WO2012081514A1 - 治療用処置装置及びその制御方法 - Google Patents

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frequency electrode
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新二 安永
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オリンパス株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a therapeutic treatment apparatus and a control method thereof.
  • Patent Document 1 discloses the following therapeutic treatment apparatus. That is, this therapeutic treatment apparatus has an openable / closable holding part that holds a biological tissue to be treated. A high-frequency electrode for applying a high-frequency voltage and a heater member for heating the high-frequency electrode are disposed at a portion of the holding portion that contacts the living tissue. The holding unit is provided with a cutter.
  • a living tissue is grasped by a holding part and a high frequency voltage is applied. Furthermore, the living tissue is anastomosed by heating the living tissue with the holding member. Moreover, it is also possible to excise in the state which joined the biological tissue edge part with the cutter with which the holding
  • a heat transfer part that comes into contact with a living tissue such as the electrode among the holding parts, and a heater member that heats the heat transfer part are: A manufacturing method in which the layers are formed separately and then joined is common.
  • the surface of the heater member substrate on which the heat generating member, which is a heat source, is formed is generally different from the surface joined to the heat transfer section.
  • the substrate is located between the heat transfer unit and the heat generating member, a temperature difference is generated between the heat transfer unit and the heat generating member. Therefore, in order to accurately control the heating temperature of the living tissue, it is necessary to perform control in consideration of the temperature difference between the heat transfer section and the heat generating member.
  • an object of the present invention is to provide a therapeutic treatment apparatus and a control method thereof that can perform temperature control related to heating of a living tissue with high accuracy in consideration of a temperature difference between a heat transfer section and a heat generating member. To do.
  • a therapeutic treatment apparatus is a therapeutic treatment apparatus for heating and treating a living tissue at a target temperature, and the treatment apparatus is in contact with the living tissue.
  • the heat transfer section configured to transmit heat to the tissue, and has a heat generation part on one surface, and is joined to the heat transfer part on the other surface, and energy is input to the heat generation part.
  • a heating chip for heating the heating part, temperature measuring means for acquiring the temperature of the heating part, and energy for supplying the temperature of the heating part to the heating part based on the temperature of the heating part acquired by the temperature measuring means
  • Control means for controlling the temperature of the heat transfer section to the target temperature by controlling the temperature to be different from the target temperature by an offset value that changes in accordance with the amount.
  • a method of controlling a therapeutic treatment apparatus includes a heat transfer unit configured to contact a living tissue, and an electric resistance for heat generation that heats the heat transfer unit.
  • a therapeutic treatment apparatus that heats and treats the living tissue at a target temperature by the heat transfer unit, obtaining a resistance value of the heating electrical resistance pattern, and generating the heat Calculating a temperature of the heating electrical resistance pattern based on a resistance value of the heating electrical resistance pattern, obtaining a current input power amount to the heating electrical resistance pattern, and the heating electrical resistance pattern
  • the temperature of the heat transfer unit is estimated based on the temperature and the input power amount, and the heat generating electrical resistance is calculated based on the difference between the estimated temperature of the heat transfer unit and the target temperature.
  • the heat transfer unit is set to the target temperature. Since it can be controlled, it is possible to provide a therapeutic treatment apparatus and a control method therefor that can perform temperature control related to heating of a living tissue with high accuracy.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration example of a therapeutic treatment system according to the first embodiment of the present invention.
  • FIG. 2A is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration example of a shaft and a holding unit of the energy treatment device according to the first embodiment, and is a diagram illustrating a state in which the holding unit is closed.
  • FIG. 2B is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration example of the shaft and the holding unit of the energy treatment device according to the first embodiment, and is a diagram illustrating a state in which the holding unit is opened.
  • FIG. 3A is a plan view illustrating an outline of a configuration example of a first holding member of the holding unit according to the first embodiment.
  • FIG. 3B is a schematic diagram illustrating a configuration example of the first holding member of the holding unit according to the first embodiment, and is a vertical cross-sectional view taken along line 3B-3B shown in FIG. 3A.
  • FIG. 3C is a schematic diagram illustrating a configuration example of the first holding member of the holding unit according to the first embodiment, and is a cross-sectional view taken along line 3C-3C illustrated in FIG. 3A.
  • FIG. 4A is a top view illustrating an outline of a configuration example of a heater member according to the first embodiment.
  • FIG. 4B is a diagram schematically illustrating a configuration example of the heater member according to the first embodiment, and is a cross-sectional view taken along line 4B-4B illustrated in FIG. 4A.
  • FIG. 5A is a top view illustrating an outline of a configuration example of the relay chip according to the first embodiment.
  • FIG. 5B is a diagram schematically illustrating a configuration example of the relay chip according to the first embodiment, and is a cross-sectional view taken along line 5B-5B illustrated in FIG. 5A.
  • FIG. 6 is a top view illustrating an outline of a configuration example of the connection chip according to the first embodiment.
  • FIG. 7 is a diagram illustrating a configuration example of the first high-frequency electrode, the heater member, the relay chip, the connection chip, and the wiring that connects them according to the first embodiment.
  • FIG. 8 is a diagram illustrating a configuration example of the energy source according to the first embodiment.
  • FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the medical treatment system according to the first embodiment.
  • FIG. 10 is a flowchart illustrating an example of processing by the control unit of the medical treatment system according to the first embodiment.
  • FIG. 11 is a schematic diagram showing a configuration example of a heater member of the treatment system for treatment according to the second embodiment of the present invention.
  • FIG. 12 is a diagram illustrating a configuration example of the first high-frequency electrode, the heater member, the relay chip, the connection chip, and the wiring that connects them according to the second embodiment.
  • FIG. 13 is a diagram illustrating an example of a circuit configuration of the treatment system according to the second embodiment.
  • FIG. 14A is a schematic diagram illustrating a configuration example of a heater member according to one layout of the treatment system according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 14B is a schematic diagram illustrating a configuration example of a heater member according to another layout of the treatment system according to the third embodiment of the present invention.
  • FIG. 15 is a diagram illustrating a configuration example of the first high-frequency electrode, the heater member, the relay chip, the connection chip, and the wiring that connects them according to the third embodiment.
  • the therapeutic treatment apparatus is an apparatus that causes high-frequency energy and thermal energy to act on a living tissue for use in treatment of the living tissue.
  • the therapeutic treatment device 210 includes an energy treatment tool 212, an energy source 214, and a foot switch 216.
  • the energy treatment tool 212 is a linear type surgical treatment tool for performing treatment by, for example, penetrating the abdominal wall.
  • the energy treatment device 212 includes a handle 222, a shaft 224, and a holding portion 226.
  • the holding unit 226 can be opened and closed, and is a treatment unit that holds a living tissue to be treated and performs treatment such as coagulation and incision.
  • the holding part 226 is disposed at one end of the shaft 224.
  • the other end of the shaft 224 is connected to the handle 222.
  • the holding portion 226 side is referred to as the distal end side
  • the handle 222 side is referred to as the proximal end side.
  • the handle 222 is formed in a shape that is easy for an operator to grip, for example, a substantially L-shape.
  • the handle 222 is connected to the energy source 214 via a cable 228.
  • the shape of the energy treatment device 212 shown here is, of course, an example, and other shapes may be used as long as they have the same function.
  • the shape may be a forceps or the shaft may be curved.
  • a foot switch 216 having a pedal 216a is connected to the energy source 214.
  • the foot switch 216 operated with a foot may be replaced with a switch operated with a hand or other switches.
  • ON / OFF of the supply of energy from the energy source 214 to the energy treatment instrument 212 is switched.
  • the handle 222 includes a holding portion opening / closing knob 232 and a cutter driving knob 234.
  • the holding portion opening / closing knob 232 is connected to a proximal end of a sheath 244 of the shaft 224 described later.
  • the sheath 244 moves along the axial direction of the shaft 224.
  • the holding unit 226 opens and closes.
  • the cutter driving knob 234 is provided in parallel with the holding portion opening / closing knob 232 and is a knob for moving a cutter 254 described later.
  • FIGS. 2A and 2B An example of the structure of the holding part 226 and the shaft 224 is shown in FIGS. 2A and 2B.
  • 2A shows a state in which the holding unit 226 is closed
  • FIG. 2B shows a state in which the holding unit 226 is opened.
  • the shaft 224 includes a cylindrical body 242 and a sheath 244.
  • the cylindrical body 242 is fixed to the handle 222 at its proximal end.
  • the sheath 244 is disposed on the outer periphery of the cylindrical body 242 so as to be slidable along the axial direction of the cylindrical body 242.
  • a holding portion 226 is disposed at the distal end portion of the cylindrical body 242.
  • the holding unit 226 includes a first holding member 262 and a second holding member 264. It is preferable that the first holding member 262 and the second holding member 264 each have insulation properties as a whole.
  • the first holding member 262 integrally includes a first holding member main body 272 and a base portion 274 provided on the proximal end side of the first holding member main body 272.
  • the second holding member 264 is integrally provided with a second holding member main body 276 and a base portion 278 provided on the base end side of the second holding member main body 276.
  • the base portion 274 of the first holding member 262 is fixed to the distal end portion of the cylindrical body 242 of the shaft 224.
  • the base 278 of the second holding member 264 can be rotated by a support pin 280 disposed at the tip of the cylindrical body 242 of the shaft 224 in a direction orthogonal to the axial direction of the shaft 224. It is supported. Accordingly, the second holding member 264 rotates around the axis of the support pin 280 and opens or closes with respect to the first holding member 262.
  • the outer surface shapes of the first holding member 262 and the second holding member 264 are smooth curved surfaces.
  • the shape is such that when the second holding member 264 is closed with respect to the first holding member 262, the combined cross section of the first holding member main body 272 and the second holding member main body 276 is substantially circular or substantially circular. It becomes elliptical.
  • the cross-sectional shapes of the base portion 274 of the first holding member 262 and the base portion 278 of the second holding member 264 are also substantially circular or elliptical.
  • the diameters of the first holding member main body 272 and the second holding member main body 276 are formed larger than the diameters of the base portion 274 of the first holding member 262 and the base portion 278 of the second holding member 264. ing.
  • a step 282 a is formed between the first holding member main body 272 and the base 274 of the first holding member 262, and the second holding member main body 276 and the base 278 of the second holding member 264 are formed.
  • a step 282b is formed between the two.
  • the second holding member 264 is urged by an elastic member 280a such as a leaf spring so as to open with respect to the first holding member 262.
  • an elastic member 280a such as a leaf spring
  • a concave portion 246 is formed in the cylindrical body 242 along the axial direction of the cylindrical body 242.
  • the recess 246 includes a first high-frequency electrode energization line 266b connected to a first high-frequency electrode 266, which will be described later, and heater member energization lines 268a and 268b connected to the heater member 300, which is a heating member. It is arranged.
  • the cylindrical body 242 includes a second high-frequency electrode energization line 270b connected to a second high-frequency electrode 270, which will be described later, and heater member energization lines 269a and 269b connected to the heater member 300 that is a heating member. And are inserted.
  • a drive rod 252 is disposed so as to be movable along the axial direction of the cylinder 242.
  • a thin plate-like cutter 254 is disposed on the distal end side of the drive rod 252.
  • the front end side of the cutter 254 is a free end, and a blade 254a is formed there.
  • the proximal end side of the cutter 254 is fixed to the drive rod 252.
  • a long groove 254 b is formed between the distal end side and the proximal end side of the cutter 254.
  • the long groove 254 b passes through a movement restriction pin 256 that extends in a direction orthogonal to the axial direction of the shaft 224 and the surface direction of the cutter 254 and is fixed to the cylindrical body 242.
  • the proximal end side of the drive rod 252 to which the cutter 254 is fixed is connected to the cutter drive knob 234.
  • the cutter driving knob 234 When the cutter driving knob 234 is operated, the cutter 254 is moved along the axial direction of the cylindrical body 242 via the driving rod 252.
  • the cutter 254 moves while being restricted by the movement restricting pin 256 and the long groove 254b.
  • a movement restricting pin 256 is locked at at least three locations between one end and the other end of the long groove 254b of the cutter 254 and between the one end and the other end, and a locking portion for controlling the movement of the cutter 254. 254c is formed.
  • the cutter 254 moves to the front end side, the cutter 254 is accommodated in a cutter guide groove 262a formed in a first holding member 262 and a cutter guide groove 264a formed in the second holding member 264, which will be described later.
  • the fluid discharge port 242a is closed on the proximal end side of the cylindrical body 242, the fluid discharge port 244a is closed on the proximal end side of the sheath 244, and the holding portion 226 is closed ( In the state shown in FIG. 2A, the positions are matched.
  • a connection cap is provided on the outer peripheral surface of the fluid discharge port 244a of the sheath 244.
  • the fluids such as vapor and liquid released from the living tissue by sucking the inside of the connection base are the cutter guide grooves 262a and 264a, the inside of the cylindrical body 242, the fluid outlet 242a of the cylindrical body 242, and the fluid outlet of the sheath 244. 244a, discharged through the connection cap.
  • the fluid discharge ports 242a and 244a are preferably provided in the shaft 224, but may be provided in the handle 222.
  • the first holding member main body 272 and the base 274 are formed with cutter guide grooves 262a for guiding the cutter 254 described above.
  • the first holding member body 272 is formed with a recess 272a and a holding surface 272b including an edge of the recess 272a.
  • a first high-frequency electrode 266 made of a thin copper plate is disposed in the recess 272a. Since the first high-frequency electrode 266 has the cutter guide groove 262a, the planar shape thereof is substantially U-shaped as shown in FIG. 3A. The surface of the first high-frequency electrode 266 is in contact with the living tissue.
  • the holding surface 272b comes into contact with a holding surface 276b of a second holding member 264 that faces a holding surface 272b described later.
  • the first high-frequency electrode 266 does not contact a second high-frequency electrode 270 that faces the first high-frequency electrode 266 described later.
  • the holding unit 226 in the closed state grips the living tissue
  • the gripped living tissue is deformed according to the shape of the gap, and the first high-frequency electrode 266 and the first high-frequency electrode 266 In contact with the second high-frequency electrode 270.
  • the first high-frequency electrode 266 is electrically connected to a first high-frequency electrode conducting line 266b.
  • the first high-frequency electrode 266 is connected to the cable 228 via the first high-frequency electrode conducting line 266b.
  • a cutter guide groove 264a is formed at a position facing the cutter guide groove 262a.
  • the cutter guide groove 262 a of the first holding member 262 and the cutter guide groove 264 a of the second holding member 264 can guide the cutter 254.
  • the second holding member main body 276 is provided with a second high-frequency electrode 270 having a shape symmetrical to the first high-frequency electrode 266 at a position facing the first high-frequency electrode 266.
  • the second high-frequency electrode 270 is connected to the cable 228 via the second high-frequency electrode conducting line 270b.
  • the first holding member main body 272 and the second holding member main body 276 further have a mechanism for heat generation in order to cauterize the living tissue in contact with the first high-frequency electrode 266 and the second high-frequency electrode 270.
  • the heat generating mechanism provided in the first holding member main body 272 and the heat generating mechanism provided in the second holding member main body 276 have the same form. Therefore, here, the heat generation mechanism formed in the first holding member main body 272 will be described as an example. First, the heater member 300, the relay chip 321 and the connection chip 331 which constitute this heat generation mechanism will be described.
  • the heater member 300 will be described with reference to FIGS. 4A and 4B.
  • the heater member 300 is a heat generating member that generates heat.
  • the heater member 300 is formed using a substrate 311 made of alumina.
  • a resistance pattern 313 that is a Pt thin film for heat generation is formed on one surface of the main surface of the substrate 311. Further, a pair of rectangular electrodes 315 connected to both ends of the resistance pattern 313 are formed on the surface of the substrate 311.
  • An insulating polyimide film 317 is formed on the surface of the substrate 311 including on the resistance pattern 313 except for the portion where the electrode 315 is formed.
  • a bonding metal layer 319 is formed on the entire back surface of the substrate 311.
  • the electrode 315 and the bonding metal layer 319 are multilayer films made of, for example, Ti, Cu, Ni, and Au.
  • the electrode 315 and the bonding metal layer 319 have stable strength against wire bonding and soldering.
  • the bonding metal layer 319 is provided so that the bonding is stable when the heater member 300 is soldered to the first high-frequency electrode 266.
  • the relay chip 321 Similar to the heater member 300, the relay chip 321 is formed using an alumina substrate 323. A rectangular electrode 325 is formed on the surface of the substrate 323. A bonding metal layer 327 is formed on the entire back surface of the substrate 323.
  • the connection chip 331 has the same configuration as the relay chip 321. As shown in FIG. 6, the connection chip 331 includes an alumina substrate 333, an electrode 339 formed on the surface of the substrate 333, and a bonding metal layer formed on the entire back surface of the substrate 333. Yes.
  • the heater member 300, the relay chip 321 and the connection chip 331 are disposed on the surface (back surface) opposite to the surface in contact with the living tissue of the first high-frequency electrode 266.
  • the heater member 300, the relay chip 321 and the connection chip 331 are fixed by soldering the surface of the bonding metal layer and the back surface of the first high-frequency electrode 266, respectively.
  • the first high-frequency electrode 266, the resistance pattern 313, the electrode 325, and the electrode 339 are thus insulated by the substrates 311, 323, and 333.
  • Six heater members 300 are joined to the first high-frequency electrode 266 as shown in FIG. That is, three heater members 300 are arranged in two rows in the longitudinal direction of the first high-frequency electrode 266 in two rows at symmetrical positions across the cutter guide groove 262a.
  • a relay chip 321 is disposed at the tip portion of the first high-frequency electrode 266.
  • one connection chip 331 is disposed at a base end portion of the first high-frequency electrode 266 at a symmetrical position with the cutter guide groove 262a interposed therebetween.
  • the heater member energization line 268a is soldered to the base 337 of one connection chip 331, and the heater member energization line 268b is soldered to the base 337 of the other connection chip 331.
  • the heater member energization line 268 a and the heater member energization line 268 b make a pair and are connected to the energy source 214 via the cable 228.
  • the tip 335 of the connection chip 331 and the electrode 315 of the heater member 300 closest to the tip 335 are connected by a wire 353 formed by wire bonding. Further, the electrodes 315 of the heater member 300 adjacent in the longitudinal direction are also connected by a wire 351 formed by wire bonding.
  • the electrodes 315 of the heater member 300 are connected to each other by a wire 351 formed by wire bonding via the electrode 325 of the relay chip 321. That is, one of the electrodes 315 of the heater member 300 located at the most distal end and the electrode 325 of the relay chip 321 are connected by the wire 351, and the other of the electrodes 315 of the heater member 300 located at the most distal end and the relay chip 321.
  • the electrode 325 is also connected by a wire 351.
  • the connection via the relay chip 321 is made in the longitudinal direction of the first high-frequency electrode 266 at the tip of the first high-frequency electrode 266 rather than the interval between the heater members 300 arranged in the longitudinal direction of the first high-frequency electrode 266. This is because the distance between the two heater members 300 arranged in the orthogonal direction is large and it is difficult to connect by wire bonding.
  • the six heater members 300 arranged in a U-shape, the relay chip 321 and the connection chip 331 are connected in series by the wire 351. Therefore, the current output from the energy source 214 reaches the connection chip 331 via the heater member energization line 268a and flows through the resistance pattern 313 of the heater member 300 via the wire 351. As a result, the resistance pattern 313 generates heat. When the resistance pattern 313 generates heat, the heat is transmitted to the first high-frequency electrode 266. As a result, the living tissue in contact with the first high-frequency electrode 266 is cauterized.
  • the 1st holding member main body 272 covers the outer periphery of the heater member 300, and has heat insulation. With such a structure, heat conduction with less loss is realized.
  • a general semiconductor device manufacture is used for soldering to fix ceramic chips such as the heater member 300, the relay chip 321 and the connection chip 331 to the first high-frequency electrode 266.
  • the die bonder used for can be used.
  • the heater member 300 and the relay chip 321 are discretely arranged in a U shape along the shape of the first high-frequency electrode 266 and adjacent chips are connected in series, the distance between adjacent chips is For example, it is relatively short such as about 5 mm. Since the connection is relatively short, adjacent chips can be connected by wire bonding.
  • a wire bonder used for general semiconductor device manufacturing can be used. Manufacture using these die bonders and wire bonders has very high productivity and can be performed at low cost.
  • the size of the heater member 300 is, for example, about 3 mm in length and about 1.2 mm in width.
  • the size of the first high-frequency electrode 266 is, for example, a length of about 35 mm in the longitudinal direction, a width of about 7 mm, and a cutter guide groove 262 a having a width of about 1 mm along the central axis. is there.
  • the energy source 214 includes a control unit 290, a high frequency (HF) energy output circuit 292, a heating element driving circuit 294, an input unit 295, a display unit 296, and a speaker 298. Is arranged.
  • a high-frequency energy output circuit 292, a heating element driving circuit 294, an input unit 295, a display unit 296, and a speaker 298 are connected to the control unit 290.
  • the control unit 290 controls each unit of the energy source 214.
  • the high frequency energy output circuit 292 is connected to the energy treatment tool 212 and drives the first high frequency electrode 266 and the second high frequency electrode 270 of the energy treatment tool 212 under the control of the control unit 290.
  • the heat generating element driving circuit 294 is connected to the energy treatment device 212 and drives the heater member 300 of the energy treatment device 212 under the control of the control unit 290.
  • a foot switch (SW) 216 is connected to the control unit 290. The foot switch 216 receives ON from which treatment by the energy treatment instrument 212 is performed and OFF from which treatment is stopped.
  • the input unit 295 inputs various settings of the control unit 290.
  • the display unit 296 displays various settings of the control unit 290.
  • the speaker 298 outputs an alarm sound or the like.
  • the high frequency energy output circuit 292 can output high frequency energy and detect the impedance Z. That is, the high frequency energy output circuit 292 has a sensor function of measuring the impedance Z of the living tissue between the first high frequency electrode 266 and the second high frequency electrode 270 of the energy treatment instrument 212.
  • the heat generating element drive circuit 294 has a sensor function of supplying energy to the heater member 300 to cause the heater member 300 to generate heat and measuring the heat generation temperature T of the heater member 300.
  • the surgeon operates the input unit 295 of the energy source 214 in advance to set the output condition of the therapeutic treatment apparatus 210. Specifically, a set power Pset [W] for high-frequency energy output, a set temperature Tset [° C.] for heat energy output, a heating time t [sec], and the like are set. Each value may be set individually, or may be configured to select a set of setting values according to the technique.
  • the holding part 226 and the shaft 224 of the energy treatment instrument 212 are inserted into the abdominal cavity through the abdominal wall, for example, with the holding part 226 closed as shown in FIG. 2A.
  • the operator operates the holding unit opening / closing knob 232 of the handle 222 to grip the biological tissue to be treated, so that the first holding member 262 and the second holding member 262
  • the holding member 264 is opened and closed. That is, first, the sheath 244 is moved to the proximal end side with respect to the cylindrical body 242. As a result, the second holding member 264 opens with respect to the first holding member 262 by the biasing force of the elastic member 280a.
  • the living tissue is positioned between the first holding member 262 and the second holding member 264 with the holding unit 226 open.
  • the sheath 244 is moved to the distal end side with respect to the cylindrical body 242.
  • the second holding member 264 is closed with respect to the first holding member 262 in the sheath 244 against the urging force of the elastic member 280a.
  • the holding unit 226 holds the living tissue to be treated by the first holding member 262 and the second holding member 264.
  • the living tissue to be treated comes into contact with both the first high-frequency electrode 266 provided on the first holding member 262 and the second high-frequency electrode 270 provided on the second holding member 264. Yes.
  • the operator operates the foot switch 216 after holding the living tissue to be treated by the holding unit 226.
  • high-frequency power of preset power Pset [W] set in advance is supplied from the energy source 214 to the first high-frequency electrode 266 and the second high-frequency electrode 270 via the cable 228.
  • the supplied power is, for example, about 20 [W] to 80 [W].
  • a high-frequency current flows through the living tissue to be treated gripped between the first holding member 262 and the second holding member 264.
  • the living tissue generates heat, and the tissue is cauterized (denatured tissue).
  • a fluid for example, a liquid such as blood and / or a gas such as water vapor
  • a fluid for example, a liquid such as blood and / or a gas such as water vapor
  • the holding surface 272 b of the first holding member 262 and the holding surface 276 b of the second holding member 264 protrude beyond the first high-frequency electrode 266 and the second high-frequency electrode 270.
  • the holding surface 272b and the holding surface 276b function as barrier portions (dams), and keep the fluid inside the first holding member 262 and the second holding member 264.
  • the fluid When the fluid is discharged from the fluid discharge port 244a of the sheath 244 and the fluid discharge port 242a of the cylindrical body 242, the fluid staying inside the first holding member 262 and the second holding member 264 is retained in the cutter guide grooves 262a and 264a, in the cylinder. It flows through the body 242 and is discharged from the fluid discharge port 242a and the fluid discharge port 244a. While the fluid is being discharged from the living tissue, the fluid continues to be discharged as described above. As a result, it is possible to prevent the thermal spread from being generated by the fluid released in a state where the temperature is increased from the living tissue, and to prevent the portion that is not the treatment target from being affected.
  • the energy source 214 supplies power to the heater member 300 so that the temperature of the heater member 300 becomes a preset temperature Tset [° C.].
  • the set temperature Tset is, for example, 100 [° C.] to 300 [° C.].
  • the current flows from the energy source 214 through the cable 228, the heater member energization line 268a, the connection chip 331, and the wire 353 by wire bonding, and the resistance pattern 313 of the heater member 300 disposed on the first high-frequency electrode 266. Flow into.
  • the resistance pattern 313 generates heat due to this current.
  • the heat generated in the resistance pattern 313 is transmitted to the first high-frequency electrode 266 through the substrate 311 and the bonding metal layer 319.
  • the temperature of the first high-frequency electrode 266 increases.
  • the current flows into the resistance pattern 313 of the heater member 300 disposed on the second high-frequency electrode 270 via the cable 228 and the heater member energization line 269a.
  • the resistance pattern 313 generates heat. This heat is transmitted to the second high-frequency electrode 270, and the temperature of the second high-frequency electrode 270 increases. As a result, the living tissue in contact with the first high-frequency electrode 266 or the second high-frequency electrode 270 is coagulated.
  • the output of high frequency energy and heat energy is stopped.
  • the operator operates the cutter driving knob 234.
  • the cutter 254 moves in the cutter guide grooves 262a and 264a and cuts the living tissue. The treatment of the living tissue is thus completed.
  • the resistance pattern 313 is formed on the joint surface between the first high-frequency electrode 266 and the heater member 300, it is difficult to draw out the wiring.
  • the resistance pattern 313 is formed on a main surface different from the bonding surface (the surface on which the bonding metal layer 319 is formed) with the first high-frequency electrode 266 of the heater member 300.
  • the resistance pattern 313 is formed on a surface different from the bonding surface with the first high-frequency electrode 266 in the heater member 300.
  • the first high-frequency electrode 266 and the resistance pattern 313 Causes a temperature difference.
  • This temperature difference changes according to the state of the first high-frequency electrode 266, the resistance pattern 313, and the living tissue.
  • the large first high-frequency electrode 266 is heated by the small heater member 300 as in the present embodiment, the heat flux density from the resistance pattern 313 to the first high-frequency electrode 266 is increased.
  • the temperature difference increases.
  • the input to the resistance pattern 313 is controlled so that the temperature of the first high-frequency electrode 266 is constant at the set temperature Tset.
  • the temperature of the resistance pattern 313 is acquired based on the resistance value of the resistance pattern 313 of the heater member 300, and further, the temperature difference between the resistance pattern 313 and the first high-frequency electrode 266 is taken into consideration.
  • the temperature of one high-frequency electrode 266 is controlled to be constant at the set temperature Tset.
  • a heater resistor 410 indicates the total resistance in which six resistor patterns 313 are connected in series.
  • the resistance value of the heater resistor 410 is represented as R_heat.
  • the heater resistor 410 is connected in series with the monitor resistor 420.
  • the resistance value of the monitor resistor 420 is R_m.
  • a variable voltage source 430 is connected to the heater resistor 410 and the monitor resistor 420.
  • the voltage applied by the variable voltage source 430 is represented as V_h.
  • a voltage measuring device 440 for measuring the potential difference is connected to both ends of the monitor resistor 420.
  • the potential difference measured by the voltage measuring device 440 is V_m.
  • the voltage V_h applied by the variable voltage source 430 is changed as needed according to the potential difference V_m of the monitor resistor 420.
  • the monitor resistor 420, the variable voltage source 430, and the voltage measuring device 440 are arranged in the heat generating element driving circuit 294.
  • the variable voltage source 430 and the voltage measuring device 440 are controlled by the control unit 290.
  • the holding unit 226 functions as a holding member that holds the living tissue.
  • the first high-frequency electrode 266 or the second high-frequency electrode 270 contacts the living tissue and transfers heat to the living tissue.
  • the heater member 300 functions as a heat generating chip that heats the heat transfer unit, and for example, the resistance pattern 313 functions as a heat generating portion arranged on one surface of the heat generating chip.
  • the voltage measuring device 440 functions as a temperature measuring unit that acquires the temperature of the heat generation part.
  • the control unit 290 functions as a control unit that controls the temperature of the heat transfer unit to the target temperature.
  • step S101 the control unit 290 sets the output voltage V_h of the variable voltage source 430 to an initial value.
  • the temperature of the resistance pattern 313 is unknown. Therefore, for example, when it is assumed that the temperature of the resistance pattern 313 is body temperature, an applied voltage V_h obtained as described below is set in advance as an initial value.
  • the variable voltage source 430 applies the set output voltage V_h to the resistance pattern 313.
  • step S102 the control unit 290 acquires the potential difference V_m across the monitor resistor 420 measured by the voltage measuring device 440.
  • step S103 the control unit 290 calculates the current I flowing through the resistance pattern 313 and the monitor resistor 420 based on the acquired potential difference V_m.
  • the current I is calculated by the following equation (1).
  • I V_m / R_m (1)
  • step S104 the control unit 290 calculates a resistance value R_heat of the heater resistor 410 using the calculated current I.
  • the resistance value R_heat is calculated by the following equation (2).
  • R_heat (V_h / I) ⁇ R_m (2)
  • step S105 the control unit 290 calculates the temperature Trp of the resistance pattern 313 using the calculated resistance value R_heat.
  • Trp C1 ⁇ R_heat + C2 (3)
  • C1 and C2 are constants.
  • the constant C1 and the constant C2 are obtained in advance experimentally or numerically, for example.
  • the temperature Trp of the resistance pattern 313 can be calculated based on this relational expression (3).
  • step S ⁇ b> 106 the control unit 290 calculates the input power P input to the resistance pattern 313.
  • the input power P is calculated by the following equation (4).
  • P I 2 ⁇ R_heat (4)
  • step S107 the control unit 290 calculates the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266.
  • a temperature difference ⁇ T between the temperature Trp of the resistance pattern 313 and the temperature of the first high-frequency electrode 266 is substantially proportional to the heat flux density q from the resistance pattern 313 to the first high-frequency electrode 266.
  • the heat flux density q from the resistance pattern 313 to the first high-frequency electrode 266 is substantially proportional to the input power amount P to the resistance pattern 313.
  • the temperature difference ⁇ T between the temperature Trp of the resistance pattern 313 and the temperature of the first high-frequency electrode 266 can be expressed by the following equation (5) using the constant C3.
  • ⁇ T C3 ⁇ P (5)
  • the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266 is calculated by the following equation (6) using the temperature Trp of the resistance pattern 313.
  • Thfe Trp ⁇ C3 ⁇ P (6)
  • the constant C3 may be calculated by calculation based on physical properties such as the size and material of the heater member 300. In general, the constant C3 is proportional to the thickness of the substrate 311 and inversely proportional to the area of the substrate 311 and the thermal conductivity.
  • the constant C3 may be obtained by actually measuring the temperature of the resistance pattern 313 and the temperature of the first high-frequency electrode 266 with respect to various input powers through experiments. Note that the temperature of the first high-frequency electrode 266 and the temperature of the bonding metal layer 319 can be regarded as being equal.
  • step S108 the control unit 290 calculates the next power P_next to be input based on the set temperature Tset and the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266.
  • simple control is performed in which the current input power P is changed at a rate proportional to the temperature difference between the set temperature Tset and the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266.
  • the next power P_next to be input is expressed by the following equation (7).
  • P_next (Tset ⁇ Thfe) ⁇ C4 / P + P (7)
  • C4 is a constant and represents a gain.
  • step S109 the control unit 290 calculates the voltage V_h of the variable voltage source for inputting the power P_next set in step S108.
  • the voltage V_h of the variable voltage source is calculated by the following equation (8).
  • V_h (P_next ⁇ R_heat) 0.5 (8)
  • step S110 the control unit 290 outputs the voltage V_h from the variable voltage source set in step S109.
  • step S111 the control unit 290 determines whether or not the elapsed time from the start of control has exceeded a preset heating time t. As a result of this determination, if the elapsed time does not exceed the heating time, the process returns to step S102, and the same process as described above is repeated. As a result of the determination in step S111, if the elapsed time exceeds the heating time, the process proceeds to step S112.
  • step S112 the control unit 290 sets the voltage V_h of the variable voltage source to 0 V and ends the process.
  • the temperature control method of the present embodiment since the temperature of the first high-frequency electrode 266 is estimated using the input power P to the resistance pattern 313, the temperature for measuring the temperature of the first high-frequency electrode 266 is measured. There is no need for a separate sensor. For this reason, a low-cost and small treatment apparatus can be obtained.
  • the temperature difference between the resistance pattern 313 and the first high-frequency electrode 266 is taken into consideration. More specifically, the next power P_next determined in step S108 is calculated based on the set temperature Tset and the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266. The estimated temperature Thfe is calculated in step S107. It is calculated taking into account that the temperature difference ⁇ T proportional to the input power amount P is different from the temperature Trp of the resistance pattern 313. That is, the temperature of the resistance pattern 313 is controlled to a temperature different from the set temperature Tset by a temperature difference ⁇ T (offset value) proportional to the input power amount P. For this reason, the temperature of the first high-frequency electrode 266 can be controlled with high accuracy.
