WO2010032852A1 - Ultraviolet light irradiation device - Google Patents
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Abstract
Ultraviolet light is enabled to be irradiated to an object to be treated with high efficiency while reducing a management burden on an ultraviolet light irradiation device as much as possible. The ultraviolet light irradiation device in which discharge lamps for irradiating ultraviolet light to the object to be treated, and a gas supplying means for supplying gas to the space between the discharge lamps and the object to be treated are provided, wherein the gas supplying means comprises blow-off ports for the gas arranged on the lateral sides of the discharge lamps, and a shield covering the space around the discharge lamps on the opposite side of the side on which the object to be treated exists.
Description
本発明は、処理対象物に向けて紫外線を照射する放電ランプと、その放電ランプと前記処理対象物との間の空間にガスを供給するガス供給手段とが設けられた紫外線照射装置に関する。
The present invention relates to an ultraviolet irradiation apparatus provided with a discharge lamp for irradiating ultraviolet rays toward a processing object and a gas supply means for supplying gas to a space between the discharge lamp and the processing object.
かかる紫外線照射装置は、処理対象物に対して例えば１７２ｎｍ等の短波長の紫外線を照射して処理対象物の洗浄等の処理を行う装置である。
このような紫外線は、雰囲気中に酸素が存在すると、その酸素に吸収されて著しく減衰する。
このため、下記特許文献１にも記載のように、紫外線を放射する放電ランプと処理対象物との間の空間に窒素ガス等の不活性ガスを供給して紫外線の減衰を抑制することが従来から行われている。 Such an ultraviolet irradiation apparatus is an apparatus that performs processing such as cleaning of an object to be processed by irradiating the object to be processed with ultraviolet light having a short wavelength such as 172 nm.
When ultraviolet rays exist in the atmosphere, such ultraviolet rays are absorbed by the oxygen and significantly attenuated.
For this reason, as described in Patent Document 1 below, it is conventional to suppress the attenuation of ultraviolet rays by supplying an inert gas such as nitrogen gas to the space between the discharge lamp that emits ultraviolet rays and the object to be processed. It is made from.
このような紫外線は、雰囲気中に酸素が存在すると、その酸素に吸収されて著しく減衰する。
このため、下記特許文献１にも記載のように、紫外線を放射する放電ランプと処理対象物との間の空間に窒素ガス等の不活性ガスを供給して紫外線の減衰を抑制することが従来から行われている。 Such an ultraviolet irradiation apparatus is an apparatus that performs processing such as cleaning of an object to be processed by irradiating the object to be processed with ultraviolet light having a short wavelength such as 172 nm.
When ultraviolet rays exist in the atmosphere, such ultraviolet rays are absorbed by the oxygen and significantly attenuated.
For this reason, as described in Patent Document 1 below, it is conventional to suppress the attenuation of ultraviolet rays by supplying an inert gas such as nitrogen gas to the space between the discharge lamp that emits ultraviolet rays and the object to be processed. It is made from.
放電ランプと処理対象物との間の空間への不活性ガスの供給手法としては、従来、放電ランプとその放電ランプの下方に位置する処理対象物に対して、放電ランプの上方側に配置した吹き出し口から不活性ガスを単純にダウンフローで供給する手法の他に、下記特許文献１に記載のように、不活性ガスを単純にダウンフローで供給するのではなく、不活性ガスの吹き出し口と放電ランプとの間に不活性ガスを拡散させる拡散板を配置して、均一に不活性ガスを流す手法も考えられている。
As a method of supplying an inert gas to the space between the discharge lamp and the processing object, conventionally, the discharge lamp and the processing object positioned below the discharge lamp are arranged above the discharge lamp. In addition to the method of simply supplying the inert gas from the outlet through the down flow, as described in Patent Document 1 below, the inert gas is not simply supplied through the down flow. There has also been considered a method in which a diffusion plate for diffusing an inert gas is arranged between the discharge lamp and the discharge lamp so that the inert gas flows uniformly.
しかしながら、前者の単純にダウンフローで不活性ガスを供給する手法では、いわゆる白粉と称される粉状の物質が放電ランプの表面に付着してしまうことがある。
この白粉は、紫外線照射装置を設置した部屋の雰囲気中に存在するＳｉ系の浮遊物質が紫外線照射装置内に侵入し、放電ランプから放射された紫外線と反応して酸化物となったものと考えられている。
放電ランプの表面にこの白粉が付着すると、その白粉が紫外線を吸収することによって放電ランプからの紫外線放射光量が低下する他、処理対象物不良の一因であるパーティクルになる等の問題があった。
このため、紫外線照射装置の使用者は、放電ランプに付着した白粉を定期的に清掃する作業の実行を要求され、装置の管理負担の増大を招いていた。 However, in the former method of simply supplying an inert gas by downflow, a powdery substance called white powder may adhere to the surface of the discharge lamp.
This white powder is thought to be an oxide that reacts with the ultraviolet rays emitted from the discharge lamp when Si-based floating substances in the atmosphere of the room where the ultraviolet irradiation device is installed enter the ultraviolet irradiation device. It has been.
When this white powder adheres to the surface of the discharge lamp, the white powder absorbs ultraviolet rays, so that the amount of ultraviolet radiation emitted from the discharge lamp is reduced, and there are other problems such as particles that contribute to defective processing objects. .
For this reason, the user of the ultraviolet irradiation device is required to perform an operation for periodically cleaning the white powder adhering to the discharge lamp, which increases the management burden of the device.
この白粉は、紫外線照射装置を設置した部屋の雰囲気中に存在するＳｉ系の浮遊物質が紫外線照射装置内に侵入し、放電ランプから放射された紫外線と反応して酸化物となったものと考えられている。
放電ランプの表面にこの白粉が付着すると、その白粉が紫外線を吸収することによって放電ランプからの紫外線放射光量が低下する他、処理対象物不良の一因であるパーティクルになる等の問題があった。
このため、紫外線照射装置の使用者は、放電ランプに付着した白粉を定期的に清掃する作業の実行を要求され、装置の管理負担の増大を招いていた。 However, in the former method of simply supplying an inert gas by downflow, a powdery substance called white powder may adhere to the surface of the discharge lamp.
This white powder is thought to be an oxide that reacts with the ultraviolet rays emitted from the discharge lamp when Si-based floating substances in the atmosphere of the room where the ultraviolet irradiation device is installed enter the ultraviolet irradiation device. It has been.
When this white powder adheres to the surface of the discharge lamp, the white powder absorbs ultraviolet rays, so that the amount of ultraviolet radiation emitted from the discharge lamp is reduced, and there are other problems such as particles that contribute to defective processing objects. .
For this reason, the user of the ultraviolet irradiation device is required to perform an operation for periodically cleaning the white powder adhering to the discharge lamp, which increases the management burden of the device.
又、後者の不活性ガスの吹き出し口と放電ランプとの間に不活性ガスの拡散板を配置する手法では、上記の白粉の付着は抑制されるものの、前者と同程度の不活性ガスの供給量では、放電ランプに吹き掛かる不活性ガスの風量が小さく、放電ランプに対する冷却効果が低下してしまう場合があった。放電ランプに対する冷却効果が低下すると放電ランプの温度が上昇し、放射される紫外線強度が低下してしまうことになる。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、紫外線照射装置の管理負担を可及的に低減しながら、効率良く処理対象物へ紫外線を照射できるようにする点にある。 Further, in the latter method of disposing an inert gas diffusion plate between the inert gas outlet and the discharge lamp, the above-mentioned white powder adhesion is suppressed, but the same amount of inert gas as the former is supplied. In terms of amount, the amount of inert gas blown to the discharge lamp is small, and the cooling effect on the discharge lamp may be reduced. When the cooling effect on the discharge lamp is reduced, the temperature of the discharge lamp rises and the intensity of the emitted ultraviolet light is reduced.
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to efficiently irradiate a processing object with ultraviolet rays while reducing the management burden of the ultraviolet irradiation device as much as possible. is there.
