WO2015005003A1 - 感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法 - Google Patents

感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法 Download PDF

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photosensitive
photosensitive layer
transparent support
light
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岡本康裕
白井英行
野村秀昭
須藤淳
北村靖彦
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富士フイルム株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a photosensitive material, a conductive sheet, and a method for manufacturing a conductive sheet, and more particularly to a photosensitive material, a conductive sheet, and a method for manufacturing a conductive sheet that are suitable for use in a projected capacitive touch panel.
  • JP-A-2011-210579 discloses that a silver salt photosensitive material in which a photosensitive layer containing a silver halide emulsion (hereinafter referred to as a silver halide emulsion layer) is coated on a transparent support is exposed and developed.
  • a silver halide emulsion layer a photosensitive layer containing a silver halide emulsion (hereinafter referred to as a silver halide emulsion layer) is coated on a transparent support is exposed and developed.
  • pattern portions having different patterns are formed on both surfaces of a transparent support. Specifically, the following method is described.
  • a silver halide emulsion layer is coated on one side of a transparent support.
  • B) A silver pattern is obtained by exposing and developing the silver halide emulsion layer obtained in (a) above.
  • C) A silver halide emulsion layer is coated on the transparent support opposite to the silver pattern formed on one side of the transparent support.
  • D) The silver halide emulsion layer on the opposite surface obtained in (c) above is exposed and developed in a pattern different from that in (b) above, thereby obtaining a silver pattern on the opposite surface side of the transparent support.
  • a silver salt photosensitive material having at least a physical development nucleus layer and a silver halide emulsion layer is exposed on a transparent support, and silver salt is exposed. It describes a method of forming a silver pattern by carrying out development processing according to the diffusion transfer method and then removing at least the unnecessary silver halide emulsion layer by washing with water.
  • an antihalation agent is applied to an intermediate layer provided between the silver halide emulsion layer and the physical development nucleus layer.
  • An irradiation inhibitor is included in the silver halide emulsion layer.
  • the present invention has been made in consideration of such problems, and is suitable for forming a conductive pattern on both surfaces of a transparent support by a silver salt diffusion transfer method, and provides a photosensitive material having good coating properties.
  • the purpose is to do.
  • Another object of the present invention is to provide a conductive sheet and a method for manufacturing the conductive sheet that can reduce the cost without forming the outline of the conductive pattern even if the conductive pattern is formed by the silver salt diffusion transfer method. Is to provide.
  • the photosensitive material according to the first aspect of the present invention includes a transparent support having a front surface and a back surface, a first photosensitive layer formed on the surface of the transparent support, and a first support layer formed on the back surface of the transparent support.
  • the light-shielding substance is non-diffusible.
  • a light-shielding layer that is erased by development processing is provided between the first photosensitive layer and the second photosensitive layer, and the light-shielding substance in the light-shielding layer is non-diffusible. It is suitable for forming conductive layers (conductive patterns) having the same pattern or different patterns on both surfaces of the transparent support. Further, since it is not necessary to increase the amount of the water-soluble dye in order to prevent halation, the coatability is also improved. Moreover, the disadvantages of the silver salt diffusion transfer method, that is, the increase in cost, difficulty in reducing the line width of the conductive pattern, and the low transmittance can be suppressed as much as possible, and contribute to the spread of the silver salt diffusion transfer method. Can do.
  • the light shielding layer may be formed between the first photosensitive layer and the transparent support, or between the second photosensitive layer and the transparent support.
  • the light shielding layer may be formed between the first photosensitive layer and the transparent support and between the second photosensitive layer and the transparent support, respectively.
  • the first physical development nucleus layer formed on the surface of the transparent support, the first intermediate layer laminated on the first physical development nucleus layer, and the first intermediate layer are laminated.
  • a photosensitive layer, and at least one of the first intermediate layer and the second intermediate layer may constitute a light shielding layer.
  • the light shielding substance contained in the light shielding layer may be a solid disperse dye fixed to the light shielding layer.
  • the light-shielding substance has a dissociative hydrogen or a group having a dissociative hydrogen, and is non-dissociated and substantially water-insoluble in the exposure process, and is developed.
  • the treatment may dissociate and have substantially water-soluble properties.
  • At least the first photosensitive layer and the second photosensitive layer may contain a water-soluble dye.
  • the conductive material according to the first aspect of the present invention is subjected to exposure processing and development processing, whereby conductive patterns are formed on the front and back surfaces of the transparent support, respectively. It is characterized by.
  • the conductive sheet has the same pattern or different patterns of conductive layers (conductive patterns) on the front and back surfaces of one transparent support. This eliminates the need for operations such as positioning and bonding two conductive sheets, for example, simplifying the manufacturing process of the conductive sheet, reducing costs, and reducing the height of the touch panel using the conductive sheet, for example. Can be planned.
  • a method for producing a conductive sheet according to a third aspect of the present invention includes a step of preparing the photosensitive material according to the first aspect of the present invention, and a first photosensitive layer of the photosensitive material toward a transparent support.
  • a developing process for developing the first photosensitive layer and the second photosensitive layer after the exposure process collectively, and conductive patterns were formed on the front and back surfaces of the transparent support, respectively.
  • a conductive sheet is produced.
  • a conductive sheet having the same pattern or different patterns of conductive layers (conductive patterns) on the front and back surfaces of one transparent support Therefore, for example, work such as positioning and bonding two conductive sheets becomes unnecessary, simplification of the production process of conductive sheets, reduction of cost, improvement of productivity of conductive sheets, in particular, silver salt diffusion transfer method.
  • the productivity of the used conductive sheet can be improved.
  • the second photosensitive layer and the like are formed on the back side.
  • Two photosensitive layers are exposed and developed to form a conductive pattern on the back side.
  • the conductive pattern on the front side may be corroded by the coating solution, etc., so it is covered with a film (protect film) for protecting the conductive pattern on the front side.
  • the photomask Prior to exposure, the photomask is positioned relative to the photosensitive material.
  • the photomask prior to exposure of the surface of the photosensitive material, the photomask is positioned relative to the surface to form a conductive pattern on the surface. Thereafter, prior to exposure of the back surface of the photosensitive material, it is necessary to position the photomask with respect to the back surface.
  • the process is complicated and the man-hour is increased, and the cost is increased.
  • the first photosensitive layer and the second photosensitive layer are subjected to exposure processing and then collectively developed to form a conductive pattern on the surface of the transparent support, and the conductive pattern on the back surface. Can be formed. Therefore, it is not necessary to cover the conductive pattern with a film (protective film) for protecting the conductive pattern, and prior to the exposure of the front and back surfaces of the photosensitive material, the photomask can be positioned on the front and back surfaces at once. . In addition, development processing on the front and back surfaces of the photosensitive material can be performed collectively. As a result, the process can be simplified and the number of steps can be reduced, and the cost can be reduced.
  • the first exposure process for the first photosensitive layer and the second exposure process for the second photosensitive layer may be performed simultaneously.
  • the first physical development nucleus layer is formed by dissolving and diffusing the silver halide in the first photosensitive layer and the second photosensitive layer, respectively.
  • a development processing step for reducing and precipitating on the physical development nuclei in the second physical development nucleus layer, and a water washing removal step for removing the first photosensitive layer and the second photosensitive layer that are no longer needed by washing with water. Also good.
  • the photosensitive material according to the present invention is suitable for forming conductive layers (conductive patterns) having the same pattern or different patterns on both surfaces of the transparent support by the silver salt diffusion transfer method.
  • conductive layers conductive patterns
  • simultaneous exposure in which the first exposure process for the first photosensitive layer and the second exposure process for the second photosensitive layer are performed simultaneously.
  • the coatability is also improved.
  • the disadvantages of the silver salt diffusion transfer method that is, the cost increase, the difficulty of reducing the line width of the conductive pattern, and the low transmittance can be suppressed as much as possible, thereby contributing to the popularization of the silver salt diffusion transfer method. Can do.
  • the conductive sheet according to the present invention has the same pattern or different patterns of conductive layers (conductive patterns) on the front and back surfaces of one transparent support. This eliminates the need for operations such as positioning and bonding two conductive sheets, for example, simplifying the manufacturing process of the conductive sheet, reducing costs, and reducing the height of the touch panel using the conductive sheet, for example. Can be planned.
  • the method for producing a conductive sheet according to the present invention it is possible to easily produce a conductive sheet having the same pattern or different patterns of conductive layers (conductive patterns) on the front and back surfaces of one transparent support. Therefore, for example, work such as positioning and bonding two conductive sheets becomes unnecessary, simplification of the production process of conductive sheets, reduction of cost, improvement of productivity of conductive sheets, in particular, silver salt diffusion transfer method. The productivity of the used conductive sheet can be improved.
  • FIG. 3A is an explanatory view showing a state in which the first photosensitive layer and the second photosensitive layer are simultaneously exposed
  • FIG. 3B is a development process, in particular, dissolves silver halide in a portion where an image is formed
  • FIG. 3C is an explanatory view showing a development processing step of diffusing, reducing and precipitating on the physical development nuclei
  • FIG. 3C is obtained by removing the unnecessary first and second photosensitive layers by washing with water.
  • FIG. 5A is an explanatory view showing a state where the first photosensitive layer is exposed
  • FIG. 5B is an explanatory view showing a state where the second photosensitive layer is exposed.
  • FIGS. 1 to 5B embodiments of the photosensitive material, the conductive sheet, and the method for manufacturing the conductive sheet according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5B.
  • ⁇ indicating a numerical range is used as a meaning including numerical values described before and after the numerical value as a lower limit value and an upper limit value.
  • the photosensitive material 10 includes a transparent support 12 having a front surface 12a and a back surface 12b, a first photosensitive layer 14a formed on the front surface 12a of the transparent support 12, and a transparent
  • the photosensitive material 10 has a second photosensitive layer 14b formed on the back surface 12b of the support 12, and is subjected to exposure processing and development processing.
  • the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b are photosensitive layers (silver halide emulsion layers) each containing a silver halide emulsion.
  • a first adhesive layer 16a, a first physical development nucleus layer 18a laminated on the first adhesive layer 16a, and a first physical development nucleus layer 18a are laminated on the surface 12a of the transparent support 12.
  • the second adhesive layer 16b On the back surface 12b of the transparent support 12, the second adhesive layer 16b, the second physical development nucleus layer 18b laminated on the second adhesive layer 16b, and the second adhesive layer 16b laminated on the second physical development nucleus layer 18b.
  • the first adhesive layer 16a, the second adhesive layer 16b, the first protective layer 22a and the second protective layer 22b are non-photosensitive layers formed as necessary.
  • the first adhesive layer 16a is formed for the purpose of improving the adhesiveness between the transparent support 12 and the first conductive pattern 24a after development (see FIG. 3C).
  • the second adhesive layer 16b is provided for the purpose of improving the adhesion between the transparent support 12 and the second conductive pattern 24b after development (see FIG. 3C).
  • the first protective layer 22a and the second protective layer 22b are for the purpose of suppressing the diffusion of silver in the silver salt photosensitive material out of the system during the development process and increasing the efficiency of silver deposition on the physical development nuclei. It is formed.
  • the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b are non-photosensitive layers that function as water-washing removal promoting layers, and are provided for the purpose of easily removing unnecessary silver halide emulsion layers. Further, each of the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b constitutes a light shielding layer 26 that is decolored by development processing.
  • the light shielding material in the light shielding layer 26 has non-diffusibility. Although details of the light shielding material will be described later, the light shielding material contained in the light shielding layer 26 is fixed to the light shielding layer 26 and has an absorption maximum in the photosensitive wavelength region of the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b, for example.
  • Is a non-sensitizing solid disperse dye having The light-shielding substance has a dissociative hydrogen or a group having dissociable hydrogen, and is non-dissociated and substantially water-insoluble in the exposure process, and dissociated in the development process. Has water-soluble properties.
  • the light irradiated to the first photosensitive layer 14a is absorbed and shielded by the light shielding material of the first intermediate layer 20a. This prevents halation at the interface between the first photosensitive layer 14a and the first intermediate layer 20a, and the light does not reach the second photosensitive layer 14b.
  • the light irradiated to the second photosensitive layer 14b is absorbed and shielded by the light shielding material of the second intermediate layer 20b. For this reason, halation at the interface between the second photosensitive layer 14b and the second intermediate layer 20b is prevented, and light does not reach the first photosensitive layer 14a.
  • the light shielding substances of the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b are dissociated and become water-soluble. For this reason, the light shielding material melts from the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b, the light shielding function in the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b is lost, and the color is erased (decolored). . Thereby, the part in which the conductive pattern is not formed among the transparent supports 12 functions as a light transmission part.
  • a water-soluble dye may be included in at least the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b. Thereby, the irradiation in the 1st photosensitive layer 14a and the 2nd photosensitive layer 14b can be prevented.
  • the photosensitive material 10 shown in FIG. 1 described above is prepared in step S1 of FIG.
  • step S2 of FIG. 2 the photosensitive material 10 is exposed.
  • the first exposure process and the second exposure process are performed simultaneously (simultaneous double-side exposure).
  • the first photosensitive layer 14a is irradiated with light toward the transparent support 12 to expose the first photosensitive layer 14a along the first exposure pattern.
  • the second photosensitive layer 14b is irradiated with light toward the transparent support 12 to expose the second photosensitive layer 14b along the second exposure pattern.
