WO2013108700A1 - 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 - Google Patents
金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 Download PDFInfo
- Publication number
- WO2013108700A1 WO2013108700A1 PCT/JP2013/050268 JP2013050268W WO2013108700A1 WO 2013108700 A1 WO2013108700 A1 WO 2013108700A1 JP 2013050268 W JP2013050268 W JP 2013050268W WO 2013108700 A1 WO2013108700 A1 WO 2013108700A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- group
- atom
- metal complex
- represented
- formula
- Prior art date
Links
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 title claims abstract description 86
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims abstract description 55
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 37
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims abstract description 31
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 22
- 239000003446 ligand Substances 0.000 claims abstract description 21
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- -1 silylthio group Chemical group 0.000 claims description 244
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 118
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 99
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 60
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 59
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 57
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 56
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 55
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 39
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 37
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 35
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 34
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 24
- 125000005018 aryl alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004659 aryl alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000002102 aryl alkyloxo group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000005015 aryl alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 19
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical group [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 125000004469 siloxy group Chemical group [SiH3]O* 0.000 claims description 18
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 17
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 16
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 15
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 11
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 claims description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 8
- 125000005553 heteroaryloxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005368 heteroarylthio group Chemical group 0.000 claims description 7
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical group [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical group [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical group [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical group [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical group [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000879 imine group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 125
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 55
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 52
- 239000000463 material Substances 0.000 description 50
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 32
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 28
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 28
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 28
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 27
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 21
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 19
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 17
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 17
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 150000002466 imines Chemical group 0.000 description 16
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 15
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 15
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 12
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 12
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 12
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 9
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 9
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 8
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 8
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 7
- 125000001637 1-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C(*)=C([H])C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 6
- 125000001622 2-naphthyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C(*)C([H])=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 6
- SPWVRYZQLGQKGK-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;hexane Chemical compound ClCCl.CCCCCC SPWVRYZQLGQKGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 5
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 5
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 5
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000006615 aromatic heterocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N chloro(triethyl)germane Chemical compound CC[Ge](Cl)(CC)CC CZKMPDNXOGQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 4
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 4
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 4
- YGBFFMMKLWVKGU-UHFFFAOYSA-N ethyl butanimidate;hydrochloride Chemical compound [Cl-].CCCC(=[NH2+])OCC YGBFFMMKLWVKGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 4
- RBBOWEDMXHTEPA-UHFFFAOYSA-N hexane;toluene Chemical compound CCCCCC.CC1=CC=CC=C1 RBBOWEDMXHTEPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-[2-[(2-acetyloxyphenyl)methyl-(2-methoxy-2-oxoethyl)amino]ethyl]amino]acetate Chemical compound C=1C=CC=C(OC(C)=O)C=1CN(CC(=O)OC)CCN(CC(=O)OC)CC1=CC=CC=C1OC(C)=O OJURWUUOVGOHJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N monomethylhydrazine Chemical compound CNN HDZGCSFEDULWCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 4
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 4
- DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium Chemical compound Cl[Ir](Cl)Cl DANYXEHCMQHDNX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DRYXUVJBDVMVFL-UHFFFAOYSA-N 2-[3,5-bis(4-tert-butylphenyl)phenyl]-4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=CC(B2OC(C)(C)C(C)(C)O2)=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)=C1 DRYXUVJBDVMVFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MNLAVFKVRUQAKW-UHFFFAOYSA-N VR nerve agent Chemical compound CCN(CC)CCSP(C)(=O)OCC(C)C MNLAVFKVRUQAKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 125000006383 alkylpyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- WBKFWQBXFREOFH-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;ethyl acetate Chemical compound ClCCl.CCOC(C)=O WBKFWQBXFREOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N difluoromethane Chemical compound FCF RWRIWBAIICGTTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 3
- 150000008376 fluorenones Chemical class 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 3
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 3
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 3
- 125000005554 pyridyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012552 review Methods 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006710 (C2-C12) alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000006711 (C2-C12) alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMSGQZDGSZOJMU-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-phenylbenzene Chemical group CCCCC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 RMSGQZDGSZOJMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OXZYBOLWRXENKT-UHFFFAOYSA-N 4-(trifluoromethyl)benzoyl chloride Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 OXZYBOLWRXENKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGLAYJCJLHNIGJ-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2,6-dimethylaniline Chemical compound CC1=CC(Br)=CC(C)=C1N QGLAYJCJLHNIGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NYMLZIFRPNYAHS-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1h-1,2,4-triazole Chemical class C1=NNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 NYMLZIFRPNYAHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N Nitrous acid Chemical compound ON=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N [Li].[Al] Chemical compound [Li].[Al] JFBZPFYRPYOZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008045 alkali metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 2
- OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O OAYLNYINCPYISS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N magnesium silver Chemical compound [Mg].[Ag] SJCKRGFTWFGHGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- GRWIABMEEKERFV-UHFFFAOYSA-N methanol;oxolane Chemical compound OC.C1CCOC1 GRWIABMEEKERFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 2
- 150000007978 oxazole derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 2
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 2
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 2
- 125000005936 piperidyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 2
- BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N potassiosodium Chemical compound [Na].[K] BITYAPCSNKJESK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 2
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 2
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000013112 stability test Methods 0.000 description 2
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 2
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L tin(II) chloride (anhydrous) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- JCXLYAWYOTYWKM-UHFFFAOYSA-N (2,3,4-triphenylcyclopenta-1,3-dien-1-yl)benzene Chemical compound C1C(C=2C=CC=CC=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 JCXLYAWYOTYWKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N (2s)-2,6-diaminohexanoic acid;(2s)-2-hydroxybutanedioic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O.NCCCC[C@H](N)C(O)=O NWZSZGALRFJKBT-KNIFDHDWSA-N 0.000 description 1
- QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M (4z)-1-(3-methylbutyl)-4-[[1-(3-methylbutyl)quinolin-1-ium-4-yl]methylidene]quinoline;iodide Chemical compound [I-].C12=CC=CC=C2N(CCC(C)C)C=CC1=CC1=CC=[N+](CCC(C)C)C2=CC=CC=C12 QGKMIGUHVLGJBR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 1
- SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethane Chemical compound COC(C)OC SPEUIVXLLWOEMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940015975 1,2-hexanediol Drugs 0.000 description 1
- 150000000183 1,3-benzoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 1,4,4-triphenylbuta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)=CC=C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KLCLIOISYBHYDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 1-[(e)-2-phenylethenyl]anthracene Chemical class C=1C=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C2C=1\C=C\C1=CC=CC=C1 VERMWGQSKPXSPZ-BUHFOSPRSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000004972 1-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 125000006039 1-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005978 1-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- NRKYWOKHZRQRJR-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetamide Chemical compound NC(=O)C(F)(F)F NRKYWOKHZRQRJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropan-1-one Chemical group CC(C)(C)[C]=O YQTCQNIPQMJNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPWWHXPRJFDTTJ-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,5,6-pentafluorobenzamide Chemical compound NC(=O)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F WPWWHXPRJFDTTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 2,3-bis[(E)-2-phenylethenyl]pyrazine Chemical class C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=NC=CN=C1\C=C\C1=CC=CC=C1 SULWTXOWAFVWOY-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylbut-2-enedinitrile Chemical group C=1C=CC=CC=1C(C#N)=C(C#N)C1=CC=CC=C1 VFBJMPNFKOMEEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical class O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEBQYPFPMBNGNG-UHFFFAOYSA-N 2,5-dibromo-5,6-dimethylcyclohexa-1,3-diene Chemical group CC1C=C(Br)C=CC1(C)Br BEBQYPFPMBNGNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006020 2-methyl-1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 2-methyltetrahydrofuran Chemical compound CC1CCCO1 JWUJQDFVADABEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005979 2-naphthyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- PBOOZQFGWNZNQE-UHFFFAOYSA-N 3-bromobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC(Br)=C1 PBOOZQFGWNZNQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006041 3-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical class C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-(2,4,6-trimethylphenyl)pent-4-en-2-one Chemical group CC(=C)CC(=O)Cc1c(C)cc(C)cc1C UQRONKZLYKUEMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003119 4-methyl-3-pentenyl group Chemical group [H]\C(=C(/C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006043 5-hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 9-methylidenefluorene Chemical class C1=CC=C2C(=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 9H-xanthene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3OC2=C1 GJCOSYZMQJWQCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013032 Hydrocarbon resin Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910000799 K alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- ZSBDPRIWBYHIAF-UHFFFAOYSA-N N-acetyl-acetamide Natural products CC(=O)NC(C)=O ZSBDPRIWBYHIAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Chemical class 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006619 Stille reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical group [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMHOYNYTAJQYMD-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(4-tert-butylphenyl)phenyl]boronic acid Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1C1=CC(B(O)O)=CC(C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)=C1 UMHOYNYTAJQYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000004705 aldimines Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUSAVCGXMSWMQM-UHFFFAOYSA-N ambucetamide Chemical compound CCCCN(CCCC)C(C(N)=O)C1=CC=C(OC)C=C1 WUSAVCGXMSWMQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005549 ambucetamide Drugs 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005577 anthracene group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000008425 anthrones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 235000006708 antioxidants Nutrition 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000001231 benzoyloxy group Chemical group C(C1=CC=CC=C1)(=O)O* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N bis(pinacolato)diboron Chemical compound O1C(C)(C)C(C)(C)OB1B1OC(C)(C)C(C)(C)O1 IPWKHHSGDUIRAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N butanamide Chemical compound CCCC(N)=O DNSISZSEWVHGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUJJNVNLJPSDO-UHFFFAOYSA-N butanamide;hydrochloride Chemical compound Cl.CCCC(N)=O ARUJJNVNLJPSDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004744 butyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- SKCNIGRBPJIUBQ-UHFFFAOYSA-N chloroform;ethyl acetate Chemical compound ClC(Cl)Cl.CCOC(C)=O SKCNIGRBPJIUBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSTBBLHIGMTEAZ-UHFFFAOYSA-N chloroform;ethyl acetate;hexane Chemical compound ClC(Cl)Cl.CCCCCC.CCOC(C)=O CSTBBLHIGMTEAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N copper(II) sulfide Chemical compound [S-2].[Cu+2] OMZSGWSJDCOLKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L copper;diiodide Chemical compound I[Cu]I GBRBMTNGQBKBQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006312 cyclopentyl amino group Chemical group [H]N(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- FHHZOYXKOICLGH-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;ethanol Chemical compound CCO.ClCCl FHHZOYXKOICLGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLUMOCWFMKWIL-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;methanol Chemical compound OC.ClCCl WGLUMOCWFMKWIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSHICDXRSZQYBP-UHFFFAOYSA-N dichloromethane;palladium(2+) Chemical compound [Pd+2].ClCCl BSHICDXRSZQYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N ethoxyethane;hexane Chemical compound CCOCC.CCCCCC ZKQFHRVKCYFVCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLKFAASOGCDTDT-UHFFFAOYSA-N ethoxymethoxyethane Chemical compound CCOCOCC KLKFAASOGCDTDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYKFUNUAQCOKEW-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;hexane;toluene Chemical compound CCCCCC.CCOC(C)=O.CC1=CC=CC=C1 HYKFUNUAQCOKEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000006260 ethylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- FHKSXSQHXQEMOK-UHFFFAOYSA-N hexane-1,2-diol Chemical compound CCCCC(O)CO FHKSXSQHXQEMOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000001245 hexylamino group Chemical group [H]N([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000005935 hexyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940083761 high-ceiling diuretics pyrazolone derivative Drugs 0.000 description 1
- IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N hydrazine monohydrate Substances O.NN IKDUDTNKRLTJSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007857 hydrazones Chemical class 0.000 description 1
- 229920006270 hydrocarbon resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005929 isobutyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000005928 isopropyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(OC(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005956 isoquinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004658 ketimines Chemical class 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N lichenxanthone Natural products COC1=CC(O)=C2C(=O)C3=C(C)C=C(OC)C=C3OC2=C1 QDLAGTHXVHQKRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004458 methylaminocarbonyl group Chemical group [H]N(C(*)=O)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006384 methylpyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 1
- AIDQCFHFXWPAFG-UHFFFAOYSA-N n-formylformamide Chemical compound O=CNC=O AIDQCFHFXWPAFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical class C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000005582 pentacene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000538 pentafluorophenyl group Chemical group FC1=C(F)C(F)=C(*)C(F)=C1F 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004894 pentylamino group Chemical group C(CCCC)N* 0.000 description 1
- 125000001148 pentyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005003 perfluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005005 perfluorohexyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000109 phenylethoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000000103 photoluminescence spectrum Methods 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920001490 poly(butyl methacrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000548 poly(silane) polymer Chemical class 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 235000011056 potassium acetate Nutrition 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N propionamide Chemical compound CCC(N)=O QLNJFJADRCOGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001501 propionyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004742 propyloxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical class O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003219 pyrazolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000005581 pyrene group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005030 pyridylthio group Chemical group N1=C(C=CC=C1)S* 0.000 description 1
- 238000006862 quantum yield reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000005493 quinolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001404 rare earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical class C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical group [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006318 tert-butyl amino group Chemical group [H]N(*)C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000037 tert-butyldiphenylsilyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[Si]([H])([*]C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005931 tert-butyloxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(OC(*)=O)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005579 tetracene group Chemical group 0.000 description 1
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000005297 thienyloxy group Chemical group S1C(=CC=C1)O* 0.000 description 1
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MJRFDVWKTFJAPF-UHFFFAOYSA-K trichloroiridium;hydrate Chemical compound O.Cl[Ir](Cl)Cl MJRFDVWKTFJAPF-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000005034 trifluormethylthio group Chemical group FC(S*)(F)F 0.000 description 1
- 125000004044 trifluoroacetyl group Chemical group FC(C(=O)*)(F)F 0.000 description 1
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000000025 triisopropylsilyl group Chemical group C(C)(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)* 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/30—Coordination compounds
- H10K85/341—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes
- H10K85/342—Transition metal complexes, e.g. Ru(II)polypyridine complexes comprising iridium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K11/00—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
- C09K11/06—Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing organic luminescent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic System compounds of the platinum group
- C07F15/0033—Iridium compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/0805—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising only Si, C or H atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0091—Complexes with metal-heteroatom-bonds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/56—Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B33/00—Electroluminescent light sources
- H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1003—Carbocyclic compounds
- C09K2211/1007—Non-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/10—Non-macromolecular compounds
- C09K2211/1018—Heterocyclic compounds
- C09K2211/1025—Heterocyclic compounds characterised by ligands
- C09K2211/1059—Heterocyclic compounds characterised by ligands containing three nitrogen atoms as heteroatoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2211/00—Chemical nature of organic luminescent or tenebrescent compounds
- C09K2211/18—Metal complexes
- C09K2211/185—Metal complexes of the platinum group, i.e. Os, Ir, Pt, Ru, Rh or Pd
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K2101/00—Properties of the organic materials covered by group H10K85/00
- H10K2101/10—Triplet emission
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/80—Constructional details
- H10K50/805—Electrodes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Indole Compounds (AREA)
Abstract
本発明は、特に青色領域において、寿命特性に優れた発光素子の製造に有用な安定性の高い金属錯体を提供する。具体的には、本発明は、下記式(1)で表される金属錯体を提供する。[式(1)中、 Mは、金属原子である。 R0は、それぞれ独立に、2価の連結基である。 i及びjは、それぞれ独立に、0又は1を表す。 RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6は、それぞれ独立に、水素原子等を表す。ただし、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6の少なくとも一つはデンドロンである。 mは1~3の整数であり、nは0~2の整数であり、m+nは2又は3である。 下記式(2)で表される部分は、2座配位子を表す。[式(2)中、Rx及びRyは、金属原子Mに結合する原子であり、それぞれ独立に、炭素原子等を表す。]]
Description
本発明は、金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子に関する。
有機エレクトロルミネッセンス素子(以下、「発光素子」ということがある。)の発光層に用いる発光材料として、三重項励起状態からの発光を示す金属錯体は、一重項励起状態からの発光を示す蛍光材料よりも高発光効率が期待できる。三重項励起状態からの発光(燐光発光)を示す青色発光金属錯体としては、例えば、金属原子としてイリジウム原子を有する金属錯体であるFIrpic(特許文献1)及びトリアゾール環を含む配位子を有する金属錯体(特許文献2)が知られている。
しかし、金属錯体を用いた有機エレクトロルミネッセンス素子への実用化には、赤色・緑色・青色の三原色において、発光効率や寿命特性等に優れた発光素子の製造に有用な金属錯体の開発が望まれている。赤色や緑色と比較して、特に青色領域において、寿命特性に優れた発光素子の製造に有用な安定性の高い金属錯体の開発が望まれている。
そこで、本発明は、特に青色領域において、寿命特性に優れた発光素子の製造に有用な安定性の高い金属錯体を提供することを目的とする。また、本発明は、当該金属錯体を用いた発光素子を提供することを目的とする。
そこで、本発明は、特に青色領域において、寿命特性に優れた発光素子の製造に有用な安定性の高い金属錯体を提供することを目的とする。また、本発明は、当該金属錯体を用いた発光素子を提供することを目的とする。
本発明は第一に、下記式(1)で表される金属錯体を提供する。
[式中、
Mは、ルテニウム原子、ロジウム原子、パラジウム原子、オスミウム原子、イリジウム原子及び白金原子からなる群から選ばれる金属原子である。
R0は、それぞれ独立に、式(L-1)で表される基、式(L-2)で表される基、及び、式(L-3)で表される基からなる群から選ばれる2価の連結基である。
[式中、Rは、それぞれ独立に、アルキル基を表す。]
iは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
jは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換カルボキシル基又はシアノ基を表す。なお、RP1とRP2は結合して環構造を形成していてもよく、RP2とRP3は結合して環構造を形成していてもよく、RP3とRP4は結合して環構造を形成していてもよい。ただし、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6の少なくとも一つはデンドロンであり、RP1、RP2、RP3又はRP4がデンドロンである場合、該デンドロンに連結した連結基R0の数を表すjは1である。
mは1~3の整数であり、nは0~2の整数であり、m+nは2又は3である。
下記式(2)で表される部分は、2座配位子を表す。
[式中、Rx及びRyは、金属原子Mに結合する原子であり、それぞれ独立に、炭素原子、酸素原子又は窒素原子を表す。]]
本発明は第二に、前記金属錯体と、電荷輸送性化合物と、を含む組成物を提供する。
本発明は第三に、前記金属錯体と、溶媒又は分散媒と、を含む組成物を提供する。
本発明は第四に、前記金属錯体を含む膜を提供する。
本発明は第五に、陽極及び陰極からなる電極と、該電極間に設けられた、前記金属錯体を含む層と、を有する(備える)発光素子を提供する。
本発明は第六に、前記発光素子を有する(備える)面状光源及び照明を提供する。
Mは、ルテニウム原子、ロジウム原子、パラジウム原子、オスミウム原子、イリジウム原子及び白金原子からなる群から選ばれる金属原子である。
R0は、それぞれ独立に、式(L-1)で表される基、式(L-2)で表される基、及び、式(L-3)で表される基からなる群から選ばれる2価の連結基である。
iは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
jは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換カルボキシル基又はシアノ基を表す。なお、RP1とRP2は結合して環構造を形成していてもよく、RP2とRP3は結合して環構造を形成していてもよく、RP3とRP4は結合して環構造を形成していてもよい。ただし、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6の少なくとも一つはデンドロンであり、RP1、RP2、RP3又はRP4がデンドロンである場合、該デンドロンに連結した連結基R0の数を表すjは1である。
mは1~3の整数であり、nは0~2の整数であり、m+nは2又は3である。
下記式(2)で表される部分は、2座配位子を表す。
本発明は第二に、前記金属錯体と、電荷輸送性化合物と、を含む組成物を提供する。
本発明は第三に、前記金属錯体と、溶媒又は分散媒と、を含む組成物を提供する。
本発明は第四に、前記金属錯体を含む膜を提供する。
本発明は第五に、陽極及び陰極からなる電極と、該電極間に設けられた、前記金属錯体を含む層と、を有する(備える)発光素子を提供する。
本発明は第六に、前記発光素子を有する(備える)面状光源及び照明を提供する。
本発明の金属錯体は、安定性に優れる。したがって、本発明の金属錯体は、発光素子の製造に特に有用である。
以下、本発明を詳細に説明する。
<金属錯体>
まず、本発明の金属錯体について説明する。
本発明の金属錯体は、フェニル環及びトリアゾール環から構成されるm個の配位子を有する金属錯体であり、具体的には前記式(1)で表される金属錯体である。
まず、本発明の金属錯体について説明する。
本発明の金属錯体は、フェニル環及びトリアゾール環から構成されるm個の配位子を有する金属錯体であり、具体的には前記式(1)で表される金属錯体である。
前記式(1)で表される金属錯体は、添え字mでその数を定義されている配位子と、添え字nでその数を定義されている前記式(2)で表される2座配位子から構成されている。なお、以下において、単に「配位子」という場合には、前記添え字mでその数を定義されている配位子と、添え字nでその数を定義されている2座配位子の両方を意味する。
前記式(1)中、mは1~3の整数であり、nは0~2の整数であり、好ましくはnは0又は1であり、より好ましくはnは0である。ただし、金属原子Mに結合できる配位子の合計数であるm+nは、金属原子Mの価数を満たす。例えば、金属原子がイリジウム原子の場合、mは1、2又は3であり、nは0、1又は2であり、かつ、m+nは3である。好ましくは、m=3かつn=0、又は、m=2かつn=1であり、より好ましくは、m=3かつn=0である。なお、金属原子Mは、トリアゾール環の窒素原子と配位結合が可能であり、かつ、ベンゼン環の炭素原子と共有結合が可能であり、Mから伸びている実線は、このような結合を示す(以下同様。)。
前記式(1)で表される金属錯体は、好ましくは、下記式(3)で表される金属錯体(即ち、n=0)である。
[式中、M、R0、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5、RP6、i、j及びmは、前記と同じ意味を表す。]
本発明の金属錯体において、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換カルボキシル基又はシアノ基を表す。なお、RP1とRP2は結合して環構造を形成していてもよく、RP2とRP3は結合して環構造を形成していてもよく、RP3とRP4が結合して環構造を形成していてもよい。ただし、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6の少なくとも一つは後述のデンドロンであり、RP1、RP2、RP3又はRP4がデンドロンである場合、該デンドロンに連結した連結基R0の数を表すjは1である。
好ましくは、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基又は1価の複素環基であり、より好ましくは、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6のうち少なくとも一つが、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基又は1価の複素環基である。
好ましくは、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基又は1価の複素環基であり、より好ましくは、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6のうち少なくとも一つが、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基又は1価の複素環基である。
本発明の金属錯体は、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6の少なくとも一つは、溶解性の向上、塗布成膜性の向上、及び、更なる機能性(例えば、電荷輸送性)の導入、の少なくとも一種を達成するため、デンドロンである。
デンドロンは分枝構造(branching structure)を有する基であり、金属錯体に種々の機能を付与することを可能にする。デンドロンを有する高度に枝分かれした巨大分子は、デンドリマーと呼ばれることがあり、例えば、WO02/066575、WO02/066552、WO02/067343等において紹介されており、金属錯体に種々の機能を付与することを目的として設計及び合成がされている。
具体的には、デンドロンは、置換基を有することに起因する分岐構造を有する基であり、好ましくは、2個以上の置換基を有するアリール基及び2個以上の置換基を有する1価の複素環基であり、より好ましくは、2個以上の置換基を有するアリール基であり、さらに好ましくは2個以上の置換基を有するフェニル基である。デンドロンであるアリール基、1価の複素環基及びフェニル基が有する置換基としては、アルキル基又はアルキルオキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。なお、アリール基及び1価の複素環基の詳細は、後述する。また、デンドロンであるアリール基、1価の複素環基及びフェニル基が有する置換基の詳細は、後述する。
デンドロンは分枝構造(branching structure)を有する基であり、金属錯体に種々の機能を付与することを可能にする。デンドロンを有する高度に枝分かれした巨大分子は、デンドリマーと呼ばれることがあり、例えば、WO02/066575、WO02/066552、WO02/067343等において紹介されており、金属錯体に種々の機能を付与することを目的として設計及び合成がされている。
具体的には、デンドロンは、置換基を有することに起因する分岐構造を有する基であり、好ましくは、2個以上の置換基を有するアリール基及び2個以上の置換基を有する1価の複素環基であり、より好ましくは、2個以上の置換基を有するアリール基であり、さらに好ましくは2個以上の置換基を有するフェニル基である。デンドロンであるアリール基、1価の複素環基及びフェニル基が有する置換基としては、アルキル基又はアルキルオキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。なお、アリール基及び1価の複素環基の詳細は、後述する。また、デンドロンであるアリール基、1価の複素環基及びフェニル基が有する置換基の詳細は、後述する。
本発明の金属錯体は、配位子が一つ以上のデンドロンで置換されている。配位子のフェニル環側におけるデンドロンの置換位置については、前記RP1、RP2、RP3及びRP4のいずれであってもよいが、RP2又はRP3が好ましく、RP3がさらに好ましい。配位子のトリアゾール環側におけるデンドロンの置換位置については、前記RP5及びRP6のいずれであってもよいが、好ましくはRP5である。金属錯体としては、下記式(3-1)で表されるRP5がデンドロンである金属錯体、及び、下記式(3-2)で表されるRP3がデンドロンである金属錯体が好ましく、RP3及びRP5がデンドロンである金属錯体がより好ましい。
本発明の金属錯体の発光スペクトルのピーク波長は、限定されないが、好ましくは430nm~630nmであり、より好ましくは430nm~580nmであり、さらに好ましくは430nm~530nmであり、特に好ましくは430nm~510nmである。
本発明の金属錯体の発光スペクトルピークは、例えば、該金属錯体を、キシレン、トルエン、クロロホルム、テトラヒドロフラン等の有機溶媒に溶解させ、希薄溶液(有機溶媒中の金属錯体の濃度は、例えば、1×10-6~1×10-7mol/Lの範囲)を調製し、該希薄溶液のPLスペクトルを測定することで、評価し得る。
本発明の金属錯体の金属原子となる金属原子Mは、ルテニウム原子、ロジウム原子、パラジウム原子、オスミウム原子、イリジウム原子及び白金原子からなる群から選ばれる金属原子である。これらの金属原子は、金属錯体にスピン-軌道相互作用を及ぼし、一重項状態と三重項状態間の系間交差を起こし得る。金属原子Mは、好ましくはオスミウム原子、イリジウム原子又は白金原子であり、さらに好ましくはイリジウム原子又は白金原子であり、特に好ましくはイリジウム原子である。
前記R0は、配位子とRP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される基との間の2価の連結基であり、それぞれ独立に、前記式(L-1)で表される基、前記式(L-2)で表される基、又は、前記式(L-3)で表される基から選ばれる。該2価の連結基は、好ましくは、前記式(L-1)で表される基、又は、前記式(L-2)で表される基であり、さらに好ましくは、前記式(L-2)で表される基である。