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、紫外線照射装置の管理負担を可及的に低減しながら、効率良く処理対象物へ紫外線を照射できるようにする点にある。 Further, in the latter method of disposing an inert gas diffusion plate between the inert gas outlet and the discharge lamp, the above-mentioned white powder adhesion is suppressed, but the same amount of inert gas as the former is supplied. In terms of amount, the amount of inert gas blown to the discharge lamp is small, and the cooling effect on the discharge lamp may be reduced. When the cooling effect on the discharge lamp is reduced, the temperature of the discharge lamp rises and the intensity of the emitted ultraviolet light is reduced.
The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to efficiently irradiate a processing object with ultraviolet rays while reducing the management burden of the ultraviolet irradiation device as much as possible. is there.
本出願の第１の発明は、処理対象物に向けて紫外線を照射する放電ランプと、その放電ランプと前記処理対象物との間の空間にガスを供給するガス供給手段とが設けられた紫外線照射装置において、前記ガス供給手段は、前記放電ランプの側方に配置された前記ガスの吹き出し口と、前記処理対象物の存在側の反対側において前記放電ランプの周囲空間を覆う遮蔽体とを備えて構成されている。
According to a first aspect of the present application, there is provided an ultraviolet ray provided with a discharge lamp for irradiating an ultraviolet ray toward a processing object and a gas supply means for supplying a gas to a space between the discharge lamp and the processing object. In the irradiation apparatus, the gas supply means includes a gas outlet arranged on a side of the discharge lamp, and a shield that covers the space surrounding the discharge lamp on the side opposite to the side where the object to be processed exists. It is prepared for.
本発明の発明者は、単純に吹き出し口からガスを放電ランプに向けてダウンフローで噴出する構成においてガスの気流解析を行ったところ、吹き出し口から噴出されたガスの流れに渦状、特に放電ランプ上方に向かって巻き上げられる垂直方向の渦状の乱流が発生していることを確認できた。
外部から侵入した不純物がこの渦状の乱流によって放電ランプ上方まで巻き上げられ、その巻き上げられた不純物が更にガスのダウンフローに乗って放電ランプに吹き付けられることで、放電ランプに上述の白粉が付着していたのである。 The inventor of the present invention has performed a gas flow analysis in a configuration in which gas is simply ejected from the outlet toward the discharge lamp in a down flow. As a result, the flow of gas ejected from the outlet is spiral, particularly a discharge lamp. It was confirmed that vertical vortex turbulent flow was generated.
Impurities that have entered from the outside are wound up to the upper part of the discharge lamp by this vortex-like turbulent flow, and the above-mentioned white powder adheres to the discharge lamp by being further blown onto the discharge lamp along the gas downflow. It was.
外部から侵入した不純物がこの渦状の乱流によって放電ランプ上方まで巻き上げられ、その巻き上げられた不純物が更にガスのダウンフローに乗って放電ランプに吹き付けられることで、放電ランプに上述の白粉が付着していたのである。 The inventor of the present invention has performed a gas flow analysis in a configuration in which gas is simply ejected from the outlet toward the discharge lamp in a down flow. As a result, the flow of gas ejected from the outlet is spiral, particularly a discharge lamp. It was confirmed that vertical vortex turbulent flow was generated.
Impurities that have entered from the outside are wound up to the upper part of the discharge lamp by this vortex-like turbulent flow, and the above-mentioned white powder adheres to the discharge lamp by being further blown onto the discharge lamp along the gas downflow. It was.
そこで、放電ランプの側方に配置した吹き出し口、好ましくは放電ランプの側方のランプ上面より下部に配置した吹き出し口から前記ガスを放電ランプに向けて噴射し、それによって放電ランプに当たった前記ガスが放電ランプ表面に沿った層状の流れを形成するようにした。特に放電ランプ下面にアース側電極、ランプ上面に高電圧側電極が外部に配された外部電極型放電ランプを用いる場合には、高電圧で危険なため放電ランプ上方に吹き出し口を近づけにくい。このため、放電ランプ上面、特に上側外部電極より下部に吹き出し口を設けるのが好ましい。
このようにガスを直接に放電ランプに吹き付けることで、比較的少ないガスの流量で放電ランプは的確に冷却されて、放電ランプの温度上昇に伴う紫外線の放射強度の低下が抑制される。
更に、放電ランプ表面に沿った層状のガスの清浄な流れによって放電ランプへの白粉の付着が抑制される。
前記ガスを放電ランプに向けて噴射とは、前記ガスが放電ランプ表面に沿った層状の流れを形成するように前記放電ランプ表面に前記ガスを吹き付けること、であると好ましい。放電ランプ表面への白粉の付着を十分に抑制できるからである。 Therefore, the gas sprayed toward the discharge lamp from the outlet arranged on the side of the discharge lamp, preferably the outlet arranged below the upper surface of the lamp on the side of the discharge lamp, thereby hitting the discharge lamp. The gas formed a laminar flow along the discharge lamp surface. In particular, when an external electrode type discharge lamp in which a ground side electrode is provided on the lower surface of the discharge lamp and a high voltage side electrode is provided on the upper surface of the lamp is used, it is difficult to bring the air outlet close to the upper side of the discharge lamp because of the high voltage. For this reason, it is preferable to provide an outlet on the upper surface of the discharge lamp, particularly below the upper external electrode.
By blowing the gas directly onto the discharge lamp in this manner, the discharge lamp is accurately cooled with a relatively small gas flow rate, and a decrease in the ultraviolet radiation intensity accompanying a rise in the temperature of the discharge lamp is suppressed.
Furthermore, the adhesion of white powder to the discharge lamp is suppressed by the clean flow of the layered gas along the surface of the discharge lamp.
The injection of the gas toward the discharge lamp preferably means that the gas is blown onto the surface of the discharge lamp so that the gas forms a laminar flow along the surface of the discharge lamp. This is because adhesion of white powder to the surface of the discharge lamp can be sufficiently suppressed.
このようにガスを直接に放電ランプに吹き付けることで、比較的少ないガスの流量で放電ランプは的確に冷却されて、放電ランプの温度上昇に伴う紫外線の放射強度の低下が抑制される。
更に、放電ランプ表面に沿った層状のガスの清浄な流れによって放電ランプへの白粉の付着が抑制される。
前記ガスを放電ランプに向けて噴射とは、前記ガスが放電ランプ表面に沿った層状の流れを形成するように前記放電ランプ表面に前記ガスを吹き付けること、であると好ましい。放電ランプ表面への白粉の付着を十分に抑制できるからである。 Therefore, the gas sprayed toward the discharge lamp from the outlet arranged on the side of the discharge lamp, preferably the outlet arranged below the upper surface of the lamp on the side of the discharge lamp, thereby hitting the discharge lamp. The gas formed a laminar flow along the discharge lamp surface. In particular, when an external electrode type discharge lamp in which a ground side electrode is provided on the lower surface of the discharge lamp and a high voltage side electrode is provided on the upper surface of the lamp is used, it is difficult to bring the air outlet close to the upper side of the discharge lamp because of the high voltage. For this reason, it is preferable to provide an outlet on the upper surface of the discharge lamp, particularly below the upper external electrode.
By blowing the gas directly onto the discharge lamp in this manner, the discharge lamp is accurately cooled with a relatively small gas flow rate, and a decrease in the ultraviolet radiation intensity accompanying a rise in the temperature of the discharge lamp is suppressed.
Furthermore, the adhesion of white powder to the discharge lamp is suppressed by the clean flow of the layered gas along the surface of the discharge lamp.
The injection of the gas toward the discharge lamp preferably means that the gas is blown onto the surface of the discharge lamp so that the gas forms a laminar flow along the surface of the discharge lamp. This is because adhesion of white powder to the surface of the discharge lamp can be sufficiently suppressed.
又、本出願の第２の発明は、上記第１の発明の構成に加えて、前記遮蔽体に、前記ガスの排出用の排出口が形成されている。
従って、放電ランプ表面に沿って形成された層状のガスの清浄な流れを排出口から排出させることで、渦状特に放電ランプ上方に向かう巻き上げを伴った垂直方向の渦状の流れの発生を抑制することができる。
これによって、ガスの流れに不純物が混入するのを抑制して放電ランプへの白粉の付着を抑制できる。
より好ましくは、前記吹き出し口が、放電ランプの両側側方に配置されてなる紫外線照射装置である。放電ランプの長手方向両側面領域を概ね均一に冷却効果および白粉の付着抑制効果を高めることができるからである。吹き出し口が対抗している場合など、噴出したガスが放電ランプの下側で衝突することがあっても、放電ランプ全体で見た場合には、冷却効果および白粉の付着抑制効果は十分に得られている。さらに、つぎのような場合には、ガスの抜け流路が形成されるので、好ましい。すなわち、ランプの長手方向に対して垂直な一方向にガラス基板などの被照射物を搬送する搬送手段を有している場合には、被照射物の流れで一方向にガスが抜けることになる。 According to a second invention of the present application, in addition to the configuration of the first invention, a discharge port for discharging the gas is formed in the shield.
Therefore, by generating a clean flow of laminar gas formed along the surface of the discharge lamp from the discharge port, it is possible to suppress the generation of a vortex, particularly a vertical vortex flow accompanied by winding up upward of the discharge lamp. Can do.
Thereby, it is possible to suppress impurities from being mixed into the gas flow and suppress the adhesion of white powder to the discharge lamp.
More preferably, it is an ultraviolet irradiation device in which the outlet is disposed on both sides of the discharge lamp. This is because the cooling effect and the white powder adhesion suppressing effect can be enhanced substantially uniformly in both longitudinal regions of the discharge lamp. Even if the blown gas collides under the discharge lamp, such as when the outlet is facing, the cooling effect and white powder adhesion suppression effect are sufficiently obtained when viewed from the entire discharge lamp. It has been. Further, the following cases are preferable because a gas escape passage is formed. That is, in the case of having a transport means for transporting an object to be irradiated such as a glass substrate in one direction perpendicular to the longitudinal direction of the lamp, the gas escapes in one direction by the flow of the object to be irradiated. .
従って、放電ランプ表面に沿って形成された層状のガスの清浄な流れを排出口から排出させることで、渦状特に放電ランプ上方に向かう巻き上げを伴った垂直方向の渦状の流れの発生を抑制することができる。
これによって、ガスの流れに不純物が混入するのを抑制して放電ランプへの白粉の付着を抑制できる。
より好ましくは、前記吹き出し口が、放電ランプの両側側方に配置されてなる紫外線照射装置である。放電ランプの長手方向両側面領域を概ね均一に冷却効果および白粉の付着抑制効果を高めることができるからである。吹き出し口が対抗している場合など、噴出したガスが放電ランプの下側で衝突することがあっても、放電ランプ全体で見た場合には、冷却効果および白粉の付着抑制効果は十分に得られている。さらに、つぎのような場合には、ガスの抜け流路が形成されるので、好ましい。すなわち、ランプの長手方向に対して垂直な一方向にガラス基板などの被照射物を搬送する搬送手段を有している場合には、被照射物の流れで一方向にガスが抜けることになる。 According to a second invention of the present application, in addition to the configuration of the first invention, a discharge port for discharging the gas is formed in the shield.
Therefore, by generating a clean flow of laminar gas formed along the surface of the discharge lamp from the discharge port, it is possible to suppress the generation of a vortex, particularly a vertical vortex flow accompanied by winding up upward of the discharge lamp. Can do.
Thereby, it is possible to suppress impurities from being mixed into the gas flow and suppress the adhesion of white powder to the discharge lamp.
More preferably, it is an ultraviolet irradiation device in which the outlet is disposed on both sides of the discharge lamp. This is because the cooling effect and the white powder adhesion suppressing effect can be enhanced substantially uniformly in both longitudinal regions of the discharge lamp. Even if the blown gas collides under the discharge lamp, such as when the outlet is facing, the cooling effect and white powder adhesion suppression effect are sufficiently obtained when viewed from the entire discharge lamp. It has been. Further, the following cases are preferable because a gas escape passage is formed. That is, in the case of having a transport means for transporting an object to be irradiated such as a glass substrate in one direction perpendicular to the longitudinal direction of the lamp, the gas escapes in one direction by the flow of the object to be irradiated. .
又、本出願の第３の発明は、上記第１又は第２の発明の構成に加えて、前記放電ランプは、１方向に長い扁平形状で且つ短辺方向の端部が滑らかな湾曲形状を有するように形成され、前記吹き出し口は、前記放電ランプの短辺方向の端部に向けて前記ガスを噴出するように、前記放電ランプの両側に複数個並べて配置されて構成されている。
すなわち、放電ランプの短辺方向の端部に向けて吹き出し口から噴出したガスは、その端部の滑らかな湾曲形状に沿って流れて扁平面に緩やかに拡がり、層状の流れを形成する。
このように、ガスの流れが放電ランプの扁平面で緩やかに拡がるので、ガスの流れによる渦の発生が更に抑制される。 According to a third invention of the present application, in addition to the configuration of the first or second invention, the discharge lamp has a flat shape that is long in one direction and a smooth curved shape at an end in the short side direction. A plurality of the outlets are arranged side by side on both sides of the discharge lamp so as to eject the gas toward the end portion in the short side direction of the discharge lamp.
That is, the gas ejected from the outlet toward the end portion in the short side direction of the discharge lamp flows along the smooth curved shape of the end portion and spreads gently on the flat surface to form a laminar flow.
In this way, the gas flow gently spreads on the flat surface of the discharge lamp, so that the generation of vortices due to the gas flow is further suppressed.
すなわち、放電ランプの短辺方向の端部に向けて吹き出し口から噴出したガスは、その端部の滑らかな湾曲形状に沿って流れて扁平面に緩やかに拡がり、層状の流れを形成する。
このように、ガスの流れが放電ランプの扁平面で緩やかに拡がるので、ガスの流れによる渦の発生が更に抑制される。 According to a third invention of the present application, in addition to the configuration of the first or second invention, the discharge lamp has a flat shape that is long in one direction and a smooth curved shape at an end in the short side direction. A plurality of the outlets are arranged side by side on both sides of the discharge lamp so as to eject the gas toward the end portion in the short side direction of the discharge lamp.
That is, the gas ejected from the outlet toward the end portion in the short side direction of the discharge lamp flows along the smooth curved shape of the end portion and spreads gently on the flat surface to form a laminar flow.
In this way, the gas flow gently spreads on the flat surface of the discharge lamp, so that the generation of vortices due to the gas flow is further suppressed.
又、本出願の第４の発明は、上記第３の発明に構成に加えて、前記放電ランプの両側に配置されている前記吹き出し口は、一方の側の前記吹き出し口と他方の側の吹き出し口とが前記放電ランプの長手方向で互いに位置ずれした状態で並べて配置されている。
すなわち、吹き出し口から噴出した前記ガスの流れは、放電ランプの扁平面で緩やかに拡がって渦状の流れの発生を抑制するものであるが、放電ランプの両側から噴出したガスが扁平面上で衝突する構成では、ガスの流速によっては渦状の流れが発生してしまう可能性もあり得る。
そこで、ガスの吹き出し口の並びを放電ランプの両側で位置ずれさせておくことで、放電ランプの扁平面上でのガスの衝突を抑制して、渦状、特に放電ランプ上方に向かって巻き上げられる垂直方向の渦状の流れの発生をより的確に排除しているのである。 According to a fourth invention of the present application, in addition to the configuration of the third invention, the air outlets arranged on both sides of the discharge lamp include the air outlet on one side and the air outlet on the other side. The mouths are arranged side by side in a state of being displaced from each other in the longitudinal direction of the discharge lamp.
That is, the flow of the gas ejected from the outlet is gently spread on the flat surface of the discharge lamp to suppress the generation of a spiral flow, but the gas ejected from both sides of the discharge lamp collides on the flat surface. In such a configuration, a vortex flow may be generated depending on the flow rate of the gas.
Therefore, by aligning the positions of the gas outlets on both sides of the discharge lamp, the collision of the gas on the flat surface of the discharge lamp is suppressed, and a vertical shape that is wound up upward, especially in the upward direction of the discharge lamp. The generation of vortex flow in the direction is more accurately eliminated.
