WO2014034428A1 - 導光装置、製造方法、及び、ｌｄモジュール - Google Patents

導光装置、製造方法、及び、ｌｄモジュール Download PDF

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祥平 粂田
真一 阪本
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株式会社フジクラ
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Definitions

  • the present invention relates to a light guide device that converts an input beam bundle composed of a plurality of input beams into an output beam bundle composed of a plurality of output beams. Moreover, it is related with the manufacturing method of such a light guide device, and LD module provided with such a light guide device.
  • LD modules are widely used to couple a laser beam emitted from an LD (Laser Diode) element (semiconductor laser element) to an optical fiber.
  • LD Laser Diode
  • a micro optical device described in Patent Document 1 is known as a light guide device that guides a laser beam emitted from each of a plurality of LD elements to an optical fiber.
  • FIG. 14 is a perspective view of the micro optical device 10 described in Patent Document 1.
  • the micro optical device 10 includes a substrate 11, an LD bar 12, a cylindrical lens 13, a first mirror array 14, and a second mirror array 15.
  • the LD bar 12 includes a plurality of LD elements arranged along the x-axis, and emits a laser beam from each LD element in the positive z-axis direction.
  • the optical axis of the laser beam emitted from each LD element in the positive z-axis direction is aligned along the x-axis in a first plane parallel to the zx plane.
  • the propagation direction of the laser beam emitted from each LD element is dispersed in the ⁇ ⁇ x direction with the z-axis positive direction as the center. For this reason, in the micro optical device 10, the cylindrical lens 13 disposed so as to face the emission end face of the LD bar 12 collimates the laser beam emitted from each LD element (the propagation direction is set to the z-axis positive direction). Converging) is adopted.
  • the first mirror array 14 is formed by integrating mirror surfaces 14a facing the LD elements constituting the LD bar 12. The laser beam emitted from each LD element in the z-axis positive direction is reflected in the y-axis positive direction by the mirror surface 14a facing the LD element. Further, the second mirror array 15 is an integrated mirror surface 15a facing each mirror surface 14a constituting the first mirror array 14. The laser beam reflected in each mirror surface 14a in the positive y-axis direction is reflected in the positive x-axis direction by the mirror surface 15a facing the mirror surface 14a.
  • the mirror surfaces 14a and 15a that reflect the laser beam emitted from the i + 1-th LD element counted from the x-axis positive direction side reflect the laser beam emitted from the i-th LD element counted from the x-axis positive direction side. It arrange
  • the micro optical device 10 configures the second mirror array 15 by using the first beam bundle formed of the laser beams propagating in the positive z-axis direction emitted from the LD elements configuring the LD bar 12. It has a function of converting into a second beam bundle composed of a laser beam propagating in the x-axis direction reflected by each mirror surface 15a.
  • the second beam bundle (hereinafter referred to as “output beam bundle”) output from the micro optical device 10 is focused on the incident end face of the optical fiber by a lens (not shown), for example.
  • the propagation direction of each laser beam constituting the output beam bundle varies. Is unavoidable. Since the mirror surfaces 14a and 15a that reflect the laser beam emitted from each LD element are integrated as the mirror rows 14 and 15, the propagation direction of the laser beam constituting the output beam bundle cannot be individually adjusted. It is. Variation in the propagation direction of each laser beam constituting the output beam bundle makes it difficult to focus the output beam bundle on the incident end face of the optical fiber, and hinders higher output and higher efficiency.
  • the multi-chip LD module refers to an LD module using a plurality of LD chips each having one LD element as a light source. It will be apparent that in a multi-chip LD module in which each LD chip needs to be individually mounted, the propagation direction of the laser beam emitted from each LD chip tends to vary.
  • each laser beam constituting the output beam bundle is propagated in a predetermined direction by adjusting the inclination of the mirror array 14. Can do. However, it is difficult to maintain the inclination of the mirror array 14 for the following reason.
  • the present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide an input beam in a light guide device that converts an input beam bundle composed of a plurality of input beams into an output beam bundle composed of a plurality of output beams.
  • An object of the present invention is to realize a light guide device that can adjust the propagation direction of an output beam to a predetermined direction even if the propagation direction of the light beam has a non-uniform or uniform inclination.
  • Another object of the present invention is to realize an LD module capable of achieving high output and high efficiency by using such a light guide device.
  • a light guide device is a duplex mirror corresponding to each input beam in a light guide device that converts an input beam bundle made up of a plurality of input beams into an output beam bundle made up of a plurality of output beams.
  • the double mirrors separated from the double mirrors corresponding to the input beams are provided, and the double mirrors corresponding to the input beams include a first mirror placed on a specific plane and the first mirror.
  • the first mirror is a first reflecting surface that reflects the input beam, and an angle formed between the normal line and the normal line of the specific plane.
  • the second mirror is a second reflection surface that reflects the input beam reflected by the first reflection surface, the normal line and the normal line
  • the first reflection surface that reflects each input beam is provided on the first mirror placed on a specific plane, and the second reflection that reflects the input beam reflected by the first reflection surface.
  • the surface is provided on the second mirror placed on the first mirror.
  • the double mirror corresponding to each input beam is separated from the double mirror corresponding to the other input beams. Therefore, the propagation direction of each output beam can be adjusted independently of each other. Therefore, even if the propagation direction of the input beam varies, the propagation direction of the output beam can be adjusted to a predetermined direction. Also, the adjustment of the optical axis position of each output beam can be performed independently of each other.
  • the LD module provided with the light guide device is also included in the category of the present invention.
  • an LD module capable of high output and high efficiency can be realized.
  • a light guide device that can adjust the propagation direction of the output beam to a predetermined direction even if the propagation direction of the input beam has a non-uniform or uniform inclination.
  • an LD module capable of high output and high efficiency can be realized.
  • FIG. 3 It is a flowchart which shows the adjustment method which adjusts the direction and position of a 1st mirror and a 2nd mirror with which the double mirror shown in FIG. 3 is provided.
  • A is the top view (upper stage) and the front view (lower stage) which illustrate the state of the double mirror before implementing the 1st mirror rotation process included in the flowchart shown in FIG.
  • B is the upper side figure (upper stage) and the front view (lower stage) which illustrate the state of the double mirror after implementing a 1st mirror rotation process.
  • A) is the upper side figure (upper stage) and the side view (lower stage) which illustrate the state of the double mirror before implementing the 2nd mirror rotation process included in the flowchart shown in FIG.
  • (B) is the upper side figure (upper stage) and the side view (lower stage) which illustrate the state of the double mirror after implementing a 2nd mirror rotation process.
  • (A) is a side view which illustrates the state of the double mirror before implementing the 1st mirror sliding process included in the flowchart shown in FIG. (B) is a side view which illustrates the state of the double mirror after performing the 1st mirror sliding process.
  • (A) is a front view which illustrates the state of the double mirror before implementing the 2nd mirror sliding process included in the flowchart shown in FIG. (B) is a front view which illustrates the state of the double mirror after performing the 2nd mirror sliding process.
  • FIG. 6 is a top view showing a first modification of the LD module shown in FIG. 1.
  • FIG. 10 is a top view showing a second modification of the LD module shown in FIG. 1. It is a perspective view which shows the structure of the conventional micro optical apparatus.
  • FIG. 1 is a top view showing the configuration of the LD module 1.
  • N in this embodiment, the number N of LD chips included in the LD module 1 is 10, but the present invention is not limited to this. That is, the number N of LD chips included in the LD module 1 may be an arbitrary integer of 2 or more.
  • the LD module 1 includes N F-axis collimating lenses FAC1 to FAC10, N S-axis collimating lenses SAC1 to SAC10, and N pieces. Second mirrors M1 to M10, a substrate B, an F-axis condenser lens FL, and an S-axis condenser lens SL.
  • the LD chips LD1 to L10, the F axis collimating lenses FAC1 to FAC10, the S axis collimating lenses SAC1 to SAC10, the double mirrors M1 to M10, the F axis focusing lens FL, and the S axis focusing lens SL are all directly Or it mounts on the board
  • the substrate B, the F-axis collimating lenses FAC1 to FAC10, the S-axis collimating lenses SAC1 to SAC10, and the double mirrors M1 to M10 are light guides corresponding to the conventional micro optical device 10 (see FIG. 14). Configure the device.
  • This light guide device like the conventional micro optical device 10, receives an input beam bundle composed of a laser beam (hereinafter also referred to as “input beam”) emitted from the LD chips LD1 to LD10 and propagating in the z-axis positive direction. , And a function of converting into an output beam bundle composed of a laser beam propagating in the negative x-axis direction (hereinafter also referred to as “output beam”).
  • the F-axis condenser lens FL and the S-axis condenser lens SL are disposed on the optical path of the output beam bundle.
  • the F-axis condenser lens FL refracts each output beam constituting the output beam bundle so that the beam interval is minimized (preferably zero) at the incident end face of the optical fiber OF.
  • the S-axis condenser lens SL focuses each output beam constituting the output beam bundle so that the beam diameter in the y-axis direction is minimized (preferably 0) at the incident end face of the optical fiber OF.
  • the LD module 1 is configured with an optical system composed of an LD chip LDi, an F-axis collimating lens FACi, an S-axis collimating lens SACi, and a double mirror Mi as a unit.
  • FIG. 1 illustrates a unit optical system S1 including an LD chip LD1, an F-axis collimating lens FAC1, an S-axis collimating lens SAC1, and a double mirror M1.
  • FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the unit optical system Ui.
  • the unit optical system Ui includes an LD chip LDi, an F-axis collimating lens FACi, an S-axis collimating lens SACI, and a double mirror Mi.
  • the LD chip LDi is placed on the substrate B so that the active layer is parallel to the zx plane and the emission end face is in the positive z-axis direction. For this reason, the laser beam emitted from the LD chip LDi has a propagation direction in the positive z-axis direction, an F-axis parallel to the y-axis, and an S-axis parallel to the x-axis.
  • the N LD chips LD1 to LD10 are arranged along the x-axis. For this reason, the optical axes of the laser beams emitted from the respective LD chips LDi in the positive z-axis direction are arranged in parallel along the x-axis in the first plane parallel to the zx plane.
  • An F-axis collimating lens FACi and an S-axis collimating lens SACi are disposed on the optical path of the laser beam emitted from the LD chip LDi.
  • the F-axis collimating lens FACi is for collimating the spread in the F-axis direction of the laser beam emitted from the LD chip LDi
  • the S-axis collimating lens SACi is the S-axis of the laser beam emitted from the LD chip LDi. It is for collimating the extent of the direction.
  • the laser beam transmitted through the F-axis collimating lens FACi and the S-axis collimating lens SACi is a collimated beam whose propagation direction is converged in the positive z-axis direction. Note that when the spread of the laser beam emitted from the LD chip LDi in the S-axis direction is sufficiently small, the S-axis collimating lens SACi may be omitted.
  • a double mirror Mi is further arranged on the optical path of the laser beam emitted from the LD chip LDi.
  • the double mirror Mi is configured by an i-th mirror Mi1 placed on the substrate B and a second mirror Mi2 placed on the first mirror Mi1.
  • the first mirror Mi1 reflects the laser beam emitted from the LD chip LDi and changes the propagation direction from the z-axis positive direction to the y-axis positive direction, and is also referred to as a “bounce mirror”. is there.
  • the second mirror Mi1 reflects the laser beam reflected by the first mirror Mi1, and changes the propagation direction from the positive y-axis direction to the negative x-axis direction. Sometimes called.
  • the double mirror Mi + 1 that reflects the laser beam emitted from the (i + 1) th LD chip LDi + 1 counted from the x-axis negative direction side is the i-th counted from the x-axis positive direction side.
  • the laser beam emitted from the LD chip LDi is disposed on the z-axis negative direction side with respect to the double mirror Mi that reflects the laser beam.
  • the optical axis of the laser beam reflected in the negative x-axis direction by each of the double mirrors Mi is a second plane parallel to the zx plane and is in the positive y-axis direction than the first plane described above. They are arranged along the z-axis in the second plane located on the side.
  • FIG. 3 is a perspective view showing the configuration of the double mirror Mi.
  • the double mirror Mi is composed of a first mirror Mi1 and a second mirror Mi2.
  • the first mirror Mi1 is a polyhedral structure having at least a lower surface A1, an upper surface B1 parallel to the lower surface A1, and a reflecting surface S1.
  • the angle formed by the reflection surface S1 and the lower surface A1 is 45 ° as shown in FIG.
  • the first mirror Mi1 is placed on the substrate B so that the lower surface A1 contacts the upper surface of the substrate B (see FIG. 2). Accordingly, the normal vector of the reflection surface S1 of the first mirror Mi1 (the outward normal vector from the reflection surface S1 toward the outside of the first mirror Mi1) and the normal vector of the upper surface (zx surface) of the substrate B (upper surface) To the outside of the substrate B and the angle formed by the outward normal vector) is 45 °.
  • the direction of the first mirror Mi1 is determined so that the normal line of the reflecting surface S1 is parallel to the yz plane. Thereby, the reflection surface S1 of the first mirror Mi1 reflects the laser beam incident from the negative z-axis direction in the positive y-axis direction.
  • the second mirror Mi2 is a polyhedral structure having at least a lower surface A2 and a reflecting surface S2.
  • the angle formed by the reflecting surface S2 and the lower surface A2 is 45 ° as shown in FIG.
  • the second mirror Mi2 is placed on the first mirror Mi1 so that the lower surface A2 contacts the upper surface B1 of the first mirror Mi1.
  • the normal vector of the reflecting surface S2 of the second mirror Mi2 (the outward normal vector from the reflecting surface S2 toward the outside of the second mirror Mi2) and the normal vector of the upper surface (zx surface) of the substrate B (upper surface)
  • the angle formed with the outward normal vector from the substrate B toward the outside of the substrate B is 135 °.
  • the direction of the second mirror Mi2 is determined so that the normal line of the reflecting surface S2 is parallel to the xy plane.
  • the reflecting surface S2 of the second mirror Mi2 reflects the laser beam incident from the negative y-axis direction in the negative x-axis direction.
  • the propagation direction of the output beam can be matched with the negative x-axis direction.
  • the propagation direction of the output beam is slightly rotated with the z axis as the rotation axis
  • the second mirror Mi2 is slightly rotated with the y axis as the rotation axis
  • the y axis This is because the propagation direction of the output beam is slightly rotated about the rotation axis.
  • the optical axis of the output beam is equally spaced within a plane parallel to the xz plane. Can be lined up.
  • the optical axis of the output beam is translated in the z-axis positive direction / negative direction
  • the second mirror Mi2 is translated in the x-axis positive direction / negative direction. This is because the optical axis of the output beam translates in the y-axis positive / negative direction.
  • the first adjustment target is to make the propagation direction of each output beam constituting the output beam bundle coincide with the x-axis negative direction, but the present invention is not limited to this. . That is, it is sufficient if the propagation direction of each output beam constituting the output beam can be made to coincide with a specific direction, and the specific direction is not limited to the x-axis negative direction.
  • the second adjustment target is to arrange the optical axes of the output beams constituting the output beam bundle at equal intervals in a plane parallel to the zx plane.
  • the present invention is not limited to this. Is not to be done. That is, it is sufficient that the optical axes of the output beams constituting the output beam can be arranged at equal intervals in a specific plane, and the specific plane is not limited to a plane parallel to the zx plane.
  • n1 is a normal vector of the first reflecting surface S1
  • (L ⁇ n1) is an inner product of the direction vector L and the normal vector n1.
  • L ′ L ⁇ 2 (L ⁇ n1) n1 (1)
  • the direction vector L ′′ of the reflected light (output beam) emitted from the second reflecting surface S2 is expressed as follows.
  • n2 is a normal vector of the second reflecting surface S2
  • (L ′ ⁇ n2) is an inner product of the direction vector L ′ and the normal vector n2.
  • each component of the direction vector L ′′ (L ′′ x, L ′′ y, L ′′ z) of the reflected light emitted from the second reflecting surface S2 is given as follows according to the equation (3).
  • L ′′ x sin2 ⁇ 1 ⁇ cos ⁇ 2 ⁇ sin ⁇ 2 -Cos ⁇ 1, sin ⁇ 1, sin2 ⁇ 2-cos ⁇ 1, cos ⁇ 2 (4)
  • L ′′ y sin2 ⁇ 1 ⁇ sin ⁇ 2 + cos ⁇ 1 ⁇ sin ⁇ 1 ⁇ cos ⁇ 2 (5)
  • L ′′ z sin2 ⁇ 1 ⁇ cos2 ⁇ 2 + Cos ⁇ 1 ⁇ sin ⁇ 2 (1 ⁇ sin ⁇ 1 ⁇ cos ⁇ 2) (6)
  • ⁇ 1 and ⁇ 2 are sufficiently small, approximations such as sin ⁇ 1 ⁇ 1, cos ⁇ 1, sin ⁇ 2 ⁇ 2, and cos ⁇ 2 ⁇ 1 are possible.
  • FIG. 5 is a top view showing the configuration of the LD module 1 when the adjustment method is performed.
  • FIG. 6 is a flowchart showing the flow of this adjustment method.
  • 7 to 10 are diagrams for explaining each process included in the adjustment method.
  • FIG. 11 is a diagram showing the arrangement of output beams that are adjustment targets in this adjustment method.
  • This adjustment method is performed using an optical monitor device OM as shown in FIG.
  • the optical monitor device OM is for detecting the direction and position of the incident laser beam, and is arranged on the optical path of the output beam bundle when performing this adjustment method.
  • the first mirror Mi1 with the adhesive applied to the lower surface is placed on the substrate B, and the second mirror Mi2 with the adhesive applied to the lower surface is placed on the first mirror Mi1.
  • These adhesives are cured by ultraviolet rays or the like after performing this adjustment method.
  • the present adjustment method includes a first mirror rotating step T1, a second mirror rotating step T2, a first mirror sliding step T3, and a second mirror sliding step T4. This is realized by repeating with respect to the double mirror Mi.
  • the first mirror rotating step T1 is a step of slightly rotating the propagation direction of the output beam about the z axis as the rotation axis by slightly rotating the first mirror Mi1 about the y axis as the rotation axis. More specifically, the first mirror is used by using the rotary stage so that the inclination of the output beam detected by the optical monitor device OM (the inclination due to the rotation with the z axis as the rotation axis) is minimized (preferably 0). In this step, Mi1 is rotated slightly (rotation with the y axis as the rotation axis).
