WO2012150261A1 - Mit akustischen volumenwellen arbeitendes baw-filter - Google Patents

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WO2012150261A1
WO2012150261A1 PCT/EP2012/058028 EP2012058028W WO2012150261A1 WO 2012150261 A1 WO2012150261 A1 WO 2012150261A1 EP 2012058028 W EP2012058028 W EP 2012058028W WO 2012150261 A1 WO2012150261 A1 WO 2012150261A1
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balun
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Gerhard Maurer
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Definitions

  • the present invention relates to an acoustic
  • BAW Bulk Acoustic Wave
  • Eliminate jamming signals involving phase information using balanced (balanced) lines These split the signal out of phase and then add it. In the process, interference signals, which are coupled in uniformly on both lines, cancel each other out as their values are subtracted from one another.
  • the use of balanced lines is particularly useful in reception branches, since low signal strengths are common here.
  • SAW Surface Acoustic Wave
  • signals with a specific phase angle can be picked up. This is not readily possible with a BAW filter.
  • BAW filter technology offers significant advantages in terms of higher edge steepness, a smoother useful band characteristic and a lower temperature coefficient.
  • a BAW filter having an unbalanced, unbalanced output line can be followed by a balun for converting an unbalanced signal into a balanced signal.
  • FBAR Film Bulk Acoustic Resonator
  • This multilayer structure includes two piezoelectric ones
  • an LCR is also arranged together with a BAW filter on a single chip and converts an unbalanced input signal into a balanced output signal. In doing so, an LCR
  • DE 10 2005 003 834 B4 also describes a production method in which first the BAW filter is formed on a chip substrate. In a next step, a cover over the BAW filter and the LCR circuit are made simultaneously.
  • a BAW filter operating with bulk acoustic waves which has a
  • Multi-layer structure an interconnection of passive components is formed, which forms a balun, wherein the balun has at least one inductance and at least one capacitance, which are formed from structured functional layers of the BAW resonator.
  • Each BAW filter has BAW resonators formed by
  • Functional layers of a multilayer structure can be realized.
  • the present invention is based on the idea to use these functional layers also for the realization of a balun.
  • the functional layers can be structured and form passive components.
  • BAW filter according to the invention a BAW resonator and a balun use the same functional layers and therefore can be made of an identical multi-layer structure, the construction of the BAW filter is significantly simplified.
  • the balun is integrated into the BAW filter chip and processed and assembled together with the chip, so that the implementation of the balun no additional effort in the
  • balun production methods and techniques that are commonly used for chip production
  • the functional layers of a BAW resonator may include an acoustic mirror, a first electrode, a
  • piezoelectric layer piezoelectric layer, a second electrode and a
  • the acoustic mirror prevents bulk acoustic waves from leaking out of the BAW resonator and entering a substrate on which the BAW resonator is placed.
  • an acoustic mirror may alternately have SiO 2 and metal layers.
  • each mirror layer in this case has a metallization layer which is embedded between two Si0 2 layers.
  • the trim layer may be above the second electrode
  • the trim layer may be a Si0 2 layer.
  • Modifying the thickness of the trim layer can be the
  • Resonant frequency of one or more BAW resonators also subsequently, i. after completion of the actual resonators, are set.
  • the inductance is formed by a helical metallization, which consists of a
  • the metallic functional layer of the BAW filter is structured.
  • the inductance can be realized in one or more layers become.
  • the metallization can extend over several layers of the multi-layer structure.
  • Particularly suitable for this purpose are the first electrode, the second electrode or the metal layers of the acoustic mirror.
  • the capacitances are formed by two structured metal layers, which in two
  • the capacitances may be formed by structured metal layers in two different of the following layers: one or more metal layers of the acoustic mirror, the first electrodes and the second electrode.
  • structured metal layers in two different of the following layers: one or more metal layers of the acoustic mirror, the first electrodes and the second electrode.
  • the BAW filter comprises identical BAW resonators, which are only in the thickness of the
  • Trimmetz distinguish, wherein the thickness of the trim layer of one of the BAW resonators is selected such that the BAW resonator acts as a capacitance. Due to a significantly changed thickness of the trim layer, the resonance frequency of the BAW
  • a BAW resonator which is clearly detuned in its resonance frequency can be used as a capacitance in the balun circuit.
  • the balun connects one
  • Output port connects, a second signal path, the second node via a first capacitor, a third inductor and a third node to the second
  • This circuit makes it possible to convert an unbalanced input signal into two balanced output signals which are output at the two output ports and which are one to another
  • balun and BAW resonator are juxtaposed.
  • the present invention relates to a method for producing a BAW filter, in which a multilayer structure is applied to a substrate, wherein one after the other
  • Functional layers of a BAW resonator are applied, wherein layers of the multilayer structure are structured such that they form an interconnection of passive components that form a balun having at least one inductance and at least one capacitance, which are formed from structured functional layers of the BAW resonator.
  • balun is formed from structured functional layers of the BAW resonator, it is possible in the manufacturing process to manufacture the balun and BAW resonator simultaneously, that is to say in temporally parallel fashion. This will reduce the number of
  • Photolithographic structuring of the functional layers are generated.
  • a photolithographic structuring allows smaller and narrower structures in high
  • an acoustic mirror, a first electrode, a piezoelectric layer, a second electrode and a trim layer are applied successively on a substrate.
  • BAW resonator and balun are arranged side by side.
  • the acoustic mirror may have a plurality of mirror layers which
  • Functional layers of the BAW resonator are structured and / or the thickness of the trim layer is changed.
  • a BAW filter according to the invention is particularly suitable for use in a duplexer in which the BAW filter
  • the other filter may be a BAW or SAW filter.
  • the BAW filter according to the invention is preferably used in the reception path of the duplexer, since a balanced signal routing is advantageous here due to the lower signal strength.
  • the invention is further illustrated by execution ⁇ examples and the associated figures. The figures show diagrammatic and not true to scale representation of various embodiments of the invention.
  • FIG. 1 shows the multilayer construction of a BAW filter.
  • FIG. 2 shows a balun circuit.
  • FIG. 3A shows a structured bottom electrode which is part of a multi-layer structure in which the circuit shown in FIG. 2 is realized.
  • FIG. 3B shows a structured top electrode which
  • FIG. 4 shows the insertion losses S12, S23 of a
  • FIG. 5 shows a detail of that shown in FIG
  • FIG. 6 shows the reflection factor S33 at the reception port
  • FIG. 7 shows the isolation of a BAW duplexer according to the invention.
  • FIG. 1 schematically shows a BAW filter which has a multilayer structure arranged on a substrate SUB.
  • the multi-layer structure has an acoustic mirror SP, a Bottom electrode BE, a piezoelectric layer PZ, a top electrode TE and a trim layer TR on.
  • An alternating signal which excites a bulk acoustic wave in the piezoelectric layer PZ, can be applied to the bottom and top electrodes BE, TE.
  • the acoustic wave which excites a bulk acoustic wave in the piezoelectric layer PZ.
  • the acoustic mirror SP then prevents this wave from leaking out of the BAW resonator and entering the substrate SUB.
  • the acoustic mirror SP alternately layers with relatively high acoustic impedance and
  • the acoustic mirror SP can alternately have S1O 2 and metal layers.
  • the trim layer TR may be a Si0 2 layer. The thickness of the Si0 2 trimming layer TR determines the resonant frequency of the acoustic resonator.
  • the multi-layer structure shown in FIG. 1 can be used to form an acoustic BAW resonator. Furthermore, by structuring the functional layers of the multi-layer structure according to the invention, an interconnection can be more passive
  • Components are realized by which a balun is formed.
  • FIG. 2 shows an equivalent circuit diagram of the balun, which is provided by structured functional layers of the multilayer structure
  • the balun has an unbalanced
  • Input port EP and two output ports API, AP2 which form a balanced output.
  • a signal applied to the unbalanced input port EP is split by the circuit shown in Figure 2 into two signals which are output to the balanced output.
  • the two signals are split by the circuit shown in Figure 2 into the two signals
  • the balun has a first signal path Sl which connects the unbalanced input port EP to a first balanced output port API.
  • a first inductance LI, a first node K1, a second inductance L2 and a second node K2 are connected in series with each other.
  • the balun has a second signal path S2 which connects the second node K2 to the second balanced output port AP2 via a first capacitance Cl, a third inductance L3 and a third node K3.
  • a fourth node K4 is further arranged between the first capacitance Cl and the third inductance L3. Via the fourth node K4, the second signal path S2 is connected to a reference potential GND.
  • the balun also has a third signal path S3 which connects the first node K1 to the third node K3 via a second capacitance C2.
  • FIGS. 3A and 3B now show how the equivalent circuit diagram shown in FIG. 2 can be implemented in a multilayer structure.
  • FIG. 3A shows structured
  • FIG. 3B shows structured metallizations M1_TE-M6_TE of a top electrode TE.
  • the metallizations which are structured from the bottom and top electrodes BE, TE are arranged in a common multilayer structure and connected to one another at the desired locations by means of plated-through holes D1-D7.
  • the unbalanced input port EP is arranged in the top electrode TE.
  • the unbalanced input port EP is provided with a first helical metallization M1_TE of the top electrode TE, which partially forms the first inductance LI.
  • the first spiral metallization M1_TE of the top electrode TE is connected to a first spiral metallization M1_BE of the bottom electrode BE via a first plated-through hole Dl.
  • the two spiral metallizations M1_TE, M1_BE together form the first inductance LI.
  • the first spiral metallization M1_BE of the bottom electrode BE is in turn connected to a second one
  • the second via D2 is connected in the top electrode TE to a second spiral metallization M2_TE of the top electrode TE, which is the second
  • Inductance L2 in the first signal path is formed.
  • the second plated-through hole D2 is connected to a rectangular metallization M3_TE in the top electrode, wherein this rectangular metallization M3_TE is opposite a structurally identical second rectangular metallization M2_BE of the bottom electrode BE.
  • the two rectangular metallizations M3_TE, M2_BE form one
  • the rectangular metallization M2_BE in the bottom electrode BE is further connected to a third via D3, which connects the rectangular metallization M2_BE in the bottom electrode BE to the top electrode TE.
  • the third via D3 represents the third node K3.
  • the third via D3 is connected firstly to the second balanced output port AP2 and secondly to one in the top electrode TE fourth spiral metallization M4_TE, which forms the third inductance L3 in the signal path S2.
  • the fourth spiral metallization M4_TE in the top electrode TE is connected to the bottom electrode BE via a fourth through-connection D4.
  • the fourth via D4 is a third
  • Metallization M3_BE connected.
  • the third metallization M3_BE of the bottom electrode BE is in turn connected via a fifth through-connection D5 to a fifth metallization M5_TE of the top electrode TE.
  • the fifth metallization M5_TE of the top electrode TE is connected via a further terminal to a reference potential GND and to a sixth rectangular metallization M6_TE of the top electrode. Opposite this rectangular metallization M6_TE lies in the bottom electrode BE a structurally identical fourth rectangular metallization M4_BE.
  • Rectangular metallizations M6_TE, M4_BE form the first capacitance Cl in the signal path S2.
  • the fourth rectangular metallization M4_BE of the bottom electrode BE is connected to a sixth via D6 which connects the bottom electrode BE to the top electrode TE.
  • the sixth via D6 forms in the top electrode TE the first balanced output port AP.
  • the fourth metallization M4_BE in the bottom electrode BE is connected to a seventh via D7 via a fifth metallization M5_BE.
  • Via D7 connects the bottom electrode BE to the second metallization M2_TE of the top electrode TE.
  • the second metallization M2_TE in turn forms the second
  • balun circuit described here in a multi-layer structure represents only one possible embodiment of the invention.
  • Inductors LI, L2, L3 are made by spiral
  • Metallizations M1_TE, M1_BE, M2_TE, M4_TE realized in one or more layers of the multilayer structure.
  • Capacities C 1, C 2 are formed by laminar metallizations M2_BE, M3_TE, M6_TE, M4_BE, which are arranged in two different layers of the multilayer structure and face each other.
  • Figures 4 to 7 is based on a duplexer having a BAW filter according to the invention.
  • BAW filter according to the invention is arranged in the receiving path of the duplexer.
  • the transmit path of the duplexer uses a common BAW filter.
  • Figure 4 shows the insertion losses S12 and S23 as a function of frequency for a BAW duplexer. On the abscissa the frequency is plotted in MHz and the ordinate the attenuation in dB.
  • the curve S12 describes the insertion loss of a TX filter, i. the transmission from a send port to
  • the curve S23 describes the insertion loss of the RX filter, ie the transmission from the antenna port to a reception port as a function of the frequency of the signal.
  • the curves S12, S23 are plotted several times. In doing so, in a first turn of a duplexer with ideal components
  • FIG. 5 shows a detail of the curve S23 shown in FIG.
  • FIG. 6 shows the reflection factor at the reception port
  • Figure 7 shows a curve S13 which describes the isolation between a transmit port and a receive port into a BAW duplexer. On the abscissa the frequency is in MHz

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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft ein mit akustischen Volumenwellen arbeitendes BAW-Filter, das einen Mehrlagenaufbau aufweist, bei dem durch den Mehrlagenaufbau Funktionsschichten eines mit akustischen Volumenwellen arbeitenden BAW-Resonators realisiert werden, und bei dem ferner durch den Mehrlagenaufbau eine Verschaltung passiver Bauelemente gebildet wird, die einen Balun bildet, wobei der Balun zumindest eine Induktivität (L1, L2, L3) und zumindest eine Kapazität (C1, C2) aufweist, die aus strukturierten Funktionsschichten des BAW-Resonators gebildet werden. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung des BAW-Filters.

Description

Beschreibung
Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes BAW-Filter
Die vorliegende Erfindung betrifft ein mit akustischen
Volumenwellen arbeitendes BAW-Filter (BAW = Bulk Acoustic Wave) . In vielen Sender-Empfänger-Schaltungen werden zur
Eliminierung von Störsignalen, die eine Phaseninformation beinhalten, symmetrische (balancierte) Leitungen verwendet. Diese teilen das Signal gegenphasig auf und addieren es anschließend. Dabei heben sich Störsignale, die auf beiden Leitungen gleichmäßig einkoppeln, auf, da ihre Beträge voneinander subtrahiert werden. Der Einsatz von balancierten Leitungen ist insbesondere in Empfangszweigen sinnvoll, da hier geringe Signalstärken üblich sind. Bei einem mit akustischen Oberflächenwellen arbeitenden SAW- Filter (SAW = Surface Acoustic Wave) lassen sich Signale mit bestimmter Phasenlage abgreifen. Dieses ist bei einem BAW- Filter nicht ohne weiteres möglich. Die BAW-Filtertechnologie bietet jedoch deutliche Vorteile hinsichtlich einer höheren Flankensteilheit, einer glatteren Nutzbandcharakteristik und einem niedrigeren Temperaturkoeffizienten. Einem BAW-Filter, der eine unsymmetrische, unbalancierte Ausgangsleitung aufweist, kann ein Balun zur Umwandlung eines unbalancierten Signals in ein balanciertes Signal nachgeschaltet werden.
Um den Balun platz- und kostensparend mit einem Filter zu kombinieren, sind bereits Lösungen bekannt, bei denen ein Balun und ein BAW-Filter auf einem gemeinsamen Chip
angeordnet sind.
US 6,670,866 beschreibt einen Chip, auf dem ein BAW-Filter sowie ein FBAR-Balun (FBAR = Film Bulk Acoustic Resonator) realisiert sind. Dabei weist der FBAR-Balun einen
mehrschichtigen und sehr komplizierten Aufbau auf. Dieser mehrschichtige Aufbau umfasst zwei piezoelektrische
Schichten, vier Elektrodenschichten und eine dielektrische Schicht.
DE 10 2005 003 834 B4 offenbart ein FBAR-Filter, das
ebenfalls zusammen mit einem BAW-Filter auf einem einzigen Chip angeordnet ist und ein unbalanciertes Eingabesignal in ein balanciertes Ausgabesignal wandelt. Dabei wird ein LCR-
Schaltkreis in einer Struktur, die alternierend strukturierte Metallschichten und dielektrische Schichten aufweist, realisiert. Die DE 10 2005 003 834 B4 beschreibt außerdem ein Herstellungsverfahren, bei dem zunächst das BAW-Filter auf einem Chipsubstrat gebildet wird. In einem nächsten Schritt werden gleichzeitig eine Abdeckung über dem BAW-Filter und der LCR-Schaltkreis gefertigt.
Die im Stand der Technik bekannten Chips, auf denen ein BAW- Filter mit einem Balun kombiniert ist, weisen somit einen komplizierten Aufbau auf und erfordern sehr aufwendige
Herstellungsverfahren. Es ist daher die Aufgabe der
vorliegenden Erfindung, ein verbessertes BAW-Filter
bereitzustellen.
Diese Aufgabe wird durch ein BAW-Filter mit den Merkmalen von Anspruch 1 sowie durch ein Verfahren zur Herstellung eines BAW-Filters gemäß Anspruch 11 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus weiteren Ansprüchen .
Erfindungsgemäß wird ein mit akustischen Volumenwellen arbeitendes BAW-Filter vorgeschlagen, das einen
Mehrlagenaufbau aufweist, durch den Funktionsschichten eines mit akustischen Volumenwellen arbeitenden BAW-Resonators realisiert werden, und bei dem ferner durch den
Mehrlagenaufbau eine Verschaltung passiver Bauelemente gebildet wird, die einen Balun bildet, wobei der Balun zumindest eine Induktivität und zumindest eine Kapazität aufweist, die aus strukturierten Funktionsschichten des BAW- Resonators gebildet werden. Jedes BAW-Filter weist BAW-Resonatoren auf, die durch
Funktionsschichten eines Mehrlagenaufbaus realisiert werden. Der vorliegenden Erfindung liegt die Idee zugrunde, diese Funktionsschichten ferner zur Realisierung eines Baluns zu nutzen. Dazu können die Funktionsschichten strukturiert werden und passive Bauelemente ausbilden. Da bei dem
erfindungsgemäßen BAW-Filter ein BAW-Resonator und ein Balun dieselben Funktionsschichten nutzen und daher aus einem identischen Mehrschichtenaufbau gefertigt werden können, ist der Aufbau des BAW-Filters deutlich vereinfacht. Eine
Strukturierung von BAW-Filter und Balun ist in einem
Herstellungsverfahren parallel und damit gleichzeitig möglich .
Der Balun wird in den BAW-Filterchip integriert und zusammen mit dem Chip prozessiert und aufgebaut, so dass durch die Realisierung des Baluns kein zusätzlicher Aufwand im
Herstellungsverfahren entsteht. Eine Integration des Baluns in einem gemeinsamen Chip mit dem BAW-Filter bietet ein viel höheres Potenzial zur
Miniaturisierung des Baluns. Es ist nunmehr möglich, bei der Balun-Herstellung Verfahren und Techniken zu verwenden, die üblicherweise zur Chipherstellung genutzt werden,
insbesondere fotolithographische Strukturierung.
Die Funktionsschichten eines BAW-Resonators können einen akustischen Spiegel, eine erste Elektrode, eine
piezoelektrische Schicht, eine zweite Elektrode und eine
Trimmschicht aufweisen. Der akustische Spiegel verhindert, dass akustische Volumenwellen aus dem BAW-Resonator austreten und in ein Substrat eindringen, auf dem der BAW-Resonator angeordnet ist. Ein akustischer Spiegel kann beispielsweise alternierend S1O2- und Metall-Schichten aufweisen.