すなわち、吹き出し口から噴出した前記ガスの流れは、放電ランプの扁平面で緩やかに拡がって渦状の流れの発生を抑制するものであるが、放電ランプの両側から噴出したガスが扁平面上で衝突する構成では、ガスの流速によっては渦状の流れが発生してしまう可能性もあり得る。
そこで、ガスの吹き出し口の並びを放電ランプの両側で位置ずれさせておくことで、放電ランプの扁平面上でのガスの衝突を抑制して、渦状、特に放電ランプ上方に向かって巻き上げられる垂直方向の渦状の流れの発生をより的確に排除しているのである。 According to a fourth invention of the present application, in addition to the configuration of the third invention, the air outlets arranged on both sides of the discharge lamp include the air outlet on one side and the air outlet on the other side. The mouths are arranged side by side in a state of being displaced from each other in the longitudinal direction of the discharge lamp.
That is, the flow of the gas ejected from the outlet is gently spread on the flat surface of the discharge lamp to suppress the generation of a spiral flow, but the gas ejected from both sides of the discharge lamp collides on the flat surface. In such a configuration, a vortex flow may be generated depending on the flow rate of the gas.
Therefore, by aligning the positions of the gas outlets on both sides of the discharge lamp, the collision of the gas on the flat surface of the discharge lamp is suppressed, and a vertical shape that is wound up upward, especially in the upward direction of the discharge lamp. The generation of vortex flow in the direction is more accurately eliminated.
上記第１の発明によれば、ガスの流れを適切に設定することで、放電ランプの温度上昇や放電ランプへの白粉の付着を抑制して、紫外線照射装置の管理負担を可及的に低減しながら、効率良く処理対象物へ紫外線を照射できるものとなった。
又、上記第２の発明によれば、ガスの流れにおいて渦状、特に放電ランプ上方に向かって巻き上げられる垂直方向の渦状の流れの発生が抑制されるので、放電ランプへの白粉の付着を更に抑制できるものとなった。
又、上記第３の発明によれば、ガスの流れによる渦の発生が更に抑制されるので、放電ランプへの白粉の付着をより一層抑制できるものとなった。
又、上記第４の発明によれば、ガスの渦状の流れの発生をより的確に排除できるので、放電ランプへの白粉の付着を更に抑制できるものとなった。 According to the first aspect of the invention, by appropriately setting the gas flow, the temperature rise of the discharge lamp and the adhesion of white powder to the discharge lamp are suppressed, and the management burden of the ultraviolet irradiation device is reduced as much as possible. However, it became possible to efficiently irradiate the object to be treated with ultraviolet rays.
In addition, according to the second aspect of the invention, since the generation of a vortex in the gas flow, in particular, a vertical vortex flow that is wound up upward of the discharge lamp, is suppressed, the adhesion of white powder to the discharge lamp is further suppressed. It became possible.
In addition, according to the third aspect of the invention, the generation of vortices due to the gas flow is further suppressed, so that the adhesion of white powder to the discharge lamp can be further suppressed.
In addition, according to the fourth aspect of the present invention, since the generation of the vortex flow of gas can be more accurately eliminated, the adhesion of white powder to the discharge lamp can be further suppressed.
又、上記第２の発明によれば、ガスの流れにおいて渦状、特に放電ランプ上方に向かって巻き上げられる垂直方向の渦状の流れの発生が抑制されるので、放電ランプへの白粉の付着を更に抑制できるものとなった。
又、上記第３の発明によれば、ガスの流れによる渦の発生が更に抑制されるので、放電ランプへの白粉の付着をより一層抑制できるものとなった。
又、上記第４の発明によれば、ガスの渦状の流れの発生をより的確に排除できるので、放電ランプへの白粉の付着を更に抑制できるものとなった。 According to the first aspect of the invention, by appropriately setting the gas flow, the temperature rise of the discharge lamp and the adhesion of white powder to the discharge lamp are suppressed, and the management burden of the ultraviolet irradiation device is reduced as much as possible. However, it became possible to efficiently irradiate the object to be treated with ultraviolet rays.
In addition, according to the second aspect of the invention, since the generation of a vortex in the gas flow, in particular, a vertical vortex flow that is wound up upward of the discharge lamp, is suppressed, the adhesion of white powder to the discharge lamp is further suppressed. It became possible.
In addition, according to the third aspect of the invention, the generation of vortices due to the gas flow is further suppressed, so that the adhesion of white powder to the discharge lamp can be further suppressed.
In addition, according to the fourth aspect of the present invention, since the generation of the vortex flow of gas can be more accurately eliminated, the adhesion of white powder to the discharge lamp can be further suppressed.
以下、本発明の紫外線照射装置をエキシマランプを用いたガラス基板用の洗浄装置に適用した場合の実施の形態を、図面に基づいて説明する。
洗浄装置ＣＬは、洗浄処理の処理対象物であるガラス基板１に対して２００ｎｍ以下の真空紫外線（具体的には１７２ｎｍの波長の紫外線）を照射して、その紫外線及びその紫外線によって発生した活性酸素の洗浄作用によってガラス基板１表面の有機汚染物を分解除去する装置であり、図４の概略断面図に示すように、筐体２内に、ガラス基板１を搬送する搬送ローラ３が並べて配置され、搬送ローラ３による搬送経路の中央部寄りの位置に、いわゆるエキシマランプと称される複数本の放電ランプ４がガラス基板１の搬送方向（図４中において矢印ＴＤにて示す方向、図１乃至図３においても同様）に並べて配置されている。このように、放電ランプ、特に下方照射面が平面の扁平形放電ランプの下方照射面側とガラス基板などの非搬送物との間にはガラス窓など配されることなく、気体を介するのみの装置構成であり、放電ランプの配置空間が装置外部の空間に開放されている。このような紫外線照射装置を半開放型の紫外線照射装置という。 Hereinafter, an embodiment in which the ultraviolet irradiation device of the present invention is applied to a glass substrate cleaning device using an excimer lamp will be described with reference to the drawings.
The cleaning device CL irradiates the glass substrate 1 that is a processing target of the cleaning process with vacuum ultraviolet rays of 200 nm or less (specifically, ultraviolet rays having a wavelength of 172 nm), and the ultraviolet rays and the active oxygen generated by the ultraviolet rays. 4 is an apparatus for decomposing and removing organic contaminants on the surface of the glass substrate 1. As shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 4, transport rollers 3 for transporting the glass substrate 1 are arranged side by side in thehousing 2. A plurality of discharge lamps 4, called so-called excimer lamps, are positioned near the center of the transport path by the transport roller 3 in the transport direction of the glass substrate 1 (the direction indicated by the arrow TD in FIG. The same applies to FIG. 3 as well. In this way, the discharge lamp, in particular, the lower irradiation surface is a flat discharge lamp having a flat surface, and the non-conveyed object such as the glass substrate is not disposed between the lower irradiation surface side and the non-conveyed object such as a glass substrate. It is an apparatus configuration, and the arrangement space of the discharge lamp is opened to a space outside the apparatus. Such an ultraviolet irradiation device is called a semi-open type ultraviolet irradiation device.
洗浄装置ＣＬは、洗浄処理の処理対象物であるガラス基板１に対して２００ｎｍ以下の真空紫外線（具体的には１７２ｎｍの波長の紫外線）を照射して、その紫外線及びその紫外線によって発生した活性酸素の洗浄作用によってガラス基板１表面の有機汚染物を分解除去する装置であり、図４の概略断面図に示すように、筐体２内に、ガラス基板１を搬送する搬送ローラ３が並べて配置され、搬送ローラ３による搬送経路の中央部寄りの位置に、いわゆるエキシマランプと称される複数本の放電ランプ４がガラス基板１の搬送方向（図４中において矢印ＴＤにて示す方向、図１乃至図３においても同様）に並べて配置されている。このように、放電ランプ、特に下方照射面が平面の扁平形放電ランプの下方照射面側とガラス基板などの非搬送物との間にはガラス窓など配されることなく、気体を介するのみの装置構成であり、放電ランプの配置空間が装置外部の空間に開放されている。このような紫外線照射装置を半開放型の紫外線照射装置という。 Hereinafter, an embodiment in which the ultraviolet irradiation device of the present invention is applied to a glass substrate cleaning device using an excimer lamp will be described with reference to the drawings.
The cleaning device CL irradiates the glass substrate 1 that is a processing target of the cleaning process with vacuum ultraviolet rays of 200 nm or less (specifically, ultraviolet rays having a wavelength of 172 nm), and the ultraviolet rays and the active oxygen generated by the ultraviolet rays. 4 is an apparatus for decomposing and removing organic contaminants on the surface of the glass substrate 1. As shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 4, transport rollers 3 for transporting the glass substrate 1 are arranged side by side in the
洗浄装置ＣＬでは、上流側（図４において右側）の入口からガラス基板１が搬入されてくると搬送ローラ３にてガラス基板１を下流側へ設定速度で搬送駆動し、放電ランプ４がガラス基板１に対して紫外線を照射する。
放電ランプ４が照射する１７２ｎｍ帯等の真空紫外線は空気中の酸素による吸収が大であるため、筐体２内におけるガラス基板１の搬送経路付近の雰囲気は、外部から供給される清浄な不活性ガスにて置換されており、前記搬送経路を通過した不活性ガスは筐体２下部の排気口２ａから排出される。
尚、本実施の形態では、上記の不活性ガスとして窒素ガスを使用しているが、他の不活性ガスを使用しても良い。又、目的に応じて紫外線を照射して実質的に処理を行える程度の少量の空気や酸素等を不活性ガスに混入（「プロセスガス」という）しても良い。さらに、二種類以上のガスを混合したものを使用しても良い。 In the cleaning device CL, when the glass substrate 1 is carried in from the upstream side (right side in FIG. 4), the glass substrate 1 is conveyed and driven downstream at a set speed by the conveying roller 3, and thedischarge lamp 4 is moved to the glass substrate. 1 is irradiated with ultraviolet rays.
Since vacuum ultraviolet rays such as a 172 nm band irradiated by thedischarge lamp 4 are largely absorbed by oxygen in the air, the atmosphere in the vicinity of the conveyance path of the glass substrate 1 in the housing 2 is a clean inert gas supplied from the outside. The inert gas that has been replaced with gas and has passed through the transfer path is discharged from the exhaust port 2a at the bottom of the housing 2.
In the present embodiment, nitrogen gas is used as the inert gas, but other inert gases may be used. Further, depending on the purpose, a small amount of air, oxygen, or the like that can be substantially processed by irradiating ultraviolet rays may be mixed into the inert gas (referred to as “process gas”). Further, a mixture of two or more kinds of gases may be used.
放電ランプ４が照射する１７２ｎｍ帯等の真空紫外線は空気中の酸素による吸収が大であるため、筐体２内におけるガラス基板１の搬送経路付近の雰囲気は、外部から供給される清浄な不活性ガスにて置換されており、前記搬送経路を通過した不活性ガスは筐体２下部の排気口２ａから排出される。
尚、本実施の形態では、上記の不活性ガスとして窒素ガスを使用しているが、他の不活性ガスを使用しても良い。又、目的に応じて紫外線を照射して実質的に処理を行える程度の少量の空気や酸素等を不活性ガスに混入（「プロセスガス」という）しても良い。さらに、二種類以上のガスを混合したものを使用しても良い。 In the cleaning device CL, when the glass substrate 1 is carried in from the upstream side (right side in FIG. 4), the glass substrate 1 is conveyed and driven downstream at a set speed by the conveying roller 3, and the
Since vacuum ultraviolet rays such as a 172 nm band irradiated by the
In the present embodiment, nitrogen gas is used as the inert gas, but other inert gases may be used. Further, depending on the purpose, a small amount of air, oxygen, or the like that can be substantially processed by irradiating ultraviolet rays may be mixed into the inert gas (referred to as “process gas”). Further, a mixture of two or more kinds of gases may be used.
本実施の形態で例示する放電ランプ４は、ガラス基板１の搬送方向で切断したものを斜視図として示す図１，ガラス基板１の搬送方向で切断したものを搬送横幅方向視で示す図２及び放電ランプ４の上面よりもわずかに上方で水平方向に切断したものを平面視で示す図３に示すように、１方向（ガラス基板１の搬送横幅方向）に長い扁平形状を有しており、細長い扁平の筒の長手方向両端を閉塞した構造となっている。
更に詳細には、放電ランプ４は、それの扁平面の法線方向視では上記１方向（ガラス基板１の搬送横幅方向）に細長い長方形をなし、上記扁平面の短辺方向（ガラス基板１の搬送方向）の端部（側端部）は外方に凸に丸めた滑らかな湾曲形状を有している。 Thedischarge lamp 4 exemplified in the present embodiment is a perspective view of the glass lamp 1 cut in the transport direction of the glass substrate 1, FIG. 2 is a cross-sectional view of the glass substrate 1 cut in the transport direction, and FIG. As shown in FIG. 3 showing a plan view in a horizontal direction slightly above the upper surface of the discharge lamp 4, it has a long flat shape in one direction (the lateral width direction of the glass substrate 1), It has a structure in which both ends in the longitudinal direction of an elongated flat tube are closed.
More specifically, thedischarge lamp 4 has a rectangular shape elongated in the one direction (the horizontal direction of conveyance of the glass substrate 1) in the normal direction of the flat surface thereof, and the short side direction (of the glass substrate 1 of the glass substrate 1). The end portion (side end portion) in the transport direction has a smooth curved shape rounded outwardly.
更に詳細には、放電ランプ４は、それの扁平面の法線方向視では上記１方向（ガラス基板１の搬送横幅方向）に細長い長方形をなし、上記扁平面の短辺方向（ガラス基板１の搬送方向）の端部（側端部）は外方に凸に丸めた滑らかな湾曲形状を有している。 The
More specifically, the
放電ランプ４の材質は合成石英ガラスであり、放電ランプ４内には、例えばキセノン，アルゴン，クリプトン等の希ガス、必要に応じてフッ素，塩素等のハロゲンガス等が封入されている。
図示を省略するが、放電ランプ４の扁平面には上面側と下面側（ガラス基板１の存在側）とで一対の電極が形成されている。
上面側の電極は金属膜の電極が一様に形成されたベタ電極であり、下面側の電極は金属膜がメッシュ状に形成されたメッシュ電極である。
この上下一対の電極に交流高電圧が印加されると、放電ランプ４の内部空間でいわゆる誘電体バリア放電が発生して放電ランプ４内の封入ガス等に作用し、封入ガスがキセノンの場合、上記の１７２ｎｍ帯の紫外線を発生する。発生した紫外線は下面側のメッシュ電極の隙間を通過して外部に放射される。
放電ランプ４は、この紫外線を放射する扁平面がガラス基板１の搬送方向に沿って設置されているので、搬送されるガラス基板１に対して均等な強度の紫外線を比較的に長い距離に亘って照射することができる。 The material of thedischarge lamp 4 is synthetic quartz glass, and the discharge lamp 4 is filled with, for example, a rare gas such as xenon, argon, or krypton, and a halogen gas such as fluorine or chlorine, if necessary.
Although not shown, a pair of electrodes is formed on the flat surface of thedischarge lamp 4 on the upper surface side and the lower surface side (the side where the glass substrate 1 is present).
The electrode on the upper surface side is a solid electrode in which the electrodes of the metal film are uniformly formed, and the electrode on the lower surface side is a mesh electrode in which the metal film is formed in a mesh shape.
When an alternating high voltage is applied to the pair of upper and lower electrodes, a so-called dielectric barrier discharge is generated in the inner space of thedischarge lamp 4 and acts on the sealed gas in the discharge lamp 4. When the sealed gas is xenon, The ultraviolet light in the 172 nm band is generated. The generated ultraviolet rays pass through the gap between the mesh electrodes on the lower surface side and are radiated to the outside.