  • the first photosensitive layer 14a is irradiated with the first light 28a (for example, parallel light) through the first photomask 30a
  • the second photosensitive layer 14b is irradiated with the second light 28b (for example, parallel light). Irradiation is performed through the second photomask 30b.
  • a portion of the first photosensitive layer 14a corresponding to the position of the opening 32a of the first photomask 30a is exposed to form a latent image.
  • a portion of the second photosensitive layer 14b corresponding to the position of the opening 32b of the second photomask 30b is exposed to form a latent image.
  • step S3 of FIG. 2 the front surface and the back surface of the photosensitive material 10 after exposure are collectively developed.
  • a development processing step step S3a
  • a water washing removal step step S3b
  • the silver halide in the portion where the image is formed is dissolved, diffused, reduced and deposited on the physical development nuclei.
  • the washing and removing step the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b (silver halide layer) that are no longer needed are washed and removed.
  • step S3a the halogens in the portions of the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b that are not irradiated with light in the exposure processing (portions that form an image).
  • Silver halide dissolves.
  • the dissolved silver halide diffuses into the first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b through the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b, respectively.
  • the diffused silver halide is reduced on the physical development nuclei to deposit silver, and a pattern of silver metal (silver pattern 34) is formed. That is, the silver pattern 34 is formed by the first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b.
  • the first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b such as the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b that are no longer necessary after the development processing are formed.
  • the layer provided on is removed.
  • the first conductive pattern 24a made of silver was formed on the front surface 12a of the transparent support 12, and the second conductive pattern 24b made of silver was formed on the back surface 12b of the transparent support 12.
  • a conductive sheet 36 is obtained.
  • the treatment liquid for removing with water contains water as a main component.
  • this treatment liquid may contain a buffer component, and may contain a preservative for the purpose of preventing the removed gelatin from being spoiled.
  • a scrubbing roller or the like can be used alone or in combination with a treatment method such as a shower method or a slit method. Also, a plurality of showers and slits can be provided to increase the removal efficiency.
  • a method of transferring and peeling with release paper, etc. excess developer on the silver halide emulsion layer is squeezed out beforehand with a roller, etc., and the silver halide emulsion layer and the release paper are brought into close contact with each other to remove the silver halide emulsion layer etc.
  • a plastic resin film is transferred to a release paper and peeled off.
  • the release paper water-absorbing paper or non-woven fabric, or paper having a water-absorbing void layer provided on a fine particle pigment such as silica and a binder such as polyvinyl alcohol on the paper is used.
  • step S101 the above-described photosensitive material 10 shown in FIG. 1 is prepared.
  • step S102 the surface side of the photosensitive material 10 is exposed.
  • the first photosensitive layer 14a is exposed along the first exposure pattern by irradiating the first photosensitive layer 14a with light toward the transparent support 12 (first exposure pattern). Exposure processing). Also in this case, the first photosensitive layer 14a is irradiated with the first light 28a (for example, parallel light) through the first photomask 30a. At this time, a portion of the first photosensitive layer 14a corresponding to the position of the opening 32a of the first photomask 30a is exposed to form a latent image.
  • the first light 28a for example, parallel light
  • step S103 the back side of the photosensitive material 10 is exposed.
  • the second photosensitive layer 14b is irradiated with light toward the transparent support 12 to expose the second photosensitive layer 14b along the second exposure pattern (second exposure pattern). Exposure processing). Also in this case, the second photosensitive layer 14b is irradiated with the second light 28b (for example, parallel light) through the second photomask 30b. At this time, a portion of the second photosensitive layer 14b corresponding to the position of the opening 32b of the second photomask 30b is exposed to form a latent image.
  • the second light 28b for example, parallel light
  • step S104 of FIG. 4 the front surface and the back surface of the photosensitive material 10 after the exposure are collectively developed.
  • the development processing step step S104a
  • a water washing removal step step S104b
  • the 1st conductive pattern 24a by silver is formed in the surface 12a of the transparent support body 12
  • the 2nd conductive pattern 24b by silver is formed in the back surface 12b of the transparent support body 12 (refer FIG. 3C).
  • the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b each constitute the light shielding layer 26 that is decolored by the development process.
  • the light shielding material in the light shielding layer 26 is non-diffusible, it is suitable for forming conductive layers (conductive patterns) having the same pattern or different patterns on both surfaces of the transparent support 12 by the silver salt diffusion transfer method. ing. Further, since it is not necessary to increase the amount of the water-soluble dye in order to prevent halation, the coatability is also improved.
  • the disadvantages of the silver salt diffusion transfer method that is, the cost increase, the difficulty of reducing the line width of the conductive pattern, and the low transmittance can be suppressed as much as possible, thereby contributing to the popularization of the silver salt diffusion transfer method. Can do.
  • first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b each contain a solid disperse dye.
  • first intermediate layer 20a or the second intermediate layer 20b may contain a solid disperse dye.
  • the conductive sheet 36 having the same pattern or different patterns of conductive layers (conductive patterns) on the front surface 12a and the back surface 12b of one transparent support 12 can be easily manufactured. It can. Therefore, for example, the work of positioning and bonding the two conductive sheets 36 becomes unnecessary, the manufacturing process of the conductive sheet 36 is simplified, the cost is reduced, the productivity of the conductive sheet 36 is improved, in particular, silver salt diffusion The productivity of the conductive sheet 36 using the transfer method can be improved.
  • the development process is performed in a lump and transparent
  • the first conductive pattern 24a can be formed on the front surface 12a of the support 12 and the second conductive pattern 24b can be formed on the back surface 12b simultaneously.
  • the first photosensitive layer formed on the surface of the transparent support is exposed to light and developed to form the first conductive pattern, and then the second photosensitive layer is formed on the back surface.
  • the second conductive pattern is formed by exposing and developing the photosensitive layer and the like.
  • the first conductive pattern may be corroded by a coating solution or the like. Therefore, it is necessary to cover with a film (protective film) for protecting the first conductive pattern.
  • the photomask Prior to exposure, the photomask is positioned relative to the photosensitive material. Conventionally, prior to exposure of the photosensitive material surface, the photomask is positioned relative to the surface to form a first conductive pattern on the surface. . Thereafter, prior to exposure of the back surface of the photosensitive material, it is necessary to position the photomask with respect to the back surface.
  • the development process is collectively performed, and the first conductive pattern is formed on the surface 12a of the transparent support 12.
  • the second conductive pattern 24b can be formed on the back surface 12b. Therefore, it is not necessary to cover the conductive pattern with a film (protective film) for protecting the conductive pattern, and prior to the exposure of the front and back surfaces of the photosensitive material 10, the photomask can be positioned together with respect to the front and back surfaces. it can.
  • development processing on the front and back surfaces of the photosensitive material 10 can be performed collectively. As a result, the process can be simplified and the number of steps can be reduced, and the cost can be reduced.
  • conductive layers (first conductive pattern 24a and second conductive pattern 24b) of the same pattern or different patterns are provided on the front surface 12a and the back surface 12b of one transparent support 12, respectively.
  • conductive layers (first conductive pattern 24a and second conductive pattern 24b) of the same pattern or different patterns are provided on the front surface 12a and the back surface 12b of one transparent support 12, respectively.
  • Transparent support 12 examples of the transparent support 12 include a plastic film, a plastic plate, and a glass plate.
  • polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN); polyolefins such as polyethylene (PE), polypropylene (PP), polystyrene and EVA; Resin;
  • polycarbonate (PC) polyamide, polyimide, acrylic resin, triacetyl cellulose (TAC), cyclic olefin copolymer (COC), cycloolefin polymer (COP), and the like can be used.
  • PET melting point: 258 ° C
  • PEN melting point: 269 ° C
  • PE melting point: 135 ° C
  • PP melting point: 163 ° C
  • polystyrene melting point: 230 ° C
  • polyvinyl chloride Melting point: 180 ° C
  • polyvinylidene chloride melting point: 212 ° C
  • TAC melting point: 290 ° C
  • PET is preferable. Since the conductive sheet 36 for a touch panel is required to be transparent, the transparency of the transparent support 12 is preferably high.
  • the halide contained in the silver halide of the silver halide emulsion layer used in this embodiment may be any of chloride, bromide, iodide, and fluoride, or a combination thereof.
  • well-known methods such as forward mixing, back mixing, and simultaneous mixing are used.
  • the so-called controlled double jet method which is a kind of simultaneous mixing method and keeps pAg in a liquid phase to be formed constant, is preferable in that silver halide emulsion grains having a uniform particle diameter can be obtained.
  • the average grain size of preferable silver halide emulsion grains is 0.25 ⁇ m or less, and particularly preferably 0.05 to 0.2 ⁇ m.
  • the shape of the silver halide grains is not particularly limited.
  • various shapes such as a spherical shape, a cubic shape, a flat plate shape (hexagon flat plate shape, a triangular flat plate shape, a quadrangular flat plate shape, etc.), an octahedron shape, a tetrahedron shape, etc. Is mentioned.
  • group VIII such as sulfites, lead salts, thallium salts, rhodium salts or complex salts thereof, iridium salts or complex salts thereof in the process of silver halide grain formation or physical ripening as necessary.
  • a metal element salt or a complex salt thereof may coexist.
  • Sensitization can be performed with various chemical sensitizers, and general methods such as sulfur sensitization, selenium sensitization, and noble metal sensitization can be used alone or in combination.
  • the silver halide emulsion layer can be spectrally sensitized as necessary. Further, the silver halide emulsion does not necessarily have to be negative photosensitive, and may be a direct reversal emulsion having positive sensitivity if necessary. Thereby, a negative type can be converted into a positive type, and a positive type can be converted into a negative type. Direct inversion emulsions can be prepared by the methods described in, for example, JP-A-8-17120 and JP-A-8-202041.
  • the silver coating amount of the silver halide emulsion layer is preferably at least 0.01 g (in terms of silver nitrate) / m 2 or more in order to form the silver pattern 34.
  • 2.0 to 4.0 g (in terms of silver nitrate) / m 2 is preferable. If the amount of coated silver is too large, there is a problem that a long development time is required or the photosensitivity of silver halide emulsion grains on the side close to the transparent support 12 is lowered. Conversion) / m 2 should be the upper limit.
  • the silver halide emulsion layer contains a water-soluble polymer compound as a binder.
  • Preferred binders include, for example, gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polyvinylamine, chitosan, polylysine, polyacrylic acid, polyalginic acid, poly Examples include hyaluronic acid and carboxycellulose.
  • a water-soluble polymer compound cross-linking agent may be used as necessary, but in the present embodiment, in the development process, at least the silver halide emulsion layer that has become unnecessary after development is removed by washing with water. In the case of using a water-soluble polymer compound cross-linking agent, it can be used within a range that does not hinder the removal by washing.
  • At least the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b may contain a water-soluble dye for the purpose of preventing irradiation.
  • Such water-soluble dyes include oxonol dyes, benzylidene dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes and azo dyes. Of these, oxonol dyes, hemioxonol dyes and benzylidene dyes are useful. Specific examples that can be used as the water-soluble dye include British Patent No. 584,609, British Patent No. 1,177,429, Japanese Patent Laid-Open No. 48-85130, Japanese Patent Laid-Open No. 49-99620, JP-A-49-114420, JP-A-52-20822, JP-A-59-154439, JP-A-59-208548, US Pat. No.
  • the first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b used in the present embodiment contain at least physical development nuclei.
  • the physical development nuclei fine particles (having a particle size of about 1 to several tens of nanometers) made of heavy metal or a sulfide thereof are used. Examples thereof include colloids such as gold and silver, metal fluids obtained by mixing water-soluble salts such as palladium and zinc, and sulfides.
  • the fine particle layer of these physical development nuclei can be provided on the transparent support 12 by a coating method or an immersion treatment method. From the viewpoint of production efficiency, a coating method is preferably used.
  • the content of physical development nuclei in the first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b is suitably about 0.1 to 10 mg / m 2 in terms of solid content.
  • first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b can also contain a water-soluble polymer compound.
  • the addition amount of the water-soluble polymer compound is preferably about 10 to 500% by mass with respect to the physical development nucleus.
  • the water-soluble polymer compound gelatin, gum arabic, cellulose, albumin, casein, sodium alginate, various starches, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylamide, a copolymer of acrylamide and vinyl imidazole, and the like can be used.
  • water-soluble polymers having amino groups are preferable.
  • examples of the water-soluble polymer having a primary amino group or a secondary amino group include the following water-soluble polymers.
  • Examples of the homopolymer include polyvinylamine, polyallylamine, polydiallylamine and the like.
  • Examples of the copolymer obtained by copolymerizing a plurality of types of monomers having an amino group and an ethylenically unsaturated double bond include a copolymer of allylamine and diallylamine.
  • Examples of a copolymer formed by copolymerizing a monomer having no amino group and ethylenically unsaturated double bond and a monomer having an amino group and ethylenically unsaturated double bond for example, diallylamine and maleic anhydride
  • Examples thereof include a copolymer and a copolymer of diallylamine and sulfur dioxide. Of these, polyethyleneimine is most preferred.
  • a preferred addition amount of the hydrophilic polymer is 10 to 100 mg / m 2 , more preferably 30 to 70 mg / m 2 .
  • the first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b used in the present embodiment can contain a crosslinking agent.
  • the crosslinking agent include aldehydes such as formalin, glyoxal, malealdehyde and glutaraldehyde, N-methylol compounds such as urea and ethylene urea, aldehyde equivalents such as mucochloric acid and 2,3-dihydroxy-1,4-dioxane.
