyclohexylmaleimide and N-2-methylcyclohexylmaleimide are more preferably used. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the structural unit (A-2) derived from (meth) acrylate is 20% by mass or more and 90% by mass or less. It is preferable that If it is less than 20% by mass, transparency derived from (meth) acrylate cannot be obtained, and if it exceeds 90% by mass, sufficient heat resistance cannot be obtained. From the above viewpoint, 25% by mass or more and 85% by mass or less is more preferable, and 30% by mass or more and 80% by mass or less is particularly preferable.
  • the structure of the structural unit (A-2) derived from (meth) acrylate is not particularly limited as long as it is represented by the general formula (2).
  • Examples of the (meth) acrylate used in the component (A) of the present invention include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth ) Acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, Octyl heptyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate,
  • aliphatic (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate; (Meth) acrylate; preferably aromatic (meth) acrylate; heterocyclic (meth) acrylate.
  • aliphatic (meth) acrylates such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and 2-ethylhexyl (meth) acrylate
  • (Meth) acrylate preferably aromatic (meth) acrylate; heterocyclic (meth) acrylate.
  • the content of the structural units (A-3) and (A-4) derived from the compound having a carboxyl group and an unsaturated ethylenic double bond is 3% by mass or more and 60% by mass or less. Preferably there is. If it is less than 3% by mass, it is difficult to dissolve in a developer comprising an alkaline aqueous solution, and if it exceeds 60% by mass, a layer of the photosensitive resin composition is selectively removed by development described later to form a pattern. , Developer resistance (property that the portion that becomes a pattern without being removed by development is not affected by the developer) deteriorates. From the above viewpoint, the content is more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and particularly preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less.
  • the structures of the structural units (A-3) and (A-4) derived from the compound having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group are not particularly limited as long as they are represented by the general formulas (3) and (4). Absent.
  • Examples of the compound having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group as a raw material for the structural unit (A-3) include (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, crotonic acid, itaconic acid, citraconic acid, and mesaconic acid. And cinnamic acid.
  • (meth) acrylic acid, maleic acid, fumaric acid, and crotonic acid are preferable from the viewpoints of transparency and alkali solubility.
  • maleic anhydride may be used as a raw material, and after the polymerization, ring opening may be performed with an appropriate alcohol such as methanol, ethanol, propanol, or the like to convert the structure into the structure of the structural unit (A-3).
  • alcohol such as methanol, ethanol, propanol, or the like
  • Examples of the compound having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group as a raw material for the structural unit (A-4) include mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) succinate and mono (2- (meth) acryloyl).
  • Roxyethyl) phthalate mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) isophthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) terephthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) tetrahydrophthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) hexahydrophthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) hexahydroisophthalate, mono (2- (meth) acryloyloxyethyl) hexahydroterephthalate, ⁇ - Carboxy-polycaprolactone mono (meth) acrylate, 3-vinyl-anion Kosan, and 4-vinyl benzoate.
  • the alkali-soluble (meth) acrylic polymer may contain structural units other than the structural units (A-1) to (A-4) as necessary.
  • the compound having an ethylenically unsaturated group as a raw material for such a structural unit is not particularly limited.
  • styrene ⁇ -methylstyrene, vinyltoluene, and N-vinylcarbazole are more preferable from the viewpoints of heat resistance and transparency. These compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • the alkali-soluble (meth) acrylic polymer is not particularly limited in its synthesis method.
  • maleimide as a raw material for the structural unit (A-1)
  • (meth) acrylate as a raw material for the structural unit (A-2)
  • a compound having a carboxyl group and an ethylenically unsaturated group as a raw material for the structural unit (A-3) and / or (A-4)
  • a compound having another ethylenically unsaturated group can be obtained by copolymerization using a suitable polymerization initiator (preferably a radical polymerization initiator).
  • a suitable polymerization initiator preferably a radical polymerization initiator
  • an organic solvent can be used as a reaction solvent.
  • the polymerization initiator used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperper Peroxyketals such as oxy) cyclohexane and 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide; ⁇ , ⁇ ′-bis ( t-Butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxy Dialky
  • the organic solvent used as the reaction solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the alkali-soluble polymer.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene, p-cymene; tetrahydrofuran, 1, 4 -Cyclic ethers such as dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; acetic acid Esters such as methyl, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate, and ⁇ -butyrolactone; carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate; ethylene glycol monomethyl ether, ethyl
  • the alkali-soluble (meth) acrylic polymer may contain an ethylenically unsaturated group in the side chain as necessary.
  • the composition and synthesis method are not particularly limited.
  • the alkali-soluble (meth) acrylic polymer may include at least one ethylenically unsaturated group and an epoxy group, an oxetanyl group, an isocyanate group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and the like.
  • An ethylenically unsaturated group can be introduced into the side chain by addition reaction of a compound having one functional group.
  • the weight average molecular weight of the alkali-soluble polymer is preferably 1,000 or more and 300,000 or less. If the molecular weight is less than 1,000, the strength of the cured product is insufficient when the resin composition is used, and if it is greater than 3,000,000, the curved surface shape is developed by dripping, and the alkaline aqueous solution. Solubility in a developing solution and compatibility with the polymerizable compound (B) are poor. From the above viewpoint, it is more preferably 3,000 or more and 200,000 or less, and particularly preferably 5,000 or more and 100,000 or less.
  • the weight average molecular weight in the present invention is a value measured by gel permeation chromatography (GPC) and converted to standard polystyrene.
  • the alkali-soluble (meth) acrylic polymer has an acid value so that it can be developed with various known developing solutions in the step of selectively removing a layer of the photosensitive resin composition by development, which will be described later. can do.
  • the acid value is preferably 20 mgKOH / g or more and 300 mgKOH / g or less. If it is less than 20 mgKOH / g, development is difficult, and if it is more than 300 mgKOH / g, the developer resistance is lowered.
  • the acid value is preferably 10 mgKOH / g or more and 260 mgKOH / g or less. If the acid value is less than 10 mg KOH / g, development is difficult, and if it exceeds 260 mg KOH / g, the developer resistance is lowered. From the above viewpoint, it is more preferably 20 mgKOH / g or more and 250 mgKOH / g or less, and particularly preferably 30 mgKOH / g or more and 200 mgKOH / g or less.
  • the compounding quantity of (A) component is 10 mass% or more and 85 mass% or less with respect to the total amount of (A) component and (B) component. If it is less than 10% by mass, the strength and flexibility of the cured product of the photosensitive resin composition for forming a curved surface-shaped member may be insufficient. If it is more than 85% by mass, it is entangled by the component (B) during exposure. In some cases, the developer is not easily cured and the developer resistance is insufficient. From the above viewpoint, it is more preferably 15% by mass or more, and particularly preferably 20% by mass or more. Moreover, as an upper limit, it is more preferable that it is 75 mass% or less, and it is especially preferable that it is 65 mass% or less. Moreover, 10 mass% or more and 65 mass% or less is the range which was excellent also in the surface of curved-surface expression especially by heat processing.
  • the polymerizable compound (B) having a thermally reactive group preferably includes a compound having one epoxy group and one ethylenically unsaturated group in one molecule.
  • a compound having one epoxy group and one ethylenically unsaturated group in one molecule show, for example, an epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an epoxy resin having a glycidyl group in one molecule with a (meth) acrylic acid compound, and 0.1 (meth) acrylic acid compound relative to the epoxy group.
  • What was made to react by an equivalent or more and 0.9 equivalent or less is preferable, and 0.2 equivalent or more and 0.8 equivalent or less are more preferable.
  • 0.4 equivalent or more and 0.6 equivalent or less are particularly preferable.
  • bisphenol A type epoxy (meth) acrylate bisphenol A type epoxy (meth) acrylate, tetrabromobisphenol A type epoxy (meth) acrylate, bisphenol F type epoxy (meth) acrylate, bisphenol AF type epoxy (meth) acrylate, bisphenol AD type epoxy (meth) acrylate Bifunctional phenol glycidyl ether such as biphenyl type epoxy (meth) acrylate, naphthalene type epoxy (meth) acrylate, fluorene type epoxy (meth) acrylate; hydrogenated bisphenol A type epoxy (meth) acrylate, hydrogenated bisphenol F type epoxy ( Hydrogenated bifunctional polymers such as (meth) acrylate, hydrogenated 2,2′-biphenol type epoxy (meth) acrylate, hydrogenated 4,4′-biphenol type epoxy (meth) acrylate, etc.
  • Functional phenol glycidyl ether derived; bifunctional such as polyethylene glycol type epoxy (meth) acrylate, polypropylene glycol type epoxy (meth) acrylate, neopentyl glycol type epoxy (meth) acrylate, 1,6-hexanediol type epoxy (meth) acrylate Derived from aliphatic alcohol glycidyl ether; cyclohexanedimethanol type epoxy (meth) acrylate, tricyclodecane dimethanol type epoxy Derived from bifunctional alicyclic alcohol glycidyl ether such as (meth) acrylate; polyfunctional aliphatic alcohol glycidyl ether such as trimethylolpropane type epoxy (meth) acrylate, sorbitol type epoxy (meth) acrylate, glycerin type epoxy (meth) acrylate Origin: Bifunctional aromatic glycidyl ester such as phthalic acid diglycidyl ester;
  • bisphenol A type epoxy (meth) acrylate bisphenol F type epoxy (meth) acrylate, bisphenol AF type epoxy (meth) acrylate, bisphenol AD type epoxy ( (Meth) acrylate, biphenyl type epoxy (meth) acrylate, naphthalene type epoxy (meth) acrylate, fluorene type epoxy (meth) acrylate, phenol novolac type epoxy (meth) acrylate, cresol novolac type epoxy (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol type Epoxy (meth) acrylates containing an aliphatic ring or aromatic ring such as epoxy (meth) acrylate and tricyclodecane dimethanol type epoxy (meth) acrylate are preferred. Of these, compounds having a bisphenol skeleton in the molecule are preferred.
  • the polymerizable compound of component (B) in addition to the compound having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group in one molecule as described above, two or more ethylenic groups in one molecule from the viewpoint of developability and heat resistance. It is preferable to contain at least one of a compound containing an unsaturated group and a compound containing two or more epoxy groups in one molecule. In addition, in the composition of this invention, the compound which has an epoxy group and an ethylenically unsaturated group may not be included.
  • Examples of the compound containing two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule include (meth) acrylate, vinylidene halide, vinyl ether, vinyl ester, vinyl pyridine, vinyl amide, arylated vinyl and the like. Of these, (meth) acrylate and arylated vinyl are preferable from the viewpoint of transparency. As the (meth) acrylate, either a bifunctional or polyfunctional one can be used.
  • bifunctional (meth) acrylate examples include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, and polyethylene glycol di (meth) acrylate.
  • Examples of the trifunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and ethoxylated propoxylated tri Methylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, propoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylated propoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol Tetra (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tetra (meth) acrylate, propoxylated pentaerythri
  • heterocyclic (meth) acrylates aromatic epoxy (meth) acrylates are preferable.
  • These compounds can be used alone or in combination of two or more, and can also be used in combination with other polymerizable compounds.
  • the content thereof is preferably 10 parts by mass or more and 90 parts by mass or less, and 30 parts by mass or more and 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound of component (B). Part or less is more preferable. 40 parts by mass or more and 70 parts by mass or less is particularly preferable.
  • bisphenol A type epoxy resin tetrabromobisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene type epoxy Bifunctional phenol glycidyl ether such as resin; hydrogenated bisphenol A type epoxy resin, hydrogenated bisphenol F type epoxy resin, hydrogenated 2,2′-biphenol type epoxy resin, hydrogenated 4,4′-biphenol type epoxy resin, etc.
  • Functional phenol glycidyl ether such as polyethylene glycol type epoxy resin, polypropylene glycol type epoxy resin, neopentyl glycol type epoxy resin, 1,6-hexanediol type epoxy resin; cyclohexanedimethanol type epoxy resin, Bifunctional alicyclic alcohol glycidyl ether such as tricyclodecane dimethanol type epoxy resin; polyfunctional aliphatic alcohol glycidyl ether such as trimethylolpropane type epoxy resin, sorbitol type epoxy resin, glycerin type epoxy resin; diglycidyl phthalate Bifunctional aromatic glycidyl ester such as tetrahydrophthalic acid diglycidyl ester, hexahydrophthalic acid diglycidyl ester, etc.
  • bifunctional aliphatic alcohol glycidyl ether such as polyethylene glycol type epoxy resin, polypropylene glycol type epoxy resin, neopentyl glycol type epoxy resin
  • a bifunctional aromatic glycidylamine such as N, N-diglycidylaniline, N, N-diglycidyltrifluoromethylaniline; N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4-diaminodiphenylmethane, Polyfunctional aromatic glycidylamines such as 1,3-bis (N, N-glycidylaminomethyl) cyclohexane and N, N, O-triglycidyl-p-aminophenol; alicyclic diepoxy acetal, alicyclic diepoxy Bifunctional alicyclic epoxy resins such as adipate, alicyclic diepoxycarboxylate, vinylcyclohexene dioxide; 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol ) Polyfunctional alicyclic epoxy resins such as cyclohexane adducts; Examples thereof include polyfunctional heterocyclic
  • bisphenol A type epoxy resin bisphenol F type epoxy resin, bisphenol AF type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene type Bifunctional phenol glycidyl ether such as epoxy resin; hydrogenated bifunctional phenol glycidyl ether; polyfunctional phenol glycidyl ether; bifunctional alicyclic alcohol glycidyl ether; bifunctional aromatic glycidyl ester; bifunctional alicyclic