Since thedischarge lamp 4 has a flat surface that radiates the ultraviolet rays along the direction in which the glass substrate 1 is transported, the discharge lamp 4 emits ultraviolet rays having a uniform intensity over a relatively long distance to the glass substrate 1 being transported. Can be irradiated.
図示を省略するが、放電ランプ４の扁平面には上面側と下面側（ガラス基板１の存在側）とで一対の電極が形成されている。
上面側の電極は金属膜の電極が一様に形成されたベタ電極であり、下面側の電極は金属膜がメッシュ状に形成されたメッシュ電極である。
この上下一対の電極に交流高電圧が印加されると、放電ランプ４の内部空間でいわゆる誘電体バリア放電が発生して放電ランプ４内の封入ガス等に作用し、封入ガスがキセノンの場合、上記の１７２ｎｍ帯の紫外線を発生する。発生した紫外線は下面側のメッシュ電極の隙間を通過して外部に放射される。
放電ランプ４は、この紫外線を放射する扁平面がガラス基板１の搬送方向に沿って設置されているので、搬送されるガラス基板１に対して均等な強度の紫外線を比較的に長い距離に亘って照射することができる。 The material of the
Although not shown, a pair of electrodes is formed on the flat surface of the
The electrode on the upper surface side is a solid electrode in which the electrodes of the metal film are uniformly formed, and the electrode on the lower surface side is a mesh electrode in which the metal film is formed in a mesh shape.
When an alternating high voltage is applied to the pair of upper and lower electrodes, a so-called dielectric barrier discharge is generated in the inner space of the
Since the
次ぎに、放電ランプ４の近傍に窒素ガスを供給するガス供給手段ＧＳについて説明する。
放電ランプ４近傍におけるガス供給手段ＧＳによる窒素ガスの供給流路は、図１及び図２に示すように、丸パイプ１１と、その丸パイプ１１の下端に接続される角パイプ１２と、ガラス基板１の存在側の反対側すなわち上部側において放電ランプ４の周囲空間を覆う遮蔽体１３とによって形成されている。 Next, gas supply means GS for supplying nitrogen gas in the vicinity of thedischarge lamp 4 will be described.
As shown in FIGS. 1 and 2, the nitrogen gas supply flow path in the vicinity of thedischarge lamp 4 includes a round pipe 11, a square pipe 12 connected to the lower end of the round pipe 11, and a glass substrate. 1 is formed by a shield 13 that covers the space surrounding the discharge lamp 4 on the side opposite to the existence side, that is, the upper side.
放電ランプ４近傍におけるガス供給手段ＧＳによる窒素ガスの供給流路は、図１及び図２に示すように、丸パイプ１１と、その丸パイプ１１の下端に接続される角パイプ１２と、ガラス基板１の存在側の反対側すなわち上部側において放電ランプ４の周囲空間を覆う遮蔽体１３とによって形成されている。 Next, gas supply means GS for supplying nitrogen gas in the vicinity of the
As shown in FIGS. 1 and 2, the nitrogen gas supply flow path in the vicinity of the
丸パイプ１１は、１つの角パイプ１２に対して複数本が接続され、外部から供給される清浄な窒素ガスを角パイプ１２の内部空間へ送り込む。
角パイプ１２は、ガラス基板１の搬送横幅方向において放電ランプ４と略同じ長さを有しており、角パイプ１２の両側面には、窒素ガスを噴出する複数個の開口１２ａが形成されている。この開口１２ａは、角パイプ１２の長手方向に原則として等ピッチに並べて形成されている。
この丸パイプ１１と角パイプ１２とを接続したものは、ガラス基板１の搬送方向に並ぶ各放電ランプ４の間に配置されており、詳しくは後述するが、夫々の角パイプ１２はそれの両脇に位置する放電ランプ４に向けて窒素ガスを噴出している。 A plurality ofround pipes 11 are connected to one square pipe 12 and feed clean nitrogen gas supplied from the outside into the internal space of the square pipe 12.
Thesquare pipe 12 has substantially the same length as the discharge lamp 4 in the conveyance width direction of the glass substrate 1, and a plurality of openings 12 a for ejecting nitrogen gas are formed on both side surfaces of the square pipe 12. Yes. In principle, the openings 12a are formed at regular pitches in the longitudinal direction of the square pipe 12.
Theround pipe 11 and the square pipe 12 connected to each other are arranged between the discharge lamps 4 arranged in the conveyance direction of the glass substrate 1 and will be described in detail later. Nitrogen gas is ejected toward the discharge lamp 4 located on the side.
角パイプ１２は、ガラス基板１の搬送横幅方向において放電ランプ４と略同じ長さを有しており、角パイプ１２の両側面には、窒素ガスを噴出する複数個の開口１２ａが形成されている。この開口１２ａは、角パイプ１２の長手方向に原則として等ピッチに並べて形成されている。
この丸パイプ１１と角パイプ１２とを接続したものは、ガラス基板１の搬送方向に並ぶ各放電ランプ４の間に配置されており、詳しくは後述するが、夫々の角パイプ１２はそれの両脇に位置する放電ランプ４に向けて窒素ガスを噴出している。 A plurality of
The
The
遮蔽体１３は、ガラス基板１の搬送横幅方向視で略コの字状の断面を有しており、コの字の開放側を下方に向ける姿勢で放電ランプ４近傍を上方から覆っている。遮蔽体１３の下端位置は、角パイプ１２の下端位置よりもわずかに下方に位置しており、放電ランプ４の側端部から角パイプ１２側に向けて放射される紫外線を遮蔽体１３にて遮っている。
遮蔽体１３も、ガラス基板１の搬送横幅方向において放電ランプ４と略同じ長さを有している。
角パイプ１２の側面と遮蔽体１３の縦壁部１３ａとはわずかな隙間を開けて近接配置されており、縦壁部１３ａには、角パイプ１２の開口１２ａよりも若干大径の吹き出し口１３ｂが、各開口１２ａと対応して、ガラス基板１の搬送方向視で開口１２ａと同心状となるように形成されている。
この開口１２ａ及び吹き出し口１３ｂの存在高さは、放電ランプ４の高さ方向（すなわち厚さ方向）中央位置と一致させており、角パイプ１２の内部空間へ供給された窒素ガスは、開口１２ａ及び吹き出し口１３ｂを通過して、放電ランプ４側端部の頂部に向けて噴出される。
遮蔽体１３に上方側を覆われる放電ランプ４は、両側の吹き出し口１３ｂから均等の距離となる中央位置に図示を省略する支持部材にて取り付けられている。
遮蔽体１３の上面には、窒素ガスを排出するスリット状の排出口１３ｃが形成されている。
排出口１３ｃは、ガラス基板１の搬送方向（放電ランプ４の短辺側方向）における放電ランプ４の中央位置の直上に位置しており、図３に仮想線で示すように、放電ランプ４の長手方向に複数個が並ぶ状態で形成されている。 Theshield 13 has a substantially U-shaped cross section when viewed in the conveyance width direction of the glass substrate 1, and covers the vicinity of the discharge lamp 4 from above in such a posture that the open side of the U-shape is directed downward. The lower end position of the shield 13 is located slightly below the lower end position of the square pipe 12, and ultraviolet rays radiated from the side end portion of the discharge lamp 4 toward the square pipe 12 are used by the shield 13. Blocking.
Theshield 13 also has substantially the same length as the discharge lamp 4 in the conveyance width direction of the glass substrate 1.
The side surface of thesquare pipe 12 and the vertical wall portion 13a of the shield 13 are disposed close to each other with a slight gap therebetween. The vertical wall portion 13a has a slightly larger diameter outlet 13b than the opening 12a of the square pipe 12. However, it is formed so as to be concentric with the opening 12a when viewed in the transport direction of the glass substrate 1 in correspondence with each opening 12a.
The height of theopening 12a and the outlet 13b is made to coincide with the center position in the height direction (that is, the thickness direction) of the discharge lamp 4, and the nitrogen gas supplied to the internal space of the square pipe 12 is the opening 12a. And it blows out toward the top part of the discharge lamp 4 side edge part through the blower outlet 13b.
Thedischarge lamp 4 whose upper side is covered with the shield 13 is attached to a central position at an equal distance from the blowout ports 13b on both sides by a supporting member (not shown).
On the upper surface of theshield 13, a slit-like discharge port 13 c for discharging nitrogen gas is formed.
Thedischarge port 13c is located immediately above the center position of the discharge lamp 4 in the conveyance direction of the glass substrate 1 (the direction of the short side of the discharge lamp 4), and as shown by the phantom line in FIG. It is formed in a state where a plurality are arranged in the longitudinal direction.
遮蔽体１３も、ガラス基板１の搬送横幅方向において放電ランプ４と略同じ長さを有している。
角パイプ１２の側面と遮蔽体１３の縦壁部１３ａとはわずかな隙間を開けて近接配置されており、縦壁部１３ａには、角パイプ１２の開口１２ａよりも若干大径の吹き出し口１３ｂが、各開口１２ａと対応して、ガラス基板１の搬送方向視で開口１２ａと同心状となるように形成されている。
この開口１２ａ及び吹き出し口１３ｂの存在高さは、放電ランプ４の高さ方向（すなわち厚さ方向）中央位置と一致させており、角パイプ１２の内部空間へ供給された窒素ガスは、開口１２ａ及び吹き出し口１３ｂを通過して、放電ランプ４側端部の頂部に向けて噴出される。
遮蔽体１３に上方側を覆われる放電ランプ４は、両側の吹き出し口１３ｂから均等の距離となる中央位置に図示を省略する支持部材にて取り付けられている。
遮蔽体１３の上面には、窒素ガスを排出するスリット状の排出口１３ｃが形成されている。
排出口１３ｃは、ガラス基板１の搬送方向（放電ランプ４の短辺側方向）における放電ランプ４の中央位置の直上に位置しており、図３に仮想線で示すように、放電ランプ４の長手方向に複数個が並ぶ状態で形成されている。 The
The
The side surface of the
The height of the
The
On the upper surface of the
The
１本の放電ランプ４に対して、ガラス基板１の搬送方向の上流側及び下流側の両側方（より詳細には、上流側及び下流側の両方の側脇）に位置する吹き出し口１３ｂから窒素ガスが噴射されるのであるが、図３の平面図において窒素ガスの噴出位置を矢印Ａで示すように、上流側と下流側とで等ピッチの並ぶ吹き出し口１３ｂの並びが互いに１／２ピッチずれて千鳥配置状に位置ずれしている。
但し、吹き出し口１３ｂの並びの端部のみは上流側と下流側とが対向する状態で配置されている。 Nitrogen from ablowout port 13b located on both sides of the upstream side and the downstream side in the transport direction of the glass substrate 1 (more specifically, on both sides of the upstream side and the downstream side) with respect to one discharge lamp 4 Gas is injected, but as shown by the arrow A in the plan view of FIG. 3, the positions of the outlets 13 b arranged at equal pitches on the upstream side and the downstream side are ½ pitch each other. Misaligned and staggered.
However, only the end portion of the arrangement of theoutlets 13b is arranged with the upstream side and the downstream side facing each other.
但し、吹き出し口１３ｂの並びの端部のみは上流側と下流側とが対向する状態で配置されている。 Nitrogen from a
However, only the end portion of the arrangement of the
上記のような配置構成において、外部から取り入れた清浄な窒素ガスが丸パイプ１１を経て角パイプ１２の内部空間へ供給されると、角パイプ１２の開口１２ａ及び遮蔽体１３の吹き出し口１３ｂを経て、放電ランプ４の湾曲形状の側端部に向けて窒素ガスが噴出される。
放電ランプ４の側端部に当たった窒素ガスは、図２において矢印Ｂにて窒素ガスの流れの方向を示すように、放電ランプ４の側端部の湾曲形状に沿って放電ランプ４の上面側と下面側とに別れて、夫々が更に放電ランプ４の上下の扁平面に沿って流れる。このような放電ランプ４の表面に沿った流れによって、放電ランプ４の表面上に清浄な窒素ガスの層が形成される。
放電ランプ４の上面側の扁平面に沿って流れた窒素ガスは、更に排出口１３ｃへと流れて外部に排出される。 In the arrangement as described above, when clean nitrogen gas taken from the outside is supplied to the internal space of thesquare pipe 12 through the round pipe 11, it passes through the opening 12 a of the square pipe 12 and the outlet 13 b of the shield 13. Nitrogen gas is ejected toward the curved side end of the discharge lamp 4.
The nitrogen gas that has hit the side end of thedischarge lamp 4 has an upper surface of the discharge lamp 4 along the curved shape of the side end of the discharge lamp 4 as shown by the arrow B in FIG. The flow further flows along the upper and lower flat surfaces of the discharge lamp 4. By such a flow along the surface of the discharge lamp 4, a clean nitrogen gas layer is formed on the surface of the discharge lamp 4.
The nitrogen gas that has flowed along the flat surface on the upper surface side of thedischarge lamp 4 further flows to the discharge port 13c and is discharged to the outside.
放電ランプ４の側端部に当たった窒素ガスは、図２において矢印Ｂにて窒素ガスの流れの方向を示すように、放電ランプ４の側端部の湾曲形状に沿って放電ランプ４の上面側と下面側とに別れて、夫々が更に放電ランプ４の上下の扁平面に沿って流れる。このような放電ランプ４の表面に沿った流れによって、放電ランプ４の表面上に清浄な窒素ガスの層が形成される。
放電ランプ４の上面側の扁平面に沿って流れた窒素ガスは、更に排出口１３ｃへと流れて外部に排出される。 In the arrangement as described above, when clean nitrogen gas taken from the outside is supplied to the internal space of the
The nitrogen gas that has hit the side end of the
The nitrogen gas that has flowed along the flat surface on the upper surface side of the
このように流路が形成される窒素ガスによって、放電ランプ４の下面側とガラス基板１との間の空間が的確に窒素ガスにて置換されるのはもちろんのこと、比較的に少ない流量の窒素ガスで放電ランプ４が効果的に冷却され、清浄な窒素ガスの流れによって白粉の付着が効果的に抑制される。更に、上方側に流れた窒素ガスが排出口１３ｃを経て排出されることで、白粉を舞い散らせる気流の乱れも抑制することができる。下方側に流れた窒素ガスは、筐体２下部の排気口２ａから排出されるか、処理対象物と共にＴＤ方向に流れる。
In this way, the nitrogen gas forming the flow path accurately replaces the space between the lower surface side of the discharge lamp 4 and the glass substrate 1 with the nitrogen gas, as well as a relatively small flow rate. The discharge lamp 4 is effectively cooled with nitrogen gas, and the adhesion of white powder is effectively suppressed by the flow of clean nitrogen gas. Furthermore, since the nitrogen gas that has flowed upward is discharged through the discharge port 13c, the turbulence of the airflow that scatters the white powder can also be suppressed. The nitrogen gas that has flowed downward is discharged from the exhaust port 2a at the bottom of the housing 2 or flows in the TD direction together with the object to be processed.
〔別実施形態〕
以下、本発明の別実施形態を列記する。
（１）上記実施の形態では、放電ランプ４として扁平形状のものを例示しているが、断面形状が円形の放電ランプ等の各種の形状のものに本発明を適用できる。
（２）上記実施の形態では、放電ランプ４に対して、ガラス基板１の搬送方向上流側の吹き出し口１３ｂと下流側の吹き出し口１３ｂとで、搬送横幅方向での並びが千鳥配置となっている場合を例示しているが、上流側の吹き出し口１３ｂと下流側の吹き出し口１３ｂとが全て対向する位置となるように配置して構成しても良い。
（３）上記実施の形態では、本発明の紫外線照射装置を洗浄装置ＣＬに適用する場合を例示しているが、紫外線を使用する各種の処理装置に適用できる。
（４）上記実施の形態では、１本の放電ランプ４に対してそれの両側脇から窒素ガスを噴出する構成として、ガス供給手段ＧＳが各放電ランプ４毎に窒素ガスを供給する場合を例示しているが、複数本並べた放電ランプに対してまとめてガスを噴出する形態で供給するように構成しても良い。
（５）上記実施の形態では、遮蔽体１３における放電ランプ４の上方位置（放電ランプ４に対してガラス基板１の存在側と反対側の位置）に排出口１３ｃを形成する場合を例示しているが、図５に示すように遮蔽体１３に排出口１３ｃを備えない構成としても良い。図５は、上記実施の形態における図２に対応するものである。
遮蔽体１３に排出口１３ｃを備えない場合、図５において放電ランプ４の上面に沿って流れる窒素ガスは、一旦上昇した後、隣り合う吹き出し口１３ｂ間の圧力の低い部分を通過して、放電ランプ４の下方側（放電ランプ４に対してガラス基板１の存在側）へと排出される。
このように構成した場合でも、放電ランプ４の表面に形成される層状の清浄な窒素ガスの流れによって、放電ランプ４への白粉の付着が抑制される。 [Another embodiment]
Hereinafter, other embodiments of the present invention will be listed.