  • dialdehydes such as glyoxal, glutaraldehyde, 3-methylglutaraldehyde, succinaldehyde, and adipaldehyde are preferred, and more preferred are glyoxal and glutaraldehyde.
  • the cross-linking agent is preferably contained in an amount of 1 to 20 mg / m 2 , particularly preferably 3 to 10 mg / m 2 .
  • a preferable addition amount of the compound having two or more epoxy groups in the molecule is 3 to 80 mg / m 2 .
  • first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b are described in ResearchReDisclosure Item 17643 (December 1978) and 18716 (November 1979), 308119 (December 1989). Such known photographic additives can be incorporated.
  • the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b are non-photosensitive layers that function as washing removal promoting layers, and are provided for the purpose of facilitating removal of unnecessary silver halide emulsion layers, and therefore the first photosensitive layer 14a. And the first physical development nucleus layer 18a, and between the second photosensitive layer 14b and the second physical development nucleus layer 18b.
  • the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b can use a water-soluble polymer compound as a binder.
  • any compound can be selected as long as it easily swells with a developer and easily penetrates the developer.
  • Preferred binders include, for example, gelatin, polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl pyrrolidone (PVP), starch and other polysaccharides, cellulose and derivatives thereof, polyethylene oxide, polyvinylamine, chitosan, polylysine, polyacrylic acid, polyalginic acid, poly Examples include hyaluronic acid and carboxycellulose.
  • the coating amount of the water-soluble polymer compound is preferably 1.0 g / m 2 or less. If the coating amount of the water-soluble polymer compound is too large, the distance between the first photosensitive layer 14a and the first physical development nucleus layer 18a and the distance between the second photosensitive layer 14b and the second physical development nucleus layer 18b are long. Therefore, when the silver pattern 34 is deposited, there is a problem that the amount of deposited silver is reduced or the image quality is lowered. Therefore, about 0.3 g / m 2 is preferable.
  • first intermediate layer 20a and second intermediate layer 20b are used for preventing halation during exposure processing and for preventing irradiation light during exposure from passing through the transparent support 12 and reaching other photosensitive layers. It is preferable to contain a solid disperse dye.
  • the solid disperse dye used in the present embodiment is a dye (including an ultraviolet absorber) having a peak at a wavelength of 300 to 420 nm, more preferably a peak at 350 to 410 nm.
  • a dye including an ultraviolet absorber
  • Specific examples include JP-A-62-210458, JP-A-63-104046, JP-A-63-103235, JP-A-63-208846, JP-A-01-061745, Examples thereof include dyes described in Japanese Utility Model Laid-Open Nos. 63-306436 and 63-314535.
  • Examples of the compound having an absorption peak at a wavelength of 300 to 420 nm preferably used in the present embodiment include benzotriazole compounds substituted with an aryl group, 4-thiazolidone compounds, benzophenone compounds, cinnamic acid ester compounds, butadiene compounds, and benzoxazoles.
  • a compound, and further an ultraviolet absorbing polymer can be used.
  • Particularly preferred solid disperse dyes are compounds represented by the following general formula (Da), (Db), (Dc) or (Dd), and have an absorption maximum of 300 to 420 nm. A compound.
  • X and Y represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cyanoalkyl group, a carboxyalkyl group, a sulfoalkyl group, a hydroxyalkyl group, a halogenated alkyl group, an optionally substituted alkyl group, or a sodium / potassium salt thereof.
  • R 2 ′ and R 3 ′ represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a hydroxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, or a group similar to the aforementioned —OX group.
  • Q represents at least one halogen atom, a carboxy group, a sulfo group, or a sulfoalkyl group, or a phenyl group substituted with a sodium / potassium salt thereof, a sulfoalkyl group, a sulfoalkoxyalkyl group, or a sulfoalkylthioalkyl group.
  • L represents an optionally substituted methine group.
  • R4 ' represents an alkyl group, a carboxy group, an alkyloxycarbonyl group, or an acyl-substituted or unsubstituted amino group.
  • m represents an integer 1 or 2
  • n represents an integer 0 or 1, respectively.
  • R5 ′, R6 ′, R8 ′, R9 ′ and R10 ′ are hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, hydroxyl group, alkoxy group, amino group, acylamino group, carboxyl group or sulfone group, or sodium / potassium thereof.
  • R7 ′ represents an alkyl group or a carboxyl group.
  • R11 ′ and R12 ′ represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group or a carboxyl group
  • R13 ′ and R14 ′ represent an alkyl group or sulfone substituted with a sulfonic acid group or a carboxyl group.
  • L represents a substituted or unsubstituted methine chain.
  • M represents a sodium, potassium or hydrogen atom.
  • k represents 0 or 1.
  • R1 ′′, R2 ′′, R3 ′′, and R4 ′′ represent an alkyl group, a hydroxyalkyl group, a cyano group, an alkylcyano group, an alkoxy group, and a sulfoalkyl group.
  • R5 ′′ and R6 ′′ each represent a sulfonic acid group or an alkylsulfonic acid group.
  • examples of useful dyes in the present embodiment include functional dyes that can be decolored in a developer described in JP-A-63-208846 and JP-A-01-061745. Specific examples of these functional dyes are shown below.
  • These dyes vary depending on the molar extinction coefficient, but are usually added in the range of 10 ⁇ 2 g / m 3 to 1 g / m 3 . Preferably, it is 50 to 500 mg / m 3 .
  • the above-mentioned dye is dissolved in an appropriate solvent (for example, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, propanol, etc.), acetone, methyl cellosolve, or the like, or a mixed solvent thereof) to form a coating solution for the first intermediate layer 20a and It can be added to the coating solution for the second intermediate layer 20b.
  • an appropriate solvent for example, water, alcohol (for example, methanol, ethanol, propanol, etc.), acetone, methyl cellosolve, or the like, or a mixed solvent thereof.
  • dyes that can be dispersed in a microcrystalline solid form include Tables I to X in International Publication No. 1988/004794, general formulas (I) to (VII) shown below, and others. Used.
  • a and A ′ may be the same or different, each represents an acidic nucleus, B represents a basic nucleus, X and Y may be the same or different, and each represents an electron-absorbing group.
  • R represents a hydrogen atom or an alkyl group
  • R 1 and R 2 each represents an alkyl group, an aryl group, an acyl group or a sulfonyl group, and R 1 and R 2 may be linked to form a 5- or 6-membered ring. Good.
  • R 3 and R 6 each represent a hydrogen atom, a hydroxy group, a carboxyl group, an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom, and R 4 and R 5 are each a hydrogen atom, or R 1 and R 4 or R 2 and R 5 are linked.
  • L 1 , L 2 and L 3 each represent a methine group.
  • m represents 0 or 1
  • n and q each represents 0, 1 or 2
  • p represents 0 or 1 and when p is 0, R 3 represents a hydroxy group or a carboxyl group and R 4 and R 5 represents a hydrogen atom.
  • B ′ represents a heterocyclic group having a carboxyl group, a sulfamoyl group, or a sulfonamide group.
  • Q represents a heterocyclic group.
  • the compounds represented by the general formulas (I) to (VII) have a dissociable group having a pKa in the range of 4 to 11 in a mixed solution in which a volume ratio of water to ethanol is 1: 1 in one molecule. Have at least one.
  • dye used for solid dispersion include International Publication No. 1988/004794, European Patent Application Publication No. 0274723, European Patent Application Publication No. 0276566, European Patent Application Publication No. 0299435, JP-A-52-92716, JP-A-55-155350, JP-A-55-155351, JP-A-61-205934, JP-A-48-68623, US Pat. No. 527,583, US Pat. No. 3,486,897, US Pat. No. 3,746,539, US Pat. No. 3,933,798, US Pat. No. 4,130, No. 429, US Pat. No. 4,040,841, Japanese Patent Application No. 1-50874, Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • a preferable dye is a dye having an absorption maximum in the range of 300 to 500 nm. Specific examples of the dye are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
  • the dye dispersed in the form of microcrystals in the present embodiment can be handled in a bright room where ultraviolet light is cut, and is outside the emulsion layer for the purpose of improving spread and chalk suitability and bag letter suitability.
  • the coating amount of the dye is preferably 10 to 500 mg per square meter, particularly preferably 50 to 300 mg.
  • the dyes used in this embodiment are disclosed in International Publication No. 1988/004794, European Patent Application Publication No. 0274723, European Patent Application Publication No. 0276656, European Patent Application Publication No. 0299435, Japanese Patent Application Laid-Open No. 0299435.
  • first Adhesive Layer 16a, Second Adhesive Layer 16b, First Protective Layer 22a, Second Protective Layer 22b If necessary, non-photosensitive layers such as the first adhesive layer 16a and the first protective layer 22a are provided on the surface on which the first photosensitive layer 14a is coated, and the second photosensitive layer 14b is coated. A non-photosensitive layer such as the second adhesive layer 16b and the second protective layer 22b can be provided on this surface as necessary.
  • the first adhesive layer 16a is for the purpose of improving the adhesiveness between the transparent support 12 and the first conductive pattern 24a
  • the second adhesive layer 16b is the adhesiveness between the transparent support 12 and the second conductive pattern 24b. It is provided for the purpose of improving. Therefore, it is preferable to provide between the transparent support 12 and the first physical development nucleus layer 18a and between the transparent support 12 and the second physical development nucleus layer 18b.
  • the first protective layer 22a and the second protective layer 22b have the effect of suppressing the silver in the silver salt photosensitive material from diffusing out of the system during the development process and increasing the efficiency of silver deposition on the physical development nuclei. Accordingly, the first protective layer 22a and the second protective layer 22b are preferably provided on the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b, respectively.
  • the first adhesive layer 16a, the second adhesive layer 16b, the first protective layer 22a, and the second protective layer 22b are layers mainly composed of a water-soluble polymer compound.
  • “main” means that 50% by mass or more of the total solid content of the non-photosensitive layer is a water-soluble polymer compound.
  • water-soluble polymer compound as used herein can be selected as long as it easily swells in the developer and allows the developer to penetrate easily.
  • gelatin, albumin, casein, polyvinyl alcohol, or the like can be used.
  • Particularly preferred water-soluble polymer compounds are proteins such as gelatin, albumin and casein.
  • the amount of the binder in the non-photosensitive layer varies depending on each use, but is preferably in the range of 0.001 to 10 g / m 2 .
  • the first protective layer 22a and the second protective layer 22b are provided, the first conductive pattern 24a and the second conductive pattern 24b are difficult to be exposed on the surface.
  • a dye similar to the solid disperse dye added to the first intermediate layer 20a and the second intermediate layer 20b may be added to the first adhesive layer 16a and the second adhesive layer 16b.
  • the first adhesive layer 16a, the second adhesive layer 16b, the first protective layer 22a, and the second protective layer 22b include, if necessary, ResearchReDisclosure Item 17643 (December 1978) and 18716 (November 1979), A known photographic additive as described in 308119 (December 1989) can be contained, and the film can be hardened with a crosslinking agent of the aforementioned water-soluble polymer compound.
  • the amount of the water-soluble polymer compound in the first adhesive layer 16a, the second adhesive layer 16b, the first protective layer 22a, and the second protective layer 22b varies depending on each application, but is in the range of 0.001 to 10 g / m 2 . Is preferred.
  • a water-soluble polymer compound cross-linking agent can be used for these non-photosensitive layers. However, at least the unnecessary silver halide emulsion layer is washed away with water after development. In the case of using this crosslinking agent, it is possible to use it within a range that does not prevent removal of the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b after development with water.
  • First photosensitive layer 14a, second photosensitive layer 14b, first intermediate layer 20a, second intermediate layer 20b, first physical development nucleus layer 18a, second physical development nucleus layer 18b, first adhesion layer 16a, second adhesion layer 16b, the first protective layer 22a, the second protective layer 22b, etc. are applied by an application method such as dip coating, slide coating, curtain coating, bar coating, air knife coating, roll coating, gravure coating, spray coating, etc.
  • Various coating aids such as surfactants and thickeners can be used in accordance with the coating method.
  • the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b provided on the transparent support 12 are exposed.
  • the first photosensitive layer 14a is exposed, the second photosensitive layer 14b is exposed, or the first photosensitive layer 14a and the second photosensitive layer 14b are exposed simultaneously (simultaneous exposure on both sides).
  • the exposure can be performed using electromagnetic waves. Examples of the electromagnetic wave include light such as visible light and ultraviolet light, and radiation such as X-rays. Further, a light source having a wavelength distribution may be used for exposure, and a light source having an oscillation wavelength at a specific wavelength, for example, 300 to 420 nm may be used.
  • a photomask is disposed on both surfaces of the photosensitive material, and both surfaces are exposed simultaneously using parallel light.
  • scanning exposure may be performed using a blue semiconductor laser (violet laser diode) having an oscillation wavelength of 400 to 430 nm.
  • the development process is unnecessary because it involves dissolving, diffusing, reducing, and depositing on the physical development nuclei the silver halide in the portions forming the first conductive pattern 24a and the second conductive pattern 24b.
  • the portion not irradiated with light by exposure becomes a portion forming a silver pattern 34
  • the portion not irradiated with light by exposure becomes a portion forming a silver pattern 34
  • light was irradiated by exposure.
  • the portion becomes a portion for forming the silver pattern 34.
  • development is stopped using an acidic aqueous solution containing, for example, acetic acid, citric acid, etc. between the development processing step and the water washing removal step. Processing may be performed.
