WO2014077111A1 - 非アルカリ現像型着色組成物、非アルカリ現像型着色転写材料、着色パターン、静電容量型入力装置および画像表示装置 - Google Patents

非アルカリ現像型着色組成物、非アルカリ現像型着色転写材料、着色パターン、静電容量型入力装置および画像表示装置 Download PDF

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WO2014077111A1
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development type
pattern
alkali development
layer
transfer material
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PCT/JP2013/079084
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French (fr)
Inventor
児玉 知啓
哲憲 松本
Original Assignee
富士フイルム株式会社
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers

Definitions

  • the present invention relates to a non-alkali development type coloring composition, a non-alkaline development type color transfer material, and a coloring pattern. Further, the present invention relates to a capacitance type input device including the coloring pattern (a finger contact position can be detected as a change in capacitance). And an image display device including the capacitance input device.
  • liquid crystal display devices have been required to be further reduced in weight and thickness, and in color filters, a colored layer having a fine pattern while maintaining sufficient color purity and high contrast with a sufficient aperture ratio, and A photosensitive resin composition capable of patterning a black matrix with high accuracy is desired.
  • a photosensitive resin composition capable of patterning a black matrix with high accuracy is desired.
  • the black matrix is required to improve the light shielding property in order to prevent such light leakage. Attempts have been made to increase the content of light-shielding components such as carbon black contained in the composition for the purpose of improving the light-shielding properties of the black matrix and reducing the level difference (thickness).
  • touch panel type input devices are arranged on the surface of liquid crystal devices and the like, and are displayed in the image display area of the liquid crystal device.
  • information corresponding to an instruction image can be input by touching a location where the instruction image is displayed with a finger or a touch pen while referring to the instruction image.
  • Such input devices include a resistance film type and a capacitance type.
  • the capacitance-type input device has an advantage that a light-transmitting conductive film is simply formed on a single substrate.
  • a black frame may be provided as a decorative layer around an area touched with a finger or a touch pen.
  • an ITO transparent electrode pattern is formed by vapor deposition or the like in the process after forming the decorative layer.
  • the cross-section of the decorative layer has a reverse taper shape or large surface irregularities.
  • the ITO transparent electrode may be disconnected or air bubbles may be mixed.
  • the decorative layer used as a frame around the area touched with a finger or a touch pen is often close to the image display part, so it is easily noticeable, and the linear part inside the decorative material frame is sharp. Linearity is required from the viewpoint of improving appearance quality.
  • Patent Documents 1 to 6 disclose various coloring compositions.
  • Patent Document 1 discloses a photocurable black ink repellent resin solution to which carbon black, silicone fine particles, and negative photocurable polyimide are added, and is used as a colored ink for forming pixels.
  • region which has receding contact angle is formed, adding the polymeric compound which is a monomer or an oligomer is not described.
  • Patent Document 2 discloses an ink composition containing an organic solvent, a colorant, and a silicone resin, but does not describe the addition of a polymerizable compound that is a monomer or an oligomer.
  • Patent Document 3 discloses a composition having carbon black and an epoxy group-containing dimethylpolysiloxane or silicone rubber, but a polymerizable compound having no —Si—O—Si— bond in the molecule is disclosed. The addition is not described.
  • Patent Document 4 discloses an ink composition for ink jet printing comprising carbon black, a grafted carbon black dispersion containing a vinyl polymer having an oxazoline group and a polyalkylene oxide group in the side chain, and an amino-modified silicone. However, the addition of a polymerizable compound that is a monomer or an oligomer is not described.
  • Patent Document 5 describes a siloxane resin composition containing polysiloxane and a compound having a radical polymerizable group and containing no —Si—O—Si— bond, and a protective film for a touch panel using the same. However, it is not described that a colorant is contained, and the metal compound particles are added on the premise of adjusting the refractive index of the cured film.
  • Patent Document 6 discloses a black alkali developing photosensitive resin composition having carbon black, a binder resin, a compound having an ethylenically unsaturated bond, and the like, but a non-alkali developing coloring composition is described. In addition, the use of a silicone resin as a binder resin is not described.
  • JP 7-35917 A Japanese National Patent Publication No. 10-513209 JP-A-9-244237 JP-A-11-279468 International Publication WO 2010/061744 JP 2010-145459 A
  • compositions described in Patent Documents 1 to 6 remain unsatisfactory from the viewpoint of producing a colored pattern having a good cross-sectional shape, surface smoothness, and linearity of a straight portion.
  • a composition containing a black pigment cannot easily reach a portion on the opposite side of the light source during exposure, and it is difficult to form a forward tapered shape.
  • An object of the present invention is to solve the above problems. That is, the problem to be solved by the present invention is to provide a non-alkaline development type coloring composition capable of producing a colored pattern having good cross-sectional shape, surface smoothness and linearity of a straight part. .
  • the non-alkali development type coloring composition includes a black pigment, a silicone resin, and a polymerizable compound, the polymerizable compound is a monomer or an oligomer, and —Si—O—Si— bond is present in the molecule. It is characterized by not having.
  • the black pigment is preferably carbon black or titanium black.
  • the non-alkali development type coloring composition according to [1] or [2] preferably has a black pigment surface-coated.
  • the non-alkali development type coloring composition according to any one of [1] to [3] includes a black pigment content (a) and a silicone resin content ratio in the non-alkali development type coloring composition. It is preferable that the mass ratio of (b) satisfies the following formula (1). Formula (1) 0.33 ⁇ (a) / (b) ⁇ 10 [5] In the non-alkali development type coloring composition according to any one of [1] to [4], it is preferable that the silicone resin does not have any of a carboxyl group, a radical polymerizable group and an amino group. [6] In the non-alkali development type coloring composition according to any one of [1] to [5], the polymerizable compound preferably has no carboxyl group.
  • the polymerizable compound preferably has four or more (meth) acrylic groups.
  • the non-alkali development type coloring composition according to any one of [1] to [7] preferably further contains a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator.
  • a non-alkali development type coloring transfer material includes a temporary support and a non-alkali development type coloring composition according to any one of [1] to [8] provided on the temporary support. And an alkali developing type coloring composition layer.
  • the non-alkaline development type colored transfer material according to [9] is preferably provided with a thermoplastic resin layer between the temporary support and the non-alkali development type colored composition layer.
  • at least the non-alkali development type coloring composition layer preferably has a pattern.
  • the whole non-alkali development type color transfer material preferably has a pattern.
  • the coloring pattern is produced using the non-alkali development type coloring composition described in any one of [1] to [8].
  • the colored pattern is produced using the non-alkali development type colored transfer material according to any one of [9] to [12].
  • the colored pattern according to [14] is such that when the colored pattern is formed on the substrate having the pattern, the entire pattern of the non-alkali development type color transfer material has at least an outer peripheral portion of the substrate having the pattern. It is preferable to match this pattern.
  • a capacitance-type input device includes the colored pattern according to any one of [13] to [15].
  • the capacitance-type input device according to [16] has at least the following elements (1) to (4) on the front plate and the non-contact surface side of the front plate, and (1) a decorative layer It is preferable that a coloring pattern is included.
  • Decorative layer (2) A plurality of first transparent electrode patterns formed by extending a plurality of pad portions in a first direction via connecting portions (3) A first transparent electrode pattern and electricity A plurality of second electrode patterns comprising a plurality of pad portions formed to extend in a direction intersecting the first direction and the first transparent electrode pattern and the second electrode pattern,
  • An insulating layer [18] that electrically insulates the image display device includes the capacitive input device according to [16] or [17].
  • non-alkaline development type coloring composition capable of producing a colored pattern having good cross-sectional shape, surface smoothness and frame linearity.
  • non-alkali development type coloring composition the non-alkali development type color transfer material, the coloring pattern, the capacitance type input device and the image display device of the present invention will be described.
  • the description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments.
  • a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • Non-alkali development type coloring composition contains a black pigment, a silicone resin, and a polymerizable compound, the polymerizable compound is a monomer or an oligomer, and has a —Si—O—Si— bond in the molecule. It is characterized by not having.
  • a colored pattern having good cross-sectional shape, surface smoothness and frame linearity can be produced.
  • the non-alkali development type coloring composition of the present invention contains a black pigment.
  • the black pigment include carbon black, titanium black, iron oxide, titanium oxide, and graphite. Among these, carbon black or titanium black is preferable, and carbon black is more preferable.
  • the black pigment is preferably a surface-coated black pigment.
  • the surface coating method is not particularly limited, and the surface coating material is not particularly limited.
  • the surface of the black pigment can be used in combination with silica treatment, alumina treatment, titania treatment, zirconia treatment, organic matter treatment and the like. Thereby, the surface smoothness of the colored pattern produced using the non-alkali development type coloring composition of this invention can be improved.
  • the black pigment is preferably a black pigment treated with an organic substance, and more specifically, it is more preferably coated with a polymer such as a silane coupling agent, an epoxy resin, or an acrylic resin.
  • a well-known thing can be used as a surface-coated black pigment.
  • MA100R manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.
  • the method described in Kaihei 11-60988 can be preferably used.
  • the black pigment is desirably used as a dispersion.
  • This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by mixing the black pigment and the pigment dispersant in advance to an organic solvent or vehicle described later.
  • the vehicle is a portion of a medium in which a pigment is dispersed when the paint is in a liquid state, and is a liquid component (binder) that forms a coating film by binding with the black pigment, and dissolves and dilutes this Component (organic solvent).
  • the disperser used for dispersing the black pigment is not particularly limited.
  • the kneader described in Kazuzo Asakura, “Encyclopedia of Pigments”, First Edition, Asakura Shoten, 2000, item 438. Known dispersers such as a roll mill, atrider, super mill, dissolver, homomixer, and sand mill. Further, fine grinding may be performed using frictional force by mechanical grinding described on page 310 of the document.
  • the black pigment used in the present invention is preferably a black pigment having a number average particle size of 0.001 ⁇ m to 0.2 ⁇ m, more preferably 0.01 ⁇ m to 0.15 ⁇ m, from the viewpoint of dispersion stability.
  • the “particle diameter” as used herein refers to the diameter when the electron micrograph image of the particle is a circle of the same area, and the “number average particle diameter” is the above-mentioned particle diameter for a large number of particles, Among these, the average value of 100 particle diameters arbitrarily selected is said.
  • the non-alkali development type coloring composition of the present invention contains a silicone resin. Since the non-alkali development type coloring composition of the present invention does not require alkali development, a silicone resin can be used, and a colored pattern having good cross-sectional shape, surface smoothness, and linearity of a straight portion can be produced. it can. In addition, the heat resistance of the colored pattern can be increased.
  • Known silicone resins can be used. For example, a methyl-based straight silicone resin, a methylphenyl-based straight silicone resin, an acrylic resin-modified silicone resin, a polyester resin-modified silicone resin, an epoxy resin-modified silicone resin, an alkyd resin, a modified silicone resin, and a rubber-based silicone resin can be used.
  • the non-alkali development type colored composition layer does not necessarily require photocuring by a combination of a photocurable resin and a photopolymerization initiator.
  • the development type coloring composition layer may or may not contain a photocurable resin or a photopolymerization initiator. Further, it may be thermosetting.
  • the silicone resin does not have any of a carboxyl group, a radical polymerizable group and an amino group. More preferred are methyl straight silicone resin, methylphenyl straight silicone resin, and acrylic resin-modified silicone resin, and particularly preferred are methyl straight silicone resin and methylphenyl straight silicone resin. These silicone resins may be used alone or in combination of two or more, and a combination of methyl straight silicone resin and methylphenyl straight silicone resin is preferred. Can be controlled.
  • the silicone resin known ones can be used. Further, it may be obtained commercially or synthesized, and when commercially obtained, for example, KR-311 and KR-300 (both manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) can be preferably used. .
  • the mass ratio of the content ratio (a) of the black pigment and the content ratio (b) of the silicone resin in the non-alkali development type coloring composition is represented by the following formula (1). It is preferable to satisfy.
  • Formula (1) 0.33 ⁇ (a) / (b) ⁇ 10
  • the mass ratio of (a) / (b) is 0.33 or more. Is preferably 0.5 or more, more preferably 1 or more.
  • the mass ratio of (a) / (b) is preferably 10 or less, and preferably 5 or less. Is more preferable and 4 or less is particularly preferable.
  • the non-alkali development type coloring composition of the present invention comprises a polymerizable compound, the polymerizable compound is a monomer or an oligomer, and has no —Si—O—Si— bond in the molecule. To do.
  • the polymerizable compound is a monomer or an oligomer, and the polymerizable compound that is a monomer or an oligomer is preferable in that the cross-sectional shape is gentler than a compound having a polymerizable group in the polymer.
  • the molecular weight of the polymerizable compound is preferably 200 to 3000, more preferably 300 to 2000, and particularly preferably 350 to 1500.
  • the polymerizable compound does not have a —Si—O—Si— bond in the molecule.
  • a compound in which a silicone resin has a polymerizable group does not correspond to the polymerizable compound in the present invention.
  • the polymerizable compound having no —Si—O—Si— bond in the molecule is compared with the polymerizable compound having a —Si—O—Si— bond and a carbon-carbon double bond. From the viewpoint of flexibility of a non-alkali development type color transfer material prepared using a mold coloring composition.
  • a polymerizable compound described in JP-A-2008-256735 can be selected and used.
  • the polymerizable compound is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and is selected from compounds having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably two or more.
  • a compound group is widely known in the industrial field, and in the present invention, among the polymerizable compounds, it is a monomer or an oligomer and has a —Si—O—Si— bond in the molecule. Those that are not can be used. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, ie dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof.
  • Examples of monomers include unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.), esters and amides thereof, preferably unsaturated carboxylic acids.
  • unsaturated carboxylic acids for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.
  • esters and amides thereof preferably unsaturated carboxylic acids.
  • An ester of an acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound and an amide of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyamine compound are used.
  • a substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a tosyloxy group and a monofunctional or polyfunctional alcohol, amine or thiol is also suitable.
  • ester monomer of an aliphatic polyhydric alcohol compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, and tetramethylene glycol.
  • Methacrylic acid esters include tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexane Diol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2 -Hydroxypro ) Phenyl] dimethyl methane, bis - [
  • Itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, There is sorbitol tetritaconate.
  • crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.
  • isocrotonic acid esters include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.
  • maleic acid esters include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.
  • esters examples include, for example, aliphatic alcohol esters described in JP-B-51-47334 and JP-A-57-196231, JP-A-59-5240, JP-A-59-5241, and JP-A-2-226149. Those having the aromatic skeleton described above and those having an amino group described in JP-A-1-165613 are also preferably used. Furthermore, the ester monomers described above can also be used as a mixture.
  • amide monomers of aliphatic polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, 1,6-hexamethylene bis. -Methacrylamide, diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
  • amide monomers include those having a cyclohexylene structure described in JP-B-54-21726.
  • urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, and JP-B-2-16765, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, Urethane compounds having an ethylene oxide skeleton described in JP-B-62-39417 and JP-B-62-39418 are also suitable. Further, by using addition polymerizable compounds having an amino structure or a sulfide structure in the molecule described in JP-A-63-277653, JP-A-63-260909, and JP-A-1-105238, photosensitivity is obtained. A photopolymerizable composition having very excellent speed can be obtained.
  • polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid.
  • specific unsaturated compounds described in JP-B-46-43946, JP-B-1-40337, and JP-B-1-40336, and vinyl phosphonic acid compounds described in JP-A-2-25493 can also be exemplified.
  • a structure containing a perfluoroalkyl group described in JP-A-61-22048 is preferably used.
  • Journal of Japan Adhesion Association vol. 20, no. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers can also be used.
  • the details of usage such as the structure, single use or combination, addition amount, etc. can be arbitrarily set according to the performance design of the final photosensitive material. For example, it is selected from the following viewpoints. From the viewpoint of sensitivity, a structure having a large unsaturated group content per molecule is preferable, and in many cases, a bifunctional or higher functionality is preferable. Further, in order to increase the strength of the image area, that is, the cured film, those having three or more functionalities are preferable. A method of adjusting both sensitivity and strength by using a polymerizable compound in combination with the compound) is also effective.
  • a compound containing two or more (meth) acrylic acid ester structures is preferable to use, more preferably a compound containing three or more, and most preferably a compound containing four or more. preferable.
  • the selection and use of the polymerizable compound is important for compatibility and dispersibility with other components in the colored layer (for example, binder resin, polymerization initiator, colorant (pigment, dye, etc.)).
  • compatibility may be improved by the use of low-purity compounds or a combination of two or more types, and for the purpose of improving the adhesion of the base material and the overcoat layer described later. It is possible to select the structure of
  • bisphenol A diacrylate EO modified pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, pentaerythritol tetraacrylate EO modified, di
  • modified products such as pentaerythritol hexaacrylate EO include DPHA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), UA-306H, UA-306T, UA-306I, AH-600, T-600, AI-600 (manufactured by Kyoeisha) ) Is more preferable.
  • the polymerizable compound is preferably a monomer or oligomer that has two or more ethylenically unsaturated double bonds and undergoes addition polymerization upon irradiation with light.
  • monomers and oligomers include compounds having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule and having a boiling point of 100 ° C. or higher at normal pressure.
  • Examples include monofunctional acrylates and monofunctional methacrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) ) Acrylate, trimethylolethane triacrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, hexane All di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxy
  • An acidic polyfunctional photocurable compound is also a preferred compound as the polymerizable compound.
  • the acidic polyfunctional photocurable compound (1) a compound having a carboxyl group introduced by modifying a monomer or oligomer having three or more photocurable functional groups together with a hydroxyl group with a dibasic acid anhydride, (2) A compound having a carboxyl group introduced by adding a compound having both a glycidyl group or an isocyanate group and a COOH group to a monomer or oligomer having a hydroxyl group and three or more photocurable functional groups, or (3) three or more The compound etc.
  • an acidic polyfunctional photocurable compound which introduce
  • an acidic polyfunctional photocurable compound what is represented by the following general formula (i) and general formula (ii) is preferable.
  • R represents a (meth) acryloyloxy group
  • X represents a —COOH group or a —OPO 3 H 2 group
  • T represents an oxyalkylene group, wherein the alkylene group has 1 to 4 carbon atoms.
  • n is 0-20.
  • W represents R or X in the general formula (i), and 3 or more Ws are R among 6 Ws.
  • G has the same meaning as T in formula (i).
  • Z represents —O— or —OC ⁇ ONH (CH 2 ) qNHCOO—.
  • p is 0 to 20, and q is 1 to 8.
  • a plurality of R, X, T, and G present in one molecule may be the same or different.
  • the end of the carbon atom side of the oxyalkylene group represented by T or G is bonded to R, X, or W.
  • Examples of commercially available acidic polyfunctional photocurable compounds represented by the general formulas (i) and (ii) include TO-756, which is a carboxyl group-containing trifunctional acrylate manufactured by Toagosei Co., Ltd., and a carboxyl group. And TO-1382 which is a pentafunctional acrylate containing.
  • urethane acrylates described in JP-B-48-41708, JP-B-50-6034 and JP-A-51-37193; JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 And polyester acrylates described in Japanese Patent Publication No. 52-30490; polyfunctional acrylates such as epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, and methacrylates.
  • the polymerizable compound has four or more (meth) acrylic groups.
  • “polymerizable compound B” described in JP-A-11-133600 can also be mentioned as a preferable example.
  • the content of the polymerizable compound in the non-alkali development type coloring composition of the present invention is preferably 5 to 50% by mass with respect to the total solid content of the non-alkali development type coloring composition of the present invention. It is more preferably 7 to 40% by mass, and further preferably 10 to 35% by mass.
  • Polymerization initiator When the polymerizable compound is added to the non-alkali development type coloring composition, a polymerization initiator for positively polymerizing it can be added.
  • the polymerization initiator has absorption in the visible light region, and may undesirably color the decorative material. Therefore, when adding a polymerization initiator to a decorating material, it is necessary to select an initiator according to the color.
  • Examples of the polymerization initiator that can be preferably used in the present invention include a photopolymerization initiator (for example, a photopolymerization initiator described in JP-A-2008-256735) and a thermal polymerization initiator.
  • the photopolymerization initiators described in paragraphs 0031 to 0042 described in JP 2011-95716 A can be used.
  • the non-alkali development type coloring composition may contain other additives.
  • the non-alkali development type coloring composition preferably contains a surfactant and a polymerization inhibitor (thermal polymerization inhibitor).
  • the non-alkali development type coloring composition of the present invention preferably contains a surfactant.
  • the surfactant include surfactants described in paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784 and paragraphs 0060 to 0071 of JP-A-2009-237362. Among these, a fluorochemical surfactant is preferable.
  • the non-alkali development type coloring composition of the present invention preferably contains a polymerization inhibitor.
  • the polymerization inhibitor include thermal polymerization inhibitors described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784.
  • additives examples include other additives described in paragraphs 0058 to 0071 of JP-A No. 2000-310706.
  • solvent for the non-alkali development type coloring composition of the present invention
  • the solvents described in paragraphs 0043 to 0044 of JP 2011-95716 A can be used.
  • the non-alkali development type coloring transfer material of the present invention includes a temporary support and a non-alkali development type coloring composition layer including the non-alkali development type coloring composition of the present invention provided on the temporary support. It is characterized by.
  • a colored pattern for example, a decorative layer of a capacitive input device
  • a non-alkali development type colored transfer material having such a configuration By forming a colored pattern (for example, a decorative layer of a capacitive input device) using a non-alkali development type colored transfer material having such a configuration, the cross-sectional shape after transfer, surface smoothness, and linear portions A colored pattern having good linearity can be produced.
  • thermoplastic resin layer between the temporary support and the non-alkali development type colored composition layer.
  • Temporal support a material that is flexible and does not cause significant deformation, shrinkage, or elongation under pressure or under pressure and heating can be used.
  • Examples of such a temporary support include a polyethylene terephthalate film, a cellulose triacetate film, a polystyrene film, and a polycarbonate film, and among them, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film is particularly preferable.
  • the thickness of the temporary support is not particularly limited and is generally in the range of 5 to 200 ⁇ m, and in the range of easy handling and versatility, the range of 10 to 150 ⁇ m is particularly preferable.
  • the temporary support may be transparent or may contain dyed silicon, alumina sol, chromium salt, zirconium salt or the like. Further, the temporary support can be imparted with conductivity by the method described in JP-A-2005-221726.
  • Non-alkali development type coloring composition layer can be formed by forming the non-alkali development type coloring composition of the present invention on a temporary support by a known method.
  • the non-alkali development type color composition layer has a pattern.
  • the layer thickness of the non-alkali development type coloring composition layer containing a black pigment is preferably 0.5 to 10 ⁇ m, more preferably 0.8 to 5 ⁇ m, and particularly preferably 1 to 3 ⁇ m, from the viewpoint of the difference in thickness from the other layers. .
