WO2014034930A1 - 表示パネル、表示装置、および表示パネルの製造方法 - Google Patents

表示パネル、表示装置、および表示パネルの製造方法 Download PDF

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Abstract

 光利用効率を高めるとともに、表示不良を低減することができる表示パネルを提供する。基板(10・20)と、電界の方向に応じて回転する形状異方性部材(32)を含み、形状異方性部材(32)の基板(10・20)への投影面積を変化させることにより、入射された光の透過率を制御する光変調層(30)と、形状異方性部材(32)を支持する支持部(34)とを備え、形状異方性部材(32)は支持部(34)に回転可能に接続されている。

Description

表示パネル、表示装置、および表示パネルの製造方法
 本発明は表示パネルおよび表示装置に関する。
 従来の液晶表示パネルは、主に、一対のガラス基板と、両基板の間に設けられる液晶層と、それぞれのガラス基板に設けられる電極と、それぞれのガラス基板に貼り付けられる偏光板とを備えている。このような液晶表示パネルでは、バックライトから照射された光が偏光板および液晶層を通過し、画面に現れるコントラストによって画像が認識されるが、バックライトの光は、表示画面に到達するまでに、吸収、反射によりその多くが失われ、光利用効率の低下の原因となっている。特に、偏光板における光の損失が光利用効率の低下に大きな影響を与えている。
 そこで、近年、偏光板を必要としない、液晶パネルとは異なる光変調装置の開発が進められている(例えば特許文献1,2)。
 図23は、特許文献1に記載の光変調装置(光学装置)の動作原理を説明するための断面図であり、図23の(a)は、光吸収状態の断面図を示し、図23の(b)は、光反射状態の断面図を示す。特許文献1に記載の光学装置は、液体ホスト(媒体)中に懸濁されたポリマーフレークを含み、印加する電圧の変化によってその光学特性を選択的に変化させる構成を有している。
 液体ホストとして例えば、ネマチック液晶を用いた場合、光学装置に交流電圧を印加すると、液体ホストは電場Eに対して平行に配列し、フレークは液体ホスト配列方向に従い配列される。
 上記光学装置の構成によれば、偏光板を省略できるため、液晶パネルと比較して光利用効率を高めることができる。
米国特許公報「US6665042(2003年12月16日登録)」 米国特許公報「US6829075(2004年12月7日登録)」
 しかし、特許文献1の光学装置では、液体ホスト中に懸濁されているフレークの面内移動を抑制する手段を持たないため、フレークが面内で偏ることにより、表示不良が生じるという問題がある。
 図24の(a)および(b)は、上記表示不良が生じる原理を説明するための模式図である。フレークと媒体の比重が異なる場合、例えば光学装置(表示装置)を立てて保持すると、フレークが光学装置の下側に沈降し上側のフレークが減少するため、非表示領域が生じる。また、フレークと媒体の比重が等しい場合でも、画素電極が配されていない部分等の電界強度が弱い部分と、画素電極が配されている電界強度の強い部分との間に生じる電界強度の差により、フレークが面内で移動するため、表示ムラが生じる。
 本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、光利用効率を高めるとともに、表示不良を低減することができる、表示パネル、表示装置および表示パネルの製造方法を提供することにある。
 本発明の表示パネルは、上記課題を解決するために、
 互いに対向配置される、背面側の第1基板および表示面側の第2基板と、
 上記第1および第2基板の間に配され、電界の方向に応じて回転する複数の形状異方性部材を含み、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させることにより、入射された光の透過率を制御する光変調層と、
 上記複数の形状異方性部材のそれぞれを支持するための、上記第1または第2基板に設けられた1以上の支持部とを備え、
 上記複数の形状異方性部材のそれぞれは、上記支持部に回転可能に接続されていることを特徴とする。
 また、本発明の表示パネルの製造方法は、上記課題を解決するために、互いに対向配置される、背面側の第1基板および表示面側の第2基板と、上記第1および第2基板の間に配され、電界の方向に応じて回転する複数の形状異方性部材を含み、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させることにより、入射された光の透過率を制御する光変調層と、を備えた表示パネルの製造方法であって、上記第1および第2基板の間に、媒体中に混合した上記形状異方性部材と光硬化性樹脂材料を注入する注入工程と、上記注入工程後に、上記第1および第2基板の間に電圧を印加する電圧印加工程と、上記電圧印加工程後に、UV光を照射する照射工程と、を含むことを特徴とする。
 以上のように、本発明の表示パネルは、上記複数の形状異方性部材のそれぞれを支持するための、上記第1または第2基板に設けられた1以上の支持部を備え、上記複数の形状異方性部材のそれぞれは、上記支持部に回転可能に接続されている構成である。これにより、光利用効率を高めるとともに、表示不良を低減することができる表示パネルを実現することができる。
実施の形態1に係る表示装置の概略構成を示す平面図である。 (a)~(c)は、実施の形態1に係る表示装置の概略構成を示す断面図であり、(d)~(e)は平面図である。 (a)は、図1の(a)における光の進行状態を示す図であり、(b)は、図1の(b)における光の進行状態を示す図である。 (a)は、フレークを横配向させた場合の様子(平面視)を撮影した画像であり、(b)は、フレークを縦配向させた場合の様子(平面視)を撮影した画像である。 (a)および(b)は、図1に示す表示装置の変形例を示す断面図である。 (a)および(b)は、実施例1におけるフレークが縦配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像である。 実施例1におけるフレークが縦配向した場合の様子を模式的に示した断面図である。 (a)は、実施例1におけるフレークが横配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像であり、(b)は、実施例1におけるフレークが縦配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像である。 (a)および(b)は、実施例2におけるフレークが縦配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像である。 (a)は、実施例2におけるフレークが横配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像であり、(b)は、実施例2におけるフレークが縦配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像である。 (a)は、実施例3におけるフレークが横配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像であり、(b)は、実施例3におけるフレークが縦配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像である。 実施例4における照射工程を示す断面図である。 (a)は、実施例4におけるフレークが横配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像であり、(b)は、実施例4におけるフレークが縦配向した場合の様子(平面視)を撮影した画像である。 実施例3~5および比較例1~2の表示パネルを説明するための表である。 (a)および(b)は、実施の形態2に係る表示装置の概略構成を示す断面図である。 (a)は、図15の(a)における光の進行状態を示す図であり、(b)は、図15の(b)における光の進行状態を示す図であり、(c)は、フレークと無極性溶媒31bとの間に生じる界面張力により、フレークが回転する様子を示す図である。 (a)および(b)は、実施の形態3に係る表示装置の概略構成を示す断面図である。 図17に示す表示装置における櫛歯電極の概略構成を示す基板の平面図である。 (a)は、図17の(a)における光の進行状態を示す表示パネルの要部断面図であり、(b)は、図17の(b)における光の進行状態を示す表示パネルの要部断面図である。 (a)および(b)は、図17に示す表示装置における櫛歯電極間に形成される電気力線を示す断面図である。 フレークの配向状態を撮影した顕微鏡写真を示す図であり、(a)は、ベタ電極間に電圧を印加した場合を示し、(b)は、櫛歯電極間に印加される電圧が相対的に低い場合を示し、(c)は、櫛歯電極間に印加される電圧が相対的に高い場合を示している。 (a)および(b)は、実施の形態4に係る表示装置の概略構成を示す断面図である。 (a)および(b)は、従来の光学装置の概略構成を示す断面図である。 (a)および(b)は、従来の光学装置における表示不良が生じる原理を説明するための模式図である。
 〔実施の形態1〕
 本発明の実施の形態1に係る表示装置について、図面を用いて説明する。
 図1は、実施の形態1に係る表示装置1の概略構成を示す平面図である。表示装置1は、図中横方向に延びる複数の走査信号線16と、縦方向に延びる複数のデータ信号線17と、走査信号線16とデータ信号線17との交差部に配された画素を備えている。各画素には、電極12(画素電極)が設けられている。
 図2の(a)および(b)は、実施の形態1に係る表示装置1の概略構成を示す図1のA-A’断面図であり、(d)は(a)の平面図であり、(e)は(b)の平面図である。表示装置1は、表示パネル2と、表示パネル2に光を照射するバックライト3と、駆動回路(図示せず)とを備え、バックライト3から出射された光を、表示パネル2を透過して表示を行う透過型の表示装置である。
 なお、バックライト3の構成は従来と同一である。したがって、バックライト3の構成については、その説明を省略する。バックライト3としては、例えば、エッジライト型や直下型の面光源装置等を適宜用いることができる。また、バックライト3の光源には、蛍光管やLED等を適宜用いることができる。
 表示パネル2は、互いに対向して配置された一対の基板10・20と、これら一対の基板10・20の間に配置された光変調層30とを備えている。基板10(第1基板)はバックライト3側(背面側)に配され、基板20(第2基板)は表示面側(観察者側)に配されている。また、表示パネル2は、行列状に配列された多数の画素を有している。
 基板10・20は、それぞれ、例えば透明なガラス基板からなる絶縁基板と、電極12・22とを備えている。
 基板10は、アクティブマトリクス基板を構成する。具体的には、基板10は、ガラス基板11上に、各種信号線(走査信号線16、データ信号線17等)、図示しない、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;「TFT」)、および絶縁膜を備え、これらの上に、電極12(画素電極)を備えている。各種信号線を駆動する駆動回路(走査信号線駆動回路、データ信号線駆動回路等)の構成は、従来と同一である。
 基板20は、ガラス基板21上に、電極22(共通電極)を備えている。
 基板10に形成される電極12、および基板20に形成される電極22は、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、酸化亜鉛、酸化スズなどの透明導電膜により形成されている。また、電極12は画素ごとに形成されており、電極22は全画素に共通するベタ状に形成されている。なお、電極22は、電極12と同様に、画素ごとに形成されていても良い。
 光変調層30は、電極12・22間に設けられ、媒体31と、媒体31に含有される複数の形状異方性部材32と、支持部34とを備えている。光変調層30は、電極12・22に接続された電源33により電圧が印加され、印加電圧の大きさあるいは周波数の変化に応じて、バックライト3から光変調層30に入射された光の透過率を変化させる。ここで、本明細書では、交流の電圧の周波数が0Hzとなる場合を「直流」と称す。光変調層30の厚み(セル厚)は、形状異方性部材32の長軸方向の長さにより設定され、例えば、80umに設定される。