  • the developer is an alkaline solution containing a soluble silver complex salt forming agent and a reducing agent.
  • the soluble silver complex forming agent is a compound that dissolves silver halide to form a soluble silver complex salt
  • the reducing agent is a developing agent for reducing the soluble silver complex salt to deposit metallic silver on the physical development nucleus. is there.
  • a developing agent known in the field of photographic development can be used.
  • polyhydroxybenzenes such as hydroquinone, catechol, pyrogallol, methylhydroquinone, chlorohydroquinone, 1-phenyl-4,4-dimethyl- 3-pyrazolidone, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-p-tolyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone , 3-pyrazolidones such as 1-p-chlorophenyl-3-pyrazolidone, paramethylaminophenol, paraaminophenol, parahydroxyphenylglycine, paraphenylenediamine, etc., and two or more of these can be used in combination. .
  • the above-mentioned developing agent may be contained in each layer constituting the photosensitive material 10, may be contained in the developer, or may be further contained in both, but is contained in the developer. preferable.
  • the content of the developing agent in the developer is suitably used in the range of 1 to 100 g / L.
  • the developing agent When contained in each layer, the developing agent may be contained in any layer, and is particularly preferably contained in the silver halide emulsion layer. A preferable amount in this case is in the range of 0.005 to 0.5 g per 1 g of the water-soluble polymer compound.
  • These developing agents may be dissolved in the coating solution or contained in each layer, or may be dissolved in an oil dispersion and contained in each layer.
  • the developer contains a developing agent preservative, an alkali agent, an antifoggant and the like.
  • preservatives include sulfite ions.
  • the alkali agent is necessary for exerting the reducing ability of the developing agent, and is added so that the pH of the developer is in the range of 10 or more, for example, 11 to 14.
  • a buffering agent such as carbonate or phosphate for stably maintaining basicity is also used.
  • compounds known in the field of photographic development such as a development inhibitor for controlling the development rate, can be contained.
  • the developer contains a soluble silver complex salt forming agent.
  • soluble silver complex forming agents include thiosulfates such as ammonium thiosulfate and sodium thiosulfate, thiocyanates such as sodium thiocyanate and ammonium thiocyanate, and sulfites such as sodium sulfite and potassium hydrogen sulfite.
  • Thioethers such as 1,10-dithia-18-crown-6, 2,2′-thiodiethanol, oxazolidones, 2-mercaptobenzoic acid and derivatives thereof, cyclic imides such as uracil, alkanolamines, diamines, JP-A-9-171257, mesoionic compounds, 5,5-dialkylhydantoins, alkylsulfones, and other “The Theory of the photographic process” (4th edition, p474-475), T. et al. H. Examples include compounds described in James.
  • alkanolamines are particularly preferred.
  • alkanolamine include N- (2-aminoethyl) ethanolamine, diethanolamine, N-methylethanolamine, triethanolamine, N-ethyldiethanolamine, diisopropanolamine, ethanolamine, 4-aminobutanol, N, N— Examples include dimethylethanolamine, 3-aminopropanol, and 2-amino-2-methyl-1-propanol.
  • soluble silver complex salt forming agents can be used alone or in combination.
  • the amount of the soluble silver complex salt forming agent used is 0.1 to 40 g / L, preferably 1 to 20 g / L.
  • the development processing temperature is preferably 15 ° C. to 30 ° C., and is preferably in the range of 18 ° C. to 23 ° C. in order to prevent the silver halide emulsion layer from eluting into the developer.
  • the development time is preferably 120 seconds or less in consideration of production efficiency.
  • the developing solution supply system for developing may be an immersion system or a coating system. In the dipping method, for example, the exposed silver salt photosensitive material is conveyed while being immersed in a developer stored in a large amount in a tank.
  • the coating method is, for example, developed on a silver halide emulsion layer. About 40 to 120 ml of liquid is applied per 1 m 2 .
  • the water removal in the development process removes the layers provided on the first physical development nucleus layer 18a and the second physical development nucleus layer 18b such as a silver halide emulsion layer that are no longer necessary after the development process. Therefore, water is the main component of the water removal treatment liquid.
  • this treatment liquid may contain a buffer component, and may contain a preservative for the purpose of preventing the removed gelatin from being spoiled.
  • a scrubbing roller or the like can be used alone or in combination with a treatment method such as a shower method or a slit method. Also, a plurality of showers and slits can be provided to increase the removal efficiency. Moreover, you may use the method of carrying out transfer peeling to a release paper etc. instead of water washing removal. As a method of transferring and peeling with release paper, etc., excess developer on the silver halide emulsion layer is squeezed out beforehand with a roller, etc., and the silver halide emulsion layer and the release paper are brought into close contact with each other to remove the silver halide emulsion layer etc.
  • the plastic resin film is transferred to a release paper and peeled off.
  • a release paper water-absorbing paper or non-woven fabric, or paper having a water-absorbing void layer formed of fine pigment such as silica and binder such as polyvinyl alcohol on the paper is used.
  • this invention can be used in combination with the technique of the publication gazette and international publication pamphlet which are described in following Table 1 and Table 2.
  • FIG. Notations such as “JP,” “Gazette” and “No. Pamphlet” are omitted.
  • the photosensitive material, the conductive sheet, and the method for manufacturing the conductive sheet according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.

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Abstract

　本発明は感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法に関する。透明支持体（１２）の表面（１２ａ）に形成された第１物理現像核層（１８ａ）と、第１物理現像核層（１８ａ）に積層された第１中間層（２０ａ）と、第１中間層（２０ａ）に積層された第１感光層（１４ａ）と、透明支持体（１２）の裏面（１２ｂ）に形成された第２物理現像核層（１８ｂ）と、第２物理現像核層（１８ｂ）に積層された第２中間層（２０ｂ）と、第２中間層（２０ｂ）に積層された第２感光層（１４ｂ）と、を有する。第１中間層（２０ａ）及び第２中間層（２０ｂ）は、それぞれ現像処理で消色する遮光層（２６）を構成し、遮光層（２６）内の遮光物質は非拡散性を有する。

Description

感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法
　本発明は、感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法に関し、例えば投影型静電容量方式のタッチパネルに用いて好適な感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法に関する。
　従来、導電パターンを支持体の両面に形成する方法として、例えば特開２０１１－２１０５７９号公報に記載の方法がある。
　この特開２０１１－２１０５７９号公報には、透明支持体上にハロゲン化銀乳剤を含有する感光層（以下、ハロゲン化銀乳剤層と記す）を塗布した銀塩感光材料を露光、現像することにより、透明支持体の両面にそれぞれパターンが異なるパターン部を形成することが記載されている。具体的には、下記に示す方法が記載されている。
　（ａ）　透明支持体の片面にハロゲン化銀乳剤層を塗設する。
　（ｂ）　上記（ａ）で得られたハロゲン化銀乳剤層を露光、現像することにより銀パターンを得る。
　（ｃ）　透明支持体の片面に形成された銀パターンとは反対面の透明支持体上にハロゲン化銀乳剤層を塗設する。
　（ｄ）　上記（ｃ）で得られた反対面のハロゲン化銀乳剤層を、上記（ｂ）とは異なるパターンで露光、現像することにより、透明支持体の反対面側に銀パターンを得る。
　（ｅ）　必要に応じ、上記（ａ）、（ｄ）で得られた銀パターン上に金属めっき層を付加する。
　また、特開２０１１－２１０５７９号公報の実施例では、銀パターンを形成する方法として、透明支持体上に少なくとも物理現像核層及びハロゲン化銀乳剤層を有する銀塩感光材料を露光し、銀塩拡散転写法に従う現像処理を施した後、不要となったハロゲン化銀乳剤層を少なくとも水洗除去して銀パターンを形成する方法が記載されている。
　ところで、上述した特開２０１１－２１０５７９号公報記載の方法は、例えば銀塩拡散転写法を例にとると、ハロゲン化銀乳剤層と物理現像核層の間に設けられる中間層にハレーション防止剤を含めるようにし、ハロゲン化銀乳剤層にイラジエーション防止剤を含めるようにしている。
　しかし、特開２０１１－２１０５７９号公報では、これらハレーション防止剤及びイラジエーション防止剤として、実施例にもあるように、水溶性の染料を用いていることから、ハロゲン化銀乳剤層、中間層及び物理現像核層全体にわたって染料が拡散することになる。そのため、中間層でのハレーション防止機能が不十分になるという問題がある。これを解決するには、混入させる染料を増量することが考えられるが、膜厚が大きくなり、それに伴って、ハロゲン化銀乳剤層から物理現像核層までの距離も大きくなる。この距離が大きくなると、溶解した銀が横方向にも拡散し易くなり、画像の輪郭がぼける等の画質の劣化を引き起こすことになる。当然、染料を増量させることから、コストも高くなる。しかも、染料／バインダー比が大きくなるため、塗布性（塗布時の形状保持力）が劣化するという問題もある。
　本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、銀塩拡散転写法によって、透明支持体の両面に導電パターンを形成するのに適しており、塗布性も良好な感光材料を提供することを目的とする。
　また、本発明の他の目的は、銀塩拡散転写法によって導電パターンを形成しても、導電パターンの輪郭がぼけることがなく、コストの低減も図ることができる導電シート及び導電シートの製造方法を提供することにある。
［１］　第１の本発明に係る感光材料は、表面と裏面とを有する透明支持体と、透明支持体の表面に形成された第１感光層と、透明支持体の裏面に形成された第２感光層と、を有し、露光処理及び現像処理が施される感光材料において、第１感光層と第２感光層との間に、現像処理で消色する遮光層を有し、遮光層内の遮光物質が非拡散性であることを特徴とする。
　すなわち、第１感光層と第２感光層との間に、現像処理で消色する遮光層を有し、しかも、遮光層内の遮光物質が非拡散性であるので、銀塩拡散転写法によって、透明支持体の両面に同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を形成するのに適している。また、ハレーション防止のために水溶性染料を増量させる必要がないため、塗布性も良好となる。また、銀塩拡散転写法の欠点、すなわち、コスト増、導電パターンの線幅の縮小化が難しい、透過率が低いという欠点をできるだけ抑えることができ、銀塩拡散転写法の普及に貢献させることができる。
［２］　第１の本発明において、遮光層は、第１感光層と透明支持体との間、あるいは、第２感光層と透明支持体との間に形成されていてもよい。
［３］　第１の本発明において、遮光層は、第１感光層と透明支持体との間、及び、第２感光層と透明支持体との間にそれぞれ形成されていてもよい。
［４］　第１の本発明において、透明支持体の表面に形成された第１物理現像核層と、第１物理現像核層に積層された第１中間層と、第１中間層に積層された第１感光層と、透明支持体の裏面に形成された第２物理現像核層と、第２物理現像核層に積層された第２中間層と、第２中間層に積層された第２感光層と、を有し、第１中間層及び第２中間層のうち、少なくとも１つが遮光層を構成してもよい。
［５］　第１の本発明において、遮光層に含まれる遮光物質は、該遮光層に固定された固体分散染料であってもよい。
［６］　第１の本発明において、遮光物質は、解離性水素又は解離性水素を有する基を有し、露光処理では、非解離であって、実質的に水不溶性の特性を有し、現像処理では、解離して、実質的に水可溶性の特性を有してもよい。
［７］　第１の本発明において、少なくとも第１感光層及び第２感光層に、水溶性染料が含まれていてもよい。
［８］　第２の本発明に係る導電シートは、上述した第１の本発明に係る感光材料を露光処理及び現像処理を行うことによって、透明支持体の表面及び裏面にそれぞれ導電パターンが形成されていることを特徴とする。
　これにより、導電シートは、１つの透明支持体の表面及び裏面にそれぞれ同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を有する。このことから、例えば２つの導電シートを位置決めして貼り合わせる等の作業が不要になり、導電シートの作製工程の簡略化、コストの低減、該導電シートを用いた例えばタッチパネルの低背化等を図ることができる。
［９］　第３の本発明に係る導電シートの製造方法は、上述した第１の本発明に係る感光材料を用意する工程と、感光材料の第１感光層に対し、透明支持体に向かって光を照射して第１感光層を露光する第１露光処理と、感光材料の第２感光層に対し、透明支持体に向かって光を照射して第２感光層を露光する第２露光処理とを行う露光工程と、露光処理後の第１感光層及び第２感光層を一括して現像処理する現像工程と、を有し、透明支持体の表面及び裏面にそれぞれ導電パターンが形成された導電シートを作製することを特徴とする。
　これにより、１つの透明支持体の表面及び裏面にそれぞれ同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を有する導電シートを容易に作製することができる。そのため、例えば２つの導電シートを位置決めして貼り合わせる等の作業が不要になり、導電シートの作製工程の簡略化、コストの低減、導電シートの生産性の向上、特に、銀塩拡散転写法を用いた導電シートの生産性の向上を図ることができる。
　また、第１感光層に対する第１露光処理と、第２感光層に対する第２露光処理とを行った後に、一括して現像処理を行って、透明支持体の両面に導電パターンを同時に形成することができる。しかも、第１感光層に対する露光処理と第２感光層に対する露光処理とを同時に行う、いわゆる両面同時露光を実現させることができる。
　従来は、透明支持体の表面に形成された第１感光層等に対して露光、現像を行って表面側に導電パターンを形成した後、裏面に第２感光層等を形成し、その後、第２感光層等に対して露光、現像を行って裏面側に導電パターンを形成するようにしている。この場合、裏面に第２感光層等を形成する際に、表面側の導電パターンが塗布液等によって腐食するおそれがあるため、表面側の導電パターンを保護するためのフイルム（プロテクトフイルム）で被覆する必要がある。また、露光に先立って、感光材料に対するフォトマスクの位置決めを行うが、従来では、感光材料の表面に対する露光に先立って、該表面に対するフォトマスクの位置決めを行い、表面に導電パターンを形成する。その後、今度は、感光材料の裏面に対する露光に先立って、該裏面に対するフォトマスクの位置決めを行う必要がある。このように、従来の方法では、工程の複雑化、工数の増加を引き起こし、コストが増大するという問題がある。
　しかし、本発明では、第１感光層及び第２感光層に対して露光処理を行った後、一括して現像処理を行って、透明支持体の表面に導電パターンを形成し、裏面に導電パターンを形成することができる。そのため、導電パターンを保護するためのフイルム（プロテクトフイルム）で被覆する必要がなく、感光材料の表面及び裏面に対する露光に先立って、これら表面及び裏面に対するフォトマスクの位置決めを一括して行うことができる。しかも、感光材料の表面及び裏面に対する現像処理も一括して行うことができる。その結果、工程の簡単化、工数の低減を図ることができ、コストの低廉化を実現させることができる。
［１０］　第３の本発明において、第１感光層に対する第１露光処理と、第２感光層に対する第２露光処理とを同時に行ってもよい。
［１１］　第３の本発明において、現像工程は、第１感光層及び第２感光層のうち、それぞれ画像を形成する部分のハロゲン化銀を溶解し、拡散させて、第１物理現像核層及び第２物理現像核層における物理現像核上で還元し、析出させる現像処理工程と、不要となった第１感光層及び第２感光層を水洗除去するための水洗除去工程とを有してもよい。
　本発明に係る感光材料によれば、銀塩拡散転写法によって、透明支持体の両面に同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を形成するのに適している。特に、第１感光層に対する第１露光処理と、第２感光層に対する第２露光処理とを同時に行う、いわゆる同時露光を実現させることができる。また、ハレーション防止のために水溶性染料を増量させる必要がないため、塗布性も良好となる。しかも、銀塩拡散転写法の欠点、すなわち、コスト増、導電パターンの線幅の縮小化が難しい、透過率が低いという欠点をできるだけ抑えることができ、銀塩拡散転写法の普及に貢献させることができる。
　本発明に係る導電シートによれば、１つの透明支持体の表面及び裏面にそれぞれ同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を有する。このことから、例えば２つの導電シートを位置決めして貼り合わせる等の作業が不要になり、導電シートの作製工程の簡略化、コストの低減、該導電シートを用いた例えばタッチパネルの低背化等を図ることができる。
　本発明に係る導電シートの製造方法によれば、１つの透明支持体の表面及び裏面にそれぞれ同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を有する導電シートを容易に作製することができる。そのため、例えば２つの導電シートを位置決めして貼り合わせる等の作業が不要になり、導電シートの作製工程の簡略化、コストの低減、導電シートの生産性の向上、特に、銀塩拡散転写法を用いた導電シートの生産性の向上を図ることができる。
本実施の形態に係る感光材料の一例を一部省略して示す断面図である。 本実施の形態に係る導電シートの第１製造方法を示すフローチャートである。 図３Ａは第１感光層及び第２感光層に対して同時露光を行っている状態を示す説明図であり、図３Ｂは現像処理、特に、画像を形成する部分のハロゲン化銀を溶解し、拡散させて、物理現像核上で還元し、析出させる現像処理工程を示す説明図であり、図３Ｃは不要となった第１感光層及び第２感光層を水洗除去して導電シートを得た状態を示す説明図である。 本実施の形態に係る導電シートの第２製造方法を示すフローチャートである。 図５Ａは第１感光層に対して露光を行っている状態を示す説明図であり、図５Ｂは第２感光層に対して露光を行っている状態を示す説明図である。
　以下、本発明に係る感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法の実施の形態例を図１～図５Ｂを参照しながら説明する。なお、本明細書において数値範囲を示す「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。
　先ず、本実施の形態に係る感光材料１０について図１を参照しながら説明する。
　本実施の形態に係る感光材料１０は、図１に示すように、表面１２ａ及び裏面１２ｂを有する透明支持体１２と、透明支持体１２の表面１２ａに形成された第１感光層１４ａと、透明支持体１２の裏面１２ｂに形成された第２感光層１４ｂと、を有し、露光処理及び現像処理が施される感光材料１０である。第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂは、それぞれハロゲン化銀乳剤を含有する感光層（ハロゲン化銀乳剤層）である。
　具体的には、透明支持体１２の表面１２ａには、第１接着層１６ａと、第１接着層１６ａに積層された第１物理現像核層１８ａと、第１物理現像核層１８ａに積層された第１中間層２０ａと、第１中間層２０ａに積層された上述の第１感光層１４ａと、第１感光層１４ａに積層された第１保護層２２ａとを有する。
　同様に、透明支持体１２の裏面１２ｂには、第２接着層１６ｂと、第２接着層１６ｂに積層された第２物理現像核層１８ｂと、第２物理現像核層１８ｂに積層された第２中間層２０ｂと、第２中間層２０ｂに積層された上述した第２感光層１４ｂと、第２感光層１４ｂに積層された第２保護層２２ｂとを有する。
　第１接着層１６ａ、第２接着層１６ｂ、第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂは、必要に応じて形成される非感光性層である。第１接着層１６ａは、透明支持体１２と現像処理後の第１導電パターン２４ａ（図３Ｃ参照）との間の接着性を向上する目的で形成される。第２接着層１６ｂは透明支持体１２と現像処理後の第２導電パターン２４ｂ（図３Ｃ参照）との間の接着性を向上する目的で設けられる。第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂは、現像処理で銀塩感光材料中の銀が系外に拡散するのを抑制し、物理現像核上への銀の析出効率を高める目的のために形成される。
　第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂは、水洗除去促進層として機能する非感光性層であり、不要なハロゲン化銀乳剤層を除去しやすくする目的で設けられる。さらに、これら第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂは、それぞれ現像処理で消色する遮光層２６を構成する。遮光層２６内の遮光物質は非拡散性を有する。遮光物質の詳細については、後述するが、遮光層２６に含まれる遮光物質は、該遮光層２６に固定され、且つ、例えば第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂの感光波長域に吸収極大を有する非増感性の固体分散染料である。遮光物質は、解離性水素又は解離性水素を有する基を有し、露光処理では、非解離であって、実質的に水不溶性の特性を有し、現像処理では、解離して、実質的に水可溶性の特性を有する。
　従って、第１感光層１４ａに対する露光処理では、第１感光層１４ａに照射された光が第１中間層２０ａの遮光物質によって吸収・遮光される。これにより、第１感光層１４ａと第１中間層２０ａとの界面でのハレーションが防止され、しかも、光は第２感光層１４ｂに到達しない。同様に、第２感光層１４ｂに対する露光処理では、第２感光層１４ｂに照射された光が第２中間層２０ｂの遮光物質によって吸収・遮光される。このことから、第２感光層１４ｂと第２中間層２０ｂとの界面でのハレーションが防止され、しかも、光は第１感光層１４ａに到達しない。
　その後、現像処理を行って透明支持体１２の表面１２ａ及び裏面１２ｂにそれぞれ導電パターンを形成する過程において、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂの遮光物質が解離して水可溶性となる。このことから、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂから遮光物質が溶け出し、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂでの遮光機能が失われ、消色（脱色）することとなる。これにより、透明支持体１２のうち、導電パターンが形成されていない部分が光透過部として機能することになる。
　もちろん、少なくとも第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂに水溶性染料を含めるようにしてもよい。これにより、第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂでのイラジエーションを防止することができる。
　次に、本実施の形態に係る感光材料１０を用いた導電シートの２つの製造方法（第１製造方法及び第２製造方法）について図２～図５Ｂを参照しながら説明する。
　第１製造方法は、先ず、図２のステップＳ１において、上述した図１に示す感光材料１０を用意する。
　図２のステップＳ２において、感光材料１０を露光する。この露光処理では、図３Ａに示すように、第１露光処理と第２露光処理とが同時に行われる（両面同時露光）。第１露光処理は、第１感光層１４ａに対し、透明支持体１２に向かって光を照射して第１感光層１４ａを第１露光パターンに沿って露光する。第２露光処理は、第２感光層１４ｂに対し、透明支持体１２に向かって光を照射して第２感光層１４ｂを第２露光パターンに沿って露光する。