  • the content of the black pigment in the solid content of the non-alkali development type coloring composition is not particularly limited, but from the viewpoint of maintaining good cross-sectional shape, surface smoothness, and linearity of the straight portion, 15 to 70 mass. %, More preferably 20 to 60% by mass, still more preferably 25 to 50% by mass.
  • the total solid content as used in this specification means the total mass of the non-volatile component remove
  • the non-alkali development type colored transfer material is preferably provided with a thermoplastic resin layer between the temporary support and the non-alkali development type colored composition layer.
  • the thermoplastic resin layer is preferably alkali-soluble.
  • the thermoplastic resin layer plays a role as a cushioning material so as to be able to absorb unevenness of the base surface (including unevenness due to already formed images, etc.), and according to the unevenness of the target surface. It is preferable to have a property that can be deformed.
  • the thermoplastic resin layer preferably includes an organic polymer substance described in JP-A-5-72724 as a component.
  • the Vicat method specifically, a polymer obtained by American Material Testing Method ASTM D1235
  • polyolefins such as polyethylene and polypropylene, ethylene copolymers with ethylene and vinyl acetate or saponified products thereof, copolymers of ethylene and acrylic acid esters or saponified products thereof, polyvinyl chloride and vinyl chloride, Vinyl chloride copolymer with vinyl acetate or saponified product thereof, polyvinylidene chloride, vinylidene chloride copolymer, polystyrene, styrene copolymer with styrene and (meth) acrylic acid ester or saponified product thereof, polyvinyl toluene, Vinyl toluene copolymer of vinyl toluene and (meth) acrylic acid ester or saponified product thereof, poly (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylic acid ester copolymer weight of butyl (meth) acrylate and vinyl acetate, etc.
  • the layer thickness of the thermoplastic resin layer is preferably 3 to 30 ⁇ m.
  • the thickness of the thermoplastic resin layer is more preferably 4 to 25 ⁇ m, and particularly preferably 5 to 20 ⁇ m.
  • the thermoplastic resin layer can be formed by applying a preparation liquid containing a thermoplastic organic polymer, and the preparation liquid used for the application can be prepared using a solvent.
  • the solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the polymer component constituting the thermoplastic resin layer, and examples thereof include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, propylene glycol monomethyl ether acetate, n-propanol, and 2-propanol.
  • an intermediate layer is provided between the non-alkali development type colored composition layer and the thermoplastic resin layer, or a protective film is formed on the surface of the non-alkali development type colored composition layer.
  • a protective film is formed on the surface of the non-alkali development type colored composition layer.
  • an intermediate layer for the purpose of preventing mixing of components when a plurality of layers are applied and during storage after the application.
  • an oxygen-blocking film having an oxygen-blocking function which is described as “separation layer” in JP-A-5-72724, is preferable, which increases sensitivity during exposure and reduces the time load of the exposure machine. And productivity is improved.
  • intermediate layer and the protective film intermediate layers and protective films described in paragraphs 0083 to 0087 and 0093 of JP-A-2006-259138 can be appropriately used.
  • the non-alkali development type colored transfer material can be produced according to the method for producing a photosensitive transfer material described in paragraphs 0094 to 0098 of JP-A-2006-259138.
  • a solution in which an additive is dissolved together with a thermoplastic organic polymer is applied on a temporary support
  • a preparation liquid (intermediate layer coating liquid) prepared by adding a resin or an additive to a solvent that does not dissolve the thermoplastic resin layer on this thermoplastic resin layer is applied
  • An intermediate layer is laminated by drying, and a coating solution for a non-alkali development type coloring composition layer prepared using a solvent that does not dissolve the intermediate layer is further applied on the intermediate layer, followed by drying and non-alkaline development type coloring. It can be suitably produced by laminating the composition layer.
  • thermoplastic resin layer and / or an intermediate layer may be formed by coating before forming the non-alkali development type colored composition layer.
  • a known coating method is used as a method of coating the non-alkali development type colored composition layer coating solution, the thermoplastic resin layer coating solution, and the intermediate layer coating solution forming coating solution on the temporary support.
  • it can be formed by applying and drying the coating solution using a coating machine such as a spinner, a wheeler, a roller coater, a curtain coater, a knife coater, a wire bar coater, or an extruder.
  • the method for covering the non-alkali development type colored composition layer with the protective release layer is not particularly limited. Can be used.
  • a laminator, a vacuum laminator, and a nip roller capable of improving productivity can be used.
  • the pressure bonding conditions are preferably an atmospheric temperature of 20 to 45 ° C. and a linear pressure of 1000 to 10000 N / m.
  • non-alkali development type color transfer material of the present invention it is preferable that at least the non-alkali development type color composition layer has a pattern, and it is more preferable that the whole of the non-alkali development type color transfer material has a pattern.
  • the following method is preferable.
  • a step of making a notch having a straight portion in the in-plane direction, the depth of penetrating the mold-colored composition layer in the thickness direction, and (B) a part of the non-alkali development type color transfer material in the in-plane direction Including a step of removing the non-alkaline development type coloring composition layer from the region of the cut to the depth of the cut, with high productivity, a coloring pattern with high linearity of the linear portion of the coloring pattern (decorative material), It is preferable from the viewpoint that a capacitance type input device using the colored pattern can be manufactured.
  • FIGS. 1 and 2 specifically show the configuration of a non-alkali development type color transfer material including a temporary support and a non-alkali development type coloring composition layer.
  • FIGS. 1 to 9 show the case where a single substrate with a colored pattern is produced from the non-alkali development type color transfer material including the temporary support and the non-alkali development type coloring composition layer shown in FIG.
  • the present invention is not limited to these specific descriptions.
  • the pattern of the whole of the non-alkali development type color transfer material is a substrate having the pattern.
  • FIG. 1 is a schematic view of a non-alkali development type coloring transfer material 30 including a temporary support and a non-alkali development type coloring composition layer 24 as viewed from the non-alkali development type coloring composition layer 24 side.
  • step (A) an incision having a depth penetrating the non-alkali development type colored composition layer in the thickness direction and having a linear portion in the in-plane direction can be made, for example, in the dotted line portion of FIG. .
  • the cut into the non-alkali development type color transfer material may be made so that a non-alkali development type color transfer material having a pattern that matches the pattern of the substrate is formed when the substrate described later has a pattern.
  • a non-alkali development type color transfer material having a pattern that matches the pattern of the substrate is formed when the substrate described later has a pattern.
  • the substrate is a glass substrate having a pattern
  • the outer peripheral portion of the glass substrate having a pattern is not punched out after the non-alkali development type coloring transfer material is transferred to the glass substrate.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along line X1-X1 ′ of the non-alkali development type color transfer material shown in FIG. FIG.
  • the non-alkali development type color transfer material 30 shows a non-alkali development type color transfer material 30 in which a thermoplastic resin layer 27, an intermediate layer 28, a non-alkali development type coloring composition layer 24 and a protective peeling layer 29 described later are laminated on a temporary support 26. It is an aspect.
  • the non-alkali development type colored composition layer may be a laminate of two or more layers.
  • the incision into the non-alkaline development type color transfer material has four or more straight portions in the in-plane direction (in this specification, the “linear portion” is a straight line) It is preferable to put it so as to have a shape-like portion and is synonymous with a line segment.
  • the incision into the non-alkaline development type color transfer material can be constituted by a “large radius arc” or a “sinusoidal wave”, but is particularly useful when an incision having a straight portion is made.
  • the depth of the cut into the non-alkali development type color transfer material is (A-1) the cut into the non-alkali development type color transfer material is penetrated through the entire layer of the non-alkali development type color transfer material in the thickness direction. (A-2) A notch having a depth that penetrates the non-alkali development type colored composition layer and does not penetrate the temporary support may be made. (A-1) Cutting into the non-alkali development type color transfer material is referred to as punching to make a depth that penetrates all layers of the non-alkali development type color transfer material in the thickness direction.
  • the non-alkaline development type coloring composition from a partial region in the in-plane direction of the non-alkaline development type color transfer material described later to the depth of the cut is described below.
  • the step of removing the material layer is preferably performed simultaneously. Note that simultaneously performing the punching and the removal of the non-alkali development type colored composition layer is also referred to as a hollow.
  • (A-2) making a notch having a depth that penetrates the non-alkali development type colored composition layer and does not penetrate the temporary support is also referred to as half cut.
  • (A-1) cut into the non-alkali development type color transfer material is made to a depth penetrating all layers of the non-alkali development type color transfer material in the thickness direction.
  • Punching method-- A known means can be used for punching the non-alkali development type color transfer material.
  • Examples of the mechanical punching method include flat punching with a Thomson blade and cylindrical punching with a die cut roll.
  • a CO 2 laser cutter can be raised.
  • a single wafer type or a continuous type (roll-to-roll type) may be used.
  • Examples of the device used for the mechanical punching method include L-CPNC550 manufactured by Climb Products Co., Ltd.
  • Half cut method-- There is no restriction
  • the non-alkali development type color transfer material is constituted by laminating, for example, a temporary support, a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, a non-alkali development type colored composition layer, and a protective release layer, for example, a blade or Non-alkaline to be transferred by using a laser to cut from the top of the protective release layer, through the protective release layer, the non-alkali development type coloring composition layer, and the intermediate layer, to a part of the thermoplastic resin layer. It is possible to separate between the development type coloring composition layer (image part) and the non-alkali development type coloring composition layer (non-image part) which is not transferred.
  • a protective release layer for example, a blade or Non-alkaline
  • FIG. 3 shows a schematic diagram of the configuration of the non-alkali development type color transfer material after the step (B) is performed.
  • FIG. 3 is a schematic view of a non-alkali development type coloring transfer material 30 including a temporary support and a non-alkali development type coloring composition layer 24 as viewed from the non-alkali development type coloring composition layer 24 side.
  • Region 24) is formed.
  • One of the in-plane directions of the transfer material which is a depth penetrating the non-alkali development type coloring composition layer in the thickness direction and surrounded by a notch (dotted line portion in FIG. 1) having a linear portion in the in-plane direction.
  • FIG. 4 shows a schematic cross-sectional view at X2-X2 ′ of the non-alkali development type color transfer material shown in FIG. 4 uses a non-alkali development type colored transfer material 30 in which a thermoplastic resin layer 27, an intermediate layer 28, a non-alkali development type coloring composition layer 24, and a protective peeling layer 29 are laminated on a temporary support 26.
  • FIG. This is an embodiment of the non-alkali development type color transfer material after the step (B).
  • the other is a method of peeling off the protective film on the non-image area, subsequently peeling off the non-alkali development type coloring composition layer and the intermediate layer at the same time, and further peeling off the protective film on the image area. From the viewpoint of protecting the image portion of the non-alkali development type coloring composition layer until just before transfer, the latter is preferred.
  • the non-alkali development type color transfer material has the protective release layer on the non-alkali development type color composition layer. It is preferable to peel off the protective release layer before the non-alkali development type color transfer material is attached to a substrate.
  • FIG. 5 illustrates a transfer material 30 having a protective release layer 29 on the non-alkali development type coloring composition layer 24 (the remaining area of the non-alkali development type coloring composition layer that has not been removed) 24 in FIG.
  • the schematic of the cross section of the non-alkali development type coloring transfer material obtained after removing the protective peeling layer 29 is shown.
  • the colored pattern of the present invention is produced by using the non-alkali development type colored composition of the present invention or the non-alkali development type color transfer material according to any one of the present invention.
  • the colored pattern of the present invention is preferably laminated on a substrate. Further, the colored pattern of the present invention is produced using the non-alkali development type color transfer material of the present invention, and when formed on the substrate having the pattern, the whole of the non-alkali development type color transfer material has. It is preferable that the pattern matches at least an outer peripheral pattern of the substrate having the pattern.
  • the method of forming a colored pattern includes a cover film removing step of removing the protective release layer (cover film) from a non-alkali development type color transfer material, and the non-alkali development type from which the protective release layer (cover film) has been removed.
  • a development step of developing a layer other than the non-alkali development type colored composition layer to obtain a colored pattern image.
  • the method for forming a colored pattern of the present invention includes: It is preferable to include a step of affixing the development type coloring transfer material to the substrate.
  • FIG. 6 shows an aspect after the step (C) is performed using the transfer material after removing the protective release layer from the transfer material after the step (B) shown in FIG.
  • the substrate 1 is preferably adjacent to the non-alkaline development type colored composition layer (region not removed) 24.
  • a known laminating method is preferably used.
  • the transfer (bonding) of the non-alkali development type coloring composition layer to the substrate surface is performed by stacking the non-alkali development type coloring composition layer on the substrate surface, pressurizing and heating.
  • a known laminator such as a laminator, a vacuum laminator, and an auto-cut laminator that can further increase productivity can be used.
  • the laminating method transfers the punched non-alkaline development type color transfer material to the base material, so that a single-wafer type is accurate and a method in which bubbles do not enter between the base material and the non-alkali development type color transfer material, This is preferable from the viewpoint of increasing the yield.
  • the use of a vacuum laminator can be preferably mentioned.
  • Examples of the apparatus used for laminating include V-SE340aaH manufactured by Climb Products Co., Ltd.
  • Examples of the vacuum laminator device include those manufactured by Takano Seiki Co., Ltd., Taisei Laminator Co., Ltd., FVJ-540R, and FV700.
  • the method of forming a colored pattern according to the present invention comprises a step of further providing a support on the side of the temporary support opposite to the non-alkaline development-type colored composition layer before the non-alkali-development-type color transfer material is attached to a substrate.
  • Including the step of laminating may sometimes provide a preferable effect of eliminating bubbles during lamination.
  • a support body used at this time For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polycarbonate (PC), a triacetyl cellulose (TAC), and a cycloolefin polymer (COP) can be mentioned.
  • the film thickness can be selected in the range of 50 to 200 ⁇ m.
  • the substrate may be a film substrate or a glass substrate, but is preferably a glass substrate.
  • the said base material is a film base material
  • Specific materials when the substrate is a film substrate include polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), triacetyl cellulose (TAC), and cycloolefin polymer (COP).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PC polycarbonate
  • TAC triacetyl cellulose
  • COP cycloolefin polymer
  • TAC, PET, PC or COP is selected.
  • an antireflection layer an antiglare layer, a retardation layer, a viewing angle improving layer, a scratch resistant layer, a self-healing layer, an antistatic layer, an antifouling layer, an antimagnetic wave layer, and a conductive layer
  • the film substrate further has a conductive layer.
  • the conductive layer those described in JP-T-2009-505358 can be preferably used.
  • the film substrate preferably further includes at least one of a scratch-resistant layer and an antiglare layer.
  • a surface treatment can be performed on the non-contact surface of the glass substrate (front plate) in advance.
  • the surface treatment it is preferable to perform a surface treatment (silane coupling treatment) using a silane compound.
  • silane coupling agent those having a functional group that interacts with the photosensitive resin are preferable.
  • a silane coupling solution N- ⁇ (aminoethyl) ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane 0.3% by mass aqueous solution, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • KBM603 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • a heating tank may be used, and the reaction can be promoted by preheating the base material of the laminator.
  • the method for forming a colored pattern of the present invention preferably includes (D) a step of removing the temporary support from the transfer material attached to the substrate.
  • FIG. 7 shows an aspect after the step (D) is performed and the temporary support 26 is removed using the laminate of the transfer material and the base material after the step (C) shown in FIG. .
  • the method for forming a colored pattern according to the present invention includes (E) curing and decorating the remaining area of the non-alkali development type colored composition layer of the non-alkali development type color transfer material affixed to the substrate. It is preferable to include a step of forming a material. Further, in FIG. 8, the remaining region of the non-alkali development type colored composition layer 24 of the non-alkali development type color transfer material affixed to the substrate 1 is cured, and a capacitance type input described later is performed. The aspect after forming the coloring pattern 2 used as a decorating material of an apparatus is shown.
  • the coloring pattern obtained by the method for forming the coloring pattern of the present invention has high linearity in the linear portion of the frame inside 21 of the coloring pattern (decorative material) 2 in FIG.
  • the non-alkali development type color transfer material used in the method for forming a colored pattern of the present invention cures the remaining region (pattern) that has not been removed in the step (B) of the non-alkali development type colored composition layer. And a decorative layer can be formed.
  • the non-alkali development type colored composition layer contains a polymerizable monomer
  • a colored pattern can be formed by a normal photolithography method, but the method of forming a colored pattern of the present invention includes a development step. It is preferably not included.
  • the said exposure process is a process of exposing the said non-alkali development type coloring composition layer transcribe
  • a predetermined mask is disposed above the non-alkaline development type coloring composition layer formed on the substrate, and then from above the mask through the mask, the thermoplastic resin layer, and the intermediate layer. Examples include a method of exposing, and a method of exposing via a thermoplastic resin layer and an intermediate layer without using a mask to a pattern formed in advance by the method of (A): cutting a straight part.
  • the light source for the exposure can be appropriately selected and used as long as it can irradiate light in a wavelength region (for example, 365 nm, 405 nm, etc.) capable of curing the non-alkali development type colored composition layer.
  • a wavelength region for example, 365 nm, 405 nm, etc.
  • the exposure amount is usually about 5 to 200 mJ / cm 2 , preferably about 10 to 100 mJ / cm 2 .
  • the patterning exposure may be performed after the temporary support is peeled off, or may be exposed before the temporary support is peeled off, and then the temporary support may be peeled off. Exposure through a mask or digital exposure using a laser or the like may be used.
  • the development step is not a development in a narrow sense of developing the exposed non-alkali development type colored composition layer with a developer, but a step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer.
  • non-alkaline development type is not limited to “non-alkaline development type development”, but means “non-alkali development type”.
  • thermoplastic resin layer 27 and the intermediate layer 28 are removed, and the remaining area of the non-alkaline development-type colored composition layer 24 (the area that has not been removed) is laminated on the substrate 1 as shown in FIG. Can do.
  • the step of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer can be performed using an alkali developer generally used in a photolithography method.
  • the alkali developer is not particularly limited, and a known developer such as an alkali developer described in JP-A-5-72724 can be used.
  • the developer preferably has a developing behavior that does not dissolve the non-alkali developing colored composition layer.
  • the developer contains a compound having a pKa of 7 to 13 at a concentration of 0.05 to 5 mol / L. Although it is preferable, a small amount of an organic solvent miscible with water may be added.
  • organic solvents miscible with water examples include methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, benzyl alcohol And acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ⁇ -caprolactone, ⁇ -butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ⁇ -caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like.
  • the concentration of the organic solvent is preferably 0.1% by mass to 30% by mass.
  • a known surfactant can be further added to the alkali developer.
  • the concentration of the surfactant is preferably 0.01% by mass to 10% by mass.
  • the method of removing the thermoplastic resin layer and the intermediate layer may be any of paddle, shower, shower & spin, dip and the like. Here, the shower will be described.
  • the thermoplastic resin layer and the intermediate layer can be removed by spraying a developer with a shower. Further, after the development, it is preferable to remove the residue while spraying a cleaning agent or the like with a shower and rubbing with a brush or the like.
  • the liquid temperature is preferably 20 ° C to 40 ° C.
  • Step (Post bake process) It is preferable to include a post-baking step after the step (C), and it is more preferable to include a step of performing post-baking after the removing step of the thermoplastic resin layer and the intermediate layer.
  • the decorative layer of the capacitance-type input device described later is used, and the non-alkali-developed colored composition layer of the non-alkali-developed colored transfer material of the present invention is 0.08 to 1.2 atm. From the viewpoint of productivity, it is preferable to form by heating to 180 to 300 ° C. in an environment.
  • the post-baking is more preferably performed in an environment of 0.5 atm or more.
  • the post-baking temperature is more preferably 200 to 280 ° C., and particularly preferably 220 to 260 ° C.
  • the post-baking time is more preferably 20 to 150 minutes, and particularly preferably 30 to 100 minutes.
  • the post-baking may be performed in an air environment or a nitrogen substitution environment, but it is particularly preferable to perform the post-bake from the viewpoint of reducing the manufacturing cost without using a special decompression device.
  • the method for forming a colored pattern of the present invention may have other steps such as a post-exposure step.
  • a post-exposure step when the color pattern is formed using the non-alkali development type color transfer material.
  • the post-exposure step may be performed only from the surface direction of the non-alkali development type coloring composition layer on the side in contact with the substrate, or from only the surface direction on the side not in contact with the substrate. You may go from the direction.
  • thermoplastic resin layer and the intermediate layer examples include the methods described in paragraphs 0035 to 0051 of JP-A-2006-23696. Can also be suitably used.
  • the capacitance-type input device of the present invention includes the colored pattern of the present invention.
  • the capacitance-type input device of the present invention has a front plate and at least the following elements (1) to (4) on the non-contact side of the front plate, and (1) includes the colored pattern as a decorative layer. It is preferable.
  • (1) Decorative layer (2) A plurality of first transparent electrode patterns formed by extending a plurality of pad portions in a first direction via connecting portions (3) The first transparent electrode pattern and A plurality of second electrode patterns comprising a plurality of pad portions that are electrically insulated and extend in a direction crossing the first direction. (4) The first transparent electrode pattern and the second electrode pattern.
  • the second electrode pattern may be a transparent electrode pattern.
  • the first transparent electrode pattern is electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern. And you may have another electroconductive element different from said 2nd transparent electrode pattern.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view showing the configuration of the capacitive input device of the present invention.
  • the capacitive input device 10 includes a front plate 1, a decorative layer 2, a first transparent electrode pattern 3, a second transparent electrode pattern 4, an insulating layer 5, and a conductive element 6. And a transparent protective layer 7.
  • the front plate 1 is composed of a light-transmitting substrate such as a glass substrate, and tempered glass represented by Corning Gorilla (registered trademark) glass can be used. Moreover, in FIG. 11, the side in which each element of the front layer 1 is provided is called a non-contact surface side. In the capacitive input device 10 of the present invention, input is performed by bringing a finger or the like into contact with the contact surface (the surface opposite to the non-contact surface) of the front plate 1.
  • the front plate may be referred to as a “base material”.
  • a decorative layer 2 is provided on the non-contact surface of the front plate 1.
  • the decoration layer 2 is a frame-like pattern around the display area formed on the non-contact side of the front panel of the touch panel, and is formed so as to prevent the lead wiring and the like from being seen.
  • the capacitive input device 10 of the present invention is provided with a decorative layer 2 so as to cover a part of the front plate 1 (a region other than the input surface in FIG. 12).
  • the front plate 1 can be provided with an opening 8 in part as shown in FIG. A mechanical switch by pressing can be installed in the opening 8.