  • the glycidyl ester; the bifunctional alicyclic epoxy resin; the polyfunctional alicyclic epoxy resin; the polyfunctional heterocyclic epoxy resin; and the bifunctional or polyfunctional silicon-containing epoxy resin can be used alone or in combination of two or more, and can also be used in combination with other polymerizable compounds.
  • the polymerizable compound of component (B) from the viewpoint of heat resistance, at least one selected from the group consisting of an alicyclic structure, an aryl group, an aryloxy group, and an aralkyl group in one molecule other than the above, from the viewpoint of heat resistance.
  • Specific examples include (meth) acrylate or N-vinylcarbazole containing at least one selected from the group consisting of an alicyclic structure, an aryl group, an aryloxy group, and an aralkyl group.
  • an aryl group represents aromatic heterocyclic groups, such as aromatic carbon hydrogen groups, such as a phenyl group and a naphthyl group, and a carbazole group, for example.
  • the compound which has an epoxy group and an ethylenically unsaturated group is not included as a polymeric compound of (B) component, and said compound may be used.
  • At least one of the compounds represented by the following general formulas (5) to (8) is preferably used as the polymerizable compound of the component (B).
  • a polymerizable compound of component (B) it is also a preferred embodiment to use at least one of compounds containing an aryl group and an ethylenically unsaturated group represented by the following general formulas (5) to (8). is there. (Wherein Ar is
  • X 2 represents O (oxygen atom), S (sulfur atom), OCH 2 , SCH 2 , O (CH 2 CH 2 O) a, O [CH 2 CH (CH 3 ) O] b, OCH 2 CH (OH ) CH 2 O represents any divalent group.
  • Y 1 is (A linking chain is located on the left and right of each structure).
  • R 13 represents either a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 14 to R 30 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, an organic group having 1 to 20 carbon atoms, or a fluorine-containing organic group having 1 to 20 carbon atoms.
  • a and b are each independently an integer of 1 to 20, and c is an integer of 2 to 10.
  • R 31 is Any one of these groups is shown.
  • R 32 to R 34 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group.
  • d represents an integer of 1 to 10.
  • X 3 and X 4 each independently represent a divalent group of any one of O, S, O (CH 2 CH 2 O) e, and O [CH 2 CH (CH 3 ) O] f. .
  • Y2 is (A linking chain is located on the left and right of each structure).
  • R 35 and R 40 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 36 to R 39 each independently represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an organic group having 1 to 20 carbon atoms, or a fluorine-containing organic group having 1 to 20 carbon atoms.
  • e and f each independently represent an integer of 1 to 20, and g represents an integer of 2 to 10.
  • R 41 and R 46 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.
  • R 42 to R 45 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, an organic group having 1 to 20 carbon atoms, or a fluorine-containing organic group having 1 to 20 carbon atoms.
  • h represents an integer of 1 to 5
  • i represents an integer of 2 to 10.
  • Examples of the organic group in the general formulas (5) to (8) include the same examples as those described in the general formulas (1) to (4).
  • the blending amount of the polymerizable compound of component (B) is preferably 15% by mass or more and 90% by mass or less with respect to the total amount of component (A) and component (B).
  • it is less than 15% by mass it is difficult to entangle the (A) alkali-soluble (meth) acrylic polymer and cure it, and the developer resistance may be insufficient.
  • the content is more preferably 30% by mass or more and 80% by mass or less.
  • the polymerization initiator for component (C) is not particularly limited as long as it initiates polymerization by heating or irradiation with ultraviolet rays, for example, a compound having an ethylenically unsaturated group as the polymerizable compound for component (B).
  • a thermal radical polymerization initiator, a photo radical polymerization initiator, and the like can be mentioned, and a photo radical polymerization initiator is preferable because it has a high curing rate and can be cured at room temperature.
  • thermal radical polymerization initiator examples include ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, and methylcyclohexanone peroxide; 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-Butylperoxy) -2-methylcyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1- Peroxyketals such as bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane; hydroperoxides such as p-menthane hydroperoxide; ⁇ , ⁇ ′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene , Dicumyl peroxide, t-butylcumylperoxy Dial
  • radical photopolymerization initiators include benzoinketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one; 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane ⁇ -hydroxy ketones such as 1-one, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one; 2-benzyl-2-dimethylamino- ⁇ -amino ketones such as 1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, 1,2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one; Oxime esters such as [(4-phenylthio) phenyl] -1,2-octadion-2- (benzoyl) oxime; bis (2,4,6-to Phosphine oxides such as limethylbenzoyl) phenylphosphine
  • the aryl group substituents at the two triarylimidazole sites may give the same and symmetric compounds, but give differently asymmetric compounds. May be. Also.
  • a thioxanthone compound and a tertiary amine may be combined, such as a combination of diethylthioxanthone and dimethylaminobenzoic acid.
  • the ⁇ -hydroxyketone; the phosphine oxide is preferable.
  • thermal and photo radical polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, it can also be used in combination with an appropriate sensitizer.
  • examples of the polymerization initiator of component (C) include a thermal cationic polymerization initiator and a photocationic polymerization initiator.
  • a photocationic polymerization initiator is preferred because it can be cured.
  • thermal cationic polymerization initiator examples include benzylsulfonium salts such as p-alkoxyphenylbenzylmethylsulfonium hexafluoroantimonate; benzyl-p-cyanopyridinium hexafluoroantimonate, 1-naphthylmethyl-o-cyanopyridinium hexafluoroantimony And pyridinium salts such as cinnamyl-o-cyanopyridinium hexafluoroantimonate; benzylammonium salts such as benzyldimethylphenylammonium hexafluoroantimonate and the like.
  • the benzylsulfonium salt is preferable.
  • Examples of the cationic photopolymerization initiator include aryl diazonium salts such as p-methoxybenzenediazonium hexafluorophosphate, diaryliodonium salts such as diphenyliodonium hexafluorophosphate, diphenyliodonium hexafluoroantimonate; triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenyl Triarylsulfonium salts such as sulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluorophosphate, diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate, diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium pentafluorohydroxyantimonate ; Triphenylselenonium hexa Triarylselenonium salt
  • the above triarylsulfonium salts are preferable from the viewpoints of curability, transparency, and heat resistance.
  • thermal and photocationic polymerization initiators can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, it can also be used in combination with an appropriate sensitizer.
  • the compounding quantity of the polymerization initiator of (C) component is 0.1 mass part or more and 10 mass parts or less with respect to 100 mass parts of total amounts of (A) component and (B) component. If it is less than 0.1 parts by mass, curing may be insufficient, and if it is more than 10 parts by mass, sufficient light transmittance may not be obtained. From the above viewpoint, it is more preferably 0.3 parts by mass or more and 7 parts by mass or less, and particularly preferably 0.5 parts by mass or more and 5 parts by mass or less.
  • an antioxidant in the photosensitive resin composition for forming a curved surface-shaped member of the present invention, an antioxidant, an anti-yellowing agent, an ultraviolet absorber, a visible light absorber, a colorant, a plasticizer
  • so-called additives such as stabilizers and fillers may be added in proportions that do not adversely affect the effects of the present invention.
  • the photosensitive resin composition for forming a curved shape member of the present invention may be diluted with a suitable organic solvent and used as a photosensitive resin varnish for forming a curved shape member.
  • the organic solvent used here is not particularly limited as long as it can dissolve the resin composition.
  • aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, mesitylene, cumene, p-cymene; tetrahydrofuran, 1, 4 -Cyclic ethers such as dioxane; alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol, propylene glycol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; acetic acid Esters such as methyl, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate, ethyl lactate and ⁇ -butyrolactone; carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol mono Chill ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol mono
  • These organic solvents can be used alone or in combination of two or more.
  • concentration in a resin varnish is 20 to 80 mass% normally.
  • it is more preferably 50 rpm or more and 800 rpm or less, and particularly preferably 100 rpm or more and 500 rpm or less.
  • they are 1 hour or more and 24 hours or less. If the time is less than 1 hour, the components (A) to (C) and the organic solvent may not be sufficiently mixed. If the time is longer than 24 hours, the varnish preparation time cannot be shortened.
  • a filter having a pore diameter of 50 ⁇ m or less When the hole diameter is larger than 50 ⁇ m, large foreign matters and the like are not removed, and repellency may occur during varnish application, and scattering of light propagating through the lens member is not suppressed. From the above viewpoint, it is more preferable to filter using a filter having a pore diameter of 30 ⁇ m or less, and it is particularly preferable to filter using a filter having a pore diameter of 10 ⁇ m or less.
  • the blended photosensitive resin varnish for forming a curved member is defoamed under reduced pressure.
  • limiting in particular in the defoaming method As a specific example, a degassing apparatus with a vacuum pump and a bell jar and a vacuum apparatus can be used.
  • limiting in particular in the pressure at the time of pressure reduction The pressure which the organic solvent contained in a resin varnish does not boil is preferable.
  • limiting in particular in vacuum degassing time It is preferable that they are 3 minutes or more and 60 minutes or less. If it is less than 3 minutes, bubbles dissolved in the resin varnish cannot be removed. When longer than 60 minutes, the organic solvent contained in the resin varnish volatilizes.
  • the refractive index in the wavelength range of 830 to 850 nm at a temperature of 25 ° C. is preferably 1.400 or more and 1.700 or less. If it is 1.400 or more and 1.700 or less, since the refractive index with a normal optical resin does not differ greatly, the versatility as an optical material is not impaired. From the above viewpoint, it is more preferably 1.425 or more and 1.675 or less, and particularly preferably 1.450 or more and 1.650 or less.
  • the transmittance of the film at a wavelength of 400 nm is preferably 80% or more. If the transmittance is less than 80%, the amount of transmitted light is insufficient. From the above viewpoint, the transmittance is more preferably 85% or more. Note that the upper limit of the transmittance is not particularly limited.
  • a photosensitive resin film for forming a curved member according to the present invention comprises the above-described photosensitive resin composition for forming a curved member, and comprises a photosensitive resin varnish for forming a curved member containing the components (A) to (C). It can be easily produced by applying to a suitable substrate film and removing the solvent. Moreover, you may manufacture by apply
  • Polyester such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate
  • Polyolefin such as polyethylene and a polypropylene
  • Polycarbonate polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, polyether sulfide , Polyethersulfone, polyetherketone, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone, liquid crystal polymer and the like.
  • polyethylene terephthalate polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polypropylene, polycarbonate, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polyarylate, polysulfone. preferable.
  • the thickness of the base film may be appropriately changed depending on the intended flexibility, but is preferably 3 ⁇ m or more and 250 ⁇ m or less. If it is less than 3 ⁇ m, the film strength is insufficient, and if it is thicker than 250 ⁇ m, sufficient flexibility cannot be obtained. From the above viewpoint, it is more preferably 5 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, and particularly preferably 7 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less. In addition, from the viewpoint of improving the peelability from the resin layer, a film that has been subjected to a release treatment with a silicone compound, a fluorine-containing compound, or the like may be used as necessary.
  • the photosensitive resin film for forming a curved surface member formed by applying a photosensitive resin varnish for forming a curved surface member or a photosensitive resin composition for forming a curved surface member on a base film is formed by applying a protective film as necessary. It is good also as a 3 layer structure which affixes on a layer and consists of a base film, a resin layer, and a protective film.
  • the protective film is not particularly limited, and examples thereof include polyesters such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene. Among these, from the viewpoint of flexibility and toughness, polyesters such as polyethylene terephthalate; polyolefins such as polyethylene and polypropylene are preferable. In addition, from the viewpoint of improving the peelability from the resin layer, a film that has been subjected to a release treatment with a silicone compound, a fluorine-containing compound, or the like may be used as necessary.
  • the thickness of the protective film may be appropriately changed depending on the intended flexibility, but is preferably 10 ⁇ m or more and 250 ⁇ m or less.
  • the thickness is more preferably 15 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less, and particularly preferably 20 ⁇ m or more and 150 ⁇ m or less.
  • the thickness of the resin layer of the photosensitive resin film for forming a curved member according to the present invention is not particularly limited, but the thickness after drying is preferably 5 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less. If the thickness is less than 5 ⁇ m, the strength of the resin film or the cured product of the film is insufficient because the thickness is insufficient, and if it is thicker than 500 ⁇ m, the drying cannot be sufficiently performed and the amount of residual solvent in the resin film increases. As a result, foaming may occur when the cured product of the film is heated. By setting the thickness of the photosensitive layer in the above range, the performance as a lens member can be more reliably obtained after exposure and development. Adjustment of the thickness of a coating film can be performed by changing the application quantity of a coating liquid and the quantity of a solvent, for example.
