WO2011065112A1 - ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 - Google Patents

ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 Download PDF

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WO2011065112A1
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聡 松本
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浜松ホトニクス株式会社
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    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Definitions

  • the present invention relates to a glass welding method for manufacturing a glass welded body by welding glass members together, and a glass layer fixing method therefor.
  • a glass layer containing a laser light-absorbing pigment is baked on one glass member along the planned welding region, and then the other glass is placed on the glass member via the glass layer.
  • a method is known in which one glass member and the other glass member are welded by overlapping the members and irradiating a laser beam along a planned welding region.
  • the glass layer is fixed to the glass member by removing the organic solvent and the binder from the paste layer containing the glass frit, the laser light absorbing pigment, the organic solvent and the binder. Then, the technique which fuses a glass layer by heating the glass member which the glass layer fixed in the baking furnace, and bakes a glass layer on a glass member is common (for example, refer patent document 1).
  • this invention is made
  • the present inventors have found that the welded state between the glass members becomes non-uniform because the temperature of the glass layer during melting is the melting point Tm as shown in FIG. It has been found that the glass layer has a laser beam absorptivity abruptly higher than that. That is, in the glass layer disposed in the glass member, light scattering exceeding the absorption characteristics of the laser light absorbing pigment occurs due to the particle properties of the glass frit, and the laser light absorption rate is low (for example, Looks whitish under visible light).
  • the absorption characteristics of the laser-light-absorbing pigment appear remarkably, for example, due to the melting of the glass frit and the loss of particle properties.
  • the light absorption rate increases rapidly (for example, it looks blackish or greenish under visible light). For this reason, a region having a low laser light absorption rate tends to remain particularly in the vicinity of the irradiation start position of the laser light.
  • a glass member is welded through the glass layer which has an area
  • the binder remains in the region where the laser light absorption rate is low without being sufficiently decomposed.
  • the melting point of the glass frit is higher than the decomposition point of the binder. Will solidify. Thereby, when many bubbles are formed in the glass layer and the bubbles are connected, there is a possibility that leakage occurs in the glass layer of the glass welded body.
  • the glass welding method according to the present invention is a glass welding method for manufacturing a glass welded body by welding a first glass member and a second glass member, and includes a binder, a laser light absorbing material, and glass powder.
  • the step of disposing the glass layer to be included in the first glass member along the planned welding region and irradiating the first laser light along the planned welding region gasifies the binder and melts the glass powder.
  • a step of welding the first glass member and the second glass member by superimposing and irradiating the glass layer with a second laser beam.
  • the glass layer fixing method according to the present invention is a glass layer fixing method for manufacturing a glass layer fixing member by fixing a glass layer to a first glass member, and includes a binder, a laser light absorbing material, and glass powder.
  • the step of arranging the glass layer on the first glass member along the planned welding region and irradiating the first laser light along the planned welding region gasify the binder and melt the glass powder.
  • a step of fixing the glass layer to the first glass member and increasing the laser light absorption rate of the glass layer is a glass layer fixing method for manufacturing a glass layer fixing member by fixing a glass layer to a first glass member, and includes a binder, a laser light absorbing material, and glass powder.
  • a glass layer containing a binder, a laser light absorber, and glass powder is irradiated with a first laser beam to gasify the binder and melt the glass powder.
  • the glass layer is fixed to the glass member 1.
  • a binder is escaped and a laser beam absorptivity increases and it is in a uniform state.
  • the welded state of the glass members can be made uniform by welding the first glass member and the second glass member through such a stable glass layer. Therefore, according to these glass welding methods and glass layer fixing methods, it is possible to manufacture a highly reliable glass welded body.
  • FIG. 3 is a perspective view of a glass welded body manufactured by the glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a perspective view for explaining a glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a plan view for explaining the glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view for explaining the glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a plan view for explaining the glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a perspective view for explaining a glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 5 is a perspective view for explaining a glass welding method according to the first embodiment.
  • FIG. 1 is a perspective view of a glass welded body manufactured by one embodiment of a glass welding method according to the first embodiment.
  • the glass welded body 101 includes a glass member (first glass member) 104 and a glass member (second glass member) through a glass layer 103 formed along the planned welding region R. ) 105 is welded.
  • the glass members 104 and 105 are, for example, rectangular plate-like members made of non-alkali glass and having a thickness of 0.7 mm, and the planned welding region R is a rectangular ring having a predetermined width along the outer edges of the glass members 104 and 105.
  • the glass layer 103 is made of, for example, low-melting glass (vanadium phosphate glass, lead borate glass, or the like), and is formed in a rectangular ring shape having a predetermined width along the planned welding region R.
  • a glass welding method for manufacturing the glass welded body 101 described above in order to manufacture the glass welded body 101 by welding the glass member 104 and the glass member 105, the glass layer 103 is fixed to the glass member 104.
  • a glass layer fixing method for producing a glass layer fixing member in order to manufacture the glass welded body 101 by welding the glass member 104 and the glass member 105, the glass layer 103 is fixed to the glass member 104.
  • a glass layer fixing method for producing a glass layer fixing member for producing a glass layer fixing member.
  • a paste layer 106 is formed on the surface 104a of the glass member 104 along the planned welding region R by applying a frit paste by a dispenser, screen printing or the like.
  • the frit paste is, for example, a powdery glass frit (glass powder) 102 made of low-melting glass (vanadium phosphate glass, lead borate glass, etc.), or a laser light absorbing pigment (laser) that is an inorganic pigment such as iron oxide.
  • a light absorbing material an organic solvent such as amyl acetate, and a binder that is a resin component (nitrocellulose, ethylcellulose, acrylic, etc.) that thermally decomposes below the softening point temperature of the glass.
  • the frit paste may be obtained by kneading a glass frit (glass powder) obtained by powdering a low-melting glass to which a laser light absorbing pigment (laser light absorbing material) is added in advance, an organic solvent, and a binder. That is, the paste layer 106 includes the glass frit 102, the laser light absorbing pigment, the organic solvent, and the binder.
  • the paste layer 106 is dried to remove the organic solvent, thereby fixing the glass layer 103 extending with a predetermined width along the surface 104 a of the glass member 104 along the planned welding region R.
  • the glass layer 103 including the binder, the laser light absorbing pigment, and the glass frit 102 is disposed on the glass member 104 along the annular welding planned region R.
  • the glass layer 103 fixed to the surface 104a of the glass member 104 is in a state in which light scattering exceeding the absorption characteristics of the laser light absorbing pigment occurs due to the particle property of the glass frit 102 and the laser light absorption rate is low. (For example, it looks whitish in visible light).
  • the laser beam L ⁇ b> 1 is irradiated with a focused spot on one corner of the glass layer 103 formed in a rectangular ring shape along the planned welding region R.
  • the spot diameter of the laser beam L1 is set so as to be larger than the width of the glass layer 103, and the power of the laser beam 1 irradiated on the glass layer 103 is the same in the width direction (direction substantially orthogonal to the traveling direction of the laser beam). It is adjusted to be about. Thereby, a part of the glass layer is melted equally in the entire width direction, and the laser beam absorbing portion 108a having a high laser beam absorption rate is formed in the entire width direction. Thereafter, as shown in FIG.
  • the remaining three corners of the glass layer 103 are similarly irradiated with the laser light L1 in order to form laser light absorbing portions 108b, 108c, and 108d.
  • the absorption characteristics of the laser beam absorbing pigment appear remarkably due to the collapse of the particle property due to the melting of the glass frit 102 in a part (corner portion) of the glass layer.
  • the laser light absorption rate is higher than that of the region not irradiated with the laser light (for example, only the corner portions corresponding to the laser light absorption portions 108a to 108d appear dark in visible light).
  • the irradiation of the laser light L2 is started with the laser light absorption portion 108a having a laser light absorption rate increased in advance as the irradiation start position, so that the glass layer 103 is melted immediately from the irradiation start position.
  • a stable region in which the melting is stable over the entire width direction a region where the glass layer is melted over the entire width direction
  • the glass layer 103 is unstable over the entire region to be welded R.
  • the region region where the glass layer is melted only in a part in the width direction
  • the laser beam absorbing portions 108b to 108d are also provided in the remaining three corner portions, the corner portions that are likely to be loaded when functioning as a glass welded body are surely melted during baking. ing.
  • the glass layer 103 baked on the surface 104a of the glass member 104 has a remarkable absorption characteristic of the laser-absorbing pigment due to, for example, a loss of particle property due to melting of the glass frit 102 over the entire region R to be welded.
  • the laser light absorption rate is high (for example, it looks dark in visible light).
  • the glass layer fixing member 10 (that is, the glass member 4 to which the glass layer 3 is fixed) is glass.
  • the glass member 5 is overlaid through the layer 3.
  • the laser beam L ⁇ b> 3 is irradiated along the planned welding region R by aligning the focused spot on the glass layer 103.
  • the laser light L3 is absorbed by the glass layer 103 having a high and uniform laser light absorption rate over the entire region to be welded R, and the glass layer 103 and its peripheral portions (the surfaces of the glass members 104 and 105).
  • 104a and 105a) are melted and re-solidified to the same extent, and the glass member 104 and the glass member 105 are welded (in the welding, the glass layer 103 is melted and the glass members 104 and 105 may not be melted).
  • melting of the glass layer 103 baked on the glass member 104 is formed as a stable region stably performed over the entire region to be welded R, and the binder is also sufficiently removed.
  • 105 is uniformly welded along the planned welding region R.
  • the laser light L2 is applied to the glass layer 103 including the binder, the laser light absorbing pigment, and the glass frit 102.
  • the binder is gasified and the glass frit 102 is melted to fix the glass layer 103 to the glass member 104.
  • the binder is released, and the laser light absorptance is increased to be in a uniform state.
  • the glass member 104 and the glass member 105 are welded through the glass layer 103 in such a stable state, whereby the welded state between the glass members 104 and 105 can be made uniform. Therefore, according to the above glass welding method and glass layer fixing method, it is possible to manufacture the glass welded body 101 with high reliability.
  • the glass layer 103 is melted and the glass layer 103 is fixed to the glass member 104, a part of the glass layer 103 is irradiated with the laser beam L1.
  • the laser light absorbing portions 108 a to 108 d that are melted and have a laser absorption rate higher than that of the portion not irradiated with the laser light L 1 are formed in advance at the four corners of the glass layer 103.
  • the glass member 104 is melted by irradiating the laser beam L2 along the planned welding region R with one laser light absorbing portion 108a of the plurality of laser light absorbing portions 108a to 108d as an irradiation start position.
  • the glass layer 103 is fixed to the substrate.
  • the irradiation start position of the laser beam L2 is the laser beam absorbing portion 108a
  • a stable region where the melting of the glass layer 103 is stable immediately from the vicinity of the starting point where the irradiation of the laser beam L2 is started can be obtained. It can.
  • the glass member 104 and the glass member 105 are welded through the glass layer 103 formed with such a stable region, the welded state between the glass members 104 and 105 can be easily made uniform. it can.
  • the viscosity of the glass layer gradually decreases until the temperature of the glass layer reaches the crystallization temperature, but tends to gradually increase when the temperature of the glass layer exceeds the crystallization temperature. This is because the crystal part is precipitated in the melted glass layer, and the crystal part (when the filler for adjusting the expansion coefficient made of ceramics or the like is included) grows as a nucleus to grow crystals. It is assumed that the fluidity of the glass layer is reduced.
  • the temperature of the molten glass layer also increases rapidly from a temperature below the crystallization temperature to a temperature above the crystallization temperature. The viscosity of the molten glass layer also increases rapidly.
  • the glass layer 103 can be fixed to the glass member 104 by melting the glass layer 103 by irradiating the laser beam L2 along the planned welding region R with the laser beam absorbing portion 108a as the irradiation start position.
  • the melting of the glass layer 103 becomes stable immediately from the vicinity of the starting point where the irradiation of the laser beam L2 is started, excessive heating of the glass layer 103 is suppressed, and a large number of bubbles are formed in the glass layer 103. Can be prevented.
  • laser light absorption is performed so that a part (corner portion) of the glass layer 103 covers the entire width of the glass layer 103 in the direction intersecting the traveling direction of the laser light L2 with respect to the planned welding region R.
  • a portion 108a is formed.
  • the laser light absorbing portion 108a is formed so as to cover the entire width, the melting of the glass layer 103 can be stabilized more quickly.
  • the laser light absorbing portions 108a to 108d are formed in a substantially circular shape so that the center portion in the direction intersecting the traveling direction of the laser light L2 with respect to the welding region R protrudes in the traveling direction of the laser light L2. With such a shape, melting in the direction intersecting with the traveling direction of the laser beam L2 is made more uniform.
  • a plurality of laser light absorbing portions 108a to 108d are intermittently formed along the planned welding region, and laser light absorption that is one of the plurality of laser light absorbing portions 108a to 108d.
  • the portion 108a is set as the irradiation start position. If the plurality of laser light absorbing portions 108a to 108d are intermittently formed along the planned welding region R in this way, the scanning speed of the laser light L2 is high, and the unstable region is likely to be formed without melting. Even in such a case, the glass layer 103 can be continuously melted and stabilized without returning to an unstable state due to the intermittent formation of the high absorption region.
  • the manufacturing period can be shortened by increasing the scanning speed, and the manufacturing yield can be improved.
  • the laser light absorbing portions 108a to 108d are formed at the corner portions, the corner portions that are likely to be loaded when the glass welded body is formed are reliably melted.
  • the present invention is not limited to the first embodiment described above.
  • the laser light absorbers 108a to 108d are formed in order, but these laser light absorbers 108a to 108d may be formed simultaneously using four lasers. Further, the step of disposing the glass layer 103 on the glass member 104 and the step of forming the laser light absorption portions 108a to 108d on the glass layer 103 may be performed substantially simultaneously.
  • a laser light absorbing portion 118d formed in a circular shape or the like may be formed, and the glass layer 103 may be baked by irradiating the laser light L2 with the laser light absorbing portions 118a to 118d as irradiation start positions. .
  • a laser beam absorbing portion is provided at the corner of the welding planned region R formed in a rectangular ring shape, as shown in FIG. 10, fan-shaped laser beam absorbing portions 118e, 118f, etc. are formed, and these lasers are formed. Baking may be performed by irradiating the laser beam L2 with the light absorbing portions 118e and 118f as the starting point.
  • the laser light absorbing portions 108a to 108d may be provided at the respective corners as shown in the first embodiment, or the straight line of the glass layer 103 may be provided.
  • a plurality of laser light absorbing portions may be provided at predetermined intervals in the shape portion.
  • the glass layer 103 is directly irradiated with the laser beam.
  • the glass layer 103 may be irradiated with the laser beam via the glass member 104.
  • FIG. 12 is a perspective view of a glass welded body manufactured by the glass welding method according to the second embodiment.
  • the glass welded body 201 includes a glass member (first glass member) 204 and a glass member (second glass member) through a glass layer 203 formed along the planned welding region R. ) 205 is welded.
  • the glass members 204 and 205 are, for example, rectangular plate-shaped members made of non-alkali glass and having a thickness of 0.7 mm
  • the planned welding region R is a rectangular ring having a predetermined width along the outer edges of the glass members 204 and 205.
  • the glass layer 203 is made of, for example, low-melting glass (vanadium phosphate glass, lead borate glass, or the like), and is formed in a rectangular ring shape having a predetermined width along the planned welding region R.
  • a glass welding method for manufacturing the glass welded body 201 described above in order to manufacture the glass welded body 201 by welding the glass member 204 and the glass member 205, the glass layer 203 is fixed to the glass member 204.
  • a glass layer fixing method for producing a glass layer fixing member in order to manufacture the glass welded body 201 by welding the glass member 204 and the glass member 205, the glass layer 203 is fixed to the glass member 204.
  • a glass layer fixing method for producing a glass layer fixing member for producing a glass layer fixing member.
  • the frit paste is, for example, a powdery glass frit (glass powder) 202 made of low-melting glass (vanadium phosphate glass, lead borate glass, etc.), or a laser light absorbing pigment (laser) that is an inorganic pigment such as iron oxide.
  • a powdery glass frit (glass powder) 202 made of low-melting glass (vanadium phosphate glass, lead borate glass, etc.), or a laser light absorbing pigment (laser) that is an inorganic pigment such as iron oxide.
  • a light absorbing material an organic solvent such as amyl acetate, and a binder that is a resin component (nitrocellulose, ethylcellulose, acrylic, etc.) that is thermally decomposed below the softening temperature of glass.
  • the frit paste may be obtained by kneading a glass frit (glass powder) obtained by powdering a low-melting glass to which a laser light absorbing pigment (laser light absorbing material) is added in advance, an organic solvent, and a binder. That is, the paste layer 206 contains the glass frit 202, the laser light absorbing pigment, the organic solvent, and the binder.
  • the paste layer 206 is dried to remove the organic solvent, so that the glass layer 203 is fixed to the surface 204a of the glass member 204 along the planned welding region R and the running region S connected to the planned welding region R. .
  • the glass layer 203 including the binder, the laser light absorbing pigment, and the glass frit 202 is disposed on the glass member 204 along the annular welding scheduled region R and the running region S.
  • the glass layer 203 fixed to the surface 204a of the glass member 204 is in a state in which light scattering exceeding the absorption characteristics of the laser light absorbing pigment occurs due to the particle property of the glass frit 202 and the laser light absorption rate is low. (For example, it looks whitish in visible light).
  • the focused spot is aligned with the irradiation start position A in the run-up area S connected to the welding planned area R of the glass layer 203, and the laser beam L1 is emitted from the irradiation start position A. Irradiation is started, and the laser beam L1 is irradiated along the run-up region S toward the planned welding region R.
  • the laser beam L1 has a temperature distribution in which the temperature of the central portion in the width direction (the direction substantially orthogonal to the traveling direction of the laser beam L1) increases, as shown in FIG.
  • the melting gradually spreads in the width direction of the glass layer 203 (direction substantially orthogonal to the laser beam traveling direction), and the melting of the glass layer 203 is wide in the vicinity of the connection position B connected to the planned welding region R. It is a stable area over the entire direction. That is, the run-up area S arranged outside the planned welding area includes the entire unstable area where the glass layer 203 is melted in a part in the width direction.
  • the glass layer 203 is continuously irradiated with the laser beam L1 along the planned welding region R beyond the connection position B between the run-up region S and the planned welding region R. As shown in FIG. The laser beam L1 is irradiated until the return. As a result, the binder is gasified and the glass frit 202 is melted over the entire circumference of the planned welding region R of the glass layer 203 disposed on the glass member 204, whereby the binder is removed and re-solidified, and the surface of the glass member 204 A glass layer 203 is baked on 204a and fixed. As a result, the glass layer fixing member (that is, the glass member 204 on which the glass layer 203 is fixed) is manufactured.
  • the irradiation of the laser beam L1 is started from the irradiation start position A in the run-up region S connected to the welding planned region R, and then the melting of the welding planned region R is started after becoming the stable region.
  • the glass layer 203 disposed on the member 204 is stably melted and re-solidified over the entire circumference of the planned welding region R, and the glass layer 203 is baked onto the surface 204 a of the glass member 204. Note that the glass layer 203 baked on the surface 204a of the glass member 204 loses its particle property due to the melting of the glass frit 202, and the absorption characteristics of the laser light absorbing pigment remarkably appear and the laser light absorption rate is high. State (eg, looks dark in visible light).
  • the glass layer fixing member 20 (that is, the glass member 204 to which the glass layer 203 has been fixed) is made of glass.
  • the glass member 205 is overlaid through the layer 203.
  • a condensing spot is aligned with the glass layer 203 and the laser beam L2 is irradiated along the planned welding region R.
  • the laser beam L2 is absorbed by the glass layer 203 having a high and uniform laser light absorption rate over the entire circumference of the planned welding region R, and the glass layer 203 and its peripheral portions (the glass members 204 and 205).
  • the surfaces 204a and 205a are melted and re-solidified to the same extent, and the glass member 204 and the glass member 205 are welded (in the welding, the glass layer 203 is melted and the glass members 204 and 205 are not melted). is there).
  • the melting of the glass layer 203 baked on the glass member 204 is formed as a stable region that is stable over the entire circumference of the welding scheduled region R, and the binder is also sufficiently removed. It is welded uniformly along the planned welding region R.
  • the laser light L1 is applied to the glass layer 203 including the binder, the laser light absorbing pigment, and the glass frit 202.
  • the binder is gasified and the glass frit 202 is melted to fix the glass layer 203 to the glass member 204.
  • the binder is released, and the laser light absorption rate is increased to be in a uniform state.
  • the welded state between the glass members 204 and 205 can be made uniform. Therefore, according to the above glass welding method and glass layer fixing method, it is possible to manufacture a highly reliable glass welded body 201.
  • the glass layer 203 when the glass layer 203 is fixed to the glass member 204, the laser beam L1 is irradiated along the run-up area S from the irradiation start position A in the run-up area S connected to the planned welding area R. Therefore, in the run-up region S, the melting of the glass layer 203 spreads in the width direction and covers the entire width direction. That is, the run-up area S includes the entire unstable area.
  • the glass layer 203 can be fixed to the glass member 204 in a state where the ratio of the stable region in the planned welding region R is increased. Since the glass member 204 and the glass member 205 are welded through the glass layer 203 in which the ratio of the stable region is increased, the welded state between the glass members 204 and 205 can be made uniform.
  • the run area S is arrange
  • the generated powder can be easily removed by washing.
  • the glass welded body 201 excellent in external appearance shape can be obtained by further including the process of removing such a run area.
  • This embodiment demonstrates the glass welding method which manufactures the several glass welded body 201 collectively.
