WO2013005779A1 - 光ファイバ - Google Patents

光ファイバ Download PDF

Info

Publication number
WO2013005779A1
WO2013005779A1 PCT/JP2012/067114 JP2012067114W WO2013005779A1 WO 2013005779 A1 WO2013005779 A1 WO 2013005779A1 JP 2012067114 W JP2012067114 W JP 2012067114W WO 2013005779 A1 WO2013005779 A1 WO 2013005779A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
layer
refractive index
trench
tmax
optical fiber
Prior art date
Application number
PCT/JP2012/067114
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
佐藤　守
松尾　昌一郎
Original Assignee
株式会社フジクラ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 株式会社フジクラ filed Critical 株式会社フジクラ
Priority to CN201280004025.8A priority Critical patent/CN103250079B/zh
Priority to JP2013503311A priority patent/JP5557953B2/ja
Priority to EP12806985.3A priority patent/EP2639607B1/en
Priority to DK12806985.3T priority patent/DK2639607T3/en
Publication of WO2013005779A1 publication Critical patent/WO2013005779A1/ja
Priority to US13/912,584 priority patent/US9057813B2/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03661—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 4 layers only
    • G02B6/03683—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 4 layers only arranged - - + +
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/036—Optical fibres with cladding with or without a coating core or cladding comprising multiple layers
    • G02B6/03616—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference
    • G02B6/03688—Optical fibres characterised both by the number of different refractive index layers around the central core segment, i.e. around the innermost high index core layer, and their relative refractive index difference having 5 or more layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/02214—Optical fibres with cladding with or without a coating tailored to obtain the desired dispersion, e.g. dispersion shifted, dispersion flattened
    • G02B6/02219—Characterised by the wavelength dispersion properties in the silica low loss window around 1550 nm, i.e. S, C, L and U bands from 1460-1675 nm
    • G02B6/02266—Positive dispersion fibres at 1550 nm

Definitions

  • the present invention relates to an optical fiber having low bending loss similar to that of a conventional trench structure while being low in cost.
  • optical fibers with reduced bending loss are attracting attention as optical fibers are laid down indoors such as buildings or houses.
  • FTTH Fiber To The Home
  • optical fibers with reduced bending loss are attracting attention as optical fibers are laid down indoors such as buildings or houses.
  • Patent Document 1 A refractive index distribution called a trench type is known as a technique for reducing bending loss without causing a reduction in the diameter of the MFD (see Patent Document 1).
  • Patent Document 2 discloses that a trench-type refractive index profile is applied to a normal SMF instead of a dispersion-shifted fiber (DSF) as disclosed in Patent Document 1.
  • DSF dispersion-shifted fiber
  • Patent Document 3 discloses a structure in which the MFD is reduced in diameter and the bending loss is reduced after setting the wavelength dispersion characteristics in a region similar to that of normal SMF.
  • Patent Document 4 discloses a structure that reduces bending loss by setting the relative refractive index difference in the trench region to a very small value of ⁇ 0.63% or less.
  • Patent Document 5 discloses an optical fiber having a fiber cutoff wavelength of less than 1260 nm and a zero dispersion wavelength of 1300 to 1324 nm and a bending loss of 10 mm in diameter.
  • Patent Document 6 discloses a method of narrowing the interval between the core and the trench as a design for shortening the manufacturing time of the trench type optical fiber and reducing the cost.
  • Patent Document 7 discloses a method of making both bending loss and single mode transmission compatible by providing an intermediate cladding layer and a low refractive index layer outside the trench layer.
  • Non-Patent Document 1 discloses an example relating to the behavior of a higher-order mode of a trench type fiber.
  • a structure having holes such as hole assist fiber (HAF) or ClearCurve (registered trademark) is more connected than a solid glass structure optical fiber having no holes such as a trench type optical fiber.
  • HAF hole assist fiber
  • ClearCurve registered trademark
  • the optical fiber of Patent Document 10 has a very complicated structure, requires advanced manufacturing technology, and has a layer with a low refractive index in a wider range than a trench structure, and thus has a refractive index. Therefore, a larger amount of dopant is required, which causes a problem in terms of manufacturing cost. Even in the case of a normal trench type structure, if the relative refractive index difference of the trench is set to be as small as ⁇ 0.7% or ⁇ 0.5% as exemplified in Patent Documents 4 and 5, for example, A larger amount of dopant is required to form the trench, which is also a problem in terms of increase in manufacturing cost.
  • An optical fiber having a trench structure can be manufactured by various manufacturing methods. However, depending on the manufacturing method, there is a problem of suppressing raw material costs for forming the trench layer.
  • FIG. 3 shows an example of the relationship between the partial pressure of silicon tetrafluoride (SiF 4 ) when the trench layer is formed by the MVCD method and the relative refractive index difference of the resulting fluorine-added quartz glass.
  • the relative refractive index difference of the obtained glass shows a change approximately proportional to the 1/4 power of the SiF 4 partial pressure. For this reason, in a structure that requires a relative refractive index difference ⁇ of less than ⁇ 0.5%, the usage amount of the raw material gas SiF 4 increases dramatically. For example, in order to obtain a relative refractive index difference ⁇ of ⁇ 0.5%, it is necessary to set the SiF 4 partial pressure about 20 times that when obtaining a relative refractive index difference ⁇ of ⁇ 0.2%.
  • Patent Document 6 is designed to bring the low refractive index layer closer to the core in order to reduce raw material costs, but in order to reduce bending loss, a trench having a large negative relative refractive index difference must be provided. Therefore, the effect on cost reduction is limited.
  • optical characteristics such as wavelength dispersion are dissociated from the international recommendation, so that there is a limit in bringing the low refractive index layer closer to the core.
  • Non-Patent Document 1 discloses an example related to the behavior of a higher-order mode of a trench-type fiber, and FIG. 2 shows the wavelength dependency of LP11 Leakage Loss.
  • the wavelengths of the three types of optical fibers are distributed in the range of 1225 to 1260 nm, such as ITU-T
  • the optical fiber satisfies the cable cut-off wavelength of 1260 nm or less as defined in (1).
  • the loss of the optical fiber is about 2 dB / m to 12 dB / m.
  • the higher-order mode is not sufficiently attenuated, which may hinder communication.
  • Such a behavior can be easily compared by using the difference between the cable cutoff wavelength ⁇ c22m of 22 m and the fiber cutoff wavelength ⁇ c2 m of 2 m as an index.
  • the difference is 63 to 146 nm.
  • the trench type optical fiber is designed so as to improve the bending loss at a small diameter, for example, at a bending radius of 5 mm, the difference ⁇ c2m - ⁇ c22m tends to be long. For this reason, it is desirable to have a structure in which the difference in cut-off is small while having equivalent bending characteristics.
  • This invention is made
  • an optical fiber of one embodiment of the present invention includes a core provided in a central portion, an inner cladding layer provided around the core and having a refractive index lower than the refractive index of the core.
  • a trench layer provided on the outer peripheral portion of the inner cladding layer and configured by two or more layers having different refractive indexes, and an outermost cladding layer provided on the outer peripheral portion of the trench layer.
  • the layer having the highest refractive index constitutes the outermost layer of the trench layer.
  • the relative refractive index difference based on the refractive index of the outermost cladding layer is ⁇ core
  • the relative refractive index difference of the inner cladding layer is ⁇ ic
  • the trench layer has the highest refractive index difference.
  • the relative refractive index difference is ⁇ tmax
  • the relative refractive index difference of the lowest refractive index layer in the trench layer is ⁇ tmin
  • the radius of the inner edge of the trench layer is r in
  • the radius of the outer edge of the trench layer is r out
  • the trench layer Where the radius of the inner edge of the layer having the highest refractive index is rtmax , ⁇ core > ⁇ ic > ⁇ tmax > ⁇ tmin , ⁇ 0.15% ⁇ ⁇ tmax > ⁇ tmin ⁇ ⁇ 0.7%, as well as, 0.45 ⁇ (r tmax ) / (r out ⁇ r in ) ⁇ 0.9 Satisfy the relationship.
  • the optical fiber of one aspect of the present invention in the trench layer, ⁇ 0.40% ⁇ ⁇ tmin ⁇ ⁇ 0.50%, And ⁇ 0.15% ⁇ ⁇ tmax ⁇ ⁇ 0.25% It is preferable to satisfy the relationship.
  • the optical fiber of one aspect of the present invention in the trench layer, 0.7 ⁇ (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) ⁇ 0.8 It is preferable to satisfy the relationship.
  • the layer having the lowest refractive index in the trench layer constitutes the innermost layer of the trench layer.
  • the trench layer is composed of two layers having different refractive indexes, a layer having a low refractive index is disposed inside the trench layer, and a layer having a high refractive index is disposed outside the trench layer.
  • the trench layer is composed of three or more layers having different refractive indexes, a configuration in which the layer having the lowest refractive index in the trench layer is positioned in the innermost layer (a layer close to the inner cladding layer) of the trench layer may be employed.
  • the outermost cladding layer is made of pure quartz glass and the trench layer is made of quartz glass to which fluorine is added.
  • FIG. 6 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1550 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 1.
  • FIG. 6 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1625 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 1.
  • FIG. 6 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1625 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 1.
  • FIG. 6 is a graph plotting ⁇ c2m ⁇ c22m against (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 1.
  • FIG. 6 is a graph plotting the relative amount of SiF 4 used with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 1.
  • FIG. 10 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1550 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 2.
  • FIG. 6 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1625 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 2.
  • FIG. 10 is a graph plotting ⁇ c2m ⁇ c22m against (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 2.
  • FIG. 6 is a graph plotting the relative amount of SiF 4 used with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 2.
  • FIG. 10 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1550 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 3.
  • FIG. 10 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1625 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 3.
  • FIG. 10 is a graph plotting ⁇ c2m ⁇ c22m against (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 3.
  • FIG. 10 is a graph plotting the relative amount of SiF 4 used with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 3.
  • FIG. 14 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1550 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 4.
  • FIG. 10 is a graph plotting bending loss at a wavelength of 1625 nm with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 4.
  • FIG. 14 is a graph plotting ⁇ c2m ⁇ c22m against (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 4.
  • FIG. 6 is a graph plotting the relative amount of SiF 4 used with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 4.
  • FIG. 14 is a graph plotting ⁇ c2m ⁇ c22m against (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 4.
  • FIG. 6 is a graph plotting the relative amount of SiF 4 used with respect to (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) for Example 4.
  • FIG. 1 schematically shows the refractive index distribution of the optical fiber according to the first embodiment of the present invention.
  • the optical fiber F1 includes a core 11, an inner cladding layer 12, a trench layer 13, and an outermost cladding layer 14.
  • the core 11 is disposed at the center of the optical fiber F1.
  • the inner cladding layer 12 is disposed around the core 11 and has a lower refractive index than the core 11.
  • the trench layer 13 is disposed on the outer periphery of the inner cladding layer 12 and is composed of two layers 15 and 16 (first refractive index layer 15 and second refractive index layer 16) having different refractive indexes.
  • the outermost cladding layer 14 is disposed on the outer periphery of the trench layer 13.
  • the first refractive index layer 15 (outermost layer) is a layer having the highest refractive index
  • the second refractive index layer 16 is a layer having the lowest refractive index (innermost layer).
  • FIG. 2 schematically shows the refractive index distribution of the optical fiber according to the second embodiment of the present invention.
  • the optical fiber F2 includes a core 21, an inner cladding layer 22, a trench layer 23, and an outermost cladding layer 24.
  • the core 21 is disposed at the center of the optical fiber F2.
  • the inner cladding layer 22 is disposed around the core 21 and has a lower refractive index than the core 21.
  • the trench layer 23 is disposed on the outer periphery of the inner cladding layer 22 and has three layers 25, 26, and 27 (first refractive index layer 25, second refractive index layer 27, and third refractive index layer 26) having different refractive indexes. ).
  • the outermost cladding layer 24 is disposed on the outer periphery of the trench layer 23.
  • the first refractive index layer 25 is a layer having the highest refractive index (outermost layer)
  • the second refractive index layer 27 is a layer having the lowest refractive index (innermost layer).
  • the relative refractive index difference between the cores 11 and 21 is ⁇ core
  • the inner cladding layer is the relative refractive index difference based on the refractive index of the outermost cladding layers 14 and 24.
  • the relative refractive index difference of 12 and 22 is ⁇ ic
  • the relative refractive index difference of the layer 15 having the highest refractive index in the trench layer 13 is ⁇ tmax
  • the relative refractive index difference of the layer 25 having the highest refractive index in the trench layer 23 is ⁇
  • tmax the relative refractive index difference of the layer 16 having the lowest refractive index in the trench layer 13
  • tmin the relative refractive index difference of the layer 27 having the lowest refractive index in the trench layer 23
  • ⁇ core > ⁇ ic corresponds to the inner cladding layers 12, 22 having a lower refractive index than the cores 11, 21, and ⁇ ic > ⁇ tmax is equal to each of the layers 15 to 16 included in the trench layer 13.
  • the inner cladding layer 12 has a lower refractive index
  • each of the layers 25 to 27 included in the trench layer 23 has a lower refractive index than the inner cladding layer 22.
  • ⁇ tmax > ⁇ tmin means that the trench layers 13 and 23 are formed of a plurality of layers having different refractive indexes.
  • the refractive index of the trench layer 13 is lower than the refractive index of the outermost cladding layer 14. Further, the refractive index of the trench layer 23 is lower than the refractive index of the outermost cladding layer 24.
  • delta tmax and delta tmin is set to a negative value.
  • the range of the relative refractive index difference of the trench layers 13 and 23 is desirably set appropriately in consideration of various factors such as optical characteristics or manufacturing cost such as the confinement effect of the fundamental mode or the amount of dopant, for example, the relative refractive index difference Is preferably in the range of -0.15% to -1.0%. That is, the relative refractive index difference preferably satisfies ⁇ 0.15% ⁇ ⁇ tmax > ⁇ tmin ⁇ ⁇ 0.7%.
  • the range of the relative refractive index difference ⁇ tmax is preferably ⁇ 0.15% ⁇ ⁇ tmax > ⁇ 0.7%, more preferably ⁇ 0.15% ⁇ ⁇ tmax ⁇ ⁇ 0.25%.
  • the range of the relative refractive index difference ⁇ tmin is preferably ⁇ 0.15%> ⁇ tmin ⁇ ⁇ 0.7%, more preferably ⁇ 0.3% ⁇ ⁇ tmin ⁇ ⁇ 0.7%.
  • the difference range of ⁇ tmax ⁇ tmin is preferably 0.55% ⁇ ⁇ tmax ⁇ tmin ⁇ 0.1%, more preferably 0.35% ⁇ ⁇ tmax ⁇ tmin ⁇ 0.15%. is there.
  • the layer 15 having a high refractive index is provided as the outermost layer of the trench layer 13, and the layer 16 having a lower refractive index is provided inside the layer 15.
  • the layer 25 having a high refractive index is provided as the outermost layer of the trench layer 3, and layers 26 and 27 having a lower refractive index are provided inside the layer 25.
  • the amount of the dopant such as fluorine F that lowers the refractive index is larger in a layer having a low refractive index and is smaller in a layer having a high refractive index. Since the layers 15 and 25 having the smallest amount of dopant are present as the outermost layers having the largest radius, the amount of dopant used for the trench layers 13 and 23 can be further reduced, and the manufacturing cost can be suppressed.
  • the trench layer 23 when the trench layer 23 is composed of three or more layers 25 to 27, the trench layer 23 is formed so that the layer 27 having the lowest refractive index becomes the innermost layer of the trench layer 23. You can also.
  • the presence of the layer 27 having the largest amount of dopant as the innermost layer having the smallest radius reduces the amount of dopant used for the trench layer 23 and suppresses the manufacturing cost, while suppressing the manufacturing cost.
  • the effect of reducing the bending loss by confining the film can be enhanced.
  • the outermost cladding layers 14 and 24 are made of pure quartz glass, and the layers 15 and 16 constituting the trench layer 13 or the layers 25 to 27 constituting the trench layer 23 are made of quartz glass to which fluorine is added. It is preferable that The cores 11 and 21 may be made of quartz glass to which one or more dopants that increase the refractive index, such as germanium Ge, are added.
  • the inner cladding layers 12 and 22 may be added with a dopant for increasing the refractive index, may be added with a dopant for decreasing the refractive index, and may be made of pure quartz glass to which any dopant is not added.
  • Each layer constituting the refractive index distribution can be formed by a known method such as an MCVD method, a PCVD method, a VAD method, an OVD method, or a method in which these methods are combined.
  • a quartz glass tube corresponding to a part of the outermost cladding layer 14 adjacent to the outer edge of the trench layer 13 is used.
  • a quartz glass tube corresponding to a part of the outermost cladding layer 24 close to the outer edge of the trench layer 23 is used.
  • the glass which has the composition of the trench layers 13 and 23 is deposited using the 1 type, or 2 or more types of raw material containing Si and F inside a glass tube.
  • the trench layers 13 and 23 constituted by two or more layers having different refractive indexes can be formed.
  • the inner cladding layer 12 and the core 11 can be sequentially formed inside the trench layer 13.
  • the inner cladding layer 22 and the core 21 can be sequentially formed inside the trench layer 23.
  • a core separately formed as a core rod may be inserted inside and integrated with the above-described layers.
  • the cladding layers 14 and 24 can be formed while increasing the outer diameter until the required thickness is obtained by externally attaching the cladding layer to the outside of the starting glass tube. . Since the optical fiber can be manufactured by drawing the optical fiber preform, the refractive index distribution in the optical fiber preform has a distribution obtained by similarly expanding the refractive index distribution in the optical fiber.
  • the radius r core and the relative refractive index difference ⁇ core of the cores 11 and 21 are the radius r in and the inner clad layers 12 and 22 so that the MFD takes a value of 8.6 to 9.5 ⁇ m or its peripheral value in the international recommendation. It is preferable to set appropriately considering the relationship with the relative refractive index difference ⁇ ic .
  • the radius of the inner edge of the trench layers 13 and 23 is r in
  • the radius of the outer edge of the trench layers 13 and 23 is r out
  • the radius of the inner edges of the layers 15 and 25 having the highest refractive index in the trench layers 13 and 23 is r tmax .
  • the value of the ratio represented by (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) is preferably in the range of 0.7 to 0.9.
  • the raw material cost can be effectively reduced by adopting a structure in which the relative refractive index difference ⁇ tmax of the outer layer of the trench is increased. Can do.
  • the amount of SiF 4 used in this case is based on the amount of F taken into the glass and does not include the effect of deposition efficiency. By setting (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) to 0.9 or less, the amount of SiF 4 used can be reduced by about 10% compared to the normal trench structure.
  • the amount of SiF 4 used can be reduced by about 20% or more compared to the normal trench structure. Further, when (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) ⁇ 0.5, the amount of SiF 4 used can be reduced by about 50% or more compared to the normal trench structure, which is more preferable.
  • the deposited glass is etched by the gas to which the raw material F is added.
  • the source gas used for F-doping of glass is not limited to SiF 4, and in addition, CF 4 , SF 6 , F 2, etc., or a mixed gas containing one or more of these source gases can be used. Since these gases containing F are all expensive, it is possible to effectively reduce the raw material cost by adopting a structure in which the relative refractive index difference ⁇ tmax of the outer layer of the trench is increased regardless of the type of the raw material gas. it can.
  • FIG. 6 schematically shows a refractive index distribution of an optical fiber having a conventional trench structure.
  • the optical fiber includes a core 1 disposed at the center, an inner cladding layer 2 disposed around the core 1 and having a lower refractive index than the core 1, and a trench disposed at the outer periphery of the inner cladding layer 2.
  • the layer 3 and the outermost cladding layer 4 disposed on the outer periphery of the trench layer 13 are provided.
  • the relative refractive index difference based on the refractive index of the outermost cladding layer 4 is ⁇ core
  • the relative refractive index difference of the inner cladding layer 2 is ⁇ ic
  • Is ⁇ t the radius of the core 1 is r core
  • the radius of the inner edge of the trench layer 3 is r in
  • the radius of the outer edge of the trench layer 3 is r out .
  • the numerical values of the parameters in Comparative Example 1 are shown in Table 1, and the characteristics are shown in Table 2.
  • Table 3 shows bending loss (dB / turn) at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm.
  • Reference Example 1 The optical fiber of Reference Example 1 was configured with the two-layer trench structure shown in FIG.
  • the relative refractive index difference based on the refractive index of the outermost cladding layer 14 is ⁇ core
  • the relative refractive index difference of the inner cladding layer 12 is ⁇ ic
  • the refractive index is the highest in the trench layer 13.
  • the relative refractive index difference of the high layer 15 is ⁇ tmax
  • the relative refractive index difference of the layer 16 having the lowest refractive index in the trench layer 13 is ⁇ tmin
  • the radius of the core 11 is r core
  • the radius of the inner edge of the trench layer 13 is r in.
  • the radius of the outer edge of the trench layer 13 is r out
  • the radius of the inner edge of the layer 15 having the highest refractive index in the trench layer 13 is r tmax .
  • the numerical values of the parameters in Reference Example 1 are shown in Table 4, and the characteristics are shown in Table 5.
  • Table 6 shows bending loss (dB / turn) at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm.
  • Reference Example 1 has almost the same characteristics as Comparative Example 1 with respect to bending loss, MFD, zero dispersion wavelength ⁇ 0 , and zero dispersion slope S 0 , and ⁇ c2m ⁇ c22m is 105 nm, which is more than that of Comparative Example 1. It has been shortened by about 40 nm. (R tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) is about 0.45, and according to FIG. 4, the amount of SiF 4 used can be reduced by about 55% compared to Comparative Example 1.
  • Reference Example 2 The optical fiber of Reference Example 2 was configured by the three-layer trench structure shown in FIG. As the relative refractive index difference based on the refractive index of the outermost cladding layer 24, the relative refractive index difference of the core 21 is ⁇ core , the relative refractive index difference of the inner cladding layer 22 is ⁇ ic , and the refractive index is the highest in the trench layer 23.
  • the relative refractive index difference delta tmax of higher layer 25 is delta tmid
  • the relative refractive index of the layer 27 most low refractive index in the trench layer 23
  • the difference is ⁇ tmin
  • the radius of the core 21 is r core
  • the radius of the inner edge of the trench layer 23 is r in
  • the radius of the outer edge of the trench layer 23 is r out
  • the radius of the inner edge of the layer 25 having the highest refractive index in the trench layer 23 R tmax
  • the radius of the inner edge of the layer 26 in which the refractive index of the trench layer 23 takes an intermediate value is r tmid .
  • Table 7 shows the numerical values of the parameters in Reference Example 2, and Table 8 shows the characteristics.
  • Table 9 shows bending loss (dB / turn) at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm.
  • Reference Example 2 has almost the same characteristics as Comparative Example 1 with respect to bending loss, MFD, zero dispersion wavelength ⁇ 0 , and zero dispersion slope S 0 , and ⁇ c2m ⁇ c22m is 101 nm, which is more than that of Comparative Example 1. It is about 47 nm shorter. (R tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) is about 0.63, which is larger than that of the reference example 1. However, by dividing the trench layer 23 into three layers, the relative refractive index difference ⁇ is ⁇ 0. It is possible to reduce the cross-sectional area of the layer by 5%. For this reason, Reference Example 2 can reduce the amount of SiF 4 used by about 75% compared to Comparative Example 1, and can be reduced more than Reference Example 1 (about 55% reduction compared to Comparative Example 1).
  • Example 1 The optical fiber of Example 1 was configured by the two-layer trench structure shown in FIG.
  • the relative refractive index difference based on the refractive index of the outermost cladding layer 14 is ⁇ core
  • the relative refractive index difference of the inner cladding layer 12 is ⁇ ic
  • the refractive index is the highest in the trench layer 13.
  • the relative refractive index difference of the high layer 15 is ⁇ tmax
  • the relative refractive index difference of the layer 16 having the lowest refractive index in the trench layer 13 is ⁇ tmin
  • the radius of the core 11 is r core
  • the radius of the inner edge of the trench layer 13 is r in.
  • the radius of the outer edge of the trench layer 13 is r out
  • the radius of the inner edge of the layer 15 having the highest refractive index in the trench layer 13 is r tmax .
  • r tmax is set so that (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) becomes a value shown in Table 12, and for each, ⁇ c22m is set as shown in Table 10. 1220 nm, by adjusting the so delta core so MFD is 8.6 ⁇ m in wavelength 1310 nm, it was designed optical fiber.
  • the example of (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) 1.00 is an optical fiber having a single-layer trench structure of a conventional design type.
  • (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) is 0.70 to 0.90, light having a double-layer trench structure having a bending loss equal to or less than that of a conventional single-layer trench structure A fiber can be produced.
  • (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ) is 0.70, ⁇ c2m ⁇ c22m can be shortened by 27 nm compared to the conventional single-layer trench structure, and the amount of SiF 4 used is reduced. It can be reduced by 35%.
  • Example 2 An example in which ⁇ tmin is set to ⁇ 0.50% in the two-layer trench structure designed in the same ⁇ c22m and MFD (see Table 10) as in Example 1 was defined as Example 2.
  • the parameters of the refractive index distribution in Example 2 are as shown in Table 13.
  • Table 14 shows bending loss at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, differences of ⁇ c2m - ⁇ c22m , and relative SiF 4 usage at each value of (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ). Shown in
  • Example 3 In a two-layer trench structure designed in the same lambda C22m and MFD as in Example 1 (see Table 10), an example of a delta tmax -0.15% or -0.25% to that of Example 3.
  • Table 15 shows the bending loss at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, the difference between ⁇ c2m and ⁇ c22m , and the relative amount of SiF 4 used at each value (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ). , 16.
  • Table 15 and 16, -0.15% delta tmax, respectively, - corresponds to the case of 0.25%.
  • FIG. 15 shows the bending loss at a wavelength of 1550 nm with a bending radius of 5 mm and 15 mm
  • FIG. 16 shows the bending loss at a wavelength of 1625 nm with the same bending radius.
  • the solid line shown at the top of the figure indicates the bending loss when the bending radius is 5 mm
  • the broken line shown at the bottom of the figure indicates the bending loss when the bending radius is 15 mm.
  • FIG. 17 shows ⁇ c2m - ⁇ c22m
  • FIG. 18 shows the amount of relative SiF 4 used.
  • FIG. 15-18 are plotted together also data for delta tmax listed in Example 1 is -0.20%. As shown in FIG. 15 and FIG.
  • ⁇ c2m ⁇ c22m can be shortened by about 8 to 15 nm, and the amount of SiF 4 used can be reduced by about 10%.
  • Example 4 In a two-layer trench structure designed in the same lambda C22m and MFD as in Example 1 (see Table 10), the delta tmin -0.50%, and the delta tmax -0.15% or -0.25% Example Is shown in Example 4. That is, ⁇ tmin is equal to that in Example 2, and only ⁇ tmax is changed from Example 2.
  • Table 17 shows bending losses at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, differences of ⁇ c2m - ⁇ c22m , and relative SiF 4 usage at each value of (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ). , 18. Incidentally, Table 17 and 18, -0.15% delta tmax, respectively, - corresponds to the case of 0.25%.
  • FIG. 19 The bending loss at a wavelength of 1550 nm with bending radii of 5 mm and 15 mm is shown in FIG. 19, and the bending loss at a wavelength of 1625 nm with the same bending radius is shown in FIG. 19 and 20, the solid line shown in the upper part of the drawing shows the bending loss at a bending radius of 5 mm, and the broken line shown in the lower part of the drawing shows the bending loss at a bending radius of 15 mm.
  • FIG. 21 shows ⁇ c2m - ⁇ c22m
  • FIG. 22 shows the amount of relative SiF 4 used.
  • FIG. 19-22 are plotted together also data for delta tmax listed in Example 2 is -0.20%. As shown in FIGS.
  • ⁇ c2m ⁇ c22m can be shortened by about 5 to 8 nm, and the amount of SiF 4 used can be reduced by about 10%.
  • Example 6 In a two-layer trench structure designed in the same lambda C22m and MFD as in Example 5, the delta tmin -0.30%, showing an example of a delta tmax and -0.20% in Example 6.
  • Table 20 shows the bending loss at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, the difference between ⁇ c2m and ⁇ c22m , and the relative amount of SiF 4 used at each value (r tmax ⁇ r in ) / (r out ⁇ r in ). Shown in
  • Example 7 The three-layer trench structure shown in FIG. 2 was designed under the condition that ⁇ c22m was 1260 nm and the MFD at a wavelength of 1310 nm was 8.9 ⁇ m. Table 21 shows the numerical values of the parameters in Example 7. Further, in order to compare with Example 7, the example in which the conventional trench structure as shown in FIG. 6 and the same ⁇ c22m and MFD as Example 7 are configured is referred to as Comparative Example 2, and parameters thereof are shown in Table 22. Shown in
  • Table 23 shows bending loss at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, a difference of ⁇ c2m - ⁇ c22m , and a relative amount of SiF 4 used.
  • the bending loss is equal or less, ⁇ c2m - ⁇ c22m is shortened by 17 nm, and the amount of SiF 4 used can be reduced by 44%.
  • Example 8 The three-layer trench structure shown in FIG. 2 was designed under the condition that ⁇ c22m was 1260 nm and the MFD at a wavelength of 1310 nm was 8.9 ⁇ m. Table 24 shows the numerical values of the parameters in Example 8. In addition, for comparison with Example 8, an example in which the conventional trench structure as shown in FIG. 6 is configured with ⁇ c22m and MFD similar to Example 8 is shown in Comparative Example 3, and parameters thereof are shown. 25.
  • Table 26 shows bending loss at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, a difference of ⁇ c2m - ⁇ c22m , and a relative amount of SiF 4 used.
  • Example 8 Compared with Comparative Example 3 having a conventional trench structure, in Example 8, the bending loss is equivalent, ⁇ c2m - ⁇ c22m is shortened by 20 nm, and the amount of SiF 4 used can be reduced by 27%.
  • Example 9 The three-layer trench structure shown in FIG. 2 was designed under the condition that ⁇ c22m was 1260 nm and the MFD at a wavelength of 1310 nm was 8.6 ⁇ m. Table 27 shows the numerical values of the parameters in Example 9. In addition, for comparison with Example 9, an example in which the conventional trench structure as shown in FIG. 6 is configured with ⁇ c22m and MFD similar to Example 9 is shown in Comparative Example 4, and parameters thereof are shown. 28.
  • Table 29 shows bending loss at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, a difference of ⁇ c2m - ⁇ c22m , and a relative amount of SiF 4 used.
  • Example 9 Compared with Comparative Example 4 having a conventional trench structure, in Example 9, the bending loss is equal or less, ⁇ c2m - ⁇ c22m is shortened by 30 nm, and the amount of SiF 4 used can be reduced by 46%.
  • Example 10 The three-layer trench structure shown in FIG. 2 was designed under the condition that ⁇ c22m was 1260 nm and the MFD at a wavelength of 1310 nm was 8.6 ⁇ m.
  • Table 30 shows the numerical values of the parameters in Example 10. Further, in order to compare with Example 10, the example in which the conventional trench structure as shown in FIG. 6 is configured with ⁇ c22m and MFD similar to Example 10 is set as Comparative Example 5, and parameters thereof are shown in Table 31. Shown in
  • Table 32 shows the bending loss at various bending radii at wavelengths of 1550 nm and 1625 nm, the difference of ⁇ c2m - ⁇ c22m , and the relative amount of SiF 4 used.
  • Example 10 Compared to Comparative Example 5 having a conventional trench structure, in Example 10, the bending loss is equal or less, ⁇ c2m - ⁇ c22m is shortened by 26 nm, and the amount of SiF 4 used can be reduced by 39%.

Abstract

　本発明の光ファイバは、最外層クラッド層（１４）の屈折率を基準にした比屈折率差として、コア（１１）の比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層（１２）の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層（１３）において最も屈折率が高い層の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層（１３）において最も屈折率が低い層の比屈折率差はΔｔｍｉｎとおき、トレンチ層（１３）の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層（１３）の外縁の半径をｒｏｕｔ、トレンチ層（１３）において最も屈折率が高い層の内縁の半径をｒｔｍａｘとしたとき、　Δｃｏｒｅ＞Δｉｃ＞Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎ、　－０．１５％≧Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎ≧－０．７％、 及び、　０．４５≦（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．９ という関係を満たす。

Description

光ファイバ
　本発明は、低コストでありながら従来のトレンチ構造と同様な低曲げ損失を有する光ファイバに関する。
　本願は、２０１１年７月４日に出願された特願２０１１－１４８２２８号及び２０１２年４月２７日に出願された特願２０１２－１０２７１９号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
　ＦＴＴＨ（Ｆｉｂｅｒ　Ｔｏ　Ｔｈｅ　Ｈｏｍｅ）の普及に伴い、光ファイバがビル又は住宅等の屋内まで敷設されることにより、曲げ損失を低減した光ファイバが注目を集めている。低曲げ損失光ファイバを用いることにより、光ファイバに曲げが印加されることにより発生する損失に起因して信号が瞬断されることを防止する効果、又は、光ファイバの取り扱いが容易になることに起因して敷設コストが低減される効果が期待されている。
　通常のシングルモード光ファイバ（Ｓ－ＳＭＦ）に用いられている単純なコア－クラッド構造の光ファイバでは、モードフィールド径（ＭＦＤ）と曲げ損失にトレードオフの関係があり、ＭＦＤを小さくすると曲げ損失を小さくすることができる。しかしながら、ＭＦＤの小径化はＳ－ＳＭＦとの接続損失の増大、又はシングルモード光ファイバ（ＳＭＦ）に関する国際勧告ＩＴＵ－Ｔ　Ｇ．６５２に規定されるＭＦＤの範囲（波長１３１０ｎｍで設計基準値がＭＦＤ８．６～９．５μｍ）から逸脱するという問題があり、ＭＦＤの小径化による曲げ損失の低減には限界がある。
　ＭＦＤの小径化に起因することなく曲げ損失を低減する手法として、トレンチ型と呼ばれる屈折率分布が知られている（特許文献１参照）。また、このトレンチ型屈折率分布を、低曲げ損失光ファイバとして用いる方法が多数提案されている。
　例えば、特許文献２には、トレンチ型の屈折率分布を、特許文献１で提示されているような分散シフトファイバ（ＤＳＦ：Ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ　Ｓｈｉｆｔｅｄ　Ｆｉｂｅｒ）ではなく、通常のＳＭＦに適用することが開示されている。特許文献３には、波長分散特性を通常のＳＭＦと同じような領域に設定した上で、ＭＦＤを小径化し、曲げ損失を低減する構造が開示されている。
　特許文献４には、トレンチ領域の比屈折率差を－０．６３％以下という非常に小さな値に設定することで、曲げ損失の低減を図る構造が開示されている。特許文献５には、１２６０ｎｍ未満のファイバカットオフ波長と、１３００～１３２４ｎｍの間のゼロ分散波長を有し、直径１０ｍｍの曲げ損失を低減した光ファイバが開示されている。特許文献６には、トレンチ型光ファイバの製造時間を短縮し、低コスト化を図る設計として、コアとトレンチとの間隔を狭くする方法が開示されている。特許文献７には、トレンチ層の外側に、中間クラッド層と低屈折率層を設けることにより、曲げ損失とシングルモード伝送とを両立させる方法が開示されている。
　また、クラッド層の一部に空気層を有する構造を用いることで、トレンチ型と同様な効果を得る方法も知られている（例えば、特許文献８，９参照）。
　また、別のアプローチとして、高次モードの損失を大きくすることで、カットオフ波長の制限を緩和し、低曲げ損失光ファイバを得る方法も開示されている（例えば、特許文献１０参照）。
　また、非特許文献１には、トレンチ型ファイバの高次モードの挙動に関する一例が開示されている。
特開昭６３－４３１０７号公報 国際公開第２００４／０９２７９４号 国際公開第２００６／０２５２３１号 特表２０１０－５０３０１８号公報 特表２０１０－５０３０１９号公報 特開２００９－８８５０号公報 特開２００７－２７９７３９号公報 国際公開第２００４／０９２７９３号 特表２００９－５４３１２６号公報 特開２００８－３１０３２８号公報
Ｌｏｕｉｓ－Ａｎｎｅ　ｄｅ　Ｍｏｎｔｍｏｒｉｌｌｏｎ，　ｅｔ　ａｌ，"Ｒｅｃｅｎｔ　Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔｓ　ｏｆＢｅｎｄ－ｉｎｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　ａｎｄ　Ｕｌｔｒａ－ｂｅｎｄ－ｉｎｓｅｎｓｉｔｉｖｅ　Ｆｉｂｅｒｓ　Ｆｕｌｌｙ　Ｃｏｍｐｌｉａｎｔ　ｗｉｔｈ　Ｂｏｔｈ　Ｇ．６５７．Ｂ　ａｎｄ　Ｇ．６５２．Ｄ　ＩＴＵ－Ｔ　Ｒｅｃｏｍｍｅｎｄａｔｉｏｎｓ"，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　ｔｈｅ　５８ｔｈ　ＩＷＣＳ／ＩＩＣＩＴ，Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ　Ｗｉｒｅ　＆　Ｃａｂｌｅ　Ｓｙｍｐｏｓｉｕｍ，２００９年，ｐｐ．２７０－２７６
　しかしながら、空孔アシストファイバ（ＨＡＦ）又はＣｌｅａｒＣｕｒｖｅ（登録商標）のように空孔を有する構造は、トレンチ型光ファイバのように空孔を持たない中実ガラス構造の光ファイバに比べて、接続が課題となる。例えば、融着接続の際には正確なコア調芯が必要になるため、多くの融着接続器には、光ファイバの側面の観察画像を解析することによりコアを検知し調芯するコア直視法が装備されている。しかし、クラッドに空孔が存在する場合には、側面画像によるコアの位置確認が不可能であるため、クラッド径を基準とした外径調芯法に頼らざるを得ない。外径調芯法では、クラッド外接円に対するコアの偏心の影響を受けるため、コア直視法に比べて接続損失が大きくなり易いという問題がある。
　また、特許文献１０の光ファイバは、非常に構造が複雑であり、高度な製造技術が必要になる上、トレンチ型構造に比べてより広い範囲に低屈折率の層が設けられるため、屈折率を低下されるドーパントがより多量に必要となり、製造コストの点でも問題となる。
　通常のトレンチ型構造の場合でも、トレンチの比屈折率差が、例えば、特許文献４，５に例示されているように－０．７％又は－０．５％程度に小さく設定されると、トレンチを形成するためのドーパントがより多量に必要となり、製造コスト増加の点でも問題となる。トレンチ構造の光ファイバは、種々の製法により製造することが可能であるが、製造方法によっては、トレンチ層を形成する原材料費の抑制が課題となる。
　図３は、ＭＶＣＤ法によりトレンチ層を形成した場合の四フッ化ケイ素（ＳｉＦ４）の分圧と、得られるフッ素添加石英ガラスの比屈折率差との関係の一例を示している。得られるガラスの比屈折率差は、ほぼＳｉＦ４分圧の１／４乗に比例する変化を示す。このため、－０．５％を下回るような比屈折率差Δが必要となる構造では、原材料ガスＳｉＦ４の使用量が劇的に増加する。例えば、－０．５％の比屈折率差Δを得るには、－０．２％の比屈折率差Δを得る場合の約２０倍のＳｉＦ４分圧に設定する必要がある。
　特許文献６は、原材料費を低減するために低屈折率層をコアに近づける設計をしているが、曲げ損失を低減するためには大きな負の比屈折率差を有するトレンチを設けざるを得ないため、コストダウンへの効果は限定的である。また、トレンチとコアを極度に近接させた場合、波長分散などの光学特性が国際勧告から解離してしまうため、低屈折率層をコアに近づけるにも限度がある。
　一方で、トレンチ構造を有する光ファイバは、通常のＳＭＦに比べて高次モードの損失が小さいという問題がある。この傾向は、カットオフ波長の条長依存性の違いとして現れてくる。例えば、非特許文献１には、トレンチ型ファイバの高次モードの挙動に関する一例が開示され、そのＦｉｇｕｒｅ２には、ＬＰ１１　Ｌｅａｋａｇｅ　Ｌｏｓｓの波長依存性が示されている。２２ｍのケーブルカットオフ波長λｃ２２ｍに相当する１ｄＢ／ｍのライン上における波長の比較を行うと、３種類の光ファイバの当該波長は、１２２５～１２６０ｎｍの範囲に分布しており、ＩＴＵ－Ｔ等で規定されるケーブルカットオフ波長１２６０ｎｍ以下を満足する光ファイバとなっている。
　通信で使われる波長１３１０ｎｍにおける損失について比較を行うと、光ファイバの損失は、２ｄＢ／ｍから１２ｄＢ／ｍ程度となっている。このため、数ｍの短尺で光ファイバを使用する場合には、高次モードが十分に減衰せず、通信の妨げになる可能性がある。このような挙動は、２２ｍのケーブルカットオフ波長λｃ２２ｍと２ｍのファイバカットオフ波長λｃ２ｍとの差分を指標にすると比較し易い。非特許文献１で提示されている３種類の光ファイバの場合、その差分は６３～１４６ｎｍとなっている。
　径の小さい、例えば、曲げ半径５ｍｍにおける曲げ損失を改善するようにトレンチ型の光ファイバを設計した場合、この差分λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが長くなる傾向がある。このため、同等の曲げ特性を有しながらカットオフの差分が小さくなる構造があれば望ましい。
　本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、低コストにて製造可能な低曲げ損失光ファイバを提供することを課題とする。
　前記課題を解決するため、本発明の一態様の光ファイバは、中心部に設けられたコアと、前記コアの周囲に設けられ、前記コアの屈折率よりも低い屈折率を有する内側クラッド層と、前記内側クラッド層の外周部に設けられ、異なる屈折率を有する２つ以上の層によって構成されたトレンチ層と、前記トレンチ層の外周部に設けられた最外層クラッド層とを備える。前記トレンチ層において、最も屈折率が高い層は、前記トレンチ層の最外層を構成する。前記最外層クラッド層の屈折率を基準にした比屈折率差として、コアの比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層において最も屈折率が高い層の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層において最も屈折率が低い層の比屈折率差はΔｔｍｉｎとおき、トレンチ層の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層の外縁の半径をｒｏｕｔ、トレンチ層において最も屈折率が高い層の内縁の半径をｒｔｍａｘとしたとき、
　Δｃｏｒｅ＞Δｉｃ＞Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎ、
　－０．１５％≧Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎ≧－０．７％、
及び、
　０．４５≦（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．９
という関係を満たす。
　本発明の一態様の光ファイバにおいては、前記トレンチ層において、
　－０．４０％≧Δｔｍｉｎ≧－０．５０％、
及び
　－０．１５％≧Δｔｍａｘ≧－０．２５％
という関係を満たすことが好ましい。
　本発明の一態様の光ファイバにおいては、前記トレンチ層において、
　０．７≦（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．９
という関係を満たすことが好ましい。
　本発明の一態様の光ファイバにおいては、前記トレンチ層において、
　０．７≦（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．８
という関係を満たすことが好ましい。
　本発明の一態様の光ファイバにおいては、前記トレンチ層において、最も屈折率が低い層は、前記トレンチ層の最内層を構成することが好ましい。
　トレンチ層が屈折率の異なる２層で構成されている場合、屈折率が低い層がトレンチ層の内側に配置され、屈折率が高い層がトレンチ層の外側に配置される。トレンチ層が屈折率の異なる３層以上からなる場合、前記トレンチ層において最も屈折率が低い層が前記トレンチ層の最内層（内側クラッド層に近い層）に位置する構成を採用することもできる。
　本発明の一態様の光ファイバにおいては、前記最外層クラッド層は、純粋石英ガラスで形成され、前記トレンチ層は、フッ素が添加された石英ガラスで形成されていることが好ましい。
　本発明によれば、上記要件を満足することにより、低コストでありながら従来のトレンチ構造と同様な低曲げ損失を有する光ファイバを得ることが可能になる。
第１実施形態に係る光ファイバの屈折率分布を模式的に示す図である。 第２実施形態に係る光ファイバの屈折率分布を模式的に示す図である。 ＭＣＶＤ法によりトレンチ層を形成した場合のＳｉＦ４の分圧と得られるガラスの比屈折率差との関係の一例を示すグラフである。 （ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する相対ＳｉＦ４使用量の変化の一例を示すグラフである。 （ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する２ｍと２２ｍにおけるカットオフ波長差の変化の一例を示すグラフである。 従来のトレンチ型光ファイバの屈折率分布の一例を示す図である。 実施例１について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１５５０ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例１について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１６２５ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例１について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対するλｃ２ｍ－λｃ２２ｍをプロットしたグラフである。 実施例１について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する相対ＳｉＦ４使用量をプロットしたグラフである。 実施例２について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１５５０ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例２について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１６２５ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例２について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対するλｃ２ｍ－λｃ２２ｍをプロットしたグラフである。 実施例２について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する相対ＳｉＦ４使用量をプロットしたグラフである。 実施例３について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１５５０ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例３について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１６２５ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例３について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対するλｃ２ｍ－λｃ２２ｍをプロットしたグラフである。 実施例３について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する相対ＳｉＦ４使用量をプロットしたグラフである。 実施例４について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１５５０ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例４について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する波長１６２５ｎｍでの曲げ損失をプロットしたグラフである。 実施例４について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対するλｃ２ｍ－λｃ２２ｍをプロットしたグラフである。 実施例４について（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する相対ＳｉＦ４使用量をプロットしたグラフである。
　以下、好適な実施の形態に基づき、図面を参照して本発明を説明する。
　図１に、本発明の第１実施形態に係る光ファイバの屈折率分布を模式的に示す。この光ファイバＦ１は、コア１１、内側クラッド層１２、トレンチ層１３、及び最外層クラッド層１４を備える。コア１１は、光ファイバＦ１の中心部に配置されている。内側クラッド層１２は、コア１１の周囲に配置され、コア１１よりも低い屈折率を有する。トレンチ層１３は、内側クラッド層１２の外周部に配置されており、屈折率の異なる２層１５，１６（第１屈折率層１５，第２屈折率層１６）によって構成されている。最外層クラッド層１４は、トレンチ層１３の外周部に配置されている。
　ここで、第１屈折率層１５（最外層）は、最も屈折率が高い層であり、第２屈折率層１６は、最も屈折率が低い層（最内層）である。
　また、図２に、本発明の第２実施形態に係る光ファイバの屈折率分布を模式的に示す。この光ファイバＦ２は、コア２１、内側クラッド層２２、トレンチ層２３、及び最外層クラッド層２４を備える。コア２１は、光ファイバＦ２の中心部に配置されている。内側クラッド層２２は、コア２１の周囲に配置され、コア２１よりも低い屈折率を有する。トレンチ層２３は、内側クラッド層２２の外周部に配置されており、屈折率の異なる３層２５，２６，２７（第１屈折率層２５，第２屈折率層２７，第３屈折率層２６）によって構成されている。最外層クラッド層２４は、トレンチ層２３の外周部に配置されている。
　ここで、第１屈折率層２５は、最も屈折率が高い層（最外層）であり、第２屈折率層２７は、最も屈折率が低い層（最内層）である。
　上記の第１及び第２実施形態の光ファイバは、最外層クラッド層１４，２４の屈折率を基準にした比屈折率差として、コア１１，２１の比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層１２，２２の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層１３において最も屈折率が高い層１５の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層２３において最も屈折率が高い層２５の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層１３において最も屈折率が低い層１６の比屈折率差はΔｔｍｉｎ、トレンチ層２３において最も屈折率が低い層２７の比屈折率差はΔｔｍｉｎとおくとき、Δｃｏｒｅ＞Δｉｃ＞Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎの関係を有する。
　ここで、Δｃｏｒｅ＞Δｉｃは、内側クラッド層１２，２２がコア１１，２１よりも低い屈折率を有することに対応し、Δｉｃ＞Δｔｍａｘは、トレンチ層１３に含まれる各層１５～１６が、内側クラッド層１２よりも低い屈折率を有することを意味し、トレンチ層２３に含まれる各層２５～２７が、内側クラッド層２２よりも低い屈折率を有することを意味する。また、Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎは、トレンチ層１３，２３が屈折率の異なる複数の層で形成されていることを意味する。
　トレンチ層１３の屈折率は、最外層クラッド層１４の屈折率よりも低い。また、トレンチ層２３の屈折率は、最外層クラッド層２４の屈折率よりも低い。したがって、Δｔｍａｘ及びΔｔｍｉｎは、負の値に設定される。トレンチ層１３，２３の比屈折率差の範囲は、基本モードの閉じ込め効果又はドーパント量など、光学特性又は製造コスト等の各種要因を考慮して適宜設定することが望ましく、例えば、比屈折率差は、－０．１５％～－１．０％の範囲内が好ましい。すなわち、比屈折率差は、－０．１５％≧Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎ≧－０．７％を満足することが好ましい。
　比屈折率差Δｔｍａｘの範囲は、好ましくは－０．１５％≧Δｔｍａｘ＞－０．７％であり、より好ましくは－０．１５％≧Δｔｍａｘ≧－０．２５％である。
　比屈折率差Δｔｍｉｎの範囲は、好ましくは－０．１５％＞Δｔｍｉｎ≧－０．７％であり、より好ましくは－０．３％≧Δｔｍｉｎ≧－０．７％である。
　Δｔｍａｘ－Δｔｍｉｎの差の範囲は、好ましくは０．５５％≧Δｔｍａｘ－Δｔｍｉｎ≧０．１％であり、より好ましくは０．３５％≧Δｔｍａｘ－Δｔｍｉｎ≧０．１５％である。
　さらに、トレンチ層１３において、屈折率が高い層１５はトレンチ層１３の最外層に設けられ、層１５の内側には、屈折率がより低い層１６が設けられている。トレンチ層２３において、屈折率が高い層２５はトレンチ層３の最外層に設けられ、層２５の内側には、屈折率がより低い層２６，２７が設けられている。これにより、内側クラッド層１２，２２に対する屈折率の差がより大きくなり、トレンチ層１３，２３による基本モードの電界を閉じ込め、曲げ損失の低減を実現できる。
　また、屈折率を下げるフッ素Ｆ等のドーパントの量は、屈折率が低い層ではより多く、屈折率が高い層ではより少なくなる。ドーパント量が最も少ない層１５，２５が最も半径が大きい最外層として存在することにより、トレンチ層１３，２３に使用するドーパントの量をより低減して、製造コストを抑制することができる。
　図２に示すようにトレンチ層２３が３層以上の層２５～２７によって構成されている場合、最も屈折率が低い層２７がトレンチ層２３の最内層となるようにトレンチ層２３を形成することもできる。このように、ドーパント量が最も多い層２７が最も半径が小さい最内層として存在することにより、トレンチ層２３に使用するドーパントの量をより低減して、製造コストを抑制しつつ、基本モードの電界を閉じ込めて曲げ損失を低減する効果を高めることができる。
　最外層クラッド層１４，２４は、純粋石英ガラスで構成されており、トレンチ層１３を構成する層１５，１６又はトレンチ層２３を構成する層２５～２７は、フッ素が添加された石英ガラスで形成されていることが好ましい。
　コア１１，２１は、ゲルマニウムＧｅ等の屈折率を上げるドーパントを１種または２種以上添加した石英ガラスで構成しても良い。
　内側クラッド層１２，２２は、屈折率を上げるドーパントを添加してもよく、屈折率を下げるドーパントを添加してもよく、いずれのドーパントも添加されない純粋石英ガラスから構成されてもよい。
　屈折率分布を構成する各層は、ＭＣＶＤ法、ＰＣＶＤ法、ＶＡＤ法、ＯＶＤ法などの公知の方法、又はこれらの方法が組み合わされた方法により形成することができる。例えば、ＭＣＶＤ法でトレンチ層１３を形成する場合、最外層クラッド層１４のうちトレンチ層１３の外縁に近接する一部に相当する石英ガラス管を用いる。或いは、ＭＣＶＤ法でトレンチ層２３を形成する場合、最外層クラッド層２４のうちトレンチ層２３の外縁に近接する一部に相当する石英ガラス管を用いる。更に、ガラス管の内側にＳｉとＦを含む１種または２種以上の原材料を用いてトレンチ層１３，２３の組成を有するガラスを堆積させる。このときＦを含む原材料の使用量を変化させることにより、屈折率の異なる２つ以上の層によって構成されたトレンチ層１３，２３を形成することができる。ＭＣＶＤ法の場合、さらにトレンチ層１３の内側に内側クラッド層１２とコア１１を順に形成することができる。或いは、トレンチ層２３の内側に内側クラッド層２２とコア２１を順に形成することができる。コア１１，２１の形成方法としては、コアロッドとして別途形成されたコアを内側に挿入して、上述した層と一体化しても良い。最外層クラッド層１４，２４の形成方法としては、出発ガラス管の外側にクラッド層を外付けによって必要な厚さが得られるまで外径を増大させながらクラッド層１４，２４を形成することもできる。光ファイバ母材の線引きによって光ファイバを製造することができるので、光ファイバ母材における屈折率分布は、光ファイバにおける屈折率分布を相似的に拡大した分布を有する。
　コア１１，２１の半径ｒｃｏｒｅ及び比屈折率差Δｃｏｒｅは、ＭＦＤが国際勧告にある８．６～９．５μｍまたはその周辺の値をとるよう、内側クラッド層１２，２２の半径ｒｉｎ及び比屈折率差Δｉｃとの関係を考慮しつつ、適宜設定することが好ましい。
　トレンチ層１３，２３の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層１３，２３の外縁の半径をｒｏｕｔ、トレンチ層１３，２３において最も屈折率が高い層１５，２５の内縁の半径をｒｔｍａｘとしたとき、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）で表される比の値は、０．７～０．９の範囲内であることが好ましい。
　なお、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）＝１．０の場合は、図６に示すように比屈折率差ΔｔがΔｔｍｉｎの通常のトレンチ構造を意味する。
　また、比屈折率差Δが小さいほど原料であるＳｉＦ４の使用量が増大するため、トレンチ外層の比屈折率差Δｔｍａｘが大きくなる構造を取ることにより、原料費を効果的に低減することができる。
　図４に、図１に示すようにトレンチ層１３が２層からなる場合で、ｒｉｎ／ｒｃｏｒｅ＝２．２５、ｒｏｕｔ／ｒｃｏｒｅ＝３．９、Δｉｃ＝０．０％、Δｔｍｉｎ＝－０．５％、Δｔｍａｘ＝－０．２０％の場合のＳｉＦ４使用量の変化の一例を示す。この場合のＳｉＦ４使用量は、ガラス中に取り込まれるＦの量に基づいており、堆積効率の影響は含んでいない。
　（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）を０．９以下とすることにより、通常トレンチ構造に比べてＳｉＦ４使用量を約１０％低減することができる。（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）を０．８以下とすることにより、通常トレンチ構造に比べてＳｉＦ４使用量を約２０％以上低減することができる。さらに、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．５では、通常トレンチ構造に比べてＳｉＦ４使用量を約５０％以上低減でき、より好適である。
　さらに、上述した図３に例示するＭＣＶＤプロセスのように、スートの堆積とガラス化を連続して行うプロセスにおいては、堆積したガラスが原料のＦを添加したガスによりエッチングされるため、堆積効率が低下するという課題がある。このため、ＳｉＦ４使用量の低減効果は、図４に示す計算結果以上に大きくなる。
　なお、ガラスのＦドープに用いられる原料ガスは、ＳｉＦ４に限られず、そのほか、ＣＦ４、ＳＦ６、Ｆ２等又はこれらの原料ガスのうち１種以上を含む混合ガスを用いることもできる。これらのＦを含むガスはいずれも高価であるため、原料ガスの種類によらず、トレンチ外層の比屈折率差Δｔｍａｘが大きくなる構造を取ることにより、原料費を効果的に低減することができる。
　さらに、上述した実施形態の光ファイバには、高次モードを速やかに（すなわち、条長が短尺でも）減衰させるというメリットがある。図５は、図１に示すようにトレンチ層１３が２層からなる場合で、ｒｉｎ／ｒｃｏｒｅ＝２．２５、ｒｏｕｔ／ｒｃｏｒｅ＝３．９、Δｉｃ＝０．０％、Δｔｍｉｎ＝－０．５％、Δｔｍａｘ＝－０．１５％または－０．１８％または－０．２０％の各々について、２ｍと２２ｍにおけるカットオフ波長の差λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）に対する依存性を示している。通常のトレンチ構造である（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）＝１の場合、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍは１４８ｎｍとなる。なお、トレンチ構造を有しない単純なコア－クラッド構造を有する通常のＳＭＦの場合、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍは５０ｎｍ程度である。
　上述の非特許文献１には、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが１５０ｎｍ程度であっても実用上は問題のないことが示されているが、短尺での使用を考慮した場合、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍはできるだけ短いことが望ましい。
　図５から分かるように、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）を適切に設定することにより、ｒ＝５ｍｍの曲げ損失を劣化させることなく、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを小さくすることが可能である。（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．８以下であればλｃ２ｍ－λｃ２２ｍを通常トレンチ構造に比べて１０ｎｍ程度、さらに（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）を０．５以下にするとλｃ２ｍ－λｃ２２ｍを４０ｎｍ程度、短くすることが可能である。
　以下、実施例をもって本発明を具体的に説明する。
（比較例１）
　この後に述べる各実施例においては、実施例を互いに比較するために、従来のトレンチ構造で作製された光ファイバの例を示す。
　図６に、従来のトレンチ構造による光ファイバの屈折率分布を模式的に示す。この光ファイバは、中心部に配置されるコア１と、コア１の周囲に配置されてコア１よりも低い屈折率を有する内側クラッド層２と、内側クラッド層２の外周部に配置されるトレンチ層３と、トレンチ層１３の外周部に配置される最外層クラッド層４とを備える。最外層クラッド層４の屈折率を基準にした比屈折率差として、コア１の比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層２の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層３の比屈折率差はΔｔ、コア１の半径をｒｃｏｒｅ、トレンチ層３の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層３の外縁の半径をｒｏｕｔとする。
　比較例１における各パラメータの数値を表１に、特性を表２に示す。また、波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失（ｄＢ／ｔｕｒｎ）を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
（参考例１）
　図１に示す２層のトレンチ構造により、参考例１の光ファイバを構成した。最外層クラッド層１４の屈折率を基準にした比屈折率差として、コア１１の比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層１２の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層１３において最も屈折率が高い層１５の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層１３において最も屈折率が低い層１６の比屈折率差はΔｔｍｉｎ、コア１１の半径をｒｃｏｒｅ、トレンチ層１３の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層１３の外縁の半径をｒｏｕｔ、トレンチ層１３において最も屈折率が高い層１５の内縁の半径をｒｔｍａｘとする。
　参考例１における各パラメータの数値を表４に、特性を表５に示す。また、波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失（ｄＢ／ｔｕｒｎ）を表６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　参考例１は、曲げ損失、ＭＦＤ、ゼロ分散波長λ０、ゼロ分散スロープＳ０に関して比較例１とほぼ同じ特性を有し、さらに、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが１０５ｎｍであり、比較例１よりも４０ｎｍ程度短くできている。（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）は約０．４５であり、図４によれば、ＳｉＦ４使用量を比較例１に比べて約５５％低減することができる。
（参考例２）
　図２に示す３層のトレンチ構造により、参考例２の光ファイバを構成した。最外層クラッド層２４の屈折率を基準にした比屈折率差として、コア２１の比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層２２の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層２３において最も屈折率が高い層２５の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層２３において屈折率が中間の値をとる層２６の比屈折率差はΔｔｍｉｄ、トレンチ層２３において最も屈折率が低い層２７の比屈折率差はΔｔｍｉｎ、コア２１の半径をｒｃｏｒｅ、トレンチ層２３の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層２３の外縁の半径をｒｏｕｔ、トレンチ層２３において最も屈折率が高い層２５の内縁の半径をｒｔｍａｘ、トレンチ層２３において屈折率が中間の値をとる層２６の内縁の半径をｒｔｍｉｄとする。
　参考例２における各パラメータの数値を表７に、特性を表８に示す。また、波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失（ｄＢ／ｔｕｒｎ）を表９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　参考例２は、曲げ損失、ＭＦＤ、ゼロ分散波長λ０、ゼロ分散スロープＳ０に関して比較例１とほぼ同じ特性を有し、さらに、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが１０１ｎｍであり、比較例１よりも４７ｎｍ程度短くできている。
　（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）は約０．６３であり、参考例１より大きいが、トレンチ層２３を３層に分割することにより、比屈折率差Δが－０．５％の層の断面積を減らすことが可能である。このため、参考例２は比較例１に対してＳｉＦ４使用量を約７５％低減でき、参考例１（比較例１に比べて約５５％低減）よりも大きな低減が可能である。
（実施例１）
　図１に示す２層のトレンチ構造により、実施例１の光ファイバを構成した。最外層クラッド層１４の屈折率を基準にした比屈折率差として、コア１１の比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層１２の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層１３において最も屈折率が高い層１５の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層１３において最も屈折率が低い層１６の比屈折率差はΔｔｍｉｎ、コア１１の半径をｒｃｏｒｅ、トレンチ層１３の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層１３の外縁の半径をｒｏｕｔ、トレンチ層１３において最も屈折率が高い層１５の内縁の半径をｒｔｍａｘとする。実施例１では、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が表１２に示す値となるようにｒｔｍａｘを設定し、それぞれに対して、表１０に示すようにλｃ２２ｍが１２２０ｎｍ、波長１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８．６μｍとなるようにΔｃｏｒｅを調整して、光ファイバを設計した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　実施例１における屈折率分布のパラメータは、表１１に示すとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000011
　また、各（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）の値での波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに単層トレンチ構造でのＳｉＦ４使用量を基準としたＳｉＦ４使用量の比（相対ＳｉＦ４使用量）を表１２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000012
　なお、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）＝１．００の例は、従来設計型の単層トレンチ構造の光ファイバである。
　（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０～０．９０の場合、従来設計型の単層トレンチ構造と同等またはそれ以下の曲げ損失を持つ２層トレンチ構造の光ファイバを作製することが可能となる。（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０のとき、従来設計型の単層トレンチ構造に比べて、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを２７ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約３５％低減できる。また、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．９０においても、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを約１０ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約１０％低減できる。
　表１２に示す曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍ及び相対ＳｉＦ４使用量をプロットしたグラフを図７～１０に示す。
（実施例２）
　実施例１と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤ（表１０参照）において設計した２層トレンチ構造において、Δｔｍｉｎを－０．５０％とした例を実施例２とした。実施例２における屈折率分布のパラメータは、表１３に示すとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000013
　各（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）の値での波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表１４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000014
　（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０～０．９０で、好ましくは０．７０～０．８０の場合、従来設計型の単層トレンチ構造と同等またはそれ以下の曲げ損失を持つ２層トレンチ構造の光ファイバを作製することが可能となる。（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０のとき、従来設計型の単層トレンチ構造に比べて、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを２５ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約３６％低減できる。また、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．９０においても、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを約５ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約１０％低減できる。
　表１４に示す曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍ及び相対ＳｉＦ４使用量をプロットしたグラフを図１１～１４に示す。
（実施例３）
　実施例１と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤ（表１０参照）において設計した２層トレンチ構造において、Δｔｍａｘを－０．１５％あるいは－０．２５％とした例を実施例３とした。
　各（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）の値での波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表１５，１６に示す。なお、表１５，１６は、Δｔｍａｘがそれぞれ－０．１５％，－０．２５％の場合に対応している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
　曲げ半径５ｍｍ及び１５ｍｍでの波長１５５０ｎｍにおける曲げ損失を図１５に、同じ曲げ半径での波長１６２５ｎｍにおける曲げ損失を図１６に示す。図１５及び図１６において、図の上部に示された実線が曲げ半径５ｍｍでの曲げ損失を示しており、図の下部に示された破線が曲げ半径１５ｍｍでの曲げ損失を示している。また、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを図１７に、相対ＳｉＦ４使用量を図１８に示す。なお、図１５～１８では、実施例１に挙げたΔｔｍａｘが－０．２０％である場合のデータも併せてプロットしている。
　図１５及び図１６に示したように、－０．１５％≧Δｔｍａｘ≧－０．２５％に対して、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０～０．９０の場合、従来設計型の単層トレンチ構造と同等またはそれ以下の曲げ損失を持つ２層トレンチ構造の光ファイバを作製することが可能となる。
　図１７及び図１８に示したように、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０のとき、従来設計型の単層トレンチ構造に比べて、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを約２０～４０ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約３５％低減できる。また、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．９０においても、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを約８～１５ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約１０％低減できる。
（実施例４）
　実施例１と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤ（表１０参照）において設計した２層トレンチ構造において、Δｔｍｉｎを－０．５０％、Δｔｍａｘを－０．１５％あるいは－０．２５％とした例を実施例４に示す。つまり、Δｔｍｉｎは実施例２と等しく、Δｔｍａｘのみを実施例２から変更した。
　各（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）の値での波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表１７，１８に示す。なお、表１７，１８は、Δｔｍａｘがそれぞれ－０．１５％，－０．２５％の場合に対応している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
　曲げ半径５ｍｍ及び１５ｍｍでの波長１５５０ｎｍにおける曲げ損失を図１９に示し、同じ曲げ半径での波長１６２５ｎｍにおける曲げ損失を図２０に示す。図１９及び図２０において、図の上部に示された実線が曲げ半径５ｍｍでの曲げ損失を示しており、図の下部に示された破線が曲げ半径１５ｍｍでの曲げ損失を示している。また、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを図２１に、相対ＳｉＦ４使用量を図２２に示す。なお、図１９～２２では、実施例２に挙げたΔｔｍａｘが－０．２０％である場合のデータも併せてプロットしている。
　図１９及び図２０に示したように、－０．１５％≧Δｔｍａｘ≧－０．２５％に対して、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０～０．９０の場合、従来設計型の単層トレンチ構造と同等またはそれ以下の曲げ損失を持つ２層トレンチ構造の光ファイバを作製することが可能となる。
　図２１及び図２２に示したように、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．７０のとき、従来設計型の単層トレンチ構造に比べて、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを約１５～３０ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約３５％低減できる。また、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．９０においても、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍを約５～８ｎｍ短くでき、ＳｉＦ４使用量を約１０％低減できる。
（実施例５）
　λｃ２２ｍが１２６０ｎｍ、波長１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８．６μｍとなる条件で、Δｔｍｉｎを－０．７０％とし、Δｔｍａｘを－０．１５％として２層トレンチ構造を設計した。
　各（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）の値での波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表１９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
 　曲げ損失を２層トレンチ構造と従来の単層トレンチ構造で比べると、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．４５～０．９４において、曲げ半径５ｍｍの曲げ損失に関して、２層トレンチ構造の曲げ損失は、従来の単層トレンチ構造の曲げ損失とほぼ同じである。また、曲げ半径１５ｍｍの曲げ損失に関して、２層トレンチ構造の曲げ損失は、従来の単層トレンチ構造の曲げ損失よりも小さくなる。（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．４５のとき、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍは単層トレンチ構造の場合よりも６６ｎｍ短くなり、ＳｉＦ４使用量を６１％低減できる。
（実施例６）
　実施例５と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤにおいて設計した２層トレンチ構造において、Δｔｍｉｎを－０．３０％、Δｔｍａｘを－０．２０％とした例を実施例６に示した。各（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）の値での波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表２０に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
 　曲げ損失を２層トレンチ構造と単層トレンチ構造で比べると、（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．５８～０．９４において、曲げ半径５ｍｍの曲げ損失に関して、２層トレンチ構造の曲げ損失は、単層トレンチ構造の曲げ損失とほぼ同じである。また、曲げ半径１５ｍｍの曲げ損失に関して、２層トレンチ構造の曲げ損失は、単層トレンチ構造の曲げ損失よりも小さくなる。（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）が０．５８のとき、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍは単層トレンチ構造の場合よりも２９ｎｍ短くなり、ＳｉＦ４使用量を４２％低減できる。
（実施例７）
　λｃ２２ｍが１２６０ｎｍ、波長１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８．９μｍとなる条件で、図２に示す３層トレンチ構造を設計した。実施例７における各パラメータの数値を表２１に示す。また、実施例７と比較するために、図６で表わされるような従来のトレンチ構造で、実施例７と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤにおいて構成された例を比較例２とし、そのパラメータを表２２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
 　波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表２３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
 　従来のトレンチ構造である比較例２と比べ、実施例７では、曲げ損失が同等以下であり、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが１７ｎｍ短くなり、ＳｉＦ４使用量を４４％低減できる。
（実施例８）
　λｃ２２ｍが１２６０ｎｍ、波長１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８．９μｍとなる条件で、図２に示す３層トレンチ構造を設計した。実施例８における各パラメータの数値を表２４に示す。また、実施例８と比較するために、図６で表わされるような従来のトレンチ構造で、実施例８と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤにおいて構成された例を比較例３に示し、そのパラメータを表２５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
 　波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表２６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026
 　従来のトレンチ構造である比較例３と比べ、実施例８では、曲げ損失が同等であり、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが２０ｎｍ短くなり、ＳｉＦ４使用量を２７％低減できる。
（実施例９）
　λｃ２２ｍが１２６０ｎｍ、波長１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８．６μｍとなる条件で、図２に示す３層トレンチ構造を設計した。実施例９における各パラメータの数値を表２７に示す。また、実施例９と比較するために、図６で表わされるような従来のトレンチ構造で、実施例９と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤにおいて構成された例を比較例４に示し、そのパラメータを表２８に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000027
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000028
 　波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表２９に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000029
 　従来のトレンチ構造である比較例４と比べ、実施例９では、曲げ損失が同等以下であり、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが３０ｎｍ短くなり、ＳｉＦ４使用量を４６％低減できる。
（実施例１０）
　λｃ２２ｍが１２６０ｎｍ、波長１３１０ｎｍにおけるＭＦＤが８．６μｍとなる条件で、図２に示す３層トレンチ構造を設計した。実施例１０における各パラメータの数値を表３０に示す。また、実施例１０と比較するために、図６で表わされるような従来のトレンチ構造で、実施例１０と同様のλｃ２２ｍ及びＭＦＤにおいて構成された例を比較例５とし、そのパラメータを表３１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
 　波長１５５０ｎｍ及び１６２５ｎｍにおける各種の曲げ半径における曲げ損失、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍの差、ならびに相対ＳｉＦ４使用量を表３２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
 　従来のトレンチ構造である比較例５と比べ、実施例１０では、曲げ損失が同等以下であり、λｃ２ｍ－λｃ２２ｍが２６ｎｍ短くなり、ＳｉＦ４使用量を３９％低減できる。
　なお、本発明の技術範囲は、上記実施形態に限定されることなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
　１１，２１…コア、１２，２２…内側クラッド層、１３．２３…トレンチ層、１４，２４…最外層クラッド層、１５，２５…トレンチ層において最も屈折率が高い層、１６，２７…トレンチ層において最も屈折率が低い層。
 

Claims (6)

  1. 　光ファイバであって、
    　中心部に設けられたコアと、
    　前記コアの周囲に設けられ、前記コアの屈折率よりも低い屈折率を有する内側クラッド層と、
    　前記内側クラッド層の外周部に設けられ、異なる屈折率を有する２つ以上の層によって構成されたトレンチ層と、
    　前記トレンチ層の外周部に設けられた最外層クラッド層と、
    を備え、
    　前記トレンチ層において、最も屈折率が高い層は、前記トレンチ層の最外層を構成し、
    　前記最外層クラッド層の屈折率を基準にした比屈折率差として、コアの比屈折率差はΔｃｏｒｅ、内側クラッド層の比屈折率差はΔｉｃ、トレンチ層において最も屈折率が高い層の比屈折率差はΔｔｍａｘ、トレンチ層において最も屈折率が低い層の比屈折率差はΔｔｍｉｎとおき、
    　トレンチ層の内縁の半径をｒｉｎ、トレンチ層の外縁の半径をｒｏｕｔ、トレンチ層において最も屈折率が高い層の内縁の半径をｒｔｍａｘとしたとき、
    　Δｃｏｒｅ＞Δｉｃ＞Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎ、
    　－０．１５％≧Δｔｍａｘ＞Δｔｍｉｎ≧－０．７％、
    及び、
    　０．４５≦（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．９
    という関係を満たすことを特徴とする光ファイバ。
  2. 　請求項１に記載の光ファイバであって、
    　前記トレンチ層において、
    　－０．４０％≧Δｔｍｉｎ≧－０．５０％、
    及び
    　－０．１５％≧Δｔｍａｘ≧－０．２５％
    という関係を満たすことを特徴とする光ファイバ。
  3. 　請求項１又は請求項２に記載の光ファイバであって、
    　前記トレンチ層において、
    　０．７≦（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．９
    という関係を満たすことを特徴とする光ファイバ。
  4. 　請求項１又は請求項２に記載の光ファイバであって、
    　前記トレンチ層において、
    　０．７≦（ｒｔｍａｘ－ｒｉｎ）／（ｒｏｕｔ－ｒｉｎ）≦０．８
    という関係を満たすことを特徴とする光ファイバ。
  5. 　請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の光ファイバであって、
    　前記トレンチ層において、最も屈折率が低い層は、前記トレンチ層の最内層を構成する
    　ことを特徴とする光ファイバ。
  6. 　請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の光ファイバであって、
    　前記最外層クラッド層は、純粋石英ガラスで形成され、前記トレンチ層は、フッ素が添加された石英ガラスで形成されている
    　ことを特徴とする光ファイバ。
     
     
PCT/JP2012/067114 2011-07-04 2012-07-04 光ファイバ WO2013005779A1 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201280004025.8A CN103250079B (zh) 2011-07-04 2012-07-04 光纤
JP2013503311A JP5557953B2 (ja) 2011-07-04 2012-07-04 光ファイバ
EP12806985.3A EP2639607B1 (en) 2011-07-04 2012-07-04 Optical fiber
DK12806985.3T DK2639607T3 (en) 2011-07-04 2012-07-04 OPTICAL FIBER
US13/912,584 US9057813B2 (en) 2011-07-04 2013-06-07 Optical fiber

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011148228 2011-07-04
JP2011-148228 2011-07-04
JP2012-102719 2012-04-27
JP2012102719 2012-04-27

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
US13/912,584 Continuation US9057813B2 (en) 2011-07-04 2013-06-07 Optical fiber

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2013005779A1 true WO2013005779A1 (ja) 2013-01-10

Family

ID=47437126

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2012/067114 WO2013005779A1 (ja) 2011-07-04 2012-07-04 光ファイバ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US9057813B2 (ja)
EP (1) EP2639607B1 (ja)
JP (1) JP5557953B2 (ja)
CN (1) CN103250079B (ja)
DK (1) DK2639607T3 (ja)
WO (1) WO2013005779A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015132705A (ja) * 2014-01-14 2015-07-23 ユーヴィックス株式会社 液体ライトガイドとその製造方法
JP2015132706A (ja) * 2014-01-14 2015-07-23 ユーヴィックス株式会社 液体ライトガイド
JP2022507217A (ja) * 2018-11-12 2022-01-18 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光ファイバー構造とビーム成型方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2639607B1 (en) * 2011-07-04 2017-06-21 Fujikura Ltd. Optical fiber
CN105334568B (zh) * 2015-11-30 2018-06-19 中天科技精密材料有限公司 一种低损耗大有效面积单模光纤及其光纤预制棒制造方法
EP3958031A1 (en) * 2020-08-19 2022-02-23 Sterlite Technologies Limited Universal optical fibre with double trench

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6343107A (ja) 1986-08-08 1988-02-24 エィ・テイ・アンド・ティ・コーポレーション 光ファイバ
WO2004092793A1 (ja) 2003-04-17 2004-10-28 Nippon Telegraph And Telephone Corporation 空孔付き単一モード光ファイバ
WO2004092794A1 (ja) 2003-04-11 2004-10-28 Fujikura Ltd. 光ファイバ
WO2006025231A1 (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fujikura Ltd. シングルモード光ファイバ
JP2007279739A (ja) 2006-04-10 2007-10-25 Draka Comteq Bv 単一モード光ファイバ
JP2008310328A (ja) 2007-06-15 2008-12-25 Furukawa Electric North America Inc シングルモード光ファイバの曲げ不感性
JP2009008850A (ja) 2007-06-27 2009-01-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> デュアルガイド光ファイバ
JP2009543126A (ja) 2006-06-30 2009-12-03 コーニング インコーポレイテッド 微細構造伝送光ファイバ
JP2010503018A (ja) 2006-08-31 2010-01-28 コーニング インコーポレイテッド 深凹プロファイルリング構造低曲げ損失光ファイバ
JP2010503019A (ja) 2006-08-31 2010-01-28 コーニング インコーポレイテッド 低曲げ損失シングルモード光ファイバ
JP2010181641A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Fujikura Ltd 光ファイバ
JP2011107672A (ja) * 2009-11-18 2011-06-02 Sehf-Korea Co Ltd 低曲げ損失光ファイバ

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BR9911392A (pt) * 1998-06-25 2001-09-18 Samsung Electronics Co Ltd Pré-configuração de fibra ótica apresentando barreira de oh e seu método de fabricação
JP2006309034A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Sumitomo Electric Ind Ltd マルチモード光ファイバ
US7773847B2 (en) * 2005-04-28 2010-08-10 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Multimode optical fiber
US8374472B2 (en) 2007-06-15 2013-02-12 Ofs Fitel, Llc Bend insensitivity in single mode optical fibers
US8107784B2 (en) * 2007-06-15 2012-01-31 Ofs Fitel, Llc Reduced bend sensitivity and catastrophic bend loss in single mode optical fibers and method of making same
US8081854B2 (en) * 2008-12-19 2011-12-20 Sehf-Korea Co., Ltd. Low bend loss optical fiber
KR20100071901A (ko) * 2008-12-19 2010-06-29 에쓰이에이치에프코리아 (주) 낮은 구부림 손실 광섬유
US8385701B2 (en) * 2009-09-11 2013-02-26 Corning Incorporated Low bend loss optical fiber
US8538219B2 (en) * 2010-10-29 2013-09-17 Corning Incorporated Large effective area optical fiber with low bend loss
EP2639607B1 (en) * 2011-07-04 2017-06-21 Fujikura Ltd. Optical fiber
US8718431B2 (en) * 2011-09-21 2014-05-06 Ofs Fitel, Llc Optimized ultra large area optical fibers
CN102540327A (zh) * 2012-01-10 2012-07-04 长飞光纤光缆有限公司 弯曲不敏感单模光纤

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6343107A (ja) 1986-08-08 1988-02-24 エィ・テイ・アンド・ティ・コーポレーション 光ファイバ
WO2004092794A1 (ja) 2003-04-11 2004-10-28 Fujikura Ltd. 光ファイバ
WO2004092793A1 (ja) 2003-04-17 2004-10-28 Nippon Telegraph And Telephone Corporation 空孔付き単一モード光ファイバ
WO2006025231A1 (ja) 2004-08-30 2006-03-09 Fujikura Ltd. シングルモード光ファイバ
JP2007279739A (ja) 2006-04-10 2007-10-25 Draka Comteq Bv 単一モード光ファイバ
JP2009543126A (ja) 2006-06-30 2009-12-03 コーニング インコーポレイテッド 微細構造伝送光ファイバ
JP2010503018A (ja) 2006-08-31 2010-01-28 コーニング インコーポレイテッド 深凹プロファイルリング構造低曲げ損失光ファイバ
JP2010503019A (ja) 2006-08-31 2010-01-28 コーニング インコーポレイテッド 低曲げ損失シングルモード光ファイバ
JP2008310328A (ja) 2007-06-15 2008-12-25 Furukawa Electric North America Inc シングルモード光ファイバの曲げ不感性
JP2009008850A (ja) 2007-06-27 2009-01-15 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> デュアルガイド光ファイバ
JP2010181641A (ja) * 2009-02-05 2010-08-19 Fujikura Ltd 光ファイバ
JP2011107672A (ja) * 2009-11-18 2011-06-02 Sehf-Korea Co Ltd 低曲げ損失光ファイバ

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LOUIS-ANNE DE MONTMORILLON ET AL.: "Recent Developments of Bend-insensitive and Ultra-bend-insensitive Fibers Fully Compliant with Both G.657.B and G.652.D ITU-T Recommendations", PROCEEDINGS OF THE 58TH IWCS/IICIT, INTERNATIONAL WIRE & CABLE SYMPOSIUM, 2009, pages 270 - 276
See also references of EP2639607A4

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015132705A (ja) * 2014-01-14 2015-07-23 ユーヴィックス株式会社 液体ライトガイドとその製造方法
JP2015132706A (ja) * 2014-01-14 2015-07-23 ユーヴィックス株式会社 液体ライトガイド
JP2022507217A (ja) * 2018-11-12 2022-01-18 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光ファイバー構造とビーム成型方法
JP7329805B2 (ja) 2018-11-12 2023-08-21 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 光ファイバー構造とビーム成型方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5557953B2 (ja) 2014-07-23
EP2639607B1 (en) 2017-06-21
EP2639607A1 (en) 2013-09-18
JPWO2013005779A1 (ja) 2015-02-23
US20130272668A1 (en) 2013-10-17
CN103250079B (zh) 2015-12-09
CN103250079A (zh) 2013-08-14
DK2639607T3 (en) 2017-08-21
US9057813B2 (en) 2015-06-16
EP2639607A4 (en) 2015-01-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5820377B2 (ja) 低曲げ損失の光ファイバ
JP5426411B2 (ja) 実効面積が増大した単一モード光ファイバ
JP5606742B2 (ja) シングルモード光ファイバ
JP5606942B2 (ja) 短いカットオフ波長を有するノンゼロ分散シフト光ファイバ
JP5616245B2 (ja) 大きな実効面積を有するノンゼロ分散シフト光ファイバ
JP5557953B2 (ja) 光ファイバ
WO2011114795A1 (ja) マルチコア光ファイバおよびその製造方法
WO2013108523A1 (ja) マルチコアファイバ
US7668428B2 (en) Optical fiber and optical device
JP5222752B2 (ja) 光ファイバ
JP7094915B2 (ja) 光ファイバ
US9739935B2 (en) Optical fiber and manufacturing method thereof
KR102638033B1 (ko) 광파이버
JP6321589B2 (ja) 光ファイバ
WO2016047675A1 (ja) 光ファイバおよびその製造方法
WO2012128250A1 (ja) 光ファイバ、光ファイバコードおよび光ファイバケーブル
JP5118107B2 (ja) 空孔構造光ファイバ
WO2022034662A1 (ja) マルチコア光ファイバ及び設計方法
JP5356466B2 (ja) ホーリーファイバ
WO2018168170A1 (ja) マルチコアファイバ
US8837888B1 (en) Multimode optical fiber including a core and a cladding
JP2001021748A (ja) 分散シフト光ファイバ

Legal Events

Date Code Title Description
ENP Entry into the national phase

Ref document number: 2013503311

Country of ref document: JP

Kind code of ref document: A

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 12806985

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

REEP Request for entry into the european phase

Ref document number: 2012806985

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2012806985

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE