WO2011154998A1

WO2011154998A1 - 太陽電池モジュール等のラミネートモジュールを製造するための方法及び装置

Info

Publication number: WO2011154998A1
Application number: PCT/JP2010/003850
Authority: WO
Inventors: 松原勉; 相原稔
Original assignee: 日立設備エンジニアリング株式会社
Priority date: 2010-06-09
Filing date: 2010-06-09
Publication date: 2011-12-15
Also published as: JPWO2011154998A1; JP4628502B1

Abstract

　表面材と裏面材の双方ともにガラスなどの脆弱な材料を使用している太陽電池モジュールの製造方法において、残留気泡を発生させないラミネート方法、ならびに、その製造装置を提供する。加熱チャンバ１内に設置されたスチールベルト１３上にガラス１０１、封止樹脂シート１０２、ガラス１０３のラミネートモジュール構成要素を搬入する。プレ加熱工程では、スチールベルト１３裏側で且つラミネートモジュール構成要素のセット位置から離した第１のヒータプレート１７が位置し、ラミネートモジュール構成要素の上方に第２のヒータプレート１６が位置して、加熱チャンバ真空排気過程でこれらのヒータプレートの輻射熱により、ラミネートモジュール構成要素をスチールベルトを介して上下から加熱する。

Description

太陽電池モジュール等のラミネートモジュールを製造するための方法及び装置

　本発明は、太陽電池モジュール（太陽電池パネルとも称される）などのラミネートモジュールを製造するための方法及び装置に関する。

　本発明の適用対象となるラミネートモジュールは、代表的なものに太陽電池モジュールがあるが、それに限定するものではなく、構成部材として、第１、第２の保護部材と、それらの保護部材間に介在する封止樹脂シート（充填剤）とを備える積層体であればよい。太陽電池モジュール以外としては、液晶パネルなどが考えられる。

　太陽電池モジュールとしては、特にガラス（保護部材）とガラス（保護部材）とを封止樹脂を介在させて接着するラミネートモジュールに好適であり、例えばＣＩＧＳ系、タンデム型薄膜シリコン等の太陽電池モジュールが考えられるが、種類を限定するものではない。

　太陽電池モジュールの製造に使用される一般的なラミネート装置は、真空環境を生成するチャンバと呼ばれる真空容器と、ヒータなどの発熱体、ならびに真空ポンプによる吸引や流体の注入により、柔軟且つ自在に膨張するラバーシート（ダイヤフラムとも呼ばれる）を主構成品としている（例えば、特許文献１：特開2000-101117）。

　一般的に公知となっている、ラミネート装置による太陽電池モジュールの製造方法では、チャンバの蓋部分となる真空容器の上部の内側に、ダイヤフラムと呼ばれるラバーシート（ダイヤフラム）を備え、チャンバの部屋部分となる真空容器下部の内側に、ヒータなどの発熱体を備えた構造となっている。ヒータなどの発熱体により、太陽電池の構成部品を加熱するとともに、真空発生器により、チャンバ内部を減圧することで、蓋部材とラバーシート間の膨張した空間により、ラバーシートが真空側に膨張する。それにより、加熱された太陽電池の積層された構成部品を、ラバーシートと加熱板（太陽電池モジュール積層体を支持する部材）とにより挟み込んで圧縮する。この真空環境下の加熱工程で、太陽電池モジュールの構成部品のひとつである、ＥＶＡ（エチレン－ビニル－アセテート）と呼ばれる、シート状の封止樹脂（充填剤）を溶融し、架橋させる。このようなラミネート方法により、太陽電池モジュールの構成部品（積層部品）を一体に接合して、太陽電池モジュールが製造されている。

　併せて、上記のような、一般的なラミネート方法、ならびにラミネート装置による製造方法のみでは、製造過程において、太陽電池モジュールの構成部品として使用するガラスに、反りなどが生じて破損することや、製品の品質が安定しないなどの様々な課題が存在し、ダイヤフラムを用いた一般的なラミネート装置の構造のままでは解決できない。

　この解決のために、ダイヤフラム方式を採用した、一般的なラミネート装置の構造を基本形として、多種多様な機構の改善、ならびに制御方法の改善などがなされている。

　その一方で、太陽電池の種類は、結晶系シリコン太陽電池に代わるものとして、各種の薄膜系の太陽電池も製造され、実績が出始めている。例えば、ＣＩＧＳ系太陽電池は、Ｃｕ，Ｉｎ，Ｇａ，Ｓｅの薄膜化合物系の太陽電池であり、薄膜系の太陽電池の中ではモジュールの変換効率が高い部類に属している。また、製造工程数が結晶系シリコン太陽電池の半分程度であることなどから、低コストの太陽電池として期待されており、且つ環境負荷が小さいことも特徴となっている。さらには、経年変化がないことから長期信頼性に優れており、黒一色の色彩が屋根の外観に似合う、落ち着いた雰囲気であることも手伝い、市場が拡大して行くことが予想されている。
ＣＩＧＳ系太陽電池モジュールに限らず、薄膜系太陽電池モジュールは、一面に光－電気変換の薄膜を形成したセル基板となるガラス基板（表面側保護部材）と、裏面側の保護材（補強材）となる強化ガラス、並びにそれらの部材間に介在する封止樹脂（充填剤：例えばＥＶＡ樹脂）の積層体よりなる。

　ダイヤフラム方式を採用した、ラミネート方法、ならびにラミネート装置では、多種多様な工夫を織込んだとしても、ワークとなる太陽電池モジュールは、一方がガラス、他方が柔軟なシートなどの材料を使用するものでなければならない（柔軟なシートは、太陽電池モジュールとなるべき構成部品がラミネート工程でラバーシートにより加圧されるときの緩衝材として機能する）。したがって、ラミネートする太陽電池の構成部品が、表面材と裏面材の双方ともガラスなどの脆弱な材料であり、さらには、そのセル基板となるガラス基板の大きさの一辺が、１ｍを超えるガラス－封止樹脂－ガラスの積層構造の太陽電池モジュールの製造に適することは容易ではない。

特開2000-101117号公報

　そもそも、太陽電池モジュールの製造過程において、ラミネートのために、チャンバによる真空環境を生成するとともに、ダイヤフラム方式を用いて、ラバーシートの膨張により太陽電池モジュールの構成部品を挟圧するラミネート方法は、表面材と裏面材に挟まれる充填剤や、セル基板の各々の間隙に残留気泡を発生させないことを目的としている。

　太陽電池モジュールはその利用の性質上、屋外に配置されるため、その温度が上昇する。残留気泡が発生すると、この温度上昇により、太陽電池モジュール内部に残った気泡が膨張するため、密閉性が失われ、封止部分から雨水が浸入するなどの原因で劣化し、製品の性能や寿命に影響する。従来技術である、ダイヤフラム方式を採用したラミネート装置は、このことを防いでいると言える。

　ところが、太陽電池モジュールを製造する過程において、ラミネートのために、ダイヤフラム方式を用いること自体が、ラバーシートによる挟圧という、太陽電池モジュールへのストレスを招く。このストレスは、ガラス－封止樹脂－ガラスの積層体のようにガラス同士の貼り合わせにて構成される太陽電池モジュールのように、表面の保護材（セル基板など）と裏面の保護部材（補強部材）の双方ともにガラスなどの脆弱な材料を使用している太陽電池モジュールでは致命的製造上の欠陥となる。

　本発明では、ガラス同士の貼り合わせにて構成される太陽電池モジュール、すなわちラミネートするモジュールの構成部品が、表面の保護部材と裏面の保護部材の双方ともにガラスなどの脆弱な材料を使用している太陽電池モジュールのラミネートにおいて、ダイヤフラム方式を用いることなく、残留気泡を発生させないラミネート方法、ならびに、その製造に適したラミネート装置を提供することを課題とする。ひいては、ガラス同士の貼り合わせにて構成される太陽電池モジュールにおいて、安定した品質の製品を生産し、且つ生産性を良好に保つことを目的とする。

　本発明のラミネートモジュールの製造方法は、基本的には、次のように構成される。

　（ｉ）ラミネートモジュールの構成要素となる第１及び第２の保護部材と、それらの保護部材によって挟み込まれた封止樹脂シートとを、この封止樹脂シートを加熱溶融、架橋させることにより一体に接着，積層するラミネートモジュールの製造方法において、
（イ）加熱チャンバ内に設置されたスチールベルト上に前記第１の保護部材、前記封止樹脂シート、前記第２の保護部材の順に重ねたラミネートモジュール構成要素を搬入する工程と、
（ロ）前記スチールベルト裏側で且つスチールベルトの撓み変形のための空間的ゆとりを保つよう前記ラミネートモジュール構成要素から離した位置に、第１のヒータプレートが位置し、前記ラミネートモジュール構成要素の上方に第２のヒータプレートが位置し、目標真空度に向けた真空排気過程で、この第１，第２のヒータプレートの輻射熱により、前記ラミネートモジュール構成要素を上下から加熱し、加熱過渡期の温度不均一により一時的に生じる前記第１の保護部材の上向きの反りをスチールベルトがこの反りに倣って撓み変形することにより前記ラミネートモジュール構成要素を安定な状態に保持し、且つ前記反りにより生じる前記第１，第２の保護部材間の隙間を介して、前記封止樹脂シートから生じるガス成分を、真空排気を利用して除去するプレ加熱工程と、
（ハ）前記プレ加熱工程後に、反りが戻った前記ラミネートモジュール構成要素に対して、前記第１のヒータプレートおよび第２のヒータプレートとにより、真空雰囲気で輻射加熱を継続した後、前記第１のヒータプレートを前記スチールベルトの裏面に密着させ前記第２のヒータプレートを前記第２の保護部材に密着させて前記封止樹脂シートの加熱溶融を進行させる真空加熱工程と、
（二）その後に前記加熱チャンバ内を大気開放して前記第１，第２のヒータプレートによる加熱を継続して前記封止樹脂シートに架橋反応を生じさせる大気加熱工程と、を含むことを特徴とする。

　上記製造方法を実施するための装置としては、次のようなものを提案する。

　（ii）すなわち、ラミネートモジュールの構成要素となる第１及び第２の保護部材と、それらの保護部材によって挟み込まれた封止樹脂シートとを、この封止樹脂シートを加熱溶融、架橋させることにより一体に接着，積層するラミネートモジュールの製造装置において、
　真空ポンプを介して減圧により真空環境を生成することができる加熱チャンバと、
　加熱対象のワークとなるラミネートモジュール構成要素の搬送コンベアを兼ねると共に、前記加熱チャンバ内に設置されて、前記第１の保護部材、前記封止樹脂シート、前記第２の保護部材の順に重ねたラミネートモジュール構成要素を載せて加熱工程に用いられるエンドレスなスチールベルトを設置した加熱用チャンバと、
　前記スチールベルトの裏側に配置される第１のヒータプレートと、
　前記スチールベルトの上方に配置され、前記スチールベルトを介して前記第１のヒータプレートと対向した位置にある第２のヒータプレートと、
　前記スチールベルトと前記第１のヒータプレートと前記第２のヒータプレートとの相対的な高さ位置を変えることのできる昇降機構と、を備えたことを特徴とする。

　本発明によれば、ラミネートモジュールの製造過程において、ラミネートモジュールをプレ加熱して封止樹脂シートを加熱或いは加熱溶融させるときに、第１の保護部材上の封止樹脂から発生するガスが、第１の保護部材に一時的に生じる反りにより生じる第１，第２の保護部材間の間隙を利用して放出でき、その放出ガスは、真空排気を利用して外部に放出される。したがって、気泡の原因となるガスが、ラミネートモジュール構成部材が密着する前に排気されるため、残留気泡の要因がなくなり、ラミネートモジュールの歩留まりを高め、しかも安定した品質の製品を提供することができる。

　また、本発明によれば、ダイヤフラム方式を採用した一般的なラミネート装置のように、ラバーシートにて太陽電池モジュールの保護部材（例えばガラス板）を挟圧することがないので、ラミネートするときにストレスがかかる要因がなくなることから、ストレスを抑制することができる。製品へのストレス軽減による歩留まり向上は、生産性の向上に効果的であるとともに、内在するストレスによる、製品の性能、寿命への悪影響を回避することができる。

本発明の一実施例に係るラミネート方法の製造工程の一プロセスを示す模式図で上段が断面正面図、下段が断面側面図。本発明の一実施例に係るラミネート方法の製造工程の一プロセスを示す模式図で上段が断面正面図、下段が断面側面図。本発明の一実施例に係るラミネート方法の製造工程の一プロセスを示す模式図で上段が断面正面図、下段が断面側面図。本発明のラミネートモジュール製造装置の一実施例を示す正面図。上記ラミネートモジュール製造装置の図２のＹ－Ｙ断面側面図。上記ラミネートモジュール製造装置の図３のＺ矢視図。上記ラミネートモジュール製造装置の平面図。

　まず、図１（Ａ）～図１（Ｃ）を用いて本実施例に係るラミネートモジュールの製造方法の原理について説明する。適用対象となるラミネートモジュールについては、一例として、太陽電池モジュールを例示する。例えば、裏面の保護部材（第１の保護部材）となる強化ガラス１０１、封止樹脂（充填剤）シートとなるＥＶＡシート１０２、表面の保護部材（第２の保護部材）で太陽電池の薄膜（例えばＣＩＧＳ系薄膜、タンデム型薄膜シリコン）が内側に形成されるセルガラス基板３の積層体よりなる。本文中では、裏面保護部材を第１の保護部材１０１、ＥＶＡシートを封止樹脂シート１０２、表面保護部材を第２の保護部材１０３と称するが、表面の保護部材を第１の保護部材、裏面の保護部材を第２の保護部材としてもよい。また、これらのラミネートモジュール構成要素の保護部材は、ガラス材であるが、硬質の透明材質（エポキシ樹脂）でもよい。また、太陽電池以外であっても同じようなラミネート構造を有するものであれば、その対象製品の種類を限定するものではない。以下、保護部材についてはガラス使用のものを例示して説明する。