  • a plurality of first transparent electrode patterns 3 formed by extending a plurality of pad portions in the first direction via connection portions;
  • the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and the conductive element 6 to be described later are, for example, translucent conductive materials such as ITO (Indium Tin Oxide) and IZO (Indium Zinc Oxide). It can be made of a conductive metal oxide film.
  • a metal film examples include an ITO film; a metal film such as Al, Zn, Cu, Fe, Ni, Cr, and Mo; and a metal oxide film such as SiO 2 .
  • the film thickness of each element can be set to 10 to 200 nm.
  • the amorphous ITO film is made into a polycrystalline ITO film by firing, the electrical resistance can be reduced.
  • said 1st transparent electrode pattern 3, the 2nd transparent electrode pattern 4, and the electroconductive element 6 mentioned later use the photosensitive film which has the photocurable resin layer using the said conductive fiber. It can also be manufactured.
  • paragraphs 0014 to 0016 of Japanese Patent No. 4506785 can be referred to.
  • At least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 spans both the non-contact surface of the front plate 1 and the region of the surface opposite to the front plate 1 of the decorative layer 2.
  • FIG. 11 a diagram is shown in which the second transparent electrode pattern is installed across both areas of the non-contact surface of the front plate 1 and the surface of the decorative layer 2 opposite to the front plate 1. ing.
  • an expensive facility such as a vacuum laminator is used by using a photosensitive film having a specific layer structure. Even without using, it is possible to perform lamination without generating bubbles at the mask portion boundary with a simple process.
  • FIG. 13 is an explanatory diagram showing an example of the first transparent electrode pattern and the second transparent electrode pattern.
  • the first transparent electrode pattern 3 is formed such that the pad portion 3a extends in the first direction via the connection portion 3b.
  • the second transparent electrode pattern 4 is electrically insulated by the first transparent electrode pattern 3 and the insulating layer 5 and extends in a direction intersecting the first direction (second direction in FIG. 13). It is constituted by a plurality of pad portions that are formed.
  • the pad portion 3a and the connection portion 3b may be manufactured as one body, or only the connection portion 3b is manufactured and the pad portion 3a and the second portion 3b are formed.
  • the transparent electrode pattern 4 may be integrally formed (patterned).
  • the pad portion 3a and the second transparent electrode pattern 4 are produced (patterned) as a single body (patterning), as shown in FIG. 13, a part of the connection part 3b and a part of the pad part 3a are connected, and an insulating layer is formed. Each layer is formed so that the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 are electrically insulated by 5.
  • a conductive element 6 is installed on the surface of the decorative layer 2 opposite to the front plate 1.
  • the conductive element 6 is electrically connected to at least one of the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4, and is different from the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4. Is another element.
  • FIG. 11 a diagram in which the conductive element 6 is connected to the second transparent electrode pattern 4 is shown.
  • the transparent protective layer 7 is installed so that all of each component may be covered.
  • the transparent protective layer 7 may be configured to cover only a part of each component.
  • the insulating layer 5 and the transparent protective layer 7 may be made of the same material or different materials.
  • the material constituting the insulating layer 5 and the transparent protective layer 7 is preferably a material having high surface hardness and high heat resistance, and a known photosensitive siloxane resin material, acrylic resin material, or the like is used.
  • the decorative layer 2 includes the colored pattern of the present invention, that is, the decorative layer 2 is the non-alkali development type colored composition of the present invention or the non-alkali of the present invention. It is preferable to be produced using a development type coloring transfer material.
  • at least one element of the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, the insulating layer 5, the conductive element 6, and, if necessary, the transparent protective layer 7 is a temporary support. It is preferable to form using the photosensitive film which has a thermoplastic resin layer and a photocurable resin layer in this order.
  • the insulating layer 5 and the transparent protective layer 7 can be formed by transferring a photocurable resin layer to the front plate 1 using a photosensitive film.
  • a photosensitive film having an insulating photocurable resin layer as the photocurable resin layer. It can be formed by transferring the photocurable resin layer to the surface.
  • the transparent protective layer 7 the photocuring is performed on the surface of the front plate 1 on which each element is formed using a photosensitive film having a transparent photocurable resin layer as the photocurable resin layer. It can be formed by transferring the conductive resin layer.
  • the substrate (front plate) having an opening has no resist component leakage from the opening.
  • a decorative layer that needs to form a light-shielding pattern just above the boundary line of the front plate there is no protrusion of the resist component from the glass edge, so there is no contamination of the back side of the front plate, and it is a simple layer.
  • the touch panel reduced in weight and weight can be manufactured.
  • the photosensitive film is formed by using a photosensitive film having a specific layer structure having a thermoplastic resin layer between the photocurable resin layer and the temporary support for the formation of the decorative layer 2 that needs light shielding properties. Generation of bubbles during lamination can be prevented, and a high-quality decorative layer 2 and the like having no light leakage can be formed.
  • Said 1st transparent electrode pattern 3, the 2nd transparent electrode pattern 4, and the electroconductive element 6 can be formed using the photosensitive film which has an etching process or a conductive photocurable resin layer.
  • the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and another conductive element 6 are formed by etching, first, on the non-contact surface of the front plate 1 on which the decorative layer 2 and the like are formed A transparent electrode layer such as ITO is formed by sputtering. Next, an etching pattern is formed by exposure and development using a photosensitive film having an etching photocurable resin layer as the photocurable resin layer on the transparent electrode layer. Thereafter, the transparent electrode layer is etched to pattern the transparent electrode, and the etching pattern is removed, whereby the first transparent electrode pattern 3 and the like can be formed.
  • the surface of the front plate 1 is formed. It can be formed by transferring the conductive photocurable resin layer.
  • the first transparent electrode pattern 3 or the like is formed using a photosensitive film having the conductive photocurable resin layer, there is no leakage of resist components from the opening portion even on a substrate (front plate) having an opening portion. Without contaminating the back side of the substrate, it is possible to manufacture a touch panel having a merit of thin layer / light weight by a simple process.
  • the photosensitive film is photosensitive by using a photosensitive film having a specific layer structure having a thermoplastic resin layer between the conductive photocurable resin layer and the temporary support for forming the first transparent electrode pattern 3 and the like.
  • the generation of bubbles during film lamination can be prevented, and the first transparent electrode pattern 3, the second transparent electrode pattern 4, and another conductive element 6 can be formed with excellent conductivity and low resistance.
  • FIG. 14 is a top view illustrating an example of the tempered glass 11 in which the opening 8 is formed.
  • FIG. 15 is a top view illustrating an example of the front plate on which the decorative layer 2 is formed.
  • FIG. 16 is a top view showing an example of the front plate on which the first transparent electrode pattern 3 is formed.
  • FIG. 17 is a top view showing an example of a front plate on which the first transparent electrode pattern 3 and the second transparent electrode pattern 4 are formed.
  • FIG. 18 is a top view showing an example of a front plate on which conductive elements 6 different from the first and second transparent electrode patterns are formed.
  • a photosensitive film comprising a permanent material such as the first transparent electrode pattern, the second transparent electrode pattern, and the conductive element when the decorative layer, the insulating layer, the transparent protective layer, and the conductive photocurable resin layer are used.
  • the photosensitive film is laminated to the base material and then exposed to the required pattern.
  • the non-exposed part is exposed, and in the case of a positive type material, the exposed part is developed.
  • the pattern can be obtained by removing them.
  • the development may be performed by removing the thermoplastic resin layer and the photocurable layer with separate liquids or with the same liquid. You may combine well-known image development facilities, such as a brush and a high pressure jet, as needed. After the development, post-exposure and post-bake may be performed as necessary.
  • a surface treatment can be applied to the non-contact surface of the base material (front plate) in advance.
  • the surface treatment it is preferable to perform a surface treatment (silane coupling treatment) using a silane compound.
  • silane coupling agent those having a functional group that interacts with the photosensitive resin are preferable.
  • a silane coupling solution N- ⁇ (aminoethyl) ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane 0.3% by mass aqueous solution, trade name: KBM603, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • KBM603 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
  • a heating tank may be used, and the reaction can be promoted by preheating the substrate of the laminator.
  • the first transparent electrode layer, the second transparent electrode layer, and other conductive members can be formed using the photosensitive film as a lift-off material.
  • a transparent conductive layer is formed on the entire surface of the substrate, and then the desired transparent conductive layer pattern is formed by dissolving and removing the photocurable resin layer together with the deposited transparent conductive layer. Can be obtained (lift-off method).
  • etching resist Even when a photosensitive film is used as an etching resist (etching pattern), a resist pattern can be obtained in the same manner as in the above method.
  • etching or resist stripping can be applied by a known method described in paragraphs 0048 to 0054 of JP2010-152155A.
  • an etching method there is a commonly performed wet etching method of dipping in an etching solution.
  • an acid type or an alkaline type may be appropriately selected according to an object to be etched.
  • acidic etching solutions include aqueous solutions of acidic components such as hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid, and phosphoric acid, and mixed aqueous solutions of acidic components and salts of ferric chloride, ammonium fluoride, potassium permanganate, and the like. Is done.
  • the acidic component a combination of a plurality of acidic components may be used.
  • alkaline type etching solutions include sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonia, organic amines, aqueous solutions of alkali components such as organic amine salts such as tetramethylammonium hydroxide, alkaline components and potassium permanganate.
  • alkali components such as organic amine salts such as tetramethylammonium hydroxide, alkaline components and potassium permanganate.
  • a mixed aqueous solution of a salt such as A combination of a plurality of alkali components may be used as the alkali component.
  • the temperature of the etching solution is not particularly limited, but is preferably 45 ° C. or lower.
  • the resin pattern used as an etching mask (etching pattern) in the present invention is formed by using the above-described photocurable resin layer, so that it is particularly suitable for acidic and alkaline etching solutions in such a temperature range. Excellent resistance. Therefore, the resin pattern is prevented from peeling off during the etching process, and the portion where the resin pattern does not exist is selectively etched.
  • a cleaning process and a drying process may be performed as necessary to prevent line contamination.
  • the cleaning process is performed by cleaning the substrate with pure water for 10 to 300 seconds at room temperature, for example, and the air blowing pressure (about 0.1 to 5 kg / cm 2 ) is appropriately adjusted using an air blow for the drying process. Just do it.
  • the method of peeling the resin pattern is not particularly limited, and examples thereof include a method of immersing the substrate in a peeling solution being stirred at 30 to 80 ° C., preferably 50 to 80 ° C. for 5 to 30 minutes.
  • the resin pattern used as an etching mask in the present invention exhibits excellent chemical resistance at 45 ° C. or lower as described above, but exhibits a property of swelling by an alkaline stripping solution when the chemical temperature is 50 ° C. or higher. . Due to such properties, when the peeling process is performed using a peeling solution of 50 to 80 ° C., there are advantages that the process time is shortened and the resin pattern peeling residue is reduced.
  • the resin pattern used as an etching mask in the present invention exhibits good chemical resistance in the etching process, while in the peeling process. Good peelability will be exhibited, and both conflicting properties of chemical resistance and peelability can be satisfied.
  • the stripping solution examples include inorganic alkali components such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, organic alkali components such as tertiary amine and quaternary ammonium salt, water, dimethyl sulfoxide, N-methylpyrrolidone, or these. What was melt
  • dissolved in this mixed solution is mentioned. You may peel by the spray method, the shower method, the paddle method etc. using the said peeling liquid.
  • the photosensitive film preferably has a thermoplastic resin layer between the temporary support and the photocurable resin layer.
  • the photosensitive film used in the present invention may be a negative material or a positive material.
  • the same materials as the temporary support and the thermoplastic resin layer in the non-alkali development type color transfer material of the present invention can be used.
  • the method for producing the photosensitive film the same method as the method for producing the non-alkali development type color transfer material of the present invention can be used.
  • Photocurable resin layer- A photosensitive film adds an additive to a photocurable resin layer according to the use.
  • the photosensitive film has a conductive photocurable resin layer
  • the photocurable resin layer contains conductive fibers and the like.
  • the photocurable resin layer preferably contains an alkali-soluble resin, a polymerizable compound, a polymerization initiator, or a polymerization initiation system.
  • colorants, additives, and the like are used, but are not limited thereto.
  • polymers described in JP-A-2011-95716, paragraph 0025 and JP-A-2010-237589, paragraphs 0033 to 0052 can be used.
  • polymerizable compound the polymerizable compounds described in paragraphs 0023 to 0024 of Japanese Patent No. 4098550 can be used.
  • polymerization initiator or polymerization initiation system the polymerizable compounds described in [0031 to 0042 described in JP 2011-95716 A can be used.
  • a solid structure or a hollow structure is preferable.
  • the fiber having a solid structure may be referred to as “wire”, and the fiber having a hollow structure may be referred to as “tube”.
  • a conductive fiber having an average minor axis length of 1 nm to 1,000 nm and an average major axis length of 1 ⁇ m to 100 ⁇ m may be referred to as “nanowire”.
  • a conductive fiber having an average minor axis length of 1 nm to 1,000 nm, an average major axis length of 0.1 ⁇ m to 1,000 ⁇ m, and having a hollow structure may be referred to as “nanotube”.
  • the material of the conductive fiber is not particularly limited as long as it has conductivity, and can be appropriately selected according to the purpose. However, at least one of metal and carbon is preferable, and among these, The conductive fiber is particularly preferably at least one of metal nanowires, metal nanotubes, and carbon nanotubes.
  • the material of the metal nanowire is not particularly limited.
  • at least one metal selected from the group consisting of the fourth period, the fifth period, and the sixth period of the long periodic table (IUPAC 1991) is preferable. More preferably, at least one metal selected from Group 2 to Group 14 is selected from Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, Group 13, and Group 14. At least one metal selected from the group is more preferable, and it is particularly preferable to include it as a main component.
  • Examples of the metal include copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, niobium, tantel, titanium, bismuth, antimony, and lead. And alloys thereof. Among these, in view of excellent conductivity, those mainly containing silver or those containing an alloy of silver and a metal other than silver are preferable. Containing mainly silver means that the metal nanowire contains 50% by mass or more, preferably 90% by mass or more. Examples of the metal used in the alloy with silver include platinum, osmium, palladium and iridium. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a shape of the said metal nanowire there is no restriction
  • the cross-sectional shape of the metal nanowire can be examined by applying a metal nanowire aqueous dispersion on a substrate and observing the cross-section with a transmission electron microscope (TEM).
  • TEM transmission electron microscope
  • the corner of the cross section of the metal nanowire means a peripheral portion of a point that extends each side of the cross section and intersects with a perpendicular drawn from an adjacent side.
  • “each side of the cross section” is a straight line connecting these adjacent corners.
  • the ratio of the “outer peripheral length of the cross section” to the total length of the “each side of the cross section” was defined as the sharpness.
  • the sharpness can be represented by the ratio of the outer peripheral length of the cross section indicated by the solid line and the outer peripheral length of the pentagon indicated by the dotted line.
  • a cross-sectional shape having a sharpness of 75% or less is defined as a cross-sectional shape having rounded corners.
  • the sharpness is preferably 60% or less, and more preferably 50% or less. If the sharpness exceeds 75%, the electrons may be localized at the corners, and plasmon absorption may increase, or the transparency may deteriorate due to yellowing or the like. Moreover, the linearity of the edge part of a pattern may fall and a shakiness may arise.
  • the lower limit of the sharpness is preferably 30%, more preferably 40%.
  • the average minor axis length of the metal nanowire (sometimes referred to as “average minor axis diameter” or “average diameter”) is preferably 150 nm or less, more preferably 1 nm to 40 nm, still more preferably 10 nm to 40 nm, 15 nm to 35 nm is particularly preferable.
  • the average minor axis length is less than 1 nm, the oxidation resistance may be deteriorated and the durability may be deteriorated.
  • the average minor axis length is more than 150 nm, scattering due to metal nanowires occurs and sufficient transparency is obtained. There are times when you can't.
  • the average minor axis length of the metal nanowires was determined by observing 300 metal nanowires using a transmission electron microscope (TEM; manufactured by JEOL Ltd., JEM-2000FX). The average minor axis length of was determined. In addition, the shortest axis length when the short axis of the metal nanowire is not circular is the shortest axis.
  • the average major axis length (sometimes referred to as “average length”) of the metal nanowire is preferably 1 ⁇ m to 40 ⁇ m, more preferably 3 ⁇ m to 35 ⁇ m, and even more preferably 5 ⁇ m to 30 ⁇ m. If the average major axis length is less than 1 ⁇ m, it may be difficult to form a dense network and sufficient conductivity may not be obtained. If it exceeds 40 ⁇ m, the metal nanowires are too long and manufactured. Sometimes entangled and agglomerates may occur during the manufacturing process.
  • the average major axis length of the metal nanowires was measured using, for example, a transmission electron microscope (TEM; manufactured by JEOL Ltd., JEM-2000FX), and 300 metal nanowires were observed. The average major axis length of the wire was determined. In addition, when the said metal nanowire was bent, the circle
  • an additive may be used for the photocurable resin layer.
  • the additive include surfactants described in paragraph 0017 of Japanese Patent No. 4502784, paragraphs 0060-0071 of JP-A-2009-237362, and prevention of thermal polymerization described in paragraph 0018 of Japanese Patent No. 4502784. And other additives described in paragraphs 0058 to 0071 of JP-A No. 2000-310706.
  • the solvents described in paragraphs 0043 to 0044 of JP2011-95716A can be used as a solvent for producing the photosensitive film by coating.
  • the photosensitive film may be a positive type material.
  • the photosensitive film is a positive material, for example, a material described in JP-A-2005-221726 is used for the photocurable resin layer, but the material is not limited thereto.
  • the thickness of the conductive photocurable resin layer is preferably from 0.1 to 20 ⁇ m, and preferably from 0.5 to 18 ⁇ m, from the viewpoint of process suitability such as coating solution stability, drying during coating, and development time during patterning. Further preferred is 1 to 15 ⁇ m.
  • the content of the conductive fiber based on the total solid content of the conductive photocurable resin layer is preferably 0.01 to 50% by mass, and 0.05 to 30% by mass from the viewpoints of conductivity and coating solution stability. % Is more preferable, and 0.1 to 20% by mass is particularly preferable.
  • the layer thickness of the photocurable resin layer is preferably 0.1 to 5 ⁇ m, more preferably 0.3 to 3 ⁇ m, from the viewpoint of maintaining insulation. Particularly preferred is 5 to 2 ⁇ m.
  • the layer thickness of the photocurable resin layer is preferably 0.5 to 10 ⁇ m, and preferably 0.8 to 5 ⁇ m from the viewpoint of exerting sufficient surface protecting ability. More preferred is 1 to 3 ⁇ m.
  • thermoplastic resin layer and photocurable resin layer The viscosity of the thermoplastic resin layer measured at 100 ° C. is in the region of 1000 to 10000 Pa ⁇ sec, the viscosity of the photocurable resin layer measured at 100 ° C. is in the region of 2000 to 50000 Pa ⁇ sec, and the following formula (A ) Is preferably satisfied.
  • the viscosity of each layer can be measured as follows.
  • the solvent is removed from the coating solution for the thermoplastic resin layer or the photocurable resin layer by drying under atmospheric pressure and reduced pressure to obtain a measurement sample.
  • Vibron DD-III type: manufactured by Toyo Baldwin Co., Ltd.
  • Vibron Can be used under the conditions of a measurement start temperature of 50 ° C., a measurement end temperature of 150 ° C., a heating rate of 5 ° C./min, and a frequency of 1 Hz / deg.
  • An image display device includes the capacitive input device according to the present invention.
  • Capacitance type input device and type of image display device including capacitance type input device as component >>
  • An electrostatic capacitance type input device obtained by the manufacturing method of the present invention and an image display device including the electrostatic capacitance type input device as a constituent element are “latest touch panel technology” (issued July 6, 2009, Inc.) Techno Times), supervised by Yuji Mitani, “Technology and Development of Touch Panels”, CMC Publishing (2004, 12), FPD International 2009 Forum T-11 Lecture Textbook, Cypress Semiconductor Corporation Application Note AN2292, etc. Can be applied.
  • non-alkali development type coloring composition [Examples 1 to 8, Comparative Examples 1 and 2] ⁇ Preparation of non-alkali development type coloring composition >> It prepared so that it might become the prescription of following Table 1 using the following materials.
  • the obtained non-alkali development type coloring compositions were designated as non-alkali development type coloring compositions of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 and 2, respectively.
  • Non-alkali development type black composition layer coating solution Formula K1
  • Black pigment dispersion A SF Black GB4051 (manufactured by Sanyo Color Co., Ltd .: resin-coated carbon black 25%, dispersant 2%, resin 7.5%, methoxypropyl acetate 65.5%)
  • Black pigment dispersion B K pigment dispersion 1 described later
  • Black pigment dispersion C Titanium black 13M (Mitsubishi Materials) 25%, Solsperse 24000 5%, methoxypropyl acetate 70%
  • Solvent A 1-methoxy-2-propyl acetate (manufactured by Daicel Chemical Industries) ⁇
  • Solvent B Methyl ethyl ketone (manufactured by Tonen Chemical Co., Ltd.)
  • Solvent C cyclohexanone (Toyo Gosei Co., Ltd.)
  • composition of K pigment dispersion 1 Carbon black (trade name: Nipex 35, manufactured by Degussa): 13.1% by mass ⁇
  • Propylene glycol monomethyl ether acetate 79.53% by mass
  • thermoplastic resin layer having the following formulation H1 On a 75 ⁇ m-thick polyethylene terephthalate film (temporary support), a slit-shaped nozzle was used to apply a coating solution for a thermoplastic resin layer having the following formulation H1, followed by drying to form a thermoplastic resin layer. Next, the intermediate layer coating solution having the following formulation P1 was applied onto the thermoplastic resin layer and dried to form an intermediate layer.
  • non-alkali development type coloring composition of Examples 1, 3 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 comprising the formulation K1 prepared above as a coating solution for a non-alkali development type coloring composition layer
  • a coating solution for a non-alkali development type coloring composition layer was applied on the intermediate layer and dried to form a non-alkali development type coloring composition layer.
  • a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 15.1 ⁇ m, an intermediate layer having a dry film thickness of 1.6 ⁇ m, and a dry film thickness having an optical density of 4.0 are formed on the temporary support.
  • a 2 ⁇ m non-alkali development type colored composition layer was provided.
  • thermoplastic resin layer Formulation H1
  • Methanol 11.1 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate: 6.36 parts by mass Methyl ethyl ketone: 52.4 parts by mass Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer
  • FIG. 1 shows a partially enlarged schematic view
  • FIG. 2 shows FIG. 1 is a non-alkaline development type colored transfer material using a CO 2 laser cutter (L-CPNC550, manufactured by Climb Products Co., Ltd.). All of K1 (protective film, non-alkali development type colored composition layer (black photosensitive layer), intermediate layer, thermoplastic resin layer and temporary support) were penetrated and punched out. As shown in FIG. 1
  • the non-alkali development type color transfer material K1 after punching is formed with an outer peripheral portion 22, a frame interior 21 having a straight portion, and a wiring extraction portion 23 having a straight portion.
  • the sample name of the obtained transfer material was “Non-alkali development type color transfer material K2 of Examples 1, 3 to 8, and Comparative Examples 1 and 2 after punching”.
  • “the non-alkaline development type color transfer material K2 of Examples 1, 3 to 8, Comparative Examples 1 and 2 after punching” having the shape of FIG. 3 is formed, and at the same time, a frame of four sides in FIG.
  • the protective film 29 was peeled off from the non-alkaline development type color transfer material K2 of Examples 1, 3 to 8 and Comparative Examples 1 and 2 after punching to obtain the shape of FIG. Thereafter, the surface of the exposed non-alkaline development type colored composition layer 24 other than the region removed by punching and the surface of the glass substrate preheated to 120 ° C. are overlapped with each other, and the laminator as shown in FIG. Pasted on.
  • the temporary support 26 of the non-alkali development type color transfer material was removed using a thin blade razor to obtain the configuration of FIG. Thereafter, the entire surface is exposed with UV (i-line, 20 mJ) from the thermoplastic resin layer 27 side of the non-alkali development type coloring transfer material, and then the thermoplastic resin layer 27 is developed with a developer (T-PD2, manufactured by Fuji Film Co., Ltd.).
  • the intermediate layer 28 is removed, followed by washing with pure water and post-baking (240 ° C., 60 minutes) to form a colored pattern (decorative layer of the capacitive input device) formed on the glass substrate. Obtained.
  • the obtained colored patterns were used as the colored patterns (glass with a decorative layer) of Examples 1, 3 to 8, and Comparative Examples 1 and 2.
  • FIGS. 8 and 10 are schematic views from the non-alkaline development type colored composition layer 24 (mask 2) side of the obtained colored pattern (glass with a decorative layer), and a schematic view of the cross-sectional shape at X3-X3 ′. Is shown in FIG. 8 and 10 are as follows. Vertical width outside the frame: 100 mm, horizontal width outside the frame: 60 mm, upper frame width: 10 mm, lower frame width: 12 mm, left and right frame width: 3 mm, four corner radius: 6 mm, wiring extraction Part (length ⁇ width): 3 mm ⁇ 5 mm.
  • Example 2 a colored pattern was formed by screen-printing the non-alkali development type coloring composition of Example 2 prepared above on a substrate.
  • a 25 mesh mask produced in the mold of FIG. 10 was placed on a screen printer (DP-320, manufactured by Neurong Seimitsu Kogyo Co., Ltd.) and prepared on the glass substrate (base material) in Example 2 above.
  • Non-alkaline development type coloring composition Using the formulation K1 as a coating solution, screen printing is performed, and post baking (240 ° C., 60 minutes) is performed, whereby the coloring pattern of Example 2 (glass with a decorating material) is obtained. Obtained.
  • the surface smoothness of the coloring pattern was evaluated in accordance with the following criteria.
  • the surface resistance of the ITO thin film was 80 ⁇ / ⁇ .
  • the front plate on which the transparent electrode layer and the photocurable resin layer pattern for etching are formed is immersed in an etching bath containing ITO etchant (hydrochloric acid, potassium chloride aqueous solution, liquid temperature 30 ° C.) and treated for 100 seconds (etching treatment). Then, the transparent electrode layer in the exposed region that was not covered with the photocurable resin layer for etching was dissolved and removed to obtain a front plate with a transparent electrode layer pattern with the photocurable resin layer pattern for etching.
  • ITO etchant hydroochloric acid, potassium chloride aqueous solution, liquid temperature 30 ° C.
  • a front plate with a transparent electrode layer pattern with a photocurable resin layer pattern for etching is applied to a resist stripping solution (N-methyl-2-pyrrolidone, monoethanolamine, a surfactant (trade name: Surfynol 465). , Manufactured by Air Products Co., Ltd.), liquid temperature 45 ° C), immersed in a resist stripping tank, treated for 200 seconds (peeling treatment), removed the photocurable resin layer for etching, the decorative layer and the first transparent electrode A front plate with a pattern was obtained.
  • a resist stripping solution N-methyl-2-pyrrolidone, monoethanolamine, a surfactant (trade name: Surfynol 465). , Manufactured by Air Products Co., Ltd.), liquid temperature 45 ° C), immersed in a resist stripping tank, treated for 200 seconds (peeling treatment), removed the photocurable resin layer for etching, the decorative layer and the first transparent electrode
  • a resist stripping solution N-methyl-2
  • ⁇ Formation of insulating layer> ⁇ Preparation of Insulating Layer Forming Photosensitive Film W1>
  • the coating solution for the non-alkali development type colored composition layer is replaced with the coating solution for the photocurable resin layer for the insulating layer having the following prescription W1.
  • a photosensitive film W1 for forming an insulating layer was obtained in the same manner as the preparation of the non-alkali development-type colored transfer material K1 for forming a decorative layer, except that a photocurable resin layer for the layer was formed (photocurable for insulating layer).
  • the film thickness of the resin layer is 1.4 ⁇ m).
  • Surfactant (trade name: Megafax F-780F, manufactured by Dainippon Ink): 0.05 parts by mass.
  • Methyl ethyl ketone 23.3 parts by mass.
  • MMPGAc manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.
  • the viscosity at 100 ° C. after removing the solvent of the coating liquid W1 for forming the insulating layer is 4000 Pa. Was sec.
  • the insulating layer-forming photosensitive film W1 from which the protective film was removed after washing the decorative layer and the front plate with the first transparent electrode pattern prepared in the same manner as the decorative layer formation and silane coupling treatment was used.
  • Laminated base material temperature: 100 ° C., rubber roller temperature 120 ° C., linear pressure 100 N / cm, transport speed 2.3 m / min).
  • the distance between the exposure mask (quartz exposure mask having the insulating layer pattern) surface and the insulating layer was set to 100 ⁇ m, and pattern exposure was performed at an exposure amount of 30 mJ / cm 2 (i-line). .
  • a triethanolamine developer (containing 30% by mass of triethanolamine, trade name: T-PD2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) diluted 10 times with pure water) was used at 33 ° C. for 60 ° C.
  • a sodium carbonate / sodium bicarbonate developer (trade name: T-CD1 (manufactured by FUJIFILM Corporation) diluted 5-fold with pure water) at 25 ° C. for 50 seconds.
  • a washing treatment was carried out at 33 ° C. for 20 seconds using a surfactant-containing washing solution (trade name: T-SD3 (manufactured by FUJIFILM Corporation) diluted 10-fold with pure water).
  • the front plate after the cleaning treatment was immersed in the cleaning solution, it was rubbed with a rotating brush, and the residue was removed by spraying a high-pressure cleaning solution from an ultra-high pressure cleaning nozzle. Subsequently, the post-baking process for 230 degreeC for 60 minutes was performed, and the front board in which the decoration layer, the 1st transparent electrode pattern, and the insulating layer pattern were formed was obtained.
  • the front plate on which the decorative layer, the first transparent electrode pattern, and the insulating layer pattern were formed was subjected to DC magnetron sputtering treatment (conditions: substrate temperature 50 ° C., argon An ITO thin film having a pressure of 0.13 Pa and an oxygen pressure of 0.01 Pa and a thickness of 80 nm was formed to obtain a front plate on which a transparent electrode layer was formed.
  • the surface resistance of the ITO thin film was 110 ⁇ / ⁇ .
  • the insulating layer pattern, the transparent electrode layer, and the etching photocurable resin layer pattern using the etching photosensitive film E1 were obtained (post-bake treatment; 130 ° C., 30 minutes). Further, in the same manner as the formation of the first transparent electrode pattern, an etching process (30 ° C., 50 seconds) is performed, and then the photocurable resin layer for etching is removed (peeling process: 45 ° C., 200 seconds). The front board which formed the decoration layer, the 1st transparent electrode pattern, the insulating layer pattern, and the 2nd transparent electrode pattern was obtained.
  • the front plate on which the decorative layer, the first transparent electrode pattern, the insulating layer pattern, and the second transparent electrode pattern are formed is subjected to DC magnetron sputtering treatment.
  • a front plate on which an aluminum (Al) thin film having a thickness of 200 nm was formed was obtained.
  • the first transparent electrode pattern, the insulating layer pattern, the second transparent electrode pattern, and the photocuring for etching are performed using the etching photosensitive film E1.
  • a front plate on which a conductive resin layer pattern was formed was obtained.
  • Post-bake treatment 130 ° C., 30 minutes.
  • an etching process (30 ° C., 50 seconds) is performed, and then the photocurable resin layer for etching is removed (peeling process: 45 ° C., 200 seconds).
  • the front board which formed the electroconductive element different from the decoration layer, the 1st transparent electrode pattern, the insulating layer pattern, the 2nd transparent electrode pattern, and the 1st and 2nd transparent electrode pattern was obtained.
  • the insulating film forming photosensitive film W1 from which the protective film has been removed is laminated and laminated on the front plate formed up to the conductive element different from the first and second transparent electrode patterns. Got the body. After peeling the temporary support from the obtained laminate, the entire surface is exposed at an exposure amount of 50 mJ / cm 2 (i-line) without using an exposure mask, and development, post-exposure (1000 mJ / cm 2 ), and post-bake treatment are performed.
  • the insulating layer (covering the conductive layer different from the decorative layer, the first transparent electrode pattern, the insulating layer pattern, the second transparent electrode pattern, the first and second transparent electrode patterns) A front plate 1 laminated with a transparent protective layer was obtained.
  • the image display devices 1 of the examples and comparative examples obtained above were evaluated.
  • a decorative layer, a first transparent electrode pattern, an insulating layer pattern, a second transparent electrode pattern, a conductive element different from the first and second transparent electrode patterns, and a transparent protective layer are formed.
  • the front plate 1 had no dirt on the opening and back surface (non-contact surface), was easily cleaned, and had no problem of contamination of other members.
  • the decorative layer had no pinholes and was excellent in light shielding properties. And it had insulation between the 1st transparent electrode pattern and the 2nd transparent electrode pattern. Furthermore, an image display device having excellent display characteristics was obtained.
  • bubbles For the image display device, bubbles were evaluated according to the following criteria. G: Observed with an optical microscope, and there are no bubbles in the frame area. NG: Observed with an optical microscope, there are bubbles in the frame area.
  • the image display device was evaluated for conductivity according to the following criteria. G: There is no problem in the continuity of each of the first transparent electrode pattern, the second transparent electrode pattern, and another conductive element. NG: There is a problem in the continuity of each of the first transparent electrode pattern, the second transparent electrode pattern, and another conductive element.
  • the appearance of the image display device was evaluated according to the following criteria. G: 10 or less people visually observed, and 2 or less people were concerned about the linearity of the frame edge. NG: 10 or more people visually observed and 3 or more people concerned about the linearity of the frame edge.
  • the colored pattern of the present invention produced using the non-alkali developed coloring composition or the non-alkali developed colored transfer material of the present invention has good cross-sectional shape, surface smoothness, and linearity of the linear portion. I found out. In addition, it was found that the image display device of the present invention is suppressed in the generation of bubbles, the conductivity of the transparent electrode is good, and the appearance is also good.
  • the colored pattern of Comparative Example 1 produced using the non-alkali development type colored transfer material of Comparative Example 1 using acrylic resin instead of silicone resin has a large taper angle, a poor cross-sectional shape, and a large step.
  • the surface smoothness is poor (and there are many steps), and the image display device manufactured by using the colored pattern of Comparative Example 1 having such performance causes the generation of bubbles, the disconnection of the transparent electrode, and the conductivity. It was bad and the appearance was poor. Further, the coloring pattern of Comparative Example 2 produced using the non-alkaline development type color transfer material of Comparative Example 2 to which no polymerizable compound was added had poor linearity at the straight portion, and Comparative Example 2 having such performance. It was found that the image display device manufactured using this coloring pattern was poor in appearance.

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Abstract

 非アルカリ現像型着色組成物は、黒色顔料と、シリコーン樹脂と、重合性化合物を含み、前記重合性化合物がモノマーまたはオリゴマーであり、かつ、分子内に-Si-O-Si-結合を有さないことを特徴とする。非アルカリ現像型着色転写材料は、仮支持体と、該仮支持体上に設けられた本発明の非アルカリ現像型着色組成物を含む非アルカリ現像型着色組成物層とを含むことを特徴とする。着色パターンは、本発明の非アルカリ現像型着色組成物を用いて、作製されてなることを特徴とする。静電容量型入力装置は、本発明の着色パターンを含むことを特徴とする。

Description

非アルカリ現像型着色組成物、非アルカリ現像型着色転写材料、着色パターン、静電容量型入力装置および画像表示装置
 本発明は、非アルカリ現像型着色組成物、非アルカリ現像型着色転写材料および着色パターンに関し、さらに前記着色パターンを含む静電容量型入力装置(指の接触位置を静電容量の変化として検出可能な静電容量型入力装置)および当該静電容量型入力装置を備える画像表示装置に関するものである。
 近年、液晶表示装置において、さらなる軽量化、薄型化が求められており、カラーフィルタにおいては、十分な開口率で、十分な色純度及び高コントラストを維持しつつ、微細なパターンを有する着色層及びブラックマトリクスを精度良くパターン加工し得る感光性樹脂組成物が望まれている。また、液晶表示装置のバックライトの輝度が向上し、液晶表示装置の額縁部からバックライトの光が漏れるという課題がある。ブラックマトリクスとしては、そのような光漏れを防ぐべく、遮光性向上が求められている。
 ブラックマトリクスの遮光性を向上させて段差(厚み)を低くする目的で、組成物中に含まれるカーボンブラックなどの遮光成分の含有量を多くする試みがなされている。しかしながら、遮光成分の含有量を多くする方法においては、感度低下に加え、現像性、解像性、ブラックマトリクスのパターン形状に問題があった。すなわち、パターン形状変化など、特性が悪化する問題があった。
 遮光性向上は着色剤濃度を上げることで達成できるが、上記した、従来公知の着色感光性樹脂組成物では、着色剤の濃度を上げると、画素のパターン形状がオーバーハングと呼ばれる逆テーパー形状となり、形状が著しく悪化し、次工程での塗工ムラが発生し、その結果、品質や歩留まりの低下を招いていた。また着色剤濃度を上げずに膜厚を厚くすることによっても遮光性を向上することは可能だが、研磨や保護膜等、平坦化工程が必要となり、コストアップの原因となっていた。
 一方、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、銀行の端末などの電子機器では、近年、液晶装置などの表面にタッチパネル型の入力装置が配置され、液晶装置の画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所に指またはタッチペンなどを触れることで、指示画像に対応する情報の入力が行えるものがある。
 このような入力装置(タッチパネル)には、抵抗膜型、静電容量型などがある。静電容量型の入力装置は、単に一枚の基板に透光性導電膜を形成すればよいという利点がある。
 このような静電容量型の入力装置においては、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲に加飾層として黒色の額縁を設けることがある。静電容量型入力装置を製造するときには、加飾層を形成した後の工程においてITO透明電極パターンを蒸着などにより形成するが、加飾層の断面が逆テーパー形状であったり、表面凹凸が大きかったりすると、ITO透明電極の断線や、気泡混入の問題が生じることがあった。また、指またはタッチペンなどで触れる領域の周囲の額縁として使用される加飾層は画像表示部に近接していることが多いために目立ちやすく、加飾材の枠内部の直線部にはシャープな直線性が、外観品質を高める観点から求められている。
 このような状況のもと、特許文献1~6には、さまざまな着色組成物が開示されている。例えば、特許文献1には、カーボンブラックと、シリコーン微粒子と、ネガ型の光硬化型ポリイミドを添加した光硬化性黒色インキ反発性樹脂溶液が開示されており、画素を形成するための着色インキに対して後退接触角を有する遮光領域を形成しているが、モノマーまたはオリゴマーである重合性化合物を添加することは記載されていない。
 特許文献2には、有機溶媒、着色材、シリコーン樹脂、を含むインク組成物が開示されているが、モノマーまたはオリゴマーである重合性化合物を添加することは記載されていない。
 特許文献3には、カーボンブラックと、エポキシ基を有するジメチルポリシロキサンまたはシリコーンゴムを有する組成物が開示されているが、分子内に-Si-O-Si-結合を有さない重合性化合物を添加することは記載されていない。
 特許文献4には、カーボンブラックと、オキサゾリン基およびポリアルキレンオキサイド基を側鎖に有するビニル重合ポリマーを含むグラフト化カーボンブラック分散体と、アミノ変性シリコーンを含むインクジェット印刷用インク組成物が開示されているが、モノマーまたはオリゴマーである重合性化合物を添加することは記載されていない。
 特許文献5には、ポリシロキサンと、ラジカル重合性基を有し、-Si-O-Si-結合を含有しない化合物を含むシロキサン樹脂組成物およびそれを用いたタッチパネル用保護膜が記載されているが、着色剤を含有させることは記載されておらず、金属化合物粒子は硬化膜の屈折率の調整を前提として添加している。
 特許文献6には、カーボンブラック、バインダー樹脂、エチレン性不飽和結合を有する化合物などを有する黒色アルカリ現像型感光性樹脂組成物が開示されているが、非アルカリ現像型の着色組成物は記載されていない上、バインダー樹脂としてシリコーン樹脂を用いることも記載されていない。
特開平7-35917号公報 特表平10-513209号公報 特開平9-244237号公報 特開平11-279468号公報 国際公開WO2010/061744号 特開2010-145459号公報
 しかしながら、上記特許文献1~6に記載の組成物は、断面形状、表面平滑性および直線部の直線性が良好である着色パターンを作製する観点からは不満が残るものであった。特に、黒色顔料を含む組成物は露光時に光源の反対側の部分まで光が届きにくく、順テーパーの形状とすることが難しいものであった。
 本発明の目的は上記問題を解決することにある。すなわち、本発明が解決しようとする課題は、断面形状、表面平滑性および直線部の直線性が良好である着色パターンを作製することができる、非アルカリ現像型着色組成物を提供することにある。
 上記課題を解決するために本発明者らが鋭意検討した結果、黒色顔料と、シリコーン樹脂と、特定の構造の重合性化合物を含む非アルカリ現像型着色組成物を用いることで、断面形状、表面平滑性および直線部の直線性が良好である着色パターンを作製することができることを見出すに至った。
 すなわち、上記課題を解決するための具体的手段である本発明は以下のとおりである。
[1] 非アルカリ現像型着色組成物は、黒色顔料と、シリコーン樹脂と、重合性化合物とを含み、重合性化合物がモノマーまたはオリゴマーであり、かつ、分子内に-Si-O-Si-結合を有さないことを特徴とする。
[2] [1]に記載の非アルカリ現像型着色組成物は、黒色顔料が、カーボンブラックまたはチタンブラックであることが好ましい。
[3] [1]または[2]に記載の非アルカリ現像型着色組成物は、黒色顔料が表面被覆されたことが好ましい。
[4] [1]~[3]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色組成物は、非アルカリ現像型着色組成物中の黒色顔料の含有割合(a)とシリコーン樹脂の含有割合(b)の質量比率が、下記式(1)を満たすことが好ましい。
式(1)  0.33≦(a)/(b)≦10
[5] [1]~[4]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色組成物は、シリコーン樹脂がカルボキシル基、ラジカル重合性基およびアミノ基をいずれも有さないことが好ましい。
[6] [1]~[5]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色組成物は、重合性化合物がカルボキシル基を有さないことが好ましい。
[7] [1]~[6]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色組成物は、重合性化合物が(メタ)アクリル基を4つ以上有することが好ましい。
[8] [1]~[7]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色組成物は、さらに光重合開始剤または熱重合開始剤を含むことが好ましい。
[9] 非アルカリ現像型着色転写材料は、仮支持体と、仮支持体上に設けられた[1]~[8]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色組成物を含む非アルカリ現像型着色組成物層とを含むことを特徴とする。
[10] [9]に記載の非アルカリ現像型着色転写材料は、仮支持体と非アルカリ現像型着色組成物層との間に熱可塑性樹脂層を設けたことが好ましい。
[11] [9]または[10]に記載の非アルカリ現像型着色転写材料は、少なくとも非アルカリ現像型着色組成物層がパターンを有することが好ましい。
[12] [9]~[11]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色転写材料は、非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有することが好ましい。
[13] 着色パターンは、[1]~[8]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色組成物を用いて作製されてなることを特徴とする。
[14] また着色パターンは、[9]~[12]のいずれか一つに記載の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて作製されてなることを特徴とする。
[15] [14]に記載の着色パターンは、パターンを有する基板上に着色パターンを形成するときに、非アルカリ現像型着色転写材料の全体が有するパターンが、パターンを有する基板のうち少なくとも外周部のパターンに合致することが好ましい。
[16] 静電容量型入力装置は、[13]~[15]のいずれか一つに記載の着色パターンを含むことを特徴とする。
[17] [16]に記載の静電容量型入力装置は、前面板と、前面板の非接触面側に少なくとも下記(1)~(4)の要素を有し、(1)加飾層として着色パターンを含むことが好ましい。
(1)加飾層
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
(4)第一の透明電極パターンと第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
[18] 画像表示装置は、[16]または[17]に記載の静電容量型入力装置を備えることを特徴とする。
 本発明によれば、断面形状、表面平滑性および額縁の直線性が良好である着色パターンを作製することができる、非アルカリ現像型着色組成物を提供することができる。
本発明の非アルカリ現像型着色転写材料の一例の概略図である。 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料の一例の断面を示した概略図である。 枠内部などを打ち抜かれた非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有する本発明の非アルカリ現像型着色転写材料の一例の概略図である。 枠内部などを打ち抜かれた非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有する本発明の非アルカリ現像型着色転写材料の一例の断面を示した概略図である。 枠内部などを打ち抜かれた非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有する本発明の非アルカリ現像型着色転写材料の他の一例の断面を示した概略図であり、仮支持体を取り除いた状態を表す概略図である。 枠内部などを打ち抜かれた非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有する本発明の非アルカリ現像型着色転写材料を、基材に転写した後の態様の一例の概略図である。 枠内部などを打ち抜かれた非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有する本発明の非アルカリ現像型着色転写材料を、基材に転写した後、仮支持体を取り除いた後の態様の一例の概略図である。 本発明の着色パターンの一例の概略図である。 本発明の着色パターンの一例の断面を示した概略図である。 本発明の着色パターンの一例の概略図でありにおいて、寸法の測定方法を表した概略図である。 本発明の静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。 前面板の一例を示す説明図である。 第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。 開口部が形成された強化処理ガラスの一例を示す上面図である。 加飾層が形成された前面板の一例を示す上面図である。 第一の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。 第一および第二の透明電極パターンが形成された前面板の一例を示す上面図である。 第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素が形成された前面板の一例を示す上面図である。 金属ナノワイヤー断面を示す説明図である。 本発明の着色パターンの一例の断面をSEM観察した写真であり、(A)は断面の垂線方向から観察したSEM写真であり、(B)は斜め方向から観察したSEM写真である。 比較例2の着色パターンの断面をSEM観察した写真であり、(A)は断面の垂線方向から観察したSEM写真であり、(B)は斜め方向から観察したSEM写真である。
 以下、本発明の非アルカリ現像型着色組成物、非アルカリ現像型着色転写材料、着色パターン、静電容量型入力装置および画像表示装置について説明する。
 以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
[非アルカリ現像型着色組成物]
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物は、黒色顔料と、シリコーン樹脂と、重合性化合物を含み、前記重合性化合物がモノマーまたはオリゴマーであり、かつ、分子内に-Si-O-Si-結合を有さないことを特徴とすることを特徴とする。
 このような構成の非アルカリ現像型着色組成物を用いることで、断面形状、表面平滑性および額縁の直線性が良好である着色パターンを作製することができる。
<組成>
(黒色顔料)
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物は、黒色顔料を含む。
 黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、チタンブラック、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックまたはチタンブラックが好ましく、カーボンブラックがより好ましい。
 前記黒色顔料は、表面被覆された黒色顔料が好ましい。表面被覆の方法としては特に制限はなく、表面被覆用の材料としても特に制限はない。前記黒色顔料の表面はシリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、有機物処理及びそれらを併用することができる。
 これにより本発明の非アルカリ現像型着色組成物を用いて作製した着色パターンの表面平滑性を高めることができる。
 前記黒色顔料はこれらの中でも、有機物処理された黒色顔料が好ましく、具体的にはシランカップリング剤、エポキシ樹脂やアクリル樹脂などのポリマーで被覆されたことがより好ましい。
 表面被覆された黒色顔料としては、公知のものを用いることができる。また、商業的に入手しても、合成してもよく、商業的に入手する場合は、例えば、MA100R(三菱化学株式会社製)などを好ましく用いることができ、合成する場合は、例えば、特開平11-60988に記載の方法などを好ましく用いることができる。
 前記黒色顔料は、分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記黒色顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する有機溶媒またはビヒクルに添加して分散させることによって調製することができる。前記ビビクルとは、塗料が液体状態にある時に顔料を分散させている媒質の部分をいい、液状であって前記黒色顔料と結合して塗膜を形成する成分(バインダー)と、これを溶解希釈する成分(有機溶媒)とを含む。
 前記黒色顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、2000年、438項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献310頁記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。
 本発明で用いる黒色顔料は、分散安定性の観点から、数平均粒径が0.001μm~0.2μmの黒色顔料が好ましく、更に0.01μm~0.15μmの黒色顔料が好ましい。尚、ここで言う「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について前記の粒径を求め、このうち、任意に選択する100個の粒径の平均値をいう。
(シリコーン樹脂)
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物は、シリコーン樹脂を含む。本発明の非アルカリ現像型着色組成物はアルカリ現像を必要としないため、シリコーン樹脂を用いることができ、断面形状、表面平滑性および直線部の直線性が良好である着色パターンを作製することができる。また、着色パターンの耐熱性も高めることができる。
 前記シリコーン樹脂として公知のものが使用できる。例えば、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジン、ポリエステル樹脂変性シリコーンレジン、エポキシ樹脂変性シリコーンレジン、アルキッド樹脂、変性シリコーンレジン及びゴム系のシリコーンレジン等が使用できる。
 ここで、本発明の非アルカリ現像型着色転写材料は、前記非アルカリ現像型着色組成物層が光硬化性樹脂と光重合開始剤の組み合わせによる光硬化を必須とするものではなく、前記非アルカリ現像型着色組成物層は光硬化性樹脂や光重合開始剤を含んでいても含んでいなくてもよい。また、熱硬化性であってもよい。
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物では、前記シリコーン樹脂がカルボキシル基、ラジカル重合性基およびアミノ基をいずれも有さないことが、好ましい。
 より好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジン、アクリル樹脂変性シリコーンレジンであり、特に好ましいのは、メチル系ストレートシリコーンレジン、メチルフェニル系ストレートシリコーンレジンである。これらのシリコーン樹脂は単独で使用しても2種以上を併用してもよく、メチル系ストレートシリコーンレジンおよびメチルフェニル系ストレートシリコーンレジンの併用が好ましく、これらを任意の比率で混合することにより膜物性を制御できる。
 前記シリコーン樹脂としては、公知のものを用いることができる。また、商業的に入手しても、合成してもよく、商業的に入手する場合は、例えば、KR-311、KR-300(ともに信越化学工業(株)製)などを好ましく用いることができる。
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物は、非アルカリ現像型着色組成物中の前記黒色顔料の含有割合(a)と前記シリコーン樹脂の含有割合(b)の質量比率が、下記式(1)を満たすことが好ましい。
式(1)  0.33≦(a)/(b)≦10
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物を用いて作製した着色パターンの(額縁の)直線部の直線性を高める観点から、(a)/(b)の質量比率が0.33以上であることが好ましく、0.5以上であることが好ましく、1以上であることがより好ましい。
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物を用いて作製した着色パターンの表面平滑性を高める観点から、(a)/(b)の質量比率が10以下であることが好ましく、5以下であることがより好ましく、4以下であることが特に好ましい。
(重合性化合物)
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物は、重合性化合物を含み、前記重合性化合物がモノマーまたはオリゴマーであり、かつ、分子内に-Si-O-Si-結合を有さないことを特徴とする。
 前記重合性化合物はモノマーまたはオリゴマーであり、モノマーまたはオリゴマーである重合性化合物は、ポリマーに重合性基を有する化合物に比べて、断面形状がより緩やかである点で好ましい。
 前記重合性化合物の分子量は200~3000であることが好ましく、300~2000であることがより好ましく、350~1500であることが特に好ましい。
 前記重合性化合物は分子内に-Si-O-Si-結合を有さず、例えば、シリコーン樹脂が重合性基を有する化合物は、本発明における前記重合性化合物には該当しない。分子内に-Si-O-Si-結合を有さない重合性化合物は、-Si-O-Si-結合と炭素-炭素二重結合を有する重合性化合物に比べて、本発明の非アルカリ現像型着色組成物を用いて作製された非アルカリ現像型着色転写材料のしなやかさの観点で好ましい。
 前記重合性化合物は、例えば特開2008-256735号公報に挙げられる重合性化合物を選んで用いることができる。
 重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれる。このような化合物群は当該産業分野において広く知られるものであり、本発明においては前記重合性化合物のうち、モノマーまたはオリゴマーであり、かつ、分子内に-Si-O-Si-結合を有さないものを用いることができる。これらは、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、又はそれらの混合物などの化学的形態をもつ。モノマーの例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)や、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能イソシアネート類或いはエポキシ類との付加反応生成物、及び単官能若しくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応生成物等も好適に使用される。また、イソシアネート基や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル或いはアミド類と、単官能若しくは多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
 脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4-シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、イソシアヌール酸EO(エチレンオキサイド)変性トリアクリレート等がある。
 メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3-ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス-〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
 イタコン酸エステルとして、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3-ブタンジオールジイタコネート、1,4-ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。
 その他のエステルの例として、例えば、特公昭51-47334、特開昭57-196231記載の脂肪族アルコール系エステル類や、特開昭59-5240、特開昭59-5241、特開平2-226149記載の芳香族系骨格を有するもの、特開平1-165613記載のアミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。更に、前述のエステルモノマーは混合物としても使用することができる。
 また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス-アクリルアミド、メチレンビス-メタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-アクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビス-メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例としては、特公昭54-21726記載のシクロへキシレン構造を有すものを挙げることができる。
 また、特開昭51-37193号、特公平2-32293号、特公平2-16765号に記載されているようなウレタンアクリレート類や、特公昭58-49860号、特公昭56-17654号、特公昭62-39417号、特公昭62-39418号記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適である。更に、特開昭63-277653号、特開昭63-260909号、特開平1-105238号に記載される、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付加重合性化合物類を用いることによって、感光スピードが非常に優れた光重合性組成物を得ることができる。
 その他の例としては、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。また、特公昭46-43946号、特公平1-40337号、特公平1-40336号記載の特定の不飽和化合物や、特開平2-25493号記載のビニルホスホン酸系化合物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開昭61-22048号記載のペルフルオロアルキル基を含有する構造が好適に使用される。更に日本接着協会誌vol.20、No.7、300~308ページ(1984年)に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。
 これらの重合性化合物について、その構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、最終的な感材の性能設計にあわせて任意に設定できる。例えば、次のような観点から選択される。
 感度の点では1分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多くの場合、2官能以上が好ましい。また、画像部すなわち硬化膜の強度を高くするためには、3官能以上のものがよく、更に、異なる官能数・異なる重合性基(例えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン系化合物、ビニルエーテル系化合物)の重合性化合物を併用することで、感度と強度の両方を調節する方法も有効である。硬化感度の観点から、(メタ)アクリル酸エステル構造を2個以上含有する化合物を用いることが好ましく、3個以上含有する化合物を用いることがより好ましく、4個以上含有する化合物を用いることが最も好ましい。また、硬化感度、および、未露光部の現像性の観点では、EO変性体を含有することが好ましい。また、硬化感度、および、露光部強度の観点ではウレタン結合を含有することが好ましい。
 また、前記着色層中の他の成分(例えばバインダー樹脂、重合開始剤、色材(顔料、染料等)との相溶性、分散性に対しても、前記重合性化合物の選択・使用法は重要な要因であり、例えば、低純度化合物の使用や、2種以上の併用により相溶性を向上させうることがある。また、基材や後述のオーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の構造を選択することもあり得る。
 以上の観点より、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールAジアクリレートEO変性体、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートEO変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートEO変性体などが好ましいものとして挙げられ、また、市販品としては、ウレタンオリゴマーUAS-10、UAB-140(山陽国策パルプ社製)、DPHA(日本化薬社製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共栄社製)が好ましい。
 中でも、ビスフェノールAジアクリレートEO変性体、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートEO変性体、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートEO変性体などが、市販品としては、DPHA(日本化薬社製)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共栄社製)がより好ましい。
 更には、前記重合性化合物として好ましくは、エチレン性不飽和二重結合を2個以上有し、光の照射によって付加重合するモノマー又はオリゴマーである。
 このようなモノマー及びオリゴマーとしては、分子中に少なくとも1個の付加重合可能なエチレン性不飽和基を有し、沸点が常圧で100℃以上の化合物が挙げられる。その例としては、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート及びフェノキシエチル(メタ)アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート;ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)シアヌレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシド又はプロピレンオキシドを付加した後(メタ)アクリレート化した化合物等の多官能アクリレートや多官能メタクリレートを挙げることができる。
 また、酸性多官能光硬化性化合物も前記重合性化合物として好ましい化合物である。
 酸性多官能光硬化性化合物としては、(1)水酸基と共に3つ以上の光硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマーを二塩基酸無水物で変性することによりカルボキシル基を導入した化合物、(2)水酸基と共に3つ以上の光硬化性官能基を有するモノマー又はオリゴマーに、グリシジル基もしくはイソシアネート基とCOOH基とを併せ持つ化合物等を付加することによってカルボキシル基を導入した化合物、あるいは(3)3つ以上の光硬化性官能基を有する芳香族化合物を濃硫酸や発煙硫酸で変性することによりスルホン酸基を導入した化合物等を用いることができる。また、酸性多官能光硬化性化合物そのものであるモノマーを繰返し単位として含むオリゴマーを、酸性多官能光硬化性化合物として用いてもよい。
 酸性多官能光硬化性化合物の例としては、下記一般式(i)、一般式(ii)で表されるものが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 前記一般式(i)中、Rは(メタ)アクリロイロキシ基を表し、Xは-COOH基、-OPO基を表す。Tはオキシアルキレン基を表し、ここでアルキレン基の炭素数は1~4である。nは0~20である。
 前記一般式(ii)中、Wは一般式(i)におけるR又はXを表し、6個のWのうち、3個以上のWがRである。Gは一般式(i)におけるTと同義である。Zは-O-もしくは、-OC=ONH(CH)qNHCOO-を表す。pは0~20であり、qは1~8である。一分子内に複数存在するR、X、T、Gは、各々同一であっても、異なっていても良い。
 なお、一般式(i)及び一般式(ii)において、T又はGが表すオキシアルキレン基は、炭素原子側の末端がR、XまたはWに結合する。
 前記一般式(i)及び(ii)で表される酸性多官能光硬化性化合物の市販品としては、例えば、東亞合成株式会社製のカルボキシル基含有3官能アクリレートであるTO-756、及びカルボキシル基含有5官能アクリレートであるTO-1382などが挙げられる。
 更に特公昭48-41708号公報、特公昭50-6034号公報及び特開昭51-37193号公報に記載されているウレタンアクリレート類;特開昭48-64183号公報、特公昭49-43191号公報及び特公昭52-30490号公報に記載されているポリエステルアクリレート類;エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレー卜やメタクリレートを挙げることができる。
 前記重合性化合物が(メタ)アクリル基を4つ以上有することが好ましい。
 これらの中で、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、上記カルボキシル基含有5官能アクリレートなどが好ましい。また、この他、特開平11-133600号公報に記載の「重合性化合物B」も好適なものとして挙げることができる。
 前記重合性化合物の本発明の非アルカリ現像型着色組成物中における含有量は、本発明の非アルカリ現像型着色組成物の全固形分に対して、5~50質量%であることが好ましく、7~40質量%であることがより好ましく、10~35質量%であることが更に好ましい。
(重合開始剤)
 前記非アルカリ現像型着色組成物には、重合性化合物を添加した場合に、それを積極的に重合するための重合開始剤を添加することができる。重合開始剤は、可視光領域に吸収を持っており、加飾材料に望まぬ着色をすることがある。よって、重合開始剤を加飾材料に添加する場合は、その色味に応じて開始剤を選抜する必要がある。
 本発明に好ましく用いることが出来る重合開始剤は、光重合開始剤(例えば特開2008-256735号に記載してある光重合開始剤)や熱重合開始剤を挙げることが出来る。
--光重合開始剤--
 前記非アルカリ現像型着色組成物に用いられる前記光重合開始剤としては、特開2011-95716号公報に記載の段落0031~0042に記載の光重合開始剤を用いることができる。
(その他の添加剤)
 前記非アルカリ現像型着色組成物は、その他の添加剤を含んでいてもよい。前記非アルカリ現像型着色組成物がネガ型材料である場合、前記非アルカリ現像型着色組成物には、界面活性剤、重合禁止剤(熱重合防止剤)を含むことが好ましい。
--界面活性剤--
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物は、界面活性剤を含むことが好ましい。前記界面活性剤としては、例えば特許第4502784号公報の段落0017、特開2009-237362号公報の段落0060~0071に記載の界面活性剤などを挙げることができる。その中でも、フッ素系界面活性剤が好ましい。
--重合禁止剤--
 本発明の非アルカリ現像型着色組成物は、重合禁止剤を含むことが好ましい。前記重合禁止剤としては、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤などを挙げることができる。
--その他の添加剤--
 さらに、本発明の非アルカリ現像型着色組成物に用いることができる添加剤としては、特開2000-310706号公報の段落0058~0071に記載のその他の添加剤が挙げられる。
(溶剤)
 また、本発明の非アルカリ現像型着色組成物の溶剤としては、特開2011-95716号公報の段落0043~0044に記載の溶剤を用いることができる。
[非アルカリ現像型着色転写材料]
 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料は、仮支持体と、該仮支持体上に設けられた本発明の非アルカリ現像型着色組成物を含む非アルカリ現像型着色組成物層とを含むことを特徴とする。
 このような構成を有する非アルカリ現像型着色転写材料を用いて着色パターン(例えば、静電容量型入力装置の加飾層)を形成することで、転写後の断面形状、表面平滑性および直線部の直線性が良好である着色パターンを作製することができる。
<非アルカリ現像型着色転写材料の構成>
 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料は、前記仮支持体と前記非アルカリ現像型着色組成物層との間に熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。
(仮支持体)
 仮支持体としては、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じない材料を用いることができる。このような仮支持体の例として、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられ、中でも2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。
 仮支持体の厚みには、特に制限はなく、5~200μmの範囲が一般的であり、取扱い易さ、汎用性などの点で、特に10~150μmの範囲が好ましい。
 また、仮支持体は透明でもよいし、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有していてもよい。
 また、仮支持体には、特開2005-221726号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。
(非アルカリ現像型着色組成物層)
 前記非アルカリ現像型着色組成物層は、本発明の非アルカリ現像型着色組成物を、公知の方法で仮支持体上に製膜することにより形成することができる。
 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料は、少なくとも前記非アルカリ現像型着色組成物層がパターンを有することが好ましい。
 黒色顔料を含む非アルカリ現像型着色組成物層の層厚は、他層との厚み差の観点から、0.5~10μmが好ましく、0.8~5μmが更に好ましく、1~3μmが特に好ましい。非アルカリ現像型着色組成物の固形分中の黒色顔料の含有率としては、特に制限はないが、良好な断面形状、表面平滑性、直線部の直線性を維持する観点から、15~70質量%であることが好ましく、20~60質量%であることがより好ましく、25~50質量%であることが更に好ましい。
 本明細書でいう全固形分とは非アルカリ現像型着色組成物などの組成物から溶剤等を除いた不揮発成分の総質量を意味する。
(熱可塑性樹脂層)
 非アルカリ現像型着色転写材料は、仮支持体と非アルカリ現像型着色組成物層との間に熱可塑性樹脂層が設けられることが好ましい。また、前記熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性であることが好ましい。熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸(既に形成されている画像などによる凹凸等も含む。)を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであり、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
 熱可塑性樹脂層は、特開平5-72724号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー(Vicat)法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーASTMD1235によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも1種を含む態様が特に好ましい。
 具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレンと酢酸ビニルまたはそのケン化物等とのエチレン共重合体、エチレンとアクリル酸エステルまたはそのケン化物との共重合体、ポリ塩化ビニルや塩化ビニルと酢酸ビニルまたはそのケン化物等との塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、スチレンと(メタ)アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのスチレン共重合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステルまたはそのケン化物等とのビニルトルエン共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との(メタ)アクリル酸エステル共重合体、酢酸ビニル共重合体ナイロン、共重合ナイロン、N-アルコキシメチル化ナイロン、N-ジメチルアミノ化ナイロン等のポリアミド樹脂などの有機高分子が挙げられる。
 熱可塑性樹脂層の層厚は、3~30μmが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚が3μm未満の場合には、ラミネート時の追随性が不十分で、下地表面の凹凸を完全に吸収できないことがある。また、層厚が30μmを超える場合には、仮支持体への熱可塑性樹脂層の形成時の乾燥(溶剤除去)に負荷がかかったり、熱可塑性樹脂層の現像に時間を要したりし、プロセス適性を悪化させることがある。前記熱可塑性樹脂層の層厚としては、4~25μmが更に好ましく、5~20μmが特に好ましい。
 熱可塑性樹脂層は、熱可塑性の有機高分子を含む調製液を塗布等して形成することができ、塗布等の際に用いる調製液は溶媒を用いて調製できる。溶媒には、熱可塑性樹脂層を構成する高分子成分を溶解し得るものであれば特に制限なく、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、n-プロパノール、2-プロパノール等が挙げられる。
(他の層)
 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料には、非アルカリ現像型着色組成物層と熱可塑性樹脂層との間に中間層を設けたり、あるいは非アルカリ現像型着色組成物層の表面に保護フィルム(以下、「保護剥離層」または「カバーフィルム」とも言う。)などを更に設けたりして好適に構成することができる。
 本発明で用いる非アルカリ現像型着色転写材料には、複数層を塗布する際および塗布後の保存の際における成分の混合を防止する目的で、中間層を設けることが好ましい。中間層としては、特開平5-72724号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断膜が好ましく、露光時の感度がアップし、露光機の時間負荷を低減し得、生産性が向上する。
 前記中間層および保護フィルムとしては、特開2006-259138号公報の段落0083~0087および0093に記載の中間層および保護フィルムを適宜使用することができる。
<非アルカリ現像型着色転写材料の作製方法>
(非アルカリ現像型着色転写材料の積層方法)
 非アルカリ現像型着色転写材料は、特開2006-259138号公報の段落0094~0098に記載の感光性転写材料の作製方法に準じて作製することができる。
 具体的に中間層を有する感光性フィルムを形成する場合には、仮支持体上に、熱可塑性の有機高分子と共に添加剤を溶解した溶解液(熱可塑性樹脂層用塗布液)を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を設けた後、この熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤に樹脂や添加剤を加えて調製した調製液(中間層用塗布液)を塗布し、乾燥させて中間層を積層し、この中間層上に更に、中間層を溶解しない溶剤を用いて調製した非アルカリ現像型着色組成物層用塗布液を塗布し、乾燥させて非アルカリ現像型着色組成物層を積層することによって、好適に作製することができる。さらに、形成された前記非アルカリ現像型着色組成物層を前記保護剥離層で覆う工程を有することが好ましい。
 ここで、非アルカリ現像型着色組成物層は2層以上形成してもよい。また、非アルカリ現像型着色組成物層の形成前に、熱可塑性樹脂層及び/又は中間層(酸素遮断層)を塗布形成してもよい。
 仮支持体上に、前記非アルカリ現像型着色組成物層用塗布液、前記熱可塑性樹脂層用塗布液、前記中間層用塗布液形成用塗布液を塗布する方法としては公知の塗布方法を用いることができる。例えば、スピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等の塗布機を用いて、上記塗布液を塗布し、乾燥させることにより形成できる。
 前記保護剥離層で前記非アルカリ現像型着色組成物層を覆う方法としては特に限定はないが、仮支持体上の非アルカリ現像型着色組成物層に前記保護剥離層を重ね、圧着する方法を用いることができる。
 圧着には、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるニップローラーを使用することができる。
 前記圧着の条件としては、雰囲気温度20~45℃、線圧1000~10000N/mが好ましい。
(パターンを有する非アルカリ現像型着色転写材料の製造方法)
 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料は、少なくとも前記非アルカリ現像型着色組成物層がパターンを有することが好ましく、前記非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有することがより好ましい。このようなパターンを有する非アルカリ現像型着色転写材料の製造方法としては特に制限はないが、以下の方法が好ましい。
 パターンを有する非アルカリ現像型着色転写材料の作製方法としては、(A)仮支持体および前記非アルカリ現像型着色組成物層を含む非アルカリ現像型着色転写材料に対して、少なくとも前記非アルカリ現像型着色組成物層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程と、(B)前記非アルカリ現像型着色転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記非アルカリ現像型着色組成物層を取り除く工程を含むことが、高い生産性で、着色パターン(加飾材)の直線部の直線性が高い着色パターンや、該着色パターンを用いた静電容量型入力装置を製造することができる観点から好ましい。
 図1および図2に、仮支持体および非アルカリ現像型着色組成物層を含む非アルカリ現像型着色転写材料の構成を具体的に示す。なお、図1~図9には、図1に示した仮支持体および非アルカリ現像型着色組成物層を含む非アルカリ現像型着色転写材料から、1枚の着色パターン付き基板を製造する場合について説明するが、本発明はこれらの具体的な説明によって限定されるものではない。本発明では、非アルカリ現像型着色転写材料から、着色パターンを、パターンを有する基板上に形成するときに、前記非アルカリ現像型着色転写材料の全体が有するパターンが、前記パターンを有する基板のうち少なくとも外周部のパターンに合致することが生産性の観点から好ましく、前記パターンを有する基板が配線取出し部などの開口部を有するときは配線取出し部などの開口部のパターンにも合致することがより好ましい。
 図1は、仮支持体および非アルカリ現像型着色組成物層24を含む非アルカリ現像型着色転写材料30を、非アルカリ現像型着色組成物層24側から見た概略図である。前記(A)工程では、非アルカリ現像型着色組成物層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを、例えば図1の点線部に入れることができる。
 前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みは、後述する基板がパターンを有する場合、その基板のパターンに合致した形状のパターンを有する非アルカリ現像型着色転写材料が形成されるように入れることが好ましい。特に、前記基板が、パターンを有するガラス基板である場合、前記非アルカリ現像型着色転写材料をガラス基板に転写した後に、パターンを有するガラス基板外周部を打ち抜かないため、パターンを有するガラス基板外周部の形状にあわせて予め前記非アルカリ現像型着色転写材料の枠外部にも前記(A)工程で切り込みを入れることが好ましい。
 図2に、図1に示した非アルカリ現像型着色転写材料のX1-X1’における断面概略図を示す。
 図2は、仮支持体26の上に、後述する熱可塑性樹脂層27、中間層28、非アルカリ現像型着色組成物層24および保護剥離層29が積層された非アルカリ現像型着色転写材料30の態様である。なお、非アルカリ現像型着色組成物層は2層以上の積層体であってもよい。
-(A)工程:直線部分を有する切り込みを入れる方法-
 前記(A)仮支持体および非アルカリ現像型着色組成物層を含む非アルカリ現像型着色転写材料に対して、少なくとも着色層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込みを入れる工程の方法としては、特に制限はなく、切り込みの深さも特に制限はない。
 パターンを有する非アルカリ現像型着色転写材料の製造方法は、前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みを、面内方向に4カ所以上直線部分(本明細書中、「直線部分」とは直線状の部分を意味し、線分と同義である)を有するように入れることが好ましい。なお、前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みは、「大半径の円弧」や「正弦波」で構成することもできるが、特に直線部分を有する切り込みを入れるときに有用である。
 前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みを入れる方法としては特に制限はないが、トムソン刃加工またはレーザー光加工から選ばれる方法で入れることが好ましい。
 前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みの深さとしては、(A-1)前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みを前記非アルカリ現像型着色転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れてもよく、(A-2)前記非アルカリ現像型着色組成物層を貫通し、かつ前記仮支持体を貫通しない深さの切り込みを入れてもよい。
 (A-1)前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みを前記非アルカリ現像型着色転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることを打ち抜きともいう。なお、前記打ち抜きを(A)工程で行う場合は、後述の(B)前記非アルカリ現像型着色転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記非アルカリ現像型着色組成物層を取り除く工程も同時に行われることが好ましい。なお、打ち抜きと非アルカリ現像型着色組成物層の除去を同時に行うことを、くり抜きとも言う。
 一方、(A-2)前記非アルカリ現像型着色組成物層を貫通し、かつ前記仮支持体を貫通しない深さの切り込みを入れることをハーフカットともいう。
 これらの中でも、(A-1)前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みを、前記非アルカリ現像型着色転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れることが好ましい。
--打ち抜き方法--
 前記非アルカリ現像型着色転写材料の打ち抜きには、公知の手段を用いることが出来る。
 機械式打ち抜き方法としては、例えば、トムソン刃による平抜き、ダイカットロールによる円筒抜きが挙げられる。
 光学式打ち抜き方法としては、COレーザーカッターを上げることができる。
 また、枚葉式でも連続式(ロールトゥロール式)でもよい。
 機械式打ち抜き方法に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 L-CPNC550などを挙げることができる。
--ハーフカット方法--
 前記ハーフカット方法において切り込みを入れる方法としては特に制限は無く、刃、レーザーなど任意の方法で切り込みを入れることができ、刃で切り込みを入れることが好ましい。また、刃の構造は特に限定されることはない。
 前記非アルカリ現像型着色転写材料が、例えば、仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、非アルカリ現像型着色組成物層、保護剥離層の順に積層されて構成されるとき、例えば、刃もしくはレーザーを用いて、保護剥離層の上から、保護剥離層、非アルカリ現像型着色組成物層、中間層を貫き、熱可塑性樹脂層の一部にまで至る切り込みを入れることで、転写する非アルカリ現像型着色組成物層(画像部)と転写しない非アルカリ現像型着色組成物層(非画像部)の間を分離することができる。
-(B)工程-
 パターンを有する非アルカリ現像型着色転写材料の製造方法は、(B)前記非アルカリ現像型着色転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記非アルカリ現像型着色組成物層を取り除く工程を含むことが好ましい。
 図3に、(B)工程を行った後の非アルカリ現像型着色転写材料の構成の概略図を示す。図3は、仮支持体および非アルカリ現像型着色組成物層24を含む非アルカリ現像型着色転写材料30を、非アルカリ現像型着色組成物層24側から見た概略図である。図3において、前記(B)工程により、非アルカリ現像型着色組成物層が取り除かれた領域25と、非アルカリ現像型着色組成物層(非アルカリ現像型着色組成物層のうち取り除かれなかった領域)24が形成される。
 非アルカリ現像型着色組成物層を厚み方向に貫通する深さであり、かつ、面内方向に直線部分を有する切り込み(図1の点線部)で囲まれた前記転写材料の面内方向の一部の領域から前記切り込みの深さまでの前記非アルカリ現像型着色組成物層を取り除くことで、図3の形状の非アルカリ現像型着色転写材料を得ることができる。この製造方法によれば、図3の枠内部21の直線性が高い、着色パターンを、高い生産性で製造することができる。
 なお、前記配線取出し部23や、枠外部22が直線部分を有する場合は、その直線性も高くすることができる。
 図4に、図3に示した非アルカリ現像型着色転写材料のX2-X2’における断面概略図を示す。
 図4は、仮支持体26の上に、熱可塑性樹脂層27、中間層28、非アルカリ現像型着色組成物層24および保護剥離層29が積層された非アルカリ現像型着色転写材料30を用いたときにおける、前記(B)工程後の非アルカリ現像型着色転写材料の態様である。なお、図4では、前記(A)工程で打ち抜きによって、前記非アルカリ現像型着色転写材料への切り込みを前記非アルカリ現像型着色転写材料の全層を厚み方向に貫通する深さまで入れた場合に、前記(B)工程後に得られる非アルカリ現像型着色転写材料の態様を示した。
 前記(B)工程としては、特に制限はないが、前記(A)工程において打ち抜き方法を用いることにより、前記(A)工程と同時に前記(B)工程を行うことが好ましい。
 一方、ハーフカット方法によってプレカットした場合、非アルカリ現像型着色組成物層の画像部を選択的に基材に転写するには非画像部を転写させない工夫が必要となる。一つの方法は転写前に非画像部の非アルカリ現像型着色組成物層を除去する方法であり、保護剥離層を除去した後、非画像部の非アルカリ現像型着色組成物層と中間層を同時に剥離する方法である。もう一つは非画像部上の保護フィルムを剥がし、引き続いて非アルカリ現像型着色組成物層と中間層を同時に剥離し、さらに画像部上の保護フィルムを剥がす方法である。非アルカリ現像型着色組成物層の画像部を転写直前まで保護する観点から、後者の方が好ましい。
 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて着色パターンを形成する方法において、前記非アルカリ現像型着色転写材料が、前記非アルカリ現像型着色組成物層の上に前記保護剥離層を有する場合は、前記非アルカリ現像型着色転写材料を基材に貼り付ける前に、前記保護剥離層を剥離することが好ましい。
 前記保護剥離層を剥離する方法としては特に制限はなく、公知のテープを用いて取り除く方法などを挙げることができる。
 図5に、図4の非アルカリ現像型着色組成物層(前記非アルカリ現像型着色組成物層のうち取り除かれなかった残りの領域)24の上に保護剥離層29を有する転写材料30から、保護剥離層29を取り除いた後に得られる、非アルカリ現像型着色転写材料の断面の概略図を示す。
[着色パターン]
 本発明の着色パターンは、本発明の非アルカリ現像型着色組成物または本発明のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて作製されてなることを特徴とする。
<着色パターンの構成>
 本発明の着色パターンは基板上に積層されてなることが好ましい。
 また、本発明の着色パターンは、本発明の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて作製されてなり、パターンを有する基板上に形成するときに、前記非アルカリ現像型着色転写材料の全体が有するパターンが、前記パターンを有する基板のうち少なくとも外周部のパターンに合致することが好ましい。
<着色パターンの形成方法>
 着色パターンを形成する方法は、非アルカリ現像型着色転写材料から前記保護剥離層(カバーフィルム)を除去するカバーフィルム除去工程と、前記保護剥離層(カバーフィルム)が除去された前記非アルカリ現像型着色転写材料の前記非アルカリ現像型着色組成物層を基材上に転写する転写工程と、基材上に転写された前記非アルカリ現像型着色組成物層を露光する露光工程と、必要に応じて非アルカリ現像型着色組成物層以外の層を現像して着色パターン画像を得る現像工程と、を有する方法が挙げられる。
-(C)工程-
 パターンを有する非アルカリ現像型着色転写材料を用いる場合、本発明の着色パターンを形成する方法は、(C)前記非アルカリ現像型着色組成物層のうち取り除かれなかった残りの領域を有する非アルカリ現像型着色転写材料を基材に貼り付ける工程を含むことが好ましい。
 図6に、図5に示した前記(B)工程後の転写材料から、前記保護剥離層を取り除いた後の転写材料を用いて、前記(C)工程を行った後の態様を示した。
 図6中、基材1は、前記非アルカリ現像型着色組成物層(取り除かれなかった領域)24と隣接することが好ましい。
--ラミネート方法--
 前記(C)工程は、公知のラミネート方法を用いることが好ましい。
 非アルカリ現像型着色組成物層の基材表面への転写(貼り合わせ)は、非アルカリ現像型着色組成物層を基材表面に重ね、加圧、加熱することに行われる。貼り合わせには、ラミネータ、真空ラミネータ、および、より生産性を高めることができるオートカットラミネータ等の公知のラミネータを使用することができる。
 ラミネート方法は、打ち抜いた非アルカリ現像型着色転写材料を基材に転写することから、枚葉式で精度良く、基材と非アルカリ現像型着色転写材料との間に気泡が入らない方法が、得率を上げられる観点から好ましい。
 具体的には、真空ラミネータの使用を好ましく挙げることができる。
 ラミネート(連続式/枚葉式)に用いられる装置としては、例えば、クライムプロダクツ株式会社製 V-SE340aaHなどを挙げることができる。
 真空ラミネータ装置としては、例えば、高野精機有限会社製のものや、大成ラミネーター株式会社製、FVJ-540R、FV700などを挙げることができる。
 本発明の着色パターンを形成する方法は、前記非アルカリ現像型着色転写材料を基材に貼り付ける前に、前記仮支持体の前記非アルカリ現像型着色組成物層と反対側に、さらに支持体を積層する工程を含むことが、ラミネート時に気泡を入れない好ましい効果を得ることが出来ることがある。このときに用いる支持体としては特に制限はないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー(COP)を挙げることができる。
 また、膜厚は、50~200μmの範囲で選ぶことが出来る。
--基材--
 基材には、種々の基材を用いることが出来るが、前記基材はフィルム基材であってもガラス基材であってもよいが、ガラス基材であることが好ましい。
 前記基材がフィルム基材である場合、光学的に歪みがないものや、透明度が高いものを用いることがより好ましい。
 前記基材がフィルム基材である場合の具体的な素材には、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)、トリアセチルセルロース(TAC)、シクロオレフィンポリマー(COP)をあげることができ、TAC、PET、PCまたはCOPから選ばれることが好ましい。
 また、フィルム基材表面には、種々の機能を付加してもよい。具体的には、反射防止層、防眩層、位相差層、視野角向上層、耐傷層、自己修復層、帯電防止層、防汚層、防電磁波層、導電性層をあげることができる。
 前記フィルム基材は、さらに導電性層を有することも好ましい。前記導電性層としては、特表2009-505358号公報に記載のものを好ましく用いることができる。
 前記フィルム基材は、さらに少なくとも、耐傷層および防眩層のうち少なくとも一つを有することも好ましい。
 また、前記(C)工程におけるラミネートによる非アルカリ現像型着色組成物層の密着性を高めるために、予めガラス基材(前面板)の非接触面に表面処理を施すことができる。前記表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理(シランカップリング処理)を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液(N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン0.3質量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学(株)製)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基材予備加熱でも反応を促進できる。
-(D)工程-
 本発明の着色パターンを形成する方法は、(D)前記基材に貼り付けられた前記転写材料から前記仮支持体を取り除く工程を含むことが好ましい。
 図7に、図6に示した前記(C)工程後の転写材料および基材の積層体を用いて、前記(D)工程を行い、前記仮支持体26を取り除いた後の態様を示した。
-(E)工程-
 本発明の着色パターンを形成する方法は、(E)前記基材に貼りつけられた前記非アルカリ現像型着色転写材料の前記非アルカリ現像型着色組成物層の残りの領域を硬化して加飾材を形成する工程を含むことが好ましい。
 また、図8に、前記基材1に貼りつけられた前記非アルカリ現像型着色転写材料の前記非アルカリ現像型着色組成物層24の残りの領域を硬化して、後述の静電容量型入力装置の加飾材として用いられる着色パターン2を形成した後の態様を示す。本発明の着色パターンを形成する方法で得られる着色パターンは、図8における着色パターン(加飾材)2の枠内部21の直線部分における直線性が高いことが好ましい。
 本発明の着色パターンを形成する方法に用いられる非アルカリ現像型着色転写材料は、前記非アルカリ現像型着色組成物層の前記(B)工程で除去されなかった残りの領域(パターン)を硬化して加飾層を形成することができる。
 非アルカリ現像型着色組成物層が重合性単量体を含んでいる場合、通常のフォトリソグラフィーの方法によって着色パターンを形成することができるが、本発明の着色パターンを形成する方法は現像工程を含まないことが好ましい。
 前記露光工程は、基材上に転写された前記非アルカリ現像型着色組成物層を露光する工程である。
 具体的には、前記基材上に形成された前記非アルカリ現像型着色組成物層の上方に所定のマスクを配置し、その後該マスク、熱可塑性樹脂層、および中間層を介してマスク上方から露光する方法や、予め(A)工程:直線部分を有する切り込みを入れる方法で形成したパターンにマスクを用いずに熱可塑性樹脂層、および中間層を介して露光する方法が挙げられる。
 ここで、前記露光の光源としては、前記非アルカリ現像型着色組成物層を硬化しうる波長域の光(例えば、365nm、405nmなど)を照射できるものであれば適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。露光量としては、通常5~200mJ/cm程度であり、好ましくは10~100mJ/cm程度である。
 尚、パターニング露光は、仮支持体を剥離してから行ってもよいし、仮支持体を剥離する前に露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクを介した露光でもよいし、レーザー等を用いたデジタル露光でもよい。
 本発明において、前記現像工程は、露光された前記非アルカリ現像型着色組成物層を現像液によって現像する狭義の意味の現像ではなく、熱可塑性樹脂層や中間層を除去する工程である。
 なお、本明細書中において、非アルカリ現像型とは、「非アルカリ現像型の現像を行うもの」に限られるわけではなく、「アルカリ現像しないもの」を意味する。
-熱可塑性樹脂層を除去する工程、中間層を除去する工程-
 さらに、前記非アルカリ現像型着色転写材料が熱可塑性樹脂層や中間層を含む場合は、前記(D)工程の後、熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程と有することが好ましい。
 これらの工程により、図7のように基材1上に、非アルカリ現像型着色組成物層(取り除かれなかった領域)24、熱可塑性樹脂層27および中間層28を有する構成の積層体から、熱可塑性樹脂層27および中間層28を取り除いて、図9のように基材1に非アルカリ現像型着色組成物層24の残りの領域(取り除かれなかった領域)が積層された態様とすることができる。
 前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程は、一般にフォトリソグラフィー方式で使用されるアルカリ現像液を用いて行うことができる。前記アルカリ現像液としては、特に制約はなく、特開平5-72724号公報に記載のアルカリ現像液など、公知の現像液を使用することができる。尚、現像液は前記非アルカリ現像型着色組成物層を溶解しない型の現像挙動をするものが好ましく、例えば、pKa=7~13の化合物を0.05~5mol/Lの濃度で含むものが好ましいが、更に水と混和性を有する有機溶剤を少量添加してもよい。水と混和性を有する有機溶剤としては、メタノール、エタノール、2-プロパノール、1-プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ-n-ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε-カプロラクトン、γ-ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε-カプロラクタム、N-メチルピロリドン等を挙げることができる。該有機溶剤の濃度は0.1質量%~30質量%が好ましい。
