WO2014038268A1 - 圧電振動部品 - Google Patents

圧電振動部品 Download PDF

Info

Publication number
WO2014038268A1
WO2014038268A1 PCT/JP2013/067473 JP2013067473W WO2014038268A1 WO 2014038268 A1 WO2014038268 A1 WO 2014038268A1 JP 2013067473 W JP2013067473 W JP 2013067473W WO 2014038268 A1 WO2014038268 A1 WO 2014038268A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
piezoelectric vibration
vibration element
substrate
low thermal
conductive material
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/067473
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
文太 岡本
秀和 大石橋
Original Assignee
株式会社村田製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社村田製作所 filed Critical 株式会社村田製作所
Publication of WO2014038268A1 publication Critical patent/WO2014038268A1/ja

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02—Details
    • H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
    • H03H9/02086—Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • H03H9/02125—Means for compensation or elimination of undesirable effects of parasitic elements
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02—Details
    • H03H9/02007—Details of bulk acoustic wave devices
    • H03H9/02086—Means for compensation or elimination of undesirable effects
    • H03H9/02102—Means for compensation or elimination of undesirable effects of temperature influence
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02—Details
    • H03H9/05—Holders; Supports
    • H03H9/10—Mounting in enclosures
    • H03H9/1007—Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices
    • H03H9/1014—Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the BAW device
    • H03H9/1021—Mounting in enclosures for bulk acoustic wave [BAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the BAW device the BAW device being of the cantilever type
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/15—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/17—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
    • H03H9/19—Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator consisting of quartz
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/02—Containers; Seals
    • H01L23/04—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls
    • H01L23/053—Containers; Seals characterised by the shape of the container or parts, e.g. caps, walls the container being a hollow construction and having an insulating or insulated base as a mounting for the semiconductor body
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Definitions

  • the present invention relates to a piezoelectric vibration component.
  • the piezoelectric vibration component has a piezoelectric vibration element.
  • the piezoelectric vibration element is arranged in a sealed space formed by a package. Thereby, it is suppressed that a disturbance is added to a piezoelectric vibration element.
  • Even when the piezoelectric vibration element is disposed in the sealed space it is difficult to reliably control the ingress of moisture into the sealed space.
  • the resonance resistance increases.
  • a method for suppressing an increase in resonance resistance due to moisture a method in which the volume of the piezoelectric vibrating element and the volume of the sealed space satisfy a predetermined relationship is proposed in Patent Document 1.
  • the main object of the present invention is to provide a piezoelectric vibration component in which resonance resistance is unlikely to increase.
  • the piezoelectric vibration component according to the present invention includes a package, a piezoelectric vibration element, and a low thermal conductive material.
  • the package has a sealed space.
  • the piezoelectric vibration element is disposed in the sealed space.
  • the low thermal conductive material is disposed apart from the piezoelectric vibration element in the sealed space.
  • the low thermal conductivity material has a lower thermal conductivity than the piezoelectric vibration element.
  • the specific heat of the low thermal conductive material is higher than the specific heat of the piezoelectric vibration element.
  • the low thermal conductive material is provided in a layered manner on the inner wall of the package.
  • the package in another specific aspect of the piezoelectric vibration component according to the present invention, includes a substrate and a cap.
  • a piezoelectric vibration element is mounted on the substrate.
  • the cap is disposed on the substrate so as to cover the piezoelectric vibration element.
  • the low heat conductive material is provided in layers on the inner wall of the cap.
  • the package includes a substrate and a cap.
  • a piezoelectric vibration element is mounted on the substrate.
  • the cap is disposed on the substrate so as to cover the piezoelectric vibration element.
  • the low thermal conductive material is disposed on the substrate.
  • the piezoelectric vibrating component further includes a support member.
  • the support member is disposed on the substrate.
  • the support member supports the low thermal conductive material so as to be separated from the substrate.
  • the piezoelectric vibration component further includes a support member disposed on the substrate and supporting the piezoelectric vibration element so as to be isolated from the substrate.
  • the cross-sectional area of the support member of the low thermal conductive material is smaller than the cross-sectional area of the support member of the piezoelectric vibration element.
  • the piezoelectric vibration component further includes a support member that is disposed on the substrate and supports the piezoelectric vibration element so as to be isolated from the substrate.
  • the height dimension of the support member of the low thermal conductive material is larger than the height dimension of the support member of the piezoelectric vibration element.
  • the piezoelectric vibration element is a crystal vibration element.
  • the piezoelectric vibrating element includes a piezoelectric vibrating plate and a pair of electrodes for applying a voltage to the piezoelectric vibrating plate. A part of the piezoelectric diaphragm is exposed on the surface.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the piezoelectric vibrating component according to the first embodiment.
  • FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the piezoelectric vibrating component according to the second embodiment.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the piezoelectric vibrating component according to the third embodiment.
  • the piezoelectric vibration component 1 includes a piezoelectric vibration element 20.
  • the piezoelectric vibration element 20 includes a piezoelectric vibration plate 22 and a pair of electrodes 21 and 23.
  • the piezoelectric diaphragm 22 can be composed of, for example, piezoelectric ceramics or quartz. That is, the piezoelectric vibration element 20 may be a crystal vibration element.
  • the piezoelectric vibration component 1 may be a crystal vibration component.
  • the pair of electrodes 21 and 23 applies a voltage to the piezoelectric diaphragm 22.
  • One of the pair of electrodes 21 and 23 is disposed on one main surface of the piezoelectric diaphragm 22, and the other is disposed on the other main surface of the piezoelectric diaphragm 22.
  • the electrodes 21 and 23 can be made of, for example, a metal such as nickel, chromium, aluminum, silver, copper, or gold, or one or more metals or alloys of metals such as a nickel chromium alloy.
  • a silicon coat layer or a rubber coat layer that covers the piezoelectric vibration plate 22 is not provided, and a part of the piezoelectric vibration plate 22 is exposed on the surface of the piezoelectric vibration element 20.
  • the piezoelectric vibration element 20 is disposed in the sealed space 10 a of the package 10.
  • the package 10 includes a substrate 12 and a cap 11.
  • a piezoelectric vibration element 20 is mounted on the substrate 12. Specifically, the piezoelectric vibration element 20 is supported so as to be separated from the substrate 12 by a support member 13 disposed on the substrate 12.
  • the cap 11 is a dome shape.
  • the cap 11 is disposed on the substrate 12 such that the concave portion of the cap 11 faces the substrate 12 and covers the piezoelectric vibration element 20.
  • the cap 11 may be a flat plate and the substrate 12 may be provided with a recess.
  • the cap 11 and the substrate 12 are bonded by a bonding material 14. Thereby, the sealing space 10a which has airtightness or liquid-tightness is formed.
  • substrate 12 can be comprised with metals, such as iron and aluminum, alloys, such as stainless steel, ceramics, such as an alumina, etc., for example.
  • the support member 13 can be composed of, for example, an insulator such as ceramics, a conductive material such as a metal material, a conductive adhesive, solder, or the like.
  • the cap 11 can be made of, for example, a metal such as iron or aluminum, an alloy such as stainless steel, or a ceramic such as alumina.
  • the bonding material 14 can be made of a metal such as an AuSn alloy or an AuCu alloy, a resin adhesive, or the like.
  • the piezoelectric vibration element is less likely to be heated than the package, and the temperature of the piezoelectric vibration element becomes lower than the temperature of the package, so that the generated water vapor is condensed on the piezoelectric vibration element. As a result, there may be a problem that the resonance resistance increases.
  • the low thermal conductive material 30 is disposed in the sealed space 10 a so as to be separated from the piezoelectric vibration element 20.
  • the thermal conductivity of the low thermal conductive material 30 is lower than the thermal conductivity of the piezoelectric vibration element 20.
  • the temperature of the atmosphere in which the piezoelectric vibration component is disposed after the temperature of the atmosphere in which the piezoelectric vibration component is disposed becomes lower than the temperature of the piezoelectric vibration component.
  • the temperature of the low thermal conductive material 30 is lower than the temperature of the piezoelectric vibration element 20. Therefore, condensation occurs exclusively on the low thermal conductive material 30, and condensation hardly occurs on the piezoelectric vibration element 20. Therefore, the resonance resistance of the piezoelectric vibration component 1 is difficult to increase.
  • the thermal conductivity of the low thermal conductive material 30 is preferably 0.8 times or less that of the piezoelectric vibration element 20. More preferably, it is 0.5 times or less.
  • the thermal conductivity of the low thermal conductive material 30 is usually 1.8 times or more that of the piezoelectric vibration element 20.
  • the specific heat of the low thermal conductive material 30 is higher than the specific heat of the piezoelectric vibration element 20.
  • the ratio is more preferably 1.2 times or more, and further preferably 2 times or more.
  • the piezoelectric vibration element 20 is a crystal vibration element, an increase in resonance resistance due to moisture is likely to occur. Therefore, in the technique of this embodiment that can suppress an increase in resonance resistance, the piezoelectric vibration element 20 is a crystal vibration element. It is especially effective in cases.
  • the low thermal conductive material 30 can be made of, for example, resin or glass. From the viewpoint of reducing the thermal conductivity of the low thermal conductive material 30, it is preferable that the density of the low thermal conductive material 30 is low.
  • the low thermal conductive material 30 is provided in layers on the inner wall of the package 10. More specifically, the low thermal conductive material 30 is provided in layers on the inner wall of the cap 11. Therefore, when the temperature of the atmosphere in which the piezoelectric vibration component is arranged becomes higher than the temperature of the piezoelectric vibration component, the temperature of the low thermal conductive material 30 becomes lower than the temperature of the piezoelectric vibration element 20. Therefore, condensation occurs exclusively on the low thermal conductive material 30, and condensation hardly occurs on the piezoelectric vibration element 20. Therefore, the resonance resistance of the piezoelectric vibration component 1 is difficult to increase.
  • the arrangement of the low thermal conductive material is not particularly limited as long as it is in the sealed space.
  • the low thermal conductive material 30 may be disposed on the substrate 12.
  • the low thermal conductive material 30 may be disposed immediately above the substrate 12 as shown in FIG. 3, but as shown in FIG. 2, the support member 15 disposed on the substrate 12 may be used. It may be supported.
  • the support member 15 supports the low thermal conductive material 30 so as to be separated from the substrate 12.
  • the area of the portion exposed to the sealing space 10a on the surface of the low thermal conductive material 30 can be increased. Therefore, condensation is more likely to occur on the low thermal conductive material 30, and condensation is less likely to occur on the piezoelectric vibration element 20. Therefore, an increase in resonance resistance can be more effectively suppressed.
  • the cross-sectional area of the support member 15 is preferably smaller than the cross-sectional area of the support member 13. Further, the height dimension of the support member 15 is preferably larger than the height dimension of the support member 13.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)

Abstract

　共振抵抗が上昇しにくい圧電振動部品を提供する。　圧電振動部品１は、パッケージ１０と、圧電振動素子２０と、低熱伝導材３０とを備える。パッケージ１０は、封止空間１０ａを有する。圧電振動素子２０は、封止空間１０ａ内に配されている。低熱伝導材３０は、封止空間１０ａ内において、圧電振動素子２０から離間して配されている。低熱伝導材３０は、圧電振動素子２０よりも熱伝導率が低い。

Description

圧電振動部品
　本発明は、圧電振動部品に関する。
　従来、発振子や帯域フィルタなどとして、圧電振動部品が広く用いられている。圧電振動部品は、圧電振動素子を有している。圧電振動素子は、パッケージにより形成された封止空間内に配されている。これにより、圧電振動素子に外乱が加わることを抑制している。しかしながら、封止空間内に圧電振動素子が配されている場合であっても、封止空間に水分が浸入することを確実に規制することは困難である。封止空間に水分が浸入し、水分が圧電振動素子に付着すると、共振抵抗が上昇する。この水分による共振抵抗の上昇を抑制する方法として、特許文献１において、圧電振動素子の体積と、封止空間の容積とが所定の関係を満たすようにする方法が提案されている。
特許第４４５８２０３号公報
　しかしながら、特許文献１に記載のように、圧電振動素子の体積と、封止空間の容積とが所定の関係を満たす圧電振動部品においても、水分による共振抵抗の上昇を十分に抑制できない場合がある。
　本発明の主な目的は、共振抵抗が上昇しにくい圧電振動部品を提供することにある。
　本発明に係る圧電振動部品は、パッケージと、圧電振動素子と、低熱伝導材とを備える。パッケージは、封止空間を有する。圧電振動素子は、封止空間内に配されている。低熱伝導材は、封止空間内において、圧電振動素子から離間して配されている。低熱伝導材は、圧電振動素子よりも熱伝導率が低い。
　本発明に係る圧電振動部品のある特定の局面では、低熱伝導材の比熱が圧電振動素子の比熱よりも高い。
　本発明に係る圧電振動部品の別の特定の局面では、低熱伝導材がパッケージの内壁の上に層状に設けられている。
　本発明に係る圧電振動部品の他の特定の局面では、パッケージは、基板と、キャップとを有する。基板には、圧電振動素子が実装されている。キャップは、基板の上に、圧電振動素子を覆うように配されている。低熱伝導材は、キャップの内壁の上に層状に設けられている。
　本発明に係る圧電振動部品のさらに他の特定の局面では、パッケージは、基板と、キャップとを有する。基板には、圧電振動素子が実装されている。キャップは、基板の上に、圧電振動素子を覆うように配されている。低熱伝導材は、基板の上に配されている。
　本発明に係る圧電振動部品のさらに別の特定の局面では、圧電振動部品は、支持部材をさらに備える。支持部材は、基板の上に配されている。支持部材は、低熱伝導材を基板から離間するように支持している。
　本発明に係る圧電振動部品のまた他の特定の局面では、圧電振動部品は、基板の上に配されており、圧電振動素子を基板から隔離するように支持している支持部材をさらに備える。低熱伝導材の支持部材の断面積が、圧電振動素子の支持部材の断面積よりも小さい。
　本発明に係る圧電振動部品のまた別の特定の局面では、圧電振動部品は、基板の上に配されており、圧電振動素子を基板から隔離するように支持している支持部材をさらに備える。低熱伝導材の支持部材の高さ寸法が、圧電振動素子の支持部材の高さ寸法よりも大きい。
　本発明に係る圧電振動部品のさらにまた他の特定の局面では、圧電振動素子は、水晶振動素子である。
　本発明に係る圧電振動部品のさらにまた別の特定の局面では、圧電振動素子は、圧電振動板と、圧電振動板に電圧を印加する一対の電極とを有する。圧電振動板の一部が表面に露出している。
　本発明によれば、共振抵抗が上昇しにくい圧電振動部品を提供することができる。
図１は、第１の実施形態に係る圧電振動部品の略図的断面図である。 図２は、第２の実施形態に係る圧電振動部品の略図的断面図である。 図３は、第３の実施形態に係る圧電振動部品の略図的断面図である。
　以下、本発明を実施した好ましい形態の一例について説明する。但し、下記の実施形態は、単なる例示である。本発明は、下記の実施形態に何ら限定されない。
　また、実施形態などにおいて参照する各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照することとする。また、実施形態等において参照する図面は、模式的に記載されたものであり、図面に描画された物体の寸法の比率などは、現実の物体の寸法の比率などとは異なる場合がある。図面相互間においても、物体の寸法比率などが異なる場合がある。具体的な物体の寸法比率などは、以下の説明を参酌して判断されるべきである。
　図１に示されるように、圧電振動部品１は、圧電振動素子２０を備えている。圧電振動素子２０は、圧電振動板２２と、一対の電極２１，２３とを備えている。圧電振動板２２は、例えば、圧電セラミックスや水晶などにより構成することができる。すなわち、圧電振動素子２０は、水晶振動素子であってもよい。圧電振動部品１は、水晶振動部品であってもよい。
　一対の電極２１，２３は、圧電振動板２２に電圧を印加する。一対の電極２１，２３の一方が、圧電振動板２２の一主面の上に配されており、他方が圧電振動板２２の他主面の上に配されている。なお、電極２１，２３は、例えば、ニッケル、クロム、アルミニウム、銀、銅、金などの金属や、ニッケルクロム合金などの金属のうちの一種以上の金属または合金により構成することができる。
　圧電振動素子２０においては、圧電振動板２２を覆うシリコンコート層やラバーコート層が設けられておらず、圧電振動板２２の一部が圧電振動素子２０の表面に露出している。