  • a plurality of sets of rectangular annular welding scheduled regions R and running regions S1 connected to the welding planned regions R are set in a matrix.
  • five sets of planned welding areas R and running areas S1 are set in the row direction, and five sets of planned welding areas R and running areas S1 are set in the row direction.
  • the rectangular annular welding scheduled regions R set in a matrix form are respectively provided in a line L ⁇ b> 11 (first line) and a line L ⁇ b> 12 (second line) extending in the column direction.
  • Are planned to be welded areas Rc, Rb, and a line L13 (first line) and a line L14 (second line) extending in the row direction are paired along each other. , Rd.
  • the run-up area S1 connected to the planned welding area R includes a run-up area Sa connected to one end of the planned weld area Ra along the line L11, and the other end of the planned weld area Rb along the line L12.
  • a frit paste is applied by a dispenser, screen printing, or the like as in the second embodiment.
  • a plurality of paste layers 216 are formed in a matrix on the surface 214a of the glass member 214 along the rectangular annular planned welding region R and the running region S1 connected to the planned welding region R.
  • each glass layer 213 fixed to the surface 214a of the glass member 214 is in a state in which light scattering exceeding the absorption characteristics of the laser light absorbing pigment occurs due to the particle property of the glass frit 202 and the laser light absorption rate is low. (For example, it looks whitish in visible light).
  • baking is performed on the glass member 214 of each glass layer 213 arranged in a matrix.
  • the laser beam L3 is advanced from the lower side (one side) in the figure along the line L11 to the upper side (the other side) in the figure, and five welds set in the same direction in the column direction along the line L11. Irradiation is performed along the planned area Ra and the run-up area Sa connected to each of the planned welding areas Ra.
  • the laser beam L3 is emitted from the irradiation start position in the running area Sa along the running area Sa as in the second embodiment. After the irradiation, the irradiation is continuously performed along the planned welding area Ra, and this is repeated.
  • the laser beam L3 travels along the line L12 from the upper side in the figure to the lower side in the figure, and the five planned welding regions Rb set in the same direction in the column direction along the line L12, and these planned welding regions Irradiation is performed along the run-up region Sb connected to each Rb.
  • the laser beam L3 is emitted from the irradiation start position in the running region Sb along the running region Sb as in the second embodiment.
  • the irradiation is continuously performed along the planned welding region Rb, and this is repeated.
  • Such reciprocal irradiation of the laser light L3 in the row direction is performed similarly on the glass layers 13 arranged in the other rows.
  • the laser beam L4 is advanced from the right side (one side) in the drawing along the line L13 to the left side (the other side) in the drawing, and five welding schedules set in the same direction in the row direction along the line L13. Irradiation is performed along the region Rc and the run-up region Sc connected to each of the planned welding regions Rc.
  • the laser beam L4 is emitted from the irradiation start position in the running region Sc along the running region Sc as in the second embodiment. After the irradiation, the irradiation is continuously performed along the planned welding region Rc, and this is repeated.
  • the laser beam L4 travels along the line L14 from the left side to the right side in the drawing, and the five planned welding regions Rd set in the same direction in the row direction along the line L14, and the planned welding regions Rd, respectively. Irradiation is performed along the run-up region Sd connected to.
  • the laser beam L4 is emitted from the irradiation start position in the running area Sd along the running area Sd as in the second embodiment. After the irradiation, the irradiation is continuously performed along the planned welding region Rd, and this is repeated.
  • Such reciprocating irradiation of the laser beam L4 in the row direction is similarly performed on the glass layers 213 arranged in other rows.
  • the glass layers 13 whose ratio of the stable region is increased are collectively baked onto the glass member 14.
  • the laser beams L3 and L4 are irradiated with one laser in each column direction or each row direction. However, as shown in FIG. Also good.
  • Each glass layer 213 baked on the surface 204a of the glass member 214 in this manner has a particle property that is lost due to the melting of the glass frit 202, and the absorption characteristics of the laser light absorbing pigment remarkably appear. Becomes high (eg, it looks dark in visible light).
  • each glass layer 213 is laminated
  • each glass layer 213 is focused with a focused spot, and similarly to the second embodiment, the laser beam L2 is irradiated along the respective planned welding regions R arranged in a matrix.
  • the laser light L2 is absorbed by each glass layer 213 in which the laser light absorption rate is high and uniform over the entire circumference of the planned welding region R, and the glass layer 213 and its peripheral portions (glass members 214 and 215).
  • the surfaces 214a and 215a of the glass member 214 are melted and re-solidified to the same extent, and the glass member 214 and the glass member 215 are welded to obtain the welded body 220 (in the welding, the glass layer 213 is melted and the glass member 214 is melted). , 215 may not melt).
  • the irradiation with the laser beam L2 may be performed by the same method as the laser beams L3 and L4 when the glass layer 213 is baked on the glass member 214.
  • the welded body 220 including the glass member 214 and the glass member 215 is cut by a predetermined method along the column direction L15 and the row direction L16 as shown in FIG. And by this cutting
  • the laser light L1 is applied to the glass layer 213 including the binder, the laser light absorbing pigment, and the glass frit 202.
  • the binder is gasified and the glass frit 202 is melted to fix the glass layer 213 to the glass member 214.
  • the binder is released, and the laser light absorption rate is increased to be in a uniform state.
  • the welding state of the glass members 214 and 215 can be made uniform. Therefore, according to the above glass welding method and glass layer fixing method, it is possible to manufacture a highly reliable glass welded body 201.
  • the glass welding method mentioned above it connects with the end part of welding planned area
  • the run-up areas Sa and Sc, the welding planned areas Rb and Rd, and the planned welding areas Rb and Rd along the lines L12 and L14 extending in the column direction or the row direction in the glass member 214 Including the step of setting the run-up areas Sb and Sd connected to the ends, and when irradiating the laser beams L3 and L4, the laser beams L3 and L4 from one side to the other side along the lines L11 and L13.
  • the laser beams L3 and L4 are continuously advanced from the other side to one side along the lines L12 and L14.
  • the laser beams L3 and L4 are caused to travel back and forth along the lines L11 and L13 and the lines L12 and 14 extending in the column direction or the row direction, so that the glass layer 213 is moved in the run-up regions Sa to Sd.
  • a plurality of glass layers 213 with an increased ratio can be efficiently obtained.
  • a plurality of planned welding regions R and the ends of the planned welding regions R are provided for each line along the lines L11 to L14 extending in the column direction or the row direction in the glass member 214.
  • a step of setting a run-up region S1 connected to the unit, and when irradiating the laser beams L3 and L4, one side from the other side or one side from the other side along the lines L11 to L14 The laser beams L3 and L4 are advanced.
  • the laser light L3 and L4 are advanced along the lines L11 to L14 extending in the column direction or the row direction, so that the glass layer 213 is melted in advance in the run-up regions Sa to Sd and then the region to be welded.
  • the melting of Ra to Rd can be continuously performed in a plurality of planned welding regions R set along the lines L11 to L14, and the plurality of glass layers 213 having an increased ratio of stable regions can be efficiently produced. Can get to.
  • the glass members 214 and 215 can be uniformly welded, and a plurality of glass welded bodies 201 having a good welded state can be manufactured together.
  • the present invention is not limited to the embodiment described above.
  • the rectangular annular planned welding region R is used, but the present invention can also be applied to an annular welding planned region.
  • the laser light L1 is directly applied to the glass layers 203 and 213. However, the laser light L1 is applied to the glass layer 3 through the glass members 204 and 214. Good.
  • the glass members 204, 205, 214, and 215 are fixed and the laser beams L1 to L4 are allowed to travel.
  • the laser beams L1 to L4 are emitted from the glass members.
  • the laser beams L 1 to L 4 may be fixed and the glass members 204, 205, 214, and 215 may be moved, or the laser beams L 1 to L 4 may be moved.
  • L4 and the glass members 204, 205, 214, and 215 may be moved.