  • the thus-obtained photosensitive resin film for forming a curved surface-shaped member can be easily stored, for example, by winding it into a roll.
  • a roll-shaped film can be cut into a suitable size and stored in a sheet shape.
  • the photosensitive resin composition for forming a curved surface member of the present invention is suitable as a photosensitive resin composition for forming a curved surface member.
  • the photosensitive resin film for forming a curved surface member of the present invention is formed of a curved surface member. It is suitable as a photosensitive resin film.
  • the method for producing the lens member of the present invention is not particularly limited, but a method for producing a curved resin member for forming a curved member by using a spin coating method or the like using a photosensitive resin varnish for forming a curved member. And a method of manufacturing by a lamination method. Moreover, it can also manufacture combining these methods. Among these, from the viewpoint that a lens member manufacturing process having excellent productivity can be provided, a method of manufacturing by a lamination method using a photosensitive resin film for forming a curved surface member is preferable.
  • a photosensitive resin film for forming a curved surface-shaped member having a base film 3 is used as the previous process.
  • the photosensitive resin layer 2 for forming a curved member is laminated on the material 1.
  • the photosensitive resin film for forming a curved surface member is laminated while being pressed so as to be in contact with the substrate 1.
  • a lamination method there is a method of laminating by heating and pressure bonding using a roll laminator or a flat plate laminator, but from the viewpoint of adhesion and followability, a lower clad is used under reduced pressure using a flat plate laminator.
  • the flat plate type laminator refers to a laminator in which a laminated material is sandwiched between a pair of flat plates and pressed by pressing the flat plate.
  • a vacuum pressurizing laminator can be suitably used.
  • the heating temperature here is preferably 40 ° C. or higher and 130 ° C. or lower, and the pressure bonding pressure is preferably 0.1 MPa or higher and 1.0 MPa or lower, but these conditions are not particularly limited.
  • the laminating temperature is preferably 20 ° C. or higher and 130 ° C. or lower. When the temperature is lower than 20 ° C., the adhesion between the curved shape member-forming photosensitive resin layer 2 and the substrate 1 is deteriorated.
  • the temperature is more preferably 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.
  • the pressure is preferably 0.2 MPa or more and 0.9 MPa or less, and the laminating speed is preferably 0.1 m / min or more and 3 m / min or less, but these conditions are not particularly limited.
  • the base material 1 For example, a glass epoxy resin substrate, a ceramic substrate, a glass substrate, a silicon substrate, a plastic substrate, a metal substrate, a substrate with a resin layer, a substrate with a metal layer, a plastic film, a plastic with a resin layer Examples thereof include a film, a plastic film with a metal layer, and an electric wiring board.
  • the active light for photocuring the resin for forming a columnar member is ultraviolet light
  • a metal substrate, a plastic substrate that does not transmit ultraviolet light, a glass epoxy resin substrate, and the like are preferable.
  • substrate is 5 micrometers or more and 1 mm or less, and it is more preferably 10 micrometers or more and 100 micrometers or less. preferable.
  • Step 1 Photocuring and Patterning Step
  • the photosensitive layer is exposed as a step 1 using a photomask 4 to form the columnar portion 5.
  • actinic rays are irradiated in an image form through a photomask having a negative or positive mask pattern called artwork.
  • an active light beam may be directly irradiated on an image without passing through a photomask using laser direct drawing.
  • the active light source include known light sources that effectively emit ultraviolet rays, such as carbon arc lamps, mercury vapor arc lamps, ultrahigh pressure mercury lamps, high pressure mercury lamps, and xenon lamps.
  • there are those that effectively radiate visible light such as a photographic flood bulb and a solar lamp.
  • the dose of active light here is preferably 0.01 J / cm 2 or more 10J / cm 2 or less. If it is less than 0.01 J / cm 2 , the curing reaction does not proceed sufficiently, and the lens pattern (columnar portion) may be washed away by the development process. If it exceeds 10 J / cm 2 , the exposure amount is excessive.
  • the curved surface shape is less likely to occur due to heat dripping during heat treatment. From the viewpoints described above, more preferably 0.05 J / cm 2 or more 5 J / cm 2 or less, particularly preferably 0.1 J / cm 2 or more 3J / cm 2 or less. In addition, you may heat after exposure from a viewpoint of the resolution of the columnar part 5, and an adhesive improvement after exposure.
  • the time from ultraviolet irradiation to post-exposure heating is preferably within 10 minutes. Within 10 minutes, the active species generated by ultraviolet irradiation will not be deactivated.
  • the post-exposure heating temperature is preferably 40 ° C. or higher and 160 ° C. or lower, and the time is preferably 30 seconds or longer and 10 minutes or shorter.
  • Step 2 Development step As step 2, after exposure, as shown in FIG. 1 (d), the base film 3 of the photosensitive resin film 2 for forming a curved surface-shaped member is removed, and an alkaline aqueous solution, an aqueous developer, etc.
  • the developer is developed by a known method such as spraying, rocking dipping, brushing, scraping, dipping and paddle. Moreover, you may use together 2 or more types of image development methods as needed.
  • the base of the alkaline aqueous solution is not particularly limited.
  • an alkali hydroxide such as lithium, sodium or potassium hydroxide
  • an alkali carbonate such as lithium, sodium, potassium or ammonium carbonate or bicarbonate
  • Alkali metal phosphates such as potassium phosphate and sodium phosphate
  • Alkali metal pyrophosphates such as sodium pyrophosphate and potassium pyrophosphate
  • Sodium salts such as borax and sodium metasilicate
  • Tetramethylammonium hydroxide Triethanolamine And organic bases such as ethylenediamine, diethylenetriamine, 2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 1,3-diaminopropanol-2-morpholine, and the like.
  • the pH of the alkaline aqueous solution used for development is preferably 9 to 11, and the temperature is adjusted in accordance with the developability of the core portion-forming resin composition layer.
  • a surfactant, an antifoaming agent, a small amount of an organic solvent for accelerating development, and the like may be mixed.
  • the aqueous developer is not particularly limited as long as it is composed of water or an alkaline aqueous solution and one or more organic solvents.
  • the pH of the aqueous developer is preferably as low as possible within a range where the development of the core portion-forming resin film can be sufficiently performed, preferably pH 8 to 12, and particularly preferably pH 9 to 10.
  • organic solvent examples include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, ethylene glycol and propylene glycol; ketones such as acetone and 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone; ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol mono
  • organic solvent examples include polyhydric alcohol alkyl ethers such as ethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, and diethylene glycol monobutyl ether. These can be used alone or in combination of two or more.
  • the concentration of the organic solvent is usually preferably 2 to 90% by mass, and the temperature is adjusted in accordance with the developability of the core portion-forming resin composition. Further, a small amount of a surfactant, an antifoaming agent or the like may be mixed in the aqueous developer.
  • the columnar portion 5 of the optical waveguide may be cleaned using a cleaning liquid composed of water and the above organic solvent as necessary.
  • An organic solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.
  • the concentration of the organic solvent is usually preferably 2 to 90% by mass, and the temperature is adjusted in accordance with the developability of the core portion-forming resin composition.
  • columnar section 5 As processing after the development or washing, if necessary, with columnar section 5 further cured by performing the degree of exposure 60 ° C. or higher 250 ° C. or less degree of heating or 0.1 mJ / cm 2 or more 1000 mJ / cm 2 or less using May be.
  • Step 3 Heat treatment (sagging) step Subsequently, the column member 5 formed on the substrate 1 as step 3 is heated, and the lens member 6 having excellent heat resistance is obtained by simultaneously performing the heating and thermosetting steps. Can be obtained.
  • the heating method include known methods such as hot air radiation and infrared irradiation heating, and are not particularly limited as long as the lens pattern formed on the substrate is effectively heated.
  • the temperature during heating is preferably 60 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or higher and 180 ° C. or lower, and particularly preferably 100 ° C. or higher and 160 ° C. or lower. If this heating temperature is less than 60 ° C, the drooling effect tends to be insufficient, and if it exceeds 200 ° C, the constituent components of the photosensitive resin composition layer tend to thermally decompose.
  • Example 1 [Base polymer; production of (meth) acrylic polymer (P-1)]
  • a flask equipped with a stirrer, a cooling pipe, a gas introduction pipe, a dropping funnel, and a thermometer 42 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate and 21 parts by mass of methyl lactate were weighed and stirred while introducing nitrogen gas. .
  • the liquid temperature was raised to 65 ° C., 14,5 parts by mass of N-cyclohexylmaleimide, 20 parts by mass of benzyl acrylate, 39 parts by mass of O-phenylphenol 1.5 EO acrylate, 14 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, 12.
  • EA ⁇ 1010N
  • C 1 mass of 1- [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one (“Irgacure 2959” manufactured by BASF Japan Ltd.) as a polymerization initiator 1 part by weight of bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide (“Irgacure 819” manufactured by BASF Japan Ltd.) was weighed into a wide-mouthed plastic bottle and rotated at a temperature of 25 ° C. using a stirrer.
  • the resin varnish for forming the core part was prepared by stirring for 6 hours under the condition of several 400 rpm. Thereafter, using a polyflon filter having a pore size of 2 ⁇ m (“PF020” manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.) and a membrane filter having a pore size of 0.5 ⁇ m (“J050A” manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.), a temperature of 25 ° C. and a pressure of 0.4 MPa. And filtered under pressure. Subsequently, defoaming was performed under reduced pressure for 15 minutes using a vacuum pump and a bell jar under conditions of a reduced pressure of 50 mmHg to obtain a photosensitive resin varnish LEV-1 for forming a curved member.
  • PF020 manufactured by Advantech Toyo Co., Ltd.
  • J050A a membrane filter having a pore size of 0.5 ⁇ m
  • the photosensitive resin varnish LEV-1 for forming a curved surface member is coated on a non-treated surface of a PET film (“A1517” manufactured by Toyobo Co., Ltd., thickness 16 ⁇ m) (“Multicoater TM-MC manufactured by Hirano Techseed Co., Ltd.). ”) And dried at 100 ° C. for 20 minutes, and then a release PET film (“ A31 ”manufactured by Teijin DuPont Films, Inc., 25 ⁇ m thick) is pasted as a protective film, and a photosensitive resin film for forming a curved surface member LEF-1 was obtained.
  • the thickness of the resin layer can be arbitrarily adjusted by adjusting the gap of the coating machine, but in this example, the thickness after curing was adjusted to 50 ⁇ m.
  • Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 to 3 According to the blending ratio shown in Table 1, curved surface member forming photosensitive resin varnishes LEV-2 to 6 were prepared, and curved surface member forming photosensitive resin films LEF-2 to 6 were prepared in the same manner as in Example 1. Produced.
  • a sample for measuring refractive index is laminated and cured on a silicon substrate (size: 60 ⁇ 20 mm, thickness: 0.6 mm) in the same manner as the sample for measuring light transmittance, by laminating and curing a photosensitive resin film for forming a curved surface member.
  • the refractive index of the sample at a wavelength of 830 nm was measured using a prism-coupled refractometer (“Model 2020” manufactured by Metricon).
  • the photosensitive resin film (lens pattern 4) for forming a curved surface member was exposed by irradiating with an ultraviolet ray (wavelength 365 nm) with 2500 mJ / cm 2 through a negative photomask 4 having a lens pattern.
  • an ultraviolet ray wavelength 365 nm
  • a spray type developing device (“RX-40D” manufactured by Yamagata Kikai Co., Ltd.) was used, and the temperature was 30 ° C. with a 1 mass% sodium carbonate aqueous solution.
  • Development was performed under conditions of a spray pressure of 0.15 MPa and a development time of 105 seconds to obtain a columnar portion 5. Then, it wash
  • the photosensitive member for forming a curved member As follows. The resin composition was evaluated.
  • Example preparation method A through hole having a diameter of 210 ⁇ m was formed by drilling on a 150 mm ⁇ 150 mm polyimide film (“UPILEX RN” manufactured by Ube Nitto Kasei Co., Ltd., thickness: 25 ⁇ m) to obtain a substrate with a through hole. Next, a 50 ⁇ m-thick photosensitive resin film for forming a curved surface member is peeled off from the obtained substrate, and the cover film is peeled off.
  • UPILEX RN manufactured by Ube Nitto Kasei Co., Ltd., thickness: 25 ⁇ m
  • the pressure is 0.4 MPa
  • the temperature is 110 ° C.
  • the pressurization time is 30 seconds
  • the laminate is laminated, thereby simultaneously filling the through hole with the photosensitive resin for forming the curved surface member.
  • a photosensitive resin layer for forming a curved member was formed on the substrate.
  • 2500 J / cm 2 of ultraviolet rays (wavelength 365 nm) was irradiated from the through-hole opening using an ultraviolet exposure machine to expose the photosensitive resin film for forming a curved member (lens pattern 4).
  • a spray type developing device (“RX-40D” manufactured by Yamagata Kikai Co., Ltd.) was used, and the temperature was 30 ° C. with a 1 mass% sodium carbonate aqueous solution. Development was performed under conditions of a spray pressure of 0.15 MPa and a development time of 105 seconds to obtain a columnar portion. Then, it wash
  • the photosensitive resin composition for forming a curved member of the present invention is excellent in lens forming property and transparency, and in heat resistance which is considered to be a problem in conventional lens materials. Very good.
  • the film of Example 1 has a smooth resin surface even after a heat history of 200 ° C. for 1 hour.
  • the film of Comparative Example 1 shown in FIG. 3B was inferior in heat resistance due to the occurrence of wrinkles considered to be resin flow after heat treatment.
  • the resin composition having a crosslink with the base polymer of the present invention is excellent in heat resistance and effective in maintaining the lens shape.
  • the curved surface-shaped member-forming photosensitive resin composition of the present invention is excellent in lens forming property, transparency and heat resistance, and a lens member produced using these is very excellent in light collecting property.