　図１において、符号の１３は、スチールベルトである。スチールベルト１３は、駆動プーリ１４と、ベルトにテンションを与えるテンションプーリ１５との間に掛け回されるエンドレスベルトであり、搬送ベルトを兼ねる。

　このスチールベルト１３は、図１では図示省略された加熱チャンバ１（図２、図３参照）内に配置されている。加熱チャンバは、後述する真空ポンプを介して減圧により真空環境を生成することができる。

　スチールベルト１３の裏側には、第１のヒータプレート１７が配置される。第２のヒータプレート１６がスチールベルト１３の上方に配置される。これらのヒータプレート１６及び１７は、スチールベルト１３を介在した状態で対向配置され、第１のヒータプレート１７が下側ヒータプレート、第２のヒータプレート１６が上側ヒータプレートとなる。ヒータプレートは、ＩＨ（誘導加熱）ヒータ、ニクロム線内蔵ヒータなどが使用される。

　図１では省略するが、スチールベルト１３と第１のヒータプレート１７と第２のヒータプレート１６のうち、少なくとも２部品には、これらの部品間の相対的な高さ位置を変えることのできる昇降機構が備えられている。

　スチールベルト１３は、複数本並設されている。実施例では、４本のスチールベルト１３を例示しているが、その本数は、任意に設定可能である。

　ラミネートモジュールを製造するにあたり、上下のヒータプレート１６、１７は、予め設定温度（例えば、１６０℃であるが、これに限定されない）に加熱されている。まず、図１（Ａ）に示すように、加熱チャンバ内に設置されたスチールベルト１３上に第１のガラス（第１の保護部材）１０１、封止樹脂シート１０２、第２のガラス（第２の保護部材）１０３の順に重ねたラミネートモジュール構成要素をセットする。

　第１のヒータプレート（下側ヒータプレート）１７は、スチールベルト１３の裏側に、スチールベルトの撓み変形のための空間的ゆとりを保つようにワーク（ラミネートモジュール構成要素）のセット位置から離した位置（プレ加熱源位置）に設置される。また、第２のヒータプレート（上側ヒータプレート）１６もワーク（ラミネートモジュール構成要素）から適宜離した位置にある。この状態で、加熱チャンバ内部を真空排気しつつ、ヒータプレート１７、１６を熱源（加熱温度は、プレ加熱からその後の加熱工程まで一定に制御されている）として、その輻射熱により、真空状態の下で前記ラミネートモジュール構成要素を加熱した場合、下側からのヒータ１７からの熱は、スチールベルト１３を介して第１のガラス１０１を加熱することにより、図１（Ｂ）に示すように、第１のガラス１０１は、加熱過渡期に下面側と上面側とに温度差（温度不均一）が一時的に生じる。そのために、第１のガラス１０１に上向きの反りが生じ、その反りに倣ってスチールベルト１３も撓み変形する。このスチールベルト１３の撓み変形によって、ラミネートの最下層をなす第１のガラス１０１に反りが生じたとしても、第１の保護部材１０１とスチールベルト１０３間の接触面積を、反りのない場合と略同様に充分に確保するので、加熱対象ワークとしてのラミネートモジュール全体がスチールベルト１０３上で安定した状態で支持され、スチールベルト上でラミネートモジュールが動くことを防止する。封止樹脂シート１０２は、第１の保護部材１０１の反りに追従して加熱される。

　なお、かようなスチールベルトによるプレ加熱時のヒータ間でのワーク（ガラス－封止樹脂－ガラスの積層体）の保持については、例えば間隔を置いて架設したピン（支持ロッド）による支持と比較した場合、スチールベルト方式の方がワークの反りに対する追従性が優れるために、安定した保持が可能になる。すなわち、ピンのような固定支持機構の場合には、予測できないガラスの変形量（反り）に追従することは困難である。また、スチールベルトであれば、モジュールとヒータの間に設けても、スチールベルトの熱伝導によりワークに均一な熱を伝えることができるが、ピンに等により部分的にワークを支持する場合には、局所的な伝熱となり均一な熱伝達を期待することができない。

　ちなみに、第２のガラス１０３も上側のヒータプレート１６により加熱され、加熱過渡時に一時的に下向きの反りを生じが、スチールベルト１３を介して加熱される第１のガラス１０１の反りの具合に較べて小さい。少なくとも第１のガラス１０１の反りが一時的に生じれば、封止樹脂シート付き第１のガラス１０１と第２のガラス１０３との間には、一時的に上記反りによる隙間Ｇが生じる。この隙間Ｇによって、封止樹脂シート１０２の加熱或いは溶融により生じるガスの放出が可能になり、放出ガスは、加熱チャンバ内の真空排気により外部へ排出される。かような放出ガスの過程は、プレ加熱、すなわち目標真空度（例えば１０Ｐａ）に至る初期過程（例えば約３０Ｐａ程度）の加熱段階で行われる。

　プレ加熱工程の進行に伴い、第１、第２のガラス１０１,１０３も温度均一化されて反りの無い状態に戻り（図１（Ａ）の状態）、これらの３つのラミネートモジュール要素は、第２のガラス（上側ガラス）１０３の自重により密着する。

　このプレ加熱工程後に図１（Ａ）の状態で、ラミネートモジュール構成要素全体を第１，第２のヒータプレート１７，１６により上下両面側から加熱される。それにより、封止樹脂１０２が加熱溶融が進行する。

　そして、スチールベルトを収容している加熱チャンバ内の真空度が目標値に達すると、図１（Ｃ）に示すように、温度均一化により反りが無くなったラミネートモジュール構成要素を、スチールベルト１０３上に載せたまま第１、第２のヒータプレート１７，１６により上下方向から挟み込んで、ラミネートモジュール構成要素全体を密着加熱する。

　密着加熱により封止樹脂の加熱溶融が進行し、ガスもほとんど放出されているので、上側ガラスを封止樹脂に密着させると、双方の保護部材に挟み込まれた封止樹脂の表面には、ガスが封じられることなく、封止樹脂の流動によって、保護部材を、気泡を発生することなく溶融接着樹脂に密着させることができる。

　さらに、真空密着加熱工程後に加熱チャンバ内を大気開放して前記密着加熱を継続する大気密着加熱が行われる。

　これにより、下記公式^（＊１）で示すボイルの法則により、封止樹脂１０２と保護部材１０１，１０３の間にわずかな残留気泡が残存して場合でも、残留気泡の大気圧での体積は、真空環境下での数千分の１に圧縮されるため、視認できる程度の小さな気泡は、消滅する。
（＊１）ボイルの法則：Ｐ_１Ｖ_１＝Ｐ_２Ｖ_２　（Ｐ_１：大気圧，Ｖ_１：大気圧での体積，Ｐ_２：真空圧，Ｖ_２：真空環境下での体積）
　例えば、約１０Ｐａ（パスカル）程度の真空環境と、約１００，０００Ｐａ（パスカル）程度の大気圧の差圧によって、前記ボイルの法則によれば、封止樹脂中の残留気泡が僅かに発生した場合でも、大気圧での体積は、真空環境下での１万分の１に圧縮される。この大気密着加熱の工程でヒータプレートの発熱が継続して、架橋反応を生じさせ進行させる。例えば、封止樹脂がＥＶＡ樹脂である場合には、架橋剤が含有さていれるが、架橋温度は１００℃以上であり、例えば１３０～１５０℃の範囲で架橋反応が進行する。ＥＶＡ樹脂の融点は、約８０℃である。

　ちなみに、熱の伝わり方において、対流、輻射、伝導があり、従来のラミネート装置のようにダイヤフラムを使用する場合には、モジュールの下側からの伝導は可能であるが、上側にはダイヤフラムとなるラバーシートがあるため、上側からの加熱は、伝導による直接加熱が不可能になる。これに対して、本実施例方式は、ワーク（モジュール構成要素の積層体）を上側、下側いずれからの密着による直接伝導が可能になるので、モジュールに熱エネルギーを蓄熱する効果があるため、より早く架橋が進行する利点を有している。

　封止樹脂１０２の架橋反応が進行した状態でラミネートは完了する。

　ラミネートが完了したモジュールは、スチールベルト１３を介して加熱チャンバ外に搬出される。
（ラミネートモジュール製造装置の構成）
　ここで、本実施例に係るラミネートモジュール製造装置（ラミネート装置）の構成を、図２～図５を用いて詳述する。図２は、本例のラミネートモジュール製造装置を示す正面図、図３は、図２のＹ－Ｙ断面側面図、図４は、図３のＺ矢視図、図５は、ラミネートモジュール製造装置の平面図であり、加熱チャンバの上壁を外して上面からみた図である。

　本例のラミネートモジュール製造装置は、既述した図１（Ａ）～図１（Ｃ）で使用した部品を用いるものである。

　真空雰囲気を形成可能な加熱チャンバ１は、シール部材（シールリング）等を介して結合されたチャンバ形成用の上部壁体１ａと下部壁体１ｂとで構成され、これらの壁体によりチャンバ１の６面が形成され、チャンバ内部にスチールベルト機構（スチールベルト１３、駆動プーリ１４、テンション側プーリ（従動プーリ）１５）、第１のヒータプレート（下側ヒータプレート）１７、第２のヒータプレート（上側ヒータプレート）１６を収容するスペースを確保している。

　図２に示すように、チャンバ１のスチールベルト走行方向で対向する両側面１ｃ，１ｄには、モジュール投入口３０とモジュール排出口３１とが設けられている。

　チャンバ１外部には、モジュール投入口３０近傍に、この投入口を開閉するためのモジュール投入側シャッター２と投入側シャッター開閉機構１０とが設けられている。

　シャッター開閉機構１０は、種々のものが任意に設定可能であるが、一例を挙げれば、次のように構成される。本例では、シャッター開閉機構１０は、モジュール投入口側の固定フレーム２００に取り付けられたリニアアクチュエータ（例えば、ボールスクリュー機構、シリンダ機構等）１０ａと、アクチュエータ１０ａの可動部に接続された可動体１０ｂと、可動体１０ｂに軸（図示省略）を介して傾動可能に支持された傾動板１０ｆと、傾動板１０ｆの両サイドに設けたカムフォロワ１０ｃとを備える。シャッター２は傾動板１０ｆに支持されている。なお、図２に示すように、可動体１０ｂと傾動板１０ｆとシャッター２とは、一つのユニットをなしているものであり、矢印水平方向に一体に移動する。図５では、作図の便宜上、傾動板１０ｆを省略して可動体１０ｂとシャッター２とを、図２の配置よりも両者を離して図示しているが、図２を正確に表現すると、可動体１０ｂは、リニアアクチュエータ１０ａにより矢印Ｍの位置まで傾動１０fと共に前進してシャッター２が図５の現在位置でモジュール投入口３０を閉じているものである。

　フレーム２００の幅方向（スチールベルト走行方向に対して垂直方向）の左右両サイドには、カムフロワ１０ｃを案内するための傾斜ガイド１０ｄが配置されている。アクチュエータ１０ａの可動ロッドが前進方向に移動すると可動体１０ｂ、傾動板１０ｆ及びシャッター２も図に向かって左側に移動し、この移動時に傾動板１０ｆ、シャッター２はカムフロワ１０ｃを介して投入口に対向する向きに傾動し、この傾動動作と前進移動に伴って、シャッター２がモジュール投入口３０の周囲にあてがわれる。それによりシャッター閉動作が行われる。シャッター２の一面、すなわち投入口３０側に向く面にはＯリング（図示省略）が形成されている。シャッター閉状態で加熱チャンバ１内を真空雰囲気にすると、シャッター２は予め確保した遊び（がた）により加熱チャンバ外壁面にＯリングを介して密着するよう吸引される。

　チャンバ１外部のモジュール排出口３１近傍には、この排出口を開閉するためのモジュール排出側シャッター３と排出側シャッター開閉機構１１とが設けられている。このシャッター開閉機構１１も開閉機構１０同様の構成をなしている。すなわち、シャッター開閉機構１１は、モジュール投入口側の固定フレーム２００に取り付けられたリニアアクチュエータ１１ａと、そのアクチュエータ１１ａの可動部に接続された可動体１１ｂと、可動体１１ｂの両側に設けた軸１１ｅを介して傾動可能に支持された傾動板１１ｆと、傾動板１１ｆの両サイドに設けたカムフロワ１１ｃとを備える。シャッタ２は傾動板１１ｆに支持されている。フレーム２００の左右両サイドには、カムフロワ１１ｃを案内するための傾斜ガイド１１ｄが配置されている。動作については、先に述べたシャッター機構１０と同様であるので、説明を省略する。なお、モジュール投入側のシャッター機構１０及びモジュール排出側のシャッター機構１１とは、互いに反対方向から描かれているので、部品の表れ方が若干変わっている。

　チャンバ１外部のモジュール投入口３０の近傍には、モジュール投入用支持ローラ８がスチールベルト１３の本数に合わせて複数（実施例では、４つ）並設してある。また、同様にして、モジュール排出口３１の近傍には、モジュール排出用支持ローラ９が複数並設してある。

　既述したように、加熱チャンバ（真空チャンバ）１内部には、並行配置された複数のスチールベルト１３が設けられ、その駆動側プーリ１４がモジュール排出口３１側に位置し、テンション側プーリ１５がモジュール投入口３０側に位置している。

　駆動プーリ１４は、スチールベルト１３が搬送コンベアとして動作するとき、すなわち、ワーク（ラミネートモジュール）の加熱接着工程の前後の搬入、排出時に搬送コンベアとして動作するときに駆動するものであり、その駆動源（コンベア駆動伝達機構１２）は、駆動プーリ１４と、次のようにして接続、切り離しが切り替えられるようにしてある。

