WO2014054320A1 - 表面被覆切削工具およびその製造方法 - Google Patents

表面被覆切削工具およびその製造方法 Download PDF

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WO2014054320A1
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tib
region
cutting
substrate
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アノンサック パサート
津田　圭一
晋 奥野
秀明 金岡
喬啓 市川
浩之 森本
伊藤　実
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住友電工ハードメタル株式会社
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23B—TURNING; BORING
    • B23B27/00—Tools for turning or boring machines; Tools of a similar kind in general; Accessories therefor
    • B23B27/14—Cutting tools of which the bits or tips or cutting inserts are of special material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
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    • C23C16/38—Borides
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    • Y10T407/00—Cutters, for shaping
    • Y10T407/27—Cutters, for shaping comprising tool of specific chemical composition

Definitions

  • the present invention relates to a surface-coated cutting tool including a base material and a film formed on the base material, and a method for manufacturing the surface-coated cutting tool.
  • a surface-coated cutting tool including a substrate and a coating formed on the substrate includes a TiB 2 layer as the coating.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-148713 is composed of a cemented carbide substrate and a surface layer, and this surface layer is composed of two overlapping partial layers, of which the outer partial layer is oxidized.
  • a wear-resistant molded part made of aluminum and / or zirconium oxide, the inner partial layer being made of one or more borides, in particular diboride of elements such as titanium, zirconium, hafnium (ie TiB 2 layers).
  • the inner partial layer is formed under the conditions of 1000 ° C., high temperature of 50 torr, high vacuum, 1900 l / hour of hydrogen as a reaction source gas, 20 ml / hour of TiCl 4 and 4 g / hour of BCl 3.
  • a 3 ⁇ m TiB 2 layer is formed by charging and depositing for 1 hour.
  • As the outer partial layer a 5 ⁇ m aluminum oxide layer is formed.
  • a strong ⁇ layer and / or a boron-containing brittle layer is formed by diffusion of boron in the bonding layer in the cemented carbide substrate and the TiB 2 layer under the conditions of high temperature and high vacuum at the time of film formation.
  • the life of the wearable molded member was significantly reduced.
  • the diffusion inhibition and TiB coated article has been proposed to improve the wear resistance by atomization of TiB 2 in the second layer (Kohyo 2011-505261 (Patent boron Reference 2)).
  • a surface of a cemented carbide substrate is coated with a layer consisting of 0.1 to 3 ⁇ m of titanium nitride, titanium carbonitride and boron carbonitride, and then a 1 to 5 ⁇ m TiB 2 layer is formed. Yes.
  • the TiB 2 layer is formed with a raw material gas composition comprising 10% by volume hydrogen, 0.4% by volume TiCl 4 , 0.7% by volume BCl 3 and 88.9% by volume argon gas.
  • a TiB 2 layer having a thickness of 2.5 ⁇ m is formed by thermal CVD at a standard pressure and a temperature of 800 ° C. for 1 hour.
  • a boron-containing brittle layer due to diffusion of boron is not formed in the cemented carbide substrate, the particle size of TiB 2 in the TiB 2 layer is controlled to 50 nm or less, and a certain tool life is obtained. Improvements were made.
  • the cutting edge of the tool has a unique shape (saw blade type) and processing that tends to increase the temperature of the cutting edge.
  • the tool life may be significantly reduced due to chipping of the cutting edge, and further improvement of chipping resistance has been demanded.
  • the present invention has been made in view of the above-described situation, and the object of the present invention is to provide a surface-coated cutting that includes a TiB 2 layer as a coating and has highly improved wear resistance and chipping resistance. To provide a tool.
  • the present inventor has conducted extensive studies to solve the above problems, and as a result, obtained the knowledge that controlling the concentration of chlorine contained in the TiB 2 layer is important for improving chipping resistance.
  • the present invention has been completed by further studies based on the above.
  • the surface-coated cutting tool of the present invention includes a substrate and a coating formed on the substrate, and the coating includes at least one TiB 2 layer, and the TiB 2 layer is Cl together with TiB 2.
  • the TiB 2 layer when the region having a thickness of 0.5 ⁇ m from the substrate side interface is defined as a first region and the region having a thickness of 0.5 ⁇ m from the coating surface side interface is defined as a second region, Ti and Cl The atomic ratio Cl / (Ti + Cl) is higher in the second region than in the first region.
  • the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) is preferably 0.00001 to 0.001 in the first region and 0.0001 to 0.01 in the second region, and the TiB 2 layer Preferably has a thickness of 1 to 10 ⁇ m.
  • the present invention also relates to a method of manufacturing a surface-coated cutting tool including a substrate and a coating formed on the substrate, and the coating includes at least one TiB 2 layer.
  • Forming a TiB 2 layer wherein the step is a step of forming the TiB 2 layer by chemical vapor deposition using a raw material gas containing at least TiCl 4 and BCl 3, and the TiCl 2 in the raw material gas. 4 and the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 with the BCl 3 is less than 0.6 at the beginning of the step, characterized in that it is 0.6 or more at the end.
  • the surface-coated cutting tool of the present invention exhibits an excellent effect of highly improving wear resistance and chipping resistance.
  • the surface-coated cutting tool of the present invention has a configuration including a base material and a coating film formed on the base material. Such a coating preferably covers the entire surface of the substrate. However, even if a part of the substrate is not coated with this coating or the configuration of the coating is partially different, the scope of the present invention is not exceeded. It does not deviate.
  • Such a surface-coated cutting tool of the present invention includes a drill, an end mill, a cutting edge replacement cutting tip for a drill, a cutting edge replacement cutting tip for an end mill, a cutting edge replacement cutting tip for milling, a cutting edge replacement cutting tip for turning, It can be suitably used as a cutting tool such as a metal saw, gear cutting tool, reamer, and tap.
  • any substrate can be used as the substrate used in the surface-coated cutting tool of the present invention as long as it is conventionally known as this type of substrate.
  • cemented carbide for example, WC-based cemented carbide, including WC, including Co, or including carbonitrides such as Ti, Ta, Nb), cermet (TiC, TiN, TiCN, etc.) Component
  • high-speed steel ceramics (titanium carbide, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, aluminum oxide, etc.), cubic boron nitride sintered body, or diamond sintered body preferable.
  • a WC-based cemented carbide or cermet particularly TiCN-based cermet. This is because these substrates are particularly excellent in the balance between hardness and strength at high temperatures, and have excellent characteristics as substrates for surface-coated cutting tools for the above applications.
  • such a substrate includes those having a chip breaker and those having no chip breaker, and the cutting edge ridge line portion has a sharp shape. Included are edges (edges where the rake face and flank face intersect), honing (sharp edges are added to the edges), negative lands (chamfered), and combinations of honing and negative lands. .
  • the coating of the present invention may contain other layers as long as it contains at least one TiB 2 layer.
  • the other layer include an Al 2 O 3 layer, a TiN layer, a TiCN layer, a TiBNO layer, a TiCNO layer, a TiAlN layer, a TiAlCN layer, a TiAlON layer, and a TiAlONC layer.
  • the composition of the layers other than the TiB 2 layer is expressed using chemical formulas such as “TiN” and “TiCN”, the chemical ratios in which the atomic ratio is not particularly specified are as follows. It does not indicate that the atomic ratio is only “1” but includes all conventionally known atomic ratios.
  • Such a coating of the present invention has an effect of improving various properties such as wear resistance and chipping resistance by coating the base material.
  • Such a coating of the present invention preferably has a thickness of 2 to 20 ⁇ m, more preferably 5 to 15 ⁇ m. If the thickness is less than 2 ⁇ m, the wear resistance may be insufficient. If it exceeds 20 ⁇ m, the film is frequently peeled or broken when a large stress is applied between the film and the substrate in intermittent processing. May occur.
  • TiB 2 layer contained in the coating of the present invention contains Cl (chlorine) together with TiB 2.
  • a region having a thickness of 0.5 ⁇ m from the substrate side interface is defined as a first region, and the coating surface side
  • the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) between Ti and Cl is higher in the second region than in the first region.
  • the TiB 2 layer of the present invention exhibits an excellent effect that the wear resistance and chipping resistance are highly improved by controlling the chlorine concentration in the thickness direction as described above.
  • the thicknesses of the first region and the second region are defined as 0.5 ⁇ m.
  • the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) may not be sufficiently specified in terms of analysis accuracy. Therefore, from the viewpoint of analysis accuracy and the viewpoint that the first region is the region that most reflects the characteristics near the substrate side interface and the second region is the region that most reflects the characteristics near the coating surface side interface, The thickness of each region is 0.5 ⁇ m.
  • the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) in the first region and the second region can be specified by obtaining an average value of numerical values (ratio) at three or more different points for each region to prevent measurement errors. preferable.
  • the TiB 2 layer of the present invention contains TiB 2 (titanium diboride) as a main component and also contains Cl.
  • TiB 2 titanium diboride
  • Cl a compound formed from TiB 2 (titanium diboride)
  • the TiB 2 layer exists as a raw material residue at the time of production.
  • the above-mentioned excellent effects have been successfully obtained by positively controlling the concentration.
  • the presence form of Cl contained in such a TiB 2 layer is not particularly limited, and it may be dissolved in TiB 2 or may be present as free atoms or ions.
  • the TiB 2 layer of the present invention does not depart from the scope of the present invention even if inevitable impurities other than TiB 2 and Cl are contained.
  • the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) is preferably 0.00001 to 0.001 in the first region and 0.0001 to 0.01 in the second region. More preferably, it is 0.00001 to 0.0008 in the first region and 0.0001 to 0.005 in the second region.
  • the TiB 2 layer of the present invention preferably has a thickness of 1 to 10 ⁇ m, more preferably 1.5 to 8 ⁇ m. If the thickness is less than 1 ⁇ m, sufficient wear resistance may not be exhibited in continuous machining, and if it exceeds 10 ⁇ m, chipping resistance may not be stable in intermittent cutting.
  • an intermediate region exists between the first region and the second region.
  • the composition of the intermediate region ie, atomic ratio Cl / (Ti + Cl)
  • the composition of such an intermediate region may be the same as the composition of the first region, the composition of the second region, or the first region and the second region.
  • the intermediate composition can also be taken.
  • the composition of the intermediate region may be lower than the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) of the first region, or higher than the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) of the second region. Also good.
  • the composition of such an intermediate region may change in the thickness direction.
  • Such a TiB 2 layer of the present invention suppresses chipping that occurs when cutting various work materials including difficult-to-cut materials such as Ti alloys, and improves adhesion to the base material and other layers. As a result, the wear resistance and chipping resistance have been improved to a high degree, so that the fracture resistance and life of the tool itself are improved.
  • the coating film of the present invention can contain other layers in addition to the TiB 2 layer.
  • Such other layers include, for example, a base layer made of TiN, TiC, TiBN, or the like formed immediately above the base material in order to further improve the adhesion between the base material and the coating, or such a base layer and TiB. to increase the adhesion between the two layers TiCN layer and formed between these both layers, Al 2 O 3 layer and formed TiB 2 layer on to enhance the oxidation resistance, such Al 2
  • an intermediate layer formed between these layers such as TiCNO, TiBNO, etc.
  • the outermost layer etc. which consist of TiN, TiCN, TiC etc. which are formed in the outermost surface can be mentioned, it is not limited only to these.
  • the present invention also relates to a method for manufacturing a surface-coated cutting tool including a substrate and a coating formed on the substrate, and the coating includes at least one TiB 2 layer, and the manufacturing method includes the TiB 2.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 with the TiCl 4 and the BCl 3 in the raw material gas is less than 0.6 at the beginning of the step, that it is 0.6 or more at the end Features. That is, the TiB 2 layer of the present invention described above can be formed by such a manufacturing method.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 of TiCl 4 and BCl 3 as the source gas is set at the start and end of the step.
  • the change in the molar ratio may gradually change from the start to the end, or may change at any point in the step.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 shows a minimum value at the start and preferably a maximum value at the end, but the minimum or maximum value is shown in the middle of the step. It may be.
  • the composition of the intermediate region (that is, the atomic ratio Cl / (Ti + Cl)) is as described above. This tends to change depending on the change in the molar ratio of the raw material gas, TiCl 4 / BCl 3 .
  • TiCl 4 , BCl 3 , H 2 , and Ar can be used as a source gas (also referred to as a reaction gas) in the step of forming the TiB 2 layer.
  • a source gas also referred to as a reaction gas
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 between TiCl 4 and BCl 3 needs to be less than 0.6, and preferably less than 0.5. This is because when the molar ratio is 0.6 or more, the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) in the first region becomes higher than 0.001 and it is difficult to make it lower than the atomic ratio in the second region.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 at the start of the step is preferably 0.1 or more. This is because when the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 is less than 0.1, the deposition rate of TiB 2 is remarkably reduced, and it may be difficult to produce the target TiB 2 film.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 at the end of the step needs to be 0.6 or more, and more preferably 1.0 or more. This is because when the molar ratio is less than 0.6, the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) in the second region is lower than 0.001 and it is difficult to make it higher than the atomic ratio in the first region.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 at the end of the step is preferably 10 or less. This is because when the molar ratio exceeds 10, the atomic ratio Cl / (Ti + Cl) in the second region exceeds 0.01 and the TiB 2 layer tends to become brittle. In addition, the reaction efficiency may be extremely lowered and a large amount of unreacted material may accumulate, and the reaction operation itself may not be continued.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 of the source gas is made higher at the end than at the start, so that the TiB 2 layer having the structure as described above can be formed.
  • H 2 is preferably about 70 to 99 mol%, and Ar is preferably about 0 to 20 mol% (that is, Ar may not be included). Thus, H 2 and Ar occupy most of the source gas in terms of volume ratio.