　圧電振動素子２０は、パッケージ１０の封止空間１０ａ内に配されている。パッケージ１０は、基板１２と、キャップ１１とを有する。基板１２の上には、圧電振動素子２０が実装されている。具体的には、圧電振動素子２０は、基板１２の上に配された支持部材１３により、基板１２から離間するように支持されている。
　キャップ１１は、ドーム型である。キャップ１１は、キャップ１１の凹部が基板１２側を向き、圧電振動素子２０を覆うように、基板１２の上に配されている。なお、キャップ１１を平板状として、基板１２に凹部を設けてもよい。
　キャップ１１と基板１２とは接合材１４により接合されている。これにより、気密性または液密性を有する封止空間１０ａが形成されている。
　なお、基板１２は、例えば、鉄、アルミニウムなどの金属、ステンレスなどの合金、アルミナ等のセラミックスなどにより構成することができる。支持部材１３は、例えば、セラミックスなどの絶縁体、金属材などの導電材、導電性接着剤、半田などにより構成することができる。キャップ１１は、例えば、鉄、アルミニウムなどの金属、ステンレスなどの合金、アルミナ等のセラミックスなどにより構成することができる。接合材１４は、ＡｕＳｎ系合金、ＡｕＣｕ系合金などの金属や樹脂接着剤等により構成することができる。
　ところで、封止空間に水分が浸入することも考えられる。封止空間に水分が存在している状態において、圧電振動部品が配された雰囲気の温度が圧電振動部品の温度よりも低くなると、圧電振動素子の温度よりもパッケージの温度の方が低下しやすい。このため、封止空間内に水蒸気等として存在していた水分が結露することにより生じた水滴は、低温であるパッケージの内壁に付着する。その後、圧電振動部品が配された雰囲気の温度が圧電振動部品の温度よりも高くなると、パッケージの温度が上昇すると共に、パッケージの内壁に付着していた水滴が蒸発する。この際に、パッケージよりも圧電振動素子は加熱されにくく、圧電振動素子の温度がパッケージの温度よりも低くなるため、発生した水蒸気が圧電振動素子上において結露する。その結果、共振抵抗が上昇するという問題が生じ得る。
　ここで、圧電振動部品１においては、封止空間１０ａ内において、圧電振動素子２０から離間して低熱伝導材３０が配されている。この低熱伝導材３０の熱伝導率は、圧電振動素子２０の熱伝導率よりも低い。このため、封止空間に水分が存在している状態において、圧電振動部品が配された雰囲気の温度が圧電振動部品の温度よりもいったん低くなった後に、圧電振動部品が配された雰囲気の温度が圧電振動部品の温度よりも高くなった状態においては、圧電振動素子２０の温度よりも低熱伝導材３０の温度が低くなる。よって、低熱伝導材３０上において専ら結露が発生し、圧電振動素子２０上において結露が発生しにくい。よって、圧電振動部品１の共振抵抗が上昇しにくい。
　圧電振動部品１の共振抵抗の上昇をより効果的に抑制する観点からは、低熱伝導材３０の熱伝導率が、圧電振動素子２０の熱伝導率の０．８倍以下であることが好ましく、０．５倍以下であることがより好ましい。低熱伝導材３０の熱伝導率は、通常、圧電振動素子２０の熱伝導率の１．８倍以上である。
　また、圧電振動部品１の共振抵抗の上昇をより効果的に抑制する観点からは、低熱伝導材３０の比熱が、圧電振動素子２０の比熱よりも高いことが好ましく、圧電振動素子２０の比熱の１．２倍以上であることがより好ましく、２倍以上であることがさらに好ましい。
　なお、圧電振動素子２０が水晶振動素子である場合は、水分による共振抵抗の上昇が生じやすいため、共振抵抗の上昇を抑制できる本実施形態の技術は、圧電振動素子２０が水晶振動素子である場合に特に有効である。
　低熱伝導材３０は、例えば、樹脂やガラスなどにより構成することができる。低熱伝導材３０の熱伝導率を低くする観点から、低熱伝導材３０の密度が低いことが好ましい。
　本実施形態では、具体的には、低熱伝導材３０は、パッケージ１０の内壁の上に層状に設けられている。より具体的には、低熱伝導材３０は、キャップ１１の内壁の上に層状に設けられている。従って、圧電振動部品が配された雰囲気の温度が圧電振動部品の温度よりも高くなった場合において、圧電振動素子２０の温度よりも低熱伝導材３０の温度が低くなる。よって、低熱伝導材３０上において専ら結露が発生し、圧電振動素子２０上において結露が発生しにくい。よって、圧電振動部品１の共振抵抗が上昇しにくい。
　なお、本発明において、低熱伝導材の配置は、封止空間中であれば特に限定されない。例えば、図２や図３に示されるように、低熱伝導材３０は、基板１２の上に配されていてもよい。その場合、低熱伝導材３０は、図３に示されるように、基板１２の直上に配されていてもよいが、図２に示されるように、基板１２の上に配された支持部材１５により支持されていてもよい。図２に示される例では、支持部材１５は、低熱伝導材３０を、基板１２から離間するように支持している。この場合は、低熱伝導材３０の表面の封止空間１０ａに露出している部分の面積を大きくすることができる。従って、低熱伝導材３０の上において結露がより発生しやすく、圧電振動素子２０の上において結露がより発生し難い。従って、共振抵抗の上昇をより効果的に抑制することができる。
　また、圧電振動部品が配された雰囲気の温度が圧電振動部品の温度よりも高くなった場合において、圧電振動素子２０の温度よりも低熱伝導材３０の温度が低くなるようにする観点からは、基板１２を経由して低熱伝導材３０が加熱されにくくする方が好ましい。従って、支持部材１５の断面積が、支持部材１３の断面積よりも小さいことが好ましい。また、支持部材１５の高さ寸法が支持部材１３の高さ寸法よりも大きいことが好ましい。
１…圧電振動部品
１０…パッケージ
１０ａ…封止空間
１１…キャップ
１２…基板
１３…支持部材
１４…接合材
１５…支持部材
２０…圧電振動素子
２１，２３…電極
２２…圧電振動板
３０…低熱伝導材

Claims (10)

  1. 　封止空間を有するパッケージと、
    　前記封止空間内に配された圧電振動素子と、
    　前記封止空間内において、前記圧電振動素子から離間して配されており、前記圧電振動素子よりも熱伝導率が低い低熱伝導材と、
    を備える、圧電振動部品。
  2. 　前記低熱伝導材の比熱が前記圧電振動素子の比熱よりも高い、請求項１に記載の圧電振動部品。
  3. 　前記低熱伝導材が前記パッケージの内壁の上に層状に設けられている、請求項１または２に記載の圧電振動部品。
  4. 　前記パッケージは、
    　前記圧電振動素子が実装されている基板と、
    　前記基板の上に、前記圧電振動素子を覆うように配されているキャップと、
    を有し、
    　前記低熱伝導材は、前記キャップの内壁の上に層状に設けられている、請求項３に記載の圧電振動部品。
  5. 　前記パッケージは、
    　前記圧電振動素子が実装されている基板と、
    　前記基板の上に、前記圧電振動素子を覆うように配されているキャップと、
    を有し、
    　前記低熱伝導材は、前記基板の上に配されている、請求項１または２に記載の圧電振動部品。
  6. 　前記基板の上に配されており、前記低熱伝導材を前記基板から離間するように支持している支持部材をさらに備える、請求項５に記載の圧電振動部品。
  7. 　前記基板の上に配されており、前記圧電振動素子を前記基板から隔離するように支持している支持部材をさらに備え、
    　前記低熱伝導材の支持部材の断面積が、前記圧電振動素子の支持部材の断面積よりも小さい、請求項６に記載の圧電振動部品。
  8. 　前記基板の上に配されており、前記圧電振動素子を前記基板から隔離するように支持している支持部材をさらに備え、
    　前記低熱伝導材の支持部材の高さ寸法が、前記圧電振動素子の支持部材の高さ寸法よりも大きい、請求項６または７に記載の圧電振動部品。
  9. 　前記圧電振動素子は、水晶振動素子である、請求項１～８のいずれか一項に記載の圧電振動部品。
  10. 　前記圧電振動素子は、
    　圧電振動板と、
    　前記圧電振動板に電圧を印加する一対の電極と、
    を有し、
    　前記圧電振動板の一部が表面に露出している、請求項１～９のいずれか一項に記載の圧電振動部品。
PCT/JP2013/067473 2012-09-04 2013-06-26 圧電振動部品 WO2014038268A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012193749 2012-09-04
JP2012-193749 2012-09-04

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014038268A1 true WO2014038268A1 (ja) 2014-03-13

Family

ID=50236891

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2013/067473 WO2014038268A1 (ja) 2012-09-04 2013-06-26 圧電振動部品

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2014038268A1 (ja)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07301391A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Shikishima Seipan Kk 断熱容器及び該断熱容器を用いた測定装置
JP2008236023A (ja) * 2007-03-16 2008-10-02 Nec Saitama Ltd 水晶発振器
JP2008300641A (ja) * 2007-05-31 2008-12-11 Daishinku Corp 圧電振動デバイス
WO2011086968A1 (ja) * 2010-01-14 2011-07-21 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP2011193292A (ja) * 2010-03-15 2011-09-29 Seiko Instruments Inc 水晶振動片
JP2012147497A (ja) * 2010-03-09 2012-08-02 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd シート状セラミックベース及びその製造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07301391A (ja) * 1994-04-28 1995-11-14 Shikishima Seipan Kk 断熱容器及び該断熱容器を用いた測定装置
JP2008236023A (ja) * 2007-03-16 2008-10-02 Nec Saitama Ltd 水晶発振器
JP2008300641A (ja) * 2007-05-31 2008-12-11 Daishinku Corp 圧電振動デバイス
WO2011086968A1 (ja) * 2010-01-14 2011-07-21 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP2012147497A (ja) * 2010-03-09 2012-08-02 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd シート状セラミックベース及びその製造方法
JP2011193292A (ja) * 2010-03-15 2011-09-29 Seiko Instruments Inc 水晶振動片

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5884946B2 (ja) 水晶振動装置
US20170069821A1 (en) Piezoelectric device
JP2010251702A (ja) 電子部品、パッケージおよび赤外線センサ
JP5790878B2 (ja) 水晶振動子
JP5862770B2 (ja) 水晶振動子
JP6041070B2 (ja) 水晶振動装置
JP2015087220A (ja) 振動センサ
JP5776854B2 (ja) 圧電振動部品
WO2014038268A1 (ja) 圧電振動部品
JP2006033413A (ja) 圧電振動デバイス
WO2015060120A1 (ja) 水晶振動装置
JP2009060260A (ja) 電子部品用パッケージおよびこれを用いた圧電振動デバイス
JP2016171480A (ja) 振動子デバイス
JP4799211B2 (ja) 蓋体およびそれを用いた電子装置
JP7070578B2 (ja) 電子部品
JP6618745B2 (ja) 電子部品
JP2013168863A (ja) 電子部品
JP2014183359A (ja) 水晶振動子
JP2006041296A (ja) 薄型金属パッケージおよびその製造方法
JP2017120869A (ja) セラミックパッケージ
US11063574B2 (en) Piezoelectric resonator unit
JP6052870B2 (ja) 電子部品用パッケージ
JP6257150B2 (ja) 電子部品パッケージ及び電子部品パッケージの製造方法
WO2013172443A1 (ja) 電子部品及びその製造方法
WO2013161554A1 (ja) 水晶振動装置及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 13835977

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 13835977

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP