WO2011078156A1 - フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 - Google Patents

フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置 Download PDF

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WO2011078156A1
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film mirror
film
resin
silver
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Inventor
小嶋　健
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コニカミノルタオプト株式会社
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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24S—SOLAR HEAT COLLECTORS; SOLAR HEAT SYSTEMS
    • F24S23/00—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors
    • F24S23/70—Arrangements for concentrating solar-rays for solar heat collectors with reflectors
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/40—Solar thermal energy, e.g. solar towers

Definitions

  • the present invention relates to a film mirror having excellent light resistance and weather resistance, and having good regular reflectance with respect to sunlight, a manufacturing method thereof, and a solar power generation reflector using the film mirror.
  • glass mirrors Since the reflection device is exposed to sunlight, ultraviolet rays, heat, wind and rain, sandstorms, etc., glass mirrors have been used conventionally. Glass mirrors are highly durable to the environment, but they are damaged during transportation, and because of their heavy mass, there is a problem that the construction cost of the plant is increased due to the strength of the mount on which the mirrors are installed.
  • the metal layer is made of silver having a high reflectance in the visible light region as disclosed in Patent Document 2.
  • silver is inferior in weather resistance and has a problem that it is easily deteriorated by oxygen, water vapor, sulfur and the like.
  • Patent Document 2 it is considered that the plastic substrate functions as a protective layer for the silver film layer.
  • plastic easily transmits water vapor and oxygen in the air, the deterioration of silver due to oxidation causes a problem that the reflectance of the mirror is lowered.
  • the mirror when using a mirror for the purpose of reflecting sunlight, the mirror is often used outdoors. When used outdoors, the mirror is exposed to wind and rain. Under such a severe environment, the silver is rapidly oxidized and deteriorated, and the problem of reduction in the reflectance of the mirror becomes a more prominent problem.
  • a method of coating a corrosion prevention layer such as a resin layer as an adjacent layer on the light incident surface side of the silver layer is already known (see, for example, Patent Document 3).
  • a corrosion prevention layer such as a resin layer as an adjacent layer on the light incident surface side of the silver layer
  • Patent Document 3 a method of coating a corrosion prevention layer such as a resin layer as an adjacent layer on the light incident surface side of the silver layer.
  • components that cause corrosion of silver such as oxygen, water vapor, and sulfur components from the outside are included. It is difficult to completely block, and the radical component generated when the resin layer is excited by strong ultraviolet rays accelerates the corrosion of the silver layer. I could't.
  • Patent Document 4 discusses a method for reducing deterioration of a resin substrate due to ultraviolet rays by incorporating an ultraviolet absorber in a layer outside the resin substrate, that is, by providing an ultraviolet absorption layer. .
  • This method most of the ultraviolet rays are absorbed and deterioration of the resin base material can be suppressed to some extent.
  • the reduction in reflectance due to the deterioration of the silver layer is not sufficient, and improvement has been demanded.
  • Patent Document 4 cannot absorb all ultraviolet rays by the ultraviolet absorbing layer, and transmits light in some ultraviolet regions.
  • this technology is applied to a silver mirror, the resin base material layer is excited by the ultraviolet rays that could not be absorbed by the ultraviolet absorption layer, and as a result, the corrosion of the silver layer adjacent to the resin base material layer is promoted. It has been found that the decrease in reflectance cannot be sufficiently suppressed. Also, in the case where an adhesive layer is interposed between the resin base layer and the silver layer, since the ultraviolet light transmitted through the ultraviolet absorbing layer excites the adhesive layer, the corrosion of the adjacent silver layer is similarly promoted. I have also understood.
  • an object of the present invention is to prevent a decrease in regular reflectance due to deterioration of a silver layer as a reflective layer, and it is lightweight and flexible, and has light resistance that can reduce the manufacturing cost and increase the area and mass production. It is another object of the present invention to provide a film mirror excellent in weather resistance and having a good regular reflectance with respect to sunlight, a method for producing the same, and a reflector for solar power generation using the film mirror.
  • At least an ultraviolet absorbing layer, and a resin mirror layer adjacent to each other, a silver reflecting layer, and a lower adjacent layer are provided in this order from the light incident side, or at least an ultraviolet absorbing layer as a constituent layer,
  • the resin base material layer, the adhesive layer, the silver reflecting layer, and the lower adjacent layer adjacent to each other are provided in this order from the light incident side, either the resin base material layer or the adhesive layer has a stabilizer.
  • a film mirror comprising:
  • the stabilizer comprises at least one of a phenolic antioxidant, a phosphite antioxidant, a thiol antioxidant, and a hindered amine light stabilizer.
  • a reflector for solar power generation wherein the film mirror according to any one of 1 to 7 is used.
  • the film mirror of the present invention has at least an ultraviolet absorbing layer as a constituent layer, and a resin mirror layer, a silver reflective layer, and a lower adjacent layer that are adjacent to each other in this order from the light incident side.
  • the adhesive layer, the silver reflecting layer, and the lower adjacent layer are provided in this order from the light incident side, the resin base layer or the adhesive
  • One of the layers is characterized by containing a stabilizer.
  • the resin base material that serves as a support for the silver reflective layer is provided above the silver layer, that is, on the light incident side, thereby enhancing the barrier effect to components that cause corrosion of the silver reflective layer.
  • the ultraviolet absorbing layer on the upper part of the resin substrate layer, the ultraviolet degradation of the resin substrate is suppressed, and further, by containing a stabilizer in the resin substrate layer, The resin base material layer is suppressed from being excited, and as a result, the silver layer adjacent to the resin base material layer is prevented from being corroded and deteriorated.
  • At least one of the resin base layer and the adhesive layer contains a stabilizer, whereby the resin base layer and / or the adhesive It suppresses that a layer is excited, As a result, it suppresses that a silver layer corrodes and deteriorates. Even if it is a case where it is used in a severe environment by such a structure, it becomes possible to set it as the film mirror by which the fall of the regular reflectance by deterioration of a silver reflection layer was fully suppressed.
  • the ultraviolet absorber layer preferably uses a benzotriazole ultraviolet absorber as the ultraviolet absorber.
  • the stabilizer it is preferable to use at least one of a phenol-based antioxidant, a phosphite-based antioxidant, a thiol-based antioxidant, and a hindered amine-based light stabilizer.
  • the lower adjacent layer is preferably a resin layer containing a corrosion inhibitor.
  • the outside means the incident light side.
  • the film mirror of the present invention has a configuration having a scratch preventing layer as the outermost layer.
  • the thickness of the entire layer including the resin base material is preferably in the range of 75 to 250 ⁇ m.
  • the film mirror manufacturing method for manufacturing the film mirror of the present invention is preferably a manufacturing method having a step of forming the silver reflective layer by silver vapor deposition.
  • the film mirror of the present invention As a solar light collecting mirror using the film mirror of the present invention, other groups are provided via an adhesive layer coated on the resin substrate surface opposite to the side having the silver reflective layer with the resin substrate interposed therebetween. It is preferable to attach the film mirror on a material, particularly on a metal substrate, and use it as a reflection device for solar power generation.
  • the film mirror of the present invention has at least an ultraviolet absorbing layer as a constituent layer, and a resin mirror layer, a silver reflective layer, and a lower adjacent layer that are adjacent to each other in this order from the light incident side.
  • the adhesive layer, the silver reflecting layer, and the lower adjacent layer are provided in this order from the light incident side, the resin base layer or the adhesive
  • One of the layers is characterized by containing a stabilizer.
  • a special functional layer such as a gas barrier layer or a scratch prevention layer as the constituent layer.
  • resin base material Various conventionally known resin films can be used as the resin base material according to the present invention.
  • a polyester film or a cellulose ester film it is preferable to use a polyester film or a cellulose ester film, and it may be a film manufactured by melt casting or a film manufactured by solution casting.
  • the thickness of the resin base material is preferably an appropriate thickness depending on the type and purpose of the resin. For example, it is generally in the range of 10 to 300 ⁇ m. The thickness is preferably 20 to 200 ⁇ m, more preferably 30 to 100 ⁇ m.
  • the adhesive layer according to the present invention is not particularly limited as long as it has a function of enhancing the adhesion between the silver reflective layer and the resin base material (resin film), but is preferably made of a resin. Therefore, the adhesive layer has adhesiveness for closely adhering the resin base material (resin film) and the metal reflective layer, heat resistance that can withstand heat when the metal reflective layer is formed by a vacuum deposition method, and the metal reflective layer. Smoothness is required to bring out the high reflection performance inherent in
  • the resin used as the binder for the adhesive layer is not particularly limited as long as it satisfies the above conditions of adhesion, heat resistance, and smoothness.
  • Polyester resin, acrylic resin, melamine resin, epoxy Resin, polyamide resin, vinyl chloride resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin or the like can be used alone or a mixed resin thereof. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin and a melamine resin mixed resin are preferable. Furthermore, it is more preferable to use a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.
  • the thickness of the adhesive layer is preferably from 0.01 to 3 ⁇ m, more preferably from 0.1 to 1 ⁇ m, from the viewpoints of adhesion, smoothness, reflectance of the reflecting material, and the like.
  • a method for forming the adhesive layer conventionally known coating methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
  • the stabilizer in the present invention refers to an antioxidant or a light stabilizer having a function of stabilizing by capturing or decomposing radicals such as peroxide radicals generated by light irradiation and the presence of oxygen. It is different from a corrosion inhibitor that forms a heavy complex film to prevent corrosion deterioration of metals.
  • the stabilizer in the present invention it is preferable to use at least one of a phenolic antioxidant, a thiol antioxidant, a phosphite antioxidant and a hindered amine light stabilizer.
  • phenolic antioxidants examples include 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl) butane, 2,2′-methylenebis (4-ethyl-6-t- Butylphenol), tetrakis- [methylene-3- (3 ', 5'-di-t-butyl-4'-hydroxyphenyl) propionate] methane, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, 4,4 '-Thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-butylidenebis (3-methyl-6-t-butylphenol), 1,3,5-tris (3', 5'-di-t -Butyl-4'-hydroxybenzyl) -S-triazine-2,4,6- (1H, 3H, 5H) trione, stearyl- ⁇ - (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propi , Triethylene glycol bis [3- (3-
  • thiol-based antioxidant examples include distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythritol-tetrakis- ( ⁇ -lauryl-thiopropionate), and the like.
  • phosphite antioxidant examples include tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, distearyl pentaerythritol diphosphite, di (2,6-di-t-butylphenyl) pentaerythritol.
  • Diphosphite bis- (2,6-di-t-butyl-4-methylphenyl) -pentaerythritol diphosphite, tetrakis (2,4-di-t-butylphenyl) 4,4'-biphenylene-diphosphonite 2,2'-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite and the like.
  • hindered amine light stabilizers include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, Bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -2- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) -2-n-butylmalonate, 1-methyl- 8- (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -sebacate, 1- [2- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] ethyl ] -4- [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionyloxy] -2,2,6,6-tetramethylpiperidine, 4-benzoyloxy-2,2,6, 6-Tetrame Lupiperidine, tetrakis (2,2,2,
  • a hindered amine light stabilizer containing only a tertiary amine is preferable.
  • bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) is preferable.
  • a condensate of 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidinol / tridecyl alcohol and 1,2,3,4-butanetetracarboxylic acid is preferred.
  • nickel-based UV stabilizers include [2,2′-thiobis (4-t-octylphenolate)]-2-ethylhexylamine nickel (II), nickel complex-3,5-di-t-butyl-4- Hydroxybenzyl phosphate monoethylate, nickel dibutyl dithiocarbamate, etc. can also be used.
  • the total amount of these stabilizers added is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less based on the resin base material. If the addition amount is less than 0.1% by mass, the resin itself may not be sufficiently effective in preventing oxidative degradation, and the excitation of the resin suppresses corrosion of the silver layer adjacent to the resin. It may not be possible. Also, if the total amount of stabilizer exceeds 10% by mass with respect to the resin base material, the stabilizer will squeeze out (also referred to as bleed out), and the appearance of the product will be impaired and the transmittance will be reduced. There is.
  • the resin may be kneaded and dispersed with a device such as a twin-screw kneader while the resin is melted hot, or the stabilizer may be added while the resin is dissolved in a solvent.
  • the solvent may be devolatilized after stirring and dispersing.
  • the total amount of the stabilizer added is preferably 0.1% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the adhesive layer.
  • the added amount is 0.1% by mass or more, the effect of preventing the oxidative deterioration of the adhesive layer itself is sufficiently exhibited, and the corrosion of the silver layer adjacent to the adhesive layer due to the excitation of the adhesive layer is suppressed. Can do.
  • the total amount of the stabilizer added is 10% by mass or less with respect to the adhesive layer, bleeding out is difficult to occur, and problems such as a decrease in adhesive strength with the silver layer and peeling are less likely to occur.
  • the method for adding the stabilizer to the adhesive layer include a method in which a stabilizer is added to the curable resin monomer and the composition is cured after stirring and dispersing.
  • the resin used as the binder for the ultraviolet absorbing layer may be a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, or a mixture of these resins. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin or an acrylic resin may be used.
  • the resin is preferably a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.
  • isocyanate various conventionally used isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of properties, XDI, MDI, and HMDI isocyanates are preferably used.
  • the ultraviolet absorbing layer As a method for forming the ultraviolet absorbing layer, conventionally known coating methods such as gravure coating, reverse coating, and die coating can be used.
  • UV absorber examples of the ultraviolet absorber contained in the ultraviolet absorbing layer include benzophenone series, benzotriazole series, phenyl salicylate series, and triazine series.
  • benzophenone ultraviolet absorber examples include 2,4-dihydroxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4-dodecyloxy-benzophenone, 2- Hydroxy-4-octadecyloxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-benzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetra And hydroxy-benzophenone.
  • benzotriazole ultraviolet absorber examples include 2- (2′-hydroxy-5-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2 -(2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole and the like.
  • phenyl salicylate ultraviolet absorber examples include phenylsalicylate, 2-4-di-t-butylphenyl-3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzoate, and the like.
  • hindered amine ultraviolet absorber examples include bis (2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) sebacate.
  • triazine ultraviolet absorbers examples include 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-). Ethoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl- (2-hydroxy-4-) Butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2- Hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-octyloxyphenyl) -1,3,5-tria 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-dodecyloxy
  • a benzotriazole ultraviolet absorber is suitably used from the viewpoint of preventing the resin base material layer from deteriorating.
  • the ultraviolet absorber includes a compound having a function of converting the energy held by ultraviolet rays into vibrational energy in the molecule and releasing the vibrational energy as thermal energy. Furthermore, those that exhibit an effect when used in combination with an antioxidant, a colorant, or the like, or a light stabilizer that acts as a light energy conversion agent, called a quencher, can be used in combination. However, when using the above-mentioned ultraviolet absorber, it is necessary to select one in which the light absorption wavelength of the ultraviolet absorber does not overlap with the effective wavelength of the photopolymerization initiator.
  • the amount of the ultraviolet absorber used is 0.1 to 20% by mass, preferably 1 to 15% by mass, and more preferably 3 to 10% by mass. When the amount is more than 20% by mass, the adhesion is deteriorated.
  • Silver reflection layer As a method for forming the silver reflective layer according to the present invention, either a wet method or a dry method can be used.
  • the wet method is a general term for a plating method, and is a method of forming a film by depositing a metal from a solution. Specific examples include silver mirror reaction.
  • the dry method is a general term for a vacuum film-forming method.
  • Specific examples include a resistance heating vacuum deposition method, an electron beam heating vacuum deposition method, an ion plating method, and an ion beam assisted vacuum deposition method.
  • sputtering method a vapor deposition method capable of a roll-to-roll method for continuously forming a film is preferably used in the present invention. That is, it is preferable that it is a manufacturing method of the aspect which has the process of forming the said silver reflection layer by silver vapor deposition as a manufacturing method of the film mirror which manufactures the film mirror of this invention.
  • the thickness of the silver reflective layer is preferably 10 to 200 nm, more preferably 30 to 150 nm, from the viewpoint of reflectivity and the like.
  • the silver reflective layer is preferably located on the side opposite to the light incident side with respect to the resin base layer for the purpose of preventing deterioration of the silver reflective layer due to oxygen or moisture.
  • the lower adjacent layer used in the film mirror of the present invention is adjacent to the opposite side of the resin base material (support) through the silver reflective layer, and prevents corrosion deterioration of silver and contributes to prevention of scratches on the silver reflective layer. Is.
  • the lower adjacent layer preferably contains a corrosion inhibitor.
  • the resin used as the binder for the upper adjacent layer may be a polyester resin, an acrylic resin, a melamine resin, an epoxy resin, or a mixture of these resins. From the viewpoint of weather resistance, a polyester resin or an acrylic resin may be used.
  • the resin is preferably a thermosetting resin mixed with a curing agent such as isocyanate.
  • isocyanate various conventionally used isocyanates such as TDI (tolylene diisocyanate), XDI (xylene diisocyanate), MDI (methylene diisocyanate), and HMDI (hexamethylene diisocyanate) can be used. From the viewpoint of properties, XDI, MDI, and HMDI isocyanates are preferably used.
  • a conventionally known coating method such as a gravure coating method, a reverse coating method, or a die coating method can be used.
  • Corrosion inhibitor refers to a phenomenon in which metal (silver) is chemically or electrochemically eroded or deteriorated by the environmental material surrounding it (see JIS Z0103-2004).
  • the optimum amount of the corrosion inhibitor varies depending on the compound to be used, but generally it is preferably within the range of 0.1 to 1.0 g / m 2 .
  • Corrosion inhibitors for silver include amines and derivatives thereof, compounds having a pyrrole ring, compounds having a triazole ring, compounds having a pyrazole ring, compounds having a thiazole ring, compounds having an imidazole ring, compounds having an indazole ring, It is desirable to select from copper chelate compounds, thioureas, compounds having a mercapto group, at least one kind of naphthalene, or a mixture thereof.
  • amines and derivatives thereof include ethylamine, laurylamine, tri-n-butylamine, O-toluidine, diphenylamine, ethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, 2N- Dimethylethanolamine, 2-amino-2-methyl-1,3-propanediol, acetamide, acrylamide, benzamide, p-ethoxychrysoidine, dicyclohexylammonium nitrite, dicyclohexylammonium salicylate, monoethanolamine benzoate, dicyclohexylammonium benzoate, diisopropyl Ammonium benzoate, diisopropylammonium nitrite Cyclohexylamine carbamate, nitronaphthalene nitrite, cyclohexylamine benzoate, dicyclohexylammonium
  • Examples of the compound having a pyrrole ring include N-butyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-2,5dimethylpyrrole, N-phenyl-3-formyl-2,5-dimethylpyrrole, N-phenyl-3, 4-diformyl-2,5-dimethylpyrrole, etc., or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a triazole ring include 1,2,3-triazole, 1,2,4-triazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 3-hydroxy-1,2,4-triazole, 3- Methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto-1,2,4-triazole, 4-methyl-1,2,3-triazole, Benzotriazole, tolyltriazole, 1-hydroxybenzotriazole, 4,5,6,7-tetrahydrotriazole, 3-amino-1,2,4-triazole, 3-amino-5-methyl-1,2,4- Triazole, carboxybenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy) -5'-tert-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butylphenyl) benzotriazole
  • Examples of the compound having a pyrazole ring include pyrazole, pyrazoline, pyrazolone, pyrazolidine, pyrazolidone, 3,5-dimethylpyrazole, 3-methyl-5-hydroxypyrazole, 4-aminopyrazole, and a mixture thereof.
  • Examples of the compound having a thiazole ring include thiazole, thiazoline, thiazolone, thiazolidine, thiazolidone, isothiazole, benzothiazole, 2-N, N-diethylthiobenzothiazole, P-dimethylaminobenzallodanine, 2-mercaptobenzothiazole, etc. Or a mixture thereof.
  • Examples of the compound having an imidazole ring include imidazole, histidine, 2-heptadecylimidazole, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 1-benzyl-2-methyl Imidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl Imidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydromethylimidazole, 2-phenyl-4,5 dihydroxymethylimidazole, 4-formylimidazole, 2-methyl-4-formylimidazole, 2-phenyl-4- Formylimidazole, 4-methyl-5-formylimidazole, 2-ethyl
  • Examples of the compound having an indazole ring include 4-chloroindazole, 4-nitroindazole, 5-nitroindazole, 4-chloro-5-nitroindazole, and a mixture thereof.
  • copper chelate compounds include acetylacetone copper, ethylenediamine copper, phthalocyanine copper, ethylenediaminetetraacetate copper, hydroxyquinoline copper, and the like, or a mixture thereof.
  • thioureas examples include thiourea, guanylthiourea, and the like, or a mixture thereof.
  • mercaptoacetic acid thiophenol, 1,2-ethanediol, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 1-methyl-3-mercapto
  • naphthalene-based compounds examples include thionalide.
  • the gas barrier layer according to the present invention is intended to prevent deterioration of the humidity, particularly deterioration of the resin base material and various functional elements protected by the resin base material due to high humidity. As long as the above characteristics are maintained, various types of gas barrier layers can be provided. In the present invention, it is preferable to provide a gas barrier layer above the upper adjacent layer.
  • the water vapor permeability at 40 ° C. and 90% RH is 100 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, preferably 50 g / m 2 ⁇ day / ⁇ m or less, more preferably 20 g / m 2.
  • -It is preferable to adjust the moisture-proof property of the gas barrier layer so as to be not more than day / ⁇ m.
  • the oxygen permeability is preferably 0.6 ml / m 2 / day / atm or less under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.
  • the gas barrier layer according to the present invention is not particularly limited in its formation method, but after applying the ceramic precursor of the inorganic oxide film, the inorganic oxide film is formed by heating and / or ultraviolet irradiation of the coating film.
  • the method is preferably used.
  • the gas barrier layer according to the present invention can be formed by applying a general heating method after applying a ceramic precursor that forms an inorganic oxide film by heating, but is preferably formed by local heating.
  • the ceramic precursor is preferably a sol-like organometallic compound or polysilazane.