  • the reaction temperature in this step is 800 to 950 ° C., more preferably 850 to 900 ° C. If it is less than 800 ° C., it becomes difficult to form a TiB 2 layer having the characteristics of the present invention. If it exceeds 950 ° C., when TiB 2 is coarsened or the substrate is a cemented carbide, a strong ⁇ layer (WCoB layer) Or a boron-containing brittle layer (CoB layer). In this respect, according to the production method of the present invention, an excellent effect is shown in which the formation of a strong ⁇ layer or a boron-containing brittle layer can be prevented.
  • the TiB 2 layer of the present invention can adopt other conditions such as pressure without particularly limiting conventionally known conditions.
  • these layers can be formed by a conventionally known chemical vapor deposition method or physical vapor deposition method, and the formation method is not particularly limited. From the viewpoint that the TiB 2 layer can be continuously formed in the vapor deposition apparatus, these layers are preferably formed by chemical vapor deposition.
  • the base material A and base material B described in Table 1 below were prepared. Specifically, the raw material powder having the composition shown in Table 1 is uniformly mixed, pressed into a predetermined shape, and then sintered at 1300-1500 ° C. for 1-2 hours, so that the shape is CNMG120408NUX And a base material made of cemented carbide having two types of shapes, SEET13T3AGSN-G. That is, the thing of two different shapes was produced for every base material.
  • CNMG120408NUX is the shape of a cutting edge exchangeable cutting tip for turning
  • SEET13T3AGSN-G is a cutting edge exchangeable cutting tip for milling. It is the shape.
  • a coating film was formed on the surface of the substrate obtained above. Specifically, by setting the substrate in a chemical vapor deposition apparatus, a film was formed on the substrate by the chemical vapor deposition method.
  • the film formation conditions were as described in Table 2 and Table 3 below, and the film formation time was adjusted to achieve the thicknesses described in Table 4.
  • Table 2 shows the conditions for forming each layer other than the TiB 2 layer
  • Table 3 shows the conditions for forming the TiB 2 layer. Note that TiBNO and TiCNO in Table 2 are intermediate layers in Table 4 described later, and that other layers correspond to the respective layers except the TiB 2 layer in Table 4.
  • the TiB 2 layer is formed in seven conditions: a to e and x to y, of which a to e are the conditions according to the method of the present invention, and x to y are comparative examples. (Conventional technology). Also, the first half of the total film formation time for forming the TiB 2 layer is the source gas composition described in the “starting” column, and the second half is the source gas composition described in the “ending” column. .
  • the first half is a source gas (reaction gas) having a composition of 2.0 mol% TiCl 4 , 3.7 mol% BCl 3 , and 94.3 mol% H 2
  • the second half is A raw material gas (reaction gas) having a composition comprising 2.5 mol% TiCl 4 , 3.7 mol% BCl 3 , and 93.8 mol% H 2 , under conditions of a pressure of 80.0 kPa and a temperature of 850 ° C. It shows that the TiB 2 layer was formed by chemical vapor deposition.
  • the molar ratio TiCl 4 / BCl 3 in each raw material gas composition is as shown in Table 3, and the composition at the start of the step of forming the TiB 2 layer is the composition of “starting” in Table 3. Yes, the composition at the end is the composition at the “end” in Table 3.
  • Each layer other than the TiB 2 layer described in Table 2 was formed in the same manner except that the raw material gas composition was not changed during the film formation. “Remaining” in Table 2 indicates that H 2 occupies the remainder of the source gas (reactive gas). The “total gas amount” indicates the total volume flow rate introduced into the CVD furnace per unit time with the gas in the standard state (0 ° C., 1 atm) as an ideal gas.
  • each coating including the atomic ratio Cl / (Cl + Ti) in the TiB 2 layer
  • SEM-EDX scanning electron microscope-energy dispersive X-ray spectroscopy
  • region measured about three points for every area
  • Table 3 The results are shown in Table 3.
  • the load was 0 to 100 N, and the load increase rate was 1 N / mm.
  • the peeling site was identified by observation with an E wave (Acoustic Emission wave) and SEM, and the moving distance of the diamond indenter until peeling was measured to determine the critical peeling stress.
  • the surface-coated cutting tool of Example 4 employs the base material A described in Table 1 as the base material, and forms a TiN layer having a thickness of 0.5 ⁇ m as a base layer on the surface of the base material A under the conditions shown in Table 2.
  • the TiB 2 layer of thickness 3.5 ⁇ m was formed by forming condition c in Table 3 to the TiCN layer, the TiB 2
  • normal wear means a damage form (having a smooth wear surface) that does not cause chipping or chipping, and is composed only of wear, and “defect” is broken. It means a large chip generated at the blade.
  • normal wear means a damage form (having a smooth wear surface) that does not cause chipping, chipping, or the like and has only a wear surface.
  • the number of passes refers to a surface-coated cutting tool (blade tip replacement type) from one end to the other end of one side surface (300 mm ⁇ 80 mm surface) of the following work material (shape: 300 mm ⁇ 100 mm ⁇ 80 mm block shape)
  • the operation of rolling with a cutter with one cutting tip) was repeated, and the number of repetitions was defined as the number of passes (Note that the number of passes with a numerical value less than the decimal point is on the way from one end to the other end) Indicating that the above conditions have been reached).
  • the cutting distance means the total distance of the work material that has been cut by the above conditions, and corresponds to the product of the number of passes and the length of the side surface (300 mm).
  • normal wear means a damage form (having a smooth wear surface) that does not cause chipping or chipping and has only wear
  • defects It means a large chip generated at the blade.
  • the number of passes is the same as in the cutting test 3 in that the following work material (shape: 300 mm ⁇ 100 mm ⁇ 80 mm block shape) from one end to the other end of one side surface (300 mm ⁇ 80 mm surface)
  • the operation of rolling with a cutter with one cutting tool (blade-replaceable cutting tip) was repeated, and the number of repetitions was defined as the number of passes. Shows that the above condition has been reached halfway to the other end).
  • the cutting distance also means the total distance of the work material that has been cut until the above conditions are reached, as in the cutting test 3, and corresponds to the product of the number of passes and the length of the side surface (300 mm). .
  • normal wear means a damage form (having a smooth wear surface) that does not cause chipping or chipping and has only wear, and “defect” is cut. It means a large chip generated at the blade.

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Abstract

　本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被膜とを含み、該被膜は、少なくとも一層のＴｉＢ2層を含み、該ＴｉＢ2層は、ＴｉＢ2とともにＣｌを含み、該ＴｉＢ2層において、該基材側界面から厚み０．５μｍの領域を第１領域とし、該被膜表面側界面から厚み０．５μｍの領域を第２領域とする場合、ＴｉとＣｌとの原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）は、該第１領域よりも該第２領域で高くなることを特徴とする。

Description

表面被覆切削工具およびその製造方法
　本発明は、基材と該基材上に形成された被膜とを含む表面被覆切削工具およびその製造方法に関する。
　従来より、基材と該基材上に形成された被膜とを含む表面被覆切削工具において、その被膜としてＴｉＢ2層を含むものが知られている。
　たとえば、特開昭５１－１４８７１３号公報（特許文献１）は、超硬合金基体および表面層からなり、この表面層は重ねられた２つの部分層で構成されており、そのうち外側部分層は酸化アルミニウムおよび／または酸化ジルコニウムからなり、内側部分層は１種類以上のホウ化物、特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム等の元素の二ホウ化物（すなわちＴｉＢ2層）から成る耐摩耗性成形部材を開示している。
　上記表面層のうち内側部分層は、１０００℃、５０ｔｏｒｒの高温、高真空の条件下で、反応原料ガスとして水素を１９００ｌ／時間、ＴｉＣｌ4を２０ｍｌ／時間、ＢＣｌ3を４ｇ／時間の条件で投入し１時間成膜することにより、３μｍのＴｉＢ2層を形成している。また外側部分層としては、５μｍの酸化アルミニウム層が形成されている。
　しかしながら、上記成膜時の高温、高真空の条件下において超硬合金基体中の接合層およびＴｉＢ2層中のホウ素の拡散により強η層および／またはホウ素含有脆性層が生じ、このためこの耐摩耗性成形部材の寿命を著しく低下させていた。
　上記の問題を解決することを目的として、ホウ素の拡散抑制およびＴｉＢ2層におけるＴｉＢ2の微粒化により耐摩耗性を向上させた被覆物品が提案されている（特表２０１１－５０５２６１号公報（特許文献２））。この被覆物品は、超硬基材の表面に０．１～３μｍの窒化チタン、炭窒化チタンおよび炭ホウ素窒化チタンの群からなる層を被覆した後、１～５μｍのＴｉＢ2層が形成されている。上記各層のうちＴｉＢ2層の形成条件は、１０容量％の水素、０．４容量％のＴｉＣｌ4、０．７容量％のＢＣｌ3および８８．９容量％のアルゴンガスからなる原料ガス組成で、１時間、標準圧力、温度８００℃において、熱ＣＶＤ法により厚み２．５μｍのＴｉＢ2層が形成されている。この被覆物品においては、超硬基材中にホウ素の拡散によるホウ素含有脆性層が形成されておらず、ＴｉＢ2層におけるＴｉＢ2の粒径も５０ｎｍ以下に制御されており、ある程度の工具寿命の向上が図られていた。
特開昭５１－１４８７１３号公報 特表２０１１－５０５２６１号公報
　上記のように特許文献２の被覆物品は、ある程度の工具寿命の向上が測られたものであるが、強η層および／またはホウ素含有脆性層形成の抑制やＴｉＢ2層におけるＴｉＢ2の粒径の制御のみに着目されているため、ＴｉＢ2層の性能をさらに向上させるためには限界があり、他の観点からの考察が必要とされていた。
　また、このような被覆物品を用いて難削材のＴｉ基合金を加工する場合のように、特に刃先の温度が上昇しやすい加工や切屑の独特な形状（鋸刃型）によって工具の刃先に応力の集中や振動が発生しやすい加工においては、刃先のチッピングに起因して工具寿命が著しく低下する場合があり、さらなる耐チッピング性の向上が求められていた。
　本発明は、上記のような現状に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、被膜としてＴｉＢ2層を含み、耐摩耗性と耐チッピング性とを高度に向上させた表面被覆切削工具を提供することにある。
　本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を重ねたところ、ＴｉＢ2層に含まれる塩素の濃度を制御することが耐チッピング性の向上に重要であるとの知見を得、この知見に基づきさらに検討を重ねることにより、本発明を完成させたものである。
　すなわち、本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被膜とを含み、該被膜は、少なくとも一層のＴｉＢ2層を含み、該ＴｉＢ2層は、ＴｉＢ2とともにＣｌを含み、該ＴｉＢ2層において、該基材側界面から厚み０．５μｍの領域を第１領域とし、該被膜表面側界面から厚み０．５μｍの領域を第２領域とする場合、ＴｉとＣｌとの原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）は、該第１領域よりも該第２領域で高くなることを特徴とする。
　ここで、該原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）は、該第１領域において０．００００１～０．００１であり、該第２領域において０．０００１～０．０１であることが好ましく、該ＴｉＢ2層は、１～１０μｍの厚みを有することが好ましい。
　また、本発明は、基材と該基材上に形成された被膜とを含み、該被膜は少なくとも一層のＴｉＢ2層を含む表面被覆切削工具の製造方法にも係わり、該製造方法は、該ＴｉＢ2層を形成するステップを含み、該ステップは、ＴｉＣｌ4とＢＣｌ3とを少なくとも含む原料ガスを用いて、該ＴｉＢ2層を化学蒸着法により形成するステップであり、該原料ガスにおける該ＴｉＣｌ4と該ＢＣｌ3とのモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は、該ステップの開始時において０．６未満であり、終了時において０．６以上となっていることを特徴とする。
　本発明の表面被覆切削工具は、耐摩耗性と耐チッピング性とを高度に向上させたという優れた効果を示す。
　以下、本発明についてさらに詳細に説明する。
　＜表面被覆切削工具＞
　本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被膜とを含む構成を有する。このような被膜は、基材の全面を被覆することが好ましいが、基材の一部がこの被膜で被覆されていなかったり、被膜の構成が部分的に異なっていたとしても本発明の範囲を逸脱するものではない。
　このような本発明の表面被覆切削工具は、ドリル、エンドミル、ドリル用刃先交換型切削チップ、エンドミル用刃先交換型切削チップ、フライス加工用刃先交換型切削チップ、旋削加工用刃先交換型切削チップ、メタルソー、歯切工具、リーマ、タップなどの切削工具として好適に使用することができる。
　＜基材＞
　本発明の表面被覆切削工具に用いられる基材は、この種の基材として従来公知のものであればいずれのものも使用することができる。たとえば、超硬合金（たとえばＷＣ基超硬合金、ＷＣの他、Ｃｏを含み、あるいはＴｉ、Ｔａ、Ｎｂ等の炭窒化物を添加したものも含む）、サーメット（ＴｉＣ、ＴｉＮ、ＴｉＣＮ等を主成分とするもの）、高速度鋼、セラミックス（炭化チタン、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムなど）、立方晶型窒化硼素焼結体、またはダイヤモンド焼結体のいずれかであることが好ましい。
　これらの各種基材の中でも、特にＷＣ基超硬合金、サーメット（特にＴｉＣＮ基サーメット）を選択することが好ましい。これは、これらの基材が特に高温における硬度と強度とのバランスに優れ、上記用途の表面被覆切削工具の基材として優れた特性を有するためである。
　なお、表面被覆切削工具が刃先交換型切削チップ等である場合、このような基材は、チップブレーカを有するものも、有さないものも含まれ、また、刃先稜線部は、その形状がシャープエッジ（すくい面と逃げ面とが交差する稜）、ホーニング（シャープエッジに対してアールを付与したもの）、ネガランド（面取りをしたもの）、ホーニングとネガランドとを組み合せたもののいずれのものも含まれる。
　＜被膜＞
　本発明の被膜は、少なくとも一層のＴｉＢ2層を含む限り、他の層を含んでいてもよい。他の層としては、たとえばＡｌ2Ｏ3層、ＴｉＮ層、ＴｉＣＮ層、ＴｉＢＮＯ層、ＴｉＣＮＯ層、ＴｉＡｌＮ層、ＴｉＡｌＣＮ層、ＴｉＡｌＯＮ層、ＴｉＡｌＯＮＣ層等を挙げることができる。なお、本発明において、ＴｉＢ2層以外の他の層の組成を「ＴｉＮ」や「ＴｉＣＮ」等の化学式を用いて表わす場合、その化学式において特に原子比を特定していないものは、各元素の原子比が「１」のみであることを示すものではなく、従来公知の原子比が全て含まれるものとする。
　このような本発明の被膜は、基材を被覆することにより、耐摩耗性や耐チッピング性等の諸特性を向上させる作用を有するものである。
　このような本発明の被膜は、２～２０μｍ、より好ましくは５～１５μｍの厚みを有することが好適である。その厚みが２μｍ未満では、耐摩耗性が不十分となる場合があり、２０μｍを超えると、断続加工において被膜と基材との間に大きな応力が加わった際に被膜の剥離または破壊が高頻度に発生する場合がある。
　＜ＴｉＢ2層＞
　本発明の被膜に含まれるＴｉＢ2層は、ＴｉＢ2とともにＣｌ（塩素）を含み、該ＴｉＢ2層において、該基材側界面から厚み０．５μｍの領域を第１領域とし、該被膜表面側界面から厚み０．５μｍの領域を第２領域とする場合、ＴｉとＣｌとの原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）は、該第１領域よりも該第２領域で高くなることを特徴とする。本発明のＴｉＢ2層は、このように厚み方向において塩素濃度を制御したことにより、耐摩耗性と耐チッピング性とが高度に向上するという優れた効果を示す。これは、第１領域において相対的にＣｌの量を少なくすることにより、硬度が高くなり、また第２領域において相対的にＣｌの量を多くすることにより、摺動特性および追従性が向上するためである。すなわち、第１領域において硬度が高くなることによって工具の横方向からの力に対して抵抗することができ、また第２領域において摺動特性および追従性が向上したことにより表面に付着する切り屑に対する耐溶着性が向上し、以ってこれらが相乗的に作用することにより上記のような優れた効果が得られるものと推測される。
　これに対し、ＴｉＢ2層の全域において一律にＣｌの量が少ない場合は、硬度が高くなり耐摩耗性に優れるものの、耐チッピング性が低下するものとなる。一方、ＴｉＢ2層の全域において一律にＣｌの量が多い場合は、密着性および耐摩耗性の両者が低下したものとなる。
　なお、第１領域および第２領域の厚みをそれぞれ０．５μｍと規定したのは、０．５μｍ未満では分析精度上、原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）を十分に特定できない場合があるためである。このため、第１領域を基材側界面近傍の特性を最も反映する領域とし、かつ第２領域を被膜表面側界面近傍の特性を最も反映する領域とする観点と分析精度上の観点とから、各領域の厚みを０．５μｍとしたものである。なお、第１領域および第２領域における原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）の特定は、各領域ごとに互いに異なる３地点以上の数値（比）の平均値を求めることにより、測定誤差を防止することが好ましい。
　このように本発明のＴｉＢ2層は、ＴｉＢ2（二ホウ化チタン）を主成分とするとともにＣｌを含むものであるが、従来、製造時の原料の残留物として存在することが知られていたＣｌを、積極的にその濃度を制御することにより上記のような優れた効果を得ることに成功したものである。なお、このようなＴｉＢ2層に含まれるＣｌの存在形態は特に限定されず、ＴｉＢ2に固溶されていてもよいし、遊離の原子またはイオンとして存在していてもよい。また、本発明のＴｉＢ2層は、ＴｉＢ2およびＣｌ以外に不可避不純物が含まれていても本発明の範囲を逸脱するものではない。
　ここで、原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）は、第１領域において０．００００１～０．００１であり、第２領域において０．０００１～０．０１であることが好ましい。より好ましくは、第１領域において０．００００１～０．０００８であり、第２領域において０．０００１～０．００５である。
　原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）を第１領域において０．００００１～０．００１とすることにより、被膜形成時または切削加工時に発生する熱によりＣｌが基材へ拡散することを防止でき、Ｃｌの拡散による基材の腐食を抑制することができる。その結果、基材と被膜との密着性が向上し、耐チッピング性の向上に資するものとなる。
　一方、原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）を第２領域において０．０００１～０．０１とすることにより、ＴｉＢ2層の脆化が抑制されるとともに高温摺動特性が向上し、被削材に対する摩擦係数が低下したため、耐摩耗性および耐チッピング性の向上に資するものとなる。
　また、本発明のＴｉＢ2層は、１～１０μｍ、より好ましくは１．５～８μｍの厚みを有することが好適である。その厚みが１μｍ未満では、連続加工において十分に耐摩耗性を発揮できない場合があり、１０μｍを超えると、断続切削において耐チッピング性が安定しない場合がある。
　なお、ＴｉＢ2層の厚みが１μｍを超える場合、上記第１領域と第２領域との間に中間領域が存在することになるが、この中間領域の組成（すなわち原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ））は、特に限定されない。そのような中間領域の組成は、上記第１領域の組成と同じであってもよいし、上記第２領域の組成と同じであってもよく、またあるいは上記の第１領域と第２領域との中間的な組成をとることもできる。またさらに、その中間領域の組成は、上記第１領域の原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）より低いものであってもよいし、上記第２領域の原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）より高いものであってもよい。なお、このような中間領域の組成は、厚み方向に変化するものであってもよい。
　このような本発明のＴｉＢ2層は、Ｔｉ合金などの難削材をはじめ各種の被削材を切削する際に生じるチッピングを抑制するとともに、基材や他の層に対する密着性が向上し、以って耐摩耗性と耐チッピング性とが高度に向上したことにより、工具自体の耐欠損性および寿命が向上したものとなる。
　＜その他の層＞
　本発明の被膜は、上記のＴｉＢ2層以外に他の層を含むことができる。このような他の層としては、たとえば基材と被膜との密着性をさらに高めるために基材の直上に形成されるＴｉＮ、ＴｉＣ、ＴｉＢＮ等からなる下地層や、このような下地層とＴｉＢ2層との密着性を高めるためにこれら両層の間に形成されるＴｉＣＮ層や、耐酸化性を高めるためにＴｉＢ2層上に形成されるＡｌ2Ｏ3層や、このようなＡｌ2Ｏ3層とＴｉＢ2層との密着性を高めるためにこれら両層の間に形成されるＴｉＣＮＯ、ＴｉＢＮＯ等からなる中間層や、刃先が使用済か否かの識別性を示すために被膜の最表面に形成されるＴｉＮ、ＴｉＣＮ、ＴｉＣ等からなる最外層等を挙げることができるが、これらのみに限定されるものではない。
　このような他の層は、通常０．１～１０μｍの厚みで形成することができる。
　＜製造方法＞
　本発明は、基材と該基材上に形成された被膜とを含み、該被膜は少なくとも一層のＴｉＢ2層を含む表面被覆切削工具の製造方法にも係わり、該製造方法は、該ＴｉＢ2層を形成するステップを含み、該ステップは、ＴｉＣｌ4（四塩化チタン）とＢＣｌ3（三塩化ホウ素）とを少なくとも含む原料ガスを用いて、該ＴｉＢ2層を化学蒸着法により形成するステップであり、該原料ガスにおける該ＴｉＣｌ4と該ＢＣｌ3とのモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は、該ステップの開始時において０．６未満であり、終了時において０．６以上となっていることを特徴とする。すなわち、上記で説明した本発明のＴｉＢ2層は、このような製造方法により形成することができる。
　このように本発明の製造方法では、該ＴｉＢ2層を形成するステップにおいて、原料ガスであるＴｉＣｌ4とＢＣｌ3とのモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3を、該ステップの開始時と終了時とにおいて相違させることにより、上記で説明したような特徴あるＴｉＢ2層の構造を形成することが可能となったものである。このような条件を採用したことにより、なぜＴｉＢ2層の構造が上記のような特徴ある構造になるのか、その詳細なメカニズムは未だ解明されていないが、恐らくＴｉＢ2層の結晶が成長する際に、原料ガス中のＴｉＣｌ4およびＢＣｌ3のＣｌの分裂、蒸発、脱離の状態が両者のモル比に依存して変化し、その結果ＣｌのＴｉＢ2層における含有率が変化するためではないかと考えられる。
　この点、モル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は、該ステップの開始時において０．６未満であり、終了時において０．６以上となっている限り、本発明の構成のＴｉＢ2層を得ることができるが、そのモル比の変化は、開始時から終了時にかけて徐々に変化するものであってもよいし、該ステップのいずれかの時点において切り替わるものであってもよい。
　また、該モル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は、開始時において最小の数値を示し、終了時において最大の数値を示すことが好ましいが、該ステップの途中段階において、最小値や最大値が示さるものであってもよい。
　また、本発明のＴｉＢ2層が、上記のように第１領域と第２領域との間に中間領域を有する場合、その中間領域の組成（すなわち原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ））は、上記のような原料ガスのモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3の変化に依存して変化する傾向を示す。
　ここで、上記の製造方法をより詳細に説明すると、まず、ＴｉＢ2層を形成するステップにおける原料ガス（反応ガスともいう）としては、ＴｉＣｌ4、ＢＣｌ3、Ｈ2、Ａｒを用いることができる。そして、該ステップの開始時において、ＴｉＣｌ4とＢＣｌ3とのモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は０．６未満とすることを要し、さらに０．５未満とすることが好ましい。該モル比が０．６以上となると、第１領域における原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）が０．００１より高くなり、第２領域の該原子比よりも低くすることが困難となるからである。なお、該ステップの開始時におけるモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は０．１以上とすることが好ましい。モル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3が０．１未満では、ＴｉＢ2の析出速度が著しく低下し、目的とするＴｉＢ2膜の生成が困難となる場合があるためである。
　一方、該ステップの終了時におけるモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は、０．６以上とすることを要し、さらに１．０以上とすることが好ましい。該モル比が０．６未満になると、第２領域における原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）が０．００１より低くなり、第１領域の該原子比よりも高くすることが困難となるからである。なお、該ステップの終了時におけるモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は１０以下とすることが好ましい。これは、該モル比が１０を超えると第２領域における原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）が０．０１を超え、ＴｉＢ2層が脆化する傾向を示すためである。また、反応効率が極端に低下するとともに多量の未反応物が堆積し、反応操作自体が継続できなくなる場合がある。
　このようにＴｉＢ2層を形成するステップにおいて原料ガスのモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3を、開始時に比し終了時において高くすることにより、上記のような構造のＴｉＢ2層を形成することができる。
　なお、上記原料ガス中Ｈ2は約７０～９９モル％、Ａｒは約０～２０モル％とすることが好ましい（すなわちＡｒを含まない場合もある）。このように、原料ガス中、体積比率的にはＨ2およびＡｒが大部分を占めるものとなる。
　また、該ステップの反応温度は、８００～９５０℃とし、より好ましくは８５０～９００℃である。８００℃未満では本発明の特性を有するＴｉＢ2層を形成することが困難となり、９５０℃を超えるとＴｉＢ2が粗粒化したり基材が超硬合金である場合には強η層（ＷＣｏＢ層）やホウ素含有脆性層（ＣｏＢ層）を生成したりする恐れがある。この点、本発明の製造方法によれば、強η層やホウ素含有脆性層が生成することを防止できるという優れた効果が示される。
　本発明のＴｉＢ2層は、上記の条件を採用する限り、圧力等の他の条件は従来公知の条件を特に限定することなく採用することができる。なお、本発明の被膜が、ＴｉＢ2層以外の層を含む場合、それらの層は従来公知の化学蒸着法や物理蒸着法により形成することができ特にその形成方法は限定されないが、一つの化学蒸着装置内においてＴｉＢ2層と連続的に形成できるという観点から、それらの層は化学蒸着法により形成することが好ましい。
　以下、実施例を挙げて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　＜基材の調製＞
　以下の表１に記載の基材Ａおよび基材Ｂを準備した。具体的には、表１に記載の配合組成からなる原料粉末を均一に混合し、所定の形状に加圧成形した後、１３００～１５００℃で１～２時間焼結することにより、形状がＣＮＭＧ１２０４０８ＮＵＸとＳＥＥＴ１３Ｔ３ＡＧＳＮ－Ｇとの２種類の形状の超硬合金製の基材を得た。すなわち、各基材毎に２種の異なった形状のものを作製した。
　上記２種の形状はいずれも住友電工ハードメタル社製のものであり、ＣＮＭＧ１２０４０８ＮＵＸは旋削用の刃先交換型切削チップの形状であり、ＳＥＥＴ１３Ｔ３ＡＧＳＮ－Ｇは転削（フライス）用の刃先交換型切削チップの形状である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　＜被膜の形成＞
　上記で得られた基材に対してその表面に被膜を形成した。具体的には、基材を化学蒸着装置内にセットすることにより、基材上に被膜を化学蒸着法により形成した。被膜の形成条件は、以下の表２および表３に記載した通りであり、表４に記載した各厚みとなるように成膜時間を調整した。表２はＴｉＢ2層以外の各層の形成条件を示し、表３はＴｉＢ2層の形成条件を示している。なお、表２中のＴｉＢＮＯとＴｉＣＮＯは後述の表４の中間層であり、それ以外のものも表４中のＴｉＢ2層を除く各層に相当することを示す。
　また、表３に示すように、ＴｉＢ2層の形成条件はａ～ｅとｘ～ｙの７通りであり、このうちａ～ｅが本発明の方法に従う条件であり、ｘ～ｙが比較例（従来技術）の条件である。また、ＴｉＢ2層を形成する全成膜時間のうち前半の半分を「開始時」の欄に記載した原料ガス組成とし、後半の半分を「終了時」の欄に記載した原料ガス組成とした。
　たとえば、形成条件ａは、前半を２．０モル％のＴｉＣｌ4、３．７モル％のＢＣｌ3、および９４．３モル％のＨ2からなる組成の原料ガス（反応ガス）とし、後半を２．５モル％のＴｉＣｌ4、３．７モル％のＢＣｌ3、および９３．８モル％のＨ2からなる組成の原料ガス（反応ガス）とし、圧力８０．０ｋＰａおよび温度８５０℃の条件下でＴｉＢ2層を化学蒸着法により形成したことを示している。なお、それぞれの原料ガス組成中のモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は、表３に示した通りであり、ＴｉＢ2層を形成するステップの開始時の組成は表３の「開始時」の組成であり、終了時の組成は表３の「終了時」の組成である。
　なお、表２に記載したＴｉＢ2層以外の各層についても、原料ガス組成を成膜途中で変化させないことを除き、同様に形成した。なお、表２中の「残り」とは、Ｈ2が原料ガス（反応ガス）の残部を占めることを示している。また、「全ガス量」とは、標準状態（０℃、１気圧）における気体を理想気体とし、単位時間当たりにＣＶＤ炉に導入された全体積流量を示す。
　また、各被膜の組成（ＴｉＢ2層における原子比Ｃｌ／（Ｃｌ＋Ｔｉ）を含む）は、ＳＥＭ－ＥＤＸ（走査型電子顕微鏡－エネルギー分散型Ｘ線分光）により確認した。なお、第１領域および第２領域の原子比Ｃｌ／（Ｃｌ＋Ｔｉ）は、各領域ごとに３地点について測定し、その平均値とした。その結果を表３に示す。
　＜ＴｉＢ2層の臨界剥離応力＞
　ＴｉＢ2層の臨界剥離応力は、次のようにして測定した。
　まず、上記のいずれかの形状の超硬合金製基材の表面を研磨した（Ｒａ＜０．０５μｍ）後、表３記載の条件で厚み５μｍのＴｉＢ2層を該基材上に直接形成した。次いで、先端の曲率半径が０．２ｍｍであるダイヤモンド圧子をＴｉＢ2層に押し付け、荷重を増加させながらＴｉＢ2層を引っ掻き、ＴｉＢ2層が剥離する際の荷重値を求め、これを臨界剥離応力（Ｎ）とした。この臨界剥離応力の数値が大きい程、基材との密着性に優れていることを示す。その結果を表３に示す。
　なお、上記において、荷重は０～１００Ｎとし、荷重増加速度は１Ｎ／ｍｍとした。また、Ａ．Ｅ波（Ａｃｏｕｓｔｉｃ　Ｅｍｉｓｓｉｏｎ波）およびＳＥＭによる観察により剥離箇所を同定し、剥離するまでのダイヤモンド圧子の移動距離を計測し、臨界剥離応力を求めた。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
　＜表面被覆切削工具の作製＞
　上記の表２および表３の条件により基材上に被膜を形成することにより、以下の表４に示した実施例１～２０および比較例１～７の表面被覆切削工具（各被膜毎に２種（基材の形状違い）の刃先交換型切削チップ）を作製した。
　たとえば実施例４の表面被覆切削工具は、基材として表１に記載の基材Ａを採用し、その基材Ａの表面に下地層として厚み０．５μｍのＴｉＮ層を表２の条件で形成し、その下地層上に厚み４．０μｍのＴｉＣＮ層を表２の条件で形成し、そのＴｉＣＮ層上に厚み３．５μｍのＴｉＢ2層を表３の形成条件ｃで形成し、そのＴｉＢ2層上に中間層として厚み０．５μｍのＴｉＢＮＯ層、厚み２．５μｍのＡｌ2Ｏ3層、最外層として厚み１．０μｍのＴｉＮ層を、それぞれこの順に表２の条件で形成することにより、基材上に合計厚み１２．０μｍの被膜を形成した構成であることを示している。
　なお、比較例１～７のＴｉＢ2層は全て本発明の方法に従わない従来技術の条件で形成されているため、それらのＴｉＢ2層は本発明のような構成を示さないことになる（すなわち、厚み方向において原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）が変化せず一定となる。表３参照）。
　なお、表４中の空欄は、該当する層が形成されていないことを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　＜切削試験＞
　上記で得られた表面被覆切削工具を用いて、以下の４種類の切削試験を行なった。
　＜切削試験１＞
　以下の表５に記載した実施例および比較例の表面被覆切削工具（形状がＣＮＭＧ１２０４０８ＮＵＸであるものを使用）について、以下の切削条件により逃げ面摩耗量（Ｖｂ）が０．２５ｍｍとなるまでの切削時間を測定するとともに刃先の最終損傷形態を観察した。その結果を表５に示す。切削時間が長いもの程、耐摩耗性に優れていることを示す。また、最終損傷形態が正常摩耗に近いもの程、耐チッピング性に優れていることを示す。
　＜切削条件＞
被削材：Ｔｉ６Ａｌ４Ｖ丸棒外周切削
周速：６０ｍ／ｍｉｎ
送り速度：０．１５ｍｍ／ｒｅｖ
切込み量：１．０ｍｍ
切削液：あり
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　表５より明らかなように本発明の実施例の表面被覆切削工具は、比較例の表面被覆切削工具に比し、耐摩耗性および耐チッピング性の両者に優れていることは明らかである。
　なお、表５の最終損傷形態において、「正常摩耗」とはチッピング、欠けなどを生じず、摩耗のみで構成される損傷形態（平滑な摩耗面を有する）を意味し、「欠損」とは切れ刃部に生じた大きな欠けを意味する。
　＜切削試験２＞
　以下の表６に記載した実施例および比較例の表面被覆切削工具（形状がＣＮＭＧ１２０４０８ＮＵＸであるものを使用）について、以下の切削条件により逃げ面摩耗量（Ｖｂ）が０．２５ｍｍとなるまでの切削時間を測定するとともに刃先の最終損傷形態を観察した。その結果を表６に示す。切削時間が長いもの程、耐摩耗性に優れていることを示す。また、最終損傷形態が正常摩耗に近いもの程、耐チッピング性に優れていることを示す。
　＜切削条件＞
被削材：インコネル７１８丸棒外周切削
周速：５０ｍ／ｍｉｎ
送り速度：０．１５ｍｍ／ｒｅｖ
切込み量：１．０ｍｍ
切削液：あり
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　表６より明らかなように本発明の実施例の表面被覆切削工具は、比較例の表面被覆切削工具に比し、耐摩耗性および耐チッピング性の両者に優れていることは明らかである。
　なお、表６の最終損傷形態において、「正常摩耗」とはチッピング、欠けなどを生じず、摩耗のみで構成される損傷形態（平滑な摩耗面を有する）を意味し、「前境界微小欠」とは仕上げ面を生成する切れ刃部に生じた微小な欠けでかつ基材の露出が認められることを意味し、「前境界微小チッピング」とは仕上げ面を生成する切れ刃部に生じた微小な欠けを意味する。
　＜切削試験３＞
　以下の表７に記載した実施例および比較例の表面被覆切削工具（形状がＳＥＥＴ１３Ｔ３ＡＧＳＮ－Ｇであるものを使用）について、以下の切削条件により欠損または逃げ面摩耗量（Ｖｂ）が０．２５ｍｍになるまでのパス回数および切削距離を測定するとともに刃先の最終損傷形態を観察した。その結果を表７に示す。
　なお、パス回数とは、下記被削材（形状：３００ｍｍ×１００ｍｍ×８０ｍｍのブロック状）の一側面（３００ｍｍ×８０ｍｍの面）の一方端から他方端までを、表面被覆切削工具（刃先交換型切削チップ）を１枚取付けたカッタにより転削する操作を繰り返し、その繰り返し回数をパス回数とした（なお、パス回数に少数点以下の数値を伴うものは、一方端から他方端までの途中で上記の条件に達したことを示す）。なお、切削距離とは、上記の条件に達するまでに切削加工された被削材の合計距離を意味し、パス回数と上記側面の長さ（３００ｍｍ）との積に相当する。
　パス回数が多いもの程（すなわち切削距離が長いもの程）、耐摩耗性に優れていることを示す。また、最終損傷形態が正常摩耗に近いもの程、耐チッピング性に優れていることを示す。
　＜切削条件＞
被削材：Ｔｉ６Ａｌ４Ｖブロック材
周速：７０ｍ／ｍｉｎ
送り速度：０．３ｍｍ／ｓ
切込み量：１．０ｍｍ
切削液：あり
カッタ：ＷＧＣ４１６０Ｒ（住友電工ハードメタル社製）
チップ取付け数：１枚
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
　表７より明らかなように本発明の実施例の表面被覆切削工具は、比較例の表面被覆切削工具に比し、耐摩耗性および耐チッピング性の両者に優れていることは明らかである。
　なお、表７の最終損傷形態において、「正常摩耗」とはチッピング、欠けなどを生じず、摩耗のみで構成される損傷形態（平滑な摩耗面を有する）を意味し、「欠損」とは切れ刃部に生じた大きな欠けを意味する。
　＜切削試験４＞
　以下の表８に記載した実施例および比較例の表面被覆切削工具（形状がＳＥＥＴ１３Ｔ３ＡＧＳＮ－Ｇであるものを使用）について、以下の切削条件により欠損または逃げ面摩耗量（Ｖｂ）が０．２５ｍｍになるまでのパス回数および切削距離を測定するとともに刃先の最終損傷形態を観察した。その結果を表８に示す。
　なお、パス回数とは、切削試験３と同様に下記被削材（形状：３００ｍｍ×１００ｍｍ×８０ｍｍのブロック状）の一側面（３００ｍｍ×８０ｍｍの面）の一方端から他方端までを、表面被覆切削工具（刃先交換型切削チップ）を１枚取付けたカッタにより転削する操作を繰り返し、その繰り返し回数をパス回数とした（なお、パス回数に少数点以下の数値を伴うものは、一方端から他方端までの途中で上記の条件に達したことを示す）。なお、切削距離も、切削試験３と同様に上記の条件に達するまでに切削加工された被削材の合計距離を意味し、パス回数と上記側面の長さ（３００ｍｍ）との積に相当する。
　パス回数が多いもの程（すなわち切削距離が長いもの程）、耐摩耗性に優れていることを示す。また、最終損傷形態が正常摩耗に近いもの程、耐チッピング性に優れていることを示す。
　＜切削条件＞
被削材：ＳＵＳ３０４ブロック材
周速：１５０ｍ／ｍｉｎ
送り速度：０．３ｍｍ／ｓ
切込み量：２．０ｍｍ
切削液：あり
カッタ：ＷＧＣ４１６０Ｒ（住友電工ハードメタル社製）
チップ取付け数：１枚
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
　表８より明らかなように本発明の実施例の表面被覆切削工具は、比較例の表面被覆切削工具に比し、耐摩耗性および耐チッピング性の両者に優れていることは明らかである。
　なお、表８の最終損傷形態において、「正常摩耗」とはチッピング、欠けなどを生じず、摩耗のみで構成される損傷形態（平滑な摩耗面を有する）を意味し、「欠損」とは切れ刃部に生じた大きな欠けを意味する。
　以上のように本発明の実施の形態および実施例について説明を行なったが、上述の各実施の形態および実施例の構成を適宜組み合わせることも当初から予定している。
　今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなくて請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。

Claims (4)

  1. 　基材と該基材上に形成された被膜とを含み、
    　前記被膜は、少なくとも一層のＴｉＢ2層を含み、
    　前記ＴｉＢ2層は、ＴｉＢ2とともにＣｌを含み、
    　前記ＴｉＢ2層において、前記基材側界面から厚み０．５μｍの領域を第１領域とし、前記被膜表面側界面から厚み０．５μｍの領域を第２領域とする場合、ＴｉとＣｌとの原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）は、前記第１領域よりも前記第２領域で高くなる、表面被覆切削工具。
  2. 　前記原子比Ｃｌ／（Ｔｉ＋Ｃｌ）は、前記第１領域において０．００００１～０．００１であり、前記第２領域において０．０００１～０．０１である、請求項１記載の表面被覆切削工具。
  3. 　前記ＴｉＢ2層は、１～１０μｍの厚みを有する、請求項１または２に記載の表面被覆切削工具。
  4. 　基材と該基材上に形成された被膜とを含み、該被膜は少なくとも一層のＴｉＢ2層を含む表面被覆切削工具の製造方法であって、
    　前記ＴｉＢ2層を形成するステップを含み、
    　前記ステップは、ＴｉＣｌ4とＢＣｌ3とを少なくとも含む原料ガスを用いて、前記ＴｉＢ2層を化学蒸着法により形成するステップであり、
    　前記原料ガスにおける前記ＴｉＣｌ4と前記ＢＣｌ3とのモル比ＴｉＣｌ4／ＢＣｌ3は、前記ステップの開始時において０．６未満であり、終了時において０．６以上となっている、表面被覆切削工具の製造方法。
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