　すなわち、加熱チャンバ外部のモジュール排出口３１の近傍には、コンベア駆動伝達機構１２が設けられる。コンベア駆動伝達機構１２は、リニアアクチュエータ１２ａ（例えばシリンダ機構、ボールアクチュエータ機構）と、リニアアクチュエータ１２ａの可動部に支持されるローラホルダー１２ｂと、ローラホルダー１２ｂに支持されるモジュール排出用支持ローラ９及び動力伝達ローラ３２とを備える。ローラ９及び３２は、モータにより動力伝達機構１２ｃ（図５参照）を介して回転駆動する。

　シャッター３が図２にように開いた状態にある時に、位置制御が可能なサーボ式のリニアアクチュエータ１２ａにより、ローラホルダー１２ｂを図５の右側に移動させると、動力伝達ローラ３２は、ローラ９と共に加熱チャンバの排出口３１を介して加熱チャンバ１内に入る。それにより、ローラ３２は、スチールベルト駆動プーリ１４側の駆動軸に設けた動力伝達ローラ３３（図５参照）に圧接し、これらのローラ３２、３３の動力伝達を介して駆動プーリ１４が回転駆動する。それにより、スチールベルト１３は、ワーク搬入、搬出用のコンベアとしても機能する。

　排出側シャッター機構１１とコンベア駆動伝達機構１２とは、図２に示すように上，下に配置され、図５は排出側シャッター機構１１を省略してコンベア駆動伝達機構１２を表している。

　駆動プーリ１４に動力を伝達するコンベア駆動伝達機構１２を加熱チャンバ外に配置し、必要に応じてその動力伝達ローラ３２が加熱チャンバ１内に出入りするので、加熱チャンバを真空雰囲気にする場合には、動力伝達ローラ３２を含むコンベア駆動伝達機構１２を加熱チャンバ外部に出しておくことで、加熱チャンバ１内部の真空形成スペースのコンパクト化及び真空の気密形成を容易に実現することができる。

　第１のヒータプレートとなる下側ヒータプレート１７は、図３及び図５に示すように、複数に分割され（本実施例では５分割であるが、その分割数は任意である）、それぞれが複数並設のスチールベルト１３の走行方向と立体的にクロスする方向でスチールベルト１３の裏側に配置されている。

　複数の第１のヒータプレート１７は、それぞれのヒータプレート昇降機構２０により支持されて上下移動可能である。このヒータプレート昇降機構２０は、機械的な回転運動を上下の直線運動に変換するサーボ機能付きのボールスクリュー機構によって構成されている。

　すなわち、各昇降機構２０は、駆動源となるモータ２０１と、モータ２０１により回転するスクリューロッド２０２（図４参照）と、スクリューロッド２０２の正逆回転により直線往復運動を行う可動子２０３（図４参照）と、可動子２０３と結合されて可動子２０３と共に直線往復移動が可能な一対の可動板２０４と、この可動板２０４に横列に整列して設けられた複数のカム溝２０５と、各カム溝２０５に係合する昇降ロッド２０６とで構成されている。この昇降ロッド２０６を介して第１のヒータプレート１７が上下移動可能に支持されている。

　かような昇降機構２０においては、モータ２０１の回転運動がスクリューロッド２０２，カム溝２０５を介して昇降ロッド２０６の上下移動に変換されるので、サーボ制御のモータ回転により、第１のヒータプレート１７の上下位置が任意に調整可能となる。

　昇降機構２０のモータ２０１は、数値制御が可能であるサーボモータ等を使用し、且つカム溝２０５を介し水平方向の直線移動に対する垂直方向の直線移動（昇降移動）の移動率の変換比を例えば１/１０のように大きくすることにより、加熱チャンバ内外の真空・大気圧差により昇降機構の位置制御精度に悪影響を及ぼすことを防いでいる。

　駆動側プーリ１４は、それを支持するプーリ支持機構３５を介して昇降機構１８と連結されている。昇降機構１８の昇降メカニズムは、既述した昇降機構２０と同様であり、図では、駆動源としてのモータ１８１、カム溝を有する可動板１８２と、昇降ロッド１８３とが図示されているが、スクリューロッド、カム溝については図示省略してある。

　テンション側プーリ１５は、それを支持するプーリ支持機構３６を介して昇降機構１９と連結されている。昇降機構１９の昇降メカニズムは、既述した昇降機構２０と同様であり、図では、駆動源としてのモータ１９１、カム溝を有する可動板１９２と、昇降ロッド１９３とが図示されているが、スクリューロッド、カム溝については図示省略してある。

　これらの昇降機構１８、１９を介して、駆動側プーリ１４、テンション側プーリ１５、ひいてはスチールベルト１３が高さ調整のための上下移動が可能になる。

　加熱チャンバ１は、図示省略してあるが、チャンバ外部に設けた真空発生源（真空ポンプ等）、真空流路真空流路開閉弁、大気流路開閉弁、真空度測定器（センサ）と接続されている。

　次に上記ラミネートモジュール製造装置を用いた好適なラミネートプロセスの具体例を詳述する。
[ラミネートプロセス]
　太陽電池モジュールをラミネートするためのプロセスならびに、装置の各部動作は以下の通りである。
１．１：運転準備
（１）下側ヒータプレート（第１のヒータプレート）１７と上側ヒータプレート（第２のヒータプレート）１６とに通電して、設定した温度（例えば１６０℃程度）に調整する。
（２）設定温度に到達したのち、任意の設定時間を経過させて、ヒータプレート１６，１７の温度を収束、安定させる。
1.2：モジュール投入
（１）駆動側プーリ昇降機構１８を用いて、駆動側プーリ１４を、ワーク（ラミネートモジュール構成要素）の投入高さに合わせる。
（２）同時に、テンション側プーリ昇降機構１９を用いて、テンション側プーリ１５を上記駆動側プーリ１４と同じ高さに合わせる。
（３）投入側シャッター開閉機構１０を操作して、モジュール投入側シャッター２（投入口３０）を開ける。
（４）同時に、排出側シャッター開閉機構１１を操作して、モジュール排出側シャッター３（排出口３１）を開ける。
（５）排出側シャッター方向より、リニアアクチュエータ１２ａを用いて、コンベア駆動伝達機構１２のモジュール排出用支持ローラ９及び動力伝達ローラ３２を排出口３１から加熱チャンバ１内に移動させて、動力伝達ローラ３２をコンベアの駆動側プーリ１４に動力伝達ローラ３３を介して接続する。
（６）この接続により、駆動側プーリ１４も回転し、スチールベルト１３はモジュールの搬送コンベアとなる。
（７）かような状態で、サーボモータによりモジュール投入用支持ローラ８とモジュール排出用支持ローラ９を回転させ、かつ動力伝達ローラ３２もモジュール排出用支持ローラ９と連動させて回転させる。
（８）ここで、運搬用台車（コンベアなどの機器でも良い）によって、ラミネートモジュールの構成要素（第１、第２のガラス及び封止樹脂シートを積層したもの）を供給する。
（９）積層されたモジュール構成要素は、モジュール投入用支持ローラ８とスチールベルト１３によって搬送される。
（１０）スチールベルト１３による搬送量をサーボ制御して、スチールベルト１３上のモジュールを設定位置にセットする。
（１１）駆動側プーリ１４に接続しているコンベア駆動伝達機構１２を、駆動側プーリ１４から切り離す。
1.3：プレ加熱（ガス抜き）
（１）駆動側プーリ昇降機構１８を用いて、駆動側プーリ１４をプレ加熱高さに合わせる。
（２）同時に、テンション側プーリ昇降機構１９を用いて、テンション側プーリ１５を駆動側プーリ１４と同じ高さに合わせる。これらのプーリの高さ調整は、スチールベルト裏側で且つスチールベルトの撓み変形のための空間的ゆとりを保つようラミネートモジュール構成要素のセット位置から離したプレ加熱源位置で、ラミネートモジュール構成要素に対してプレ加熱が損なわれない位置に設定される。
（３）この時、積層されたモジュール構成要素は、スチールベルト１３によって保持される状態となる。
（４）プーリ１４，１５の上昇と同時に、投入側シャッター開閉機構１０にて、モジュール投入側シャッター２（投入口３０）を閉じる。
（５）また、排出側シャッター開閉機構１１にて、モジュール排出側シャッター３（排出口３１）も同時に閉じる。
（６）真空発生源（図示省略）を作動させて、加熱チャンバ１内部に真空を発生させる。
（７）真空流路開閉弁（図示省略）により真空経路を開いて、チャンバ内に真空環境を生成する。

　ここで、モジュールは、既述したように、第１のガラス１０１と第２のガラス１０３の間に接着用シート（樹脂ＥＶＡ）１０２が挟まれている構成になっている。

　そして、第１，第２のヒータプレート１７，１６によりモジュール構成要素を加熱するとき、特に第１のヒータプレート（下側のヒータプレート）１７の輻射熱により直に加熱すると、第１のガラス１０１が皿のように上向きに反り返って変形する。かような反りにより、モジュール変形の中央部分のみがヒータプレートにスチールベルトを介して接触してしまうと、局部加熱されることによる悪影響が出る。悪影響とは、封止樹脂１０２がガラスを介して局部加熱されて、溶融せずに硬化する状態をいう。本実施例では、かような不具合をなくすために、プレ加熱では、下側ヒータプレートからラミネートモジュール構成要素を離す（浮かす）ようにしている。このヒータプレートのプレ加熱源となる位置（モジュールから離す位置）は、モジュールの材質や厚みの違いへの対応のため、任意に設定することが可能である。

　プレ加熱源となる位置（モジュールから離す位置）の調整によりモジュールの変形量を制御することができる。また、本実施例では、ラミネートモジュール構成要素の第１のガラス１０１の上向きの反りに倣ったスチールベルト１３の撓み変形によって、反りが生じたラミネートモジュール構成要素を面接触で安定な状態に保持する。

　また、ガラス１０１の変形量を制御することによって、ガラス１０１とガラス１０３の間に間隙Ｇを生じさせることができる。この間隙から、真空環境生成時に、空気層ならびにガス成分を完全に除去することができる（図１（ｂ）参照）。

　真空度が上がると、ガラス表面からの放熱が少なくなり、ガラスの温度は全体に均一になる。ガラスの温度が均一になると、モジュール全体に生じていた反り返りなどの変形がなくなる。既述したように、スチールベルト１３を使用しているので、ガラスの変態に対して、柔軟に追従することができる。

　プレ加熱（ガス抜き）時間は任意に設定することができる。
1.4：両面加熱
（１）真空度測定器７により、真空チャンバ（加熱チャンバ１）内の真空度が設定した値に到達したか監視する。
（２）プレ加熱（ガス抜き）時間が経過し、真空度が到達することで、両面加熱を開始する。
（３）駆動側プーリ昇降機構１８にて、駆動側プーリ１４を両面加熱高さに合わせる。
（４）同時に、テンション側プーリ昇降機構１９にて、テンション側プーリ１５を同じ高さに合わせる。
（５）さらに、下側ヒータプレート昇降機構２０にて、下側ヒータプレート１７を同じ高さに合わせる。
（６）上側ヒータプレート１６と下側ヒータプレート１７でモジュールを両面から加熱する。
（７）両面加熱高さは、モジュールの材質や厚みの違いへの対応のため、任意に設定することが可能であり、それによりワーク（ラミネートモジュール構成要素）と上側，下側ヒータプレート１６，１７の離間距離（輻射熱距離）を適宜設定可能である。
1.5：真空密着加熱（１）真空度測定器により、真空チャンバ内の真空度が密着時に必要な値に到達したか監視する。
（２）両面加熱時間が経過し、真空度が到達することで、次のようにして、密着加熱を開始する。駆動側プーリ昇降機構１８にて、駆動側プーリ１４を密着加熱高さに合わせる。同時に、テンション側プーリ昇降機構１９にて、テンション側プーリ１５を同じ高さに合わせる。すなわち、ワークの上側ガラス１０３が上側のヒータプレート１６に密着する位置まで駆動プーリ１４及びテンション側プーリ１５を上昇させる。さらに、下側ヒータプレート昇降機構２０にて、下側ヒータプレート１７をスチールベル１３の裏面に密着する位置まで上昇させる。
（３）かような状態で、上側ヒータプレート１６と下側ヒータプレート１７により、スチールベルト１３を介在させつつモジュールを挟み込んだ状態で加熱する。
（４）密着加熱高さは、モジュールの材質や厚みの違いへの対応のため、任意に設定することが可能。

　ここで、密着加熱工程では、ガラスとガラスを密着させる際に、ガラスの変形（元々の反りなど）を修正する負荷が必要となる。これは、ガラスのヤング率をアルミ合金相当として、負荷を設定すれば良い。負荷は、モジュールの材質や厚みにより、決定される。なお、上側ヒータプレート１６は、密着時に上昇方向へ自由になる必要がある。（数ｍｍ程度で可）
1.5：真空密着加熱
（１）真空度測定器により、真空チャンバ内の真空度が維持されているか監視する。
（２）密着加熱時間が経過し、真空度が維持されていることを確認したのち、加熱チャンバ１内を大気開放する。
（３）大気開放時は、真空流路開閉弁により真空チャンバへの経路を閉じる。
（４）真空経路を閉じた後、大気流路開閉弁を開けて、チャンバ内を大気にする。
（５）この時、真空発生源（真空ポンプなど）の作動も停止する。
（６）大気開放は、密着加熱している状態のままで行い、大気開放に掛ける時間は、特に規定しない。
　この大気加熱工程では、既述したように真空時の圧力と大気圧の差圧による、ボイルの法則を応用している。ガラス同士を全面にて密着させることで、ボイルの法則の効果が得られる。ボイルの法則の効果を高めるためには、できるだけ大気圧との差圧比を大きくする必要がある。チャンバ内の真空到達圧力は、１０Ｐａ程度が望ましい（大気圧との差圧比：約１万分の１）。差圧比が高いほど、真空環境下において残留気泡が視認されたとしても、大気下では消滅する。

　なお、本ラミネートモジュール製造装置では、真空到達圧力を上げるために、スチールベルト構造を工夫している。
　すなわち、スチールベルトをチャンバ内に全て収納しており、チャンバの気密性を保つ工夫をしている。

　外部のコンベアの駆動機構を、チャンバの外で構成しており、これが必要に応じて加熱チャンバ２１に着脱できるようにしている。昇降機構もチャンバの外で構成しており、ＯリングとＹパッキンにて気密性を保っている。

　シャッター２、３には、Ｏリングを嵌めこんであり、チャンバ側壁と気密を保つようになっている。シャッターの素材には、アルミ合金を使用しており、側壁に追従できるようにしている。

　シャッターの駆動源とシャッターとは、接続部分に余裕を持たせている。この接続部分の余裕は、チャンバの真空環境生成時に、シャッターが引き込まれる挙動に適応できる。

　真空環境生成時は、加速度的に均一に吸引できるように、チャンバに吸引口を複数設けてもよい。すなわち、加速度的な吸引により、シャッターを瞬間的に引き寄せ、気密を保つことが可能となる。
1.7 継続加熱（架橋加熱）
（１）真空度測定器により、真空チャンバ内が正常に大気となったか監視する。
（２）大気開放されたことを確認した後に、設定した任意の時間、密着加熱を継続する。
（３）大気下での密着加熱は架橋を促進する。
1.8 モジュール排出
（１）駆動側プーリ昇降機構１８にて、駆動側プーリ１４を排出高さに合わせる。同時に、テンション側プーリ昇降機構１９にて、テンション側プーリ１５を駆動側プーリ同じ高さに合わせる。これらのプーリの高さ調整によりスチールベルト１３も実質、これらのプーリと同じ高さになる。
（２）次いで、投入側シャッター開閉機構１０にて、モジュール投入側シャッター２（投入口３０）を開ける。
（３）同時に、排出側シャッター開閉機構１１にて、モジュール排出側シャッター３を開ける。
（４）モジュール投入と同様に、コンベア駆動伝達機構１２をコンベアの駆動側プーリ１４に接続する。
（５）モジュール排出用支持ローラ９をサーボ駆動により回転させる。
（６）モジュールは、スチールベルト１３によって搬送され、運搬用台車などの搬送機器へ排出される。
（７）モジュール排出後に、コンベアの駆動側プーリ１４に接続しているコンベア駆動伝達機構１２を切り離す。
[実施例の効果]
　本実施例によれば、次のような効果を奏する。
（１）太陽電池モジュールなどのラミネートモジュールの製造過程において、ラミネートするために封止樹脂を加熱して溶融させるときに、封止樹脂と太陽電池モジュールの上側ガラスとの間に間隙を設けてあるため、封止樹脂が加熱されることによって発生する、ガスなどの気体が、その間隙を流路として、真空発生器により吸引される。このことにより、気泡の原因となるガスなどの気体が、密着前に排気されるため、気泡の要因がなくなり、即ち、残留気泡を発生させることがない。残留気泡などの不良抑制は、生産性の向上に効果的であるとともに、製品の性能、寿命に好影響を与える。
（２）チャンバ内の真空圧を１０Ｐａ程度の真空環境としているため、たとえ、密着時に小さな気泡を巻き込んだとしても、ボイルの法則から、大気圧での体積は、真空環境下での１万分の１程度に圧縮されることから、残留気泡を発生させることがない。残留気泡などの不良抑制は、生産性の向上に効果的であるとともに、製品の性能、寿命に好影響を与える。
（３）太陽電池モジュールを積層した状態での架橋工程では、残留気泡が発生しないため、ダイヤフラム方式を採用した一般的なラミネート装置のように、気泡を消散させるための、実質的な加圧時間が不要となるため、ダイヤフラム方式を採用したラミネート装置と比較して、ラミネート工程にかかる時間を短縮することができる。時間短縮は、生産性の向上に効果的である。さらには、同じ生産量で比較すると、装置の設置面積、あるいは、装置の設置高さにおいて、小型化することができるため、工場体積当たりの生産性が向上するとともに、保全性が向上する。
（４）ダイヤフラム方式を採用した一般的なラミネート装置のように、ラバーシートにて挟圧することがないので、ラミネートするときにストレスがかかる要因がなくなることから、ストレスを抑制することができる。製品へのストレス軽減による歩留まり向上は、生産性の向上に効果的であるとともに、内在するストレスによる、製品の性能、寿命への悪影響を回避することができる。
（５）表面保護部材（ガラス）と、封止樹脂および裏面保護部材（ガラス）を密着させるための、昇降機構の移動量を、数値管理によりデジタル制御できるようになっているため、ラミネートにおける、充填剤の厚みを均一化することが可能になる。充填剤の厚みの均一化は、内在するストレスによる、製品の性能、寿命への悪影響を回避することができる。
（６）ダイヤフラム方式のラミネート装置のように、膨張、収縮ならびに冷熱を繰り返す、ラバーシートを使用していないため、劣化による交換などを必要としない。定期交換する消耗品がないため、交換時間が不要となり、生産性が向上するとともに、保全性が向上する。
（７）太陽電池モジュールの保護部材（表面ガラス、裏面ガラス）双方をヒータにより密着加熱する工程を採用することができるので、加熱溶融及び架橋反応の時間短縮を図ることができる。
（８）駆動プーリ１４に動力を伝達するコンベア駆動伝達機構１２を加熱チャンバ外に配置し、必要に応じてその動力伝達ローラ３２が加熱チャンバ１内に出入りするので、加熱チャンバを真空雰囲気にする場合には、動力伝達ローラ３２を含むコンベア駆動伝達機構１２を加熱チャンバ外部に出しておくことで、加熱チャンバ１内部の真空形成スペースのコンパクト化及び真空の気密形成を容易に実現することができる。
（９）昇降機構の各モータは、数値制御が可能であるサーボモータ等を使用し、且つカム溝２０５を介し水平方向の直線移動に対する垂直方向の直線移動（昇降移動）の移動率の変換比を例えば１/１０のように大きくすることができるので、加熱チャンバ内外の真空・大気圧差により昇降機構の位置制御精度に悪影響を及ぼすことを防ぐことができる。

１…加熱チャンバ、２…モジュール投入口シャッター、３…モジュール排出口シャッター、１０…投入側シャッター開閉機構、１１…排出側シャッター開閉機構、１２…コンベア駆動伝達機構、１３…スチールベルト、１４…駆動プーリ、１５…テンション側プーリ、１６…上側ヒータプレート（第２のヒータプレート）、１７…下側ヒータプレート（第１のヒータプレート）、１８…駆動プーリ昇降機構、１９…テンション側プーリ昇降機構、２０…ヒータプレート昇降機構、１００…ラミネートモジュール構成部品、１０１…第１の保護部材（ガラス材）、１０２…封止樹脂シート、１０３…第２の保護部材（ガラス材）。

Claims

　ラミネートモジュールの構成要素となる第１及び第２の保護部材と、それらの保護部材によって挟み込まれた封止樹脂シートとを、この封止樹脂シートを加熱溶融、架橋させることにより一体に接着，積層するラミネートモジュールの製造方法において、
　加熱チャンバ内に設置されたスチールベルト上に前記第１の保護部材、前記封止樹脂シート、前記第２の保護部材の順に重ねたラミネートモジュール構成要素を搬入する工程と、
　前記スチールベルト裏側で且つスチールベルトの撓み変形のための空間的ゆとりを保つよう前記ラミネートモジュール構成要素から離した位置に、第１のヒータプレートが位置し、前記ラミネートモジュール構成要素の上方に第２のヒータプレートが位置し、目標真空度に向けた真空排気過程で、この第１，第２のヒータプレートの輻射熱により、前記ラミネートモジュール構成要素を上下から加熱し、加熱過渡期の温度不均一により一時的に生じる前記第１の保護部材の上向きの反りをスチールベルトがこの反りに倣って撓み変形することにより前記ラミネートモジュール構成要素を安定な状態に保持し、且つ前記反りにより生じる前記第１，第２の保護部材間の隙間を介して、前記封止樹脂シートから生じるガス成分を、真空排気を利用して除去するプレ加熱工程と、
　前記プレ加熱工程後に、反りが戻った前記ラミネートモジュール構成要素に対して、前記第１のヒータプレートおよび第２のヒータプレートとにより、真空雰囲気で輻射加熱を継続した後、前記第１のヒータプレートを前記スチールベルトの裏面に密着させ前記第２のヒータプレートを前記第２の保護部材に密着させて前記封止樹脂シートの加熱溶融を進行させる真空加熱工程と、
　その後に前記加熱チャンバ内を大気開放して前記第１，第２のヒータプレートによる加熱を継続して前記封止樹脂シートに架橋反応を生じさせる大気加熱工程と、を含むことを特徴とするラミネートモジュールの製造方法。
　前記スチールベルトは、駆動プーリ及びベルトテンション付与プーリとの間に掛け回されたエンドレスベルトであり、複数本並行に配置され、前記プレ加熱工程前に前記ラミネートモジュール構成要素を所定のプレ加熱位置に導くための且つ一連の加熱工程終了後に次のプロセス位置に搬送するための搬送コンベアベルトとして使用される請求項１記載のラミネートモジュールの製造方法。
　前記スチールベルトは、駆動プーリ及びベルトテンション付与プーリとの間に掛け回されたエンドレスベルトであり、複数本並行に配置され、前記プレ加熱工程前に前記ラミネートモジュール構成要素を所定のプレ加熱位置に導くための且つ一連の加熱工程終了後に次のプロセス位置に搬送するための搬送コンベアベルトとして使用され、
　前記スチールベルトの駆動プーリに動力を与える動力伝達プーリ及びその動力源は、前記プレ加熱工程を含む一連の加熱工程時には、前記加熱チャンバの外部にあって前記スチールベルトの駆動プーリと切り離されており、プレ加熱工程前及び一連の加熱工程後に前記スチールベルトが搬送コンベアの一部として使用される時には、前記動力伝達プーリが前記加熱チャンバ内に移動制御されて前記スチールベルトの駆動プーリに接続される請求項１記載のラミネートモジュール製造方法。
　前記プレ加熱工程を含む一連の加熱工程は、前記スチールベルトに対する前記第１，第２のヒータプレートのいずれか一方或いは双方の相対的な加熱高さ位置を、昇降機構を介して相対的に変えることにより行われる請求項１記載のラミネートモジュール製造方法。
　前記ラミネートモジュールが太陽電池モジュールであり、前記第１、第２の保護部材の一方が、一面に光－電気変換の薄膜を形成したセルガラス基板であり、他方が強化ガラスであり、前記封止樹脂シートがＥＶＡ樹脂シートである請求項１記載のラミネートモジュールの製造方法。
　ラミネートモジュールの構成要素となる第１及び第２の保護部材と、それらの保護部材によって挟み込まれた封止樹脂シートとを、この封止樹脂シートを加熱溶融、架橋させることにより一体に接着，積層するラミネートモジュールの製造装置において、
　真空ポンプを介して減圧により真空環境を生成することができる加熱チャンバと、
　加熱対象のワークとなるラミネートモジュール構成要素の搬送コンベアを兼ねると共に、前記加熱チャンバ内に設置されて、前記第１の保護部材、前記封止樹脂シート、前記第２の保護部材の順に重ねたラミネートモジュール構成要素を載せて前記ワークの少なくとも真空加熱に用いられるエンドレスなスチールベルトを設置した加熱用チャンバと、
　前記スチールベルトの裏側に配置される第１のヒータプレートと、
　前記スチールベルトの上方に配置され、前記スチールベルトを介して前記第１のヒータプレートと対向した位置にある第２のヒータプレートと、
　前記スチールベルトと前記第１のヒータプレートと前記第２のヒータプレートとの相対的な高さ位置を変えることのできる昇降機構と、を備えたことを特徴とするラミネートモジュールの製造装置。
　前記スチールベルトの駆動プーリに動力を与えるスチールベルト用駆動源は、前記加熱チャンバの外部に移動機構を介して配置され、このスチールベルト用駆動源からの動力を前記駆動プーリに伝達する動力伝達プーリが前記加熱チャンバに出し入れ自在に構成され、この動力伝達プーリは、前記加熱チャンバが真空加熱の使用に供されているときは、前記駆動プーリから切り離されて加熱チャンバ外にあり、前記加熱チャンバが真空加熱に供されておらず、搬送コンベアとしての大気使用状態にあるときに、前記加熱チャンバ内に入って前記駆動プーリと接続される構成を有している請求項６記載のラミネートモジュールの製造装置。
　前記スチールベルトは、駆動プーリ及びベルトテンション付与プーリとの間に掛け回されたエンドレスベルトであり、複数本並行に配置され、
　且つ前記ラミネートモジュール構成要素をスチールベルトを介して前記第１のヒータプレートにより下から加熱した時の加熱過渡期に生じる前記第１の保護部材の上向きの反りに対して、その反りに倣った前記スチールベルトの撓み変形がスチールベルトの長さ方向、幅方向のいずれにも生じるようにして、前記ラミネートモジュール構成要素を安定な状態に保持するように構成されている請求項６記載のラミネートモジュールの製造装置。
　前記昇降機構は、動力源として、数値制御が可能であるサーボモータを使用し、且つサーボモータの回転を水平方向の直線移動から垂直方向の直線移動に変換するカム溝を有することを請求項６記載のラミネートモジュールの製造装置。