連結基であるR0の数を表すjは、それぞれ0又は1であるが、RP1、RP2、RP3又はRP4がデンドロンである場合は、該デンドロンに連結した連結基R0の数を表すjは1である。連結基R0の数を表すjは、好ましくは1である。
式(L-1)、(L-2)及び(L-3)におけるRは、アルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよいが、直鎖又は分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。直鎖のアルキル基における炭素数は、通常1~10であり、好ましくは1~6であり、より好ましくは1~3であり、さらに好ましくは1である。また、分岐及び環状のアルキル基における炭素数は、通常3~10であり、好ましくは3~6である。
連結基であるR0の数を表すjは、それぞれ0又は1であるが、RP1、RP2、RP3又はRP4がデンドロンである場合は、該デンドロンに連結した連結基R0の数を表すjは1である。連結基R0の数を表すjは、好ましくは1である。
式(L-1)、(L-2)及び(L-3)におけるRは、アルキル基を表し、該アルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよいが、直鎖又は分岐であることが好ましく、直鎖であることがより好ましい。直鎖のアルキル基における炭素数は、通常1~10であり、好ましくは1~6であり、より好ましくは1~3であり、さらに好ましくは1である。また、分岐及び環状のアルキル基における炭素数は、通常3~10であり、好ましくは3~6である。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、フッ素原子であることが好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアルキル基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。直鎖のアルキル基の炭素数は、通常1~12であり、好ましくは3~10である。また、分岐及び環状のアルキル基における炭素数は、通常3~12であり、好ましくは3~10である。なお、アルキル基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、iso-プロピル基、ブチル基、iso-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が挙げられ、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基が好ましい。
このようなアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、iso-プロピル基、ブチル基、iso-ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基、ラウリル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基が挙げられ、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、2-エチルヘキシル基、デシル基、3,7-ジメチルオクチル基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアルキルオキシ基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。直鎖のアルキルオキシ基の炭素数は、通常1~12であり、好ましくは3~10である。また、分岐及び環状のアルキルオキシ基の炭素数は、通常3~12であり、好ましくは3~10である。アルキルオキシ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアルキルオキシ基の例としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、iso-プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、iso-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、ペンタフルオロエチルオキシ基、パーフルオロブチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、メチルオキシメチルオキシ基、2-メチルオキシエチルオキシ基が挙げられ、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基が好ましい。
このようなアルキルオキシ基の例としては、メチルオキシ基、エチルオキシ基、プロピルオキシ基、iso-プロピルオキシ基、ブチルオキシ基、iso-ブチルオキシ基、tert-ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基、トリフルオロメチルオキシ基、ペンタフルオロエチルオキシ基、パーフルオロブチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、メチルオキシメチルオキシ基、2-メチルオキシエチルオキシ基が挙げられ、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、2-エチルヘキシルオキシ基、デシルオキシ基、3,7-ジメチルオクチルオキシ基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアルキルチオ基は、直鎖、分岐又は環状のいずれでもよい。直鎖のアルキルチオ基の炭素数は、通常1~12であり、好ましくは3~10である。また、分岐及び環状のアルキルチオ基の炭素数は、通常3~12であり、好ましくは3~10である。アルキルチオ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、3,7-ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基、トリフルオロメチルチオ基が挙げられ、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基、デシルチオ基、3,7-ジメチルオクチルチオ基が好ましい。
このようなアルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、iso-プロピルチオ基、ブチルチオ基、iso-ブチルチオ基、tert-ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、シクロヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基、オクチルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基、ノニルチオ基、デシルチオ基、3,7-ジメチルオクチルチオ基、ラウリルチオ基、トリフルオロメチルチオ基が挙げられ、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、2-エチルヘキシルチオ基、デシルチオ基、3,7-ジメチルオクチルチオ基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリール基は、炭素数が、通常6~60であり、好ましくは7~48である。アリール基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリール基の例としては、フェニル基、C1~C12アルキルオキシフェニル基(「C1~C12アルキルオキシ」は、アルキルオキシ部分の炭素数が1~12であることを意味する。以下、同様である。)、C1~C12アルキルフェニル基(「C1~C12アルキル」は、アルキル部分の炭素数が1~12であることを意味する。以下、同様である。)、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル基、C1~C12アルキルフェニル基が好ましい。ここで、アリール基とは、芳香族炭化水素から水素原子1個を除いた原子団である。この芳香族炭化水素としては、縮合環をもつ化合物、独立したベンゼン環及び/又は縮合環から選ばれる2個以上が直接又はビニレン基等を介して結合した化合物が含まれる。
このようなアリール基の例としては、フェニル基、C1~C12アルキルオキシフェニル基(「C1~C12アルキルオキシ」は、アルキルオキシ部分の炭素数が1~12であることを意味する。以下、同様である。)、C1~C12アルキルフェニル基(「C1~C12アルキル」は、アルキル部分の炭素数が1~12であることを意味する。以下、同様である。)、1-ナフチル基、2-ナフチル基、1-アントラセニル基、2-アントラセニル基、9-アントラセニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル基、C1~C12アルキルフェニル基が好ましい。ここで、アリール基とは、芳香族炭化水素から水素原子1個を除いた原子団である。この芳香族炭化水素としては、縮合環をもつ化合物、独立したベンゼン環及び/又は縮合環から選ばれる2個以上が直接又はビニレン基等を介して結合した化合物が含まれる。
上述のC1~C12アルキルは、炭素数1~12のアルキルであり、前記アルキル基で説明し、例示したものと同様である。したがって、前記基におけるC1~C12アルキルオキシとしては、例えば、メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、iso-プロピルオキシ、ブチルオキシ、iso-ブチルオキシ、tert-ブチルオキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、2-エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、3,7-ジメチルオクチルオキシ、ラウリルオキシが挙げられる。また、前記基におけるC1~C12アルキルフェニルとしては、例えば、メチルフェニル、エチルフェニル、ジメチルフェニル、プロピルフェニル、メシチル、メチルエチルフェニル、iso-プロピルフェニル、ブチルフェニル、iso-ブチルフェニル、tert-ブチルフェニル、ペンチルフェニル、イソアミルフェニル、ヘキシルフェニル、ヘプチルフェニル、オクチルフェニル、ノニルフェニル、デシルフェニル、ドデシルフェニルが挙げられる。以下同様である。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリールオキシ基は、炭素数が、通常6~60であり、好ましくは7~48である。アリールオキシ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリールオキシ基の例としては、フェニルオキシ基、C1~C12アルキルオキシフェニルオキシ基、C1~C12アルキルフェニルオキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニルオキシ基、C1~C12アルキルフェニルオキシ基が好ましい。
このようなアリールオキシ基の例としては、フェニルオキシ基、C1~C12アルキルオキシフェニルオキシ基、C1~C12アルキルフェニルオキシ基、1-ナフチルオキシ基、2-ナフチルオキシ基、ペンタフルオロフェニルオキシ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニルオキシ基、C1~C12アルキルフェニルオキシ基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリールチオ基は、炭素数が、通常6~60であり、好ましくは7~48である。アリールチオ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリールチオ基の例としては、フェニルチオ基、C1~C12アルキルオキシフェニルチオ基、C1~C12アルキルフェニルチオ基、1-ナフチルチオ基、2-ナフチルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニルチオ基、C1~C12アルキルフェニルチオ基が好ましい。
このようなアリールチオ基の例としては、フェニルチオ基、C1~C12アルキルオキシフェニルチオ基、C1~C12アルキルフェニルチオ基、1-ナフチルチオ基、2-ナフチルチオ基、ペンタフルオロフェニルチオ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニルチオ基、C1~C12アルキルフェニルチオ基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリールアルキル基は、炭素数が、通常7~60であり、好ましくは7~48である。アリールアルキル基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリールアルキル基の例としては、フェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキル基、1-ナフチル-C1~C12アルキル基、2-ナフチル-C1~C12アルキル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキル基が好ましい。
このようなアリールアルキル基の例としては、フェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキル基、1-ナフチル-C1~C12アルキル基、2-ナフチル-C1~C12アルキル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキル基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリールアルキルオキシ基は、炭素数が、通常7~60であり、好ましくは7~48である。アリールアルキルオキシ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリールアルキルオキシ基の例としては、フェニルメチルオキシ基、フェニルエチルオキシ基、フェニルブチルオキシ基、フェニルペンチルオキシ基、フェニルヘキシルオキシ基、フェニルヘプチルオキシ基、フェニルオクチルオキシ基等のフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルオキシ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルオキシ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルオキシ基が好ましい。
このようなアリールアルキルオキシ基の例としては、フェニルメチルオキシ基、フェニルエチルオキシ基、フェニルブチルオキシ基、フェニルペンチルオキシ基、フェニルヘキシルオキシ基、フェニルヘプチルオキシ基、フェニルオクチルオキシ基等のフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルオキシ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルオキシ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルオキシ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルオキシ基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリールアルキルチオ基は、炭素数が、通常7~60であり、好ましくは7~48である。アリールアルキルチオ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリールアルキルチオ基の例としては、フェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルチオ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルチオ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルチオ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルチオ基が好ましい。
このようなアリールアルキルチオ基の例としては、フェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルチオ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルチオ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルチオ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルチオ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルチオ基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアシル基は、炭素数が、通常2~20であり、好ましくは2~18である。アシル基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロベンゾイル基が挙げられる。
このようなアシル基の例としては、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トリフルオロアセチル基、ペンタフルオロベンゾイル基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアシルオキシ基は、炭素数が、通常2~20であり、好ましくは2~18である。アシルオキシ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアシルオキシ基の例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基が挙げられる。
このようなアシルオキシ基の例としては、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、ペンタフルオロベンゾイルオキシ基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるカルバモイル基は、置換基を有していてもよく、置換基の炭素数を含めた炭素数が、通常1~20であり、好ましくは2~18である(即ち、一般式:NRaRb-CO-で表され、Ra及びRbは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。)。
このようなカルバモイル基の例としては、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基が挙げられる。
このようなカルバモイル基の例としては、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアミド基は、置換基を有していてもよく、置換基の炭素数を含めた炭素数が、通常1~20であり、好ましくは2~18である(即ち、一般式:Rc-CO-NRd-で表され、Rc及びRdは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す)。
このようなアミド基の例としては、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペンタフルオロベンズアミド基が挙げられる。
このようなアミド基の例としては、ホルムアミド基、アセトアミド基、プロピオアミド基、ブチロアミド基、ベンズアミド基、トリフルオロアセトアミド基、ペンタフルオロベンズアミド基、ジホルムアミド基、ジアセトアミド基、ジプロピオアミド基、ジブチロアミド基、ジベンズアミド基、ジトリフルオロアセトアミド基、ジペンタフルオロベンズアミド基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される酸イミド基とは、酸イミドからその窒素原子に結合した水素原子を1個除いて得られる1価の残基を意味する。この酸イミド基は、炭素数が、通常2~60であり、好ましくは2~48である。酸イミド基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このような酸イミド基の例としては、以下の構造式で示される基が挙げられる。
[式中、窒素原子から延びた線は結合手を表し、Meはメチル基、Etはエチル基、n-Prはn-プロピル基を表す。以下、同様である。]
このような酸イミド基の例としては、以下の構造式で示される基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるイミン残基とは、イミン化合物(即ち、分子内に-N=C-を持つ有機化合物である。その例としては、アルジミン、ケチミン、及び、これらの分子中の窒素原子に結合した水素原子が、アルキル基等で置換された化合物が挙げられる。)から水素原子1個を除いた1価の残基を意味する。このイミン残基は、炭素数が、通常2~20であり、好ましくは2~18である。イミン残基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなイミン残基の例としては、以下の構造式で示される基が挙げられる。
[式中、i-Prはiso-プロピル基、n-Buはn-ブチル基、t-Buはtert-ブチル基を表す。波線で示した結合は、「楔形で表される結合」及び/又は「破線で表される結合」であることを意味する。ここで、「楔形で表される結合」とは、紙面からこちら側に向かって出ている結合を意味し、「破線で表される結合」とは、紙面の向こう側に出ている結合を意味する。]
このようなイミン残基の例としては、以下の構造式で示される基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される置換アミノ基は、アミノ基における水素原子の1個又は2個が、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基からなる群から選ばれる1個又は2個の基で置換されたアミノ基を意味する。アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基は、置換基を有していてもよいが、該置換基の炭素数は、置換アミノ基の炭素数に含まれない。置換アミノ基の炭素数は、通常1~60であり、好ましくは2~48である。
このような置換アミノ基の例としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、iso-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、iso-ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2-エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7-ジメチルオクチルアミノ基、ラウリルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1~C12アルキルオキシフェニルアミノ基、ジ(C1~C12アルキルオキシフェニル)アミノ基、ジ(C1~C12アルキルフェニル)アミノ基、1-ナフチルアミノ基、2-ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジルアミノ基、ピラジルアミノ基、トリアジルアミノ基フェニル-C1~C12アルキルアミノ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、ジ(C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキル)アミノ基、ジ(C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキル)アミノ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルアミノ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルアミノ基が挙げられる。
このような置換アミノ基の例としては、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジプロピルアミノ基、iso-プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、iso-ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ヘプチルアミノ基、オクチルアミノ基、2-エチルヘキシルアミノ基、ノニルアミノ基、デシルアミノ基、3,7-ジメチルオクチルアミノ基、ラウリルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、ジシクロペンチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、ジシクロヘキシルアミノ基、ピロリジル基、ピペリジル基、ジトリフルオロメチルアミノ基フェニルアミノ基、ジフェニルアミノ基、C1~C12アルキルオキシフェニルアミノ基、ジ(C1~C12アルキルオキシフェニル)アミノ基、ジ(C1~C12アルキルフェニル)アミノ基、1-ナフチルアミノ基、2-ナフチルアミノ基、ペンタフルオロフェニルアミノ基、ピリジルアミノ基、ピリダジニルアミノ基、ピリミジルアミノ基、ピラジルアミノ基、トリアジルアミノ基フェニル-C1~C12アルキルアミノ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルアミノ基、ジ(C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキル)アミノ基、ジ(C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキル)アミノ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルアミノ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルアミノ基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される置換シリル基は、シリル基における水素原子の1、2又は3個が、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基からなる群から選ばれる1、2又は3個の基で置換されたシリル基を意味する。アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基は置換基を有していてもよいが、該置換基の炭素数は、置換シリル基の炭素数に含まれない。置換シリル基の炭素数は、通常1~60であり、好ましくは3~48である。
このような置換シリル基の例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ-iso-プロピルシリル基、ジメチル-iso-プロピルシリル基、ジエチル-iso-プロピルシリル基、tert-ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリル基、ラウリルジメチルシリル基、フェニル-C1~C12アルキルシリル基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリル基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリル基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリル基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ-p-キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert-ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基が挙げられる。
このような置換シリル基の例としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリプロピルシリル基、トリ-iso-プロピルシリル基、ジメチル-iso-プロピルシリル基、ジエチル-iso-プロピルシリル基、tert-ブチルシリルジメチルシリル基、ペンチルジメチルシリル基、ヘキシルジメチルシリル基、ヘプチルジメチルシリル基、オクチルジメチルシリル基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリル基、ノニルジメチルシリル基、デシルジメチルシリル基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリル基、ラウリルジメチルシリル基、フェニル-C1~C12アルキルシリル基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリル基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリル基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリル基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリル基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリ-p-キシリルシリル基、トリベンジルシリル基、ジフェニルメチルシリル基、tert-ブチルジフェニルシリル基、ジメチルフェニルシリル基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される置換シリルオキシ基は、シリルオキシ基における水素原子の1、2又は3個が、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基からなる群から選ばれる1、2又は3個の基で置換されたシリルオキシ基を意味する。アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基は置換基を有していてもよいが、該置換基の炭素数は、置換シリルオキシ基の炭素数に含まれない。置換シリルオキシ基の炭素数は、通常1~60であり、好ましくは3~48である。
このような置換シリルオキシ基の例としては、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリプロピルシリルオキシ基、トリ-iso-プロピルシリルオキシ基、ジメチル-iso-プロピルシリルオキシ基、ジエチル-iso-プロピルシリルオキシ基、tert-ブチルシリルジメチルシリルオキシ基、ペンチルジメチルシリルオキシ基、ヘキシルジメチルシリルオキシ基、ヘプチルジメチルシリルオキシ基、オクチルジメチルシリルオキシ基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリルオキシ基、ノニルジメチルシリルオキシ基、デシルジメチルシリルオキシ基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリルオキシ基、ラウリルジメチルシリルオキシ基、フェニル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ-p-キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、tert-ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基が挙げられる。
このような置換シリルオキシ基の例としては、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキシ基、トリプロピルシリルオキシ基、トリ-iso-プロピルシリルオキシ基、ジメチル-iso-プロピルシリルオキシ基、ジエチル-iso-プロピルシリルオキシ基、tert-ブチルシリルジメチルシリルオキシ基、ペンチルジメチルシリルオキシ基、ヘキシルジメチルシリルオキシ基、ヘプチルジメチルシリルオキシ基、オクチルジメチルシリルオキシ基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリルオキシ基、ノニルジメチルシリルオキシ基、デシルジメチルシリルオキシ基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリルオキシ基、ラウリルジメチルシリルオキシ基、フェニル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリルオキシ基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリルオキシ基、トリフェニルシリルオキシ基、トリ-p-キシリルシリルオキシ基、トリベンジルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基、tert-ブチルジフェニルシリルオキシ基、ジメチルフェニルシリルオキシ基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される置換シリルチオ基は、シリルチオ基における水素原子の1、2又は3個が、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基からなる群から選ばれる1、2又は3個の基で置換されたシリルチオ基を意味する。アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基は置換基を有していてもよいが、該置換基の炭素数は、置換シリルチオ基の炭素数に含まれない。置換シリルチオ基の炭素数は、通常1~60であり、好ましくは3~48である。