 支持部34は、樹脂により、基板20の電極22上に形成されている。支持部34の具体的な構成は後述する。
 形状異方性部材32は、電界の方向に応じて回転または変形する、形状異方性を有する応答部材である。また、形状異方性部材32は、その一部(一端)が支持部34に接続されており、支持部34を支点にして回転(変形)可能な構成を有している。なお、形状異方性部材32および支持部34は一対一の関係であっても良く、また、複数の支持部34のそれぞれに、複数の形状異方性部材32が接続されていても良く、さらには、基板20の全面にベタ状に形成された一つの支持部34に複数の形状異方性部材32が接続されていても良い。
 形状異方性部材32は、表示特性的には、基板10・20の法線方向から見た形状異方性部材32の投影像の面積(基板10・20への投影面積)が、印加電圧の大きさあるいは周波数の変化に応じて変化する部材である。さらに、投影面積比(最大投影面積:最小投影面積)は、2:1以上であることが好ましい。
 また、形状異方性部材32は、媒体31中で正または負の帯電性を有していても良い。具体的には、例えば、電極や媒体等と電子のやり取りが可能な部材や、イオン性のシランカップリング剤等で修飾した部材を用いることができる。
 また、形状異方性部材32の形状は、例えば、フレーク状、円柱状、あるいは楕円球状等を採用することができる。また、形状異方性部材32の材質は、金属、半導体、誘電体、あるいは、これらの複合材料を採用することができる。また、誘電体多層膜またはコレステリック樹脂を用いることもできる。さらに、形状異方性部材32に金属を用いた場合は、一般の塗装に用いられるアルミニウムフレークを用いることができる。また、形状異方性部材32は着色されていても良い。例えば、形状異方性部材32として、直径20um、厚み0.3umのアルミニウムフレークを用いることができる。
 また、形状異方性部材32の比重は、11g/cm以下であることが好ましく、3g/cm以下さらには媒体31と同等の比重であることがより好ましい。これは、形状異方性部材32の比重が媒体31に比べて大きく異なる場合、形状異方性部材32が沈降または浮遊するという問題が生じるためである。
 媒体31は、可視光領域において透過性を有する材料であり、可視光領域において概ね吸収のない液体や、それらを色素で着色したものなどを用いることができる。また、媒体31の比重は、形状異方性部材32と同等であることが好ましい。
 また、媒体31は、セル内に封止する工程を考慮すると揮発性の低いものであることが好ましい。また、媒体31の粘度は、応答性に関与するものであり、5mPa・s以下であることが好ましく、さらに形状異方性部材31の沈降を防ぐために、0.5mPa・s以上であることが好ましい。
 また、媒体31は、単一の物質で形成されていてもよく、複数の物質の混合物で形成されていても良い。例えば、炭酸プロピレンやNMP(Nメチル2ピロリドン)やフルオロカーボンやシリコーンオイルなどを用いることができる。
 次に、光変調層30による光の透過率の制御方法について具体的に説明する。ここでは、形状異方性部材32としてフレークを用いた場合について説明する。
 光変調層30に、電圧8Vで、高周波として例えば周波数60Hzの電圧(交流電圧)を印加すると、誘電泳動現象、クーロン力または電気エネルギー的な観点から説明される力により、図3の(b)に示すように、フレークは、支持部34を支点にして、その長軸が電気力線に平行になるように回転する。すなわち、フレークは、その長軸が基板10・20に垂直になるように配向(以下、縦配向ともいう)する。これにより、バックライト3から光変調層30へ入射された光は、光変調層30を透過(通過)して、観察者側に出射される。
 このとき、例えばフレークとして、アルミニウムフレーク等の金属片のように、可視光反射性のある材料を用いれば、反射平面が基板10・20に垂直になるように縦配向することで、光変調層30に入射した入射光は、光変調層30内を直接透過するか、もしくは、フレークの反射面で反射した後に、入射光の入射側とは反対側の面、つまり、表示面側に向かって透過する。
 一方、光変調層30に、電圧8Vで、低周波として例えば周波数0.1Hz、または、直流(周波数=0Hz)の電圧を印加すると、電気泳動力やクーロン力で説明される力により、帯電性を有するフレークは、その帯電した電荷の極性と逆極性の電荷が帯電された電極付近に引き寄せられる。そして、フレークは、支持部34を支点にして回転し、基板10または基板20に貼り付くように、最も安定した配向をとる。図3の(a)では、一例として、光変調層30に、直流電圧を印加した場合において、基板20の電極22に帯電する電荷の極性(正)と、フレークに帯電する電荷の極性(負)とが、互いに異なっており、フレークが基板20に貼り付くように配向した様子を示している。すなわち、フレークは、その長軸が基板10・20に平行になるように配向(以下、横配向ともいう)する。これにより、バックライト3から光変調層30へ入射された光は、フレークにより遮断されるため、光変調層30を透過(通過)しない。
 このように、光変調層30に印加する電圧を、周波数が0となる場合の直流と、交流とで切り替えることにより、または、低周波数と、高周波数とで切り替えることにより、バックライト3から光変調層30に入射された光の透過率(透過光量)を変化させることができる。なお、フレークが横配向する(横配向に切り替わる)場合の周波数は、例えば0Hz~0.5Hzの値であり、フレークが縦配向する(縦配向に切り替わる)場合の周波数は、例えば30Hz~1kHzの値である。これらの周波数は、フレーク(形状異方性部材32)の形状および材質、光変調層30の厚み(セル厚)等により、予め設定される。すなわち、表示装置1では、光変調層30に印加する電圧の周波数を、第1閾値以下の低周波数と第2閾値以上の高周波数とで切り替えることにより、光の透過率(透過光量)を変化させる構成である。ここでは、例えば、第1閾値を0.5Hz、第2閾値を30Hzに設定することができる。
 また、フレーク(形状異方性部材32)は、その一部が支持部34に回転可能に接続されているため、従来の構成(図24参照)のように、フレークが面内で偏ることがない。よって、従来生じていた表示ムラや非表示領域の発生を抑えることができる。
 ここで、形状異方性部材32としてフレークを用いたときは、その厚みが1um以下であることが好ましく、さらには0.1um以下であることがより好ましい。フレークの厚みが薄いほど、透過率を高めることができる。
 図4の(a)は、フレークを横配向させた場合の様子(平面視)を撮影した画像であり、図4の(b)は、フレークを縦配向させた場合の様子(平面視)を撮影した画像である。ここでは、媒体31に炭酸プロピレンを用い、形状異方性部材32に、直径20um、厚み0.3umのアルミニウムフレークを用い、セル厚を79umとして、印加電圧を5.0V(交流)に設定し、周波数を0Hz(直流)と60Hzとで切り替えて撮影した。周波数を0Hz(直流)に設定した場合は、図4の(a)に示すようにフレークが横配向し、周波数を60Hz(高周波数)に設定した場合は、図4の(b)に示すように、フレークが縦配向することが分かる。
 なお、図2の(a)では、支持部34を基板20の電極22上に設け、電源33のマイナス側を電極12に接続し、プラス側を電極22に接続しているが、これに限定されず、図2の(c)に示すように、支持部34を基板10の電極12上に設け、マイナス側を電極22に接続し、プラス側を電極12に接続しても良い。図2の(c)の構成では、フレークは、基板10上の支持部34を支点にして回転し、基板10に貼り付くように配向する。また、図2では、フレークに帯電する電荷の極性が負の場合を示しているが、これに限定されず、フレークに帯電する電荷の極性が正であっても良い。この場合は、図5の(a)および(b)に示すように、フレークが貼り付く基板が、図2の(a)および(c)の場合とは逆になる。
 (実施例1)
 フレーク(形状異方性部材32)および支持部34の実施例について説明する。
 ここで、フレークは、その全体が支持部34に固定されていると、電圧印加により回転できないため、一部(一点、一辺ともいう)のみが支持部34に固定されている。なお「一部」とは、ある幅を持った領域であり、また光変調層30の中における樹脂材料の弾性や剛性あるいは接着性に依存して決まる幅を持った領域であり、少なくとも電圧印加によりフレークが動作でき、かつ繰り返し動作によってもフレークが容易に剥がれ落ちない範囲を意味する。例えば、「一部」を、フレークの厚みと同等の直径をもつ円の領域とすることができる。表示パネル2の作成方法について以下に説明する。
 例えば炭酸プロピレンのような媒体中に、平均粒径が7um、厚さ0.1umのアルミニウムフレーク(形状異方性部材)1wt%と、光硬化性樹脂材料のフォトレックA-784-180(商品名)(積水化学工業)0.5wt%を混合し、セルギャップが90umのセルに注入した(注入工程)。これに、60Hz、2Vの交流電圧を印加すると、図6の(a)に示す反射顕微鏡写真のように、フレークはセル厚方向の位置は制御されない状態で縦配向した(電圧印加工程)。なお、この顕微鏡写真ではセルの上側の基板20の透明電極付近に焦点があっており、そこからずれた位置にあるフレークは明確な像が得られていない。
 次に、60Hz、2Vを印加した状態でセル上側の基板20をプラス側とした直流電圧2Vを印加すると、図6の(b)に示す反射顕微鏡写真のように、フレークが全て縦配向した状態で上側の基板20に接する状態を形成することができた(電圧印加工程)。この状態を模式的に表したのが図7であり、概ね全てのフレークの一部が基板20に接続された状態を示している。この状態で10mW/cmのUV光を600s照射することによって、媒体中の樹脂が重合し、フレークを片側の基板に一部で接するように固定することができた(照射工程)。なお、媒体中に溶解させた樹脂がフレークを固定するように基板界面に集まるのは、UV重合により分子量が大きくなり、樹脂の媒体への溶解度が下がったためであると考えられる。
 このようにして作成したセルは、図8の(a)および(b)に示すように、基板20がプラス側となるような直流電圧8Vを印加することで横配向、交流電圧60Hz、8Vを印加することで縦配向という動作を繰り返し行うことができた。
 (実施例2)
 実施例1と同様の混合物を60Hz、1.5V印加した状態で、蛍光灯下で約10時間放置した。この後、セル上側の基板20がプラス側となるような直流電圧3Vと60Hz、3Vを印加した状態で約30分放置した。これにより、図9の(b)に示すように、フレークが基板20に縦配向で固定された状態を形成することができた。このメカニズムは明確ではないが、蛍光灯下で放置することで樹脂のモノマーがある程度重合しオリゴマーや分子量が大きくないポリマーが形成され、図9の(a)に示すように、媒体中に分散したオリゴマーあるいはポリマーがマイナスに帯電していたためにバイアスのかかった電圧を印加することで基板20に集まり濃度が高くなった状態で硬化したためであると推察される。
 このようにして作成したセルは、図10の(a)および(b)に示すように、基板20がプラス側となるような直流電圧3Vを印加することで横配向、交流電圧60Hz、3Vを印加することで縦配向という動作を繰り返し行うことができた。また、縦配向は基板20がマイナス側となるような直流電圧3Vを印加することでも得られた。
 (実施例3)
 実施例3の表示パネル2の作成方法について、以下に説明する。
 第一に、注入工程として、炭酸プロピレン(PC)などの媒体中に、平均粒径が7μm、厚さ0.1μmのアルミニウムフレーク1wt%と、PCに対して0.05wt%の2,2’,3,3’-テトラフルオロ-4,4’-ジ-(8-アクリロイルオキシオクチル)オキシ-ビフェニル
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