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Abstract

課題：アルカリ性水溶液に可溶で、比較的自由にパターン形成が可能であり、これらを用いて製造したレンズ部材は、耐熱性、曲面形状形成性、透明性に優れる曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を提供する。：解決手段：（Ａ）ポリマー、（Ｂ）前記ポリマーと熱反応する基を有する重合性化合物、及び、（Ｃ）重合開始剤を含有してなる曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。

Description

曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、及びこれを用いた、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム、並びにこれらを用いたレンズ部材
　本発明は、曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム、及びそれらを用いて形成するレンズ部材に関する。
　ＩＣ技術やＬＳＩ技術において、動作速度や集積度の向上のために、電気配線基板における電気配線の一部を光ファイバや光導波路等の光配線に置き換え、電気信号の代わりに光信号を利用することが行われている。
　例えば、特許文献１には、表面に光学素子を備えたＩＣチップの上方に光導波路フィルムを設置し、これらＩＣチップと光導波路フィルムとの間で光通信を行うことが開示されている。ところが、特許文献１のように光学素子のような光通信手段を備えた基板と光導波路のような光通信手段との間で光通信を行う場合、これら光通信手段同士を高精度に位置決めして実装しないと光通信することができないという問題や、集光しないと光損失（信号強度）が減少してしまう問題がある。
　この問題を解決するために、基板の表面にマイクロレンズを設けることが行われている。
　例えば、特許文献２には、透明基板の表面にマイクロレンズが設置されたレンズ付き基板が開示されている。このレンズ付き基板を製造するには、透明基板の表面に感光性樹脂レジストを形成すると共に基板の裏面に開口部を有する遮光膜を形成する。次いで、遮光膜側から光を照射して、感光性樹脂レジストのうち遮光膜の開口部との対向位置に存在する部分を露光した後、現像して円柱状のレジスト構造物を形成する。その後、このレジスト構造物を加熱し、レジスト構造物の表面を熱だれさせることにより、マイクロレンズが製造される。
特開２００６－１１２１０号公報 特開２００４－３６１８５８号公報 特開２００６－９１５３７号公報
　レンズ形成用材料としては、例えば、特許文献３のように非感光性ポリマーとエチレン性不飽和基を有する化合物からなる樹脂組成物が開示されており、加熱処理によって曲面形状を発現させている。しかしながら、このような材料系であると、ポリマー成分と他成分との架橋が疎であり、リフロー等のレンズ形成後の後加熱によってレンズの形状に乱れが発生し、集光性に悪影響が出ることが懸念された。また一方で、感光性のポリマー成分を用いると、露光時に架橋が密となり、上記の形状乱れを抑制できるが、加熱処理による曲面形状が発現しにくくなることが予想され、所望のレンズ曲率を得られない。
　本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、耐熱性に優れた曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム、及びそれらを用いて形成するレンズ部材を提供することを目的とする。
　本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意研究した結果、ポリマー、前記ポリマーと熱反応する基を有する重合性化合物、及び、重合開始剤を含有してなる曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を用いることで、上記課題を解決することを見出した。本発明は、かかる知見にもとづいて完成したものである。
　すなわち、本発明は、（Ａ）ポリマー、（Ｂ）前記ポリマーと熱反応する基を有する重合性化合物、及び、（Ｃ）重合開始剤を含有してなる曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、該曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を用いた曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム、及び該曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物、又は曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを用いて形成した、耐熱性、曲面形状形成性、透明性に優れたレンズ部材を提供するものである。
　本発明によれば、アルカリ性水溶液に可溶で、比較的自由にパターン形成が可能であり、これらを用いて製造したレンズ部材は、耐熱性、曲面形状形成性、透明性に優れる曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物及びこれを用いて得られる該曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物フィルムを提供することができる。
曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを用いて形成するレンズ部材の製造方法を示す断面図である。 実施例及び比較例におけるレンズ部材形状を示す写真である。 実施例及び比較例における耐熱性試験後の樹脂表面形状を示す写真である。
　本発明の実施の形態に係る曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物は、（Ａ）ポリマー、（Ｂ）ポリマーと熱反応する基を有する重合性化合物、及び、（Ｃ）重合開始剤を含有してなり、加熱又は活性光線の照射によって硬化する樹脂組成物であることが好ましい。
　以下、本発明に用いられる各成分について説明する。
［（Ａ）成分］
　（Ａ）成分のポリマーとしては、一般にアルカリ可溶性であることが好ましく、アルカリ可溶性ポリマーとは、アルカリ可溶性基（例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基等）を有するポリマーであり、アルカリ水溶液に対して溶解し得るものであればよい。このようなポリマーに特に制限は無いが、アルカリ可溶性の（メタ）アクリルポリマーが好ましい。また、アルカリ可溶性基としては、カルボキシル基が好ましい。
　なお、（メタ）アクリルとは、アクリル及び／又はメタクリルを意味する。
　アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーとしては、アルカリ性水溶液からなる現像液に溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有するものであれば特に制限はない。例えば、（メタ）アクリル酸、各種（メタ）アクリル酸エステル（（メタ）アクリルアルキルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等）、（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリル系モノマ、これらと他の重合性不飽和基含有モノマ（スチレン、αメチルスチレン、マレイン酸無水物、Ｎ置換若しくは未置換のマレイミドモノマ等）等の重合体が好ましいものとして挙げられる。
　これらの中で、透明性、耐熱性、アルカリ性水溶液への溶解性の観点から、Ｎ置換マレイミドを用いるマレイミド骨格を有するものが好ましく、これと他の（メタ）アクリル系の共重合体がより好ましい。主鎖に下記一般式（１）、（２）で表される構造単位（Ａ－１）及び（Ａ―２）を含み、さらに下記一般式（３）、（４）で表される構造単位（Ａ－３）及び（Ａ－４）の少なくとも一方を含むアルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーを用いることがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
  
（式中、Ｒ1～Ｒ3は、各々独立に水素原子、炭素数１～２０の有機基のいずれかを示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
  
（式中、Ｒ4～Ｒ7は、各々独立に水素原子、炭素数１～２０の有機基のいずれかを示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
  
（式中、Ｒ7～Ｒ9は、各々独立に水素原子、炭素数１～２０の有機基のいずれかを示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
  
（式中、Ｒ10～Ｒ12及びＸ1は、各々独立に水素原子、炭素数１～２０の有機基のいずれかを示す。）
　一般式（１）～（４）における有機基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基等の１価又は２価の基が挙げられ、それらは、さらに、ヒドロキシル基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基等で置換されていてもよい。
　アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーにおいて、マレイミド骨格由来の構造単位（Ａ－１）の含有率は、３質量％以上５０質量％以下であることが好ましい。３質量％未満であるとマレイミドに由来する耐熱性が得られず、５０質量％より多いと透明性が十分ではなく、得られる樹脂パターンが脆くなる。以上の観点から、５質量％以上４０質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以上３０質量％以下であることが特に好ましい。
　マレイミド由来の構造単位（Ａ－１）の構造は、一般式（１）で表されるものであれば特に制限はない。
　構造単位（Ａ－１）の原料となるマレイミドとしては、例えば、Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－エチルマレイミド、Ｎ－プロピルマレイミド、Ｎ－イソプロピルマレイミド、Ｎ－ブチルマレイミド、Ｎ－イソブチルマレイミド、Ｎ－２－メチル－２－プロピルマレイミド、Ｎ－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－メチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－２－メチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－３－メチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－３－メチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－ヘキシルマレイミド、Ｎ－３－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－４－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－４－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－２，２－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－３，３－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－３，３－ジメチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－２，３－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－２，３－ジメチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－ヒドロキシメチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシエチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシエチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－１－プロピルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－１－プロピルマレイミド、Ｎ－３―ヒドロキシ－１－プロピルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－プロピルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－プロピルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－１－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－１－ブチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－１－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－１－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－ブチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－２－ブチルマレイミド、Ｎ－２－メチル－３－ヒドロキシ－１－プロピルマレイミド、Ｎ－２－メチル－３－ヒドロキシ－２－プロピルマレイミド、Ｎ－２－メチル－２－ヒドロキシ－１－プロピルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－５－ヒドロキシ－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－５－ヒドロキシ－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－３－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－３－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－３－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－２－メチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－２－メチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－メチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－メチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，２－ジメチル－１－プロピルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２，２－ジメチル－１－プロピルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－１－ヘキシルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－ヘキシルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－ヘキシルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－４－ヘキシルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－５－ヘキシルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－６－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－１－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－４－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－５－ヘキシルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－６－ヘキシルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－１－ヘキシルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－ヘキシルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－３－ヘキシルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－４－ヘキシルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－５－ヘキシルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－６－ヘキシルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－４－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２－メチル－５－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－４－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－メチル－５－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－４－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－メチル－５－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－４－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－４－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－４－メチル－４－ペンチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－４－メチル－５－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－メチル－４－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－２－メチル－５－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－４－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－４－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－４－メチル、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－メチル－３－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－メチル－４－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－メチル－５－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－３－メチル－１－ペンチルマレイミド、Ｎ－３－ヒドロキシ－３－メチル－２－ペンチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３－エチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３－エチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２－エチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－３－エチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－３－エチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－３－エチル－３－ブチルマレイミド、Ｎ－４－ヒドロキシ－３－エチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，３－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，３－ジメチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，３－ジメチル－３－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，３－ジメチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２，３－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２，３－ジメチル－３－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－２，３－ジメチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，２－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，２－ジメチル－３－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－２，２－ジメチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３，３－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３，３－ジメチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－２－ヒドロキシ－３，３－ジメチル－４－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３，３－ジメチル－１－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３，３－ジメチル－２－ブチルマレイミド、Ｎ－１－ヒドロキシ－３，３－ジメチル－４－ブチルマレイミド等のアルキルマレイミド；Ｎ－シクロプロピルマレイミド、Ｎ－シクロブチルマレイミド、Ｎ－シクロペンチルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－シクロヘプチルマレイミド、Ｎ－シクロオクチルマレイミド、Ｎ－２－メチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ－２－エチルシクロヘキシルマレイミド、Ｎ－２－クロロシクロヘキシルマレイミド等のシクロアルキルマレイミド；Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－２－メチルフェニルマレイミド、Ｎ－２－エチルフェニルマレイミド、Ｎ－２－クロロフェニルマレイミド等のアリールマレイミド等が挙げられる。
　これらの中で、透明性及び溶解性の観点から、シクロアルキルマレイミドを用いることが好ましく、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－２－メチルシクロヘキシルマレイミドを用いることがさらに好ましい。
　これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　（Ａ）成分として主鎖にマレイミド骨格を含むアルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーを用いる場合において、（メタ）アクリレート由来の構造単位（Ａ－２）の含有率は、２０質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。２０質量％未満であると（メタ）アクリレートに由来する透明性が得られず、９０質量％より多いと耐熱性が十分に得られない。以上の観点から、２５質量％以上８５質量％以下がさらに好ましく、３０質量％以上８０質量％以下であることが特に好ましい。
　（メタ）アクリレート由来の構造単位（Ａ－２）の構造は、一般式（２）で表されるものであれば特に制限はない。
　本発明の（Ａ）成分に用いられる（好ましい例では構造単位（Ａ－２）の原料となる）（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイロキシエチル）スクシネートなどの脂肪族（メタ）アクリレート；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２-（メタ）アクリロイロキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２-（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロフタレート等の脂環式（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ｏ－ビフェニル（メタ）アクリレート、１－ナフチル（メタ）アクリレート、２－ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ－クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ－フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１－ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２－ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－（ｏ－フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－（１－ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－（２－ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；２－テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２－（メタ）アクリロイロキシエチル－Ｎ－カルバゾール等の複素環式（メタ）アクリレート、これらのカプロラクトン変性体等が挙げられる。
　これらの中でも透明性及び耐熱性の観点から、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレートであることが好ましい。
　これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーにおいて、カルボキシル基と不飽和エチレン性二重結合を有する化合物由来の構造単位（Ａ－３）及び（Ａ－４）の含有率は３質量％以上６０質量％以下であることが好ましい。３質量％未満であるとアルカリ性水溶液等からなる現像液に溶解し難く、６０質量％より多いと後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する現像工程において、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が悪化する。以上の観点から、５質量％以上５０質量％以下であることがさらに好ましく、１０質量％以上４０質量％以下であることが特に好ましい。
　カルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物由来の構造単位（Ａ－３）及び（Ａ－４）の構造は、一般式（３）、（４）で表されるものであれば特に制限はない。
　構造単位（Ａ－３）の原料となるカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸等が挙げられ、これらの中で、透明性、アルカリ可溶性の観点から（メタ）アクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸であることが好ましい。
　また、無水マレイン酸を原料として用いて、重合後にメタノール、エタノール、プロパノール等の適当なアルコールによって開環し、構造単位（Ａ－３）の構造に変換してもよい。これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　構造単位（Ａ－４）の原料となるカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）スクシネート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）フタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）イソフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）テレフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレート、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、３－ビニル安息香酸、４－ビニル安息香酸等が挙げられる。
　これらの中で、透明性、アルカリ可溶性の観点から、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）スクシネート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロイソフタレート、モノ（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロテレフタレートであることが好ましい。
　これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　また、アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーは、必要に応じて構造単位（Ａ－１）～（Ａ－４）以外の構造単位を含んでもよい。
　このような構造単位の原料となるエチレン性不飽和基を有する化合物としては特に制限はなく、例えばスチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルピリジン、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカルバゾール、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等が挙げられる。これらの中で、耐熱性、透明性の観点からスチレン、α－メチルスチレン、ビニルトルエン、Ｎ－ビニルカルバゾールを用いることがさらに好ましい。
　これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーは、その合成方法に特に制限はないが、例えば、構造単位（Ａ－１）の原料となるマレイミド、構造単位（Ａ－２）の原料となる（メタ）アクリレート、及び構造単位（Ａ－３）及び／又は（Ａ－４）の原料となるカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有する化合物、さらには必要に応じてその他のエチレン性不飽和基を有する化合物と適切な重合開始剤（好ましくはラジカル重合開始剤）を用いて共重合させることにより得ることができる。このとき、必要に応じて有機溶剤を反応溶媒として用いることができる。
　本発明において用いられる重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド；１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－２－メチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール；ｐ－メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド；α、α’－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ－ブチルクミルパーオキシド、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド；ビス（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ－２－エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ－２－エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ－３－メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート；ｔ－ブチルパーオキシピバレート、ｔ－ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、２，５－ジメチル－２，５－ビス（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ヘキシルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ－ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシラウリレート、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル；２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２’－ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物等が挙げられる。
　反応溶媒として用いる有機溶剤としては、アルカリ可溶性ポリマーを溶解できるものであれば、特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ－シメン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド等が挙げられる。
　これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
　さらに、アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーは、必要に応じて側鎖にエチレン性不飽和基を含んでいてもよい。その組成や合成方法に特に制限はないが、例えば上記のアルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーに、少なくとも１つのエチレン性不飽和基とエポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の１つの官能基を有する化合物を付加反応させて側鎖にエチレン性不飽和基を導入することができる。
　これらの化合物としては特に制限はなく、グリシジル（メタ）アクリレート、α－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、α－プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、α－ブチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２－プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、α－エチル－６，７－エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエチレン性不飽和基とエポキシ基を有する化合物；（２－エチル－２－オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２－メチル－２－オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、２－（２－エチル－２－オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、２－（２－メチル－２－オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、３－（２－エチル－２－オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート、３－（２－メチル－２－オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート等のエチレン性不飽和基とオキセタニル基を有する化合物；２－（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート等のエチレン性不飽和基とイソシアネート基を有する化合物；２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３－クロロ－２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のエチレン性不飽和基とヒドロキシル基を有する化合物；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、コハク酸（２－（メタ）アクリロイロキシエチル）、２－フタロイルエチル（メタ）アクリレート、２－テトラヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレート、２－ヘキサヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレート、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、３－ビニル安息香酸、４－ビニル安息香酸等のエチレン性不飽和基とカルボキシル基を有する化合物等が挙げられる。
　これらの中でも透明性及び反応性の観点から、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４－エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、イソシアン酸エチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、２－ヘキサヒドロフタロイルエチル(メタ)アクリレートであることが好ましい。これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
　（Ａ）アルカリ可溶性ポリマーの重量平均分子量は、１，０００以上３００，０００以下であることが好ましい。１，０００未満であると分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が不十分であり、３，００，０００より大きい場合には、熱だれによる曲面形状の発現、またアルカリ性水溶液からなる現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が不良である。以上の観点から３，０００以上２００，０００以下とすることがさらに好ましく、５，０００以上１００，０００以下であることが特に好ましい。
　なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
　アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーは、後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ性水溶液を用い現像する場合には、酸価が２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。２０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると現像が困難であり、３００ｍｇＫＯＨ／ｇより多いと耐現像液性が低下する。以上の観点から、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがさらに好ましく、４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。
　水又はアルカリ性水溶液と１種以上の界面活性剤とからなるアルカリ性水溶液を用いて現像する場合には、酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると現像が困難であり、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇより多いと耐現像液性が低下する。以上の観点から、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがさらに好ましく、３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが特に好ましい。
　（Ａ）成分の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０質量％以上８５質量％以下であることが好ましい。１０質量％未満であると、曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が不十分な場合があり、８５質量％より多いと、露光時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化せず、耐現像液性が不足する場合がある。以上の観点から、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが特に好ましい。また、上限値としては、７５質量％以下であることがより好ましく、６５質量％以下であることが特に好ましい。また１０質量％以上６５質量％以下は特に加熱処理による曲面形状発現の面でも優れた範囲である。
［（Ｂ）成分］
　（Ｂ）成分の熱反応する基を有する重合性化合物としては、１分子中に１つのエポキシ基と１つのエチレン性不飽和基を有する化合物を含むことが好ましい。
　これらは、例えば、１分子内にグリシジル基を有するエポキシ樹脂を（メタ）アクリル酸化合物と反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレートを示し、エポキシ基に対し（メタ）アクリル酸化合物を０．１当量以上０．９当量以下反応させたものが好ましく、０．２当量以上０．８当量以下がより好ましい。０．４当量以上０．６当量以下が特に好ましい。
　具体的にはビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＤ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビフェニル型エポキシ（メタ）アクリレート、ナフタレン型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレート等の２官能フェノールグリシジルエーテル；水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添２，２’－ビフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添４，４’－ビフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の水添２官能フェノールグリシジルエーテル由来のものやフェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエン－フェノール型エポキシ（メタ）アクリレート、テトラフェニロールエタン型エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能フェノールグリシジルエーテル由来；ポリエチレングリコール型エポキシ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール型エポキシ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオール型エポキシ（メタ）アクリレート等の２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル由来；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル由来；トリメチロールプロパン型エポキシ（メタ）アクリレート、ソルビトール型エポキシ（メタ）アクリレート、グリセリン型エポキシ（メタ）アクリレート等の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル由来；フタル酸ジグリシジルエステル等の２官能芳香族グリシジルエステル由来；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の２官能脂環式グリシジルエステル由来のエポキシアクロレート等が挙げられる。
　これらの中で、透明性及び高屈折率、耐熱性の観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＤ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビフェニル型エポキシ（メタ）アクリレート、ナフタレン型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレート、フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂肪族環又は芳香族環を含むエポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。中でもその分子中にビスフェノール骨格を有する化合物が好ましい。
　（Ｂ）成分の重合性化合物としては、上記の１分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物の他に、現像性、耐熱性の観点から１分子中に２つ以上のエチレン性不飽和基を含む化合物及び１分子中に２つ以上のエポキシ基を含む化合物の少なくともどちらかを含有していることが好ましい。
　なお、本発明の組成物においては、エポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物を含まない場合もあり得る。
　上記の１分子中に２つ以上のエチレン性不飽和基を含む化合物としては、例えば、（メタ）アクリレート、ハロゲン化ビニリデン、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルピリジン、ビニルアミド、アリール化ビニル等が挙げられるが、これらのうち透明性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルであることが好ましい。（メタ）アクリレートとしては、２官能のもの又は多官能のもののいずれも用いることができる。
　２官能（メタ）アクリレートとしては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３－メチル－１，５－ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０－デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化２－メチル－１，３－プロパンジオールジ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　これらの中でも透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
　３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　これらの中でも透明性及び耐熱性の観点から、複素環式（メタ）アクリレート；芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
　これらの化合物は、単独または２種類以上組み合わせて使用することができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
　エチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、その含有量は、（Ｂ）成分の重合性化合物の総量１００質量部に対し、１０質量部以上９０質量部以下が好ましく、３０質量部以上８０質量部以下がより好ましい。４０質量部以上７０質量部以下が特に好ましい。
　１分子中に２つ以上のエポキシ基を含む化合物を含ませると、（Ａ）成分のアルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーに由来するカルボキシル基との間でいわゆるエポキシカルボキシレート化反応が生じ架橋され、耐熱性や強度が向上する。２官能のもの又は多官能のもののいずれも用いることができる。
　具体的には、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の２官能フェノールグリシジルエーテル；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２’－ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４’－ビフェノール型エポキシ樹脂等の水添２官能フェノールグリシジルエーテル；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン－フェノール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂等の多官能フェノールグリシジルエーテル；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６－ヘキサンジオール型エポキシ樹脂等の２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂等の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂等の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル；フタル酸ジグリシジルエステル等の２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ－ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ－ジグリシジルトリフルオロメチルアニリン等の２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラグリシジル－４，４－ジアミノジフェニルメタン、１，３－ビス（Ｎ，Ｎ－グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｏ－トリグリシジル－ｐ－アミノフェノール等の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２－ビス（ヒドロキシメチル）－１－ブタノールの１，２－エポキシ－４－（２－オキシラニル）シクロヘキサン付加体等の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂等の２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂等が挙げられる。
　これらの中で、透明性及び耐熱性の観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の２官能フェノールグリシジルエーテル；上記水添２官能フェノールグリシジルエーテル；上記多官能フェノールグリシジルエーテル；上記２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル；上記２官能芳香族グリシジルエステル；上記２官能脂環式グリシジルエステル；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能複素環式エポキシ樹脂；上記２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂であることが好ましい。
　これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
　また、（Ｂ）成分の重合性化合物として、さらに、耐熱性の観点から、上記以外の、１分子中に脂環構造、アリール基、アリールオキシ基及びアラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１種、並びにエチレン性不飽和基を含む化合物の１種類以上を用いることが好ましい。具体的には、脂環構造、アリール基、アリールオキシ基及びアラルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む（メタ）アクリレート又はＮ－ビニルカルバゾール等が挙げられる。なお、アリール基とは、例えば、フェニル基、ナフチル基等の芳香族炭素水素基、カルバゾール基等の芳香族複素環式基を表す。
　なお、本発明の組成物においては、（Ｂ）成分の重合性化合物として、エポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物を含まず、上記の化合物を用いる場合もあり得る。
　より具体的には、（Ｂ）成分の重合性化合物として、下記一般式（５）～（８）で表される化合物のうちの少なくとも１つを用いることが好ましい。あるいは、（Ｂ）成分の重合性化合物として、下記一般式（５）～（８）で表されるアリール基及びエチレン性不飽和基を含む化合物のうちの少なくとも１つを用いることも好ましい態様である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
  
（式中、Ａｒは、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
  
のいずれかの基を示す。
　Ｘ2は、Ｏ（酸素原子）、Ｓ（硫黄原子）、ＯＣＨ2、ＳＣＨ2、Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）a、Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］b、ＯＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2Ｏのいずれかの２価の基を示す。
　Ｙ1は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
  
のいずれかの２価の基を示す（結合鎖は各構造の左右に位置する）。Ｒ13は水素原子、メチル基のいずれかを示す。Ｒ14～Ｒ30は、各々独立して水素原子、フッ素原子、炭素数１～２０の有機基、炭素数１～２０の含フッ素有機基のいずれかを示す。ａ及びｂは各々独立して１～２０の整数、ｃは２～１０の整数を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
  
（式中、Ｒ31は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
  
のいずれかの基を示す。Ｒ32～Ｒ34は、各々独立して水素原子、メチル基のいずれかを示す。ｄは１～１０の整数を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
  
（式中、Ｘ3及びＸ4は、各々独立にＯ、Ｓ、Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）e、Ｏ［ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ］fのいずれかの２価の基を示す。
　Ｙ2は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
  
のいずれかの２価の基を示す（結合鎖は各構造の左右に位置する）。
　Ｒ35及びＲ40は、各々独立して水素原子、メチル基のいずれかを示す。Ｒ36～Ｒ39は、各々独立して水素原子、フッ素原子、炭素数１～２０の有機基、炭素数１～２０の含フッ素有機基のいずれかを示す。ｅ及びｆは各々独立して１～２０の整数、ｇは２～１０の整数を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
  
（式中、Ｙ3は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
  
のいずれかの２価の基を示す（結合鎖は各構造の左右に位置する）。Ｒ41及びＲ46は、各々独立して水素原子、メチル基のいずれかを示す。Ｒ42～Ｒ45は、各々独立して水素原子、フッ素原子、炭素数１～２０の有機基、炭素数１～２０の含フッ素有機基のいずれかを示す。ｈは１～５の整数、ｉは２～１０の整数を示す。）
　なお、一般式（５）～（８）における有機基としては、一般式（１）～（４）で説明したものと同様の例が挙げられる。
　（Ｂ）成分の重合性化合物の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５質量％以上９０質量％以下であることが好ましい。１５質量％未満であると、（Ａ）アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーを絡みこんで硬化することが困難であり、耐現像液性が不足する場合がある。また、９０質量％より多いと、硬化フィルムのフィルム強度や可撓性が十分に得られない場合がある。以上の観点から、３０質量％以上８０質量％以下であることがさらに好ましい。
［（Ｃ）成分］
　（Ｃ）成分の重合開始剤としては、加熱又は紫外線等の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤等が挙げられるが、硬化速度が速く常温硬化が可能なことから、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
　熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド；１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－２－メチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１－ビス（ｔ－ヘキシルパーオキシ）－３，３，５－トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール；ｐ－メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド；α、α’－ビス（ｔ－ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ－ブチルクミルパーオキシド、ジ－ｔ－ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド；ビス（４－ｔ－ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ－２－エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ－２－エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ－３－メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート；ｔ－ブチルパーオキシピバレート、ｔ－ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３－テトラメチルブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、２，５－ジメチル－２，５－ビス（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ヘキシルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ－ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ－３，５，５－トリメチルヘキサノエート、ｔ－ブチルパーオキシラウリレート、ｔ－ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシ－２－エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ－ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ－ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５－ジメチル－２，５－ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ－ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル；２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（４－メトキシ－２’－ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物等が挙げられる。
　これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記ジアシルパーオキシド；上記パーオキシエステル；上記アゾ化合物であることが好ましい。
　光ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン等のベンゾインケタール；１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン等のα－ヒドロキシケトン；２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）－ブタン－１－オン、１，２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルフォリノプロパン－１－オン等のα－アミノケトン；１－［（４－フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタジオン－２－（ベンゾイル）オキシム等のオキシムエステル；ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド；２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２－（ｏ－フルオロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｏ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、２－（ｐ－メトキシフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’－テトラメチル－４，４’－ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’－テトラエチル－４，４’－ジアミノベンゾフェノン、４－メトキシ－４’－ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２－エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２－ｔｅｒｔ－ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２－ベンズアントラキノン、２，３－ベンズアントラキノン、２－フェニルアントラキノン、２，３－ジフェニルアントラキノン、１－クロロアントラキノン、２－メチルアントラキノン、１，４－ナフトキノン、９，１０－フェナントラキノン、２－メチル－１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチルアントラキノン等のキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物；９－フェニルアクリジン、１，７－ビス（９、９’－アクリジニルヘプタン）等のアクリジン化合物：Ｎ－フェニルグリシン、クマリン等が挙げられる。
　また、上記２，４，５－トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また。ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン化合物と３級アミンとを組み合わせてもよい。
　これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記α－ヒドロキシケトン；上記ホスフィンオキシドであることが好ましい。これらの熱及び光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
　また、（Ｂ）成分の重合性化合物としてエポキシ樹脂を用いる場合、（Ｃ）成分の重合開始剤としては、熱カチオン重合開始剤や光カチオン重合開始剤等が挙げられるが、硬化速度が速く常温硬化が可能なことから、光カチオン重合開始剤であることが好ましい。
　熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ｐ－アルコキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のベンジルスルホニウム塩；ベンジル－ｐ－シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１－ナフチルメチル－ｏ－シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミル－ｏ－シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート等のピリジニウム塩；ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネート等のベンジルアンモニウム塩等が挙げられる。
　これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記ベンジルスルホニウム塩であることが好ましい。
　光カチオン重合開始剤としては、例えばｐ－メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル－４－チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４－ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４－ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキル－４－ヒドロキシ塩；α－ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ－ヒドロキシイミドスルホネート、α－スルホニロキシケトン、β－スルホニロキシケトン等のスルホン酸エステル等が挙げられる。
　これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記トリアリールスルホニウム塩であることが好ましい。これらの熱及び光カチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
　（Ｃ）成分の重合開始剤の配合量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。０．１質量部未満であると、硬化が不十分の場合があり、１０質量部より多いと十分な光透過性が得られない場合がある。以上の観点から、０．３質量部以上７質量部以下であることがさらに好ましく、０．５質量部以上５質量部以下であることが特に好ましい。
　また、この他に必要に応じて、本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物中には、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤等のいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加してもよい。
［曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物］
　本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤としては、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ－シメン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ－ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチルピロリドン等のアミド等が挙げられる。
　これらの中で、溶解性及び沸点の観点から、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドであることが好ましい。
　これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常２０質量％以上８０質量％以下であることが好ましい。
　曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスを調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、１０ｒｐｍ以上１，０００ｒｐｍ以下であることが好ましい。１０ｒｐｍ未満であると、（Ａ）～（Ｃ）成分、および有機溶剤のそれぞれの成分が十分に混合されないことがあり、１，０００ｒｐｍより速くするとプロペラの回転による気泡の巻き込みが多くなる。以上の観点から５０ｒｐｍ以上８００ｒｐｍ以下であることがより好ましく、１００ｒｐｍ以上５００ｒｐｍ以下であることが特に好ましい。撹拌時間には特に制限はないが、１時間以上２４時間以下であることが好ましい。１時間未満であると、（Ａ）～（Ｃ）成分、および有機溶剤のそれぞれの成分が十分に混合されないことがあり、２４時間より長くすると、ワニス調合時間を短縮することができない。
　調合した曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスは、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍより大きいと、大きな異物等が除去されないで、ワニス塗布時にはじき等を生じることがあり、またレンズ部材を伝搬する光の散乱が抑制されない。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがより好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。
　調合した曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスは、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には、特に制限はなく、具体例としては真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いることができる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間には特に制限はないが、３分以上６０分以下であることが好ましい。３分未満であると、樹脂ワニス内に溶解した気泡を取り除くことができない。６０分より長くすると、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が揮発してしまう。
　本発明の（Ａ）ポリマー、（Ｂ）熱反応基を有する重合性化合物及び（Ｃ）重合開始剤を含有する曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの、温度２５℃における波長８３０～８５０ｎｍの範囲での屈折率は、１．４００以上１．７００以下であることが好ましい。１．４００以上１．７００以下であれば、通常の光学樹脂との屈折率が大きく異ならないため、光学材料としての汎用性が損なわれることがない。以上の観点から、１．４２５以上１．６７５以下であることがさらに好ましく、１．４５０以上１．６５０以下であることが特に好ましい。
　本発明の（Ａ）ポリマー、（Ｂ）熱反応基を有する重合性化合物及び（Ｃ）重合開始剤を含有する曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの波長４００ｎｍでの透過率は８０％以上であることが好ましい。透過率が８０％未満であると、光の透過量が不十分である。以上の観点から透過率が８５％以上であることがさらに好ましい。なお、透過率の上限については特に制限されない。
［曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム］
　本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムは、上記の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物からなり、（Ａ）～（Ｃ）成分を含有する曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスを好適な基材フィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。また、曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を直接基材フィルムに塗布して製造してもよい。
　基材フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマー等が挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
　基材フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３μｍ以上２５０μｍ以下であることが好ましい。３μｍ未満であるとフィルム強度が不十分であり、２５０μｍより厚いと十分な柔軟性が得られない。以上の観点から、５μｍ以上２００μｍ以下であることがさらに好ましく、７μｍ以上１５０μｍ以下であることが特に好ましい。
　なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
　基材フィルム上に曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニス又は曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を塗布して製造した曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、基材フィルム、樹脂層及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
　保護フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン等が挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンであることが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
　保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０μｍ以上２５０μｍ以下であることが好ましい。１０μｍ未満であるとフィルム強度が不十分であり、２５０μｍより厚いと十分な柔軟性が得られない。以上の観点から、１５μｍ以上２００μｍ以下であることがさらに好ましく、２０μｍ以上１５０μｍ以下であることが特に好ましい。
　本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムの樹脂層の厚みについては特に限定されないが、乾燥後の厚みで、通常は５μｍ以上５００μｍ以下であることが好ましい。５μｍ未満であると、厚みが不十分であるため樹脂フィルム又は該フィルムの硬化物の強度が不十分であり、５００μｍより厚いと、乾燥が十分に行えないため樹脂フィルム中の残留溶媒量が増えることになり、該フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがある。感光層の厚さを上記の範囲とすることにより、露光、現像された後にレンズ部材としての性能をより確実に有することができる。塗膜の厚さの調節は、例えば、塗布液の塗布量や溶媒の量を変更することにより行うことができる。
　このようにして得られた曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。または、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
　本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物は、曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物として好適であり、同様に本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムは、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムとして好適である。
［曲面形状部材の形成方法］
　以下、本発明の曲面形状部材（レンズ部材）の製造方法について説明する。
　本発明のレンズ部材を製造する方法としては、特に制限はないが、曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスを用いてスピンコート法などにより製造する方法、又は曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法等が挙げられる。また、これらの方法を組み合わせて製造することもできる。これらの中では、生産性に優れたレンズ部材製造プロセスが提供可能という観点から、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
＜前工程＞曲面形状部材形成用感光性樹脂層作製
　まず、図１の（ａ）（ｂ）に示すように、前工程として基材フィルム３を有する曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを基材１上に積層して曲面形状部材形成用感光性樹脂層２を形成する。
　曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムは、基材１に接するように、圧着しながら積層する。積層方式としては、ロールラミネータ、または平板型ラミネータを用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法が挙げられるが、密着性および追従性の観点から、平板型ラミネータを用いて減圧下で下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することが好ましい。
　なお、本発明において平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式ラミネータを好適に用いることができる。ここでの加熱温度は、４０℃以上１３０℃以下であることが好ましく、圧着圧力は、０．１ＭＰａ以上１．０ＭＰａ以下であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合には、保護フィルムを除去した後に積層する。
　なお、真空加圧式ラミネータによる積層の前に、ロールラミネータを用いて、あらかじめ曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを基材１上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性および追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行ってもよい。ラミネート温度は、２０℃以上１３０℃以下であることが好ましい。２０℃未満であると曲面形状部材形成用感光性樹脂層２と基材１との密着性が悪化し、１３０℃より高いと樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎて、必要とする膜厚が得られない。以上の観点から、４０℃以上１００℃以下であることがより好ましい。圧力は０．２ＭＰａ以上０．９ＭＰａ以下であることが好ましく、ラミネート速度は０．１ｍ／ｍｉｎ以上３ｍ／ｍｉｎ以下であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
　基材１としては、特に制限はなく、例えば、ガラスエポキシ樹脂基板、セラミック基板、ガラス基板、シリコン基板、プラスチック基板、金属基板、樹脂層付き基板、金属層付き基板、プラスチックフィルム、樹脂層付きプラスチックフィルム、金属層付きプラスチックフィルム、電気配線板等が挙げられ、特に、後述する柱状部材形成用樹脂やレンズ部材形成用樹脂を光硬化するための活性光線に対して遮光効果があることが好ましい。
　例えば、柱状部材形成用樹脂を光硬化するための活性光線が紫外光であれば、金属基板、紫外光を透過しないプラスチック基板やガラスエポキシ樹脂基板等が好適に挙げられる。
　基板の厚みには特に制限はないが、強度の確保及び光路の短縮による光ロスの低減の観点から、基板の厚みは５μｍ以上１ｍｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以上１００μｍ以下であることがより好ましい。
＜工程１＞光硬化及びパターンニング工程
　次に、図１の（ｃ）に示すように、工程１としてフォトマスク４を用いて感光層を露光し、柱状部５を形成する。具体的には、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを有するフォトマスクを通して活性光線が画像状に照射される。また、レーザ直接描画を用いてフォトマスクを通さずに直接活性光線を画像上に照射してもよい。活性光線の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射する公知の光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものが挙げられる。
　ここでの活性光線の照射量は、０．０１Ｊ／ｃｍ2以上１０Ｊ／ｃｍ2以下であることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ2未満であると、硬化反応が十分に進行せずに、現像工程によってレンズパターン（柱状部）が流失してしまうことがあり、１０Ｊ／ｃｍ2より多くすると露光量過多によって、熱処理時の熱だれによる曲面形状の発現が起こりにくくなる。以上の観点から、０．０５Ｊ／ｃｍ2以上５Ｊ／ｃｍ2以下であることがより好ましく、０．１Ｊ／ｃｍ2以上３Ｊ／ｃｍ2以下であることが特に好ましい。
　なお、露光後に、柱状部５の解像度及び密着性向上の観点から、露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分以内であることが好ましい。１０分以内であると紫外線照射により発生した活性種が失活することがない。露光後加熱の温度は４０℃以上１６０℃以下であることが好ましく、時間は３０秒以上１０分以下であることが好ましい。
＜工程２＞現像工程
　工程２として、露光後、図１の（ｄ）に示すように、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム２の基材フィルム３を除去し、アルカリ性水溶液、水系現像液等の現像液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング、ディップ及びパドル等の公知の方法により現像する。また、必要に応じて２種類以上の現像方法を併用してもよい。
　上記アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、例えば、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ；リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ；リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩；ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２－アミノ－２－ヒドロキシメチル－１，３－プロパンジオール、１，３－ジアミノプロパノール－２－モルホリン等の有機塩基等が挙げられる。現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９～１１であることが好ましく、その温度はコア部形成用樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
　水系現像液としては、水又はアルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。水系現像液のｐＨは、コア部形成用樹脂フィルムの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８～１２であることが好ましく、ｐＨ９～１０であることが特に好ましい。
　上記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン等のケトン；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル等が挙げられる。
　これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。有機溶剤の濃度は、通常、２～９０質量％であることが好ましく、その温度はコア部形成用樹脂組成物の現像性に合わせて調節される。また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入させてもよい。
　現像後の処理として、必要に応じて水と上記有機溶剤からなる洗浄液を用いて光導波路の柱状部５を洗浄してもよい。有機溶剤は単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。有機溶剤の濃度は通常、２～９０質量％とすることが好ましく、その温度はコア部形成用樹脂組成物の現像性に合わせて調節される。
　現像又は洗浄後の処理として、必要に応じて、６０℃以上２５０℃以下程度の加熱又は０．１ｍＪ／ｃｍ2以上１０００ｍＪ／ｃｍ2以下程度の露光を行うことにより柱状部５さらに硬化して用いてもよい。
＜工程３＞熱処理（熱だれ）工程
　続いて、工程３として基材１上に形成された柱状部５を加熱し、熱だれ、熱硬化工程を同時に行うことで耐熱性に優れたレンズ部材６を得ることができる。加熱する方法としては、熱風放射、赤外線照射加熱等の公知の方法が挙げられ、基板上に形成されたレンズパターンが有効に加熱される方法であれば特に制限されない。
　加熱時の温度は、６０℃以上２００℃以下とすることが好ましく、８０℃以上１８０℃以下とすることがより好ましく、１００℃以上１６０℃以下とすることが特に好ましい。この加熱温度が、６０℃未満では、熱だれ効果が不十分となる傾向があり、２００℃を超えると、感光性樹脂組成物層の構成成分が熱分解する傾向がある。
　以下、本発明の実施例をさらに具体的に説明する。
（実施例１）
［ベースポリマー；（メタ）アクリルポリマー（Ｐ－１）の作製］
　撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４２質量部及び乳酸メチル２１質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド１４，５質量部、ベンジルアクリレート２０質量部、O－フェニルフェノール１．５ＥＯアクリレート３９質量部、２－ヒドロキシエチルメタクリレート１４質量部、メタクリル酸１２．５質量部、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）４質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３７質量部、及び乳酸メチル２１質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ－１）溶液（固形分４５質量％）を得た。
［酸価の測定］
　Ｐ－１の酸価を測定した結果、７９ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、酸価はＰ－１溶液を中和するのに要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
[重量平均分子量の測定］
　Ｐ－１の重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製「ＳＤ－８０２２」、「ＤＰ－８０２０」、「ＲＩ－８０２０」）を用いて測定した結果、２．５×１０４であった。なお、カラムは日立化成株式会社製「Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ａ１５０－Ｓ」及び「Ｇｅｌｐａｃｋ　ＧＬ－Ａ１６０－Ｓ」を使用した。溶離液としてはテトラヒドロフランを用い、サンプル濃度０．５ｍｇ／ｍｌとし、溶出速度を１ｍｌ／分として測定した。
［曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスＬＥＶ－１の調合］
　（Ａ）アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーとして、Ｐ－２溶液（固形分４５質量％）６０質量部、（Ｂ）重合性化合物として、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（新中村化学工業株式会社製「ＥＡ－１０１０Ｎ」）（エポキシ当量５１８ｇ／ｅｑ）４０質量部
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（Ｃ）重合開始剤として、１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア２９５９」）１質量部、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア８１９」）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製「ＰＦ０２０」）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製「Ｊ０５０Ａ」）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度５０ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスＬＥＶ－１を得た。
［曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムＬＥＦ－１の作製］
　上記曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスＬＥＶ－１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡績株式会社製「Ａ１５１７」、厚み１６μｍ）の非処理面上に塗工機（株式会社ヒラノテクシード製「マルチコーターＴＭ－ＭＣ」）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製「Ａ３１」、厚み２５μｍ）を貼付け、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムＬＥＦ－１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、５０μｍとなるように調節した。
（実施例２、３及び比較例１～３）
　表１に示す配合比に従って、曲面形状部材形成用感光性樹脂ワニスＬＥＶ－２～６を調合し、実施例１と同様な方法で、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムＬＥＦ－２～６を作製した。
［波長８５０ｎｍにおける光線透過率の測定］
保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去した前記曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを、スライドガラス（サイズ：７６ｍｍ×２６ｍｍ、厚さ：１ｍｍ）上に前記真空ラミネータを用いて、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。次いで、紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を１０００ｍＪ／ｃｍ2照射し、さらに１６０℃で１時間加熱し、光線透過率測定用のサンプルを作製した。このサンプルの波長８５０ｎｍにおける光線透過率を、分光光度計（株式会社日立ハイテクノロージーズ製「Ｕ－３３１０」）を用いて測定した。
［屈折率の測定］
　シリコン基板（サイズ：６０×２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）上に光線透過率測定用のサンプルと同様にして曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを積層、硬化し、屈折率測定用のサンプルを作製した。このサンプルの波長８３０ｎｍにおける屈折率を、プリズム結合式屈折率計（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製「Ｍｏｄｅｌ２０２０」）を用いて測定した。
［レンズ部材の作製法］
　真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製「ＭＶＬＰ－５００／６００」）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で、保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去した曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムＬＥＦ－１を、ガラスエポキシ樹脂基板（日立化成株式会社製「ＭＣＬ－Ｅ－６７９ＦＢ」、板厚０．６ｍｍ、銅箔はエッチングにより除去）上に積層した。次いで、レンズパターンを有するネガ型フォトマスク４を介し、紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を２５００ｍＪ／ｃｍ2照射して、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム（レンズパターン４）を露光した。支持フィルム（東洋紡績株式会社製「コスモシャインＡ１５１７」）を除去した後、スプレー式現像装置（株式会社山縣機械製「ＲＸ－４０Ｄ」）を用い、１質量％炭酸ナトリウム水溶液にて温度３０℃、スプレー圧０．１５ＭＰａ、現像時間１０５秒の条件で現像し、柱状部５を得た。続いて、純水にて洗浄し、１６０℃で１時間熱硬化及び熱だれさせた。
［レンズ部材断面の評価］
　ダイシングソー（株式会社ディスコ製「ＤＡＤ－３４１」）を用いてレンズ部材を基材方向に対し垂直方向にカットし、得られた断面を観察することで、曲面形状が得られているか評価を行った。
○：柱状部断面が曲面形状
×：柱状部断面が矩形形状
［耐熱性の評価］
　本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を用いて作製したレンズ部材において、リフロー等の熱履歴によるレンズ形状の変化を確認するために、下記のようにして曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物の評価を行った。
［耐熱性評価（１）：樹脂表面形状］
［サンプルの作製法］
　シリコン基板（サイズ：６０×２０ｍｍ、厚さ：０．６ｍｍ）上に光線透過率測定用のサンプルと同様にして曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを積層、紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を２５００ｍＪ／ｃｍ2照射し、１６０℃にて１時間加熱した。さらに熱履歴後の表面状態の観察を容易にするため、蒸着装置（ファースト技研製「ＲＥ－００２５」）を用いてＡｕを０．５μｍ蒸着した。
［評価法］
２００℃にて１時間加熱し、熱履歴後の形状を観察した。
○：Ａｕ蒸着面が平滑
×：Ａｕ蒸着面にしわ、突起発生。
［耐熱性評価（２）：光損失］
［サンプルの作製法］
　１５０ｍｍ×１５０ｍｍのポリイミドフィルム（宇部日東化成株式会社製「ユーピレックスＲＮ」、厚み；２５μｍ）基板に、ドリル加工にて直径２１０μｍのスルーホールを形成し、スルーホール付き基板を得た。次いで、得られた前記基板に５０μｍ厚みの曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを、カバーフィルムを剥離後、真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製「ＭＶＬＰ－５００」）を用い、５００Ｐａ以下に真空引きした後、圧力０．４ＭＰａ、温度１１０℃、加圧時間３０秒の条件にて加熱圧着して、ラミネートすることにより、スルーホール内を曲面形状部材形成用感光性樹脂で埋め込むと同時に前記基板上に曲面形状部材形成用感光性樹脂層を形成した。
　次に、スルーホール開口部から、紫外線露光機を用いて、紫外線（波長３６５ｎｍ）を２５００Ｊ／ｃｍ２照射し、曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム（レンズパターン４）を露光した。支持フィルム（東洋紡績株式会社製「コスモシャインＡ１５１７」）を除去した後、スプレー式現像装置（株式会社山縣機械製「ＲＸ－４０Ｄ」）を用い、１質量％炭酸ナトリウム水溶液にて温度３０℃、スプレー圧０．１５ＭＰａ、現像時間１０５秒の条件で現像し、柱状部を得た。続いて、純水にて洗浄し、１６０℃で１時間熱硬化及び熱だれさせ、スルーホール基板上にレンズ部材を得た。
［評価法］
　得られた基板下面のスルーホールからＧＩ５０マルチモード用光ファイバを用いて８５０ｎｍの光信号を入射し、レンズ部材内へ伝搬、集光させ、レンズ部材垂直延長線上に設置したＧＩ６２．５のマルチモード光ファイバにて受光し、光損失を測定した。光ファイバ先端とレンズ部材間距離は１００μｍとした。このときの値を光損失（Ａ）とし、次いで２００℃、１時間の熱履歴後に測定した値を光損失（Ｂ）とした。
　以上より、熱履歴による光損失増加量（Ｃ）を以下の式に従って算出した。
　（式）（Ｃ）＝（Ｂ）－（Ａ）
　実施例１～３及び比較例１～３の評価結果を表１、実施例２、比較例２のレンズ部材形状を図２（ａ）（ｂ）、実施例２、比較例１の耐熱性試験後の樹脂表面形状を図３（ａ）（ｂ）に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
 1)実施例１で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液（重量平均分子量：２．５×１０４、酸価：８０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
2)ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（新中村化学株式会社製「ＥＡ－１０１０Ｎ」、エポキシ当量５１８ｇ／ｅｑ）
3)ヒドロキシエチルアクリロイルオキシエチルフタル酸（共栄社化学株式会社製「ＨＯＡ－ＭＰＥＨ」、β－ヒドロキシエチル－β′－ アクリロイルオキシル－o－フタレート）
4)エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製「ファンクリルＦＡ－３２４Ａ」）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
  
5)エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製「ファンクリルＦＡ－３２１Ａ」）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
  
6)フェノールビフェニレン型エポキシ樹脂（日本化薬株式会社製「ＮＣ－３０００」、エポキシ当量２７５ｇ／ｅｑ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
  
7)１－［４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル］－２－ヒドロキシ－２－メチル－１－プロパン－１－オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア２９５９」）
8)ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア８１９」）
　実施例１～３に示したように、本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物は、レンズ形成性、透明性に優れており、従来のレンズ材において課題と考えられる耐熱性においても非常に優れている。
　図３（ａ）に示したように、実施例１のフィルムは、２００℃、1時間の熱履歴後も樹脂表面が平滑であることがわかる。それに対して、図３（ｂ）に示す比較例１のフィルムは、熱処理後、樹脂の流動と考えられるしわが生じ、耐熱性に劣ることが確認された。この結果、本発明のベースポリマーと架橋を有する樹脂組成は耐熱性に優れ、レンズ形状の維持に有効であることが考えられる。
　本発明の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物は、レンズ形成性、透明性及び耐熱性に優れ、これらを用いて製造したレンズ部材は光集光性に非常に優れたものである。
１…基材
２…曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム
３…基材フィルム
４…フォトマスク(レンズパターン)
５…柱状部
６…レンズ部材 

Claims (16)

  1. 　（Ａ）ポリマー、（Ｂ）前記ポリマーと熱反応する基を有する重合性化合物、及び、（Ｃ）重合開始剤を含有してなる曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  2. 　（Ａ）ポリマーが、カルボキシル基を有する請求項１に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  3. 　（Ａ）ポリマーが、重量平均分子量１，０００以上３００，０００以下である請求項１又は２に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。　
  4. 　（Ａ）ポリマーが、主鎖にマレイミド骨格を有する請求項１～３のいずれかに記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  5. 　（Ｂ）重合性化合物が、その分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物を含むものである請求項１～４のいずれかに記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  6. 　分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物が、その分子中に脂環又は芳香環を含むものである請求項５に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  7. 　分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物が、分子中に１つのエポキシ基と１つのエチレン性不飽和基を有するものである請求項５又は６に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  8. 　分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を有する化合物が、その分子中にビスフェノール骨格を有するものである請求項５～７のいずれかに記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  9. 　（Ｂ）成分として、分子中にエポキシ基とエチレン性不飽和基を含む化合物以外に、分子中に２以上のエチレン性不飽和基を含む化合物を含有し、さらに、その他の成分として、分子中に２以上のエポキシ基を含む化合物を含有する請求項５～８のいずれかに記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  10. 　（Ａ）成分の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１０質量％以上８５質量％以下であり、（Ｂ）成分の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１５質量％以上９０質量％以下であり、（Ｃ）成分の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下である請求項１～９のいずれかに記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  11. 　（Ａ）成分の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１０質量％以上６５質量％以下であり、（Ｂ）成分の配合量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して３５質量％以上９０質量％以下である請求項１０に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物。
  12. 　工程１：曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物の層を形成し、露光により所望のパターン形状に前記曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を光硬化する工程、
    　工程２：前記曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物の未硬化部分を現像除去し、曲面形状部材形成用柱状部材を形成する工程、
    　工程３：前記曲面形状部材形成用柱状部材を加熱し、熱だれさせて凸状の曲面形状を形成する工程を有する曲面形状の製造方法に使用される請求項１～１１のいずれかに記載の曲面形状部材形成用樹脂組成物。
  13. 　請求項１～１２のいずれかに記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物を用いて得られる樹脂層を含む曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム。
  14. 　基材フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造の請求項１３に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルム。
  15. 　請求項１～１２のいずれかに記載の曲面形状部材形成用樹脂組成物又は請求項１３若しくは請求項１４に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを使用する曲面形状部材の製造方法であって、請求項１２に記載の工程１、工程２及び工程３の各工程を有する曲面形状部材の製造方法。
  16. 　請求項１～１２のいずれかに記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂組成物又は請求項１３若しくは請求項１４に記載の曲面形状部材形成用感光性樹脂フィルムを使用して得られるか、或いは、請求項１５に記載の製造方法により得られるレンズ。
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