In einer Ausführungsform sind unterhalb der ersten Elektrode zwei gleich aufgebaute Spiegelschichten angeordnet. Jede Spiegelschicht weist hierbei eine Metallisierungslage auf, die zwischen zwei Si02-Schichten eingebettet ist.
Die Trimmschicht kann oberhalb der zweiten Elektrode
angeordnet werden. Bei der Trimmschicht kann es sich um eine Si02-Schicht handeln. Durch eine entsprechende Wahl bzw.
Modifizierung der Dicke der Trimmschicht kann die
Resonanzfrequenz einzelner oder mehrerer BAW-Resonatoren auch nachträglich, d.h. nach Fertigstellung der eigentlichen Resonatoren, eingestellt werden. In einer Ausführungsform wird die Induktivität durch eine spiralförmige Metallisierung gebildet, die aus einer
metallischen Funktionsschicht des BAW-Filters strukturiert ist. Die Induktivität kann einlagig oder mehrlagig realisiert werden. Dabei kann sich die Metallisierung über mehrere Lagen des Mehrlagenaufbaus erstrecken. Geeignet sind hierfür insbesondere die erste Elektrode, die zweite Elektrode oder die Metallschichten des akustischen Spiegels.
In einer Ausführungsform werden die Kapazitäten durch zwei strukturierte Metallschichten gebildet, die in zwei
verschiedenen Lagen des Mehrlagenaufbaus angeordnet sind und die einander im Mehrlagenaufbau überlappen. Dabei können die Kapazitäten durch strukturierte Metallschichten in zwei unterschiedlichen der folgenden Lagen gebildet werden: einer oder mehrerer Metallschichten des akustischen Spiegels, der ersten Elektroden und der zweiten Elektrode. In einer Ausführungsform können strukturierte
Metallschichten, die die Induktivität bilden, und
strukturierte Metallschichten, die die Kapazität bilden, zumindest teilweise übereinander angeordnet sein. In einer Ausführungsform umfasst das BAW-Filter baugleiche BAW-Resonatoren, die sich lediglich in der Dicke der
Trimmschicht unterscheiden, wobei die Dicke der Trimmschicht eines der BAW-Resonatoren derart gewählt wird, dass der BAW- Resonator als Kapazität wirkt. Durch eine deutlich veränderte Dicke der Trimmschicht wird die Resonanzfrequenz des BAW-
Resonators verstimmt. Ein in seiner Resonanzfrequenz deutlich verstimmter BAW-Resonator kann als Kapazität in der Balun- Schaltung genutzt werden. In einer Ausführungsform verbindet der Balun einen
unbalancierten Eingang mit zwei Ausgangsports eines
balancierten Ausgangs, wobei der Balun einen ersten
Signalpfad, der den unbalancierten Eingang über eine erste Induktivität, einen ersten Knoten, eine zweite Induktivität und einen zweiten Knoten mit dem ersten balancierten
Ausgangsport verbindet, einen zweiten Signalpfad, der den zweiten Knoten über einen ersten Kondensator, eine dritte Induktivität und einen dritten Knoten mit dem zweiten
balancierten Ausgangsport verbindet, und einen dritten
Signalpfad der den ersten Knoten über eine zweite Kapazität mit dem dritten Knoten verbindet, aufweist. Diese Schaltung ermöglicht es, ein unbalanciertes Eingangssignal in zwei balancierte Ausgangssignale umzuwandeln, die an den beiden Ausgangsport ausgegeben werden und die zueinander eine
Phasenverschiebung von 180° aufweisen.
In einer Ausführungsform sind Balun und BAW-Resonator nebeneinander angeordnet.
Ferner betrifft die vorliegende Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines BAW-Filters, bei dem auf einem Substrat ein Mehrlagenaufbau aufgebracht wird, wobei nacheinander
Funktionsschichten eines BAW-Resonators aufgebracht werden, wobei Lagen des Mehrlagenaufbaus derart strukturiert werden, dass sie eine Verschaltung passiver Bauelemente bilden, die einen Balun bilden, der zumindest eine Induktivität und zumindest eine Kapazität aufweist, die aus strukturierten Funktionsschichten des BAW-Resonators gebildet werden.
Da der Balun aus strukturierten Funktionsschichten des BAW- Resonators gebildet wird, ist es in dem Herstellungsverfahren möglich, Balun und BAW-Resonator gleichzeitig, also zeitlich parallel, zu fertigen. Dadurch wird die Anzahl der
Fertigungsschritte gegenüber einer zeitlich seriellen
Fertigung deutlich reduziert. Die strukturierten Metallschichten, die die Induktivität und/oder die Kapazität bilden, können durch
fotolithographische Strukturierung der Funktionsschichten erzeugt werden. Eine fotolithographische Strukturierung erlaubt es, kleinere und schmalere Strukturen in hoher
Genauigkeit zu fertigen. Bei der Fotolithographie wird eine Strukturierung durch das Aufbringen, Belichten und Entwickeln von licht- oder strahlungsempfindlichen Resistfilmen und das nachfolgende Abätzen von nicht durch eine Resiststruktur bedeckten Schichten oder Schichtbereichen erreicht.
In einer Ausführungsform des Herstellungsverfahrens werden auf einem Substrat nacheinander ein akustischer Spiegel, eine erste Elektrode, eine piezoelektrische Schicht, eine zweite Elektrode und eine Trimmschicht aufgebracht. BAW-Resonator und Balun sind dabei nebeneinander angeordnet. Der akustische Spiegel kann mehrere Spiegelschichten aufweisen, die
nacheinander aufgebracht werden. Die Herstellung des BAW- Resonators und des Baluns erfolgt parallel und unterscheidet sich lediglich dadurch, dass bei dem Balun die
Funktionsschichten des BAW-Resonators strukturiert werden und/oder die Dicke der Trimmschicht verändert wird.
Ein erfindungsgemäßes BAW-Filter eignet sich insbesondere für den Einsatz in einem Duplexer, bei dem das BAW-Filter
zusammen mit einem weiteren mit akustischen Wellen
arbeitenden Filter auf einem gemeinsamen Chip integriert wird. Bei dem weiteren Filter kann es sich um ein BAW- oder SAW-Filter handeln. Das erfindungsgemäße BAW-Filter wird vorzugsweise im Empfangspfad des Duplexers eingesetzt, da hier aufgrund der geringeren Signalstärke eine balancierte Signalführung vorteilhaft ist. Im Folgenden wird die Erfindung anhand von Ausführungs¬ beispielen und der dazugehörigen Figuren näher erläutert. Die Figuren zeigen anhand schematischer und nicht maßstabsgetreuer Darstellung verschiedene Ausführungsbeispiele der Erfindung.
Figur 1 zeigt den Mehrlagenaufbau eines BAW-Filters. Figur 2 zeigt eine Balun-Schaltung .
Figur 3A zeigt eine strukturierte Bottom-Elektrode, die Teil eines Mehrlagenaufbaus ist, in dem die in Figur 2 gezeigte Schaltung realisiert ist. Figur 3B zeigt eine strukturierte Top-Elektrode, die
ebenfalls Teil des Mehrlagenaufbaus ist, der die in Figur 2 gezeigte Schaltung realisiert.
Figur 4 zeigt die Einfügedämpfungen S12, S23 eines
erfindungsgemäßen BAW-Duplexers .
Figur 5 zeigt einen Ausschnitt der in Figur 4 gezeigten
Kurven . Figur 6 zeigt die Reflexionsfaktor S33 am Empfangsport
eines erfindungsgemäßen BAW-Duplexers.
Figur 7 zeigt die Isolation eines erfindungsgemäßen BAW- Duplexers .
Figur 1 zeigt schematisch ein BAW-Filter, das einen auf einem Substrat SUB angeordneten Mehrlagenaufbau aufweist. Der Mehrlagenaufbau weist einen akustischen Spiegel SP, eine Bottom-Elektrode BE, eine piezoelektrische Schicht PZ, eine Top-Elektrode TE und eine Trimmschicht TR auf.
An die Bottom- und die Top-Elektrode BE, TE kann ein Wechsel- Signal angelegt werden, das eine akustische Volumenwelle in der piezoelektrischen Schicht PZ anregt. Der akustische
Spiegel SP verhindert dann, dass diese Welle aus dem BAW- Resonator austritt und in das Substrat SUB eindringt. Zu diesem Zweck weist der akustische Spiegel SP abwechselnd Schichten mit relativ hoher akustischer Impedanz und
Schichten mit relativ geringer akustischer Impedanz auf.
Vorzugsweise kann der akustische Spiegel SP abwechselnd S1O2- und Metallschichten aufweisen. Bei der Trimmschicht TR kann es sich um eine Si02-Schicht handeln. Durch die Dicke der Si02-Trimmschicht TR wird die Resonanzfrequenz des akustischen Resonators festgelegt.
Der in Figur 1 gezeigte Mehrlagenaufbau kann zur Ausbildung eines akustischen BAW-Resonators genutzt werden. Durch eine erfindungsgemäße Strukturierung der Funktionsschichten des Mehrlagenaufbaus kann ferner eine Verschaltung passiver
Bauelemente realisiert werden, durch die ein Balun gebildet wird .
Figur 2 zeigt ein Ersatzschaltbild des Baluns, der durch strukturierte Funktionsschichten des Mehrlagenaufbaus
realisiert wird. Der Balun weist einen unbalancierten
Eingangsport EP und zwei Ausgangsports API, AP2, die einen balancierten Ausgang bilden, auf. Ein Signal, dass an dem unbalancierten Eingangsport EP anliegt, wird durch die in Figur 2 gezeigte Schaltung in zwei Signale aufgeteilt, die an den balancierten Ausgang ausgegeben werden. Durch die in Figur 2 gezeigte Schaltung werden die beiden Signale
zueinander um 180° phasenverschoben.
Der Balun weist einen ersten Signalpfad Sl auf, der den unbalancierten Eingangsport EP mit einem ersten balancierten Ausgangsport API verbindet. In diesem ersten Signalpfad Sl sind in Serie miteinander eine erste Induktivität LI, ein erster Knoten Kl, eine zweite Induktivität L2 und ein zweiter Knoten K2 verschaltet. Ferner weist der Balun einen zweiten Signalpfad S2 auf, der den zweiten Knoten K2 über eine erste Kapazität Cl, eine dritte Induktivität L3 und einen dritten Knoten K3 mit dem zweiten balancierten Ausgangsport AP2 verbindet. In dem zweiten Signalpfad S2 ist zwischen der ersten Kapazität Cl und der dritten Induktivität L3 ferner ein vierter Knoten K4 angeordnet. Über den vierten Knoten K4 ist der zweite Signalpfad S2 mit einem Referenzpotential GND verschaltet. Der Balun weist ferner einen dritten Signalpfad S3 auf, der den ersten Knoten Kl über eine zweite Kapazität C2 mit dem dritten Knoten K3 verbindet.
Die Figuren 3A und 3B zeigen nunmehr, wie das in Figur 2 gezeigte Ersatzschaltbild in einem Mehrlagenaufbau realisiert werden kann. Dabei zeigt Figur 3A strukturierte
Metallisierungen M1_BE - M5_BE einer Bottom-Elektrode BE und Figur 3B zeigt strukturierte Metallisierungen M1_TE - M6_TE einer Top-Elektrode TE . Die aus Bottom- und Top-Elektrode BE, TE strukturierten Metallisierungen sind in einem gemeinsamen Mehrlagenaufbau angeordnet und an den gewünschten Stellen mittels Durchkontaktierungen D1-D7 miteinander verbunden.
Der unbalancierte Eingangsport EP ist in der Top-Elektrode TE angeordnet. Der unbalancierte Eingangsport EP ist mit einer ersten spiralförmigen Metallisierung M1_TE der Top-Elektrode TE verbunden, die die erste Induktivität LI teilweise ausbildet. Über eine erste Durchkontaktierung Dl ist die erste spiralförmige Metallisierung M1_TE der Top-Elektrode TE mit einer ersten spiralförmigen Metallisierung M1_BE der Bottom-Elektrode BE verbunden. Die beiden spiralförmigen Metallisierungen M1_TE, M1_BE bilden zusammen die erste Induktivität LI .
Die erste spiralförmige Metallisierung M1_BE der Bottom- Elektrode BE ist wiederum mit einer zweiten
Durchkontaktierung D2 verbunden, die den ersten Knoten Kl realisiert. Die zweite Durchkontaktierung D2 ist in der Top- Elektrode TE mit einer zweiten spiralförmigen Metallisierung M2_TE der Top-Elektrode TE verbunden, die die zweite
Induktivität L2 im ersten Signalpfad ausbildet.
Des Weiteren ist die zweite Durchkontaktierung D2 mit einer rechteckigen Metallisierung M3_TE in der Top-Elektrode verbunden, wobei dieser rechteckigen Metallisierung M3_TE eine baugleiche zweite rechteckige Metallisierung M2_BE der Bottom-Elektrode BE gegenüberliegt. Die beiden rechteckigen Metallisierungen M3_TE, M2_BE bilden einen
Plattenkondensator, der die Kapazität C2 im dritten
Signalpfad S3 ausbildet.
Die rechteckige Metallisierung M2_BE in der Bottom-Elektrode BE ist ferner mit einer dritten Durchkontaktierung D3 verbunden, die die rechteckige Metallisierung M2_BE in der Bottom-Elektrode BE mit der Top-Elektrode TE verbindet. Die dritte Durchkontaktierung D3 stellt den dritten Knoten K3 dar. Die dritte Durchkontaktierung D3 ist zum einen mit dem zweiten balancierten Ausgangsport AP2 verbunden und zum anderen mit einer in der Top-Elektrode TE angeordneten vierten spiralförmigen Metallisierung M4_TE, die die dritte Induktivität L3 im Signalpfad S2 ausbildet.
Die vierte spiralförmige Metallisierung M4_TE in der Top- Elektrode TE ist über eine vierte Durchkontaktierung D4 mit der Bottom-Elektrode BE verbunden. In der Bottom-Elektrode BE ist die vierte Durchkontaktierung D4 mit einer dritten
Metallisierung M3_BE verbunden. Die dritte Metallisierung M3_BE der Bottom-Elektrode BE ist wiederum über eine fünfte Durchkontaktierung D5 mit einer fünften Metallisierung M5_TE der Top-Elektrode TE verbunden.
Die fünfte Metallisierung M5_TE der Top-Elektrode TE ist über einen weiteren Anschluss mit einem Referenzpotenzial GND und mit einer sechsten rechteckigen Metallisierung M6_TE der Top- Elektrode verbunden. Dieser rechteckigen Metallisierung M6_TE gegenüber liegt in der Bottom-Elektrode BE eine baugleiche vierte rechteckige Metallisierung M4_BE . Die beiden
rechteckigen Metallisierungen M6_TE, M4_BE bilden die erste Kapazität Cl im Signalpfad S2.
Die vierte rechteckige Metallisierung M4_BE der Bottom- Elektrode BE mit einer sechsten Durchkontaktierung D6 verbunden, die die Bottom-Elektrode BE mit der Top-Elektrode TE verbindet. Die sechste Durchkontaktierung D6 bildet in der Top-Elektrode TE den ersten balancierten Ausgangsport AP.
Außerdem ist die vierte Metallisierung M4_BE in der Bottom- Elektrode BE über eine fünfte Metallisierung M5_BE mit einer siebten Durchkontaktierung D7 verbunden. Die siebte
Durchkontaktierung D7 verbindet die Bottom-Elektrode BE mit der zweiten Metallisierung M2_TE der Top-Elektrode TE . Die zweite Metallisierung M2_TE bildet wiederum die zweite
Induktivität L2 aus.
Die hier beschriebene Realisierung der Balun-Schaltung in einem Mehrlagenaufbau stellt nur eine mögliche Ausgestaltung der Erfindung dar.
Induktivitäten LI, L2, L3 werden durch spiralförmige
Metallisierungen M1_TE, M1_BE, M2_TE, M4_TE in einer oder mehreren Lagen des Mehrlagenaufbaus realisiert. Kapazitäten Cl, C2 werden durch flächige Metallisierungen M2_BE, M3_TE, M6_TE, M4_BE gebildet, die in zwei verschiedenen Schichten des Mehrlagenaufbaus angeordnet sind und einander gegenüber liegen .
Für die Figuren 4 bis 7 wird von einem Duplexer ausgegangen, der ein erfindungsgemäßes BAW-Filter aufweist. Das
erfindungsgemäße BAW-Filter ist dabei im Empfangspfad des Duplexers angeordnet. Im Sendepfad des Duplexers wird ein gewöhnliches BAW-Filter verwendet.
Figur 4 zeigt die Einfügedämpfungen S12 und S23 als Funktion der Frequenz für einen BAW-Duplexer . Auf der Abszisse ist die Frequenz in MHz aufgetragen und auf der Ordinate die Dämpfung in dB.
Die Kurve S12 beschreibt die Einfügedämpfung eines TX- Filters, d.h. die Transmission von einem Sendeport zum
Antennenport in Abhängigkeit von der Frequenz des Signals. Die Kurve S23 beschreibt die Einfügedämpfung des RX-Filters, d.h. die Transmission vom Antennenport zu einem Empfangsport in Abhängigkeit von der Frequenz des Signals. In Figur 4, sowie in den nachfolgenden Figuren, sind die Kurven S12, S23 mehrfach aufgetragen. Dabei wird in einer ersten Kurve von einem Duplexer mit idealen Bauteilen
ausgegangen, in einer zweiten Kurve von einem Duplexer, der teilweise ideale und teilweise reale Bauteile aufweist, und in einer dritten Kurve von einem Duplexer mit realen
Bauteilen .
Figur 5 zeigt einen Ausschnitt der in Figur 4 gezeigten Kurve S23.
Figur 6 zeigt den Reflexionsfaktor am Empfangsport
beschrieben durch die Kurve S33. Auf der Abszisse ist die Frequenz in MHz aufgetragen und auf der Ordinate die Dämpfung in dB.
Figur 7 zeigt eine Kurve S13, die die Isolation zwischen einem Sendeport und einem Empfangsport in einen BAW-Duplexer beschreibt. Auf der Abszisse ist die Frequenz in MHz
aufgetragen und auf der Ordinate die Dämpfung in dB.
Bezugs zeichen
Substrat
akustischer Spiegel
Bottom-Elektrode
piezoelektrische Schicht
Top-Elektrode
Trimmschicht
Eingangsport
Ausgangsport
Signalpfad
Induktivität
Knoten
Kapazität
Referenzpotential
Metallisierung der Top-Elektrode Metallisierung der Bottom-Elektrode Durchkontaktierung
Einfügedämpfung des Tx-Filters Einfügedämpfung des Rx-Filters Reflexionsfaktor des Empfangsports Isolation

Claims

Patentansprüche
1. Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes BAW-Filter, das einen Mehrlagenaufbau aufweist,
bei dem durch den Mehrlagenaufbau Funktionsschichten eines mit akustischen Volumenwellen arbeitenden BAW- Resonators realisiert werden, und
bei dem ferner durch den Mehrlagenaufbau eine
Verschaltung passiver Bauelemente gebildet wird, die einen Balun bildet, wobei der Balun zumindest eine Induktivität (LI, L2, L3) und zumindest eine Kapazität (Cl, C2) aufweist, die aus strukturierten
Funktionsschichten des BAW-Resonators gebildet werden.
2. BAW-Filter gemäß dem Anspruch 1,
bei dem die Funktionsschichten des BAW-Resonators einen akustischen Spiegel (SP) , eine erste Elektrode (BE) , eine piezoelektrische Schicht (PZ) , eine zweite
Elektrode (TE) und eine Trimmschicht (TR) aufweisen.
3. BAW-Filter gemäß Anspruch 2,
bei dem die Induktivität (LI, L2, L3) durch eine oder mehrere Metallschichten des akustischen Spiegels (SP) und/oder eine Metallschicht der ersten Elektrode (BE) und/oder eine Metallschicht der zweiten Elektrode (TE) gebildet wird.
4. BAW-Filter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3,
bei dem die Induktivität (LI, L2, L3) durch eine spiralförmige Metallisierung (M1_TE, M1_BE, M2_TE, M4_TE) gebildet wird, die aus einer metallischen
Funktionsschicht des BAW Filters strukturiert ist. BAW-Filter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4,
bei dem die Kapazität (Cl, C2) durch zwei strukturierte Metallschichten (M2_BE, M3_TE, M6_TE, M4_BE) gebildet wird, die in zwei verschiedenen Lagen des
Mehrlagenaufbaus angeordnet sind und die einander im Mehrlagenaufbau überlappen.
BAW-Filter gemäß Anspruch 2 und 5,
bei dem die Kapazität (Cl, C2) durch strukturierte
Metallschichten (M2_BE, M3_TE, M6_TE, M4_BE) in zwei unterschiedlichen der folgenden Lagen gebildet wird, einer oder mehrerer Metallschichten des akustischen Spiegels (SP) , einer Metallschicht der ersten Elektrode (BE) und einer Metallschicht der zweiten Elektrode (TE) .
BAW-Filter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6,
das baugleiche BAW-Resonatoren umfasst, die sich in der Dicke der Trimmschicht (TR) unterscheiden, wobei die Dicke der Trimmschicht (TR) eines der BAW-Resonatoren derart gewählt wird, dass der BAW-Resonator als
Kapazität wirkt.
BAW-Filter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7,
bei dem strukturierte Metallschichten (M1_TE, M1_BE, M2_TE, M4_TE) , die die Induktivität (LI, L2, L3) bilden, und strukturierte Metallschichten (M2_BE, M3_TE, M6_TE, M4_BE) , die die Kapazität (Cl, C2) bilden, zumindest teilweise übereinander angeordnet sind.
BAW-Filter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 8,
bei dem der Balun einen unbalancierter Eingang (EP) mit zwei Ausgangsports (API, AP2) eines balancierten
Ausgangs verbindet, wobei der Balun einen ersten - I S
Signalpfad (Sl), der den unbalancierten Eingang (EP) über eine erste Induktivität (LI), einen ersten Knoten
(Kl), eine zweite Induktivität (L2) und einen zweiten Knoten (K2) mit dem ersten balancierten Ausgangsport
(API) verbindet, einen zweiten Signalpfad (S2), der den zweiten Knoten (K2) über einen ersten Kondensator (Cl), eine dritte Induktivität (L3) und einen dritten Knoten
(K3) mit dem zweiten balancierten Ausgangsport (AP2) verbindet, und einen dritten Signalpfad (S3) , der den erste Knoten (Kl) über eine zweite Kapazität (C2) mit dem dritten Knoten (K3) verbindet, aufweist.
BAW-Filter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9,
bei dem der Balun und der BAW-Resonator nebeneinander angeordnet sind.
Verfahren zur Herstellung eines BAW-Filters,
bei dem auf einem Substrat (SUB) ein Mehrlagenaufbau aufgebracht wird,
wobei Funktionsschichten eines BAW-Resonators
nacheinander aufgebracht und strukturiert werden, wobei Lagen des Mehrlagenaufbaus derart strukturiert werden, dass sie eine Verschaltung passiver Bauelemente bilden, die einen Balun bildet, der zumindest eine Induktivität (LI, L2, L3) und zumindest eine Kapazität (Cl, C2) aufweist, die aus strukturierten
Funktionsschichten des BAW-Resonators gebildet werden.
Verfahren gemäß Anspruch 11,
bei dem strukturierte Metallschichten (M1_TE, M1_BE, M2_TE, M4_TE, M2_BE, M3_TE, M6_TE, M4_BE) , die die Induktivität (LI, L2, L3) und/oder die Kapazität (Cl, C2) bilden, durch fotolithographische Strukturierung erzeugt werden.
Verfahren gemäß Anspruch 11 oder 12,
bei dem nacheinander auf dem Substrat (SUB) ein
akustischer Spiegel (SP) , eine erste Elektrode (BE) , eine piezoelektrische Schicht (PZ) , eine zweite
Elektrode (TE) und eine Trimmschicht (TR) aufgebracht werden .
Verfahren gemäß Anspruch einem der Ansprüche 11 bis 13 bei dem der BAW-Resonator und der Balun zeitlich
parallel strukturiert werden.
Duplexer,
bei dem einen BAW-Filter gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10 und ein weiterer mit akustischen Wellen arbeitender Filter auf einem gemeinsamen Chip angeordnet sind.
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JP2014508782A JP6114260B2 (ja) 2011-05-04 2012-05-02 音響体積波で動作するｂａｗフィルタ
US14/115,328 US9859868B2 (en) 2011-05-04 2012-05-02 BAW-filter operating using bulk acoustic waves and passive components forming a balun
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10069474B2 (en) 2015-11-17 2018-09-04 Qualcomm Incorporated Encapsulation of acoustic resonator devices
KR102456843B1 (ko) 2017-12-28 2022-10-21 한국전자통신연구원 발룬을 포함하는 고주파 신호 증폭기
DE102018121689B3 (de) * 2018-09-05 2020-02-13 RF360 Europe GmbH BAW-Resonator mit erhöhter Bandbreite
KR20230045799A (ko) 2021-09-29 2023-04-05 (주)와이솔 Baw형 공진기를 포함하는 필터

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1111780A2 (de) * 1999-12-22 2001-06-27 Philips Corporate Intellectual Property GmbH Filteranordnung
US20020089393A1 (en) * 2001-01-05 2002-07-11 Pasi Tikka Monolithic fbar duplexer and method of making the same
US20030042992A1 (en) * 2001-08-30 2003-03-06 Frank Michael L. Integrated filter balun
US6670866B2 (en) 2002-01-09 2003-12-30 Nokia Corporation Bulk acoustic wave resonator with two piezoelectric layers as balun in filters and duplexers
DE10234685A1 (de) * 2002-07-30 2004-02-19 Infineon Technologies Ag Filterschaltung
EP1548939A2 (de) * 2003-12-22 2005-06-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Duplexer und Herstellungsverfahen
EP1598934A2 (de) * 2004-05-17 2005-11-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Filter mit Dünnfilmresonatoren und Induktor, Duplexer und deren Herstellungsverfahren
DE102005044330A1 (de) * 2005-09-16 2007-03-29 Epcos Ag Abstimmbarer Kondensator und Schaltung mit einem solchen Kondensator
DE102005003834B4 (de) 2004-09-23 2010-11-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd., Suwon Film-Bulk-Acoustic-Resonator-Filter mit unbalancierter-balancierter Eingabe-Ausgabe-Struktur

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5194836A (en) * 1990-03-26 1993-03-16 Westinghouse Electric Corp. Thin film, microwave frequency manifolded filter bank
US6262637B1 (en) * 1999-06-02 2001-07-17 Agilent Technologies, Inc. Duplexer incorporating thin-film bulk acoustic resonators (FBARs)
JP3973915B2 (ja) * 2001-03-30 2007-09-12 株式会社日立メディアエレクトロニクス 高周波フィルタ、高周波回路、アンテナ共用器及び無線端末
US6472954B1 (en) * 2001-04-23 2002-10-29 Agilent Technologies, Inc. Controlled effective coupling coefficients for film bulk acoustic resonators
US6710681B2 (en) * 2001-07-13 2004-03-23 Agilent Technologies, Inc. Thin film bulk acoustic resonator (FBAR) and inductor on a monolithic substrate and method of fabricating the same
JP2004129238A (ja) * 2002-09-10 2004-04-22 Matsushita Electric Ind Co Ltd 帯域阻止型フィルタ、フィルタ装置、アンテナ共用器、通信機器
KR100517841B1 (ko) * 2003-02-22 2005-09-30 주식회사 엠에스솔루션 체적탄성파 공진기 밴드 패스 필터, 이를 포함하는듀플렉서 및 그 제조 방법
JP4223428B2 (ja) * 2004-03-31 2009-02-12 富士通メディアデバイス株式会社 フィルタおよびその製造方法
KR100750736B1 (ko) * 2004-11-10 2007-08-22 삼성전자주식회사 하나의 트리밍 인덕터를 사용하는 필터
KR20060119520A (ko) * 2005-05-20 2006-11-24 삼성전기주식회사 Ｆｂａｒ 필터 및 ｉｄｔ를 구비한 복합소자
JP4791181B2 (ja) * 2005-12-28 2011-10-12 京セラ株式会社 薄膜バルク音響波共振子、それを備えるフィルタおよび通信装置ならびに薄膜バルク音響波共振子の製造方法
JP4255959B2 (ja) * 2006-05-22 2009-04-22 富士通メディアデバイス株式会社 バランスフィルタおよび分波器
JP5038740B2 (ja) * 2007-02-23 2012-10-03 パナソニック株式会社 帯域通過フィルタおよびその製造方法
JP4983451B2 (ja) 2007-07-18 2012-07-25 株式会社島津製作所 クロマトグラフ質量分析データ処理装置
WO2009025056A1 (ja) * 2007-08-23 2009-02-26 Fujitsu Limited デュープレクサ、通信モジュール、および通信装置
JP4946876B2 (ja) 2008-01-09 2012-06-06 ソニー株式会社 バラン共振器、半導体装置および受信装置
JP4591559B2 (ja) 2008-06-20 2010-12-01 株式会社村田製作所 平衡不平衡変換器及び増幅回路モジュール
WO2010004534A1 (en) * 2008-07-11 2010-01-14 Nxp B.V. Bulk acoustic wave resonator using acoustic reflector layers as inductive or capacitive circuit element
JP5051063B2 (ja) 2008-08-20 2012-10-17 Ｔｄｋ株式会社 薄膜バラン
DE102009011639B4 (de) * 2009-03-04 2013-08-29 Epcos Ag Reaktanzfilter mit steiler Flanke und dessen Verwendung als Sendefilter in einem Duplexer
DE102009014068B4 (de) * 2009-03-20 2011-01-13 Epcos Ag Kompaktes, hochintegriertes elektrisches Modul mit Verschaltung aus BAW-Filter und Symmetrierschaltung und Herstellungsverfahren

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1111780A2 (de) * 1999-12-22 2001-06-27 Philips Corporate Intellectual Property GmbH Filteranordnung
US20020089393A1 (en) * 2001-01-05 2002-07-11 Pasi Tikka Monolithic fbar duplexer and method of making the same
US20030042992A1 (en) * 2001-08-30 2003-03-06 Frank Michael L. Integrated filter balun
US6670866B2 (en) 2002-01-09 2003-12-30 Nokia Corporation Bulk acoustic wave resonator with two piezoelectric layers as balun in filters and duplexers
DE10234685A1 (de) * 2002-07-30 2004-02-19 Infineon Technologies Ag Filterschaltung
EP1548939A2 (de) * 2003-12-22 2005-06-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Duplexer und Herstellungsverfahen
EP1598934A2 (de) * 2004-05-17 2005-11-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Filter mit Dünnfilmresonatoren und Induktor, Duplexer und deren Herstellungsverfahren
DE102005003834B4 (de) 2004-09-23 2010-11-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd., Suwon Film-Bulk-Acoustic-Resonator-Filter mit unbalancierter-balancierter Eingabe-Ausgabe-Struktur
DE102005044330A1 (de) * 2005-09-16 2007-03-29 Epcos Ag Abstimmbarer Kondensator und Schaltung mit einem solchen Kondensator

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BAKALSKI W ET AL: "LUMPED AND DISTRIBUTED LATTICE-TYPE LC-BALUNS", 2002 IEEE MTT-S INTERNATIONAL MICROWAVE SYMPOSIUM DIGEST (CAT. NO.02CH37278) IEEE PISCATAWAY, NJ, USA; [IEEE MTT-S INTERNATIONAL MICROWAVE SYMPOSIUM], IEEE, 2 June 2002 (2002-06-02), pages 209 - 212, XP001099474, ISBN: 978-0-7803-7239-9, DOI: 10.1109/MWSYM.2002.1011595 *

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