と、炭酸プロピレンに対して0.005wt%の2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
と、を混合することによって得られた混合物を、セルギャップが110μmのセルに注入した。本実施例においては、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンとして、イルガキュア(登録商標)651(長瀬産業株式会社製)を用いた。
 次に、電圧印加工程として、上記混合物が注入されたセルに、60Hz、1.5Vの交流電圧を印加すると、フレークはセル厚方向の位置は制御されない状態で縦配向した。さらに、セルに60Hz、1.5Vを印加した状態で、セル上側の基板20をプラス側とした直流電圧2Vを印加すると、フレークが全て縦配向した状態で上側の基板20に接する状態を形成することができた。実施例1の電圧印加工程後のフレークと同様に、概ね全てのフレークが、1点または1辺で基板20に接する状態を実現することができた。
 この状態で、照射工程として、セルに対して、メタルハライド光源を用いて10mW/cmのUV光を600s照射することによって、媒体中の樹脂が重合し、フレークを、1点または1辺で片側の基板20に接するように固定することができた。なお、媒体中に溶解させた樹脂がフレークを固定するように基板界面に集まるのは、UV重合により分子量が大きくなり、樹脂の媒体への溶解度が下がったためであると考えられる。
 このようにして作成したセルは、図11の(a)および図11の(b)の透過顕微鏡写真に示すように、基板20がプラス側となるような直流電圧4Vを印加することで横配向し、交流電圧60Hz、1.5Vを印加することで縦配向するという動作を繰り返し行うことができた。また、縦配向は基板20がマイナス側となるような直流電圧4Vを印加することによっても得られた。
 上記のとおり、実施例1に基づいて作成したセルの駆動電圧は、直流電圧8Vおよび交流電圧60Hz、8Vであった。また、実施例2に基づいて作成したセルの駆動電圧は、直流電圧3Vおよび交流電圧60Hz、3Vであった。
 これに対して、実施例3のセルの駆動電圧は、直流電圧4Vおよび交流電圧60Hz、1.5Vであり、特に、交流電圧を印加する場合の駆動電圧が、実施例1および2のセルの駆動電圧よりも低かった。そのため、実施例3のセルを含む表示装置は、実施例1または2のセルを含む表示装置に比べて、消費電力を低減することができる。
 実施例1および2のセルに比べて、実施例3のセルを低電圧で動作することができた理由として、2,2’,3,3’-テトラフルオロ-4,4’-ジ-(8-アクリロイルオキシオクチル)オキシ-ビフェニルにある程度のアルキル鎖が含まれていることにより、重合後の樹脂に柔軟性があり、実施例1および実施例2のセルの支持部に比べて、実施例3のセルの支持部は柔軟性を有しているためであると考えられる。
 (実施例4)
 本実施例では、実施例3の表示パネルに比べて、さらに低電圧で駆動することができる表示パネルを作成するために、ポリエチレングリコール#600ジアクリレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
を用いた。本実施例においては、ポリエチレングリコール#600ジアクリレートとして、A-600(新中村工業株式会社製)を用いた。
 ポリエチレングリコール#600ジアクリレートは、実施例3の表示パネル2の作成に用いた2,2’,3,3’-テトラフルオロ-4,4’-ジ-(8-アクリロイルオキシオクチル)オキシ-ビフェニルよりも、極性が高く、炭酸プロピレンに溶けやすく、UV効果の際に炭酸プロピレンをより多く含んで硬化するため、支持部の柔軟性が向上し、より低電圧で駆動することができる表示パネルを作成することができると考えられる。
 また、ポリエチレングリコール#600ジアクリレートを用いてフレークを固定するために、モノマーとしてトリシクロデカンジメタノールジアクリレート
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
を用いた。本実施例においては、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートとして、A-DCP(新中村工業株式会社製)を用いた。
 トリシクロデカンジメタノールジアクリレートを用いることによって、基板の界面に樹脂を集める効果が期待できる。また、トリシクロデカンジメタノールジアクリレートは、重合反応後に、溶媒から容易に分離することができる。
 実施例4の表示パネル2の作成方法について、以下に説明する。
 第一に、注入工程として、炭酸プロピレンなどの媒体中に、平均粒径が7μm、厚さ0.1μmのアルミニウムフレーク1wt%と、炭酸プロピレンに対して0.04wt%のポリエチレングリコール#600ジアクリレートと、炭酸プロピレンに対して0.01wt%のトリシクロデカンジメタノールジアクリレートと、を混合することによって得られた混合物を、セルギャップが110μmのセルに注入した。
 なお、混合物には、モノマー総量に対して10wt%の2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンを開始剤として混合した。
 次に、電圧印加工程として、セルに60Hz、2Vの交流電圧を印加すると、フレークはセル厚方向の位置は制御されない状態で縦配向した。さらに、セルに60Hz、2Vを印加した状態で、セル下側の基板10をプラス側とした直流電圧1Vを印加すると、フレークが全て縦配向した状態で上側の基板10に接する状態を形成することができた。
 この状態で、照射工程として、セルに対して、メタルハライド光源を用いて10mW/cmのUV光を1800s照射した。なお、図12に示すように、基板10の下にアルミ板などを配置し、UV光を基板20側から照射することによって、UV光がアルミ板の表面で反射され、効率よくセルにUV光を照射することができる。
 このようにして作成したセルは、図13の(a)および図13の(b)の透過顕微鏡写真に示すように、基板10がプラス側となるような直流電圧3Vを印加することで横配向し、交流電圧60Hz、1.5Vを印加することで縦配向するという動作を繰り返し行うことができた。
 (実施例5)
 本実施例では、実施例4と同様に、ポリエチレングリコール#600ジアクリレートを用いた。
 また、ポリエチレングリコール#600ジアクリレートを用いてフレークを固定するために、モノマーとして4,4’-ジアクリロイルオキシビフェニル
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
を用いた。
 実施例5の表示パネル2の作成方法について、以下に説明する。
 第一に、注入工程として、炭酸プロピレンなどの媒体中に、平均粒径が7μm、厚さ0.1μmのアルミニウムフレーク1wt%と、炭酸プロピレンに対して0.04wt%のポリエチレングリコール#600ジアクリレートと、炭酸プロピレンに対して0.01wt%の4,4’-ジアクリロイルオキシビフェニルと、を混合することによって得られた混合物を、セルギャップが110μmのセルに注入した。
 なお、混合物には、モノマー総量に対して10wt%の2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンを開始剤として混合した。
 次に、実施例4と同様にして、電圧印加工程および照射工程を施した。
 このようにして作成したセルは、基板10がプラス側となるような直流電圧3Vを印加することで横配向し、交流電圧60Hz、1.5Vを印加することで縦配向するという動作を繰り返し行うことができた。
 (比較例1)
 比較例1の表示パネル2の作成方法について、以下に説明する。
 第一に、炭酸プロピレンなどの媒体中に、平均粒径が7μm、厚さ0.1μmのアルミニウムフレーク1wt%と、炭酸プロピレンに対して0.05wt%のポリエチレングリコール#600ジアクリレートと、を混合することによって得られた混合物を、セルギャップが120μmのセルに注入した。
 なお、混合物には、モノマー総量に対して10wt%の2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンを開始剤として混合した。
 次に、セルに60Hz、1.5Vを印加した状態で、セル下側の基板10をプラス側とした直流電圧0.5Vを印加した。
 この状態で、セルに対して、メタルハライド光源を用いて10mW/cmのUV光を600s照射した。
 しかしながら、実施例1~5のようにフレークを全て縦配向した状態で片側の基板に接するように固定することができなかった。なお、UV光の照射時間を1800sとしても、フレークを全て縦配向した状態で片側の基板に接するように固定することができなかった。
 さらに、ポリエチレングリコール#600ジアクリレートの濃度を、炭酸プロピレンに対して1wt%としても、フレークを片側の基板に固定することができなかった。
 比較例1の表示パネル2の作成方法においてフレークを片側の基板に固定することができなかった理由として、UV照射によってポリエチレングリコール#600ジアクリレートを重合させたとしても、炭酸プロピレンに対するポリエチレングリコール#600ジアクリレートの溶解度が高く、基板界面に樹脂が集まらなかったことが考えられる。
 ポリエチレングリコール#600ジアクリレートはジアクリレートを有するので、ジアクリレートのUV反応により、フレークを固定することが期待される。しかしながら、ポリエチレングリコール#600ジアクリレートはエチレンオキシドが重合した構造であり、ある程度の柔軟性・極性の効果が大きいことで、UV反応後も炭酸プロピレンに対する溶解度が下がらなかったものと考えられる。
 (比較例2)
 比較例2の表示パネル2の作成方法について、以下に説明する。
 第一に、炭酸プロピレンなどの媒体中に、平均粒径が7μm、厚さ0.1μmのアルミニウムフレーク1wt%と、炭酸プロピレンに対して0.04wt%のポリエチレングリコール#600ジアクリレートと、炭酸プロピレンに対して0.01wt%の2,2’,3,3’-テトラフルオロ-4,4’-ジ-(8-アクリロイルオキシオクチル)オキシ-ビフェニルと、を混合することによって得られた混合物を、セルギャップが110μmのセルに注入した。
 なお、混合物には、モノマー総量に対して10wt%の2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンを開始剤として混合した。
 次に、セルに60Hz、4Vを印加した状態で、セル下側の基板10をプラス側とした直流電圧1Vを印加した。
 この状態で、セルに対して、メタルハライド光源を用いて10mW/cmのUV光を1800s照射した。
 しかしながら、実施例1~5のようにフレークを全て縦配向した状態で片側の基板に接するように固定することができなかった。
 (実施例および比較例のまとめ)
 実施例3~5および比較例1~2におけるモノマーと表示パネルとの関係を図14に示す。
 図14に示すように、比較例1~2の作成方法では、フレークを基板に固定することができなかった。
 これに対して、実施例3の表示パネルは、直流電圧4Vおよび交流電圧60Hz、1.5Vで駆動することができた。
 さらに、実施例4および実施例5の表示パネルは、直流電圧3Vおよび交流電圧60Hz、1.5Vで駆動することができた。
 実施例3~実施例5においては、主に媒体に溶け易いモノマーを用いることで、柔軟性の高い膜によりフレークを固定することによって、低電圧でフレークを動作させることができたと考えられる。樹脂を介してフレークを基板に固定することにより、従来の構成のようにフレークが面内で偏ることがなく、従来生じていた表示ムラや非表示領域の発生を抑えることができる。
 〔実施の形態2〕
 本発明の実施の形態2に係る表示装置について、図面を用いて説明する。
 なお、以下の説明では、主に、実施の形態1に係る表示装置との相違点について説明するものとし、実施の形態1で説明した各構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。
 図15の(a)および(b)は、実施の形態2に係る表示装置1aの概略構成を示す断面図である。表示装置1aは、表示パネル2aと、表示パネル2aに光を照射するバックライト3と、駆動回路(図示せず)とを備え、バックライト3から出射された光を、表示パネル2aを透過して表示を行う透過型の表示装置である。
 表示パネル2aは、互いに対向して配置された一対の基板10a・20aと、これら一対の基板10a・20aの間に配置された光変調層30aとを備えている。基板10a(第1基板)はバックライト3側(背面側)に配され、基板20a(第2基板)は表示面側(観察者側)に配されている。また、表示パネル2aは、行列状に配列された多数の画素を有している。
 基板10a・20aは、それぞれ、例えば透明なガラス基板からなる絶縁基板11・21と、電極12・22とを備えている。
 基板10aの少なくとも光変調層30aと接する側には、疎水性処理が施され、基板20aの少なくとも光変調層30aと接する側には、親水性処理が施されている。基板10aを疎水性処理することにより、基板10aは、光変調層30aに封入される極性溶媒と無極性溶媒とのうち、無極性溶媒に接するようになる。具体的な疎水性処理の方法としては、例えば、テフロンAF(登録商標)(デュポン株式会社)やサイトップ(旭硝子株式会社)等のフッ素樹脂をスピンコートする方法や、CVD(Chemical Vapor Deposition)法によりパリレン膜を形成する方法を用いることができる。
 また、基板20aを親水性処理することにより、基板20aは、光変調層30aに封入される極性溶媒と無極性溶媒とのうち、極性溶媒に接するようになる。具体的な親水性処理の方法としては、例えば、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛等の無機酸化物膜等を真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、PVD(Physical Vapor Deposition)法、ゾルゲル法、コーティング法等により成膜する方法や、極性基を有するシランカップリング剤等で表面処理する方法を用いることができる。
 なお、基板20aに疎水性処理が施され、基板10aに親水性処理が施されていても良い。
 上記のように、実施の形態2の表示装置1aは、一対の基板のうちの一方が、親水性の性質を有するとともに極性溶媒に接しており、一対の基板のうちの他方が、疎水性の性質を有するとともに無極性溶媒に接している構成を有している。
 また、基板10a・20aは、光変調層30aを挟持する内側に、ITOやアルミ蒸着層等の導電性の電極膜を全面に形成しても良いし、セグメント表示やパッシブ表示可能なように電極をパターニングしても良いし、TFT等のアクティブマトリックス基板を少なくとも一方の基板に設けても良い。以下では、一例として、基板10aがアクティブマトリクス基板を構成する場合を説明する。
 具体的には、基板10aは、ガラス基板11上に、図示しない、各種信号線(走査信号線、データ信号線等)、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;「TFT」)、および絶縁膜を備え、これらの上に、電極12(画素電極)を備えている。各種信号線を駆動する駆動回路(走査信号線駆動回路、データ信号線駆動回路等)の構成は、従来と同一である。
 基板20aは、ガラス基板21上に、電極22(共通電極)を備えている。基板10aに形成される電極12、および基板20aに形成される電極22は、ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium Zinc Oxide)、酸化亜鉛、酸化スズなどの透明導電膜により形成されている。また、電極12は画素ごとに形成されており、電極22は全画素に共通するベタ状に形成されている。なお、電極22は、電極12と同様に、画素ごとに形成されていても良い。
 光変調層30aは、電極12・22間に設けられ、媒体(極性溶媒31aおよび無極性溶媒31b)と、媒体に含有される複数の形状異方性部材32aと、支持部34とを備えている。光変調層30aは、電極12・22に接続された電源33により電圧が印加され、印加電圧の大きさあるいは周波数の変化に応じて、バックライト3から光変調層30aに入射された光の透過率を変化させる。光変調層30aの厚み(セル厚)は、形状異方性部材32aの長軸方向の長さに基づいて設定され、例えば、80umに設定される。
 支持部34は、樹脂により、基板20aの電極22上に形成されている。
 形状異方性部材32aは、電界の方向に応じて回転または変形する、形状異方性を有する応答部材である。また、形状異方性部材32aは、その一部(一端)が支持部34に接続されており、支持部34を支点にして回転(変形)可能な構成を有している。形状異方性部材32aの形状等の構成は、実施の形態1に示したとおりである。
 また、形状異方性部材32aの表面には、親水性処理または疎水性処理が施されている。表面処理の方法は、公知の方法を用いることができる。例えば、親水性処理の方法としては、ゾルゲル法により二酸化ケイ素で被覆する方法を用いることができ、疎水性処理の方法としては、上記のフッ素樹脂をディップコートにより被覆する方法を用いることができる。なお、形状異方性部材32aに表面処理を行わず、形状異方性部材32a自体を、親水性部材または疎水性部材で形成しても良い。例えば、親水性部材としては酸化アルミニウムを用いることができ、疎水性部材としてはPET(ポリエチレンテレフタラート)を用いることができる。上記のように、形状異方性部材32aは、親水性または疎水性の性質を有している。なお、図15では、形状異方性部材32aが親水性の性質を有する場合を示している。
 媒体は、親水性の基板20aに接する極性溶媒31aと、疎水性の基板10aに接する無極性溶媒31bとで構成されている。極性溶媒31aおよび無極性溶媒31bは、可視光領域において透過性を有する材料であり、可視光領域において概ね吸収のない液体や、それらを色素で着色したものなどを用いることができる。また、極性溶媒31aおよび無極性溶媒31bは、互いに比重が等しく、あるいは同等であり、さらに、形状異方性部材32aの比重と等しい、あるいは同等であることが好ましい。
 また、極性溶媒31aおよび無極性溶媒31bは、セル(光変調層30a)内に封止する工程を考慮すると揮発性の低いものであることが好ましい。また、極性溶媒31aおよび無極性溶媒31bの粘度は、応答性に関与するものであり、5mPa・s以下であることが好ましい。
 また、極性溶媒31aおよび無極性溶媒31bは、単一の物質で形成されていてもよく、複数の物質の混合物で形成されていても良い。例えば、極性溶媒31aとしては、水や、アルコール、アセトン、ホルムアミド、エチレングリコールなどの有機溶媒や、イオン液体、あるいはそれらの混合物などを用いることができ、無極性溶媒31bとしては、シリコーンオイル、脂肪系炭化水素などを用いることができる。
 上記のように、表示パネル2aは、電源33と、親水性の形状異方性部材32aと、親水性の基板に接する極性溶媒31aと、疎水性の基板に接する無極性溶媒31bと、支持部34とを有している。この構成によれば、光変調層30aに電圧を印加していないときは、形状異方性部材32aは、支持部34を支点にして回転し、極性溶媒31a中に閉じ込められる。
 ここで、極性溶媒31aの割合(層厚)と、無極性溶媒31bの割合(層厚)とは異なっていることが好ましい。
 例えば、形状異方性部材32aが親水性である場合(図15の(a))は、極性溶媒31aの割合(層厚)を、無極性溶媒31bの割合(層厚)より小さくする。このときの極性溶媒31aの層厚は1um以下が好ましく、さらに形状異方性部材32aの厚みあるいは形状異方性部材32aの数個分の厚みになるように設定することが好ましい。形状異方性部材32aは、支持部34を支点にして回転し、狭い極性溶媒31a中に納まるような位置で安定して配向する。形状異方性部材32aとしてフレークを用いたときは、フレークは、支持部34を支点にして回転し、親水性の基板(図15では基板20a)に貼り付くように配向(以下、横配向ともいう)する。
 また、形状異方性部材32aが疎水性である場合は、無極性溶媒31bの割合(層厚)を、極性溶媒31aの割合(層厚)より小さくする。この場合、支持部34を疎水性の基板(図15では基板10a)に設ける。このときの無極性溶媒31bの層厚は1um以下が好ましく、さらに形状異方性部材32aの厚みあるいは形状異方性部材32aの数個分の厚みになるように設定することが好ましい。形状異方性部材32aは、支持部34を支点にして回転し、狭い無極性溶媒31b中に納まるような位置で安定して配向する。形状異方性部材32aとしてフレークを用いたときは、フレークは、支持部34を支点にして回転し、疎水性の基板に貼り付くように配向(横配向)する。
 次に、光変調層30aによる光の透過率の制御方法について具体的に説明する。ここでは、形状異方性部材32aとして、親水性のフレークを用いた場合について説明する。
 光変調層30aに、交流電圧あるいは直流電圧を印加していないときは、図16の(a)に示すように、フレークは極性溶媒31a中に閉じ込められる。すなわち、フレークは、その一部が支持部34に回転可能に固定されつつ、極性溶媒31a中に納まる位置(極性溶媒31aの中)で安定し、親水性の基板20aに貼り付くように配向(横配向)する。これにより、バックライト3から光変調層30aへ入射された光は、フレークにより遮断されるため、光変調層30aを透過(通過)しない。
 光変調層30aに、交流電圧あるいは直流電圧を印加すると、誘電泳動現象、クーロン力または電気エネルギー的な観点から説明される力により、図16の(b)に示すように、フレークは、支持部34を支点にして、その長軸が電気力線に平行になるように回転する。すなわち、フレークは、その長軸が基板10a・20aに垂直になるように配向(以下、縦配向ともいう)する。これにより、バックライト3から光変調層30aへ入射された光は、光変調層30aを透過(通過)して、観察者側に出射される。
 図16の(b)において光変調層30aへの印加電圧を無印加にすると、フレークと無極性溶媒31bとの間に生じる界面張力により、フレークは、図16の(c)に示すように、支持部34を支点にして回転し、その長軸が基板10a・20aに平行になるように配向(横配向)し、図16の(a)に示す状態になる。これにより、バックライト3から光変調層30aへ入射された光は、フレークにより遮断されるため、光変調層30aを透過(通過)しなくなる。
 ここで、フレークが、縦配向、横配向、その中間の配向、および、横配向から一定の傾きを持った配向等、どのような状態の配向を取るかは、回転を起こすトルクと、無極性溶媒31bに潜り込むフレークの長さL(図16の(c)参照)に関係する界面張力とのバランスで決まる。例えば、極性溶媒31aの層厚がフレークの厚みより十分に大きいときは電圧無印加状態からフレークが無極性溶媒31bに潜り込み始めるまでの間は、重力等を利用しない限りフレークの傾きを完全に制御することはできない。一方、極性溶媒31aの層厚を、(i)フレークの厚みと同等あるいはそれよりも小さく(薄く)する、または、(ii)横配向時に表示面(基板面)を被覆するために必要なフレークよりも多い量を入れるときはフレーク数個分の厚みと同等あるいはそれよりも小さく(薄く)する、ことにより、いわゆるフレークの遊びを減らすあるいは無くすことができるため、フレークの傾きを制御することができる。
 極性溶媒31aの層厚を、フレークの厚みよりも十分に大きく(厚く)した場合の利点は、フレーク面の法線方向を、電気力線に対して平均的に少しの傾きを持たせることができるため、電圧の印加により、確実にフレーク回転のトルクを得ることができる点である。
 また、例えばフレークをイオン性のシランカップリング剤等で修飾し、媒体中で正または負に帯電する構成としたときは、直流の電圧を印加することにより、界面張力による横配向になる力と、電気泳動力とを利用することができるため、さらに応答速度を上げることができる。
 このように、光変調層30aへの電圧印加/電圧無印加を切り替えて、フレークを支持部34を支点にして回転させて縦配向/横配向を切り替えることにより、バックライト3から光変調層30aに入射された光の透過率(透過光量)を変化させることができる。
