WO2013039100A1 - Dispositif d'exposition de film - Google Patents

Dispositif d'exposition de film Download PDF

Info

Publication number
WO2013039100A1
WO2013039100A1 PCT/JP2012/073318 JP2012073318W WO2013039100A1 WO 2013039100 A1 WO2013039100 A1 WO 2013039100A1 JP 2012073318 W JP2012073318 W JP 2012073318W WO 2013039100 A1 WO2013039100 A1 WO 2013039100A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
exposure
film
alignment
mask
light
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/073318
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
敏成 新井
和重 橋本
敬行 佐藤
Original Assignee
株式会社ブイ・テクノロジー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2011224387A external-priority patent/JP5884120B2/ja
Priority claimed from JP2011230195A external-priority patent/JP2013088679A/ja
Priority claimed from JP2011241687A external-priority patent/JP2013097277A/ja
Priority claimed from JP2012019170A external-priority patent/JP5817564B2/ja
Priority claimed from JP2012146733A external-priority patent/JP2014010296A/ja
Application filed by 株式会社ブイ・テクノロジー filed Critical 株式会社ブイ・テクノロジー
Publication of WO2013039100A1 publication Critical patent/WO2013039100A1/fr

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2022Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/7035Proximity or contact printers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70791Large workpieces, e.g. glass substrates for flat panel displays or solar panels

Abstract

Un film d'alignement constitué d'un film de matériau d'alignement appliqué sur un substrat de film est fourni à un dispositif d'enroulement, qui est destiné à un film d'exposition d'alignement, après avoir été enroulé autour d'un cylindre arrière. Le film d'alignement est maintenu sur le cylindre arrière, ce qui permet de faire disparaître les plis éventuels, et un masque ainsi qu'un masque à fentes se trouvent dans la zone de déplacement du film d'alignement. Une lumière d'exposition, qui est une lumière polarisée circulairement dans le sens des aiguilles d'une montre et issue d'une source de lumière d'exposition, éclaire presque toute la surface du film d'alignement par l'intermédiaire d'une ouverture pratiquée dans le masque, et une lumière d'exposition, qui est une lumière polarisée circulairement dans le sens inverse des aiguilles d'une montre et issue de la source de lumière d'exposition, éclaire les bandes du film d'alignement par le biais d'une pluralité de fentes sur le masque à fentes. Ainsi, la précision de formation d'une unité d'exposition n'est pas réduite à cause de la vibration verticale du film d'alignement mince, l'apparition de plis est évitée, et il est possible d'obtenir un film polarisant formé avec une grande précision par l'unité d'exposition.
PCT/JP2012/073318 2011-09-16 2012-09-12 Dispositif d'exposition de film WO2013039100A1 (fr)

Applications Claiming Priority (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011-203499 2011-09-16
JP2011203499 2011-09-16
JP2011224387A JP5884120B2 (ja) 2011-10-11 2011-10-11 フィルム露光装置
JP2011-224387 2011-10-11
JP2011-230195 2011-10-19
JP2011230195A JP2013088679A (ja) 2011-10-19 2011-10-19 フィルム露光装置
JP2011-241687 2011-11-02
JP2011241687A JP2013097277A (ja) 2011-11-02 2011-11-02 フィルム露光装置
JP2012-019170 2012-01-31
JP2012019170A JP5817564B2 (ja) 2011-09-16 2012-01-31 露光装置
JP2012-146733 2012-06-29
JP2012146733A JP2014010296A (ja) 2012-06-29 2012-06-29 露光装置及びfpr製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013039100A1 true WO2013039100A1 (fr) 2013-03-21

Family

ID=47883325

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/073318 WO2013039100A1 (fr) 2011-09-16 2012-09-12 Dispositif d'exposition de film

Country Status (1)

Country Link
WO (1) WO2013039100A1 (fr)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013064872A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 V Technology Co Ltd 露光装置
JP2013200520A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Arisawa Mfg Co Ltd 位相差板の製造方法
JP2013543595A (ja) * 2010-09-29 2013-12-05 ドンウー ファイン−ケム カンパニー リミテッド 露光システム
JP2014199299A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 大日本印刷株式会社 パターン位相差フィルムの製造方法及びパターン位相差フィルムの露光装置
US20190204754A1 (en) * 2016-06-07 2019-07-04 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Method for exposing transparent substrate

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006098719A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2007506130A (ja) * 2003-09-20 2007-03-15 コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ. 画像表示装置
JP2009098664A (ja) * 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp 光学補償フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに、液晶表示装置
JP2009282373A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Konica Minolta Opto Inc 光学補償フィルムの製造方法
JP2010091906A (ja) * 2008-10-10 2010-04-22 Seiko Epson Corp 電気光学装置の製造方法
WO2010090429A2 (fr) * 2009-02-03 2010-08-12 주식회사 엘지화학 Procédé de fabrication d'un filtre optique pour un dispositif d'affichage d'images stéréoscopiques
JP2010221541A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Toppan Printing Co Ltd 潜像形成体とその真偽判定方法及びこれを用いた媒体
JP2012159713A (ja) * 2011-02-01 2012-08-23 Arisawa Mfg Co Ltd フィルム状製品の製造方法、フィルム状製品の製造装置、及び、マスク

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007506130A (ja) * 2003-09-20 2007-03-15 コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ. 画像表示装置
JP2006098719A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 露光装置
JP2009098664A (ja) * 2007-09-28 2009-05-07 Fujifilm Corp 光学補償フィルム、及びその製造方法、偏光板、並びに、液晶表示装置
JP2009282373A (ja) * 2008-05-23 2009-12-03 Konica Minolta Opto Inc 光学補償フィルムの製造方法
JP2010091906A (ja) * 2008-10-10 2010-04-22 Seiko Epson Corp 電気光学装置の製造方法
WO2010090429A2 (fr) * 2009-02-03 2010-08-12 주식회사 엘지화학 Procédé de fabrication d'un filtre optique pour un dispositif d'affichage d'images stéréoscopiques
JP2010221541A (ja) * 2009-03-24 2010-10-07 Toppan Printing Co Ltd 潜像形成体とその真偽判定方法及びこれを用いた媒体
JP2012159713A (ja) * 2011-02-01 2012-08-23 Arisawa Mfg Co Ltd フィルム状製品の製造方法、フィルム状製品の製造装置、及び、マスク

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013543595A (ja) * 2010-09-29 2013-12-05 ドンウー ファイン−ケム カンパニー リミテッド 露光システム
JP2013064872A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 V Technology Co Ltd 露光装置
JP2013200520A (ja) * 2012-03-26 2013-10-03 Arisawa Mfg Co Ltd 位相差板の製造方法
WO2013145550A1 (fr) * 2012-03-26 2013-10-03 株式会社有沢製作所 Procédé de fabrication d'une plaque à décalage de phase
JP2014199299A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 大日本印刷株式会社 パターン位相差フィルムの製造方法及びパターン位相差フィルムの露光装置
US20190204754A1 (en) * 2016-06-07 2019-07-04 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Method for exposing transparent substrate
US10527947B2 (en) * 2016-06-07 2020-01-07 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd Method for exposing transparent substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6699835B2 (ja) 光学フィルムマーキングシステム及び光学フィルムマーキング方法
WO2013039100A1 (fr) Dispositif d'exposition de film
JP2014010296A (ja) 露光装置及びfpr製造方法
TW201314384A (zh) 膜片曝光裝置
JP6004157B2 (ja) 3次元液晶表示装置の製造装置及び製造方法
JP5534549B2 (ja) 転写装置、転写方法、及びデバイス製造方法
JP5884120B2 (ja) フィルム露光装置
JP5477862B2 (ja) フィルム露光装置及びフィルム露光方法
JP2010217207A5 (fr)
JP5817564B2 (ja) 露光装置
JP6232189B2 (ja) 光学フィルムの製造方法
JP5762903B2 (ja) 露光装置
JP2012220608A (ja) 3d光学フィルターの製造装置
KR101659333B1 (ko) 광학 필름의 총-피치 측정 시스템
JP2013097204A (ja) スキャン露光用メタルマスク及びスキャン露光装置
JP5481736B2 (ja) フィルムの露光装置
JP2012083383A (ja) 露光装置
JP5895422B2 (ja) 露光装置
JP2013097277A (ja) フィルム露光装置
KR102029695B1 (ko) 광학 필름 라미네이팅 시스템 및 이를 이용한 디스플레이 유닛 제조 방법
KR101419748B1 (ko) 광학 필름의 총-피치 측정 시스템
WO2015033875A1 (fr) Dispositif de production de film optique
JP2013148635A (ja) 3d光学フィルターの製造装置
JP2014164000A (ja) パターン光学フィルムの切断方法、および光学フィルム走行制御システム
JP2012141367A (ja) 露光装置、偏光変換部材及び露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12832354

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 12832354

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1