WO2014171199A1 - ボールジョイントとその製造方法 - Google Patents

ボールジョイントとその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2014171199A1
WO2014171199A1 PCT/JP2014/055280 JP2014055280W WO2014171199A1 WO 2014171199 A1 WO2014171199 A1 WO 2014171199A1 JP 2014055280 W JP2014055280 W JP 2014055280W WO 2014171199 A1 WO2014171199 A1 WO 2014171199A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
ball joint
film
intermediate layer
dlc film
resin
Prior art date
Application number
PCT/JP2014/055280
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
三宅 浩二
良平 西海
健太郎 小森
Original Assignee
日本アイ・ティ・エフ株式会社
本田技研工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日本アイ・ティ・エフ株式会社, 本田技研工業株式会社 filed Critical 日本アイ・ティ・エフ株式会社
Priority to US14/784,559 priority Critical patent/US9765810B2/en
Priority to CN201480021180.XA priority patent/CN105229317B/zh
Priority to DE112014002000.1T priority patent/DE112014002000T5/de
Publication of WO2014171199A1 publication Critical patent/WO2014171199A1/ja

Links

Images

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C11/00Pivots; Pivotal connections
    • F16C11/04Pivotal connections
    • F16C11/06Ball-joints; Other joints having more than one degree of angular freedom, i.e. universal joints
    • F16C11/0604Construction of the male part
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0605Carbon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/26Deposition of carbon only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/50Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using electric discharges
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C11/00Pivots; Pivotal connections
    • F16C11/04Pivotal connections
    • F16C11/06Ball-joints; Other joints having more than one degree of angular freedom, i.e. universal joints
    • F16C11/0685Manufacture of ball-joints and parts thereof, e.g. assembly of ball-joints
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C2206/00Materials with ceramics, cermets, hard carbon or similar non-metallic hard materials as main constituents
    • F16C2206/02Carbon based material
    • F16C2206/04Diamond like carbon [DLC]
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C2223/00Surface treatments; Hardening; Coating
    • F16C2223/30Coating surfaces
    • F16C2223/42Coating surfaces by spraying the coating material, e.g. plasma spraying
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C2240/00Specified values or numerical ranges of parameters; Relations between them
    • F16C2240/40Linear dimensions, e.g. length, radius, thickness, gap
    • F16C2240/60Thickness, e.g. thickness of coatings
    • F16C2240/64Thickness, e.g. thickness of coatings in the nanometer range

Definitions

  • the present invention relates to a ball joint that rotatably holds a ball stud having a spherical portion, and a method for manufacturing the same.
  • Ball joints can move two jointed members at a free angle while sliding smoothly like a joint, so it is widely used in the fields of automobile parts, machine parts, controllers, etc. It is used.
  • the present invention is applied to a link mechanism such as an arm, a tie rod, and a stabilizer in an automobile suspension or steering, a movable part of a transmission, and the like.
  • This amorphous hard carbon film is generally called by various names such as diamond-like carbon (DLC), amorphous carbon, diamond-like carbon (hereinafter also simply referred to as “DLC film”), and has high hardness. In addition to having wear resistance, solid lubricity, and excellent chemical stability, it also has smoothness, low opponent attack and self-lubricating properties, so it is preferably used as a sliding material Can do.
  • DLC diamond-like carbon
  • DLC film diamond-like carbon
  • DLC film diamond-like carbon
  • wear resistance, solid lubricity, and excellent chemical stability it also has smoothness, low opponent attack and self-lubricating properties, so it is preferably used as a sliding material Can do.
  • Patent Document 1 discloses that the surface of the ball joint has a nanoindentation hardness of 6 to 39 GPa and a surface roughness (root mean square roughness).
  • a DLC film With a thickness of 60 nm or less, it is possible to obtain a ball joint having a DLC film with low attacking resistance, high corrosion resistance and high wear resistance, and sufficiently suppressing the occurrence of stick-slip.
  • sliding characteristics such as torque characteristics can be obtained stably.
  • the surface structure (particularly surface roughness) and film physical properties (particularly film hardness) of the DLC film must be appropriately controlled.
  • the growth condition of the DLC film is controlled.
  • the DLC film grows with different characteristics depending on the raw materials and components. It is not easy because it is necessary to set appropriate film forming conditions by skillfully combining many parameters related to film forming such as applied bias and plasma intensity.
  • the growth rate of the DLC film is generally not so high, there is a possibility that the film forming time may be remarkably increased depending on the conditions even if appropriate film forming conditions are set.
  • the surface roughness is controlled on the substrate surface, for example, by machining such as shot blasting. It was considered that the film hardness was controlled by adjusting the film forming conditions of the DLC film.
  • the surface roughness of the DLC film can be controlled by appropriately controlling the surface roughness of the substrate surface.
  • Surface roughness can also be controlled. For this reason, when a DLC film is grown on a substrate controlled to have an appropriate surface roughness in this way, only the film hardness is controlled, that is, only the parameter related to film hardness is considered as a parameter related to film formation. By performing the film formation, as a result, a DLC film satisfying both the surface roughness and the film hardness can be obtained.
  • the DLC film when controlling the formation of the DLC film, it is possible to easily form the DLC film having the desired surface roughness and film hardness in a short time by dividing the control into the surface roughness control and the film hardness control. Can do.
  • a ball joint manufacturing method comprising: a ball stud having a spherical portion; and a holding portion that rotatably holds the spherical portion, Using the sputtering method on the surface of the spherical portion, a base intermediate layer forming step of forming a base intermediate layer having a micro surface uneven structure, An amorphous hard carbon film forming step of forming an amorphous hard carbon film having a root mean square roughness of 6.5 to 35 nm on the underlayer using a PIG plasma film forming method; It is the manufacturing method of the ball joint characterized by providing.
  • a base intermediate layer (hereinafter, also simply referred to as “intermediate layer”) is formed on the surface of the spherical surface of the ball stud, which is the base material, by sputtering. Then, when a DLC film is formed on the intermediate layer using a PIG (Penning Ionization Gauge) plasma film forming method, the cost of the DLC film having the desired surface roughness and film hardness is increased in a short time. It was found that it can be easily formed without incurring.
  • PIG Personal Ionization Gauge
  • the formation of the intermediate layer using the sputtering method enables film formation in a short time, and controls the surface roughness of the intermediate layer formed by simple parameters such as the film formation time and the stacking thickness. Therefore, it is possible to easily form an intermediate layer with a preferable surface roughness that is granularly grown into fine irregularities, so that the surface treatment of the substrate can be performed at a lower cost and in a shorter time compared to machining such as shot blasting. Can do.
  • the DLC film when the DLC film is formed on the intermediate layer whose surface roughness is controlled by growing it into fine irregularities using a sputtering method, the DLC film traces the surface roughness of the substrate as described above. Therefore, the surface roughness of the DLC film can be preferably controlled.
  • the film hardness of the DLC film can be controlled by a small number of parameters, for example, a parameter that can be easily controlled, such as a bias voltage and an atmospheric pressure, as described above.
  • a DLC film having the desired surface roughness and film hardness can be easily formed in a short time without incurring an increase in cost, and a ball joint having a stable sliding characteristic while being inexpensive. Can be provided.
  • the cathode PIG type plasma CVD apparatus used when forming the DLC film can also be used when forming the intermediate layer by the sputtering method, so that the ball joint can be manufactured more efficiently. it can.
  • the inventors also found that when the root mean square roughness of the surface of the DLC film is 6.5 to 35 nm, the surface roughness is not excessively high, and is stable for a longer period of time than before. It has been found that a ball joint capable of maintaining sliding characteristics can be obtained.
  • a DLC film having a desired surface roughness and film hardness can be easily formed in a short time without causing an increase in cost.
  • the root mean square roughness of 6.5 to 35 nm it is possible to manufacture and provide a ball joint that can stably maintain sliding characteristics for a longer period of time.
  • the intermediate layer using the sputtering method, sufficient adhesion due to the anchor effect can be ensured at the interface between the DLC film and the intermediate layer and at the interface between the intermediate layer and the substrate.
  • a ball joint having a ball stud having a spherical portion and a holding portion that rotatably holds the spherical portion is characterized in that an amorphous hard carbon film having a root mean square roughness of 6.5 to 35 nm is provided on the surface of the spherical portion through an intermediate layer.
  • the DLC film having a root mean square roughness of 6.5 to 35 nm does not have an excessively high surface roughness, a ball stud in which such a DLC film is formed on the surface of the spherical surface is sufficient. And can be smoothly rotated by the holding portion with a low coefficient of friction. As a result, it is possible to provide a ball joint that sufficiently suppresses the occurrence of stick-slip in the ball joint and exhibits excellent sliding characteristics with a small and stable torque (rotational torque).
  • the intermediate layer grown by the sputtering method exhibits an anchor effect and ensures sufficient adhesion at the interface between the DLC film and the intermediate layer and at the interface between the intermediate layer and the substrate. Therefore, it is possible to provide a ball joint with improved adhesion and durability.
  • the invention according to claim 3 3.
  • a preferred hardness is 7.8 to 33 GPa in indentation hardness.
  • the intermediate layer is any one of a metal layer or a semimetal layer, a nitride layer, and a carbide layer of an element selected from Ti, Cr, W, Si, and Ge. 3.
  • these metal or metalloid layers, nitride layers, and carbide layers of these elements exhibit sufficient adhesion at the interface between the DLC film and the intermediate layer, and at the interface between the intermediate layer and the substrate. Therefore, it is preferable.
  • the surface of the holding portion that contacts the spherical portion is a resin material selected from polyacetal resin, nylon resin, polyamide resin, polytetrafluoroethylene resin, polyether ether ketone ketone resin, elastomer resin, and rubber material, or
  • the ball joint according to the present invention is manufactured without causing an increase in cost and can stably maintain excellent sliding characteristics for a long period of time. Therefore, it is particularly suitable as an automobile part that is inexpensive and requires high quality reliability.
  • the invention described in claim 7 It is manufactured using the manufacturing method of the ball joint of Claim 1, It is a ball joint characterized by the above-mentioned.
  • long-term stable sliding characteristics can be maintained by forming a DLC film having a desired surface structure and film properties efficiently in a short time without accompanied by costly machining. It is possible to provide a ball joint that can be used and a manufacturing method thereof.
  • FIG. 6 is a graph showing a variation ratio of rotational torque in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 5. It is a figure explaining the test method of an abrasion test. It is a figure which shows the relationship between the other party resin wear ratio in a wear test, and the nanoindentation hardness of the spherical part surface. It is a photograph of the spherical surface portion of the ball stud after the wear test. It is a figure which shows the test result of the high temperature abrasion test of the ball stud of Example 4.
  • FIG. 1 is a longitudinal sectional view of an example of a ball joint according to the present embodiment.
  • the ball joint 1 includes a ball stud 10 (material: steel material) having a spherical surface portion 11 and a seat 20 (material: resin) having a curved surface portion 21. ), And the spherical surface portion 11 and the curved surface portion 21 are combined so as to come into contact with each other, so that the sheet 20 as a holding portion (a mating member) holds the spherical surface portion 11 rotatably. ing.
  • 12 is a shaft member of the ball stud
  • 30 is a housing (material: steel material) that accommodates the ball stud 10 and the seat 20
  • 31 and 33 are openings provided in the housing 30, and 32 is an opening.
  • a bent portion 34 formed in the vicinity of 31 is a curved portion provided in the housing 30 corresponding to the spherical portion 11.
  • Reference numeral 35 denotes a flange portion disposed on the outer peripheral surface of the housing 30
  • reference numeral 40 denotes a plug for closing the opening 33 to fix the ball stud 10 and the seat 20
  • reference numeral 50 denotes a boot (material: rubber).
  • the boot 50 is filled with grease 60.
  • a sheet material formed from the above-described polyacetal resin or the like or a reinforced composite material thereof can be appropriately selected and used.
  • the surface of the spherical portion 11 (base material) of the ball stud 10 has a root mean square roughness of 6.5 to 35 nm via an intermediate layer 14 formed by sputtering as shown in FIG.
  • the DLC film 13 is formed.
  • the above-described metal layer selected from Ti, Cr, W, Si, and Ge, or a metal nitride layer or metal carbide layer is preferably used, and two or more layers may be laminated.
  • a preferred film thickness is 0.1 to 2.0 ⁇ m.
  • the DLC film 13 is formed on the intermediate layer 14 and is controlled so that the root mean square roughness of the surface is 6.5 nm to 35 nm.
  • the indentation hardness of the DLC film 13 is preferably 7.8 GPa to 33 GPa. As a result, the occurrence of stick-slip can be sufficiently suppressed, wear can be reduced, and stable sliding characteristics can be maintained for a long time.
  • a preferred film thickness is 0.1 to 20 ⁇ m.
  • the ball joint according to the present embodiment having the above-described configuration uses an anode PIG type plasma CVD apparatus as shown in FIG. And a DCL film.
  • 100 is a ball joint
  • 101 is an electron gun
  • 102 is a reaction chamber
  • 103 is plasma formed in the reaction chamber
  • 104 is a jig for placing the ball joint 100
  • 105 is a jig 104 for plasma 103
  • 106 is a bipolar pulse power supply
  • 107 is a gas introduction port
  • 108 is a gas discharge port
  • 109 is a reflection electrode
  • 110 is a coil
  • 111 is a magnetron sputtering target
  • 112 is a heater.
  • the jig 104 on which the ball joint 100 is arranged is arranged in the self-revolving mechanism 105 in the reaction chamber 102.
  • a negative direct current bias is applied to the magnetron sputter target 111 that is disposed to face the jig 104, thereby forming an intermediate layer of the target metal layer on the surface of the ball joint 100.
  • the film formation conditions such as the film formation time and the film thickness are appropriately adjusted so that the root mean square roughness of the surface of the DLC film to be subsequently formed is 6.5 to 35 nm. Specifically, it is preferable to adjust so that the root mean square roughness of the surface of the intermediate layer is 3.0 to 35 nm.
  • a plasma generating gas Ar, H 2, etc.
  • Thermoelectrons are generated from the electron gun 101 and introduced into the reaction chamber 102 by a magnetic field formed by the upper and lower coils 110.
  • the reflective electrode 109 having a floating potential is disposed in the reaction chamber 102 so as to face the electron gun 101, the generated thermoelectrons are reciprocally oscillated and introduced in the space between the electron gun 101 and the reflective electrode 109.
  • the gas is efficiently ionized to generate a high-density plasma 103.
  • a DLC raw material (C 2 H 2 , CH 4 , C 6 H 12 , tetramethylsilane (TMS), etc.) gas is introduced into the reaction chamber 102 from the gas introduction port 107, and a DLC film is formed on the intermediate layer. Form a film.
  • a negative bias is applied using the bipolar pulse power source 106.
  • the DLC film is formed by tracing the surface structure of the intermediate layer uniformly over the entire surface of the ball joint 100 by revolving the jig 104 by the self-revolving mechanism 105.
  • the film hardness of the DLC film can be controlled by appropriately adjusting film forming conditions such as a bias voltage and an atmospheric pressure.
  • the method for manufacturing the ball joint 1 by forming both the intermediate layer and the DLC film with one cathode PIG type plasma CVD apparatus, the desired root mean square roughness and Since a DLC film having a film hardness can be formed, a ball joint can be efficiently manufactured in a short time without incurring high costs. Such a ball joint can maintain stable sliding characteristics for a long period of time as described above.
  • FIG. 4 also shows a surface AFM image of an SCM material on which no intermediate layer is formed.
  • FIG. 4 shows that by forming the intermediate layer using the sputtering method, both the Ti layer and the Cr layer are appropriately grain-grown and fine irregularities are formed on the substrate surface.
  • the intermediate layer can be controlled to a desired micro surface roughness by appropriately adjusting the material, film forming conditions, and film thickness of the intermediate layer to appropriate conditions.
  • the ball joint 100 and the jig 104 were set in the self-revolving mechanism 105, and then the inside of the reaction chamber 102 was evacuated to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa. After confirming that the vacuum was evacuated to 1.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa or less, the jig 104 was revolved and heated by the heater 112 at 200 ° C. for 30 minutes, and the reaction chamber 102 and the ball joint 100 were cured. The water adhering to the tool 104 was released, and then the inside of the reaction chamber 102 was evacuated to 3.0 ⁇ 10 ⁇ 3 Pa.
  • Ar and H 2 gases are introduced into the reaction chamber 102 from the gas introduction port 107 at 20 ml / min and 50 ml / min, respectively, the pressure in the reaction chamber 102 is adjusted to 0.2 Pa, and discharge is performed by PIG.
  • Plasma discharge was performed on the spherical portion of the ball joint 100 by generating a discharge with a current of 5 A and applying a negative bias of 500 V to the ball joint 100 for 20 minutes.
  • the discharge current was changed to 10 A, and the introduction amounts of C 2 H 2 and TMS gas were changed to 100 ml / min and 15 ml / min, respectively, and a second Si—C layer was formed for 3 minutes.
  • the DLC film was formed from a specific waveform by Raman spectroscopic analysis (laser wavelength: 532 nm). Specifically, after correcting the baseline of the obtained waveform, it is separated into a D band having a peak near 1350 cm ⁇ 1 and a G band having a peak near 1550 cm ⁇ 1 by curve fitting using a Gaussian function and a Lorentz function. And analyzed.
  • the peak height position of the G band is G-peak
  • the ratio of the peak height of the D band and G band is ID / IG ratio
  • the parameters of the Raman waveform for estimating the carbon structure in the DLC film are shown in Table 3.
  • FIG. 5 shows AFM images of Comparative Example 1, Comparative Example 2, Example 2, Example 6, Example 7, and Example 9. From FIG. 5, it can be seen that the granular structure on the surface of the DLC film is remarkably grown by providing the Ti layer as the underlying intermediate layer. As shown in Comparative Example 2, a fine granular structure can be obtained by the growth of the DLC film even when the underlying intermediate layer is not provided. However, since the growth is slow, it is necessary to skillfully combine the film formation conditions, and the efficiency. It was not right.
  • FIG. 6 shows the relationship between the thickness of the Ti layer shown in Table 3 and the AFM roughness of the DLC film surface. From FIG. 6, the thickness of the Ti layer and the AFM roughness on the surface of the DLC film are linearly correlated if the source gas is the same, and the surface roughness of the DLC film is adjusted by adjusting the thickness of the Ti layer. You can see that it can be controlled.
  • FIG. 8 the relationship between rotational torque and surface area ratio is shown in FIG. 8.
  • the rotational torque increases linearly with the surface area ratio, and the desired rotational torque can be obtained by appropriately controlling the surface area ratio. I understand.
  • the comparative example in which Ti is not provided it can be seen that even if the surface area ratio is approximately the same, the rotational torque is extremely increased and the control is not easy.
  • FIG. 9 shows the variation ratio of the rotational torque in each example and comparative example. From FIG. 9, when the Ti layer is not provided (Comparative Examples 2 and 3), the variation ratio of the rotational torque is remarkably increased as shown in the left circle part, while the Ti layer is provided ( In Examples 1 to 9, it can be seen that the variation in rotational torque is low and improved, and stable sliding characteristics can be exhibited. Further, when the Ti layer condition is excessive (Comparative Example 5), the DLC film surface becomes excessively rough as shown in the circled part on the right side, the torque value increases rapidly, and the rotational torque varies. It can be seen that the ratio also increases.
  • Example 2 and Comparative Example 2 are compared, both of them have a relatively soft DLC film, but only Example 2 has low rotational torque variation and stable sliding characteristics. Obtained. From this, it can be seen that by providing the Ti layer, stable sliding characteristics can be obtained even with a relatively soft DLC film, so that the degree of freedom in selecting the DLC film in terms of hardness increases. .
  • the relationship between the nanoindentation hardness and the mating resin wear ratio is shown in FIG. From FIG. 11, it can be seen that the wear ratio gradually increases as the hardness of the DLC film increases, and the wear ratio suddenly increases when the hardness exceeds about 30 GPa.
  • Example 2 Example 2, Example 4, and Example 7 is shown in FIG. From FIG. 12, it can be seen that the degree of wear and peeling is less in any of the Examples than in Comparative Example 2. For example, as in Comparative Example 2, no significant wear was observed in Example 2 in which a relatively soft DLC film was formed.
  • Example 4 it can be seen that the degree of wear / peeling is less than in Example 2, and by making the hardness of the DLC film 7.8 GPa or more, wear / peeling of the DLC film can be preferably prevented. I understand.
  • the surface roughness of the DLC film changes from Table 2 and Table 3 by appropriately adjusting the conditions at the time of DLC film formation, such as source gas type, gas pressure, and substrate voltage. Therefore, it can be seen that the surface roughness of the DLC film can be efficiently controlled with higher accuracy by combining the thickness of the Ti layer and the DLC film forming conditions.
  • FIG. 14 shows the relationship between the AFM roughness and hardness measured in the DLC films of Examples 1 to 9 based on Table 3.
  • the AFM roughness Sq of the DLC film is controlled from the lower limit of 6.5 nm, which is the lower limit of roughness control by the underlying intermediate layer, to a range of 35 nm that causes excessive torque and increases variation. It can be seen that it is preferable.
  • the hardness of the DLC film is preferably controlled within a range of 7.8 GPa, in which the DLC film is not worn or peeled off, to 33 GPa in which the counterpart resin attack is increased. And it turns out that controlling surface roughness and hardness within the above-mentioned numerical range can be obtained by forming a DLC film on a base intermediate layer formed to have an appropriate surface roughness.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Pivots And Pivotal Connections (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

 短時間で、所望する表面粗さと膜硬度を有するDLC膜をコストの上昇を招くことなく容易に形成させて、安価でありながらも安定した摺動特性を備えたボールジョイントを大量に提供することができる技術を提供する。 球面部を有するボールスタッドと、球面部を回動自在に保持する保持部とを有するボールジョイントの製造方法であって、球面部の表面にスパッタリング法を用いて、ミクロな表面凹凸構造を有した下地中間層を形成する下地中間層形成工程と、下地中間層の上に、PIGプラズマ成膜法を用いて、表面の二乗平均平方根粗さが6.5~35nmの非晶質硬質炭素膜を形成する非晶質硬質炭素膜形成工程とを備えているボールジョイントの製造方法。

Description

ボールジョイントとその製造方法
 本発明は、球面部を有するボールスタッドを回動自在に保持するボールジョイントとその製造方法に関する。
 ボールジョイントは、関節のように滑らかに摺動しながら、接合された2つの部材を自由な角度で変化させて運動を伝達することができるため、自動車部品や機械部品、コントローラーなどの分野において広く用いられている。具体的には、自動車のサスペンションやステアリングにおけるアーム、タイロッド、スタビライザーなどのリンク機構やトランスミッションの可動部などに適用される。
 このようなボールジョイントにおいて、近年、耐摩耗性、耐食性、摺動特性や摩擦挙動のさらなる改良のために、図15に示すように、ボールスタッド球面部を基材としてその表面に非晶質硬質炭素膜を形成させることが行われている。
 この非晶質硬質炭素膜は、一般的にダイヤモンドライクカーボン(DLC)、無定形炭素、ダイヤモンド状炭素など、様々な名称で呼ばれており(以下、単に「DLC膜」ともいう)、高硬度、耐摩耗性、固体潤滑性、優れた化学的安定性を有していることに加えて、平滑性や低い相手攻撃性と自己潤滑性も備えているため、摺動材料として好ましく使用することができる。
 上記したボールスタッド球面部の表面への非晶質硬質炭素膜の形成について、例えば、特許文献1には、ボールジョイント表面にナノインデンテーション硬度が6~39GPaで、表面粗さ(二乗平均平方根粗さ)が60nm以下のDLC膜を形成することによって、相手攻撃性が低く、耐食性、耐摩耗性が高いDLC膜が形成されたボールジョイントを得ることができ、スティック-スリップの発生を充分に抑制して、トルク特性などの摺動特性を安定して得られることが開示されている。
国際公開第2012/086393号
 しかしながら、上記のようなボールジョイントの製造に際しては、DLC膜の表面構造(特に表面粗さ)および膜物性(特に膜硬度)が適切に制御されている必要があり、従来、これらの制御は、DLC膜の基材上への成膜過程時、DLC膜の成長条件を制御することにより行われていた。
 しかし、このような表面粗さの制御と膜硬度の制御とをDLC膜の形成時に同時に行おうとすると、DLC膜は原料や成分によって異なる特性で成長していくため、雰囲気圧力、成膜時間、印加バイアス、プラズマ強度など成膜に関する多くのパラメータを巧みに組み合わせて、適切な成膜条件を設定する必要があり容易ではなかった。
 また、DLC膜の成長速度は一般的にそれほど速くないため、適切な成膜条件を設定したとしても、その条件によっては成膜時間が著しく長くなってしまう恐れもあった。
 そこで、DLC膜の表面粗さと膜硬度の両方をDLC膜の成長条件を制御することにより好ましく満足させることに替えて、表面粗さの制御については基材表面に、例えばショットブラストなどの機械加工を施すことによって行い、膜硬度の制御についてはDLC膜の成膜条件を調整することによって行うことが考えられた。
 即ち、DLC膜はその成長に際して基材の表面粗さを引き継いで(トレースして)成長する性質を有しているため、基材表面の表面粗さを適切に制御することにより、DLC膜の表面粗さも制御することができる。このため、このように適切な表面粗さに制御された基材上へDLC膜を成長させる際には、膜硬度のみを制御、即ち、成膜に関するパラメータとして膜硬度に関するパラメータのみを考慮して成膜を行うことにより、結果的に、表面粗さと膜硬度の両方を満足するDLC膜を得ることができる。
 このように、DLC膜の形成を制御するにあたって、表面粗さの制御と膜硬度の制御とに分けることにより、短時間で、所望する表面粗さと膜硬度を有するDLC膜を容易に形成させることができる。
 しかしながら、この方法には、所望するミクロな領域の微細な表面性状に制御することが容易ではないことに加えて、機械加工を伴うことによる工程の追加やコストの上昇が避けられないという問題があった。
 このため、短時間で、所望する表面粗さと膜硬度を有するDLC膜をコストの上昇を招くことなく容易に形成させて、安価でありながらも安定した摺動特性を備えたボールジョイントを大量に提供することができる技術が望まれていた。
 本発明者らは、鋭意検討の結果、以下の各請求項に示す発明により、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。以下、各請求項毎に説明する。
 請求項1に記載の発明は、
 球面部を有するボールスタッドと、前記球面部を回動自在に保持する保持部とを有するボールジョイントの製造方法であって、
 前記球面部の表面にスパッタリング法を用いて、ミクロな表面凹凸構造を有した下地中間層を形成する下地中間層形成工程と、
 前記下地中間層の上に、PIGプラズマ成膜法を用いて、表面の二乗平均平方根粗さが6.5~35nmの非晶質硬質炭素膜を形成する非晶質硬質炭素膜形成工程と
を備えていることを特徴とするボールジョイントの製造方法である。
 本発明者らは、上記課題の解決について検討する中で、ショットブラストなどの機械加工に替えて、スパッタリング法を用いて基材表面とDLC膜との間に微細な凹凸の中間層を形成させた後、この中間層を介してDLC膜の成膜を行った場合、上記課題の解決を図ることができると考えた。
 そして、種々の実験の結果、DLC膜の形成に先立って、基材であるボールスタッドの球面部の表面に、スパッタリング法を用いて下地中間層(以下、単に「中間層」ともいう)を形成させた後、この中間層の上にPIG(Penning Ionization Gauge)プラズマ成膜法を用いてDLC膜を形成させた場合、短時間で、所望する表面粗さと膜硬度を有するDLC膜をコストの上昇を招くことなく容易に形成できることが分かった。
 即ち、スパッタリング法を用いた中間層の形成は、短時間での成膜が可能であると共に、成膜時間や積層厚さなどの単純なパラメータにより形成される中間層の表面粗さを制御して、微細な凹凸に粒状成長された好ましい表面粗さの中間層を容易に形成させることができるため、ショットブラストなどの機械加工に比べて安価かつ短時間で、基材の表面処理を行うことができる。
 そして、スパッタリング法を用いて微細な凹凸に粒状成長させることにより表面粗さを制御した中間層上にDLC膜を形成させると、前記したように、DLC膜は基材の表面粗さをトレースして成長するため、DLC膜の表面粗さを好ましく制御することができる。
 一方、DLC膜の膜硬度は、前記したように、少ないパラメータ、例えば、バイアス電圧や雰囲気圧力など制御が容易なパラメータにより制御することができる。
 この結果、短時間で、所望する表面粗さと膜硬度を有するDLC膜をコストの上昇を招くことなく容易に形成させることができ、安価でありながらも安定した摺動特性を備えたボールジョイントを提供することができる。
 そして、DLC膜を成膜する際に使用される陰極PIG型プラズマCVD装置は、中間層をスパッタリング法により形成する際にも使用することができるため、より効率的にボールジョイントを製造することができる。
 本発明者等は、また、これらの実験において、DLC膜の表面の二乗平均平方根粗さが6.5~35nmであると表面粗さが過度に高くならず、従来以上に長期間安定して摺動特性を維持することができるボールジョイントが得られることを見出した。
 以上のように、本請求項の発明によれば、短時間で、所望する表面粗さと膜硬度を有するDLC膜をコストの上昇を招くことなく容易に形成させることができ、DLC膜の表面の二乗平均平方根粗さを6.5~35nmと適切に制御することにより、より長期間安定して摺動特性を維持することができるボールジョイントを製造して提供することができる。
 そして、DLC膜の表面粗さの制御と膜硬度の制御を独立して自在に行うことができるため、所望する特性に応じたDLC膜を形成させて、抑制された相手攻撃性と高い摺動性を兼ね備えたボールジョイントを製造することができ、例えば、潤滑剤の介在が不利となるような高温環境化においても相手材の凝着を防止して相手攻撃性が抑制されたボールジョイントを製造することができる。
 また、スパッタリング法を用いて中間層を形成させることにより、DLC膜と中間層の界面、および中間層と基材の界面において、アンカー効果による充分な密着力を確保することができる。
 請求項2に記載の発明は、
 球面部を有するボールスタッドと、前記球面部を回動自在に保持する保持部とを有するボールジョイントであって、
 前記球面部の表面には、中間層を介して、二乗平均平方根粗さが6.5~35nmの非晶質硬質炭素膜を有することを特徴とするボールジョイントである。
 前記したように、二乗平均平方根粗さが6.5~35nmのDLC膜は、表面粗さが過度に高くないため、球面部の表面にこのようなDLC膜が形成されたボールスタッドは、充分に低い摩擦係数で保持部に回動自在に保持されて、スムーズに回動することができる。この結果、ボールジョイントにおけるスティック-スリップの発生が充分に抑制されて、小さく安定したトルク(回転トルク)で、優れた摺動特性を発揮するボールジョイントを提供することができる。
 また、前記したように、スパッタリング法を用いて粒状成長させた中間層は、アンカー効果を発揮してDLC膜と中間層の界面、および中間層と基材の界面において充分な密着力を確保することができるため、密着性、耐久性が向上したボールジョイントを提供することができる。
 請求項3に記載の発明は、
 前記非晶質硬質炭素膜のインデンテーション硬度が、7.8~33GPaであることを特徴とする請求項2に記載のボールジョイントである。
 DLC膜の硬度が低すぎる場合には非晶質硬質炭素膜自身が速く摩耗し、高過ぎる場合には相手攻撃性が高くなって相手材が速く摩耗する。好ましい硬度は、インデンテーション硬度で7.8~33GPaである。
 請求項4に記載の発明は、
 前記中間層が、Ti、Cr、W、Si、Geより選択された元素の金属層あるいは半金属層、窒化物層、および炭化物層のいずれかであることを特徴とする請求項2または請求項3に記載のボールジョイントである。
 これらの元素の金属層あるいは半金属層、窒化物層、および炭化物層は、中間層として使用した場合、DLC膜と中間層の界面、および中間層と基材の界面において充分な密着力を発揮するため好ましい。
 請求項5に記載の発明は、
 前記保持部の前記球面部と接触する面が、ポリアセタール樹脂、ナイロン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリエーテルエーテルケトンケトン樹脂、エラストマー樹脂、およびゴム材料より選択された樹脂材、または前記樹脂をフィラーあるいは繊維で強化した複合材の1種以上を有することを特徴とする請求項2ないし請求項4のいずれか1項に記載のボールジョイントである。
 これらの樹脂やその強化複合材は、弾力特性と衝撃吸収性に優れており、ボールスタッドの球面部に形成されたDLC膜との間の摩擦特性や摩耗性を保持しながら、長期間に亘って、ボールスタッドの球面部を回動自在に保持することができるため相手材の材質として好ましい。また、同時に、作動時の異音の発生を抑制することができるという点からも好ましい。
 請求項6に記載の発明は、
 自動車部品に使用されることを特徴とする請求項2ないし請求項5のいずれか1項に記載のボールジョイントである。
 本発明に係るボールジョイントは、コストの上昇を招くことなく製造されて、優れた摺動特性を長期間安定して維持することができる。このため、安価でありながら高い品質信頼性を要求される自動車部品として特に好適である。
 請求項7に記載の発明は、
 請求項1に記載のボールジョイントの製造方法を用いて製造されていることを特徴とするボールジョイントである。
 上記したボールジョイントの製造方法を用いることにより、安価でありながらも安定した摺動特性を備えたボールジョイントを大量に提供することができる。
 本発明によれば、コスト高を招く機械加工を伴うことなく、短時間で効率的に、所望する表面構造と膜物性を有するDLC膜を形成させることにより、長期間安定した摺動特性を維持することができるボールジョイントとその製造方法を提供することができる。
本発明の一実施の形態に係るボールジョイントの縦断面図である。 本発明の一実施の形態に係るボールジョイントのボールスタッドの球面部表面の構造を模式的に示す断面図である。 陰極PIG型プラズマCVD装置の概略図である。 実験例1~5の中間層表面および基材表面のAFM画像である。 本発明の実施例および比較例のボールジョイントのボールスタッドの球面部表面のAFM画像である。 DLC膜表面のAFM粗さとTi層積層条件との関係を示す図である。 回転トルクの測定方法を説明する図である。 回転トルクとボールスタッドの球面部の表面積率との関係を示す図である。 実施例1~9および比較例1~5の回転トルクのバラツキ比率を示す図である。 摩耗試験の試験方法を説明する図である。 摩耗試験における相手樹脂摩耗比率と球面部表面のナノインデンテーション硬度との関係を示す図である。 摩耗試験後のボールスタッドの球面部の写真である。 実施例4のボールスタッドの高温摩耗試験の試験結果を示す図である。 実施例1~9のボールスタッドのDLC膜のAFM粗さと硬度との関係を示す図である。 従来のボールジョイントのボールスタッドの球面部表面の構造を模式的に示す断面図である。
 以下、本発明を実施の形態に基づき、図面を用いて説明する。
1.ボールジョイント
 最初に、本実施の形態に係るボールジョイントについて説明する。図1は本実施の形態に係るボールジョイントの一例の縦断面図であり、ボールジョイント1は、球面部11を有するボールスタッド10(材質:鋼材)と曲面部21を有するシート20(材質:樹脂)とを有しており、球面部11と曲面部21とが当接するように組み合わされて、保持部(相手材)であるシート20が球面部11を回動自在に保持するように構成されている。
 なお、図1において、12はボールスタッド10の軸材、30はボールスタッド10およびシート20を収容するハウジング(材質:鋼材)、31および33はハウジング30に設けられた開口部、32は開口部31の近傍に形成された曲折部、34は球面部11に対応してハウジング30に設けられた曲面部である。そして、35はハウジング30の外周面に配置されたフランジ部、40は開口部33を閉止してボールスタッド10およびシート20を固定させるプラグ、50はブーツ(材質:ゴム)である。なお、ブーツ50内にはグリース60が充填されている。
 上記構成の本実施の形態に係るボールジョイント1において、シート20としては、前記したポリアセタール樹脂などやその強化複合材から形成されたシート材を適宜選択して用いることができる。
 そして、ボールスタッド10の球面部11(基材)の表面には、図2に示すように、スパッタリング法を用いて形成された中間層14を介して二乗平均平方根粗さが6.5~35nmのDLC膜13が形成されている。
 中間層14としては、前記した上記したTi、Cr、W、Si、Geより選択された金属層、あるいは金属窒化物層、金属炭化物層が好ましく用いられ、2層以上を積層してもよい。
 中間層14の膜厚としては、薄すぎると充分に粒状成長せず所望する二乗平均平方根粗さの中間層を形成させることができない一方、厚すぎると内部で破壊が生じて剥離する恐れがある。好ましい膜厚は、0.1~2.0μmである。
 DLC膜13は、中間層14上に形成されており、表面の二乗平均平方根粗さが6.5nm~35nmとなるように制御されている。
 そして、DLC膜13のインデンテーション硬度は、7.8GPa~33GPaであることが好ましい。これにより、スティック-スリップの発生を充分に抑制して、摩耗が少なく、長期間安定した摺動特性を維持することができる。
 DLC膜13の膜厚は、薄すぎると負荷が掛かることによって短時間で消滅する恐れがある一方、厚すぎると内部応力が高くなって剥離する恐れがある。好ましい膜厚は、0.1~20μmである。
2.ボールジョイントの製造方法
 上記構成の本実施の形態に係るボールジョイントは、図3に示すような陰極PIG型プラズマCVD装置を使用して、基材であるボールスタッドの球面部の表面に、中間層およびDCL膜を成膜することにより製造される。
 なお、図3において、100はボールジョイント、101は電子銃、102は反応室、103は反応室内に形成されたプラズマ、104はボールジョイント100を配置する治具、105は治具104をプラズマ103を中心に自公転させる自公転機構、106はバイポーラパルス電源、107はガス導入ポート、108はガス排出ポート、109は反射電極、110はコイル、111はマグネトロンスパッタターゲット、112はヒーターである。
 最初に、反応室102内の自公転機構105に、ボールジョイント100が配置された治具104を配置する。反応室102内を真空排気した後に、治具104に正対して配置されたマグネトロンスパッタターゲット111に負の直流バイアスを印加することにより、ボールジョイント100の表面にターゲット金属層の中間層を形成する。
 このとき、引き続いて成膜を行うDLC膜の表面の二乗平均平方根粗さが6.5~35nmとなるように、成膜時間や膜厚などの成膜条件を適宜調整する。具体的には、中間層の表面の二乗平均平方根粗さが3.0~35nmになるように調整することが好ましい。
 中間層の形成が完了した後、反応室102内にガス導入ポート107からプラズマ発生用ガス(Ar、Hなど)を導入する。電子銃101から熱電子を発生させ、上下のコイル110により形成された磁場により反応室102内に導入する。このとき、電子銃101と対向させて反応室102内にフローティング電位の反射電極109が配置されているため、発生した熱電子は電子銃101と反射電極109との空間で往復振動して導入されたガスを効率的にイオン化させて、高密度のプラズマ103を発生させる。
 次に、反応室102内にガス導入ポート107からDLC原料(C、CH、C12、テトラメチルシラン(TMS)など)ガスを導入して、中間層上にDLC膜を成膜させる。このとき、成膜されたDLC膜(高抵抗)によるチャージアップを回避するため、バイポーラパルス電源106を用いて負バイアスを印加する。
 成膜に際して、自公転機構105により治具104を自公転させることにより、ボールジョイント100表面の全体に亘って均一にDLC膜が、中間層の表面構造をトレースして成膜される。このとき、DLC膜の膜硬度は、バイアス電圧や雰囲気圧力などの成膜条件を適宜調整することによって制御することができる。
 このように、本実施の形態に係るボールジョイント1の製造方法では、1台の陰極PIG型プラズマCVD装置で中間層とDLC膜の両方を成膜することにより、所望する二乗平均平方根粗さおよび膜硬度のDLC膜を形成することができるため、コスト高を招くことなく、ボールジョイントを短時間で効率的に製造できる。そして、このようなボールジョイントは、上述したとおり、長期間安定した摺動特性を維持することができる。
 次に、実施例に基づき、本発明をより具体的に説明する。
1.中間層の成膜実験
 ボールジョイントの製造に先立って中間層の成膜実験を行った。
 具体的には、上記の構成の陰極PIG型プラズマCVD装置を使用して、スパッタリング法により、表1に示す成膜条件で、クロムモリブデン鋼鋼材(SCM材)からなる基材の表面に、実験例1~4のTi製中間層を成膜した。なお、参考例としてCr製中間層を成膜し実験例5(成膜条件は標準条件)とした。各実験例において成膜された中間層の厚みを表1に示す。
 成膜された各中間層の表面の一辺が5×5μmの領域について、原子間力顕微鏡(AFM)を用いて測定し、その測定結果からJIS B0601:2001に準拠して、平均粗さSa、10点高さSz、二乗平均平方根粗さSq、最大ピーク高さSp、最大高さSy、表面積率を算出した。結果を表1に示すと共に、各中間層の表面のAFM画像を図4に示す。なお、図4には、比較のために、中間層を形成していないSCM材の表面AFM画像も併せて示している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 図4より、スパッタリング法を用いて中間層を成膜することにより、Ti層、Cr層のいずれにおいても、適切に粒状成長して基材表面に微細な凹凸が形成されていることが分かる。
 そして、表1より、Ti層同士の比較では、平滑化条件よりも標準条件、また膜厚を厚くする程表面粗さが大きくなり、表面積率が大きくなっていることが分かる。また、Ti層とCr層の比較ではTi層の方がよく粒状成長しており、粗い表面が形成されることが分かる。これらの結果より、中間層の材質、成膜条件および膜厚を適宜適切な条件に調整することにより、中間層を所望のミクロ表面粗さに制御できることが分かる。
2.ボールジョイントの作製
 上記の実験結果に基づき、陰極PIG型プラズマCVD装置を使用して、SCM材からなる直径6mmの球面部の表面にスパッタリング法を用いてTi層を中間層として成膜した後に、この中間層上にプラズマCVD法を用いてDLC膜を成膜した。
 最初に、ボールジョイント100および治具104を自公転機構105にセットした後、反応室102内を1.0×10-3Paまで真空排気を行った。1.0×10-3Pa以下に真空排気されていることを確認した後、治具104を自公転させ、ヒーター112により200℃で30分間加熱して、反応室102およびボールジョイント100、治具104に付着した水分を放出させ、その後、反応室102内を3.0×10-3Paまで真空排気した。
 次に、反応室102内にガス導入ポート107から、Ar、Hガスをそれぞれ20ml/min、50ml/minで導入して、反応室102内の圧力を0.2Paに調整し、PIGにより放電電流5Aで放電を発生させ、ボールジョイント100に500Vの負バイアスを20分間印加することによりボールジョイント100の球面部に対してプラズマクリーニングを行った。
 プラズマクリーニング後、Arガスのみを20ml/minで導入して、反応室102内の圧力を0.5Paに調整し、Ti製のマグネトロンスパッタターゲット111に400~500Vの直流バイアスを印加することにより、ボールジョイント100の球面部の表面にTiからなる中間層を、表2に示す膜厚で成膜した。なお、成膜される中間層の膜厚は、表2に示す成膜条件でスパッタリング時間を調整することにより制御した。
 中間層成膜後、反応室102内にAr、C、TMSの各ガスをそれぞれ20ml/min、50ml/min、30ml/minで導入し、反応室102内の圧力を0.5Paに調整した。その後、放電電流5Aで放電し、ボールジョイント100の球面部の表面に500Vの負バイアスを印加して、第1のSi-C層を3分間成膜した。
 次に、放電電流を10A、また、C、TMSガスの導入量をそれぞれ100ml/min、15ml/minに変更して、第2のSi-C層を3分間成膜した。
 その後、表2に示す成膜条件で最表層にDLC膜を表2に示す膜厚で成膜した。成膜後は、反応室102内を充分に冷却して、球面部の表面にDLC膜が形成されたボールスタッドを取り出した。
 これにより、球面部の表面に中間層およびDLC膜が成膜されていないボールスタッド(比較例1)、球面部の表面に直接DLC膜が成膜されたボールスタッド(比較例2~4)、および球面部の表面に中間層およびDLC膜が成膜されたボールスタッド(比較例5、実施例1~9)が作製された。
 なお、上記において、ラマン分光分析(レーザー波長532nm)による特有の波形からDLC膜の形成が行われていることを確認した。具体的には、得られた波形について、ベースラインを補正した後、ガウス関数とローレンツ関数によるカーブフィッティングによって1350cm-1付近にピークを持つDバンドと1550cm-1付近にピークを持つGバンドに分離して解析した。Gバンドのピーク高さ位置をG-peak、DバンドとGバンドのピーク高さの比率をID/IG比とし、DLC膜中の炭素構造を推定するラマン波形のパラメータとして表3に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
3.ボールジョイントの評価
(1)表面粗さ
 各実施例および比較例における球面部(DLC膜)の表面粗さを、上記と同様にAFM(原子間力顕微鏡)を用いて測定し、DLC膜表面のミクロな表面性状を表す代表値として一辺が20μmの領域における二乗平均平方根粗さSq(以下、「AFM粗さ」ともいう)を算出すると共に、表面積率を算出した。結果を表3に示す。
 また、図5に比較例1、比較例2、実施例2、実施例6、実施例7および実施例9のAFM画像を示す。図5より、Ti層を下地の中間層として設けることにより、DLC膜表面における粒状構造が顕著に成長していることが分かる。なお、比較例2に示すように、下地の中間層を設けない場合にもDLC膜の成長によって微細な粒状構造が得られるが、成長が遅いため成膜条件を巧みに組み合わせる必要があり、効率的ではなかった。
 そして、表3に示したTi層の膜厚とDLC膜表面のAFM粗さとの関係を図6に示す。図6より、Ti層の膜厚とDLC膜表面のAFM粗さとは原料ガスが同じであれば、直線的に相関しており、Ti層の厚みを調整することによりDLC膜の表面粗さが制御できることが分かる。
(2)膜特性
 各実施例および比較例における球面部(DLC膜)の硬度およびヤング率を、ISO 14577に準拠したナノインデンテーション法により測定した。結果を表3に示す。
(3)部品トルク(回転トルク)の測定
 各実施例および比較例で作製されたボールスタッドにグリースを塗布した後、ポリアセタール樹脂製のシートと共にハウジング内に組み込み、自動車におけるサスペンションとステアリングギアボックスを締結するタイロッドエンドボールジョイントを作製し(各5個)、常温環境下における部品トルク(回転トルク)を測定した。
 具体的には、図7に示すように、ハウジング30を固定し、ボールスタッド10にトルクレンチを取り付けて5deg/sで回転させたときの回転トルクを測定した。各実施例および比較例における測定値の平均値を求めた。また、平均値に対する最大値と最小値の差をバラツキと考え、比較例1のバラツキを1とした相対値をバラツキ比率として求めた。結果を表3に示す。
 また、回転トルクと表面積率との関係を図8に示す。図8より、Ti層を設けた実施例1~9では、回転トルクが表面積率に伴って線型的に増加しており、表面積率を適切に制御することによって所望の回転トルクが得られることが分かる。これに対して、Tiを設けていない比較例では、表面積率が同程度であっても、回転トルクが極端に増大しており、制御が容易ではないことが分かる。
 また、各実施例および比較例の回転トルクのバラツキ比率を図9に示す。図9より、Ti層を設けない場合(比較例2、3)には、左側の丸印部分に示すように、回転トルクのバラツキ比率が顕著に大きくなり、一方、Ti層を設けた場合(実施例1~9)には回転トルクのバラツキが低く改善されており、安定した摺動特性の発現が可能となることが分かる。また、Ti層条件が過剰である場合(比較例5)には、右側の丸印部分に示すように、DLC膜表面が過剰に粗くなり、トルク値が急激に上昇して、回転トルクのバラツキ比率も大きくなることが分かる。
 さらに、実施例2と比較例2とを比較した場合に、両者ともに比較的に軟質なDLC膜を形成したにも拘わらず、実施例2のみが回転トルクのバラツキが低く安定した摺動特性が得られた。このことから、Ti層を設けることにより、比較的に軟質なDLC膜であっても、安定した摺動特性が得られるため、硬度の面でのDLC膜の選択の自由度が増すことが分かる。
(4)摩耗試験
 図10に示すように、ボールスタッド10を治具に固定した状態で、2.5~5.6kNの荷重負荷で圧縮引張を繰り返しながらボールスタッド10を回転させる負荷動作を10万回繰り返した。その後、ボールスタッド10を上下左右に圧縮負荷してガタ量を測定した。このガタ量は相手材への攻撃性指標と考えることができ、比較例1のガタ量を1とした相対値を摩耗比率として算出した。結果を表3に、摩耗試験後のDLC膜の損傷の有無を観察した結果と併せて示す。
 また、ナノインデンテーション硬度と相手樹脂摩耗比率との関係を図11に示す。図11より、DLC膜の硬度が増加するにつれて摩耗比率が徐々に増加し、約30GPaを超えたあたりから摩耗比率が急激に増大することが分かる。
 使用条件等に左右されるが、一般に、摩耗比率が比較例1の3倍を超えるとガタ量が大きくなり、作動の遅れや異音の発生などにより機能性を損なう恐れがある。このため、図11より、DLC膜は33GPa以下に維持されるように硬度を調整することが好ましいことが分かる。
 また、比較例2、実施例2、実施例4、および実施例7における摩耗試験後の球面部を撮影した写真を図12に示す。図12より、比較例2に比べて、いずれの実施例でも摩耗・剥離の程度が少ないことが分かる。例えば、比較例2と同様に、比較的に軟質なDLC膜が形成されていた実施例2においても顕著な摩耗が見られなかった。
 そして、実施例4、7では、実施例2よりもさらに摩耗・剥離の程度が少ないことが分かり、DLC膜の硬度を7.8GPa以上にすることにより、DLC膜の摩耗・剥離を好ましく防止できることが分かる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
(5)高温摩耗試験
 次に、比較例1と実施例4について、環境温度を90℃、負荷回数を10万回および15万回に設定して、上記と同様の手順で高温摩耗試験を行った。結果を図13に示す。図13より、実施例4の高温摩耗比率が比較例1の半分程度にまで低減されていることが分かる。これは、高温環境下によってグリースの粘度が低下して潤滑剤の介在が不利となった場合であっても、DLC膜が形成されていることによりシート(相手材)と球面部との凝着が防止されるためと考えられる。
 以上の試験の結果を総合すると、表2および表3より、原料ガス種、ガス圧、基材電圧などのDLC膜成膜時の条件を適宜調整することによりDLC膜の表面粗さが変化するため、Ti層の厚みとDLC膜成膜条件とを組み合わせることで、DLC膜の表面粗さをより高い精度で効率よく制御できることが分かる。
 そして、実施例1~9のDLC膜において測定されたAFM粗さと硬度との関係を、表3に基づいて図14に示す。図14に示すように、DLC膜のAFM粗さSqについては、下地中間層による粗さ制御の下限である6.5nmから、トルクが過剰になってバラツキの増加を招く35nmの範囲内に制御されることが好ましいことが分かる。また、DLC膜の硬度については、DLC膜の摩耗や剥離が生じない7.8GPaから、相手樹脂攻撃性が大きくなる33GPaの範囲内に制御されることが好ましいことが分かる。そして、表面粗さや硬度を上述の数値範囲内に制御することは、適切な表面粗さに形成された下地中間層の上にDLC膜を成膜することにより得られることが分かる。
 以上、本発明を実施の形態に基づき説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。本発明と同一および均等の範囲内において、上記の実施の形態に対して種々の変更を加えることが可能である。
 1       ボールジョイント
 10      ボールスタッド
 11      球面部
 12      軸材
 13      DLC膜
 14      中間層
 20      シート
 21、34   曲面部
 30      ハウジング
 31、33   開口部
 32      曲折部
 35      フランジ部
 40      プラグ
 50      ブーツ
 60      グリ-ス
 100     ボールジョイント
 101     電子銃
 102     反応室
 103     プラズマ
 104     治具
 105     自公転機構
 106     バイポーラパルス電源
 107     ガス導入ポート
 108     ガス排出ポート
 109     反射電極
 110     コイル
 111     マグネトロンスパッタターゲット
 112     ヒーター

Claims (7)

  1.  球面部を有するボールスタッドと、前記球面部を回動自在に保持する保持部とを有するボールジョイントの製造方法であって、
     前記球面部の表面にスパッタリング法を用いて、ミクロな表面凹凸構造を有した下地中間層を形成する下地中間層形成工程と、
     前記下地中間層の上に、PIGプラズマ成膜法を用いて、表面の二乗平均平方根粗さが6.5~35nmの非晶質硬質炭素膜を形成する非晶質硬質炭素膜形成工程と
    を備えていることを特徴とするボールジョイントの製造方法。
  2.  球面部を有するボールスタッドと、前記球面部を回動自在に保持する保持部とを有するボールジョイントであって、
     前記球面部の表面には、中間層を介して、二乗平均平方根粗さが6.5~35nmの非晶質硬質炭素膜を有することを特徴とするボールジョイント。
  3.  前記非晶質硬質炭素膜のインデンテーション硬度が、7.8~33GPaであることを特徴とする請求項2に記載のボールジョイント。
  4.  前記中間層が、Ti、Cr、W、Si、Geより選択された元素の金属層あるいは半金属層、窒化物層、および炭化物層のいずれかであることを特徴とする請求項2または請求項3に記載のボールジョイント。
  5.  前記保持部の前記球面部と接触する面が、ポリアセタール樹脂、ナイロン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリエーテルエーテルケトンケトン樹脂、エラストマー樹脂、およびゴム材料より選択された樹脂材、または前記樹脂をフィラーあるいは繊維で強化した複合材の1種以上を有することを特徴とする請求項2ないし請求項4のいずれか1項に記載のボールジョイント。
  6.  自動車部品に使用されることを特徴とする請求項2ないし請求項5のいずれか1項に記載のボールジョイント。
  7.  請求項1に記載のボールジョイントの製造方法を用いて製造されていることを特徴とするボールジョイント。
PCT/JP2014/055280 2013-04-18 2014-03-03 ボールジョイントとその製造方法 WO2014171199A1 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/784,559 US9765810B2 (en) 2013-04-18 2014-03-03 Ball joint and method for manufacturing same
CN201480021180.XA CN105229317B (zh) 2013-04-18 2014-03-03 球节及其制造方法
DE112014002000.1T DE112014002000T5 (de) 2013-04-18 2014-03-03 Kugelgelenk und Verfahren zu dessen Herstellung

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013087481A JP6201125B2 (ja) 2013-04-18 2013-04-18 ボールジョイントとその製造方法
JP2013-087481 2013-04-18

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014171199A1 true WO2014171199A1 (ja) 2014-10-23

Family

ID=51731160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2014/055280 WO2014171199A1 (ja) 2013-04-18 2014-03-03 ボールジョイントとその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9765810B2 (ja)
JP (1) JP6201125B2 (ja)
CN (1) CN105229317B (ja)
DE (1) DE112014002000T5 (ja)
WO (1) WO2014171199A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105839058B (zh) * 2016-04-05 2019-05-14 中国建筑材料科学研究总院 硫化锌基体表面镀制类金刚石膜的方法及具有类金刚石膜的硫化锌板
US10697552B2 (en) 2017-01-26 2020-06-30 Toto Ltd. Faucet valve
JP7127992B2 (ja) * 2018-01-09 2022-08-30 三菱マテリアル株式会社 Dlc皮膜の被覆部材
CN108266535B (zh) * 2018-02-02 2023-08-22 中国北方车辆研究所 一种转向球头销用防尘套
JP7162801B2 (ja) * 2018-05-10 2022-10-31 日本アイ・ティ・エフ株式会社 流体のシール構造、シール部品、シール部品を備えた装置
CN109503878B (zh) * 2018-10-24 2021-04-13 中国科学院兰州化学物理研究所 一种橡胶密封件表面减摩及储油膜层的制备方法
JP7183523B2 (ja) * 2019-01-07 2022-12-06 三菱マテリアル株式会社 Dlc皮膜の被覆部材
US20220251395A1 (en) * 2021-02-05 2022-08-11 Board Of Trustees Of The University Of Arkansas Polydopamine + Sio2 Underlayer For Improving Diamond-Like Carbon Coating Adhesion And Durability

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH084770A (ja) * 1994-06-17 1996-01-09 Nippon Seiko Kk 耐摩耗性摺動部材
JP2000042802A (ja) * 1998-07-29 2000-02-15 Citizen Watch Co Ltd ガイドブッシュおよびそのガイドブッシュへの被膜の形成方法
JP2005500489A (ja) * 2001-08-16 2005-01-06 エレメント シックス リミテッド 軸受面又は耐摩耗面をもつ構成部品
JP2008163430A (ja) * 2006-12-28 2008-07-17 Jtekt Corp 高耐食性部材およびその製造方法
WO2012086393A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 本田技研工業株式会社 ボールジョイント

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6499881B2 (en) * 1999-01-15 2002-12-31 Zine Eddine Boutaghou Hydrodynamic bearings and boundary lubricated system with DLC bumps
US6655845B1 (en) * 2001-04-22 2003-12-02 Diamicron, Inc. Bearings, races and components thereof having diamond and other superhard surfaces
US20030019106A1 (en) * 2001-04-22 2003-01-30 Diamicron, Inc. Methods for making bearings, races and components thereof having diamond and other superhard surfaces
US6994474B2 (en) * 2001-05-29 2006-02-07 Nsk Ltd. Rolling sliding member and rolling apparatus
JP2006250206A (ja) * 2005-03-09 2006-09-21 Jtekt Corp 等速ジョイント
WO2007041381A1 (en) * 2005-09-29 2007-04-12 Uab Research Foundation Ultra smooth nanostructured diamond films and compositions and methods for producing same
JP2011084721A (ja) * 2009-09-15 2011-04-28 Idemitsu Kosan Co Ltd 摺動機構
JP2011252073A (ja) * 2010-06-01 2011-12-15 Idemitsu Kosan Co Ltd 低摩擦摺動材料用潤滑油組成物、及びこれを用いた摺動機構
JP5665409B2 (ja) * 2010-08-06 2015-02-04 株式会社ジェイテクト 被膜の成膜方法
JP5808198B2 (ja) * 2011-08-26 2015-11-10 株式会社ジェイテクト スプラインシャフトのdlc被膜の形成方法
JP5392375B2 (ja) * 2012-05-07 2014-01-22 富士電機株式会社 記録媒体
US9308090B2 (en) * 2013-03-11 2016-04-12 DePuy Synthes Products, Inc. Coating for a titanium alloy substrate

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH084770A (ja) * 1994-06-17 1996-01-09 Nippon Seiko Kk 耐摩耗性摺動部材
JP2000042802A (ja) * 1998-07-29 2000-02-15 Citizen Watch Co Ltd ガイドブッシュおよびそのガイドブッシュへの被膜の形成方法
JP2005500489A (ja) * 2001-08-16 2005-01-06 エレメント シックス リミテッド 軸受面又は耐摩耗面をもつ構成部品
JP2008163430A (ja) * 2006-12-28 2008-07-17 Jtekt Corp 高耐食性部材およびその製造方法
WO2012086393A1 (ja) * 2010-12-24 2012-06-28 本田技研工業株式会社 ボールジョイント

Also Published As

Publication number Publication date
US9765810B2 (en) 2017-09-19
DE112014002000T5 (de) 2016-01-07
US20160069383A1 (en) 2016-03-10
JP2014211190A (ja) 2014-11-13
CN105229317B (zh) 2018-06-08
CN105229317A (zh) 2016-01-06
JP6201125B2 (ja) 2017-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6201125B2 (ja) ボールジョイントとその製造方法
Moriguchi et al. History and applications of diamond-like carbon manufacturing processes
US20060120644A1 (en) Self-lubricating bearing
JP6557342B2 (ja) ピストンリング及びその製造方法
WO2019130769A1 (ja) 摺動部材およびピストンリング
CN109778119B (zh) 一种Ni-CrSiN耐磨耐蚀涂层及其制备方法
US20220033975A1 (en) Ta-c based coatings with improved hardness
US9068597B2 (en) Sliding member and fluid dynamic pressure bearing apparatus
JP6647847B2 (ja) 基材とdlc層との間に形成される中間層の成膜方法
JP5938321B2 (ja) 硬質膜およびその成膜方法、硬質膜形成体およびその製造方法
JP5623800B2 (ja) TiAlN膜形成体
JP4918972B2 (ja) 高速摺動部材
JP6774235B2 (ja) 摺動部材
JP6569376B2 (ja) 超硬工具及びその製造方法
JP5370808B2 (ja) 耐摩耗性TiN膜およびその形成体
JP6298019B2 (ja) 摺動部材の製造方法
Shum et al. Tribological performance of amorphous carbon films prepared on steel substrates with carbon implantation pre-treatment
JP7164880B2 (ja) 硬質炭素膜とその製造方法および摺動部材
JP5530751B2 (ja) 積層皮膜被覆部材およびその製造方法
WO2016017438A1 (ja) カーボン薄膜、それを製造するプラズマ装置および製造方法
JP5924908B2 (ja) 硬質皮膜被覆部材の製造方法
JP5502677B2 (ja) 潤滑特性に優れた金属塑性加工用工具およびその製造方法
Wang et al. The improved mechanical and tribological properties of CrN coatings sealed via electrochemical polarization treatment
JP2019002033A (ja) ダイヤモンド状炭素膜構造体およびその製造方法
EP4080033A1 (en) Piston ring, and method for manufacturing same

Legal Events

Date Code Title Description
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 201480021180.X

Country of ref document: CN

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14784722

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

DPE1 Request for preliminary examination filed after expiration of 19th month from priority date (pct application filed from 20040101)
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 14784559

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1120140020001

Country of ref document: DE

Ref document number: 112014002000

Country of ref document: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14784722

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1