 また、特に金属等の導体のフレークを用いた場合、電圧を印加すると、フレークが電極間にブリッジを形成するような凝集が発生するおそれがあるが、本実施の形態の上記構成とすることにより、(i)フレークが親水性の場合にフレークが積極的に無極性溶媒に分散すること、(ii)フレークが疎水性の場合にフレークが積極的に極性溶媒に分散すること、を防ぐことができるため、ブリッジを形成するような凝集の発生を低減することができる。
 ここで、形状異方性部材32aとしてフレークを用いたときは、その厚みが1um以下であることが好ましく、さらには0.1um以下であることがより好ましい。フレークの厚みが薄いほど、透過率を高めることができる。
 また、実施の形態1と同様、フレーク(形状異方性部材32a)は、その一部が支持部34に回転可能に接続されているため、従来の構成(図24参照)のように、フレークが面内で偏ることがない。よって、従来生じていた表示ムラや非表示領域の発生を抑えることができる。
 表示装置1aの変形例として、ガラス基板11に親水性処理が施され、ガラス基板21に疎水性処理が施され、極性溶媒31aが基板10aに接し、無極性溶媒31bが基板20aに接し、支持部34が基板10aに設けられている構成としても良い。この場合、フレーク(形状異方性部材32)は親水性処理が施されている。これにより、フレークは、支持部34を支点にして回転し、電圧無印加時に基板10aに貼り付くように安定して横配向し、電圧印加時に基板10a側で縦配向する。
 表示装置1aの他の変形例として、上記変形例において、フレーク(形状異方性部材32a)に疎水性処理が施され、支持部34が基板20aに設けられている構成としても良い。これにより、フレークは、図15と同様、支持部34を支点にして回転し、電圧無印加時に基板20aに貼り付くように安定して横配向し、電圧印加時に基板20a側で縦配向する。なお、この場合は、無極性溶媒31bの割合(層厚)が、極性溶媒31aの割合(層厚)よりも小さくなっている。
 〔実施の形態3〕
 本発明の実施の形態3に係る表示装置について、図面を用いて説明する。
 なお、以下の説明では、主に、実施の形態1に係る表示装置との相違点について説明するものとし、実施の形態1で説明した各構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。
 図17の(a)および(b)は、実施の形態3に係る表示装置1bの概略構成を示す断面図であり、図17の(a)は、光透過状態を示し、図17の(b)は、光反射状態を示す。
 表示装置1bは、図17の(a)および(b)に示すように、表示パネル2bと、表示パネル2bに光を照射するバックライト3と、駆動回路(図示せず)とを備え、バックライト3から出射された光を、表示パネル2bを透過して表示を行う透過型の表示装置である。
 表示パネル2bは、互いに対向して配置された一対の基板10b・20bと、これら一対の基板10b・20bの間に配置された光変調層30bとを備えているとともに、電圧を印加する電極を選択することで光変調層30bに印加する電界の方向を切り替えるリレー回路41・51(スイッチ回路)および電源61を備えている。
 また、表示パネル2bは、行列状に配列された多数の画素を有している。
 基板10bは、アクティブマトリクス基板である。基板10bは、絶縁基板11上に、図示しない、各種信号線(走査信号線、データ信号線等)、TFT(薄膜トランジスタ)等のスイッチング素子、および絶縁膜を備え、その上に、ベタ電極12からなる下層電極、絶縁層13、櫛歯電極14・15(図18参照)からなる上層電極が、この順に積層された構成を有している。
 ベタ電極12は、絶縁基板11上に、基板10bにおける表示領域(シール剤で囲まれた領域)を覆うように、絶縁基板11における基板20bとの対向面のほぼ全面に渡ってベタ状に形成されている。
 また、絶縁層13は、ベタ電極12を覆うように、基板10bにおける表示領域全体にベタ状に形成されている。
        図18は、櫛歯電極14・15の概略構成を示す基板10bの平面図である。
 櫛歯電極14は、図18に示すように、パターン化された電極部14L(電極ライン)とスペース部14S(電極非形成部)とを有する櫛歯状の電極であり、より具体的には、幹電極14B(幹ライン)と、櫛歯の歯にあたる、幹電極14Bから延びる枝電極14A(分岐ライン)とで構成されている。
 同様に、櫛歯電極15は、パターン化された電極部15L(電極ライン)とスペース部15S(電極非形成部)とを有する櫛歯状の電極であり、より具体的には、幹電極15B(幹ライン)と、櫛歯の歯にあたる、幹電極15Bから延びる枝電極15A(分岐ライン)とで構成されている。
 なお、図17の(a)および(b)では、櫛歯電極14・15の断面として、枝電極14A・15Aの断面がそれぞれ図示されている。
 1つの画素内に設けられる櫛歯電極14・15の歯(枝電極14A・15A)の数(m、n)は特に限定されず、画素ピッチと、櫛歯電極14・15におけるそれぞれのL/S(つまり、ライン(電極幅)/スペース(電極間隔))との関係等において決定される。なお、ここでは、Lは、電極部14L・15Lを構成する枝電極14A・15Aの電極幅を示し、Sは、スペース部14S・15Sの幅を示す。
 但し、スペース部14S・15Sの幅は、枝電極14A・15Aの幅よりも大きく設定されており、これら櫛歯電極14・15は、図17の(a)および(b)および図18に示すように、櫛歯の歯にあたる、各櫛歯電極14・15の枝電極14A(14A1、14A2、…14Am;mは1以上の整数)と枝電極15A(15A1、15A2、…15An;nは1以上の整数)とが互いに噛み合うように交互に配置されている。
 したがって、枝電極14A・15Aの数は、実質的に、画素ピッチと、各枝電極14A・15Aの幅および隣り合う枝電極14A・15A間の電極間隔との関係等において決定される。
 なお、各枝電極14A・15Aは、それぞれ、直線状であってもよく、V字状あるいはジグザグ状に形成されていてもよい。
 櫛歯電極14・15のうち一方の櫛歯電極14は、共通電極であり、表示領域の周囲に形成された共通配線に電気的に接続されている。
 また、他方の櫛歯電極15は画素電極であり、図示しないドレイン電極で、信号線(走査信号線、データ信号線)およびTFT等のスイッチング素子に接続されており、映像信号に応じた信号が印加される。
 基板20bは対向基板であり、絶縁基板21上に、ベタ電極22を備えている。
 ベタ電極22は、絶縁基板21上に、基板20bにおける表示領域(シール剤で囲まれた領域)を覆うように、絶縁基板21における基板10bとの対向面のほぼ全面に渡ってベタ状に形成されている。
 次に、基板10b・20bにおける各層の材料並びにその形成方法の一例について説明する。
 前述したように、表示装置1bは、透過型の表示装置であり、基板10b・20bは、絶縁基板11・21として、例えばガラス基板等の透明基板を備えている。
 また、基板10b・20bにおける各電極、つまり、ベタ電極12・22および櫛歯電極14・15は、例えば、ITO(インジウム錫酸化物)、IZO(インジウム亜鉛酸化物)、酸化亜鉛、酸化スズ等の透明導電膜により形成されている。
 これら電極を形成(積層)する方法は特に限定されるものではなく、スパッタリング法、真空蒸着法、プラズマCVD法等、従来公知の各種方法を適用することができる。また、これら電極のうち櫛歯電極14・15をパターン形成する方法も特に限定されるものではなく、フォトリソグラフィ等の公知のパターニング方法を用いることができる。
 これら電極の膜厚は特に限定されるものではないが、好適には100Å~2000Åの範囲内において設定される。
 また、絶縁層13は、例えば、窒化ケイ素や二酸化ケイ素等の無機絶縁材料からなる無機絶縁膜であってもよく、アクリル系樹脂等の有機絶縁材料(樹脂材料)からなる有機絶縁膜であってもよい。
 なお、絶縁層13の膜厚は、隣り合う電極部14L・15L間の電極間隔(すなわち、櫛歯電極14・15からなる上層電極のスペースとなる、隣り合う枝電極14A・15A間の距離)よりも小さい。
 絶縁層13の膜厚は、絶縁層13の種類(例えば無機絶縁膜であるか有機絶縁膜であるか等)にもよるが、例えば、1000Å~30000Åの範囲内において設定される。
 絶縁層13の膜厚は、絶縁層13の種類に応じて適宜設定すればよく、特に限定されるものではないが、薄い方が、後述する光変調層30bにおける形状異方性部材32がよく動くとともに、表示パネル2bの薄型化を図ることができることから好ましい。但し、格子欠陥による絶縁性不良および膜厚ムラの防止の観点からは、絶縁層13の膜厚は、1000Å以上であることが好ましい。
 絶縁層13を形成(積層)する方法は、特に限定されるものではなく、スパッタリング法、真空蒸着法、プラズマCVD、塗布等、用いる絶縁材料等に応じて、従来公知の各種方法を適用することができる。
 上述したように、ベタ電極/絶縁層/櫛歯電極からなる積層体は、例えば、導電性の電極膜からなるベタ状電極上に、上述したような無機物や樹脂等の絶縁層を形成し、その上に再度、導電性の電極膜を形成し、感光性樹脂等の公知のフォトレジストにより、上記電極膜をパターニングおよびエッチングし、上記フォトレジストを剥離して櫛歯電極を形成することで、得ることができる。
 また、セル構成の一例としては、例えば、粒径6μmのフレークを用いたとき、櫛歯電極14・15としては、電極幅3μm、電極間隔5μmであり、セル厚を50μmとして構成することができる。
 但し、必要な構成としては、これに限定されるものではない。しかしながら、好ましくは、電極幅よりも、後述する形状異方性部材32b(例えばフレーク)の粒径を大きくすることで、横電界の弱い櫛歯電極上に、フレークの隙間を作り難い横配向状態を得ることができる。
 光変調層30bは、基板10b・20b間に設けられ、媒体31と、媒体31に含有される複数の形状異方性部材32bと、支持部34とを備えている。
 光変調層30bは、例えば、基板10bと基板20bとを、スペーサ(図示せず)を介してシール剤(図示せず)によって貼り合わせ、両基板10b・20b間の空隙に、形状異方性部材32bを含む媒体31を封入することにより形成される。
 光変調層30bの厚み(セル厚)は、形状異方性部材32bの長軸方向の長さにより設定され、例えば、80μmに設定される。
 支持部34は、樹脂により、基板20bの電極22上に形成されている。
 形状異方性部材32bは、電界の方向に応じて回転または変形する、形状異方性を有する応答部材である。また、形状異方性部材32bは、その一部(一端)が支持部34に接続されており、支持部34を支点にして回転(変形)可能な構成を有している。形状異方性部材32bの形状等の構成は、実施の形態1に示したとおりである。
 形状異方性部材32bの形状並びに材質は、上述したように、電界の印加方向に応じて平面視における形状異方性部材32bの投影像の面積が変化するものであれば、特に制限されない。
 また、形状異方性部材32bの厚みは、特に限定されるものではないが、形状異方性部材32bの厚みが薄いほど、透過率を高めることができる。したがって、形状異方性部材32bの厚みは、少なくとも櫛歯電極14・15の電極間隔(電極間距離)より小さい(例えば、4μm以下である)ことが好ましく、光の波長以下である(例えば、0.5μm以下である)ことがより好ましい。例えば、形状異方性部材32bとしてフレークを用いたときは、その厚みが1μm以下であることが好ましく、0.1μm以下であることがより好ましい。
 媒体31は、実施の形態1に示したとおりである。
 基板10bにおけるベタ電極12は、リレー回路41を介して電源61に電気的に接続されている。ベタ電極12とリレー回路41との間には、ベタ電極12に電圧を印加するための配線42が設けられている。
 また、基板20bにおけるベタ電極22は、リレー回路51を介して電源61に電気的に接続されている。ベタ電極22とリレー回路51との間には、ベタ電極22に電圧を印加するための配線52が設けられている。
 また、櫛歯電極14・15は、それぞれ、リレー回路41・51を介して電源61に電気的に接続されている。櫛歯電極14とリレー回路41との間には、櫛歯電極14に電圧を印加するための配線43が設けられている。また、櫛歯電極15とリレー回路51との間には、櫛歯電極15に電圧を印加するための配線53が設けられている。
 さらに、リレー回路41と電源61との間には、リレー回路41と電源61とを繋ぐ配線44が設けられている。リレー回路51と電源61との間には、リレー回路51と電源61とを繋ぐ配線54が設けられている。
 本実施の形態では、リレー回路41・51を用いてベタ電極12・22および櫛歯電極14・15のうち電圧を印加する電極を切り替える。
 すなわち、リレー回路41・51、電源61、および各配線42~44・52~54は、光変調層30bに印加する電界の方向を変更する電界印加方向変更回路として機能するとともに、ベタ電極12・22および櫛歯電極14・15にそれぞれ選択的に電圧を印加する電圧印加部として機能する。また、上記リレー回路41・51は、基板10b・20bに設けられたベタ電極12・22および櫛歯電極14・15のなかから、電圧を印加する電極を選択する(切り替える)切替回路(選択回路)として機能する。
 例えば、図17の(a)に示すように、リレー回路41を、電源61とベタ電極12とが接続されるように切り替えるとともに、リレー回路51を、電源61とベタ電極22とが接続されるように切り替えることで、光変調層30bに基板10b・20bに垂直方向の縦電界が印加される。
 一方、図17の(b)に示すように、リレー回路41を、電源61と櫛歯電極14とが接続されるように切り替えるとともに、リレー回路51を、電源61と櫛歯電極15とが接続されるように切り替えることで、光変調層30bに、基板10b・20bに平行方向の横電界が印加される。
 リレー回路41・51は、例えば、図示しない信号源から、電圧を印加する電極を切り替える切替信号が入力されることで、入力された切替信号に基づいて切り替えられてもよく、手動により切り替えられてもよい。
 次に、光変調層30bによる光の透過率の制御方法並びに表示パネル2bの表示方法について具体的に説明する。なお、ここでは、形状異方性部材32bとしてフレークを用いた場合を例に挙げて説明する。
 図19の(a)は、図17の(a)における光の進行状態を示す表示パネル2bの要部断面図であり、図19の(b)は、図17の(b)における光の進行状態を示す表示パネル2bの要部断面図である。なお、図19の(a)および(b)では、リレー回路41・51および電源61については、図示を省略している。また、図17の(b)および図19の(b)では、一例として、フレークが基板10bに貼り付くように配向した様子を示している。
 本実施の形態によれば、上述したように、ベタ電極12・22間に発生する縦電界と、櫛歯電極14・15間に発生する横電界とを可逆的に切り替えることで、形状異方性部材32bの向きを可逆的に切り替える。
 例えば、図17の(a)に示すように、対向する均一なベタ電極12・22間に電圧を印加すると、誘電泳動現象やクーロン力または電気エネルギー的な観点から説明される力により、フレークは、支持部34を支点にして、その長軸が電気力線に平行になるように回転する。すなわち、フレークは、その長軸が基板10b・20bに垂直になるように配向(縦配向)する。これにより、バックライト3から光変調層30bへ入射された光は、図19の(a)に示すように、光変調層30bを透過(通過)して、観察者側に出射される。
 一方、図17の(b)に示すように、互いに交互に入り組んでおり同一平面上にある櫛歯電極14・15に、一定以上の電圧を印加すると、フレークは、電気泳動力やクーロン力で説明される力により、櫛歯電極14・15間付近において、支持部34を支点にして回転し、基板10bに貼り付くように配向(横配向)する。
 このような横配向によれば、フレークの反射平面は基板10bに平行に配向しており、入射光は、該反射平面で反射して入射光と反対側の面には透過しない。これにより、バックライト3から光変調層30bへ入射された光は、上記横配向したフレークにより遮断される。
 なお、フレークの配向の程度は、印加電圧の大きさにより制御することができる。バックライト3から光変調層30bへ入射された光は、印加電圧に応じて、その少なくとも一部が、フレークにより遮断される。これにより、バックライト3から光変調層30bに入射された光の透過率(透過光量)を変化させることができる。
 なお、フレークを縦配向から横配向に切り替える場合、上記ベタ電極12・22間に印加する電圧と櫛歯電極14・15間に印加する電圧とを、それぞれに最適な電圧値となるように、それぞれ異なる電圧値に設定してもよい。
 しかしながら、簡便には、電源61から、ベタ電極12・22間に、フレークが横配向する閾値以上のある一定の電圧を印加している状態で、リレー回路を用いて、上記電圧を印加する電極を櫛歯電極14・15に切り替えれば、電圧を印加する電極を変更するだけで、フレークを、支持部34を支点として回転させて、縦配向から横配向に切り替えることができる。
 図20の(a)および(b)は、櫛歯電極14・15間に形成される電気力線を示す断面図であり、図20の(a)は、櫛歯電極14・15間に印加される電圧が高いとき、図20の(b)は、櫛歯電極14・15間に印加される電圧が低いときを示す。
 図20の(a)および(b)に示すように、櫛歯電極14・15間に形成される電気力線による電気エネルギーの大きさは、櫛歯電極14・15間に印加される電圧の大きさに依存する。
 図20の(a)に示すように、櫛歯電極14・15間に印加される電圧が高いとき、例えば0.4V/μmの電圧を印加したとき、フレークは、エネルギー的に低い電気力線に完全に平行になるように配向する。
 一方、櫛歯電極14・15間に印加される電圧が相対的に低いとき、例えば0.2V/μmの電圧を印加したときには、フレークは、基板10b・20bの法線方向から見て電極に垂直な方向に配向しており、基板(具体的には、上記電圧が高いときにフレークが貼り付く、櫛歯電極14・15形成側の基板10b)に貼り付かないものが多く含まれる。この理由は、上記配向は、基板に貼り付く配向に次いで準安定な配向であるため、低い電圧では基板に貼り付く配向に到達しないためであると考えられる。
 フレークの長軸方向は、櫛歯電極14・15間に電圧を印加することで、基板法線方向から見て櫛歯電極14・15に垂直な方向に回転する。このとき、櫛歯電極14・15間に、閾値以上の大きさの電圧を印加することで、図17の(b)および図19の(b)に示すように、フレークは、基板10bに貼り付くように横配向する。
 図19の(b)に示すように、フレークが、その長軸が基板10b・20bに平行になるように横配向している状態では、バックライト3から光変調層30bへ入射された光は、フレークにより完全に遮断され、光変調層30bを透過(通過)しない。
 なお、フレークが横配向に切り替わる、つまり、フレークが、基板10b・20bに平行に配向するために櫛歯電極14・15間に印加される電圧(閾値)は、フレーク(形状異方性部材32b)の形状および材質、媒体31の材質(材料)、櫛歯電極14・15の電極間隔(電極間距離)、光変調層30bの厚み(セル厚)等により、予め決定される。
 したがって、図17の(a)・(b)および図19の(a)・(b)に示すようにフレークを回転させて横配向と縦配向とで切り替える場合、櫛歯電極14・15に、予め設定された、閾値以上の電圧を印加すればよい。
 上記閾値としては、上記したように、形状異方性部材32bの形状および材質、光変調層30bの厚み(セル厚)等にもよるが、例えば、0.3V/μm~1V/μmの値である。
 図21の(a)は、ベタ電極12・22間に電圧を印加したときの平面視でのフレークの配向状態を撮影した顕微鏡写真を示す図であり、図21の(b)は、櫛歯電極14・15間に印加される電圧が相対的に低いときの平面視でのフレークの配向状態を撮影した顕微鏡写真を示す図であり、図21の(c)は、櫛歯電極14・15間に印加される電圧が相対的に高いときの平面視でのフレークの配向状態を撮影した顕微鏡写真を示す図である。
 なお、ここでは、媒体31に炭酸プロピレンを使用し、形状異方性部材32bに、直径6μm、厚み0.1μmのアルミニウムフレークを使用し、セル厚を79μmに設定した。また、ベタ電極12・22には、膜厚1000ÅのITOを使用し、絶縁層には、膜厚1000Å窒化ケイ素を使用し、櫛歯電極14・15には、膜厚1000ÅのITOを使用した。なお、櫛歯電極14・15の電極幅は、それぞれ3μmとした。また、隣り合う枝電極14A・15A間の電極間隔は、5μmとした。
 図21の(a)では、ベタ電極12・22間に、3Vの交流電圧(縦電界)を印加した。
 また、図21の(b)では、リレー回路41・51を切り替えて、櫛歯電極14・15間に、0.2V/μmの交流電圧(横電界)を印加した。
 図21の(c)では、櫛歯電極14・15間に、0.4V/μmの交流電圧(横電界)を印加した。
 なお、周波数は、何れも場合にも、60Hzとした。
 図21の(a)に示すように、ベタ電極12・22間に電圧を印加した場合、フレークの端面が観察されることから、前述したように、形状異方性部材32、つまり、この場合にはフレークの厚みが薄いほど、透過率を高めることができる。
 <フレークが縦配向している状態における各電極の電位>
 フレークが縦配向している状態における、ベタ電極12・22に対する櫛歯電極14・15の電位は、例えば、櫛歯電極14・15が、絶縁層13および駆動層である光変調層30bにおける電圧降下を考慮し、櫛歯電極14・15のない同一平面上と同レベルとなるように設定することができる。
 また、別の方法として、櫛歯電極14・15の電位は、ある特定の電位に設定せず、絶縁された状態とすることができる。このとき、導体であるベタ電極12の前後、言い換えれば、ベタ電極12と櫛歯電極14・15との間に電位差は発生せず、櫛歯電極14・15が存在しないときと同様の電気力線が形成される。
 <フレークが横配向している状態における各電極の電位>
 フレークが横配向している状態における、櫛歯電極14・15に対するベタ電極12・22の電位は、例えば、0V等、櫛歯電極14・15に印加する電位の中間値に設定することができる。
 また、別の例としては、ベタ電極12・22の電位は、ある特定の電位に設定せず、絶縁された状態とすることができる。但し、この場合、外部の帯電等にフレークが影響を受けるおそれがある。
 上述したように、本実施の形態によれば、対向する一対の基板10b・20bに、対向する均一なベタ電極12・22を備えていることで、これらベタ電極12・22間に電圧を印加すると、均一な縦電界によりフレークが縦配向する。また、櫛歯電極14・15間に電圧を印加することで、フレークを完全に横配向させることができる。
 特に、本実施の形態によれば、上記各電極に、上述した電位を与えることにより、ベタ電極12・22に電圧を印加すると、概ね均一な電界を得ることができる。
 本実施の形態によれば、対向配置された基板それぞれに上記したようにベタ電極12・22が形成されていることで、縦電界形成時に、弱電場領域が存在せず、フレークが凝集することなく、縦配向する。
 また、本実施の形態のように櫛歯電極により横電界を印加した場合、フレークは、電気的に安定な配向をとった結果、横配向する。このため、本実施の形態によれば、三次元的にフレークの配向を制御することができ、フレーク面を基板と平行になるようにフレークの配向を制御することができる。
 したがって、本実施の形態によれば、偏光板を必要とせず、簡素で、かつ、高いコントラストで高い光利用効率の表示パネル2bおよび表示装置1bを提供することができる。
 また、実施の形態1と同様、フレーク(形状異方性部材32b)は、その一部が支持部34に回転可能に接続されているため、従来の構成(図24参照)のように、フレークが面内で偏ることがない。よって、従来生じていた表示ムラや非表示領域の発生を抑えることができる。
 〔実施の形態4〕
 本発明の実施の形態4に係る表示装置について、図面を用いて説明する。
 なお、以下の説明では、主に、実施の形態1に係る表示装置との相違点について説明するものとし、実施の形態1で説明した各構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。
 図22の(a)および(b)は、実施の形態4に係る表示装置1cの概略構成を示す断面図である。表示装置1cは、表示パネル2cと、表示パネル2cに対向して設けられたバックライト3と、駆動回路(図示せず)とを備えている。
 表示装置1cは、バックライト3から出射された光を、表示パネル2cを透過させて表示を行う透過型の表示装置である。
 表示パネル2cは、互いに対向配置された一対の基板10c・20cと、これら一対の基板10c・20cの間に配置された光変調層30cとを備えている。基板10c(第1基板)はバックライト3側(背面側)に配され、基板20c(第2基板)は表示面側(観察者側)に配されている。また、表示パネル2cは、行列状に配列された多数の画素を有している。
 基板10cに形成される配向膜25、および基板20cに形成される配向膜25は、後述するように、光変調層30cに含まれる液晶分子35が、ツイスト配向するような配向処理がなされている。具体的には、例えば、ポリイミド膜を800Å成膜後、ラビング処理するといった方法を用いることができる。しかしながら、上記の方法に限定されず、公知の如何なる方法を採用することができる。
 なお、液晶分子35が、光変調層30cに電圧が印加されていないときに、基板10cから基板20cに向けて、90°以上3600°以下の捩れ角度で配向するように配向処理されていることが好ましい。
 光変調層30cは、多数の液晶分子35からなる液晶材料31と、形状異方性部材32cと、支持部34とを備えている。
 光変調層30cは、電極12・22に接続された電源33により電圧が印加され、印加電圧の変化に応じて、バックライト3から光変調層30cに入射された光の透過率を変化させる。
 液晶材料31は、基板10c・20c間においてツイスト配向するものが用いられる。例えばネマチック液晶にカイラル剤を添加し混合したカイラルネマチック液晶を用いることができる。カイラル剤の濃度はその種類やネマチック液晶の種類によって決められ、配向膜25の配向方向(ラビング方向)と配向膜25の配向方向を90°ずらし、光変調層30cの厚み(セル厚)を45μmとして貼り合わせたパネルにおいては、カイラルピッチが70μmとなるようにカイラル剤の濃度を調節する。
 また、ネマチック液晶としては、正の誘電率異方性を持つポジ型(P型)の液晶を用いても、負の誘電率異方性を持つネガ型(N型)を用いてもよい。なお、以下の説明では、特に断らない限り、P型の液晶を用いることとして説明する。
 支持部34は、樹脂により、基板20cの電極22上に形成されている。
 形状異方性部材32cは、電界の方向により回転を伴う応答をする部材であり、その表面において液晶が平行に配向するものであればよい。また、形状異方性部材32cは、その一部(一端)が支持部34に接続されており、支持部34を支点にして回転(変形)可能な構成を有している。形状異方性部材32aの形状等の構成は、実施の形態1に示したとおりである。
 次に、光変調層30cによる光の透過率の制御方法について図22を用いて説明する。以下では、形状異方性部材32cとしてフレークを用いた場合について説明する。
 図22の(a)は、表示装置1cにおいて光の透過量が小さい(少ない)状態を示し、(b)は光の透過量が大きい(多い)状態を示している。
 図22の(a)に示すように、フレークは、その長手方向が基板10c・20cに平行となるように、支持部34を支点にして回転し配向する(フレークを横配向する)ことで、光が遮断された状態となる。
 このような横配向によれば、フレークの面は基板10c・20cに平行に配向し、入射光はその面で反射し入射光と反対側の面には透過しない。
 一方、図22の(b)に示すように、フレークは、その長手方向が基板10c・20cの基板面に対し垂直となるように、支持部34を支点にして回転し配向する(フレークを縦配向する)ことで、入射光が透過する状態となる。
 ここで、「入射光が透過する」とは、入射光が直接透過することと、フレークの反射面で反射した後、入射光が入射した基板とは反対側の基板の基板面に透過することとを含むこととする。
 このとき背面にバックライトを設けると液晶ディスプレイのような透過型表示を行うことができる。
 次に、具体的に、フレークの配向を制御する方法について説明する。図22には、形状異方性部材32cとしてのフレークと、液晶材料31中の一部の液晶分子35の配向を示している。
 また、平面視において配向膜25の配向方向と、配向膜25の配向方向とがなす角は、180°である。これにより、光変調層30cに電圧が印加されていないときに、基板10cおよび基板20cの基板面の垂線方向において、液晶分子35が螺旋状に捩れ、少なくとも基板面の垂線方向において一定距離離れた液晶分子35のそれぞれの長軸方向が互いに異なるように配される。
 また、液晶材料31として、P型液晶を用いている。
 図22の(a)は、光変調層30cに電圧が印加されていない状態のフレーク及び液晶分子35の配向を示し、(b)は、光変調層30cに電圧が印加されている状態のフレーク及び液晶分子35の配向を示す。
 なお、図示しない駆動回路により、図22の(b)に示す光変調層30cに印加される電圧は、図22の(a)に示す光変調層30cに印加される電圧よりも大きくなるように制御されている。
 図22の(a)に示すように、光変調層30cに電圧が印加されていない状態では、液晶分子35は、配向膜25の配向方向に従い基板10c・20cの基板面に垂直な螺旋軸を持って配向する。言い換えると、液晶分子35は基板10c・20cの間で180°捩れて配向する。
 さらに、フレークの表面に対して液晶分子35が平行に配向するようにフレークが移動した結果、フレークはその面が基板面と平行になるよう配向する。すなわち、横配列する。
 ここで、フレークは、一方の面上にある液晶分子35と他方の面上にある液晶分子35により、2方向(2軸)で支持されることとなる。これにより、フレークは、液晶分子35から規制力を受けて保持され、横配向する。
 光変調層30cに電圧を印加すると、光変調層30cに電圧が印加されている状態では、印加される電圧に応じて、液晶分子35の長軸方向と基板面とがなす角が大きくなる。
 誘電泳動力やクーロン力または電気エネルギー的な観点から説明される力および液晶との界面エネルギーを極小にする力により、フレークは、支持部34を支点にして、その長軸が電気力線に対し平行に近づくように回転し、縦配列する。
 これにより、フレークの配向も変化し、支持部34を支点にして、フレークが有する面のうち、面積が最も大きい面における法線と、基板10c・20cの基板面の法線とのなす角が変化する。
 さらに、光変調層30cに印加される電圧が一定以上となると、図22の(b)に示すように、液晶分子35は、その長軸方向が基板10c・20cの基板面と垂直となるように配向する。
 これにより、フレークは支持部34を支点にして回転し、フレークが有する面のうち面積が最も大きい面における法線と、基板10c・20cの基板面の法線とのなす角が垂直となる。
 液晶材料31としてP型液晶を用いた場合、光変調層30cに印加する電圧の大きさに応じて、液晶分子35の基板面に対する傾きが中間状態をとるため、フレークの基板面に対する傾きも中間状態をとることができる。
 これにより、光変調層に印加する電圧の大きさに応じた光量の光を透過させ、表示装置1cにおいて中間調の表示を容易にすることができる。
 光変調層30cに電圧を印加せず、フレークを横配向させた場合の様子(平面視)を撮影した画像、および、光変調層30cに電圧を印加し、フレークを縦配向させた場合の様子(平面視)を撮影した画像は、図4の(a)および(b)に示したとおりである。
 以上のように、光変調層30cに印加する電圧の高さを変化させることにより、フレークの配向を、支持部34を支点にして、可逆的に制御することができる(切り替えることができる)。
 以上のように、P型液晶を用いたときは、液晶分子35は電圧の印加と共にホメオトロピック配向になり、それに応じてフレークが横配向する規制力がなくなり縦配向に回転することができる。
 液晶材料31としてN型液晶を用いたときは、光調光層30cに電圧を印加しない状態では、液晶分子35は、その長軸方向が基板面と平行となるように配向する。そのため、フレークも横配列する。
 光調光層30cに電圧を印加しても、N型の液晶分子35の配向は変化しない。しかしながら、誘電泳動力やクーロン力または電気エネルギー的な観点から説明される力により、フレークの配向は縦配向に変化する。そして、印加電圧を下げたときに、液晶分子35の配向に対して規制力を受け、速やかにフレークを横配向に戻すことができる。
 また、N型液晶を用いたときは、光変調層30cに電圧を印加しても、液晶分子35により常にフレークを横配向しようとする力が働く。そこで、電圧印加によるフレークの回転トルクと液晶分子35による横配向規制力のバランスをとることで、表示装置1cにおいて中間調の表示を容易にすることができる。
 以上のように、本実施の形態の表示装置1cは、簡易な構成で光利用効率を高めることができる。また、光調光層30cへの印加電圧の有無にかかわらず形状異方性部材32cの配向が定まるため、明暗の書き換えを双方向に速いスイッチング速度で制御することができる。
 また、実施の形態1と同様、フレーク(形状異方性部材32c)は、その一部が支持部34に回転可能に接続されているため、従来の構成(図24参照)のように、フレークが面内で偏ることがない。よって、従来生じていた表示ムラや非表示領域の発生を抑えることができる。
 本発明の表示パネル(2、2a、2b、2c)は、上記課題を解決するために、互いに対向配置される、背面側の第1基板(基板10、10a、10b、10c)および表示面側の第2基板(基板20、20a、20b、20c)と、上記第1および第2基板の間に配され、電界の方向に応じて回転する複数の形状異方性部材(32、32a、32b、32c)を含み、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させることにより、入射された光の透過率を制御する光変調層と、上記複数の形状異方性部材のそれぞれを支持するための、上記第1または第2基板に設けられた1以上の支持部(34)とを備え、上記複数の形状異方性部材のそれぞれは、上記支持部に回転可能に接続されていることを特徴とする。
 上記構成によれば、形状異方性部材は支持部(フレーク)に回転可能に接続されているため、従来の構成(図24参照)のように、形状異方性部材が面内で偏ることがない。よって、従来生じていた表示ムラや非表示領域の発生を抑えることができる。また、形状異方性部材を回転させることにより光の透過率を変化させることができるため、液晶パネルと比較して、偏光板を省略でき光利用効率を高めることができる。
 上記表示パネルでは、上記複数の形状異方性部材のそれぞれの一端が、上記支持部に回転可能に接続されていることが好ましい。
 上記表示パネルでは、上記光変調層に印加する電圧を、周波数が0Hzとなる場合の直流と、交流とで切り替える構成とすることもできる。
 上記の構成によれば、光変調層に印加する電圧の周波数を変化させることにより光の透過率を変化させることができるため、表示パネルの構成を簡略化することができる。
 上記表示パネルでは、上記光変調層に印加する電圧は交流であることが好ましい。
 上記表示パネルでは、上記光変調層は、上記光変調層に印加する電圧が直流または低周波数のときは光を遮断し、上記光変調層に印加する電圧が高周波数のときは光を透過する構成とすることもできる。
 上記表示パネルでは、上記光変調層は、極性溶媒(31a)と、無極性溶媒(31b)と、親水性または疎水性の性質を有する複数の形状異方性部材とを含み、上記第1および第2基板のうちの一方は、親水性の性質を有するとともに、上記極性溶媒に接しており、上記第1および第2基板のうちの他方は、疎水性の性質を有するとともに、上記無極性溶媒に接しており、上記光変調層に印加する電圧の大きさを変化させることにより、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させる構成とすることもできる。
 上記の構成によれば、光変調層に電圧を印加していないときは、形状異方性部材が親水性の場合は、形状異方性部材を極性溶媒中に配向(横配向)させることができ、形状異方性部材が疎水性の場合は、形状異方性部材を無極性溶媒中に配向(横配向)させることができる。また、光変調層に電圧を印加すると、形状異方性部材の第1および第2基板への投影面積を変化させることができる。
 このように、親水性の基板と疎水性の基板の間に配される形状異方性部材を、親水性または疎水性にすることにより、電圧無印加時に極性溶媒または無極性溶媒中に納めることができるとともに、電圧印加時に光を透過させることができる。よって、簡易な構成で光利用効率の高い表示パネルを実現することができる。
 上記表示パネルでは、上記形状異方性部材が親水性を有する場合は、上記形状異方性部材は、その長軸が上記第1および第2基板に平行になるように配向したときに、上記極性溶媒中に納まっており、上記形状異方性部材が疎水性を有する場合は、上記形状異方性部材は、その長軸が上記第1および第2基板に平行になるように配向したときに、上記無極性溶媒中に納まっている構成とすることもできる。
 これにより、横配向時に、極性溶媒または無極性溶媒中に納まる位置で安定させることができる。
 上記表示パネルでは、上記第1および第2基板は、それぞれベタ状の電極(12・22)を備え、上記第1および第2基板のうち少なくとも一方の基板には、上記ベタ状の電極上に、絶縁層を介して、少なくとも1つの櫛歯状の電極(14・15)が設けられており、上記光変調層に印加する電界の方向を変更する電界印加方向変更回路をさらに備えている構成とすることもできる。
 上記表示パネルは、対向する一対の基板に、対向する均一なベタ状の電極を備えていることで、これらベタ状の電極間に電圧を印加すると、均一な縦電界(つまり、上記一対の基板に垂直な方向の均一な電界)により、形状異方性部材は、その長軸が上記一対の基板に垂直になるように縦配向する。したがって、上記の構成によれば、縦電界形成時に、弱電場領域が存在せず、形状異方性部材を凝集させることなく縦配向させることができる。
 また、上記表示パネルは、櫛歯状の電極が設けられていることで、櫛歯状の電極により、基板に平行な方向の横電界を形成することができるので、形状異方性部材を、その長軸が、基板に平行になるように横配向させることができる。
 上記表示パネルでは、上記電界印加方向変更回路は、上記第1および第2基板に設けられた電極の中から電圧を印加する電極を選択する選択回路を備えている構成とすることもできる。
 上記表示パネルでは、上記櫛歯状の電極は、上記第1および第2基板のうち少なくとも一方の基板に複数設けられており、上記選択回路は、上記第1および第2基板に設けられたベタ状の電極間、および、上記第1および第2基板のうち同一の基板に設けられた櫛歯状の電極間のうち、何れか一方の電極間に電圧が印加されるように、電圧を印加する電極を選択する構成とすることもできる。
 上記表示パネルでは、上記光変調層は、液晶分子からなる液晶材料(31)を含んでおり、上記第1および第2基板は、上記光変調層と対向する面に配向処理が施されており、上記配向処理は、上記光変調層に電圧が印加されていないときに、上記液晶分子が上記第1基板から上記第2基板に向けて捩れて配向するように、または上記液晶分子が上記第1基板および上記第2基板に対して略垂直に配向するように、施されており、上記光変調層に印加する電圧を変化させ、上記液晶分子の配向を変化させることにより、上記形状異方性部材の上記第1基板および上記第2基板への投影面積を変化させる構成とすることもできる。
 上記の構成によれば、光変調層に電圧を印加しないとき、または電圧が小さいときであっても、基板に施された配向処理により液晶分子の配向は定まるため、可逆的に形状異方性部材の配向を変化させることができる。これにより、簡易な構成で光利用効率を高めることができ、明暗の書き換えを双方向に速いスイッチング速度で制御することができる表示パネルを実現することができる。また、液晶分子の配向を制御することで、容易に中間調の表示制御をすることができる。
 上記表示パネルでは、上記配向処理は、上記光変調層に電圧が印加されていないときに、上記液晶分子が上記第1基板から上記第2基板に向けて捩れて配向するように、施されており、上記液晶材料には、カイラル剤が添加されている構成とすることもできる。
 上記表示パネルでは、上記液晶分子は、上記光変調層に電圧が印加されていないときに、上記第1基板から上記第2基板に向けて、90°以上3600°以下の捩れ角度で配向している構成とすることもできる。
 本発明の表示装置は、上記課題を解決するために、上記表示パネルと、上記第1基板側に配されたバックライト(3)とを備えていることを特徴とする。
 本発明の表示パネルの製造方法は、上記課題を解決するために、互いに対向配置される、背面側の第1基板および表示面側の第2基板と、上記第1および第2基板の間に配され、電界の方向に応じて回転する複数の形状異方性部材を含み、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させることにより、入射された光の透過率を制御する光変調層と、を備えた表示パネルの製造方法であって、上記第1および第2基板の間に、媒体中に混合した上記形状異方性部材と光硬化性樹脂材料を注入する注入工程と、上記注入工程後に、上記第1および第2基板の間に電圧を印加する電圧印加工程と、上記電圧印加工程後に、UV光を照射する照射工程と、を含むことを特徴とする。
 これにより、光利用効率を高めるとともに、表示不良を低減することができる表示パネルを製造することができる。
 本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、また、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
 本発明は、テレビ等のディスプレイに好適である。
1、1a、1b、1c 表示装置
2、2a、2b、2c 表示パネル
3 バックライト
10、10a、10b、10c 基板(第1基板)
11 ガラス基板
12 電極(画素電極)
13 光吸収層
20、20a、20b、20c 基板(第2基板)
21 ガラス基板
22 電極(共通電極)
23 カラーフィルタ
30、30a、30b、30c 光変調層
31 媒体
32、32a、32b、32c 形状異方性部材
33 電源
34 支持部

Claims (15)

  1.  互いに対向配置される、背面側の第1基板および表示面側の第2基板と、
     上記第1および第2基板の間に配され、電界の方向に応じて回転する複数の形状異方性部材を含み、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させることにより、入射された光の透過率を制御する光変調層と、
     上記複数の形状異方性部材のそれぞれを支持するための、上記第1または第2基板に設けられた1以上の支持部とを備え、
     上記複数の形状異方性部材のそれぞれは、上記支持部に回転可能に接続されていることを特徴とする表示パネル。
  2.  上記複数の形状異方性部材のそれぞれの一端が、上記支持部に回転可能に接続されていることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  3.  上記光変調層に印加する電圧を、周波数が0Hzとなる場合の直流と、交流とで切り替えることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  4.  上記光変調層に印加する電圧は交流であることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  5.  上記光変調層は、上記光変調層に印加する電圧が直流または低周波数のときは光を遮断し、上記光変調層に印加する電圧が高周波数のときは光を透過することを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  6.  上記光変調層は、極性溶媒と、無極性溶媒と、親水性または疎水性の性質を有する複数の形状異方性部材とを含み、
     上記第1および第2基板のうちの一方は、親水性の性質を有するとともに、上記極性溶媒に接しており、
     上記第1および第2基板のうちの他方は、疎水性の性質を有するとともに、上記無極性溶媒に接しており、
     上記光変調層に印加する電圧の大きさを変化させることにより、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  7.  上記形状異方性部材が親水性を有する場合は、上記形状異方性部材は、その長軸が上記第1および第2基板に平行になるように配向したときに、上記極性溶媒中に納まっており、
     上記形状異方性部材が疎水性を有する場合は、上記形状異方性部材は、その長軸が上記第1および第2基板に平行になるように配向したときに、上記無極性溶媒中に納まっていることを特徴とする請求項6に記載の表示パネル。
  8.  上記第1および第2基板は、それぞれベタ状の電極を備え、
     上記第1および第2基板のうち少なくとも一方の基板には、上記ベタ状の電極上に、絶縁層を介して、少なくとも1つの櫛歯状の電極が設けられており、
     上記光変調層に印加する電界の方向を変更する電界印加方向変更回路をさらに備えていることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  9.  上記電界印加方向変更回路は、上記第1および第2基板に設けられた電極の中から電圧を印加する電極を選択する選択回路を備えていることを特徴とする請求項8に記載の表示パネル。
  10.  上記櫛歯状の電極は、上記第1および第2基板のうち少なくとも一方の基板に複数設けられており、
     上記選択回路は、上記第1および第2基板に設けられたベタ状の電極間、および、上記第1および第2基板のうち同一の基板に設けられた櫛歯状の電極間のうち、何れか一方の電極間に電圧が印加されるように、電圧を印加する電極を選択することを特徴とする請求項9に記載の表示パネル。
  11.  上記光変調層は、液晶分子からなる液晶材料を含んでおり、
     上記第1および第2基板は、上記光変調層と対向する面に配向処理が施されており、
     上記配向処理は、上記光変調層に電圧が印加されていないときに、上記液晶分子が上記第1基板から上記第2基板に向けて捩れて配向するように、または上記液晶分子が上記第1基板および上記第2基板に対して略垂直に配向するように、施されており、
     上記光変調層に印加する電圧を変化させ、上記液晶分子の配向を変化させることにより、上記形状異方性部材の上記第1基板および上記第2基板への投影面積を変化させることを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。
  12.  上記配向処理は、上記光変調層に電圧が印加されていないときに、上記液晶分子が上記第1基板から上記第2基板に向けて捩れて配向するように、施されており、
     上記液晶材料には、カイラル剤が添加されていることを特徴とする請求項11に記載の表示パネル。
  13.  上記液晶分子は、上記光変調層に電圧が印加されていないときに、上記第1基板から上記第2基板に向けて、90°以上3600°以下の捩れ角度で配向していることを特徴とする請求項12に記載の表示パネル。
  14.  請求項1~13の何れか1項に記載の表示パネルと、上記第1基板側に配されたバックライトとを備えていることを特徴とする表示装置。
  15.  互いに対向配置される、背面側の第1基板および表示面側の第2基板と、
     上記第1および第2基板の間に配され、電界の方向に応じて回転する複数の形状異方性部材を含み、上記形状異方性部材の上記第1および第2基板への投影面積を変化させることにより、入射された光の透過率を制御する光変調層と、を備えた表示パネルの製造方法であって、
     上記第1および第2基板の間に、媒体中に混合した上記形状異方性部材と光硬化性樹脂材料を注入する注入工程と、
     上記注入工程後に、上記第1および第2基板の間に電圧を印加する電圧印加工程と、
     上記電圧印加工程後に、UV光を照射する照射工程と、を含むことを特徴とする表示パネルの製造方法。
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