  • FIG. 7A is a top view (upper stage) and a front view (lower stage) illustrating the state of the double mirror Mi before performing the first mirror rotation step T1.
  • FIG. 7B is a top view (upper stage) and a front view (lower stage) illustrating the state of the double mirror Mi after performing the first mirror rotating step T1.
  • the propagation direction of the output beam has slightly rotated by ⁇ z from the x-axis direction with the z axis as the rotation axis, as shown in the upper part of FIG.
  • the first mirror Mi1 is slightly rotated about the y axis as the rotation axis.
  • the propagation direction of the output beam coincides with the negative x-axis direction as shown in the lower part of FIG.
  • the second mirror rotating step T2 is a step of slightly rotating the propagation direction of the output beam about the y axis as the rotation axis by slightly rotating the second mirror Mi2 about the y axis as the rotation axis. More specifically, the second mirror is used by using the rotary stage so that the inclination of the output beam detected by the optical monitor device OM (the inclination due to the rotation with the y axis as the rotation axis) is minimized (preferably 0). In this step, Mi2 is rotated slightly (rotation with the y axis as the rotation axis).
  • FIG. 8A is a top view (upper stage) and a side view (lower stage) illustrating the state of the double mirror Mi before performing the second mirror rotating step T2.
  • FIG. 8B is a top view (upper stage) and a side view (lower stage) illustrating the state of the double mirror Mi after performing the second mirror rotating step T2.
  • the propagation direction of the output beam has slightly rotated by ⁇ y from the x-axis direction with the y axis as the rotation axis, as shown in the upper part of FIG.
  • the second mirror Mi2 is slightly rotated about the y axis as the rotation axis.
  • the propagation direction of the output beam coincides with the negative x-axis direction as shown in the upper part of FIG.
  • the first adjustment target of matching the propagation direction of each output beam constituting the output beam bundle with the x-axis negative direction is achieved.
  • the first mirror sliding step T3 is a step of translating the optical axis of the output beam in parallel with the z axis by translating the first mirror Mi1 in parallel with the z axis. More specifically, in the step of translating the first mirror Mi1 in parallel with the z axis using the position control stage so that the z coordinate of the output beam detected by the optical monitor device OM becomes a predetermined adjustment target value. is there.
  • FIG. 9A is a side view illustrating the state of the double mirror Mi before performing the first mirror sliding step T3.
  • FIG. 9B is a side view illustrating the state of the double mirror Mi after performing the first mirror sliding step T3.
  • the first mirror Mi1 is translated in the negative z-axis direction.
  • the deviation of the optical axis of the output beam in the z-axis direction is eliminated as shown in FIG.
  • the second mirror sliding step T4 is a step of translating the optical axis of the output beam in parallel with the y axis by translating the second mirror Mi2 in parallel with the x axis. More specifically, in the step of translating the second mirror Mi2 parallel to the x-axis using the position control stage so that the y coordinate of the output beam detected by the optical monitor device OM becomes a predetermined adjustment target value. is there.
  • FIG. 10A is a front view illustrating the state of the double mirror Mi before performing the second mirror sliding step T4.
  • FIG. 10B is a front view illustrating the state of the double mirror Mi after performing the second mirror sliding step T4.
  • the second mirror Mi2 is translated in the positive x-axis direction.
  • the deviation of the optical axis of the output beam in the y-axis direction is eliminated as shown in FIG.
  • the second optical axis is arranged such that the optical axes of the output beams constituting the output beam bundle are arranged at equal intervals in a plane parallel to the zx plane. Adjustment goals are achieved.
  • the first mirror sliding step T3 and the second mirror sliding step The adjustment target value referred to in T4 may be determined as shown in FIG. That is, the beam spots Li of the output beams may be determined so as to be arranged at equal intervals on the z axis on the light receiving surface of the optical monitor device OM.
  • the output beam bundle is obtained by performing the first mirror rotating step T1 and the second mirror rotating step T2, as shown in FIG. It is preferable to carry out after collimating the propagation directions of the output beams constituting the.
  • the execution order of the first mirror rotation process T1 and the second mirror rotation process T2, and the execution order of the first mirror sliding process T3 and the second mirror sliding process T4 are the same as those shown in FIG. It is not limited. That is, a configuration in which the first mirror rotation step T1 is performed after the second mirror rotation step T2 is performed may be adopted, or the first mirror sliding step T3 is performed after the second mirror sliding step T4 is performed. You may employ
  • an adhesive is used for fixing the first mirror Mi1 to the substrate B and fixing the second mirror Mi2 to the first mirror Mi1
  • the second mirror rotating step T2, the first mirror sliding step T3, and the second mirror sliding step T4 are performed.
  • the lower surface of the first mirror Mi1 and the upper surface of the substrate B are in parallel during the execution of these steps and until the curing of the adhesive is completed after the completion of these steps.
  • the lower surface of the second mirror Mi2 and the upper surface of the first mirror Mi1 are kept parallel.
  • an adhesive layer formed between the lower surface of the first mirror Mi1 and the upper surface of the substrate B, and an adhesive layer formed between the lower surface of the second mirror Mi2 and the upper surface of the first mirror Mi1. Can be made uniform in thickness.
  • the thickness of the adhesive layer formed between the upper surface of the substrate B and the lower surface of the first mirror Mi1 is uniform, even if this adhesive layer expands or contracts, the expansion or contraction amount in each place is the same. become. Therefore, even when the adhesive layer expands or contracts, the first mirror Mi1 only translates in the direction orthogonal to the upper surface of the substrate B (the thickness direction of the adhesive layer). Parallelism with the lower surface of the first mirror Mi1 is not impaired. Similarly, if the thickness of the adhesive layer formed between the upper surface of the first mirror Mi1 and the lower surface of the second mirror Mi2 is uniform, the second mirror Mi2 even when the adhesive layer expands or contracts.
  • the thickness of the layer is preferably as thin as possible as long as the required adhesive strength can be secured. As the thickness of these adhesive layers decreases, the amount of change in thickness that occurs when these adhesive layers expand or contract becomes smaller. As a result, the parallelism between the upper surface of the substrate B and the lower surface of the first mirror Mi1. This is because the parallelism between the upper surface of the first mirror Mi1 and the lower surface of the second mirror Mi2 is easily maintained.
  • the thicknesses of these adhesive layers are respectively the dimensional tolerance of the double mirror Mi (more specifically, the tolerance of the thickness of the first mirror Mi1 and the second mirror) and the tolerance of the substrate B (more specifically, Specifically, it is preferably smaller than the tolerance of the thickness of the substrate B.
  • the amount of change in thickness that occurs when these adhesive layers expand or contract is also less than the dimensional tolerance of the double mirror Mi and the dimensional tolerance of the substrate B (usually the amount of change in the thickness of the adhesive layer). Is smaller than the thickness of the adhesive layer itself). Therefore, even when these adhesive layers expand or contract, the parallelism between the upper surface of the substrate B and the lower surface of the first mirror Mi1, and the first, regardless of whether the thickness of the adhesive layer is uniform or not. The parallelism between the upper surface of the first mirror Mi1 and the lower surface of the second mirror Mi2 does not fall below the allowable level in the design.
  • the LD chips LD1 to LD10 may be arranged obliquely so that the optical path length from the LD chip LDi to the double mirror Mi becomes constant. In this case, as shown in FIG. 12, the size of the substrate B can be reduced.
  • the LD chips LD1 to LD10 may be arranged obliquely so that the optical path length from the LD chip LDi to the F-axis condenser lens FL is constant. In this case, since the beam diameter of the laser beam incident on the F-axis condenser lens L becomes uniform, the output beam bundle can be focused with higher accuracy.
  • an input beam bundle composed of a plurality of input beams is converted into an output beam bundle composed of a plurality of output beams.
  • the mirror includes a double mirror separated from a double mirror corresponding to another input beam, and the double mirror corresponding to each input beam is a first mirror placed on a specific plane. And a second mirror placed on the first mirror.
  • the first mirror is a first reflecting surface that reflects the input beam, and has a normal line and the specific plane.
  • a first reflecting surface having an angle of 45 ° with the normal line, and the second mirror is a second reflecting surface that reflects the input beam reflected by the first reflecting surface;
  • the angle between the normal and the normal of the specific plane is 135 ° It has the 2nd reflective surface which becomes. It is characterized by the above-mentioned.
  • the first reflection surface that reflects each input beam is provided on the first mirror placed on a specific plane, and the second reflection that reflects the input beam reflected by the first reflection surface.
  • the surface is provided on the second mirror placed on the first mirror.
  • the double mirror corresponding to each input beam is separated from the double mirror corresponding to the other input beams. Therefore, the propagation direction of each output beam can be adjusted independently of each other. Therefore, even if the propagation direction of the input beam varies, the propagation direction of the output beam can be adjusted to a predetermined direction. Also, the adjustment of the optical axis position of each output beam can be performed independently of each other.
  • the direction of the first mirror and the second mirror is the propagation direction of each output beam constituting the output beam bundle in a specific direction. It is preferable that it is adjusted so as to match.
  • the positions of the first mirror and the second mirror are such that the optical axis of each output beam constituting the output beam bundle is a specific plane. It is preferable that they are adjusted so that they are lined up at regular intervals.
  • the manufacturing method for manufacturing the light guide device is also included in the category of the present embodiment.