  • the temperature difference ⁇ T between the resistance pattern 313 and the first high-frequency electrode 266 used in step S107 is simply proportional to the input power amount P as shown in equation (5). Even with this assumption, the temperature of the first high-frequency electrode 266 can be controlled with high accuracy. In order to control the temperature of the first high-frequency electrode 266 with higher accuracy, the relationship between the input power amount P and the temperature difference ⁇ T is obtained in detail based on experiments or calculations, and an equation including a constant term obtained, Or you may make it control using a high-order type
  • the determination of the input power P used in step S108 changes the input power at a rate proportional to the difference between the temperature Trp of the resistance pattern 313 and the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266.
  • This is a simple control using equation (7).
  • a differential term based on a change in the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266 is introduced, or the difference between the temperature Trp of the resistance pattern 313 and the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266 is calculated.
  • the power P to be input next can be set using a more complicated expression such as adding the third power term. If such a more complicated expression is used, the estimated temperature Thfe of the first high-frequency electrode 266 can be set to the set temperature Tset in a shorter time, or overshoot with respect to the set temperature Tset can be suppressed.
  • the resistance pattern 313 and the bonding metal layer 319 bonded to the first high-frequency electrode 266 are formed on the front and back of the substrate 311, respectively.
  • the present invention is not limited to this.
  • the resistance pattern 313 is formed on the surface of the substrate 311 having a thickness, and the bonding metal layer 319 is formed on the side surface of the substrate 311, Since there is a temperature difference with the temperature of the metal layer 319, the same technique as in this embodiment can be applied.
  • the shape of the heater member 300 may be other shapes.
  • the temperature control method of the first high-frequency electrode 266 has been described as an example, but the same applies to the temperature control of the second high-frequency electrode 270.
  • the temperature of the heater member 300 is obtained based on the resistance value of the resistance pattern 313.
  • a resistance pattern for temperature measurement is arranged.
  • FIG. 11 shows a configuration example of the heater member 500 used in the present embodiment.
  • a resistance pattern 513 is formed on the surface of a substrate 511, and electrodes 515 are formed at both ends, similarly to the heater member 300 according to the first embodiment.
  • a resistance pattern for temperature measurement 563 is further formed on the surface of the substrate 511, and electrodes 565 are formed at both ends thereof.
  • FIG. 12 shows the configuration of the first high-frequency electrode 266, the heater member 500, the relay chip 521, the connection chip 531 and the wiring connecting them, according to the present embodiment.
  • the first high-frequency electrode 266 includes six heater members 500, one relay chip 521, two connection chips 531 as in the case of the first embodiment. Is arranged.
  • two relay chips 521 and two connection chips 531 are provided in accordance with the resistance pattern 513 and the temperature measuring resistance pattern 563 formed on the heater member 500. It has the above electrodes.
  • a heater member energization line 268a is connected to one electrode 539 formed on one connection chip 531 as in the first embodiment.
  • the heater member energization line 268b that is paired with the heater member energization line 268a is connected to one electrode 539 formed on the other connection chip 531.
  • a temperature measurement energization line 570 a is connected to the other electrode 569 formed on one connection chip 531.
  • a temperature measuring energization line 570 b is connected to the other electrode 569 formed on the other connection chip 531.
  • the electrode 539 connected to the heater member energization lines 268a and 268b of the connection chip 531 and the electrode 515 connected to the resistance pattern 513 of the adjacent heater member 500 are connected by a wire 553 formed by wire bonding. ing.
  • the electrodes 515 connected to the resistance pattern 513 of the heater member 500 adjacent in the longitudinal direction are also connected by a wire 551 formed by wire bonding.
  • the electrodes 515 of the heater member 500 facing each other across the cutter guide groove 262a are connected via one electrode 525 formed in the relay chip 521.
  • An electrode 569 connected to the temperature measuring energization lines 570a and 570b of the connection chip 531 and an electrode 565 connected to the temperature measuring resistance pattern 563 of the adjacent heater member 500 are wires 571 formed by wire bonding. Connected by.
  • the electrodes 565 connected to the temperature measuring resistance pattern 563 of the heater member 500 adjacent in the longitudinal direction are also connected by a wire 572 formed by wire bonding. Note that at the tip of the first high-frequency electrode 266, the electrodes 565 of the heater member 500 facing each other across the cutter guide groove 262a are connected via another electrode 575 formed on the relay chip 521. ing.
  • a voltage can be applied to the resistance pattern 513 via the heater member energization lines 268a and 268b.
  • a voltage can be applied to the temperature measuring resistance pattern 563 via the temperature measuring energization lines 570a and 570b. That is, a voltage can be independently applied to the resistance pattern 513 and the temperature measurement resistance pattern 563.
  • FIG. 13 shows a circuit diagram of the resistance pattern 513 and the temperature measuring resistance pattern 563 of the heater member 500 and the heating element driving circuit 294.
  • the monitor resistor 420 is connected in series with the temperature measuring resistor pattern 563.
  • the variable voltage V_h is applied to the resistance pattern 513 by the variable voltage source 430.
  • a constant voltage having a voltage value V_s is applied from the fixed voltage source 450 to the resistance pattern for temperature measurement 563.
  • the electric power input to the resistance pattern for temperature measurement 563 is very small compared to the electric power input to the resistance pattern 513.
  • the first high-frequency electrode 266 is heated to 200 ° C.
  • the voltage measuring device 440 measures the potential difference between both ends of the monitor resistor 420.
  • the total resistance of the six resistance temperature measuring patterns 563 connected in series is R_heat.
  • a constant current source may be used instead of the fixed voltage source 450 as a power source, and the voltage measurement device 440 may be used to measure the potential difference across the total resistance R_heat of the resistance pattern for temperature measurement 563. .
  • the total resistance R_heat is calculated based on the constant current value and the potential difference between both ends of the total resistance R_heat.
  • the therapeutic treatment apparatus 210 functions in the same manner as in the first embodiment described with reference to FIG.
  • the temperature of the resistance pattern 513 is obtained by measuring the resistance value of the resistance pattern 513.
  • the temperature of the resistance pattern for temperature measurement 563 is obtained by measuring the resistance value of the resistance pattern for temperature measurement 563. Since the resistance pattern 513 and the temperature measurement resistance pattern 563 are arranged close to the same surface of the substrate 511, the temperature of the temperature measurement resistance pattern 563 can be regarded as the temperature of the resistance pattern 513.
  • the electric power supplied to the resistance pattern 513 covers a very wide range. That is, the applied voltage value V_h covers a wide range. Therefore, in the configuration in which the monitor resistor 420 is connected in series to the resistor pattern 513 and the potential difference V_m across the monitor resistor 420 is measured by the voltage measuring device 440 as in the first embodiment, the potential difference across the monitor resistor 420 is measured.
  • V_m will span a wide range.
  • the change in the applied voltage value V_h is large, the change in the potential difference V_m due to the change in the resistance value R_heat resulting from the temperature change in the resistance pattern 513 must be detected.
  • the voltage measuring device 440 is required to have high measurement accuracy.
  • the applied voltage value V_h is referred to in the calculation of the resistance value R_heat in step S104, high linearity is also required for the output of the variable voltage source 430.
  • the monitor resistor 420 is connected in series to the temperature measuring resistor pattern 563, and a constant voltage V_s is applied from these to the fixed voltage source 450. Therefore, since the potential difference V_m between the both ends of the monitor resistor 420 only needs to detect the change in the potential difference V_m due to the change in the resistance value R_heat resulting from the temperature change of the temperature measuring resistor pattern 563, the measurement by the voltage measuring device 440 is relatively easy. Easy. In addition, since the resistance value R_heat calculated in step S104 refers to the voltage value V_s applied by the fixed voltage source 450, the problem of power supply linearity is small.
  • variable voltage source 430 since the accuracy of the variable voltage source 430 does not affect the temperature measurement, the design of the variable voltage source 430 is not restricted by the temperature measurement. Further, although it is necessary to replace the variable voltage source 430 with a sufficiently high frequency, control by pulse width modulation is also possible. Further, in the present embodiment, a resistance pattern 513 and a resistance pattern for temperature measurement 563 are formed in one heater member 500. For this reason, the first high-frequency electrode 266 of the present embodiment has a simple configuration and can be manufactured at a relatively low cost.
  • temperature control with high accuracy can be realized even by using a relatively inexpensive variable voltage source 430 or voltage measurement device 440.
  • this embodiment is suitable for a design in which the maximum input power is increased in order to set the temperature of the first high-frequency electrode 266 or the second high-frequency electrode 270 to the set temperature in a short time.
  • the entire first high-frequency electrode 266 is controlled simultaneously.
  • the first high-frequency electrode 266 as a whole does not necessarily contact the living tissue uniformly. That is, the first high-frequency electrode 266 can have both a portion that contacts the living tissue and a portion that does not contact the living tissue. In such a case, a temperature difference occurs depending on the location in the first high-frequency electrode 266, and if the whole is controlled all at once, temperature control with high accuracy may be difficult.
  • the first high-frequency electrode 266 is divided into three zones, ie, a distal end portion (zone A), an intermediate portion (zone B), and a proximal end portion (zone C), and overheats for each zone. It is configured to be able to.
  • two types of heater members having different layouts are used. These two types of heater members each have the same structure as the heater member 300 of the first embodiment, and a heater (heat generation) resistance pattern and electrodes are formed on the surface of an alumina substrate. A polyimide film is formed so as to cover other than the electrodes. In addition, a bonding metal layer is formed on the entire back surface of the substrate.
  • FIGS. 14A and 14B Two types of layout of the heater member will be described with reference to FIGS. 14A and 14B.
  • the three electrodes arranged on one end are referred to as an electrode 304-1, an electrode 305-1, and an electrode 306-1 in this order.
  • the electrode facing the electrode 304-1 and the electrode facing the electrode 305-1 are aligned with the electrode 304-2 and the electrode 305-2 and the electrode 306-1 on the other end (left side in the figure).
  • These electrodes are referred to as electrodes 306-2, respectively.
  • These six electrodes are insulated from each other.
  • a heater (heat generation) resistance pattern 307 is formed on the surface of the substrate to connect both ends of the heater member 3011 to the electrode 304-1 and the electrode 304-2. Further, as shown in FIG. 14B, in the heater member 3012, a heater (heat generation) resistance pattern 307 is formed on the surface of the substrate to connect both ends to the electrode 305-1 and the electrode 305-2.
  • a heater member is disposed on the first high-frequency electrode 266 as follows. As described above, as shown in FIG. 15, the first high-frequency electrode 266 is divided into three zones, ie, a distal end portion (zone A), an intermediate portion (zone B), and a proximal end portion (zone C).
  • the upper side of the cutter guide groove 262a in FIG. 15 is referred to as the upper end portion of the zones A, B, and C
  • the lower side of the cutter guide groove 262a is referred to as the lower end portion of the zones A, B, and C.
  • one heater member 3011 is disposed at each of the upper end portion and the lower end portion.
  • heater member 3011 is arranged so that electrode 304-1 and electrode 306-1 face the proximal end side of first high-frequency electrode 266.
  • heater member 3011 is arranged so that electrode 304-1 and electrode 306-1 face the front end side of first high-frequency electrode 266. That is, the orientation of the heater member 3011 is 180 ° different between the upper end of zone A and the lower end of zone C, and the lower end of zone A and the upper end of zone C.
  • One heater member 3012 is disposed at each of the upper end and the lower end of the zone B.
  • the heater member 3012 is disposed so that the electrode 304-1 and the electrode 306-1 face the proximal end side of the first high-frequency electrode 266.
  • the direction of the heater member 3012 may be different by 180 °, and the electrode 304-1 and the electrode 306-1 may be disposed so as to face the distal end side of the first high-frequency electrode 266.
  • the heater member 3011 disposed at the upper end portion of the zone A at the upper end portion is referred to as a heater member 301a
  • the heater member 3012 disposed at the upper end portion of the zone B is referred to as a heater member 301c.
  • positioned at the upper end part of C be the heater member 301e.
  • the heater member 3011 disposed at the lower end portion of the zone A is referred to as a heater member 301b
  • the heater member 3012 disposed at the lower end portion of the zone B is referred to as a heater member 301d
  • the heater member 3013 is referred to as a heater member 301f.
  • connection chip 331a is disposed at the upper end, and a connection chip 331b is disposed at the lower end.
  • connection chip 331a three electrodes of an electrode 339a, an electrode 339c, and an electrode 339e are formed in order from the upper end side to the lower end side in FIG.
  • connection chip 331b three electrodes of an electrode 339f, an electrode 339d, and an electrode 339b are formed in order from the upper end side to the lower end side in FIG.
  • the electrode 339a, the electrode 339b, the electrode 339c, the electrode 339d, the electrode 339e, and the electrode 339f have the same configuration as the electrode 339.
  • a relay chip 321 is disposed at the tip of the first high-frequency electrode 266.
  • the relay chip 321 three electrodes of an electrode 325 ab, an electrode 325 cd, and an electrode 325 ef are formed in order from the distal end side to the proximal end side.
  • the electrode 325ab, the electrode 325cd, and the electrode 325ef have the same configuration as the electrode 325.
  • the heater members 301a, 301b, 301c, 301d, 301e, and 301f, the connection chips 331a and 331b, and the relay chip 321 are joined to the first high-frequency electrode 266 by soldering.
  • the heater member energization line 2681a is connected to the electrode 339a
  • the heater member energization line 2681c is connected to the electrode 339c
  • the heater member energization line 2681e is connected to the electrode 339e.
  • the heater member energization line 2681b is connected to the electrode 339b
  • the heater member energization line 2681d is connected to the electrode 339d
  • the heater member energization line 2681f is connected to the electrode 339f.
  • the electrode 339a of the connection chip 331a and the electrode 306-2 of the heater member 301e are connected by a wire 353 by wire bonding.
  • the electrode 306-2 and the electrode 306-1 of the heater member 301e are also connected by a wire 353.
  • the electrode 306-1 of the heater member 301e and the electrode 304-1 of the heater member 301c, the electrode 304-1 and the electrode 304-2 of the heater member 301c, and the electrode 304-2 of the heater member 301c and the electrode 304 of the heater member 301a. -1 are also connected by wires 353, respectively.
  • the electrode 304-2 of the heater member 301a and the electrode 325ab of the relay chip 321 and the electrode 304-1 of the heater member 301b and the electrode 325ab of the relay chip 321 are also connected by the wire 353, respectively.
  • the electrodes 306-2 and 306-1 of the heater member 301f, and the electrode 306-1 of the heater member 301f and the electrode 339b of the connection chip 331b are also connected by wires 353, respectively.
  • the heater member energization line 2681a, the resistance pattern 307 of the heater member 301a, the resistance pattern 307 of the heater member 301b, and the heater member energization line 2681b are sequentially connected in series.
  • the heater member energization line 2681c, the resistance pattern 307 of the heater member 301c, and the resistance of the heater member 301d The pattern 307 and the heater member energization line 2681d are connected in series in this order.
  • the heater member energization line 2681e, the resistance pattern 307 of the heater member 301e, the resistance pattern 307 of the heater member 301f, and the heater member energization line 2681f are sequentially connected in series.
  • the heater member energization lines 2681a and 2681b are connected to an energy source 214 which is an external heating control device via a cable 228.
  • the heater member energization lines 2681c and 2681d are also connected to an energy source 214, which is an external heating control device, via a cable 228.
  • the heater member energization lines 2681e and 2681f are also connected to an energy source 214 as an external heating control device via a cable 228.
  • the connection in the energy source 214 is equivalent to that of the first embodiment described with reference to FIG. 9, and a total of three connections are arranged for each zone. Therefore, in this embodiment, temperature control can be performed independently for each zone. Each control is the same as in the first embodiment.
  • the heater members 301a and 301b arranged in the zone A can be controlled by the heater member energization lines 2681a and 2681b.
  • the heater members 301c and 301d arranged in the zone B can be controlled by the heater member energization lines 2681c and 2681d.
  • the heater members 301e and 301f arranged in the zone C can be controlled by the heater member energization lines 2681e and 2681f.
  • wirings for mutually connecting chips are formed in a loop shape between chips and on the chips.
  • the input power cannot be changed according to the location of the first high-frequency electrode 266. For this reason, when the living tissue to be heated is in contact with a part of the first high-frequency electrode 266 and the living tissue is not in contact with the other part, the temperature can be uneven in the first high-frequency electrode 266, Accurate temperature control may be difficult. In addition, it is possible that only a portion where the living tissue is not in contact becomes abnormally high. On the other hand, in this embodiment, temperature measurement and input electric power according to it can be adjusted for every zone. For this reason, the temperature of the first high-frequency electrode 266 can be controlled with high accuracy. Moreover, it can be prevented that a part becomes abnormally high. This embodiment is particularly effective when the first high-frequency electrode 266 partially contacts the living tissue. The same applies to the second high-frequency electrode 270.
  • the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage.
  • various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, even if some constituent elements are deleted from all the constituent elements shown in the embodiment, the problem described in the column of problems to be solved by the invention can be solved and the effect of the invention can be obtained. The configuration in which this component is deleted can also be extracted as an invention.
  • constituent elements over different embodiments may be appropriately combined.

Abstract

 治療用処置装置(210)は、生体組織を目標温度で加熱して治療するための装置である。治療用処置装置は、伝熱部(266,270)と、発熱チップ(300)と、測温手段(440)と、制御手段(290)とを有する。伝熱部は、前記生体組織に接触し該生体組織に熱を伝えるように構成されている。発熱チップは、一つの面に発熱部位(313,307)を有し、他の面において保持部材の伝熱部と接合し、発熱部位にエネルギを投入することで伝熱部を加熱する。測温手段は、発熱部位の温度を取得する。制御手段は、測温手段が取得した発熱部位の温度に基づいて、発熱部位の温度を発熱部位に投入するエネルギ量に応じて変化するオフセット値だけ目標温度と異なる温度に制御することで、伝熱部の温度を目標温度に制御する。

Description

治療用処置装置及びその制御方法
 本発明は、治療用処置装置及びその制御方法に関する。
 一般に、高周波エネルギや熱エネルギを用いて生体組織を治療する治療用処置装置が知られている。例えば特許文献1には、次のような治療用処置装置が開示されている。すなわち、この治療用処置装置は、処置対象である生体組織を把持する開閉可能な保持部を有している。この保持部の生体組織と接する部分には、高周波の電圧を印加するための高周波電極と、その高周波電極を加熱するためのヒータ部材とが配設されている。また、保持部には、カッタが備えられている。このような治療用処置装置の使用においては、まず、生体組織を保持部で把持し、高周波の電圧を印加する。更に、保持部材で生体組織を加熱することで、生体組織を吻合する。また、保持部に備えられたカッタにより、生体組織端部を接合した状態で切除することも可能である。
日本国 特開2009-247893号公報
 前記特許文献1に開示されているような治療用処置装置において、前記した保持部のうち前記の電極のような生体組織と接する伝熱部と、その伝熱部を加熱するヒータ部材とは、別々に形成し、その後接合するという作製方法が一般的である。ここで、配線の容易さを考えると、ヒータ部材の基板において、熱源である発熱部材を形成する面と、伝熱部と接合する面とは、異なるのが一般的である。このような場合、伝熱部と発熱部材との間に基板が位置するため、伝熱部と発熱部材との間には温度差が生じる。したがって、生体組織の加熱温度を正確に制御するためには、伝熱部と発熱部材との間の温度差を考慮して制御を行う必要がある。
 そこで本発明は、伝熱部と発熱部材との間の温度差を考慮して、生体組織の加熱に係る温度制御を高精度に行える治療用処置装置及びその制御方法を提供することを目的とする。
 前記目的を果たすため、本発明の一態様によれば、治療用処置装置は、生体組織を目標温度で加熱して治療するための治療用処置装置であって、前記生体組織に接触し該生体組織に熱を伝えるように構成された伝熱部と、一つの面に発熱部位を有し、他の面において前記伝熱部と接合し、該発熱部位にエネルギを投入することで前記伝熱部を加熱する発熱チップと、前記発熱部位の温度を取得する測温手段と、前記測温手段が取得した前記発熱部位の温度に基づいて、該発熱部位の温度を該発熱部位に投入するエネルギ量に応じて変化するオフセット値だけ前記目標温度と異なる温度に制御することで、前記伝熱部の温度を該目標温度に制御する制御手段と、を具備することを特徴とする。
 前記目的を果たすため、本発明の一態様によれば、治療用処置装置の制御方法は、生体組織に接触するように構成された伝熱部と、該伝熱部を加熱する発熱用電気抵抗パターンとを備え、該伝熱部によって該生体組織を目標温度で加熱して治療する治療用処置装置の制御方法であって、前記発熱用電気抵抗パターンの抵抗値を取得することと、前記発熱用電気抵抗パターンの抵抗値に基づいて、前記発熱用電気抵抗パターンの温度を算出することと、前記発熱用電気抵抗パターンへの現在の投入電力量を取得することと、前記発熱用電気抵抗パターンの前記温度と前記投入電力量とに基づいて、前記伝熱部の温度を推定することと、推定された前記伝熱部の温度と前記目標温度との差に基づいて、前記発熱用電気抵抗パターンへ次に投入する電力量を決定することと、を具備することを特徴とする。
 本発明によれば、発熱部材の温度を、この発熱部材に投入するエネルギ量に応じて変化するオフセット値だけ伝熱部の目標温度と異なる温度にすることによって、伝熱部を前記目標温度に制御することができるので、生体組織の加熱に係る温度制御を高精度に行える治療用処置装置及びその制御方法を提供できる。
図1は、本発明の第1の実施形態に係る治療用処置システムの構成例を示す概略図である。 図2Aは、第1の実施形態に係るエネルギ処置具のシャフト及び保持部の構成例を示す断面の概略図であり、保持部が閉じた状態を示す図である。 図2Bは、第1の実施形態に係るエネルギ処置具のシャフト及び保持部の構成例を示す断面の概略図であり、保持部が開いた状態を示す図である。 図3Aは、第1の実施形態に係る保持部の第1の保持部材の構成例の概略を示す平面図である。 図3Bは、第1の実施形態に係る保持部の第1の保持部材の構成例を示す概略図であり、図3Aに示す3B-3B線に沿う縦断面図である。 図3Cは、第1の実施形態に係る保持部の第1の保持部材の構成例を示す概略図であり、図3Aに示す3C-3C線に沿う横断面図である。 図4Aは、第1の実施形態に係るヒータ部材の構成例の概略を示す上面図である。 図4Bは、第1の実施形態に係るヒータ部材の構成例の概略を示す図であって、図4Aに示す4B-4B線に沿う断面図である。 図5Aは、第1の実施形態に係る中継チップの構成例の概略を示す上面図である。 図5Bは、第1の実施形態に係る中継チップの構成例の概略を示す図であって、図5Aに示す5B-5B線に沿う断面図である。 図6は、第1の実施形態に係る接続チップの構成例の概略を示す上面図である。 図7は、第1の実施形態に係る第1の高周波電極、ヒータ部材、中継チップ及び接続チップ、並びにそれらを接続する配線等の構成例を示す図である。 図8は、第1の実施形態に係るエネルギ源の構成例を示す図である。 図9は、第1の実施形態に係る治療用処置システムの回路構成の一例を示す図である。 図10は、第1の実施形態に係る治療用処置システムの制御部による処理の一例を示すフローチャートである。 図11は、本発明の第2の実施形態に係る治療用処置システムのヒータ部材の構成例を示す模式図である。 図12は、第2の実施形態に係る第1の高周波電極、ヒータ部材、中継チップ及び接続チップ、並びにそれらを接続する配線等の構成例を示す図である。 図13は、第2の実施形態に係る治療用処置システムの回路構成の一例を示す図である。 図14Aは、本発明の第3の実施形態に係る治療用処置システムの一つのレイアウトに係るヒータ部材の構成例を示す模式図である。 図14Bは、本発明の第3の実施形態に係る治療用処置システムの別のレイアウトに係るヒータ部材の構成例を示す模式図である。 図15は、第3の実施形態に係る第1の高周波電極、ヒータ部材、中継チップ及び接続チップ、並びにそれらを接続する配線等の構成例を示す図である。
 [第1の実施形態]
 まず、本発明の第1の実施形態について図面を参照して説明する。本実施形態に係る治療用処置装置は、生体組織の治療に用いるための、生体組織に高周波エネルギと熱エネルギとを作用させる装置である。図1に示すように、治療用処置装置210は、エネルギ処置具212と、エネルギ源214と、フットスイッチ216とを備えている。
 エネルギ処置具212は、例えば腹壁を貫通させて処置を行うための、リニアタイプの外科治療用処置具である。エネルギ処置具212は、ハンドル222と、シャフト224と、保持部226とを有している。保持部226は、開閉可能であり、処置対象の生体組織を保持して、凝固、切開等の処置を行う処置部である。保持部226は、シャフト224の一端に配設されている。シャフト224の他端は、ハンドル222に接続している。ここでは説明のため、保持部226側を先端側と称し、ハンドル222側を基端側と称することにする。ハンドル222は、術者が握り易い形状、例えば略L字状に形成されている。ハンドル222は、ケーブル228を介してエネルギ源214に接続されている。なお、ここで示したエネルギ処置具212の形状は、勿論一例であり、同様の機能を有していれば、他の形状でもよい。例えば、鉗子のような形状をしていてもよいし、シャフトが湾曲していてもよい。
 エネルギ源214には、ペダル216aを有するフットスイッチ216が接続されている。足で操作するフットスイッチ216は、手で操作するスイッチやその他のスイッチに置き換えてもよい。フットスイッチ216のペダル216aを術者が操作することにより、エネルギ源214からエネルギ処置具212へのエネルギの供給のON/OFFが切り換えられる。
 ハンドル222は、保持部開閉ノブ232と、カッタ駆動ノブ234とを備えている。保持部開閉ノブ232は、後述するシャフト224のシース244の基端に連結されている。この保持部開閉ノブ232がハンドル222に対して近接および離隔すると、シース244がシャフト224の軸方向に沿って移動する。その結果、保持部226は、開閉動作をする。カッタ駆動ノブ234は、保持部開閉ノブ232に並設されており、後述するカッタ254を移動させるためのノブである。
 保持部226及びシャフト224の構造の一例を図2A及び図2Bに示す。図2Aは保持部226が閉じた状態を示し、図2Bは保持部226が開いた状態を示す。シャフト224は、筒体242とシース244とを備えている。筒体242は、その基端部でハンドル222に固定されている。シース244は、図2A及び図2Bに示すように、筒体242の外周に、筒体242の軸方向に沿って摺動可能に配設されている。筒体242の先端部には、保持部226が配設されている。
 保持部226は、第1の保持部材262と、第2の保持部材264とを備えている。第1の保持部材262及び第2の保持部材264は、それぞれ全体的に絶縁性を有することが好ましい。第1の保持部材262は、第1の保持部材本体272と、この第1の保持部材本体272の基端側に設けられた基部274とを一体的に備えている。同様に、第2の保持部材264は、第2の保持部材本体276と、この第2の保持部材本体276の基端側に設けられた基部278とを一体的に備えている。第1の保持部材262の基部274は、シャフト224の筒体242の先端部に固定されている。一方、第2の保持部材264の基部278は、シャフト224の筒体242の先端部に、シャフト224の軸方向に対して直交する方向に配設されている支持ピン280によって、回動可能に支持されている。したがって、第2の保持部材264は、支持ピン280の軸回りに回動し、第1の保持部材262に対して開いたり閉じたりする。
 第1の保持部材262及び第2の保持部材264の外表面形状は、滑らかな曲面である。その形状は、第2の保持部材264が第1の保持部材262に対して閉じた状態では、第1の保持部材本体272及び第2の保持部材本体276を合わせた断面が、略円形または略楕円状となる。また、閉じた状態では、第1の保持部材262の基部274及び第2の保持部材264の基部278の断面形状も、略円形または略楕円状となる。ここで、第1の保持部材本体272及び第2の保持部材本体276の径の方が、第1の保持部材262の基部274及び第2の保持部材264の基部278の径よりも大きく形成されている。すなわち、第1の保持部材本体272と第1の保持部材262の基部274との間には、段差282aが形成されており、第2の保持部材本体276と第2の保持部材264の基部278との間には、段差282bが形成されている。
 第2の保持部材264は、第1の保持部材262に対して開くように、例えば板バネなどの弾性部材280aにより付勢されている。シース244を、筒体242に対して先端側にスライドさせ、シース244によって第1の保持部材262の基部274及び第2の保持部材264の基部278を覆うと、図2Aに示すように、弾性部材280aの付勢力に抗して、第1の保持部材262及び第2の保持部材264は閉じる。一方、シース244を、筒体242の基端側にスライドさせると、図2Bに示すように、弾性部材280aの付勢力によって第1の保持部材262に対して第2の保持部材264は開く。
 図2A及び図2Bに示すように、筒体242には、筒体242の軸方向に沿って凹部246が形成されている。この凹部246には、後述する第1の高周波電極266に接続される第1の高周波電極用通電ライン266bと、発熱部材であるヒータ部材300に接続されるヒータ部材用通電ライン268a,268bとが配設されている。また、筒体242には、後述する第2の高周波電極270に接続される第2の高周波電極用通電ライン270bと、発熱部材であるヒータ部材300に接続されるヒータ部材用通電ライン269a,269bとが挿通されている。
 筒体242の内部には、駆動ロッド252が、筒体242の軸方向に沿って移動可能に配設されている。駆動ロッド252の先端側には、薄板状のカッタ254が配設されている。カッタ254の先端側は、自由端となっており、そこには刃254aが形成されている。カッタ254の基端側は駆動ロッド252に固定されている。このカッタ254の先端側と基端側との間には、長溝254bが形成されている。この長溝254bには、シャフト224の軸方向及びカッタ254の面方向に対して直交する方向に延びており筒体242に固定されている移動規制ピン256が通っている。カッタ254が固定されている駆動ロッド252の基端側は、カッタ駆動ノブ234と接続している。カッタ駆動ノブ234を操作すると、駆動ロッド252を介してカッタ254は、筒体242の軸方向に沿って移動させられる。ここで、カッタ254は、移動規制ピン256と長溝254bとに規制されて移動する。なお、カッタ254の長溝254bの一端と、他端と、一端及び他端の間との少なくとも3箇所には、移動規制ピン256を係止し、カッタ254の移動を制御するための係止部254cが形成されている。カッタ254が先端側に移動するとき、カッタ254は、後述する第1の保持部材262に形成されたカッタ案内溝262a及び第2の保持部材264に形成されたカッタ案内溝264a内に収まる。
 後述する水蒸気や組織液などの流体を放出するため、筒体242の基端側には流体放出口242aが、シース244の基端側には流体放出口244aが、保持部226が閉じた状態(図2Aの状態)において位置を一致させるように形成されている。ここでは図示しないが、シース244の流体放出口244aの外周面には、接続口金が設けられていることも好適である。接続口金内を吸引することによって生体組織から放出される蒸気や液体などの流体は、カッタ案内溝262a,264a、筒体242の内部、筒体242の流体放出口242a、シース244の流体放出口244a、接続口金を通じて排出される。なお、流体放出口242a,244aはシャフト224に設けられていることが好適であるが、ハンドル222に設けられていてもよい。
