WO2009119292A1 - セラミックフィルタ - Google Patents
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Abstract
欠陥が少なく、膜厚が薄く均一で分解能も高いセラミック多孔質膜を備えたセラミックフィルタを提供する。精密濾過膜(MF膜)である多孔質基材11上に形成した、平均細孔径が2~20nm、平均膜厚が0.1~1.0μmの限外濾過膜(UF膜)であるチタニアUF膜14上に、その一部が、チタニアUF膜14の細孔内、又はチタニアUF膜14及び多孔質基材11の細孔内に浸透しているセラミック多孔質膜であるシリカ膜1を形成したセラミックフィルタ。
Description
本発明は、セラミックフィルタに係り、更に詳しくは、欠陥が少なく、膜厚が薄く均一なセラミックフィルタに関する。
従来から、多孔質基材上にセラミック多孔質膜を成膜する方法は種々のものが知られている。例えば、ホットコート法は、加熱したチューブ基材の外表面に、シリカゾルを含む布を用いチューブ基材に擦りつけて塗布することにより多孔質膜を成膜する方法である(非特許文献1)。
チューブ形状や円筒レンコン状のモノリス形状の多孔質基材の内表面に濾過成膜により多孔質膜を形成する方法も公知であり(特許文献1及び2参照)、多孔質基材のゾル液が接触する内表面側より外表面側を低圧に保持することにより多孔質基材の内表面に成膜するものである。
しかしながら、ホットコート法は、基材表面全体を均一に成膜できないという問題があるほか、チューブ外表面しか成膜ができない。またモノリス型基材には、適用できない。一方、濾過成膜法では、成膜後の乾燥時に基材細孔内に存在する溶媒が膜側に流れ出て膜剥がれが発生することがあり、その結果、焼成後基材表面に形成される多孔質膜に欠陥が生じるという問題がある。また、ディッピング法は、モノリス型基材への適用ができるが、成膜回数が多い。
本発明の課題は、少ない成膜回数で形成され、欠陥が少なく、膜厚が薄く均一で分解能も高いセラミックフィルタを提供することにある。
本発明者らは、多孔質基材上に形成された0.1~1.0μmに平均膜厚が制御された限外濾過膜上に、限外濾過膜よりも平均細孔径の小さなセラミック多孔質膜を形成する構成を採用することにより、上記課題を解決できることを見出した。即ち、本発明によれば、以下のセラミックフィルタが提供される。
[1] 多孔質基材と、その多孔質基材上に形成された平均膜厚が0.1~1.0μmであり平均細孔径が2~20nmである限外濾過膜と、前記限外濾過膜上に形成され、その一部が、前記限外濾過膜の細孔内に浸透しているセラミック多孔質膜とを含むセラミックフィルタ。
[2] 前記セラミック多孔質膜の一部が、前記限外濾過膜及び前記多孔質基材の細孔内に浸透している前記[1]に記載のセラミックフィルタ。
[3] 前記限外濾過膜の平均膜厚が0.1~0.6μmであり平均細孔径が6~20nmである前記[1]又は[2]に記載のセラミックフィルタ。
[4] 前記多孔質基材がチタニア膜又はアルミナ膜である前記[1]~[3]のいずれかに記載のセラミックフィルタ。
[5] 前記セラミック多孔質膜がシリカ膜である前記[1]~[4]のいずれかに記載のセラミックフィルタ。
多孔質基材上に形成された、平均細孔径が多孔質基材よりも小さく2~20nmであり平均膜厚が0.1~1.0μmである限外濾過膜上に、限外濾過膜よりも平均細孔径の小さなセラミック多孔質膜を形成することにより、薄く欠陥が少ないセラミック多孔質膜を成膜することが可能となる。限外濾過膜の平均膜厚を0.1~1.0μmに制御することにより、セラミック多孔質膜の一部が限外濾過膜内、又は限外濾過膜及び多孔質基材内に浸透し、セラミックの局所的な偏析が防止され、分離性能の阻害要因である膜剥れを防ぐことができる。また、セラミック多孔質膜の一部が多孔質基材まで浸透することにより、限外濾過膜の膜強度が増し、更に、限外濾過膜と多孔質基材との密着強度が向上するため、セラミック多孔質膜と一体化した限外濾過膜の多孔質基材からの剥れを防ぐことができる。
以上の様に、本発明によれば、高分解能の脱水作用を有する低コストで高フラックスなセラミックフィルタを得ることができる。セラミック多孔質膜としてシリカ膜を採用する場合、特に、エタノールやイソプロピルアルコールなどのアルコールの脱水や酢酸等の有機酸の脱水用途に好適である。
1:シリカ膜、10:セラミックフィルタ、11:多孔質基材、14:チタニアUF膜、22:隔壁、23:セル、25:入口側端面、30:コーティング液(チタニアゾル液)、31:Oリング、32:ケーシング、33:真空ポンプ、40:コーティング液(シリカゾル液)、41:マスキングテープ。
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に限定されるものではなく、発明の範囲を逸脱しない限りにおいて、変更、修正、改良を加え得るものである。
図1に本発明の一実施形態であるセラミックフィルタの一部拡大断面図を示す。精密濾過膜(MF膜ともいう)である多孔質基材11上に、多孔質基材11よりも平均細孔径の小さな限外濾過膜(UF膜ともいう)であるチタニアUF膜14が形成され、チタニアUF膜14上に、チタニアUF膜14よりも平均細孔径の小さなシリカ膜1が形成された構成となっている。
多孔質基材11は、精密濾過膜(MF膜)であり、最表層に0.1~0.6μmの平均細孔径を有するものが好ましい。
そして、多孔質基材11上に、平均膜厚が0.1~1.0μm(0.1~0.6μmがより好ましい)、平均細孔径が2~20nm(6~20nmがより好ましい)の限外濾過膜であるチタニアUF膜14が形成され、そのチタニアUF膜14上にチタニアUF膜14よりも平均細孔径の小さなシリカ膜1が形成されている。
限外濾過膜の平均膜厚が1.0μmより厚いと、限外濾過膜中のセラミックゾルの透水が遅いため、セラミックゾルが十分に限外濾過膜内に染込まず、限外濾過膜表面にセラミックゾルが残留し、局所的な偏析が起こり、膜剥れが起こりやすい。また限外濾過膜の膜強度が弱いため、セラミック多孔質膜と一体化した限外濾過膜の多孔質基材からの剥れが起こりやすい。一方、限外濾過膜の平均膜厚が0.1μmより薄いと、限外濾過膜が多孔質基材表面を全て被覆することができないため、セラミック多孔質膜が形成できない不具合が生じる。従来のチタニアUF平均膜厚は1.5μmであり、シリカの偏析が起きるという問題があった。
限外濾過膜の平均細孔径が2nmよりも小さいと、セラミック多孔質膜が限外濾過膜細孔径内に十分に浸透できず、限外濾過膜表面にセラミックの局所的な偏析が起こり、膜剥れが起こりやすい。また、限外濾過膜の平均細孔径が20nmよりも大きいと、セラミック多孔質膜が多孔質基材にまで浸透し過ぎて、限外濾過膜上にセラミック多孔質膜が形成されない不具合が生じると考えられる。
ここでセラミック多孔質膜の一部が限外濾過膜内及び多孔質基材内に浸透しているとは、EDX元素分析によるスポット分析により、限外濾過膜内及び多孔質基材内をランダムに10ヶ所測定した場合に、セラミック多孔質膜材質/限外濾過膜材質又は多孔質基材質の重量比率の平均値が0.1以上であり、かつ標準偏差が0.035以下であることを指す。更に、レンコン状モノリス構造を持つ長尺なセラミックフィルタの場合には、フィルタの長さ方向において端面から全長の10%、50%、90%の位置における、最外周及び中央各セル位置においても同様にセラミック多孔質膜材質/限外濾過膜材質又は多孔質基材質の重量比率の平均値が0.1以上であり、かつ標準偏差が0.035以下であることを指す。
次に図2を用いて、本発明のセラミックフィルタ10の一実施形態を説明する。本発明のセラミックフィルタ1は、隔壁22により画成され軸方向の流体通路を形成する複数のセル23を有するモノリス形状を成している。本実施形態では、セル23は円形断面を有し、その内壁面に、図1に示されたようなシリカ膜1が形成されている。セル23は、四角形や六角形等の多角形断面を有するように形成してもよい。このような構造によれば、例えば、混合体(例えば、水と酢酸)を入口側端面25からセル23に導入すると、その混合体を構成する一方が、セル23内壁に形成されたシリカ膜1において分離され、多孔質の隔壁22を透過してセラミックフィルタ1の最外壁から排出されるため、混合体を分離することができる。つまり、セラミックフィルタ1に形成されたシリカ膜1は、分離膜として利用することができ、例えば、水と酢酸に対して高い分離特性を有する。
基材本体である多孔質基材11は、押し出し成形等により多孔質材料からなる円柱形状のモノリス型フィルターエレメントとして形成されており、多孔質材料としては、耐食性や、温度変化による濾過部の細孔径の変化が少ない点、また充分な強度が得られる点から、例えば、アルミナを用いることができるが、アルミナ以外にチタニア、コーディエライト、ムライト、炭化珪素等のセラミック材料を使用することもできる。
本発明のシリカ膜1は、多孔質基材11の内周面(内壁面)に対して成膜するため、長さが50cm以上である比較的長尺の筒状の基材、またはレンコン状の形状の多孔質基材を好適に用いることができる。
そして多孔質基材11上に、チタニアUF膜14が形成され、そのチタニアUF膜14上にシリカ膜1が形成されている。つまり、多孔質材料で形成された基材の、少なくともシリカ膜1を形成する面に、限外濾過膜(UF膜)が形成されている。限外濾過膜は、0.1μm~2nmの範囲の粒子や高分子を阻止する膜であり、チタニア膜を形成するのが望ましい。また、チタニア膜の平均細孔径は、多孔質基材の平均細孔径よりも小さい構成とする。
チタニアUF膜14の成膜方法については、例えば濾過成膜により膜を形成する方法を用いる(特許文献1及び2参照)。まず、チタニアUF膜14を形成するためのコーティング液(チタニアゾル液)30を用意する。コーティング液(チタニアゾル液)30は、チタンイソプロポキシドを、硝酸の存在下で加水分解してゾル液とし、そのゾル液を水で希釈し、適宜有機バインダーを添加する。水で希釈する代わりにエタノールで希釈することも可能である。
次に、図3に示すように、両端面をOリング31等で封止した状態で多孔質基材11をケーシング32内に設置する。そのセル23内に上記のコーティング液(チタニアゾル液)30を循環させつつ、所定の時間、多孔質基材11の外周側面側を真空ポンプ33等により低圧に保持することにより多孔質基材11の内表面にチタニアUF膜14を成膜する。その後、乾燥した後、500℃で熱処理する。この時、チタニアUF膜14の平均膜厚が0.1~1.0μmとなる様にする。チタニアUF膜14の平均膜厚は、コーティング液(チタニアゾル液)30のチタニア濃度で調節することができる。即ち、膜厚を薄くしたい時は、ゾル濃度を低く抑えればよく、膜厚を厚くしたい時は、ゾル濃度を高く設定すればよい。また、成膜を重ねて繰り返すことによってもチタニアUF膜14を厚膜化することができる。
更にこの時、チタニアUF膜14の平均細孔径が2~20nmとなる様にする。チタニアUF膜14の平均細孔径は、有機バインダーの添加量で調節することができる。即ち、細孔径を小さくしたい時はバインダー量を少なく、細孔径を大きくしたい時は、バインダー量を多くすればよい。また、焼成温度を高くすることによっても、細孔径を大きくすることができる。チタニアUF膜14の成膜方法については、濾過成膜によらずとも一般的なディッピング法などでもよい。以上、UF膜としてチタニアを用いる場合を説明したが、UF膜はこれに限定されず、ジルコニア膜あるいはゼオライト膜であってもよい。
更に、シリカ膜1の成膜方法について、図4を用いて説明する。まず、シリカ膜1を形成するためのコーティング液(シリカゾル液)40を用意する。コーティング液(シリカゾル液)40は、テトラエトシキシランを、硝酸の存在下で加水分解してゾル液とし、そのゾル液をエタノールで希釈する。エタノールで希釈する代わりに水で希釈することも可能である。
次に、図4に示すように、チタニアUF膜14の形成された多孔質基材11の外周側面をマスキングテープ41でシールする。例えば、広口ロート下端に上記多孔質基材11を固定し(図示せず)、基材上部から前述のコーティング液(シリカゾル液)40を流し込みセル23内を通過させる。もしくはこれによらずとも一般的なディッピングによる成膜プロセスを用いても良い。その後、100℃/hrにて昇温し、500℃で1時間保持した後、100℃/hrで降温する。以上のコーティング液(シリカゾル液)40の流し込み、乾燥、昇温、降温の操作を4回繰り返す。
以上の工程により、多孔質基材11上にチタニアUF膜14が形成され、チタニアUF膜14上にシリカ膜1が形成される。すなわち、図5Aに示す多孔質基材11上に、図5Bに示すようにチタニアUF膜14が形成されることにより、多孔質基材11の表面の凹凸の影響がチタニアUF膜14によって減少される。このため、図5Cに示すように、シリカ膜を薄膜としても欠陥を少なく形成することができる。更に、チタニアUF膜14の平均膜厚を0.1~1.0μmとすることにより、高フラックス、低コストのみならず、高分離能を有するシリカ膜1とすることができる。
以上のようにして得られた、内壁面にナノレベルの薄膜状のシリカ膜1が形成されたセラミックフィルタ1は、混合液体等を分離するフィルタとして好適に用いることができる。なお、さらにセル23内を酢酸に浸漬、透過等させることにより分離係数を向上させることもできる。また、上記実施形態において、セラミック多孔質膜として、シリカ膜の場合を説明したが、これに限定されず、チタニア膜、ジルコニア膜、ゼオライト膜等、またそれらの混合物であってもよい。
以下、本発明の製造方法を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。まず、本実施例で使用した多孔質基材、セラミックゾル液、及び成膜方法等について説明する。
(実施例1~16)
(1)多孔質基材
平均細孔径が0.2μmのアルミナのMF膜であるモノリス形状(外径30mm,セル内径3mm×37セル,長さ500mm)の多孔質体を基材とした。尚、基材両端部はガラスにてシールした。基材の平均細孔径はASTM F306記載のエアーフロー法に基づいて測定した。
(1)多孔質基材
平均細孔径が0.2μmのアルミナのMF膜であるモノリス形状(外径30mm,セル内径3mm×37セル,長さ500mm)の多孔質体を基材とした。尚、基材両端部はガラスにてシールした。基材の平均細孔径はASTM F306記載のエアーフロー法に基づいて測定した。
(2)チタニアゾル液
チタンイソプロポキシドを、硝酸の存在下で加水分解し、チタニアゾル液を得た。動的光散乱法で測定されたゾル粒径は、100nmであった。
チタンイソプロポキシドを、硝酸の存在下で加水分解し、チタニアゾル液を得た。動的光散乱法で測定されたゾル粒径は、100nmであった。
(3)チタニアUF膜成膜
チタニアゾル液を水で希釈し、適宜有機バインダーであるPVAを添加して成膜のゾル液とし、基材セル内に流通、接触させることにより、セル内にチタニアUF膜を形成した。チタニアUF膜厚さは、ゾル液中のチタニア濃度及び/又は成膜の回数を調節することにより制御した。即ち、厚膜化する場合には、液中チタニア濃度を高く、及び/又は成膜回数を多くし、薄膜化する場合には、液中チタニア濃度を低く、及び/又は成膜回数を少なくした。チタニアUF膜の細孔径は、有機バインダーの量及び/又は焼成温度を調節することにより制御した。即ち、細孔径を大きくする場合には、有機バインダーの量を多く、及び/又は焼成温度を高くし、細孔径を小さくする場合には、有機バインダーの量を少なく、及び/又は焼成温度を低くした。
チタニアゾル液を水で希釈し、適宜有機バインダーであるPVAを添加して成膜のゾル液とし、基材セル内に流通、接触させることにより、セル内にチタニアUF膜を形成した。チタニアUF膜厚さは、ゾル液中のチタニア濃度及び/又は成膜の回数を調節することにより制御した。即ち、厚膜化する場合には、液中チタニア濃度を高く、及び/又は成膜回数を多くし、薄膜化する場合には、液中チタニア濃度を低く、及び/又は成膜回数を少なくした。チタニアUF膜の細孔径は、有機バインダーの量及び/又は焼成温度を調節することにより制御した。即ち、細孔径を大きくする場合には、有機バインダーの量を多く、及び/又は焼成温度を高くし、細孔径を小さくする場合には、有機バインダーの量を少なく、及び/又は焼成温度を低くした。
(4)乾燥、焼成
試料を乾燥した後、500℃で熱処理した。これをチタニアUF膜が形成されたチタニアUF基材とし、チタニアUF膜の平均細孔径と平均膜厚を測定した。平均細孔径の測定原理は、非特許文献1で記載されている方法と同じであるが、非特許文献1では水蒸気と窒素を使用しているのに対し、本発明で用いた測定方法ではn-ヘキサンと窒素を使用した。平均膜厚は電子顕微鏡で観察した。実施例1~16では、測定の結果、表1に示す様に、平均細孔径は2~20nm、平均膜厚は0.10~1.00μmの範囲であった。
試料を乾燥した後、500℃で熱処理した。これをチタニアUF膜が形成されたチタニアUF基材とし、チタニアUF膜の平均細孔径と平均膜厚を測定した。平均細孔径の測定原理は、非特許文献1で記載されている方法と同じであるが、非特許文献1では水蒸気と窒素を使用しているのに対し、本発明で用いた測定方法ではn-ヘキサンと窒素を使用した。平均膜厚は電子顕微鏡で観察した。実施例1~16では、測定の結果、表1に示す様に、平均細孔径は2~20nm、平均膜厚は0.10~1.00μmの範囲であった。
(5)シリカゾル液
テトラエトシキシランを、硝酸の存在下で加水分解し、シリカゾル液を得た。上記シリカゾル液をエタノールで希釈し、シリカ換算で0.7質量%となるように調整しシリカ膜成膜用ゾル液とした。
テトラエトシキシランを、硝酸の存在下で加水分解し、シリカゾル液を得た。上記シリカゾル液をエタノールで希釈し、シリカ換算で0.7質量%となるように調整しシリカ膜成膜用ゾル液とした。
(6)シリカ膜成膜
試料(チタニアUF基材)の外周側面をマスキングテープでシールした。広口ロート下端にチタニアUF基材を固定し、基材上部から60mlのシリカゾル液を流し込みセル内を通過させた。尚、この成膜工程により、シリカ膜が内側壁の全体に形成されることを確認した。
試料(チタニアUF基材)の外周側面をマスキングテープでシールした。広口ロート下端にチタニアUF基材を固定し、基材上部から60mlのシリカゾル液を流し込みセル内を通過させた。尚、この成膜工程により、シリカ膜が内側壁の全体に形成されることを確認した。
(7)乾燥
シリカゾル液を流し込んだチタニアUF基材のセル内を室温の風が通過するようにドライヤを用いて1時間乾燥させた。
シリカゾル液を流し込んだチタニアUF基材のセル内を室温の風が通過するようにドライヤを用いて1時間乾燥させた。
(8)焼成
試料を100℃/hrにて昇温し、500℃で1時間保持した後、100℃/hrで降温した。尚、上記(6)~(8)の操作を4回繰り返して実施例1~16のセラミックフィルタを得た。この時シリカは、チタニアUF膜内、又はチタニアUF膜及び多孔質基材内に浸透していた。即ち、EDX元素分析によるスポット分析により、チタニアUF膜内及び多孔質基材内をランダムに10ヶ所測定しシリカ/チタニア酸化物の重量比率の平均値が0.1以上であり、且つ標準偏差が0.035以下であることを確認した。また、各実施例のハニカムフィルタの長さ方向において端面から全長の10%、50%、90%の位置における、最外周及び中央各セル位置においても同様にシリカ/チタニア酸化物の重量比率の平均値が0.1以上であり、且つ標準偏差が0.035以下であることを確認した。
試料を100℃/hrにて昇温し、500℃で1時間保持した後、100℃/hrで降温した。尚、上記(6)~(8)の操作を4回繰り返して実施例1~16のセラミックフィルタを得た。この時シリカは、チタニアUF膜内、又はチタニアUF膜及び多孔質基材内に浸透していた。即ち、EDX元素分析によるスポット分析により、チタニアUF膜内及び多孔質基材内をランダムに10ヶ所測定しシリカ/チタニア酸化物の重量比率の平均値が0.1以上であり、且つ標準偏差が0.035以下であることを確認した。また、各実施例のハニカムフィルタの長さ方向において端面から全長の10%、50%、90%の位置における、最外周及び中央各セル位置においても同様にシリカ/チタニア酸化物の重量比率の平均値が0.1以上であり、且つ標準偏差が0.035以下であることを確認した。
(実施例17~32)
多孔質基材の材質をチタニアとしたほかは、実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて実施例17~32のセラミックフィルタを作製した。
多孔質基材の材質をチタニアとしたほかは、実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて実施例17~32のセラミックフィルタを作製した。
(比較例1~4)
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例1~4のセラミックフィルタを作製した。表1に示す様に、チタニアUF膜の平均細孔径は2~20nm、平均膜厚は1.5μmであった。この時シリカはチタニアUF膜内及び多孔質基材内に浸透していなかった。
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例1~4のセラミックフィルタを作製した。表1に示す様に、チタニアUF膜の平均細孔径は2~20nm、平均膜厚は1.5μmであった。この時シリカはチタニアUF膜内及び多孔質基材内に浸透していなかった。
(比較例5)
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例5のセラミックフィルタを作製した。表1に示す様に、チタニアUF膜の平均細孔径は40nm、平均膜厚は0.6μmであった。この時シリカはチタニアUF膜内及び多孔質基材内に浸透していたものの、電子顕微鏡でチタニアUF膜を観察したところ、多孔質基材の表面が露出している部分があり、チタニアUF膜で多孔質基材の全面を被覆できていない状況であった。
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例5のセラミックフィルタを作製した。表1に示す様に、チタニアUF膜の平均細孔径は40nm、平均膜厚は0.6μmであった。この時シリカはチタニアUF膜内及び多孔質基材内に浸透していたものの、電子顕微鏡でチタニアUF膜を観察したところ、多孔質基材の表面が露出している部分があり、チタニアUF膜で多孔質基材の全面を被覆できていない状況であった。
(比較例6)
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例6のセラミックフィルタを作製した。表1に示す様に、チタニアUF膜の平均細孔径は1nm、平均膜厚は0.6μmであった。この時シリカはチタニアUF内および多孔質基材内に浸透していなかった。
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例6のセラミックフィルタを作製した。表1に示す様に、チタニアUF膜の平均細孔径は1nm、平均膜厚は0.6μmであった。この時シリカはチタニアUF内および多孔質基材内に浸透していなかった。
(比較例7)
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例7のセラミックフィルタを作製したが、チタニアUF膜の平均細孔径は測定できなかった。電子顕微鏡でチタニアUF膜を観察したところ、多孔質基材の表面が露出している部分があり、チタニアUF膜で多孔質基材の全面を被覆できていない状況であった。実施例1~16及び比較例1~4のチタニアUF膜成膜時における、UF成膜前後の試料重量増加量と実際の平均UF膜厚はゼロ点を通る比例直線関係になることが分かっており、この比例直線と比較例7のUF成膜前後の試料重量増加量より計算して求めた推定の平均UF膜厚は、表1に示す様に、0.05μmであった。以降のシリカ膜の成膜方法は実施例1と同様である。この時シリカのチタニアUF膜への染込量については、チタニアUF膜が薄すぎる為に測定ができなかった。
実施例1~16のセラミックフィルタと同様の手順にて比較例7のセラミックフィルタを作製したが、チタニアUF膜の平均細孔径は測定できなかった。電子顕微鏡でチタニアUF膜を観察したところ、多孔質基材の表面が露出している部分があり、チタニアUF膜で多孔質基材の全面を被覆できていない状況であった。実施例1~16及び比較例1~4のチタニアUF膜成膜時における、UF成膜前後の試料重量増加量と実際の平均UF膜厚はゼロ点を通る比例直線関係になることが分かっており、この比例直線と比較例7のUF成膜前後の試料重量増加量より計算して求めた推定の平均UF膜厚は、表1に示す様に、0.05μmであった。以降のシリカ膜の成膜方法は実施例1と同様である。この時シリカのチタニアUF膜への染込量については、チタニアUF膜が薄すぎる為に測定ができなかった。
実施例1~32及び比較例1~7について、70℃、90%エタノールを、液流速10L/minでフィルタセル内に循環させ、フィルタの外側を2~10Paの範囲に真空引きすることによる浸透気化分離試験を2時間行った。試験開始1時間30分経過時から2時間経過時の間に透過してきた液量から透過速度を、透過液のエタノール及び水濃度から次式により分離係数αを算出した。α=([原液水モル濃度]/[原液エタノールモル濃度])/([透過液水モル濃度]/[透過液エタノールモル濃度])。実施例1~32及び比較例1~7の分離試験の結果である分離係数αと透過速度との関係を表1に示す。
表1にあるように、実施例1~32は比較例1~7よりも高いα(分離係数)を示した。比較例7は最もαが低く10にとどまった。各試料の膜表面を電子顕微鏡で観察した結果、実施例1~16では平滑で欠陥の無い膜面が観察された。比較例1~4及び6では10~100μmの大きさで膜がめくれあがって剥れた跡が確認された。またこの膜剥れの周辺は、表面元素分析EPMA観察結果よりシリカが偏析していることがわかった。比較例5及び7では多孔質基材の表面が露出している部分が観察された。比較例1~4ではチタニアUF平均膜厚が厚いため、シリカゾル液の透過性が悪く、チタニアUF膜表面にシリカゾル液が残留、シリカ偏析部が発生し、乾燥焼成時に膜剥れが発生したものと考えられる。比較例5ではチタニアUF細孔が大きすぎるためシリカゾルがチタニアUF細孔内にとどまれず、チタニアUF膜強度が弱いために乾燥焼成時に膜剥れが発生したものと考えられる。比較例6ではチタニアUF細孔が小さすぎるためシリカゾル液の透過性が悪く、チタニアUF膜表面にシリカゾル液が残留、シリカ偏析部が発生し、乾燥焼成時に膜剥れが発生したものと考えられる。実施例1~32は、比較例1~4よりもチタニアUF平均膜厚が薄く、シリカゾル液の透過性がよく、チタニアUF膜表面にシリカゾル液が残留せず、均質なシリカ膜が形成されたものと考えられる。比較例7ではチタニアUF膜が多孔質基材の表面全面を被覆できていないため、その上のシリカ膜も下地全面を被覆できず、低いαにとどまったと考えられる。