  • the double mirror corresponding to each input beam including a step of adjusting the orientation of the first mirror and the second mirror so that the propagation direction of each output beam constituting the output beam bundle matches a specific direction
  • the positions of the first mirror and the second mirror are set so that the optical axes of the output beams constituting the output beam bundle are arranged at equal intervals in a specific plane.
  • a light guide device that generates an output beam bundle that can be focused with high accuracy can be manufactured.
  • the LD module including the light guide device is also included in the category of the present embodiment.
  • an LD module capable of high output and high efficiency can be realized.
  • the present invention can be suitably used for an LD module.
  • it can be suitably used for an LD module using an LD chip as a light source.

Abstract

　複数のＬＤ素子の各々から出射されたレーザビームからなる入力ビーム束を、複数の出力ビームからなる出力ビーム束に変換する導光装置であって、当該導光装置は、前記各ＬＤ素子ＬＤｉそれぞれに対応し、互いに分離された複数の２連ミラーを備える。前記各２連ミラーＭｉは、基板Ｂの上面に載置された第１ミラーＭｉ１と、さらにその上面に載置された第２ミラーＭｉ２とにより構成される。前記第１ミラー及び前記第２ミラーは、それぞれ、第１反射面及び第２反射面を有している。前記第１反射面及び前記第２反射面は、その法線と前記基板の上面の法線との成す角が、それぞれ、４５°及び１３５°である。前記対応する各ＬＤ素子から出射されたレーザビームは、前記第１反射面にて反射された後、前記第２反射面にて反射される。前記第１ミラーや前記第２ミラーの向きや位置を調整することにより、前記出力ビームの伝搬方向を調整することができる。

Description

導光装置、製造方法、及び、ＬＤモジュール
　本発明は、複数の入力ビームからなる入力ビーム束を複数の出力ビームからなる出力ビーム束に変換する導光装置に関する。また、そのような導光装置の製造方法、及び、そのような導光装置を備えたＬＤモジュールに関する。
　ＬＤ（Laser Diode）素子（半導体レーザ素子）から出射されたレーザビームを光ファイバに結合するために、ＬＤモジュールが広く用いられている。このようなＬＤモジュールにおいて、複数のＬＤ素子の各々から出射されたレーザビームを光ファイバに導く導光装置として、特許文献１に記載のマイクロ光学装置が知られている。
　図１４は、特許文献１に記載のマイクロ光学装置１０の斜視図である。マイクロ光学装置１０は、図１４に示したように、基板１１、ＬＤバー１２、円柱レンズ１３、第１の鏡列１４、及び第２の鏡列１５を備えている。
　ＬＤバー１２は、ｘ軸に沿って並んだ複数のＬＤ素子を備えており、各ＬＤ素子からｚ軸正方向にレーザビームを出射する。各ＬＤ素子からｚ軸正方向に出射されたレーザビームの光軸は、ｚｘ面に平行な第１の平面内でｘ軸に沿って並ぶ。
　なお、各ＬＤ素子から出射されたレーザビームの伝搬方向は、ｚ軸正方向を中心に±θｘ方向に分散している。このため、マイクロ光学装置１０においては、ＬＤバー１２の出射端面に対向するように配置された円柱レンズ１３によって、各ＬＤ素子から出射されたレーザビームをコリメートする（伝播方向をｚ軸正方向に収斂させる）構成が採用されている。
　第１の鏡列１４は、ＬＤバー１２を構成する各ＬＤ素子に対向する鏡面１４ａが一体化されたものである。各ＬＤ素子からｚ軸正方向に出射されたレーザビームは、そのＬＤ素子に対向する鏡面１４ａによって、ｙ軸正方向に反射される。また、第２の鏡列１５は、第１の鏡列１４を構成する各鏡面１４ａに対向する鏡面１５ａが一体化されたものである。各鏡面１４ａにてｙ軸正方向に反射されたレーザビームは、その鏡面１４ａに対向する鏡面１５ａによって、ｘ軸正方向に反射される。
　なお、ｘ軸正方向側から数えてｉ＋１番目のＬＤ素子から出射されたレーザビームを反射する鏡面１４ａ，１５ａは、ｘ軸正方向側から数えてｉ番目のＬＤ素子から出射されたレーザビームを反射する鏡面１４ａ，１５ｂよりもｚ軸負方向側に配置される。このため、各鏡面１５ａにてｘ軸正方向に反射されたレーザビームの光軸は、ｚｘ平面と平行な第２の平面であって、上述した第１の平面よりもｙ軸正方向側に位置する第２の平面内でｚ軸に沿って並ぶ。
　このように、マイクロ光学装置１０は、ＬＤバー１２を構成する各ＬＤ素子から出射されたｚ軸正方向に伝搬するレーザビームからなる第１のビーム束を、第２の鏡列１５を構成する各鏡面１５ａにて反射されたｘ軸方向に伝播するレーザビームからなる第２のビーム束に変換する機能を有している。マイクロ光学装置１０から出力される第２のビーム束（以下、「出力ビーム束」と記載）は、例えば、不図示のレンズによって光ファイバの入射端面上に集束される。
日本国公開特許公報「特開２００４－２５２４２８号」（公開日：２００４年９月９日）
　しかしながら、従来のマイクロ光学装置１０においては、各ＬＤ素子から出射されるレーザビームの伝搬方向にばらつき（非一様な傾き）がある場合、出力ビーム束を構成する各レーザビームの伝搬方向にばらつきが生じることを免れない。各ＬＤ素子から出射されるレーザビームを反射する鏡面１４ａ，１５ａが鏡列１４，１５として一体化されているので、出力ビーム束を構成するレーザビームの伝搬方向を個別に調整することができないためである。出力ビーム束を構成する各レーザビームの伝搬方向のばらつきは、出力ビーム束を光ファイバの入射端面に集束することを困難にし、高出力化及び高効率化を妨げる要因となる。
　このような問題は、マルチチップＬＤモジュールにおいて特に顕著である。ここで、マルチチップＬＤモジュールとは、それぞれ１つのＬＤ素子を備えた複数のＬＤチップを光源とするＬＤモジュールのことを指す。各ＬＤチップを個別に実装する必要のあるマルチチップＬＤモジュールにおいて、各ＬＤチップから出射されるレーザビームの伝搬方向にばらつきが生じ易いことは明らかであろう。
　なお、各ＬＤ素子から出射されるレーザビームの伝搬方向の傾きが一様な場合、鏡列１４の傾きを調整することによって、出力ビーム束を構成する各レーザビームを所定の方向に伝搬させることができる。しかしながら、鏡列１４の傾きを維持することは、以下の理由により困難である。
　すなわち、鏡列１４を傾けた状態で基板１１に接着するためには、鏡列１４と基板１１との間に介在する接着層の厚みを不均一にする必要がある。このため、接着層を硬化する際に不均一な硬化収縮が起こり、鏡列１４の傾きが変化してしまう。また、接着層を硬化させた後も、温度上昇／温度低下に伴って不均一な熱膨張／熱収縮が起こり、鏡列１４の傾きが変化してしまう。
　本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、複数の入力ビームからなる入力ビーム束を複数の出力ビームからなる出力ビーム束に変換する導光装置において、入力ビームの伝搬方向に非一様又は一様な傾きがあっても、出力ビームの伝搬方向を所定の方向に調整することが可能な導光装置を実現することにある。また、そのような導光装置を用いて、高出力化及び高効率化が可能なＬＤモジュールを実現することにある。
　本発明に係る導光装置は、複数の入力ビームからなる入力ビーム束を複数の出力ビームからなる出力ビーム束に変換する導光装置において、各入力ビームに対応する２連ミラーであって、他の入力ビームに対応する２連ミラーから分離された２連ミラーを備えており、各入力ビームに対応する２連ミラーは、特定の平面上に載置された第１ミラーと、該第１ミラー上に載置された第２ミラーとにより構成されており、上記第１ミラーは、入力ビームを反射する第１反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が４５°となる第１反射面を有しており、上記第２ミラーは、上記第第１反射面にて反射された入力ビームを反射する第２反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が１３５°となる第２反射面を有している、ことを特徴とする。
　上記の構成においては、各入力ビームを反射する第１反射面が特定の平面上に載置された第１ミラーに設けられ、第１反射面にて反射された入力ビームを反射する第２反射面が第１ミラー上に載置された第２ミラーに設けられている。このため、第１ミラー及び第２ミラーをそれぞれ回動させることによって、出力ビームの伝搬方向を自由に調整することができる。例えば、入力ビームの伝搬方向に傾きがあっても、出力ビームの伝搬方向を所定の方向に調整することができる。また、第１ミラー及び第２ミラーをそれぞれ摺動させることによって、出力ビームの光軸位置も自由に調整することができる。
　しかも、上記の構成においては、各入力ビームに対応する２連ミラーが他の入力ビームに対応する２連ミラーから分離されている。したがって、各出力ビームの伝搬方向の調整を互いに独立に行うことができる。したがって、入力ビームの伝搬方向にばらつきがあっても、出力ビームの伝搬方向を所定の方向に調整することができる。また、各出力ビームの光軸位置の調整も互いに独立に行うことができる。
　上記導光装置を備えたＬＤモジュールも本発明の範疇に含まれる。
　上記導光装置を備えることによって、高出力化及び高効率化が可能なＬＤモジュールを実現することができる。
　本発明によれば、入力ビームの伝搬方向に非一様又は一様な傾きがあっても、出力ビームの伝搬方向を所定の方向に調整することが可能な導光装置を実現することができる。また、このような導光装置を用いることによって、高出力化及び高効率化が可能なＬＤモジュールを実現することができる。
本発明の一実施形態に係るＬＤモジュールの構成を示す上面図である。 図１に示すＬＤモジュールが備える単位光学系の構成を示す斜視図である。 図１に示すＬＤモジュールが備える２連ミラーの構成を示す斜視図である。 図３に示す２連ミラーが備える第１ミラー及び第２ミラーの微小回転が出力ビームの伝搬方向の微小回転を引き起こすことを説明するための図である。 図６に示す調整方法を実施する際のＬＤモジュールの構成を示す上面図である。 図３に示す２連ミラーが備える第１ミラー及び第２ミラーの向き及び位置を調整する調整方法を示すフローチャートである。 （ａ）は、図６に示すフローチャートに含まれる第１ミラー回動工程を実施する前の２連ミラーの状態を例示する上面図（上段）及び正面図（下段）である。（ｂ）は、第１ミラー回動工程を実施した後の２連ミラーの状態を例示する上面図（上段）及び正面図（下段）である。 （ａ）は、図６に示すフローチャートに含まれる第２ミラー回動工程を実施する前の２連ミラーの状態を例示する上面図（上段）及び側面図（下段）である。（ｂ）は、第２ミラー回動工程を実施した後の２連ミラーの状態を例示する上面図（上段）及び側面図（下段）である。 （ａ）は、図６に示すフローチャートに含まれる第１ミラー摺動工程を実施する前の２連ミラーの状態を例示する側面図である。（ｂ）は、第１ミラー摺動工程を実施した後の２連ミラーの状態を例示する側面図である。 （ａ）は、図６に示すフローチャートに含まれる第２ミラー摺動工程を実施する前の２連ミラーの状態を例示する正面図である。（ｂ）は、第２ミラー摺動工程を実施した後の２連ミラーの状態を例示する正面図である。 図６に示す調整方法を実施する際に調整目標とされる出力ビームの配置を示す図である。 図１に示すＬＤモジュールの第１の変形例を示す上面図である。 図１に示すＬＤモジュールの第２の変形例を示す上面図である。 従来のマイクロ光学装置の構成を示す斜視図である。
　本発明の一実施形態に係るＬＤモジュールについて、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。
　〔ＬＤモジュールの構成〕
　本実施形態に係るＬＤモジュール１の構成について、図１を参照して説明する。図１は、ＬＤモジュール１の構成を示す上面図である。
　ＬＤモジュール１は、Ｎ個（本実施形態においてはＮ＝１０）のＬＤチップＬＤ１～ＬＤ１０から出射されたレーザビームを光ファイバＯＦに結合するためのものである。なお、本実施形態においては、ＬＤモジュール１が備えるＬＤチップの個数Ｎを１０とするが、本発明はこれに限定されない。すなわち、ＬＤモジュール１が備えるＬＤチップの個数Ｎは、２以上の任意の整数であり得る。
　ＬＤモジュール１は、図１に示すように、Ｎ個のＬＤチップＬＤ１～ＬＤ１０の他に、Ｎ個のＦ軸コリメートレンズＦＡＣ１～ＦＡＣ１０と、Ｎ個のＳ軸コリメートレンズＳＡＣ１～ＳＡＣ１０と、Ｎ個の２連ミラーＭ１～Ｍ１０と、基板Ｂと、Ｆ軸集光レンズＦＬと、Ｓ軸集光レンズＳＬとを備えている。ＬＤチップＬＤ１～Ｌ１０、Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣ１～ＦＡＣ１０、Ｓ軸コリメートレンズＳＡＣ１～ＳＡＣ１０、２連ミラーＭ１～Ｍ１０、Ｆ軸集光レンズＦＬ、及びＳ軸集光レンズＳＬは、何れも、直接、又は、不図示のマウントを介して基板Ｂ上に載置される。
　ＬＤモジュール１においては、基板Ｂ、Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣ１～ＦＡＣ１０、Ｓ軸コリメートレンズＳＡＣ１～ＳＡＣ１０、及び２連ミラーＭ１～Ｍ１０が、従来のマイクロ光学装置１０（図１４参照）に相当する導光装置を構成する。この導光装置は、従来のマイクロ光学装置１０と同様、ＬＤチップＬＤ１～ＬＤ１０から出射されたｚ軸正方向に伝搬するレーザビーム（以下、「入力ビーム」とも記載する）からなる入力ビーム束を、ｘ軸負方向に伝搬するレーザビーム（以下、「出力ビーム」とも記載する）からなる出力ビーム束に変換する機能を有する。
　この出力ビーム束の光路上には、Ｆ軸集光レンズＦＬとＳ軸集光レンズＳＬとが配置される。Ｆ軸集光レンズＦＬは、出力ビーム束を構成する各出力ビームを、ビーム間隔が光ファイバＯＦの入射端面において最小になる（好ましくは０になる）ように屈折させる。また、Ｓ軸集光レンズＳＬは、出力ビーム束を構成する各出力ビームを、ｙ軸方向のビーム径が光ファイバＯＦの入射端面において最小になる（好ましくは０になる）ように集束させる。
　ＬＤモジュール１は、図１に示すように、ＬＤチップＬＤｉと、Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣｉと、Ｓ軸コリメートレンズＳＡＣｉと、２連ミラーＭｉとからなる光学系を単位として構成されている。図１においては、ＬＤチップＬＤ１と、Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣ１と、Ｓ軸コリメートレンズＳＡＣ１と、２連ミラーＭ１とからなる単位光学系Ｓ１を例示している。
　〔単位光学系の構成〕
　ＬＤモジュール１が備える単位光学系Ｓｉの構成ついて、図２を参照して説明する。図２は、単位光学系Ｕｉの構成を示す斜視図である。単位光学系Ｕｉは、図２に示すように、ＬＤチップＬＤｉと、Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣｉと、Ｓ軸コリメートレンズＳＡＣｉと、２連ミラーＭｉとにより構成される。
　ＬＤチップＬＤｉは、活性層がｚｘ平面と平行になるように、かつ、出射端面がｚ軸正方向を向くように、基板Ｂ上に載置される。このため、ＬＤチップＬＤｉから出射されるレーザビームは、伝搬方向がｚ軸正方向、Ｆ軸がｙ軸と平行、Ｓ軸がｘ軸と平行になる。
　なお、図１に示したように、Ｎ個のＬＤチップＬＤ１～ＬＤ１０は、ｘ軸に沿って並べられる。このため、各ＬＤチップＬＤｉからｚ軸正方向に出射されたレーザビームの光軸は、ｚｘ面に平行な第１の平面内でｘ軸に沿って平行に並ぶことになる。
　ＬＤチップＬＤｉから出射されるレーザビームの光路上には、Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣｉとＳ軸コリメートレンズＳＡＣｉとが配置される。Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣｉは、ＬＤチップＬＤｉから出射されたレーザビームのＦ軸方向の広がりをコリメートするためのものであり、Ｓ軸コリメートレンズＳＡＣｉは、ＬＤチップＬＤｉから出射されたレーザビームのＳ軸方向の広がりをコリメートするためのものである。Ｆ軸コリメートレンズＦＡＣｉ及びＳ軸コリメートレンズＳＡＣｉを透過したレーザビームは、伝搬方向がｚ軸正方向に収斂されたコリメートビームとなる。なお、ＬＤチップＬＤｉから出射されるレーザビームのＳ軸方向の広がりが十分に小さい場合、Ｓ軸コリメートレンズＳＡＣｉは省略しても構わない。
　ＬＤチップＬＤｉから出射されるレーザビームの光路上には、更に、２連ミラーＭｉが配置される。２連ミラーＭｉは、基板Ｂ上に載置された第ｉミラーＭｉ１と、第１ミラーＭｉ１上に載置された第２ミラーＭｉ２とにより構成される。第１ミラーＭｉ１は、ＬＤチップＬＤｉから出射されたレーザビームを反射し、その伝搬方向をｚ軸正方向からｙ軸正方向に変換するためのものでり、「跳ね上げミラー」と呼ばれることもある。また、第２ミラーＭｉ１は、第１ミラーＭｉ１にて反射されたレーザビームを反射し、その伝搬方向をｙ軸正方向からｘ軸負方向に変換するためのものであり、「折り返しミラー」と呼ばれることもある。
　なお、図１に示したように、ｘ軸負方向側から数えてｉ＋１番目のＬＤチップＬＤｉ＋１から出射されたレーザビームを反射する２連ミラーＭｉ＋１は、ｘ軸正方向側から数えてｉ番目のＬＤチップＬＤｉから出射されたレーザビームを反射する２連ミラーＭｉよりもｚ軸負方向側に配置される。このため、各２連ミラーＭｉにてｘ軸負方向に反射されたレーザビームの光軸は、ｚｘ面と平行な第２の平面であって、上述した第１の平面よりもｙ軸正方向側に位置する第２の平面内でｚ軸に沿って並ぶことになる。