 図3A、図3B及び図3Cに示すように、第1の保持部材本体272及び基部274には、前記したカッタ254を案内するためのカッタ案内溝262aが形成されている。第1の保持部材本体272には、凹部272aと、凹部272aの縁部を含む保持面272bとが形成されている。凹部272aには、例えば銅の薄板で形成された第1の高周波電極266が配設されている。第1の高周波電極266は、カッタ案内溝262aを有するので、その平面形状は、図3Aに示すように、略U字形状となっている。第1の高周波電極266の表面は、生体組織と接触する。
 保持部226が閉じた際、保持面272bは、後述の保持面272bと対向する第2の保持部材264の保持面276bに当接する。一方、保持部226が閉じた際、第1の高周波電極266は、後述の第1の高周波電極266と対向する第2の高周波電極270には当接しない。閉じた状態の保持部226において、第1の高周波電極266と第2の高周波電極270との間には隙間が存在する。しかしながら、生体組織は変形しやすいので、閉じた状態の保持部226が生体組織を把持する際には、把持された生体組織は、当該隙間の形状に従って変形し、第1の高周波電極266及び第2の高周波電極270と接触する。
 第1の高周波電極266には、図2A及び図2Bに示すように、第1の高周波電極用通電ライン266bが電気的に接続している。第1の高周波電極266は、この第1の高周波電極用通電ライン266bを介して、ケーブル228に接続されている。
 第2の保持部材264には、カッタ案内溝262aと対向する位置に、カッタ案内溝264aが形成されている。第1の保持部材262のカッタ案内溝262a及び第2の保持部材264のカッタ案内溝264aは、カッタ254を案内することができる。また、第2の保持部材本体276には、第1の高周波電極266と対向する位置に、第1の高周波電極266と対称な形状の第2の高周波電極270が配設されている。第2の高周波電極270は、第2の高周波電極用通電ライン270bを介して、ケーブル228に接続されている。
 第1の保持部材本体272及び第2の保持部材本体276は更に、第1の高周波電極266及び第2の高周波電極270に接した生体組織を焼灼するために、発熱のための機構を有する。第1の保持部材本体272に設けられた発熱機構と、第2の保持部材本体276に設けられた発熱機構は、同様の形態を持つ。そこで、ここでは第1の保持部材本体272に形成された発熱機構を例に説明する。まず、この発熱の機構を構成する、ヒータ部材300、中継チップ321及び接続チップ331について説明する。
 ヒータ部材300について、図4A及び図4Bを参照して説明する。ヒータ部材300は、熱を発する発熱部材である。ヒータ部材300は、アルミナ製の基板311を用いて形成されている。基板311の主面の一方である表面には、発熱用のPt薄膜である抵抗パターン313が形成されている。また、基板311の表面には、抵抗パターン313の両端にそれぞれ接続している矩形の一対の電極315が形成されている。電極315が形成されている部分を除き、抵抗パターン313上を含む基板311の表面には、絶縁用のポリイミド膜317が形成されている。基板311の裏面全面には、接合用金属層319が形成されている。電極315と接合用金属層319とは、例えばTiとCuとNiとAuとからなる多層の膜である。電極315と接合用金属層319とは、ワイヤーボンディングやハンダ付けに対して安定した強度を有している。接合用金属層319は、第1の高周波電極266にヒータ部材300をハンダ付けする際に、接合が安定するように設けられている。
 次に、中継チップ321について、図5Aと図5Bとを参照して説明する。中継チップ321は、ヒータ部材300と同様に、アルミナ製の基板323を用いて形成されている。基板323の表面には、矩形の電極325が形成されている。また、基板323の裏面全面には、接合用金属層327が形成されている。接続チップ331も、中継チップ321と同様の構成を有している。図6に示すように、接続チップ331は、アルミナ製の基板333と、基板333の表面に形成された電極339と、基板333の裏面全面に形成されている接合用金属層とを有している。
 ヒータ部材300、中継チップ321及び接続チップ331は、第1の高周波電極266の、生体組織と接する面とは反対側の面(裏面)に配設されている。ここで、ヒータ部材300、中継チップ321及び接続チップ331は、それぞれ、接合用金属層の表面と第1の高周波電極266の裏面とをハンダ付けすることにより固定されている。第1の高周波電極266と、抵抗パターン313、電極325及び電極339とは、このように基板311,323,333によって絶縁されている。
 第1の高周波電極266には、6個のヒータ部材300が、図7に示すように接合されている。すなわち、ヒータ部材300は、カッタ案内溝262aを挟んで対称な位置に2列に、第1の高周波電極266の長手方向に3個ずつ並んで配置されている。また、第1の高周波電極266の先端部分には、中継チップ321が配置されている。また、第1の高周波電極266の基端部分には、カッタ案内溝262aを挟んで対称な位置に、接続チップ331が1つずつ配置されている。
 一方の接続チップ331の基部337には、ヒータ部材用通電ライン268aがハンダ付けされており、他方の接続チップ331の基部337には、ヒータ部材用通電ライン268bがハンダ付けされている。このヒータ部材用通電ライン268aとヒータ部材用通電ライン268bとは、対をなしており、ケーブル228を介してエネルギ源214に接続されている。接続チップ331の先端部335と、先端部335から最も近いヒータ部材300の電極315とは、ワイヤーボンディングによって形成されたワイヤー353により接続されている。また、その長手方向に隣接するヒータ部材300の電極315同士も、ワイヤーボンディングによって形成されたワイヤー351により接続されている。
 第1の高周波電極266の先端部においては、ヒータ部材300の電極315同士は、中継チップ321の電極325を介して、ワイヤーボンディングによって形成されたワイヤー351により接続されている。すなわち、最も先端に位置するヒータ部材300の電極315の一方と中継チップ321の電極325とがワイヤー351により接続されており、最も先端に位置するヒータ部材300の電極315の他方と中継チップ321の電極325ともワイヤー351により接続されている。中継チップ321を介して接続するのは、第1の高周波電極266の長手方向に並ぶヒータ部材300の間隔よりも、第1の高周波電極266の先端部において第1の高周波電極266の長手方向と直交する方向に配置された2つのヒータ部材300の間隔が大きく、ワイヤーボンディングによる接続が困難であるからである。
 このようにして、U字状に並ぶ6個のヒータ部材300、中継チップ321及び接続チップ331は、ワイヤー351によって直列に接続されている。したがって、エネルギ源214から出力された電流は、ヒータ部材用通電ライン268aを介して、接続チップ331に到達し、ワイヤー351を介してヒータ部材300の抵抗パターン313を流れる。その結果、抵抗パターン313は発熱する。抵抗パターン313が発熱すると、第1の高周波電極266にその熱が伝達される。その結果、第1の高周波電極266に接した生体組織が焼灼される。なお、第1の保持部材本体272は、ヒータ部材300の外周を覆い、断熱性を有することが好ましい。このような構造により、損失の少ない熱伝導が実現される。
 本実施形態の治療用処置装置の製造において、ヒータ部材300、中継チップ321、及び接続チップ331等のセラミックチップを、第1の高周波電極266に固定するハンダ付けには、一般的な半導体装置製造に用いるダイボンダーを用いることができる。また、ヒータ部材300及び中継チップ321を、第1の高周波電極266の形状に沿ってU字状に離散的に配置し、隣り合うチップ同士を直列に接続するので、隣り合うチップの距離は、例えば5mm程度といったように比較的短い。接続が比較的短くなるので、ワイヤーボンディングによって隣り合うチップ同士を接続できる。このワイヤーボンディングには、一般的な半導体装置製造に用いるワイヤーボンダーを用いることができる。これら、ダイボンダーやワイヤーボンダーを用いた製造は、非常に生産性が高く、低コストで行うことができる。
 なお、本実施形態において、ヒータ部材300のサイズは、例えば、長さが3mm程度であり、幅が1.2mm程度である。また、第1の高周波電極266のサイズは、例えば、長手方向の長さが35mm程度であり、幅が7mm程度でその中心軸に沿って幅1mm程度のカッタ案内溝262aが刻んである等である。
 エネルギ源214の内部には、図8に示すように、制御部290と、高周波(HF)エネルギ出力回路292と、発熱要素駆動回路294と、入力部295と、表示部296と、スピーカ298とが配設されている。制御部290には、高周波エネルギ出力回路292と、発熱要素駆動回路294と、入力部295と、表示部296と、スピーカ298とが接続されている。制御部290は、エネルギ源214の各部を制御する。高周波エネルギ出力回路292は、エネルギ処置具212と接続しており、制御部290の制御の下、エネルギ処置具212の第1の高周波電極266及び第2の高周波電極270を駆動する。発熱要素駆動回路294は、エネルギ処置具212と接続しており、制御部290の制御の下、エネルギ処置具212のヒータ部材300を駆動する。制御部290には、フットスイッチ(SW)216が接続されており、フットスイッチ216からエネルギ処置具212による処置が行われるONと、処置が停止されるOFFとが、入力される。入力部295は、制御部290の各種設定を入力する。表示部296は、制御部290の各種設定を表示する。スピーカ298は、アラーム音などを出力する。
 なお、高周波エネルギ出力回路292は、高周波エネルギを出力するとともに、インピーダンスZを検出可能である。すなわち、高周波エネルギ出力回路292は、エネルギ処置具212の第1の高周波電極266と第2の高周波電極270との間の生体組織のインピーダンスZを計測するセンサ機能を有する。また、発熱要素駆動回路294は、ヒータ部材300にエネルギを供給してヒータ部材300を発熱させるとともに、ヒータ部材300の発熱温度Tを計測するセンサ機能を有する。
 次に本実施形態に係る治療用処置装置210の動作を説明する。術者は、予めエネルギ源214の入力部295を操作して、治療用処置装置210の出力条件を設定しておく。具体的には、高周波エネルギ出力の設定電力Pset[W]、熱エネルギ出力の設定温度Tset[℃]、加熱時間t[sec]等を設定しておく。それぞれの値を個別に設定するように構成してもよいし、術式に応じた設定値のセットを選択するように構成してもよい。
 エネルギ処置具212の保持部226及びシャフト224は、図2Aに示すように保持部226が閉じた状態で、例えば、腹壁を通して腹腔内に挿入される。保持部226が処置対象の生体組織に近づいたら、術者は、ハンドル222の保持部開閉ノブ232を操作して、処置対象の生体組織を把持するため、第1の保持部材262及び第2の保持部材264を開閉させる。すなわち、まず、シース244は、筒体242に対して基端側に移動させられる。その結果、第1の保持部材262に対して第2の保持部材264は、弾性部材280aの付勢力によって開く。
 保持部226が開いた状態で、第1の保持部材262と第2の保持部材264との間に生体組織が位置される。この状態で、シース244は、筒体242に対して先端側に移動させられる。その結果、シース244は弾性部材280aの付勢力に抗して、第1の保持部材262に対して第2の保持部材264が閉じる。このようにして、保持部226は、第1の保持部材262と第2の保持部材264とによって、処置対象の生体組織を把持する。このとき、第1の保持部材262に設けられた第1の高周波電極266と第2の保持部材264に設けられた第2の高周波電極270との両方に、処置対象の生体組織が接触している。
 術者は、保持部226によって処置対象の生体組織を把持したら、フットスイッチ216を操作する。フットスイッチ216がONに切り換えられると、エネルギ源214から、ケーブル228を介して第1の高周波電極266及び第2の高周波電極270に、予め設定した設定電力Pset[W]の高周波電力が供給される。供給される電力は、例えば、20[W]~80[W]程度である。このようにして、第1の保持部材262と第2の保持部材264との間に把持された処置対象の生体組織に、高周波電流が流れる。その結果、生体組織は発熱し、組織が焼灼(組織の変性)される。
 組織の焼灼に際して、生体組織から流体(例えば血液等の液体及び/又は水蒸気等の気体)が放出される。ここで、第1の保持部材262の保持面272b、及び第2の保持部材264の保持面276bは、第1の高周波電極266及び第2の高周波電極270よりも突出している。このため、保持面272b及び保持面276bは、障壁部(ダム)として機能し、流体を第1の保持部材262及び第2の保持部材264の内側に留める。
 シース244の流体放出口244a及び筒体242の流体放出口242aから吸引すると、第1の保持部材262及び第2の保持部材264の内側に留まった流体は、カッタ案内溝262a,264a内、筒体242内を流れ、流体放出口242a及び流体放出口244aから排出される。生体組織から流体が放出されている間は、上記のようにこの流体は排出され続ける。その結果、生体組織から温度が上昇した状態で放出された流体によってサーマルスプレッドが生じることを防止し、処置対象でない部分に影響を与えることを防止することができる。
 次にエネルギ源214は、ヒータ部材300の温度が予め設定した温度Tset[℃]になるようにヒータ部材300に電力を供給する。ここで、設定した温度Tsetは、例えば100[℃]~300[℃]である。このとき電流は、エネルギ源214から、ケーブル228、ヒータ部材用通電ライン268a、接続チップ331、及びワイヤーボンディングによるワイヤー353とを通じて、第1の高周波電極266に配置されたヒータ部材300の抵抗パターン313に流入する。抵抗パターン313は、この電流によって発熱する。抵抗パターン313で発生した熱は、基板311及び接合用金属層319を介して、第1の高周波電極266に伝わる。その結果、第1の高周波電極266の温度は上昇する。同様に、電流は、ケーブル228、ヒータ部材用通電ライン269aを介して、第2の高周波電極270に配置されたヒータ部材300の抵抗パターン313に流入する。このとき、この抵抗パターン313は、発熱する。この熱は、第2の高周波電極270に伝わり、第2の高周波電極270の温度は上昇する。その結果、第1の高周波電極266又は第2の高周波電極270と接触している生体組織は凝固する。
 生体組織が凝固したら、高周波エネルギ及び熱エネルギの出力を停止する。最後に術者は、カッタ駆動ノブ234を操作する。その結果、カッタ254は、カッタ案内溝262a,264a内を移動し、生体組織を切断する。以上によって生体組織の処置が完了する。
 ところで、第1の高周波電極266とヒータ部材300との接合面に、抵抗パターン313を形成すると、配線の引き出しが困難である。このため本実施形態では、抵抗パターン313は、ヒータ部材300の第1の高周波電極266との接合面(接合用金属層319が形成されている面)とは異なる主面に形成されている。このように、配線の取り回しを考慮すると、ヒータ部材300において、第1の高周波電極266との接合面と異なる面に抵抗パターン313を形成することは一般的であると考えられる。