このような置換シリルチオ基の例としては、トリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリプロピルシリルチオ基、トリ-iso-プロピルシリルチオ基、ジメチル-iso-プロピルシリルチオ基、ジエチル-iso-プロピルシリルチオ基、tert-ブチルシリルジメチルシリルチオ基、ペンチルジメチルシリルチオ基、ヘキシルジメチルシリルチオ基、ヘプチルジメチルシリルチオ基、オクチルジメチルシリルチオ基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリルチオ基、ノニルジメチルシリルチオ基、デシルジメチルシリルチオ基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリルチオ基、ラウリルジメチルシリルチオ基、フェニル-C1~C12アルキルシリルチオ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリルチオ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリルチオ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリルチオ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリルチオ基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ-p-キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、tert-ブチルジフェニルシリルチオ基、ジメチルフェニルシリルチオ基が挙げられる。
このような置換シリルチオ基の例としては、トリメチルシリルチオ基、トリエチルシリルチオ基、トリプロピルシリルチオ基、トリ-iso-プロピルシリルチオ基、ジメチル-iso-プロピルシリルチオ基、ジエチル-iso-プロピルシリルチオ基、tert-ブチルシリルジメチルシリルチオ基、ペンチルジメチルシリルチオ基、ヘキシルジメチルシリルチオ基、ヘプチルジメチルシリルチオ基、オクチルジメチルシリルチオ基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリルチオ基、ノニルジメチルシリルチオ基、デシルジメチルシリルチオ基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリルチオ基、ラウリルジメチルシリルチオ基、フェニル-C1~C12アルキルシリルチオ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリルチオ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリルチオ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリルチオ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリルチオ基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリルチオ基、トリフェニルシリルチオ基、トリ-p-キシリルシリルチオ基、トリベンジルシリルチオ基、ジフェニルメチルシリルチオ基、tert-ブチルジフェニルシリルチオ基、ジメチルフェニルシリルチオ基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される置換シリルアミノ基は、シリルアミノ基における水素原子の1、2又は3個が、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基からなる群から選ばれる1、2又は3個の基で置換されたシリルアミノ基を意味する。アルキル基、アリール基、アリールアルキル基及び1価の複素環基は置換基を有していてもよいが、該置換基の炭素数は、置換シリルアミノ基の炭素数に含まれない。置換シリルアミノ基の炭素数は、通常、1~60であり、好ましくは3~48である。
このような置換シリルアミノ基の例としては、トリメチルシリルアミノ基、トリエチルシリルアミノ基、トリプロピルシリルアミノ基、トリ-iso-プロピルシリルアミノ基、ジメチル-iso-プロピルシリルアミノ基、ジエチル-iso-プロピルシリルアミノ基、tert-ブチルシリルジメチルシリルアミノ基、ペンチルジメチルシリルアミノ基、ヘキシルジメチルシリルアミノ基、ヘプチルジメチルシリルアミノ基、オクチルジメチルシリルアミノ基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリルアミノ基、ノニルジメチルシリルアミノ基、デシルジメチルシリルアミノ基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリルアミノ基、ラウリルジメチルシリルアミノ基、フェニル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリルアミノ基、トリフェニルシリルアミノ基、トリ-p-キシリルシリルアミノ基、トリベンジルシリルアミノ基、ジフェニルメチルシリルアミノ基、tert-ブチルジフェニルシリルオアミノ基、ジメチルフェニルシリルアミノ基が挙げられる。
このような置換シリルアミノ基の例としては、トリメチルシリルアミノ基、トリエチルシリルアミノ基、トリプロピルシリルアミノ基、トリ-iso-プロピルシリルアミノ基、ジメチル-iso-プロピルシリルアミノ基、ジエチル-iso-プロピルシリルアミノ基、tert-ブチルシリルジメチルシリルアミノ基、ペンチルジメチルシリルアミノ基、ヘキシルジメチルシリルアミノ基、ヘプチルジメチルシリルアミノ基、オクチルジメチルシリルアミノ基、2-エチルヘキシル-ジメチルシリルアミノ基、ノニルジメチルシリルアミノ基、デシルジメチルシリルアミノ基、3,7-ジメチルオクチル-ジメチルシリルアミノ基、ラウリルジメチルシリルアミノ基、フェニル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、C1~C12アルキルオキシフェニル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、C1~C12アルキルフェニル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、1-ナフチル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、2-ナフチル-C1~C12アルキルシリルアミノ基、フェニル-C1~C12アルキルジメチルシリルアミノ基、トリフェニルシリルアミノ基、トリ-p-キシリルシリルアミノ基、トリベンジルシリルアミノ基、ジフェニルメチルシリルアミノ基、tert-ブチルジフェニルシリルオアミノ基、ジメチルフェニルシリルアミノ基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される1価の複素環基とは、複素環式化合物から水素原子1個を除いた残りの原子団を意味する。1価の複素環基の炭素数は、通常4~60であり、好ましくは4~20である。1価の複素環基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。ここで、複素環式化合物とは、環式構造を持つ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、燐原子、硼素原子等のヘテロ原子を含む化合物をいう。
このような1価の複素環基の例としては、チエニル基、C1~C12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、C1~C12アルキルピリジル基、ピペリジル基、キノリル基、イソキノリル基が挙げられ、チエニル基、C1~C12アルキルチエニル基、ピリジル基、C1~C12アルキルピリジル基が好ましい。
このような1価の複素環基の例としては、チエニル基、C1~C12アルキルチエニル基、ピロリル基、フリル基、ピリジル基、C1~C12アルキルピリジル基、ピペリジル基、キノリル基、イソキノリル基が挙げられ、チエニル基、C1~C12アルキルチエニル基、ピリジル基、C1~C12アルキルピリジル基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるヘテロアリールオキシ基は、炭素数が、通常6~60であり、好ましくは7~48である。ヘテロアリールオキシ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなヘテロアリールオキシ基の例としては、チエニルオキシ基、C1~C12アルキルオキシチエニルオキシ基、C1~C12アルキルチエニルオキシ基、ピリジルオキシ基、C1~C12アルキルオキシピリジルオキシ基、C1~C12アルキルピリジルオキシ基、イソキノリルオキシ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシピリジルオキシ基、C1~C12アルキルピリジルオキシ基が好ましい。
このようなヘテロアリールオキシ基の例としては、チエニルオキシ基、C1~C12アルキルオキシチエニルオキシ基、C1~C12アルキルチエニルオキシ基、ピリジルオキシ基、C1~C12アルキルオキシピリジルオキシ基、C1~C12アルキルピリジルオキシ基、イソキノリルオキシ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシピリジルオキシ基、C1~C12アルキルピリジルオキシ基が好ましい。
上述のC1~C12アルキルピリジルオキシ基の例としては、メチルピリジルオキシ基、エチルピリジルオキシ基、ジメチルピリジルオキシ基、プロピルピリジルオキシ基、1,3,5-トリメチルピリジルオキシ基、メチルエチルピリジルオキシ基、iso-プロピルピリジルオキシ基、ブチルピリジルオキシ基、iso-ブチルピリジルオキシ基、tert-ブチルピリジルオキシ基、ペンチルピリジルオキシ基、イソアミルピリジルオキシ基、ヘキシルピリジルオキシ基、ヘプチルピリジルオキシ基、オクチルピリジルオキシ基、ノニルピリジルオキシ基、デシルピリジルオキシ基、ドデシルピリジルオキシ基が挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるヘテロアリールチオ基は、炭素数が、通常6~60であり、好ましくは7~48である。ヘテロアリールチオ基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなヘテロアリールチオ基の例としては、ピリジルチオ基、C1~C12アルキルオキシピリジルチオ基、C1~C12アルキルピリジルチオ基、イソキノリルチオ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシピリジルチオ基、C1~C12アルキルピリジルチオ基が好ましい。
このようなヘテロアリールチオ基の例としては、ピリジルチオ基、C1~C12アルキルオキシピリジルチオ基、C1~C12アルキルピリジルチオ基、イソキノリルチオ基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシピリジルチオ基、C1~C12アルキルピリジルチオ基が好ましい。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリールアルケニル基は、炭素数が、通常7~60であり、好ましくは7~48である。アリールアルケニル基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリールアルケニル基の例としては、フェニル-C2~C12アルケニル基(「C2~C12アルケニル」は、アルケニル部分の炭素数が2~12であることを意味する。以下、同様である。)、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルケニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルケニル基、1-ナフチル-C2~C12アルケニル基、2-ナフチル-C2~C12アルケニル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルケニル基、C2~C12アルキルフェニル-C1~C12アルケニル基が好ましい。
このようなアリールアルケニル基の例としては、フェニル-C2~C12アルケニル基(「C2~C12アルケニル」は、アルケニル部分の炭素数が2~12であることを意味する。以下、同様である。)、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルケニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルケニル基、1-ナフチル-C2~C12アルケニル基、2-ナフチル-C2~C12アルケニル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルケニル基、C2~C12アルキルフェニル-C1~C12アルケニル基が好ましい。
上述のC2~C12アルケニルの例としては、エテニル、1-プロペニル、2-プロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、3-ペンテニル、4-ペンテニル、4-メチル-3-ペンテニル、1-ヘキセニル、3-ヘキセニル、5-ヘキセニルが挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表されるアリールアルキニル基は、炭素数が、通常7~60であり、好ましくは7~48である。アリールアルキニル基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記の炭素数には含まれない。
このようなアリールアルキニル基の例としては、フェニル-C2~C12アルキニル基(「C2~C12アルキニル」は、アルキニル部分の炭素数が2~12であることを意味する。以下、同様である。)、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルキニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルキニル基、1-ナフチル-C2~C12アルキニル基、2-ナフチル-C2~C12アルキニル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルキニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルキニル基が好ましい。
このようなアリールアルキニル基の例としては、フェニル-C2~C12アルキニル基(「C2~C12アルキニル」は、アルキニル部分の炭素数が2~12であることを意味する。以下、同様である。)、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルキニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルキニル基、1-ナフチル-C2~C12アルキニル基、2-ナフチル-C2~C12アルキニル基が挙げられ、C1~C12アルキルオキシフェニル-C2~C12アルキニル基、C1~C12アルキルフェニル-C2~C12アルキニル基が好ましい。
上述のC2~C12アルキニルの例としては、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-ペンチニル、2-ペンチニル、3-ペンチニル、4-ペンチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニル、1-ヘプチニル、1-オクチニルが挙げられる。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6で表される置換カルボキシル基(一般式:Re-O-CO-で表され、Reはアルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は1価の複素環基を表す。)は、炭素数が、通常1~60であり、好ましくは2~48であり、カルボキシル基における水素原子が、アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は1価の複素環基で置換されたカルボキシル基を意味する。該アルキル基、アリール基、アリールアルキル基又は1価の複素環基は、置換基を有していてもよいが、置換基の炭素数は上記炭素数には含まれない。
このような置換カルボキシル基の例としては、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、iso-プロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、iso-ブチルオキシカルボニル基、tert-ブチルオキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、2-エチルヘキシルオキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、3,7-ジメチルオクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、ペンタフルオロエチルオキシカルボニル基、パーフルオロブチルオキシカルボニル基、パーフルオロヘキシルオキシカルボニル基、パーフルオロオクチルオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基が挙げられる。
このような置換カルボキシル基の例としては、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、プロピルオキシカルボニル基、iso-プロピルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、iso-ブチルオキシカルボニル基、tert-ブチルオキシカルボニル基、ペンチルオキシカルボニル基、ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、2-エチルヘキシルオキシカルボニル基、ノニルオキシカルボニル基、デシルオキシカルボニル基、3,7-ジメチルオクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基、トリフルオロメチルオキシカルボニル基、ペンタフルオロエチルオキシカルボニル基、パーフルオロブチルオキシカルボニル基、パーフルオロヘキシルオキシカルボニル基、パーフルオロオクチルオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、ピリジルオキシカルボニル基が挙げられる。
上述した基が置換基を有する場合、置換基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換カルボキシル基又はシアノ基が挙げられる。これらの基の詳細は、前記で説明し、例示したものと同様である。置換基として好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基又は1価の複素環基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基又は1価の複素環基である。上述した基が置換基を有する場合、置換基の個数は、通常、1~3個であり、好ましくは1~2個であり、より好ましくは1個である。
本発明の金属錯体は、前記RP1~RP4の少なくとも一つが、電子吸引性の性質を有する置換基であることが好ましく、フッ素原子又はフッ素原子を含有する置換基であることがさらに好ましい。本発明におけるフッ素原子又はフッ素原子を含有する置換基は、CpFqHrOsで示される1価の基を表す。ここで、pは1~10から選ばれる整数を表し、qは1~(2p+1)から選ばれる整数を表し、rは0~(2p+1)から選ばれる整数を表し、sは0又は1であり、下記式(F1)~(F14)及び下記式(F24)~(F32)で示される基を例示することができる。
本発明の金属錯体の化学的安定性の観点から、上記のCpFqHrOsで示される1価の基において、sは0であることが好ましく、上記式(F1)~(F14)で示される基であることが好ましい。
前記式(2)で表される部分である2座配位子としては、限定されないが、本発明の金属錯体が中性であるようにモノアニオン性であることが好ましい。例えば、以下の構造が挙げられる。
(式中、*は金属原子Mと結合する部位を示す。)
-金属錯体の製造方法-
次に、本発明の金属錯体の合成方法を説明する。
本発明の金属錯体は、例えば、配位子となる化合物と金属化合物とを溶媒中で反応させることにより合成することができる。必要に応じて、反応系中に塩基、塩化銀化合物等が存在していてもよい。また、5-フェニル-1,2,4-トリアゾール誘導体を配位子に有する金属錯体と芳香族複素環式化合物とのカップリング反応により、本発明の金属錯体を合成することができる。
次に、本発明の金属錯体の合成方法を説明する。
本発明の金属錯体は、例えば、配位子となる化合物と金属化合物とを溶媒中で反応させることにより合成することができる。必要に応じて、反応系中に塩基、塩化銀化合物等が存在していてもよい。また、5-フェニル-1,2,4-トリアゾール誘導体を配位子に有する金属錯体と芳香族複素環式化合物とのカップリング反応により、本発明の金属錯体を合成することができる。
錯体化の方法(即ち、配位子となる化合物と金属化合物とを溶液中で反応させる方法)としては、イリジウム原子を有する錯体の場合、J.Am.Chem.Soc.1984,106,6647;Inorg.Chem.1991,30,1685;Inorg.Chem.1994,33,545;Inorg.Chem.2001,40,1704;Chem.Lett.,2003,32,252等に記載の方法が挙げられ、白金原子を有する錯体の場合、Inorg.Chem.,1984,23,4249;Chem.Mater.1999,11,3709;Organometallics,1999,18,1801等に記載の方法が挙げられ、パラジウム原子を有する錯体の場合、J.Org.Chem.,1987,52,73等に記載の方法が挙げられる。
錯体化の反応温度は、限定されないが、通常、溶媒の融点から沸点の間であり、-78℃~溶媒の沸点が好ましい。反応時間は、限定されないが、通常、30分間から30時間である。ただし、錯体化反応においてマイクロウェーブ反応装置を使用する場合、溶媒の沸点以上で反応させることもでき、反応時間は、限定されないが、数分から数時間である。
前記配位子となる化合物は、例えば、5-フェニル-1,2,4-トリアゾールと芳香族複素環式化合物とのSuzukiカップリング、Grignardカップリング、Stilleカップリング等により合成することができる。必要に応じて有機溶媒に溶解し、例えば、塩基、適切な触媒等を用い、有機溶媒の融点以上沸点以下の温度で反応させることにより合成することができる。この合成には、例えば、“オルガニック シンセシス(Organic Syntheses)”、コレクティブ第6巻(Collective Volume VI)、407-411頁、ジョンワイリー アンド サンズ(John Wiley&Sons,Inc.)、1988年;ケミカル レビュー(Chem.Rev.)、第106巻、2651頁(2006年);ケミカル レビュー(Chem.Rev.)、第102巻、1359頁(2002年);ケミカル レビュー(Chem.Rev.)、第95巻、2457頁(1995年);ジャーナル オブ オルガノメタリック ケミストリー(J.Organomet.Chem.)、第576巻、147頁(1999年)等に記載の方法を用いることができる。
前記芳香族複素環式化合物は、“HOUBEN-WEYL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY 4TH EDITION”,第E9b巻、1頁、GEORG THIEME VERLAG STUTTGART;HOUBEN-WEYL METHODS OF ORGANIC CHEMISTRY 4TH EDITION,第E9c巻、667頁、GEORG THIEME VERLAG STUTTGART等に記載の方法で合成することができる。
得られた化合物の同定・分析は、CHN元素分析、NMR分析、MS分析及びX線結晶構造解析により行うことができる。
<組成物>
本発明の組成物は、本発明の金属錯体と電荷輸送性化合物(即ち、電荷輸送材料)を含むものであり、発光材料を更に含んでいてもよい。
本発明の組成物は、本発明の金属錯体と電荷輸送性化合物(即ち、電荷輸送材料)を含むものであり、発光材料を更に含んでいてもよい。
前記電荷輸送材料は、正孔輸送材料と電子輸送材料に分類され、具体的には有機化合物(低分子化合物及び/又は高分子化合物)を用いることができる。前記電荷輸送材料は、高分子化合物であることが好ましい。
前記正孔輸送材料としては、芳香族アミン、カルバゾール誘導体、ポリパラフェニレン誘導体等、有機エレクトロルミネッセンス素子の正孔輸送材料として公知の化合物が挙げられる。前記電子輸送材料としては、有機エレクトロルミネッセンス素子に電子輸送材料として公知の化合物、例えば、オキサジアゾール誘導体アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びその誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノアントラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8-ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体が挙げられる。前記電荷輸送材料の低分子化合物とは、低分子有機エレクトロルミネッセンス素子に用いられるホスト化合物、電荷輸送化合物を意味し、具体的には、例えば、「有機ELディスプレイ」(時任静士、安達千波矢、村田英幸共著、オーム社)107頁、月刊ティスプレイ(vol9、No9、2003年26-30頁)、特開2004-244400号公報、特開2004-277377号公報等に記載の化合物が挙げられる。これら電荷輸送材料の種類にもよるが、一般的には、金属錯体からの良好な発光を得るためには、これら電荷輸送材料の最低三重項励起エネルギーが、金属錯体の最低三重項励起エネルギーよりも大きいことが好ましい。
前記電荷輸送材料の高分子化合物としては、例えば、非共役系高分子化合物、共役系高分子化合物が挙げられる。非共役系高分子化合物としては、例えば、ポリビニルカルバゾールが挙げられる。共役系高分子化合物としては、主鎖に芳香環を含む高分子化合物が例示でき、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいフルオレンジイル基、置換基を有していてもよいジベンゾチオフェンジイル基、置換基を有していてもよいジベンゾフランジイル基、置換基を有していてもよいジベンゾシロールジイル基等を繰り返し単位として主鎖に含むものや、これらの基同士の共重合体が挙げられる。具体的には、置換基を有していてもよいベンゼン環を繰り返し単位の部分構造として有する高分子化合物が挙げられる。その他にも、例えば、特開2003-231741号公報、特開2004-059899号公報、特開2004-002654号公報、特開2004-292546号公報、US5708130、WO99/54385、WO00/46321、WO02/077060、「有機ELディスプレイ」(時任静士、安達千波矢、村田英幸 共著、オーム社)111頁、月刊ディスプレイ(vol.9、No.9、2002年)47-51頁等に記載の高分子化合物が挙げられる。
前記電荷輸送材料の高分子化合物としては、下記式(I)で表される基を含む高分子化合物が好ましい。
-Ar- (I)
(式中、Arは、アリーレン基、2価の複素環基又は2価の芳香族アミン残基を表す。これらの基は、置換基を有していてもよい。)
-Ar- (I)
(式中、Arは、アリーレン基、2価の複素環基又は2価の芳香族アミン残基を表す。これらの基は、置換基を有していてもよい。)
前記式(I)中、Arで表されるアリーレン基としては、例えば、置換基を有していてもよいフェニレン基、置換基を有していてもよいナフチレン基又は下記式(4a)で表される2価の基が挙げられる。
(式中、
P環及びQ環は、それぞれ独立に、芳香環を示すが、P環は存在してもしなくてもよい。2本の結合手は、P環が存在する場合には、P環上若しくはQ環上に2本存在するか、又は、P環上及びQ環上に1本ずつ存在し、P環が存在しない場合には、Y1を含む5員環上(6員環の場合もある。)若しくはQ環上に2本存在するか、又は、Y1を含む5員環上(6員環の場合もある。)及びQ環上に1本ずつ存在する。P環、Q環及びY1を含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい。
Y1は、-C(R11)(R12)-、-C(R14)(R15)-C(R16)(R17)-、-C(R32)=C(R33)-を表す。R11、R12、R14~R17、R32及びR33は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基又はハロゲン原子を表す。)
P環及びQ環は、それぞれ独立に、芳香環を示すが、P環は存在してもしなくてもよい。2本の結合手は、P環が存在する場合には、P環上若しくはQ環上に2本存在するか、又は、P環上及びQ環上に1本ずつ存在し、P環が存在しない場合には、Y1を含む5員環上(6員環の場合もある。)若しくはQ環上に2本存在するか、又は、Y1を含む5員環上(6員環の場合もある。)及びQ環上に1本ずつ存在する。P環、Q環及びY1を含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい。
Y1は、-C(R11)(R12)-、-C(R14)(R15)-C(R16)(R17)-、-C(R32)=C(R33)-を表す。R11、R12、R14~R17、R32及びR33は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基又はハロゲン原子を表す。)
前記式(I)中、P環、Q環、及びY1を含む5員環(6員環の場合もある。)が有していてもよい置換基であるアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基は、前記Rで表される基及び原子として説明し例示した基及び原子と同じである。
前記式(I)中、R11、R12、R14~R17、R32及びR33で表されるアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基及びハロゲン原子は、前記Rで表される基及び原子として説明し例示した基及び原子と同じである。
前記式(I)中、Arで表される2価の複素環基とは、複素環式化合物から水素原子2個を除いた残りの原子団をいい、該基は置換基を有していてもよい。複素環式化合物とは、環式構造を持つ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素原子、窒素原子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子、スズ原子、リン原子、ホウ素原子、硫黄原子、セレン原子及びテルル原子からなる群から選ばれる原子を一種以上有する化合物をいう。2価の複素環基の中では、2価の芳香族複素環基が好ましい。2価の複素環基の置換基を除いた部分の炭素数は、通常、3~60である。2価の複素環基の置換基を含めた全炭素数は、通常、3~100である。
前記式(I)中、Arで表される2価の複素環基としては、例えば、下記式(4b)で表される2価の基が挙げられる。
(式中、
P’環及びQ’環は、それぞれ独立に、芳香環を示すが、P’環は存在してもしなくてもよい。2本の結合手は、P’環が存在する場合には、P’環上若しくはQ’環上に2本存在するか、又は、P’環上及びQ環上に1本ずつ存在し、P’環が存在しない場合には、Y2を含む5員環上(6員環の場合もある。)若しくはQ’環上に2本存在するか、又は、Y2を含む5員環上(6員環の場合もある。)及びQ’環上に1本ずつ存在する。P’環、Q’環及びY2を含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい。
Y2は、-O-、-S-、-Se-、-B(R6)-、-Si(R7)(R8)-、-P(R9)-、-PR10(=O)-、-N(R13)-、-O-C(R18)(R19)-、-S-C(R20)(R21)-、-N-C(R22)(R23)-、-Si(R24)(R25)-C(R26)(R27)-、-Si(R28)(R29)-Si(R30)(R31)-、-N=C(R34)-又は-Si(R35)=C(R36)-を表す。R6~R10、R13、R18~R31及びR34~R36は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基又はハロゲン原子を表す。)
P’環及びQ’環は、それぞれ独立に、芳香環を示すが、P’環は存在してもしなくてもよい。2本の結合手は、P’環が存在する場合には、P’環上若しくはQ’環上に2本存在するか、又は、P’環上及びQ環上に1本ずつ存在し、P’環が存在しない場合には、Y2を含む5員環上(6員環の場合もある。)若しくはQ’環上に2本存在するか、又は、Y2を含む5員環上(6員環の場合もある。)及びQ’環上に1本ずつ存在する。P’環、Q’環及びY2を含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい。
Y2は、-O-、-S-、-Se-、-B(R6)-、-Si(R7)(R8)-、-P(R9)-、-PR10(=O)-、-N(R13)-、-O-C(R18)(R19)-、-S-C(R20)(R21)-、-N-C(R22)(R23)-、-Si(R24)(R25)-C(R26)(R27)-、-Si(R28)(R29)-Si(R30)(R31)-、-N=C(R34)-又は-Si(R35)=C(R36)-を表す。R6~R10、R13、R18~R31及びR34~R36は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基又はハロゲン原子を表す。)
前記式中、P’環、Q’環及びY2を含む5員環(6員環の場合もある。)が有してもよい置換基であるアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基は、前記Rで表される基及び原子として説明し例示した基及び原子と同じである。
前記式中、R6~R10、R13、R18~R31及びR34~R36で表されるアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、シリルオキシ基、置換シリルオキシ基、1価の複素環基及びハロゲン原子は、前記Rで表される基及び原子として説明し例示した基及び原子と同じである。
前記式(I)中、Arで表される2価の芳香族アミン残基とは、芳香族アミンから水素原子2個を除いた残りの原子団を意味する。2価の芳香族アミン残基の炭素数は、通常、5~100であり、好ましくは15~60である。なお、2価の芳香族アミン残基の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。
前記式(I)中、Arで表される2価の芳香族アミン残基としては、例えば、下記式(6)で表される2価の基が挙げられる。
(式中、
Ar6、Ar7、Ar8及びAr9は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を表す。Ar10、Ar11及びAr12は、それぞれ独立に、アリール基又は1価の複素環基を表す。Ar6~Ar12は置換基を有していてもよい。
x及びyは、それぞれ独立に、0又は1である。)
Ar6、Ar7、Ar8及びAr9は、それぞれ独立に、アリーレン基又は2価の複素環基を表す。Ar10、Ar11及びAr12は、それぞれ独立に、アリール基又は1価の複素環基を表す。Ar6~Ar12は置換基を有していてもよい。
x及びyは、それぞれ独立に、0又は1である。)
前記式(6)中、Ar6~Ar9で表されるアリーレン基は、芳香族炭化水素から水素原子2個を除いた原子団であり、縮合環を持つ基、独立したベンゼン環及び縮合環から選ばれる2個以上が直接又はビニレン基等を介して結合した基も含まれる。該アリーレン基は置換基を有していてもよい。アリーレン基における置換基を除いた部分の炭素数は、通常6~60であり、好ましくは6~20である。アリーレン基の置換基を含めた全炭素数は、通常6~100である。
前記式(6)中、Ar6~Ar9で表される2価の複素環基は、前記Arで表される2価の複素環基として説明し例示した基と同じである。
前記式(6)中、Ar10~Ar12で表されるアリール基及び1価の複素環基は、前記Rで表されるアリール基及び1価の複素環基として説明し例示した基と同じである。
前記式(6)中、アリーレン基、2価の複素環基、アリール基及び1価の複素環基が有してもよい置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基、シアノ基及びニトロ基が挙げられる。これらの置換基は、前記Rで表される基及び原子として説明し例示した基及び原子と同じである。
前記式(4a)及び前記式(4b)で表される基としては、例えば、
下記式(4-1)、下記式(4-2)又は下記式(4-3)で表される基、及び、
〔式中、
A環、B環及びC環は、それぞれ独立に、芳香環を表す。
Yは、前記Y1と同じ意味を表すか、又は、前記Y2と同じ意味を表す。
A環、B環、C環及びYを含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる1個以上の置換基を有していてもよい。〕
下記式(4-4)又は下記式(4-5)で表される基、
〔式中、
D環、E環、F環及びG環は、それぞれ独立に、芳香環を表す。
Yは、前記Y1と同じ意味を表すか、又は、前記Y2と同じ意味を表す。
D環、E環、F環、G環及びYを含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる1個以上の置換基を有していてもよい。〕
が挙げられ、これらの中でも、式(4-4)又は式(4-5)で表される基が好ましい。
下記式(4-1)、下記式(4-2)又は下記式(4-3)で表される基、及び、
A環、B環及びC環は、それぞれ独立に、芳香環を表す。
Yは、前記Y1と同じ意味を表すか、又は、前記Y2と同じ意味を表す。
A環、B環、C環及びYを含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる1個以上の置換基を有していてもよい。〕
下記式(4-4)又は下記式(4-5)で表される基、
D環、E環、F環及びG環は、それぞれ独立に、芳香環を表す。
Yは、前記Y1と同じ意味を表すか、又は、前記Y2と同じ意味を表す。
D環、E環、F環、G環及びYを含む5員環(6員環の場合もある。)は、それぞれ独立に、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基、置換カルボキシル基及びシアノ基からなる群から選ばれる1個以上の置換基を有していてもよい。〕
が挙げられ、これらの中でも、式(4-4)又は式(4-5)で表される基が好ましい。
前記式(4-1)~式(4-5)中、Yは、本発明の組成物を用いて製造される発光素子の発光効率の観点から、好ましくは-S-、-O-、-C(R11)(R12)-又は-N(R13)-であり、さらに好ましくは-S-、-O-又は-N(R13)-である。
前記式(4-1)~(4-5)における芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、テトラセン環、ペンタセン環、ピレン環、フェナントレン環等の芳香環;ピリジン環、ビピリジン環、フェナントロリン環、キノリン環、イソキノリン環、チオフェン環、フラン環、ピロール環等の芳香族複素環が挙げられる。
前記式(4-1)~(4-5)で表される基が有してもよい置換基としては、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、アミノ基、置換アミノ基、シリル基、置換シリル基、アシルオキシ基、イミン残基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、1価の複素環基、カルボキシル基又は置換カルボキシル基が好ましく、アルキル基、アルキルオキシ基、アリール基、又は1価の複素環基がより好ましい。
前記電荷輸送材料の低分子化合物又は高分子化合物の最低三重項励起エネルギー(TH)と、本発明の金属錯体の最低三重項励起エネルギー(TM)とは、
TH>TM-0.1(eV)
の関係を満たすことが好ましく、
TH>TM
の関係を満たすことがより好ましく、
TH>TM+0.1(eV)
の関係を満たすことがさらに好ましい。
TH>TM-0.1(eV)
の関係を満たすことが好ましく、
TH>TM
の関係を満たすことがより好ましく、
TH>TM+0.1(eV)
の関係を満たすことがさらに好ましい。
前記電荷輸送材料の高分子化合物を用いる場合、該高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量は、好ましくは103~108、さらに好ましくは104~106である。また、該高分子化合物のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは103~108であり、さらに好ましくは5×104~5×106である。
前記発光材料としては、公知の発光材料が使用でき、例えば、ナフタレン誘導体、アントラセン及びその誘導体、ペリレン及びその誘導体、ポリメチン系、キサンテン系、クマリン系、シアニン系等の色素類、8-ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金属錯体、芳香族アミン、テトラフェニルシクロペンタジエン及びその誘導体、テトラフェニルブタジエン及びその誘導体等の低分子発光材料が挙げられる。
本発明の組成物における本発明の金属錯体の配合量は、本発明の組成物の全体量を100重量部としたとき、通常0.1~80重量部であり、好ましくは0.1~60重量部、より好ましくは0.1~40重量部である。本発明の金属錯体は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
<発光素子>
本発明の発光素子の一実施形態は、陽極と陰極からなる一対の電極と、該電極間に少なくとも発光層を有する一層(単層型)又は複数層(多層型)からなる薄膜が挟持されている素子である。該薄膜層の少なくとも1層は、本発明の金属錯体を含有する。前記薄膜中の本発明の金属錯体の含有量は、発光層全体の重量に対して、通常0.1~100重量%であり、0.1~80重量%であることが好ましく、0.1~60重量%であることがより好ましく、0.1~40重量%であることがさらに好ましい。本発明の発光素子は、前記発光層が、本発明の金属錯体を発光材料として含有することが好ましい。
本発明の発光素子の一実施形態は、陽極と陰極からなる一対の電極と、該電極間に少なくとも発光層を有する一層(単層型)又は複数層(多層型)からなる薄膜が挟持されている素子である。該薄膜層の少なくとも1層は、本発明の金属錯体を含有する。前記薄膜中の本発明の金属錯体の含有量は、発光層全体の重量に対して、通常0.1~100重量%であり、0.1~80重量%であることが好ましく、0.1~60重量%であることがより好ましく、0.1~40重量%であることがさらに好ましい。本発明の発光素子は、前記発光層が、本発明の金属錯体を発光材料として含有することが好ましい。
本発明の発光素子が前記単層型である場合には、前記薄膜が発光層であり、この発光層が本発明の金属錯体を含有する。また、本発明の発光素子が単層型又は多層型である場合には、例えば、以下の層構成をとる。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
c)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
d)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
e)陽極/電荷注入層/発光層/陰極
f)陽極/発光層/電荷注入層/陰極
g)陽極/電荷注入層/発光層/電荷注入層/陰極
h)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
i)陽極/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
j)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
k)陽極/電荷注入層/発光層/電荷輸送層/陰極
l)陽極/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
m)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
n)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷輸送層/陰極
o)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
p)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
(ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔輸送層/発光層/陰極
c)陽極/発光層/電子輸送層/陰極
d)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極
e)陽極/電荷注入層/発光層/陰極
f)陽極/発光層/電荷注入層/陰極
g)陽極/電荷注入層/発光層/電荷注入層/陰極
h)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
i)陽極/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
j)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷注入層/陰極
k)陽極/電荷注入層/発光層/電荷輸送層/陰極
l)陽極/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
m)陽極/電荷注入層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
n)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電荷輸送層/陰極
o)陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
p)陽極/電荷注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
(ここで、/は各層が隣接して積層されていることを示す。以下同じ。)
本発明の発光素子の陽極は、正孔注入層、正孔輸送層、発光層等に正孔を供給する電極であり、4.5eV以上の仕事関数を有することが効果的である。陽極の材料には、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物等を用いることができる。具体的には、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ(ITO)等の導電性金属酸化物、金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの導電性金属酸化物と金属との混合物又は積層物、ヨウ化銅、硫化銅等の無機導電性物質、ポリアニリン類、ポリチオフェン類(PEDOT等)、ポリピロール等の有機導電性材料、これらとITOとの積層物等が挙げられる。
本発明の発光素子の陰極は、電子注入層、電子輸送層、発光層等に電子を供給する電極である。陰極の材料としては、金属、合金、金属ハロゲン化物、金属酸化物、電気伝導性化合物又はこれらの混合物を用いることができる。陰極の材料の例としては、アルカリ金属(リチウム、ナトリウム、カリウム等)並びにそのフッ化物及び酸化物、アルカリ土類金属(マグネシウム、カルシウム、バリウム、セシウム等)並びにそのフッ化物及び酸化物、金、銀、鉛、アルミニウム、合金及び混合金属類(ナトリウム-カリウム合金、ナトリウム-カリウム混合金属、リチウム-アルミニウム合金、リチウム-アルミニウム混合金属、マグネシウム-銀合金、マグネシウム-銀混合金属等)、希土類金属(インジウム、イッテルビウム等)が挙げられる。
本発明の発光素子の正孔注入層及び正孔輸送層は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有している層であればよい。これらの層の材料には、公知の材料を適宜選択して使用できるが、例えば、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ(N-ビニルカルバゾール)誘導体、有機シラン誘導体、本発明の金属錯体等、これらを含む重合体が挙げられる。その他にも、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマーが挙げられる。これらの材料は1成分単独であっても複数の成分が併用されていてもよい。また、前記正孔注入層及び前記正孔輸送層は、前記材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
本発明の発光素子の電子注入層及び電子輸送層は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれかを有している層であればよい。これらの層の材料は、公知の材料を適宜選択して使用できるが、例えば、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、8-キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、本発明の金属錯体が挙げられる。また、前記電子注入層及び前記電子輸送層は、前記材料の1種又は2種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成又は異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。
本発明の発光素子において、電子注入層、電子輸送層の材料としては、絶縁体又は半導体の無機化合物も使用することもできる。電子注入層、電子輸送層が絶縁体や半導体で構成されていれば、電流のリークを有効に防止して、電子注入性を向上させることができる。このような絶縁体としては、アルカリ金属カルコゲニド、アルカリ土類金属カルコゲニド、アルカリ金属のハロゲン化物及びアルカリ土類金属のハロゲン化物からなる群から選ばれる少なくとも一つの金属化合物を使用できる。好ましいアルカリ金属カルコゲニドの例としては、CaO、BaO、SrO、BeO、BaS、CaSeが挙げられる。また、電子注入層、電子輸送層を構成する半導体としては、Ba、Ca、Sr、Yb、Al、Ga、In、Li、Na、Cd、Mg、Si、Ta、Sb及びZnからなる群から選ばれる少なくとも一つの元素を含む酸化物、窒化物又は酸化窒化物等が挙げられる。これら酸化物、窒化物及び酸化窒化物は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
本発明において、陰極と接する薄膜との界面領域に還元性ドーパントが添加されていてもよい。還元性ドーパントとしては、アルカリ金属、アルカリ土類金属の酸化物、アルカリ土類金属、希土類金属、アルカリ金属の酸化物、アルカリ金属のハロゲン化物、アルカリ土類金属の酸化物、アルカリ土類金属のハロゲン化物、希土類金属の酸化物、希土類金属のハロゲン化物、アルカリ金属錯体、アルカリ土類金属錯体及び希土類金属錯体からなる群から選ばれる少なくとも一つの化合物が好ましい。
本発明の発光素子の発光層は、電界印加時に陽極、正孔注入層又は正孔輸送層より正孔を注入することができ、陰極、電子注入層又は電子輸送層より電子を注入することができる機能、注入した電荷(電子と正孔)を電界の力で移動させる機能、電子と正孔の再結合の場を提供し、これを発光につなげる機能を有する層である。本発明の発光素子の発光層は、本発明の金属錯体を含有することが好ましく、該金属錯体をゲスト材料とするホスト材料を含有させてもよい。ホスト材料としては、上述の電荷輸送材料等が挙げられる。また、前記ホスト材料と前記金属錯体等の発光材料とを混合して塗布するか、或いは共蒸着することによって、前記発光材料が前記ホスト材料にドープされた発光層を形成することができる。
本発明の発光素子では、前記各層の形成方法は特に限定されず公知の方法を使用できる。具体的には、真空蒸着法(抵抗加熱蒸着法、電子ビーム法等)、スパッタリング法、LB法、分子積層法、塗布法(キャスティング法、スピンコート法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット法等)等が挙げられる。これらの中では、製造プロセスを簡略化できる点で、塗布法で成膜することが好ましい。前記塗布法では、本発明の金属錯体を溶媒に溶解して塗布液を調製し、該塗布液を所望の層(又は電極)上に、塗布・乾燥することによって、各層を形成することができる。該塗布液中には、ホスト材料及び/又はバインダーとして樹脂を含有させてもよく、該樹脂は溶媒に溶解状態とすることも、分散状態とすることもできる。前記樹脂としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N-ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェニルオキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等から目的に応じて選択できる。溶液は目的に応じて、任意成分として、酸化防止剤、粘度調整剤等を含有してもよい。
<光電素子>
本発明の金属錯体は、光電素子の製造に用いることもできる。
本発明の金属錯体は、光電素子の製造に用いることもできる。
光電素子としては、例えば、光電変換素子があり、具体的には、少なくとも一方が透明又は半透明な二個の電極間に、本発明の金属錯体を含む層が設けられた素子や、基板上に成膜した本発明の金属錯体を含む層上に形成した櫛型電極を有する素子等が挙げられる。特性を向上するために、フラーレンやカーボンナノチューブ等を混合してもよい。
光電変換素子の製造方法としては、特許第3146296号公報に記載の方法が挙げられる。具体的には、第一の電極を有する基板上に本発明の金属錯体を含む層(薄膜)を形成し、その上に第二の電極を形成する方法、基板上に形成した一組の櫛型電極の上に本発明の金属錯体を含む層(薄膜)を形成する方法が挙げられる。第一又は第二の電極のうち一方が透明又は半透明である。
本発明の金属錯体を含む層(薄膜)の形成方法やフラーレンやカーボンナノチューブを混合する方法については特に制限はないが、発光素子で例示したものが好適に利用できる。
<液状組成物>
本発明の液状組成物は、本発明の金属錯体と、溶媒又は分散媒を含む。本発明の液状組成物に用いられる溶媒、分散媒としては、薄膜の成分を均一に溶解又は分散し安定なものを公知の溶媒から適宜選択して使用できる。このような溶媒としては、塩素系溶媒(クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等)、エーテル系溶媒(テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、芳香族炭化水素系溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、脂肪族炭化水素系溶媒(シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-へプタン、n-オクタン、n-ノナン、n-デカン等)、ケトン系溶媒(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等)、多価アルコール及びその誘導体(エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジ(メチルオキシ)エタン、プロピレングリコール、ジ(エチルオキシ)メタン、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン、1,2-ヘキサンジオール等)、アルコール系溶媒(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール等)、スルホキシド系溶媒(ジメチルスルホキシド等)、アミド系溶媒(N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等)等が挙げられる。これらの溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
本発明の液状組成物は、本発明の金属錯体と、溶媒又は分散媒を含む。本発明の液状組成物に用いられる溶媒、分散媒としては、薄膜の成分を均一に溶解又は分散し安定なものを公知の溶媒から適宜選択して使用できる。このような溶媒としては、塩素系溶媒(クロロホルム、塩化メチレン、1,2-ジクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等)、エーテル系溶媒(テトラヒドロフラン、ジオキサン等)、芳香族炭化水素系溶媒(ベンゼン、トルエン、キシレン等)、脂肪族炭化水素系溶媒(シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、n-ペンタン、n-ヘキサン、n-へプタン、n-オクタン、n-ノナン、n-デカン等)、ケトン系溶媒(アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等)、エステル系溶媒(酢酸エチル、酢酸ブチル、エチルセルソルブアセテート等)、多価アルコール及びその誘導体(エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジ(メチルオキシ)エタン、プロピレングリコール、ジ(エチルオキシ)メタン、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、グリセリン、1,2-ヘキサンジオール等)、アルコール系溶媒(メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、シクロヘキサノール等)、スルホキシド系溶媒(ジメチルスルホキシド等)、アミド系溶媒(N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルホルムアミド等)等が挙げられる。これらの溶媒は、一種単独で用いても二種以上を併用してもよい。
前記液状組成物をインクジェット法に適用する場合には、該液状組成物の吐出性及びその再現性を良好にするために、該液状組成物は公知の添加剤を含有していてもよい。この公知の添加剤としては、ノズルからの蒸発を押さえるために高沸点の溶媒(アニソール、ビシクロヘキシルベンゼン等)等が挙げられる。そして、この公知の添加剤を含有してなる液状組成物は、25℃における粘度が1~100mPa・sであることが好ましい。
本発明の発光素子の各層の好ましい厚さは、材料の種類や層構成によって異なり特に限定されないが、一般的には層の厚さが薄すぎるとピンホール等の欠陥が生じやすく、逆に厚すぎると高い印加電圧が必要となり発光効率が悪くなるため、通常、数nm~1μmが好ましい。
本発明の発光素子の用途としては、特に制限されないが、面状光源、照明用光源(あるいは、光源)、サイン用光源、バックライト用光源、ディスプレイ装置、プリンターヘッド等が挙げられる。前記ディスプレイ装置としては、公知の駆動技術、駆動回路等を用い、セグンメント型、ドットマトリクス型等の構成を選択することができる。
<その他の用途>
本発明の金属錯体は、発光素子の作製に有用であるだけではなく、例えば、有機半導体材料等の半導体材料、発光材料、光学材料、導電性材料(例えば、ドーピングにより適用する)等としても用いることができる。したがって、該金属錯体を用いて、発光性膜、導電性膜、有機半導体膜等の膜(即ち、前記金属錯体を含む膜)を作製することができる。
本発明の金属錯体は、発光素子の作製に有用であるだけではなく、例えば、有機半導体材料等の半導体材料、発光材料、光学材料、導電性材料(例えば、ドーピングにより適用する)等としても用いることができる。したがって、該金属錯体を用いて、発光性膜、導電性膜、有機半導体膜等の膜(即ち、前記金属錯体を含む膜)を作製することができる。
本発明の金属錯体は、前記発光素子の発光層に用いられる発光性膜の作製方法と同様の方法で、導電性薄膜及び半導体薄膜を成膜することができる。半導体薄膜は、電子移動度又は正孔移動度のいずれか大きいほうが、10-5cm2/V/秒以上であることが好ましい。該有機半導体膜は、有機太陽電池、有機トランジスタ等に好適に用いることができる。
以下、本発明をより詳細に説明するために実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
<実施例1:化合物(MC-1)の合成>
<stage1>
塩化-4-トリフルオロメチルベンゾイル6.2g(30mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩4.5g(30mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン8.4mL(60mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-1a)8.0g(28mmol)を得た。
塩化-4-トリフルオロメチルベンゾイル6.2g(30mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩4.5g(30mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン8.4mL(60mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-1a)8.0g(28mmol)を得た。
<stage2>
化合物(MC-1a)3.0g(10mmol)をクロロホルム60mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。そこへ、ヒドラジン水和物0.55mL(11mmol)を室温窒素雰囲気下で滴下した。滴下後、室温窒素雰囲気下で17時間撹拌し、水50mLを加えて反応を止めた。分液ロートに反応液を移し、水洗後、油層を回収して濃縮した。得られた粗生成物をトルエン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶し、白色固体として化合物(MC-1b)を2.1g、収率82%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 8.15(d,2H)、7.66(d,2H)、2.78(t,2H)、1.82(hex,2H)、0.94(t,3H).
化合物(MC-1a)3.0g(10mmol)をクロロホルム60mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。そこへ、ヒドラジン水和物0.55mL(11mmol)を室温窒素雰囲気下で滴下した。滴下後、室温窒素雰囲気下で17時間撹拌し、水50mLを加えて反応を止めた。分液ロートに反応液を移し、水洗後、油層を回収して濃縮した。得られた粗生成物をトルエン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶し、白色固体として化合物(MC-1b)を2.1g、収率82%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 8.15(d,2H)、7.66(d,2H)、2.78(t,2H)、1.82(hex,2H)、0.94(t,3H).
<stage3>
化合物(MC-1b)20g(80mmol)、3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニルボロン酸41g(107mmol)、酢酸銅(II)24.4g(135mmol)と3Aモレキュラーシーブス(和光純薬社製)50gを秤量し、ジクロロメタン1Lとピリジン50mLを加えて、60時間室温で撹拌した。60時間後、懸濁液を吸引ろ過し、ジクロロメタン500mLで洗浄した。ろ液を濃縮してからジクロロメタンに溶解させ、水300mLで数回水洗した。油層を乾燥後、シリカゲルカラムに通し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で分離精製した。得られた化合物をメタノール-テトラヒドロフランの混合溶媒で再結晶し、化合物(MC-1c)を黄白色粉末として2.2g(3.7mmol)得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/(CD3)2CO):δ(ppm) 7.99(t,1H)、7.86(d,2H)、7.79(d,2H)、7.62(d,2H)、7.60(ddd,4H)、7.50(ddd,4H)、2.78(t,2H)、1.87(td,2H)、1.34(s,18H)、1.06(t,3H).
化合物(MC-1b)20g(80mmol)、3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニルボロン酸41g(107mmol)、酢酸銅(II)24.4g(135mmol)と3Aモレキュラーシーブス(和光純薬社製)50gを秤量し、ジクロロメタン1Lとピリジン50mLを加えて、60時間室温で撹拌した。60時間後、懸濁液を吸引ろ過し、ジクロロメタン500mLで洗浄した。ろ液を濃縮してからジクロロメタンに溶解させ、水300mLで数回水洗した。油層を乾燥後、シリカゲルカラムに通し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で分離精製した。得られた化合物をメタノール-テトラヒドロフランの混合溶媒で再結晶し、化合物(MC-1c)を黄白色粉末として2.2g(3.7mmol)得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/(CD3)2CO):δ(ppm) 7.99(t,1H)、7.86(d,2H)、7.79(d,2H)、7.62(d,2H)、7.60(ddd,4H)、7.50(ddd,4H)、2.78(t,2H)、1.87(td,2H)、1.34(s,18H)、1.06(t,3H).
<stage4>
塩化イリジウム140mg(0.4mmol)と化合物(MC-1c)600mg(1.0mmol)を量りとり、水3mLと2-ブトキシエタノール9mLを加えてアルゴン雰囲気下、15時間加熱し還流した。放冷後、反応液を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させて水洗した。油層を濃縮、乾燥し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。粉末状黄色固体として680mgを得た。この粉末状黄色固体680mgと化合物(MC-1c)1.23g(2.1mmol)を秤量し、アルゴン雰囲気下でトリフルオロメタンスルホン酸銀120mg(0.47mmol)を加えてから、ジエチレングリコールジメチルエステル3mLを注いだ。その後、アルゴン雰囲気下で24時間加熱し還流した後、放冷した。反応混合物にジクロロメタン20mLを注ぎ吸引ろ過後、ろ液を濃縮、乾燥した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通して、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒を用いて分離精製した。溶離液を濃縮後、メタノール-テトラヒドロフランの混合溶媒で再結晶し、次いでジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。淡黄色結晶として、化合物(MC-1)[fac-トリス(1-(3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニル)-3-プロピル-5-(4-トリフルオロメチルフェニル)-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]を710mg(0.36mmol)、収率90%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 8.04(dd,3H)、7.65(d,6H)、7.61(d,12H)、7.50(d,12H)、7.07(d,3H)、6.94(d,3H)、6.84(s,3H)、2.49(hep,3H)、2.27(hep,3H)、1.69-1.56(m,3H)、1.52-1.38(m,3H)、1.37(s,54H)、0.88(t,9H).
塩化イリジウム140mg(0.4mmol)と化合物(MC-1c)600mg(1.0mmol)を量りとり、水3mLと2-ブトキシエタノール9mLを加えてアルゴン雰囲気下、15時間加熱し還流した。放冷後、反応液を減圧濃縮し、残渣をジクロロメタンに溶解させて水洗した。油層を濃縮、乾燥し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。粉末状黄色固体として680mgを得た。この粉末状黄色固体680mgと化合物(MC-1c)1.23g(2.1mmol)を秤量し、アルゴン雰囲気下でトリフルオロメタンスルホン酸銀120mg(0.47mmol)を加えてから、ジエチレングリコールジメチルエステル3mLを注いだ。その後、アルゴン雰囲気下で24時間加熱し還流した後、放冷した。反応混合物にジクロロメタン20mLを注ぎ吸引ろ過後、ろ液を濃縮、乾燥した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通して、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒を用いて分離精製した。溶離液を濃縮後、メタノール-テトラヒドロフランの混合溶媒で再結晶し、次いでジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。淡黄色結晶として、化合物(MC-1)[fac-トリス(1-(3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニル)-3-プロピル-5-(4-トリフルオロメチルフェニル)-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]を710mg(0.36mmol)、収率90%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 8.04(dd,3H)、7.65(d,6H)、7.61(d,12H)、7.50(d,12H)、7.07(d,3H)、6.94(d,3H)、6.84(s,3H)、2.49(hep,3H)、2.27(hep,3H)、1.69-1.56(m,3H)、1.52-1.38(m,3H)、1.37(s,54H)、0.88(t,9H).
<実施例2:化合物(MC-2)の合成>
<stage1>
亜硝酸ナトリウム1.38g(20mmol)を窒素雰囲気下、0℃の水11mLに溶解させた。4-ブロモ2,6-ジメチルアニリン4.0g(20mmol)を33mLの濃塩酸(和光純薬社製、塩酸濃度35~37%)に懸濁させて、5℃を超えない範囲で亜硝酸水溶液に滴下した。0℃で15分撹拌した後、塩化スズ(II)5.31g(28mmol)の濃塩酸溶液15mLを反応液に加えてから室温に戻し、6時間撹拌した。得られた懸濁液を吸引ろ過し、濃塩酸と冷水で洗浄し、真空乾燥した。乳白色の固体として化合物(MC-2a)を4.98g得た。
亜硝酸ナトリウム1.38g(20mmol)を窒素雰囲気下、0℃の水11mLに溶解させた。4-ブロモ2,6-ジメチルアニリン4.0g(20mmol)を33mLの濃塩酸(和光純薬社製、塩酸濃度35~37%)に懸濁させて、5℃を超えない範囲で亜硝酸水溶液に滴下した。0℃で15分撹拌した後、塩化スズ(II)5.31g(28mmol)の濃塩酸溶液15mLを反応液に加えてから室温に戻し、6時間撹拌した。得られた懸濁液を吸引ろ過し、濃塩酸と冷水で洗浄し、真空乾燥した。乳白色の固体として化合物(MC-2a)を4.98g得た。
<stage2>
塩化ベンゾイル3mL(26mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩3.9g(26mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン7.2mL(52mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させ、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-2b)5.3g(24mmol)を得た。
塩化ベンゾイル3mL(26mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩3.9g(26mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン7.2mL(52mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させ、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-2b)5.3g(24mmol)を得た。
<stage3>
化合物(MC-2a)2.4g(9.6mmol)、化合物(MC-2b)2.2g(10mmol)と酢酸ナトリウム800mg(9.7mmol)を秤量し、酢酸とジオキサンを15mLずつ加えてから窒素雰囲気下に置いた。反応混合物を90℃で15時間加熱した後、放冷した。その後、水と酢酸エチルを加えて、水洗した後、油層を回収した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通し、ヘキサン-酢酸エチルの混合溶媒を用いて分離精製した。淡黄色固体として化合物(MC-2c)を1.2g(3.2mmol)、収率33%で得た。
化合物(MC-2a)2.4g(9.6mmol)、化合物(MC-2b)2.2g(10mmol)と酢酸ナトリウム800mg(9.7mmol)を秤量し、酢酸とジオキサンを15mLずつ加えてから窒素雰囲気下に置いた。反応混合物を90℃で15時間加熱した後、放冷した。その後、水と酢酸エチルを加えて、水洗した後、油層を回収した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通し、ヘキサン-酢酸エチルの混合溶媒を用いて分離精製した。淡黄色固体として化合物(MC-2c)を1.2g(3.2mmol)、収率33%で得た。
<stage4>
化合物(MC-2c)1.2g(3.2mmol)、3,5-ジ(4-tertブチルフェニル)フェニルボロン酸ピナコールエステル1.7g(3.6mmol)、炭酸ナトリウム690mg(6.5mmol)、及び、テトラキストリフェニルフォスフィノパラジウム(0)190mgを秤量し、水8mL及びジオキサン8mLを加えて窒素雰囲気下に置いた。反応混合物を10時間加熱し還流した後、放冷した。反応液を濃縮後、水及びジクロロメタンを加えて水洗し、次いで、油層を回収し、濃縮した。メタノール-ジクロロメタンの混合溶媒で再結晶し、白色粉末として化合物(MC-2d)を1.1g(1.7mmol)、収率51%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/(CD3)2CO):δ(ppm) 7.92(d,2H)、7.89(tt,1H)、7.75-7.74(m,6H)、7.58-7.52(m,6H)、7.40-7.31(m,3H)、2.76(t,2H)、2.04(s,6H)、1.85(td,2H)、1.36(s,18H)、1.01(t,3H).
化合物(MC-2c)1.2g(3.2mmol)、3,5-ジ(4-tertブチルフェニル)フェニルボロン酸ピナコールエステル1.7g(3.6mmol)、炭酸ナトリウム690mg(6.5mmol)、及び、テトラキストリフェニルフォスフィノパラジウム(0)190mgを秤量し、水8mL及びジオキサン8mLを加えて窒素雰囲気下に置いた。反応混合物を10時間加熱し還流した後、放冷した。反応液を濃縮後、水及びジクロロメタンを加えて水洗し、次いで、油層を回収し、濃縮した。メタノール-ジクロロメタンの混合溶媒で再結晶し、白色粉末として化合物(MC-2d)を1.1g(1.7mmol)、収率51%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/(CD3)2CO):δ(ppm) 7.92(d,2H)、7.89(tt,1H)、7.75-7.74(m,6H)、7.58-7.52(m,6H)、7.40-7.31(m,3H)、2.76(t,2H)、2.04(s,6H)、1.85(td,2H)、1.36(s,18H)、1.01(t,3H).
<stage5>
塩化イリジウム88mg(0.25mmol)と化合物(MC-2d)390mg(0.63mmol)に水4mL、2-ブトキシエタノール8mLを加えて、窒素雰囲気下に置いた。混合物を15時間加熱還流した後、放冷した。反応液を濃縮した後、ジクロロメタン及び水を加えて水洗した。油層を回収し、濃縮したところ、褐色固体430mgを得た。この褐色固体430mg、化合物(MC-2d)670mg(1.1mmol)、及び、トリフルオロメタンスルホン酸銀64mg(0.25mmol)を秤量し、ジエチレングリコールジメチルエステル1mLを加えて、アルゴン雰囲気下、15時間加熱し還流した。放冷後、ジクロロメタンを加えてから吸引ろ過し、ろ液を濃縮、乾燥した。得られた粗生成物をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムに通し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒を用いて分離精製した。得られた溶離液を濃縮し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。次いで、ジクロロメタン-エタノールの混合溶媒で再結晶し、淡黄色粉末として化合物(MC-2)[fac-トリス(1-(4-(3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニル)-2,6-ジメチルフェニル)-3-プロピル-5-フェニル-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]を、320mg(0.15mmol)、収率61%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CD2Cl2):δ(ppm) 7.79(d,6H)、7.77(t,3H)、7.62(dt,12H)、7.59(s,3H)、7.51(s,3H)、7.47-7.44(m,12H)、6.61-6.47(m,12H)、2.43(dt,3H)、2.30-2.22(m,12H)、1.82(s,9H)、1.65(td,6H)、1.30(s,54H)、0.80(t,9H).
塩化イリジウム88mg(0.25mmol)と化合物(MC-2d)390mg(0.63mmol)に水4mL、2-ブトキシエタノール8mLを加えて、窒素雰囲気下に置いた。混合物を15時間加熱還流した後、放冷した。反応液を濃縮した後、ジクロロメタン及び水を加えて水洗した。油層を回収し、濃縮したところ、褐色固体430mgを得た。この褐色固体430mg、化合物(MC-2d)670mg(1.1mmol)、及び、トリフルオロメタンスルホン酸銀64mg(0.25mmol)を秤量し、ジエチレングリコールジメチルエステル1mLを加えて、アルゴン雰囲気下、15時間加熱し還流した。放冷後、ジクロロメタンを加えてから吸引ろ過し、ろ液を濃縮、乾燥した。得られた粗生成物をジクロロメタンに溶解させ、シリカゲルカラムに通し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒を用いて分離精製した。得られた溶離液を濃縮し、ジクロロメタン-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。次いで、ジクロロメタン-エタノールの混合溶媒で再結晶し、淡黄色粉末として化合物(MC-2)[fac-トリス(1-(4-(3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニル)-2,6-ジメチルフェニル)-3-プロピル-5-フェニル-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]を、320mg(0.15mmol)、収率61%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CD2Cl2):δ(ppm) 7.79(d,6H)、7.77(t,3H)、7.62(dt,12H)、7.59(s,3H)、7.51(s,3H)、7.47-7.44(m,12H)、6.61-6.47(m,12H)、2.43(dt,3H)、2.30-2.22(m,12H)、1.82(s,9H)、1.65(td,6H)、1.30(s,54H)、0.80(t,9H).
<実施例3:化合物(MC-3)の合成>
<stage1>
亜硝酸ナトリウム1.38g(20mmol)を窒素雰囲気下、水11mLに溶解させ、氷浴上に静置して、0℃に冷却した。4-ブロモ-2,6-ジメチルアニリン4.0g(20mmol)を33mLの濃塩酸(和光純薬社製、塩酸濃度35~37%)に懸濁させて、5℃を超えない範囲で亜硝酸水溶液に滴下した。0℃で15分撹拌した後、塩化スズ(II)5.31g(28mmol)の濃塩酸溶液15mLを反応液に加えてから室温に戻し、6時間撹拌した。得られた懸濁液を吸引ろ過し、濃塩酸と冷水で洗浄し、真空乾燥することにより、乳白色の固体として化合物(MC-3a)を4.98g得た。
亜硝酸ナトリウム1.38g(20mmol)を窒素雰囲気下、水11mLに溶解させ、氷浴上に静置して、0℃に冷却した。4-ブロモ-2,6-ジメチルアニリン4.0g(20mmol)を33mLの濃塩酸(和光純薬社製、塩酸濃度35~37%)に懸濁させて、5℃を超えない範囲で亜硝酸水溶液に滴下した。0℃で15分撹拌した後、塩化スズ(II)5.31g(28mmol)の濃塩酸溶液15mLを反応液に加えてから室温に戻し、6時間撹拌した。得られた懸濁液を吸引ろ過し、濃塩酸と冷水で洗浄し、真空乾燥することにより、乳白色の固体として化合物(MC-3a)を4.98g得た。
<stage2>
塩化-4-トリフルオロメチルベンゾイル6.2g(30mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩4.5g(30mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン8.4mL(60mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-3b)8.0g(28mmol)を得た。
塩化-4-トリフルオロメチルベンゾイル6.2g(30mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩4.5g(30mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン8.4mL(60mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-3b)8.0g(28mmol)を得た。
<stage3>
化合物(MC-3a)2.65g(10.6mmol)、化合物(MC-3b)2.5g(8.8mmol)、及び、酢酸ナトリウム870mg(10.6mmol)を秤量し、酢酸とジオキサンを15mLずつ加えてから窒素雰囲気下に置いた。反応混合物を70℃で15時間加熱した後、放冷した。水と酢酸エチルを加えて、水洗した後、油層を回収した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通し、ヘキサン-酢酸エチルの混合溶媒を用いて分離精製した。淡黄色固体として化合物(MC-3c)を1.4g(3.2mmol)、収率36%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.61-7.56(m,4H)、7.35(s,2H)、2.83(t,2H)、1.97(d,6H)、1.88(q,2H)、1.03(t,3H).
化合物(MC-3a)2.65g(10.6mmol)、化合物(MC-3b)2.5g(8.8mmol)、及び、酢酸ナトリウム870mg(10.6mmol)を秤量し、酢酸とジオキサンを15mLずつ加えてから窒素雰囲気下に置いた。反応混合物を70℃で15時間加熱した後、放冷した。水と酢酸エチルを加えて、水洗した後、油層を回収した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通し、ヘキサン-酢酸エチルの混合溶媒を用いて分離精製した。淡黄色固体として化合物(MC-3c)を1.4g(3.2mmol)、収率36%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.61-7.56(m,4H)、7.35(s,2H)、2.83(t,2H)、1.97(d,6H)、1.88(q,2H)、1.03(t,3H).
<stage4>
化合物(MC-3c)1.3g(3.0mmol)、3,5-ジ(4-tertブチルフェニル)フェニルボロン酸ピナコールエステル1.5g(3.3mmol)、及び、炭酸ナトリウム950mg(9.0mmol)を秤量し、水6mL、ジオキサン15mLを加えて窒素雰囲気下に置いた。そこへ、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム(0)70mg(0.06mmol)を加えてから、窒素雰囲気下で5時間加熱し還流した。放冷後、水、トルエンを加えて水洗し、油層を回収後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通し、ヘキサン-クロロホルム-酢酸エチルの混合溶媒を用いて分離精製した。淡黄色粉末として、化合物(MC-3d)を2.0g(2.9mmol)、収率97%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/(CD3)2CO):δ(ppm) 7.92(d,2H)、7.89(tt,1H)、7.77(d,4H)、7.74(d,4H)、7.70(d,2H)、7.53(dt,4H)、2.78(t,2H)、2.04(s,6H)、1.85(td,2H)、1.34(s,18H)、1.00(t,3H).
化合物(MC-3c)1.3g(3.0mmol)、3,5-ジ(4-tertブチルフェニル)フェニルボロン酸ピナコールエステル1.5g(3.3mmol)、及び、炭酸ナトリウム950mg(9.0mmol)を秤量し、水6mL、ジオキサン15mLを加えて窒素雰囲気下に置いた。そこへ、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム(0)70mg(0.06mmol)を加えてから、窒素雰囲気下で5時間加熱し還流した。放冷後、水、トルエンを加えて水洗し、油層を回収後、濃縮した。得られた粗生成物をシリカゲルカラムに通し、ヘキサン-クロロホルム-酢酸エチルの混合溶媒を用いて分離精製した。淡黄色粉末として、化合物(MC-3d)を2.0g(2.9mmol)、収率97%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/(CD3)2CO):δ(ppm) 7.92(d,2H)、7.89(tt,1H)、7.77(d,4H)、7.74(d,4H)、7.70(d,2H)、7.53(dt,4H)、2.78(t,2H)、2.04(s,6H)、1.85(td,2H)、1.34(s,18H)、1.00(t,3H).
<stage5>
塩化イリジウム180mg(0.5mmol)と化合物(MC-3d)770mg(1.1mmol)を量りとり、水4mLと2-エチルオキシエタノール12mLを加え、アルゴン雰囲気下で7時間加熱し還流した。放冷後、水とメタノールを注ぎ、析出した沈殿を吸引ろ過した。メタノールで洗浄し、黄色粉末を900mg得た。この黄色粉末900mg、化合物(MC-3d)1.2g(1.7mmol)、及び、トリフルオロメタンスルホンサン銀130mg(0.5mmol)を秤量し、ジエチレングリコールジメチルエステル5mLを加えて、アルゴン雰囲気下、11時間加熱還流した。放冷後、トルエンを加えて吸引ろ過した。ろ液に水を加えて水洗し、油層を回収、濃縮した。粗生成物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムに通し、トルエン-ヘキサンの混合溶媒で分離精製した。溶離液を濃縮後、ジエチルエーテル-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。粉末状の黄色固体として、化合物(MC-3)[fac-トリス(1-(4-(3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニル)-2,6-ジメチル)フェニル-3-プロピル-5-(4-トリフルオロメチルフェニル)-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]として760mg(0.33mmol)、収率66%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.85-7.81(m,9H)、7.69-7.65(m,12H)、7.62(s,3H)、7.58(s,3H)、7.55-7.51(m,12H)、6.95(dd,3H)、6.78(d,3H)、6.68(d,3H)、2.52-2.28(m,15H)、1.86(s,9H)、1.36(hep,6H)、1.19(s,54H)、0.89(t,9H).
塩化イリジウム180mg(0.5mmol)と化合物(MC-3d)770mg(1.1mmol)を量りとり、水4mLと2-エチルオキシエタノール12mLを加え、アルゴン雰囲気下で7時間加熱し還流した。放冷後、水とメタノールを注ぎ、析出した沈殿を吸引ろ過した。メタノールで洗浄し、黄色粉末を900mg得た。この黄色粉末900mg、化合物(MC-3d)1.2g(1.7mmol)、及び、トリフルオロメタンスルホンサン銀130mg(0.5mmol)を秤量し、ジエチレングリコールジメチルエステル5mLを加えて、アルゴン雰囲気下、11時間加熱還流した。放冷後、トルエンを加えて吸引ろ過した。ろ液に水を加えて水洗し、油層を回収、濃縮した。粗生成物をトルエンに溶解させ、シリカゲルカラムに通し、トルエン-ヘキサンの混合溶媒で分離精製した。溶離液を濃縮後、ジエチルエーテル-ヘキサンの混合溶媒で再結晶した。粉末状の黄色固体として、化合物(MC-3)[fac-トリス(1-(4-(3,5-ジ(4-tert-ブチルフェニル)フェニル)-2,6-ジメチル)フェニル-3-プロピル-5-(4-トリフルオロメチルフェニル)-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]として760mg(0.33mmol)、収率66%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.85-7.81(m,9H)、7.69-7.65(m,12H)、7.62(s,3H)、7.58(s,3H)、7.55-7.51(m,12H)、6.95(dd,3H)、6.78(d,3H)、6.68(d,3H)、2.52-2.28(m,15H)、1.86(s,9H)、1.36(hep,6H)、1.19(s,54H)、0.89(t,9H).
<stage1>
2,5-ジブロモキシレン5.28g(20mmol)と3,5-ジ(4-tertブチルフェニル)フェニルボロン酸ピナコールエステル9.36g(20mmol)を秤量し、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド30g(40mmol)を加えて、そこへテトラキストリフェニルホスフィノパラジウム(0)920mg(0.8mmol)とジオキサン100mLを加えて、窒素バブリングした。その後、80℃で4時間加熱した。放冷後、反応液をセライト層に通してから濃縮した。得られた油状物質に水とトルエンを加えた後、分液ロートへ移し、水洗した。油層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に濃縮した。得られた淡黄色のオイルをヘキサン-トルエン(体積比でヘキサン:トルエン=9:1)に溶解させ、シリカゲルカラムに通し精製した。粉末状の白色固体として、化合物(MC-4a)を6.0g(10.5mmol)、収率52%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.78(t,1H),7.60(ddd,4H),7.49(m,5H),7.46(d,2H),7.20(s,1H),2.40(s,3H),2.29(s,3H),1.37(s,18H).
2,5-ジブロモキシレン5.28g(20mmol)と3,5-ジ(4-tertブチルフェニル)フェニルボロン酸ピナコールエステル9.36g(20mmol)を秤量し、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド30g(40mmol)を加えて、そこへテトラキストリフェニルホスフィノパラジウム(0)920mg(0.8mmol)とジオキサン100mLを加えて、窒素バブリングした。その後、80℃で4時間加熱した。放冷後、反応液をセライト層に通してから濃縮した。得られた油状物質に水とトルエンを加えた後、分液ロートへ移し、水洗した。油層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した後に濃縮した。得られた淡黄色のオイルをヘキサン-トルエン(体積比でヘキサン:トルエン=9:1)に溶解させ、シリカゲルカラムに通し精製した。粉末状の白色固体として、化合物(MC-4a)を6.0g(10.5mmol)、収率52%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.78(t,1H),7.60(ddd,4H),7.49(m,5H),7.46(d,2H),7.20(s,1H),2.40(s,3H),2.29(s,3H),1.37(s,18H).
<stage2>
化合物(MC-4a)5.27g(10mmol)と、ビス(ピナコラト)ジボロン3.81g(15mmol)と、ジクロロビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセニルパラジウム(II)ジクロロメタン錯体163mg(0.2mmol)と、酢酸カリウム2.94g(30mmol)を秤量し、ジオキサン50mlを注いで、15分間窒素バブリングした。その後、窒素雰囲気下で5時間加熱し還流した。放冷後、反応液をセライト層に通し、ろ過した後、ろ液を濃縮した。得られた残渣をヘキサン-トルエン(体積比でヘキサン:トルエン=7:3)の混合溶媒に溶解させて、シリカゲルカラムに通して精製した。粉末状の白色固体として、化合物(MC-4b)を5.39g(9.4mmol)、収率94%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.77(t,1H),7.72(s,1H),7.61(d,4H),7.50-7.47(m,6H),7.17(s,1H),2.55(s,3H),2.33(s,3H),1.37(s,18H),1.26(s,12H).
化合物(MC-4a)5.27g(10mmol)と、ビス(ピナコラト)ジボロン3.81g(15mmol)と、ジクロロビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセニルパラジウム(II)ジクロロメタン錯体163mg(0.2mmol)と、酢酸カリウム2.94g(30mmol)を秤量し、ジオキサン50mlを注いで、15分間窒素バブリングした。その後、窒素雰囲気下で5時間加熱し還流した。放冷後、反応液をセライト層に通し、ろ過した後、ろ液を濃縮した。得られた残渣をヘキサン-トルエン(体積比でヘキサン:トルエン=7:3)の混合溶媒に溶解させて、シリカゲルカラムに通して精製した。粉末状の白色固体として、化合物(MC-4b)を5.39g(9.4mmol)、収率94%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.77(t,1H),7.72(s,1H),7.61(d,4H),7.50-7.47(m,6H),7.17(s,1H),2.55(s,3H),2.33(s,3H),1.37(s,18H),1.26(s,12H).
<stage3>
塩化-3-ブロモベンソイル6.92g(31.5mmol)とブチルイミド酸塩酸塩4.95g(32.6mmol)を秤量し、300mLのクロロホルム150mlに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン8ml(60mmol)のクロロホルム溶液30mLを滴下して、室温窒素雰囲気下で攪拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後油層を濃縮し、無色の液体として、化合物(MC-4c)を9.47g、収率100%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 8.14(t,1H),7.93(dd,1H),7.65-7.63(m,1H),7.31(t,1H),4.29(q,2H),2.36(t,2H),1.60(td,2H),1.37(t,3H),0.88(t,3H).
塩化-3-ブロモベンソイル6.92g(31.5mmol)とブチルイミド酸塩酸塩4.95g(32.6mmol)を秤量し、300mLのクロロホルム150mlに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン8ml(60mmol)のクロロホルム溶液30mLを滴下して、室温窒素雰囲気下で攪拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後油層を濃縮し、無色の液体として、化合物(MC-4c)を9.47g、収率100%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 8.14(t,1H),7.93(dd,1H),7.65-7.63(m,1H),7.31(t,1H),4.29(q,2H),2.36(t,2H),1.60(td,2H),1.37(t,3H),0.88(t,3H).
<stage4>
無水メチルヒドラジン1.52g(33mmol)と脱水クロロホルム15mLを滴下ロートに入れ、水594mg加えて、アルゴンバブリングを行い、メチルヒドラジン溶液を調製した。化合物(MC-4c)9.0gをクロロホルム100mLに溶解させて、アルゴン雰囲気下、メチルヒドラジン溶液を滴下した。滴下終了後、アルゴン雰囲気下で7時間室温撹拌した。得られた溶液へ水100mlを注ぎ、反応を止めてから油層を回収し、濃縮した。その後、シリカゲルのカラムに通してヒドラジンを除去した。次いで、得られた溶液をシリカゲルカラムに通し、ジクロロメタン-酢酸エチル(体積比でジクロロメタン:酢酸エチル=7:3)の展開溶媒にて分離精製し、化合物(MC-4d)を5.8g、収率63%で得た。1H-NMR分析結果を以下に示す。
1H-NMR (400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.85(d,1H),7.63-7.57(m,2H),7.37(1H,dd),3.93(s,3H),2.72(t,2H),1.81(m,2H),1.01(t,3H).
無水メチルヒドラジン1.52g(33mmol)と脱水クロロホルム15mLを滴下ロートに入れ、水594mg加えて、アルゴンバブリングを行い、メチルヒドラジン溶液を調製した。化合物(MC-4c)9.0gをクロロホルム100mLに溶解させて、アルゴン雰囲気下、メチルヒドラジン溶液を滴下した。滴下終了後、アルゴン雰囲気下で7時間室温撹拌した。得られた溶液へ水100mlを注ぎ、反応を止めてから油層を回収し、濃縮した。その後、シリカゲルのカラムに通してヒドラジンを除去した。次いで、得られた溶液をシリカゲルカラムに通し、ジクロロメタン-酢酸エチル(体積比でジクロロメタン:酢酸エチル=7:3)の展開溶媒にて分離精製し、化合物(MC-4d)を5.8g、収率63%で得た。1H-NMR分析結果を以下に示す。
1H-NMR (400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.85(d,1H),7.63-7.57(m,2H),7.37(1H,dd),3.93(s,3H),2.72(t,2H),1.81(m,2H),1.01(t,3H).
<stage5>
化合物(MC-4d)1.12g(4mmol)、化合物(MC-4b)2.29g(4mmol)、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム(0)46mg(0.04mmol)、及び、炭酸ナトリウム1.27g(12mmol)を秤量し、水10mlとTHF20mlを加えて、窒素雰囲気下で4時間加熱し還流した。放冷後、反応液を濃縮してから水とトルエンを加えて洗浄した。油層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後に濃縮し、クロロホルム-酢酸エチル(体積比でクロロホルム:酢酸エチル=10:1)の混合溶媒に溶解させた。シリカゲルカラムに通して分離精製を行い、粉末状の白色固体として、化合物(MC-4e)を2.0g(3.1mmol)、収率77%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.80(t,1H),7.67-7.62(m,6H),7.59-7.54(m,3H),7.52(t,1H),7.49(ddd,4H),7.28(s,1H),7.21(s,1H),3.97(s,3H),2.74(t,2H),2.37(s,3H),2.30(s,3H),1.83(dt,2H),1.38(s,18H),1.03(t,3H).
化合物(MC-4d)1.12g(4mmol)、化合物(MC-4b)2.29g(4mmol)、テトラキストリフェニルホスフィノパラジウム(0)46mg(0.04mmol)、及び、炭酸ナトリウム1.27g(12mmol)を秤量し、水10mlとTHF20mlを加えて、窒素雰囲気下で4時間加熱し還流した。放冷後、反応液を濃縮してから水とトルエンを加えて洗浄した。油層を硫酸マグネシウムで乾燥させた後に濃縮し、クロロホルム-酢酸エチル(体積比でクロロホルム:酢酸エチル=10:1)の混合溶媒に溶解させた。シリカゲルカラムに通して分離精製を行い、粉末状の白色固体として、化合物(MC-4e)を2.0g(3.1mmol)、収率77%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.80(t,1H),7.67-7.62(m,6H),7.59-7.54(m,3H),7.52(t,1H),7.49(ddd,4H),7.28(s,1H),7.21(s,1H),3.97(s,3H),2.74(t,2H),2.37(s,3H),2.30(s,3H),1.83(dt,2H),1.38(s,18H),1.03(t,3H).
<stage6>
塩化イリジウム水和物176mg(0.5mmol)と化合物(MC-4e)710mg(1.1mmol)を秤量し、30mlの三口フラスコへ入れた後、水4mlと2-エトキシエタノール12mlを加え、アルゴン雰囲気下で7時間加熱還流を行った。その後、水とメタノールを加えて析出した沈殿物を吸引ろ過した。得られた黄色粉末850mg、化合物(MC-4e)1.25g(1.9mmol)、及び、トリフルオロメタンスルホン酸銀130mg(0.5mmol)を秤量し、ジエチレングリコールジメチルエステル6mLを加え、窒素雰囲気下で8時間加熱し還流した。放冷後、トルエンを加えてから、セライト層に通してろ過した。ろ液を濃縮した後に残渣をヘキサン-トルエン-酢酸エチル(体積比で、ヘキサン:トルエン:酢酸エチル=3:2:1)の混合溶媒に溶解させて、シリカゲルカラムに通し、分離精製した。粉末状の淡黄色固体として、化合物(MC-4)を680mg(0.32mmol)、収率64%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.79(t,3H),7.64(ddd,12H),7.58(d,3H),7.56(s,6H),7.50(ddd,12H),7.26(d,6H),6.90(dd,3H),6.82(d,3H),4.22(s,9H),2.37(s,9H),2.35(s,9H),2.28(ddd,3H),1.95(ddd,3H),1.44-1.39(m,3H),1.36(s,54H),1.31-1.18(m,3H),0.73(t,9H).
塩化イリジウム水和物176mg(0.5mmol)と化合物(MC-4e)710mg(1.1mmol)を秤量し、30mlの三口フラスコへ入れた後、水4mlと2-エトキシエタノール12mlを加え、アルゴン雰囲気下で7時間加熱還流を行った。その後、水とメタノールを加えて析出した沈殿物を吸引ろ過した。得られた黄色粉末850mg、化合物(MC-4e)1.25g(1.9mmol)、及び、トリフルオロメタンスルホン酸銀130mg(0.5mmol)を秤量し、ジエチレングリコールジメチルエステル6mLを加え、窒素雰囲気下で8時間加熱し還流した。放冷後、トルエンを加えてから、セライト層に通してろ過した。ろ液を濃縮した後に残渣をヘキサン-トルエン-酢酸エチル(体積比で、ヘキサン:トルエン:酢酸エチル=3:2:1)の混合溶媒に溶解させて、シリカゲルカラムに通し、分離精製した。粉末状の淡黄色固体として、化合物(MC-4)を680mg(0.32mmol)、収率64%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.79(t,3H),7.64(ddd,12H),7.58(d,3H),7.56(s,6H),7.50(ddd,12H),7.26(d,6H),6.90(dd,3H),6.82(d,3H),4.22(s,9H),2.37(s,9H),2.35(s,9H),2.28(ddd,3H),1.95(ddd,3H),1.44-1.39(m,3H),1.36(s,54H),1.31-1.18(m,3H),0.73(t,9H).
<比較例1:化合物(MC-5)の合成>
<stage1>
塩化ベンゾイル3mL(26mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩3.9g(26mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン7.2mL(52mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-5a)5.3g(24mmol)を得た。
塩化ベンゾイル3mL(26mmol)とブチルイミド酸エチル塩酸塩3.9g(26mmol)を秤量し、クロロホルム300mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。その後、トリエチルアミン7.2mL(52mmol)のクロロホルム溶液25mLを滴下し、室温窒素雰囲気下で撹拌した。15時間後、溶媒のクロロホルムを濃縮してから水200mLに懸濁させて、これをジクロロメタンで抽出した。得られた溶液を減圧濃縮し、淡黄色の液体として化合物(MC-5a)5.3g(24mmol)を得た。
<stage2>
化合物(MC-5a)5.3g(24mmol)をクロロホルム200mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。そこへ、メチルヒドラジン1.2mL(26mmol)と水0.5mLを含むクロロホルム溶液25mLを室温窒素雰囲気下で滴下した。滴下後、室温窒素雰囲気下で15時間撹拌し、水100mLを加えて反応を止めた。その後、分液ロートに反応液を移し、水洗後、油層を回収して濃縮した。シリカゲルカラムに粗生成物を通し、ジクロロメタン-酢酸エチルの混合溶媒で精製した。溶離液を濃縮することにより、無色の液体として化合物(MC-5b)を2.9g、収率60%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.75(m,3H)、7.66(m,2H)、3.93(s,3H)、2.73(t,2H)、1.82(hex,2H)、1.02(t,3H).
化合物(MC-5a)5.3g(24mmol)をクロロホルム200mLに溶解させて窒素雰囲気下に置いた。そこへ、メチルヒドラジン1.2mL(26mmol)と水0.5mLを含むクロロホルム溶液25mLを室温窒素雰囲気下で滴下した。滴下後、室温窒素雰囲気下で15時間撹拌し、水100mLを加えて反応を止めた。その後、分液ロートに反応液を移し、水洗後、油層を回収して濃縮した。シリカゲルカラムに粗生成物を通し、ジクロロメタン-酢酸エチルの混合溶媒で精製した。溶離液を濃縮することにより、無色の液体として化合物(MC-5b)を2.9g、収率60%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.75(m,3H)、7.66(m,2H)、3.93(s,3H)、2.73(t,2H)、1.82(hex,2H)、1.02(t,3H).
<stage3>
塩化イリジウム350mg(1.0mmol)と化合物(MC-5b)440mg(2.2mmol)を秤量し、2-エチルオキシエタノール10mLと水5mLを加えてから窒素雰囲気下に置き、15時間加熱還流した。放冷後、反応液を濃縮し、残渣に水とジクロロメタンを加えて油層を水洗した。油層を回収し、濃縮乾燥後、黄色油状物質として化合物(MC-5c)を660mg得た。
塩化イリジウム350mg(1.0mmol)と化合物(MC-5b)440mg(2.2mmol)を秤量し、2-エチルオキシエタノール10mLと水5mLを加えてから窒素雰囲気下に置き、15時間加熱還流した。放冷後、反応液を濃縮し、残渣に水とジクロロメタンを加えて油層を水洗した。油層を回収し、濃縮乾燥後、黄色油状物質として化合物(MC-5c)を660mg得た。
<stage4>
化合物(MC-5c)と化合物(MC-5c)1.0g(5.0mmol)を秤量し、トリフルオロメタンスルホン酸銀260mgを加えて反応系内をアルゴン置換した。165℃で15時間加熱し反応させてから放冷し、ジクロロメタン15mLを注いだ。懸濁液を吸引ろ過した後、シリカゲルカラムに通してジクロロメタン-酢酸エチルの混合溶媒で分離精製した。黄色粉末として、化合物(MC-5)[fac-トリス(1-メチル-3-プロピル-5-フェニル-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]630mgを収率80%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.50(d,3H)、6.88(t,3H)、6.80(t,3H)、6.63(d,3H)、4.11(s,9H)、2.18(hep,3H)、1.87(hep,3H)、1.38-1.30(m,3H)、1.18-1.10(m,3H)、0.68(t,9H).
化合物(MC-5c)と化合物(MC-5c)1.0g(5.0mmol)を秤量し、トリフルオロメタンスルホン酸銀260mgを加えて反応系内をアルゴン置換した。165℃で15時間加熱し反応させてから放冷し、ジクロロメタン15mLを注いだ。懸濁液を吸引ろ過した後、シリカゲルカラムに通してジクロロメタン-酢酸エチルの混合溶媒で分離精製した。黄色粉末として、化合物(MC-5)[fac-トリス(1-メチル-3-プロピル-5-フェニル-1H-[1,2,4]-トリアゾラト-N,C2’)イリジウム(III)]630mgを収率80%で得た。1H-NMR分析の結果を以下に示す。
1H-NMR(400MHz/CDCl3):δ(ppm) 7.50(d,3H)、6.88(t,3H)、6.80(t,3H)、6.63(d,3H)、4.11(s,9H)、2.18(hep,3H)、1.87(hep,3H)、1.38-1.30(m,3H)、1.18-1.10(m,3H)、0.68(t,9H).
<試験実施例1:化合物MC-1の安定性評価>
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-1の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-1溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物1を調製した。
スパッタ法により45nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、液状組成物1をスピンコート法により厚さ100nmに成膜した。これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下(重量基準)の窒素雰囲気下において、130℃で10分間乾燥した後、陰極としてアルミニウムを約80nm蒸着した。アルミニウムを蒸着後、ガラス基板を用いて封止を行うことで、発光素子1を作製した。なお、真空度が、1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
得られた発光素子1に、He-Cdレーザーを用いて、325nmの励起波長で紫外線照射を行い、発光輝度をトプコンテクノハウス社製のBM-9を用いて測定した。励起光の強度は1.8mW(照射面積は約4mm2)に設定した。発光素子1に、上記紫外線照射を行うことで、初期に477cd/m2で発光し、初期の発光輝度が30%減少するまでの時間は71.6時間であったため、輝度半減時間は71.6時間より長時間である。
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-1の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-1溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物1を調製した。
スパッタ法により45nmの厚みでITO膜を付けたガラス基板に、液状組成物1をスピンコート法により厚さ100nmに成膜した。これを酸素濃度及び水分濃度が10ppm以下(重量基準)の窒素雰囲気下において、130℃で10分間乾燥した後、陰極としてアルミニウムを約80nm蒸着した。アルミニウムを蒸着後、ガラス基板を用いて封止を行うことで、発光素子1を作製した。なお、真空度が、1×10-4Pa以下に到達した後に金属の蒸着を開始した。
得られた発光素子1に、He-Cdレーザーを用いて、325nmの励起波長で紫外線照射を行い、発光輝度をトプコンテクノハウス社製のBM-9を用いて測定した。励起光の強度は1.8mW(照射面積は約4mm2)に設定した。発光素子1に、上記紫外線照射を行うことで、初期に477cd/m2で発光し、初期の発光輝度が30%減少するまでの時間は71.6時間であったため、輝度半減時間は71.6時間より長時間である。
<試験実施例2:化合物MC-2の安定性評価>
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-2の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-2溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物2を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物2を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子2を作製した。
得られた発光素子2に、試験実施例1と同様に紫外線照射を行うことで、初期に456cd/m2で発光し、輝度半減時間は27.3時間であった。
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-2の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-2溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物2を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物2を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子2を作製した。
得られた発光素子2に、試験実施例1と同様に紫外線照射を行うことで、初期に456cd/m2で発光し、輝度半減時間は27.3時間であった。
<試験実施例3:化合物MC-3の安定性評価>
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-3の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-3溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物3を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物3を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子3を作製した。
得られた発光素子3に試験実施例1と同様に紫外線照射を行いうことで、初期に730cd/m2で発光し、輝度半減時間は37.9時間であった。
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-3の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-3溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物3を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物3を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子3を作製した。
得られた発光素子3に試験実施例1と同様に紫外線照射を行いうことで、初期に730cd/m2で発光し、輝度半減時間は37.9時間であった。
<試験実施例4:化合物MC-4の安定性評価>
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-4の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-4溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物4を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物4を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子4を作製した。
得られた発光素子4に試験実施例1と同様に紫外線照射を行うことで、初期に1571.5cd/m2の輝度で発光し、輝度半減時間は8.3時間であった。
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-4の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-4溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物4を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物4を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子4を作製した。
得られた発光素子4に試験実施例1と同様に紫外線照射を行うことで、初期に1571.5cd/m2の輝度で発光し、輝度半減時間は8.3時間であった。
<試験比較例1:化合物MC-5の安定性評価>
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-5の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-5溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物5を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物5を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子5を作製した。
得られた発光素子5に試験実施例1と同様に紫外線照射を行うことで、初期に686.5cd/m2の輝度で発光し、輝度半減時間は0.79時間であった。
キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させたFluka社製のポリスチレン(重量平均分子量Mw=600000)の溶液と、キシレン溶媒中に2.2重量%で溶解させた化合物MC-5の溶液とを、ポリスチレン溶液と化合物MC-5溶液とが70重量%と30重量%となるように混合して、液状組成物5を調製した。
試験実施例1の液状組成物1の代わりに液状組成物5を用いた以外は、試験実施例1と同様にして、発光素子5を作製した。
得られた発光素子5に試験実施例1と同様に紫外線照射を行うことで、初期に686.5cd/m2の輝度で発光し、輝度半減時間は0.79時間であった。
上記の安定性試験の結果を表1に示す。安定性試験の結果から、本発明の金属錯体は、安定性に優れ、発光素子の材料として有用であることがわかった。
<室温での発光スペクトル測定>
THF(関東化学株式会社製:分光分析用グレード)に化合物MC-1~MC-5が1×10-6mol/Lになるように溶解させ、アルゴンガスを通気した後、浜松ホトニクス株式会社製の絶対PL量子収率測定装置(型番:C9920)を用いて、室温での発光スペクトル(励起波長:350nm)を測定した。
THF(関東化学株式会社製:分光分析用グレード)に化合物MC-1~MC-5が1×10-6mol/Lになるように溶解させ、アルゴンガスを通気した後、浜松ホトニクス株式会社製の絶対PL量子収率測定装置(型番:C9920)を用いて、室温での発光スペクトル(励起波長:350nm)を測定した。
<77Kでの発光スペクトル測定>
2-MeTHF(アルドリッチ製:無水、阻害剤フリー)に化合物MC-1~MC-5が1×10-6mol/Lになるように溶解させ、アルゴンガスを通気した後、浜松ホトニクス株式会社製の絶対PL量子収率測定装置(型番:C9920)を用いて、77Kでの発光スペクトル(励起波長:350nm)を測定した。
2-MeTHF(アルドリッチ製:無水、阻害剤フリー)に化合物MC-1~MC-5が1×10-6mol/Lになるように溶解させ、アルゴンガスを通気した後、浜松ホトニクス株式会社製の絶対PL量子収率測定装置(型番:C9920)を用いて、77Kでの発光スペクトル(励起波長:350nm)を測定した。
室温での発光スペクトル測定及び77Kでの発光スペクトル測定の結果得られた発光波長を表1に示す。発光スペクトル測定の結果から、本発明の金属錯体は、青色領域で発光することがわかった。
Claims (15)
- 下記式(1)で表される金属錯体。
Mは、ルテニウム原子、ロジウム原子、パラジウム原子、オスミウム原子、イリジウム原子及び白金原子からなる群から選ばれる金属原子である。
R0は、それぞれ独立に、式(L-1)で表される基、式(L-2)で表される基、及び、式(L-3)で表される基からなる群から選ばれる2価の連結基である。
iは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
jは、それぞれ独立に、0又は1を表す。
RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルキルオキシ基、アリールアルキルチオ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アミド基、酸イミド基、イミン残基、置換アミノ基、置換シリル基、置換シリルオキシ基、置換シリルチオ基、置換シリルアミノ基、1価の複素環基、ヘテロアリールオキシ基、ヘテロアリールチオ基、アリールアルケニル基、アリールアルキニル基、置換カルボキシル基又はシアノ基を表す。なお、RP1とRP2は結合して環構造を形成していてもよく、RP2とRP3は結合して環構造を形成していてもよく、RP3とRP4は結合して環構造を形成していてもよい。ただし、RP1、RP2、RP3、RP4、RP5及びRP6の少なくとも一つはデンドロンであり、RP1、RP2、RP3又はRP4がデンドロンである場合、該デンドロンに連結した連結基R0の数を表すjは1である。
mは1~3の整数であり、nは0~2の整数であり、m+nは2又は3である。
下記式(2)で表される部分は、2座配位子を表す。
- n=0である、請求項1に記載の金属錯体。
- RP1、RP2、RP3及びRP4の少なくとも一つが電子吸引性の置換基である、請求項1又は2に記載の金属錯体。
- 電子吸引性の置換基がフッ素原子又はフッ素原子を含有する置換基である、請求項3に記載の金属錯体。
- Mが白金原子又はイリジウム原子である、請求項1~6のいずれか一項に記載の金属錯体。
- 発光スペクトルのピーク波長が430nm~630nmである、請求項1~7のいずれか一項に記載の金属錯体。
- (a)請求項1~8のいずれか一項に記載の金属錯体と、(b)電荷輸送性化合物と、を含む組成物。
- 電荷輸送性化合物が高分子化合物である、請求項9に記載の組成物。
- (a)請求項1~8のいずれか一項に記載の金属錯体と、(b)溶媒又は分散媒と、を含む組成物。
- 請求項1~8のいずれか一項に記載の金属錯体を含む膜。
- (a)陽極及び陰極からなる電極と、
(b)該電極間に設けられた、請求項1~8のいずれか一項に記載の金属錯体を含む層と、を有する発光素子。 - 請求項13に記載の発光素子を有する面状光源。
- 請求項13に記載の発光素子を有する照明。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201380005631.6A CN104053665B (zh) | 2012-01-18 | 2013-01-10 | 金属络合物及包含该金属络合物的发光元件 |
US14/372,033 US9705097B2 (en) | 2012-01-18 | 2013-01-10 | Metal complex and light-emitting device containing the metal complex |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012-008188 | 2012-01-18 | ||
JP2012008188A JP5905271B2 (ja) | 2012-01-18 | 2012-01-18 | 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2013108700A1 true WO2013108700A1 (ja) | 2013-07-25 |
Family
ID=48799126
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2013/050268 WO2013108700A1 (ja) | 2012-01-18 | 2013-01-10 | 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9705097B2 (ja) |
JP (1) | JP5905271B2 (ja) |
CN (1) | CN104053665B (ja) |
WO (1) | WO2013108700A1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015156235A1 (ja) * | 2014-04-09 | 2015-10-15 | 住友化学株式会社 | 発光素子およびそれに用いる組成物 |
CN106413890A (zh) * | 2014-04-25 | 2017-02-15 | 多伦多大学管理委员会 | 钌基三唑碳烯络合物 |
CN106471007A (zh) * | 2014-07-08 | 2017-03-01 | 住友化学株式会社 | 金属络合物及使用了其的发光元件 |
US9929359B2 (en) * | 2013-07-17 | 2018-03-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Composition and light emitting device using the same |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9051344B2 (en) * | 2005-05-06 | 2015-06-09 | Universal Display Corporation | Stability OLED materials and devices |
JP6134566B2 (ja) * | 2013-04-15 | 2017-05-24 | 住友化学株式会社 | 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 |
GB2520738B (en) * | 2013-11-29 | 2018-08-08 | Cambridge Display Tech Ltd | Phosphorescent metal complex dendrimers containing an imidazo[1,2-f]phenanthridine ligand |
JP2015174824A (ja) * | 2014-03-13 | 2015-10-05 | 住友化学株式会社 | 金属錯体およびそれを用いた発光素子 |
CN106103459B (zh) * | 2014-03-17 | 2019-03-29 | 住友化学株式会社 | 金属络合物及使用了该金属络合物的发光元件 |
JP6491420B2 (ja) * | 2014-04-08 | 2019-03-27 | 住友化学株式会社 | 金属錯体及び該金属錯体を用いた発光素子 |
CN104610002B (zh) * | 2014-05-29 | 2016-08-24 | 绍兴文理学院 | 一种芳香肼合成对称性联苯的方法 |
JP5867580B2 (ja) * | 2014-06-04 | 2016-02-24 | 住友化学株式会社 | 発光素子 |
GB2538500A (en) * | 2015-05-15 | 2016-11-23 | Cambridge Display Tech Ltd | Light-emitting compound |
JP6546045B2 (ja) * | 2015-09-07 | 2019-07-17 | 住友化学株式会社 | 金属錯体および該金属錯体を含む発光素子 |
CN108292709B (zh) | 2015-12-07 | 2020-10-30 | 住友化学株式会社 | 发光元件 |
US10964902B2 (en) | 2016-01-28 | 2021-03-30 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Film production method |
KR102345329B1 (ko) | 2016-01-29 | 2022-01-03 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 조성물, 인광 발광성 화합물 및 발광 소자 |
WO2017221822A1 (ja) | 2016-06-24 | 2017-12-28 | 住友化学株式会社 | 発光素子 |
KR102361349B1 (ko) | 2017-09-06 | 2022-02-14 | 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 | 발광 소자 |
CN112020779A (zh) | 2018-04-26 | 2020-12-01 | 住友化学株式会社 | 发光元件 |
JP7083995B2 (ja) * | 2018-05-21 | 2022-06-14 | Dic株式会社 | フェニルトリアゾール金属錯体及び発光素子 |
JP6600110B1 (ja) | 2019-02-26 | 2019-10-30 | 住友化学株式会社 | 発光素子 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007504272A (ja) * | 2003-05-16 | 2007-03-01 | イシス イノベイション リミテッド | 有機燐光材料および有機オプトエレクトロニクス素子 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102041001B (zh) | 2000-08-11 | 2014-10-22 | 普林斯顿大学理事会 | 有机金属化合物和发射转换有机电致磷光 |
US7059508B2 (en) | 2004-06-30 | 2006-06-13 | Ethicon Endo-Surgery, Inc. | Surgical stapling instrument incorporating an uneven multistroke firing mechanism having a rotary transmission |
US20060008670A1 (en) | 2004-07-06 | 2006-01-12 | Chun Lin | Organic light emitting materials and devices |
WO2006008976A1 (ja) | 2004-07-16 | 2006-01-26 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 白色発光有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
US9051344B2 (en) | 2005-05-06 | 2015-06-09 | Universal Display Corporation | Stability OLED materials and devices |
JP5072312B2 (ja) * | 2005-10-18 | 2012-11-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 有機金属錯体及びそれを用いた発光素子、発光装置 |
JP2007208102A (ja) * | 2006-02-03 | 2007-08-16 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
JP5103781B2 (ja) * | 2006-04-20 | 2012-12-19 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 化合物、該化合物を含む有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置 |
JP5181448B2 (ja) * | 2006-09-13 | 2013-04-10 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子材料 |
JP5387563B2 (ja) * | 2008-02-27 | 2014-01-15 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子材料、有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法、照明装置及び表示装置 |
WO2012070596A1 (en) | 2010-11-26 | 2012-05-31 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Organometallic complex, light-emitting element, light-emitting device, electronic device, and lighting device |
JP6015451B2 (ja) | 2011-01-12 | 2016-10-26 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置 |
JP2012151266A (ja) | 2011-01-19 | 2012-08-09 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子材料 |
JP5742581B2 (ja) * | 2011-08-16 | 2015-07-01 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置 |
CN103035798B (zh) | 2011-10-07 | 2015-08-26 | 清华大学 | 发光二极管 |
JP5955566B2 (ja) | 2012-01-18 | 2016-07-20 | 住友化学株式会社 | 燐光性発光化合物及び高分子化合物を含む組成物、並びにそれを用いた発光素子 |
US9853218B2 (en) | 2012-06-19 | 2017-12-26 | Sumitomo Chemical Company, Limited | High-molecular compound and light-emitting element using same |
WO2013191088A1 (ja) | 2012-06-19 | 2013-12-27 | 住友化学株式会社 | 高分子化合物およびそれを用いた発光素子 |
-
2012
- 2012-01-18 JP JP2012008188A patent/JP5905271B2/ja active Active
-
2013
- 2013-01-10 US US14/372,033 patent/US9705097B2/en active Active
- 2013-01-10 WO PCT/JP2013/050268 patent/WO2013108700A1/ja active Application Filing
- 2013-01-10 CN CN201380005631.6A patent/CN104053665B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007504272A (ja) * | 2003-05-16 | 2007-03-01 | イシス イノベイション リミテッド | 有機燐光材料および有機オプトエレクトロニクス素子 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
LAI, WEN-YONG ET AL.: "A Phosphorescent Poly (dendrimer) Containing Iridium(III) Complexes: Synthesis and Light-Emitting Properties", MACROMOLECULES, vol. 43, no. 17, 2010, pages 6986 - 6994, XP055080718 * |
LEVELL, JACK W. ET AL.: "Efficient Phosphorescence by Reducing Intrachain Chromophore Interactions in Dendrimer- Containing Polymers", JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C, vol. 115, no. 51, 2011, pages 25464 - 25469, XP055080717 * |
LO, SHIH-CHUN ET AL.: "Solution-processible phosphorescent blue dendrimers based on biphenyl-dendrons and Fac-tris(phenyltriazolyl) iridium(III) cores", ADVANCED FUNCTIONAL MATERIALS, vol. 18, no. 19, 2008, pages 3080 - 3090, XP001516589 * |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9929359B2 (en) * | 2013-07-17 | 2018-03-27 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Composition and light emitting device using the same |
WO2015156235A1 (ja) * | 2014-04-09 | 2015-10-15 | 住友化学株式会社 | 発光素子およびそれに用いる組成物 |
CN106133938A (zh) * | 2014-04-09 | 2016-11-16 | 住友化学株式会社 | 发光元件和用于该发光元件的组合物 |
JPWO2015156235A1 (ja) * | 2014-04-09 | 2017-04-13 | 住友化学株式会社 | 発光素子およびそれに用いる組成物 |
CN106413890A (zh) * | 2014-04-25 | 2017-02-15 | 多伦多大学管理委员会 | 钌基三唑碳烯络合物 |
CN106413890B (zh) * | 2014-04-25 | 2020-01-14 | 多伦多大学管理委员会 | 钌基三唑碳烯络合物 |
CN106471007A (zh) * | 2014-07-08 | 2017-03-01 | 住友化学株式会社 | 金属络合物及使用了其的发光元件 |
US20170166599A1 (en) * | 2014-07-08 | 2017-06-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Metal complex and light emitting device using the same |
CN106471007B (zh) * | 2014-07-08 | 2019-05-28 | 住友化学株式会社 | 金属络合物及使用了其的发光元件 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104053665B (zh) | 2017-06-30 |
US20140374727A1 (en) | 2014-12-25 |
US9705097B2 (en) | 2017-07-11 |
JP5905271B2 (ja) | 2016-04-20 |
JP2013147450A (ja) | 2013-08-01 |
CN104053665A (zh) | 2014-09-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5905271B2 (ja) | 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 | |
JP5905270B2 (ja) | 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 | |
JP5262104B2 (ja) | 金属錯体、高分子化合物及びこれらを含む素子 | |
JP5208391B2 (ja) | 金属錯体、発光材料及び発光素子 | |
EP1932851B1 (en) | Metal complex, light-emitting material, and light-emitting device | |
JP6134566B2 (ja) | 金属錯体及び該金属錯体を含む発光素子 | |
JP5955566B2 (ja) | 燐光性発光化合物及び高分子化合物を含む組成物、並びにそれを用いた発光素子 | |
KR101626170B1 (ko) | 금속 착체 및 유기 화합물을 함유하는 조성물, 및 상기 조성물을 사용하여 이루어지는 발광 소자 | |
WO2003084973A1 (fr) | Complexes metalliques et dispositifs electroluminescents organiques | |
US20090043064A1 (en) | Metal complex, polymer compound, and device containing it | |
JPWO2005026144A1 (ja) | デンドリマー化合物及びそれを用いた有機発光素子 | |
EP2309563A1 (en) | Composition and light-emitting element using the composition | |
WO2005026289A1 (ja) | 発光材料およびそれを用いた発光素子 | |
US20100264812A1 (en) | Metal complex, light-emitting material, and light-emitting device | |
KR20200130669A (ko) | 이종리간드 오스뮴 착물 및 이의 제조 방법 | |
Li et al. | A promising phosphorescent heteroleptic iridium complex with carbazole-functionalized substituent: Synthesis, photophysical and electroluminescent performances | |
Cho et al. | Phosphorescent, green-emitting Ir (III) complexes with carbazolyl-substituted 2-phenylpyridine ligands: Effect of binding mode of the carbazole group on photoluminescence and electrophosphorescence |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 13738999 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
WWE | Wipo information: entry into national phase |
Ref document number: 14372033 Country of ref document: US |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 13738999 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |