JP6298019B2 - 摺動部材の製造方法 - Google Patents
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Description
<摺動部材の製作>
フィルタードアークプラズマビーム法(FAD法)とマイクロ波イオン源による窒素イオンビーム照射を組み合わせたダイナミックミキシング法により、基材の窒素を含有した非晶質炭素皮膜(CNx皮膜)を成膜した。成膜には、上述した図1に示す成膜装置と同等の成膜装置を用いた。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、窒素ガスの分圧を変更することにより、表1に示すようにCNx皮膜に含まれる窒素含有量を4原子%にした点である。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、窒素ガスの分圧を変更することにより、表1に示すようにCNx皮膜に含まれる窒素含有量を5原子%にした点である。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、窒素ガスの分圧を変更することにより、表1に示すようにCNx皮膜に含まれる窒素含有量を8原子%にした点である。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、窒素ガスの分圧を変更することにより、表1に示すようにCNx皮膜に含まれる窒素含有量を10原子%にした点である。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、窒素ガスの分圧を変更することにより、表1に示すようにCNx皮膜に含まれる窒素含有量を11原子%にした点である。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、表1に示すように、特許文献1に示すイオンビームアシスト蒸着法(IBAD法)により、CNx皮膜に含まれる窒素含有量を7.4原子%にして、CNx皮膜を成膜した点である。
基材の表面に、PVD法により、窒素を含有せず、水素が含有した非晶質炭素皮膜(DLC皮膜)が形成された摺動部材(日本アイ・ティ・エフ株式会社製)を準備した。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、表1に示すように、窒素を含有していない非晶質炭素皮膜(DLC皮膜)をアークイオンプレーティング法(AIP法)により、成膜した点である。
実施例1と同じように、摺動部材を作製した。実施例1と相違する点は、窒素イオンビームを照射せず、基材の表面に窒素含有量を0原子%にした、すなわち窒素を含有していない非晶質炭素皮膜(DLC皮膜)を成膜した点である。
実施例2〜6、比較例1に係る摺動部材のCNx皮膜、および、参考例1に係るDLC皮膜の硬度を測定した。具体的にはこれらの表面をHysitron社製AFMナノインデンターにより押し込み硬度を測定をした場合の荷重変位曲線を求め、本荷重変位曲線より、塑性変形による押し込み痕の投影面積を算出し、最大押し込み荷重を押し込み痕の投影面積で除することでこれらの硬度を算出した。
この結果から、参考例1および実施例2〜6に示すように、窒素含有量の増加にともない、皮膜の硬度は減少した。しかしながら、比較例1の如く、IBAD法により得られたCNx皮膜と比較すると、窒素含有量同等で、硬度が約5倍に増加していることがわかる。
図4(a)、(b)に示す、試験機を用いてボールオンディスク摩擦摩耗試験を行った。実施例1〜6および比較例1、2に係る摺動部材となるボール試験片を準備した。具体的には、直径8mm、SUJ2(JIS規格)からなる球体に、実施例1〜6および比較例1、2に対応した、CNx皮膜またはDLC皮膜を成膜した。相手材としてSUJ2からなるディスク試験片を準備した。
図5(a),(b)に示すように、実施例1〜6の摺動部材の摩擦係数と比摩耗量は、比較例1、2のものよりも小さかった。また、実施例1〜3の摺動部材の摩擦係数および比摩耗量は、この順に増加した。すなわち、窒素含有量が2〜5原子%の場合には、窒素含有量の増加に伴い、摩擦係数および比摩耗量はともに増加した。
ボールオンディスク摩擦摩耗試験1と同様の方法で、実施例4、比較例1〜3に係る摺動部材に対してボールオンディスク摩擦摩耗試験2を行った。ボールオンディスク摩擦摩耗試験1と相違する点は、ボール試験片(摺動部材)のみならず、ディスク試験片(摺動部材)の表面にも、これらの例に対応するCNx皮膜またはDLC皮膜を成膜した点である。
実施例4および比較例1に係る摺動部材のボールオンディスク摩擦摩耗試験後の摺動面を観察した。この結果を、図8(a),(b)に示す。図8(a)は、ボールオンディスク摩擦摩耗試験後の比較例1に係る摺動部材(ディスク試験片)の摺動面を示した図であり、図8(b)は、ボールオンディスク摩擦摩耗試験後の実施例4に係る摺動部材(ディスク試験片)の摺動後の摺動面を示した図である。
図6に示すように、窒素を含有しない非晶質炭素皮膜(DLC皮膜)が形成された比較例2および3の摺動部材に対して、窒素を含有した非晶質炭素皮膜(CNx皮膜)が形成された実施例4および比較例1に係る摺動部材の方が、摩擦係数が小さかった。
図9に示す、試験機を用いてブロックオンリング摩擦摩耗試験を行った。実施例4、および比較例2に係る摺動部材となるブロック試験片を準備した。図9に示すように、リング試験片(JIS規格:SUJ2)を準備し、この上にブロック試験片を配置し、レベラーを介してウエイトにより、鉛直方向に沿って、リング試験片の周面にブロック試験片に垂直荷重を付与した。
実施例4に係る摺動部材は、結果2に示すように、他の実施例に比べて、最も摩擦係数が高い摺動部材であったが、それにも拘わらず、比較例2のものと比較して、如何なる荷重であっても、摩擦係数は低かった。また、図11(a)、(b)からも明らかなように、実施例4に係る摺動部材は、比較例2のものに比べて、摩耗量(摩耗深さ)が小さかった。これは、上述した図2に示した理由によるものと考えられる。
Claims (2)
- 基材の表面に窒素を含有した非晶質炭素皮膜が形成され、該非晶質炭素皮膜の表面を摺動面として、該摺動面に潤滑油が存在する環境下で摺動する摺動部材の製造方法であって、
前記非晶質炭素皮膜の窒素含有量が2〜11原子%となるように、前記基材の表面に向けて窒素イオンビームを照射しながら、フィルタードアークデポジション法により基材の表面に炭素を蒸着させることにより、前記窒素を含有した非晶質炭素皮膜を成膜することを特徴とする摺動部材の製造方法。 - 前記窒素含有量が10〜11原子%となるように、前記非晶質炭素皮膜の成膜を行うことを特徴とする請求項1に記載の摺動部材の製造方法。
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