 しかしながら、加熱対象である生体組織と接するため温度を正確に制御したい第1の高周波電極266と、抵抗パターン313との間に基板311が存在するため、第1の高周波電極266と抵抗パターン313とには、温度差が生じる。この温度差は、第1の高周波電極266、抵抗パターン313、及び生体組織の状態に応じて変化する。特に、本実施形態のように、大きな第1の高周波電極266を、小さなヒータ部材300で加熱するため、抵抗パターン313から第1の高周波電極266への熱流束密度が大きくなっている場合、この温度差は大きくなる。本実施形態では、この温度差を考慮して、第1の高周波電極266の温度を、設定した温度Tsetに一定にするように、抵抗パターン313への入力を制御する。
 本実施形態における、第1の高周波電極266の温度を、設定温度Tsetに一定にするように制御する方法を説明する。本実施形態では、ヒータ部材300の抵抗パターン313の抵抗値に基づいて、抵抗パターン313の温度を取得し、更に、抵抗パターン313と第1の高周波電極266との温度差を考慮して、第1の高周波電極266の温度を、設定温度Tsetに一定にするように制御する。
 図9を参照して、抵抗パターン313の温度の取得に係る回路を説明する。図9においてヒータ抵抗410は、6個の抵抗パターン313が直列接続された合計抵抗を示している。ここで、ヒータ抵抗410の抵抗値を、R_heatと表す。ヒータ抵抗410は、モニタ抵抗420と直列に接続されている。モニタ抵抗420の抵抗値は、R_mである。ヒータ抵抗410及びモニタ抵抗420には、可変電圧源430が接続されている。ここで、可変電圧源430が印加する電圧を、V_hと表す。また、モニタ抵抗420の両端には、その電位差を計測するための電圧計測装置440が接続されている。ここで、電圧計測装置440が計測する電位差をV_mとする。本実施形態では、可変電圧源430が印加する電圧V_hは、モニタ抵抗420の電位差V_mに応じて、随時変更されるものとする。なお、モニタ抵抗420、可変電圧源430及び電圧計測装置440は、発熱要素駆動回路294内に配置されている。また、可変電圧源430及び電圧計測装置440は、制御部290によって制御されている。
 このように、例えば保持部226は、生体組織を把持する保持部材として機能し、例えば第1の高周波電極266又は第2の高周波電極270は、生体組織に接触し該生体組織に熱を伝えるように構成された伝熱部として機能し、例えばヒータ部材300は、伝熱部を加熱する発熱チップとして機能し、例えば抵抗パターン313は、発熱チップの一の面に配された発熱部位として機能し、例えば電圧計測装置440は、発熱部位の温度を取得する測温手段として機能し、例えば制御部290は、伝熱部の温度を目標温度に制御する制御手段として機能する。
 制御部290による、第1の高周波電極266の温度を設定温度Tsetに制御する処理を図10に示すフローチャートを参照して説明する。
 ステップS101において、制御部290は、可変電圧源430の出力電圧V_hを、初期値に設定する。制御開始時点においては、抵抗パターン313の温度が不明である。そこで、例えば、抵抗パターン313の温度は体温であると仮定したときに、後述のようにして求まる印加電圧V_hを初期値として予め設定しておく。可変電圧源430は、設定された出力電圧V_hを、抵抗パターン313に印加する。
 ステップS102において、制御部290は、電圧計測装置440が計測したモニタ抵抗420の両端の電位差V_mを取得する。
 ステップS103において、制御部290は、取得した電位差V_mに基づいて、抵抗パターン313及びモニタ抵抗420に流れる電流Iを算出する。ここで、電流Iは、モニタ抵抗420の抵抗値R_mが既知であるので、次式(1)で算出される。 
  I=V_m/R_m ・・・(1)
 ステップS104において、制御部290は、算出した電流Iを用いて、ヒータ抵抗410の抵抗値R_heatを算出する。ここで、抵抗値R_heatは、次式(2)で算出される。 
  R_heat=(V_h/I)-R_m ・・・(2)
 ステップS105において、制御部290は、算出した抵抗値R_heatを用いて、抵抗パターン313の温度Trpを算出する。抵抗パターン313の温度Trpと、ヒータ抵抗410の抵抗値R_heatとの関係は、次式(3)で表されることが分かっている。 
  Trp=C1×R_heat+C2 ・・・(3)
ここで、C1及びC2は定数である。定数C1及び定数C2は、予め例えば実験的に又は数値解析的に求めておく。抵抗パターン313の温度Trpは、この関係式(3)に基づいて算出することができる。
 ステップS106において、制御部290は、抵抗パターン313に投入されている投入電力Pを算出する。ここで、投入電力Pは、次式(4)で算出される。 
  P=I×R_heat ・・・(4)
 ステップS107において、制御部290は、第1の高周波電極266の推定温度Thfeを算出する。抵抗パターン313の温度Trpと、第1の高周波電極266の温度との温度差ΔTは、抵抗パターン313から第1の高周波電極266への熱流束密度qにほぼ比例する。ここで、抵抗パターン313から第1の高周波電極266への熱流束密度qは、抵抗パターン313への投入電力量Pにほぼ比例する。したがって、抵抗パターン313の温度Trpと、第1の高周波電極266の温度との温度差ΔTは、定数C3を用いて、次式(5)で表すことができる。 
  ΔT=C3×P ・・・(5)
以上より、第1の高周波電極266の推定温度Thfeは、抵抗パターン313の温度Trpを用いて、次式(6)で算出される。 
  Thfe=Trp-C3×P ・・・(6)
定数C3は、ヒータ部材300のサイズや材質等の物性値に基づいて計算によって算出しても良い。一般に、定数C3は、基板311の厚さに比例し、基板311の面積と熱伝導率に反比例する。また、定数C3は、実験によって様々な投入電力に対する抵抗パターン313の温度と第1の高周波電極266の温度とを実測することで求めてもよい。なお、第1の高周波電極266の温度と接合用金属層319の温度とは等しいと見なすことができる。
 ステップS108において、制御部290は、次に投入する電力P_nextを、設定温度Tsetと第1の高周波電極266の推定温度Thfeとに基づいて算出する。本実施形態では、現在の投入電力Pから、設定温度Tsetと第1の高周波電極266の推定温度Thfeとの温度差に比例した割合で変化させる、単純な制御とする。次に投入する電力P_nextは、次式(7)で表される。 
  P_next=(Tset-Thfe)×C4/P+P ・・・(7)
ここで、C4は定数であり、ゲインを表す。
 ステップS109において、制御部290は、ステップS108で設定された電力P_nextを投入するための、可変電圧源の電圧V_hを算出する。ここで、可変電圧源の電圧V_hは、次式(8)で算出される。 
  V_h=(P_next×R_heat)0.5 ・・・(8)
 ステップS110において、制御部290は、ステップS109で設定した可変電圧源から電圧V_hを出力させる。
 ステップS111において、制御部290は、制御開始時からの経過時間が、予め設定した加熱時間tを超えたか否かを判断する。この判断の結果、経過時間が加熱時間を超えていなければ、処理はステップS102に戻り、上記と同様の処理が繰り返される。ステップS111における判断の結果、経過時間が加熱時間を超えていれば、処理はステップS112に進む。
 ステップS112において、制御部290は、可変電圧源の電圧V_hを0Vに設定し、処理を終了する。
 本実施形態の温度制御方法によれば、抵抗パターン313への投入電力Pを用いて第1の高周波電極266の温度が推定されるので、第1の高周波電極266の温度を計測するための温度センサが別途配置される必要がない。このため、低コストで小型な治療用処置装置が得られる。
 また、本実施形態では、抵抗パターン313と第1の高周波電極266との温度差が考慮されている。より詳しくは、ステップS108において決定する次に投入する電力P_nextが、設定温度Tsetと第1の高周波電極266の推定温度Thfeとに基づいて算出されており、この推定温度Thfeは、ステップS107において、投入電力量Pに比例する温度差ΔTだけ抵抗パターン313の温度Trpと異なることが考慮されて算出されている。すなわち、抵抗パターン313の温度が、設定温度Tsetと投入電力量Pに比例する温度差ΔT(オフセット値)だけ異なる温度に制御されている。このため、第1の高周波電極266の温度が高精度に制御され得る。
 なお、本実施形態においては、ステップS107において用いる抵抗パターン313と第1の高周波電極266との温度差ΔTは、式(5)に示すように、投入電力量Pに単純に比例するとしている。このように仮定しても高い精度で第1の高周波電極266の温度を制御することができる。更に高精度で第1の高周波電極266の温度を制御するために、投入電力量Pと温度差ΔTとの関係を、実験又は計算に基づいて詳細に求め、得られた定数項を含む式、又は高次の式を用いて制御するようにしてもよい。
 また、本実施形態においては、ステップS108で用いる投入電力Pの決定は、抵抗パターン313の温度Trpと第1の高周波電極266の推定温度Thfeとの差に比例した割合で投入電力を変化させる、式(7)を用いた単純な制御である。更に高精度で制御するために、第1の高周波電極266の推定温度Thfeの変化に基づく微分項を導入したり、抵抗パターン313の温度Trpと第1の高周波電極266の推定温度Thfeとの差の3乗項を追加したりするなど、より複雑な式を用いて次に投入する電力Pを設定することもできる。このような、より複雑な式を用いれば、より短時間で第1の高周波電極266の推定温度Thfeを設定温度Tsetにしたり、設定温度Tsetに対するオーバーシュートを抑制したりすることができる。
 なお、本実施形態のヒータ部材300において、抵抗パターン313と第1の高周波電極266に接合する接合用金属層319とは、基板311の表裏にそれぞれ形成されているものとした。しかしながらこれに限らず、例えば厚みを有する基板311の表面に抵抗パターン313が形成され、その基板311の側面に接合用金属層319が形成されているものとしても、抵抗パターン313の温度と接合用金属層319の温度とに温度差が生じるので、本実施形態と同様の技術を適用することができる。ヒータ部材300の形状は、その他の形状でもよい。第1の高周波電極266を例に挙げて、その温度制御の方法を説明したが、第2の高周波電極270の温度制御についても同様である。
 [第2の実施形態]
 次に、本発明の第2の実施形態について説明する。ここで第2の実施形態の説明では、第1の実施形態との相違点について説明し、同一の部分については同一の符号を付して、その説明は省略する。第1の実施形態においては、ヒータ部材300の温度を、抵抗パターン313の抵抗値に基づいて求めている。これに対して本実施形態では、ヒータ部材の温度を求めるために、温度計測用抵抗パターンが配置されている。
 本実施形態で用いるヒータ部材500の構成例を図11に示す。この図に示すように、ヒータ部材500は、第1の実施形態に係るヒータ部材300と同様に、基板511の表面に、抵抗パターン513が形成されており、その両端には電極515が形成されている。本実施形態では更に、基板511の表面に、測温用抵抗パターン563が形成されており、その両端には、電極565が形成されている。
 本実施形態に係る第1の高周波電極266、ヒータ部材500、中継チップ521及び接続チップ531、並びにそれらを接続する配線等の構成を図12に示す。この図に示すように、第1の高周波電極266には、第1の実施形態の場合と同様に、6個のヒータ部材500と、1個の中継チップ521と、2個の接続チップ531とが配置されている。本実施形態では、図11に示したように、ヒータ部材500に抵抗パターン513と測温用抵抗パターン563とが形成されていることに合わせて、中継チップ521及び接続チップ531は、それぞれ2つ以上の電極を有する。
 図12に示すように、一方の接続チップ531に形成された1つの電極539には、第1の実施形態と同様に、ヒータ部材用通電ライン268aが接続されている。同様に、他方の接続チップ531に形成された1つの電極539には、ヒータ部材用通電ライン268aと対をなすヒータ部材用通電ライン268bが接続されている。また、一方の接続チップ531に形成された他の1つの電極569には、測温用通電ライン570aが接続されている。同様に、他方の接続チップ531に形成された他の1つの電極569には、測温用通電ライン570bが接続されている。
 接続チップ531のヒータ部材用通電ライン268a,268bが接続された電極539と、隣接するヒータ部材500の抵抗パターン513に接続している電極515とは、ワイヤーボンディングによって形成されたワイヤー553によって接続されている。長手方向に隣接するヒータ部材500の抵抗パターン513に接続している電極515同士も、ワイヤーボンディングによって形成されたワイヤー551によって接続されている。第1の高周波電極266の先端部においては、カッタ案内溝262aを挟んで対向するヒータ部材500の電極515同士は、中継チップ521に形成された一つの電極525を介して接続されている。
 接続チップ531の測温用通電ライン570a,570bが接続された電極569と、隣接するヒータ部材500の測温用抵抗パターン563に接続している電極565とは、ワイヤーボンディングによって形成されたワイヤー571によって接続されている。長手方向に隣接するヒータ部材500の測温用抵抗パターン563に接続している電極565同士も、ワイヤーボンディングによって形成されたワイヤー572によって接続されている。なお、第1の高周波電極266の先端部においては、カッタ案内溝262aを挟んで対向するヒータ部材500の電極565同士は、中継チップ521に形成された他の一つの電極575を介して接続されている。
 このように接続することで、抵抗パターン513には、ヒータ部材用通電ライン268a,268bを介して電圧を印加することができる。同様に、測温用抵抗パターン563には、測温用通電ライン570a,570bを介して電圧を印加することができる。すなわち、抵抗パターン513及び測温用抵抗パターン563には、それぞれ独立して電圧を印加することができる。
 図13に、ヒータ部材500の抵抗パターン513及び測温用抵抗パターン563、並びに発熱要素駆動回路294の回路図を示す。本実施形態では、モニタ抵抗420は、測温用抵抗パターン563と直列に接続されている。抵抗パターン513には、第1の実施形態の場合と同様に、可変電圧源430によって可変電圧V_hが印加される。一方、測温用抵抗パターン563には、固定電圧源450から電圧値V_sの定電圧が印加される。ここで、測温用抵抗パターン563に投入される電力は、抵抗パターン513に投入される電力に比べて、非常に小さい。例えば、加熱開始時には、第1の高周波電極266を200℃以上まで5秒程度で加熱するため、抵抗パターン513には、数百Wの電力が投入されるが、測温用抵抗パターン563で消費される電力は数W程度とする等である。また、電圧計測装置440は、モニタ抵抗420の両端の電位差を計測する。ここで本実施形態では、6個直列に接続された測温用抵抗パターン563の合計抵抗をR_heatとする。
 以上のような構成を用いることで、図10を参照して説明した第1の実施形態の場合の制御において、電圧V_hを電圧V_sに置き換え、測温用抵抗パターン563の抵抗R_heatを用いると、本実施形態でも第1の実施形態と同様の制御を行うことができる。
 また、電源を固定電圧源450とせずに定電流源を用いることとし、電圧計測装置440を用いて測温用抵抗パターン563の合計抵抗R_heatの両端の電位差を計測する様に構成してもよい。この場合、ステップS102乃至ステップS104において、一定である電流値と、合計抵抗R_heatの両端の電位差とに基づいて、合計抵抗R_heatが算出されるように構成される。この場合も治療用処置装置210は、図10を参照して説明した第1の実施形態の場合と同様に機能する。
 第1実施形態では抵抗パターン513の抵抗値を計測することで抵抗パターン513の温度を得ている。これに対して、本実施形態では、測温用抵抗パターン563の抵抗値を計測することで測温用抵抗パターン563の温度を得る。抵抗パターン513と測温用抵抗パターン563とは、基板511の同一の面に近接して配置されているので、測温用抵抗パターン563の温度は、抵抗パターン513の温度とみなすことができる。
 抵抗パターン513には、加熱開始初期には、第1の高周波電極266の温度を設定温度Tsetにするために、大きな電力を投入する必要がある。一方で、第1の高周波電極266の温度が設定温度Tsetになった後は、温度を保持するために抵抗パターン513に投入する電力は、それ程大きくない。このように、抵抗パターン513に投入される電力は、非常に広範囲にわたる。すなわち、印加される電圧値V_hは広範囲にわたる。したがって、第1の実施形態のように、抵抗パターン513にモニタ抵抗420を直列に接続し、モニタ抵抗420の両端の電位差V_mを電圧計測装置440で計測する構成では、モニタ抵抗420の両端の電位差V_mは、広範囲にわたることになる。この場合、印加電圧値V_hの変化が大きい中で、抵抗パターン513の温度変化に由来する抵抗値R_heatの変化による電位差V_mの変化を検出しなければいけない。このため、電圧計測装置440は、高い計測精度が要求される。また、ステップS104における抵抗値R_heatの算出で、印加電圧値V_hが参照されるので、可変電圧源430の出力にも、高い線形性が求められる。
 これに対して本実施形態では、モニタ抵抗420は、測温用抵抗パターン563に直列に接続されており、これらには固定電圧源450から定電圧V_sが印加されている。したがって、モニタ抵抗420の両端の電位差V_mは、測温用抵抗パターン563の温度変化に由来する抵抗値R_heatの変化による電位差V_mの変化を検出すればよいので、電圧計測装置440による計測は比較的容易である。また、ステップS104における抵抗値R_heatの算出で、固定電圧源450による印加電圧値V_sを参照するので、電源の線形性の問題も小さい。また、可変電圧源430の精度が温度計測に影響しないので、可変電圧源430の設計が温度計測による規制を受けない。また、可変電圧源430に代えて、十分に周波数が高いことが必要ではあるものの、パルス幅変調による制御も可能となる。更に、本実施形態では、一つのヒータ部材500内に、抵抗パターン513と測温用抵抗パターン563とが形成されている。このため、本実施形態の第1の高周波電極266は、構成がシンプルであり、比較的低コストで作製できる。
 以上のとおり、本実施形態によれば、比較的安価な可変電圧源430や電圧計測装置440を用いても、高い精度による温度制御を実現できる。特に、本実施形態は、第1の高周波電極266又は第2の高周波電極270の温度を短時間で設定温度にするために、最大投入電力量を大きくする設計においては好適である。
 [第3の実施形態]
 次に、本発明の第3の実施形態について説明する。ここで第3の実施形態の説明では、第1の実施形態との相違点について説明し、同一の部分については同一の符号を付して、その説明は省略する。第1の実施形態では、第1の高周波電極266全体を一斉に制御している。しかしながら第1の高周波電極266全体で均一に生体組織と接するとは限らない。すなわち、第1の高周波電極266には、生体組織と接する部分と接しない部分とが並存し得る。このような場合、第1の高周波電極266内で場所により温度差が生じ、全体を一斉に制御すると、高い精度での温度制御が困難な場合がある。また、第1の高周波電極266のうち生体組織が接触していない部分のみ、異常な程高温になるおそれがある。そこで本実施形態では、第1の高周波電極266は、先端部(ゾーンA)、中間部(ゾーンB)、及び基端部(ゾーンC)の3つのゾーンに分割され、ゾーン毎に過熱を行うことができるように構成されている。
 本実施形態では、レイアウトが異なる2種類のヒータ部材が用いられている。この2種類のヒータ部材は、それぞれ第1の実施形態のヒータ部材300と同様の構造を有しており、アルミナ製の基板の表面に、ヒータ(発熱)用の抵抗パターンと電極とが形成され、電極以外を覆うように、ポリイミド膜が成膜されている。また、基板の裏面には、全面に接合用金属層が形成されている。
 ヒータ部材の2種類のレイアウトを、図14A、図14Bを参照して説明する。図14A及び図14Bに示すように、ヒータ部材3011及びヒータ部材3012においては、基板の表面の両端部に3対の電極が形成されている。ここで、一方の端部(図において右側)に並ぶ3つの電極を順に、電極304-1、電極305-1、電極306-1と称する。また、他方の端部(図において左側)に並ぶ、電極304-1と対向する電極を電極304-2と、電極305-1と対向する電極を電極305-2と、電極306-1と対向する電極を電極306-2と、それぞれ称する。これら6つの電極は、互いに絶縁されている。
 図14Aに示すように、ヒータ部材3011においては、その両端を電極304-1及び電極304-2に接続するヒータ(発熱)用の抵抗パターン307が、基板の表面に形成されている。また図14Bに示すように、ヒータ部材3012においては、その両端を電極305-1及び電極305-2に接続するヒータ(発熱)用の抵抗パターン307が、基板の表面に形成されている。
 本実施形態において、第1の高周波電極266上に次のようにヒータ部材が配置されている。前記のとおり、第1の高周波電極266は、図15に示すように先端部(ゾーンA)、中間部(ゾーンB)、及び基端部(ゾーンC)の3つのゾーンに分割されている。ここでは説明のため、図15におけるカッタ案内溝262aの上側をゾーンA,B,Cの上端部、カッタ案内溝262aの下側をゾーンA,B,Cの下端部と称することにする。
 ゾーンA及びゾーンCには、上端部と下端部にそれぞれ1つずつのヒータ部材3011が配置されている。ここで、ゾーンAの上端部及びゾーンCの下端部においては、ヒータ部材3011は、電極304-1及び電極306-1が第1の高周波電極266の基端側に向くように配置されている。一方ゾーンAの下端部及びゾーンCの上端部においては、ヒータ部材3011は、電極304-1及び電極306-1が第1の高周波電極266の先端側に向くように配置されている。すなわち、ゾーンAの上端部及びゾーンCの下端部と、ゾーンAの下端部及びゾーンCの上端部とでは、ヒータ部材3011の配置の向きが180°異なる。
 ゾーンBの上端部及び下端部には、それぞれ1つずつのヒータ部材3012が配置されている。ここでは、ヒータ部材3012は、電極304-1及び電極306-1が第1の高周波電極266の基端側に向くように配置されている。或いは、ヒータ部材3012の向きは、180°異なって、電極304-1及び電極306-1が第1の高周波電極266の先端側に向くように配置されてもよい。
 ここで説明の便宜上、上端部において、ゾーンAの上端部に配設されるヒータ部材3011をヒータ部材301aとし、ゾーンBの上端部に配設されるヒータ部材3012をヒータ部材301cと称し、ゾーンCの上端部に配設されるヒータ部材3011をヒータ部材301eとする。また、ゾーンAの下端部に配設されるヒータ部材3011をヒータ部材301bとし、ゾーンBの下端部に配設されるヒータ部材3012をヒータ部材301dとし、ゾーンCの下端部に配設されるヒータ部材3013をヒータ部材301fと称する。
 第1の高周波電極266の基端には、上端部に接続チップ331aが配置され、下端部に接続チップ331bが配置されている。接続チップ331aには、図15の上端側から下端側に向けて順に、電極339a、電極339c、電極339eの3つの電極が形成されている。接続チップ331bには、図15の上端側から下端側に向けて順に、電極339f、電極339d、電極339bの3つの電極が形成されている。電極339a,電極339b,電極339c,電極339d,電極339e,電極339fは、電極339と同じ構成である。
 第1の高周波電極266の先端には、中継チップ321が配置されている。中継チップ321には、先端側から基端側に向けて順に、電極325ab、電極325cd、電極325efの3つの電極が形成されている。電極325ab,電極325cd,電極325efは、電極325と同じ構成である。
 ヒータ部材301a,301b,301c,301d,301e,301fと接続チップ331a,331bと中継チップ321とは、上述したように、第1の高周波電極266にハンダ付けによって接合されている。
 接続チップ331aの、電極339aにはヒータ部材用通電ライン2681aが接続し、電極339cにはヒータ部材用通電ライン2681cが接続し、電極339eにはヒータ部材用通電ライン2681eが接続している。また、接続チップ331bの、電極339bにはヒータ部材用通電ライン2681bが接続し、電極339dにはヒータ部材用通電ライン2681dが接続し、電極339fにはヒータ部材用通電ライン2681fが接続している。
 接続チップ331aの電極339aと、ヒータ部材301eの電極306-2とは、ワイヤーボンディングによるワイヤー353により接続されている。また、ヒータ部材301eの電極306-2と電極306-1もワイヤー353により接続されている。更に、ヒータ部材301eの電極306-1とヒータ部材301cの電極304-1、ヒータ部材301cの電極304-1と電極304-2、及びヒータ部材301cの電極304-2とヒータ部材301aの電極304-1もワイヤー353によりそれぞれ接続されている。また、ヒータ部材301aの電極304-2と中継チップ321の電極325ab、及びヒータ部材301bの電極304-1と中継チップ321の電極325abもワイヤー353によりそれぞれ接続されている。更に、ヒータ部材301bの電極304-2とヒータ部材301dの電極306-2、ヒータ部材301dの電極306-2と電極306-1、ヒータ部材301dの電極306-1とヒータ部材301fの電極306-2、ヒータ部材301fの電極306-2と電極306-1、及びヒータ部材301fの電極306-1と接続チップ331bの電極339bもワイヤー353によりそれぞれ接続されている。
 このように接続することで、ヒータ部材用通電ライン2681aと、ヒータ部材301aの抵抗パターン307と、ヒータ部材301bの抵抗パターン307と、ヒータ部材用通電ライン2681bとが、順に直列接続される。同様に接続チップ、ヒータ部材、及び中継チップの電極をワイヤーボンディングにより形成されたワイヤー353で接続することで、ヒータ部材用通電ライン2681cと、ヒータ部材301cの抵抗パターン307と、ヒータ部材301dの抵抗パターン307と、ヒータ部材用通電ライン2681dとが、順に直列接続されている。同様に、ヒータ部材用通電ライン2681eと、ヒータ部材301eの抵抗パターン307と、ヒータ部材301fの抵抗パターン307と、ヒータ部材用通電ライン2681fとが、順に直列接続されている。
 ヒータ部材用通電ライン2681a,2681bは、ケーブル228を介して外部加熱制御装置であるエネルギ源214と接続している。またヒータ部材用通電ライン2681c,2681dも、ケーブル228を介して外部加熱制御装置であるエネルギ源214と接続している。またヒータ部材用通電ライン2681e,2681fも、ケーブル228を介して外部加熱制御装置であるエネルギ源214と接続している。エネルギ源214内の接続は、図9を参照して説明した第1の実施形態と同等のものが、各ゾーン用に、合計3つ配置されている。したがって、本実施形態では、ゾーン毎に独立して温度制御を行うことができる。各々の制御は、第1の実施形態と同様である。
 上記のように構成することで、ヒータ部材用通電ライン2681a,2681bによって、ゾーンAに配置されたヒータ部材301a,301bを制御することができる。同様に、ヒータ部材用通電ライン2681c,2681dによって、ゾーンBに配置されたヒータ部材301c,301dを制御することができる。同様に、ヒータ部材用通電ライン2681e,2681fによって、ゾーンCに配置されたヒータ部材301e,301fを制御することができる。
 本実施形態では、チップ間を相互に接続する配線がチップ間及びチップ上にループ状に形成されている。ワイヤーボンディングにより、このように配線を行うことで、狭い領域に多くの配線を形成することが可能となる。このことは、省スペース化に効を奏する。本実施形態よりも更にゾーンの数を増やしても、配線の取り回しが困難になることは殆どない。
 第1の実施形態では、第1の高周波電極266の場所に応じて投入電力を変えることができない。このため、第1の高周波電極266の一部に加熱対象である生体組織が接触し他の部分には生体組織が接触していない場合、第1の高周波電極266内で温度にむらができ、精度のよい温度制御が困難となる場合があり得る。また、生体組織が接触していない部分のみが異常な程に高温になることが起こり得る。これに対して本実施形態では、ゾーン毎に温度計測とそれに応じた投入電力が調整され得る。このため、高い精度で第1の高周波電極266の温度が制御され得る。また、一部が異常な程に高温になることが防止され得る。本実施形態は、特に第1の高周波電極266が部分的に生体組織に接する場合に効果が大きい。第2の高周波電極270についても同様である。
 なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除しても、発明が解決しようとする課題の欄で述べられた課題が解決でき、かつ、発明の効果が得られる場合には、この構成要素が削除された構成も発明として抽出され得る。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

Claims (8)

  1.  生体組織を目標温度で加熱して治療するための治療用処置装置であって、
     前記生体組織に接触し該生体組織に熱を伝えるように構成された伝熱部と、
     一つの面に発熱部位を有し、他の面において前記伝熱部と接合し、該発熱部位にエネルギを投入することで前記伝熱部を加熱する発熱チップと、
     前記発熱部位の温度を取得する測温手段と、
     前記測温手段が取得した前記発熱部位の温度に基づいて、該発熱部位の温度を該発熱部位に投入するエネルギ量に応じて変化するオフセット値だけ前記目標温度と異なる温度に制御することで、前記伝熱部の温度を該目標温度に制御する制御手段と、
     を具備することを特徴とする治療用処置装置。
  2.  前記発熱部位は、発熱用電気抵抗パターンであり、
     前記エネルギ量は、前記発熱用電気抵抗パターンに投入される電力量である、
     ことを特徴とする請求項1に記載の治療用処置装置。
  3.  前記オフセット値は、前記エネルギ量に比例することを特徴とする請求項1に記載の治療用処置装置。
  4.  前記測温手段は、前記発熱用電気抵抗パターンの抵抗値変化に基づいて前記温度を取得することを特徴とする請求項2に記載の治療用処置装置。
  5.  前記発熱チップは、前記発熱部位を有する前記一つの面に形成された、前記発熱用電気抵抗パターンとは独立に電圧を印加できる測温用電気抵抗パターンを有し、
     前記測温手段は、前記測温用電気抵抗パターンの抵抗値変化に基づいて前記温度を取得する、
     ことを特徴とする請求項2に記載の治療用処置装置。
  6.  前記測温用電気抵抗パターンは、定電圧又は定電流が印加されることを特徴とする請求項5に記載の治療用処置装置。
  7.  前記伝熱部には、複数の前記発熱チップが設置されており、
     前記発熱チップはそれぞれ、該発熱チップを少なくとも一つ含む複数のグループの何れかに属し、
     前記制御手段は、前記グループ毎に、該グループに属する前記発熱チップの前記発熱部位の温度を制御する、
     ことを特徴とする請求項1に記載の治療用処置装置。
  8.  生体組織に接触するように構成された伝熱部と、該伝熱部を加熱する発熱用電気抵抗パターンとを備え、該伝熱部によって該生体組織を目標温度で加熱して治療する治療用処置装置の制御方法であって、
     前記発熱用電気抵抗パターンの抵抗値を取得することと、
     前記発熱用電気抵抗パターンの抵抗値に基づいて、前記発熱用電気抵抗パターンの温度を算出することと、
     前記発熱用電気抵抗パターンへの現在の投入電力量を取得することと、
     前記発熱用電気抵抗パターンの前記温度と前記投入電力量とに基づいて、前記伝熱部の温度を推定することと、
     推定された前記伝熱部の温度と前記目標温度との差に基づいて、前記発熱用電気抵抗パターンへ次に投入する電力量を決定することと、
     を具備することを特徴とする治療用処置装置の制御方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104968291A (zh) * 2013-02-01 2015-10-07 奥林巴斯株式会社 治疗用处置装置及其控制方法
WO2016059999A1 (ja) * 2014-10-15 2016-04-21 オリンパス株式会社 エネルギ処置具のための制御装置、及びエネルギ処置システム
US20160324566A1 (en) * 2014-01-24 2016-11-10 Olympus Corporation Treatment apparatus
WO2018055778A1 (ja) * 2016-09-26 2018-03-29 オリンパス株式会社 処置具及び処置システム

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6000717B2 (ja) * 2012-07-27 2016-10-05 オリンパス株式会社 治療用処置装置及びその制御方法
JP6081229B2 (ja) * 2013-03-01 2017-02-15 株式会社東芝 半導体装置、無線装置、及び記憶装置
US11090109B2 (en) * 2014-02-11 2021-08-17 Covidien Lp Temperature-sensing electrically-conductive tissue-contacting plate configured for use in an electrosurgical jaw member, electrosurgical system including same, and methods of controlling vessel sealing using same
EP3189804B1 (en) * 2014-09-05 2021-12-08 Olympus Corporation Surgical clamping unit, surgical clamping tool, and surgical clamping system
WO2016093086A1 (ja) * 2014-12-12 2016-06-16 オリンパス株式会社 処置装置
WO2016104051A1 (ja) * 2014-12-24 2016-06-30 オリンパス株式会社 把持処置ユニット及び把持処置具
CN107427319A (zh) * 2015-04-14 2017-12-01 奥林巴斯株式会社 治疗用能量赋予构造和医疗用处置装置
EP3199117A4 (en) * 2015-07-01 2018-07-25 Olympus Corporation Thermotherapeutic device and control device thereof
WO2019142278A1 (ja) 2018-01-17 2019-07-25 オリンパス株式会社 加熱装置、処置システム、及び加熱制御方法
WO2019215852A1 (ja) * 2018-05-09 2019-11-14 オリンパス株式会社 処置具
WO2020012622A1 (ja) * 2018-07-12 2020-01-16 オリンパス株式会社 処置具
KR20210032111A (ko) 2019-09-16 2021-03-24 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 이를 구비하는 메모리 시스템
KR102162390B1 (ko) * 2020-02-04 2020-10-07 주식회사 바이오메듀스 바이오 칩, 그 바이오 칩과 분리 가능하게 결합 된 카트리지 및 그 바이오 칩을 포함한 체외 진단 장치
WO2023148632A1 (en) * 2022-02-01 2023-08-10 Covidien Lp Thermal elements for surgical instruments and surgical instruments incorporating the same

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003208964A (ja) * 1999-08-09 2003-07-25 Ibiden Co Ltd セラミックヒータ
JP2005110713A (ja) * 2003-10-02 2005-04-28 Olympus Corp 発熱処置装置及び発熱処置具用制御装置
JP2007037845A (ja) * 2005-08-04 2007-02-15 Olympus Medical Systems Corp 発熱処置装置
JP2009247893A (ja) * 2008-04-01 2009-10-29 Olympus Medical Systems Corp 治療用処置システム

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7108694B2 (en) * 2002-11-08 2006-09-19 Olympus Corporation Heat-emitting treatment device
JP4253540B2 (ja) * 2003-07-24 2009-04-15 オリンパス株式会社 医療器械
JP4624697B2 (ja) * 2004-03-12 2011-02-02 オリンパス株式会社 手術用処置具
JP2006180936A (ja) * 2004-12-24 2006-07-13 Olympus Medical Systems Corp 発熱処置装置
US20080281386A1 (en) * 2007-05-09 2008-11-13 Tessaron Medical, Inc. Systems and methods for treating body tissue
DE102009024589A1 (de) * 2009-06-10 2010-12-23 Siemens Aktiengesellschaft Thermotherapievorrichtung und Verfahren zum Durchführen einer Thermotherapie

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003208964A (ja) * 1999-08-09 2003-07-25 Ibiden Co Ltd セラミックヒータ
JP2005110713A (ja) * 2003-10-02 2005-04-28 Olympus Corp 発熱処置装置及び発熱処置具用制御装置
JP2007037845A (ja) * 2005-08-04 2007-02-15 Olympus Medical Systems Corp 発熱処置装置
JP2009247893A (ja) * 2008-04-01 2009-10-29 Olympus Medical Systems Corp 治療用処置システム

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP2653125A4 *

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104968291A (zh) * 2013-02-01 2015-10-07 奥林巴斯株式会社 治疗用处置装置及其控制方法
EP2952150A4 (en) * 2013-02-01 2016-10-12 Olympus Corp DEVICE FOR THERAPEUTIC TREATMENT AND CONTROL METHOD THEREFOR
US10314636B2 (en) 2013-02-01 2019-06-11 Olympus Corporation Treatment apparatus and method for controlling the same
US20160324566A1 (en) * 2014-01-24 2016-11-10 Olympus Corporation Treatment apparatus
WO2016059999A1 (ja) * 2014-10-15 2016-04-21 オリンパス株式会社 エネルギ処置具のための制御装置、及びエネルギ処置システム
JP5959789B1 (ja) * 2014-10-15 2016-08-02 オリンパス株式会社 エネルギ処置具のための制御装置、及びエネルギ処置システム
US10034703B2 (en) 2014-10-15 2018-07-31 Olympus Corporation Control device for energy treatment tool, and energy treatment system
WO2018055778A1 (ja) * 2016-09-26 2018-03-29 オリンパス株式会社 処置具及び処置システム

Also Published As

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