 また、前記アルカリ現像液には、更に公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は0.01質量%~10質量%が好ましい。
 前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程の方式としては、パドル、シャワー、シャワー&スピン、ディップ等のいずれでもよい。ここで、前記シャワーについて説明すると、熱可塑性樹脂層や中間層を、現像液をシャワーにより吹き付けることにより除去することができる。また、現像の後に、洗浄剤などをシャワーにより吹き付け、ブラシなどで擦りながら、残渣を除去することが好ましい。液温度は20℃~40℃が好ましい。
(ポストベーク工程)
 前記(C)工程後にポストベーク工程を含むことが好ましく、前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去工程後にポストベークを行う工程を含むことがより好ましい。
 本発明では、後述する静電容量型入力装置の(1)加飾層を、本発明の非アルカリ現像型着色転写材料の前記非アルカリ現像型着色組成物層を0.08~1.2atmの環境下で180~300℃に加熱して形成することが生産性の観点から好ましい。
 前記ポストベークの加熱は0.5atm以上の環境下で行うことがより好ましい。一方、1.1atm以下の環境下で行うことがより好ましく、1.0atm以下の環境下で行うことが特に好ましい。さらに、約1atm(大気圧)環境下で行うことが特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点からより特に好ましい。
 前記ポストベークの温度は、200~280℃であることがより好ましく、220~260℃であることが特に好ましい。
 前記ポストベークの時間は、20~150分であることがより好ましく、30~100分であることが特に好ましい。
 前記ポストベークは、空気環境下で行っても、窒素置換環境下で行ってもよいが、空気環境下で行うことが、特別な減圧装置を用いることなく製造コストを低減できる観点から特に好ましい。
(その他の工程)
 本発明の着色パターンを形成する方法は、ポスト露光工程等、その他の工程を有していてもよい。
 前記非アルカリ現像型着色転写材料が光硬化性樹脂層を有する場合、前記非アルカリ現像型着色転写材料を用いて前記着色パターンを形成するときは、ポスト露光工程を含むことが好ましい。前記ポスト露光工程は前記非アルカリ現像型着色組成物層の前記基材と接している側の表面方向のみから行っても、前記基材と接していない側の表面方向のみから行っても、両面方向から行ってもよい。
 なお、前記露光工程、現像工程、前記熱可塑性樹脂層と中間層を除去する工程、およびその他の工程の例としては、特開2006-23696号公報の段落0035~0051に記載の方法を本発明においても好適に用いることができる。
[静電容量型入力装置]
 本発明の静電容量型入力装置は、本発明の着色パターンを含むことを特徴とする。
 本発明の静電容量型入力装置は、前面板と、前記前面板の非接触側に少なくとも下記(1)~(4)の要素を有し、(1)加飾層として前記着色パターンを含むことが好ましい。
(1)加飾層
(2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
(3)前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
(4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
 また、本発明の静電容量型入力装置は、第二の電極パターンが透明電極パターンであってもよい。
 さらに、本発明の静電容量型入力装置は、さらに、(5)前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンの少なくとも一方に電気的に接続され、前記第一の透明電極パターンおよび前記第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を有していてもよい。
<静電容量型入力装置の構成>
 まず、本発明の静電容量型入力装置の構成について説明する。図11は、本発明の静電容量型入力装置の構成を示す断面図である。図11において静電容量型入力装置10は、前面板1と、加飾層2と、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、透明保護層7と、から構成されている。
 前面板1は、ガラス基板等の透光性基板で構成されており、コーニング社のゴリラ(登録商標)ガラスに代表される強化ガラスなどを用いることができる。また、図11において、前面層1の各要素が設けられている側を非接触面側と称する。本発明の静電容量型入力装置10においては、前面板1の接触面(非接触面の反対の面)に指などを接触などさせて入力が行われる。以下、前面板を、「基材」と称する場合がある。
 また、前面板1の非接触面上には加飾層2が設けられている。加飾層2は、タッチパネル前面板の非接触側に形成された表示領域周囲の額縁状のパターンであり、引回し配線等が見えないようにするために形成される。
 本発明の静電容量型入力装置10には、図12に示すように、前面板1の一部の領域(図12においては入力面以外の領域)を覆うように加飾層2が設けられている。更に、前面板1には、図12に示すように一部に開口部8を設けることができる。開口部8には、押圧によるメカニカルなスイッチを設置することができる。
 前面板1の接触面には、複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン3と、第一の透明電極パターン3と電気的に絶縁され、第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の透明電極パターン4と、第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4を電気的に絶縁する絶縁層5とが形成されている。前記第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、後述する導電性要素6とは、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透光性の導電性金属酸化膜で作製することができる。このような金属膜としては、ITO膜;Al、Zn、Cu、Fe、Ni、Cr、Mo等の金属膜;SiO等の金属酸化膜などが挙げられる。この際、各要素の、膜厚は10~200nmとすることができる。また、焼成により、アモルファスのITO膜を多結晶のITO膜とするため、電気的抵抗を低減することもできる。また、前記第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、後述する導電性要素6とは、前記導電性繊維を用いた光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて製造することもできる。その他、ITO等によって第一の導電性パターン等を形成する場合には、特許第4506785号公報の段落0014~0016等を参考にすることができる。
 また、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方は、前面板1の非接触面および加飾層2の前面板1とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置することができる。図11においては、第二の透明電極パターンが、前面板1の非接触面および加飾層2の前面板1とは逆側の面の両方の領域にまたがって設置されている図が示されている。このように、一定の厚みが必要な加飾層と前面板裏面とにまたがって感光性フィルムをラミネートする場合でも、特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで真空ラミネータなどの高価な設備を用いなくても、簡単な工程でマスク部分境界に泡の発生がないラミネートが可能になる。
 図13を用いて第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4について説明する。図13は、第一の透明電極パターンおよび第二の透明電極パターンの一例を示す説明図である。図13に示すように、第一の透明電極パターン3は、パッド部分3aが接続部分3bを介して第一の方向に延在して形成されている。また、第二の透明電極パターン4は、第一の透明電極パターン3と絶縁層5によって電気的に絶縁されており、第一の方向に交差する方向(図13における第二の方向)に延在して形成された複数のパッド部分によって構成されている。ここで、第一の透明電極パターン3を形成する場合、前記パッド部分3aと接続部分3bとを一体として作製してもよいし、接続部分3bのみを作製して、パッド部分3aと第二の透明電極パターン4とを一体として作製(パターニング)してもよい。パッド部分3aと第二の透明電極パターン4とを一体として作製(パターニング)する場合、図13に示すように接続部分3bの一部とパッド部分3aの一部とが連結され、且つ、絶縁層5によって第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4とが電気的に絶縁されるように各層が形成される。
 図11において、加飾層2の前面板1とは逆側の面側には導電性要素6が設置されている。導電性要素6は、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4の少なくとも一方に電気的に接続され、且つ、第一の透明電極パターン3および第二の透明電極パターン4とは別の要素である。図11においては、導電性要素6が第二の透明電極パターン4に接続されている図が示されている。
 また、図11においては、各構成要素の全てを覆うように透明保護層7が設置されている。透明保護層7は、各構成要素の一部のみを覆うように構成されていてもよい。絶縁層5と透明保護層7とは、同一材料であってもよいし、異なる材料であってもよい。絶縁層5と透明保護層7とを構成する材料としては、表面硬度、耐熱性が高いものが好ましく、公知の感光性シロキサン樹脂材料、アクリル樹脂材料などが用いられる。
<静電容量型入力装置の製造方法>
 前記静電容量静入力装置の製造方法においては、加飾層2が本発明の着色パターンを含み、すなわち、前記加飾層2が本発明の非アルカリ現像型着色組成物または本発明の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて作製されてなることが好ましい。
 また、第一の透明電極パターン3と、第二の透明電極パターン4と、絶縁層5と、導電性要素6と、必要に応じて透明保護層7との少なくとも一要素が、仮支持体と熱可塑性樹脂層と光硬化性樹脂層とをこの順で有する感光性フィルムを用いて形成されることが好ましい。
 前記絶縁層5および透明保護層7は、感光性フィルムを用いて光硬化性樹脂層を前面板1に転写することで形成することができる。例えば、絶縁層5を形成する場合には、前記光硬化性樹脂層として絶縁性の光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、第一の透明電極パターンが形成された前記前面板1の表面に前記光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。透明保護層7を形成する場合には、前記光硬化性樹脂層として透明の光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、各要素が形成された前記前面板1の表面に前記光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
 本発明の非アルカリ現像型着色転写材料または前記感光性フィルムを用いて前記加飾層2等を形成すると、開口部を有する基板(前面板)において、開口部分からレジスト成分のモレがなく、特に前面板の境界線直上まで遮光パターンを形成する必要のある加飾層において、ガラス端からのレジスト成分のはみ出し(モレ)がないため前面板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層化および軽量化されたタッチパネルを製造することができる。
 さらに、遮光性が必要な加飾層2の形成に、光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、光モレのない高品位な加飾層2等を形成することができる。
 前記第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4および導電性要素6は、エッチング処理または導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて形成することができる。
 エッチング処理によって、前記第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4および別の導電要素6を形成する場合、まず加飾層2等が形成された前面板1の非接触面上にITO等の透明電極層をスパッタリングによって形成する。次いで、前記透明電極層上に前記光硬化性樹脂層としてエッチング用光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて露光・現像によってエッチングパターンを形成する。その後、透明電極層をエッチングして透明電極をパターニングし、エッチングパターンを除去することで、第一の透明電極パターン3等を形成することができる。
 導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて、前記第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4および別の導電要素6を形成する場合、前記前面板1の表面に前記導電性光硬化性樹脂層を転写することで形成することができる。
 前記第一の透明電極パターン3等を、前記導電性光硬化性樹脂層を有する感光性フィルムを用いて形成すると、開口部を有する基板(前面板)でも開口部分からレジスト成分のモレがなく、基板裏側を汚染することなく、簡略な工程で、薄層/軽量化のメリットがあるタッチパネルの製造を可能となる。
 さらに、第一の透明電極パターン3等の形成に、導電性光硬化性樹脂層と仮支持体との間に熱可塑性樹脂層を有する特定の層構成を有する感光性フィルムを用いることで感光性フィルムラミネート時の気泡発生を防止し、導電性に優れ抵抗の少ないに第一の透明電極パターン3、第二の透明電極パターン4および別の導電要素6を形成することができる。
 前記静電容量型入力装置の製造方法の過程で形成される態様例として、図14~18の態様を挙げることができる。図14は、開口部8が形成された強化処理ガラス11の一例を示す上面図である。図15は、加飾層2が形成された前面板の一例を示す上面図である。図16は、第一の透明電極パターン3が形成された前面板の一例を示す上面図である。図17は、第一の透明電極パターン3と第二の透明電極パターン4が形成された前面板の一例を示す上面図である。図18は、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素6が形成された前面板の一例を示す上面図である。これらは、上記説明を具体化した例を示すものであり、本発明の範囲はこれらの図面により限定的に解釈されることはない。
 前記加飾層、絶縁層および透明保護層や、導電性光硬化性樹脂層を用いた場合の第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターンおよび導電性要素などの永久材を感光性フィルムを用いて形成する場合、感光性フィルムは、基材にラミネートされた後、必要なパターン様に露光され、ネガ型材料の場合は非露光部分、ポジ型材料の場合は露光部分を現像処理して除去することでパターンを得ることができる。この際、現像は熱可塑性樹脂層と、光硬化性層を別々の液で現像除去してもよいし、同一の液で除去してもよい。必要に応じて、ブラシや高圧ジェットなどの公知の現像設備を組み合わせてもよい。現像の後、必要に応じて、ポスト露光、ポストベークを行ってもよい。
 また、後の転写工程におけるラミネートによる感光性樹脂層の密着性を高めるために、予め基材(前面板)の非接触面に表面処理を施すことができる。前記表面処理としては、シラン化合物を用いた表面処理(シランカップリング処理)を実施することが好ましい。シランカップリング剤としては、感光性樹脂と相互作用する官能基を有するものが好ましい。例えばシランカップリング液(N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン0.3質量%水溶液、商品名:KBM603、信越化学(株)製)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄する。この後、加熱により反応させる。加熱槽を用いてもよく、ラミネータの基板予備加熱でも反応を促進できる。
 また、感光性フィルムをリフトオフ材として用いて、第一の透明電極層、第二の透明電極層およびその他の導電性部材を形成することもできる。この場合、感光性フィルムを用いてパターニングした後に、基材全面に透明導電層を形成した後、堆積した透明導電層ごと光硬化性樹脂層の溶解除去を行うことにより所望の透明導電層パターンを得ることができる(リフトオフ法)。
(永久材を感光性フィルムを用いて形成する場合)
 永久材を感光性フィルムを用いて形成する場合については、本発明の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて加飾層(黒色)を形成する方法と同様である。
(エッチングレジストとして感光性フィルムを用いた場合)
 感光性フィルムをエッチングレジスト(エッチングパターン)として用いる場合にも、前記方法と同様にして、レジストパターンを得ることができる。前記エッチングは、特開2010-152155公報の段落0048~0054等に記載の公知の方法でエッチング、レジスト剥離を適用することができる。
 例えば、エッチングの方法としては、一般的に行われている、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法が挙げられる。ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性タイプまたはアルカリ性タイプのものを適宜選択すればよい。酸性タイプのエッチング液としては、塩酸、硫酸、フッ酸、リン酸等の酸性成分単独の水溶液、酸性成分と塩化第2鉄、フッ化アンモニウム、過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせたものを使用してもよい。また、アルカリ性タイプのエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドのような有機アミンの塩等のアルカリ成分単独の水溶液、アルカリ成分と過マンガン酸カリウム等の塩の混合水溶液等が例示される。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせたものを使用してもよい。
 エッチング液の温度は特に限定されないが、45℃以下であることが好ましい。本発明でエッチングマスク(エッチングパターン)として使用される樹脂パターンは、上述した光硬化性樹脂層を使用して形成されることにより、このような温度域における酸性およびアルカリ性のエッチング液に対して特に優れた耐性を発揮する。したがって、エッチング工程中に樹脂パターンが剥離することが防止され、樹脂パターンの存在しない部分が選択的にエッチングされることになる。
 前記エッチング後、ライン汚染を防ぐために必要に応じて、洗浄工程・乾燥工程を行ってもよい。洗浄工程については、例えば常温で純水により10~300秒間基材を洗浄して行い、乾燥工程については、エアブローを使用して、エアブロー圧(0.1~5kg/cm程度)を適宜調整し行えばよい。
 次いで、樹脂パターンの剥離方法としては、特に限定されないが、例えば、30~80℃、好ましくは50~80℃にて攪拌中の剥離液に基材を5~30分間浸漬する方法が挙げられる。本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、上述のように45℃以下において優れた薬液耐性を示すものであるが、薬液温度が50℃以上になるとアルカリ性の剥離液により膨潤する性質を示す。このような性質により、50~80℃の剥離液を使用して剥離工程を行うと工程時間が短縮され、樹脂パターンの剥離残渣が少なくなるという利点がある。すなわち、前記エッチング工程と剥離工程との間で薬液温度に差を設けることにより、本発明でエッチングマスクとして使用される樹脂パターンは、エッチング工程において良好な薬液耐性を発揮する一方で、剥離工程において良好な剥離性を示すことになり、薬液耐性と剥離性という、相反する特性を両方とも満足することができる。
 剥離液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機アルカリ成分や、第3級アミン、第4級アンモニウム塩等の有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、N-メチルピロリドン、またはこれらの混合溶液に溶解させたものが挙げられる。前記の剥離液を使用し、スプレー法、シャワー法、パドル法等により剥離してもよい。
(感光性フィルム)
 次に、前記静電容量型入力装置の製造方法に用いられる感光性フィルムについて説明する。感光性フィルムは、仮支持体と光硬化性樹脂層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。
 本発明に用いる感光性フィルムは、ネガ型材料であってもポジ型材料であってもよい。
-光硬化性樹脂層以外の層-
 前記感光性フィルムの仮支持体、熱可塑性樹脂層、その他の層としては、本発明の非アルカリ現像型着色転写材料における仮支持体、熱可塑性樹脂層と同様のものを用いることができる。また、前記感光性フィルムの作製方法としても、本発明の非アルカリ現像型着色転写材料の作製方法と同様の方法を用いることができる。
-光硬化性樹脂層-
 感光性フィルムは、その用途に応じて光硬化性樹脂層に添加物を加える。感光性フィルムが導電性光硬化性樹脂層を有する場合は、前記光硬化性樹脂層に導電性繊維等が含有される。
 感光性フィルムがネガ型材料である場合、光硬化性樹脂層には、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物、重合開始剤または重合開始系、を含むことが好ましい。さらに、着色剤、添加剤、などが用いられるがこれに限られたものではない。
 本発明に用いる感光性フィルムに含まれるアルカリ可溶性樹脂としては、特開2011-95716号公報の段落0025、特開2010-237589号公報の段落0033~0052に記載のポリマーを用いることができる。
 前記重合性化合物としては、特許第4098550号の段落0023~0024に記載の重合性化合物を用いることができる。
 前記重合開始剤または重合開始系としては、特開2011-95716号公報に記載の[0031~0042に記載の重合性化合物を用いることができる。
--導電性光硬化性樹脂層(導電性繊維)--
 前記導電性光硬化性樹脂層を積層した感光性フィルムを透明電極パターン、あるいは別の導電性要素の形成に用いる場合には、以下の導電性繊維などを光硬化性樹脂層に用いることができる。
 導電性繊維の構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造および中空構造のいずれかが好ましい。
 ここで、中実構造の繊維を「ワイヤー」と称することがあり、中空構造の繊維を「チューブ」と称することがある。また、平均短軸長さが1nm~1,000nmであって、平均長軸長さが1μm~100μmの導電性繊維を「ナノワイヤー」と称することがある。
 また、平均短軸長さが1nm~1,000nm、平均長軸長さが0.1μm~1,000μmであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と称することがある。
 前記導電性繊維の材料としては、導電性を有していれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属およびカーボンの少なくともいずれかが好ましく、これらの中でも、前記導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、およびカーボンナノチューブの少なくともいずれかが特に好ましい。
《金属ナノワイヤー》
 前記金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、例えば、長周期律表(IUPAC1991)の第4周期、第5周期、および第6周期からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属が好ましく、第2族~第14族から選ばれる少なくとも1種の金属がより好ましく、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、および第14族から選ばれる少なくとも1種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
 前記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、これらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀を主に含有するもの、または銀と銀以外の金属との合金を含有するものが好ましい。
 前記銀を主に含有するとは、金属ナノワイヤー中に銀を50質量%以上、好ましくは90質量%以上含有することを意味する。
 前記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウムおよびイリジウムなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
 前記金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状、断面の多角形の角が丸まっている断面形状が好ましい。
 前記金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより調べることができる。
 前記金属ナノワイヤーの断面の角とは、断面の各辺を延長し、隣り合う辺から降ろされた垂線と交わる点の周辺部を意味する。また、「断面の各辺」とはこれらの隣り合う角と角を結んだ直線とする。この場合、前記「断面の各辺」の合計長さに対する前記「断面の外周長さ」との割合を鋭利度とした。鋭利度は、例えば図19に示したような金属ナノワイヤー断面では、実線で示した断面の外周長さと点線で示した五角形の外周長さとの割合で表すことができる。この鋭利度が75%以下の断面形状を角の丸い断面形状と定義する。前記鋭利度は60%以下が好ましく、50%以下がより好ましい。前記鋭利度が75%を超えると、該角に電子が局在し、プラズモン吸収が増加するためか、黄色みが残るなどして透明性が悪化してしまうことがある。また、パターンのエッジ部の直線性が低下し、ガタツキが生じてしまうことがある。前記鋭利度の下限は、30%が好ましく、40%がより好ましい。
 前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さ(「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある)としては、150nm以下が好ましく、1nm~40nmがより好ましく、10nm~40nmが更に好ましく、15nm~35nmが特に好ましい。
 前記平均短軸長さが、1nm未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、150nmを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。
 前記金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子(株)製、JEM-2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとした。
 前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さ(「平均長さ」と称することがある)としては、1μm~40μmが好ましく、3μm~35μmがより好ましく、5μm~30μmが更に好ましい。
 前記平均長軸長さが、1μm未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、40μmを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。
 前記金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子(株)製、JEM-2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求めた。なお、前記金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、および曲率から算出される値を長軸長さとした。
《添加剤》
 さらに、前記光硬化性樹脂層は、添加剤を用いてもよい。前記添加剤としては、例えば特許第4502784号公報の段落0017、特開2009-237362号公報の段落0060~0071に記載の界面活性剤や、特許第4502784号公報の段落0018に記載の熱重合防止剤、さらに、特開2000-310706号公報の段落0058~0071に記載のその他の添加剤が挙げられる。
 また、感光性フィルムを塗布により製造する際の溶剤としては、特開2011-95716号公報の段落0043~0044に記載の溶剤を用いることができる。
 以上、感光性フィルムがネガ型材料である場合を中心に説明したが、前記感光性フィルムは、ポジ型材料であってもよい。前記感光性フィルムがポジ型材料である場合、光硬化性樹脂層に、例えば特開2005-221726記載の材料などが用いられるが、これに限られたものではない。
《光硬化性樹脂層の層厚》
 導電性光硬化性樹脂層の層厚は、塗布液の安定性や塗布時の乾燥やパターニング時の現像時間などのプロセス適性の観点から、0.1~20μmが好ましく、0.5~18μmが更に好ましく、1~15μmが特に好ましい。前記導電性光硬化性樹脂層の全固形分に対する前記導電性繊維の含有量は、導電性と塗布液の安定性の観点から、0.01~50質量%が好ましく、0.05~30質量%が更に好ましく、0.1~20質量%が特に好ましい。
 前記感光性フィルムを用いて絶縁層を形成する場合、光硬化性樹脂層の層厚は、絶縁性の維持の観点から、0.1~5μmが好ましく、0.3~3μmが更に好ましく、0.5~2μmが特に好ましい。
 前記感光性フィルムを用いて透明保護層を形成する場合、光硬化性樹脂層の層厚は、十分な表面保護能を発揮させる観点から、0.5~10μmが好ましく、0.8~5μmが更に好ましく、1~3μmが特に好ましい。
《熱可塑性樹脂層および光硬化性樹脂層の粘度》
 熱可塑性樹脂層の100℃で測定した粘度が1000~10000Pa・secの領域にあり、光硬化性樹脂層の100℃で測定した粘度が2000~50000Pa・secの領域にあり、さらに次式(A)を満たすことが好ましい。
式(A):熱可塑性樹脂層の粘度<光硬化性樹脂層の粘度
 ここで、各層の粘度は、次のようにして測定できる。大気圧および減圧乾燥により、熱可塑性樹脂層あるいは光硬化性樹脂層用塗布液から溶剤を除去して測定サンプルとし、例えば、測定器として、バイブロン(DD-III型:東洋ボールドウィン(株)製)を使用し、測定開始温度50℃、測定終了温度150℃、昇温速度5℃/分および振動数1Hz/degの条件で測定し、100℃の測定値を用いることができる。
[画像表示装置]
 本発明の画像表示装置は、本発明の静電容量型入力装置を備えることを特徴とする。
《静電容量型入力装置および静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置の種類》
 本発明の製造方法によって得られる静電容量型入力装置、および当該静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置は、『最新タッチパネル技術』(2009年7月6日発行(株)テクノタイムズ)、三谷雄二監修、“タッチパネルの技術と開発”、シーエムシー出版(2004,12)、FPD International 2009 Forum T-11講演テキストブック、Cypress Semiconductor Corporation アプリケーションノートAN2292等に開示されている構成を適用することができる。
 以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「%」および「部」は質量基準である。
[実施例1~8、比較例1および2]
《非アルカリ現像型着色組成物の調製》
 以下の材料を用いて、下記表1に記載の処方となるように調製した。得られた非アルカリ現像型着色組成物を、それぞれ実施例1~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色組成物とした。
(非アルカリ現像型黒色組成物層用塗布液:処方K1)
・黒色顔料分散液A:SF Black GB4051(山陽色素株式会社製:樹脂被覆カーボンブラック 25%、分散剤 2%、 樹脂 7.5%、メトキシプロピルアセテート 65.5%)
・黒色顔料分散液B:後述のK顔料分散物1
・黒色顔料分散液C:チタンブラック13M(三菱マテリアル製) 25%、ソルスパース24000 5%、メトキシプロピルアセテート 70%
・溶剤A:1-メトキシ-2-プロピルアセテート(ダイセル化学(株)製)
・溶剤B:メチルエチルケトン(東燃化学(株)製)
・溶剤C:シクロヘキサノン(東洋合成(株)製)
・シリコーン樹脂A:KR-311(信越化学工業(株)製:ストレートシリコーンのキシレン溶液 (固形分50質量%))
・シリコーン樹脂B:KR-300(信越化学工業(株)製:ストレートシリコーンのキシレン溶液 (固形分60質量%))
・重合性化合物A:DPHA76(日本化薬(株)製:DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液 (固形分76質量%))
・重合性化合物B:V802(大阪有機化学工業(株)製:トリペンタエリスリトールオクタアクリレート)
・光重合開始剤A:Irgacure 379 EG(BASFジャパン(株)製)
・光重合開始剤B:Irgacure OXE 01(BASFジャパン(株)製)
・光重合開始剤C:Irgacure OXE 02(BASFジャパン(株)製)
・重合禁止剤:フェノチアジン-1%MEK溶液(東京化成(株)製:メチルエチルケトン溶液 (固形分1質量%))
・フッ素系界面活性剤:F-780F(大日本インキ(株)製のメガファックF-780F;F系界面活性剤のメチルエチルケトン溶液 (固形分30質量%))
(K顔料分散物1の組成)
・カーボンブラック(商品名:Nipex35、デグッサ社製) :13.1質量%
・下記分散剤1                  :0.65質量%
・バインダー1(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=72/28モル比の ランダム共重合物、重量平均分子量3.7万)   :6.72質量%
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:79.53質量%
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
《加飾層として用いる着色パターンの形成》
 実施例1、3~8、比較例1および2では、非アルカリ現像型着色転写材料を作製し、得られた転写材料を基板上に転写することによって、着色パターンを形成した。
<加飾層形成用非アルカリ現像型着色転写材料K1の作製>
 厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(仮支持体)の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方H1からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布し、乾燥させて熱可塑性樹脂層を形成した。次に、熱可塑性樹脂層の上に、下記処方P1からなる中間層用塗布液を塗布し、乾燥させて中間層を形成した。更に、上記にて調製した処方K1からなる実施例1、3~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色組成物を、非アルカリ現像型着色組成物層用塗布液として用いて、前記中間層の上に非アルカリ現像型着色組成物層用塗布液を塗布し、乾燥させて非アルカリ現像型着色組成物層を形成した。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が15.1μmの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が1.6μmの中間層と、光学濃度が4.0となる乾燥膜厚が2.2μmの非アルカリ現像型着色組成物層を設けた。最後に、非アルカリ現像型着色組成物層の上に、保護フイルム(厚さ12μmポリプロピレンフィルム)を圧着した。こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と中間層(酸素遮断膜)と非アルカリ現像型着色組成物層とが一体となった転写材料を作製し、サンプル名を「打ち抜き前の実施例1、3~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色転写材料K1」とした。
(熱可塑性樹脂層用塗布液:処方H1)
・メタノール                   :11.1質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:6.36質量部
・メチルエチルケトン               :52.4質量部
・メチルメタクリレート/2-エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)= 55/11.7/4.5/28.8、重量平均分子量=10万、Tg(ガラス転移温度)≒70℃) :5.83質量部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=63/37、重量平均分子量=1万、Tg≒100℃)     :13.6質量部
・モノマー1(商品名:BPE-500、新中村化学工業(株)製):9.1質量部
・フッ素系界面活性剤(商品名:メガファックF-780F、大日本インキ(株)製:フッ素系界面活性剤のメチルエチルケトン溶液 (固形分30質量%))  :0.54質量部
 上記処方H1からなる熱可塑性樹脂層用塗布液の溶剤除去後の120℃の粘度は1500Pa・secであった。
(中間層用塗布液:処方P1)
・ポリビニルアルコール              :32.2質量部
(商品名:PVA205、(株)クラレ製、鹸化度=88%、重合度550)
・ポリビニルピロリドン              :14.9質量部
(商品名:K-30、アイエスピー・ジャパン(株)製)
・蒸留水                     :524質量部
・メタノール                   :429質量部
<転写材料の打ち抜き/ラミネート/樹脂・中間層除去/着色パターン試料完成>
 A5サイズの「打ち抜き前の実施例1、3~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色転写材料K1」(図1にその一部を拡大した概略図を示し、図2に図1のX1-X1’での断面の概略図を示す)の図1に示した点線部分を、COレーザーカッター(L-CPNC550、クライムプロダクツ株式会社製)を用いて、非アルカリ現像型着色転写材料K1のすべて(保護フィルム、非アルカリ現像型着色組成物層(黒色感光層)、中間層、熱可塑性樹脂層および仮支持体)を貫通させて、打ち抜いた。打ち抜き後の非アルカリ現像型着色転写材料K1は、図3に示すように、外周部22、直線部分を有する枠内部21、および直線部分を有する配線取出し部23が形成されている。得られた転写材料のサンプル名を、「打ち抜き後の実施例1、3~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色転写材料K2」とした。
 この打ち抜きにより、図3の形状を有する「打ち抜き後の実施例1、3~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色転写材料K2」が形成され、同時に、図3における4辺の枠内部21で囲まれた部分(内側の白色部分)と配線取出し部23、外周部22から、「仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、非アルカリ現像型着色組成物層(黒色感光層)および保護フィルム」からなる積層体が取り除かれた。図3に示した、打ち抜き後の実施例1、3~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色転写材料K2における、X2-X2’での断面形状は、図4の形状であった。
 次に、真空ラミネータ(クライムプロダクツ株式会社製 V-SE340aaH)を用い、予め必要な形態に加工して強化処理したガラス基板(基材)を120℃に予備加熱した。次に、打ち抜き後の実施例1、3~8、比較例1および2の非アルカリ現像型着色転写材料K2から、テープを用いて保護フィルム29を剥離し、図5の形状とした。その後、上記で打ち抜いて取り除かれた領域以外の、露出した非アルカリ現像型着色組成物層24の表面と前記120℃に予備加熱したガラス基板の表面とを重ね合わせ、上記ラミネータで図6のように貼り付けた。
 次に、非アルカリ現像型着色転写材料の仮支持体26を薄刃カミソリを用いて除去し、図7の構成とした。その後、非アルカリ現像型着色転写材料の熱可塑性樹脂層27側よりUV(i線、20mJ)で全面露光した後、現像液(T-PD2、富士フイルム(株)製)で熱可塑性樹脂層27と中間層28を除去し、引き続き純水で洗浄し、ポストベーク(240℃、60分)することにより、ガラス基板上に形成された着色パターン(静電容量型入力装置の加飾層)を得た。得られた着色パターンを、実施例1、3~8、比較例1および2の着色パターン(加飾層付きガラス)とした。
 得られた着色パターン(加飾層付きガラス)の、非アルカリ現像型着色組成物層24(マスク2)側からの概略図を図8および10、そのX3-X3’での断面形状の概略図を図9に示した。なお、図8および10の形状は、枠外部の縦幅:100mm、枠外部の横幅:60mm、上枠幅:10mm、下枠幅:12mm、左右枠幅:3mm、四隅半径:6mm、配線取り出し部(縦×横):3mm×5mmである。
<スクリーン印刷>
 実施例2では、上記にて調製した実施例2の非アルカリ現像型着色組成物を基板上にスクリーン印刷することにより、着色パターンを形成した。
 図10の型に作製された25メッシュのマスクを、スクリーン印刷機(DP-320、ニューロング精密工業株式会社製)に設置し、ガラス基板(基材)上に上記にて調製した実施例2の非アルカリ現像型着色組成物:処方K1を塗布液として用いて、スクリーン印刷を行い、ポストベーク(240℃、60分)することで、実施例2の着色パターン(加飾材付きガラス)を得た。
[着色パターン・加飾層付きガラスの評価]
 上記で得た各実施例および比較例の着色パターン(加飾層付きガラス)の特性の評価方法を以下に示す。また、得られた各実施例および比較例の着色パターンの評価結果を下記表1に記載した。
(断面形状)
 図10の形状として得られた加飾層付きガラスの着色パターンについて、着色パターンの断面形状をSEM観察し、以下の基準にしたがって評価した。また、実施例1の着色パターンの断面のSEM写真を、図20(A)および(B)に示した。比較例2の着色パターンの断面のSEM写真を、図21(A)および(B)に示した。
A :順テーパーであり、角度がなだらか(テーパー角が5°以上30°未満)である。
B :順テーパーであるが、角度はやや急峻(テーパー角が30°以上60°未満)である。
C :テーパー角が60°以上90°未満である。
D :垂直から逆テーパーである。
(表面平滑性)
  図10の形状として得られた加飾層付きガラスの着色パターンについて、着色パターンの表面平滑性を以下の基準にしたがって評価した。
A :基準面に対する最大の凹凸が5nm未満である。
B :基準面に対する最大の凹凸が5nm以上20nm未満である。
C :基準面に対する最大の凹凸が20nm以上40nm未満である。
D :基準面に対する最大の凹凸が40nm以上である。
(額縁の直線性)
 図10の形状として得られた加飾層付きガラスの着色パターンについて、枠内部の(内側の)直線性を、以下の基準にしたがって評価した。光学顕微鏡顕微鏡(対物レンズ5倍)を用いて観察し、視野内のエッジ位置のうち、最も膨らんだ箇所(山頂部)と、最もくびれた箇所(谷底部)との差を絶対値として求め、観察した4箇所の平均値を算出した。なお、測定は、図10の上部の枠内部の中央部分(4点)について行った。
A :30μm未満。
B :30μm以上80μm未満。
C :80μm以上200μm未満。
D :200μm以上。
[静電容量型入力装置の製造]
《第一の透明電極パターンの形成》
<透明電極層の形成>
 ガラス基板上に形成された各実施例および比較例の着色パターンを、加飾層が形成された前面板として用いて、静電容量型入力装置を製造した。
 加飾層が形成された前面板を、真空チャンバー内に導入し、SnO含有率が10質量%のITOターゲット(インジウム:錫=95:5(モル比))を用いて、DCマグネトロンスパッタリング(条件:基材の温度250℃、アルゴン圧0.13Pa、酸素圧0.01Pa)により、厚さ40nmのITO薄膜を形成し、透明電極層を形成した前面板を得た。ITO薄膜の表面抵抗は80Ω/□であった。
<エッチング用感光性フィルムE1の作製>
 前記加飾層形成用非アルカリ現像型着色転写材料K1の作製において、非アルカリ現像型着色組成物層用塗布液を、下記処方E1からなるエッチング用光硬化性樹脂層用塗布液に代え、エッチング用光硬化性樹脂層を形成した以外は加飾層形成用非アルカリ現像型着色転写材料K1の作製と同様にして、エッチング用感光性フィルムE1を得た(エッチング用光硬化性樹脂層の膜厚は2.0μmであった)。
(エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液:処方E1)
・メチルメタクリレート/スチレン/メタクリル酸共重合体
 (共重合体組成(質量%):31/40/29、重量平均分子量60000、酸価163mgKOH/g)           :16質量部
・モノマー1(商品名:BPE-500、新中村化学工業(株)製):5.6質量部
・ヘキサメチレンジイソシアネートのテトラエチレンオキシドモノメタクリレート0.5モル付加物         :7質量部
・分子中に重合性基を1つ有する化合物としてのシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート           :2.8質量部
・2-クロロ-N-ブチルアクリドン        :0.42質量部
・2,2-ビス(o-クロロフェニル)-4,4’,5,5’-テトラフェニルビイミダゾール                 :2.17質量部
・マラカイトグリーンシュウ酸塩          :0.02質量部
・ロイコクリスタルバイオレット          :0.26質量部
・フェノチアジン                 :0.013質量部
・界面活性剤(商品名:メガファックF-780F、大日本インキ(株)製)
                         :0.03質量部
・メチルエチルケトン               :40質量部
・1-メトキシ-2-プロパノール         :20質量部
 なお、エッチング用光硬化性樹脂層用塗布液E1の溶剤除去後の100℃の粘度は2500Pa・secであった。
<第一の透明電極パターンの形成>
 加飾層(各実施例および比較例の着色パターン)の形成と同様にして透明電極層を形成した前面板を、洗浄し、次いで保護フィルムを除去したエッチング用感光性フィルムE1をラミネートした(基材温度:130℃、ゴムローラー温度120℃、線圧100N/cm、搬送速度2.2m/分)。仮支持体を剥離後、露光マスク(透明電極パターンを有す石英露光マスク)面とエッチング用光硬化性樹脂層との間の距離を200μmに設定し、露光量50mJ/cm(i線)でパターン露光した。
 次に、トリエタノールアミン系現像液(トリエタノールアミン30質量%含有、商品名:T-PD2(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて25℃で100秒間現像処理し、界面活性剤含有洗浄液(商品名:T-SD3(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で20秒間洗浄処理した。洗浄処理後の前面板を洗浄液に浸漬したまま回転ブラシでこすり、更に超高圧洗浄ノズルから、高圧の洗浄液を噴射することで、残渣を除去した。次いで、130℃、30分間のポストベーク処理を行って、透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を得た。
 透明電極層とエッチング用光硬化性樹脂層パターンとを形成した前面板を、ITOエッチャント(塩酸、塩化カリウム水溶液。液温30℃)を入れたエッチング槽に浸漬し、100秒間処理(エッチング処理)し、エッチング用光硬化性樹脂層で覆われていない露出した領域の透明電極層を溶解除去し、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を得た。
 次に、エッチング用光硬化性樹脂層パターンのついた透明電極層パターン付の前面板を、レジスト剥離液(N-メチル-2-ピロリドン、モノエタノールアミン、界面活性剤(商品名:サーフィノール465、エアープロダクツ製)、液温45℃)を入れたレジスト剥離槽に浸漬し、200秒間処理(剥離処理)し、エッチング用光硬化性樹脂層を除去し、加飾層と第一の透明電極パターンとを形成した前面板を得た。
《絶縁層の形成》
<絶縁層形成用感光性フィルムW1の作製>
 加飾層形成用非アルカリ現像型着色転写材料K1の作製において、非アルカリ現像型着色組成物層用塗布液を、下記処方W1からなる絶縁層用光硬化性樹脂層用塗布液に代え、絶縁層用光硬化性樹脂層を形成した以外は加飾層形成用非アルカリ現像型着色転写材料K1の作製と同様にして、絶縁層形成用感光性フィルムW1を得た(絶縁層用光硬化性樹脂層の膜厚は1.4μm)。
(絶縁層形成用塗布液:処方W1)
・バインダー3(シクロヘキシルメタクリレート(a)/メチルメタクリレート(b)/メタクリル酸共重合体(c)のグリシジルメタクリレート付加物(d)(組成(質量%):a/b/c/d=46/1/10/43、重量平均分子量:36000、酸価66mgKOH/g)の1-メトキシ-2-プロパノール、メチルエチルケトン溶液(固形分:45%)):12.5質量部
・DPHA(ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、日本化薬(株)製)のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート溶液(76質量%):1.4質量部
・ウレタン系モノマー(商品名:NKオリゴUA-32P、新中村化学(株)製:不揮発分75%、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート: 25%):0.68質量部
・トリペンタエリスリトールオクタアクリレート(商品名:V#802、大阪有機化学工業(株)製)           :1.8質量部
・ジエチルチオキサントン             :0.17質量部
・2-(ジメチルアミノ)-2-[(4-メチルフェニル)メチル]-1-[4-(4-モルホリニル)フェニル]-1-ブタノン(商品名:Irgacure379、BASF製) :0.17質量部
・分散剤(商品名:ソルスパース20000、アビシア製)   :0.19質量部
・界面活性剤(商品名:メガファックF-780F、大日本インキ製):0.05質量部
・メチルエチルケトン               :23.3質量部
・MMPGAc(ダイセル化学(株)製)      :59.8質量部
 なお、絶縁層形成用塗布液W1の溶剤除去後の100℃の粘度は4000Pa・secであった。
 加飾層の形成と同様にして作製した前記加飾層と第一の透明電極パターン付の前面板を洗浄、シランカップリング処理した後、保護フィルムを除去した絶縁層形成用感光性フィルムW1をラミネートした(基材温度:100℃、ゴムローラー温度120℃、線圧100N/cm、搬送速度2.3m/分)。仮支持体を剥離後、露光マスク(絶縁層用パターンを有す石英露光マスク)面と絶縁層との間の距離を100μmに設定し、露光量30mJ/cm(i線)でパターン露光した。
 次に、トリエタノールアミン系現像液(トリエタノールアミン30質量%含有、商品名:T-PD2(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で60秒間現像処理し、さらに、炭酸ナトリウム/炭酸水素ナトリウム系現像液(商品名:T-CD1(富士フイルム(株)製)を純水で5倍に希釈した液)を用いて25℃で50秒間現像処理した後、界面活性剤含有洗浄液(商品名:T-SD3(富士フイルム(株)製)を純水で10倍に希釈した液)を用いて33℃で20秒間洗浄処理した。洗浄処理後の前面板を洗浄液に浸漬したまま、回転ブラシでこすり、更に超高圧洗浄ノズルから、高圧の洗浄液を噴射することで残渣を除去した。次いで、230℃60分間のポストベーク処理を行って、加飾層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した前面板を得た。
《第二の透明電極パターンの形成》
<透明電極層の形成>
 前記第一の透明電極パターンの形成と同様にして、加飾層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターンを形成した前面板をDCマグネトロンスパッタリング処理し(条件:基材の温度50℃、アルゴン圧0.13Pa、酸素圧0.01Pa)、厚さ80nmのITO薄膜を形成し、透明電極層を形成した前面板を得た。ITO薄膜の表面抵抗は110Ω/□であった。
 第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用感光性フィルムE1を用いて、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、透明電極層、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た(ポストベーク処理;130℃、30分間)。
 さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング処理(30℃、50秒間)を行い、次いでエッチング用光硬化性樹脂層を除去(剥離処理:45℃、200秒間)することにより、加飾層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した前面板を得た。
《第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の形成》
 前記第一、および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、加飾層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターンを形成した前面板をDCマグネトロンスパッタリング処理し、厚さ200nmのアルミニウム(Al)薄膜を形成した前面板を得た。
 前記第一、および第二の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング用感光性フィルムE1を用いて、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、エッチング用光硬化性樹脂層パターンを形成した前面板を得た。(ポストベーク処理;130℃、30分間)。
 さらに、第一の透明電極パターンの形成と同様にして、エッチング処理(30℃、50秒間)を行い、次いでエッチング用光硬化性樹脂層を除去(剥離処理:45℃、200秒間)することにより、加飾層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素を形成した前面板を得た。
《透明保護層の形成》
 絶縁層の形成と同様にして、前記第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素まで形成した前面板に、保護フィルムを除去した絶縁層形成用感光性フィルムW1をラミネートし積層体を得た。得られた積層体から、仮支持体を剥離後、露光マスクを介さずに露光量50mJ/cm(i線)で全面露光し、現像、ポスト露光(1000mJ/cm)、ポストベーク処理を行って、加飾層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素の全てを覆うように絶縁層(透明保護層)を積層した前面板1を得た。
《画像表示装置(タッチパネル)の作製》
 特開2009-47936号公報に記載の方法で製造した液晶表示素子に、先に製造した前面板1を貼り合せ、公知の方法で静電容量型入力装置を構成要素として備えた画像表示装置1を作製した。
《画像表示装置1の評価》
 上記にて得られた各実施例および比較例の画像表示装置1の評価を行った。
 上述の各工程において、加飾層、第一の透明電極パターン、絶縁層パターン、第二の透明電極パターン、第一および第二の透明電極パターンとは別の導電性要素、透明保護層を形成した前面板1は、開口部、および裏面(非接触面)に汚れがなく、洗浄が容易であり、かつ、他部材の汚染の問題がなかった。
 また、加飾層にはピンホールがなく、光遮蔽性に優れていた。
 そして、第一の透明電極パターンと第二の透明電極パターンの間では絶縁性を有していた。
 さらに、表示特性に優れた画像表示装置が得られた。
 さらに、得られた各実施例および比較例の画像表示装置の詳細な評価を以下の方法で行った。得られた結果を下記表1に記載した。
(気泡)
 画像表示装置について、気泡を以下の基準にしたがって評価した。
G :光学顕微鏡で観察し、額縁の部分に気泡がない。
NG:光学顕微鏡で観察し、額縁の部分に気泡がある。
(導通性)
 画像表示装置について、導通性を以下の基準にしたがって評価した。
G :第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン、およびこれらとは別の導電性要素の、各々の導通性に問題がない。
NG:第一の透明電極パターン、第二の透明電極パターン、およびこれらとは別の導電性要素の、各々の導通性に問題がある。
(外観)
 画像表示装置について、外観を以下の基準にしたがって評価した。
G :目視で10人が観察し、額縁端の直線性が気になる人が2人以下。
NG:目視で10人が観察し、額縁端の直線性が気になる人が3人以上。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
 上記表1より、本発明の非アルカリ現像型着色組成物または非アルカリ現像型着色転写材料を用いて製造された本発明の着色パターンは断面形状、表面平滑性および直線部の直線性が良好であることがわかった。また、本発明の画像表示装置は、気泡の発生が抑制され、透明電極の導通性が良好であり、外観も良好であることがわかった。
 一方、シリコーン樹脂の代わりにアクリル樹脂を用いた比較例1の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて製造された比較例1の着色パターンは、テーパー角が大きくて断面形状が悪く、段差が大きくて表面平滑性が悪く(また段差も多く)、このような性能の比較例1の着色パターンを用いて製造した画像表示装置は、気泡の発生が生じ、透明電極の断線が生じて導通性が悪く、外観も不良であることがわかった。
 また、重合性化合物を添加しなかった比較例2の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて製造された比較例2の着色パターンは直線部の直線性が悪く、このような性能の比較例2の着色パターンを用いて製造した画像表示装置は、外観も不良であることがわかった。
 1  前面板(基板、ガラス基板)
 2  加飾層、着色パターン
 3  第一の透明電極パターン
3a  パッド部分
3b  接続部分
 4  第二の透明電極パターン
 5  絶縁層
 6  導電性要素
 7  透明保護層
 8  開口部
10  静電容量型入力装置
11  基板(強化処理ガラス)
21  枠内部
22  枠外部
23  配線取出し部
24、24a、24b  非アルカリ現像型着色組成物層(取り除かれなかった領域)
25  非アルカリ現像型着色組成物層が取り除かれた領域
26  仮支持体
27  熱可塑性樹脂層
28  中間層
29  保護剥離層
30  非アルカリ現像型着色転写材料
31  枠外部の縦幅
32  枠外部の横幅
33  上枠幅
34  下枠幅
35  左右枠幅
41  枠内部の縦幅
42  枠内部の横幅

Claims (18)

  1.  黒色顔料と、シリコーン樹脂と、重合性化合物とを含み、
     前記重合性化合物がモノマーまたはオリゴマーであり、かつ、分子内に-Si-O-Si-結合を有さないことを特徴とする非アルカリ現像型着色組成物。
  2.  前記黒色顔料が、カーボンブラックまたはチタンブラックであることを特徴とする請求項1に記載の非アルカリ現像型着色組成物。
  3.  前記黒色顔料が表面被覆されたことを特徴とする請求項1または2に記載の非アルカリ現像型着色組成物。
  4.  非アルカリ現像型着色組成物中の前記黒色顔料の含有割合(a)と前記シリコーン樹脂の含有割合(b)の質量比率が、下記式(1)を満たすことを特徴とする請求項1~3のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色組成物。
    式(1)  0.33≦(a)/(b)≦10
  5.  前記シリコーン樹脂がカルボキシル基、ラジカル重合性基およびアミノ基をいずれも有さないことを特徴とする請求項1~4のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色組成物。
  6.  前記重合性化合物がカルボキシル基を有さないことを特徴とする請求項1~5のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色組成物。
  7.  前記重合性化合物が(メタ)アクリル基を4つ以上有することを特徴とする請求項1~6のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色組成物。
  8.  さらに光重合開始剤または熱重合開始剤を含むことを特徴とする請求項1~7のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色組成物。
  9.  仮支持体と、
     該仮支持体上に設けられた請求項1~8のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色組成物を含む非アルカリ現像型着色組成物層とを含むことを特徴とする非アルカリ現像型着色転写材料。
  10.  前記仮支持体と前記非アルカリ現像型着色組成物層との間に熱可塑性樹脂層を設けたことを特徴とする請求項9に記載の非アルカリ現像型着色転写材料。
  11.  少なくとも前記非アルカリ現像型着色組成物層がパターンを有することを特徴とする請求項9または10に記載の非アルカリ現像型着色転写材料。
  12.  前記非アルカリ現像型着色転写材料の全体がパターンを有することを特徴とする請求項9~11のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色転写材料。
  13.  請求項1~8のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色組成物を用いて作製されてなることを特徴とする着色パターン。
  14.  請求項9~12のいずれか一項に記載の非アルカリ現像型着色転写材料を用いて作製されてなることを特徴とする着色パターン。
  15.  パターンを有する基板上に前記着色パターンを形成するときに、前記非アルカリ現像型着色転写材料の全体が有するパターンが、前記パターンを有する基板のうち少なくとも外周部のパターンに合致することを特徴とする請求項14に記載の着色パターン。
  16.  請求項13~15のいずれか一項に記載の着色パターンを含むことを特徴とする静電容量型入力装置。
  17.  前面板と、前記前面板の非接触面側に少なくとも下記(1)~(4)の要素を有し、
     (1)加飾層として前記着色パターンを含むことを特徴とする請求項16に記載の静電容量型入力装置。
    (1)加飾層
    (2)複数のパッド部分が接続部分を介して第一の方向に延在して形成された複数の第一の透明電極パターン
    (3)前記第一の透明電極パターンと電気的に絶縁され、前記第一の方向に交差する方向に延在して形成された複数のパッド部分からなる複数の第二の電極パターン
    (4)前記第一の透明電極パターンと前記第二の電極パターンとを電気的に絶縁する絶縁層
  18.  請求項16または17に記載の静電容量型入力装置を備えることを特徴とする画像表示装置。
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