  • the organometallic compound according to the present invention includes silicon (Si), aluminum (Al), lithium (Li), zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum (Ta), zinc (Zn), barium (Ba), and indium. It is preferable to contain at least one element of (In), tin (Sn), lanthanum (La), yttrium (Y), and niobium (Nb).
  • the organometallic compound is at least one element of silicon (Si), aluminum (Al), lithium (Li), zirconium (Zr), titanium (Ti), zinc (Zn), and barium (Ba). It is preferable to contain. Furthermore, it is preferable to contain at least one element of silicon (Si), aluminum (Al), and lithium (Li).
  • the organometallic compound is not particularly limited as long as it can be hydrolyzed, and preferred organometallic compounds include metal alkoxides.
  • the metal alkoxide is represented by the following general formula (1).
  • M represents a metal having an oxidation number n.
  • R 1 and R 2 each independently represents an alkyl group.
  • m represents an integer of 0 to (n ⁇ 1).
  • R 1 and R 2 may be the same or different.
  • R 1 and R 2 are preferably alkyl groups having 4 or less carbon atoms, for example, a methyl group CH 3 (hereinafter represented by Me), an ethyl group C 2 H 5 (hereinafter represented by Et), a propyl group.
  • C 3 H 7 (hereinafter represented by Pr), isopropyl group i-C 3 H 7 (hereinafter represented by i-Pr), butyl group C 4 H 9 (hereinafter represented by Bu), isobutyl group i- A lower alkyl group such as C 4 H 9 (hereinafter referred to as i-Bu) is more preferred.
  • Examples of the metal alkoxide represented by the general formula (1) include lithium ethoxide LiOEt, niobium ethoxide Nb (OEt) 5 , magnesium isopropoxide Mg (OPr-i) 2 , aluminum isopropoxide Al (OPr -I) 3 , zinc propoxide Zn (OPr) 2 , tetraethoxysilane Si (OEt) 4 , titanium isopropoxide Ti (OPr-i) 4 , barium ethoxide Ba (OEt) 2 , barium isopropoxide Ba ( OPr-i) 2 , triethoxyborane B (OEt) 3 , zirconium propoxide Zn (OPr) 4 , lanthanum propoxide La (OPr) 3 , yttrium propoxide Y (OPr) 3 , lead isopropoxide Pb (OPr- i) 2 etc. are mentioned suitably. All of these metal alkoxides are
  • the inorganic oxide according to the present invention is characterized in that it is formed by local heating from a sol using the organometallic compound as a raw material. Therefore, silicon (Si), aluminum (Al), zirconium (Zr), titanium (Ti), tantalum (Ta), zinc (Zn), barium (Ba), indium (In) contained in the organometallic compound, It is an oxide of an element such as tin (Sn) or niobium (Nb).
  • silicon oxide aluminum oxide, zirconium oxide and the like. Of these, silicon oxide is preferable.
  • a method for forming an inorganic oxide from an organometallic compound it is preferable to use a so-called sol-gel method and a method of applying polysilazane.
  • the “sol-gel method” is to obtain a hydroxide sol by hydrolyzing an organometallic compound, etc., dehydrate it into a gel, and further heat-treat the gel. It refers to a method for preparing a metal oxide glass having a certain shape (film, particle, fiber, etc.).
  • a multi-component metal oxide glass can be obtained by a method of mixing a plurality of different sol solutions, a method of adding other metal ions, or the like.
  • an inorganic oxide by a sol-gel method having the following steps.
  • the organometallic compound in a reaction solution containing at least water and an organic solvent, is hydrolyzed and dehydrated and condensed while adjusting the pH to 4.5 to 5.0 using a halogen ion as a catalyst in the presence of boron ion.
  • Generation of fine pores due to high-temperature heat treatment is produced by a sol-gel method having a step of obtaining a reaction product by heating and vitrifying the reaction product at a temperature of 200 ° C. or less. And is particularly preferable from the viewpoint that no deterioration of the film occurs.
  • the organometallic compound used as a raw material is not particularly limited as long as it can be hydrolyzed, and preferred organometallic compounds include the metal alkoxides. .
  • the organometallic compound may be used for the reaction as it is, but it is preferably diluted with a solvent for easy control of the reaction.
  • the solvent for dilution is not particularly limited as long as it can dissolve the organometallic compound and can be uniformly mixed with water.
  • Preferred examples of such a solvent for dilution include aliphatic lower alcohols such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, isobutanol, ethylene glycol, propylene glycol, and mixtures thereof.
  • a mixed solvent of butanol, cellosolve, and butyl cellosolve or a mixed solvent of xylol, cellosolve acetate, methyl isobutyl ketone, and cyclohexane may be used.
  • the metal when the metal is Ca, Mg, Al or the like, it reacts with water in the reaction solution to form a hydroxide, or when carbonate ion CO 3 2- is present, a carbonate is formed. Therefore, it is preferable to add an alcohol solution of triethanolamine as a masking agent to the reaction solution.
  • the concentration of the organometallic compound when mixed and dissolved in a solvent is preferably 70% by mass or less, and more preferably diluted to a range of 5 to 70% by mass.
  • the reaction solution used in the sol-gel method contains at least water and an organic solvent.
  • the organic solvent is not particularly limited as long as it can form a uniform solution with water, acid, and alkali, and usually the same aliphatic lower alcohols used for diluting the organometallic compound are preferably used.
  • the aliphatic lower alcohols propanol, isopropanol, butanol, and isobutanol having a larger number of carbon atoms are preferable to methanol and ethanol. This is because the growth of the metal oxide glass film to be generated is stable.
  • the water ratio is preferably in the range of 0.2 to 50 mol / L as the concentration of water.
  • an organometallic compound is hydrolyzed in the reaction solution in the presence of boron ions using a halogen ion as a catalyst.
  • Preferred examples of the compound that gives the boron ion B 3+ include trialkoxyborane B (OR) 3 . Among these, triethoxyborane B (OEt) 3 is more preferable.
  • the B 3+ ion concentration in the reaction solution is preferably in the range of 1.0 to 10.0 mol / L.
  • halogen ion a fluorine ion and / or a chlorine ion are mentioned suitably. That is, fluorine ions alone, chlorine ions alone or a mixture thereof may be used.
  • the compound to be used is not particularly limited as long as it generates fluorine ions and / or chlorine ions in the reaction solution.
  • a fluorine ion source ammonium hydrogen fluoride NH 4 HF ⁇ HF, sodium fluoride NaF or the like is preferable.
  • Preferred examples of the chlorine ion source include ammonium chloride NH 4 Cl.
  • the concentration of the halogen ions in the reaction solution varies depending on the film thickness of an inorganic composition having an inorganic matrix to be produced and other conditions, but generally the reaction solution containing a catalyst. Is preferably in the range of 0.001 to 2 mol / kg, particularly 0.002 to 0.3 mol / kg. If the halogen ion concentration is lower than 0.001 mol / kg, hydrolysis of the organometallic compound does not proceed sufficiently, and film formation becomes difficult. Alternatively, when the concentration of the rogen ion exceeds 2 mol / kg, the generated inorganic matrix (metal oxide glass) tends to be non-uniform, which is not preferable.
  • boron used during the reaction, if to be contained as a B 2 O 3 component in the design the composition of the resulting inorganic matrix, by leaving product was added calculated amount of organic boron compound in accordance with the content of
  • boron can be removed by evaporation as boron methyl ester by heating after film formation in the presence of methanol as a solvent or by immersion in methanol.
  • a main agent solution in which a predetermined amount of the organometallic compound is usually mixed and dissolved in a mixed solvent containing a predetermined amount of water and an organic solvent,
  • the pH of the reaction solution is adjusted to a desired value with acid or alkali.
  • the reaction product is obtained by aging for several hours.
  • a predetermined amount of the boron compound is mixed and dissolved in advance in the main agent solution or reaction solution. Further, when alkoxyborane is used, it is advantageous to dissolve it in the main agent solution together with other organometallic compounds.
  • the pH of the reaction solution is selected depending on the purpose, and for the purpose of forming a film (film) made of an inorganic composition having an inorganic matrix (metal oxide glass), for example, the pH is adjusted using an acid such as hydrochloric acid. It is preferable to ripen the mixture by adjusting it to the range of 4.5 to 5. In this case, for example, it is convenient to use a mixture of methyl red and bromocresol green as an indicator.
  • the main component solution having the same concentration of the same component and the reaction solution including B 3+ and halogen ions
  • the reaction product can also be produced simply and continuously.
  • the concentration of the reaction solution is in the range of ⁇ 50% by mass
  • the concentration of water (including acid or alkali) is in the range of ⁇ 30% by mass
  • the concentration of halogen ions is in the range of ⁇ 30% by mass. Can be changed.
  • reaction product reaction solution after aging
  • reaction solution after aging reaction solution after aging
  • the temperature is raised gradually while paying particular attention to a temperature range of 50 to 70 ° C., followed by a preliminary drying (solvent volatilization) step and further raising the temperature.
  • This drying is important for forming a non-porous film in the case of film formation.
  • the temperature for heating and drying after the preliminary drying step is preferably 70 to 150 ° C, more preferably 80 to 130 ° C.
  • the gas barrier layer according to the present invention contains an inorganic oxide formed by local heating of a coating film after applying a ceramic precursor that forms an inorganic oxide film by heating.
  • the resin substrate is coated with a solution containing a catalyst in the polysilazane represented by the following formula (I) and an organic solvent as necessary, and the solvent is evaporated. Leaving a polysilazane layer having a layer thickness of 0.05-3.0 ⁇ m on the resin substrate and the presence of oxygen, active oxygen, and in some cases, nitrogen in an atmosphere containing water vapor Below, it is preferable to employ
  • R 1 , R 2 , and R 3 are the same or different and independently of each other hydrogen, or an optionally substituted alkyl group, aryl group, vinyl group or (trialkoxysilyl) alkyl group, Preferably selected from the group consisting of hydrogen, methyl, ethyl, propyl, iso-propyl, butyl, iso-butyl, tert-butyl, phenyl, vinyl or 3- (triethoxysilyl) propyl, 3- (trimethoxysilylpropyl) Wherein n is an integer and n is determined such that the polysilazane has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.
  • catalysts preferably basic catalysts, in particular N, N-diethylethanolamine, N, N-dimethylethanolamine, triethanolamine, triethylamine, 3-morpholinopropylamine or N-heterocyclic compounds are used.
  • the catalyst concentration is usually in the range of 0.1 to 10 mol%, preferably 0.5 to 7 mol%, based on polysilazane.
  • a solution containing perhydropolysilazane in which all of R 1 , R 2 and R 3 are hydrogen atoms is used.
  • the coating according to the invention comprises at least one polysilazane of the formula (II) Formula (II): — (SiR 1 R 2 —NR 3 ) n — (SiR 4 R 5 —NR 6 ) p —
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are independently of each other hydrogen, or optionally substituted alkyl, aryl, vinyl, or (trialkoxysilyl) Represents an alkyl group
  • n and p are integers
  • n is determined such that the polysilazane has a number average molecular weight of 150 to 150,000 g / mol.
  • R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 and R 5 represent methyl, R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , A compound in which R 4 represents methyl and R 5 represents vinyl, R 1 , R 3 , R 4 and R 6 represent hydrogen and R 2 and R 5 represent methyl.
  • a solution containing at least one polysilazane represented by the following formula (III) is also preferable.
  • R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and R 9 are independently of each other hydrogen, an optionally substituted alkyl group, or an aryl group.
  • R 1 , R 3 and R 6 represent hydrogen and R 2 , R 4 , R 5 and R 8 represent methyl, R 9 represents (triethoxysilyl) propyl and R 7 Is a compound in which represents alkyl or hydrogen.
  • the proportion of polysilazane in the solvent is generally 1 to 80% by mass, preferably 5 to 50% by mass, and particularly preferably 10 to 40% by mass.
  • an organic system that does not contain water and a reactive group (for example, a hydroxyl group or an amine group) and is inert to polysilazane, preferably an aprotic solvent, is particularly suitable.
  • a reactive group for example, a hydroxyl group or an amine group
  • an aprotic solvent is particularly suitable.
  • An additional component of the polysilazane solution can be a further binder such as those conventionally used in the manufacture of paints.
  • cellulose ethers and cellulose esters such as ethyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate or cellulose acetobutyrate, natural resins such as rubber or rosin resins, or synthetic resins such as polymerized resins or condensed resins such as aminoplasts, in particular Urea resins and melamine formaldehyde resins, alkyd resins, acrylic resins, polyesters or modified polyesters, epoxides, polyisocyanates or blocked polyisocyanates, or polysiloxanes.
  • Still other components of the polysilazane formulation include, for example, additives that affect the formulation viscosity, substrate wetting, film formability, lubrication or exhaust properties, or inorganic nanoparticles such as SiO 2 , TiO 2 , It can be ZnO, ZrO 2 or Al 2 O 3 .
  • the thickness of the coating film to be formed is preferably in the range of 100 nm to 2 ⁇ m.
  • a scratch preventing layer can be provided as the outermost layer of the film mirror.
  • the scratch preventing layer is provided for preventing scratches.
  • the scratch prevention layer can be composed of acrylic resin, urethane resin, melamine resin, epoxy resin, organic silicate compound, silicone resin, or the like.
  • silicone resins and acrylic resins are preferable in terms of hardness and durability. Further, in terms of curability, flexibility, and productivity, those made of an active energy ray-curable acrylic resin or a thermosetting acrylic resin are preferable.
  • the active energy ray-curable acrylic resin or thermosetting acrylic resin is a composition containing a polyfunctional acrylate, an acrylic oligomer, or a reactive diluent as a polymerization curing component.
  • Acrylic oligomers include polyester acrylates, urethane acrylates, epoxy acrylates, polyether acrylates, etc., including those in which a reactive acrylic group is bonded to an acrylic resin skeleton, and rigid materials such as melamine and isocyanuric acid. A structure in which an acrylic group is bonded to a simple skeleton can also be used.
  • the reactive diluent has a function of a solvent in the coating process as a medium of the coating agent, and has a group that itself reacts with a monofunctional or polyfunctional acrylic oligomer. It becomes a copolymerization component.
  • polyfunctional acrylic cured paints include Mitsubishi Rayon Co., Ltd. (trade name “Diabeam” series, etc.), Nagase Sangyo Co., Ltd. (trade name “Denacol” series, etc.), Shin Nakamura Co., Ltd. ( (Product name “NK Ester” series, etc.), DIC Corporation; (Product name “UNIDIC” series, etc.), Toa Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
  • various additives can be further blended in the scratch-preventing layer as required, as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • stabilizers such as antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, surfactants, leveling agents, antistatic agents, and the like can be used.
  • ⁇ Leveling agents are effective in reducing surface irregularities, especially when functional layers are applied.
  • a dimethylpolysiloxane-polyoxyalkylene copolymer for example, SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.
  • SH190 manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd. is suitable as the silicone leveling agent.
  • the total thickness of the film mirror according to the present invention is preferably 75 to 250 ⁇ m, more preferably 90 to 230 ⁇ m, and still more preferably 100 to 220 ⁇ m, from the viewpoints of prevention of deflection of the mirror, regular reflectance, handling properties, and the like. Mix in toluene to a solids concentration of 10%.
  • the film mirror of the present invention can be preferably used for the purpose of collecting sunlight. Although it can also be used as a solar light collecting mirror with a single film mirror, more preferably, through a pressure-sensitive adhesive layer coated on the surface of the resin substrate opposite to the side having the silver reflective layer with the resin substrate interposed therebetween
  • the film mirror is affixed on another base material, particularly on a metal base material, and used as a reflection device for solar thermal power generation.
  • the reflecting device When used as a solar power generation reflecting device, the reflecting device is shaped like a bowl (semi-cylindrical), and a cylindrical member having fluid inside is provided at the center of the semicircle, and sunlight is condensed on the cylindrical member.
  • the form which heats an internal fluid by this, converts the heat energy, and generates electric power is mentioned as one form.
  • flat reflectors were installed at multiple locations, and the sunlight reflected by each reflector was collected on one reflector (central reflector) and reflected by the reflector.
  • the film mirror of the present invention is particularly preferably used because a high regular reflectance is required for the reflection device used.
  • a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 ⁇ m) was used as the resin substrate.
  • a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on one side of the polyethylene terephthalate film by vacuum deposition, and a polyester resin (polyethylene terephthalate) and a TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate are formed on the silver reflective layer.
  • a resin in which (2,4-tolylene diisocyanate) was mixed at a resin solid content ratio of 10: 2 was coated by a gravure coating method to form a lower adjacent layer having a thickness of 0.1 ⁇ m.
  • Comparative Example 3 As a resin base material layer, except for using a biaxially stretched film (thickness: 100 ⁇ m) obtained by adding 1% by mass of IRGANOX 1010 (BASH Japan) as a phenolic antioxidant to polyethylene terephthalate A sample of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 1 A biaxially stretched film (thickness: 100 ⁇ m) obtained by adding 1% by mass of IRGANOX 1010 (BASH Japan, Inc.) as a phenolic antioxidant to polyethylene terephthalate is used as the resin base layer, and the polyethylene terephthalate film is used.
  • a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on one side by vacuum evaporation, and polyethylene terephthalate and 2,4-tolylene diisocyanate are made into a resin solid content ratio of 10: 2 on the silver reflective layer.
  • the mixed resin was coated by a gravure coating method to form a lower part adjacent layer having a thickness of 0.1 ⁇ m.
  • Example 1 On the other surface of the polyethylene terephthalate film, 15 parts of Diabeam UR6530 (Mitsubishi Rayon) as an ultraviolet curable resin, 1 part of Darocur 1700 (BASH Japan) as a photopolymerization initiator, 25 parts of ethyl acetate, acetic acid A liquid consisting of 35 parts of butyl, 10 parts of cyclohexanone and 1 part of Tinuvin 928 (BASH Japan) as a benzotriazole-based ultraviolet absorber is applied and dried, and irradiated with ultraviolet light with a high-pressure mercury lamp to form a 5 ⁇ m surface coat layer (ultraviolet light) The sample of Example 1 was produced.
  • Diabeam UR6530 Mitsubishi Rayon
  • Darocur 1700 BASH Japan
  • Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1 part of benzophenone UV absorber CHIMASSORB 81 (BASH Japan) was used instead of the benzotriazole UV absorber contained in the UV absorbing layer of Example 1. A sample of was prepared.
  • Example 3 was prepared in the same manner as in Example 1 except that 1 part of triazine UV absorber TINUVIN 1577FF (BASH Japan) was used instead of the benzotriazole UV absorber contained in the UV absorbing layer of Example 1. A sample was prepared.
  • Example 4 The same as in Example 1 except that 1% by mass of CHIMASSORB 944FDL (BASH Japan) was used as HALS (hindered amine light stabilizer) instead of the phenolic antioxidant contained in the resin base material layer of Example 1.
  • HALS hindered amine light stabilizer
  • Example 5 In addition to the phenolic antioxidant contained in the resin base material layer of Example 1, IRGAFOS12 (BASH Japan) was used in combination so as to be 1% by mass as a phosphite antioxidant. A sample of Example 5 was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 6 In addition to the phenolic antioxidant contained in the resin base material layer of Example 1, IRGANOX PS800FL (BASH Japan) was used in combination as a thiol antioxidant so as to be 1% by mass, respectively. A sample of Example 6 was produced in the same manner as in Example 1.
  • Example 7 In addition to the phenolic antioxidant contained in the resin base material layer of Example 1, the same method as Example 1 except that CHIMASSORB 944FDL (BASH Japan) was used as HALS so as to be 1% by mass each. Thus, a sample of Example 7 was produced.
  • Example 8 Bar coating is applied to the outer surface adjacent to the surface coat layer of the sample of Example 1 using a 3% perhydropolysilazane solution in dibutyl ether (NL120 manufactured by Clariant) so that the thickness of the dried film becomes 100 nm. Then, after natural drying for 3 minutes, the sample of Example 8 was produced by annealing for 30 minutes in an oven at 90 ° C. and providing a gas barrier layer.
  • Example 9 On the outside adjacent to the gas barrier layer of the sample of Example 8, a commercially available hard coat agent (Opster (registered trademark) Z7534 manufactured by JSR) was diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration became 50% by mass, and the average particle size was further reduced. A 1.5 ⁇ m acrylic fine particle (Chemisnow (registered trademark) MX series, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) was added in an amount of 1% by mass with respect to the solid content of the hard coating agent to prepare a coating for a scratch prevention layer. After coating the above-mentioned paint, it was dried at 80 ° C. and further cured by irradiation with ultraviolet light 1.0 J / cm 2 to provide a 6 ⁇ m-thick scratch-preventing layer as the outermost layer.
  • Opster registered trademark
  • Z7534 manufactured by JSR
  • Example 10 A sample of Example 10 was prepared in the same manner as in Example 1 except that glycol dimercaptoacetate was added to the lower adjacent layer of Example 1 as a corrosion inhibitor to 0.3 g / m 2. did.
  • a biaxially stretched polyester film (polyethylene terephthalate film, thickness 100 ⁇ m) was used as the resin substrate.
  • polyester resin Polyethylene terephthalate film, thickness 100 ⁇ m
  • melamine resin Super Becamine J-820, manufactured by DIC Corporation
  • TDI-based isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate)
  • HDMI isocyanate (1,6-hexamethylene diisocyanate) is mixed in toluene at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 to a solid content concentration of 10% by a gravure coating method.
  • an adhesive layer having a thickness of 0.1 ⁇ m is formed, and a silver reflective layer having a thickness of 80 nm is formed as a silver reflective layer on the adhesive layer by a vacuum deposition method.
  • Polyethylene terephthalate and 2 are formed on the silver reflective layer.
  • 4-Tolylene diisocyanate mixed in a resin solid content ratio of 10: 2 Coated by preparative method to form a lower adjacent layer having a thickness of 0.1 [mu] m.
  • Example 11 In Comparative Example 4, Example 11 was carried out in the same manner as in Comparative Example 4 except that IRGANOX 1010 (BASH Japan) was contained in the adhesive layer so as to be 1% by mass as the phenolic antioxidant in the adhesive layer. A sample of was obtained.
  • IRGANOX 1010 BASH Japan
  • Example 12 In Comparative Example 4, the polyethylene terephthalate film base material layer contains IRGANOX 1010 (BASH Japan) as a phenolic antioxidant so as to be 1% by mass. A sample was obtained.
  • IRGANOX 1010 BASH Japan
  • Example 13 In Comparative Example 4, the adhesive layer contains IRGANOX 1010 (BASH Japan) as a phenolic antioxidant so that the content is 1% by mass in the adhesive layer, and the polyethylene film base layer contains phenolic antioxidant.
  • IRGANOX 1010 BASH Japan
  • a sample of Example 13 was obtained in the same manner as in Comparative Example 4 except that IRGANOX 1010 was contained as 1% by mass as an agent.
  • the sample was pasted on a stainless steel (SUS304) plate having a thickness of 0.1 mm and a length of 4 cm ⁇ width 5 cm through a 3 ⁇ m thick adhesive layer to produce a solar light collecting mirror.
  • SUS304 stainless steel
  • a spectrophotometer “UV265” manufactured by Shimadzu Corporation was modified with an integrating sphere reflection accessory, and the incident angle of incident light was adjusted to 5 ° with respect to the normal of the reflecting surface.
  • the regular reflectance at a reflection angle of 5 ° was measured. Evaluation was measured as an average reflectance from 350 nm to 700 nm.
  • ⁇ Weather resistance test for regular reflectance> The regular reflectance of the film mirror after being left for 30 days under the conditions of a temperature of 65 ° C. and a humidity of 90% RH is measured by the same method as the above-mentioned light reflectance measurement, and the regular reflectance and forced degradation of the film mirror before forced degradation. From the ratio of the regular reflectance of the subsequent film mirror, the rate of decrease in regular reflectance before and after the weather resistance test was calculated. The evaluation criteria for the weather resistance test are described below.
  • the rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: Decrease rate of regular reflectance is 20% or more ⁇ Light resistance test of regular reflectance> The obtained sample was irradiated with ultraviolet rays for 7 days in an environment of 85 ° C. using an I-Super UV tester manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd., and then the regular reflectance was measured by the above method to decrease the regular reflectance before and after ultraviolet irradiation. The rate was calculated. The evaluation criteria for the light resistance test are described below.
  • the rate of decrease in regular reflectance is less than 5% 4: The rate of decrease in regular reflectance is 5% or more and less than 10% 3: The rate of decrease in regular reflectance is 10% or more but less than 15% 2: The rate of decrease in regular reflectance 15% or more and less than 20% 1: Decrease rate of regular reflectance is 20% or more ⁇ Pencil hardness test> Based on JIS-K5400, the pencil hardness of each sample at 45 ° inclination and 1 kg load was measured.
  • Stabilizer IRG1010 IRGANOX 1010
  • IRG12 IRGAFOS 12
  • IRG800 IRGANOX PS800FL
  • CHIM944 CHIMASSORB 944FDL
  • Ultraviolet absorber TIN928 TINUVIN 928
  • CHIM81 CHIMASSORB 81
  • TIN1577 TINUVIN 1577FF
  • Corrosion inhibitor GDMA Glycol dimercaptoacetate
  • the various characteristics of the examples according to the present invention are superior to the comparative examples. That is, the above-described means of the present invention prevents the decrease in regular reflectance due to the deterioration of the silver reflection layer, and is light and flexible, lightweight and flexible, and can be manufactured with a large area and mass production while suppressing manufacturing costs. It can be seen that it is possible to provide a film mirror having excellent specularity and good regular reflectance with respect to sunlight, a manufacturing method thereof, and a solar power generation reflecting device using the film mirror.

Landscapes

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Abstract

　本発明は、反射層である銀層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供する。このフィルムミラーは、構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラー、または構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、接着層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラーにおいて、該樹脂基材層または該接着層のいずれかに安定剤を含有することを特徴とする。

Description

フィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置
　本発明は、耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、それを用いた太陽熱発電用反射装置に関するのである。
　近年、石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、並びに風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、且つ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
　しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。
　これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
　反射装置は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、質量が重いために、ミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
　上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきたが（例えば特許文献１参照）、樹脂は外部環境に対して弱く、また反射層に銀等の金属を用いると、樹脂層を介して酸素や水蒸気、硫化水素等が透過し、銀を腐食してしまうといった問題もあり、樹脂製ミラーの適用は困難であった。
　太陽光を集光する目的において、高い反射率を得るという観点では、特許文献２に開示されているように、金属層を可視光領域の反射率の高い銀で構成することが好ましい。しかしながら、銀は耐候性に劣り、酸素・水蒸気・硫黄等で劣化しやすいという問題がある。
　この問題に対し、特許文献２においては、プラスチック基板が銀膜層の保護層として機能していると考えられる。しかしながら、プラスチックは空気中の水蒸気や酸素を透過しやすいため、酸化により銀が劣化することにより、ミラーの反射率が低下するという問題も招いてしまう。
　さらに、太陽光を反射する目的でミラーを使用する場合、ミラーを屋外で使用することが多い。屋外で使用する場合には、ミラーが風雨に曝されることになり、そのような厳しい環境下では銀の酸化劣化が早まり、ミラーの反射率の低下の問題はより顕著な問題となる。
　銀の腐食防止技術については、銀層の光入射面側の隣接層として樹脂層等腐食防止層を塗設する方法が既に知られている（例えば特許文献３参照）。しかしながら、このような技術でも、反射層とした銀層を用いた太陽光反射用のミラーとして用いられた場合には、外部からの酸素、水蒸気、硫黄成分等の銀の腐食要因となる成分を完全に遮断することが困難であるとともに、強い紫外線により樹脂層が励起されることで発生したラジカル成分により銀層の腐食が促進されるため、銀層の劣化による反射率の低下を十分に解消することができなかった。
　また、特許文献４では、樹脂基材よりも外側の層に紫外線吸収剤を含有させることにより、すなわち紫外線吸収層を設けることにより、樹脂基材の紫外線による劣化を低減する方法が検討されている。この方法により大部分の紫外線が吸収され樹脂基材の劣化をある程度抑制することが可能である。しかしながら、このような方法を用いても銀層の劣化による反射率の低下は十分ではなく改善が求められていた。
特開２００５－５９３８２号公報 特開平６－３８８６０号公報 特開２００２－１２２７１７号公報 米国特許第７５０７７７６号明細書
　上記問題、状況をかんがみて、本発明者らが検討した結果、特許文献４に記載の技術では、紫外線吸収層によって全ての紫外線を吸収することはできず、一部の紫外領域の光線は透過されることが分かった。この技術を銀ミラーに応用した場合、紫外線吸収層で吸収しきれなかった紫外線により、樹脂基材層が励起され、その結果、この樹脂基材層と隣接する銀層の腐食を促進することによる反射率の低下を十分に抑制することができないことが判明した。また、樹脂基材層と銀層の間に接着層が介在する場合についても、紫外線吸収層を透過した紫外線が接着層を励起することから、同様に隣接する銀層の腐食が促進されることも分かってきた。また、紫外線吸収剤を大量に添加することで、紫外線の吸収率を高めて、このような劣化を抑制することも考えられるが、紫外線吸収剤による紫外線吸収率を高めることは紫外線吸収剤自体の紫外線による劣化を促進することにもつながり、強い紫外線に晒された場合には紫外線吸収剤が劣化し、時間の経過とともに紫外線の吸収作用が弱まることで上述の問題が徐々に顕在化することとなる。
　従って、本発明の目的は、反射層である銀層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することである。
　本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
　１．構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラー、または構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、接着層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラーにおいて、該樹脂基材層または該接着層のいずれかに安定剤を含有することを特徴とするフィルムミラー。
　２．前記紫外線吸収層に含有される紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であることを特徴とする前記１に記載のフィルムミラー。
　３．前記安定剤がフェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤の中の少なくとも１種からなることを特徴とする前記１または２に記載のフィルムミラー。
　４．前記下部隣接層が、腐食防止剤を含有した樹脂層であることを特徴とする前記１から３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
　５．前記樹脂基材層より外側に、ガスバリア層を有することを特徴とする前記１から４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
　６．前記フィルムミラーの最外層として傷防止層を有することを特徴とする前記１から５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
　７．前記樹脂基材層を含めた層全体の厚さが、７５～２５０μｍの範囲内であることを特徴とする前記１から６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
　８．前記１から７のいずれか１項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
　９．前記１から７のいずれか１項に記載のフィルムミラーを用いたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
　本発明の上記手段により、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができる。
　本発明のフィルムミラーは、構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラー、または構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、接着層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラーにおいて、該樹脂基材層または該接着層のいずれかに安定剤を含有することを特徴とする。これらの特徴は、請求項１から請求項９までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
　本発明の形態によれば、銀反射層の支持体となる樹脂基材を銀層よりも上側、すなわち光入射側に設けることで銀反射層の腐食要因となる成分へのバリア効果を高めるとともに、樹脂基材層の上部に紫外線吸収層を設けることで、樹脂基材の紫外線劣化を抑制し、さらに、樹脂基材層に安定剤を含有することによって、紫外線吸収層を透過した紫外線により、樹脂基材層が励起されることを抑制し、その結果、これに隣接した銀層が腐食劣化することを抑制する。また、樹脂基材層と銀層の間に接着剤が介在する場合においては、少なくとも樹脂基材層と接着層のいずれか一層に安定剤を含有させることによって、樹脂基材層及びまたは接着剤層が励起されることを抑制し、その結果、銀層が腐食劣化することを抑制する。このような構成により過酷な環境下で用いられた場合であっても銀反射層の劣化による正反射率の低下が十分に抑制されたフィルムミラーとすることが可能となる。
　本発明においては、紫外線吸収剤層は、紫外線吸収剤としてベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
　本発明においては、安定剤として、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤の中から、少なくとも１種を用いることが好ましい。
　本発明においては、下部隣接層が、腐食防止剤を含有した樹脂層であることが好ましい。
　本発明においては、樹脂基材層より外側に、ガスバリア層を有する構成とすることが好ましい。なお本発明において、外側とは入射光側をいう。
　また、本発明のフィルムミラーの最外層として傷防止層を有する態様の構成であることも好ましい。
　本発明においては、前記樹脂基材を含めた層全体の厚さが、７５～２５０μｍの範囲内であることが好ましい。
　本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、前記銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
　本発明のフィルムミラーを用いた太陽光集光用ミラーとしては、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることが好ましい。
　以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。
　（フィルムミラーの構成概要）
　本発明のフィルムミラーは、構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラー、または構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、接着層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラーにおいて、該樹脂基材層または該接着層のいずれかに安定剤を含有することを特徴とする。
　構成層として、当該接着層、銀反射層、及び下部隣接層の他に、ガスバリア層、傷防止層等の特別な機能層を設けることも好ましい態様である。
　（樹脂基材）
　本発明に係る樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルムが好ましい。
　特にポリエステル系フィルム、セルロースエステル系フィルムを用いることが好ましく、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
　当該樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０～３００μｍの範囲内である。好ましくは２０～２００μｍ、さらに好ましくは３０～１００μｍである。
　（接着層）
　本発明に係る接着層は銀反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、当該接着層は、樹脂基材（樹脂フィルム）と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
　当該接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　当該接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１～３μｍが好ましく、より好ましくは０．１～１μｍである。
　接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　〈安定剤〉
　本発明における安定剤とは、光の照射及び酸素の存在によって発生するペルオキシドラジカル等のラジカルを補足あるいは分解して安定化させる機能をもつ酸化防止剤や光安定剤を指し、金属の表面に安定な重錯体皮膜を形成し金属の腐食劣化を防止する腐食防止剤とは異なるものである。
　本発明における安定剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤及びヒンダードアミン系光安定剤の少なくとも一種使用することが好ましい。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、２，２′－メチレンビス（４－エチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、テトラキス－〔メチレン－３－（３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６－ジ－ｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、４，４’－チオビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４′－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、１，３，５－トリス（３′，５′－ジ－ｔ－ブチル－４′－ヒドロキシベンジル）－Ｓ－トリアジン－２，４，６－（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル－β－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３－（３－ｔ－ブチル－５－メチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９－ビス［１，１－ジ－メチル－２－〔β－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－２，４，８，１０－テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
　チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル－３，３′－チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール－テトラキス－（β－ラウリル－チオプロピオネート）等を挙げられる。
　ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス－（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）－ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）４，４′－ビフェニレン－ジホスホナイト、２，２′－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
　ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、１－メチル－８－（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、１－［２－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］－４－〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕－２，２，６，６－テトラメチルピペリジン、４－ベンゾイルオキシ－２，２、６，６－テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）－１，２，３，４－ブタン－テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８－アセチル－３－ドデシル－７，７，９，９－テトラメチル－１，３，８－トリアザスピロ［４，５］デカン－２，４－ジオン等が挙げられる。
　特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）－２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－２－ｎ－ブチルマロネート、または１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４－ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
　その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２′－チオビス（４－ｔ－オクチルフェノレート）〕－２－エチルヘキシルアミンニッケル（ＩＩ）、ニッケルコンプレックス－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル－ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
　これらの安定剤の添加量の総量は、樹脂基材に対し、０．１質量％以上、１０％質量以下が好ましい。添加量が０．１質量％未満であると、樹脂自体の酸化劣化防止効果が十分に得られない場合があり、また樹脂が励起されることにより、樹脂と隣接する銀層の腐食を抑制することができない場合がある。また安定剤の添加総量が、樹脂基材に対して１０質量％を超えると、安定剤の沁み出し（ブリードアウトともいう）が発生し、製品の外観を損ねるとともに、透過率の低下を招く場合がある。
　また、これらの安定剤の添加方法については、樹脂を熱溶融させた状態で、２軸混練機等の装置により混練分散させても良いし、樹脂を溶媒に溶解した状態で安定剤を添加し、攪拌分散させた後溶媒を脱揮してもよい。
　また、これらの安定剤を接着層に添加する場合、安定剤の添加量の総量は、接着層に対し、０．１質量％以上、１０％質量以下が好ましい。添加量が０．１質量％以上であると、接着層自体の酸化劣化防止効果が十分に発現され、また接着層が励起されることによる、接着層と隣接する銀層の腐食を抑制することができる。また安定剤の添加総量が、接着剤層に対して１０質量％以下であると、ブリードアウトが発生しにくく、銀層との接着力低下や、剥離等の問題が発生しにくくなる。接着層への安定剤の添加方法としては、硬化型樹脂モノマー中に安定剤を添加し、攪拌分散後に硬化させる等の方法が挙げられる。
　（紫外線吸収層）
　当該紫外線吸収層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
　紫外線吸収層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　（紫外線吸収剤）
　前記紫外線吸収層に含有される紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
　ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４－ジヒドロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ｎ－オクトキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－ドデシロキシ－ベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクタデシロキシ－ベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシ－ベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４，４′－ジメトキシ－ベンゾフェノン、２，２′，４，４′－テトラヒドロキシ－ベンゾフェノン等が挙げられる。
　ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２ー（２′－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２ー（２′－ヒドロキシ－３′－ｔ－ブチル－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
　サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２－４－ジ－ｔ－ブチルフェニル－３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－４－イル）セバケート等が挙げられる。
　トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－エトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－プロポキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ヘキシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－オクチルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ドデシルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－ベンジルオキシフェニル）－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。
　本発明においては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が樹脂基材層の劣化を防ぐ観点で好適に用いられる。
　紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。但し、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
　通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
　紫外線吸収剤の使用量は、０．１～２０質量％、好ましくは１～１５質量％、さらに好ましくは３～１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
　（銀反射層）
　本発明に係る銀反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
　湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応等がある。
　一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法としては、当該銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
　当該銀反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０～２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０～１５０ｎｍである。
　本発明において、銀反射層は樹脂基材層に対して光線入射側と反対側に位置する方が、酸素や水分による銀反射層の劣化を防止する目的から、好ましい。
　（下部隣接層）
　本発明のフィルムミラーに用いられる下部隣接層は、銀反射層を介し、樹脂基材（支持体）の反対側に隣接し、銀の腐食劣化を防ぐとともに、銀反射層の傷防止に寄与するものである。当該下部隣接層は腐食防止剤を含有することが好ましい。
　当該上部隣接層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
　イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
　下部隣接層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
　（腐食防止剤）
　ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ　Ｚ０１０３－２００４参照）。
　なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１～１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
　銀に対する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
　アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ－ｎ－ブチルアミン、Ｏ－トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ－ジメチルエタノールアミン、２－アミノ－２－メチル－１，３－プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ－エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピロール環を有する物としては、Ｎ－ブチル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－２，５ジメチルピロール、Ｎ－フェニル－３－ホルミル－２，５－ジメチルピロール，Ｎ－フェニル－３，４－ジホルミル－２，５－ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３－トリアゾール、１，２，４－トリアゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、３－ヒドロキシ－１，２，４－トリアゾール、３－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、４－メチル－１，２，３－トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１－ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７－テトラハイドロトリアゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、３－アミノ－５－メチル－１，２，４－トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－５′－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－３′，５′－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２－（２′－ヒドロキシ－４－オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５－ジメチルピラゾール、３－メチル－５－ヒドロキシピラゾール、４－アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２－Ｎ，Ｎ－ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ－ジメチルアミノベンザルロダニン、２－メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２－ヘプタデシルイミダゾール、２－メチルイミダゾール、２－エチル－４－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－ウンデシルイミダゾール、１－ベンジル－２－メチルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－フェニルイミダゾール、１－シアノエチル－２－エチル－４－メチルイミダゾール、１－シアノエチル－２－ウンデシルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－５－ヒドロメチルイミダゾール、２－フェニル－４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４－フォルミルイミダゾール、２－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－フォルミルイミダゾール、４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－エチル－４－メチル－５－フォルミルイミダゾール、２－フェニル－４－メチル－４－フォルミルイミダゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　インダゾール環を有する化合物としては、４－クロロインダゾール、４－ニトロインダゾール、５－ニトロインダゾール、４－クロロ－５－ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２－エタンジオール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、１－メチル－３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
　ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
　（ガスバリア層）
　本発明に係るガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び当該樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであっても良く、上記特徴を維持する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。本発明においては、前記上部隣接層の上側に、ガスバリア層を設けることが好ましい。
　当該ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１００ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、好ましくは５０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下、さらに好ましくは２０ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるように当該ガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。また。酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
　本発明に係るガスバリア層に関しては、その形成方法において特に制約は無いが、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／または紫外線照射により、無機酸化物膜を形成する方法が好ましく用いられる。
　〈セラミック前駆体〉
　本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物またはポリシラザンが好ましい。
　〈有機金属化合物〉
　本発明に係る有機金属化合物は、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ランタン（Ｌａ）、イットリウム（Ｙ）、及びニオブ（Ｎｂ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。特に、当該有機金属化合物が、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、リチウム（Ｌｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、及びバリウム（Ｂａ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。さらに、ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びリチウム（Ｌｉ）のうちの少なくとも一つの元素を含有することが好ましい。
　有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、金属アルコキシドが挙げられる。
　前記金属アルコキシドは、下記一般式（１）で表される。
　一般式（１）：ＭＲ２ ｍ（ＯＲ１）ｎ－ｍ
　前記一般式（１）において、Ｍは、酸化数ｎの金属を表す。Ｒ１及びＲ２は、各々独立に、アルキル基を表す。ｍは、０～（ｎ－１）の整数を表す。Ｒ１及びＲ２は、同一でもよく、異なっていてもよい。Ｒ１及びＲ２としては、炭素原子４個以下のアルキル基が好ましく、例えば、メチル基ＣＨ３（以下、Ｍｅで表す。）、エチル基Ｃ２Ｈ５（以下、Ｅｔで表す）、プロピル基Ｃ３Ｈ７（以下、Ｐｒで表す。）、イソプロピル基ｉ－Ｃ３Ｈ７（以下、ｉ－Ｐｒで表す。）、ブチル基Ｃ４Ｈ９（以下、Ｂｕで表す）、イソブチル基ｉ－Ｃ４Ｈ９（以下、ｉ－Ｂｕで表す）等の低級アルキル基がより好ましい。
　前記一般式（１）で表される金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシドＬｉＯＥｔ、ニオブエトキシドＮｂ（ＯＥｔ）５、マグネシウムイソプロポキシドＭｇ（ＯＰｒ－ｉ）２、アルミニウムイソプロポキシドＡｌ（ＯＰｒ－ｉ）３、亜鉛プロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）２、テトラエトキシシランＳｉ（ＯＥｔ）４、チタンイソプロポキシドＴｉ（ＯＰｒ－ｉ）４、バリウムエトキシドＢａ（ＯＥｔ）２、バリウムイソプロポキシドＢａ（ＯＰｒ－ｉ）２、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３、ジルコニウムプロポキシドＺｎ（ＯＰｒ）４、ランタンプロポキシドＬａ（ＯＰｒ）３、イットリウムプロポキシドＹ（ＯＰｒ）３、鉛イソプロポキシドＰｂ（ＯＰｒ－ｉ）２等が好適に挙げられる。これらの金属アルコキシドは何れも市販品があり、容易に入手することができる。また、金属アルコキシドは、部分的に加水分解して得られる低縮合物も市販されており、これを原料として使用することも可能である。
　〈無機酸化物〉
　本発明に係る無機酸化物は、上記有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものであることを特徴とする。したがって、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることを特徴とする。
　例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素である。
　本発明において、有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル－ゲル法及びポリシラザンを塗布する方法を用いることが好ましい。
　〈ゾル－ゲル法〉
　ここで、「ゾル－ゲル法」とは、有機金属化合物を加水分解すること等により、水酸化物のゾルを得て、脱水処理してゲルとし、さらにこのゲルを加熱処理することで、ある一定の形状（フィルム状、粒子状、繊維状等）の金属酸化物ガラスを調製する方法をいう。異なる複数のゾル溶液を混合する方法、他の金属イオンを添加する方法等により、多成分系の金属酸化物ガラスを得ることも可能である。
　具体的には、下記工程を有するゾル－ゲル法で、無機酸化物を製造することが好ましい。
　すなわち、少なくとも水及び有機溶媒を含有する反応液中で、ホウ素イオン存在下にてハロゲンイオンを触媒として、ｐＨを４．５～５．０に調整しながら、有機金属化合物を加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程、及び該反応生成物を２００℃以下の温度で加熱してガラス化する工程、を有するゾル－ゲル法により製造されてなることが、高温熱処理による微細孔の発生や膜の劣化等が発生しないという観点から、特に好ましい。
　前記ゾル－ゲル法において、原料として用いられる有機金属化合物としては、加水分解が可能なものであればよく、特に限定されるものではないが、好ましい有機金属化合物としては、前記金属アルコキシドが挙げられる。
　上記ゾル－ゲル法において、前記有機金属化合物は、そのまま反応に用いてもよいが、反応の制御を容易にするため溶媒で希釈して用いることが好ましい。希釈用溶媒は、前記有機金属化合物を溶解することができ、かつ水と均一に混合することができるものであればよい。そのような希釈用溶媒としては、脂肪族の低級アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、及びそれらの混合物が好適に挙げられる。また、ブタノールとセロソルブとブチルセロソルブの混合溶媒、あるいはキシロールとセロソルブアセテートとメチルイソブチルケトンとシクロヘキサンの混合溶媒等を使用することもできる。
　前記有機金属化合物において、金属がＣａ、Ｍｇ、Ａｌ等である場合には、反応液中の水と反応して水酸化物を生成したり、炭酸イオンＣＯ３ ２－が存在すると炭酸塩を生成して沈殿を生じたりするため、反応液に隠蔽剤としてトリエタノールアミンのアルコール溶液を添加することが好ましい。溶媒に混合溶解するときの前記有機金属化合物の濃度としては、７０質量％以下が好ましく、５～７０質量％の範囲に希釈して使用することがより好ましい。
　前記ゾル－ゲル法において用いられる反応液は、少なくとも水及び有機溶媒を含有する。前記有機溶媒としては、水及び酸、アルカリと均一な溶液をつくるものであればよく、通常、前記有機金属化合物の希釈に用いる脂肪族の低級アルコール類と同様のものが好適に挙げられる。前記脂肪族の低級アルコール類の中でも、メタノール、エタノールより、炭素数の多いプロパノール、イソプロパノール、ブタノール、及びイソブタノールが好ましい。これは、生成する金属酸化物ガラスの膜の成長が安定であるためである。前記反応液において、水の割合としては、水の濃度として０．２～５０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
　前記ゾル－ゲル法においては、前記反応液中において、ホウ素イオンの存在下にて、ハロゲンイオンを触媒として、有機金属化合物を加水分解する。前記ホウ素イオンＢ３＋を与える化合物としては、トリアルコキシボランＢ（ＯＲ）３が好適に挙げられる。その中でも、トリエトキシボランＢ（ＯＥｔ）３がより好ましい。また、前記反応液中のＢ３＋イオン濃度としては、１．０～１０．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましい。
　前記ハロゲンイオンとしては、フッ素イオン及び／または塩素イオンが好適に挙げられる。即ち、フッ素イオン単独、塩素イオン単独でもよく、これらの混合物でもよい。用いる化合物としては、上記反応液中でフッ素イオン及び／または塩素イオンを生ずるものであればよく、例えば、フッ素イオン源として、フッ化水素アンモニウムＮＨ４ＨＦ・ＨＦ、フッ化ナトリウムＮａＦ等が好適に挙げられ、塩素イオン源として、塩化アンモニウムＮＨ４Ｃｌ等が好適に挙げられる。
　前記反応液中の前記ハロゲンイオンの濃度としては、製造しようとする無機マトリックスを有する無機組成物からなるフィルムの膜厚や、その他の条件によって異なるが、一般的には、触媒を含む前記反応液の合計質量に対して、０．００１～２ｍｏｌ／ｋｇ、特に０．００２～０．３ｍｏｌ／ｋｇの範囲が好ましい。ハロゲンイオンの濃度が０．００１ｍｏｌ／ｋｇより低いと、有機金属化合物の加水分解が十分に進行し難くなり、膜の形成が困難となる。またはロゲンイオンの濃度が２ｍｏｌ／ｋｇを超えると、生成する無機マトリックス（金属酸化物ガラス）が不均一になり易いため、いずれも好ましくない。
　なお、反応時に使用したホウ素に関しては、得られる無機マトリックスの設計組成中にＢ２Ｏ３成分として含有させる場合は、その含有量に応じた有機ホウ素化合物の計算量を添加したまま生成物とすればよく、またホウ素を除去したいときは、成膜後、溶媒としてのメタノールの存在下、またはメタノールに浸漬して加熱すればホウ素はホウ素メチルエステルとして蒸発させて除去することができる。
　前記有機金属化合物を、加水分解及び脱水縮合して反応生成物を得る工程においては、通常所定量の前記有機金属化合物を所定量の水及び有機溶媒を含有する混合溶媒に混合溶解した主剤溶液、ならびに所定量の前記ハロゲンイオンを含有する所定量の反応液を、所定の比で混合し十分に攪拌して均一な反応溶液とした後、酸またはアルカリで反応溶液のｐＨを希望の値に調整し、数時間熟成することにより進行させて反応生成物を得る。前記ホウ素化合物は、主剤溶液または反応液に予め所定量を混合溶解しておく。また、アルコキシボランを用いる場合は、他の有機金属化合物と共に主剤溶液に溶解するのが有利である。
　前記反応溶液のｐＨは、目的によって選択され、無機マトリックス（金属酸化物ガラス）を有する無機組成物からなる膜（フィルム）の形成を目的とするときは、例えば、塩酸等の酸を用いてｐＨを４．５～５の範囲に調整して熟成するのが好ましい。この場合は、例えば、指示薬としてメチルレッドとブロモクレゾールグリーンとを混合したもの等を用いると便利である。
　なお、前記ゾル－ゲル法においては、同一成分の同一濃度の主剤溶液、及び反応液（Ｂ３＋及びハロゲンイオンを含む。）を所定のｐＨに調整しながら、逐次同一割合で追加添加することにより簡単に継続して、反応生成物を製造することもできる。なお、前記反応溶液の濃度は±５０質量％の範囲で、水（酸またはアルカリを含む。）の濃度は、±３０質量％の範囲で、及びハロゲンイオンの濃度は±３０質量％の範囲で変化させることができる。
　次に、前工程で得られた反応生成物（熟成後の反応溶液）を、２００℃以下の温度に加熱して乾燥しガラス化させる。加熱にあたって、特に５０～７０℃の温度区間を注意して徐々に昇温して、予備乾燥（溶媒揮散）工程を経た後さらに昇温することが好ましい。この乾燥は、膜形成の場合、無孔化膜とするために重要である。予備乾燥工程後、加熱し乾燥する温度としては、７０～１５０℃が好ましく、８０～１３０℃がより好ましい。
　〈ポリシラザンを塗布する方法〉
　本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜の局所的加熱により形成された無機酸化物を含有することも好ましい。
　当該セラミック前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、下記式（Ｉ）で表されるポリシラザン及び有機溶剤中に必要に応じて触媒を含む溶液で樹脂基材を被覆し、そして、この溶剤を蒸発させて除去し、それによって樹脂基材上に０．０５～３．０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残し、そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては、及び窒素の存在下に、上記のポリシラザン層を、局所的加熱することによって、当該樹脂基材上にガラス様の透明な被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
式（Ｉ）：　－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－
　式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一かまたは異なり、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ－プロピル、ブチル、ｉｓｏ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、フェニル、ビニルまたは３－（トリエトキシシリル）プロピル、３－（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表し、この際、ｎは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ－ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３－モルホリノプロピルアミンまたはＮ－複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１～１０モル％、好ましくは０．５～７モル％の範囲である。
　好ましい態様の一つでは、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
　さらに別の好ましい態様の一つでは、本発明によるコーティングは、次式（II）の少なくとも一種のポリシラザンを含む。
式（II）：－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－（ＳｉＲ４Ｒ５－ＮＲ６）ｐ－
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、ｎ及びｐは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４及びＲ５がメチルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４がメチルを表し、そしてＲ５がビニルを表す化合物、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２及びＲ５がメチルを表す化合物である。
　また、次式（III）の少なくとも一種のポリシラザンを含む溶液も同様に好ましい。
式（III）：－（ＳｉＲ１Ｒ２－ＮＲ３）ｎ－（ＳｉＲ４Ｒ５－ＮＲ６）ｐ－（ＳｉＲ７Ｒ８－ＮＲ９）ｑ－
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、互いに独立して、水素、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基または（トリアルコキシシリル）アルキル基を表し、この際、ｎ、ｐ及びｑは整数であり、そしてｎは、当該ポリシラザンが１５０～１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
　特に好ましいものは、Ｒ１、Ｒ３及びＲ６が水素を表し、そしてＲ２、Ｒ４、Ｒ５及びＲ８がメチルを表し、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＲ７がアルキルまたは水素を表す化合物である。
　溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１～８０質量％、好ましくは５～５０質量％、特に好ましくは１０～４０質量％である。
　溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシル基またはアミン基）を含まずそしてポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチルまたは酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトンまたはメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフランまたはジブチルエーテル、並びにモノ－及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）またはこれらの溶剤からなる混合物である。
　上記ポリシラザン溶液の追加の成分は、塗料の製造に慣用されているもののようなさらに別のバインダーであることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテートまたはセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、または合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、またはポリシロキサンである。
　当該ポリシラザン調合物のさらに別の成分は、例えば、調合物の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用または排気性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２またはＡｌ２Ｏ３であることができる。
　本発明の方法を用いることによって、亀裂及び孔が無いためにガスに対する高いバリア作用に優れる緻密なガラス様の層を製造することができる。
　形成される被膜の厚さは、１００ｎｍ～２μｍの範囲内にすることが好ましい。
　（傷防止層）
　本発明においては、フィルムミラーの最外層として、傷防止層を設けることができる。当該傷防止層は、傷防止のために設けられる。
　当該傷防止層は、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂等で構成することができる。特に、硬度と耐久性等の点で、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性及び生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂からなるものが好ましい。
　活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂または熱硬化型のアクリル系樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマーあるいは反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
　アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート等であり、また、メラミンやイソシアヌール酸等の剛直な骨格にアクリル基を結合したもの等も用いられ得る。
　また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
　市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社；（商品名“ダイヤビーム”シリーズ等）、長瀬産業株式会社；（商品名“デナコール”シリーズ等）、新中村株式会社；（商品名“ＮＫエステル”シリーズ等）、ＤＩＣ（株）；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ”シリーズ等）、東亜合成化学工業株式会社；（商品名“アロニックス”シリーズ等）、日本油脂株式会社；（商品名“ブレンマー”シリーズ等）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ”シリーズ等）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズ等）等の製品を利用することができる。
　本発明において、傷防止層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤等の安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤等を用いることができる。
　レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン－ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
　（フィルムミラー全体の厚さ）
　本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５～２５０μｍが好ましく、さらに好ましくは９０～２３０μｍ、さらに好ましくは１００～２２０μｍである。固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合。
　（太陽熱発電用反射装置）
　本発明のフィルムミラーは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。フィルムミラー単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで銀反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該フィルムミラーを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
　太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置に高い正反射率が求められる為、本発明のフィルムミラーが特に好適に用いられる。
　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
　［比較例１］
　樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフイルムの片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエステル系樹脂（ポリエチレンテレフタレート）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの下部隣接層を形成した。さらに、前記ポリエチレンテレフタレートフィルムのもう一方の面に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームＵＲ６５３０（三菱レイヨン社）１５部、光重合開始剤としてダロキュア１７００（ＢＡＳＨジャｐン社）１部、酢酸エチル２５部、酢酸ブチル３５部、シクロヘキサノン１０部からなる液を塗布乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射することにより、５μｍの表面コート層を形成し、比較例１のサンプルを作製した。
　［比較例２］
　表面コート層を形成する際に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームＵＲ６５３０（三菱レイヨン社）１５部、光重合開始剤としてダロキュア１７００（ＢＡＳＨジャパン社）１部、酢酸エチル２５部、酢酸ブチル３５部、シクロヘキサノン１０部及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、ＴＩＮＵＶＩＮ　９２８（ＢＡＳＨジャパン社）１部からなる液を用いた以外は、比較例１と同様にサンプルを作製した。
　［比較例３］
　樹脂基材層として、ポリエチレンテレフタレートにフェノール系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０（ＢＡＳＨジャパン社）を１質量％添加することによって得られた２軸延伸フィルム（厚さ１００μｍ）を用いた以外は、比較例１と同様の方法により、比較例３のサンプルを作製した。
　［実施例１］
　樹脂基材層として、ポリエチレンテレフタレートにフェノール系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０（ＢＡＳＨジャパン社）を１質量％添加することによって得られた２軸延伸フィルム（厚さ１００μｍ）を用い、当該ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエチレンテレフタレートと２，４－トリレンジイソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの下部部隣接層を形成した。さらに、当該ポリエチレンテレフタレートフィルムのもう一方の面に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームＵＲ６５３０（三菱レイヨン社）１５部、光重合開始剤としてダロキュア１７００（ＢＡＳＨジャパン社）１部、酢酸エチル２５部、酢酸ブチル３５部、シクロヘキサノン１０部及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、Ｔｉｎｕｖｉｎ　９２８（ＢＡＳＨジャパン社）１部からなる液を塗布乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射することにより、５μｍの表面コート層（紫外線吸収層）を形成し、実施例１のサンプルを作製した。
　［実施例２］
　実施例１の紫外線吸収層に含まれるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の代わりにベンゾフェノン系紫外線吸収剤ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　８１（ＢＡＳＨジャパン社）１部を使用した以外は、実施例１と同様の方法により実施例２のサンプルを作製した。
　［実施例３］
　実施例１の紫外線吸収層に含まれるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の代わりにトリアジン系紫外線吸収剤ＴＩＮＵＶＩＮ　１５７７ＦＦ（ＢＡＳＨジャパン社）１部を使用した以外は、実施例１と同様の方法により実施例３のサンプルを作製した。
　［実施例４］
　実施例１の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤の代わりにＨＡＬＳ（ヒンダードアミン系光安定剤）としてＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　９４４ＦＤＬ（ＢＡＳＨジャパン社）１質量％を使用した以外は、実施例１と同様の方法により実施例４のサンプルを作製した。
　［実施例５］
　実施例１の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤に加え、ホスファイト系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＦＯＳ１２（ＢＡＳＨジャパン社）をそれぞれ１質量％ずつとなるように併用した以外は、実施例１と同様の方法により実施例５のサンプルを作製した。
　［実施例６］
　実施例１の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤に加え、チオール系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ　ＰＳ８００ＦＬ（ＢＡＳＨジャパン社）をそれぞれ１質量％ずつとなるように併用した以外は、実施例１と同様の方法により実施例６のサンプルを作製した。
　［実施例７］
　実施例１の樹脂基材層に含まれるフェノール系酸化防止剤に加え、ＨＡＬＳとしてＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　９４４ＦＤＬ（ＢＡＳＨジャパン社）をそれぞれ１質量％ずつとなるように併用した以外は、実施例１と同様の方法により実施例７のサンプルを作製した。
　［実施例８］
　実施例１のサンプルの表面コート層の隣接した外側に、ジブチルエーテル中（クラリアント社製　ＮＬ１２０）の３％パーヒドロポリシラザン液を用いて、乾燥後の膜の厚さが１００ｎｍとなるようにバーコーティングし、３分間自然乾燥した後、９０℃のオーブンで３０分間アニールし、ガスバリア層を設けることにより、実施例８のサンプルを作製した。
　［実施例９］
　実施例８のサンプルのガスバリア層の隣接した外側に、市販のハードコート剤（ＪＳＲ製　オプスター（登録商標）Ｚ７５３４）をメチルエチルケトンで固形分濃度が５０質量％になるように希釈し、さらに平均粒子径が１．５μｍのアクリル系微粒子（綜研化学製　ケミスノー（登録商標）ＭＸシリーズ）を上記ハードコート剤の固形分に対して１質量％添加して、傷防止層用の塗料を調製した。上記の塗料を塗工後、８０℃で乾燥、さらに紫外線１．０Ｊ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚さ６μｍの傷防止層を最外層に設けた。
　［実施例１０］
　実施例１の下部隣接層中に腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを０．３ｇ／ｍ２となるように含有させたこと以外は、実施例１と同様の方法により実施例１０のサンプルを作製した。
　［比較例４］
　樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ１００μｍ）を用いた。上記ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、ポリエステル樹脂（ポリエスター　ＳＰ－１８１　日本合成化学製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ－８２０　ＤＩＣ（株）製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４－トリレンジイソシアネート）、ＨＤＭＩ系イソシアネート（１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に、固形分濃度１０％となるようにトルエン中に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの接着層を形成し、接着層上に、銀反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、銀反射層上に、ポリエチレンテレフタレートと２，４－トリレンジイソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ０．１μｍの下部隣接層を形成した。続いて、当該ポリエチレンテレフタレートフィルムのもう一方の面に、紫外線硬化型樹脂としてダイヤビームＵＲ６５３０（三菱レイヨン社）１５部、光重合開始剤としてダロキュア１７００（ＢＡＳＨジャパン社）１部、酢酸エチル２５部、酢酸ブチル３５部、シクロヘキサノン１０部及びベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤として、Ｔｉｎｕｖｉｎ　９２８（ＢＡＳＨジャパン社）１部からなる液を塗布乾燥し、高圧水銀灯で紫外線を照射することにより、５μｍの表面コート層を形成し、比較例４のサンプルを得た。
　［実施例１１］
　比較例４において、接着剤層にフェノール系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０（ＢＡＳＨジャパン社）を接着剤層中１質量％となるように含有させる他は比較例４と同様にして、実施例１１のサンプルを得た。
　［実施例１２］
　比較例４において、ポリエチレンテレフタレートフィルム基材層にフェノール系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０（ＢＡＳＨジャパン社）を１質量％となるように含有させる他は比較例４と同様にして、実施例１２のサンプルを得た。
　［実施例１３］
　比較例４において、接着剤層にフェノール系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０（ＢＡＳＨジャパン社）を接着剤層中１質量％となるように含有させること、及びポリエチレンフィルム基材層にフェノール系酸化防止剤として、ＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０を１質量％となるように含有させる他は比較例４と同様にして、実施例１３のサンプルを得た。
　（太陽光集光ミラーの作製）
　厚さ０．１ｍｍで、たて４ｃｍ×よこ５ｃｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）板上に、上記サンプルを、厚さ３μｍの粘着層を介して貼り付け、太陽光集光ミラーを作製した。
　［評価］
　上記で得た太陽光集光ミラーについて、下記の方法により正反射率及び耐候性、耐光性の測定をそれぞれ行った。
　＜正反射率の測定＞
　島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０ｎｍから７００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
　＜正反射率の耐候性試験＞
　温度６５℃、湿度９０％ＲＨの条件で３０日間放置後のフィルムミラーの正反射率を、上記光線反射率測定と同様の方法により測定し、強制劣化前のフィルムミラーの正反射率と強制劣化後のフィルムミラーの正反射率の比から、耐候性試験前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐候性試験の評価基準を記す。
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
　＜正反射率の耐光性試験＞
　得られたサンプルを岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、８５℃の環境下で７日間紫外線照射を行ったのち、上記方法により正反射率を測定し、紫外線照射前後における正反射率の低下率を算出した。以下に耐光性試験の評価基準を記す。
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
　＜鉛筆硬度試験＞
　ＪＩＳ－Ｋ５４００に基づいて、各サンプルの４５°傾斜、１ｋｇ荷重における鉛筆硬度を測定した。
　各種フィルムミラーの試料内容を下記表１に、評価結果を下記表２に示す。
　なお表では以下の略号を用いた。
安定剤
ＩＲＧ１０１０　：ＩＲＧＡＮＯＸ　１０１０
ＩＲＧ１２　　　：ＩＲＧＡＦＯＳ　１２
ＩＲＧ８００　　：ＩＲＧＡＮＯＸ　ＰＳ８００ＦＬ
ＣＨＩＭ９４４　：ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　９４４ＦＤＬ
紫外線吸収剤
ＴＩＮ９２８　　：ＴＩＮＵＶＩＮ　９２８
ＣＨＩＭ８１　　：ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ　８１
ＴＩＮ１５７７　：ＴＩＮＵＶＩＮ　１５７７ＦＦ
腐食防止剤
ＧＤＭＡ　　　　：グリコールジメルカプトアセテート
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　表２に示した評価結果から明らかなように本発明に係る実施例の各種特性は、比較例に対して優れていることが分かる。すなわち、本発明の上記手段により、銀反射層の劣化による正反射率の低下を防止するとともに、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる耐光性及び耐候性に優れ、太陽光に対して良好な正反射率を有するフィルムミラー、その製造方法、及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することができることが分かる。

Claims (9)

  1. 　構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラー、または構成層として少なくとも、紫外線吸収層、及び互いに隣接した樹脂基材層、接着層、銀反射層、及び下部隣接層が、光入射側からこの順に設けられたフィルムミラーにおいて、該樹脂基材層または該接着層のいずれかに安定剤を含有することを特徴とするフィルムミラー。
  2. 　前記紫外線吸収層に含有される紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項１に記載のフィルムミラー。
  3. 　前記安定剤がフェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤の中の少なくとも１種からなることを特徴とする請求項１または２に記載のフィルムミラー。
  4. 　前記下部隣接層が、腐食防止剤を含有した樹脂層であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  5. 　前記樹脂基材層より外側に、ガスバリア層を有することを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  6. 　前記フィルムミラーの最外層として傷防止層を有することを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  7. 　前記樹脂基材層を含めた層全体の厚さが、７５～２５０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
  8. 　請求項１から７のいずれか１項に記載のフィルムミラーを製造するフィルムミラーの製造方法であって、前記銀反射層を銀蒸着によって形成する工程を有することを特徴とするフィルムミラーの製造方法。
  9. 　請求項１から７のいずれか１項に記載のフィルムミラーを用いたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
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