　図３Ａの例では、第１感光層１４ａに第１光２８ａ（例えば平行光）を第１フォトマスク３０ａを介して照射すると共に、第２感光層１４ｂに第２光２８ｂ（例えば平行光）を第２フォトマスク３０ｂを介して照射する。このとき、第１感光層１４ａのうち、第１フォトマスク３０ａの開口３２ａの位置に対応する箇所が露光されて潜像が形成される。同様に、第２感光層１４ｂのうち、第２フォトマスク３０ｂの開口３２ｂの位置に対応する箇所が露光されて潜像が形成される。
　その後、図２のステップＳ３において、露光後の感光材料１０の表面及び裏面に対し、一括して現像処理する。具体的には、現像処理工程（ステップＳ３ａ）と水洗除去工程（ステップＳ３ｂ）とを行う。現像処理工程は、画像を形成する部分のハロゲン化銀を溶解し、拡散させて、物理現像核上で還元し、析出させる。水洗除去工程は、不要となった第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂ（ハロゲン化銀層）を水洗除去する。
　現像処理工程（ステップＳ３ａ）では、図３Ｂに示すように、第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂのうち、それぞれ露光処理において光が照射されていない部分（画像を形成する部分）のハロゲン化銀が溶解する。溶解したハロゲン化銀は、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂを通じてそれぞれ第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂに拡散する。拡散したハロゲン化銀は、それぞれ物理現像核上で還元して銀が析出され、金属銀によるパターン（銀パターン３４）が形成される。すなわち、第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂで銀パターン３４が形成される。
　そして、その後の水洗除去工程（ステップＳ３ｂ）において、現像処理後に不要となった第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂ等の第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂの上に設けられた層を除去する。これにより、図３Ｃに示すように、透明支持体１２の表面１２ａに、銀による第１導電パターン２４ａが形成され、透明支持体１２の裏面１２ｂに、銀による第２導電パターン２４ｂが形成された導電シート３６を得る。水洗除去の処理液としては、水を主成分とする。また、この処理液には緩衝成分を含有してもよく、除去したゼラチンの腐敗を防止する目的で、防腐剤を含有させてもよい。
　水洗除去方法としては、スクラビングローラ等を用いて処理液をシャワー方式、スリット方式等を単独、あるいは組み合わせて使用できる。また、シャワーやスリットを複数個設けて、除去の効率を高めることもできる。
　なお、水洗除去の代わりに、剥離紙等に転写剥離する方法を用いてもよい。剥離紙等で転写剥離する方法としては、ハロゲン化銀乳剤層上の余分な現像液を予めローラ等で絞り取っておき、ハロゲン化銀乳剤層等と剥離紙を密着させてハロゲン化銀乳剤層等をプラスチック樹脂フイルムから剥離紙に転写させて剥離する方法が挙げられる。剥離紙としては、吸水性のある紙や不織布、あるいは紙の上にシリカのような微粒子顔料とポリビニルアルコールのようなバインダーとで吸水性の空隙層を設けたものが用いられる。
　次に、第２製造方法について図４～図５Ｂを参照しながら説明する。
　先ず、ステップＳ１０１において、上述した図１に示す感光材料１０を用意する。
　ステップＳ１０２において、感光材料１０の表面側を露光する。この露光処理では、図５Ａに示すように、第１感光層１４ａに対し、透明支持体１２に向かって光を照射して第１感光層１４ａを第１露光パターンに沿って露光する（第１露光処理）。この場合も、第１感光層１４ａに第１光２８ａ（例えば平行光）を第１フォトマスク３０ａを介して照射する。このとき、第１感光層１４ａのうち、第１フォトマスク３０ａの開口３２ａの位置に対応する箇所が露光されて潜像が形成される。
　ステップＳ１０３において、感光材料１０の裏面側を露光する。この露光処理では、図５Ｂに示すように、第２感光層１４ｂに対し、透明支持体１２に向かって光を照射して第２感光層１４ｂを第２露光パターンに沿って露光する（第２露光処理）。この場合も、第２感光層１４ｂに第２光２８ｂ（例えば平行光）を第２フォトマスク３０ｂを介して照射する。このとき、第２感光層１４ｂのうち、第２フォトマスク３０ｂの開口３２ｂの位置に対応する箇所が露光されて潜像が形成される。
　その後、図４のステップＳ１０４において、露光後の感光材料１０の表面及び裏面に対し、一括して現像処理する。具体的には、第１製造方法と同様に、画像を形成する部分のハロゲン化銀を溶解し、拡散させて、物理現像核上で還元し、析出させる現像処理工程（ステップＳ１０４ａ）と、不要となったハロゲン化銀層を水洗除去するための水洗除去工程（ステップＳ１０４ｂ）とを行う。これにより、透明支持体１２の表面１２ａに、銀による第１導電パターン２４ａが形成され、透明支持体１２の裏面１２ｂに、銀による第２導電パターン２４ｂが形成される（図３Ｃ参照）。
　このように、本実施の形態に係る感光材料１０においては、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂがそれぞれ現像処理で消色する遮光層２６を構成する。しかも、遮光層２６内の遮光物質が非拡散性であるので、銀塩拡散転写法によって、透明支持体１２の両面に同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を形成するのに適している。また、ハレーション防止のために水溶性染料を増量させる必要がないため、塗布性も良好となる。しかも、銀塩拡散転写法の欠点、すなわち、コスト増、導電パターンの線幅の縮小化が難しい、透過率が低いという欠点をできるだけ抑えることができ、銀塩拡散転写法の普及に貢献させることができる。
　上述の例においては、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂにそれぞれ固体分散染料を含有させたが、第１中間層２０ａ、あるいは第２中間層２０ｂに固体分散染料を含有させてもよい。
　本実施の形態に係る製造方法においては、１つの透明支持体１２の表面１２ａ及び裏面１２ｂにそれぞれ同一パターンや異なったパターンの導電層（導電パターン）を有する導電シート３６を容易に作製することができる。そのため、例えば２つの導電シート３６を位置決めして貼り合わせる等の作業が不要になり、導電シート３６の作製工程の簡略化、コストの低減、導電シート３６の生産性の向上、特に、銀塩拡散転写法を用いた導電シート３６の生産性の向上を図ることができる。
　また、本実施の形態に係る製造方法では、第１感光層１４ａに対する第１露光処理と、第２感光層１４ｂに対する第２露光処理とを行った後に、一括して現像処理を行って、透明支持体１２の表面１２ａに第１導電パターン２４ａ、裏面１２ｂに第２導電パターン２４ｂを同時に形成することができる。しかも、第１感光層１４ａに対する露光処理と第２感光層１４ｂに対する露光処理とを同時に行う、いわゆる両面同時露光を実現させることができる。
　従来は、透明支持体の表面に形成された第１感光層等に対して露光、現像を行って第１導電パターンを形成した後、裏面に第２感光層等を形成し、その後、第２感光層等に対して露光、現像を行って第２導電パターンを形成するようにしている。この場合、裏面に第２感光層等を形成する際に、第１導電パターンが塗布液等によって腐食するおそれがあるため、第１導電パターンを保護するためのフイルム（プロテクトフイルム）で被覆する必要がある。また、露光に先立って、感光材料に対するフォトマスクの位置決めを行うが、従来では、感光材料の表面に対する露光に先立って、該表面に対するフォトマスクの位置決めを行い、表面に第１導電パターンを形成する。その後、今度は、感光材料の裏面に対する露光に先立って、該裏面に対するフォトマスクの位置決めを行う必要がある。このように、従来の方法では、工程の複雑化、工数の増加を引き起こし、コストが増大するという問題がある。
　しかし、本実施の形態では、第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂに対して露光処理を行った後、一括して現像処理を行って、透明支持体１２の表面１２ａに第１導電パターン２４ａを形成し、裏面１２ｂに第２導電パターン２４ｂを形成することができる。そのため、導電パターンを保護するためのフイルム（プロテクトフイルム）で被覆する必要がなく、感光材料１０の表面及び裏面に対する露光に先立って、これら表面及び裏面に対するフォトマスクの位置決めを一括して行うことができる。しかも、感光材料１０の表面及び裏面に対する現像処理も一括して行うことができる。その結果、工程の簡単化、工数の低減を図ることができ、コストの低廉化を実現させることができる。
　本実施の形態に係る導電シート３６によれば、１つの透明支持体１２の表面１２ａ及び裏面１２ｂにそれぞれ同一パターンや異なったパターンの導電層（第１導電パターン２４ａ及び第２導電パターン２４ｂ）を有する。このことから、例えば２つの導電シートを位置決めして貼り合わせる等の作業が不要になり、導電シート３６の作製工程の簡略化、コストの低減、該導電シート３６を用いた例えばタッチパネルの低背化等を図ることができる。
　次に、感光材料１０を構成する各部材の好ましい態様について以下に説明する。
［透明支持体１２］
　透明支持体１２としては、プラスチックフイルム、プラスチック板、ガラス板等を挙げることができる。
　上記プラスチックフイルム及びプラスチック板の原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類；ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ＥＶＡ等のポリオレフィン類；ビニル系樹脂；その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等を用いることができる。
　透明支持体１２としては、ＰＥＴ（融点：２５８℃）、ＰＥＮ（融点：２６９℃）、ＰＥ（融点：１３５℃）、ＰＰ（融点：１６３℃）、ポリスチレン（融点：２３０℃）、ポリ塩化ビニル（融点：１８０℃）、ポリ塩化ビニリデン（融点：２１２℃）やＴＡＣ（融点：２９０℃）等の融点が約２９０℃以下であるプラスチックフイルム、又はプラスチック板が好ましく、特に、光透過性や加工性等の観点から、ＰＥＴが好ましい。タッチパネル用の導電シート３６は透明性が要求されるため、透明支持体１２の透明度は高いことが好ましい。
［第１感光層１４ａ、第２感光層１４ｂ：ハロゲン化銀乳剤層］
　本実施の形態に用いるハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀に含有されるハロゲン化物としては、塩化物、臭化物、ヨウ化物及びフッ化物のいずれであってもよく、これらの組み合わせでもよい。特に、塩化物を８０ｍｏｌ％以上含有するのが好ましく、特に９０ｍｏｌ％以上が塩化物であることが特に好ましい。ハロゲン化銀乳剤粒子の形成には、順混合、逆混合、同時混合等の周知の方法が用いられる。中でも同時混合法の一種で、粒子形成される液相中のｐＡｇを一定に保ついわゆるコントロールドダブルジェット法を用いることが、粒径の揃ったハロゲン化銀乳剤粒子が得られる点において好ましい。本実施の形態においては、好ましいハロゲン化銀乳剤粒子の平均粒径は０．２５μｍ以下、特に好ましくは０．０５～０．２μｍである。
　ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（六角平板状、三角形平板状、四角形平板状等）、八面体状、十四面体状等、様々な形状が挙げられる。
　ハロゲン化銀乳剤の製造において、必要に応じて、ハロゲン化銀粒子の形成あるいは物理熟成の過程において、亜硫酸塩、鉛塩、タリウム塩、あるいはロジウム塩もしくはその錯塩、イリジウム塩もしくはその錯塩などＶＩＩＩ族金属元素の塩もしくはその錯塩を共存させてもよい。また、種々の化学増感剤によって増感することができ、イオウ増感法、セレン増感法、貴金属増感法等の一般的な方法を、単独、あるいは組み合わせて用いることができる。
　ハロゲン化銀乳剤層は、必要に応じて、分光増感することもできる。また、ハロゲン化銀乳剤は必ずしもネガ感光性でなくてもよく、必要に応じて、ポジ感光性を持つ直接反転乳剤としてもよい。これにより、ネガ型をポジ型に、ポジ型をネガ型に変換することができる。直接反転乳剤に関しては、例えば特開平８－１７１２０号公報、特開平８－２０２０４１号公報に記載されている方法によって作製することができる。
　ハロゲン化銀乳剤層の塗布銀量としては、銀パターン３４を形成させるために、少なくとも０．０１ｇ（硝酸銀換算）／ｍ2以上とすることが望ましい。特に、得られる銀パターン３４の導電性の観点から２．０～４．０ｇ（硝酸銀換算）／ｍ2が好ましい。塗布銀量があまり多すぎると、長い現像時間を必要としたり、透明支持体１２に近い側のハロゲン化銀乳剤粒子の感光性が低下したりする等の問題があるため、５．０ｇ（硝酸銀換算）／ｍ2程度を上限とすべきである。
　ハロゲン化銀乳剤層は、水溶性高分子化合物をバインダーとして含む。好ましいバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。また、必要に応じて水溶性高分子化合物の架橋剤を利用してもよいが、本実施の形態では、現像処理において、現像後に不要となったハロゲン化銀乳剤層を少なくとも水洗除去するため、水溶性高分子化合物の架橋剤を用いる場合は、上記水洗除去を妨げない範囲で用いることが可能である。
　ハロゲン化銀乳剤層には、さらに種々の目的のために、公知の写真用添加剤を用いることができる。これらは、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ １７６４３（１９７８年１２月）及び１８７１６（１９７９年１１月）、３０８１１９（１９８９年１２月）に記載、あるいは引用された文献に記載されている。
［第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂに含まれる水溶性染料］
　少なくとも第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂには、イラジエーション防止等の目的で、水溶性染料を含有させてもよい。
　このような水溶性染料には、オキソノール染料、ベンジリデン染料、メロシアニン染料、シアニン染料及びアゾ染料が含まれる。中でも、オキソノール染料、ヘミオキソノール染料及びベンジリデン染料が有用である。水溶性染料として用い得る具体例は、英国特許第５８４，６０９号明細書、英国特許第１，１７７，４２９号明細書、特開昭４８－８５１３０号公報、特開昭４９－９９６２０号公報、特開昭４９－１１４４２０号公報、特開昭５２－２０８２２号公報、特開昭５９－１５４４３９号公報、特開昭５９－２０８５４８号公報、米国特許第２，２７４，７８２号明細書、米国特許第２，５３３，４７２号明細書、米国特許第２，９５６８７９号明細書、米国特許第３，１４８，１８７号明細書、米国特許第３，１７７，０７８号明細書、米国特許第３，２４７，１２７号明細書、米国特許第３，５４０，８８７号明細書、米国特許第３，５７５，７０４号明細書、米国特許第３，６５３，９０５号明細書、米国特許第３，７１８，４２７号明細書に記載された染料が挙げられる。
［第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂ］
　本実施の形態で用いる第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂは、少なくとも物理現像核を含有する。物理現像核としては、重金属あるいはその硫化物からなる微粒子（粒子サイズは１～数１０ｎｍ程度）が用いられる。例えば、金、銀等のコロイド、パラジウム、亜鉛等の水溶性塩と硫化物を混合した金属流化物等が挙げられる。これらの物理現像核の微粒子層は、コーティング法又は浸漬処理法によって、透明支持体１２上に設けることができる。生産効率の面からコーティング法が好ましく用いられる。第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂにおける物理現像核の含有量は、固形分で０．１～１０ｍｇ／ｍ2程度が適当である。