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Abstract

　バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット１０２を含むガラス層１０３にレーザ光Ｌ２を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラスフリット１０２を溶融させ、ガラス部材１０４にガラス層１０３を定着させる。これにより、ガラス部材１０４に定着したガラス層１０３においては、バインダが逃がされ、且つレーザ光吸収率が高まって均一な状態となっている。その結果、このような安定した状態のガラス層１０３を介してガラス部材１０４とガラス部材１０５とを溶着することにより、ガラス部材１０４，１０５同士の溶着状態を均一にすることができる。

Description

ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
　本発明は、ガラス部材同士を溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法に関する。
　上記技術分野における従来のガラス溶着方法として、レーザ光吸収性顔料を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように一方のガラス部材に焼き付けた後、そのガラス部材にガラス層を介して他方のガラス部材を重ね合わせ、溶着予定領域に沿ってレーザ光を照射することにより、一方のガラス部材と他方のガラス部材とを溶着する方法が知られている。
　ところで、ガラス部材にガラス層を焼き付ける技術としては、ガラスフリット、レーザ光吸収性顔料、有機溶剤及びバインダを含むペースト層から有機溶剤及びバインダを除去することにより、ガラス部材にガラス層を固着させた後、ガラス層が固着したガラス部材を焼成炉内で加熱することにより、ガラス層を溶融させて、ガラス部材にガラス層を焼き付ける技術が一般的である（例えば、特許文献１参照）。
　また、ガラス部材にガラス層を定着させるために、炉内での加熱に代えて、レーザ光の照射によってガラス層から有機物（有機溶剤やバインダ）を除去する技術が提案されている（例えば、特許文献２，３参照）。このような技術によれば、ガラス部材に形成された機能層等が加熱されて劣化するのを防止することができ、また、炉の使用による消費エネルギの増大及び炉内での加熱時間の長時間化を抑制することができる。
特表２００６－５２４４１９号公報 特開２００２－３６６０５０号公報 特開２００２－３６７５１４号公報
　しかしながら、レーザ光の照射によってガラス部材にガラス層を焼き付け、そのガラス層を介してガラス部材同士を溶着すると、溶着状態が不均一になる場合があった。
　そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、信頼性の高いガラス溶着体を製造することができるガラス溶着方法、及びそのためのガラス層定着方法を提供することを目的とする。
　本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、ガラス部材同士の溶着状態が不均一になるのは、図１１に示されるように、焼付け時にガラス層の温度が融点Ｔｍを超えるとガラス層のレーザ光吸収率が急激に高くなることに起因していることを突き止めた。つまり、ガラス部材に配置されたガラス層においては、ガラスフリットの粒子性等によって、レーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光下において白っぽく見える）。このような状態でガラス部材にガラス層を焼き付けるためにレーザ光を照射すると、ガラスフリットの溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、ガラス層のレーザ光吸収率が急激に高くなる（例えば、可視光下において黒っぽく或いは緑っぽく見える）。このことから、特にレーザ光の照射開始位置の近傍に、レーザ光吸収率が低い領域が残存し易くなる。そして、レーザ光吸収率が低い領域を有するガラス層を介してガラス部材同士を溶着すると、ガラス溶着体において溶着状態が不均一になってしまうのである。
　更に、レーザ光吸収率が低い領域には、バインダが十分に分解せずに残存している。このような領域を有するガラス層を介してガラス部材同士を溶着すると、ガラスフリットの融点がバインダの分解点よりも高いことから、溶融したガラス層からバインダの分解ガスが抜け切る前に、ガラス層が固化してしまう。これにより、ガラス層に多数の気泡が形成され、その気泡が繋がると、ガラス溶着体のガラス層でリークが起こるおそれがある。
　本発明者は、この知見に基づいて更に検討を重ね、本発明を完成させるに至った。すなわち、本発明に係るガラス溶着方法は、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように第１のガラス部材に配置する工程と、溶着予定領域に沿って第１のレーザ光を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させると共に、ガラス層のレーザ光吸収率を高くする工程と、ガラス層が定着した第１のガラス部材にガラス層を介して第２のガラス部材を重ね合わせ、ガラス層に第２のレーザ光を照射することにより、第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着する工程と、を含むことを特徴とする。
　また、本発明に係るガラス層定着方法は、第１のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように第１のガラス部材に配置する工程と、溶着予定領域に沿って第１のレーザ光を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させると共に、ガラス層のレーザ光吸収率を高くする工程と、を含むことを特徴とする。
　これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法では、バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層に第１のレーザ光を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラス粉を溶融させ、第１のガラス部材にガラス層を定着させる。これにより、第１のガラス部材に定着したガラス層においては、バインダが逃がされ、且つレーザ光吸収率が高まって均一な状態となっている。その結果、このような安定した状態のガラス層を介して第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着することにより、ガラス部材同士の溶着状態を均一にすることができる。従って、これらのガラス溶着方法及びガラス層定着方法によれば、信頼性の高いガラス溶着体を製造することが可能となる。
　本発明によれば、信頼性の高いガラス溶着体を製造すること可能となる。
第1の実施形態に係るガラス溶着方法によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。 第1の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 第1の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための断面図である。 第1の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための平面図である。 第1の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための断面図である。 第1の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための平面図である。 第1の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 第1の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 レーザ光吸収部の変形例を示す図である。 レーザ光吸収部の別の変形例を示す図である。 ガラス層の温度とレーザ光吸収率との関係を示すグラフである。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための断面図である。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための断面図である。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための平面図である。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための平面図である。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 第２の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための斜視図である。 第３の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための平面図である。 第３の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための平面図である。 第３の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための平面図である。 第３の実施形態におけるレーザ光の照射方法の変形例を示すための平面図である。 第３の実施形態に係るガラス溶着方法を説明するための図であり（ａ）は平面図、（ｂ）は断面図である。
　以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、各図において同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
［第１の実施形態］
　図１は、第１の実施形態に係るガラス溶着方法の一実施形態によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。図１に示されるように、ガラス溶着体１０１は、溶着予定領域Ｒに沿って形成されたガラス層１０３を介して、ガラス部材（第１のガラス部材）１０４とガラス部材（第２のガラス部材）１０５とが溶着されたものである。ガラス部材１０４，１０５は、例えば、無アルカリガラスからなる厚さ０．７ｍｍの矩形板状の部材であり、溶着予定領域Ｒは、ガラス部材１０４，１０５の外縁に沿って所定幅を有する矩形環状に設定されている。ガラス層１０３は、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなり、溶着予定領域Ｒに沿って所定幅を有した矩形環状に形成されている。
　次に、上述したガラス溶着体１０１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス部材１０４とガラス部材１０５とを溶着してガラス溶着体１０１を製造するために、ガラス部材１０４にガラス層１０３を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法を含む）について説明する。
　まず、図２に示されるように、ディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、溶着予定領域Ｒに沿ってガラス部材１０４の表面１０４ａにペースト層１０６を形成する。フリットペーストは、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなる粉末状のガラスフリット（ガラス粉）１０２、酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）、酢酸アミル等である有機溶剤及びガラスの軟化点温度以下で熱分解する樹脂成分（ニトロセルロース、エチルセルロース、アクリル等）であるバインダを混練したものである。フリットペーストは、レーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）が予め添加された低融点ガラスを粉末状にしたガラスフリット（ガラス粉）、有機溶剤、及びバインダを混練したものであってもよい。つまり、ペースト層１０６は、ガラスフリット１０２、レーザ光吸収性顔料、有機溶剤及びバインダを含んでいる。
　続いて、ペースト層１０６を乾燥させて有機溶剤を除去することにより、溶着予定領域Ｒに沿ってガラス部材１０４の表面１０４ａに所定幅を有して延伸するガラス層１０３を固着させる。これにより、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット１０２を含むガラス層１０３が、環状の溶着予定領域Ｒに沿うようにガラス部材１０４に配置されることになる。なお、ガラス部材１０４の表面１０４ａに固着したガラス層１０３は、ガラスフリット１０２の粒子性等によって、レーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光において白っぽく見える）。
　続いて、図３に示されるように、溶着予定領域Ｒに沿って矩形環状に形成されたガラス層１０３の１つの角部に集光スポットを合わせてレーザ光Ｌ１を照射する。このレーザ光Ｌ１のスポット径はガラス層１０３の幅より大きくなるように設定され、ガラス層１０３に照射されるレーザ光１のパワーが幅方向（レーザ光の進行方向と略直交する方向）に同程度になるように調整されている。これにより、ガラス層の一部が幅方向全体に同等に溶融されて、レーザ光の吸収率が高いレーザ光吸収部１０８ａが幅方向全体にわたって形成される。その後、図４に示されるように、ガラス層１０３の残りの３つの角部にも同様にレーザ光Ｌ１を順に照射してレーザ光吸収部１０８ｂ，１０８ｃ，１０８ｄを形成する。なお、レーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄでは、ガラス層の一部（角部）でガラスフリット１０２の溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、この部分のレーザ光吸収率がレーザ光を照射されなかった領域に比べて高い状態となる（例えば、可視光ではレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄに対応する角部のみ黒っぽく見える）。
　続いて、図４の図示左下に示されるレーザ光吸収部１０８ａを起点（照射開始位置）として、図５及び図６に示されるように、ガラス層１０３に集光スポットを合わせてレーザ光Ｌ２の照射を、溶着予定領域Ｒに沿って図示矢印の進行方向に向かって進める。これにより、ガラス部材１０４に配置されたガラス層１０３の溶着予定領域Ｒ全周にわたってバインダをガス化させると共にガラスフリット１０２を溶融させることにより、バインダが除去されて再固化し、ガラス部材１０４の表面１０４ａにガラス層１０３が焼き付けられて定着させられる。その結果、ガラス層定着部材（すなわち、ガラス層１０３が定着したガラス部材１０４）が製造される。