実施例1~16をチタニアUF膜の平均細孔径別に比較してみると、チタニアUF平均膜厚が0.1~0.6μmである実施例5~16が、チタニアUF平均膜厚が1.0μmである実施例1~4よりも高いαを示している。これは、チタニアUF平均膜厚が厚いと、シリカゾルのチタニアUF細孔内及び多孔質基材内への浸透が不十分になり、αが低下する傾向によるものと考えられる。また、高いαを示す0.1~0.6μmの各チタニアUF平均膜厚において、αは、チタニアUF平均細孔径が6~20nmの時は高く、2nmの時はそれよりも低くなっている。これは、チタニアUF平均細孔径が小さすぎるとシリカゾル液がチタニアUF細孔内及び多孔質基材内に浸透しにくくなり、チタニアUF膜表面にシリカゾル液が残留、シリカ偏析部が発生し、乾燥焼成時に膜剥れが発生したためと考えられる。即ち、チタニアUF膜の好適な条件としては、平均膜厚が0.1~0.6μm、且つ平均細孔径が6~20nmの範囲であり、より好適な条件としては、平均膜厚が0.3~0.6μm、且つ平均細孔径が6~20nmの範囲である。又、上述した傾向は、多孔質基材の材質がチタニアである実施例17~32においても同様に観察された。
以上のように、多孔質基材上に形成したチタニアUF膜の平均膜厚及び平均細孔径を適正範囲に制御することによって、薄く、欠陥の少ないシリカ脱水膜を形成することができ、高性能のセラミックフィルタを得ることができる。即ち、チタニアUF平均膜厚の適正範囲とは、0.1~1.0μm、より好ましくは0.1~0.6μmであり、チタニアUF平均細孔径の適正範囲とは、2~20nm、より好ましくは6~20nmである。
本発明によれば、欠陥が少なく、膜厚が薄く均一なセラミック多孔質膜を得ることができ、このような膜が形成されたセラミックフィルタは、高分離能、高フラックスのフィルタとして好適に用いることができる。また、内壁面にナノレベルの薄膜状のシリカ膜が形成されたセラミックフィルタは、酸性あるいはアルカリ性溶液、あるいは有機溶媒中での分離除去等、有機フィルタが使用できない箇所にも用いることができる。
Claims (5)
- 多孔質基材と、その多孔質基材上に形成された平均膜厚が0.1~1.0μmであり、平均細孔径が2~20nmである限外濾過膜と、前記限外濾過膜上に形成され、その一部が、前記限外濾過膜の細孔内に浸透しているセラミック多孔質膜とを含むセラミックフィルタ。
- 前記セラミック多孔質膜の一部が、前記限外濾過膜及び前記多孔質基材の細孔内に浸透している請求項1に記載のセラミックフィルタ。
- 前記限外濾過膜の平均膜厚が0.1~0.6μmであり平均細孔径が6~20nmである請求項1又は2に記載のセラミックフィルタ。
- 前記多孔質基材がチタニア膜又はアルミナ膜である請求項1~3のいずれか一項に記載のセラミックフィルタ。
- 前記セラミック多孔質膜がシリカ膜である請求項1~4のいずれか一項に記載のセラミックフィルタ。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013129625A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 日本碍子株式会社 | セラミック分離膜及び脱水方法 |
JP2015525126A (ja) * | 2012-06-05 | 2015-09-03 | コーニング インコーポレイテッド | 多孔質支持体上にポリマー薄膜を調製する方法 |
US9968891B2 (en) | 2013-03-28 | 2018-05-15 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic separation membrane structure and method for producing same |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101234490B1 (ko) | 2010-12-29 | 2013-02-18 | 이근호 | 세라믹 필터 및 그 제조방법 |
WO2015151699A1 (ja) * | 2014-03-31 | 2015-10-08 | 日本碍子株式会社 | モノリス型分離膜構造体 |
JP6324491B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-05-16 | 富士フイルム株式会社 | ガス分離複合体およびその製造方法 |
US10328389B2 (en) | 2014-04-11 | 2019-06-25 | 3M Innovative Properties Company | Microporous articles with a three-dimensional porous network of acid-sintered interconnected silica nanoparticles and methods of making the same |
JP6368425B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2018-08-01 | 日本碍子株式会社 | シリカ膜及び分離膜フィルタ |
JP6368424B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2018-08-01 | 日本碍子株式会社 | シリカ膜フィルタ |
US9941051B2 (en) | 2015-06-26 | 2018-04-10 | Capactor Sciences Incorporated | Coiled capacitor |
RU2616474C1 (ru) * | 2015-12-14 | 2017-04-17 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Российский химико-технологический университет имени Д.И. Менделеева" | Фильтрующий материал и способ его изготовления |
CN108778446A (zh) * | 2016-03-07 | 2018-11-09 | 国际壳牌研究有限公司 | 用于回收金属组分的方法 |
CN109070017B (zh) * | 2016-03-30 | 2021-08-24 | 日本碍子株式会社 | 陶瓷膜过滤器及其制造方法 |
US20190177237A1 (en) | 2017-12-11 | 2019-06-13 | Saudi Arabian Oil Company | Ceramic membranes |
KR101993448B1 (ko) * | 2017-12-21 | 2019-06-26 | 한국화학연구원 | 수처리용 다공성 세라믹 분리막 및 이의 제조방법 |
JP6913234B2 (ja) | 2018-03-30 | 2021-08-04 | 日本碍子株式会社 | 膜フィルタ用基材及びその製造方法 |
WO2022115438A1 (en) * | 2020-11-25 | 2022-06-02 | Mott Corporation | Engineered coating for filters and methods of manufacture thereof |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61238315A (ja) | 1985-04-12 | 1986-10-23 | Ngk Insulators Ltd | 複層フイルタの製造方法 |
JPH03267129A (ja) | 1990-03-16 | 1991-11-28 | Ngk Insulators Ltd | セラミック膜フイルタ |
JP2001212401A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-07 | Kyocera Corp | 液体分離フィルタおよびそれを用いた液体分離方法 |
JP2001276586A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-09 | Kyocera Corp | ガス分離膜およびその製造方法 |
JP2003245530A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-09-02 | Toray Ind Inc | 分離膜 |
JP2005095851A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-04-14 | Kyocera Corp | 流体分離フィルタ及びその製造方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5194200A (en) * | 1991-10-08 | 1993-03-16 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method of creating silica ceramic membranes |
US5186833A (en) * | 1991-10-10 | 1993-02-16 | Exxon Research And Engineering Company | Composite metal-ceramic membranes and their fabrication |
US6464881B2 (en) * | 1996-10-21 | 2002-10-15 | Orelis | Inorganic nanofiltration membrane and its application in the sugar industry |
FR2771947B1 (fr) * | 1997-12-04 | 2000-02-25 | Orelis | Membrane inorganique de filtration modifiee par greffage d'organomineraux et son procede de preparation |
EP1462154B1 (en) | 2001-12-10 | 2009-02-25 | Toray Industries, Inc. | Separation membrane |
US7669719B2 (en) * | 2006-07-05 | 2010-03-02 | General Electric Company | Membrane structure and method of making |
US7717272B2 (en) * | 2006-10-18 | 2010-05-18 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic porous membrane and ceramic filter |
US20080093291A1 (en) * | 2006-10-18 | 2008-04-24 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic porous membrane and ceramic filter |
-
2008
- 2008-11-26 JP JP2008300579A patent/JP2009255035A/ja active Pending
-
2009
- 2009-03-09 WO PCT/JP2009/054433 patent/WO2009119292A1/ja active Application Filing
- 2009-03-09 EP EP09723963.6A patent/EP2258465B1/en active Active
-
2010
- 2010-08-13 US US12/855,753 patent/US8596465B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61238315A (ja) | 1985-04-12 | 1986-10-23 | Ngk Insulators Ltd | 複層フイルタの製造方法 |
JPH03267129A (ja) | 1990-03-16 | 1991-11-28 | Ngk Insulators Ltd | セラミック膜フイルタ |
JP2001212401A (ja) * | 2000-01-31 | 2001-08-07 | Kyocera Corp | 液体分離フィルタおよびそれを用いた液体分離方法 |
JP2001276586A (ja) * | 2000-03-29 | 2001-10-09 | Kyocera Corp | ガス分離膜およびその製造方法 |
JP2003245530A (ja) * | 2001-12-10 | 2003-09-02 | Toray Ind Inc | 分離膜 |
JP2005095851A (ja) * | 2003-08-26 | 2005-04-14 | Kyocera Corp | 流体分離フィルタ及びその製造方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
JOURNAL OF MEMBRANE SCIENCE, vol. 149, 1988, pages 127 - 135 |
See also references of EP2258465A4 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013129625A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2013-09-06 | 日本碍子株式会社 | セラミック分離膜及び脱水方法 |
JPWO2013129625A1 (ja) * | 2012-02-29 | 2015-07-30 | 日本碍子株式会社 | セラミック分離膜及び脱水方法 |
US9555377B2 (en) | 2012-02-29 | 2017-01-31 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic separation membrane and dehydration method |
JP2015525126A (ja) * | 2012-06-05 | 2015-09-03 | コーニング インコーポレイテッド | 多孔質支持体上にポリマー薄膜を調製する方法 |
US9968891B2 (en) | 2013-03-28 | 2018-05-15 | Ngk Insulators, Ltd. | Ceramic separation membrane structure and method for producing same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2258465A4 (en) | 2011-09-07 |
US20100300960A1 (en) | 2010-12-02 |
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