　また、第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂは、水溶性高分子化合物を含有することもできる。水溶性高分子化合物の添加量は、物理現像核に対して１０～５００質量％程度が好ましい。水溶性高分子化合物としては、ゼラチン、アラビアゴム、セルロース、アルブミン、カゼイン、アルギン酸ナトリウム、各種澱粉、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、アクリルアミドとビニルイミダゾールの共重合体等を用いることができる。
　親水性ポリマーの中でもアミノ基を有する水溶性高分子が好ましい。１級アミノ基もしくは２級アミノ基を有する水溶性高分子としては下記のような水溶性高分子が挙げられる。
　（ａ）　ゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリリジン等の蛋白質
　（ｂ）　ヒアルロン酸等のムコ多糖類、「高分子の化学反応」（大河原信著　１９７２、化学同人社）２．６．４章記載のアミノ化セルロース、ポリエチレンイミン、アミノ基及びエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを単独で重合して成るホモポリマー
　（ｃ）　アミノ基及びエチレン性不飽和二重結合を有する複数種のモノマーを共重合して成るコポリマー
　（ｄ）　例えば酢酸ビニル、ビニルピロリドン等の１級もしくは２級アミノ基を有さない他のモノマーと、アミノ基及びエチレン性不飽和二重結合を有するモノマーとを共重合して成るコポリマー
　ホモポリマーとしては、例えばポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリジアリルアミン等が挙げられる。アミノ基とエチレン性不飽和の二重結合とを有する複数種のモノマーを共重合してなるコポリマーとしては、例えばアリルアミンとジアリルアミンの共重合体等が挙げられる。アミノ基及びエチレン性不飽和二重結合を有さないモノマーと、アミノ基及びエチレン性不飽和の二重結合を有するモノマーとを共重合して成るコポリマーとしては、例えばジアリルアミンと無水マレイン酸との共重合体、ジアリルアミンと二酸化硫黄との共重合体等が挙げられる。この中でも最も好ましいのがポリエチレンイミンである。
　親水性ポリマーの好ましい添加量は１０～１００ｍｇ／ｍ2であり、より好ましくは３０～７０ｍｇ／ｍ2である。
　本実施の形態に用いる第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂには、架橋剤を含有させることができる。該架橋剤としてはホルマリン、グリオキザール、マレアルデヒド、グルタルアルデヒドのようなアルデヒド類、尿素やエチレン尿素等のＮ－メチロール化合物、ムコクロル酸、２，３－ジヒドロキシ－１，４－ジオキサンのようなアルデヒド等価体、２，４－ジクロロ－６－ヒドロキシ－ｓ－トリアジン塩のような活性ハロゲンを有する化合物、ジビニルスルホン、ジビニルケトンやＮ，Ｎ，Ｎ－トリアクリロイルヘキサヒドロトリアジン、活性な三員環であるエチレンイミノ基やエポキシ基を分子中に二個以上有する化合物類、高分子硬膜剤としてのジアルデヒド澱粉等の種々の化合物の一種もしくは二種以上を用いることができる。これらの架橋剤の中でも、好ましくは、グリオキザール、グルタルアルデヒド、３－メチルグルタルアルデヒド、サクシンアルデヒド、アジポアルデヒド等のジアルデヒド類であり、より好ましい架橋剤は、グリオキザール、グルタルアルデヒドである。架橋剤は１～２０ｍｇ／ｍ2を含有させるのが好ましく、特に３～１０ｍｇ／ｍ2が好ましい。さらにはエポキシ基を分子中に二個以上有する化合物を併用することが好ましい。エポキシ基を分子中に二個以上有する化合物の好ましい添加量は３～８０ｍｇ／ｍ2である。
　さらに、第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂには、Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ １７６４３（１９７８年１２月）及び１８７１６（１９７９年１１月）、３０８１１９（１９８９年１２月）に記載されているような公知の写真用添加剤を含有させることができる。
［第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂ］
　第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂは、水洗除去促進層として機能する非感光性層であり、不要なハロゲン化銀乳剤層を除去しやすくする目的で設けられるため、第１感光層１４ａと第１物理現像核層１８ａとの間、第２感光層１４ｂと第２物理現像核層１８ｂとの間に設けることが好ましい。第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂは、水溶性高分子化合物をバインダーとして用いることができる。ここでいう水溶性高分子化合物とは、現像液で容易に膨潤し、現像液を容易に浸透させるものであれば任意のものが選択できる。好ましいバインダーとしては、例えば、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉等の多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロース等が挙げられる。
　また、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂは、水溶性高分子化合物の架橋剤を用いることは好ましくない。水溶性高分子化合物の塗布量としては、１．０ｇ／ｍ2以下が好ましい。水溶性高分子化合物の塗布量があまり多すぎると、第１感光層１４ａと第１物理現像核層１８ａとの距離、第２感光層１４ｂと第２物理現像核層１８ｂとの距離がそれぞれ長くなるので、銀パターン３４が析出する際に、銀の析出量が減少したり、画質が低下したりする等の問題があるため、０．３ｇ／ｍ2程度が好ましい。
［第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂに含まれる固体分散染料］
　第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂには、露光処理時におけるハレーション防止のほか、露光時の照射光が透明支持体１２を透過して他の感光層に到達するのを防止するために、固体分散染料を含有させることが好ましい。
　本実施の形態において用いられる固体分散染料は、波長３００～４２０ｎｍにピークを有し、より好ましくは３５０～４１０ｎｍにピークを有する染料（紫外線吸収剤を含む）である。具体例としては、特開昭６２－２１０４５８号公報、特開昭６３－１０４０４６号公報、特開昭６３－１０３２３５号公報、特開昭６３－２０８８４６号公報、特開平０１－０６１７４５号公報、特開昭６３－３０６４３６号公報、特開昭６３－３１４５３５号公報に記載された染料が挙げられる。
　本実施の形態に好ましく用いられる波長３００～４２０ｎｍに吸収ピークを有する化合物としては、例えばアリール基で置換されたベンゾトリアゾール化合物、４－チアゾリドン化合物、ベンゾフェノン化合物、桂皮酸エステル化合物、ブタジエン化合物、ベンゾオキサゾール化合物、さらに、紫外線吸収ポリマーを用いることができる。
　特に好ましく用いられる固体分散染料としては、下記一般式（Ｄ－ａ）、（Ｄ－ｂ）、（Ｄ－ｃ）又は（Ｄ－ｄ）で表される化合物で吸収極大が３００～４２０ｎｍである化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
　Ｘ及びＹは、水素原子、アルキル基、シアノアルキル基、カルボキシアルキル基、スルホアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基又は置換されてもよいアルキル基あるいはそのナトリウム・カリウム塩を表す。Ｒ２’とＲ３’は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、又は上述の－ＯＸ基と同様の基を表す。Ｑは、少なくとも１つのハロゲン原子、カルボキシ基、スルホ基、又はスルホアルキル基、あるいはそのナトリウム・カリウム塩で置換されたフェニル基、又はスルホアルキル基、スルホアルコキシアルキル基、スルホアルキルチオアルキル基を表す。Ｌは、置換されてもよいメチン基を表す。Ｒ４’は、アルキル基、カルボキシ基、アルキルオキシカルボニル基あるいはアシル置換、非置換のアミノ基を表す。ｍは、整数１又は２を、ｎは整数０又は１をそれぞれ表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式中、Ｒ５’、Ｒ６’、Ｒ８’、Ｒ９’及びＲ１０’は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カルボキシル基又はスルホン基、あるいはそのナトリウム・カリウム塩を表し、Ｒ７’はアルキル基又はカルボキシル基を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式中、Ｒ１１’及びＲ１２’は、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、アルコキシカルボニル基又はカルボキシル基を表し、Ｒ１３’及びＲ１４’は、スルホン酸基もしくはカルボキシル基で置換されたアルキル基又はスルホン酸基もしくはカルボキシル基又はスルホン酸基で置換されたアリール基あるいはそのナトリウム・カリウム塩を表す。Ｌは、置換もしくは未置換のメチン鎖を表す。Ｍは、ナトリウム、カリウム又は水素原子を表す。ｋは、０又は１を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式中、Ｒ１”、Ｒ２”、Ｒ３”、Ｒ４”は、アルキル基、ヒドロキシアルキル基、シアノ基、アルキルシアノ基、アルコキシ基及びスルホアルキル基を表す。Ｒ５”及びＲ６”は、スルホン酸基、アルキルスルホン酸基を表す。
　以下に、本実施の形態で好ましく用いられる固体分散染料の具体的化合物を示すが、これに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　これらの染料を第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂに固定化する媒染剤としては、特公昭４３－１０２５４号公報、米国特許第２，５４８，５６４号明細書、米国特許第２，８８２，１５６号明細書、米国特許第３，４４４，１３８号明細書等に記載ものが挙げられる。また、国際公開第１９８８／００４７９４号パンフレットに記載された染料固体粒子微結晶分散体を用いることもできる。
　また、本実施の形態に有用な染料として、特開昭６３－２０８８４６号公報、特開平０１－０６１７４５号公報に記載の現像液中で脱色可能となる機能性染料が挙げられる。以下に、これら機能性染料の具体例を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　これらの染料は、モル吸光係数により異なるが、通常、１０-2ｇ／ｍ3～１ｇ／ｍ3の範囲で添加される。好ましくは５０～５００ｍｇ／ｍ3である。
　上述の染料は、適当な溶媒（例えば水、アルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール等）、アセトン、メチルセロソルブ等、あるいはこれらの混合溶媒）に溶解して、第１中間層２０ａ用の塗布液及び第２中間層２０ｂ用の塗布液に添加することができる。これらの紫外線吸収剤は２種以上組み合わせて用いてもよい。
　また、本実施の形態において、微結晶状に固体分散可能な染料としては国際公開第１９８８／００４７９４号パンフレットの表Ｉ～表Ｘ、以下に示す一般式（Ｉ）～（ＶＩＩ)、及びその他が用いられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
　式中、Ａ及びＡ’は同じでも異なっていてもよく、各々酸性核を表し、Ｂは塩基性核を表し、Ｘ及びＹは同じでも異なっていてもよく、各々電子吸性基を表す。Ｒは水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ1及びＲ2は各々アルキル基、アリール基、アシル基又はスルホニル基を表し、Ｒ1とＲ2が連結して５又は６員環を形成してもよい。Ｒ3及びＲ6は各々水素原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｒ4及びＲ5は各々水素原子又はＲ1とＲ4もしくはＲ2とＲ5が連結して５又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は各々メチン基を表す。ｍは０又は１を表し、ｎ及びｑは各々０、１又は２を表し、ｐは０又は１を表し、ｐが０のとき、Ｒ3はヒドロキシ基又はカルボキシル基を表し且つＲ4及びＲ5は水素原子を表す。Ｂ’はカルボキシル基、スルファモイル基、又はスルホンアミド基を有するヘテロ環基を表す。Ｑはヘテロ環基を表す。但し、一般式（Ｉ）ないし（ＶＩＩ)で表される化合物は、１分子中に水とエタノールの容積比が１対１の混合溶液中におけるｐＫａが４～１１の範囲にある解離性基を少なくとも１個有する。
　固体分散に用いられる染料は具体的には国際公開第１９８８／００４７９４号パンフレット、欧州特許出願公開第０２７４７２３号明細書、欧州特許出願公開第０２７６５６６号明細書、欧州特許出願公開第０２９９４３５号明細書、特開昭５２－９２７１６号公報、特開昭５５－１５５３５０号公報、特開昭５５－１５５３５１号公報、特開昭６１－２０５９３４号公報、特開昭４８－６８６２３号公報、米国特許第２，５２７，５８３号明細書、米国特許第３，４８６，８９７号明細書、米国特許第３，７４６，５３９号明細書、米国特許第３，９３３，７９８号明細書、米国特許第４，１３０，４２９号明細書、米国特許第４，０４０，８４１号明細書、特願平１－５０８７４号、特開平２－２８２２４４号公報、特開平３－１６７５４６号公報等に記載のものが使用できる。分散方法についても、上述の公報等に記載されているが、以下の方法も使用することができる。
　（ａ）　染料を適当な分散剤と共に、水中にボールミルあるいはサンドミル、コロイドミル等により機械的に分散固体とする方法
　（ｂ）　解離状態の染料を塩の形で塗布したのち、酸性のゼラチンを上塗りすることにより分散固定を塗布時に得る方法
　（ｃ）　染料が溶解するｐＨに調節することによりアルカリ性水溶液とし、ゼラチン等、保護コロイド存在下でその後ｐＨを下げることによって微小固体析出物として得る方法
　さらにまた、染料を適当な溶媒中で溶解させたのち、染料の貧溶媒を添加して析出させることによって分散固体を得ることも可能である。本実施の形態において、好ましい染料は３００～５００ｎｍの範囲に吸収極大を有する染料である。染料の具体例を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
　本実施の形態における微結晶状に固体分散された染料は、紫外光をカットした明るい部屋で取り扱い可能であり、且つ、スプレッド及びチョーク適性、袋文字適性改良の目的で、該乳剤層より外側の非感光性層に添加する。この染料の塗布量としては、１平方メートル当り１０～５００ｍｇが好ましく特に５０～３００ｍｇが好ましい。本実施の形態に用いられる染料は国際公開第１９８８／００４７９４号パンフレット、欧州特許出願公開第０２７４７２３号明細書、欧州特許出願公開第０２７６５６６号明細書、欧州特許出願公開第０２９９４３５号明細書、特開昭５２－９２７１６号公報、特開昭５５－１５５３５０号公報、特開昭５５－１５５３５１号公報、特開昭６１－２０５９３４号公報、特開昭４８－６８６２３号公報、米国特許第２，５２７，５８３号明細書、米国特許第３，４８６，８９７号明細書、米国特許第３，７４６，５３９号明細書、米国特許第３，９３３，７９８号明細書、米国特許第４，１３０，４２９号明細書、米国特許第４，０４０，８４１号明細書、特開平２－２８２２４４号公報、特開平３－１６７５４６号公報等に記載された方法及びその方法に準じて容易に合成することができる。
［第１接着層１６ａ、第２接着層１６ｂ、第１保護層２２ａ、第２保護層２２ｂ］
　第１感光層１４ａが塗設される側の面に、必要に応じて第１接着層１６ａ及び第１保護層２２ａ等の非感光性層を設け、第２感光層１４ｂが塗設される側の面に、必要に応じて第２接着層１６ｂ及び第２保護層２２ｂ等の非感光性層を設けることができる。第１接着層１６ａは透明支持体１２と第１導電パターン２４ａとの間の接着性を向上する目的で、第２接着層１６ｂは透明支持体１２と第２導電パターン２４ｂとの間の接着性を向上する目的で設けられる。そのため、透明支持体１２と第１物理現像核層１８ａとの間、並びに透明支持体１２と第２物理現像核層１８ｂとの間に設けることが好ましい。
　第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂは、現像処理で銀塩感光材料中の銀が系外に拡散するのを抑制し、物理現像核上への銀の析出効率を高める効果がある。従って、第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂはそれぞれ第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂの上に設けることが好ましい。これら第１接着層１６ａ、第２接着層１６ｂ、第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂは、水溶性高分子化合物を主たるバインダーとする層である。ここで、「主たる」とは、非感光性層の全固形分塗布量の５０質量％以上が水溶性高分子化合物であることを意味する。また、ここでいう「水溶性高分子化合物」とは、現像液で容易に膨潤し、現像液を容易に浸透させるものであれば任意のものが選択できる。具体的には、ゼラチン、アルブミン、カゼイン、ポリビニルアルコール等を用いることができる。特に好ましい水溶性高分子化合物は、ゼラチン、アルブミン、カゼイン等の蛋白質である。非感光性層のバインダー量としては、各々の用途によって異なるが、０．００１～１０ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。但し、第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂを設ける場合は、第１導電パターン２４ａ及び第２導電パターン２４ｂが表面に露出し難くなるので、できるだけ薄い方が好ましく、好ましい使用量は０．１ｇ／ｍ2以下、さらに好ましくは０．０５ｇ／ｍ2以下である。なお、第１接着層１６ａ及び第２接着層１６ｂに、第１中間層２０ａ及び第２中間層２０ｂに添加した固体分散染料と同様の染料を添加してもよい。
　これら第１接着層１６ａ、第２接着層１６ｂ、第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂには、必要に応じてＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ Ｉｔｅｍ １７６４３（１９７８年１２月）及び１８７１６（１９７９年１１月）、３０８１１９（１９８９年１２月）に記載されているような公知の写真用添加剤を含有させることができ、前述の水溶性高分子化合物の架橋剤により硬膜させることも可能である。
　第１接着層１６ａ、第２接着層１６ｂ、第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂの水溶性高分子化合物量としては、各々の用途によって異なるが、０．００１～１０ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。また、これら非感光性層には水溶性高分子化合物の架橋剤を用いることができるが、現像後に不要なハロゲン化銀乳剤層を少なくとも水洗除去するため、非感光性層に水溶性高分子化合物の架橋剤を用いる場合は、現像後の第１感光層１４ａ及び第２感光層１４ｂの水洗除去を妨げない範囲で用いることが可能である。
　次に、導電シート３６の作製方法の各工程について説明する。
［塗布］
　第１感光層１４ａ、第２感光層１４ｂ、第１中間層２０ａ、第２中間層２０ｂ、第１物理現像核層１８ａ、第２物理現像核層１８ｂ、第１接着層１６ａ、第２接着層１６ｂ、第１保護層２２ａ及び第２保護層２２ｂ等の塗布は、例えばディップコーティング、スライドコーティング、カーテンコーティング、バーコーティング、エアーナイフコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、スプレーコーティング等の塗布方式で塗布することができ、その塗布方式に合わせて、界面活性剤及び増粘剤等の各種塗布助剤を用いることができる。
［露光］
　透明支持体１２上に設けられた第１感光層１４ａと第２感光層１４ｂに対して露光を行う。この場合、例えば第１感光層１４ａに対して露光を行った後に、第２感光層１４ｂに露光を行ったり、第１感光層１４ａと第２感光層１４ｂに対して同時に露光（両面同時露光）してもよい。露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長、例えば３００～４２０ｎｍに発振波長を有する光源を用いてもよい。この場合、例えば感光材料の両面にフォトマスクを配置し、平行光を用いて両面同時に露光する等が挙げられる。その他、例えば４００～４３０ｎｍに発振波長を有する青色半導体レーザー（バイオレットレーザーダイオード）を用いて走査露光してもよい。
［現像処理］
　現像処理は、第１導電パターン２４ａ及び第２導電パターン２４ｂを形成する部分のハロゲン化銀を溶解し、拡散させて、物理現像核上で還元し、析出させる現像処理工程と、不要となったハロゲン化銀層を水洗除去するための水洗除去工程とがある。
　ネガ型のハロゲン化銀乳剤を用いた場合、露光により光を照射していない部分が銀パターン３４を形成する部分となり、ポジ型のハロゲン化銀乳剤を用いた場合は、露光により光を照射した部分が銀パターン３４を形成する部分となる。また、ネガ型及びポジ型のいずれのハロゲン化銀乳剤を用いた場合においても、現像処理工程と水洗除去工程との間に、例えば、酢酸、クエン酸等を含有する酸性水溶液を用いて現像停止処理を行ってもよい。
＜現像液＞
　現像液は、可溶性銀錯塩形成剤及び還元剤を含有するアルカリ液である。可溶性銀錯塩形成剤は、ハロゲン化銀を溶解し可溶性の銀錯塩を形成させる化合物であり、還元剤はこの可溶性銀錯塩を還元して物理現像核上に金属銀を析出させるための現像主薬である。
　現像主薬としては、写真現像の分野で公知の現像主薬を用いることができ、例えば、ハイドロキノン、カテコール、ピロガロール、メチルハイドロキノン、クロロハイドロキノン等のポリヒドロキシベンゼン類、１－フェニル－４，４－ジメチル－３－ピラゾリドン、１－フェニル－３－ピラゾリドン、１－ｐ－トリル－３－ピラゾリドン、１－フェニル－４－メチル－３－ピラゾリドン、１－フェニル－４－メチル－４－ヒドロキシメチル－３－ピラゾリドン、１－ｐ－クロロフェニル－３－ピラゾリドン等の３－ピラゾリドン類、パラメチルアミノフェノール、パラアミノフェノール、パラヒドロキシフェニルグリシン、パラフェニレンジアミン等が挙げられ、これらを２種類以上併用して用いることができる。
　上述した現像主薬は、感光材料１０を構成する各層中に含有させてもよいし、現像液中に含有させてもよく、さらに両方に含有してもよいが、現像液中に含有させるのが好ましい。現像液中への現像主薬の含有量は、１～１００ｇ／Ｌの範囲で用いるのが適当である。各層に含有させる場合、現像主薬はいずれの層に含有されてもよく、特にハロゲン化銀乳剤層に含有されていることが好ましい。この場合の好ましい量は、水溶性高分子化合物１ｇ当たり、０．００５～０．５ｇの範囲である。これら現像主薬は塗液に溶解させても各層に含有させてもよいし、オイル分散液に溶解させて各層中に含有させることも可能である。
　現像液には、その他、現像主薬の保恒剤、アルカリ剤、カブリ防止剤等を含有する。保恒剤としては、亜硫酸イオン等がある。アルカリ剤は、現像主薬の還元性を発揮するために必要であり、現像液のｐＨを１０以上、例えば１１～１４の範囲になるように添加される。また、安定に塩基性を保つための、炭酸塩やリン酸塩のような緩衝剤も用いられる。さらに、現像速度をコントロールするための現像抑制剤等、写真現像の分野で公知の化合物を含有させることができる。
　現像液は可溶性銀錯塩形成剤を含有する。可溶性銀錯塩形成剤としては、具体的にはチオ硫酸アンモニウムやチオ硫酸ナトリウムのようなチオ硫酸塩、チオシアン酸ナトリウムやチオシアン酸アンモニウムのようなチオシアン酸塩、亜硫酸ナトリウムや亜硫酸水素カリウムのような亜硫酸塩、１，１０－ジチア－１８－クラウン－６、２，２′－チオジエタノール等のチオエーテル類、オキサゾリドン類、２－メルカプト安息香酸及びその誘導体、ウラシルのような環状イミド類、アルカノールアミン、ジアミン、特開平９－１７１２５７号公報に記載のメソイオン性化合物、５，５－ジアルキルヒダントイン類、アルキルスルホン類、他に「Ｔｈｅ Ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ Ｐｒｏｃｅｓｓ（４ｔｈ ｅｄｉｔｉｏｎ，ｐ４７４～４７５）」、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ著に記載されている化合物が挙げられる。
　これらの可溶性銀錯塩形成剤の中で特にアルカノールアミンが好ましい。アルカノールアミンとしては、例えばＮ－（２－アミノエチル）エタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ－メチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ－エチルジエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エタノールアミン、４－アミノブタノール、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、３－アミノプロパノール、２－アミノ－２－メチル－１－プロパノール等が挙げられる。
　これらの可溶性銀錯塩形成剤は単独で、又は、複数組み合わせて使用することができる。可溶性銀錯塩形成剤の使用量としては、０．１～４０ｇ／Ｌ、好ましくは１～２０ｇ／Ｌである。
　現像処理の温度としては、１５℃～３０℃が好ましく、ハロゲン化銀乳剤層が現像液中に溶出するのを防止するために１８℃～２３℃の範囲が好ましい。現像時間としては、生産効率を考慮して、１２０秒以下が好ましい。現像を行うための現像液の供給方式は、浸漬方式であっても塗布方式であってもよい。浸漬方式は、例えば、タンクに大量に貯流された現像液中に、前記露光済みの銀塩感光材料を浸漬しながら搬送するものであり、塗布方式は、例えばハロゲン化銀乳剤層上に現像液を１ｍ2当たり４０～１２０ｍｌ程度塗布するものである。
＜水洗除去工程＞
　現像処理における水洗除去は、現像処理後に不要となったハロゲン化銀乳剤層等の第１物理現像核層１８ａ及び第２物理現像核層１８ｂの上に設けられた層を除去する。従って、水洗除去の処理液としては、水を主成分とする。また、この処理液には緩衝成分を含有してもよく、除去したゼラチンの腐敗を防止する目的で、防腐剤を含有させてもよい。
　水洗除去方法としては、スクラビングローラ等を用いて処理液をシャワー方式、スリット方式等を単独、あるいは組み合わせて使用できる。また、シャワーやスリットを複数個設けて、除去の効率を高めることもできる。また、水洗除去の代わりに、剥離紙等に転写剥離する方法を用いてもよい。剥離紙等で転写剥離する方法としては、ハロゲン化銀乳剤層上の余分な現像液を予めローラ等で絞り取っておき、ハロゲン化銀乳剤層等と剥離紙を密着させてハロゲン化銀乳剤層等をプラスチック樹脂フイルムから剥離紙に転写させて剥離する方法である。剥離紙としては吸水性のある紙や不織布、あるいは紙の上にシリカのような微粒子顔料とポリビニルアルコールのようなバインダーとで吸水性の空隙層を設けたものが用いられる。
　なお、本発明は、下記表１及び表２に記載の公開公報及び国際公開パンフレットの技術と適宜組合わせて使用することができる。「特開」、「号公報」、「号パンフレット」等の表記は省略する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
　なお、本発明に係る感光材料、導電シート及び導電シートの製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。

Claims (11)

  1. 　表面（１２ａ）と裏面（１２ｂ）とを有する透明支持体（１２）と、
    　前記透明支持体（１２）の前記表面（１２ａ）に形成された第１感光層（１４ａ）と、
    　前記透明支持体（１２）の前記裏面（１２ｂ）に形成された第２感光層（１４ｂ）と、を有し、
    　露光処理及び現像処理が施される感光材料において、
    　前記第１感光層（１４ａ）と前記第２感光層（１４ｂ）との間に、現像処理で消色する遮光層（２６）を有し、
    　前記遮光層（２６）内の遮光物質が非拡散性であることを特徴とする感光材料。
  2. 　請求項１記載の感光材料において、
    　前記遮光層（２６）は、前記第１感光層（１４ａ）と前記透明支持体（１２）との間、あるいは、前記第２感光層（１４ｂ）と前記透明支持体（１２）との間に形成されていることを特徴とする感光材料。
  3. 　請求項１記載の感光材料において、
    　前記遮光層（２６）は、前記第１感光層（１４ａ）と前記透明支持体（１２）との間、及び、前記第２感光層（１４ｂ）と前記透明支持体（１２）との間にそれぞれ形成されていることを特徴とする感光材料。
  4. 　請求項１記載の感光材料において、
    　前記透明支持体（１２）の前記表面（１２ａ）に形成された第１物理現像核層（１８ａ）と、
    　前記第１物理現像核層（１８ａ）に積層された第１中間層（２０ａ）と、
    　前記第１中間層（２０ａ）に積層された前記第１感光層（１４ａ）と、
    　前記透明支持体（１２）の前記裏面（１２ｂ）に形成された第２物理現像核層（１８ｂ）と、
    　前記第２物理現像核層（１８ｂ）に積層された第２中間層（２０ｂ）と、
    　前記第２中間層（２０ｂ）に積層された前記第２感光層（１４ｂ）と、を有し、
    　前記第１中間層（２０ａ）及び前記第２中間層（２０ｂ）のうち、少なくとも１つが前記遮光層（２６）を構成することを特徴とする感光材料。
  5. 　請求項１記載の感光材料において、
    　前記遮光層（２６）に含まれる前記遮光物質は、該遮光層（２６）に固定された固体分散染料であることを特徴とする感光材料。
  6. 　請求項１記載の感光材料において、
    　前記遮光物質は、解離性水素又は解離性水素を有する基を有し、露光処理では、非解離であって、実質的に水不溶性の特性を有し、現像処理では、解離して、実質的に水可溶性の特性を有することを特徴とする感光材料。
  7. 　請求項１記載の感光材料において、
    　少なくとも前記第１感光層（１４ａ）及び前記第２感光層（１４ｂ）に、水溶性染料が含まれていることを特徴とする感光材料。
  8. 　請求項１記載の感光材料を露光処理及び現像処理を行うことによって、前記透明支持体（１２）の前記表面（１２ａ）及び前記裏面（１２ｂ）にそれぞれ導電パターンが形成された導電シート。
  9. 　請求項１記載の感光材料（１０）を用意する工程と、
    　前記感光材料（１０）の前記第１感光層（１４ａ）に対し、前記透明支持体（１２）に向かって光を照射して前記第１感光層（１４ａ）を露光する第１露光処理と、前記感光材料（１０）の前記第２感光層（１４ｂ）に対し、前記透明支持体（１２）に向かって光を照射して前記第２感光層（１４ｂ）を露光する第２露光処理とを行う露光工程と、
    　露光処理後の前記第１感光層（１４ａ）及び前記第２感光層（！４ｂ）を一括して現像処理する現像工程と、を有し、
    　前記透明支持体（１２）の前記表面（１２ａ）及び前記裏面（１２ｂ）にそれぞれ導電パターンが形成された導電シートを作製することを特徴とする導電シートの製造方法。
  10. 　請求項９記載の導電シートの製造方法において、
    　前記第１感光層（１４ａ）に対する前記第１露光処理と、前記第２感光層（１４ｂ）に対する前記第２露光処理とを同時に行うことを特徴とする導電シートの製造方法。
  11. 　請求項９記載の導電シートの製造方法において、
    　前記現像工程は、
    　前記第１感光層（１４ａ）及び前記第２感光層（１４ｂ）のうち、それぞれ画像を形成する部分のハロゲン化銀を溶解し、拡散させて、第１物理現像核層（１８ａ）及び第２物理現像核層（１８ｂ）における物理現像核上で還元し、析出させる現像処理工程と、
    　不要となった前記第１感光層（１４ａ）及び前記第２感光層（１４ｂ）を水洗除去するための水洗除去工程とを有することを特徴とする導電シートの製造方法。
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