　このガラス層１０３の焼付け時には、レーザ光吸収率があらかじめ高められたレーザ光吸収部１０８ａを照射開始位置としてレーザ光Ｌ２の照射を開始しているため、照射開始位置からすぐにガラス層１０３の溶融が幅方向全体にわたって行われ溶融が安定した安定領域（幅方向全体にわたってガラス層が溶融している領域）となっており、溶着予定領域Ｒ全域にわたってガラス層１０３の溶融が不安定となる不安定領域（幅方向の一部のみでガラス層が溶融している領域）が低減されている。また、残りの３つの角部にもそれぞれレーザ光吸収部１０８ｂ～１０８ｄを設けているため、ガラス溶着体として機能させる際に負荷がかかり易い角部が、焼付け時に確実に溶融するようにもなっている。なお、ガラス部材１０４の表面１０４ａに焼き付けられたガラス層１０３は、溶着予定領域Ｒ全域にわたって、ガラスフリット１０２の溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、レーザ光吸収率が高い状態となる（例えば、可視光において黒っぽく見える）。
　このように溶着予定領域Ｒ全域にわたって安定したガラス層１０３の焼付けが終了すると、図７に示されるように、ガラス層定着部材１０（すなわち、ガラス層３が定着したガラス部材４）に対し、ガラス層３を介してガラス部材５を重ね合わせる。
　続いて、図８に示されるように、ガラス層１０３に集光スポットを合わせてレーザ光Ｌ３を溶着予定領域Ｒに沿って照射する。これにより、溶着予定領域Ｒ全域にわたってレーザ光吸収率が高く且つ均一な状態となっているガラス層１０３にレーザ光Ｌ３が吸収されて、ガラス層１０３及びその周辺部分（ガラス部材１０４，１０５の表面１０４ａ，１０５ａ部分）が同程度に溶融・再固化し、ガラス部材１０４とガラス部材１０５とが溶着される（溶着においては、ガラス層１０３が溶融し、ガラス部材１０４，１０５が溶融しない場合もある）。このとき、ガラス部材１０４に焼き付けられたガラス層１０３の溶融が溶着予定領域Ｒ全域にわたって安定して行われた安定領域として形成され、バインダも十分に除去されているため、ガラス部材１０４とガラス部材１０５とが溶着予定領域Ｒに沿って均一に溶着される。
　以上説明したように、ガラス溶着体１０１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス層定着方法を含む）においては、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット１０２を含むガラス層１０３にレーザ光Ｌ２を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラスフリット１０２を溶融させ、ガラス部材１０４にガラス層１０３を定着させる。これにより、ガラス部材１０４に定着したガラス層１０３においては、バインダが逃がされ、且つレーザ光吸収率が高まって均一な状態となっている。その結果、このような安定した状態のガラス層１０３を介してガラス部材１０４とガラス部材１０５とを溶着することにより、ガラス部材１０４，１０５同士の溶着状態を均一にすることができる。従って、以上のガラス溶着方法及びガラス層定着方法によれば、信頼性の高いガラス溶着体１０１を製造することが可能となる。
　また、上述したガラス溶着方法では、ガラス層１０３を溶融させてガラス部材１０４にガラス層１０３を定着させる前に、ガラス層１０３の一部にレーザ光Ｌ１を照射してガラス層１０３の一部を溶融させ、レーザ光Ｌ１を照射していない部分よりもレーザ吸収率が高いレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄをガラス層１０３の４つの角部に予め形成する。そして、複数のレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄのうちの一のレーザ光吸収部１０８ａを照射開始位置として溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ２を照射してガラス層１０３を溶融させてガラス部材１０４にガラス層１０３を定着させる。このように、レーザ光Ｌ２の照射開始位置がレーザ光吸収部１０８ａになっているため、レーザ光Ｌ２の照射を開始する起点付近からすぐにガラス層１０３の溶融が安定した安定領域とすることができる。その結果、このような安定領域を伴って形成されたガラス層１０３を介してガラス部材１０４とガラス部材１０５とを溶着するため、ガラス部材１０４，１０５同士の溶着状態を容易に均一にすることができる。
　ところで、ガラス層の粘度は、ガラス層の温度が結晶化温度に達するまでは徐々に低くなるが、ガラス層の温度が結晶化温度を超えると徐々に高くなる傾向にある。これは、溶融したガラス層において結晶部が析出し、その結晶部が（セラミックス等からなる膨張係数調整用のフィラーが含まれる場合には、そのフィラーも）核となって結晶成長することにより、ガラス層の流動性が低下するためと想定される。ここで、溶融したガラス層のレーザ光吸収率が急激に上昇すると、それに伴って、溶融したガラス層の温度も結晶化温度以下の温度から結晶化温度以上の温度というように急激に上昇するので、溶融したガラス層の粘度も急激に高くなる。その結果、溶融したガラス層にバインダのガス化によって形成された気泡が埋まり難くなるので、バインダの分解ガスが抜け切る前にガラス層が固化してしまう。これにより、ガラス層に多数の気泡が形成され、その気泡が繋がると、ガラス溶着体のガラス層でリークが起こるおそれがある。ここで、上述したように、レーザ光吸収部１０８ａを照射開始位置として溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ２を照射してガラス層１０３を溶融させてガラス部材１０４にガラス層１０３を定着させれば、レーザ光Ｌ２の照射を開始する起点付近からすぐにガラス層１０３の溶融が安定した安定領域となるため、ガラス層１０３の過剰加熱を抑制して、ガラス層１０３に多数の気泡が形成されるのを防止することができる。
　また、上述したガラス溶着方法では、ガラス層１０３の一部（角部）において、溶着予定領域Ｒに対するレーザ光Ｌ２の進行方向と交差する方向におけるガラス層１０３の幅全体にわたるように、レーザ光吸収部１０８ａを形成している。この場合、レーザ光吸収部１０８ａを幅全体にわたるように形成することから、ガラス層１０３の溶融を更に早期に安定化させることができる。また、溶着予定領域Ｒに対するレーザ光Ｌ２の進行方向と交差する方向における中央部がレーザ光Ｌ２の進行方向に突出するように略円形状にレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄを形成している。このような形状により、レーザ光Ｌ２の進行方向と交差する方向における溶融がより均一になっている。
　また、上述したガラス溶着方法では、溶着予定領域に沿ってレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄを断続的に複数形成し、これら複数のレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄのうちの１つであるレーザ光吸収部１０８ａを照射開始位置としている。このように複数のレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄを溶着予定領域Ｒに沿って断続的に形成しておけば、レーザ光Ｌ２の走査速度が速くて溶融が追いつかずに不安定領域が形成されそうな場合であっても、断続的に高吸収領域が形成されていることにより不安定状態に戻すことなくガラス層１０３の溶融を継続して安定化させることができる。その結果、走査速度の高速化による製造期間の短縮を図ることができると共に、製造歩留まりの向上も図ることができる。しかも、角部にレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄが形成されていることから、ガラス溶着体が形成された際に負荷がかかり易い角部を確実に溶融するようにもなっている。
　本発明は、上述した第１の実施形態に限定されるものではない。
　例えば、第１の実施形態では、レーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄを順に形成するようにしたが、４つのレーザを用いてこれらレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄを同時に形成するようにしてもよい。また、ガラス層１０３をガラス部材１０４に配置する工程とガラス層１０３にレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄを形成する工程とが略同時に行われるようにしてもよい。
　また、図９に示されるように、半円形状のレーザ光吸収部１１８ａ、矩形状のレーザ光吸収部１１８ｂ、複数の円を幅方向に形成したレーザ光吸収部１１８ｃ、幅方向中央部に微小な円形で形成したレーザ光吸収部１１８ｄなどを形成して、これらのレーザ光吸収部１１８ａ～１１８ｄを照射開始位置としてレーザ光Ｌ２の照射を行ってガラス層１０３の焼付けを行うようにしてもよい。
　また、矩形環状に形成された溶着予定領域Ｒの角部にレーザ光吸収部を設ける場合、図１０に示されるように、扇状のレーザ光吸収部１１８ｅ，１１８ｆなどを形成して、これらのレーザ光吸収部１１８ｅ，１１８ｆを起点としてレーザ光Ｌ２の照射を行って焼付けを行うようにしてもよい。
　また、断続的にレーザ光吸収部を設ける場合、上述した第１の実施形態で示したように各角部にレーザ光吸収部１０８ａ～１０８ｄを設けるようにしてもよいし、ガラス層１０３の直線状の部分に複数のレーザ光吸収部を所定の間隔をあけて設けるようにしてもよい。
　また、第１の実施形態では、直接、ガラス層１０３にレーザ光を照射したが、ガラス部材１０４を介してガラス層１０３にレーザ光を照射するようにしてもよい。
［第２の実施形態］
　図１２は、第２の実施形態に係るガラス溶着方法によって製造されたガラス溶着体の斜視図である。図１２に示されるように、ガラス溶着体２０１は、溶着予定領域Ｒに沿って形成されたガラス層２０３を介して、ガラス部材（第１のガラス部材）２０４とガラス部材（第２のガラス部材）２０５とが溶着されたものである。ガラス部材２０４，２０５は、例えば、無アルカリガラスからなる厚さ０．７ｍｍの矩形板状の部材であり、溶着予定領域Ｒは、ガラス部材２０４，２０５の外縁に沿って所定幅を有する矩形環状に設定されている。ガラス層２０３は、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなり、溶着予定領域Ｒに沿って所定幅を有した矩形環状に形成されている。
　次に、上述したガラス溶着体２０１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス部材２０４とガラス部材２０５とを溶着してガラス溶着体２０１を製造するために、ガラス部材２０４にガラス層２０３を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法を含む）について説明する。
　まず、図１３に示されるように、ディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、矩形環状の溶着予定領域Ｒ及び溶着予定領域Ｒの一の角部と接続されて外方に突出する助走領域Ｓに沿ってガラス部材２０４の表面２０４ａにペースト層２０６を形成する。フリットペーストは、例えば、低融点ガラス（バナジウムリン酸系ガラス、鉛ホウ酸ガラス等）からなる粉末状のガラスフリット（ガラス粉）２０２、酸化鉄等の無機顔料であるレーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）、酢酸アミル等である有機溶剤、及びガラスの軟化温度以下で熱分解する樹脂成分（ニトロセルロース、エチルセルロース、アクリル等）であるバインダを混練したものである。フリットペーストは、レーザ光吸収性顔料（レーザ光吸収材）が予め添加された低融点ガラスを粉末状にしたガラスフリット（ガラス粉）、有機溶剤、及びバインダを混練したものであってもよい。つまり、ペースト層２０６は、ガラスフリット２０２、レーザ光吸収性顔料、有機溶剤及びバインダを含んでいる。
　続いて、ペースト層２０６を乾燥させて有機溶剤を除去することにより、溶着予定領域Ｒ及び溶着予定領域Ｒと接続される助走領域Ｓに沿ってガラス部材２０４の表面２０４ａにガラス層２０３を固着させる。これにより、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２０２を含むガラス層２０３が、環状の溶着予定領域Ｒ及び助走領域Ｓに沿うようにガラス部材２０４に配置されることになる。なお、ガラス部材２０４の表面２０４ａに固着したガラス層２０３は、ガラスフリット２０２の粒子性等によって、レーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光において白っぽく見える）。
　続いて、図１４～図１６に示されるように、ガラス層２０３の溶着予定領域Ｒと接続された助走領域Ｓにおける照射開始位置Ａに集光スポットを合わせて照射開始位置Ａからレーザ光Ｌ１の照射を開始し、助走領域Ｓに沿って溶着予定領域Ｒに向かってレーザ光Ｌ１の照射を行う。ところで、レーザ光Ｌ１は、幅方向（レーザ光Ｌ１の進行方向と略直交する方向）における中央部の温度が高くなる温度分布を有することから、図１６に示されるように、助走領域Ｓにおける照射開始位置Ａから、徐々にガラス層２０３の幅方向（レーザ光の進行方向と略直交する方向）へ溶融が広がり、溶着予定領域Ｒに接続される接続位置Ｂ付近ではガラス層２０３の溶融が幅方向全体にわたる安定領域となっている。つまり、溶着予定領域の外方に配置された助走領域Ｓは、ガラス層２０３の溶融が幅方向の一部
で行われる不安定領域の全体を含むようになっている。
　その後、助走領域Ｓと溶着予定領域Ｒとの接続位置Ｂを越えて溶着予定領域Ｒに沿ってレーザ光Ｌ１のガラス層２０３への照射を続け、図１７に示されるように、接続位置Ｂに戻るまでレーザ光Ｌ１の照射を行う。これにより、ガラス部材２０４に配置されたガラス層２０３の溶着予定領域Ｒ全周にわたってバインダをガス化させると共にガラスフリット２０２を溶融させることにより、バインダが除去されて再固化し、ガラス部材２０４の表面２０４ａにガラス層２０３が焼き付けられて定着させられる。その結果、ガラス層定着部材（すなわち、ガラス層２０３が定着したガラス部材２０４）が製造される。
　このようにレーザ光Ｌ１の照射を溶着予定領域Ｒと接続された助走領域Ｓにおける照射開始位置Ａから開始して安定領域となってから溶着予定領域Ｒの溶融を開始するようにしており、ガラス部材２０４に配置されたガラス層２０３が溶着予定領域Ｒ全周にわたって安定して溶融・再固化し、ガラス部材２０４の表面２０４ａにガラス層２０３が焼き付けられる。なお、ガラス部材２０４の表面２０４ａに焼き付けられたガラス層２０３は、ガラスフリット２０２の溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、レーザ光吸収率が高い状態となる（例えば、可視光において黒っぽく見える）。
　そして、溶着予定領域Ｒ全周にわたって安定したガラス層２０３の焼付けが終了すると、図１８に示されるように、ガラス層定着部材２０（すなわち、ガラス層２０３が定着したガラス部材２０４）に対し、ガラス層２０３を介してガラス部材２０５を重ね合わせる。
　続いて、図１９に示されるように、ガラス層２０３に集光スポットを合わせてレーザ光Ｌ２を溶着予定領域Ｒに沿って照射する。これにより、溶着予定領域Ｒ全周にわたってレーザ光吸収率が高く且つ均一な状態となっているガラス層２０３にレーザ光Ｌ２が吸収されて、ガラス層２０３及びその周辺部分（ガラス部材２０４，２０５の表面２０４ａ，２０５ａ部分）が同程度に溶融・再固化し、ガラス部材２０４とガラス部材２０５とが溶着される（溶着においては、ガラス層２０３が溶融し、ガラス部材２０４，２０５が溶融しない場合もある）。このとき、ガラス部材２０４に焼き付けられたガラス層２０３の溶融が溶着予定領域Ｒ全周にわたって安定した安定領域として形成され、バインダも十分に除去されているため、ガラス部材２０４とガラス部材２０５とが溶着予定領域Ｒに沿って均一に溶着される。
　以上説明したように、ガラス溶着体２０１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス層定着方法を含む）においては、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２０２を含むガラス層２０３にレーザ光Ｌ１を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラスフリット２０２を溶融させ、ガラス部材２０４にガラス層２０３を定着させる。これにより、ガラス部材２０４に定着したガラス層２０３においては、バインダが逃がされ、且つレーザ光吸収率が高まって均一な状態となっている。その結果、このような安定した状態のガラス層２０３を介してガラス部材２０４とガラス部材２０５とを溶着することにより、ガラス部材２０４，２０５同士の溶着状態を均一にすることができる。従って、以上のガラス溶着方法及びガラス層定着方法によれば、信頼性の高いガラス溶着体２０１を製造することが可能となる。
　また、上述したガラス溶着方法においては、ガラス部材２０４にガラス層２０３を定着させる際、溶着予定領域Ｒと接続された助走領域Ｓにおける照射開始位置Ａから助走領域Ｓに沿ってレーザ光Ｌ１を照射するため、助走領域Ｓにおいてガラス層２０３の溶融が幅方向に広がって幅方向全体にわたることになる。すなわち、助走領域Ｓが不安定領域の全体を含むようになっている。このように、助走領域Ｓにおいてガラス層２０３を事前に溶融させるため、溶着予定領域Ｒにおける安定領域の比率が高められた状態でガラス層２０３をガラス部材２０４に定着させることができ、その結果、安定領域の比率が高められたガラス層２０３を介してガラス部材２０４とガラス部材２０５とを溶着するため、ガラス部材２０４，２０５同士の溶着状態を均一にすることができる。
　また、上述したガラス溶着方法においては、助走領域Ｓを矩形環状の溶着予定領域Ｒの外方に配置するようにしている。これにより、助走領域Ｓでの未溶融部分から発生するガラスフリットなどの粉末を溶着予定領域Ｒ内に入らないようにすることができる。しかも、発生した粉末を洗浄によって容易に取り除くこともできる。なお、ガラス部材２０４にガラス層２０３を定着させた後、このような助走領域を除去する工程をさらに含むことにより、外観形状が優れたガラス溶着体２０１を得ることができる。
[第３の実施形態]
　次に、本発明の第３の実施形態について説明する。本実施形態では、複数のガラス溶着体２０１を一括して製造するガラス溶着方法について説明する。
　まず、図２０に示されるように、矩形環状の溶着予定領域Ｒ、及び溶着予定領域Ｒと接続された助走領域Ｓ１を複数組、マトリクス状に設定する。本実施形態では、列方向に５組の溶着予定領域Ｒと助走領域Ｓ１とが設定され、行方向に５組の溶着予定領域Ｒと助走領域Ｓ１とが設定されるようになっている。
　このマトリクス状に設定された矩形環状の溶着予定領域Ｒは、図２１に示されるように、列方向に延在するラインＬ１１（第１のライン）とラインＬ１２（第２のライン）とにそれぞれが沿って対をなす溶着予定領域Ｒａ，Ｒｂと、行方向に延在するラインＬ１３（第１のライン）とラインＬ１４（第２のライン）とにそれぞれが沿って対をなす溶着予定領域Ｒｃ，Ｒｄとから構成される。また、溶着予定領域Ｒと接続される助走領域Ｓ１は、ラインＬ１１に沿って溶着予定領域Ｒａの一端部と接続される助走領域Ｓａと、ラインＬ１２に沿って溶着予定領域Ｒｂの他端部と接続される助走領域Ｓｂと、ラインＬ１３に沿って溶着予定領域Ｒｃの一端部と接続される助走領域Ｓｃと、ラインＬ１４に沿って溶着予定領域Ｒｄの他端部と接続される助走領域Ｓｄとから構成される。
　このような構成を有する溶着予定領域Ｒ及び助走領域Ｓ１それぞれが同じ方向でマトリクス状に設定された後、第２の実施形態と同様にディスペンサやスクリーン印刷等によってフリットペーストを塗布することにより、図２０に示されるように、矩形環状の溶着予定領域Ｒ、及び溶着予定領域Ｒと接続された助走領域Ｓ１に沿って、ガラス部材２１４の表面２１４ａにペースト層２１６をマトリクス状に複数形成する。
　続いて、各ペースト層２１６から有機溶剤を除去して、溶着予定領域Ｒ及び溶着予定領域Ｒと接続される助走領域Ｓ１に沿ってガラス部材２１４の表面２１４ａにガラス層２１３を固着させる。なお、ガラス部材２１４の表面２１４ａに固着した各ガラス層２１３は、ガラスフリット２０２の粒子性等によって、レーザ光吸収性顔料の吸収特性を上回る光散乱が起こり、レーザ光吸収率が低い状態となっている（例えば、可視光において白っぽく見える）。
　続いて、図２２に示されるように、マトリクス状に配置された各ガラス層２１３のガラス部材２１４への焼付けを行う。
　まず、ラインＬ１１に沿って図示下方側（一方の側）から図示上方側（他方の側）にレーザ光Ｌ３を進行させて、ラインＬ１１に沿って列方向に同じ向きに設定された５つの溶着予定領域Ｒａ、及びそれら溶着予定領域Ｒａそれぞれに接続される助走領域Ｓａに沿って照射を行う。各溶着予定領域Ｒａ及び各助走領域Ｓａに対してレーザ光Ｌ３を照射する際には、第２の実施形態と同様に、助走領域Ｓａにおける照射開始位置から助走領域Ｓａに沿ってレーザ光Ｌ３の照射を行った後、連続して、溶着予定領域Ｒａに沿って照射を行い、これを繰り返す。
　続いて、ラインＬ１２に沿って図示上方側から図示下方側にレーザ光Ｌ３を進行させて、ラインＬ１２に沿って列方向に同じ向きに設定された５つの溶着予定領域Ｒｂ、及びそれら溶着予定領域Ｒｂそれぞれに接続される助走領域Ｓｂに沿って照射を行う。各溶着予定領域Ｒｂ及び各助走領域Ｓｂに対してレーザ光Ｌ３を照射する際には、第２の実施形態と同様に、助走領域Ｓｂにおける照射開始位置から助走領域Ｓｂに沿ってレーザ光Ｌ３の照射を行った後、連続して、溶着予定領域Ｒｂに沿って照射を行い、これを繰り返す。このような列方向におけるレーザ光Ｌ３の往復照射を、他の列に配置されたガラス層１３に対しても同様に行う。
　次に、ラインＬ１３に沿って図示右側（一方の側）から図示左側（他方の側）にレーザ光Ｌ４を進行させて、ラインＬ１３に沿って行方向に同じ向きに設定された５つの溶着予定領域Ｒｃ、及びそれら溶着予定領域Ｒｃそれぞれに接続される助走領域Ｓｃに沿って照射を行う。各溶着予定領域Ｒｃ及び各助走領域Ｓｃに対してレーザ光Ｌ４を照射する際には、第２の実施形態と同様に、助走領域Ｓｃにおける照射開始位置から助走領域Ｓｃに沿ってレーザ光Ｌ４の照射を行った後、連続して、溶着予定領域Ｒｃに沿って照射を行い、これを繰り返す。
　続いて、ラインＬ１４に沿って図示左側から図示右側にレーザ光Ｌ４を進行させて、ラインＬ１４に沿って行方向に同じ向きに設定された５つの溶着予定領域Ｒｄ、及びそれら溶着予定領域Ｒｄそれぞれに接続される助走領域Ｓｄに沿って照射を行う。各溶着予定領域Ｒｄ及び各助走領域Ｓｄに対してレーザ光Ｌ４を照射する際には、第２の実施形態と同様に、助走領域Ｓｄにおける照射開始位置から助走領域Ｓｄに沿ってレーザ光Ｌ４の照射を行った後、連続して、溶着予定領域Ｒｄに沿って照射を行い、これを繰り返す。このような行方向におけるレーザ光Ｌ４の往復照射を、他の行に配置されたガラス層２１３に対しても同様に行う。このような照射により、安定領域の比率が高められた各ガラス層１３が一括してガラス部材１４に焼き付けられる。なお、上述した説明では、各列方向又は各行方向へのレーザ光Ｌ３，Ｌ４の照射を一のレーザで行っているが、複数のレーザを用いて図２３に示されるように同時に行うようにしてもよい。
　このようにガラス部材２１４の表面２０４ａに焼き付けられた各ガラス層２１３は、ガラスフリット２０２の溶融によって粒子性が崩れるなどして、レーザ光吸収性顔料の吸収特性が顕著に現れ、レーザ光吸収率が高い状態となる（例えば、可視光において黒っぽく見える）。
　そして、溶着予定領域Ｒ全周にわたって安定した各ガラス層２１３の焼付けが終了すると、ガラス層２１３が焼き付けられたガラス部材２１４（ガラス層定着部材）に対しガラス層２１３を介してガラス部材２１５を重ね合わせる。そして、各ガラス層２１３に集光スポットを合わせて、第２の実施形態と同様に、レーザ光Ｌ２をマトリクス状に配置された各溶着予定領域Ｒに沿って照射する。これにより、溶着予定領域Ｒ全周にわたってレーザ光吸収率が高く且つ均一な状態となっている各ガラス層２１３にレーザ光Ｌ２が吸収されて、ガラス層２１３及びその周辺部分（ガラス部材２１４，２１５の表面２１４ａ，２１５ａ部分）が同程度に溶融・再固化し、ガラス部材２１４とガラス部材２１５とが溶着され、溶着体２２０が得られる（溶着においては、ガラス層２１３が溶融し、ガラス部材２１４，２１５が溶融しない場合もある）。なお、レーザ光Ｌ２の照射は、上述したガラス層２１３をガラス部材２１４に焼き付ける際におけるレーザ光Ｌ３，Ｌ４と同様の方法で行ってもよい。
　続いて、ガラス部材２１４とガラス部材２１５とからなる溶着体２２０に対して、図２４に示されるように、列方向Ｌ１５及び行方向Ｌ１６に沿って所定の方法で切断する。そして、この切断により、溶着体２２０は個別のガラス溶着体２０１に分割され、複数のガラス溶着体２０１を一括して得ることができる。なお、この切断の際に、各助走領域Ｓａ～Ｓｄをガラス溶着体２０１から除去するように切断してもよい。
　以上説明したように、ガラス溶着体２０１を製造するためのガラス溶着方法（ガラス層定着方法を含む）においては、バインダ、レーザ光吸収性顔料及びガラスフリット２０２を含むガラス層２１３にレーザ光Ｌ１を照射することにより、バインダをガス化させると共にガラスフリット２０２を溶融させ、ガラス部材２１４にガラス層２１３を定着させる。これにより、ガラス部材２１４に定着したガラス層２１３においては、バインダが逃がされ、且つレーザ光吸収率が高まって均一な状態となっている。その結果、このような安定した状態のガラス層２１３を介してガラス部材２１４とガラス部材２１５とを溶着することにより、ガラス部材２１４，２１５同士の溶着状態を均一にすることができる。従って、以上のガラス溶着方法及びガラス層定着方法によれば、信頼性の高いガラス溶着体２０１を製造することが可能となる。
　また、上述したガラス溶着方法においては、ガラス部材２１４において列方向または行方向に延在するラインＬ１１，Ｌ１３に沿うように、溶着予定領域Ｒａ，Ｒｃ及び溶着予定領域Ｒａ，Ｒｃの一端部と接続された助走領域Ｓａ，Ｓｃを設定すると共に、ガラス部材２１４において列方向または行方向に延在するラインＬ１２，１４に沿うように、溶着予定領域Ｒｂ，Ｒｄ、及び溶着予定領域Ｒｂ，Ｒｄの他端部と接続された助走領域Ｓｂ，Ｓｄを設定する工程を含み、レーザ光Ｌ３，Ｌ４を照射する際には、ラインＬ１１，Ｌ１３に沿って一方の側から他方の側にレーザ光Ｌ３，Ｌ４を進行させた後、連続して、ラインＬ１２，Ｌ１４に沿って他方の側から一方の側にレーザ光Ｌ３，Ｌ４を進行させている。このように、列方向または行方向に延在するラインＬ１１，Ｌ１３及びラインＬ１２，１４に沿ってレーザ光Ｌ３，Ｌ４を往復するように進行させることにより、助走領域Ｓａ～Ｓｄにおいてガラス層２１３を事前に溶融させてから溶着予定領域Ｒａ～Ｒｄを溶融させることを、ラインＬ１１，１３及びラインＬ１２，１４に沿って設定された各溶着予定領域Ｒにおいて連続して行うことができ、安定領域の比率が高められた複数のガラス層２１３を効率的に得ることができる。
　また、上述したガラス溶着方法においては、ガラス部材２１４において列方向または行方向に延在するラインＬ１１～Ｌ１４に沿うように、各ライン毎に複数の溶着予定領域Ｒ、及び溶着予定領域Ｒの端部と接続された助走領域Ｓ１を設定する工程を含み、レーザ光Ｌ３，Ｌ４を照射する際には、ラインＬ１１～Ｌ１４に沿って一方の側から他方の側に又は他方の側から一方の側にレーザ光Ｌ３，Ｌ４を進行させている。このように、列方向または行方向に延在するラインＬ１１～Ｌ１４に沿ってレーザ光Ｌ３，Ｌ４を進行させることにより、助走領域Ｓａ～Ｓｄにおいてガラス層２１３を事前に溶融させてから溶着予定領域Ｒａ～Ｒｄを溶融させることを、ラインＬ１１～Ｌ１４に沿って設定された複数の溶着予定領域Ｒにおいて連続して行うことができ、安定領域の比率が高められた複数のガラス層２１３を効率的に得ることができる。
　そして、このように不安定領域が低減されるようにガラス部材２１４に焼き付けられた各ガラス層２１３を介してガラス部材２１４とガラス部材２１５とを溶着するため、複数の溶着予定領域Ｒに沿ったガラス層２１３が定着されているにもかかわらずガラス部材２１４，２１５同士の溶着状態を均一にして、溶着状態が良好な複数のガラス溶着体２０１を一括して製造することができる。
　本発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。
　例えば、第２及び第３の実施形態では、矩形環状の溶着予定領域Ｒを用いたが、本発明は、円環状の溶着予定領域にも適用することができる。また、第２及び第３の実施形態では、直接、ガラス層２０３，２１３にレーザ光Ｌ１を照射したが、ガラス部材２０４，２１４を介してガラス層３にレーザ光Ｌ１を照射するようにしてもよい。
　また、第２及び第３の実施形態では、ガラス部材２０４，２０５，２１４，２１５を固定して、レーザ光Ｌ１～Ｌ４を進行させるようにしているが、レーザ光Ｌ１～Ｌ４は、各ガラス部材２０４，２０５，２１４，２１５に対して相対的に進行すればよく、レーザ光Ｌ１～Ｌ４を固定してガラス部材２０４，２０５，２１４，２１５を移動させるようにしてもよいし、レーザ光Ｌ１～Ｌ４とガラス部材２０４，２０５，２１４，２１５とをそれぞれ移動させるようにしてもよい。
　本発明によれば、信頼性の高いガラス溶着体を製造すること可能となる。
　１０１，２０１…ガラス溶着体、１０２，２０２…ガラスフリット（ガラス粉）、１０３，２０３，２１３…ガラス層、１０４，２０４，２１４…ガラス部材（第１のガラス部材）、１０５，２０５，２１５…ガラス部材（第２のガラス部材）、１０，２０…ガラス層定着部材、Ｒ，Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄ…溶着予定領域、Ｌ１～Ｌ４…レーザ光。

Claims (2)

  1. 　第１のガラス部材と第２のガラス部材とを溶着してガラス溶着体を製造するガラス溶着方法であって、
    　バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含むガラス層を、溶着予定領域に沿うように前記第１のガラス部材に配置する工程と、
    　前記溶着予定領域に沿って第１のレーザ光を照射することにより、前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第１のガラス部材に前記ガラス層を定着させると共に、前記ガラス層のレーザ光吸収率を高くする工程と、
    　前記ガラス層が定着した前記第１のガラス部材に前記ガラス層を介して前記第２のガラス部材を重ね合わせ、前記ガラス層に第２のレーザ光を照射することにより、前記第１のガラス部材と前記第２のガラス部材とを溶着する工程と、を含むことを特徴とするガラス溶着方法。
  2. 　第１のガラス部材にガラス層を定着させてガラス層定着部材を製造するガラス層定着方法であって、
    　バインダ、レーザ光吸収材及びガラス粉を含む前記ガラス層を、溶着予定領域に沿うように前記第１のガラス部材に配置する工程と、
    　前記溶着予定領域に沿って第１のレーザ光を照射することにより、前記バインダをガス化させると共に前記ガラス粉を溶融させ、前記第１のガラス部材に前記ガラス層を定着させると共に、前記ガラス層のレーザ光吸収率を高くする工程と、を含むことを特徴とするガラス層定着方法。
PCT/JP2010/066145 2009-11-25 2010-09-17 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法 WO2011065112A1 (ja)

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US13/511,754 US9887059B2 (en) 2009-11-25 2010-09-17 Glass welding method
CN201080050359.XA CN102762511B (zh) 2009-11-25 2010-09-17 玻璃熔接方法及玻璃层固定方法
KR1020127006076A KR101883507B1 (ko) 2009-11-25 2010-09-17 유리 용착 방법 및 유리층 정착 방법
US15/852,381 US20180122614A1 (en) 2009-11-25 2017-12-22 Glass welding method and glass layer fixing method

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TW (1) TWI496645B (ja)
WO (1) WO2011065112A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140216645A1 (en) * 2013-02-04 2014-08-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for Forming Glass Layer and Method for Manufacturing Sealed Structure
US10410890B2 (en) * 2013-06-21 2019-09-10 Applied Materials, Inc. Light pipe window structure for thermal chamber applications and processes

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5308718B2 (ja) 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5535652B2 (ja) * 2008-06-11 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
CN102066279B (zh) * 2008-06-23 2013-09-11 浜松光子学株式会社 玻璃熔接方法
JP5481167B2 (ja) * 2009-11-12 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5481173B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5466929B2 (ja) * 2009-11-25 2014-04-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481172B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5567319B2 (ja) 2009-11-25 2014-08-06 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5525246B2 (ja) * 2009-11-25 2014-06-18 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535589B2 (ja) * 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535590B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
KR102058387B1 (ko) 2011-11-28 2019-12-24 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 유리 패턴 및 그 형성 방법, 밀봉체 및 그 제작 방법, 및 발광 장치

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002366050A (ja) * 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像表示装置の製造方法、製造装置およびそれを用いて製造した画像表示装置
JP2005213125A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 Futaba Corp 電子管と電子管の気密容器の製造方法
JP2006524419A (ja) * 2003-04-16 2006-10-26 コーニング インコーポレイテッド フリットにより密封されたガラスパッケージおよびその製造方法
JP2008115057A (ja) * 2006-11-07 2008-05-22 Electric Power Dev Co Ltd 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池
WO2009150976A1 (ja) * 2008-06-11 2009-12-17 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法

Family Cites Families (100)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1244346B (de) 1964-10-19 1967-07-13 Menzel Gerhard Glasbearbeitung Verfahren zum Schneiden von Glas
US3663793A (en) 1971-03-30 1972-05-16 Westinghouse Electric Corp Method of decorating a glazed article utilizing a beam of corpuscular energy
US4343833A (en) 1979-06-26 1982-08-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Method of manufacturing thermal head
JPS5915099B2 (ja) * 1980-03-17 1984-04-07 セントラル硝子株式会社 板ガラスの着色部形成方法
JPH02120259A (ja) 1988-10-28 1990-05-08 Toshiba Corp ガラスの封止接合体およびその製造方法
JPH05166462A (ja) 1991-12-17 1993-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平板型表示装置用真空容器の製造方法
US5489321A (en) 1994-07-14 1996-02-06 Midwest Research Institute Welding/sealing glass-enclosed space in a vacuum
JP2000313630A (ja) 1998-08-07 2000-11-14 Shin Meiwa Ind Co Ltd ガラス融着方法、ガラス融着装置、融着ガラスおよび融着ガラスの製造方法
JP2000167681A (ja) 1998-12-04 2000-06-20 Samsung Electronics Co Ltd レ―ザ切断用基板，液晶表示装置パネルおよび液晶表示装置パネルの製造方法
KR100316781B1 (ko) 2000-02-25 2001-12-20 김순택 레이저를 이용한 유리평판표시패널의 프릿 프레임 밀봉 방법
JP2001326290A (ja) 2000-03-10 2001-11-22 Seiko Epson Corp パッケージの封止方法、電子素子モジュールの製造方法、封止装置並びにパッケージ品
JP2002015108A (ja) 2000-06-30 2002-01-18 Nomura Holding Inc 企業価値分析装置及び企業価値分析方法
WO2002054436A1 (en) 2000-12-28 2002-07-11 Jae-Hong Park A method for sealing a flat panel display in a vacuum
JP2002224871A (ja) 2001-01-31 2002-08-13 Seiko Epson Corp レーザ切断方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器およびレーザ切断装置
JP2002287107A (ja) 2001-03-28 2002-10-03 Hitachi Ltd 液晶表示装置およびその製造方法
JP2002367514A (ja) 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 表示パネルおよびその製造方法およびその製造装置
US6565400B1 (en) * 2001-06-26 2003-05-20 Candescent Technologies Corporation Frit protection in sealing process for flat panel displays
TW517356B (en) 2001-10-09 2003-01-11 Delta Optoelectronics Inc Package structure of display device and its packaging method
JP2004182567A (ja) 2002-12-05 2004-07-02 Nippon Sheet Glass Co Ltd 真空ガラスパネルの製造方法、及び該製造方法により製造された真空ガラスパネル
US20050116245A1 (en) 2003-04-16 2005-06-02 Aitken Bruce G. Hermetically sealed glass package and method of fabrication
US20040206953A1 (en) 2003-04-16 2004-10-21 Robert Morena Hermetically sealed glass package and method of fabrication
JP4202836B2 (ja) 2003-06-17 2008-12-24 浜松ホトニクス株式会社 レーザ溶接方法およびレーザ溶接装置
EP1644760B1 (en) 2003-07-16 2008-04-09 3M Innovative Properties Company Laminates and methods of making same
US20050103755A1 (en) 2003-11-13 2005-05-19 Baker Martin C. Hand-held laser welding wand reflection shield
US20060021977A1 (en) 2004-07-30 2006-02-02 Menegus Harry E Process and apparatus for scoring a brittle material incorporating moving optical assembly
US7820941B2 (en) 2004-07-30 2010-10-26 Corning Incorporated Process and apparatus for scoring a brittle material
US7371143B2 (en) 2004-10-20 2008-05-13 Corning Incorporated Optimization of parameters for sealing organic emitting light diode (OLED) displays
JP4692918B2 (ja) 2004-12-01 2011-06-01 日本電気硝子株式会社 封着材料
US7626749B2 (en) 2005-05-16 2009-12-01 Donnelly Corporation Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element
US20070001579A1 (en) 2005-06-30 2007-01-04 Eun-Suk Jeon Glass-to-glass joining method using laser, vacuum envelope manufactured by the method, electron emission display having the vacuum envelope
KR101285442B1 (ko) 2005-08-09 2013-07-12 아사히 가라스 가부시키가이샤 박판 유리 적층체 및 박판 유리 적층체를 이용한 표시장치의 제조 방법
JP2007090405A (ja) 2005-09-29 2007-04-12 Epson Toyocom Corp 積層光学素子、及びその製造方法
WO2007067402A2 (en) 2005-12-06 2007-06-14 Corning Incorporated Glass package that is hermetically sealed with a frit and method of fabrication
TWI327757B (en) * 2005-12-06 2010-07-21 Corning Inc System and method for frit sealing glass packages
JP5127465B2 (ja) 2005-12-06 2013-01-23 コーニング インコーポレイテッド 密封ガラスパッケージおよびその製造方法
US7537504B2 (en) 2005-12-06 2009-05-26 Corning Incorporated Method of encapsulating a display element with frit wall and laser beam
KR100673765B1 (ko) 2006-01-20 2007-01-24 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시장치 및 그 제조방법
JP4456092B2 (ja) 2006-01-24 2010-04-28 三星モバイルディスプレイ株式會社 有機電界発光表示装置及びその製造方法
KR100732808B1 (ko) 2006-01-26 2007-06-27 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시장치의 제조방법
KR100671647B1 (ko) 2006-01-26 2007-01-19 삼성에스디아이 주식회사 유기전계발광 표시 장치
KR100713987B1 (ko) 2006-02-20 2007-05-04 삼성에스디아이 주식회사 기판 밀착장치 및 이를 이용한 유기전계발광 표시장치의밀봉방법
JP4977391B2 (ja) 2006-03-27 2012-07-18 日本電気株式会社 レーザ切断方法、表示装置の製造方法、および表示装置
CN101437772B (zh) 2006-05-08 2011-09-07 旭硝子株式会社 薄板玻璃叠层体、使用了薄板玻璃叠层体的显示装置的制造方法及支持用玻璃基板
KR101274807B1 (ko) 2006-06-30 2013-06-13 엘지디스플레이 주식회사 유기 전계 발광 표시 장치 및 이의 제조 방법
US20080124558A1 (en) * 2006-08-18 2008-05-29 Heather Debra Boek Boro-silicate glass frits for hermetic sealing of light emitting device displays
JP2008115067A (ja) 2006-11-07 2008-05-22 Lemi Ltd フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法
US7800303B2 (en) 2006-11-07 2010-09-21 Corning Incorporated Seal for light emitting display device, method, and apparatus
JP2008127223A (ja) 2006-11-17 2008-06-05 Lemi Ltd フラットパネルディスプレィ薄板の割断方法
DE102007008634B3 (de) 2007-02-16 2008-08-07 Jenoptik Automatisierungstechnik Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Trennen von Verbundglasscheiben
JP2008276215A (ja) * 2007-04-03 2008-11-13 Asahi Glass Co Ltd 電子印刷用カラートナーならびにこれを用いたセラミックカラープリント付きガラス板およびその製造方法
JP4238938B2 (ja) 2007-05-30 2009-03-18 パナソニック電工株式会社 積層造形装置
JP2009070687A (ja) 2007-09-13 2009-04-02 Canon Inc 気密容器の製造方法
US8247730B2 (en) * 2007-09-28 2012-08-21 Corning Incorporated Method and apparatus for frit sealing with a variable laser beam
JP2009123421A (ja) 2007-11-13 2009-06-04 Canon Inc 気密容器の製造方法
US7815480B2 (en) 2007-11-30 2010-10-19 Corning Incorporated Methods and apparatus for packaging electronic components
JP4980265B2 (ja) 2008-02-22 2012-07-18 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP4928483B2 (ja) 2008-02-22 2012-05-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
TWI421601B (zh) 2008-04-25 2014-01-01 Au Optronics Corp 適用雷射切割技術之顯示面板及其母板
US8490430B2 (en) 2008-04-25 2013-07-23 Hamamatsu Photonics K.K. Process for fusing glass
JP5308718B2 (ja) 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5308717B2 (ja) 2008-05-26 2013-10-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
US7992411B2 (en) 2008-05-30 2011-08-09 Corning Incorporated Method for sintering a frit to a glass plate
US8147632B2 (en) 2008-05-30 2012-04-03 Corning Incorporated Controlled atmosphere when sintering a frit to a glass plate
US8448468B2 (en) 2008-06-11 2013-05-28 Corning Incorporated Mask and method for sealing a glass envelope
JP5535654B2 (ja) 2008-06-11 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5535655B2 (ja) 2008-06-23 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
CN102066279B (zh) 2008-06-23 2013-09-11 浜松光子学株式会社 玻璃熔接方法
CN102089251B (zh) 2008-07-16 2014-06-11 费罗公司 热熔性密封玻璃组合物及其制造和使用的方法
WO2010014161A1 (en) 2008-07-28 2010-02-04 Corning Incorporated Method for sealing a liquid within a glass package and the resulting glass package
US20100095705A1 (en) 2008-10-20 2010-04-22 Burkhalter Robert S Method for forming a dry glass-based frit
US20100116119A1 (en) 2008-11-10 2010-05-13 Bayne John F Method for separating a composite glass assembly
US8245536B2 (en) * 2008-11-24 2012-08-21 Corning Incorporated Laser assisted frit sealing of high CTE glasses and the resulting sealed glass package
KR20110087265A (ko) 2008-11-26 2011-08-02 아사히 가라스 가부시키가이샤 봉착 재료층 부착 유리 부재 및 그것을 사용한 전자 디바이스와 그 제조 방법
WO2010067848A1 (ja) 2008-12-12 2010-06-17 旭硝子株式会社 封着ガラス、封着材料層付きガラス部材、および電子デバイスとその製造方法
KR20100099619A (ko) * 2009-03-03 2010-09-13 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 전계 발광 표시장치의 제조방법
KR101097307B1 (ko) 2009-04-16 2011-12-21 삼성모바일디스플레이주식회사 실링 장치
US8440479B2 (en) 2009-05-28 2013-05-14 Corning Incorporated Method for forming an organic light emitting diode device
SG176881A1 (en) 2009-06-30 2012-02-28 Asahi Glass Co Ltd Glass member with sealing material layer, electronic device using same, and method for manufacturing the electronic device
WO2011010489A1 (ja) 2009-07-23 2011-01-27 旭硝子株式会社 封着材料層付きガラス部材の製造方法及び製造装置、並びに電子デバイスの製造方法
JP5481167B2 (ja) 2009-11-12 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法
JP5481173B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5525246B2 (ja) 2009-11-25 2014-06-18 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5481172B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-23 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535588B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535590B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5466929B2 (ja) 2009-11-25 2014-04-09 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5535589B2 (ja) 2009-11-25 2014-07-02 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
JP5567319B2 (ja) 2009-11-25 2014-08-06 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法及びガラス層定着方法
KR101113381B1 (ko) 2009-11-30 2012-03-02 삼성에스디아이 주식회사 배터리 팩
TWI497466B (zh) 2010-03-19 2015-08-21 Asahi Glass Co Ltd Electronic device and manufacturing method thereof
US9540274B2 (en) 2010-04-15 2017-01-10 Ferro Corporation Low-melting lead-free bismuth sealing glasses
CN102870230B (zh) 2010-04-27 2016-04-20 费罗公司 用于气密密封导电馈通的方法
JP2011233479A (ja) 2010-04-30 2011-11-17 Canon Inc 気密容器および画像表示装置の製造方法
JP5716743B2 (ja) 2010-06-14 2015-05-13 旭硝子株式会社 封着材料ペーストとそれを用いた電子デバイスの製造方法
WO2012011268A1 (ja) 2010-07-23 2012-01-26 パナソニック株式会社 表示パネル及びその製造方法
JP5947098B2 (ja) 2011-05-13 2016-07-06 株式会社半導体エネルギー研究所 ガラス封止体の作製方法および発光装置の作製方法
JP6111022B2 (ja) 2011-06-17 2017-04-05 株式会社半導体エネルギー研究所 封止体の作製方法および発光装置の作製方法
KR101878179B1 (ko) 2011-11-23 2018-07-16 엘지디스플레이 주식회사 구동회로기판 및 이를 포함하는 액정표시장치
KR102058387B1 (ko) 2011-11-28 2019-12-24 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 유리 패턴 및 그 형성 방법, 밀봉체 및 그 제작 방법, 및 발광 장치
KR20130118491A (ko) 2012-04-20 2013-10-30 삼성디스플레이 주식회사 레이저 실링 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002366050A (ja) * 2001-06-12 2002-12-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 画像表示装置の製造方法、製造装置およびそれを用いて製造した画像表示装置
JP2006524419A (ja) * 2003-04-16 2006-10-26 コーニング インコーポレイテッド フリットにより密封されたガラスパッケージおよびその製造方法
JP2005213125A (ja) * 2004-02-02 2005-08-11 Futaba Corp 電子管と電子管の気密容器の製造方法
JP2008115057A (ja) * 2006-11-07 2008-05-22 Electric Power Dev Co Ltd 封止材料、ガラスパネルの製造方法および色素増感太陽電池
WO2009150976A1 (ja) * 2008-06-11 2009-12-17 浜松ホトニクス株式会社 ガラス溶着方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20140216645A1 (en) * 2013-02-04 2014-08-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method for Forming Glass Layer and Method for Manufacturing Sealed Structure
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