　〔２連ミラーの構成〕
　ＬＤモジュール１が備える２連ミラーＭｉの構成ついて、図３を参照して説明する。図３は、２連ミラーＭｉの構成を示す斜視図である。２連ミラーＭｉは、図３に示すように、第１ミラーＭｉ１と、第２ミラーＭｉ２とにより構成される。
　第１ミラーＭｉ１は、少なくとも下面Ａ１と、下面Ａ１と平行な上面Ｂ１と、反射面Ｓ１とを有する多面体状の構造物である。反射面Ｓ１と下面Ａ１とが成す角は、図３に示すように４５°である。
　第１ミラーＭｉ１は、下面Ａ１が基板Ｂの上面に当接するように、基板Ｂ上に載置される（図２参照）。これにより、第１ミラーＭｉ１の反射面Ｓ１の法線ベクトル（反射面Ｓ１から第１ミラーＭｉ１の外部に向かう外向き法線ベクトル）と、基板Ｂの上面（ｚｘ面）の法線ベクトル（上面から基板Ｂの外部に向かう外向き法線ベクトル）との成す角が４５°になる。また、第１ミラーＭｉ１の向きは、反射面Ｓ１の法線がｙｚ面と平行になるように決められる。これにより、第１ミラーＭｉ１の反射面Ｓ１は、ｚ軸負方向から入射したレーザビームをｙ軸正方向に反射する。
　第２ミラーＭｉ２は、少なくとも下面Ａ２と、反射面Ｓ２とを有する多面体状の構造体である。反射面Ｓ２と下面Ａ２との成す角は、図３に示すように４５°である。
　第２ミラーＭｉ２は、下面Ａ２が第１ミラーＭｉ１の上面Ｂ１に当接するように、第１ミラーＭｉ１上に載置される。これにより、第２ミラーＭｉ２の反射面Ｓ２の法線ベクトル（反射面Ｓ２から第２ミラーＭｉ２の外部に向かう外向き法線ベクトル）と、基板Ｂの上面（ｚｘ面）の法線ベクトル（上面から基板Ｂの外部に向かう外向き法線ベクトル）との成す角が１３５°になる。また、第２ミラーＭｉ２の向きは、反射面Ｓ２の法線がｘｙ面と平行になるように決められる。これにより、第２ミラーＭｉ２の反射面Ｓ２は、ｙ軸負方向から入射したレーザビームをｘ軸負方向に反射する。
　ＬＤモジュール１においては、各２連ミラーＭｉを構成する第１ミラーＭｉ１及び第２ミラーＭｉ２の向きを調整することによって、出力ビームの伝搬方向をｘ軸負方向に一致させることができる。ｙ軸を回転軸として第１ミラーＭｉ１を微小回転させると、ｚ軸を回転軸として出力ビームの伝搬方向が微小回転し、ｙ軸を回転軸として第２ミラーＭｉ２を微小回転させると、ｙ軸を回転軸として出力ビームの伝搬方向が微小回転するためである。
　また、ＬＤモジュール１においては、各２連ミラーＭｉを構成する第１ミラーＭｉ１及び第２ミラーＭｉ２の位置を調整することによって、出力ビームの光軸をｘｚ面と平行な平面内に等間隔で並べることができる。第１ミラーＭｉ１をｚ軸正方向／負方向に並進させると、出力ビームの光軸がｚ軸正方向／負方向に並進し、第２ミラーＭｉ２をｘ軸正方向／負方向に並進させると、出力ビームの光軸がｙ軸正方向／負方向に並進するためである。
　なお、本実施形態においては、出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向をｘ軸負方向と一致させることを第１の調整目標としているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、出力ビームを構成する各出力ビームの伝搬方向を特定の方向と一致させることができれば十分であり、該特定の方向は、ｘ軸負方向に限定されない。
　また、本実施形態においては、出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸をｚｘ面と平行な平面内に等間隔で並べることを第２の調整目標としているが、本発明はこれに限定されるものではない。すなわち、出力ビームを構成する各出力ビームの光軸を特定の平面内に等間隔で並べることができれば十分であり、該特定の平面は、ｚｘ面と平行な平面に限定されない。
　〔ミラーの微小回転が出力ビームの回転を引き起こす理由〕
　第１ミラーＭｉ１及び第２ミラーＭｉ２の微小回転が出力ビームの微小回転を引き起こす理由について、図４を参照して説明する。
　第１の反射面Ｓ１に入射する入射光（入力ビーム）の方向ベクトルをＬとすると、第１の反射面Ｓ１から出射する反射光の方向ベクトルＬ’は、以下のように表すことができる。ここで、ｎ１は、第１の反射面Ｓ１の法線ベクトルであり、（Ｌ・ｎ１）は、方向ベクトルＬと法線ベクトルｎ１との内積である。
　Ｌ’＝Ｌ－２（Ｌ・ｎ１）ｎ１　　　・・・（１）
　同様に、第２の反射面Ｓ２に入射する入射光の方向ベクトルをＬ’とすると、第２の反射面Ｓ２から出射する反射光（出力ビーム）の方向ベクトルＬ”は、以下のように表すことができる。ここで、ｎ２は、第２の反射面Ｓ２の法線ベクトルであり、（Ｌ’・ｎ２）は、方向ベクトルＬ’と法線ベクトルｎ２との内積である。
　Ｌ”＝Ｌ’－２（Ｌ’・ｎ２）ｎ２　　　・・・（２）
　したがって、第１の反射面Ｓ１に入射する入射光の方向ベクトルがＬであるとき、第２の反射面Ｓ２から出射する反射光の方向ベクトルＬ”は、以下のように表すことができる。
　Ｌ”＝Ｌ－２（Ｌ・ｎ１）ｎ１－２｛（Ｌ・ｎ２）－２（Ｌ・ｎ１）（ｎ１・ｎ２）｝ｎ２　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（３）
　ところで、第１ミラーＭｉ１を、ｙ軸を回転軸としてθｙ＝θ１だけ回転させると、第１の反射面Ｓ１の法線ベクトルｎ１は、ｎ１＝（１／２）１／２（０，１，－１）からｎ１＝（１／２）１／２（－ｓｉｎθ１，１，－ｃｏｓθ１）へと変化する。また、第２ミラーＭｉ２を、ｙ軸を回転軸としてθｙ＝θ２だけ回転させると、第２の反射面Ｓ２の法線ベクトルｎ２は、ｎ２＝（１／２）１／２（－１，－１，０）からｎ２＝（１／２）１／２（－ｃｏｓθ２，－１，ｓｉｎθ２）へと変化する。
　このとき、第２の反射面Ｓ２から出射する反射光の方向ベクトルＬ”＝（Ｌ”ｘ，Ｌ”ｙ，Ｌ”ｚ）の各成分は、（３）式に従って以下のように与えられる。
　Ｌ”ｘ＝ｓｉｎ２θ１・ｃｏｓθ２・ｓｉｎθ２
　　　　　－ｃｏｓθ１・ｓｉｎθ１・ｓｉｎ２θ２－ｃｏｓθ１・ｃｏｓθ２…（４）
　Ｌ”ｙ＝ｓｉｎ２θ１・ｓｉｎθ２＋ｃｏｓθ１・ｓｉｎθ１・ｃｏｓθ２　…（５）
　Ｌ”ｚ＝ｓｉｎ２θ１・ｃｏｓ２θ２
　　　　　＋ｃｏｓθ１・ｓｉｎθ２（１－ｓｉｎθ１・ｃｏｓθ２）　　　　…（６）
　θ１及びθ２が十分に小さい場合、ｓｉｎθ１≒θ１、ｃｏｓθ≒１、ｓｉｎθ２≒θ２、ｃｏｓθ２≒１という近似が可能である。これらの近似値を式（４）～（６）に代入して２次以上の微小量（θ１２、θ２２、θ１×θ２など）を無視すると、第２の反射面Ｓ２から出射する反射光の方向ベクトルＬ”を近似する以下の式が得られる。
　Ｌ”≒（－１，θ１，θ２）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　・・・（７）
　（７）式によれば以下のことが分かる。すなわち、第１ミラーＭｉ１を、ｙ軸を回転軸としてθｙ＝θ１だけ微小回転させると、図４に示すように、第２の反射面Ｓ２から出射する反射光の方向ベクトルＬ”が、ｚ軸を回転軸としてθｚ＝θ１だけ微小回転する。また、第２ミラーＭｉ２を、ｙ軸を回転軸としてθｙ＝θ２だけ微小回転させると、図４に示すように、第２の反射面Ｓ２から出射する反射光の方向ベクトルＬ”が、ｙ軸を回転軸としてθｙ＝θ２だけ微小回転する。
　〔ミラーの向き及び位置の調整方法〕
　第１ミラーＭｉ１及び第２ミラーＭｉ２の向き及び位置の調整方法について、図５～図１１を参照して説明する。図５は、本調整方法を実施する際のＬＤモジュール１の構成を示す上面図である。図６は、本調整方法の流れを示すフローチャートである。図７～図１０は、本調整方法に含まれる各工程を説明する図である。図１１は、本調整方法において調整目標とされる出力ビームの配置を示す図である。
　本調整方法は、図５に示すように、光モニタ装置ＯＭを用いて実施される。光モニタ装置ＯＭは、入射するレーザビームの向き及び位置を検出するためのものであり、本調整方法を実施する際に出力ビーム束の光路上に配置される。また、本調整方法は、下面に接着材を塗布した第１ミラーＭｉ１を基板Ｂ上に載置し、下面に接着材を塗布した第２ミラーＭｉ２を第１ミラーＭｉ１上に載置した状態で実施される。これらの接着材は、本調整方法を実施した後に紫外線等によって硬化される。
　本調整方法は、図６に示すように、第１ミラー回動工程Ｔ１と、第２ミラー回動工程Ｔ２と、第１ミラー摺動工程Ｔ３と、第２ミラー摺動工程Ｔ４とを、各２連ミラーＭｉについて繰り返すことにより実現される。
　第１ミラー回動工程Ｔ１は、ｙ軸を回転軸として第１ミラーＭｉ１を微小回転させることによって、ｚ軸を回転軸として出力ビームの伝搬方向を微小回転させる工程である。より具体的に言うと、光モニタ装置ＯＭにより検出された出力ビームの傾き（ｚ軸を回転軸とする回転による傾き）が最小（好ましくは０）になるよう、回転ステージを用いて第１ミラーＭｉ１を微小回転（ｙ軸を回転軸とする回転）させる工程である。
　図７（ａ）は、第１ミラー回動工程Ｔ１を実施する前の２連ミラーＭｉの状態を例示する上面図（上段）及び正面図（下段）である。図７（ｂ）は、第１ミラー回動工程Ｔ１を実施した後の２連ミラーＭｉの状態を例示する上面図（上段）及び正面図（下段）である。図７（ａ）の下段に示すように、出力ビームの伝播方向がｚ軸を回転軸としてｘ軸方向からΔθｚだけ微小回転してしまっている場合、図７（ａ）の上段に示すように、ｙ軸を回転軸として第１ミラーＭｉ１を微小回転させる。これにより、出力ビームの伝播方向が図７（ｂ）の下段に示すように、ｘ軸負方向に一致する。
　第２ミラー回動工程Ｔ２は、ｙ軸を回転軸として第２ミラーＭｉ２を微小回転させることによって、ｙ軸を回転軸として出力ビームの伝搬方向を微小回転させる工程である。より具体的に言うと、光モニタ装置ＯＭにより検出された出力ビームの傾き（ｙ軸を回転軸とする回転による傾き）が最小（好ましくは０）になるよう、回転ステージを用いて第２ミラーＭｉ２を微小回転（ｙ軸を回転軸とする回転）させる工程である。
　図８（ａ）は、第２ミラー回動工程Ｔ２を実施する前の２連ミラーＭｉの状態を例示する上面図（上段）及び側面図（下段）である。図８（ｂ）は、第２ミラー回動工程Ｔ２を実施した後の２連ミラーＭｉの状態を例示する上面図（上段）及び側面図（下段）である。図８（ａ）の上段に示すように、出力ビームの伝播方向がｙ軸を回転軸としてｘ軸方向からΔθｙだけ微小回転してしまっている場合、図８（ａ）の上段に示すように、ｙ軸を回転軸として第２ミラーＭｉ２を微小回転させる。これにより、出力ビームの伝播方向が図８（ｂ）の上段に示すように、ｘ軸負方向に一致する。
　第１ミラー回動工程Ｔ１及び第２ミラー回動工程Ｔ２を実施することによって、出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向をｘ軸負方向と一致させるという第１の調整目標が達成される。
　第１ミラー摺動工程Ｔ３は、ｚ軸と平行に第１ミラーＭｉ１を並進させることによって、ｚ軸と平行に出力ビームの光軸を並進させる工程である。より具体的に言うと、光モニタ装置ＯＭにより検出された出力ビームのｚ座標が所定の調整目標値となるよう、位置制御ステージを用いてｚ軸と平行に第１ミラーＭｉ１を並進させる工程である。
　図９（ａ）は、第１ミラー摺動工程Ｔ３を実施する前の２連ミラーＭｉの状態を例示する側面図である。図９（ｂ）は、第１ミラー摺動工程Ｔ３を実施した後の２連ミラーＭｉの状態を例示する側面図である。図９（ａ）に示すように、出力ビームの光軸がｚ軸正方向にΔｚだけずれている場合、第１ミラーＭｉ１をｚ軸負方向に並進させる。これにより、出力ビームの光軸のｚ軸方向のずれが、図９（ｂ）に示すように解消される。
　第２ミラー摺動工程Ｔ４は、ｘ軸と平行に第２ミラーＭｉ２を並進させることによって、ｙ軸と平行に出力ビームの光軸を並進させる工程である。より具体的に言うと、光モニタ装置ＯＭにより検出された出力ビームのｙ座標が所定の調整目標値となるよう、位置制御ステージを用いてｘ軸と平行に第２ミラーＭｉ２を並進させる工程である。
　図１０（ａ）は、第２ミラー摺動工程Ｔ４を実施する前の２連ミラーＭｉの状態を例示する正面図である。図１０（ｂ）は、第２ミラー摺動工程Ｔ４を実施した後の２連ミラーＭｉの状態を例示する正面図である。図１０（ａ）に示すように、出力ビームの光軸がｙ軸正方向にΔｙだけずれている場合、第２ミラーＭｉ２をｘ軸正方向に並進させる。これにより、出力ビームの光軸のｙ軸方向のずれが、図１０（ｂ）に示すように解消される。
　第１ミラー摺動工程Ｔ３及び第２ミラー摺動工程Ｔ４を実施することによって、出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸をｚｘ面と平行な平面内に等間隔で並べるという第２の調整目標が達成される。
　出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸をｚｘ面と平行な平面内に等間隔で並べることを第２の調整目標とする場合、第１ミラー摺動工程Ｔ３及び第２ミラー摺動工程Ｔ４において参照される調整目標値は、図１１に示すように定めればよい。すなわち、光モニタ装置ＯＭの受光面において、各出力ビームのビームスポットＬｉがｚ軸上に等間隔に並ぶように定めればよい。
　なお、第１ミラー摺動工程Ｔ３及び第２ミラー摺動工程Ｔ４は、図６に示した通り、第１ミラー回動工程Ｔ１及び第２ミラー回動工程Ｔ２を実施することによって、出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向を平行化した後で実施することが好ましい。ただし、第１ミラー回動工程Ｔ１及び第２ミラー回動工程Ｔ２の実施順序、並びに、第１ミラー摺動工程Ｔ３及び第２ミラー摺動工程Ｔ４の実施順序は、図６に示したものに限定されない。すなわち、第２ミラー回動工程Ｔ２を実施した後に第１ミラー回動工程Ｔ１を実施する構成を採用してもよいし、第２ミラー摺動工程Ｔ４を実施した後に第１ミラー摺動工程Ｔ３を実施する構成を採用してもよい。
　また、第１ミラーＭｉ１の基板Ｂへの固定、及び、第２ミラーＭｉ２の第１ミラーＭｉ１への固定に接着剤を用いる場合、これを以下のように行うことが好ましい。すなわち、第１ミラーＭｉ１の下面と基板Ｂの上面との間、及び、第２ミラーＭｉ２の下面と第１ミラーＭｉ１の上面との間に接着剤を塗布した後、第１ミラー回動工程Ｔ１、第２ミラー回動工程Ｔ２、第１ミラー摺動工程Ｔ３、及び第２ミラー摺動工程Ｔ４を実施する。ただし、これらの工程を実施している間、及び、これらの工程を実施し終えてから接着剤の硬化が完了するまでの間、第１ミラーＭｉ１の下面と基板Ｂの上面とが平行になり、かつ、第２ミラーＭｉ２の下面と第１ミラーＭｉ１の上面とが平行になる状態を保つ。これにより、第１ミラーＭｉ１の下面と基板Ｂの上面との間に形成される接着剤層、及び、第２ミラーＭｉ２の下面と第１ミラーＭｉ１の上面との間に形成される接着剤層の厚みを均一化することができる。
　基板Ｂの上面と第１ミラーＭｉ１の下面との間に形成される接着剤層の厚みが均一であれば、この接着剤層が膨張又は収縮した場合でも、各所における膨張量又は収縮量が同一になる。このため、この接着材層が膨張又は収縮した場合でも、第１ミラーＭｉ１は、基板Ｂの上面に直交する方向（接着剤層の厚み方向）に平行移動するだけであり、基板Ｂの上面と第１ミラーＭｉ１の下面との平行性が損なわれることはない。同様に、第１ミラーＭｉ１の上面と第２ミラーＭｉ２の下面との間に形成された接着剤層の厚みが均一であれば、この接着剤層が膨張又は収縮した場合でも、第２ミラーＭｉ２は、第１ミラーＭｉ１の上面に直交する方向に平行移動するだけであり、第１ミラーＭｉ１の上面と第２ミラーＭｉ２の下面と平行性が損なわれることはない。したがって、これらの接着剤層の厚みが均一であれば、これらの接着剤層が収縮又は膨張した場合でも、出力ビームの伝播方向が傾いたり出力ビームの光軸の配置が崩れたりするといった事態の発生を回避することができる。なお、これらの接着剤層に生じ得る収縮又は膨張としては、接着剤を硬化する際に生じ得る硬化収縮や、接着剤を硬化した後に生じ得る熱膨張、熱収縮、膨潤などが想定される。
　また、基板Ｂの上面と第１ミラーＭｉ１の下面との間に形成される接着剤層の厚み、及び、第１ミラーＭｉ１の上面と第２ミラーＭｉ２の下面との間に形成された接着剤層の厚みは、要求される接着力を担保し得る範囲で、できるだけ薄くすることが好ましい。これらの接着剤層の厚みが薄くなるほど、これらの接着剤層が膨張又は収縮した場合に生じる厚みの変化量が小さくなり、その結果、基板Ｂの上面と第１ミラーＭｉ１の下面との平行性、及び、第１ミラーＭｉ１の上面と第２ミラーＭｉ２の下面と平行性が保たれ易くなるからである。特に、これらの接着剤層の厚みは、それぞれ、２連ミラーＭｉの寸法公差（より具体的には、第１ミラーＭｉ１及び第２ミラーの厚みの公差）、及び、基板Ｂの公差（より具体的には、基板Ｂの厚みの公差）よりも小さいことが好ましい。この場合、これらの接着剤層が膨張又は収縮した場合に生じる厚みの変化量も、２連ミラーＭｉの寸法公差、及び、基板Ｂの寸法公差を下回る（通常、接着剤層の厚みの変化量は、接着剤層の厚み自体よりも小さい）。したがって、これらの接着剤層が膨張又は収縮した場合でも、接着剤層の厚みが均一であるか否かに依らず、基板Ｂの上面と第１ミラーＭｉ１の下面との平行性、及び、第１ミラーＭｉ１の上面と第２ミラーＭｉ２の下面との平行性が設計において許容された程度を下回ることはない。
　〔変形例〕
　なお、本実施形態においては、ＬＤチップＬＤ１～ＬＤ１０をｘ軸に沿って配置する構成を示したが、本発明はこれに限定されない。
　例えば、図１２に示すように、ＬＤチップＬＤｉから２連ミラーＭｉまでの光路長が一定になるよう、ＬＤチップＬＤ１～ＬＤ１０を斜めに配置してもよい。この場合、図１２に示すように、基板Ｂのサイズを小型化することが可能になる。
　また、図１３に示すように、ＬＤチップＬＤｉからＦ軸集光レンズＦＬまでの光路長が一定になるよう、ＬＤチップＬＤ１～ＬＤ１０を斜めに配置してもよい。この場合、Ｆ軸集光レンズＬに入射するレーザビームのビーム径が一様になるため、出力ビーム束をより精度良く集束させることができる。
　〔まとめ〕
　以上のように、本実施形態に係る導光装置は、複数の入力ビームからなる入力ビーム束を複数の出力ビームからなる出力ビーム束に変換する導光装置において、各入力ビームに対応する２連ミラーであって、他の入力ビームに対応する２連ミラーから分離された２連ミラーを備えており、各入力ビームに対応する２連ミラーは、特定の平面上に載置された第１ミラーと、該第１ミラー上に載置された第２ミラーとにより構成されており、上記第１ミラーは、入力ビームを反射する第１反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が４５°となる第１反射面を有しており、上記第２ミラーは、上記第第１反射面にて反射された入力ビームを反射する第２反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が１３５°となる第２反射面を有している、ことを特徴とする。
　上記の構成においては、各入力ビームを反射する第１反射面が特定の平面上に載置された第１ミラーに設けられ、第１反射面にて反射された入力ビームを反射する第２反射面が第１ミラー上に載置された第２ミラーに設けられている。このため、第１ミラー及び第２ミラーをそれぞれ回動させることによって、出力ビームの伝搬方向を自由に調整することができる。例えば、入力ビームの伝搬方向に傾きがあっても、出力ビームの伝搬方向を所定の方向に調整することができる。また、第１ミラー及び第２ミラーをそれぞれ摺動させることによって、出力ビームの光軸位置も自由に調整することができる。
　しかも、上記の構成においては、各入力ビームに対応する２連ミラーが他の入力ビームに対応する２連ミラーから分離されている。したがって、各出力ビームの伝搬方向の調整を互いに独立に行うことができる。したがって、入力ビームの伝搬方向にばらつきがあっても、出力ビームの伝搬方向を所定の方向に調整することができる。また、各出力ビームの光軸位置の調整も互いに独立に行うことができる。
　本実施形態に係る導光装置においては、各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの向きが、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向が特定の方向に一致するように調整されている、ことが好ましい。
　上記の構成によれば、凸レンズなどによって精度良く集束することが可能な出力ビーム束を得ることができる。
　本実施形態に係る導光装置においては、各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの位置が、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸が特定の平面内に等間隔で並ぶように調整されている、ことが好ましい。
　上記の構成によれば、より精度良く集束することが可能な出力ビーム束を得ることができる。
　上記導光装置を製造する製造方法も本実施形態の範疇に含まれる。
　各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの向きを、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向が特定の方向に一致するように調整する工程を含めることによって、或いは、各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの位置を、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸が特定の平面内に等間隔で並ぶように調整する工程を更に含めることによって、精度良く集束することが可能な出力ビーム束を生成する導光装置を製造することができる。
　上記導光装置を備えたＬＤモジュールも本実施形態の範疇に含まれる。
　上記導光装置を備えることによって、高出力化及び高効率化が可能なＬＤモジュールを実現することができる。
　〔付記事項〕
　本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
　本発明は、ＬＤモジュールに好適に利用することができる。特に、ＬＤチップを光源とするＬＤモジュールに好適に利用することができる。
　１　　　　　　　　　　ＬＤモジュール
　ＬＤ１～ＬＤ１０　　　ＬＤチップ
　ＦＡＣ１～ＦＡＣ１０　Ｆ軸コリメートレンズ
　ＳＡＣ１～ＳＡＣ１０　Ｓ軸コリメートレンズ
　Ｍ１～Ｍ１０　　　　　２連ミラー
　Ｍｉ１　　　　　　　　第１ミラー
　Ｓ１　　　　　　　　　反射面（第１反射面）
　Ｍｉ２　　　　　　　　第２ミラー
　Ｓ２　　　　　　　　　反射面（第２反射面）
　Ｂ　　　　　　　　　　基板
　ＦＬ　　　　　　　　　Ｆ軸集光レンズ
　ＳＬ　　　　　　　　　Ｓ軸集光レンズ

Claims (9)

  1. 　複数の入力ビームからなる入力ビーム束を複数の出力ビームからなる出力ビーム束に変換する導光装置において、
    　各入力ビームに対応する２連ミラーであって、他の入力ビームに対応する２連ミラーから分離された２連ミラーを備えており、
    　各入力ビームに対応する２連ミラーは、特定の平面上に載置された第１ミラーと、該第１ミラー上に載置された第２ミラーとにより構成されており、
    　上記第１ミラーは、入力ビームを反射する第１反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が４５°となる第１反射面を有しており、
    　上記第２ミラーは、上記第１反射面にて反射された入力ビームを反射する第２反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が１３５°となる第２反射面を有している、ことを特徴とする導光装置。
  2. 　各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの向きは、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向が特定の方向に一致するように調整されている、ことを特徴とする請求項１に記載の導光装置。
  3. 　各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの位置は、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸が特定の平面内に等間隔で並ぶように調整されている、ことを特徴とする請求項２に記載の導光装置。
  4. 　上記特定の平面と上記第１ミラーの下面とは、これらの面の間に形成された厚みが均一な接着剤層によって接着されており、
    　上記第１ミラーの上面と上記第２ミラーの下面とは、これらの面の間に形成された厚みが均一な接着剤層によって接着されている、ことを特徴とする請求項１～３の何れか１項に記載の導光装置。
  5. 　上記特定の平面と上記第１ミラーの下面との間に形成された接着剤層の厚み、及び、上記第１ミラーの上面と上記第２ミラーの下面との間に形成された接着剤層の厚みは、上記２連ミラーの寸法公差よりも小さい、ことを特徴とする請求項１～４の何れか１項に記載の導光装置。
  6. 　請求項１に記載の導光装置を製造する製造方法であって、
    　各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの向きを、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向が特定の方向に一致するように調整する工程を含んでいる、ことを特徴とする製造方法。
  7. 　各入力ビームに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの位置を、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸が特定の平面内に等間隔で並ぶように調整する工程を更に含んでいる、ことを特徴とする請求項６に記載の製造方法。
  8. 　複数のＬＤ素子と、上記複数のＬＤ素子の各々から出射されたレーザビームからなる入力ビーム束を複数の出力ビームからなる出力ビーム束に変換する導光装置とを備えたＬＤモジュールにおいて、
    　上記導光装置は、各ＬＤ素子に対応する２連ミラーであって、他のＬＤ素子に対応する２連ミラーから分離された２連ミラーを備えており、
    　各ＬＤ素子に対応する２連ミラーは、特定の平面上に載置された第１ミラーと、該第１ミラー上に載置された第２ミラーとにより構成されており、
    　上記第１ミラーは、対応するＬＤ素子から出射されたレーザビームを反射する第１反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が４５°となる第１反射面を有しており、
    　上記第２ミラーは、上記第１反射面にて反射されたレーザビームを反射する第２反射面であって、その法線と上記特定の平面の法線との成す角が１３５°となる第２反射面を有している、ことを特徴とするＬＤモジュール。
  9. 　上記出力ビーム束を光ファイバの入射端面に集束する集束レンズを更に備えおり、
    　各ＬＤに対応する２連ミラーについて、第１ミラー及び第２ミラーの向きは、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの伝搬方向が特定の方向に一致するように調整されており、第１ミラー及び第２ミラーの位置は、上記出力ビーム束を構成する各出力ビームの光軸が特定の平面内に等間隔で並ぶように調整されている、
    ことを特徴とする請求項８に記載のＬＤモジュール。
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