(1) In the above embodiment, thedischarge lamp 4 is exemplified as a flat shape, but the present invention can be applied to various shapes such as a discharge lamp having a circular cross section.
(2) In the above embodiment, thedischarge lamp 4 is arranged in a staggered arrangement in the transport lateral width direction with the outlet 13b on the upstream side in the transport direction of the glass substrate 1 and the outlet 13b on the downstream side. However, the upstream side outlet 13b and the downstream side outlet 13b may be arranged so as to face each other.
(3) Although the case where the ultraviolet irradiation device of the present invention is applied to the cleaning device CL is illustrated in the above embodiment, the present invention can be applied to various processing devices using ultraviolet rays.
(4) In the above embodiment, the case where the gas supply means GS supplies nitrogen gas for eachdischarge lamp 4 is exemplified as a configuration in which nitrogen gas is ejected from both sides of one discharge lamp 4. However, a configuration may be adopted in which a plurality of discharge lamps are arranged and supplied in a form in which gas is ejected collectively.
(5) In the said embodiment, the case where thedischarge port 13c is formed in the upper position (position on the opposite side to the presence side of the glass substrate 1 with respect to the discharge lamp 4) in the shield 13 in the shield 13 is illustrated. However, as shown in FIG. 5, it is good also as a structure which is not equipped with the discharge port 13c in the shielding body 13. As shown in FIG. FIG. 5 corresponds to FIG. 2 in the above embodiment.
In the case where theshield 13 is not provided with the discharge port 13c, the nitrogen gas flowing along the upper surface of the discharge lamp 4 in FIG. 5 once rises and then passes through the low pressure portion between the adjacent blowout ports 13b to discharge. It is discharged to the lower side of the lamp 4 (the side where the glass substrate 1 is present with respect to the discharge lamp 4).
Even in such a configuration, the adhesion of white powder to thedischarge lamp 4 is suppressed by the flow of the layered clean nitrogen gas formed on the surface of the discharge lamp 4.
以下、本発明の別実施形態を列記する。
（１）上記実施の形態では、放電ランプ４として扁平形状のものを例示しているが、断面形状が円形の放電ランプ等の各種の形状のものに本発明を適用できる。
（２）上記実施の形態では、放電ランプ４に対して、ガラス基板１の搬送方向上流側の吹き出し口１３ｂと下流側の吹き出し口１３ｂとで、搬送横幅方向での並びが千鳥配置となっている場合を例示しているが、上流側の吹き出し口１３ｂと下流側の吹き出し口１３ｂとが全て対向する位置となるように配置して構成しても良い。
（３）上記実施の形態では、本発明の紫外線照射装置を洗浄装置ＣＬに適用する場合を例示しているが、紫外線を使用する各種の処理装置に適用できる。
（４）上記実施の形態では、１本の放電ランプ４に対してそれの両側脇から窒素ガスを噴出する構成として、ガス供給手段ＧＳが各放電ランプ４毎に窒素ガスを供給する場合を例示しているが、複数本並べた放電ランプに対してまとめてガスを噴出する形態で供給するように構成しても良い。
（５）上記実施の形態では、遮蔽体１３における放電ランプ４の上方位置（放電ランプ４に対してガラス基板１の存在側と反対側の位置）に排出口１３ｃを形成する場合を例示しているが、図５に示すように遮蔽体１３に排出口１３ｃを備えない構成としても良い。図５は、上記実施の形態における図２に対応するものである。
遮蔽体１３に排出口１３ｃを備えない場合、図５において放電ランプ４の上面に沿って流れる窒素ガスは、一旦上昇した後、隣り合う吹き出し口１３ｂ間の圧力の低い部分を通過して、放電ランプ４の下方側（放電ランプ４に対してガラス基板１の存在側）へと排出される。
このように構成した場合でも、放電ランプ４の表面に形成される層状の清浄な窒素ガスの流れによって、放電ランプ４への白粉の付着が抑制される。 [Another embodiment]
Hereinafter, other embodiments of the present invention will be listed.
(1) In the above embodiment, the
(2) In the above embodiment, the
(3) Although the case where the ultraviolet irradiation device of the present invention is applied to the cleaning device CL is illustrated in the above embodiment, the present invention can be applied to various processing devices using ultraviolet rays.
(4) In the above embodiment, the case where the gas supply means GS supplies nitrogen gas for each
(5) In the said embodiment, the case where the
In the case where the
Even in such a configuration, the adhesion of white powder to the
本出願は、２００８年９月１８日出願の日本特許出願・出願番号２００８－２４００９０に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
This application is based on Japanese Patent Application No. 2008-240090 filed on Sep. 18, 2008, the contents of which are incorporated herein by reference.
ＧＳ ガス供給手段
４ 放電ランプ
１３ 遮蔽体
１３ｂ 吹き出し口
１３ｃ 排出口 GS gas supply means 4discharge lamp 13 shield 13b outlet 13c outlet
４ 放電ランプ
１３ 遮蔽体
１３ｂ 吹き出し口
１３ｃ 排出口 GS gas supply means 4
Claims (4)
- 処理対象物に向けて紫外線を照射する放電ランプと、その放電ランプと前記処理対象物との間の空間にガスを供給するガス供給手段とが設けられた紫外線照射装置であって、
前記ガス供給手段は、前記放電ランプの側方に配置された前記ガスの吹き出し口と、前記処理対象物の存在側の反対側において前記放電ランプの周囲空間を覆う遮蔽体とを備えて構成されている紫外線照射装置。 An ultraviolet irradiation apparatus provided with a discharge lamp that irradiates ultraviolet rays toward the object to be treated, and a gas supply means for supplying gas to a space between the discharge lamp and the object to be treated,
The gas supply means includes the gas outlet arranged on the side of the discharge lamp, and a shield that covers the space surrounding the discharge lamp on the opposite side of the processing object. UV irradiation equipment. - 前記遮蔽体に、前記ガスの排出用の排出口が形成されている請求項１記載の紫外線照射装置。 The ultraviolet irradiation device according to claim 1, wherein a discharge port for discharging the gas is formed in the shield.
- 前記放電ランプは、１方向に長い扁平形状で且つ短辺方向の端部が滑らかな湾曲形状を有するように形成され、
前記吹き出し口は、前記放電ランプの短辺方向の端部に向けて前記ガスを噴出するように、前記放電ランプの両側に複数個並べて配置されて構成されている請求項１又は２記載の紫外線照射装置。 The discharge lamp is formed to have a flat shape that is long in one direction and a smooth curved shape at the end in the short side direction,
3. The ultraviolet ray according to claim 1, wherein a plurality of the outlets are arranged side by side on both sides of the discharge lamp so as to eject the gas toward an end portion in a short side direction of the discharge lamp. Irradiation device. - 前記放電ランプの両側に配置されている前記吹き出し口は、一方の側の前記吹き出し口と他方の側の吹き出し口とが前記放電ランプの長手方向で互いに位置ずれした状態で並べて配置されている請求項３記載の紫外線照射装置。 The air outlets arranged on both sides of the discharge lamp are arranged side by side in a state where the air outlet on one side and the air outlet on the other side are displaced from each other in the longitudinal direction of the discharge lamp. Item 4. The ultraviolet irradiation device according to Item 3.
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