WO2011077476A1 - 表示装置とその製造方法 - Google Patents

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WO2011077476A1
WO2011077476A1 PCT/JP2009/007082 JP2009007082W WO2011077476A1 WO 2011077476 A1 WO2011077476 A1 WO 2011077476A1 JP 2009007082 W JP2009007082 W JP 2009007082W WO 2011077476 A1 WO2011077476 A1 WO 2011077476A1
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surface portion
display device
pixel
inclination angle
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PCT/JP2009/007082
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Inventor
松島英晃
Original Assignee
パナソニック株式会社
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Priority to US13/091,652 priority patent/US8546821B2/en
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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/20Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the material in which the electroluminescent material is embedded
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K2102/00Constructional details relating to the organic devices covered by this subclass
    • H10K2102/301Details of OLEDs

Definitions

  • the present invention relates to a display device and a manufacturing method thereof, and more particularly to a display device including an organic light emitting layer and a manufacturing method thereof.
  • each pixel portion includes an anode electrode and a cathode electrode, and an organic light emitting layer interposed therebetween.
  • driving the display device holes are injected from the anode electrode, electrons are injected from the cathode electrode, and light is emitted by recombination of holes and electrons in the organic light emitting layer.
  • the organic light emitting layers of adjacent pixel portions are partitioned by a bank made of an insulating material.
  • the organic light emitting layer is formed, for example, by dropping ink containing an organic light emitting material in each region partitioned by the bank and drying the ink.
  • Patent Document 1 describes a technique of providing a convex portion on the inner surface of the bank and thereby controlling the pinning position of the ink. That is, by adopting the technique proposed in Patent Document 1, it is possible to pin the convex portion where the pinning position is formed when the ink in one pixel portion is dropped. Uniformity can be ensured.
  • the present invention has been made to solve the above-described problems, and provides a display device with less inhomogeneous luminance in the surface and a method of manufacturing the same, by making the film thickness of the organic light emitting layer uniform over the entire surface of the panel. For the purpose.
  • a display device employs the following configuration.
  • the display device is a device in which a plurality of pixel portions are arranged.
  • Each pixel portion of the display device according to one embodiment of the present invention includes a first electrode and a second electrode, and an organic light emitting layer interposed between the first electrode and the second electrode.
  • a plurality of banks are provided above the first electrode to partition the organic light emitting layer for each pixel portion.
  • the plurality of pixel portions includes a first pixel portion positioned on the central portion side of the pixel array, and an end portion of the pixel array with respect to the first pixel portion.
  • a plurality of banks including a first bank that divides an organic light emitting layer in the first pixel portion on an end side of the pixel array, and an organic in the first pixel portion.
  • a second bank that partitions the light emitting layer on the center side of the pixel array, a third bank that partitions the organic light emitting layer in the second pixel section on the end side of the pixel array, and an organic light emitting layer in the second pixel section
  • a fourth bank that is partitioned on the center side of the array.
  • the side surface portion corresponding to the second pixel portion in the third bank has a different inclination angle from the side surface portion corresponding to the first pixel portion in the first bank. It is characterized by.
  • a side surface corresponding to the second pixel portion in the third bank (hereinafter, referred to as “third side surface” for simplicity) is provided in the first bank. Since the inclination angle differs with respect to the side surface corresponding to one pixel portion (hereinafter referred to as “first side surface” for the sake of simplicity), the pinning position when ink is dropped at the time of manufacture is different.
  • the third side surface portion and the first side surface portion are different. Specifically, when the inclination angle of the side surface portion is increased, the pinning height is increased, and when the inclination angle of the side surface portion is decreased, the pinning height is decreased.
  • the film thickness of the organic light emitting layer after drying has an inverse relationship with the magnitude of the inclination angle of the side surface in the bank. Specifically, in the comparison between the third side surface portion and the first side surface portion, the film thickness of the organic light emitting layer corresponding to the relatively larger tilt angle tends to be reduced, and the smaller tilt angle is decreased. The thickness of the corresponding organic light emitting layer is about to increase.
  • the thickness of the organic light-emitting layer is made uniform by changing the inclination angle of the side surface portion of the bank, thereby reducing luminance unevenness.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a pixel unit 100 in the display panel 10.
  • FIG. 3 is a schematic plan view showing a bank 105 in the display panel 10.
  • FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the structure of banks 105a to 105f for each of pixel portions 100a to 100c in the display panel 10.
  • (A) is a schematic cross-sectional view showing the pinning position when the taper angle of the bank side surface portion is small
  • (b) is a schematic cross-sectional view showing the pinning position when the taper angle of the bank side surface portion is large
  • (C) is a schematic cross-sectional view showing the state of the organic light emitting layer after drying when the taper angle of the bank side surface is small
  • (d) is the organic after drying when the taper angle of the bank side surface is large. It is a schematic cross section which shows the state of a light emitting layer.
  • FIG. 6 is a diagram showing the film thickness distribution of organic light emitting layers in Samples 1 to 3. It is a figure which shows the film thickness distribution of the organic light emitting layer in the samples 4 and 5.
  • FIG. (A)-(c) is a schematic cross section which shows the principal part process in the manufacturing method of the display panel 10 in order.
  • (A)-(c) is a schematic cross section which shows the principal part process in the manufacturing method of the display panel 10 in order.
  • 10 is a schematic cross-sectional view showing main processes in a manufacturing method according to Modification 1.
  • FIG. 14 is a schematic plan view showing a structure of a bank 305 included in a display panel 30 according to Modification 3.
  • FIG. 14 is a schematic plan view showing a structure of a bank 305 included in a display panel 30 according to Modification 3.
  • (A) is a schematic cross section which shows the organic light emitting layer in the display panel which concerns on a prior art
  • (b) is a figure which shows the film thickness uniformity distribution of the organic light emitting layer for every area
  • a display device is a device in which a plurality of pixel portions are arranged.
  • Each pixel portion of the display device according to one embodiment of the present invention includes a first electrode and a second electrode, and an organic light emitting layer interposed between the first electrode and the second electrode.
  • a plurality of banks are provided above the first electrode to partition the organic light emitting layer for each pixel portion.
  • the plurality of pixel portions includes a first pixel portion positioned on the central portion side of the pixel array, and an end portion of the pixel array with respect to the first pixel portion.
  • a plurality of banks including a first bank that divides an organic light emitting layer in the first pixel portion on an end side of the pixel array, and an organic in the first pixel portion.
  • a second bank that partitions the light emitting layer on the center side of the pixel array, a third bank that partitions the organic light emitting layer in the second pixel section on the end side of the pixel array, and an organic light emitting layer in the second pixel section
  • a fourth bank that is partitioned on the center side of the array.
  • the third side surface portion is different in inclination angle from the first side surface portion.
  • the third side surface portion has an inclination angle different from that of the first side surface portion, so that the pinning position when the ink is dropped at the time of manufacture is different from that of the third side surface portion. It will be different for one side part. Specifically, when the inclination angle of the side surface portion is increased, the pinning height is increased, and when the inclination angle of the side surface portion is decreased, the pinning height is decreased.
  • the film thickness of the organic light emitting layer after drying has an inverse relationship with the magnitude of the inclination angle of the side surface in the bank. Specifically, in the comparison between the third side surface portion and the first side surface portion, the film thickness of the organic light emitting layer corresponding to the relatively larger tilt angle tends to be reduced, and the smaller tilt angle is decreased. The thickness of the corresponding organic light emitting layer is about to increase.
  • the thickness of the organic light-emitting layer is made uniform by changing the inclination angle of the side surface portion of the bank, thereby reducing luminance unevenness.
  • the display device in the above-described configuration, specifically, a configuration in which the third side surface portion has a large inclination angle with respect to the first side surface portion can be employed.
  • the thickness of the organic light emitting layer in the portion corresponding to the outer peripheral side surface portion of the bank in the outer peripheral portion of the panel as shown in FIG. The phenomenon of thickening can be alleviated. Therefore, in the display device according to one embodiment of the present invention, the thickness of the organic light-emitting layer in the plurality of pixel portions can be uniform over the entire surface of the panel, and luminance unevenness can be reduced. It is.
  • a side surface portion (hereinafter, referred to as a “second side surface portion” for simplicity) corresponding to the first pixel portion in the second bank.
  • the configuration is such that the inclination angle is equal to the side surface portion corresponding to the second pixel portion in the fourth bank (hereinafter referred to as “fourth side surface portion” for simplicity).
  • the thickness of the organic light emitting layer near the center of the panel (the thickness of the organic light emitting layer 906c at the left end in the X-axis direction)
  • the thickness of the organic light emitting layer 906c at the left end in the X-axis direction There is no significant difference from the corresponding film thickness of the pixel portion in the central portion. For this reason, it becomes possible to maintain the film thickness of the organic light emitting layer in the corresponding part uniformly by making the inclination angle of both the second side part and the fourth side part equal.
  • the first side surface portion is formed to have the same inclination angle with respect to the second side surface portion and the fourth side surface portion. Can be adopted.
  • the thickness of the organic light emitting layer in the first pixel portion can be made uniform, and the organic layer of the second pixel portion can be compared with the thickness of the organic light emitting layer in the first pixel portion.
  • the film thickness in the vicinity of the fourth side surface portion in the light emitting layer can also be made uniform.
  • the inclination angle of the third side surface portion is in a range of 35 [°] or more and 40 [°] or less, and the inclination angle of the first side surface portion.
  • the angle can be set within a range of 25 [°] to 30 [°]. If the third side surface portion and the first side surface portion are formed with an inclination angle in such a range, the film thickness of each organic light emitting layer is surely made uniform in the second pixel portion and the first pixel portion. can do.
  • the inclination angle of the second side surface portion and the first side surface portion may be in the range of 25 ° to 30 °. As an example. If the second side surface portion and the first side surface portion are formed with an inclination angle in such a range, the film thickness of the organic light emitting layer in the first pixel portion can be made uniform as a whole.
  • the “inclination angle” means each side surface portion of the bank and the underlying layer on which the bank is provided (the first electrode, the hole injection layer, the hole transport layer, and the hole injection transport layer) The angle formed by the top surface of
  • a method for manufacturing a display device is a method for manufacturing a display device in which a plurality of pixel portions are arranged, and includes the following steps.
  • a functional layer including a first electrode is formed on a substrate.
  • a photosensitive resist material is laminated on the functional layer.
  • the photosensitive resist material laminated in the execution of the second step is subjected to mask exposure and patterned to form a plurality of openings corresponding to a plurality of pixel portions, and between adjacent openings. A plurality of banks to be partitioned are formed.
  • a 2nd electrode is formed above an organic light emitting layer.
  • the plurality of openings include a first opening at a position corresponding to the central portion side of the pixel array, and a pixel with respect to the first opening.
  • a second opening at a position corresponding to the end side of the array is included, and the plurality of banks includes a first bank partitioned on the end side of the pixel array with respect to the first opening, and a first bank The second bank defined on the center side of the pixel array with respect to the opening, the third bank defined on the edge side of the pixel array with respect to the second opening, and the pixel array relative to the second opening.
  • a fourth bank that is partitioned on the center side.
  • the inclination angle of the side surface portion (hereinafter referred to as “third side surface portion” for simplicity) corresponding to the second opening in the third bank, and the first bank in the first bank.
  • Forming the first bank and the third bank so that the inclination angle of the side surface corresponding to one opening (hereinafter referred to as “first side surface” for simplicity) is different.
  • the pinning position when ink is dropped during the manufacturing process is different between the third side surface portion and the first side surface portion, The film thickness of the light emitting layer is made uniform, and the luminance unevenness is reduced.
  • the method for manufacturing a display device it is possible to make the thickness of the organic light emitting layer uniform over the entire surface of the panel, and to manufacture a display device with less unevenness of luminance in the surface.
  • the inclination angle of the third side surface portion is larger than the inclination angle of the first side surface portion.
  • a configuration in which the first bank and the third bank are formed can be employed.
  • the organic light emitting layer is formed at a portion corresponding to the outer peripheral side surface portion of the bank in the outer peripheral portion of the panel as shown in FIG.
  • the phenomenon that the film thickness increases can be alleviated, and the film thickness of the organic light emitting layer in the plurality of pixel portions can be made uniform over the entire surface of the panel, and a display device with less luminance unevenness is manufactured. Is possible.
  • a side surface portion corresponding to the first opening in the second bank (hereinafter, for simplicity, “ And the inclination angle of the side surface corresponding to the second opening in the fourth bank (hereinafter referred to as “fourth side surface” for simplicity).
  • the second bank and the fourth bank can be formed so as to be equal to each other.
  • the inclination angle of the first side surface portion, the inclination angle of the second side surface portion, and the fourth side surface portion when the third step is performed in the above configuration, the inclination angle of the first side surface portion, the inclination angle of the second side surface portion, and the fourth side surface portion.
  • a configuration in which the first bank, the second bank, and the fourth bank are formed so that the inclination angles of the first and second banks are equal to each other can be adopted.
  • the film thickness of the organic light emitting layer in the first pixel unit is made uniform, and the organic light emission of the second pixel unit with respect to the film thickness of the organic light emitting layer in the first pixel unit. It is also possible to make uniform the film thickness in the vicinity of the fourth side surface part in the layer.
  • the third side surface is inclined by the third side surface by the third step.
  • the pinning position of the ink containing the organic light emitting material dropped into the first opening and the second opening is aligned, and then dried.
  • the shape of the later organic light emitting layer can be made uniform. Therefore, by using the manufacturing method according to one embodiment of the present invention, variation in the shape of the organic light-emitting layer between pixels can be suppressed, and a display device with less luminance unevenness can be manufactured.
  • the portion corresponding to the third side surface portion and the portion corresponding to the first side surface portion are photosensitive.
  • a configuration in which the inclination angles are made different from each other by making the exposure amounts for exposing the photosensitive resist material different can be adopted.
  • the 1st bank and the 3rd bank which have the 1st side part and the 3rd side part from which an inclination angle differs mutually can be formed.
  • the exposure amount to the portion corresponding to the third side surface portion is set to the portion corresponding to the first side surface portion.
  • a configuration in which the exposure amount is larger than the exposure amount can be employed.
  • the third bank and the first bank can be formed in which the inclination angle of the third side surface portion is larger than the inclination angle of the first side surface portion.
  • the light is related to the portion corresponding to the third side surface portion and the portion corresponding to the first side surface portion. It is possible to adopt a configuration in which the tilt angles are made different from each other by performing exposure using masks having different transmittances. Thereby, the 3rd bank and the 1st bank of the relation where the inclination angle of the 3rd side part differs from the inclination angle of the 1st side part can be formed.
  • the light transmittance to the portion corresponding to the third side surface portion corresponds to the first side surface portion. It is possible to employ a configuration in which exposure is performed using a mask that is larger than the transmittance of light to the portion to be performed. As a result, the third bank and the first bank can be formed in which the inclination angle of the third side surface portion is larger than the inclination angle of the first side surface portion.
  • a photosensitive resist material is used for a portion corresponding to the third side surface portion and a portion corresponding to the first side surface portion.
  • the 3rd bank and the 1st bank of the relation where the inclination angle of the 3rd side part differs from the inclination angle of the 1st side part can be formed.
  • the additional exposure processing target is a portion corresponding to the third side surface portion.
  • a configuration can be employed. Thereby, the inclination-angle of a 3rd side part can be enlarged with respect to the inclination-angle of a 1st side part.
  • the organic light emitting layers 906a and 906c are formed between banks 905 erected on a substrate 901.
  • the organic light emitting layer 906c in the pixel portion at the outer peripheral portion of the panel tends to be less uniform in film thickness than the organic light emitting layer 906a in the pixel portion at the central portion of the panel.
  • Parts indicated by alternate long and two short dashes lines D 1 and D 2 in FIG. 17B specifically, in the pixel portion located on the outer periphery of the panel, the surface of the organic light emitting layer becomes higher as it goes to the outer periphery of the panel. This inventor confirmed that it became.
  • the horizontal axis indicates the distance from the outer peripheral edge
  • the vertical axis indicates the degree of film thickness deviation.
  • the present inventor presumed that the decrease in film thickness uniformity in the organic light-emitting layer was caused by non-uniform vapor concentration distribution during ink drying, as will be described below. did. Specifically, as shown in FIG. 18, the vapor concentration in the vicinity of the pixel portions 900b and 900c located on the outer periphery of the panel is lower than the vapor concentration in the vicinity of the pixel portion 900a located in the center of the panel. It has become.
  • the evaporation rate from the dropped ink in the pixel portion 900a at the center of the panel is substantially uniform.
  • the surface profile L 0 of the ink 9060C has a shape raised pixel central portion.
  • the evaporation rate is faster at the outer peripheral portion of the panel as described above, so it is considered formally that the surface profile L 1 changes to a lower one at the outer peripheral portion side.
  • the solvent moves as indicated by the solid line arrow inside the ink 9061c in the middle of drying.
  • the solvent moves so as to compensate for the evaporated amount (moves so as to minimize the surface free energy), and the solute (organic light emitting material) moves as the solvent moves. Therefore, as shown in FIG. 19 (c), in the pixel portion of the panel outer periphery, the surface profile L 2 is the organic light emitting layer 906c which raised the more outer is formed.
  • the present inventor relates to an organic light-emitting display device, and the film thickness of the organic light-emitting layer is uniform due to the non-uniformity of the vapor concentration distribution during ink drying on the outer peripheral side and the central side of the panel. I got the inference that the gender declines.
  • the inventor makes the pinning position on the bank side surface of the ink different by changing the inclination angle of the bank side surface in the panel surface, and as a result, the film thickness of the organic light emitting layer is made uniform. I found a technical feature.
  • the display device 1 includes a display panel unit 10 and a drive control unit 20 connected to the display panel unit 10.
  • the display panel unit 10 is an organic EL panel using an electroluminescence phenomenon of an organic material, and a plurality of organic EL elements are arranged and configured.
  • the drive control unit 20 includes four drive circuits 21 to 24 and a control circuit 25.
  • the arrangement of the drive control unit 20 with respect to the display panel unit 10 is not limited to this.
  • the configuration of the display panel 10 will be described with reference to FIG.
  • the display panel 10 according to the present embodiment employs a top emission type organic EL panel as an example, and emits organic light having one of red (R), green (G), and blue (B).
  • a plurality of pixel portions 100 including layers are arranged and configured in a matrix, but in FIG. 2, one pixel portion 100 is extracted and drawn.
  • the display panel 10 includes an anode electrode 102 formed on a TFT substrate 101 (hereinafter simply referred to as “substrate”) 101, and an electrode coating layer on the anode electrode 102. 103 and a hole injecting and transporting layer 104 are sequentially laminated. Note that the anode electrode 102 and the electrode coating layer 103 are formed in a state of being separated for each pixel unit 100.
  • a hole injecting and transporting layer 104 is formed on the electrode coating layer 103, and a bank 105 made of an insulating material and partitioning each pixel unit 100 is erected thereon.
  • An organic light emitting layer 106 is formed in a region partitioned by the bank 105 in each pixel unit 100, and an electron injection layer 107, a cathode electrode 108, and a sealing layer 109 are sequentially stacked thereon. .
  • the substrate 101 is, for example, alkali-free glass, soda glass, non-fluorescent glass, phosphate glass, boric acid glass, quartz, acrylic resin, styrene resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyethylene, polyester, silicone resin. Or an insulating material such as alumina.
  • the anode electrode 102 is composed of a single layer made of a conductive material or a laminate in which a plurality of layers are laminated.
  • a conductive material for example, Ag (silver), APC (silver, palladium, copper alloy), ARA ( Silver, rubidium, gold alloy), MoCr (molybdenum and chromium alloy), NiCr (nickel and chromium alloy), etc. are used.
  • the top emission type as in the present embodiment, it is preferably formed of a highly reflective material.
  • Electrode coating layer 103 is formed using, for example, ITO (indium tin oxide), and covers the upper surface of the anode electrode 102 in the Z-axis direction.
  • ITO indium tin oxide
  • the hole injecting and transporting layer 104 is a layer made of an oxide such as silver (Ag), molybdenum (Mo), chromium (Cr), vanadium (V), tungsten (W), nickel (Ni), iridium (Ir), for example. It is.
  • the hole injecting and transporting layer 104 made of such a metal oxide has a function of injecting and transporting holes to and from the organic light emitting layer 106 in a stable manner or assisting the generation of holes, and has a large work function. Have.
  • the hole injection / transport layer 104 is made of an oxide of a transition metal, a plurality of levels can be obtained by taking a plurality of oxidation numbers. As a result, hole injection is facilitated and driven. The voltage can be reduced.
  • the hole injecting and transporting layer 104 can be formed by using PEDOT (mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid) or the like in addition to the metal oxide as described above.
  • PEDOT mixture of polythiophene and polystyrene sulfonic acid
  • the bank 105 is made of an organic material such as resin and has an insulating property. Examples of the organic material used for forming the bank 105 include acrylic resin, polyimide resin, and novolac type phenol resin. The bank 105 preferably has organic solvent resistance.
  • the bank 105 is formed by an etching process, a baking process, or the like, it is preferable that the bank 105 be formed of a highly resistant material that does not excessively deform or alter the process.
  • the side surface portion can be treated with fluorine.
  • a material having a resistivity of 10 5 [ ⁇ ⁇ cm] or more and having water repellency can be used as the insulating material used for forming the bank 105. This is because when a material having a resistivity of 10 5 [ ⁇ ⁇ cm] or less is used, a leakage current between the anode electrode 102 and the cathode electrode 108 or a leakage current between adjacent pixel portions 100 is generated. This is because various problems such as an increase in power consumption are caused.
  • the bank 105 When the bank 105 is formed using a hydrophilic material, the difference in affinity / water repellency between the side surface of the bank 105 and the surface of the hole injecting and transporting layer 104 is reduced, and the organic light emitting layer 106 is formed. This is because it becomes difficult to selectively hold the ink containing the organic substance in the opening of the bank 105.
  • the structure of the bank 105 not only a single layer structure as shown in FIG. 2 but also a multilayer structure of two or more layers can be adopted.
  • the above materials can be combined for each layer, and an inorganic material and an organic material can be used for each layer.
  • Organic light emitting layer 106 has a function of emitting light by generating an excited state by recombination of holes injected from the anode electrode 102 and electrons injected from the cathode electrode 108.
  • As a material used for forming the organic light emitting layer 106 it is necessary to use a light emitting organic material that can be formed by a wet printing method.
  • Electron injection layer 107 has a function of transporting electrons injected from the cathode electrode 108 to the organic light emitting layer 106, and is preferably formed of, for example, barium, phthalocyanine, lithium fluoride, or a combination thereof.
  • the cathode electrode 108 is made of, for example, ITO or IZO (indium zinc oxide). In the case of the top emission type display panel 10, it is preferably formed of a light transmissive material. About light transmittance, it is preferable that the transmittance is 80% or more.
  • the cathode electrode 108 As a material used for forming the cathode electrode 108, in addition to the above, for example, a structure in which a layer containing an alkali metal, an alkaline earth metal, or a halide thereof and a layer containing silver are laminated in this order is used. You can also.
  • the layer containing silver may be formed of silver alone, or may be formed of a silver alloy.
  • a highly transparent refractive index adjusting layer can be provided on the silver-containing layer.
  • the sealing layer 109 has a function of suppressing exposure of the organic light emitting layer 106 or the like to moisture or air, and is made of, for example, a material such as SiN (silicon nitride) or SiON (silicon oxynitride). It is formed using. In the case of the top emission type display panel 10, it is preferably formed of a light transmissive material.
  • each of the banks 105 extends in the Y-axis direction, and partitions between adjacent pixel units 100 in the X-axis direction.
  • the pixel unit 100 is formed so that the light emission color is different for each region partitioned by the bank 105.
  • FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of the display panel 10 in FIG. 1 cut along the AA ′ cross-section.
  • a pixel portion 100 a located in the center portion and a pixel portion located in the outer peripheral portion (a pixel portion located at an array end portion among a plurality of arranged pixel portions) 100 b. , 100c, and banks 105a to 105f are arranged on both sides of each pixel unit 100a, 100b, 100c.
  • the side surface portions 105aa and 105ba and the surface 104a of the hole injecting and transporting layer 104 which is the base layer form angles ⁇ a and ⁇ b, respectively.
  • the side portions 105ca to 105fa and the surface 104a of the hole injection transport layer 104 form angles ⁇ c to ⁇ f, respectively.
  • the angles ⁇ a to ⁇ f satisfy the relationships shown by the following equations.
  • the angle of inclination of the side surface of the bank 105x (the angle formed between the side surface and the surface of the hole injecting and transporting layer 104) is an angle ⁇ x
  • the inclination angle of the side surface portion of the bank 105y (the angle formed between the side surface portion and the surface of the hole injection transport layer 104) is the angle ⁇ y.
  • the angle ⁇ x and the angle ⁇ y satisfy the following relationship.
  • Hy> Hx As shown in FIG. 5C, when the ink 1060x is dried, the central portion of the pixel portion of the formed organic light emitting layer 106x is caused by the relatively low height Hx of the pinning position Px. The thickness rises and the film thickness becomes the thickness Tx.
  • the organic light emitting layer 106y is formed in the center of the pixel portion due to the relatively high height Hy at the pinning position Py.
  • the portion is recessed and the film thickness becomes the thickness Ty.
  • the thickness Tx and the thickness Ty satisfy the following relationship.
  • the pinning position is higher in Sample 3 and Sample 4 where the taper angle is larger than the thickness distribution of Sample 2.
  • the horizontal axis indicates the horizontal direction
  • the vertical axis indicates the height direction.
  • the anode electrode 102 and the electrode covering layer 103 are formed corresponding to the planned areas for forming the pixel portions 100a, 100c,. Laminate sequentially. Then, a hole injecting and transporting layer 104 is laminated and formed so as to cover the entire surface.
  • the anode electrode 102 is formed by, for example, forming an Ag thin film using a sputtering method or a vacuum deposition method, and then patterning the Ag thin film using a photolithography method.
  • the electrode coating layer 103 is formed, for example, by forming an ITO thin film on the surface of the anode electrode 102 using a sputtering method and patterning the ITO thin film using a photolithography method or the like.
  • a metal film is formed on the surface of the substrate 101 including the surface of the electrode coating layer 103 by using a sputtering method or the like. Thereafter, the formed metal film is oxidized to form the hole injecting and transporting layer 104.
  • a bank material layer 1050 is formed so as to cover the hole injection transport layer 104 by using, for example, a spin coat method.
  • a photosensitive resist material is used for the formation of the bank material layer 1050.
  • an insulating organic material such as an acrylic resin, a polyimide resin, or a novolac phenol resin is used. it can.
  • a mask 501 provided with openings 501a and 501c is provided above the bank material layer 1050 at a location where a bank is to be formed. In this state, exposure is performed through the openings 501a and 501c of the mask 501.
  • the width Wa of the opening 501a of the mask 501 is the banks 105a and 105b to be formed (see FIG. 4). ) Is defined by points Pa1 and Pa2 at the lower end of the side surface portion.
  • the width Wc1 of the mask opening 501a is such that the upper end point Pc1 and the skirt of the side portion of the banks 105e and 105f (see FIG. 4) to be formed. This is defined by the point Pc2.
  • a mask 502 in which openings 502c are respectively provided at locations corresponding to the side surface portion 105fa (see FIG. 4) of the bank 105f is provided above the bank material layer 1050. Arrange. In this state, the second exposure is executed through the opening 502c of the mask 502.
  • the width Wc2 of the opening 502c in the mask 502 is defined by the lower end point Pc3 and the upper end point Pc1 of the side surfaces of the banks 105e and 105f to be formed.
  • the side surface portion 105fa of the bank 105f has a larger inclination angle than the side surface portions 105aa and 105ba of the banks 105a and 105b, and the side surface portion 105ea of the bank 105e corresponds to the side surfaces 105aa and 105b of the banks 105a and 105b. It becomes equal to the inclination angle of 105ba.
  • ink containing an organic light emitting material is dropped into the openings partitioned by the banks 105a, 105b, 105e, 105f,.
  • the organic light emitting layers 106a and 106c are formed by drying the ink.
  • the display panel 10 is formed by sequentially stacking the electron injection layer 107, the cathode electrode 108, the sealing layer 109, and the like.
  • the inclination angles ⁇ c and ⁇ f of the side surface portions 105ca and 105fa are set larger. For this reason, the pixel portion 100a and the pixel portions 100b and 100c have different pinning positions when ink is dropped at the time of manufacture.
  • the heights of the ink pinning positions corresponding to the banks 105c and 105f having the large inclination angles ⁇ c and ⁇ f are higher than the heights of the ink pinning positions corresponding to the banks 105a and 105b having the small inclination angles ⁇ a and ⁇ b. Get higher.
  • the inclination angles ⁇ d and ⁇ e of the side surfaces 105da and 105ea in the banks 105d and 105e are equal to the inclination angles ⁇ a and ⁇ b of the side surfaces 105aa and 105ba in the banks 105a and 105b. For this reason, the film thickness of the organic light emitting layer 106 corresponding to each part is equal in the panel.
  • the display panel 10 has an effect that the thickness of the organic light emitting layer 106 after drying is uniform in the pixel portions 100a, 100b, and 100c, and luminance unevenness is small.
  • the inclination angles are made equal in a range where the difference in luminance efficiency (luminance unevenness) between the pixel portions 100a, 100b, 100c,. It means that.
  • Modification 1 of the method for manufacturing the display device 1 will be described with reference to FIG. FIG. 11 shows steps corresponding to the steps shown in FIGS. 9C to 10A.
  • a mask 503 is disposed thereon.
  • the mask 503 is provided with light transmitting portions 503a, 503c1, 503c2,.
  • Each of the light transmitting portions 503a, 503c1, 503c2,... Is provided corresponding to a location where the banks 105a to 105f,.
  • the width Wa of the light transmitting portion 503a in the region corresponding to the pixel portion 100a is the point at the lower end of the banks 105a and 105b (see FIG. 4) to be formed. It is defined by Pa1 and Pa2.
  • the width Wc2 of the light transmitting portion 503c1 in the region corresponding to the pixel portion 100c is defined by the lower end point Pc2 and the upper end point Pc1 of the banks 105e and 105f (see FIG. 4) to be formed.
  • the light transmitting portion 503c2 is defined by points Pc3 and Pc1 at the lower ends of the banks 105e and 105f (see FIG. 4) to be formed.
  • the mask 503 is configured using a mask such as a halftone, and the light transmittances of the light transmitting portions 503a and 503c1 and the light transmitting portion 503c2 are different. Specifically, the light transmittance of the light transmitting portion 503c2 is larger than the light transmittance of the light transmitting portions 503a and 503c1.
  • Banks 105a, 105b, 105e, and 105f as shown in FIG. 10B are formed by performing exposure / development in a state where the mask 503 having the above-described configuration is arranged and then baking. Can do. That is, in the portion exposed through the light transmitting portion 503c2 in which the light transmittance is set to be large, the above [Expression 1] and [Expression 2] are shown as compared with the portions exposed through the other light transmitting portions 503a and 503c1. As in the relationship, the inclination angle of the side wall surface increases.
  • the display device 1 can also be manufactured by the manufacturing method as described above.
  • a mask 504 is disposed thereon.
  • the mask 504 is provided with openings 504a, 504c,... Corresponding to the locations where the bank 105 is to be formed.
  • Openings 504a provided at locations where banks 105a and 105b (see FIG. 4) are to be formed corresponding to the pixel portion 100a have the same width as the openings 501a of the mask 501 used in the manufacturing method of the above embodiment. It is formed with.
  • the width Wc3 of the opening 504c provided at a location where the banks 105e and 105f (see FIG. 4) are to be formed corresponding to the pixel portion 100c is a portion surrounded by a two-dot chain line in FIG. As shown in FIG. 5, the width is set to be larger than the width defined by the points Pc2 and Pc3 at the lower ends of the banks 105e and 105f. Specifically, the width is increased at a location where the inclination angle is to be increased.
  • the first exposure / development is performed with the mask 504 having the configuration shown in FIG. As a result, as shown in FIG. 12B, bank material layers 1051a, 1051b, 1051e, and 1051f remain at locations corresponding to the openings 504a and 504c.
  • a mask 505 is disposed thereabove.
  • an opening 505c is provided only in a portion corresponding to a side surface portion of the banks 105a to 105f,.
  • Banks 105a, 105b, 105e, 105f,... As shown in FIG. 13B can be formed by performing the second exposure / development with the mask 505 disposed and then baking.
  • the display device 1 can be manufactured by performing the same steps as in the above-described embodiment and the like.
  • the inclination angle of the bank side surface portion to be formed increases as the exposure amount increases. Specifically, when the exposure amount is 200 [mJ] and the exposure / development is performed, the inclination angle of the bank side surface portion is 23 [°], whereas the exposure amount is 300 [mJ]. The inclination angle of the bank side surface formed when developed is 38 [°]. This result is also shown in AFM (Atomic Force Microscope) shown in FIG.
  • the inclination angle of the bank side surface portion to be formed is 50 [°]. This corresponds to the manufacturing method according to the second modification and is considered to be effective for increasing the inclination angle of the bank side surface.
  • a horizontal axis shows a horizontal direction and a vertical axis
  • shaft shows a height direction.
  • each configuration as an example is adopted in order to easily understand the configuration and the operation / effect of the present invention.
  • the present invention except for essential parts, It is not limited to the said form.
  • the configuration in which the anode electrode 102 is disposed on the lower side in the Z-axis direction with respect to the organic light emitting layer 106 is adopted as an example.
  • a configuration in which the cathode electrode 108 is disposed on the lower side in the Z-axis direction may be employed.
  • the cathode electrode 108 When the cathode electrode 108 is arranged on the lower side in the Z-axis direction with respect to the organic light emitting layer 106, a top emission structure is formed. Therefore, the cathode electrode 108 is used as a reflective electrode layer, and the electrode coating layer 103 is formed thereon. The structure which forms is adopted.
  • the specific external shape of the display device 1 is not shown, but it can be a part of the system as shown in FIG.
  • the organic EL display device does not require a backlight like a liquid crystal display device, and is therefore suitable for thinning, and exhibits excellent characteristics from the viewpoint of system design.
  • the so-called line bank structure as shown in FIG. 3 is adopted as the form of the bank 105, but the bank 105 extends in the Y-axis direction as shown in FIG.
  • the display panel 30 can also be configured by using a pixel bank 305 including a bank element 305a and a bank element 305b extending in the X-axis direction.
  • the inclination angle of the side wall portion on the outer side in the X-axis direction and the Y-axis direction with respect to the pixel portion 300 on the outer peripheral portion of the panel is increased.
  • the effect similar to the above can be obtained.
  • the inclination of the side wall portion indicated by the arrows B 1 and B 3 The angle may be made larger than the inclination angle of the side wall portion indicated by arrows B 2 and B 4 .
  • the inclination angle of the side wall part outside the bank formed in a panel outer peripheral part was made larger than the inclination angle of the bank side part corresponding to a panel center part.
  • this relationship can be appropriately changed according to the flow of vapor (vapor concentration) in the drying process related to the formation of the organic light emitting layer during production.
  • the flow of vapor during ink drying is in the direction from the outer periphery of the panel toward the center of the panel, this corresponds to the location where the thickness of the organic light emitting layer increases.
  • the inclination angle of the bank side surface portion may be increased. Thereby, the film thickness of an organic light emitting layer can be made uniform, and the brightness nonuniformity in the whole panel can be reduced.
  • the light emission colors (red, green, and blue) in the pixel portion are not distinguished, but the characteristics of the ink including the organic light emitting material change according to the light emission color.
  • the inclination angle of the corresponding bank side surface portion can be defined according to the ink characteristics of each emission color.
  • the region for which the inclination angle of the bank side surface portion is to be increased can be appropriately determined according to the manufacturing process, the panel size, and the like. For example, 0.5% to It is considered desirable to target a pixel portion of about [%] (for example, 1 [%]). This is because the variation in the thickness of the organic light emitting layer in the display device according to the prior art shown in FIG.
  • the present invention is useful for realizing a display device with little luminance unevenness and high image quality performance.

Abstract

 表示装置は、複数の画素部100a~100c,・・を備える。各画素部100a~100c,・・の各有機発光層は、バンク105a~105f,・・で区画されている。パネル中央部(画素配列の中央部)側に位置する画素部100aの両脇のバンク105a,105bと、パネル外周部(画素配列の端部)側に位置する画素部100b,100cの各両脇のバンク105c~105fとを比較するとき、バンク105cの画素部100bに対応する側面部105ca、およびバンク105fの画素部100cに対応する側面部105faの傾斜角度θc,θfが、バンク105aおよびバンク105bにおける画素部100aに対応する各側面部105aa,105baの傾斜角度θa,θbと異なっている。

Description

表示装置とその製造方法
 本発明は、表示装置とその製造方法に関し、特に、有機発光層を備える表示装置とその製造方法に関する。
 近年、有機材料の電界発光現象を利用した表示装置の研究・開発が進められている。この表示装置では、各画素部が、アノード電極およびカソード電極と、その間に介挿された有機発光層とを有し構成されている。そして、表示装置の駆動においては、アノード電極からホール注入し、カソード電極から電子注入し、有機発光層内でホールと電子とが再結合することにより発光する。
 隣接する画素部の有機発光層同士の間は、絶縁材料から構成されたバンクにより区画されている。有機発光層の形成は、例えば、バンクで区画された領域ごとに、有機発光材料を含むインクを滴下し、これを乾燥させることによりなされる。
 ところで、上記のとおり形成された有機発光層の膜厚は、均一にすることが困難であるという問題がある。
 ここで、有機発光層の膜厚を均一にするため、例えば、特許文献1では、バンク内面に凸状部を設け、これによりインクのピンニング位置を制御するという技術が記載されている。即ち、特許文献1で提案されている技術を採用することにより、一の画素部におけるインクを滴下した際のピンニング位置を形成した凸状部にピンニングすることができ、これにより、ある程度の膜厚均一性を確保することができる。
特開2007-311235号公報
 ところで、表示装置のパネルの領域全体(中央部、外周部)に関し、上記特許文献1により提案された技術を採用し、パネルの領域に応じて微細な凸状部を高い精度でバンク内面に形成することは、困難と考えられる。このため、表示装置のパネルの領域全体(中央部、外周部)において、有機発光層の膜厚を均一にすることは容易ではない。
 本発明は、上記課題の解決を図ろうとなされたものであって、パネル全面での有機発光層の膜厚の均一化を図り、面内における輝度ムラの少ない表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
 そこで、本発明の一態様に係る表示装置は、次の構成を採用することを特徴とする。
 本発明の一態様に係る表示装置は、複数の画素部が配列されてなる装置である。本発明の一態様に係る表示装置の各画素部は、第1電極および第2電極と、第1電極と第2電極との間に介挿された有機発光層とを有し構成されており、第1電極の上方において、有機発光層を画素部ごとに区画する複数のバンクが設けられている。
 また、本発明の一態様に係る表示装置では、複数の画素部の中に、画素配列の中央部側に位置する第1画素部と、当該第1画素部に対して、画素配列の端部側に位置する第2画素部とが含まれており、複数のバンクには、第1画素部における有機発光層を画素配列の端部側で区画する第1バンクと、第1画素部における有機発光層を画素配列の中央部側で区画する第2バンクと、第2画素部における有機発光層を画素配列の端部側で区画する第3バンクと、第2画素部における有機発光層を画素配列の中央部側で区画する第4バンクとが含まれている。
 そして、本発明の一態様に係る表示装置では、第3バンクにおける第2画素部に対応する側面部が、第1バンクにおける第1画素部に対応する側面部に対し、その傾斜角度が異なることを特徴とする。
 本発明の一態様に係る表示装置では、第3バンクにおける第2画素部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第3側面部」と記載する。)が、第1バンクにおける第1画素部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第1側面部」と記載する。)に対し、その傾斜角度が異なるので、その製造時におけるインクを滴下した際のピンニング位置が、第3側面部と第1側面部とで異なることになる。具体的には、側面部の傾斜角度を大きくすると、ピンニング高さが高くなり、側面部の傾斜角度を小さくすると、ピンニング高さが低くなる。
 そして、乾燥後における有機発光層の膜厚は、バンクにおける側面部の傾斜角度の大小とは逆の関係を有する。具体的には、第3側面部と第1側面部との比較において、相対的に上記傾斜角度の大きい方に対応する有機発光層の膜厚が薄くなろうとし、上記傾斜角度の小さい方に対応する有機発光層の膜厚が厚くなろうとする。
 従って、本発明の一態様に係る表示装置では、バンクの側面部の傾斜角度を異ならせることによって、有機発光層の膜厚の均一化が図られ、輝度ムラの低減が実現される。
実施の形態に係る表示装置1の概略構成を示すブロック図である。 表示パネル10における画素部100を示す模式断面図である。 表示パネル10におけるバンク105を示す模式平面図である。 表示パネル10における画素部100a~100c毎のバンク105a~105fの構造を示す模式断面図である。 (a)は、バンク側面部のテーパ角が小さい場合のピンニング位置を示す模式断面図であり、(b)は、バンク側面部のテーパ角が大きい場合のピンニング位置を示す模式断面図であり、(c)は、バンク側面部のテーパ角が小さい場合における乾燥後の有機発光層の状態を示す模式断面図であり、(d)は、バンク側面部のテーパ角が大きい場合における乾燥後の有機発光層の状態を示す模式断面図である。 バンクの傾斜角度(テーパ角)θと、ピンニング高さHおよび有機発光層の膜厚Tとの関係を纏めて示す図である。 サンプル1~3における有機発光層の膜厚分布を示す図である。 サンプル4,5における有機発光層の膜厚分布を示す図である。 (a)~(c)は、表示パネル10の製造方法における要部工程を順に示す模式断面図である。 (a)~(c)は、表示パネル10の製造方法における要部工程を順に示す模式断面図である。 変形例1に係る製造方法における要部工程を示す模式断面図である。 (a)~(b)は、変形例2に係る製造方法における要部工程を順に示す模式断面図である。 (a)~(b)は、変形例2に係る製造方法における要部工程を順に示す模式断面図である。 (a)は、露光・現像処理とバンクのテーパ角との関係を示す図であり、(b)は、形成されたバンクの形状を示すAFMである。 表示装置1を含むセットの外観の一例を示す外観斜視図である。 変形例3に係る表示パネル30が備えるバンク305の構造を示す模式平面図である。 (a)は、従来技術に係る表示パネルでの有機発光層を示す模式断面図であり、(b)は、表示パネルの領域ごとでの有機発光層の膜厚均一性分布を示す図である。 有機発光層の形成時における乾燥工程での蒸気濃度分布を示す模式断面図である。 乾燥工程での膜形状の偏りのメカニズムを説明するための模式断面図である。
 [本発明の一態様の概要]
 本発明の一態様に係る表示装置は、複数の画素部が配列されてなる装置である。本発明の一態様に係る表示装置の各画素部は、第1電極および第2電極と、第1電極と第2電極との間に介挿された有機発光層とを有し構成されており、第1電極の上方において、有機発光層を画素部ごとに区画する複数のバンクが設けられている。
 また、本発明の一態様に係る表示装置では、複数の画素部の中に、画素配列の中央部側に位置する第1画素部と、当該第1画素部に対して、画素配列の端部側に位置する第2画素部とが含まれており、複数のバンクには、第1画素部における有機発光層を画素配列の端部側で区画する第1バンクと、第1画素部における有機発光層を画素配列の中央部側で区画する第2バンクと、第2画素部における有機発光層を画素配列の端部側で区画する第3バンクと、第2画素部における有機発光層を画素配列の中央部側で区画する第4バンクとが含まれている。
 そして、本発明の一態様に係る表示装置では、第3側面部が、第1側面部に対し、その傾斜角度が異なることを特徴とする。
 本発明の一態様に係る表示装置では、第3側面部が、第1側面部に対しその傾斜角度が異なるので、その製造時におけるインクを滴下した際のピンニング位置が、第3側面部と第1側面部とで異なることになる。具体的には、側面部の傾斜角度を大きくすると、ピンニング高さが高くなり、側面部の傾斜角度を小さくすると、ピンニング高さが低くなる。
 そして、乾燥後における有機発光層の膜厚は、バンクにおける側面部の傾斜角度の大小とは逆の関係を有する。具体的には、第3側面部と第1側面部との比較において、相対的に上記傾斜角度の大きい方に対応する有機発光層の膜厚が薄くなろうとし、上記傾斜角度の小さい方に対応する有機発光層の膜厚が厚くなろうとする。
 従って、本発明の一態様に係る表示装置では、バンクの側面部の傾斜角度を異ならせることによって、有機発光層の膜厚の均一化が図られ、輝度ムラの低減が実現される。
 また、本発明の一態様に係る表示装置では、上記構成において、具体的に、第3側面部が、第1側面部に対しその傾斜角度が大きいという構成を採用することができる。
 このような構成を採用する本発明の一態様に係る表示装置では、図17(a)に示すようなパネル外周部におけるバンクの外周側側面部に対応する部分での有機発光層の膜厚が厚くなる、という現象を緩和することができる。よって、本発明の一態様に係る表示装置では、パネルの全面において、複数の画素部における有機発光層の膜厚を均一化することが可能であって、輝度ムラの低減を実現することが可能である。
 また、本発明の一態様に係る表示装置では、上記構成において、第2バンクにおける第1画素部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第2側面部」と記載する。)が、第4バンクにおける第2画素部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第4側面部」と記載する。)に対し、その傾斜角度が等しくなるよう形成されているという構成を採用することができる。
 図17(a)に示すように、パネル外周部に位置する画素部においても、有機発光層におけるパネル中央部寄りの膜厚(有機発光層906cにおけるX軸方向左端部分の膜厚)は、パネル中央部における画素部の対応する膜厚と大きな差異はない。このため、第2側面部と第4側面部との、双方の傾斜角度を等しくすることで、対応する部分での有機発光層の膜厚を均一に維持することが可能となる。
 なお、上記における「等しく」とは、数値面で完全に等しくするということを意味するのではなく、表示装置の製造における寸法誤差などを考慮したものである。具体的には、パネルの中央部と外周部とにおいて、それぞれに属する画素部の発光効率の差異(輝度ムラ)が実用上許容できる範囲で、傾斜角度を等しくするということを意味する。
 また、本発明の一態様に係る表示装置では、上記構成において、第1側面部が、第2側面部および第4側面部に対し、その傾斜角度が等しくなるように形成されているという構成を採用することができる。
 このような構成を採用する場合には、第1画素部における有機発光層の膜厚が均一化できると共に、当該第1画素部での有機発光層の膜厚に対し、第2画素部の有機発光層における第4側面部の近傍部分膜厚についても均一化することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置では、上記構成において、第3側面部の傾斜角度を35[°]以上40[°]以下の範囲内になるようにし、第1側面部の傾斜角度を25[°]以上30[°]以下の範囲内になるようにすることが一例としてできる。このような範囲の傾斜角度を以って、第3側面部および第1側面部を形成すれば、第2画素部と第1画素部とにおいて、各有機発光層の膜厚を確実に均一化することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置では、上記構成において、第2側面部および第1側面部の傾斜角度を25[°]以上30[°]以下の範囲内になるようにすることが一例としてできる。このような範囲の傾斜角度を以って、第2側面部および第1側面部を形成すれば、第1画素部における有機発光層の膜厚を全体として均一化することができる。
 なお、上記において、「傾斜角度」とは、バンクにおける各側面部と、バンクが設けられている下地層(第1電極あるいはホール注入層やホール輸送層、さらにはホール注入輸送層がこれに該当する。)の上面と、がなす角度である。
 本発明の一態様に係る表示装置の製造方法は、複数の画素部が配列されてなる表示装置を製造する方法であって、次の工程を備える。
 (第1工程) 基板上に、第1電極を含む機能層を形成する。
 (第2工程) 機能層の上に、感光性レジスト材料を積層する。
 (第3工程) 第2工程の実行で積層された感光性レジスト材料をマスク露光してパターニングすることにより、複数の画素部に対応する複数の開口部を形成するとともに、隣接する開口部間を区画する複数のバンクを形成する。
 (第4工程) 複数の開口部のそれぞれに対して、有機発光材料を滴下して乾燥させ、有機発光層を形成する。
 (第5工程) 有機発光層の上方に、第2電極を形成する。
 そして、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、複数の開口部には、画素配列の中央部側に相当する位置の第1開口部と、当該第1開口部に対して、画素配列の端部側に相当する位置の第2開口部とが含まれており、複数のバンクには、第1開口部に対し、画素配列の端部側で区画する第1バンクと、第1開口部に対し、画素配列の中央部側で区画する第2バンクと、第2開口部に対し、画素配列の端部側で区画する第3バンクと、前記第2開口部に対し、画素配列の中央部側で区画する第4バンクとが含まれている。
 そして、上記第3工程において、第3バンクにおける第2開口部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第3側面部」と記載する。)の傾斜角度と、第1バンクにおける第1開口部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第1側面部」と記載する。)の傾斜角度と、が異なるように、第1バンクおよび第3バンクの形成を行うことを特徴とする。
 このような製造方法を採用すれば、第3側面部が、第1側面部に対しその傾斜角度が異なる構成の表示装置を製造することができる。このような方法を用い製造された表示装置においては、上記のように、その製造時におけるインクを滴下した際のピンニング位置が、第3側面部と第1側面部とで異なることになり、有機発光層の膜厚の均一化が図られ、輝度ムラの低減が実現される。
 従って、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、パネル全面での有機発光層の膜厚の均一化を図り、面内における輝度ムラの少ない表示装置を製造することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、第3側面部の傾斜角度を、第1側面部の傾斜角度よりも大きくなるように、第1バンクおよび第3バンクの形成を行うという構成を採用することができる。
 このような構成を採用する本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、図17(a)に示すようなパネル外周部におけるバンクの外周側側面部に対応する部分での有機発光層の膜厚が厚くなる、という現象を緩和することができ、パネルの全面において、複数の画素部における有機発光層の膜厚を均一化することが可能であって、輝度ムラの少ない表示装置を製造することが可能である。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、第2バンクにおける第1開口部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第2側面部」と記載する。)の傾斜角度と、第4バンクにおける第2開口部に対応する側面部(以下では、簡易のため、「第4側面部」と記載する。)の傾斜角度と、が等しくなるように、第2バンクおよび第4バンクの形成を行うという構成を採用することができる。
 このような構成を採用すれば、第2側面部と第4側面部の双方に対応する部分での画素部における有機発光層の膜厚を均一に維持することが可能となる。
 なお、「等しく」の解釈については、上記同様である。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、第1側面部の傾斜角度と、第2側面部の傾斜角度、および第4側面部の傾斜角度と、が等しくなるように、第1バンクおよび第2バンクおよび第4バンクの形成を行うという構成を採用することができる。
 このような構成を採用する場合には、第1画素部における有機発光層の膜厚が均一化され、当該第1画素部での有機発光層の膜厚に対し、第2画素部の有機発光層における第4側面部の近傍部分膜厚についても均一化することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第4工程を実行するに際し、第3工程の実行により、第3側面部の傾斜角度が第1側面部の傾斜角度よりも大きくなるように、第1バンクおよび第3バンクを形成することにより、第1開口部および第2開口部に滴下された有機発光材料を含むインクのピンニング位置を合わせ、以って、乾燥後の前記有機発光層の形状を揃えることができる。よって、本発明の一態様に係る製造方法を用いることにより、画素間での有機発光層の形状のバラツキを抑えることが可能であり、輝度ムラの少ない表示装置を製造することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、第3側面部に相当する部分と、第1側面部に相当する部分とに関し、感光性レジスト材料を露光する露光量を互いに異ならせることにより、傾斜角度を互いに異ならせるという構成を一例として採用することができる。これにより、互いに傾斜角度の異なる第1側面部と第3側面部を有する第1バンクおよび第3バンクを形成することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、第3側面部に相当する部分への露光量を、第1側面部に相当する部分への露光量よりも大きくするという構成を採用することができる。これにより、第3側面部の傾斜角度が第1側面部の傾斜角度に対して大きい関係の、第3バンクと第1バンクとを形成することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、第3側面部に相当する部分と、第1側面部に相当する部分とに関し、光の透過率が異なるマスクを用いて露光することにより、前記傾斜角度を互いに異ならせるという構成を採用することができる。これにより、第3側面部の傾斜角度が第1側面部の傾斜角度と異なる関係の、第3バンクと第1バンクとを形成することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、第3側面部に相当する部分への光の透過率が、第1側面部に相当する部分への光の透過率よりも大きいマスクを用いて露光するという構成を採用することができる。これにより、第3側面部の傾斜角度が第1側面部の傾斜角度に対して大きい関係の、第3バンクと第1バンクとを形成することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、第3工程を実行するに際し、第3側面部に相当する部分と、第1側面部に相当する部分とに関し、感光性レジスト材料を露光して現像した後、一方の相当部分に対して、露光処理を追加して行うことにより、傾斜角度を互いに異ならせるという構成を採用することができる。これにより、第3側面部の傾斜角度が第1側面部の傾斜角度と異なる関係の、第3バンクと第1バンクとを形成することができる。
 また、本発明の一態様に係る表示装置の製造方法では、上記構成において、第3工程を実行するに際し、上記追加して行う露光処理の対象が、第3側面部に相当する部分であるという構成を採用することができる。これにより、第3側面部の傾斜角度を第1側面部の傾斜角度に対して大きくすることができる。
 [実施の形態]
 以下では、本発明を実施するための形態の一例について、図面を参酌しながら説明する。
 なお、以下の説明で用いる形態は、本発明の構成および作用・効果を分かりやすく説明するために用いる例であって、本発明は、その本質的な特徴部分以外に何ら以下の形態に限定を受けるものではない。
 (本発明に係る実施の形態を得るに至った経緯)
 本発明者は、(背景技術)において記載した有機発光表示装置に関し、鋭意研究の結果、次のような知見を得た。
 通常、図17(a)に示すように、有機発光層906a,906cは、基板901上に立設されたバンク905間に形成される。
 この場合、図17(b)に示すように、パネル外周部の画素部における有機発光層906cは、パネル中央部の画素部における有機発光層906aに比べて、膜厚の均一性が低下する傾向にあり(図17(b)の二点鎖線D1,D2で指し示す部分)、具体的には、パネル外周部に位置する画素部では、有機発光層の表面がパネル外周部に行くほど高くなっていることを本発明者は確認した。なお、図17(b)において、横軸は、外周端からの距離を示し、縦軸は、膜厚ズレの程度を示す。
 上記現象に関し、本発明者は検討を重ねた末、有機発光層における膜厚の均一性の低下は、以下に説明するように、インク乾燥時における蒸気濃度分布の不均一に起因するものと推定した。具体的には、図18に示すように、パネル外周部に位置する画素部900b,900cの近傍の蒸気濃度は、パネル中央部に位置する画素部900aの近傍の蒸気濃度に比べて低いものとなっている。そして、この蒸気濃度分布の偏りに起因して、パネル外周部の画素部900b,900cにおける滴下されたインクからの溶剤の蒸発速度が不均一なものとなる(図18の二点鎖線で囲んだ部分を参照)。
 一方、パネル中央部の画素部900aにおける滴下されたインクからの蒸発速度は、略均一となる。
 ここで、図19(a)に示すように、インク9060cの滴下直後において、インク9060cの表面プロファイルL0は、画素中央部分が盛り上がった形状となっている。これを乾燥させる場合には、上記のようにパネル外周部ほど蒸発速度が速いので、外周部側ほど低い表面プロファイルL1へと変化すると形式的には考えられる。
 しかし、図19(b)に示すように、乾燥途中のインク9061cの内部では、実線矢印で示すような溶剤の移動を生じる。これは、蒸発した分を補うように溶剤が移動する(表面自由エネルギを最小にするように移動する)ものであり、溶剤の移動に伴い溶質(有機発光材料)も移動する。このため、図19(c)に示すように、パネル外周部の画素部においては、表面プロファイルL2が外側ほど盛り上がった有機発光層906cが形成されることになる。
 以上のようにして、本発明者は、有機発光表示装置に関し、パネルの外周部側と中央部側において、インク乾燥時の蒸気濃度分布の不均一に起因し、有機発光層の膜厚の均一性が低下するという推論を得た。
 そして、本発明者は、パネル面内において、バンク側面部の傾斜角度を異ならせることにより、インクのバンク側面部におけるピンニング位置を異ならせ、この結果、有機発光層の膜厚の均一化を図るという技術的特徴を見出した。
 1.表示装置1の概略構成
 本実施の形態に係る表示装置1の全体構成について、図1を用い説明する。
 図1に示すように、表示装置1は、表示パネル部10と、これに接続された駆動制御部20とを有し構成されている。表示パネル部10は、有機材料の電界発光現象を利用した有機ELパネルであり、複数の有機EL素子が配列され構成されている。
 また、駆動制御部20は、4つの駆動回路21~24と制御回路25とから構成されている。
 なお、実際の表示装置1では、表示パネル部10に対する駆動制御部20の配置については、これに限られない。
 2.表示パネル10の構成
 表示パネル10の構成について、図2を用い説明する。なお、本実施の形態に係る表示パネル10は、一例として、トップエミッション型の有機ELパネルを採用し、赤(R)、緑(G)、青(B)の何れか発光色を有する有機発光層を備える複数の画素部100がマトリクス状に配置され構成されているが、図2では、一つの画素部100を抜き出して描いている。
 図2に示すように、表示パネル10は、TFT基板(以下では、単に「基板」と記載する。)101上には、アノード電極102が形成されており、アノード電極102上に、電極被覆層103およびホール注入輸送層104が順に積層形成されている。なお、アノード電極102および電極被覆層103は、画素部100毎に分離された状態で形成されている。
 電極被覆層103の上には、ホール注入輸送層104が被覆形成されており、さらにその上には、絶縁材料からなり、画素部100毎を区画するバンク105が立設されている。各画素部100におけるバンク105で区画された領域には、有機発光層106が形成され、その上には、電子注入層107、カソード電極108、および封止層109が、順に積層形成されている。
 a)基板101
 基板101は、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレン、ポリエステル、シリコーン系樹脂、又はアルミナ等の絶縁性材料をベースとして形成されている。
 b)アノード電極102
 アノード電極102は、導電性材料からなる単層、あるいは複数の層が積層されてなる積層体から構成されており、例えば、Ag(銀)、APC(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)などを用い形成されている。なお、本実施の形態のように、トップエミッション型の場合には、高反射性の材料で形成されていることが好ましい。
 c)電極被覆層103
 電極被覆層103は、例えば、ITO(酸化インジウムスズ)を用い形成されており、アノード電極102のZ軸方向上部の表面を被覆する。
 d)ホール注入輸送層104
 ホール注入輸送層104は、例えば、銀(Ag)、モリブデン(Mo)、クロム(Cr)、バナジウム(V)、タングステン(W)、ニッケル(Ni)、イリジウム(Ir)などの酸化物からなる層である。このような酸化金属からなるホール注入輸送層104は、ホールを安定的に、またはホールの生成を補助して、有機発光層106に対しホールを注入および輸送する機能を有し、大きな仕事関数を有する。
 ここで、ホール注入輸送層104を遷移金属の酸化物から構成する場合には、複数の酸化数をとるためこれにより複数の準位をとることができ、その結果、ホール注入が容易になり駆動電圧を低減することができる。
 なお、ホール注入輸送層104については、上記のような金属酸化物を以って形成する他に、PEDOT(ポリチオフェンとポリスチレンスルホン酸との混合物)などを用い形成することもできる。
 e)バンク105
 バンク105は、樹脂等の有機材料で形成されており絶縁性を有する。バンク105の形成に用いる有機材料の例としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂等があげられる。そして、バンク105は、有機溶剤耐性を有することが好ましい。
 さらに、バンク105の形成においては、エッチング処理およびベーク処理などが施されるので、それらの処理に対して過度に変形、変質などをしないような耐性の高い材料で形成されることが好ましい。また、撥水性をもたせるために、側面部をフッ素処理することもできる。
 なお、バンク105の形成に用いる絶縁材料については、上記の各材料をはじめ、特に抵抗率が105[Ω・cm]以上であって、撥水性を有する材料を用いることができる。これは、抵抗率が105[Ω・cm]以下の材料を用いた場合には、アノード電極102とカソード電極108との間でのリーク電流、あるいは隣接画素部100間でのリーク電流の発生の原因となり、消費電力の増加などの種々の問題を生じることになるためである。
 また、バンク105を親水性の材料を用い形成した場合には、バンク105の側面部とホール注入輸送層104の表面との親和性/撥水性の差異が小さくなり、有機発光層106を形成するために有機物質を含んだインクを、バンク105の開口部に選択的に保持させることが困難となってしまうためである。
 さらに、バンク105の構造については、図2に示すような一層構造だけでなく、二層以上の多層構造を採用することもできる。この場合には、層毎に上記材料を組み合わせることもできるし、層毎に無機材料と有機材料とを用いることもできる。
 f)有機発光層106
 有機発光層106は、アノード電極102から注入されたホールと、カソード電極108から注入された電子とが再結合されることにより励起状態が生成され発光する機能を有する。有機発光層106の形成に用いる材料は、湿式印刷法を用い製膜できる発光性の有機材料を用いることが必要である。
 具体的には、例えば、特許公開公報(特開平5-163488号公報)に記載のオキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、アンスラセン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8-ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2-ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体などの蛍光物質で形成されることが好ましい。
 g)電子注入層107
 電子注入層107は、カソード電極108から注入された電子を有機発光層106へ輸送する機能を有し、例えば、バリウム、フタロシアニン、フッ化リチウム、あるいはこれらの組み合わせで形成されることが好ましい。
 h)カソード電極108
 カソード電極108は、例えば、ITO、IZO(酸化インジウム亜鉛)などで形成される。トップエミッション型の表示パネル10の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。光透過性については、透過率が80[%]以上とすることが好ましい。
 カソード電極108の形成に用いる材料としては、上記の他に、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属、またはそれらのハロゲン化物を含む層と銀を含む層とをこの順で積層した構造を用いることもできる。上記において、銀を含む層は、銀単独で形成されていてもよいし、銀合金で形成されていてもよい。また、光取出し効率の向上を図るためには、当該銀を含む層の上から透明度の高い屈折率調整層を設けることもできる。
 i)封止層109
 封止層109は、有機発光層106などが水分に晒されたり、空気に晒されたりすることを抑制する機能を有し、例えば、SiN(窒化シリコン)、SiON(酸窒化シリコン)などの材料を用い形成される。トップエミッション型の表示パネル10の場合においては、光透過性の材料で形成されることが好ましい。
 3.バンク105の構成
 図3に示すように、本実施の形態に係る表示パネル10では、一例としてライン状のバンク105を採用している。具体的には、バンク105は、各々がY軸方向に延伸形成され、X軸方向において隣接する画素部100間を区画している。そして、画素部100は、バンク105により区画された領域ごとに、発光色が異なるように形成されている。
 4.領域ごとのバンク105の構成
 領域ごとのバンク105の構成について、図4を用い説明する。なお、図4は、図1における表示パネル10をA-A'断面で切断し、模式化した断面図である。
 図4に示すように、表示パネル10から、中央部に位置する画素部100aと、外周部に位置する画素部(配列された複数の画素部の内、配列端部に位置する画素部)100b,100cとを抜き出し、各画素部100a,100b,100cのそれぞれの両脇にバンク105a~105fが配されているとする。
 画素部100aに対応するバンク105a,105bでは、その側面部105aa,105baと下地層であるホール注入輸送層104の表面104aとが、それぞれ角度θa,θbをなす。
 一方、画素部100b,100cのそれぞれに対応するバンク105c~105fでは、各側面部105ca~105faとホール注入輸送層104の表面104aとが、それぞれ角度θc~θfをなす。このとき、角度θa~θfは、次の各式で示す関係を満足する。
 [数1]  θf>θb
 [数2]  θc>θa
 [数3] θa=θb=θd=θe
 なお、本実施の形態では、角度θa,θb,θd,θeを25[°]以上30[°]以下の範囲内の角度とし、角度θc,θfを35[°]以上40[°]以下の範囲内の角度とする。
 5.バンク105における側面部の傾斜角度θと有機発光層106の膜厚との関係
 バンク105における側面部の傾斜角度θと有機発光層106の膜厚との関係について、図5および図6を用い説明する。なお、図5では、画素部の構造を模式的に描いている。
 図5(a)に示すように、バンク105xの側面部の傾斜角度(側面部とホール注入輸送層104の表面とがなす角度)が角度θxであり、図5(b)に示すように、バンク105yの側面部の傾斜角度(側面部とホール注入輸送層104の表面とがなす角度)が角度θyである。角度θxと角度θyとは、次の関係を満たす。
 [数4] θy>θx
 各バンク105x,105yで区画された開口部に有機発光材料を含むインク1060x,1060yを滴下すると、各ピンニング位置Px,Pyの高さHx,Hyが次のような関係となる。
 [数5] Hy>Hx
 図5(c)に示すように、インク1060xを乾燥させると、ピンニング位置Pxの高さHxが相対的に低いことに起因して、形成される有機発光層106xでは、画素部の中央部分が盛り上がり、その膜厚が厚みTxとなる。
 一方、図5(d)に示すように、インク1060yを乾燥させると、ピンニング位置Pyの高さHyが相対的に高いことに起因して、形成される有機発光層106yでは、画素部の中央部分が凹み、その膜厚が厚みTyとなる。
 厚みTxと厚みTyとは、次の関係を満たす。
 [数6] Tx>Ty
 上記の関係を図6に纏めて示す。図6に示すように、バンク105の傾斜角度(テーパ角)θを小さくすれば、ピンニング高さHが低くなり、結果的に得られる有機発光層106の膜厚Tが厚くなる。逆に、バンク105の傾斜角度(テーパ角)θを大きくすれば、ピンニング高さHが高くなり、結果的に得られる有機発光層106の膜厚Tが薄くなる。
 以上の事項について、5つのサンプルを作成して評価した。結果を図7および図8に示す。
 図7および図8に示すように、サンプル2の膜厚分布に対し、テーパ角を大きくしたサンプル3およびサンプル4では、ピンニング位置が高くなっている。なお、図7および図8では、横軸が横方向を示し、縦軸が高さ方向を示す。
 ただし、バンクのテーパ角(傾斜角度)を50[°]まで大きくしたサンプル5では、サンプル2よりも膜厚の均一性が低下した。
 6.表示パネル10の製造方法
 本実施の形態に係る表示パネル10の製造方法について、図9および図10を用い、特徴となる部分を説明する。なお、以下で説明を省略する製造工程については、従来技術として提案されている種々の工程を採用することが可能である。
 先ず、図9(a)に示すように、基板101におけるZ軸方向上面に、各画素部100a,100c,・・を形成する予定領域に対応して、アノード電極102と電極被覆層103とを順に積層形成する。そして、その上から、表面全体を覆うように、ホール注入輸送層104を積層形成する。アノード電極102の形成は、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法を用いAg薄膜を製膜した後、当該Ag薄膜をフォトリソグラフィ法を用いパターニングすることによりなされる。
 また、電極被覆層103の形成は、例えば、アノード電極102の表面に対し、スパッタリング法などを用いITO薄膜を製膜し、当該ITO薄膜をフォトリソグラフィ法などを用いパターニングすることでなされる。そして、ホール注入輸送層104の形成では、先ず、電極被覆層103の表面を含む基板101の表面に対し、スパッタリング法などを用い金属膜を製膜する。その後、形成された金属膜を酸化し、ホール注入輸送層104が形成される。
 次に、図9(b)に示すように、例えば、スピンコート法などを用い、ホール注入輸送層104の上を覆うように、バンク材料層1050を形成する。バンク材料層1050の形成には、感光性レジスト材料を用い、具体的には、上述のように、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック型フェノール樹脂などの絶縁性を有する有機材料を用いることができる。
 次に、図9(c)に示すように、バンク材料層1050の上方に、バンクを形成しようとする箇所に開口501a,501cが設けられたマスク501を配する。この状態でマスク501の開口501a,501cを通して、露光を実行する。
 なお、図9(c)に示すように、中央部に位置する画素部100aに相当する領域では、マスク501の開口501aの幅Waが、形成しようとするバンク105a,105b(図4を参照。)の側面部の下端のポイントPa1,Pa2により規定されている。一方、外周部に位置する画素部100cに相当する領域では、マスクの開口501aの幅Wc1が、形成しようとするバンク105e,105f(図4を参照。)の側面部の上端のポイントPc1と裾部分のポイントPc2とにより規定されている。
 次に、図10(a)に示すように、バンク材料層1050の上方に、バンク105fの側面部105fa(図4を参照。)などに対応する箇所にそれぞれ開口502cが設けられたマスク502を配する。そして、この状態でマスク502の開口502cを通して、2回目の露光を実行する。
 なお、マスク502における開口502cの幅Wc2は、形成しようとするバンク105e,105fの側面部の下端のポイントPc3と上端のポイントPc1とにより規定されている。
 次に、図10(b)に示すように、現像およびベークを施すことによって、バンク105a,105c,105e,105fが形成される。バンク105fにおける側面部105faは、上述のように、バンク105a,105bの各側面部105aa,105baよりも傾斜角度が大きくなり、バンク105eの側面部105eaは、バンク105a,105bの各側面部105aa,105baの傾斜角度と等しくなる。
 その後、図10(c)に示すように、インクジェット法などを用い、バンク105a,105b,105e,105f,・・などで区画された開口部に対し、有機発光材料を含むインクを滴下する。インクを乾燥させることにより、有機発光層106a,106cが形成される。
 なお、図示を省略しているが、この後に、電子注入層107,カソード電極108および封止層109などを順に積層形成することで表示パネル10が形成される。
 7.効果
 図4に示すように、本実施の形態に係る表示装置1の表示パネル10では、画素部100b,100cにおけるバンク105c,105fにおいて、その各側面部105ca,105faの傾斜角度θc,θfが、画素部100aのバンク105a,105bの各側面部105aa,105baの傾斜角度θa,θbよりも大きく設定されている。このため、画素部100aと画素部100b,100cとでは、その製造時におけるインクを滴下した際のピンニング位置が、互いに異なることになる。具体的には、傾斜角度θc,θfが大きいバンク105c,105fに対応するインクのピンニング位置の高さは、傾斜角度θa,θbが小さいバンク105a,105bに対応するインクのピンニング位置の高さよりも高くなる。
 また、バンク105d,105eにおける側面部105da,105eaの傾斜角度θd,θeについては、バンク105a,105bにおける側面部105aa,105baの各傾斜角度θa,θbと等しくなっている。このため、当該各部分に対応する有機発光層106の膜厚は、パネル内で等しくなる。
 従って、表示パネル10では、乾燥後における有機発光層106の膜厚が、画素部100a,100b,100cで均一となり、輝度ムラが小さいという効果を有する。
 なお、図9および図10を用い説明した本実施の形態に係る表示装置1の製造方法を用いれば、上記効果を有する表示装置1の製造が可能である。
 また、上記のように、「等しく」とは、数値面で完全に等しくするということを意味するのではなく、表示装置の製造における寸法誤差などを考慮したものである。具体的には、パネルの中央部と外周部とにおいて、それぞれに属する画素部100a,100b,100c,・・の発光効率の差異(輝度ムラ)が実用上許容できる範囲で、傾斜角度を等しくするということを意味する。
 [変形例1]
 次に、図11を用い、表示装置1の製造方法の変形例1について説明する。図11は、図9(c)から図10(a)に示す工程に対応する工程を示す。
 図11に示すように、ホール注入輸送層104の上にバンク材料層1050を積層形成した後、その上方にマスク503を配する。マスク503には、光透過部503a,503c1,503c2,・・が設けられている。各光透過部503a,503c1,503c2,・・は、バンク105a~105f,・・を形成しようとする箇所に対応して設けられている。
 本変形例1に係る表示装置1の製造方法では、画素部100aに対応した領域の光透過部503aの幅Waが、形成しようとするバンク105a,105b(図4を参照。)の下端のポイントPa1,Pa2により規定されている。
 一方、画素部100cに対応した領域の光透過部503c1の幅Wc2は、形成しようとするバンク105e,105f(図4を参照。)の下端のポイントPc2および上端のポイントPc1により規定されている。また、光透過部503c2は、形成しようとするバンク105e,105f(図4を参照。)の下端のポイントPc3,Pc1により規定されている。
 ここで、マスク503は、ハーフトーンなどのマスクを用い構成されており、光透過部503a,503c1と光透過部503c2との光の透過率が異なっている。具体的には、光透過部503c2の光の透過率は、光透過部503a,503c1の光の透過率よりも大きい。
 以上のような構成を有するマスク503を配した状態で、露光・現像を実行した後、ベークすることにより、図10(b)に示すような、バンク105a,105b,105e,105fを形成することができる。即ち、光の透過率が大きく設定された光透過部503c2を通して露光された箇所では、他の光透過部503a,503c1を通して露光された箇所よりも、上記[数1]、[数2]で示す関係のように、側壁面の傾斜角度が大きくなる。
 なお、この後の工程は、上記実施の形態などと同様である。
 以上のような製造方法によっても、表示装置1を製造することができる。
 [変形例2]
 次に、図12および図13を用い、表示装置1の製造方法の変形例2について説明する。図12および図13は、図9(c)から図10(b)に示す工程に対応する工程を示す。
 図12(a)に示すように、ホール注入輸送層104の上にバンク材料層1050を積層形成した後、その上方にマスク504を配する。マスク504には、バンク105を形成しようとする各箇所に対応して、開口504a,504c,・・が設けられている。
 画素部100aに対応してバンク105a,105b(図4を参照。)を形成しようとする箇所に設けられた開口504aは、上記実施の形態の製造方法で用いたマスク501の開口501aと同じ幅を以って形成されている。一方、画素部100cに対応してバンク105e,105f(図4を参照。)を形成しようとする箇所に設けられた開口504cの幅Wc3は、図12(a)の二点鎖線で囲んだ部分に示すように、バンク105e,105fの下端のポイントPc2,Pc3で規定される幅よりも大きくなるように設定されている。具体的には、傾斜角度を大きくしようとする箇所で、幅を大きくしている。
 図12(a)に示す形態のマスク504を配した状態で、1回目の露光・現像を実行する。これにより、図12(b)に示すように、開口504a,504cに対応する箇所にバンク材料層1051a,1051b,1051e,1051fが残る。
 なお、図12(b)に示すように、1回目の露光・現像を実行した状態では、バンク材料層1051a,1051b,1051e,1051fの各側面部の傾斜角度は、均一である。また、本変形例2においては、この時点でのベークを行わない。
 図13(a)に示すように、バンク材料層1051a,1051b,1051e,1051fが形成された状態で、その上方に、マスク505を配する。マスク505には、形成しようとするバンク105a~105f,・・の側面部に対応する箇所の内、傾斜角度を大きくしようとする箇所にだけ開口505cが設けられている。
 マスク505を配した状態で、2回目の露光・現像を行った後、ベークをすることにより、図13(b)に示すようなバンク105a,105b,105e,105f,・・が形成できる。
 この後、上記実施の形態などと同様の工程を実行することにより、表示装置1を製造することができる。
 [製造方法の検証]
 上記実施の形態および変形例1,2に係る各製造方法について、具体例を以って形成後のバンク形状について検証を行った。その結果について、図14を用い説明する。
 図14(a)に示すように、露光量を増やすほど、形成されるバンク側面部の傾斜角度が大きくなる。具体的には、露光量を200[mJ]として露光・現像した場合に形成されるバンク側面部の傾斜角度は、23[°]であるのに対して、露光量を300[mJ]として露光・現像した場合に形成されるバンク側面部の傾斜角度は、38[°]である。この結果については、図14(b)に示すAFM(Atomic Force Microscope)にも示されている。
 さらに、図14(a)および図14(b)に示すように、露光量を200[mJ]として1回目の露光・現像を行った後、露光量を100[mJ]として2回目の露光・現像を行った場合には、形成されるバンク側面部の傾斜角度が50[°]となる。これは、上記変形例2に係る製造方法に対応するものであり、バンク側面部の傾斜角度を大きくするのに有効であると考えられる。
 なお、図14(b)において、横軸は横方向を示し、縦軸は高さ方向を示す。
 [その他の事項]
 上記実施の形態および変形例1,2では、本発明の構成および作用・効果を分かりやすく説明するために一例としての各構成を採用するものであり、本発明は、本質的な部分を除き、上記形態に限定されるものではない。例えば、上記実施の形態では、図2に示すように、有機発光層106に対し、そのZ軸方向下側にアノード電極102が配されている構成を一例として採用したが、本発明は、これに限らず有機発光層106に対し、そのZ軸方向下側にカソード電極108が配されているような構成を採用することもできる。
 有機発光層106に対し、そのZ軸方向下側にカソード電極108を配する構成とする場合には、トップエミッション構造となるので、カソード電極108を反射電極層とし、その上に電極被覆層103を形成する構成を採用することになる。
 また、上記実施の形態などでは、表示装置1の具体的な外観形状を示さなかったが、例えば、図15に示すようなシステム一部とすることができる。なお、有機EL表示装置は、液晶表示装置のようなバックライトを必要としないので、薄型化に適しており、システムデザインという観点から優れた特性を発揮する。
 また、上記実施の形態および変形例1,2では、バンク105の形態として、図3に示すような、所謂、ラインバンク構造を採用したが、図16に示すような、Y軸方向に延伸するバンク要素305aとX軸方向に延伸するバンク要素305bとからなるピクセルバンク305を採用して表示パネル30を構成することもできる。
 図16に示すように、ピクセルバンク305を採用する場合には、パネル外周部の画素部300に対し、そのX軸方向およびY軸方向の各外側となる側壁部の傾斜角度を大きくすることで、上記同様の効果を得ることができる。具体的には、矢印B1,B2,B3,B4で指し示す側壁部を有する画素部がパネル外周部の角部に該当する構成において、矢印B1,B3で指し示す側壁部の傾斜角度を、矢印B2,B4で指し示す側壁部の傾斜角度よりも大きくなるようにすればよい。
 また、上記実施の形態および変形例1,2では、パネル外周部に形成するバンクの外側の側壁部の傾斜角度を、パネル中央部の対応するバンク側面部の傾斜角度よりも大きくすることとしたが、この関係については、製造時の有機発光層の形成に係る乾燥工程での蒸気の流れ(蒸気濃度)に応じて適宜変更することができる。例えば、乾燥装置の構造などで、インクの乾燥時における蒸気の流れが、パネル外周部からパネル中央部に向けた方向であるような場合には、有機発光層の膜厚が厚くなる箇所に対応して、バンク側面部の傾斜角度を大きくすればよい。これにより、有機発光層の膜厚を均一化することができ、パネル全体における輝度ムラを低減することができる。
 また、上記実施の形態および変形例1,2では、画素部における発光色(赤色、緑色、青色)を区別していないが、発光色に応じて有機発光材料を含むインクの特性が変化する。この場合、各発光色のインク特性に応じて、対応するバンク側面部の傾斜角度を規定することができる。
 また、バンク側面部の傾斜角度を大きくする対象となる領域については、製造工程やパネルサイズなどに応じて適宜規定することができるが、例えば、パネルにおける外周部の0.5[%]~数[%]程度(例えば、1[%])の画素部を対象とすることが望ましいと考えられる。これは、図17(c)に示す従来技術に係る表示装置での有機発光層の膜厚バラツキを考慮することによるものである。
 本発明は、輝度ムラが少なく、高い画質性能を有する表示装置を実現するに有用である。
   1.表示装置
  10,30.表示パネル
  20.駆動制御部
  21~24.駆動回路
  25.制御回路
 100,100a~100c,300.画素部
 101.基板
 102.アノード電極
 103.電極被覆層
 104.ホール注入層
 105,105a~105f,105x,105y,305.バンク
 106,106a,106c,106x,106y.有機発光層
 107.電子注入層
 108.カソード電極
 109.封止層
 501~505.露光マスク
1050,1051a,1051b,1051e,1051f.バンク材料層
1060x,1060y.インク

Claims (18)

  1.  複数の画素部が配列されてなる表示装置であって、
     各画素部は、第1電極および第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間に介挿された有機発光層とを有し構成されており、
     前記第1電極の上方には、前記有機発光層を前記画素部ごとに区画する複数のバンクが立設されており、
     前記複数の画素部には、前記配列の中央部側に位置する第1画素部と、当該第1画素部に対して、前記配列の端部側に位置する第2画素部とが含まれており、
     前記複数のバンクには、前記第1画素部における前記有機発光層を前記配列の端部側で区画する第1バンクと、前記第1画素部における前記有機発光層を前記配列の中央部側で区画する第2バンクと、前記第2画素部における前記有機発光層を前記配列の端部側で区画する第3バンクと、前記第2画素部における前記有機発光層を前記配列の中央部側で区画する第4バンクとが含まれており、
     前記第3バンクにおける前記第2画素部に対応する側面部は、前記第1バンクにおける前記第1画素部に対応する側面部に対し、その傾斜角度が異なる
     ことを特徴とする表示装置。
  2.  前記第3バンクにおける前記側面部は、前記第1バンクにおける前記側面部に対し、その傾斜角度が大きい
     ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
  3.  前記第2バンクにおける前記第1画素部に対応する側面部は、前記第4バンクにおける前記第2画素部に対応する側面部に対し、その傾斜角度が等しくなるよう形成されている
     ことを特徴とする請求項2に記載の表示装置。
  4.  前記第1バンクにおける前記側面部は、前記第2バンクにおける前記第1画素部に対応する側面部、および前記第4バンクにおける前記第2画素部に対応する側面部に対し、その傾斜角度が等しくなるように形成されている
     ことを特徴とする請求項2に記載の表示装置。
  5.  前記第3バンクにおける前記側面部は、前記傾斜角度が35°以上40°以下の範囲内であり、
     前記第1バンクにおける前記側面部は、前記傾斜角度が25°以上30°以下の範囲内である
     ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
  6.  前記第2バンクにおける前記第1画素部に対応する側面部、および前記第1バンクにおける前記側面部は、前記傾斜角度が25°以上30°以下の範囲内である
     ことを特徴とする請求項5に記載の表示装置。
  7.  前記傾斜角度は、前記バンクにおける各側面部と、前記バンクが設けられている下地層の上面とがなす角度である
     ことを特徴とする請求項1に記載の表示装置。
  8.  複数の画素部が配列されてなる表示装置の製造方法であって、
     基板上に、第1電極を含む機能層を形成する第1工程と、
     前記機能層の上に、感光性レジスト材料を積層する第2工程と、
     前記積層された感光性レジスト材料をマスク露光してパターニングすることにより、複数の画素部に対応する複数の開口部を形成するとともに、隣接する前記開口部間を区画する複数のバンクを形成する第3工程と、
     前記複数の開口部のそれぞれに対して、有機発光材料を含むインクを滴下して乾燥させ、有機発光層を形成する第4工程と、
     前記有機発光層の上方に、第2電極を形成する第5工程と、
     を有し、
     前記複数の開口部には、前記配列の中央部側に位置する第1開口部と、当該第1開口部に対して、前記配列の端部側に位置する第2開口部とが含まれており、
     前記複数のバンクには、前記第1開口部に対し、前記配列の端部側で区画する第1バンクと、前記第1開口部に対し、前記配列の中央部側で区画する第2バンクと、前記第2開口部に対し、前記配列の端部側で区画する第3バンクと、前記第2開口部に対し、前記配列の中央部側で区画する第4バンクとが含まれており、
     前記第3工程では、第3バンクにおける前記第2開口部に対応する側面部の傾斜角度と、前記第1バンクにおける前記第1開口部に対応する側面部の傾斜角度とが異なるように、前記第1バンクおよび前記第3バンクの形成を行う
     ことを特徴とする表示装置の製造方法。
  9.  前記第3工程では、第3バンクにおける前記側面部の傾斜角度が、前記第1バンクにおける前記側面部の傾斜角度よりも大きくなるように、前記前記第1バンクおよび前記第3バンクの形成を行う
     ことを特徴とする請求項8に記載の表示装置の製造方法。
  10.  前記第3工程では、前記第2バンクにおける前記第1開口部に対応する側面部の傾斜角度と、前記第4バンクにおける前記第2開口部に対応する側面部の傾斜角度とが等しくなるように、前記第2バンクおよび前記第4バンクの形成を行う
     ことを特徴とする請求項9に記載の表示装置の製造方法。
  11.  前記第3工程では、前記第1バンクにおける前記側面部の傾斜角度と、前記第2バンクにおける前記第1開口部に対応する側面部の傾斜角度、および前記第4バンクにおける前記第2開口部に対応する側面部の傾斜角度とが等しくなるように、前記第1バンクおよび前記第2バンクおよび前記第4バンクの形成を行う
     ことを特徴とする請求項10に記載の表示装置の製造方法。
  12.  前記第4工程では、
     前記第3工程の実行により、前記第3バンクにおける前記側面部の傾斜角度が、前記第1バンクにおける前記側面部の傾斜角度よりも大きくなるように、前記第1バンクおよび前記第3バンクを形成することにより、前記第1開口部および前記第2開口部に滴下された前記インクのピンニング位置を合わせ、以って、乾燥後の前記有機発光層の形状を揃える
     ことを特徴とする請求項11に記載の表示装置の製造方法。
  13.  前記第3工程では、前記感光性レジスト材料の露光に関し、前記第3バンクの前記側面部に相当する部分への露光量と、前記第1バンクの前記側面部に相当する部分への露光量とを、互いに異ならせることにより、前記傾斜角度を互いに異ならせる
     ことを特徴とする請求項8に記載の表示装置の製造方法。
  14.  前記第3工程では、前記第3バンクの前記側面部に相当する部分への露光量を、前記第1バンクの前記側面部に相当する部分への露光量よりも大きくする
     ことを特徴とする請求項13に記載の表示装置の製造方法。
  15.  前記第3工程では、前記感光性レジスト材料の露光に関し、前記第3バンクの前記側面部に相当する部分への光の透過率と、前記第1バンクの前記側面部に相当する部分への光の透過率とが、互いに異なるマスクを用いることにより、前記傾斜角度を互いに異ならせる
     ことを特徴とする請求項8に記載の表示装置の製造方法。
  16.  前記第3工程では、前記第3バンクの前記側面部に相当する部分への光の透過率が、前記第1バンクの前記側面部に相当する部分への光の透過率よりも大きいマスクを用いて露光する
     ことを特徴とする請求項15に記載の表示装置の製造方法。
  17.  前記第3工程では、前記第3バンクの前記側面部に相当する部分と、前記第1バンクの前記側面部に相当する部分とに関し、前記感光性レジスト材料を露光して現像した後、前記第3バンクの前記側面部に相当する部分または前記第1バンクの前記側面部に相当する部分の一方に対して、露光処理を追加して行うことにより、前記傾斜角度を互いに異ならせる
     ことを特徴とする請求項8に記載の表示装置の製造方法。
  18.  前記第3工程において、前記第3バンクの前記側面部に相当する部分に対して、前記露光処理を追加して行う
     ことを特徴とする請求項17に記載の表示装置の製造方法。
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